JP2023049071A

JP2023049071A - Space purification system

Info

Publication number: JP2023049071A
Application number: JP2021158588A
Authority: JP
Inventors: 一樹白田; Kazuki Shirata; 真司吉田; Shinji Yoshida; 正太郎山口; Shotaro Yamaguchi; 裕貴水野; Yuki Mizumo; 伊久真白井; Ikuma SHIRAI; 真一郎淵上; Shinichiro Fuchigami; 弥一仲松; Yaichi Nakamatsu
Original assignee: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Current assignee: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd
Priority date: 2021-09-29
Filing date: 2021-09-29
Publication date: 2023-04-10

Abstract

To provide a space purification system capable of stably supplying hypochlorous acid when incorporating hypochlorous acid into air passing through a gas-liquid contact part.SOLUTION: A space purification system 1 includes: a hypochlorous acid water supply device 2 that supplies hypochlorous acid water; a gas-liquid contact part 26 that drops and vaporizes the hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply device 2; and a blower 29 that releases air passing through the gas-liquid contact part 26 into an objective space S. The gas-liquid contact part 26 is configured to prevent reaction between materials constituting the gas-liquid contact part 26 and the hypochlorous acid water.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、次亜塩素酸を含有する除菌水を含侵させた加湿エレメントから気化した次亜塩素酸により空間を浄化する空間浄化システムに関するものである。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a space purification system that purifies a space with hypochlorous acid vaporized from a humidifying element impregnated with sterilized water containing hypochlorous acid.

除菌脱臭を行う手段として次亜塩素酸を含有する除菌水を活用することは有効な手段であり、除菌水を直接洗浄等に活用する、また、揮発噴霧等で空間を除菌する等、様々なシーンで活用されている。例えば、特許文献１に示すように、除菌水を加湿エレメント（気液接触部）に滴下して、加湿エレメントを通過した空気を除菌する給気装置（空間浄化システム）が提案されている。 It is an effective means to use sterilized water containing hypochlorous acid as a means of sterilizing and deodorizing, and the sterilizing water can be used directly for washing, etc., and the space can be sterilized by volatilization spray, etc. Etc., it is used in various scenes. For example, as shown in Patent Document 1, an air supply device (space purification system) has been proposed in which sterile water is dripped onto a humidification element (air-liquid contact portion) to sterilize the air that has passed through the humidification element. .

特開２０２０－６７２４５号公報JP 2020-67245 A

しかしながら、従来の給気装置では、次亜塩素酸水が加湿エレメントに含まれる成分と反応して消費され、空気中に気化する次亜塩素酸が減少することがあり、対象空間に次亜塩素酸が目的の濃度で放出されなくなるという問題があった。 However, in the conventional air supply device, the hypochlorous acid water reacts with the components contained in the humidifying element and is consumed, and the hypochlorous acid that evaporates into the air may decrease. There was a problem that the acid would not be released at the target concentration.

そこで本発明は、上記従来の課題を解決するものであり、気液接触部を流通する空気に次亜塩素酸を含ませる場合に、次亜塩素酸を安定して付与可能な空間浄化システムを提供することを目的とする。 Therefore, the present invention solves the above-mentioned conventional problems, and provides a space purification system that can stably impart hypochlorous acid when hypochlorous acid is included in the air flowing through the gas-liquid contact part. intended to provide

そして、この目的を達成するために、本発明に係る空間浄化システムは、次亜塩素酸水を供給する次亜塩素酸水供給装置と、次亜塩素酸水供給装置から供給される次亜塩素酸水を滴下して気化させる気液接触部と、気液接触部を通風する空気を対象空間に放出する送風機と、を備える。気液接触部は、気液接触部を構成する材料と次亜塩素酸水との反応が抑制されるように構成されていることを特徴とする。これらにより所期の目的を達成するものである。 In order to achieve this object, the space purification system according to the present invention includes a hypochlorous acid water supply device that supplies hypochlorous acid water, and hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply device. A gas-liquid contact portion for dripping acid water to vaporize it, and a blower for discharging the air passing through the gas-liquid contact portion to a target space. The gas-liquid contact portion is characterized in that it is configured such that reaction between a material forming the gas-liquid contact portion and hypochlorous acid water is suppressed. The intended purpose is achieved by these.

本発明によれば、気液接触部を流通する空気に次亜塩素酸を含ませる場合に、次亜塩素酸を安定して付与可能な空間浄化システムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when hypochlorous acid is contained in the air which distribute|circulates a gas-liquid contact part, the space purification system which can apply hypochlorous acid stably can be provided.

図１は、本発明の実施の形態１に係る空間浄化システムの模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram of a space purification system according to Embodiment 1 of the present invention. 図２は、気液接触部の構成を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing the configuration of the gas-liquid contact portion.

本発明に係る空間浄化システムは、次亜塩素酸水を供給する次亜塩素酸水供給装置と、次亜塩素酸水供給装置から供給される次亜塩素酸水を滴下して気化させる気液接触部と、気液接触部を通風する空気を対象空間に放出する送風機と、を備える。気液接触部は、気液接触部を構成する材料と次亜塩素酸水との反応が抑制されるように構成されている。 A space purification system according to the present invention includes a hypochlorous acid water supply device that supplies hypochlorous acid water, and a gas liquid that drips and vaporizes the hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply device. A contact part and a blower for blowing the air passing through the gas-liquid contact part into a target space are provided. The gas-liquid contact portion is configured to suppress the reaction between the material forming the gas-liquid contact portion and the hypochlorous acid water.

こうした構成によれば、気液接触部を構成する材料に起因する次亜塩素酸水の消費が抑制されるため、気液接触部を流通する空気と接触する次亜塩素酸水の濃度を安定化させることができる。この結果、気液接触部を流通する空気に次亜塩素酸を設定濃度で付与することができる。つまり、気液接触部を流通する空気に次亜塩素酸を含ませる場合に、次亜塩素酸を安定して付与可能な空間浄化システムとすることができる。 According to such a configuration, the consumption of hypochlorous acid water caused by the material constituting the gas-liquid contact part is suppressed, so the concentration of hypochlorous acid water in contact with the air flowing through the gas-liquid contact part is stabilized. can be made As a result, hypochlorous acid can be added to the air flowing through the gas-liquid contact portion at a set concentration. That is, when hypochlorous acid is contained in the air flowing through the gas-liquid contact portion, it is possible to provide a space purification system capable of stably applying hypochlorous acid.

また、本発明に係る空間浄化システムでは、気液接触部は、ポリエステル繊維又はポリエチレン繊維を素材とした不織布を有する複数の加湿素材を組み合わせて構成され、加湿素材は、互いに熱溶着によって接着されていることが好ましい。このようにすることで、複数の加湿素材を組み合わせる際に接着剤を使用する必要がなくなり、接着剤との反応による次亜塩素酸水の消費を抑制することができ、気液接触部から放出される空気に設定濃度の次亜塩素酸を安定して付与することができる。 Further, in the space purification system according to the present invention, the gas-liquid contact portion is configured by combining a plurality of humidifying materials having nonwoven fabrics made of polyester fibers or polyethylene fibers, and the humidifying materials are bonded to each other by heat welding. preferably. By doing this, there is no need to use an adhesive when combining multiple humidifying materials, and it is possible to suppress the consumption of hypochlorous acid water due to the reaction with the adhesive, which is released from the gas-liquid contact part. A set concentration of hypochlorous acid can be stably applied to the air.

また、本発明に係る空間浄化システムでは、気液接触部は、抗菌剤又は防カビ剤として、イソチアゾリン系の抗菌剤又は防カビ剤を含有していることが好ましい。このようにすることで、気液接触部での菌又はカビの発生を抑制しつつ、抗菌剤又は防カビ剤に起因する次亜塩素酸水の消費を抑制することができる。このため、気液接触部から放出される空気に設定濃度の次亜塩素酸を安定して付与することができる。 Further, in the space purification system according to the present invention, the gas-liquid contact portion preferably contains an isothiazoline-based antibacterial agent or antifungal agent as the antibacterial agent or antifungal agent. By doing so, it is possible to suppress the consumption of hypochlorous acid water caused by the antibacterial agent or the antifungal agent while suppressing the generation of bacteria or mold in the gas-liquid contact portion. Therefore, it is possible to stably add the hypochlorous acid at the set concentration to the air discharged from the gas-liquid contact portion.

以下、本発明を実施するための形態について添付図面を参照して説明する。なお、以下の実施の形態は、本発明を具体化した一例であって、本発明の技術的範囲を限定するものではない。また、全図面を通して、同一の部位については同一の符号を付して説明を省略している。さらに、本発明に直接には関係しない各部の詳細については重複を避けるために、図面ごとの説明は省略している。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. It should be noted that the following embodiment is an example that embodies the present invention, and does not limit the technical scope of the present invention. In addition, throughout the drawings, the same parts are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. Furthermore, in order to avoid duplication of details of each part that is not directly related to the present invention, description for each drawing is omitted.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

（実施の形態１）
図１を参照して、本発明の実施の形態１に係る空間浄化システム１について説明する。図１は、本発明の実施の形態１に係る空間浄化システム１の模式図である。 (Embodiment 1)
A space purification system 1 according to Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic diagram of a space purification system 1 according to Embodiment 1 of the present invention.

＜全体構成＞
空間浄化システム１は、外部から得られる市水である原水により高濃度の次亜塩素酸水を希釈し、次亜塩素酸を含む除菌水を生成した後、気液接触により空気中に次亜塩素酸を放出し、対象空間Ｓの除菌又は殺菌を行うシステムである。この際、空間浄化システム１では、ユーザにより設定された加湿能力量に基づいて、気液接触させる次亜塩素酸水の通水を制御する。具体的には、空間浄化システム１は、図１に示すように、次亜塩素酸水供給装置２と、空気調和装置２０とを備えて構成される。次亜塩素酸水供給装置２は、水供給部４と、次亜塩素酸水供給部７と、次亜塩素酸水制御部３とを備えて構成される。また、空気調和装置２０は、還気ダクト２２と、フィルタ２３と、空気冷却器２４と、空気加熱器２５と、気液接触部２６と、送風機２９と、給気ダクト３０と、ドレンパン３１と、排水流路３２と、熱源装置３３と、複数の流路（流路３４～流路３７）と、加湿制御部２１とを備えて構成される。 <Overall composition>
The space purification system 1 dilutes high-concentration hypochlorous acid water with raw water, which is city water obtained from the outside, and generates disinfected water containing hypochlorous acid. It is a system that emits chlorous acid and disinfects or sterilizes the target space S. At this time, the space purification system 1 controls the flow of the hypochlorous acid water to be brought into contact with the gas and liquid based on the humidification capacity set by the user. Specifically, the space purification system 1 includes a hypochlorous acid water supply device 2 and an air conditioning device 20, as shown in FIG. The hypochlorous acid water supply device 2 includes a water supply unit 4 , a hypochlorous acid water supply unit 7 , and a hypochlorous acid water control unit 3 . The air conditioner 20 also includes a return air duct 22, a filter 23, an air cooler 24, an air heater 25, a gas-liquid contact portion 26, a blower 29, an air supply duct 30, and a drain pan 31. , a drainage channel 32 , a heat source device 33 , a plurality of channels (channels 34 to 37 ), and a humidification controller 21 .

＜次亜塩素酸水供給装置＞
次亜塩素酸水供給装置２は、次亜塩素酸水供給部７から供給される次亜塩素酸水に、水供給部４から供給される水を混合して希釈し、希釈された次亜塩素酸水を気液接触部２６に供給する装置である。 <Hypochlorous acid water supply device>
The hypochlorous acid water supply device 2 mixes the hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply unit 7 with the water supplied from the water supply unit 4 to dilute the diluted hypochlorous acid water. It is a device for supplying chloric acid water to the gas-liquid contact portion 26 .

水供給部４は、外部の設備給水管（図示せず）から流入する市水を、空気調和装置２０の気液接触部２６に供給する部材である。水供給部４は、水道管５と、水道弁６とを有して構成される。水道管５は、外部の設備給水管と空気調和装置２０の気液接触部２６との間を連通接続する配管である。水道弁６は、水道管５に備えられている。水道弁６は、無線又は有線により次亜塩素酸水制御部３と通信可能に接続され、次亜塩素酸水制御部３からの信号により開閉される。これにより、気液接触部２６に水道水を導入したり停止したりすることができる。水道弁６は、電磁弁を用いることができる。 The water supply unit 4 is a member that supplies city water flowing from an external facility water supply pipe (not shown) to the gas-liquid contact unit 26 of the air conditioner 20 . The water supply unit 4 includes a water pipe 5 and a water valve 6 . The water pipe 5 is a pipe that communicates and connects between the external equipment water supply pipe and the gas-liquid contact portion 26 of the air conditioner 20 . A water valve 6 is provided on the water pipe 5 . The water valve 6 is wirelessly or wiredly connected to the hypochlorous acid water control unit 3 so as to be communicable, and is opened and closed by a signal from the hypochlorous acid water control unit 3 . Thereby, tap water can be introduced into the gas-liquid contact portion 26 or stopped. A solenoid valve can be used as the water valve 6 .

次亜塩素酸水供給部７は、内部に貯留する高濃度の次亜塩素酸水を、水供給部４の水道管５内に送出する部材である。次亜塩素酸水供給部７は、送水管８と、止水弁９と、送水ポンプ１０と、次亜塩素酸水タンク１１とを有して構成される。 The hypochlorous acid water supply unit 7 is a member that delivers high-concentration hypochlorous acid water stored inside into the water pipe 5 of the water supply unit 4 . The hypochlorous acid water supply unit 7 includes a water pipe 8 , a water stop valve 9 , a water pump 10 , and a hypochlorous acid water tank 11 .

送水管８は、水供給部４の水道管５の所定の位置において、水道管５と次亜塩素酸水タンク１１とを連通接続し、次亜塩素酸水タンク１１に貯留される次亜塩素酸水を水道管５内に送水するための配管である。 The water pipe 8 connects the water pipe 5 and the hypochlorous acid water tank 11 at a predetermined position of the water pipe 5 of the water supply unit 4, and the hypochlorous acid stored in the hypochlorous acid water tank 11. It is a pipe for sending acid water into the water pipe 5 .

止水弁９は、送水管８に備えられている。止水弁９は、無線又は有線により次亜塩素酸水制御部３と通信可能に接続され、次亜塩素酸水制御部３からの信号により開閉される。止水弁９は、電磁弁を用いることができる。 A water stop valve 9 is provided on the water pipe 8 . The water stop valve 9 is wirelessly or wiredly connected to the hypochlorous acid water control unit 3 so as to be communicable, and is opened and closed by a signal from the hypochlorous acid water control unit 3 . A solenoid valve can be used as the water stop valve 9 .

送水ポンプ１０は、送水管８に備えられている。送水ポンプ１０は、次亜塩素酸水タンク１１から送水管８に次亜塩素酸水を送水する際に、止水弁９が「開」の状態で、送水管８に次亜塩素酸水を流通させる機器である。送水ポンプ１０は、無線又は有線により次亜塩素酸水制御部３と通信可能に接続され、次亜塩素酸水制御部３からの信号により動作する。止水弁９と送水ポンプ１０とが連動して動作することにより、送水管８内に次亜塩素酸水タンク１１からの次亜塩素酸水を導入したり停止したりすることができる。 A water pump 10 is provided in the water pipe 8 . When the water supply pump 10 supplies the hypochlorous acid water from the hypochlorous acid water tank 11 to the water supply pipe 8, the water stop valve 9 is in the "open" state, and the hypochlorous acid water is supplied to the water supply pipe 8. It is a device for distribution. The water pump 10 is wirelessly or wiredly connected to the hypochlorous acid water control unit 3 so as to be communicable, and is operated by a signal from the hypochlorous acid water control unit 3 . By interlocking the operation of the water stop valve 9 and the water pump 10, the hypochlorous acid water from the hypochlorous acid water tank 11 can be introduced into the water pipe 8 or stopped.

次亜塩素酸水制御部３は、後述する加湿制御部２１からの信号に基づいて、空気調和装置２０への送水を行うように次亜塩素酸水供給装置２を制御する。次亜塩素酸水制御部３は、無線又は有線により加湿制御部２１と通信可能に接続される。 The hypochlorous acid water control unit 3 controls the hypochlorous acid water supply device 2 so as to supply water to the air conditioner 20 based on a signal from the humidification control unit 21 which will be described later. The hypochlorous acid water control unit 3 is communicatively connected to the humidification control unit 21 wirelessly or by wire.

次亜塩素酸水供給装置２は、次亜塩素酸水制御部３からの信号に基づいて、次亜塩素酸水供給部７からの次亜塩素酸水の供給と、水供給部４からの水とを実行し、それぞれを配管内で混合して希釈し、設定された濃度の希釈された次亜塩素酸水を気液接触部２６に供給する。この際、配管内で混合希釈された次亜塩素酸水における次亜塩素酸濃度は２０ｐｐｍとしている。 The hypochlorous acid water supply device 2 supplies hypochlorous acid water from the hypochlorous acid water supply unit 7 and supplies hypochlorous acid water from the water supply unit 4 based on the signal from the hypochlorous acid water control unit 3. water, each of which is mixed and diluted in the pipe, and diluted hypochlorous acid water having a set concentration is supplied to the gas-liquid contact portion 26 . At this time, the hypochlorous acid concentration in the hypochlorous acid water mixed and diluted in the pipe is 20 ppm.

＜空気調和装置＞
空気調和装置２０は、外部及び対象空間Ｓから取り込んだ空気の温度及び湿度の調節を行い、次亜塩素酸水供給装置２から送出される次亜塩素酸水を気化させ、対象空間Ｓに放出することにより、対象空間Ｓの除菌又は殺菌を行う。空気調和装置２０は、上述した通り、還気ダクト２２と、フィルタ２３と、空気冷却器２４と、空気加熱器２５と、気液接触部２６と、送風機２９と、給気ダクト３０と、ドレンパン３１と、排水流路３２と、熱源装置３３と、複数の流路（流路３４～流路３７）と、加湿制御部２１とを備える。空気調和装置２０に導入された空気は、還気ダクト２２、フィルタ２３、空気冷却器２４、空気加熱器２５、気液接触部２６、及び送風機２９の順に通風され、給気ダクト３０により、装置外の対象空間Ｓに排出される。 <Air conditioner>
The air conditioner 20 adjusts the temperature and humidity of the air taken in from the outside and the target space S, vaporizes the hypochlorous acid water delivered from the hypochlorous acid water supply device 2, and releases it to the target space S. By doing so, the target space S is disinfected or sterilized. As described above, the air conditioner 20 includes the return air duct 22, the filter 23, the air cooler 24, the air heater 25, the gas-liquid contact portion 26, the blower 29, the supply air duct 30, and the drain pan. 31 , a drainage channel 32 , a heat source device 33 , a plurality of channels (channels 34 to 37 ), and a humidification controller 21 . The air introduced into the air conditioner 20 is ventilated in the order of the return air duct 22, the filter 23, the air cooler 24, the air heater 25, the gas-liquid contact portion 26, and the blower 29. It is discharged to the target space S outside.

還気ダクト２２は、空気調和装置２０内に空気を導入するための開口である。還気ダクト２２により導入された空気から、フィルタ２３により、塵及び埃等の不純物が除去される。 The return air duct 22 is an opening for introducing air into the air conditioner 20 . Impurities such as dust and dirt are removed by the filter 23 from the air introduced by the return air duct 22 .

フィルタ２３は、導入された空気から塵及び埃等の不純物を除去する。フィルタ２３を通過した空気は、空気冷却器２４へと通風される。 Filter 23 removes impurities such as dust and dirt from the introduced air. The air that has passed through the filter 23 is ventilated to the air cooler 24 .

空気冷却器２４は、通過する空気の冷却を行うユニットである。空気冷却器２４は、流路３４及び流路３５により熱源装置３３と連通接続されている。空気冷却器２４には、熱源装置３３から流路３４を流通して冷水が流入し、冷水は、空気冷却器２４内を通水する。流入した冷水と、空気冷却器２４を通過する空気との間で熱交換が行われ、通過した空気の冷却が行われる。熱交換が行われた冷水は、流路３４を流通し、熱源装置３３へと送水される。この時、結露により発生する水は、ドレンパン３１により回収される。空気冷却器２４を通過した空気は、空気加熱器２５へと通風される。空気冷却器２４は、無線又は有線により加湿制御部２１と通信可能に接続され、加湿制御部２１により制御される。 The air cooler 24 is a unit that cools the passing air. The air cooler 24 is communicated with the heat source device 33 through a flow path 34 and a flow path 35 . Cold water flows from the heat source device 33 through the flow path 34 into the air cooler 24 , and the cold water flows through the air cooler 24 . Heat is exchanged between the incoming cold water and the air passing through the air cooler 24 to cool the passing air. The cold water that has undergone heat exchange flows through the flow path 34 and is sent to the heat source device 33 . At this time, water generated by condensation is collected by the drain pan 31 . The air that has passed through the air cooler 24 is ventilated to the air heater 25 . The air cooler 24 is communicably connected to the humidification control unit 21 wirelessly or by wire, and is controlled by the humidification control unit 21 .

空気加熱器２５は、通過する空気の加熱を行うユニットである。空気加熱器２５は、流路３６及び流路３７により熱源装置３３と連通接続されている。空気加熱器２５には、熱源装置３３から流路３６を流通して温水が流入し、温水は、空気加熱器２５内を通水する。流入した温水と、空気加熱器２５を通過する空気との間で熱交換が行われ、通過した空気の加熱が行われる。熱交換が行われた温水は、流路３７を流通し、熱源装置３３へと送水される。空気加熱器２５を通過した空気は、気液接触部２６へと通風される。空気加熱器２５は、無線又は有線により加湿制御部２１と通信可能に接続され、加湿制御部２１により制御される。 The air heater 25 is a unit that heats the passing air. The air heater 25 is communicated with the heat source device 33 via the flow path 36 and the flow path 37 . Hot water flows into the air heater 25 from the heat source device 33 through the flow path 36 , and the hot water flows through the inside of the air heater 25 . Heat is exchanged between the hot water that has flowed in and the air passing through the air heater 25 to heat the passing air. The hot water that has undergone heat exchange flows through the flow path 37 and is sent to the heat source device 33 . The air that has passed through the air heater 25 is ventilated to the gas-liquid contact portion 26 . The air heater 25 is communicably connected to the humidification control unit 21 wirelessly or by wire, and is controlled by the humidification control unit 21 .

＜気液接触部＞
気液接触部２６は、内部に取り入れた空気を加湿するユニットであり、加湿の際に、空気中に次亜塩素酸水（次亜塩素酸水供給装置２から送出される次亜塩素酸水）を含ませる。気液接触部２６は、水供給部４の水道管５を介して次亜塩素酸水供給装置２（次亜塩素酸水供給部７の送水管８）と連通接続されている。気液接触部２６は、次亜塩素酸水供給装置２から送出される次亜塩素酸水を含有することが可能な構造（例えば、気化フィルタ）を有する。気液接触部２６は、平板形状であり、多くの繊維を備え、繊維と繊維との間に水を保水することができる。気液接触部２６は、還気ダクト２２と気液接触部２６の平面部（空気の流通面）が対向するように設けられている。そして、次亜塩素酸水供給装置２から送出される次亜塩素酸水は、気液接触部２６の平面部の上方から供給される。そのため、気液接触部２６を通過する空気に、次亜塩素酸水を含有させることが可能となる。つまり、気液接触部２６は、次亜塩素酸水を平面部の上方から下方に流して気化させる。そして、次亜塩素酸水を含んだ空気が気化することにより、対象空間Ｓ内に次亜塩素酸が放出され、対象空間Ｓの除菌又は殺菌が行われる。なお、次亜塩素酸水供給装置２の動作中には、気液接触部２６に次亜塩素酸水が常時供給されるため、気液接触部２６が含有しきれなかった次亜塩素酸水は、下方に流れ落ちてドレンパン３１によって回収される。 <Gas-liquid contact part>
The gas-liquid contact unit 26 is a unit that humidifies the air taken inside. During humidification, hypochlorous acid water (hypochlorous acid water sent from the hypochlorous acid water supply device 2) is added to the air. ). The gas-liquid contact portion 26 is communicated with the hypochlorous acid water supply device 2 (the water pipe 8 of the hypochlorous acid water supply portion 7) via the water pipe 5 of the water supply portion 4. The gas-liquid contact portion 26 has a structure (for example, a vaporization filter) capable of containing the hypochlorous acid water sent from the hypochlorous acid water supply device 2 . The gas-liquid contact portion 26 has a flat plate shape, includes many fibers, and can retain water between the fibers. The gas-liquid contact portion 26 is provided so that the return air duct 22 and the plane portion (air circulation surface) of the gas-liquid contact portion 26 face each other. The hypochlorous acid water delivered from the hypochlorous acid water supply device 2 is supplied from above the flat portion of the gas-liquid contact portion 26 . Therefore, the air passing through the gas-liquid contact portion 26 can contain hypochlorous acid water. In other words, the gas-liquid contact portion 26 causes the hypochlorous acid water to flow downward from above the flat portion to be vaporized. By vaporizing the air containing the hypochlorous acid water, hypochlorous acid is released in the target space S, and the target space S is disinfected or sterilized. In addition, since the hypochlorous acid water is constantly supplied to the gas-liquid contact portion 26 during the operation of the hypochlorous acid water supply device 2, the hypochlorous acid water that the gas-liquid contact portion 26 could not contain is flows down and is collected by the drain pan 31 .

次に、図２を参照して、気液接触部２６の構造について詳細に説明する。図２は、気液接触部２６の構成を模式図である。なお、図２は、気液接触部２６を正面視した図であり、気液接触部２６の平面部を示している。 Next, with reference to FIG. 2, the structure of the gas-liquid contact portion 26 will be described in detail. FIG. 2 is a schematic diagram of the structure of the gas-liquid contact portion 26. As shown in FIG. 2 is a front view of the gas-liquid contact portion 26, showing a plane portion of the gas-liquid contact portion 26. FIG.

気液接触部２６は、ポリエステル繊維又はポリエチレン繊維を素材とした不織布を有する複数の加湿素材２７を組み合わせて構成され、加湿素材２７は、互いに熱溶着によって接着されている。具体的には、図２に示すように、気液接触部２６は、複数の加湿素材２７と、加湿素材２７を固定するフレーム２８とを有して構成される。 The gas-liquid contact portion 26 is configured by combining a plurality of humidifying materials 27 each having a nonwoven fabric made of polyester fiber or polyethylene fiber, and the humidifying materials 27 are bonded to each other by heat welding. Specifically, as shown in FIG. 2 , the gas-liquid contact portion 26 is configured with a plurality of humidifying materials 27 and a frame 28 fixing the humidifying materials 27 .

加湿素材２７は、熱溶着性を有する合成樹脂（例えば、ポリエステル繊維、ポリエチレン繊維）を含んだ不織布により構成される。加湿素材２７同士は、接着剤を用いることなく、互いに熱溶着により張り合わされている。そして、加湿素材２７は、不織布の内部に次亜塩素酸水を保水する。また、加湿素材２７には、抗菌剤又は防カビ剤として、次亜塩素酸水との間での反応が生じにくいイソチアゾリン系の抗菌剤又は防カビ剤を含有している。イソチアゾリン系の抗菌剤又は防カビ剤としては、例えば、１，２－ベンズイソチアゾリン－３－オン、Ｎ－ｎ－ブチル－１，２－ベンズイソチアゾリン－３－オン、ｎ－オクチル－４－イソチアゾリン－３－オン、２－メチル－４イソチアゾリン－３－オン、２－メチル－４，５－トリメチレン－４－イソチアゾリン－３－オンから選択される１種または２種以上である。言い換えれば、加湿素材２７は、次亜塩素酸水との間での反応が生じる抗菌剤又は防カビ剤（例えば、ジンクピリチオン）を含まないように構成されている。なお、熱溶着した複数の加湿素材２７には、空気が流通するための隙間２７ａが形成されている。 The humidifying material 27 is made of a nonwoven fabric containing synthetic resin (for example, polyester fiber, polyethylene fiber) having heat-sealability. The humidifying materials 27 are bonded to each other by heat welding without using an adhesive. The humidifying material 27 retains the hypochlorous acid water inside the nonwoven fabric. In addition, the humidifying material 27 contains an isothiazoline-based antibacterial agent or antifungal agent that hardly reacts with hypochlorous acid water as an antibacterial agent or antifungal agent. Examples of isothiazoline-based antibacterial or antifungal agents include 1,2-benzisothiazolin-3-one, Nn-butyl-1,2-benzisothiazolin-3-one, n-octyl-4-isothiazolin- It is one or more selected from 3-one, 2-methyl-4isothiazolin-3-one, and 2-methyl-4,5-trimethylene-4-isothiazolin-3-one. In other words, the humidifying material 27 is configured so as not to contain an antibacterial agent or an antifungal agent (for example, zinc pyrithione) that reacts with the hypochlorous acid water. In addition, gaps 27a are formed in the plurality of heat-sealed humidifying materials 27 for the circulation of air.

フレーム２８は、熱溶着した複数の加湿素材２７の外周全体を固定し、気液接触部２６の外枠を構成する部材である。フレーム２８の上端部には、次亜塩素酸水供給装置２における送水管８が接続される。そして、フレーム２８は、フレーム２８の上端部から加湿素材２７の上部に次亜塩素酸水を滴下する。 The frame 28 is a member that fixes the entire outer periphery of the plurality of heat-sealed humidifying materials 27 and constitutes the outer frame of the gas-liquid contact portion 26 . The water pipe 8 of the hypochlorous acid water supply device 2 is connected to the upper end of the frame 28 . Then, the frame 28 drips hypochlorous acid water from the upper end of the frame 28 onto the upper portion of the humidifying material 27 .

以上のように気液接触部２６は構成される。 The gas-liquid contact portion 26 is configured as described above.

送風機２９は、図１に示すように、気液接触部２６の後段、且つ、給気ダクト３０の前段に設けられる。送風機２９は、空気調和装置２０内の空気を外部に排出することにより、還気ダクト２２から給気ダクト３０へ向かう空気の流れを生成する。これにより、除菌又は殺菌のための空気を空気調和装置２０内に流入させることができる。送風機２９により、次亜塩素酸を含む空気が対象空間Ｓに放出され、対象空間Ｓの除菌又は殺菌を行うことが可能となる。また、送風機２９は、加湿制御部２１と無線又は有線により通信可能に接続され、加湿制御部２１により制御される。 The blower 29 is provided downstream of the gas-liquid contact portion 26 and upstream of the air supply duct 30, as shown in FIG. The blower 29 generates an air flow from the return air duct 22 to the supply air duct 30 by discharging the air inside the air conditioner 20 to the outside. As a result, air for sterilization or sterilization can flow into the air conditioner 20 . Air containing hypochlorous acid is discharged into the target space S by the blower 29, so that the target space S can be disinfected or sterilized. Also, the air blower 29 is communicably connected to the humidification control unit 21 wirelessly or by wire, and is controlled by the humidification control unit 21 .

給気ダクト３０は、空気調和装置２０内の空気を対象空間Ｓに放出するための開口である。給気ダクト３０から、次亜塩素酸を含む空気が対象空間Ｓに放出され、空間の除菌又は殺菌を行うことが可能となる。 The air supply duct 30 is an opening for discharging the air in the air conditioner 20 to the target space S. Air containing hypochlorous acid is discharged from the air supply duct 30 to the target space S, and the space can be disinfected or sterilized.

ドレンパン３１は、空気調和装置２０内の水を集めるための受け皿である。ドレンパン３１は、空気冷却器２４、空気加熱器２５、及び気液接触部２６の下部に設けられ、少なくとも空気冷却器２４及び気液接触部２６から流出する水を回収する。 The drain pan 31 is a receptacle for collecting water inside the air conditioner 20 . The drain pan 31 is provided below the air cooler 24 , the air heater 25 , and the gas-liquid contact portion 26 and collects water flowing out from at least the air cooler 24 and the gas-liquid contact portion 26 .

排水流路３２は、空気調和装置２０内に溜まった水を排水するための流路である。排水流路３２は、ドレンパン３１と接続され、ドレンパン３１により集められた水（次亜塩素酸水を含む）を装置外に排出する。 The drainage channel 32 is a channel for draining water accumulated in the air conditioner 20 . The drain channel 32 is connected to the drain pan 31 and discharges water (including hypochlorous acid water) collected by the drain pan 31 to the outside of the device.

熱源装置３３は、水の冷却及び加熱を行い、空気冷却器２４に供給するための冷水及び空気加熱器２５に供給する温水とする装置である。熱源装置３３は、無線又は有線により加湿制御部２１と通信可能に接続され、加湿制御部２１により制御される。 The heat source device 33 is a device that cools and heats water to produce cold water to be supplied to the air cooler 24 and hot water to be supplied to the air heater 25 . The heat source device 33 is communicably connected to the humidification control unit 21 wirelessly or by wire, and is controlled by the humidification control unit 21 .

流路３４は、熱源装置３３により冷却された水を、熱源装置３３から空気冷却器２４へ送水する流路である。 The flow path 34 is a flow path through which the water cooled by the heat source device 33 is sent from the heat source device 33 to the air cooler 24 .

流路３５は、空気冷却器２４に通水した水を熱源装置３３へ送水する流路である。 The flow path 35 is a flow path that feeds the water that has flowed through the air cooler 24 to the heat source device 33 .

流路３６は、熱源装置３３により加熱された水を、熱源装置３３から空気加熱器２５へ送水する流路である。 The flow path 36 is a flow path that feeds water heated by the heat source device 33 from the heat source device 33 to the air heater 25 .

流路３７は、空気加熱器２５に通水した水を熱源装置３３へ送水する流路である。 The flow path 37 is a flow path that feeds the water that has flowed through the air heater 25 to the heat source device 33 .

加湿制御部２１は、空気冷却器２４、空気加熱器２５、送風機２９、及び熱源装置３３の各動作を制御する。加湿制御部２１は、無線又は有線により次亜塩素酸水制御部３と通信可能に接続される。 The humidification control unit 21 controls each operation of the air cooler 24 , the air heater 25 , the blower 29 , and the heat source device 33 . The humidification control unit 21 is communicatively connected to the hypochlorous acid water control unit 3 wirelessly or by wire.

＜空間浄化処理＞
次に、空間浄化システム１による空間浄化処理について説明する。 <Space purification treatment>
Next, space purification processing by the space purification system 1 will be described.

空間浄化処理は、次亜塩素酸水供給装置２から送出された次亜塩素酸水を、空気調和装置２０によって気化させ、対象空間Ｓに放出する処理である。 The space purification process is a process in which the hypochlorous acid water sent from the hypochlorous acid water supply device 2 is vaporized by the air conditioner 20 and discharged into the target space S.

まず、加湿制御部２１は、空間浄化処理の開始に伴い、送風機２９を起動する。これにより、空気調和装置２０内の空気が対象空間Ｓに排出され、還気ダクト２２から空気（例えば、対象空間Ｓの空気）が導入される。導入された空気は、フィルタ２３により不純物（例えば、塵埃）の除去が行われる。その後、空気冷却器２４及び空気加熱器２５によって熱交換され、調温された空気となる。そして、気液接触部２６を通過することにより、空気の加湿が行われる。加湿の際に、気液接触部２６を通過した空気は、次亜塩素酸水供給装置２によって濃度調整された次亜塩素酸水を含有する。次亜塩素酸水を含む空気は、送風機２９により給気ダクト３０から対象空間Ｓに放出され、気化することにより、対象空間Ｓ内に次亜塩素酸が設定濃度で放出され、対象空間Ｓの除菌又は殺菌が行われる。 First, the humidification control unit 21 activates the air blower 29 with the start of the space purification process. As a result, air in the air conditioner 20 is discharged to the target space S, and air (for example, air in the target space S) is introduced from the return air duct 22 . Impurities (for example, dust) are removed from the introduced air by the filter 23 . After that, the air is heat-exchanged by the air cooler 24 and the air heater 25 and the temperature of the air is controlled. Then, the air is humidified by passing through the gas-liquid contact portion 26 . The air that has passed through the gas-liquid contact portion 26 during humidification contains hypochlorous acid water whose concentration has been adjusted by the hypochlorous acid water supply device 2 . The air containing hypochlorous acid water is discharged from the air supply duct 30 to the target space S by the blower 29, and by vaporizing, the hypochlorous acid is discharged in the target space S at a set concentration. Sterilization or sterilization is performed.

以上のようにして、空間浄化システム１では、加湿制御部２１によって、次亜塩素酸水供給装置２での次亜塩素酸水の供給処理の制御及び空気調和装置２０での加湿処理の制御が行われ、空間浄化処理が実行される。 As described above, in the space purification system 1, the humidification control unit 21 controls the hypochlorous acid water supply process in the hypochlorous acid water supply device 2 and the humidification process in the air conditioner 20. is performed, and the space purification process is executed.

以上、本実施の形態１に係る空間浄化システム１によれば、以下の効果を享受することができる。 As described above, according to the space purification system 1 according to the first embodiment, the following effects can be obtained.

（１）空間浄化システム１は、次亜塩素酸水を供給する次亜塩素酸水供給装置２と、次亜塩素酸水供給装置２から供給される次亜塩素酸水を滴下して気化させる気液接触部２６と、気液接触部２６を通風する空気を対象空間Ｓに放出する送風機２９と、を備える。そして、気液接触部２６は、気液接触部２６を構成する材料と次亜塩素酸水との反応が抑制されるように構成した。 (1) The space purification system 1 includes a hypochlorous acid water supply device 2 that supplies hypochlorous acid water, and the hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply device 2, which is dripped and vaporized. A gas-liquid contact portion 26 and a blower 29 for discharging the air passing through the gas-liquid contact portion 26 to the target space S are provided. The gas-liquid contact portion 26 was configured to suppress the reaction between the material forming the gas-liquid contact portion 26 and the hypochlorous acid water.

こうした構成によれば、気液接触部２６を構成する材料（加湿素材２７）に起因する次亜塩素酸水の消費が抑制されるため、気液接触部２６を流通する空気と接触する次亜塩素酸水の濃度を安定化させることができる。この結果、気液接触部２６を流通する空気に次亜塩素酸を設定濃度で付与することができる。つまり、気液接触部２６を流通する空気に次亜塩素酸を含ませる場合に、次亜塩素酸を安定して付与可能な空間浄化システム１とすることができる。 According to such a configuration, the consumption of hypochlorous acid water caused by the material (humidifying material 27) constituting the gas-liquid contact portion 26 is suppressed, so the hypochlorous acid water that comes into contact with the air flowing through the gas-liquid contact portion 26 is reduced. The concentration of chloric acid water can be stabilized. As a result, hypochlorous acid can be added to the air flowing through the gas-liquid contact portion 26 at a set concentration. That is, when hypochlorous acid is included in the air flowing through the gas-liquid contact portion 26, the space purification system 1 can stably apply hypochlorous acid.

（２）空間浄化システム１では、気液接触部２６は、ポリエステル繊維又はポリエチレン繊維を素材とした不織布を有する複数の加湿素材２７を組み合わせて構成され、加湿素材２７は、互いに熱溶着によって接着されるようにした。これにより、複数の加湿素材２７を組み合わせる際に接着剤を使用する必要がなくなり、接着剤との反応による次亜塩素酸水の消費を抑制することができ、気液接触部２６から放出される空気に設定濃度の次亜塩素酸を安定して付与することができる。 (2) In the space purification system 1, the gas-liquid contact part 26 is configured by combining a plurality of humidifying materials 27 having nonwoven fabric made of polyester fiber or polyethylene fiber, and the humidifying materials 27 are bonded to each other by heat welding. It was to so. As a result, there is no need to use an adhesive when combining a plurality of humidifying materials 27, consumption of hypochlorous acid water due to reaction with the adhesive can be suppressed, and the hypochlorous acid water is released from the gas-liquid contact portion 26. A set concentration of hypochlorous acid can be stably added to the air.

（３）空間浄化システム１では、気液接触部２６は、抗菌剤又は防カビ剤として、イソチアゾリン系の抗菌剤又は防カビ剤を含有するようにした。これにより、気液接触部２６での菌又はカビの発生を抑制しつつ、抗菌剤又は防カビ剤に起因する次亜塩素酸水の消費を抑制することができる。このため、気液接触部２６から放出される空気に設定濃度の次亜塩素酸を安定して付与することができる。 (3) In the space purification system 1, the gas-liquid contact portion 26 contains an isothiazoline-based antibacterial agent or antifungal agent as the antibacterial agent or antifungal agent. As a result, it is possible to suppress the consumption of hypochlorous acid water due to the antibacterial agent or the antifungal agent while suppressing the generation of bacteria or mold in the gas-liquid contact portion 26 . Therefore, hypochlorous acid at the set concentration can be stably added to the air discharged from the gas-liquid contact portion 26 .

（４）空間浄化システム１では、気液接触部２６を、次亜塩素酸水との間での反応が生じる抗菌剤又は防カビ剤（例えば、ジンクピリチオン）を含まないように構成した。これにより、抗菌剤又は防カビ剤に起因する次亜塩素酸水の消費を確実に抑制することができるため、気液接触部２６から放出される空気に設定濃度の次亜塩素酸を安定して付与することができる。 (4) In the space purification system 1, the gas-liquid contact portion 26 is configured so as not to contain an antibacterial agent or an antifungal agent (for example, zinc pyrithione) that reacts with the hypochlorous acid water. As a result, the consumption of hypochlorous acid water caused by the antibacterial agent or antifungal agent can be reliably suppressed, so that the set concentration of hypochlorous acid is stabilized in the air discharged from the gas-liquid contact part 26. can be granted.

（５）空間浄化システム１では、次亜塩素酸水供給装置２と気液接触部２６とを、配管（送水管８）によって連通接続して構成し、水供給部４から供給される水と、次亜塩素酸水供給部７から供給される次亜塩素酸水とを、配管内において混合希釈して気液接触部２６に供給するようにした。このようにすることで、空間浄化システム１では、配管内において混合希釈される次亜塩素酸水は、気液接触部２６（加湿素材２７）に到達するまで外部の空気と触れることが抑制される。このため、次亜塩素酸の空気接触による減衰を抑制することができ、気液接触部２６から放出される空気に設定濃度の次亜塩素酸を安定して付与することができる。 (5) In the space purification system 1, the hypochlorous acid water supply device 2 and the gas-liquid contact portion 26 are connected to communicate with each other through a pipe (water pipe 8), and the water supplied from the water supply portion 4 , and the hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply unit 7 are mixed and diluted in the pipe and supplied to the gas-liquid contact unit 26 . By doing so, in the space purification system 1, the hypochlorous acid water mixed and diluted in the pipe is suppressed from coming into contact with the outside air until it reaches the gas-liquid contact portion 26 (humidification material 27). be. Therefore, attenuation of hypochlorous acid due to contact with air can be suppressed, and hypochlorous acid at a set concentration can be stably added to the air discharged from the gas-liquid contact portion 26 .

（６）空間浄化システム１では、配管（水道管５及び送水管８）を、次亜塩素酸水供給部７から供給される次亜塩素酸水に、水供給部４から供給される水によって希釈するように構成した。これにより、次亜塩素酸水供給部７から供給される次亜塩素酸水を希釈する際に、水供給部４から供給される水によってかき混ぜられる。これにより、気液接触部２６に供給する際の次亜塩素酸水の濃度を安定化させることができる。このため、気液接触部２６から放出される空気に設定濃度の次亜塩素酸を安定して付与することができる。 (6) In the space purification system 1, the pipes (the water pipe 5 and the water pipe 8) are connected to the hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply unit 7 by the water supplied from the water supply unit 4. configured to dilute. As a result, when the hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply unit 7 is diluted, it is stirred by the water supplied from the water supply unit 4 . Thereby, the concentration of the hypochlorous acid water when supplied to the gas-liquid contact portion 26 can be stabilized. Therefore, hypochlorous acid at the set concentration can be stably added to the air discharged from the gas-liquid contact portion 26 .

以上、本発明に関して実施の形態をもとに説明した。これらの実施の形態は例示であり、それらの各構成要素あるいは各処理プロセスの組み合わせにいろいろな変形例が可能なこと、またそうした変形例も本発明の範囲にあることは当業者に理解されているところである。 The present invention has been described above based on the embodiments. Those skilled in the art will understand that these embodiments are merely examples, and that various modifications can be made to combinations of each component or each treatment process, and such modifications are also within the scope of the present invention. I am where I am.

本実施の形態１に係る空間浄化システム１では、次亜塩素酸水供給装置２から設定濃度に希釈した次亜塩素酸水を気液接触部２６に供給するようにしたが、これに限られない。例えば、次亜塩素酸水供給装置２は、塩酸あるいはリン酸塩水等のｐＨ調整剤を混合し、次亜塩素酸水のｐＨ値を調整するように構成してもよい。これにより、気液接触部２６から放出される空気に含ませる次亜塩素酸の濃度の制御範囲を広げることができる。 In the space purification system 1 according to Embodiment 1, the hypochlorous acid water diluted to the set concentration is supplied from the hypochlorous acid water supply device 2 to the gas-liquid contact portion 26, but this is not the only option. do not have. For example, the hypochlorous acid water supply device 2 may be configured to adjust the pH value of the hypochlorous acid water by mixing a pH adjuster such as hydrochloric acid or phosphate water. Thereby, the control range of the concentration of hypochlorous acid contained in the air discharged from the gas-liquid contact portion 26 can be widened.

また、本実施の形態１に係る空間浄化システム１では、次亜塩素酸水供給装置２は、水供給部４から供給される水と、次亜塩素酸水供給部７から供給される次亜塩素酸水とを、配管内において混合希釈するように構成したが、これに限られない。例えば、次亜塩素酸水供給装置２は、混合槽を設け、次亜塩素酸水供給部７から供給される次亜塩素酸水と水供給部４から供給される水とを混合槽内で混合希釈した上で、気液接触部２６に混合希釈した次亜塩素酸水を供給するようにしてもよい。このようにしても、少なくとも上述した効果（１）～効果（４）を享受することができる。 Further, in the space purification system 1 according to Embodiment 1, the hypochlorous acid water supply device 2 includes water supplied from the water supply unit 4 and hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply unit 7. Although it is configured to mix and dilute the chloric acid water in the pipe, it is not limited to this. For example, the hypochlorous acid water supply device 2 is provided with a mixing tank, and the hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply unit 7 and the water supplied from the water supply unit 4 are mixed in the mixing tank. After being mixed and diluted, the mixed and diluted hypochlorous acid water may be supplied to the gas-liquid contact portion 26 . Even in this way, at least the effects (1) to (4) described above can be enjoyed.

本発明に係る空間浄化システムは、気液接触部を流通する空気に次亜塩素酸を含ませる場合に、次亜塩素酸を安定して付与可能な構成となっており、対象空間の空気を除菌又は殺菌するシステムとして有用である。 The space purification system according to the present invention is configured to stably impart hypochlorous acid when hypochlorous acid is added to the air flowing through the gas-liquid contact part, and the air in the target space is purified. It is useful as a system for disinfecting or sterilizing.

１空間浄化システム
２次亜塩素酸水供給装置
３次亜塩素酸水制御部
４水供給部
５水道管
６水道弁
７次亜塩素酸水供給部
８送水管
９止水弁
１０送水ポンプ
１１次亜塩素酸水タンク
１２ｐＨ調整剤供給部
２０空気調和装置
２１加湿制御部
２２還気ダクト
２３フィルタ
２４空気冷却器
２５空気加熱器
２６気液接触部
２７加湿素材
２７ａ隙間
２８フレーム
２９送風機
３０給気ダクト
３１ドレンパン
３２排水流路
３３熱源装置
３４流路
３５流路
３６流路
３７流路 1 Spatial purification system 2 Hypochlorous acid water supply device 3 Hypochlorous acid water control unit 4 Water supply unit 5 Water pipe 6 Water valve 7 Hypochlorous acid water supply unit 8 Water pipe 9 Water stop valve 10 Water pump 11 Chlorous acid water tank 12 pH adjuster supply unit 20 air conditioner 21 humidification control unit 22 return air duct 23 filter 24 air cooler 25 air heater 26 gas-liquid contact unit 27 humidification material 27a gap 28 frame 29 blower 30 air supply Duct 31 Drain pan 32 Drainage channel 33 Heat source device 34 Channel 35 Channel 36 Channel 37 Channel

Claims

a hypochlorous acid water supply device for supplying hypochlorous acid water;
a gas-liquid contact portion for dripping and vaporizing the hypochlorous acid water supplied from the hypochlorous acid water supply device;
an air blower that discharges the air passing through the gas-liquid contact portion to a target space;
with
The space purification system, wherein the gas-liquid contact portion is configured to suppress a reaction between a material forming the gas-liquid contact portion and the hypochlorous acid water.

The gas-liquid contact part is configured by combining a plurality of humidifying materials having a nonwoven fabric made of polyester fiber or polyethylene fiber,
2. The space cleaning system according to claim 1, wherein said humidifying materials are adhered to each other by heat welding.

3. The space purification system according to claim 1, wherein the gas-liquid contact portion contains an isothiazoline-based antibacterial agent or antifungal agent as the antibacterial agent or antifungal agent.