JP2023050693A - Tab lead and nonaqueous electrolyte device - Google Patents

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Riku Kondo
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Abstract

To increase the durability of a lead material to achieve the long life and high reliability of a tab lead.SOLUTION: Provided is a tab lead that is provided in a laminated nonaqueous electrolyte device in which at least an electrode and an electrolytic solution or a solid electrolyte are sealed inside a laminate material. The tab lead includes: a lead material which is formed of a metallic material and has both ends provided as an electrode connection to be connected to the electrode and a terminal connection to be connected external equipment, respectively; nickel plating covering a surface of the lead material; a coat covering a surface of the nickel plating; and a pair of seal portions brought into close contact with the coat from both sides. The nickel plating has an arithmetic average roughness measured by an atomic force microscope of 5.0 nm or more, and a half band width measured by an X-ray diffraction method of 0.5 degree or less.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、電極と外部機器に接続されるリード材を有するタブリード及びこれを備えた非水電解質デバイスについての技術分野に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a technical field of a tab lead having a lead material connected to an electrode and an external device, and a non-aqueous electrolyte device having the same.

非水電解質デバイスには、例えば、リチウムイオン電池やリチウムイオンキャパシタ等が存在する。リチウムイオン電池は正極と負極の間をリチウムイオンが移動することにより充電や放電を行う機能を有し、リチウムイオンキャパシタは電気二重層の正極とリチウムイオンの吸着が可能な炭素系の材料を使用する負極とが設けられた構造において充電や放電を行う機能を有する。 Non-aqueous electrolyte devices include, for example, lithium ion batteries and lithium ion capacitors. Lithium-ion batteries have the function of charging and discharging by moving lithium ions between the positive and negative electrodes, and lithium-ion capacitors use an electric double-layer positive electrode and a carbon-based material that can adsorb lithium ions. It has a function of performing charging and discharging in a structure in which a negative electrode is provided.

このような非水電解質デバイスには、例えば、車載用の電池や蓄電池等として使用され、袋状にされたラミネート材の内部に電極と電解液又は固体電解質が封入されたラミネート型がある。ラミネート型の非水電解質デバイスにおいてはタブリードによって電力の取り出しが行われる。 Such a non-aqueous electrolyte device includes, for example, a laminated type used as a vehicle battery or storage battery, in which an electrode and an electrolytic solution or a solid electrolyte are sealed inside a bag-shaped laminated material. In a laminated non-aqueous electrolyte device, power is taken out by tab leads.

タブリードは電力を取り出すための端子部材として機能する金属製のリード材を有している。リード材は一端部がラミネート材の内部に配置された電極に接続され他端部がラミネート材の外部に露出されて外部機器の接続端子であるバスバー等に接続される。 The tab lead has a metal lead material that functions as a terminal member for extracting power. One end of the lead material is connected to an electrode arranged inside the laminate material, and the other end is exposed outside the laminate material and connected to a bus bar or the like, which is a connection terminal of an external device.

このようなタブリードにおいては、リード材の表面にニッケルめっきが施されると共にニッケルめっきの表面に被膜(表面処理層)が施されることにより、リード材の保護が行われ、リード材の酸化や電解液等によるエッチングが防止される(例えば、特許文献1及び特許文献2参照)。 In such a tab lead, the surface of the lead material is nickel-plated and a film (surface treatment layer) is applied to the nickel-plated surface to protect the lead material and prevent oxidation of the lead material. Etching by an electrolytic solution or the like is prevented (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

特開2014-186914号公報JP 2014-186914 A 特開2014-220129号公報JP 2014-220129 A

ところで、タブリードにおいては、上記したように、ニッケルめっきによってリード材が保護されるが、ニッケルめっきに含まれる不純物の量等によってはニッケルめっきの電解液に対する耐食性が低下し、ニッケルめっきが電解液と水分の反応により発生するフッ酸によってエッチングされ、リード材の酸化やエッチングが生じてリード材の保護が不十分になり、リード材の耐久性が低下しタブリードの寿命の低下を来してしまう。 By the way, in the tab lead, as described above, the nickel plating protects the lead material, but depending on the amount of impurities contained in the nickel plating, the corrosion resistance of the nickel plating to the electrolytic solution is lowered, and the nickel plating is not compatible with the electrolytic solution. The lead material is etched by hydrofluoric acid generated by the reaction of moisture, and the lead material is oxidized and etched, resulting in insufficient protection of the lead material.

そこで、本発明は、リード材の耐久性を高めてタブリードの長寿命化及び高信頼性を図ることを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to improve the durability of the lead material and to extend the life and reliability of the tab lead.

本発明に係るタブリードは、ラミネート材の内部に少なくとも電極と電解液又は固体電解質とが封入されたラミネート型の非水電解質デバイスに設けられるタブリードであって、金属材料によって形成され両端部がそれぞれ前記電極に接続される電極接続部と外部機器に接続される端子接続部として設けられたリード材と、前記リード材の表面を覆うニッケルめっきと、前記ニッケルめっきの表面を覆う被膜と、前記被膜に両側から密着される一対のシール部とを備え、前記ニッケルめっきは原子間力顕微鏡によって測定した算術平均粗さが5.0nm以上にされX線回析法によって測定した半値幅が0.5度以下にされたものである。 A tab lead according to the present invention is a tab lead provided in a laminate type non-aqueous electrolyte device in which at least an electrode and an electrolytic solution or a solid electrolyte are sealed inside a laminate material, the tab lead being formed of a metal material and having both ends as described above. A lead material provided as an electrode connection part connected to an electrode and a terminal connection part connected to an external device, nickel plating covering the surface of the lead material, a coating covering the surface of the nickel plating, and the coating and a pair of sealing portions that are closely attached from both sides, and the nickel plating has an arithmetic mean roughness of 5.0 nm or more measured by an atomic force microscope and a half width of 0.5 degrees measured by an X-ray diffraction method. It has been done below.

これにより、ニッケルめっきに含有される不純物の量が少なくなりニッケルめっきの電解液に対する耐食性が高くなる。 This reduces the amount of impurities contained in the nickel plating and increases the corrosion resistance of the nickel plating to the electrolyte.

本発明に係る非水電解質デバイスは、ラミネート材の内部に少なくとも電極と電解液又は固体電解質とが封入されタブリードが設けられたラミネート型の非水電解質デバイスであって、前記タブリードは、金属材料によって形成され両端部がそれぞれ前記電極に接続される電極接続部と外部機器に接続される端子接続部として設けられたリード材と、前記リード材の表面を覆うニッケルめっきと、前記ニッケルめっきの表面を覆う被膜と、前記被膜に両側から密着される一対のシール部とを備え、前記ニッケルめっきは原子間力顕微鏡によって測定した算術平均粗さが5.0nm以上にされX線回析法によって測定した半値幅が0.5度以下にされたものである。 A non-aqueous electrolyte device according to the present invention is a laminate-type non-aqueous electrolyte device in which at least an electrode and an electrolytic solution or a solid electrolyte are sealed inside a laminate material and a tab lead is provided, wherein the tab lead is made of a metal material. A lead material provided as an electrode connection part formed and having both ends connected to the electrodes and a terminal connection part connected to an external device, a nickel plating covering the surface of the lead material, and a surface of the nickel plating. A covering coating and a pair of sealing portions that are in close contact with the coating from both sides are provided, and the nickel plating has an arithmetic average roughness of 5.0 nm or more as measured by an atomic force microscope and is measured by an X-ray diffraction method. The half width is set to 0.5 degrees or less.

これにより、タブリードにおいて、ニッケルめっきに含有される不純物の量が少なくなりニッケルめっきの電解液に対する耐食性が高くなる。 As a result, in the tab lead, the amount of impurities contained in the nickel plating is reduced, and the corrosion resistance of the nickel plating to the electrolytic solution is enhanced.

本発明のタブリード及び非水電解質デバイスによれば、ニッケルめっきに含有される不純物の量が少なくなりニッケルめっきの電解液に対する耐食性が高くなるため、リード材の酸化の防止を図ることができると共に電解液と水分の反応によって発生するフッ酸によるエッチングを防止することができ、リード材の耐久性を高めてタブリードの長寿命化及び高信頼性を図ることができる。 According to the tab lead and the non-aqueous electrolyte device of the present invention, the amount of impurities contained in the nickel plating is reduced and the corrosion resistance of the nickel plating to the electrolytic solution is increased, so that oxidation of the lead material can be prevented and electrolysis can be performed. Etching by hydrofluoric acid generated by the reaction between liquid and water can be prevented, the durability of the lead material can be improved, and the life and reliability of the tab lead can be increased.

図2乃至図6と共に本発明の実施の形態を示すものであり、本図は、非水電解質デバイスの正面図である。The embodiment of the present invention is shown together with FIGS. 2 to 6, and this figure is a front view of a non-aqueous electrolyte device. 図1のII-II線に沿う断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II of FIG. 1; タブリードの斜視図である。FIG. 4 is a perspective view of a tab lead; 端子部の層構成を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a layer structure of a terminal portion; 端子部に関する測定結果を示すグラフ図である。It is a graph showing the measurement result about a terminal part. 端子部に関する別の測定結果を示すグラフ図である。It is a graph chart showing another measurement result about a terminal area.

以下に、本発明のタブリード及び非水電解質デバイスを実施するための形態について、添付図面を参照して説明する。 EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, the form for implementing the tab lead and nonaqueous electrolyte device of this invention is demonstrated with reference to an accompanying drawing.

<非水電解質デバイスの概略構成>
先ず、ラミネート型の非水電解質デバイスの例としてリチウムイオン電池の概略構成について説明する(図1及び図2参照)。尚、本発明の非水電解質デバイスの適用範囲はリチウムイオン電池に限られることはなく、本発明はラミネート型のリチウムイオンキャパシタ等の他の非水電解質デバイスにも適用することが可能である。
<Schematic configuration of non-aqueous electrolyte device>
First, as an example of a laminate-type nonaqueous electrolyte device, a schematic configuration of a lithium ion battery will be described (see FIGS. 1 and 2). The scope of application of the nonaqueous electrolyte device of the present invention is not limited to lithium ion batteries, and the present invention can also be applied to other nonaqueous electrolyte devices such as laminated lithium ion capacitors.

非水電解質デバイスは内部に電解質等が封入されたラミネート材とラミネート材から一部が外部に突出されたタブリードとを有し、以下の説明にあっては、ラミネート材からタブリードが突出される方向を上方とし、前後上下左右の方向を示すものとする。但し、以下に示す前後上下左右の方向は説明の便宜上のものであり、本発明の実施に関しては、これらの方向に限定されることはない。 A non-aqueous electrolyte device has a laminate material in which an electrolyte or the like is enclosed and a tab lead partially protruding from the laminate material. shall be referred to as the upper direction, and the front, back, up, down, left, and right directions shall be indicated. However, the front, rear, up, down, left, and right directions shown below are for convenience of explanation, and the implementation of the present invention is not limited to these directions.

非水電解質デバイス100は袋状にされたラミネート材101とラミネート材101の内部に封入された各部と一部がラミネート材101から突出されたタブリード1、1とを有している(図1参照)。 The non-aqueous electrolyte device 100 has a bag-shaped laminate material 101, various parts sealed inside the laminate material 101, and tab leads 1, 1 partially protruding from the laminate material 101 (see FIG. 1). ).

ラミネート材101は上端部が封止部102として形成された袋状にされている。ラミネート材101は、例えば、三層構造にされ、それぞれ樹脂材料によって形成された外面層101aと内面層101bが金属層101cの両側に積層されている(図2参照)。外面層101aとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートが用いられ、内面層101bとしては、例えば、ポリプロピレン又はポリエチレンが用いられ、金属層101cとしては、例えば、アルミニウム又はステンレス鋼が用いられている。 The laminate material 101 has a bag shape with an upper end formed as a sealing portion 102 . The laminate material 101 has, for example, a three-layer structure, in which an outer layer 101a and an inner layer 101b each made of a resin material are laminated on both sides of a metal layer 101c (see FIG. 2). For example, polyethylene terephthalate is used as the outer layer 101a, polypropylene or polyethylene is used as the inner layer 101b, and aluminum or stainless steel is used as the metal layer 101c.

ラミネート材101の内部には、電解液103が封入されると共に正極104と負極105とセパレータ106が配置されている。正極104と負極105は電解液103に浸されており、セパレータ106によって正極104が配置された空間と負極105が配置された空間とが仕切られている。正極104としては、例えば、アルミニウムが用いられ、負極105としては、例えば、ニッケル又は銅若しくはこれらの合金が用いられている。尚、電解液103に代えて固体電解質が用いられていてもよい。 Inside the laminate material 101, an electrolytic solution 103 is enclosed, and a positive electrode 104, a negative electrode 105, and a separator 106 are arranged. The positive electrode 104 and the negative electrode 105 are immersed in the electrolytic solution 103 , and the space in which the positive electrode 104 is arranged and the space in which the negative electrode 105 is arranged are separated by the separator 106 . Aluminum, for example, is used for the positive electrode 104, and nickel, copper, or an alloy thereof is used for the negative electrode 105, for example. A solid electrolyte may be used instead of the electrolytic solution 103 .

<タブリードの構成>
次に、タブリード1の構成について説明する(図2乃至図4参照)。尚、タブリード1は一対設けられており、正極104に接続される一方のタブリード1が非水電解質デバイス100における正極として機能し、負極105に接続される他方のタブリード1が非水電解質デバイス100における負極として機能する。
<Structure of Tab Lead>
Next, the configuration of the tab lead 1 will be described (see FIGS. 2 to 4). One pair of tab leads 1 connected to the positive electrode 104 functions as a positive electrode in the non-aqueous electrolyte device 100, and the other tab lead 1 connected to the negative electrode 105 functions as the positive electrode in the non-aqueous electrolyte device 100. It functions as a negative electrode.

タブリード1は、薄板状の端子部2と、端子部2に両側から密着された一対のシール部3、3とを有している(図2及び図3参照)。タブリード1は、外周面の一部が封止部102に密着された状態にされ、上端側の部分がラミネート材101から上方に突出されている。 The tab lead 1 has a thin plate-like terminal portion 2 and a pair of sealing portions 3, 3 which are in close contact with the terminal portion 2 from both sides (see FIGS. 2 and 3). A portion of the outer peripheral surface of the tab lead 1 is brought into close contact with the sealing portion 102 , and the upper end portion of the tab lead 1 protrudes upward from the laminate material 101 .

端子部2は、厚さが、例えば、50μmから3000μmにされた薄板状に形成されている。端子部2の下端部は電極接続部2aとして設けられ、正極104又は負極105に、例えば、溶接等によって接続されている。端子部2の上端部はラミネート材101から外部に露出された端子接続部2bとして設けられ、外部機器の図示しない接続端子(バスバー)に、例えば、溶接等によって接続される。 The terminal portion 2 is formed in a thin plate shape with a thickness of, for example, 50 μm to 3000 μm. A lower end portion of the terminal portion 2 is provided as an electrode connection portion 2a, and is connected to the positive electrode 104 or the negative electrode 105 by welding or the like, for example. An upper end portion of the terminal portion 2 is provided as a terminal connection portion 2b exposed to the outside from the laminate material 101, and is connected to a connection terminal (bus bar) (not shown) of an external device by welding or the like.

シール部3、3は端子部2に両側から密着されると共にラミネート材101の封止部102の内面にも密着されてラミネート材101を封止し、ラミネート材101の内部に封入された電解液103等の液漏れを防止する機能を有している。また、シール部3、3は端子部2とラミネート材101の間に介在され、端子部2とラミネート材101の間の絶縁性を確保する機能をも有している。 The seal portions 3, 3 are in close contact with the terminal portion 2 from both sides and also in close contact with the inner surface of the sealing portion 102 of the laminate material 101 to seal the laminate material 101, and the electrolytic solution enclosed inside the laminate material 101. It has a function of preventing liquid leakage such as 103 . Moreover, the seal portions 3, 3 are interposed between the terminal portion 2 and the laminate material 101, and also have a function of ensuring insulation between the terminal portion 2 and the laminate material 101. FIG.

シール部3、3は端子部2の長手方向に対して直交する方向に延びる形状に形成され、端子部2の厚み方向における両面に両側から密着されている。シール部3は厚さが、例えば、75μmから300μmにされ、長手方向における中央の部分が端子部2に密着されている。シール部3は単層にされていてもよく、複数層にされていてもよい。シール部3は、例えば、熱圧着されることにより端子部2とラミネート材101の封止部102とに密着される。 The seal portions 3, 3 are formed in a shape extending in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the terminal portion 2, and are in close contact with both sides of the terminal portion 2 in the thickness direction. The seal portion 3 has a thickness of, for example, 75 μm to 300 μm, and the central portion in the longitudinal direction is in close contact with the terminal portion 2 . The seal portion 3 may be made of a single layer or may be made of multiple layers. The sealing portion 3 is adhered to the terminal portion 2 and the sealing portion 102 of the laminate material 101 by, for example, thermocompression bonding.

端子部2は、ベース材として設けられたリード材4とリード材4の表面を覆うニッケルめっき5とニッケルめっき5の表面を覆う被膜6とによって構成されている(図4参照)。 The terminal portion 2 is composed of a lead material 4 provided as a base material, a nickel plating 5 covering the surface of the lead material 4, and a coating 6 covering the surface of the nickel plating 5 (see FIG. 4).

リード材4は金属材料、例えば、アルミニウム又は銅によって形成されている。リード材4は厚みの薄い、例えば、矩形状に形成されている。 The lead material 4 is made of a metal material such as aluminum or copper. The lead material 4 is thin and formed in a rectangular shape, for example.

ニッケルめっき5は電解液103に対する耐食性に優れ、リード材4を保護する機能を有し、厚さが、例えば、1μm以上にされている。ニッケルめっき5はリード材4を保護することにより、リード材4の酸化を防止すると共にリード材4の電解液103と水分の反応によって発生するフッ酸によるエッチングを防止する機能を有している。ニッケルめっき5としては、無光沢のタイプ又は半光沢のタイプが用いられる。 The nickel plating 5 has excellent corrosion resistance to the electrolytic solution 103, has a function of protecting the lead material 4, and has a thickness of, for example, 1 μm or more. By protecting the lead material 4, the nickel plating 5 has the function of preventing the lead material 4 from being oxidized and also preventing the lead material 4 from being etched by hydrofluoric acid generated by the reaction between the electrolytic solution 103 and moisture. As the nickel plating 5, a matte type or a semi-bright type is used.

ニッケルめっき5として無光沢のタイプ又は半光沢のタイプが用いられることにより、ニッケルめっき5における不純物の含有量が少なくなり、電解液103に対する高い耐食性が確保される。従って、ニッケルめっき5は可能な限り不純物の含有量が少ない無光沢又は無光沢に近い材料によって形成されることが望ましい。 By using a non-glossy type or a semi-glossy type as the nickel plating 5, the content of impurities in the nickel plating 5 is reduced, and high corrosion resistance to the electrolytic solution 103 is ensured. Therefore, it is desirable that the nickel plating 5 be made of matte or near-matte material containing as few impurities as possible.

このようにニッケルめっき5は不純物の含有量が少ない無光沢又は無光沢に近い半光沢のタイプとして形成されており、原子間力顕微鏡(AFM:Atomic Force Microscope)によって測定した算術平均粗さが5.0nm以上にされX線回析法によって測定した半値幅が0.5度以下にされている。算術平均粗さによってニッケルめっき5の表面凹凸の程度が規定され、半値幅によってニッケルめっき5の結晶性が規定される。 In this way, the nickel plating 5 is formed as a matte or semi-gloss type with a low impurity content, and has an arithmetic mean roughness of 5 as measured by an atomic force microscope (AFM). 0 nm or more, and the half-value width measured by the X-ray diffraction method is 0.5 degrees or less. The degree of unevenness of the surface of the nickel plating 5 is defined by the arithmetic mean roughness, and the crystallinity of the nickel plating 5 is defined by the half width.

原子間力顕微鏡は走査型プローブ顕微鏡の一種であり、試料の表面と探針の原子間に働く力を検出して画像を得る顕微鏡である。原子間力顕微鏡による算術平均粗さの測定範囲としては、例えば、2μm角の範囲が設定される。算術平均粗さの値が小さい値である程、光沢の程度が高い。 An atomic force microscope is a type of scanning probe microscope, and is a microscope that obtains an image by detecting forces acting between atoms on the surface of a sample and a probe tip. For example, a 2 μm square range is set as the measurement range of the arithmetic mean roughness by the atomic force microscope. The smaller the value of the arithmetic mean roughness, the higher the degree of gloss.

X線回折法(θ/2θ)はX線が結晶格子で回折を示すことを利用して物質の結晶構造を調べる方法である。X線回折法によってニッケルめっき5の結晶構造を調べることによりニッケルめっき5における不純物の含有量を測定することが可能であり、半値幅が小さい値である程、ニッケルめっき5における不純物の含有量が少ない。 The X-ray diffraction method (θ/2θ) is a method of examining the crystal structure of a substance by utilizing the diffraction of X-rays in a crystal lattice. It is possible to measure the content of impurities in the nickel plating 5 by examining the crystal structure of the nickel plating 5 by the X-ray diffraction method, and the smaller the half-value width, the higher the content of impurities in the nickel plating 5. few.

被膜6は電解液103に対する耐食性の高い材料、例えば、クロム塩又はジルコニウム塩によってニッケルめっき5の凹凸を埋めるようにして形成されている。被膜6は、例えば、厚さが20nm以上にされている。 The film 6 is formed by filling the irregularities of the nickel plating 5 with a material having high corrosion resistance to the electrolytic solution 103, such as a chromium salt or a zirconium salt. The coating 6 has a thickness of 20 nm or more, for example.

<端子部に関する測定結果>
以下に、端子部に関する測定結果について説明する(図5及び図6参照)。
<Results of measurements on terminals>
Measurement results regarding the terminal portion will be described below (see FIGS. 5 and 6).

図5は、光沢の程度が異なる3種類の端子部に関し、ニッケルめっきの残存率を測定した結果である。尚、図5に示す測定において使用した端子部(試料)は何れもリード材の表面にニッケルめっきが施されているが、被膜は施されていない。 FIG. 5 shows the results of measuring the residual rate of nickel plating for three types of terminal portions with different degrees of gloss. In addition, the terminal portions (samples) used in the measurement shown in FIG. 5 are all nickel-plated on the surface of the lead material, but are not coated.

データAは無光沢のニッケルめっきが形成された端子部、データBは半光沢のニッケルめっきが形成された端子部、データCは光沢のニッケルめっきが形成された端子部についての測定結果である。データAとデータBとデータCのエッチングレート、算術平均粗さ及び半値幅は表に示す通りである。データAとデータBとデータCの各値は2μm四方の所定の各面について測定した値である。 Data A is the measurement result of the terminal portion with matte nickel plating, Data B is the terminal portion with semi-bright nickel plating, and Data C is the terminal portion with bright nickel plating. The etching rate, arithmetic mean roughness and half width of data A, data B and data C are shown in the table. Each value of data A, data B, and data C is a value measured for each predetermined surface of 2 μm square.

横軸は電解液に端子部を浸した時間を示している。縦軸はニッケルめっきの残存率を示し、電解液に端子部を浸した時間が0時間のときのニッケルめっきの残存率を100%としている。電解液には水分を添加しており、電解液に対する水分の添加量が多くなるに従ってフッ酸の発生量が増加しニッケルめっきがエッチングされ易くなる。電解液への水分の添加量は10000ppmである。尚、本測定において電解液に添加した水分の添加量は一例であり、電解液への水分の添加量は、例えば、1000ppmにされていてもよく、この場合には、最長で試験時間が720時間にされる。 The horizontal axis indicates the time during which the terminal portion was immersed in the electrolytic solution. The vertical axis indicates the residual rate of nickel plating, and the residual rate of nickel plating is 100% when the terminal portion is immersed in the electrolytic solution for 0 hours. Water is added to the electrolytic solution, and as the amount of water added to the electrolytic solution increases, the amount of hydrofluoric acid generated increases and the nickel plating is easily etched. The amount of water added to the electrolytic solution is 10000 ppm. The amount of water added to the electrolytic solution in this measurement is an example, and the amount of water added to the electrolytic solution may be, for example, 1000 ppm. In this case, the maximum test time is 720 ppm. Timed.

本測定において、無光沢のニッケルめっきが形成された端子部と半光沢のニッケルめっきが形成された端子部は、光沢のニッケルめっきが形成された端子部に対してニッケルめっきの残存率が高く、特に、無光沢のニッケルめっきが形成された端子部は、光沢のニッケルめっきが形成された端子部に対してニッケルめっきの残存率が極めて高いと言う結果が得られた。 In this measurement, the terminals formed with matte nickel plating and the terminals formed with semi-bright nickel plating had a higher residual rate of nickel plating than the terminals formed with bright nickel plating. In particular, it was found that the terminals formed with matte nickel plating had a much higher rate of residual nickel plating than the terminals formed with bright nickel plating.

従って、ニッケルめっきが無光沢又は半光沢にされている場合には、ニッケルめっきの電解液に対する高い耐食性が確保され、リード材の酸化の防止を図ることができると共に電解液と水分の反応によって発生するフッ酸によるエッチングを防止することができることが解る。特に、ニッケルめっきが無光沢にされている場合には、ニッケルめっきの電解液に対する極めて高い耐食性が確保され、リード材の酸化の防止効果及びリード材の電解液と水分の反応によって発生するフッ酸によるエッチングの防止効果が一層高くなることが解る。 Therefore, when the nickel plating is matte or semi-gloss, the nickel plating has high corrosion resistance to the electrolytic solution, and it is possible to prevent the lead material from being oxidized. It can be seen that etching by hydrofluoric acid can be prevented. In particular, when the nickel plating is made matte, the nickel plating has an extremely high corrosion resistance to the electrolytic solution, which prevents oxidation of the lead material and hydrofluoric acid generated by the reaction between the electrolytic solution of the lead material and moisture. It can be seen that the effect of preventing the etching by is further enhanced.

図6は、被膜の形成の有無を変更した無光沢の端子部に関し、ニッケルめっきの残存厚さを測定した結果である。尚、図6に示す測定において使用した端子部(試料)は何れもリード材の表面にニッケルめっきが施されている。 FIG. 6 shows the results of measuring the remaining thickness of the nickel plating with respect to the matte terminal portions with and without coating. In addition, the terminal portions (samples) used in the measurement shown in FIG. 6 all have nickel plating on the surface of the lead material.

データDとデータEとデータFは何れも無光沢のニッケルめっきが形成された端子部についての測定結果であり、データDは被膜が形成されていない端子部、データEはクロム塩の被膜が形成された端子部、データFはジルコニウム塩の被膜が形成された端子部についての測定結果である。 Data D, Data E, and Data F are the measurement results for the terminals on which matte nickel plating is formed. Data F is the measurement result of the terminal portion having the zirconium salt film formed thereon.

横軸は電解液に端子部を浸した時間を示している。縦軸はニッケルめっきの残存厚さを示し、電解液に端子部を浸す前の状態において各端子部のニッケルめっきの厚さが2.0μmにされている。電解液には水分を添加しており、電解液に対する水分の添加量が多くなるに従ってフッ酸の発生量が増加しニッケルめっきがエッチングされ易くなる。電解液への水分の添加量は10000ppmである。尚、本測定において電解液に添加した水分の添加量は一例であり、電解液への水分の添加量は、例えば、1000ppmにされていてもよく、この場合には、最長で試験時間が720時間にされる。 The horizontal axis indicates the time during which the terminal portion was immersed in the electrolytic solution. The vertical axis indicates the remaining thickness of the nickel plating, and the thickness of the nickel plating of each terminal portion is 2.0 μm before the terminal portion is immersed in the electrolytic solution. Water is added to the electrolytic solution, and as the amount of water added to the electrolytic solution increases, the amount of hydrofluoric acid generated increases and the nickel plating is easily etched. The amount of water added to the electrolytic solution is 10000 ppm. The amount of water added to the electrolytic solution in this measurement is an example, and the amount of water added to the electrolytic solution may be, for example, 1000 ppm. In this case, the maximum test time is 720 ppm. Timed.

本測定において、被膜が形成された端子部は、被膜が形成されていない端子部に対してニッケルめっきの残存厚さが厚く、特に、ジルコニウム塩の被膜が形成された端子部は、被膜が形成されていない端子部に対してニッケルめっきの残存厚さが極めて厚いと言う結果が得られた。 In this measurement, the terminals with the film formed have a thicker remaining nickel plating than the terminals without the film. A result was obtained that the thickness of the remaining nickel plating was extremely thick with respect to the terminal portion where the nickel plating was not applied.

従って、被膜が形成されることによりニッケルめっきが電解液と水分の反応により発生するフッ酸によってエッチングされ難く、ニッケルめっき及びリード材の酸化の防止を図ることができると共に電解液と水分の反応により発生するフッ酸によるエッチングを防止することができることが解る。特に、ジルコニウム塩の被膜は、ニッケルめっきの電解液と水分の反応により発生するフッ酸によるエッチングの防止効果が高く、ニッケルめっき及びリード材の酸化の防止効果及びリード材の電解液と水分の反応により発生するフッ酸によるエッチングの防止効果が一層高くなることが解る。 Therefore, the formation of the film makes it difficult for the nickel plating to be etched by hydrofluoric acid generated by the reaction between the electrolyte and water, thereby preventing oxidation of the nickel plating and the lead material. It can be seen that etching by generated hydrofluoric acid can be prevented. In particular, the zirconium salt film has a high effect of preventing etching by hydrofluoric acid generated by the reaction between the electrolytic solution of nickel plating and moisture. It can be seen that the effect of preventing etching due to the hydrofluoric acid generated by is further enhanced.

<まとめ>
以上に記載した通り、タブリード1及びこれを備えた非水電解質デバイス100にあっては、両端部がそれぞれ電極接続部2aと端子接続部2bとして設けられたリード材4と、リード材4の表面を覆うニッケルめっき5と、ニッケルめっき5の表面を覆う被膜6と、被膜6に両側から密着される一対のシール部3とを備え、ニッケルめっき5は原子間力顕微鏡によって測定した算術平均粗さが5.0nm以上にされX線回析法によって測定した半値幅が0.5度以下にされている。
<Summary>
As described above, in the tab lead 1 and the non-aqueous electrolyte device 100 having the same, the lead material 4 having both ends as the electrode connection part 2a and the terminal connection part 2b, respectively, and the surface of the lead material 4 A nickel plating 5 covering the surface of the nickel plating 5, a coating 6 covering the surface of the nickel plating 5, and a pair of seal portions 3 that are in close contact with the coating 6 from both sides, and the nickel plating 5 has an arithmetic mean roughness measured by an atomic force microscope. is set to 5.0 nm or more, and the half width measured by the X-ray diffraction method is set to 0.5 degrees or less.

従って、ニッケルめっき5に含有される不純物の量が少なくなりニッケルめっき5の電解液103に対する耐食性が高くなるため、リード材4の酸化の防止を図ることができると共に電解液103によるエッチングを防止することができ、リード材4の耐久性を高めてタブリード1の長寿命化及び高信頼性を図ることができる。 Therefore, the amount of impurities contained in the nickel plating 5 is reduced and the corrosion resistance of the nickel plating 5 to the electrolytic solution 103 is increased, so that the lead material 4 can be prevented from being oxidized and etched by the electrolytic solution 103. As a result, the durability of the lead material 4 can be increased, and the life and reliability of the tab lead 1 can be increased.

また、リード材4の酸化が防止されてリード材4の表面に酸化皮膜が形成され難いため、端子部2が電極や外部機器の接続端子に溶接によって接続(固定)されるときに溶接強度の低下等が生じず、端子部2と電極及び接続端子との固定強度の向上を図ることができる。 In addition, since oxidation of the lead material 4 is prevented and an oxide film is less likely to be formed on the surface of the lead material 4, the welding strength is reduced when the terminal portion 2 is connected (fixed) to an electrode or a connection terminal of an external device by welding. It is possible to improve the fixing strength between the terminal portion 2 and the electrodes and the connection terminals without causing deterioration or the like.

さらに、リード材4がアルミニウム又は銅によって形成されていることにより、リード材4が高い導通性を有する強度の高い金属材料によって形成されるため、タブリード1の電極と外部機器の接続端子とに対する良好な導通状態を確保することができると共に高い耐久性を確保することができる。 Furthermore, since the lead material 4 is made of aluminum or copper, the lead material 4 is made of a metal material having high conductivity and high strength. It is possible to ensure a good conduction state and to ensure high durability.

さらにまた、被膜6がクロム塩又はジルコニウム塩によって形成されていることにより、被膜6によってニッケルめっき5が電解液103から保護されるため、被膜6が電解液103と水分の反応により発生するフッ酸によってエッチングされ難くリード材4の高い耐久性を確保することができる。 Furthermore, since the coating 6 is formed of a chromium salt or a zirconium salt, the coating 6 protects the nickel plating 5 from the electrolytic solution 103, so that the coating 6 is free from hydrofluoric acid generated by the reaction between the electrolytic solution 103 and moisture. The high durability of the lead material 4 can be ensured because the lead material 4 is difficult to be etched.

また、被膜6の厚さが20nm以上にされていることにより、ニッケルめっき5を保護するための被膜6の十分な厚さが確保され、ニッケルめっき5が電解液103と水分の反応により発生するフッ酸によって一層エッチングされ難くなりリード材4の一層高い耐久性を確保することができる。 In addition, since the thickness of the coating 6 is set to 20 nm or more, a sufficient thickness of the coating 6 for protecting the nickel plating 5 is secured, and the nickel plating 5 is generated by the reaction between the electrolytic solution 103 and moisture. Etching by hydrofluoric acid is made more difficult, and higher durability of the lead material 4 can be ensured.

加えて、ニッケルめっき5の厚さが1μm以上にされることにより、ニッケルめっき5が電解めっきとして生成される際にニッケルめっき5に孔が形成され難いため、ニッケルめっき5が電解液103と水分の反応により発生するフッ酸によってエッチングされ難くリード材4のより一層高い耐久性を確保することができる。 In addition, since the nickel plating 5 has a thickness of 1 μm or more, it is difficult for holes to be formed in the nickel plating 5 when the nickel plating 5 is produced as electrolytic plating. The lead material 4 is hardly etched by hydrofluoric acid generated by the reaction of (1), so that a higher durability can be secured for the lead material 4 .

<その他>
上記には、正極104又は負極105に接続されたタブリード1、1が何れもラミネート材101から同じ方向(上方)へ突出された例を示したが、非水電解質デバイス100においては、正極104又は負極105に接続されたタブリード1、1がラミネート材101から反対方向に突出されてもよい。
<Others>
The above example shows an example in which the tab leads 1, 1 connected to the positive electrode 104 or the negative electrode 105 both protrude in the same direction (upward) from the laminate material 101. Tab leads 1, 1 connected to the negative electrode 105 may protrude from the laminate material 101 in opposite directions.

100 非水電解質デバイス
101 ラミネート材
2 端子部
2a 電極接続部
2b 端子接続部
4 リード材
5 ニッケルめっき
6 被膜
100 Non-aqueous electrolyte device 101 Laminate material 2 Terminal part 2a Electrode connection part 2b Terminal connection part 4 Lead material 5 Nickel plating 6 Coating

Claims (6)

ラミネート材の内部に少なくとも電極と電解液又は固体電解質とが封入されたラミネート型の非水電解質デバイスに設けられるタブリードであって、
金属材料によって形成され両端部がそれぞれ前記電極に接続される電極接続部と外部機器に接続される端子接続部として設けられたリード材と、
前記リード材の表面を覆うニッケルめっきと、
前記ニッケルめっきの表面を覆う被膜と、
前記被膜に両側から密着される一対のシール部とを備え、
前記ニッケルめっきは原子間力顕微鏡によって測定した算術平均粗さが5.0nm以上にされX線回析法によって測定した半値幅が0.5度以下にされた
タブリード。
A tab lead provided in a laminate type non-aqueous electrolyte device in which at least an electrode and an electrolytic solution or a solid electrolyte are sealed inside a laminate material,
a lead material provided as an electrode connection portion formed of a metal material and having both ends connected to the electrodes and a terminal connection portion connected to an external device;
Nickel plating covering the surface of the lead material;
a coating covering the surface of the nickel plating;
A pair of seal portions that are in close contact with the coating from both sides,
The nickel plating has an arithmetic average roughness of 5.0 nm or more as measured by an atomic force microscope and a half width of 0.5 degrees or less as measured by an X-ray diffraction method.
前記リード材がアルミニウム又は銅によって形成された
請求項1に記載のタブリード。
The tab lead according to claim 1, wherein the lead material is made of aluminum or copper.
前記被膜がクロム塩又はジルコニウム塩によって形成された
請求項1又は請求項2に記載のタブリード。
3. Tab lead according to claim 1 or 2, wherein the coating is formed by a chromium salt or a zirconium salt.
前記被膜の厚さが20nm以上にされた
請求項1、請求項2又は請求項3に記載のタブリード。
4. The tab lead according to claim 1, 2 or 3, wherein the coating has a thickness of 20 nm or more.
前記ニッケルめっきの厚さが1μm以上にされた
請求項1、請求項2、請求項3又は請求項4に記載のタブリード。
5. The tab lead according to claim 1, 2, 3 or 4, wherein the nickel plating has a thickness of 1 [mu]m or more.
ラミネート材の内部に少なくとも電極と電解液又は固体電解質とが封入されタブリードが設けられたラミネート型の非水電解質デバイスであって、
前記タブリードは、
金属材料によって形成され両端部がそれぞれ前記電極に接続される電極接続部と外部機器に接続される端子接続部として設けられたリード材と、
前記リード材の表面を覆うニッケルめっきと、
前記ニッケルめっきの表面を覆う被膜と、
前記被膜に両側から密着される一対のシール部とを備え、
前記ニッケルめっきは原子間力顕微鏡によって測定した算術平均粗さが5.0nm以上にされX線回析法によって測定した半値幅が0.5度以下にされた
非水電解質デバイス。
A laminate type non-aqueous electrolyte device in which at least an electrode and an electrolytic solution or a solid electrolyte are sealed inside a laminate material and tab leads are provided,
The tab lead is
a lead material provided as an electrode connection portion formed of a metal material and having both ends connected to the electrodes and a terminal connection portion connected to an external device;
Nickel plating covering the surface of the lead material;
a coating covering the surface of the nickel plating;
A pair of seal portions that are in close contact with the coating from both sides,
The nickel plating has an arithmetic average roughness of 5.0 nm or more as measured by an atomic force microscope and a half width of 0.5 degrees or less as measured by an X-ray diffraction method.
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