JP2023096358A - polyphenylene sulfide film - Google Patents

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祥平 加藤
Shohei Kato
知子 早野
Tomoko Hayano
將吾 手代木
Shogo Teshirogi
健太 森下
Kenta Morishita
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Abstract

To provide a polyphenylene sulfide film which has small surface roughness on at least one surface and projections of more than 50 nm, and has a small difference (absolute value) between a maximum value and a minimum value of Young's modulus in an in-plane direction.SOLUTION: A polyphenylene sulfide film has a layer (hereinafter referred to as an A layer) which has central plane average roughness SRa on at least one surface of 150 nm or less, and the number SPc (50 nm) of projections of more than 50 nm from a central surface of the film of 5 pieces/0.2 mm2 or more, and has a difference (an absolute value) between a maximum value and a minimum value of Young's moduli in four directions of 0°, 45°, 90°, and 135°when a direction vertical to a longitudinal direction from an arbitrary point on the surface of the film is set at 0° of 0.5 GPa or less.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、少なくとも一方の表面の表面粗さが小さくかつ50nmを超える突起を有し、面内方向のヤング率の最大値と最小値の差(絶対値)が小さいポリフェニレンサルファイドフィルムに関する。 The present invention relates to a polyphenylene sulfide film having small surface roughness on at least one surface, protrusions exceeding 50 nm, and a small difference (absolute value) between the maximum value and the minimum value of Young's modulus in the in-plane direction.

電子機器や情報機器の高機能化、高精度化に伴い、使用部材への要求品位が厳しくなっている。例えば高周波回路基板用基材フィルム、離型用フィルム、コンデンサ用基材フィルムなどは要求品位が厳しい。これらの部材は、ベースとなるフィルムに他の材料を貼り合わせたり、細かく裁断されたりと複雑な加工を必要とされることが多い。 As electronic equipment and information equipment become more sophisticated and precise, the quality requirements for the materials used are becoming stricter. For example, high-frequency circuit board substrate films, release films, capacitor substrate films, and the like have strict quality requirements. These members often require complex processing, such as bonding other materials to the base film or cutting into small pieces.

従って、フィルムを裁断加工する方向で最終製品の特性が変化してしまうことを防ぐために、ベースフィルムの面内方向物性バラツキは小さいことが要求される。 Therefore, in order to prevent the properties of the final product from changing in the direction in which the film is cut, it is required that the in-plane physical property variation of the base film is small.

また高周波回路基板用基材フィルムにおいては、電気信号は回路表面を流れることから基材フィルムの表面形状が伝送特性に影響する。すなわち基材フィルム表面の粗さが大きいまたは突起数が多いと伝送損失が大きくなるため、表面粗さの小さいフィルムが要求される。 In addition, in the base film for high-frequency circuit boards, since electric signals flow on the circuit surface, the surface shape of the base film affects the transmission characteristics. That is, if the surface roughness of the substrate film is large or the number of protrusions is large, the transmission loss increases, so a film with small surface roughness is required.

従来上記分野に使用されているフィルムやシートとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリイミド、フッ素系樹脂等のフィルムが使用されているが、中でもポリフェニレンサルファイドフィルムは耐熱性、耐薬品性、寸法安定性、機械特性が良好であるために、好適に使用することができ、使用範囲が拡大されている。中でも表面粗さの小さいポリフェニレンサルファイドフィルムを提供した一例として、実質的に粒子を含有しないポリフェニレンサルファイドフィルムが提案されている(特許文献1)。 Films and sheets conventionally used in the above fields are made of polyethylene, polypropylene, polyester, polyimide, fluororesin, etc. Among them, polyphenylene sulfide film has heat resistance, chemical resistance, and dimensional stability. , the mechanical properties are good, so it can be preferably used, and the range of use is expanded. Among them, as an example of providing a polyphenylene sulfide film with a small surface roughness, a polyphenylene sulfide film containing substantially no particles has been proposed (Patent Document 1).

国際公開第2007/129695号WO2007/129695

ポリフェニレンサルファイドフィルムの表面粗さは無機粒子を用いたり、熱可塑性樹脂を分散させることで調整するものであるが、表面粗さが小さいことと高めの突起を少量有することの両立を図ることは困難であった。 The surface roughness of the polyphenylene sulfide film is adjusted by using inorganic particles or dispersing thermoplastic resin, but it is difficult to achieve both a small surface roughness and a small amount of high protrusions. Met.

本発明は、少なくとも一方の表面の表面粗さが小さくかつ50nmを超える突起を有し、面内方向のヤング率の最大値と最小値の差(絶対値)が小さいポリフェニレンサルファイドフィルムの提供に関する。 The present invention relates to the provision of a polyphenylene sulfide film having small surface roughness on at least one surface, protrusions exceeding 50 nm, and a small difference (absolute value) between the maximum value and the minimum value of Young's modulus in the in-plane direction.

上記課題を解決するために、本発明は以下の構成をとる。すなわち、
[1]少なくとも一方の表面の中心面平均粗さSRaが150nm以下であり、かつ、フィルムの中心面から50nmを超える突起の個数SPc(50nm)が5個/0.2mm以上である表面(当該表面をA面という)を有する層(当該層をA層という)を有してなり、フィルムの面上の任意点から長手方向と垂直な方向を0°として、0°から45°、90°、135°方向にヤング率を測定した際の、前記4方向におけるヤング率の最大値と最小値の差(絶対値)が0.5GPa以下であるポリフェニレンサルファイドフィルム。
[2]前記A面において、十点平均粗さSRzが1300nm以下である[1]に記載のポリフェニレンサルファイドフィルム。
[3]前記A層は、実質的に粒子を含有しない[1]または[2]に記載のポリフェニレンサルファイドフィルム。
[4]前記A層は、ポリフェニレンサルファイド樹脂(A)を主たる構成成分とし、前記樹脂(A)とは異なる熱可塑性樹脂(B)を含み、熱可塑性樹脂(B)の平均分散径が0.5μm以上1.2μm以下である[1]~[3]のいずれかに記載のポリフェニレンサルファイドフィルム。
[5]前記熱可塑性樹脂(B)が下記化学式のいずれかを含有する[4]に記載のポリフェニレンサルファイドフィルム。
In order to solve the above problems, the present invention has the following configurations. i.e.
[1] At least one surface has a center plane average roughness SRa of 150 nm or less, and a surface having a number of protrusions exceeding 50 nm from the center plane of the film SPc (50 nm) of 5/0.2 mm 2 or more ( The surface is referred to as the A surface) (the layer is referred to as the A layer), and the direction perpendicular to the longitudinal direction is 0° from an arbitrary point on the surface of the film, 0° to 45°, 90° A polyphenylene sulfide film having a difference (absolute value) of 0.5 GPa or less between the maximum value and the minimum value of Young's modulus in the four directions when the Young's modulus is measured in the directions of 135° and 135°.
[2] The polyphenylene sulfide film according to [1], wherein the surface A has a ten-point average roughness SRz of 1300 nm or less.
[3] The polyphenylene sulfide film according to [1] or [2], wherein the layer A is substantially free of particles.
[4] The A layer contains a polyphenylene sulfide resin (A) as a main component, and contains a thermoplastic resin (B) different from the resin (A), and the thermoplastic resin (B) has an average dispersed diameter of 0.000. The polyphenylene sulfide film according to any one of [1] to [3], which is 5 μm or more and 1.2 μm or less.
[5] The polyphenylene sulfide film according to [4], wherein the thermoplastic resin (B) contains any one of the following chemical formulas.

Figure 2023096358000001
Figure 2023096358000001

(ただし、式中のR~RはそれぞれH、OH基、メトキシ基、エトキシ基、トリフルオロメチル基、炭素数1~13の脂肪族基、炭素数6~10の芳香族基のいずれかである。)
[6]熱可塑性樹脂(B)がスルホニル基を有する、[4]または[5]に記載のポリフェニレンサルファイドフィルム。
[7]前記A層中の樹脂(A)と熱可塑性樹脂(B)の含有量の合計を100質量部とした場合に、熱可塑性樹脂(B)の含有量が0.1質量部以上50質量部以下である、[4]~[6]のいずれかに記載のポリフェニレンサルファイドフィルム。
[8]前記ポリフェニレンサルファイドフィルムの面上の任意点から長手方向と垂直な方向を0°として、0°、90°方向の250℃×10分の寸法変化率がいずれも5.0%以下である[1]~[7]のいずれかに記載のポリフェニレンサルファイドフィルム。
[9]前記ポリフェニレンサルファイドフィルムの厚みが10μm以上500μm以下である[1]~[8]のいずれかに記載のポリフェニレンサルファイドフィルム。
(where R 1 to R 6 in the formula are each H, OH group, methoxy group, ethoxy group, trifluoromethyl group, aliphatic group having 1 to 13 carbon atoms, or aromatic group having 6 to 10 carbon atoms). or.)
[6] The polyphenylene sulfide film of [4] or [5], wherein the thermoplastic resin (B) has a sulfonyl group.
[7] When the total content of the resin (A) and the thermoplastic resin (B) in the layer A is 100 parts by mass, the content of the thermoplastic resin (B) is 0.1 parts by mass or more50 The polyphenylene sulfide film according to any one of [4] to [6], which is part by mass or less.
[8] With the direction perpendicular to the longitudinal direction from an arbitrary point on the surface of the polyphenylene sulfide film as 0°, the dimensional change rate in 0° and 90° directions at 250 ° C. × 10 minutes is 5.0% or less. A polyphenylene sulfide film according to any one of [1] to [7].
[9] The polyphenylene sulfide film according to any one of [1] to [8], wherein the polyphenylene sulfide film has a thickness of 10 μm or more and 500 μm or less.

本発明によれば、少なくとも一方の表面の表面粗さが小さくかつ50nmを超える突起を有し、面内方向のヤング率の最大値と最小値の差(絶対値)が小さいポリフェニレンサルファイドフィルムを提供することができる。 According to the present invention, there is provided a polyphenylene sulfide film having small surface roughness on at least one surface, protrusions exceeding 50 nm, and a small difference (absolute value) between the maximum value and the minimum value of Young's modulus in the in-plane direction. can do.

本発明におけるポリフェニレンサルファイドとは、繰り返し単位の85モル%以上(好ましくは90モル%以上)が下記構造式で示される構成単位からなる重合体をいう。かかる成分が85モル%未満ではポリマーの結晶性、軟化点等が低下し、耐熱性、寸法安定性、機械特性、離型性等が損なわれる場合がある。 Polyphenylene sulfide in the present invention refers to a polymer in which 85 mol % or more (preferably 90 mol % or more) of repeating units are composed of structural units represented by the following structural formulas. If such a component is less than 85 mol %, the crystallinity, softening point, etc. of the polymer may be lowered, and heat resistance, dimensional stability, mechanical properties, releasability, etc. may be impaired.

Figure 2023096358000002
Figure 2023096358000002

上記ポリフェニレンサルファイドにおいて、繰り返し単位の15モル%未満、好ましくは10モル%未満であれば、共重合可能なスルフィド結合を含有する単位が繰り返し単位として含まれていても差し支えない。該重合体の共重合の仕方はランダム、ブロック型を問わない。 In the above polyphenylene sulfide, a unit containing a copolymerizable sulfide bond may be included as a repeating unit as long as it is less than 15 mol %, preferably less than 10 mol % of the repeating unit. The method of copolymerization of the polymer may be random or block type.

本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムは、少なくとも一方の表面の中心面平均粗さSRaが150nm以下である表面(当該表面をA面という)を有する層(当該層をA層という)を有することが好ましい。A面の中心面平均粗さSRaが130nm以下であることが好ましく、さらに好ましくは100nm以下である。A面の中心面平均粗さSRaが150nmより大きいと、例えばフィルムを高周波回路基板用基材等に用いる場合、回路の伝送損失が悪化すなわち伝送特性を損ねてしまう場合がある。また接着剤や離型剤を塗布した際に塗布ムラや塗布抜けが発生し、製品の品位を損ねてしまう場合がある。塗布ムラや塗布抜けを最低限とするには、中心面平均粗さSRaが100nm以下であることが好ましい。 The polyphenylene sulfide film of the present invention preferably has a layer (the layer is referred to as the A layer) having a surface (the surface is referred to as the A surface) in which at least one surface has a center plane average roughness SRa of 150 nm or less. The center plane average roughness SRa of the A plane is preferably 130 nm or less, more preferably 100 nm or less. If the center plane average roughness SRa of the A plane is larger than 150 nm, for example, when the film is used as a substrate for a high frequency circuit board, the transmission loss of the circuit may deteriorate, that is, the transmission characteristics may be impaired. In addition, when an adhesive or release agent is applied, uneven application or omission of application may occur, which may impair the quality of the product. In order to minimize coating unevenness and coating omission, the central surface average roughness SRa is preferably 100 nm or less.

本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムは、前記A面のSPc(50nm)が5個/0.2mm以上であることが好ましい。SPc(50nm)とはフィルムの中心面から50nmを超える突起の個数である。A面のSPc(50nm)が10個/0.2mm以上であることがより好ましく、さらに好ましくは20個/0.2mm以上である。A面のSPc(50nm)が5個/0.2mm以上であると、静摩擦係数が低下するためにフィルムの搬送性が良好となり好ましい。A面のSPc(50nm)が5個/0.2mmより小さいと、フィルムの滑りが悪化しブロッキング等の不具合を生じる場合がある。また本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムは、A面のフィルムの中心面から5nmを超える突起の個数SPc(5nm)が1000個/0.2mm以下であることが好ましい。A面のSPc(5nm)が1000個/0.2mmより大きいと、フィルムを高周波回路基板用基材等に用いる場合、回路の伝送損失が悪化すなわち伝送特性を損ねてしまう場合がある。A面の中心面平均粗さSRaを一定値以下としつつSPcを一定値以上とするための方法は特に限られるものではないが、例えば、樹脂を溶融押出しフィルムを製膜する際、押出機スクリュー回転数を制御し熱可塑性樹脂(B)の分散径を調整することによって達成できる。 In the polyphenylene sulfide film of the present invention, it is preferable that the SPc (50 nm) of the surface A is 5/0.2 mm 2 or more. SPc (50 nm) is the number of protrusions exceeding 50 nm from the center plane of the film. The SPc (50 nm) of the A side is more preferably 10/0.2 mm 2 or more, and still more preferably 20/0.2 mm 2 or more. When the SPc (50 nm) of the A side is 5 pieces/0.2 mm 2 or more, the static friction coefficient is lowered, so that the transportability of the film is improved, which is preferable. If the SPc (50 nm) of the A side is less than 5 particles/0.2 mm 2 , the slippage of the film is deteriorated and problems such as blocking may occur. In the polyphenylene sulfide film of the present invention, the number of protrusions SPc (5 nm) exceeding 5 nm from the center plane of the A-side film is preferably 1000/0.2 mm 2 or less. If the SPc (5 nm) of the A side is larger than 1000/0.2 mm 2 , when the film is used as a substrate for a high-frequency circuit board or the like, the transmission loss of the circuit may deteriorate, that is, the transmission characteristics may be impaired. The method for making the center surface average roughness SRa of the A side equal to or less than a certain value while making the SPc equal to or more than a certain value is not particularly limited. It can be achieved by controlling the rotation speed and adjusting the dispersion diameter of the thermoplastic resin (B).

なお、SRa、SPc(50nm)、SPc(5nm)は実施例に記載の方法で求めるものとする。 SRa, SPc (50 nm), and SPc (5 nm) are determined by the method described in Examples.

本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムは、フィルム面上の任意点から長手方向と垂直な方向を0°として、0°から45°、90°、135°方向にヤング率を測定した際の、前記4方向におけるヤング率の最大値と最小値の差(絶対値)が0.5GPa以下であることが好ましい。前記4方向におけるヤング率の最大値と最小値の差(絶対値)が0.5GPa以下であることで、フィルムを裁断加工する方向によって特性がばらついてしまうことなく、材料として好適に用いることができる。なお、前記4方向におけるヤング率の最大値と最小値の差(絶対値)は実施例に記載の方法で求めるものとする。 In the polyphenylene sulfide film of the present invention, the direction perpendicular to the longitudinal direction is 0 ° from an arbitrary point on the film surface, and the Young's modulus is measured from 0 ° to 45 °, 90 °, and 135 °. The difference (absolute value) between the maximum value and the minimum value of Young's modulus is preferably 0.5 GPa or less. When the difference (absolute value) between the maximum value and the minimum value of Young's modulus in the four directions is 0.5 GPa or less, the film can be suitably used as a material without variation in properties depending on the cutting direction of the film. can. The difference (absolute value) between the maximum value and the minimum value of Young's modulus in the four directions is obtained by the method described in the examples.

本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムは、前記A面の十点平均粗さSRzが1300nm以下であることが好ましく、さらに好ましくは1000nm以下である。前記A面の十点平均粗さSRzが1300nmより大きいと、フィルムを高周波回路基板用基材等に用いる場合、回路の伝送損失が悪化すなわち伝送特性を損ねてしまう場合がある。また接着剤や離型剤を塗布した際に塗布ムラや塗布抜けが発生し、製品の品位を損ねてしまう場合がある。塗布ムラや塗布抜けを最低限とするには、十点平均粗さSRzが800nm以下であることが好ましい。 The polyphenylene sulfide film of the present invention preferably has a ten-point average roughness SRz of the A side of 1300 nm or less, more preferably 1000 nm or less. If the surface A has a ten-point average roughness SRz of more than 1300 nm, when the film is used as a substrate for a high-frequency circuit board or the like, the transmission loss of the circuit may deteriorate, that is, the transmission characteristics may be impaired. In addition, when an adhesive or release agent is applied, uneven application or omission of application may occur, which may impair the quality of the product. In order to minimize coating unevenness and coating omission, the ten-point average roughness SRz is preferably 800 nm or less.

本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムは、前記A層が実質的に粒子を含有しないことが好ましい。前記A層が粒子を含有すると、例えば粒子が無機粒子である場合に粒子同士が凝集してしまい、粗大突起や欠点を形成しフィルムの品質を損ねる場合がある。 In the polyphenylene sulfide film of the present invention, the layer A preferably contains substantially no particles. When the layer A contains particles, for example, when the particles are inorganic particles, the particles aggregate to form coarse protrusions or defects, which may impair the quality of the film.

本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムは、前記A層がポリフェニレンサルファイド樹脂(A)を主たる構成成分とし、前記樹脂(A)とは異なる熱可塑性樹脂(B)を含み、熱可塑性樹脂(B)の平均分散径が0.5μm以上1.2μm以下であることが好ましい。熱可塑性樹脂(B)の平均分散径が0.5μmより小さいと、熱可塑性樹脂(B)が細かく分散していることとなり、本願のSPcを達成することが難しい場合がある。熱可塑性樹脂(B)の平均分散径が1.2μmより大きいと、熱可塑性樹脂(B)の分散が不十分であることとなり、本願のSRaを達成することが難しい場合がある。なお、前記平均分散径は実施例に記載の方法で求めるものとする。 In the polyphenylene sulfide film of the present invention, the A layer contains a polyphenylene sulfide resin (A) as a main component, contains a thermoplastic resin (B) different from the resin (A), and has an average dispersion of the thermoplastic resin (B) The diameter is preferably 0.5 μm or more and 1.2 μm or less. When the average dispersed diameter of the thermoplastic resin (B) is less than 0.5 μm, the thermoplastic resin (B) is finely dispersed, and it may be difficult to achieve the SPc of the present application. When the average dispersed diameter of the thermoplastic resin (B) is larger than 1.2 μm, the thermoplastic resin (B) is insufficiently dispersed, and it may be difficult to achieve the SRa of the present application. In addition, the said average dispersion diameter shall be calculated|required by the method as described in an Example.

本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムは、前記熱可塑性樹脂(B)が下記化学式のいずれかを含有することが好ましい。前記熱可塑性樹脂(B)が下記化学式のいずれかを含有しない場合、ポリフェニレンサルファイドと熱可塑性樹脂(B)との界面で剥離が生じて、フィルムの強度が低下してしまう場合がある。 In the polyphenylene sulfide film of the present invention, the thermoplastic resin (B) preferably contains any one of the following chemical formulas. When the thermoplastic resin (B) does not contain any of the chemical formulas below, peeling may occur at the interface between the polyphenylene sulfide and the thermoplastic resin (B), resulting in a decrease in film strength.

Figure 2023096358000003
Figure 2023096358000003

(ただし、式中のR~RはそれぞれH、OH基、メトキシ基、エトキシ基、トリフルオロメチル基、炭素数1~13の脂肪族基、炭素数6~10の芳香族基のいずれかである。)
本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムは、熱可塑性樹脂(B)がスルホニル基を有することが好ましい。熱可塑性樹脂(B)がスルホニル基を有すると、ポリフェニレンサルファイドフィルムの製膜性が向上し、加熱後の寸法変化率を小さくすることが可能となる。スルホニル基を有する熱可塑性樹脂としては、ポリエーテルスルホン、ポリフェニルスルホン、ポリスルホンが挙げられる。中でも、耐熱性および耐薬品性の観点から、ポリフェニルスルホンが好ましく用いられる。ポリフェニルスルホンは誘電率が低い樹脂であり、本願で発明のポリフェニレンサルファイドフィルムを回路基板用基材へ用いる場合、伝送特性を悪化させない点でも好ましい。
(where R 1 to R 6 in the formula are each H, OH group, methoxy group, ethoxy group, trifluoromethyl group, aliphatic group having 1 to 13 carbon atoms, or aromatic group having 6 to 10 carbon atoms). or.)
In the polyphenylene sulfide film of the present invention, the thermoplastic resin (B) preferably has a sulfonyl group. When the thermoplastic resin (B) has a sulfonyl group, the film formability of the polyphenylene sulfide film is improved, and the dimensional change rate after heating can be reduced. Thermoplastic resins having a sulfonyl group include polyethersulfone, polyphenylsulfone, and polysulfone. Among them, polyphenylsulfone is preferably used from the viewpoint of heat resistance and chemical resistance. Polyphenylsulfone is a resin having a low dielectric constant, and is preferable in that the transmission characteristics are not deteriorated when the polyphenylene sulfide film of the present invention is used as a substrate for a circuit board.

本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムは、前記A層中の樹脂(A)と熱可塑性樹脂(B)の含有量の合計を100質量部とした場合に、熱可塑性樹脂(B)の含有量が0.1質量部以上50質量部以下であることが好ましく、より好ましくは0.5質量部以上30質量部以下である。熱可塑性樹脂(B)の含有量が0.1質量部未満であると、ポリフェニレンサルファイドフィルムの製膜性が悪化するだけでなく、本願の表面粗さを達成することが難しい場合がある。熱可塑性樹脂(B)の含有量が50質量部より大きいと、本願の表面粗さを達成することが難しい場合がある。 In the polyphenylene sulfide film of the present invention, the content of the thermoplastic resin (B) is 0.00 parts when the total content of the resin (A) and the thermoplastic resin (B) in the layer A is 100 parts by mass. It is preferably from 1 part by mass to 50 parts by mass, more preferably from 0.5 part by mass to 30 parts by mass. When the content of the thermoplastic resin (B) is less than 0.1 part by mass, not only is the film formability of the polyphenylene sulfide film deteriorated, but it may also be difficult to achieve the desired surface roughness. If the content of the thermoplastic resin (B) is more than 50 parts by mass, it may be difficult to achieve the desired surface roughness.

本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムは、フィルム面上の任意点から長手方向と垂直な方向を0°として、0°、90°方向の250℃×10分の寸法変化率がいずれも5.0%以下であることが好ましい。250℃×10分の寸法変化率が5.0%より大きいと、はんだ付け等の高温下で行われる加工においてフィルムの収縮が大きく、基材として好適に用いることができない場合がある。なお、前記寸法変化率は実施例に記載の方法で求めるものとする。 The polyphenylene sulfide film of the present invention has a dimensional change rate of 5.0% or less at 250 ° C. × 10 minutes in the 0 ° and 90 ° directions, with the direction perpendicular to the longitudinal direction from an arbitrary point on the film surface as 0 °. is preferably If the dimensional change rate at 250° C.×10 minutes is more than 5.0%, the film shrinks significantly during processing performed at high temperatures such as soldering, and may not be suitable for use as a base material. In addition, the said dimensional change rate shall be calculated|required by the method as described in an Example.

本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムは、厚みが10μm以上500μm以下であることが好ましく、さらに好ましくは250μm以下である。フィルム厚みを前述の下限以上とすることで、フィルムのコシが良好となり、基材として好適に用いることができる。フィルム厚みを前述の上限以下とすることで、フィルムの加工時にバリが発生するのを抑制し、取扱が容易となる。 The polyphenylene sulfide film of the present invention preferably has a thickness of 10 µm or more and 500 µm or less, more preferably 250 µm or less. By setting the thickness of the film to the above-mentioned lower limit or more, the stiffness of the film is improved, and the film can be suitably used as a base material. By making the film thickness equal to or less than the above-mentioned upper limit, the occurrence of burrs during processing of the film is suppressed, and handling becomes easy.

本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムには、本発明のフィルムの表面粗さ、SPc、ヤング率に悪影響を与えない範囲であれば、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤等の添加剤を添加してもよい。 The polyphenylene sulfide film of the present invention contains additives such as antioxidants, heat stabilizers, lubricants, and ultraviolet absorbers as long as they do not adversely affect the surface roughness, SPc, and Young's modulus of the film of the present invention. may be added.

本発明の好ましい態様として、ポリフェニレンサルファイドフィルムを巻き取ってなるポリフェニレンサルファイドフィルムロールを挙げることができる。本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムロールは、フィルム幅が500mm以上であることが好ましい。フィルムを製造した直後に巻き取ってなる中間製品ロールであってもよく、中間製品ロールをスリットしてなる製品ロールとしてもよい。 A preferred embodiment of the present invention is a polyphenylene sulfide film roll obtained by winding a polyphenylene sulfide film. The polyphenylene sulfide film roll of the present invention preferably has a film width of 500 mm or more. An intermediate product roll obtained by winding the film immediately after production may be used, or a product roll obtained by slitting an intermediate product roll may be used.

本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムは、単膜であっても、複合フィルムであってもよい。複合フィルムとしては、2層以上の積層フィルムが挙げられる。例えば、本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムを、表層(A層)に有する、A層/B層からなる2層積層フィルムやA層/B層/A層からなる3層積層フィルムであってもよい。離型用途や高周波回路基板用途に用いる場合、平面性や耐電圧性の観点からは、すべての層に本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムを適用することが好ましい。 The polyphenylene sulfide film of the present invention may be a single film or a composite film. Composite films include laminated films of two or more layers. For example, the polyphenylene sulfide film of the present invention may be a two-layer laminated film consisting of A layer/B layer or a three-layer laminated film consisting of A layer/B layer/A layer having the polyphenylene sulfide film of the present invention as a surface layer (A layer). When used for release applications or high-frequency circuit board applications, it is preferable to apply the polyphenylene sulfide film of the present invention to all layers from the viewpoint of flatness and voltage resistance.

本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムの表面には、本発明のフィルムの表面粗さ、SPc、ヤング率に悪影響を与えない範囲であれば、帯電防止剤等の樹脂や化合物が塗布やラミネートされていたり、適度な表面処理、たとえばコロナ放電処理やプラズマ処理がされていてもよい。 On the surface of the polyphenylene sulfide film of the present invention, a resin or compound such as an antistatic agent is applied or laminated as long as it does not adversely affect the surface roughness, SPc, and Young's modulus of the film of the present invention. Appropriate surface treatment such as corona discharge treatment or plasma treatment may be applied.

(フィルムの製造方法)
本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムの製造方法について、例えば以下に示した工程によって製造することが好ましい。
(Film manufacturing method)
Regarding the method for producing the polyphenylene sulfide film of the present invention, it is preferable to produce it, for example, by the steps shown below.

まず、本発明のポリフェニレンサルファイドの製造方法について述べる。ポリフェニレンサルファイドは、例えば、アルカリ金属硫化物(硫化アルカリ)とジハロベンゼンとを重合させることによって製造することができる。 First, the method for producing the polyphenylene sulfide of the present invention will be described. Polyphenylene sulfide can be produced, for example, by polymerizing an alkali metal sulfide (alkali sulfide) and a dihalobenzene.

アルカリ金属硫化物としては、硫化リチウム、硫化ナトリウム、硫化カリウム、硫化ルビジウム、硫化セシウム等が挙げられ、その中でも硫化ナトリウムが好ましい。これらのアルカリ金属硫化物は、水和物または水性混合物として、あるいは無水物の形で用いることができる。また、反応系においてin situで調製されるアルカリ金属硫化物、硫化物、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水和物と硫化水素とから調製されるアルカリ金属硫化物等を用いることもできる。アルカリ金属硫化物は、1種が単独で用いられてもよく、また2種以上が併用されてもよい。 Alkali metal sulfides include lithium sulfide, sodium sulfide, potassium sulfide, rubidium sulfide, and cesium sulfide, among which sodium sulfide is preferred. These alkali metal sulfides can be used as hydrates or aqueous mixtures, or in anhydrous form. In addition, alkali metal sulfide prepared in situ in the reaction system, sulfide, lithium hydroxide, alkali metal sulfide prepared from alkali metal hydrate such as sodium hydroxide and hydrogen sulfide can also be used. can. Alkali metal sulfides may be used alone or in combination of two or more.

ジハロベンゼンとしては、p-ジクロロベンゼン、p-ジブロモベンゼンなどのp-ジハロベンゼン、m-ジクロロベンゼンなどのm-ジハロベンゼン、1-メトキシ-2,5-ジハロベンゼン、3,5-ジクロロ安息香酸等のハロゲン原子以外の置換基を含むジハロベンゼン等を挙げることができる。これらの中でも、p-ジハロベンゼンが好ましく、p-ジクロロベンゼンが特に好ましい。ジハロベンゼンは、1種が単独で用いられてもよく、また2種以上が併用されてもよい。 Dihalobenzenes include p-dihalobenzenes such as p-dichlorobenzene and p-dibromobenzene, m-dihalobenzenes such as m-dichlorobenzene, and halogen atoms such as 1-methoxy-2,5-dihalobenzene and 3,5-dichlorobenzoic acid. dihalobenzene containing substituents other than Among these, p-dihalobenzene is preferred, and p-dichlorobenzene is particularly preferred. Dihalobenzene may be used alone or in combination of two or more.

ジハロベンゼンの使用量(仕込み量)は、仕込みアルカリ金属硫化物1モル当たり、好ましくは0.9~2.0モル、より好ましくは1.0~1.3モルの範囲であることが、高分子量のポリフェニレンサルファイドを得るためには望ましい。この使用割合を前述の範囲とすることで、加工に適した高粘度(高重合度)のポリフェニレンサルファイドを得ることが容易となる。 The amount of dihalobenzene used (amount charged) is preferably in the range of 0.9 to 2.0 mol, more preferably 1.0 to 1.3 mol, per 1 mol of alkali metal sulfide charged. of polyphenylene sulfide. By setting this use ratio within the above range, it becomes easy to obtain polyphenylene sulfide with high viscosity (high degree of polymerization) suitable for processing.

本発明においては、生成ポリフェニレンサルファイドの末端を形成させるか、あるいは重合反応や分子量を調節するなどのために、ジハロベンゼンと共に、モノハロ化合物(必ずしも芳香族化合物でなくともよい)を併用することができる。また、分岐または架橋重合体を形成させるために、1,2,4-トリクロロベンゼン、1,3,5-トリクロロベンゼンなどのトリハロ以上のポリハロ化合物(必ずしも芳香族化合物でなくともよい)、活性水素含有ハロゲン芳香族化合物、ハロゲン芳香族ニトロ化合物等を併用することも可能である。 In the present invention, a monohalo compound (not necessarily an aromatic compound) can be used in combination with dihalobenzene in order to form the terminal of the polyphenylene sulfide produced or to adjust the polymerization reaction or molecular weight. In addition, in order to form a branched or crosslinked polymer, trihalo or higher polyhalo compounds (not necessarily aromatic compounds) such as 1,2,4-trichlorobenzene and 1,3,5-trichlorobenzene, active hydrogen It is also possible to use a contained halogen aromatic compound, a halogen aromatic nitro compound, etc. in combination.

本発明においては、重合度を調整するために、重合助剤を添加して反応させることが好ましい。重合助剤としては、一般にポリフェニレンサルファイドの重合助剤として用いられる公知の重合助剤を用いることができ、例えば、アルカリ金属水酸化物(苛性アルカリ)、カルボン酸アルカリ金属塩、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ土類金属炭酸塩などが挙げられる。これらの中でも、アルカリ金属水酸化物、カルボン酸アルカリ金属塩が好適に用いられる。 In the present invention, in order to adjust the degree of polymerization, it is preferable to add a polymerization aid for the reaction. As the polymerization aid, a known polymerization aid generally used as a polymerization aid for polyphenylene sulfide can be used. Examples include alkali metal hydroxide (caustic alkali), alkali metal carboxylate, alkali metal carbonate, alkaline earth metal hydroxides, alkaline earth metal carbonates and the like. Among these, alkali metal hydroxides and alkali metal carboxylates are preferably used.

アルカリ金属水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどが挙げられる。カルボン酸のアルカリ金属塩としては、例えば、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、プロピオン酸ナトリウム、吉草酸リチウム、安息香酸ナトリウム、フェニル酢酸ナトリウム、p-トルイル酸カリウムなどが挙げられ、その中でも安価で入手し易いことから、酢酸ナトリウムが好適に用いられる。カルボン酸のアルカリ金属塩は、無水物、水和物または水溶液として用いることができる。また、カルボン酸のアルカリ金属塩は、有機アミド溶媒中で、有機酸と、アルカリ金属水酸化物、炭酸アルカリ金属塩及び重炭酸アルカリ金属塩よりなる群から選ばれる一種以上の化合物とを、ほぼ等化学当量ずつ添加して反応させることにより形成させてもよい。 Alkali metal hydroxides include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like. Alkali metal salts of carboxylic acids include, for example, lithium acetate, sodium acetate, potassium acetate, sodium propionate, lithium valerate, sodium benzoate, sodium phenylacetate and potassium p-toluate. Sodium acetate is preferably used due to its ready availability. Alkali metal salts of carboxylic acids can be used as anhydrides, hydrates or aqueous solutions. Further, the alkali metal salt of carboxylic acid is obtained by combining an organic acid and one or more compounds selected from the group consisting of alkali metal hydroxides, alkali metal carbonates and alkali metal bicarbonates in an organic amide solvent. It may be formed by adding equistoichiometric equivalents and reacting them.

重合助剤は、1種が単独で用いられてもよく、また2種以上が組み合わされて用いられてもよい。重合助剤の使用量は、重合助剤そのものの種類、ならびにアルカリ金属硫化物およびジハロベンゼンの種類などに応じて広い範囲から適宜選択することができるけれども、仕込みアルカリ金属硫化物1モルに対し、0.01モル~5モルの範囲が好ましく、0.1~2モルの範囲がより好ましい。 One of the polymerization aids may be used alone, or two or more of them may be used in combination. The amount of the polymerization aid used can be appropriately selected from a wide range depending on the type of the polymerization aid itself and the types of the alkali metal sulfide and dihalobenzene. A range of 0.01 mol to 5 mol is preferred, and a range of 0.1 to 2 mol is more preferred.

溶媒としては、有機アミド溶媒等の極性溶媒を使用することが好ましい。有機アミド溶媒の中でも、反応の安定性が高いことから、N-メチル-2-ピロリドン、N-エチル-2-ピロリドンなどのN-アルキルピロリドン、N-メチル-ε-カプロラクタムなどのカプロラクタム類、1,3-ジアルキル-2-イミダゾリジノン、テトラアルキル尿素、ヘキサアルキル燐酸トリアミドなどに代表されるアブロチック有機アミド溶媒などのアミド系高沸点極性溶媒が好適に用いられる。これらの中でもN-メチル-2-ピロリドン(以下、NMPと略記する場合もある)が特に好適に用いられる。溶媒の使用量は、仕込みアルカリ金属硫化物1モル当たり0.2~10モルの範囲が好ましく、2~5モルの範囲がより好ましい。 As the solvent, it is preferable to use a polar solvent such as an organic amide solvent. Among organic amide solvents, N-alkylpyrrolidones such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-ethyl-2-pyrrolidone; caprolactams such as N-methyl-ε-caprolactam; ,3-dialkyl-2-imidazolidinone, tetraalkylurea, hexaalkylphosphoric acid triamide, and other abrotic organic amide solvents and other amide-based high-boiling polar solvents are preferably used. Among these, N-methyl-2-pyrrolidone (hereinafter sometimes abbreviated as NMP) is particularly preferably used. The amount of solvent used is preferably in the range of 0.2 to 10 mol, more preferably in the range of 2 to 5 mol, per 1 mol of the alkali metal sulfide charged.

(1)本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムに用いられるポリフェニレンサルファイドは、アルカリ金属硫化物およびジハロベンゼンの適量、ならびに必要に応じてジハロベンゼン以外のハロゲン化化合物および重合助剤の適量を、アミド系高沸点溶媒などの極性溶媒中に加え、高温高圧下に反応させることによって製造することができる。重合系内の圧力は、使用する助剤の種類や量、および所望する重合度等に応じて適宜選択される。また重合系内の温度および重合時間も、使用する助剤の種類や量、および所望する重合度等に応じて適宜選択されるけれども、好ましくは温度200~300℃において20分~50時間、より好ましくは温度230~280℃において1~10時間である。以上のようにして粉状または粒状のポリフェニレンサルファイドを得る。次いで、得られた粉状または粒状のポリフェニレンサルファイドを、水または/および溶媒で洗浄して、副製塩、重合助剤、未反応モノマ等を分離する。 (1) The polyphenylene sulfide used in the polyphenylene sulfide film of the present invention contains an appropriate amount of an alkali metal sulfide and dihalobenzene, and if necessary, an appropriate amount of a halogenated compound other than dihalobenzene and a polymerization aid. It can be produced by adding to a polar solvent of and reacting at high temperature and high pressure. The pressure in the polymerization system is appropriately selected according to the type and amount of auxiliary agent used, the desired degree of polymerization, and the like. The temperature and polymerization time in the polymerization system are also appropriately selected according to the type and amount of the auxiliary agent to be used, the desired degree of polymerization, etc., but preferably at a temperature of 200 to 300° C. for 20 minutes to 50 hours, or more. It is preferably 1 to 10 hours at a temperature of 230 to 280°C. Powdery or granular polyphenylene sulfide is obtained as described above. Next, the obtained powdery or granular polyphenylene sulfide is washed with water and/or a solvent to separate by-salts, polymerization aids, unreacted monomers, and the like.

(2)本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムに前述のように、ポリフェニレンサルファイド以外の熱可塑性樹脂(B)を添加する場合、まず、熱可塑性樹脂(B)を、上記(1)で得られた粉状または粒状のポリフェニレンサルファイドに混ぜ、ヘンシェル等で均一混合する。また、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤等の添加剤を添加する場合にも、同様にしてポリフェニレンサルファイドに混合する。 (2) As described above, when adding a thermoplastic resin (B) other than polyphenylene sulfide to the polyphenylene sulfide film of the present invention, first, the thermoplastic resin (B) is added to the powder obtained in (1) above. Alternatively, mix with granular polyphenylene sulfide and mix uniformly with a Henschel or the like. When additives such as antioxidants, heat stabilizers, lubricants, and ultraviolet absorbers are added, they are mixed with the polyphenylene sulfide in the same manner.

次いで、得られた混合物を押出機(好ましくは1段以上のベント孔を有する押出機)に供給し、290~360℃の温度で溶融混錬して適当な口金から押し出し、ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物を得る。またガット状に溶融成形して、長さ2~10mm程度にカットし、ペレット状のポリフェニレンサルファイド樹脂組成物としてもよい。得られたポリフェニレンサルファイド樹脂組成物は、真空下の加熱式ドライヤで、温度100~180℃、時間1~5時間程度の条件で乾燥される。 Next, the obtained mixture is supplied to an extruder (preferably an extruder having one or more stages of vent holes), melt-kneaded at a temperature of 290 to 360 ° C. and extruded from a suitable die to obtain a polyphenylene sulfide resin composition. get Alternatively, the polyphenylene sulfide resin composition may be formed into pellets by melt-molding into a gut shape and cutting into lengths of about 2 to 10 mm. The obtained polyphenylene sulfide resin composition is dried in a vacuum heating dryer at a temperature of 100 to 180° C. for 1 to 5 hours.

なお、熱可塑性樹脂(B)を添加しない場合には、(1)で得られたポリフェニレンサルファイドに必要に応じて酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの添加剤を混合し、熱可塑性樹脂(B)を含む混合物の場合と同様にして押出し成形または溶融成形し、ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物として使用することができる。 In addition, when the thermoplastic resin (B) is not added, the polyphenylene sulfide obtained in (1) is mixed with additives such as antioxidants, heat stabilizers, lubricants, and ultraviolet absorbers as necessary, It can be extruded or melt-molded in the same manner as the mixture containing the thermoplastic resin (B) and used as a polyphenylene sulfide resin composition.

このようにして製造されるポリフェニレンサルファイド樹脂組成物は、1種が単独で使用されてもよく、また2種以上が混合されて使用されてもよい。例えば、熱可塑性樹脂(B)が添加されたポリフェニレンサルファイド樹脂ペレット(以後、マスターペレットとも称する)と、熱可塑性樹脂(B)が添加されていないポリフェニレンサルファイド樹脂ペレット(以後、ベースペレットとも称する)とを混合して用いることができる。 The polyphenylene sulfide resin composition thus produced may be used singly or in combination of two or more. For example, polyphenylene sulfide resin pellets to which the thermoplastic resin (B) is added (hereinafter also referred to as master pellets) and polyphenylene sulfide resin pellets to which the thermoplastic resin (B) is not added (hereinafter also referred to as base pellets) can be mixed and used.

(3)次に、(2)で得られたポリフェニレンサルファイド樹脂ペレットを用いて、本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムを製造する。(2)で得られたポリフェニレン樹脂ペレットを減圧下(好ましくは真空度が0~50mmHg)で120~230℃(好ましくは160℃から200℃)の温度に加熱しながらミキサーで撹拌し、3時間以上(好ましくは5~10時間)乾燥する。ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物の乾燥は、前述のようにしてポリフェニレンサルファイド樹脂組成物を乾燥した後、徐冷して室温まで戻し、再度乾燥させる等、多段階に分けて行ってもよい。ここで、乾燥温度が230℃を越えると、乾燥原料が固まりフィルムの製膜に支障を来す懸念があり、また該温度が120℃未満では、ポリフェニレンサルファイド原料中の不純物、特に250℃程度にまで加熱して揮発するような高沸点化合物が残留し、フィルムの欠陥を引き起こす場合がある。減圧が不十分であると、ポリフェニレンサルファイド樹脂同士が酸素で架橋され、変性ポリマーが生成されやすくなる。 (3) Next, the polyphenylene sulfide resin pellets obtained in (2) are used to produce the polyphenylene sulfide film of the present invention. The polyphenylene resin pellets obtained in (2) are stirred with a mixer while being heated to a temperature of 120 to 230° C. (preferably 160 to 200° C.) under reduced pressure (preferably with a degree of vacuum of 0 to 50 mmHg), and stirred for 3 hours. Dry above (preferably for 5 to 10 hours). The drying of the polyphenylene sulfide resin composition may be carried out in multiple stages, such as drying the polyphenylene sulfide resin composition as described above, slowly cooling it to room temperature, and drying it again. Here, if the drying temperature exceeds 230°C, there is a concern that the dried raw material will solidify and hinder the film formation. High-boiling compounds that volatilize on heating can remain and cause film defects. If the pressure reduction is insufficient, the polyphenylene sulfide resins are crosslinked with each other by oxygen, and a modified polymer is likely to be produced.

次いで、乾燥されたポリフェニレンサルファイド樹脂組成物を用いて本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムを作成するが、フィルムは単層でも複合層でも良い。複合フィルムを作製する場合、その積層方法としては、コーティング、ラミネートまたは共押出による方法等を用いることができる。その中でも、共押出による積層が、本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムを構成する各層の厚みコントロールの上で好ましい。 The dried polyphenylene sulfide resin composition is then used to form the polyphenylene sulfide film of the present invention, which may be a single layer or multiple layers. When a composite film is produced, a lamination method such as coating, lamination or co-extrusion can be used. Among them, lamination by co-extrusion is preferable from the viewpoint of thickness control of each layer constituting the polyphenylene sulfide film of the present invention.

本発明のポリフェニレンサルファイドフィルムは、以下のようにして製膜される。まず、ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物を溶融押出装置に供給し、ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物の融点以上(好ましくは290~360℃)の温度に加熱して溶融する。次いで、この溶融物をスリット状の口金出口から押出し、キャスティングロールと呼ばれる回転する金属ドラム上で冷却固化させる(キャストする)等の方法で急冷して未延伸フィルムを作製する。このとき、ポリマー流路にギアポンプ、スタティックミキサー、濾過装置を設置することが好ましい。 The polyphenylene sulfide film of the present invention is produced as follows. First, a polyphenylene sulfide resin composition is supplied to a melt extruder and heated to a temperature higher than the melting point of the polyphenylene sulfide resin composition (preferably 290 to 360° C.) to melt. Next, the melt is extruded from a slit-shaped mouthpiece outlet and rapidly cooled by a method such as cooling and solidification (casting) on a rotating metal drum called a casting roll to produce an unstretched film. At this time, it is preferable to install a gear pump, a static mixer, or a filtration device in the polymer flow path.

得られた未延伸フィルムを、ロール群とテンターとを用いてフィルム長手方向(縦方向)およびフィルム幅方向(横方向)の延伸を順次行う逐次二軸延伸法、フィルム長手方向およびフィルム幅方向の延伸を同時に行う同時二軸延伸法等が挙げられ、その中でも逐次二軸延伸法が好ましい。 The obtained unstretched film is subjected to a sequential biaxial stretching method in which the film longitudinal direction (longitudinal direction) and film width direction (horizontal direction) are successively stretched using a roll group and a tenter. Simultaneous biaxial stretching, in which stretching is carried out at the same time, is exemplified, and among these, sequential biaxial stretching is preferred.

逐次二軸延伸法を用いる場合の延伸条件は、ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物に含まれるポリフェニレンサルファイドの種類、ならびにその他の樹脂や添加物の有無および種類などの各種条件に応じて広い範囲から適宜選択することができるけれども、温度60~150℃、好ましくは70~130℃、より好ましくは80~110℃で、長手方向(縦方向)および幅方向(横方向)をそれぞれ2~7倍、好ましくは2~5倍、より好ましくは3~5倍の倍率で延伸することが好ましい。 The stretching conditions when the sequential biaxial stretching method is used are appropriately selected from a wide range according to various conditions such as the type of polyphenylene sulfide contained in the polyphenylene sulfide resin composition and the presence or absence and type of other resins and additives. However, at a temperature of 60 to 150 ° C., preferably 70 to 130 ° C., more preferably 80 to 110 ° C., the longitudinal direction (longitudinal direction) and the width direction (horizontal direction) are each 2 to 7 times, preferably 2 It is preferable to draw at a magnification of up to 5 times, more preferably 3 to 5 times.

得られた延伸フィルムには、さらに熱処理を施すことが好ましい。このときの熱処理条件は、ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物に含まれるポリフェニレンサルファイドの種類、ならびにその他の樹脂や添加剤の有無および種類などの各種条件に応じて広い範囲から適宜選択することができるけれども、温度180~(ポリフェニレンサルファイド組成物の融点)℃、好ましくは200~(ポリフェニレンサルファイド樹脂組成物の融点-5)℃の範囲で、定長または15%以下の制限収縮下に1~60秒間行うことが、耐熱性、機械特性、熱的寸法安定性の点で好ましい。さらに該フィルムの熱寸法安定性を向上させるために、一方向もしくは二方向にリラックスしてもよい。特に、フィルムの幅方向に5.5%以上リラックスさせると、寸法変化率を小さくしやすくなるため好ましい。フィルムの幅方向に6.5%以上15%以下リラックスさせることがより好ましい
こうして得られたポリフェニレンサルファイドフィルムは、工業用様々な種類に用いることができ、ポリフェニレンサルファイド樹脂の特性である電絶性を兼ね備えるため、コンデンサ用途、また離型用途に特に好適に用いることができる。
It is preferable to further heat-treat the obtained stretched film. The heat treatment conditions at this time can be appropriately selected from a wide range according to various conditions such as the type of polyphenylene sulfide contained in the polyphenylene sulfide resin composition and the presence or absence and type of other resins and additives. 180 to (melting point of polyphenylene sulfide composition) ° C., preferably 200 to (melting point of polyphenylene sulfide resin composition -5) ° C., fixed length or limited shrinkage of 15% or less for 1 to 60 seconds. , heat resistance, mechanical properties, and thermal dimensional stability. In addition, the film may be relaxed in one or two directions to improve its thermal dimensional stability. In particular, if the film is relaxed by 5.5% or more in the width direction, the dimensional change rate can be easily reduced, which is preferable. It is more preferable to relax 6.5% or more and 15% or less in the width direction of the film. Since it has both properties, it can be particularly suitably used for capacitor applications and mold release applications.

(物性の測定法)
(1)中心面平均粗さSRa、十点平均粗さSRz
フィルムの表面に対し、3次元表面粗さ計ET4000AK(小坂研究所社製)を用い、次の条件で触針法により測定を行った。なお、中心面平均粗さSRa(単位:nm)は、粗さ曲面の高さと粗さ曲面の中心面の高さの差をとり、その絶対値の平均値を表したものである。十点平均粗さSRz(単位:nm)は、粗さ曲面の高さと粗さ曲面の中心面の高さの差をとり、そのうち高い方から5番目までの山頂の高さと、深い方から5番目までの谷底の深さについて、合計10点の絶対値の平均値を表したものである。
針圧 100μN
測定長 500μm
縦倍率 20000倍
CUT OFF 250μm
測定速度 100μm/s
測定間隔 5μm
記録本数 80本。
(Method for measuring physical properties)
(1) Center surface average roughness SRa, ten-point average roughness SRz
The surface of the film was measured by a stylus method under the following conditions using a three-dimensional surface roughness meter ET4000AK (manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.). The center plane average roughness SRa (unit: nm) is the average of the absolute values of the difference between the height of the roughness curved surface and the height of the center plane of the roughness curved surface. The ten-point average roughness SRz (unit: nm) is the difference between the height of the roughness curved surface and the height of the central surface of the roughness curved surface, and It represents the average value of the absolute values of a total of 10 points for the depth of the valley bottom up to the th.
Needle pressure 100μN
Measurement length 500μm
Longitudinal magnification 20000 times CUT OFF 250 μm
Measurement speed 100 μm/s
Measurement interval 5 μm
80 records.

(2)SPc(50nm)、SPc(5nm)
フィルムの表面に対し、3次元表面粗さ計ET4000AK(小坂研究所社製)を用い、次の条件で触針法により測定を行った。なお、SPc(50nm)は、フィルム表面0.2mmあたりの50nmを超える突起高さを持つ表面突起個数をカウントしたものであり、SPc(5nm)は、フィルム表面0.2mmあたりの5nmを超える突起高さを持つ表面突起個数をカウントしたものである。
針圧 100μN
測定長 500μm
縦倍率 20000倍
CUT OFF 250μm
測定速度 100μm/s
測定間隔 5μm
記録本数 80本。
(2) SPc (50 nm), SPc (5 nm)
The surface of the film was measured by a stylus method under the following conditions using a three-dimensional surface roughness meter ET4000AK (manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.). In addition, SPc (50 nm) is the number of surface protrusions with a protrusion height exceeding 50 nm per 0.2 mm 2 of the film surface, and SPc (5 nm) is 5 nm per 0.2 mm 2 of the film surface. It counts the number of surface protrusions with a protrusion height exceeding the above.
Needle pressure 100μN
Measurement length 500μm
Longitudinal magnification 20000 times CUT OFF 250 μm
Measurement speed 100 μm/s
Measurement interval 5 μm
80 records.

(3)ヤング率
JIS-C2151(2019)に基づいて、フィルムを10mm幅の短冊型に切り出し、標線距離を100mmとし、引張試験機を用いて試験速度200mm/分で引っ張り、以下の式でヤング率を算出した。
Y1=伸び率0.8%時の張力-伸び率0.7%時の張力
Y2=伸び率0.9%時の張力-伸び率0.8%時の張力
Y3=伸び率1.0%時の張力-伸び率0.9%時の張力
ヤング率=(Y1+Y2+Y3)/3/幅/厚み。
(3) Young's modulus Based on JIS-C2151 (2019), the film is cut into strips with a width of 10 mm, the marked line distance is 100 mm, and the test speed is 200 mm / min using a tensile tester. Young's modulus was calculated.
Y1 = tension at 0.8% elongation - tension at 0.7% elongation Y2 = tension at 0.9% elongation - tension at 0.8% elongation Y3 = 1.0% elongation Tension at time−Tension Young's modulus at elongation 0.9%=(Y1+Y2+Y3)/3/width/thickness.

(4)平均分散径
ミクロトームを用い、フィルムを長手方向と垂直な方向に断面切削することで試料を作成した。切断面を電界放射走査型電子顕微鏡JSM-6700F(日本電子(株)製)を用いて観察し、5000倍で画像を取得し熱可塑性樹脂(B)の分散形状を確認した。任意の20個の熱可塑性樹脂(B)分散相を選択し、各分散相の外接円をとりその直径の平均値を平均分散径とした。
(4) Average Dispersion Diameter Using a microtome, a sample was prepared by cutting a cross-section of the film in a direction perpendicular to the longitudinal direction. The cut surface was observed using a field emission scanning electron microscope JSM-6700F (manufactured by JEOL Ltd.), and an image was obtained at a magnification of 5000 to confirm the dispersed shape of the thermoplastic resin (B). 20 arbitrary thermoplastic resin (B) dispersed phases were selected, the circumscribed circle of each dispersed phase was taken, and the average value of the diameters was taken as the average dispersed diameter.

(5)250℃×10分における寸法変化率(%)
JIS-C2151(2019)に基づいて、フィルムを長手方向、長手方向と垂直な方向が測定方向となるように10mm幅の短冊型にそれぞれ切り出し、初期長200mmの目印を記載した後、フィルムサンプルを250℃のオーブン内で10分加熱処理し、加熱後のフィルム長から寸法変化率を以下のように算出した。
(5) Dimensional change rate (%) at 250°C x 10 minutes
Based on JIS-C2151 (2019), cut the film into strips with a width of 10 mm so that the longitudinal direction and the direction perpendicular to the longitudinal direction are the measurement directions, and mark the initial length of 200 mm. The film was heat-treated in an oven at 250° C. for 10 minutes, and the dimensional change rate was calculated from the length of the film after heating as follows.

初期長200mm:A、加熱後フィルム長:B
寸法変化率(%)=(A-B)/A×100。
Initial length 200 mm: A, film length after heating: B
Dimensional change rate (%)=(AB)/A×100.

(6)厚み(μm)
ミクロトームを用いて断面切削したフィルムのスライス片を透過光顕微鏡で観察し、厚み(μm)を測定した。
(6) Thickness (μm)
A slice piece of the film cross-sectionally cut using a microtome was observed with a transmitted light microscope, and the thickness (μm) was measured.

(7)フィルムの静摩擦係数
フィルムの表裏を重ね、スベリ試験機ST-200(テクノニーズ社製)を用い、次の条件で静摩擦係数の測定を行った。
荷重 200g
測定長さ 5mm
測定速度 150mm/min
測定温度 23±3℃
測定湿度 65±10%RH
静摩擦係数測定値から以下のとおり評価した。
〇:静摩擦係数が1.3以下
×:静摩擦係数が1.3を超える。
(7) Static Friction Coefficient of Film Films were superimposed on the front and back, and the static friction coefficient was measured under the following conditions using a slip tester ST-200 (manufactured by Technonies Co., Ltd.).
load 200g
Measurement length 5mm
Measurement speed 150mm/min
Measurement temperature 23±3℃
Measurement humidity 65±10%RH
It was evaluated as follows from the static friction coefficient measurement value.
O: Coefficient of static friction is 1.3 or less x: Coefficient of static friction exceeds 1.3.

(8)塗材の塗布抜け評価
フィルムの表面に対し、接着層を付与するための塗材を塗布した後、以下のように塗布抜けを評価した。
◎:塗布抜けが1箇所/m以下の場合
〇:塗布抜けが5箇所/m以下かつ1箇所/mより多い場合
△:塗布抜けが10箇所/m以下かつ5箇所/mより多い場合
×:塗布抜けが10箇所/mより多い場合
<塗材の組成>
カルナバワックス (カルナバ1号、東洋アドレ社製):30質量部
パラフィンワックス(HNP-10、日本精蝋社製) :35質量部
エチレン酢酸ビニル共重合体(MB-11、住友化学社製):10質量部
<塗布方法>
ホットメルトコーターを用いて130℃にて、乾燥後の塗布層厚みが1μmとなるようにフィルム片面に対し1mぶん塗工した。
(8) Evaluation of missing coating material After coating the surface of the film with a coating material for providing an adhesive layer, missing coating material was evaluated as follows.
◎: When the missing coating is 1 place/m 2 or less ○: When the missing coating is 5 places/m 2 or less and more than 1 place/m 2 △: When the missing coating is 10 places/m 2 or less and 5 places/m 2 When more ×: When there are more than 10 coating omissions / m 2 <Composition of coating material>
Carnauba wax (Carnauba No. 1, manufactured by Toyo Adolé Co., Ltd.): 30 parts by mass Paraffin wax (HNP-10, manufactured by Nippon Seiro Co., Ltd.): 35 parts by mass Ethylene-vinyl acetate copolymer (MB-11, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.): 10 parts by mass <Application method>
Using a hot-melt coater, the film was coated at 130° C. in an amount of 1 m 2 on one side of the film so that the thickness of the coating layer after drying would be 1 μm.

(9)カール評価
フィルムの表面に対しアルバック機工株式会社製真空蒸着装置(VPC-260F)を用い、膜厚50nm狙いでアルミ蒸着を施した後、フィルムを外径100mm、内径90mmの「◎」型に打ち抜き、アルミ蒸着面を上にして置いた際、フィルムの面上の任意点から長手方向と垂直な方向を0°として、0°から45°、90°、135°方向での反りの最大高さと最小高さの差(絶対値)を測定し、以下のようにカールを評価した。
〇:反りの最大高さと最小高さの差(絶対値)が20mm以下の場合
×:反りの最大高さと最小高さの差(絶対値)が20mmより大きい場合。
(9) Curl evaluation Using a vacuum deposition device (VPC-260F) manufactured by ULVAC KIKO Co., Ltd. on the surface of the film, aluminum deposition was performed with a film thickness of 50 nm, and then the film had an outer diameter of 100 mm and an inner diameter of 90 mm. When punched into a mold and placed with the aluminum vapor-deposited surface facing up, warpage in the direction of 0° to 45°, 90°, and 135° from an arbitrary point on the surface of the film, with the direction perpendicular to the longitudinal direction as 0° The difference (absolute value) between the maximum height and the minimum height was measured and the curl was evaluated as follows.
◯: When the difference (absolute value) between the maximum height and the minimum height of warpage is 20 mm or less ×: When the difference (absolute value) between the maximum height and the minimum height of warp is greater than 20 mm.

[フィルムの製造]
(参考例1)ポリフェニレンサルファイド粉末の製造方法。
[Film production]
(Reference Example 1) Method for producing polyphenylene sulfide powder.

撹拌機付きの70Lのオートクレーブに、48質量%水硫化ナトリウム水溶液8.181kg(70.00モル)、純度96%の水酸化ナトリウム2.943kg(70.63モル)、N-メチル-2-ピロリドン(NMP)11.45kg(115.5モル)、無水酢酸ナトリウム2.239kg(27.30モル)、及びイオン交換水4.900kg(272.2モル)を仕込み、常圧で窒素を通じながら240℃まで約3時間かけて徐々に加熱し、水9.12kgおよびNMP0.14kgを留出した後、反応容器を160℃に冷却した。なおこの反応における撹拌速度は毎分240回転(240rpm)とした。 A 70 L autoclave equipped with a stirrer was charged with 8.181 kg (70.00 mol) of a 48% by weight aqueous sodium hydrosulfide solution, 2.943 kg (70.63 mol) of sodium hydroxide with a purity of 96%, N-methyl-2-pyrrolidone. 11.45 kg (115.5 mol) of (NMP), 2.239 kg (27.30 mol) of anhydrous sodium acetate, and 4.900 kg (272.2 mol) of ion-exchanged water were charged, and heated to 240°C under normal pressure while passing nitrogen. After 9.12 kg of water and 0.14 kg of NMP were distilled off, the reactor was cooled to 160°C. The stirring speed in this reaction was 240 revolutions per minute (240 rpm).


仕込みアルカリ金属硫化物1モル当たりの系内残存水分量は、NMPの加水分解に消費された水分を含めて72.0モルであった。また、仕込みアルカリ金属硫化物1モル当たり0.020モルの硫化水素が反応系外に飛散した。

The amount of water remaining in the system per 1 mol of the charged alkali metal sulfide was 72.0 mol including the water consumed for the hydrolysis of NMP. In addition, 0.020 mol of hydrogen sulfide per 1 mol of charged alkali metal sulfide was scattered outside the reaction system.

次に、p-ジクロロベンゼン(p-DCB)10.29kg(69.97モル)、NMP9.090kg(91.70モル)を反応系に加えた。反応容器を窒素ガス下に密封した後、400rpmで撹拌しながら、200℃から227℃まで0.8℃/分の速度で昇温し、次いで227℃から270℃まで0.6℃/分の速度で昇温し、270℃で140分保持した。その後、イオン交換水2.346kg(130.3モル)を15分かけて系内に添加しながら、250℃まで徐々に反応系を冷却した。次いで250℃から200℃まで1.0℃/分の速度で徐々に反応系を冷却し、その後室温近傍まで急冷した。 Next, 10.29 kg (69.97 mol) of p-dichlorobenzene (p-DCB) and 9.090 kg (91.70 mol) of NMP were added to the reaction system. After sealing the reaction vessel under nitrogen gas, the temperature was increased from 200°C to 227°C at a rate of 0.8°C/min while stirring at 400 rpm, and then from 227°C to 270°C at a rate of 0.6°C/min. The temperature was raised at a high speed and held at 270° C. for 140 minutes. After that, the reaction system was gradually cooled to 250° C. while adding 2.346 kg (130.3 mol) of ion-exchanged water to the system over 15 minutes. Then, the reaction system was gradually cooled from 250° C. to 200° C. at a rate of 1.0° C./min, and then rapidly cooled to near room temperature.

得られたポリマーを乾燥PPS1kg当たり、15kgのN-メチル-2-ピロリドン溶剤(浴比15)で90℃、1.5時間洗浄し、濾過を行った。得られたケークをイオン交換水(浴比15)、70℃、1.5時間で2回洗浄/濾過を行った後、酢酸カルシウムを1質量%含有するイオン交換水(浴比15)、70℃、1.5時間で洗浄/濾過し、再度イオン交換水(浴比15)、70℃、1.5時間で2回洗浄/濾過を行った。得られたポリマーを温度150℃にて、真空下で4日間乾燥して、ポリフェニレンスルフィド粉末を得た。 The resulting polymer was washed with 15 kg of N-methyl-2-pyrrolidone solvent (bath ratio: 15) per 1 kg of dry PPS at 90° C. for 1.5 hours and filtered. The resulting cake was washed twice with ion-exchanged water (bath ratio 15) at 70°C for 1.5 hours and filtered. C. for 1.5 hours, washing/filtration was performed again, and washing/filtration was again performed twice at 70.degree. The obtained polymer was dried at a temperature of 150° C. under vacuum for 4 days to obtain a polyphenylene sulfide powder.

(参考例2)熱可塑性樹脂(B)マスターペレットの作成。 (Reference Example 2) Preparation of thermoplastic resin (B) master pellets.

参考例1で作成したポリフェニレンサルファイド粉末ポリマー80質量部と、熱可塑性樹脂(B)としてポリフェニルスルホン(PPSU:ソルベイスペシャルティポリマーズ(株)製、「レーデルR-5000LC」)20質量部を、同方向回転タイプの二軸のスクリューを有するベント押出機に供給し、温度320℃で溶融した。この溶融物をガット状に押し出し、約3mm長に裁断し、PPSU含有量20質量%のマスターペレットを得た。以下、PPS樹脂Bという。 80 parts by mass of the polyphenylene sulfide powder polymer prepared in Reference Example 1 and 20 parts by mass of polyphenylsulfone (PPSU: Solvay Specialty Polymers Co., Ltd., "Radel R-5000LC") as the thermoplastic resin (B) were added in the same direction. It was supplied to a vented extruder with a rotating type twin screw and melted at a temperature of 320°C. This melt was extruded into a gut shape and cut into lengths of about 3 mm to obtain master pellets having a PPSU content of 20% by mass. Hereinafter, it is referred to as PPS resin B.

(参考例3)ベースペレットの作成。 (Reference Example 3) Production of base pellets.

上記ポリフェニレンサルファイド粉末ポリマーのみを参考例2と同様にして溶融押出し、ポリフェニレンサルファイド樹脂のベースペレットを得た。以下、PPS樹脂Aという。 Only the above polyphenylene sulfide powder polymer was melt extruded in the same manner as in Reference Example 2 to obtain base pellets of polyphenylene sulfide resin. Hereinafter, it is referred to as PPS resin A.

(実施例1)
上述のようにして得られたPPS樹脂AおよびPPS樹脂Bを樹脂合計量に対してPPSUの含有量が5質量%となるよう混合した後、回転式真空乾燥機を用いて、3mmHgの減圧下にて温度180℃で4時間乾燥させた。
(Example 1)
After mixing the PPS resin A and the PPS resin B obtained as described above so that the content of PPSU is 5% by mass with respect to the total amount of the resins, the mixture is dried under a reduced pressure of 3 mmHg using a rotary vacuum dryer. and dried at a temperature of 180° C. for 4 hours.

乾燥させたペレットを、L/D=29、Φ90mmの単軸押出機に供給し、310℃で90rpmのスクリュー回転数で溶融させ、Tダイ口金よりシート状にして押し出した。次いで、このシートを、静電印加キャスト法を用いて表面温度25℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作製した。 The dried pellets were supplied to a single-screw extruder with L/D=29 and Φ90 mm, melted at 310° C. at a screw rotation speed of 90 rpm, and extruded from a T-die mouthpiece in the form of a sheet. Next, this sheet was wound around a casting drum having a surface temperature of 25° C. by an electrostatic casting method, and cooled and solidified to produce an unstretched film.

逐次二軸延伸法を用い、得られた未延伸フィルムを温度100℃で長手方向に3.2倍延伸し、さらに幅方向に延伸するためにテンターを通して、温度100℃で幅方向に3.6倍延伸した。さらに幅方向に延伸するために用いたテンターに後続する熱処理室にて、温度280℃で熱処理し、6.8%の制限収縮下で幅方向にリラックス処理しフィルムをコアに巻き取った後、フィルム幅方向にスリットで分割することで、幅方向680mmのポリフェニレンサルファイドフィルムを巻き取ってなるフィルムロールを得た。評価結果を表に示す。なお、フィルム表面の評価において、キャスティングドラムと触れていない側の表面における評価結果を表に記載している。 Using a sequential biaxial stretching method, the obtained unstretched film is stretched 3.2 times in the longitudinal direction at a temperature of 100 ° C., and further stretched in the width direction through a tenter to stretch 3.6 times in the width direction at a temperature of 100 ° C. Double stretched. Further, in a heat treatment chamber following the tenter used for stretching in the width direction, heat treatment is performed at a temperature of 280 ° C., relaxation treatment is performed in the width direction under a limited shrinkage of 6.8%, and the film is wound around a core. A film roll was obtained by winding a polyphenylene sulfide film of 680 mm in the width direction by dividing the film in the width direction with a slit. The evaluation results are shown in the table. In addition, in the evaluation of the film surface, the evaluation results of the surface not in contact with the casting drum are shown in the table.

(実施例2)
熱固定温度を表1に記載した通りとした以外は、実施例1と同様の方法でポリフェニレンサルファイドフィルムを巻き取ってなるロールを得た。
(Example 2)
A roll was obtained by winding a polyphenylene sulfide film in the same manner as in Example 1, except that the heat setting temperature was set as shown in Table 1.

(実施例3)
フィルムの厚み、押出機スクリュー回転数、縦延伸倍率、横延伸倍率を表1に記載した通りとした以外は、実施例1と同様の方法でポリフェニレンサルファイドフィルムを巻き取ってなるロールを得た。
(Example 3)
A roll of polyphenylene sulfide film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the film thickness, extruder screw rotation speed, longitudinal draw ratio, and transverse draw ratio were as shown in Table 1.

(実施例4)
フィルムの厚み、押出機スクリュー回転数、縦延伸倍率、横延伸倍率、熱固定温度を表1に記載した通りとした以外は、実施例1と同様の方法でポリフェニレンサルファイドフィルムを巻き取ってなるロールを得た。
(Example 4)
A roll obtained by winding a polyphenylene sulfide film in the same manner as in Example 1, except that the film thickness, extruder screw rotation speed, longitudinal draw ratio, transverse draw ratio, and heat setting temperature were as described in Table 1. got

(実施例5)
押出機スクリュー回転数を表1に記載した通りとした以外は、実施例1と同様の方法でポリフェニレンサルファイドフィルムを巻き取ってなるロールを得た。
(Example 5)
A roll was obtained by winding a polyphenylene sulfide film in the same manner as in Example 1, except that the extruder screw rotation speed was set as shown in Table 1.

(実施例6)
フィルムの厚み、押出機スクリュー回転数、縦延伸倍率、横延伸倍率を表1に記載した通りとした以外は、実施例1と同様の方法でポリフェニレンサルファイドフィルムを巻き取ってなるロールを得た。
(Example 6)
A roll of polyphenylene sulfide film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the film thickness, extruder screw rotation speed, longitudinal draw ratio, and transverse draw ratio were as shown in Table 1.

(実施例7)
実施例1で得られたフィルムロールを、210℃に昇温されたオーブン内にて20Nの張力でフィルムを搬送しながら1分間アニール処理を施した後、巻き取ってフィルムロールを得た。
(Example 7)
The film roll obtained in Example 1 was annealed for 1 minute while being conveyed under a tension of 20 N in an oven heated to 210° C., and then wound up to obtain a film roll.

(実施例8)
実施例3で得られたフィルムロールを、210℃に昇温されたオーブン内にて20Nの張力でフィルムを搬送しながら1分間アニール処理を施した後、巻き取ってフィルムロールを得た。
(Example 8)
The film roll obtained in Example 3 was annealed for 1 minute while being conveyed under a tension of 20 N in an oven heated to 210° C., and then wound up to obtain a film roll.

(比較例1)
押出機スクリュー回転数、縦延伸倍率、リラックス率を表1に記載した通りとした以外は、実施例1と同様の方法でポリフェニレンサルファイドフィルムを巻き取ってなるロールを得た。
(Comparative example 1)
A roll was obtained by winding a polyphenylene sulfide film in the same manner as in Example 1, except that the extruder screw rotation speed, longitudinal draw ratio, and relaxation rate were set as shown in Table 1.

(比較例2)
熱可塑性樹脂(B)としてポリアミド(PA)を使用し、フィルム厚み、押出機スクリュー回転数、縦延伸倍率、横延伸倍率、熱固定温度、リラックス率を表1に記載した通りとした以外は、実施例1と同様の方法でポリフェニレンサルファイドフィルムを巻き取ってなるロールを得た。
(Comparative example 2)
Polyamide (PA) was used as the thermoplastic resin (B), and the film thickness, extruder screw rotation speed, longitudinal draw ratio, transverse draw ratio, heat setting temperature, and relaxation rate were as described in Table 1. A roll of polyphenylene sulfide film was obtained in the same manner as in Example 1.

(比較例3)
熱可塑性樹脂(B)としてポリフェニレンエーテル(PPE)を使用し、フィルム厚み、押出機スクリュー回転数、縦延伸倍率、横延伸倍率、熱固定温度、リラックス率を表1に記載した通りとした以外は、実施例1と同様の方法でポリフェニレンサルファイドフィルムを巻き取ってなるロールを得た。
(Comparative Example 3)
Polyphenylene ether (PPE) was used as the thermoplastic resin (B), and the film thickness, extruder screw rotation speed, longitudinal draw ratio, transverse draw ratio, heat setting temperature, and relaxation rate were as described in Table 1. A roll was obtained by winding a polyphenylene sulfide film in the same manner as in Example 1.

(観察まとめ)
実施例1~8では、PPSUを含有し、適正な押出機スクリュー回転数で溶融し、適正な縦延伸倍率でフィルムを製膜することで、表面粗さが小さいために塗材の塗布抜けが少なくかつ50nmを超える突起を有するために摩擦係数が小さくフィルム搬送性が良好であり、面内方向のヤング率の最大値と最小値の差(絶対値)が小さいために打ち抜き加工後の面内方向での反りのばらつきが抑制された高品位なポリフェニレンサルファイドフィルムロールが得られた。
(Observation summary)
In Examples 1 to 8, by containing PPSU, melting at an appropriate extruder screw rotation speed, and forming a film at an appropriate longitudinal draw ratio, the surface roughness is small, so that the coating material does not come off. Since there are few protrusions exceeding 50 nm, the coefficient of friction is small and the film transportability is good, and the difference (absolute value) between the maximum value and the minimum value of Young's modulus in the in-plane direction is small, so the in-plane after punching A high-quality polyphenylene sulfide film roll was obtained in which variation in warpage in the direction was suppressed.

比較例1では、押出機スクリュー回転数が少ないために熱可塑性樹脂(B)の平均分散径が大きく、表面粗さが大きくなり、また縦延伸倍率が小さいために面内方向のヤング率の最大値と最小値の差(絶対値)が大きいポリフェニレンサルファイドフィルムロールが得られた。本比較例で得られたポリフェニレンサルファイドフィルムロールは、塗材の塗布抜けが多くかつ打ち抜き加工後の面内方向での反りのばらつきが大きいため、高周波回路基板用途等の要求品位の高い用途に好適に用いることができない場合がある。 In Comparative Example 1, the average dispersion diameter of the thermoplastic resin (B) is large due to the low extruder screw rotation speed, the surface roughness is large, and the longitudinal draw ratio is small. A polyphenylene sulfide film roll with a large difference (absolute value) between the value and the minimum value was obtained. The polyphenylene sulfide film roll obtained in this comparative example is suitable for high-quality applications such as high-frequency circuit boards, because there are many missing coating materials and large variations in warpage in the in-plane direction after punching. may not be used for

比較例2では、熱可塑性樹脂(B)としてPAを用い、押出機スクリュー回転数が多いために熱可塑性樹脂(B)の平均分散径が小さく、50nmを超える突起が無いポリフェニレンサルファイドフィルムロールが得られた。本比較例で得られたポリフェニレンサルファイドフィルムロールは、摩擦係数が大きいために取り扱いが難しく、高周波回路基板用途等の要求品位の高い用途に好適に用いることができない場合がある。 In Comparative Example 2, PA was used as the thermoplastic resin (B), and the average dispersion diameter of the thermoplastic resin (B) was small due to the high extruder screw rotation speed, and a polyphenylene sulfide film roll without projections exceeding 50 nm was obtained. was taken. The polyphenylene sulfide film roll obtained in this comparative example is difficult to handle due to its high coefficient of friction, and may not be suitable for high-quality applications such as high-frequency circuit boards.

比較例3では、熱可塑性樹脂(B)としてPPEを用い、押出機スクリュー回転数が少ないために熱可塑性樹脂(B)の平均分散径が小さく、表面粗さが大きくなり、また縦延伸倍率が小さいために面内方向のヤング率の最大値と最小値の差(絶対値)が大きいポリフェニレンサルファイドフィルムロールが得られた。本比較例で得られたポリフェニレンサルファイドフィルムロールは、塗材の塗布抜けが多くかつ打ち抜き加工後の面内方向での反りのばらつきが大きいため、高周波回路基板用途等の要求品位の高い用途に好適に用いることができない場合がある。 In Comparative Example 3, PPE was used as the thermoplastic resin (B), and since the extruder screw rotation speed was low, the average dispersion diameter of the thermoplastic resin (B) was small, the surface roughness was large, and the longitudinal draw ratio was A polyphenylene sulfide film roll having a large difference (absolute value) between the maximum value and the minimum value of Young's modulus in the in-plane direction was obtained. The polyphenylene sulfide film roll obtained in this comparative example is suitable for high-quality applications such as high-frequency circuit boards, because there are many missing coating materials and large variations in warpage in the in-plane direction after punching. may not be used for

Figure 2023096358000004
Figure 2023096358000004

Claims (9)

少なくとも一方の表面の中心面平均粗さSRaが150nm以下であり、かつ、フィルムの中心面から50nmを超える突起の個数SPc(50nm)が5個/0.2mm以上である表面(当該表面をA面という)を有する層(当該層をA層という)を有してなり、フィルムの面上の任意点から長手方向と垂直な方向を0°として、0°から45°、90°、135°方向にヤング率を測定した際の、前記4方向におけるヤング率の最大値と最小値の差(絶対値)が0.5GPa以下であるポリフェニレンサルファイドフィルム。 At least one surface has a center plane average roughness SRa of 150 nm or less, and the number of protrusions exceeding 50 nm from the center plane of the film SPc (50 nm) is 5/0.2 mm 2 or more (the surface 0° to 45°, 90°, 135° from an arbitrary point on the surface of the film in the direction perpendicular to the longitudinal direction A polyphenylene sulfide film having a difference (absolute value) between the maximum value and the minimum value of Young's modulus in the four directions when the Young's modulus is measured in the ° direction of 0.5 GPa or less. 前記A面において、十点平均粗さSRzが1300nm以下である請求項1に記載のポリフェニレンサルファイドフィルム。 2. The polyphenylene sulfide film according to claim 1, wherein the surface A has a ten-point average roughness SRz of 1300 nm or less. 前記A層は、実質的に粒子を含有しない請求項1または2に記載のポリフェニレンサルファイドフィルム。 3. The polyphenylene sulfide film according to claim 1, wherein the layer A contains substantially no particles. 前記A層は、ポリフェニレンサルファイド樹脂(A)を主たる構成成分とし、前記樹脂(A)とは異なる熱可塑性樹脂(B)を含み、熱可塑性樹脂(B)の平均分散径が0.5μm以上1.2μm以下である請求項1~3のいずれかに記載のポリフェニレンサルファイドフィルム。 The A layer contains a polyphenylene sulfide resin (A) as a main component, and contains a thermoplastic resin (B) different from the resin (A), and the thermoplastic resin (B) has an average dispersion diameter of 0.5 μm or more. The polyphenylene sulfide film according to any one of claims 1 to 3, which has a thickness of 0.2 µm or less. 前記熱可塑性樹脂(B)が下記化学式のいずれかを含有する請求項4に記載のポリフェニレンサルファイドフィルム。
Figure 2023096358000005
(ただし、式中のR~RはそれぞれH、OH基、メトキシ基、エトキシ基、トリフルオロメチル基、炭素数1~13の脂肪族基、炭素数6~10の芳香族基のいずれかである。)
5. The polyphenylene sulfide film according to claim 4, wherein the thermoplastic resin (B) contains any one of the following chemical formulas.
Figure 2023096358000005
(where R 1 to R 6 in the formula are each H, OH group, methoxy group, ethoxy group, trifluoromethyl group, aliphatic group having 1 to 13 carbon atoms, or aromatic group having 6 to 10 carbon atoms). or.)
前記熱可塑性樹脂(B)がスルホニル基を有する、請求項4または5に記載のポリフェニレンサルファイドフィルム。 The polyphenylene sulfide film according to claim 4 or 5, wherein said thermoplastic resin (B) has a sulfonyl group. 前記A層中の樹脂(A)と熱可塑性樹脂(B)の含有量の合計を100質量部とした場合に、熱可塑性樹脂(B)の含有量が0.1質量部以上50質量部以下である、請求項4~6のいずれかに記載のポリフェニレンサルファイドフィルム。 When the total content of the resin (A) and the thermoplastic resin (B) in the layer A is 100 parts by mass, the content of the thermoplastic resin (B) is 0.1 parts by mass or more and 50 parts by mass or less. The polyphenylene sulfide film according to any one of claims 4 to 6, wherein 前記ポリフェニレンサルファイドフィルムの面上の任意点から長手方向と垂直な方向を0°として、0°、90°方向の250℃×10分の寸法変化率がいずれも5.0%以下である請求項1~7のいずれかに記載のポリフェニレンサルファイドフィルム。 Dimensional change rate of 250° C.×10 minutes in 0° and 90° directions from an arbitrary point on the surface of the polyphenylene sulfide film is 5.0% or less. 8. The polyphenylene sulfide film according to any one of 1 to 7. 前記ポリフェニレンサルファイドフィルムの厚みが10μm以上500μm以下である請求項1~8のいずれかに記載のポリフェニレンサルファイドフィルム。 The polyphenylene sulfide film according to any one of claims 1 to 8, wherein the thickness of the polyphenylene sulfide film is 10 µm or more and 500 µm or less.
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