JP2023047219A - Connection structure of printed wiring board, light emission device, and manufacturing method of the same - Google Patents
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Abstract
Description
本開示は、プリント配線基板の接続構造体及び発光装置、並びに、これらの製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present disclosure relates to a connection structure and a light-emitting device of a printed wiring board, and manufacturing methods thereof.
従来、一対のプリント配線基板を接続したプリント配線基板の接続構造体が開示されている。例えば、特許文献1には、一対のプリント配線基板が接着シートを介して接着されたプリント配線基板の接続構造および接続方法が開示されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a printed wiring board connection structure in which a pair of printed wiring boards are connected has been disclosed. For example,
本開示は、厚みが薄いプリント配線基板の接続構造体の導電性部材を適切な位置に配置することができる接続構造体の製造方法及びこれを含む発光装置の製造方法、並びに、厚みが薄いプリント配線基板の接続構造体及びこれを含む発光装置を提供することを課題とする。 The present disclosure provides a method for manufacturing a connection structure capable of arranging a conductive member of a connection structure of a thin printed wiring board at an appropriate position, a method for manufacturing a light emitting device including the same, and a thin print. An object of the present invention is to provide a wiring board connection structure and a light emitting device including the same.
本開示の実施形態に係るプリント配線基板の接続構造体(以下、適宜、接続構造体という)の製造方法は、一方の面に第1配線層が形成され、前記第1配線層の部位において厚み方向に第1穴を有する第1配線基板と、一方の面に第2配線層が形成され、前記第2配線層の部位において厚み方向に第2穴及び第3穴を有する第2配線基板と、を準備する工程と、導電性部材が前記第1穴から突出するように前記第1穴に導電性部材を充填する工程と、前記第1配線基板の他方の面と前記第2配線層とが対面するように前記第1配線基板と前記第2配線基板とを重ね合わせる工程と、前記導電性部材を加熱及び加圧して前記第1配線層と前記第2配線層とを前記第1穴を介して電気的に接続する工程と、を含み、前記準備する工程において、前記第1配線基板と前記第2配線基板とを重ね合わせた際に、平面視で、前記第1穴が、前記第2穴と前記第3穴で挟まれた位置に配置されるように、前記第1配線基板と、前記第2配線基板と、を準備するものである。 In a method for manufacturing a connection structure (hereinafter referred to as a connection structure as appropriate) for a printed wiring board according to an embodiment of the present disclosure, a first wiring layer is formed on one surface, and the thickness at the portion of the first wiring layer is a first wiring board having a first hole in the direction thereof; and a second wiring board having a second wiring layer formed on one surface thereof and having a second hole and a third hole in the thickness direction at a portion of the second wiring layer. filling the first hole with a conductive member so that the conductive member protrudes from the first hole; and the other surface of the first wiring board and the second wiring layer. stacking the first wiring board and the second wiring board so that they face each other; and heating and pressing the conductive member to form the first wiring layer and the second wiring layer in the first hole In the preparing step, when the first wiring board and the second wiring board are overlapped, in plan view, the first hole corresponds to the The first wiring board and the second wiring board are prepared so as to be arranged at positions sandwiched between the second hole and the third hole.
本開示の実施形態に係るプリント配線基板の接続構造体の製造方法は、一方の面に第1配線層が形成され、前記第1配線層の部位において厚み方向に第1穴を有する第1配線基板と、一方の面に第2配線層が形成され、前記第2配線層の部位において厚み方向に第2穴及び第3穴を有する第2配線基板と、を準備する工程と、前記第1配線基板の他方の面と前記第2配線層とが対面するように前記第1配線基板と前記第2配線基板とを重ね合わせる工程と、前記第1配線基板上の前記第1穴の部位に導電性部材を塗布する工程と、前記導電性部材を加熱及び加圧して前記第1穴に前記導電性部材を充填し、前記第1配線層と前記第2配線層とを前記第1穴を介して電気的に接続する工程と、を含み、前記準備する工程において、前記第1配線基板と前記第2配線基板とを重ね合わせた際に、平面視で、前記第1穴が、前記第2穴と前記第3穴で挟まれた位置に配置されるように、前記第1配線基板と、前記第2配線基板と、を準備するものである。 In a method for manufacturing a connection structure for a printed wiring board according to an embodiment of the present disclosure, a first wiring layer is formed on one surface, and a first wiring having a first hole in the thickness direction at a portion of the first wiring layer. a step of preparing a substrate and a second wiring substrate having a second wiring layer formed on one surface and having a second hole and a third hole in a thickness direction at a portion of the second wiring layer; stacking the first wiring board and the second wiring board so that the other surface of the wiring board and the second wiring layer face each other; applying a conductive member; heating and pressurizing the conductive member to fill the first hole with the conductive member; and connecting the first wiring layer and the second wiring layer to the first hole. In the preparing step, when the first wiring board and the second wiring board are superimposed, in a plan view, the first hole corresponds to the second wiring board. The first wiring board and the second wiring board are prepared so as to be arranged at positions sandwiched between the second hole and the third hole.
本開示の実施形態に係る発光装置の製造方法は、前記のプリント配線基板の接続構造体の製造方法で接続構造体を製造する工程と、前記第2配線基板が前記接続構造体を形成するための接続部領域及び発光部領域を有し、前記発光部領域に発光素子を設置する工程と、を含むものである。 A method for manufacturing a light-emitting device according to an embodiment of the present disclosure includes a step of manufacturing a connection structure by the method for manufacturing a connection structure of a printed wiring board; a connecting region and a light emitting region, and placing a light emitting element in the light emitting region.
本開示の実施形態に係るプリント配線基板の接続構造体は、一方の面に第1配線層が形成され、前記第1配線層の部位において厚み方向に第1穴を有する第1配線基板と、前記第1配線基板の他方の面に対面されて、一方の面に第2配線層が形成され、前記第2配線層の部位において厚み方向に第2穴及び第3穴を有する第2配線基板と、前記第1穴に配置され、前記第1配線層と前記第2配線層とを電気的に接続する導電性部材と、を備え、平面視で、前記第1穴は、前記第2穴と前記第3穴で挟まれた位置に配置されるものである。 A printed wiring board connection structure according to an embodiment of the present disclosure includes a first wiring board having a first wiring layer formed on one surface and having a first hole in the thickness direction at a portion of the first wiring layer; A second wiring substrate having a second wiring layer formed on one surface facing the other surface of the first wiring substrate, and having a second hole and a third hole in the thickness direction at a portion of the second wiring layer. and a conductive member arranged in the first hole and electrically connecting the first wiring layer and the second wiring layer, wherein the first hole corresponds to the second hole in a plan view. and the third hole.
本開示の実施形態に係る発光装置は、前記のプリント配線基板の接続構造体と、前記第2配線基板が前記接続構造体を形成するための接続部領域及び発光部領域を有し、前記発光部領域に設置された発光素子と、を備えるものである。 A light-emitting device according to an embodiment of the present disclosure includes a connection structure of the printed wiring board, a connection region and a light-emitting region for forming the connection structure on the second wiring board, and the light emission and a light-emitting element installed in the partial region.
本開示に係る実施形態によれば、厚みが薄いプリント配線基板の接続構造体の導電性部材を適切な位置に配置することができる接続構造体の製造方法及びこれを含む発光装置の製造方法、並びに、厚みが薄いプリント配線基板の接続構造体及びこれを含む発光装置を実現することができる。 According to the embodiments of the present disclosure, a method for manufacturing a connection structure capable of arranging a conductive member of a connection structure of a thin printed wiring board at an appropriate position, and a method for manufacturing a light emitting device including the same, In addition, a connection structure of a printed wiring board with a small thickness and a light emitting device including the same can be realized.
実施形態を、以下に図面を参照しながら説明する。但し、以下に示す形態は、本実施形態の技術思想を具現化するためのプリント配線基板の接続構造体及び発光装置、並びに、それらの製造方法を例示するものであって、以下に限定するものではない。また、実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、特定的な記載がない限り、本発明の範囲をそれのみに限定する趣旨ではなく、単なる例示に過ぎない。なお、各図面が示す部材の大きさや位置関係等は、説明を明確にするために誇張又は簡略化していることがある。 Embodiments are described below with reference to the drawings. However, the embodiments shown below are intended to exemplify the printed wiring board connection structure, the light emitting device, and their manufacturing methods for embodying the technical idea of the present embodiment, and are limited to the following. isn't it. In addition, unless there is a specific description, the dimensions, materials, shapes, relative arrangements, etc. of the components described in the embodiments are not intended to limit the scope of the present invention, but are merely examples. It's nothing more than Note that the sizes and positional relationships of members shown in each drawing may be exaggerated or simplified for clarity of explanation.
《実施形態》
図1Aは、実施形態に係る発光装置の一例を模式的に示す平面図である。図1Bは、図1AのIB-IB線における模式断面図である。図1Cは、実施形態に係る接続構造体の一例を拡大して模式的に示す平面図である。図2Aは、実施形態に係る接続構造体の第1配線基板の一例を拡大して模式的に示す平面図である。図2Bは、実施形態に係る接続構造体の第2配線基板の一例を拡大して模式的に示す平面図である。図3Aは、図1CのIIIA-IIIA線における模式断面図である。図3Bは、図1CのIIIB-IIIB線における模式断面図である。図3Cは、実施形態に係る接続構造体の一部を拡大して模式的に示す断面図である。
<<Embodiment>>
1A is a plan view schematically showing an example of a light emitting device according to an embodiment; FIG. FIG. 1B is a schematic cross-sectional view taken along line IB-IB of FIG. 1A. FIG. 1C is an enlarged plan view schematically showing an example of the connection structure according to the embodiment. FIG. 2A is an enlarged plan view schematically showing an example of the first wiring board of the connection structure according to the embodiment. FIG. 2B is an enlarged plan view schematically showing an example of the second wiring board of the connection structure according to the embodiment; FIG. 3A is a schematic cross-sectional view taken along line IIIA-IIIA in FIG. 1C. FIG. 3B is a schematic cross-sectional view taken along line IIIB-IIIB in FIG. 1C. FIG. 3C is a cross-sectional view schematically showing an enlarged part of the connection structure according to the embodiment.
[発光装置]
発光装置100は、接続構造体50と、発光部60と、を備えている。第2配線基板52は、接続構造体50を形成するための接続部領域R1と、発光素子を設置するための発光部領域R2と、を有している。また、本実施形態では、接続構造体50を構成する部位が接続部領域R1であり、発光部60を構成する部位が発光部領域R2である。
第2配線基板52は、接続部領域R1の第2配線基板52aと、発光部領域R2の第2配線基板52bと、が一体に形成されている。接続構造体50は、接続部領域R1において、第1配線基板51と第2配線基板52aとが接続された構造体である。
まず、接続構造体50について説明した後、発光装置100の概略について説明する。
[Light emitting device]
The light-
In the
First, after explaining the
[接続構造体]
接続構造体50は、例えば、コネクタである第1配線基板51と、発光装置100の第2配線基板52と、が接続された構造体である。
[Connection structure]
The
接続構造体50は、一方の面に第1配線層121が形成され、第1配線層121の部位において厚み方向に第1穴131を有する第1配線基板51と、第1配線基板51の他方の面に対面されて、一方の面に第2配線層122が形成され、第2配線層122の部位において厚み方向に第2穴132及び第3穴133を有する第2配線基板52aと、第1穴131に配置され、第1配線層121と第2配線層122とを電気的に接続する導電性部材30と、を備え、平面視で、第1穴131は、第2穴132と第3穴133で挟まれた位置に配置される。
The
第1配線層121は第1配線基板51の一方向に沿って所定間隔で設けられ、第2配線層122は第2配線基板52aの一方向に沿って所定間隔で設けられ、それぞれの第1配線層121の部位に第1穴131を有し、それぞれの第2配線層122の部位に第2穴132及び第3穴133を有する。
The first wiring layers 121 are provided at predetermined intervals along one direction of the
第1配線基板51は、第1基材111と、第1基材111の一方の面に設けられる第1配線層121と、を備えている。第1配線基板51は、その厚み方向に、第1基材111及び第1配線層121を貫通して導電性部材30が設けられる第1穴131が形成されている。第1配線基板51は、第1基材111の構成によって、リジッド基板、フレキシブル基板のいずれともすることができる。ただし、第1配線基板51及び第2配線基板52の少なくとも一方は可撓性を有することが好ましい。例えば、第1配線基板51はフレキシブル基板であり、第2配線基板52はフレキシブル基板又はリジッド基板とすることができる。
The
第1基材111は、絶縁性であり、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、シリコーン樹脂、ポリフタルアミド、液晶ポリマー等の絶縁性の樹脂材料から形成されている。また、リジッド基板とする場合は、例えば、ガラスエポキシ基板(FR-4)、ガラスコンポジット基板(SEM3)、ビスマレイミドトリアジン樹脂(BTレジン)、紙エポキシ等を用いることができる。
The
第1基材111の厚みは、50μm以上1000μm以下とすることが好ましい。第1基材111の厚みが50μm以上であれば、第1基材111の強度を向上させることができる。また、第1穴131に配置される導電性部材30の量を多くすることができ、第1穴131内で導電性部材30を圧縮し易くなる。一方、厚みが1000μm以下であれば、第1配線基板51を薄くすることができる。第1基材111の厚みは、75μm以上500μm以下が好ましく、100μm以上400μm以下が更に好ましい。
The thickness of the
第1配線層121は、第1基材111の表面上に形成されている。第1配線層121は、所望の形状に配線されるように形成されている。具体的には、第1配線層121は、第1配線基板51の一方向に沿って所定間隔で設けられている。本実施形態では、前後方向に延びる直線状の7つの第1配線層121が、左右方向に所定間隔で平行に設けられている。
The
第1配線層121は、金属材料を用いることができ、例えば、Ag、Al、Ni、Rh、Au、Cu、Ti、Pt、Pd、Mo、Cr、W、Zn等の単体金属又はこれらの金属を含む合金を好適に用いることができる。導電性部材30にSnが含まれる場合は、第1配線層121に用いられる金属材料として、Snとの反応性が比較的良好なCu、Ag、Zn等の単体金属又はこれらの金属を含む合金を用いることがより好ましい。第1配線層121は、Cuを主成分とする金属材料を用いることが更に好ましい。「主成分」とは、第1配線層121の母材の70質量%以上、好ましくは80質量%以上にCuが使用されていることをいう。更に、第1配線層121は圧延銅箔を用いることが望ましい。屈曲性を上げることができるためである。
第1配線層121の厚みは、12μm以上70μm以下とすることが好ましい。第1配線層121の厚みが12μm以上であれば、第1配線層を形成し易くなる。また、第1穴131の周囲の第1配線層121の側面において、導電性部材30の接触面積が増加し接触抵抗が下がる。これにより、接続構造体50に流れる電流容量を上げることができる。一方、厚みが70μm以下であれば、第1配線基板51を薄くすることができる。なお、例えば、第1配線層121の厚みは、第1基材111の厚みの0.25倍以上1.25倍以下とすることができる。
A metal material can be used for the
The thickness of the
それぞれの第1配線層121の幅Wは、0.1mm以上0.5mm以下とすることが好ましい。幅Wが0.1mm以上であれば、第1穴131を形成し易くなる。一方、幅Wが0.5mm以下であれば、第1配線層121の数を増やし易くなり、複雑な配線パターンを形成し易くなる。これにより、様々な設計に対応し易くなる。
また、隣合う第1配線層121と第1配線層121との距離Dは、0.05mm以上0.5mm以下とすることが好ましい。距離Dが0.05mm以上であれば、第1穴131から導電性部材30が左右方向にはみ出した場合でも、隣り合う第1穴131からはみ出した導電性部材30同士が接触することをより抑制し易くなる。これにより、発光装置100が短絡することをより抑制することができる。一方、距離Dが0.5mm以下であれば、第1配線層121の数を増やし易くなり、複雑な配線パターンを形成し易くなる。これにより、様々な設計に対応し易くなる。
The width W of each
Also, the distance D between adjacent first wiring layers 121 is preferably 0.05 mm or more and 0.5 mm or less. If the distance D is 0.05 mm or more, even when the
第1穴131は、第1配線層121及び第1基材111を貫通するように形成されている。第1穴131は、それぞれの第1配線層121の部位に、第1配線基板51の左右方向に沿って中心が一直線上になるように設けられている。第1穴131は平面視で円形であり、第1穴131の直径は、0.05mm以上0.4mm以下とすることが好ましい。第1穴131の直径が0.05mm以上であれば、導電性部材30を充填し易くなる。一方、直径が0.4mm以下であれば、第1配線層121上に第1穴131を形成し易くなる。
また、第1基材111には、左右方向の両端部に、第1配線基板51と第2配線基板52aを重ねた際に位置合わせするための位置合わせ用穴141が設けられている。
The
Alignment holes 141 for aligning the
第2配線基板52aは、第2配線基板52のうち、接続部領域R1の部位の第2配線基板である。第2配線基板52aは、平面視で、長方形の発光部領域R2の一辺から突出した部位である。ここでは長方形の第2配線基板52aが2つ形成されている。
The
第2配線基板52aは、第2基材112と、第2基材112の一方の面に設けられる第2配線層122と、を備えている。第2配線基板52aは、第2基材112の構成によって、リジッド基板、フレキシブル基板のいずれともすることができる。
第2基材112の材料、厚み等については、第1基材111で例示した材料、厚み等とすることができる。ただし、第1基材111の第1穴131には導電性部材30を配置するため、例えば、第1基材111の厚みは、第2基材112の厚みの1.01倍以上2.5倍以下とすることができる。
The
The material, thickness, etc. of the
第2配線層122は、第2基材112の表面上に形成されている。第2配線層122は、所望の形状に配線されるように形成されている。具体的には、第2配線層122は第2配線基板52aの一方向に沿って所定間隔で設けられている。本実施形態では、前後方向に延びる直線状の7つの第2配線層122が、左右方向に所定間隔で平行に設けられている。それぞれの第2配線層122の一部は、平面視で、それぞれの第1配線層121と重複する位置に設けられている。
第2配線層122の材料、厚み、幅、第2配線層122と第2配線層122との距離等については、第1配線層121で例示した材料、厚み等とすることができる。ただし、第1穴131の周囲の第1配線層121の側面には導電性部材30が配置されるため、例えば、第1配線層121の厚みは、第2配線層122の厚みの0.25倍以上1.0倍以下とすることができる。また、例えば、第2配線層122の厚みは、第2基材112の厚みの0.1倍以上0.75倍以下とすることができる。
The
The material, thickness, width, and distance between the second wiring layers 122 and 122 of the
第2穴132及び第3穴133は、第2配線層122及び第2基材112を貫通するように形成されている。第2穴132は、それぞれの第2配線層122の部位に、第2配線基板52aの左右方向に沿って中心が一直線上になるように設けられている。第3穴133は、それぞれの第2配線層122の部位に、第2配線基板52aの左右方向に沿って中心が一直線上になるように設けられている。第2穴132及び第3穴133は平面視で円形であり、第2穴132及び第3穴133の直径は、0.05mm以上0.4mm以下とすることが好ましい。第2穴132及び第3穴133の直径が0.05mm以上であれば、導電性部材30が第1穴131からはみ出した場合に、はみ出した導電性部材30を第2穴132及び第3穴133から逃し易くなる。これにより、導電性部材30が第2穴132及び第3穴133を超えて広がることをより抑制することができる。そのため、均一に加圧でき、安定的に接続できるとともに、樹脂の不要なはみ出しによる吸湿でマイグレーションを引き起こす確率を軽減できる。一方、直径が0.4mm以下であれば、第2配線層122上に第2穴132及び第3穴133を形成し易くなる。
また、第2基材112には、左右方向の両端部に、第1配線基板51と第2配線基板52aを重ねた際に位置合わせするための位置合わせ用穴142が設けられている。
The
Further, the
第2配線基板52aは、第2配線層122が第1配線基板51の他方の面に対面されて配置されている。すなわち、第1配線層121と第2配線層122とは、第1基材111及び第2基材112に対して同じ方向に配置されている。これにより、第1配線層121と第2配線層122とを接続する工程において、第1配線層121と第2配線層122とを目視により確認できるため、配線の位置ずれが確認し易くなる。これにより、第1配線層121と第2配線層122とを接続し易くなる。
The
また、平面視で第1穴131は、第2穴132と第3穴133で挟まれた位置に配置されている。第1穴131が、第2穴132と第3穴133で挟まれた位置に配置されているとは、例えば、平面視で、第1配線層121及び第2配線層122の前後方向に延びる仮想直線L1に、第1穴131、第2穴132及び第3穴133のそれぞれの少なくとも一部が重なるように各穴が配置されることを意味する。本実施形態では、仮想直線L1に、第1穴131、第2穴132及び第3穴133のそれぞれの中心が重なるように配置されている。なお、各穴において、平面視で仮想線L1により穴の左右に分けられる面積のうち小さい方の面積が穴全体の面積の20%以上であることが好ましく、穴全体の面積の30%以上であることがより好ましい。更には、本実施形態のように、仮想線L1が穴の中心を通り、穴全体の面積の50%ずつに分けられることが好ましい。
Further, the
第1穴131が、第2穴132と第3穴133で挟まれた位置に配置されていることで、導電性部材30が第1穴131からはみ出した場合に、はみ出した導電性部材30を第2穴132及び第3穴133から逃すことができる。これにより、導電性部材30が第2穴132及び第3穴133を超えて広がることをより抑制することができる。そのため、第2配線層122間の絶縁性が確保できる。
Since the
第1穴131の中心と第2穴132の中心との距離は0.5mm以上2mm以下とすることが好ましい。第1穴131の中心と第2穴132の中心との距離が0.5mm以上であれば、第1配線基板51と第2配線基板52aを重ねた際に、第1穴131と第2穴132との距離を確保し易くなるため、第2穴132を形成し易くなる。また、第2穴132と第3穴133との距離を確保し易くなるため、第2配線基板52aの強度の低下の抑制を図ることができる。一方、第1穴131の中心と第2穴132の中心との距離が2mm以下であれば、導電性部材30が第1穴131からはみ出した場合に、はみ出した導電性部材30を第2穴132から逃し易くなる。これにより、導電性部材30が第2穴132及び第3穴133を超えて広がることをより抑制することができる。そのため、第2配線層122間の絶縁性が確保できる。同様の理由で、第1穴131の中心と第3穴133の中心との距離は0.5mm以上2mm以下とすることが好ましい。また、同様の理由で、平面視における第1穴131の外縁と第2穴132の外縁との最短距離は0.2mm以上1.9mm以下とすることが好ましく、0.3mm以上1.0mm以下とすることがより好ましい。第1穴131の外縁と第3穴133の外縁との最短距離は0.1mm以上1.9mm以下とすることが好ましく、0.2mm以上0.8mm以下とすることがより好ましい。
The distance between the center of the
導電性部材30は、第1穴131に配置され、第1配線層121と第2配線層122とを電気的に接続する。導電性部材30は、製造時に、例えば、後述するように、導電性部材30を加熱及び加圧することで、第1穴131内で圧縮されている。第1配線基板51の第1配線層121と第2配線基板52の第2配線層122は、第1穴131を介して導電性部材30により接続されている。第1配線層121と第2配線層122が導電性部材30により接続されることで、第1配線基板51と第2配線基板52aとを接続するための接着シート等の接着部材を用いる必要がない。そのため、接続構造体50の厚みを薄くすることができる。
The
導電性部材30としては、例えば、フレーク状、鱗片状又は樹皮状の銀粉や銅粉等のフィラーと、熱硬化性のバインダ樹脂と、を混合したものを用いることができる。導電性部材30としては、Sn-Bi半田粉、Cu粉及び樹脂を含む融点シフト型の導電性部材を用いることが好ましい。このような導電性部材30を用いることで、後述するように、第1配線層121及び第2配線層122に含まれるCuと、導電性部材30に含まれるSnとが拡散反応する。ここで「融点シフト型」とは、単体のCuの融点が1085℃であり、Sn-Bi半田粉の融点が140℃である場合に、熱硬化処理を行った後、次の熱処理工程において導電性部材の融点が140℃でほぼ見られない材料をいう。つまり、このように1回目の熱処理でSn-Bi半田の融点が見られ反応性が高く、2回目の熱処理工程ではSn-Bi半田の融点が見られないため、冷熱サイクルや熱衝撃に耐える接続信頼性を高くすることができる。これにより、大電流を流すことが可能となる。
As the
導電性部材30は、導電性部材30が100質量部に対して、Sn-Bi半田粉が40質量部以上60質量部以下、Cu粉が20質量部以上35質量部以下、含んでなることが好ましい。このような導電性部材30を用いることで、拡散反応をより促進させることができる。また、Sn-Bi半田粉は適切な組成比率のSnとBiをそれぞれ添加してもよい。また、導電性部材30の線膨張係数を調整するためにAg、Fe、Ni、Zn、Al、Ti等の粉末を加えてもよい。Sn-Bi半田粉において、Sn:Biの質量比は38:62乃至46:54が好ましく、41:59乃至43:57が更に好ましい。
The
導電性部材30に含まれる樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、ガラスエポキシ樹脂、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、アクリレート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂(PMMA等)、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリノルボルネン樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。
Examples of the resin contained in the
接続構造体50においては、例えば、Sn-Bi半田粉、Cu粉及び樹脂を含む融点シフト型の導電性部材30を用い、第1穴131内の導電性部材30が圧縮された後、第1配線基板51及び第2配線基板52が加熱される。これにより、接続構造体50は、導電性部材30と、第1配線層121及び第2配線層122とが接する部位において、第1配線層121及び第2配線層122に含まれるCuと、導電性部材30に含まれるSnとが拡散反応してCu-Sn合金が形成される。これにより、導電性部材30と、第1配線層121及び第2配線層122との電気的な接続がより良好となり、冷熱サイクル等に対する信頼性に優れたものとなる。また、接続部の接続抵抗値が低くなり、大電流を流すことが可能となる。このため、大電流が継続的に流れるLED等の実装に適した発光装置を提供することが可能となる。なお、拡散反応した部位は、層状になって拡散反応層35を形成してもよい。
In the
以上説明した通り、本実施形態では、接着シート等の接着部材を用いることなく、導電性部材30により第1配線基板51と第2配線基板52aとを接続している。そのため、接続構造体50の厚みを薄くすることができる。また、平面視で、第1穴131が第2穴132と第3穴133で挟まれた位置に配置されることで、導電性部材30を接続構造体50の適切な位置に配置することができる。
As described above, in this embodiment, the
[発光装置の概略]
次に、発光装置の概略について説明する。
発光装置100は、プリント配線基板の接続構造体50と、第2配線基板52が接続構造体50を形成するための接続部領域R1及び発光部領域R2を有し、発光部領域R2に設置された発光素子2と、を備えている。
発光装置100は、第2配線基板52bに対向して設置される導光板6と、導光板6と発光部領域R2との間に設置される光反射部材7と、光反射部材7の開口を介して、導光板6に光取出面側を対向して発光部領域R2に設置される発光素子2と、を備えている。
具体的には、発光装置100は、少なくとも、第1配線基板51と、第2配線基板52bと、発光素子2と、導光板6と、光反射部材7と、を備えた面発光光源である。
以下、発光装置100の概略について説明する。
[Overview of Light Emitting Device]
Next, the outline of the light emitting device will be described.
The
The
Specifically, the
The outline of the
発光装置100は、複数の発光モジュール10を、例えば2列以上200列以下×2行以上200行以下の長方形又は正方形に整列させて第2配線基板52b上に設けることができる。発光モジュール10は、複数の発光構造体1を、例えば2列以上200列以下×2行以上200行以下の長方形又は正方形に整列させて構成される。
In the light-emitting
(第1配線基板)
第1配線基板51は、前記説明した通りである。
(First wiring board)
The
(第2配線基板)
第2配線基板52bは、発光部領域R2に、複数の発光モジュール10を整列させると共に、発光モジュール10に外部から電流を供給する。また、第2配線基板52bは、第2基材112と、第2基材112の一方の面に形成された第2配線層122と、第2配線層122が形成された一方の面と反対の他方の面に形成された第3配線層123と、を備えている。第2配線基板52bは、発光モジュール10ごとに、第2基材112に形成した第3配線層123に連続する一対の配線パッド18を備えている。一対の配線パッド18には、それぞれ、少なくとも2つ(図1Bでは4つ)のビアホール181が形成されている。また、第2配線基板52bは、ここでは、一面側に第2配線層122が設けられ、第2配線層122上に複数の発光モジュール10が配置されている。また、第2配線基板52bは、他面側に配線パッド18を露出する開口を有すると共に、第2基材112を覆う被覆層19が設けられている。
なお、発光部領域R2の第2配線基板52bと、接続部領域R1の第2配線基板52aとは、第2基材112に一体として第2配線層122がプリント配線されている。
(Second wiring board)
The
The
第3配線層123及び配線パッド18は、第1配線層121と同じ金属材料を用いることができる。被覆層19としては、ポリイミド樹脂、フェニルシリコーン樹脂、ジメチルシリコーン樹脂等を用いて形成することができる。
発光装置100は、2つのビアホール181に跨って充填された導電性部材31と、導電性部材31を第2配線基板52bの一面側から覆うように設けた保護部材40と、を備えていることが好ましい。導電性部材31としては、接続構造体50の導電性部材30と同じ材料を用いることができる。保護部材40としては、被覆層19と同じ材料を用いることができる。
The same metal material as the
The
(発光構造体)
発光構造体1は、例えば、光源11と、導光板6と、光反射部材7と、を備えていることが好ましい。光源11は、発光素子2と、発光素子2の光取出面に設けられる透光性部材3と、透光性部材3の上面に設けられる光拡散層4と、発光素子2の側面に設けられる被覆部材5と、を有する。透光性部材3の上面とは、導光板6に対向して設置された面である。光反射部材7は被覆部材5の側面に設けられており、導光板6は光反射部材7及び光拡散層4の上に設けられている。
(light-emitting structure)
The
発光素子2は、例えば、公知の半導体発光素子を利用することができ、発光素子2として発光ダイオードを例示している。発光素子2は、青色光を出射する光源を用いること、又は、複数の異なる色光を発する発光素子を用い、例えば、赤色、青色、緑色の各色光を混合して白色光を出射することができる。発光素子2として、任意の波長の光を出射する素子を選択することができ、その目的に応じて、使用する発光素子の組成、発光色、大きさ、個数等も適宜、選択が可能である。例えば、青色、緑色の光を出射する素子としては、窒化物系半導体(InxAlyGa1-x-yN、0≦X、0≦Y、X+Y≦1)又はGaPを用いた発光素子を用いることができる。また、赤色の光を出射する素子としては、GaAlAs、AlInGaP等の半導体を含む発光素子を用いることができる。また、前記以外の材料からなる半導体発光素子を用いることもでき、半導体層の材料及びその混晶度によって発光波長を種々選択することができる。
For example, a known semiconductor light-emitting element can be used as the light-emitting
透光性部材3は、発光素子2の発光色を調整する部材である。透光性部材3は、透光性材料と光の波長を変換する蛍光体を含んでいる。透光性材料は、導光板6の材料よりも高い屈折率を有する材料が好ましい。透光性材料としては、例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、変性エポキシ樹脂、変性シリコーン樹脂又はこれらを混合した樹脂、又は、ガラス等を用いることができる。ただし、耐光性及び成形容易性の観点からは、シリコーン樹脂又は変性エポキシ樹脂を選択することが好適である。
The
蛍光体としては、例えば、YAG蛍光体、LAG蛍光体、クロロシリケート系蛍光体、βサイアロン蛍光体、CASN蛍光体、SCASN蛍光体、KSF系蛍光体、KSAF系蛍光体等の酸化物、酸窒化物、窒化物、フッ化物系蛍光体等を用いることができる。また、透光性部材3は量子ドットを含有させることも可能である。
光拡散層4は、発光素子2からの光を拡散する部材であり、ここでは、透光性部材3を透過した光を拡散する部材である。光拡散層4は、前記した透光性材料を母材として、これに、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化亜鉛等の光拡散材を分散状態に添加している。
Examples of phosphors include oxides and oxynitrides such as YAG phosphors, LAG phosphors, chlorosilicate phosphors, β-sialon phosphors, CASN phosphors, SCASN phosphors, KSF phosphors, and KSAF phosphors. materials, nitrides, fluoride-based phosphors, and the like can be used. Also, the
The
被覆部材5は、発光素子2を保護すると共に、発光素子2の側面からの光を反射して光取出面側に光を戻す部材である。被覆部材5は、発光素子2の側面及び/又は底面にあって発光素子2を被覆する。被覆部材5を設けることで、発光素子2からの発光を導光板6に効率よく取り入れることができることになる。また、被覆部材5が、発光素子2を保護する部材と導光板6の出射面と反対側の面に設けられる反射部材とを兼ねることにより、発光装置100の光束の向上を図ることができる。被覆部材5の光反射性材料は、白色の顔料等を含有させた樹脂であることが好ましい。また、被覆部材5は、発光装置100のコストダウンを図るためには、安価な酸化チタンを含有させたシリコーン樹脂を用いることが好ましい。
The covering
導光板6は、光源11からの光が入射され、面状の発光を行う透光性の部材である。導光板6は、光拡散層4の上面に対向する下面側の位置に、発光素子2を設置するための凹部6aが形成されていてもよい。ここでは、導光板6は、発光面となる第1主面の反対側となる第2主面に透光性部材3及び光拡散層4を収納する凹部6aを有している。
The
導光板6の材料としては、アクリル、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル等の熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の熱硬化性樹脂等の樹脂材料やガラス等の透光性を有する材料を用いることができる。特に、熱可塑性の樹脂材料は、射出成型によって効率よく製造することができるため好ましく、透光性が高く、安価なポリカーボネートが更に好ましい。導光板6は、例えば、射出成型やトランスファーモールドで成形することができる。
Materials for the
導光板6は、上面側が平坦であり、かつ、下面側における凹部6a以外の部位が平坦であることが好ましい。すなわち、導光板6は、凹部6a以外は平坦な板状に形成されている。なお、導光板6の凹部6aには、発光素子2が対向するように配置され、透光性部材3及び光拡散層4が収納される。導光板6をこのような構造とすることで、発光装置100の製造が容易となる。ただし、導光板6の上面側及び/又は下面側に凹凸やフレネルレンズ等のレンズ形状を形成してもよい。導光板6の上面方向への光を均一にすることもできるからである。
It is preferable that the
光反射部材7は、発光素子2の側面からの光を反射して光取出面側に光を戻す部材である。光反射部材7は、第2配線基板52bの第2配線層122上に配置されると共に、被覆部材5の周囲に配置される。光反射部材7は、被覆部材5と同様な光反射性材料で構成することが好ましい。また、被覆部材5と光反射部材7とは、区画することなく同一の光反射性物質で構成してもよい。
The
発光構造体1では、発光素子2と透光性部材3とは透光性接着部材で接着されている。光拡散層4は、光拡散材を含有した透光性材料を透光性部材3上に塗布することで形成してもよい。発光構造体1では、導光板6と透光性部材3及び光拡散層4とは、接合部材によって接合することができる。この場合、導光板6の凹部6a内に、発光素子2が接着した透光性部材3及び光拡散層4を配置し、凹部6aの壁面と透光性部材3及び光拡散層4の側面との間に接合部材を設けることが好ましい。また、導光板6の凹部6a内に光拡散層4を形成する部材を配置し透光性部材3を有する発光素子2と接触又は接着させ、光拡散層4を形成してもよい。この際に、所定の厚みを有する光拡散層4を予め形成しておいてもよい。更に、導光板6と光反射部材7とを接合部材で接合することもできる。なお、透光性接着部材及び接合部材は、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の公知の接着剤等を使用することができる。
In the
発光モジュール10は、第2配線層122が発光素子2の電極の面、被覆部材5及び光反射部材7に形成される。発光装置100は、第2配線層122とビアホール181の内部に設けた導電性部材31とが接続されて、複数の発光構造体1の発光素子2が電気的に接続される。これにより、発光装置100の発光部60が構成される。
In the
[接続構造体の製造方法]
〈第1の製造方法〉
次に、実施形態に係る接続構造体の第1の製造方法の一例について説明する。
図4は、実施形態に係る接続構造体の第1の製造方法を示すフローチャートである。図5Aから図8Bは、実施形態に係る接続構造体の第1の製造方法の各工程における、図1CのIIIA-IIIA線に対応する模式断面図である。
[Method for manufacturing connection structure]
<First manufacturing method>
Next, an example of the first manufacturing method of the connection structure according to the embodiment will be described.
FIG. 4 is a flow chart showing a first manufacturing method of the connection structure according to the embodiment. 5A to 8B are schematic cross-sectional views corresponding to line IIIA-IIIA of FIG. 1C in each step of the first manufacturing method of the connection structure according to the embodiment.
図5Aは、配線基板準備工程において、第1配線層を形成した第1配線基板を模式的に示す断面図である。図5Bは、配線基板準備工程において、第2配線層を形成した第2配線基板を模式的に示す断面図である。図6Aは、配線基板準備工程において、第1穴を形成した第1配線基板を模式的に示す断面図である。図6Bは、配線基板準備工程において、第2穴及び第3穴を形成した第2配線基板を模式的に示す断面図である。図7Aは、導電性部材充填工程において、第1穴に導電性部材を充填した第1配線基板を模式的に示す断面図である。図7Bは、導電性部材充填工程における第2配線基板を模式的に示す断面図である。図8Aは、重ね合わせ工程において、第1配線基板と第2配線基板を重ね合わせた状態を模式的に示す断面図である。図8Bは、接続工程において、導電性部材を加熱及び加圧する状態を模式的に示す断面図である。 FIG. 5A is a cross-sectional view schematically showing the first wiring board on which the first wiring layer is formed in the wiring board preparation step. FIG. 5B is a cross-sectional view schematically showing the second wiring board on which the second wiring layer is formed in the wiring board preparation step. FIG. 6A is a cross-sectional view schematically showing the first wiring board in which the first hole is formed in the wiring board preparation step. FIG. 6B is a cross-sectional view schematically showing the second wiring board in which the second hole and the third hole are formed in the wiring board preparation step. FIG. 7A is a cross-sectional view schematically showing the first wiring board in which the conductive member is filled in the first hole in the conductive member filling step. FIG. 7B is a cross-sectional view schematically showing the second wiring board in the conductive member filling step. FIG. 8A is a cross-sectional view schematically showing a state in which the first wiring board and the second wiring board are overlaid in the superposing step. FIG. 8B is a cross-sectional view schematically showing a state in which the conductive member is heated and pressurized in the connecting step.
図9Aから図12Bは、実施形態に係る接続構造体の第1の製造方法の各工程における、図1CのIIIB-IIIB線に対応する模式断面図である。
図9Aは、配線基板準備工程において、第1配線層を形成した第1配線基板を模式的に示す断面図である。図9Bは、配線基板準備工程において、第2配線層を形成した第2配線基板を模式的に示す断面図である。図10Aは、配線基板準備工程において、第1穴を形成した第1配線基板を模式的に示す断面図である。図10Bは、配線基板準備工程において、図示しない第2穴及び第3穴を形成した第2配線基板を模式的に示す断面図である。なお、図10Bは図1CのIIIB-IIIB線に対応する模式断面図であるため、第2穴及び第3穴は図示していない。図11Aは、導電性部材充填工程において、第1穴に導電性部材を充填した第1配線基板を模式的に示す断面図である。図11Bは、導電性部材充填工程における第2配線基板を模式的に示す断面図である。図12Aは、重ね合わせ工程において、第1配線基板と第2配線基板を重ね合わせた状態を模式的に示す断面図である。図12Bは、接続工程において、導電性部材を加熱及び加圧する状態を模式的に示す断面図である。
9A to 12B are schematic cross-sectional views corresponding to line IIIB-IIIB in FIG. 1C in each step of the first manufacturing method of the connection structure according to the embodiment.
FIG. 9A is a cross-sectional view schematically showing the first wiring board on which the first wiring layer is formed in the wiring board preparation step. FIG. 9B is a cross-sectional view schematically showing the second wiring board on which the second wiring layer is formed in the wiring board preparation step. FIG. 10A is a cross-sectional view schematically showing the first wiring board in which the first hole is formed in the wiring board preparation step. FIG. 10B is a cross-sectional view schematically showing a second wiring board in which a second hole and a third hole (not shown) are formed in the wiring board preparation step. Since FIG. 10B is a schematic cross-sectional view corresponding to line IIIB-IIIB in FIG. 1C, the second and third holes are not shown. FIG. 11A is a cross-sectional view schematically showing the first wiring board in which the conductive member is filled in the first hole in the conductive member filling step. FIG. 11B is a cross-sectional view schematically showing the second wiring board in the conductive member filling step. FIG. 12A is a cross-sectional view schematically showing a state in which the first wiring board and the second wiring board are overlaid in the superposing step. 12B is a cross-sectional view schematically showing a state in which the conductive member is heated and pressurized in the connecting step; FIG.
接続構造体50の製造方法は、一方の面に第1配線層121が形成され、第1配線層121の部位において厚み方向に第1穴131を有する第1配線基板51と、一方の面に第2配線層122が形成され、第2配線層122の部位において厚み方向に第2穴132及び第3穴133を有する第2配線基板52aと、を準備する工程と、導電性部材30が第1穴131から突出するように第1穴131に導電性部材30を充填する工程と、第1配線基板51の他方の面と第2配線層122とが対面するように第1配線基板51と第2配線基板52aとを重ね合わせる工程と、導電性部材30を加熱及び加圧して第1配線層121と第2配線層122とを第1穴131を介して電気的に接続する工程とを含み、前記準備する工程において、第1配線基板51と第2配線基板52aとを重ね合わせた際に、平面視で、第1穴131が、第2穴132と第3穴133で挟まれた位置に配置されるように、第1配線基板51と、第2配線基板52aと、を準備する。
The manufacturing method of the
具体的には、接続構造体50の製造方法は、配線基板準備工程S101と、導電性部材充填工程S102と、重ね合わせ工程S103と、接続工程S104と、を含む。これらの工程に加えて、拡散反応工程S105を含んでもよい。
なお、各部材の材質や配置等については、前記した接続構造体50の説明で述べた通りであるので、ここでは適宜、説明を省略する。
Specifically, the manufacturing method of the
Note that the material, arrangement, etc. of each member are as described in the explanation of the
(配線基板準備工程)
配線基板準備工程S101は、第1穴131を有する第1配線基板51と、第2穴132及び第3穴133を有する第2配線基板52aと、を準備する工程である。
(Wiring board preparation process)
The wiring board preparing step S101 is a step of preparing a
この工程S101では、第1配線層121が第1配線基板51の一方向に沿って所定間隔で設けられ、それぞれの第1配線層121の部位に第1穴131を有する第1配線基板と、第2配線層122が第2配線基板52aの一方向に沿って所定間隔で設けられ、それぞれの第2配線層122の部位に第2穴132及び第3穴133を有する第2配線基板52aと、を準備する。
In this step S101, first wiring layers 121 are provided at predetermined intervals along one direction of the
この工程S101では、第1配線基板51の準備として、例えば、まず、片面に銅箔が張り付いた市販の片面銅張積層板を用意する。次に、銅箔にエッチングを施して銅箔をパターン加工し、第1配線層121を形成する。なお、市販の片面銅張積層板を用いずに、第1基材111の表面に銅箔を接合し、エッチング等により第1配線層121を形成してもよい。また、予め、第1配線層121が形成された片面銅張積層板を購入してもよい。
次に、第1配線層121の部位において、第1基材111の表面側から、例えば、ドリルによる穴明け加工、パンチング加工、又は、レーザ加工により、第1穴131を形成する。なお、この際、同様にして位置合わせ用穴141を第1基材111の左右方向の両端部に形成する。
In this step S101, as preparation of the
Next, a
この工程S101では、第2配線基板52aの準備として、第1配線基板51と同様にして第2穴132及び第3穴133が形成された第2配線基板52aを準備する。また、位置合わせ用穴142を第2基材112の左右方向の両端部に形成する。
第1穴131、第2穴132、第3穴133、及び、位置合わせ用穴141,142は、第1配線基板51と第2配線基板52aとを重ね合わせた際に、平面視で、第1穴131が、第2穴132と第3穴133で挟まれた位置に配置されるように、形成する位置を調整する。
In this step S101, as preparation of the
The
(導電性部材充填工程)
導電性部材充填工程S102は、導電性部材30が第1穴131から突出するように第1穴131に導電性部材30を充填する工程である。
この工程S102では、例えば、導電性部材30を、マスクを介して、第1配線基板51の表面からスクリーン印刷法で第1穴131に充填する。そして、マスクを除去することで、導電性部材30がマスクの厚み分、第1穴131から突出した突出部30aが形成される。
(Conductive member filling step)
The conductive member filling step S<b>102 is a step of filling the
In this step S102, for example, the
(重ね合わせ工程)
重ね合わせ工程S103は、第1配線基板51の他方の面と第2配線層122とが対面するように第1配線基板51と第2配線基板52aとを重ね合わせる工程である。
この工程S103では、第1配線基板51と第2配線基板52aが所望の配置になるように位置合わせを行う。位置合わせは、第1配線基板51と第2配線基板52aとに設けられた位置合わせ用穴141,142に位置合わせピン90を挿入することで位置合わせを行う。
この工程S103では、第1配線基板51の第1配線層121と第2配線基板52aの第2配線層122が共に上に向くように第1配線基板51及び第2配線基板52aを配置し、それぞれの位置合わせ用穴141,142に位置合わせピン90を挿入する。そして、平面視で、第1穴131が、第2穴132と第3穴133で挟まれた位置に配置されるように第1配線基板51と第2配線基板52aを重ね合わせる。
(Superposition process)
The stacking step S103 is a step of stacking the
In this step S103, alignment is performed so that the
In this step S103, the
(接続工程)
接続工程S104は、第1配線層121と第2配線層122とを電気的に接続する工程である。
この工程S104では、例えば、剥離紙80を介して、第1穴131から突出した突出部30aを加熱及び加圧する。この加圧処理により、第1穴131に充填された導電性部材30が圧縮される。これにより、第1配線層121と第2配線層122が導電性部材30により電気的に接続される。また、突出部30aを加熱及び加圧することで、導電性部材30の上面が平坦になる。これにより、接続構造体50の外観が良好なものとなる。また、例えば、導電性部材30の上面が凹凸であると、凸部分に物体が当たること等により、導電性部材30が損傷する恐れがあるが、導電性部材30の上面を平坦とすることで、このような導電性部材30の損傷を防止することができる。
(Connection process)
The connection step S<b>104 is a step of electrically connecting the
In this step S104, for example, the protruding
この工程S104では、加熱温度が60℃以上130℃以下であることが好ましい。加熱温度が60℃以上であれば、導電性部材30が柔らかくなり、導電性部材30の加圧が行いやすくなる。一方、加熱温度が130℃以下であれば、加熱のためのエネルギーを少なくすることができ、経済的である。また、加圧の際の圧力は、例えば、1MPa以上6MPa以下とすることができる。
In this step S104, the heating temperature is preferably 60° C. or higher and 130° C. or lower. If the heating temperature is 60° C. or higher, the
(拡散反応工程)
拡散反応工程S105は、第1穴131に導電性部材30が充填された第1配線基板51及び第2配線基板52aを熱処理して、第1配線層121及び第2配線層122に含まれるCuと、導電性部材30に含まれるSnとを拡散反応させて合金化する工程である。
(Diffusion reaction process)
In the diffusion reaction step S105, the
この工程S105では、熱処理温度が180℃以上280℃以下であることが好ましい。熱処理温度が180℃以上であれば、拡散反応が促進されやすくなる。一方、熱処理温度が280℃以下であれば、第1配線基板51及び第2配線基板52aにかかる負担を軽減することができる。なお、熱処理時間は、例えば、3分以上60分以下とすることができる。この工程S105では、熱処理を窒素雰囲気で行うことが好ましい。熱処理を窒素雰囲気で行うことで、拡散反応が促進されやすくなる。
なお、拡散反応工程は必要に応じて行えばよく、省略してもよい。
In this step S105, the heat treatment temperature is preferably 180° C. or higher and 280° C. or lower. If the heat treatment temperature is 180° C. or higher, the diffusion reaction is likely to be promoted. On the other hand, if the heat treatment temperature is 280° C. or less, the load on the
In addition, the diffusion reaction step may be performed as necessary, and may be omitted.
〈第2の製造方法〉
次に、実施形態に係る接続構造体の第2の製造方法の一例について説明する。
図13は、実施形態に係る接続構造体の第2の製造方法を示すフローチャートである。図14Aから図14Cは、実施形態に係る接続構造体の第2の製造方法の各工程における、図1CのIIIA-IIIA線に対応する模式断面図である。
<Second manufacturing method>
Next, an example of a second method for manufacturing the connection structure according to the embodiment will be described.
FIG. 13 is a flow chart showing a second manufacturing method of the connection structure according to the embodiment. 14A to 14C are schematic cross-sectional views corresponding to line IIIA-IIIA in FIG. 1C in each step of the second manufacturing method of the connection structure according to the embodiment.
図14Aは、重ね合わせ工程において、第1配線基板と第2配線基板を重ね合わせた状態を模式的に示す断面図である。図14Bは、導電性部材塗布工程において、第1配線基板上の第1穴の部位に導電性部材を塗布した状態を模式的に示す断面図である。図14Cは接続工程において、導電性部材を加熱及び加圧する状態を模式的に示す断面図である。 FIG. 14A is a cross-sectional view schematically showing a state in which the first wiring board and the second wiring board are overlaid in the superposing step. FIG. 14B is a cross-sectional view schematically showing a state in which the conductive member is applied to the portion of the first hole on the first wiring board in the conductive member applying step. FIG. 14C is a cross-sectional view schematically showing a state in which the conductive member is heated and pressurized in the connecting step.
図15Aから図15Cは、実施形態に係る接続構造体の第2の製造方法の各工程における、図1CのIIIB-IIIB線に対応する模式断面図である。
図15Aは、重ね合わせ工程において、第1配線基板と第2配線基板を重ね合わせた状態を模式的に示す断面図である。図15Bは、導電性部材塗布工程において、第1配線基板上の第1穴の部位に導電性部材を塗布した状態を模式的に示す断面図である。図15Cは、接続工程において、導電性部材を加熱及び加圧する状態を模式的に示す断面図である。
15A to 15C are schematic cross-sectional views corresponding to line IIIB-IIIB in FIG. 1C in each step of the second manufacturing method of the connection structure according to the embodiment.
FIG. 15A is a cross-sectional view schematically showing a state in which the first wiring board and the second wiring board are overlaid in the superposing step. FIG. 15B is a cross-sectional view schematically showing a state in which the conductive member is applied to the portion of the first hole on the first wiring board in the conductive member applying step. FIG. 15C is a cross-sectional view schematically showing a state in which the conductive member is heated and pressurized in the connecting step.
接続構造体50の製造方法は、一方の面に第1配線層121が形成され、第1配線層121の部位において厚み方向に第1穴131を有する第1配線基板51と、一方の面に第2配線層122が形成され、第2配線層122の部位において厚み方向に第2穴132及び第3穴133を有する第2配線基板52aと、を準備する工程と、第1配線基板51の他方の面と第2配線層122とが対面するように第1配線基板51と第2配線基板52aとを重ね合わせる工程と、第1配線基板51上の第1穴131の部位に導電性部材30を塗布する工程と、導電性部材30を加熱及び加圧して第1穴131に導電性部材30を充填し、第1配線層121と第2配線層122とを第1穴131を介して電気的に接続する工程と、を含み、前記準備する工程において、第1配線基板51と第2配線基板52aとを重ね合わせた際に、平面視で、第1穴131が、第2穴132と第3穴133で挟まれた位置に配置されるように、第1配線基板51と、第2配線基板52aと、を準備する。
The manufacturing method of the
具体的には、接続構造体50の製造方法は、配線基板準備工程S201と、重ね合わせ工程S202と、導電性部材塗布工程S203と、接続工程S204と、を含む。これらの工程に加えて、拡散反応工程S205を含んでもよい。
なお、各部材の材質や配置等については、前記した接続構造体50の説明で述べた通りであるので、ここでは適宜、説明を省略する。
Specifically, the manufacturing method of the
Note that the material, arrangement, etc. of each member are as described in the explanation of the
(配線基板準備工程)
配線基板準備工程S201は、第1の製造方法で説明した配線基板準備工程S101と同様であるので、ここでは説明を省略する。
(Wiring board preparation process)
The wiring board preparing step S201 is the same as the wiring board preparing step S101 described in the first manufacturing method, and thus description thereof is omitted here.
(重ね合わせ工程)
重ね合わせ工程S202は、第1の製造方法で説明した重ね合わせ工程S103と同様であるので、ここでは説明を省略する。
(Superposition process)
The overlaying step S202 is the same as the overlaying step S103 described in the first manufacturing method, so the description is omitted here.
(導電性部材塗布工程)
導電性部材塗布工程S203は、第1配線基板51上の第1穴131の部位に導電性部材30を塗布する工程である。
この工程S203では、第1穴131の部位に、例えばポッティングにより導電性部材30を塗布する。導電性部材30の塗布量は、第1穴131の全てに充填され、第1配線層121と第2配線層122が導電性部材30により接続されるように調整する。
(Conductive member application step)
The conductive member applying step S203 is a step of applying the
In this step S203, the
(接続工程)
接続工程S204は、第1配線層121と第2配線層122とを電気的に接続する工程である。
この工程S204では、例えば、剥離紙80を介して導電性部材30を加熱及び加圧することで、第1穴131に導電性部材30を充填する。この加圧処理により、第1穴131に導電性部材30が充填されると共に、第1穴131に充填された導電性部材30が圧縮される。これにより、第1配線層121と第2配線層122が導電性部材30により電気的に接続される。また、第1穴131の部位に塗布した導電性部材30を加熱及び加圧することで、導電性部材30の上面が平坦になる。
(Connection process)
The connection step S<b>204 is a step of electrically connecting the
In this step S<b>204 , for example, the
この工程S204では、加熱温度が60℃以上130℃以下であることが好ましい。加熱温度が60℃以上であれば、導電性部材30が柔らかくなり、導電性部材30の加圧が行いやすくなる。一方、加熱温度が130℃以下であれば、加熱のためのエネルギーを少なくすることができ、経済的である。また、加圧の際の圧力は、例えば、1MPa以上6MPa以下とすることができる。
In this step S204, the heating temperature is preferably 60° C. or higher and 130° C. or lower. If the heating temperature is 60° C. or higher, the
(拡散反応工程)
拡散反応工程S205は、第1の製造方法で説明した拡散反応工程S105と同様であるので、ここでは説明を省略する。なお、拡散反応工程は必要に応じて行えばよく、省略してもよい。
(Diffusion reaction process)
The diffusion reaction step S205 is the same as the diffusion reaction step S105 described in the first manufacturing method, so the description is omitted here. In addition, the diffusion reaction step may be performed as necessary, and may be omitted.
[発光装置の製造方法]
次に、実施形態に係る発光装置の製造方法の一例について説明する。
図16は、実施形態に係る発光装置の製造方法を示すフローチャートである。図17Aは、実施形態に係る発光装置の製造方法の導光板及び中間体準備工程において準備した導光板を模式的に示す断面図である。図17Bは、実施形態に係る発光装置の製造方法の準備工程において準備した中間体を模式的に示す断面図である。図17Cは、実施形態に係る発光装置の製造方法の接着工程において導光板と中間体を接着した状態を模式的に示す断面図である。図17Dは、実施形態に係る発光装置の製造方法の配線層形成工程において第3配線層を形成した状態を模式的に示す断面図である。
[Method for manufacturing light-emitting device]
Next, an example of a method for manufacturing the light emitting device according to the embodiment will be described.
FIG. 16 is a flow chart showing a method for manufacturing a light emitting device according to the embodiment. 17A is a cross-sectional view schematically showing a light guide plate prepared in a light guide plate and intermediate preparation step of the method for manufacturing a light emitting device according to the embodiment; FIG. 17B is a cross-sectional view schematically showing an intermediate prepared in a preparatory step of the method for manufacturing the light emitting device according to the embodiment; FIG. 17C is a cross-sectional view schematically showing a state in which the light guide plate and the intermediate are adhered in the adhesion step of the method for manufacturing the light emitting device according to the embodiment; FIG. 17D is a cross-sectional view schematically showing a state in which a third wiring layer is formed in the wiring layer forming step of the method for manufacturing the light emitting device according to the embodiment; FIG.
発光装置100の製造方法は、前記のプリント配線基板の接続構造体50の製造方法で接続構造体50を製造する工程と、第2配線基板52が接続構造体50を形成するための接続部領域R1及び発光部領域R2を有し、発光部領域R2に発光素子2を設置する工程と、を含む。
発光装置100の製造方法は、導光板6を準備すると共に、発光部領域R2に設置された光反射部材7の開口を介して、発光素子2が、その光取出面と反対側の面を発光部領域R2に対向して発光部領域R2に設置された中間体13を準備する工程と、発光素子2の光取出面を導光板6に対向させた状態で中間体13に導光板6を接着する工程と、を含む。
The manufacturing method of the light-emitting
In the method of manufacturing the
具体的には、発光装置100の製造方法は、接続構造体製造工程S11と、導光板及び中間体準備工程S12と、接着工程S13と、配線層形成工程S14と、を含む。
なお、各部材の材質や配置等については、前記した発光装置100の説明で述べた通りであるので、ここでは適宜、説明を省略する。
Specifically, the method for manufacturing the
Note that the material, arrangement, etc. of each member are the same as those described in the description of the
(接続構造体製造工程)
接続構造体製造工程S11は、前記した接続構造体50の製造方法で接続構造体50を製造する工程である。
この工程S11では、前記した工程S101から工程S105、又は、前記した工程S201から工程S205を行うことで接続構造体50を製造する。
(Connection structure manufacturing process)
The connection structure manufacturing step S11 is a step of manufacturing the
In this step S11, the
(導光板及び中間体準備工程)
導光板及び中間体準備工程S12は、導光板6を準備すると共に、中間体13を準備する工程である。なお、この工程S12は、発光部領域R2に発光素子2を設置する工程を含む。
(Light guide plate and intermediate preparation step)
The light guide plate and intermediate body preparation step S12 is a step of preparing the
この工程S12では、凹部6aを形成した導光板6を準備する。また、この工程S12では、発光素子2、透光性部材3、光拡散層4、及び被覆部材5を備える光源11を準備する。そして、発光部領域R2の第2配線層122上に光源11を配置する。なお、発光部領域R2の第2配線層122は、前記した配線基板準備工程S101又は配線基板準備工程S201において、接続部領域R1に第2配線層122を形成する際に、同時に形成することができる。その後、第2配線層122を覆うように光反射部材7を設ける。或いは、第2配線層122を設けた後、第2配線層122を覆うように光反射部材7を設け、光反射部材7に開口を形成し、開口を介して第2配線層122に光源11を配置する。このようにして、第2基材112、第2配線層122、光反射部材7、光源11、を備える中間体13を準備する。
In this step S12, the
(接着工程)
接着工程S13は、中間体13に導光板6を接着する工程である。
この工程S13では、光源11を導光板6の凹部6aに配置し、凹部6aの壁面と透光性部材3及び光拡散層4の側面とを接合部材で接合する。或いは、導光板6と光反射部材7とを接合部材で接合する。これにより、発光部領域R2の第2配線層122上に発光モジュール10が形成される。
(Adhesion process)
The bonding step S<b>13 is a step of bonding the
In this step S13, the
(配線層形成工程)
配線層形成工程S14は、第2基材112に第3配線層123を形成する工程である。
この工程S14では、第2基材112の他面側に第3配線層123及び配線パッド18を形成すると共に、第3配線層123及び配線パッド18を露出する開口を形成した被覆層19により第2基材112を覆う。これにより、第2配線基板52bが形成される。
この工程S14では、複数の発光モジュール10と第2配線基板52bとを電気的に導通する導通部を形成する。その際、この工程S14では、導通部として、一対の配線パッド18ごとに形成した少なくとも2つのビアホール181と、2つのビアホール181に跨って充填された導電性部材31と、導電性部材31を一面側から覆うように設けた保護部材40と、を形成する。
(Wiring layer forming step)
The wiring layer forming step S<b>14 is a step of forming the
In this step S14, the
In this step S14, conductive portions are formed to electrically connect the plurality of
以上、発明を実施するための形態により具体的に説明したが、本発明の趣旨はこれらの記載に限定されるものではなく、特許請求の範囲の記載に基づいて広く解釈されなければならない。また、これらの記載に基づいて種々変更、改変等したものも本発明の趣旨に含まれる。 Although the embodiments for carrying out the invention have been specifically described above, the gist of the invention is not limited to these descriptions, and should be broadly interpreted based on the description of the scope of claims. In addition, various changes and modifications based on these descriptions are also included in the gist of the present invention.
《変形例》
[変形例1]
図18は、変形例1に係る接続構造体の一例を拡大して模式的に示す平面図である。図19Aは、変形例1に係る接続構造体の第1配線基板の一例を拡大して模式的に示す平面図である。図19Bは、変形例1に係る接続構造体の第2配線基板の一例を拡大して模式的に示す平面図である。
<<Modification>>
[Modification 1]
FIG. 18 is an enlarged plan view schematically showing an example of a connection structure according to
接続構造体50Aは、平面視で、第1穴131が、一方向に延びる仮想直線L2の左右側に、第1配線層121Aごとに左右交互に設けられている。すなわち、第1配線基板51Aの第1穴131が、第1配線基板51Aの左右方向に延びる仮想直線L2を挟み、前後方向に交互に設けられている。また、第2穴132及び第3穴133が、平面視で、第1穴131を挟む位置に配置されている。すなわち、第2配線基板52aAの第2穴132が、第2配線基板52aAの左右方向に延びる仮想直線L3を挟み、第2配線層122Aごとに前後方向に交互に設けられている。また、第2配線基板52aAの第3穴133が、第2配線基板52aAの左右方向に延びる仮想直線L4を挟み、前後方向に交互に設けられている。その他の事項については、実施形態における接続構造体50と同様である。このような構成によれば、第2配線基板52aA上で第1穴131から導電性部材30が左右方向にはみ出した場合でも、隣り合う第1穴131からはみ出した導電性部材30同士が接触することをより抑制し易くなる。これにより、発光装置が短絡することをより抑制することができる。
In the
接続構造体50Aの製造方法は、配線基板準備工程において、第1配線基板51Aと第2配線基板52aAとを重ね合わせた際に、平面視で、第1穴131が、一方向に延びる仮想直線L2の左右側に、第1配線層121ごとに左右交互になるように、第1配線基板51と、第2配線基板52aAと、を準備する。その他の事項については、実施形態における接続構造体50の製造方法と同様である。
In the method of manufacturing the
[変形例2]
図20Aは、変形例2に係る接続構造体の第2配線基板の一例を拡大して模式的に示す平面図である。図20Bは、変形例2に係る接続構造体の第2配線基板の配線層除去部の一例を拡大して模式的に示す平面図である。図20Cは、接続構造体とした場合の図20BのXXC-XXC線における模式断面図である。図21Aは、配線層除去部の他の形態の一例を拡大して模式的に示す平面図である。図21Bは、配線層除去部の他の形態の一例を拡大して模式的に示す平面図である。なお、図20Bは第2配線基板の配線層除去部の一例を拡大して図示し、図20Cは接続構造体の断面の一部を図示しているが、便宜上、図20Cは、接続構造体とした場合の図20BのXXC-XXC線における模式断面図としている。
[Modification 2]
20A is an enlarged plan view schematically showing an example of a second wiring board of a connection structure according to
接続構造体50Bは、第2配線基板52aBが、平面視で第1穴131が対面する部位に、第2配線層122Bの一部を除去した配線層除去部151を有している。配線層除去部151は、第2基材112が第2配線層122Bから露出した部位である。配線層除去部151は円形であり、第1穴131が対面する部位Aに、中央に1つ、左斜め前に1つ、右斜め前に1つ、左斜め後ろに1つ、右斜め後ろに1つの計5つが形成されている。なお、配線層除去部151の周囲の第2配線層122Bの側面には、拡散反応層35が形成されている。第2配線基板52aBが配線層除去部151を有することで、導電性部材30の接触面積が増加し接触抵抗が下がる。これにより、接続構造体50Bに流れる電流容量を上げることができる。配線層除去部151は、例えば、第2配線層をエッチングすることで形成することができる。
The
配線層除去部の形状は前記した配線層除去部151の形状に限られず、他の形状であってもよい。例えば、配線層除去部151Aは、第1穴131が対面する部位Aに、除去後の第2配線層122Cが左右方向の所定間隔で前後方向に長尺状に延びるように、前後方向に除去されている。また、配線層除去部151Bは、第1穴131が対面する部位Aに、除去後の第2配線層122Dが左右方向、前後方向、左斜め前から右斜め後ろに向かう方向、及び、右斜め前から左斜め後ろに向かう方向に長尺状に延びるように、扇型に除去されている。
The shape of the wiring layer removed portion is not limited to the shape of the wiring layer removed
また、第1穴131、第2穴132及び第3穴133は、平面視で円形としたが、長方形、正方形、菱形等の四角形や、三角形等の形状であってもよく、その他の形状であってもよい。また、第2穴132と第3穴133で挟まれる第1穴131は、2つ以上であってもよい。また、第1穴131、第2穴132、及び第3穴133は、平面視で、前後方向に延びる仮想直線L1を基準に前後方向に並んで配置されるものとしたが、左右方向に延びる仮想直線を基準に左右方向に配置されるものであってもよく、その他の方向に延びる仮想直線を基準に配置されるものであってもよい。
Further, although the
また、接続部領域R1の第2配線基板52aは、他方の面に、発光部領域R2の被覆層19と連続して被覆層19を設けたものであってもよい。また、第1配線基板51及び第2配線基板52aは、一方の面において、例えば平面視で第1配線基板51と第2配線基板52aが重ならない部位に、被覆層を設けてもよい。被覆層の材料としては、被覆層19と同じ材料を用いることができる。
また、発光装置100は、光反射部材7を用いることとしたが、光反射部材7の代わりに光透過部材を用いてもよい。光透過部材の材料は、透光性部材3に用いる透光性材料と同様の透光性材料を用いることができる。
また、第2配線層122の幅を第1配線層121の幅よりも狭くして第2配線層122の数を増やし、平面視で、隣合う第1配線層121と第1配線層121の間に第2配線層122(以下、間隙配線層という)が配置されるようにしてもよい。これにより、第1配線基板51の他方の面に、間隙配線層と接続する裏面配線層を設けることができ、第1配線基板と第2配線基板との電気的な接続をより良好にすることができる。
Further, the
Moreover, although the light-reflecting
In addition, the width of the
また、接続構造体の製造方法は、前記各工程に悪影響を与えない範囲において、前記各工程の間、あるいは前後に、他の工程を含めてもよい。例えば、製造途中に混入した異物を除去する異物除去工程などを含めてもよい。
また、接続構造体の製造方法において、一部の工程は、順序が限定されるものではなく、順序が前後してもよい。例えば、第1の製造方法において、重ね合わせ工程を実施した後に、導電性部材充填工程を実施してもよい。また、例えば、第2の製造方法において、導電性部材塗布工程を実施した後に、重ね合わせ工程を実施してもよい。
Moreover, the manufacturing method of the connection structure may include other steps between, or before and after each of the above steps, as long as they do not adversely affect each of the above steps. For example, a foreign matter removing step for removing foreign matter mixed in during manufacturing may be included.
In addition, in the manufacturing method of the connection structure, the order of some steps is not limited, and the order may be changed. For example, in the first manufacturing method, the conductive member filling step may be performed after the overlapping step is performed. Further, for example, in the second manufacturing method, the overlaying step may be performed after the conductive member coating step is performed.
また、発光装置の製造方法は、前記各工程に悪影響を与えない範囲において、前記各工程の間、あるいは前後に、他の工程を含めてもよい。例えば、製造途中に混入した異物を除去する異物除去工程などを含めてもよい。
また、発光装置の製造方法において、一部の工程は、順序が限定されるものではなく、順序が前後してもよい。例えば、導光板及び中間体準備工程を実施した後に、接続構造体製造工程を実施してもよい。また、配線層形成工程を実施した後に、接着工程を実施してもよい。また、配線層形成工程は、中間体を準備する際に実施してもよい。
Further, the method for manufacturing a light-emitting device may include other steps between, or before and after each of the steps, as long as they do not adversely affect each of the steps. For example, a foreign matter removing step for removing foreign matter mixed in during manufacturing may be included.
In addition, in the method for manufacturing a light-emitting device, the order of some steps is not limited, and the order may be changed. For example, the connection structure manufacturing process may be performed after the light guide plate and the intermediate preparation process are performed. Also, the bonding step may be performed after the wiring layer forming step is performed. Further, the wiring layer forming step may be performed when preparing the intermediate.
本開示の実施形態に係る接続構造体及び発光装置は、各種電子機器に利用することができる。 A connection structure and a light-emitting device according to embodiments of the present disclosure can be used in various electronic devices.
1 発光構造体
2 発光素子
3 透光性部材
4 光拡散層
5 被覆部材
6 導光板
6a 凹部
7 光反射部材
10 発光モジュール
11 光源
13 中間体
18 配線パッド
19 被覆層
30、31 導電性部材
30a 突出部
35 拡散反応層
40 保護部材
50、50A、50B 接続構造体
51、51A 第1配線基板
52、52a、52b、52aA、52aB 第2配線基板
60 発光部
80 剥離紙
90 位置合わせピン
100、100A 発光装置
111 第1基材
112 第2基材
121、121A 第1配線層
122、122A、122B、122C、122D 第2配線層
123 第3配線層
131 第1穴
132 第2穴
133 第3穴
141、142 位置合わせ用穴
151、151A、151B 配線層除去部
181 ビアホール
A 第1穴が対面する部位
D 第1配線層と第1配線層との距離
L1、L2、L3、L4 仮想直線
R1 接続部領域
R2 発光部領域
W 第1配線層の幅
Claims (15)
導電性部材が前記第1穴から突出するように前記第1穴に導電性部材を充填する工程と、
前記第1配線基板の他方の面と前記第2配線層とが対面するように前記第1配線基板と前記第2配線基板とを重ね合わせる工程と、
前記導電性部材を加熱及び加圧して前記第1配線層と前記第2配線層とを前記第1穴を介して電気的に接続する工程と、を含み、
前記準備する工程において、前記第1配線基板と前記第2配線基板とを重ね合わせた際に、平面視で、前記第1穴が、前記第2穴と前記第3穴で挟まれた位置に配置されるように、前記第1配線基板と、前記第2配線基板と、を準備するプリント配線基板の接続構造体の製造方法。 A first wiring board having a first wiring layer formed on one surface and having a first hole in a thickness direction at a portion of the first wiring layer, and a second wiring layer formed on one surface and the second wiring a step of preparing a second wiring board having a second hole and a third hole in the thickness direction at a portion of the layer;
filling the first hole with a conductive member such that the conductive member protrudes from the first hole;
stacking the first wiring board and the second wiring board so that the other surface of the first wiring board faces the second wiring layer;
heating and pressurizing the conductive member to electrically connect the first wiring layer and the second wiring layer through the first hole;
In the preparing step, when the first wiring board and the second wiring board are overlapped, the first hole is positioned between the second hole and the third hole in plan view. A method of manufacturing a connection structure of a printed wiring board, wherein the first wiring board and the second wiring board are prepared so as to be arranged.
前記第1配線基板の他方の面と前記第2配線層とが対面するように前記第1配線基板と前記第2配線基板とを重ね合わせる工程と、
前記第1配線基板上の前記第1穴の部位に導電性部材を塗布する工程と、
前記導電性部材を加熱及び加圧して前記第1穴に前記導電性部材を充填し、前記第1配線層と前記第2配線層とを前記第1穴を介して電気的に接続する工程と、を含み、
前記準備する工程において、前記第1配線基板と前記第2配線基板とを重ね合わせた際に、平面視で、前記第1穴が、前記第2穴と前記第3穴で挟まれた位置に配置されるように、前記第1配線基板と、前記第2配線基板と、を準備するプリント配線基板の接続構造体の製造方法。 A first wiring board having a first wiring layer formed on one surface and having a first hole in a thickness direction at a portion of the first wiring layer, and a second wiring layer formed on one surface and the second wiring a step of preparing a second wiring board having a second hole and a third hole in the thickness direction at a portion of the layer;
stacking the first wiring board and the second wiring board so that the other surface of the first wiring board faces the second wiring layer;
applying a conductive member to the portion of the first hole on the first wiring board;
heating and pressurizing the conductive member to fill the first hole with the conductive member, and electrically connecting the first wiring layer and the second wiring layer through the first hole; , including
In the preparing step, when the first wiring board and the second wiring board are overlapped, the first hole is positioned between the second hole and the third hole in plan view. A method of manufacturing a connection structure of a printed wiring board, wherein the first wiring board and the second wiring board are prepared so as to be arranged.
前記第2配線基板が前記接続構造体を形成するための接続部領域及び発光部領域を有し、前記発光部領域に発光素子を設置する工程と、を含む発光装置の製造方法。 A step of manufacturing a connection structure by the method for manufacturing a connection structure for a printed wiring board according to any one of claims 1 to 6;
A method of manufacturing a light-emitting device, comprising: the second wiring board having a connection region and a light-emitting region for forming the connection structure; and installing a light-emitting element in the light-emitting region.
前記発光素子の光取出面を前記導光板に対向させた状態で前記中間体に前記導光板を接着する工程と、を含む請求項7に記載の発光装置の製造方法。 A light guide plate is prepared, and the light-emitting element is arranged to face the light-emitting region through an opening of a light reflecting member provided in the light-emitting region. providing an intermediate located in the region;
8. The method of manufacturing a light emitting device according to claim 7, further comprising bonding the light guide plate to the intermediate body with the light extraction surface of the light emitting element facing the light guide plate.
前記第1配線基板の他方の面に対面されて、一方の面に第2配線層が形成され、前記第2配線層の部位において厚み方向に第2穴及び第3穴を有する第2配線基板と、
前記第1穴に配置され、前記第1配線層と前記第2配線層とを電気的に接続する導電性部材と、を備え、
平面視で、前記第1穴は、前記第2穴と前記第3穴で挟まれた位置に配置されるプリント配線基板の接続構造体。 a first wiring board having a first wiring layer formed on one surface and having a first hole in a thickness direction at a portion of the first wiring layer;
A second wiring substrate having a second wiring layer formed on one surface facing the other surface of the first wiring substrate, and having a second hole and a third hole in the thickness direction at a portion of the second wiring layer. and,
a conductive member arranged in the first hole and electrically connecting the first wiring layer and the second wiring layer;
The connection structure of the printed wiring board, wherein the first hole is arranged at a position sandwiched between the second hole and the third hole in plan view.
それぞれの前記第1配線層の部位に前記第1穴を有し、それぞれの前記第2配線層の部位に前記第2穴及び前記第3穴を有する請求項9に記載のプリント配線基板の接続構造体。 The first wiring layers are provided at predetermined intervals along one direction of the first wiring substrate, and the second wiring layers are provided at predetermined intervals along one direction of the second wiring substrate,
10. The printed wiring board connection according to claim 9, wherein each portion of the first wiring layer has the first hole, and each portion of the second wiring layer has the second hole and the third hole. Structure.
前記第2配線基板が前記接続構造体を形成するための接続部領域及び発光部領域を有し、前記発光部領域に設置された発光素子と、を備える発光装置。 A printed wiring board connection structure according to any one of claims 9 to 13;
A light-emitting device, wherein the second wiring board has a connection region and a light-emitting region for forming the connection structure, and a light-emitting element installed in the light-emitting region.
前記導光板と前記発光部領域との間に設置される光反射部材と、
前記光反射部材の開口を介して、前記導光板に光取出面側を対向して前記発光部領域に設置される前記発光素子と、を備える請求項14に記載の発光装置。 a light guide plate installed facing the second wiring board;
a light reflecting member installed between the light guide plate and the light emitting region;
15. The light-emitting device according to claim 14, further comprising: the light-emitting element arranged in the light-emitting region with the light extraction surface facing the light guide plate through the opening of the light reflecting member.
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