JP2023049680A - Method for manufacturing optical film, optical film, and optical laminate - Google Patents

Method for manufacturing optical film, optical film, and optical laminate Download PDF

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Yoshikane Maeda
輝 丸山
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Abstract

To provide a method for manufacturing an optical film that excels in the liquid crystal alignment of an optical anisotropic layer and excels in moisture heat durability and adhesion, as well as provide said optical film and an optical laminate that includes said optical film.SOLUTION: Provided is a method for manufacturing an optical film, comprising: a step 1 for applying a coating of composition for alignment films that contains an alignment agent and a solvent to a substrate to form a coating film; a step 2 for applying alignment processing to the coating film to form an alignment film that has an alignment restricting force; a step 3 for applying a coating of a composition that contains a liquid crystal compound having a polymerizable group to the alignment film to form a composition layer; a step 4 for applying alignment processing to the composition layer and causing the liquid crystal compound to be torsion oriented, with the thickness direction of the composition layer as a spiral axis; and a step 5 for applying curing processing to the composition layer and fixing the alignment state of the liquid crystal compound to form an optical anisotropic layer. The torsion angle, with the thickness direction of the liquid crystal compound serving as the spiral axis in the optical anisotropic layer, is over 0° to 180° inclusive, and the difference between the SP value of the substrate and the SP value of the solvent is 4.0 to 10.0 MPa1/2.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、光学フィルムの製造方法、光学フィルム、および、光学積層体に関する。 The present invention relates to an optical film manufacturing method, an optical film, and an optical laminate.

屈折率異方性を持つ位相差層(光学異方性層)は、有機EL(Electroluminescence)表示装置等の表示装置の反射防止膜、および、液晶表示装置の光学補償フィルムなど種々の用途に適用されている。
光学異方性層を有する光学フィルムを製造する際、液晶化合物を配向させるために、光学異方性層を形成する支持体上に配向膜を設けることが知られている。
Retardation layers (optically anisotropic layers) with refractive index anisotropy are applied to various applications such as antireflection films for display devices such as organic EL (Electroluminescence) displays and optical compensation films for liquid crystal display devices. It is
It is known to provide an alignment film on a support forming an optically anisotropic layer in order to orient a liquid crystal compound when producing an optical film having an optically anisotropic layer.

例えば、特許文献1には、支持体と、配向規制力が付与されたバインダー層と、光学異方性層とをこの順に有する光学積層体を作製する、光学積層体の製造方法が開示されている。 For example, Patent Literature 1 discloses a method for producing an optical layered body, in which an optical layered body having a support, a binder layer imparted with an orientation regulating force, and an optically anisotropic layer in this order is produced. there is

国際公開第2020/110817号WO2020/110817

本発明者らは、特許文献1を参考にして、基材上に配向膜を設け、その上に液晶化合物を含む光学異方性層を設けてなる光学フィルムについて検討したところ、光学フィルムの湿熱耐久性について更なる改善の余地があることを知見した。 The inventors of the present invention have examined an optical film comprising an alignment film provided on a substrate and an optically anisotropic layer containing a liquid crystal compound provided thereon with reference to Patent Document 1. It was found that there is room for further improvement in terms of durability.

本発明は、上記実情に鑑みて、光学異方性層の液晶配向性に優れ、かつ、湿熱耐久性および密着性に優れる光学フィルムの製造方法を提供することを課題とする。
また、本発明は、上記光学フィルム、および、上記光学フィルムを備える光学積層体を提供することも課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for producing an optical film having an optically anisotropic layer with excellent liquid crystal orientation, wet heat durability, and adhesion.
Another object of the present invention is to provide the above optical film and an optical laminate including the above optical film.

本発明者らは、鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。 As a result of intensive studies, the inventors of the present invention have found that the above problems can be solved by the following configuration.

〔1〕 基材上に、配向剤および溶媒を含む配向膜用組成物を塗布して、塗膜を形成する工程1と、上記塗膜に配向処理を施して、配向規制力を有する配向膜を形成する工程2と、上記配向膜上に、重合性基を有する液晶化合物を含む組成物を塗布して、組成物層を形成する工程3と、上記組成物層に配向処理を施して、上記液晶化合物を上記組成物層の厚み方向を螺旋軸として捩れ配向させる工程4と、上記組成物層に対して硬化処理を施して、上記液晶化合物の配向状態を固定して、光学異方性層を形成する工程5とを有し、上記光学異方性層における上記液晶化合物の厚み方向を螺旋軸とする捩れ角が0°超180°以下であり、上記基材のSP値と上記溶媒のSP値との差が4.0~10.0MPa1/2である、光学フィルムの製造方法。
〔2〕 上記基材が脂環式構造を有する重合体を含む、〔1〕に記載の光学フィルムの製造方法。
〔3〕 上記配向剤が光配向剤を含む、〔1〕または〔2〕に記載の光学フィルムの製造方法。
〔4〕 上記基材の波長550nmにおける面内レタデーションが67.5~127.5nmであり、上記光学異方性層の屈折率異方性Δnと上記光学異方性層の厚みdとの積Δndが317~377nmであり、上記光学異方性層における上記液晶化合物の厚み方向を螺旋軸とする捩れ角が20~60°である、〔1〕~〔3〕のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
〔5〕 基材、配向膜および光学異方性層をこの順に有する光学フィルムであって、上記配向膜が、配向剤を含み、上記光学異方性層において、重合性基を有する液晶化合物が、上記光学異方性層の厚み方向を螺旋軸として0°超180°以下の捩れ角で捩れ配向された配向状態で固定されており、後述する要件1および要件2を満たす、光学フィルム。
〔6〕 上記基材が脂環式構造を有する重合体を含む、〔5〕に記載の光学フィルム。
〔7〕 上記配向剤が光配向剤を含む、〔5〕または〔6〕に記載の光学フィルム。
〔8〕 上記基材の波長550nmにおける面内レタデーションが67.5~127.5nmであり、上記光学異方性層の屈折率異方性Δnと上記光学異方性層の厚みdとの積Δndが240~320nmであり、上記光学異方性層における上記液晶化合物の厚み方向を螺旋軸とする捩れ角が20~60である、〔5〕~〔7〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔9〕 〔5〕~〔8〕のいずれかに記載の光学フィルムと、偏光子とを備える光学積層体。
〔10〕 上記偏光子の吸収軸と上記光学フィルムが有する基材の遅相軸とのなす角度が、0±5°または90±5°である、〔9〕に記載の光学積層体。
[1] Step 1 of coating a substrate with an alignment film composition containing an alignment agent and a solvent to form a coating film, and subjecting the coating film to an alignment treatment to form an alignment film having an alignment regulating force. a step 2 of forming a composition containing a liquid crystal compound having a polymerizable group on the alignment film, a step 3 of forming a composition layer, and performing an alignment treatment on the composition layer, Step 4 for twisting the liquid crystal compound with the thickness direction of the composition layer as a helical axis, and subjecting the composition layer to a curing treatment to fix the alignment state of the liquid crystal compound and optically anisotropic forming a layer, wherein the optically anisotropic layer has a twist angle of more than 0° and 180° or less with the thickness direction of the liquid crystal compound as a spiral axis, and the SP value of the base material and the solvent A method for producing an optical film, wherein the difference from the SP value of is 4.0 to 10.0 MPa 1/2 .
[2] The method for producing an optical film according to [1], wherein the substrate contains a polymer having an alicyclic structure.
[3] The method for producing an optical film according to [1] or [2], wherein the alignment agent contains a photo-alignment agent.
[4] The substrate has an in-plane retardation of 67.5 to 127.5 nm at a wavelength of 550 nm, and the product of the refractive index anisotropy Δn of the optically anisotropic layer and the thickness d of the optically anisotropic layer. The optical device according to any one of [1] to [3], wherein Δnd is 317 to 377 nm, and the twist angle with respect to the thickness direction of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer as the helical axis is 20 to 60°. Film production method.
[5] An optical film comprising a substrate, an alignment film and an optically anisotropic layer in this order, wherein the alignment film contains an alignment agent, and the optically anisotropic layer contains a liquid crystal compound having a polymerizable group. , The optical film is fixed in a twisted orientation state at a twist angle of more than 0° and 180° or less with the thickness direction of the optically anisotropic layer as a helical axis, and satisfies requirements 1 and 2 described later.
[6] The optical film of [5], wherein the substrate contains a polymer having an alicyclic structure.
[7] The optical film of [5] or [6], wherein the alignment agent contains a photo-alignment agent.
[8] The substrate has an in-plane retardation of 67.5 to 127.5 nm at a wavelength of 550 nm, and the product of the refractive index anisotropy Δn of the optically anisotropic layer and the thickness d of the optically anisotropic layer. The optical film according to any one of [5] to [7], wherein Δnd is 240 to 320 nm, and the twist angle with respect to the thickness direction of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer as the helical axis is 20 to 60. .
[9] An optical laminate comprising the optical film according to any one of [5] to [8] and a polarizer.
[10] The optical laminate according to [9], wherein the angle between the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the base material of the optical film is 0±5° or 90±5°.

本発明によれば、光学異方性層の液晶配向性に優れ、かつ、湿熱耐久性および密着性に優れる光学フィルムの製造方法を提供できる。
また、本発明によれば、上記光学フィルム、および、上記光学フィルムを備える光学積層体も提供できる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the optical film which is excellent in the liquid-crystal orientation property of an optically anisotropic layer, and is excellent in wet-heat durability and adhesiveness can be provided.
Further, according to the present invention, the optical film and an optical laminate including the optical film can be provided.

本発明に係る光学フィルムの構成の一例を示す概略図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is the schematic which shows an example of a structure of the optical film which concerns on this invention. 飛行時間型2次イオン質量分析法(TOF-SIMS)で光学フィルムを厚み方向に沿って分析して得られるプロファイルの一例を示す概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a profile obtained by analyzing an optical film along the thickness direction by time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS); 本発明に係る光学積層体の構成の一例を示す概略図である。It is a schematic diagram showing an example of composition of an optical layered product concerning the present invention. 本発明に係る光学積層体の構成の他の例を示す概略図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing another example of the configuration of the optical layered body according to the present invention;

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。 The present invention will be described in detail below. In this specification, the numerical range represented by "-" means a range including the numerical values before and after "-" as lower and upper limits. First, the terms used in this specification will be explained.

遅相軸は、特別な断りがなければ、波長550nmの光に対する遅相軸である。 The slow axis is the slow axis for light with a wavelength of 550 nm unless otherwise specified.

本明細書において、Re(λ)およびRth(λ)は、それぞれ、波長λにおける面内のレタデーションおよび厚み方向のレタデーションを表す。特に記載がないときは、レタデーションの波長λは、550nmとする。
本明細書において、Re(λ)およびRth(λ)は、AxoScan(Axometrics社製ポラリメーター装置)を用いて、波長λで測定した値である。AxoScanにて平均屈折率((nx+ny+nz)/3)と膜厚(d(μm))を入力することにより、
・遅相軸方向(°)
・Re(λ)=R0(λ)
・Rth(λ)=((nx+ny)/2-nz)×d
が算出される。
なお、R0(λ)は、AxoScanで表示される算出値であり、Re(λ)を意味する。また、nx、nyおよびnzは、それぞれ、光学部材の面内の遅相軸方向(面内での屈折率が最大となる方向)の屈折率、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率、および、厚み方向の屈折率を意味する。
In this specification, Re(λ) and Rth(λ) represent in-plane retardation and thickness direction retardation at wavelength λ, respectively. Unless otherwise specified, the retardation wavelength λ is 550 nm.
In the present specification, Re(λ) and Rth(λ) are values measured at wavelength λ using AxoScan (a polarimeter device manufactured by Axometrics). By entering the average refractive index ((nx+ny+nz)/3) and film thickness (d (μm)) in AxoScan,
・Slow axis direction (°)
・Re(λ)=R0(λ)
・Rth(λ)=((nx+ny)/2−nz)×d
is calculated.
Note that R0(λ) is a calculated value displayed by AxoScan and means Re(λ). Further, nx, ny and nz are respectively the refractive index in the in-plane slow axis direction of the optical member (the direction in which the in-plane refractive index is maximized), the in-plane slow axis and the in-plane It means the index of refraction in the direction and the index of refraction in the thickness direction.

本明細書において、屈折率nx、ny、および、nzは、アッベ屈折計(NAR-4T、アタゴ(株)製)を使用し、光源としてナトリウムランプ(λ=589nm)を用いることにより測定される値である。各光学特性の波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計DR-M2(アタゴ(株)製)を干渉フィルターと組み合わせることにより、測定を行う。
また、ポリマーフィルムの平均屈折率としては、ポリマーハンドブック(JOHN WILEY & SONS, INC)、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する:セルロースアシレート(1.48)、シクロオレフィンポリマー(1.52)、ポリカーボネート(1.59)、ポリメチルメタクリレート(1.49)、および、ポリスチレン(1.59)。
本明細書において、各光学部材の厚みは、走査型電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscope)等の公知の測定装置により測定できる。
In this specification, the refractive indices nx, ny, and nz are measured by using an Abbe refractometer (NAR-4T, manufactured by Atago Co., Ltd.) and using a sodium lamp (λ=589 nm) as the light source. value. When measuring the wavelength dependence of each optical characteristic, the measurement is performed by combining a multi-wavelength Abbe refractometer DR-M2 (manufactured by Atago Co., Ltd.) with an interference filter.
Also, as the average refractive index of the polymer film, values in Polymer Handbook (JOHN WILEY & SONS, INC) and various optical film catalogs can be used. Average refractive index values of main optical films are exemplified below: cellulose acylate (1.48), cycloolefin polymer (1.52), polycarbonate (1.59), polymethyl methacrylate (1.49), and polystyrene (1.59).
In this specification, the thickness of each optical member can be measured by a known measuring device such as a scanning electron microscope (SEM).

本明細書中における「光」とは、活性光線または放射線を意味し、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線(EUV光:Extreme Ultraviolet)、X線、紫外線、および、電子線(EB:Electron Beam)などを意味する。なかでも、紫外線が好ましい。 The term "light" used herein means actinic rays or radiation, and includes, for example, the emission line spectrum of mercury lamps, far ultraviolet rays represented by excimer lasers, extreme ultraviolet rays (EUV light: Extreme Ultraviolet), X-rays, ultraviolet rays, and an electron beam (EB). Among them, ultraviolet rays are preferable.

本明細書では、「可視光」とは、波長380~780nmの光を意味する。また、本明細書では、測定波長について特に付記がない場合、測定波長は550nmである。 As used herein, "visible light" means light with a wavelength of 380-780 nm. In this specification, the measurement wavelength is 550 nm unless otherwise specified.

本明細書において、「SP(Solubility Parameter)値」は、原子団寄与法により算出されるハンセン溶解度パラメータ(δd、δpおよびδh)を意味し、「ハンセン溶解度パラメータ:A User’s Handbook, Second Edition, C.M.Hansen (2007), Taylor and Francis Group, LLC(HSPiPマニュアル)」等に詳しく記載されている。
SP値としては、市販のソフトウェアを用いて算出される値を利用でき、例えば、脂環式構造を有する重合体(COP)のSP値としては、「実践ハンセン溶解度パラメータHSPiP第3版」(ソフトウェアバージョン5.1.08)に記載のCYCLICOLEFINCOPOLYMER(COC)の値が利用できる。
SP値は、化合物の溶解性を多次元のベクトル(分散項(δd)、分極項(δp)、および、水素結合項(δh))で表しており、これらの3つのパラメータは、ハンセン空間と呼ばれる三次元空間における点の座標と考えることができる。また、2つの成分のSP値の「差」とは、ハンセン空間における2点間の距離を意味し、第1の成分の分散項(δd)、分極項(δp)および水素結合項(δh)、並びに、第2の成分の分散項(δd)、分極項(δp)および水素結合項(δh)から、以下の計算式により算出される値(単位:MPa1/2)である。
(差)={4×(δd-δd+(δp-δp+(δh-δh1/2
なお、1つの成分が2種以上の化合物を含む場合、その成分のSP値は、各化合物のSP値に各化合物の質量分率を乗算して得られる値を合計することにより算出され、ハンセン空間における各化合物のSP値の重心に相当する値である。
As used herein, "SP (Solubility Parameter) value" means the Hansen solubility parameter (δd, δp and δh) calculated by the atomic group contribution method, and "Hansen solubility parameter: A User's Handbook, Second Edition, CM Hansen (2007), Taylor and Francis Group, LLC (HSPiP Manual).
As the SP value, a value calculated using commercially available software can be used. The CYCLICOLE FINCOPOLYMER (COC) value described in version 5.1.08) can be used.
The SP value represents the solubility of a compound as a multidimensional vector (dispersion term (δd), polarization term (δp), and hydrogen bonding term (δh)), and these three parameters are Hansen space and It can be thought of as the coordinates of a point in a three-dimensional space called In addition, the “difference” between the SP values of two components means the distance between two points in Hansen space, and the dispersion term (δd 1 ), polarization term (δp 1 ) and hydrogen bonding term ( A value ( unit : MPa 1/2 ).
(Difference)={4×(δd 1 −δd 2 ) 2 +(δp 1 −δp 2 ) 2 +(δh 1 −δh 2 ) 2 } 1/2
When one component contains two or more compounds, the SP value of the component is calculated by summing the values obtained by multiplying the SP value of each compound by the mass fraction of each compound, Hansen It is a value corresponding to the center of gravity of the SP value of each compound in space.

[光学フィルムの製造方法]
本発明に係る光学フィルムの製造方法は、所定の工程を実施する点、光学異方性層に含まれる重合性液晶化合物が所定の物性を有する点、および、基材のSP値と配向膜用組成物に含まれる溶剤のSP値との差が所定の範囲内である点を特徴とする。
以下、光学フィルムについて、光学異方性層の液晶配向性、湿熱耐久性および密着性の少なくとも一方が優れることを「本発明の効果が優れる」とも記載する。
[Method for producing optical film]
The method for producing an optical film according to the present invention is characterized in that predetermined steps are performed, the polymerizable liquid crystal compound contained in the optically anisotropic layer has predetermined physical properties, and the SP value of the substrate and the The difference from the SP value of the solvent contained in the composition is within a predetermined range.
Hereinafter, with regard to the optical film, the fact that at least one of the optically anisotropic layer is excellent in liquid crystal orientation, wet heat durability and adhesion is also described as "excellent effects of the present invention".

本発明に係る光学異方性層の製造方法(以下、「本製造方法」ともいう。)は、以下の工程1~5を有する。
工程1:基材上に、配向剤および溶媒を含む配向膜用組成物を塗布して、塗膜を形成する工程。
工程2:塗膜に配向処理を施して、配向規制力を有する配向膜を形成する工程。
工程3:配向膜上に、重合性基を有する液晶化合物を含む組成物を塗布して、組成物層を形成する工程。
工程4:組成物層に配向処理を施して、液晶化合物を組成物層の厚み方向を螺旋軸として捩れ配向させる工程。
工程5:組成物層に対して硬化処理を施して、液晶化合物の配向状態を固定して、光学異方性層を形成する工程。
以下、上記各工程の手順について詳述する。
The method for producing an optically anisotropic layer according to the present invention (hereinafter also referred to as "this production method") has the following steps 1 to 5.
Step 1: A step of applying an alignment film composition containing an alignment agent and a solvent onto a substrate to form a coating film.
Step 2: A step of subjecting the coating film to an orientation treatment to form an orientation film having an orientation regulating force.
Step 3: A step of applying a composition containing a liquid crystal compound having a polymerizable group onto the alignment film to form a composition layer.
Step 4: A step of subjecting the composition layer to orientation treatment to twist-align the liquid crystal compound with the thickness direction of the composition layer as the helical axis.
Step 5: A step of curing the composition layer to fix the alignment state of the liquid crystal compound to form an optically anisotropic layer.
The procedure of each of the above steps will be described in detail below.

〔工程1〕
工程1は、基材上に、配向剤および溶媒を含む配向膜用組成物を塗布して、塗膜を形成する工程である。
まず、本工程で使用される部材および材料について詳述し、その後、工程の手順について詳述する。
[Step 1]
Step 1 is a step of applying an alignment film composition containing an alignment agent and a solvent onto a substrate to form a coating film.
First, the members and materials used in this process will be described in detail, and then the procedure of the process will be described in detail.

<基材>
基材は、光学フィルムを支持する部材である。
基材としては、透明基材が好ましい。なお、透明基材とは、可視光の透過率が60%以上である基材を意図し、その透過率は80%以上が好ましく、90%以上がより好ましい。
<Base material>
The substrate is a member that supports the optical film.
A transparent substrate is preferable as the substrate. The transparent base material is intended to be a base material having a visible light transmittance of 60% or more, preferably 80% or more, more preferably 90% or more.

基材を構成する材料としては、特に制限されないが、光学性能、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、および、等方性などの特性に優れる重合体が好ましい。
基材が含む重合体としては、例えば、脂環式構造を有する重合体、セルロースエステル、ポリビニルアルコール、ポリイミド、UV透過アクリル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、エポキシ重合体、ポリスチレン、および、これらの組み合わせが挙げられる。なかでも、透明性、低吸湿性、寸法安定性、および、軽量性等の観点から、脂環式構造を有する重合体、または、セルロースエステルが好ましく、脂環式構造を有する重合体がより好ましい。
Materials constituting the substrate are not particularly limited, but polymers having excellent properties such as optical performance, transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding properties, and isotropy are preferred.
Examples of the polymer contained in the substrate include polymers having an alicyclic structure, cellulose ester, polyvinyl alcohol, polyimide, UV-transmitting acrylic, polycarbonate, polysulfone, polyethersulfone, epoxy polymer, polystyrene, and these. A combination is mentioned. Among them, from the viewpoint of transparency, low hygroscopicity, dimensional stability, light weight, etc., a polymer having an alicyclic structure or a cellulose ester is preferable, and a polymer having an alicyclic structure is more preferable. .

脂環式構造を有する重合体としては、繰り返し単位中に脂環式構造を有する非晶性の重合体であれば特に制限されず、主鎖中に脂環式構造を有する重合体、および、側鎖に脂環式構造を有する重合体のいずれも使用できる。
脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造およびシクロアルケン構造が挙げられ、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。
1つの脂環式構造の繰り返し単位を構成する炭素数は特に制限されず、例えば、4~30個であり、5~20個が好ましく、6~15個がより好ましい。
The polymer having an alicyclic structure is not particularly limited as long as it is an amorphous polymer having an alicyclic structure in the repeating unit, a polymer having an alicyclic structure in the main chain, and Any polymer having an alicyclic structure in its side chain can be used.
The alicyclic structure includes, for example, a cycloalkane structure and a cycloalkene structure, and the cycloalkane structure is preferred from the viewpoint of thermal stability and the like.
The number of carbon atoms constituting a repeating unit of one alicyclic structure is not particularly limited, and is, for example, 4 to 30, preferably 5 to 20, more preferably 6 to 15.

脂環式構造を有する重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択されるが、50質量%以上であることが多く、耐熱性の観点から、70質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましい。上限は特に制限されず、100質量%であってもよい。 The proportion of repeating units having an alicyclic structure in the polymer having an alicyclic structure is appropriately selected depending on the purpose of use. % by mass or more is preferable, and 90% by mass or more is more preferable. The upper limit is not particularly limited, and may be 100% by mass.

脂環式構造を有する重合体としては、(1)ノルボルネン重合体、(2)単環の環状オレフィン重合体、(3)環状共役ジエン重合体、(4)ビニル脂環式炭化水素重合体、および、これらの水素添加物から選択される重合体が好ましい。
なかでも、透明性および成形性の観点から、ノルボルネン重合体またはその水素添加物がより好ましい。
Examples of polymers having an alicyclic structure include (1) norbornene polymers, (2) monocyclic cyclic olefin polymers, (3) cyclic conjugated diene polymers, (4) vinyl alicyclic hydrocarbon polymers, and polymers selected from these hydrogenated products are preferred.
Among them, norbornene polymers or hydrogenated products thereof are more preferable from the viewpoint of transparency and moldability.

ノルボルネン重合体としては、例えば、ノルボルネンモノマーの開環重合体、ノルボルネンモノマーと開環共重合可能な他のモノマーとの開環共重合体、および、それらの水素添加物;並びに、ノルボルネンモノマーの付加重合体、および、ノルボルネンモノマーと共重合可能な他のモノマーとの付加共重合体が挙げられる。
なかでも、透明性の観点から、ノルボルネンモノマーの開環重合体またはその水素添加物が好ましい。
上記の脂環式構造を有する重合体については、例えば特開2002-321302号公報に記載されている重合体を参照でき、上記文献の記載内容は本明細書に組み込まれる。
Norbornene polymers include, for example, ring-opening polymers of norbornene monomers, ring-opening copolymers of norbornene monomers and other monomers capable of ring-opening copolymerization, and hydrogenated products thereof; Included are copolymers and addition copolymers of norbornene monomers and other copolymerizable monomers.
Among them, a ring-opening polymer of a norbornene monomer or a hydrogenated product thereof is preferable from the viewpoint of transparency.
As for the polymer having the above alicyclic structure, for example, the polymer described in JP-A-2002-321302 can be referred to, and the description of the above document is incorporated herein.

脂環式構造を有する重合体の重量平均分子量(Mw)は、例えば10,000~100,000であり、25,000~80,000が好ましく、25,000~50,000がより好ましい。重量平均分子量が上記範囲内であると、フィルムの機械的強度および成形加工性がバランスよく優れる。
脂環式構造を有する重合体の分子量分布(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))は特に制限されないが、例えば1~10であり、1~4が好ましく、1.2~3.5がより好ましい。
なお、本明細書において、重合体(ポリマー)の重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)は、溶媒としてシクロヘキサン(重合体が溶解しない場合はトルエン)を用いたゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定され、ポリイソプレン(溶媒がトルエンの場合、ポリスチレン)で換算された値である。
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer having an alicyclic structure is, for example, 10,000 to 100,000, preferably 25,000 to 80,000, more preferably 25,000 to 50,000. When the weight average molecular weight is within the above range, the mechanical strength and moldability of the film are well balanced.
The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw)/number average molecular weight (Mn)) of the polymer having an alicyclic structure is not particularly limited, but is, for example, 1 to 10, preferably 1 to 4, and 1.2 to 3. .5 is more preferred.
In the present specification, the weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) of the polymer (polymer) are determined by gel permeation chromatography using cyclohexane (toluene if the polymer does not dissolve) as a solvent. It is a value measured and converted to polyisoprene (polystyrene when the solvent is toluene).

基材が、脂環式構造を有する重合体を含む場合、脂環式構造を有する重合体のみを含んでいてもよく、脂環式構造を有する重合体以外の他の重合体および/または添加剤を含んでいてもよい。
上記の他の重合体としては、基材を構成する重合体として既に例示した重合体が挙げられる。
基材が含んでもよい添加剤としては、例えば、光学的異方性調整剤、波長分散調整剤、微粒子、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、および、剥離剤が挙げられる。
基材における脂環式構造を有する重合体の含有量は、基材の全質量に対して、70質量%以上が好ましく、80質量%以上がより好ましい。上限は特に制限されず、100質量%以下であってよい。
When the substrate contains a polymer having an alicyclic structure, it may contain only the polymer having an alicyclic structure, and other polymers and/or additives other than the polymer having an alicyclic structure It may contain a drug.
Examples of the above other polymer include the polymers already exemplified as the polymer constituting the base material.
Additives that the substrate may contain include, for example, optical anisotropy modifiers, wavelength dispersion modifiers, fine particles, plasticizers, UV inhibitors, antidegradants, and release agents.
The content of the polymer having an alicyclic structure in the substrate is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, relative to the total mass of the substrate. The upper limit is not particularly limited, and may be 100% by mass or less.

基材の厚みは特に制限されないが、10~200μmが好ましく、10~100μmがより好ましく、20~70μmがさらに好ましい。また、基材は複数枚の積層からなっていてもよい。 Although the thickness of the base material is not particularly limited, it is preferably 10 to 200 μm, more preferably 10 to 100 μm, even more preferably 20 to 70 μm. Moreover, the base material may consist of lamination|stacking of several sheets.

基材の波長550nmにおける面内のレタデーション値(Re(550))は、特に制限されないが、反射防止能がより優れる点で、50~300nmが好ましく、60~180nmがより好ましく、60~130nmが更に好ましい。
また、基材の波長550nmにおける厚み方向のレタデーション値(Rth(550))は特に制限されないが、-150~150nmが好ましく、-80~80nmがより好ましい。
The in-plane retardation value (Re(550)) of the substrate at a wavelength of 550 nm is not particularly limited, but is preferably 50 to 300 nm, more preferably 60 to 180 nm, more preferably 60 to 130 nm, in terms of better antireflection performance. More preferred.
The thickness direction retardation value (Rth(550)) of the substrate at a wavelength of 550 nm is not particularly limited, but is preferably −150 to 150 nm, more preferably −80 to 80 nm.

基材は、長尺状の基材であってもよい。
本明細書において「長尺」または「長尺状」とは、短手方向(幅方向)の長さに対して、長手方向の長さが少なくとも5倍以上(好ましくは10倍以上)である形状をいい、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムの形状をいう。
The substrate may be an elongated substrate.
As used herein, "long" or "long shape" means that the length in the longitudinal direction is at least 5 times (preferably 10 times or more) the length in the transverse direction (width direction). It refers to the shape, and specifically refers to the shape of a film that is long enough to be wound into a roll and stored or transported.

例えば、長尺状の基材を用いてOLEDパネルの反射防止フィルムを作製する場合、基材の面内の遅相軸と基材の長手方向とのなす角度が、0±10°または90±10°の範囲内であることが好ましく、0±5°または90±5°の範囲内であることがより好ましい。
また、長尺状の基材を用いてOLEDパネルの反射防止フィルムを作製する場合は、基材の面内の遅相軸と基材の長手方向とのなす角度が、10±10°または80±10°の範囲内であることが好ましく、10±5°または80±5°の範囲内であることがより好ましい。
For example, when an antireflection film for an OLED panel is produced using a long base material, the angle formed by the in-plane slow axis of the base material and the longitudinal direction of the base material is 0 ± 10° or 90 ± It is preferably within the range of 10°, more preferably within the range of 0±5° or 90±5°.
Further, when an antireflection film for an OLED panel is produced using a long base material, the angle formed by the in-plane slow axis of the base material and the longitudinal direction of the base material is 10 ± 10° or 80°. It is preferably within the range of ±10°, more preferably within the range of 10±5° or 80±5°.

基材の準備方法としては、特に制限されず、例えば、脂環式構造を有する重合体を含む材料を用いて公知の樹脂フィルムの作製方法に従って、上記基材を作製する方法が挙げられる。
脂環式構造を有する重合体を含む材料の市販品としては、例えば、「ゼオノア(登録商標)1420」および「ゼオノア1420R」(いずれも日本ゼオン株式会社製)、並びに、「ARTON(登録商標)G7810」(JSR株式会社製)が挙げられる。
また、市場から入手した上記基材の市販品を用いてもよい。
A method for preparing the substrate is not particularly limited, and examples thereof include a method of producing the above-mentioned substrate using a material containing a polymer having an alicyclic structure, according to a known method for producing a resin film.
Examples of commercially available materials containing a polymer having an alicyclic structure include "Zeonor (registered trademark) 1420" and "Zeonor 1420R" (both manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), and "ARTON (registered trademark) G7810" (manufactured by JSR Corporation).
Moreover, you may use the commercial item of the said base material acquired from the market.

基材を作製する方法としては、面内異方性を付与する観点から、上記材料からなるフィルムを延伸する工程を有することが好ましい。延伸する方向は、基材に求められる遅相軸の方向に応じて、縦延伸(基材の長手方向への延伸)、横延伸(基材の幅方向への延伸)、斜め延伸およびそれらの組み合わせから適宜選択される。また、延伸倍率は、得られる基材の屈折率異方性Δnおよび/またはRe(λ)が所望の範囲となるように、適宜設定される。
フィルムの延伸は、テンター延伸機および縦延伸機等の公知の延伸機を用いて行うことができる。
From the viewpoint of imparting in-plane anisotropy, the method for producing the substrate preferably includes a step of stretching a film made of the above material. The direction of stretching is longitudinal stretching (stretching in the longitudinal direction of the substrate), lateral stretching (stretching in the width direction of the substrate), oblique stretching, and any of these stretching directions, depending on the direction of the slow axis required for the substrate. It is appropriately selected from the combination. In addition, the draw ratio is appropriately set so that the refractive index anisotropy Δn and/or Re(λ) of the resulting base material falls within a desired range.
Stretching of the film can be performed using a known stretching machine such as a tenter stretching machine and a longitudinal stretching machine.

なお、基材と配向膜との接着性を改善するため、基材の表面は表面処理(例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線(UV)処理および火炎処理)されていてもよい。
また、基材は、配向膜を形成する側の表面に機能層を有していてもよい。機能層としては、バリア層、衝撃緩和層および易接着層が挙げられる。
In order to improve the adhesion between the substrate and the alignment film, the surface of the substrate may be surface-treated (for example, glow discharge treatment, corona discharge treatment, ultraviolet (UV) treatment and flame treatment).
Further, the substrate may have a functional layer on the surface on which the alignment film is formed. Functional layers include a barrier layer, a shock absorbing layer and an easy adhesion layer.

<配向膜用組成物>
工程1で使用される配向膜用組成物(以下、「組成物A」ともいう。)は、配向剤と溶媒とを少なくとも含む。ここで、組成物Aに含まれる溶媒(以下、「溶媒A」ともいう。)は、基材のSP値と溶媒AのSP値との差が4.0~10.0MPa1/2となる関係を満たす。
以下、組成物Aに含まれる各成分について説明する。
<Composition for Alignment Film>
The alignment film composition (hereinafter also referred to as “composition A”) used in step 1 contains at least an alignment agent and a solvent. Here, the solvent contained in composition A (hereinafter also referred to as "solvent A") has a difference of 4.0 to 10.0 MPa 1/2 between the SP value of the base material and the SP value of solvent A. fulfill the relationship.
Each component contained in composition A will be described below.

(配向剤)
組成物Aに含まれる配向剤としては、後述する工程2の配向処理により配向規制力が付与される材料であれば特に制限されず、例えば、光配向の手法を適用可能な材料(光配向材料)が好ましい。
光配向材料としては、例えば、光二量化型の材料、特に桂皮酸誘導体を含む化合物が使用できる。また、アゾ化合物等の光異性化材料も好適に用いることができる。
(Orientation agent)
The alignment agent contained in the composition A is not particularly limited as long as it is a material to which an alignment regulating force is imparted by the alignment treatment in step 2 described later. ) is preferred.
As the photo-alignment material, for example, a photo-dimerization type material, particularly a compound containing a cinnamic acid derivative can be used. Photoisomerizable materials such as azo compounds can also be suitably used.

また、光学異方性層用組成物を塗布した後でも配向規制力を維持する観点で、配向膜は光学異方性層用組成物に含まれる溶媒によって溶解または膨潤されにくい材料であることが好ましい。上記の観点から、配向膜形成用組成物は、配向剤として光配向性基を有するポリマーと、必要に応じて、架橋剤、架橋促進剤および架橋反応開始剤からなる群より選択される少なくとも1つを含むことが好ましい。
また、配向膜と光学異方性層との密着を図る観点では、光学異方性層に近い疎水性を有する、光配向性基を有するポリマーを用いることが好ましい。
光配向性基を有するポリマーとしては、例えば、特開平6-289374号公報、特表平10-506420号公報、特表2009-501238号公報、特開2012-078421号公報、特開2015-106062号公報、特開2016-079189号公報等に記載の光配向性のアクリレート重合体、特開2012-037868号公報、特開2014-026261号公報、特開2015-026050号公報等に記載の光配向性ポリシロキサン、特開2015-151548号公報、特開2015-151549号公報、特開2016-098249号公報等に記載の光配向性のポリスチレン-アクリレート共重合体、特開2012-027471号公報、特表2015-533883号公報等に記載の光配向性のポリノルボルネン重合体が挙げられる。
From the viewpoint of maintaining the alignment regulating force even after applying the composition for the optically anisotropic layer, the alignment film should be made of a material that is difficult to dissolve or swell by the solvent contained in the composition for the optically anisotropic layer. preferable. From the above viewpoints, the composition for forming an alignment film includes a polymer having a photoalignable group as an alignment agent, and optionally at least one polymer selected from the group consisting of a cross-linking agent, a cross-linking accelerator and a cross-linking reaction initiator. preferably include one.
Moreover, from the viewpoint of achieving close adhesion between the alignment film and the optically anisotropic layer, it is preferable to use a polymer having a photo-orienting group, which has a hydrophobicity close to that of the optically anisotropic layer.
Examples of the polymer having a photo-alignable group include, for example, JP-A-6-289374, JP-A-10-506420, JP-A-2009-501238, JP-A-2012-078421, JP-A-2015-106062. JP, JP 2016-079189 A photo-alignable acrylate polymer described in JP 2012-037868, JP 2014-026261, JP 2015-026050, etc. Light described in Oriented polysiloxane, JP-A-2015-151548, JP-A-2015-151549, photo-oriented polystyrene described in JP-A-2016-098249 - acrylate copolymer, JP-A-2012-027471 , a photo-alignable polynorbornene polymer described in JP-A-2015-533883.

光配向性基としては、異方性を有する光(例えば、平面偏光等)の照射により、再配列または異方的な化学反応が誘起される光配向機能を有する基をいい、配向の均一性に優れ、熱的安定性および化学的安定性も良好となる点から、光の作用により二量化および異性化の少なくとも一方が生じる光配向性基が好ましい。 The photo-alignment group refers to a group having a photo-alignment function that induces rearrangement or an anisotropic chemical reaction by irradiation with anisotropic light (e.g., plane polarized light). A photoalignable group that undergoes at least one of dimerization and isomerization by the action of light is preferred because it has excellent thermal stability and good chemical stability.

光の作用により二量化する光配向性基としては、例えば、桂皮酸誘導体(M. Schadt et al., J. Appl. Phys., vol. 31, No. 7, page 2155 (1992))、クマリン誘導体(M. Schadt et al., Nature., vol. 381, page 212 (1996))、カルコン誘導体(小川俊博他、液晶討論会講演予稿集,2AB03(1997))、マレイミド誘導体、および、ベンゾフェノン誘導体(Y. K. Jang et al., SID Int. Symposium Digest, P-53(1997))からなる群から選択される少なくとも1種の誘導体の骨格を有する基が挙げられる。
光の作用により異性化する光配向性基としては、例えば、アゾベンゼン化合物(K. Ichimura et al.,Mol.Cryst.Liq.Cryst ., 298, 221 (1997))、スチルベン化合物(J.G.Victor and J.M.Torkelson,Macromolecules, 20, 2241 (1987))、スピロピラン化合物(K. Ichimura et al., Chemistry Letters, page 1063 (1992) ;K.Ichimura et al., Thin Solid Films, vol. 235, page 101 (1993) )、桂皮酸化合物(K.Ichimura et al.,Macromolecules, 30, 903 (1997))、および、ヒドラゾノ-β-ケトエステル化合物(S. Yamamura et al., Liquid Crystals, vol. 13, No. 2, page 189 (1993))からなる群から選択される少なくとも1種の化合物の骨格を有する基が挙げられる。
Photoalignable groups that dimerize under the action of light include, for example, cinnamic acid derivatives (M. Schadt et al., J. Appl. Phys., vol. 31, No. 7, page 2155 (1992)), coumarin Derivatives (M. Schadt et al., Nature., vol. 381, page 212 (1996)), chalcone derivatives (Toshihiro Ogawa et al., Lecture Proceedings of the Liquid Crystal Symposium, 2AB03 (1997)), Maleimide Derivatives, and Benzophenone Derivatives (YK Jang et al., SID Int. Symposium Digest, P-53 (1997)).
Examples of photoalignable groups that are isomerized by the action of light include azobenzene compounds (K. Ichimura et al., Mol. Cryst. Liq. Cryst., 298, 221 (1997)), stilbene compounds (JG Victor and JM Torkelson, Macromolecules, 20, 2241 (1987)), spiropyran compounds (K. Ichimura et al., Chemistry Letters, page 1063 (1992); K. Ichimura et al., Thin Solid Films, vol. 235, page 101 (1993)) , cinnamic acid compounds (K. Ichimura et al., Macromolecules, 30, 903 (1997)), and hydrazono-β-ketoester compounds (S. Yamamura et al., Liquid Crystals, vol. 13, No. 2, page 189 (1993)) having at least one compound skeleton selected from the group consisting of:

光配向性基としては、桂皮酸誘導体、クマリン誘導体、カルコン誘導体、マレイミド誘導体、アゾベンゼン化合物、スチルベン化合物およびスピロピラン化合物からなる群から選択される少なくとも1種の化合物の骨格を有する基が好ましく、桂皮酸誘導体骨格、または、クマリン誘導体骨格を有する基がより好ましい。 The photo-alignable group is preferably a group having a skeleton of at least one compound selected from the group consisting of cinnamic acid derivatives, coumarin derivatives, chalcone derivatives, maleimide derivatives, azobenzene compounds, stilbene compounds and spiropyran compounds. A group having a derivative skeleton or a coumarin derivative skeleton is more preferable.

光配向性基を有するポリマーの主鎖の構造は特に制限されず、公知の構造が挙げられ、例えば、アクリレート骨格、メタクリレート骨格、シロキサン骨格、および、ポリスチレン骨格が挙げられ、アクリレート骨格、メタクリレート骨格、または、シロキサン骨格が好ましく、アクリレート骨格、または、メタクリレート骨格がより好ましい。
なお、アクリレート骨格は、アクリレート化合物(アクリロイル基を有する化合物)由来の繰り返し単位からなる骨格である。メタクリレート骨格は、メタクリレート化合物(メタクリロイル基を有する化合物)由来の繰り返し単位からなる骨格である。ポリスチレン骨格とは、スチレン由来の繰り返し単位からなる骨格である。シロキサン骨格は、ポリマー主鎖がSi-O結合で構成される骨格である。
The structure of the main chain of the polymer having a photoalignment group is not particularly limited, and includes known structures such as acrylate skeleton, methacrylate skeleton, siloxane skeleton, and polystyrene skeleton, acrylate skeleton, methacrylate skeleton, Alternatively, a siloxane skeleton is preferred, and an acrylate skeleton or methacrylate skeleton is more preferred.
The acrylate skeleton is a skeleton composed of repeating units derived from an acrylate compound (a compound having an acryloyl group). A methacrylate skeleton is a skeleton composed of repeating units derived from a methacrylate compound (a compound having a methacryloyl group). A polystyrene skeleton is a skeleton composed of repeating units derived from styrene. A siloxane skeleton is a skeleton in which the polymer main chain is composed of Si—O bonds.

配向剤は、後述する架橋剤と反応し得る架橋性基を有することが好ましい。架橋性基の種類は特に制限されず、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、ラジカル重合性基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、スチリル基、および、アリル基)、並びに、カチオン重合性基(例えば、エポキシ基、エポキシシクロヘキシル基、および、オキセタニル基)が挙げられる。
配向剤が上述した光配向性基を有するポリマーである場合、そのポリマーは架橋性基を有する繰り返し単位を有していてもよいし、上記の光配向性基を有する繰り返し単位がさらに架橋性基を有していてもよい。
The alignment agent preferably has a crosslinkable group capable of reacting with a crosslinker described below. The types of crosslinkable groups are not particularly limited, and include hydroxyl groups, carboxyl groups, amino groups, radically polymerizable groups (e.g., acryloyl groups, methacryloyl groups, vinyl groups, styryl groups, and allyl groups), and cationically polymerizable groups. (eg, epoxy group, epoxycyclohexyl group, and oxetanyl group).
When the alignment agent is a polymer having the photo-alignment group described above, the polymer may have a repeating unit having a crosslinkable group, or the repeating unit having the photo-alignment group further has a crosslinkable group. may have

配向剤の含有量は、特に制限されないが、溶媒100質量部に対して0.1~50質量部が好ましく、0.5~10質量部がより好ましい。 The content of the alignment agent is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 50 parts by mass, more preferably 0.5 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the solvent.

(溶媒A)
上記の通り、組成物Aに含まれる溶媒Aは、基材のSP値との差が4.0~10.0MPa1/2の範囲内に含まれるようなSP値を有する。
本製造方法において使用する溶媒Aが上記SP値を有することにより、液晶配向性および湿熱耐久性がいずれも優れる光学フィルムを製造できる。
基材のSP値と溶媒AのSP値との差が小さすぎると、基材が溶媒によって溶解または膨潤して、基材成分が配向膜に拡散することで配向膜の配向規制力が影響を受けて、光学異方性層に含まれる液晶化合物の配向性が低下し、また、基材のSP値と溶媒AのSP値との差が大きすぎると、基材と配向膜との界面における基材成分、配向膜成分の混合が不十分で接着性が十分ではなく、湿熱耐久試験後、その界面において剥離しやすくなるためと推測される。
(Solvent A)
As described above, the solvent A contained in the composition A has an SP value that differs from the SP value of the base material within the range of 4.0 to 10.0 MPa 1/2 .
When the solvent A used in this production method has the above SP value, an optical film excellent in both liquid crystal orientation and wet heat durability can be produced.
If the difference between the SP value of the base material and the SP value of solvent A is too small, the base material dissolves or swells with the solvent, and the components of the base material diffuse into the alignment film, thereby affecting the alignment control force of the alignment film. As a result, the orientation of the liquid crystal compound contained in the optically anisotropic layer decreases, and if the difference between the SP value of the substrate and the SP value of the solvent A is too large, the interface between the substrate and the alignment film It is presumed that the mixture of the base material component and the alignment film component was insufficient and the adhesiveness was not sufficient, and peeling was likely to occur at the interface after the wet heat durability test.

溶媒Aとしては、SP値が上記関係を満たすものであれば特に制限されず、公知の有機溶媒が使用できる。
溶媒Aは、1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記の通り、溶媒Aとして2種以上の溶媒を含む場合、各溶媒のSP値に各溶媒の質量基準の含有量を乗算した値の合計が、溶媒AのSP値である。よって、上記の「溶媒AのSP値」が上記関係を満たす限り、組成物Aは、基材のSP値との差が4.0MPa1/2未満であるSP値を有する1種以上の溶媒、および/または、基材のSP値との差が10.0MPa1/2超であるSP値を有する1種以上の溶媒を含んでいてもよい。
Solvent A is not particularly limited as long as the SP value satisfies the above relationship, and known organic solvents can be used.
Solvent A may be used singly or in combination of two or more.
As described above, when solvent A contains two or more solvents, the SP value of solvent A is the sum of the values obtained by multiplying the SP value of each solvent by the mass-based content of each solvent. Therefore, as long as the above "SP value of solvent A" satisfies the above relationship, composition A contains at least one solvent having an SP value that differs from the SP value of the substrate by less than 4.0 MPa 1/2 and/or one or more solvents with SP values that differ from the SP value of the substrate by more than 10.0 MPa 1/2 .

組成物Aに溶媒Aとして含まれる有機溶媒としては、例えば、ケトン化合物(例えば、アセトン、2-ブタノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、および、シクロペンタノンなど)、エーテル化合物(例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アルキレングリコールモノアルキルエーテル、および、アルキレングリコールジアルキルエーテルなど)、脂肪族炭化水素(例えば、ヘキサンなど)、脂環式炭化水素(例えば、シクロヘキサンなど)、芳香族炭化水素(例えば、トルエン、キシレン、および、トリメチルベンゼンなど)、ハロゲン化炭化水素(例えば、ジクロロメタン、クロロホルム(トリクロロメタン)、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、および、クロロトルエンなど)、エステル化合物(例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、および、アルキレングリコールモノアルキルエーテルエステルなど)、アルコール化合物(例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、および、シクロヘキサノールなど)、スルホキシド化合物(例えば、ジメチルスルホキシドなど)、並びに、アミド化合物(例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、および、N-メチル-2-ピロリドンなど)が挙げられる。
なかでも、溶媒Aとしては、ケトン化合物、エーテル化合物、ハロゲン化炭化水素、エステル化合物、または、アルコール化合物が好ましく、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、テトラヒドロフラン、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジクロロメタン、または、クロロホルムがより好ましい。
Examples of the organic solvent contained as solvent A in composition A include ketone compounds (e.g., acetone, 2-butanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, and cyclopentanone), ether compounds (e.g., , dioxane, tetrahydrofuran, alkylene glycol monoalkyl ether, and alkylene glycol dialkyl ether, etc.), aliphatic hydrocarbons (e.g., hexane, etc.), alicyclic hydrocarbons (e.g., cyclohexane, etc.), aromatic hydrocarbons (e.g., toluene, xylene, trimethylbenzene, etc.), halogenated hydrocarbons (e.g., dichloromethane, chloroform (trichloromethane), dichloroethane, dichlorobenzene, and chlorotoluene, etc.), ester compounds (e.g., methyl acetate, ethyl acetate, acetic acid butyl and alkylene glycol monoalkyl ether esters, etc.), alcohol compounds (e.g., ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol, etc.), sulfoxide compounds (e.g., dimethyl sulfoxide, etc.), and amide compounds (e.g., dimethylformamide , dimethylacetamide, and N-methyl-2-pyrrolidone).
Among them, the solvent A is preferably a ketone compound, an ether compound, a halogenated hydrocarbon, an ester compound, or an alcohol compound, such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, tetrahydrofuran, butyl acetate, ethylene. Glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dichloromethane or chloroform are more preferred.

基材のSP値と溶媒AのSP値との差は、本発明の効果がより優れる点で、4.0~9.0MPa1/2が好ましく、4.0~6.0MPa1/2がより好ましい。 The difference between the SP value of the base material and the SP value of the solvent A is preferably 4.0 to 9.0 MPa 1/2 , more preferably 4.0 to 6.0 MPa 1/2 , in terms of more excellent effects of the present invention. more preferred.

溶媒Aの含有量(2種以上の場合、合計含有量)は、特に制限されないが、組成物Aの全質量に対して80~96質量%が好ましく、85~94質量%がより好ましい。 The content of solvent A (in the case of two or more, the total content) is not particularly limited, but is preferably 80 to 96% by mass, more preferably 85 to 94% by mass, based on the total mass of composition A.

(添加剤)
組成物Aは、上記成分以外の添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、架橋剤、低分子化合物、重合開始剤、界面活性剤、UV(紫外線)吸収剤、反応増感剤、および、レベリング剤が挙げられる。
(Additive)
Composition A may contain additives other than the above components. Additives include cross-linking agents, low-molecular-weight compounds, polymerization initiators, surfactants, UV (ultraviolet) absorbers, reaction sensitizers, and leveling agents.

-架橋剤-
組成物Aは、架橋剤を含むことが好ましい。架橋剤を含む組成物Aを用いて配向膜を形成することにより、光学異方性層用組成物に含まれる溶媒による溶解または膨潤を抑制し、配向膜の機械強度を付与できる。
架橋剤としては、連鎖重合可能なモノマー、および、重付加型の組成物が挙げられる。
-Crosslinking agent-
Composition A preferably contains a cross-linking agent. By forming an alignment film using composition A containing a cross-linking agent, dissolution or swelling due to the solvent contained in the optically anisotropic layer composition can be suppressed, and mechanical strength can be imparted to the alignment film.
Cross-linking agents include monomers capable of chain polymerization and polyaddition type compositions.

連鎖重合可能なモノマーとしては、(メタ)アクリレート化合物、エポキシ化合物、および、オキセタン化合物が挙げられる。膜強度を高める点では多官能性のモノマーであることが好ましい。また、上述した光配向性のポリマーを共重合可能な官能基で修飾することにより、これらの架橋剤と共重合可能としてもよい。 Chain polymerizable monomers include (meth)acrylate compounds, epoxy compounds, and oxetane compounds. A polyfunctional monomer is preferable from the viewpoint of increasing the film strength. Further, the photo-orientable polymer described above may be modified with a copolymerizable functional group so as to be copolymerizable with these cross-linking agents.

組成物Aが架橋剤を含む場合、架橋反応に際し、架橋反応を促進する架橋促進剤、または、架橋反応を開始する架橋開始剤を必要に応じて組成物Aに添加してもよい。組成物Aが架橋剤を含む場合、安定して均一な光配向膜を得ることにより光学フィルムの生産性を高める観点から、組成物Aは、架橋促進剤および架橋開始剤の少なくとも一方を含むことが好ましい。
特に、架橋剤として連鎖重合可能なモノマーを用いる場合、架橋開始剤として各種の重合開始剤を併用することが好ましい。このような架橋開始剤としては、連鎖重合可能なモノマーが(メタ)アクリレート化合物である場合は、光ラジカル発生剤および熱ラジカル発生剤が挙げられ、連鎖重合可能なモノマーがエポキシ化合物またはオキセタン化合物である場合は、光カチオン発生剤、熱カチオン発生剤および熱アニオン発生剤が挙げられる。また、光ラジカル発生剤、光カチオン発生剤を用いる場合、増感剤を併用してもよい。
When the composition A contains a cross-linking agent, a cross-linking accelerator that accelerates the cross-linking reaction or a cross-linking initiator that initiates the cross-linking reaction may be added to the composition A as necessary during the cross-linking reaction. When the composition A contains a cross-linking agent, the composition A should contain at least one of a cross-linking accelerator and a cross-linking initiator from the viewpoint of increasing the productivity of the optical film by obtaining a stable and uniform photo-alignment film. is preferred.
In particular, when a monomer capable of chain polymerization is used as the cross-linking agent, it is preferable to use various polymerization initiators together as the cross-linking initiator. Examples of such crosslinking initiators include photoradical generators and thermal radical generators when the chain-polymerizable monomer is a (meth)acrylate compound, and when the chain-polymerizable monomer is an epoxy compound or an oxetane compound. In some cases, photocation generators, thermal cation generators and thermal anion generators are included. Moreover, when using a photo-radical generator and a photo-cation generator, you may use a sensitizer together.

架橋剤の添加量としては、配向膜用組成物の全固形分量に対して、25~70質量%が好ましく、40~60質量%がより好ましい。
なお、固形分とは、配向膜を構成する材料であって、配向膜用組成物のうち溶媒を除くすべての成分を意味し、溶媒以外の成分であれば、その性状が液状であっても固形分として取り扱うものとする。
The amount of the cross-linking agent to be added is preferably 25 to 70% by mass, more preferably 40 to 60% by mass, based on the total solid content of the alignment film composition.
The solid content is a material that constitutes the alignment film, and means all components of the alignment film composition except the solvent. It shall be treated as a solid content.

-低分子化合物-
組成物Aは、低分子化合物を含んでいてもよい。低分子化合物としては、上記配向剤よりも分子量が小さい化合物が挙げられる。なかでも、配向膜の配向性が向上する点で、シンナメート基を有する低分子化合物が好ましい。
低分子化合物の分子量は、200~500が好ましく、200~400がより好ましい。
-Low molecular compound-
Composition A may contain a low-molecular-weight compound. Examples of low-molecular-weight compounds include compounds having a molecular weight smaller than that of the alignment agent. Among them, a low-molecular-weight compound having a cinnamate group is preferable in terms of improving the alignment of the alignment film.
The molecular weight of the low molecular weight compound is preferably 200-500, more preferably 200-400.

シンナメート基を有する低分子化合物としては、例えば、下記式(B1)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2023049680000002
Examples of low-molecular-weight compounds having a cinnamate group include compounds represented by the following formula (B1).
Figure 2023049680000002

ここで、式(B1)中、aは0~5の整数を表し、Rは、水素原子または1価の有機基を表し、Rは、1価の有機基を表す。aが2以上の場合、複数のRは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Rの1価の有機基としては、炭素数1~20のアルコキシ基が好ましく、炭素数1~6のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基、エトキシ基が更に好ましい。
また、Rの1価の有機基としては、炭素数1~20の鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数1~10の分岐鎖状のアルキル基がより好ましい。
また、aは1が好ましく、Rがパラ位に有していることが好ましい。
Here, in formula (B1), a represents an integer of 0 to 5, R 1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and R 2 represents a monovalent organic group. When a is 2 or more, a plurality of R 1 may be the same or different.
The monovalent organic group for R 1 is preferably an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably a methoxy group and an ethoxy group.
As the monovalent organic group for R 2 , a chain alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, and a branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is more preferable.
In addition, a is preferably 1, and R 1 is preferably at the para position.

上記式(B1)で表される化合物としては、例えば、オクチルシンナメート、エチル-4-イソプロピルシンナメート、エチル-2,4-ジイソプロピルシンナメート、メチル-2,4-ジイソプロピルシンナメート、プロピル-p-メトキシシンナメート、イソプロピル-p-メトキシシンナメート、イソアミル-p-メトキシシンナメート、2-エチルヘキシル-p-メトキシシンナメート、2-エトキシエチル-p-メトキシシンナメート、2-ヘキシルデカニル-p-メトキシシンナメート、および、シクロヘキシル-p-メトキシシンナメートが挙げられる。 Examples of the compound represented by the formula (B1) include octyl cinnamate, ethyl-4-isopropyl cinnamate, ethyl-2,4-diisopropyl cinnamate, methyl-2,4-diisopropyl cinnamate, propyl-p -methoxycinnamate, isopropyl-p-methoxycinnamate, isoamyl-p-methoxycinnamate, 2-ethylhexyl-p-methoxycinnamate, 2-ethoxyethyl-p-methoxycinnamate, 2-hexyldecanyl-p- Methoxycinnamate and cyclohexyl-p-methoxycinnamate.

低分子化合物の含有量は、溶媒A100質量部に対して0.01~50質量部が好ましく、0.1~10質量部がより好ましい。 The content of the low-molecular compound is preferably 0.01 to 50 parts by mass, more preferably 0.1 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of solvent A.

<工程1の手順>
工程1は、基材上に組成物Aを塗布して、配向膜を形成するための塗膜を形成する工程である。
工程1における塗布方法は特に制限されず、公知の塗布方法から、組成物Aの塗膜を所望の厚みに塗布可能な方法を適宜選択できる。塗布方法としては、例えば、スピンコーティング、ダイコーティング、ワイヤーバーコーティング(バーコーティング)、グラビアコーティング、フレキソ印刷、および、インクジェット印刷が挙げられる。
<Procedure of step 1>
Step 1 is a step of applying composition A onto a substrate to form a coating film for forming an alignment film.
The coating method in step 1 is not particularly limited, and a method capable of coating the coating film of composition A to a desired thickness can be appropriately selected from known coating methods. Application methods include, for example, spin coating, die coating, wire bar coating (bar coating), gravure coating, flexographic printing, and inkjet printing.

工程1と工程2との間に、基材上に形成された組成物Aの塗膜を乾燥する乾燥工程を有していてもよい。
乾燥工程における乾燥方法は、塗膜を乾燥して溶剤Aを除去する方法であれば特に制限されず、公知の乾燥方法が適用でき、例えば、ヒータによる加熱乾燥、および、温風による加熱乾燥が挙げられる。
組成物Aが架橋剤を含む場合、配向剤と架橋剤との架橋反応を促進するために、乾燥工程を行うことが好ましい。
A drying step for drying the coating film of composition A formed on the substrate may be provided between step 1 and step 2.
The drying method in the drying step is not particularly limited as long as it is a method of drying the coating film to remove the solvent A, and a known drying method can be applied. mentioned.
When the composition A contains a cross-linking agent, it is preferable to carry out a drying step in order to promote the cross-linking reaction between the alignment agent and the cross-linking agent.

〔工程2〕
工程2は、工程1で形成された塗膜に配向処理を施して、配向膜を形成する工程である。工程2により形成される配向膜は、光学異方性層に含まれる液晶化合物を配向させる配向規制力を有する。
工程2において実施する配向処理は、塗膜に含まれる配向剤に配向機能を付与する方法であれば特に制限されず、組成物Aに含まれる配向剤の特性に応じて、公知の方法から適宜選択される。
[Step 2]
Step 2 is a step of applying an orientation treatment to the coating film formed in Step 1 to form an orientation film. The alignment film formed in step 2 has an alignment regulating force that aligns the liquid crystal compound contained in the optically anisotropic layer.
The alignment treatment performed in step 2 is not particularly limited as long as it is a method of imparting an alignment function to the alignment agent contained in the coating film. selected.

なかでも、配向剤として上記の光配向材料(より好ましくは光配向性基を有するポリマー)を含む組成物Aの塗膜に対して、偏光を照射する光配向処理を行うことが好ましい。
光配向処理において、照射する偏光は特に制限されず、例えば、直線偏光、円偏光、楕円偏光などが挙げられ、直線偏光が好ましい。
また、非偏光を照射する「斜め方向」とは、塗膜表面の法線方向に対して極角θ(0<θ<90°)で傾けた方向である。非偏光を照射する方向は、目的に応じて適宜選択することができるが、上記極角θが20~80°であることが好ましい。
Among them, it is preferable to perform a photo-alignment treatment of irradiating polarized light to the coating film of the composition A containing the above photo-alignment material (more preferably a polymer having a photo-alignment group) as an alignment agent.
In the photo-alignment treatment, the polarized light to be irradiated is not particularly limited, and examples thereof include linearly polarized light, circularly polarized light, and elliptically polarized light, with linearly polarized light being preferred.
Moreover, the “oblique direction” in which non-polarized light is irradiated is a direction inclined at a polar angle θ (0<θ<90°) with respect to the normal line direction of the coating film surface. The direction of irradiation with unpolarized light can be appropriately selected according to the purpose, but the polar angle θ is preferably 20 to 80°.

照射光としては、例えば、紫外線、近紫外線、および、可視光線が挙げられ、250~450nmの波長範囲に含まれる近紫外線が好ましい。
照射光の光源としては、例えば、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、および、メタルハライドランプが挙げられる。このような光源から得た紫外線または可視光線に対して、干渉フィルタおよび/または色フィルタを用いることで、照射する光の波長範囲を制限できる。また、これらの光源からの光に対して、偏光フィルタおよび/または偏光プリズムを用いることで、直線偏光が得られる。
Irradiation light includes, for example, ultraviolet rays, near-ultraviolet rays, and visible rays, and near-ultraviolet rays within the wavelength range of 250 to 450 nm are preferred.
Examples of light sources for irradiation light include xenon lamps, high-pressure mercury lamps, ultrahigh-pressure mercury lamps, and metal halide lamps. By using an interference filter and/or a color filter for ultraviolet light or visible light obtained from such a light source, the wavelength range of the irradiated light can be restricted. Also, by using a polarizing filter and/or a polarizing prism for the light from these light sources, linearly polarized light can be obtained.

照射光の積算光量としては、配向剤に対して配向規制力を付与できる量であれば特に制限されないが、1~300mJ/cmが好ましく、5~100mJ/cmがより好ましい。
照射光の照度としては、0.1~300mW/cmが好ましく、1~100mW/cmがより好ましい。
The integrated light intensity of the irradiation light is not particularly limited as long as it is an amount capable of imparting an alignment regulating force to the alignment agent .
The illuminance of the irradiation light is preferably 0.1 to 300 mW/cm 2 , more preferably 1 to 100 mW/cm 2 .

<配向膜の特性>
工程1および工程2により形成される配向膜の厚さは、配向機能を発揮する限り特に制限されないが、0.05~3μmが好ましく、0.1~1μmがより好ましく、0.1~0.5μmがさらに好ましく、0.1~0.3μmが特に好ましい。この範囲であると、優れた配向規制力が発揮でき、かつ、異物欠陥を抑制する効果が高い。
<Characteristics of Alignment Film>
The thickness of the alignment film formed in steps 1 and 2 is not particularly limited as long as the alignment function is exhibited, but it is preferably 0.05 to 3 μm, more preferably 0.1 to 1 μm, and more preferably 0.1 to 0.1 μm. 5 μm is more preferred, and 0.1 to 0.3 μm is particularly preferred. Within this range, an excellent orientation regulating force can be exhibited, and the effect of suppressing foreign matter defects is high.

〔工程3〕
工程3は、工程2で形成された配向膜上に、重合性基を有する液晶化合物を含む組成物を塗布して、組成物層を形成する工程である。本工程を実施することにより、後述する配向処理が施される組成物層が形成される。
まず、本工程で使用される材料について詳述し、その後、工程の手順について詳述する。
[Step 3]
Step 3 is a step of applying a composition containing a liquid crystal compound having a polymerizable group onto the alignment film formed in step 2 to form a composition layer. By carrying out this step, a composition layer to be subjected to an orientation treatment, which will be described later, is formed.
First, the materials used in this process will be described in detail, and then the procedure of the process will be described in detail.

<光学異方性層用組成物>
工程3で使用される光学異方性層用組成物(以下、「組成物B」ともいう。)は、重合性基を有する液晶化合物(以下、単に「液晶化合物」ともいう。)を含む。組成物Bは、上記液晶化合物以外に、キラル剤、溶媒、並びに、その他必要に応じて用いられる他の成分(例えば、重合開始剤、重合性モノマー、界面活性剤、ポリマー、および、レベリング剤など)を含んでいてもよい。
<Composition for optically anisotropic layer>
The composition for an optically anisotropic layer (hereinafter also referred to as "composition B") used in step 3 contains a liquid crystal compound having a polymerizable group (hereinafter simply referred to as "liquid crystal compound"). Composition B contains, in addition to the liquid crystal compound, a chiral agent, a solvent, and other components used as necessary (e.g., polymerization initiators, polymerizable monomers, surfactants, polymers, leveling agents, etc.). ) may be included.

(重合性基を有する液晶化合物)
工程3に用いる組成物Bは、重合性基を有する液晶化合物を含む。
液晶化合物の種類については、特に制限されない。液晶化合物は、その形状から、棒状タイプ(棒状液晶化合物)と円盤状タイプ(ディスコティック液晶化合物)とに分類できる。また、液晶化合物は、低分子タイプと高分子タイプとに分類できる。高分子とは、重合度が100以上のものを指す(高分子物理・相転移ダイナミクス,土井 正男著,2頁,岩波書店,1992)。
本製造方法においては、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、棒状液晶化合物またはディスコティック液晶化合物を用いるのが好ましく、棒状液晶化合物を用いるのがより好ましい。2種以上の棒状液晶化合物、2種以上のディスコティック液晶化合物、または、棒状液晶化合物とディスコティック液晶化合物との混合物を用いてもよい。
なお、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平11-513019号公報、または、特開2005-289980号公報の段落0026~0098に記載の液晶化合物を好ましく用いることができる。
ディスコティック液晶化合物としては、例えば、特開2007-108732号公報の段落0020~0067、または、特開2010-244038号公報の段落0013~0108に記載の液晶化合物を好ましく用いることができる。
(Liquid crystal compound having a polymerizable group)
Composition B used in step 3 contains a liquid crystal compound having a polymerizable group.
The type of liquid crystal compound is not particularly limited. Liquid crystal compounds can be classified into a rod-like type (rod-like liquid crystal compound) and a disk-like type (discotic liquid crystal compound) according to their shape. In addition, liquid crystal compounds can be classified into a low-molecular-weight type and a high-molecular-weight type. A polymer refers to a polymer having a degree of polymerization of 100 or more (polymer physics, phase transition dynamics, by Masao Doi, page 2, Iwanami Shoten, 1992).
Although any liquid crystal compound can be used in this production method, a rod-like liquid crystal compound or a discotic liquid crystal compound is preferably used, and a rod-like liquid crystal compound is more preferably used. Two or more rod-like liquid crystal compounds, two or more discotic liquid crystal compounds, or a mixture of a rod-like liquid crystal compound and a discotic liquid crystal compound may be used.
As the rod-like liquid crystal compound, for example, the liquid crystal compounds described in JP-A-11-513019 or paragraphs 0026 to 0098 of JP-A-2005-289980 can be preferably used.
As the discotic liquid crystal compound, for example, the liquid crystal compounds described in paragraphs 0020 to 0067 of JP-A-2007-108732 or paragraphs 0013 to 0108 of JP-A-2010-244038 can be preferably used.

液晶化合物が有する重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基がより好ましく、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、または、アリル基がさらに好ましい。 The type of polymerizable group possessed by the liquid crystal compound is not particularly limited, and is preferably a functional group capable of an addition polymerization reaction, more preferably a polymerizable ethylenically unsaturated group or a ring-polymerizable group, a (meth)acryloyl group, and a vinyl group. , a styryl group, or an allyl group are more preferred.

なお、本製造方法の工程3~5で形成される光学異方性層は、重合性基を有する液晶化合物(重合性基を有する棒状液晶化合物またはディスコティック液晶化合物)が重合などによって固定されて形成された層であり、光学異方性層が形成された後はもはや液晶性を示す必要はない。 The optically anisotropic layer formed in steps 3 to 5 of this production method is formed by fixing a liquid crystal compound having a polymerizable group (a rod-like liquid crystal compound or a discotic liquid crystal compound having a polymerizable group) by polymerization or the like. It is a formed layer and no longer needs to exhibit liquid crystallinity after the optically anisotropic layer is formed.

組成物Bにおける液晶化合物の含有量は特に制限されないが、液晶化合物の配向状態を制御しやすい点で、組成物Bの固形分の全質量に対して、60質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、99質量%以下が好ましく、97質量%以下がより好ましい。
なお、組成物Bの固形分とは、組成物Bに含まれる溶媒以外の全ての成分を意味する。
The content of the liquid crystal compound in composition B is not particularly limited, but is preferably 60% by mass or more, more preferably 70% by mass, based on the total mass of the solid content of composition B in terms of easy control of the alignment state of the liquid crystal compound. The above is more preferable. Although the upper limit is not particularly limited, it is preferably 99% by mass or less, more preferably 97% by mass or less.
In addition, the solid content of the composition B means all the components contained in the composition B other than the solvent.

(キラル剤)
組成物Bは、キラル剤を含んでいてもよく、液晶化合物を容易に捩れ配向させることができる点で、キラル剤を含むことが好ましい。
キラル剤は、液晶性であっても、非液晶性であってもよい。キラル剤は、不斉炭素原子を含む場合が多いが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物または面性不斉化合物であってもよい。
また、キラル剤は、光照射により螺旋誘起力が変化する感光性キラル剤であってもよく、光照射により螺旋誘起力が変化しないキラル剤であってもよい。
なお、キラル剤の螺旋誘起力(HTP:Helical Twisting Power)は、下記式(X)で表される螺旋配向能力を示すファクターである。
式(X) HTP=1/(螺旋ピッチの長さ(単位:μm)×液晶化合物に対するキラル剤の濃度(質量%))[μm-1
螺旋ピッチの長さとは、コレステリック液晶相の螺旋構造のピッチP(=螺旋の周期)の長さをいい、液晶便覧(丸善株式会社出版)の196ページに記載の方法で測定できる。
(chiral agent)
Composition B may contain a chiral agent, and preferably contains a chiral agent in that the liquid crystal compound can be easily twisted and oriented.
Chiral agents may be liquid crystalline or non-liquid crystalline. Chiral agents often contain an asymmetric carbon atom, but may be an axially or planarly chiral compound that does not contain an asymmetric carbon atom.
Moreover, the chiral agent may be a photosensitive chiral agent whose helical inductive force changes upon irradiation with light, or may be a chiral agent whose helical inductive force does not change upon irradiation with light.
The helical twisting power (HTP) of the chiral agent is a factor that indicates the helical orientation ability represented by the following formula (X).
Formula (X) HTP = 1/(Length of helical pitch (unit: μm) × Concentration of chiral agent with respect to liquid crystal compound (% by mass)) [μm −1 ]
The length of the helical pitch means the length of the pitch P (= helical period) of the helical structure of the cholesteric liquid crystal phase, and can be measured by the method described on page 196 of Liquid Crystal Handbook (published by Maruzen Co., Ltd.).

感光性キラル剤としては、いわゆる光反応型キラル剤が挙げられる。光反応型キラル剤とは、キラル部位と光照射によって構造変化する光反応部位を有し、例えば、照射量に応じて液晶化合物の捩れ力を大きく変化させる化合物である。
光照射によって構造変化する光反応部位の例としては、フォトクロミック化合物(内田欣吾、入江正浩、化学工業、vol.64、640p,1999、内田欣吾、入江正浩、ファインケミカル、vol.28(9)、15p,1999)などが挙げられる。また、上記構造変化とは、光反応部位への光照射により生ずる、分解、付加反応、異性化、ラセミ化、[2+2]光環化および2量化反応などを意味し、上記構造変化は不可逆的であってもよい。また、キラル部位としては、例えば、野平博之、化学総説、No.22液晶の化学、73p:1994に記載の不斉炭素などが相当する。
Photosensitive chiral agents include so-called photoreactive chiral agents. A photoreactive chiral agent is a compound that has a chiral site and a photoreactive site that undergoes a structural change upon irradiation with light, and that, for example, greatly changes the torsional force of a liquid crystal compound in accordance with the amount of irradiation.
Examples of photoreactive sites that undergo structural changes due to light irradiation include photochromic compounds (Kingo Uchida, Masahiro Irie, Kagaku Kogyo, vol.64, 640p, 1999, Kingo Uchida, Masahiro Irie, Fine Chemicals, vol.28(9), 15p , 1999). Further, the structural change means decomposition, addition reaction, isomerization, racemization, [2+2] photocyclization, dimerization reaction, etc. caused by light irradiation to the photoreactive site, and the structural change is irreversible. There may be. Moreover, as a chiral site, for example, Hiroyuki Nohira, Kagaku Sosetsu, No. 22 Liquid Crystal Chemistry, 73p:1994.

感光性キラル剤としては、例えば、特開2001-159709号公報の段落0044~0047に記載の光反応型キラル剤、特開2002-179669号公報の段落0019~0043に記載の光学活性化合物、特開2002-179633号公報の段落0020~0044に記載の光学活性化合物、特開2002-179670号公報の段落0016~0040に記載の光学活性化合物、特開2002-179668号公報の段落0017~0050に記載の光学活性化合物、特開2002-180051号公報の段落0018~0044に記載の光学活性化合物、特開2002-338575号公報の段落0016~0055に記載の光学活性イソソルビド誘導体、特開2002-080478号公報の段落0023~0032に記載の光反応型光学活性化合物、特開2002-080851号公報の段落0019~0029に記載の光反応型カイラル剤、特開2002-179681号公報の段落0022~0049に記載の光学活性化合物、特開2002-302487号公報の段落0015~0044に記載の光学活性化合物、特開2002-338668号公報の段落0015~0050に記載の光学活性ポリエステル、特開2003-055315号公報の段落0019~0041に記載のビナフトール誘導体、特開2003-073381号公報の段落0008~0043に記載の光学活性フルギド化合物、特開2003-306490号公報の段落0015~0057に記載の光学活性イソソルビド誘導体、特開2003-306491号公報の段落0015~0041に記載の光学活性イソソルビド誘導体、特開2003-313187号公報の段落0015~0049に記載の光学活性イソソルビド誘導体、特開2003-313188号公報の段落0015~0057に記載の光学活性イソマンニド誘導体、特開2003-313189号公報の段落0015~0049に記載の光学活性イソソルビド誘導体、特開2003-313292号公報の段落0015~0052に記載の光学活性ポリエステル/アミド、WO2018/194157号公報の段落0012~0053に記載の光学活性化合物、および、特開2002-179682号公報の段落0020~0049に記載の光学活性化合物などが挙げられる。 Examples of the photosensitive chiral agent include photoreactive chiral agents described in paragraphs 0044 to 0047 of JP-A-2001-159709, optically active compounds described in paragraphs 0019-0043 of JP-A-2002-179669, Optically active compounds described in paragraphs 0020 to 0044 of JP-A-2002-179633, optically active compounds described in paragraphs 0016-0040 of JP-A-2002-179670, paragraphs 0017-0050 of JP-A-2002-179668 optically active compounds described in, optically active compounds described in paragraphs 0018 to 0044 of JP-A-2002-180051, optically active isosorbide derivatives described in paragraphs 0016-0055 of JP-A-2002-338575, JP-A-2002-080478 The photoreactive optically active compounds described in paragraphs 0023 to 0032 of JP-A-2002-200353, the photoreactive chiral agents described in paragraphs 0019 to 0029 of JP-A-2002-080851, and the paragraphs 0022-0049 of JP-A-2002-179681. The optically active compound described in, the optically active compound described in paragraphs 0015 to 0044 of JP-A-2002-302487, the optically active polyester described in paragraphs 0015-0050 of JP-A-2002-338668, JP-A-2003-055315 Binaphthol derivatives described in paragraphs 0019 to 0041 of the publication, optically active fulgide compounds described in paragraphs 0008 to 0043 of JP-A-2003-073381, optical activity described in paragraphs 0015-0057 of JP-A-2003-306490 Isosorbide derivatives, optically active isosorbide derivatives described in paragraphs 0015 to 0041 of JP-A-2003-306491, optically active isosorbide derivatives described in paragraphs 0015-0049 of JP-A-2003-313187, JP-A-2003-313188 Optically active isomannide derivatives described in paragraphs 0015 to 0057 of JP-A-2003-313189, optically active isosorbide derivatives described in paragraphs 0015-0049 of JP-A-2003-313292, optically active described in paragraphs 0015-0052 of JP-A-2003-313292 Examples include polyester/amide, optically active compounds described in paragraphs 0012 to 0053 of WO2018/194157, and optically active compounds described in paragraphs 0020 to 0049 of JP-A-2002-179682.

キラル剤は、ビナフチル部分構造、イソソルビド部分構造(イソソルビドに由来する部分構造)、および、イソマンニド部分構造(イソマンニドに由来する部分構造)から選ばれるいずれかの部分構造を有していることが好ましい。なお、ビナフチル部分構造、イソソルビド部分構造、および、イソマンニド部分構造とは、各々以下の構造を意図する。
ビナフチル部分構造中の実線と破線が平行している部分は、一重結合または二重結合を表す。なお、以下に示す構造において、*は、結合位置を表す。
The chiral agent preferably has any partial structure selected from a binaphthyl partial structure, an isosorbide partial structure (a partial structure derived from isosorbide), and an isomannide partial structure (a partial structure derived from isomannide). The binaphthyl partial structure, the isosorbide partial structure, and the isomannide partial structure each intend the following structures.
The part where the solid line and the dashed line in the binaphthyl partial structure are parallel represents a single bond or a double bond. In the structures shown below, * represents a bonding position.

Figure 2023049680000003
Figure 2023049680000003

キラル剤としては、式(C)で表される化合物が好ましい。
式(C) R-L-R
Rは、それぞれ独立に、シンナモイル部位、カルコン部位、アゾベンゼン部位、および、スチルベン部位からなる群から選択される少なくとも1つの部位を有する基を表す。
Lは、上記ビナフチル部分構造から2個の水素原子を除いて形成される2価の連結基、上記イソソルビド部分構造からなる2価の連結基、または、上記イソマンニド部分構造からなる2価の連結基を表す。なお、*は結合位置を表す。
As the chiral agent, a compound represented by formula (C) is preferred.
Formula (C) RLR
Each R independently represents a group having at least one moiety selected from the group consisting of a cinnamoyl moiety, a chalcone moiety, an azobenzene moiety and a stilbene moiety.
L is a divalent linking group formed by removing two hydrogen atoms from the binaphthyl partial structure, a divalent linking group consisting of the isosorbide partial structure, or a divalent linking group consisting of the isomannide partial structure. represents In addition, * represents a binding position.

組成物Bに含まれるキラル剤は、1種のみでもよく、2種以上の組み合わせでもよい。
組成物B中のキラル剤の含有量は、形成しようとする光学異方性層の特性(例えば、レタデーションおよび波長分散等)に応じて適宜設定され得る。なお、光学異方性層中の液晶化合物の捩れ角はキラル剤の種類およびその添加濃度に大きく依存するため、これらを調節することによって所望の捩れ角を得ることができる。
The chiral agent contained in the composition B may be of one type or a combination of two or more types.
The content of the chiral agent in composition B can be appropriately set according to the properties of the optically anisotropic layer to be formed (for example, retardation and wavelength dispersion). Since the twist angle of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer greatly depends on the type and concentration of the chiral agent added, a desired twist angle can be obtained by adjusting these factors.

組成物Bにおけるキラル剤の含有量(2種以上のキラル剤を用いる場合は合計含有量)は、例えば、液晶化合物の全質量に対して5.0質量%以下であり、4.0質量%以下が好ましく、2.0質量%以下がより好ましく、1.0質量%以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、0.01質量%以上が好ましく、0.02質量%以上がより好ましく、0.05質量%以上がさらに好ましい。 The content of the chiral agent in composition B (the total content when two or more chiral agents are used) is, for example, 5.0% by mass or less, and 4.0% by mass with respect to the total mass of the liquid crystal compound. The following is preferable, 2.0% by mass or less is more preferable, and 1.0% by mass or less is even more preferable. Although the lower limit is not particularly limited, it is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.02% by mass or more, and even more preferably 0.05% by mass or more.

(その他の成分)
組成物Bは、上記液晶化合物およびキラル剤以外の他の成分を含んでいてもよい。
例えば、組成物Bは、重合開始剤を含んでいてもよい。組成物Bが重合開始剤を含む場合、工程3により形成される組成物層において、より効率的に重合性基を有する液晶化合物の重合が進行する。
重合開始剤としては公知の重合開始剤が挙げられ、光重合開始剤、および、熱重合開始剤が挙げられ、光重合開始剤が好ましい。
組成物Bにおける重合開始剤の含有量は特に制限されないが、組成物Bの固形分の全質量に対して、0.01~20質量%が好ましく、0.5~10質量%がより好ましい。
(other ingredients)
Composition B may contain components other than the liquid crystal compound and the chiral agent.
For example, composition B may contain a polymerization initiator. When the composition B contains a polymerization initiator, polymerization of the liquid crystal compound having a polymerizable group proceeds more efficiently in the composition layer formed in step 3.
Polymerization initiators include known polymerization initiators, including photopolymerization initiators and thermal polymerization initiators, with photopolymerization initiators being preferred.
Although the content of the polymerization initiator in composition B is not particularly limited, it is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass, based on the total mass of the solid content of composition B.

組成物Bは、上記液晶化合物とは異なる重合性モノマーを含んでいてもよい。重合性モノマーとしては、ラジカル重合性化合物、および、カチオン重合性化合物が挙げられ、多官能性ラジカル重合性モノマーが好ましい。重合性モノマーとしては、例えば、特開2002-296423号公報の段落0018~0020に記載の重合性モノマーが挙げられる。
組成物Bにおける重合性モノマーの含有量は特に制限されないが、液晶化合物の全質量に対して、1~50質量%が好ましく、5~30質量%がより好ましい。
Composition B may contain a polymerizable monomer different from the liquid crystal compound. Polymerizable monomers include radically polymerizable compounds and cationically polymerizable compounds, and polyfunctional radically polymerizable monomers are preferred. Examples of polymerizable monomers include polymerizable monomers described in paragraphs 0018 to 0020 of JP-A-2002-296423.
Although the content of the polymerizable monomer in composition B is not particularly limited, it is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, based on the total mass of the liquid crystal compound.

組成物Bは、界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、フッ素系化合物が好ましい。界面活性剤としては、例えば、特開2001-330725号公報の段落0028~0056に記載の化合物、および、特開2005-062673号公報の段落0069~0126に記載の化合物が挙げられる。 Composition B may contain a surfactant. Surfactants include conventionally known compounds, and fluorine-based compounds are preferred. Examples of surfactants include compounds described in paragraphs 0028 to 0056 of JP-A-2001-330725 and compounds described in paragraphs 0069-0126 of JP-A-2005-062673.

組成物Bは、ポリマーを含んでいてもよい。ポリマーとしては、セルロースエステルが挙げられる。セルロースエステルとしては、特開2000-155216号公報の段落0178に記載の化合物が挙げられる。
組成物Bにおけるポリマーの含有量は特に制限されないが、液晶化合物の全質量に対して、0.1~10質量%が好ましく、0.1~8質量%がより好ましい。
Composition B may contain a polymer. Polymers include cellulose esters. Cellulose esters include compounds described in paragraph 0178 of JP-A-2000-155216.
Although the content of the polymer in composition B is not particularly limited, it is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 8% by mass, based on the total mass of the liquid crystal compound.

組成物層は、レベリング剤を含んでいてもよい。
レベリング剤は特に制限されないが、フッ素系レベリング剤またはケイ素系レベリング剤が好ましく、フッ素系レベリング剤がより好ましい。
フッ素系レベリング剤は、フッ素原子を有するレベリング剤であり、フルオロ脂肪族基を有することが好ましい。
フッ素系レベリング剤は、下記式(1)で表される繰り返し単位を有することが好ましい。
The composition layer may contain a leveling agent.
Although the leveling agent is not particularly limited, a fluorine-based leveling agent or a silicon-based leveling agent is preferable, and a fluorine-based leveling agent is more preferable.
The fluorine-based leveling agent is a leveling agent having a fluorine atom, and preferably has a fluoroaliphatic group.
The fluorine-based leveling agent preferably has a repeating unit represented by the following formula (1).

Figure 2023049680000004
Figure 2023049680000004

式(1)中、Rは、水素原子、ハロゲン原子、または、メチル基を表す。
は、単結合または2価の連結基を表す。2価の連結基は特に制限されず、例えば、2価の炭化水素基(例えば、炭素数1~10のアルキレン基、炭素数1~10のアルケニレン基、および、炭素数1~10のアルキニレン基などの2価の脂肪族炭化水素基、並びに、アリーレン基などの2価の芳香族炭化水素基)、2価の複素環基、-O-、-S-、-NH-、-CO-、または、これらを組み合わせた基(例えば、-CO-O-、-O-2価の炭化水素基-、-(O-2価の炭化水素基)-O-(mは、1以上の整数を表す)、および、-O-CO-2価の炭化水素基-など)が挙げられる。
nは、1~18の整数を表し、4~12の整数が好ましく、6~8の整数がより好ましい。
Xは、水素原子、または、フッ素原子である。
In formula (1), R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a methyl group.
L 1 represents a single bond or a divalent linking group. The divalent linking group is not particularly limited, and examples thereof include divalent hydrocarbon groups (e.g., alkylene groups having 1 to 10 carbon atoms, alkenylene groups having 1 to 10 carbon atoms, and alkynylene groups having 1 to 10 carbon atoms. and divalent aromatic hydrocarbon groups such as arylene groups), divalent heterocyclic groups, -O-, -S-, -NH-, -CO-, Alternatively, a group combining these (e.g., -CO-O-, -O-divalent hydrocarbon group -, -(O-divalent hydrocarbon group) m -O- (m is an integer of 1 or more ), and —O—CO-divalent hydrocarbon group—, etc.).
n represents an integer of 1 to 18, preferably an integer of 4 to 12, more preferably an integer of 6 to 8.
X is a hydrogen atom or a fluorine atom.

式(1)で表される繰り返し単位としては、下記式(2)で表される繰り返し単位が好ましい。 As the repeating unit represented by formula (1), a repeating unit represented by the following formula (2) is preferable.

Figure 2023049680000005
Figure 2023049680000005

式(2)中、R、nおよびXの定義は、上記式(1)中の各基の定義と同じである。
Yは、酸素原子、硫黄原子または-N(R)-を表す。Rは、水素原子または置換基を有してもよい炭素数1~8のアルキル基を表す。
mは、1~6の整数を表し、1~3の整数が好ましい。
In formula (2), the definitions of R 1 , n and X are the same as the definitions of the groups in formula (1) above.
Y represents an oxygen atom, a sulfur atom or -N(R 2 )-. R 2 represents a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
m represents an integer of 1-6, preferably an integer of 1-3.

フッ素系レベリング剤は、式(1)で表される繰り返し単位を1種のみ有していてもよいし、2種以上有していてもよい。
フッ素系レベリング剤中における式(1)で表される繰り返し単位の含有量は特に制限されず、後述するレベリング剤の分布が形成されやすい点で、フッ素系レベリング剤の全繰り返し単位に対して、20~100質量%が好ましく、30~95質量%がより好ましい。
フッ素系レベリング剤が2種以上の式(1)で表される繰り返し単位を有する場合、その合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
The fluorine-based leveling agent may have only one type of repeating unit represented by formula (1), or may have two or more types.
The content of the repeating unit represented by formula (1) in the fluorine-based leveling agent is not particularly limited, and since the distribution of the leveling agent described later is likely to be formed, with respect to all repeating units of the fluorine-based leveling agent, 20 to 100% by mass is preferred, and 30 to 95% by mass is more preferred.
When the fluorine-based leveling agent has two or more types of repeating units represented by formula (1), the total content is preferably within the above range.

フッ素系レベリング剤は、式(1)で表される繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を有していてもよい。
他の繰り返し単位としては、例えば、親水性基(例えば、ポリ(オキシアルキレン)基、ヒドロキシ基など)を有する繰り返し単位を有していてもよい。
フッ素系レベリング剤は、式(3)で表される繰り返し単位を有していてもよい。
The fluorine-based leveling agent may have repeating units other than the repeating unit represented by formula (1).
Other repeating units may include, for example, repeating units having a hydrophilic group (eg, poly(oxyalkylene) group, hydroxy group, etc.).
The fluorine-based leveling agent may have a repeating unit represented by formula (3).

Figure 2023049680000006
Figure 2023049680000006

は、水素原子、ハロゲン原子、または、メチル基を表す。
は、単結合または2価の連結基を表す。2価の連結基の定義は、上述した通りである。
は、アルキレン基を表す。アルキレン基の炭素数は2~3が好ましい。
pは、4~20の整数を表し、5~15の整数が好ましい。
は、水素原子または置換基を表す。置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アリール基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、または、これらを組み合わせた基(例えば、-アルキレン基-OHなど)が挙げられる。
R3 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a methyl group.
L2 represents a single bond or a divalent linking group. The definition of the divalent linking group is as described above.
L3 represents an alkylene group. The alkylene group preferably has 2 to 3 carbon atoms.
p represents an integer of 4-20, preferably an integer of 5-15.
R4 represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of substituents include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, an aryl group, a cyano group, a hydroxy group, an amino group, or a group combining these (eg, -alkylene group -OH).

フッ素系レベリング剤は、式(3)で表される繰り返し単位を1種のみ有していてもよいし、2種以上有していてもよい。
フッ素系レベリング剤中における式(3)で表される繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、フッ素系レベリング剤の全繰り返し単位に対して、2~70質量%が好ましく、5~60質量%がより好ましい。
フッ素系レベリング剤が2種以上の式(3)で表される繰り返し単位を有する場合、その合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
The fluorine-based leveling agent may have only one type of repeating unit represented by formula (3), or may have two or more types.
The content of the repeating unit represented by formula (3) in the fluorine-based leveling agent is not particularly limited, but is preferably 2 to 70% by mass, more preferably 5 to 60% by mass, based on the total repeating units of the fluorine-based leveling agent. is more preferred.
When the fluorine-based leveling agent has two or more types of repeating units represented by formula (3), the total content is preferably within the above range.

フッ素系レベリング剤の重量平均分子量は特に制限されないが、3000~30000が好ましく、5000~25000がより好ましい。 Although the weight average molecular weight of the fluorine-based leveling agent is not particularly limited, it is preferably from 3,000 to 30,000, more preferably from 5,000 to 25,000.

ケイ素系レベリング剤としては、ジアルキルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含むレベリング剤が好ましい。 As the silicon-based leveling agent, a leveling agent containing a plurality of dialkylsilyloxy units as repeating units is preferred.

組成物におけるレベリング剤の含有量は特に制限されないが、組成物の固形分の全質量に対して、0.010~5.0質量%が好ましく、0.020~2.0質量%がより好ましい。 The content of the leveling agent in the composition is not particularly limited, but is preferably 0.010 to 5.0% by mass, more preferably 0.020 to 2.0% by mass, based on the total mass of the solid content of the composition. .

組成物Bは、上記成分以外にも、液晶化合物を水平配向状態または垂直配向状態とするために、水平配向または垂直配向を促進する添加剤(配向制御剤)を含んでいてもよい。 Composition B may contain, in addition to the components described above, an additive (alignment control agent) that promotes horizontal or vertical alignment of the liquid crystal compound so as to bring the liquid crystal compound into a horizontal or vertical alignment state.

<工程3の手順>
工程3において、組成物Bを塗布して組成物層を形成する手順は特に制限されず、配向膜上に上記の組成物Bを塗布して、必要に応じて乾燥処理を施す方法(以下、単に「塗布方法」ともいう。)が挙げられる。
<Procedure of step 3>
In step 3, the procedure of applying the composition B to form a composition layer is not particularly limited, and a method of applying the composition B on the alignment film and optionally performing a drying treatment (hereinafter referred to as Also simply referred to as a “coating method”).

工程3における塗布方法は特に制限されず、例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、および、ダイコーティング法が挙げられる。
工程3において、必要に応じて、塗布により形成された組成物層を乾燥する乾燥処理を実施してもよい。乾燥処理を実施することにより、組成物層からの溶媒の除去を促進できる。
The coating method in step 3 is not particularly limited, and examples thereof include wire bar coating, extrusion coating, direct gravure coating, reverse gravure coating, and die coating.
In step 3, if necessary, a drying treatment for drying the composition layer formed by coating may be performed. Removal of the solvent from the composition layer can be facilitated by performing the drying treatment.

工程3により形成される組成物層の厚みは特に制限されないが、0.1~20μmが好ましく、0.2~15μmがより好ましく、0.5~10μmがさらに好ましい。 The thickness of the composition layer formed in step 3 is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 20 μm, more preferably 0.2 to 15 μm, even more preferably 0.5 to 10 μm.

〔工程4〕
工程4は、工程3で形成された組成物層に配向処理を施して、組成物層中の液晶化合物を厚み方向を螺旋軸として捩れ配向させる工程である。本工程を実施することにより、組成物層中の液晶化合物が組成物層の厚み方向に沿って延びる螺旋軸に沿って捩れ配向して、所定の配向状態となる。
[Step 4]
Step 4 is a step of subjecting the composition layer formed in step 3 to orientation treatment to twist-align the liquid crystal compound in the composition layer with the thickness direction as the helical axis. By carrying out this step, the liquid crystal compound in the composition layer is twisted along the helical axis extending along the thickness direction of the composition layer, resulting in a predetermined alignment state.

加熱処理の条件としては、使用される液晶化合物に応じて最適な条件が選択される。
加熱温度としては、10~250℃の場合が多く、40~150℃が好ましく、50~130℃がより好ましい。
加熱時間としては、0.1~60分間の場合が多く、0.2~5分間が好ましい。
As the heat treatment conditions, optimum conditions are selected according to the liquid crystal compound used.
The heating temperature is often 10 to 250°C, preferably 40 to 150°C, more preferably 50 to 130°C.
The heating time is often 0.1 to 60 minutes, preferably 0.2 to 5 minutes.

工程4によって配向され、工程5によって固定される液晶化合物の配向状態については、後段で詳述する。 The alignment state of the liquid crystal compound aligned in step 4 and fixed in step 5 will be described in detail later.

〔工程5〕
工程5は、工程4の後、組成物層に対して硬化処理を施して、液晶化合物の配向状態を固定して、光学異方性層を形成する工程である。本工程を実施することにより、組成物層中の液晶化合物の配向状態が固定され、液晶化合物が厚み方向を螺旋軸として所定の捩れ角で配向した光学異方性層が形成される。
上記の工程1~工程5を行うことにより、基材と、配向膜と、光学異方性層とを有する光学フィルムが得られる。
[Step 5]
Step 5 is a step of curing the composition layer after step 4 to fix the alignment state of the liquid crystal compound to form an optically anisotropic layer. By carrying out this step, the alignment state of the liquid crystal compound in the composition layer is fixed, and an optically anisotropic layer is formed in which the liquid crystal compound is aligned at a predetermined twist angle with the thickness direction as the helical axis.
An optical film having a substrate, an oriented film, and an optically anisotropic layer can be obtained by performing Steps 1 to 5 above.

硬化処理の方法は特に制限されず、光硬化処理および熱硬化処理が挙げられる。なかでも、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。
紫外線照射には、紫外線ランプなどの光源が利用される。
光(例えば、紫外線)の照射量は特に制限されないが、100~800mJ/cm程度が好ましい。
光照射の際の雰囲気は特に制限されず、光照射は空気下で実施されてもよいし、光照射は不活性雰囲気下で実施されてもよい。
The curing treatment method is not particularly limited, and includes photocuring treatment and heat curing treatment. Among them, light irradiation treatment is preferable, and ultraviolet irradiation treatment is more preferable.
A light source such as an ultraviolet lamp is used for ultraviolet irradiation.
Although the irradiation amount of light (for example, ultraviolet rays) is not particularly limited, it is preferably about 100 to 800 mJ/cm 2 .
The atmosphere for the light irradiation is not particularly limited, and the light irradiation may be carried out in the air, or the light irradiation may be carried out in an inert atmosphere.

硬化処理として光硬化処理を実施する場合、光硬化処理の温度条件は特に制限されず、工程4で配向された液晶化合物の配向状態が保持される温度であればよい。工程4において加熱処理を行う場合、工程4の加熱処理時の温度と工程5の光硬化処理時の温度との差は、100℃以内が好ましく、80℃以内がより好ましい。
なお、工程4の加熱処理時の温度と工程5の光硬化処理時の温度とは、同じであるか、または、光硬化処理時の温度の方がより低いことが好ましい。
When the photocuring treatment is performed as the curing treatment, the temperature conditions for the photocuring treatment are not particularly limited as long as the orientation state of the liquid crystal compound oriented in step 4 is maintained. When the heat treatment is performed in step 4, the temperature difference between the heat treatment in step 4 and the photo-curing treatment in step 5 is preferably within 100°C, more preferably within 80°C.
The temperature during the heat treatment in step 4 and the temperature during the photo-curing treatment in step 5 are preferably the same, or the temperature during the photo-curing treatment is preferably lower.

工程5を実施して得られる光学異方性層では、液晶化合物の配向状態が固定されている。
なお、「固定した」状態は、液晶化合物の配向が保持された状態が最も典型的、且つ、好ましい態様である。それだけには制限されず、具体的には、通常0~50℃、より過酷な条件下では-30~70℃の温度範囲において、層に流動性が無く、また、外場もしくは外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定された配向形態を安定に保ち続けることができる状態であることがより好ましい。
なお、光学異方性層においては、最終的に層中の組成物がもはや液晶性を示す必要はない。
In the optically anisotropic layer obtained by carrying out step 5, the alignment state of the liquid crystal compound is fixed.
The "fixed" state is the most typical and preferable mode in which the orientation of the liquid crystal compound is maintained. Specifically, the layer has no fluidity in the temperature range of usually 0 to 50° C., and -30 to 70° C. under more severe conditions, and can be oriented by an external field or force. It is more preferable to be in a state in which the fixed alignment form can be stably maintained without causing any change.
In the optically anisotropic layer, the final composition in the layer does not need to exhibit liquid crystallinity.

<光学異方性層の特性>
光学異方性層は、厚み方向に沿って延びる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物の配向状態を固定してなる層である。
光学異方性層における液晶化合物の捩れ配向は、左周りの捩れ配向であってもよく、右回りの捩れ配向であってもよい。つまり、液晶化合物の捩れ配向の向きは左捩れ(反時計回りの捩れ)であっても、右捩れ(時計回りの捩れ)であってもよい。
<Characteristics of Optically Anisotropic Layer>
The optically anisotropic layer is a layer in which the orientation state of the liquid crystal compound twisted along the helical axis extending along the thickness direction is fixed.
The twisted orientation of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer may be a left-handed twisted orientation or a right-handed twisted orientation. In other words, the direction of the twisted alignment of the liquid crystal compound may be either left-handed (counterclockwise twisted) or right-handed (clockwise twisted).

なお、液晶化合物が捩れ配向するとは、光学異方性層の厚み方向を軸として、光学異方性層の一方の表面(主面)から他方の表面(主面)までに存在する液晶化合物が捩れることを意図する。よって、光学異方性層における液晶化合物の厚み方向を螺旋軸とする捩れ角(以下、単に「捩れ角」ともいう。)は、光学異方性層の一方の表面から他方の表面までに、液晶化合物の分子軸(棒状液晶化合物の場合には長軸)が面内において旋回する角度を意味する。 The twist alignment of the liquid crystal compound means that the liquid crystal compound present from one surface (principal surface) to the other surface (principal surface) of the optically anisotropic layer with the thickness direction of the optically anisotropic layer as the axis. intended to twist. Therefore, the twist angle with the thickness direction of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer as the helical axis (hereinafter also simply referred to as "twist angle") is, from one surface of the optically anisotropic layer to the other surface, It means the angle at which the molecular axis of the liquid crystal compound (major axis in the case of a rod-like liquid crystal compound) rotates within the plane.

光学異方性層において、液晶化合物の厚み方向を螺旋軸とする捩れ角が、0°超180°以下である。光学異方性層における液晶化合物の捩れ角が上記範囲にあることにより、湿熱耐久性がより優れる光学フィルムが得られる。
光学フィルムにおいて、光学異方性層の液晶化合物が捩れ角0°のホモジニアス配向状態にあると、高湿熱環境下において光学異方性層が基材に対して1方向に大きく伸縮し、結果として、ひび割れまたは剥離が生じやすくなることが推測される。それに対して、液晶化合物の捩れ角が上記範囲にあり、かつ、基材と光学異方性層との間に所定の配向膜を有する光学フィルムでは、光学異方性層の伸縮方向の偏りが抑えられ、高湿熱環境下におけるひび割れおよび剥離の発生を抑制できるものと推測される。
In the optically anisotropic layer, the twist angle with the thickness direction of the liquid crystal compound as the helical axis is more than 0° and 180° or less. When the twist angle of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer is within the above range, an optical film having more excellent wet heat durability can be obtained.
In the optical film, when the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer is in a homogeneous alignment state with a twist angle of 0°, the optically anisotropic layer expands and contracts greatly in one direction with respect to the substrate in a high humidity and heat environment, resulting in , it is speculated that cracks or delamination tend to occur. On the other hand, in an optical film having a twist angle of the liquid crystal compound within the above range and a predetermined alignment film between the substrate and the optically anisotropic layer, the stretching direction of the optically anisotropic layer is biased. It is presumed that cracking and peeling can be suppressed in a high humidity and heat environment.

光学異方性層における液晶化合物の捩れ角の絶対値は、光学異方性層を円偏光板に好適に適用できる点で、3~90°が好ましく、20~60°がより好ましい。
光学異方性層における液晶化合物の捩れ角が上記範囲内であり、かつ、基材のRe(550)が67.5~127.5nm(より好ましくは82.5~112.5nm)である場合、反射防止能がより優れる点で、好ましい。
The absolute value of the twist angle of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer is preferably 3 to 90°, more preferably 20 to 60°, in that the optically anisotropic layer can be suitably applied to a circularly polarizing plate.
When the twist angle of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer is within the above range and the Re(550) of the substrate is 67.5 to 127.5 nm (more preferably 82.5 to 112.5 nm) , is preferable in terms of better antireflection performance.

形成される光学異方性層の光学特性は特に制限されず、用途に応じて最適な値が選択される。
光学異方性層の厚みをd、波長550nmで測定した光学異方性層の屈折率異方性をΔnとした場合、光学異方性層を円偏光板に好適に適用できる点で、Δnとdとの積(Δnd)は、317~377nmが好ましく、327~367nmがより好ましく、337~357nmが更に好ましい。
ここで、屈折率異方性Δnとは、光学異方性層の屈折率異方性(面内遅相軸における屈折率と面内進相軸における屈折率との差)を意味する。
光学異方性層の屈折率異方性Δnと厚みdとの積Δndが上記範囲内であり、かつ、基材のRe(550)が67.5~127.5nm(より好ましくは82.5~112.5nm)である場合、反射防止能がより優れる点で、好ましい。
The optical properties of the optically anisotropic layer to be formed are not particularly limited, and optimal values are selected according to the application.
Where d is the thickness of the optically anisotropic layer and Δn is the refractive index anisotropy of the optically anisotropic layer measured at a wavelength of 550 nm, the optically anisotropic layer can be suitably applied to a circularly polarizing plate. and d (Δnd) is preferably 317 to 377 nm, more preferably 327 to 367 nm, even more preferably 337 to 357 nm.
Here, the refractive index anisotropy Δn means the refractive index anisotropy of the optically anisotropic layer (the difference between the refractive index on the in-plane slow axis and the refractive index on the in-plane fast axis).
The product Δnd of the refractive index anisotropy Δn and the thickness d of the optically anisotropic layer is within the above range, and the Re(550) of the substrate is 67.5 to 127.5 nm (more preferably 82.5 ~112.5 nm) is preferred in terms of better antireflection performance.

光学異方性層における液晶化合物の配向状態(捩れ角等)および光学特性(遅相軸等の)は、Axometrics社のAxoscan(ポラリメーター装置)、および、同社の装置解析ソフトウェア(Multi-Layer Analysis)を用いて測定できる。 The alignment state (twist angle, etc.) and optical properties (slow axis, etc.) of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer were measured using Axoscan (polarimeter device) from Axometrics and the company's device analysis software (Multi-Layer Analysis). can be measured using

光学異方性層の厚みは特に制限されないが、0.05~10μmが好ましく、0.1~8.0μmがより好ましく、0.2~6.0μmがさらに好ましい。 Although the thickness of the optically anisotropic layer is not particularly limited, it is preferably 0.05 to 10 μm, more preferably 0.1 to 8.0 μm, even more preferably 0.2 to 6.0 μm.

[光学フィルム]
以下、本製造方法で得られる光学フィルムの実施態様の1つとして、後述する要件を満たす光学フィルム(以下、「特定光学フィルム」ともいう。)について、図面を参照しながら説明する。
図1に、特定光学フィルムの構成の一例を示す。図1に示す特定光学フィルム10は、基材20と、配向膜30と、光学異方性層40とをこの順に有する。第1表面12は、特定光学フィルム10の光学異方性層40側の表面(主面)であり、第2表面14は、特定光学フィルム10の基材20側の表面(主面)である。
配向膜30は、配向剤を含み、光学異方性層40においては、重合性基を有する液晶化合物が、光学異方性層40の厚み方向を螺旋軸として0°超180°以下の捩れ角で捩れ配向された配向状態で固定されている。
基材20、配向膜30および光学異方性層40の好ましい態様については、既に説明した通りである。
[Optical film]
Hereinafter, as one embodiment of the optical film obtained by the present production method, an optical film (hereinafter also referred to as "specific optical film") that satisfies the requirements described later will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 shows an example of the configuration of the specific optical film. The specific optical film 10 shown in FIG. 1 has a substrate 20, an alignment film 30, and an optically anisotropic layer 40 in this order. The first surface 12 is the surface (principal surface) of the specific optical film 10 on the optically anisotropic layer 40 side, and the second surface 14 is the surface (principal surface) of the specific optical film 10 on the substrate 20 side. .
The alignment film 30 contains an alignment agent, and in the optically anisotropic layer 40, the liquid crystal compound having a polymerizable group has a twist angle of more than 0° and less than or equal to 180° with the thickness direction of the optically anisotropic layer 40 as the helical axis. is fixed in an orientation state twisted at .
Preferred aspects of the substrate 20, the alignment film 30 and the optically anisotropic layer 40 are as already explained.

さらに、特定光学フィルムは、以下の要件1および要件2を満たす。
要件1:特定光学フィルムにおいては、特定光学フィルムの第1表面から第2表面に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型2次イオン質量分析法で特定光学フィルムの厚み方向の成分を分析することによって得られる配向剤由来の2次イオン強度の厚み方向におけるプロファイルにおいて、配向剤由来の2次イオン強度の最大値の80%となる2次イオン強度を示す位置のうち、第1表面に最も近い位置を位置Aとし、第2表面に最も近い位置を位置Bとすると、位置Aと位置Bとの間の距離d1が、100nm以上である。
要件2:上記プロファイルにおいて、位置Bよりも第2表面に近く、かつ、配向剤由来の2次イオン強度の最大値の20%となる2次イオン強度を示す位置を位置Cとすると、位置Bと位置Cとの間の距離d2、および、距離d1が、下記式(I)を満たす。
0.3≦d2/d1≦0.82 (I)
上記要件1および要件2を満たす特定光学フィルムは、液晶配向性および湿熱耐久性のいずれも優れたものとなる。
Furthermore, the specific optical film satisfies requirements 1 and 2 below.
Requirement 1: In the specific optical film, analyze the components in the thickness direction of the specific optical film by time-of-flight secondary ion mass spectrometry while irradiating the ion beam from the first surface to the second surface of the specific optical film. In the profile in the thickness direction of the secondary ion intensity derived from the alignment agent obtained by Assuming that the closest position is position A and the position closest to the second surface is position B, the distance d1 between position A and position B is 100 nm or more.
Requirement 2: In the above profile, if the position C is closer to the second surface than the position B and exhibits a secondary ion intensity that is 20% of the maximum value of the secondary ion intensity derived from the alignment agent, then the position B The distance d2 and the distance d1 between and the position C satisfy the following formula (I).
0.3≤d2/d1≤0.82 (I)
A specific optical film that satisfies the requirements 1 and 2 is excellent in both liquid crystal orientation and wet heat durability.

上記要件について、図面を用いて詳述する。なお、以下に示す図においては、発明の内容が理解しやすいように実際のデータとは縮尺などが異なる形で記載してある。
図2に、特定光学フィルムの第1表面から第2表面に向かって、イオンスパッタリングしながらTOF-SIMSで各層中の深さ方向の成分を分析して得られるプロファイルの一例を示す。なお、本明細書では、深さ方向とは、特定光学フィルムの第1表面(光学異方性層側の表面)を基準にして、第2表面(基材側の表面)に向かう方向を意図する。
図2中に記載される深さ方向のプロファイルにおいては、横軸(図2中、紙面の左右方向の延びる軸)は、特定光学フィルムの第1表面を基準とした深さを表し、縦軸(図2中、紙面の上下方向の延びる軸)は配向剤由来の2次イオン強度を表す。
なお、TOF-SIMS法については、具体的には日本表面科学会編「表面分析技術選書 2次イオン質量分析法」丸善株式会社(1999年発行)に記載されている。
The above requirements will be described in detail with reference to the drawings. It should be noted that the figures shown below are shown in a form different in scale from actual data so that the contents of the invention can be easily understood.
FIG. 2 shows an example of a profile obtained by analyzing components in the depth direction in each layer with TOF-SIMS while performing ion sputtering from the first surface to the second surface of the specific optical film. In the present specification, the depth direction is intended to mean the direction toward the second surface (surface on the substrate side) with reference to the first surface (surface on the side of the optically anisotropic layer) of the specific optical film. do.
In the profile in the depth direction shown in FIG. 2, the horizontal axis (in FIG. 2, the axis extending in the horizontal direction of the paper surface) represents the depth relative to the first surface of the specific optical film, and the vertical axis (in FIG. 2, the axis extending in the vertical direction of the paper surface) represents the secondary ion intensity derived from the alignment agent.
The TOF-SIMS method is specifically described in "Selection of Surface Analysis Techniques, Secondary Ion Mass Spectrometry" edited by The Surface Science Society of Japan, published by Maruzen Co., Ltd. (published in 1999).

図2中のプロファイルは、図1に示す、基材20上に配置された特定光学フィルム10の第1表面12から第2表面14に向かって、イオンスパッタリングしながらTOF-SIMSで各層中の深さ方向の成分を分析した結果に該当する。図2中の横軸が0の位置は特定光学フィルム10の第1表面12に対応し、横軸がEの位置は第2表面14に対応する。つまり、横軸の0~Eまでが、特定光学フィルム10の第1表面12から第2表面14までに対応する。
なお、図1に示す特定光学フィルム10は、本製造方法により製造された光学フィルムの一例に該当する。
The profile in FIG. 2 shows the depth in each layer by TOF-SIMS while ion sputtering from the first surface 12 to the second surface 14 of the specific optical film 10 placed on the substrate 20 shown in FIG. It corresponds to the result of analyzing the component in the horizontal direction. The position of 0 on the horizontal axis in FIG. 2 corresponds to the first surface 12 of the specific optical film 10 , and the position of E on the horizontal axis corresponds to the second surface 14 . That is, 0 to E on the horizontal axis correspond to the first surface 12 to the second surface 14 of the specific optical film 10 .
In addition, the specific optical film 10 shown in FIG. 1 corresponds to an example of the optical film manufactured by this manufacturing method.

イオンビームを照射しながらTOF-SIMSで特定光学フィルムの深さ方向の成分を分析する際は、表面深さ領域1~2nmの成分分析を行った後、さらに深さ方向に1nmから数百nm掘り進んで、次の表面深さ領域1~2nmの成分分析を行う一連の操作を繰り返す。 When analyzing the components in the depth direction of a specific optical film with TOF-SIMS while irradiating an ion beam, after performing the component analysis in the surface depth region of 1 to 2 nm, further in the depth direction from 1 nm to several hundred nm A series of operations for digging in and performing component analysis for the next surface depth region of 1 to 2 nm is repeated.

図2に示す深さ方向のプロファイルにより、配向剤由来の2次イオン強度の結果を示す。
なお、本明細書中、TOF-SIMSで特定光学フィルムの深さ方向の成分を分析して検出された深さ方向のプロファイルにより求められる「配向剤由来の2次イオン強度」とは、配向剤に由来するフラグメントイオンの強度を意図する。
The profile in the depth direction shown in FIG. 2 shows the result of the secondary ion intensity derived from the alignment agent.
In this specification, the “secondary ion intensity derived from the alignment agent” obtained from the profile in the depth direction detected by analyzing the component in the depth direction of the specific optical film by TOF-SIMS means the alignment agent is intended to be the intensity of fragment ions derived from

図2に示すように、特定光学フィルムの第1表面から第2表面に向かって、イオンビームを照射しながらTOF-SIMS法で特定光学フィルムの深さ方向の成分を分析すると、所定の位置から配向剤由来の2次イオン強度が観測され、深さ方向に向かってイオンビームを照射するにしたがって、その強度が徐々に高くなる。さらに深さ方向に向かってイオンビームを照射すると、配向剤由来の2次イオン強度は、最大値に達した後、徐々に低くなる。
図2に示すプロファイルにおいて、配向剤由来の2次イオン強度が高くなる範囲は、配向剤を含む配向膜の配置および厚みに対応している。
As shown in FIG. 2, when the ion beam is irradiated from the first surface to the second surface of the specific optical film and the TOF-SIMS method is used to analyze the component in the depth direction of the specific optical film, from a predetermined position, A secondary ion intensity derived from the alignment agent is observed, and the intensity gradually increases as the ion beam is irradiated in the depth direction. When the ion beam is irradiated further in the depth direction, the secondary ion intensity derived from the alignment agent reaches a maximum value and then gradually decreases.
In the profile shown in FIG. 2, the range in which the secondary ion strength derived from the alignment agent is high corresponds to the arrangement and thickness of the alignment film containing the alignment agent.

次に、上記で得られたプロファイルにおいて、ベースラインを引き、2次イオン強度の基準を決める。具体的には、図2に示すように、太破線で示すベースラインBLを引き、ベースラインBLと交わる縦軸の位置を2次イオン強度が0である位置として、このベース来BLを基準に、配向剤由来の2次イオン強度の大きさを決定する。
なお、ベースラインBLの引き方としては、特定光学フィルムの第1表面から第2表面側に向かって、特定光学フィルム全体の厚みの1/10に相当する深さ位置を基準位置SP1とし、特定光学フィルム全体の厚みの9/10に相当する深さ位置を基準位置SP2とした際に、基準位置SP1と基準位置SP2との間に位置する配向剤由来の2次イオン強度の平均値を求め、その平均値でベースラインBLを引く。つまり、基準位置SP1と基準位置SP2との間の領域における配向剤由来の2次イオン強度の平均値を算出して、その平均値を示す直線を横軸に沿って描き、この直線をベースラインBLとする。
Next, in the profile obtained above, a baseline is drawn to determine the standard of secondary ion intensity. Specifically, as shown in FIG. 2, a baseline BL indicated by a thick dashed line is drawn, and the position of the vertical axis that intersects with the baseline BL is the position where the secondary ion intensity is 0, and this base coming BL is used as a reference. , determines the magnitude of the secondary ionic strength derived from the alignment agent.
In addition, as a method of drawing the baseline BL, a depth position corresponding to 1/10 of the thickness of the entire specific optical film from the first surface to the second surface of the specific optical film is set as the reference position SP1, and the specific When the depth position corresponding to 9/10 of the thickness of the entire optical film is defined as the reference position SP2, the average value of the secondary ion intensity derived from the alignment agent located between the reference position SP1 and the reference position SP2 is obtained. , subtract the baseline BL at its mean value. That is, the average value of the secondary ion intensity derived from the alignment agent in the region between the reference position SP1 and the reference position SP2 is calculated, and a straight line indicating the average value is drawn along the horizontal axis, and this straight line is used as the baseline. Let it be BL.

次に、上記で得られたプロファイルにおいて、配向剤由来の2次イオン強度の最大値をSmaxとし、さらに、Smaxの80%となる2次イオン強度をS80とする。上記プロファイルにおける2次イオン強度S80を示す位置のうち、第1表面12に最も近い位置を位置A、第2表面に最も近い位置を位置Bとする。
このとき、特定光学フィルムでは、上記プロファイルにおける位置Aと位置Bとの間の距離d1が、100nm以上である(要件1)。
Next, in the profile obtained above, the maximum secondary ion strength derived from the alignment agent is defined as Smax , and the secondary ion strength at 80% of Smax is defined as S80 . Let position A be the position closest to the first surface 12, and position B be the position closest to the second surface, among the positions showing the secondary ion intensity S80 in the above profile.
At this time, in the specific optical film, the distance d1 between position A and position B in the profile is 100 nm or more (requirement 1).

次に、配向剤由来の2次イオン強度の最大値Smaxの20%となる2次イオン強度をS20とし、上記プロファイルにおける2次イオン強度S20を示す位置のうち、位置Bよりも第2表面に近い位置を位置Cとする。
このとき、特定光学フィルムでは、上記プロファイルにおける位置Bと位置Cとの間の距離d2、および、上記距離d1が、下記式(I)を満たす(要件2)。
0.3≦d2/d1≦0.82 (I)
上記のような要件を満たすことにより、光学異方性層の液晶配向性に優れるとともに、湿熱耐久性に優れた光学フィルムが得られる。
Next, the secondary ion strength at 20% of the maximum value Smax of the secondary ion strength derived from the alignment agent is defined as S20 . Position C is a position close to the 2nd surface.
At this time, in the specific optical film, the distance d2 between the position B and the position C in the profile and the distance d1 satisfy the following formula (I) (requirement 2).
0.3≤d2/d1≤0.82 (I)
By satisfying the requirements as described above, it is possible to obtain an optical film having excellent liquid crystal orientation in the optically anisotropic layer and excellent wet heat durability.

上記のような配向剤の分布状態は、例えば、上記の光学フィルムの製造方法の手順によって実現できる。より具体的には、上記の工程1~5を有する製造方法において、基材のSP値との差が所定の範囲内になるようなSP値を有する溶媒と配向剤とを含む組成物Aを用いること、および、組成物Aの塗膜の厚みを調整すること、更には、塗膜の乾燥条件を調整することにより、製造される光学フィルムにおいて、基材と配向膜との境界において両者の成分が適度に混在した領域を形成し、上記の配向剤の分布状態を実現することができる。 The distribution state of the alignment agent as described above can be realized, for example, by the procedure of the above optical film manufacturing method. More specifically, in the manufacturing method having steps 1 to 5 above, a composition A containing a solvent and an alignment agent having an SP value such that the difference from the SP value of the base material is within a predetermined range is prepared. By using, adjusting the thickness of the coating film of composition A, and further adjusting the drying conditions of the coating film, in the optical film produced, both at the boundary between the substrate and the alignment film A region in which the components are appropriately mixed can be formed, and the distribution state of the alignment agent can be realized.

上記の距離d1は、本発明の効果がより優れる点で、150nm以上が好ましい。距離d1の上限値は特に制限されないが、塗膜を乾燥するための負荷を軽減できる点で、3000nm以下が好ましく、500nm以下がより好ましい。
また、上記の距離d1およびd2は、本発明の効果がより優れる点で、下記式(II)を満たすことが好ましく、下記式(III)を満たすことがより好ましい。
0.40≦d2/d1≦0.80 (II)
0.65≦d2/d1≦0.80 (III)
The above distance d1 is preferably 150 nm or more in that the effects of the present invention are more excellent. Although the upper limit of the distance d1 is not particularly limited, it is preferably 3000 nm or less, more preferably 500 nm or less, in terms of reducing the load for drying the coating film.
Moreover, the above distances d1 and d2 preferably satisfy the following formula (II), and more preferably satisfy the following formula (III), from the viewpoint that the effects of the present invention are more excellent.
0.40≦d2/d1≦0.80 (II)
0.65≦d2/d1≦0.80 (III)

[光学積層体]
上記光学フィルムは、種々の部材と組み合わせることができる。例えば、光学フィルムを他の光学部材と組み合わせて光学積層体として用いてもよい。
光学積層体が有する他の光学部材は特に制限されず、例えば、偏光子、Aプレート(ポジティブAプレートおよびネガティブAプレート)、並びに、Cプレート(ポジティブCプレートおよびネガティブCプレート)が挙げられる。
上記の光学積層体は、例えば、光学フィルムと他の光学部材とを各種の接着剤を用いて貼り合わせることにより、作製できる。接着剤としては、例えば紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、および、感圧性接着剤が挙げられる。
[Optical laminate]
The optical film can be combined with various members. For example, the optical film may be combined with other optical members to form an optical laminate.
Other optical members included in the optical laminate are not particularly limited, and examples thereof include polarizers, A plates (positive A plate and negative A plate), and C plates (positive C plate and negative C plate).
The above optical layered body can be produced, for example, by bonding an optical film and another optical member together using various adhesives. Examples of adhesives include ultraviolet curable resins, thermosetting resins, and pressure sensitive adhesives.

〔偏光子付き光学フィルム〕
図3に、上記光学積層体の具体的な構成の一例を示す。
図3に示す偏光子付き光学フィルム50は、上記光学積層体の一例であって、基材20、配向膜30および光学異方性層40をこの順に有する特定光学フィルム10と、特定光学フィルム10の光学異方性層40側に積層される偏光子52とを有する。
なお、本明細書において「偏光子付き光学フィルム」とは、本発明に係る光学フィルムと偏光子とを少なくとも有する光学積層体を意味する。偏光子付き光学フィルムは、各種表示装置において偏光板として利用できる。
[Optical film with polarizer]
FIG. 3 shows an example of a specific configuration of the optical layered body.
A polarizer-equipped optical film 50 shown in FIG. 3 is an example of the above-described optical layered body. and a polarizer 52 laminated on the optically anisotropic layer 40 side.
In this specification, the term "optical film with a polarizer" means an optical laminate having at least the optical film according to the present invention and a polarizer. An optical film with a polarizer can be used as a polarizing plate in various display devices.

偏光子付き光学フィルム50に用いる偏光子52は、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、例えば、吸収型偏光子が挙げられる。
偏光子52の種類は特に制限されず、公知の偏光子を利用でき、例えば、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、および、ポリエン系偏光子が挙げられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製されることが多い。
なお、偏光子52の片面または両面には、図示しない保護膜が配置されていてもよい。
The polarizer 52 used in the polarizer-equipped optical film 50 may be a member having a function of converting natural light into specific linearly polarized light, and examples thereof include an absorption polarizer.
The type of the polarizer 52 is not particularly limited, and known polarizers can be used. Examples thereof include iodine-based polarizers, dye-based polarizers using dichroic dyes, and polyene-based polarizers. Iodine-based polarizers and dye-based polarizers are often produced by allowing polyvinyl alcohol to adsorb iodine or a dichroic dye and stretching the resultant.
A protective film (not shown) may be arranged on one side or both sides of the polarizer 52 .

偏光子付き光学フィルム50において、光学フィルム10と偏光子52とを積層する際の位置関係は特に制限されないが、偏光子付き光学フィルム50の軸バラツキを良化できる点で、偏光子52の吸収軸と基材20の遅相軸(面内遅相軸)とのなす角度の絶対値が、0±10°または90±10°であることが好ましく、0±5°または90±5°であることがより好ましい。 In the optical film 50 with polarizer, the positional relationship when laminating the optical film 10 and the polarizer 52 is not particularly limited. The absolute value of the angle formed by the axis and the slow axis (in-plane slow axis) of the substrate 20 is preferably 0±10° or 90±10°, and preferably 0±5° or 90±5°. It is more preferable to have

また、偏光子付き光学フィルム50が有する光学異方性層40における液晶化合物の配向状態について、偏光子側の表面における液晶化合物の配向軸(面内遅相軸)と、基材20の遅相軸とのなす角度の絶対値は、反射防止能がより優れる点で、90±20°が好ましく、90±10°がより好ましい。
偏光子付き光学フィルム50が有する光学異方性層40における液晶化合物の捩れ角の絶対値が、上記の好ましい範囲内であることが好ましい。
光学異方性層40の偏光子52側の表面における液晶化合物の配向軸と、偏光子52の吸収軸とのなす角度の絶対値は、反射防止能がより優れる点で、0°±20°もしくは90°±20°が好ましく、0°±10°もしくは90°±10°がより好ましい。
In addition, regarding the alignment state of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer 40 of the optical film 50 with polarizer, the alignment axis (in-plane slow axis) of the liquid crystal compound on the surface on the polarizer side and the slow phase axis of the substrate 20 The absolute value of the angle formed with the axis is preferably 90±20°, more preferably 90±10°, from the viewpoint of better antireflection performance.
The absolute value of the twist angle of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer 40 of the optical film 50 with polarizer is preferably within the preferred range described above.
The absolute value of the angle formed by the alignment axis of the liquid crystal compound on the surface of the optically anisotropic layer 40 on the polarizer 52 side and the absorption axis of the polarizer 52 is 0°±20° in terms of better antireflection performance. Alternatively, 90°±20° is preferable, and 0°±10° or 90°±10° is more preferable.

光学異方性層40において、液晶化合物が厚み方向に沿って捩れる方向は特に制限されず、偏光子付き光学フィルム50を偏光子52側から観察する際、光学異方性層40の配向膜30側の表面(第2表面)から光学異方性層40の偏光子52側の表面(第1表面)に向かって反時計回りに捩れる方向を正の値としたとき、光学異方性層40内の液晶化合物の回転方向は、正の向き(反時計回り)であってもよく、負の向き(時計回り)であってもよい。 In the optically anisotropic layer 40, the direction in which the liquid crystal compound is twisted along the thickness direction is not particularly limited. Optical anisotropy is obtained when the direction of twisting counterclockwise from the 30 side surface (second surface) toward the polarizer 52 side surface (first surface) of the optically anisotropic layer 40 is taken as a positive value. The direction of rotation of the liquid crystal compound in layer 40 may be positive (counterclockwise) or negative (clockwise).

図4に、上記光学積層体のより具体的な構成の他の例を示す。
図4に示す偏光子付き光学フィルム60は、上記光学積層体の他の例であって、基材20、配向膜30および光学異方性層40をこの順に有する特定光学フィルム10と、特定光学フィルム10の基材20側に積層される偏光子62とを有する。
FIG. 4 shows another example of a more specific configuration of the optical layered body.
The optical film 60 with a polarizer shown in FIG. 4 is another example of the above optical laminate, and includes a specific optical film 10 having a substrate 20, an alignment film 30 and an optically anisotropic layer 40 in this order, and a specific optical and a polarizer 62 laminated on the substrate 20 side of the film 10 .

偏光子付き光学フィルム60において、光学フィルム10と偏光子62とを積層する際の位置関係は特に制限されないが、上記偏光子付き光学フィルム50と同様に、偏光子62の吸収軸と基材20の遅相軸とのなす角度の絶対値が、0±10°または90±10°であることが好ましく、0±5°または90±5°であることがより好ましい。
また、偏光子付き光学フィルム60の用途によっては、基材の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、5~25°であることが好ましい。
In the optical film 60 with polarizer, the positional relationship when laminating the optical film 10 and the polarizer 62 is not particularly limited. is preferably 0±10° or 90±10°, more preferably 0±5° or 90±5°.
Depending on the application of the optical film 60 with polarizer, the angle formed by the slow axis of the substrate and the absorption axis of the polarizer is preferably 5 to 25°.

また、偏光子付き光学フィルム60においては、光学異方性層40の配向膜30側の表面における液晶化合物の配向軸と、基材20の遅相軸とのなす角度の絶対値は、反射防止能がより優れる点で、-10~10°が好ましく、-5~5°がより好ましい。
偏光子付き光学フィルム60が有する光学異方性層40における液晶化合物の捩れ角の絶対値は、上記の好ましい範囲内であることが好ましい。
In the polarizer-equipped optical film 60, the absolute value of the angle formed by the alignment axis of the liquid crystal compound on the alignment film 30 side surface of the optically anisotropic layer 40 and the slow axis of the substrate 20 is the antireflection -10° to 10° is preferred, and -5° to 5° is more preferred, from the viewpoint of better performance.
The absolute value of the twist angle of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer 40 of the optical film 60 with polarizer is preferably within the preferred range described above.

偏光子付き光学フィルム60が有する光学異方性層40における、液晶化合物が厚み方向に沿って捩れる方向は特に制限されず、偏光子付き光学フィルム60を光学異方性層40側から観察する際、光学異方性層40の配向膜30側の表面(第2表面)から光学異方性層40の配向膜30とは反対側の第1表面12に向かって反時計回りに捩れる方向を正の値としたとき、光学異方性層40内の液晶化合物の回転方向は、正の向き(反時計回り)であってもよく、負の向き(時計回り)であってもよい。 The direction in which the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer 40 of the optical film 60 with polarizer is twisted along the thickness direction is not particularly limited, and the optical film 60 with polarizer is observed from the optically anisotropic layer 40 side. At this time, the direction of twisting counterclockwise from the surface (second surface) of the optically anisotropic layer 40 on the alignment film 30 side toward the first surface 12 of the optically anisotropic layer 40 opposite to the alignment film 30 is a positive value, the rotation direction of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer 40 may be positive (counterclockwise) or negative (clockwise).

上記偏光子付き光学フィルムの製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。例えば、本製造方法により得られる光学フィルムと、偏光子とを積層して、偏光子付き光学フィルムを得る方法が挙げられる。 The method for producing the optical film with a polarizer is not particularly limited, and includes known methods. For example, there is a method of laminating the optical film obtained by this production method and a polarizer to obtain an optical film with a polarizer.

また、上記の偏光子付き光学フィルムは、さらに、波長550nmにおける厚み方向のレタデーション(Rth(550))が-150~-50nmであるポジティブCプレートを有していてもよい。上記の偏光子付き光学フィルムにさらにポジティブCプレートを積層することにより、表示装置の斜視方向の光漏れおよび色味付きをさらに抑制できる光学積層体が得られる。
ポジティブCプレートのRth(550)は、例えば-150~-50nmであり、-130~-60nmが好ましく、-120~-70nmがより好ましい。
The optical film with a polarizer may further have a positive C plate having a retardation (Rth(550)) in the thickness direction at a wavelength of 550 nm of -150 to -50 nm. By further laminating a positive C plate on the optical film with a polarizer, an optical laminate can be obtained that can further suppress light leakage and coloring in the oblique direction of the display device.
Rth(550) of the positive C plate is, for example, −150 to −50 nm, preferably −130 to −60 nm, more preferably −120 to −70 nm.

ポジティブCプレートを構成する材料は特に制限されないが、液晶化合物を含む組成物から形成されることが好ましい。重合性液晶化合物を含む光学異方性層用組成物から形成することが、経時耐久性や配向秩序度が高くなる点で好ましい。このようなポジティブCプレートは、典型的には、光学異方性層用組成物に含まれる棒状の重合性液晶化合物を垂直配向させて配向状態を重合により固定して得ることができる。また、液晶化合物として側鎖型高分子液晶化合物を含む組成物から形成することもできる。 Although the material constituting the positive C plate is not particularly limited, it is preferably formed from a composition containing a liquid crystal compound. Forming from a composition for an optically anisotropic layer containing a polymerizable liquid crystal compound is preferable from the viewpoint of increasing the durability over time and the degree of alignment order. Such a positive C plate can typically be obtained by vertically aligning a rod-shaped polymerizable liquid crystal compound contained in the composition for an optically anisotropic layer and fixing the alignment state by polymerization. Moreover, it can also be formed from a composition containing a side-chain type polymer liquid crystal compound as the liquid crystal compound.

ポジティブCプレートの厚みは、特に制限されないが、薄型化の点から、0.5~10μmが好ましく、0.5~5μmがより好ましい。また、ポジティブCプレートのみを転写または塗布により単独で設けてもよいが、必要に応じてポジティブCプレートとともに他の機能層を設けてもよい。かかる機能層としては、保護フィルム、ハードコート層およびクッション層が挙げられる。 Although the thickness of the positive C plate is not particularly limited, it is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 0.5 to 5 μm, from the viewpoint of thinning. In addition, although the positive C plate alone may be provided by transfer or coating, other functional layers may be provided together with the positive C plate as required. Such functional layers include protective films, hard coat layers and cushion layers.

上記偏光子付き光学フィルムは、円偏光板として好ましく利用できる。
上記構成を有する円偏光板は、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、および、陰極管表示装置(CRT)のような画像表示装置の反射防止用途に好適に用いられ、表示光のコントラスト比を向上させることができる。
例えば、有機EL表示装置の光取り出し面側に上記の円偏光板を用いた態様が挙げられる。この場合、外光は偏光膜によって直線偏光となり、次に光学異方性層を通過することで、円偏光となる。これが金属電極にて反射された際に円偏光状態が反転し、再び光学異方性層を通過した際に、入射時から90°傾いた直線偏光となり、偏光膜に到達して吸収される。結果として、外光の影響を抑制できる。
The optical film with a polarizer can be preferably used as a circularly polarizing plate.
The circularly polarizing plate having the above structure is used for antireflection applications in image display devices such as liquid crystal displays (LCDs), plasma display panels (PDPs), electroluminescence displays (ELDs), and cathode ray tube displays (CRTs). It is preferably used and can improve the contrast ratio of display light.
For example, there is a mode in which the above circularly polarizing plate is used on the light extraction surface side of the organic EL display device. In this case, the external light is linearly polarized by the polarizing film and then circularly polarized by passing through the optically anisotropic layer. When this light is reflected by the metal electrode, the circularly polarized state is reversed, and when it passes through the optically anisotropic layer again, it becomes linearly polarized light tilted 90° from the time of incidence, reaches the polarizing film and is absorbed. As a result, the influence of outside light can be suppressed.

なかでも、上記円偏光板は、有機EL表示装置に適用されることが好ましい。つまり、上記の円偏光板は、有機EL表示装置の有機ELパネル上に配置され、反射防止用途に適用されることが好ましい。
有機ELパネルは、陽極、陰極の一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄膜を形成した部材であり、発光層のほか正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、および、保護層などを有してもよく、またこれらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。各層の形成にはそれぞれ種々の材料を用いることができる。
Among others, the circularly polarizing plate is preferably applied to an organic EL display device. In other words, the above circularly polarizing plate is preferably arranged on an organic EL panel of an organic EL display device and applied for antireflection purposes.
An organic EL panel is a member in which a light-emitting layer or a plurality of organic compound thin films including a light-emitting layer are formed between a pair of electrodes of an anode and a cathode. , an electron-transporting layer, a protective layer, and the like, and each of these layers may have other functions. Various materials can be used to form each layer.

また、上記の偏光子付き光学フィルムは、偏光子の吸収軸、基材の遅相軸と偏光子の吸収軸との配置、並びに、光学異方性層における液晶化合物の配向状態(例えば捩れ角等)および波長分散性を種々制御することで、各種の光学補償フィルムとして利用できる。 In addition, the optical film with a polarizer has the absorption axis of the polarizer, the arrangement of the slow axis of the substrate and the absorption axis of the polarizer, and the alignment state (for example, twist angle) of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer. etc.) and by controlling the wavelength dispersion, it can be used as various optical compensation films.

〔光学積層体の他の態様〕
上記光学フィルムを有する光学積層体は、上記の図3及び図4に示す偏光子付き光学フィルムに制限されない。
上記光学フィルムを有する光学積層体の他の実施形態として、上記光学フィルムと、Aプレート(ポジティブAプレートおよびネガティブAプレート)、並びに、Cプレート(ポジティブCプレートおよびネガティブCプレート)からなる群より選択される少なくとも1つとを有する積層体が挙げられる。なかでも、後述する種々の用途(例えば、円偏光板)に適用しやすい点で、Cプレートが好ましい。
[Another aspect of the optical layered body]
The optical laminate having the optical film is not limited to the optical film with a polarizer shown in FIGS. 3 and 4 above.
Another embodiment of the optical laminate having the optical film is selected from the group consisting of the optical film, an A plate (positive A plate and negative A plate), and a C plate (positive C plate and negative C plate). A laminate having at least one Among them, the C plate is preferable because it can be easily applied to various uses (for example, a circularly polarizing plate) to be described later.

なお、本明細書において、AプレートおよびCプレートは以下のように定義される。
Aプレートは、ポジティブAプレート(正のAプレート)とネガティブAプレート(負のAプレート)との2種があり、フィルム面内の遅相軸方向(面内での屈折率が最大となる方向)の屈折率をnx、面内の遅相軸と面内で直交する方向の屈折率をny、厚み方向の屈折率をnzとしたとき、ポジティブAプレートは式(A1)の関係を満たすものであり、ネガティブAプレートは式(A2)の関係を満たすものである。なお、ポジティブAプレートはRthが正の値を示し、ネガティブAプレートはRthが負の値を示す。
式(A1) nx>ny≒nz
式(A2) ny<nx≒nz
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、(ny-nz)×d(ただし、dはフィルムの厚みである)が、-10~10nm、好ましくは-5~5nmの場合も「ny≒nz」に含まれ、(nx-nz)×dが、-10~10nm、好ましくは-5~5nmの場合も「nx≒nz」に含まれる。
Cプレートは、ポジティブCプレート(正のCプレート)とネガティブCプレート(負のCプレート)との2種があり、ポジティブCプレートは式(C1)の関係を満たすものであり、ネガティブCプレートは式(C2)の関係を満たすものである。なお、ポジティブCプレートはRthが負の値を示し、ネガティブCプレートはRthが正の値を示す。
式(C1) nz>nx≒ny
式(C2) nz<nx≒ny
なお、上記「≒」とは、両者が完全に同一である場合だけでなく、両者が実質的に同一である場合も包含する。「実質的に同一」とは、例えば、(nx-ny)×d(ただし、dはフィルムの厚みである)が、0~10nm、好ましくは0~5nmの場合も「nx≒ny」に含まれる。
Cプレートの波長550nmにおける厚み方向のレタデーションの絶対値の範囲は特に制限されないが、5~300nmが好ましく、10~200nmがより好ましい。
In addition, in this specification, the A plate and the C plate are defined as follows.
There are two types of A plates, a positive A plate (positive A plate) and a negative A plate (negative A plate). ) is nx, the refractive index in the direction orthogonal to the in-plane slow axis is ny, and the refractive index in the thickness direction is nz, the positive A plate satisfies the relationship of formula (A1). and the negative A plate satisfies the relationship of formula (A2). A positive A plate shows a positive Rth value, and a negative A plate shows a negative Rth value.
Formula (A1) nx>ny≈nz
Formula (A2) ny<nx≈nz
Note that the above "≈" includes not only the case where both are completely the same, but also the case where both are substantially the same. “Substantially the same” means, for example, that (ny−nz)×d (where d is the thickness of the film) is −10 to 10 nm, preferably −5 to 5 nm, and “ny≈nz”. and (nx−nz)×d of −10 to 10 nm, preferably −5 to 5 nm is also included in “nx≈nz”.
There are two types of C plates, a positive C plate (positive C plate) and a negative C plate (negative C plate), the positive C plate satisfies the relationship of formula (C1), and the negative C plate It satisfies the relationship of formula (C2). A positive C plate shows a negative Rth value, and a negative C plate shows a positive Rth value.
Formula (C1) nz>nx≈ny
Formula (C2) nz<nx≈ny
Note that the above "≈" includes not only the case where both are completely the same, but also the case where both are substantially the same. "Substantially the same" means, for example, that (nx - ny) x d (where d is the thickness of the film) is 0 to 10 nm, preferably 0 to 5 nm. be
Although the range of the absolute value of the retardation in the thickness direction of the C plate at a wavelength of 550 nm is not particularly limited, it is preferably 5 to 300 nm, more preferably 10 to 200 nm.

上記光学積層体の製造方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。例えば、本製造方法により得られる光学フィルムと、他の光学部材(例えばCプレート)とを積層して、光学積層体を得る方法が挙げられる。上記積層の方法としては、別途作製した他の光学部材を本製造方法により得られる光学フィルムに貼合してもよいし、本製造方法により得られる光学フィルム上に他の光学部材を形成するための組成物を塗布して他の光学部材を形成してもよい。 The method for producing the optical layered body is not particularly limited, and includes known methods. For example, there is a method of obtaining an optical laminate by laminating the optical film obtained by this production method and another optical member (for example, a C plate). As the lamination method, another optical member prepared separately may be attached to the optical film obtained by this production method, or another optical member may be formed on the optical film obtained by this production method. may be applied to form other optical members.

光学フィルムは、上記の態様に限らず、種々の光学積層体に応用できる。例えば、液晶表示装置の光学補償層付偏光板や、偏光サングラス、輝度向上板、加飾フィルム、視野角制限フィルム、および、調光フィルム等である。光学フィルムの光学特性や平均遅相軸方向は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、用途に合わせて種々に変更可能である。 The optical film can be applied to various optical laminates without being limited to the above embodiments. Examples thereof include polarizing plates with optical compensation layers for liquid crystal display devices, polarized sunglasses, brightness enhancement plates, decorative films, viewing angle limiting films, and light control films. The optical properties and average slow axis direction of the optical film can be changed variously according to the application without departing from the gist of the present invention.

〔画像表示装置〕
本製造方法で製造される光学フィルム、および、上記の光学積層体は、画像表示装置に好適に利用できる。例えば、上記偏光子付き光学フィルムを適宜裁断して表示装置に実装することにより、表示品質に優れた画像表示装置が得られる。特に、偏光子付き光学フィルムを液晶表示パネルと偏光子との間に配置し、光学補償フィルムとして機能させることにより、液晶表示装置の視野角特性の改良を図ることができる。また、本製造方法で製造される光学フィルムを有機EL表示装置に設けて内部反射光を防止する反射防止フィルムとして用いることもできる。
[Image display device]
The optical film produced by this production method and the above optical layered body can be suitably used for an image display device. For example, by appropriately cutting the optical film with a polarizer and mounting it on a display device, an image display device with excellent display quality can be obtained. In particular, by disposing the optical film with polarizer between the liquid crystal display panel and the polarizer to function as an optical compensation film, it is possible to improve the viewing angle characteristics of the liquid crystal display device. Further, the optical film produced by this production method can be provided in an organic EL display device and used as an antireflection film for preventing internal reflected light.

以上、本発明の光学フィルムの製造方法、光学フィルムおよび光学積層体について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に制限されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良および変更を行ってもよい。 Although the method for producing an optical film, the optical film, and the optical laminate of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various improvements and modifications can be made without departing from the gist of the present invention. may be performed.

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきではない。 EXAMPLES The characteristics of the present invention will be described more specifically below with reference to examples and comparative examples. Materials, usage amounts, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the gist of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed to be limited by the specific examples shown below.

[実施例1]
〔基材の作製〕
熱可塑性ノルボルネン重合体のペレット(日本ゼオン株式会社製、商品名「ZEONOR1420R」)を90℃で5時間乾燥させた。乾燥させたペレットを押し出し機に供給し、押し出し機内で溶融させた。溶融したペレットを、ポリマーパイプおよびポリマーフィルターを通し、Tダイからキャスティングドラム上にシート状に押し出した。押し出した溶融体のシートを、冷却し、巻取り、幅1490mmの延伸前基材のロールを得た。
[Example 1]
[Preparation of base material]
Pellets of a thermoplastic norbornene polymer (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., trade name “ZEONOR1420R”) were dried at 90° C. for 5 hours. The dried pellets were fed into the extruder and melted in the extruder. The melted pellets were passed through a polymer pipe and a polymer filter and extruded into a sheet from a T-die onto a casting drum. The sheet of extruded melt was cooled and wound up to give a roll of unstretched substrate with a width of 1490 mm.

上記で得た延伸前基材を、ロールから引き出して縦延伸機に供給し、基材の遅相軸の方向が搬送方向に対して0°となるように延伸を行った。延伸されたフィルムの幅方向の両端部をトリミングした後、トリミングされたフィルムを巻取り、幅1350mmの長尺の基材1のロールを得た。得られた基材1のRe(550)は100nmであり、基材1の厚みは35μmであった。
なお、各実施例において、基材1を含む光学部材の厚みはいずれも、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて測定した。
The unstretched base material obtained above was pulled out from the rolls, supplied to a longitudinal stretching machine, and stretched so that the direction of the slow axis of the base material was 0° with respect to the conveying direction. After trimming both ends of the stretched film in the width direction, the trimmed film was wound up to obtain a long roll of substrate 1 having a width of 1350 mm. The Re(550) of the substrate 1 thus obtained was 100 nm, and the thickness of the substrate 1 was 35 μm.
In each example, the thickness of the optical member including the substrate 1 was measured using a scanning electron microscope (SEM).

〔光配向膜の形成〕
<重合体A2の合成>
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン100.0質量部、メチルイソブチルケトン500質量部、および、トリエチルアミン10.0質量部を仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水100質量部を滴下漏斗より30分間かけて滴下した後、還流下で混合しつつ、80℃で6時間反応させた。反応終了後、有機相を取り出し、0.2質量%硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒および水を留去することにより、エポキシ含有ポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
このエポキシ含有ポリオルガノシロキサンについて、H-NMR(nuclear magnetic resonance)分析を行ったところ、化学シフト(δ)=3.2ppm付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ含有ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Mwは2,200、エポキシ当量は186g/モルであった。
次に、上記で得たエポキシ含有ポリオルガノシロキサン10.1質量部、アクリル基含有カルボン酸(東亞合成株式会社、商品名「アロニックスM-5300」、アクリル酸ω-カルボキシポリカプロラクトン(重合度n≒2))0.5質量部、酢酸ブチル20質量部、特開2015-26050号公報の合成例1の方法で得られた桂皮酸誘導体1.5質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド0.3質量部を仕込み、90℃で12時間撹拌した。反応終了後、反応溶液と等量(質量)の酢酸ブチルで希釈し、3回水洗した。この溶液を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を2回繰り返し、最終的に、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン(下記重合体A2)を含む溶液を得た。この重合体A2の重量平均分子量Mwは9,000であった。また、H-NMR分析の結果、重合体A2中のシンナメート基を有する成分は23.7質量%であった。
[Formation of photo-alignment film]
<Synthesis of polymer A2>
100.0 parts by weight of 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 500 parts by weight of methyl isobutyl ketone, and 10 parts of triethylamine were added to a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel and reflux condenser. 0 parts by mass were charged and mixed at room temperature. Then, 100 parts by mass of deionized water was added dropwise from the dropping funnel over 30 minutes, and the mixture was reacted at 80° C. for 6 hours while being mixed under reflux. After completion of the reaction, the organic phase was taken out and washed with a 0.2% by mass aqueous ammonium nitrate solution until the water after washing became neutral, and then the solvent and water were distilled off under reduced pressure to remove the epoxy-containing polyorganosiloxane. Obtained as a viscous transparent liquid.
When this epoxy-containing polyorganosiloxane was subjected to 1 H-NMR (nuclear magnetic resonance) analysis, a peak based on the oxiranyl group was obtained in the vicinity of the chemical shift (δ) = 3.2 ppm in accordance with the theoretical intensity. It was confirmed that no side reaction of the epoxy group occurred. This epoxy-containing polyorganosiloxane had a weight average molecular weight Mw of 2,200 and an epoxy equivalent of 186 g/mol.
Next, 10.1 parts by mass of the epoxy-containing polyorganosiloxane obtained above, acrylic group-containing carboxylic acid (Toagosei Co., Ltd., trade name "Aronix M-5300", acrylic acid ω-carboxypolycaprolactone (polymerization degree n ≈ 2)) 0.5 parts by mass, 20 parts by mass of butyl acetate, 1.5 parts by mass of the cinnamic acid derivative obtained by the method of Synthesis Example 1 of JP-A-2015-26050, and 0.3 parts of tetrabutylammonium bromide Parts by weight were charged and stirred at 90° C. for 12 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was diluted with the same amount (mass) of butyl acetate and washed with water three times. The operation of concentrating this solution and diluting it with butyl acetate was repeated twice to finally obtain a solution containing a polyorganosiloxane having a photo-orientation group (polymer A2 below). The weight average molecular weight Mw of this polymer A2 was 9,000. Further, as a result of 1 H-NMR analysis, the component having a cinnamate group in polymer A2 was 23.7% by mass.

Figure 2023049680000007
Figure 2023049680000007

<重合体A3の合成>
重合体A2の合成方法において、アクリル基含有カルボン酸と桂皮酸誘導体の添加量を変更した以外は重合体A2と同様の方法で重合体A3を得た。この重合体A3の重量平均分子量Mwは10,000であった。また、H-NMR分析の結果、重合体A3中のシンナメート基を有する成分は47.9質量%であった。
<Synthesis of polymer A3>
Polymer A3 was obtained in the same manner as for polymer A2, except that the amounts of acrylic group-containing carboxylic acid and cinnamic acid derivative added in the method for synthesizing polymer A2 were changed. The weight average molecular weight Mw of this polymer A3 was 10,000. Further, as a result of 1 H-NMR analysis, the component having a cinnamate group in polymer A3 was 47.9% by mass.

<重合体A4の合成>
冷却管と撹拌機を備えたフラスコに、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)7質量部と、α-メチルスチレンダイマー3質量部と、および、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル220質量部とを仕込んだ。引き続きメタクリル酸エポキシシクロヘキシルメチル(ダイセル株式会社、商品名「サイクロマーM100」)100質量部を上記フラスコに仕込み、上記フラスコ内を窒素置換した。その後、ゆるやかに加熱攪拌し、溶液を70℃に上昇させ、この温度を5時間保持して、重合体を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液をヘキサン中に滴下して重合体を再沈殿し、ろ過により沈殿物を回収した後、乾燥することで、白色粉末のエポキシ含有ポリメタクリレートの白色粉末を得た。得られたエポキシ含有ポリメタクリレートのMwは11,000であった。
続いて、上記で得たエポキシ含有ポリメタクリレート5.1質量部、アクリル基含有カルボン酸(東亞合成株式会社、商品名「アロニックスM-5300」、アクリル酸ω-カルボキシポリカプロラクトン(重合度n≒2))8.4質量部、メチルイソブチルケトン32質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド0.3質量部を仕込み、90℃で12時間撹拌した。反応終了後、メタノールで再沈殿を行い、沈殿物を酢酸エチルに溶解して溶液を得、3回水洗した。この溶液を濃縮し、酢酸エチルで希釈する操作を2回繰り返し、最終的に、側鎖にアクリレート基とエポキシ基を有するポリメタクリレート共重合体の白色粉末を得た。このポリメタクリレート共重合体の重量平均分子量Mwは8,000であった。
<Synthesis of polymer A4>
7 parts by weight of 2,2′-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), 3 parts by weight of α-methylstyrene dimer, and 220 parts by weight of diethylene glycol methyl ethyl ether were placed in a flask equipped with a condenser and a stirrer. I planted it. Subsequently, 100 parts by mass of epoxycyclohexylmethyl methacrylate (manufactured by Daicel Co., Ltd., trade name “Cychromer M100”) was charged into the flask, and the inside of the flask was replaced with nitrogen. Thereafter, the mixture was gently heated and stirred to raise the temperature of the solution to 70° C. and maintained at this temperature for 5 hours to obtain a polymer solution containing the polymer. The resulting polymer solution was dropped into hexane to reprecipitate the polymer, and the precipitate was collected by filtration and dried to obtain a white powder of epoxy-containing polymethacrylate. The Mw of the resulting epoxy-containing polymethacrylate was 11,000.
Subsequently, 5.1 parts by mass of the epoxy-containing polymethacrylate obtained above, an acrylic group-containing carboxylic acid (Toagosei Co., Ltd., trade name "Aronix M-5300", acrylic acid ω-carboxy polycaprolactone (polymerization degree n ≈ 2 )) 8.4 parts by mass, 32 parts by mass of methyl isobutyl ketone, and 0.3 parts by mass of tetrabutylammonium bromide were charged and stirred at 90° C. for 12 hours. After completion of the reaction, reprecipitation was performed with methanol, the precipitate was dissolved in ethyl acetate to obtain a solution, and washed with water three times. The operation of concentrating this solution and diluting it with ethyl acetate was repeated twice to finally obtain a white powder of a polymethacrylate copolymer having acrylate groups and epoxy groups in side chains. The weight average molecular weight Mw of this polymethacrylate copolymer was 8,000.

<重合体A5の調製>
重合体A3を5質量部、および、重合体A4を5質量部を混合することで、重合体A5(重合体混合物)を得た。
<Preparation of polymer A5>
Polymer A5 (polymer mixture) was obtained by mixing 5 parts by mass of polymer A3 and 5 parts by mass of polymer A4.

<光配向膜用組成物の調製>
以下の組成を有する光配向膜用組成物1を調製した。
<Preparation of composition for photo-alignment film>
A composition 1 for photo-alignment film having the following composition was prepared.

─────────────────────────────────
光配向膜用組成物1の組成
─────────────────────────────────
上記の光配向性基を有する重合体A5 100質量部
ノムコートTAB(日清オイリオ(株)製) 15.2質量部
架橋剤(エポリードGT401、ダイセル社製) 122質量部
熱酸発生剤D1 10.0質量部
ジイソプロピルエチルアミン 0.5質量部
ジイソブチルケトン(DiBK) 1100質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
──────────────────────────────────
Composition of Composition 1 for Photo-Alignment Film────────────────────────────────────
100 parts by weight of polymer A5 having photo-orientable group Nomcoat TAB (manufactured by Nisshin OilliO Co., Ltd.) 15.2 parts by weight Cross-linking agent (Epolead GT401, manufactured by Daicel Corporation) 122 parts by weight Thermal acid generator D1 10. 0 parts by mass diisopropylethylamine 0.5 parts by mass diisobutyl ketone (DiBK) 1100 parts by mass ―――――――――――――――――――――――――――――――― ―

・ノムコートTAB(2-エチルヘキシル-p-メトキシシンナメート)

Figure 2023049680000008
・Numcort TAB (2-ethylhexyl-p-methoxycinnamate)
Figure 2023049680000008

・熱酸発生剤D1

Figure 2023049680000009
・Thermal acid generator D1
Figure 2023049680000009

<光配向膜1の形成>
上記で作製した基材1の片側の面に、得られた光配向膜用組成物1をバーコーターで連続的に塗布した。塗布後、120℃の加熱ゾーンにて1分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ0.25μmの塗膜を形成した(工程1)。
続いて、上記塗膜付き基材を鏡面処理バックアップロールに巻きかけながら、上記塗膜に対して偏光紫外線(積算光量10mJ/cm、超高圧水銀ランプ使用)を照射することで、塗膜に配向処理を施し、配向規制力を有する長尺状の光配向膜1を形成した(工程2)。このとき、液晶の配向方向が30°となるように偏光紫外線の偏光軸の向きを設定した。
<Formation of photo-alignment film 1>
The obtained composition 1 for photo-alignment film was continuously applied to one surface of the substrate 1 prepared above with a bar coater. After coating, the coating was dried in a heating zone at 120° C. for 1 minute to remove the solvent and form a coating film having a thickness of 0.25 μm (Step 1).
Subsequently, while winding the base material with the coating film on a mirror-finished backup roll, the coating film is irradiated with polarized ultraviolet rays (accumulated light amount 10 mJ/cm 2 , using an ultra-high-pressure mercury lamp), thereby irradiating the coating film. An alignment treatment was performed to form a long photo-alignment film 1 having an alignment regulating force (step 2). At this time, the direction of the polarization axis of the polarized ultraviolet rays was set so that the alignment direction of the liquid crystal was 30°.

〔光学異方性層の形成〕
<光学異方性層用組成物の調製>
以下の組成を有する光学異方性層用組成物(光学異方性層用組成物(A))を調製した。光学異方性層用組成物(A)は、重合性液晶化合物として、下記の棒状液晶化合物(A)~(C)を含む。
[Formation of optically anisotropic layer]
<Preparation of composition for optically anisotropic layer>
An optically anisotropic layer composition (optical anisotropic layer composition (A)) having the following composition was prepared. The optically anisotropic layer composition (A) contains the following rod-like liquid crystal compounds (A) to (C) as polymerizable liquid crystal compounds.

―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用組成物(A)の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の棒状液晶化合物(A) 80質量部
・下記の棒状液晶化合物(B) 10質量部
・下記の棒状液晶化合物(C) 10質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
(V#360、大阪有機化学(株)製) 4質量部
・光重合開始剤(イルガキュアー819、チバ・ジャパン社製) 3質量部
・下記のキラル剤(A) 0.22質量部
・下記のポリマー(A) 0.08質量部
・メチルイソブチルケトン 117質量部
・プロピオン酸エチル 39質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
Composition of Composition (A) for Optically Anisotropic Layer ――――――――――――――――――――――――――――――――――――
- 80 parts by mass of the following rod-shaped liquid crystal compound (A) - 10 parts by mass of the following rod-shaped liquid crystal compound (B) - 10 parts by mass of the following rod-shaped liquid crystal compound (C) - Ethylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate (V#360, Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) 4 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure 819, Ciba Japan Co., Ltd.) 3 parts by mass Chiral agent (A) below 0.22 parts by mass Polymer (A) below 0.08 parts by mass Methyl isobutyl ketone 117 parts by mass Ethyl propionate 39 parts by mass ――――――――――――――――――――――――――――――― ――――――

棒状液晶化合物(A)(下記の液晶化合物の混合物に該当)

Figure 2023049680000010
Rod-shaped liquid crystal compound (A) (corresponding to a mixture of the following liquid crystal compounds)
Figure 2023049680000010

棒状液晶化合物(B)

Figure 2023049680000011
Rod-shaped liquid crystal compound (B)
Figure 2023049680000011

棒状液晶化合物(C)

Figure 2023049680000012
Rod-shaped liquid crystal compound (C)
Figure 2023049680000012

キラル剤(A)

Figure 2023049680000013
Chiral agent (A)
Figure 2023049680000013

ポリマー(A)(式中、各繰り返し単位に記載の数値は、全繰り返し単位に対する各繰り返し単位の含有量(質量%)を表す。) Polymer (A) (Wherein, the numerical value described for each repeating unit represents the content (% by mass) of each repeating unit with respect to all repeating units.)

Figure 2023049680000014
Figure 2023049680000014

<光学異方性層1の形成>
上記で形成された長尺状の光配向膜1の表面に、上記の光学異方性層用組成物(A)をギーサー塗布機を用いて塗布し、組成物層(未硬化)を形成した(工程3)。
次いで、上記組成物層が形成された積層フィルムを90℃で80秒間加熱することにより配向処理を施して、上記組成物層に含まれる重合性液晶化合物を捩れ配向させた(工程4)。
その後、組成物層に対して、窒素雰囲気下、55℃にて、メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)の光を照射(照射量:500mJ/cm)する硬化処理を施すことで、液晶化合物の配向状態を固定し、光学異方性層を形成し、光学フィルムを得た。
形成された光学異方性層の厚みは2.1μmであった。
<Formation of optically anisotropic layer 1>
The optically anisotropic layer composition (A) was applied to the surface of the elongated photo-alignment film 1 formed above using a Gieser coating machine to form a composition layer (uncured). (Step 3).
Next, the laminated film on which the composition layer was formed was subjected to an alignment treatment by heating at 90° C. for 80 seconds to twist-align the polymerizable liquid crystal compound contained in the composition layer (step 4).
After that, the composition layer is subjected to a curing treatment by irradiating light (irradiation amount: 500 mJ/cm 2 ) from a metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) at 55° C. in a nitrogen atmosphere. An optical film was obtained by fixing the alignment state of the liquid crystal compound and forming an optically anisotropic layer.
The thickness of the formed optically anisotropic layer was 2.1 μm.

[実施例2]
延伸前基材の延伸を、基材の遅相軸の方向が搬送方向に対して90°となるようにテンター延伸機を用いて延伸したこと以外は、実施例1の〔基材の作製〕に記載の方法に従って、基材2のロールを作製した。
次いで、光配向膜用組成物の塗膜に対して照射する偏光紫外線の偏光軸の向きを、液晶の配向方向が103°となるように偏光軸の方向を調整したこと以外は、実施例1の〔光配向膜の形成〕に記載の方法に従って、基材2の一方の表面に長尺状の光配向膜2を形成した。得られた光配向膜2の配向軸の向きは、103°であった。
さらに、キラル剤(A)の含有量が0.19質量部であること以外は実施例1の光学異方性層用組成物(A)と同じ組成を有する光学異方性層用組成物(B)を調製した。光学異方性層用組成物(A)に代えて得られた光学異方性層用組成物(B)を用いること以外は、実施例1の〔光学異方性層の形成〕に記載の方法に従って、長尺状の光配向膜2の表面に光学異方性層を形成し、実施例2の光学フィルムを得た。
[Example 2]
The stretching of the substrate before stretching was performed using a tenter stretching machine so that the direction of the slow axis of the substrate was 90 ° with respect to the conveying direction. A roll of substrate 2 was made according to the method described in .
Next, except that the direction of the polarization axis of the polarized ultraviolet rays irradiated to the coating film of the composition for a photo-alignment film was adjusted so that the orientation direction of the liquid crystal was 103 °, Example 1 A long photo-alignment film 2 was formed on one surface of the substrate 2 according to the method described in 1. [Formation of photo-alignment film]. The direction of the orientation axis of the obtained photo-alignment film 2 was 103°.
Furthermore, an optically anisotropic layer composition ( B) was prepared. The procedure described in [Formation of optically anisotropic layer] of Example 1 was performed except that the obtained optically anisotropic layer composition (B) was used in place of the optically anisotropic layer composition (A). According to the method, an optically anisotropic layer was formed on the surface of the elongated photo-alignment film 2 to obtain an optical film of Example 2.

[実施例3~8、比較例1~3]
ジイソブチルケトン(DiBK)1100質量部に代えて、後述する表1に記載の各溶剤1100質量部を含むこと以外は、実施例1の光配向膜用組成物1と同じ組成を有する光配向膜用組成物2~10をそれぞれ調製した。光配向膜用組成物1に代えて、得られた光配向膜用組成物2~10を用いたこと以外は、実施例2に記載の方法に従って、得られた基材3の一方の表面に長尺状の光配向膜3~8およびC1~C3を形成し、次いで、形成された長尺状の光配向膜の表面に光学異方性層用組成物(B)を用いて光学異方性層を形成し、実施例3~8および比較例1~3の光学フィルムをそれぞれ得た。
[Examples 3 to 8, Comparative Examples 1 to 3]
For a photo-alignment film having the same composition as the photo-alignment film composition 1 of Example 1 except that 1100 parts by mass of each solvent described in Table 1 described later is included instead of 1100 parts by mass of diisobutyl ketone (DiBK) Compositions 2-10 were prepared respectively. Instead of the photo-alignment film composition 1, except that the obtained photo-alignment film compositions 2 to 10 were used, according to the method described in Example 2, obtained on one surface of the substrate 3 Long photo-alignment films 3 to 8 and C1 to C3 are formed, and then the optically anisotropic layer composition (B) is applied to the surface of the formed long photo-alignment film. An optical layer was formed to obtain optical films of Examples 3 to 8 and Comparative Examples 1 to 3, respectively.

[実施例9]
Tダイからキャスティングドラム上に押し出して形成する熱可塑性ノルボルネン重合体のシートの厚みを調整すること、および、延伸前基材の延伸を行う際、基材の遅相軸の方向が搬送方向に対して10°となるようにテンター延伸機を用いて斜め延伸を行ったこと以外は、実施例1の〔基材の作製〕に記載の方法に従って、基材3のロールを作製した。次いで、実施例2に記載の方法に従って、得られた基材3の一方の表面に長尺状の光配向膜9を形成した。得られた光配向膜9の配向軸の向きは、10°であった。
キラル剤(A)の含有量が0.30質量部であること以外は実施例1の光学異方性層用組成物(A)と同じ組成を有する光学異方性層用組成物(C)を調製した。光学異方性層用組成物(B)に代えて、得られた光学異方性層用組成物(C)を用いること、および、形成する光学異方性層の厚みが0.25μmになるように光学異方性層用組成物の塗布量を変更したこと以外は、実施例2に記載の方法に従って、長尺状に形成された光配向膜9の表面に光学異方性層を形成し、実施例9の光学フィルムを得た。
[Example 9]
Adjusting the thickness of the thermoplastic norbornene polymer sheet formed by extruding from the T die onto the casting drum, and when stretching the substrate before stretching, the direction of the slow axis of the substrate is with respect to the conveying direction A roll of Substrate 3 was produced according to the method described in [Preparation of Substrate] in Example 1, except that diagonal stretching was carried out using a tenter stretching machine so that the angle was 10°. Next, according to the method described in Example 2, a long photo-alignment film 9 was formed on one surface of the substrate 3 thus obtained. The direction of the orientation axis of the obtained photo-alignment film 9 was 10°.
Optically anisotropic layer composition (C) having the same composition as the optically anisotropic layer composition (A) of Example 1 except that the content of the chiral agent (A) is 0.30 parts by mass. was prepared. Using the obtained composition (C) for an optically anisotropic layer instead of the composition (B) for an optically anisotropic layer, and forming an optically anisotropic layer having a thickness of 0.25 μm. An optically anisotropic layer was formed on the surface of the elongated photo-alignment film 9 according to the method described in Example 2, except that the coating amount of the optically anisotropic layer composition was changed as in Then, an optical film of Example 9 was obtained.

[実施例10]
Tダイからキャスティングドラム上に押し出して形成する熱可塑性ノルボルネン重合体のシートの厚みを調整すること、および、延伸前基材の延伸を行う際、基材の遅相軸の方向が搬送方向に対して-10°となるようにテンター延伸機を用いて斜め延伸を行ったこと以外は、実施例1の〔基材の作製〕に記載の方法に従って、基材4のロールを作製した。次いで、実施例2に記載の方法に従って、得られた基材4の一方の表面に長尺状の光配向膜10を形成した。得られた光配向膜10の配向軸の向きは、-10°であった。
キラル剤(A)に代えて後述するキラル剤(B)を用いること、および、キラル剤(B)の含有量が0.30質量部であること以外は実施例1の光学異方性層用組成物(A)と同じ組成を有する光学異方性層用組成物(D)を調製した。光学異方性層用組成物(B)に代えて、得られた光学異方性層用組成物(D)を用いること、および、形成する光学異方性層の厚みが0.25μmになるように光学異方性層用組成物の塗布量を変更したこと以外は、実施例2に記載の方法に従って、長尺状に形成された光配向膜10の表面に光学異方性層を形成し、実施例10の光学フィルムを得た。
[Example 10]
Adjusting the thickness of the thermoplastic norbornene polymer sheet formed by extruding from the T die onto the casting drum, and when stretching the substrate before stretching, the direction of the slow axis of the substrate is with respect to the conveying direction A roll of Substrate 4 was produced according to the method described in [Preparation of Substrate] in Example 1, except that diagonal stretching was performed using a tenter stretching machine so that the roll was -10°. Next, according to the method described in Example 2, a long photo-alignment film 10 was formed on one surface of the substrate 4 thus obtained. The orientation axis of the obtained photo-alignment film 10 was -10°.
For the optically anisotropic layer of Example 1, except that the chiral agent (B) described below was used instead of the chiral agent (A), and the content of the chiral agent (B) was 0.30 parts by mass. An optically anisotropic layer composition (D) having the same composition as the composition (A) was prepared. Using the obtained composition (D) for an optically anisotropic layer instead of the composition (B) for an optically anisotropic layer, and forming an optically anisotropic layer having a thickness of 0.25 μm. An optically anisotropic layer was formed on the surface of the elongated photo-alignment film 10 according to the method described in Example 2, except that the coating amount of the optically anisotropic layer composition was changed as in Then, an optical film of Example 10 was obtained.

キラル剤B

Figure 2023049680000015
Chiral agent B
Figure 2023049680000015

[実施例11]
キラル剤(A)の含有量が0.04質量部であること以外は実施例9の光学異方性層用組成物(C)と同じ組成を有する光学異方性層用組成物(E)を調製した。光学異方性層用組成物(C)に代えて、得られた光学異方性層用組成物(E)を用いること以外は、実施例9に記載の方法に従って、長尺状に形成された光配向膜9の表面に光学異方性層を形成し、実施例11の光学フィルムを得た。
[Example 11]
Optically anisotropic layer composition (E) having the same composition as the optically anisotropic layer composition (C) of Example 9 except that the content of the chiral agent (A) is 0.04 parts by mass. was prepared. The optically anisotropic layer composition (E) was used instead of the optically anisotropic layer composition (C). An optically anisotropic layer was formed on the surface of the photo-alignment film 9, and an optical film of Example 11 was obtained.

[比較例4]
Tダイからキャスティングドラム上に押し出して形成する熱可塑性ノルボルネン重合体のシートの厚みを調整すること、および、テンター延伸機を用いて延伸前基材の延伸を行う際、遅相軸の方向が搬送方向に対して90°であって、かつ、Re(550)が140nmである基材が得られるように、延伸前基材の延伸倍率および延伸方向を調整したこと以外は、実施例1の〔基材の作製〕に記載の方法に従って、厚みが40μmの基材5のロールを作製した。
次いで、光配向膜用組成物の塗膜に対して照射する偏光紫外線の偏光軸の向きを、塗膜付き基材の長手方向と偏光紫外線の偏光軸とのなす角度が22.5°になるように設定したこと以外は、実施例1の〔光配向膜の形成〕に記載の方法に従って、基材5の一方の表面に長尺状の光配向膜C4を形成した。得られた光配向膜C4の配向軸の向きは、22.5°であった。
さらに、キラル剤(A)を含有しないこと以外は実施例1の光学異方性層用組成物(A)と同じ組成を有する光学異方性層用組成物(F)を調製した。光学異方性層用組成物(A)に代えて、得られた光学異方性層用組成物(F)を用いること以外は、実施例1の〔光学異方性層の形成〕に記載の方法に従って、長尺状の光配向膜C4の表面に光学異方性層を形成し、比較例4の光学フィルムを得た。
[Comparative Example 4]
Adjusting the thickness of the thermoplastic norbornene polymer sheet formed by extruding from the T die onto the casting drum, and when stretching the base material before stretching using a tenter stretching machine, the direction of the slow axis is conveyed The stretching ratio and stretching direction of the substrate before stretching were adjusted so as to obtain a substrate having an Re (550) of 140 nm at 90° to the direction, except that the [ Production of Substrate], a roll of the substrate 5 having a thickness of 40 μm was produced.
Next, the direction of the polarization axis of the polarized ultraviolet rays irradiated to the coating film of the composition for photo-alignment film is such that the angle formed by the longitudinal direction of the substrate with the coating film and the polarization axis of the polarized ultraviolet rays is 22.5°. A long photo-alignment film C4 was formed on one surface of the substrate 5 according to the method described in [Formation of photo-alignment film] in Example 1, except that the conditions were set as follows. The direction of the orientation axis of the obtained photo-alignment film C4 was 22.5°.
Furthermore, an optically anisotropic layer composition (F) was prepared which had the same composition as the optically anisotropic layer composition (A) of Example 1 except that it did not contain the chiral agent (A). [Formation of optically anisotropic layer] of Example 1, except that the obtained composition (F) for an optically anisotropic layer is used instead of the composition (A) for an optically anisotropic layer. An optically anisotropic layer was formed on the surface of the elongated photo-alignment film C4 according to the method of No. 2, and an optical film of Comparative Example 4 was obtained.

[比較例5]
Tダイからキャスティングドラム上に押し出して形成する熱可塑性ノルボルネン重合体のシートの厚みを調整すること、および、テンター延伸機を用いて延伸前基材の延伸を行う際、遅相軸の方向が搬送方向に対して22.5°であって、かつ、Re(550)が275nmである基材が得られるように、延伸前基材の延伸倍率および延伸方向を調整したこと以外は、実施例1の〔基材の作製〕に記載の方法に従って、厚みが80μmの基材6のロールを作製した。
次いで、光配向膜用組成物の塗膜に対して照射する偏光紫外線の偏光軸の向きを、塗膜付き基材の長手方向と偏光紫外線の偏光軸とのなす角度が90°になるように設定したこと以外は、実施例1の〔光配向膜の形成〕に記載の方法に従って、基材6の一方の表面に長尺状の光配向膜C5を形成した。得られた光配向膜C5の配向軸の向きは90°であった。
さらに、光学異方性層用組成物(A)に代えて、比較例4で用いた光学異方性層用組成物(F)を用いること以外は、実施例1の〔光学異方性層の形成〕に記載の方法に従って、長尺状の光配向膜C5の表面に光学異方性層を形成し、比較例5の光学フィルムを得た。
[Comparative Example 5]
Adjusting the thickness of the thermoplastic norbornene polymer sheet formed by extruding from the T die onto the casting drum, and when stretching the base material before stretching using a tenter stretching machine, the direction of the slow axis is conveyed Example 1, except that the stretch ratio and stretching direction of the substrate before stretching were adjusted so that a substrate having an Re(550) of 275 nm was obtained at 22.5° to the direction. A roll of the substrate 6 having a thickness of 80 μm was produced according to the method described in [Production of the substrate].
Next, the direction of the polarization axis of the polarized ultraviolet rays irradiated to the coating film of the composition for photo-alignment film is adjusted so that the angle formed by the longitudinal direction of the substrate with the coating film and the polarization axis of the polarized ultraviolet rays is 90°. A long photo-alignment film C5 was formed on one surface of the substrate 6 according to the method described in [Formation of photo-alignment film] in Example 1, except for the setting. The direction of the orientation axis of the obtained photo-alignment film C5 was 90°.
Further, the optically anisotropic layer composition (F) used in Comparative Example 4 was used in place of the optically anisotropic layer composition (A) of Example 1 [optically anisotropic layer composition]. Formation], an optically anisotropic layer was formed on the surface of the elongated photo-alignment film C5, and an optical film of Comparative Example 5 was obtained.

[比較例6]
Tダイからキャスティングドラム上に押し出して形成する熱可塑性ノルボルネン重合体のシートの厚みを調整すること、および、テンター延伸機を用いて延伸前基材の延伸を行う際、面内方向に複屈折を有さず、Re(550)が0nmであり、遅相軸が存在しないような基材が得られるように、延伸前基材の延伸倍率および延伸方向を調整したこと以外は、実施例1の〔基材の作製〕に記載の方法に従って、厚みが40μmの基材7のロールを作製した。
次いで、光配向膜用組成物の塗膜に対して照射する偏光紫外線の偏光軸の向きを、塗膜付き基材の長手方向と偏光紫外線の偏光軸とのなす角度が45°になるように設定したこと以外は、実施例1の〔光配向膜の形成〕に記載の方法に従って、基材7の一方の表面に長尺状の光配向膜C6を形成した。得られた光配向膜C6の配向軸の向きは45°であった。
さらに、光学異方性層用組成物(A)に代えて、比較例4で用いた光学異方性層用組成物(F)を用いること以外は、実施例1の〔光学異方性層の形成〕に記載の方法に従って、長尺状の光配向膜C6の表面に光学異方性層を形成し、比較例6の光学フィルムを得た。
[Comparative Example 6]
Adjusting the thickness of the thermoplastic norbornene polymer sheet formed by extruding from the T die onto the casting drum, and when stretching the base material before stretching using a tenter stretching machine, birefringence in the in-plane direction The stretching ratio and the stretching direction of the substrate before stretching were adjusted so as to obtain a substrate having no Re (550) of 0 nm and no slow axis. A roll of the substrate 7 having a thickness of 40 μm was produced according to the method described in [Fabrication of the substrate].
Next, the direction of the polarization axis of the polarized ultraviolet rays irradiated to the coating film of the composition for photo-alignment film is adjusted so that the angle formed by the longitudinal direction of the substrate with the coating film and the polarization axis of the polarized ultraviolet rays is 45°. A long photo-alignment film C6 was formed on one surface of the substrate 7 according to the method described in [Formation of photo-alignment film] in Example 1, except for the setting. The direction of the orientation axis of the obtained photo-alignment film C6 was 45°.
Further, the optically anisotropic layer composition (F) used in Comparative Example 4 was used in place of the optically anisotropic layer composition (A) of Example 1 [optically anisotropic layer composition]. Formation], an optically anisotropic layer was formed on the surface of the elongated photo-alignment film C6, and an optical film of Comparative Example 6 was obtained.

[比較例7]
〔光学異方性層の形成〕
以下の組成を有する光学異方性層用組成物(G)を調製した。光学異方性層用組成物(G)は、重合性液晶化合物として、下記の液晶化合物L-3およびL-4を含む。
[Comparative Example 7]
[Formation of optically anisotropic layer]
An optically anisotropic layer composition (G) having the following composition was prepared. The optically anisotropic layer composition (G) contains the following liquid crystal compounds L-3 and L-4 as polymerizable liquid crystal compounds.

―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用組成物(G)の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶化合物L-3 42.00質量部
・下記液晶化合物L-4 42.00質量部
・下記重合性化合物A-1 16.00質量部
・下記重合開始剤S-1(オキシム型) 0.50質量部
・レベリング剤(下記化合物G-1) 0.20質量部
・ハイソルブMTEM(東邦化学工業(株)製) 2.00質量部
・NKエステルA-200(新中村化学工業(株)製) 1.00質量部
・メチルエチルケトン 305.9質量部
・シクロペンタノン 118.9質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、下記液晶化合物L-3およびL-4のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基(メチル基がエチレン基に置換した基)を表し、下記液晶化合物L-3およびL-4は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
Composition of Composition (G) for Optically Anisotropic Layer ――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・The following liquid crystal compound L-3 42.00 parts by mass ・The following liquid crystal compound L-4 42.00 parts by mass ・The following polymerizable compound A-1 16.00 parts by mass ・The following polymerization initiator S-1 (oxime type) 0 .50 parts by mass Leveling agent (Compound G-1 below) 0.20 parts by mass Hisolve MTEM (manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.) 2.00 parts by mass NK Ester A-200 (Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.) ) 1.00 parts by mass Methyl ethyl ketone 305.9 parts by mass Cyclopentanone 118.9 parts by mass―――――――――――――――――――――――――――― ――――――――――
The group adjacent to the acryloyloxy group in the following liquid crystal compounds L-3 and L-4 represents a propylene group (a group in which a methyl group is substituted with an ethylene group), and the following liquid crystal compounds L-3 and L-4 are Represents a mixture of regioisomers that differ in the position of the methyl group.

液晶化合物L-3

Figure 2023049680000016
Liquid crystal compound L-3
Figure 2023049680000016

液晶化合物L-4

Figure 2023049680000017
Liquid crystal compound L-4
Figure 2023049680000017

重合性化合物A-1

Figure 2023049680000018
Polymerizable compound A-1
Figure 2023049680000018

重合開始剤 S-1

Figure 2023049680000019
Polymerization initiator S-1
Figure 2023049680000019

化合物 G-1

Figure 2023049680000020
Compound G-1
Figure 2023049680000020

比較例6で形成された長尺状の光配向膜C6の表面に、上記の光学異方性層用組成物(G)をダイコーターを用いて塗布し、組成物層(未硬化)を形成した(工程3)。
次いで、上記組成物層が形成された積層フィルムを110℃で加熱して配向処理を施した後、75℃に冷却することにより配向を安定化させた(工程4)。
その後、組成物層に対して、窒素雰囲気下(酸素濃度100ppm)、75℃にて、超高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射(照射量:500mJ/cm)する硬化処理を施すことで、液晶化合物の配向状態を固定し、光学異方性層を形成し、比較例7の光学フィルムを得た。形成された光学異方性層の厚みは2.3μmであった。
The optically anisotropic layer composition (G) was applied to the surface of the elongated photo-alignment film C6 formed in Comparative Example 6 using a die coater to form a composition layer (uncured). (Step 3).
Next, the laminate film having the composition layer formed thereon was heated at 110° C. for orientation treatment, and then cooled to 75° C. to stabilize the orientation (step 4).
After that, the composition layer is subjected to a curing treatment of irradiating ultraviolet rays (irradiation amount: 500 mJ/cm 2 ) using an ultra-high pressure mercury lamp at 75° C. in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration 100 ppm). An optical film of Comparative Example 7 was obtained by fixing the alignment state of the liquid crystal compound and forming an optically anisotropic layer. The thickness of the formed optically anisotropic layer was 2.3 μm.

[光学フィルムの測定および評価]
実施例1~11および比較例1~7で得られた光学フィルムに対して、以下の測定および評価を行った。測定結果および評価結果を、後述する表1に示す。
[Measurement and Evaluation of Optical Film]
The optical films obtained in Examples 1-11 and Comparative Examples 1-7 were subjected to the following measurements and evaluations. The measurement results and evaluation results are shown in Table 1 below.

<Δndの測定>
各光学フィルムについて、波長550nmで測定した光学異方性層の屈折率異方性Δnと光学異方性層の厚みdとの積(Δnd)を、Axometrics社のAxoScan(ポラリメーター装置)、および、同社の装置解析ソフトウェア(Multi-Layer Analysis)を用いて測定した。
<Measurement of Δnd>
For each optical film, the product (Δnd) of the refractive index anisotropy Δn of the optically anisotropic layer measured at a wavelength of 550 nm and the thickness d of the optically anisotropic layer was measured by AxoScan (polarimeter device) of Axometrics, and Measurement was performed using the company's device analysis software (Multi-Layer Analysis).

<捩れ角および配向軸の測定>
各光学フィルムが有する光学異方性層における液晶化合物の厚み方向を螺旋軸とする捩れ角(液晶化合物の配向方向の捩れ角)、および、光学異方性層の基材側の表面における液晶化合物の配向軸(以下、「基材側配向軸」とも記載する。)の角度を、Axometrics社のAxoScan(ポラリメーター装置)、および、同社の装置解析ソフトウェアを用いて測定した。
なお、基材側配向軸の角度については、光学フィルムの長手方向を基準(0°)として、光学異方性層側の表面から光学フィルムを観察したときに反時計回りに回転する方向を正の値とした。
<Measurement of twist angle and orientation axis>
The twist angle with the thickness direction of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer of each optical film as the helical axis (the twist angle in the alignment direction of the liquid crystal compound), and the liquid crystal compound on the substrate-side surface of the optically anisotropic layer The angle of the orientation axis of (hereinafter also referred to as "substrate-side orientation axis") was measured using AxoScan (polarimeter device) from Axometrics and the company's device analysis software.
Regarding the angle of the orientation axis on the substrate side, the longitudinal direction of the optical film is taken as a reference (0°), and the direction of counterclockwise rotation when the optical film is observed from the surface of the optically anisotropic layer is positive. was taken as the value of

<距離d1およびd2の測定>
各光学フィルムが有する光学異方性層に対して、上述した方法に従って、イオンビームを照射しながら飛行時間型2次イオン質量分析装置(TOF-SIMS)を用いて各光学フィルムの成分を厚み方向に沿って分析した。分析により得られた配向剤由来の2次イオン強度の厚み方向におけるプロファイルから、上述した方法に従って、距離d1およびd2を求め、比率d2/d1を算出した。
距離d1およびd2の測定に使用した測定装置および測定条件を以下に示す。
<Measurement of distances d1 and d2>
According to the method described above, the optically anisotropic layer of each optical film is irradiated with an ion beam while using a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS) to measure the components of each optical film in the thickness direction. analyzed along. From the profile in the thickness direction of the secondary ion intensity derived from the alignment agent obtained by the analysis, the distances d1 and d2 were obtained according to the method described above, and the ratio d2/d1 was calculated.
The measuring apparatus and measuring conditions used for measuring the distances d1 and d2 are shown below.

(測定装置および測定条件)
・装置:TOF-SIMSV(ION-TOF社製)
・深さ方向分析:Arイオンスパッタ併用
・測定範囲:一の方向およびその直交方向に各々128点ずつラスタースキャン
・極性:ポジ、ネガ
(Measuring device and measurement conditions)
・Equipment: TOF-SIMSV (manufactured by ION-TOF)
・Depth direction analysis: Ar ion sputtering combined ・Measuring range: Raster scan of 128 points each in one direction and its orthogonal direction ・Polarity: positive, negative

<液晶配向性の評価>
クロスニコル配置した2枚の偏光板の間に各光学フィルムを設置してなる積層体を、偏光顕微鏡を用いて観察した。観察されるムラ及び/又は配向不良等の光学的欠陥に基づいて、以下の基準に従って、光学異方性層に含まれる液晶化合物の配向性を評価した。評価AおよびBは、実用上問題ないレベルである。
<Evaluation of liquid crystal orientation>
A laminate in which each optical film was placed between two polarizing plates arranged in crossed Nicols was observed using a polarizing microscope. Based on the observed optical defects such as unevenness and/or poor orientation, the orientation of the liquid crystal compound contained in the optically anisotropic layer was evaluated according to the following criteria. Evaluations A and B are practically acceptable levels.

(評価基準)
「A」:光学的欠陥が観察されない。
「B」:光学的欠陥がわずかに観察された。
「C」:光学的欠陥が多く観察された。
(Evaluation criteria)
"A": No optical defect is observed.
"B": Slight optical defects were observed.
"C": Many optical defects were observed.

<密着性の評価>
各光学フィルムの光学異方性層に対して、JIS D0202-1988に準拠するクロスカット試験(碁盤目テープ剥離試験)を実施した。各光学フィルムにおいて、光学異方性層を格子状にカットして100個のマス目を形成した。形成された100マスのうち、セロハンテープ(「CT24」,ニチバン(株)製)の貼り付けおよび剥ぎ取りにより、剥離したマス目の個数を数え、以下の基準に従って評価した。評価S、AおよびBは、実用上問題ないレベルである。
<Evaluation of Adhesion>
The optically anisotropic layer of each optical film was subjected to a cross-cut test (crosscut tape peeling test) according to JIS D0202-1988. In each optical film, the optically anisotropic layer was cut in a grid pattern to form 100 squares. Of the 100 squares formed, cellophane tape ("CT24", manufactured by Nichiban Co., Ltd.) was attached and peeled off, and the number of squares that had been peeled off was counted and evaluated according to the following criteria. Evaluations S, A and B are practically acceptable levels.

(評価基準)
「S」:剥がれるマス目の個数が0個
「A」:剥がれるマス目の個数が1~30個
「B」:剥がれるマス目の個数が31~50個
「C」:剥がれるマス目の個数が51個以上
(Evaluation criteria)
"S": 0 squares to peel off "A": 1 to 30 squares to peel off "B": 31 to 50 squares to peel off "C": Number of squares to peel off 51 or more

<湿熱耐久性(耐クラック性)の評価>
各光学フィルムを100mm×100mmのサイズで切り出してサンプルを作製し、得られたサンプルの光学異方性層側の表面に粘着剤(綜研化学社製シート状粘着剤「SK2057」)を貼合した後、粘着剤を介してサンプルをガラス板に貼り付けた。各光学フィルムにつき、サンプルとガラス板との積層体を4セット作製した。得られた積層体に対して、日立製環境試験装置「ES207LH」を用いて、温度-35℃の条件下で1時間保管した後、温度70℃の条件下で1時間保管するサイクル試験を50サイクル行った。サイクル試験後の4セットの積層体の外観を顕微鏡にて観察し、以下の基準で湿熱耐久性を評価した。湿熱耐久性の評価がAまたはBであることが実用上必要であり、A評価であることが好ましい。
<Evaluation of wet heat durability (crack resistance)>
Each optical film was cut into a size of 100 mm × 100 mm to prepare a sample, and an adhesive (sheet adhesive "SK2057" manufactured by Soken Kagaku Co., Ltd.) was attached to the surface of the obtained sample on the optically anisotropic layer side. After that, the sample was attached to a glass plate via an adhesive. Four sets of laminates of samples and glass plates were produced for each optical film. The resulting laminate was stored for 1 hour at a temperature of −35° C. and then stored at a temperature of 70° C. for 1 hour using Hitachi’s environmental test equipment “ES207LH” for 50 cycles. went on a cycle. The appearance of four sets of laminates after the cycle test was observed under a microscope, and wet heat durability was evaluated according to the following criteria. It is practically necessary for the evaluation of wet heat durability to be A or B, and A evaluation is preferable.

(評価基準)
「A」:いずれの光学異方性層にも、ひび割れが観察されなかった。
「B」:1セットの光学異方性層にのみ、ひび割れが観察された。
「C」:2セット以上の光学異方性層に、ひび割れが観察された。
(Evaluation criteria)
"A": No cracks were observed in any of the optically anisotropic layers.
"B": Cracks were observed only in one set of optically anisotropic layers.
"C": Cracks were observed in two or more sets of optically anisotropic layers.

<軸バラツキ>
実施例1~8及び比較例1~4で得られた光学フィルムについては、各光学フィルムの光学異方性層側の表面に感圧型粘着剤を用いて偏光子を貼り合わせることにより円偏光板を作製し、実施例9~11及び比較例5~7で得られた光学フィルムについては、各光学フィルムの基材側の表面に感圧型粘着剤を用いて偏光子を貼り合わせることにより、円偏光板を作製した。このとき、光学フィルムの長手方向と円偏光板の吸収軸とが平行になるように光学フィルムと円偏光板とを貼り合わせた。
有機ELパネル搭載の表示装置(SAMSUNG社製GALAXY(登録商標)S4)から円偏光板を剥離した。次いで、上記で得られた円偏光板を、偏光子が外側(有機ELパネルとは反対側)に配置されるように、感圧型粘着剤を用いて有機EL表示装置に貼り合わせた。
各光学フィルムについて、上記の円偏光板付き有機EL表示装置を20台作製した。作製した有機EL表示装置を黒表示に設定して、明光下において、有機ELパネルに正対する方向から観察し、観察された20台の有機EL表示装置の色味の個体差から、以下の基準に従って光学フィルムの軸バラツキを評価した。評価AおよびBが、実用上問題ないレベルである。
<Shaft variation>
For the optical films obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 4, a circularly polarizing plate was obtained by bonding a polarizer to the surface of each optical film on the optically anisotropic layer side using a pressure-sensitive adhesive. , and the optical films obtained in Examples 9 to 11 and Comparative Examples 5 to 7 were circularly shaped by bonding a polarizer to the surface of each optical film on the substrate side using a pressure-sensitive adhesive. A polarizing plate was produced. At this time, the optical film and the circularly polarizing plate were bonded together so that the longitudinal direction of the optical film and the absorption axis of the circularly polarizing plate were parallel to each other.
The circularly polarizing plate was peeled off from a display device (GALAXY (registered trademark) S4 manufactured by SAMSUNG) equipped with an organic EL panel. Next, the circularly polarizing plate obtained above was attached to an organic EL display device using a pressure-sensitive adhesive such that the polarizer was arranged on the outside (on the side opposite to the organic EL panel).
For each optical film, 20 organic EL display devices with circularly polarizing plates were produced. The produced organic EL display device was set to black display and observed from the direction directly facing the organic EL panel under bright light, and from the observed individual differences in color of the 20 organic EL display devices, the following criteria The axial variation of the optical film was evaluated according to. Evaluations A and B are practically acceptable levels.

(評価基準)
「A」:色味の個体差が全く視認されないか、または、わずかに視認される。
「B」:色味の個体差がやや視認されるが、反射光は小さく、使用上の問題はない。
「C」:色味の個体差が視認され、反射光も大きく、許容できない。
(Evaluation criteria)
"A": Individual differences in color are not visible at all, or are slightly visible.
"B": Individual differences in color are slightly visible, but the reflected light is small, and there is no problem in use.
"C": Individual differences in color were visually recognized, reflected light was large, and unacceptable.

<カール>
各光学フィルムのカール値を、アメリカ国家規格協会が規定する測定方法(ANSI/ASC PH1.29-1985、Method-A)に従って測定した。具体的には、各光学フィルムを幅方向に35mm、長手方向に2mmの大きさに切り取った後、得られたサンプルをカール板に設置する。サンプル付きカール板を、温度25℃、相対湿度80%の環境下で6時間調湿した。調湿後に読み取ったカール値を測定値とした。カール値は、曲率半径(cm)で表されており、曲率半径が小さいほど、フィルムの搬送性が低いことを意味する。
測定されたカール値から、以下の基準に基づいて各光学フィルムのカールを評価した。評価1~3は、実用上問題ないレベルである。
<Curl>
The curl value of each optical film was measured according to the measurement method (ANSI/ASC PH1.29-1985, Method-A) specified by the American National Standards Institute. Specifically, after cutting each optical film into a size of 35 mm in the width direction and 2 mm in the length direction, the obtained sample is placed on a curl plate. The curled plate with the sample was conditioned for 6 hours in an environment with a temperature of 25° C. and a relative humidity of 80%. The curl value read after humidity conditioning was used as the measured value. The curl value is expressed by the radius of curvature (cm), and the smaller the radius of curvature, the lower the transportability of the film.
From the measured curl value, the curl of each optical film was evaluated based on the following criteria. Evaluations 1 to 3 are levels with no problem in practical use.

(評価基準)
「1」:(カール値の絶対値)≧30cm
「2」:30cm>(カール値の絶対値)≧20cm
「3」:20cm>(カール値の絶対値)≧10cm
「4」:10cm>(カール値の絶対値)
(Evaluation criteria)
"1": (absolute value of curl value) ≥ 30 cm
"2": 30 cm > (absolute value of curl value) ≥ 20 cm
"3": 20 cm > (absolute value of curl value) ≥ 10 cm
"4": 10 cm> (absolute value of curl value)

表1に、各実施例および各比較例において作製した基材、配向膜、光学異方性層および光学フィルムの特徴、並びに、光学フィルムの測定結果および評価結果を示す。 Table 1 shows the characteristics of the base material, the alignment film, the optically anisotropic layer and the optical film produced in each example and each comparative example, as well as the measurement results and evaluation results of the optical films.

表1中、「配向膜」の「溶剤」欄は、「配向膜用組成物」欄に記載した各組成物が含む溶剤の種類を示す。この欄において、「DiBK」はジイソブチルケトンを表し、「MiBK」はメチルイソブチルケトンを表し、「THF」はテトラヒドロフランを表し、「MEK」はメチルエチルケトンを表し、「PGMEA」はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを表し、「NMP」はN-メチル-2-ピロリドンを表す。
表1中、「ΔSP」欄は、基材のSP値と配向膜用組成物が含む溶剤のSP値との差(単位:MPa1/2)を表す。
表1中、「光学異方性層」の「捩れ方向」欄は、光学異方性層の基材側の表面から他方の表面に向かって厚み方向に沿って液晶性化合物の配向軸が旋回する方向であって、光学異方性層側から光学フィルムを観察したときの方向を表す。即ち、この欄において「反時計」とは、上記の液晶化合物の配向軸の旋回方向が反時計回りであることを意味する。
In Table 1, the "solvent" column of "alignment film" indicates the type of solvent contained in each composition described in the "alignment film composition" column. In this column, "DiBK" stands for diisobutyl ketone, "MiBK" stands for methyl isobutyl ketone, "THF" stands for tetrahydrofuran, "MEK" stands for methyl ethyl ketone, and "PGMEA" stands for propylene glycol monomethyl ether acetate. , “NMP” stands for N-methyl-2-pyrrolidone.
In Table 1, the "ΔSP" column represents the difference (unit: MPa 1/2 ) between the SP value of the substrate and the SP value of the solvent contained in the alignment film composition.
In Table 1, the "twisting direction" column of the "optically anisotropic layer" indicates that the orientation axis of the liquid crystalline compound rotates along the thickness direction from the substrate-side surface of the optically anisotropic layer toward the other surface. This is the direction in which the optical film is observed from the side of the optically anisotropic layer. That is, "counterclockwise" in this column means that the direction of rotation of the alignment axis of the liquid crystal compound is counterclockwise.

Figure 2023049680000021
Figure 2023049680000021

Figure 2023049680000022
Figure 2023049680000022

Figure 2023049680000023
Figure 2023049680000023

表1に示すように、本発明に係る製造方法で製造された光学フィルムは、液晶配向性、密着性および湿熱耐久性がいずれも優れることが確認された。 As shown in Table 1, it was confirmed that the optical film produced by the production method according to the present invention is excellent in liquid crystal orientation, adhesion and wet heat durability.

10 特定光学フィルム(光学フィルム)
12 第1表面
14 第2表面
20 基材
30 配向膜
40 光学異方性層
50,60 偏光子付き光学フィルム(光学積層体)
52,62 偏光子
10 Specified optical film (optical film)
REFERENCE SIGNS LIST 12 first surface 14 second surface 20 substrate 30 alignment film 40 optically anisotropic layer 50, 60 optical film with polarizer (optical laminate)
52, 62 Polarizer

Claims (10)

基材上に、配向剤および溶媒を含む配向膜用組成物を塗布して、塗膜を形成する工程1と、
前記塗膜に配向処理を施して、配向規制力を有する配向膜を形成する工程2と、
前記配向膜上に、重合性基を有する液晶化合物を含む組成物を塗布して、組成物層を形成する工程3と、
前記組成物層に配向処理を施して、前記液晶化合物を前記組成物層の厚み方向を螺旋軸として捩れ配向させる工程4と、
前記組成物層に対して硬化処理を施して、前記液晶化合物の配向状態を固定して、光学異方性層を形成する工程5とを有し、
前記光学異方性層における前記液晶化合物の厚み方向を螺旋軸とする捩れ角が0°超180°以下であり、
前記基材のSP値と前記溶媒のSP値との差が4.0~10.0MPa1/2である、光学フィルムの製造方法。
Step 1 of applying an alignment film composition containing an alignment agent and a solvent onto a substrate to form a coating film;
a step 2 of subjecting the coating film to an orientation treatment to form an orientation film having an orientation regulating force;
Step 3 of applying a composition containing a liquid crystal compound having a polymerizable group on the alignment film to form a composition layer;
A step 4 of subjecting the composition layer to an orientation treatment to twist-align the liquid crystal compound with the thickness direction of the composition layer as a helical axis;
a step 5 of curing the composition layer to fix the alignment state of the liquid crystal compound to form an optically anisotropic layer;
the twist angle with respect to the thickness direction of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer as the helical axis is more than 0° and 180° or less;
A method for producing an optical film, wherein the difference between the SP value of the substrate and the SP value of the solvent is 4.0 to 10.0 MPa 1/2 .
前記基材が脂環式構造を有する重合体を含む、請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。 2. The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the base material contains a polymer having an alicyclic structure. 前記配向剤が光配向剤を含む、請求項1または2に記載の光学フィルムの製造方法。 3. The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the aligning agent comprises a photo-aligning agent. 前記基材の波長550nmにおける面内レタデーションが67.5~127.5nmであり、
前記光学異方性層の屈折率異方性Δnと前記光学異方性層の厚みdとの積Δndが317~377nmであり、
前記光学異方性層における前記液晶化合物の厚み方向を螺旋軸とする捩れ角が20~60°である、
請求項1~3のいずれか1項に記載の光学フィルムの製造方法。
The substrate has an in-plane retardation of 67.5 to 127.5 nm at a wavelength of 550 nm,
the product Δnd of the refractive index anisotropy Δn of the optically anisotropic layer and the thickness d of the optically anisotropic layer is 317 to 377 nm;
The twist angle with respect to the thickness direction of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer is 20 to 60°.
A method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 3.
基材、配向膜および光学異方性層をこの順に有する光学フィルムであって、
前記配向膜が、配向剤を含み、
前記光学異方性層において、重合性基を有する液晶化合物が、前記光学異方性層の厚み方向を螺旋軸として0°超180°以下の捩れ角で捩れ配向された配向状態で固定されており、
以下の要件1および要件2を満たす、光学フィルム。
要件1:前記光学フィルムの前記光学異方性層側の表面を第1表面とし、前記光学フィルムの前記基材側の表面を第2表面として、前記光学フィルムの前記第1表面から前記第2表面に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型2次イオン質量分析法で前記光学フィルムの厚み方向の成分を分析することによって得られる前記配向剤由来の2次イオン強度の前記厚み方向におけるプロファイルにおいて、前記配向剤由来の2次イオン強度の最大値の80%となる2次イオン強度を示す位置のうち、前記第1表面に最も近い位置を位置Aとし、前記第2表面に最も近い位置を位置Bとすると、前記位置Aと前記位置Bとの間の距離d1が、100nm以上である。
要件2:前記プロファイルにおいて、前記位置Bよりも前記第2表面に近く、かつ、前記配向剤由来の2次イオン強度の最大値の20%となる2次イオン強度を示す位置を位置Cとすると、前記位置Bと前記位置Cとの間の距離d2、および、前記距離d1が、下記式(I)を満たす。
0.3≦d2/d1≦0.82 (I)
An optical film having a substrate, an alignment film and an optically anisotropic layer in this order,
The alignment film contains an alignment agent,
In the optically anisotropic layer, the liquid crystal compound having a polymerizable group is fixed in a twisted orientation state with a twist angle of more than 0° and 180° or less with the thickness direction of the optically anisotropic layer as a helical axis. cage,
An optical film that satisfies requirements 1 and 2 below.
Requirement 1: With the surface of the optical film on the optically anisotropic layer side as the first surface and the surface of the optical film on the substrate side as the second surface, the first surface of the optical film to the second surface of the optical film. The secondary ion intensity in the thickness direction derived from the alignment agent obtained by analyzing the component in the thickness direction of the optical film by time-of-flight secondary ion mass spectrometry while irradiating the surface with an ion beam. In the profile, among the positions where the secondary ion intensity is 80% of the maximum value of the secondary ion intensity derived from the alignment agent, the position closest to the first surface is position A, and the position A is closest to the second surface. Assuming that the position is position B, the distance d1 between the position A and the position B is 100 nm or more.
Requirement 2: In the profile, let position C be a position that is closer to the second surface than position B and exhibits a secondary ion intensity that is 20% of the maximum secondary ion intensity derived from the alignment agent. , the distance d2 between the position B and the position C, and the distance d1 satisfy the following formula (I).
0.3≤d2/d1≤0.82 (I)
前記基材が脂環式構造を有する重合体を含む、請求項5に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 5, wherein the base material contains a polymer having an alicyclic structure. 前記配向剤が光配向剤を含む、請求項5または6に記載の光学フィルム。 7. The optical film as claimed in claim 5 or 6, wherein the alignment agent comprises a photo-alignment agent. 前記基材の波長550nmにおける面内レタデーションが67.5~127.5nmであり、
前記光学異方性層の屈折率異方性Δnと前記光学異方性層の厚みdとの積Δndが240~320nmであり、
前記光学異方性層における前記液晶化合物の厚み方向を螺旋軸とする捩れ角が20~60である、
請求項5~7のいずれか1項に記載の光学フィルム。
The substrate has an in-plane retardation of 67.5 to 127.5 nm at a wavelength of 550 nm,
the product Δnd of the refractive index anisotropy Δn of the optically anisotropic layer and the thickness d of the optically anisotropic layer is 240 to 320 nm;
The twist angle with the thickness direction of the liquid crystal compound in the optically anisotropic layer as the helical axis is 20 to 60.
The optical film according to any one of claims 5-7.
請求項5~8のいずれか1項に記載の光学フィルムと、偏光子とを備える光学積層体。 An optical laminate comprising the optical film according to any one of claims 5 to 8 and a polarizer. 前記偏光子の吸収軸と前記光学フィルムが有する基材の遅相軸とのなす角度が、0±5°または90±5°である、請求項9に記載の光学積層体。 10. The optical laminate according to claim 9, wherein the angle between the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the base material of the optical film is 0±5° or 90±5°.
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