JP2023046532A - Metal faucet, and manufacturing method of metal faucet - Google Patents

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宏昌 鈴木
Hiromasa Suzuki
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Abstract

To provide a metal faucet of good appearance obtained without conducting wet plating such as nickel plating, and a manufacturing method thereof.SOLUTION: A metal faucet 10 includes a substrate part 11 made of a copper base alloy and a film part 12 directly deposited on the surface 11A of the substrate part 11 by a dry process. The film part 12 has a composition composed of Cr of 10% or more and 25% or less, Ni of 4% or more and 10% or less, and the balance of Fe and inevitable components and a film thickness of 0.3 μm or less.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、水栓金具及び水栓金具の製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present disclosure relates to a faucet fitting and a method of manufacturing the faucet fitting.

特許文献1には、水栓金具の表面にニッケルめっきを施し、イオンプレーティング処理を行う水栓の表面処理方法が記載されている。 Patent Literature 1 describes a surface treatment method for a water faucet in which the surface of a water faucet metal fitting is nickel-plated and ion-plated.

特開平3-240950号公報JP-A-3-240950

ニッケルめっき等の湿式めっきを行うことなく、水栓装置の外観をよくする技術が求められている。 There is a demand for a technique for improving the appearance of a faucet device without performing wet plating such as nickel plating.

本開示は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、湿式めっきを行うことなく、外観のよい水栓装置を提供することを目的とする。 The present disclosure has been completed based on the circumstances as described above, and an object thereof is to provide a faucet device with a good appearance without performing wet plating.

本開示の水栓金具は、銅基合金からなる基材部と、ドライプロセスによって、前記基材部の表面に直接成膜された皮膜部と、を備える。 A water faucet fitting of the present disclosure includes a base material made of a copper-based alloy, and a film formed directly on the surface of the base material by a dry process.

本開示の水栓金具の製造方法は、銅基合金からなる基材部を準備し、ドライプロセスによって、前記基材部の表面に皮膜部を直接成膜する。 In the method of manufacturing a faucet fitting according to the present disclosure, a base material made of a copper-based alloy is prepared, and a film is directly formed on the surface of the base material by a dry process.

実施形態に係る水栓装置の断面を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the cross section of the faucet apparatus which concerns on embodiment. ドライプロセスを説明するための図である。It is a figure for demonstrating a dry process. 実施例のX線光電子分光スペクトル図である。It is an X-ray photoelectron spectroscopy spectrum diagram of an example. 実施例の電界放出形走査電子顕微鏡像を示す図である。It is a figure which shows the field-emission-type scanning electron microscope image of an Example. 比較例の電界放出形走査電子顕微鏡像を示す図である。It is a figure which shows the field-emission-type scanning electron microscope image of a comparative example.

1.水栓金具10
水栓金具10は、飲料用の水を供給する。水栓金具10は、一般的には、水を通す通水路を有している。水栓金具10の表面10Aは、水栓金具10の外観を構成する。
1. Faucet fitting 10
The faucet fitting 10 supplies drinking water. The faucet fitting 10 generally has a water passage through which water flows. The surface 10A of the faucet fitting 10 constitutes the appearance of the faucet fitting 10 .

図1に示すように、水栓金具10は、基材部11、皮膜部12、及び外観皮膜部13を備える。皮膜部12及び外観皮膜部13は、基材部11の表面11Aに、基材部11側からこの順に積層されている。水栓金具10の表面10Aは、外観皮膜部13によって構成されている。水栓金具10の通水路は、略全面に亘って基材部11が露出している。 As shown in FIG. 1 , the faucet fitting 10 includes a base material portion 11 , a coating portion 12 and an exterior coating portion 13 . The coating portion 12 and the appearance coating portion 13 are laminated on the surface 11A of the base portion 11 in this order from the base portion 11 side. A surface 10</b>A of the faucet fitting 10 is configured by an exterior coating portion 13 . The base material portion 11 is exposed over substantially the entire surface of the water conduit of the faucet fitting 10 .

(1)基材部11
基材部11は、銅基合金からなる。基材部11の材料は、銅基合金であれば特に限定されない。基材部11の材料は、例えば、各種の黄銅及び青銅から選択できる。
(1) Base material part 11
The base material portion 11 is made of a copper-based alloy. The material of the base material portion 11 is not particularly limited as long as it is a copper-based alloy. The material of the base material portion 11 can be selected from, for example, various types of brass and bronze.

(2)皮膜部12
皮膜部12は、ドライプロセスによって、基材部11の表面11Aに直接成膜されている。ドライプロセスは、物理気相成長法(以下、PVD)及び化学気相成長法(以下、CVD)などから選択できる。ドライプロセスは、成膜速度や基材自由度などの観点から、PVDの1種であるイオンプレーティング法であることが好ましい。
(2) Film portion 12
The coating portion 12 is formed directly on the surface 11A of the base portion 11 by a dry process. A dry process can be selected from a physical vapor deposition method (hereinafter referred to as PVD), a chemical vapor deposition method (hereinafter referred to as CVD), and the like. The dry process is preferably an ion plating method, which is a type of PVD, from the viewpoints of film formation speed and substrate flexibility.

皮膜部12は、Cr:10%以上25%以下、Ni:4%以上10%以下、残部:Fe及び不可避的な成分からなる組成を有している。なお、Crはクロムである。Niはニッケルである。Feは鉄である。本開示において、各成分の割合(%)は、atm%、すなわち原子百分率を意味する。不可避的な成分としては、C及びOが挙げられる。Cは炭素である。Oは酸素である。Cの量は、2%以下であることが好ましい。Oの量は、6%以下であることが好ましい。上記組成を有する皮膜部12は、SUS304等のステンレス鋼からなる材料を用いて成膜できる。皮膜部12の組成は、例えば、材料の組成、及び、成膜時の雰囲気等の成膜条件を調整してコントロールできる。皮膜部12の組成の求め方は後に説明する。 The film portion 12 has a composition of Cr: 10% to 25%, Ni: 4% to 10%, and the balance: Fe and unavoidable components. Note that Cr is chromium. Ni is nickel. Fe is iron. In the present disclosure, the proportion (%) of each component means atm %, ie atomic percentage. Unavoidable ingredients include C and O. C is carbon. O is oxygen. The amount of C is preferably 2% or less. The amount of O is preferably 6% or less. The coating portion 12 having the above composition can be formed using a material made of stainless steel such as SUS304. The composition of the coating portion 12 can be controlled by adjusting the film formation conditions such as the material composition and the atmosphere during film formation. A method for determining the composition of the film portion 12 will be described later.

皮膜部12の膜厚は、0.3μm以下である。皮膜部12の膜厚の下限は特に限定されない。皮膜部12の膜厚は、0μmより大きければよく、耐食性の観点から、0.05μm以上であることが好ましい。皮膜部12の膜厚は、例えば、印加電圧、成膜時間等の成膜条件を調整してコントロールできる。皮膜部12の膜厚の求め方は後に説明する。 The film thickness of the film portion 12 is 0.3 μm or less. The lower limit of the film thickness of the coating portion 12 is not particularly limited. The film thickness of the coating portion 12 may be greater than 0 μm, and is preferably 0.05 μm or more from the viewpoint of corrosion resistance. The film thickness of the coating portion 12 can be controlled by adjusting film forming conditions such as applied voltage and film forming time. How to obtain the film thickness of the film portion 12 will be described later.

(3)外観皮膜部13
外観皮膜部13は、ドライプロセスによって、皮膜部12の表面12Aに直接成膜されている。ドライプロセスについては、上記の皮膜部12についての説明を援用する。外観皮膜部13のドライプロセスは、皮膜部12のドライプロセスと異なってもよいが、製造装置を兼用する観点から、皮膜部12のドライプロセスと同じであることが好ましい。
(3) Appearance film portion 13
The appearance coating portion 13 is formed directly on the surface 12A of the coating portion 12 by a dry process. As for the dry process, the above description of the film portion 12 is used. The dry process for the external coating part 13 may be different from the dry process for the coating part 12, but it is preferably the same as the dry process for the coating part 12 from the viewpoint of also using the manufacturing apparatus.

外観皮膜部13の主成分は、Crである。外観皮膜部13の主成分の特定方法は、後に説明する。X線光電子分光法による深さ方向分析において、外観皮膜部13におけるCrのピーク値は70%以上であることが好ましい。上記組成を有する外観皮膜部13は、Crからなる材料を用いて成膜できる。外観皮膜部13の組成は、例えば、材料の組成、及び、成膜時の雰囲気等の成膜条件を調整してコントロールできる。外観皮膜部13の組成の求め方は後に説明する。 The main component of the appearance coating portion 13 is Cr. A method for specifying the main component of the appearance coating portion 13 will be described later. In the depth direction analysis by X-ray photoelectron spectroscopy, the peak value of Cr in the appearance film portion 13 is preferably 70% or more. The appearance coating portion 13 having the above composition can be formed using a material made of Cr. The composition of the external coating portion 13 can be controlled by adjusting the film formation conditions such as the material composition and the atmosphere during film formation. How to determine the composition of the external coating portion 13 will be described later.

外観皮膜部13の膜厚は、0.1μm以下である。外観皮膜部13の膜厚の下限は特に限定されない。外観皮膜部13の膜厚は、0μmより大きければよく、外観をよくする点から、0.01μm以上であることが好ましい。外観皮膜部13の膜厚は、例えば、印加電圧、成膜時間等の成膜条件を調整してコントロールできる。外観皮膜部13の膜厚の求め方は後に説明する。 The film thickness of the appearance film portion 13 is 0.1 μm or less. The lower limit of the film thickness of the appearance film portion 13 is not particularly limited. The film thickness of the appearance coating portion 13 may be larger than 0 μm, and is preferably 0.01 μm or more from the viewpoint of improving the appearance. The film thickness of the appearance film portion 13 can be controlled by adjusting film forming conditions such as applied voltage and film forming time. How to obtain the film thickness of the appearance film portion 13 will be described later.

(4)成分組成及び膜厚の測定法
皮膜部12及び外観皮膜部13の成分組成及び膜厚は、X線光電子分光法(以下、XPS)による深さ方向分析により測定する。図3は、実施例のX線光電子分光スペクトル図である。横軸はスパッタリング時間を表し、縦軸は元素割合を表す。スパッタリング時間の単位は、「min」である。元素割合の単位は、「%」、すなわち「atm%」である。スパッタリング時間0minは、水栓金具10の表面10Aの位置に対応する。横軸のスパッタリング時間を深さに換算するには、スパッタリング速度を算出し、スパッタリング時間にスパッタリング速度を掛ければよい。図3に示すX線光電子分光スペクトル図において、スパッタリング速度は20nm/minである。
(4) Method of measuring component composition and film thickness The component composition and film thickness of the film portion 12 and the external film portion 13 are measured by depth direction analysis using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). FIG. 3 is an X-ray photoelectron spectroscopy spectrum diagram of the example. The horizontal axis represents the sputtering time, and the vertical axis represents the element ratio. The unit of sputtering time is "min". The unit of element ratio is "%", that is, "atm%". A sputtering time of 0 min corresponds to the position of the surface 10A of the fitting 10 . To convert the sputtering time on the horizontal axis to the depth, the sputtering speed is calculated and the sputtering time is multiplied by the sputtering speed. In the X-ray photoelectron spectroscopy spectrum diagram shown in FIG. 3, the sputtering rate is 20 nm/min.

皮膜部12及び外観皮膜部13の膜厚は次のように算出する。外観皮膜部13において最大ピークを示すCrが水栓金具10の表面10Aから深さ方向に向かって増加し、最大となった時の値をXとし、Crが水栓金具10の表面10Aから深さ方向に向かって減少し、略一定になった時の値をYとする。図3において、Crの元素割合Xは74.7%であり、Yは20.1%である。Crの元素割合が(X+Y)/2の値になった深さを、外観皮膜部13と皮膜部12との境界とする。外観皮膜部13の膜厚は、水栓金具10の表面10Aから、外観皮膜部13と皮膜部12との境界までの寸法として算出する。 The film thicknesses of the film portion 12 and the external film portion 13 are calculated as follows. Cr showing the maximum peak in the external coating portion 13 increases in the depth direction from the surface 10A of the faucet fitting 10, and the value when it reaches the maximum is X, and Cr is the depth from the surface 10A of the faucet fitting 10. Let Y be the value when it decreases in the vertical direction and becomes substantially constant. In FIG. 3, the element ratio X of Cr is 74.7% and Y is 20.1%. The depth at which the Cr element ratio becomes (X+Y)/2 is defined as the boundary between the external coating portion 13 and the coating portion 12 . The film thickness of the exterior coating portion 13 is calculated as the dimension from the surface 10A of the faucet fitting 10 to the boundary between the exterior coating portion 13 and the coating portion 12 .

外観皮膜部13の主成分は、水栓金具10の表面10Aから、外観皮膜部13と皮膜部12との境界までの範囲において、最大ピークを示す成分として特定する。なお、外観皮膜部13の表面には、外観皮膜部13を成膜する上で、C成分及びO成分を含む物質が付着し得る。C成分及びO成分を含む物質を完全に除去することは困難であるため、外観皮膜部13の主成分を特定する際には、C成分及びO成分を考慮しない。図3においては、C及びOのスペクトルを省略している。 The main component of the appearance coating portion 13 is specified as a component showing the maximum peak in the range from the surface 10A of the faucet fitting 10 to the boundary between the appearance coating portion 13 and the coating portion 12 . It should be noted that a substance containing a C component and an O component may adhere to the surface of the appearance film portion 13 when the appearance film portion 13 is formed. Since it is difficult to completely remove substances containing the C component and the O component, the C component and the O component are not taken into consideration when specifying the main component of the external coating portion 13 . In FIG. 3, the C and O spectra are omitted.

続いて、皮膜部12において最大ピークを示すFeの元素割合が水栓金具10の表面10Aから深さ方向に向かって増加し、最大となった時の値をVとし、Feの元素割合が水栓金具10の表面10Aから深さ方向に向かって減少し、略一定になった時の値をWとする。図3において、Vは71.9%であり、Wは9.5%である。Feの元素割合が(V+W)/2の値になった深さを、皮膜部12と基材部11との境界とする。皮膜部12の膜厚は、外観皮膜部13と皮膜部12との境界から、皮膜部12と基材部11との境界までの寸法として算出する。 Subsequently, the element ratio of Fe showing the maximum peak in the film portion 12 increases in the depth direction from the surface 10A of the faucet fitting 10, and the value when it reaches the maximum is V, and the element ratio of Fe is Let W be the value when it decreases in the depth direction from the surface 10A of the plug fitting 10 and becomes substantially constant. In FIG. 3, V is 71.9% and W is 9.5%. The depth at which the Fe element ratio becomes (V+W)/2 is defined as the boundary between the film portion 12 and the substrate portion 11 . The film thickness of the film portion 12 is calculated as the dimension from the boundary between the external film portion 13 and the film portion 12 to the boundary between the film portion 12 and the substrate portion 11 .

皮膜部12の組成は、上記で求められた外観皮膜部13と皮膜部12との境界から、皮膜部12と基材部11との境界までの範囲において、観察された成分によって特定する。C及びOが観察された場合には、C及びOを不可避的な成分として特定する。各成分の割合は、上記の範囲内において、略一定になった時の元素割合の平均値として規定する。 The composition of the coating portion 12 is specified by the components observed in the range from the boundary between the outer coating portion 13 and the coating portion 12 obtained above to the boundary between the coating portion 12 and the substrate portion 11 . If C and O are observed, identify C and O as unavoidable constituents. The ratio of each component is defined as the average value of the element ratio when it becomes substantially constant within the above range.

(5)水栓金具10の表面10A
水栓金具10の表面10Aに現れる非溶融金属粒子の直径は、0.1μm未満である。「非溶融金属粒子の直径が0.1μm未満である」とは、非溶融金属粒子の直径が0μmである場合、すなわち、水栓金具10の表面10Aに非溶融金属粒子が観察されない場合も含む。非溶融金属粒子とは、外観皮膜部13に存在する金属の粒子である。非溶融金属粒子は、ドロップレットとも称される。水栓金具10の表面10Aに現れる非溶融金属粒子の直径は、例えば、外観皮膜部13を成膜する際に、外観皮膜部13の材料と成膜対象物との間に物理的な遮蔽物6(図2参照)を配置することで小さくできる。
(5) Surface 10A of faucet fitting 10
The diameter of non-molten metal particles appearing on the surface 10A of the faucet fitting 10 is less than 0.1 μm. “The diameter of the non-melted metal particles is less than 0.1 μm” includes the case where the diameter of the non-melted metal particles is 0 μm, that is, the case where no non-melted metal particles are observed on the surface 10A of the faucet fitting 10. . The non-molten metal particles are metal particles present in the appearance coating portion 13 . Non-molten metal particles are also referred to as droplets. The diameter of the non-molten metal particles appearing on the surface 10A of the faucet fitting 10 is, for example, a physical shield between the material of the appearance coating portion 13 and the film-forming object when the appearance coating portion 13 is formed. 6 (see FIG. 2) can be made smaller.

非溶融金属粒子の直径は、次のようにして計測する。水栓金具10の表面10Aを、電界放出形走査電子顕微鏡(以下、FE-SEM)を用いて、倍率1万倍で観察し、5μm×5μmの観察像を得る。図4は、後述する実施例のFE-SEM像である。図5は、後述する比較例のFE-SEM像である。図5のFE-SEM像において、周囲とのコントラストの違いから、非溶融金属粒子の略円形状の外形が確認される。観察像を解析して、非溶融金属粒子の最大径を直径として計測する。5μm×5μmの観察像において、直径0.1μm以上の非溶融金属粒子が1つも存在しない場合に、非溶融金属粒子の直径が0.1μm未満であると規定する。 The diameter of non-molten metal particles is measured as follows. The surface 10A of the faucet fitting 10 is observed using a field emission scanning electron microscope (hereinafter referred to as FE-SEM) at a magnification of 10,000 times to obtain an observed image of 5 μm×5 μm. FIG. 4 is an FE-SEM image of an example described later. FIG. 5 is an FE-SEM image of a comparative example to be described later. In the FE-SEM image of FIG. 5, a substantially circular outer shape of the non-molten metal particles can be confirmed from the difference in contrast with the surroundings. By analyzing the observed image, the maximum diameter of the non-molten metal particles is measured as the diameter. A non-melted metal particle having a diameter of less than 0.1 μm is defined as not having a single non-melted metal particle having a diameter of 0.1 μm or more in an observed image of 5 μm×5 μm.

水栓金具10の算術平均粗さRaは、0.10μm以下である。水栓金具10の算術平均粗さRaの下限値は、特に限定されず、0.00μmであってもよい。算術平均粗さRaは、JIS B 0601:2013に準拠して測定される。 The arithmetic mean roughness Ra of the faucet fitting 10 is 0.10 μm or less. The lower limit of the arithmetic mean roughness Ra of the faucet fitting 10 is not particularly limited, and may be 0.00 μm. Arithmetic mean roughness Ra is measured according to JIS B 0601:2013.

水栓金具10の表面10Aは、明度L=70、色度a=-0.3、色度b=-1.0の基準色に対し、色差ΔE=4.0以下であることが好ましい。基準色は、NiCrめっきを施した一の水栓金具の色である。基準色に対する色差ΔEが上記の範囲内であることは、水栓金具10がNiCrめっきを施した水栓金具と同等の外観性を有することの一つの指標である。 The surface 10A of the faucet fitting 10 preferably has a color difference ΔE of 4.0 or less with respect to a reference color of lightness L=70, chromaticity a=−0.3, and chromaticity b=−1.0. The reference color is the color of one NiCr-plated faucet fitting. The fact that the color difference ΔE with respect to the reference color is within the above range is one indicator that the faucet fitting 10 has an appearance equivalent to that of a NiCr-plated faucet fitting.

水栓金具10の写像性は、80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。水栓金具10の写像性の上限値は、特に限定されない。水栓金具10の写像性の上限値は、一般的には、99%以下である。本開示において、水栓金具10の写像性は、ウェーブスキャンDOI測定装置(BYK Gardner社製、Wave-Scan)により測定されるDOI値を意味する。 The image clarity of the faucet fitting 10 is preferably 80% or more, more preferably 90% or more. The upper limit of the image clarity of the faucet fitting 10 is not particularly limited. The upper limit of the image clarity of the faucet fitting 10 is generally 99% or less. In the present disclosure, the image clarity of the faucet fitting 10 means a DOI value measured by a wave scan DOI measurement device (Wave-Scan, manufactured by BYK Gardner).

上記の算術平均粗さRa、色差ΔE、及び写像性は、外観皮膜部13の材料、後述する遮蔽物6の有無等の成膜条件を適宜設定して、調整できる。 The arithmetic average roughness Ra, the color difference ΔE, and the image clarity can be adjusted by appropriately setting the film formation conditions such as the material of the appearance film portion 13 and the presence or absence of the shield 6 described later.

2.水栓金具10の製造方法
水栓金具10の製造方法は、銅基合金からなる基材部11を準備し、ドライプロセスによって、基材部11の表面11Aに皮膜部12を直接成膜し、ドライプロセスによって、皮膜部12の表面12Aに外観皮膜部13を直接成膜する。すなわち、水栓金具10は、湿式めっきを行う工程を経ることなく製造できる。以下、基材部11を準備する工程を、準備工程ともいう。皮膜部12を直接成膜する工程を、第1成膜工程ともいう。外観皮膜部13を直接成膜する工程を、第2成膜工程ともいう。
2. Method for manufacturing the faucet fitting 10 The method for manufacturing the faucet fitting 10 includes preparing the base material portion 11 made of a copper-based alloy, directly forming the film portion 12 on the surface 11A of the base material portion 11 by a dry process, The appearance coating portion 13 is directly formed on the surface 12A of the coating portion 12 by a dry process. In other words, the faucet fitting 10 can be manufactured without a wet plating process. Hereinafter, the step of preparing the base material portion 11 is also referred to as a preparation step. The step of directly forming the film portion 12 is also referred to as the first film forming step. The step of directly forming the external coating portion 13 is also referred to as a second film forming step.

水栓金具10は、図2に示すイオンプレーティング装置1を用いて製造できる。イオンプレーティング装置1は、チャンバ2、アーク式蒸発源3、支持台4、図示しないバイアス電源及びアーク電源、図示しない排気部及びガス供給部、及び遮蔽物6を備えている。 The faucet fitting 10 can be manufactured using the ion plating apparatus 1 shown in FIG. The ion plating apparatus 1 includes a chamber 2 , an arc evaporation source 3 , a support 4 , a bias power supply and an arc power supply (not shown), an exhaust section and gas supply section (not shown), and a shield 6 .

準備工程は、支持台4に基材部11を配置する。図2においては、水栓金具10の通水路等を省略して基材部11を概念的に描いている。準備工程後、チャンバ2を密閉して所定の真空度まで減圧する。 The preparation step arranges the base material part 11 on the support table 4 . In FIG. 2 , the base member 11 is conceptually illustrated by omitting the water passage of the faucet fitting 10 . After the preparatory step, the chamber 2 is sealed and evacuated to a predetermined degree of vacuum.

第1成膜工程は、イオンプレーティング装置1を用いたイオンプレーティング法によって行う。具体的には、皮膜部12の材料であるターゲット8をアーク放電回路の陰極とし、アークにより皮膜部12の材料を蒸発させるとともにイオン化する。イオン化した皮膜部12の材料を、バイアス電圧の印加によって生じた電場にて加速して、基材部11の表面11Aに堆積させて皮膜部12を成膜する。印加電圧、成膜時間、反応ガス等の成膜条件は、皮膜部12の特性に応じて適宜設定する。 The first film forming process is performed by an ion plating method using the ion plating apparatus 1 . Specifically, the target 8, which is the material of the coating portion 12, is used as the cathode of an arc discharge circuit, and the material of the coating portion 12 is vaporized and ionized by an arc. The ionized material of the film portion 12 is accelerated in an electric field generated by the application of the bias voltage and deposited on the surface 11A of the base material portion 11 to form the film portion 12 . Film formation conditions such as applied voltage, film formation time, reaction gas, etc. are appropriately set according to the properties of the film portion 12 .

ドライプロセスにおいて、ターゲット8と基材部11との間に物理的な遮蔽物6を配置し、皮膜部12を成膜する。遮蔽物6は、イオン化した皮膜部12の材料が、遮蔽物6を回り込んで基材部11に堆積するように設けられている。具体的には、遮蔽物6は、ターゲット8の蒸発面と略平行に配置された板状部材によって構成されている。遮蔽物6は、ターゲット8の蒸発面の少なくとも一部を覆うようにして配置されている。 In a dry process, a physical shield 6 is arranged between the target 8 and the substrate portion 11, and the coating portion 12 is deposited. The shield 6 is provided so that the ionized material of the film portion 12 is deposited on the substrate portion 11 by going around the shield 6 . Specifically, the shield 6 is composed of a plate-like member arranged substantially parallel to the evaporation surface of the target 8 . The shield 6 is arranged so as to cover at least part of the evaporation surface of the target 8 .

第2成膜工程は、外観皮膜部13の材料であるターゲットを用いて、第1成膜工程と同様にして行うことができる。詳細については、第1成膜工程についての説明を援用する。 The second film-forming process can be performed in the same manner as the first film-forming process using a target that is the material of the appearance film portion 13 . For details, the description of the first film forming step is used.

3.本実施形態の効果
水栓金具10は、銅基合金からなる基材部11と、ドライプロセスによって、基材部11の表面11Aに直接成膜された皮膜部12と、を備えている。この構成によれば、水栓金具10の耐食性を高くでき、水栓金具10の表面10Aの外観をよくできる。詳細には、皮膜部12がドライプロセスによって、基材部11の表面11Aに直接成膜されているから、皮膜部12の欠陥を低減でき、欠陥から基材部11が腐食することを抑制できる。
3. Effects of the Present Embodiment The faucet fitting 10 includes a base material portion 11 made of a copper-based alloy and a film portion 12 formed directly on the surface 11A of the base material portion 11 by a dry process. According to this configuration, the corrosion resistance of the faucet fitting 10 can be enhanced, and the appearance of the surface 10A of the faucet fitting 10 can be improved. Specifically, since the film 12 is formed directly on the surface 11A of the base material 11 by a dry process, defects in the film 12 can be reduced, and corrosion of the base material 11 due to defects can be suppressed. .

本実施形態の皮膜部12は、Cr:10%以上25%以下、Ni:4%以上10%以下、残部:Fe及び不可避的な成分からなる組成を有している。皮膜部12の膜厚は0.3μm以下である。この構成によれば、水栓金具10の耐食性を高くでき、水栓金具10の表面10Aの外観をよくできる。詳細には、上記の組成及び膜厚の皮膜部12によれば、強固な酸化被膜を形成でき、皮膜部12及び基材部11の腐食を抑制できる。 The film portion 12 of the present embodiment has a composition of Cr: 10% to 25%, Ni: 4% to 10%, and the balance: Fe and unavoidable components. The film thickness of the film portion 12 is 0.3 μm or less. According to this configuration, the corrosion resistance of the faucet fitting 10 can be enhanced, and the appearance of the surface 10A of the faucet fitting 10 can be improved. Specifically, according to the film portion 12 having the composition and thickness described above, a strong oxide film can be formed, and corrosion of the film portion 12 and the substrate portion 11 can be suppressed.

本実施形態の水栓金具10は、ドライプロセスによって、皮膜部12の表面12Aに直接成膜された外観皮膜部13を備える。外観皮膜部13の主成分はCrである。外観皮膜部13の膜厚は0.1μm以下である。この構成によれば、水栓金具10の外観をさらによくできる。具体的には、ドライプロセスによって成膜された外観皮膜部13は、表面が滑らかであり、また、従来のNiCrめっきと同等の金属光沢を有する外観が期待できる。 The faucet fitting 10 of the present embodiment includes an exterior coating portion 13 formed directly on the surface 12A of the coating portion 12 by a dry process. The main component of the appearance coating portion 13 is Cr. The film thickness of the appearance film portion 13 is 0.1 μm or less. According to this configuration, the appearance of the faucet fitting 10 can be further improved. Specifically, the appearance film portion 13 formed by the dry process has a smooth surface and can be expected to have an appearance with metallic luster equivalent to that of conventional NiCr plating.

本実施形態の水栓金具10は、表面10Aに現れる非溶融金属粒子の直径が0.1μm未満である。この構成によれば、皮膜部12が緻密となり、さらに耐食性及び外観性を高くできる。 In the faucet fitting 10 of this embodiment, the diameter of the non-melted metal particles appearing on the surface 10A is less than 0.1 μm. According to this configuration, the coating portion 12 is dense, and corrosion resistance and appearance can be improved.

本実施形態の水栓金具10は、算術平均粗さRaが0.10μm以下である。この構成によれば、皮膜部12が緻密となり、さらに耐食性及び外観性を高くできる。 The faucet fitting 10 of this embodiment has an arithmetic mean roughness Ra of 0.10 μm or less. According to this configuration, the coating portion 12 is dense, and corrosion resistance and appearance can be improved.

本実施形態の水栓金具10の製造方法は、銅基合金からなる基材部11を準備し、ドライプロセスによって、基材部11の表面11Aに皮膜部12を直接成膜する。この構成によれば、湿式めっきを行う工程を経ることなく、外観のよい水栓金具10を製造できる。 In the manufacturing method of the faucet fitting 10 of the present embodiment, the base material part 11 made of a copper-based alloy is prepared, and the film part 12 is directly formed on the surface 11A of the base material part 11 by a dry process. According to this configuration, the faucet fitting 10 with a good appearance can be manufactured without going through the process of wet plating.

本実施形態の水栓金具10の製造方法は、ドライプロセスにおいて、皮膜部12の材料と基材部11との間に物理的な遮蔽物6を配置し、皮膜部12を成膜する。この構成によれば、表面10Aに現れる非溶融金属粒子を低減でき、外観のよい水栓金具10を製造できる。 In the method for manufacturing the faucet fitting 10 of the present embodiment, the physical shield 6 is arranged between the material of the film portion 12 and the base material portion 11, and the film portion 12 is formed in the dry process. According to this configuration, non-molten metal particles appearing on the surface 10A can be reduced, and the faucet fitting 10 with a good appearance can be manufactured.

以下、実施例により更に具体的に説明する。
1.実施例及び比較例の作製
銅基合金からなる基材部の表面に、イオンプレーティング法によって皮膜部を直接成膜した。皮膜部の材料には、SUS304を用いた。皮膜部の材料と基材部との間には、物理的な遮蔽物を配置した。続いて、皮膜部の表面に、イオンプレーティング法によって外観皮膜部を直接成膜した。外観皮膜部の材料には、Crを用いた。外観皮膜部の材料と皮膜部との間には、物理的な遮蔽物を配置した。以上のようにして、実施例のサンプルを作製した。
Hereinafter, more specific description will be given with reference to examples.
1. Preparation of Examples and Comparative Examples A film portion was formed directly on the surface of a substrate portion made of a copper-based alloy by an ion plating method. SUS304 was used as the material of the film portion. A physical shield was placed between the material of the coating and the substrate. Subsequently, the appearance coating portion was formed directly on the surface of the coating portion by the ion plating method. Cr was used as the material of the external coating. A physical shield was placed between the material of the external coating and the coating. As described above, samples of Examples were produced.

比較例のサンプルは、遮蔽物を配置せずに2回のイオンプレーティング法を行った他は、実施例と同様にして作製した。 A comparative sample was prepared in the same manner as in the example, except that the ion plating method was performed twice without placing a shield.

2.XPSによる深さ方向分析
実施例のサンプルについて、XPSによる深さ方向分析を行った。深さ方向分析におけるスパッタリング速度は、20nm/minとした。C、O、Cr、Fe、Ni、Cu、及びZnの元素割合の合計を100%とした。得られたX線光電子分光スペクトル図を図3に示す。X線光電子分光スペクトル図において、説明の便宜のためにC及びOのスペクトルは省略した。なお、Cの元素割合は、時間0minにおいて最大値46.5%を示した。Oの元素割合は、時間0minにおいて最大値35.9%を示した。X線光電子分光スペクトルに基づき、実施形態に記載の方法によって、皮膜部及び外観皮膜部の組成及び膜厚を測定した。
2. Depth direction analysis by XPS The samples of the examples were subjected to depth direction analysis by XPS. The sputtering speed in depth direction analysis was set to 20 nm/min. The sum of the element ratios of C, O, Cr, Fe, Ni, Cu, and Zn was set to 100%. The obtained X-ray photoelectron spectroscopy spectrum diagram is shown in FIG. In the X-ray photoelectron spectroscopic diagram, the spectra of C and O are omitted for convenience of explanation. The element ratio of C showed a maximum value of 46.5% at time 0 min. The element ratio of O showed the maximum value of 35.9% at time 0 min. Based on the X-ray photoelectron spectroscopy spectrum, the composition and film thickness of the film portion and the appearance film portion were measured by the method described in the embodiment.

3.FE-SEM観察
実施例及び比較例のサンプルの表面を、FE-SEMを用いて1万倍で観察した。実施例のFE-SEM像を図4に示す。比較例のFE-SEM像を図5に示す。実施形態に記載の方法によって、非溶融金属粒子の直径を計測した。
3. FE-SEM Observation The surfaces of the samples of Examples and Comparative Examples were observed with FE-SEM at a magnification of 10,000. An FE-SEM image of the example is shown in FIG. An FE-SEM image of the comparative example is shown in FIG. The diameter of the non-molten metal particles was measured by the method described in the embodiment.

4.算術平均粗さRa、色差ΔE、及び写像性の測定
実施例のサンプルの表面について、実施形態に記載の方法によって、算術平均粗さRa、色差ΔE、及び写像性を測定した。
4. Measurement of Arithmetic Average Roughness Ra, Color Difference ΔE, and Image Clarity For the surfaces of the samples of Examples, the arithmetic average roughness Ra, color difference ΔE, and image clarity were measured by the method described in the embodiment.

5.結果
実施例のサンプルの結果は次のとおりである。皮膜部は、Cr:20.6%、Ni:4.8%、残部:Fe,C,Oからなる組成を有していた。皮膜部の膜厚は、0.3μmであった。外観皮膜部の主成分はCrであった。Crのピーク値は、74.7%であった。皮膜部の膜厚は、0.05μmであった。表面に現れる非溶融金属粒子の直径は0.1μm未満であった。算術平均粗さRaは、0.01μmであった。明度L=70、色度a=-0.3、色度b=-1.0の基準色に対する色差ΔEは、4.0であった。写像性は90%以上であった。本実施例によれば、外観がよい水栓金具を提供できる。
5. Results The results of the example samples are as follows. The coating portion had a composition of Cr: 20.6%, Ni: 4.8%, and the balance: Fe, C, and O. The film thickness of the film portion was 0.3 μm. The main component of the external coating was Cr. The peak value of Cr was 74.7%. The film thickness of the film portion was 0.05 μm. The diameter of non-molten metal particles appearing on the surface was less than 0.1 μm. The arithmetic mean roughness Ra was 0.01 μm. The color difference ΔE with respect to the reference color of lightness L=70, chromaticity a=−0.3, and chromaticity b=−1.0 was 4.0. The image clarity was above 90%. According to this embodiment, it is possible to provide a faucet fitting with a good appearance.

他方、比較例のサンプルは、表面に直径が0.1μm以上の複数の非溶融金属粒子が観察された。比較例のサンプルは、外観がよくなかった。 On the other hand, a plurality of non-molten metal particles having a diameter of 0.1 μm or more were observed on the surface of the sample of the comparative example. The comparative samples did not have a good appearance.

本開示は上記で詳述した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本開示の技術的範囲に含まれる。 The present disclosure is not limited to the embodiments detailed above, and for example, the following embodiments are also included in the technical scope of the present disclosure.

水栓金具は、外観皮膜部を備えていなくてもよい。すなわち、水栓金具の表面は、皮膜部によって構成されていてもよい。水栓金具の表面が皮膜部によって構成されている場合において、水栓金具の表面に現れる非溶融金属粒子の直径、及び表面の算術平均粗さRaは、実施形態に記載の構成と同様にできる。水栓金具の表面が皮膜部によって構成されている場合の非溶融金属粒子の直径、及び表面の算術平均粗さRaについての説明は、上記の実施形態の説明を適宜援用する。 The faucet metal fitting does not have to be provided with the appearance film portion. That is, the surface of the faucet fitting may be configured by the film portion. When the surface of the faucet fitting is composed of the film portion, the diameter of the non-molten metal particles appearing on the surface of the faucet fitting and the surface arithmetic mean roughness Ra can be the same as those described in the embodiment. . For the description of the diameter of the non-molten metal particles and the arithmetic mean roughness Ra of the surface when the surface of the faucet fitting is composed of the film portion, the description of the above embodiment is used as appropriate.

皮膜部の組成及び膜厚は特に限定されない。例えば、皮膜部の材料は、SUS304以外のステンレス鋼であってもよく、ステンレス鋼以外の金属であってもよい。皮膜部の組成が実施形態と異なる場合には、最大ピークを示す元素を特定して、Feに替えて実施形態に記載の方法によって、組成及び膜厚を測定すればよい。皮膜部の膜厚は0.3μmより大きくてもよい。その場合であっても、皮膜部の膜厚は1.0μm以下であることが望ましい。 The composition and thickness of the coating are not particularly limited. For example, the material of the coating may be stainless steel other than SUS304, or metal other than stainless steel. When the composition of the coating portion is different from that of the embodiment, the element showing the maximum peak is specified, and the composition and film thickness are measured by the method described in the embodiment instead of Fe. The film thickness of the coating portion may be greater than 0.3 μm. Even in that case, the film thickness of the coating portion is preferably 1.0 μm or less.

外観皮膜部の組成及び膜厚は特に限定されない。例えば、外観皮膜部の材料は、Cr以外の金属であってもよい。外観皮膜部の組成が実施形態と異なる場合には、最大ピークを示す元素を特定して、Crに替えて実施形態に記載の方法によって、組成及び膜厚を測定すればよい。外観皮膜部の膜厚は0.1μmより大きくてもよい。その場合であっても、外観皮膜部の膜厚は1.0μm以下であることが望ましい。 The composition and film thickness of the external coating are not particularly limited. For example, the material of the external coating may be a metal other than Cr. When the composition of the external coating portion is different from that of the embodiment, the element showing the maximum peak is specified, and the composition and film thickness are measured by the method described in the embodiment instead of Cr. The film thickness of the appearance coating portion may be greater than 0.1 μm. Even in that case, it is desirable that the film thickness of the exterior film portion is 1.0 μm or less.

水栓金具の表面において、非溶融金属粒子の直径、算術平均粗さRa、色差ΔE、及び写像性は特に限定されない。実施形態に記載の非溶融金属粒子の直径、算術平均粗さRa、色差ΔE、及び写像性に関する各要件うち、充足しない要件が有ってもよい。 The diameter of the non-molten metal particles, the arithmetic mean roughness Ra, the color difference ΔE, and the image clarity are not particularly limited on the surface of the faucet fitting. Among the requirements regarding the diameter of the non-melting metal particles, the arithmetic mean roughness Ra, the color difference ΔE, and the image clarity described in the embodiment, there may be requirements that are not satisfied.

水栓金具の製造方法は、所望の水栓金具を得ることができれば特に限定されない。水栓金具は、イオンプレーティング法以外のドライプロセスで行われてもよい。そのようなドライプロセスとしては、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマCDV法等が挙げられる。水栓金具の製造方法において、遮蔽物の有無、遮蔽物を設置する場合の遮蔽物の形状、大きさ、及び位置は適宜変更可能である。 The manufacturing method of the faucet fitting is not particularly limited as long as the desired faucet fitting can be obtained. The faucet fitting may be formed by a dry process other than the ion plating method. Such dry processes include a vacuum deposition method, a sputtering method, a plasma CDV method, and the like. In the manufacturing method of the faucet fitting, the presence or absence of the shield, and the shape, size, and position of the shield when the shield is installed can be changed as appropriate.

1…イオンプレーティング装置、2…チャンバ、3…アーク式蒸発源、4…支持台、6…遮蔽物、8…ターゲット、10…水栓金具、10A…水栓金具10の表面、11…基材部、11A…基材部11の表面、12…皮膜部、12A…皮膜部12の表面、13…外観皮膜部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Ion-plating apparatus, 2... Chamber, 3... Arc-type evaporation source, 4... Support stand, 6... Shield, 8... Target, 10... Faucet fitting, 10A... Surface of faucet fitting 10, 11... Base Material part 11A... Surface of base material part 11 12... Film part 12A... Surface of film part 12 13... Appearance film part

Claims (7)

銅基合金からなる基材部と、
ドライプロセスによって、前記基材部の表面に直接成膜された皮膜部と、を備える水栓金具。
a substrate portion made of a copper-based alloy;
and a film portion formed directly on the surface of the base material portion by a dry process.
前記皮膜部は、
Cr:10%以上25%以下、
Ni:4%以上10%以下、
残部:Fe及び不可避的な成分からなる組成を有し、
前記皮膜部の膜厚が0.3μm以下である請求項1に記載の水栓金具。
The coating portion is
Cr: 10% or more and 25% or less,
Ni: 4% or more and 10% or less,
Balance: having a composition consisting of Fe and unavoidable components,
2. The faucet fitting according to claim 1, wherein the film thickness of said film portion is 0.3 [mu]m or less.
ドライプロセスによって、前記皮膜部の表面に直接成膜された外観皮膜部を備え、
前記外観皮膜部の主成分はCrであり、
前記外観皮膜部の膜厚が0.1μm以下である請求項2に記載の水栓金具。
Equipped with an external coating portion formed directly on the surface of the coating portion by a dry process,
The main component of the external coating portion is Cr,
3. The faucet fitting according to claim 2, wherein the film thickness of the exterior coating portion is 0.1 [mu]m or less.
表面に現れる非溶融金属粒子の直径が0.1μm未満である請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載の水栓金具。 4. The faucet fitting according to any one of claims 1 to 3, wherein the non-melting metal particles appearing on the surface have a diameter of less than 0.1 [mu]m. 算術平均粗さRaが0.10μm以下である請求項4に記載の水栓金具。 5. The faucet fitting according to claim 4, wherein the arithmetic mean roughness Ra is 0.10 [mu]m or less. 銅基合金からなる基材部を準備し、
ドライプロセスによって、前記基材部の表面に皮膜部を直接成膜する水栓金具の製造方法。
Preparing a base material made of a copper-based alloy,
A method for manufacturing a water faucet fitting, in which a film is directly formed on the surface of the base material by a dry process.
ドライプロセスにおいて、前記皮膜部の材料と前記基材部との間に物理的な遮蔽物を配置し、前記皮膜部を成膜する請求項6に記載の水栓金具の製造方法。 7. The method for manufacturing a water faucet fitting according to claim 6, wherein a physical shielding object is arranged between the material of the film portion and the base material portion to deposit the film portion in a dry process.
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