JP2023139896A - Lens system and image display device - Google Patents

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Abstract

To reduce the occurrence of ring lines when a plurality of lens surfaces are present.SOLUTION: A lens system has at least two lens surfaces, a plurality of concentrically arranged refracting regions are formed in each of the lens surfaces, first refracting regions as the refracting regions are formed in a first lens surface which is at least one of the lens surfaces, second refracting regions as the refracting regions are formed in a second lens surface which is the lens surface different from the first lens surface, and the first refracting regions are formed at a pitch that deviates 4% or more from an integer multiple of the pitch of the second refracting regions when the first refracting regions and the second refracting regions are each arranged on the same optical path.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本技術は、レンズ系及び画像表示装置に関する。 The present technology relates to a lens system and an image display device.

従来、光学の分野において、優れた集光能力を有するフレネルレンズが利用されている。このフレネルレンズには、同心円状に並ぶ複数の溝が形成されている。この溝により光が屈折されて集光される。この溝は、光学的特性を有している領域と、光学的特性を有していない領域と、からなる。光学的特性を有していない領域に入射された光は、設計通りに瞳に到達しない。そのため、光学的特性を有していない領域に入射された光は、影として視認される。これにより、視認される画像には、輪線と呼ばれる、同心円状に並ぶ複数の線が表示される。この輪線の発生が画質の劣化につながる。 Conventionally, in the field of optics, Fresnel lenses having excellent light gathering ability have been used. This Fresnel lens has a plurality of concentric grooves formed therein. The groove refracts and focuses the light. This groove consists of a region that has optical properties and a region that does not have optical properties. Light incident on a region that does not have optical characteristics does not reach the pupil as designed. Therefore, light incident on a region that does not have optical characteristics is visually recognized as a shadow. As a result, a plurality of concentric lines called ring lines are displayed in the visually recognized image. The occurrence of these ring lines leads to deterioration of image quality.

例えば特許文献1では、溝ピッチと溝深さの双方をレンズ中心からの距離に応じて変化させることにより、輪線の発生を低減する技術が開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses a technique for reducing the occurrence of ring lines by changing both the groove pitch and the groove depth depending on the distance from the lens center.

国際公開第2020/045518号International Publication No. 2020/045518

しかし、特許文献1において開示されている技術は、輪線の発生を低減することについて改善の余地がある。例えば複数のレンズ面のそれぞれに溝が形成されているとき、一つの光束の光がそれぞれのレンズ面に形成されている溝に入射されると、モアレに起因する輪線が発生するおそれがある。そのため、輪線の発生を低減するためには、それぞれのレンズ面の溝ピッチの相対関係を考慮する必要がある。このことについて、特許文献1では記載も示唆もされていない。 However, the technique disclosed in Patent Document 1 has room for improvement in reducing the occurrence of ring lines. For example, when grooves are formed on each of multiple lens surfaces, if a single beam of light enters the grooves formed on each lens surface, ring lines due to moiré may occur. . Therefore, in order to reduce the occurrence of ring lines, it is necessary to consider the relative relationship between the groove pitches on each lens surface. Regarding this matter, Patent Document 1 neither describes nor suggests it.

そこで、本技術は、複数のレンズ面を有しているときに輪線の発生を低減するレンズ系及び画像表示装置を提供することを主目的とする。 Therefore, the main purpose of the present technology is to provide a lens system and an image display device that reduce the occurrence of ring lines when the lens system has a plurality of lens surfaces.

本技術は、少なくとも2つのレンズ面を有しており、それぞれの前記レンズ面には、同心円状に並ぶ複数の屈折領域が形成されており、少なくとも1つの前記レンズ面である第1のレンズ面には、前記屈折領域である第1の屈折領域が形成されており、前記第1のレンズ面とは異なる前記レンズ面である第2のレンズ面には、前記屈折領域である第2の屈折領域が形成されており、前記第1の屈折領域及び前記第2の屈折領域のそれぞれが同じ光路上に配されるとき、前記第1の屈折領域が、前記第2の屈折領域のピッチの整数倍からさらに4%以上乖離したピッチで形成されている、レンズ系を提供する。
前記第1の屈折領域及び前記第2の屈折領域のそれぞれが同じ光路上に配されるとき、前記第1の屈折領域のピッチと、前記第2の屈折領域のピッチと、の整数比の最小公倍数が6以上であってよい。
前記第1の屈折領域及び前記第2の屈折領域のそれぞれが同じ光路上に配されるとき、前記第1の屈折領域のピッチと、前記第2の屈折領域のピッチと、の整数比の最小公倍数が30以上であってよい。
前記屈折領域のピッチが、前記レンズ面において略一定であってよい。
前記屈折領域のピッチが、前記レンズ面の略中心から外周に向かうにつれて短くなっていてよい。
前記レンズ面が、1つのフレネルレンズの両面に形成されていてよい。
前記レンズ面が、複数のフレネルレンズに形成されていてよい。
前記レンズ面が、2つのフレネルレンズに形成されており、互いの前記フレネルレンズの片面に、前記レンズ面が形成されていてよい。
前記レンズ面が、2つのフレネルレンズに形成されており、一方の前記フレネルレンズの両面に前記レンズ面が形成されており、他方の前記フレネルレンズの片面に前記レンズ面が形成されていてよい。
前記レンズ面が、2つのフレネルレンズに形成されており、互いの前記フレネルレンズの両面に前記レンズ面が形成されていてよい。
前記レンズ面が、3つのフレネルレンズに形成されていてよい。
また、本技術は、前記レンズ系を備えている、画像表示装置を提供する。
The present technology has at least two lens surfaces, each of which has a plurality of concentrically arranged refractive regions formed therein, and at least one of the lens surfaces, which is a first lens surface. A first refraction region, which is the refraction region, is formed on the second lens surface, which is the lens surface different from the first lens surface, and a second refraction region, which is the refraction region. and when the first refraction area and the second refraction area are arranged on the same optical path, the first refraction area has a pitch that is an integer of the pitch of the second refraction area. To provide a lens system formed with a pitch that deviates from double by 4% or more.
When each of the first refraction area and the second refraction area is arranged on the same optical path, the minimum integer ratio of the pitch of the first refraction area and the pitch of the second refraction area The common multiple may be 6 or more.
When each of the first refraction area and the second refraction area is arranged on the same optical path, the minimum integer ratio of the pitch of the first refraction area and the pitch of the second refraction area The common multiple may be 30 or more.
The pitch of the refractive regions may be substantially constant on the lens surface.
The pitch of the refraction regions may become shorter from approximately the center of the lens surface toward the outer periphery.
The lens surfaces may be formed on both sides of one Fresnel lens.
The lens surface may be formed into a plurality of Fresnel lenses.
The lens surface may be formed on two Fresnel lenses, and the lens surface may be formed on one side of each Fresnel lens.
The lens surface may be formed on two Fresnel lenses, and the lens surface may be formed on both sides of one of the Fresnel lenses, and the lens surface may be formed on one side of the other Fresnel lens.
The lens surfaces may be formed on two Fresnel lenses, and the lens surfaces may be formed on both surfaces of each Fresnel lens.
The lens surface may be formed into three Fresnel lenses.
Further, the present technology provides an image display device including the lens system.

本技術によれば、複数のレンズ面を有しているときに輪線の発生を低減するレンズ系及び画像表示装置を提供できる。なお、ここに記載された効果は、必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果であってもよい。 According to the present technology, it is possible to provide a lens system and an image display device that reduce the occurrence of ring lines when having a plurality of lens surfaces. Note that the effects described here are not necessarily limited, and may be any of the effects described in the present disclosure.

本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を示す簡略側面図である。FIG. 1 is a simplified side view showing a configuration example of a lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を示す簡略側面図である。FIG. 1 is a simplified side view showing a configuration example of a lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 本技術一実施形態に係るレンズ系10の比較例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。It is an image displayed by a simulation using a comparative example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 本技術の一実施形態に係るレンズ面F2の構成例を示す簡略側面図である。FIG. 3 is a simplified side view showing a configuration example of a lens surface F2 according to an embodiment of the present technology. 本技術の一実施形態に係るレンズ系10の設計例を示すグラフである。1 is a graph showing a design example of a lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。It is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。It is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。It is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。It is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を示す簡略側面図である。FIG. 1 is a simplified side view showing a configuration example of a lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。It is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 図12Aは、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。図12Bは、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の設計例を示すグラフである。FIG. 12A is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. FIG. 12B is a graph showing a design example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を示す簡略側面図である。FIG. 1 is a simplified side view showing a configuration example of a lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。It is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 図15Aは、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。図15Bは、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の設計例を示すグラフである。FIG. 15A is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. FIG. 15B is a graph showing a design example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を示す簡略側面図である。FIG. 1 is a simplified side view showing a configuration example of a lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。It is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 図18Aは、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。図18Bは、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の設計例を示すグラフである。FIG. 18A is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. FIG. 18B is a graph showing a design example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を示す簡略側面図である。FIG. 1 is a simplified side view showing a configuration example of a lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を示す簡略側面図である。FIG. 1 is a simplified side view showing a configuration example of a lens system 10 according to an embodiment of the present technology. 本技術の一実施形態に係る画像表示装置100の構成例を示す簡略側面図である。1 is a simplified side view showing a configuration example of an image display device 100 according to an embodiment of the present technology.

以下、本技術を実施するための好適な実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下に説明する実施形態は、本技術の代表的な実施形態の一例を示したものであり、これにより本技術の範囲が限定されることはない。また、本技術は、下記の実施例及びその変形例のいずれかを組み合わせることができる。 Hereinafter, preferred embodiments for implementing the present technology will be described with reference to the drawings. Note that the embodiment described below shows an example of a typical embodiment of the present technology, and the scope of the present technology is not limited thereby. Further, the present technology can be combined with any of the following embodiments and modifications thereof.

以下の実施形態の説明において、略一定、略平行、略直交のような「略」を伴った用語で構成を説明することがある。例えば、略平行とは、完全に平行であることを意味するだけでなく、実質的に平行である、すなわち、完全に平行な状態から例えば数%程度ずれた状態を含むことも意味する。他の「略」を伴った用語についても同様である。また、各図は模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。 In the following description of the embodiments, the configuration may be described using terms including "approximately" such as approximately constant, approximately parallel, and approximately orthogonal. For example, "substantially parallel" does not only mean completely parallel, but also includes substantially parallel, that is, a state deviated from a completely parallel state by, for example, several percent. The same applies to other terms with "omitted". Furthermore, each figure is a schematic diagram and is not necessarily strictly illustrated.

特に断りがない限り、図面において、「上」とは図中の上方向又は上側を意味し、「下」とは、図中の下方向又は下側を意味し、「左」とは図中の左方向又は左側を意味し、「右」とは図中の右方向又は右側を意味する。また、図面については、同一又は同等の要素又は部材には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。 Unless otherwise specified, in the drawings, "above" means the top or upper side of the drawing, "bottom" means the lower or lower side of the drawing, and "left" means the upper side of the drawing. "Right" means the right direction or right side in the figure. Furthermore, in the drawings, the same or equivalent elements or members are denoted by the same reference numerals, and redundant explanations will be omitted.

説明は以下の順序で行う。
1.第1の実施形態(レンズ系の例1)
2.第2の実施形態(レンズ系の例2)
3.第3の実施形態(レンズ系の例3)
4.第4の実施形態(レンズ系の例4)
5.第5の実施形態(レンズ系の例5)
6.第6の実施形態(レンズ系の例6)
7.第7の実施形態(レンズ系の例7)
8.第8の実施形態(画像表示装置の例)
The explanation will be given in the following order.
1. First embodiment (Example 1 of lens system)
2. Second embodiment (lens system example 2)
3. Third embodiment (lens system example 3)
4. Fourth embodiment (Example 4 of lens system)
5. Fifth embodiment (lens system example 5)
6. Sixth embodiment (example 6 of lens system)
7. Seventh embodiment (example 7 of lens system)
8. Eighth embodiment (example of image display device)

[1.第1の実施形態(レンズ系の例1)]
本技術は、少なくとも2つのレンズ面を有しており、それぞれの前記レンズ面には、同心円状に並ぶ複数の屈折領域が形成されており、少なくとも1つの前記レンズ面である第1のレンズ面には、前記屈折領域である第1の屈折領域が形成されており、前記第1のレンズ面とは異なる前記レンズ面である第2のレンズ面には、前記屈折領域である第2の屈折領域が形成されており、前記第1の屈折領域及び前記第2の屈折領域のそれぞれが同じ光路上に配されるとき、前記第1の屈折領域が、前記第2の屈折領域のピッチの整数倍からさらに4%以上乖離したピッチで形成されている、レンズ系を提供する。
[1. First embodiment (example 1 of lens system)]
The present technology has at least two lens surfaces, each of which has a plurality of concentrically arranged refractive regions formed therein, and at least one of the lens surfaces, which is a first lens surface. A first refraction region, which is the refraction region, is formed on the second lens surface, which is the lens surface different from the first lens surface, and a second refraction region, which is the refraction region. and when the first refraction area and the second refraction area are arranged on the same optical path, the first refraction area has a pitch that is an integer of the pitch of the second refraction area. To provide a lens system formed with a pitch that deviates from double by 4% or more.

本技術の一実施形態に係るレンズ系について図1を参照しつつ説明する。図1は、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を示す簡略側面図である。 A lens system according to an embodiment of the present technology will be described with reference to FIG. 1. FIG. 1 is a simplified side view showing a configuration example of a lens system 10 according to an embodiment of the present technology.

図1に示されるとおり、レンズ系10は、少なくとも2つのレンズ面F1,F2を有している。それぞれのレンズ面F1,F2には、同心円状に並ぶ複数の屈折領域が形成されている。この屈折領域が、入射される光を屈折する。これにより、入射される光が集光される。屈折領域は、光を屈折する機能を有していればよく、屈折領域の構成は特に限られない。屈折領域は、例えばフレネルレンズにおける溝の一部であってよいし、プリズムの一部であってもよい。以下では、屈折領域がフレネルレンズにおける溝の一部である構成例について説明する。 As shown in FIG. 1, the lens system 10 has at least two lens surfaces F1 and F2. A plurality of refraction regions arranged concentrically are formed on each of the lens surfaces F1 and F2. This refraction region refracts incident light. Thereby, the incident light is condensed. The refraction region only needs to have the function of refracting light, and the configuration of the refraction region is not particularly limited. The refractive region may be, for example, a part of a groove in a Fresnel lens or a part of a prism. Below, a configuration example in which the refraction region is a part of a groove in a Fresnel lens will be described.

この屈折領域について図2を参照しつつ説明する。図2は、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を示す簡略側面図である。図2は、図1における第1のレンズ面F1及び第2のレンズ面F2のそれぞれを拡大した図である。 This refraction region will be explained with reference to FIG. 2. FIG. 2 is a simplified side view showing a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. FIG. 2 is an enlarged view of each of the first lens surface F1 and the second lens surface F2 in FIG.

少なくとも1つのレンズ面F1,F2である第1のレンズ面F1には、第1の屈折領域11が形成されている。第1のレンズ面F1とは異なる前記レンズ面である第2のレンズ面F2には、第2の屈折領域21が形成されている。第1の屈折領域11及び第2の屈折領域21のそれぞれが、図1の右側から入射される光を屈折する。これにより、前記光が集光され、瞳に出射される。その結果、ユーザは画像を視認できる。 A first refraction region 11 is formed on the first lens surface F1, which is at least one of the lens surfaces F1 and F2. A second refraction region 21 is formed on the second lens surface F2, which is the lens surface different from the first lens surface F1. Each of the first refraction region 11 and the second refraction region 21 refracts light incident from the right side in FIG. Thereby, the light is focused and emitted to the pupil. As a result, the user can visually recognize the image.

図2に示されるとおり、第1のレンズ面F1は、光学的特性を有している第1の屈折領域11と、光学的特性を有していない第1の非屈折領域12と、を有している。同様に、第2のレンズ面F2は、光学的特性を有している第2の屈折領域21と、光学的特性を有していない第2の非屈折領域22と、を有している。このとき、光学的特性を有していない第1の非屈折領域12又は第2の非屈折領域22に入射された光は、遮光され、設計通りに瞳に到達しないことがある。そのため、この領域に入射された光は、影として視認される。これにより、視認される画像には、遮光の大小による照度変化が生じる。このような照度変化は、第1の非屈折領域12及び第2の非屈折領域22のそれぞれに沿って円状の明暗として視認されるため、輪線と呼ばれている。一般的には、光学的特性を有していない第1の非屈折領域12及び第2の非屈折領域22のそれぞれの面積を小さくすることにより、輪線の発生を低減できる。 As shown in FIG. 2, the first lens surface F1 has a first refractive region 11 that has optical properties and a first non-refractive region 12 that does not have optical properties. are doing. Similarly, the second lens surface F2 has a second refractive region 21 that has optical properties and a second non-refractive region 22 that does not have optical properties. At this time, the light incident on the first non-refraction region 12 or the second non-refraction region 22 that does not have optical characteristics is blocked and may not reach the pupil as designed. Therefore, light incident on this area is visually recognized as a shadow. As a result, illuminance changes occur in the visually recognized image depending on the magnitude of the light shielding. Such a change in illuminance is visually recognized as circular brightness and darkness along each of the first non-refraction area 12 and the second non-refraction area 22, and is therefore called a ring line. Generally, the occurrence of ring lines can be reduced by reducing the area of each of the first non-refractive region 12 and the second non-refractive region 22, which do not have optical characteristics.

しかし、複数のレンズ面を有しているレンズ系では、一つの光束の光が、光学的特性を有していない第1の非屈折領域12又は第2の非屈折領域22に入射されることがある。このとき、ユーザが視認する画像において、互いの影が重なり合う領域と重なり合わない領域によるモアレが発生し、輪線が発生するおそれがある。このモアレについて図3を参照しつつ説明する。図3は、本技術一実施形態に係るレンズ系10の比較例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。図3A及び図3Bに示されるとおり、モアレが発生し、輪線が発生している。互いの影が重なり合う領域は、画像における影の面積が小さいため、相対的に明るく見える。一方、互いの影が重なり合わない領域は、画像における影の面積が大きいため、相対的に暗く見える。 However, in a lens system having a plurality of lens surfaces, one beam of light is incident on the first non-refractive area 12 or the second non-refractive area 22 that does not have optical characteristics. There is. At this time, in the image visually recognized by the user, moiré may occur due to regions where shadows overlap and regions where shadows do not overlap, and ring lines may occur. This moiré will be explained with reference to FIG. 3. FIG. 3 is an image displayed by a simulation using a comparative example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. As shown in FIGS. 3A and 3B, moiré and ring lines are generated. Areas where shadows overlap each other appear relatively bright because the area of the shadows in the image is small. On the other hand, areas where shadows do not overlap each other appear relatively dark because the area of the shadows in the image is large.

複数のレンズ面を有しているレンズ系において、輪線の発生を低減するためには、それぞれのレンズ面に形成されている屈折領域が有するピッチが適切に設計されていることが好ましい。図2に示される構成例では、第1のレンズ面F1に形成されている第1の屈折領域11のピッチと、第2のレンズ面F2に形成されている第2の屈折領域21のピッチと、の相対関係が適切に設計されていることが好ましい。このピッチについて図4を参照しつつ説明する。図4は、本技術の一実施形態に係るレンズ面F2の構成例を示す簡略側面図である。 In a lens system having a plurality of lens surfaces, in order to reduce the occurrence of ring lines, it is preferable that the pitch of the refractive regions formed on each lens surface be appropriately designed. In the configuration example shown in FIG. 2, the pitch of the first refraction regions 11 formed on the first lens surface F1 and the pitch of the second refraction regions 21 formed on the second lens surface F2 are , is preferably designed appropriately. This pitch will be explained with reference to FIG. 4. FIG. 4 is a simplified side view showing a configuration example of the lens surface F2 according to an embodiment of the present technology.

図4に示されるとおり、ピッチpとは、第2の屈折領域21及び第2の非屈折領域22からなる溝同士の間隔である。この図では、第2の屈折領域21及び第2の非屈折領域22からなる溝の谷から山までの高さhが示されている。 As shown in FIG. 4, the pitch p is the interval between the grooves made up of the second refraction region 21 and the second non-refraction region 22. In this figure, the height h from the valley to the peak of the groove consisting of the second refraction region 21 and the second non-refraction region 22 is shown.

第1の屈折領域11のピッチと、第2の屈折領域21のピッチと、の相対関係について図5を参照しつつ説明する。図5は、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の設計例を示すグラフである。横軸は、レンズ面の中心からの距離を示している。縦軸は、ピッチを示している。 The relative relationship between the pitch of the first refraction area 11 and the pitch of the second refraction area 21 will be explained with reference to FIG. 5. FIG. 5 is a graph showing a design example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. The horizontal axis indicates the distance from the center of the lens surface. The vertical axis indicates pitch.

図5に示されるとおり、第1の屈折領域11のピッチpF1と、第2の屈折領域21のピッチpF2と、のそれぞれは、レンズ面の中心からの距離が長くなるにつれて小さくなっている。第1の屈折領域11の高さhF1と、第2の屈折領域21の高さhF2と、のそれぞれは、略一定になっている。 As shown in FIG. 5, the pitch pF1 of the first refraction region 11 and the pitch pF2 of the second refraction region 21 become smaller as the distance from the center of the lens surface increases. . The height h F1 of the first refraction region 11 and the height h F2 of the second refraction region 21 are approximately constant.

位置P1において、第2の屈折領域21のピッチpF2が、第1の屈折領域11のピッチpF1の略2倍になっている。位置P2において、第2の屈折領域21のピッチpF2が、第1の屈折領域11のピッチpF1の略1倍になっている。つまり、位置P1及び位置P2のそれぞれにおいて、第2の屈折領域21のピッチpF2が、第1の屈折領域11のピッチpF1の略整数倍になっている。 At position P1, the pitch p F2 of the second refraction regions 21 is approximately twice the pitch p F1 of the first refraction regions 11 . At position P2, the pitch p F2 of the second refraction region 21 is approximately one time the pitch p F1 of the first refraction region 11 . That is, at each of the positions P1 and P2, the pitch pF2 of the second refraction area 21 is approximately an integral multiple of the pitch pF1 of the first refraction area 11.

第1の屈折領域11及び第2の屈折領域21のそれぞれがこのような設計例であるときの、表示される画像のシミュレーション結果について図6を参照しつつ説明する。図6は、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。図6Aに示されるP1の近傍において、輪線が発生している。図6Bに示されるP2の近傍において、輪線が発生している。つまり、2つのレンズ面を有しているレンズ系において、一方のレンズ面に形成されている屈折領域のピッチが、他方のレンズ面に形成されている屈折領域のピッチの略整数倍であるとき、輪線が発生するおそれがある。そのため、一方のレンズ面に形成されている屈折領域のピッチが、他方のレンズ面に形成されている屈折領域のピッチの略整数倍からさらに乖離していることが好ましい。発明者は、鋭意研究の末、輪線の発生を抑制するピッチの相対関係を特定し、本発明を完成させた。 A simulation result of a displayed image when each of the first refraction area 11 and the second refraction area 21 has such a design example will be described with reference to FIG. 6. FIG. 6 is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. A ring line occurs near P1 shown in FIG. 6A. A ring line occurs near P2 shown in FIG. 6B. In other words, in a lens system that has two lens surfaces, when the pitch of the refractive regions formed on one lens surface is approximately an integral multiple of the pitch of the refractive regions formed on the other lens surface. , there is a risk that ring lines may occur. Therefore, it is preferable that the pitch of the refractive regions formed on one lens surface further deviates from a substantially integral multiple of the pitch of the refractive regions formed on the other lens surface. After extensive research, the inventor identified the relative relationship between pitches that suppresses the occurrence of ring lines, and completed the present invention.

図7は、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。図7A~Cでは、第2の屈折領域21のピッチpF2を固定し、第1の屈折領域11のピッチpF1を変化させている。 FIG. 7 is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. In FIGS. 7A to 7C, the pitch p F2 of the second refraction region 21 is fixed, and the pitch p F1 of the first refraction region 11 is varied.

図7Aは、第1の屈折領域11のピッチpF1が0.29mmであり、第2の屈折領域21のピッチpF2が0.30mmであるときの、シミュレーションにより表示された画像である。この図に示されるとおり、輪線の発生が低減されている。この構成例では、次の式(1)で算出されるとおり、第1の屈折領域11が、第2の屈折領域21のピッチpF2の整数倍(1倍)からさらに3.3%以上乖離したピッチで形成されている。 FIG. 7A is an image displayed by simulation when the pitch p F1 of the first refraction area 11 is 0.29 mm and the pitch p F2 of the second refraction area 21 is 0.30 mm. As shown in this figure, the occurrence of ring lines is reduced. In this configuration example, as calculated by the following formula (1), the first refraction area 11 deviates by 3.3% or more from the integral multiple (1 time) of the pitch pF2 of the second refraction area 21. It is formed with a pitch.

(pF2-pF1)/pF2×100=(0.30-0.29)/0.30×100≒3.3 ・・・(1) (p F2 - p F1 )/p F2 ×100=(0.30-0.29)/0.30×100≒3.3 (1)

図7Bは、第1の屈折領域11のピッチpF1が0.30mmであり、第2の屈折領域21のピッチpF2が0.30mmであるときの、シミュレーションにより表示された画像である。この図に示されるとおり、輪線が発生している。この構成例では、第1の屈折領域11のピッチpF1が、第2の屈折領域21のピッチpF2の整数倍(1倍)になっている。 FIG. 7B is an image displayed by simulation when the pitch p F1 of the first refraction area 11 is 0.30 mm and the pitch p F2 of the second refraction area 21 is 0.30 mm. As shown in this figure, ring lines are occurring. In this configuration example, the pitch p F1 of the first refraction region 11 is an integral multiple (one time) of the pitch p F2 of the second refraction region 21 .

図7Cは、第1の屈折領域11のピッチpF1が0.31mmであり、第2の屈折領域21のピッチpF2が0.30mmであるときの、シミュレーションにより表示された画像である。この図に示されるとおり、輪線の発生が低減されている。この構成例では、次の式(2)で算出されるとおり、第1の屈折領域11が、第2の屈折領域21のピッチpF2の整数倍(1倍)からさらに3.3%以上乖離したピッチで形成されている。 FIG. 7C is an image displayed by simulation when the pitch p F1 of the first refraction area 11 is 0.31 mm and the pitch p F2 of the second refraction area 21 is 0.30 mm. As shown in this figure, the occurrence of ring lines is reduced. In this configuration example, as calculated by the following formula (2), the first refraction area 11 deviates by 3.3% or more from the integral multiple (1 time) of the pitch pF2 of the second refraction area 21. It is formed with a pitch.

(pF1-pF2)/pF2×100=(0.31-0.30)/0.30×100≒3.3 ・・・(2) (p F1 - p F2 )/p F2 ×100=(0.31-0.30)/0.30×100≒3.3 (2)

以上から、第1の屈折領域11及び第2の屈折領域21のそれぞれが同じ光路上に配されるとき、第1の屈折領域11が、第2の屈折領域21のピッチの整数倍からさらに4%以上乖離したピッチで形成されていることが好ましい。このことについて、さらに図8を参照しつつ説明する。図8は、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。図8A~Cでは、第1の屈折領域11のピッチpF1を固定し、第2の屈折領域21のピッチpF2を変化させている。 From the above, when each of the first refraction area 11 and the second refraction area 21 is disposed on the same optical path, the first refraction area 11 is further 4 It is preferable that the pitches deviate from each other by % or more. This will be further explained with reference to FIG. 8. FIG. 8 is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. In FIGS. 8A to 8C, the pitch p F1 of the first refraction region 11 is fixed, and the pitch p F2 of the second refraction region 21 is varied.

図8Aは、第1の屈折領域11のピッチpF1が0.25mmであり、第2の屈折領域21のピッチpF2が0.23mmであるときの、シミュレーションにより表示された画像である。この図に示されるとおり、輪線の発生が低減されている。この構成例では、次の式(3)で算出されるとおり、第2の屈折領域21が、第1の屈折領域11のピッチpF1の整数倍(1倍)からさらに8%乖離したピッチで形成されている。 FIG. 8A is an image displayed by simulation when the pitch p F1 of the first refraction area 11 is 0.25 mm and the pitch p F2 of the second refraction area 21 is 0.23 mm. As shown in this figure, the occurrence of ring lines is reduced. In this configuration example, as calculated by the following equation (3), the second refraction area 21 has a pitch further deviated by 8% from the integer multiple (1 time) of the pitch pF1 of the first refraction area 11. It is formed.

(pF1-pF2)/pF1×100=(0.25-0.23)/0.25×100=8 ・・・(3) (p F1 - p F2 )/p F1 ×100=(0.25-0.23)/0.25×100=8 (3)

図8Bは、第1の屈折領域11のピッチpF1が0.25mmであり、第2の屈折領域21のピッチpF2が0.24mmであるときの、シミュレーションにより表示された画像である。この図に示されるとおり、輪線の発生が低減されている。この構成例では、次の式(4)で算出されるとおり、第2の屈折領域21が、第1の屈折領域11のピッチpF1の整数倍(1倍)からさらに4%乖離したピッチで形成されている。 FIG. 8B is an image displayed by simulation when the pitch p F1 of the first refraction area 11 is 0.25 mm and the pitch p F2 of the second refraction area 21 is 0.24 mm. As shown in this figure, the occurrence of ring lines is reduced. In this configuration example, as calculated by the following equation (4), the second refraction region 21 has a pitch further deviated by 4% from an integral multiple (1 time) of the pitch pF1 of the first refraction region 11. It is formed.

(pF1-pF2)/pF1×100=(0.25-0.24)/0.25×100=4 ・・・(4) (p F1 - p F2 )/p F1 ×100=(0.25-0.24)/0.25×100=4 (4)

図8Cは、第1の屈折領域11のピッチpF1が0.25mmであり、第2の屈折領域21のピッチpF2が0.25mmであるときの、シミュレーションにより表示された画像である。この図に示されるとおり、輪線が発生している。この構成例では、第2の屈折領域21のピッチpF2が、第1の屈折領域11のピッチpF1の整数倍(1倍)になっている。 FIG. 8C is an image displayed by simulation when the pitch p F1 of the first refraction area 11 is 0.25 mm and the pitch p F2 of the second refraction area 21 is 0.25 mm. As shown in this figure, ring lines are occurring. In this configuration example, the pitch p F2 of the second refraction region 21 is an integral multiple (one time) of the pitch p F1 of the first refraction region 11 .

図8Dは、第1の屈折領域11のピッチpF1が0.25mmであり、第2の屈折領域21のピッチpF2が0.26mmであるときの、シミュレーションにより表示された画像である。この図に示されるとおり、輪線の発生が低減されている。この構成例では、次の式(5)で算出されるとおり、第2の屈折領域21が、第1の屈折領域11のピッチpF1の整数倍(1倍)からさらに4%乖離したピッチで形成されている。 FIG. 8D is an image displayed by simulation when the pitch p F1 of the first refraction area 11 is 0.25 mm and the pitch p F2 of the second refraction area 21 is 0.26 mm. As shown in this figure, the occurrence of ring lines is reduced. In this configuration example, as calculated by the following equation (5), the second refraction area 21 has a pitch further deviated by 4% from an integral multiple (1 time) of the pitch pF1 of the first refraction area 11. It is formed.

(pF2-pF1)/pF1×100=(0.26-0.25)/0.25×100=4 ・・・(5) (p F2 - p F1 )/p F1 ×100=(0.26-0.25)/0.25×100=4 (5)

図8Eは、第1の屈折領域11のピッチpF1が0.25mmであり、第2の屈折領域21のピッチpF2が0.27mmであるときの、シミュレーションにより表示された画像である。この図に示されるとおり、輪線の発生が低減されている。この構成例では、次の式(6)で算出されるとおり、第2の屈折領域21が、第1の屈折領域11のピッチpF1の整数倍(1倍)からさらに8%乖離したピッチで形成されている。 FIG. 8E is an image displayed by simulation when the pitch p F1 of the first refraction area 11 is 0.25 mm and the pitch p F2 of the second refraction area 21 is 0.27 mm. As shown in this figure, the occurrence of ring lines is reduced. In this configuration example, as calculated by the following equation (6), the second refraction area 21 has a pitch further deviated by 8% from the integral multiple (1 time) of the pitch pF1 of the first refraction area 11. It is formed.

(pF2-pF1)/pF1×100=(0.27-0.25)/0.25×100=8 ・・・(6) (p F2 - p F1 )/p F1 ×100=(0.27-0.25)/0.25×100=8 (6)

図8Fは、第1の屈折領域11のピッチpF1が0.25mmであり、第2の屈折領域21のピッチpF2が0.28mmであるときの、シミュレーションにより表示された画像である。この図に示されるとおり、輪線の発生が低減されている。この構成例では、次の式(7)で算出されるとおり、第2の屈折領域21が、第1の屈折領域11のピッチpF1の整数倍(1倍)からさらに12%乖離したピッチで形成されている。 FIG. 8F is an image displayed by simulation when the pitch p F1 of the first refraction area 11 is 0.25 mm and the pitch p F2 of the second refraction area 21 is 0.28 mm. As shown in this figure, the occurrence of ring lines is reduced. In this configuration example, as calculated by the following equation (7), the second refraction region 21 has a pitch that is further deviated by 12% from an integral multiple (1 time) of the pitch pF1 of the first refraction region 11. It is formed.

(pF2-pF1)/pF1×100=(0.28-0.25)/0.25×100=12 ・・・(7) (p F2 - p F1 )/p F1 ×100=(0.28-0.25)/0.25×100=12 (7)

以上のことから、第1の屈折領域11及び第2の屈折領域21のそれぞれが同じ光路上に配されるとき、第1の屈折領域11が、第2の屈折領域21のピッチの整数倍からさらに4%以上乖離したピッチで形成されているとき、輪線の発生を低減できる。これにより、画質の劣化を抑制できる。 From the above, when the first refraction area 11 and the second refraction area 21 are arranged on the same optical path, the first refraction area 11 is arranged from an integral multiple of the pitch of the second refraction area 21. Furthermore, when the pitches are deviated by 4% or more, the occurrence of ring lines can be reduced. Thereby, deterioration of image quality can be suppressed.

本技術の第1の実施形態に係るレンズ系について説明した上記の内容は、技術的な矛盾が特にない限り、本技術の他の実施形態に適用できる。 The above description of the lens system according to the first embodiment of the present technology can be applied to other embodiments of the present technology unless there is a particular technical contradiction.

[2.第2の実施形態(レンズ系の例2)]
上述したように、第1の屈折領域11及び第2の屈折領域21のそれぞれが同じ光路上に配されるとき、第1の屈折領域11のピッチpF1が、第2の屈折領域21のピッチpF2の整数倍であるとき、輪線が発生するおそれがある。発明者は、さらに、第1の屈折領域11のピッチpF1と、第2の屈折領域21のピッチpF2と、の整数比の最小公倍数が輪線の発生に影響することを発見した。例えば、この整数比が1:2であるとき、3分の1の影が、互いに重なり合う領域と、互いに重なり合わない領域を生じさせる。この整数比が3:4であるとき、4分の1の影が、互いに重なり合う領域と、互いに重なり合わない領域を生じさせる。この整数比の最小公倍数が大きくなるほど、影が互いに重なり合う領域と、互いに重なり合わない領域が小さくなり、輪線の発生が抑制される。
[2. Second embodiment (lens system example 2)]
As described above, when the first refraction area 11 and the second refraction area 21 are arranged on the same optical path, the pitch pF1 of the first refraction area 11 is equal to the pitch of the second refraction area 21. When p is an integer multiple of F2 , there is a risk that ring lines will occur. The inventor further discovered that the least common multiple of the integer ratio between the pitch p F1 of the first refraction region 11 and the pitch p F2 of the second refraction region 21 influences the occurrence of ring lines. For example, when this integer ratio is 1:2, one third of the shadows will result in areas that overlap and areas that do not overlap with each other. When this integer ratio is 3:4, a quarter shadow will result in areas that overlap and areas that do not overlap each other. As the least common multiple of this integer ratio becomes larger, the area where the shadows overlap with each other and the area where the shadows do not overlap become smaller, and the generation of ring lines is suppressed.

ただし、この整数比が例えば100:101であるときのように最小公倍数が極端に大きくなると、一方のピッチが他方のピッチの略整数倍になり、輪線が発生するおそれがある。そのため、一方の屈折領域は、他方の屈折領域のピッチの整数倍からさらに4%以上乖離したピッチで形成されていることが好ましい。 However, if the least common multiple becomes extremely large, such as when this integer ratio is 100:101, for example, one pitch becomes approximately an integer multiple of the other pitch, and there is a risk that ring lines may occur. Therefore, it is preferable that one refraction region is formed at a pitch that is further deviated by 4% or more from an integral multiple of the pitch of the other refraction region.

このことについて図9を参照しつつ説明する。図9は、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。図9A~Cでは、第1の屈折領域11のピッチpF1を固定し、第2の屈折領域21のピッチpF2を変化させている。 This will be explained with reference to FIG. 9. FIG. 9 is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. In FIGS. 9A to 9C, the pitch p F1 of the first refraction region 11 is fixed, and the pitch p F2 of the second refraction region 21 is varied.

図9Aは、第1の屈折領域11のピッチpF1が0.300mmであり、第2の屈折領域21のピッチpF2が0.200mmであるときの、シミュレーションにより表示された画像である。この図に示されるとおり、輪線の発生が低減されている。この構成例では、第1の屈折領域11のピッチpF1と、第2の屈折領域21のピッチpF2と、の整数比が3:2になっている。この整数比の最小公倍数は6である。 FIG. 9A is an image displayed by simulation when the pitch p F1 of the first refraction area 11 is 0.300 mm and the pitch p F2 of the second refraction area 21 is 0.200 mm. As shown in this figure, the occurrence of ring lines is reduced. In this configuration example, the integer ratio between the pitch p F1 of the first refraction region 11 and the pitch p F2 of the second refraction region 21 is 3:2. The least common multiple of this integer ratio is 6.

図9Bは、第1の屈折領域11のピッチpF1が0.300mmであり、第2の屈折領域21のピッチpF2が0.250mmであるときの、シミュレーションにより表示された画像である。この図に示されるとおり、輪線の発生が図9Aよりも低減されている。この構成例では、第1の屈折領域11のピッチpF1と、第2の屈折領域21のピッチpF2と、の整数比が6:5になっている。この整数比の最小公倍数は30である。 FIG. 9B is an image displayed by simulation when the pitch p F1 of the first refraction area 11 is 0.300 mm and the pitch p F2 of the second refraction area 21 is 0.250 mm. As shown in this figure, the occurrence of ring lines is reduced compared to FIG. 9A. In this configuration example, the integer ratio between the pitch p F1 of the first refraction region 11 and the pitch p F2 of the second refraction region 21 is 6:5. The least common multiple of this integer ratio is 30.

図9Cは、第1の屈折領域11のピッチpF1が0.300mmであり、第2の屈折領域21のピッチpF2が0.255mmであるときの、シミュレーションにより表示された画像である。この図に示されるとおり、輪線の発生が図9Bよりも低減されている。この構成例では、第1の屈折領域11のピッチpF1と、第2の屈折領域21のピッチpF2と、の整数比が20:17になっている。この整数比の最小公倍数は340である。 FIG. 9C is an image displayed by simulation when the pitch p F1 of the first refraction area 11 is 0.300 mm and the pitch p F2 of the second refraction area 21 is 0.255 mm. As shown in this figure, the occurrence of ring lines is reduced compared to FIG. 9B. In this configuration example, the integer ratio between the pitch p F1 of the first refraction region 11 and the pitch p F2 of the second refraction region 21 is 20:17. The least common multiple of this integer ratio is 340.

以上のことから、第1の屈折領域11及び第2の屈折領域21のそれぞれが同じ光路上に配されるとき、第1の屈折領域11のピッチpF1と、第2の屈折領域21のピッチpF2と、の整数比の最小公倍数が6以上であることが好ましい。より好ましくは、第1の屈折領域11のピッチpF1と、第2の屈折領域21のピッチpF2と、の整数比の最小公倍数が30以上であるとよい。さらに好ましくは、第1の屈折領域11のピッチpF1と、第2の屈折領域21のピッチpF2と、の整数比の最小公倍数が340以上であるとよい。 From the above, when the first refraction area 11 and the second refraction area 21 are arranged on the same optical path, the pitch pF1 of the first refraction area 11 and the pitch of the second refraction area 21 are It is preferable that the least common multiple of the integer ratio of pF2 and F2 is 6 or more. More preferably, the least common multiple of the integer ratio between the pitch p F1 of the first refraction region 11 and the pitch p F2 of the second refraction region 21 is 30 or more. More preferably, the least common multiple of the integer ratio between the pitch p F1 of the first refraction region 11 and the pitch p F2 of the second refraction region 21 is 340 or more.

本技術の第2の実施形態に係るレンズ系について説明した上記の内容は、技術的な矛盾が特にない限り、本技術の他の実施形態に適用できる。 The above description of the lens system according to the second embodiment of the present technology can be applied to other embodiments of the present technology unless there is a particular technical contradiction.

[3.第3の実施形態(レンズ系の例3)]
本技術の他の実施形態について図10を参照しつつ説明する。図10は、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を示す簡略側面図である。
[3. Third embodiment (example 3 of lens system)]
Another embodiment of the present technology will be described with reference to FIG. 10. FIG. 10 is a simplified side view showing a configuration example of a lens system 10 according to an embodiment of the present technology.

図10に示されるとおり、レンズ系10は、少なくとも2つのレンズ面F1,F2を有している。それぞれのレンズ面F1,F2が、1つのフレネルレンズ1の両面に形成されている。このとき、レンズ面F1,F2のそれぞれに形成されている屈折領域のピッチが、レンズ面F1,F2のそれぞれにおいて略一定であってもよいし、レンズ面F1,F2のそれぞれの略中心から外周に向かうにつれて短くなっていてもよい。 As shown in FIG. 10, the lens system 10 has at least two lens surfaces F1 and F2. Respective lens surfaces F1 and F2 are formed on both sides of one Fresnel lens 1. At this time, the pitch of the refractive regions formed on each of the lens surfaces F1 and F2 may be approximately constant on each of the lens surfaces F1 and F2, or from approximately the center of each of the lens surfaces F1 and F2 to the outer periphery. It may become shorter as it approaches.

レンズ面F1,F2のそれぞれに形成されている屈折領域のピッチが、レンズ面F1,F2のそれぞれにおいて略一定であるときの、表示される画像のシミュレーション結果について図11を参照しつつ説明する。図11は、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。 A simulation result of a displayed image when the pitch of the refraction regions formed on each of the lens surfaces F1 and F2 is substantially constant on each of the lens surfaces F1 and F2 will be described with reference to FIG. 11. FIG. 11 is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology.

図11Aは、第1のレンズ面F1に形成されている屈折領域のピッチpF1が0.30mmであり、第2のレンズ面F2に形成されている屈折領域のピッチpF2が0.30mmであるときの、シミュレーションにより表示された画像である。この図に示されるとおり、輪線が発生している。この構成例では、第1のレンズ面F1に形成されている屈折領域のピッチpF1が、第2のレンズ面F2に形成されている屈折領域のピッチpF2の整数倍(1倍)になっている。 In FIG. 11A, the pitch pF1 of the refraction regions formed on the first lens surface F1 is 0.30 mm, and the pitch pF2 of the refraction regions formed on the second lens surface F2 is 0.30 mm. This is an image displayed by simulation at a certain time. As shown in this figure, ring lines are occurring. In this configuration example, the pitch pF1 of the refraction regions formed on the first lens surface F1 is an integral multiple (1 time) of the pitch pF2 of the refraction regions formed on the second lens surface F2. ing.

図11Bは、第1のレンズ面F1に形成されている屈折領域のピッチpF1が0.29mmであり、第2のレンズ面F2に形成されている屈折領域のピッチpF2が0.32mmであるときの、シミュレーションにより表示された画像である。この図に示されるとおり、輪線の発生が低減されている。この構成例では、次の式(8)で算出されるとおり、第1のレンズ面F1に形成されている屈折領域が、第2のレンズ面F2に形成されている屈折領域のピッチpF2の整数倍(1倍)からさらに9.3%以上乖離したピッチで形成されている。 In FIG. 11B, the pitch pF1 of the refraction regions formed on the first lens surface F1 is 0.29 mm, and the pitch pF2 of the refraction regions formed on the second lens surface F2 is 0.32 mm. This is an image displayed by simulation at a certain time. As shown in this figure, the occurrence of ring lines is reduced. In this configuration example, as calculated by the following equation (8), the refraction area formed on the first lens surface F1 is equal to the pitch pF2 of the refraction area formed on the second lens surface F2 . The pitch is further deviated by 9.3% or more from an integral multiple (1 times).

(pF2-pF1)/pF2×100=(0.32-0.29)/0.32×100≒9.3 ・・・(8) (p F2 - p F1 )/p F2 ×100=(0.32-0.29)/0.32×100≒9.3 (8)

レンズ面F1,F2のそれぞれに形成されているいずれかの屈折領域のピッチが、レンズ面F1,F2のそれぞれの略中心から外周に向かうにつれて短くなっているときの、表示される画像のシミュレーション結果について図12を参照しつつ説明する。図12Aは、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。図12Bは、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の設計例を示すグラフである。横軸は、レンズ面の中心からの距離を示している。縦軸は、ピッチを示している。 Simulation results of the displayed image when the pitch of one of the refractive regions formed on each of the lens surfaces F1 and F2 becomes shorter from the approximate center to the outer periphery of each of the lens surfaces F1 and F2. will be explained with reference to FIG. FIG. 12A is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. FIG. 12B is a graph showing a design example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. The horizontal axis indicates the distance from the center of the lens surface. The vertical axis indicates pitch.

図12Bに示されるとおり、第1のレンズ面F1に形成されている屈折領域のピッチpF1は、第1のレンズ面F1において略一定である。一方、第2のレンズ面F2に形成されている屈折領域のピッチpF2は、第2のレンズ面F2の略中心から外周に向かうにつれて短くなっており、第2のレンズ面F2の略中心からの距離が15mm以上になると略一定になっている。このような設計例であるとき、図12Aに示されるとおり、輪線の発生が低減されている。 As shown in FIG. 12B, the pitch p F1 of the refractive regions formed on the first lens surface F1 is approximately constant on the first lens surface F1. On the other hand, the pitch pF2 of the refractive regions formed on the second lens surface F2 becomes shorter from the approximate center of the second lens surface F2 toward the outer periphery. When the distance becomes 15 mm or more, it becomes approximately constant. With such a design example, as shown in FIG. 12A, the occurrence of ring lines is reduced.

本技術の第3の実施形態に係るレンズ系について説明した上記の内容は、技術的な矛盾が特にない限り、本技術の他の実施形態に適用できる。 The above description of the lens system according to the third embodiment of the present technology can be applied to other embodiments of the present technology unless there is a particular technical contradiction.

[4.第4の実施形態(レンズ系の例4)]
本技術の他の実施形態について図13を参照しつつ説明する。図13は、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を示す簡略側面図である。
[4. Fourth embodiment (Example 4 of lens system)]
Another embodiment of the present technology will be described with reference to FIG. 13. FIG. 13 is a simplified side view showing a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology.

図13に示されるとおり、レンズ系10は、少なくとも2つのレンズ面F1,F2を有している。それぞれのレンズ面F1,F2が、複数のフレネルレンズに形成されている。この構成例では、それぞれのレンズ面F1,F2が、2つのフレネルレンズ1,2に形成されている。互いのフレネルレンズ1,2の片面に、レンズ面F1,F2が形成されている。第1のフレネルレンズ1の片面に、第1のレンズ面F1が形成されている。第2のフレネルレンズ2の片面に、第2のレンズ面F2が形成されている。このとき、レンズ面F1,F2のそれぞれに形成されている屈折領域のピッチが、レンズ面F1,F2のそれぞれにおいて略一定であってもよいし、レンズ面F1,F2のそれぞれの略中心から外周に向かうにつれて短くなっていてもよい。 As shown in FIG. 13, the lens system 10 has at least two lens surfaces F1 and F2. Each lens surface F1, F2 is formed into a plurality of Fresnel lenses. In this configuration example, respective lens surfaces F1 and F2 are formed in two Fresnel lenses 1 and 2. Lens surfaces F1 and F2 are formed on one side of each Fresnel lens 1 and 2. A first lens surface F1 is formed on one side of the first Fresnel lens 1. A second lens surface F2 is formed on one side of the second Fresnel lens 2. At this time, the pitch of the refractive regions formed on each of the lens surfaces F1 and F2 may be approximately constant on each of the lens surfaces F1 and F2, or from approximately the center of each of the lens surfaces F1 and F2 to the outer periphery. It may become shorter as it approaches.

レンズ面F1,F2のそれぞれに形成されている屈折領域のピッチが、レンズ面F1,F2のそれぞれにおいて略一定であるときの、表示される画像のシミュレーション結果について図14を参照しつつ説明する。図14は、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。 A simulation result of a displayed image when the pitch of the refraction regions formed on each of the lens surfaces F1 and F2 is substantially constant on each of the lens surfaces F1 and F2 will be described with reference to FIG. 14. FIG. 14 is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology.

図14Aは、第1のレンズ面F1に形成されている屈折領域のピッチpF1が0.30mmであり、第2のレンズ面F2に形成されている屈折領域のピッチpF2が0.30mmであるときの、シミュレーションにより表示された画像である。この図に示されるとおり、輪線が発生している。この構成例では、第1のレンズ面F1に形成されている屈折領域のピッチpF1が、第2のレンズ面F2に形成されている屈折領域のピッチpF2の整数倍(1倍)になっている。 In FIG. 14A, the pitch pF1 of the refraction regions formed on the first lens surface F1 is 0.30 mm, and the pitch pF2 of the refraction regions formed on the second lens surface F2 is 0.30 mm. This is an image displayed by simulation at a certain time. As shown in this figure, ring lines are occurring. In this configuration example, the pitch pF1 of the refraction regions formed on the first lens surface F1 is an integral multiple (1 time) of the pitch pF2 of the refraction regions formed on the second lens surface F2. ing.

図14Bは、第1のレンズ面F1に形成されている屈折領域のピッチpF1が0.30mmであり、第2のレンズ面F2に形成されている屈折領域のピッチpF2が0.55mmであるときの、シミュレーションにより表示された画像である。この図に示されるとおり、輪線の発生が低減されている。この構成例では、次の式(9)で算出されるとおり、第1のレンズ面F1に形成されている屈折領域が、第2のレンズ面F2に形成されている屈折領域のピッチpF2の整数倍(2倍)からさらに9%以上乖離したピッチで形成されている。 In FIG. 14B, the pitch pF1 of the refraction regions formed on the first lens surface F1 is 0.30 mm, and the pitch pF2 of the refraction regions formed on the second lens surface F2 is 0.55 mm. This is an image displayed by simulation at a certain time. As shown in this figure, the occurrence of ring lines is reduced. In this configuration example, as calculated by the following equation (9), the refraction area formed on the first lens surface F1 is equal to the pitch pF2 of the refraction area formed on the second lens surface F2 . The pitch is further deviated by 9% or more from an integral multiple (twice).

(pF1×2-pF2)/pF2×100=(0.60-0.55)/0.55×100≒9 ・・・(9) (p F1 ×2-p F2 )/p F2 ×100=(0.60-0.55)/0.55×100≒9...(9)

レンズ面F1,F2のそれぞれに形成されているいずれかの屈折領域のピッチが、レンズ面F1,F2のそれぞれの略中心から外周に向かうにつれて短くなっているときの、表示される画像のシミュレーション結果について図15を参照しつつ説明する。図15Aは、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。図15Bは、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の設計例を示すグラフである。横軸は、レンズ面の中心からの距離を示している。縦軸は、ピッチを示している。 Simulation results of the displayed image when the pitch of one of the refractive regions formed on each of the lens surfaces F1 and F2 becomes shorter from the approximate center to the outer periphery of each of the lens surfaces F1 and F2. will be explained with reference to FIG. FIG. 15A is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. FIG. 15B is a graph showing a design example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. The horizontal axis indicates the distance from the center of the lens surface. The vertical axis indicates pitch.

図15Bに示されるとおり、第1のレンズ面F1に形成されている屈折領域のピッチpF1と、第2のレンズ面F2に形成されている屈折領域のピッチpF2と、のそれぞれは、レンズ面F1,F2の略中心から外周に向かうにつれて短くなっている。このような設計例であるとき、図15Aに示されるとおり、輪線の発生が低減されている。 As shown in FIG. 15B, the pitch pF1 of the refraction regions formed on the first lens surface F1 and the pitch pF2 of the refraction regions formed on the second lens surface F2 are It becomes shorter from the approximate center of the surfaces F1 and F2 toward the outer periphery. With such a design example, as shown in FIG. 15A, the occurrence of ring lines is reduced.

本技術の第4の実施形態に係るレンズ系について説明した上記の内容は、技術的な矛盾が特にない限り、本技術の他の実施形態に適用できる。 The above description of the lens system according to the fourth embodiment of the present technology can be applied to other embodiments of the present technology unless there is a particular technical contradiction.

[5.第5の実施形態(レンズ系の例5)]
本技術の他の実施形態について図16を参照しつつ説明する。図16は、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を示す簡略側面図である。
[5. Fifth embodiment (example 5 of lens system)]
Another embodiment of the present technology will be described with reference to FIG. 16. FIG. 16 is a simplified side view showing a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology.

図16に示されるとおり、レンズ系10は、少なくとも3つのレンズ面F1,F2,F3を有している。それぞれのレンズ面F1,F2,F3が、複数のフレネルレンズに形成されている。この構成例では、それぞれのレンズ面F1,F2,F3が、2つのフレネルレンズ1,2に形成されている。一方のフレネルレンズ1の両面にレンズ面F1,F2が形成されている。他方のフレネルレンズ2の片面にレンズ面F3が形成されている。このとき、レンズ面F1,F2,F3のそれぞれに形成されている屈折領域のピッチが、レンズ面F1,F2,F3のそれぞれにおいて略一定であってもよいし、レンズ面F1,F2,F3のそれぞれの略中心から外周に向かうにつれて短くなっていてもよい。 As shown in FIG. 16, the lens system 10 has at least three lens surfaces F1, F2, and F3. Each lens surface F1, F2, F3 is formed into a plurality of Fresnel lenses. In this configuration example, the respective lens surfaces F1, F2, and F3 are formed in two Fresnel lenses 1 and 2. Lens surfaces F1 and F2 are formed on both surfaces of one Fresnel lens 1. A lens surface F3 is formed on one side of the other Fresnel lens 2. At this time, the pitch of the refractive regions formed on each of the lens surfaces F1, F2, and F3 may be approximately constant on each of the lens surfaces F1, F2, and F3, or the pitch of the refractive regions formed on each of the lens surfaces F1, F2, and The length may become shorter as it goes from the approximate center to the outer periphery.

レンズ面F1,F2,F3のそれぞれに形成されている屈折領域のピッチが、レンズ面F1,F2,F3のそれぞれにおいて略一定であるときの、表示される画像のシミュレーション結果について図17を参照しつつ説明する。図17は、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。 Refer to FIG. 17 for simulation results of displayed images when the pitch of the refraction regions formed on each of lens surfaces F1, F2, and F3 is approximately constant on each of lens surfaces F1, F2, and F3. I will explain. FIG. 17 is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology.

図17Aは、第1のレンズ面F1に形成されている屈折領域のピッチpF1が0.30mmであり、第2のレンズ面F2に形成されている屈折領域のピッチpF2が0.28mmであり、第3のレンズ面F3に形成されている屈折領域のピッチpF3が0.28mmであるときの、シミュレーションにより表示された画像である。この図に示されるとおり、輪線が発生している。この構成例では、第2のレンズ面F2に形成されている屈折領域のピッチpF2が、第3のレンズ面F3に形成されている屈折領域のピッチpF3の整数倍(1倍)になっている。 In FIG. 17A, the pitch pF1 of the refraction regions formed on the first lens surface F1 is 0.30 mm, and the pitch pF2 of the refraction regions formed on the second lens surface F2 is 0.28 mm. This is an image displayed by simulation when the pitch pF3 of the refractive regions formed on the third lens surface F3 is 0.28 mm. As shown in this figure, ring lines are occurring. In this configuration example, the pitch pF2 of the refraction regions formed on the second lens surface F2 is an integral multiple (1 time) of the pitch pF3 of the refraction regions formed on the third lens surface F3. ing.

図17Bは、第1のレンズ面F1に形成されている屈折領域のピッチpF1が0.30mmであり、第2のレンズ面F2に形成されている屈折領域のピッチpF2が0.25mmであり、第3のレンズ面F3に形成されている屈折領域のピッチpF3が0.27mmであるときの、シミュレーションにより表示された画像である。この図に示されるとおり、輪線の発生が低減されている。この構成例では、次の式(10)で算出されるとおり、第1のレンズ面F1に形成されている屈折領域が、第2のレンズ面F2に形成されている屈折領域のピッチpF2の整数倍(1倍)からさらに20%以上乖離したピッチで形成されている。 In FIG. 17B, the pitch pF1 of the refraction regions formed on the first lens surface F1 is 0.30 mm, and the pitch pF2 of the refraction regions formed on the second lens surface F2 is 0.25 mm. This is an image displayed by simulation when the pitch pF3 of the refractive regions formed on the third lens surface F3 is 0.27 mm. As shown in this figure, the occurrence of ring lines is reduced. In this configuration example, as calculated by the following equation (10), the refraction area formed on the first lens surface F1 is equal to the pitch pF2 of the refraction area formed on the second lens surface F2 . The pitch is further deviated by 20% or more from an integral multiple (1 times).

(pF1-pF2)/pF2×100=(0.30-0.25)/0.25×100=20 ・・・(10) (p F1 - p F2 )/p F2 ×100=(0.30-0.25)/0.25×100=20 (10)

さらに、第1のレンズ面F1に形成されている屈折領域のピッチpF1と、第2のレンズ面F2に形成されている屈折領域のピッチpF2と、の整数比の最小公倍数が30になっている。 Furthermore, the least common multiple of the integer ratio of the pitch pF1 of the refraction regions formed on the first lens surface F1 and the pitch pF2 of the refraction regions formed on the second lens surface F2 is 30. ing.

また、次の式(11)で算出されるとおり、第3のレンズ面F3に形成されている屈折領域が、第2のレンズ面F2に形成されている屈折領域のピッチpF2の整数倍(1倍)からさらに8%以上乖離したピッチで形成されている。 Furthermore, as calculated by the following equation (11), the refraction area formed on the third lens surface F3 is arranged at a pitch p F2 that is an integral multiple of the refraction area formed on the second lens surface F2 ( 1 times) by 8% or more.

(pF3-pF2)/pF2×100=(0.27-0.25)/0.25×100=8 ・・・(11) (p F3 - p F2 )/p F2 ×100=(0.27-0.25)/0.25×100=8 (11)

レンズ面F1,F2,F3のそれぞれに形成されているいずれかの屈折領域のピッチが、レンズ面F1,F2,F3のそれぞれの略中心から外周に向かうにつれて短くなっているときの、表示される画像のシミュレーション結果について図18を参照しつつ説明する。図18Aは、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を用いたシミュレーションにより表示された画像である。図18Bは、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の設計例を示すグラフである。横軸は、レンズ面の中心からの距離を示している。縦軸は、ピッチを示している。 Displayed when the pitch of any of the refractive regions formed on each of the lens surfaces F1, F2, F3 becomes shorter from the approximate center to the outer periphery of each of the lens surfaces F1, F2, F3. The image simulation results will be explained with reference to FIG. 18. FIG. 18A is an image displayed by a simulation using a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. FIG. 18B is a graph showing a design example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology. The horizontal axis indicates the distance from the center of the lens surface. The vertical axis indicates pitch.

図18Bに示されるとおり、第1のレンズ面F1に形成されている屈折領域のピッチpF1は、第1のレンズ面F1において略一定である。一方、第2のレンズ面F2に形成されている屈折領域のピッチpF2と、第3のレンズ面F3に形成されている屈折領域のピッチpF3と、のそれぞれは、レンズ面F2,F3の略中心から外周に向かうにつれて短くなっている。このような設計例であるとき、図18Aに示されるとおり、輪線の発生が低減されている。 As shown in FIG. 18B, the pitch p F1 of the refractive regions formed on the first lens surface F1 is approximately constant on the first lens surface F1. On the other hand, the pitch pF2 of the refraction regions formed on the second lens surface F2 and the pitch pF3 of the refraction regions formed on the third lens surface F3 are respectively different from each other. It becomes shorter from the center toward the outer periphery. With such a design example, as shown in FIG. 18A, the occurrence of ring lines is reduced.

本技術の第5の実施形態に係るレンズ系について説明した上記の内容は、技術的な矛盾が特にない限り、本技術の他の実施形態に適用できる。 The above description of the lens system according to the fifth embodiment of the present technology can be applied to other embodiments of the present technology unless there is a particular technical contradiction.

[6.第6の実施形態(レンズ系の例6)]
本技術の他の実施形態について図19を参照しつつ説明する。図19は、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を示す簡略側面図である。
[6. Sixth embodiment (example 6 of lens system)]
Another embodiment of the present technology will be described with reference to FIG. 19. FIG. 19 is a simplified side view showing a configuration example of a lens system 10 according to an embodiment of the present technology.

図19に示されるとおり、レンズ系10は、少なくとも4つのレンズ面F1,F2,F3,F4を有している。それぞれのレンズ面F1,F2,F3,F4が、複数のフレネルレンズに形成されている。この構成例では、それぞれのレンズ面F1,F2,F3,F4が、2つのフレネルレンズ1,2に形成されている。互いのフレネルレンズ1,2の両面にレンズ面F1,F2,F3,F4が形成されている。第1のフレネルレンズ1の両面にレンズ面F1,F2が形成されている。第2のフレネルレンズ2の両面にレンズ面F3,F4が形成されている。このとき、レンズ面F1,F2,F3,F4のそれぞれに形成されている屈折領域のピッチが、レンズ面F1,F2,F3,F4のそれぞれにおいて略一定であってもよいし、レンズ面F1,F2,F3,F4のそれぞれの略中心から外周に向かうにつれて短くなっていてもよい。 As shown in FIG. 19, the lens system 10 has at least four lens surfaces F1, F2, F3, and F4. Each lens surface F1, F2, F3, F4 is formed into a plurality of Fresnel lenses. In this configuration example, respective lens surfaces F1, F2, F3, and F4 are formed in two Fresnel lenses 1 and 2. Lens surfaces F1, F2, F3, and F4 are formed on both surfaces of the Fresnel lenses 1 and 2. Lens surfaces F1 and F2 are formed on both surfaces of the first Fresnel lens 1. Lens surfaces F3 and F4 are formed on both surfaces of the second Fresnel lens 2. At this time, the pitch of the refractive regions formed on each of the lens surfaces F1, F2, F3, and F4 may be approximately constant on each of the lens surfaces F1, F2, F3, and F4, or the pitch of the refractive regions formed on each of the lens surfaces F1, F2, F3, and F4 may be approximately constant. It may become shorter as it goes from the approximate center of each of F2, F3, and F4 toward the outer periphery.

本技術の第6の実施形態に係るレンズ系について説明した上記の内容は、技術的な矛盾が特にない限り、本技術の他の実施形態に適用できる。 The above description of the lens system according to the sixth embodiment of the present technology can be applied to other embodiments of the present technology unless there is a particular technical contradiction.

[7.第7の実施形態(レンズ系の例7)]
本技術の他の実施形態について図20を参照しつつ説明する。図20は、本技術の一実施形態に係るレンズ系10の構成例を示す簡略側面図である。
[7. Seventh embodiment (example 7 of lens system)]
Another embodiment of the present technology will be described with reference to FIG. 20. FIG. 20 is a simplified side view showing a configuration example of the lens system 10 according to an embodiment of the present technology.

図20に示されるとおり、レンズ系10は、少なくとも5つのレンズ面F1,F2,F3,F4,F5を有している。それぞれのレンズ面F1,F2,F3,F4,F5が、複数のフレネルレンズに形成されている。この構成例では、それぞれのレンズ面F1,F2,F3,F4,F5が、3つのフレネルレンズ1,2,3に形成されている。第1のフレネルレンズ1の両面にレンズ面F1,F2が形成されている。第2のフレネルレンズ2の両面にレンズ面F3,F4が形成されている。第3のフレネルレンズ3の一方の面にレンズ面F5が形成されている。このとき、レンズ面F1,F2,F3,F4,F5のそれぞれに形成されている屈折領域のピッチが、レンズ面F1,F2,F3,F4,F5のそれぞれにおいて略一定であってもよいし、レンズ面F1,F2,F3,F4,F5のそれぞれの略中心から外周に向かうにつれて短くなっていてもよい。 As shown in FIG. 20, the lens system 10 has at least five lens surfaces F1, F2, F3, F4, and F5. Each lens surface F1, F2, F3, F4, F5 is formed into a plurality of Fresnel lenses. In this configuration example, three Fresnel lenses 1, 2, and 3 are formed with respective lens surfaces F1, F2, F3, F4, and F5. Lens surfaces F1 and F2 are formed on both surfaces of the first Fresnel lens 1. Lens surfaces F3 and F4 are formed on both surfaces of the second Fresnel lens 2. A lens surface F5 is formed on one surface of the third Fresnel lens 3. At this time, the pitch of the refraction regions formed on each of the lens surfaces F1, F2, F3, F4, and F5 may be approximately constant on each of the lens surfaces F1, F2, F3, F4, and F5, The length may become shorter from the approximate center of each of the lens surfaces F1, F2, F3, F4, and F5 toward the outer periphery.

なお、屈折領域が形成されているレンズ面の数や、前記レンズ面を有しているフレネルレンズの数は、特に限定されない。 Note that the number of lens surfaces on which refractive regions are formed and the number of Fresnel lenses having the lens surfaces are not particularly limited.

本技術の第7の実施形態に係るレンズ系について説明した上記の内容は、技術的な矛盾が特にない限り、本技術の他の実施形態に適用できる。 The above description of the lens system according to the seventh embodiment of the present technology can be applied to other embodiments of the present technology unless there is a particular technical contradiction.

[8.第8の実施形態(画像表示装置の例)]
本技術は、第1から第7の実施形態に係るレンズ系10を備えている、画像表示装置を提供する。この画像表示装置の構成例について図21を参照しつつ説明する。図21は、本技術の一実施形態に係る画像表示装置100の構成例を示す簡略側面図である。
[8. Eighth embodiment (example of image display device)]
The present technology provides an image display device including the lens system 10 according to the first to seventh embodiments. An example of the configuration of this image display device will be described with reference to FIG. 21. FIG. 21 is a simplified side view showing a configuration example of an image display device 100 according to an embodiment of the present technology.

図21に示されるとおり、画像表示装置100は、第1から第7の実施形態に係るレンズ系10と、レンズ系10に画像光を出射する画像形成部20と、を備えている。 As shown in FIG. 21, the image display device 100 includes the lens system 10 according to the first to seventh embodiments, and an image forming section 20 that emits image light to the lens system 10.

画像形成部20は、画像光を形成する。画像形成部20は、画像形成部20内で映像を作り出すためにマイクロパネルを使うことが可能である。このマイクロパネルは、例えばマイクロLEDやマイクロOLEDのような自発光パネルを用いてもよい。反射型もしくは透過型液晶を用いて、LED(Light Emitting Diode)光源やLD(Laser Diode)光源などを照明光学系と組み合わせて使用してもよい。 The image forming section 20 forms image light. The image forming section 20 can use micropanels to create images within the image forming section 20. This micro panel may be a self-luminous panel such as a micro LED or a micro OLED. A reflective or transmissive liquid crystal may be used in combination with an LED (Light Emitting Diode) light source, an LD (Laser Diode) light source, or the like with an illumination optical system.

画像形成部20から出射された画像光は、例えば投射レンズ(図示省略)などにより略平行光に変換されてレンズ系10に入射される。 The image light emitted from the image forming section 20 is converted into substantially parallel light by, for example, a projection lens (not shown), and then enters the lens system 10 .

画像表示装置100は、ユーザの頭部に装着されるヘッドマウントディスプレイ(HMD)などでありうる。あるいは、画像表示装置100は、インフラとして所定の場所に配置されてもよい。 The image display device 100 may be a head mounted display (HMD) that is worn on the user's head. Alternatively, the image display device 100 may be placed at a predetermined location as infrastructure.

本技術の第8の実施形態に係る画像表示装置について説明した上記の内容は、技術的な矛盾が特にない限り、本技術の他の実施形態に適用できる。 The above description of the image display device according to the eighth embodiment of the present technology can be applied to other embodiments of the present technology unless there is a particular technical contradiction.

なお、本技術に係る実施形態は、上述した各実施形態及に限定されるものではなく、本技術の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。 Note that the embodiments according to the present technology are not limited to the embodiments described above, and various changes can be made without departing from the gist of the present technology.

また、本技術は、以下のような構成をとることもできる。
[1]
少なくとも2つのレンズ面を有しており、
それぞれの前記レンズ面には、同心円状に並ぶ複数の屈折領域が形成されており、
少なくとも1つの前記レンズ面である第1のレンズ面には、前記屈折領域である第1の屈折領域が形成されており、
前記第1のレンズ面とは異なる前記レンズ面である第2のレンズ面には、前記屈折領域である第2の屈折領域が形成されており、
前記第1の屈折領域及び前記第2の屈折領域のそれぞれが同じ光路上に配されるとき、前記第1の屈折領域が、前記第2の屈折領域のピッチの整数倍からさらに4%以上乖離したピッチで形成されている、レンズ系。
[2]
前記第1の屈折領域及び前記第2の屈折領域のそれぞれが同じ光路上に配されるとき、前記第1の屈折領域のピッチと、前記第2の屈折領域のピッチと、の整数比の最小公倍数が6以上である、
[1]に記載のレンズ系。
[3]
前記第1の屈折領域及び前記第2の屈折領域のそれぞれが同じ光路上に配されるとき、前記第1の屈折領域のピッチと、前記第2の屈折領域のピッチと、の整数比の最小公倍数が30以上である、
[1]又は[2]に記載のレンズ系。
[4]
前記屈折領域のピッチが、前記レンズ面において略一定である、
[1]から[3]のいずれか一つに記載のレンズ系。
[5]
前記屈折領域のピッチが、前記レンズ面の略中心から外周に向かうにつれて短くなっている、
[1]から[4]のいずれか一つに記載のレンズ系。
[6]
前記レンズ面が、1つのフレネルレンズの両面に形成されている、
[1]から[5]のいずれか一つに記載のレンズ系。
[7]
前記レンズ面が、複数のフレネルレンズに形成されている、
[1]から[6]のいずれか一つに記載のレンズ系。
[8]
前記レンズ面が、2つのフレネルレンズに形成されており、
互いの前記フレネルレンズの片面に、前記レンズ面が形成されている、
[7]に記載のレンズ系。
[9]
前記レンズ面が、2つのフレネルレンズに形成されており、
一方の前記フレネルレンズの両面に前記レンズ面が形成されており、
他方の前記フレネルレンズの片面に前記レンズ面が形成されている、
[7]又は[8]に記載のレンズ系。
[10]
前記レンズ面が、2つのフレネルレンズに形成されており、
互いの前記フレネルレンズの両面に前記レンズ面が形成されている、
[7]から[9]のいずれか一つに記載のレンズ系。
[11]
前記レンズ面が、3つのフレネルレンズに形成されている、
[7]から[10]のいずれか一つに記載のレンズ系。
[12]
[1]から[11]のいずれか一つに記載のレンズ系を備えている、画像表示装置。
Further, the present technology can also have the following configuration.
[1]
has at least two lens surfaces,
A plurality of refraction regions arranged concentrically are formed on each of the lens surfaces,
A first refraction area, which is the refraction area, is formed on a first lens surface, which is at least one of the lens surfaces, and
A second refraction region, which is the refraction region, is formed on the second lens surface, which is the lens surface different from the first lens surface, and
When each of the first refraction area and the second refraction area is arranged on the same optical path, the first refraction area further deviates by 4% or more from an integral multiple of the pitch of the second refraction area. A lens system formed with a pitch of
[2]
When each of the first refraction area and the second refraction area is arranged on the same optical path, the minimum integer ratio of the pitch of the first refraction area and the pitch of the second refraction area The common multiple is 6 or more,
The lens system according to [1].
[3]
When each of the first refraction area and the second refraction area is arranged on the same optical path, the minimum integer ratio of the pitch of the first refraction area and the pitch of the second refraction area The common multiple is 30 or more,
The lens system according to [1] or [2].
[4]
the pitch of the refractive regions is substantially constant on the lens surface;
The lens system according to any one of [1] to [3].
[5]
The pitch of the refractive regions becomes shorter from approximately the center of the lens surface toward the outer periphery.
The lens system according to any one of [1] to [4].
[6]
the lens surfaces are formed on both sides of one Fresnel lens;
The lens system according to any one of [1] to [5].
[7]
the lens surface is formed into a plurality of Fresnel lenses;
The lens system according to any one of [1] to [6].
[8]
the lens surface is formed into two Fresnel lenses;
The lens surface is formed on one side of each Fresnel lens,
The lens system according to [7].
[9]
the lens surface is formed into two Fresnel lenses;
The lens surfaces are formed on both sides of one of the Fresnel lenses,
the lens surface is formed on one side of the other Fresnel lens;
The lens system according to [7] or [8].
[10]
the lens surface is formed into two Fresnel lenses;
The lens surfaces are formed on both sides of the Fresnel lenses,
The lens system according to any one of [7] to [9].
[11]
the lens surface is formed into three Fresnel lenses;
The lens system according to any one of [7] to [10].
[12]
An image display device comprising the lens system according to any one of [1] to [11].

10 レンズ系
1~3 フレネルレンズ
F1~F5 レンズ面
11 第1の屈折領域
12 第1の非屈折領域
21 第2の屈折領域
22 第2の非屈折領域
100 画像表示装置
10 Lens system 1-3 Fresnel lens F1-F5 Lens surface 11 First refractive area 12 First non-refractive area 21 Second refractive area 22 Second non-refractive area 100 Image display device

Claims (12)

少なくとも2つのレンズ面を有しており、
それぞれの前記レンズ面には、同心円状に並ぶ複数の屈折領域が形成されており、
少なくとも1つの前記レンズ面である第1のレンズ面には、前記屈折領域である第1の屈折領域が形成されており、
前記第1のレンズ面とは異なる前記レンズ面である第2のレンズ面には、前記屈折領域である第2の屈折領域が形成されており、
前記第1の屈折領域及び前記第2の屈折領域のそれぞれが同じ光路上に配されるとき、前記第1の屈折領域が、前記第2の屈折領域のピッチの整数倍からさらに4%以上乖離したピッチで形成されている、レンズ系。
has at least two lens surfaces,
A plurality of refraction regions arranged concentrically are formed on each of the lens surfaces,
A first refraction area, which is the refraction area, is formed on a first lens surface, which is at least one of the lens surfaces, and
A second refraction region, which is the refraction region, is formed on the second lens surface, which is the lens surface different from the first lens surface, and
When each of the first refraction area and the second refraction area is arranged on the same optical path, the first refraction area further deviates by 4% or more from an integral multiple of the pitch of the second refraction area. A lens system formed with a pitch of
前記第1の屈折領域及び前記第2の屈折領域のそれぞれが同じ光路上に配されるとき、前記第1の屈折領域のピッチと、前記第2の屈折領域のピッチと、の整数比の最小公倍数が6以上である、
請求項1に記載のレンズ系。
When each of the first refraction area and the second refraction area is arranged on the same optical path, the minimum integer ratio of the pitch of the first refraction area and the pitch of the second refraction area The common multiple is 6 or more,
A lens system according to claim 1.
前記第1の屈折領域及び前記第2の屈折領域のそれぞれが同じ光路上に配されるとき、前記第1の屈折領域のピッチと、前記第2の屈折領域のピッチと、の整数比の最小公倍数が30以上である、
請求項1に記載のレンズ系。
When each of the first refraction area and the second refraction area is arranged on the same optical path, the minimum integer ratio of the pitch of the first refraction area and the pitch of the second refraction area The common multiple is 30 or more,
A lens system according to claim 1.
前記屈折領域のピッチが、前記レンズ面において略一定である、
請求項1に記載のレンズ系。
the pitch of the refractive regions is substantially constant on the lens surface;
A lens system according to claim 1.
前記屈折領域のピッチが、前記レンズ面の略中心から外周に向かうにつれて短くなっている、
請求項1に記載のレンズ系。
The pitch of the refractive regions becomes shorter from approximately the center of the lens surface toward the outer periphery.
A lens system according to claim 1.
前記レンズ面が、1つのフレネルレンズの両面に形成されている、
請求項1に記載のレンズ系。
the lens surfaces are formed on both sides of one Fresnel lens;
A lens system according to claim 1.
前記レンズ面が、複数のフレネルレンズに形成されている、
請求項1に記載のレンズ系。
the lens surface is formed into a plurality of Fresnel lenses;
A lens system according to claim 1.
前記レンズ面が、2つのフレネルレンズに形成されており、
互いの前記フレネルレンズの片面に、前記レンズ面が形成されている、
請求項7に記載のレンズ系。
the lens surface is formed into two Fresnel lenses;
The lens surface is formed on one side of each Fresnel lens,
A lens system according to claim 7.
前記レンズ面が、2つのフレネルレンズに形成されており、
一方の前記フレネルレンズの両面に前記レンズ面が形成されており、
他方の前記フレネルレンズの片面に前記レンズ面が形成されている、
請求項7に記載のレンズ系。
the lens surface is formed into two Fresnel lenses;
The lens surfaces are formed on both sides of one of the Fresnel lenses,
the lens surface is formed on one side of the other Fresnel lens;
A lens system according to claim 7.
前記レンズ面が、2つのフレネルレンズに形成されており、
互いの前記フレネルレンズの両面に前記レンズ面が形成されている、
請求項7に記載のレンズ系。
the lens surface is formed into two Fresnel lenses;
The lens surfaces are formed on both sides of the Fresnel lenses,
A lens system according to claim 7.
前記レンズ面が、3つのフレネルレンズに形成されている、
請求項7に記載のレンズ系。
the lens surface is formed into three Fresnel lenses;
A lens system according to claim 7.
請求項1に記載のレンズ系を備えている、画像表示装置。

An image display device comprising the lens system according to claim 1.

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