JP2023121271A - Light emitting device, projector, and display - Google Patents

Light emitting device, projector, and display Download PDF

Info

Publication number
JP2023121271A
JP2023121271A JP2022024524A JP2022024524A JP2023121271A JP 2023121271 A JP2023121271 A JP 2023121271A JP 2022024524 A JP2022024524 A JP 2022024524A JP 2022024524 A JP2022024524 A JP 2022024524A JP 2023121271 A JP2023121271 A JP 2023121271A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
light
control element
current control
emitting device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2022024524A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
崇 宮田
Takashi Miyata
洋司 北野
Yoji Kitano
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2022024524A priority Critical patent/JP2023121271A/en
Publication of JP2023121271A publication Critical patent/JP2023121271A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Projection Apparatus (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

To provide a light emitting device that can reduce light emission unevenness.SOLUTION: A light emitting device has: a substrate; a columnar part aggregate formed of a plurality of columnar parts each having a first semiconductor layer, a second semiconductor layer, and a luminous layer; and a first electrode and a second electrode provided separate from each other on a side of the columnar aggregate opposite to the substrate. The first semiconductor layer is provided between the substrate and the luminous layer. The first electrode overlaps a first columnar part of the plurality of columnar parts when seen from a lamination direction of the first semiconductor layer and the luminous layer, and is electrically connected with the second semiconductor layer of the first columnar part. The second electrode overlaps a second columnar part of the plurality of columnar parts when seen from the lamination direction, and is electrically connected with the second semiconductor layer of the second columnar part.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、発光装置、プロジェクター、およびディスプレイに関する。 The present invention relates to light emitting devices, projectors, and displays.

半導体レーザーは、高輝度の次世代光源として期待されている。中でも、ナノコラムを適用した半導体レーザーは、ナノコラムによるフォトニック結晶の効果によって、狭放射角で高出力の発光が実現できると期待されている。 Semiconductor lasers are expected to be high-intensity next-generation light sources. Among them, semiconductor lasers to which nanocolumns are applied are expected to realize light emission with a narrow emission angle and high output due to the photonic crystal effect of the nanocolumns.

例えば特許文献1には、複数の柱状のナノワイヤーと、複数のナノワイヤーの上部に配されたp型透明電極と、p型透明電極に接続された電極パッドと、を備えた発光素子が記載されている。 For example, Patent Literature 1 describes a light-emitting device that includes a plurality of columnar nanowires, a p-type transparent electrode arranged on top of the plurality of nanowires, and an electrode pad connected to the p-type transparent electrode. It is

特開2009-147140号公報JP 2009-147140 A

しかしながら、特許文献1に記載の発光素子では、p型透明電極における電圧降下によって、電極パッドに近いナノワイヤーと、電極パッドから遠いナノワイヤーと、で注入電流量に差が生じる。注入電流量に差が生じると、発光強度が異なり、発光むらが発生する。 However, in the light-emitting device described in Patent Document 1, a voltage drop in the p-type transparent electrode causes a difference in the amount of injected current between the nanowires close to the electrode pads and the nanowires far from the electrode pads. If there is a difference in the amount of injected current, the light emission intensity will be different, resulting in uneven light emission.

本発明に係る発光装置の一態様は、
基板と、
各々が第1導電型の第1半導体層、前記第1導電型と異なる第2導電型の第2半導体層、および前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に設けられた発光層を有する複数の柱状部、から構成される柱状部集合体と、
前記柱状部集合体の前記基板とは反対側において互いに離隔して設けられた第1電極および第2電極と、
を有し、
前記第1半導体層は、前記基板と前記発光層との間に設けられ、
前記第1電極は、前記第1半導体層と前記発光層との積層方向からみて、前記複数の柱状部のうちの第1柱状部と重なり、かつ前記第1柱状部の前記第2半導体層と電気的に接続され、
前記第2電極は、前記積層方向からみて、前記複数の柱状部のうちの第2柱状部と重なり、かつ前記第2柱状部の前記第2半導体層と電気的に接続されている。
One aspect of the light-emitting device according to the present invention is
a substrate;
a first semiconductor layer of a first conductivity type, a second semiconductor layer of a second conductivity type different from the first conductivity type, and a light-emitting layer provided between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer a columnar section aggregate composed of a plurality of columnar sections having
a first electrode and a second electrode provided separately from each other on the opposite side of the columnar assembly from the substrate;
has
The first semiconductor layer is provided between the substrate and the light emitting layer,
The first electrode overlaps with a first columnar portion of the plurality of columnar portions when viewed from the stacking direction of the first semiconductor layer and the light emitting layer, and overlaps with the second semiconductor layer of the first columnar portion. electrically connected,
The second electrode overlaps a second columnar portion of the plurality of columnar portions when viewed from the stacking direction, and is electrically connected to the second semiconductor layer of the second columnar portion.

本発明に係るプロジェクターの一態様は、
前記発光装置の一態様を有する。
One aspect of the projector according to the present invention is
It has one mode of the light-emitting device.

本発明に係るディスプレイの一態様は、
前記発光装置の一態様を有する。
One aspect of the display according to the present invention is
It has one mode of the light-emitting device.

本実施形態に係る発光装置を模式的に示す断面図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Sectional drawing which shows typically the light-emitting device which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る発光装置を模式的に示す平面図。1 is a plan view schematically showing a light emitting device according to this embodiment; FIG. ITO電極を流れる電流を説明するための断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining current flowing through an ITO electrode; 本実施形態に係る発光装置の製造工程を模式的に示す断面図。4A to 4C are cross-sectional views schematically showing manufacturing steps of the light-emitting device according to the present embodiment; 本実施形態に係る発光装置の製造工程を模式的に示す断面図。4A to 4C are cross-sectional views schematically showing manufacturing steps of the light-emitting device according to the present embodiment; 本実施形態の第1変形例に係る発光装置を模式的に示す平面図。The top view which shows typically the light-emitting device which concerns on the 1st modification of this embodiment. 本実施形態の第2変形例に係る発光装置を模式的に示す平面図。The top view which shows typically the light-emitting device which concerns on the 2nd modification of this embodiment. 本実施形態の第3変形例に係る発光装置を模式的に示す断面図。Sectional drawing which shows typically the light-emitting device which concerns on the 3rd modification of this embodiment. 本実施形態の第4変形例に係る発光装置を模式的に示す平面図。The top view which shows typically the light-emitting device which concerns on the 4th modification of this embodiment. 本実施形態の第5変形例に係る発光装置を模式的に示す平面図。The top view which shows typically the light-emitting device which concerns on the 5th modification of this embodiment. 本実施形態に係るプロジェクターを模式的に示す図。FIG. 2 is a diagram schematically showing a projector according to the embodiment; FIG. 本実施形態に係るディスプレイを模式的に示す平面図。FIG. 2 is a plan view schematically showing the display according to the embodiment; 本実施形態に係るディスプレイを模式的に示す断面図。Sectional drawing which shows typically the display which concerns on this embodiment.

以下、本発明の好適な実施形態について、図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また、以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。 Preferred embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. It should be noted that the embodiments described below do not unduly limit the scope of the invention described in the claims. Moreover, not all the configurations described below are essential constituent elements of the present invention.

1. 発光装置
1.1. 構成
まず、本実施形態に係る発光装置について、図面を参照しながら説明する。図1は、本実施形態に係る発光装置100を模式的に示す断面図である。図2は、本実施形態に係る発光装置100を模式的に示す平面図である。なお、図1は、図2のI-I線断面図である。
1. Light emitting device 1.1. Configuration First, a light emitting device according to this embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a light emitting device 100 according to this embodiment. FIG. 2 is a plan view schematically showing the light emitting device 100 according to this embodiment. 1 is a sectional view taken along line II of FIG.

発光装置100は、図1および図2に示すように、例えば、基板10と、積層体20と、下部電極50と、上部電極60と、を有している。発光装置100は、例えば、半導体レーザーである。なお、便宜上、図2では、発光装置100を構成する一部の部材の図示を省略している。 The light emitting device 100 has, for example, a substrate 10, a laminate 20, a lower electrode 50, and an upper electrode 60, as shown in FIGS. The light emitting device 100 is, for example, a semiconductor laser. For the sake of convenience, illustration of some members constituting the light emitting device 100 is omitted in FIG.

基板10は、例えば、Si基板、GaN基板、サファイア基板、SiC基板などである。 The substrate 10 is, for example, a Si substrate, a GaN substrate, a sapphire substrate, a SiC substrate, or the like.

積層体20は、図1に示すように、基板10に設けられている。図示の例では、積層体20は、基板10上に設けられている。積層体20は、例えば、バッファー層22と、複数の柱状部30と、絶縁層40と、を有している。 The laminate 20 is provided on the substrate 10 as shown in FIG. In the illustrated example, the laminate 20 is provided on the substrate 10 . The laminate 20 has, for example, a buffer layer 22 , a plurality of columnar portions 30 and an insulating layer 40 .

本明細書では、積層体20の積層方向(以下、単に「積層方向」ともいう)において、柱状部30の発光層34を基準とした場合、発光層34から柱状部30の第2半導体層36に向かう方向を「上」とし、発光層34から柱状部30の第1半導体層32に向かう方向を「下」として説明する。また、積層方向と直交する方向を「面内方向」ともいう。「積層体20の積層方向」とは、第1半導体層32と発光層34との積層方向のことである。 In this specification, when the light emitting layer 34 of the columnar section 30 is used as a reference in the stacking direction of the laminate 20 (hereinafter also simply referred to as the “stacking direction”), the second semiconductor layer 36 of the columnar section 30 from the light emitting layer 34 , and the direction from the light-emitting layer 34 to the first semiconductor layer 32 of the columnar portion 30 is referred to as "down." Moreover, the direction perpendicular to the stacking direction is also referred to as the “in-plane direction”. The “stacking direction of the stack 20 ” is the stacking direction of the first semiconductor layer 32 and the light emitting layer 34 .

バッファー層22は、基板10上に設けられている。バッファー層22は、例えば、Siがドープされたn型のGaN層である。なお、図示はしないが、バッファー層22上には、複数の柱状部30を成長させるためのマスク層が設けられていてもよい。マスク層は、例えば、チタン層、酸化シリコン層、酸化チタン層、酸化アルミニウム層などである。 A buffer layer 22 is provided on the substrate 10 . The buffer layer 22 is, for example, an n-type GaN layer doped with Si. Although not shown, a mask layer for growing the plurality of columnar portions 30 may be provided on the buffer layer 22 . The mask layer is, for example, a titanium layer, a silicon oxide layer, a titanium oxide layer, an aluminum oxide layer, or the like.

柱状部30は、バッファー層22上に設けられている。柱状部30は、バッファー層22から上方に突出した柱状の形状を有している。言い換えれば、柱状部30は、バッファー層22を介して、基板10から上方に突出している。柱状部30は、例えば、ナノコラム、ナノワイヤー、ナノロッド、ナノピラーとも呼ばれる。柱状部30の平面形状は、例えば、六角形などの多角形、円である。 The columnar portion 30 is provided on the buffer layer 22 . The columnar portion 30 has a columnar shape protruding upward from the buffer layer 22 . In other words, the columnar portion 30 protrudes upward from the substrate 10 through the buffer layer 22 . The columnar part 30 is also called, for example, a nanocolumn, nanowire, nanorod, or nanopillar. The planar shape of the columnar portion 30 is, for example, a polygon such as a hexagon, or a circle.

柱状部30の径は、例えば、50nm以上500nm以下である。柱状部30の径を500nm以下とすることによって、高品質な結晶の発光層34を得ることができ、かつ、発光層34に内在する歪を低減することができる。これにより、発光層34で発生する光を高い効率で増幅することができる。 The diameter of the columnar portion 30 is, for example, 50 nm or more and 500 nm or less. By setting the diameter of the columnar portion 30 to 500 nm or less, it is possible to obtain the light-emitting layer 34 of high quality crystals and to reduce the strain inherent in the light-emitting layer 34 . Thereby, the light generated in the light emitting layer 34 can be amplified with high efficiency.

なお、「柱状部30の径」とは、柱状部30の平面形状が円の場合は、直径であり、柱状部30の平面形状が円ではない形状の場合は、最小包含円の直径である。例えば、柱状部30の径は、柱状部30の平面形状が多角形の場合、該多角形を内部に含む最小の円の直径であり、柱状部30の平面形状が楕円の場合、該楕円を内部に含む最小の円の直径である。このことは、後述する「第1部分66aの径」および「第2部分66bの径」において、同様である。 The “diameter of the columnar portion 30” is the diameter when the planar shape of the columnar portion 30 is circular, and is the diameter of the minimum inclusive circle when the planar shape of the columnar portion 30 is not circular. . For example, if the planar shape of the columnar part 30 is polygonal, the diameter of the columnar part 30 is the diameter of the smallest circle that includes the polygon. The diameter of the smallest circle that can be included inside. This is the same for the "diameter of the first portion 66a" and the "diameter of the second portion 66b" which will be described later.

柱状部30は、複数設けられている。複数の柱状部30は、互いに離隔して設けられている。隣り合う柱状部30の間隔は、例えば、1nm以上500nm以下である。複数の柱状部30は、積層方向からみて、所定の方向に所定のピッチで配列されている。複数の柱状部30は、例えば、三角格子状、正方格子状に配列されている。複数の柱状部30は、フォトニック結晶の効果を発現することができる。 A plurality of columnar portions 30 are provided. The plurality of columnar portions 30 are provided separated from each other. The interval between adjacent columnar portions 30 is, for example, 1 nm or more and 500 nm or less. The plurality of columnar portions 30 are arranged at a predetermined pitch in a predetermined direction when viewed from the stacking direction. The plurality of columnar portions 30 are arranged, for example, in a triangular lattice pattern or a square lattice pattern. The plurality of columnar portions 30 can exhibit the effect of photonic crystals.

なお、「柱状部30のピッチ」とは、所定の方向に隣り合う柱状部30の中心間の距離である。「柱状部30の中心」とは、柱状部30の平面形状が円の場合は、該円の中心であり、柱状部30の平面形状が円ではない形状の場合は、最小包含円の中心である。例えば、柱状部30の中心は、柱状部30の平面形状が多角形の場合、該多角形を内部に含む最小の円の中心であり、柱状部30の平面形状が楕円の場合、該楕円を内部に含む最小の円の中心である。 The “pitch of the columnar portions 30” is the distance between the centers of the columnar portions 30 adjacent to each other in a predetermined direction. The “center of the columnar portion 30” means the center of the circle when the planar shape of the columnar portion 30 is circular, and the center of the minimum containing circle when the planar shape of the columnar portion 30 is not circular. be. For example, if the planar shape of the columnar portion 30 is polygonal, the center of the columnar portion 30 is the center of the smallest circle that includes the polygon. It is the center of the smallest enclosing circle.

複数の柱状部30は、1つの柱状部集合体31を構成している。積層体20は、柱状部集合体31を有している。柱状部集合体31は、バッファー層22を介して、基板10に設けられている。柱状部集合体31において、複数の柱状部30のピッチは、互いに同じである。 A plurality of columnar portions 30 constitute one columnar portion assembly 31 . The laminate 20 has a columnar assembly 31 . The columnar section assembly 31 is provided on the substrate 10 with the buffer layer 22 interposed therebetween. In the columnar portion assembly 31, the pitches of the plurality of columnar portions 30 are the same.

柱状部30は、図1に示すように、第1半導体層32と、発光層34と、第2半導体層36と、を有している。 The columnar portion 30 has a first semiconductor layer 32, a light emitting layer 34, and a second semiconductor layer 36, as shown in FIG.

第1半導体層32は、バッファー層22上に設けられている。第1半導体層32は、基板10と発光層34との間に設けられている。第1半導体層32は、第1導電型の半導体層である。第1半導体層32は、例えば、Siがドープされたn型のGaN層である。 The first semiconductor layer 32 is provided on the buffer layer 22 . The first semiconductor layer 32 is provided between the substrate 10 and the light emitting layer 34 . The first semiconductor layer 32 is a first conductivity type semiconductor layer. The first semiconductor layer 32 is, for example, an n-type GaN layer doped with Si.

発光層34は、第1半導体層32と第2半導体層36との間に設けられている。発光層34は、電流が注入されることで光を発生させる。発光層34は、例えば、ウェル層と、バリア層と、を有している。ウェル層およびバリア層は、不純物が意図的にドープされていないi型の半導体層である。ウェル層は、例えば、InGaN層である。バリア層は、例えば、GaN層である。発光層34は、ウェル層とバリア層とから構成されたMQW(Multiple Quantum Well)構造を有している。 The light emitting layer 34 is provided between the first semiconductor layer 32 and the second semiconductor layer 36 . The light-emitting layer 34 emits light when current is injected into it. The light emitting layer 34 has, for example, a well layer and a barrier layer. The well layer and the barrier layer are i-type semiconductor layers that are not intentionally doped with impurities. The well layer is, for example, an InGaN layer. The barrier layer is, for example, a GaN layer. The light emitting layer 34 has an MQW (Multiple Quantum Well) structure composed of a well layer and a barrier layer.

なお、発光層34を構成するウェル層およびバリア層の数は、特に限定されない。例えば、ウェル層は、1層だけ設けられていてもよく、この場合、発光層34は、SQW(Single Quantum Well)構造を有している。 The number of well layers and barrier layers forming the light-emitting layer 34 is not particularly limited. For example, only one well layer may be provided, and in this case, the light emitting layer 34 has an SQW (Single Quantum Well) structure.

第2半導体層36は、発光層34上に設けられている。第2半導体層36は、発光層34と上部電極60との間に設けられている。第2半導体層36は、第1導電型と異なる第2導電型の半導体層である。第2半導体層36は、例えば、Mgがドープされたp型のGaN層である。第1半導体層32および第2半導体層36は、発光層34に光を閉じ込める機能を有するクラッド層である。図示の例では、柱状部30の上面は、ファセット面で構成されている。図示はしないが、柱状部30の上面は、c面で構成されていてもよいし、ファセット面とc面とで構成されていてもよい。 The second semiconductor layer 36 is provided on the light emitting layer 34 . The second semiconductor layer 36 is provided between the light emitting layer 34 and the upper electrode 60 . The second semiconductor layer 36 is a semiconductor layer of a second conductivity type different from the first conductivity type. The second semiconductor layer 36 is, for example, a p-type GaN layer doped with Mg. The first semiconductor layer 32 and the second semiconductor layer 36 are clad layers that have the function of confining light in the light emitting layer 34 . In the illustrated example, the top surface of the columnar portion 30 is configured as a facet surface. Although not shown, the upper surface of the columnar portion 30 may be composed of a c-plane, or may be composed of a facet plane and a c-plane.

なお、図示はしないが、第1半導体層32と発光層34との間、および発光層34と第2半導体層36との間の少なくとも一方に、i型のInGaN層およびGaN層からなるOCL(Optical Confinement Layer)が設けられていてもよい。また、第2半導体層36は、p型のAlGaN層からなるEBL(Electron Blocking Layer)を有してもよい。 Although not shown, an OCL (OCL) consisting of an i-type InGaN layer and a GaN layer is provided between the first semiconductor layer 32 and the light emitting layer 34 and between the light emitting layer 34 and the second semiconductor layer 36 at least one of them. Optical Confinement Layer) may be provided. The second semiconductor layer 36 may also have an EBL (Electron Blocking Layer) made of a p-type AlGaN layer.

発光装置100では、p型の第2半導体層36、不純物が意図的にドープされていないi型の発光層34、およびn型の第1半導体層32により、pinダイオードが構成される。発光装置100では、下部電極50と上部電極60との間に、pinダイオードの順バイアス電圧を印加すると、発光層34に電流が注入されて発光層34において電子と正孔との再結合が起こる。この再結合により発光が生じる。発光層34で発生した光は、面内方向に伝搬し、複数の柱状部30によるフォトニック結晶の効果により定在波を形成して、発光層34で利得を受けてレーザー発振する。そして、発光装置100は、+1次回折光および-1次回折光をレーザー光として、積層方向に出射する。 In the light emitting device 100, the p-type second semiconductor layer 36, the i-type light emitting layer 34 intentionally not doped with impurities, and the n-type first semiconductor layer 32 form a pin diode. In the light-emitting device 100, when a forward bias voltage of a pin diode is applied between the lower electrode 50 and the upper electrode 60, current is injected into the light-emitting layer 34, and recombination of electrons and holes occurs in the light-emitting layer 34. . This recombination produces light emission. The light generated in the light-emitting layer 34 propagates in the in-plane direction, forms a standing wave due to the photonic crystal effect of the plurality of columnar portions 30, and receives gain in the light-emitting layer 34 to cause laser oscillation. Then, the light emitting device 100 emits the +1st-order diffracted light and the −1st-order diffracted light as laser light in the lamination direction.

なお、図示はしないが、基板10とバッファー層22との間、または基板10の下に反射層が設けられていてもよい。該反射層は、例えば、DBR(Distributed Bragg Reflector)層である。該反射層によって、発光層34において発生した光を反射させることができ、発光装置100は、上部電極60側からのみ光を出射することができる。 Although not shown, a reflective layer may be provided between the substrate 10 and the buffer layer 22 or under the substrate 10 . The reflective layer is, for example, a DBR (Distributed Bragg Reflector) layer. The light generated in the light emitting layer 34 can be reflected by the reflective layer, and the light emitting device 100 can emit light only from the upper electrode 60 side.

絶縁層40は、柱状部集合体31の基板10とは反対側に設けられている。絶縁層40は、複数の柱状部30の基板10とは反対側に設けられている。図示の例では、絶縁層40は、バッファー層22上およびコンタクト電極62上に設けられている。絶縁層40は、積層方向からみて、複数の柱状部30を囲んでいる。絶縁層40には、コンタクトホール42が設けられている。コンタクトホール42は、絶縁層40を積層方向に貫通している。絶縁層40は、例えば、酸化シリコン層、窒化シリコン層、酸化窒化シリコン層、ポリイミド層などである。 The insulating layer 40 is provided on the opposite side of the columnar assembly 31 from the substrate 10 . The insulating layer 40 is provided on the side of the plurality of columnar portions 30 opposite to the substrate 10 . In the illustrated example, the insulating layer 40 is provided on the buffer layer 22 and the contact electrode 62 . The insulating layer 40 surrounds the plurality of columnar portions 30 when viewed from the stacking direction. A contact hole 42 is provided in the insulating layer 40 . The contact hole 42 penetrates the insulating layer 40 in the stacking direction. The insulating layer 40 is, for example, a silicon oxide layer, a silicon nitride layer, a silicon oxynitride layer, a polyimide layer, or the like.

下部電極50は、バッファー層22上に設けられている。図示の例では、バッファー層22の一部が掘り込まれ、バッファー層22の掘り込まれた部分に下部電極50が設けられている。バッファー層22は、下部電極50とオーミックコンタクトしていてもよい。下部電極50は、第1半導体層32と電気的に接続されている。図示の例では、下部電極50は、バッファー層22を介して、第1半導体層32と電気的に接続されている。下部電極50としては、例えば、バッファー層22側から、Cr層、Ni層、Au層の順序で積層されたものなどを用いる。下部電極50は、発光層34に電流を注入するための一方の電極である。 A lower electrode 50 is provided on the buffer layer 22 . In the illustrated example, a portion of the buffer layer 22 is dug, and the lower electrode 50 is provided in the dug portion of the buffer layer 22 . The buffer layer 22 may be in ohmic contact with the lower electrode 50 . The lower electrode 50 is electrically connected with the first semiconductor layer 32 . In the illustrated example, the lower electrode 50 is electrically connected to the first semiconductor layer 32 through the buffer layer 22 . As the lower electrode 50, for example, a layer in which a Cr layer, a Ni layer, and an Au layer are laminated in this order from the buffer layer 22 side is used. The lower electrode 50 is one electrode for injecting current into the light emitting layer 34 .

上部電極60は、第2半導体層36上に設けられている。さらに、上部電極60は、絶縁層40上に設けられている。第2半導体層36は、上部電極60とオーミックコンタクトしていてもよい。上部電極60は、発光層34に電流を注入するための他方の電極である。上部電極60の詳細については、後述する。 The upper electrode 60 is provided on the second semiconductor layer 36 . Furthermore, the upper electrode 60 is provided on the insulating layer 40 . The second semiconductor layer 36 may be in ohmic contact with the upper electrode 60 . The upper electrode 60 is the other electrode for injecting current into the light emitting layer 34 . Details of the upper electrode 60 will be described later.

なお、上記では、InGaN系の発光層34について説明したが、発光層34としては、出射される光の波長に応じて、電流が注入されることで発光可能な様々な材料系を用いることができる。例えば、AlGaN系、AlGaAs系、InGaAs系、InGaAsP系、InP系、GaP系、AlGaP系などの半導体材料を用いることができる。 Although the InGaN-based light-emitting layer 34 has been described above, various materials that can emit light when a current is injected can be used as the light-emitting layer 34 depending on the wavelength of the emitted light. can. For example, AlGaN-based, AlGaAs-based, InGaAs-based, InGaAsP-based, InP-based, GaP-based, and AlGaP-based semiconductor materials can be used.

また、発光装置100は、レーザーに限らず、LED(Light Emitting Diode)であってもよい。 Moreover, the light emitting device 100 is not limited to a laser, and may be an LED (Light Emitting Diode).

1.2. 上部電極等
上部電極60は、図1および図2に示すように、例えば、コンタクト電極62と、第1電極64と、第2電極66と、第3電極68と、を有している。さらに、発光装置100は、例えば、絶縁層70と、第1配線80と、第2配線82と、第1電流制御素子90と、第2電流制御素子92と、を有している。
1.2. Upper Electrode, etc. The upper electrode 60 has, for example, a contact electrode 62, a first electrode 64, a second electrode 66, and a third electrode 68, as shown in FIGS. Further, the light emitting device 100 has, for example, an insulating layer 70, a first wiring 80, a second wiring 82, a first current control element 90, and a second current control element 92.

なお、便宜上、図2では、第1電極64、第2電極66、第3電極68、第1配線80、第2配線82、第1電流制御素子90、および第2電流制御素子92以外の部材の図示を省略している。 For the sake of convenience, in FIG. is omitted.

コンタクト電極62は、図1に示すように、複数の柱状部30上に設けられている。柱状部30は、コンタクト電極62と接している。図示の例では、発光装置100は、コンタクト電極62と接していないダミー柱状部3を有している。ダミー柱状部3は、発光しない柱状部である。積層方向からみて、柱状部集合体31は、例えば、複数のダミー柱状部3に囲まれている。ダミー柱状部3は、柱状部30を形成する工程で形成される。 The contact electrodes 62 are provided on the plurality of columnar portions 30, as shown in FIG. The columnar portion 30 is in contact with the contact electrode 62 . In the illustrated example, the light emitting device 100 has dummy columnar portions 3 that are not in contact with the contact electrodes 62 . The dummy columnar portion 3 is a columnar portion that does not emit light. Seen from the stacking direction, the columnar section assembly 31 is surrounded by, for example, a plurality of dummy columnar sections 3 . The dummy columnar portion 3 is formed in the process of forming the columnar portion 30 .

コンタクト電極62は、複数の柱状部30と、第1電極64および第2電極66と、の間に設けられている。コンタクト電極62は、第2半導体層36上に設けられている。第2半導体層36は、コンタクト電極62とオーミックコンタクトしていてもよい。コンタクト電極62の平面形状は、例えば、円である。 The contact electrodes 62 are provided between the plurality of columnar portions 30 and the first electrodes 64 and the second electrodes 66 . A contact electrode 62 is provided on the second semiconductor layer 36 . The second semiconductor layer 36 may be in ohmic contact with the contact electrode 62 . The planar shape of the contact electrode 62 is, for example, a circle.

コンタクト電極62は、例えば、金属材料で構成されている。コンタクト電極62は、例えば、第2半導体層36側から、Pd層、Pt層、Ni層、Au層の順序で積層されたものや、金属層の単層である。コンタクト電極62の電気抵抗率は、第1電極64の電気抵抗率、および第2電極66の電気抵抗率よりも小さい。これにより、第1電極64および第2電極66が第2半導体層36と接触する場合に比べて、上部電極60と第2半導体層36との接触抵抗を小さくすることができる。 The contact electrode 62 is made of, for example, a metal material. The contact electrode 62 is, for example, one in which a Pd layer, a Pt layer, a Ni layer, and an Au layer are stacked in this order from the second semiconductor layer 36 side, or a single metal layer. The electrical resistivity of the contact electrode 62 is smaller than the electrical resistivity of the first electrode 64 and the electrical resistivity of the second electrode 66 . Thereby, the contact resistance between the upper electrode 60 and the second semiconductor layer 36 can be reduced compared to the case where the first electrode 64 and the second electrode 66 are in contact with the second semiconductor layer 36 .

コンタクト電極62の厚さは、例えば、第1電極64の厚さ、および第2電極66の厚さより小さい。これにより、コンタクト電極62を通過する光の量を大きくすることができる。 The thickness of the contact electrode 62 is smaller than the thickness of the first electrode 64 and the thickness of the second electrode 66, for example. Thereby, the amount of light passing through the contact electrode 62 can be increased.

第1電極64は、柱状部集合体31の基板10とは反対側に設けられている。第1電極64は、コンタクト電極62上に設けられている。第1電極64は、コンタクト電極62と第3電極68との間に設けられている。積層方向からみて、第1電極64は、コンタクトホール42と重なっている。第1電極64は、コンタクトホール42に設けられている。図2に示す例では、第1電極64の平面形状は、円である。第1電極64は、ITO(Indium Tin Oxide)やZnO等の透明電極材料で構成されている。 The first electrode 64 is provided on the opposite side of the columnar assembly 31 from the substrate 10 . A first electrode 64 is provided on the contact electrode 62 . The first electrode 64 is provided between the contact electrode 62 and the third electrode 68 . The first electrode 64 overlaps the contact hole 42 when viewed from the stacking direction. The first electrode 64 is provided in the contact hole 42 . In the example shown in FIG. 2, the planar shape of the first electrode 64 is a circle. The first electrode 64 is made of a transparent electrode material such as ITO (Indium Tin Oxide) or ZnO.

第1電極64は、積層方向からみて、複数の柱状部30のうちの複数の第1柱状部30aと重なっている。第1電極64は、第1柱状部30aの第2半導体層36と電気的に接続されている。第1電極64は、図1に示すように、例えば、コンタクト電極62を介して、第1柱状部30aの第2半導体層36と電気的に接続されている。 The first electrode 64 overlaps the plurality of first columnar portions 30a among the plurality of columnar portions 30 when viewed from the stacking direction. The first electrode 64 is electrically connected to the second semiconductor layer 36 of the first columnar portion 30a. The first electrode 64 is electrically connected to the second semiconductor layer 36 of the first columnar portion 30a via, for example, the contact electrode 62, as shown in FIG.

第2電極66は、柱状部集合体31の基板10とは反対側に設けられている。第2電極66は、コンタクト電極62上に設けられている。第2電極66は、コンタクト電極62と絶縁層70との間に設けられている。第2電極66は、第1電極64と離隔して設けられている。図2に示す例では、第2電極66の平面形状は、リング状である。積層方向からみて、第2電極66の面積は、第1電極64の面積よりも大きい。第2電極66の材質は、例えば、第1電極64と同じである。また、本実施形態において、第1電極64の厚さは、第2電極66の厚さと同じであるが、これに限らず、第1電極64と第2電極66の厚さとが異なっていてもよい。例えば、第1電極64の厚さは、第2電極66の厚さ以上であってもよい。 The second electrode 66 is provided on the opposite side of the columnar assembly 31 from the substrate 10 . A second electrode 66 is provided on the contact electrode 62 . A second electrode 66 is provided between the contact electrode 62 and the insulating layer 70 . The second electrode 66 is provided apart from the first electrode 64 . In the example shown in FIG. 2, the planar shape of the second electrode 66 is ring-shaped. The area of the second electrode 66 is larger than the area of the first electrode 64 when viewed from the stacking direction. The material of the second electrode 66 is, for example, the same as that of the first electrode 64 . In addition, in the present embodiment, the thickness of the first electrode 64 is the same as the thickness of the second electrode 66, but this is not limiting, and the thickness of the first electrode 64 and the thickness of the second electrode 66 may be different. good. For example, the thickness of the first electrode 64 may be greater than or equal to the thickness of the second electrode 66 .

第2電極66は、積層方向からみて、複数の柱状部30のうちの複数の第2柱状部30bと重なっている。第2電極66は、第2柱状部30bの第2半導体層36と電気的に接続されている。第2電極66は、図1に示すように、例えば、コンタクト電極62を介して、第2柱状部30bの第2半導体層36と電気的に接続されている。 The second electrode 66 overlaps the plurality of second columnar portions 30b among the plurality of columnar portions 30 when viewed from the stacking direction. The second electrode 66 is electrically connected to the second semiconductor layer 36 of the second columnar portion 30b. The second electrode 66 is electrically connected to the second semiconductor layer 36 of the second columnar portion 30b via the contact electrode 62, for example, as shown in FIG.

なお、第1電極64は、第1柱状部30aの第2半導体層36と電気的に接続されていれば、第2柱状部30bの第2半導体層36と電気的に接続されていてもよい。また、第2電極66は、第2柱状部30bの第2半導体層36と電気的に接続されていれば、第1柱状部30aの第2半導体層36と電気的に接続されていてもよい。 The first electrode 64 may be electrically connected to the second semiconductor layer 36 of the second columnar portion 30b as long as it is electrically connected to the second semiconductor layer 36 of the first columnar portion 30a. . The second electrode 66 may be electrically connected to the second semiconductor layer 36 of the first columnar section 30a as long as it is electrically connected to the second semiconductor layer 36 of the second columnar section 30b. .

第2電極66は、図1および図2に示すように、例えば、第1部分66aと、第2部分66bと、を有している。 The second electrode 66, as shown in FIGS. 1 and 2, has, for example, a first portion 66a and a second portion 66b.

第2電極66の第1部分66aは、積層方向からみて、コンタクトホール42と重なっている。第1部分66aは、積層方向からみて、絶縁層40と重なっていない。図1に示す例では、第1部分66aは、コンタクト電極62上に設けられている。第1部分66aは、図2に示すように、積層方向からみて、第1電極64を囲んだ形状を有している。図示の例では、第1部分66aの形状は、リング状である。 The first portion 66a of the second electrode 66 overlaps the contact hole 42 when viewed from the stacking direction. The first portion 66a does not overlap the insulating layer 40 when viewed from the stacking direction. In the example shown in FIG. 1 , the first portion 66 a is provided on the contact electrode 62 . As shown in FIG. 2, the first portion 66a has a shape surrounding the first electrode 64 when viewed from the stacking direction. In the illustrated example, the shape of the first portion 66a is ring-shaped.

第2電極66の第2部分66bは、第1部分66aに接続されている。第2部分66bは、積層方向からみて、絶縁層40と重なっている。図1に示す例では、第2部分66bは、コンタクトホール42の内面、および絶縁層40の上面に設けられている。コンタクトホール42の内面は、コンタクトホール42を規定する絶縁層40の側面41である。図示の例では、側面41は、基板10の上面に対して傾斜している。第2部分66bは、図2に示すように、積層方向からみて、第1部分66aを囲んだ形状を有している。図示の例では、第2部分66bの形状は、リング状である。 A second portion 66b of the second electrode 66 is connected to the first portion 66a. The second portion 66b overlaps the insulating layer 40 when viewed from the stacking direction. In the example shown in FIG. 1 , the second portion 66b is provided on the inner surface of the contact hole 42 and the upper surface of the insulating layer 40 . The inner surface of contact hole 42 is side surface 41 of insulating layer 40 that defines contact hole 42 . In the illustrated example, the side surface 41 is inclined with respect to the upper surface of the substrate 10 . As shown in FIG. 2, the second portion 66b has a shape surrounding the first portion 66a when viewed from the stacking direction. In the illustrated example, the shape of the second portion 66b is ring-shaped.

第3電極68は、図1に示すように、第1電極64上に設けられている。さらに、第3電極68は、絶縁層70上に設けられている。図2に示す例では、第3電極68の平面形状は、円である。第3電極68の材質は、例えば、第1電極64と同じである。また、例えば、第1電極64および第3電極68が積層された部分における、第1電極64および第3電極68の厚さの和は、第2電極66より大きい。 The third electrode 68 is provided on the first electrode 64, as shown in FIG. Furthermore, the third electrode 68 is provided on the insulating layer 70 . In the example shown in FIG. 2, the planar shape of the third electrode 68 is a circle. The material of the third electrode 68 is, for example, the same as that of the first electrode 64 . Also, for example, the sum of the thicknesses of the first electrode 64 and the third electrode 68 is greater than that of the second electrode 66 at the portion where the first electrode 64 and the third electrode 68 are laminated.

絶縁層70は、図1に示すように、第1電極64と第2電極66との間に設けられている。絶縁層70は、さらに、第2電極66と第3電極68との間に設けられている。絶縁層70は、コンタクト電極62上、第2電極66上、第2配線82上、および絶縁層40上に設けられている。絶縁層70は、例えば、酸化シリコン層、窒化シリコン層、酸化窒化シリコン層などである。 The insulating layer 70 is provided between the first electrode 64 and the second electrode 66, as shown in FIG. The insulating layer 70 is also provided between the second electrode 66 and the third electrode 68 . The insulating layer 70 is provided on the contact electrode 62 , the second electrode 66 , the second wiring 82 and the insulating layer 40 . The insulating layer 70 is, for example, a silicon oxide layer, a silicon nitride layer, a silicon oxynitride layer, or the like.

第1配線80は、第3電極68上および絶縁層70上に設けられている。第1配線80は、第1電極64と電気的に接続されている。図示の例では、第1配線80は、第3電極68を介して、第1電極64と電気的に接続されている。図2に示す例では、第1配線80は、第3電極68から一方に延在している。第1配線80は、銅、金などの金属材料で構成されていてもよいし、透明電極材料で構成されていてもよい。第1配線80が透明電極材料で構成されている場合、第1配線80は、第3電極68と一体的に設けられていてもよい。 The first wiring 80 is provided on the third electrode 68 and the insulating layer 70 . The first wiring 80 is electrically connected to the first electrode 64 . In the illustrated example, the first wiring 80 is electrically connected to the first electrode 64 via the third electrode 68 . In the example shown in FIG. 2, the first wiring 80 extends from the third electrode 68 to one side. The first wiring 80 may be made of a metal material such as copper or gold, or may be made of a transparent electrode material. When the first wiring 80 is made of a transparent electrode material, the first wiring 80 may be provided integrally with the third electrode 68 .

第1配線80は、図示せぬパッドに接続されている。図示はしないが、パッドは、例えば、電源と電気的に接続されたワイヤーボンディングやFPC(Flexible Printed Circuits)と接続されている。 The first wiring 80 is connected to pads (not shown). Although not shown, the pads are connected to, for example, wire bonding or FPCs (Flexible Printed Circuits) electrically connected to a power supply.

第2配線82は、図1に示すように、絶縁層40上に設けられている。第2配線82は、第2電極66と電気的に接続されている。第2配線82は、例えば、第2電極66の第2部分66bに接続されている。図2に示す例では、第2配線82は、第2電極66から、第1配線80の延在方向とは反対方向に延在している。第1配線80の幅と、第2配線82の幅とは、同じであってもよい。第1配線80のシート抵抗と、第2配線82のシート抵抗とは、同じであってもよい。第2配線82は、銅、金などの金属材料で構成されていてもよいし、透明電極材料で構成されていてもよい。第2配線82が透明電極材料で構成されている場合、第2配線82は、第2電極66と一体的に設けられていてもよい。 The second wiring 82 is provided on the insulating layer 40 as shown in FIG. The second wiring 82 is electrically connected to the second electrode 66 . The second wiring 82 is connected to the second portion 66b of the second electrode 66, for example. In the example shown in FIG. 2 , the second wiring 82 extends from the second electrode 66 in the direction opposite to the extending direction of the first wiring 80 . The width of the first wiring 80 and the width of the second wiring 82 may be the same. The sheet resistance of the first wiring 80 and the sheet resistance of the second wiring 82 may be the same. The second wiring 82 may be made of a metal material such as copper or gold, or may be made of a transparent electrode material. When the second wiring 82 is made of a transparent electrode material, the second wiring 82 may be provided integrally with the second electrode 66 .

第2配線82は、図示せぬパッドに接続されている。当該パッドは、例えば、第1配線80が接続されたパッドである。すなわち、第1配線80および第2配線82は、共通のパッドに接続されている。そのため、第1配線80および第2配線82においてパッドを別々に設ける場合により、パッドの数を減らすことができる。これにより、装置の小型化を図ることができる。なお、第1配線80および第2配線82は、別々のパッドに接続されていてもよい。 The second wiring 82 is connected to pads (not shown). The pad is, for example, a pad to which the first wiring 80 is connected. That is, the first wiring 80 and the second wiring 82 are connected to a common pad. Therefore, the number of pads can be reduced by providing separate pads for the first wiring 80 and the second wiring 82 . As a result, the size of the device can be reduced. Note that the first wiring 80 and the second wiring 82 may be connected to separate pads.

第1電流制御素子90は、図1に示すように、第1配線80上に設けられている。第1電流制御素子90は、第1配線80を流れる電流を制御することによって、第1電極64に供給される電流を制御する。第2電流制御素子92は、第3配線84を介して、第2配線82上に設けられている。第2電流制御素子92は、第2配線82を流れる電流を制御することによって、第2電極66に供給される電流を制御する。 The first current control element 90 is provided on the first wiring 80 as shown in FIG. The first current control element 90 controls the current supplied to the first electrode 64 by controlling the current flowing through the first wiring 80 . The second current control element 92 is provided on the second wiring 82 via the third wiring 84 . The second current control element 92 controls the current supplied to the second electrode 66 by controlling the current flowing through the second wiring 82 .

第1電流制御素子90および第2電流制御素子92は、例えば、トランジスターである。第1電流制御素子90および第2電流制御素子92は、電界効果トランジスター(FET)であってもよい。図2に示す例では、第2電流制御素子92のゲート幅W2は、第1電流制御素子90のゲート幅W1よりも大きい。第1電流制御素子90および第2電流制御素子92は、例えば、半導体で構成されている。 The first current control element 90 and the second current control element 92 are, for example, transistors. The first current control element 90 and the second current control element 92 may be field effect transistors (FETs). In the example shown in FIG. 2, the gate width W2 of the second current control element 92 is larger than the gate width W1 of the first current control element 90. As shown in FIG. The first current control element 90 and the second current control element 92 are made of semiconductor, for example.

1.3. 作用効果
発光装置100では、複数の柱状部30から構成される柱状部集合体31と、柱状部集合体31の基板10とは反対側において互いに離隔して設けられた第1電極64および第2電極66と、を有する。第1電極64は、積層方向からみて、複数の柱状部30のうちの第1柱状部30aと重なり、かつ第1柱状部30aの第2半導体層36と電気的に接続されている。第2電極66は、積層方向からみて、複数の柱状部30のうちの第2柱状部30bと重なり、かつ第2柱状部30bの第2半導体層36と電気的に接続されている。
1.3. Functions and Effects In the light-emitting device 100, the columnar section assembly 31 composed of the plurality of columnar sections 30, and the first electrode 64 and the second electrode 64 and the second electrodes 64 and 64 are provided on the opposite side of the columnar section assembly 31 from the substrate 10 so as to be separated from each other. an electrode 66; The first electrode 64 overlaps the first columnar portion 30a of the plurality of columnar portions 30 when viewed from the stacking direction, and is electrically connected to the second semiconductor layer 36 of the first columnar portion 30a. The second electrode 66 overlaps the second columnar portion 30b of the plurality of columnar portions 30 when viewed from the stacking direction, and is electrically connected to the second semiconductor layer 36 of the second columnar portion 30b.

そのため、発光装置100では、第1柱状部30aに注入される注入電流量と、第2柱状部30bに注入される注入電流量と、を個別に制御することができる。したがって、第1柱状部30aと第2柱状部30bとの注入電流量の差を小さくすることができる。その結果、発光むらを低減することができる。さらに、注入電流量の差に起因する発光波長の変化を抑制することができる。 Therefore, in the light-emitting device 100, the amount of current injected into the first columnar portion 30a and the amount of current injected into the second columnar portion 30b can be individually controlled. Therefore, the difference in the amount of injected current between the first columnar portion 30a and the second columnar portion 30b can be reduced. As a result, light emission unevenness can be reduced. Furthermore, it is possible to suppress the change in emission wavelength due to the difference in the amount of injected current.

発光装置100では、第1電極64に供給される電流を制御する第1電流制御素子90と、第2電極66に供給される電流を制御する第2電流制御素子92と、を有する。そのため、発光装置100では、第1電流制御素子90および第2電流制御素子92によって、第1柱状部30aに注入される注入電流量と、第2柱状部30bに注入される注入電流量と、を個別に制御することができる。 The light emitting device 100 has a first current control element 90 that controls the current supplied to the first electrode 64 and a second current control element 92 that controls the current supplied to the second electrode 66 . Therefore, in the light emitting device 100, the amount of current injected into the first columnar section 30a and the amount of current injected into the second columnar section 30b by the first current control element 90 and the second current control element 92, can be controlled individually.

発光装置100では、積層方向からみて、第2電極66の面積は、第1電極64の面積よりも大きく、第1電流制御素子90および第2電流制御素子92は、トランジスターであり、第2電流制御素子92のゲート幅W2は、第1電流制御素子90のゲート幅W1よりも大きい。そのため、発光装置100では、第1電極64よりも面積の大きい第2電極66に、第1電極64に供給されるよりも多くの電流を供給することができる。 In the light emitting device 100, the area of the second electrode 66 is larger than the area of the first electrode 64 when viewed from the stacking direction, the first current control element 90 and the second current control element 92 are transistors, and the second current control element 92 is a transistor. Gate width W2 of control element 92 is greater than gate width W1 of first current control element 90 . Therefore, in the light-emitting device 100 , more current than that supplied to the first electrode 64 can be supplied to the second electrode 66 having a larger area than the first electrode 64 .

発光装置100では、柱状部集合体31の前記基板10とは反対側に設けられた絶縁層40と、第2電極66に接続された第2配線82と、を有する。絶縁層40には、コンタクトホール42が設けられている。積層方向からみて、第1電極64は、コンタクトホール42と重なる。第2電極66は、コンタクトホール42と重なり、絶縁層40と重ならない第1部分66aと、第1部分66aに接続され、絶縁層40と重なる第2部分66bと、を有する。第2配線82は、第2部分66bに接続されている。第1部分66aは、第1電極64を囲んだ形状を有し、第2部分66bは、第1部分66aを囲んだ形状を有している。 The light emitting device 100 has an insulating layer 40 provided on the opposite side of the columnar assembly 31 from the substrate 10 and a second wiring 82 connected to the second electrode 66 . A contact hole 42 is provided in the insulating layer 40 . The first electrode 64 overlaps the contact hole 42 when viewed from the stacking direction. The second electrode 66 has a first portion 66 a overlapping the contact hole 42 and not overlapping the insulating layer 40 and a second portion 66 b connected to the first portion 66 a and overlapping the insulating layer 40 . The second wiring 82 is connected to the second portion 66b. The first portion 66a has a shape surrounding the first electrode 64, and the second portion 66b has a shape surrounding the first portion 66a.

ここで、図3は、ITO電極1060を流れる電流を説明するための断面図である。ITO電極1060は、積層方向からみて、隣り合う柱状部1030の間隙と重なる部分で、厚さが小さくなる。そのため、ITO電極1060の側面1041に設けられた部分から、遠い位置に設けられた柱状部1030と重なるITO電極1060の部分ほど、電圧降下により供給される電流が少なくなる。さらに、側面1041に設けられた部分から、遠い位置に設けられた柱状部1030ほど、印加される電圧が小さくなり、注入される電流が少なくなる。なお、側面1041は、絶縁層1040の面である。また、便宜上、図1では、コンタクト電極62を簡略化して図示している。 Here, FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining the current flowing through the ITO electrode 1060. As shown in FIG. The thickness of the ITO electrode 1060 is reduced at the portion overlapping the gap between the adjacent columnar portions 1030 when viewed in the stacking direction. Therefore, the portion of the ITO electrode 1060 overlapping with the columnar portion 1030 provided at a position farther from the portion provided on the side surface 1041 of the ITO electrode 1060 reduces the current supplied due to the voltage drop. Further, the farther the columnar portion 1030 is located from the portion provided on the side surface 1041, the smaller the applied voltage and the smaller the injected current. Note that the side surface 1041 is the surface of the insulating layer 1040 . For the sake of convenience, FIG. 1 shows the contact electrode 62 in a simplified manner.

このような問題に対し、発光装置100では、第2部分66bは、第1部分66aを囲んだ形状を有しているため、第2配線82から供給される電流を、第2部分66bを介して第1部分66aに均一性よく供給することができる。 To address such a problem, in the light emitting device 100, the second portion 66b has a shape surrounding the first portion 66a. can be uniformly supplied to the first portion 66a.

2. 発光装置の製造方法
次に、本実施形態に係る発光装置100の製造方法について、図面を参照しながら説明する。図4および図5は、本実施形態に係る発光装置100の製造工程を模式的に示す断面図である。
2. Method for Manufacturing Light-Emitting Device Next, a method for manufacturing the light-emitting device 100 according to the present embodiment will be described with reference to the drawings. 4 and 5 are cross-sectional views schematically showing manufacturing steps of the light emitting device 100 according to this embodiment.

図4に示すように、基板10上に、バッファー層22をエピタキシャル成長させる。エピタキシャル成長させる方法としては、例えば、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法、MBE(Molecular Beam Epitaxy)法などが挙げられる。 As shown in FIG. 4, a buffer layer 22 is epitaxially grown on the substrate 10 . Examples of epitaxial growth methods include MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) and MBE (Molecular Beam Epitaxy).

次に、バッファー層22上に、図示しないマスク層を形成する。マスク層は、例えば、電子ビーム蒸着法やスパッタ法などによって形成される。 Next, a mask layer (not shown) is formed on the buffer layer 22 . The mask layer is formed by, for example, an electron beam vapor deposition method, a sputtering method, or the like.

次に、マスク層をマスクとしてバッファー層22上に、第1半導体層32、発光層34、および第2半導体層36を、この順でエピタキシャル成長させる。エピタキシャル成長させる方法としては、例えば、MOCVD法、MBE法などが挙げられる。本工程により、複数の柱状部30を形成することができる。なお、複数の柱状部30を形成した後に、エッチングによって、バッファー層22の一部を掘り込んでもよい。 Next, using the mask layer as a mask, the first semiconductor layer 32, the light emitting layer 34, and the second semiconductor layer 36 are epitaxially grown on the buffer layer 22 in this order. Examples of epitaxial growth methods include MOCVD and MBE. A plurality of columnar portions 30 can be formed by this step. It should be noted that the buffer layer 22 may be partly etched by etching after the plurality of columnar portions 30 are formed.

図5に示すように、複数の柱状部30上にコンタクト電極62を形成する。コンタクト電極62は、例えば、スパッタ法、真空蒸着法などによって形成される。 As shown in FIG. 5, contact electrodes 62 are formed on the plurality of columnar portions 30 . The contact electrode 62 is formed by, for example, a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like.

次に、複数の柱状部30およびコンタクト電極62を覆うように、絶縁層40を形成する。絶縁層40は、スピンコート法、CVD(Chemical Vapor Deposition)法などによって形成される。 Next, the insulating layer 40 is formed so as to cover the multiple columnar portions 30 and the contact electrodes 62 . The insulating layer 40 is formed by a spin coating method, a CVD (Chemical Vapor Deposition) method, or the like.

次に、絶縁層40をパターニングして、絶縁層40にコンタクトホール42を形成する。パターニングは、例えば、フォトリソグラフィーおよびエッチングによって行われる。本工程により、コンタクト電極62が露出される。 Next, the insulating layer 40 is patterned to form contact holes 42 in the insulating layer 40 . Patterning is performed, for example, by photolithography and etching. Through this step, the contact electrode 62 is exposed.

図1に示すように、コンタクト電極62上に第1電極64を形成し、コンタクト電極62上、絶縁層40の側面41、および絶縁層40の上面に、第2電極66を形成し、絶縁層40上に第2配線82を形成する。第1電極64、第2電極66、および第2配線82は、例えば、スパッタ法、真空蒸着法などによって形成される。 As shown in FIG. 1, a first electrode 64 is formed on the contact electrode 62, a second electrode 66 is formed on the contact electrode 62, the side surface 41 of the insulating layer 40, and the top surface of the insulating layer 40, and the insulating layer A second wiring 82 is formed on 40 . The first electrode 64, the second electrode 66, and the second wiring 82 are formed by, for example, a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like.

次に、第2電極66上、第2配線82上、および絶縁層40上に、絶縁層70を形成する。絶縁層70は、例えば、CVD法、ALD(Atomic Layer Deposition)法などによって形成される。 Next, the insulating layer 70 is formed on the second electrode 66 , the second wiring 82 and the insulating layer 40 . The insulating layer 70 is formed by, for example, a CVD method, an ALD (Atomic Layer Deposition) method, or the like.

次に、第1電極64上および絶縁層70上に第3電極68を形成し、絶縁層70上に第1配線80を形成し、絶縁層70上に第3配線84を形成する。第3電極68、第1配線80、および第3配線84は、例えば、スパッタ法、真空蒸着法などによって形成される。本工程により、コンタクト電極62、第1電極64、第2電極66、および第3電極68を有する上部電極60を形成することができる。 Next, a third electrode 68 is formed on the first electrode 64 and the insulating layer 70 , a first wiring 80 is formed on the insulating layer 70 , and a third wiring 84 is formed on the insulating layer 70 . The third electrode 68, the first wiring 80, and the third wiring 84 are formed by, for example, a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like. Through this process, the upper electrode 60 having the contact electrode 62, the first electrode 64, the second electrode 66, and the third electrode 68 can be formed.

次に、第1配線80上に第1電流制御素子90を形成し、第3配線84上に第2電流制御素子92を形成する。第1電流制御素子90および第2電流制御素子92は、公知の半導体プロセスを用いて形成される。 Next, a first current control element 90 is formed on the first wiring 80 and a second current control element 92 is formed on the third wiring 84 . The first current control element 90 and the second current control element 92 are formed using known semiconductor processes.

次に、バッファー層22上に、下部電極50を形成する。下部電極50は、例えば、スパッタ法、真空蒸着法などによって形成される。なお、下部電極50を形成する工程と、第1電極64および第2電極66を形成する工程と、の順序は、特に限定されない。また、下部電極50を形成する工程と、絶縁層70を形成する工程と、の順序は、特に限定されない。また、下部電極50を形成する工程と、第3電極68を形成する工程と、の順序は、特に限定されない。また、下部電極50を形成する工程と、第1電流制御素子90および第2電流制御素子92を形成する工程と、の順序は、特に限定されない。 Next, a lower electrode 50 is formed on the buffer layer 22 . The lower electrode 50 is formed by, for example, a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like. The order of the step of forming the lower electrode 50 and the step of forming the first electrode 64 and the second electrode 66 is not particularly limited. Moreover, the order of the step of forming the lower electrode 50 and the step of forming the insulating layer 70 is not particularly limited. Moreover, the order of the step of forming the lower electrode 50 and the step of forming the third electrode 68 is not particularly limited. Also, the order of the step of forming the lower electrode 50 and the step of forming the first current control element 90 and the second current control element 92 is not particularly limited.

以上の工程により、発光装置100を製造することができる。 The light emitting device 100 can be manufactured through the above steps.

3. 発光装置の変形例
3.1. 第1変形例
次に、本実施形態の第1変形例に係る発光装置200について、図面を参照しながら説明する。図6は、本実施形態の第1変形例に係る発光装置200を模式的に示す平面図である。
3. Modification of Light Emitting Device 3.1. First Modification Next, a light emitting device 200 according to a first modification of the present embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 6 is a plan view schematically showing a light emitting device 200 according to a first modified example of this embodiment.

以下、本実施形態の第1変形例に係る発光装置200において、上述した本実施形態に係る発光装置100の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。このことは、後述する本実施形態の第2~第5変形例に係る発光装置において同様である。 Hereinafter, in the light-emitting device 200 according to the first modified example of the present embodiment, members having the same functions as the constituent members of the above-described light-emitting device 100 according to the present embodiment are denoted by the same reference numerals, and a detailed description thereof will be given. omitted. This is the same for light-emitting devices according to second to fifth modifications of this embodiment, which will be described later.

上述した発光装置100では、図2に示すように、積層方向からみて、第2電極66の面積は、第1電極64の面積よりも大きく、第2電流制御素子92のゲート幅W2は、第1電流制御素子90のゲート幅W1よりも大きかった。 In the light emitting device 100 described above, as shown in FIG. 2, the area of the second electrode 66 is larger than the area of the first electrode 64 when viewed in the stacking direction, and the gate width W2 of the second current steering element 92 is 1 was larger than the gate width W1 of the current control element 90 .

これに対し、発光装置200では、図6に示すように、積層方向からみて、第1電極64の面積は、第2電極66の面積よりも大きく、第1電流制御素子90のゲート幅W1は、第2電流制御素子92のゲート幅W2よりも大きい。そのため、発光装置200では、第2電極66よりも面積の大きい第1電極64に、第2電極66に供給されるよりも多くの電流を供給することができる。 On the other hand, in the light emitting device 200, as shown in FIG. 6, the area of the first electrode 64 is larger than the area of the second electrode 66 when viewed from the stacking direction, and the gate width W1 of the first current control element 90 is , is larger than the gate width W2 of the second current control element 92 . Therefore, in the light-emitting device 200 , more current than the second electrode 66 can be supplied to the first electrode 64 having a larger area than the second electrode 66 .

3.2. 第2変形例
次に、本実施形態の第2変形例に係る発光装置300について、図面を参照しながら説明する。図7は、本実施形態の第2変形例に係る発光装置300を模式的に示す平面図である。
3.2. Second Modification Next, a light emitting device 300 according to a second modification of the present embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 7 is a plan view schematically showing a light emitting device 300 according to a second modified example of this embodiment.

上述した発光装置100では、図2に示すように、積層方向からみて、第1部分66aは、第1電極64を囲んだ形状を有していた。第2部分66bは、第1部分66aを囲んだ形状を有していた。 In the light emitting device 100 described above, as shown in FIG. 2, the first portion 66a has a shape surrounding the first electrode 64 when viewed from the lamination direction. The second portion 66b had a shape surrounding the first portion 66a.

これに対し、発光装置300では、図7に示すように、積層方向からみて、第1部分66aは、第1電極64を囲んだ形状の一部67aが開放された形状を有している。第2部分66bは、第1部分66aを囲んだ形状の一部67bが開放された形状を有している。第1部分66aおよび第2部分66bは、積層方向からみて、例えば、C字状である。 On the other hand, in the light emitting device 300, as shown in FIG. 7, the first portion 66a has a shape in which a portion 67a surrounding the first electrode 64 is opened when viewed from the stacking direction. The second portion 66b has a shape in which a portion 67b surrounding the first portion 66a is opened. The first portion 66a and the second portion 66b are, for example, C-shaped when viewed from the stacking direction.

積層方向からみて、第1部分66aにおいて開放された一部67aは、第1電極64側から外側に向けて延在している。一部67aの幅Waは、第1部分66aの径の半分よりも小さい。幅Waは、一部67aの延在方向と直交する方向の大きさである。 When viewed from the stacking direction, the open portion 67a of the first portion 66a extends outward from the first electrode 64 side. The width Wa of the portion 67a is smaller than half the diameter of the first portion 66a. The width Wa is the size in the direction orthogonal to the extending direction of the portion 67a.

積層方向からみて、第2部分66bにおいて解放された一部67bは、第1電極64側から外側に向けて延在している。一部67bの幅Wbは、第2部分66bの径の半分よりも小さい。幅Wbは、一部67bの延在方向と直交する方向の大きさである。 The part 67b released in the second portion 66b extends outward from the first electrode 64 side when viewed from the stacking direction. The width Wb of the portion 67b is smaller than half the diameter of the second portion 66b. The width Wb is the size in the direction orthogonal to the extending direction of the portion 67b.

第1配線80は、第1部分66aにおいて開放された一部67a、および第2部分66bにおいて開放された一部67bを通っている。図示の例では、一部67aおよび一部67bは、直線状に並んでいる。 The first wiring 80 passes through a portion 67a opened in the first portion 66a and a portion 67b opened in the second portion 66b. In the illustrated example, the portion 67a and the portion 67b are arranged linearly.

第3電極68は、例えば、設けられていない。第1配線80は、第3電極68ではなく、第1電極64に接続されている。絶縁層70は、設けられていない。 The third electrode 68 is not provided, for example. The first wiring 80 is connected to the first electrode 64 instead of the third electrode 68 . The insulating layer 70 is not provided.

発光装置300では、第1部分66aは、第1電極64を囲んだ形状の一部67aが開放された形状を有し、第2部分66bは、第1部分66aを囲んだ形状の一部67bが開放された形状を有し、第1配線80は、第1部分66aにおいて解放された一部67a、および第2部分66bにおいて解放された一部67bを通っている。そのため、発光装置300では、絶縁層70を設けなくても、第1配線80が第2電極66と接触することを防ぐことができる。 In the light emitting device 300, the first portion 66a has a shape in which a portion 67a of the shape surrounding the first electrode 64 is open, and the second portion 66b has a shape of a portion 67b surrounding the first portion 66a. has an open shape, and the first wiring 80 passes through a portion 67a that is open in the first portion 66a and a portion 67b that is open in the second portion 66b. Therefore, in the light emitting device 300, the first wiring 80 can be prevented from coming into contact with the second electrode 66 without providing the insulating layer 70. FIG.

3.3. 第3変形例
次に、本実施形態の第3変形例に係る発光装置400について、図面を参照しながら説明する。図8は、本実施形態の第3変形例に係る発光装置400を模式的に示す断面図である。
3.3. Third Modification Next, a light emitting device 400 according to a third modification of the present embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing a light emitting device 400 according to a third modified example of this embodiment.

発光装置400では、図8に示すように、コンタクト電極62は、第1導電部62aと、第2導電部62bと、に分割されている点において、上述した発光装置100と異なる。 As shown in FIG. 8, the light emitting device 400 differs from the light emitting device 100 described above in that the contact electrode 62 is divided into a first conductive portion 62a and a second conductive portion 62b.

第1導電部62aは、複数の柱状部30と第1電極64との間に設けられている。第1電極64は、第1導電部62aに接続されている。第1導電部62aの平面形状は、例えば、円である。 The first conductive portion 62 a is provided between the plurality of columnar portions 30 and the first electrode 64 . The first electrode 64 is connected to the first conductive portion 62a. The planar shape of the first conductive portion 62a is, for example, a circle.

第2導電部62bは、複数の柱状部30と第2電極66との間に設けられている。第2電極66は、第2導電部62bに接続されている。第2導電部62bの平面形状は、例えば、リング状である。第1導電部62aおよび第2導電部62bは、互いに分離されている。図示の例では、第1導電部62aと第2導電部62bとの間に、絶縁層70が設けられている。 The second conductive portion 62 b is provided between the multiple columnar portions 30 and the second electrode 66 . The second electrode 66 is connected to the second conductive portion 62b. The planar shape of the second conductive portion 62b is, for example, a ring shape. The first conductive portion 62a and the second conductive portion 62b are separated from each other. In the illustrated example, an insulating layer 70 is provided between the first conductive portion 62a and the second conductive portion 62b.

発光装置400では、コンタクト電極62は、第1導電部62aと、第2導電部62bと、に分割され、第1導電部62aおよび第2導電部62bは、互いに分離され、第1電極64は、第1導電部62aに接続され、第2電極66は、第2導電部62bに接続されている。そのため、発光装置400では、例えば発光装置100のようにコンタクト電極62が分割されていない場合に比べて、第1電流制御素子90によって第1柱状部30aに注入される注入電流量を制御し易く、第2電流制御素子92によって第2柱状部30bに注入される注入電流量を制御し易い。 In the light emitting device 400, the contact electrode 62 is divided into a first conductive portion 62a and a second conductive portion 62b, the first conductive portion 62a and the second conductive portion 62b are separated from each other, and the first electrode 64 is , are connected to the first conductive portion 62a, and the second electrode 66 is connected to the second conductive portion 62b. Therefore, in the light emitting device 400, compared to the case where the contact electrode 62 is not divided like the light emitting device 100, for example, it is easier to control the amount of current injected into the first columnar portion 30a by the first current control element 90. , the injection current amount injected into the second columnar portion 30b by the second current control element 92 can be easily controlled.

3.4. 第4変形例
次に、本実施形態の第4変形例に係る発光装置500について、図面を参照しながら説明する。図9は、本実施形態の第4変形例に係る発光装置500を模式的に示す平面図である。
3.4. Fourth Modification Next, a light emitting device 500 according to a fourth modification of the present embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 9 is a plan view schematically showing a light emitting device 500 according to a fourth modified example of this embodiment.

上述した発光装置100では、図2に示すように、第1電流制御素子90および第2電流制御素子92は、トランジスターであった。 In the light emitting device 100 described above, as shown in FIG. 2, the first current control element 90 and the second current control element 92 are transistors.

これに対し、発光装置500では、図9に示すように、第1電流制御素子90は、第1電極64と電気的に接続された配線であり、第2電流制御素子92は、第2電極66と電気的に接続された配線である。具体的には、第1電流制御素子90は、第1配線80である。第2電流制御素子92は、第2配線82である。 On the other hand, in the light emitting device 500, as shown in FIG. 9, the first current control element 90 is a wiring electrically connected to the first electrode 64, and the second current control element 92 is connected to the second electrode. 66 is a wiring electrically connected. Specifically, the first current control element 90 is the first wiring 80 . The second current control element 92 is the second wiring 82 .

図示の例では、第2配線82の幅Wβは、第1配線80の幅Wαよりも大きい。幅Wαは、第1配線80の延在方向と直交する方向の大きさである。幅Wβは、第2配線82の延在方向と直交する方向の大きさである。第2電流制御素子92のシート抵抗は、第1電流制御素子90のシート抵抗よりも低い。 In the illustrated example, the width Wβ of the second wiring 82 is greater than the width Wα of the first wiring 80 . The width Wα is the dimension in the direction orthogonal to the extending direction of the first wiring 80 . The width Wβ is the size in the direction orthogonal to the extending direction of the second wiring 82 . The sheet resistance of the second current control element 92 is lower than the sheet resistance of the first current control element 90 .

発光装置500では、第1電流制御素子90は、第1電極64と電気的に接続された配線であり、第2電流制御素子92は、第2電極66と電気的に接続された配線であり、積層方向からみて、第2電極66の面積は、第1電極64の面積よりも大きく、第2電流制御素子92のシート抵抗は、第1電流制御素子90のシート抵抗よりも低い。そのため、発光装置500では、第1電極64よりも面積の大きい第2電極66に、第1電極64に供給されるよりも多くの電流を供給することができる。 In the light emitting device 500, the first current control element 90 is a wiring electrically connected to the first electrode 64, and the second current control element 92 is a wiring electrically connected to the second electrode 66. , the area of the second electrode 66 is larger than the area of the first electrode 64 and the sheet resistance of the second current control element 92 is lower than the sheet resistance of the first current control element 90 when viewed from the stacking direction. Therefore, in the light emitting device 500 , more current can be supplied to the second electrode 66 having a larger area than the first electrode 64 than to the first electrode 64 .

3.5. 第5変形例
次に、本実施形態の第5変形例に係る発光装置600について、図面を参照しながら説明する。図10は、本実施形態の第5変形例に係る発光装置600を模式的に示す平面図である。
3.5. Fifth Modification Next, a light emitting device 600 according to a fifth modification of the present embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 10 is a plan view schematically showing a light emitting device 600 according to a fifth modified example of this embodiment.

上述した発光装置100では、図2に示すように、第1電流制御素子90および第2電流制御素子92は、トランジスターであった。 In the light emitting device 100 described above, as shown in FIG. 2, the first current control element 90 and the second current control element 92 are transistors.

これに対し、発光装置600では、図10に示すように、第1電流制御素子90は、第1電極64と電気的に接続された配線であり、第2電流制御素子92は、第2電極66と電気的に接続された配線である。具体的には、第1電流制御素子90は、第1配線80である。第2電流制御素子92は、第2配線82である。 On the other hand, in the light emitting device 600, as shown in FIG. 10, the first current control element 90 is a wiring electrically connected to the first electrode 64, and the second current control element 92 is connected to the second electrode. 66 is a wiring electrically connected. Specifically, the first current control element 90 is the first wiring 80 . The second current control element 92 is the second wiring 82 .

図示の例では、第1配線80の幅Wαは、第2配線82の幅Wβよりも大きい。幅Wαは、第1配線80の延在方向と直交する方向の大きさである。幅Wβは、第2配線82の延在方向と直交する方向の大きさである。第1電流制御素子90のシート抵抗は、第2電流制御素子92のシート抵抗よりも低い。積層方向からみて、第1電極64の面積は、第2電極66の面積よりも大きい。 In the illustrated example, the width Wα of the first wiring 80 is greater than the width Wβ of the second wiring 82 . The width Wα is the dimension in the direction orthogonal to the extending direction of the first wiring 80 . The width Wβ is the size in the direction orthogonal to the extending direction of the second wiring 82 . The sheet resistance of the first current control element 90 is lower than the sheet resistance of the second current control element 92 . The area of the first electrode 64 is larger than the area of the second electrode 66 when viewed from the stacking direction.

発光装置600では、第1電流制御素子90は、第1電極64と電気的に接続された配線であり、第2電流制御素子92は、第2電極66と電気的に接続された配線であり、積層方向からみて、第1電極64の面積は、第2電極66の面積よりも大きく、第1電流制御素子90のシート抵抗は、第2電流制御素子92のシート抵抗よりも低い。そのため、発光装置600では、第2電極66よりも面積の大きい第1電極64に、第2電極66に供給されるよりも多くの電流を供給することができる。 In the light emitting device 600, the first current control element 90 is a wiring electrically connected to the first electrode 64, and the second current control element 92 is a wiring electrically connected to the second electrode 66. , the area of the first electrode 64 is larger than the area of the second electrode 66 when viewed in the stacking direction, and the sheet resistance of the first current control element 90 is lower than the sheet resistance of the second current control element 92 . Therefore, in the light emitting device 600 , more current than the second electrode 66 can be supplied to the first electrode 64 having a larger area than the second electrode 66 .

4. プロジェクター
次に、本実施形態に係るプロジェクターについて、図面を参照しながら説明する。図11は、本実施形態に係るプロジェクター800を模式的に示す図である。
4. Projector Next, a projector according to the present embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 11 is a diagram schematically showing a projector 800 according to this embodiment.

プロジェクター800は、例えば、光源として、発光装置100を有している。 The projector 800 has, for example, the light emitting device 100 as a light source.

プロジェクター800は、図示しない筐体と、筐体内に備えられている赤色光、緑色光、青色光をそれぞれ出射する赤色光源100R、緑色光源100G、青色光源100Bと、を有している。なお、便宜上、図11では、赤色光源100R、緑色光源100G、および青色光源100Bを簡略化している。 The projector 800 has a housing (not shown) and a red light source 100R, a green light source 100G, and a blue light source 100B that emit red light, green light, and blue light, respectively, provided in the housing. For convenience, red light source 100R, green light source 100G, and blue light source 100B are simplified in FIG.

プロジェクター800は、さらに、筐体内に備えられている、第1光学素子802Rと、第2光学素子802Gと、第3光学素子802Bと、第1光変調装置804Rと、第2光変調装置804Gと、第3光変調装置804Bと、投射装置808と、を有している。第1光変調装置804R、第2光変調装置804G、および第3光変調装置804Bは、例えば、透過型の液晶ライトバルブである。投射装置808は、例えば、投射レンズである。 The projector 800 further includes a first optical element 802R, a second optical element 802G, a third optical element 802B, a first optical modulator 804R, and a second optical modulator 804G, which are provided in the housing. , a third light modulating device 804B and a projection device 808 . The first light modulating device 804R, the second light modulating device 804G, and the third light modulating device 804B are, for example, transmissive liquid crystal light valves. Projection device 808 is, for example, a projection lens.

赤色光源100Rから出射された光は、第1光学素子802Rに入射する。赤色光源100Rから出射された光は、第1光学素子802Rによって集光される。なお、第1光学素子802Rは、集光以外の機能を有していてもよい。後述する第2光学素子802Gおよび第3光学素子802Bについても同様である。 Light emitted from the red light source 100R enters the first optical element 802R. Light emitted from the red light source 100R is collected by the first optical element 802R. Note that the first optical element 802R may have a function other than condensing. The same applies to a second optical element 802G and a third optical element 802B, which will be described later.

第1光学素子802Rによって集光された光は、第1光変調装置804Rに入射する。第1光変調装置804Rは、入射した光を画像情報に応じて変調させる。そして、投射装置808は、第1光変調装置804Rによって形成された像を拡大してスクリーン810に投射する。 The light collected by the first optical element 802R enters the first optical modulator 804R. The first light modulator 804R modulates incident light according to image information. The projection device 808 then magnifies the image formed by the first light modulation device 804R and projects it onto the screen 810 .

緑色光源100Gから出射された光は、第2光学素子802Gに入射する。緑色光源100Gから出射された光は、第2光学素子802Gによって集光される。 Light emitted from the green light source 100G enters the second optical element 802G. Light emitted from the green light source 100G is collected by the second optical element 802G.

第2光学素子802Gによって集光された光は、第2光変調装置804Gに入射する。第2光変調装置804Gは、入射した光を画像情報に応じて変調させる。そして、投射装置808は、第2光変調装置804Gによって形成された像を拡大してスクリーン810に投射する。 The light collected by the second optical element 802G enters the second optical modulator 804G. The second light modulator 804G modulates incident light according to image information. Then, the projection device 808 magnifies the image formed by the second light modulation device 804G and projects it onto the screen 810 .

青色光源100Bから出射された光は、第3光学素子802Bに入射する。青色光源100Bから出射された光は、第3光学素子802Bによって集光される。 Light emitted from the blue light source 100B enters the third optical element 802B. Light emitted from the blue light source 100B is collected by the third optical element 802B.

第3光学素子802Bによって集光された光は、第3光変調装置804Bに入射する。第3光変調装置804Bは、入射した光を画像情報に応じて変調させる。そして、投射装置808は、第3光変調装置804Bによって形成された像を拡大してスクリーン810に投射する。 The light collected by the third optical element 802B is incident on the third optical modulator 804B. The third light modulator 804B modulates incident light according to image information. The projection device 808 then magnifies the image formed by the third light modulation device 804B and projects it onto the screen 810 .

また、プロジェクター800は、第1光変調装置804R、第2光変調装置804G、および第3光変調装置804Bから出射された光を合成して投射装置808に導くクロスダイクロイックプリズム806を有することができる。 The projector 800 can also have a cross dichroic prism 806 that synthesizes the light emitted from the first light modulator 804R, the second light modulator 804G, and the third light modulator 804B and guides it to the projection device 808. .

第1光変調装置804R、第2光変調装置804G、および第3光変調装置804Bによって変調された3つの色光は、クロスダイクロイックプリズム806に入射する。クロスダイクロイックプリズム806は、4つの直角プリズムを貼り合わせて形成され、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光を反射する誘電体多層膜とが配置されている。これらの誘電体多層膜によって3つの色光が合成され、カラー画像を表す光が形成される。そして、合成された光は、投射装置808によりスクリーン810上に投射され、拡大された画像が表示される。 The three color lights modulated by the first light modulator 804R, the second light modulator 804G, and the third light modulator 804B are incident on the cross dichroic prism 806. FIG. The cross dichroic prism 806 is formed by pasting four rectangular prisms together, and a dielectric multilayer film that reflects red light and a dielectric multilayer film that reflects blue light are arranged on the inner surface thereof. These dielectric multilayer films synthesize three color lights to form light representing a color image. The combined light is projected onto the screen 810 by the projection device 808 to display an enlarged image.

なお、赤色光源100R、緑色光源100G、および青色光源100Bは、発光装置100を映像の画素として画像情報に応じて制御することで、第1光変調装置804R、第2光変調装置804G、および第3光変調装置804Bを用いずに、直接的に映像を形成してもよい。そして、投射装置808は、赤色光源100R、緑色光源100G、および青色光源100Bによって形成された映像を、拡大してスクリーン810に投射してもよい。 Note that the red light source 100R, the green light source 100G, and the blue light source 100B control the light emitting device 100 as pixels of an image according to image information, so that the first light modulation device 804R, the second light modulation device 804G, and the second light modulation device 804G are controlled. An image may be formed directly without using the three-light modulator 804B. Then, the projection device 808 may enlarge the images formed by the red light source 100R, the green light source 100G, and the blue light source 100B and project them onto the screen 810 .

また、上記の例では、光変調装置として透過型の液晶ライトバルブを用いたが、液晶以外のライトバルブを用いてもよいし、反射型のライトバルブを用いてもよい。このようなライトバルブとしては、例えば、反射型の液晶ライトバルブや、デジタルマイクロミラーデバイス(Digital Micro Mirror Device)が挙げられる。また、投射装置の構成は、使用されるライトバルブの種類によって適宜変更される。 Also, in the above example, a transmissive liquid crystal light valve is used as the light modulation device, but a light valve other than liquid crystal may be used, or a reflective light valve may be used. Examples of such light valves include reflective liquid crystal light valves and digital micro mirror devices. Also, the configuration of the projection device is appropriately changed according to the type of light valve used.

また、光源を、光源からの光をスクリーン上で走査させることにより、表示面に所望の大きさの画像を表示させる画像形成装置である走査手段を有するような走査型の画像表示装置の光源装置にも適用することが可能である。 Further, the light source device of a scanning type image display device having a scanning means which is an image forming device for displaying an image of a desired size on a display surface by scanning the light from the light source on the screen. It can also be applied to

5. ディスプレイ
次に、本実施形態に係るディスプレイについて、図面を参照しながら説明する。図12は、本実施形態に係るディスプレイ900を模式的に示す平面図である。図13は、本実施形態に係るディスプレイ900を模式的に示す断面図である。なお、図12では、便宜上、互いに直交する2つの軸として、X軸およびY軸を図示している。
5. Display Next, a display according to the present embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 12 is a plan view schematically showing the display 900 according to this embodiment. FIG. 13 is a cross-sectional view schematically showing a display 900 according to this embodiment. In addition, in FIG. 12, the X-axis and the Y-axis are illustrated as two mutually orthogonal axes for convenience.

ディスプレイ900は、例えば、光源として、発光装置100を有している。 The display 900 has, for example, the light emitting device 100 as a light source.

ディスプレイ900は、画像を表示する表示装置である。画像には、文字情報のみを表示するものが含まれる。ディスプレイ900は、自発光型のディスプレイである。ディスプレイ900は、図12および図13に示すように、回路基板910と、レンズアレイ920と、ヒートシンク930と、を有している。 A display 900 is a display device that displays an image. Images include those that display only character information. The display 900 is a self-luminous display. The display 900 has a circuit board 910, a lens array 920, and a heat sink 930, as shown in FIGS.

回路基板910には、発光装置100を駆動させるための駆動回路が搭載されている。駆動回路は、例えば、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)などを含む回路である。駆動回路は、例えば、入力された画像情報に基づいて、発光装置100を駆動させる。図示はしないが、回路基板910上には、回路基板910を保護するための透光性の基板が配置されている。 A drive circuit for driving the light emitting device 100 is mounted on the circuit board 910 . The drive circuit is a circuit including, for example, CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor). The driving circuit drives the light emitting device 100 based on, for example, input image information. Although not shown, a translucent substrate is arranged on the circuit board 910 to protect the circuit board 910 .

回路基板910は、表示領域912と、データ線駆動回路914と、走査線駆動回路916と、制御回路918と、を有している。 The circuit board 910 has a display area 912 , a data line driving circuit 914 , a scanning line driving circuit 916 and a control circuit 918 .

表示領域912は、複数の画素Pで構成されている。画素Pは、図示の例では、X軸およびY軸に沿って配列されている。 The display area 912 is composed of a plurality of pixels P. As shown in FIG. The pixels P are arranged along the X and Y axes in the illustrated example.

図示はしないが、回路基板910には、複数の走査線と複数のデータ線が設けられている。例えば、走査線はX軸に沿って延び、データ線はY軸に沿って延びている。走査線は、走査線駆動回路916に接続されている。データ線は、データ線駆動回路914に接続されている。走査線とデータ線の交点に対応して画素Pが設けられている。 Although not shown, the circuit board 910 is provided with a plurality of scanning lines and a plurality of data lines. For example, the scan lines run along the X-axis and the data lines run along the Y-axis. The scanning lines are connected to a scanning line driver circuit 916 . The data lines are connected to the data line driving circuit 914 . Pixels P are provided corresponding to intersections of scanning lines and data lines.

1つの画素Pは、例えば、1つの発光装置100と、1つのレンズ922と、図示しない画素回路と、を有している。画素回路は、画素Pのスイッチとして機能するスイッチング用トランジスターを含み、スイッチング用トランジスターのゲートが走査線に接続され、ソースまたはドレインの一方がデータ線に接続されている。 One pixel P has, for example, one light emitting device 100, one lens 922, and a pixel circuit (not shown). The pixel circuit includes a switching transistor that functions as a switch for the pixel P, the gate of the switching transistor being connected to the scanning line and one of the source or drain being connected to the data line.

データ線駆動回路914および走査線駆動回路916は、画素Pを構成する発光装置100の駆動を制御する回路である。制御回路918は、画像の表示を制御する。 The data line driving circuit 914 and the scanning line driving circuit 916 are circuits that control the driving of the light emitting device 100 forming the pixel P. FIG. A control circuit 918 controls the display of images.

制御回路918には、上位回路から画像データが供給される。制御回路918は、当該画像データに基づく各種信号をデータ線駆動回路914および走査線駆動回路916に供給する。 Image data is supplied to the control circuit 918 from a higher-level circuit. The control circuit 918 supplies various signals based on the image data to the data line driving circuit 914 and scanning line driving circuit 916 .

走査線駆動回路916が走査信号をアクティブにすることで走査線が選択されると、選択された画素Pのスイッチング用トランジスターがオンになる。このとき、データ線駆動回路914が、選択された画素Pにデータ線からデータ信号を供給することで、選択された画素Pの発光装置100がデータ信号に応じて発光する。 When a scanning line is selected by the scanning line driving circuit 916 activating the scanning signal, the switching transistor of the selected pixel P is turned on. At this time, the data line driving circuit 914 supplies a data signal from the data line to the selected pixel P, so that the light emitting device 100 of the selected pixel P emits light according to the data signal.

レンズアレイ920は、複数のレンズ922を有している。レンズ922は、例えば、1つの発光装置100に対して、1つ設けられている。発光装置100から出射された光は、1つのレンズ922に入射する。 Lens array 920 has a plurality of lenses 922 . For example, one lens 922 is provided for one light emitting device 100 . Light emitted from the light emitting device 100 enters one lens 922 .

ヒートシンク930は、回路基板910に接触している。ヒートシンク930の材質は、例えば、銅、アルミニウムなどの金属である。ヒートシンク930は、発光装置100で発生した熱を、放熱する。 A heat sink 930 is in contact with the circuit board 910 . The material of the heat sink 930 is, for example, metal such as copper or aluminum. The heat sink 930 dissipates heat generated by the light emitting device 100 .

上述した実施形態に係る発光装置は、プロジェクターやディスプレイ以外にも用いることが可能である。プロジェクターやディスプレイ以外の用途には、例えば、屋内外の照明、レーザープリンター、スキャナー、車載用ライト、光を用いるセンシング機器、通信機器等の光源がある。また、上述した実施形態に係る発光装置は、ヘッドマウントディスプレイの表示装置として用いることができる。 The light-emitting device according to the above-described embodiments can be used for applications other than projectors and displays. Applications other than projectors and displays include, for example, indoor and outdoor lighting, laser printers, scanners, vehicle lights, sensing devices that use light, and light sources for communication devices. Moreover, the light emitting device according to the above-described embodiments can be used as a display device for a head mounted display.

上述した実施形態および変形例は一例であって、これらに限定されるわけではない。例えば、各実施形態および各変形例を適宜組み合わせることも可能である。 The above-described embodiments and modifications are examples, and the present invention is not limited to these. For example, it is also possible to appropriately combine each embodiment and each modification.

本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成、例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的および効果が同一の構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成または同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。 The present invention includes configurations that are substantially the same as the configurations described in the embodiments, for example, configurations that have the same function, method and result, or configurations that have the same purpose and effect. Moreover, the present invention includes configurations obtained by replacing non-essential portions of the configurations described in the embodiments. In addition, the present invention includes a configuration that achieves the same effects or achieves the same purpose as the configurations described in the embodiments. In addition, the present invention includes configurations obtained by adding known techniques to the configurations described in the embodiments.

上述した実施形態および変形例から以下の内容が導き出される。 The following content is derived from the embodiment and modifications described above.

発光装置の一態様は、
基板と、
各々が第1導電型の第1半導体層、前記第1導電型と異なる第2導電型の第2半導体層、および前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に設けられた発光層を有する複数の柱状部、から構成される柱状部集合体と、
前記柱状部集合体の前記基板とは反対側において互いに離隔して設けられた第1電極および第2電極と、
を有し、
前記第1半導体層は、前記基板と前記発光層との間に設けられ、
前記第1電極は、前記第1半導体層と前記発光層との積層方向からみて、前記複数の柱状部のうちの第1柱状部と重なり、かつ前記第1柱状部の前記第2半導体層と電気的に接続され、
前記第2電極は、前記積層方向からみて、前記複数の柱状部のうちの第2柱状部と重なり、かつ前記第2柱状部の前記第2半導体層と電気的に接続されている。
One aspect of the light-emitting device is
a substrate;
a first semiconductor layer of a first conductivity type, a second semiconductor layer of a second conductivity type different from the first conductivity type, and a light-emitting layer provided between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer a columnar section aggregate composed of a plurality of columnar sections having
a first electrode and a second electrode provided separately from each other on the opposite side of the columnar assembly from the substrate;
has
The first semiconductor layer is provided between the substrate and the light emitting layer,
The first electrode overlaps with a first columnar portion of the plurality of columnar portions when viewed from the stacking direction of the first semiconductor layer and the light emitting layer, and overlaps with the second semiconductor layer of the first columnar portion. electrically connected,
The second electrode overlaps a second columnar portion of the plurality of columnar portions when viewed from the stacking direction, and is electrically connected to the second semiconductor layer of the second columnar portion.

この発光装置によれば、発光むらを低減することができる。 According to this light emitting device, unevenness in light emission can be reduced.

発光装置の一態様において、
前記第1電極に供給される電流を制御する第1電流制御素子と、
前記第2電極に供給される電流を制御する第2電流制御素子と、を有する。
In one aspect of the light-emitting device,
a first current control element that controls the current supplied to the first electrode;
and a second current control element for controlling the current supplied to the second electrode.

この発光装置によれば、第1電流制御素子および第2電流制御素子によって、第1柱状部に注入される注入電流量と、第2柱状部に注入される注入電流量と、を個別に制御することができる。 According to this light emitting device, the amount of current injected into the first columnar section and the amount of current injected into the second columnar section are individually controlled by the first current control element and the second current control element. can do.

発光装置の一態様において、
前記積層方向からみて、前記第1電極の面積は、前記第2電極の面積よりも大きく、
前記第1電流制御素子および前記第2電流制御素子は、トランジスターであり、
前記第1電流制御素子のゲート幅は、前記第2電流制御素子のゲート幅よりも大きくてもよい。
In one aspect of the light-emitting device,
When viewed from the stacking direction, the area of the first electrode is larger than the area of the second electrode,
the first current control element and the second current control element are transistors;
A gate width of the first current control element may be larger than a gate width of the second current control element.

この発光装置によれば、第2電極よりも面積の大きい第1電極に、第2電極に供給されるよりも多くの電流を供給することができる。 According to this light emitting device, more current can be supplied to the first electrode, which has a larger area than the second electrode, than to the second electrode.

発光装置の一態様において、
前記積層方向からみて、前記第2電極の面積は、前記第1電極の面積よりも大きく、
前記第1電流制御素子および前記第2電流制御素子は、トランジスターであり、
前記第2電流制御素子のゲート幅は、前記第1電流制御素子のゲート幅よりも大きくてもよい。
In one aspect of the light-emitting device,
When viewed from the stacking direction, the area of the second electrode is larger than the area of the first electrode,
the first current control element and the second current control element are transistors;
A gate width of the second current control element may be larger than a gate width of the first current control element.

この発光装置によれば、第1電極よりも面積の大きい第2電極に、第1電極に供給されるよりも多くの電流を供給することができる。 According to this light-emitting device, the second electrode, which has a larger area than the first electrode, can be supplied with more current than the first electrode.

発光装置の一態様において、
前記柱状部集合体の前記基板とは反対側に設けられた絶縁層と、
前記第2電極に接続された配線と、
を有し、
前記絶縁層には、コンタクトホールが設けられ、
前記積層方向からみて、前記第1電極は、前記コンタクトホールと重なり、
前記第2電極は、
前記コンタクトホールと重なり、前記絶縁層と重ならない第1部分と、
前記第1部分に接続され、前記絶縁層と重なる第2部分と、
を有し、
前記配線は、前記第2部分に接続され、
前記第1部分は、前記第1電極を囲んだ形状を有し、
前記第2部分は、前記第1部分を囲んだ形状を有していてもよい。
In one aspect of the light-emitting device,
an insulating layer provided on a side of the columnar assembly opposite to the substrate;
wiring connected to the second electrode;
has
A contact hole is provided in the insulating layer,
When viewed from the stacking direction, the first electrode overlaps the contact hole,
The second electrode is
a first portion that overlaps with the contact hole and does not overlap with the insulating layer;
a second portion connected to the first portion and overlapping the insulating layer;
has
The wiring is connected to the second portion,
The first portion has a shape surrounding the first electrode,
The second portion may have a shape surrounding the first portion.

この発光装置によれば、配線から供給される電流を、第2部分を介して第1部分に均一性よく供給することができる。 According to this light emitting device, the current supplied from the wiring can be uniformly supplied to the first portion via the second portion.

発光装置の一態様において、
前記第1部分は、前記第1電極を囲んだ形状に代えて、前記第1電極を囲んだ形状の一部が開放された形状を有し、
前記第2部分は、前記第1部分を囲んだ形状に代えて、前記第1部分を囲んだ形状の一部が開放された形状を有し、
前記配線は、前記第1部分において解放された前記一部、および前記第2部分において解放された前記一部を通っていてもよい。
In one aspect of the light-emitting device,
the first portion has a shape in which a part of the shape surrounding the first electrode is opened instead of the shape surrounding the first electrode;
the second portion has a shape in which a part of the shape surrounding the first portion is opened instead of the shape surrounding the first portion;
The wiring may pass through the portion released in the first portion and the portion released in the second portion.

この発光装置によれば、第2電極と配線との間に絶縁層を設けなくても、配線が第2電極と接触することを防ぐことができる。 According to this light emitting device, it is possible to prevent the wiring from contacting the second electrode without providing an insulating layer between the second electrode and the wiring.

発光装置の一態様において、
前記第1電流制御素子は、前記第1電極と電気的に接続された配線であり、
前記第2電流制御素子は、前記第2電極と電気的に接続された配線であり、
前記積層方向からみて、前記第1電極の面積は、前記第2電極の面積よりも大きく、
前記第1電流制御素子のシート抵抗は、前記第2電流制御素子のシート抵抗よりも低くてもよい。
In one aspect of the light-emitting device,
the first current control element is a wiring electrically connected to the first electrode,
the second current control element is a wiring electrically connected to the second electrode,
When viewed from the stacking direction, the area of the first electrode is larger than the area of the second electrode,
A sheet resistance of the first current control element may be lower than a sheet resistance of the second current control element.

この発光装置によれば、第2電極よりも面積の大きい第1電極に、第2電極に供給されるよりも多くの電流を供給することができる。 According to this light emitting device, more current can be supplied to the first electrode, which has a larger area than the second electrode, than to the second electrode.

発光装置の一態様において、
前記第1電流制御素子は、前記第1電極と電気的に接続された配線であり、
前記第2電流制御素子は、前記第2電極と電気的に接続された配線であり、
前記積層方向からみて、前記第2電極の面積は、前記第1電極の面積よりも大きく、
前記第2電流制御素子のシート抵抗は、前記第1電流制御素子のシート抵抗よりも低くてもよい。
In one aspect of the light-emitting device,
the first current control element is a wiring electrically connected to the first electrode,
the second current control element is a wiring electrically connected to the second electrode,
When viewed from the stacking direction, the area of the second electrode is larger than the area of the first electrode,
A sheet resistance of the second current control element may be lower than a sheet resistance of the first current control element.

この発光装置によれば、第1電極よりも面積の大きい第2電極に、第1電極に供給されるよりも多くの電流を供給することができる。 According to this light-emitting device, the second electrode, which has a larger area than the first electrode, can be supplied with more current than the first electrode.

プロジェクターの一態様は、
前記発光装置の一態様を有する。
One aspect of the projector is
It has one mode of the light-emitting device.

ディスプレイの一態様は、
前記発光装置の一態様を有する。
One aspect of the display is
It has one mode of the light-emitting device.

3…ダミー柱状部、10…基板、20…積層体、22…バッファー層、30…柱状部、30a…第1柱状部、30b…第2柱状部、31…柱状部集合体、32…第1半導体層、34…発光層、36…第2半導体層、40…絶縁層、41…側面、42…コンタクトホール、50…下部電極、60…上部電極、62…コンタクト電極、62a…第1導電部、62b…第2導電部、64…第1電極、66…第2電極、66a…第1部分、66b…第2部分、67a,67b…一部、68…第3電極、70…絶縁層、80…第1配線、82…第2配線、84…第3配線、90…第1電流制御素子、92…第2電流制御素子、100,200,300,400,500,600…発光装置、800…プロジェクター、802R…第1光学素子、802G…第2光学素子、802B…第3光学素子、804R…第1光変調装置、804G…第2光変調装置、804B…第3光変調装置、806…クロスダイクロイックプリズム、808…投射装置、810…スクリーン、900…ディスプレイ、910…回路基板、912…表示領域、914…データ線駆動回路、916…走査線駆動回路、918…制御回路、920…レンズアレイ、922…レンズ、930…ヒートシンク、1030…柱状部、1040…絶縁層、1041…側面、1060…ITO電極
3 Dummy columnar part 10 Substrate 20 Laminated body 22 Buffer layer 30 Columnar part 30a First columnar part 30b Second columnar part 31 Aggregate of columnar parts 32 First first columnar part Semiconductor layer 34 Light-emitting layer 36 Second semiconductor layer 40 Insulating layer 41 Side surface 42 Contact hole 50 Lower electrode 60 Upper electrode 62 Contact electrode 62a First conductive portion , 62b... second conductive portion, 64... first electrode, 66... second electrode, 66a... first portion, 66b... second portion, 67a, 67b... part, 68... third electrode, 70... insulating layer, 80 First wiring 82 Second wiring 84 Third wiring 90 First current control element 92 Second current control element 100, 200, 300, 400, 500, 600 Light emitting device 800 Projector 802R First optical element 802G Second optical element 802B Third optical element 804R First optical modulator 804G Second optical modulator 804B Third optical modulator 806 Cross dichroic prism 808 Projection device 810 Screen 900 Display 910 Circuit board 912 Display area 914 Data line drive circuit 916 Scan line drive circuit 918 Control circuit 920 Lens array , 922... Lens 930... Heat sink 1030... Columnar portion 1040... Insulating layer 1041... Side surface 1060... ITO electrode

Claims (10)

基板と、
各々が第1導電型の第1半導体層、前記第1導電型と異なる第2導電型の第2半導体層、および前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に設けられた発光層を有する複数の柱状部、から構成される柱状部集合体と、
前記柱状部集合体の前記基板とは反対側において互いに離隔して設けられた第1電極および第2電極と、
を有し、
前記第1半導体層は、前記基板と前記発光層との間に設けられ、
前記第1電極は、前記第1半導体層と前記発光層との積層方向からみて、前記複数の柱状部のうちの第1柱状部と重なり、かつ前記第1柱状部の前記第2半導体層と電気的に接続され、
前記第2電極は、前記積層方向からみて、前記複数の柱状部のうちの第2柱状部と重なり、かつ前記第2柱状部の前記第2半導体層と電気的に接続されている、発光装置。
a substrate;
a first semiconductor layer of a first conductivity type, a second semiconductor layer of a second conductivity type different from the first conductivity type, and a light-emitting layer provided between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer a columnar section aggregate composed of a plurality of columnar sections having
a first electrode and a second electrode provided separately from each other on the opposite side of the columnar assembly from the substrate;
has
The first semiconductor layer is provided between the substrate and the light emitting layer,
The first electrode overlaps with a first columnar portion of the plurality of columnar portions when viewed from the stacking direction of the first semiconductor layer and the light emitting layer, and overlaps with the second semiconductor layer of the first columnar portion. electrically connected,
The light-emitting device, wherein the second electrode overlaps a second columnar portion of the plurality of columnar portions when viewed from the stacking direction, and is electrically connected to the second semiconductor layer of the second columnar portion. .
請求項1において、
前記第1電極に供給される電流を制御する第1電流制御素子と、
前記第2電極に供給される電流を制御する第2電流制御素子と、を有する、発光装置。
In claim 1,
a first current control element that controls the current supplied to the first electrode;
and a second current control element that controls the current supplied to the second electrode.
請求項2において、
前記積層方向からみて、前記第1電極の面積は、前記第2電極の面積よりも大きく、
前記第1電流制御素子および前記第2電流制御素子は、トランジスターであり、
前記第1電流制御素子のゲート幅は、前記第2電流制御素子のゲート幅よりも大きい、発光装置。
In claim 2,
When viewed from the stacking direction, the area of the first electrode is larger than the area of the second electrode,
the first current control element and the second current control element are transistors;
The light-emitting device, wherein the gate width of the first current control element is larger than the gate width of the second current control element.
請求項2において、
前記積層方向からみて、前記第2電極の面積は、前記第1電極の面積よりも大きく、
前記第1電流制御素子および前記第2電流制御素子は、トランジスターであり、
前記第2電流制御素子のゲート幅は、前記第1電流制御素子のゲート幅よりも大きい、発光装置。
In claim 2,
When viewed from the stacking direction, the area of the second electrode is larger than the area of the first electrode,
the first current control element and the second current control element are transistors;
The light-emitting device, wherein the gate width of the second current control element is larger than the gate width of the first current control element.
請求項2ないし4のいずれか1項において、
前記柱状部集合体の前記基板とは反対側に設けられた絶縁層と、
前記第2電極に接続された配線と、
を有し、
前記絶縁層には、コンタクトホールが設けられ、
前記積層方向からみて、前記第1電極は、前記コンタクトホールと重なり、
前記第2電極は、
前記コンタクトホールと重なり、前記絶縁層と重ならない第1部分と、
前記第1部分に接続され、前記絶縁層と重なる第2部分と、
を有し、
前記配線は、前記第2部分に接続され、
前記第1部分は、前記第1電極を囲んだ形状を有し、
前記第2部分は、前記第1部分を囲んだ形状を有している、発光装置。
In any one of claims 2 to 4,
an insulating layer provided on a side of the columnar assembly opposite to the substrate;
wiring connected to the second electrode;
has
A contact hole is provided in the insulating layer,
When viewed from the stacking direction, the first electrode overlaps the contact hole,
The second electrode is
a first portion that overlaps with the contact hole and does not overlap with the insulating layer;
a second portion connected to the first portion and overlapping the insulating layer;
has
The wiring is connected to the second portion,
The first portion has a shape surrounding the first electrode,
The light-emitting device, wherein the second portion has a shape surrounding the first portion.
請求項5において、
前記第1部分は、前記第1電極を囲んだ形状に代えて、前記第1電極を囲んだ形状の一部が開放された形状を有し、
前記第2部分は、前記第1部分を囲んだ形状に代えて、前記第1部分を囲んだ形状の一部が開放された形状を有し、
前記配線は、前記第1部分において解放された前記一部、および前記第2部分において解放された前記一部を通っている、発光装置。
In claim 5,
the first portion has a shape in which a part of the shape surrounding the first electrode is opened instead of the shape surrounding the first electrode;
the second portion has a shape in which a part of the shape surrounding the first portion is opened instead of the shape surrounding the first portion;
The light-emitting device, wherein the wiring passes through the part that is free in the first part and the part that is free in the second part.
請求項2において、
前記第1電流制御素子は、前記第1電極と電気的に接続された配線であり、
前記第2電流制御素子は、前記第2電極と電気的に接続された配線であり、
前記積層方向からみて、前記第1電極の面積は、前記第2電極の面積よりも大きく、
前記第1電流制御素子のシート抵抗は、前記第2電流制御素子のシート抵抗よりも低い、発光装置。
In claim 2,
the first current control element is a wiring electrically connected to the first electrode,
the second current control element is a wiring electrically connected to the second electrode,
When viewed from the stacking direction, the area of the first electrode is larger than the area of the second electrode,
The light-emitting device, wherein the sheet resistance of the first current control element is lower than the sheet resistance of the second current control element.
請求項2において、
前記第1電流制御素子は、前記第1電極と電気的に接続された配線であり、
前記第2電流制御素子は、前記第2電極と電気的に接続された配線であり、
前記積層方向からみて、前記第2電極の面積は、前記第1電極の面積よりも大きく、
前記第2電流制御素子のシート抵抗は、前記第1電流制御素子のシート抵抗よりも低い、発光装置。
In claim 2,
the first current control element is a wiring electrically connected to the first electrode,
the second current control element is a wiring electrically connected to the second electrode,
When viewed from the stacking direction, the area of the second electrode is larger than the area of the first electrode,
The light-emitting device, wherein the sheet resistance of the second current control element is lower than the sheet resistance of the first current control element.
請求項1ないし8のいずれか1項に記載の発光装置を有する、プロジェクター。 A projector comprising the light emitting device according to claim 1 . 請求項1ないし8のいずれか1項に記載の発光装置を有する、ディスプレイ。 A display comprising a light emitting device according to any one of claims 1 to 8.
JP2022024524A 2022-02-21 2022-02-21 Light emitting device, projector, and display Pending JP2023121271A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022024524A JP2023121271A (en) 2022-02-21 2022-02-21 Light emitting device, projector, and display

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022024524A JP2023121271A (en) 2022-02-21 2022-02-21 Light emitting device, projector, and display

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2023121271A true JP2023121271A (en) 2023-08-31

Family

ID=87797966

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022024524A Pending JP2023121271A (en) 2022-02-21 2022-02-21 Light emitting device, projector, and display

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2023121271A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7008295B2 (en) Luminous device and projector
CN111755580B (en) Light emitting device and projector
JP7136020B2 (en) Light-emitting device and projector
US20220311205A1 (en) Light Emitting Device And Projector
JP7056628B2 (en) Luminous device and projector
JP2022011468A (en) Light emitting device and projector
US20220173266A1 (en) Method for manufacturing light emitting apparatus, light emitting apparatus, and projector
JP7320794B2 (en) Light-emitting devices, projectors, and displays
JP7188690B2 (en) projector
JP7230901B2 (en) Light-emitting device and projector
JP2023121271A (en) Light emitting device, projector, and display
JP2022081925A (en) Light emitting device and projector
US20230090522A1 (en) Light-emitting device, projector, and display
US20230283044A1 (en) Light-emitting device, projector, and display
US20230098065A1 (en) Light-emitting device and manufacturing method thereof, projector, and display
US20220310880A1 (en) Light Emitting Device, Projector, And Display
US20220311210A1 (en) Light Emitting Device, Projector, And Display
JP2023025741A (en) Light-emitting device, projector, and display
JP2023086378A (en) Light-emitting device, projector, display, and method for manufacturing light-emitting device
JP2023128375A (en) Light-emitting device, projector and display
US20240030681A1 (en) Light-emitting device, projector, display, and head-mounted display
JP2023094009A (en) Light emitting device, projector, and display
JP2023065945A (en) Light emitting device and projector
JP2022152162A (en) Method for manufacturing light emitting device, light emitting device, projector, and display
JP2023065943A (en) Light emitting device and projector