JP2023094903A - Ferroelectric memory reading circuit, ferroelectric memory, and ferroelectric memory reading method - Google Patents

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哲朗 田村
Tetsuro Tamura
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Abstract

To provide a ferroelectric memory reading circuit, a ferroelectric memory, and a ferroelectric reading method for reducing influence of noise when reading the ferroelectric memory.SOLUTION: A control circuit 11 of a reading circuit 10 controls an input voltage so that an input voltage of a memory cell 13, which is a voltage between a plate line (PL) electrically connected to the other terminal of a ferroelectric capacitor 13a and a bit line (BL), is fixed, based on the result of comparing a bit line potential, which is a potential of bit line electrically connected to one terminal of a ferroelectric capacitor 13a and a first reference potential (VREF1), when reading data from a memory cell 13, and a sense amplifier 12 determines a data value based on the comparison result between the bit line potential and a second reference potential (VREF2) when the input voltage is fixed.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、強誘電体メモリの読み出し回路、強誘電体メモリ及び強誘電体メモリの読み出し方法に関する。 The present invention relates to a ferroelectric memory readout circuit, a ferroelectric memory, and a ferroelectric memory readout method.

強誘電体メモリにおいて、強誘電体キャパシタを含むメモリセルは、強誘電体の分極状態によって“0”または“1”のデータを記憶する。
読み出し時には、たとえば、強誘電体キャパシタの一方の端子に接続されるプレート線の電位(以下プレート線電位という)が上げられる。このとき、強誘電体キャパシタの他方の端子に電気的に接続されるビット線の電位(以下ビット線電位という)は、メモリセルに“0”が記憶されているか“1”が記憶されているかによって異なる。このようなビット線電位の相違は、強誘電体の分極反転の有無によって生じる。
In a ferroelectric memory, a memory cell including a ferroelectric capacitor stores data "0" or "1" depending on the polarization state of the ferroelectric material.
At the time of reading, for example, the potential of the plate line connected to one terminal of the ferroelectric capacitor (hereinafter referred to as plate line potential) is increased. At this time, the potential of the bit line electrically connected to the other terminal of the ferroelectric capacitor (hereinafter referred to as bit line potential) is determined whether "0" or "1" is stored in the memory cell. Varies depending on Such a difference in bit line potential is caused by the presence or absence of polarization reversal of the ferroelectric.

たとえば、上記のようにプレート線電位を上げた場合、メモリセルに“1”が記憶されているときには、強誘電体の分極反転が生じ、ビット線に大きな電流が流れる。これに対して、メモリセルに“0”が記憶されているとき、プレート線電位を上げても分極反転が生じず、ビット線にあまり電流が流れない。ビット線に接続されるセンスアンプは、ビット線電位と参照電位との比較結果に応じて、データを判定する。 For example, when the plate line potential is raised as described above, when "1" is stored in the memory cell, the ferroelectric polarization reversal occurs and a large current flows through the bit line. On the other hand, when "0" is stored in the memory cell, polarization reversal does not occur even if the plate line potential is increased, and little current flows through the bit line. A sense amplifier connected to the bit line determines data according to the comparison result between the bit line potential and the reference potential.

なお、上記のような強誘電体の分極の反転を伴う読み出しは、破壊読出しと呼ばれる。
また、強誘電体メモリでは、読み出し後にも同じデータを同じメモリセルに保持させるために、再書き込みが行われる。
The readout accompanied by the reversal of the polarization of the ferroelectric as described above is called destructive readout.
Further, in a ferroelectric memory, rewriting is performed in order to retain the same data in the same memory cell even after reading.

ところで、従来、プレート線電位を上げたときのビット線電位と参照電位との比較結果に応じ、ビット線電位が変化しないようにビット線に対し電荷の供給を行うとともに、供給した電荷量に基づいてデータを判別する技術があった(たとえば、特許文献1参照)。 By the way, conventionally, according to the result of comparison between the bit line potential and the reference potential when the plate line potential is raised, charge is supplied to the bit line so that the bit line potential does not change, and based on the amount of the supplied charge, There has been a technique of discriminating data by means of data (for example, see Patent Document 1).

また、従来、参照電位を生成するためのメモリセルの劣化による参照電位の不安定化を防ぐため、分極反転が生じない“0”を記憶したメモリセルからの読み出し電位を上昇させて参照電位を得る技術があった(たとえば、特許文献2参照)。 Conventionally, in order to prevent destabilization of the reference potential due to deterioration of the memory cell for generating the reference potential, the read potential from the memory cell storing "0" in which polarization inversion does not occur is raised to increase the reference potential. There was a technique to obtain (for example, see Patent Document 2).

さらに、従来、抵抗体を介してビット線を充電し、メモリセルにおける分極反転の有無によりビット線電位の上昇速度を顕著に異ならせ、十分な読み出しマージンが得られるタイミングでデータ判別を行う技術があった(たとえば、特許文献3参照)。 Furthermore, conventionally, there is a technique of charging a bit line via a resistor, significantly changing the rate of rise of the bit line potential depending on the presence or absence of polarization reversal in a memory cell, and discriminating data at the timing when a sufficient read margin is obtained. There was (for example, see Patent Document 3).

特開2001-351374号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-351374 特開2001-57071号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-57071 特開2006-31800号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-31800

強誘電体メモリにおいて、メモリセルの疲労劣化などにより、“0”と“1”の読み出しマージンが小さくなった場合、ノイズの影響を受けやすくなり、動作不良が発生する可能性がある。 In a ferroelectric memory, when the read margin of "0" and "1" becomes small due to fatigue deterioration of memory cells, etc., it becomes susceptible to noise, and malfunction may occur.

1つの側面では、本発明は、ノイズの影響を受けにくい読み出し回路、そのような読み出し回路を有する強誘電体メモリ及び強誘電体メモリの読み出し方法を提供することを目的とする。 In one aspect, the present invention aims to provide a readout circuit that is less susceptible to noise, a ferroelectric memory having such a readout circuit, and a readout method for the ferroelectric memory.

1つの実施態様では、強誘電体キャパシタを含むメモリセルを備えた強誘電体メモリの読み出し回路において、前記メモリセルからのデータの読み出し時に、前記強誘電体キャパシタの一方の端子に電気的に接続されるビット線の電位であるビット線電位と、第1の参照電位との比較結果に基づいて、前記強誘電体キャパシタの他方の端子に電気的に接続されるプレート線と、前記ビット線との間の電圧である前記メモリセルの入力電圧が固定されるように前記入力電圧を制御する制御回路と、前記入力電圧が固定されたときの、前記ビット線電位または前記プレート線の電位であるプレート線電位と、第2の参照電位との比較結果に基づいて、前記データの値を判定するセンスアンプと、を有する強誘電体メモリの読み出し回路が提供される。 In one embodiment, in a read circuit of a ferroelectric memory including a memory cell including a ferroelectric capacitor, when data is read from the memory cell, the terminal is electrically connected to one terminal of the ferroelectric capacitor. A plate line electrically connected to the other terminal of the ferroelectric capacitor and the bit line, based on a comparison result between the bit line potential, which is the potential of the bit line to be applied, and a first reference potential. a control circuit for controlling the input voltage so that the input voltage of the memory cell, which is a voltage between A ferroelectric memory read circuit is provided, comprising a sense amplifier for determining the value of the data based on a result of comparison between the plate line potential and a second reference potential.

また、1つの実施態様では、強誘電体メモリが提供される。
また、1つの実施態様では、強誘電体メモリの読み出し方法が提供される。
Also provided in one embodiment is a ferroelectric memory.
Also, in one embodiment, a method of reading a ferroelectric memory is provided.

1つの側面では、本発明によれば、強誘電体メモリのメモリセルからのデータの読み出し時に、ノイズの影響を受けにくくなる。 In one aspect, according to the present invention, it becomes less susceptible to noise when reading data from a memory cell of a ferroelectric memory.

第1の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路の一例を示す図である。1 is a diagram showing an example of a readout circuit of a ferroelectric memory according to a first embodiment; FIG. 強誘電体キャパシタのヒステリシス・ループ特性を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing hysteresis loop characteristics of a ferroelectric capacitor; 第1の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路の動作の一例を示すタイミングチャートである。4 is a timing chart showing an example of the operation of the readout circuit of the ferroelectric memory according to the first embodiment; PLとBLに供給される電荷量との関係を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the relationship between VPL and the amount of charge supplied to BL; 比較例の強誘電体メモリの一部を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a part of a ferroelectric memory of a comparative example; 比較例の強誘電体メモリの読み出し動作の一例を示すタイミングチャートである。4 is a timing chart showing an example of read operation of a ferroelectric memory of a comparative example; 強誘電体メモリの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a ferroelectric memory. メモリセルアレイの一部とコラム関連回路部の一部の一例を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing an example of part of a memory cell array and part of a column-related circuit section; 第2の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路の一例を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing an example of a readout circuit of a ferroelectric memory according to a second embodiment; FIG. 第2の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路の動作の一例を示すタイミングチャートである。8 is a timing chart showing an example of the operation of the readout circuit of the ferroelectric memory according to the second embodiment; PLとBLに供給される電荷量との関係を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the relationship between VPL and the amount of charge supplied to BL; 第3の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路の一例を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing an example of a readout circuit of a ferroelectric memory according to a third embodiment; FIG. 第3の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路の動作の一例を示すタイミングチャートである。13 is a timing chart showing an example of the operation of the readout circuit of the ferroelectric memory according to the third embodiment; BL及びVRBLと強誘電体キャパシタに供給される電荷量との関係を示す図である。3 is a diagram showing the relationship between VBL and V RBL and the amount of charge supplied to a ferroelectric capacitor; FIG. 比較例の強誘電体メモリについてのビット線容量の大きさと読み出しマージンの大きさとの関係を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the relationship between the magnitude of bit line capacitance and the magnitude of read margin for a ferroelectric memory of a comparative example; 第1の実施の形態の強誘電体メモリについてのビット線容量の大きさと読み出しマージンの大きさとの関係を示す図である。4 is a diagram showing the relationship between the magnitude of bit line capacitance and the magnitude of read margin in the ferroelectric memory of the first embodiment; FIG. 第2の実施の形態の強誘電体メモリについてのビット線容量の大きさと読み出しマージンの大きさとの関係を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the relationship between the magnitude of bit line capacitance and the magnitude of read margin in the ferroelectric memory of the second embodiment; 第3の実施の形態の強誘電体メモリについてのビット線容量の大きさと読み出しマージンの大きさとの関係を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing the relationship between the magnitude of bit line capacitance and the magnitude of read margin in the ferroelectric memory of the third embodiment;

以下、発明を実施するための形態を、図面を参照しつつ説明する。
(第1の実施の形態)
図1は、第1の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路の一例を示す図である。なお、図1においてWLはワード線、BLはビット線、PLはプレート線を表す。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments for carrying out the invention will be described with reference to the drawings.
(First embodiment)
FIG. 1 is a diagram showing an example of a readout circuit of a ferroelectric memory according to the first embodiment. In FIG. 1, WL represents a word line, BL a bit line, and PL a plate line.

第1の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路10は、WL、PL及びBLに接続されたメモリセル13に記憶されているデータを読み出す回路である。
メモリセル13は、強誘電体キャパシタ13aと、nチャネル型MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor)(以下nMOSと略す)13bとを有する。強誘電体キャパシタ13aの一端はPLに接続されており、他端はnMOS13bのドレインに接続されている。nMOS13bのソースはBLに接続されており、nMOS13bのゲートはWLに接続されている。
A read circuit 10 for a ferroelectric memory according to the first embodiment is a circuit for reading data stored in memory cells 13 connected to WL, PL and BL.
The memory cell 13 has a ferroelectric capacitor 13a and an n-channel MOSFET (Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor) (hereinafter abbreviated as nMOS) 13b. One end of the ferroelectric capacitor 13a is connected to PL, and the other end is connected to the drain of the nMOS 13b. The source of nMOS13b is connected to BL, and the gate of nMOS13b is connected to WL.

このようなメモリセル13では、読み出し時や書き込み時に、WLの電位が引き上げられると、nMOS13bがオン状態となり、強誘電体キャパシタ13aの上記他端とBLとが電気的に接続される。なお、nMOS13bは、アクセストランジスタ、またはアクセスゲートなどと呼ばれる場合もある。 In such a memory cell 13, when the potential of WL is raised during reading or writing, the nMOS 13b is turned on, and the other end of the ferroelectric capacitor 13a and BL are electrically connected. Note that the nMOS 13b is sometimes called an access transistor or an access gate.

読み出し回路10は、制御回路11とセンスアンプ(図1では“SA”と表記されている)12を有する。
制御回路11は、BLの電位であるビット線電位と、参照電位(VREF1)との比較結果に基づいて、PLとBLとの間の電圧であるメモリセル13の入力電圧が固定されるように入力電圧を制御する。
The read circuit 10 has a control circuit 11 and a sense amplifier (denoted as “SA” in FIG. 1) 12 .
Based on the result of comparison between the bit line potential, which is the potential of BL, and the reference potential (V REF1 ), the control circuit 11 fixes the input voltage of the memory cell 13, which is the voltage between PL and BL. to control the input voltage.

第1の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路10では、制御回路11は、差動増幅器11aを有する。差動増幅器11aは反転入力端子(図1では“-”と表記されている)と非反転入力端子(図1では“+”と表記されている)とを有し、反転入力端子はBLに接続されており、非反転入力端子の電位は、VREF1となっている。また、差動増幅器11aの出力端子は、PLに接続されている。ここで、VREF1は一定の電位であり、後述の参照電位生成回路24(図7参照)によって差動増幅器11aの非反転入力端子に印加される。VREF1は読み出しマージンが適切な大きさになるように、適宜設定される。 In the ferroelectric memory readout circuit 10 of the first embodiment, the control circuit 11 has a differential amplifier 11a. The differential amplifier 11a has an inverting input terminal (marked as "-" in FIG. 1) and a non-inverting input terminal (marked as "+" in FIG. 1), and the inverting input terminal is connected to BL. , and the potential of the non-inverting input terminal is V-- REF1 . An output terminal of the differential amplifier 11a is connected to PL. Here, VREF1 is a constant potential, and is applied to the non-inverting input terminal of the differential amplifier 11a by a reference potential generating circuit 24 (see FIG. 7), which will be described later. V-- REF1 is appropriately set so that the read margin becomes an appropriate size.

差動増幅器11aは、メモリセル13からデータを読み出す際に有効となり、ビット線電位とVREF1との差を増幅した信号を出力してプレート線電位を上昇させる。増幅率は、たとえば、100倍、1000倍などである。 The differential amplifier 11a becomes effective when reading data from the memory cell 13, outputs a signal obtained by amplifying the difference between the bit line potential and VREF1 , and raises the plate line potential. The amplification factor is, for example, 100 times, 1000 times, or the like.

このような差動増幅器11aは、ビット線電位がVREF1に達したときに、プレート線電位の上昇を止めることで、メモリセル13の入力電圧を固定する。
センスアンプ12は、PLに接続されている。センスアンプ12は、入力電圧が固定されたときの、プレート線電位と、参照電位(VREF2)との比較結果に基づいて、メモリセル13に記憶されているデータの値を判定し、判定結果であるDATAを出力する。ここで、VREF2は一定の電位であり、後述の参照電位生成回路24(図7参照)によってセンスアンプ12に印加される。VREF2は、たとえば、メモリセル13から“0”が読み出される場合のプレート線電位と、メモリセル13から“1”が読み出される場合のプレート線電位との、中間電位になるように設定されている。
Such a differential amplifier 11a fixes the input voltage of the memory cell 13 by stopping the increase of the plate line potential when the bit line potential reaches VREF1 .
A sense amplifier 12 is connected to PL. The sense amplifier 12 determines the value of the data stored in the memory cell 13 based on the comparison result between the plate line potential and the reference potential (V REF2 ) when the input voltage is fixed, and outputs the determination result. and outputs DATA. Here, V REF2 is a constant potential, which is applied to the sense amplifier 12 by a reference potential generating circuit 24 (see FIG. 7), which will be described later. VREF2 is set, for example, to be an intermediate potential between the plate line potential when "0" is read from the memory cell 13 and the plate line potential when "1" is read from the memory cell 13. there is

なお、図1には、さらに、nMOS14が示されている。nMOS14のドレインはBLに接続されており、ソースは接地されている。また、nMOS14のゲートにはプリチャージ信号であるPRECHGが入力される。PRECHGは、後述のコントローラ23(図7参照)によって供給される。さらに、図1には、ビット線容量(BLの寄生容量)15が示されている。 Note that FIG. 1 also shows an nMOS 14 . The nMOS 14 has a drain connected to BL and a source grounded. A precharge signal PRECHG is input to the gate of the nMOS 14 . PRECHG is supplied by a controller 23 (see FIG. 7) which will be described later. Further, FIG. 1 shows bit line capacitance (parasitic capacitance of BL) 15 .

このような読み出し回路10では、矢印で示されているように、PLから強誘電体キャパシタ13aに電荷が供給される。
図2は、強誘電体キャパシタのヒステリシス・ループ特性を示す図である。横軸はPLとBL間の電位差(VPL-VBL)(上記のメモリセル13の入力電圧に相当する)、縦軸は分極量Qを表す。
In such a readout circuit 10, charges are supplied from the PL to the ferroelectric capacitor 13a as indicated by arrows.
FIG. 2 is a diagram showing hysteresis loop characteristics of a ferroelectric capacitor. The horizontal axis represents the potential difference (V PL -V BL ) between PL and BL (corresponding to the input voltage of the memory cell 13 described above), and the vertical axis represents the amount of polarization Q. FIG.

図2に示すように、強誘電体キャパシタ13aは、VPL-VBLが0Vのときに分極量Qが異なる2つの安定点をもち、正側の安定点が“0”、負側の安定点が“1”に対応する。なお、正側の安定点を“1”、負側の安定点を“0”としてもよい。 As shown in FIG. 2, the ferroelectric capacitor 13a has two stable points with different polarization amounts Q when V PL −V BL is 0 V. The stable point on the positive side is “0” and the stable point on the negative side is “0” A dot corresponds to "1". The stable point on the positive side may be set to "1" and the stable point on the negative side may be set to "0".

PL-VBLが上昇すると、分極量Qがヒステリシス・ループ特性に沿って矢印方向に変化する。このときの分極量Qの変化量ΔQは、正側の安定点から変化する場合よりも、負側の安定点から変化する場合の方が大きい。負側の安定点から変化する場合には、強誘電体の分極反転が生じるためである。 As V PL -V BL increases, the polarization quantity Q changes in the direction of the arrow along the hysteresis loop characteristics. At this time, the amount of change ΔQ in the polarization amount Q is larger when it changes from the stable point on the negative side than when it changes from the stable point on the positive side. This is because polarization reversal occurs in the ferroelectric when changing from the stable point on the negative side.

したがって、たとえば、メモリセル13に“1”が記憶されていた場合、BLに大きな電流が流れ、メモリセル13に“0”が記憶されていた場合、分極反転が生じず、BLにあまり電流が流れない。 Therefore, for example, when "1" is stored in the memory cell 13, a large current flows through BL, and when "0" is stored in the memory cell 13, polarization reversal does not occur and a small amount of current flows through BL. Not flowing.

図3は、第1の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路の動作の一例を示すタイミングチャートである。図3には、PRECHG、差動増幅器11aのイネーブル信号であるOAEN及びセンスアンプ12のイネーブル信号であるSAENの電位(V)の時間変化が示されている。さらに、図3には、WLの電位であるVWL、PLの電位であるVPL、BLの電位であるVBL及びセンスアンプ12の出力であるDATAの電位(V)の時間変化が示されている。 FIG. 3 is a timing chart showing an example of the operation of the readout circuit of the ferroelectric memory according to the first embodiment. FIG. 3 shows temporal changes in potential (V) of PRECHG, OAEN which is an enable signal for the differential amplifier 11a, and SAEN which is an enable signal for the sense amplifier 12. FIG. Further, FIG. 3 shows temporal changes in V WL which is the potential of WL, V PL which is the potential of PL, V BL which is the potential of BL , and the potential (V) of DATA which is the output of the sense amplifier 12 . ing.

PRECHGの電位が、たとえば、電源電位から接地電位(たとえば0V)に立ち下がると(タイミングt1)、nMOS14がオフ状態となり、BLはフローティング状態となる。 When the potential of PRECHG, for example, falls from the power supply potential to the ground potential (for example, 0 V) (timing t1), nMOS 14 is turned off and BL becomes floating.

WLが立ち上がり(タイミングt2)、OAENの電位が立ち上がると、差動増幅器11aが動作を開始し、VPLとVBLが上昇を開始する。これによりnMOS13bがオン状態となり、メモリセル13からのデータの読み出しが始まる。このとき、前述の分極反転の有無により、メモリセル13に“1”が記憶されている場合よりも、“0”が記憶されている場合の方が、単位時間当たりの上昇幅が小さい(つまり、上昇速度が遅い)。 When VWL rises (timing t2) and the potential of OAEN rises, the differential amplifier 11a starts operating, and VPL and VBL start rising. As a result, the nMOS 13b is turned on, and data reading from the memory cell 13 begins. At this time, depending on the presence or absence of the above-mentioned polarization reversal, the increase per unit time is smaller when "0" is stored in the memory cell 13 than when "1" is stored (that is, , slow rising).

このため、VBLは、メモリセル13に“1”が記憶されている場合、メモリセル13に“0”が記憶されている場合より早くVREF1に達し(タイミングt3)、差動増幅器11aは、VPLの上昇を止める。これによりVBLの上昇も止まり、メモリセル13の入力電圧(VPL-VBL)が固定される。 Therefore, when "1" is stored in the memory cell 13, VBL reaches VREF1 earlier than when "0" is stored in the memory cell 13 (timing t3). , stop the rise of VPL . As a result, V BL also stops rising, and the input voltage (V PL -V BL ) of memory cell 13 is fixed.

一方、VBLは、メモリセル13に“0”が記憶されている場合、メモリセル13に“1”が記憶されている場合より遅くVREF1に達し(タイミングt4)、差動増幅器11aは、VPLの上昇を止める。これによりVBLの上昇も止まり、メモリセル13の入力電圧(VPL-VBL)が固定される。 On the other hand, when "0" is stored in the memory cell 13, VBL reaches VREF1 later than when "1" is stored in the memory cell 13 (timing t4). Stop the increase in VPL . As a result, V BL also stops rising, and the input voltage (V PL -V BL ) of memory cell 13 is fixed.

その後、OAENの電位が立ち下がることで差動増幅器11aが動作を停止し(タイミングt5)、SAENの電位が立ち上がると、センスアンプ12は、VPLと、VREF2との比較結果に基づいて、メモリセル13に記憶されているデータの値を判定し、判定結果であるDATAを出力する。VPL≧VREF2の場合、DATA=“0”(たとえば、接地電位)となり、VPL<VREF2の場合、DATA=“1”(たとえば、電源電位)となる。 After that, when the potential of OAEN falls, the differential amplifier 11a stops operating ( timing t5), and the potential of SAEN rises. It determines the value of the data stored in the memory cell 13 and outputs DATA, which is the determination result. If V PL ≧V REF2 , DATA="0" (eg, ground potential), and if V PL <V REF2 , DATA="1" (eg, power supply potential).

その後、判定結果に基づいて、VPLとVBLが設定され(タイミングt6)、VWLがさらに上昇され、メモリセル13への再書き込みが行われる。“0”が再書き込みされる場合、VPLはさらに引き上げられ、VBLは、接地電位に引き下げられる。“1”が再書き込みされる場合、VPLは、接地電位に引き下げられ、VBLはさらに引き上げられる。 After that, VPL and VBL are set based on the determination result (timing t6), VWL is further increased, and rewriting to the memory cell 13 is performed. When "0" is rewritten, VPL is further raised and VBL is pulled down to ground potential. When "1" is rewritten, VPL is pulled down to ground potential and VBL is further pulled up.

同じWLにメモリセル13が複数接続されている場合(図8参照)、上記の読み出し方法によれば、VPLが各メモリセルについて制御される。このため、同じWLに接続される複数のメモリセルに対する再書き込み時には、“0”を書き込む処理と“1”を書き込む処理を、後述の比較例(図6参照)のように別々のタイミングで行わなくてよい。 When a plurality of memory cells 13 are connected to the same WL (see FIG. 8), VPL is controlled for each memory cell according to the above read method. Therefore, when rewriting a plurality of memory cells connected to the same WL, the processing of writing "0" and the processing of writing "1" are performed at different timings as in a comparative example (see FIG. 6) described later. You don't have to.

PRECHGの電位が、電源電位に立ち上がると(タイミングt7)、nMOS14がオン状態となり、VBLは接地電位で固定される。
図4は、VPLとBLに供給される電荷量との関係を示す図である。横軸はVPLを表し、縦軸はBLに供給される電荷量(Q)を表す。
When the potential of PRECHG rises to the power supply potential (timing t7), the nMOS 14 is turned on and VBL is fixed at the ground potential.
FIG. 4 is a diagram showing the relationship between VPL and the amount of charge supplied to BL. The horizontal axis represents VPL , and the vertical axis represents the amount of charge (Q) supplied to BL.

図4には、メモリセル13に“0”が記憶されている場合と、メモリセル13に“1”が記憶されている場合のVPLとBLに供給される電荷量との関係が示されている。QVREF1は、VBL=VREF1の場合にBLに供給される電荷量を表している。また、VPL1は、メモリセル13に“1”が記憶されている場合において、Q=QVREF1となるときの、VPLである。VPL0は、メモリセル13に“0”が記憶されている場合において、Q=QVREF1となるときの、VPLである。 FIG. 4 shows the relationship between VPL and the amount of charge supplied to BL when "0" is stored in the memory cell 13 and when "1" is stored in the memory cell 13. In FIG. ing. Q VREF1 represents the amount of charge delivered to BL when V BL =V REF1 . V PL1 is the V PL when Q=Q VREF1 when "1" is stored in the memory cell 13 . VPL0 is the VPL when Q= QVREF1 when "0" is stored in memory cell 13;

したがって、第1の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路10において、読み出しマージンは、VPL0-VPL1である。読み出しマージンは、QVREF1の値によって決まるため、ビット線容量15の影響を受ける。ビット線容量15の大きさと読み出しマージンの大きさとの関係については後述する(図16参照)。 Therefore, in the ferroelectric memory read circuit 10 of the first embodiment, the read margin is V PL0 -V PL1 . Since the read margin is determined by the value of Q VREF1 , it is affected by the bit line capacitance 15 . The relationship between the size of the bit line capacitance 15 and the size of the read margin will be described later (see FIG. 16).

上記のような第1の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路10では、制御回路11が、VBLとVREF1との比較結果に基づいて、メモリセル13の入力電圧が固定されるように入力電圧を制御する。 In the ferroelectric memory readout circuit 10 of the first embodiment as described above, the control circuit 11 fixes the input voltage of the memory cell 13 based on the comparison result between VBL and VREF1 . to control the input voltage.

たとえば、VPLが上昇する過程でノイズによりVBLが一時的にVREF1を超え、VPLの上昇が止まっても、VBLが元に戻ると再びVPLは上昇を続け、VBLがVREF1に達したときに、VPLの上昇が止まりメモリセル13の入力電圧が固定される。 For example, even if VBL temporarily exceeds VREF1 due to noise in the process of VPL rising and VPL stops rising, when VBL returns to normal, VPL continues to rise and VBL drops to V When it reaches REF1 , VPL stops rising and the input voltage of memory cell 13 is fixed.

そして、センスアンプ12が、入力電圧が固定されたときの、VPLとVREF2との比較結果に基づいて、メモリセル13に記憶されているデータの値を判定するため、ノイズの影響を受けにくい。 Since the sense amplifier 12 determines the value of the data stored in the memory cell 13 based on the result of comparison between VPL and VREF2 when the input voltage is fixed, it is affected by noise. Hateful.

また、読み出し回路10は、制御回路11が差動増幅器11aを含んでおり、差動増幅器11aにより、VBLとVREF1の差が検出されている。差動増幅器11aのゲインは大きくすることが容易であり、ゲインが大きければ差動増幅器11aの入力オフセットやVREF1のばらつきがあっても正しく動作させることが可能である。 In the read circuit 10, the control circuit 11 includes a differential amplifier 11a, and the difference between VBL and VREF1 is detected by the differential amplifier 11a. It is easy to increase the gain of the differential amplifier 11a, and if the gain is large, the differential amplifier 11a can operate correctly even if there are variations in the input offset and VREF1 of the differential amplifier 11a.

(比較例)
図5は、比較例の強誘電体メモリの一部を示す図である。図1に示した要素と同じ要素については同一符号が付されている。
(Comparative example)
FIG. 5 is a diagram showing part of a ferroelectric memory of a comparative example. Elements that are the same as those shown in FIG. 1 are given the same reference numerals.

図5では、センスアンプ12は、BLに接続されており、VBLとVREFとの比較結果に基づいて、メモリセル13に記憶されているデータの値を判定し、判定結果であるDATAを出力する。 In FIG. 5, the sense amplifier 12 is connected to BL, determines the value of the data stored in the memory cell 13 based on the result of comparison between VBL and VREF , and outputs DATA, which is the determination result. Output.

図6は、比較例の強誘電体メモリの読み出し動作の一例を示すタイミングチャートである。図6には、PRECHG、センスアンプ12のイネーブル信号であるSAENの電位(V)の時間変化が示されている。さらに、図6には、WLの電位であるVWL、PLの電位であるVPL、BLの電位であるVBL及びセンスアンプ12の出力であるDATAの電位(V)の時間変化が示されている。 FIG. 6 is a timing chart showing an example of the read operation of the ferroelectric memory of the comparative example. FIG. 6 shows changes over time in the potential (V) of PRECHG and SAEN, which is an enable signal for the sense amplifier 12 . Further, FIG. 6 shows changes over time of V WL which is the potential of WL, V PL which is the potential of PL, V BL which is the potential of BL , and the potential (V) of DATA which is the output of the sense amplifier 12 . ing.

PRECHGの電位が、たとえば、電源電位から接地電位(たとえば0V)に立ち下がると(タイミングt10)、nMOS14がオフ状態となり、BLはフローティング状態となる。 When the potential of PRECHG, for example, falls from the power supply potential to the ground potential (for example, 0V) (timing t10), nMOS 14 is turned off and BL becomes floating.

WLが立ち上がり(タイミングt11)、PLに所定のVPLが印加されると、VBLも上昇を開始する。これによりメモリセル13からのデータの読み出しが始まる。このとき、前述の分極反転の有無により、メモリセル13に“1”が記憶されている場合よりも、“0”が記憶されている場合の方が、VBLの単位時間当たりの上昇幅が小さい(つまり、上昇速度が遅い)。 When VWL rises (timing t11) and a predetermined VPL is applied to PL, VBL also starts to rise. As a result, reading of data from the memory cell 13 starts. At this time, depending on the presence or absence of the above-mentioned polarization reversal, when "0" is stored in the memory cell 13, the increase width of VBL per unit time is greater than when "1" is stored. Small (i.e. slow rising speed).

SAENの電位が立ち上がると(タイミングt12)、センスアンプ12は、VBLと、VREFとの比較結果に基づいて、メモリセル13に記憶されているデータの値を判定し、判定結果であるDATAを出力する。VBL≧VREFの場合、DATA=“1”(たとえば、電源電位)となり、VBL<VREFの場合、DATA=“0”(たとえば、接地電位)となる。 When the potential of SAEN rises (timing t12), the sense amplifier 12 determines the value of the data stored in the memory cell 13 based on the result of comparison between VBL and VREF . to output If V BL ≧V REF , DATA="1" (eg, power supply potential), and if V BL <V REF , DATA="0" (eg, ground potential).

その後、“0”の再書き込みを行うために、VPLがそのまま維持された状態でVBLが、接地電位に引き下げられる(タイミングt13)。次に、“1”の再書き込みを行うために、VBLがそのまま維持された状態でVPLが、接地電位に引き下げられる(タイミングt14)。 After that, in order to rewrite "0", VBL is lowered to the ground potential while VPL is maintained as it is (timing t13). Next, in order to rewrite "1", VPL is pulled down to the ground potential while VBL is maintained as it is (timing t14).

PRECHGの電位が、電源電位に立ち上がると(タイミングt15)、nMOS14がオン状態となり、VBLは接地電位で固定される。
このような、比較例の強誘電体メモリでは、強誘電体キャパシタ13aの劣化などにより、読み出しマージンが小さくなると、ノイズの影響を受けやすくなる。
When the potential of PRECHG rises to the power supply potential (timing t15), the nMOS 14 is turned on and VBL is fixed at the ground potential.
Such a ferroelectric memory of the comparative example becomes susceptible to noise when the read margin becomes small due to deterioration of the ferroelectric capacitor 13a or the like.

これに対して、第1の実施の形態の強誘電体メモリでは、読み出し回路10を有することで、前述の理由からノイズの影響を受けにくい。
(読み出し回路10が適用される強誘電体メモリの例)
図7は、強誘電体メモリの一例を示す図である。
On the other hand, the ferroelectric memory according to the first embodiment has the readout circuit 10 and is less susceptible to noise for the reason described above.
(Example of ferroelectric memory to which readout circuit 10 is applied)
FIG. 7 is a diagram showing an example of a ferroelectric memory.

強誘電体メモリ20は、メモリセルアレイ21、アドレスバッファ22、コントローラ23、参照電位生成回路24、ロウ関連回路部25、コラム関連回路部26を有する。
メモリセルアレイ21は、マトリクス状に配置された複数のメモリセルと、複数のビット線、複数のワード線及び複数のプレート線を有する(後述の図8参照)。
The ferroelectric memory 20 has a memory cell array 21 , an address buffer 22 , a controller 23 , a reference potential generation circuit 24 , a row related circuit section 25 and a column related circuit section 26 .
The memory cell array 21 has a plurality of memory cells arranged in a matrix, a plurality of bit lines, a plurality of word lines, and a plurality of plate lines (see FIG. 8 described later).

アドレスバッファ22は、強誘電体メモリ20の外部からアドレスを受信し、受信したアドレスを、ロウ関連回路部25とコラム関連回路部26に供給する。
コントローラ23は、強誘電体メモリ20の外部からコマンド(チップセレクト信号、ライトイネーブル信号、出力イネーブル信号など)を受信する。そして、コントローラ23は、受信したコマンドに基づいて、ロウ関連回路部25やコラム関連回路部26に各種の制御信号(前述のPRECHG、SAENなど)を供給する。
The address buffer 22 receives an address from outside the ferroelectric memory 20 and supplies the received address to the row related circuit section 25 and the column related circuit section 26 .
The controller 23 receives commands (chip select signal, write enable signal, output enable signal, etc.) from outside the ferroelectric memory 20 . Then, the controller 23 supplies various control signals (PRECHG, SAEN, etc. described above) to the row-related circuit section 25 and the column-related circuit section 26 based on the received command.

参照電位生成回路24は、前述の参照電位(VREF1やVREF2)を生成する。
ロウ関連回路部25は、図示を省略しているが、たとえば、ロウデコーダやドライバ回路を含む。ロウデコーダは、アドレスに含まれるロウアドレス(たとえば、アドレス信号の上位側のビット)をデコードすることでロウデコード信号を生成し、生成したロウデコード信号をドライバ回路に供給する。ドライバ回路は、複数のワード線のうち、ロウデコード信号により指定されるワード線に、コントローラ23から供給される制御信号に応じて、所定期間、所定の電圧を印加する。
The reference potential generation circuit 24 generates the aforementioned reference potentials (V REF1 and V REF2 ).
The row-related circuit section 25 includes, for example, a row decoder and a driver circuit, although illustration is omitted. The row decoder generates a row decode signal by decoding a row address (for example, upper bits of the address signal) included in the address, and supplies the generated row decode signal to the driver circuit. The driver circuit applies a predetermined voltage for a predetermined period to the word line specified by the row decode signal among the plurality of word lines according to the control signal supplied from the controller 23 .

コラム関連回路部26は、図示を省略しているが、コラムデコーダやライトアンプ、入出力回路の他、図1に示したような読み出し回路10を含む。
図8は、メモリセルアレイの一部とコラム関連回路部の一部の一例を示す図である。
Although not shown, the column-related circuit section 26 includes a column decoder, a write amplifier, an input/output circuit, and the readout circuit 10 shown in FIG.
FIG. 8 is a diagram showing an example of part of the memory cell array and part of the column-related circuitry.

図8に示すように、メモリセルアレイ21は、図1に示したメモリセル13を含む。読み出し回路10が用いられる場合、同一WLに接続される複数のメモリセルは、それぞれVPLが異なるため、PLはWLに対して直交に配置されている。 As shown in FIG. 8, memory cell array 21 includes memory cells 13 shown in FIG. When the read circuit 10 is used, multiple memory cells connected to the same WL have different VPLs , so the PLs are arranged orthogonally to the WL.

また、コラム関連回路部26は、図1に示したnMOS14や、読み出し回路10を含む。さらに、コラム関連回路部26は、コラムデコーダ・ライトアンプ部26a、入出力回路26bを含む。nMOS14や読み出し回路10と同様の構成は、BLとPLによるペアごとに設けられている。 Also, the column-related circuit section 26 includes the nMOS 14 and the readout circuit 10 shown in FIG. Further, the column related circuit section 26 includes a column decoder/write amplifier section 26a and an input/output circuit 26b. A configuration similar to the nMOS 14 and readout circuit 10 is provided for each pair of BL and PL.

コラムデコーダ・ライトアンプ部26aは、たとえば、コラムデコーダ、ライトアンプ、コラムスイッチを含む。コラムデコーダはアドレスに含まれるコラムアドレス(たとえば、アドレス信号の下位側のビット)をデコードすることでコラムデコード信号を生成する。生成されたコラムデコード信号はコラムスイッチに供給され、コラムスイッチは、コラムデコード信号に基づいて、複数のBLや複数のPLのうち、ライトアンプや入出力回路26bに接続するものを選択する。 Column decoder/write amplifier section 26a includes, for example, a column decoder, a write amplifier, and a column switch. The column decoder generates a column decode signal by decoding a column address included in the address (for example, lower bits of the address signal). The generated column decode signal is supplied to a column switch, and the column switch selects one of a plurality of BLs and a plurality of PLs to be connected to the write amplifier and input/output circuit 26b based on the column decode signal.

入出力回路26bは、たとえば、強誘電体メモリ20の外部から供給されるライトデータを保持するライトバッファを含む。ライトバッファは、書き戻しのため、センスアンプ12が読み出したデータを保持する機能を有していてもよい。 The input/output circuit 26b includes, for example, a write buffer that holds write data supplied from the outside of the ferroelectric memory 20. FIG. The write buffer may have the function of holding data read by the sense amplifier 12 for write-back.

また、入出力回路26bは、センスアンプ12により判定されたデータの値を保持し、出力する。
読み出し回路10は、以上のような強誘電体メモリ20に適用可能である。
The input/output circuit 26b holds and outputs the data value determined by the sense amplifier 12. FIG.
The read circuit 10 can be applied to the ferroelectric memory 20 as described above.

(第2の実施の形態)
図9は、第2の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路の一例を示す図である。図9において、図1に示した要素と同じ要素については同一符号が付されている。なお、図1においてWLはワード線、BLはビット線、PLはプレート線、RWLは参照ワード線、RBLは参照ビット線を表す。
(Second embodiment)
FIG. 9 is a diagram showing an example of a readout circuit of the ferroelectric memory according to the second embodiment. In FIG. 9, the same reference numerals are assigned to the same elements as those shown in FIG. In FIG. 1, WL is a word line, BL is a bit line, PL is a plate line, RWL is a reference word line, and RBL is a reference bit line.

第2の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路30は、第1の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路10と同様に、センスアンプ12と制御回路31とを有する。さらに、読み出し回路30は、キャパシタ32と、nMOS33とを有する。 The ferroelectric memory readout circuit 30 of the second embodiment has a sense amplifier 12 and a control circuit 31, like the ferroelectric memory readout circuit 10 of the first embodiment. Furthermore, the readout circuit 30 has a capacitor 32 and an nMOS 33 .

キャパシタ32は、一端がPLに電気的に接続され、他端はnMOS33のドレインに接続されている。nMOS33のソースはRBLに接続されており、nMOS33のゲートはRWLに接続されている。なお、キャパシタ32は、強誘電体キャパシタではなく、印加電圧の増加に比例して保持電荷量が上昇する線形キャパシタである。メモリセル13の読み出し時には、RWLの電位が引き上げられ、nMOS33がオン状態となり、キャパシタ32の上記他端とBLとが電気的に接続される。 The capacitor 32 has one end electrically connected to PL and the other end connected to the drain of the nMOS 33 . The source of nMOS33 is connected to RBL, and the gate of nMOS33 is connected to RWL. Note that the capacitor 32 is not a ferroelectric capacitor, but a linear capacitor whose retained charge amount increases in proportion to an increase in applied voltage. When the memory cell 13 is read, the potential of RWL is raised, the nMOS 33 is turned on, and the other end of the capacitor 32 and BL are electrically connected.

読み出し回路30の制御回路31は、BLの電位であるVBLとRBLの電位であるVRBLとの比較結果に基づいて、PLとBLとの間の電圧であるメモリセル13の入力電圧が固定されるように入力電圧を制御する。 The control circuit 31 of the read circuit 30 fixes the input voltage of the memory cell 13, which is the voltage between PL and BL, based on the comparison result between VBL , which is the potential of BL, and VRBL , which is the potential of RBL. control the input voltage so that

制御回路31は、読み出し回路10の制御回路11と同様に、差動増幅器31aを有しており、差動増幅器31aの反転入力端子はBLに接続されている。一方、差動増幅器31aの非反転入力端子はRBLに接続されている。差動増幅器31aの出力端子は、PLに接続されている。 Like the control circuit 11 of the readout circuit 10, the control circuit 31 has a differential amplifier 31a, and the inverting input terminal of the differential amplifier 31a is connected to BL. On the other hand, the non-inverting input terminal of the differential amplifier 31a is connected to RBL. The output terminal of the differential amplifier 31a is connected to PL.

差動増幅器31aは、メモリセル13からデータを読み出す際に有効となり、VBLとVRBLとの差を増幅した信号を出力してPLの電位であるVPLを上昇させる。差動増幅器31aは、VBLがVRBLに達したときは、VPLの上昇を止めることで、メモリセル13の入力電圧を固定する。 The differential amplifier 31a becomes effective when reading data from the memory cell 13, outputs a signal obtained by amplifying the difference between VBL and VRBL , and raises VPL , which is the potential of PL. The differential amplifier 31a fixes the input voltage of the memory cell 13 by stopping the increase of VPL when VBL reaches VRBL .

センスアンプ12は、PLに接続されている。センスアンプ12は、入力電圧が固定されたときの、VPLと、VREFとの比較結果に基づいて、メモリセル13に記憶されているデータの値を判定し、判定結果であるDATAを出力する。ここで、VREFは一定の電位であり、図7に示した参照電位生成回路24によってセンスアンプ12に印加される。VREFは、たとえば、図1のVREF2と同様に設定される。 A sense amplifier 12 is connected to PL. The sense amplifier 12 determines the value of the data stored in the memory cell 13 based on the comparison result between VPL and VREF when the input voltage is fixed, and outputs DATA as the determination result. do. Here, V REF is a constant potential and is applied to the sense amplifier 12 by the reference potential generating circuit 24 shown in FIG. V REF is, for example, set similarly to V REF2 in FIG.

なお、図9には、さらに、nMOS34が示されている。nMOS34のドレインはRBLに接続されており、ソースは接地されている。また、nMOS34のゲートにはPRECHGが入力される。さらに、図9は、RBLのビット線容量35が示されている。 Note that FIG. 9 also shows an nMOS 34 . The drain of nMOS 34 is connected to RBL and the source is grounded. Also, PRECHG is input to the gate of the nMOS 34 . Further, FIG. 9 shows the bit line capacitance 35 of the RBL.

このような読み出し回路30では、2つの矢印で示されているように、PLから強誘電体キャパシタ13aとキャパシタ32に電荷が供給される。
図10は、第2の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路の動作の一例を示すタイミングチャートである。図10には、PRECHG、差動増幅器31aのイネーブル信号であるOAEN及びセンスアンプ12のイネーブル信号であるSAENの電位(V)の時間変化が示されている。さらに、図10には、WLの電位であるVWL、PLの電位であるVPL、BLの電位であるVBL、RBLの電位であるVRBL及びセンスアンプ12の出力であるDATAの電位(V)の時間変化が示されている。
In such a readout circuit 30, charges are supplied from the PL to the ferroelectric capacitor 13a and the capacitor 32 as indicated by two arrows.
FIG. 10 is a timing chart showing an example of the operation of the readout circuit of the ferroelectric memory according to the second embodiment. FIG. 10 shows temporal changes in potential (V) of PRECHG, OAEN which is an enable signal for the differential amplifier 31a, and SAEN which is an enable signal for the sense amplifier 12. FIG. Further, FIG. 10 shows V WL that is the potential of WL, V PL that is the potential of PL, V BL that is the potential of BL , V RBL that is the potential of RBL, and the potential of DATA that is the output of the sense amplifier 12 ( V) is shown over time.

PRECHGの電位が、たとえば、電源電位から接地電位(たとえば0V)に立ち下がると(タイミングt20)、nMOS14,34がオフ状態となり、BLとRBLはフローティング状態となる。 When the potential of PRECHG, for example, falls from the power supply potential to the ground potential (for example, 0V) (timing t20), nMOSs 14 and 34 are turned off, and BL and RBL are floated.

WLが立ち上がり(タイミングt21)、OAENの電位が立ち上がると、差動増幅器31aが動作を開始し、VPLとVBLとが上昇を開始する。これにより、nMOS13bがオン状態となり、メモリセル13からのデータの読み出しが始まる。このとき、前述の分極反転の有無により、メモリセル13に“1”が記憶されている場合よりも、“0”が記憶されている場合の方が、VBLの単位時間当たりの上昇幅が小さい(つまり、上昇速度が遅い)。一方、図示が省略されているが、タイミングt21において、RWLの電位も立ち上がり、nMOS33がオン状態となる。これにより、VRBLは、時間に比例して上昇する。 When VWL rises (timing t21) and the potential of OAEN rises, the differential amplifier 31a starts operating, and VPL and VBL start rising. As a result, the nMOS 13b is turned on, and data reading from the memory cell 13 begins. At this time, depending on the presence or absence of the above-mentioned polarization reversal, when "0" is stored in the memory cell 13, the increase width of VBL per unit time is greater than when "1" is stored. Small (i.e. slow rising speed). On the other hand, although not shown, at timing t21, the potential of RWL also rises and the nMOS 33 is turned on. As a result, V RBL rises in proportion to time.

図10には、VBLとVRBLの立ち上がり部分の拡大図が示されている。メモリセル13に“0”が記憶されている場合と、“1”が記憶されている場合のそれぞれについてのVBLが実線で示されている。一方、VRBLは、拡大図では破線で示されているが、タイミングt22以降は、メモリセル13に“0”が記憶されている場合について示されている。VRBLは、タイミングt22までは、メモリセル13に“0”が記憶されている場合も、“1”が記憶されている場合も同様に変化する。 FIG. 10 shows an enlarged view of the rising portions of V BL and V RBL . A solid line indicates VBL when "0" is stored in the memory cell 13 and when "1" is stored in the memory cell 13 . On the other hand, V RBL is indicated by a dashed line in the enlarged view, and shows the case where "0" is stored in the memory cell 13 after timing t22. Until timing t22, V RBL changes similarly whether "0" is stored in the memory cell 13 or "1" is stored.

図10の拡大図に示されているように、メモリセル13に“1”が記憶されている場合、VBLは、タイミングt22においてVRBLに達する。このため、差動増幅器31aは、VPLの上昇を止める。これによりVBLとVRBLも上昇が止まり、メモリセル13の入力電圧(VPL-VBL)が固定される。 As shown in the enlarged view of FIG. 10, when "1" is stored in memory cell 13, VBL reaches V RBL at timing t22. Therefore, the differential amplifier 31a stops increasing VPL . As a result, V BL and V RBL also stop rising, and the input voltage (V PL -V BL ) of the memory cell 13 is fixed.

一方、メモリセル13に“0”が記憶されている場合、VBLは、VRBLに達しない。このため、VPLは最大値(たとえば、電源電位)になるため上昇を続ける。VPLが最大値に到達すると(タイミングt23)、VBLとVRBLも上昇が止まり、メモリセル13の入力電圧(VPL-VBL)が固定される。 On the other hand, when "0" is stored in memory cell 13, VBL does not reach V RBL . As a result, VPL reaches the maximum value (for example, the power supply potential) and continues to rise. When V PL reaches the maximum value (timing t23), V BL and V RBL also stop rising, and the input voltage (V PL -V BL ) of memory cell 13 is fixed.

その後、OAENの電位が立ち下がることで差動増幅器31aが動作を停止し(タイミングt24)、SAENの電位が立ち上がると、センスアンプ12は、VPLと、VREFとの比較結果に基づいて、メモリセル13に記憶されているデータの値を判定し、判定結果であるDATAを出力する。VPL≧VREFの場合、DATA=“0”(たとえば、接地電位)となり、VPL<VREFの場合、DATA=“1”(たとえば、電源電位)となる。 After that, when the potential of OAEN falls, the differential amplifier 31a stops operating ( timing t24), and the potential of SAEN rises. It determines the value of the data stored in the memory cell 13 and outputs DATA, which is the determination result. If V PL ≧V REF , DATA="0" (eg, ground potential), and if V PL <V REF , DATA="1" (eg, power supply potential).

その後、判定結果に基づいて、VPLとVBLが設定され(タイミングt25)、VWLがさらに上昇され、メモリセル13への再書き込みが行われる。“0”が再書き込みされる場合、VPLが維持された状態で、VBLは、接地電位に引き下げられる。“1”が再書き込みされる場合、VPLは、接地電位に引き下げられ、VBLはさらに引き上げられる。 After that, VPL and VBL are set based on the determination result (timing t25), VWL is further increased, and rewriting to the memory cell 13 is performed. When "0" is rewritten, VBL is pulled down to the ground potential while VPL is maintained. When "1" is rewritten, VPL is pulled down to ground potential and VBL is further pulled up.

同じWLにメモリセル13が複数接続されている場合(図8参照)、上記の読み出し方法によれば、VPLが各メモリセルについて制御される。このため、同じWLに接続される複数のメモリセルに対する再書き込み時には、“0”を書き込む場合と“1”を書き込む場合とで、前述の比較例(図6参照)のように別々のタイミングで行わなくてよい。 When a plurality of memory cells 13 are connected to the same WL (see FIG. 8), VPL is controlled for each memory cell according to the above read method. Therefore, when rewriting a plurality of memory cells connected to the same WL, writing "0" and writing "1" are performed at different timings as in the comparative example (see FIG. 6). you don't have to.

PRECHGの電位が、電源電位に立ち上がると(タイミングt26)、nMOS14,34がオン状態となり、VBLとVRBLは接地電位で固定される。
図11は、VPLとBLに供給される電荷量との関係を示す図である。横軸はVPLを表し、縦軸はBLに供給される電荷量(Q)を表す。
When the potential of PRECHG rises to the power supply potential (timing t26), the nMOSs 14 and 34 are turned on, and VBL and VRBL are fixed at the ground potential.
FIG. 11 is a diagram showing the relationship between VPL and the amount of charge supplied to BL. The horizontal axis represents VPL , and the vertical axis represents the amount of charge (Q) supplied to BL.

図11には、メモリセル13に“0”が記憶されている場合と、メモリセル13に“1”が記憶されている場合のVPLとBLに供給される電荷量との関係が示されている。なお、図11には、VPLとRBLに供給される電荷量との関係が破線で示されている。破線の傾きは、キャパシタ32の大きさ(CREF)によって決まる。 FIG. 11 shows the relationship between VPL and the amount of charge supplied to BL when "0" is stored in the memory cell 13 and when "1" is stored in the memory cell 13. In FIG. ing. In FIG. 11, the relationship between VPL and the amount of charge supplied to RBL is indicated by a broken line. The slope of the dashed line is determined by the size of capacitor 32 (C REF ).

PL0は、メモリセル13に“0”が記憶されている場合に得られる、VPLの最大値である。VPL1は、メモリセル13に“1”が記憶されている場合において、VBL=VRBLとなるときの、VPLである。 VPL0 is the maximum value of VPL obtained when "0" is stored in the memory cell 13. FIG. V PL1 is V PL when V BL =V RBL when "1" is stored in memory cell 13 .

したがって、第2の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路30において、読み出しマージンは、VPL0-VPL1である。
上記のような第2の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路30では、制御回路31が、VBLとVRBLとの比較結果に基づいて、メモリセル13の入力電圧が固定されるように入力電圧を制御する。
Therefore, in the ferroelectric memory read circuit 30 of the second embodiment, the read margin is V PL0 -V PL1 .
In the readout circuit 30 of the ferroelectric memory of the second embodiment as described above, the control circuit 31 fixes the input voltage of the memory cell 13 based on the comparison result between VBL and VRBL . to control the input voltage.

たとえば、VPLが上昇する過程でノイズによりVBLが一時的にVRBLを超え、VPLの上昇が止まっても、VBLが元に戻ると再びVPLは上昇を続け、VBLがVRBLに達したときに、VPLの上昇が止まりメモリセル13の入力電圧が固定される。 For example, even if VBL temporarily exceeds V RBL due to noise in the process of VPL rising and VPL stops rising, when VBL returns to normal, VPL continues to rise and VBL drops to V When it reaches RBL , VPL stops rising and the input voltage of memory cell 13 is fixed.

そして、センスアンプ12が、入力電圧が固定されたときの、VPLとVREFとの比較結果に基づいて、メモリセル13に記憶されているデータの値を判定するため、ノイズの影響を受けにくい。 Since the sense amplifier 12 determines the value of the data stored in the memory cell 13 based on the result of comparison between VPL and VREF when the input voltage is fixed, it is affected by noise. Hateful.

また、読み出し回路30は、制御回路31が差動増幅器31aを含んでおり、差動増幅器31aにより、VBLとVRBLの差が検出されている。差動増幅器31aのゲインは大きくすることが容易であり、ゲインが大きければ差動増幅器31aの入力オフセットやVRBLのばらつきがあっても正しく動作させることが可能である。 In the read circuit 30, the control circuit 31 includes a differential amplifier 31a, and the differential amplifier 31a detects the difference between VBL and V RBL . It is easy to increase the gain of the differential amplifier 31a, and if the gain is large, the differential amplifier 31a can operate correctly even if there are variations in the input offset and VRBL of the differential amplifier 31a.

さらに、読み出し回路30は、メモリセル13に“0”が記憶されている場合、VPLは、最大値に到達するまで上昇し、最大値に到達したときに、VBLが固定される。これにより、読み出しマージンを比較的大きくとることができ、さらにノイズの影響を受けにくくすることができる。 Further, the read circuit 30 increases VPL until it reaches its maximum value when "0" is stored in the memory cell 13, and when it reaches the maximum value, VBL is fixed. As a result, a relatively large read margin can be obtained, and the influence of noise can be reduced.

上記のような読み出し回路30も、図7に示したような強誘電体メモリ20に適用可能である。図8に示したようなコラム関連回路部26の構成を、読み出し回路30の回路構成に合わせて変更すればよい。読み出し回路30が用いられる場合、同一WLに接続される複数のメモリセルは、それぞれVPLが異なるため、PLはWLに対して直交に配置される。 The readout circuit 30 as described above is also applicable to the ferroelectric memory 20 as shown in FIG. The configuration of the column related circuit section 26 as shown in FIG. 8 may be changed in accordance with the circuit configuration of the readout circuit 30. When the read circuit 30 is used, multiple memory cells connected to the same WL have different VPLs , so the PLs are arranged orthogonally to the WL.

(第3の実施の形態)
図12は、第3の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路の一例を示す図である。図12において図1に示した要素と同じ要素については同一符号が付されている。なお、図12においてWLはワード線、BLはビット線、PLはプレート線、RWLは参照ワード線、RBLは参照ビット線を表す。
(Third Embodiment)
FIG. 12 is a diagram showing an example of a readout circuit of the ferroelectric memory according to the third embodiment. Elements in FIG. 12 that are the same as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. In FIG. 12, WL is a word line, BL is a bit line, PL is a plate line, RWL is a reference word line, and RBL is a reference bit line.

第3の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路40は、第1の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路10と同様に、センスアンプ12と制御回路41とを有する。さらに、読み出し回路40は、キャパシタ42と、nMOS43とを有する。 The ferroelectric memory readout circuit 40 of the third embodiment has a sense amplifier 12 and a control circuit 41, like the ferroelectric memory readout circuit 10 of the first embodiment. Furthermore, the readout circuit 40 has a capacitor 42 and an nMOS 43 .

キャパシタ42は、一端が接地され、他端はnMOS43のソースに接続されている。nMOS43のドレインはRBLに接続されており、nMOS43のゲートはRWLに接続されている。なお、キャパシタ42は、強誘電体キャパシタではなく、印加電圧の増加に比例して保持電荷量が上昇する線形キャパシタである。メモリセル13の読み出し時には、RWLの電位が引き上げられ、nMOS43がオン状態となり、キャパシタ42の上記他端とBLとが電気的に接続される。 The capacitor 42 has one end grounded and the other end connected to the source of the nMOS 43 . The drain of nMOS43 is connected to RBL, and the gate of nMOS43 is connected to RWL. Note that the capacitor 42 is not a ferroelectric capacitor but a linear capacitor in which the amount of retained charge increases in proportion to the increase in applied voltage. When the memory cell 13 is read, the potential of RWL is raised, the nMOS 43 is turned on, and the other end of the capacitor 42 and BL are electrically connected.

読み出し回路40の制御回路41は、BLの電位であるVBLとRBLの電位であるVRBLとの比較結果に基づいて、PLとBLとの間の電圧であるメモリセル13の入力電圧が固定されるように入力電圧を制御する。 The control circuit 41 of the read circuit 40 fixes the input voltage of the memory cell 13, which is the voltage between PL and BL, based on the comparison result between VBL , which is the potential of BL, and VRBL , which is the potential of RBL. control the input voltage so that

制御回路41は、読み出し回路10の制御回路11と同様に、差動増幅器41aを有している。さらに、制御回路41は、pチャネル型MOSFET(以下pMOSと略す)41b,41cとを含む。 The control circuit 41, like the control circuit 11 of the readout circuit 10, has a differential amplifier 41a. Further, the control circuit 41 includes p-channel MOSFETs (hereinafter abbreviated as pMOS) 41b and 41c.

差動増幅器41aにおいて、反転入力端子はBLに接続されており、非反転入力端子はRBLに接続されている。また、差動増幅器41aの出力端子は、pMOS41b,41cのゲートに接続されている。pMOS41bのドレインには、RBLが接続されており、pMOS41cのドレインには、BLが接続されている。pMOS41b,41cのソースには、電源電圧(VDD)が印加される。 In the differential amplifier 41a, the inverting input terminal is connected to BL, and the non-inverting input terminal is connected to RBL. Also, the output terminal of the differential amplifier 41a is connected to the gates of the pMOSs 41b and 41c. RBL is connected to the drain of pMOS 41b, and BL is connected to the drain of pMOS 41c. A power supply voltage (VDD) is applied to the sources of the pMOSs 41b and 41c.

差動増幅器41aは、メモリセル13からデータを読み出す際に有効となり、出力信号により、BLとRBLの電流量を制御するような機能を有する。差動増幅器41aは、後述のようにVBLがVRBLを下回ったときに、pMOS41b,41cをオフ状態とする出力信号を出力する。これによりVBLの上昇が止まり、VBLは固定される。 The differential amplifier 41a becomes effective when data is read from the memory cell 13, and has a function of controlling the current amounts of BL and RBL by means of an output signal. The differential amplifier 41a outputs an output signal that turns off the pMOSs 41b and 41c when VBL falls below VRBL as will be described later. This stops VBL from rising and fixes VBL .

第3の実施の形態の強誘電体メモリにおいて、メモリセル13の読み出し時には、VPLは接地電位(たとえば、0V)で固定される。このため、VBLの上昇が止まり、VBLが固定されると、メモリセル13の入力電圧も固定される。 In the ferroelectric memory according to the third embodiment, VPL is fixed at the ground potential (0 V, for example) when the memory cell 13 is read. Therefore, when VBL stops rising and VBL is fixed, the input voltage of memory cell 13 is also fixed.

読み出し回路40において、センスアンプ12は、BLに接続されている。センスアンプ12は、入力電圧が固定されたときの、VBLと、VREFとの比較結果に基づいて、メモリセル13に記憶されているデータの値を判定し、判定結果であるDATAを出力する。ここで、VREFは一定の電位であり、図7に示した参照電位生成回路24によってセンスアンプ12に印加される。VREFは、たとえば、図1のVREF2と同様に設定される。 In the read circuit 40, the sense amplifier 12 is connected to BL. The sense amplifier 12 determines the value of the data stored in the memory cell 13 based on the comparison result between VBL and VREF when the input voltage is fixed, and outputs DATA as the determination result. do. Here, V REF is a constant potential and is applied to the sense amplifier 12 by the reference potential generating circuit 24 shown in FIG. V REF is, for example, set similarly to V REF2 in FIG.

なお、図12には、さらに、nMOS44が示されている。nMOS44のドレインはRBLに接続されており、ソースは接地されている。また、nMOS34のゲートにはPRECHGが入力される。さらに、図12は、RBLのビット線容量45が示されている。 Note that FIG. 12 also shows an nMOS 44 . The drain of nMOS 44 is connected to RBL and the source is grounded. Also, PRECHG is input to the gate of the nMOS 34 . Further, FIG. 12 shows the bit line capacitance 45 of RBL.

このような読み出し回路40では、2つの矢印で示されているように、RBLからキャパシタ42に電荷が供給され、BLから強誘電体キャパシタ13aに電荷が供給される。
図13は、第3の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路の動作の一例を示すタイミングチャートである。
In such a readout circuit 40, charges are supplied from RBL to capacitor 42, and charges are supplied from BL to ferroelectric capacitor 13a, as indicated by two arrows.
FIG. 13 is a timing chart showing an example of the operation of the readout circuit of the ferroelectric memory according to the third embodiment.

図13には、PRECHG、差動増幅器41aのイネーブル信号であるOAEN、センスアンプ12のイネーブル信号であるSAEN、及び差動増幅器41aの出力信号であるAMPOUTの電位(V)の時間変化が示されている。さらに、図13には、WLの電位であるVWL、PLの電位であるVPL、BLの電位であるVBL、RBLの電位であるVRBL及びセンスアンプ12の出力であるDATAの電位(V)の時間変化が示されている。なお、VRBLの時間変化は、破線で示されている。 FIG. 13 shows changes over time in the potential (V) of PRECHG, OAEN which is the enable signal of the differential amplifier 41a, SAEN which is the enable signal of the sense amplifier 12, and AMPOUT which is the output signal of the differential amplifier 41a. ing. Further, FIG. 13 shows V WL that is the potential of WL, V PL that is the potential of PL, V BL that is the potential of BL , V RBL that is the potential of RBL, and the potential of DATA that is the output of the sense amplifier 12 ( V) is shown over time. The time change of VRBL is indicated by a dashed line.

OAENの電位が接地電位の場合、差動増幅器41aは動作せず、差動増幅器41aの出力信号であるAMPOUTは、電源電位となっている。つまり、AMPOUTの初期電位は、電源電位である。このため、pMOS41b,41cはオフ状態である。 When the potential of OAEN is the ground potential, the differential amplifier 41a does not operate, and the output signal AMPOUT of the differential amplifier 41a is the power supply potential. That is, the initial potential of AMPOUT is the power supply potential. Therefore, the pMOSs 41b and 41c are off.

PRECHGの電位が、たとえば、電源電位から接地電位(たとえば0V)に立ち下がると(タイミングt30)、nMOS14,44はオフ状態となり、BLとRBLはフローティング状態となる。 When the potential of PRECHG, for example, falls from the power supply potential to the ground potential (for example, 0 V) (timing t30), nMOSs 14 and 44 are turned off, and BL and RBL are floated.

WLが立ち上がり(タイミングt31)、OAENの電位が立ち上がると、nMOS13bがオン状態となり、差動増幅器41aが動作を開始し、VBLが上昇を開始する。これに伴い、AMPOUTの電位も下降を始め、pMOS41b,41cがオン状態となり、VDDにより、BLとRBLが充電される。なお、VPLは、接地電位のままである。 When VWL rises (timing t31) and the potential of OAEN rises, the nMOS 13b is turned on, the differential amplifier 41a starts operating, and VBL starts rising. Along with this, the potential of AMPOUT also begins to fall, the pMOSs 41b and 41c are turned on, and BL and RBL are charged by VDD. Note that VPL remains at the ground potential.

これにより、メモリセル13からのデータの読み出しが始まる。第3の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路40を用いた場合、図2に示した場合と異なり、メモリセル13に“0”が記憶されている場合に、分極反転が生じる。このため、メモリセル13に“1”が記憶されている場合よりも、BLから図12の強誘電体キャパシタ13aに引き抜かれる電荷量が増え、VBLの単位時間当たりの上昇幅が小さい(つまり、上昇速度が遅い)。 As a result, reading of data from the memory cell 13 starts. When the ferroelectric memory readout circuit 40 of the third embodiment is used, polarization reversal occurs when "0" is stored in the memory cell 13, unlike the case shown in FIG. Therefore, the amount of charge drawn from BL to the ferroelectric capacitor 13a shown in FIG. , slow rising).

一方、図示が省略されているが、タイミングt31において、RWLの電位も立ち上がり、nMOS43がオン状態となる。これにより、VRBLは、時間に比例して上昇する。 On the other hand, although not shown, at timing t31, the potential of RWL also rises and the nMOS 43 is turned on. As a result, V RBL rises in proportion to time.

図13には、VBLとVRBLの立ち上がり部分の拡大図が示されている。メモリセル13に“0”が記憶されている場合と、“1”が記憶されている場合のそれぞれについてのVBLが実線で示されている。一方、VRBLは、拡大図では破線で示されている。VRBLは、タイミングt32までは、メモリセル13に“0”が記憶されている場合も、“1”が記憶されている場合も同様に変化する。 FIG. 13 shows an enlarged view of the rising portions of V BL and V RBL . A solid line indicates VBL when "0" is stored in the memory cell 13 and when "1" is stored in the memory cell 13 . The VRBL , on the other hand, is indicated by a dashed line in the enlarged view. Until timing t32, V RBL changes similarly whether "0" is stored in the memory cell 13 or "1" is stored.

図13の拡大図に示されているように、VBLは、メモリセル13に“0”が記憶されている場合も、メモリセル13に“1”が記憶されている場合も、VRBLの上昇速度より速い。ただ、メモリセル13に“0”が記憶されている場合、しだいに上昇速度が遅くなり、タイミングt32において、VBLはVRBLを下回る。このとき、AMPOUTの電位は上昇に転じ、pMOS41b,41cがオフ状態となり、VBLとVRBLが固定される。 As shown in the enlarged view of FIG. 13, VBL is equal to V RBL when "0" is stored in memory cell 13 and when "1" is stored in memory cell 13. Faster than rising speed. However, when "0" is stored in the memory cell 13, the rising speed gradually slows down, and VBL falls below V RBL at timing t32. At this time, the potential of AMPOUT rises, pMOS 41b and 41c are turned off, and VBL and VRBL are fixed.

一方、メモリセル13に“1”が記憶されている場合、VBLは電源電位(たとえば、VDD)に達し固定され、その後、VRBLも電源電位に達し固定される。
PLは接地電位で固定されているため、上記のようにVBLが固定されることで、メモリセル13の入力電圧(VPL-VBL)が固定される。
On the other hand, when "1" is stored in the memory cell 13, VBL reaches the power supply potential (for example, VDD) and is fixed, and then V RBL also reaches the power supply potential and is fixed.
Since V PL is fixed at the ground potential, the input voltage (V PL −V BL ) of memory cell 13 is fixed by fixing V BL as described above.

その後、信号OAENの電位が立ち下がることで差動増幅器41aが動作を停止し(タイミングt33)、信号SAENの電位が立ち上がる(タイミングt34)。これにより、センスアンプ12は、VBLと、VREFとの比較結果に基づいて、メモリセル13に記憶されているデータの値を判定し、判定結果であるDATAを出力する。VBL≧VREFの場合、DATA=“1”(たとえば、電源電位)となり、VBL<VREFの場合、DATA=“0”(たとえば、接地電位)となる。 After that, the potential of the signal OAEN falls to stop the operation of the differential amplifier 41a (timing t33), and the potential of the signal SAEN rises (timing t34). As a result, the sense amplifier 12 determines the value of the data stored in the memory cell 13 based on the result of comparison between VBL and VREF , and outputs DATA, which is the determination result. If V BL ≧V REF , DATA="1" (eg, power supply potential), and if V BL <V REF , DATA="0" (eg, ground potential).

その後、VWLがさらに上昇され、メモリセル13への再書き込みが行われる(タイミングt35)。まずは、VBLとVPLがそのまま維持された状態で、“1”の再書き込みが行われ、次に、“1”の再書き込みを行うために、VBLがそのまま維持された状態でVPLが、所定の電位に引き上げられる(タイミングt36)。 After that, VWL is further increased, and rewriting to the memory cell 13 is performed (timing t35). First , "1" is rewritten while VBL and VPL are maintained as they are . is raised to a predetermined potential (timing t36).

信号PRECHGの電位が、電源電位に立ち上がると(タイミングt37)、nMOS14,44がオン状態となり、VBLとVRBLは接地電位で固定される。
図14は、VBL及びVRBLと強誘電体キャパシタに供給される電荷量との関係を示す図である。横軸はVPLを表し、縦軸は強誘電体キャパシタ13aに供給される電荷量(Q)を表す。
When the potential of the signal PRECHG rises to the power supply potential (timing t37), the nMOSs 14 and 44 are turned on, and VBL and VRBL are fixed at the ground potential.
FIG. 14 is a diagram showing the relationship between V BL and V RBL and the amount of charge supplied to the ferroelectric capacitor. The horizontal axis represents VPL , and the vertical axis represents the amount of charge (Q) supplied to the ferroelectric capacitor 13a.

図14には、メモリセル13に“0”が記憶されている場合と、メモリセル13に“1”が記憶されている場合のVBL及びVRBLとBLに供給される電荷量との関係が示されている。なお、図14には、VBLと電荷量との関係が実線で示され、VRBLと電荷量との関係が破線で示されている。破線の傾きは、キャパシタ32の大きさ(CREF)によって決まる。 FIG. 14 shows the relationship between V BL and V RBL when "0" is stored in the memory cell 13 and when "1" is stored in the memory cell 13, and the amount of charge supplied to BL. It is shown. In FIG. 14, the relationship between VBL and the charge amount is indicated by a solid line, and the relationship between V RBL and the charge amount is indicated by a broken line. The slope of the dashed line is determined by the size of capacitor 32 (C REF ).

BL0は、メモリセル13に“0”が記憶されている場合において、VBL=VRBLとなるときの、VBLである。VBL1は、メモリセル13に“1”が記憶されている場合に得られる、VBLの最大値である。 V BL0 is V BL when V BL =V RBL when "0" is stored in the memory cell 13 . VBL1 is the maximum value of VBL obtained when "1" is stored in the memory cell 13. FIG.

したがって、第3の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路40において、読み出しマージンは、VBL1-VBL0である。
上記のような第3の実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路40では、制御回路41が、VBLとVRBLの比較結果に基づいて、メモリセル13の入力電圧が固定されるように入力電圧を制御する。
Therefore, in the ferroelectric memory read circuit 40 of the third embodiment, the read margin is V BL1 -V BL0 .
In the ferroelectric memory readout circuit 40 of the third embodiment as described above, the control circuit 41 fixes the input voltage of the memory cell 13 based on the comparison result between VBL and VRBL . Control the input voltage.

そして、センスアンプ12が、入力電圧が固定されたときの、VBLとVREFとの比較結果に基づいて、メモリセル13に記憶されているデータの値を判定するため、ノイズの影響を受けにくい。 Since the sense amplifier 12 determines the value of the data stored in the memory cell 13 based on the comparison result between VBL and VREF when the input voltage is fixed, the data is affected by noise. Hateful.

また、読み出し回路40は、制御回路41が差動増幅器41aを含んでおり、差動増幅器41aにより、VBLとVRBLの差が検出されている。差動増幅器41aのゲインは大きくすることが容易であり、ゲインが大きければ差動増幅器41aの入力オフセットやVRBLのばらつきがあっても正しく動作させることが可能である。 Further, in the read circuit 40, the control circuit 41 includes a differential amplifier 41a, and the difference between VBL and V RBL is detected by the differential amplifier 41a. It is easy to increase the gain of the differential amplifier 41a, and if the gain is large, the differential amplifier 41a can operate correctly even if there are variations in the input offset and VRBL of the differential amplifier 41a.

上記のような読み出し回路40も、図7に示したような強誘電体メモリ20に適用可能である。図8に示したようなコラム関連回路部26の構成を、読み出し回路40の回路構成に合わせて変更すればよい。 The readout circuit 40 as described above is also applicable to the ferroelectric memory 20 as shown in FIG. The configuration of the column related circuit section 26 as shown in FIG. 8 may be changed in accordance with the circuit configuration of the readout circuit 40.

なお、読み出し回路40が用いられる場合、同一WLに接続される複数のメモリセルは、それぞれVPLが同じでよいため、PLは、WLに対して平行に配置されていてもよいし、直交に配置されていてもよい。 Note that when the readout circuit 40 is used, a plurality of memory cells connected to the same WL may have the same VPL . may be placed.

(ビット線容量の大きさと読み出しマージンの大きさとの関係)
以下、上記各実施の形態の強誘電体メモリの読み出し回路10,30,40を用いた場合の、ビット線容量15の大きさと読み出しマージンの大きさとの関係を説明する。まず、図5に示した比較例の強誘電体メモリにおけるビット線容量15の大きさと読み出しマージンの大きさとの関係について説明する。
(Relationship Between Bit Line Capacitance and Read Margin)
The relationship between the magnitude of the bit line capacitance 15 and the magnitude of the read margin when the ferroelectric memory read circuits 10, 30, and 40 of the above embodiments are used will be described below. First, the relationship between the magnitude of the bit line capacitance 15 and the magnitude of the read margin in the ferroelectric memory of the comparative example shown in FIG. 5 will be described.

図15は、比較例の強誘電体メモリについてのビット線容量の大きさと読み出しマージンの大きさとの関係を示す図である。図15には、横軸がVPL、縦軸がΔQ(BLに供給される電荷の変化量)を表すVPL-ΔQ特性のグラフと、横軸がビット線容量15の大きさ(CBL)を表し、縦軸がVBLを表すCBL-VBL特性を示すグラフが示されている。 FIG. 15 is a diagram showing the relationship between the magnitude of the bit line capacitance and the magnitude of the read margin for the ferroelectric memory of the comparative example. FIG. 15 shows a V PL -ΔQ characteristic graph in which the horizontal axis represents V PL , the vertical axis represents ΔQ (the amount of change in charge supplied to BL), and the horizontal axis represents the magnitude of bit line capacitance 15 (C BL ) with the vertical axis representing V BL .

PL-ΔQ特性を示すグラフにおいて、傾きがCBLであり、ΔQ=CBL×VBLという式で表される直線が示されている。VBLは、強誘電体キャパシタ13aとビット線容量15との容量分割により決まる。 In the graph showing the V PL -ΔQ characteristic, a straight line having a slope of C BL and represented by the formula ΔQ=C BL ×V BL is shown. VBL is determined by capacitance division between the ferroelectric capacitor 13a and the bit line capacitance 15. FIG.

上記式で表される直線と、メモリセル13に“0”が記憶されている場合及び“1”が記憶されている場合のそれぞれのVPL-ΔQ特性の線との交点間の電位差が、読み出しマージン(比較例ではΔVBL)に相当する。 The potential difference between the intersections of the straight line represented by the above formula and the V PL -ΔQ characteristic lines when "0" and "1" are stored in the memory cell 13 is It corresponds to the read margin (ΔV BL in the comparative example).

比較例の強誘電体メモリでは、CBL-VBL特性を示すグラフに示されているように、ΔVBLは、CBL=CBL1では小さく、CBL=CBL2に増加すると大きくなるが、CBL=CBL3にさらに増加すると小さくなる。 In the ferroelectric memory of the comparative example, as shown in the graph showing the C BL -V BL characteristics, ΔV BL is small when C BL =C BL1 and increases when C BL =C BL2 is increased. A further increase to C BL =C BL3 reduces it.

図16は、第1の実施の形態の強誘電体メモリについてのビット線容量の大きさと読み出しマージンの大きさとの関係を示す図である。図16には、横軸がVPL、縦軸がΔQ(BLに供給される電荷の変化量)を表すVPL-ΔQ特性のグラフと、横軸がビット線容量15の大きさ(CBL)を表し、縦軸がVPLを表すCBL-VPL特性を示すグラフが示されている。 FIG. 16 is a diagram showing the relationship between the magnitude of the bit line capacitance and the magnitude of the read margin for the ferroelectric memory of the first embodiment. FIG. 16 shows a V PL -ΔQ characteristic graph in which the horizontal axis represents V PL , the vertical axis represents ΔQ (amount of change in charge supplied to BL), and the horizontal axis represents the magnitude of bit line capacitance 15 (C BL ) with the vertical axis representing V PL .

PL-ΔQ特性を示すグラフにおいて、VBL=ΔQ/CBL=VREF1となるときのVPLが、メモリセル13に“0”が記憶されている場合及び“1”が記憶されている場合のそれぞれについて決まる。 In the graph showing the V PL -ΔQ characteristic, the V PL when V BL =ΔQ/C BL =V REF1 is stored in the memory cell 13 when "0" and "1" are stored. determined for each case.

図16では、メモリセル13に“0”が記憶されている場合に、VBL0=ΔQ/CBL2=VREF1となるときのVPL0と、メモリセル13に“1”が記憶されている場合に、VBL1=ΔQ/CBL2=VREF1となるときのVPL1とが示されている。VPL0とVPL1との差(ΔVPL)が、CBL=CBL2のときの読み出しマージンに相当する。 In FIG. 16, V PL0 when V BL0 =ΔQ/C BL2 =V REF1 when "0" is stored in the memory cell 13 and when "1" is stored in the memory cell 13 shows V PL1 when V BL1 =ΔQ/C BL2 =V REF1 . The difference (ΔV PL ) between V PL0 and V PL1 corresponds to the read margin when C BL =C BL2 .

第1の実施の形態の強誘電体メモリでは、CBL-VPL特性を示すグラフに示されているように、ΔVPLは、CBL=CBL1では小さく、CBL=CBL2に増加すると大きくなるが、CBL=CBL3にさらに増加すると小さくなる。 In the ferroelectric memory of the first embodiment, ΔV PL is small at C BL =C BL1 and increases to C BL =C BL2 , as shown in the graph showing the C BL -V PL characteristics. Larger, but smaller with further increase to C BL =C BL3 .

このように、比較例と第1の実施の形態の強誘電体メモリでは、読み出しマージンを大きくするためには、ビット線容量15のCBLを適切な値にすることが望ましい。
図17は、第2の実施の形態の強誘電体メモリについてのビット線容量の大きさと読み出しマージンの大きさとの関係を示す図である。図17には、横軸がVPL、縦軸がΔQ(BLに供給される電荷の変化量)を表すVPL-ΔQ特性のグラフと、横軸がビット線容量15の大きさ(CBL)を表し、縦軸がVPLを表すCBL-VPL特性を示すグラフが示されている。
Thus, in the ferroelectric memories of the comparative example and the first embodiment, it is desirable to set CBL of the bit line capacitance 15 to an appropriate value in order to increase the read margin.
FIG. 17 is a diagram showing the relationship between the magnitude of the bit line capacitance and the magnitude of the read margin for the ferroelectric memory of the second embodiment. FIG. 17 shows a V PL -ΔQ characteristic graph in which the horizontal axis represents V PL , the vertical axis represents ΔQ (the amount of change in charge supplied to BL), and the horizontal axis represents the magnitude of bit line capacitance 15 (C BL ) with the vertical axis representing V PL .

なお、VPL-ΔQ特性のグラフにおいて、VPLとRBLに供給される電荷の変化量との関係が破線で示されている。破線の傾きは、キャパシタ32の大きさ(CREF)によって決まる。 In the V PL -ΔQ characteristic graph, the relationship between V PL and the amount of change in charge supplied to RBL is indicated by a broken line. The slope of the dashed line is determined by the size of capacitor 32 (C REF ).

第2の実施の形態の強誘電体メモリでは、前述のように、メモリセル13に“0”が記憶されている場合の読み出し時には、VPLは最大値(VPL0)に固定される。一方、メモリセル13に“1”が記憶されている場合の読み出し時のΔQは、図17の破線と、VPL-ΔQ特性の線との交点であり、CBLによらず一定である。 In the ferroelectric memory of the second embodiment, V PL is fixed to the maximum value (V PL0 ) during reading when "0" is stored in the memory cell 13, as described above. On the other hand, ΔQ at the time of reading when "1" is stored in the memory cell 13 is the intersection of the dashed line in FIG. 17 and the V PL -ΔQ characteristic line, and is constant regardless of CBL .

図17では、メモリセル13に“1”が記憶されている場合に、CBL=CBL2のときのVPL1が示されている。このVPL0とVPL1との差(ΔVPL)が、CBL=CBL2のときの読み出しマージンに相当する。 FIG. 17 shows V PL1 when C BL =C BL2 when "1" is stored in memory cell 13 . The difference (ΔV PL ) between V PL0 and V PL1 corresponds to the read margin when C BL =C BL2 .

第2の実施の形態の強誘電体メモリでは、CBL-VPL特性を示すグラフに示されているように、ΔVPLは、CBLが増加するほど大きくなる。
このように、第2の実施の形態の強誘電体メモリでは、CBLを大きくすれば、読み出しマージンを大きくすることができる。ただ、CBLが大きくなると、差動増幅器31aの入力信号が小さくなるため、どれだけCBLを大きくできるかについては、差動増幅器31aの能力による。
In the ferroelectric memory of the second embodiment, ΔV PL increases as C BL increases, as shown in the graph showing the C BL -V PL characteristics.
Thus, in the ferroelectric memory of the second embodiment, the read margin can be increased by increasing CBL . However, when CBL increases, the input signal to the differential amplifier 31a decreases, so how much CBL can be increased depends on the capability of the differential amplifier 31a.

図18は、第3の実施の形態の強誘電体メモリについてのビット線容量の大きさと読み出しマージンの大きさとの関係を示す図である。図18には、横軸がVBL、縦軸がΔQ(強誘電体キャパシタ13aに供給される電荷の変化量)を表すVBL-ΔQ特性のグラフと、横軸がビット線容量15の大きさ(CBL)を表し、縦軸がVBLを表すCBL-VBL特性を示すグラフが示されている。 FIG. 18 is a diagram showing the relationship between the magnitude of the bit line capacitance and the magnitude of the read margin for the ferroelectric memory of the third embodiment. FIG. 18 shows a V BL -ΔQ characteristic graph in which the horizontal axis represents V BL , the vertical axis represents ΔQ (the amount of change in charge supplied to the ferroelectric capacitor 13a), and the horizontal axis represents the magnitude of the bit line capacitance 15. A graph is shown showing the C BL -V BL characteristic, representing the height (C BL ), with the vertical axis representing V BL .

なお、VBL-ΔQ特性のグラフにおいて、VRBLとRBLに供給される電荷の変化量との関係が破線で示されている。破線の傾きは、キャパシタ42の大きさ(CREF)によって決まる。 In the V BL -ΔQ characteristic graph, the broken line indicates the relationship between V RBL and the amount of change in charge supplied to RBL. The slope of the dashed line is determined by the size of capacitor 42 (C REF ).

第3の実施の形態の強誘電体メモリでは、前述のように、メモリセル13に“1”が記憶されている場合の読み出し時には、VBLは最大値(VBL1)に固定される。一方、メモリセル13に“1”が記憶されている場合の読み出し時のΔQは、図18の破線と、VBL-ΔQ特性の線との交点であり、CBLによらず一定である。この交点におけるVBL1と、VBL0との差、すなわち、VBL0-VBL1が、読み出しマージンに相当する。 In the ferroelectric memory of the third embodiment, as described above, V BL is fixed to the maximum value (V BL1 ) during reading when "1" is stored in the memory cell 13 . On the other hand, ΔQ at the time of reading when "1" is stored in the memory cell 13 is the intersection of the dashed line in FIG. 18 and the V BL -ΔQ characteristic line, and is constant regardless of CBL . The difference between V BL1 and V BL0 at this intersection point, that is, V BL0 −V BL1 , corresponds to the read margin.

第3の実施の形態の強誘電体メモリでは、CBL-VBL特性を示すグラフに示されているように、ΔVBLは、CBLにかかわらず、一定である。
このように、第3の実施の形態の強誘電体メモリでは、CBLによらず、読み出しマージンを一定の大きさとすることができる。ただ、CBLが大きくなると、差動増幅器41aの入力信号が小さくなるため、どれだけCBLを大きくできるかについては、差動増幅器41aの能力による。
In the ferroelectric memory of the third embodiment, ΔV BL is constant regardless of C BL , as shown in the graph showing the C BL -V BL characteristics.
Thus, in the ferroelectric memory according to the third embodiment, the read margin can be made constant regardless of the CBL . However, when CBL increases, the input signal to the differential amplifier 41a decreases, so how much CBL can be increased depends on the capability of the differential amplifier 41a.

以上、実施の形態に基づき、本発明の強誘電体メモリの読み出し回路、強誘電体メモリ及び強誘電体メモリの読み出し方法の一観点について説明してきたが、これらは一例にすぎず、上記の記載に限定されるものではない。 As described above, one aspect of the reading circuit of the ferroelectric memory, the ferroelectric memory, and the reading method of the ferroelectric memory of the present invention has been described based on the embodiments, but these are only examples, and the above description is not limited to

たとえば、nMOSの代わりにpMOSを用いるなど、適宜回路構成を変更可能である。 For example, the circuit configuration can be changed as appropriate, such as using pMOS instead of nMOS.

10 読み出し回路
11 制御回路
11a 差動増幅器
12 センスアンプ
13 メモリセル
13a 強誘電体キャパシタ
13b,14 nMOS
15 ビット線容量
REFERENCE SIGNS LIST 10 readout circuit 11 control circuit 11a differential amplifier 12 sense amplifier 13 memory cell 13a ferroelectric capacitor 13b, 14 nMOS
15 bit line capacity

Claims (9)

強誘電体キャパシタを含むメモリセルを備えた強誘電体メモリの読み出し回路において、
前記メモリセルからのデータの読み出し時に、前記強誘電体キャパシタの一方の端子に電気的に接続されるビット線の電位であるビット線電位と、第1の参照電位との比較結果に基づいて、前記強誘電体キャパシタの他方の端子に電気的に接続されるプレート線と、前記ビット線との間の電圧である前記メモリセルの入力電圧が固定されるように前記入力電圧を制御する制御回路と、
前記入力電圧が固定されたときの、前記ビット線電位または前記プレート線の電位であるプレート線電位と、第2の参照電位との比較結果に基づいて、前記データの値を判定するセンスアンプと、
を有する強誘電体メモリの読み出し回路。
In a ferroelectric memory readout circuit comprising memory cells including ferroelectric capacitors,
When reading data from the memory cell, based on a comparison result between a bit line potential, which is the potential of the bit line electrically connected to one terminal of the ferroelectric capacitor, and a first reference potential, A control circuit for controlling the input voltage between the plate line electrically connected to the other terminal of the ferroelectric capacitor and the bit line so that the input voltage of the memory cell is fixed. and,
a sense amplifier that determines the value of the data based on a comparison result between the bit line potential or the plate line potential, which is the potential of the plate line when the input voltage is fixed, and a second reference potential; ,
A readout circuit of a ferroelectric memory having
前記制御回路は、第1の入力端子が前記ビット線電位となり、第2の入力端子が前記第1の参照電位となる差動増幅器を含む、請求項1に記載の強誘電体メモリの読み出し回路。 2. The ferroelectric memory readout circuit according to claim 1, wherein said control circuit includes a differential amplifier having a first input terminal at said bit line potential and a second input terminal at said first reference potential. . 前記第1の参照電位は一定の電位であり、
前記制御回路は、前記ビット線電位が前記第1の参照電位に達したときに、前記プレート線電位の上昇を止めることで、前記入力電圧を固定する、請求項1または2に記載の強誘電体メモリの読み出し回路。
the first reference potential is a constant potential;
3. The ferroelectric according to claim 1, wherein said control circuit fixes said input voltage by stopping said plate line potential from increasing when said bit line potential reaches said first reference potential. body memory readout circuit.
一端が前記プレート線に電気的に接続され、他端が参照ビット線に電気的に接続されるキャパシタを有し、
前記第1の参照電位は、前記参照ビット線の電位である、
請求項1または2に記載の強誘電体メモリの読み出し回路。
a capacitor having one end electrically connected to the plate line and the other end electrically connected to a reference bit line;
the first reference potential is the potential of the reference bit line;
3. A reading circuit for a ferroelectric memory according to claim 1 or 2.
前記制御回路は、前記メモリセルに第1の値が記憶されている場合、前記ビット線電位が、前記参照ビット線の電位に達したときに、前記プレート線電位を固定し、
前記メモリセルに前記第1の値とは異なる第2の値が記憶されている場合、前記プレート線電位は、最大値に到達するまで上昇し、前記最大値に到達したときに、前記ビット線電位が固定される、
請求項4に記載の強誘電体メモリの読み出し回路。
the control circuit fixes the plate line potential when the bit line potential reaches the potential of the reference bit line when a first value is stored in the memory cell;
If the memory cell stores a second value different from the first value, the plate line potential rises until reaching a maximum value, and when the maximum value is reached, the bit line potential the potential is fixed,
5. A reading circuit for a ferroelectric memory according to claim 4.
一端が接地され、他端が参照ビット線に電気的に接続されるキャパシタを有し、
前記第1の参照電位は、前記参照ビット線の電位である、
請求項1または2に記載の強誘電体メモリの読み出し回路。
a capacitor having one end grounded and the other end electrically connected to a reference bit line;
the first reference potential is the potential of the reference bit line;
3. A reading circuit for a ferroelectric memory according to claim 1 or 2.
前記制御回路は、前記ビット線電位が前記参照ビット線の電位を下回ったときに、前記ビット線電位を固定する、請求項6に記載の強誘電体メモリの読み出し回路。 7. The ferroelectric memory read circuit according to claim 6, wherein said control circuit fixes said bit line potential when said bit line potential falls below the potential of said reference bit line. 強誘電体キャパシタを含むメモリセルと、
前記メモリセルからのデータの読み出し時に、前記強誘電体キャパシタの一方の端子に電気的に接続されるビット線の電位であるビット線電位と、第1の参照電位との比較結果に基づいて、前記強誘電体キャパシタの他方の端子に電気的に接続されるプレート線と、前記ビット線との間の電圧である前記メモリセルの入力電圧が固定されるように前記入力電圧を制御する制御回路と、前記入力電圧が固定されたときの、前記ビット線電位または前記プレート線の電位であるプレート線電位と、第2の参照電位との比較結果に基づいて、前記データの値を判定するセンスアンプと、を備えた読み出し回路と、
を有する強誘電体メモリ。
a memory cell including a ferroelectric capacitor;
When reading data from the memory cell, based on a comparison result between a bit line potential, which is the potential of the bit line electrically connected to one terminal of the ferroelectric capacitor, and a first reference potential, A control circuit for controlling the input voltage between the plate line electrically connected to the other terminal of the ferroelectric capacitor and the bit line so that the input voltage of the memory cell is fixed. and a sense for determining the value of the data based on the result of comparison between the bit line potential or the plate line potential, which is the potential of the plate line when the input voltage is fixed, and a second reference potential. a readout circuit comprising an amplifier; and
ferroelectric memory with
強誘電体キャパシタを含むメモリセルを備えた強誘電体メモリの読み出し方法において、
制御回路が、前記メモリセルからのデータの読み出し時に、前記強誘電体キャパシタの一方の端子に電気的に接続されるビット線の電位であるビット線電位と、第1の参照電位との比較結果に基づいて、前記強誘電体キャパシタの他方の端子に電気的に接続されるプレート線と、前記ビット線との間の電圧である前記メモリセルの入力電圧が固定されるように前記入力電圧を制御し、
センスアンプが、前記入力電圧が固定されたときの、前記ビット線電位または前記プレート線の電位であるプレート線電位と、第2の参照電位との比較結果に基づいて、前記データの値を判定する、
強誘電体メモリの読み出し方法。
In a reading method of a ferroelectric memory having memory cells including ferroelectric capacitors,
A control circuit compares a bit line potential, which is a potential of a bit line electrically connected to one terminal of the ferroelectric capacitor, with a first reference potential when data is read from the memory cell. , the input voltage is fixed such that the input voltage of the memory cell, which is the voltage between the plate line electrically connected to the other terminal of the ferroelectric capacitor and the bit line, is fixed. control and
A sense amplifier determines the value of the data based on a comparison result between the bit line potential or the plate line potential, which is the potential of the plate line when the input voltage is fixed, and a second reference potential. do,
A reading method of a ferroelectric memory.
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