JP2023049320A - microscope - Google Patents

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俊一 森嶋
Shunichi Morishima
龍 坂東
Ryu Bando
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Abstract

To provide a microscope capable of fixing a visual axial direction of an eye to be examined while scanning the eye to be examined with illumination light.SOLUTION: A microscope equipped with a relative movement mechanism for relatively moving a Scheimpflug optical system including an illumination system and an imaging system with respective to an eye to be examined and scanning the eye to be examined with illumination light, in which an object surface including an illumination light axis, a principal surface of an optical system, and an imaging surface satisfy a Scheimpflug condition includes a fixation optical system in which a relative position with the eye to be examined is fixed, having a projection light axis defferent from the illumination light axis and an imaging light axis of the imaging system, and projecting fixation light onto the eye to be examined along the projection light axis. The fixation optical system projects the fixation light onto the eye to be examined at least while the relative movement of the Scheimpflug optical system is executed by the relative movement mechanism.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、シャインプルーフ光学系を備える顕微鏡に関する。 The present invention relates to microscopes with Scheimpflug optics.

特許文献1に記載のスリットランプ顕微鏡は、シャインプルーフカメラとして機能するシャインプルーフ光学系を備える。シャインプルーフ光学系は、照明系と、レンズ系及び撮像素子を含む撮影系と、を備える。これら照明系及び撮影系は、照明系の照明光軸を含む物面(後述の撮像面にピントが合う面)を含む平面と、レンズ系の主面を含む平面と、撮像素子の撮像面を含む平面とが、同一直線上で交差するシャインプルーフの条件を満たすように構成されている。これにより、物面内の全ての位置にピントを合わせて撮影を行うことができ、例えば特許文献1に記載のスリットランプ顕微鏡では被検眼の前眼部の断面(角膜の前面から水晶体の後面)にピントを合わせて撮影を行う。 A slit lamp microscope described in Patent Document 1 includes a Scheimpflug optical system that functions as a Scheimpflug camera. A Scheimpflug optical system includes an illumination system and an imaging system including a lens system and an imaging device. The illumination system and the imaging system are composed of a plane including an object plane including the illumination optical axis of the illumination system (a plane on which an imaging plane described later is focused), a plane including the principal plane of the lens system, and an imaging plane of the imaging element. and the containing plane satisfy the Scheimpflug condition that they intersect on the same straight line. As a result, all positions in the object plane can be focused and photographed. Focus on and shoot.

また、特許文献1に記載のスリットランプ顕微鏡では、物面(照明光軸)に対して垂直方向にシャインプルーフ光学系を移動させながら撮影系による前眼部の断面撮影を連続的に行うことで、スリット光により前眼部の角膜全体を走査しながらその走査位置ごとの前眼部断面像を取得する。そして、スリットランプ顕微鏡は、走査位置ごとの前眼部断面像に基づき前眼部の3次元画像を生成する。 In addition, in the slit lamp microscope described in Patent Document 1, the Scheimpflug optical system is moved in the direction perpendicular to the object plane (illumination optical axis), and the imaging system continuously performs cross-sectional imaging of the anterior segment of the eye. , while scanning the entire cornea of the anterior segment with slit light, an anterior segment cross-sectional image is obtained for each scanning position. Then, the slit lamp microscope generates a three-dimensional image of the anterior segment based on the anterior segment cross-sectional images for each scanning position.

特開2019-213733号公報JP 2019-213733 A

ところで、スリットランプ顕微鏡の照明系から被検眼の前眼部に照射されるスリット光としては一般的には可視光が用いられることが多い。このため、スリット光による前眼部の走査中にこのスリット光を被検者が目で追ってしまうことで、被検眼の視線方向が変化してしまうおそれがある。この場合には良好な前眼部の3次元画像が得られないため、スリット光の走査中には被検眼の視線方向を固定する固視を行う必要がある。 By the way, visible light is generally used in many cases as the slit light emitted from the illumination system of the slit lamp microscope to the anterior segment of the eye to be examined. For this reason, there is a possibility that the line of sight of the subject's eye may change due to the subject's eye following the slit light during scanning of the anterior segment of the eye with the slit light. In this case, since a good three-dimensional image of the anterior segment cannot be obtained, it is necessary to fix the visual line direction of the subject's eye during scanning with the slit light.

ここで、例えば光コヒーレンストモグラフィ(Optical Coherence Tomography:OCT)装置及び走査型レーザ顕微鏡(Scanning Laser Ophthalmoscope:SLO)には、各種の測定光で被検眼の走査を行うと共に被検眼からの戻り光を受光する投受光学系と、被検眼の固視を行う固視光学系と、が設けられている。そして、OCT装置及びSLOでは、被検者が測定光を目で追わないように固視に工夫をしている。 Here, for example, in an optical coherence tomography (OCT) device and a scanning laser ophthalmoscope (SLO), an eye to be examined is scanned with various types of measurement light, and return light from the eye to be examined is collected. A light emitting/receiving optical system for receiving light and a fixation optical system for fixing the eye to be examined are provided. In the OCT apparatus and SLO, the fixation is devised so that the subject does not follow the measurement light with his/her eyes.

しかしながら、OCT装置及びSLOでは、投受光学系と固視光学系とが共通の対物レンズ(光学系)を使用している。このため、仮にOCT装置及びSLOの固視光学系を上記特許文献1に記載のスリットランプ顕微鏡に適用すると、スリット光による前眼部の走査時に固視光学系がシャインプルーフ光学系と一体に移動してしまうので、被検眼の固視を行うことができない。 However, in the OCT apparatus and the SLO, the projection/reception optical system and the fixation optical system use a common objective lens (optical system). Therefore, if the OCT apparatus and the fixation optical system of the SLO are applied to the slit lamp microscope described in Patent Document 1, the fixation optical system moves together with the Scheimpflug optical system when scanning the anterior segment of the eye with slit light. Therefore, fixation of the subject's eye cannot be performed.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、被検眼に対してシャインプルーフ光学系を相対移動させる間、すなわち照明光により被検眼を走査する間、被検眼の視線方向を固定可能な顕微鏡を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and it is possible to fix the line-of-sight direction of the subject's eye while the Scheimpflug optical system is moved relative to the subject's eye, that is, while the subject's eye is scanned with the illumination light. The purpose is to provide a microscope that is

本発明の目的を達成するための顕微鏡は、照明光軸を有し、照明光軸に沿って被検眼に照明光を照射する照明系と、第1撮像素子と、照明光が照射された被検眼からの戻り光を第1撮像素子の撮像面に導く光学系とを有し、第1撮像素子により戻り光を撮像する撮影系と、被検眼に対して照明系及び撮影系を含むシャインプルーフ光学系を相対移動させて、照明光による被検眼の走査を行う相対移動機構と、を備え、照明光軸を含む物面と、光学系の主面と、撮像面と、がシャインプルーフの条件を満たしている顕微鏡において、被検眼との相対位置が固定されている固視光学系であって、且つ照明光軸及び撮影系の撮影光軸とは異なる投影光軸を有し、投影光軸に沿って被検眼に固視光を投影する固視光学系を備え、固視光学系が、少なくとも相対移動機構によるシャインプルーフ光学系の相対移動が行われている間、被検眼に固視光を投影する。 A microscope for achieving the object of the present invention has an illumination optical axis, an illumination system for illuminating an eye to be inspected with illumination light along the illumination optical axis, a first imaging device, and a subject irradiated with the illumination light. A Scheimpflug including an optical system for guiding return light from an eye examination to an imaging surface of a first imaging element, an imaging system for imaging the returned light with the first imaging element, and an illumination system and an imaging system for the eye to be examined. and a relative movement mechanism that relatively moves the optical system to scan the subject's eye with the illumination light, and the object plane including the illumination optical axis, the principal plane of the optical system, and the imaging plane meet the Scheimpflug conditions. in a microscope satisfying a fixation optical system for projecting fixation light onto the eye to be examined along the . project the

この顕微鏡によれば、照明光による被検眼の走査を行う間、被検眼との相対位置が固定されている固視光学系から被検眼に対して固視光を投影することができる。 According to this microscope, while the eye to be inspected is scanned with the illumination light, the fixation light can be projected onto the eye to be inspected from the fixation optical system whose relative position to the eye to be inspected is fixed.

本発明の他の態様に係る顕微鏡において、固視光学系が、予め定められた被検眼の配置想定位置に対する被検眼の位置ずれのずれ方向及びずれ量を被検者に認識させることが可能な固視光を被検眼に投影する。これにより、被検者が被検眼(顔)の位置を適切に調整することができる。 In the microscope according to another aspect of the present invention, the fixation optical system enables the subject to recognize the direction and amount of positional deviation of the subject's eye relative to a predetermined assumed placement position of the subject's eye. A fixation light is projected onto the subject's eye. This allows the subject to appropriately adjust the position of the subject's eye (face).

本発明の他の態様に係る顕微鏡において、固視光学系が被検眼に投影する固視光の形状及び光束径を、位置ずれが予め定められた規定範囲内の場合には固視光の全体が被検眼に投影され、且つ位置ずれが規定範囲内を超える場合には位置ずれのずれ方向及びずれ量に応じて固視光がケラレる形状及び光束径に設定している。これにより、被検者が位置ずれのずれ方向及びずれ量を認識することができるため、被検眼(顔)の位置を適切に調整することができる。 In a microscope according to another aspect of the present invention, the shape and luminous flux diameter of the fixation light projected onto the eye by the fixation optical system are adjusted to the entire fixation light when the positional deviation is within a predetermined range. is projected onto the subject's eye and the positional deviation exceeds a specified range, the shape and the luminous flux diameter are set such that the fixation light is vignetted according to the direction and amount of the positional deviation. As a result, the subject can recognize the direction and amount of positional deviation, so that the position of the subject's eye (face) can be appropriately adjusted.

本発明の他の態様に係る顕微鏡において、固視光の形状が十字形状である。これにより、被検者が位置ずれのずれ方向及びずれ量を認識することができる。 In a microscope according to another aspect of the present invention, the fixation light has a cross shape. This allows the subject to recognize the displacement direction and displacement amount of the positional displacement.

本発明の他の態様に係る顕微鏡において、固視光学系が、ピンホールを介して固視光を被検眼に投影する。これにより、固視光学系の被写界深度を深くすることができる。 In a microscope according to another aspect of the present invention, a fixation optical system projects fixation light onto the subject's eye via a pinhole. Thereby, the depth of field of the fixation optical system can be increased.

本発明の他の態様に係る顕微鏡において、被検眼との相対位置が固定されている観察系であって、且つ投影光軸の一部と共通の観察光軸を有し、観察光軸に沿って入射した被検眼からの戻り光を第2撮像素子又は接眼レンズに導く観察系を備える。 In a microscope according to another aspect of the present invention, an observation system whose relative position with respect to an eye to be examined is fixed, has an observation optical axis common to a part of the projection optical axis, and and an observation system that guides the return light from the eye to be inspected that is incident on the second imaging device or the eyepiece.

本発明の他の態様に係る顕微鏡において、互いに直交するXYZ方向のうちで照明光軸に平行な方向をZ方向とした場合に、撮影光軸が、Y方向に垂直であり且つY方向から見た場合に照明光軸に対して傾斜しており、投影光軸が、Y方向から見た場合に照明光軸と重なり且つX方向から見た場合に照明光軸に対して傾斜している。 In the microscope according to another aspect of the present invention, when the Z direction is the direction parallel to the illumination optical axis among the mutually orthogonal XYZ directions, the photographing optical axis is perpendicular to the Y direction and viewed from the Y direction. The projection optical axis overlaps with the illumination optical axis when viewed in the Y direction and is inclined with respect to the illumination optical axis when viewed in the X direction.

本発明の他の態様に係る顕微鏡において、照明系が、物面に平行なスリット状の照明光を被検眼の前眼部に対して照射し、相対移動機構が、シャインプルーフ光学系を物面に対して垂直な方向に移動させる。 In the microscope according to another aspect of the present invention, the illumination system irradiates the anterior segment of the subject's eye with slit-shaped illumination light parallel to the object plane, and the relative movement mechanism moves the Scheimpflug optical system to the object plane. move in a direction perpendicular to

本発明は、照明光により被検眼を走査する間、被検眼の視線方向を固定することができる。 The present invention can fix the line-of-sight direction of an eye to be inspected while scanning the eye to be inspected with illumination light.

スリットランプ顕微鏡をX方向側から見た側面図である。It is the side view which looked at the slit lamp microscope from the X direction side. スリットランプ顕微鏡をY方向側から見た上面図である。It is the top view which looked at the slit lamp microscope from the Y-direction side. 照明系及び撮影系のそれぞれの構成及び配置の条件を説明するための説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining respective configurations and arrangement conditions of an illumination system and an imaging system; 図1中の固視光学系をY方向上方側から見た上面拡大図である。2 is an enlarged top view of the fixation optical system in FIG. 1 as viewed from above in the Y direction; FIG. 被検眼の位置ずれが規定範囲内である場合に被検者に呈示される固視標の一例を示した説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram showing an example of a fixation target presented to a subject when the displacement of the subject's eye is within a specified range; 被検眼の位置ずれが規定範囲内を超える場合に被検者に呈示される固視標の一例を示した説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram showing an example of a fixation target presented to a subject when the displacement of the subject's eye exceeds a specified range; 図6に示した例よりも被検眼の位置ずれが大きくなる場合に被検者に呈示される固視標の一例を示した説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram showing an example of a fixation target presented to the subject when the displacement of the subject's eye is larger than in the example shown in FIG. 6; スリットランプ顕微鏡による前眼部の3次元画像の生成処理の流れを示すフローチャートである。4 is a flow chart showing the flow of processing for generating a three-dimensional image of the anterior segment using a slit lamp microscope. スリットランプ顕微鏡の観察系の変形例を説明するための説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram for explaining a modified example of the observation system of the slit lamp microscope;

[スリットランプ顕微鏡の全体構成]
図1は、スリットランプ顕微鏡10をX方向側から見た側面図である。図2は、スリットランプ顕微鏡10をY方向側から見た上面図である。なお、図中の互いに直交するXYZ方向のうち、Z方向は被検眼Eに近づく前方向と被検者から遠ざかる後方向とに平行な前後方向(作動距離方向ともいう)であり、X方向は被検者を基準した左右方向であり、Y方向はXZ方向の双方に垂直な方向(ここでは上下方向)である。
[Overall Configuration of Slit Lamp Microscope]
FIG. 1 is a side view of the slit lamp microscope 10 viewed from the X-direction side. FIG. 2 is a top view of the slit lamp microscope 10 viewed from the Y-direction side. Of the XYZ directions orthogonal to each other in the figure, the Z direction is the front-back direction (also referred to as the working distance direction) parallel to the front direction approaching the eye E and the rear direction moving away from the subject, and the X direction is The horizontal direction is the horizontal direction with reference to the subject, and the Y direction is a direction perpendicular to both the XZ directions (here, the vertical direction).

図1及び図2に示すように、スリットランプ顕微鏡10は、本発明の顕微鏡に相当するものであり、被検眼Eの前眼部Eaの3次元画像の生成を行う。このスリットランプ顕微鏡10は、大別してシャインプルーフ光学系12と、移動機構14と、観察系50と、固視光学系80と、制御装置100と、を備える。 As shown in FIGS. 1 and 2, the slit lamp microscope 10 corresponds to the microscope of the present invention, and generates a three-dimensional image of the anterior segment Ea of the eye E to be examined. The slit lamp microscope 10 roughly includes a Scheimpflug optical system 12 , a moving mechanism 14 , an observation system 50 , a fixation optical system 80 and a control device 100 .

[シャインプルーフ光学系]
シャインプルーフ光学系12は、後述の移動機構14によりX方向に移動自在に保持されており、被検眼Eの前眼部EaのYZ面に沿った断面撮影を行う。このシャインプルーフ光学系12は、照明系20と、撮影系30R,30Lとにより構成される。なお、図1では図面の煩雑化を防止するために、撮影系30R,30Lの図示は省略している。
[Scheimpflug optical system]
The Scheimpflug optical system 12 is held movably in the X direction by a moving mechanism 14, which will be described later, and performs cross-sectional imaging of the anterior segment Ea of the subject's eye E along the YZ plane. The Scheimpflug optical system 12 is composed of an illumination system 20 and photographing systems 30R and 30L. Note that the imaging systems 30R and 30L are not shown in FIG. 1 in order to avoid complication of the drawing.

<照明系>
照明系20は、Z方向に平行な照明光軸O1を有し、この照明光軸O1に沿って被検眼Eの前眼部Eaに対してスリット状の照明光L(スリット光LS)を照射する。照明系20は、従来のスリットランプ顕微鏡の照明系と同様の構成を備えていてよく、例えば、照明光軸O1に沿って配置された照明光源22、スリット形成部24、及び対物レンズ26などを含む。
<Lighting system>
The illumination system 20 has an illumination optical axis O1 parallel to the Z direction, and irradiates a slit-shaped illumination light L (slit light LS) to the anterior segment Ea of the eye to be examined E along this illumination optical axis O1. do. The illumination system 20 may have the same configuration as the illumination system of a conventional slit lamp microscope. include.

照明光源22は、例えばLED(light emitting diode)が用いられ、照明光Lを出射する。照明光Lとしては可視光が用いられるが、赤外光(近赤外光)を用いてもよい。照明光源22から出射された照明光Lは、不図示のレンズ等を透過した後、スリット形成部24に入射する。 The illumination light source 22 uses, for example, an LED (light emitting diode) and emits illumination light L. As shown in FIG. Visible light is used as the illumination light L, but infrared light (near-infrared light) may be used. The illumination light L emitted from the illumination light source 22 enters the slit forming portion 24 after passing through a lens (not shown) or the like.

なお、照明光源22は複数の光源で構成されていてもよい。例えば照明光源22が、連続光を出力する光源と、フラッシュ光を出力する照明光源とを含んでいてよい。また、照明光源22が、前眼部用照明光源と後眼部用照明光源とを含んでいてもよい。さらに、照明光源22が、照明光Lの出力波長が互いに異なる複数の光源を含んでいてもよい。 Note that the illumination light source 22 may be composed of a plurality of light sources. For example, the illumination light source 22 may include a light source that outputs continuous light and an illumination light source that outputs flash light. Further, the illumination light source 22 may include an anterior segment illumination light source and a posterior segment illumination light source. Furthermore, the illumination light source 22 may include a plurality of light sources whose output wavelengths of the illumination light L are different from each other.

スリット形成部24は、例えばY方向に平行な一対のスリット刃を有し、これらスリット刃のX方向の間隔(スリット幅)を変更することで照明光Lが通過する領域の幅を変更する。これにより、スリット形成部24を通過した照明光Lは、合焦時には前眼部位置でX方向を幅方向とし且つY方向を長さ方向とするスリット光LSになる。 The slit forming part 24 has, for example, a pair of slit blades parallel to the Y direction, and the width of the region through which the illumination light L passes is changed by changing the interval (slit width) between these slit blades in the X direction. As a result, the illumination light L that has passed through the slit forming portion 24 becomes slit light LS having the width direction in the X direction and the length direction in the Y direction at the anterior segment position at the time of focusing.

スリット光LSのY方向の長さは、前眼部Eaの表面において角膜径以上に設定されている。なお、スリット形成部24がスリット光LSのY方向の長さを変更可能に構成されてもよい。 The length of the slit light LS in the Y direction is set to be equal to or larger than the corneal diameter on the surface of the anterior segment Ea. Note that the slit forming section 24 may be configured to change the length of the slit light LS in the Y direction.

対物レンズ26は、スリット形成部24を通過した照明光Lを前眼部Eaに照射する。これにより、前眼部Eaにスリット光LSが照射される。 The objective lens 26 irradiates the anterior segment Ea with the illumination light L that has passed through the slit forming part 24 . As a result, the anterior segment Ea is irradiated with the slit light LS.

なお、照明系20が、スリット光LSのフォーカス位置を変更するための合焦光学系(図示は省略)を更に含んでいてもよい。 The illumination system 20 may further include a focusing optical system (not shown) for changing the focus position of the slit light LS.

<撮影系>
撮影系30R,30Lは、スリット光LSが照射されている前眼部Eaを互いに異なる2方向から撮影する。撮影系30R,30Lは、従来のスリットランプ顕微鏡の撮影系と同様の構成を備えていてもよい。例えば撮影系30Rは、撮影光軸O2Rに沿って配置された光学系32R及び撮像素子34Rを備える。また、撮影系30Lは、撮影光軸O2Lに沿って配置された光学系32L及び撮像素子34Lを備える。
<Shooting system>
The imaging systems 30R and 30L image the anterior segment Ea irradiated with the slit light LS from two different directions. The imaging systems 30R and 30L may have the same configuration as the imaging system of a conventional slit lamp microscope. For example, the imaging system 30R includes an optical system 32R and an imaging element 34R arranged along the imaging optical axis O2R. The imaging system 30L also includes an optical system 32L and an imaging device 34L arranged along the imaging optical axis O2L.

撮影光軸O2Rは、ZX面に平行で、且つY方向側から見た場合にZ方向に対してX方向の一方向側に角度θRで傾斜している。また、撮影光軸O2Lは、ZX面に平行で、且つY方向側から見た場合にZ方向に対してX方向の他方向側に角度θLで傾斜している。角度θRと角度θLとは、互いに等しくてもよいし異なっていてもよい。そして、照明光軸O1と撮影光軸O2Rと撮影光軸O2Lとは一点で交差する。 The photographing optical axis O2R is parallel to the ZX plane, and is inclined at an angle θR to one side of the X direction with respect to the Z direction when viewed from the Y direction side. Further, the photographing optical axis O2L is parallel to the ZX plane and is inclined at an angle θL to the other side of the X direction with respect to the Z direction when viewed from the Y direction side. The angles θR and θL may be equal to or different from each other. The illumination optical axis O1, the imaging optical axis O2R, and the imaging optical axis O2L intersect at one point.

光学系32Rは、図示は省略するが、例えば被検眼Eに近い側から順に、対物レンズ、変倍光学系、及び結像レンズ等を含む。前眼部Eaからの戻り光LAは、光学系32Rの対物レンズ及び変倍光学系を通過し、光学系32Rの結像レンズにより撮像素子34Rの撮像面36Rに結像される。なお、光学系32Rが合焦光学系(図示は省略)を更に含んでいてもよい。 Although illustration is omitted, the optical system 32R includes, for example, an objective lens, a variable magnification optical system, an imaging lens, and the like in order from the side closer to the eye E to be examined. The return light LA from the anterior segment Ea passes through the objective lens of the optical system 32R and the variable magnification optical system, and is imaged on the imaging surface 36R of the imaging element 34R by the imaging lens of the optical system 32R. Note that the optical system 32R may further include a focusing optical system (not shown).

前眼部Eaからの戻り光LAには、前眼部Eaに照射されているスリット光LSの戻り光が含まれ、さらに他の光を含んでいてよい。戻り光LAの例としては、反射光、散乱光、及び蛍光等が挙げられる。また、他の光の例としては、スリットランプ顕微鏡10の設置環境からの光(室内光、太陽光など)がある。また、前眼部Eaの全体を照明するための前眼部照明系(図示は省略)が照明系20とは別に設けられている場合には、この前眼部照明系からの前眼部照明光の戻り光(反射光)が「他の光」に含まれていてもよい。 The return light LA from the anterior segment Ea includes the return light of the slit light LS with which the anterior segment Ea is irradiated, and may further include other light. Examples of the returned light LA include reflected light, scattered light, fluorescence, and the like. Another example of light is light from the installation environment of the slit lamp microscope 10 (indoor light, sunlight, etc.). Further, when an anterior segment illumination system (not shown) for illuminating the entire anterior segment Ea is provided separately from the illumination system 20, the anterior segment illumination from this anterior segment illumination system Return light (reflected light) of light may be included in the “other light”.

撮像素子34Rは、後述の撮像素子34Lと共に本発明の第1撮像素子を構成する。撮像素子34Rは、2次元の撮像面36Rを有するCMOS(complementary metal oxide semiconductor)型又はCCD(Charge Coupled Device)型のエリアセンサである。撮像素子34Rは、光学系32Rにより撮像面36Rに結像された戻り光LAを撮像して、この戻り光LAの撮像画像である前眼部断面像DRを制御装置100へ出力する。この前眼部断面像DRは、前眼部Eaのスリット光照射位置におけるYZ断面の画像である。 The image pickup device 34R constitutes the first image pickup device of the present invention together with an image pickup device 34L, which will be described later. The imaging element 34R is a CMOS (complementary metal oxide semiconductor) or CCD (Charge Coupled Device) area sensor having a two-dimensional imaging surface 36R. The imaging element 34R captures the return light LA imaged on the imaging surface 36R by the optical system 32R, and outputs an anterior segment cross-sectional image DR, which is a captured image of the return light LA, to the control device 100. This anterior segment cross-sectional image DR is a YZ cross-sectional image of the anterior segment Ea at the slit light irradiation position.

光学系32Lは、既述の光学系32Rと同じ構成であり、図示は省略するが対物レンズ、変倍光学系、及び結像レンズ等を含み、さらに合焦光学系を含んでもよい。これにより、スリット光LSが照射されている前眼部Eaからの戻り光LAが、光学系32Lの対物レンズ及び変倍光学系を通過し、光学系32Lの結像レンズにより撮像素子34Lの撮像面36Lに結像される。 The optical system 32L has the same configuration as the optical system 32R described above, and includes an objective lens, a variable magnification optical system, an imaging lens, etc., although not shown, and may further include a focusing optical system. As a result, the return light LA from the anterior segment Ea irradiated with the slit light LS passes through the objective lens and the variable magnification optical system of the optical system 32L, and the imaging element 34L is imaged by the imaging lens of the optical system 32L. An image is formed on the surface 36L.

撮像素子34Lは、2次元の撮像面36Lを有するCMOS型又はCCD型のエリアセンサであり、光学系32Lにより撮像面36Lに結像された戻り光LAを撮像して、この戻り光LAの撮像画像である前眼部断面像DLを制御装置100へ出力する。この前眼部断面像DLは、前眼部Eaのスリット光照射位置におけるYZ断面の画像である。 The imaging element 34L is a CMOS or CCD area sensor having a two-dimensional imaging surface 36L, and captures an image of the return light LA formed on the imaging surface 36L by the optical system 32L. An anterior segment cross-sectional image DL, which is an image, is output to the control device 100 . This anterior segment cross-sectional image DL is an image of the YZ cross section at the slit light irradiation position of the anterior segment Ea.

<シャインプルーフカメラ>
図3は、照明系20及び撮影系30R,30Lのそれぞれの構成及び配置の条件を説明するための説明図である。図3に示すように、照明系20及び撮影系30Lはシャインプルーフカメラとして機能し、且つ照明系20及び撮影系30Rもシャインプルーフカメラとして機能する。
<Scheimpflug camera>
FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining respective configurations and arrangement conditions of the illumination system 20 and the imaging systems 30R and 30L. As shown in FIG. 3, the illumination system 20 and the imaging system 30L function as a Scheimpflug camera, and the illumination system 20 and the imaging system 30R also function as a Scheimpflug camera.

図3の符号3Aに示すように、照明光軸O1を含み且つYZ面に平行な物面SP(撮像面36R,36Lにピントが合う面)と、光学系32Lの主面SLと、撮像面36Lと、がシャインプルーフの条件(原理)を満たすように、照明系20及び撮影系30Lが構成されている。より具体的には、物面SPを含む平面H1と、主面SLを含む平面H2Lと、撮像面36Lを含む平面H3Lと、が同一の直線上にて交差する。これにより、撮影系30Lが物面SP内の全ての位置(例えば前眼部Eaの角膜前面から水晶体後面の範囲)にピントを合わせて撮影、すなわち前眼部Eaの断面撮影を行うことで前眼部断面像DLが得られる。 As indicated by reference numeral 3A in FIG. 3, an object surface SP (a surface on which the imaging surfaces 36R and 36L are focused) that includes the illumination optical axis O1 and is parallel to the YZ plane, a main surface SL of the optical system 32L, and an imaging surface The illumination system 20 and the imaging system 30L are configured so that 36L and 36L satisfy the Scheimpflug condition (principle). More specifically, a plane H1 including the object surface SP, a plane H2L including the main surface SL, and a plane H3L including the imaging surface 36L intersect on the same straight line. As a result, the imaging system 30L focuses and photographs all positions within the object plane SP (for example, the range from the anterior surface of the cornea to the posterior surface of the crystalline lens of the anterior segment Ea). An eye cross-sectional image DL is obtained.

また同様に、図3の符号3Bに示すように、物面SPと、光学系32Rの主面SRと、撮像面36Rと、がシャインプルーフの条件を満たすように、照明系20及び撮影系30Rとが構成されている。より具体的には、平面H1と、主面SRを含む平面H2Rと、撮像面36Rを含む平面H3Rと、が同一の直線上にて交差する。これにより、撮影系30Rも物面SP内の全ての位置(前眼部Eaの角膜前面から水晶体後面の範囲)にピントを合わせて前眼部Eaの断面撮影を行うことで前眼部断面像DRが得られる。 Similarly, as indicated by reference numeral 3B in FIG. 3, the illumination system 20 and the imaging system 30R are arranged such that the object surface SP, the main surface SR of the optical system 32R, and the imaging surface 36R satisfy the Scheimpflug condition. and are configured. More specifically, the plane H1, the plane H2R including the main surface SR, and the plane H3R including the imaging surface 36R intersect on the same straight line. As a result, the imaging system 30R also focuses on all positions within the object plane SP (the range from the anterior surface of the cornea of the anterior segment Ea to the posterior surface of the crystalline lens), and performs cross-sectional imaging of the anterior segment Ea. DR is obtained.

このようなシャインプルーフの条件を満たす照明系20及び撮影系30R,30Lの構成は、照明系20に含まれる要素の構成及び配置、撮影系30R,30Lに含まれる要素の構成及び配置、及び照明系20と撮影系30R,30Lとの相対位置によって実現される。照明系20と撮影系30R,30Lとの相対位置を示すパラメータは、例えば、既述の角度θR,θLを含む。角度θR,θLは、例えば17.5度、30度、又は45度に設定される。なお、角度θR,θLが可変であってもよい。 The configurations of the illumination system 20 and the imaging systems 30R and 30L that satisfy such Scheimpflug conditions include the configuration and arrangement of elements included in the illumination system 20, the configuration and arrangement of elements included in the imaging systems 30R and 30L, and illumination. This is realized by the relative positions of the system 20 and the imaging systems 30R and 30L. Parameters indicating the relative positions of the illumination system 20 and the imaging systems 30R and 30L include, for example, the angles θR and θL described above. The angles θR and θL are set to 17.5 degrees, 30 degrees, or 45 degrees, for example. Note that the angles θR and θL may be variable.

[移動機構]
移動機構14は、本発明の相対移動機構に相当するものであり、図示は省略するが、シャインプルーフ光学系12が搭載されたステージと、このステージをXYZ方向に移動させるモータ等のアクチュエータと、により構成されている。なお、移動機構14は、被検眼Eに対してシャインプルーフ光学系12を相対移動可能であれば、その構成は特に限定されるものではなく、例えば不図示の顔支持部を移動させるものであってもよい。
[Movement Mechanism]
The moving mechanism 14 corresponds to the relative moving mechanism of the present invention, and although not shown, includes a stage on which the Scheimpflug optical system 12 is mounted, an actuator such as a motor for moving the stage in the XYZ directions, It is composed of The structure of the moving mechanism 14 is not particularly limited as long as the Scheimpflug optical system 12 can be moved relative to the eye E to be examined. may

移動機構14は、被検眼Eに対するシャインプルーフ光学系12のアライメント時には、後述の制御装置100の制御の下、シャインプルーフ光学系12のXYZ方向の位置調整を行うことで、被検眼Eに対するシャインプルーフ光学系12のアライメント(オートアライメント)を実行する。 When aligning the Scheimpflug optical system 12 with respect to the eye E to be examined, the moving mechanism 14 adjusts the position of the Scheimpflug optical system 12 in the XYZ directions under the control of the control device 100, which will be described later. Alignment (auto-alignment) of the optical system 12 is executed.

また、移動機構14は、前眼部Eaの3次元画像生成時には、後述の制御装置100の制御の下、照明系20による前眼部Eaへのスリット光LSの照射と撮影系30R,30Lによる前眼部断面像DR,DLの撮影とに合わせて、シャインプルーフ光学系12を照明光軸O1に対して垂直方向に移動させる。より具体的には移動機構14は、シャインプルーフ光学系12を物面SPに垂直な方向であるX方向に移動させる。これにより、X方向を幅方向とし且つY方向を長さ方向とするYZ面に平行なスリット光LSにより前眼部EaをX方向に走査(スキャン)することができる。この際に本実施形態では、移動機構14によるシャインプルーフ光学系12のX方向の移動範囲、すなわち前眼部Eaに対するスリット光LSのX方向の走査範囲が少なくとも前眼部Eaの角膜を含む範囲に設定されている。このため、角膜全体をスリット光LSで走査することができる。 Further, when the three-dimensional image of the anterior segment Ea is generated, the moving mechanism 14 irradiates the anterior segment Ea with the slit light LS by the illumination system 20 and performs The Scheimpflug optical system 12 is moved in the direction perpendicular to the illumination optical axis O1 in accordance with the photographing of the anterior segment cross-sectional images DR and DL. More specifically, the moving mechanism 14 moves the Scheimpflug optical system 12 in the X direction, which is the direction perpendicular to the object plane SP. As a result, the anterior segment Ea can be scanned in the X direction with the slit light LS parallel to the YZ plane having the X direction as the width direction and the Y direction as the length direction. At this time, in the present embodiment, the moving range of the Scheimpflug optical system 12 in the X direction by the moving mechanism 14, that is, the scanning range of the slit light LS for the anterior segment Ea in the X direction includes at least the cornea of the anterior segment Ea. is set to Therefore, the entire cornea can be scanned with the slit light LS.

このように移動機構14により照明系20からのスリット光LSを前眼部Eaに対してX方向に走査しながら撮影系30R,30Lによる戻り光LAの撮像(動画撮像)及び前眼部断面像DR,DLの連続出力と、を実行することで、スリット光LSのX方向の走査位置ごとに前眼部Eaの前眼部断面像DR,DLが得られる(上記特許文献1参照)。なお、アライメントに用いられる移動機構14と、シャインプルーフ光学系12をX方向に移動させる移動機構14とが別体であってもよい。 In this way, while the slit light LS from the illumination system 20 is scanned in the X direction with respect to the anterior segment Ea by the moving mechanism 14, the photographing systems 30R and 30L capture images (moving images) of the return light LA and the cross-sectional images of the anterior segment. By continuously outputting DR and DL, anterior segment cross-sectional images DR and DL of the anterior segment Ea are obtained for each scanning position of the slit light LS in the X direction (see Patent Document 1 above). The moving mechanism 14 used for alignment and the moving mechanism 14 for moving the Scheimpflug optical system 12 in the X direction may be separate bodies.

[観察系]
図1に戻って、観察系50は、シャインプルーフ光学系12とは独立して設けられており、スリットランプ顕微鏡10内で位置が固定、すなわち被検眼Eとの相対位置が固定されている。
[Observation system]
Returning to FIG. 1, the observation system 50 is provided independently of the Scheimpflug optical system 12, and its position within the slit lamp microscope 10 is fixed, that is, its position relative to the subject's eye E is fixed.

観察系50は、観察光軸O3を有し、被検眼Eに近い側から順に観察光軸O3に沿って配置された光学系52及び撮像素子54を備える。 The observation system 50 has an observation optical axis O3, and includes an optical system 52 and an imaging element 54 arranged along the observation optical axis O3 in order from the side closer to the eye E to be examined.

観察光軸O3(後述の投影光軸O4も同様)は、Y方向から見た場合に照明光軸O1と重なり且つX方向から見た場合に照明光軸O1に対してY方向下方側(Y方向上方側でも可)に傾斜角度θだけ傾斜している。この傾斜角度θは、照明系20から前眼部Eaに照射されるスリット光LSが観察系50及び後述の固視光学系80にケラレないような適切な角度、例えば約8度に設定されている。これにより、照明系20から前眼部Eaに照射されるスリット光LSの光量低下が防止される。 The observation optical axis O3 (also the projection optical axis O4, which will be described later) overlaps with the illumination optical axis O1 when viewed from the Y direction, and is positioned below the illumination optical axis O1 in the Y direction (Y direction) when viewed from the X direction. It is tilted by the tilt angle θ to the direction upward side is also possible). This tilt angle θ is set to an appropriate angle, for example, about 8 degrees, so that the slit light LS irradiated from the illumination system 20 to the anterior segment Ea is not eclipsed by the observation system 50 and a fixation optical system 80, which will be described later. there is This prevents a decrease in the light amount of the slit light LS irradiated from the illumination system 20 to the anterior segment Ea.

光学系52は、図示は省略するが結像レンズ等を含み、被検眼Eからの戻り光LB(第2戻り光に相当)を撮像素子54に結像させる。なお、光学系52が合焦光学系を含んでいてもよい。 The optical system 52 includes an imaging lens (not shown) and the like, and forms an image of the return light LB (corresponding to the second return light) from the eye E to be examined on the imaging device 54 . Note that the optical system 52 may include a focusing optical system.

被検眼Eからの戻り光LBには、既述の前眼部照明系(図示は省略)から前眼部Eaに照射されている前眼部照明光の戻り光(前眼部反射光)などが含まれる。 The return light LB from the subject's eye E includes the return light (anterior segment reflected light) of the anterior segment illumination light irradiated to the anterior segment Ea from the aforementioned anterior segment illumination system (not shown). is included.

撮像素子54は、CMOS型又はCCD型のエリアセンサであり、本発明の第2撮像素子に相当する。この撮像素子54は、光学系52により結像された戻り光LBを撮像して、被検眼Eの観察像D(前眼部Eaを撮影した前眼部像)を制御装置100へ出力する。 The imaging element 54 is a CMOS or CCD area sensor and corresponds to the second imaging element of the present invention. The image pickup device 54 picks up the return light LB imaged by the optical system 52 and outputs an observation image D of the subject's eye E (an anterior segment image obtained by capturing the anterior segment Ea) to the control device 100 .

[固視光学系]
図4は、図1中の固視光学系80をY方向上方側から見た上面拡大図である。なお、図中のZ1方向は、Z方向に対して傾斜角度θだけ傾斜した方向、すなわち観察光軸O3に平行な方向である。また、図中のY1方向は、Z1方向及びX方向の双方に対して垂直な方向である。
[Fixation optics]
FIG. 4 is an enlarged top view of the fixation optical system 80 in FIG. 1 as seen from above in the Y direction. Note that the Z1 direction in the drawing is a direction inclined by an inclination angle θ with respect to the Z direction, that is, a direction parallel to the observation optical axis O3. Also, the Y1 direction in the drawing is a direction perpendicular to both the Z1 direction and the X direction.

図4及び既述の図1に示すように、固視光学系80は、被検眼Eの眼底Efに対して固視光LFを投影(照射)する。固視光学系80は、観察系50の観察光軸O3の一部と共通の投影光軸O4を有している、すなわち観察系50と同軸である。投影光軸O4は、観察光軸O3の途中から分岐しており、この分岐位置から被検眼Eまでが観察光軸O3と共通している。なお、観察光軸O3の途中から投影光軸O4を分岐させる代わりに、投影光軸O4の途中から観察光軸O3を分岐させてもよい。 As shown in FIG. 4 and FIG. 1 described above, the fixation optical system 80 projects (irradiates) the fixation light LF onto the fundus Ef of the eye E to be examined. The fixation optical system 80 has a projection optical axis O4 in common with part of the observation optical axis O3 of the observation system 50, that is, is coaxial with the observation system 50. FIG. The projection optical axis O4 branches from the middle of the observation optical axis O3, and the area from this branch position to the subject's eye E is shared with the observation optical axis O3. Note that instead of branching the projection optical axis O4 from the middle of the observation optical axis O3, the observation optical axis O3 may be branched from the middle of the projection optical axis O4.

固視光学系80は、投影光軸O4に沿って配置された固視光源81、拡散板82、ピンホール部材83、レンズ84、十字レチクル板85、レンズ86、及びミラー87を備える。 The fixation optical system 80 includes a fixation light source 81, a diffusion plate 82, a pinhole member 83, a lens 84, a cross reticle plate 85, a lens 86, and a mirror 87 arranged along the projection optical axis O4.

固視光源81は、例えば緑色LEDが用いられ、可視光である緑色光を固視光LFとして出射する。固視光源81から出射された固視光LFは、拡散板82で拡散された後、ピンホール部材83に形成されているピンホール83aを通過する。この際にピンホール83aを小径にすることで、固視光学系80の被写界深度を深くすることができる。その結果、固視光学系80が合焦機構を備えていなくとも、ある程度のディオプター範囲に固視光LFのピント位置を合わせることができる。 The fixation light source 81 uses, for example, a green LED, and emits green light, which is visible light, as fixation light LF. The fixation light LF emitted from the fixation light source 81 is diffused by the diffusion plate 82 and then passes through the pinhole 83 a formed in the pinhole member 83 . At this time, the depth of field of the fixation optical system 80 can be increased by reducing the diameter of the pinhole 83a. As a result, even if the fixation optical system 80 does not have a focusing mechanism, the fixation light LF can be focused within a certain diopter range.

ピンホール83aを通過した固視光LFは、レンズ84を介して十字レチクル板85を透過する。これにより、眼底Efに対して十字形状の固視光LFが投影される。そして、十字レチクル板85を透過した固視光LFは、レンズ86を介してミラー87に入射する。 The fixation light LF that has passed through the pinhole 83 a passes through the cross reticle plate 85 via the lens 84 . Thereby, a cross-shaped fixation light LF is projected onto the fundus oculi Ef. The fixation light LF transmitted through the cross reticle plate 85 is incident on the mirror 87 via the lens 86 .

ミラー87は、例えばダイクロイックミラー或いはハーフミラーなどが用いられ、観察光軸O3からの投影光軸O4の分岐位置に配置されている。ミラー87は、レンズ86から入射した固視光LFを被検眼Eに向けて反射し、逆に被検眼Eから入射した戻り光LBを透過して光学系52に向けて出射する。 The mirror 87 is, for example, a dichroic mirror or a half mirror, and is arranged at a branch position of the projection optical axis O4 from the observation optical axis O3. The mirror 87 reflects the fixation light LF incident from the lens 86 toward the eye E to be inspected, and conversely transmits the return light LB incident from the eye E to be inspected and emits it toward the optical system 52 .

このように固視光学系80は、投影光軸O4に沿って眼底Efに対して固視光LFを投影する。この際に、被検眼Eの瞳上での固視光LFの光束径φは例えば4.5mmに調整されている。これにより、眼底Ef内の図中の点線円Cで囲む領域の眼底像Dfに示すように、眼底Ef上に十字形状の固視光LFが結像されることで、被検眼Eに対して十字形状の固視標FPが呈示される。その結果、被検眼Eの視線方向を固視標FPの方向に固定、すなわち被検眼Eを固視させることができる。 Thus, the fixation optical system 80 projects the fixation light LF onto the fundus oculi Ef along the projection optical axis O4. At this time, the luminous flux diameter φ of the fixation light LF on the pupil of the eye E is adjusted to 4.5 mm, for example. As a result, a cross-shaped fixation light LF is formed on the fundus oculi Ef, as shown in the fundus image Df in the area surrounded by the dotted circle C in the drawing, in the fundus oculi Ef. A cross-shaped fixation target FP is presented. As a result, the visual line direction of the subject's eye E can be fixed in the direction of the fixation target FP, that is, the subject's eye E can be made to fixate.

そして、固視光学系80は、被検眼Eに対する相対位置が固定されている観察系50に設けられているので、移動機構14によりシャインプルーフ光学系12がX方向に移動される場合、すなわちスリット光LSにより前眼部EaがX方向に走査される場合においても、被検眼Eの固視を安定(継続)させることができる。 Since the fixation optical system 80 is provided in the observation system 50 whose relative position to the subject's eye E is fixed, when the Scheimpflug optical system 12 is moved in the X direction by the moving mechanism 14, that is, the slit Even when the anterior segment Ea is scanned in the X direction by the light LS, the fixation of the subject's eye E can be stabilized (continued).

また、本実施形態では、固視光学系80を、被検者が行うスリットランプ顕微鏡10に対する被検眼E(顔)の位置調整であるラフアライメント(簡易アライメントともいう)に用いる。例えば、スリットランプ顕微鏡10がスクリーノスコープ型である場合には、被検者がスリットランプ顕微鏡10に設けられた接眼部覗孔(図示は省略)を覗き込む必要がある。この際に、被検眼Eがスリットランプ顕微鏡10で想定されている配置想定位置から照明光軸O1に対して垂直方向(XY方向)に位置ずれ(以下、単に「位置ずれ」と略す)する場合がある。 Further, in this embodiment, the fixation optical system 80 is used for rough alignment (also referred to as simple alignment), which is positional adjustment of the subject's eye E (face) with respect to the slit lamp microscope 10 performed by the subject. For example, when the slit lamp microscope 10 is of the screenoscope type, the examinee needs to look into an eyepiece viewing hole (not shown) provided in the slit lamp microscope 10 . At this time, when the subject's eye E is displaced in the direction (XY direction) perpendicular to the illumination optical axis O1 from the assumed arrangement position assumed in the slit lamp microscope 10 (hereinafter simply referred to as "positional displacement"). There is

このような場合に、被検眼Eの位置ずれが配置想定位置から予め定められた規定範囲(許容範囲ともいう)、例えば観察系50の観察範囲内であれば、シャインプルーフ光学系12に対する被検眼Eの相対位置の検出(アライメント検出)、及び被検眼Eに対するシャインプルーフ光学系12のアライメントを実行可能である。しかしながら、被検眼Eの位置ずれが上述の規定範囲内を超えてしまうと、アライメント検出及びアライメントを実行することができない。 In such a case, if the positional deviation of the eye to be examined E is within a predetermined specified range (also referred to as an allowable range) from the assumed arrangement position, for example, the observation range of the observation system 50, the eye to be examined with respect to the Scheimpflug optical system 12 Detection of the relative position of E (alignment detection) and alignment of the Scheimpflug optical system 12 with respect to the eye E can be performed. However, if the positional deviation of the subject's eye E exceeds the above-described specified range, alignment detection and alignment cannot be performed.

そこで本実施形態では、固視光学系80により被検眼Eに呈示される固視標FPに基づき、被検者が、配置想定位置に対する被検眼Eの位置ずれのずれ方向及びずれ量を認識可能にすると共に、被検者がこの位置ずれが上述の規定範囲内であるか否かも認識可能にする。このため、配置想定位置に対する被検眼Eの位置ずれが規定範囲内である場合には固視光LFの全体が眼底Efに投影され、且つ逆に位置ずれが規定範囲内を超える場合には位置ずれのずれ方向及びずれ量に応じて眼底Efに投影される固視光LFがケラレるように、固視光LFの形状及び瞳上での光束径φを設定する。 Therefore, in the present embodiment, the subject can recognize the displacement direction and displacement amount of the subject's eye E with respect to the assumed placement position based on the fixation target FP presented to the subject's eye E by the fixation optical system 80. At the same time, the subject can also recognize whether or not this positional deviation is within the above specified range. Therefore, when the displacement of the eye E to be examined with respect to the assumed arrangement position is within the specified range, the entire fixation light LF is projected onto the fundus oculi Ef. The shape of the fixation light LF and the luminous flux diameter φ on the pupil are set so that the fixation light LF projected onto the fundus oculi Ef is vignetted according to the shift direction and amount of shift.

具体的には本実施形態では、眼底Efに投影される固視光LFの形状を既述の通り十字形状に設定し、且つ位置ずれが規定範囲内を超える場合に固視光LFがケラレるように瞳上での光束径φ(被検者に呈示される固視標FPの大きさ)を設定する。 Specifically, in this embodiment, the shape of the fixation light LF projected onto the fundus oculi Ef is set to a cross shape as described above, and the fixation light LF is vignetted when the positional deviation exceeds the specified range. (the size of the fixation target FP presented to the subject) on the pupil is set as follows.

図5は、被検眼Eの位置ずれが規定範囲内である場合に被検者に呈示される固視標FPの一例を示した説明図である。図6は、被検眼Eの位置ずれが規定範囲内を超える場合に被検者に呈示される固視標FPの一例を示した説明図である。図7は、図6に示した例よりも被検眼Eの位置ずれが大きくなる場合に被検者に呈示される固視標FPの一例を示した説明図である。なお、図6及び図7は、固視標FPのケラレの一例を示したものであり、この固視標FPのケラレの状態は被検眼Eのディオプター、瞳孔径、及びZ方向のアライメント位置によって異なる。 FIG. 5 is an explanatory diagram showing an example of the fixation target FP presented to the subject when the displacement of the subject's eye E is within a specified range. FIG. 6 is an explanatory diagram showing an example of the fixation target FP presented to the subject when the displacement of the subject's eye E exceeds the prescribed range. FIG. 7 is an explanatory diagram showing an example of the fixation target FP presented to the subject when the displacement of the subject's eye E is greater than in the example shown in FIG. 6 and 7 show an example of vignetting of the fixation target FP. The vignetting state of the fixation target FP depends on the diopter of the eye E to be examined, the pupil diameter, and the alignment position in the Z direction. different.

図5に示すように、被検眼Eの位置ずれが規定範囲内である場合には、被検者は十字形状の固視標FPの全体を視認することができる。この場合には、被検者は被検眼E(顔)の位置調整(ラフアライメント)が不要であることを容易に認識することができる。 As shown in FIG. 5, when the displacement of the subject's eye E is within a specified range, the subject can visually recognize the entire cross-shaped fixation target FP. In this case, the subject can easily recognize that position adjustment (rough alignment) of the subject's eye E (face) is unnecessary.

一方、図6及び図7に示すように、被検眼Eの位置ずれが規定範囲内を超える場合には、被検者は、被検眼Eの位置ずれのずれ方向及びずれ量に応じて一部がケラレた固視標FPを視認する。この場合には被検者は、上述のラフアライメントが必要であることを認識すると共に上下左右の各方向のうちで固視標FPがケラレている方向を認識することができ、このケラレている方向に基づき被検眼E(顔)を動かす方向を判別可能である。これにより、被検者は、十字形状の固視標FPの一部がケラレないように、すなわち上下左右方向の長さが均等に見えるように被検眼E(顔)の位置を位置調整するラフアライメントを実行することができる。その結果、被検眼Eの位置ずれが規定範囲内に収められるので、被検眼Eの瞳孔径が大きい場合でも被検眼Eをアライメント検出範囲或いは観察範囲内に入れることができ、アライメント検出及び被検眼Eの観察等が可能になる。 On the other hand, as shown in FIGS. 6 and 7, when the displacement of the eye E to be examined exceeds the specified range, the subject may partially visually recognizes the vignetting fixation target FP. In this case, the subject can recognize that the above-described rough alignment is necessary, and can recognize the direction in which the fixation target FP is vignetting among the up, down, left, and right directions. The direction in which the subject's eye E (face) is moved can be determined based on the direction. As a result, the subject can roughly adjust the position of the subject's eye E (face) so that a part of the cross-shaped fixation target FP is not vignetted, that is, so that the lengths in the vertical and horizontal directions are uniform. Alignment can be performed. As a result, since the positional deviation of the eye to be examined E is kept within the prescribed range, even if the pupil diameter of the eye to be examined E is large, the eye to be examined E can be placed within the alignment detection range or the observation range. Observation of E, etc. become possible.

[制御装置]
制御装置100は、各種のプロセッサ(Processor)及びメモリ等から構成された演算回路を備えており、不図示の操作部に入力された検者からの操作指示に基づき、スリットランプ顕微鏡10の各部の動作を統括制御する。この制御装置100は、固視光学系80による被検眼Eへの固視光LFの投影と、被検眼Eに対するシャインプルーフ光学系12のアライメント検出及びアライメントと、照明系20による前眼部Eaへのスリット光LSの照射及び撮影系30R,30Lによる前眼部断面像DR,DLの撮影と、スリット光LSによる前眼部Eaの走査と、前眼部Eaの3次元画像の生成と、を制御する。
[Control device]
The control device 100 includes an arithmetic circuit composed of various processors, memories, etc., and controls each part of the slit lamp microscope 10 based on an operation instruction from an examiner input to an operation unit (not shown). Overall control of operations. The control device 100 performs projection of the fixation light LF onto the eye E to be examined by the fixation optical system 80, alignment detection and alignment of the Scheimpflug optical system 12 with respect to the eye E to be examined, and projection of the fixation light LF onto the anterior segment Ea by the illumination system 20. irradiating the slit light LS, photographing the anterior segment cross-sectional images DR and DL by the imaging systems 30R and 30L, scanning the anterior segment Ea with the slit light LS, and generating a three-dimensional image of the anterior segment Ea. Control.

制御装置100は、例えばスリットランプ顕微鏡10の電源がONされた場合などのように、被検眼Eに対するシャインプルーフ光学系12のアライメント開始前の状態において、固視光源81を制御して、固視光学系80による眼底Efへの固視光LFの投影を実行させる。また、制御装置100は、スリット光LSによる前眼部Eaの走査が行われている間、固視光源81を制御して、固視光学系80による眼底Efへの固視光LFの投影を実行させる。 The control device 100 controls the fixation light source 81 in a state before the start of alignment of the Scheimpflug optical system 12 with respect to the eye E to be examined, such as when the power of the slit lamp microscope 10 is turned on. Projection of the fixation light LF onto the fundus oculi Ef by the optical system 80 is executed. Further, while the anterior segment Ea is being scanned by the slit light LS, the control device 100 controls the fixation light source 81 to prevent the fixation optical system 80 from projecting the fixation light LF onto the fundus oculi Ef. let it run.

また、制御装置100は、不図示の操作部において前眼部Eaの3次元画像の生成指示を受け付けた場合に、観察系50(撮影系30R,30Lでも可)を制御して、前眼部Eaの観察像Dの撮影を行い、この観察像Dに基づきシャインプルーフ光学系12に対する被検眼Eの相対位置を検出するアライメント検出を行う。そして、制御装置100は、アライメント検出の結果に基づき、移動機構14を駆動してシャインプルーフ光学系12のXYZ方向位置を調整することで、被検眼Eに対するシャインプルーフ光学系12のXYZ方向のアライメント(精密アライメント)を行う。なお、アライメント検出及びアライメントについては公知技術であるので、ここでは詳細な説明は省略する。 Further, when an instruction to generate a three-dimensional image of the anterior segment Ea is received by an operation unit (not shown), the control device 100 controls the observation system 50 (or the imaging systems 30R and 30L) to An observation image D of Ea is captured, and based on this observation image D, alignment detection is performed to detect the relative position of the subject's eye E with respect to the Scheimpflug optical system 12 . Then, based on the result of the alignment detection, the control device 100 drives the moving mechanism 14 to adjust the XYZ direction position of the Scheimpflug optical system 12, thereby performing XYZ direction alignment of the Scheimpflug optical system 12 with respect to the eye E to be examined. (precision alignment). Since the alignment detection and alignment are well-known techniques, detailed descriptions thereof are omitted here.

さらに制御装置100は、上述のアライメントが完了した場合に、照明系20による前眼部Eaへのスリット光LSの照射と、撮影系30R,30Lによる前眼部Eaの断面撮影と、移動機構14によるスリット光LSのX方向の走査と、を実行させる(上記特許文献1参照)。そして、制御装置100は、スリット光LSの走査中にその走査位置ごとに撮影系30R,30Lにより撮影された前眼部断面像DR,DLに基づき、公知の方法で前眼部Eaの3次元画像を生成する(上記特許文献1参照)。 Further, when the alignment described above is completed, the control device 100 irradiates the anterior segment Ea with the slit light LS by the illumination system 20, photographs the cross section of the anterior segment Ea by the imaging systems 30R and 30L, and moves the moving mechanism 14. and scanning of the slit light LS in the X direction (see Patent Document 1 above). Then, based on the anterior segment cross-sectional images DR and DL captured by the imaging systems 30R and 30L at each scanning position during the scanning of the slit light LS, the control device 100 performs a three-dimensional image of the anterior segment Ea by a known method. An image is generated (see Patent Document 1 above).

[スリットランプ顕微鏡の作用]
図8は、上記構成のスリットランプ顕微鏡10による前眼部Eaの3次元画像の生成処理の流れを示すフローチャートである。なお、ここではスクリーノスコープ型のスリットランプ顕微鏡10を例に挙げて説明を行う。
[Action of slit lamp microscope]
FIG. 8 is a flow chart showing the flow of processing for generating a three-dimensional image of the anterior segment Ea by the slit lamp microscope 10 configured as described above. Here, a screenoscope type slit lamp microscope 10 will be described as an example.

図8に示すように、制御装置100は、スリットランプ顕微鏡10の電源がONされると、固視光源81を制御して、固視光源81からの固視光LFの出射を開始させる。そして、被検者がスリットランプ顕微鏡10の接眼部覗孔(図示は省略)を覗き込むと、固視光学系80から眼底Efに固視光LFが投影され、被検者に十字形状の固視標FPが呈示される(ステップS1)。これにより、被検者は、十字形状の固視標FPの全体が視認可能か否かに基づき、被検眼E(顔)の位置調整であるラフアライメントの不要/要を認識する。 As shown in FIG. 8, when the slit lamp microscope 10 is powered on, the control device 100 controls the fixation light source 81 to start emission of the fixation light LF from the fixation light source 81 . Then, when the subject looks into the eyepiece peephole (not shown) of the slit lamp microscope 10, the fixation optical system 80 projects the fixation light LF onto the fundus oculi Ef, giving the subject a cruciform shape. A fixation target FP is presented (step S1). As a result, the subject recognizes whether rough alignment, which is position adjustment of the subject's eye E (face), is unnecessary or necessary based on whether or not the entire cross-shaped fixation target FP is visible.

被検者は、被検眼Eの位置ずれのずれ方向及びずれ量に応じて固視標FPの一部がケラレている場合には、上下左右の各方向のうちで固視標FPがケラレている方向に基づき被検眼E(顔)を動かす方向を判別する。そして、被検者は、固視標FPの上下左右方向の長さが均等に見えるように被検眼Eの位置を位置調整するラフアライメントを実行する(ステップS2)。これにより、被検眼Eの位置ずれが規定範囲内に収められるので、アライメント検出及び被検眼Eの観察等が可能になる。 When part of the fixation target FP is vignetted according to the direction and amount of positional deviation of the eye E to be examined, the examinee determines that the fixation target FP is vignetted in each of the up, down, left, and right directions. The direction in which the subject's eye E (face) is to be moved is discriminated based on the direction in which it is present. Then, the subject performs rough alignment for adjusting the position of the subject's eye E so that the lengths of the fixation target FP in the vertical and horizontal directions are uniform (step S2). As a result, the positional deviation of the eye to be inspected E is kept within the specified range, so that alignment detection, observation of the eye to be inspected E, and the like are possible.

次いで、検者が不図示の操作部に対して前眼部Eaの3次元画像の生成開始操作を行うと、制御装置100が、観察系50による前眼部Eaの撮影を実行させ、この撮影で得られた観察像D(前眼部像)に基づきシャインプルーフ光学系12に対する被検眼Eのアライメント検出を行う。そして、制御装置100は、アライメント検出結果に基づき、移動機構14を駆動してシャインプルーフ光学系12のアライメントを実行する(ステップS3)。これにより、シャインプルーフ光学系12が、前眼部Eaに対するスリット光LSの走査開始位置に位置調整される。 Next, when the examiner operates an operation unit (not shown) to start generating a three-dimensional image of the anterior segment Ea, the control device 100 causes the observation system 50 to photograph the anterior segment Ea. Alignment detection of the subject's eye E with respect to the Scheimpflug optical system 12 is performed based on the observed image D (anterior segment image) obtained in . Then, the control device 100 drives the moving mechanism 14 to align the Scheimpflug optical system 12 based on the alignment detection result (step S3). Thereby, the Scheimpflug optical system 12 is position-adjusted to the scanning start position of the slit light LS with respect to the anterior segment Ea.

アライメントが完了すると、制御装置100が、照明系20から前眼部Eaへのスリット光LSの照射を開始させると共に(ステップS4)、撮影系30R,30Lの撮像素子34R,34Lによる戻り光LAの撮像、すなわち前眼部Eaの断面撮影を実行させる(ステップS5)。これにより、撮像素子34R,34Lから制御装置100に対して前眼部断面像DR,DLが出力される。 When the alignment is completed, the control device 100 starts irradiation of the slit light LS from the illumination system 20 to the anterior segment Ea (step S4), and the return light LA by the imaging elements 34R and 34L of the imaging systems 30R and 30L. Imaging, that is, cross-sectional imaging of the anterior segment Ea is performed (step S5). As a result, the anterior segment cross-sectional images DR and DL are output from the imaging elements 34R and 34L to the control device 100 .

そして、制御装置100は、移動機構14を駆動してシャインプルーフ光学系12をX方向に移動させることで、スリット光LSによる前眼部Eaの走査を開始する(ステップS6)。これにより、スリット光LSがX方向に走査されている間、このスリット光LSのX方向の走査位置ごとに、撮影系30R,30Lにより前眼部断面像DR,DLが撮影され、制御装置100が撮影系30R,30Lから前眼部断面像DR,DLを取得する(ステップS7)。 Then, the control device 100 drives the moving mechanism 14 to move the Scheimpflug optical system 12 in the X direction, thereby starting scanning of the anterior segment Ea with the slit light LS (step S6). As a result, while the slit light LS is being scanned in the X direction, the anterior segment cross-sectional images DR and DL are captured by the imaging systems 30R and 30L at each scanning position in the X direction of the slit light LS. acquire anterior segment cross-sectional images DR and DL from the imaging systems 30R and 30L (step S7).

また、制御装置100は、スリット光LSによる前眼部Eaの走査開始に合わせて、固視光学系80から眼底Efに対して固視光LFを投影させる(ステップS8)。これにより、被検眼Eに対して固視標FPが呈示されるので、被検眼Eの視線方向を固視標FPの方向に固定、すなわち被検眼Eを固視させることができる。その結果、スリット光LSによる前眼部Eaの走査時に被検者がこのスリット光LSを目で追ってしまうことが防止される。 In addition, the control device 100 causes the fixation optical system 80 to project the fixation light LF onto the fundus oculi Ef in synchronization with the start of scanning of the anterior segment Ea by the slit light LS (step S8). As a result, the fixation target FP is presented to the subject's eye E, so that the gaze direction of the subject's eye E can be fixed in the direction of the subject's eye E, that is, the subject's eye E can be made to fixate. As a result, it is possible to prevent the subject from following the slit light LS with his/her eyes when scanning the anterior segment Ea with the slit light LS.

以下、スリット光LSが走査終了位置に達するまで上述のステップS6からステップS8までの処理が繰り返し実行される(ステップS9でNO)。そして、スリット光LSによる前眼部Eaの走査が終了すると(ステップS9でYES)、制御装置100が、撮影系30R,30Lから取得したスリット光LSの走査位置ごとの前眼部断面像DR,DLに基づき、前眼部Eaの3次元画像を生成する(ステップS10)。 Thereafter, the processes from step S6 to step S8 are repeatedly executed until the slit light LS reaches the scanning end position (NO in step S9). Then, when the scanning of the anterior segment Ea by the slit light LS is completed (YES in step S9), the control device 100 scans the anterior segment cross-sectional images DR, Based on DL, a three-dimensional image of the anterior segment Ea is generated (step S10).

以上のように本実施形態では、被検眼Eに対する相対位置が固定されている観察系50に固視光学系80を設けることで、シャインプルーフ光学系12をX方向に移動させている間、すなわちスリット光LSによる前眼部Eaの走査を行っている間、固視光学系80による被検眼Eの固視を行って被検眼Eの視線方向を固定することができる。その結果、前眼部Eaの良好な3次元画像が得られる。 As described above, in this embodiment, by providing the fixation optical system 80 in the observation system 50 whose relative position to the eye E to be examined is fixed, while the Scheimpflug optical system 12 is moving in the X direction, that is, While the anterior segment Ea is being scanned by the slit light LS, the visual fixation of the subject's eye E can be performed by the fixation optical system 80 to fix the line-of-sight direction of the subject's eye. As a result, a good three-dimensional image of the anterior segment Ea is obtained.

[観察系の変形例]
図9は、スリットランプ顕微鏡10の観察系50の変形例を説明するための説明図である。上記実施形態では観察系50が戻り光LBを撮像素子54に導いているが、戻り光LBを接眼レンズ59に導くようにする、すなわち検者が接眼レンズ59を通して観察像D(前眼部像)を観察可能にしてもよい。この場合には、図9に示すように観察系50に接眼レンズ系56を設ける。この接眼レンズ系56は、ビームスプリッタ57と、結像レンズ58と、接眼レンズ59とを含む。
[Modified example of observation system]
FIG. 9 is an explanatory diagram for explaining a modification of the observation system 50 of the slit lamp microscope 10. As shown in FIG. In the above embodiment, the observation system 50 guides the return light LB to the image sensor 54, but the return light LB is led to the eyepiece 59. ) may be observable. In this case, an eyepiece system 56 is provided in the observation system 50 as shown in FIG. The eyepiece system 56 includes a beam splitter 57 , an imaging lens 58 and an eyepiece 59 .

ビームスプリッタ57は、観察光軸O3上に配置されており、被検眼Eからの戻り光LBの一部を透過して光学系52へ出射し、且つ残りを結像レンズ58に向けて反射する。結像レンズ58はビームスプリッタ57から入射した戻り光LBを接眼レンズ59に導く。これにより、検者は接眼レンズ59を通して観察像Dを観察することができる。 The beam splitter 57 is arranged on the observation optical axis O3, transmits part of the return light LB from the eye E to be emitted to the optical system 52, and reflects the rest toward the imaging lens 58. . The imaging lens 58 guides the return light LB incident from the beam splitter 57 to the eyepiece lens 59 . Thereby, the examiner can observe the observation image D through the eyepiece lens 59 .

[その他]
上記実施形態では、移動機構14によりシャインプルーフ光学系12をX方向に移動させることで、YZ面に平行なスリット光LSをX方向に走査しているが、スリット光LSの長さ方向及び走査方向は任意に変更可能である。また、上記特許文献1に記載されているように、シャインプルーフ光学系12を、照明光軸O1を中心として回転させることでスリット光LSによる前眼部Eaの走査を実行してもよい。
[others]
In the above embodiment, the Scheimpflug optical system 12 is moved in the X direction by the moving mechanism 14 to scan the slit light LS parallel to the YZ plane in the X direction. The direction can be changed arbitrarily. Further, as described in Patent Document 1, the Scheimpflug optical system 12 may be rotated about the illumination optical axis O1 to scan the anterior segment Ea with the slit light LS.

上記実施形態では前眼部Eaにスリット光LSを照射しているが、被検眼E内でのスリット光LSの照射位置は適宜変更してもよい。また、上記実施形態では、被検眼Eにスリット光LSを照射しているが、スリット光LS以外の各種形状の照明光を被検眼Eに照射してもよい。 In the above embodiment, the anterior segment Ea is irradiated with the slit light LS, but the irradiation position of the slit light LS within the subject's eye E may be changed as appropriate. Further, in the above embodiment, the eye E to be examined is irradiated with the slit light LS, but the eye E may be irradiated with illumination light of various shapes other than the slit light LS.

上記実施形態では、シャインプルーフ光学系12に2つの撮影系30R,30Lが設けられているが、撮影系の数は1つまたは3以上であってもよい。 In the above embodiment, the Scheimpflug optical system 12 is provided with the two imaging systems 30R and 30L, but the number of imaging systems may be one or three or more.

上記実施形態では、固視光学系80から眼底Efに対して十字形状の固視光LFを投影しているが、被検眼Eの位置ずれ(好ましくはそのずれ方向及びずれ量)を被検者が認識可能であれば固視光LFの形状は特に限定されず、例えば上下左右斜めの計8方向に延びた放射線状、或いは同心円状等の各種形状の固視光LFを眼底Efに投影してもよい。 In the above embodiment, the fixation optical system 80 projects the cross-shaped fixation light LF onto the fundus oculi Ef. The shape of the fixation light LF is not particularly limited as long as is recognizable. may

10 スリットランプ顕微鏡
12 シャインプルーフ光学系
14 移動機構
20 照明系
22 照明光源
24 スリット形成部
26 対物レンズ
30L,30R 撮影系
32L,32R 光学系
34L,34R 撮像素子
36L,36R 撮像面
50 観察系
52 光学系
54 撮像素子
56 接眼レンズ系
57 ビームスプリッタ
58 結像レンズ
59 接眼レンズ
80 固視光学系
81 固視光源
82 拡散板
83 ピンホール部材
83a ピンホール
84 レンズ
85 十字レチクル板
86 レンズ
87 ミラー
100 制御装置
C 点線円
D 観察像
DL,DR 前眼部断面像
Df 眼底像
E 被検眼
Ea 前眼部
Ef 眼底
FP 固視標
H1 平面
H2L,H2R 平面
H3L,H3R 平面
L 照明光
LA,LB 戻り光
LF 固視光
LS スリット光
O1 照明光軸
O2L,O2R 撮影光軸
O3 観察光軸
O4 投影光軸
SL,SR 主面
SP 物面
θ 傾斜角度
θL 角度
θR 角度
φ 光束径
10 Slit Lamp Microscope 12 Scheimpflug Optical System 14 Moving Mechanism 20 Illumination System 22 Illumination Light Source 24 Slit Forming Unit 26 Objective Lenses 30L, 30R Imaging Systems 32L, 32R Optical Systems 34L, 34R Imaging Elements 36L, 36R Imaging Surface 50 Observation System 52 Optics System 54 Imaging device 56 Eyepiece system 57 Beam splitter 58 Imaging lens 59 Eyepiece 80 Fixation optical system 81 Fixation light source 82 Diffusion plate 83 Pinhole member 83a Pinhole 84 Lens 85 Cross reticle plate 86 Lens 87 Mirror 100 Control device C Dotted circle D Observation images DL, DR Cross-sectional image of anterior segment Df Fundus image E Eye to be examined Ea Anterior segment Ef Fundus FP Fixation target H1 Plane H2L, H2R Plane H3L, H3R Plane L Illumination light LA, LB Return light LF Fixation Sighting light LS Slit light O1 Illumination optical axis O2L, O2R Imaging optical axis O3 Observation optical axis O4 Projection optical axis SL, SR Main surface SP Object surface θ Tilt angle θL Angle θR Angle φ Luminous flux diameter

Claims (8)

照明光軸を有し、前記照明光軸に沿って被検眼に照明光を照射する照明系と、
第1撮像素子と、前記照明光が照射された前記被検眼からの戻り光を前記第1撮像素子の撮像面に導く光学系とを有し、前記第1撮像素子により前記戻り光を撮像する撮影系と、
前記被検眼に対して前記照明系及び前記撮影系を含むシャインプルーフ光学系を相対移動させて、前記照明光による前記被検眼の走査を行う相対移動機構と、
を備え、
前記照明光軸を含む物面と、前記光学系の主面と、前記撮像面と、がシャインプルーフの条件を満たしている顕微鏡において、
前記被検眼との相対位置が固定されている固視光学系であって、且つ前記照明光軸及び前記撮影系の撮影光軸とは異なる投影光軸を有し、前記投影光軸に沿って前記被検眼に固視光を投影する固視光学系を備え、
前記固視光学系が、少なくとも前記相対移動機構による前記シャインプルーフ光学系の相対移動が行われている間、前記被検眼に前記固視光を投影する顕微鏡。
an illumination system having an illumination optical axis and irradiating an eye to be inspected with illumination light along the illumination optical axis;
and an optical system that guides the return light from the eye to be examined irradiated with the illumination light to an imaging surface of the first image pickup device, and the return light is picked up by the first image pickup device. shooting system and
a relative movement mechanism that relatively moves a Scheimpflug optical system including the illumination system and the imaging system with respect to the eye to be inspected to scan the eye to be inspected with the illumination light;
with
In a microscope in which an object plane including the illumination optical axis, a principal plane of the optical system, and the imaging plane satisfy Scheimpflug conditions,
A fixation optical system having a fixed relative position to the eye to be inspected, and having a projection optical axis different from the illumination optical axis and the imaging optical axis of the imaging system, along the projection optical axis comprising a fixation optical system that projects fixation light onto the eye to be examined;
A microscope in which the fixation optical system projects the fixation light onto the subject's eye at least while the relative movement of the Scheimpflug optical system is being performed by the relative movement mechanism.
前記固視光学系が、予め定められた前記被検眼の配置想定位置に対する前記被検眼の位置ずれのずれ方向及びずれ量を被検者に認識させることが可能な前記固視光を前記被検眼に投影する請求項1に記載の顕微鏡。 The fixation optical system emits the fixation light to the eye to be examined, with which the subject can recognize the direction and amount of positional displacement of the eye to be examined with respect to a predetermined assumed position of the eye to be examined. 2. A microscope as claimed in claim 1, which projects onto the . 前記固視光学系が前記被検眼に投影する前記固視光の形状及び光束径を、前記位置ずれが予め定められた規定範囲内の場合には前記固視光の全体が前記被検眼に投影され、且つ前記位置ずれが前記規定範囲内を超える場合には前記位置ずれのずれ方向及びずれ量に応じて前記固視光がケラレる形状及び光束径に設定している請求項2に記載の顕微鏡。 When the positional deviation is within a predetermined range, the fixation optical system projects the shape and luminous flux diameter of the fixation light onto the eye to be inspected so that the entire fixation light is projected onto the eye to be inspected. and when the positional deviation exceeds the specified range, the fixation light is set to a shape and a luminous flux diameter in which the fixation light is vignetted according to the direction and amount of the positional deviation. microscope. 前記固視光の形状が十字形状である請求項2又は3に記載の顕微鏡。 4. A microscope according to claim 2, wherein said fixation light has a cross shape. 前記固視光学系が、ピンホールを介して前記固視光を前記被検眼に投影する請求項1から4のいずれか1項に記載の顕微鏡。 The microscope according to any one of claims 1 to 4, wherein the fixation optical system projects the fixation light onto the subject's eye via a pinhole. 前記被検眼との相対位置が固定されている観察系であって、且つ前記投影光軸の一部と共通の観察光軸を有し、前記観察光軸に沿って入射した前記被検眼からの戻り光を第2撮像素子又は接眼レンズに導く観察系を備える請求項1から5のいずれか1項に記載の顕微鏡。 An observation system whose relative position with respect to the eye to be examined is fixed, and which has an observation optical axis common to a part of the projection optical axis, and is incident from the eye to be examined along the observation optical axis 6. The microscope according to any one of claims 1 to 5, further comprising an observation system that guides the returned light to the second imaging device or an eyepiece. 互いに直交するXYZ方向のうちで前記照明光軸に平行な方向をZ方向とした場合に、前記撮影光軸が、Y方向に垂直であり且つ前記Y方向から見た場合に前記照明光軸に対して傾斜しており、
前記投影光軸が、前記Y方向から見た場合に前記照明光軸と重なり且つX方向から見た場合に前記照明光軸に対して傾斜している請求項1から6のいずれか1項に記載の顕微鏡。
When the Z direction is the direction parallel to the illumination optical axis among the mutually orthogonal XYZ directions, the imaging optical axis is perpendicular to the Y direction and is aligned with the illumination optical axis when viewed from the Y direction. is slanted with respect to
7. The projection optical axis according to any one of claims 1 to 6, wherein the projection optical axis overlaps with the illumination optical axis when viewed from the Y direction and is inclined with respect to the illumination optical axis when viewed from the X direction. Microscope as described.
前記照明系が、前記物面に平行なスリット状の照明光を前記被検眼の前眼部に対して照射し、
前記相対移動機構が、前記シャインプルーフ光学系を前記物面に対して垂直な方向に移動させる請求項1から7のいずれか1項に記載の顕微鏡。
The illumination system irradiates the anterior ocular segment of the eye to be inspected with slit-shaped illumination light parallel to the object plane,
8. A microscope according to claim 1, wherein said relative movement mechanism moves said Scheimpflug optical system in a direction perpendicular to said object plane.
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