JP2023081751A - Method for producing water-resistant inorganic oxide hollow particles - Google Patents

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秀樹 徳田
Hideki Tokuda
修也 松下
Shuya Matsushita
賢太 増田
Kenta Masuda
紀彦 三崎
Norihiko Misaki
雄一 館山
Yuichi Tateyama
広樹 山崎
Hiroki Yamazaki
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Abstract

To provide a method for producing inorganic oxide hollow particles having excellent water resistance.SOLUTION: A method for producing water-resistant inorganic oxide hollow particles comprises: a first step of heating inorganic oxide hollow particles at a temperature within a range of -500°C±100°C relative to a melting point of the hollow particles; and a second step of slowly cooling the heated inorganic oxide hollow particles up to a temperature of 1/2±100°C of the heating temperature at an average cooling rate of 1°C/min or more and 28°C/min or less.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、耐水性無機酸化物中空粒子の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing water-resistant inorganic oxide hollow particles.

無機酸化物中空粒子は、粒子内部に空洞を有することから、熱性・軽量性に優れており、断熱材料、遮熱材料、触媒担体、建築材料、電子材料等として幅広く普及している。
従来、例えば、Al23、SiO2及びムライトを特定の割合で含み、平均円形度、平均粒子径及び殻の厚みを特定範囲内に制御した微小ムライト中空粒子(特許文献1)、シリカを含むシェル(外殻部)を有し、該シェルに内包された金属及び/又は金属化合物のナノ粒子を具備するシリカ含有中空粒子(特許文献2)等の様々な組成の無機酸化物中空粒子が提案されている。
Inorganic oxide hollow particles have cavities inside the particles, so they are excellent in heat resistance and light weight, and are widely used as heat insulating materials, heat shielding materials, catalyst carriers, building materials, electronic materials, and the like.
Conventionally, for example, hollow fine mullite particles (Patent Document 1) containing Al 2 O 3 , SiO 2 and mullite in a specific ratio and controlling the average circularity, average particle diameter and shell thickness within specific ranges, silica Inorganic oxide hollow particles of various compositions such as silica-containing hollow particles (Patent Document 2) having a shell (outer shell) containing metal and/or metal compound nanoparticles enclosed in the shell Proposed.

特開2015-218071号公報JP 2015-218071 A 特開2016-150880号公報JP 2016-150880 A

近年、情報ネットワーク技術の著しい進歩、情報ネットワークを活用したサービスの拡大により、更なる情報の高速処理、高速度伝達が望まれ、電子機器の伝送信号の高周波数化が進められているが、この高周波数化により電子機器のプリント配線板の伝送損失が大きくなる。そのため、プリント配線板に用いられる無機酸化物中空粒子には、誘電特性に優れることが求められている。
しかし、本発明者らは、無機酸化物中空粒子を含む樹脂成型物を水に浸漬したところ、誘電特性の低下という課題が存在することを見出した。その要因について究明すべく、本発明者らは浸漬した水を分析したところ、電気伝導率の上昇が確認されたことから、無機酸化物中空粒子の表面からイオン成分が溶出し、粒子表面に孔が生じて空洞内部が浸水したことが要因であると推察された。したがって、無機酸化物中空粒子を電子材料に適用するには、無機酸化物中空粒子の耐水性を向上させ、誘電特性の低下を抑制する必要がある。
本発明の課題は、耐水性に優れる無機酸化物中空粒子の製造方法、無機酸化物中空粒子の耐水性向上方法及び耐水性無機酸化物中空粒子を提供することにある。
In recent years, due to the remarkable progress of information network technology and the expansion of services utilizing information networks, further high-speed processing and transmission of information are desired, and the transmission signals of electronic devices are increasing in frequency. Higher frequencies increase the transmission loss of printed wiring boards in electronic equipment. Therefore, inorganic oxide hollow particles used in printed wiring boards are required to have excellent dielectric properties.
However, the inventors of the present invention have found that when a resin molding containing inorganic oxide hollow particles is immersed in water, there is a problem of deterioration in dielectric properties. In order to investigate the cause, the present inventors analyzed the immersed water, and confirmed an increase in electrical conductivity. It was presumed that the cause was that the inside of the cavity was flooded due to the occurrence of Therefore, in order to apply the inorganic oxide hollow particles to electronic materials, it is necessary to improve the water resistance of the inorganic oxide hollow particles and suppress the deterioration of the dielectric properties.
An object of the present invention is to provide a method for producing inorganic oxide hollow particles having excellent water resistance, a method for improving the water resistance of inorganic oxide hollow particles, and water-resistant inorganic oxide hollow particles.

本発明者らは、無機酸化物中空粒子を所定温度で加熱した後、一定の平均降温速度にて所定温度まで徐冷することで、粒子表面が緻密化して安定になり、その結果、水に浸漬したときに粒子表面からイオン成分の溶出が抑制されるため、耐水性に優れる無機酸化物中空粒子が得られることを見出した。 The present inventors have found that by heating inorganic oxide hollow particles to a predetermined temperature and then slowly cooling them to a predetermined temperature at a constant average cooling rate, the particle surfaces become dense and stable. It was found that inorganic oxide hollow particles with excellent water resistance can be obtained because the elution of ion components from the particle surface is suppressed when immersed.

すなわち、本発明は、次の〔1〕~〔6〕を提供するものである。
〔1〕無機酸化物中空粒子を、該中空粒子の融点に対して-500℃±150℃の範囲内の温度で加熱する第1の工程と、
加熱後の無機酸化物中空粒子を、加熱温度の1/2±150℃の温度まで、1℃/min以上28℃/min以下の平均降温速度にて徐冷する第2の工程
を含む、耐水性無機酸化物中空粒子の製造方法。
〔2〕第1の工程の加熱時間が15分以上である、前記〔1〕記載の耐水性無機酸化物中空粒子の製造方法。
〔3〕無機酸化物中空粒子が、周期表第1族元素、周期表第2族元素、周期表第4族元素、周期表第8族元素、周期表第9族元素、周期表第10族元素、周期表第11族元素、周期表第12族元素、周期表第13族元素、周期表第14族元素及び周期表第15族元素から選択される1又は2以上の元素を含む無機酸化物により構成されるものである、前記〔1〕又は〔2〕記載の耐水性無機酸化物中空粒子の製造方法。
〔4〕無機酸化物中空粒子を、該中空粒子の融点に対して-500℃±150℃の範囲内の温度で加熱する第1の工程と、
加熱後の無機酸化物中空粒子を、加熱温度の1/2±150℃の温度まで、1℃/min以上28℃/min以下の平均降温速度にて徐冷する第2の工程
を含む、無機酸化物中空粒子の耐水性向上方法。
〔5〕下記の方法により測定される電気伝導率が8.5mS/m以下である、耐水性無機酸化物中空粒子。
(電気伝導率の測定)
ガラスビーカー内で無機酸化物中空粒子と蒸留水とを液固比33:1(wt%)で混合し、混合液を5分間煮沸する。混合液を25℃まで冷却した後、混合液の電気伝導率を測定する。
〔6〕中空率が70%以上である、前記〔5〕記載の耐水性無機酸化物中空粒子。
That is, the present invention provides the following [1] to [6].
[1] A first step of heating inorganic oxide hollow particles at a temperature within the range of −500° C.±150° C. with respect to the melting point of the hollow particles;
Water resistant, including a second step of slowly cooling the heated inorganic oxide hollow particles to a temperature of 1/2 ± 150 ° C. of the heating temperature at an average cooling rate of 1 ° C./min or more and 28 ° C./min or less a method for producing organic inorganic oxide hollow particles.
[2] The method for producing water-resistant inorganic oxide hollow particles according to [1] above, wherein the heating time in the first step is 15 minutes or more.
[3] Inorganic oxide hollow particles are periodic table group 1 elements, periodic table group 2 elements, periodic table group 4 elements, periodic table group 8 elements, periodic table group 9 elements, periodic table group 10 elements Inorganic oxidation containing one or more elements selected from elements, Group 11 elements of the periodic table, Group 12 elements of the periodic table, Group 13 elements of the periodic table, Group 14 elements of the periodic table and Group 15 elements of the periodic table The method for producing water-resistant inorganic oxide hollow particles according to the above [1] or [2], wherein the water-resistant inorganic oxide hollow particles are composed of a substance.
[4] a first step of heating the inorganic oxide hollow particles at a temperature within the range of −500° C.±150° C. with respect to the melting point of the hollow particles;
a second step of gradually cooling the heated inorganic oxide hollow particles to a temperature of 1/2 ± 150 ° C. of the heating temperature at an average cooling rate of 1 ° C./min or more and 28 ° C./min or less; A method for improving the water resistance of oxide hollow particles.
[5] Water-resistant inorganic oxide hollow particles having an electrical conductivity of 8.5 mS/m or less as measured by the following method.
(Measurement of electrical conductivity)
Inorganic oxide hollow particles and distilled water are mixed in a glass beaker at a liquid-solid ratio of 33:1 (wt %), and the mixture is boiled for 5 minutes. After cooling the mixture to 25° C., the electrical conductivity of the mixture is measured.
[6] The water-resistant inorganic oxide hollow particles according to [5] above, which have a hollowness of 70% or more.

本発明によれば、耐水性に優れる無機酸化物中空粒子を簡便な操作で製造することができる。また、本発明の無機酸化物中空粒子は、耐水性が向上しているだけでなく、十分な中空率を有しており、誘電特性に優れるため、電子材料として特に有用である。 According to the present invention, inorganic oxide hollow particles having excellent water resistance can be produced by a simple operation. Moreover, the inorganic oxide hollow particles of the present invention not only have improved water resistance, but also have a sufficient hollowness and excellent dielectric properties, and are particularly useful as electronic materials.

〔耐水性無機酸化物中空粒子の製造方法〕
耐水性無機酸化物中空粒子の製造方法は、第1の工程と、第2の工程を含むことを特徴とする。以下、各工程について詳細に説明する。
[Method for producing water-resistant inorganic oxide hollow particles]
A method for producing water-resistant inorganic oxide hollow particles is characterized by including a first step and a second step. Each step will be described in detail below.

(準備工程)
本工程においては、第1の工程に先立ち、無機酸化物中空粒子を準備する。
ここで、本明細書において「中空粒子」とは、内部に中空構造を有する粒子であって、中空部を区画する外殻部を有する粒子をいい、粒子の表面から内部へ延びる複数の細孔を有する多孔質粒子とは異なる。なお、中空粒子は、透過型電子顕微鏡(TEM)像により多孔質粒子と区別することができる。また、「無機酸化物中空粒子」とは、中空部を区画する外殻部が無機酸化物で構成されている中空粒子をいう。
(Preparation process)
In this step, inorganic oxide hollow particles are prepared prior to the first step.
Here, the term “hollow particles” as used herein refers to particles having a hollow structure inside and having an outer shell portion that partitions the hollow portion. Unlike porous particles with Hollow particles can be distinguished from porous particles by a transmission electron microscope (TEM) image. Further, the term “inorganic oxide hollow particles” refers to hollow particles in which the outer shell portion defining the hollow portion is composed of an inorganic oxide.

無機酸化物としては、外殻部を構成することができれば特に限定されない。例えば、周期表第1族元素、周期表第2族元素、周期表第4族元素、周期表第8族元素、周期表第9族元素、周期表第10族元素、周期表第11族元素、周期表第12族元素、周期表第13族元素、周期表第14族元素及び周期表第15族元素から選択される1又は2以上の元素を含む無機酸化物を挙げることができる。無機酸化物は、1種又は2種以上含有することができる。 The inorganic oxide is not particularly limited as long as it can form the outer shell. For example, periodic table group 1 element, periodic table group 2 element, periodic table group 4 element, periodic table group 8 element, periodic table group 9 element, periodic table group 10 element, periodic table group 11 element , an inorganic oxide containing one or more elements selected from Group 12 elements of the periodic table, Group 13 elements of the periodic table, Group 14 elements of the periodic table and Group 15 elements of the periodic table. One or more inorganic oxides can be contained.

周期表第1族元素としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウムを挙げることができる。周期表第2族元素としては、例えば、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムが挙げられる。周期表第4族元素としては、例えば、チタン、ジルコニウムが挙げられる。周期表第8族元素としては、例えば、鉄、ルテニウムを挙げることができる。周期表第9族元素としては、例えば、コバルト、ロジウム、イリジウムが挙げられる。周期表第10族元素としては、例えば、ニッケル、パラジウム、白金を挙げることができる。周期表第11族元素としては、例えば、銅、銀、金が挙げられる。周期表第12族元素としては、例えば、亜鉛、カドミウムが挙げられる。周期表第13族元素としては、例えば、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウムが挙げられる。周期表第14族元素としては、例えば、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛が挙げられる。周期表第15族元素としては、例えば、リン、ヒ素、アンチモン、ビスマスを挙げることができる。 Examples of Group 1 elements of the periodic table include lithium, sodium, potassium, and cesium. Examples of Group 2 elements of the periodic table include magnesium, calcium, strontium, and barium. Examples of Group 4 elements of the periodic table include titanium and zirconium. Examples of Group 8 elements of the periodic table include iron and ruthenium. Examples of Group 9 elements of the periodic table include cobalt, rhodium, and iridium. Examples of elements of Group 10 of the periodic table include nickel, palladium, and platinum. Examples of Group 11 elements of the periodic table include copper, silver, and gold. Examples of Group 12 elements of the periodic table include zinc and cadmium. Examples of Group 13 elements of the periodic table include boron, aluminum, gallium, indium, and thallium. Examples of Group 14 elements of the periodic table include silicon, germanium, tin, and lead. Examples of Group 15 elements of the periodic table include phosphorus, arsenic, antimony, and bismuth.

中でも、本発明の効果を享受しやすい点で、周期表第1族元素、周期表第2族元素、周期表第4族元素、周期表第8族元素、周期表第11族元素、周期表第12族元素、周期表第13族元素及び周期表第14族元素から選ばれる元素を含む1又は2以上の無機酸化物が好ましく、周期表第1族元素、周期表第2族元素、周期表第8族元素、周期表第12族元素、周期表第13族元素及び周期表第14族元素から選ばれる元素を含む1又は2以上の無機酸化物がより好ましく、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、鉄、亜鉛、ホウ素、アルミニウム及びケイ素から選ばれる元素を含む1又は2以上の無機酸化物が更に好ましく、少なくともアルカリ金属酸化物、第2族元素酸化物、酸化アルミニウム、酸化ホウ素及び酸化ケイ素から選択される1又は2以上を含むものがより更に好ましい。 Among them, periodic table Group 1 elements, periodic table Group 2 elements, periodic table Group 4 elements, periodic table Group 8 elements, periodic table Group 11 elements, periodic table One or two or more inorganic oxides containing elements selected from Group 12 elements, Group 13 elements of the periodic table and Group 14 elements of the periodic table are preferable, Periodic table Group 1 elements, Periodic table Group 2 elements, periodic More preferably, one or more inorganic oxides containing elements selected from Group 8 elements of the periodic table, Group 12 elements of the periodic table, Group 13 elements of the periodic table and Group 14 elements of the periodic table, sodium, potassium, magnesium, More preferably, one or more inorganic oxides containing an element selected from calcium, iron, zinc, boron, aluminum and silicon, at least alkali metal oxides, group 2 element oxides, aluminum oxide, boron oxide and silicon oxide Even more preferred are those containing one or more selected from

無機化合物の具体例としては、例えば、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化マグネシウム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化亜鉛、酸化銅、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化ケイ素、アルミノシリケート、アルミノホウケイ酸、バリウムホウケイ酸を挙げることができる。また、無機酸化物を組み合わせた複合酸化物でも構わない。 Specific examples of inorganic compounds include sodium oxide, potassium oxide, magnesium oxide, barium oxide, calcium oxide, zinc oxide, copper oxide, aluminum oxide, iron oxide, silicon oxide, aluminosilicate, aluminoborosilicate, and barium borosilicate. can be mentioned. A composite oxide obtained by combining inorganic oxides may also be used.

無機酸化物中空粒子は、商業的に入手したものでも、合成により製造したものを使用してもよい。無機酸化物中空粒子の製造は公知の方法を採用することが可能であり、特に限定されない。例えば、ゾル-ゲル法、噴霧熱分解法を挙げることができる。ゾル-ゲル法による無機酸化物中空粒子の製造は、例えば、特開2015-044987号公報、特開2013-193950号公報を参照することが可能であり、また噴霧熱分解法による無機酸化物中空粒子の製造は、例えば、特開2003-019427号公報、特開2013-220967号公報を参照することができる。 The inorganic oxide hollow particles may be commercially available or synthetically produced. The inorganic oxide hollow particles can be produced by a known method without any particular limitation. For example, a sol-gel method and a spray pyrolysis method can be mentioned. For the production of inorganic oxide hollow particles by the sol-gel method, for example, it is possible to refer to JP-A-2015-044987 and JP-A-2013-193950. For the production of particles, for example, JP-A-2003-019427 and JP-A-2013-220967 can be referred to.

(第1の工程)
本工程においては、無機酸化物中空粒子を、該中空粒子の融点に対して-500℃±150℃の範囲内の温度で加熱する。これにより、粒子表面に十分な熱が供給され、緻密度を高めることができる。なお、融点は、熱重量示差熱分析装置(TG-DTA)を用いた示差熱分析により測定することができる。
例えば、本工程において融点が1100℃である無機酸化物中空粒子を使用する場合、加熱温度を450~750℃〔(1100℃-500℃)±150℃〕の温度範囲内に設定し、無機酸化物中空粒子を加熱する。設定温度が上記した上限値よりも高いと、粒子表面に過剰な熱が蓄積して収縮し、中空率が小さくなる。他方、設定温度が上記した下限値よりも低いと、粒子表面に十分な熱が供給されず緻密化し難いため、耐水性向上効果が見られない。かかる観点から、加熱温度は、無機酸化物中空粒子の融点に対して-500℃±100℃の範囲内とすることが好ましい。
(First step)
In this step, the inorganic oxide hollow particles are heated to a temperature within the range of −500° C.±150° C. relative to the melting point of the hollow particles. Thereby, sufficient heat is supplied to the particle surface, and the density can be increased. The melting point can be measured by differential thermal analysis using a thermogravimetric differential thermal analyzer (TG-DTA).
For example, when inorganic oxide hollow particles having a melting point of 1100° C. are used in this step, the heating temperature is set within the temperature range of 450 to 750° C. [(1100° C.-500° C.)±150° C.], and the inorganic oxidation Heat the hollow particles. If the set temperature is higher than the above upper limit, excessive heat accumulates on the surface of the particles, causing them to shrink and the hollowness to decrease. On the other hand, if the set temperature is lower than the above-described lower limit, sufficient heat is not supplied to the particle surface, making it difficult to densify the particles, so that the effect of improving the water resistance is not observed. From this point of view, the heating temperature is preferably within the range of −500° C.±100° C. with respect to the melting point of the inorganic oxide hollow particles.

無機酸化物中空粒子の加熱方法は、無機酸化物中空粒子を所定の温度に加熱することができれば特に限定されない。例えば、無機酸化物中空粒子を坩堝に収容し、それを所定の温度に保持された加熱装置内で加熱すればよい。
加熱装置としては、加熱温度に耐え得る装置であれば特に限定されないが、例えば、電気炉、ガス炉、オイル炉を挙げることができる。
加熱は、常圧で行えばよく、加圧又は真空とすることを要しない。
加熱する際の雰囲気は、大気雰囲気下でも、不活性ガス雰囲気下でもよく、これらの混合ガスの雰囲気下でも構わない。不活性ガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、アルゴンが挙げられる。
A method for heating the inorganic oxide hollow particles is not particularly limited as long as the inorganic oxide hollow particles can be heated to a predetermined temperature. For example, the inorganic oxide hollow particles may be placed in a crucible and heated in a heating device maintained at a predetermined temperature.
The heating device is not particularly limited as long as it can withstand the heating temperature, and examples thereof include an electric furnace, a gas furnace, and an oil furnace.
Heating may be performed at normal pressure, and pressurization or vacuum is not required.
The atmosphere during heating may be an air atmosphere, an inert gas atmosphere, or an atmosphere of a mixed gas of these. Inert gases include, for example, nitrogen, helium, and argon.

加熱時間は、短すぎると粒子表面に十分な熱が供給されず緻密化し難いため、耐水性向上効果が不十分になりやすい。そのため、加熱時間は、15分以上が好ましく、20分以上がより好ましく、25分以上が更に好ましい。また、加熱時間が長すぎると、粒子表面に過剰な熱が蓄積して収縮し、中空率が小さくなる傾向にある。そのため、加熱時間は、60分以下が好ましく、50分以下がより好ましく、40分以下が更に好ましい。 If the heating time is too short, sufficient heat will not be supplied to the particle surface and densification will be difficult, so that the effect of improving the water resistance tends to be insufficient. Therefore, the heating time is preferably 15 minutes or longer, more preferably 20 minutes or longer, and even more preferably 25 minutes or longer. On the other hand, if the heating time is too long, excessive heat accumulates on the surface of the particles, shrinking the particles, and the hollowness tends to decrease. Therefore, the heating time is preferably 60 minutes or less, more preferably 50 minutes or less, and even more preferably 40 minutes or less.

(第2の工程)
本工程においては、加熱後の無機酸化物中空粒子を、第1の工程で設定した加熱温度の1/2±150℃の温度まで、1℃/min以上28℃/min以下の平均降温速度にて徐冷する。これにより、粒子表面が緻密化された状態を安定に保持することができる。その結果、無機酸化物中空粒子が水と接触したときに粒子表面からのイオン成分の溶出が抑制され、無機酸化物中空粒子に耐水性を付与することができる。
例えば、第1の工程において無機酸化物中空粒子を500℃で加熱した場合、本工程では100~400℃〔(500℃/2)±150℃〕の温度にまで徐冷する。徐冷後の目標到達温度を1/2±150℃よりも低い温度に設定すると、積算温度(℃・min)が過多になり、粒子表面に過剰な熱が蓄積して収縮し、中空率が小さくなる。他方、徐冷後の目標到達温度を加熱温度の1/2±150℃よりも高い温度に設定すると、積算温度(℃・min)が不足して十分な熱が供給されず緻密化し難いため、耐水性向上効果が得られない。かかる観点から、第2の工程の温度は、加熱温度の1/2±100℃の範囲内に設定することが好ましい。
(Second step)
In this step, the inorganic oxide hollow particles after heating are heated to a temperature of 1/2±150° C. of the heating temperature set in the first step, at an average cooling rate of 1° C./min or more and 28° C./min or less. Slowly cool. As a result, the state in which the particle surface is densified can be stably maintained. As a result, when the inorganic oxide hollow particles come into contact with water, elution of ion components from the particle surface is suppressed, and water resistance can be imparted to the inorganic oxide hollow particles.
For example, when the inorganic oxide hollow particles are heated at 500° C. in the first step, they are slowly cooled to a temperature of 100 to 400° C. [(500° C./2)±150° C.] in this step. If the target temperature after slow cooling is set to a temperature lower than 1/2 ± 150 ° C, the accumulated temperature (° C. min) becomes excessive, excessive heat accumulates on the particle surface and shrinks, resulting in a hollow rate. become smaller. On the other hand, if the target temperature after slow cooling is set to a temperature higher than 1/2 ± 150 ° C. of the heating temperature, the accumulated temperature (° C. min) is insufficient and sufficient heat is not supplied, making it difficult to densify. The effect of improving water resistance cannot be obtained. From this point of view, it is preferable to set the temperature of the second step within a range of 1/2±100° C. of the heating temperature.

本工程では、無機酸化物中空粒子を所定の平均降温速度で徐冷するが、本明細書において「平均降温速度」とは、第1の工程の設定温度から第2の工程の設定温度まで降温するときの平均速度を意味し、第1の工程の設定温度、第2の工程の設定温度及び降温に要した時間に基づいて、下記式により算出することができる。 In this step, the inorganic oxide hollow particles are slowly cooled at a predetermined average cooling rate. It can be calculated by the following formula based on the set temperature of the first step, the set temperature of the second step, and the time required for temperature decrease.

平均徐冷速度(℃/min)=(A-B)/C
〔式中、Aは、第1の工程の設定温度(℃)を示し、Bは、第2の工程の設定温度(℃)を示し、Cは、第1の工程の設定温度(℃)から第2の工程の設定温度(℃)まで到達するのに要した時間(分)を示す。〕
Average slow cooling rate (°C/min) = (AB)/C
[In the formula, A indicates the set temperature (° C.) for the first step, B indicates the set temperature (° C.) for the second step, and C indicates the set temperature (° C.) for the first step. The time (minutes) required to reach the set temperature (°C) of the second step is shown. ]

例えば、第1の工程において無機酸化物中空粒子を500℃で加熱し、本工程で30分掛けて無機酸化物中空粒子を350℃まで徐冷する場合、平均徐冷速度は、5℃/min〔(500℃-350℃)/30分〕となる。 For example, when the inorganic oxide hollow particles are heated at 500° C. in the first step and slowly cooled to 350° C. over 30 minutes in this step, the average slow cooling rate is 5° C./min. [(500° C.-350° C.)/30 minutes].

平均降温速度が速すぎると、積算温度(℃・min)が不足して十分な熱が供給されず緻密化し難いため、耐水性向上効果が不十分となる。そのため、平均降温速度は、1℃/min以上25℃/min以下が好ましく、1℃/min以上20℃/min以下がより好ましく、1℃/min以上15℃/min以下が更に好ましい。 If the average cooling rate is too fast, the accumulated temperature (° C.·min) is insufficient and sufficient heat is not supplied, making it difficult to densify, resulting in an insufficient improvement in water resistance. Therefore, the average cooling rate is preferably 1° C./min or more and 25° C./min or less, more preferably 1° C./min or more and 20° C./min or less, and even more preferably 1° C./min or more and 15° C./min or less.

無機酸化物中空粒子の徐冷方法は特に限定されないが、例えば、第1及び第2の工程において温度及び時間を制御自在の加熱装置を使用し、第1の工程終了から所定時間経過したときに、第1の工程の設定温度から第2の工程の設定温度まで到達するように加熱装置の温度及び降温時間を設定すればよい。
そして、第2の工程の設定温度に到達したときに、加熱装置から無機酸化物中空粒子を取り出し、室温になるまで放冷すればよい。例えば、取り出した無機酸化物中空粒子をデシケーター内で無機酸化物中空粒子の温度が室温になるまで保管することができる。
The slow cooling method of the inorganic oxide hollow particles is not particularly limited. , the temperature of the heating device and the cooling time may be set so that the set temperature of the first step reaches the set temperature of the second step.
Then, when the set temperature of the second step is reached, the inorganic oxide hollow particles are taken out from the heating device and allowed to cool to room temperature. For example, the taken-out inorganic oxide hollow particles can be stored in a desiccator until the temperature of the inorganic oxide hollow particles reaches room temperature.

本発明の製造方法により得られた耐水性無機酸化物中空粒子は、後掲の耐水性無機酸化物中空粒子において説明する特性を具備することができる。 The water-resistant inorganic oxide hollow particles obtained by the production method of the present invention can have the properties described below for the water-resistant inorganic oxide hollow particles.

〔耐水性無機酸化物中空粒子〕
本発明の耐水性無機酸化物中空粒子は、水に浸漬したとしても粒子表面からイオン成分が溶出し難いという特性を具備している。
純粋な水は、ほとんど電気を通さないため、電気伝導率は非常に小さな値である。しかし、無機酸化物中空粒子を水に浸漬させると、粒子表面からイオン成分が溶出し、水に含まれるイオン量が増加して電気伝導率が上昇する。このように、イオン溶出量は電気伝導率と相関があるため、無機酸化物中空粒子を水に浸漬したときの電気伝導率の上昇が抑えられれば、耐水性に優れると判断することができる。
具体的には、下記の方法で電気伝導率を測定したときに、8.5mS/m以下に抑えることができる。かかる電気伝導率は、耐水性向上の観点から、8.0mS/m以下が好ましく、7.5mS/m以下がより好ましく、7.0mS/m以下が更に好ましい。なお、電気伝導率は、電気伝導率計を用いて測定することができる。
[Water-resistant inorganic oxide hollow particles]
The water-resistant inorganic oxide hollow particles of the present invention have the property that ion components are less likely to elute from the particle surface even when immersed in water.
Pure water has a very low electrical conductivity because it hardly conducts electricity. However, when the inorganic oxide hollow particles are immersed in water, ionic components are eluted from the particle surfaces, the amount of ions contained in water increases, and the electrical conductivity increases. Thus, since the ion elution amount is correlated with the electrical conductivity, it can be judged that the water resistance is excellent if the increase in the electrical conductivity is suppressed when the inorganic oxide hollow particles are immersed in water.
Specifically, when the electrical conductivity is measured by the following method, it can be suppressed to 8.5 mS/m or less. From the viewpoint of improving water resistance, the electrical conductivity is preferably 8.0 mS/m or less, more preferably 7.5 mS/m or less, and even more preferably 7.0 mS/m or less. The electrical conductivity can be measured using an electrical conductivity meter.

(電気伝導率の測定)
ガラスビーカー内で無機酸化物中空粒子と蒸留水とを液固比33:1(wt%)で混合し、混合液を5分間煮沸する。混合液を25℃まで冷却した後、混合液の電気伝導率を測定する。
(Measurement of electrical conductivity)
Inorganic oxide hollow particles and distilled water are mixed in a glass beaker at a liquid-solid ratio of 33:1 (wt %), and the mixture is boiled for 5 minutes. After cooling the mixture to 25° C., the electrical conductivity of the mixture is measured.

また、本発明の耐水性無機酸化物中空粒子は、十分な中空率を有している。本発明の耐水性無機酸化物中空粒子の中空率は、通常70%以上であり、好ましくは75%以上である。なお、中空率は、見かけ密度と真密度とから下記式により求めることができる。 Moreover, the water-resistant inorganic oxide hollow particles of the present invention have a sufficient hollowness. The hollowness of the water-resistant inorganic oxide hollow particles of the present invention is usually 70% or more, preferably 75% or more. The hollowness can be calculated from the apparent density and the true density by the following formula.

中空率=(真密度-見かけ密度)×100/真密度 Hollow ratio = (true density - apparent density) x 100/true density

本発明の耐水性無機酸化物中空粒子は、平均粒子径が、通常0.5~50μmであり、好ましくは0.5~20μmであり、更に好ましくは1~10μmである。ここで、本明細書において「平均粒子径」とは、JIS R 1629に準拠して試料の粒度分布を体積基準で作成したときに積算分布曲線の50%に相当する粒子径(d50)を意味する。なお、粒子径分布測定装置として、例えば、マイクロトラック(日機装株式会社製)を使用することができる。 The water-resistant inorganic oxide hollow particles of the present invention generally have an average particle size of 0.5 to 50 μm, preferably 0.5 to 20 μm, more preferably 1 to 10 μm. Here, the "average particle size" as used herein means the particle size (d50) corresponding to 50 % of the cumulative distribution curve when the particle size distribution of the sample is created on a volume basis in accordance with JIS R 1629. means. As a particle size distribution measuring device, for example, Microtrac (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) can be used.

本発明の表面被覆無機酸化物中空粒子は、外殻部の厚みが、通常50nm~1μmであり、好ましくは50~500nmである。このような外殻部の厚みとすることで、中空部が十分確保されるため、優れた断熱性、遮熱性、誘電特性を発現することができる。なお、外殻部の厚みは、透過型電子顕微鏡(TEM)像から測定できる。 The thickness of the outer shell portion of the surface-coated inorganic oxide hollow particles of the present invention is usually 50 nm to 1 μm, preferably 50 to 500 nm. By setting the thickness of the outer shell portion in such a manner, the hollow portion is sufficiently secured, so that excellent heat insulating properties, heat shielding properties, and dielectric properties can be exhibited. The thickness of the outer shell can be measured from a transmission electron microscope (TEM) image.

本発明の耐水性無機酸化物中空粒子は、例えば、断熱材料、遮熱材料、触媒担体、建築材料、電子材料に適用することが可能であり、耐水性が高く、誘電特性に優れることから、とりわけ電子材料に適用することが好ましい。 The water-resistant inorganic oxide hollow particles of the present invention can be applied, for example, to heat-insulating materials, heat-shielding materials, catalyst carriers, building materials, and electronic materials. Application to electronic materials is particularly preferred.

本発明の耐水性無機酸化物中空粒子は、上記した特性を具備すれば適宜の方法により製造することができるが、例えば、上記において説明した本発明の耐水性無機酸化物中空粒子の製造方法により製造することができる。 The water-resistant inorganic oxide hollow particles of the present invention can be produced by an appropriate method as long as they have the properties described above. can be manufactured.

〔無機酸化物中空粒子の耐水性向上方法〕
本発明の無機酸化物中空粒子の耐水性向上方法は、本発明の耐水性無機酸化物中空粒子の製造方法と同様に、第1の工程と、第2の工程を含むことを特徴とする。また、本発明の耐水性向上方法は、上記した製造方法と同様に準備工程を含んでいてもよい。なお、準備工程、第1の工程及び第2の工程の程の具体的構成は、上記において説明したとおりである。
[Method for improving water resistance of inorganic oxide hollow particles]
The method for improving the water resistance of inorganic oxide hollow particles of the present invention is characterized by including a first step and a second step, like the method for producing water-resistant inorganic oxide hollow particles of the present invention. Further, the method for improving water resistance of the present invention may include a preparatory step like the manufacturing method described above. The specific configurations of the preparation process, the first process, and the second process are as described above.

以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、下記の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The embodiments of the present invention will now be described more specifically with reference to Examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

1.中空率の測定
乾式自動密度計としてアキュピック(島津製作所製)を使用し、無機酸化物中空粒子の見かけ密度と真密度を測定し、下記式により算出した。なお、真密度は、空洞部分を取り除くために、箱型電気炉にて融点以上で6時間加熱した後、冷却して乾式自動密度計で測定した。
1. Measurement of Hollowness Ratio Acupic (manufactured by Shimadzu Corporation) was used as a dry automatic densitometer to measure the apparent density and true density of the inorganic oxide hollow particles, which were calculated according to the following formula. The true density was measured by a dry automatic densitometer after heating at the melting point or above for 6 hours in a box-shaped electric furnace to remove voids, followed by cooling.

中空率(%)=(真密度-見かけ密度)×100/真密度 Hollow ratio (%) = (true density - apparent density) x 100/true density

2.融点の測定
熱重量示差熱分析装置(TG-DTA)を用いて無機酸化物中空粒子の示差熱分析を行い、得られたDTA曲線における吸熱ピークから融点を判断した。
2. Measurement of Melting Point Differential thermal analysis of the inorganic oxide hollow particles was performed using a thermogravimetric differential thermal analyzer (TG-DTA), and the melting point was determined from the endothermic peak in the obtained DTA curve.

3.電気伝導率の測定
無機酸化物中空粒子と蒸留水をガラスビーカーにて液固比33:1(wt%)で混合し、混合液をヒーターにて加熱して5分間煮沸した。その後、混合液を25℃まで冷却し、電気伝導率計(HORIBA社製)を用いて混合液の電気伝導率を測定した。
3. Measurement of Electrical Conductivity Inorganic oxide hollow particles and distilled water were mixed in a glass beaker at a liquid-solid ratio of 33:1 (wt %), and the mixture was heated with a heater and boiled for 5 minutes. After that, the mixed liquid was cooled to 25° C., and the electric conductivity of the mixed liquid was measured using an electric conductivity meter (manufactured by HORIBA).

製造例1
反応容器内に原料無機化合物含有水溶液を投入し、原料無機化合物含有水溶液を3時間攪拌した。このとき水溶液の液温を、チラーを用いて5℃に調整した。なお、原料無機化合物含有水溶液は、硝酸カルシウム(大崎工業製)を0.045mol/L、硝酸アルミニウム(博光化学工業製)を0.091mol/L、オルトケイ酸テトラエチル(多摩化学工業製)を0.215mol/L、ホウ酸(米山化学工業)を0.270mol/Lとなるように水道水に溶解して調製した。続いて、この原料無機化合物含有水溶液を3流体ノズルに送液し、ノズルから噴霧熱分解炉内に原料無機化合物含有水溶液を噴霧し、1150℃で焼成して無機酸化物中空粒子を回収した。得られた無機酸化物中空粒子は、融点が1100℃であった。
Production example 1
The raw material inorganic compound-containing aqueous solution was put into the reaction vessel, and the raw material inorganic compound-containing aqueous solution was stirred for 3 hours. At this time, the liquid temperature of the aqueous solution was adjusted to 5°C using a chiller. The raw material inorganic compound-containing aqueous solution contained 0.045 mol/L of calcium nitrate (manufactured by Osaki Kogyo), 0.091 mol/L of aluminum nitrate (manufactured by Hikoh Kagaku Kogyo), and 0.04 mol/L of tetraethyl orthosilicate (manufactured by Tama Kagaku Kogyo). 215 mol/L and boric acid (Yoneyama Chemical Co., Ltd.) were dissolved in tap water so as to have a concentration of 0.270 mol/L. Subsequently, the raw material inorganic compound-containing aqueous solution was fed to a three-fluid nozzle, and the raw material inorganic compound-containing aqueous solution was sprayed from the nozzle into the spray pyrolysis furnace and fired at 1150° C. to recover inorganic oxide hollow particles. The obtained inorganic oxide hollow particles had a melting point of 1100°C.

比較例1
製造例1で得られた無機酸化物中空粒子について、中空率及び電気伝導率の測定を行った。その結果を表1に示す。
Comparative example 1
The hollowness and electrical conductivity of the inorganic oxide hollow particles obtained in Production Example 1 were measured. Table 1 shows the results.

実施例1
製造例1で得られた無機酸化物中空粒子3gを30mLのアルミナ製坩堝に入れ、これを500℃に保持した卓上型高速昇温電気炉にて30分間加熱した。次いで、この電気炉内で加熱後の無機酸化物中空粒子を1℃/minの平均降温速度にて350℃まで徐冷した。次いで、350℃到達時に電気炉から取り出し、デシケーター内で室温となるまで放冷した。なお、平均降温速度は、150分で加熱装置の温度が500℃から350℃に到達するように電気炉の温度及び降温時間を設定し、制御した。そして、冷却後の無機酸化物中空粒子について、中空率及び電気伝導率の測定を行った。その結果を表1に示す。
Example 1
3 g of the inorganic oxide hollow particles obtained in Production Example 1 were placed in a 30 mL alumina crucible and heated at 500° C. for 30 minutes in a desktop high-speed heating electric furnace. Next, the inorganic oxide hollow particles after heating were gradually cooled to 350° C. at an average cooling rate of 1° C./min in the electric furnace. Then, when it reached 350°C, it was taken out from the electric furnace and allowed to cool to room temperature in a desiccator. The average cooling rate was controlled by setting the temperature of the electric furnace and the cooling time so that the temperature of the heating device reached 500° C. to 350° C. in 150 minutes. Then, the hollowness and electrical conductivity of the cooled inorganic oxide hollow particles were measured. Table 1 shows the results.

実施例2~17及び比較例2~11
表1に示す温度と時間で無機酸化物中空粒子を加熱し、加熱後の無機酸化物中空粒子を、表1に示す平均降温速度にて表1に示す温度まで徐冷したこと以外は、実施例1と同様の操作により行った。そして、冷却後の無機酸化物中空粒子について、中空率及び電気伝導率の測定を行った。その結果を表1に示す。
Examples 2-17 and Comparative Examples 2-11
The inorganic oxide hollow particles were heated at the temperature and time shown in Table 1, and the inorganic oxide hollow particles after heating were gradually cooled to the temperature shown in Table 1 at the average cooling rate shown in Table 1. The same procedure as in Example 1 was carried out. Then, the hollowness and electrical conductivity of the cooled inorganic oxide hollow particles were measured. Table 1 shows the results.

Figure 2023081751000001
Figure 2023081751000001

表1から、次のことがわかる。
第1の工程において、無機酸化物中空粒子を、該中空粒子の融点(1100℃)に対して-500℃±150℃よりも低い400℃の温度で加熱すると、粒子表面に十分な熱が供給されず緻密化し難いため、耐水性向上効果は見られなかった(比較例2~5)。
一方、融点に対して-500℃±150℃よりも高い800℃の温度で加熱すると、粒子表面に過剰な熱が蓄積して中空率が小さくなった(比較例6)。
また、第2の工程において、加熱後の無機酸化物中空粒子を徐冷する際、徐冷後の目標到達温度を加熱温度の1/2±150℃よりも高い温度とすると、積算温度(℃・min)が不足して粒子表面に十分な熱が供給されず緻密化し難いため、耐水性向上効果は見られなかった(比較例7)。
一方、徐冷後の目標到達温度を1/2±150℃よりも低い温度とすると、積算温度(℃・min)が過多になり、粒子表面に過剰な熱が蓄積して中空率が小さくなった(比較例8)。
更に、第2の工程において、加熱後の無機酸化物中空粒子を30℃/minの平均降温速度で急冷すると、積算温度(℃・min)が不足して粒子表面に十分な熱が供給されず緻密化し難いため、耐水性向上効果は見られなかった(比較例9~11)。
これに対し、無機酸化物中空粒子を、該中空粒子の融点(1100℃)に対して-500℃±150℃の範囲内の温度で加熱し、次いで加熱後の無機酸化物中空粒子を、加熱温度の1/2±150℃の温度まで、1℃/min以上28℃/min以下の平均降温速度にて徐冷することで、粒子表面が緻密化して安定になり、粒子表面からイオン成分の溶出が抑制され、耐水性が向上した(実施例1~17)。
Table 1 shows the following.
In the first step, when the inorganic oxide hollow particles are heated at a temperature of 400° C., which is lower than −500° C.±150° C. relative to the melting point (1100° C.) of the hollow particles, sufficient heat is supplied to the particle surfaces. Since it was hard to densify because it was hard to densify, the effect of improving water resistance was not observed (Comparative Examples 2 to 5).
On the other hand, when the particles were heated at a temperature of 800° C., which is higher than −500° C.±150° C. with respect to the melting point, excessive heat was accumulated on the particle surfaces and the hollowness decreased (Comparative Example 6).
In the second step, when slowly cooling the inorganic oxide hollow particles after heating, if the target temperature after slow cooling is set to a temperature higher than 1/2 ± 150 ° C. of the heating temperature, the integrated temperature (° C.・min) was insufficient, and sufficient heat was not supplied to the particle surface, making it difficult to densify the particles, so no improvement in water resistance was observed (Comparative Example 7).
On the other hand, if the target temperature after slow cooling is lower than 1/2 ± 150 ° C., the accumulated temperature (° C. min) becomes excessive, excessive heat accumulates on the particle surface, and the hollowness decreases. (Comparative Example 8).
Furthermore, in the second step, if the inorganic oxide hollow particles after heating are quenched at an average cooling rate of 30° C./min, the accumulated temperature (° C. min) is insufficient and sufficient heat is not supplied to the particle surface. Since it was difficult to densify, no improvement in water resistance was observed (Comparative Examples 9 to 11).
On the other hand, the inorganic oxide hollow particles are heated at a temperature within the range of −500° C.±150° C. with respect to the melting point (1100° C.) of the hollow particles, and then the inorganic oxide hollow particles after heating are heated. Slow cooling at an average cooling rate of 1°C/min or more and 28°C/min or less to a temperature of 1/2 ± 150°C of the temperature makes the particle surface densified and stable, and the ion component is removed from the particle surface. Elution was suppressed and water resistance was improved (Examples 1 to 17).

Claims (6)

無機酸化物中空粒子を、該中空粒子の融点に対して-500℃±150℃の範囲内の温度で加熱する第1の工程と、
加熱後の無機酸化物中空粒子を、加熱温度の1/2±150℃の温度まで、1℃/min以上28℃/min以下の平均降温速度にて徐冷する第2の工程
を含む、耐水性無機酸化物中空粒子の製造方法。
a first step of heating the inorganic oxide hollow particles at a temperature within the range of −500° C.±150° C. with respect to the melting point of the hollow particles;
Water resistant, including a second step of slowly cooling the heated inorganic oxide hollow particles to a temperature of 1/2 ± 150 ° C. of the heating temperature at an average cooling rate of 1 ° C./min or more and 28 ° C./min or less a method for producing organic inorganic oxide hollow particles.
第1の工程の加熱時間が15分以上である、請求項1記載の耐水性無機酸化物中空粒子の製造方法。 2. The method for producing water-resistant inorganic oxide hollow particles according to claim 1, wherein the heating time in the first step is 15 minutes or longer. 無機酸化物中空粒子が、周期表第1族元素、周期表第2族元素、周期表第4族元素、周期表第8族元素、周期表第9族元素、周期表第10族元素、周期表第11族元素、周期表第12族元素、周期表第13族元素、周期表第14族元素及び周期表第15族元素から選択される1又は2以上の元素を含む無機酸化物により構成されるものである、請求項1又は2記載の耐水性無機酸化物中空粒子の製造方法。 Inorganic oxide hollow particles are periodic table group 1 elements, periodic table group 2 elements, periodic table group 4 elements, periodic table group 8 elements, periodic table group 9 elements, periodic table group 10 elements, period Consists of an inorganic oxide containing one or more elements selected from Group 11 elements of the periodic table, Group 12 elements of the periodic table, Group 13 elements of the periodic table, Group 14 elements of the periodic table and Group 15 elements of the periodic table The method for producing water-resistant inorganic oxide hollow particles according to claim 1 or 2, wherein the water-resistant inorganic oxide hollow particles are 無機酸化物中空粒子を、該中空粒子の融点に対して-500℃±150℃の範囲内の温度で加熱する第1の工程と、
加熱後の無機酸化物中空粒子を、加熱温度の1/2±150℃の温度まで、1℃/min以上28℃/min以下の平均降温速度にて徐冷する第2の工程
を含む、無機酸化物中空粒子の耐水性向上方法。
a first step of heating the inorganic oxide hollow particles at a temperature within the range of −500° C.±150° C. with respect to the melting point of the hollow particles;
a second step of gradually cooling the heated inorganic oxide hollow particles to a temperature of 1/2 ± 150 ° C. of the heating temperature at an average cooling rate of 1 ° C./min or more and 28 ° C./min or less; A method for improving the water resistance of oxide hollow particles.
下記の方法により測定される電気伝導率が8.5mS/m以下である、耐水性無機酸化物中空粒子。
(電気伝導率の測定)
ガラスビーカー内で無機酸化物中空粒子と蒸留水とを液固比33:1(wt%)で混合し、混合液を5分間煮沸する。混合液を25℃まで冷却した後、混合液の電気伝導率を測定する。
Water-resistant inorganic oxide hollow particles having an electrical conductivity of 8.5 mS/m or less as measured by the following method.
(Measurement of electrical conductivity)
Inorganic oxide hollow particles and distilled water are mixed in a glass beaker at a liquid-solid ratio of 33:1 (wt %), and the mixture is boiled for 5 minutes. After cooling the mixture to 25° C., the electrical conductivity of the mixture is measured.
中空率が70%以上である、請求項5記載の耐水性無機酸化物中空粒子。 6. The water-resistant inorganic oxide hollow particles according to claim 5, having a hollowness of 70% or more.
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