JP2023056722A - Method for calculating optical spectrum, and program - Google Patents

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Takayoshi Saito
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Abstract

To provide a method for calculating an optical spectrum and a program that can easily design an anti-reflection film having desired characteristics.SOLUTION: A method for calculating an optical spectrum of the present embodiment has a measurement step, a height distribution calculation step, and a spectrum calculation step. The measurement step includes preparing a plurality of sample substrates different from each other in a refractive index distribution in a thickness direction near a surface, and measuring the sample regular reflection spectra in the plurality of sample substrates. The height distribution calculation step includes calculating a height distribution function H(x) of an anti-glare surface on the basis of, the plurality of sample regular reflection spectra measured in the measurement step. The spectrum calculation step includes calculating interference of light caused by a rugged structure of the anti-glare surface on the basis of the height distribution function H(x), and determining an optical spectrum in consideration of the interference of light.SELECTED DRAWING: Figure 8

Description

本発明は、光学スペクトルの計算方法及びプログラムに関するものである。 The present invention relates to an optical spectrum calculation method and program.

表示装置の視認性を向上する観点から、表示装置の表示面に配置されるカバーガラス等の透明物品の表面をアンチグレア面として防眩効果を付与することが提案されている。アンチグレア面による防眩効果は、アンチグレア面の凹凸構造に基づいて発揮される。 From the viewpoint of improving the visibility of a display device, it has been proposed to impart an anti-glare effect to the surface of a transparent article such as a cover glass disposed on the display surface of the display device as an anti-glare surface. The anti-glare effect of the anti-glare surface is exhibited based on the uneven structure of the anti-glare surface.

また、例えば特許文献1には、透明物品の表面に対し、例えば光学多層膜からなる反射防止膜を施すことが開示されている。この反射防止膜によって、防眩効果とコントラストの向上を図ることが可能である。 Further, for example, Patent Literature 1 discloses applying an antireflection film made of, for example, an optical multilayer film to the surface of a transparent article. This antireflection film can improve the antiglare effect and contrast.

国際公開第2018/179825号WO2018/179825

上記反射防止膜の膜設計において、反射防止膜を設ける透明物品の表面が凹凸の無い平面の場合には、反射光の光学スペクトルを容易に計算することが可能であるため、所望の特性を持つ反射防止膜を容易に設計することが可能である。 In the film design of the antireflection film, when the surface of the transparent article on which the antireflection film is provided is a flat surface without irregularities, the optical spectrum of the reflected light can be easily calculated, so that the desired characteristics can be obtained. It is possible to easily design the antireflection coating.

しかしながら、さらなる防眩効果の向上を図るべく、透明物品の表面を、凹凸構造を有するアンチグレア面とし、さらにそのアンチグレア面に反射防止膜を設ける場合には、アンチグレア面の凹凸で反射した光が干渉すること等によって反射光の光学スペクトルの計算が困難であった。その結果、所望の特性を持つ反射防止膜を設計することが難しかった。 However, in order to further improve the anti-glare effect, when the surface of the transparent article is an anti-glare surface having an uneven structure and an anti-reflection film is provided on the anti-glare surface, the light reflected by the unevenness of the anti-glare surface interferes. It was difficult to calculate the optical spectrum of the reflected light due to As a result, it has been difficult to design an antireflection coating with desired properties.

本発明の目的は、所望の特性を持つ反射防止膜の設計を容易に行うことを可能にした光学スペクトルの計算方法及びプログラムを提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an optical spectrum calculation method and a program that make it possible to easily design an antireflection film having desired characteristics.

上記課題を解決する光学スペクトルの計算方法は、凹凸構造を有するアンチグレア面を表面に備える透明基材と、前記アンチグレア面上に設けられる反射防止膜とを備えた膜付透明基材における光学スペクトルの計算方法であって、各々前記アンチグレア面を表面に有し、当該表面付近での厚さ方向における屈折率の分布が相互に異なる複数のサンプル基材を用い、前記複数のサンプル基材の表面におけるサンプル正反射スペクトルを測定する測定ステップと、前記測定ステップで測定された複数の前記サンプル正反射スペクトルに基づいて、前記アンチグレア面の高さ分布関数を算出する高さ分布算出ステップと、前記凹凸構造による光の干渉を前記高さ分布関数に基づいて計算し、当該光の干渉を考慮して前記光学スペクトルを求めるスペクトル計算ステップと、を有する。 A method for calculating an optical spectrum for solving the above-mentioned problems is a method of calculating an optical spectrum of a film-coated transparent substrate provided with an anti-glare surface having an uneven structure on its surface and an anti-reflection film provided on the anti-glare surface. In a calculation method, using a plurality of sample substrates each having the anti-glare surface on the surface and having different refractive index distributions in the thickness direction near the surface, the surface of the plurality of sample substrates a measuring step of measuring a specular reflection spectrum of a sample; a height distribution calculating step of calculating a height distribution function of the anti-glare surface based on the plurality of specular reflection spectra of the sample measured in the measuring step; and a spectrum calculation step of calculating interference of light based on the height distribution function and obtaining the optical spectrum in consideration of the interference of light.

この態様によれば、複数のサンプル基材の各々におけるサンプル正反射スペクトルに基づいて、アンチグレア面の高さ分布関数を算出する。これにより、算出したアンチグレア面の高さ分布関数に基づき、アンチグレア面の凹凸構造による光の干渉を計算することができる。その結果、反射防止膜が設けられたアンチグレア面における光学スペクトルを、アンチグレア面の凹凸構造の光の干渉を考慮して容易に計算することが可能となる。 According to this aspect, the height distribution function of the antiglare surface is calculated based on the sample specular reflection spectrum of each of the plurality of sample substrates. Accordingly, it is possible to calculate the light interference due to the uneven structure of the anti-glare surface based on the calculated height distribution function of the anti-glare surface. As a result, the optical spectrum on the anti-glare surface provided with the anti-reflection film can be easily calculated in consideration of the light interference of the uneven structure of the anti-glare surface.

上記光学スペクトルの計算方法の前記測定ステップにおいて、前記サンプル基材の前記アンチグレア面に垂直に入射させた光の反射光により前記サンプル正反射スペクトルを測定することが好ましい。 In the measuring step of the method for calculating the optical spectrum, it is preferable that the specular reflection spectrum of the sample is measured by reflected light of light vertically incident on the anti-glare surface of the sample substrate.

この態様によれば、高さ分布算出ステップにおける高さ分布関数を算出する計算式を単純化することが可能となり、その結果、膜付透明基材の光学スペクトルをより容易に計算することが可能となる。 According to this aspect, it is possible to simplify the calculation formula for calculating the height distribution function in the height distribution calculation step, and as a result, it is possible to more easily calculate the optical spectrum of the film-coated transparent substrate. becomes.

上記光学スペクトルの計算方法において、前記複数のサンプル基材は、前記アンチグレア面に光学膜が設けられていない第1サンプル基材と、前記アンチグレア面に光学膜が設けられた第2サンプル基材と、を含むことが好ましい。 In the optical spectrum calculation method, the plurality of sample substrates are a first sample substrate having no optical film on the anti-glare surface and a second sample substrate having an optical film on the anti-glare surface. , is preferably included.

この態様によれば、第1サンプル基材に光学膜を設けなくてもよいため、工程の簡素化を図ることが可能となる。
上記課題を解決するプログラムは、凹凸構造を有するアンチグレア面を表面に備える透明基材と、前記アンチグレア面上に設けられる反射防止膜とを備えた膜付透明基材における光学スペクトルを計算する計算装置としてコンピュータを機能させるプログラムであって、入力値として得られた複数のサンプル正反射スペクトルに基づいて、前記アンチグレア面の高さ分布関数を算出する高さ分布算出ステップと、前記凹凸構造による光の干渉を前記高さ分布関数に基づいて計算し、当該光の干渉を考慮して前記光学スペクトルを求めるスペクトル計算ステップと、を有する。
According to this aspect, since it is not necessary to provide the optical film on the first sample substrate, it is possible to simplify the process.
A program for solving the above problem is a computing device for calculating an optical spectrum in a film-coated transparent substrate comprising a transparent substrate having an anti-glare surface having an uneven structure on its surface and an antireflection film provided on the anti-glare surface. a height distribution calculating step of calculating a height distribution function of the anti-glare surface based on a plurality of sample specular reflection spectra obtained as input values; calculating interference based on the height distribution function, and obtaining the optical spectrum considering the interference of the light.

この態様によれば、複数のサンプル基材の各々におけるサンプル正反射スペクトルに基づいて、アンチグレア面の高さ分布関数を算出する。これにより、算出したアンチグレア面の高さ分布関数に基づき、アンチグレア面の凹凸構造による光の干渉を計算することができる。その結果、反射防止膜が設けられたアンチグレア面における光学スペクトルを、アンチグレア面の凹凸構造の光の干渉を考慮して容易に計算することが可能となる。 According to this aspect, the height distribution function of the antiglare surface is calculated based on the sample specular reflection spectrum of each of the plurality of sample substrates. Accordingly, it is possible to calculate the light interference due to the uneven structure of the anti-glare surface based on the calculated height distribution function of the anti-glare surface. As a result, the optical spectrum on the anti-glare surface provided with the anti-reflection film can be easily calculated in consideration of the light interference of the uneven structure of the anti-glare surface.

本発明の光学スペクトルの計算方法及びプログラムによれば、所望の特性を持つ反射防止膜の設計を容易に行うことが可能となる。 According to the optical spectrum calculation method and program of the present invention, it is possible to easily design an antireflection film having desired characteristics.

実施形態の光学スペクトルの計算の対象となる膜付透明基材10を示す模式図である。1 is a schematic diagram showing a film-coated transparent substrate 10 that is an object of optical spectrum calculation according to an embodiment. FIG. 同形態の測定ステップで用いる第1サンプル基材を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the 1st sample base material used by the measurement step of the same form. 同形態の測定ステップで用いる第2サンプル基材を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the 2nd sample base material used by the measurement step of the same form. 同形態の測定ステップで用いる測定装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the measuring apparatus used by the measuring step of the same form. 第1サンプル正反射スペクトルを示すグラフである。10 is a graph showing a first sample specular reflectance spectrum; 第2サンプル正反射スペクトルを示すグラフである。FIG. 4 is a graph showing a second sample specular reflectance spectrum; FIG. 反射率Rの算出方法を説明するための説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram for explaining a method of calculating reflectance R; 高さ分布関数を示すグラフである。4 is a graph showing a height distribution function; 光学スペクトルのシミュレーション値と実測値を示すグラフである。4 is a graph showing simulated values and measured values of optical spectra;

以下、光学スペクトルの計算方法及びプログラムの一実施形態について図面を参照して説明する。なお、図面では、説明の便宜上、構成の一部を誇張又は簡略化して示す場合がある。また、各部分の寸法比率についても、実際と異なる場合がある。 An embodiment of an optical spectrum calculation method and program will be described below with reference to the drawings. In the drawings, for convenience of explanation, part of the configuration may be exaggerated or simplified. Also, the dimensional ratio of each part may differ from the actual one.

(膜付透明基材10)
まず、光学スペクトルの計算の対象となる膜付透明基材10について説明する。
図1に示すように、膜付透明基材10は、例えば、表示装置の表示面に配置して用いられる。この場合、膜付透明基材10は、表示装置の表示面の上に取り付けられる部材であってもよい。すなわち、膜付透明基材10は、表示装置に事後的に取り付けられる部材であってもよい。
(Transparent substrate with film 10)
First, the film-coated transparent substrate 10, which is the object of calculation of the optical spectrum, will be described.
As shown in FIG. 1, the film-coated transparent substrate 10 is used, for example, by arranging it on the display surface of a display device. In this case, the film-attached transparent substrate 10 may be a member attached on the display surface of the display device. That is, the film-coated transparent substrate 10 may be a member that is attached to the display device afterward.

膜付透明基材10は、透明基材11と、反射防止膜12とを備えている。なお、膜付透明基材10は、防汚層等のその他の層を有するものであってもよい。
透明基材11は、互いに対向する一対の主面を有するシート状又は板状をなしている。透明基材11の材質は特に限定されるものではない。透明基材11の材質としては、例えば、ガラス、樹脂等が挙げられる。透明基材11の材質は、ガラスであることが好ましく、ガラスとしては、例えば、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、化学強化ガラス等の公知のガラスを用いることができる。可視光の透過率が経時的に変化し難い点において、透明基材11はガラスからなることが好ましい。
The film-coated transparent substrate 10 includes a transparent substrate 11 and an antireflection film 12 . The film-attached transparent substrate 10 may have other layers such as an antifouling layer.
The transparent substrate 11 has a sheet-like or plate-like shape having a pair of main surfaces facing each other. The material of the transparent substrate 11 is not particularly limited. Examples of the material of the transparent substrate 11 include glass and resin. The material of the transparent substrate 11 is preferably glass, and as the glass, known glass such as alkali-free glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, soda lime glass, and chemically strengthened glass can be used. . The transparent substrate 11 is preferably made of glass because the transmittance of visible light is less likely to change over time.

(透明基材11)
透明基材11は、凹凸構造によるアンチグレア面13を一方の主面に有している。本実施形態の透明基材11は、例えば、基材本体21と、基材本体21の表面に設けられる透光性のアンチグレア層22とを備えている。そして、アンチグレア面13は、アンチグレア層22に設けられている。なお、アンチグレア面の構造は特に限定されるものではない。アンチグレア面としては、例えば、コーティング剤を塗布する処理により形成されるアンチグレア面、及びブラスト処理やエッチング処理により形成されるアンチグレア面が挙げられる。また、アンチグレア層22を省略し、基材本体21の表面に直接アンチグレア面13を形成した構成であってもよい。
(Transparent substrate 11)
The transparent substrate 11 has an anti-glare surface 13 with an uneven structure on one main surface. The transparent substrate 11 of this embodiment includes, for example, a substrate body 21 and a translucent antiglare layer 22 provided on the surface of the substrate body 21 . Antiglare surface 13 is provided on antiglare layer 22 . The structure of the antiglare surface is not particularly limited. The anti-glare surface includes, for example, an anti-glare surface formed by applying a coating agent, and an anti-glare surface formed by blasting or etching. Alternatively, the anti-glare layer 22 may be omitted and the anti-glare surface 13 may be formed directly on the surface of the substrate body 21 .

(反射防止膜12)
反射防止膜12は、アンチグレア面13に成膜されている。反射防止膜12は、例えば光学多層膜である。反射防止膜12として用いられる光学多層膜は、例えば、単層または複数層の二酸化ケイ素や、単層または複数層の五酸化ニオブ等を含んで構成される。なお、反射防止膜12における層数、各層の材質および各層の厚さは、所望する反射特性に応じて設定される。また、反射防止膜12は、単層の膜構成であってもよい。
(Antireflection film 12)
The antireflection film 12 is deposited on the antiglare surface 13 . The antireflection film 12 is, for example, an optical multilayer film. The optical multilayer film used as the antireflection film 12 includes, for example, a single layer or multiple layers of silicon dioxide, a single layer or multiple layers of niobium pentoxide, or the like. The number of layers, the material of each layer, and the thickness of each layer in the antireflection film 12 are set according to desired reflection characteristics. Also, the antireflection film 12 may have a single-layer film structure.

(光学スペクトルの計算方法)
次に、上記の膜付透明基材10における光学スペクトルの計算方法について説明する。本計算方法は、以下に記載する測定ステップと、高さ分布算出ステップと、スペクトル計算ステップとを順に経ることにより実施される。
(Calculation method of optical spectrum)
Next, a method for calculating the optical spectrum of the film-coated transparent substrate 10 will be described. This calculation method is implemented by sequentially passing through a measurement step, a height distribution calculation step, and a spectrum calculation step, which will be described below.

なお、上記の3つのステップのうちの高さ分布算出ステップとスペクトル計算ステップは、例えば、計算装置としてのコンピュータのメモリに記憶されたプログラムを実行することによって実行される。コンピュータは、コンピュータプログラム(ソフトウェア)に従って動作する1つ以上のプロセッサによって構成されてもよいし、そのようなプロセッサと、各種処理のうち少なくとも一部の処理を実行する特定用途向け集積回路(ASIC)等の1つ以上の専用のハードウェア回路との組み合わせによって構成されてもよい。プロセッサは、CPU並びに、RAM及びROM等のメモリを含み、メモリは、処理をCPUに実行させるように構成されたプログラムコードまたは指令を格納している。メモリすなわちコンピュータ可読媒体は、汎用または専用のコンピュータでアクセスできるあらゆる利用可能な媒体を含む。あるいは、上記プロセッサを含むコンピュータに代えて、各種処理の全てを実行する1つ以上の専用のハードウェア回路によって構成された処理回路が用いられてもよい。 Note that the height distribution calculation step and the spectrum calculation step among the above three steps are executed, for example, by executing a program stored in the memory of a computer as a calculation device. A computer may consist of one or more processors that operate according to computer programs (software), and such processors and application specific integrated circuits (ASICs) that perform at least some of the various types of processing. It may be configured by combining with one or more dedicated hardware circuits such as. A processor includes a CPU and memory, such as RAM and ROM, which stores program code or instructions configured to cause the CPU to perform processes. Memory or computer-readable media includes any available media that can be accessed by a general purpose or special purpose computer. Alternatively, instead of a computer including the above processor, a processing circuit configured by one or more dedicated hardware circuits that perform all of the various types of processing may be used.

(測定ステップ)
測定ステップでは、透明基材11のアンチグレア面13と同様のアンチグレア面を有する透明基材を測定サンプルとして複数用意する。当該測定サンプルは、透明基材11の製造工程と同じ製造工程を経て作製されるものである。そして、本実施形態では、測定サンプルを基に、図2に示す第1サンプル基材31と、図3に示す第2サンプル基材32を作製する。
(measurement step)
In the measurement step, a plurality of transparent substrates having antiglare surfaces similar to the antiglare surface 13 of the transparent substrate 11 are prepared as measurement samples. The measurement sample is manufactured through the same manufacturing process as the manufacturing process of the transparent substrate 11 . Then, in this embodiment, a first sample substrate 31 shown in FIG. 2 and a second sample substrate 32 shown in FIG. 3 are produced based on the measurement samples.

第1サンプル基材31と第2サンプル基材32では、測定サンプルとしての透明基材11のアンチグレア面13において、厚さ方向における屈折率の分布が相互に異なるように構成している。例えば、第2サンプル基材32においては、透明基材11のアンチグレア面13に光学膜33を設けている。一方、第1サンプル基材31においては、透明基材11のアンチグレア面13に光学膜を設けない。これにより、第1サンプル基材31と第2サンプル基材32とで、アンチグレア面13における厚さ方向の屈折率分布を異ならせている。なお、測定サンプルの裏面反射の影響を無くすため、測定サンプルの裏面はブラスト処理を施しておくことが好ましい。 The first sample substrate 31 and the second sample substrate 32 are configured such that the refractive index distribution in the thickness direction is different from each other on the anti-glare surface 13 of the transparent substrate 11 as the measurement sample. For example, in the second sample substrate 32 , the optical film 33 is provided on the antiglare surface 13 of the transparent substrate 11 . On the other hand, in the first sample substrate 31, no optical film is provided on the antiglare surface 13 of the transparent substrate 11. FIG. Thereby, the refractive index distribution in the thickness direction of the antiglare surface 13 is made different between the first sample substrate 31 and the second sample substrate 32 . In order to eliminate the influence of reflection from the back surface of the measurement sample, it is preferable to subject the back surface of the measurement sample to blasting.

第2サンプル基材32の光学膜33は、単層または複数層の膜構成を有している。光学膜33は、例えば、単層または複数層の二酸化ケイ素や、単層または複数層の五酸化ニオブ等を含んで構成される。 The optical film 33 of the second sample substrate 32 has a single-layer or multi-layer film structure. The optical film 33 includes, for example, a single layer or multiple layers of silicon dioxide, a single layer or multiple layers of niobium pentoxide, or the like.

なお、第1サンプル基材31のアンチグレア面13に光学膜を設けた場合であっても、光学膜の膜構成を異ならせることで、厚さ方向における屈折率分布を第1サンプル基材31と第2サンプル基材32とで異ならせることは可能である。 Even when an optical film is provided on the anti-glare surface 13 of the first sample substrate 31, the refractive index distribution in the thickness direction can be changed from that of the first sample substrate 31 by changing the film configuration of the optical film. It is possible to make it different from the second sample substrate 32 .

同測定ステップでは、第1サンプル基材31と第2サンプル基材32の各々における正反射スペクトルを、図4に示す測定装置41を用いて測定する。
図4に示すように、測定装置41は、光源42と、二分岐光ファイバ43と、コリメータレンズ44と、分光器45とを備える。光源42から出射された光は、二分岐光ファイバ43に導入され、コリメータレンズ44にて平行光Lとなって測定サンプルとしての第1サンプル基材31または第2サンプル基材32に照射される。コリメータレンズ44の光軸CLは、測定サンプルのアンチグレア面13に対し垂直に設定されている。これにより、コリメータレンズ44から出射された光が、測定サンプルのアンチグレア面13に垂直に入射する。
In the measurement step, specular reflection spectra of each of the first sample base material 31 and the second sample base material 32 are measured using the measuring device 41 shown in FIG.
As shown in FIG. 4 , the measurement device 41 includes a light source 42 , a bifurcated optical fiber 43 , a collimator lens 44 and a spectroscope 45 . Light emitted from a light source 42 is introduced into a bifurcated optical fiber 43, converted into parallel light L by a collimator lens 44, and irradiated to a first sample substrate 31 or a second sample substrate 32 as a measurement sample. . The optical axis CL of the collimator lens 44 is set perpendicular to the antiglare surface 13 of the measurement sample. Thereby, the light emitted from the collimator lens 44 perpendicularly enters the anti-glare surface 13 of the measurement sample.

そして、アンチグレア面13で反射した光の正反射成分のみがコリメータレンズ44により二分岐光ファイバ43を介して分光器45に導入され、分光器45にて当該正反射成分のスペクトル測定が行われる。例えば、図5は、第1サンプル基材31に対するスペクトル測定で得られる第1サンプル正反射スペクトルSp1を示している。また例えば、図6は、第2サンプル基材32に対するスペクトル測定で得られる第2サンプル正反射スペクトルSp2を示している。なお、第2サンプル基材32における光学膜33の膜構成は、第1サンプル正反射スペクトルSp1と第2サンプル正反射スペクトルSp2とでピークとなる波長が大きくずれるように設定されることが望ましい。これは、後段の高さ分布算出ステップにおいて、正確な高さ分布関数H(x)を算出するためである。 Then, only the specular reflection component of the light reflected by the antiglare surface 13 is introduced into the spectroscope 45 via the bifurcated optical fiber 43 by the collimator lens 44, and the spectroscope 45 measures the spectrum of the specular reflection component. For example, FIG. 5 shows a first sample specular reflection spectrum Sp1 obtained by spectrum measurement for the first sample substrate 31. As shown in FIG. Further, for example, FIG. 6 shows a second sample specular reflection spectrum Sp2 obtained by spectrum measurement for the second sample base material 32. As shown in FIG. The film configuration of the optical film 33 on the second sample substrate 32 is desirably set so that the peak wavelengths of the first sample specular reflection spectrum Sp1 and the second sample specular reflection spectrum Sp2 are largely different. This is for calculating an accurate height distribution function H(x) in the subsequent height distribution calculation step.

(反射率Rの算出方法)
次に、膜付透明基材10のアンチグレア面13側の主面における反射率Rの計算方法について説明する。反射率Rは、下記式(1)に基づいて算出できる。
(Calculation method of reflectance R)
Next, a calculation method of the reflectance R on the main surface of the film-coated transparent substrate 10 on the antiglare surface 13 side will be described. The reflectance R can be calculated based on the following formula (1).

Figure 2023056722000002
上記式(1)に示すように、反射率Rは、高さ分布関数H(x)を重みとして、複素数振幅反射率r(x)をアンチグレア高さxで積分することで計算される。アンチグレア高さxは、厚方向における境界面23からアンチグレア面13の凹凸構造における凸部の先端までの長さである。
Figure 2023056722000002
As shown in equation (1) above, the reflectance R is calculated by integrating the complex amplitude reflectance r(x) with the antiglare height x, weighted by the height distribution function H(x). The antiglare height x is the length from the boundary surface 23 in the thickness direction to the tips of the protrusions in the uneven structure of the antiglare surface 13 .

以下、上記式(1)について説明する。図7に示すように、位置Pから透明基材11に照射された平行光が、アンチグレア面13で反射して位置Pへ帰ってくる正反射を考える。このとき、平行光がアンチグレア面13の凹部で反射したか凸部で反射したかに応じて、位置Pに帰ってくる反射光L1はそれぞれ位相差を生じる。また、基材本体21とアンチグレア層22とに屈折率差がある場合は、アンチグレア面13で反射する反射光L1と、アンチグレア層22を透過して基材本体21とアンチグレア層22の境界面23で反射する反射光L2との干渉を考慮する。この考えにより、透明基材11の反射光は、振幅の反射率と位相の変化をまとめて複素数で表した複素数振幅反射率r(x)として表される。また、アンチグレア面13の凹凸構造の周期が十分に短く、かつ、アンチグレア面13から位置Pまでの距離が十分に長い場合、位置Pにて複素数振幅反射率r(x)が干渉を生じるとする。アンチグレア高さxは高さ分布関数H(x)で表される密度を持つため、高さ分布関数H(x)を重みとして複素数振幅反射率r(x)をアンチグレア高さxで積分することで反射率Rを計算することができる。そして、高さ分布関数H(x)に基づいて各波長毎の反射率Rを計算することで、膜付透明基材10のアンチグレア面13側の主面における光学スペクトルを計算できる。すなわち、高さ分布関数H(x)を得られれば、膜付透明基材10の光学スペクトルを計算できる。 The formula (1) will be described below. As shown in FIG. 7, specular reflection is considered in which parallel light irradiated onto the transparent substrate 11 from the position P is reflected by the anti-glare surface 13 and returns to the position P. As shown in FIG. At this time, the reflected light L1 returning to the position P has a phase difference depending on whether the parallel light is reflected by the concave portion or the convex portion of the anti-glare surface 13 . Further, when there is a refractive index difference between the base body 21 and the anti-glare layer 22, the reflected light L1 reflected by the anti-glare surface 13 and the boundary surface 23 between the base body 21 and the anti-glare layer 22 are transmitted through the anti-glare layer 22. Consider the interference with the reflected light L2 reflected at . Based on this idea, the reflected light from the transparent base material 11 is expressed as a complex amplitude reflectance r(x) in which the amplitude reflectance and the phase change are collectively expressed as a complex number. Further, when the period of the uneven structure of the anti-glare surface 13 is sufficiently short and the distance from the anti-glare surface 13 to the position P is sufficiently long, it is assumed that the complex amplitude reflectance r(x) causes interference at the position P. . Since the antiglare height x has a density represented by the height distribution function H(x), the complex amplitude reflectance r(x) is integrated with the antiglare height x using the height distribution function H(x) as a weight. The reflectance R can be calculated with By calculating the reflectance R for each wavelength based on the height distribution function H(x), the optical spectrum on the main surface of the film-coated transparent substrate 10 on the antiglare surface 13 side can be calculated. That is, if the height distribution function H(x) is obtained, the optical spectrum of the film-coated transparent substrate 10 can be calculated.

(高さ分布算出ステップ)
高さ分布算出ステップでは、前記測定ステップで測定された第1サンプル正反射スペクトルSp1と第2サンプル正反射スペクトルSp2とに基づいて、透明基材11のアンチグレア面13の高さ分布関数H(x)を算出する。なお、高さ分布算出ステップを実行する前記プログラムを実行するコンピュータは、第1サンプル正反射スペクトルSp1と第2サンプル正反射スペクトルSp2とを入力値として得る。
(Height distribution calculation step)
In the height distribution calculating step, the height distribution function H(x ) is calculated. The computer that executes the program that executes the height distribution calculation step obtains the first sample specular reflection spectrum Sp1 and the second sample specular reflection spectrum Sp2 as input values.

高さ分布関数H(x)は、例えば下記式(2)とする。 The height distribution function H(x) is, for example, the following formula (2).

Figure 2023056722000003
上記式(2)に示すように、高さ分布関数H(x)は、3つの正規分布関数G,G,Gと、歪みを与えるための2つのシグモイド関数S,Sとを合成した関数である。上記式(2)において、k,kは比例定数である。
Figure 2023056722000003
As shown in the above formula (2), the height distribution function H(x) consists of three normal distribution functions G 1 , G 2 , G 3 and two sigmoid functions S 1 , S 2 for giving distortion. is a function that combines In the above formula (2), k 2 and k 3 are proportionality constants.

各正規分布関数G,G,Gは下記式(3)で表され、各シグモイド関数S,Sは下記式(4)で表される。 Each normal distribution function G 1 , G 2 , G 3 is represented by the following formula (3), and each sigmoid function S 1 , S 2 is represented by the following formula (4).

Figure 2023056722000004
Figure 2023056722000004

Figure 2023056722000005
上記式(3)において、dはシフト量であり、σは標準偏差である。上記式(4)において、aはゲインであり、dはシフト量である。
Figure 2023056722000005
In the above formula (3), d is the shift amount and σ is the standard deviation. In the above formula (4), a is the gain and d is the shift amount.

本実施形態の高さ分布算出ステップでは、上記式(1)の反射率Rから計算される正反射スペクトルが、第1サンプル正反射スペクトルSp1及び第2サンプル正反射スペクトルSp2のそれぞれで合致する高さ分布関数H(x)の解を求める。すなわち、高さ分布関数H(x)において、比例定数k,k、シフト量d、標準偏差σ、及びゲインaの各パラメータを変更し、第1サンプル正反射スペクトルSp1及び第2サンプル正反射スペクトルSp2のそれぞれで合致する各パラメータの値を求める。 In the height distribution calculation step of the present embodiment, the specular reflection spectrum calculated from the reflectance R of the above equation (1) has a height corresponding to each of the first sample specular reflection spectrum Sp1 and the second sample specular reflection spectrum Sp2. Find the solution for the height distribution function H(x). That is, in the height distribution function H(x), the proportionality constants k 2 and k 3 , the shift amount d, the standard deviation σ, and the gain a are changed, and the first sample specular reflection spectrum Sp1 and the second sample positive A value of each parameter that matches with each of the reflection spectra Sp2 is obtained.

図8には、高さ分布関数H(x)の一例を示している。同図に示すように、高さ分布関数H(x)は、アンチグレア面13における高さ毎の度数を示すヒストグラムとして表される。なお、横軸となる高さは、アンチグレア層22と基材本体21の境界面23を基準とする高さである。 FIG. 8 shows an example of the height distribution function H(x). As shown in the figure, the height distribution function H(x) is expressed as a histogram showing the frequency for each height on the antiglare surface 13. FIG. The height on the horizontal axis is the height with reference to the interface 23 between the antiglare layer 22 and the substrate body 21 .

なお、図1に示すように、アンチグレア層22と基材本体21の境界面23からアンチグレア面13の凹凸構造の凹部表面までの厚さをアンチグレア膜厚tとする。また、同図において、アンチグレア面13の凹凸構造における凸部の突出高さを、突出高さhとしている。 As shown in FIG. 1, the thickness from the boundary surface 23 between the antiglare layer 22 and the substrate main body 21 to the concave surface of the uneven structure of the antiglare surface 13 is defined as the antiglare film thickness t. Further, in the figure, the projection height of the projections in the uneven structure of the anti-glare surface 13 is defined as the projection height h.

図8に示すように、高さ分布関数H(x)は、横軸の高さがアンチグレア膜厚tとなる値で最も度数が大きくなる第1のピークP1を有する。すなわち、アンチグレア面13において、高さがアンチグレア膜厚tとなる部分が最も多く分布していることを表している。また、高さ分布関数H(x)は、第1のピークP1よりも高さが高い部分で、アンチグレア面13のアンチグレア高さxに相当する第2のピークP2を有する。なお、図8においては、本例の高さ分布関数H(x)に含まれるシグモイド関数S,Sも合わせて示している。 As shown in FIG. 8, the height distribution function H(x) has a first peak P1 with the highest frequency when the height on the horizontal axis is the antiglare film thickness t. That is, the antiglare surface 13 has the largest distribution of portions having a height equal to the antiglare film thickness t. Also, the height distribution function H(x) has a second peak P2 corresponding to the antiglare height x of the antiglare surface 13 at a portion higher than the first peak P1. Note that FIG. 8 also shows sigmoid functions S 1 and S 2 included in the height distribution function H(x) of this example.

また、図8に示す高さ分布関数H(x)における各パラメータを、下記の表1及び表2に示す。 Further, each parameter in the height distribution function H(x) shown in FIG. 8 is shown in Tables 1 and 2 below.

Figure 2023056722000006
Figure 2023056722000006

Figure 2023056722000007
Figure 2023056722000007

(スペクトル計算ステップ)
高さ分布算出ステップの後、スペクトル計算ステップを行う。同スペクトル計算ステップでは、膜付透明基材10において、反射防止膜12における光の干渉、及びアンチグレア面13の凹凸構造による光の干渉を計算し、それら各干渉を考慮して膜付透明基材10の光学スペクトルを求める。アンチグレア面13の凹凸構造による光の干渉は、上記式(1)に基づいて計算する。このとき、上記式(1)に含まれる高さ分布関数H(x)は、上記高さ分布算出ステップで算出した高さ分布関数H(x)を代入する。また、反射防止膜12における光の干渉は、任意の膜構成の反射防止膜12における各層界面反射による干渉であり、同光の干渉は計算によって得ることができる。
(Spectrum calculation step)
After the height distribution calculation step, the spectrum calculation step is performed. In the spectrum calculation step, in the film-coated transparent substrate 10, the light interference in the antireflection film 12 and the light interference due to the uneven structure of the anti-glare surface 13 are calculated. Obtain 10 optical spectra. The light interference due to the uneven structure of the antiglare surface 13 is calculated based on the above formula (1). At this time, the height distribution function H(x) calculated in the height distribution calculation step is substituted for the height distribution function H(x) included in the above equation (1). Further, the interference of light in the antireflection film 12 is the interference due to reflection at each layer interface in the antireflection film 12 having an arbitrary film configuration, and the interference of light can be obtained by calculation.

図9には、膜付透明基材10の光学スペクトルにおいて、スペクトル計算ステップにて計算されたシミュレーション値と、実測値との比較を示している。同図に示すように、シミュレーション値と実測値とで、光学スペクトルがピークを示す波長に大きなずれはない。従って、本実施形態の計算方法によって膜付透明基材10の光学スペクトルが好適に計算できるといえる。 FIG. 9 shows a comparison between the simulated values calculated in the spectrum calculation step and the measured values in the optical spectrum of the film-coated transparent substrate 10 . As shown in the figure, there is no significant deviation in the wavelengths at which the optical spectrum peaks between the simulated values and the measured values. Therefore, it can be said that the optical spectrum of the film-coated transparent substrate 10 can be suitably calculated by the calculation method of the present embodiment.

本実施形態の効果について説明する。
(1)測定ステップでは、表面付近での厚さ方向における屈折率分布が互いに異なる複数のサンプル基材を用意し、当該複数のサンプル基材におけるサンプル正反射スペクトルをそれぞれ測定する。高さ分布算出ステップでは、上記測定ステップで測定された複数のサンプル正反射スペクトルに基づいて、アンチグレア面13の高さ分布関数H(x)を算出する。スペクトル計算ステップでは、アンチグレア面13の凹凸構造による光の干渉を高さ分布関数H(x)に基づいて計算し、当該光の干渉を考慮して光学スペクトルを求める。
Effects of the present embodiment will be described.
(1) In the measurement step, a plurality of sample substrates having different refractive index distributions in the thickness direction near the surface are prepared, and sample specular reflection spectra of the plurality of sample substrates are respectively measured. In the height distribution calculating step, the height distribution function H(x) of the antiglare surface 13 is calculated based on the plurality of sample specular reflection spectra measured in the measuring step. In the spectrum calculation step, the light interference due to the uneven structure of the anti-glare surface 13 is calculated based on the height distribution function H(x), and the optical spectrum is obtained in consideration of the light interference.

この態様によれば、複数のサンプル基材の各々におけるサンプル正反射スペクトルに基づいて、アンチグレア面13の高さ分布関数H(x)を算出する。これにより、算出したアンチグレア面13の高さ分布関数H(x)に基づき、アンチグレア面13の凹凸構造による光の干渉を計算することができる。その結果、反射防止膜12が設けられたアンチグレア面13における光学スペクトルを、アンチグレア面13の凹凸構造の光の干渉を考慮して容易に計算することが可能となる。 According to this aspect, the height distribution function H(x) of the antiglare surface 13 is calculated based on the sample specular reflection spectrum of each of the plurality of sample substrates. Thereby, the light interference due to the uneven structure of the anti-glare surface 13 can be calculated based on the calculated height distribution function H(x) of the anti-glare surface 13 . As a result, the optical spectrum of the anti-glare surface 13 provided with the anti-reflection film 12 can be easily calculated in consideration of the light interference of the uneven structure of the anti-glare surface 13 .

(2)測定ステップにおいて、サンプル基材のアンチグレア面13に垂直に入射させた光の反射光によりサンプル正反射スペクトルを測定する。この態様によれば、高さ分布算出ステップにおける高さ分布関数H(x)を算出する計算式を単純化することが可能となり、その結果、膜付透明基材10の光学スペクトルをより容易に計算することが可能となる。 (2) In the measurement step, the specular reflection spectrum of the sample is measured by the reflected light of the light vertically incident on the antiglare surface 13 of the sample substrate. According to this aspect, it is possible to simplify the calculation formula for calculating the height distribution function H(x) in the height distribution calculation step. As a result, the optical spectrum of the film-coated transparent substrate 10 can be more easily can be calculated.

(3)複数のサンプル基材は、アンチグレア面13に光学膜が設けられていない第1サンプル基材31と、アンチグレア面13に光学膜33が設けられた第2サンプル基材32と、を含む。この態様によれば、第1サンプル基材31に光学膜を設けなくてもよいため、工程の簡素化を図ることが可能となる。 (3) The plurality of sample substrates include a first sample substrate 31 with no optical film provided on the anti-glare surface 13 and a second sample substrate 32 with an optical film 33 provided on the anti-glare surface 13. . According to this aspect, since it is not necessary to provide the optical film on the first sample substrate 31, the process can be simplified.

本実施形態は、以下のように変更して実施することができる。本実施形態及び以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。
・測定ステップにおいて、サンプル基材のアンチグレア面13に対して傾斜した角度で入射させた光の正反射光によりサンプル正反射スペクトルを測定してもよい。
This embodiment can be implemented with the following modifications. This embodiment and the following modified examples can be implemented in combination with each other within a technically consistent range.
- In the measurement step, the specular reflection spectrum of the sample may be measured by the specular reflection of the light incident on the antiglare surface 13 of the sample substrate at an oblique angle.

・上記実施形態の第1サンプル基材31では、アンチグレア面13に光学膜を設けていないが、これに特に限定されるものではない。アンチグレア面13における厚さ方向の屈折率の分布が第2サンプル基材32と異なるようにすれば、第1サンプル基材31のアンチグレア面13にも光学膜を設けてもよい。 - In the first sample substrate 31 of the above embodiment, the anti-glare surface 13 is not provided with an optical film, but the present invention is not particularly limited to this. An optical film may also be provided on the anti-glare surface 13 of the first sample substrate 31 if the refractive index distribution in the thickness direction of the anti-glare surface 13 is different from that of the second sample substrate 32 .

・今回開示された実施形態及び変更例はすべての点で例示であって、本発明はこれらの例示に限定されるものではない。すなわち、本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 - The embodiments and modifications disclosed this time are exemplifications in all respects, and the present invention is not limited to these exemplifications. That is, the scope of the present invention is indicated by the scope of claims, and is intended to include all changes within the meaning and scope of equivalence to the scope of claims.

10…膜付透明基材
11…透明基材
12…反射防止膜
13…アンチグレア面
21…基材本体
22…アンチグレア層
23…境界面
31…第1サンプル基材
32…第2サンプル基材
33…光学膜
41…測定装置
42…光源
43…二分岐光ファイバ
44…コリメータレンズ
45…分光器
Sp1…第1サンプル正反射スペクトル
Sp2…第2サンプル正反射スペクトル
t…アンチグレア膜厚
x…アンチグレア高さ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10... Film-attached transparent base material 11... Transparent base material 12... Antireflection film 13... Anti-glare surface 21... Base material body 22... Anti-glare layer 23... Boundary surface 31... First sample base material 32... Second sample base material 33... Optical film 41 Measuring device 42 Light source 43 Bifurcated optical fiber 44 Collimator lens 45 Spectroscope Sp1 First sample regular reflection spectrum Sp2 Second sample regular reflection spectrum t Antiglare film thickness x Antiglare height

Claims (4)

凹凸構造を有するアンチグレア面を表面に備える透明基材と、前記アンチグレア面上に設けられる反射防止膜とを備えた膜付透明基材における光学スペクトルの計算方法であって、
各々前記アンチグレア面を表面に有し、当該表面付近での厚さ方向における屈折率の分布が相互に異なる複数のサンプル基材を用い、前記複数のサンプル基材の表面におけるサンプル正反射スペクトルを測定する測定ステップと、
前記測定ステップで測定された複数の前記サンプル正反射スペクトルに基づいて、前記アンチグレア面の高さ分布関数を算出する高さ分布算出ステップと、
前記凹凸構造による光の干渉を前記高さ分布関数に基づいて計算し、当該光の干渉を考慮して前記光学スペクトルを求めるスペクトル計算ステップと、
を有する、
光学スペクトルの計算方法。
A method for calculating an optical spectrum in a film-coated transparent substrate comprising a transparent substrate having an anti-glare surface having an uneven structure on its surface and an antireflection film provided on the anti-glare surface, the method comprising:
Using a plurality of sample substrates each having the anti-glare surface on the surface and having different refractive index distributions in the thickness direction near the surface, sample specular reflection spectra on the surfaces of the plurality of sample substrates are measured. a measuring step to
a height distribution calculating step of calculating a height distribution function of the anti-glare surface based on the plurality of sample specular reflection spectra measured in the measuring step;
a spectrum calculation step of calculating the light interference due to the uneven structure based on the height distribution function and obtaining the optical spectrum in consideration of the light interference;
having
How to calculate the optical spectrum.
前記測定ステップにおいて、前記サンプル基材の前記アンチグレア面に垂直に入射させた光の反射光により前記サンプル正反射スペクトルを測定する、
請求項1に記載の光学スペクトルの計算方法。
In the measuring step, the specular reflection spectrum of the sample is measured by the reflected light of the light vertically incident on the antiglare surface of the sample substrate.
The method of calculating an optical spectrum according to claim 1.
前記複数のサンプル基材は、前記アンチグレア面に光学膜が設けられていない第1サンプル基材と、前記アンチグレア面に光学膜が設けられた第2サンプル基材と、を含む、
請求項1に記載の光学スペクトルの計算方法。
The plurality of sample substrates include a first sample substrate having no optical film on the anti-glare surface and a second sample substrate having an optical film on the anti-glare surface.
The method of calculating an optical spectrum according to claim 1.
凹凸構造を有するアンチグレア面を表面に備える透明基材と、前記アンチグレア面上に設けられる反射防止膜とを備えた膜付透明基材における光学スペクトルを計算する計算装置としてコンピュータを機能させるプログラムであって、
入力値として得られた複数のサンプル正反射スペクトルに基づいて、前記アンチグレア面の高さ分布関数を算出する高さ分布算出ステップと、
前記凹凸構造による光の干渉を前記高さ分布関数に基づいて計算し、当該光の干渉を考慮して前記光学スペクトルを求めるスペクトル計算ステップと、
を有する、
プログラム。
A program for causing a computer to function as a computing device for calculating an optical spectrum in a film-coated transparent substrate having an anti-glare surface having an uneven structure on its surface and an anti-reflection film provided on the anti-glare surface. hand,
a height distribution calculating step of calculating a height distribution function of the anti-glare surface based on a plurality of sample specular reflection spectra obtained as input values;
a spectrum calculation step of calculating the light interference due to the uneven structure based on the height distribution function and obtaining the optical spectrum in consideration of the light interference;
having
program.
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