JP2023141184A - Curable resin composition, prepreg, laminate, printed wiring board, and composite material - Google Patents

Curable resin composition, prepreg, laminate, printed wiring board, and composite material Download PDF

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JP2023141184A JP2022047374A JP2022047374A JP2023141184A JP 2023141184 A JP2023141184 A JP 2023141184A JP 2022047374 A JP2022047374 A JP 2022047374A JP 2022047374 A JP2022047374 A JP 2022047374A JP 2023141184 A JP2023141184 A JP 2023141184A
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久尚 山本
Hisanao Yamamoto
大嗣 福岡
Hirotsugu Fukuoka
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Abstract

To provide a curable resin composition which enables production of a uniform cured product, satisfies all of a sufficient glass transition temperature (Tg) of the cured product, low dielectric characteristics, and a low linear expansion coefficient, and has good moldability.SOLUTION: A curable resin composition contains (A) modified polyphenylene ether having a silyl group-containing group, (B) a styrenic elastomer, (C) a crosslinking auxiliary which is represented by the following formula (18) and is an aromatic vinyl compound having the number of vinyl groups in the molecule of 3 or less, (D) a liquid elastomer, and (E) a vinyl group-containing silane-based compound represented by the following formula (19). In the formula (18), R37 to R42, and n are defined in the specifications.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、硬化性樹脂組成物、プリプレグ、積層板、プリント配線板、および複合材料に関する。 The present invention relates to curable resin compositions, prepregs, laminates, printed wiring boards, and composite materials.

ポリフェニレンエーテルは、優れた高周波特性、難燃性、及び耐熱性を有するため、電気・電子分野、自動車分野、その他の各種工業材料分野の材料として幅広く用いられている。近年、通常の高分子量ポリフェニレンエーテルよりも、極めて低分子量を示すポリフェニレンエーテルが基板材料等の電子材料用途に対して有効であることが期待されている。このため、2,6-ジメチルフェノールを原料として用いる一般的な高分子量ポリフェニレンエーテルよりも更に低誘電化した低分子量ポリフェニレンエーテル及びその効率的な製造方法が、特許文献1に提案されている。 Polyphenylene ether has excellent high frequency properties, flame retardancy, and heat resistance, and is therefore widely used as a material in the electrical and electronic fields, the automobile field, and various other industrial material fields. In recent years, polyphenylene ethers having an extremely lower molecular weight than ordinary high molecular weight polyphenylene ethers are expected to be effective for electronic material applications such as substrate materials. For this reason, Patent Document 1 proposes a low-molecular-weight polyphenylene ether with a dielectricity lower than that of general high-molecular-weight polyphenylene ether using 2,6-dimethylphenol as a raw material, and an efficient method for producing the same.

また、特許文献2,3には、ポリフェニレンエーテル部分を分子構造内に有し、かつ、この分子末端に、メタクリル基を有した変性ポリマーについて記載されている。特に、メタクリル基変性は、架橋基としてのメタクリル基の反応性が適度に高いこと、水酸基末端への導入方法が容易であることから、広く用いられつつある手法となっている。 Further, Patent Documents 2 and 3 describe modified polymers having a polyphenylene ether moiety in the molecular structure and a methacrylic group at the end of the molecule. In particular, methacrylic group modification is becoming a widely used method because the reactivity of the methacrylic group as a crosslinking group is moderately high and the method for introducing the hydroxyl group into the terminal is easy.

さらに特許文献4,5では、金属箔との密着性の向上等のため、メタクリル化したポリフェニレンエーテルに、スチレンとオレフィン系アルケン化合物との共重合体、及びその水素添加物(スチレン系エラストマー)を配合する試みが報告されている。 Furthermore, in Patent Documents 4 and 5, a copolymer of styrene and an olefin-based alkene compound and its hydrogenated product (styrene-based elastomer) are added to methacrylated polyphenylene ether in order to improve adhesion with metal foil. Attempts to mix them have been reported.

特開2004-99824号公報Japanese Patent Application Publication No. 2004-99824 特表2004-502849号公報Special Publication No. 2004-502849 特表2010-538114号公報Special Publication No. 2010-538114 特開2017-82200号公報JP2017-82200A 特開2020-200432号公報JP2020-200432A

上述したとおり、種々のメリットがあるため、変性ポリフェニレンエーテルにスチレン系エラストマーを添加することが行われているが、メタクリル化したポリフェニレンエーテルはスチレン系エラストマーとの相溶性が低い。従って、メタクリル化したポリフェニレンエーテルとスチレン系エラストマーを配合した樹脂組成物は、通常、硬化前の樹脂組成物の段階または硬化過程においてマクロ相分離を生じてしまう。その結果、形成された硬化物中にスチレン系エラストマーの連続相が存在するために、線膨張係数が高くなったり、ガラス転移温度(Tg)が低下したりしてしまう。 As mentioned above, styrenic elastomers have been added to modified polyphenylene ethers due to various advantages, but methacrylated polyphenylene ethers have low compatibility with styrene elastomers. Therefore, a resin composition containing a methacrylated polyphenylene ether and a styrene elastomer usually undergoes macrophase separation at the stage of the resin composition before curing or during the curing process. As a result, the presence of a continuous phase of styrene-based elastomer in the formed cured product increases the coefficient of linear expansion and lowers the glass transition temperature (Tg).

特許文献4、5においては、このようなマクロ相分離を抑制すると同時に粘度を下げることにより成形性を高める目的でトリアリルイソシアヌレート(TAIC)のような極性が高く、かつ低分子量の架橋助剤を配合する試みがなされている。しかしながら、このように形成された硬化物は、極性の高い架橋助剤を配合しているために誘電特性(誘電率、誘電正接)が高くなってしまうという課題があった。 In Patent Documents 4 and 5, a highly polar and low molecular weight crosslinking agent such as triallyl isocyanurate (TAIC) is used for the purpose of suppressing such macrophase separation and simultaneously lowering viscosity to improve moldability. Attempts have been made to incorporate However, the cured product thus formed has a problem in that it has high dielectric properties (permittivity, dielectric loss tangent) because it contains a highly polar crosslinking auxiliary agent.

また、硬化性樹脂組成物の溶液(ワニス)をガラスクロスに塗工・乾燥して硬化性樹脂組成物とガラスクロスの複合体(プリプレグ)を作製する場合において、樹脂組成物のワニスの溶液濃度は前記複合体中の樹脂組成物の含有量を高める観点から50質量%以上の高い濃度とする必要があるが、このような高濃度ワニスでは溶液粘度が高まり、塗工性を損なうという課題もあった。 In addition, when preparing a composite of the curable resin composition and glass cloth (prepreg) by coating and drying a solution (varnish) of the curable resin composition on glass cloth, the concentration of the varnish solution of the resin composition It is necessary to have a high concentration of 50% by mass or more in order to increase the content of the resin composition in the composite, but such a high concentration varnish increases the solution viscosity and impairs coating properties. there were.

上記課題に鑑み、本発明は、均一な硬化物が得られ、硬化物の十分なガラス転移温度(Tg)、低誘電特性、低線膨張係数、及び高濃度ワニスの適正な溶液粘度の全てを満足させる成形性の良い硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。 In view of the above problems, the present invention provides a uniform cured product that has a sufficient glass transition temperature (Tg), low dielectric properties, low coefficient of linear expansion, and appropriate solution viscosity for a high concentration varnish. The object of the present invention is to provide a curable resin composition with satisfactory moldability.

本発明者らは、上記課題を解決するべく、ポリフェニレンエーテル骨格に極性が低く、金属接着性の良い架橋基であるビニルシリル基等を変性基に用い、スチレン系エラストマー、特定の架橋助剤及び液状エラストマーを配合することにより、上記課題を全て解決可能な硬化性樹脂組成物を得ることが出来、本発明の完成に至ったものである。本発明の態様の一部を以下に列記する。
<1>
下記(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分及び(E)成分を含む、硬化性樹脂組成物:
(A)変性ポリフェニレンエーテル
下記式(1)で表される変性ポリフェニレンエーテル:
{式(1)中、Zは、下記式(2)で表されるa価の部分構造であり、aは2~6の整数を表し、Yは、各々独立に、下記式(4)で表される構造を有する2価の連結基であり、nは、Yの繰り返し数を表し、各々独立に、0~200の整数であり、a個の[-Y-A]中の少なくとも1つのnは、1以上の整数であり、Aは、全て水素原子の場合を除いて、水素原子、又はポリフェニレンエーテル構造と結合可能なシリル基含有誘導体を表し、
式(2)中、Xは、a価の任意の連結基であり、複数のRは、各々独立に、炭素数1~8の直鎖状アルキル基及び下記式(3)で表される部分構造のいずれかであり、kは、各々独立に、1~4の整数であり、
式(3)中、複数のR11は、各々独立に、置換されていてもよい炭素数1~8のアルキル基であり、複数のR12は、各々独立に、置換されていてもよい炭素数1~8のアルキレン基であり、bは、各々独立に、0又は1であり、R13は、水素原子、置換されていてもよい炭素数1~8のアルキル基、又は置換されていてもよいフェニル基のいずれかを表し、
式(4)中、複数のR21は、各々独立に、水素原子、置換されていてもよい炭素数1~6の炭化水素基、置換されていてもよい炭素数6~12のアリール基、及びハロゲン原子のいずれかであり、2つのR21は、同時に水素原子ではなく、2つのR21は、一方が上記式(3)で表される部分構造、もう一方が水素原子、メチル基又はエチル基のいずれかである組み合わせではなく、複数のR22は、各々独立に、水素原子、置換されていてもよい炭素数1~6の炭化水素基、置換されていてもよい炭素数6~12のアリール基、及びハロゲン原子のいずれかである}
(B)スチレン系エラストマー
(C)架橋助剤
下記式(18)で表され、分子内のビニル基の数が3個以下である芳香族ビニル化合物である架橋助剤:
{式(18)中、R37、R38、及びR39は、水素原子、またはそれぞれ独立に炭素数4以下の炭化水素基を表し、R40、及びR41は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数8以下の飽和または不飽和の炭化水素基を表す}
(D)液状エラストマー
(E)下記式(19)で表されるビニル基含有シラン系化合物:
{式(19)中、R42は、水素原子、または炭素数4以下の炭化水素を表し、かつnは2~6の整数を表す}。
<2>
前記(B)成分が、数平均分子量300,000以下のスチレン系エラストマーである、項目1に記載の硬化性樹脂組成物。
<3>
前記(B)成分が、二重結合含有量が90%以下のスチレン系エラストマーである、項目1または2に記載の硬化性樹脂組成物。
<4>
前記(B)成分が、スチレン含有率が80%以下のスチレン系エラストマーである、項目1~3のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<5>
前記(B)成分が、スチレン-ブタジエン共重合体(SBR)、スチレン-ブタジエン-スチレン共重合体(SBS)、水添スチレン-ブタジエン-スチレン共重合体、スチレン-イソプレン-スチレン共重合体(SIS)、水添スチレン-イソプレン-スチレン共重合体、水添スチレン(ブタジエン/イソプレン)スチレン共重合体のいずれか1つを含むスチレン系エラストマーである、項目1~4のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<6>
前記(B)成分が、ビニル芳香族化合物単量体単位を主体とするブロックAと、共役ジエン単量体単位を主体とするブロックBとを含むスチレン系エラストマーである、項目1~5のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<7>
前記(B)成分が、共役ジエン単量体単位に基づく二重結合の水添率が90%以上であるスチレン系エラストマーである、項目1~6のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<8>
前記式(18)中、R37、R38、及びR39が水素原子である、項目1~7のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<9>
前記式(18)中、R40がtert-ブチル基である、項目1~8のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<10>
前記式(18)中、R41がビニル基である、項目1~9のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<11>
前記(C)成分が4-tertブチルスチレンである、項目1~10のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<12>
前記(C)成分がジビニルベンゼンである、項目1~10のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<13>
前記(D)成分がスチレンブタジエン共重合体である、項目1~12のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<14>
前記(D)成分が2,4,6,8-テトラメチル-テトラビニルシクロテトラシロキサンまたは2,4,6-トリメチル-トリビニルシクロトリシロキサンのいずれかである、項目1~12のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<15>
(F)開始剤をさらに含む、項目1~14のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<16>
前記式(2)において前記Rのうち少なくとも1つは、前記式(3)で表される部分構造であり、前記式(2)中の-O-が結合するベンゼン環の炭素原子を1位とし、2位又は6位の一方の炭素原子に前記式(3)で表される部分構造を有するRが結合し、2位又は6位の他方の炭素原子に水素原子、メチル基又はエチル基が結合している、項目1~15のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<17>
前記式(3)で表される部分構造が、t-ブチル基である、項目1~16のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<18>
前記ポリフェニレンエーテル中に含まれるOH末端数が、0~3,000μmol/gである、項目1~17のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<19>
前記式(4)のR21が、メチル基である、項目1~18のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<20>
前記式(1)のAが、下記式(5):
{式(5)中、R31、及びR34は、それぞれ独立に、炭素数1~30の2価の炭化水素基であり、R32、及びR33は、それぞれ独立に、炭素数1~30の1価の炭化水素基、アリール基、アルコキシ基、アリロキシ基、アミノ基、又はヒドロキシアルキル基であり、Bは、オレフィン系の炭素-炭素2重結合を含む炭素数1~30の炭化水素系置換基であり、その一部が、水素原子、水酸基、アリール基、アルコキシ基、アリロキシ基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、ビニル基、イソプロペニル基、又はハロゲン基に置換されていてもよく、sとtとuは、それぞれ独立に0~8の整数である}
で表される、項目1~19のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<21>
前記式(1)のAが、下記式(6)及び/又は(7):

{式(6)及び/又は式(7)中、R31、及びR34は、それぞれ独立に、炭素数1~30の2価の炭化水素基であり、R32、及びR33は、それぞれ独立に、炭素数1~30の1価の炭化水素基、アリール基、アルコキシ基、アリロキシ基、アミノ基、又はヒドロキシアルキル基であり、R35は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、又は炭素数1~30の炭化水素基、アリール基、アルコキシ基、アリロキシ基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、ビニル基、イソプロペニル基、又はハロゲン基であり、R36は、炭素数1~3の2価の炭化水素基またはアミノ基、または酸素原子であり、炭化水素基の一部は、アリール基、アルコキシ基、アリロキシ基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、ビニル基、イソプロペニル基、又はハロゲン基に置換されていてよく、かつsとtとuは、それぞれ独立に、0~8の整数である}
で表される、項目20に記載の硬化性樹脂組成物。
<22>
(G)溶媒をさらに含む、項目1~21のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
<23>
項目1~22のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物を含む、プリプレグ。
<24>
項目1~22のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物の硬化物を含む、積層板。
<25>
項目1~22のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物の硬化物を含む、プリント配線板。
<26>
項目1~22のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物の硬化物を含む、複合材料。
<27>
炭素繊維強化複合材料である、項目26に記載の複合材料。
In order to solve the above problems, the present inventors used a polyphenylene ether skeleton as a modified group such as a vinylsilyl group, which is a crosslinking group with low polarity and good metal adhesion, and used a styrene elastomer, a specific crosslinking aid, and a liquid By blending an elastomer, a curable resin composition that can solve all of the above problems can be obtained, leading to the completion of the present invention. Some aspects of the invention are listed below.
<1>
A curable resin composition containing the following components (A), (B), (C), (D) and (E):
(A) Modified polyphenylene ether Modified polyphenylene ether represented by the following formula (1):
{In formula (1), Z is an a-valent partial structure represented by the following formula (2), a represents an integer of 2 to 6, and Y is each independently represented by the following formula (4). A divalent linking group having the structure shown, n represents the number of repeats of Y, each independently an integer of 0 to 200, and at least one of a [-Y n -A] n is an integer of 1 or more, A represents a hydrogen atom or a silyl group-containing derivative capable of bonding to a polyphenylene ether structure, except in the case of all hydrogen atoms,
In formula (2), X is an a-valent arbitrary linking group, and each of the plurality of R 5 is independently represented by a linear alkyl group having 1 to 8 carbon atoms and the following formula (3) any of the substructures, and k is each independently an integer from 1 to 4,
In formula (3), a plurality of R 11 's are each independently an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and a plurality of R 12 's are each independently an optionally substituted carbon alkyl group. is an alkylene group of number 1 to 8, b is each independently 0 or 1, and R 13 is a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a substituted represents any of the phenyl groups,
In formula (4), a plurality of R 21 's each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, an optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and a halogen atom, two R 21s are not hydrogen atoms at the same time, and one of the two R 21s is a partial structure represented by the above formula (3), and the other is a hydrogen atom, a methyl group, or Rather than a combination of ethyl groups, the plurality of R 22 's each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and an optionally substituted hydrocarbon group having 6 to 6 carbon atoms. 12 aryl groups and halogen atoms}
(B) Styrenic elastomer (C) Crosslinking aid A crosslinking aid which is an aromatic vinyl compound represented by the following formula (18) and having 3 or less vinyl groups in the molecule:
{In formula (18), R 37 , R 38 , and R 39 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 4 or less carbon atoms, and R 40 and R 41 each independently represent a hydrogen atom or represents a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 8 or less carbon atoms}
(D) Liquid elastomer
(E) Vinyl group-containing silane compound represented by the following formula (19):
{In formula (19), R 42 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon having 4 or less carbon atoms, and n represents an integer from 2 to 6}.
<2>
The curable resin composition according to item 1, wherein the component (B) is a styrenic elastomer having a number average molecular weight of 300,000 or less.
<3>
The curable resin composition according to item 1 or 2, wherein the component (B) is a styrenic elastomer having a double bond content of 90% or less.
<4>
The curable resin composition according to any one of items 1 to 3, wherein the component (B) is a styrenic elastomer having a styrene content of 80% or less.
<5>
The component (B) is a styrene-butadiene copolymer (SBR), a styrene-butadiene-styrene copolymer (SBS), a hydrogenated styrene-butadiene-styrene copolymer, a styrene-isoprene-styrene copolymer (SIS ), a hydrogenated styrene-isoprene-styrene copolymer, and a hydrogenated styrene (butadiene/isoprene) styrene copolymer, the styrenic elastomer according to any one of items 1 to 4, Curable resin composition.
<6>
Any of items 1 to 5, wherein the component (B) is a styrenic elastomer containing a block A mainly composed of vinyl aromatic compound monomer units and a block B mainly composed of conjugated diene monomer units. The curable resin composition according to item 1.
<7>
The curable resin composition according to any one of items 1 to 6, wherein the component (B) is a styrenic elastomer in which the hydrogenation rate of double bonds based on conjugated diene monomer units is 90% or more. thing.
<8>
The curable resin composition according to any one of items 1 to 7, wherein in the formula (18), R 37 , R 38 , and R 39 are hydrogen atoms.
<9>
The curable resin composition according to any one of items 1 to 8, wherein in the formula (18), R 40 is a tert-butyl group.
<10>
The curable resin composition according to any one of items 1 to 9, wherein in the formula (18), R 41 is a vinyl group.
<11>
The curable resin composition according to any one of items 1 to 10, wherein the component (C) is 4-tertbutylstyrene.
<12>
The curable resin composition according to any one of items 1 to 10, wherein the component (C) is divinylbenzene.
<13>
The curable resin composition according to any one of items 1 to 12, wherein the component (D) is a styrene-butadiene copolymer.
<14>
Any one of items 1 to 12, wherein the component (D) is either 2,4,6,8-tetramethyl-tetravinylcyclotetrasiloxane or 2,4,6-trimethyl-trivinylcyclotrisiloxane. The curable resin composition described in 2.
<15>
(F) The curable resin composition according to any one of items 1 to 14, further comprising an initiator.
<16>
In the formula (2), at least one of R 5 is a partial structure represented by the formula (3), in which one carbon atom of the benzene ring to which -O- in the formula (2) is bonded is R5 having a partial structure represented by the formula (3) above is bonded to one carbon atom at the 2nd or 6th position, and the other carbon atom at the 2nd or 6th position is a hydrogen atom, a methyl group, or The curable resin composition according to any one of items 1 to 15, to which an ethyl group is bonded.
<17>
The curable resin composition according to any one of items 1 to 16, wherein the partial structure represented by formula (3) is a t-butyl group.
<18>
The curable resin composition according to any one of items 1 to 17, wherein the number of OH terminals contained in the polyphenylene ether is 0 to 3,000 μmol/g.
<19>
The curable resin composition according to any one of items 1 to 18, wherein R 21 in the formula (4) is a methyl group.
<20>
A in the above formula (1) is the following formula (5):
{In formula (5), R 31 and R 34 are each independently a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, and R 32 and R 33 are each independently a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms. 30 monovalent hydrocarbon group, aryl group, alkoxy group, allyloxy group, amino group, or hydroxyalkyl group, and B is a hydrocarbon having 1 to 30 carbon atoms containing an olefinic carbon-carbon double bond. A system substituent, some of which may be substituted with a hydrogen atom, hydroxyl group, aryl group, alkoxy group, allyloxy group, amino group, hydroxyalkyl group, vinyl group, isopropenyl group, or halogen group, s, t, and u are each independently integers from 0 to 8}
The curable resin composition according to any one of items 1 to 19, represented by:
<21>
A in the formula (1) is the following formula (6) and/or (7):

{In formula (6) and/or formula (7), R 31 and R 34 are each independently a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, and R 32 and R 33 are each is independently a monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group, an allyloxy group, an amino group, or a hydroxyalkyl group, and each R 35 is independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a carbon 1 to 30 hydrocarbon groups, aryl groups, alkoxy groups, allyloxy groups, amino groups, hydroxyalkyl groups, vinyl groups, isopropenyl groups, or halogen groups, and R 36 is a divalent group having 1 to 3 carbon atoms. is a hydrocarbon group or an amino group, or an oxygen atom, and a part of the hydrocarbon group is substituted with an aryl group, an alkoxy group, an allyloxy group, an amino group, a hydroxyalkyl group, a vinyl group, an isopropenyl group, or a halogen group. and s, t, and u are each independently an integer from 0 to 8}
The curable resin composition according to item 20, which is represented by:
<22>
(G) The curable resin composition according to any one of items 1 to 21, further comprising a solvent.
<23>
A prepreg comprising the curable resin composition according to any one of items 1 to 22.
<24>
A laminate comprising a cured product of the curable resin composition according to any one of items 1 to 22.
<25>
A printed wiring board comprising a cured product of the curable resin composition according to any one of items 1 to 22.
<26>
A composite material comprising a cured product of the curable resin composition according to any one of items 1 to 22.
<27>
The composite material according to item 26, which is a carbon fiber reinforced composite material.

本発明に規定した、ビニルシリル基を有する変性ポリフェニレンエーテル、スチレン系エラストマー、液状エラストマー、及び架橋助剤を含んだ硬化性樹脂組成物を用いることにより、成形性が良く均一な硬化物が得られ、硬化物の十分なTg、低誘電特性、接着性、低線膨張係数、及び高濃度ワニスの適正な溶液粘度の全てを満足させる硬化性樹脂組成物を提供することができる。 By using a curable resin composition containing a modified polyphenylene ether having a vinylsilyl group, a styrene elastomer, a liquid elastomer, and a crosslinking aid as specified in the present invention, a uniform cured product with good moldability can be obtained, It is possible to provide a curable resin composition that satisfies all of the requirements of a cured product: sufficient Tg, low dielectric properties, adhesiveness, low coefficient of linear expansion, and appropriate solution viscosity for a high concentration varnish.

以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施形態」という)について、詳細に説明する。本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明は、この実施形態のみに限定されるものではなく、本発明は、その要旨の範囲内で適宜に変形して実施できる。 Hereinafter, a mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as "this embodiment") will be described in detail. This embodiment is an illustration for explaining the present invention, and the present invention is not limited only to this embodiment, and the present invention can be implemented with appropriate modifications within the scope of the gist.

<硬化性樹脂組成物>
本実施形態の硬化性樹脂組成物は、下記(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分及び(E)成分を含むことを特徴とする:
(A)変性ポリフェニレンエーテル
下記式(1)で表される変性ポリフェニレンエーテル:
{式(1)中、Zは、下記式(2)で表されるa価の部分構造であり、aは2~6の整数を表し、Yは、各々独立に、下記式(4)で表される構造を有する2価の連結基であり、nは、Yの繰り返し数を表し、各々独立に、0~200の整数であり、a個の[-Y-A]中の少なくとも1つのnは、1以上の整数であり、Aは、全て水素原子の場合を除いて、水素原子、又はポリフェニレンエーテル構造と結合可能なシリル基含有誘導体を表し、
式(2)中、Xは、a価の任意の連結基であり、複数のRは、各々独立に、炭素数1~8の直鎖状アルキル基及び下記式(3)で表される部分構造のいずれかであり、kは、各々独立に、1~4の整数であり、
式(3)中、複数のR11は、各々独立に、置換されていてもよい炭素数1~8のアルキル基であり、複数のR12は、各々独立に、置換されていてもよい炭素数1~8のアルキレン基であり、bは、各々独立に、0又は1であり、R13は、水素原子、置換されていてもよい炭素数1~8のアルキル基、又は置換されていてもよいフェニル基のいずれかを表し、
式(4)中、複数のR21は、各々独立に、水素原子、置換されていてもよい炭素数1~6の炭化水素基、置換されていてもよい炭素数6~12のアリール基、及びハロゲン原子のいずれかであり、2つのR21は、同時に水素原子ではなく、2つのR21は、一方が上記式(3)で表される部分構造、もう一方が水素原子、メチル基又はエチル基のいずれかである組み合わせではなく、複数のR22は、各々独立に、水素原子、置換されていてもよい炭素数1~6の炭化水素基、置換されていてもよい炭素数6~12のアリール基、及びハロゲン原子のいずれかである}、
(B)スチレン系エラストマー、
(C)架橋助剤、
(D)液状エラストマー、及び
(E)ビニル基含有シラン系化合物。
<Curable resin composition>
The curable resin composition of this embodiment is characterized by containing the following components (A), (B), (C), (D) and (E):
(A) Modified polyphenylene ether Modified polyphenylene ether represented by the following formula (1):
{In formula (1), Z is an a-valent partial structure represented by the following formula (2), a represents an integer of 2 to 6, and Y is each independently represented by the following formula (4). A divalent linking group having the structure shown, n represents the number of repeats of Y, each independently an integer of 0 to 200, and at least one of a [-Y n -A] n is an integer of 1 or more, A represents a hydrogen atom or a silyl group-containing derivative capable of bonding to a polyphenylene ether structure, except in the case of all hydrogen atoms,
In formula (2), X is an a-valent arbitrary linking group, and each of the plurality of R 5 is independently represented by a linear alkyl group having 1 to 8 carbon atoms and the following formula (3) any of the substructures, and k is each independently an integer from 1 to 4,
In formula (3), a plurality of R 11 's are each independently an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and a plurality of R 12 's are each independently an optionally substituted carbon alkyl group. is an alkylene group of number 1 to 8, b is each independently 0 or 1, and R 13 is a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a substituted represents any of the phenyl groups,
In formula (4), a plurality of R 21 's each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, an optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and a halogen atom, two R 21s are not hydrogen atoms at the same time, and one of the two R 21s is a partial structure represented by the above formula (3), and the other is a hydrogen atom, a methyl group, or Rather than a combination of ethyl groups, the plurality of R 22 's each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and an optionally substituted hydrocarbon group having 6 to 6 carbon atoms. 12 aryl groups and halogen atoms},
(B) Styrenic elastomer,
(C) crosslinking aid,
(D) a liquid elastomer, and (E) a vinyl group-containing silane compound.

本実施形態では、(A)変性ポリフェニレンエーテルと、(B)スチレン系エラストマーと(C)架橋助剤と(D)液状エラストマーと(E)ビニル基含有シラン系化合物とを含んだ硬化性樹脂組成物を用いることにより、均一な硬化物が得られ、硬化物の十分なTg、低誘電特性、低線膨張係数、及び高濃度ワニスの適正な溶液粘度の全てを満足させる硬化性樹脂組成物を提供することができる。
以下、本実施形態の硬化性樹脂組成物を構成する成分に関して詳述する。
In this embodiment, a curable resin composition includes (A) modified polyphenylene ether, (B) styrene elastomer, (C) crosslinking aid, (D) liquid elastomer, and (E) vinyl group-containing silane compound. By using a curable resin composition, a uniform cured product can be obtained, and a curable resin composition that satisfies all of the following requirements: sufficient Tg, low dielectric properties, low coefficient of linear expansion, and appropriate solution viscosity for a high concentration varnish. can be provided.
Hereinafter, the components constituting the curable resin composition of this embodiment will be explained in detail.

<(A)変性ポリフェニレンエーテル>
本実施形態に係る変性ポリフェニレンエーテルは、下記式(1)で表される構造を有する。
式(1)中、Zは下記式(2)で表されるa価の中心フェノール部位を有する部分構造であり、aは2~6の整数であり、3~6の整数であることが好ましい。
<(A) Modified polyphenylene ether>
The modified polyphenylene ether according to this embodiment has a structure represented by the following formula (1).
In formula (1), Z is a partial structure having an a-valent central phenol moiety represented by the following formula (2), and a is an integer of 2 to 6, preferably an integer of 3 to 6. .

上記「中心フェノール部位」とは、多官能ポリフェニレンエーテルを重合する際に反応の起点となる中心骨格を意味し、多官能変性ポリフェニレンエーテル組成物を核磁気共鳴(NMR)、質量分析等の手法で解析することによりその構造を同定できる。 The above-mentioned "central phenolic moiety" refers to the central skeleton that becomes the starting point of the reaction when polyfunctional polyphenylene ether is polymerized, and the polyfunctional modified polyphenylene ether composition is analyzed by methods such as nuclear magnetic resonance (NMR) and mass spectrometry. The structure can be identified by analysis.

多官能変性ポリフェニレンエーテル組成物から上記中心フェノール部位の構造を同定する具体的方法としては、例えば、多官能変性ポリフェニレンエーテル組成物の質量分析結果から低分子量成分のみを分析し、電気衝撃又は電気イオン化(EI)でフラグメントイオンのピークから中心フェノール部位の構造を推定する方法が挙げられる。さらに、多官能変性ポリフェニレンエーテル組成物のNMR測定を行い、公知の多官能フェノール化合物のNMR測定結果と照らし合わせることで中心フェノール部位の構造を推定する方法が挙げられる。この質量分析結果とNMR測定結果を組み合わせることで、より正確に中心フェノール部位の構造を同定することが可能となる。 As a specific method for identifying the structure of the central phenol moiety from a polyfunctional modified polyphenylene ether composition, for example, only low molecular weight components are analyzed from the mass spectrometry results of the polyfunctional modified polyphenylene ether composition, and electrical shock or electrical ionization is performed. (EI) to estimate the structure of the central phenol site from the fragment ion peak. Furthermore, a method of estimating the structure of the central phenol moiety by performing NMR measurement of the polyfunctional modified polyphenylene ether composition and comparing it with the NMR measurement results of known polyfunctional phenol compounds can be mentioned. By combining the mass spectrometry results and the NMR measurement results, it becomes possible to more accurately identify the structure of the central phenol moiety.

上記変性ポリフェニレンエーテルは、a価の中心部Xにa個の部分構造(例えば、R等で置換されていてもよいフェノール)が結合し、a価の部分構造(即ち、下記式(2)で表される中心フェノール部位)に式(1)の[-Y-A]が結合する構造であってもよい。
式(2)中、aとしては、式(1)と同様の2~6の整数が挙げられ、式(1)と同じ整数であることが好ましい。式(2)の中心フェノール部位において、a個の各部分構造は、同じ構造であってもよいし、異なっていてもよい。
The modified polyphenylene ether has a number of partial structures (for example, a phenol which may be substituted with R5 , etc.) bonded to the a-valent center X, and the a-valent partial structure (i.e., the following formula (2) It may be a structure in which [-Y n -A] of formula (1) is bonded to the central phenol moiety represented by the formula (1).
In formula (2), a may be an integer from 2 to 6 similar to that in formula (1), and preferably the same integer as in formula (1). In the central phenol moiety of formula (2), each of the a partial structures may have the same structure or may have different structures.

式(2)中、Xは、a価の任意の連結基であり、特に制限されないが、例えば、鎖式炭化水素、環式炭化水素等の炭化水素基;窒素、リン、ケイ素及び酸素から選ばれる、一つ又は複数の原子を含有する炭化水素基;窒素、リン、ケイ素等の原子;若しくはこれらを組み合わせた基;等が挙げられる。Xは、単結合を除く連結基であってもよい。 In formula (2), X is any a-valent linking group, including, but not limited to, hydrocarbon groups such as chain hydrocarbons and cyclic hydrocarbons; selected from nitrogen, phosphorus, silicon, and oxygen. A hydrocarbon group containing one or more atoms; atoms such as nitrogen, phosphorus, silicon; or a combination thereof; and the like. X may be a linking group other than a single bond.

式(2)中のXは、a価の部分構造を互いに連結する連結基であってもよい。 X in formula (2) may be a linking group that connects a-valent partial structures to each other.

式(2)中、Xとしては、単結合又はエステル結合等を介して、Rが結合しているベンゼン環に結合するa価のアルキル骨格;単結合又はエステル結合等を介して、Rが結合しているベンゼン環に結合するa価のアリール骨格;単結合又はエステル結合等を介して、Rが結合しているベンゼン環に結合するa価の複素環骨格;等が挙げられる。 In formula (2), X is an a-valent alkyl skeleton bonded to the benzene ring to which R 5 is bonded via a single bond or an ester bond; An a-valent aryl skeleton that is bonded to the benzene ring to which R 5 is bonded; an a-valent heterocyclic skeleton that is bonded to the benzene ring to which R 5 is bonded via a single bond or an ester bond;

ここで、アルキル骨格としては、特に制限されないが、例えば、炭素数1~6の少なくともa個に分岐した鎖式炭化水素(例えば、鎖式飽和炭化水素)の分岐末端が部分構造のベンゼン環に直接結合する骨格(a個の分岐末端にベンゼン環が結合していればよく、ベンゼン環が結合しない分岐末端があってもよい。)、等が挙げられる。また、アリール骨格としては、特に制限されないが、例えば、ベンゼン環、メシチレン基、又は2-ヒドロキシ-5-メチル-1,3-フェニレン基が、単結合又はアルキル鎖を介して、Rが結合しているベンゼン環に結合する骨格等が挙げられる。さらに、複素環骨格としては、特に制限されないが、例えば、トリアジン環が単結合又はアルキル鎖を介して、Rが結合しているベンゼン環に結合する骨格等が挙げられる。 Here, the alkyl skeleton is not particularly limited, but for example, the branch end of a chain hydrocarbon having at least a branched carbon atoms (for example, a chain saturated hydrocarbon) has a benzene ring as a partial structure. Directly bonded skeletons (benzene rings need only be bonded to a number of branched terminals, and there may be branched terminals to which no benzene rings are bonded), and the like. Further, the aryl skeleton is not particularly limited, but for example, a benzene ring, mesitylene group, or 2-hydroxy-5-methyl-1,3-phenylene group is bonded to R 5 through a single bond or an alkyl chain. Examples include skeletons bonded to the benzene ring. Further, the heterocyclic skeleton is not particularly limited, but includes, for example, a skeleton in which a triazine ring is bonded to a benzene ring to which R 5 is bonded via a single bond or an alkyl chain.

式(2)中の複数のRは、各々独立に、炭素数1~8の直鎖状アルキル基及び下記式(3)で表される部分構造のいずれかであり、そしてkは、各々独立に、1~4の整数である。 A plurality of R 5 's in formula (2) are each independently a linear alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a partial structure represented by the following formula (3), and each k is independently an integer from 1 to 4;

式(2)中のRとしては、メチル基、エチル基、n-プロピル基等の炭素数1~8の直鎖状アルキル基、下記式(3)で表される部分構造を有する基、等が挙げられる。Rのうち少なくとも1つは、下記式(3)で表される部分構造であってもかまわない。
式(3)中、
複数のR11は、各々独立に、置換されていてもよい炭素数1~8のアルキル基であり、
複数のR12は、各々独立に、置換されていてもよい炭素数1~8のアルキレン基であり、
bは、各々独立に、0又は1であり、
13は、水素原子、置換されていてもよい炭素数1~8のアルキル基、又は置換されていてもよいフェニル基のいずれかを表す。
上記置換基としては、ハロゲン原子等が挙げられる。
R 5 in formula (2) is a linear alkyl group having 1 to 8 carbon atoms such as a methyl group, ethyl group, or n-propyl group, a group having a partial structure represented by the following formula (3), etc. At least one of R 5 may be a partial structure represented by the following formula (3).
In formula (3),
A plurality of R 11s are each independently an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms,
A plurality of R 12s are each independently an optionally substituted alkylene group having 1 to 8 carbon atoms,
b is each independently 0 or 1,
R 13 represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an optionally substituted phenyl group.
Examples of the above-mentioned substituents include halogen atoms and the like.

式(3)で表される部分構造は、好ましくは、2級及び/又は3級炭素を含む基であり、例えばイソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、tert-アミル基、2-ジメチルプロピル基、又はこれらの末端にフェニル基を有する構造等が挙げられ、より好ましくは、tert-ブチル基である。 The partial structure represented by formula (3) is preferably a group containing secondary and/or tertiary carbon, such as isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, tert-amyl group. , 2-dimethylpropyl group, or a structure having a phenyl group at the end thereof, and more preferably a tert-butyl group.

本実施形態では、式(2)中の-O-が結合するベンゼン環の炭素原子を1位としたとき、2位又は6位の一方の炭素原子に式(3)で表される部分構造を有するRが結合し、2位又は6位の他方の炭素原子に水素原子、メチル基又はエチル基が結合していることが好ましい。また、式(2)中の-O-が結合するベンゼン環の2位及び6位の炭素原子に、炭化水素基、又は上記式(3)で表される部分構造が結合していてもよい。上記式(2)中のベンゼン環は、2位及び6位以外の炭素原子に、中心部X及び酸素原子を介して、上記式(1)の[Y-A]が結合していてもよく、1位に酸素原子を介して上記式(1)の[Y-A]が結合し、4位に中心部Xが結合していることが好ましい。 In this embodiment, when the carbon atom of the benzene ring to which -O- in formula (2) is bonded is set to the 1st position, a partial structure represented by the formula (3) is attached to one of the carbon atoms at the 2nd or 6th position. It is preferable that R 5 having the above bond be bonded, and a hydrogen atom, methyl group, or ethyl group is bonded to the other carbon atom at the 2-position or the 6-position. Furthermore, a hydrocarbon group or a partial structure represented by the above formula (3) may be bonded to the carbon atoms at the 2- and 6-positions of the benzene ring to which -O- in formula (2) is bonded. . In the benzene ring in the above formula (2), [Y n -A] in the above formula (1) is bonded to a carbon atom other than the 2-position and the 6-position through the central X and the oxygen atom. Preferably, [Y n -A] of the above formula (1) is bonded to the 1st position via an oxygen atom, and the central portion X is bonded to the 4th position.

上記式(2)で表される部分構造のための多価フェノール化合物の例を以下に列挙する。
多価フェノール化合物としては、例えば、4,4’-[(3-ヒドロキシフェニル)メチレン]ビス(2,6-ジメチルフェノール)、4,4’-[(3-ヒドロキシフェニル)メチレン]ビス(2,3,6-トリメチルフェノール)、4,4’-[(4-ヒドロキシフェニル)メチレン]ビス(2,6-ジメチルフェノール)、4,4’-[(4-ヒドロキシフェニル)メチレン]ビス(2,3,6-トリメチルフェノール)、4,4’-[(2-ヒドロキシ-3-メトキシフェニル)メチレン]ビス(2,6-ジメチルフェノール)、4,4’-[(4-ヒドロキシ-3-エトキシフェニル)メチレン]ビス(2,3,6-トリメチルエチルフェノール)、4,4’-[(3,4-ジヒドロキシフェニル)メチレン]ビス(2,6-ジメチルフェノール)、4,4’-[(3,4-ジヒドロキシフェニル)メチレン]ビス(2,3,6-トリメチルフェノール)、2,2’-[(4-ヒドロキシフェニル)メチレン]ビス(3,5,6-トリメチルフェノール)、4,4’-[4-(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキシリデン]ビス(2,6-ジメチルフェノール)、4,4’-[(2-ヒドロキシフェニル)メチレン]-ビス(2,3,6-トリメチルフェノール)、4,4’-[1-[4-[1-(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-1-メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビス(2,6-ジメチルフェノール)、4,4’-[1-[4-[1-(4-ヒドロキシ-3-フルオロフェニル)-1-メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビス(2,6-ジメチルフェノール)、2,6-ビス[(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)エチル]-4-メチルフェノール、2,6-ビス[(4-ヒドロキシ-2,3,6-トリメチルフェニル)メチル]-4-メチルフェノール、2,6-ビス[(4-ヒドロキシ-3,5,6-トリメチルフェニル)メチル]-4-エチルフェノール、2,4-ビス[(4-ヒドロキシ-3-メチルフェニル)メチル]-6-メチルフェノール、2,6-ビス[(4-ヒドロキシ-3-メチルフェニル)メチル]-4-メチルフェノール、2,4-ビス[(4-ヒドロキシ-3-シクロヘキシルフェニル)メチル]-6-メチルフェノール、2,4-ビス[(4-ヒドロキシ-3-メチルフェニル)メチル]-6-シクロヘキシルフェノール、2,4-ビス[(2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)メチル]-6-シクロヘキシルフェノール、2,4-ビス[(4-ヒドロキシ-2,3,6-トリメチルフェニル)メチル]-6-シクロヘキシルフェノール、3,6-ビス[(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)メチル]-1,2-ベンゼンジオール、4,6-ビス[(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)メチル]-1,3-ベンゼンジオール、2,4,6-トリス[(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)メチル]-1,3-ベンゼンジオール、2,4,6-トリス[(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)メチル]-1,3-ベンゼンジオール、2,2’-メチレンビス[6-[(4/2-ヒドロキシ-2,5/3,6-ジメチルフェニル)メチル]-4-メチルフェノール]、2,2’-メチレンビス[6-[(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)メチル]-4-メチルフェノール]、2,2’-メチレンビス[6-[(4/2-ヒドロキシ-2,3,5/3,4,6-トリメチルフェニル)メチル]-4-メチルフェノール]、2,2’-メチレンビス[6-[(4-ヒドロキシ-2,3,5-トリメチルフェニル)メチル]-4-メチルフェノール]、4,4’-メチレンビス[2-[(2,4-ジヒドロキシフェニル)メチル]-6-メチルフェノール]、4,4’-メチレンビス[2-[(2,4-ジヒドロキシフェニル)メチル]-3,6-ジメチルフェノール]、4,4’-メチレンビス[2-[(2,4-ジヒドロキシ-3-メチルフェニル)メチル]-3,6-ジメチルフェノール]、4,4’-メチレンビス[2-[(2,3,4-トリヒドロキシフェニル)メチル]-3,6-ジメチルフェノール]、6,6’-メチレンビス[4-[(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)メチル]-1,2,3-ベンゼントリオール]、1,1-ビス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-t-ブチルフェニル)ブタン、4,4’-シクロヘキシリデンビス[2-シクロヘキシル-6-[(2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)メチル]フェノール]、4,4’-シクロヘキシリデンビス[2-シクロヘキシル-6-[(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)メチル]フェノール]、4,4’-シクロヘキシリデンビス[2-シクロヘキシル-6-[(4-ヒドロキシ-2-メチル-5-シクロヘキシルフェニル)メチル]フェノール]、4,4’-シクロヘキシリデンビス[2-シクロヘキシル-6-[(2,3,4-トリヒドロキシフェニル)メチル]フェノール]、4,4’,4’’,4’’’-(1,2-エタンジイリデン)テトラキス(2,6-ジメチルフェノール)、4,4’,4’’,4’’’-(1,4-フェニレンジメチリデン)テトラキス(2,6-ジメチルフェノール)、1,1,3-トリス-(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-t-ブチルフェニル)ブタン、テトラメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、(1,1’-ビフェニル)-4,4’-ジオール、3,3’-ジメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4’-ジオール、3,3’,5,5’-テトラメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4’-ジオール、2,2’,3,3’,5,5’-ヘキサメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4-ジオール、2,3,3’,5,5’-ペンタメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4-ジオール、2,3’,5,5’-テトラメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4-ジオール、2,2’,5,5’-テトラメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4-ジオール、2,2’,3,5,5’-ペンタメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4-ジオール、5,5’-ジ―t-ブチル―2,2’-ジメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4-ジオール、3,3’-ジ―t-ブチル―5,5’-ジメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4-ジオール等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
Examples of polyhydric phenol compounds for the partial structure represented by the above formula (2) are listed below.
Examples of polyhydric phenol compounds include 4,4'-[(3-hydroxyphenyl)methylene]bis(2,6-dimethylphenol), 4,4'-[(3-hydroxyphenyl)methylene]bis(2 , 3,6-trimethylphenol), 4,4'-[(4-hydroxyphenyl)methylene]bis(2,6-dimethylphenol), 4,4'-[(4-hydroxyphenyl)methylene]bis(2 , 3,6-trimethylphenol), 4,4'-[(2-hydroxy-3-methoxyphenyl)methylene]bis(2,6-dimethylphenol), 4,4'-[(4-hydroxy-3- ethoxyphenyl)methylene]bis(2,3,6-trimethylethylphenol), 4,4'-[(3,4-dihydroxyphenyl)methylene]bis(2,6-dimethylphenol), 4,4'-[ (3,4-dihydroxyphenyl)methylene]bis(2,3,6-trimethylphenol), 2,2'-[(4-hydroxyphenyl)methylene]bis(3,5,6-trimethylphenol), 4, 4'-[4-(4-hydroxyphenyl)cyclohexylidene]bis(2,6-dimethylphenol), 4,4'-[(2-hydroxyphenyl)methylene]-bis(2,3,6-trimethyl phenol), 4,4'-[1-[4-[1-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-1-methylethyl]phenyl]ethylidene]bis(2,6-dimethylphenol), 4 , 4'-[1-[4-[1-(4-hydroxy-3-fluorophenyl)-1-methylethyl]phenyl]ethylidene]bis(2,6-dimethylphenol), 2,6-bis[( 4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)ethyl]-4-methylphenol, 2,6-bis[(4-hydroxy-2,3,6-trimethylphenyl)methyl]-4-methylphenol, 2,6 -bis[(4-hydroxy-3,5,6-trimethylphenyl)methyl]-4-ethylphenol, 2,4-bis[(4-hydroxy-3-methylphenyl)methyl]-6-methylphenol, 2 ,6-bis[(4-hydroxy-3-methylphenyl)methyl]-4-methylphenol, 2,4-bis[(4-hydroxy-3-cyclohexylphenyl)methyl]-6-methylphenol, 2,4 -bis[(4-hydroxy-3-methylphenyl)methyl]-6-cyclohexylphenol, 2,4-bis[(2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-6-cyclohexylphenol, 2,4-bis [(4-hydroxy-2,3,6-trimethylphenyl)methyl]-6-cyclohexylphenol, 3,6-bis[(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methyl]-1,2-benzenediol , 4,6-bis[(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methyl]-1,3-benzenediol, 2,4,6-tris[(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methyl ]-1,3-benzenediol, 2,4,6-tris[(2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methyl]-1,3-benzenediol, 2,2'-methylenebis[6-[( 4/2-hydroxy-2,5/3,6-dimethylphenyl)methyl]-4-methylphenol], 2,2'-methylenebis[6-[(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methyl] -4-methylphenol], 2,2'-methylenebis[6-[(4/2-hydroxy-2,3,5/3,4,6-trimethylphenyl)methyl]-4-methylphenol], 2, 2'-methylenebis[6-[(4-hydroxy-2,3,5-trimethylphenyl)methyl]-4-methylphenol], 4,4'-methylenebis[2-[(2,4-dihydroxyphenyl)methyl ]-6-methylphenol], 4,4'-methylenebis[2-[(2,4-dihydroxyphenyl)methyl]-3,6-dimethylphenol], 4,4'-methylenebis[2-[(2, 4-dihydroxy-3-methylphenyl)methyl]-3,6-dimethylphenol], 4,4'-methylenebis[2-[(2,3,4-trihydroxyphenyl)methyl]-3,6-dimethylphenol ], 6,6'-methylenebis[4-[(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methyl]-1,2,3-benzenetriol], 1,1-bis(2-methyl-4-hydroxy -5-t-butylphenyl)butane, 4,4'-cyclohexylidenebis[2-cyclohexyl-6-[(2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]phenol], 4,4'-cyclohexylidene Bis[2-cyclohexyl-6-[(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methyl]phenol], 4,4'-cyclohexylidene bis[2-cyclohexyl-6-[(4-hydroxy-2- methyl-5-cyclohexylphenyl)methyl]phenol], 4,4'-cyclohexylidenebis[2-cyclohexyl-6-[(2,3,4-trihydroxyphenyl)methyl]phenol], 4,4', 4'',4'''-(1,2-ethanediylidene)tetrakis(2,6-dimethylphenol), 4,4',4'',4'''-(1,4-phenylenedimethylidene)tetrakis (2,6-dimethylphenol), 1,1,3-tris-(2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl)butane, tetramethylbisphenol A, tetramethylbisphenol F, (1,1'-biphenyl)-4,4'-diol,3,3'-dimethyl(1,1'-biphenyl)-4,4'-diol,3,3',5,5'-tetramethyl(1,1'-biphenyl)-4,4'-diol,2,2',3,3',5,5'-hexamethyl(1,1'-biphenyl)-4,4-diol,2,3,3',5 , 5'-pentamethyl(1,1'-biphenyl)-4,4-diol, 2,3',5,5'-tetramethyl(1,1'-biphenyl)-4,4-diol, 2,2 ',5,5'-tetramethyl(1,1'-biphenyl)-4,4-diol, 2,2',3,5,5'-pentamethyl(1,1'-biphenyl)-4,4- Diol, 5,5'-di-t-butyl-2,2'-dimethyl(1,1'-biphenyl)-4,4-diol, 3,3'-di-t-butyl-5,5'- Examples include, but are not limited to, dimethyl(1,1'-biphenyl)-4,4-diol.

多価フェノール化合物におけるフェノール性水酸基の数は、2個以上であれば特に制限はないが、ポリフェニレンエーテル末端が多くなると重合時の分子量変化が大きくなる可能性があるため、好ましくは2~6個、より好ましくは2~4個である。 The number of phenolic hydroxyl groups in the polyhydric phenol compound is not particularly limited as long as it is 2 or more, but if the number of polyphenylene ether terminals increases, the molecular weight change during polymerization may increase, so it is preferably 2 to 6. , more preferably 2 to 4.

特に好ましい多価フェノール化合物は、4,4’-[(4-ヒドロキシフェニル)メチレン]ビス(2,6-ジメチルフェノール)、4,4’-[(3-ヒドロキシフェニル)メチレン]ビス(2,6-ジメチルフェノール)、4,4’-[(4-ヒドロキシフェニル)メチレン]ビス(2,3,6-トリメチルフェノール)、4,4’-[(3-ヒドロキシフェニル)メチレン]ビス(2,3,6-トリメチルフェノール)、4,4’,4’’,4’’’-(1,4-フェニレンジメチリデン)テトラキス(2,6-ジメチルフェノール)、1,1,3-トリス-(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-tーブチルフェニル)ブタン、1,1-ビス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-t-ブチルフェニル)ブタン、テトラメチルビスフェノールA、3,3’,5,5’-テトラメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4’-ジオールである。 Particularly preferred polyhydric phenol compounds include 4,4'-[(4-hydroxyphenyl)methylene]bis(2,6-dimethylphenol), 4,4'-[(3-hydroxyphenyl)methylene]bis(2, 6-dimethylphenol), 4,4'-[(4-hydroxyphenyl)methylene]bis(2,3,6-trimethylphenol), 4,4'-[(3-hydroxyphenyl)methylene]bis(2, 3,6-trimethylphenol), 4,4',4'',4'''-(1,4-phenylenedimethylidene)tetrakis(2,6-dimethylphenol), 1,1,3-tris-( 2-Methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl)butane, 1,1-bis(2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl)butane, tetramethylbisphenol A, 3,3',5, 5'-tetramethyl(1,1'-biphenyl)-4,4'-diol.

上記式(1)中、複数のYは、各々独立に、下記式(4)で表される構造を有する2価の連結基(すなわち、置換基を持つフェノールユニット)であり、nは、Yの繰り返し数を表し、各々独立に、0~200の整数であり、そしてa個の[-Y-A]中、少なくとも1つのnは、1以上の整数である。
In the above formula (1), each Y is independently a divalent linking group (i.e., a phenol unit having a substituent) having a structure represented by the following formula (4), and n is Y each independently is an integer from 0 to 200, and among a [-Y n -A], at least one n is an integer of 1 or more.

式(4)中、複数のR21は、各々独立に、水素原子、置換されていてもよい炭素数1~6の炭化水素基、置換されていてもよい炭素数6~12のアリール基、及びハロゲン原子;から成る群から選択される少なくとも1つを表す。R21は、置換されていてもよい炭素数1~6の飽和又は不飽和の炭化水素基が好ましく、より好ましくは、メチル基、エチル基、n-プロピル基、ビニル基、アリール基、エチニル基、又はプロパルギル基であり、さらに好ましくは、メチル基、又はエチル基であり、特に好ましくはメチル基である。上記置換基としては、ハロゲン原子等が挙げられる。 In formula (4), a plurality of R 21 's each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, an optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and a halogen atom; R 21 is preferably an optionally substituted saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group, ethyl group, n-propyl group, vinyl group, aryl group, or ethynyl group. , or a propargyl group, more preferably a methyl group or an ethyl group, particularly preferably a methyl group. Examples of the above-mentioned substituents include halogen atoms and the like.

式(4)中、2つのR21は、変性ポリフェニレンエーテル含有組成物について低誘電特性、適度な金属剥離性、低溶液粘度、硬化時の十分なTgなどの全てを有するという観点から、同時に水素原子ではないことが好ましく、かつ/又は、一方が上記式(3)で表される部分構造であり、もう一方が水素原子、メチル基又はエチル基のいずれかであるという組み合わせではないことが好ましい。 In formula (4), the two R 21s are hydrogen at the same time, from the viewpoint that the modified polyphenylene ether-containing composition has all of the following: low dielectric properties, appropriate metal releasability, low solution viscosity, and sufficient Tg during curing. It is preferable that it is not an atom, and/or it is preferable that it is not a combination in which one is a partial structure represented by the above formula (3) and the other is a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group. .

式(4)中、複数のR22は、各々独立に、水素原子;置換されていてもよい炭素数1~6の炭化水素基、置換されていてもよい炭素数6~12のアリール基;及びハロゲン原子;から成る群から選択される少なくとも1つを表し、水素原子、又は置換されていてもよい炭素数1~6の飽和又は不飽和の炭化水素基が好ましく、より好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、又はn-プロピル基であり、さらに好ましくは、水素原子、又はメチル基である。上記置換基としては、ハロゲン原子等が挙げられる。 In formula (4), each of the plurality of R 22 's independently represents a hydrogen atom; an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms; an optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms; and a halogen atom; preferably a hydrogen atom or an optionally substituted saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom , methyl group, ethyl group, or n-propyl group, and more preferably a hydrogen atom or a methyl group. Examples of the above-mentioned substituents include halogen atoms and the like.

上記式(4)で表される構造のための一価のフェノール化合物としては、例えば、o-クレゾール、2,6-ジメチルフェノール、2-エチルフェノール、2-メチル-6-エチルフェノール、2,6-ジエチルフェノール、2-n-プロピルフェノール、2-エチル-6-n-プロピルフェノール、2-メチル-6-クロルフェノール、2-メチル-6-ブロモフェノール、2-メチル-6-n-プロピルフェノール、2-エチル-6-ブロモフェノール、2-メチル-6-n-ブチルフェノール、2,6-ジ-n-プロピルフェノール、2-エチル-6-クロルフェノール、2-メチル-6-フェニルフェノール、2-フェニルフェノール、2,6-ジフェニルフェノール、2,6-ビス-(4-フルオロフェニル)フェノール、2-メチル-6-トリルフェノール、2,6-ジトリルフェノール、2,5-ジメチルフェノール、2,3,6-トリメチルフェノール、2,5-ジエチルフェノール、2-メチル-5-エチルフェノール、2-エチル-5-メチルフェノール、2-アリル-5-メチルフェノール、2,5-ジアリルフェノール、2,3-ジエチル-6-n―プロピルフェノール、2-メチル-5-クロルフェノール、2-メチル-5-ブロモフェノール、2-メチル-5-イソプロピルフェノール、2-メチル-5-n-プロピルフェノール、2-エチル-5-ブロモフェノール、2-メチル-5-n-ブチルフェノール、2,5-ジ-n-プロピルフェノール、2-エチル-5-クロルフェノール、2-メチル-5-フェニルフェノール、2,5-ジフェニルフェノール、2,5-ビス-(4-フルオロフェニル)フェノール、2-メチル-5-トリルフェノール、2,5-ジトリルフェノール、2,6-ジメチル-3-アリルフェノール、2,3,6-トリアリルフェノール、2,3,6-トリブチルフェノール、2,6-ジ-n-ブチル-3-メチルフェノール、2,6-ジメチル-3-n-ブチルフェノール、2,6-ジメチル-3-t-ブチルフェノール等が挙げられる。 Examples of monovalent phenol compounds for the structure represented by the above formula (4) include o-cresol, 2,6-dimethylphenol, 2-ethylphenol, 2-methyl-6-ethylphenol, 2, 6-diethylphenol, 2-n-propylphenol, 2-ethyl-6-n-propylphenol, 2-methyl-6-chlorophenol, 2-methyl-6-bromophenol, 2-methyl-6-n-propyl Phenol, 2-ethyl-6-bromophenol, 2-methyl-6-n-butylphenol, 2,6-di-n-propylphenol, 2-ethyl-6-chlorophenol, 2-methyl-6-phenylphenol, 2-phenylphenol, 2,6-diphenylphenol, 2,6-bis-(4-fluorophenyl)phenol, 2-methyl-6-tolylphenol, 2,6-ditolylphenol, 2,5-dimethylphenol, 2,3,6-trimethylphenol, 2,5-diethylphenol, 2-methyl-5-ethylphenol, 2-ethyl-5-methylphenol, 2-allyl-5-methylphenol, 2,5-diallylphenol, 2,3-diethyl-6-n-propylphenol, 2-methyl-5-chlorophenol, 2-methyl-5-bromophenol, 2-methyl-5-isopropylphenol, 2-methyl-5-n-propylphenol , 2-ethyl-5-bromophenol, 2-methyl-5-n-butylphenol, 2,5-di-n-propylphenol, 2-ethyl-5-chlorophenol, 2-methyl-5-phenylphenol, 2 , 5-diphenylphenol, 2,5-bis-(4-fluorophenyl)phenol, 2-methyl-5-tolylphenol, 2,5-ditolylphenol, 2,6-dimethyl-3-allylphenol, 2, 3,6-trialylphenol, 2,3,6-tributylphenol, 2,6-di-n-butyl-3-methylphenol, 2,6-dimethyl-3-n-butylphenol, 2,6-dimethyl- Examples include 3-t-butylphenol.

上記一価のフェノール化合物の中でも、特に、安価であり入手が容易であるため、2,6-ジメチルフェノール、2,6-ジエチルフェノール、2,6-ジフェニルフェノール、2,3,6-トリメチルフェノール、又は2,5-ジメチルフェノールが好ましく、2,6-ジメチルフェノール、又は2,3,6-トリメチルフェノールがより好ましい。 Among the above-mentioned monovalent phenol compounds, 2,6-dimethylphenol, 2,6-diethylphenol, 2,6-diphenylphenol, 2,3,6-trimethylphenol are particularly preferred because they are inexpensive and easily available. , or 2,5-dimethylphenol is preferred, and 2,6-dimethylphenol or 2,3,6-trimethylphenol is more preferred.

なお、上記フェノール化合物は、1種を単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 In addition, the said phenol compound may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more types.

上記一価のフェノール化合物としては、例えば、2,6-ジメチルフェノールと2,6-ジエチルフェノールとを組み合わせて使用する方法、2,6-ジメチルフェノールと2,6-ジフェニルフェノールとを組み合わせて使用する方法、2,3,6-トリメチルフェノールと2,5-ジメチルフェノールとを組み合わせて使用する方法、2,6-ジメチルフェノールと2,3,6-トリメチルフェノールとを組み合わせて使用する方法等が挙げられる。このとき、組み合わせるフェノール化合物の混合比は任意に選択できる。 As the monovalent phenol compound, for example, 2,6-dimethylphenol and 2,6-diethylphenol are used in combination, 2,6-dimethylphenol and 2,6-diphenylphenol are used in combination. A method of using 2,3,6-trimethylphenol and 2,5-dimethylphenol in combination, a method of using 2,6-dimethylphenol and 2,3,6-trimethylphenol in combination, etc. Can be mentioned. At this time, the mixing ratio of the phenol compounds to be combined can be arbitrarily selected.

また、使用するフェノール化合物には、製造の際の副産物として含まれ得る、少量のm-クレゾール、p-クレゾール、2,4-ジメチルフェノール、2,4,6-トリメチルフェノール等が含まれていてもよい。 In addition, the phenol compound used contains small amounts of m-cresol, p-cresol, 2,4-dimethylphenol, 2,4,6-trimethylphenol, etc., which may be included as by-products during manufacturing. Good too.

上記式(2)で表されるようなa価の部分構造のためのフェノール化合物は、対応する一価のフェノール化合物と、アルデヒド類(例えば、ホルムアルデヒド等)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、シクロヘキサノン等)、又はジハロゲン化脂肪族炭化水素との反応や、対応する一価のフェノール化合物同士の反応等により、工業的に有利に製造できる。 The phenol compound for the a-valent partial structure as represented by the above formula (2) includes a corresponding monovalent phenol compound, aldehydes (e.g., formaldehyde, etc.), ketones (e.g., acetone, methyl ethyl ketone, etc.), It can be advantageously produced industrially by reaction with dihalogenated aliphatic hydrocarbons (methyl isobutyl ketone, acetophenone, cyclohexanone, etc.), or reactions between corresponding monovalent phenol compounds.

上記式(1)中、Aは、すべて水素原子の場合を除く、水素原子、またはポリフェニレンエーテル構造と結合可能なシリル基含有誘導体を表す。 In the above formula (1), A represents a hydrogen atom or a silyl group-containing derivative capable of bonding to a polyphenylene ether structure, except when all hydrogen atoms are present.

ここで、式(1)中のAとしては、低誘電特性、適度な金属剥離性、低溶液粘度、硬化時の十分なTgの特性が得られる観点から、下記式(5)で表される置換基が好ましい。
式(5)中、R31、及びR34は、それぞれ独立に、炭素数1~30の2価の炭化水素基であり、複数のR32、及びR33は、それぞれ独立に、炭素数1~30の1価の炭化水素基、アリール基、アルコキシ基、アリロキシ基、アミノ基、又はヒドロキシアルキル基である。式(5)中、Bは、オレフィン系の炭素-炭素2重結合を含む炭素数1~30の炭化水素系置換基で、その一部が、水素、水酸基、アリール基、アルコキシ基、アリロキシ基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、ビニル基、イソプロペニル基、又はハロゲン基に置換されていてもよい。式(5)中、s、t、及びuは、それぞれ独立に0~8の整数であり、0~5の整数であることが好ましい。
Here, A in formula (1) is expressed by the following formula (5) from the viewpoint of obtaining low dielectric properties, appropriate metal releasability, low solution viscosity, and sufficient Tg properties during curing. Substituents are preferred.
In formula (5), R 31 and R 34 each independently represent a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, and a plurality of R 32 and R 33 each independently represent a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms. ~30 monovalent hydrocarbon groups, aryl groups, alkoxy groups, allyloxy groups, amino groups, or hydroxyalkyl groups. In formula (5), B is a hydrocarbon substituent having 1 to 30 carbon atoms containing an olefinic carbon-carbon double bond, some of which are hydrogen, hydroxyl group, aryl group, alkoxy group, or allyloxy group. , an amino group, a hydroxyalkyl group, a vinyl group, an isopropenyl group, or a halogen group. In formula (5), s, t, and u are each independently an integer of 0 to 8, preferably an integer of 0 to 5.

式(5)中、R32、及びR33の炭化水素基は、誘電特性、又は溶媒への溶解性の観点からは、炭素数が多い方がより好ましい。一方で、炭素数が過剰に多いと、Tgの低下若しくは金属剥離性の低下、又はオレフィン系の炭素-炭素2重結合の低下が生ずるため、R32及びR33の炭素数としては1~30程度が好ましく、1~20程度がより好ましく、1~12程度がさらに好ましい。 In formula (5), it is more preferable that the hydrocarbon groups of R 32 and R 33 have a large number of carbon atoms from the viewpoint of dielectric properties or solubility in a solvent. On the other hand, if the number of carbon atoms is excessively large, a decrease in Tg, a decrease in metal releasability , or a decrease in olefinic carbon-carbon double bonds will occur. It is preferably about 1 to 20, more preferably about 1 to 12.

式(5)中、R32、及び/又はR33の1価の炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、n-プロピル、2-プロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、1-エチルプロピル、1-メチルブチル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、アミル、シクロペンチル、2,2-ジメチルプロピル、1,1-ジメチルプロピル、n-へキシル、シクロヘキシル、1-エチルブチル、2-エチルブチル、3-エチルブチル、1-メチルペンチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチレン、4-メチルペンチレン、1,1-ジメチルブチレン、2,2-ジメチルブチレン、3,3-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、n-ヘプチル、1-メチルへキシル、2-メチルへキシル、3-メチルへキシル、4-メチルへキシル、5-メチルへキシル、1-エチルペンチル、2-エチルペンチル、3-エチルペンチル、1,1-ジメチルペンチル、2,2-ジメチルペンチル、3,3-ジメチルペンチル、4,4-ジメチルペンチル、1,2-ジメチルペンチル、1,3-ジメチルペンチル、1,4-ジメチルペンチル、2,3-ジメチルペンチル、2,4-ジメチルペンチル、3,4-ジメチルペンチル、2-メチル-3,3-ジメチルブチル、1-メチル-3,3-ジメチルブチル、1,2,3-トリメチルブチル、1,3-ジメチル-2-ペンチル、2-イソプロピルブチル、2-メチルシクロヘキシル、3-メチルシクロヘキシル、4-メチルシクロヘキシル、1-シクロヘキシルメチル、2-エチルシクロペンチル、3-エチルシクロペンチル、2,3-ジメチルシクロペンチル、2,4-ジメチルシクロペンチル、2-メチルシクロペンチルメチル、2-シクロペンチルエチル、1-シクロペンチルエチル、n-オクチル、2-オクチル、3-オクチル、4-オクチル、2-メチルヘプチル、3-メチルヘプチル、4-メチルヘプチル、5-メチルヘプチル、6-メチルヘプチル、2-エチルへキシル、3-エチルへキシル、4-エチルへキシル、5-エチルへキシル、1,1-ジメチルへキシル、2,2-ジメチルへキシル、3,3-ジメチルへキシル、4,4-ジメチルへキシル、5,5-ジメチルへキシル、1,2-ジメチルへキシル、1,3-ジメチルへキシル、1,4-ジメチルへキシル、1,5-ジメチルへキシル、2,3-ジメチルへキシル、2,4-ジメチルへキシル、2,5-ジメチルへキシル、1,1-エチルメチルペンチル、2,2-エチルメチルペンチル、3,3-エチルメチルペンチル、4,4-エチルメチルペンチル、1-エチル-2-メチルペンチル、1-エチル-3-メチルペンチル、1-エチル-4-メチルペンチル、2-エチル-1-メチルペンチル、3-エチル-1-メチルペンチル、4-エチル-1-メチルペンチル、2-エチル-3-メチルペンチル、2-エチル-4-メチルペンチル、3-エチル-2-メチルペンチル、4-エチル-3-メチルペンチル、3-エチル-4-メチルペンチル、4-エチル-3-メチルペンチル、1-(2-メチルプロピル)ブチル、1-(2-メチルプロピル)-2-メチルブチル、1,1-(2-メチルプロピル)エチル、1,1-(2-メチルプロピル)エチルプロピル、1,1-ジエチルプロピル、2,2-ジエチルプロピル、1,1-エチルメチル-2,2-ジメチルプロピル、2,2-エチルメチル-1,1-ジメチルプロピル、2-エチル-1,1-ジメチルブチル、2,3-ジメチルシクロヘキシル、2,3-ジメチルシクロヘキシル、2,5-ジメチルシクロヘキシル、2,6-ジメチルシクロヘキシル、3,5-ジメチルシクロヘキシル、2-メチルシクロヘキシルメチル、3-メチルシクロヘキシルメチル、4-メチルシクロヘキシルメチル、2-エチルシクロヘキシル、3-エチルシクロヘキシル、4-エチルシクロヘキシル、2-シクロヘキシルエチル、1-シクロヘキシルエチル、1-シクロヘキシル-2-エチレン、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、ベンジル、2-フェニルエチル等が挙げられる。 In formula (5), specific examples of the monovalent hydrocarbon group for R 32 and/or R 33 include methyl, ethyl, n-propyl, 2-propyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, n -Pentyl, 1-ethylpropyl, 1-methylbutyl, 2-methylbutyl, 3-methylbutyl, amyl, cyclopentyl, 2,2-dimethylpropyl, 1,1-dimethylpropyl, n-hexyl, cyclohexyl, 1-ethylbutyl, 2 -Ethylbutyl, 3-ethylbutyl, 1-methylpentyl, 2-methylpentylene, 3-methylpentylene, 4-methylpentylene, 1,1-dimethylbutylene, 2,2-dimethylbutylene, 3,3-dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl, 1,3-dimethylbutyl, 2,3-dimethylbutyl, n-heptyl, 1-methylhexyl, 2-methylhexyl, 3-methylhexyl, 4-methylhexyl, 5 -Methylhexyl, 1-ethylpentyl, 2-ethylpentyl, 3-ethylpentyl, 1,1-dimethylpentyl, 2,2-dimethylpentyl, 3,3-dimethylpentyl, 4,4-dimethylpentyl, 1, 2-dimethylpentyl, 1,3-dimethylpentyl, 1,4-dimethylpentyl, 2,3-dimethylpentyl, 2,4-dimethylpentyl, 3,4-dimethylpentyl, 2-methyl-3,3-dimethylbutyl , 1-methyl-3,3-dimethylbutyl, 1,2,3-trimethylbutyl, 1,3-dimethyl-2-pentyl, 2-isopropylbutyl, 2-methylcyclohexyl, 3-methylcyclohexyl, 4-methylcyclohexyl , 1-cyclohexylmethyl, 2-ethylcyclopentyl, 3-ethylcyclopentyl, 2,3-dimethylcyclopentyl, 2,4-dimethylcyclopentyl, 2-methylcyclopentylmethyl, 2-cyclopentylethyl, 1-cyclopentylethyl, n-octyl, 2-octyl, 3-octyl, 4-octyl, 2-methylheptyl, 3-methylheptyl, 4-methylheptyl, 5-methylheptyl, 6-methylheptyl, 2-ethylhexyl, 3-ethylhexyl, 4 -Ethylhexyl, 5-ethylhexyl, 1,1-dimethylhexyl, 2,2-dimethylhexyl, 3,3-dimethylhexyl, 4,4-dimethylhexyl, 5,5-dimethylhexyl , 1,2-dimethylhexyl, 1,3-dimethylhexyl, 1,4-dimethylhexyl, 1,5-dimethylhexyl, 2,3-dimethylhexyl, 2,4-dimethylhexyl, 2 ,5-dimethylhexyl, 1,1-ethylmethylpentyl, 2,2-ethylmethylpentyl, 3,3-ethylmethylpentyl, 4,4-ethylmethylpentyl, 1-ethyl-2-methylpentyl, 1- Ethyl-3-methylpentyl, 1-ethyl-4-methylpentyl, 2-ethyl-1-methylpentyl, 3-ethyl-1-methylpentyl, 4-ethyl-1-methylpentyl, 2-ethyl-3-methyl Pentyl, 2-ethyl-4-methylpentyl, 3-ethyl-2-methylpentyl, 4-ethyl-3-methylpentyl, 3-ethyl-4-methylpentyl, 4-ethyl-3-methylpentyl, 1-( 2-Methylpropyl)butyl, 1-(2-methylpropyl)-2-methylbutyl, 1,1-(2-methylpropyl)ethyl, 1,1-(2-methylpropyl)ethylpropyl, 1,1-diethyl Propyl, 2,2-diethylpropyl, 1,1-ethylmethyl-2,2-dimethylpropyl, 2,2-ethylmethyl-1,1-dimethylpropyl, 2-ethyl-1,1-dimethylbutyl, 2, 3-dimethylcyclohexyl, 2,3-dimethylcyclohexyl, 2,5-dimethylcyclohexyl, 2,6-dimethylcyclohexyl, 3,5-dimethylcyclohexyl, 2-methylcyclohexylmethyl, 3-methylcyclohexylmethyl, 4-methylcyclohexylmethyl , 2-ethylcyclohexyl, 3-ethylcyclohexyl, 4-ethylcyclohexyl, 2-cyclohexylethyl, 1-cyclohexylethyl, 1-cyclohexyl-2-ethylene, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl, undecyl, dodecyl, benzyl, 2- Examples include phenylethyl.

32及び/又はR33の1価の炭化水素基としては、好ましくは、メチル、エチル、n-プロピル、2-プロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、1-エチルプロピル、1-メチルブチル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、アミル、シクロペンチル、n-へキシル、シクロヘキシル、1-エチルブチル、2-エチルブチル、3-エチルブチル、1-メチルペンチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチル、4-メチルペンチル、n-ヘプチル、1-メチルへキシル、2-メチルへキシル、3-メチルへキシル、4-メチルへキシル、5-メチルへキシル、1-エチルペンチル、2-エチルペンチル、3-エチルペンチル、2-メチルシクロヘキシル、3-メチルシクロヘキシル、4-メチルシクロヘキシル、n-オクチル、2-オクチル、3-オクチル、4-オクチル、2-メチルヘプチル、3-メチルヘプチル、4-メチルヘプチル、5-メチルヘプチル、6-メチルヘプチル、2-エチルへキシル、3-エチルへキシル、4-エチルへキシル、5-エチルへキシル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、及びベンジルであり、より好ましくは、メチル、エチル、n-プロピル、2-プロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、1-エチルプロピル、1-メチルブチル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、アミル、シクロペンチル、n-へキシル、シクロヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、2-オクチル、3-オクチル、4-オクチル、2-メチルヘプチル、3-メチルヘプチル、4-メチルヘプチル、5-メチルヘプチル、6-メチルヘプチル、2-エチルへキシル、3-エチルへキシル、4-エチルへキシル、5-エチルへキシル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、及びベンジルであり、さらに好ましくは、メチル、エチル、n-プロピル、2-プロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、アミル、シクロペンチル、n-へキシル、シクロヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、2-オクチル、3-オクチル、4-オクチル、2-メチルヘプチル、3-メチルヘプチル、4-メチルヘプチル、5-メチルヘプチル、6-メチルヘプチル、2-エチルへキシル、3-エチルへキシル、4-エチルへキシル、5-エチルへキシル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、及びベンジルである。 The monovalent hydrocarbon group for R 32 and/or R 33 is preferably methyl, ethyl, n-propyl, 2-propyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, n-pentyl, 1-ethylpropyl. , 1-methylbutyl, 2-methylbutyl, 3-methylbutyl, amyl, cyclopentyl, n-hexyl, cyclohexyl, 1-ethylbutyl, 2-ethylbutyl, 3-ethylbutyl, 1-methylpentyl, 2-methylpentyl, 3-methylpentyl , 4-methylpentyl, n-heptyl, 1-methylhexyl, 2-methylhexyl, 3-methylhexyl, 4-methylhexyl, 5-methylhexyl, 1-ethylpentyl, 2-ethylpentyl, 3-ethylpentyl, 2-methylcyclohexyl, 3-methylcyclohexyl, 4-methylcyclohexyl, n-octyl, 2-octyl, 3-octyl, 4-octyl, 2-methylheptyl, 3-methylheptyl, 4-methylheptyl , 5-methylheptyl, 6-methylheptyl, 2-ethylhexyl, 3-ethylhexyl, 4-ethylhexyl, 5-ethylhexyl, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl, undecyl, dodecyl, and benzyl. Yes, more preferably methyl, ethyl, n-propyl, 2-propyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, n-pentyl, 1-ethylpropyl, 1-methylbutyl, 2-methylbutyl, 3-methylbutyl, amyl , cyclopentyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-heptyl, n-octyl, 2-octyl, 3-octyl, 4-octyl, 2-methylheptyl, 3-methylheptyl, 4-methylheptyl, 5-methylheptyl, 6-methylheptyl, 2-ethylhexyl, 3-ethylhexyl, 4-ethylhexyl, 5-ethylhexyl, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl, undecyl, dodecyl, and benzyl, more preferably, Methyl, ethyl, n-propyl, 2-propyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, n-pentyl, amyl, cyclopentyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-heptyl, n-octyl, 2-octyl, 3 -Octyl, 4-octyl, 2-methylheptyl, 3-methylheptyl, 4-methylheptyl, 5-methylheptyl, 6-methylheptyl, 2-ethylhexyl, 3-ethylhexyl, 4-ethylhexyl, 5-ethylhexyl, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl, undecyl, dodecyl, and benzyl.

32及び/又はR33のアリール基の具体例としては、フェニル、4-メチルフェニル、3-メチルフェニル、2-メチルフェニル、4-エチルフェニル、3-エチルフェニル、2-エチルフェニル、4-n-プロピルフェニル、3-n-プロピルフェニル、2-n-プロピルフェニル、4-イソプロピルフェニル、3-イソプロピルフェニル、2-イソプロピルフェニル、4-n-ブチルフェニル、3-n-ブチルフェニル、2-n-ブチルフェニル、4-イソブチルフェニル、3-イソブチルフェニル、2-イソブチルフェニル、4-tert-ブチルフェニル、3-tert-ブチルフェニル、2-tert-ブチルフェニル、2,6-ジメチルフェニル、2,4-ジメチルフェニル、2,5-ジメチルフェニル、2,3-ジメチルフェニル、3,5-ジメチルフェニル、3,4-ジメチルフェニル、2,6-ジエチルフェニル、2,4-ジエチルフェニル、2,5-ジエチルフェニル、2,3-ジエチルフェニル、3,5-ジエチルフェニル、3,4-ジエチルフェニル、2,4,6-トリメチルフェニル、2,3,4-トリメチルフェニル、2,3,6-トリメチルフェニル、3,4,5-トリメチルフェニル、2,4,6-トリエチルフェニル、2,3,4-トリエチルフェニル、2,3,6-トリエチルフェニル、3,4,5-トリエチルフェニル等が挙げられる。 Specific examples of the aryl group for R 32 and/or R 33 include phenyl, 4-methylphenyl, 3-methylphenyl, 2-methylphenyl, 4-ethylphenyl, 3-ethylphenyl, 2-ethylphenyl, 4-ethylphenyl, n-propylphenyl, 3-n-propylphenyl, 2-n-propylphenyl, 4-isopropylphenyl, 3-isopropylphenyl, 2-isopropylphenyl, 4-n-butylphenyl, 3-n-butylphenyl, 2- n-butylphenyl, 4-isobutylphenyl, 3-isobutylphenyl, 2-isobutylphenyl, 4-tert-butylphenyl, 3-tert-butylphenyl, 2-tert-butylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, 2, 4-dimethylphenyl, 2,5-dimethylphenyl, 2,3-dimethylphenyl, 3,5-dimethylphenyl, 3,4-dimethylphenyl, 2,6-diethylphenyl, 2,4-diethylphenyl, 2,5 -diethylphenyl, 2,3-diethylphenyl, 3,5-diethylphenyl, 3,4-diethylphenyl, 2,4,6-trimethylphenyl, 2,3,4-trimethylphenyl, 2,3,6-trimethyl Examples include phenyl, 3,4,5-trimethylphenyl, 2,4,6-triethylphenyl, 2,3,4-triethylphenyl, 2,3,6-triethylphenyl, 3,4,5-triethylphenyl, etc. .

32及び/又はR33のアリール基としては、好ましくは、フェニル、4-メチルフェニル、3-メチルフェニル、2-メチルフェニル、4-エチルフェニル、3-エチルフェニル、2-エチルフェニル、4-n-プロピルフェニル、3-n-プロピルフェニル、2-n-プロピルフェニル、4-イソプロピルフェニル、3-イソプロピルフェニル、2-イソプロピルフェニル、4-n-ブチルフェニル、3-n-ブチルフェニル、2-n-ブチルフェニル、4-イソブチルフェニル、3-イソブチルフェニル、2-イソブチルフェニル、4-tert-ブチルフェニル、3-tert-ブチルフェニル、2,6-ジメチルフェニル、2,4-ジメチルフェニル、2,5-ジメチルフェニル、2,3-ジメチルフェニル、3,5-ジメチルフェニル、3,4-ジメチルフェニル、2,6-ジエチルフェニル、2,4-ジエチルフェニル、2,5-ジエチルフェニル、2,3-ジエチルフェニル、3,5-ジエチルフェニル、3,4-ジエチルフェニル、2,4,6-トリメチルフェニル、2,3,4-トリメチルフェニル、2,3,6-トリメチルフェニル、3,4,5-トリメチルフェニル、及び2,4,6-トリエチルフェニルであり、より好ましくは、フェニル、4-メチルフェニル、3-メチルフェニル、2-メチルフェニル、4-エチルフェニル、3-エチルフェニル、2-エチルフェニル、4-n-プロピルフェニル、3-n-プロピルフェニル、2-n-プロピルフェニル、4-イソプロピルフェニル、3-イソプロピルフェニル、2-イソプロピルフェニル、4-n-ブチルフェニル、3-n-ブチルフェニル、2-n-ブチルフェニル、4-イソブチルフェニル、3-イソブチルフェニル、4-tert-ブチルフェニル、3-tert-ブチルフェニル、2,6-ジメチルフェニル、2,4-ジメチルフェニル、2,5-ジメチルフェニル、2,6-ジエチルフェニル、2,4-ジエチルフェニル、2,5-ジエチルフェニル、2,3-ジエチルフェニル、2,4,6-トリメチルフェニル、2,3,6-トリメチルフェニル、及び2,4,6-トリエチルフェニルであり、さらに好ましくは、フェニル、4-メチルフェニル、3-メチルフェニル、2-メチルフェニル、4-エチルフェニル、3-エチルフェニル、4-イソプロピルフェニル、3-イソプロピルフェニル、2-イソプロピルフェニル、4-n-ブチルフェニル、3-n-ブチルフェニル、4-イソブチルフェニル、3-イソブチルフェニル、4-tert-ブチルフェニル、2,6-ジメチルフェニル、2,4-ジメチルフェニル、2,5-ジメチルフェニル、及び2,4,6-トリメチルフェニルである。 The aryl group for R 32 and/or R 33 is preferably phenyl, 4-methylphenyl, 3-methylphenyl, 2-methylphenyl, 4-ethylphenyl, 3-ethylphenyl, 2-ethylphenyl, 4- n-propylphenyl, 3-n-propylphenyl, 2-n-propylphenyl, 4-isopropylphenyl, 3-isopropylphenyl, 2-isopropylphenyl, 4-n-butylphenyl, 3-n-butylphenyl, 2- n-butylphenyl, 4-isobutylphenyl, 3-isobutylphenyl, 2-isobutylphenyl, 4-tert-butylphenyl, 3-tert-butylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, 2,4-dimethylphenyl, 2, 5-dimethylphenyl, 2,3-dimethylphenyl, 3,5-dimethylphenyl, 3,4-dimethylphenyl, 2,6-diethylphenyl, 2,4-diethylphenyl, 2,5-diethylphenyl, 2,3 -diethylphenyl, 3,5-diethylphenyl, 3,4-diethylphenyl, 2,4,6-trimethylphenyl, 2,3,4-trimethylphenyl, 2,3,6-trimethylphenyl, 3,4,5 -trimethylphenyl, and 2,4,6-triethylphenyl, more preferably phenyl, 4-methylphenyl, 3-methylphenyl, 2-methylphenyl, 4-ethylphenyl, 3-ethylphenyl, 2-ethyl Phenyl, 4-n-propylphenyl, 3-n-propylphenyl, 2-n-propylphenyl, 4-isopropylphenyl, 3-isopropylphenyl, 2-isopropylphenyl, 4-n-butylphenyl, 3-n-butyl Phenyl, 2-n-butylphenyl, 4-isobutylphenyl, 3-isobutylphenyl, 4-tert-butylphenyl, 3-tert-butylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, 2,4-dimethylphenyl, 2,5 -dimethylphenyl, 2,6-diethylphenyl, 2,4-diethylphenyl, 2,5-diethylphenyl, 2,3-diethylphenyl, 2,4,6-trimethylphenyl, 2,3,6-trimethylphenyl, and 2,4,6-triethylphenyl, more preferably phenyl, 4-methylphenyl, 3-methylphenyl, 2-methylphenyl, 4-ethylphenyl, 3-ethylphenyl, 4-isopropylphenyl, 3- Isopropylphenyl, 2-isopropylphenyl, 4-n-butylphenyl, 3-n-butylphenyl, 4-isobutylphenyl, 3-isobutylphenyl, 4-tert-butylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, 2,4- They are dimethylphenyl, 2,5-dimethylphenyl, and 2,4,6-trimethylphenyl.

32及び/又はR33のアルコキシ基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、2-ブトキシ、t-ブトキシ、1-ペントキシ、2-ペントキシ、3-ペントキシ、2,2-ジメチルプロポキシ、2-エチルプロポキシ、3,3-ジメチルプロポキシ、1,1-ジメチルプロポキシ、シクロペントキシ、1-へキソキシ、2-へキソキシ、3-へキソキシ、4-メチルペントキシ、3-メチルペントキシ、2-メチルペントキシ、1,1-ジメチル-1-ブトキシ、2,2-ジメチル-1-ブトキシ、3,3-ジメチル-1-ブトキシ、4,4-ジメチル-1-ブトキシ、1,2-ジメチル-1-ブトキシ、1,3-ジメチル-1-ブトキシ、2-エチル-1-ブトキシ、3-エチル1-ブトキシ、3,3-エチルメチル-1-プロポキシ、シクロヘキソキシ、1-オクトキシ、2-オクトキシ、3-オクトキシ、4-オクトキシ、2-エチル-1-ヘキソキシ、フェニルメトキシ等が挙げられる。 Specific examples of the alkoxy group for R 32 and/or R 33 include methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, 2-butoxy, t-butoxy, 1-pentoxy, 2-pentoxy, 3-pentoxy. , 2,2-dimethylpropoxy, 2-ethylpropoxy, 3,3-dimethylpropoxy, 1,1-dimethylpropoxy, cyclopentoxy, 1-hexoxy, 2-hexoxy, 3-hexoxy, 4-methylpen Toxy, 3-methylpentoxy, 2-methylpentoxy, 1,1-dimethyl-1-butoxy, 2,2-dimethyl-1-butoxy, 3,3-dimethyl-1-butoxy, 4,4-dimethyl- 1-butoxy, 1,2-dimethyl-1-butoxy, 1,3-dimethyl-1-butoxy, 2-ethyl-1-butoxy, 3-ethyl-1-butoxy, 3,3-ethylmethyl-1-propoxy, Examples include cyclohexoxy, 1-octoxy, 2-octoxy, 3-octoxy, 4-octoxy, 2-ethyl-1-hexoxy, phenylmethoxy and the like.

32及び/又はR33のアルコキシ基としては、好ましくは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、2-ブトキシ、t-ブトキシ、1-ペントキシ、2,2-ジメチルプロポキシ、2-エチルプロポキシ、3,3-ジメチルプロポキシ、1,1-ジメチルプロポキシ、シクロペントキシ、1-へキソキシ、2-へキソキシ、3-へキソキシ、4-メチルペントキシ、3-メチルペントキシ、2-メチルペントキシ、1,1-ジメチル-1-ブトキシ、2,2-ジメチル-1-ブトキシ、3,3-ジメチル-1-ブトキシ、2-エチル-1-ブトキシ、3-エチル1-ブトキシ、3,3-エチルメチル-1-プロポキシ、シクロヘキソキシ、1-オクトキシ、2-オクトキシ、3-オクトキシ、4-オクトキシ、2-エチル-1-ヘキソキシ、及びフェニルメトキシであり、より好ましくは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、2-ブトキシ、t-ブトキシ、2,2-ジメチルプロポキシ、3,3-ジメチルプロポキシ、1,1-ジメチルプロポキシ、シクロペントキシ、1-へキソキシ、2,2-ジメチル-1-ブトキシ、3,3-ジメチル-1-ブトキシ、シクロヘキソキシ、2-エチル-1-ヘキソキシ、及びフェニルメトキシであり、さらに好ましくは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、2-ブトキシ、t-ブトキシ、2,2-ジメチルプロポキシ、シクロペントキシ、1-へキソキシ、2-エチル-1-ヘキソキシ、及びフェニルメトキシである。 The alkoxy group for R 32 and/or R 33 is preferably methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, 2-butoxy, t-butoxy, 1-pentoxy, 2,2-dimethylpropoxy, 2-ethylpropoxy, 3,3-dimethylpropoxy, 1,1-dimethylpropoxy, cyclopentoxy, 1-hexoxy, 2-hexoxy, 3-hexoxy, 4-methylpentoxy, 3-methylpentoxy, 2-methylpentoxy, 1,1-dimethyl-1-butoxy, 2,2-dimethyl-1-butoxy, 3,3-dimethyl-1-butoxy, 2-ethyl-1-butoxy, 3-ethyl-1-butoxy , 3,3-ethylmethyl-1-propoxy, cyclohexoxy, 1-octoxy, 2-octoxy, 3-octoxy, 4-octoxy, 2-ethyl-1-hexoxy, and phenylmethoxy, more preferably methoxy , ethoxy, propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, 2-butoxy, t-butoxy, 2,2-dimethylpropoxy, 3,3-dimethylpropoxy, 1,1-dimethylpropoxy, cyclopentoxy, 1-to xoxy, 2,2-dimethyl-1-butoxy, 3,3-dimethyl-1-butoxy, cyclohexoxy, 2-ethyl-1-hexoxy, and phenylmethoxy, more preferably methoxy, ethoxy, propoxy, iso These are propoxy, n-butoxy, isobutoxy, 2-butoxy, t-butoxy, 2,2-dimethylpropoxy, cyclopentoxy, 1-hexoxy, 2-ethyl-1-hexoxy, and phenylmethoxy.

32及び/又はR33のアリロキシ基の具体例としては、フェノキシ、4-メチルフェノキシ、3-メチルフェノキシ、2-メチルフェノキシ、2,6-ジメチルフェノキシ、2,4-ジメチルフェノキシ、2,3-ジメチルフェノキシ、2,4,6-トリメチルフェノキシ、4-イソプロピルフェノキシ、2-イソプロピルフェノキシ、3-イソプロピルフェノキシ、4-イソブチルフェノキシ、2-イソブチルフェノキシ、3-イソブチルフェノキシ、4-tert-ブチルフェノキシ、2-tert-ブチルフェノキシ、3-tert-ブチルフェノキシ、2,6-ジ-tert-ブチルフェノキシ、2,4-ジ-tert-ブチルフェノキシ、2,3-ジ-tert-ブチルフェノキシ、2-メチル-4-tert-ブチルフェノキシ、2-メチル-6-tert-ブチルフェノキシ、4-メチル-2-tert-ブチルフェノキシ等が挙げられる。 Specific examples of the allyloxy group for R 32 and/or R 33 include phenoxy, 4-methylphenoxy, 3-methylphenoxy, 2-methylphenoxy, 2,6-dimethylphenoxy, 2,4-dimethylphenoxy, 2,3 -dimethylphenoxy, 2,4,6-trimethylphenoxy, 4-isopropylphenoxy, 2-isopropylphenoxy, 3-isopropylphenoxy, 4-isobutylphenoxy, 2-isobutylphenoxy, 3-isobutylphenoxy, 4-tert-butylphenoxy, 2-tert-butylphenoxy, 3-tert-butylphenoxy, 2,6-di-tert-butylphenoxy, 2,4-di-tert-butylphenoxy, 2,3-di-tert-butylphenoxy, 2-methyl -4-tert-butylphenoxy, 2-methyl-6-tert-butylphenoxy, 4-methyl-2-tert-butylphenoxy and the like.

32及び/又はR33のアリロキシ基としては、好ましくは、フェノキシ、4-メチルフェノキシ、3-メチルフェノキシ、2-メチルフェノキシ、2,6-ジメチルフェノキシ、2,4-ジメチルフェノキシ、2,4,6-トリメチルフェノキシ、4-イソプロピルフェノキシ、2-イソプロピルフェノキシ、4-イソブチルフェノキシ、2-イソブチルフェノキシ、4-tert-ブチルフェノキシ、2-tert-ブチルフェノキシ、3-tert-ブチルフェノキシ、2,4-ジ-tert-ブチルフェノキシ、2,3-ジ-tert-ブチルフェノキシ、2-メチル-4-tert-ブチルフェノキシ、2-メチル-6-tert-ブチルフェノキシ、及び4-メチル-2-tert-ブチルフェノキシであり、より好ましくは、フェノキシ、4-メチルフェノキシ、3-メチルフェノキシ、2-メチルフェノキシ、2,6-ジメチルフェノキシ、2,4-ジメチルフェノキシ、2,4,6-トリメチルフェノキシ、4-イソプロピルフェノキシ、2-イソプロピルフェノキシ、4-イソブチルフェノキシ、2-イソブチルフェノキシ、4-tert-ブチルフェノキシ、2-tert-ブチルフェノキシ、2-メチル-4-tert-ブチルフェノキシ、及び2-メチル-6-tert-ブチルフェノキシであり、さらに好ましくは、フェノキシ、4-メチルフェノキシ、2-メチルフェノキシ、2,6-ジメチルフェノキシ、2,4-ジメチルフェノキシ、2,4,6-トリメチルフェノキシ、4-tert-ブチルフェノキシ、2-tert-ブチルフェノキシ、2-メチル-4-tert-ブチルフェノキシ、及び2-メチル-6-tert-ブチルフェノキシである。 The allyloxy group for R 32 and/or R 33 is preferably phenoxy, 4-methylphenoxy, 3-methylphenoxy, 2-methylphenoxy, 2,6-dimethylphenoxy, 2,4-dimethylphenoxy, 2,4 , 6-trimethylphenoxy, 4-isopropylphenoxy, 2-isopropylphenoxy, 4-isobutylphenoxy, 2-isobutylphenoxy, 4-tert-butylphenoxy, 2-tert-butylphenoxy, 3-tert-butylphenoxy, 2,4 -di-tert-butylphenoxy, 2,3-di-tert-butylphenoxy, 2-methyl-4-tert-butylphenoxy, 2-methyl-6-tert-butylphenoxy, and 4-methyl-2-tert- Butylphenoxy, more preferably phenoxy, 4-methylphenoxy, 3-methylphenoxy, 2-methylphenoxy, 2,6-dimethylphenoxy, 2,4-dimethylphenoxy, 2,4,6-trimethylphenoxy, 4 -isopropylphenoxy, 2-isopropylphenoxy, 4-isobutylphenoxy, 2-isobutylphenoxy, 4-tert-butylphenoxy, 2-tert-butylphenoxy, 2-methyl-4-tert-butylphenoxy, and 2-methyl-6 -tert-butylphenoxy, more preferably phenoxy, 4-methylphenoxy, 2-methylphenoxy, 2,6-dimethylphenoxy, 2,4-dimethylphenoxy, 2,4,6-trimethylphenoxy, 4-tert -butylphenoxy, 2-tert-butylphenoxy, 2-methyl-4-tert-butylphenoxy, and 2-methyl-6-tert-butylphenoxy.

32及び/又はR33のアミノ基の具体例としては、ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジ-n-プロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジ-t-ブチルアミノ、ジシクロヘキシルアミノ等である。 Specific examples of the amino group for R 32 and/or R 33 include dimethylamino, ethylmethylamino, diethylamino, di-n-propylamino, diisopropylamino, di-t-butylamino, dicyclohexylamino, and the like.

式(5)中、R31及びR34の炭化水素基は、誘電特性、又は溶媒への溶解性の観点、及びさらに末端官能基の自由度を上げ、反応性を向上させる観点からは、炭素数が多い方がより好ましい。一方で、炭素数が過剰に多いと、Tgの低下若しくは金属剥離性の低下、又はオレフィン系の炭素-炭素2重結合の低下が生ずるため、R31及びR34の炭素数としては、1~30程度が好ましく、1~20程度がより好ましく、1~12程度がさらに好ましい。 In formula (5), the hydrocarbon groups R 31 and R 34 are carbon A larger number is more preferable. On the other hand, if the number of carbon atoms is excessively large, a decrease in Tg, a decrease in metal releasability , or a decrease in olefinic carbon-carbon double bonds will occur . It is preferably about 30, more preferably about 1 to 20, even more preferably about 1 to 12.

式(5)中、R31及び/又はR34の2価の炭化水素基の具体例としては、メチレン、エチレン、トリメチレン、1,2-プロピレン、テトラメチレン、2-メチル-1,3-トリメチレン、1,1-ジメチルエチレン、ペンタメチレン、1-エチル-1,3-プロピレン、1-メチル-1,4-ブチレン、2-メチル-1,4-ブチルレン、3-メチル-1,4-ブチレン、2,2-ジメチル-1,3-プロピレン、1,2-シクロペンチレン、1,3-シクロペンチレン、2,2-ジメチル-1,3-プロピレン、1,1-ジメチル-1,3-プロピレン、3,3-ジメチル-1,3-プロピレン、ヘキサメチレン、1,2-シクロヘキシレン、1,3-シクロヘキシレン、1,4-シクロヘキシレン、1-エチル-1,4-ブチレン、2-エチル-1,4-ブチレン、3-エチル-1,4-ブチレン、1-メチル-1,5-ペンチレン、2-メチル-1,5-ペンチレン、3-メチル-1,5-ペンチレン、4-メチルペンチレン、1,1-ジメチル-1,4-ブチレン、2,2-ジメチル-1,4-ブチレン、3,3-ジメチル-1,4-ブチレン、1,2-ジメチル-1,4-ブチレン、1,3-ジメチル-1,4-ブチレン、2,3-ジメチル-1,4-ブチレン、ヘプタメチレン、1-メチル-1,6-へキシレン、2-メチル-1,6-ヘキシレン、3-メチル-1,6-ヘキシレン、4-メチル-1,6-ヘキシレン、5-メチル-1,6-ヘキシレン、1-エチル-1,5-ペンチレン、2-エチル-1,5-ペンチレン、3-エチル-1,5-ペンチレン、1,1-ジメチル-1,5-ペンチレン、2,2-ジメチル-1,5-ペンチレン、3,3-ジメチル-1,5-ペンチレン、4,4-ジメチル-1,5-ペンチレン、1,2-ジメチル-1,5-ペンチレン、1,3-ジメチル-1,5-ペンチレン、1,4-ジメチル-1,5-ペンチレン、2,3-ジメチル-1,5-ペンチレン、2,4-ジメチル-1,5-ペンチレン、3,4-ジメチル-1,5-ペンチレン等が挙げられる。 In formula (5), specific examples of the divalent hydrocarbon group for R 31 and/or R 34 include methylene, ethylene, trimethylene, 1,2-propylene, tetramethylene, 2-methyl-1,3-trimethylene. , 1,1-dimethylethylene, pentamethylene, 1-ethyl-1,3-propylene, 1-methyl-1,4-butylene, 2-methyl-1,4-butylene, 3-methyl-1,4-butylene , 2,2-dimethyl-1,3-propylene, 1,2-cyclopentylene, 1,3-cyclopentylene, 2,2-dimethyl-1,3-propylene, 1,1-dimethyl-1,3 -Propylene, 3,3-dimethyl-1,3-propylene, hexamethylene, 1,2-cyclohexylene, 1,3-cyclohexylene, 1,4-cyclohexylene, 1-ethyl-1,4-butylene, 2 -Ethyl-1,4-butylene, 3-ethyl-1,4-butylene, 1-methyl-1,5-pentylene, 2-methyl-1,5-pentylene, 3-methyl-1,5-pentylene, 4 -Methylpentylene, 1,1-dimethyl-1,4-butylene, 2,2-dimethyl-1,4-butylene, 3,3-dimethyl-1,4-butylene, 1,2-dimethyl-1,4 -Butylene, 1,3-dimethyl-1,4-butylene, 2,3-dimethyl-1,4-butylene, heptamethylene, 1-methyl-1,6-hexylene, 2-methyl-1,6-hexylene , 3-methyl-1,6-hexylene, 4-methyl-1,6-hexylene, 5-methyl-1,6-hexylene, 1-ethyl-1,5-pentylene, 2-ethyl-1,5-pentylene , 3-ethyl-1,5-pentylene, 1,1-dimethyl-1,5-pentylene, 2,2-dimethyl-1,5-pentylene, 3,3-dimethyl-1,5-pentylene, 4,4 -dimethyl-1,5-pentylene, 1,2-dimethyl-1,5-pentylene, 1,3-dimethyl-1,5-pentylene, 1,4-dimethyl-1,5-pentylene, 2,3-dimethyl -1,5-pentylene, 2,4-dimethyl-1,5-pentylene, 3,4-dimethyl-1,5-pentylene and the like.

また、R31及び/又はR34の2価の炭化水素基の具体例としては、2-メチル-3,3-ジメチル-1,4-ブチレン、1-メチル-3,3-ジメチル-1,4-ブチレン、1,2,3-トリメチル-1,4-ブチレン、1,3-ジメチル-1,4-ペンチレン、2-イソプロピル-1,4-ブチレン、2-メチル-1,4-シクロヘキシレン、3-メチル-1,4-シクロヘキシレン、4-メチル-1,4-シクロヘキシレン、1-シクロヘキシルメチレン、2-エチル-1,3-シクロペンチレン、3-エチル-1,3-シクロペンチレン、2,3-ジメチル-1,3-シクロペンチレン、2,4-ジメチル-1,3-シクロペンチレン、2-メチル-1,3-シクロペンチルメチレン、2-シクロペンチルエチレン、1-シクロペンチルエチレン、オクタメチレン、1メチル-1,7-ヘプチレン、1-エチル1,6-へキシレン、1-プロピル―1,5-ペンチレン、2-メチル-1,7-ヘプチレン、3-メチル-1,7-ヘプチレン、4-メチル-1,7-ヘプチレン、5-メチル-1,7-ヘプチレン、6-メチル-1,7-ヘプチレン、2-エチル-1,6-ヘキシレン、3-エチル-1,6-ヘキシレン、4-エチル-1,6-ヘキシレン、5-エチル-1,6-ヘキシレン、1,1-ジメチル-1,6-ヘキシレン、2,2-ジメチル-1,6-ヘキシレン、3,3-ジメチル-1,6-ヘキシレン、4,4-ジメチル-1,6-ヘキシレン、5,5-ジメチル-1,6-ヘキシレン、1,2-ジメチル-1,6-ヘキシレン、1,3-ジメチル-1,6-ヘキシレン、1,4-ジメチル-1,6-ヘキシレン、1,5-ジメチル-1,6-ヘキシレン、2,3-ジメチル-1,6-ヘキシレン、2,4-ジメチル-1,6-ヘキシレン、2,5-ジメチル-1,6-ヘキシレン等が挙げられる。 Further, specific examples of the divalent hydrocarbon group for R 31 and/or R 34 include 2-methyl-3,3-dimethyl-1,4-butylene, 1-methyl-3,3-dimethyl-1, 4-butylene, 1,2,3-trimethyl-1,4-butylene, 1,3-dimethyl-1,4-pentylene, 2-isopropyl-1,4-butylene, 2-methyl-1,4-cyclohexylene , 3-methyl-1,4-cyclohexylene, 4-methyl-1,4-cyclohexylene, 1-cyclohexylmethylene, 2-ethyl-1,3-cyclopentylene, 3-ethyl-1,3-cyclopentylene Ren, 2,3-dimethyl-1,3-cyclopentylene, 2,4-dimethyl-1,3-cyclopentylene, 2-methyl-1,3-cyclopentylmethylene, 2-cyclopentylethylene, 1-cyclopentylethylene , octamethylene, 1-methyl-1,7-heptylene, 1-ethyl-1,6-hexylene, 1-propyl-1,5-pentylene, 2-methyl-1,7-heptylene, 3-methyl-1,7 -heptylene, 4-methyl-1,7-heptylene, 5-methyl-1,7-heptylene, 6-methyl-1,7-heptylene, 2-ethyl-1,6-hexylene, 3-ethyl-1,6 -hexylene, 4-ethyl-1,6-hexylene, 5-ethyl-1,6-hexylene, 1,1-dimethyl-1,6-hexylene, 2,2-dimethyl-1,6-hexylene, 3,3 -dimethyl-1,6-hexylene, 4,4-dimethyl-1,6-hexylene, 5,5-dimethyl-1,6-hexylene, 1,2-dimethyl-1,6-hexylene, 1,3-dimethyl -1,6-hexylene, 1,4-dimethyl-1,6-hexylene, 1,5-dimethyl-1,6-hexylene, 2,3-dimethyl-1,6-hexylene, 2,4-dimethyl-1 , 6-hexylene, 2,5-dimethyl-1,6-hexylene, and the like.

また、R31及び/又はR34の2価の炭化水素基の具体例としては、1,1-エチルメチル-1,5-ペンチレン、2,2-エチルメチル-1,5-ペンチレン、3,3-エチルメチル-1,5-ペンチレン、4,4-エチルメチル-1,5-ペンチレン、1-エチル-2-メチル-1,5-ペンチレン、1-エチル-3-メチル-1,5-ペンチレン、1-エチル-4-メチル-1,5-ペンチレン、2-エチル-1-メチル-1,5-ペンチレン、3-エチル-1-メチル-1,5-ペンチレン、4-エチル-1-メチル-1,5-ペンチレン、2-エチル-3-メチル-1,5-ペンチレン、2-エチル-4-メチル-1,5-ペンチレン、3-エチル-2-メチル-1,5-ペンチレン、4-エチル-3-メチル-1,5-ペンチレン、3-エチル-4-メチル-1,5-ペンチレン、4-エチル-3-メチル-1,5-ペンチレン、1-(2-メチルプロピル)-1,4-ブチレン、1-(2-メチルプロピル)-2-メチル-1,4-ブチレン、1,1-(2-メチルプロピル)エチレン、1,1-(2-メチルプロピル)エチル-1,3-プロピレン、1,1-ジエチル-1,3-プロピレン、2,2-ジエチル-1,3-プロピレン、1,1-エチルメチル-2,2-ジメチル-1,3-プロピレン、2,2-エチルメチル-1,1-ジメチル-1,3-プロピレン、2-エチル-1,1-ジメチル-1,4-ブチレン、2,3-ジメチル-1,4-シクロヘキシレン、2,3-ジメチル-1,4-シクロヘキシレン、2,5-ジメチル-1,4-シクロヘキシレン、2,6-ジメチル-1,4-シクロヘキシレン、3,5-ジメチル-1,4-シクロヘキシレン、2-メチル-1,4-シクロヘキシル-1-メチレン、3-メチル-1,4-シクロヘキシル-1-メチレン、4-メチル-1,4-シクロヘキシル-1-メチレン、2-エチル-1,4-シクロヘキシレン、3-エチル-1,4-シクロヘキシレン、4-エチル-1,4-シクロヘキシレン、2-シクロヘキシルエチレン、1-シクロヘキシルエチレン、1-シクロヘキシル-2-エチレン、ノニルメチレン、1-メチル-1,8-オクチレン、デシルメチレン、1-メチル-1,8-ノニレン、ウンデシルメチレン、ドデシルメチレン、1,4-フェニレン、1,3-フェニレン、1,2-フェニレン、メチレン-1,4-フェニレン-メチレン、メチレン―1,4-フェニレン、エチレン-1,4-フェニレン、エチレン-1,4-フェニレン-エチレン等が挙げられる。 Further, specific examples of the divalent hydrocarbon group for R 31 and/or R 34 include 1,1-ethylmethyl-1,5-pentylene, 2,2-ethylmethyl-1,5-pentylene, 3, 3-ethylmethyl-1,5-pentylene, 4,4-ethylmethyl-1,5-pentylene, 1-ethyl-2-methyl-1,5-pentylene, 1-ethyl-3-methyl-1,5- Pentylene, 1-ethyl-4-methyl-1,5-pentylene, 2-ethyl-1-methyl-1,5-pentylene, 3-ethyl-1-methyl-1,5-pentylene, 4-ethyl-1- Methyl-1,5-pentylene, 2-ethyl-3-methyl-1,5-pentylene, 2-ethyl-4-methyl-1,5-pentylene, 3-ethyl-2-methyl-1,5-pentylene, 4-ethyl-3-methyl-1,5-pentylene, 3-ethyl-4-methyl-1,5-pentylene, 4-ethyl-3-methyl-1,5-pentylene, 1-(2-methylpropyl) -1,4-butylene, 1-(2-methylpropyl)-2-methyl-1,4-butylene, 1,1-(2-methylpropyl)ethylene, 1,1-(2-methylpropyl)ethyl- 1,3-propylene, 1,1-diethyl-1,3-propylene, 2,2-diethyl-1,3-propylene, 1,1-ethylmethyl-2,2-dimethyl-1,3-propylene, 2 , 2-ethylmethyl-1,1-dimethyl-1,3-propylene, 2-ethyl-1,1-dimethyl-1,4-butylene, 2,3-dimethyl-1,4-cyclohexylene, 2,3 -dimethyl-1,4-cyclohexylene, 2,5-dimethyl-1,4-cyclohexylene, 2,6-dimethyl-1,4-cyclohexylene, 3,5-dimethyl-1,4-cyclohexylene, 2 -Methyl-1,4-cyclohexyl-1-methylene, 3-methyl-1,4-cyclohexyl-1-methylene, 4-methyl-1,4-cyclohexyl-1-methylene, 2-ethyl-1,4-cyclohexyl Silene, 3-ethyl-1,4-cyclohexylene, 4-ethyl-1,4-cyclohexylene, 2-cyclohexylethylene, 1-cyclohexylethylene, 1-cyclohexyl-2-ethylene, nonylmethylene, 1-methyl-1 , 8-octylene, decylmethylene, 1-methyl-1,8-nonylene, undecylmethylene, dodecylmethylene, 1,4-phenylene, 1,3-phenylene, 1,2-phenylene, methylene-1,4-phenylene -methylene, methylene-1,4-phenylene, ethylene-1,4-phenylene, ethylene-1,4-phenylene-ethylene and the like.

31及び/又はR34の2価の炭化水素基は、好ましくは、メチレン、エチレン、トリメチレン、1,2-プロピレン、テトラメチレン、2-メチル-1,2-プロピレン、1,1-ジメチルエチレン、ペンタメチレン、1-エチル-1,3-プロピレン、1-メチル-1,4-ブチレン、2-メチル-1,4-ブチレン、3-メチル-1,4-ブチレン、2,2-ジメチル-1,3-プロピレン、1,3-シクロペンチレン、1,6-へキサメチレン、1,4-シクロヘキシレン、1-エチル-1,4-ブチレン、2-エチル-1,4-ブチレン、3-エチル-1,4-ブチレン、1-メチル-1,5-ペンチレン、2-メチル-1,5-ペンチレン、3-メチル-1,5-ペンチレン、4-メチル-1,5-ペンチレン、ヘプタメチレン、1-メチル-1,6-ヘキシレン、2-メチル-1,6-ヘキシレン、3-メチル-1,6-ヘキシレン、4-メチル-1,6-ヘキシレン、5-メチル-1,6-ヘキシレン、1-エチル-1,5-ペンチレン、2-エチル-1,5-ペンチレン、3-エチル-1,5-ペンチレン、2-メチル-1,4-シクロヘキシレン、3-メチル-1,4-シクロヘキシレン、4-メチル-1,4-シクロヘキシレン、オクタメチレン、1-メチル-1,7-ヘプチレン、3-メチル-1,7-ヘプチレン、4-メチル-1,7-ヘプチレン、2-メチル-1,7-ヘプチレン、5-メチル-1,7-ヘプチレン、6-メチル-1,7-ヘプチレン、2-エチル-1,6-ヘキシレン、3-エチル-1,6-ヘキシレン、4-エチル-1,6-ヘキシレン、5-エチル-1,6-ヘキシレン、ノニルメチレン、デシルメチレン、ウンデシルメチレン、及びドデシルメチレンである。 The divalent hydrocarbon group of R 31 and/or R 34 is preferably methylene, ethylene, trimethylene, 1,2-propylene, tetramethylene, 2-methyl-1,2-propylene, 1,1-dimethylethylene. , pentamethylene, 1-ethyl-1,3-propylene, 1-methyl-1,4-butylene, 2-methyl-1,4-butylene, 3-methyl-1,4-butylene, 2,2-dimethyl- 1,3-propylene, 1,3-cyclopentylene, 1,6-hexamethylene, 1,4-cyclohexylene, 1-ethyl-1,4-butylene, 2-ethyl-1,4-butylene, 3- Ethyl-1,4-butylene, 1-methyl-1,5-pentylene, 2-methyl-1,5-pentylene, 3-methyl-1,5-pentylene, 4-methyl-1,5-pentylene, heptamethylene , 1-methyl-1,6-hexylene, 2-methyl-1,6-hexylene, 3-methyl-1,6-hexylene, 4-methyl-1,6-hexylene, 5-methyl-1,6-hexylene , 1-ethyl-1,5-pentylene, 2-ethyl-1,5-pentylene, 3-ethyl-1,5-pentylene, 2-methyl-1,4-cyclohexylene, 3-methyl-1,4- Cyclohexylene, 4-methyl-1,4-cyclohexylene, octamethylene, 1-methyl-1,7-heptylene, 3-methyl-1,7-heptylene, 4-methyl-1,7-heptylene, 2-methyl -1,7-heptylene, 5-methyl-1,7-heptylene, 6-methyl-1,7-heptylene, 2-ethyl-1,6-hexylene, 3-ethyl-1,6-hexylene, 4-ethyl -1,6-hexylene, 5-ethyl-1,6-hexylene, nonylmethylene, decylmethylene, undecylmethylene, and dodecylmethylene.

31及び/又はR34の2価の炭化水素基は、より好ましくは、メチレン、エチレン、トリメチレン、1,2-プロピレン、テトラメチレン、2-メチル-1,2-プロピレン、1,1-ジメチルエチレン、ペンタメチレン、1-エチル-1,3-プロピレン、1-メチル-1,4-ブチレン、2-メチル―1,4-ブチレン、3-メチル―1,4-ブチレン、2,2-ジメチル―1,3-プロピレン、1,3-シクロペンチレン、1,6-へキサメチレン、1,4-シクロヘキシレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、1-メチル-1,7-ヘプチレン、3-メチル-1,7-ヘプチレン、4-メチル-1,7-ヘプチレン、2-メチル-1,7-ヘプチレン、5-メチル-1,7-ヘプチレン、6-メチル-1,7-ヘプチレン、2-エチル-1,6-ヘキシレン、3-エチル-1,6-ヘキシレン、4-エチル-1,6-ヘキシレン、5-エチル-1,6-ヘキシレン、ノニルメチレン、デシルメチレン、ウンデシルメチレン、及びドデシルメチレンである。 The divalent hydrocarbon group of R 31 and/or R 34 is more preferably methylene, ethylene, trimethylene, 1,2-propylene, tetramethylene, 2-methyl-1,2-propylene, 1,1-dimethyl Ethylene, pentamethylene, 1-ethyl-1,3-propylene, 1-methyl-1,4-butylene, 2-methyl-1,4-butylene, 3-methyl-1,4-butylene, 2,2-dimethyl -1,3-propylene, 1,3-cyclopentylene, 1,6-hexamethylene, 1,4-cyclohexylene, heptamethylene, octamethylene, 1-methyl-1,7-heptylene, 3-methyl-1 ,7-heptylene, 4-methyl-1,7-heptylene, 2-methyl-1,7-heptylene, 5-methyl-1,7-heptylene, 6-methyl-1,7-heptylene, 2-ethyl-1 , 6-hexylene, 3-ethyl-1,6-hexylene, 4-ethyl-1,6-hexylene, 5-ethyl-1,6-hexylene, nonylmethylene, decylmethylene, undecylmethylene, and dodecylmethylene. .

31及び/又はR34の2価の炭化水素基は、さらに好ましくは、メチレン、エチレン、トリメチレン、1,2-プロピレン、テトラメチレン、2-メチル-1,2-プロピレン、1,1-ジメチルエチレン、ペンタメチレン、2,2-ジメチル-1,3-プロピレン、1,3-シクロペンチレン、1,6-へキサメチレン、1,4-シクロヘキシレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、1-メチル-1,7-ヘプチレン、3-メチル-1,7-ヘプチレン、4-メチル-1,7-ヘプチレン、2-メチル-1,7-ヘプチレン、5-メチル-1,7-ヘプチレン、6-メチル-1,7-ヘプチレン、2-エチル-1,6-ヘキシレン、3-エチル-1,6-ヘキシレン、4-エチル-1,6-ヘキシレン、5-エチル-1,6-ヘキシレン、ノニルメチレン、デシルメチレン、ウンデシルメチレン、及びドデシルメチレンである。 The divalent hydrocarbon group of R 31 and/or R 34 is more preferably methylene, ethylene, trimethylene, 1,2-propylene, tetramethylene, 2-methyl-1,2-propylene, 1,1-dimethyl Ethylene, pentamethylene, 2,2-dimethyl-1,3-propylene, 1,3-cyclopentylene, 1,6-hexamethylene, 1,4-cyclohexylene, heptamethylene, octamethylene, 1-methyl-1 ,7-heptylene, 3-methyl-1,7-heptylene, 4-methyl-1,7-heptylene, 2-methyl-1,7-heptylene, 5-methyl-1,7-heptylene, 6-methyl-1 , 7-heptylene, 2-ethyl-1,6-hexylene, 3-ethyl-1,6-hexylene, 4-ethyl-1,6-hexylene, 5-ethyl-1,6-hexylene, nonylmethylene, decylmethylene , undecylmethylene, and dodecylmethylene.

式(5)中、Bの炭素-炭素2重結合を含有する置換基の具体例としては、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、5-ノルボルネン-2イル、1-ブテニル基、1-ペンテニル基、3-シクロペンテニル、4-シクロペンテニル、p-ビニルフェニル基、p-イソプロペニルフェニル基、m-ビニルフェニル基、m-イソプロペニルフェニル基、o-ビニルフェニル基、o-イソプロペニルフェニル基、p-ビニルベンジル基、p-イソプロペニルベンジル基、m-ビニルベンジル基、m-イソプロペニルベンジル基、o-ビニルベンジル基、o-イソプロペニルベンジル基、p-ビニルフェニルエテニル基、p-ビニルフェニルプロペニル基、p-ビニルフェニルブテニル基、m-ビニルフェニルエテニル基、m-ビニルフェニルプロペニル基、m-ビニルフェニルブテニル基、o-ビニルフェニルエテニル基、o-ビニルフェニルプロペニル基、o-ビニルフェニルブテニル基、メタクリル基、アクリル基、2-エチルアクリル基、2-ヒドロキシメチルアクリル基等が挙げられる。 In formula (5), specific examples of the substituent containing a carbon-carbon double bond in B include vinyl group, allyl group, isopropenyl group, 5-norbornen-2yl, 1-butenyl group, 1-pentenyl group. group, 3-cyclopentenyl, 4-cyclopentenyl, p-vinylphenyl group, p-isopropenylphenyl group, m-vinylphenyl group, m-isopropenylphenyl group, o-vinylphenyl group, o-isopropenylphenyl group , p-vinylbenzyl group, p-isopropenylbenzyl group, m-vinylbenzyl group, m-isopropenylbenzyl group, o-vinylbenzyl group, o-isopropenylbenzyl group, p-vinylphenylethenyl group, p- vinylphenylpropenyl group, p-vinylphenylbutenyl group, m-vinylphenylethenyl group, m-vinylphenylpropenyl group, m-vinylphenylbutenyl group, o-vinylphenylethenyl group, o-vinylphenylpropenyl group , o-vinylphenylbutenyl group, methacrylic group, acrylic group, 2-ethyl acrylic group, 2-hydroxymethyl acrylic group, and the like.

式(1)中のAのより具体的な例、又は式(5)で表される置換基のより具体的な例としては、下記式(6)及び/又は(7)で表される構造が挙げられる。
式(6)及び/又は式(7)中、複数のR31、及びR34は、それぞれ独立に、炭素数1~30の2価の炭化水素基であり、複数のR32、及びR33は、それぞれ独立に、炭素数1~30の1価の炭化水素基、アリール基、アルコキシ基、アリロキシ基、アミノ基、又はヒドロキシアルキル基である。これらの基の具体例、及び好ましい基としては、上記式(5)で説明された対応する基の具体例、及び好ましい基が挙げられる。
A more specific example of A in formula (1) or a more specific example of the substituent represented by formula (5) is a structure represented by the following formula (6) and/or (7). can be mentioned.
In formula (6) and/or formula (7), a plurality of R 31 and R 34 are each independently a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, and a plurality of R 32 and R 33 are each independently a monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group, an allyloxy group, an amino group, or a hydroxyalkyl group. Specific examples and preferred groups of these groups include specific examples and preferred groups of the corresponding groups explained in formula (5) above.

式(6)及び/又は式(7)中、複数のR35は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、または炭素数1~30の炭化水素基、アリール基、アルコキシ基、アリロキシ基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、ビニル基、イソプロペニル基、ハロゲン基である。 In formula (6) and/or formula (7), a plurality of R 35s are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group, an allyloxy group, an amino group , hydroxyalkyl group, vinyl group, isopropenyl group, and halogen group.

式(7)中、R36は、炭素数1~30の炭化水素基、またはアミノ基、または酸素であり、炭化水素基の一部は、アリール基、アルコキシ基、アリロキシ基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、ビニル基、イソプロペニル基、又はハロゲン基に置換されていることが好ましい。また、アミノ基の一部は炭素数1~5のアルキル基に置換されていても構わない。また、R36は、2価でよく、そしてR36としての炭化水素基の炭素数は、好ましくは1~3である。 In formula (7), R 36 is a hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, an amino group, or oxygen, and a part of the hydrocarbon group is an aryl group, an alkoxy group, an allyloxy group, an amino group, or a hydroxy group. Preferably, it is substituted with an alkyl group, a vinyl group, an isopropenyl group, or a halogen group. Further, part of the amino group may be substituted with an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. Further, R 36 may be divalent, and the hydrocarbon group as R 36 preferably has 1 to 3 carbon atoms.

式(6)及び/又は式(7)中、sとtとuは、それぞれ独立に、0~8の整数である。 In formula (6) and/or formula (7), s, t, and u are each independently an integer of 0 to 8.

式(6)及び/又は式(7)中、R35の炭化水素基は、誘電特性、又は溶媒への溶解性の観点からは、炭素数が多い方がより好ましい。一方で、炭素数が過剰に多いと、Tgの低下若しくは金属剥離性の低下、又はオレフィン系の炭素-炭素2重結合の低下が生ずるため、R35の炭素数としては1~30程度が好ましく、1~20程度がより好ましく、1~12程度がさらに好ましい。 In formula (6) and/or formula (7), it is more preferable that the hydrocarbon group for R 35 has a large number of carbon atoms from the viewpoint of dielectric properties or solubility in a solvent. On the other hand, if the number of carbon atoms is excessively large, a decrease in Tg, a decrease in metal releasability, or a decrease in olefinic carbon-carbon double bonds will occur, so the number of carbon atoms in R 35 is preferably about 1 to 30. , more preferably about 1 to 20, and even more preferably about 1 to 12.

35の炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、n-プロピル、2-プロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、1-エチルプロピル、1-メチルブチル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、アミル、シクロペンチル、2,2-ジメチルプロピル、1,1-ジメチルプロピル、n-へキシル、シクロヘキシル、1-エチルブチル、2-エチルブチル、3-エチルブチル、1-メチルペンチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチレン、4-メチルペンチレン、1,1-ジメチルブチレン、2,2-ジメチルブチレン、3,3-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、n-ヘプチル、1-メチルへキシル、2-メチルへキシル、3-メチルへキシル、4-メチルへキシル、5-メチルへキシル、1-エチルペンチル、2-エチルペンチル、3-エチルペンチル、1,1-ジメチルペンチル、2,2-ジメチルペンチル、3,3-ジメチルペンチル、4,4-ジメチルペンチル、1,2-ジメチルペンチル、1,3-ジメチルペンチル、1,4-ジメチルペンチル、2,3-ジメチルペンチル、2,4-ジメチルペンチル、3,4-ジメチルペンチル、2-メチル-3,3-ジメチルブチル、1-メチル-3,3-ジメチルブチル、1,2,3-トリメチルブチル、1,3-ジメチル-2-ペンチル、2-イソプロピルブチル、2-メチルシクロヘキシル、3-メチルシクロヘキシル、4-メチルシクロヘキシル、1-シクロヘキシルメチル、2-エチルシクロペンチル、3-エチルシクロペンチル、2,3-ジメチルシクロペンチル、2,4-ジメチルシクロペンチル、2-メチルシクロペンチルメチル、2-シクロペンチルエチル、1-シクロペンチルエチル、n-オクチル、2-オクチル、3-オクチル、4-オクチル、2-メチルヘプチル、3-メチルヘプチル、4-メチルヘプチル、5-メチルヘプチル、6-メチルヘプチル等が挙げられる。 Specific examples of the hydrocarbon group for R35 include methyl, ethyl, n-propyl, 2-propyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, n-pentyl, 1-ethylpropyl, 1-methylbutyl, 2-methylbutyl. , 3-methylbutyl, amyl, cyclopentyl, 2,2-dimethylpropyl, 1,1-dimethylpropyl, n-hexyl, cyclohexyl, 1-ethylbutyl, 2-ethylbutyl, 3-ethylbutyl, 1-methylpentyl, 2-methyl Pentyl, 3-methylpentylene, 4-methylpentylene, 1,1-dimethylbutylene, 2,2-dimethylbutylene, 3,3-dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl, 1,3-dimethylbutyl, 2 , 3-dimethylbutyl, n-heptyl, 1-methylhexyl, 2-methylhexyl, 3-methylhexyl, 4-methylhexyl, 5-methylhexyl, 1-ethylpentyl, 2-ethylpentyl, 3-ethylpentyl, 1,1-dimethylpentyl, 2,2-dimethylpentyl, 3,3-dimethylpentyl, 4,4-dimethylpentyl, 1,2-dimethylpentyl, 1,3-dimethylpentyl, 1,4 -dimethylpentyl, 2,3-dimethylpentyl, 2,4-dimethylpentyl, 3,4-dimethylpentyl, 2-methyl-3,3-dimethylbutyl, 1-methyl-3,3-dimethylbutyl, 1,2 , 3-trimethylbutyl, 1,3-dimethyl-2-pentyl, 2-isopropylbutyl, 2-methylcyclohexyl, 3-methylcyclohexyl, 4-methylcyclohexyl, 1-cyclohexylmethyl, 2-ethylcyclopentyl, 3-ethylcyclopentyl , 2,3-dimethylcyclopentyl, 2,4-dimethylcyclopentyl, 2-methylcyclopentylmethyl, 2-cyclopentylethyl, 1-cyclopentylethyl, n-octyl, 2-octyl, 3-octyl, 4-octyl, 2-methyl Examples include heptyl, 3-methylheptyl, 4-methylheptyl, 5-methylheptyl, 6-methylheptyl and the like.

また、R35の炭化水素基の具体例としては、2-エチルへキシル、3-エチルへキシル、4-エチルへキシル、5-エチルへキシル、1,1-ジメチルへキシル、2,2-ジメチルへキシル、3,3-ジメチルへキシル、4,4-ジメチルへキシル、5,5-ジメチルへキシル、1,2-ジメチルへキシル、1,3-ジメチルへキシル、1,4-ジメチルへキシル、1,5-ジメチルへキシル、2,3-ジメチルへキシル、2,4-ジメチルへキシル、2,5-ジメチルへキシル、1,1-エチルメチルペンチル、2,2-エチルメチルペンチル、3,3-エチルメチルペンチル、4,4-エチルメチルペンチル、1-エチル-2-メチルペンチル、1-エチル-3-メチルペンチル、1-エチル-4-メチルペンチル、2-エチル-1-メチルペンチル、3-エチル-1-メチルペンチル、4-エチル-1-メチルペンチル、2-エチル-3-メチルペンチル、2-エチル-4-メチルペンチル、3-エチル-2-メチルペンチル、4-エチル-3-メチルペンチル、3-エチル-4-メチルペンチル、4-エチル-3-メチルペンチル、1-(2-メチルプロピル)ブチル、1-(2-メチルプロピル)-2-メチルブチル、1,1-(2-メチルプロピル)エチル、1,1-(2-メチルプロピル)エチルプロピル、1,1-ジエチルプロピル、2,2-ジエチルプロピル、1,1-エチルメチル-2,2-ジメチルプロピル、2,2-エチルメチル-1,1-ジメチルプロピル、2-エチル-1,1-ジメチルブチル、2,3-ジメチルシクロヘキシル、2,3-ジメチルシクロヘキシル、2,5-ジメチルシクロヘキシル、2,6-ジメチルシクロヘキシル、3,5-ジメチルシクロヘキシル、2-メチルシクロヘキシルメチル、3-メチルシクロヘキシルメチル、4-メチルシクロヘキシルメチル、2-エチルシクロヘキシル、3-エチルシクロヘキシル、4-エチルシクロヘキシル、2-シクロヘキシルエチル、1-シクロヘキシルエチル、1-シクロヘキシル-2-エチレン、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、ベンジル、2-フェニルエチル等が挙げられる。 Further, specific examples of the hydrocarbon group for R35 include 2-ethylhexyl, 3-ethylhexyl, 4-ethylhexyl, 5-ethylhexyl, 1,1-dimethylhexyl, 2,2- Dimethylhexyl, 3,3-dimethylhexyl, 4,4-dimethylhexyl, 5,5-dimethylhexyl, 1,2-dimethylhexyl, 1,3-dimethylhexyl, to 1,4-dimethyl xyl, 1,5-dimethylhexyl, 2,3-dimethylhexyl, 2,4-dimethylhexyl, 2,5-dimethylhexyl, 1,1-ethylmethylpentyl, 2,2-ethylmethylpentyl, 3,3-ethylmethylpentyl, 4,4-ethylmethylpentyl, 1-ethyl-2-methylpentyl, 1-ethyl-3-methylpentyl, 1-ethyl-4-methylpentyl, 2-ethyl-1-methyl Pentyl, 3-ethyl-1-methylpentyl, 4-ethyl-1-methylpentyl, 2-ethyl-3-methylpentyl, 2-ethyl-4-methylpentyl, 3-ethyl-2-methylpentyl, 4-ethyl -3-methylpentyl, 3-ethyl-4-methylpentyl, 4-ethyl-3-methylpentyl, 1-(2-methylpropyl)butyl, 1-(2-methylpropyl)-2-methylbutyl, 1,1 -(2-methylpropyl)ethyl, 1,1-(2-methylpropyl)ethylpropyl, 1,1-diethylpropyl, 2,2-diethylpropyl, 1,1-ethylmethyl-2,2-dimethylpropyl, 2,2-ethylmethyl-1,1-dimethylpropyl, 2-ethyl-1,1-dimethylbutyl, 2,3-dimethylcyclohexyl, 2,3-dimethylcyclohexyl, 2,5-dimethylcyclohexyl, 2,6- Dimethylcyclohexyl, 3,5-dimethylcyclohexyl, 2-methylcyclohexylmethyl, 3-methylcyclohexylmethyl, 4-methylcyclohexylmethyl, 2-ethylcyclohexyl, 3-ethylcyclohexyl, 4-ethylcyclohexyl, 2-cyclohexylethyl, 1- Examples include cyclohexylethyl, 1-cyclohexyl-2-ethylene, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl, undecyl, dodecyl, benzyl, 2-phenylethyl and the like.

35の炭化水素基は、好ましくは、メチル、エチル、n-プロピル、2-プロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、1-エチルプロピル、1-メチルブチル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、アミル、シクロペンチル、n-へキシル、シクロヘキシル、1-エチルブチル、2-エチルブチル、3-エチルブチル、1-メチルペンチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチル、4-メチルペンチル、n-ヘプチル、1-メチルへキシル、2-メチルへキシル、3-メチルへキシル、4-メチルへキシル、5-メチルへキシル、1-エチルペンチル、2-エチルペンチル、3-エチルペンチル、2-メチルシクロヘキシル、3-メチルシクロヘキシル、4-メチルシクロヘキシル、n-オクチル、2-オクチル、3-オクチル、4-オクチル、2-メチルヘプチル、3-メチルヘプチル、4-メチルヘプチル、5-メチルヘプチル、6-メチルヘプチル、2-エチルへキシル、3-エチルへキシル、4-エチルへキシル、5-エチルへキシル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、及びベンジルであり、より好ましくは、メチル、エチル、n-プロピル、2-プロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、1-エチルプロピル、1-メチルブチル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、アミル、シクロペンチル、n-へキシル、シクロヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、2-オクチル、3-オクチル、4-オクチル、2-メチルヘプチル、3-メチルヘプチル、4-メチルヘプチル、5-メチルヘプチル、6-メチルヘプチル、2-エチルへキシル、3-エチルへキシル、4-エチルへキシル、5-エチルへキシル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、及びベンジルであり、さらに好ましくは、メチル、エチル、n-プロピル、2-プロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、アミル、シクロペンチル、n-へキシル、シクロヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、2-オクチル、3-オクチル、4-オクチル、2-メチルヘプチル、3-メチルヘプチル、4-メチルヘプチル、5-メチルヘプチル、6-メチルヘプチル、2-エチルへキシル、3-エチルへキシル、4-エチルへキシル、5-エチルへキシル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、及びベンジルである。 The hydrocarbon group of R 35 is preferably methyl, ethyl, n-propyl, 2-propyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, n-pentyl, 1-ethylpropyl, 1-methylbutyl, 2-methylbutyl, 3-Methylbutyl, amyl, cyclopentyl, n-hexyl, cyclohexyl, 1-ethylbutyl, 2-ethylbutyl, 3-ethylbutyl, 1-methylpentyl, 2-methylpentyl, 3-methylpentyl, 4-methylpentyl, n-heptyl , 1-methylhexyl, 2-methylhexyl, 3-methylhexyl, 4-methylhexyl, 5-methylhexyl, 1-ethylpentyl, 2-ethylpentyl, 3-ethylpentyl, 2-methylcyclohexyl , 3-methylcyclohexyl, 4-methylcyclohexyl, n-octyl, 2-octyl, 3-octyl, 4-octyl, 2-methylheptyl, 3-methylheptyl, 4-methylheptyl, 5-methylheptyl, 6-methyl Heptyl, 2-ethylhexyl, 3-ethylhexyl, 4-ethylhexyl, 5-ethylhexyl, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl, undecyl, dodecyl, and benzyl, more preferably methyl and ethyl. , n-propyl, 2-propyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, n-pentyl, 1-ethylpropyl, 1-methylbutyl, 2-methylbutyl, 3-methylbutyl, amyl, cyclopentyl, n-hexyl, cyclohexyl , n-heptyl, n-octyl, 2-octyl, 3-octyl, 4-octyl, 2-methylheptyl, 3-methylheptyl, 4-methylheptyl, 5-methylheptyl, 6-methylheptyl, 2-ethyl xyl, 3-ethylhexyl, 4-ethylhexyl, 5-ethylhexyl, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl, undecyl, dodecyl, and benzyl, more preferably methyl, ethyl, n-propyl, 2 -Propyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, n-pentyl, amyl, cyclopentyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-heptyl, n-octyl, 2-octyl, 3-octyl, 4-octyl, 2- Methylheptyl, 3-methylheptyl, 4-methylheptyl, 5-methylheptyl, 6-methylheptyl, 2-ethylhexyl, 3-ethylhexyl, 4-ethylhexyl, 5-ethylhexyl, nonyl, isononyl , decyl, isodecyl, undecyl, dodecyl, and benzyl.

36の炭化水素基の具体例としては、メチレン、1,1-ジメチルメチレン、1,1-ジエチルメチレン、エチレン、トリメチレン、1,2-プロピレン、2-メチル-1,3-トリメチレン、1,1-ジメチルエチレン、1-エチル-1,3-プロピレン、2,2-ジメチル-1,3-プロピレン、1,1-ジメチル-1,3-プロピレン、3,3-ジメチル-1,3-プロピレン等が挙げられ、また、これらの一部がアリール基、アルコキシ基、アリロキシ基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、ビニル基、イソプロペニル基、ハロゲン基に置換されている基の具体例としては、1-フェニルメチレン、1,1-ジフェニルメチレン、1-ベンジルメチレン、1,1-ジベンジルメチレン、1-メトキシメチレン、1,1-ジメトキシメチレン、1-エトキシメチレン、1,1-ジエトキシメチレン、1-ビニルメチレン、1,1-ジビニルメチレン、1-アリルメチレン、1,1-ジアリルメチレン、1-イソプロペニルメチレン、1、1-ジイソプロペニルメチレン、1-クロロメチレン、1,1-ジクロロメチレン、1-ブロモメチレン、1,1-ジブロモメチレン、1-フェニルエチレン、1,1-ジフェニルエチレン、1,2-ジフェニルエチレン、1,1,2-トリフェニルエチレン、1,1,2,2-テトラフェニルエチレン、1-ベンジルエチレン、1,1-ジベンジルエチレン、1,2-ジベンジルエチレン、1,1,2-トリベンジルエチレン、1,1,2,2-テトラベンジルエチレン、1-ビニルエチレン、1,1-ジビニルエチレン、1,2-ジビニルエチレン、1,1,2-トリビニルエチレン、1,1,2,2-テトラビニルエチレン、1-アリルエチレン、1,1-ジアリルエチレン、1,2-ジアリルエチレン、1,1,2-トリアリルエチレン、1,1,2,2-テトラアリルエチレン、1-クロロエチレン、1,1-ジクロロエチレン、1,2-ジクロロエチレン、1,1,2-トリクロロエチレン、1,1,2,2-テトラクロロエチレン、1-ブロモエチレン、1,1-ジブロモエチレン、1,2-ジブロモエチレン、1,1,2-トリブロモエチレン、1,1,2,2-テトラブロモエチレンが挙げられる。 Specific examples of the hydrocarbon group for R36 include methylene, 1,1-dimethylmethylene, 1,1-diethylmethylene, ethylene, trimethylene, 1,2-propylene, 2-methyl-1,3-trimethylene, 1, 1-dimethylethylene, 1-ethyl-1,3-propylene, 2,2-dimethyl-1,3-propylene, 1,1-dimethyl-1,3-propylene, 3,3-dimethyl-1,3-propylene Specific examples of groups partially substituted with aryl groups, alkoxy groups, allyloxy groups, amino groups, hydroxyalkyl groups, vinyl groups, isopropenyl groups, and halogen groups include 1. -Phenylmethylene, 1,1-diphenylmethylene, 1-benzylmethylene, 1,1-dibenzylmethylene, 1-methoxymethylene, 1,1-dimethoxymethylene, 1-ethoxymethylene, 1,1-diethoxymethylene, 1 -vinylmethylene, 1,1-divinylmethylene, 1-allylmethylene, 1,1-diallylmethylene, 1-isopropenylmethylene, 1,1-diisopropenylmethylene, 1-chloromethylene, 1,1-dichloromethylene, 1-bromomethylene, 1,1-dibromomethylene, 1-phenylethylene, 1,1-diphenylethylene, 1,2-diphenylethylene, 1,1,2-triphenylethylene, 1,1,2,2-tetra Phenylethylene, 1-benzylethylene, 1,1-dibenzylethylene, 1,2-dibenzylethylene, 1,1,2-tribenzylethylene, 1,1,2,2-tetrabenzylethylene, 1-vinylethylene , 1,1-divinylethylene, 1,2-divinylethylene, 1,1,2-trivinylethylene, 1,1,2,2-tetravinylethylene, 1-allylethylene, 1,1-diallylethylene, 1 ,2-diallylethylene, 1,1,2-triallylethylene, 1,1,2,2-tetraallylethylene, 1-chloroethylene, 1,1-dichloroethylene, 1,2-dichloroethylene, 1,1,2 -Trichlorethylene, 1,1,2,2-tetrachlorethylene, 1-bromoethylene, 1,1-dibromoethylene, 1,2-dibromoethylene, 1,1,2-tribromoethylene, 1,1,2,2- Examples include tetrabromoethylene.

上記式(1)で表される構造を有するポリフェニレンエーテル中に含まれるOH末端数は、変性ポリフェニレンエーテル含有組成物について低誘電特性、適度な金属剥離性、低溶液粘度、硬化時の十分なTgなどの全てを有するという観点から、0~3,000μmol/gであることが好ましい。 The number of OH terminals contained in the polyphenylene ether having the structure represented by the above formula (1) is such that the modified polyphenylene ether-containing composition has low dielectric properties, appropriate metal releasability, low solution viscosity, and sufficient Tg during curing. From the viewpoint of having all of the above, it is preferably 0 to 3,000 μmol/g.

<変性ポリフェニレンエーテル組成物>
本実施形態に係る硬化性樹脂組成物は、例えば、変性ポリフェニレンエーテル組成物を含み、該変性ポリフェニレンエーテル組成物は、上記式(1)で表される構造(ただし、式中、aは2~6の整数を表すものとする)を有するポリフェニレンエーテルを含み、より詳細には、下記式(8)で表される構造を有する変性ポリフェニレンエーテルを含む。
式(8)中、Zは、下記式(9)と(11)で表されるa価の部分構造であり、aは2~6の整数を表す。
<Modified polyphenylene ether composition>
The curable resin composition according to the present embodiment includes, for example, a modified polyphenylene ether composition, and the modified polyphenylene ether composition has a structure represented by the above formula (1) (wherein a is from 2 to (which represents an integer of 6), and more specifically includes a modified polyphenylene ether having a structure represented by the following formula (8).
In formula (8), Z is an a-valent partial structure represented by the following formulas (9) and (11), and a represents an integer of 2 to 6.

式(8)中、Zに結合するa個の[-Y-A]は、それぞれ同じであってもよいし、異なっていてもよい。ここで、Yは、置換フェニレンモノマー単位であり、Yは、置換フェニレンモノマー単位がn個連続して結合した、ポリフェニレンエーテル構造を表す。また、Zは、ポリフェニレンエーテルユニット構造がa個結合できるフェノール構造を有する多価フェノール化合物に基づくものである。また、式(8)中、Aは、水素原子、またはポリフェニレンエーテル構造と結合可能なシリル基含有誘導体を表し、上記式(5)(6)(7)で規定したケイ素原子(Si)を含む官能基であることが好ましい。 In formula (8), the a pieces of [-Y n -A] bonded to Z may be the same or different. Here, Y is a substituted phenylene monomer unit, and Y n represents a polyphenylene ether structure in which n substituted phenylene monomer units are consecutively bonded. Further, Z is based on a polyhydric phenol compound having a phenol structure in which a number of polyphenylene ether unit structures can be bonded. Further, in formula (8), A represents a hydrogen atom or a silyl group-containing derivative capable of bonding to a polyphenylene ether structure, and contains a silicon atom (Si) defined in formulas (5), (6), and (7) above. Preferably, it is a functional group.

上記変性ポリフェニレンエーテル組成物は、上記式(8)で表される構造を有する変性ポリフェニレンエーテル、及び上記式(8)で表される構造において少なくとも1つの[-Y-A]が[-Y-H]である変性又は未変性ポリフェニレンエーテルを60mol%以上含み、H-NMR測定結果における、下記式(9)で表される構造由来のピークの積算値に対する7.6~8.3ppmに現れるピークの積算値の割合が1以下であり、ポリスチレン換算の数平均分子量が、500~15,000g/molである。 The modified polyphenylene ether composition has a modified polyphenylene ether having a structure represented by the above formula (8), and in the structure represented by the above formula (8), at least one [-Y n -A] is [-Y Contains 60 mol% or more of modified or unmodified polyphenylene ether which is [n -H], and is 7.6 to 8.3 ppm relative to the integrated value of the peak derived from the structure represented by the following formula (9) in the 1 H-NMR measurement results. The ratio of the integrated value of the peaks appearing in is 1 or less, and the number average molecular weight in terms of polystyrene is 500 to 15,000 g/mol.

本実施形態の変性ポリフェニレンエーテル組成物に含まれる上記式(8)で表される構造を有する変性ポリフェニレンエーテルは、一種であってもよいし、複数種であってもよい。また、本実施形態の変性ポリフェニレンエーテル組成物は、上記式(8)の構造において1つ以上の[-Y-A]が[Y-H]であり、かつ全ての[-Y-A]が[Y-H]ではない変性ポリフェニレンエーテル、及び上記式(8)で表される構造において全ての[-Y-A]が[Y-H]であるポリフェニレンエーテルを含んでいてもよい。ここで、変性ポリフェニレンエーテルの[-Y-A]と、未変性ポリフェニレンエーテルの[Y-H]とにおいて、Y及びnは同じであることが好ましい。 The modified polyphenylene ether having the structure represented by the above formula (8) contained in the modified polyphenylene ether composition of the present embodiment may be one type or multiple types. Furthermore, in the modified polyphenylene ether composition of the present embodiment, in the structure of formula (8), one or more [-Y n -A] is [Y n -H], and all [-Y n - [A] is not [Y n -H], and a polyphenylene ether in which all [-Y n -A] are [Y n -H] in the structure represented by the above formula (8). You can stay there. Here, Y and n are preferably the same in [-Y n -A] of the modified polyphenylene ether and [Y n -H] of the unmodified polyphenylene ether.

本実施形態の多官能変性ポリフェニレンエーテル組成物は、さらに、溶媒、重合触媒、界面活性剤等の添加物を含んでいてもよい。本実施形態の多官能ポリフェニレンエーテル組成物は、固体であってもよい。 The polyfunctional modified polyphenylene ether composition of this embodiment may further contain additives such as a solvent, a polymerization catalyst, and a surfactant. The polyfunctional polyphenylene ether composition of this embodiment may be solid.

式(8)中のZは、下記式(9)で表されるa価の中心フェノール部位を有する構造でよく、そして式(8)又は(9)中のaは、3~6の整数であることが好ましい。 Z in formula (8) may have a structure having an a-valent central phenol moiety represented by formula (9) below, and a in formula (8) or (9) is an integer of 3 to 6. It is preferable that there be.

上記中心フェノール部位は、上記項目<変性ポリフェニレンエーテル>において説明されたとおりである。 The central phenol moiety is as explained in the above item <Modified polyphenylene ether>.

上記変性ポリフェニレンエーテルは、a価の中心部Xにa個の部分構造(例えば、R等で置換されていてもよいフェノール)が結合し、a価の部分構造(即ち、式(9)で表される中心フェノール部位)に式(8)の[-Y-A]が結合する構造であってもよい。
式(9)中、aとしては、式(8)と同様の整数が挙げられ、式(8)と同じ整数であることが好ましい。式(9)の中心フェノール部位において、a個の各部分構造は、同じ構造であってもよいし、異なっていてもよい。
The modified polyphenylene ether has a number of partial structures (for example, phenol which may be substituted with R 5 etc.) bonded to the a-valent center X, and the a-valent partial structure (i.e., the formula (9) It may be a structure in which [-Y n -A] of formula (8) is bonded to the central phenol moiety (as shown).
In formula (9), a may be the same integer as in formula (8), and preferably the same integer as in formula (8). In the central phenol moiety of formula (9), each of the a partial structures may have the same structure or may be different.

式(9)中、Xは、a価の任意の連結基であり、特に制限されないが、例えば、鎖式炭化水素、環式炭化水素等の炭化水素基;窒素、リン、ケイ素及び酸素から選ばれる、一つ又は複数の原子を含有する炭化水素基;窒素、リン、ケイ素等の原子;若しくはこれらを組み合わせた基;等が挙げられる。また、Xは単結合を除く連結基であってもよい。さらに、Xは、a価の部分構造を互いに連結する連結基であってもよい。 In formula (9), X is any a-valent linking group, including, but not limited to, hydrocarbon groups such as chain hydrocarbons and cyclic hydrocarbons; selected from nitrogen, phosphorus, silicon, and oxygen. A hydrocarbon group containing one or more atoms; atoms such as nitrogen, phosphorus, silicon; or a combination thereof; and the like. Moreover, X may be a linking group other than a single bond. Furthermore, X may be a linking group that connects the a-valent partial structures to each other.

上記式(9)中のXとしては、単結合又はエステル結合等を介して、Rが結合しているベンゼン環に結合するa価のアルキル骨格;単結合又はエステル結合等を介して、Rが結合しているベンゼン環に結合するa価のアリール骨格;単結合又はエステル結合等を介して、Rが結合しているベンゼン環に結合するa価の複素環骨格;等が挙げられる。 X in the above formula (9) is an a-valent alkyl skeleton bonded to the benzene ring to which R 5 is bonded via a single bond or an ester bond; An a-valent aryl skeleton that is bonded to the benzene ring to which R 5 is bonded; an a-valent heterocyclic skeleton that is bonded to the benzene ring to which R 5 is bonded via a single bond or an ester bond; etc. .

ここで、アルキル骨格としては、特に制限されないが、例えば、炭素数1~6の少なくともa個に分岐した鎖式炭化水素(例えば、鎖式飽和炭化水素)の分岐末端が部分構造のベンゼン環に直接結合する骨格(a個の分岐末端にベンゼン環が結合していればよく、ベンゼン環が結合しない分岐末端があってもよい。)、等が挙げられる。また、アリール骨格としては、特に制限されないが、例えば、ベンゼン環、メシチレン基、又は2-ヒドロキシ-5-メチル-1,3-フェニレン基が、単結合又はアルキル鎖を介して、Rが結合しているベンゼン環に結合する骨格等が挙げられる。さらに、複素環骨格としては、特に制限されないが、例えば、トリアジン環が単結合又はアルキル鎖を介して、Rが結合しているベンゼン環に結合する骨格等が挙げられる。 Here, the alkyl skeleton is not particularly limited, but for example, the branch end of a chain hydrocarbon having at least a branched carbon atoms (for example, a chain saturated hydrocarbon) has a benzene ring as a partial structure. Directly bonded skeletons (benzene rings need only be bonded to a number of branched terminals, and there may be branched terminals to which no benzene rings are bonded), and the like. Further, the aryl skeleton is not particularly limited, but for example, a benzene ring, mesitylene group, or 2-hydroxy-5-methyl-1,3-phenylene group is bonded to R 5 through a single bond or an alkyl chain. Examples include skeletons bonded to the benzene ring. Further, the heterocyclic skeleton is not particularly limited, but includes, for example, a skeleton in which a triazine ring is bonded to a benzene ring to which R 5 is bonded via a single bond or an alkyl chain.

式(9)中の複数のRは、各々独立に、炭素数1~8の直鎖状アルキル基及び下記式(3)で表される部分構造のいずれかであり、そしてkは、各々独立に1~4の整数である。 A plurality of R 5 's in formula (9) are each independently a linear alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a partial structure represented by the following formula (3), and each k is They are independently integers from 1 to 4.

上記式(9)中のRとしては、メチル基、エチル基、n-プロピル基等の炭素数1~8の直鎖状アルキル基、下記式(10)の部分構造を有する基、等が挙げられる。Rのうち少なくとも1つは、下記式(10)の部分構造であってもかまわない。
式(10)中、
複数のR11は、各々独立に、置換されていてもよい炭素数1~8のアルキル基であり;
複数のR12は、各々独立に、置換されていてもよい炭素数1~8のアルキレン基であり;
bは、各々独立に0又は1であり;かつ
13は、水素原子、置換されていてもよい炭素数1~8のアルキル基、又はフェニル基のいずれかを表す。
上記置換基としては、ハロゲン原子等が挙げられる。
As R 5 in the above formula (9), a linear alkyl group having 1 to 8 carbon atoms such as a methyl group, ethyl group, n-propyl group, a group having a partial structure of the following formula (10), etc. Can be mentioned. At least one of R 5 may be a partial structure of the following formula (10).
In formula (10),
The plurality of R 11s are each independently an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms;
The plurality of R 12s are each independently an optionally substituted alkylene group having 1 to 8 carbon atoms;
b is each independently 0 or 1; and R 13 represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a phenyl group.
Examples of the above-mentioned substituents include halogen atoms and the like.

上記式(10)は、好ましくは、2級及び/又は3級炭素を含む基であり、例えばイソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、tert-アミル基、2-ジメチルプロピル基、又はこれらの末端にフェニル基を有する構造等が挙げられ、より好ましくは、tert-ブチル基である。 The above formula (10) is preferably a group containing secondary and/or tertiary carbon, such as isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, tert-amyl group, 2-dimethylpropyl group. group, or a structure having a phenyl group at the end thereof, and more preferably a tert-butyl group.

式(9)の-O-が結合するベンゼン環の炭素原子を1位とし、2位又は6位の一方の炭素原子に式(10)で表される部分構造を有するRが結合し、2位又は6位の他方の炭素原子に水素原子、メチル基又はエチル基が結合している。式(9)の-O-が結合するベンゼン環の2位及び6位の炭素原子に、炭化水素基、又は上記式(10)で表される部分構造が結合する構造であってもよい。上記式(9)中のベンゼン環は、2位及び6位以外の炭素原子に、中心部X及び酸素原子を介して、上記式(1)又は(8)の[Y-A]が結合していてよく、1位に酸素原子を介して上記式(8)の[Y-A]が結合し、4位に中心部Xが結合することが好ましい。 The carbon atom of the benzene ring to which -O- of formula (9) is bonded is the 1st position, and R 5 having a partial structure represented by the formula (10) is bonded to one of the carbon atoms at the 2nd or 6th position, A hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group is bonded to the other carbon atom at the 2-position or the 6-position. It may be a structure in which a hydrocarbon group or a partial structure represented by the above formula (10) is bonded to the carbon atoms at the 2- and 6-positions of the benzene ring to which -O- in formula (9) is bonded. In the benzene ring in the above formula (9), [Y n -A] in the above formula (1) or (8) is bonded to a carbon atom other than the 2-position and the 6-position via the center X and the oxygen atom. It is preferable that [Y n -A] of the above formula (8) is bonded to the 1st position via an oxygen atom, and the central portion X is bonded to the 4th position.

式(8)においてa=2のとき、Zは、例えば、以下のような式(11)で表される構造であっても構わない。
式(11)中の複数のRは、各々独立に、任意の置換基であり、そしてkは、各々独立に、1~4の整数である。
上記式(11)中のRとしては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基等の炭素数1~8の直鎖状アルキル基等が挙げられる。
When a=2 in formula (8), Z may have a structure represented by the following formula (11), for example.
A plurality of R 5 's in formula (11) are each independently an arbitrary substituent, and k is each independently an integer of 1 to 4.
Examples of R 5 in the above formula (11) include linear alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, and an n-propyl group.

式(8)においてa≧3の時、Zは、上記式(9)で表される構造のための多価フェノール化合物に基づいたり、由来したりするものであって構わない。具体的な多価フェノールとしては、上記式(2)で表される構造のために規定した化合物が挙げられる。 When a≧3 in formula (8), Z may be based on or derived from a polyhydric phenol compound for the structure represented by formula (9) above. Specific polyhydric phenols include compounds defined for the structure represented by the above formula (2).

上記式(8)中、Yは、各々独立に、下記式(12)で表される1価のフェノール化合物に由来の構造を有する2価の連結基(置換基を持つフェノールユニット)であり、nは、Yの繰り返し数を表し、各々独立に、0~200の整数であり、少なくとも1つのnは1以上の整数である。 In the above formula (8), Y is each independently a divalent linking group (phenol unit having a substituent) having a structure derived from a monovalent phenol compound represented by the following formula (12), n represents the number of repetitions of Y and is each independently an integer of 0 to 200, and at least one n is an integer of 1 or more.

上記変性ポリフェニレンエーテル及び/又は変性ポリフェニレンエーテル組成物は、例えば、下記式(12)で表される一価のフェノール化合物と、上記式(9)で表される構造中の中心部Xと対応するa価のフェノール化合物(中心フェノール)とを共重合し、変性反応をすることにより得られる。
式(12)中、R21、及びR22としては、上記式(4)において定義された基と同様の基が挙げられ、上記式(4)で定義されたR21及びR22と同じであることが好ましい。
The above-mentioned modified polyphenylene ether and/or modified polyphenylene ether composition corresponds to, for example, a monovalent phenol compound represented by the following formula (12) and a central portion X in the structure represented by the above formula (9). It is obtained by copolymerizing with an a-valent phenol compound (center phenol) and carrying out a modification reaction.
In formula (12), R 21 and R 22 include the same groups as defined in formula (4) above, and are the same as R 21 and R 22 defined in formula (4) above. It is preferable that there be.

上記式(12)で表される一価のフェノール化合物としては、上記式(4)で表される構造のために規定した一価のフェノール化合物が具体的に挙げられる。 Specific examples of the monovalent phenol compound represented by the above formula (12) include monovalent phenol compounds defined for the structure represented by the above formula (4).

上記式(11)で表される2価フェノール類の例を以下に列挙する。
2価フェノール類としては、例えば、(1,1’-ビフェニル)-4,4’-ジオール、3,3’-ジメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4’-ジオール、3,3’,5,5’-テトラメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4’-ジオール、2,2’,3,3’,5,5’-ヘキサメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4-ジオール、2,3,3’,5,5’-ペンタメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4-ジオール、2,3’,5,5’-テトラメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4-ジオール、2,2’,5,5’-テトラメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4-ジオール、2,2’,3,5,5’-ペンタメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4-ジオール、5,5’-ジ―tert-ブチル―2,2’-ジメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4-ジオール、3,3’-ジ―tert-ブチル―5,5’-ジメチル(1,1’-ビフェニル)-4,4-ジオール等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
Examples of dihydric phenols represented by the above formula (11) are listed below.
Examples of dihydric phenols include (1,1'-biphenyl)-4,4'-diol, 3,3'-dimethyl(1,1'-biphenyl)-4,4'-diol, and 3,3'-diol. ',5,5'-tetramethyl(1,1'-biphenyl)-4,4'-diol, 2,2',3,3',5,5'-hexamethyl(1,1'-biphenyl)- 4,4-diol, 2,3,3',5,5'-pentamethyl(1,1'-biphenyl)-4,4-diol, 2,3',5,5'-tetramethyl(1,1 '-Biphenyl)-4,4-diol, 2,2',5,5'-tetramethyl(1,1'-biphenyl)-4,4-diol, 2,2',3,5,5'- Pentamethyl(1,1'-biphenyl)-4,4-diol, 5,5'-di-tert-butyl-2,2'-dimethyl(1,1'-biphenyl)-4,4-diol, 3, Examples include, but are not limited to, 3'-di-tert-butyl-5,5'-dimethyl(1,1'-biphenyl)-4,4-diol.

多価フェノール化合物におけるフェノール性水酸基の数は、2個以上であれば特に制限はないが、ポリフェニレンエーテル末端が多くなると重合時の分子量変化が大きくなる可能性があるため、好ましくは2~6個、より好ましくは2~4個である。 The number of phenolic hydroxyl groups in the polyhydric phenol compound is not particularly limited as long as it is 2 or more, but if the number of polyphenylene ether terminals increases, the molecular weight change during polymerization may increase, so it is preferably 2 to 6. , more preferably 2 to 4.

本実施形態の変性ポリフェニレンエーテル組成物は、下記式(13)で表される単官能ポリフェニレンエーテル、及び/又は下記式(13)で表される単官能ポリフェニレンエーテルの変性物を含んでいても構わない。
式(13)中、cは、1~100の任意の整数であり、そしてR21及びR22としては、上記式(12)について説明された基と同様のものが挙げられる。
The modified polyphenylene ether composition of the present embodiment may contain a monofunctional polyphenylene ether represented by the following formula (13) and/or a modified product of the monofunctional polyphenylene ether represented by the following formula (13). do not have.
In formula (13), c is any integer from 1 to 100, and R 21 and R 22 include the same groups as explained for formula (12) above.

本実施形態の変性ポリフェニレンエーテル及び/又は変性ポリフェニレンエーテル組成物(以下、変性ポリフェニレンエーテル(組成物)と記す)において、上記式(1)の構造を有する多官能変性ポリフェニレンエーテルの原料となる多官能ポリフェニレンエーテルは、単官能ポリフェニレンエーテルを酸化剤の存在下で多価フェノールと平衡化する再分配反応によって製造してもよい。再分配反応は、当該技術分野において公知であり、例えばCooperらの米国特許第3496236号明細書、及びLiskaらの米国特許第5880221号明細書に記載されている。 In the modified polyphenylene ether and/or modified polyphenylene ether composition (hereinafter referred to as modified polyphenylene ether (composition)) of the present embodiment, the polyfunctional Polyphenylene ethers may be produced by a redistribution reaction in which monofunctional polyphenylene ethers are equilibrated with polyhydric phenols in the presence of an oxidizing agent. Redistribution reactions are known in the art and are described, for example, in Cooper et al., US Pat. No. 3,496,236, and Liska et al., US Pat. No. 5,880,221.

本実施形態の変性ポリフェニレンエーテル(組成物)は、H-NMR測定結果において上記式(1)の構造を有する変性ポリフェニレンエーテル、上記式(1)の構造において1つ以上の[-Y-A]が[Y-H]であり、かつ全ての[-Y-A]が[Y-H]ではない変性ポリフェニレンエーテル、及び上記式(1)の構造において全ての[-Y-A]が[Y-H]であるポリフェニレンエーテルに含まれる、上記式(2)で表される中心フェノール部位由来のピークの積算値に対する、上記7.6~8.3ppmの領域に現れる過酸化物由来のピークの積算値の割合が、1以下であり、0.8以下であることが好ましく、0.5以下であることがより好ましい。上記中心フェノール部位由来ピークの積算値に対して、過酸化物由来ピークの積算値が1以下であることは、変性ポリフェニレンエーテル組成物中に副生成物の過酸化物付加体が含まれておらず、目的物の多官能変性ポリフェニレンエーテル等の純度が高いことを意味する。その結果、変性ポリフェニレンエーテル組成物のガラス転移温度(Tg)を高くすることができる。
上記割合は、後述の実施例に記載の方法により測定することができる。
The modified polyphenylene ether (composition) of the present embodiment is a modified polyphenylene ether having the structure of the above formula (1) in the 1 H-NMR measurement results, and one or more [-Y n - A] is [Y n -H] and all [-Y n -A] are not [Y n -H], and in the structure of the above formula (1), all [-Y n -A] is [Y n -H] Appears in the region of 7.6 to 8.3 ppm with respect to the integrated value of the peak derived from the central phenol moiety represented by the above formula (2), which is contained in the polyphenylene ether where [Y n -H] The ratio of the integrated value of peaks derived from peroxide is 1 or less, preferably 0.8 or less, and more preferably 0.5 or less. The fact that the integrated value of the peak derived from peroxide is 1 or less with respect to the integrated value of the peak derived from the central phenol site indicates that the modified polyphenylene ether composition contains a peroxide adduct as a by-product. First, it means that the target product, such as polyfunctional modified polyphenylene ether, has high purity. As a result, the glass transition temperature (Tg) of the modified polyphenylene ether composition can be increased.
The above ratio can be measured by the method described in Examples below.

本実施形態における変性ポリフェニレンエーテル(組成物)の数平均分子量(Mn)は、500~15,000g/molであり、好ましくは1,000~10,000g/molであり、より好ましくは2,000~8,000g/molである。数平均分子量(Mn)が上記範囲内であることにより、基板材料への適用工程においてワニスを作製する溶媒に溶解させた際の流動性がより向上し、基板材料適用時の加工性を確保することができる。
数平均分子量は、後述の実施例に記載の方法により測定することができる。
The number average molecular weight (Mn) of the modified polyphenylene ether (composition) in this embodiment is 500 to 15,000 g/mol, preferably 1,000 to 10,000 g/mol, and more preferably 2,000 g/mol. ~8,000g/mol. By having a number average molecular weight (Mn) within the above range, fluidity is further improved when dissolved in a solvent for producing a varnish in the process of applying it to a substrate material, and workability is ensured when applying it to a substrate material. be able to.
The number average molecular weight can be measured by the method described in Examples below.

本実施形態における多官能変性ポリフェニレンエーテル(組成物)に含まれるA置換基(式(1)で定義されるAのことをいい、以下、同様とする)の数は、特に制限されないが、A置換基数からはA=水素原子(H)の場合を除くものとする。その中でも、組成物中に700~3,000μmol/gのA置換基数を含むことが好ましく、より好ましくは700~2,000μmol/gを含む。組成物中のA置換基数が700μmol/g以上であることで、硬化させる際に、架橋密度を高くすることができ、高いガラス転移温度を有し、誘電特性に優れた硬化物を得られる傾向にある。組成物中のA置換基数が3,000μmol/g以下であることで、ポリフェニレンエーテル組成物を溶媒に溶かしたワニスの粘度を低くでき、基板材料適用時に加工性が良好となる傾向にある。 The number of A substituents (referring to A defined in formula (1), hereinafter the same shall apply) contained in the polyfunctional modified polyphenylene ether (composition) in this embodiment is not particularly limited, but A The case where A=hydrogen atom (H) is excluded from the number of substituents. Among these, it is preferable that the composition contains 700 to 3,000 μmol/g of A substituents, more preferably 700 to 2,000 μmol/g. When the number of A substituents in the composition is 700 μmol/g or more, the crosslinking density can be increased during curing, and a cured product having a high glass transition temperature and excellent dielectric properties can be obtained. It is in. When the number of A substituents in the composition is 3,000 μmol/g or less, the viscosity of the varnish prepared by dissolving the polyphenylene ether composition in a solvent can be lowered, and processability tends to be good when applied to a substrate material.

A置換基数の評価方法は、官能基の種類に応じて滴定法、分光法、定量NMR法等、公知の方法を用いることができる。例えば定量NMR法では、H-NMRを用いる場合は構造既知の標準試料と多官能ポリフェニレンエーテル組成物を共存させて測定する。重量既知の多官能ポリフェニレンエーテル組成物と標準試料を重水素化溶媒に溶解させてH-NMRを測定し、A置換基由来のピークと標準試料のピークの積分値の比、多官能ポリフェニレンエーテル組成物の重量、標準試料の重量、及び標準試料の分子量から計算によりA置換基数を求めることができる。標準試料は重水素化溶媒に溶解し、多官能ポリフェニレンエーテル組成物と反応せず、かつH-NMRにおけるピークが多官能ポリフェニレンエーテル組成物由来のピークと干渉しないものであれば特に制限されない。A置換基数の具体的な評価方法については、実施例の記載を参照することができる。 As a method for evaluating the number of A substituents, known methods such as titration, spectroscopy, quantitative NMR, etc. can be used depending on the type of functional group. For example, in a quantitative NMR method, when 1 H-NMR is used, a standard sample with a known structure and a polyfunctional polyphenylene ether composition are coexisting for measurement. A polyfunctional polyphenylene ether composition of known weight and a standard sample are dissolved in a deuterated solvent and 1 H-NMR is measured, and the ratio of the integral value of the peak derived from the A substituent to the peak of the standard sample, The number of A substituents can be determined by calculation from the weight of the composition, the weight of the standard sample, and the molecular weight of the standard sample. The standard sample is not particularly limited as long as it is dissolved in a deuterated solvent, does not react with the polyfunctional polyphenylene ether composition, and has a peak in 1 H-NMR that does not interfere with the peak derived from the polyfunctional polyphenylene ether composition. For a specific evaluation method of the number of A substituents, the description in Examples can be referred to.

本実施形態に係る変性ポリフェニレンエーテル含有組成物は、低誘電特性、適度な金属剥離性、低溶液粘度、硬化時の十分なTgなどの全てを有するという観点から、上記式(8)で表される構造を有する変性ポリフェニレンエーテルを0.5~95質量%含むことが好ましい。 The modified polyphenylene ether-containing composition according to the present embodiment is expressed by the above formula (8) from the viewpoint of having all of low dielectric properties, appropriate metal releasability, low solution viscosity, and sufficient Tg during curing. It is preferable that the modified polyphenylene ether contains 0.5 to 95% by mass of a modified polyphenylene ether having a structure.

<多官能変性ポリフェニレンエーテル(組成物)の製造方法>
本実施形態の多官能変性ポリフェニレンエーテル(組成物)の製造方法は、例えば、重合法により下記式(1)’で表される、分子末端が水酸基である多官能変性ポリフェニレンエーテル(組成物)(以下、未変性多官能ポリフェニレンエーテル(組成物)ともいう)を合成し、その末端に式(1)におけるA置換基を導入する、すなわち変性することにより製造することができる。
式(1)’中、Z、Y、n、及びaとしては、上記式(1)と同様のものが挙げられ、そして上記式(1)で定義されたものと同じであることが好ましい。
<Production method of polyfunctional modified polyphenylene ether (composition)>
The method for producing the polyfunctional modified polyphenylene ether (composition) of the present embodiment includes, for example, a polyfunctional modified polyphenylene ether (composition) whose molecular terminal is a hydroxyl group, which is represented by the following formula (1)' by a polymerization method. It can be produced by synthesizing an unmodified polyfunctional polyphenylene ether (hereinafter also referred to as a composition) and introducing the A substituent in formula (1) to its terminal, that is, modifying it.
In formula (1)', Z, Y, n, and a are the same as those in formula (1) above, and are preferably the same as defined in formula (1) above.

(重合工程)
ここで、未変性多官能ポリフェニレンエーテル(組成物)の製造方法では、重合工程において、重合溶剤として未変性多官能ポリフェニレンエーテル(組成物)の良溶剤である芳香族系溶剤を用いることが好ましい。
(Polymerization process)
Here, in the method for producing an unmodified polyfunctional polyphenylene ether (composition), it is preferable to use an aromatic solvent that is a good solvent for the unmodified polyfunctional polyphenylene ether (composition) as a polymerization solvent in the polymerization step.

ここで、未変性多官能ポリフェニレンエーテル組成物の良溶剤とは、多官能ポリフェニレンエーテルを溶解させることができる溶剤であり、このような溶剤を例示すると、ベンゼン、トルエン、キシレン(o-、m-、p-の各異性体を含む)、エチルベンゼン、スチレン等の芳香族炭化水素又はクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素;ニトロベンゼンのようなニトロ化合物;等が挙げられる。 Here, the good solvent for the unmodified polyfunctional polyphenylene ether composition is a solvent that can dissolve the polyfunctional polyphenylene ether, and examples of such solvents include benzene, toluene, xylene (o-, m- , p-isomers); aromatic hydrocarbons such as ethylbenzene and styrene; halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene and dichlorobenzene; nitro compounds such as nitrobenzene; and the like.

本実施形態で用いられる重合触媒としては、一般的にポリフェニレンエーテルの製造に用いることが可能な公知の触媒系を使用できる。一般的に知られている触媒系としては、酸化還元能を有する遷移金属イオンと当該遷移金属イオンと錯形成可能なアミン化合物から成るものが知られており、例えば、銅化合物とアミン化合物から成る触媒系、マンガン化合物とアミン化合物から成る触媒系、コバルト化合物とアミン化合物から成る触媒系、等である。重合反応は、若干のアルカリ性条件下で効率よく進行するため、ここに若干のアルカリ若しくは更なるアミン化合物を加えることもある。 As the polymerization catalyst used in this embodiment, a known catalyst system that can generally be used in the production of polyphenylene ether can be used. A generally known catalyst system is one consisting of a transition metal ion having redox ability and an amine compound capable of forming a complex with the transition metal ion. For example, a catalyst system consisting of a copper compound and an amine compound is known. A catalyst system, a catalyst system consisting of a manganese compound and an amine compound, a catalyst system consisting of a cobalt compound and an amine compound, etc. Since the polymerization reaction proceeds efficiently under slightly alkaline conditions, some alkali or an additional amine compound may be added here.

本実施形態で好適に使用される重合触媒は、触媒の構成成分として銅化合物、ハロゲン化合物並びにアミン化合物から成る触媒であり、より好ましくは、アミン化合物として一般式(DA1)で表されるジアミン化合物を含む触媒である。
式(DA1)中、R14、R15、R16、及びR17は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~6の直鎖状又は分岐状アルキル基であり、全てが同時に水素原子ではなく、そしてR18は、炭素数2~5の直鎖状又はメチル分岐を持つアルキレン基である。
The polymerization catalyst suitably used in this embodiment is a catalyst comprising a copper compound, a halogen compound, and an amine compound as constituent components of the catalyst, and more preferably a diamine compound represented by the general formula (DA1) as the amine compound. It is a catalyst containing.
In formula (DA1), R 14 , R 15 , R 16 , and R 17 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and all of them are hydrogen atoms at the same time. and R 18 is a linear or methyl branched alkylene group having 2 to 5 carbon atoms.

ここで述べられた触媒成分の銅化合物の例を列挙する。好適な銅化合物としては、第一銅化合物、第二銅化合物又はそれらの混合物を使用することができる。第二銅化合物としては、例えば、塩化第二銅、臭化第二銅、硫酸第二銅、硝酸第二銅等を例示することができる。また、第一銅化合物としては、例えば、塩化第一銅、臭化第一銅、硫酸第一銅、硝酸第一銅等を例示することができる。これらの中で特に好ましい金属化合物は、塩化第一銅、塩化第二銅、臭化第一銅、臭化第二銅である。また、これらの銅塩は、酸化物(例えば酸化第一銅)、炭酸塩、水酸化物等と対応するハロゲン又は酸から使用時に合成してもよい。しばしば用いられる方法は、先に例示の酸化第一銅とハロゲン化水素(又はハロゲン化水素の溶液)を混合して作製する方法である。 Examples of the copper compounds of the catalyst components mentioned here are listed below. As suitable copper compounds it is possible to use cuprous compounds, cupric compounds or mixtures thereof. Examples of the cupric compound include cupric chloride, cupric bromide, cupric sulfate, cupric nitrate, and the like. Further, examples of the cuprous compound include cuprous chloride, cuprous bromide, cuprous sulfate, cuprous nitrate, and the like. Among these, particularly preferred metal compounds are cuprous chloride, cupric chloride, cuprous bromide, and cupric bromide. These copper salts may also be synthesized at the time of use from oxides (eg cuprous oxide), carbonates, hydroxides, etc. and the corresponding halogens or acids. A frequently used method is to mix cuprous oxide and hydrogen halide (or a solution of hydrogen halide) as exemplified above.

ハロゲン化合物としては、例えば、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、塩化カリウム、臭化カリウム、ヨウ化カリウム、塩化テトラメチルアンモニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、ヨウ化テトラメチルアンモニウム、塩化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウム等である。また、これらは、水溶液又は適当な溶剤を用いた溶液として使用できる。これらのハロゲン化合物は、成分として単独でも用いられるし、2種類以上組み合わせて用いてもよい。好ましいハロゲン化合物は、塩化水素の水溶液、又は臭化水素の水溶液である。 Examples of halogen compounds include hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide, sodium chloride, sodium bromide, sodium iodide, potassium chloride, potassium bromide, potassium iodide, tetramethylammonium chloride, and tetramethylammonium bromide. , tetramethylammonium iodide, tetraethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, tetraethylammonium iodide, and the like. Moreover, these can be used as an aqueous solution or a solution using a suitable solvent. These halogen compounds may be used alone or in combination of two or more. A preferred halogen compound is an aqueous solution of hydrogen chloride or an aqueous solution of hydrogen bromide.

これらの化合物の使用量は、特に限定されないが、銅原子のモル量に対してハロゲン原子として2倍以上20倍以下が好ましく、重合反応に添加するフェノール化合物100モルに対して好ましい銅原子の使用量としては0.02モルから0.6モルの範囲である。 The amount of these compounds used is not particularly limited, but it is preferably 2 times or more and 20 times or less as a halogen atom with respect to the molar amount of copper atoms, and the use of copper atoms is preferable with respect to 100 moles of the phenol compound added to the polymerization reaction. The amount ranges from 0.02 mol to 0.6 mol.

次に、触媒成分のジアミン化合物の例を列挙する。例えば、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’-トリメチルエチレンジアミン、N,N’-ジメチルエチレンジアミン、N,N-ジメチルエチレンジアミン、N-メチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラエチルエチレンジアミン、N,N,N’-トリエチルエチレンジアミン、N,N’-ジエチルエチレンジアミン、N,N-ジエチルエチレンジアミン、N-エチルエチレンジアミン、N,N-ジメチル-N’-エチルエチレンジアミン、N,N’-ジメチル-N-エチルエチレンジアミン、N-n-プロピルエチレンジアミン、N,N’-n-プロピルエチレンジアミン、N-i-プロピルエチレンジアミン、N,N’-i-プロピルエチレンジアミン、N-n-ブチルエチレンジアミン、N,N’-n-ブチルエチレンジアミン、N-i-ブチルエチレンジアミン、N,N’-i-ブチルエチレンジアミン、N-tert-ブチルエチレンジアミン、N,N’-tert-ブチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,3-ジアミノプロパン、N,N,N’-トリメチル-1,3-ジアミノプロパン、N,N’-ジメチル-1,3-ジアミノプロパン、N-メチル-1,3-ジアミノプロパン、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,3-ジアミノ-1-メチルプロパン、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,3-ジアミノ-2-メチルプロパン、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,4-ジアミノブタン、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,5-ジアミノペンタン等が挙げられる。本実施形態にとって好ましいジアミン化合物は、2つの窒素原子をつなぐアルキレン基の炭素数が2又は3のものである。これらのジアミン化合物の使用量は、特に限定されないが、重合反応に添加するフェノール化合物100モルに対して0.01モルから10モルの範囲が好ましい。 Next, examples of diamine compounds as catalyst components are listed. For example, N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine, N,N,N'-trimethylethylenediamine, N,N'-dimethylethylenediamine, N,N-dimethylethylenediamine, N-methylethylenediamine, N,N, N',N'-tetraethylethylenediamine, N,N,N'-triethylethylenediamine, N,N'-diethylethylenediamine, N,N-diethylethylenediamine, N-ethylethylenediamine, N,N-dimethyl-N'-ethylethylenediamine , N,N'-dimethyl-N-ethylethylenediamine, N-n-propylethylenediamine, N,N'-n-propylethylenediamine, N-i-propylethylenediamine, N,N'-i-propylethylenediamine, N-n -Butylethylenediamine, N,N'-n-butylethylenediamine, N-i-butylethylenediamine, N,N'-i-butylethylenediamine, N-tert-butylethylenediamine, N,N'-tert-butylethylenediamine, N, N,N',N'-tetramethyl-1,3-diaminopropane, N,N,N'-trimethyl-1,3-diaminopropane, N,N'-dimethyl-1,3-diaminopropane, N- Methyl-1,3-diaminopropane, N,N,N',N'-tetramethyl-1,3-diamino-1-methylpropane, N,N,N',N'-tetramethyl-1,3- Diamino-2-methylpropane, N,N,N',N'-tetramethyl-1,4-diaminobutane, N,N,N',N'-tetramethyl-1,5-diaminopentane, etc. . A preferred diamine compound for this embodiment is one in which the alkylene group connecting two nitrogen atoms has 2 or 3 carbon atoms. The amount of these diamine compounds to be used is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.01 mol to 10 mol per 100 mol of the phenol compound added to the polymerization reaction.

本実施形態においては、重合触媒の構成成分として、第1級アミン及び第2級モノアミンを含むことができる。第2級モノアミンとしては、以下に限定されるものではないが、例えば、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ-n-プロピルアミン、ジ-i-プロピルアミン、ジ-n-ブチルアミン、ジ-i-ブチルアミン、ジ-tert-ブチルアミン、ジペンチルアミン類、ジヘキシルアミン類、ジオクチルアミン類、ジデシルアミン類、ジベンジルアミン類、メチルエチルアミン、メチルプロピルアミン、メチルブチルアミン、シクロヘキシルアミン、N-フェニルメタノールアミン、N-フェニルエタノールアミン、N-フェニルプロパノールアミン、N-(m-メチルフェニル)エタノールアミン、N-(p-メチルフェニル)エタノールアミン、N-(2’,6’-ジメチルフェニル)エタノールアミン、N-(p-クロロフェニル)エタノールアミン、N-エチルアニリン、N-ブチルアニリン、N-メチル-2-メチルアニリン、N-メチル-2,6-ジメチルアニリン、ジフェニルアミン等が挙げられる。 In this embodiment, primary amines and secondary monoamines can be included as constituent components of the polymerization catalyst. Examples of secondary monoamines include, but are not limited to, dimethylamine, diethylamine, di-n-propylamine, di-i-propylamine, di-n-butylamine, di-i-butylamine, Di-tert-butylamine, dipentylamines, dihexylamines, dioctylamines, didecylamines, dibenzylamines, methylethylamine, methylpropylamine, methylbutylamine, cyclohexylamine, N-phenylmethanolamine, N-phenylethanolamine , N-phenylpropanolamine, N-(m-methylphenyl)ethanolamine, N-(p-methylphenyl)ethanolamine, N-(2',6'-dimethylphenyl)ethanolamine, N-(p-chlorophenyl) ) Ethanolamine, N-ethylaniline, N-butylaniline, N-methyl-2-methylaniline, N-methyl-2,6-dimethylaniline, diphenylamine and the like.

本実施形態における重合触媒の構成成分として、第3級モノアミン化合物を含むこともできる。第3級モノアミン化合物とは、脂環式第3級アミンを含めた脂肪族第3級アミンである。例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリイソブチルアミン、ジメチルエチルアミン、ジメチルプロピルアミン、アリルジエチルアミン、ジメチル-n-ブチルアミン、ジエチルイソプロピルアミン、N-メチルシクロヘキシルアミン等が挙げられる。これらの第3級モノアミンは、単独でも用いられるし、2種類以上組み合わせて用いても良い。これらの使用量は、特に限定されないが、重合反応に添加するフェノール化合物100モルに対して15モル以下の範囲が好ましい。 A tertiary monoamine compound can also be included as a component of the polymerization catalyst in this embodiment. The tertiary monoamine compound is an aliphatic tertiary amine including an alicyclic tertiary amine. Examples include trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, triisobutylamine, dimethylethylamine, dimethylpropylamine, allyldiethylamine, dimethyl-n-butylamine, diethylisopropylamine, N-methylcyclohexylamine, and the like. These tertiary monoamines may be used alone or in combination of two or more. The amount of these used is not particularly limited, but is preferably in the range of 15 moles or less per 100 moles of the phenol compound added to the polymerization reaction.

本実施形態では、従来、重合活性に向上効果を有することが知られている界面活性剤を添加することについて、何ら制限されない。そのような界面活性剤として、例えば、Aliquat336又はCapriquatの商品名で知られるトリオクチルメチルアンモニウムクロライドが挙げられる。その使用量は、重合反応混合物の全量100質量%に対して0.1質量%を超えない範囲が好ましい。 In this embodiment, there is no restriction at all regarding the addition of a surfactant that is conventionally known to have an effect of improving polymerization activity. Such surfactants include, for example, trioctylmethylammonium chloride, known under the trade name Aliquat 336 or Capriquat. The amount used is preferably in a range not exceeding 0.1% by mass based on 100% by mass of the total amount of the polymerization reaction mixture.

本実施形態の重合工程における酸素含有ガスとしては、純酸素の他、酸素と窒素等の不活性ガスとを任意の割合で混合したもの、空気、更には空気と窒素等の不活性ガスとを任意の割合で混合したもの等が使用できる。重合反応中の系内圧力は、常圧で充分であるが、必要に応じて減圧でも加圧でも使用できる。 In addition to pure oxygen, the oxygen-containing gas used in the polymerization process of this embodiment may include a mixture of oxygen and an inert gas such as nitrogen in any ratio, air, or even air and an inert gas such as nitrogen. Mixtures in any ratio can be used. Normal pressure is sufficient for the system internal pressure during the polymerization reaction, but reduced pressure or increased pressure can be used if necessary.

重合の温度は、特に限定されないが、低すぎると反応が進行し難く、また高すぎると反応選択性の低下又は高分子量成分の生成の恐れがあるので、好ましくは0℃~60℃、より好ましくは10℃~50℃の範囲である。 The polymerization temperature is not particularly limited, but if it is too low, the reaction will be difficult to proceed, and if it is too high, there is a risk of reducing reaction selectivity or producing high molecular weight components, so it is preferably 0°C to 60°C, more preferably is in the range of 10°C to 50°C.

本実施形態の未変性多官能ポリフェニレンエーテル(組成物)の製造方法では、ポリフェニレンエーテル重合時において、溶液状態で重合すること(本明細書中、「溶液重合」とも称する)が好ましい。溶液重合により未変性多官能ポリフェニレンエーテル(組成物)を製造することにより、かさ高い構造を有している中心フェノールを用いた場合においても、未変性多官能ポリフェニレンエーテル(組成物)の製造時に上記式(1)’の構造を含まないポリフェニレンエーテル成分を純度よく生成することができ、又は過酸化物による副生成物が生成する割合を少なくし、目的物の上記式(1)の構造を含む多官能変性ポリフェニレンエーテル等を純度よく生成することができる。 In the method for producing an unmodified polyfunctional polyphenylene ether (composition) of the present embodiment, during polyphenylene ether polymerization, it is preferable to polymerize in a solution state (herein also referred to as "solution polymerization"). By producing an unmodified polyfunctional polyphenylene ether (composition) by solution polymerization, even when a central phenol having a bulky structure is used, the above-mentioned conditions can be achieved during production of the unmodified polyfunctional polyphenylene ether (composition). A polyphenylene ether component that does not contain the structure of formula (1)' can be produced with high purity, or the proportion of by-products produced by peroxide can be reduced, and the polyphenylene ether component that does not contain the structure of formula (1) of the target product can be produced. Polyfunctional modified polyphenylene ether etc. can be produced with high purity.

(銅抽出及び副生成物除去工程)
本実施形態において、重合反応終了後の後処理方法については、特に制限はない。通常、塩酸若しくは酢酸等の酸、又はエチレンジアミン4酢酸(EDTA)及びその塩、ニトリロトリ酢酸及びその塩等を反応液に加えて、触媒を失活させる。また、ポリフェニレンエーテルの重合により生じる二価フェノール体の副生成物を除去処理する方法も、従来既知の方法を用いて行うことができる。上記で説明された触媒である金属イオンが実質的に失活されている状態であれば、該混合物を加熱するだけで脱色又は後処理される。また既知の還元剤を系内に必要量添加する方法でも可能である。既知の還元剤としては、ハイドロキノン、亜二チオン酸ナトリウム等が挙げられる。
(Copper extraction and by-product removal process)
In this embodiment, there is no particular restriction on the post-treatment method after the polymerization reaction is completed. Usually, an acid such as hydrochloric acid or acetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) and its salts, nitrilotriacetic acid and its salts, etc. are added to the reaction solution to deactivate the catalyst. Further, a method for removing by-products of dihydric phenol produced by polymerization of polyphenylene ether can also be carried out using conventionally known methods. If the metal ions as the catalyst described above are substantially deactivated, the mixture can be decolorized or post-treated simply by heating. It is also possible to add a required amount of a known reducing agent into the system. Known reducing agents include hydroquinone, sodium dithionite, and the like.

(液-液分離工程)
本実施形態の未変性多官能ポリフェニレンエーテル(組成物)の製造方法においては、銅触媒を失活させた化合物を抽出するため水を添加し、有機相と水相に液-液分離を行った後、水相を除去することで有基礎から銅触媒を除去してよい。この液-液分離工程は、特に限定しないが、静置分離、遠心分離機による分離等の方法が挙げられる。上記液-液分離を促進させるためには、公知の界面活性剤等を用いてもよい。
(liquid-liquid separation process)
In the method for producing an unmodified polyfunctional polyphenylene ether (composition) of the present embodiment, water is added to extract the compound that has deactivated the copper catalyst, and liquid-liquid separation is performed between the organic phase and the aqueous phase. Thereafter, the copper catalyst may be removed from the solid base by removing the aqueous phase. This liquid-liquid separation step is not particularly limited, but includes methods such as static separation and separation using a centrifuge. In order to promote the liquid-liquid separation, a known surfactant or the like may be used.

(濃縮・乾燥工程)
続いて、本実施形態の多官能変性ポリフェニレンエーテル(組成物)の製造方法においては、液-液分離後の上記未変性多官能ポリフェニレンエーテル(組成物)が含まれた有機相を、溶剤を揮発させることで濃縮・乾燥させてよい。なお、続いて変性反応(例えば、未変性多官能ポリフェニレンエーテル(組成物)の末端に式(1)における置換基Aを導入する反応)を行う場合は、この工程を省略してもよい。
(concentration/drying process)
Subsequently, in the method for producing a polyfunctional modified polyphenylene ether (composition) of the present embodiment, the organic phase containing the unmodified polyfunctional polyphenylene ether (composition) after liquid-liquid separation is subjected to evaporation of the solvent. It can be concentrated and dried by Note that this step may be omitted if a modification reaction (for example, a reaction of introducing substituent A in formula (1) to the terminal of the unmodified polyfunctional polyphenylene ether (composition)) is performed subsequently.

上記有機相に含まれる溶剤を揮発させる方法としては、特に限定はしないが、有機相を高温(例えば、後述される乾燥温度などでよい)の濃縮槽に移し、溶剤を留去させて濃縮する方法、又はロータリーエバポレーター等の機器を用いてトルエンを留去させて濃縮する方法等が挙げられる。 The method for volatilizing the solvent contained in the organic phase is not particularly limited, but the organic phase may be transferred to a concentration tank at a high temperature (for example, the drying temperature described below may be used), and the solvent may be distilled off and concentrated. method, or a method in which toluene is distilled off and concentrated using equipment such as a rotary evaporator.

乾燥工程における乾燥処理の温度としては、少なくとも60℃以上が好ましく、80℃以上がより好ましく、120℃以上がさらに好ましく、140℃以上が最も好ましい。多官能ポリフェニレンエーテル組成物の乾燥を60℃以上の温度で行うと、ポリフェニレンエーテル粉体中の高沸点揮発成分の含有量を効率よく低減できる。 The drying temperature in the drying step is preferably at least 60°C or higher, more preferably 80°C or higher, even more preferably 120°C or higher, and most preferably 140°C or higher. When the multifunctional polyphenylene ether composition is dried at a temperature of 60° C. or higher, the content of high-boiling volatile components in the polyphenylene ether powder can be efficiently reduced.

未変性多官能ポリフェニレンエーテル(組成物)を高効率で得るためには、乾燥温度を上昇させる方法、乾燥雰囲気中の真空度を上昇させる方法、乾燥中に撹拌を行う方法等が有効であるが、特に、乾燥温度を上昇させる方法が製造効率の観点から好ましい。乾燥工程では、混合機能を備えた乾燥機を使用することが好ましい。混合機能としては、撹拌式、転動式の乾燥機等が挙げられる。これにより処理量を多くすることができ、生産性を高く維持できる。 In order to obtain unmodified polyfunctional polyphenylene ether (composition) with high efficiency, methods such as increasing the drying temperature, increasing the degree of vacuum in the drying atmosphere, and stirring during drying are effective. In particular, a method of increasing the drying temperature is preferred from the viewpoint of production efficiency. In the drying step, it is preferable to use a dryer with a mixing function. Examples of the mixing function include a stirring type dryer, a rolling type dryer, and the like. This allows the throughput to be increased and productivity to be maintained at a high level.

〔変性反応工程〕
本実施形態において、式(1)又は(8)中のAの置換基(例えば、上記式(5)の官能基)を、得られた未変性ポリフェニレンエーテルの末端へ導入する方法は、ハロゲン化シリル化合物やアミノシリル化合物、アルコキシシリル化合物を用い水酸基等の官能基とのカップリング方法によることができる。ハロゲン化シリル化合物としては、塩化物、臭化物などが一般的に用いられるが、他のハロゲンを利用してもかまわない。
[Modification reaction step]
In this embodiment, the method of introducing the substituent of A in formula (1) or (8) (for example, the functional group of formula (5) above) to the terminal of the obtained unmodified polyphenylene ether is A coupling method with a functional group such as a hydroxyl group using a silyl compound, an aminosilyl compound, or an alkoxysilyl compound can be used. As the halogenated silyl compound, chloride, bromide, etc. are generally used, but other halogens may also be used.

ハロゲン化シリル化合物の具体例としては、メチルビニルジクロロシラン、ジビニルジクロロシラン、アリルメチルジクロロシラン、ジアリルジクロロシラン、トリクロロシリル―2-ノルボルネン、6-メチルジクロロシリル―2-ノルボルネン、6-ジメチルジクロロシリル―2-ノルボルネン、フェニルビニルジクロロシラン、3-メタクリルオキシプロピルジクロロメチルシラン、3-クロロプロピルメチルジビニルシラン、アリルフェニルジクロロシラン、ジフェニルビニルクロロシラン、ジメチルビニルクロロシラン、クロロメチルジメチルビニルシラン、アリルジメチルクロロシラン、メチルフェニルビニルクロロシラン、5-ノルボルネン―2-イル(エチル)クロロジメチルシラン、メチルビニルジブロモシラン、ジビニルジブロモシラン、アリルメチルジブロモシラン、ジアリルジブロモシラン、トリブロモシリル―2-ノルボルネン、6-メチルジブロモシリル―2-ノルボルネン、6-ジメチルジブロモシリル―2-ノルボルネン、フェニルビニルジブロモシラン、3-メタクリルオキシプロピルジブロモメチルシラン、3-ブロモプロピルメチルジビニルシラン、アリルフェニルジブロモシラン、ジフェニルビニルブロモシラン、ジメチルビニルクロロシラン、ブロモメチルジメチルビニルシラン、アリルジメチルブロモシラン、メチルフェニルビニルブロモシラン、5-ノルボルネン―2-イル(エチル)ブロモジメチルシラン5-ノルボルネン―2-イルクロロジブロモシラン、等が挙げられる。 Specific examples of halogenated silyl compounds include methylvinyldichlorosilane, divinyldichlorosilane, allylmethyldichlorosilane, diallyldichlorosilane, trichlorosilyl-2-norbornene, 6-methyldichlorosilyl-2-norbornene, 6-dimethyldichlorosilyl -2-Norbornene, phenylvinyldichlorosilane, 3-methacryloxypropyldichloromethylsilane, 3-chloropropylmethyldivinylsilane, allyl phenyldichlorosilane, diphenylvinylchlorosilane, dimethylvinylchlorosilane, chloromethyldimethylvinylsilane, allyldimethylchlorosilane, methyl Phenylvinylchlorosilane, 5-norbornen-2-yl(ethyl)chlorodimethylsilane, methylvinyldibromosilane, divinyldibromosilane, allylmethyldibromosilane, diallyldibromosilane, tribromosilyl-2-norbornene, 6-methyldibromosilyl- 2-norbornene, 6-dimethyldibromosilyl-2-norbornene, phenylvinyldibromosilane, 3-methacryloxypropyldibromomethylsilane, 3-bromopropylmethyldivinylsilane, allyl phenyldibromosilane, diphenylvinylbromosilane, dimethylvinylchlorosilane, Examples include bromomethyldimethylvinylsilane, allyldimethylbromosilane, methylphenylvinylbromosilane, 5-norbornen-2-yl(ethyl)bromodimethylsilane, 5-norbornen-2-ylchlorodibromosilane, and the like.

アミノシリル化合物としては、メチルビニルシリル―トリス(1,2,4-トリアゾール)、ジビニルシリルビス(1,2,4-トリアゾール)、アリルメチルシリルビス(1,2,4-トリアゾール)、ジアリルシシリルビス(1,2,4-トリアゾール)、トリス(1,2,4-トリアゾリル)シリル―2-ノルボルネン、6-メチルビス(1,2,4-トリアゾリル)シリル―2-ノルボルネン、6-ジメチルビス(1,2,4-トリアゾリル)シリル―2-ノルボルネン、フェニルビニルシリルビス(1,2,4-トリアゾール)、3-メタクリルオキシプロピルメチルシリルビス(1,2,4-トリアゾール)、アリルフェニルシリル(1,2,4-トリアゾール)、ジフェニルビニルシリル(1,2,4-トリアゾール)、ジメチルビニルシリル(1,2,4-トリアゾール)、アリルジメチルシリル(1,2,4-トリアゾール)、メチルフェニルビニルシリル(1,2,4-トリアゾール)、5-ノルボルネン―2-イル(エチル)ジメチルシリル(1,2,4-トリアゾール)、メチルビニルシリル―トリスイミダゾール、ジビニルシリルビスイミダゾール、アリルメチルシリルビスイミダゾール、ジアリルシシリルビスイミダゾール、トリスイミダゾリルシリル―2-ノルボルネン、6-メチルビスイミダゾリルシリル―2-ノルボルネン、6-ジメチルビスイミダゾリルシリル―2-ノルボルネン、フェニルビニルシリルビスイミダゾール、3-メタクリルオキシプロピルメチルシリルビスイミダゾール、アリルフェニルシリルイミダゾール、ジフェニルビニルシリルイミダゾール、ジメチルビニルシリルイミダゾール、アリルジメチルシリルイミダゾール、メチルフェニルビニルシリルイミダゾール、5-ノルボルネン―2-イル(エチル)ジメチルシリルイミダゾール、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシラザン、ビス(ジメチルアミノ)メチルビニルシラン、等が挙げられる。 Examples of aminosilyl compounds include methylvinylsilyl-tris(1,2,4-triazole), divinylsilylbis(1,2,4-triazole), allylmethylsilylbis(1,2,4-triazole), diallylsilylbis (1,2,4-triazole), tris(1,2,4-triazolyl)silyl-2-norbornene, 6-methylbis(1,2,4-triazolyl)silyl-2-norbornene, 6-dimethylbis(1 ,2,4-triazolyl)silyl-2-norbornene, phenylvinylsilylbis(1,2,4-triazole), 3-methacryloxypropylmethylsilylbis(1,2,4-triazole), allyl phenylsilyl(1 , 2,4-triazole), diphenylvinylsilyl (1,2,4-triazole), dimethylvinylsilyl (1,2,4-triazole), allyldimethylsilyl (1,2,4-triazole), methylphenylvinyl Silyl (1,2,4-triazole), 5-norbornen-2-yl(ethyl)dimethylsilyl (1,2,4-triazole), methylvinylsilyl-trisimidazole, divinylsilylbisimidazole, allylmethylsilylbisimidazole , diallylsilylbisimidazole, trisimidazolylsilyl-2-norbornene, 6-methylbisimidazolylsilyl-2-norbornene, 6-dimethylbisimidazolylsilyl-2-norbornene, phenylvinylsilylbisimidazole, 3-methacryloxypropylmethylsilylbis Imidazole, allyl phenylsilylimidazole, diphenylvinylsilylimidazole, dimethylvinylsilylimidazole, allyldimethylsilylimidazole, methylphenylvinylsilylimidazole, 5-norbornen-2-yl(ethyl)dimethylsilylimidazole, 1,3-divinyl-1, Examples include 1,3,3-tetramethyldisilazane, bis(dimethylamino)methylvinylsilane, and the like.

アルコキシシラン化合物としては、トリメトキシビニルシラン、メトキシジメチルビニルシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、メタクリルオキシプロピルジメトキシメチルシラン、メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリルオキシプロピルジエトキシメチルシラン、メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、3-アミノフェノキシジメチルビニルシラン、4-アミノフェノキシジメチルビニルシラン、等が挙げられる。 Examples of alkoxysilane compounds include trimethoxyvinylsilane, methoxydimethylvinylsilane, dimethoxymethylvinylsilane, triethoxyvinylsilane, methacryloxypropyldimethoxymethylsilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, methacryloxypropyldiethoxymethylsilane, and methacryloxypropyltriethoxysilane. , p-styryltrimethoxysilane, 3-aminophenoxydimethylvinylsilane, 4-aminophenoxydimethylvinylsilane, and the like.

上記化合物を未変性ポリフェニレンエーテルの末端へ導入する反応は、水酸基との直接反応が一般的であるが、水酸基のアルカリ金属塩との反応でも構わない。またハロゲン化シリル化合物とイミダゾール、トリアゾール、ピロリジン、ピペリジン類と反応させアミン化合物にしたのちに、水酸基と反応させ多も構わない。ハロゲン化シリル化合物と水酸基との直接反応では、ハロゲン化水素等の酸が発生するため、酸をトラップする目的でアミン等の弱塩基を共存させてもよい。 The reaction for introducing the above compound into the terminal of unmodified polyphenylene ether is generally a direct reaction with a hydroxyl group, but a reaction with an alkali metal salt of a hydroxyl group may also be used. Alternatively, the halogenated silyl compound may be reacted with imidazole, triazole, pyrrolidine, or piperidine to form an amine compound, and then reacted with a hydroxyl group. In the direct reaction between a halogenated silyl compound and a hydroxyl group, acids such as hydrogen halides are generated, so a weak base such as an amine may be present in order to trap the acids.

副反応を防止するために、共存させるアミン類は、3級アミンであることが好ましい。共存させるアミン類の具体例としては、トリメチルアミン、ジエチルメチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジ-n-プロピルアミン、トリ-n-プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ジ-n-ブチルアミン、ジ-n-ブチルメチルアミン、ジ-n-ブチルエチルアミン、ジ-n-プロピルメチルアミン、ジイソプロピルメチルアミン、ジ-n-プロピルエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ-n-ブチルアミン、トリ-tert-ブチルアミン、トリイソブチルアミン、ジ-tert-ブチルアミン、ジイソブチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、テトラエチルエチレンジアミン、テトラメチルメチレンジアミン、テトラエチルメチレンジアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。 In order to prevent side reactions, the amines that are allowed to coexist are preferably tertiary amines. Specific examples of amines to coexist include trimethylamine, diethylmethylamine, triethylamine, diethylamine, di-n-propylamine, tri-n-propylamine, triisopropylamine, di-n-butylamine, di-n-butylmethyl. Amine, di-n-butylethylamine, di-n-propylmethylamine, diisopropylmethylamine, di-n-propylethylamine, diisopropylethylamine, tri-n-butylamine, tri-tert-butylamine, triisobutylamine, di-tert -butylamine, diisobutylamine, tetramethylethylenediamine, tetraethylethylenediamine, tetramethylmethylenediamine, tetraethylmethylenediamine, pyridine, dimethylaniline, dimethylaminopyridine and the like.

共存させるアミン類は、好ましくは、トリメチルアミン、ジエチルメチルアミン、トリエチルアミン、トリ-n-プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ジ-n-ブチルメチルアミン、ジ-n-ブチルエチルアミン、ジ-n-プロピルメチルアミン、ジ-n-プロピルエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ-n-ブチルアミン、トリ-tert-ブチルアミン、トリイソブチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、テトラエチルエチレンジアミン、テトラメチルメチレンジアミン、テトラエチルメチレンジアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、及びジメチルアミノピリジンであり、より好ましくは、トリエチルアミン、トリ-n-プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ-n-ブチルアミン、トリ-tert-ブチルアミン、トリイソブチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、テトラメチルメチレンジアミン、テトラエチルメチレンジアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、及びジメチルアミノピリジンである。 The amines to be allowed to coexist are preferably trimethylamine, diethylmethylamine, triethylamine, tri-n-propylamine, triisopropylamine, di-n-butylmethylamine, di-n-butylethylamine, di-n-propylmethylamine. , di-n-propylethylamine, diisopropylethylamine, tri-n-butylamine, tri-tert-butylamine, triisobutylamine, tetramethylethylenediamine, tetraethylethylenediamine, tetramethylmethylenediamine, tetraethylmethylenediamine, pyridine, dimethylaniline, and dimethyl Aminopyridine, more preferably triethylamine, tri-n-propylamine, triisopropylamine, tri-n-butylamine, tri-tert-butylamine, triisobutylamine, tetramethylethylenediamine, tetramethylmethylenediamine, tetraethylmethylenediamine , pyridine, dimethylaniline, and dimethylaminopyridine.

また、水分は、反応時に好ましくない副反応等だけでなく、反応後の加水分解反応も生じさせ、反応収率を低下させる原因にもなるため、あらかじめ、反応溶媒およびアミン等の水分を除いておくことが好ましい。反応系中の好ましい水分量は、好ましくは200ppm未満、より好ましくは100ppm未満である。 In addition, water can cause not only undesirable side reactions during the reaction, but also hydrolysis reactions after the reaction, reducing the reaction yield. Therefore, remove water from the reaction solvent and amine in advance. It is preferable to leave it there. The preferred amount of water in the reaction system is preferably less than 200 ppm, more preferably less than 100 ppm.

精製時の副反応又は副生物の生成等を防ぐため、過剰のアミン類は、反応後に系から除去しても構わない。反応系からのアミン類の除去は、低沸点のアミンの場合は、蒸留等によって除くことが出来る。精製工程前の残存アミン量は、10,000ppm未満である。 In order to prevent side reactions or generation of by-products during purification, excess amines may be removed from the system after the reaction. In the case of low-boiling amines, amines can be removed from the reaction system by distillation or the like. The amount of amine remaining before the purification step is less than 10,000 ppm.

変性反応工程での高変性率を達成するために好ましい実施形態としては、変性反応を行う際のハロゲン化シリル化合物の使用量は、ポリマー中の水酸基1モルに対して、1.00倍モル以上かつ4倍モル未満であり、好ましくは1.05倍モル~3倍モル、より好ましくは1.1倍モル~2.5倍モルである。ハロゲン化シリル化合物の使用量が、水酸基1モルに対して、1.00倍モル未満では十分な変性率が得られず、他方、4倍モル以上では、反応後の精製時に好ましくない副生物が生成し、精製収率の低下が見られることがある。反応時に酸をトラップする目的で共存させるアミンの使用量は、水酸基1モルに対して、1.00倍モル以上6倍モル未満が好ましく、より好ましくは1.05倍モル~4倍モル、更に好ましくは1.1倍モル~4倍モルである。アミンの使用量が水酸基1モルに対して1.00倍モル未満の場合には十分な変性率が得られず、そして6倍モル以上では転化率に対する効果は変わらない一方、反応後に多量のアミン除去が必要になるため好ましくない。 In a preferred embodiment to achieve a high modification rate in the modification reaction step, the amount of the halogenated silyl compound used in the modification reaction is 1.00 times or more in mole per 1 mole of hydroxyl group in the polymer. and less than 4 times the mole, preferably 1.05 times the mole to 3 times the mole, more preferably 1.1 times the mole to 2.5 times the mole. If the amount of the halogenated silyl compound used is less than 1.00 times the mole of hydroxyl group, a sufficient modification rate will not be obtained, while if it is more than 4 times the mole, undesirable by-products will be produced during purification after the reaction. may occur, resulting in a decrease in purification yield. The amount of the amine used to coexist for the purpose of trapping acid during the reaction is preferably 1.00 times mole or more and less than 6 times mole, more preferably 1.05 times mole to 4 times mole, and more preferably 1.05 times mole to 4 times mole, and more preferably 1.00 times mole or more and less than 6 times mole per mole of hydroxyl group. Preferably it is 1.1 to 4 times the mole. If the amount of amine used is less than 1.00 times the mole of hydroxyl group, sufficient modification rate will not be obtained, and if it is more than 6 times the mole, the effect on the conversion rate will not change, but a large amount of amine will be used after the reaction. This is not desirable as it requires removal.

変性反応温度は、特に限定されないが、未変性ポリフェニレンエーテルと、その良溶媒から成る未変性ポリフェニレンエーテル溶液とから、未変性ポリフェニレンエーテルが析出しない温度条件であることが好ましい。また、複数の温度条件を組み合わせた条件でも構わない。 The modification reaction temperature is not particularly limited, but it is preferably a temperature condition at which unmodified polyphenylene ether does not precipitate from an unmodified polyphenylene ether solution consisting of unmodified polyphenylene ether and a good solvent thereof. Further, a combination of a plurality of temperature conditions may be used.

変性反応後は、過剰のハロゲン化シリル化合物がある場合は、例えばメタノール又はエタノールのようなアルコール類と反応させ、失活等の処理を行っても構わない。 After the modification reaction, if there is an excess of the halogenated silyl compound, it may be reacted with an alcohol such as methanol or ethanol to perform a treatment such as deactivation.

また、変性反応後は、アミン塩等の副生物等を除くために、濾過、水、酸性、もしくはアルカリ性の水溶液で目的物を洗浄してもかまわないし、ポリマー溶液をアルコール類のような貧溶媒中に滴下し、再沈殿により、目的物を回収してもかまわない。また、ポリマー溶液を洗浄後、減圧下に溶媒を留去し、所定のポリマーを回収してもかまわない。 In addition, after the modification reaction, in order to remove by-products such as amine salts, the target product may be filtered or washed with water, acidic, or alkaline aqueous solutions, or the polymer solution may be washed with a poor solvent such as alcohol. The target product may be recovered by dropping it into the solution and re-precipitating it. Alternatively, after washing the polymer solution, the solvent may be distilled off under reduced pressure to recover the desired polymer.

本実施形態の多官能変性ポリフェニレンエーテル(組成物)の製造方法は、上述の本実施形態の多官能変性ポリフェニレンエーテル組成物の製造方法に限定されることなく、上述の、重合工程、銅抽出及び副生成物除去工程、液-液分離工程、濃縮・乾燥工程の順序又は回数等を適宜調整してよい。 The method for producing the polyfunctionally modified polyphenylene ether (composition) of the present embodiment is not limited to the method for producing the polyfunctionally modified polyphenylene ether composition of the present embodiment described above, but includes the polymerization step, copper extraction and The order or number of by-product removal steps, liquid-liquid separation steps, concentration/drying steps, etc. may be adjusted as appropriate.

<(B)スチレン系エラストマー>
本実施形態の樹脂組成物は(B)スチレン系エラストマーを必須の成分として含有する。本実施形態において、スチレン系エラストマーとは、炭素数1~4の炭化水素または塩素原子で置換されたスチレンまたは無置換のスチレンと、オレフィン系アルケン化合物との共重合体、及びその水素添加物を指し、ブロック共重体であってもランダム共重合体であってもよい。
<(B) Styrenic elastomer>
The resin composition of this embodiment contains (B) a styrene elastomer as an essential component. In the present embodiment, the styrenic elastomer refers to a copolymer of a hydrocarbon having 1 to 4 carbon atoms, styrene substituted with chlorine atoms, or unsubstituted styrene, and an olefinic alkene compound, and a hydrogenated product thereof. It may be a block copolymer or a random copolymer.

具体的には、スチレン-ブタジエン共重合体(SBR)、スチレン-ブタジエン-スチレン共重合体(SBS)、水添スチレン-ブタジエン-スチレン共重合体、スチレン-イソプレン-スチレン共重合体(SIS)、水添スチレン-イソプレン-スチレン共重合体、水添スチレン(ブタジエン/イソプレン)スチレン共重合体等のスチレン系エラストマー等が挙げられる。これらのスチレン系エラストマーは単独で用いても、二種類以上を併用してもよい。
これらのなかで、スチレン-ブタジエン共重合体(SBR)、スチレン-ブタジエン-スチレン共重合体(SBS)、水添スチレン-ブタジエン-スチレン共重合体が好ましい。なお、SBRは、ゴム状又は固体の形態でよい。
Specifically, styrene-butadiene copolymer (SBR), styrene-butadiene-styrene copolymer (SBS), hydrogenated styrene-butadiene-styrene copolymer, styrene-isoprene-styrene copolymer (SIS), Examples include styrenic elastomers such as hydrogenated styrene-isoprene-styrene copolymer and hydrogenated styrene (butadiene/isoprene) styrene copolymer. These styrene elastomers may be used alone or in combination of two or more.
Among these, styrene-butadiene copolymer (SBR), styrene-butadiene-styrene copolymer (SBS), and hydrogenated styrene-butadiene-styrene copolymer are preferred. Note that SBR may be in a rubbery or solid form.

<ブロック共重合体/ランダム共重合体>
本実施形態の(B)スチレン系エラストマーは、一例として、ビニル芳香族化合物と共役ジエン化合物とをモノマーとして、それらを重合することにより合成することができる。合成されたスチレン系エラストマーは、ビニル芳香族化合物を主体とするブロック(ブロック(A))と、共役ジエンを主体とするブロック(ブロック(B))とからなる「ブロック共重合型スチレン系エラストマー」と、ビニル芳香族化合物と共役ジエン化合物とがランダムに共重合した構造からなる「ランダム共重合型スチレン系エラストマー」、ならびにブロック共重合構造とランダム共重合構造との両方から構成される「ハイブリッド型スチレン系エラストマー」などが挙げられる。
そのようなスチレン系エラストマーの具体例としては、旭化成株式会社製の水素添加スチレン-ブタジエン系ブロック共重合体市販品として、タフテックH1221、H1062、H1041、H1051、H1043などが、水素添加スチレン-ブタジエン系共重合体市販品として、S1605、S1606などが、旭化成株式会社製のスチレン-ブタジエン系ブロック共重合体市販品として、タフプレンA、タフプレン125、タフプレン126S、アサプレンT-411、T-432、スチレン-ブタジエン系共重合体市販品として、アサフレックス800S、805、810などが挙げられる。
<Block copolymer/random copolymer>
The styrene elastomer (B) of the present embodiment can be synthesized, for example, by polymerizing a vinyl aromatic compound and a conjugated diene compound as monomers. The synthesized styrenic elastomer is a "block copolymerized styrenic elastomer" consisting of a block mainly composed of a vinyl aromatic compound (block (A)) and a block mainly composed of a conjugated diene (block (B)). "Random copolymerization type styrenic elastomer" which has a structure in which a vinyl aromatic compound and a conjugated diene compound are randomly copolymerized, and "hybrid type elastomer" which has a structure in which both a block copolymerization structure and a random copolymerization structure Examples include styrene elastomers.
Specific examples of such styrene-based elastomers include Tuftec H1221, H1062, H1041, H1051, and H1043, which are commercially available hydrogenated styrene-butadiene block copolymers manufactured by Asahi Kasei Corporation. Commercially available copolymers include S1605 and S1606, and commercially available styrene-butadiene block copolymers manufactured by Asahi Kasei Corporation include Tufprene A, Tufprene 125, Tufprene 126S, Asaprene T-411, T-432, and Styrene- Commercially available butadiene copolymers include Asaflex 800S, 805, and 810.

<スチレン系エラストマーの数平均分子量>
本実施形態の(B)スチレン系エラストマーの数平均分子量は、二重結合含有量に応じて好ましい範囲が異なる。
<Number average molecular weight of styrene elastomer>
The preferable range of the number average molecular weight of the styrene elastomer (B) of this embodiment differs depending on the double bond content.

スチレン系エラストマーの二重結合含有量が20%未満の場合は、数平均分子量が大きいほど、樹脂組成物を硬化して得られる硬化物の弾性率が高くなる傾向にあるという利点がある一方で、数平均分子量が大きくなると、樹脂組成物を溶媒に溶解させるのに時間がかかることがある。また、数平均分子量が小さいほど樹脂組成物の流動性が高まる利点がある一方で、該樹脂組成物を硬化して得られる硬化物の弾性率が低くなることがある。 When the double bond content of the styrenic elastomer is less than 20%, there is an advantage that the larger the number average molecular weight, the higher the elastic modulus of the cured product obtained by curing the resin composition. When the number average molecular weight becomes large, it may take time to dissolve the resin composition in a solvent. Furthermore, while a smaller number average molecular weight has the advantage of increasing the fluidity of the resin composition, the modulus of elasticity of a cured product obtained by curing the resin composition may decrease.

そのような観点から、二重結合含有量が20%未満のスチレン系エラストマーの数平均分子量が500以上30万以下であることが好ましく、より好ましくは5000以上20万以下であり、より好ましくは1万以上10万以下であり、更に好ましくは3万以上6万以下、特に好ましくは4万以上5万以下である。 From such a viewpoint, the number average molecular weight of the styrenic elastomer having a double bond content of less than 20% is preferably 500 or more and 300,000 or less, more preferably 5000 or more and 200,000 or less, and even more preferably 1 It is 10,000 or more and 100,000 or less, more preferably 30,000 or more and 60,000 or less, particularly preferably 40,000 or more and 50,000 or less.

また、スチレン系エラストマーの二重結合含有量が20%以上の場合は、硬化反応中にエラストマー中の二重結合が架橋反応に大きく寄与するため、数平均分子量が大きくなると硬化物の弾性率が高くなる一方で、樹脂組成物の粘度の上昇が早くなり成形性が低下することがある。また、数平均分子量が小さくなるほど樹脂組成物の流動性は高まる一方で硬化物が脆くなることがある。 In addition, when the double bond content of the styrene elastomer is 20% or more, the double bonds in the elastomer greatly contribute to the crosslinking reaction during the curing reaction, so as the number average molecular weight increases, the elastic modulus of the cured product decreases. However, the viscosity of the resin composition may increase quickly and the moldability may deteriorate. Further, as the number average molecular weight decreases, the fluidity of the resin composition increases, but the cured product may become brittle.

そのような観点から、二重結合含有量が20%以上のスチレン系エラストマーの数平均分子量は500以上30万以下であることが好ましく、より好ましくは1000以上10000未満であり、さらに好ましくは2000以上8000以下であり、特に好ましくは3000以上5000以下である。 From such a viewpoint, the number average molecular weight of the styrenic elastomer having a double bond content of 20% or more is preferably 500 or more and 300,000 or less, more preferably 1000 or more and less than 10000, and even more preferably 2000 or more. It is 8,000 or less, particularly preferably 3,000 or more and 5,000 or less.

また、ランダム重合型スチレン系エラストマーの数平均分子量は、500以上30万以下であることが好ましく、より好ましくは1000以上10000未満であり、さらに好ましくは2000以上8000以下であり、特に好ましくは3000以上5000以下である。 The number average molecular weight of the random polymerization type styrene elastomer is preferably 500 or more and 300,000 or less, more preferably 1000 or more and less than 10,000, still more preferably 2000 or more and 8000 or less, and particularly preferably 3000 or more. 5000 or less.

一方、ブロック共重合型のスチレン系エラストマーの数平均分子量は、500以上30万以下であることが好ましく、より好ましくは5000以上20万以下であり、さらに好ましくは1万以上10万以下であり、特に好ましくは3万以上6万以下であり、最も好ましくは5万以下4万以上である。 On the other hand, the number average molecular weight of the block copolymerizable styrene elastomer is preferably from 500 to 300,000, more preferably from 5,000 to 200,000, even more preferably from 10,000 to 100,000, Particularly preferably 30,000 to 60,000, most preferably 50,000 to 40,000.

<スチレン系エラストマーの二重結合含有量>
本実施形態の(B)スチレン系エラストマーの二重結合含有量は、数平均分子量に応じて好ましい範囲が異なる。
<Double bond content of styrenic elastomer>
The preferred range of the double bond content of the styrene elastomer (B) of this embodiment differs depending on the number average molecular weight.

スチレン系熱エラストマーの数平均分子量が10000未満の場合は、スチレン系エラストマーの二重結合含有率が高まるほど樹脂組成物の流動性が高まる一方で、硬化すると脆弱な硬化物が形成されることがある。 When the number average molecular weight of the styrenic thermal elastomer is less than 10,000, the fluidity of the resin composition increases as the double bond content of the styrene elastomer increases, but a brittle cured product may be formed when cured. be.

そのような観点から、数平均分子量が10000未満のスチレン系エラストマーの場合は、二重結合含有量は10%以上90%以下であることが好ましく、より好ましくは20%以上80%以下であり、よりさらに好ましくは50以上70%以下である。 From such a viewpoint, in the case of a styrenic elastomer with a number average molecular weight of less than 10,000, the double bond content is preferably 10% or more and 90% or less, more preferably 20% or more and 80% or less, Even more preferably, it is 50 or more and 70% or less.

スチレン系エラストマーの数平均分子量が10000以上の場合は、スチレン系エラストマーの二重結合含有率が高まるほど硬化物の弾性率が高まる一方で、樹脂組成物を溶媒に溶解するのに長時間を要することがある。 When the number average molecular weight of the styrene elastomer is 10,000 or more, the higher the double bond content of the styrene elastomer, the higher the elastic modulus of the cured product, but it takes a long time to dissolve the resin composition in a solvent. Sometimes.

そのような観点から、数平均分子量が10000以上のスチレン系エラストマーの場合は、二重結合含有量は90%以下であることが好ましく、より好ましくは50%以下であり、さらに好ましくは10%以下であり、特に好ましくは1%以下である。 From such a viewpoint, in the case of a styrenic elastomer having a number average molecular weight of 10,000 or more, the double bond content is preferably 90% or less, more preferably 50% or less, and still more preferably 10% or less. It is particularly preferably 1% or less.

<スチレン系エラストマーのスチレン含有率>
(B)成分であるスチレン系エラストマーのスチレン含有率は特に限定されないが、スチレン含有率が高いほど、樹脂組成物の段階で(A)成分の末端変性ポリフェニレンエーテルとの相溶性が良く、樹脂組成物の均一性が高まる傾向にあり、スチレン含有率が低いほど、硬化して得られる硬化物の誘電正接が低くなる傾向にある。
<Styrene content of styrenic elastomer>
The styrene content of the styrene elastomer that is the component (B) is not particularly limited, but the higher the styrene content, the better the compatibility with the terminally modified polyphenylene ether that is the component (A) at the resin composition stage, and The uniformity of the product tends to increase, and the lower the styrene content, the lower the dielectric loss tangent of the cured product.

そのような観点から、数平均分子量が10000未満のスチレン系エラストマーの場合は、スチレン含有率は1%以上80%以下であることが好ましく、より好ましくは10%以上70%以下であり、さらに好ましくは15%以上60%以下であり、特に好ましくは20%以上50%以下であり、最も好ましくは25%以上40%以下、である。 From such a viewpoint, in the case of a styrene elastomer having a number average molecular weight of less than 10,000, the styrene content is preferably 1% or more and 80% or less, more preferably 10% or more and 70% or less, and even more preferably is 15% or more and 60% or less, particularly preferably 20% or more and 50% or less, and most preferably 25% or more and 40% or less.

また、数平均分子量が10000以上のスチレン系エラストマーの場合は、スチレン含有率は1%以上80%以下であることが好ましく、より好ましくは10%以上70%以下であり、さらに好ましくは20%以上50%以下であり、特に好ましくは30%以上40%以下である。 In the case of a styrene elastomer having a number average molecular weight of 10,000 or more, the styrene content is preferably 1% or more and 80% or less, more preferably 10% or more and 70% or less, and still more preferably 20% or more. It is 50% or less, particularly preferably 30% or more and 40% or less.

<スチレン系エラストマーの二重結合の水添率>
(B)成分であるスチレン系エラストマーにおいて、共役ジエン単量体単位に基づく二重結合の水添(水素添加)率は特に限定されないが、劣化抑止の観点から、90%以上であることが好ましく、98%以上であることがより好ましい。
<Hydrogenation rate of double bonds in styrenic elastomer>
In the styrenic elastomer that is component (B), the hydrogenation rate of double bonds based on conjugated diene monomer units is not particularly limited, but from the viewpoint of suppressing deterioration, it is preferably 90% or more. , more preferably 98% or more.

<(C)架橋助剤>
本実施形態に係る(B)成分の架橋助剤は、下記式(18)で示され、分子内のビニル基の数が3個以下である構造を有する芳香族ビニル化合物である。
{式(18)中、R37、R38、及びR39は、水素原子、またはそれぞれ独立に炭素数4以下の炭化水素基を表し、R40、及びR41は、それぞれ独立に水素または炭素数8以下の飽和または不飽和の炭化水素基を表す。}
を必須の成分として含有する。
37、R38、及びR39は、水素原子、またはそれぞれ独立に炭素数4以下の炭化水素基である。炭素数が少ないほど反応性が高い傾向にある一方、炭素数が多くなるほど蒸気圧が低くなり該樹脂組成物を加熱する段階で(C)成分の蒸発量が少なくなる傾向にある。そのような観点から、R37、R38、及びR39の炭素数は少ないほど好ましく、水素原子が最も好ましい。
<(C) Crosslinking aid>
The crosslinking aid as component (B) according to the present embodiment is an aromatic vinyl compound having a structure represented by the following formula (18) and having a structure in which the number of vinyl groups in the molecule is 3 or less.
{In formula (18), R 37 , R 38 , and R 39 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 4 or less carbon atoms, and R 40 and R 41 each independently represent hydrogen or a carbon Represents a saturated or unsaturated hydrocarbon group of number 8 or less. }
Contains as an essential ingredient.
R 37 , R 38 , and R 39 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 4 or less carbon atoms. The smaller the number of carbon atoms, the higher the reactivity. On the other hand, the larger the number of carbon atoms, the lower the vapor pressure, and the less the amount of component (C) evaporated during heating of the resin composition. From such a viewpoint, it is preferable that the number of carbon atoms in R 37 , R 38 and R 39 is as small as possible, and a hydrogen atom is most preferable.

40、及びR41は、それぞれ独立に水素または炭素数8以下の飽和または不飽和の炭化水素基である。炭素数が少ないほど樹脂組成物の粘度が低くなる傾向にあり、炭素数が多いほど蒸気圧が低くなり該樹脂組成物を加熱する段階で(C)成分の蒸発量が少なくなる傾向にある。 R 40 and R 41 are each independently hydrogen or a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 8 or less carbon atoms. The smaller the number of carbon atoms, the lower the viscosity of the resin composition, and the larger the number of carbon atoms, the lower the vapor pressure, and the less the amount of evaporation of component (C) during heating of the resin composition.

そのような観点から、より好ましいR40、及びR41の組み合わせとして、一方が水素原子、もう一方が炭素数は1以上6以下の炭化水素基、さらに好ましくは2以上4以下の炭化水素基の組み合わせである。
また、R40、及びR41が飽和炭化水素基の場合は、該硬化性樹脂組成物を硬化して形成される硬化物の靭性が高くなる傾向にあり、不飽和炭化水素基の場合は該硬化物のガラス転移温度が高くなる傾向にある。そのような観点から、R40とR41に含まれる不飽和基は合計で1つまたは0であることがより好ましい。
上記と同様の観点から、R40がtert-ブチル基であることが好ましく、R41がビニル基であることが好ましい。
From such a viewpoint, a more preferable combination of R 40 and R 41 is one in which one is a hydrogen atom and the other is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a hydrocarbon group having 2 to 4 carbon atoms. It's a combination.
Furthermore, when R 40 and R 41 are saturated hydrocarbon groups, the toughness of the cured product formed by curing the curable resin composition tends to be high, whereas when they are unsaturated hydrocarbon groups, the toughness of the cured product formed by curing the curable resin composition tends to be high. The glass transition temperature of the cured product tends to be high. From such a viewpoint, it is more preferable that the number of unsaturated groups contained in R 40 and R 41 is one or zero in total.
From the same viewpoint as above, R 40 is preferably a tert-butyl group, and R 41 is preferably a vinyl group.

以上の観点より、(C)成分の架橋助剤の特に好ましい構造として4-tert-ブチルスチレン、3-tert-ブチルスチレン、2-tert-ブチルスチレン、1,2-ジビニルベンゼン、1,3-ジビニルベンゼン、1,4-ジビニルベンゼンなどが挙げられる。 From the above viewpoint, particularly preferred structures of the crosslinking aid of component (C) include 4-tert-butylstyrene, 3-tert-butylstyrene, 2-tert-butylstyrene, 1,2-divinylbenzene, 1,3- Examples include divinylbenzene and 1,4-divinylbenzene.

<架橋助剤の効果発現理由>
(C)成分の架橋助剤は芳香族を含む低分子であることから、(A)成分である変性ポリフェニレンエーテルおよび(B)成分であるスチレン系エラストマーと相溶性が高いことから、それらに該架橋助剤を配合することにより均一な樹脂組成物やワニスが得られるだけでなく、溶融状態あるいは樹脂溶液の粘度が低下して流動性が高まり、良好な成形性を示す。更に、架橋助剤シリル基と良好な反応性を示すのでスチレンエラストマーを主体とする非連続相とポリフェニレンエーテルを主体とする連続相からなる反応誘起型スピノーダル分解構造を有するマトリックスを形成させることができる。
<Reason for the effect of crosslinking aid>
Since the crosslinking aid of the component (C) is a low molecular weight containing aromatics, it is highly compatible with the modified polyphenylene ether of the component (A) and the styrene elastomer of the component (B). By incorporating a crosslinking aid, not only a uniform resin composition or varnish can be obtained, but also the viscosity of the molten state or resin solution is lowered, fluidity is increased, and good moldability is exhibited. Furthermore, since it exhibits good reactivity with the silyl group of the crosslinking aid, it is possible to form a matrix with a reaction-induced spinodal decomposition structure consisting of a discontinuous phase mainly composed of styrene elastomer and a continuous phase mainly composed of polyphenylene ether. .

また、架橋密度が過度に高まると硬化物の均一性が低下し、誘電正接が低下したり脆弱な硬化物となったりするが、(C)成分は1分子内のビニル基の数が3個以下に限られているので、硬化物の架橋密度が過度に高まることを抑制し、特にターシャリー(tert-)ブチルスチレンは単官能であるため、その硬化物は均一性に富む硬化物を与えるので靭性に富み、誘電正接の低い硬化物を形成する。 Additionally, if the crosslinking density increases excessively, the uniformity of the cured product will decrease, resulting in a decrease in dielectric loss tangent and a brittle cured product, but component (C) has three vinyl groups in one molecule. Since the crosslinking density of the cured product is limited to the following, it is suppressed from increasing excessively, and since tert-butylstyrene is monofunctional, the cured product can provide a cured product with high uniformity. Therefore, it forms a cured product with high toughness and low dielectric loss tangent.

その結果、本実施形態の硬化性樹脂組成物は、均一な硬化物が得られ、硬化物の十分なTg、低誘電特性、銅箔接着性、及び低線膨張係数の全てを満足させるものとなる。 As a result, the curable resin composition of this embodiment provides a uniform cured product, and satisfies all of the requirements of sufficient Tg, low dielectric properties, copper foil adhesion, and low coefficient of linear expansion of the cured product. Become.

<(D)液状エラストマー>
本実施形態の樹脂組成物は(D)液状エラストマーを必須の成分として含有する。本実施形態において、液状エラストマーとは、40℃以下で液状である比較的低分子量のエラストマーをいう。液状エラストマーを配合することにより、高濃度のワニスにおいても粘度が抑えられ、ガラスクロスへの塗工性が向上する。
<(D) Liquid elastomer>
The resin composition of this embodiment contains (D) a liquid elastomer as an essential component. In this embodiment, the liquid elastomer refers to a relatively low molecular weight elastomer that is liquid at 40° C. or lower. By incorporating a liquid elastomer, the viscosity is suppressed even in highly concentrated varnishes, improving the applicability to glass cloth.

液状エラストマーを構成するモノマーは特に指定されないが、イソプレン、ブタジエン、スチレン等が挙げられる。また、エラストマーはホモポリマーでもコポリマーでもよく、コポリマーの場合ブロックコポリマーでもランダムコポリマーでもよい。中でもスチレンユニットを含有する液状エラストマーが好ましく、スチレンブタジエンコポリマーがより好ましく、中でもスチレンブタジエンランダムコポリマーが更に好ましい。なお、(D)成分としての液状コポリマーは、40℃以下で液状である点、及び/又はランダムが好ましい点において、(B)成分としてのSBR等のコポリマーとは異なってよい。 Monomers constituting the liquid elastomer are not particularly specified, but include isoprene, butadiene, styrene, and the like. Further, the elastomer may be a homopolymer or a copolymer, and in the case of a copolymer, it may be a block copolymer or a random copolymer. Among them, liquid elastomers containing styrene units are preferred, styrene-butadiene copolymers are more preferred, and styrene-butadiene random copolymers are even more preferred. The liquid copolymer as component (D) may be different from the copolymer such as SBR as component (B) in that it is liquid at 40° C. or lower and/or that it is preferably random.

また、その分子量は40℃以下で液状であれば特に制限はないが、数平均分子量で1万以下が好ましく、5000以下がより好ましい。このような範囲の分子量の液状エラストマーを用いることで高濃度のワニスにおいても粘度が抑えられ、ガラスクロスへの塗工性が向上するという効果をより顕著に発現させることができる。 Further, the molecular weight is not particularly limited as long as it is liquid at 40° C. or less, but the number average molecular weight is preferably 10,000 or less, more preferably 5,000 or less. By using a liquid elastomer having a molecular weight in such a range, the viscosity can be suppressed even in a highly concentrated varnish, and the effect of improving the coatability on glass cloth can be more clearly exhibited.

<(A)成分と(B)成分との配合比率>
本実施形態の硬化性樹脂組成物は(A)成分と(B)成分とが、硬化前の溶媒を含む溶液状態および溶液を含まない樹脂混合状態のいずれの段階においても相溶性が良く、均一な組成物を形成する傾向にある一方で、硬化反応段階で硬化反応の進行に伴い、(A)成分と(B)成分とが相分離(反応誘起型のスピノーダル分解)し、しかもTgが高く線膨張係数が低い(A)成分を主体とする相が連続相を形成し、Dfの低い(B)成分を主体とする相が非連続相を形成するので、最終的にTgが高く線膨張係数とDfの低い硬化物が形成される傾向にある。
<Blending ratio of component (A) and component (B)>
In the curable resin composition of this embodiment, the components (A) and (B) have good compatibility and uniformity in both the solution state containing a solvent before curing and the resin mixed state without a solution. On the other hand, as the curing reaction progresses during the curing reaction stage, components (A) and (B) phase separate (reaction-induced spinodal decomposition), and the Tg is high. The phase mainly composed of the (A) component with a low linear expansion coefficient forms a continuous phase, and the phase mainly composed of the (B) component with a low Df forms a discontinuous phase, so the final result is a high Tg and linear expansion. A cured product with a low coefficient and Df tends to be formed.

従って、本実施形態は、(A)成分の比率が高いほどTgを指標とする耐熱性が高く、線膨張係数が低くなる傾向にあり、(B)成分の配合比率が高いほど、誘電正接(Df)が低くなる傾向にある。 Therefore, in this embodiment, the higher the ratio of component (A), the higher the heat resistance using Tg as an index, and the lower the linear expansion coefficient. Df) tends to be low.

本実施形態は(A)成分と(B)成分の比率によっては制限されないが、耐熱性と誘電正接のバランスを良好にする観点から、(A)成分と(B)成分の比率は99:1~10:90の範囲にあることが好ましく、より好ましくは98:2~60:40の範囲であり、さらに好ましくは95:5~80:20の範囲であり、特に好ましくは90:10~85:15の範囲である。 This embodiment is not limited by the ratio of the (A) component and the (B) component, but from the viewpoint of achieving a good balance between heat resistance and dielectric loss tangent, the ratio of the (A) component and (B) component is 99:1. -10:90, more preferably 98:2 - 60:40, even more preferably 95:5 - 80:20, particularly preferably 90:10 - 85. :15 range.

<(C)成分の配合比率>
本実施形態は(C)成分の配合比率によっては制限されないが、(A)成分と(B)成分の合計量に対する(C)成分の比率が少ないほど耐熱性が高い傾向にあり、(C)成分の比率が多いほど、誘電正接が低くなる傾向にある。そのような観点から、本発明の(A)、(B)、(C)成分の配合比率は(A)成分と(B)成分の合計量と、(C)成分の比率が99:1~20:80の範囲であると本発明の効果が良好に発現される傾向にある。より好ましくは95:5~30:70の範囲であり、さらに好ましくは90:10~50:50の範囲であり、よりさらに好ましくは80:20~60:40の範囲であり、特に好ましくは70:30~65:35の範囲である。
<Blending ratio of component (C)>
This embodiment is not limited by the blending ratio of component (C), but the smaller the ratio of component (C) to the total amount of components (A) and (B), the higher the heat resistance tends to be. The higher the ratio of the components, the lower the dielectric loss tangent tends to be. From such a point of view, the blending ratio of components (A), (B), and (C) of the present invention is such that the ratio of the total amount of components (A) and (B) to the ratio of component (C) is 99:1 to 99:1. When the ratio is in the range of 20:80, the effects of the present invention tend to be exhibited well. More preferably the range is 95:5 to 30:70, still more preferably the range is 90:10 to 50:50, even more preferably the range is 80:20 to 60:40, particularly preferably 70 :30 to 65:35.

<(D)成分の配合比率>
本実施形態は(D)成分の配合比率によっては制限されないが、(A)成分と(B)成分の合計量に対する(D)成分の比率が少ないほど耐熱性が高い傾向にあり、(D)成分の比率が多いほど、ガラスクロスへの塗工性が向上する傾向にある。(D)成分の配合比率は(A)成分と(B)成分の合計量と、(D)成分の比率が99:1~20:80の範囲であると本発明の効果が良好に発現される傾向にある。より好ましくは95:5~30:70の範囲であり、さらに好ましくは90:10~50:50の範囲であり、よりさらに好ましくは80:20~60:40の範囲であり、特に好ましくは70:30~65:35の範囲である。
<Blending ratio of component (D)>
This embodiment is not limited by the blending ratio of component (D), but the smaller the ratio of component (D) to the total amount of components (A) and (B), the higher the heat resistance tends to be. The higher the ratio of the components, the better the coating properties on glass cloth tend to be. The effects of the present invention are well expressed when the blending ratio of component (D) is in the range of 99:1 to 20:80 to the total amount of component (A) and (B). There is a tendency to More preferably the range is 95:5 to 30:70, still more preferably the range is 90:10 to 50:50, even more preferably the range is 80:20 to 60:40, particularly preferably 70 :30 to 65:35.

<(E)成分>
本実施形態の樹脂組成物は(E)下記式(19)で表されるビニル基含有シラン系化合物を必須の成分として含有する。
{式(19)中、R42は、水素原子、または炭素数4以下の炭化水素を表し、nは2~6の整数を表す。}
<(E) component>
The resin composition of this embodiment contains (E) a vinyl group-containing silane compound represented by the following formula (19) as an essential component.
{In formula (19), R 42 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon having 4 or less carbon atoms, and n represents an integer of 2 to 6. }

式(19)中のR42は、水素原子、または炭素数4以下の炭化水素である。R42の炭素数が5以上であると単体の粘度が高くなり希釈効果が十分に発揮されない。
一方、R42の炭素数が小さくなるほど沸点が低くなり、本発明の硬化性樹脂組成物に溶媒を添加させて均一にした後に溶媒を留去(乾燥)する際に蒸発し易くなる傾向にある。
R 42 in formula (19) is a hydrogen atom or a hydrocarbon having 4 or less carbon atoms. When the number of carbon atoms in R 42 is 5 or more, the viscosity of the simple substance becomes high and the dilution effect is not sufficiently exhibited.
On the other hand, the smaller the number of carbon atoms in R42 , the lower the boiling point, and the more likely it is to evaporate when the solvent is distilled off (dryed) after adding a solvent to the curable resin composition of the present invention and making it homogeneous. .

そのような観点から、好ましいR42は水素原子または炭素数は3以下であり、より好ましくは水素原子または炭素数2以下であり、特に好ましくは炭素数1である。 From such a viewpoint, R 42 is preferably a hydrogen atom or has a carbon number of 3 or less, more preferably a hydrogen atom or a carbon number of 2 or less, and particularly preferably has a carbon number of 1.

式(19)中のnは2~6の整数を表す。nが7よりも大きいと単体の粘度が高くなり希釈効果が十分に発揮されない。
一方、nが小さくなるほど沸点が低くなり本発明の硬化性樹脂組成物に溶媒を添加させて均一にした後に溶媒を留去(乾燥)する際に蒸発し易くなる傾向にある。
そのような観点から好ましいnは2~5であり、より好ましくは3~4であり、特に好ましくは4である。
n in formula (19) represents an integer of 2 to 6. When n is larger than 7, the viscosity of the element becomes high and the dilution effect is not sufficiently exerted.
On the other hand, the smaller n is, the lower the boiling point is, and the solvent tends to evaporate more easily when the solvent is distilled off (dryed) after being added to the curable resin composition of the present invention to make it homogeneous.
From this point of view, n is preferably 2 to 5, more preferably 3 to 4, particularly preferably 4.

硬化性樹脂組成物に(E)成分を配合すると、硬化性樹脂組成物の溶融粘度が低くなる傾向にあり、さらに硬化速度が適度に遅いので後に記述する最低溶融粘度が低くなる傾向にあるので硬化段階での成形性に優れる。さらに、本硬化性樹脂組成物をガラスクロスなどに含浸させて複合材料を作製する用途では分子内にSi原子を含むため、ガラスクロスとの親和性、及び含浸性が高まるので、得られる複合材料のTg、半田耐熱性、外観、耐湿性、耐水性等が高まり、またDfが低下する。 When component (E) is blended into a curable resin composition, the melt viscosity of the curable resin composition tends to decrease, and furthermore, since the curing speed is moderately slow, the minimum melt viscosity described later tends to decrease. Excellent formability during the curing stage. Furthermore, in applications in which the present curable resin composition is impregnated into glass cloth or the like to produce composite materials, the resulting composite material is Tg, soldering heat resistance, appearance, moisture resistance, water resistance, etc. are increased, and Df is decreased.

このような式(19)で表される群のビニル基含有シラン系化合物としては、
2,4,6,8-テトラメチル-テトラビニルシクロテトラシロキサン:

Figure 2023141184000031
2,4,6-トリメチル-トリビニルシクロトリシロキサン:
Figure 2023141184000032
などが好ましい。 The vinyl group-containing silane compounds of the group represented by formula (19) include:
2,4,6,8-tetramethyl-tetravinylcyclotetrasiloxane:
Figure 2023141184000031
2,4,6-trimethyl-trivinylcyclotrisiloxane:
Figure 2023141184000032
etc. are preferable.

本発明の硬化性樹脂組成物は(E)成分の配合量については特に制限されないが、(B)成分の比率が高いほど本発明の硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物のDfが低い傾向にあり、また(E)成分の比率が高いほど硬化反応を抑制する傾向にあるため、積層板などの複合材料を作製した場合に外観に優れ、またDfが低くなる傾向にある。そのような観点から、(B)成分と(E)成分の比率が99.9:0.1~10:90の範囲であることが好ましく、より好ましくは99:1~20:80の範囲であり、さらに好ましくは97:3~30:70、特に好ましくは95:5~40:60、殊に好ましくは90:10~50:50である。 The curable resin composition of the present invention is not particularly limited in the amount of component (E), but the higher the ratio of component (B), the higher the Df of the cured product obtained by curing the curable resin composition of the present invention. Also, the higher the ratio of component (E), the more the curing reaction tends to be suppressed, so when a composite material such as a laminate is produced, it has an excellent appearance and tends to have a low Df. From such a point of view, the ratio of component (B) to component (E) is preferably in the range of 99.9:0.1 to 10:90, more preferably in the range of 99:1 to 20:80. The ratio is more preferably 97:3 to 30:70, particularly preferably 95:5 to 40:60, particularly preferably 90:10 to 50:50.

<(F)開始剤>
所望により、本実施形態の硬化性樹脂組成物には、(F)開始剤を含有してもよい。開始剤としては特に限定はされないが、有機過酸化物が挙げられ、1分間半減期温度が155℃~180℃の範囲内にあるものが、組成物の保存時の安定性と反応性の観点から好ましく、例えば、t-へキシルペルオキシイソプロピルモノカーボネート(1分間半減期温度、以下同様:155.0℃)、t-ブチルペルオキシ-3,5,5-トリメチルヘキサノエート(166.0℃)、t-ブチルペルオキシラウレート(159.4℃)、t-ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート(158.8℃)、t-ブチルペルオキシ2-エチルへキシルモノカーボネート(161.4℃)、t-へキシルパーオキシベンゾエート(160.3℃)、2,5-ジメチル-2,5-ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン(158.2℃)、t-ブチルペルオキシアセテート(159.9℃)、2,2-ジ-(t-ブチルパーオキシ)ブタン(159.9℃)、t-ブチルパーオキシベンゾエート(166.8℃)、n-ブチル4,4-ジ-(t-ブチルペルオキシ)バレラート(172.5℃)、ジ(2-t-ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン(175.4℃)、ジクミルパーオキサイド(175.2℃)、ジ-t-へキシルパーオキサイド(176.7℃)、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン(179.8℃)、及びt-ブチルクミルパーオキサイド(173.3℃)等が挙げられる。
<(F) Initiator>
If desired, the curable resin composition of this embodiment may contain (F) an initiator. The initiator is not particularly limited, but includes organic peroxides, and those with a 1-minute half-life temperature within the range of 155°C to 180°C are preferred from the viewpoint of stability and reactivity during storage of the composition. Preferably, for example, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate (1 minute half-life temperature, hereinafter the same: 155.0°C), t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate (166.0°C) , t-butylperoxylaurate (159.4°C), t-butylperoxyisopropyl monocarbonate (158.8°C), t-butylperoxy2-ethylhexyl monocarbonate (161.4°C), t-hexyl Peroxybenzoate (160.3°C), 2,5-dimethyl-2,5-di(benzoylperoxy)hexane (158.2°C), t-butyl peroxyacetate (159.9°C), 2,2- Di-(t-butylperoxy)butane (159.9°C), t-butylperoxybenzoate (166.8°C), n-butyl 4,4-di-(t-butylperoxy)valerate (172.5°C) ), di(2-t-butylperoxyisopropyl)benzene (175.4°C), dicumyl peroxide (175.2°C), di-t-hexyl peroxide (176.7°C), 2,5 -dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexane (179.8°C) and t-butylcumyl peroxide (173.3°C).

これらの中でも、有機過酸化物としては、t-ブチルパーオキシベンゾエート、2,5-ジメチル-2,5-ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t-ブチルパーオキシベンゾエート、ジ(2-t-ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン、及びt-ブチルクミルパーオキサイドからなる群から選択される少なくとも一種が好ましい。 Among these, organic peroxides include t-butylperoxybenzoate, 2,5-dimethyl-2,5-di(benzoylperoxy)hexane, t-butylperoxybenzoate, di(2-t-butyl At least one selected from the group consisting of peroxyisopropyl)benzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexane, and t-butylcumyl peroxide is preferred.

(F)成分の配合量は、(A)成分と(C)成分の合計量を基準に0.001~10phrであることが好ましい。(F)成分の配合量が0.001phr以上であることで、(F)成分の効果が充分に発揮され、硬化反応の進行を促進することで硬化物のTgをより高くできる傾向にある。また、10phr以下であることで、硬化物への開始剤およびその分解物の残留を少なくすることができ、硬化物の誘電正接が高くなることを防止できる傾向にある。そのような観点から、(F)成分のより好ましい配合量は0.1~5phrであり、さらに好ましくは0.5~2phrである。 The blending amount of component (F) is preferably 0.001 to 10 phr based on the total amount of components (A) and (C). When the amount of component (F) is 0.001 phr or more, the effect of component (F) is sufficiently exhibited, and the Tg of the cured product tends to be higher by promoting the progress of the curing reaction. Further, by setting the amount to 10 phr or less, it is possible to reduce the amount of the initiator and its decomposed products remaining in the cured product, which tends to prevent the dielectric loss tangent of the cured product from increasing. From this point of view, a more preferable amount of component (F) is 0.1 to 5 phr, and even more preferably 0.5 to 2 phr.

<(G)溶媒>
本実施形態の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、(G)成分として、有機または無機の溶媒を添加することができる。有機溶媒を添加することにより組成物の粘度を低下させることができ、そのような硬化性樹脂組成物は、ガラス繊維に含浸させて積層板を作製する場合などに於いて、ガラス繊維への含浸性を高めることができることがある。
<(G) Solvent>
An organic or inorganic solvent can be added to the curable resin composition of this embodiment as component (G), if necessary. The viscosity of the composition can be lowered by adding an organic solvent, and such a curable resin composition can be used to impregnate glass fibers when making a laminate. There are things you can do to improve your sexuality.

そのような有機溶媒としては、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド(DMF)、N-メチル-2-ピロリドン(NMP)、酢酸エチルなどが挙げられ、沸点が低く樹脂組成物から蒸発除去し易い観点より、トルエン及びメチルエチルケトンが特に好ましい。 Examples of such organic solvents include toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dimethylformamide (DMF), N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), and ethyl acetate, which have a low boiling point and do not evaporate from the resin composition. From the viewpoint of easy removal, toluene and methyl ethyl ketone are particularly preferred.

<その他の成分>
本実施形態の硬化性樹脂組成物には、その目的を損なわない範囲において難燃剤、エラストマー、フィラー等の添加物を配合することができる。
<Other ingredients>
The curable resin composition of the present embodiment may contain additives such as flame retardants, elastomers, fillers, etc. within a range that does not impair its purpose.

<最低溶融粘度>
本実施形態の硬化性樹脂組成物は、必要に応じて開始剤を配合することにより、工業的に使用することができる。その工業的実施形態の一例として積層板を挙げることができる。積層板は、本実施形態の硬化性樹脂組成物をトルエン等の有機溶媒に溶解して得られる有機溶媒溶液をガラス繊維などに含浸させた後に、熱風乾燥機内に吊るして乾燥し、トルエンなどの有機溶媒を蒸発させてプリプレグを作製し、該プリプレグを単独または複数枚積層して作製することができる。上記の工程の中で、プリプレグをプレスして硬化する際に、最低溶融粘度が低いほど、ガラスクロスの細部にまで含浸する傾向にあり、最低溶融粘度が高いほど、作製される積層板の樹脂含有率が高まる傾向にあるが、高すぎると樹脂含有率が低くなる傾向にある。
<Minimum melt viscosity>
The curable resin composition of this embodiment can be used industrially by adding an initiator as necessary. One example of its industrial embodiment is a laminate. The laminate is produced by impregnating glass fibers with an organic solvent solution obtained by dissolving the curable resin composition of the present embodiment in an organic solvent such as toluene, and then drying it by hanging it in a hot air dryer. A prepreg is produced by evaporating the organic solvent, and the prepreg can be produced singly or by laminating a plurality of prepregs. In the above process, when pressing and curing the prepreg, the lower the minimum melt viscosity, the more the glass cloth tends to be impregnated into the finer details, and the higher the minimum melt viscosity, the resin of the produced laminate. The content tends to increase, but if it is too high, the resin content tends to decrease.

そのような観点から、本実施形態の硬化性樹脂組成物は溶媒を実質的に含まない状態において、最低溶融粘度が1[Pa・s]以上20000[Pa・s]以下であることが好ましい。 From such a viewpoint, the curable resin composition of the present embodiment preferably has a minimum melt viscosity of 1 [Pa·s] to 20,000 [Pa·s] in a state substantially free of solvent.

最低溶融粘度が1[Pa・s]以上であると、硬化過程でより多くの樹脂組成物がガラスクロスに保持され、樹脂含有率が高い積層板とすることができる傾向にあり、最低溶融粘度が20000[Pa・s]以下であると、ガラスクロスの細部にまで樹脂組成物を浸透することができ、積層板のカスレやボイドを防止できる傾向にある。 When the minimum melt viscosity is 1 [Pa・s] or more, more of the resin composition is retained in the glass cloth during the curing process, and a laminate with a high resin content tends to be obtained. When it is 20,000 [Pa·s] or less, the resin composition can penetrate into the fine details of the glass cloth, and it tends to be possible to prevent scratches and voids in the laminate.

そのような観点から、本実施形態の硬化性樹脂組成物は、最低溶融粘度が10[Pa・s]以上10000[Pa・s]以下となることがより好ましく、より好ましくは50[Pa・s]以上5000[Pa・s]以下、さらに好ましくは100[Pa・s]以上1000[Pa・s]以下、特に好ましくは粘度が150[Pa・s]以上500[Pa・s]以下、殊に好ましくは粘度が180[Pa・s]以上300[Pa・s]以下である。 From such a viewpoint, the curable resin composition of the present embodiment preferably has a minimum melt viscosity of 10 [Pa·s] or more and 10,000 [Pa·s] or less, more preferably 50 [Pa·s]. ] or more and 5000 [Pa・s] or less, more preferably 100 [Pa・s] or more and 1000 [Pa・s] or less, particularly preferably 150 [Pa・s] or more and 500 [Pa・s] or less, especially Preferably, the viscosity is 180 [Pa·s] or more and 300 [Pa·s] or less.

本実施形態の最低溶融粘度の測定方法は、硬化性樹脂組成物が開始剤を含有し、溶媒を含有しない場合は開始剤を含有する硬化性樹脂組成物をコーンプレート型回転式粘度計(サーモフィッシャーサイエンティフィック(株)製HAAKE MARSIIIなど)を用いて、振動モードで測定することにより、最低溶融粘度を求めることができる。 The method for measuring the minimum melt viscosity of the present embodiment is to measure the curable resin composition containing an initiator using a cone-plate rotational viscometer (thermal The minimum melt viscosity can be determined by measuring in vibration mode using a HAAKE MARS III (manufactured by Fisher Scientific Co., Ltd.).

一方、本実施形態の硬化性樹脂組成物が開始剤および溶媒を含有する場合は、本実施形態の硬化性樹脂組成物から、エバポレータ、あるいは熱風乾燥機などで溶媒を蒸発させ、実質的に溶媒を含まない固形の硬化性樹脂組成物とした後に、コーンプレート型回転式粘度計の振動モードで測定することにより最低溶融粘度を求めることができる。 On the other hand, when the curable resin composition of this embodiment contains an initiator and a solvent, the solvent is evaporated from the curable resin composition of this embodiment using an evaporator, a hot air dryer, etc., and the solvent is substantially removed. The minimum melt viscosity can be determined by making a solid curable resin composition containing no .

<プリプレグ>
本実施形態のプリプレグは、本実施形態の硬化性樹脂組成物を含む。
本実施形態の硬化性樹脂組成物は、必要に応じて有機または無機の溶媒を添加して得られた硬化性樹脂組成物溶液にガラス繊維あるいは炭素繊維などの織布または不織布に含浸させた後に、熱風乾燥機などにより溶媒を蒸発させることにより、プリプレグを作製することができる。
<Prepreg>
The prepreg of this embodiment includes the curable resin composition of this embodiment.
The curable resin composition of this embodiment is obtained by impregnating a woven fabric or non-woven fabric such as glass fiber or carbon fiber with a curable resin composition solution obtained by adding an organic or inorganic solvent as necessary. A prepreg can be produced by evaporating the solvent using a hot air dryer or the like.

<プリプレグ作製時のワニスの濃度>
本実施形態はプリプレグを作製する際に調製する硬化性樹脂組成物溶液の濃度には特定されないが、硬化性樹脂組成物溶液の濃度が低いほど粘度が下がり、ガラスクロスなどの補強材への含浸性が高まる傾向にあり、硬化性樹脂組成物溶液の濃度が高いほど、該プリプレグを硬化して得られる積層板の樹脂含有率(レジンコンテント)が高まり、絶縁信頼性などに優れる傾向にある。
<Varnish concentration during prepreg production>
Although this embodiment is not limited to the concentration of the curable resin composition solution prepared when producing the prepreg, the lower the concentration of the curable resin composition solution, the lower the viscosity, and the lower the concentration of the curable resin composition solution, the lower the viscosity. The higher the concentration of the curable resin composition solution, the higher the resin content of the laminate obtained by curing the prepreg, and the higher the insulation reliability.

そのような観点から、好ましい硬化性樹脂組成物溶液の濃度は10%~90%、より好ましくは30%~80%、更に好ましくは40%~75%、特に好ましくは40%~70%、殊に好ましくは50%~65%である。 From such a viewpoint, the concentration of the curable resin composition solution is preferably 10% to 90%, more preferably 30% to 80%, even more preferably 40% to 75%, particularly preferably 40% to 70%, and especially It is preferably 50% to 65%.

<乾燥温度、時間>
硬化性樹脂組成物溶液から溶媒を蒸発させてプリプレグを作製するときには、必要に応じて、熱風乾燥機などにより加熱しながら熱風をあてて乾燥することにより、効率的にプリプレグを作製できることがある。
その際、設定する乾燥温度は、プリプレグをDSC測定して得られるDSCチャートの発熱開始温度(T)に対して低いほど、乾燥中に硬化反応が進行することを抑制できる傾向にあり、Tに対して高い温度で乾燥するほど、より完全に溶媒を蒸発除去できる傾向にある。そのような観点から、(T-80)℃~(T+80)℃の温度範囲であることが望ましく、好ましくは(T-60)℃~(T+30)℃の温度範囲、より好ましくは(T-40)℃~(T+10)℃の温度範囲、更に好ましくは(T-30)℃~Tの温度範囲ですると、硬化性が好適なプリプレグを得られる傾向にある。
<Drying temperature, time>
When producing a prepreg by evaporating the solvent from a curable resin composition solution, the prepreg may be efficiently produced by drying by applying hot air while heating with a hot air dryer or the like, if necessary.
At that time, the lower the drying temperature to be set with respect to the exothermic start temperature (T 1 ) of the DSC chart obtained by DSC measurement of the prepreg, the more likely it is to suppress the curing reaction from proceeding during drying. The higher the drying temperature relative to 1 , the more completely the solvent tends to be removed by evaporation. From such a point of view, the temperature range is desirably from (T 1 -80)°C to (T 1 +80)°C, preferably from (T 1 -60)°C to (T 1 +30)°C, and more preferably from (T 1 -60)°C to (T 1 +30)°C. Preferably, a temperature range of (T 1 -40) °C to (T 1 +10) °C, more preferably a temperature range of (T 1 -30) °C to T 1 tends to yield a prepreg with suitable curability. be.

本実施形態は、プリプレグを作製するための乾燥時間には特定されないが、乾燥時間が短いほど、乾燥中に硬化反応が進行することを抑制できる傾向にあり、乾燥時間が長いほど、より完全に溶媒を蒸発除去できる傾向にある。そのような観点から、乾燥時間は通常30秒~60分であることが望ましく、好ましくは1分~30分、より好ましくは1.5分~20分、さらに好ましくは2分~15分、特に好ましくは3分~10分である。 Although this embodiment is not specific to the drying time for producing prepreg, the shorter the drying time, the more likely it is to suppress the progress of the curing reaction during drying, and the longer the drying time, the more completely the curing reaction can be suppressed. The solvent tends to be removed by evaporation. From this point of view, it is desirable that the drying time is usually 30 seconds to 60 minutes, preferably 1 minute to 30 minutes, more preferably 1.5 minutes to 20 minutes, even more preferably 2 minutes to 15 minutes, especially Preferably it is 3 minutes to 10 minutes.

<プリプレグの樹脂含有率>
本実施形態の硬化性樹脂組成物は、その実施形態の一例として、該硬化性樹脂組成物を繊維基材に含浸させてプリプレグを作製し、該プリプレグを積層・硬化する工業的利用方法が挙げられる。そのようなプリプレグは、樹脂含有率が高いほど、該プリプレグを積層・硬化して得られる積層板の電気絶縁性が高くなる傾向にあり、また樹脂含有率が低いほど、線膨張係数が低くなる傾向にある。そのような観点から、好ましいプリプレグの樹脂含有率は、質量基準で10%以上90%以下であり、より好ましくは20%以上80%以下であり、さらに好ましくは30%以上75%以下であり、特に好ましくは40%以上70%以下であり、殊に好ましくは50%以上65%以下である。
<Resin content of prepreg>
An example of an embodiment of the curable resin composition of the present embodiment is an industrial use method in which a fiber base material is impregnated with the curable resin composition to produce a prepreg, and the prepreg is laminated and cured. It will be done. In such prepregs, the higher the resin content, the higher the electrical insulation properties of the laminate obtained by laminating and curing the prepregs, and the lower the resin content, the lower the coefficient of linear expansion. There is a tendency. From such a viewpoint, the resin content of the prepreg is preferably 10% or more and 90% or less on a mass basis, more preferably 20% or more and 80% or less, and even more preferably 30% or more and 75% or less, Particularly preferably, it is 40% or more and 70% or less, particularly preferably 50% or more and 65% or less.

<積層板>
本実施形態の積層板は、本実施形態の硬化性樹脂組成物の硬化物を含む。
本実施形態の積層板の製造方法の一例として、該硬化性樹脂組成物を繊維基材に含浸させてプリプレグを作製し、該プリプレグを積層・硬化する工業的利用方法が挙げられる。そのようなプリプレグは、樹脂含有率が高いほど、該プリプレグを積層・硬化して得られる積層板の電気絶縁性が高くなる傾向にあり、また樹脂含有率が低いほど、線膨張係数が低くなる傾向にある。そのような観点から、好ましいプリプレグの樹脂含有率は、質量基準で10%以上90%以下であり、より好ましくは20%以上80%以下であり、さらに好ましくは30%以上70%以下であり、特に好ましくは40%以上60%以下であり、殊に好ましくは45%以上55%以下である。
<Laminated board>
The laminate of this embodiment includes a cured product of the curable resin composition of this embodiment.
An example of a method for manufacturing the laminate of the present embodiment is an industrial usage method in which a fiber base material is impregnated with the curable resin composition to produce a prepreg, and the prepreg is laminated and cured. In such prepregs, the higher the resin content, the higher the electrical insulation properties of the laminate obtained by laminating and curing the prepregs, and the lower the resin content, the lower the coefficient of linear expansion. There is a tendency. From such a viewpoint, the resin content of the prepreg is preferably 10% or more and 90% or less on a mass basis, more preferably 20% or more and 80% or less, and even more preferably 30% or more and 70% or less, Particularly preferably, it is 40% or more and 60% or less, particularly preferably 45% or more and 55% or less.

<積層板のプレス温度、圧力>
本実施形態の積層板の製造方法の一例として、プリプレグを積層し、例えばプレス成形により積層板を作製することが挙げられる。積層板を作製する際の硬化温度が高いほど、硬化時間を短縮でき積層板の生産性が高まる傾向があり、低温で硬化するほど、硬化段階での熱劣化が抑制でき、Tgと靭性が高い積層板が作製できる傾向にある。そのような観点より、硬化温度は20℃~350℃であることが望ましく、より好ましくは80℃~300℃であり、より好ましくは100℃~250℃であり、さらに好ましくは150℃~230℃であり、特に好ましくは180℃~220℃である。
<Press temperature and pressure of laminate>
An example of a method for manufacturing the laminate of this embodiment is to laminate prepregs and produce a laminate by, for example, press molding. The higher the curing temperature when producing a laminate, the shorter the curing time and the higher the productivity of the laminate.The lower the curing temperature, the more suppressed thermal deterioration during the curing stage, and the higher the Tg and toughness. There is a tendency for laminated plates to be produced. From such a point of view, the curing temperature is desirably 20°C to 350°C, more preferably 80°C to 300°C, more preferably 100°C to 250°C, even more preferably 150°C to 230°C. The temperature is particularly preferably 180°C to 220°C.

また、硬化時に硬化温度を昇温させるとより靭性に優れる積層板を得られる傾向にあり、昇温速度は0.5℃/分~20℃/分であることが望ましく、好ましくは1℃/分~10℃/分、より好ましくは1.5℃/分~10℃/分、さらに好ましくは2℃/分~5℃/分である。 Furthermore, if the curing temperature is increased during curing, a laminate with better toughness tends to be obtained, and the heating rate is preferably 0.5°C/min to 20°C/min, preferably 1°C/min. min to 10°C/min, more preferably 1.5°C/min to 10°C/min, even more preferably 2°C/min to 5°C/min.

また、硬化段階でプリプレグをプレス成形することにより積層板を作製することができる。その際のプレス圧が高いほど、ボイドの少ない積層板が作製できる傾向にあり、プレス圧が低いほど樹脂の流出が少なくなるので、樹脂含有率が高く絶縁信頼性に優れ誘電正接の低い積層板が得られる傾向にある。
そのような観点より、プレス圧はプリプレグに印加される面圧として2kgf/cm以上100kgf/cm以下であることが望ましく、好ましくは5kgf/cm以上50kgf/cm以下、より好ましくは10kgf/cm以上50kgf/cm以下、更に好ましくは20kgf/cm以上40kgf/cm以下でsる。
Furthermore, a laminate can be produced by press-molding the prepreg during the curing stage. The higher the press pressure at that time, the more likely it is that a laminate with fewer voids can be produced, and the lower the press pressure, the less resin will flow out, resulting in a laminate with a high resin content, excellent insulation reliability, and low dielectric loss tangent. tends to be obtained.
From such a point of view, the press pressure is desirably 2 kgf/cm 2 or more and 100 kgf/cm 2 or less as a surface pressure applied to the prepreg, preferably 5 kgf/cm 2 or more and 50 kgf/cm 2 or less, and more preferably 10 kgf/cm 2 or less. /cm 2 or more and 50 kgf/cm 2 or less, more preferably 20 kgf/cm 2 or more and 40 kgf/cm 2 or less.

<プリント配線板>
本実施形態のプリント配線板は、本実施形態の硬化性樹脂組成物の硬化物を含む。
本実施形態の硬化性樹脂組成物の実施形態の一例として、プリプレグを積層し積層体を作製する際に、プリプレグを銅箔などの金属箔で挟むなどの方法により、両面に銅箔などの金属箔を接着させた金属張積層板などが挙げられる。さらに、金属張積層板の金属層をエッチングなどによりパターン化させることによりプリント配線板とする利用形態が挙げられる。
<Printed wiring board>
The printed wiring board of this embodiment includes a cured product of the curable resin composition of this embodiment.
As an example of an embodiment of the curable resin composition of the present embodiment, when preparing a laminate by laminating prepregs, a method such as sandwiching the prepreg between metal foils such as copper foil, etc. Examples include metal-clad laminates with foil bonded to them. Furthermore, the metal layer of the metal-clad laminate may be patterned by etching or the like to form a printed wiring board.

<複合材料>
本実施形態の複合材料は、本実施形態の硬化性樹脂組成物の硬化物を含む。
本実施形態の硬化性樹脂組成物の実施形態の一例として、炭素繊維あるいは炭素繊維の織布または不織布に本実施形態の硬化性樹脂組成物を含浸させた後に硬化させることにより炭素繊維強化複合材料(CFRP)を作製する利用形態が挙げられる。
<Composite materials>
The composite material of this embodiment includes a cured product of the curable resin composition of this embodiment.
As an example of an embodiment of the curable resin composition of the present embodiment, a carbon fiber reinforced composite material is obtained by impregnating carbon fiber or a woven or nonwoven fabric of carbon fiber with the curable resin composition of the present embodiment and then curing the composition. (CFRP) is used.

以下、製造例及び実施例に基づいて本実施形態を更に詳細に説明するが、本実施形態は、以下の製造例及び実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, this embodiment will be described in more detail based on manufacturing examples and examples, but this embodiment is not limited to the following manufacturing examples and examples.

先ず、各物性及び評価の測定方法及び評価基準について以下に述べる。 First, the measurement methods and evaluation criteria for each physical property and evaluation will be described below.

(1)ポリフェニレンエーテルの存在割合
ここで、ポリフェニレンエーテルの存在割合は、式(1)の構造を有する変性ポリフェニレンエーテル、式(1)の構造において1つ以上の[-Y-A]が[-Y-H]であり、かつ全ての[-Y-A]が[-Y-H]ではない変性ポリフェニレンエーテル、及び式(1)の構造において全ての[-Y-A]が[-Y-H]であるポリフェニレンエーテル(主成分ポリフェニレンエーテル)の存在割合である。
(1-1)
実施例及び比較例で得られた変性ポリフェニレンエーテル組成物、及び原料として用いる多価フェノールを重クロロホルムに溶解し、テトラメチルシランを内部標準として用い、H-NMR測定(JEOL製500MHz)を行った。
(1-2)
中心フェノール部位に起因するピーク位置より、生成物に含まれる多価フェノールのピークを同定した。
(1-3)
式(2)で表される主成分ポリフェニレンエーテルの中心フェノールユニット、及び式(14):
{式(14)中、複数のR21、R21’は、各々独立に、水素原子;置換されていてもよい炭素数1~6の炭化水素基、置換されていてもよい炭素数6~12のアリール基;及びハロゲン原子;から成る群から選択される少なくとも1つを表し、置換されていてもよい炭素数1~6の飽和又は不飽和の炭化水素基が好ましく、より好ましくは、メチル基、エチル基、n-プロピル基、ビニル基、アリール基、エチニル基、又はプロパルギル基であり、さらに好ましくは、メチル基、又はエチル基であり、特に好ましくはメチル基である。上記置換基としては、ハロゲン原子等が挙げられる。
式(14)中、2つのR21は、変性ポリフェニレンエーテル含有組成物について低誘電特性、適度な金属剥離性、低溶液粘度、硬化時の十分なTgなどの全てを有するという観点から、同時に水素原子ではないことが好ましく、かつ/又は、一方が上記式(3)で表される部分構造、もう一方が水素原子、メチル基又はエチル基のいずれかであるという組み合わせではないことが好ましい。
式(14)中、複数のR22、R22’は、各々独立に、水素原子;置換されていてもよい炭素数1~6の炭化水素基、置換されていてもよい炭素数6~12のアリール基;及びハロゲン原子;から成る群から選択される少なくとも1つを表し、水素原子、又は置換されていてもよい炭素数1~6の飽和又は不飽和の炭化水素基が好ましく、より好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、又はn-プロピル基であり、さらに好ましくは、水素原子、又はメチル基である。上記置換基としては、ハロゲン原子等が挙げられる。
cは1~100の任意の整数である。}
で表される副生成物に特有の末端フェノキシユニット、及び式(15):
{式(15)中、複数のR21、R21”は、各々独立に、水素原子;置換されていてもよい炭素数1~6の炭化水素基、置換されていてもよい炭素数6~12のアリール基;及びハロゲン原子;から成る群から選択される少なくとも1つを表し、置換されていてもよい炭素数1~6の飽和又は不飽和の炭化水素基が好ましく、より好ましくは、メチル基、エチル基、n-プロピル基、ビニル基、アリール基、エチニル基、又はプロパルギル基であり、さらに好ましくは、メチル基、又はエチル基であり、特に好ましくはメチル基である。上記置換基としては、ハロゲン原子等が挙げられる。
式(15)中、2つのR21は、変性ポリフェニレンエーテル含有組成物について低誘電特性、適度な金属剥離性、低溶液粘度、硬化時の十分なTgなどの全てを有するという観点から、同時に水素原子ではないことが好ましく、かつ/又は、一方が上記式(3)で表される部分構造、もう一方が水素原子、メチル基又はエチル基のいずれかであるという組み合わせではないことが好ましい。
複数のR22、R22”は、各々独立に、水素原子;置換されていてもよい炭素数1~6の炭化水素基、置換されていてもよい炭素数6~12のアリール基;及びハロゲン原子;から成る群から選択される少なくとも1つを表し、水素原子、又は置換されていてもよい炭素数1~6の飽和又は不飽和の炭化水素基が好ましく、より好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、又はn-プロピル基であり、さらに好ましくは、水素原子、又はメチル基である。上記置換基としては、ハロゲン原子等が挙げられる。
d及びeは、それぞれ独立に、1~100の任意の整数である。}
で表される副生成物に特有のジフェニルユニットを、得られたNMRスペクトル中のピークにそれぞれ帰属させ、各種ポリフェニレンエーテルの存在割合を下記数式(16):
{式中、
C:式(14)で表される副生成物に特有の末端フェノキシユニットのH、及びR22’に起因するピーク面積の積算値;
D:式(15)で表される副生成物に特有のジフェニルユニットの中心フェノール内部のR22”に起因するピーク面積の積算値;
E:式(2)で表される主成分ポリフェニレンエーテルの中心フェノール部位に起因するピーク面積の積算値;及び
F:積分値Cを求めたピークに該当する式(2)で表される中心フェノール部位由来のプロトン数;
である。}
に従って定量した。
(1) Existence ratio of polyphenylene ether Here, the abundance ratio of polyphenylene ether is defined as modified polyphenylene ether having the structure of formula (1), one or more [-Y n -A] in the structure of formula (1), -Y n -H] and all [-Y n -A] are not [-Y n -H], and all [-Y n -A] in the structure of formula (1) is the proportion of polyphenylene ether (main component polyphenylene ether) in which is [-Y n -H].
(1-1)
The modified polyphenylene ether compositions obtained in Examples and Comparative Examples and the polyhydric phenol used as a raw material were dissolved in deuterated chloroform, and 1 H-NMR measurement (manufactured by JEOL, 500 MHz) was performed using tetramethylsilane as an internal standard. Ta.
(1-2)
The peak of polyhydric phenol contained in the product was identified from the peak position resulting from the central phenol site.
(1-3)
The central phenol unit of the main component polyphenylene ether represented by formula (2) and formula (14):
{In formula (14), a plurality of R 21 and R 21 ' are each independently a hydrogen atom; an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms; an optionally substituted hydrocarbon group having 6 to 6 carbon atoms; 12 aryl groups; and a halogen atom; an optionally substituted saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms; more preferably methyl group, ethyl group, n-propyl group, vinyl group, aryl group, ethynyl group, or propargyl group, more preferably methyl group or ethyl group, particularly preferably methyl group. Examples of the above-mentioned substituents include halogen atoms and the like.
In formula (14), the two R 21s are hydrogen at the same time, from the viewpoint that the modified polyphenylene ether-containing composition has all of the following: low dielectric properties, appropriate metal releasability, low solution viscosity, and sufficient Tg during curing. It is preferable that they are not atoms, and/or that they are not a combination in which one is a partial structure represented by the above formula (3) and the other is a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group.
In formula (14), a plurality of R 22 and R 22 ' each independently represent a hydrogen atom; an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and an optionally substituted hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms; represents at least one selected from the group consisting of an aryl group; and a halogen atom, and is preferably a hydrogen atom or an optionally substituted saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or an n-propyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group. Examples of the above-mentioned substituents include halogen atoms and the like.
c is any integer from 1 to 100. }
A terminal phenoxy unit specific to the by-product represented by and formula (15):
{In formula (15), a plurality of R 21 and R 21 '' each independently represent a hydrogen atom; an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms; an optionally substituted hydrocarbon group having 6 to 6 carbon atoms; 12 aryl groups; and a halogen atom; an optionally substituted saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms; more preferably methyl group, ethyl group, n-propyl group, vinyl group, aryl group, ethynyl group, or propargyl group, more preferably methyl group or ethyl group, particularly preferably methyl group.The above substituents include Examples include a halogen atom.
In formula (15), two R 21 are hydrogen at the same time, from the viewpoint that the modified polyphenylene ether-containing composition has all of the following: low dielectric properties, appropriate metal releasability, low solution viscosity, and sufficient Tg during curing. It is preferable that they are not atoms, and/or that they are not a combination in which one is a partial structure represented by the above formula (3) and the other is a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group.
A plurality of R 22 and R 22 '' each independently represent a hydrogen atom; an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, an optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms; and a halogen represents at least one selected from the group consisting of a hydrogen atom or an optionally substituted saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, ethyl group, or n-propyl group, and more preferably a hydrogen atom or a methyl group. Examples of the above-mentioned substituent include a halogen atom and the like.
d and e are each independently any integer from 1 to 100. }
The diphenyl unit specific to the by-product represented by is assigned to each peak in the obtained NMR spectrum, and the abundance ratio of various polyphenylene ethers is determined by the following formula (16):
{During the ceremony,
C: integrated value of the peak area due to H 1 and R 22 ' of the terminal phenoxy unit specific to the byproduct represented by formula (14);
D: integrated value of peak area due to R22 '' inside the central phenol of the diphenyl unit, which is specific to the byproduct represented by formula (15);
E: integrated value of the peak area resulting from the central phenol moiety of the main component polyphenylene ether represented by formula (2); and F: central phenol represented by formula (2) corresponding to the peak for which integral value C was determined Number of protons derived from the site;
It is. }
It was quantified according to the following.

なお、実施例及び比較例に用いられる式(2)で表される主成分ポリフェニレンエーテルの中心フェノール部位に起因するピークや式(14)で表される副生成物の末端フェノールのH、及びR22’に起因するピーク、式(15)で表される副生成物の中心フェノール内部のR22”に起因するピークは、次のような領域に現れる。
1,1,3-トリス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-t-ブチルフェニル)ブタン(1H):2.8~3.2ppm
1,1-ビス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-t-ブチルフェニル)ブタン(1H):4.0~4.3ppm
2,2-ビス(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン(4H):6.95~7.0ppm
式(14)で表される副生成物の末端フェノキシユニット(3H):7.05~7.1ppm
式(15)で表される副生成物のジフェニル(4H):7.34~7.4ppm
In addition, the peak resulting from the central phenol moiety of the main component polyphenylene ether represented by formula (2) used in Examples and Comparative Examples, the H 1 of the terminal phenol of the by-product represented by formula (14), and The peak due to R 22 ′ and the peak due to R 22 ″ inside the central phenol of the by-product represented by formula (15) appear in the following regions.
1,1,3-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl)butane (1H): 2.8 to 3.2 ppm
1,1-bis(2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl)butane (1H): 4.0 to 4.3 ppm
2,2-bis(3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl)propane (4H): 6.95-7.0ppm
Terminal phenoxy unit (3H) of the by-product represented by formula (14): 7.05 to 7.1 ppm
By-product diphenyl (4H) represented by formula (15): 7.34 to 7.4 ppm

(2)式(2)の構造由来のピークの積算値に対する、7.6~8.3ppmに現れるピークの積算値の割合(過酸化物ピークの存在割合)
上記H-NMR測定において、式(2)で表される主成分ポリフェニレンエーテルの中心フェノール部位に起因するピーク面積の積算値をEとし、7.6~8.3ppmの領域に現れる過酸化物由来の不純物ピーク(すなわち、過酸化物ピーク)面積の積算値Gを計算し、下記数式(17)に代入することで過酸化物ピークの存在割合を解析した。
(2) Ratio of the integrated value of the peak appearing at 7.6 to 8.3 ppm to the integrated value of the peak derived from the structure of formula (2) (existence ratio of peroxide peak)
In the above 1H -NMR measurement, the integrated value of the peak area resulting from the central phenol moiety of the main component polyphenylene ether represented by formula (2) is defined as E, and the peroxide that appears in the region of 7.6 to 8.3 ppm The abundance ratio of the peroxide peak was analyzed by calculating the integrated value G of the area of the impurity peak (namely, peroxide peak) derived from G and substituting it into the following equation (17).

(3)数平均分子量(Mn)
測定装置として、昭和電工(株)製ゲルパーミエーションクロマトグラフィーSystem21を用い、標準ポリスチレンとエチルベンゼンにより検量線を作成し、この検量線を利用して、得られた変性ポリフェニレンエーテル組成物の数平均分子量(Mn)の測定を行った。
(3) Number average molecular weight (Mn)
Using Gel Permeation Chromatography System 21 manufactured by Showa Denko Co., Ltd. as a measuring device, a calibration curve was created using standard polystyrene and ethylbenzene, and using this calibration curve, the number average molecular weight (Mn ) were measured.

標準ポリスチレンとしては、分子量が、3,650,000、2,170,000、1,090,000、681,000、204,000、52,000、30,200、13,800、3,360、1,300、及び550のものを用いた。 Standard polystyrene has a molecular weight of 3,650,000, 2,170,000, 1,090,000, 681,000, 204,000, 52,000, 30,200, 13,800, 3,360, 1,300 and 550 were used.

カラムは、昭和電工(株)製K-805Lを2本直列につないだものを使用した。溶剤は、クロロホルムを使用し、溶剤の流量は1.0mL/分、カラムの温度は40℃として測定した。測定用試料としては、変性ポリフェニレンエーテル組成物の1g/Lクロロホルム溶液を作製して用いた。検出部のUVの波長は、標準ポリスチレンの場合は254nm、ポリフェニレンエーテルの場合は283nmとした。 The columns used were two K-805L manufactured by Showa Denko K.K. connected in series. Chloroform was used as the solvent, the flow rate of the solvent was 1.0 mL/min, and the temperature of the column was 40°C. As a sample for measurement, a 1 g/L chloroform solution of the modified polyphenylene ether composition was prepared and used. The UV wavelength of the detection part was 254 nm in the case of standard polystyrene and 283 nm in the case of polyphenylene ether.

上記測定データに基づきGPCにより得られた分子量分布を示す曲線に基づくピーク面積の割合から数平均分子量(Mn)(g/mol)を算出した。 The number average molecular weight (Mn) (g/mol) was calculated from the ratio of the peak area based on the curve showing the molecular weight distribution obtained by GPC based on the above measurement data.

(4)ガラス転移温度(Tg)
変性ポリフェニレンエーテル組成物のガラス転移温度は、示差走査熱量計DSC(PerkinElmer製-Pyrisl)を用いて測定した。窒素雰囲気中、毎分20℃の昇温速度で室温から200℃まで加熱後、50℃まで毎分20℃で降温し、その後、毎分20℃の昇温速度でガラス転移温度を測定した。
(4) Glass transition temperature (Tg)
The glass transition temperature of the modified polyphenylene ether composition was measured using a differential scanning calorimeter DSC (manufactured by PerkinElmer - Pyrisl). After heating from room temperature to 200°C at a temperature increase rate of 20°C per minute in a nitrogen atmosphere, the temperature was lowered to 50°C at a rate of 20°C per minute, and then the glass transition temperature was measured at a temperature increase rate of 20°C per minute.

(5)組成物中に含まれるA置換基数
変性ポリフェニレンエーテル組成物、及び内部標準試料として1,3,5-トリメトキシベンゼン標準品(富士フィルム和光純薬株式会社製、分子量168.19)を規定量採り、トリメチルシラン入り重クロロホルムに溶解させ、H-NMR測定(JEOL製500MHz)を行った。
(5) Number of A substituents contained in the composition A modified polyphenylene ether composition and a standard 1,3,5-trimethoxybenzene (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd., molecular weight 168.19) were used as an internal standard sample. A specified amount was taken, dissolved in deuterated chloroform containing trimethylsilane, and 1 H-NMR measurement (manufactured by JEOL, 500 MHz) was performed.

次いで、1,3,5-トリメトキシベンゼンのメトキシ基由来のプロトンのピーク(3.7~3.8ppm:9H)の積分値、及びメタクリル基のC=C結合末端のプロトンのうち高磁場側に現れるピーク(5.5~5.9ppm:1H)の積分値を求め、これらの積分値と、測定に用いたポリフェニレンエーテル組成物と1,3,5-トリメトキシベンゼンの重量から変性ポリフェニレンエーテル組成物1g当たりのメタクリル基数(単位μmol/g)を算出した。 Next, the integrated value of the proton peak (3.7 to 3.8 ppm: 9H) derived from the methoxy group of 1,3,5-trimethoxybenzene, and the proton at the C=C bond terminal of the methacrylic group on the high magnetic field side. Calculate the integral value of the peak (5.5 to 5.9 ppm: 1H) that appears in The number of methacrylic groups (unit: μmol/g) per 1 g of the composition was calculated.

(6)変性ポリフェニレンエーテル組成物のトルエン溶液の粘度(液粘度)
変性ポリフェニレンエーテル組成物を2gとトルエン3gを秤量した。攪拌子とマグネチックスターラーを用い、これらを1時間攪拌し、溶液が透明になるまで完全に溶解させることで40wt%のトルエン溶液を調製した。この溶液について、B型粘度計を用い、25℃、30rpmの条件で液粘度を測定した。
(6) Viscosity of toluene solution of modified polyphenylene ether composition (liquid viscosity)
2 g of the modified polyphenylene ether composition and 3 g of toluene were weighed. Using a stirrer and a magnetic stirrer, these were stirred for 1 hour and completely dissolved until the solution became transparent, thereby preparing a 40 wt % toluene solution. The liquid viscosity of this solution was measured using a B-type viscometer at 25° C. and 30 rpm.

(7)変性率
変性率は、特表2004-502849号公報(特許文献2)に記載の方法に従い、二硫化炭素中IR測定による反応前後の水酸基の量変化から算出した。
(7) Modification rate The modification rate was calculated from the change in the amount of hydroxyl groups before and after the reaction by IR measurement in carbon disulfide according to the method described in Japanese Patent Application Publication No. 2004-502849 (Patent Document 2).

(8)硬化物の調製
以下の条件で、プレス法により、厚さ0.1~0.3mmのフィルム状試験片を作製した。
ポリマー、スチレン系エラストマー等を配合成分濃度が34%となるようにトルエンに加え室温で一晩かけ均一溶解し、その後、日油株式会社製パーブチルPを加えてワニスとした。これを銅箔のシャイン面に塗布し、120℃で10分間乾燥させ、得られた固形樹脂組成物を、メノウ乳鉢で粉砕した。
100μm厚のテフロン(登録商標)シートを60×60mmの形状に切り抜き、銅箔のシャイン面上に上記テフロン(登録商標)シートを置き、キャビティー部に理論値の約1.5倍量(比重1として6×6×0.01×1.5=0.54g)の上記固形樹脂組成物を添加し、銅箔のシャイン面を被せ、プレス圧40(kg/cm)、常時真空条件で、下記の温度条件で真空プレス硬化した。
室温~50℃、 4℃/分、 50℃ Hold 1分
50℃~160℃ 4℃/分、160℃ Hold 3分
160℃~220℃ 4℃/分、220℃ Hold時間:60分
(8) Preparation of cured product A film-like test piece with a thickness of 0.1 to 0.3 mm was prepared by a pressing method under the following conditions.
Polymers, styrene elastomers, etc. were added to toluene so that the component concentration was 34% and uniformly dissolved at room temperature overnight, and then Perbutyl P manufactured by NOF Corporation was added to prepare a varnish. This was applied to the shine side of copper foil, dried at 120°C for 10 minutes, and the resulting solid resin composition was ground in an agate mortar.
Cut out a 100 μm thick Teflon (registered trademark) sheet into a shape of 60 x 60 mm, place the Teflon (registered trademark) sheet on the shine side of the copper foil, and fill the cavity with an amount of about 1.5 times the theoretical value (specific gravity). 6 x 6 x 0.01 x 1.5 = 0.54 g) of the above solid resin composition was added, covered with the shine side of copper foil, and pressed under a press pressure of 40 (kg/cm 2 ) and under constant vacuum conditions. , vacuum press hardening was performed under the following temperature conditions.
Room temperature to 50℃, 4℃/min, 50℃ Hold 1 minute 50℃ to 160℃ 4℃/min, 160℃ Hold 3 minutes 160℃ to 220℃ 4℃/min, 220℃ Hold time: 60 minutes

(9)硬化物のTg測定
日立ハイテクサイエンス社(DMS6100)を使用して、次の条件下でDMAにより硬化物のガラス転移温度(Tg)を測定した。
DMA装置の全温度領域で適格な測定が可能なサイズに試験片を切り出し、動的粘弾性試験を実施した。
試験片:短冊、測定モード:引張モード
試験開始温度:室温
昇温速度:4℃/分
試験最高温度:300℃
最高温度保持時間:5分
測定周波数:1Hz
解析:tanδピークをTgとした。
さらにtanδピークから更に30℃高い温度における貯蔵弾性率を読み取り、架橋密度の計算に利用した。
(9) Tg measurement of cured product The glass transition temperature (Tg) of the cured product was measured by DMA using Hitachi High-Tech Science Co., Ltd. (DMS6100) under the following conditions.
A test piece was cut to a size that allowed adequate measurement in the entire temperature range of the DMA device, and a dynamic viscoelasticity test was conducted.
Test piece: strip, measurement mode: tensile mode Test starting temperature: room temperature Heating rate: 4°C/min Maximum test temperature: 300°C
Maximum temperature holding time: 5 minutes Measurement frequency: 1Hz
Analysis: The tan δ peak was defined as Tg.
Furthermore, the storage modulus at a temperature 30° C. higher than the tan δ peak was read and used for calculating the crosslink density.

(10)硬化物および積層板の誘電正接測定
0.1~0.3mm厚の硬化物を50×50mmの形状に切削し、ネットワークアナライザー(KEYSIGHT TECHNOLOGIES社 PNA N5227B、空洞共振器法、スプリットシリンダー共振器使用)を用いて10GHzでの誘電正接を測定した。
(10) Measurement of dielectric loss tangent of cured product and laminate A cured product with a thickness of 0.1 to 0.3 mm was cut into a shape of 50 x 50 mm, and measured using a network analyzer (KEYSIGHT TECHNOLOGIES PNA N5227B, cavity resonator method, split cylinder resonance). The dielectric loss tangent at 10 GHz was measured using a

(11)硬化物の線膨張係数の測定
線膨張係数は、日立ハイテクサイエンス社TMA7100を使用して、誘電正接測定用試験片より切削したサンプルを用いて、下記の条件で測定して求めた。
測定モード:引張り
サイズ:幅2mm、長さ10mm、厚さ0.2mm
試験開始温度:-50℃
昇温速度:10℃/分
試験最高温度:250℃
最高温度保持時間:5分
(11) Measurement of linear expansion coefficient of cured product The linear expansion coefficient was determined by measuring under the following conditions using a sample cut from a test piece for dielectric loss tangent measurement using Hitachi High-Tech Science Co., Ltd. TMA7100.
Measurement mode: Tensile Size: Width 2mm, length 10mm, thickness 0.2mm
Test starting temperature: -50℃
Heating rate: 10℃/min Maximum test temperature: 250℃
Maximum temperature holding time: 5 minutes

(12)スチレン系エラストマーの数平均分子量
下記の条件で、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定し、得られたピークでのPS(ポリスチレン)換算検量線から、重量平均分子量を求めた。
測定装置:GPC HLC-8220(TOSOH社製、商品名)
カラム:TAKgelGMHXL SuperH5000:1本、SuperH4000:2本(TOSOH社製、商品名)
溶媒:テトラヒドロフラン
温度:40℃
検量線用サンプル:市販(TOSOH社製)の標準サンプル、10点測定
(12) Number average molecular weight of styrene elastomer Measurement was performed by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions, and the weight average molecular weight was determined from a PS (polystyrene) conversion calibration curve at the obtained peak.
Measuring device: GPC HLC-8220 (manufactured by TOSOH, product name)
Column: TAKgelGMHXL SuperH5000: 1 column, SuperH4000: 2 columns (manufactured by TOSOH, product name)
Solvent: Tetrahydrofuran Temperature: 40°C
Sample for calibration curve: Commercially available (manufactured by TOSOH) standard sample, 10 points measurement

(13)スチレン系エラストマーのスチレン含有率
ビニル芳香族化合物単量体単位の含有量(スチレン含有率)は、核磁気共鳴スペクトル解析(NMR)により、下記の条件で測定し、求めた。
測定機器:JNM-LA400(JEOL製)
溶媒:重水素化クロロホルム
サンプル濃度:50mg/mL
観測周波数:400MHz
化学シフト基準:TMS(テトラメチルシラン)
パルスディレイ:2.904秒
スキャン回数:64回
パルス幅:45°
測定温度:26℃
(13) Styrene content of styrene elastomer The content of vinyl aromatic compound monomer units (styrene content) was determined by nuclear magnetic resonance spectroscopy (NMR) under the following conditions.
Measuring equipment: JNM-LA400 (manufactured by JEOL)
Solvent: Deuterated chloroform Sample concentration: 50mg/mL
Observation frequency: 400MHz
Chemical shift standard: TMS (tetramethylsilane)
Pulse delay: 2.904 seconds Number of scans: 64 times Pulse width: 45°
Measurement temperature: 26℃

(14)スチレン系エラストマーの二重結合含有量
スチレン系エラストマーの二重結合含有量は、スチレン系エラストマーのスチレン含有率と同条件で核磁気共鳴スペクトル解析(NMR)により測定し、求めた。
共役ジエン単量体単位のビニル結合量に基づき、共役ジエン単量体重量比率に換算して算出した。
(14) Double bond content of styrenic elastomer The double bond content of the styrene elastomer was determined by measuring by nuclear magnetic resonance spectroscopy (NMR) under the same conditions as the styrene content of the styrene elastomer.
It was calculated by converting it into a conjugated diene monomer weight ratio based on the vinyl bond amount of the conjugated diene monomer unit.

(15)樹脂組成物の均一性評価
硬化性樹脂組成物溶液から開始剤のみを除いた配合で樹脂組成物溶液を別途調製した。該樹脂組成物溶液を、160℃のホットプレート上に乗せたスライドガラス上に2μl滴下し、2分間静置した後に100mmHgで30秒間減圧しトルエンを除去し、樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物をスライドガラスのまま温度を160℃に維持した状態で、顕微鏡の160℃に設定したホットステージ上に移し替え、光学顕微鏡の透過モードで10倍の接眼レンズで観察し、写真撮影を行った。
テクスチャーが観察されず均一透明であった場合に〇、テクスチャーが観察された場合を×、テクスチャーは観察されなかったが揺らぎが認められた場合は△とした。
(15) Uniformity evaluation of resin composition A resin composition solution was separately prepared by removing only the initiator from the curable resin composition solution. 2 μl of the resin composition solution was dropped onto a slide glass placed on a hot plate at 160° C., and after being allowed to stand for 2 minutes, the pressure was reduced to 100 mmHg for 30 seconds to remove toluene to obtain a resin composition. While maintaining the temperature of the obtained resin composition as a slide glass at 160 °C, it was transferred to a hot stage set at 160 °C of a microscope, and observed with a 10x eyepiece in transmission mode of an optical microscope. We took a photo shoot.
When no texture was observed and the film was uniformly transparent, it was marked as ○, when texture was observed, it was marked as ×, and when no texture was observed but fluctuations were observed, it was marked as △.

(16)硬化物の銅箔接着強度の測定
銅箔との接着強度はT-ピール試験によって測定した。所定の比率で配合成分濃度を34%で調製したトルエン溶液であるワニスに、粒径約40μm(20~40μm)のガラスビーズ(スペーサー用)を微量(ワニス全量に対して約50ppm)加えた。被着体である35μm厚銅箔を50×80mmに裁断し、その外周に銅箔粗化面にポリイミドテープ(幅10mm厚さ55μm)を貼付した。得られた枠へ調製したワニスを流し込み、一晩放置した後に120℃10分乾燥しポリイミドテープを剥がし試験片を得た。同一サイズの銅箔を粗化面で樹脂層を挟むようにして重ね合わせ、掴み代を確保するために、一端に約20mmのテフロン(登録商標)シートを挟み、前記(8)項の「硬化物の調製」と同じ温度条件で、真空プレス硬化した。得られた銅箔を裁断して10mm×80mmの測定サンプルを準備した。
前記測定サンプルを用いて、引張試験機(インストロン59R5582型)にて下記の条件でT-ピール試験を実施して銅箔接着強度を測定した。
想定試験片:10mm*80mm n=2で試験し平均値をとった。
測定条件:試験温度室温(約23℃)、
試験速度:50mm/min、試験長さ:約30mm。
(16) Measurement of copper foil adhesive strength of cured product The adhesive strength with copper foil was measured by a T-peel test. A small amount (about 50 ppm based on the total amount of varnish) of glass beads (for spacers) with a particle size of about 40 μm (20 to 40 μm) was added to a varnish that is a toluene solution prepared at a predetermined ratio and a concentration of ingredients of 34%. A 35 μm thick copper foil as an adherend was cut into a size of 50×80 mm, and a polyimide tape (width: 10 mm, thickness: 55 μm) was attached to the roughened surface of the copper foil. The prepared varnish was poured into the obtained frame, left overnight, dried at 120° C. for 10 minutes, and the polyimide tape was peeled off to obtain a test piece. Copper foils of the same size are stacked on top of each other with the roughened surfaces sandwiching the resin layer, and a Teflon (registered trademark) sheet of approximately 20 mm is sandwiched between one end to ensure gripping margin. Vacuum press hardening was carried out under the same temperature conditions as in "Preparation". The obtained copper foil was cut to prepare a measurement sample of 10 mm x 80 mm.
Using the measurement sample, a T-peel test was conducted under the following conditions using a tensile tester (Instron 59R5582 model) to measure copper foil adhesive strength.
Assumed test piece: 10mm*80mm Tested with n=2 and took the average value.
Measurement conditions: test temperature room temperature (approximately 23°C),
Test speed: 50 mm/min, test length: approximately 30 mm.

(17)ワニス溶液粘度の測定
下記<プリプレグの作製方法>で調製した配合成分濃度62%(すなわち、62wt%)のワニスについて、下記の条件にて溶液粘度を測定した。
装置:TVE-22H 東機産業株式会社製(コーンプレート型)
測定温度:25.0℃ (恒温槽の設定温度)
コーンロータの種類:「1°34’×R24」 (溶液粘度が6.4mPa・s未満の場合)、「3°×R14」(溶液粘度が6.4mPa・s以上の場合)
サンプル量:1.1ml(「1°34’×R24」使用の場合)、0.4ml(「3°×R14」使用の場合)
測定条件:回転数1.0rpm、回転開始から3分後の値を測定値とした。
(17) Measurement of varnish solution viscosity The solution viscosity of a varnish with a blended component concentration of 62% (ie, 62 wt%) prepared in the following <Prepreg Preparation Method> was measured under the following conditions.
Equipment: TVE-22H manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. (cone plate type)
Measurement temperature: 25.0℃ (set temperature of thermostat)
Cone rotor type: "1°34' x R24" (when solution viscosity is less than 6.4 mPa・s), "3° x R14" (when solution viscosity is 6.4 mPa・s or more)
Sample amount: 1.1ml (when using "1°34' x R24"), 0.4ml (when using "3° x R14")
Measurement conditions: rotation speed 1.0 rpm, and the value 3 minutes after the start of rotation was taken as the measured value.

(18)硬化性樹脂組成物の最低溶融粘度
PPE、架橋助剤、スチレン系エラストマー、開始剤等を配合成分濃度が34%となるようにトルエンに加え室温で一晩かけ均一溶解し、その後、日本油脂社製パーブチルPを加えてワニスとした。これを銅箔のシャイン面に塗布し、120℃で10分間乾燥させ、得られた固形樹脂組成物を、メノウ乳鉢で粉砕した。
得られた固形樹脂組成物をコーンプレート型回転式粘度計(サーモフィッシャーサイエンティフィック(株)製HAAKE MARSIII、直径20mmアルミ製パラレルプレート)で振動モード(振動数1Hz、設定歪0.001、ギャップ1mm)で窒素雰囲気下で測定(100℃~250℃、昇温速度4℃/分)した。100℃から250℃の温度範囲で最も低い粘度を最低溶融粘度とした。
(18) Minimum melt viscosity of curable resin composition PPE, crosslinking aid, styrene elastomer, initiator, etc. were added to toluene at a concentration of 34% and uniformly dissolved at room temperature overnight, then, Perbutyl P manufactured by NOF Corporation was added to prepare a varnish. This was applied to the shine side of copper foil, dried at 120°C for 10 minutes, and the resulting solid resin composition was ground in an agate mortar.
The obtained solid resin composition was measured using a cone-plate rotational viscometer (HAAKE MARS III manufactured by Thermo Fisher Scientific Co., Ltd., aluminum parallel plate with a diameter of 20 mm) in vibration mode (frequency: 1 Hz, set strain: 0.001, gap). 1 mm) under a nitrogen atmosphere (100°C to 250°C, heating rate 4°C/min). The lowest viscosity in the temperature range of 100°C to 250°C was defined as the lowest melt viscosity.

<プリプレグの作製方法>
所定の配合成分をトルエンに溶解し配合成分濃度62%(すなわち、62wt%)のトルエン溶液として得られたプリプレグ作製用ワニスにガラスクロスを含浸させ、熱風乾燥機で120℃10分間乾燥させてプリプレグを得た。
<Method for producing prepreg>
Glass cloth is impregnated with a varnish for preparing prepreg, which is obtained by dissolving predetermined ingredients in toluene to obtain a toluene solution with a concentration of 62% (i.e., 62 wt%) of the ingredients, and dried in a hot air dryer at 120°C for 10 minutes to produce prepreg. I got it.

(19)DSC反応挙動測定
硬化性樹脂組成物、プリプレグを示差走査熱量計DSC(日立ハイテクサイエンス社製7000X)で窒素気流下で-50℃から280℃まで10℃/分で昇温させ280℃到達後10分間保持して測定し、反応開始温度、反応終了温度、発熱量を求めた。プリプレグの発熱量は、樹脂含有率に基づき樹脂の単位質量当たりの発熱量に換算した。
(19) DSC reaction behavior measurement The curable resin composition and prepreg were heated at 10°C/min from -50°C to 280°C under a nitrogen stream using a differential scanning calorimeter DSC (7000X manufactured by Hitachi High-Tech Science). After reaching the temperature, the temperature was maintained for 10 minutes and measured, and the reaction start temperature, reaction end temperature, and calorific value were determined. The calorific value of the prepreg was converted into the calorific value per unit mass of resin based on the resin content.

<積層板の作製方法>
プリプレグを6枚積層し、銅箔で挟んで面圧40kgf/cmを印加しながら室温から220℃まで2℃/分の昇温速度で昇温させた後、さらに220℃1時間加圧下加熱して積層板を得た。
銅箔剥離強度の測定用試験片を作製する場合は銅箔の粗化面を内側にしてプリプレグと接着させ、銅張積層板を作成して銅箔剥離強度を測定した。それ以外の場合はシャイン面を内側にして積層板作成後銅箔を剥がして各種特性を評価した。
<Method for manufacturing laminate>
Six sheets of prepreg were laminated, sandwiched between copper foils and heated at a rate of 2°C/ min from room temperature to 220°C while applying a surface pressure of 40 kgf/cm2, and then heated under pressure at 220°C for 1 hour. A laminate was obtained.
When preparing a test piece for measuring copper foil peel strength, the copper foil was bonded to a prepreg with the roughened surface facing inside to prepare a copper clad laminate and the copper foil peel strength was measured. In other cases, the copper foil was peeled off after the laminate was prepared with the shine side facing inside, and various properties were evaluated.

(20)積層板およびプリプレグの樹脂含有率の測定
プリプレグおよび積層板の樹脂含有率はTG-DTAにより測定した。空気気流下で室温から600℃まで20℃/分で昇温し、さらに600℃で5時間保持した時点の重量減少率から樹脂含有率を求めた。
(20) Measurement of resin content of laminate and prepreg The resin content of prepreg and laminate was measured by TG-DTA. The resin content was determined from the weight loss rate at the time when the temperature was raised from room temperature to 600°C at a rate of 20°C/min under a stream of air and further held at 600°C for 5 hours.

(21)積層板含浸性
前記<プリプレグの作製方法>で記載した方法で調製したワニス(すなわち、配合成分濃度62wt%ワニス)を、30×60mmの形状に切り抜いたガラスクロスに含浸させ、120℃で10分間乾燥させた。得られたプリプレグを4枚重ね、プレス圧40(kg/cm)、常時真空条件で、下記の温度条件でプレス硬化した。
室温~50℃、 4℃/分、 50℃ Hold 1分
50℃~160℃ 4℃/分、160℃ Hold 3分
160℃~220℃ 4℃/分、220℃ Hold時間:60分
透明感のある積層板が得られた場合を〇、得られた積層板が全面的に曇っていたり、著しいカスレがあったりした場合を×とし、得られた積層板に部分的に曇った部分があった場合を△とした。
(21) Impregnating property of laminate A glass cloth cut into a shape of 30 x 60 mm was impregnated with the varnish prepared by the method described in <Method for Prepreg Preparation> above (that is, a varnish with a blended component concentration of 62 wt%) at 120°C. and dried for 10 minutes. Four sheets of the obtained prepreg were stacked and press-cured under the following temperature conditions at a press pressure of 40 (kg/cm 2 ) and a constant vacuum condition.
Room temperature to 50°C, 4°C/min, 50°C Hold 1 minute 50°C to 160°C 4°C/min, 160°C Hold 3 minutes 160°C to 220°C 4°C/min, 220°C Hold time: 60 minutes Transparent ○ indicates that a certain laminate was obtained; × indicates that the obtained laminate was completely cloudy or had significant fading; The case was marked as △.

(22)積層板の線膨張係数
積層板の線膨張係数(CTE)は、日立のTMASS6100を使用して、誘電正接測定用試験片より切削したサンプルを用いて、下記の条件で測定して求めた。
測定モード:圧縮
試験開始温度:-50℃
昇温速度:10℃/分
試験最高温度:250℃
最高温度保持時間:5分
(22) Coefficient of linear expansion of the laminate The coefficient of linear expansion (CTE) of the laminate is determined by measuring the sample cut from the test piece for dielectric loss tangent measurement using Hitachi's TMASS6100 under the following conditions. Ta.
Measurement mode: Compression Test start temperature: -50℃
Heating rate: 10℃/min Maximum test temperature: 250℃
Maximum temperature holding time: 5 minutes

(23)積層板の銅箔接着強度
上記の方法により作製した積層板を用いてインストロン社製万能材料試験機(59R5582型)にて積層板と銅箔の粗化面との銅箔接着強度を下記の条件で測定した。
試験温度:23℃、試験速度:50mm/分、引き剥がし幅:10mm
(23) Copper foil adhesion strength of the laminate The copper foil adhesion strength between the laminate and the roughened surface of the copper foil was measured using an Instron universal material testing machine (Model 59R5582) using the laminate produced by the above method. was measured under the following conditions.
Test temperature: 23°C, test speed: 50mm/min, peeling width: 10mm

(24)積層板のTg
積層板のTgはTA社製DMA850を使用して下記の条件で測定した。 試験片:短冊、測定モード:引張モード
試験開始温度:-80℃
昇温速度:2℃/分
試験最高温度:300℃
最高温度保持時間:5分
測定周波数:10Hz
解析:tanδピークをTgとした。
(24) Tg of laminate
The Tg of the laminate was measured using DMA850 manufactured by TA under the following conditions. Test piece: Strip, Measurement mode: Tensile mode Test start temperature: -80℃
Heating rate: 2℃/min Maximum test temperature: 300℃
Maximum temperature holding time: 5 minutes Measurement frequency: 10Hz
Analysis: The tan δ peak was defined as Tg.

(25)半田耐熱試験
得られた硬化物、プリプレグ又は積層板を一般的な条件下での半田耐熱試験に供して、状態を観察した。状態観察が合格な場合には「OK」とする。
(25) Solder heat resistance test The obtained cured product, prepreg, or laminate was subjected to a solder heat resistance test under general conditions, and the condition was observed. If the condition observation passes, mark "OK".

以下、各製造例、製造比較例の未変性ポリフェニレンエーテル組成物の製造方法、及び各実施例及び比較例の変性ポリフェニレンエーテル組成物の製造方法を説明する。 Hereinafter, the manufacturing method of the unmodified polyphenylene ether composition of each manufacturing example and manufacturing comparative example, and the manufacturing method of the modified polyphenylene ether composition of each example and comparative example will be explained.

(製造例1)
反応器底部に酸素含有ガス導入の為のスパージャー、攪拌タービン翼及びバッフル、反応器上部のベントガスラインに還流冷却器を備えた1.5リットルのジャケット付き反応器に、予め調製した0.1026gの酸化第一銅及び0.7712gの47%臭化水素の混合物と、0.2471gのN,N’-ジ-t-ブチルエチレンジアミン、3.6407gのジメチル-n-ブチルアミン、1.1962gのジ-n-ブチルアミン、894.04gのトルエン、73.72gの2,6-ジメチルフェノール、26.28gの1,1,3-トリス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-t-ブチルフェニル)ブタン(ADEKA製:AO-30)を入れた。次いで、これらの成分を激しく攪拌しながら、反応器へ1.05L/分の速度で空気をスパージャーより導入し始めると同時に、重合温度は40℃を保つようにジャケットに熱媒を通して調節した。空気を導入し始めてから160分後、空気の通気を止め、この重合混合物に1.1021gのエチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩四水和物(同仁化学研究所製試薬)を100gの水溶液として添加し、70℃に温めた。70℃にて2時間保温し、触媒抽出と副生したジフェノキノン除去処理を行った後、混合液をシャープレス社製遠心分離機に移し、未変性ポリフェニレンエーテル組成物溶液(有機相)と、触媒金属を移した水性相とに分離した。得られた未変性ポリフェニレンエーテル組成物溶液をジャケット付き濃縮槽に移し、未変性ポリフェニレンエーテル組成物溶液中の固形分が55質量%になるまでトルエンを留去させて濃縮した。次いで、230℃に設定したオイルバスとロータリーエバポレーターを用いて更に濃縮物からトルエンを留去し、固形分を乾固させて未変性ポリフェニレンエーテル組成物を得た。
(Manufacturing example 1)
A 1.5 liter jacketed reactor equipped with a sparger for introducing oxygen-containing gas at the bottom of the reactor, stirring turbine blades and baffles, and a reflux condenser in the vent gas line at the top of the reactor was filled with 0.1026 g of the pre-prepared amount. of cuprous oxide and 0.7712 g of 47% hydrogen bromide; 0.2471 g of N,N'-di-t-butylethylenediamine; 3.6407 g of dimethyl-n-butylamine; -n-butylamine, 894.04 g toluene, 73.72 g 2,6-dimethylphenol, 26.28 g 1,1,3-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl)butane (ADEKA: AO-30) was added. Next, while stirring these components vigorously, air began to be introduced into the reactor through a sparger at a rate of 1.05 L/min, and at the same time a heating medium was passed through the jacket to control the polymerization temperature to be maintained at 40°C. 160 minutes after the introduction of air, the air ventilation was stopped, and 1.1021 g of ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt tetrahydrate (reagent manufactured by Dojindo Laboratories) was added to the polymerization mixture as a 100 g aqueous solution. Warmed to 70°C. After keeping the temperature at 70°C for 2 hours to perform catalyst extraction and by-produced diphenoquinone removal treatment, the mixed solution was transferred to a Sharpless centrifuge, and the unmodified polyphenylene ether composition solution (organic phase) and catalyst were transferred to a Sharpless centrifuge. The metal was separated into an aqueous phase. The obtained unmodified polyphenylene ether composition solution was transferred to a jacketed concentration tank, and toluene was distilled off and concentrated until the solid content in the unmodified polyphenylene ether composition solution became 55% by mass. Next, toluene was further distilled off from the concentrate using an oil bath set at 230°C and a rotary evaporator, and the solid content was dried to obtain an unmodified polyphenylene ether composition.

300ml3つ口フラスコに撹拌子を入れ、主管に三方コックを付けたジムロート冷却器を設置し、一方の側管に温度計を差したゴム栓を取り付けた。もう一方の側管から上記工程で得られた未変性ポリフェニレンエーテル組成物20.0gを投入し、ゴム栓を取り付けた。フラスコ内部を窒素置換した後、マグネチックスターラーで内部の攪拌をしながらシリンジを用いて和光純薬製超脱水トルエン60.0gで溶解させた。次いでトリエチルアミン5.72gを系内に加えた。その後ジメチルビニルクロロシラン3.38gをシリンジに採取し、ゴム栓から系内に滴下した。滴下終了後から3時間にわたって30℃で攪拌を継続した後に、和光純薬製超脱水メタノール0.86gを系内に加えて反応を停止した。 A stirring bar was placed in a 300 ml three-necked flask, a Dimroth condenser with a three-way stopcock was installed in the main tube, and a rubber stopper with a thermometer inserted was attached to one side tube. 20.0 g of the unmodified polyphenylene ether composition obtained in the above step was charged from the other side tube, and a rubber stopper was attached. After purging the inside of the flask with nitrogen, the mixture was dissolved in 60.0 g of super-dehydrated toluene manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. using a syringe while stirring the inside with a magnetic stirrer. Then, 5.72 g of triethylamine was added to the system. Thereafter, 3.38 g of dimethylvinylchlorosilane was collected into a syringe and dripped into the system through a rubber stopper. After continuing stirring at 30° C. for 3 hours after the completion of the dropwise addition, 0.86 g of ultra-dehydrated methanol manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. was added to the system to stop the reaction.

次いで、当該反応液を減圧下、トルエンとともにトリエチルアミンを留去した。その後、和光純薬製超脱水トルエンを反応液に加え、固形分濃度を20重量%に調節した。その後、ポリマー溶液をメタノール(有機層の5倍重量)に攪拌しながら滴下した。次いで沈殿物をろ過し、ろ物を110℃で1時間真空乾燥し、変性ポリフェニレンエーテル組成物を得た。NMRの測定結果から反応が進行していることを確認した。得られた変性ポリフェニレンエーテル組成物(PPE-1)の分子量はMw=4,810、Mn=2,610であった。また、得られたPPE-1の転化率は96%であった。得られたポリマーのトルエン40wt%溶液粘度は、23mPa・sであった。 Next, triethylamine was distilled off from the reaction solution together with toluene under reduced pressure. Thereafter, ultra-dehydrated toluene manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. was added to the reaction solution to adjust the solid content concentration to 20% by weight. Thereafter, the polymer solution was added dropwise to methanol (5 times the weight of the organic layer) with stirring. Next, the precipitate was filtered, and the filtered material was vacuum dried at 110° C. for 1 hour to obtain a modified polyphenylene ether composition. It was confirmed from the NMR measurement results that the reaction was progressing. The molecular weight of the obtained modified polyphenylene ether composition (PPE-1) was Mw=4,810 and Mn=2,610. Further, the conversion rate of the obtained PPE-1 was 96%. The viscosity of the obtained polymer in 40 wt% toluene solution was 23 mPa·s.

(実施例1-4、比較例1-3)
表1に示すスチレン系エラストマー、表2に示す液状エラストマーを使用し、表3に示す配合で硬化性樹脂組成物溶液を調製し、上記の方法で得られた硬化物を評価した結果を表3に示した。尚、配合量は質量部を示す。
(Example 1-4, Comparative Example 1-3)
Using the styrene elastomer shown in Table 1 and the liquid elastomer shown in Table 2, a curable resin composition solution was prepared with the formulation shown in Table 3, and the results of evaluating the cured product obtained by the above method are shown in Table 3. It was shown to. In addition, the blending amount indicates parts by mass.

表3中における略語は以下のとおりである。
パーブチルP:α,α-ジ(t-ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン(日本油脂社製)
tBS:4-tert-Bu-スチレン
DVB:ジビニルベンゼン(東京化成工業社製試薬、純度57%)
D4V:2,4,6,8-テトラメチル-テトラビニルシクロテトラシロキサン
SA9000:末端メタクリル基変性PPE「製品名SA9000」(Sabicイノベーティブプラスチックス社製、Mn:2756、Mw:4350、Mw/Mn:1.6、1分子当たりの平均末端官能基数:1.96、1分子当たりの残存水酸基数:0.01)
Abbreviations in Table 3 are as follows.
Perbutyl P: α,α-di(t-butylperoxy)diisopropylbenzene (manufactured by NOF Corporation)
tBS: 4-tert-Bu-styrene DVB: divinylbenzene (reagent manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., purity 57%)
D4V: 2,4,6,8-tetramethyl-tetravinylcyclotetrasiloxane SA9000: PPE modified with a terminal methacrylic group "Product name SA9000" (manufactured by Sabic Innovative Plastics, Mn: 2756, Mw: 4350, Mw/Mn: 1.6, average number of terminal functional groups per molecule: 1.96, number of residual hydroxyl groups per molecule: 0.01)

表3から明らかなように、実施例では、均一な硬化物が得られ、硬化物の十分なTg、低誘電特性、低線膨張係数及び高濃度ワニスにおける塗工性の全てを満足させる成形性の良い硬化性樹脂組成物が得られた。
これに対し、D4Vを含有しない比較例1、2では、高濃度ワニスの粘度が高く、高濃度ワニスにおける塗工性が悪い結果となった。また、ビニルシリル変性の代わりに末端メタクリル基変性PPEを使用した比較例3では含侵不良のために積層板の誘電特性測定ができなかった。
As is clear from Table 3, in the Examples, a uniform cured product was obtained, and the cured product had sufficient Tg, low dielectric properties, low coefficient of linear expansion, and moldability that satisfied all of the requirements for coating with high concentration varnish. A curable resin composition with good properties was obtained.
On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2 which did not contain D4V, the viscosity of the high concentration varnish was high, resulting in poor coatability in the high concentration varnish. Furthermore, in Comparative Example 3 in which PPE modified with a terminal methacrylic group was used instead of vinylsilyl modified PPE, the dielectric properties of the laminate could not be measured due to poor impregnation.

本発明の硬化性樹脂組成物は、特定の構造を有する末端変性ポリフェニレンエーテルと、特定のスチレン系エラストマー、特定構造の架橋助剤、及び液状エラストマーを配合することにより、均一な硬化物が得られ、硬化物の十分なTg、低誘電特性、接着性、低線膨張係数、成形性、及び高濃度ワニスの適正な溶液粘度の全てを満足させ、基板材料として有用な硬化性樹脂組成物を提供することが出来る。 In the curable resin composition of the present invention, a uniform cured product can be obtained by blending a terminal-modified polyphenylene ether with a specific structure, a specific styrene elastomer, a crosslinking aid with a specific structure, and a liquid elastomer. , provides a curable resin composition useful as a substrate material that satisfies all of the requirements of a cured product: sufficient Tg, low dielectric properties, adhesion, low coefficient of linear expansion, moldability, and appropriate solution viscosity for a high concentration varnish. You can.

Claims (27)

下記(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分及び(E)成分を含む、硬化性樹脂組成物:
(A)変性ポリフェニレンエーテル
下記式(1)で表される変性ポリフェニレンエーテル:
{式(1)中、Zは、下記式(2)で表されるa価の部分構造であり、aは2~6の整数を表し、Yは、各々独立に、下記式(4)で表される構造を有する2価の連結基であり、nは、Yの繰り返し数を表し、各々独立に、0~200の整数であり、a個の[-Y-A]中の少なくとも1つのnは、1以上の整数であり、Aは、全て水素原子の場合を除いて、水素原子、又はポリフェニレンエーテル構造と結合可能なシリル基含有誘導体を表し、
式(2)中、Xは、a価の任意の連結基であり、複数のRは、各々独立に、炭素数1~8の直鎖状アルキル基及び下記式(3)で表される部分構造のいずれかであり、kは、各々独立に、1~4の整数であり、
式(3)中、複数のR11は、各々独立に、置換されていてもよい炭素数1~8のアルキル基であり、複数のR12は、各々独立に、置換されていてもよい炭素数1~8のアルキレン基であり、bは、各々独立に、0又は1であり、R13は、水素原子、置換されていてもよい炭素数1~8のアルキル基、又は置換されていてもよいフェニル基のいずれかを表し、
式(4)中、複数のR21は、各々独立に、水素原子、置換されていてもよい炭素数1~6の炭化水素基、置換されていてもよい炭素数6~12のアリール基、及びハロゲン原子のいずれかであり、2つのR21は、同時に水素原子ではなく、2つのR21は、一方が上記式(3)で表される部分構造、もう一方が水素原子、メチル基又はエチル基のいずれかである組み合わせではなく、複数のR22は、各々独立に、水素原子、置換されていてもよい炭素数1~6の炭化水素基、置換されていてもよい炭素数6~12のアリール基、及びハロゲン原子のいずれかである}
(B)スチレン系エラストマー
(C)架橋助剤
下記式(18)で表され、分子内のビニル基の数が3個以下である芳香族ビニル化合物である架橋助剤:
{式(18)中、R37、R38、及びR39は、水素原子、またはそれぞれ独立に炭素数4以下の炭化水素基を表し、R40、及びR41は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数8以下の飽和または不飽和の炭化水素基を表す}
(D)液状エラストマー
(E)下記式(19)で表されるビニル基含有シラン系化合物:
{式(19)中、R42は、水素原子、または炭素数4以下の炭化水素を表し、かつnは2~6の整数を表す}。
A curable resin composition containing the following components (A), (B), (C), (D) and (E):
(A) Modified polyphenylene ether Modified polyphenylene ether represented by the following formula (1):
{In formula (1), Z is an a-valent partial structure represented by the following formula (2), a represents an integer of 2 to 6, and Y is each independently represented by the following formula (4). A divalent linking group having the structure shown, n represents the number of repeats of Y, each independently an integer of 0 to 200, and at least one of a [-Y n -A] n is an integer of 1 or more, A represents a hydrogen atom or a silyl group-containing derivative capable of bonding to a polyphenylene ether structure, except in the case of all hydrogen atoms,
In formula (2), X is an a-valent arbitrary linking group, and each of the plurality of R 5 is independently represented by a linear alkyl group having 1 to 8 carbon atoms and the following formula (3) any of the substructures, and k is each independently an integer from 1 to 4,
In formula (3), a plurality of R 11 's are each independently an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and a plurality of R 12 's are each independently an optionally substituted carbon alkyl group. is an alkylene group of number 1 to 8, b is each independently 0 or 1, and R 13 is a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a substituted represents any of the phenyl groups,
In formula (4), a plurality of R 21 's each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, an optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and a halogen atom, two R 21s are not hydrogen atoms at the same time, and one of the two R 21s is a partial structure represented by the above formula (3), and the other is a hydrogen atom, a methyl group, or Rather than a combination of ethyl groups, the plurality of R 22 's each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and an optionally substituted hydrocarbon group having 6 to 6 carbon atoms. 12 aryl groups and halogen atoms}
(B) Styrenic elastomer (C) Crosslinking aid A crosslinking aid which is an aromatic vinyl compound represented by the following formula (18) and having 3 or less vinyl groups in the molecule:
{In formula (18), R 37 , R 38 , and R 39 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 4 or less carbon atoms, and R 40 and R 41 each independently represent a hydrogen atom or represents a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 8 or less carbon atoms}
(D) Liquid elastomer
(E) Vinyl group-containing silane compound represented by the following formula (19):
{In formula (19), R 42 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon having 4 or less carbon atoms, and n represents an integer of 2 to 6}.
前記(B)成分が、数平均分子量300,000以下のスチレン系エラストマーである、請求項1に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 1, wherein the component (B) is a styrene elastomer having a number average molecular weight of 300,000 or less. 前記(B)成分が、二重結合含有量が90%以下のスチレン系エラストマーである、請求項1または2に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to claim 1 or 2, wherein the component (B) is a styrene elastomer having a double bond content of 90% or less. 前記(B)成分が、スチレン含有率が80%以下のスチレン系エラストマーである、請求項1~3のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the component (B) is a styrenic elastomer having a styrene content of 80% or less. 前記(B)成分が、スチレン-ブタジエン共重合体(SBR)、スチレン-ブタジエン-スチレン共重合体(SBS)、水添スチレン-ブタジエン-スチレン共重合体、スチレン-イソプレン-スチレン共重合体(SIS)、水添スチレン-イソプレン-スチレン共重合体、水添スチレン(ブタジエン/イソプレン)スチレン共重合体のいずれか1つを含むスチレン系エラストマーである、請求項1~4のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The component (B) is a styrene-butadiene copolymer (SBR), a styrene-butadiene-styrene copolymer (SBS), a hydrogenated styrene-butadiene-styrene copolymer, a styrene-isoprene-styrene copolymer (SIS ), hydrogenated styrene-isoprene-styrene copolymer, and hydrogenated styrene (butadiene/isoprene) styrene copolymer, according to any one of claims 1 to 4. curable resin composition. 前記(B)成分が、ビニル芳香族化合物単量体単位を主体とするブロックAと、共役ジエン単量体単位を主体とするブロックBとを含むスチレン系エラストマーである、請求項1~5のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 Claims 1 to 5, wherein the component (B) is a styrenic elastomer containing a block A mainly composed of vinyl aromatic compound monomer units and a block B mainly composed of conjugated diene monomer units. The curable resin composition according to any one of the items. 前記(B)成分が、共役ジエン単量体単位に基づく二重結合の水添率が90%以上であるスチレン系エラストマーである、請求項1~6のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin according to any one of claims 1 to 6, wherein the component (B) is a styrenic elastomer in which the hydrogenation rate of double bonds based on conjugated diene monomer units is 90% or more. Composition. 前記式(18)中、R37、R38、及びR39が水素原子である、請求項1~7のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 7, wherein in the formula (18), R 37 , R 38 , and R 39 are hydrogen atoms. 前記式(18)中、R40がtert-ブチル基である、請求項1~8のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 8, wherein in the formula (18), R 40 is a tert-butyl group. 前記式(18)中、R41がビニル基である、請求項1~9のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 9, wherein in the formula (18), R 41 is a vinyl group. 前記(C)成分が4-tertブチルスチレンである、請求項1~10のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 10, wherein the component (C) is 4-tertbutylstyrene. 前記(C)成分がジビニルベンゼンである、請求項1~10のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 10, wherein the component (C) is divinylbenzene. 前記(D)成分がスチレンブタジエン共重合体である、請求項1~12のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 12, wherein the component (D) is a styrene-butadiene copolymer. 前記(E)成分が2,4,6,8-テトラメチル-テトラビニルシクロテトラシロキサンまたは2,4,6-トリメチル-トリビニルシクロトリシロキサンのいずれかである、請求項1~12のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 Any one of claims 1 to 12, wherein the component (E) is either 2,4,6,8-tetramethyl-tetravinylcyclotetrasiloxane or 2,4,6-trimethyl-trivinylcyclotrisiloxane. Curable resin composition according to item 1. (F)開始剤をさらに含む、請求項1~14のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 (F) The curable resin composition according to any one of claims 1 to 14, further comprising an initiator. 前記式(2)において前記Rのうち少なくとも1つは、前記式(3)で表される部分構造であり、前記式(2)中の-O-が結合するベンゼン環の炭素原子を1位とし、2位又は6位の一方の炭素原子に前記式(3)で表される部分構造を有するRが結合し、2位又は6位の他方の炭素原子に水素原子、メチル基又はエチル基が結合している、請求項1~15のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 In the formula (2), at least one of R 5 is a partial structure represented by the formula (3), in which one carbon atom of the benzene ring to which -O- in the formula (2) is bonded is R5 having a partial structure represented by the formula (3) above is bonded to one carbon atom at the 2nd or 6th position, and the other carbon atom at the 2nd or 6th position is a hydrogen atom, a methyl group, or The curable resin composition according to any one of claims 1 to 15, wherein an ethyl group is bonded. 前記式(3)で表される部分構造が、t-ブチル基である、請求項1~16のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 16, wherein the partial structure represented by formula (3) is a t-butyl group. 前記ポリフェニレンエーテル中に含まれるOH末端数が、0~3,000μmol/gである、請求項1~17のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 17, wherein the number of OH terminals contained in the polyphenylene ether is 0 to 3,000 μmol/g. 前記式(4)のR21が、メチル基である、請求項1~18のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The curable resin composition according to any one of claims 1 to 18, wherein R 21 in the formula (4) is a methyl group. 前記式(1)のAが、下記式(5):
{式(5)中、R31、及びR34は、それぞれ独立に、炭素数1~30の2価の炭化水素基であり、R32、及びR33は、それぞれ独立に、炭素数1~30の1価の炭化水素基、アリール基、アルコキシ基、アリロキシ基、アミノ基、又はヒドロキシアルキル基であり、Bは、オレフィン系の炭素-炭素2重結合を含む炭素数1~30の炭化水素系置換基であり、その一部が、水素原子、水酸基、アリール基、アルコキシ基、アリロキシ基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、ビニル基、イソプロペニル基、又はハロゲン基に置換されていてもよく、sとtとuは、それぞれ独立に0~8の整数である}
で表される、請求項1~19のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。
A in the above formula (1) is the following formula (5):
{In formula (5), R 31 and R 34 are each independently a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, and R 32 and R 33 are each independently a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms. 30 monovalent hydrocarbon group, aryl group, alkoxy group, allyloxy group, amino group, or hydroxyalkyl group, and B is a hydrocarbon having 1 to 30 carbon atoms containing an olefinic carbon-carbon double bond. A system substituent, some of which may be substituted with a hydrogen atom, hydroxyl group, aryl group, alkoxy group, allyloxy group, amino group, hydroxyalkyl group, vinyl group, isopropenyl group, or halogen group, s, t, and u are each independently integers from 0 to 8}
The curable resin composition according to any one of claims 1 to 19, which is represented by:
前記式(1)のAが、下記式(6)及び/又は(7):

{式(6)及び/又は式(7)中、R31、及びR34は、それぞれ独立に、炭素数1~30の2価の炭化水素基であり、R32、及びR33は、それぞれ独立に、炭素数1~30の1価の炭化水素基、アリール基、アルコキシ基、アリロキシ基、アミノ基、又はヒドロキシアルキル基であり、R35は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、又は炭素数1~30の炭化水素基、アリール基、アルコキシ基、アリロキシ基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、ビニル基、イソプロペニル基、又はハロゲン基であり、R36は、炭素数1~3の2価の炭化水素基またはアミノ基、または酸素原子であり、炭化水素基の一部は、アリール基、アルコキシ基、アリロキシ基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、ビニル基、イソプロペニル基、又はハロゲン基に置換されていてよく、かつsとtとuは、それぞれ独立に、0~8の整数である}
で表される、請求項20に記載の硬化性樹脂組成物。
A in the formula (1) is the following formula (6) and/or (7):

{In formula (6) and/or formula (7), R 31 and R 34 are each independently a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, and R 32 and R 33 are each is independently a monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group, an allyloxy group, an amino group, or a hydroxyalkyl group, and each R 35 is independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a carbon 1 to 30 hydrocarbon groups, aryl groups, alkoxy groups, allyloxy groups, amino groups, hydroxyalkyl groups, vinyl groups, isopropenyl groups, or halogen groups, and R 36 is a divalent group having 1 to 3 carbon atoms. is a hydrocarbon group or an amino group, or an oxygen atom, and a part of the hydrocarbon group is substituted with an aryl group, an alkoxy group, an allyloxy group, an amino group, a hydroxyalkyl group, a vinyl group, an isopropenyl group, or a halogen group. and s, t, and u are each independently an integer from 0 to 8}
The curable resin composition according to claim 20, which is represented by:
(G)溶媒をさらに含む、請求項1~21のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 (G) The curable resin composition according to any one of claims 1 to 21, further comprising a solvent. 請求項1~22のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物を含む、プリプレグ。 A prepreg comprising the curable resin composition according to any one of claims 1 to 22. 請求項1~22のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物の硬化物を含む、積層板。 A laminate comprising a cured product of the curable resin composition according to any one of claims 1 to 22. 請求項1~22のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物の硬化物を含む、プリント配線板。 A printed wiring board comprising a cured product of the curable resin composition according to any one of claims 1 to 22. 請求項1~22のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物の硬化物を含む、複合材料。 A composite material comprising a cured product of the curable resin composition according to any one of claims 1 to 22. 炭素繊維強化複合材料である、請求項26に記載の複合材料。 27. The composite material according to claim 26, which is a carbon fiber reinforced composite material.
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