JP2023064469A - Conductive resin composition, conductive adhesive, cured product, and semiconductor device - Google Patents

Conductive resin composition, conductive adhesive, cured product, and semiconductor device Download PDF

Info

Publication number
JP2023064469A
JP2023064469A JP2021174774A JP2021174774A JP2023064469A JP 2023064469 A JP2023064469 A JP 2023064469A JP 2021174774 A JP2021174774 A JP 2021174774A JP 2021174774 A JP2021174774 A JP 2021174774A JP 2023064469 A JP2023064469 A JP 2023064469A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
conductive
conductive resin
composition according
cured product
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2021174774A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
政義 大友
Masayoshi Otomo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Namics Corp
Original Assignee
Namics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Namics Corp filed Critical Namics Corp
Priority to JP2021174774A priority Critical patent/JP2023064469A/en
Publication of JP2023064469A publication Critical patent/JP2023064469A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

To provide a conductive resin composition which is useful as a conductive material for a flexible hybrid electronics field, especially, a conductive connection material for a wearable application and an electronic shelf label, is a low temperature drying type, and has high flexibility.SOLUTION: A conductive resin composition contains (A) a thermoplastic resin having a ratio (hard segment: soft segment) of a hard segment to a soft segment of 1:99 to 50:50, and has a weight average molecular weight of 25,000 or more, (B) an organic solvent having a boiling point of 155-205°C, and (C) conductive particles.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、フレキシブル・ハイブリッド・エレクトロニクス(以下、FHEという)分野などで用いられる導電性樹脂組成物に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a conductive resin composition used in the field of flexible hybrid electronics (hereinafter referred to as FHE).

近年、インターネットを利用したウェアラブルアプリケーションへの注目が高まっており、スポーツやヘルスケア分野を中心に、生体センサーなどFHE分野のアプリケーションの開発が行なわれている。 In recent years, wearable applications using the Internet have attracted increasing attention, and applications in the field of FHE, such as biosensors, are being developed mainly in the fields of sports and healthcare.

ウェアラブルアプリケーションとしては、リストバンドや衣服、メガネなどの人体への装着を目的とした開発が進められており、人体表面の屈曲や伸長に対応した材料が求められている。 As for wearable applications, wristbands, clothes, eyeglasses, etc. are being developed for the purpose of being attached to the human body, and materials that can accommodate the bending and stretching of the human body surface are required.

これらアプリケーションでは、あらゆるものに電気的機能を付与する際、配線の形成とともに、センサー、キャパシタ、プロセッサーやメモリー等の実装が必要となる。FHE分野において、これらフレキシブル配線板上に実装するプロセッサーやメモリー等の半導体には伸長性を持たせることができないため、これらの半導体をフレキシブル配線基板上に実装するための低弾性な導電性接着剤が求められている。 In these applications, it is necessary to form wiring and mount sensors, capacitors, processors, memories, etc., when giving electrical functions to everything. In the field of FHE, since semiconductors such as processors and memories mounted on these flexible wiring boards cannot be stretchable, low-elasticity conductive adhesives for mounting these semiconductors on flexible wiring boards are used. is required.

導電性接着剤としては、例えば、下記特許文献1には『(A)1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有するポリイミドシリコーン樹脂、(B)エポキシ樹脂、および(C)導電性金属粉末を含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物』が開示されている。 As a conductive adhesive, for example, Patent Document 1 below describes "(A) a polyimide silicone resin having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, (B) an epoxy resin, and (C) a conductive metal powder. A curable resin composition characterized by containing

下記特許文献2には、『(A)エポキシ樹脂、(B)(メタ)アクリロイル基及びグリシジル基を有する化合物、(C)フェノール樹脂系硬化剤、(D)ラジカル重合開始剤、並びに(E)導電性粒子を含有することを特徴とする導電性樹脂組成物』が開示されている。 Patent Document 2 below describes "(A) an epoxy resin, (B) a compound having a (meth)acryloyl group and a glycidyl group, (C) a phenolic resin-based curing agent, (D) a radical polymerization initiator, and (E) A conductive resin composition characterized by containing conductive particles” is disclosed.

下記特許文献3には、『(A)式:-R-O-[式中、Rは炭素数1~10の炭化水素基である。]で示される繰り返し単位を有する主鎖および加水分解性シリル基である末端基を有するポリエーテル重合体、ならびに(B)銀粒子を含む導電性接着剤』が開示されている。 Patent Document 3 below discloses a compound having the formula "(A): -R 1 -O- [wherein R 1 is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. ] and a polyether polymer having a terminal group which is a hydrolyzable silyl group, and (B) a conductive adhesive comprising silver particles.

下記特許文献4には、『導電性粉末、熱硬化性シリコーン樹脂、および溶媒を含む導電性接着剤』が開示されている。 Patent Document 4 below discloses "a conductive adhesive containing a conductive powder, a thermosetting silicone resin, and a solvent".

特開2005-113059号公報JP 2005-113059 A 国際公開第2013/035685号公報International Publication No. 2013/035685 特開2018-048286号公報JP 2018-048286 A 特表2011-510139号公報Japanese Patent Publication No. 2011-510139

しかしながら、上記特許文献1の硬化性樹脂組成物は、低弾性でなく、すなわち柔軟性がないため、接着剤にした場合に剥離、割れ等が生じるおそれがある。また、上記特許文献2の導電性樹脂組成物も、硬化物の弾性率が高く、FHE分野向けには適しているとはいえない。
このように従来の接続材料は硬化物の弾性率が高く、例えば、ウェアラブルアプリケーション等の人の動きに追従する必要があるアプリケーションに適用すると、人体の動きに追従できずに部品が脱落したり、人の動きそのものを阻害したりする場合がある。
However, the curable resin composition of Patent Literature 1 does not have low elasticity, that is, does not have flexibility, and therefore peeling, cracking, etc. may occur when used as an adhesive. Moreover, the conductive resin composition of Patent Document 2 also has a high elastic modulus of the cured product, and is not suitable for the FHE field.
In this way, conventional connecting materials have a high elastic modulus when cured. It may interfere with the movement of people.

また、ウェアラブルアプリケーションに電気的機能を付与するとき、基材として使用されるのは、プラスチックや熱可塑性ポリウレタン(TPU)等の熱に弱い素材であるため、従来のはんだや熱硬化性のエポキシ樹脂系導電性接着剤を用いた接続方法では、はんだ融点の温度、導電性接着剤の硬化温度に耐えることができず、基材そのものがダメージを受けてしまう可能性がある。上記特許文献3の導電性接着剤は、柔軟性はあるものの、硬化温度が高く(185℃程度)、また、抵抗値が高いという問題がある。また、上記特許文献4の導電性接着剤は、硬化温度が高く(200℃×60分)、また、抵抗値が高いという問題がある。 In addition, when adding electrical functions to wearable applications, heat-sensitive materials such as plastics and thermoplastic polyurethanes (TPU) are used as base materials, so conventional solders and thermosetting epoxy resins are used. In a connection method using a conductive adhesive, the base material itself may be damaged because it cannot withstand the melting point of the solder and the curing temperature of the conductive adhesive. Although the conductive adhesive of Patent Document 3 has flexibility, it has problems of a high curing temperature (about 185° C.) and a high resistance value. In addition, the conductive adhesive of Patent Document 4 has problems of a high curing temperature (200° C.×60 minutes) and a high resistance value.

従ってFHE分野のアプリケーションのための導電性接続材料としては、フレキシブル/ストレッチャブル性(柔軟/伸縮性)を有し、低温プロセス可能であることの2点が重要である。 Therefore, as a conductive connecting material for applications in the field of FHE, two important points are that it has flexible/stretchable properties (flexibility/elasticity) and that it can be processed at a low temperature.

特に、FHE分野のアプリケーションの一つであるウェアラブルアプリケーションには伸縮(ストレッチャブル)性が求められ、伸縮に追従するために伸縮性を有した導電性接続材料が求められる。 In particular, wearable applications, which are one of the applications in the field of FHE, are required to be elastic (stretchable), and elastic conductive connection materials are required in order to follow the expansion and contraction.

一方、FHE分野のアプリケーションの一つとして、ESL(Electrical Shelf Label;電子棚ラベル)も挙げられる。ESLは、その使用態様の一つとして基材を湾曲させた使用態様も想定されることから、導電性接続材料にも柔軟性が求められる。
さらに、FHE分野、例えばESL向けの導電性接続材料としては、基材として使用されるのは、プラスチックや熱可塑性ポリウレタン(TPU)等の熱に弱い素材であるため、70℃以下という低温で乾燥硬化することが求められている。
On the other hand, ESL (Electrical Shelf Label) is one of the applications in the FHE field. ESL is expected to be used in a curved base material as one of its usage modes, so the conductive connecting material is also required to have flexibility.
Furthermore, in the FHE field, for example, as a conductive connecting material for ESL, the base material used is a heat-sensitive material such as plastic or thermoplastic polyurethane (TPU), so it can be dried at a low temperature of 70 ° C or less. Curing is required.

そこで、本発明の目的は、上記課題に鑑み、FHE分野向けの導電性材料、特にウェアラブルアプリケーションやESL向けの導電性接続材料として有用な低温乾燥型で伸縮(ストレッチャブル)性が高い導電性樹脂組成物を提供することにある。 Therefore, in view of the above problems, the object of the present invention is a conductive resin for the FHE field, particularly a low-temperature drying type and highly stretchable conductive resin useful as a conductive connection material for wearable applications and ESL. The object is to provide a composition.

本発明の一形態の導電性樹脂組成物は、(A)ハードセグメントとソフトセグメントの比率(ハードセグメント:ソフトセグメント)が1:99~50:50であり、かつ、重量平均分子量が25,000以上である熱可塑性樹脂、(B)沸点が155℃~205℃である有機溶剤、(C)導電性粒子を含むことを特徴とする。 The conductive resin composition of one embodiment of the present invention has (A) a ratio of hard segments to soft segments (hard segments:soft segments) of 1:99 to 50:50 and a weight average molecular weight of 25,000. (B) an organic solvent having a boiling point of 155° C. to 205° C.; and (C) conductive particles.

上記形態の導電性樹脂組成物は、(A)熱可塑性樹脂が、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、これらの水素化物、水素化物を変性した変性共重合体水素化物から選択される少なくとも一つであるのが好ましい。 In the conductive resin composition of the above embodiment, (A) the thermoplastic resin is a polystyrene-based resin, a polyolefin-based resin, a polyvinyl chloride-based resin, a polyurethane-based resin, a polyester-based resin, a polyamide-based resin, a polybutadiene-based resin, or any of these It is preferably at least one selected from hydrides and modified copolymer hydrides obtained by modifying hydrides.

上記形態の導電性樹脂組成物は、(C)導電性粒子と(A)熱可塑性樹脂との質量比((C):(A))が95:5~80:20であるのが好ましい。 In the conductive resin composition of the above embodiment, the mass ratio ((C):(A)) of (C) the conductive particles and (A) the thermoplastic resin is preferably 95:5 to 80:20.

上記形態の導電性樹脂組成物は、(C)導電性粒子の平均粒子径(D50)が1μm~25μmであるのが好ましい。 In the above-described conductive resin composition, (C) the conductive particles preferably have an average particle size (D50) of 1 μm to 25 μm.

上記形態の導電性樹脂組成物は、(C)導電性粒子が表面処理された銀粒子を含むのが好ましい。 The conductive resin composition of the above embodiment preferably contains (C) silver particles having surface-treated conductive particles.

上記形態の導電性樹脂組成物は、(C)導電性粒子のBET値に対するイグロス値の比(イグロス値/BET値)が1.2以上であるのが好ましい。 In the conductive resin composition of the above embodiment, it is preferable that the (C) ratio of the igross value to the BET value of the conductive particles (igross value/BET value) is 1.2 or more.

上記形態の導電性樹脂組成物は、さらに、(D)分散剤を含むのが好ましい。 The conductive resin composition of the above form preferably further contains (D) a dispersant.

上記形態の導電性樹脂組成物は、回転式粘度計で、25℃、10rpmの粘度が40Pa・s~200Pa・sであるのが好ましい。 The conductive resin composition of the above embodiment preferably has a viscosity of 40 Pa·s to 200 Pa·s at 25° C. and 10 rpm with a rotary viscometer.

上記形態の導電性樹脂組成物は、導電性樹脂組成物を70℃30分間の加熱条件で乾燥硬化させたとき、硬化物の常温時における伸び率が70%以上であるのが好ましく、硬化物の比抵抗値が10×10-3Ω・cm以下であるのが好ましく、硬化物の残留溶剤量が樹脂組成物全量に対し25質量部以下であるのが好ましい。 In the conductive resin composition of the above form, when the conductive resin composition is dried and cured under heating conditions of 70° C. for 30 minutes, the elongation of the cured product at room temperature is preferably 70% or more. is preferably 10×10 −3 Ω·cm or less, and the amount of residual solvent in the cured product is preferably 25 parts by mass or less based on the total amount of the resin composition.

上記形態の導電性樹脂組成物は、FHE用途に好適である。 The conductive resin composition of the above form is suitable for FHE applications.

上記形態の導電性樹脂組成物は、導電性接着剤に含ませるのが好ましく、或いは、硬化させて硬化物にするのが好ましい。 The conductive resin composition of the above form is preferably contained in a conductive adhesive, or cured to form a cured product.

上記形態の導電性樹脂組成物の硬化物を半導体装置に備えるのが好ましい。また、この硬化物を基材に積層して積層構造体にすることもできる。この積層構造体は電子部品に用いるのが好ましい。 It is preferable to equip a semiconductor device with the cured product of the conductive resin composition of the above-described form. Also, this cured product can be laminated on a substrate to form a laminate structure. This laminated structure is preferably used for electronic components.

本発明によれば、FHE分野向けの導電性材料、特にウェアラブルアプリケーションやESL向けの導電性材料として有用な低温乾燥型で伸縮(ストレッチャブル)性が高い導電性樹脂組成物を提供することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a conductive resin composition useful as a conductive material for the field of FHE, especially as a conductive material for wearable applications and ESL, which is dry at low temperature and has high stretchability. .

伸び率測定に使用する試験片形状を示した図である。It is the figure which showed the test piece shape used for elongation measurement.

以下、本発明の一実施形態の導電性樹脂組成物について説明する。但し、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。 A conductive resin composition according to one embodiment of the present invention will be described below. However, the present invention is not limited to this embodiment.

<導電性樹脂組成物>
本発明の一実施形態の導電性樹脂組成物(以下、本導電性樹脂組成物という。)は、(A)ハードセグメントとソフトセグメントの比率(ハードセグメント:ソフトセグメント)が1:99~50:50であり、かつ、重量平均分子量が25,000以上である熱可塑性樹脂、(B)沸点が155℃~205℃である有機溶剤、(C)導電性粒子を含むことを特徴とする。
<Conductive resin composition>
The conductive resin composition of one embodiment of the present invention (hereinafter referred to as the conductive resin composition) has (A) a ratio of hard segments and soft segments (hard segment:soft segment) of 1:99 to 50: 50 and a weight average molecular weight of 25,000 or more, (B) an organic solvent having a boiling point of 155° C. to 205° C., and (C) conductive particles.

<(A)熱可塑性樹脂>
(A)熱可塑性樹脂は、ハードセグメントとソフトセグメントの比率(ハードセグメント:ソフトセグメント)が1:99~50:50であるのが好ましい。
この範囲にすることにより、本導電性樹脂組成物に適度な柔軟性を付与することができる。このような観点から、ハードセグメント:ソフトセグメントは、10:90~45:55であることがより好ましく、30:70~40:60であることがさらに好ましい。
<(A) Thermoplastic resin>
(A) The thermoplastic resin preferably has a hard segment to soft segment ratio (hard segment:soft segment) of 1:99 to 50:50.
By setting the content within this range, it is possible to impart appropriate flexibility to the present conductive resin composition. From this point of view, the ratio of hard segment:soft segment is more preferably 10:90 to 45:55, more preferably 30:70 to 40:60.

本発明において、ハードセグメントとは(A)熱可塑性樹脂中の剛直性がある部分であり、高ガラス転移温度(Tg)セグメントを示す。ソフトセグメントとは(A)熱可塑性樹脂中の柔軟性がある部分であり、低ガラス転移温度(Tg)セグメントを示す。特に、ガラス転移温度(Tg)が150℃未満のハードセグメントと、ガラス転移温度(Tg)が0℃未満のソフトセグメントとのブロック共重合体がより好適である。なお、ガラス転移点Tgは示差走査熱量測定(DSC)により測定される。
なお、(A)熱可塑性樹脂全体のガラス転移温度(Tg)は、-60℃~120℃が好ましく、-50℃~100℃がより好ましく、-40℃~80℃が更に好ましい。この範囲にすることにより、本導電性樹脂組成物に適度な柔軟性を付与することができる。
In the present invention, the hard segment (A) is a portion having rigidity in the thermoplastic resin and indicates a high glass transition temperature (Tg) segment. The soft segment (A) is a flexible portion in the thermoplastic resin and indicates a low glass transition temperature (Tg) segment. In particular, a block copolymer of a hard segment with a glass transition temperature (Tg) of less than 150°C and a soft segment with a glass transition temperature (Tg) of less than 0°C is more preferable. The glass transition point Tg is measured by differential scanning calorimetry (DSC).
The glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin (A) as a whole is preferably -60°C to 120°C, more preferably -50°C to 100°C, and still more preferably -40°C to 80°C. By setting the content within this range, it is possible to impart appropriate flexibility to the present conductive resin composition.

(A)熱可塑性樹脂は、ハードセグメントとソフトセグメントとを有する限り、特に制限はなく、例えば、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、これらの水素化物、水素化物を変性した変性共重合体水素化物から選択される少なくとも1種を用いることができ、2種以上を併用してもよい。 (A) The thermoplastic resin is not particularly limited as long as it has a hard segment and a soft segment. Examples include polystyrene resins, polyolefin resins, polyvinyl chloride resins, polyurethane resins, polyester resins, and polyamide resins. , polybutadiene-based resins, hydrides thereof, and hydrides of modified copolymers obtained by modifying the hydrides.

より具体的には、ポリスチレン系樹脂として、例えば、ソフトセグメントにポリブタジエン、ポリイソプレンなど、ハードセグメントにポリスチレンを用いたものを挙げることができる。
ポリオレフィン系樹脂として、例えば、ソフトセグメントにエチレンプロピレンゴム、ハードセグメントにポリプロピレンを用いたものを挙げることができる。
ポリ塩化ビニル系樹脂として、例えば、ソフトセグメントにポリ塩化ビニル、ハードセグメントにポリ塩化ビニルを用いたものを挙げることができる。
ポリウレタン系樹脂として、例えば、ソフトセグメントにポリエーテル又はポリエステル、ハードセグメントにポリウレタンを用いたものを挙げることができる。
ポリエステル系樹脂として、例えば、ソフトセグメントにポリエーテル、ハードセグメントにポリエステルを用いたものを挙げることができる。
ポリアミド系樹脂として、例えば、ソフトセグメントにポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリエステル又はポリエーテル、ハードセグメントにポリアミド(ナイロン樹脂)を用いたものを挙げることができる。
ポリブタジエン系樹脂として、例えば、ソフトセグメントに非晶性ブチルゴム、ハードセグメントにシンジオタクチック1,2-ポリブタジエン樹脂を用いたものを挙げることができる。
これらの水素化物、水素化物を変性した変性共重合体水素化物などを用いることもできる。
More specifically, examples of polystyrene-based resins include polybutadiene, polyisoprene, and the like for soft segments and polystyrene for hard segments.
Examples of polyolefin-based resins include those using ethylene propylene rubber for the soft segment and polypropylene for the hard segment.
Examples of polyvinyl chloride-based resins include those using polyvinyl chloride for the soft segment and polyvinyl chloride for the hard segment.
Examples of polyurethane-based resins include those using polyether or polyester for the soft segment and polyurethane for the hard segment.
Examples of polyester-based resins include those using polyether for the soft segment and polyester for the hard segment.
Examples of polyamide-based resins include those using polypropylene glycol, polytetramethylene ether glycol, polyester or polyether for soft segments, and polyamide (nylon resin) for hard segments.
Examples of polybutadiene-based resins include those using amorphous butyl rubber for soft segments and syndiotactic 1,2-polybutadiene resin for hard segments.
These hydrides, modified copolymer hydrides obtained by modifying the hydrides, and the like can also be used.

(A)熱可塑性樹脂は、ポリウレタン系樹脂又はポリエステル系樹脂を主成分とすることが好ましい。
なお、主成分とは、(A)熱可塑性樹脂中に最大の割合で配合された成分をいい、具体的には、好ましくは80質量%以上、より好ましくは90質量%以上、さらに好ましくは95質量%以上(100質量%を含む)をいう。
(A) The thermoplastic resin preferably contains a polyurethane-based resin or a polyester-based resin as a main component.
In addition, the main component refers to the component that is blended in the thermoplastic resin (A) at the maximum ratio. % or more (including 100% by mass).

(A)熱可塑性樹脂は、重量平均分子量が25,000以上であるのが好ましい。熱可塑樹脂の分子量が低すぎる場合には、本導電性樹脂組成物の柔軟性が低くなるという問題が生じるため、好ましくない。
一方、熱可塑性樹脂の分子量が高すぎる場合には、所定の粘度とするために溶剤の配合量を多くすることが必要になり、溶剤配合量が多くなると、塗膜の膜厚が薄くなるという問題が生じる場合がある。そのため、(A)熱可塑性樹脂の分子量が上記範囲であることにより、粘度、伸長特性及び硬化物の電気抵抗値を、バランス良く適切なものにすることができる。
このような観点から、(A)熱可塑性樹脂の重量平均分子量は、25,000以上あることがより好ましく、30,000以上であることがさらに好ましく、34,000以上であることが特に好ましい。上限値は、特に限定するものではないが、300,000以下あることが好ましく、250,000以下であることがより好ましく、200,000以下であることがさらに好ましい。
(A) The thermoplastic resin preferably has a weight average molecular weight of 25,000 or more. If the molecular weight of the thermoplastic resin is too low, the problem arises that the flexibility of the present conductive resin composition is low, which is not preferred.
On the other hand, if the molecular weight of the thermoplastic resin is too high, it will be necessary to increase the amount of solvent blended in order to achieve the desired viscosity. Problems can arise. Therefore, when the molecular weight of (A) the thermoplastic resin is within the above range, the viscosity, the elongation property, and the electric resistance value of the cured product can be appropriately balanced.
From this point of view, the weight average molecular weight of the thermoplastic resin (A) is more preferably 25,000 or more, even more preferably 30,000 or more, and particularly preferably 34,000 or more. Although the upper limit is not particularly limited, it is preferably 300,000 or less, more preferably 250,000 or less, and even more preferably 200,000 or less.

(A)熱可塑性樹脂の具体例としては、熱可塑性ポリウレタンエラストマー「ミラクトラン(登録商標)」(日本ミラクトラン株式会社製)、水添スチレン系熱可塑性エラストマー(SEBS)「タフテック(登録商標)」(旭化成株式会社製)、飽和共重合ポリエステル樹脂「エリーテル(登録商標)」(ユニチカ株式会社製)などを挙げることができる。 (A) Specific examples of thermoplastic resins include thermoplastic polyurethane elastomer "Milactran (registered trademark)" (manufactured by Nippon Miractran Co., Ltd.), hydrogenated styrene thermoplastic elastomer (SEBS) "Tuftec (registered trademark)" (Asahi Kasei Ltd.), saturated copolyester resin "Elytel (registered trademark)" (manufactured by Unitika Ltd.), and the like.

(A)熱可塑性樹脂は、(A)熱可塑性樹脂と(C)導電性粒子との合計に対して(A)熱可塑性樹脂の比率が5質量部~20質量部であることが好ましく、7質量部~20質量部であることがより好ましく、7質量部~18質量部であることがさらに好ましい。この範囲にすることにより、柔軟/伸縮性を有し、かつ良好な比抵抗を有する硬化物を得ることができる。 (A) thermoplastic resin, the ratio of (A) thermoplastic resin to the total of (A) thermoplastic resin and (C) conductive particles is preferably 5 parts by mass to 20 parts by mass, 7 It is more preferably from 7 parts by mass to 20 parts by mass, and even more preferably from 7 parts by mass to 18 parts by mass. By setting the content within this range, a cured product having flexibility/stretchability and good specific resistance can be obtained.

<(B)有機溶剤>
(B)有機溶剤は、(A)熱可塑性樹脂を溶解するものであり、沸点が155℃~205℃であることが好ましい。
155℃以上であることにより、作業性を維持しつつ、本導電性樹脂組成物の70℃以下での低温乾燥が可能になる。一方、205℃を超える場合には、乾燥のための加熱の際に、溶剤を十分に除去できず、塗膜の乾燥性が悪化する可能性がある。このような観点から、(B)有機溶剤の沸点は155℃~190℃であることがより好ましく、155℃~180℃であることが特に好ましい。
<(B) Organic solvent>
The (B) organic solvent dissolves the (A) thermoplastic resin, and preferably has a boiling point of 155°C to 205°C.
When the drying temperature is 155°C or higher, it becomes possible to dry the present conductive resin composition at a low temperature of 70°C or lower while maintaining workability. On the other hand, when it exceeds 205°C, the solvent cannot be sufficiently removed during heating for drying, and the drying property of the coating film may deteriorate. From this point of view, the boiling point of the (B) organic solvent is more preferably 155°C to 190°C, particularly preferably 155°C to 180°C.

(B)有機溶剤は、例えば、アミン系溶剤、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤などを用いることができ、2種以上を併用してもよい。 (B) The organic solvent can be, for example, an amine-based solvent, an alcohol-based solvent, a ketone-based solvent, or the like, and two or more of them may be used in combination.

より具体的には、アミン系溶剤として、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルアミン、sec-ブチルアミン、tert-ブチルアミン、ジブチルアミン、ジイソブチルアミン、トリブチルアミン、ペンチルアミン、ジペンチルアミン、トリペンチルアミン、2-エチルヘキシルアミン、アリルアミン、アニリン、N-メチルアニリン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ジエチレントリアミン、ホルムアミド、N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、アセトアミド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルプロピオンアミド、2-ピロリドン、N-メチルピロリドン、ε-カプロラクタム、カルバミド酸エステル等を挙げることができる。
アルコール系溶剤として、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール(IPA)、ベンジルアルコール等を挙げることができる。
ケトン系溶剤として、アセトン、メチルエチルケトン、2-ペンタノン、3-ペンタノン、2-ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、2-ヘプタノン、4-ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセトニルアセトン、メシチルオキシド、ホロン、イソホロン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等を挙げることができる。
More specifically, the amine solvent includes diethylamine, triethylamine, propylamine, isopropylamine, dipropylamine, diisopropylamine, butylamine, isobutylamine, sec-butylamine, tert-butylamine, dibutylamine, diisobutylamine, tributylamine, pentylamine, dipentylamine, tripentylamine, 2-ethylhexylamine, allylamine, aniline, N-methylaniline, ethylenediamine, propylenediamine, diethylenetriamine, formamide, N-methylformamide, N,N-dimethylformamide, N,N-diethyl Formamide, acetamide, N-methylacetamide, N,N-dimethylacetamide, N-methylpropionamide, 2-pyrrolidone, N-methylpyrrolidone, ε-caprolactam, carbamic acid ester and the like can be mentioned.
Methanol, ethanol, isopropyl alcohol (IPA), benzyl alcohol and the like can be mentioned as alcohol solvents.
Ketone solvents include acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, 3-pentanone, 2-hexanone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, 4-heptanone, diisobutyl ketone, acetonylacetone, mesityl oxide, phorone, isophorone, cyclohexanone, Methylcyclohexanone etc. can be mentioned.

沸点が155℃~205℃有機溶剤の具体例としては、アノン(シクロヘキサノン)(日本アルコール販売株式会社製)、DEDG(ジエチレングリコールジエチルエーテル)(東邦化学工業株式会社製)、アセトフェノン(東京化成工業株式会社製)、EC(オクサリスケミカルズ株式会社製)、DBE(INVISTA製)、EBA(富士フイルム和光純薬製)、シェルゾールMC311(オクサリスケミカルズ株式会社製)、DIBK(三協化学株式会社製)、ブチルセロソルブ(大伸化学株式会社製)、3-メトキシブチルアセテート(株式会社ダイセル製)、EEP(三協化学株式会社製)、ソルフィット(株式会社クラレ製)、オルソジクロルベンゼン(株式会社クレハ製)などを挙げることができる。 Specific examples of organic solvents with a boiling point of 155 ° C. to 205 ° C. include anone (cyclohexanone) (manufactured by Nippon Alcohol Sales Co., Ltd.), DEDG (diethylene glycol diethyl ether) (manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.), acetophenone (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. ), EC (manufactured by Oxalis Chemicals Co., Ltd.), DBE (manufactured by INVISTA), EBA (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), Shellsol MC311 (manufactured by Oxalis Chemicals Co., Ltd.), DIBK (manufactured by Sankyo Chemical Co., Ltd.) , Butyl cellosolve (manufactured by Daishin Chemical Co., Ltd.), 3-Methoxybutyl acetate (manufactured by Daicel Co., Ltd.), EEP (manufactured by Sankyo Chemical Co., Ltd.), Solfit (manufactured by Kuraray Co., Ltd.), Orthodichlorobenzene (manufactured by Kureha Co., Ltd.) ) and the like.

(B)有機溶剤は、特に限定するものではないが、(A)熱可塑性樹脂100質量部に対して、100質量部~700質量部が好ましく、150質量部~600質量部がより好ましく、200質量部~400質量部がさらに好ましい。この範囲であることにより、良好に熱可塑樹脂を溶解し、70℃以下での低温乾燥でも優れた塗膜を形成することができる。
(B)有機溶剤は、(A)熱可塑性樹脂の重量の4倍程度の重量を用いることにより、適切に溶解することができる。
なお、有機溶剤は、樹脂組成物の粘度の調整のために、樹脂組成物に対して、適宜、追加して添加することができる。
(B) The organic solvent is not particularly limited, but is preferably 100 parts by mass to 700 parts by mass, more preferably 150 parts by mass to 600 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the thermoplastic resin (A). Parts by mass to 400 parts by mass are more preferable. Within this range, the thermoplastic resin can be satisfactorily dissolved, and an excellent coating film can be formed even when dried at a low temperature of 70° C. or less.
The organic solvent (B) can be appropriately dissolved by using a weight of about four times the weight of the thermoplastic resin (A).
In addition, the organic solvent can be added as appropriate to the resin composition in order to adjust the viscosity of the resin composition.

<(C)導電性粒子>
(C)導電性粒子は、本導電性樹脂組成物に導電性及び/又は熱導電性を付与するために用いられる。特に限定するものではないが、電気伝導率が106S/m以上であるのが好ましい。(C)導電性粒子には、金属粉の他、コート粉も含まれる。コート粉とは、核(コア粒子)を導電性物質で被覆したものである。この核は非導電性物質でもよい。
<(C) Conductive particles>
(C) Conductive particles are used to impart conductivity and/or thermal conductivity to the present conductive resin composition. Although not particularly limited, the electrical conductivity is preferably 10<6> S/m or more. (C) Conductive particles include not only metal powder but also coated powder. A coated powder is a core (core particle) coated with a conductive substance. This core may be a non-conducting material.

(C)導電性粒子は、例えば、金、銀、ニッケル、銅、パラジウム、白金、ビスマス、錫、これらの合金(特に、ビスマス-錫合金、はんだ等)、アルミニウム、インジウム錫酸化物、銀被覆銅、銀被覆アルミニウム、金属被覆ガラス球、銀被覆繊維、銀被覆樹脂、アンチモンドープ錫、酸化錫、炭素繊維、グラファイト、カーボンブラックおよびこれらの混合物が挙げられる。
中でも、導電性や熱導電性を考慮すると、好ましくは、銀、ニッケル、銅、錫、アルミニウム、銀合金、ニッケル合金、銅合金、錫合金およびアルミニウム合金からなる群から選択される少なくとも1種の金属、より好ましくは、銀、銅およびニッケルからなる群から選択される少なくとも1種の金属、更に好ましくは、銀または銅、最も好ましくは、銀である。
(C) conductive particles, for example, gold, silver, nickel, copper, palladium, platinum, bismuth, tin, alloys thereof (especially bismuth-tin alloys, solder, etc.), aluminum, indium tin oxide, silver-coated Copper, silver-coated aluminum, metal-coated glass spheres, silver-coated fibers, silver-coated resins, antimony-doped tin, tin oxide, carbon fibers, graphite, carbon black and mixtures thereof.
Among them, considering electrical conductivity and thermal conductivity, preferably at least one selected from the group consisting of silver, nickel, copper, tin, aluminum, silver alloys, nickel alloys, copper alloys, tin alloys and aluminum alloys. Metal, more preferably at least one metal selected from the group consisting of silver, copper and nickel, more preferably silver or copper, most preferably silver.

(C)導電性粒子の形状は、特に限定するものではないが、球状、不定形、フレーク状(鱗片状)、フィラメント状(針状)および樹枝状などのいずれであってもよい。ここで、フレーク状とは、「長径/短径」の比(アスペクト比)が2以上の形状をいい、板状、鱗片状等の平板状の形状を含む。(C)導電性粒子を構成する粒子の長径および短径は、走査型電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscope)から得られる画像に基づいて求めることができる(n=20)。「長径」とは、SEMにより得られた粒子画像内において、粒子の略重心を通過する線分のうち最も距離の長い径をいい、「短径」とは、SEMにより得られた粒子画像において、粒子の略重心を通過する線分のうち最も距離の短いものをいう。
なお、粒子の形状は、異なる形状を有する粒子の組み合わせであっても良い。
(C) The shape of the conductive particles is not particularly limited, but may be spherical, amorphous, flake-like (scale-like), filament-like (needle-like), dendritic, or the like. Here, the flake shape refers to a shape having a ratio of “major axis/minor axis” (aspect ratio) of 2 or more, and includes plate-like shapes such as plate-like and scale-like shapes. (C) The major diameter and minor diameter of particles constituting the conductive particles can be obtained based on an image obtained from a scanning electron microscope (SEM) (n=20). The “major axis” refers to the longest diameter of the line segment passing through the approximate center of gravity of the particle in the particle image obtained by SEM, and the “minor axis” refers to the particle image obtained by SEM. , the shortest line segment passing through the center of gravity of the particle.
Note that the shape of the particles may be a combination of particles having different shapes.

(C)導電性粒子は、特に限定するものではないが、タップ密度が1.5g/cm 以上が好ましく、2.0g/cm ~6.0g/cm がより好ましい。ここで、タップ密度は、JIS Z 2512 金属粉-タップ密度測定法に準拠して測定することができる。
タップ密度が低すぎると、本導電性樹脂組成物の硬化物中に(C)導電性粒子を高密度に分散にさせることが難しく、硬化物の導電性が低下しやすい。一方、タップ密度が高すぎると、本導電性樹脂組成物中で(C)導電性粒子の分離、沈降が生じやすくなる。
(C) The conductive particles are not particularly limited, but preferably have a tap density of 1.5 g/cm 3 or more, more preferably 2.0 g/cm 3 to 6.0 g/cm 3 . Here, the tap density can be measured according to JIS Z 2512 metal powder-tap density measurement method.
If the tap density is too low, it will be difficult to disperse (C) the conductive particles in the cured product of the present conductive resin composition at a high density, and the conductivity of the cured product will tend to decrease. On the other hand, if the tap density is too high, separation and sedimentation of the (C) conductive particles tend to occur in the present conductive resin composition.

(C)導電性粒子は、平均粒子径(D50)が1μm~25μmであるのが好ましい。
この範囲であることにより、本導電性樹脂組成物中での(C)導電性粒子の分散性が良好になる。
このような観点から、1μm~20μmであることがより好ましく、2μm~20μmであることがさらに好ましい。
なお、平均粒子径(D50)は、レーザー回折法で測定した体積基準の粒度分布における累積頻度が50%の粒径(メジアン径)をいう。
(C) The conductive particles preferably have an average particle size (D50) of 1 μm to 25 μm.
Within this range, the dispersibility of the (C) conductive particles in the present conductive resin composition is improved.
From such a point of view, it is more preferably 1 μm to 20 μm, further preferably 2 μm to 20 μm.
The average particle size (D50) refers to a particle size (median size) with a cumulative frequency of 50% in a volume-based particle size distribution measured by a laser diffraction method.

(C)導電性粒子は、表面処理された銀粒子を含むのが好ましい。表面処理された銀粒子を含むことにより本導電性樹脂組成物の電気抵抗を小さくすることができ、また、粒子の分散性を向上させることができる。
表面処理は、液状の脂肪酸、固形の脂肪酸又は脂肪族アミンを用いて行うことができる。
液状の脂肪酸としては、例えば、酪酸、吉草酸、カプロン酸、ヘプタン酸、カプリル酸、ペラルゴン酸等の飽和脂肪酸、ミリストレイン酸、パルミトレイン酸、リシノール酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸等の不飽和脂肪酸を挙げることができる。これらの脂肪酸は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
固形の脂肪酸としては、例えば、カプリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸等の炭素原子数10以上の飽和脂肪酸、クロトン酸、ソルビン酸等の不飽和脂肪酸を挙げることができる。
脂肪族アミンとしては、例えば、イソブチルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、オレイルアミン、2-エチルヘキシルオキシプロピルアミンおよび3-ラウリルオキシプロピルアミン等を挙げることができる。
中でも、ステアリン酸、オレイン酸で表面処理されるのが好ましい。
(C) The conductive particles preferably include surface-treated silver particles. By containing surface-treated silver particles, the electrical resistance of the conductive resin composition can be reduced, and the dispersibility of the particles can be improved.
The surface treatment can be done with liquid fatty acids, solid fatty acids or fatty amines.
Examples of liquid fatty acids include saturated fatty acids such as butyric acid, valeric acid, caproic acid, heptanoic acid, caprylic acid and pelargonic acid; Saturated fatty acids can be mentioned. These fatty acids may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
Examples of solid fatty acids include saturated fatty acids having 10 or more carbon atoms such as capric acid, palmitic acid and stearic acid, and unsaturated fatty acids such as crotonic acid and sorbic acid.
Examples of aliphatic amines include isobutylamine, octylamine, decylamine, dodecylamine, hexadecylamine, octadecylamine, oleylamine, 2-ethylhexyloxypropylamine and 3-lauryloxypropylamine.
Among them, the surface treatment with stearic acid or oleic acid is preferable.

(C)導電性粒子は、特に限定するものではないが、BET値(比表面積)が4.0m /g以下であるのが好ましい。BET値(比表面積)が大き過ぎると、ペースト化する際に、粘度が高くなり、取り扱い性が低下しやすくなる。一方、BET値(比表面積)が小さ過ぎると、銀粒子同士の接触面積が小さくなり、導電性が低下する。
このような観点から、0.1m /g~3.0m /gであるのがより好ましく、0.1m /g~2.0m /gであるのがさらに好ましい。
なお、BET値(比表面積)は、BET法で測定することができる。
(C) The conductive particles are not particularly limited, but preferably have a BET value (specific surface area) of 4.0 m 2 /g or less. If the BET value (specific surface area) is too large, the viscosity becomes high when making a paste, and the handleability tends to deteriorate. On the other hand, when the BET value (specific surface area) is too small, the contact area between silver particles becomes small, resulting in a decrease in electrical conductivity.
From such a viewpoint, it is more preferably 0.1 m 2 /g to 3.0 m 2 /g, and even more preferably 0.1 m 2 /g to 2.0 m 2 /g.
The BET value (specific surface area) can be measured by the BET method.

(C)導電性粒子は、特に限定するものではないが、イグロス値(強熱減量)が0.1%~3.0%であるのが好ましい。イグロス値(強熱減量)が小さ過ぎると、導電性粒子の分散性が悪くなる。一方、イグロス値(強熱減量)が大き過ぎるとAgフィラー同士の接触が悪くなり、本導電性樹脂組成物の硬化物の比抵抗値が悪くなる。
このような観点から、イグロス値(強熱減量)が0.15%~2.0%であるのがより好ましく、0.15%~1.5%であるのがさらに好ましい。
なお、イグロス値(強熱減量)は、(C)導電性粒子の表面に存在する表面処理剤の量(質量%)を示し、(C)導電性粒子を800℃で30分間焼成した後の残分の質量から算出することができる。
(C) The conductive particles are not particularly limited, but preferably have an igross value (ignition loss) of 0.1% to 3.0%. If the igross value (loss on ignition) is too small, the dispersibility of the conductive particles will be poor. On the other hand, if the igross value (loss on ignition) is too large, contact between the Ag fillers becomes poor, and the specific resistance value of the cured product of the present conductive resin composition becomes poor.
From this point of view, the igross value (loss on ignition) is more preferably 0.15% to 2.0%, more preferably 0.15% to 1.5%.
The igross value (loss on ignition) indicates (C) the amount (% by mass) of the surface treatment agent present on the surface of the conductive particles, and (C) the conductive particles after firing at 800° C. for 30 minutes. It can be calculated from the mass of the residue.

(C)導電性粒子は、BET値に対するイグロス値の比(イグロス値/BET値)が1.2~6.0であるのが好ましい。
(C)導電性粒子のBET値に対するイグロス値の比が小さい場合、比表面積に対する表面処理剤の量が小さく、(C)導電性粒子の分散性が悪くなる。分散性が悪くなると、低沸点の溶剤に分散する際に、分散時間が長くなってしまい、滞留時間が長くなり、(C)導電性粒子分散工程において溶剤の揮発量が多くなってしまう。一方、(C)導電性粒子のBET値に対するイグロス値の比が大きい場合、比表面積に対する表面処理剤の量が大きく、(C)導電性粒子のAgフィラー同士の接触が悪くなり、本導電性樹脂組成物の硬化物の比抵抗値が悪くなる。
このような観点から、BET値に対するイグロス値の比が1.2~5.0であるのがより好ましく、1.3~3.0であるのがさらに好ましい。
(C) The conductive particles preferably have a ratio of igross value to BET value (igross value/BET value) of 1.2 to 6.0.
(C) When the ratio of the igross value to the BET value of the conductive particles is small, the amount of the surface treatment agent relative to the specific surface area is small, and (C) the dispersibility of the conductive particles is poor. If the dispersibility deteriorates, the dispersing time becomes long when dispersing in a solvent having a low boiling point, the residence time becomes long, and the volatilization amount of the solvent increases in (C) the step of dispersing the conductive particles. On the other hand, when the ratio of the igross value to the BET value of the (C) conductive particles is large, the amount of the surface treatment agent with respect to the specific surface area is large, and the contact between the Ag fillers of the (C) conductive particles is poor, resulting in the present conductivity. The specific resistance value of the cured product of the resin composition deteriorates.
From this point of view, the ratio of the egross value to the BET value is more preferably 1.2 to 5.0, more preferably 1.3 to 3.0.

(C)導電性粒子の具体例としては、フレーク状銀紛であるAGC-GS又はAGC-B2(いずれも福田金属箔紛株式会社製)、フレーク状銀紛であるFA618(DOWAエレクトロニクス株式会社製)などを挙げることができる。 (C) Specific examples of the conductive particles include flaky silver powder AGC-GS or AGC-B2 (both manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd.), flaky silver powder FA618 (manufactured by DOWA Electronics Co., Ltd. ) and the like.

(C)導電性粒子は、本導電性樹脂組成物中で、(C)導電性粒子と(A)熱可塑性樹脂との質量比((C):(A))が80:20~95:5であるのが好ましい。
この範囲であることにより、本導電性樹脂組成物の導電性が良好になる。
このような観点から、質量比((C):(A))が80:20~92:8であるのがより好ましく、82:18~92:8であるのがさらに好ましい。
The (C) conductive particles have a mass ratio ((C):(A)) of (C) the conductive particles and (A) the thermoplastic resin in the conductive resin composition of 80:20 to 95: 5 is preferred.
Within this range, the electrical conductivity of the present conductive resin composition is improved.
From this point of view, the mass ratio ((C):(A)) is more preferably 80:20 to 92:8, more preferably 82:18 to 92:8.

<(D)分散剤>
本導電性樹脂組成物には、(D)分散剤を含ませてもよい。
(D)分散剤としては、例えば、酸性分散剤であるHYPERMER KD-57(商品名)(CRODA製)を用いることができる。
<(D) Dispersant>
The conductive resin composition may contain (D) a dispersant.
As the (D) dispersant, for example, HYPERMER KD-57 (trade name) (manufactured by CRODA), which is an acidic dispersant, can be used.

<その他の成分>
本導電性樹脂組成物は、前記成分(A)~(C)のみからなる或いは前記成分(A)~(D)のみからなるものでもよいが、これら以外に、絶縁性粒子、カップリング剤等の界面処理剤、顔料、染料、可塑剤、消泡剤、破泡剤、酸化防止剤等の成分を必要に応じて含有させてもよい。
<Other ingredients>
The present conductive resin composition may consist only of the components (A) to (C) or may consist of the components (A) to (D) only. Components such as surface treating agents, pigments, dyes, plasticizers, defoaming agents, defoaming agents, antioxidants, etc. may be contained as necessary.

<物性値>
本導電性樹脂組成物は、70℃30分間の加熱条件で乾燥硬化させたときの硬化物の常温時における伸び率が70%以上であるのが好ましい。硬化物の伸び率は75%以上がより好ましく、90%以上がさらに好ましい。
伸び率は、例えば、(A)熱可塑性樹脂の重量平均分子量、ハードセグメントとソフトセグメントの比率、および(A)熱可塑性樹脂と(C)導電性粒子との質量比等で調整することができる。
本発明において、常温とは好ましくは0℃~30℃、より好ましくは10℃~25℃をいう。
<Physical property value>
When the present conductive resin composition is dried and cured under a heating condition of 70° C. for 30 minutes, the cured product preferably has an elongation of 70% or more at room temperature. The elongation percentage of the cured product is more preferably 75% or more, more preferably 90% or more.
The elongation rate can be adjusted by, for example, (A) the weight average molecular weight of the thermoplastic resin, the ratio of the hard segment and the soft segment, and the mass ratio of (A) the thermoplastic resin and (C) the conductive particles. .
In the present invention, normal temperature means preferably 0°C to 30°C, more preferably 10°C to 25°C.

本導電性樹脂組成物は、70℃30分間の加熱条件で乾燥硬化させたときの硬化物の比抵抗値が10×10-3Ω・cm以下であるのが好ましい。硬化物の比抵抗値は5×10-3Ω・cm以下がより好ましく、1×10-3Ω・cm以下がより好ましい。
比抵抗値は、例えば、(C)導電性粒子の粒形、比表面積、および(A)熱可塑性樹脂と(C)導電性粒子との質量比等で調整することができる。
The conductive resin composition preferably has a resistivity value of 10×10 −3 Ω·cm or less when dried and cured under a heating condition of 70° C. for 30 minutes. The specific resistance value of the cured product is more preferably 5×10 −3 Ω·cm or less, more preferably 1×10 −3 Ω·cm or less.
The specific resistance value can be adjusted by, for example, (C) the particle shape and specific surface area of the conductive particles, and the mass ratio between (A) the thermoplastic resin and (C) the conductive particles.

本導電性樹脂組成物は、70℃30分間の加熱条件で乾燥硬化させたときの硬化物の残留溶剤量が樹脂組成物全量(100質量部)に対して25質量部以下であるのが好ましい。硬化物の残留溶剤量が樹脂組成物全量(100質量部)に対して20質量部以下がより好ましく、15質量部以下がさらに好ましい。残留溶剤量をこの範囲であることにより本導電性樹脂組成物の硬化物の比抵抗値を良好にすることができる。残留溶剤量は、例えば、(B)有機溶剤の沸点等で調整することができる。
樹脂組成物の硬化物を、TGDTAを使用し、25~200℃まで10℃/minで昇温し200℃での質量減少量を残留溶剤量とする。
When the present conductive resin composition is dried and cured under heating conditions of 70° C. for 30 minutes, the amount of residual solvent in the cured product is preferably 25 parts by mass or less with respect to the total amount of the resin composition (100 parts by mass). . The amount of residual solvent in the cured product is more preferably 20 parts by mass or less, more preferably 15 parts by mass or less, relative to the total amount (100 parts by mass) of the resin composition. By setting the amount of residual solvent within this range, the cured product of the present conductive resin composition can have a good specific resistance value. The amount of residual solvent can be adjusted by, for example, the boiling point of (B) the organic solvent.
Using TGDTA, the cured product of the resin composition is heated from 25 to 200° C. at a rate of 10° C./min, and the weight loss at 200° C. is defined as the residual solvent amount.

本導電性樹脂組成物は、回転式粘度計で、25℃、10rpmの粘度が40Pa・s~200Pa・sであることが好ましい。このような範囲とすることにより、本導電性樹脂組成物の作業性を良好にすることができる。このような観点から、粘度は50Pa・s~190Pa・sがより好ましく、80Pa・s~180Pa・sが更に好ましい The present conductive resin composition preferably has a viscosity of 40 Pa·s to 200 Pa·s at 25° C. and 10 rpm with a rotary viscometer. By setting it as such a range, workability|operativity of this electroconductive resin composition can be made favorable. From such a viewpoint, the viscosity is more preferably 50 Pa s to 190 Pa s, and even more preferably 80 Pa s to 180 Pa s.

<製造方法>
本導電性樹脂組成物は、(A)熱可塑性樹脂、(B)有機溶剤、(C)導電性粒子、必要に応じて(D)分散剤、その他の成分を配合して撹拌混合することにより製造することができる。
<Manufacturing method>
The present conductive resin composition is prepared by blending (A) a thermoplastic resin, (B) an organic solvent, (C) conductive particles, optionally (D) a dispersant, and other components and mixing them with stirring. can be manufactured.

これらを撹拌混合するには、公知の装置を用いることができる。例えば、ハイブリッドミキサー、ヘンシェルミキサー、ロールミル、三本ロールミルなどの公知の装置によって混合することができる。これら原料は、同時に混合してもよく、一部を先に混合し、残りを後から混合してもよい。
本導電性樹脂組成物の製法は、各材料が十分に混練されれば特に限定されるものではない。
A known device can be used to stir and mix these. For example, it can be mixed by a known device such as a hybrid mixer, a Henschel mixer, a roll mill, or a three-roll mill. These raw materials may be mixed at the same time, or a part of them may be mixed first and the rest of them may be mixed later.
The method for producing the present conductive resin composition is not particularly limited as long as each material is sufficiently kneaded.

<供給方法>
本導電性樹脂組成物は、ジェットディスペンサー、エアーディスペンサー等を使用することにより供給することができる。また、公知のコーティング法(ディップ塗工、スプレー塗工、バーコーター塗工、グラビア塗工、リバースグラビア塗工及びスピンコーター塗工等)及び公知の印刷方法(平版印刷、カルトン印刷、金属印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷及びインクジェット印刷等)を使用することもできる。
<Supply method>
The conductive resin composition can be supplied by using a jet dispenser, an air dispenser, or the like. In addition, known coating methods (dip coating, spray coating, bar coater coating, gravure coating, reverse gravure coating, spin coater coating, etc.) and known printing methods (lithographic printing, carton printing, metal printing, offset printing, screen printing, gravure printing, flexographic printing, inkjet printing, etc.) can also be used.

<硬化条件>
本導電性樹脂組成物は、例えば、40℃~120℃の温度で加熱することで乾燥硬化させることができる。加熱温度は
、好ましくは50℃~120℃、より好ましくは70℃~100℃である。加熱時間は、例えば好ましくは0.1時間~3時間であり、より好ましくは0.5時間~2時間である。
<Curing conditions>
The conductive resin composition can be dried and cured by heating at a temperature of, for example, 40°C to 120°C. The heating temperature is preferably 50°C to 120°C, more preferably 70°C to 100°C. The heating time is, for example, preferably 0.1 to 3 hours, more preferably 0.5 to 2 hours.

本明細書では、導電性樹脂組成物を所定のパターンとなるように供給し、例えば、70℃、30分で加熱乾燥させて得られたものを、「硬化物」という。 In this specification, a product obtained by supplying a conductive resin composition in a predetermined pattern and drying it by heating at 70° C. for 30 minutes, for example, is referred to as a “cured product”.

<用途>
本導電性樹脂組成物は、伸縮性があり、70℃以下の低温硬化性に優れているものである。そのような観点から、例えば、FHE分野向けに用いることができ、ウェアラブルアプリケーションやESL等に有用である。
本導電性樹脂組成物を接着剤に含ませて導電性接着剤として用いることや本導電性樹脂組成物をそのまま或いは他の成分を含ませて硬化させた硬化物として用いることができる。硬化物には、導電性接着剤の硬化物も含む。
この硬化物を、センサー、キャパシタ、プロセッサーやメモリーなどの半導体装置に備えたり、電気回路基板などに用いる無機又は有機の基板などの基材に積層したりして積層構造体にすることができる。この積層構造体は、ESL等に用いることができる。
<Application>
This conductive resin composition has elasticity and is excellent in low-temperature curability at 70° C. or lower. From such a point of view, for example, it can be used for the FHE field, and is useful for wearable applications, ESL, and the like.
This conductive resin composition can be used as a conductive adhesive by including it in an adhesive, or can be used as a cured product obtained by curing the present conductive resin composition as it is or by adding other components. The cured product also includes a cured product of a conductive adhesive.
The cured product can be provided in semiconductor devices such as sensors, capacitors, processors and memories, or can be laminated on a substrate such as an inorganic or organic substrate used for an electric circuit board to form a laminated structure. This laminated structure can be used for ESL or the like.

以下、本発明の一実施例の導電性樹脂組成物について説明する。但し、本発明はこの実施例に限定されるものではない。 A conductive resin composition according to one embodiment of the present invention will be described below. However, the present invention is not limited to this example.

実施例及び比較例の導電性樹脂組成物を製造するにあたり以下の材料を用いた。H/Sは、ハードセグメントとソフトセグメントとの比率(ハードセグメント/ソフトセグメント)を表す。
<材料>
1.(A)熱可塑性樹脂
(A1)ウレタン樹脂(品番:P22SRAT日本ミラクトラン株式会社)
H/S=34/66、重量平均分子量Mw120,000~180,000
ガラス転移温度(Tg):-40℃
(A2)SEBS(品番:H1221旭化成株式会社)
H/S=12/88、重量平均分子量Mw147,600
ガラス転移温度(Tg):-25℃
(A3)ポリエステル樹脂(品番:UE-3510ユニチカ株式会社)
H/S=50/50、重量平均分子量Mw34,000
ガラス転移温度(Tg):-25℃
(A4)ポリエステル樹脂(品番:UE-3400ユニチカ株式会社)
H/S=35/65、重量平均分子量Mw25,000
ガラス転移温度(Tg):-20℃
(A5)ポリエステル樹脂(品番:UE-3220ユニチカ株式会社)
H/S=35/65、重量平均分子量Mw25,000
ガラス転移温度(Tg):5℃
(A6)ポリアミド樹脂(品番:PA66-1旭化成株式会社)
H/S=77.45/22.55、重量平均分子量Mw26,000
ガラス転移温度(Tg):60℃
(A7)スチレン無水マレイン酸共重合体(品番:SMA1000 SARTOMER社)
H/S=50/50、重量平均分子量Mw5,500
ガラス転移温度(Tg):155℃
The following materials were used in producing the conductive resin compositions of Examples and Comparative Examples. H/S represents the ratio of the hard segment to the soft segment (hard segment/soft segment).
<Material>
1. (A) Thermoplastic resin (A1) Urethane resin (Product number: P22SRAT Nippon Miractran Co., Ltd.)
H/S = 34/66, weight average molecular weight Mw 120,000 to 180,000
Glass transition temperature (Tg): -40°C
(A2) SEBS (Product number: H1221 Asahi Kasei Corporation)
H/S = 12/88, weight average molecular weight Mw 147,600
Glass transition temperature (Tg): -25°C
(A3) Polyester resin (Product number: UE-3510 Unitika Ltd.)
H/S = 50/50, weight average molecular weight Mw 34,000
Glass transition temperature (Tg): -25°C
(A4) Polyester resin (Product number: UE-3400 Unitika Ltd.)
H/S = 35/65, weight average molecular weight Mw 25,000
Glass transition temperature (Tg): -20°C
(A5) Polyester resin (Product number: UE-3220 Unitika Ltd.)
H/S = 35/65, weight average molecular weight Mw 25,000
Glass transition temperature (Tg): 5°C
(A6) Polyamide resin (Product number: PA66-1 Asahi Kasei Co., Ltd.)
H/S = 77.45/22.55, weight average molecular weight Mw 26,000
Glass transition temperature (Tg): 60°C
(A7) Styrene maleic anhydride copolymer (product number: SMA1000 SARTOMER)
H/S = 50/50, weight average molecular weight Mw 5,500
Glass transition temperature (Tg): 155°C

(B)有機溶剤
(B1)アノン(シクロヘキサノン)(日本アルコール販売株式会社)
沸点156℃
(B2)ジエチレングリコールジエチルエーテル(東邦化学工業株式会社)
沸点180~190℃
(B3)アセトフェノン(メチルフェニルケトン)(東京化成工業株式会社)
沸点202℃
(B4)酢酸ブチル(富士フイルム和光純薬株式会社)
沸点126℃
(B5)3-メトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド
沸点215℃
(B) Organic solvent (B1) Anone (cyclohexanone) (Japan Alcohol Sales Co., Ltd.)
Boiling point 156°C
(B2) Diethylene glycol diethyl ether (Toho Chemical Industry Co., Ltd.)
Boiling point 180-190°C
(B3) Acetophenone (methyl phenyl ketone) (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Boiling point 202°C
(B4) Butyl acetate (Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
Boiling point 126°C
(B5) 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide boiling point 215°C

(C)導電性粒子
(C1)フレーク状銀粉/表面処理剤:ステアリン酸(品番:AGC-GS 福田金属箔紛株式会社)
平均粒子径(D50)12.48μm、タップ密度3.23g/cm、BET値0.285g/m、イグロス値0.52%、イグロス値/BET値1.825
(C2)フレーク状銀紛/表面処理剤:ステアリン酸(品番:FA618 DOWAエレクトロニクス株式会社)
平均粒子径(D50)7.25μm、タップ密度4.03g/cm、BET値0.491g/m、イグロス値0.79%、イグロス値/BET値1.609
(C3)フレーク状銀紛/表面処理剤:ステアリン酸(品番:AGC-B2 福田金属箔紛株式会社)
平均粒子径(D50)6.838μm、タップ密度4.29g/cm、BET値0.788g/m、イグロス値0.57%、イグロス値/BET値0.723
(C) Conductive particles (C1) Flake-like silver powder / surface treatment agent: stearic acid (product number: AGC-GS Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd.)
Average particle diameter (D50) 12.48 μm, tap density 3.23 g/cm 3 , BET value 0.285 g/m 2 , igross value 0.52%, igross value/BET value 1.825
(C2) Flake-like silver powder/surface treatment agent: stearic acid (product number: FA618 DOWA Electronics Co., Ltd.)
Average particle size (D50) 7.25 μm, tap density 4.03 g/cm 3 , BET value 0.491 g/m 2 , igross value 0.79%, igross value/BET value 1.609
(C3) Flake-like silver powder/surface treatment agent: stearic acid (product number: AGC-B2, Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd.)
Average particle diameter (D50) 6.838 μm, tap density 4.29 g/cm 3 , BET value 0.788 g/m 2 , igross value 0.57%, igross value/BET value 0.723

(D)分散剤
(D1)酸性分散剤(CRODA社)
(D) dispersant (D1) acidic dispersant (CRODA)

<実施例及び比較例の製造>
下記表1又は2に示す質量割合になるように各材料を配合し、三本ロールミルを用いて撹拌混合して、実施例1~15及び比較例1~4の各導電性樹脂組成物を製造した。
<Production of Examples and Comparative Examples>
Each material is blended so that the mass ratio shown in Table 1 or 2 below is obtained, and mixed with stirring using a three-roll mill to produce conductive resin compositions of Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 4. bottom.

Figure 2023064469000001
Figure 2023064469000001

Figure 2023064469000002
Figure 2023064469000002

(物性値)
実施例及び比較例の各物性値の測定方法及び評価方法を以下に示す。
(physical property value)
Methods for measuring and evaluating physical property values in Examples and Comparative Examples are shown below.

(溶剤への溶解性)
それぞれの有機溶剤を60℃に加熱後、各熱可塑性樹脂を計量し、ラボスターラーで攪拌しながら溶解する。1時間おきに溶解するかどうかを目視にて確認し、合計3時間後攪拌後に溶解物が残っていなければ(残存物がなければ)「〇」、溶解物が残っていれば(残存物があれば)「×」と評価した。
(Solvent solubility)
After heating each organic solvent to 60°C, each thermoplastic resin is weighed and dissolved while stirring with a laboratory stirrer. Visually check if it dissolves every hour, and after stirring for a total of 3 hours, if there is no dissolved matter remaining (if there is no residue), "○" If any), it was evaluated as "x".

(乾燥性)
各導電性樹脂組成物を70℃30分間の加熱条件で乾燥硬化させた硬化物を、TGDTAを使用し、25~200℃まで10℃/minで昇温し200℃での質量減少量を残留溶剤量として、その値で乾燥性を確認した。
残留溶剤量が前記導電性樹脂組成物全量に対し25質量部以下であった試験片を「〇」、26質量部以上であった試験片を「×」、評価自体できなかったものを「-」と評価した。なお、70℃硬化できているかどうかは、後述するダイ剪断強度で表すことができる。
(dryness)
A cured product obtained by drying and curing each conductive resin composition under heating conditions of 70 ° C. for 30 minutes is heated to 25 to 200 ° C. at a rate of 10 ° C./min using TGDTA, and the mass loss at 200 ° C. remains. As the amount of solvent, the value was used to confirm the drying property.
A test piece with a residual solvent amount of 25 parts by mass or less with respect to the total amount of the conductive resin composition is "O", a test piece with 26 parts by mass or more is "X", and a test piece that could not be evaluated itself is "- ” was evaluated. Whether or not the resin is cured at 70° C. can be expressed by the die shear strength, which will be described later.

(粘度)
各導電性樹脂組成物を、ブルックフィールドRVT型粘度計(スピンドル:SC4-14スピンドル、測定温度:25℃)を使用し、10rpmで粘度を測定した。なお、比較例3は測定不能であった。
200(Pa・s)以下を合格と評価した。
(viscosity)
The viscosity of each conductive resin composition was measured at 10 rpm using a Brookfield RVT viscometer (spindle: SC4-14 spindle, measurement temperature: 25° C.). In Comparative Example 3, measurement was not possible.
200 (Pa·s) or less was evaluated as acceptable.

(ダイ剪断強度)
基板にはガラス基板を、ダイには3mm□のSiダイを、準備した。φ2mmの孔が開いたポリイミドフィルム孔版(厚さ:120μm)を使用し、各導電性樹脂組成物をガラス基板上に印刷した。その後、3mm□のSiダイをマウントし、Airコンベンションオーブン中で、70℃で30分間硬化させ、ダイ剪断強度測定用試料を作製した。ノードソンDAGE製卓上強度試験器(型番:4000PLUS-CART-S200KG)を使用して、室温で、ダイ剪断強度を測定した。
各導電性樹脂組成物について、10個のダイ剪断強度測定試料を測定し、その算術平均値をダイ剪断強度とした。なお、比較例3は測定不能であった。
0.5(N/mm)以上を合格と評価した。
(die shear strength)
A glass substrate was prepared as the substrate, and a Si die of 3 mm square was prepared as the die. Using a polyimide film stencil (thickness: 120 μm) with holes of φ2 mm, each conductive resin composition was printed on a glass substrate. After that, a 3 mm square Si die was mounted and cured in an air convention oven at 70° C. for 30 minutes to prepare a sample for die shear strength measurement. Die shear strength was measured at room temperature using a Nordson DAGE tabletop strength tester (Model: 4000PLUS-CART-S200KG).
For each conductive resin composition, 10 die shear strength measurement samples were measured, and the arithmetic average value was taken as the die shear strength. In Comparative Example 3, measurement was not possible.
0.5 (N/mm 2 ) or more was evaluated as acceptable.

(分散性)
樹脂組成物の粒度をJIS規格K5400’-1990線条法に準拠し、グラインドゲージにより測定した際に、凝集物が存在しているか否かを目視で確認した。配合した(C)導電性粒子の平均粒子径(D50)の10倍以上の平均粒度を示した場合を「×」とし、4倍以上10倍未満を示した場合を「△」とし、4倍未満を示した場合を「〇」とした。
(dispersibility)
When the particle size of the resin composition was measured with a grind gauge in accordance with JIS K5400'-1990 filament method, the presence or absence of aggregates was visually confirmed. If the average particle size (D50) is 10 times or more than the average particle size (D50) of the compounded (C) conductive particles, "x" is displayed, and if it is 4 times or more and less than 10 times, "△" is displayed, and 4 times When less than was shown, it was set as "〇".

(比抵抗)
ガラス基板上に、2枚の約85~95μm厚のテープを、3mm間隔で平行に貼り、この2枚のテープ間に、幅:3mm×長さ:50mm×厚さ:約90μmの各導電性樹脂組成物膜を印刷した後、Airコンベンションオーブン中で、70℃で30分間硬化させた。硬化後の各導電性樹脂組成物膜の膜厚を測定した後、4端子法で、抵抗値を測定し、比抵抗を求めた。なお、比較例3は測定不能であった。比較例4の「OverFlow」は抵抗値が大きすぎて、測定範囲を超えた状態であった。
20×10-4Ω・cm以下を合格と評価した。
(Resistivity)
On a glass substrate, two tapes with a thickness of about 85 to 95 μm are pasted in parallel at intervals of 3 mm, and between the two tapes, width: 3 mm × length: 50 mm × thickness: about 90 μm each conductive After printing the resin composition film, it was cured in an Air convention oven at 70° C. for 30 minutes. After measuring the film thickness of each conductive resin composition film after curing, the resistance value was measured by the 4-probe method to obtain the specific resistance. In Comparative Example 3, measurement was not possible. "OverFlow" of Comparative Example 4 was in a state where the resistance value was too large and exceeded the measurement range.
A resistance of 20×10 −4 Ω·cm or less was evaluated as acceptable.

(伸び率)
伸び率は、INSTRON社製万能材料試験機Model 5566を用いて測定(測定条件:引張り速度=5mm/min)した。また、伸び率は、引張り試験機より得られたストレス-ストレインカーブ(以下、SSカーブと称す)において、試験片が破断するまでの歪量とした。図1に、伸び率測定に使用する試験片形状を示す。例えば、実施例にて伸び率を「70%」と記載したものは、伸び率70%のときに試験片が破断したものである。また、実施例にて「>100%」と記載したものは、伸び率が100%を超えても破断しなかったものを示している。
(Growth rate)
The elongation was measured using INSTRON's universal material testing machine Model 5566 (measurement conditions: tensile speed = 5 mm/min). The elongation rate was defined as the amount of strain until the test piece broke in a stress-strain curve (hereinafter referred to as SS curve) obtained from a tensile tester. FIG. 1 shows the shape of the test piece used for elongation measurement. For example, when the elongation rate is described as "70%" in the examples, the test piece breaks when the elongation rate is 70%. Moreover, those described as ">100%" in the examples indicate those that did not break even when the elongation rate exceeded 100%.

比較例1,2は、伸び率が合格基準を満たさなかった。比較例1は、(A)熱可塑性樹脂のハードセグメントの比率が高いものであった。比較例2は、(A)熱可塑性樹脂の重量平均分子量が低いものであった。
比較例3は、乾燥性、粘度、ダイ剪断強度、分散性、比抵抗、伸び率が測定不能であり合格基準を満たさなかった。比較例3は、(B)有機溶剤の沸点が126℃と低いものであり、乾燥性が速すぎてペースト化することができなかった。
比較例4は、乾燥性が合格基準を満たさず、また、比抵抗がOverflowであり測定できなかった。比較例4は、(B)有機溶剤の沸点が215℃と高いものであった。
Comparative Examples 1 and 2 did not satisfy the elongation criteria. Comparative Example 1 had a high proportion of (A) the hard segment of the thermoplastic resin. In Comparative Example 2, (A) the thermoplastic resin had a low weight average molecular weight.
Comparative Example 3 did not meet the acceptance criteria because the dryness, viscosity, die shear strength, dispersibility, specific resistance, and elongation rate could not be measured. In Comparative Example 3, the boiling point of the organic solvent (B) was as low as 126° C., and the drying property was too fast to form a paste.
In Comparative Example 4, the dryness did not satisfy the acceptance criteria, and the specific resistance was Overflow, so it could not be measured. In Comparative Example 4, the boiling point of the (B) organic solvent was as high as 215°C.

これらの結果から、(A)ハードセグメントとソフトセグメントの比率(ハードセグメント:ソフトセグメント)が1:99~50:50であり、かつ、重量平均分子量が25,000以上である熱可塑性樹脂、(B)沸点が155℃~205℃である有機溶剤、(C)導電性粒子、を含む導電性樹脂組成物が、低温乾燥型で伸縮(ストレッチャブル)性が高いことが見出せた。 From these results, (A) a thermoplastic resin having a hard segment to soft segment ratio (hard segment: soft segment) of 1:99 to 50:50 and a weight average molecular weight of 25,000 or more, ( It was found that a conductive resin composition containing B) an organic solvent having a boiling point of 155° C. to 205° C. and (C) conductive particles is low-temperature drying and highly stretchable.

Claims (17)

(A)ハードセグメントとソフトセグメントの比率(ハードセグメント:ソフトセグメント)が1:99~50:50であり、かつ、重量平均分子量が25,000以上である熱可塑性樹脂、
(B)沸点が155℃~205℃である有機溶剤、
(C)導電性粒子、
を含む導電性樹脂組成物。
(A) a thermoplastic resin having a hard segment to soft segment ratio (hard segment: soft segment) of 1:99 to 50:50 and a weight average molecular weight of 25,000 or more;
(B) an organic solvent having a boiling point of 155°C to 205°C;
(C) conductive particles;
A conductive resin composition comprising:
前記(A)熱可塑性樹脂が、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、これらの水素化物、水素化物を変性した変性共重合体水素化物から選択される少なくとも一つである請求項1に記載の導電性樹脂組成物。 The thermoplastic resin (A) is a polystyrene resin, a polyolefin resin, a polyvinyl chloride resin, a polyurethane resin, a polyester resin, a polyamide resin, a polybutadiene resin, a hydride thereof, or a modified hydride. 2. The conductive resin composition according to claim 1, which is at least one selected from hydrogenated copolymers. 前記(C)導電性粒子と前記(A)熱可塑性樹脂との質量比((C):(A))が95:5~80:20である請求項1又は2に記載の導電性樹脂組成物。 3. The conductive resin composition according to claim 1, wherein the mass ratio ((C):(A)) between the (C) conductive particles and the (A) thermoplastic resin is 95:5 to 80:20. thing. 前記(C)導電性粒子の平均粒子径(D50)が1μm~25μmである請求項1~3のいずれか1項に記載の導電性樹脂組成物 The conductive resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the (C) conductive particles have an average particle size (D50) of 1 µm to 25 µm. 前記(C)導電性粒子が表面処理された銀粒子を含む請求項1~4のいずれか1項に記載の導電性樹脂組成物 The conductive resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the (C) conductive particles comprise surface-treated silver particles. 前記(C)導電性粒子のBET値に対するイグロス値の比(イグロス値/BET値)が1.2以上である請求項1~5のいずれか1項に記載の導電性樹脂組成物。 6. The conductive resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the (C) conductive particles have a ratio of egross value to BET value (igross value/BET value) of 1.2 or more. さらに、(D)分散剤を含む請求項1~6のいずれか1項に記載の導電性樹脂組成物。 The conductive resin composition according to any one of claims 1 to 6, further comprising (D) a dispersant. 回転式粘度計で、25℃、10rpmの粘度が40Pa・s~200Pa・sである請求項1~7のいずれか1項に記載の導電性樹脂組成物。 The conductive resin composition according to any one of claims 1 to 7, which has a viscosity of 40 Pa·s to 200 Pa·s at 25°C and 10 rpm with a rotary viscometer. 前記導電性樹脂組成物を70℃30分間の加熱条件で乾燥硬化させたときの硬化物の常温時における伸び率が70%以上である請求項1~8のいずれか1項に記載の導電性樹脂組成物。 The conductivity according to any one of claims 1 to 8, wherein the conductive resin composition is dried and cured under heating conditions of 70 ° C. for 30 minutes, and the elongation rate at room temperature of the cured product is 70% or more. Resin composition. 前記導電性樹脂組成物を70℃30分間の加熱条件で乾燥硬化させたときの硬化物の比抵抗値が10×10-3Ω・cm以下である請求項1~8のいずれか1項に記載の導電性樹脂組成物。 The conductive resin composition according to any one of claims 1 to 8, wherein the cured product has a specific resistance value of 10 × 10 -3 Ω·cm or less when dried and cured under a heating condition of 70°C for 30 minutes. The conductive resin composition described. 前記導電性樹脂組成物を70℃30分間の加熱条件で乾燥硬化させたときの硬化物の残留溶剤量が前記導電性樹脂組成物全量に対し25質量部以下である請求項1~8のいずれか1項に記載の導電性樹脂組成物。 9. Any one of claims 1 to 8, wherein the amount of residual solvent in the cured product obtained by drying and curing the conductive resin composition under heating conditions of 70° C. for 30 minutes is 25 parts by mass or less with respect to the total amount of the conductive resin composition. 1. The conductive resin composition according to claim 1. 前記導電性樹脂組成物がフレキシブル・ハイブリッド・エレクトロニクス用である請求項1~11のいずれか1項に記載の導電性樹脂組成物。 The conductive resin composition according to any one of claims 1 to 11, which is used for flexible hybrid electronics. 請求項1~11のいずれか1項に記載の導電性樹脂組成物を含む導電性接着剤。 A conductive adhesive comprising the conductive resin composition according to any one of claims 1 to 11. 請求項1~11のいずれか1項に記載の導電性樹脂組成物を硬化させた硬化物。 A cured product obtained by curing the conductive resin composition according to any one of claims 1 to 11. 請求項14に記載の硬化物を備えた半導体装置。 A semiconductor device comprising the cured product according to claim 14 . 請求項14に記載の硬化物を基材に積層した積層構造体。 A laminate structure in which the cured product according to claim 14 is laminated on a substrate. 請求項16に記載の積層構造体を用いた電子部品。 An electronic component using the laminated structure according to claim 16 .
JP2021174774A 2021-10-26 2021-10-26 Conductive resin composition, conductive adhesive, cured product, and semiconductor device Pending JP2023064469A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021174774A JP2023064469A (en) 2021-10-26 2021-10-26 Conductive resin composition, conductive adhesive, cured product, and semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021174774A JP2023064469A (en) 2021-10-26 2021-10-26 Conductive resin composition, conductive adhesive, cured product, and semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2023064469A true JP2023064469A (en) 2023-05-11

Family

ID=86271695

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021174774A Pending JP2023064469A (en) 2021-10-26 2021-10-26 Conductive resin composition, conductive adhesive, cured product, and semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2023064469A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5831762B2 (en) Thermosetting conductive paste
EP3630376B1 (en) Graphene enhanced and engineered materials for membrane touch switch and other flexible electronic structures
WO2015064567A1 (en) Electrically conductive composition for thin film printing, and method for forming thin film conductive pattern
JP5473896B2 (en) Resin composition and cured film thereof
KR101753497B1 (en) Conductive paste for screen printing, method for producing wiring line, and method for producing electrode
US20180061519A1 (en) Conductive resin composition and electronic circuit member using the same
CN113555145B (en) Flexible high-temperature-resistant conductive paste
JP2013114837A (en) Heat curable conductive paste composition
WO2018042635A1 (en) Electroconductive liquid composition
WO2016185728A1 (en) Method for manufacturing silver nanoparticle dispersion and method for manufacturing silver nanoparticle ink
JP5859823B2 (en) Heat curable conductive paste composition
WO2018051830A1 (en) Silver paste for flexible substrate
WO2018123742A1 (en) Resin composition, cured object, electroconductive film, electroconductive pattern, and garment
JP7220387B2 (en) Conductive composition and electronic circuit member using the same
WO2020090757A1 (en) Conductive resin composition, conductive adhesive, and semiconductor device
JP2023064469A (en) Conductive resin composition, conductive adhesive, cured product, and semiconductor device
JP5675975B2 (en) Adhesive composition and adhesive film
JP4240284B2 (en) Conductive paste
JP5939386B2 (en) Conductive ink composition
KR20150102712A (en) Conductive composition and conductor
WO2022059608A1 (en) Stretchable conductive paste and film
WO2022196328A1 (en) Resin composition, electroconductive adhesive, cured object, and semiconductor device
WO2023210522A1 (en) Conductive coating material and circuit former
KR101118733B1 (en) Manufacturing method of silver paste containing multi-walled carbon nanotubes for electrode printing of display device
WO2023120484A1 (en) Electroconductive composition, conductor using same, laminated structure, and electronic component