JP2023092191A - Transparent substrate with film, top plate for cooker, window glass for heating cooker, and cover glass - Google Patents

Transparent substrate with film, top plate for cooker, window glass for heating cooker, and cover glass Download PDF

Info

Publication number
JP2023092191A
JP2023092191A JP2021207258A JP2021207258A JP2023092191A JP 2023092191 A JP2023092191 A JP 2023092191A JP 2021207258 A JP2021207258 A JP 2021207258A JP 2021207258 A JP2021207258 A JP 2021207258A JP 2023092191 A JP2023092191 A JP 2023092191A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
transparent substrate
light
refractive index
coated transparent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2021207258A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
雄亮 山崎
Yusuke Yamazaki
正明 伊村
Masaaki Imura
仁 高村
Hitoshi Takamura
暁大 石井
Akihiro Ishii
実奈 山口
Mina Yamaguchi
聖 田中
Sei Tanaka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tohoku University NUC
Nippon Electric Glass Co Ltd
Original Assignee
Tohoku University NUC
Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tohoku University NUC, Nippon Electric Glass Co Ltd filed Critical Tohoku University NUC
Priority to JP2021207258A priority Critical patent/JP2023092191A/en
Priority to PCT/JP2022/045627 priority patent/WO2023120270A1/en
Priority to TW111148685A priority patent/TW202334585A/en
Publication of JP2023092191A publication Critical patent/JP2023092191A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • C03C17/245Oxides by deposition from the vapour phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08Oxides
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24CDOMESTIC STOVES OR RANGES ; DETAILS OF DOMESTIC STOVES OR RANGES, OF GENERAL APPLICATION
    • F24C15/00Details
    • F24C15/02Doors specially adapted for stoves or ranges
    • F24C15/04Doors specially adapted for stoves or ranges with transparent panels
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24CDOMESTIC STOVES OR RANGES ; DETAILS OF DOMESTIC STOVES OR RANGES, OF GENERAL APPLICATION
    • F24C15/00Details
    • F24C15/10Tops, e.g. hot plates; Rings

Abstract

To provide a transparent substrate with a film whose color tone is less likely to change even when heated at high temperatures, such as a top plate for a cooker, and which is excellent in beauty during light-out of a light source.SOLUTION: A transparent substrate with a film 1 includes a transparent substrate 2 and a light absorption film 3 disposed on one main surface 2a of the transparent substrate 2. The light absorption film 3 contains Ag, Fe, and Cr.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、膜付き透明基板、並びに該膜付き透明基板を用いた調理器用トッププレート、加熱調理器用窓ガラス、及びカバーガラスに関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a film-coated transparent substrate, a cooker top plate, a heating cooker window glass, and a cover glass using the film-coated transparent substrate.

従来、電磁調理器、ラジアントヒーター調理器、ガス調理器などの調理器では、調理器内部の構造を隠蔽するために、黒色のガラスや、黒色の塗膜が設けられた透明ガラスからなるトッププレートが使用されている。このような調理器では、トッププレートに電源や加熱状態等の各種情報を表示するため、LED(Light Emitting Diode)や、液晶ディスプレイ、あるいはタッチパネル機能を有する液晶ディスプレイ等が組み合わせて用いられることがある。 Conventionally, in cookers such as electromagnetic cookers, radiant heater cookers, and gas cookers, a top plate made of black glass or transparent glass with a black coating film is used to hide the internal structure of the cooker. is used. In such cookers, a combination of LEDs (Light Emitting Diodes), liquid crystal displays, or liquid crystal displays having a touch panel function is sometimes used in order to display various information such as power supply and heating state on the top plate. .

下記の特許文献1には、ガラス板と、ガラス板の上に設けられた無機顔料層と、無機顔料層の上に設けられた表示層とを備える、調理器用トッププレートが開示されている。上記無機顔料層は、顔料とガラスとを含んでいる。上記表示層は、LED光等を透過させる透過部と、LED光等を遮光する耐熱性樹脂部とを有している。特許文献1では、LED光等を透過させる透過部の形状を変えたり、透過部においてパターニングされた光を透過させたりすることにより、文字や数字、記号等が表示されている。 Patent Document 1 below discloses a cooker top plate that includes a glass plate, an inorganic pigment layer provided on the glass plate, and a display layer provided on the inorganic pigment layer. The inorganic pigment layer contains pigment and glass. The display layer has a transmission portion that transmits LED light and the like, and a heat-resistant resin portion that blocks the LED light and the like. In Patent Document 1, letters, numerals, symbols, and the like are displayed by changing the shape of a transmission portion that transmits LED light or the like, or by transmitting patterned light in the transmission portion.

特開2014-215018号公報JP 2014-215018 A

ところで、調理器用トッププレートに、LEDや、液晶ディスプレイ、あるいはタッチパネル機能を有する液晶ディスプレイ等を組み合わせて用いる場合、光源の点灯時には、各種情報を明確に見えるようにするとともに、光源の消灯時には調理器内部の構造を隠蔽することが求められる。しかしながら、トッププレートとして黒色に着色したガラス基板を用いた場合、光源の消灯時には調理器内部の構造を隠蔽することができるものの、光源の点灯時には、各種情報が見えにくいという問題がある。 By the way, when a combination of LED, liquid crystal display, or liquid crystal display having a touch panel function is used for the cooker top plate, various information can be clearly seen when the light source is turned on, and the cooker can be displayed when the light source is turned off. Concealment of the internal structure is required. However, when a black-colored glass substrate is used as the top plate, although the internal structure of the cooker can be concealed when the light source is turned off, various information is difficult to see when the light source is turned on.

この点に関し、特許文献1では、表示領域にも黒色の無機顔料層が設けられており、それによって調理器内部の構造を隠蔽することが試みられている。しかしながら、特許文献1のトッププレートのように黒色の無機顔料層を設けた場合、光源の消灯時において無彩色の黒色とはならず、美観性が損なわれる場合がある。 Regarding this point, in Patent Document 1, a black inorganic pigment layer is provided also in the display area, thereby attempting to conceal the structure inside the cooker. However, when a black inorganic pigment layer is provided as in the top plate of Patent Literature 1, the color is not achromatic black when the light source is turned off, and the aesthetic appearance may be impaired.

また、調理器用トッププレートは、繰り返し加熱されて用いられるので、高い耐熱性が求められている。しかしながら、特許文献1のトッププレートのように黒色の無機顔料層を設けた場合、加熱により光学特性が変化し、色目が変化する場合がある。そのため、光源の消灯時において所望の黒色とはならず、美観性が損なわれる場合がある。 Moreover, since the top plate for cookers is repeatedly heated and used, it is required to have high heat resistance. However, when a black inorganic pigment layer is provided as in the top plate of Patent Document 1, the optical characteristics may change due to heating, and the color may change. Therefore, when the light source is turned off, the desired black color may not be obtained, and the aesthetic appearance may be impaired.

本発明の目的は、調理器用トッププレートのように高温で加熱される場合においても色目が変化し難く、光源の消灯時において美観性に優れる、膜付き透明基板、並びに該膜付き透明基板を用いた調理器用トッププレート、加熱調理器用窓ガラス、及びカバーガラスを提供することにある。 An object of the present invention is to provide a film-coated transparent substrate that does not easily change in color even when heated to a high temperature, such as a top plate for a cooker, and that is excellent in aesthetics when the light source is turned off, and to use the film-coated transparent substrate. To provide a top plate for a cooking device which has been heated, a window glass for a heating cooking device, and a cover glass.

本発明に係る膜付き透明基板は、透明基板と、前記透明基板の一方側主面上に設けられている、光吸収膜とを備え、前記光吸収膜が、Ag、Fe、及びCrを含有することを特徴としている。 A film-coated transparent substrate according to the present invention comprises a transparent substrate and a light-absorbing film provided on one main surface of the transparent substrate, wherein the light-absorbing film contains Ag, Fe, and Cr. It is characterized by

本発明においては、前記光吸収膜が、さらにOを含有することが好ましい。 In the present invention, it is preferable that the light absorption film further contains O.

本発明においては、前記Feに対する前記Crの質量比(Cr/Fe)が、0.10以上、0.60以下であることが好ましい。 In the present invention, the mass ratio of Cr to Fe (Cr/Fe) is preferably 0.10 or more and 0.60 or less.

本発明においては、前記光吸収膜が、Fe、Cr、及びOを含有するマトリクスを有し、該マトリクス中に前記Agが分散されていることが好ましい。 In the present invention, it is preferable that the light absorption film has a matrix containing Fe, Cr, and O, and the Ag is dispersed in the matrix.

本発明においては、前記光吸収膜における波長400nm~700nmの平均吸収係数が、0.5μm-1以上、80μm-1以下であることが好ましい。 In the present invention, it is preferable that the light absorption film has an average absorption coefficient of 0.5 μm −1 or more and 80 μm −1 or less at a wavelength of 400 nm to 700 nm.

本発明においては、前記光吸収膜において、波長436nmにおける吸収係数をα1とし、波長546nmにおける吸収係数をα2とし、波長700nmにおける吸収係数をα3としたときに、α1/α2が0.8以上、2.0以下であり、α3/α2が0.8以上、2.0以下であることが好ましい。前記α1/α2が0.8以上、1.25以下であり、前記α3/α2が0.8以上、1.25以下であることがより好ましい。 In the present invention, when the absorption coefficient at a wavelength of 436 nm is α1, the absorption coefficient at a wavelength of 546 nm is α2, and the absorption coefficient at a wavelength of 700 nm is α3, α1/α2 is 0.8 or more, 2.0 or less, and α3/α2 is preferably 0.8 or more and 2.0 or less. More preferably, α1/α2 is 0.8 or more and 1.25 or less, and α3/α2 is 0.8 or more and 1.25 or less.

本発明においては、前記光吸収膜において、波長λにおける吸収係数をαλとし、波長400nm~700nmにおける平均吸収係数をαAVEとしたときに、下記式(1)で示される吸収平均偏差Mが0.30以下であることが好ましい。 In the present invention, in the light-absorbing film, when the absorption coefficient at a wavelength λ is α λ and the average absorption coefficient at a wavelength of 400 nm to 700 nm is α AVE , the absorption average deviation M represented by the following formula (1) is It is preferably 0.30 or less.

Figure 2023092191000002
Figure 2023092191000002

本発明においては、前記光吸収膜上に、さらに誘電体多層膜が設けられていてもよい。 In the present invention, a dielectric multilayer film may be further provided on the light absorbing film.

本発明においては、前記透明基板上に設けられており、前記光吸収膜を含む、誘電体多層膜を備えていてもよい。前記誘電体多層膜は、相対的に屈折率が高い高屈折率膜と、相対的に屈折率が低い低屈折率膜とが交互に積層された積層膜であってもよい。このとき、前記高屈折率膜のうち少なくとも1層が、前記光吸収膜であってもよい。また、前記低屈折率膜のうち少なくとも1層が、前記光吸収膜であってもよい。 In the present invention, a dielectric multilayer film including the light absorption film may be provided on the transparent substrate. The dielectric multilayer film may be a laminated film in which a high refractive index film having a relatively high refractive index and a low refractive index film having a relatively low refractive index are alternately laminated. At this time, at least one layer of the high refractive index film may be the light absorption film. At least one of the low refractive index films may be the light absorption film.

本発明に係る調理器用トッププレートは、本発明に従って構成される膜付き透明基板を備え、前記透明基板が、調理器具が載せられる調理面及び該調理面とは反対側の裏面を有し、前記透明基板の前記裏面上に、前記光吸収膜が設けられていることを特徴としている。 A cooker top plate according to the present invention comprises a film-coated transparent substrate configured according to the present invention, the transparent substrate having a cooking surface on which a cooking utensil is placed and a back surface opposite to the cooking surface, The light absorbing film is provided on the back surface of the transparent substrate.

本発明に係る加熱調理器用窓ガラスは、加熱調理器に用いられる窓ガラスであって、本発明に従って構成される膜付き透明基板を備え、前記加熱調理器の加熱装置側における前記透明基板の主面上に、前記光吸収膜が配置されていることを特徴としている。 A window glass for a cooking device according to the present invention is a window glass for use in a cooking device, comprising a film-coated transparent substrate configured according to the present invention, wherein the main transparent substrate on the heating device side of the cooking device is a transparent substrate. It is characterized in that the light absorbing film is arranged on the surface.

本発明に係るカバーガラスは、ディスプレイに用いられるカバーガラスであって、本発明に従って構成される膜付き透明基板を備え、前記透明基板のディスプレイが設けられる側とは反対側の主面上に、前記光吸収膜が配置されていることを特徴としている。 A cover glass according to the present invention is a cover glass used for a display, and comprises a film-coated transparent substrate configured according to the present invention, and on the main surface of the transparent substrate opposite to the side on which the display is provided, It is characterized in that the light absorbing film is arranged.

本発明によれば、調理器用トッププレートのように高温で加熱される場合においても色目が変化し難く、光源の消灯時において美観性に優れる、膜付き透明基板、並びに該膜付き透明基板を用いた調理器用トッププレート、加熱調理器用窓ガラス、及びカバーガラスを提供することができる。 According to the present invention, a film-coated transparent substrate that does not easily change in color even when heated to a high temperature, such as a top plate for a cooker, and has excellent aesthetics when the light source is turned off, and the film-coated transparent substrate are used. A cooker top plate, a heat cooker window glass, and a cover glass can be provided.

図1は、本発明の第1の実施形態に係る膜付き透明基板を示す模式的断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a film-coated transparent substrate according to a first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第2の実施形態に係る膜付き透明基板を示す模式的断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a film-coated transparent substrate according to a second embodiment of the present invention. 図3は、本発明の第3の実施形態に係る膜付き透明基板を示す模式的断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a film-coated transparent substrate according to a third embodiment of the present invention. 図4は、本発明の第4の実施形態に係る膜付き透明基板を示す模式的断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a film-coated transparent substrate according to a fourth embodiment of the present invention. 図5は、本発明の第5の実施形態に係る膜付き透明基板を示す模式的断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a film-coated transparent substrate according to a fifth embodiment of the present invention. 図6は、本発明の一実施形態に係る調理器用トッププレートを示す模式的断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a cooker top plate according to one embodiment of the present invention. 図7は、本発明の一実施形態に係るカバーガラスを示す模式的断面図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing a cover glass according to one embodiment of the invention. 図8は、実施例1の熱処理後における膜付き透明基板の透過スペクトルを示す図である。8 is a diagram showing the transmission spectrum of the film-coated transparent substrate after heat treatment in Example 1. FIG. 図9は、比較例1の熱処理後における膜付き透明基板の透過スペクトルを示す図である。9 is a diagram showing a transmission spectrum of a film-coated transparent substrate after heat treatment in Comparative Example 1. FIG. 図10は、実施例1の膜付き透明基板における熱処理温度と、熱処理前後におけるa及びbの変化量との関係を示す図である。10 is a diagram showing the relationship between the heat treatment temperature and the amount of change in a * and b * before and after the heat treatment in the film-coated transparent substrate of Example 1. FIG. 図11は、比較例1の膜付き透明基板における熱処理温度と、熱処理前後におけるa及びbの変化量との関係を示す図である。11 is a diagram showing the relationship between the heat treatment temperature and the amount of change in a * and b * before and after the heat treatment in the film-coated transparent substrate of Comparative Example 1. FIG. 図12は、実施例1の膜付き透明基板における熱処理温度と、熱処理前後におけるx及びyの変化量との関係を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing the relationship between the heat treatment temperature of the film-coated transparent substrate of Example 1 and the amount of change in x and y before and after the heat treatment. 図13は、比較例1の膜付き透明基板における熱処理温度と、熱処理前後におけるx及びyの変化量との関係を示す図である。13 is a diagram showing the relationship between the heat treatment temperature and the amount of change in x and y before and after the heat treatment in the film-coated transparent substrate of Comparative Example 1. FIG.

以下、好ましい実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は単なる例示であり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。また、各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照する場合がある。 Preferred embodiments are described below. However, the following embodiments are merely examples, and the present invention is not limited to the following embodiments. Also, in each drawing, members having substantially the same function may be referred to by the same reference numerals.

[膜付き透明基板]
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係る膜付き透明基板を示す模式的断面図である。図1に示すように、膜付き透明基板1は、透明基板2と、光吸収膜3とを備える。透明基板2は、対向している第1の主面2a及び第2の主面2bを有する。透明基板2の第1の主面2a上に、光吸収膜3が設けられている。
[Transparent substrate with film]
(First embodiment)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a film-coated transparent substrate according to a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the film-coated transparent substrate 1 includes a transparent substrate 2 and a light absorption film 3 . The transparent substrate 2 has a first major surface 2a and a second major surface 2b facing each other. A light absorbing film 3 is provided on the first main surface 2 a of the transparent substrate 2 .

本実施形態において、透明基板2は、略矩形板状の形状を有する。もっとも、透明基板2は、略円板状の形状を有していてもよく、形状は特に限定されない。 In this embodiment, the transparent substrate 2 has a substantially rectangular plate shape. However, the transparent substrate 2 may have a substantially disk-like shape, and the shape is not particularly limited.

透明基板2は、波長400nm~700nmにおける光を透過する。透明基板2は、有色透明であってもよいが、美観性をより一層高める観点から、無色透明であることが好ましい。なお、本明細書において、「透明」であるとは、波長400nm~700nmにおける可視波長域の平均光透過率が80%以上であることをいう。また、「無色」であるとは、D65光源を照射したときの透過光の彩度が2以下であることをいう。 The transparent substrate 2 transmits light with a wavelength of 400 nm to 700 nm. Although the transparent substrate 2 may be colored and transparent, it is preferably colorless and transparent from the viewpoint of further enhancing aesthetics. In this specification, "transparent" means that the average light transmittance in the visible wavelength range is 80% or more at a wavelength of 400 nm to 700 nm. Further, "colorless" means that the saturation of transmitted light is 2 or less when irradiated with a D65 light source.

本実施形態において、透明基板2は、ガラスにより構成されている。もっとも、透明基板2は、透明な基板である限りにおいてセラミックスなどの他の材料により構成されていてもよい。 In this embodiment, the transparent substrate 2 is made of glass. However, the transparent substrate 2 may be made of other materials such as ceramics as long as it is a transparent substrate.

透明基板2を構成するガラスとしては、ガラス転移温度が高く、低膨張なガラスや、低膨張の結晶化ガラスからなるものであることが好ましい。透明基板2としては、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、アルミノシリケートガラスなどを用いてもよい。低膨張の結晶化ガラスの具体例としては、LAS系結晶化ガラスである日本電気硝子社製の「N-0」が挙げられる。この場合、透明基板2の耐熱性をより一層高めることができ、熱膨張係数をより一層低めることができる。そのため、加熱及び冷却が繰り返される調理器用トッププレート(以下、単に「トッププレート」ともいう)などの用途に好適に用いることができる。 The glass forming the transparent substrate 2 is preferably made of low-expansion glass or low-expansion crystallized glass having a high glass transition temperature. As the transparent substrate 2, borosilicate glass, alkali-free glass, aluminosilicate glass, or the like may be used. A specific example of the low-expansion crystallized glass is "N-0" manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., which is an LAS-based crystallized glass. In this case, the heat resistance of the transparent substrate 2 can be further improved, and the thermal expansion coefficient can be further reduced. Therefore, it can be suitably used for applications such as a top plate for a cooker (hereinafter simply referred to as "top plate") in which heating and cooling are repeated.

透明基板2の厚みは、特に限定されない。透明基板2の厚みは、光透過率などに応じて適宜設定することができる。透明基板2の厚みは、例えば、0.035mm~5mm程度とすることができる。 The thickness of the transparent substrate 2 is not particularly limited. The thickness of the transparent substrate 2 can be appropriately set according to the light transmittance and the like. The thickness of the transparent substrate 2 can be, for example, about 0.035 mm to 5 mm.

光吸収膜3は、Ag、Fe、及びCrを含有する。特に、本実施形態では、光吸収膜3が、さらにO(酸素)を含有する。具体的には、光吸収膜3は、Agと、酸化鉄と、酸化クロムとを含有する膜である。その他に、光吸収膜3は、酸化ニッケル、酸化モリブデン、酸化銅などを含んでいてもよい。 The light absorption film 3 contains Ag, Fe, and Cr. In particular, in this embodiment, the light absorbing film 3 further contains O (oxygen). Specifically, the light absorption film 3 is a film containing Ag, iron oxide, and chromium oxide. In addition, the light absorbing film 3 may contain nickel oxide, molybdenum oxide, copper oxide, or the like.

光吸収膜3の成膜方法としては、特に限定されないが、例えば、物理気相蒸着法(PVD法)である、スパッタリング法、パルスレーザー堆積法(PLD)、又は蒸着法等により成膜することができる。 The method for forming the light absorption film 3 is not particularly limited, but for example, it may be formed by a physical vapor deposition method (PVD method), a sputtering method, a pulse laser deposition method (PLD), or a vapor deposition method. can be done.

スパッタリング法やパルスレーザー堆積法(PLD)において、光吸収膜3は、例えば、Agと、ステンレスとの混合ターゲットを用いて、成膜することができる。また、Agのターゲットと、ステンレスのターゲットを別々に用いてもよい。なお、ステンレスとは、Fe含有量が50質量%以上、Cr含有量が10.5質量%以上、C含有量が1.2質量%以下の合金鋼である。ステンレスとしては、例えば、SUS304、SUS301、SUS316等を用いることができる。なお、ステンレスのターゲットを用いる場合、Feのターゲットと比較して磁性が低下することから、放電が安定化し、より一層安定して成膜することができる。特に、オーステナイト系ステンレスのターゲットを用いる場合は非磁性(常磁性)であることから、放電が安定化し、特に安定して成膜することができる。 In the sputtering method or the pulse laser deposition method (PLD), the light absorption film 3 can be formed using a mixed target of Ag and stainless steel, for example. Also, an Ag target and a stainless target may be used separately. Note that stainless steel is an alloy steel having an Fe content of 50% by mass or more, a Cr content of 10.5% by mass or more, and a C content of 1.2% by mass or less. As stainless steel, for example, SUS304, SUS301, SUS316 or the like can be used. When a stainless steel target is used, the magnetism is lower than that of an Fe target, so that the discharge is stabilized and the film can be formed more stably. In particular, when an austenitic stainless steel target is used, since it is non-magnetic (paramagnetic), discharge is stabilized, and particularly stable film formation can be achieved.

スパッタリング法による成膜に際しては、例えば、基板温度を15℃~400℃とし、スパッタリングガスとしてのアルゴンガスなどの不活性ガスの流量を10sccm~1000sccm、及び酸素ガス流量を0sccm~400sccmとし、印加電力を1kW~60kWとして行うことができる。 When forming a film by a sputtering method, for example, the substrate temperature is 15 to 400° C., the flow rate of an inert gas such as argon gas as a sputtering gas is 10 sccm to 1000 sccm, and the oxygen gas flow rate is 0 sccm to 400 sccm. can be performed at 1 kW to 60 kW.

本実施形態の膜付き透明基板1は、上記の構成を備えるので、光源の点灯時には各種情報の表示を明確に見えるようにすることができ、消灯時には美観性に優れたものとすることができる。特に、調理器用トッププレートのように高温で加熱される場合において色目が変化し難く、光源の消灯時に優れた美観性を安定して保持することができる。この点については、以下のように説明することができる。 Since the film-coated transparent substrate 1 of the present embodiment has the above-described configuration, it is possible to make the display of various information clearly visible when the light source is turned on, and to have excellent aesthetics when the light source is turned off. . In particular, when heated to a high temperature such as a top plate for a cooker, the color does not easily change, and excellent aesthetics can be stably maintained when the light source is turned off. This point can be explained as follows.

従来、調理器用トッププレートなどの基板に、黒色に着色したガラス基板を用いた場合、LEDや液晶ディスプレイなどの光源の消灯時には調理器内部の構造を隠蔽することができるものの、光源の点灯時には、各種情報が見えにくいという問題がある。一方で、ガラス基板などの透明基板の上に黒色の無機顔料層を設けた場合、光源の消灯時において無彩色の黒色とはならず、美観性が損なわれる場合がある。 Conventionally, when a black-colored glass substrate is used for a substrate such as a top plate for a cooker, the structure inside the cooker can be hidden when the light source such as an LED or liquid crystal display is turned off, but when the light source is turned on, There is a problem that various information is difficult to see. On the other hand, when a black inorganic pigment layer is provided on a transparent substrate such as a glass substrate, the color does not become achromatic black when the light source is turned off, which may impair aesthetics.

この点に関し、従来のトッププレートでは、無機顔料層を構成する材料が、可視光の短波長側(紫や青色側;光のエネルギーとして高い)を強く吸収し、長波長側(赤色側;光のエネルギーとして低い)を弱く吸収するため、無彩色の黒色とはならないことが問題となっていた。 Regarding this point, in the conventional top plate, the material constituting the inorganic pigment layer strongly absorbs the short wavelength side of visible light (violet and blue sides; high light energy), and the long wavelength side (red side; light However, since it weakly absorbs light (low as the energy of ), it has been a problem that it does not become achromatic black.

これに対して、本実施形態の光吸収膜3では、可視光の短波長側の光吸収を酸化鉄および酸化クロムのバンドギャップによる光吸収で担い、長波長側の光吸収をAgの自由電子による光吸収で担うことができるため、トッププレートが消灯時においても無彩色の黒色となり、美観性に優れる。また、可視光の短波長側の光吸収を維持しつつ、耐熱性を高めることができる。 On the other hand, in the light absorption film 3 of the present embodiment, light absorption on the short wavelength side of visible light is absorbed by the bandgap of iron oxide and chromium oxide, and light absorption on the long wavelength side is performed by the free electrons of Ag. Therefore, even when the light is turned off, the top plate becomes achromatic black and has excellent aesthetics. In addition, the heat resistance can be improved while maintaining light absorption on the short wavelength side of visible light.

より具体的には、光の波長に依存する吸収係数α(λ)は、下記式(I)で表される。 More specifically, the absorption coefficient α(λ) that depends on the wavelength of light is represented by the following formula (I).

α(λ)=α(λ)バンドギャップ型+α(λ)自由電子型=A・λ-n+B・λ≒C・λ…式(I)
(式(I)中、A、B及びCは定数であり、n>0である。)
α(λ)=α(λ) bandgap type +α(λ) free electron type =A·λ −n +B·λ 2 ≈C·λ 0 Formula (I)
(In formula (I), A, B and C are constants and n>0.)

すなわち、可視光の短波長側の光吸収を担う酸化鉄および酸化クロム等のバンドギャップによる吸収係数は波長の逆数のn乗に比例し、長波長側の光吸収を担うAgの自由電子による吸収係数は、波長の2乗に比例するため、これらの和で表される光吸収膜3の吸収係数α(λ)は、概ね波長に依存せず、いずれの波長においても一定値となりやすい。 That is, the absorption coefficient due to the bandgap of iron oxide, chromium oxide, etc., which absorbs light on the short wavelength side of visible light, is proportional to the n-th power of the inverse of the wavelength, and absorption by free electrons of Ag responsible for light absorption on the long wavelength side. Since the coefficient is proportional to the square of the wavelength, the absorption coefficient α(λ) of the light absorption film 3, which is represented by the sum of these coefficients, does not substantially depend on the wavelength and tends to be a constant value at any wavelength.

このように、光吸収膜3を備える膜付き透明基板1は、特に可視光のほぼ全域において、光を均一に吸収することができる。また、耐熱性が高められているので、加熱により光学特性を変化し難くすることができ、色目の変化を生じ難くすることができる。そのため、膜付き透明基板1では、光源の消灯時において無彩色の黒色とすることができ、安定して美観性に優れている。従って、膜付き透明基板1は、調理器用トッププレートやディスプレイのカバーガラス等の用途に好適に用いることができる。 Thus, the film-coated transparent substrate 1 having the light-absorbing film 3 can uniformly absorb light particularly in almost the entire range of visible light. In addition, since the heat resistance is enhanced, it is possible to make it difficult for the optical properties to change due to heating, and it is possible to make it difficult for the change in color to occur. Therefore, the film-coated transparent substrate 1 can be achromatic black when the light source is turned off, and is stable and has excellent aesthetics. Therefore, the film-coated transparent substrate 1 can be suitably used for applications such as top plates for cookers and cover glasses for displays.

本発明において、光吸収膜3中のAgの含有量は、好ましくは17質量%以上、より好ましくは30質量%以上であり、好ましくは65質量%以下、より好ましくは55質量%以下である。この場合、可視光のほぼ全域において、光をより一層均一に吸収することができる。なお、光吸収膜3中のAgの含有量は、光吸収膜3中の酸素を除いた金属元素含有量全体に対するAgの含有量である。 In the present invention, the Ag content in the light absorbing film 3 is preferably 17% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and preferably 65% by mass or less, more preferably 55% by mass or less. In this case, light can be absorbed more uniformly over substantially the entire visible light range. The content of Ag in the light absorption film 3 is the content of Ag with respect to the total metal element content excluding oxygen in the light absorption film 3 .

本発明において、光吸収膜3中の酸素を除いた金属元素含有量について、光吸収膜3中のFeの含有量は、好ましくは25質量%以上、より好ましくは32質量%以上であり、好ましくは60質量%以下、より好ましくは50質量%以下である。光吸収膜3中のCrの含有量は、好ましくは4質量%以上、より好ましくは8質量%以上であり、好ましくは17質量%以下、より好ましくは12質量%以下である。なお、光吸収膜3中の上記Fe及びCrの含有量は、それぞれ、光吸収膜3中の酸素を除いた金属元素含有量全体に対するFe及びCrそれぞれの含有量である。 In the present invention, with respect to the content of metal elements excluding oxygen in the light absorbing film 3, the content of Fe in the light absorbing film 3 is preferably 25% by mass or more, more preferably 32% by mass or more. is 60% by mass or less, more preferably 50% by mass or less. The Cr content in the light absorbing film 3 is preferably 4% by mass or more, more preferably 8% by mass or more, and preferably 17% by mass or less, more preferably 12% by mass or less. The contents of Fe and Cr in the light absorption film 3 are the respective contents of Fe and Cr with respect to the total metal element contents excluding oxygen in the light absorption film 3 .

なお、光吸収膜3には、ステンレスに含まれる成分であるNi、Mo、Cu、S、Mn、P、Si、Cが含まれていてもよい。なお、光吸収膜3がNiを含有する場合、その含有量は、好ましくは3質量%以上、より好ましくは6質量%以上であり、好ましくは15質量%以下、より好ましくは12質量%以下である。なお、光吸収膜3中の上記Niの含有量は、光吸収膜3中の酸素を除いた金属元素含有量全体に対するNiの含有量である。また、光吸収膜3(全体)中のCの含有量は、1.2質量%以下であることが好ましい。 The light absorption film 3 may contain Ni, Mo, Cu, S, Mn, P, Si, and C, which are components contained in stainless steel. When the light absorbing film 3 contains Ni, its content is preferably 3% by mass or more, more preferably 6% by mass or more, and preferably 15% by mass or less, more preferably 12% by mass or less. be. The content of Ni in the light absorbing film 3 is the content of Ni with respect to the total metal element content excluding oxygen in the light absorbing film 3 . Moreover, the content of C in the light absorbing film 3 (whole) is preferably 1.2% by mass or less.

光吸収膜3において、Feに対するCrの質量比(Cr/Fe)は、好ましくは0.10以上、より好ましくは0.20以上、好ましくは0.60以下、より好ましくは0.40以下である。この場合、加熱による光吸収膜3の色目の変化をより一層生じ難くすることができる。 In the light absorbing film 3, the mass ratio of Cr to Fe (Cr/Fe) is preferably 0.10 or more, more preferably 0.20 or more, preferably 0.60 or less, and more preferably 0.40 or less. . In this case, it is possible to make it even more difficult for the color of the light absorbing film 3 to change due to heating.

光吸収膜3は、さらにAlを含有していてもよい。この場合、加熱による光吸収膜3の色目の変化をより一層生じ難くすることができる。光吸収膜3中のAlの含有量は、好ましくは2.5質量%以上、より好ましくは5質量%以上であり、好ましくは35質量%以下、より好ましくは30質量%以下である。もっとも、膜の吸収係数を考慮する場合、光吸収膜3は、実質的にAlを含有していなくてもよい。なお、実質的にAlを含有していないとは、光吸収膜3中のAlの含有量が、0質量%以上、0.3質量%以下であることをいう。なお、光吸収膜3中の上記Alの含有量は、光吸収膜3中の酸素を除いた金属元素含有量全体に対するAlの含有量である。 The light absorbing film 3 may further contain Al. In this case, it is possible to make it even more difficult for the color of the light absorbing film 3 to change due to heating. The content of Al in the light absorbing film 3 is preferably 2.5% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and preferably 35% by mass or less, more preferably 30% by mass or less. However, when considering the absorption coefficient of the film, the light absorption film 3 does not have to substantially contain Al. Note that "substantially free of Al" means that the content of Al in the light absorption film 3 is 0% by mass or more and 0.3% by mass or less. The content of Al in the light absorption film 3 is the content of Al with respect to the total content of metal elements excluding oxygen in the light absorption film 3 .

なお、光吸収膜3がさらにAlを含有する場合、Agと、ステンレスと、Alとの混合ターゲットを用いて、成膜することができる。また、Agのターゲットと、ステンレスのターゲットと、Alのターゲットとを別々に用いてもよい。 When the light absorbing film 3 further contains Al, it can be formed using a mixed target of Ag, stainless steel and Al. Alternatively, an Ag target, a stainless steel target, and an Al target may be used separately.

なお、光吸収膜3におけるAg、Fe、Ni、Cr、及びAl等の含有量は、例えば、電子線マイクロアナライザー(EPMA)、エネルギー分散型X線分析、波長分散型X線分析、誘導結合プラズマ質量分析等により測定することができ、そのうち電子線マイクロアナライザー(EPMA)により測定することが望ましい。 The content of Ag, Fe, Ni, Cr, Al, etc. in the light absorption film 3 can be determined, for example, by electron probe microanalyzer (EPMA), energy dispersive X-ray analysis, wavelength dispersive X-ray analysis, inductively coupled plasma It can be measured by mass spectrometry or the like, preferably by an electron probe microanalyzer (EPMA).

光吸収膜3の厚みは、特に限定されないが、好ましくは5nm以上、より好ましくは10nm以上、さらに好ましくは15nm以上、特に好ましくは20nm以上、好ましくは2μm以下、より好ましくは1μm以下、さらに好ましくは500nm以下、特に好ましくは100nm以下である。光吸収膜3の厚みが、上記範囲内にある場合、光源の点灯時には、各種情報の表示をより一層明確に見えるようにすることができ、消灯時にはより一層美観性に優れたものとすることができる。 The thickness of the light absorption film 3 is not particularly limited, but is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, still more preferably 15 nm or more, particularly preferably 20 nm or more, preferably 2 μm or less, more preferably 1 μm or less, and even more preferably 1 μm or less. 500 nm or less, particularly preferably 100 nm or less. When the thickness of the light absorption film 3 is within the above range, the display of various information can be made more clearly visible when the light source is turned on, and the aesthetic appearance is further improved when the light source is turned off. can be done.

本発明においては、光吸収膜3が、Fe、Cr、及びOを含有するマトリクスを有し、該マトリクス中にAgが分散されていることが好ましい。特に、光吸収膜3において、酸化鉄および酸化クロムがマトリクスを構成し、該マトリクス中にAgが分散されていることが好ましい。この場合、光吸収膜3の絶縁性をより一層高めることができる。従って、この場合、膜付き透明基板1をタッチパネル機能を有するディスプレイや、タッチパネル機能を有するディスプレイが内蔵された調理器用トッププレートに好適に用いることができる。なお、絶縁性が保たれる限り、Agの一部がマトリクス成分として存在してもよい。 In the present invention, it is preferable that the light absorption film 3 has a matrix containing Fe, Cr, and O, and Ag is dispersed in the matrix. Particularly, in the light absorbing film 3, it is preferable that iron oxide and chromium oxide form a matrix, and Ag is dispersed in the matrix. In this case, the insulating property of the light absorbing film 3 can be further improved. Therefore, in this case, the film-coated transparent substrate 1 can be suitably used for a display having a touch panel function or a cooker top plate having a built-in display having a touch panel function. Part of Ag may exist as a matrix component as long as the insulation is maintained.

光吸収膜3における波長400nm~700nmの平均吸収係数は、好ましくは0.5μm-1以上、より好ましくは10μm-1以上、好ましくは80μm-1以下、より好ましくは70μm-1以下である。平均吸収係数が上記下限値以上である場合、例えば膜付き透明基板1を調理器用トッププレートに用いた場合に、調理器内部の構造をより一層確実に隠蔽することができる。他方、平均吸収係数が上記上限値以下である場合、光源の点灯時に、各種情報の表示をより一層確実に明確に見えるようにすることができる。なお、光吸収膜3の吸収係数は、分光エリプソメトリー、または分光光度計による透過率及び反射率などの測定から導出することができる。その場合、透明基板2の上に積層させた状態で光吸収膜3側から測定するものとする。 The average absorption coefficient of the light absorption film 3 at a wavelength of 400 nm to 700 nm is preferably 0.5 μm −1 or more, more preferably 10 μm −1 or more, preferably 80 μm −1 or less, and more preferably 70 μm −1 or less. When the average absorption coefficient is equal to or higher than the above lower limit, for example, when the film-coated transparent substrate 1 is used as a top plate for a cooker, the internal structure of the cooker can be more reliably concealed. On the other hand, when the average absorption coefficient is equal to or less than the above upper limit, it is possible to more reliably and clearly see the display of various information when the light source is turned on. The absorption coefficient of the light absorbing film 3 can be derived from measurements of transmittance, reflectance, etc. by spectroscopic ellipsometry or a spectrophotometer. In that case, the measurement is performed from the light absorption film 3 side in a state of being laminated on the transparent substrate 2 .

また、光吸収膜3において、波長436nmにおける吸収係数をα1とし、波長546nmにおける吸収係数をα2とし、波長700nmにおける吸収係数をα3としたときに、α1/α2が0.8以上、2.0以下であり、α3/α2が0.8以上、2.0以下であることが好ましい。また、α1/α2が0.8以上、1.25以下であり、α3/α2が0.8以上、1.25以下であることがより好ましい。この場合、光源の消灯時においてより無彩色の黒色とすることができ、より一層美観性に優れたものとすることができる。 In the light absorption film 3, when the absorption coefficient at a wavelength of 436 nm is α1, the absorption coefficient at a wavelength of 546 nm is α2, and the absorption coefficient at a wavelength of 700 nm is α3, α1/α2 is 0.8 or more and 2.0. or less, and α3/α2 is preferably 0.8 or more and 2.0 or less. More preferably, α1/α2 is 0.8 or more and 1.25 or less, and α3/α2 is 0.8 or more and 1.25 or less. In this case, when the light source is turned off, the black color can be more achromatic, and the appearance can be further improved.

また、光吸収膜3において、波長λにおける吸収係数をαλとし、波長400nm~700nmにおける平均吸収係数をαAVEとしたときに、下記式(1)で示される吸収平均偏差Mが0.30以下であることが好ましい。この場合、光源の消灯時においてより無彩色の黒色とすることができ、より一層美観性に優れたものとすることができる。 Further, in the light absorbing film 3, when the absorption coefficient at the wavelength λ is α λ and the average absorption coefficient at the wavelength 400 nm to 700 nm is α AVE , the absorption average deviation M given by the following formula (1) is 0.30. The following are preferable. In this case, when the light source is turned off, the black color can be more achromatic, and the appearance can be further improved.

Figure 2023092191000003
Figure 2023092191000003

なお、光吸収膜3中のAgの含有量が少ないと、上記α1/α2が大きくなりすぎることがあり、上記α3/α2が小さくなりすぎることがあり、上記吸収平均偏差Mが大きくなりすぎることがある。一方、光吸収膜3中のAgの含有量が多いと、シート抵抗が低下しやすくなることがある。また、上記α1/α2が小さくなりすぎることがあり、上記α3/α2が大きくなりすぎることがあり、上記吸収平均偏差Mが大きくなりすぎることがある。 If the Ag content in the light absorption film 3 is small, the α1/α2 ratio may become too large, the α3/α2 ratio may become too small, and the average absorption deviation M may become too large. There is On the other hand, when the content of Ag in the light absorption film 3 is large, the sheet resistance may easily decrease. In addition, α1/α2 may become too small, α3/α2 may become too large, and the average absorption deviation M may become too large.

光吸収膜3の電気抵抗値(シート抵抗)は、好ましくは10Ω(10Ω/□)以上、より好ましくは10Ω(10Ω/□)以上、さらに好ましくは10Ω(10Ω/□)以上である。この場合、光吸収膜3が絶縁性であるため、画像表示装置のカバーガラスや調理器用トッププレートとして使用した場合に、タッチパネルを付与しても、静電容量式タッチセンサに必要な指の接触による静電容量の変化が維持され、タッチパネルを機能させることができる。なお、シート抵抗は、ASTM D257、JIS K6271―1(2015年)、JIS K6271-2(2015年)、K6911(1995年)などの規定の手法で測定できる。 The electrical resistance value (sheet resistance) of the light absorbing film 3 is preferably 10 5 Ω (10 5 Ω/□) or more, more preferably 10 6 Ω (10 6 Ω/□) or more, and still more preferably 10 7 Ω ( 10 7 Ω/□) or more. In this case, since the light absorbing film 3 is insulative, when it is used as a cover glass of an image display device or a top plate for a cooker, even if a touch panel is provided, the finger contact necessary for a capacitive touch sensor is not required. The change in capacitance due to is maintained, and the touch panel can be made to function. Note that the sheet resistance can be measured by a prescribed method such as ASTM D257, JIS K6271-1 (2015), JIS K6271-2 (2015), K6911 (1995).

本発明においては、膜付き透明基板1を500℃で1時間熱処理したときに、熱処理前後での透過光のL表色系におけるa及びbの変化量の絶対値が、それぞれ、4以下であることが好ましく、2以下であることがより好ましい。この場合、加熱による光吸収膜3の色目の変化をより一層生じ難くすることができる。 In the present invention, when the film-coated transparent substrate 1 is heat treated at 500° C. for 1 hour, the absolute value of the amount of change in a * and b * in the L * a * b * color system of transmitted light before and after the heat treatment is , are each preferably 4 or less, more preferably 2 or less. In this case, it is possible to make it even more difficult for the color of the light absorbing film 3 to change due to heating.

膜付き透明基板1のL表色系におけるLは、例えば、30以上、60以下、aは、例えば、-5以上、5以下、bは、例えば、-5以上、5以下とすることができる。なお、Lは「明度指数」(L軸=0~100)、aとbは「クロマティクネク指数」(a軸=-60~+60、b軸=-60~+60)を意味する。また、L値は、膜付き透明基板1の光吸収膜3側から分光光度計により測定することができる。分光光度計としては、例えば、日立ハイテクサイエンス社製、品番「U-4100」を用いることができる。 L * in the L * a * b * color system of the film-coated transparent substrate 1 is, for example, 30 or more and 60 or less, a * is, for example, −5 or more and 5 or less, and b * is, for example, −5 or more. , 5 or less. Note that L * means "brightness index" (L axis = 0 to 100), a * and b * mean "chromatic neck index" (a axis = -60 to +60, b axis = -60 to +60). . Also, the L * a * b * values can be measured with a spectrophotometer from the light absorbing film 3 side of the transparent substrate 1 with film. As a spectrophotometer, for example, product number “U-4100” manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd. can be used.

本発明においては、膜付き透明基板1を500℃で1時間熱処理したときに、熱処理前後でxyY表色系における透過光のx及びyの変化量の絶対値が、それぞれ、0.010以下であることが好ましく、0.005以下であることがより好ましい。この場合、加熱による光吸収膜3の色目の変化をより一層生じ難くすることができる。 In the present invention, when the film-coated transparent substrate 1 is heat-treated at 500° C. for 1 hour, the absolute values of the amounts of change in x and y of transmitted light in the xyY color system before and after the heat treatment are each 0.010 or less. It is preferably 0.005 or less, more preferably 0.005 or less. In this case, it is possible to make it even more difficult for the color of the light absorbing film 3 to change due to heating.

膜付き透明基板1のxyY表色系におけるxは、例えば、0.25以上、0.35以下、yは、例えば、0.25以上、0.35以下、Yは、例えば、10以上、50以下とすることができる。なお、xyY値は、膜付き透明基板1の光吸収膜3側から分光光度計により測定することができる。分光光度計としては、例えば、日立ハイテクサイエンス社製、品番「U-4100」を用いることができる。 In the xyY color system of the film-coated transparent substrate 1, x is, for example, 0.25 or more and 0.35 or less, y is, for example, 0.25 or more and 0.35 or less, and Y is, for example, 10 or more and 50. You can: The xyY values can be measured with a spectrophotometer from the light absorption film 3 side of the film-coated transparent substrate 1 . As a spectrophotometer, for example, product number “U-4100” manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd. can be used.

膜付き透明基板1の透過光の彩度C は、好ましくは7以下、より好ましくは2以下、さらに好ましくは1以下、特に好ましくは0.8以下、最も好ましくは0.5以下である。また、膜付き透明基板1の反射光の彩度C は、好ましくは7以下、より好ましくは2以下、さらに好ましくは1以下、特に好ましくは0.7以下、最も好ましくは0.5以下である。ここで、彩度Cは、JIS Z 8781-4:2013で採用されているL表色系における、D65光源を照射したときの彩度Cである。なお、彩度Cは色度a及びbより求められ、C=((a+(b1/2で表される。彩度Cが上記上限値以下である場合、光源の消灯時においてより無彩色の黒色とすることができ、より一層美観性に優れたものとすることができる。 The chroma C * T of light transmitted through the film-coated transparent substrate 1 is preferably 7 or less, more preferably 2 or less, still more preferably 1 or less, particularly preferably 0.8 or less, and most preferably 0.5 or less. . In addition, the chroma C * R of the reflected light from the film-coated transparent substrate 1 is preferably 7 or less, more preferably 2 or less, even more preferably 1 or less, particularly preferably 0.7 or less, and most preferably 0.5 or less. is. Here, the saturation C * is the saturation C * when irradiated with a D65 light source in the L * a * b * color system adopted in JIS Z 8781-4:2013. The chroma C * is obtained from the chromaticities a * and b * , and is expressed as C * =((a * ) 2 +(b * ) 2 ) 1/2 . When the chroma C * is equal to or less than the above upper limit, the black color can be more achromatic when the light source is turned off, and the aesthetic appearance can be further improved.

なお、後述する表示領域Aと非表示領域Bとの境界をより一層見え難くする観点から、表示領域Aと非表示領域Bとの反射光の明度(L)の差の絶対値は、好ましくは20以下、より好ましくは10以下、さらに好ましくは5以下である。また、表示領域Aと非表示領域Bとの反射光の彩度(C )の差の絶対値は、好ましくは0.7以下、より好ましくは0.4以下、特に好ましくは0.3以下である。なお、反射光の明度(L)は、膜付き透明基板1の光吸収膜3側から、例えば、分光光度計(オリンパス社製、品番「USPM-RU-II」)を用いて測定することができる。 From the viewpoint of further obscuring the boundary between the display area A and the non-display area B, which will be described later, the absolute value of the difference in the lightness (L * ) of the reflected light between the display area A and the non-display area B is preferably is 20 or less, more preferably 10 or less, and even more preferably 5 or less. Further, the absolute value of the difference in chroma (C * R ) of reflected light between the display area A and the non-display area B is preferably 0.7 or less, more preferably 0.4 or less, and particularly preferably 0.3. It is below. The lightness (L * ) of the reflected light is measured from the light absorbing film 3 side of the film-coated transparent substrate 1 using, for example, a spectrophotometer (manufactured by Olympus, product number “USPM-RU-II”). can be done.

(第2~第5の実施形態)
図2は、本発明の第2の実施形態に係る膜付き透明基板を示す模式的断面図である。図2に示すように、膜付き透明基板21では、光吸収膜3の上にさらに誘電体多層膜26が設けられている。その他の点は、第1の実施形態と同様である。
(Second to fifth embodiments)
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a film-coated transparent substrate according to a second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, the film-coated transparent substrate 21 further includes a dielectric multilayer film 26 on the light absorption film 3 . Other points are the same as in the first embodiment.

誘電体多層膜26は、相対的に屈折率が低い低屈折率膜27と、相対的に屈折率が高い高屈折率膜28とが、この順に交互に積層された積層膜である。本実施形態では、誘電体多層膜26の積層数が、5層である。 The dielectric multilayer film 26 is a laminated film in which a low refractive index film 27 with a relatively low refractive index and a high refractive index film 28 with a relatively high refractive index are alternately laminated in this order. In this embodiment, the number of laminated layers of the dielectric multilayer film 26 is five.

低屈折率膜27の材料としては、例えば、酸化ケイ素、あるいは酸化アルミニウムが挙げられる。 Examples of materials for the low refractive index film 27 include silicon oxide and aluminum oxide.

高屈折率膜28の材料としては、例えば、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化スズ、窒化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウムが挙げられる。 Examples of materials for the high refractive index film 28 include niobium oxide, titanium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, tantalum oxide, tin oxide, silicon nitride, aluminum oxide, and aluminum nitride.

図3は、本発明の第3の実施形態に係る膜付き透明基板を示す模式的断面図である。図3に示すように、膜付き透明基板31では、透明基板2の第1の主面2a上に光吸収膜3を含む誘電体多層膜36が設けられている。その他の点は、第1の実施形態と同様である。 FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a film-coated transparent substrate according to a third embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3 , in the film-coated transparent substrate 31 , a dielectric multilayer film 36 including the light absorbing film 3 is provided on the first main surface 2 a of the transparent substrate 2 . Other points are the same as in the first embodiment.

誘電体多層膜36では、相対的に屈折率が低い低屈折率膜27と、相対的に屈折率が高い高屈折率膜としての光吸収膜3とが、この順に交互に積層されている。本実施形態では、誘電体多層膜36の積層数が、5層である。なお、光吸収膜3は、第1の実施形態で説明した光吸収膜3であり、低屈折率膜27は、第2の実施形態で説明した低屈折率膜27である。なお、2層ある光吸収膜3のうち1層を、第2の実施形態で説明した高屈折率膜28としてもよい。 In the dielectric multilayer film 36, low refractive index films 27 with a relatively low refractive index and light absorption films 3 as high refractive index films with a relatively high refractive index are alternately laminated in this order. In this embodiment, the number of laminated layers of the dielectric multilayer film 36 is five. The light absorption film 3 is the light absorption film 3 described in the first embodiment, and the low refractive index film 27 is the low refractive index film 27 described in the second embodiment. One of the two layers of the light absorbing film 3 may be the high refractive index film 28 described in the second embodiment.

図4は、本発明の第4の実施形態に係る膜付き透明基板を示す模式的断面図である。図4に示すように、膜付き透明基板41では、透明基板2の第1の主面2a上に光吸収膜3を含む誘電体多層膜46が設けられている。その他の点は、第1の実施形態と同様である。 FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a film-coated transparent substrate according to a fourth embodiment of the present invention. As shown in FIG. 4 , in the film-coated transparent substrate 41 , a dielectric multilayer film 46 including the light absorbing film 3 is provided on the first main surface 2 a of the transparent substrate 2 . Other points are the same as in the first embodiment.

誘電体多層膜46では、相対的に屈折率が高い高屈折率膜28と、相対的に屈折率が低い低屈折率膜としての光吸収膜3とが、この順に交互に積層されている。また、最外層には、第2の実施形態で説明した低屈折率膜27が設けられている。低屈折率膜27が最外層に設けられる場合、反射率をより一層低減できるとともに化学的耐久性をより一層向上できる。 In the dielectric multilayer film 46, the high refractive index film 28 with a relatively high refractive index and the light absorption film 3 as a low refractive index film with a relatively low refractive index are alternately laminated in this order. Further, the outermost layer is provided with the low refractive index film 27 described in the second embodiment. When the low refractive index film 27 is provided as the outermost layer, the reflectance can be further reduced and the chemical durability can be further improved.

また、本実施形態では、誘電体多層膜46の積層数が、6層である。なお、光吸収膜3は、第1の実施形態で説明した光吸収膜3であり、低屈折率膜27及び高屈折率膜28は、第2の実施形態で説明した低屈折率膜27及び高屈折率膜28である。なお、2層ある光吸収膜3のうち1層を、第2の実施形態で説明した低屈折率膜27としてもよい。 Further, in the present embodiment, the number of laminated layers of the dielectric multilayer film 46 is six. The light absorption film 3 is the light absorption film 3 described in the first embodiment, and the low refractive index film 27 and the high refractive index film 28 are the low refractive index film 27 and the high refractive index film 28 described in the second embodiment. This is the high refractive index film 28 . One of the two layers of the light absorption film 3 may be the low refractive index film 27 described in the second embodiment.

図5は、本発明の第5の実施形態に係る膜付き透明基板を示す模式的断面図である。図5に示すように、膜付き透明基板51では、透明基板2の上に光吸収膜3が2層設けられている。また、透明基板2と光吸収膜3の間及び2つの光吸収膜3,3の間にさらに誘電体多層膜56A,56Bが設けられている。誘電体多層膜56A,56Bは、それぞれ、低屈折率膜27及び高屈折率膜28により構成されている。また、最外層には、第2の実施形態で説明した低屈折率膜27が設けられている。その他の点は、第2の実施形態と同様である。 FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a film-coated transparent substrate according to a fifth embodiment of the present invention. As shown in FIG. 5, in the film-coated transparent substrate 51 , two layers of the light absorption film 3 are provided on the transparent substrate 2 . Dielectric multilayer films 56A and 56B are further provided between the transparent substrate 2 and the light absorbing film 3 and between the two light absorbing films 3,3. The dielectric multilayer films 56A and 56B are composed of a low refractive index film 27 and a high refractive index film 28, respectively. Further, the outermost layer is provided with the low refractive index film 27 described in the second embodiment. Other points are the same as in the second embodiment.

第2~第5の実施形態においても、光吸収膜3が、Ag、Fe及びCrを含有する。そのため、各膜付き透明基板によれば、光源の点灯時には各種情報の表示を明確に見えるようにすることができ、消灯時には美観性に優れたものとすることができる。特に、加熱によっても色目が変化し難く、光源の消灯時に安定して美観性に優れたものとすることができる。 Also in the second to fifth embodiments, the light absorbing film 3 contains Ag, Fe and Cr. Therefore, according to each film-coated transparent substrate, it is possible to clearly see the display of various information when the light source is turned on, and it is possible to make the display excellent in aesthetics when the light source is turned off. In particular, it is difficult for the color to change even when heated, and it is possible to stably provide excellent aesthetics when the light source is turned off.

また、第2~第5の実施形態のように誘電体多層膜が設けられている場合、例えば、反射防止機能を付与することができる。この場合、ディスプレイのコントラスト等を改善させることもできる。 Further, when a dielectric multilayer film is provided as in the second to fifth embodiments, for example, an antireflection function can be imparted. In this case, it is also possible to improve the contrast of the display.

この際、第3の実施形態のように、光吸収膜3は高屈折率膜として用いられてもよいし、第4の実施形態のように、光吸収膜3は低屈折率膜として用いられてもよい。光吸収膜3は、Agと酸化鉄の質量比や酸素分圧などの成膜条件によって屈折率の大きさを調整して、低屈折率膜として用いることもできるし、高屈折率膜として用いることもできる。なお、光吸収膜3の屈折率は、例えば、1.2以上、2.0以下の範囲で調整することができる。 At this time, the light absorption film 3 may be used as a high refractive index film as in the third embodiment, or the light absorption film 3 may be used as a low refractive index film as in the fourth embodiment. may The light absorption film 3 can be used as a low refractive index film or a high refractive index film by adjusting the magnitude of the refractive index according to the film formation conditions such as the mass ratio of Ag and iron oxide and the partial pressure of oxygen. can also In addition, the refractive index of the light absorption film 3 can be adjusted in the range of 1.2 or more and 2.0 or less, for example.

[調理器用トッププレート]
図6は、本発明の一実施形態に係る調理器用トッププレートを示す模式的断面図である。図6に示すように、調理器用トッププレート61は、膜付き透明基板1を備える。
[Top plate for cooker]
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a cooker top plate according to one embodiment of the present invention. As shown in FIG. 6, a cooker top plate 61 includes a film-coated transparent substrate 1 .

調理器用トッププレート61では、膜付き透明基板1を構成する透明基板2の第2の主面2bが、調理面である。一方、膜付き透明基板1を構成する透明基板2の第1の主面2aが、裏面である。調理面は、鍋やフライパンなどの調理器具が載せられる側の面である。裏面は、調理器の内部側においてLEDやディスプレイ等の光源62や加熱装置と対向する面である。従って、調理面及び裏面は、表裏の関係にある。なお、本実施形態において、透明基板2は、低膨張の結晶化ガラスからなる。 In the cooker top plate 61, the second main surface 2b of the transparent substrate 2 constituting the film-coated transparent substrate 1 is the cooking surface. On the other hand, the first main surface 2a of the transparent substrate 2 constituting the film-coated transparent substrate 1 is the back surface. The cooking surface is the surface on which cooking utensils such as pots and pans are placed. The back surface is the surface facing the light source 62 such as an LED or display and the heating device inside the cooker. Therefore, the cooking surface and the back surface have a relationship of front and back. In this embodiment, the transparent substrate 2 is made of low-expansion crystallized glass.

透明基板2の裏面(第1の主面2a)上には、光吸収膜3が設けられている。光吸収膜3上には、耐熱樹脂層63が設けられている。なお、耐熱樹脂層63は、透明基板2と光吸収膜3の間に設けられていてもよい。本実施形態では、平面視において、耐熱樹脂層63が設けられていない領域が、表示領域Aとされている。また、平面視において耐熱樹脂層63が設けられる領域が、非表示領域Bとされている。 A light absorption film 3 is provided on the rear surface (first main surface 2a) of the transparent substrate 2 . A heat-resistant resin layer 63 is provided on the light absorption film 3 . Note that the heat-resistant resin layer 63 may be provided between the transparent substrate 2 and the light absorbing film 3 . In the present embodiment, the area where the heat-resistant resin layer 63 is not provided is the display area A in plan view. A non-display area B is a region where the heat-resistant resin layer 63 is provided in plan view.

耐熱樹脂層63は、遮光層である。従って、耐熱樹脂層63を設けることにより、調理器の内部構造の隠蔽性をより一層確実に高めることができる。耐熱樹脂層63は、シリコーン樹脂のような耐熱樹脂と、着色顔料等により構成することができる。なお、耐熱樹脂層63は設けられていなくともよい。 The heat resistant resin layer 63 is a light blocking layer. Therefore, by providing the heat-resistant resin layer 63, the concealability of the internal structure of the cooker can be more reliably enhanced. The heat-resistant resin layer 63 can be composed of a heat-resistant resin such as silicone resin, a coloring pigment, and the like. Note that the heat-resistant resin layer 63 may not be provided.

膜付き透明基板1の下方には、ディスプレイやLEDなどの光源62が設けられている。光源62は、表示領域Aで情報を表示するため設けられる部材である。表示領域Aで表示する情報としては、特に限定されるものではなく、例えば、電源がオン状態であることや、加熱中であることなどのように調理器の状態を示す情報や、時間などの情報が挙げられる。 A light source 62 such as a display or an LED is provided below the film-coated transparent substrate 1 . The light source 62 is a member provided for displaying information in the display area A. FIG. The information to be displayed in the display area A is not particularly limited. information.

光源62からの光は、表示領域Aでは、光吸収膜3及び透明基板2を透過して外部に出射される。また、光源62からの光は、非表示領域Bでは、耐熱樹脂層63により遮光される。従って、表示領域Aにおいて、光源62からの光を透過させることにより、文字や数字、記号等を表示することができる。 In the display area A, the light from the light source 62 is transmitted through the light absorption film 3 and the transparent substrate 2 and emitted to the outside. Further, the light from the light source 62 is blocked by the heat-resistant resin layer 63 in the non-display area B. FIG. Therefore, in the display area A, letters, numerals, symbols, etc. can be displayed by allowing the light from the light source 62 to pass therethrough.

調理器用トッププレート61は、膜付き透明基板1を備える。そのため、光源62の点灯時には、各種情報の表示を明確に見えるようにすることができ、消灯時には、美観性に優れたものとすることができる。また、調理器内部の構造を隠蔽しつつ、表示領域Aと非表示領Bとの境界を見え難くすることができる。また、調理器用トッププレート61の使用時に高温で加熱される場合においても色目が変化し難い。なお、調理器内部には、タッチパネル機能を有するディスプレイが内蔵されていてもよい。 A cooker top plate 61 includes a transparent substrate 1 with a film. Therefore, when the light source 62 is turned on, the display of various information can be clearly seen, and when the light source 62 is turned off, the appearance can be excellent. In addition, the boundary between the display area A and the non-display area B can be made difficult to see while concealing the structure inside the cooker. Further, even when the cooker top plate 61 is heated at a high temperature during use, the color does not easily change. In addition, a display having a touch panel function may be built in the cooker.

[加熱調理器用窓ガラス]
また、上述した調理器用トッププレート61を電子レンジやオーブンなどの加熱調理器に用いられる加熱調理器用窓ガラスとして用いてもよい。その場合、上述した膜付き透明基板1を構成する透明基板2の第2の主面2bを、加熱調理器における加熱装置側とは反対の主面とし、膜付き透明基板1を構成する透明基板2の第1の主面2aを、加熱調理器における加熱装置側の主面とすることができる。
[Cooker window glass]
Moreover, you may use the top plate 61 for cookers mentioned above as the window glass for heat cookers used for heat cookers, such as a microwave oven and an oven. In that case, the second main surface 2b of the transparent substrate 2 constituting the film-coated transparent substrate 1 described above is the main surface opposite to the heating device side in the heating cooker, and the transparent substrate constituting the film-coated transparent substrate 1 is used. The first main surface 2a of 2 can be used as the main surface on the heating device side of the heating cooker.

[カバーガラス]
図7は、本発明の一実施形態に係るカバーガラスを示す模式的断面図である。図7に示すように、カバーガラス71は、膜付き透明基板1を備える。カバーガラス71は、例えば、ディスプレイの前面に配置されて用いられるカバーガラスである。
[cover glass]
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing a cover glass according to one embodiment of the invention. As shown in FIG. 7, the cover glass 71 includes the film-coated transparent substrate 1 . The cover glass 71 is, for example, a cover glass arranged in front of the display.

カバーガラス71では、膜付き透明基板1を構成する透明基板2の第1の主面2aが、外側に配置される主面である。一方、膜付き透明基板1を構成する透明基板2の第2の主面2bが、ディスプレイ側の主面である。従って、カバーガラス71では、透明基板2のディスプレイが設けられる側とは反対側の主面2a上に、光吸収膜3が設けられている。 In the cover glass 71, the first principal surface 2a of the transparent substrate 2 constituting the film-coated transparent substrate 1 is the principal surface arranged outside. On the other hand, the second main surface 2b of the transparent substrate 2 constituting the film-coated transparent substrate 1 is the display-side main surface. Therefore, in the cover glass 71, the light absorption film 3 is provided on the main surface 2a of the transparent substrate 2 opposite to the side on which the display is provided.

カバーガラス71においても、膜付き透明基板1を備えるので、調理器用トッププレートのように高温(例えば、300℃~400℃)で加熱される場合においても色目が変化し難く、光源の消灯時において美観性に優れている。 Since the cover glass 71 is also provided with the film-coated transparent substrate 1, the color does not easily change even when heated at a high temperature (for example, 300 ° C. to 400 ° C.) like a top plate for a cooker, and when the light source is turned off. Excellent aesthetics.

以下、本発明について、実施例に基づいてさらに詳細を説明する。但し、以下の実施例は、単なる例示である。本発明は、以下の実施例に何ら限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in further detail based on examples. However, the following examples are merely illustrative. The present invention is by no means limited to the following examples.

(実施例1)
実施例1では、Ag及びステンレス(SUS304)の混合ターゲットを用いて、スパッタリング法により、透明基板であるガラス基板上に光吸収膜を成膜した。なお、混合ターゲット中のAg含有量は32.6質量%、ステンレス含有量は67.4質量%とした。この時の基板温度は250℃とし、酸素分圧は0.03Paとした。また、光吸収膜中の酸素を除いた金属元素含有量において、Ag含有量は48.022質量%であり、Fe含有量は32.782量%であり、Cr含有量は10.615質量%であった。また、Feに対するCrの質量比(Cr/Fe)は、0.32であった。また、Ni含有量は8.581質量%であった。なお、各組成は、電子線マイクロアナライザー(EPMA、日本電子社製、品番「JXA-8100」)により測定した。また、得られた光吸収膜の光学特性は、n(屈折率)=1.56、k(消衰係数)=1.2(波長550nm)であった。なお、得られた光吸収膜では、酸化鉄、酸化クロム、及び酸化ニッケルがマトリクスを構成し、該マトリクス中にAgが分散されていることが確認できた。また、得られた光吸収膜は、無彩色の黒色を有していた。
(Example 1)
In Example 1, a mixed target of Ag and stainless steel (SUS304) was used to form a light absorption film on a transparent glass substrate by a sputtering method. The Ag content in the mixed target was 32.6% by mass, and the stainless steel content was 67.4% by mass. At this time, the substrate temperature was set to 250° C., and the oxygen partial pressure was set to 0.03 Pa. Regarding the metal element contents excluding oxygen in the light absorbing film, the Ag content was 48.022% by mass, the Fe content was 32.782% by mass, and the Cr content was 10.615% by mass. Met. Also, the mass ratio of Cr to Fe (Cr/Fe) was 0.32. Also, the Ni content was 8.581% by mass. Each composition was measured by an electron probe microanalyzer (EPMA, manufactured by JEOL Ltd., product number "JXA-8100"). The optical properties of the obtained light absorption film were n (refractive index)=1.56 and k (extinction coefficient)=1.2 (wavelength: 550 nm). It was confirmed that iron oxide, chromium oxide, and nickel oxide constituted a matrix in the obtained light-absorbing film, and Ag was dispersed in the matrix. Moreover, the obtained light absorbing film had an achromatic black color.

(比較例1)
比較例1では、Ag及びFeOの混合ターゲットを用いて、スパッタリング法により、透明基板であるガラス基板上に光吸収膜を成膜した。なお、混合ターゲット中のAg含有量は32.6質量%、Fe含有量は67.4質量%とした。この時の基板温度は250℃とし、酸素分圧は0.025Paとした。また、光吸収膜中の酸素を除いた金属元素含有量において、Ag含有量は58.1質量%であり、Fe含有量は41.9質量%であった。なお、各組成は、電子線マイクロアナライザー(EPMA、日本電子社製、品番「JXA-8100」)により測定した。また、得られた光吸収膜の光学特性は、n(屈折率)=1.24、k(消衰係数)=1.4(波長550nm)であった。
(Comparative example 1)
In Comparative Example 1, a mixed target of Ag and FeO was used to form a light absorption film on a transparent glass substrate by a sputtering method. The Ag content in the mixed target was 32.6% by mass, and the Fe content was 67.4% by mass. At this time, the substrate temperature was set to 250° C., and the oxygen partial pressure was set to 0.025 Pa. In addition, the Ag content was 58.1 mass % and the Fe content was 41.9 mass % in the metal element contents excluding oxygen in the light absorbing film. Each composition was measured by an electron probe microanalyzer (EPMA, manufactured by JEOL Ltd., product number "JXA-8100"). The optical properties of the obtained light absorption film were n (refractive index)=1.24 and k (extinction coefficient)=1.4 (wavelength 550 nm).

[評価]
(光学特性)
実施例1で得られた光吸収膜において、波長436nmにおける吸収係数をα1とし、波長546nmにおける吸収係数をα2とし、波長700nmにおける吸収係数をα3としたときに、α1/α2、α3/α2、平均吸収係数αAVE、吸収平均偏差Mを求めた。結果を下記の表1に示す。
[evaluation]
(optical properties)
In the light absorbing film obtained in Example 1, when the absorption coefficient at a wavelength of 436 nm is α1, the absorption coefficient at a wavelength of 546 nm is α2, and the absorption coefficient at a wavelength of 700 nm is α3, α1/α2, α3/α2, An average absorption coefficient α AVE and an absorption average deviation M were obtained. The results are shown in Table 1 below.

Figure 2023092191000004
Figure 2023092191000004

(耐熱性試験)
実施例1及び比較例1で得られた膜付き透明基板に対し、200℃、300℃、400℃、及び500℃の温度で、それぞれ、1時間熱処理を施した。各熱処理温度で作製した膜付き透明基板について、透過スペクトル、L表色系におけるa及びb、xyY表色系におけるx及びy、及びシート抵抗を測定した。
(Heat resistance test)
The film-coated transparent substrates obtained in Example 1 and Comparative Example 1 were subjected to heat treatment at temperatures of 200° C., 300° C., 400° C. and 500° C. for 1 hour, respectively. The transmission spectrum, a * and b * in the L * a * b * color system, x and y in the xyY color system, and sheet resistance were measured for the film-coated transparent substrates produced at each heat treatment temperature.

なお、透過スペクトルおよび透過光のL表色系におけるa及びb、並びにxyY表色系におけるx及びyは、分光光度計(日立ハイテクサイエンス社製、品番「U-4100」)を用いて測定した。シート抵抗は、白金電極を用いた直流2端子法により測定した。 In addition, a * and b * in the L * a * b * color system of the transmission spectrum and transmitted light, and x and y in the xyY color system are measured by a spectrophotometer (manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd., product number “U-4100 ”). The sheet resistance was measured by a DC two-probe method using platinum electrodes.

図8は、実施例1の熱処理後における膜付き透明基板の透過スペクトルを示す図である。図9は、比較例1の熱処理後における膜付き透明基板の透過スペクトルを示す図である。なお、図8及び図9では、未熱処理の膜付き透明基板の透過スペクトルを併せて示した。 8 is a diagram showing the transmission spectrum of the film-coated transparent substrate after heat treatment in Example 1. FIG. 9 is a diagram showing a transmission spectrum of a film-coated transparent substrate after heat treatment in Comparative Example 1. FIG. 8 and 9 also show the transmission spectrum of the unheated film-coated transparent substrate.

図8より、実施例1の膜付き透明基板では、いずれの温度で熱処理しても、透過スペクトルの波形がほぼ変化していないことがわかる。また、波長400nm~700nmにおいて、透過率がほぼ一定であることがわかる。一方、図9より、比較例1の膜付き透明基板では、熱処理により、透過スペクトルの波形が大きく変化していることがわかる。 From FIG. 8, it can be seen that the transparent substrate with the film of Example 1 has almost no change in the waveform of the transmission spectrum regardless of the heat treatment at any temperature. Also, it can be seen that the transmittance is almost constant in the wavelength range of 400 nm to 700 nm. On the other hand, it can be seen from FIG. 9 that the waveform of the transmission spectrum of the film-coated transparent substrate of Comparative Example 1 is greatly changed by the heat treatment.

図10は、実施例1の膜付き透明基板における熱処理温度と、熱処理前後におけるa及びbの変化量との関係を示す図である。また、図11は、比較例1の膜付き透明基板における熱処理温度と、熱処理前後におけるa及びbの変化量との関係を示す図である。 10 is a diagram showing the relationship between the heat treatment temperature and the amount of change in a * and b * before and after the heat treatment in the film-coated transparent substrate of Example 1. FIG. FIG. 11 is a diagram showing the relationship between the heat treatment temperature and the amount of change in a * and b * before and after the heat treatment in the film-coated transparent substrate of Comparative Example 1. As shown in FIG.

図10より、実施例1の膜付き透明基板では、熱処理前後でのa及びbの変化量が、500℃においても4以下であり色目がほとんど変化していなかった。一方、図11より、比較例1の膜付き透明基板では、熱処理前後でのL表色系におけるa及びbの変化量が、500℃において4より大きく色目が変化していた。 As can be seen from FIG. 10, in the film-coated transparent substrate of Example 1, the amount of change in a * and b * before and after the heat treatment was 4 or less even at 500° C., showing almost no change in color. On the other hand, from FIG. 11, in the film-coated transparent substrate of Comparative Example 1, the amount of change in a * and b * in the L * a * b * color system before and after the heat treatment was greater than 4 at 500°C. was

図12は、実施例1の膜付き透明基板における熱処理温度と、熱処理前後におけるx及びyの変化量との関係を示す図である。また、図13は、比較例1の膜付き透明基板における熱処理温度と、熱処理前後におけるx及びyの変化量との関係を示す図である。 FIG. 12 is a diagram showing the relationship between the heat treatment temperature of the film-coated transparent substrate of Example 1 and the amount of change in x and y before and after the heat treatment. FIG. 13 is a diagram showing the relationship between the heat treatment temperature and the amount of change in x and y before and after the heat treatment in the film-coated transparent substrate of Comparative Example 1. As shown in FIG.

図12より、実施例1の膜付き透明基板では、熱処理前後でのx及びyの変化量が、500℃においても0.01以下であり色目がほとんど変化していなかった。一方、図13より、比較例1の膜付き透明基板では、熱処理前後でのx及びyの変化量が、500℃において0.01より大きく色目が変化していた。 As shown in FIG. 12, in the film-coated transparent substrate of Example 1, the amount of change in x and y before and after the heat treatment was 0.01 or less even at 500° C., and there was almost no change in color. On the other hand, from FIG. 13, in the film-coated transparent substrate of Comparative Example 1, the amount of change in x and y before and after the heat treatment was greater than 0.01 at 500.degree.

これらの結果より、実施例1の膜付き透明基板では、加熱により色目が変化し難く、光源の消灯時においても美観性に優れることが確認された。 From these results, it was confirmed that the film-coated transparent substrate of Example 1 was less likely to change color due to heating, and was excellent in appearance even when the light source was turned off.

なお、実施例1の膜付き透明基板の各熱処理温度におけるシート抵抗(抵抗値)の測定結果を下記の表2に示す。 Table 2 below shows the measurement results of the sheet resistance (resistance value) of the film-coated transparent substrate of Example 1 at each heat treatment temperature.

Figure 2023092191000005
Figure 2023092191000005

表2より、実施例1の膜付き透明基板では、いずれの温度で熱処理した場合も、高い絶縁性を有することが確認された。 From Table 2, it was confirmed that the film-coated transparent substrate of Example 1 had high insulating properties when heat-treated at any temperature.

1,21,31,41,51…膜付き透明基板
2…透明基板
2a…第1の主面
2b…第2の主面
3…光吸収膜
26,36,46,56A,56B…誘電体多層膜
27…低屈折率膜
28…高屈折率膜
61…調理器用トッププレート
62…光源
63…耐熱樹脂層
71…カバーガラス
Reference Signs List 1, 21, 31, 41, 51... Transparent substrate with film 2... Transparent substrate 2a... First main surface 2b... Second main surface 3... Light absorbing films 26, 36, 46, 56A, 56B... Dielectric multilayer Film 27 Low refractive index film 28 High refractive index film 61 Top plate for cooker 62 Light source 63 Heat resistant resin layer 71 Cover glass

Claims (15)

透明基板と、
前記透明基板の一方側主面上に設けられている、光吸収膜と、
を備え、
前記光吸収膜が、Ag、Fe、及びCrを含有する、膜付き透明基板。
a transparent substrate;
a light absorbing film provided on one main surface of the transparent substrate;
with
A film-coated transparent substrate, wherein the light-absorbing film contains Ag, Fe, and Cr.
前記光吸収膜が、さらにOを含有する、請求項1に記載の膜付き透明基板。 2. The film-coated transparent substrate according to claim 1, wherein said light absorbing film further contains O. 前記Feに対する前記Crの質量比(Cr/Fe)が、0.10以上、0.60以下である、請求項1又は2に記載の膜付き透明基板。 The film-coated transparent substrate according to claim 1 or 2, wherein the mass ratio of Cr to Fe (Cr/Fe) is 0.10 or more and 0.60 or less. 前記光吸収膜が、Fe、Cr、及びOを含有するマトリクスを有し、該マトリクス中に前記Agが分散されている、請求項1~3のいずれか1項に記載の膜付き透明基板。 4. The film-coated transparent substrate according to claim 1, wherein the light-absorbing film has a matrix containing Fe, Cr, and O, and the Ag is dispersed in the matrix. 前記光吸収膜における波長400nm~700nmの平均吸収係数が、0.5μm-1以上、80μm-1以下である、請求項1~4のいずれか1項に記載の膜付き透明基板。 5. The film-coated transparent substrate according to claim 1, wherein the light absorption film has an average absorption coefficient of 0.5 μm −1 or more and 80 μm −1 or less at a wavelength of 400 nm to 700 nm. 前記光吸収膜において、波長436nmにおける吸収係数をα1とし、波長546nmにおける吸収係数をα2とし、波長700nmにおける吸収係数をα3としたときに、α1/α2が0.8以上、2.0以下であり、α3/α2が0.8以上、2.0以下である、請求項1~5のいずれか1項に記載の膜付き透明基板。 In the light absorption film, α1/α2 is 0.8 or more and 2.0 or less, where α1 is an absorption coefficient at a wavelength of 436 nm, α2 is an absorption coefficient at a wavelength of 546 nm, and α3 is an absorption coefficient at a wavelength of 700 nm. The film-coated transparent substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein α3/α2 is 0.8 or more and 2.0 or less. 前記光吸収膜において、前記α1/α2が0.8以上、1.25以下であり、前記α3/α2が0.8以上、1.25以下である、請求項6に記載の膜付き透明基板。 7. The film-coated transparent substrate according to claim 6, wherein in the light absorption film, the α1/α2 is 0.8 or more and 1.25 or less, and the α3/α2 is 0.8 or more and 1.25 or less. . 前記光吸収膜において、波長λにおける吸収係数をαλとし、波長400nm~700nmにおける平均吸収係数をαAVEとしたときに、下記式(1)で示される吸収平均偏差Mが0.30以下である、請求項1~7のいずれか1項に記載の膜付き透明基板。
Figure 2023092191000006
In the light-absorbing film, when the absorption coefficient at a wavelength λ is α λ and the average absorption coefficient at a wavelength of 400 nm to 700 nm is α AVE , the absorption average deviation M represented by the following formula (1) is 0.30 or less. The film-coated transparent substrate according to any one of claims 1 to 7.
Figure 2023092191000006
前記光吸収膜上に、さらに誘電体多層膜が設けられている、請求項1~8のいずれか1項に記載の膜付き透明基板。 9. The film-coated transparent substrate according to claim 1, further comprising a dielectric multilayer film on the light absorption film. 前記透明基板上に設けられており、前記光吸収膜を含む、誘電体多層膜を備える、請求項1~8のいずれか1項に記載の膜付き透明基板。 9. The film-coated transparent substrate according to claim 1, comprising a dielectric multilayer film provided on the transparent substrate and including the light absorbing film. 前記誘電体多層膜が、相対的に屈折率が高い高屈折率膜と、相対的に屈折率が低い低屈折率膜とが交互に積層された積層膜であり、
前記高屈折率膜のうち少なくとも1層が、前記光吸収膜である、請求項10に記載の膜付き透明基板。
The dielectric multilayer film is a laminated film in which a high refractive index film with a relatively high refractive index and a low refractive index film with a relatively low refractive index are alternately laminated,
11. The film-coated transparent substrate according to claim 10, wherein at least one layer of said high refractive index film is said light absorbing film.
前記誘電体多層膜が、相対的に屈折率が高い高屈折率膜と、相対的に屈折率が低い低屈折率膜とが交互に積層された積層膜であり、
前記低屈折率膜のうち少なくとも1層が、前記光吸収膜である、請求項10に記載の膜付き透明基板。
The dielectric multilayer film is a laminated film in which a high refractive index film with a relatively high refractive index and a low refractive index film with a relatively low refractive index are alternately laminated,
11. The film-coated transparent substrate according to claim 10, wherein at least one layer of said low refractive index film is said light absorbing film.
請求項1~12のいずれか1項に記載の膜付き透明基板を備え、
前記透明基板が、調理器具が載せられる調理面及び該調理面とは反対側の裏面を有し、
前記透明基板の前記裏面上に、前記光吸収膜が配置されている、調理器用トッププレート。
A film-coated transparent substrate according to any one of claims 1 to 12,
The transparent substrate has a cooking surface on which the cooking utensil is placed and a back surface opposite to the cooking surface,
A top plate for a cooker, wherein the light absorbing film is arranged on the back surface of the transparent substrate.
加熱調理器に用いられる窓ガラスであって、
請求項1~12のいずれか1項に記載の膜付き透明基板を備え、
前記加熱調理器の加熱装置側における前記透明基板の主面上に、前記光吸収膜が配置されている、加熱調理器用窓ガラス。
A window glass used in a heating cooker,
A film-coated transparent substrate according to any one of claims 1 to 12,
A window glass for a heating cooker, wherein the light absorption film is arranged on the main surface of the transparent substrate on the heating device side of the heating cooker.
ディスプレイに用いられるカバーガラスであって、
請求項1~12のいずれか1項に記載の膜付き透明基板を備え、
前記透明基板のディスプレイが設けられる側とは反対側の主面上に、前記光吸収膜が配置されている、カバーガラス。
A cover glass used for a display,
A film-coated transparent substrate according to any one of claims 1 to 12,
A cover glass, wherein the light absorption film is arranged on the main surface of the transparent substrate opposite to the side on which the display is provided.
JP2021207258A 2021-12-21 2021-12-21 Transparent substrate with film, top plate for cooker, window glass for heating cooker, and cover glass Pending JP2023092191A (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021207258A JP2023092191A (en) 2021-12-21 2021-12-21 Transparent substrate with film, top plate for cooker, window glass for heating cooker, and cover glass
PCT/JP2022/045627 WO2023120270A1 (en) 2021-12-21 2022-12-12 Transparent substrate with film, top plate for cookers, windowpane for heating cookers, and cover glass
TW111148685A TW202334585A (en) 2021-12-21 2022-12-19 Transparent substrate with film, top plate for cookers, windowpane for heating cookers, and cover glass

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021207258A JP2023092191A (en) 2021-12-21 2021-12-21 Transparent substrate with film, top plate for cooker, window glass for heating cooker, and cover glass

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2023092191A true JP2023092191A (en) 2023-07-03

Family

ID=86902362

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021207258A Pending JP2023092191A (en) 2021-12-21 2021-12-21 Transparent substrate with film, top plate for cooker, window glass for heating cooker, and cover glass

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP2023092191A (en)
TW (1) TW202334585A (en)
WO (1) WO2023120270A1 (en)

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7096692B2 (en) * 1997-03-14 2006-08-29 Ppg Industries Ohio, Inc. Visible-light-responsive photoactive coating, coated article, and method of making same
NZ564166A (en) * 2005-05-12 2011-05-27 Agc Flat Glass Na Inc Low emissivity coating with low solar heat gain coefficient, enhanced chemical and mechanical properties and method of making the same
JP5092534B2 (en) * 2007-01-12 2012-12-05 鳴海製陶株式会社 Glass top plate for cooking device and method for manufacturing the same
JP2014156358A (en) * 2011-06-10 2014-08-28 Asahi Glass Co Ltd Optical film and glass laminate
US10551740B2 (en) * 2017-01-16 2020-02-04 AGC Inc. Transparent substrate with antireflective film having specified luminous transmittance and luminous reflectance
FR3087382B1 (en) * 2018-10-18 2022-09-09 Saint Gobain GLAZING COMPRISING A FUNCTIONAL COATING AND AN ABSORBENT COLOR ADJUSTMENT COATING
EP3992166A4 (en) * 2019-07-01 2023-07-26 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Film-covered transparent base plate and top plate for cooking device

Also Published As

Publication number Publication date
TW202334585A (en) 2023-09-01
WO2023120270A1 (en) 2023-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102640589B1 (en) Cover panel with colour-neutral coating
US8168925B2 (en) Glass-ceramic plate and method for the production thereof
US8794227B2 (en) Top plate for cooking appliance
JP4120793B2 (en) Cooker top plate
JP2006125645A (en) Top plate for cooker
WO2021002304A1 (en) Film-covered transparent base plate and top plate for cooking device
JP5182102B2 (en) Cooker top plate
JP6280437B2 (en) Painted glass ceramic plate
JP2009167088A (en) Top plate for cooking appliance and method for manufacturing the same
WO2022130953A1 (en) Film-covered transparent substrate and top plate for cooking device
WO2023120270A1 (en) Transparent substrate with film, top plate for cookers, windowpane for heating cookers, and cover glass
JP5434739B2 (en) Cooker top plate
WO2023120047A1 (en) Film-attached transparent substrate, top plate for cooker, window glass for heat cooker, and cover glass
JP2004211910A (en) Top plate for cooking device
JP2005055005A (en) Top plate for cooking device
WO2020218135A1 (en) Top plate for cooking device and top plate for display-attached cooking device
KR20220143588A (en) Platelike glass or glass-ceramic element, process for producing it and use thereof
JP2004205190A (en) Top plate for cooker
CN114620944A (en) Color neutral wear protection layer, substrate with wear protection layer and method for producing the same
JP5700229B2 (en) Cooker top plate
WO2019123756A1 (en) Top plate for cooking devices and method for manufacturing same
JP2010190482A (en) Top plate for cooker

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20211228

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221212