JP2023044620A - Active material, negative electrode layer, battery, and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

To provide an active material whose volume change is small due to charging and discharging.SOLUTION: An active material according to the present disclosure has a silicon clathrate type II crystal phase, has voids inside the primary particles, and has a pore diameter of 100 nm or less, void volume A of the voids is greater than 0.15 cc/g and 0.40 cc/g or less.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、活物質、負極層、電池およびこれらの製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present disclosure relates to active materials, negative electrode layers, batteries, and methods of making the same.

近年、電池の開発が盛んに行われている。例えば、自動車産業界では、電気自動車(BEV)またはハイブリッド自動車(HEV)に用いられる電池の開発が進められている。また、電池に用いられる活物質として、Siが知られている。 Batteries have been actively developed in recent years. For example, the automotive industry is developing batteries for use in electric vehicles (BEV) or hybrid vehicles (HEV). Also, Si is known as an active material used in batteries.

例えば特許文献1には、ケイ素粒子等の合金系負極活物質粒子を含有する全固体電池システムが開示されている。一方、特許文献2には、リチウムイオン電池の負極活物質として、計算上、シリコンクラスレートを使用することが可能であることが開示されている。また、特許文献3、4には、シリコンクラスレートII型の結晶相を有し、かつ、一次粒子の内部に空隙を有する活物質が開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses an all-solid battery system containing alloy-based negative electrode active material particles such as silicon particles. On the other hand, Patent Document 2 discloses that it is possible to use silicon clathrate as a negative electrode active material of a lithium ion battery from a calculation point of view. Further, Patent Documents 3 and 4 disclose an active material having a silicon clathrate II crystal phase and voids inside primary particles.

特開2017-059534号公報JP 2017-059534 A 米国特許出願公開第2012/0021283号明細書U.S. Patent Application Publication No. 2012/0021283 特開2021-158003号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2021-158003 特開2021-158004号公報JP 2021-158004 A

Siは理論容量が大きく、電池の高エネルギー密度化に有効である。その反面、Siは、充放電時の体積変化が大きい。 Si has a large theoretical capacity and is effective in increasing the energy density of batteries. On the other hand, Si undergoes a large change in volume during charging and discharging.

本開示は、上記実情に鑑みてなされたものであり、充放電による体積変化が小さい活物質を提供することを主目的とする。 The present disclosure has been made in view of the above circumstances, and a main object of the present disclosure is to provide an active material whose volume change is small due to charging and discharging.

[1]
シリコンクラスレートII型の結晶相を有し、一次粒子の内部に空隙を有し、細孔直径が100nm以下である上記空隙の空隙量Aが、0.15cc/gより大きく、0.40cc/g以下である、活物質。
[1]
It has a silicon clathrate type II crystal phase, has voids inside the primary particles, and has a pore diameter of 100 nm or less. g or less, the active material.

[2]
シリコンクラスレートII型の結晶相を有し、一次粒子の内部に空隙を有し、細孔直径が50nm以下である上記空隙の空隙量Bが、0.065cc/gより大きく、0.25cc/g以下である、活物質。
[2]
It has a silicon clathrate type II crystal phase, has voids inside the primary particles, and has a pore diameter of 50 nm or less, and the void volume B of the voids is greater than 0.065 cc/g and 0.25 cc/g. g or less, the active material.

[3]
細孔直径が100nm以下である上記空隙の空隙量Aが、0.05cc/g以上、0.40cc/g以下である、[2]に記載の活物質。
[3]
The active material according to [2], wherein the void volume A of the voids having a pore diameter of 100 nm or less is 0.05 cc/g or more and 0.40 cc/g or less.

[4]
CuKα線を用いたX線回折測定において、上記シリコンクラスレートII型の上記結晶相のピークとして、2θ=20.09°±0.50°に位置するピークAと、2θ=31.72°±0.50°に位置するピークBと、が観察され、上記ピークAの強度をIとし、上記ピークBの強度をIとし、2θ=22°~23°における最大強度をIとした場合に、I/Iが1.75以上2.00以下であり、I/Iが1.35以上1.75以下である、[1]から[3]までのいずれかに記載の活物質。
[4]
In X-ray diffraction measurement using CuKα rays, peak A located at 2θ = 20.09° ± 0.50° and 2θ = 31.72° ± A peak B located at 0.50° was observed, the intensity of the peak A was I A , the intensity of the peak B was I B , and the maximum intensity at 2θ = 22 ° to 23 ° was I M. In any case, I A /I M is 1.75 or more and 2.00 or less, and I B /I M is 1.35 or more and 1.75 or less, according to any one of [1] to [3] active material.

[5]
[1]~[4]までのいずれかに記載の活物質を含有する、負極層。
[5]
A negative electrode layer containing the active material according to any one of [1] to [4].

[6]
正極層と、負極層と、上記正極層および上記負極層の間に配置された電解質層と、を有する電池であって、上記負極層が、[5]に記載の負極層である、電池。
[6]
A battery comprising a positive electrode layer, a negative electrode layer, and an electrolyte layer disposed between the positive electrode layer and the negative electrode layer, wherein the negative electrode layer is the negative electrode layer according to [5].

[7]
[1]~[4]までのいずれかに記載の活物質の製造方法であって、Na源およびSi源を反応させてNa-Si合金を得る合金化工程と、上記Na-Si合金を加熱して、上記Na-Si合金におけるNa量を減少させ、シリコンクラスレートII型の結晶相を生成するシリコンクラスレート生成工程と、を有し、上記シリコンクラスレート生成工程において、上記Na-Si合金におけるNaを捕捉する捕捉剤を用い、上記Si源として、細孔直径が50nm以下である空隙の空隙量Cが、0.02cc/g以上、0.20cc/g以下である粒子を用いる、活物質の製造方法。
[7]
The method for producing an active material according to any one of [1] to [4], comprising: an alloying step of reacting a Na source and a Si source to obtain a Na—Si alloy; and heating the Na—Si alloy. a silicon clathrate forming step of reducing the amount of Na in the Na—Si alloy to form a silicon clathrate II type crystal phase, wherein the silicon clathrate forming step includes: Using a scavenger that captures Na in the active A method of making a substance.

[8]
[7]に記載の活物質の製造方法により活物質を製造する活物質製造工程と、上記活物質を用いて負極層を形成する負極層形成工程と、を有する負極層の製造方法。
[8]
A method for producing a negative electrode layer, comprising: an active material producing step of producing an active material by the method for producing an active material according to [7]; and a negative electrode layer forming step of forming a negative electrode layer using the active material.

[9]
上記負極層形成工程は、上記負極層を厚さ方向にプレスするプレス処理を有し、上記プレス処理により、上記活物質における、細孔直径が50nm以下である上記空隙の空隙量Dを、0.035cc/g以上、0.11cc/g以下にする、[8]に記載の負極層の製造方法。
[9]
The negative electrode layer forming step includes a press process for pressing the negative electrode layer in the thickness direction, and the press process reduces the void volume D of the voids having a pore diameter of 50 nm or less in the active material to 0. 0.035 cc/g or more and 0.11 cc/g or less.

[10]
上記プレス処理により、上記活物質における、細孔直径が100nm以下である上記空隙の空隙量Eを、0.053cc/g以上、0.16cc/g以下にする、[9]に記載の負極層の製造方法。
[10]
The negative electrode layer according to [9], wherein the press treatment sets the void volume E of the voids having a pore diameter of 100 nm or less in the active material to 0.053 cc/g or more and 0.16 cc/g or less. manufacturing method.

[11]
[7]に記載の活物質の製造方法により活物質を製造する活物質製造工程と、上記活物質を用いて負極層を形成する負極層形成工程と、を有する電池の製造方法。
[11]
A method for manufacturing a battery, comprising: an active material manufacturing step of manufacturing an active material by the method of manufacturing an active material according to [7]; and a negative electrode layer forming step of forming a negative electrode layer using the active material.

本開示においては、充放電による体積変化が小さい活物質を得ることができるという効果を奏する。 The present disclosure has the effect of being able to obtain an active material with a small volume change due to charging and discharging.

Siの結晶相を説明する概略斜視図である。It is a schematic perspective view explaining the crystal phase of Si. 本開示における電池を例示する概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view illustrating a battery in the present disclosure; FIG. 本開示における活物質の製造方法を例示するフローチャートである。4 is a flow chart illustrating a method for manufacturing an active material in the present disclosure; 実施例1~3および比較例1で得られた活物質に対するXRD測定の結果である。1 shows the results of XRD measurement for active materials obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1. FIG.

以下、本開示における活物質、負極層、電池およびこれらの製造方法について、詳細に説明する。 Hereinafter, the active material, the negative electrode layer, the battery, and the manufacturing method thereof according to the present disclosure will be described in detail.

A.活物質
本開示における活物質は、シリコンクラスレートII型の結晶相を有し、一次粒子の内部に空隙を有し、細孔直径が100nm以下である空隙の空隙量A、または、細孔直径が50nm以下である空隙の空隙量Bが多い。
A. Active material The active material in the present disclosure has a silicon clathrate II crystal phase, has voids inside the primary particles, and has a pore diameter of 100 nm or less. is 50 nm or less, the void amount B is large.

本開示における活物質は、シリコンクラスレートII型の結晶相を有する。図1(a)に示すように、シリコンクラスレートII型の結晶相では、複数のSi元素により、五角形または六角形を含む多面体(ケージ)が形成されている。この多面体は、Liイオン等の金属イオンを包摂できる空間を内部に有する。この空間に金属イオンが挿入されることで、充放電による体積変化を抑制できる。特に全固体電池では、充放電による体積変化を抑制するために、一般的に、高い拘束圧を付与する必要があるが、本開示における活物質を用いることで、拘束圧の低減を図ることができ、結果として、拘束治具の大型化を抑制することができる。 The active material in the present disclosure has a silicon clathrate II crystal phase. As shown in FIG. 1(a), in the silicon clathrate type II crystal phase, a plurality of Si elements form a polyhedron (cage) containing pentagons or hexagons. This polyhedron has internal spaces that can contain metal ions such as Li ions. By inserting metal ions into this space, volume change due to charging and discharging can be suppressed. In particular, in all-solid-state batteries, it is generally necessary to apply a high confining pressure in order to suppress volume changes due to charging and discharging, but by using the active material in the present disclosure, it is possible to reduce the confining pressure. As a result, it is possible to suppress an increase in the size of the restraint jig.

一方、通常のSiは、ダイヤモンド型の結晶相を有する。図1(b)に示すように、ダイヤモンド型のSi結晶相では、複数のSi元素により、四面体が形成されている。四面体は、Liイオン等の金属イオンを包摂できる空間を内部に有しないため、充放電による体積変化を抑制しにくい。そのため、耐久性が悪化しやすい。 On the other hand, ordinary Si has a diamond-type crystal phase. As shown in FIG. 1B, in the diamond-shaped Si crystal phase, tetrahedrons are formed by a plurality of Si elements. Since the tetrahedron does not have a space inside which can contain metal ions such as Li ions, it is difficult to suppress volume change due to charging and discharging. Therefore, durability tends to deteriorate.

また、本開示における活物質は、一次粒子の内部に空隙を有する。上述したように、シリコンクラスレートII型の結晶相は、Liイオン等の金属イオンを包摂できるケージを有するため、充放電による体積変化を抑制できる。その結晶相を有する一次粒子が内部に空隙を有すると、その空隙も体積変化の抑制に寄与するため、充放電による体積変化をさらに抑制できる。また、本開示における活物質は、細孔直径が100nm以下である微小な空隙、または、細孔直径が50nm以下である微小な空隙を多く有している。そのため、充放電による体積変化を均一に緩和することができる。さらに、微小な空隙を多く有していることから、プレスによる空隙の潰れを抑制することができる。特に、後述する製造方法を採用することにより、細孔直径が100nm以下である微小な空隙の空隙量A、または、細孔直径が50nm以下である微小な空隙の空隙量Bが多くなる。 In addition, the active material in the present disclosure has voids inside the primary particles. As described above, the silicon clathrate type II crystal phase has a cage capable of enclosing metal ions such as Li ions, and therefore can suppress volume change due to charging and discharging. If the primary particles having the crystal phase have voids inside, the voids also contribute to the suppression of volume change, so that the volume change due to charging and discharging can be further suppressed. In addition, the active material according to the present disclosure has many microvoids with a pore diameter of 100 nm or less, or many microvoids with a pore diameter of 50 nm or less. Therefore, the volume change due to charge/discharge can be uniformly mitigated. Furthermore, since there are many minute voids, crushing of the voids by pressing can be suppressed. In particular, by adopting the manufacturing method described later, the void volume A of fine voids with a pore diameter of 100 nm or less or the void volume B of fine voids with a pore diameter of 50 nm or less is increased.

本開示における活物質は、シリコンクラスレートII型の結晶相を有する。シリコンクラスレートII型の結晶相は、通常、空間群(Fd-3m)に属する。シリコンクラスレートII型の結晶相は、CuKα線を用いたX線回折測定において、2θ=20.09°、21.00°、26.51°、31.72°、36.26°、53.01°の位置に典型的なピークを有する。これらのピーク位置は、それぞれ、±0.50°の範囲で前後していてもよく、±0.30°の範囲で前後していてもよく、±0.10°の範囲で前後していてもよい。 The active material in the present disclosure has a silicon clathrate II crystal phase. The crystalline phase of silicon clathrate type II usually belongs to the space group (Fd-3m). The crystal phase of the silicon clathrate type II has 2θ=20.09°, 21.00°, 26.51°, 31.72°, 36.26°, 53.0° in X-ray diffraction measurement using CuKα rays. It has a typical peak at 01°. These peak positions may vary within a range of ±0.50°, may vary within a range of ±0.30°, and may vary within a range of ±0.10°. good too.

本開示における活物質は、シリコンクラスレートII型の結晶相を主相として有することが好ましい。「シリコンクラスレートII型の結晶相を主相として有する」とは、シリコンクラスレートII型の結晶相に属するピークが、X線回折測定で観察されるピークの中で、最も回折強度が大きいピークであることをいう。「主相」に関する定義は、他の結晶相においても同様である。 The active material in the present disclosure preferably has a silicon clathrate II crystal phase as a main phase. "Having a silicon clathrate type II crystal phase as a main phase" means that the peak belonging to the silicon clathrate type II crystal phase has the highest diffraction intensity among the peaks observed by X-ray diffraction measurement. It means that The definition of "main phase" is the same for other crystal phases.

シリコンクラスレートII型の結晶相において、2θ=20.09°±0.50°に位置するピークをピークAとし、2θ=31.72°±0.50°に位置するピークをピークBとする。また、ピークAの強度をIとし、ピークBの強度をIとする。一方、2θ=22°~23°における最大強度をIとする。2θ=22°~23°には、通常、Siに関連する結晶相のピークが現れない範囲であるため、基準として用いることができる。 In the silicon clathrate type II crystal phase, the peak located at 2θ = 20.09° ± 0.50° is defined as peak A, and the peak located at 2θ = 31.72° ± 0.50° is defined as peak B. . Further, the intensity of peak A is defined as IA , and the intensity of peak B is defined as IB . On the other hand, the maximum intensity at 2θ=22° to 23° is defined as IM . 2θ=22° to 23° is a range in which the peak of the crystal phase related to Si usually does not appear, so it can be used as a reference.

/Iの値は、1よりも大きいことが好ましい。I/Iの値が1以下である場合は、シリコンクラスレートII型の結晶相が実質的に形成されていないと判断できる。I/Iの値は、例えば1.75以上であり、1.80以上であってもよい。一方、I/Iの値は、例えば10以下であり、5以下であってもよく、2.00以下であってもよく、1.95以下であってもよい。 The value of I A /I M is preferably greater than one. When the value of I A /I M is 1 or less, it can be determined that the crystal phase of silicon clathrate II type is not substantially formed. The value of I A /I M is, for example, 1.75 or more, and may be 1.80 or more. On the other hand, the value of I A /I M is, for example, 10 or less, may be 5 or less, may be 2.00 or less, or may be 1.95 or less.

/Iの値は、1よりも大きいことが好ましい。I/Iの値が1以下である場合は、シリコンクラスレートII型の結晶相が実質的に形成されていないと判断できる。I/Iの値は、例えば1.35以上であり、1.40以上であってもよく、1.45以上であってもよい。一方、I/Iの値は、例えば7以下であり、4以下であってもよく、1.75以下であってもよく、1.70以下であってもよい。 The value of I B /I M is preferably greater than one. When the value of I B /I M is 1 or less, it can be determined that the silicon clathrate II type crystal phase is not substantially formed. The value of I B /I M is, for example, 1.35 or more, may be 1.40 or more, or may be 1.45 or more. On the other hand, the value of I B /I M is, for example, 7 or less, may be 4 or less, may be 1.75 or less, or may be 1.70 or less.

また、本開示における活物質は、ダイヤモンド型のSi結晶相を有しないことが好ましいが、僅かであれば有していてもよい。ダイヤモンド型のSi結晶相は、CuKα線を用いたX線回折測定において、2θ=28.44°、47.31°、56.10°、69.17°、76.37°の位置に典型的なピークを有する。これらのピーク位置は、それぞれ、±0.50°の範囲で前後していてもよく、±0.30°の範囲で前後していてもよく、±0.10°の範囲で前後していてもよい。 In addition, the active material in the present disclosure preferably does not have a diamond-shaped Si crystal phase, but may have a small amount. The diamond-shaped Si crystal phase is typically located at 2θ = 28.44°, 47.31°, 56.10°, 69.17°, and 76.37° in X-ray diffraction measurement using CuKα rays. peak. These peak positions may vary within a range of ±0.50°, may vary within a range of ±0.30°, and may vary within a range of ±0.10°. good too.

ダイヤモンド型のSi結晶相のピークとして、2θ=28.44°±0.50°に位置するピークCが観察された場合、ピークCの強度をIとする。I/Iは、例えば、1より大きく、1.5以上であってもよく、2以上であってもよく、3以上であってもよい。I/Iの好ましい範囲は、I/Iの好ましい範囲と同様である。 When peak C located at 2θ=28.44°±0.50° is observed as a peak of the diamond-shaped Si crystal phase, the intensity of peak C is defined as IC. I A /I C is, for example, greater than 1, may be 1.5 or more, may be 2 or more, or may be 3 or more. The preferred range of IB / IC is the same as the preferred range of IA / IC .

本開示における活物質は、シリコンクラスレートI型の結晶相を有していないことが好ましい。シリコンクラスレートI型の結晶相は、通常、空間群(Pm-3n)に属する。シリコンクラスレートI型の結晶相は、CuKα線を用いたX線回折測定において、2θ=19.44°、21.32°、30.33°、31.60°、32.82°、36.29°、52.39°、55.49°の位置に典型的なピークを有する。これらのピーク位置は、それぞれ、±0.50°の範囲で前後していてもよく、±0.30°の範囲で前後していてもよく、±0.10°の範囲で前後していてもよい。「結晶相を有していないこと」は、X線回折測定において、その結晶相のピークが確認されないことにより、確認できる。 The active material in the present disclosure preferably does not have a silicon clathrate I type crystal phase. The crystalline phase of silicon clathrate type I usually belongs to the space group (Pm-3n). The crystal phase of the silicon clathrate type I has 2θ=19.44°, 21.32°, 30.33°, 31.60°, 32.82°, 36.0° in X-ray diffraction measurement using CuKα rays. It has typical peaks at 29°, 52.39° and 55.49°. These peak positions may vary within a range of ±0.50°, may vary within a range of ±0.30°, and may vary within a range of ±0.10°. good too. "Not having a crystalline phase" can be confirmed by confirming no peak of the crystalline phase in the X-ray diffraction measurement.

本開示における活物質の形状としては、例えば、粒子状が挙げられる。活物質は、一次粒子であってもよく、一次粒子が凝集した二次粒子であってもよい。いずれの場合であっても、通常、一次粒子の内部に空隙を有する。 Examples of the shape of the active material in the present disclosure include particulate. The active material may be primary particles or secondary particles obtained by agglomeration of primary particles. In either case, the primary particles usually have voids inside.

本開示における活物質は、細孔直径が100nm以下である微小な空隙を多く有していることが好ましい。細孔直径が100nm以下である空隙の空隙量(積算空孔体積)Aは、例えば0.05cc/g以上であり、0.07cc/g以上であってもよく、0.10cc/g以上であってもよく、0.12cc/g以上であってもよい。また、空隙量Aは、例えば0.12cc/gより大きくてもよく、0.15cc/gより大きくてもよい。一方、空隙量Aは、例えば0.40cc/g以下であり、0.39cc/g以下であってもよく、0.35cc/g以下であってもよく、0.30cc/g以下であってもよく、0.25cc/g以下であってもよく、0.24cc/g以下であってもよく、0.23cc/g以下であってもよい。空隙量Aは、例えば、水銀ポロシメーター測定、BET測定、ガス吸着法、3D-SEM、3D-TEMにより求めることができる。空隙量A以外の空隙量の測定方法も同様である。 The active material in the present disclosure preferably has many fine voids with pore diameters of 100 nm or less. The void volume (accumulated pore volume) A of voids having a pore diameter of 100 nm or less is, for example, 0.05 cc/g or more, may be 0.07 cc/g or more, or may be 0.10 cc/g or more. It may be 0.12 cc/g or more. Moreover, the void amount A may be, for example, greater than 0.12 cc/g, or may be greater than 0.15 cc/g. On the other hand, the void amount A is, for example, 0.40 cc/g or less, may be 0.39 cc/g or less, may be 0.35 cc/g or less, or may be 0.30 cc/g or less. 0.25 cc/g or less, 0.24 cc/g or less, or 0.23 cc/g or less. The void amount A can be determined by, for example, mercury porosimeter measurement, BET measurement, gas adsorption method, 3D-SEM, and 3D-TEM. The method for measuring void amounts other than the void amount A is the same.

本開示における活物質は、細孔直径が50nm以下である微小な空隙を多く有していることが好ましい。細孔直径が50nm以下である空隙は、細孔直径が50nmより大きく、かつ、細孔直径が100nm以下である、空隙に比べて、プレスによる空隙の潰れをさらに抑制することができる。細孔直径が50nm以下である空隙の空隙量Bは、例えば0.05cc/g以上であり、0.065cc/gより大きくてもよく、0.072cc/g以上であってもよく、0.10cc/g以上であってもよく、0.105cc/g以上であってもよく、0.11cc/g以上であってもよく、0.15cc/g以上であってもよい。一方、空隙量Bは、例えば0.25cc/g以下であり、0.22cc/g以下であってもよく、0.17cc/g以下であってもよく、0.165cc/g以下であってもよく、0.16cc/g以下であってもよい。 The active material in the present disclosure preferably has many fine voids with pore diameters of 50 nm or less. Voids with a pore diameter of 50 nm or less can further suppress crushing of the voids by pressing, compared to voids with a pore diameter of greater than 50 nm and 100 nm or less. The void volume B of voids having a pore diameter of 50 nm or less is, for example, 0.05 cc/g or more, may be greater than 0.065 cc/g, may be 0.072 cc/g or more, or may be 0.072 cc/g or more. It may be 10 cc/g or more, 0.105 cc/g or more, 0.11 cc/g or more, or 0.15 cc/g or more. On the other hand, the void amount B is, for example, 0.25 cc/g or less, may be 0.22 cc/g or less, may be 0.17 cc/g or less, or may be 0.165 cc/g or less. may be 0.16 cc/g or less.

本開示における活物質は、細孔直径が10nm以下である微小な空隙を多く有していることが好ましい。細孔直径が10nm以下である空隙は、細孔直径が10nmより大きく、かつ、細孔直径が50nm以下である、空隙に比べて、析出するLiを高い充填率で収納できるため、拘束圧増加を低減できる。細孔直径が10nm以下である空隙の空隙量Xは、例えば0.015cc/g以上であり、0.0167cc/g以上であってもよく、0.020cc/g以上であってもよく、0.023cc/g以上であってもよい。一方、空隙量Xは、例えば、0.09cc/g以下である。なお、空隙量Xは、0.0337cc/g以下であってもよい。 The active material in the present disclosure preferably has many fine voids with pore diameters of 10 nm or less. Voids with a pore diameter of 10 nm or less can accommodate the precipitated Li at a higher filling rate than voids with a pore diameter of greater than 10 nm and a pore diameter of 50 nm or less, so the confining pressure increases. can be reduced. The void volume X of voids having a pore diameter of 10 nm or less is, for example, 0.015 cc/g or more, may be 0.0167 cc/g or more, may be 0.020 cc/g or more, or may be 0 It may be 0.023 cc/g or more. On the other hand, the void amount X is, for example, 0.09 cc/g or less. In addition, the void amount X may be 0.0337 cc/g or less.

本開示における活物質は、一次粒子の内部に空隙を有する。その空隙率は、例えば4%以上であり、10%以上であってもよい。また、上記空隙率は、例えば40%以下であり、20%以下であってもよい。空隙率は例えば以下のような手順で求めることができる。まず、活物質を含む電極層に対して、イオンミリング加工により断面出しを行う。そして断面をSEM(走査型電子顕微鏡)で観察して粒子の写真を取得する。得られた写真から画像解析ソフトを用いシリコン部および空隙部を峻別して、2値化する。シリコン部と空隙部の面積を求め、以下の式から空隙率(%)を算出する。
空隙率(%)=100×(空隙部面積)/((シリコン部面積)+(空隙部面積))
The active material in the present disclosure has voids inside the primary particles. The porosity is, for example, 4% or more, and may be 10% or more. Moreover, the porosity is, for example, 40% or less, and may be 20% or less. The porosity can be obtained, for example, by the following procedure. First, an electrode layer containing an active material is cross-sectioned by ion milling. Then, a photograph of the particles is obtained by observing the cross section with an SEM (scanning electron microscope). Using image analysis software from the obtained photograph, the silicon portion and the void portion are sharply distinguished and binarized. The areas of the silicon portion and the void portion are obtained, and the porosity (%) is calculated from the following formula.
Porosity (%) = 100 x (area of void)/((area of silicon portion) + (area of void))

具体的な画像解析および空隙率の算出は、以下のように行うことができる。画像解析ソフトとしては、例えばFiji ImageJ bundled with Java 1.8.0_172(以下、Fiji)を用いる。同一視野の二次電子像と反射電子像を合成して、RGBカラー画像化する。そして、ピクセルごとのノイズを除去するために、得られたRGB画像をFijiにおける機能「Median(フィルタサイズ=2)」によってぼかす。次に、Fijiを用い、SEM画像中のシリコン部と空隙部とを塗分け、シリコン部および空隙部の面積比から、空隙量を算出する。 Specific image analysis and porosity calculation can be performed as follows. As image analysis software, for example, Fiji ImageJ bundled with Java 1.8.0_172 (hereafter Fiji) is used. A secondary electron image and a backscattered electron image in the same field of view are synthesized to form an RGB color image. The resulting RGB image is then blurred by the function "Median (filter size=2)" in Fiji to remove pixel-by-pixel noise. Next, using Fiji, the silicon part and the void part in the SEM image are separately painted, and the void amount is calculated from the area ratio of the silicon part and the void part.

なお、RGBカラー画像化について、二次電子像と反射電子像はともにグレースケールで表わされているため、例えば、二次電子像の各ピクセルにおける明るさxをRed値に、反射電子像も同様に明るさyをGreen値に割り付ける。これにより、例えばピクセルごとに、R=x、G=y、B=(x+y)/2としてRGB画像化する。 In RGB color imaging, both the secondary electron image and the backscattered electron image are represented in gray scale. Similarly, the brightness y is assigned to the Green value. As a result, for example, each pixel is converted into an RGB image with R=x, G=y, and B=(x+y)/2.

一次粒子の平均粒径(D50)は、例えば50nm以上であり、100nm以上であってもよく、150nm以上であってもよい。一方、一次粒子の平均粒径(D50)は、例えば3000nm以下であり、1500nm以下であってもよく、1000nm以下であってもよい。また、二次粒子の平均粒径(D50)は、例えば1μm以上であり、2μm以上であってもよく、5μm以上であってもよい。一方、二次粒子の平均粒径(D50)は、例えば60μm以下であり、40μm以下であってもよい。なお、平均粒径(D50)は、例えばSEMによる観察によって求めることができる。サンプル数は、多いことが好ましく、例えば20以上であり、50以上であってもよく、100以上であってもよい。 The average particle size (D 50 ) of the primary particles is, for example, 50 nm or more, may be 100 nm or more, or may be 150 nm or more. On the other hand, the average particle diameter ( D50 ) of the primary particles is, for example, 3000 nm or less, may be 1500 nm or less, or may be 1000 nm or less. Further, the average particle diameter ( D50 ) of the secondary particles is, for example, 1 μm or more, may be 2 μm or more, or may be 5 μm or more. On the other hand, the average particle size (D 50 ) of secondary particles is, for example, 60 μm or less, and may be 40 μm or less. The average particle size (D 50 ) can be determined by observation with SEM, for example. The number of samples is preferably large, for example, 20 or more, may be 50 or more, or may be 100 or more.

本開示における活物質の組成は、特に限定されないが、NaSi136(0≦x≦24)で表されることが好ましい。xは、0であってもよく、0より大きくてもよい。一方、xは、20以下であってもよく、10以下であってもよく、5以下であってもよい。なお、本開示における活物質は、不可避的成分(例えばLi)を含有していてもよい。活物質の組成は、例えば、EDX、XRD、XRF、ICP、原子吸光法により求めることができる。他の化合物の組成についても同様に測定できる。なお、活物質の表面には、一般的に、不可避的な酸化被膜が形成される。そのため、活物質は、微量のО(酸素)を含有していてもよい。また、活物質は、製造工程に由来する、微量のC(炭素)を含有していてもよい。 Although the composition of the active material in the present disclosure is not particularly limited, it is preferably represented by Na x Si 136 (0≦x≦24). x may be 0 or greater than 0. On the other hand, x may be 20 or less, 10 or less, or 5 or less. Note that the active material in the present disclosure may contain an unavoidable component (eg, Li). The composition of the active material can be determined, for example, by EDX, XRD, XRF, ICP, atomic absorption spectroscopy. Compositions of other compounds can be similarly measured. Note that an unavoidable oxide film is generally formed on the surface of the active material. Therefore, the active material may contain a small amount of O (oxygen). In addition, the active material may contain a trace amount of C (carbon) derived from the manufacturing process.

本開示における活物質は、通常、電池に用いられる。本開示における活物質は、負極活物質であってもよく、正極活物質であってもよいが、前者が好ましい。本開示においては、上述した活物質を有する電極層(負極層または正極層)、および、その電極層を有する電池を提供することもできる。活物質の製造方法としては、例えば、後述する「D.活物質の製造方法」に記載する製造方法が挙げられる。 Active materials in the present disclosure are typically used in batteries. The active material in the present disclosure may be a negative electrode active material or a positive electrode active material, but the former is preferred. The present disclosure can also provide an electrode layer (negative electrode layer or positive electrode layer) having the active material described above and a battery having the electrode layer. Examples of the method for producing the active material include the production method described later in "D. Production method for active material".

B.負極層
本開示における負極層は、上述した活物質を含有する。
B. Negative Electrode Layer The negative electrode layer in the present disclosure contains the active material described above.

本開示によれば、上述した活物質を用いることで、充放電による体積変化が小さい負極層とすることができる。 According to the present disclosure, by using the active material described above, the negative electrode layer can have a small volume change due to charging and discharging.

負極層は、少なくとも負極活物質を含有する層である。負極活物質については、上記「A.活物質」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。負極層の製造時にプレス処理を行うと、負極活物質における一次粒子の内部に存在する空隙が潰れる場合がある。負極層に含まれる負極活物質は、後述する空隙量Dおよび空隙量Eが、所定の範囲にあってもよい。負極層における負極活物質の割合は、例えば20重量%以上であり、30重量%以上であってもよく、40重量%以上であってもよい。負極活物質の割合が少なすぎると、十分なエネルギー密度が得られない可能性がある。一方、負極活物質の割合は、例えば80重量%以下であり、70重量%以下であってもよく、60重量%以下であってもよい。負極活物質の割合が多すぎると、相対的に、負極層におけるイオン伝導性および電子伝導性が低下する可能性がある。 The negative electrode layer is a layer containing at least a negative electrode active material. The description of the negative electrode active material is omitted here because it is the same as described in the above "A. Active material". When the negative electrode layer is manufactured by press treatment, voids existing inside the primary particles of the negative electrode active material may be crushed. The negative electrode active material contained in the negative electrode layer may have a void amount D and a void amount E described later within a predetermined range. The proportion of the negative electrode active material in the negative electrode layer is, for example, 20% by weight or more, may be 30% by weight or more, or may be 40% by weight or more. If the ratio of the negative electrode active material is too small, there is a possibility that sufficient energy density cannot be obtained. On the other hand, the proportion of the negative electrode active material is, for example, 80% by weight or less, may be 70% by weight or less, or may be 60% by weight or less. If the ratio of the negative electrode active material is too high, the ionic conductivity and electronic conductivity of the negative electrode layer may relatively decrease.

負極層は、必要に応じて、電解質、導電材およびバインダーの少なくとも一つを含有していてもよい。電解質としては、例えば、後述する「C.電池 3.電解質層」に記載する電解質が挙げられる。導電材としては、例えば、炭素材料、金属粒子、導電性ポリマーが挙げられる。炭素材料としては、例えば、アセチレンブラック(AB)、ケッチェンブラック(KB)等の粒子状炭素材料、炭素繊維、カーボンナノチューブ(CNT)、カーボンナノファイバー(CNF)等の繊維状炭素材料が挙げられる。また、バインダーとしては、例えば、ゴム系バインダー、フッ化物系バインダーが挙げられる。 The negative electrode layer may contain at least one of an electrolyte, a conductive material and a binder, if necessary. Examples of the electrolyte include electrolytes described later in "C. Battery 3. Electrolyte layer". Examples of conductive materials include carbon materials, metal particles, and conductive polymers. Examples of carbon materials include particulate carbon materials such as acetylene black (AB) and ketjen black (KB), and fibrous carbon materials such as carbon fibers, carbon nanotubes (CNT), and carbon nanofibers (CNF). . Examples of binders include rubber-based binders and fluoride-based binders.

負極層の厚さは、例えば、0.1μm以上、1000μm以下である。本開示における負極層は、通常、電池に用いられる。 The thickness of the negative electrode layer is, for example, 0.1 μm or more and 1000 μm or less. Anode layers in the present disclosure are typically used in batteries.

C.電池
図2は、本開示における電池を例示する概略断面図である。図2に示す電池10は、正極層1と、負極層2と、正極層1および負極層2の間に配置された電解質層3と、正極層1の集電を行う正極集電体4と、負極層2の集電を行う負極集電体5とを有する。本開示においては、負極層2が、上記「B.負極層」に記載した負極層である。
C. Battery FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating a battery in the present disclosure. A battery 10 shown in FIG. , and a negative electrode current collector 5 for collecting current of the negative electrode layer 2 . In the present disclosure, the negative electrode layer 2 is the negative electrode layer described in "B. Negative electrode layer" above.

本開示によれば、上述した負極層を用いることで、充放電による体積変化が小さい電池とすることができる。 According to the present disclosure, by using the negative electrode layer described above, it is possible to obtain a battery with small volume change due to charging and discharging.

1.負極層
本開示における負極層については、上記「B.負極層」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。
1. Negative Electrode Layer The negative electrode layer in the present disclosure is the same as described in "B. Negative Electrode Layer" above, so description thereof is omitted here.

2.正極層
正極層は、少なくとも正極活物質を含有する層である。また、正極層は、必要に応じて、電解質、導電材およびバインダーの少なくとも一つを含有していてもよい。
2. Positive Electrode Layer The positive electrode layer is a layer containing at least a positive electrode active material. Moreover, the positive electrode layer may contain at least one of an electrolyte, a conductive material, and a binder, if necessary.

正極活物質としては、例えば、酸化物活物質が挙げられる。酸化物活物質としては、例えば、LiCoO、LiMnO、LiNiO、LiVO、LiNi1/3Co1/3Mn1/3等の岩塩層状型活物質、LiMn、LiTi12、Li(Ni0.5Mn1.5)O等のスピネル型活物質、LiFePO、LiMnPO、LiNiPO、LiCoPO等のオリビン型活物質が挙げられる。 Examples of positive electrode active materials include oxide active materials. Examples of oxide active materials include rock salt layered active materials such as LiCoO 2 , LiMnO 2 , LiNiO 2 , LiVO 2 , LiNi 1/3 Co 1/3 Mn 1/3 O 2 , LiMn 2 O 4 and Li 4 . Spinel-type active materials such as Ti 5 O 12 and Li(Ni 0.5 Mn 1.5 )O 4 and olivine-type active materials such as LiFePO 4 , LiMnPO 4 , LiNiPO 4 and LiCoPO 4 can be used.

酸化物活物質の表面には、Liイオン伝導性酸化物を含有するコート層が形成されていてもよい。酸化物活物質と、固体電解質(特に硫化物固体電解質)との反応を抑制できるからである。Liイオン伝導性酸化物としては、例えば、LiNbOが挙げられる。コート層の厚さは、例えば、1nm以上30nm以下である。また、正極活物質として、例えばLiSを用いることもできる。 A coating layer containing a Li ion conductive oxide may be formed on the surface of the oxide active material. This is because the reaction between the oxide active material and the solid electrolyte (especially the sulfide solid electrolyte) can be suppressed. Li-ion conductive oxides include, for example, LiNbO 3 . The thickness of the coat layer is, for example, 1 nm or more and 30 nm or less. Moreover, Li2S can also be used as a positive electrode active material, for example.

正極活物質の形状としては、例えば、粒子状が挙げられる。正極活物質の平均粒径(D50)は、特に限定されないが、例えば10nm以上であり、100nm以上であってもよい。一方、正極活物質の平均粒径(D50)は、例えば50μm以下であり、20μm以下であってもよい。平均粒径(D50)は、例えば、レーザー回折式粒度分布計、走査型電子顕微鏡(SEM)による測定から算出できる。 Examples of the shape of the positive electrode active material include particulate. The average particle size (D 50 ) of the positive electrode active material is not particularly limited, but is, for example, 10 nm or more, and may be 100 nm or more. On the other hand, the average particle size (D 50 ) of the positive electrode active material is, for example, 50 μm or less, and may be 20 μm or less. The average particle size (D 50 ) can be calculated, for example, from measurements using a laser diffraction particle size distribution meter and a scanning electron microscope (SEM).

正極層に用いられる電解質、導電材およびバインダーについては、上記「B.負極層」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。正極層の厚さは、例えば、0.1μm以上、1000μm以下である。 The electrolyte, conductive material, and binder used in the positive electrode layer are the same as those described in "B. Negative electrode layer" above, and therefore descriptions thereof are omitted here. The thickness of the positive electrode layer is, for example, 0.1 μm or more and 1000 μm or less.

3.電解質層
電解質層は、正極層および負極層の間に形成される層であり、電解質を少なくとも含有する。電解質は、固体電解質であってもよく、液体電解質(電解液)であってもよい。
3. Electrolyte Layer The electrolyte layer is a layer formed between the positive electrode layer and the negative electrode layer and contains at least an electrolyte. The electrolyte may be a solid electrolyte or a liquid electrolyte (electrolytic solution).

固体電解質としては、硫化物固体電解質、酸化物固体電解質、窒化物固体電解質、ハロゲン化物固体電解質等の無機固体電解質、ポリマー電解質等の有機高分子電解質が挙げられる。硫化物固体電解質としては、例えば、Li元素、X元素(Xは、P、As、Sb、Si、Ge、Sn、B、Al、Ga、Inの少なくとも一種である)、および、S元素を含有する固体電解質が挙げられる。また、硫化物固体電解質は、O元素およびハロゲン元素の少なくとも一方をさらに含有していてもよい。ハロゲン元素としては、例えば、F元素、Cl元素、Br元素、I元素が挙げられる。硫化物固体電解質は、ガラス(非晶質)であってもよく、ガラスセラミックスであってもよい。硫化物固体電解質としては、例えば、LiS-P、LiI-LiS-P、LiI-LiBr-LiS-P、LiS-SiS、LiS-GeS、LiS-P-GeSが挙げられる。 Solid electrolytes include inorganic solid electrolytes such as sulfide solid electrolytes, oxide solid electrolytes, nitride solid electrolytes and halide solid electrolytes, and organic polymer electrolytes such as polymer electrolytes. Examples of sulfide solid electrolytes include Li element, X element (X is at least one of P, As, Sb, Si, Ge, Sn, B, Al, Ga, and In), and S element. and solid electrolytes. Moreover, the sulfide solid electrolyte may further contain at least one of the O element and the halogen element. Halogen elements include, for example, F element, Cl element, Br element, and I element. The sulfide solid electrolyte may be glass (amorphous) or glass ceramics. Examples of sulfide solid electrolytes include Li 2 SP 2 S 5 , LiI-Li 2 SP 2 S 5 , LiI-LiBr-Li 2 SP 2 S 5 , Li 2 S-SiS 2 , Li 2 S—GeS 2 and Li 2 SP 2 S 5 —GeS 2 .

電解液は、支持塩および溶媒を含有することが好ましい。リチウムイオン伝導性を有する電解液の支持塩(リチウム塩)としては、例えば、LiPF、LiBF、LiClO、LiAsF等の無機リチウム塩、LiCFSO、LiN(CFSO、LiN(CSO、LiN(FSO、LiC(CFSO等の有機リチウム塩が挙げられる。電解液に用いられる溶媒としては、例えば、エチレンカーボネート(EC)、プロピレンカーボネート(PC)、ブチレンカーボネート(BC)等の環状エステル(環状カーボネート)、ジメチルカーボネート(DMC)、ジエチルカーボネート(DEC)、エチルメチルカーボネート(EMC)等の鎖状エステル(鎖状カーボネート)が挙げられる。電解液は、2種以上の溶媒を含有することが好ましい。 The electrolytic solution preferably contains a supporting salt and a solvent. Examples of the supporting salt (lithium salt) of the electrolytic solution having lithium ion conductivity include inorganic lithium salts such as LiPF 6 , LiBF 4 , LiClO 4 and LiAsF 6 , LiCF 3 SO 3 and LiN(CF 3 SO 2 ) 2 . , LiN(C 2 F 5 SO 2 ) 2 , LiN(FSO 2 ) 2 , LiC(CF 3 SO 2 ) 3 and the like. Solvents used in the electrolytic solution include, for example, ethylene carbonate (EC), propylene carbonate (PC), cyclic esters (cyclic carbonates) such as butylene carbonate (BC), dimethyl carbonate (DMC), diethyl carbonate (DEC), ethyl Examples include chain esters (chain carbonates) such as methyl carbonate (EMC). The electrolytic solution preferably contains two or more solvents.

電解質層の厚さは、例えば、0.1μm以上、1000μm以下である。 The thickness of the electrolyte layer is, for example, 0.1 μm or more and 1000 μm or less.

4.その他の構成
本開示における電池は、正極層の集電を行う正極集電体、および、負極層の集電を行う負極集電体を有することが好ましい。正極集電体の材料としては、例えば、SUS、アルミニウム、ニッケル、鉄、チタンおよびカーボンが挙げられる。一方、負極集電体の材料としては、例えば、SUS、銅、ニッケルおよびカーボンが挙げられる。
4. Other Configurations The battery in the present disclosure preferably has a positive electrode current collector that collects current for the positive electrode layer and a negative electrode current collector that collects current for the negative electrode layer. Examples of materials for the positive electrode current collector include SUS, aluminum, nickel, iron, titanium and carbon. On the other hand, examples of materials for the negative electrode current collector include SUS, copper, nickel and carbon.

本開示における電池は、正極層、電解質層および負極層に対して、厚さ方向に沿って拘束圧を付与する拘束治具をさらに有していてもよい。特に、電解質層が固体電解質層である場合、良好なイオン伝導パスおよび電子伝導パスを形成するために、拘束圧を付与することが好ましい。拘束圧は、例えば0.1MPa以上であり、1MPa以上であってもよく、5MPa以上であってもよい。一方、拘束圧は、例えば100MPa以下であり、50MPa以下であってもよく、20MPa以下であってもよい。 The battery according to the present disclosure may further include a restraining jig that applies a restraining pressure along the thickness direction to the positive electrode layer, the electrolyte layer, and the negative electrode layer. In particular, when the electrolyte layer is a solid electrolyte layer, it is preferable to apply a confining pressure in order to form good ion-conducting paths and electron-conducting paths. The confining pressure is, for example, 0.1 MPa or more, may be 1 MPa or more, or may be 5 MPa or more. On the other hand, the confining pressure is, for example, 100 MPa or less, may be 50 MPa or less, or may be 20 MPa or less.

5.電池
本開示における電池の種類は特に限定されないが、典型的にはリチウムイオン電池である。また、本開示における電池は、電解質層として電解液を含有する液電池であってもよく、電解質層として固体電解質層を有する全固体電池であってもよい。また、本開示における電池は、一次電池であってもよく、二次電池であってもよいが、中でも二次電池であることが好ましい。繰り返し充放電でき、例えば車載用電池として有用だからである。
5. Battery The type of battery in the present disclosure is not particularly limited, but is typically a lithium ion battery. Also, the battery in the present disclosure may be a liquid battery containing an electrolytic solution as an electrolyte layer, or an all-solid battery having a solid electrolyte layer as an electrolyte layer. Also, the battery in the present disclosure may be a primary battery or a secondary battery, but is preferably a secondary battery. This is because they can be repeatedly charged and discharged, and are useful, for example, as batteries for vehicles.

本開示における電池は、単電池であってもよく、積層電池であってもよい。積層電池は、モノポーラ型積層電池(並列接続型の積層電池)であってもよく、バイポーラ型積層電池(直列接続型の積層電池)であってもよい。電池の形状としては、例えば、コイン型、ラミネート型、円筒型、角型が挙げられる。 A battery in the present disclosure may be a single cell or a stacked battery. The laminated battery may be a monopolar laminated battery (parallel connected laminated battery) or a bipolar laminated battery (series connected laminated battery). Examples of the shape of the battery include coin type, laminate type, cylindrical type, and square type.

D.活物質の製造方法
図3は、本開示における活物質の製造方法を例示するフローチャートである。図3に示す製造方法では、まず、Na源およびSi源を反応させてNa-Si合金を得る(合金化工程)。この際、Si源として、細孔直径が50nm以下である空隙の空隙量Cが多い粒子を用いる。次に、Na-Si合金を加熱して、Na-Si合金におけるNa量を減少させ、シリコンクラスレートII型の結晶相を生成する(シリコンクラスレート生成工程)。この際、Na-Si合金におけるNaを捕捉する捕捉剤を用いる。これにより、上述した空隙量Aおよび空隙量Bの少なくとも一方が所定の範囲にあり、かつ、シリコンクラスレートII型の結晶相を有する活物質が得られる。
D. Method for Manufacturing Active Material FIG. 3 is a flowchart illustrating a method for manufacturing an active material in the present disclosure. In the manufacturing method shown in FIG. 3, first, a Na source and a Si source are reacted to obtain an Na—Si alloy (alloying step). At this time, as the Si source, particles having a large void volume C of pores having a pore diameter of 50 nm or less are used. Next, the Na--Si alloy is heated to reduce the amount of Na in the Na--Si alloy to form a silicon clathrate II type crystal phase (silicon clathrate formation step). At this time, a trapping agent that traps Na in the Na—Si alloy is used. As a result, an active material is obtained in which at least one of the void amount A and the void amount B is within a predetermined range and has a silicon clathrate II type crystal phase.

本開示によれば、合金化工程において所定のSi源を用い、さらに、シリコンクラスレート生成工程において所定の捕捉剤を用いることで、充放電による体積変化が小さい活物質を得ることができる。 According to the present disclosure, by using a predetermined Si source in the alloying step and further using a predetermined scavenger in the silicon clathrate formation step, an active material with small volume change due to charging and discharging can be obtained.

1.合金化工程
本開示における合金化工程は、Na源およびSi源を反応させてNa-Si合金を得る工程である。合金化工程において、Si源として、細孔直径が50nm以下である空隙の空隙量Cが、0.02cc/g以上、0.20cc/g以下である粒子を用いる。
1. Alloying Step The alloying step in the present disclosure is a step of reacting a Na source and a Si source to obtain a Na—Si alloy. In the alloying step, particles having a void volume C of pores having a pore diameter of 50 nm or less of 0.02 cc/g or more and 0.20 cc/g or less are used as the Si source.

Si源は、少なくともSiを含有する粒子である。Si源は、Si単体であってもよく、Siと他の金属との合金であってもよい。Si源が合金である場合、その合金は、Siを主成分として含有することが好ましい。合金におけるSiの割合は、例えば50at%以上であり、70at%以上であってもよく、90at%以上であってもよい。 The Si source is particles containing at least Si. The Si source may be Si alone or an alloy of Si and other metals. When the Si source is an alloy, the alloy preferably contains Si as a main component. The proportion of Si in the alloy is, for example, 50 at % or more, may be 70 at % or more, or may be 90 at % or more.

Si源は、一次粒子の内部に多くの空隙を有するポーラスSiであることが好ましい。Si源において、細孔直径が50nm以下である空隙の空隙量Cは、通常、0.02cc/g以上であり、0.05cc/g以上であってもよく、0.10cc/g以上であってもよく、0.11cc/g以上であってもよく、0.12cc/g以上であってもよい。一方、空隙量Cは、通常、0.20cc/g以下であり、0.19cc/g以下であってもよい。また、Si源のBET比表面積は、例えば20m/g以上であり、25m/g以上であってもよく、30m/g以上であってもよい。一方、Si源のBET比表面積は、例えば200m/g以下である。Si源の平均粒径(D50)は、例えば、0.5μm以上、10μm以下である。 The Si source is preferably porous Si having many voids inside the primary particles. In the Si source, the void volume C of pores having a pore diameter of 50 nm or less is usually 0.02 cc/g or more, may be 0.05 cc/g or more, or is 0.10 cc/g or more. 0.11 cc/g or more, or 0.12 cc/g or more. On the other hand, the void volume C is usually 0.20 cc/g or less, and may be 0.19 cc/g or less. Also, the BET specific surface area of the Si source is, for example, 20 m 2 /g or more, may be 25 m 2 /g or more, or may be 30 m 2 /g or more. On the other hand, the BET specific surface area of the Si source is, for example, 200 m 2 /g or less. The average particle size (D 50 ) of the Si source is, for example, 0.5 μm or more and 10 μm or less.

Si源(ポーラスSi)を製造する方法としては、例えば、MgとSiとの合金(Mg-Si合金)を製造し、次に、Mg-Si合金からMgを除去する方法が挙げられる。Mg-Si合金は、例えば、MgおよびSiの混合物を加熱することにより得られる。Siに対するMgの割合(Mg/Si)は、例えば1.0以上であり、1.5以上であってもよく、2.0以上であってもよい。一方、Mg/Siは、例えば6.0以下である。Mg-Si合金からMgを除去する方法としては、例えば、Mg-Si合金を、酸素を含有する不活性ガス雰囲気で加熱することで、Mg-Si合金におけるMgをMgOに変化させ、その後、酸溶液でMgOを除去する方法が挙げられる。酸溶液としては、例えば、塩酸(HCl)およびフッ化水素(HF)を含有する水溶液が挙げられる。 A method for producing the Si source (porous Si) includes, for example, a method of producing an alloy of Mg and Si (Mg—Si alloy) and then removing Mg from the Mg—Si alloy. Mg—Si alloys are obtained, for example, by heating a mixture of Mg and Si. The ratio of Mg to Si (Mg/Si) is, for example, 1.0 or more, may be 1.5 or more, or may be 2.0 or more. On the other hand, Mg/Si is, for example, 6.0 or less. As a method for removing Mg from the Mg—Si alloy, for example, the Mg—Si alloy is heated in an inert gas atmosphere containing oxygen to change Mg in the Mg—Si alloy to MgO, and then acid A method of removing MgO with a solution is mentioned. Acid solutions include, for example, aqueous solutions containing hydrochloric acid (HCl) and hydrogen fluoride (HF).

また、Si源(ポーラスSi)を製造する方法としては、例えば、LiとSiとの合金(Li-Si合金)を製造し、次に、Li-Si合金からLiを除去する方法が挙げられる。Li-Si合金は、例えば、LiおよびSiを混合することにより得られる。Siに対するLiの割合(Li/Si)は、例えば1.0以上であり、2.0以上であってもよく、3.0以上であってもよく、4.0以上であってもよい。一方、Li/Siは、例えば8.0以下である。Li-Si合金からLiを除去する方法としては、例えば、Li-Si合金を、Li抽出材と反応させる方法が挙げられる。Li抽出材としては、例えば、メタノール、エタノール、1-プロパノール、1-ブタノール、1-ペンタノール、1-ヘキサノール等のアルコール;酢酸、ギ酸、プロピオン酸、シュウ酸等の酸が挙げられる。 Further, as a method for producing a Si source (porous Si), for example, a method of producing an alloy of Li and Si (Li—Si alloy) and then removing Li from the Li—Si alloy can be mentioned. A Li—Si alloy is obtained, for example, by mixing Li and Si. The ratio of Li to Si (Li/Si) is, for example, 1.0 or more, may be 2.0 or more, may be 3.0 or more, or may be 4.0 or more. On the other hand, Li/Si is, for example, 8.0 or less. A method of removing Li from a Li—Si alloy includes, for example, a method of reacting the Li—Si alloy with a Li extraction material. Examples of the Li extraction material include alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, 1-butanol, 1-pentanol and 1-hexanol; acids such as acetic acid, formic acid, propionic acid and oxalic acid.

また、Si源(ポーラスSi)を製造する方法としては、例えば、MgとSiとの合金(Mg-Si合金)を製造し、次に、Mg-Si合金からMgを除去し、次に、Mgを除去したSiとLiとの合金(Li-Si合金)を製造し、次に、Li-Si合金からLiを除去する方法が挙げられる。 In addition, as a method for producing a Si source (porous Si), for example, an alloy of Mg and Si (Mg—Si alloy) is produced, then Mg is removed from the Mg—Si alloy, and then Mg A method of manufacturing an alloy (Li—Si alloy) of Si and Li from which the is removed, and then removing Li from the Li—Si alloy.

一方、Na源は、少なくともNaを含有する。Na源としては、例えば、金属Na、NaH、および、金属Naの粒子を油中に分散させた金属Na分散体が挙げられる。 On the other hand, the Na source contains at least Na. Na sources include, for example, metallic Na, NaH, and metallic Na dispersions in which particles of metallic Na are dispersed in oil.

Na源およびSi源を反応させてNa-Si合金を得る方法としては、例えば、Na源およびSi源を含む混合物を加熱する方法が挙げられる。加熱温度は、例えば300℃以上であり、310℃以上であってもよく、320℃以上であってもよく、340℃以上であってもよい。一方、加熱温度は、例えば800℃以下であり、600℃以下であってもよく、450℃以下であってもよい。また、合金化工程は、Ar雰囲気等の不活性雰囲気下で行われることが好ましい。 Examples of the method of obtaining the Na—Si alloy by reacting the Na source and the Si source include a method of heating a mixture containing the Na source and the Si source. The heating temperature is, for example, 300° C. or higher, may be 310° C. or higher, may be 320° C. or higher, or may be 340° C. or higher. On the other hand, the heating temperature is, for example, 800° C. or lower, may be 600° C. or lower, or may be 450° C. or lower. Also, the alloying step is preferably performed in an inert atmosphere such as an Ar atmosphere.

Na-Si合金は、ジントル(Zintl)相を有することが好ましい。ジントル相は、CuKα線を用いたX線回折測定において、2θ=16.10°、16.56°、17.64°、20.16°、27.96°、33.60°、35.68°、40.22°、41.14°の位置に典型的なピークを有する。これらのピーク位置は、それぞれ、±0.50°の範囲で前後していてもよく、±0.30°の範囲で前後していてもよい。Na-Si合金は、ジントル相を主相として有することが好ましい。Na-Si合金は、シリコンクラスレートI型の結晶相を有していてもよく、有していなくてもよい。 The Na—Si alloy preferably has a Zintl phase. The Jintle phase has 2θ = 16.10°, 16.56°, 17.64°, 20.16°, 27.96°, 33.60°, 35.68 in X-ray diffraction measurement using CuKα rays. °, 40.22°, and 41.14°. These peak positions may vary within a range of ±0.50° or within a range of ±0.30°. The Na—Si alloy preferably has a zintol phase as a main phase. The Na—Si alloy may or may not have a silicon clathrate I type crystal phase.

Na-Si合金の組成は、特に限定されないが、NaSi136の組成(121≦z≦151)で表されることが好ましい。zは、126以上であってもよく、131以上であってもよい。一方、zは、141以下であってもよい。Na-Si合金には、NaおよびSi以外の他の元素が存在してもよい。他の元素としては、例えば、Li、K、Rb、Cs、Ba、Ga、Geが挙げられる。 The composition of the Na—Si alloy is not particularly limited, but is preferably represented by the composition of Na z Si 136 (121≦z≦151). z may be 126 or more, or 131 or more. On the other hand, z may be 141 or less. Elements other than Na and Si may be present in the Na—Si alloy. Other elements include, for example, Li, K, Rb, Cs, Ba, Ga, and Ge.

2.シリコンクラスレート生成工程
本開示におけるシリコンクラスレート生成工程は、上記Na-Si合金を加熱して、上記Na-Si合金におけるNa量を減少させ、シリコンクラスレートII型の結晶相を生成する工程である。シリコンクラスレート生成工程では、Na-Si合金におけるNaを捕捉する捕捉剤を用いる。
2. Silicon clathrate generation step The silicon clathrate generation step in the present disclosure is a step of heating the Na—Si alloy to reduce the amount of Na in the Na—Si alloy to generate a silicon clathrate II type crystal phase. be. In the silicon clathrate production step, a scavenger that scavenges Na in the Na—Si alloy is used.

捕捉剤の一例としては、Na-Si合金から生じるNaの蒸気と反応するNaゲッター剤が挙げられる。Naゲッター剤は、例えば、Na-Si合金とは接触していない状態で配置される。Naゲッター剤としては、例えば、SiO、MoO、FeOが挙げられる。Naゲッター剤を用いる場合、シリコンクラスレート生成工程は、減圧雰囲気で行われることが好ましい。 An example of a scavenger is a Na getter agent that reacts with Na vapor generated from a Na—Si alloy. The Na getter agent is placed, for example, not in contact with the Na—Si alloy. Examples of Na getter agents include SiO, MoO 3 and FeO. When using the Na getter agent, the silicon clathrate formation step is preferably performed in a reduced pressure atmosphere.

捕捉剤の他の例としては、Na-Si合金と直接反応してNaを受け取るNaトラップ剤が挙げられる。Naトラップ剤は、例えば、Na-Si合金とは接触した状態で配置される。Naトラップ剤としては、例えば、CaCl、AlF、CaBr、CaI、Fe、FeO、MgCl、ZnO、ZnCl、MnClが挙げられる。Naトラップ剤を用いる場合、シリコンクラスレート生成工程は、減圧雰囲気で行われてもよく、常圧雰囲気で行われてもよい。 Other examples of scavengers include Na trapping agents that receive Na by reacting directly with Na—Si alloys. A Na trapping agent is placed in contact with, for example, a Na—Si alloy. Examples of Na trap agents include CaCl 2 , AlF 3 , CaBr 2 , CaI 2 , Fe 3 O 4 , FeO, MgCl 2 , ZnO, ZnCl 2 and MnCl 2 . When using the Na trapping agent, the silicon clathrate formation step may be performed in a reduced pressure atmosphere or in a normal pressure atmosphere.

シリコンクラスレート生成工程における加熱温度は、例えば100℃以上であり、200℃以上であってもよく、270℃以上であってもよい。一方、上記加熱温度は、例えば500℃以下であり、400℃以下であってもよい。 The heating temperature in the silicon clathrate forming step is, for example, 100° C. or higher, may be 200° C. or higher, or may be 270° C. or higher. On the other hand, the heating temperature is, for example, 500° C. or lower, and may be 400° C. or lower.

3.活物質
上述した各工程により得られる活物質は、シリコンクラスレートII型の結晶相を有する。また、上記活物質は、一次粒子の内部に空隙を有する。活物質の空隙量の好ましい範囲、I/IおよびI/Iの好ましい範囲、および、その他の事項については、上記「A.活物質」に記載した内容を適宜引用することができる。
3. Active Material The active material obtained by each of the steps described above has a silicon clathrate II type crystal phase. In addition, the active material has voids inside the primary particles. With respect to the preferred range of the void volume of the active material, the preferred ranges of I A /I M and I B /I M , and other matters, the contents described in the above "A. Active material" can be referred to as appropriate. .

E.負極層の製造方法
本開示においては、上述した活物質の製造方法により活物質を製造する活物質製造工程と、上記活物質を用いて負極層を形成する負極層形成工程と、を有する負極層の製造方法を提供する。
E. Negative electrode layer manufacturing method In the present disclosure, a negative electrode layer having an active material manufacturing step of manufacturing an active material by the above-described active material manufacturing method and a negative electrode layer forming step of forming a negative electrode layer using the active material. to provide a method of manufacturing

本開示によれば、上述した活物質を用いることで、充放電による体積変化が小さい負極層を得ることができる。活物質製造工程については、上記「D.活物質の製造方法」に記載した内容と同様である。また、負極層を形成する方法は、特に限定されず、公知の方法を採用することができる。負極層を形成する方法としては、例えば、少なくとも活物質を含有するスラリーを、負極集電体に塗工し、乾燥する方法が挙げられる。 According to the present disclosure, by using the active material described above, it is possible to obtain a negative electrode layer whose volume change is small due to charging and discharging. The active material manufacturing process is the same as described in the above "D. Manufacturing method of active material". Moreover, the method for forming the negative electrode layer is not particularly limited, and a known method can be adopted. Examples of the method of forming the negative electrode layer include a method of applying slurry containing at least an active material to the negative electrode current collector and drying the slurry.

負極層を形成する際に、負極層を厚さ方向にプレスするプレス処理を行ってもよい。プレス処理としては、例えばローラープレス、平板プレスが挙げられる。プレス処理の圧力が大きいと、負極活物質の空隙が潰れる場合があるが、上述した空隙量Cが多いと、プレスによる空隙の潰れをさらに抑制することができる。上記プレス処理により、活物質における、細孔直径が50nm以下である空隙の空隙量Dを、0.035cc/g以上、0.11cc/g以下にしてもよい。また、プレス処理により、空隙量Dを、0.04cc/g以上にしてもよく、0.06cc/g以上にしてもよく、0.08cc/g以上にしてもよい。一方、プレス処理により、空隙量Dを、0.105cc/g以下にしてもよく、0.10cc/g以下にしてもよい。また、空隙量Cに対する空隙量Dの割合(D/C)は、通常、1未満であり、0.7以下であってもよい。一方、D/Cは、例えば0.3以上であり、0.35以上であってもよい。なお、プレス処理の圧力がそれほど大きくない場合、D/Cは、ほぼ1になる。 When forming the negative electrode layer, a press treatment for pressing the negative electrode layer in the thickness direction may be performed. Examples of press treatment include roller press and flat plate press. When the pressure of the pressing process is high, the voids in the negative electrode active material may be crushed. Through the press treatment, the void volume D of voids having a pore diameter of 50 nm or less in the active material may be 0.035 cc/g or more and 0.11 cc/g or less. Further, the void amount D may be set to 0.04 cc/g or more, 0.06 cc/g or more, or 0.08 cc/g or more by pressing. On the other hand, the void amount D may be reduced to 0.105 cc/g or less or 0.10 cc/g or less by press processing. Moreover, the ratio of the void amount D to the void amount C (D/C) is usually less than 1, and may be 0.7 or less. On the other hand, D/C is, for example, 0.3 or more, and may be 0.35 or more. It should be noted that D/C is approximately 1 when the pressure of the pressing process is not so high.

また、上記プレス処理により、活物質における、細孔直径が100nm以下である空隙の空隙量Eを、0.053cc/g以上、0.16cc/g以下にしてもよい。また、プレス処理により、空隙量Eを、0.09cc/g以上、0.14cc/g以下にしてもよい。 In addition, the above press treatment may set the void volume E of voids having a pore diameter of 100 nm or less in the active material to 0.053 cc/g or more and 0.16 cc/g or less. Further, the void amount E may be set to 0.09 cc/g or more and 0.14 cc/g or less by press processing.

また、得られる負極層の好ましい態様については、上記「B.負極層」に記載した内容を適宜引用することができる。 In addition, with respect to the preferable aspect of the negative electrode layer to be obtained, the content described in the above "B. Negative electrode layer" can be cited as appropriate.

F.電池の製造方法
本開示においては、上述した活物質の製造方法により活物質を製造する活物質製造工程と、上記活物質を用いて負極層を形成する負極層形成工程と、を有する電池の製造方法を提供する。
F. Battery manufacturing method In the present disclosure, manufacturing of a battery having an active material manufacturing step of manufacturing an active material by the above-described active material manufacturing method and a negative electrode layer forming step of forming a negative electrode layer using the active material provide a way.

本開示によれば、上述した活物質を用いることで、充放電による体積変化が小さい電池を得ることができる。活物質製造工程および負極層形成工程については、上記「D.活物質の製造方法」および上記「E.負極層の製造方法」に記載した内容と同様である。また、電池を形成する方法は、特に限定されず、公知の方法を採用することができる。本開示における電池の製造方法は、活物質製造工程および負極層形成工程の他に、正極層を形成する正極層形成工程と、電解質層を形成する電解質層形成工程と、正極層、電解質層および負極層をこの順に配置する配置工程と、を有していてもよい。得られる電池の好ましい態様については、上記「C.電池」に記載した内容を適宜引用することができる。 According to the present disclosure, by using the active material described above, it is possible to obtain a battery whose volume change is small due to charging and discharging. The active material manufacturing process and the negative electrode layer forming process are the same as those described in the above "D. Manufacturing method of active material" and the above "E. Manufacturing method of negative electrode layer". Moreover, the method for forming the battery is not particularly limited, and a known method can be adopted. In addition to the active material manufacturing step and the negative electrode layer forming step, the method for manufacturing a battery according to the present disclosure includes a positive electrode layer forming step for forming a positive electrode layer, an electrolyte layer forming step for forming an electrolyte layer, a positive electrode layer, an electrolyte layer and a and an arrangement step of arranging the negative electrode layers in this order. With regard to preferred aspects of the obtained battery, the content described in the above "C. Battery" can be cited as appropriate.

なお、本開示は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本開示における特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本開示における技術的範囲に包含される。 Note that the present disclosure is not limited to the above embodiments. The above embodiment is an example, and any device that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present disclosure and produces the same effect is the present invention. It is included in the technical scope of the disclosure.

[実施例1]
Si源として、Si粉末(一次粒子の内部に空隙を有しないSi粉末、高純度化学製SIE23PB)を準備した。このSi源を用い、Na源としてNaHを用いて、Na-Si合金を製造した。なお、NaHとしては、予めヘキサンで洗浄したものを用いた。Na源とSi源とをモル比で1.05:1となるように秤量し、カッターミルを用いてこれらを混合した。この混合物を、加熱炉にてAr雰囲気下、400℃、40時間の条件で加熱することにより、粉末状のNa-Si合金を得た。
[Example 1]
Si powder (Si powder having no voids inside primary particles, SIE23PB manufactured by Kojundo Chemical Co., Ltd.) was prepared as a Si source. Using this Si source and using NaH as the Na source, a Na—Si alloy was produced. As NaH, what was washed with hexane in advance was used. The Na source and the Si source were weighed so that the molar ratio was 1.05:1, and mixed using a cutter mill. This mixture was heated in a heating furnace in an Ar atmosphere at 400° C. for 40 hours to obtain a powdery Na—Si alloy.

得られたNa-Si合金を用い、さらに、Naトラップ剤としてAlFを用いて、固相法によるシリコンクラスレート生成工程を行った。Na-Si合金とAlFとをモル比で1:0.35となるように秤量し、カッターミルを用いて混合し、反応原料を得た。得られた粉末状の反応原料をステンレススチール製の反応容器に入れ、加熱炉にてAr雰囲気下、310℃、60時間の条件で加熱し反応させた。得られた反応生成物は、目的とする活物質と、副生物としてのNaFおよびAlと、を含むと考えられる。この反応生成物を、HNOとHOとを体積比90:10で混合した混合溶媒を用いて洗浄した。これにより、反応生成物中の副生物を除去した。洗浄後、濾過し、濾別された固形分を120℃で3時間以上乾燥して、粉末状の活物質を得た。 Using the obtained Na—Si alloy and AlF 3 as a Na trapping agent, a silicon clathrate formation step was carried out by a solid-phase method. A Na—Si alloy and AlF 3 were weighed so as to have a molar ratio of 1:0.35 and mixed using a cutter mill to obtain a reaction raw material. The obtained powdery reaction raw material was placed in a stainless steel reaction vessel and heated in a heating furnace under an Ar atmosphere at 310° C. for 60 hours to cause a reaction. The resulting reaction product is believed to contain the desired active material and NaF and Al as by-products. The reaction product was washed with a mixed solvent of HNO 3 and H 2 O at a volume ratio of 90:10. By-products in the reaction product were thereby removed. After washing, it was filtered, and the filtered solid content was dried at 120° C. for 3 hours or more to obtain a powdery active material.

[実施例2]
Mg粉末とSi粉末とをモル比で2.02:1となるように秤量し、乳鉢で混合して、加熱炉にてAr雰囲気下、580℃、12時間の条件で加熱することで、これらを反応させた。室温まで冷却して、インゴット状のMgSiを得た。直径3mmのジルコニアボールを用いたボールミルにより、MgSiを300rpm、3時間の条件で粉砕した。その後、ArとOとを体積比95:5で混合した混合ガスのフロー下の加熱炉で、粉砕したMgSiを、580℃、12時間の条件で加熱して、混合ガス中の酸素とMgSiとを反応させた。得られた反応生成物は、SiおよびMgOを含むと考えられる。この反応生成物を、HOとHClとHFとを体積比47.5:47.5:5で混合した混合溶媒を用いて洗浄した。これにより、Si表面の酸化膜と、反応生成物中のMgOとを除去した。洗浄後、濾過し、濾別された固形分を120℃で3時間以上乾燥して、粉末状のポーラスSiを得た。Si源として、Si粉末の代わりに、得られたポーラスSiを用いたこと以外は、実施例1と同様にして活物質を得た。
[Example 2]
Mg powder and Si powder were weighed so that the molar ratio would be 2.02:1, mixed in a mortar, and heated in a heating furnace under Ar atmosphere at 580° C. for 12 hours to obtain these. reacted. After cooling to room temperature, ingot-like Mg 2 Si was obtained. Mg 2 Si was pulverized at 300 rpm for 3 hours with a ball mill using zirconia balls with a diameter of 3 mm. After that, the pulverized Mg 2 Si is heated at 580 ° C. for 12 hours in a heating furnace under the flow of a mixed gas in which Ar and O 2 are mixed at a volume ratio of 95:5 to remove oxygen in the mixed gas. and Mg 2 Si were reacted. The resulting reaction product is believed to contain Si and MgO. The reaction product was washed with a mixed solvent of H 2 O, HCl and HF in a volume ratio of 47.5:47.5:5. This removed the oxide film on the Si surface and MgO in the reaction product. After washing, it was filtered, and the filtered solid content was dried at 120° C. for 3 hours or more to obtain powdery porous Si. An active material was obtained in the same manner as in Example 1, except that the obtained porous Si was used as the Si source instead of the Si powder.

[実施例3]
金属LiとSi粉末とをモル比で4:1となるように秤量し、Ar雰囲気下、室温、0.5時間の条件で、乳鉢で混合することで、これらを反応させた。これにより、LiSiを得た。得られたLiSiをAr雰囲気下でエタノールと反応させた。得られた反応生成物は、SiおよびCHCHOLiを含むと考えられる。この反応生成物を濾過し、濾別された固形分を120℃で3時間以上乾燥して、粉末状のポーラスSiを得た。Si源として、Si粉末の代わりに、得られたポーラスSiを用いたこと以外は、実施例1と同様にして活物質を得た。
[Example 3]
Metallic Li and Si powder were weighed so that the molar ratio was 4:1, and they were reacted by mixing them in a mortar under the conditions of room temperature and Ar atmosphere for 0.5 hours. Thus, Li 4 Si was obtained. The resulting Li 4 Si was reacted with ethanol under Ar atmosphere. The resulting reaction product is believed to contain Si and CH3CH2OLi . This reaction product was filtered, and the filtered solid content was dried at 120° C. for 3 hours or more to obtain powdery porous Si. An active material was obtained in the same manner as in Example 1, except that the obtained porous Si was used as the Si source instead of the Si powder.

[比較例1]
Si源としてSi粒子を用い、Na源としてNa粒子を用い、Si粒子およびNa粒子をモル比が1:1になるように混合し、るつぼに投入し、Ar雰囲気下で密閉し、700℃で加熱し、Na-Si合金を得た。得られたNa-Si合金を用い、真空下(約1Pa)、340℃の条件で加熱することでNaを除去し、シリコンクラスレートII型の結晶相を有する中間体を得た。得られた中間体と、Li金属とを、Li/Si=1.7のモル比で秤量し、Ar雰囲気において乳鉢で混合し、合金化合物を得た。得られた合金化合物を、Ar雰囲気においてエタノールと反応させることで、一次粒子の内部に空隙を形成し、活物質を得た。
[Comparative Example 1]
Using Si particles as the Si source and using Na particles as the Na source, the Si particles and Na particles are mixed so that the molar ratio is 1:1, put into a crucible, sealed under an Ar atmosphere, and heated at 700 ° C. After heating, a Na—Si alloy was obtained. The obtained Na—Si alloy was heated under vacuum (about 1 Pa) at 340° C. to remove Na, thereby obtaining an intermediate having a silicon clathrate II type crystal phase. The obtained intermediate and Li metal were weighed at a molar ratio of Li/Si=1.7 and mixed in a mortar in an Ar atmosphere to obtain an alloy compound. The obtained alloy compound was reacted with ethanol in an Ar atmosphere to form voids inside the primary particles and obtain an active material.

[評価]
(XRD測定)
実施例1~3および比較例1で得られた活物質に対して、CuKα線を用いたX線回折(XRD)測定を行った。その結果、図4に示すように、いずれの活物質も、シリコンクラスレートII型の結晶相を主相として有することが確認された。
[evaluation]
(XRD measurement)
The active materials obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 were subjected to X-ray diffraction (XRD) measurement using CuKα rays. As a result, as shown in FIG. 4, it was confirmed that all the active materials had a silicon clathrate II type crystal phase as a main phase.

また、シリコンクラスレートII型の結晶相における、2θ=20.09°付近に位置するピークAの強度をIとし、2θ=31.72°付近に位置するピークBの強度をIとした。また、2θ=22°~23°における最大強度をIとし、I/IおよびI/Iを求めた。その結果を表1に示す。 The intensity of peak A located near 2θ=20.09° in the crystal phase of silicon clathrate type II was defined as IA , and the intensity of peak B located near 2θ=31.72° was defined as IB . . Further, I M was the maximum intensity at 2θ=22° to 23°, and I A /I M and I B /I M were obtained. Table 1 shows the results.

(空隙量の測定)
実施例1~3および比較例1で用いたSi源(母材)の空隙量を求めた。同様に、実施例1~3および比較例1で得られた活物質の空隙量を求めた。空隙量の測定には、水銀ポロシメーターを用いた。測定装置はPore Master 60-GT(Quanta Chrome Co.)を用い、40Å~4,000,000Åの範囲で行った。解析はWashburn法を用いた。その結果を表1に示す。
(Measurement of void volume)
The void volume of the Si source (base material) used in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 was determined. Similarly, the void volumes of the active materials obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 were determined. A mercury porosimeter was used to measure the void volume. A Pore Master 60-GT (Quanta Chrome Co.) was used as the measurement apparatus, and the measurement was carried out in the range of 40 Å to 4,000,000 Å. The Washburn method was used for the analysis. Table 1 shows the results.

Figure 2023044620000002
Figure 2023044620000002

表1に示すように、実施例1では、比較例1よりも、空隙量Bが多かった。また、実施例2、3では、比較例1よりも空隙量Aおよび空隙量Bが多かった。また、実施例1~3および比較例1では、いずれも、I/IおよびI/Iが1より大きく、シリコンクラスレートII型の結晶相が形成されていることが確認された。また、実施例2、3に示すように、空隙量Cが多い母材に対してクラスレート化を行うことで、空隙量Aおよび空隙量Bが多い活物質が得られた。 As shown in Table 1, in Example 1, the void volume B was larger than in Comparative Example 1. Moreover, in Examples 2 and 3, the void amount A and the void amount B were larger than in Comparative Example 1. Moreover, in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1, I A /I M and I B /I M were all greater than 1, and it was confirmed that a silicon clathrate II type crystal phase was formed. . Further, as shown in Examples 2 and 3, by clathrate-forming a base material having a large amount of voids C, an active material having large amounts of voids A and B was obtained.

また、比較例1では、Siに対してクラスレート化(Na合金化およびNa脱離処理)を行い、その後、ポーラス化を行った。この場合、ポーラス化の際に使用するLi量を増やすと、シリコンクラスレートII型の結晶相が消失する場合があるため、使用するLi量は制限される。これに対して、実施例2、3では、Siに対してポーラス化を行い、その後、クラスレート化を行った。この場合、ポーラス化の際に使用するLi量を増やすことができ、十分なポーラス化が可能となる。一方、十分にポーラス化したSiに対して、高温でクラスレート化を行うと、微小な空隙が消失する場合がある。これに対して、実施例2、3では、捕捉剤を用いることで、低温でクラスレート化が可能となる。その結果、実施例2、3で得られた活物質は、空隙量Aおよび空隙量Bが多くなったと推測される。 In Comparative Example 1, Si was subjected to clathrate formation (Na alloying and Na desorption treatment), and then to porosity. In this case, if the amount of Li used for porosification is increased, the crystal phase of the silicon clathrate II type may disappear, so the amount of Li used is limited. On the other hand, in Examples 2 and 3, Si was made porous and then clathrated. In this case, the amount of Li used for porosification can be increased, and sufficient porosity can be obtained. On the other hand, when sufficiently porous Si is clathrated at high temperature, minute voids may disappear. In contrast, in Examples 2 and 3, clathrate formation is possible at low temperature by using a scavenger. As a result, it is presumed that the active materials obtained in Examples 2 and 3 had a large amount of voids A and B.

[実施例4]
実施例1で得られた活物質を、負極活物質として用いて、全固体電池を作製した。
[Example 4]
Using the active material obtained in Example 1 as a negative electrode active material, an all solid state battery was produced.

(負極の作製)
ポリプロピレン製容器に、実施例1で得られた活物質、硫化物固体電解質(LiS-P系ガラスセラミック)、導電材(VGCF)、PVDF系バインダーを5重量%の割合で含有する酪酸ブチル溶液、および、酪酸ブチルを加え、超音波分散装置(エスエムテー製UH-50)で30秒間撹拌した。次に、容器を振とう器(柴田科学株式会社製、TTM-1)で30分間振とうさせた。アプリケーターを使用してブレード法にて、負極集電体(Cu箔、UACJ製)上に塗工し、100℃のホットプレート上で30分間乾燥させた。これにより、負極集電体および負極層を有する負極を得た。
(Preparation of negative electrode)
A polypropylene container contains the active material obtained in Example 1, a sulfide solid electrolyte (Li 2 SP 2 S 5 -based glass ceramic), a conductive material (VGCF), and a PVDF-based binder at a rate of 5% by weight. A butyl butyrate solution and butyl butyrate were added and stirred for 30 seconds with an ultrasonic dispersion device (UH-50 manufactured by SMTE). Next, the container was shaken for 30 minutes with a shaker (TTM-1, manufactured by Shibata Scientific Co., Ltd.). It was applied onto a negative electrode current collector (Cu foil, manufactured by UACJ) by a blade method using an applicator, and dried on a hot plate at 100° C. for 30 minutes. As a result, a negative electrode having a negative electrode current collector and a negative electrode layer was obtained.

(正極の作製)
ポリプロピレン製容器に、正極活物質(LiNi1/3Co1/3Mn1/3、平均粒径6μm)、硫化物固体電解質(LiS-P系ガラスセラミック)、導電材(VGCF)、PVDF系バインダーを5重量%の割合で含有する酪酸ブチル溶液、および、酪酸ブチルを加え、超音波分散装置(エスエムテー製UH-50)で30秒間撹拌した。次に、容器を振とう器(柴田科学株式会社製、TTM-1)で3分間振とうさせた。アプリケーターを使用してブレード法にて、正極集電体(Al箔、昭和電工製)上に塗工し、100℃のホットプレート上で30分間乾燥させた。これにより、正極集電体および正極層を有する正極を得た。なお、正極の面積は、負極の面積よりも小さくした。
(Preparation of positive electrode)
A positive electrode active material (LiNi 1/3 Co 1/3 Mn 1/3 O 2 , average particle diameter 6 μm), a sulfide solid electrolyte (Li 2 SP 2 S 5 glass ceramic), and a conductive material were placed in a polypropylene container. (VGCF), a butyl butyrate solution containing a PVDF binder at a rate of 5% by weight, and butyl butyrate were added and stirred for 30 seconds with an ultrasonic dispersing device (UH-50 manufactured by SMTE). Next, the container was shaken for 3 minutes with a shaker (TTM-1, manufactured by Shibata Scientific Co., Ltd.). An applicator was used to apply the solution onto a positive current collector (Al foil, manufactured by Showa Denko) by a blade method, followed by drying on a hot plate at 100° C. for 30 minutes. As a result, a positive electrode having a positive electrode current collector and a positive electrode layer was obtained. The area of the positive electrode was smaller than that of the negative electrode.

(固体電解質層の作製)
ポリプロピレン製容器に、硫化物固体電解質(LiS-P系ガラスセラミック)、ブチレンラバー系バインダーを5重量%の割合で含有するヘプタン溶液、および、ヘプタンを加え、超音波分散装置(エスエムテー製UH-50)で30秒間撹拌した。次に、容器を振とう器(柴田科学株式会社製、TTM-1)で30分間振とうさせた。アプリケーターを使用してブレード法にて、剥離シート(Al箔)上に塗工し、100℃のホットプレート上で30分間乾燥させた。これにより、剥離シートおよび固体電解質層を有する転写部材を得た。
(Preparation of solid electrolyte layer)
A sulfide solid electrolyte (Li 2 SP 2 S 5 glass ceramic), a heptane solution containing 5% by weight of a butylene rubber binder, and heptane are added to a polypropylene container, and an ultrasonic dispersion device ( The mixture was stirred for 30 seconds with UH-50 manufactured by SMTE. Next, the container was shaken for 30 minutes with a shaker (TTM-1, manufactured by Shibata Scientific Co., Ltd.). It was applied onto a release sheet (Al foil) by a blade method using an applicator and dried on a hot plate at 100°C for 30 minutes. As a result, a transfer member having a release sheet and a solid electrolyte layer was obtained.

(全固体電池の作製)
正極における正極層上に、接合用の固体電解質層を配置し、ロールプレス機にセットし、100kN/cm、165℃でプレスした。これにより、第1積層体を得た。
(Fabrication of all-solid-state battery)
A solid electrolyte layer for bonding was placed on the positive electrode layer of the positive electrode, set in a roll press, and pressed at 100 kN/cm and 165°C. Thus, a first laminate was obtained.

次に、負極をロールプレス機にセットし、60kN/cm、25℃でプレスした。これにより、プレスされた負極を得た。その後、負極層側から順に、接合用の固体電解質層および転写部材を配置した。この際、接合用の固体電解質層と、転写部材における固体電解質層とが対向するように配置した。得られた積層体を平面一軸プレス機にセットし、100MPa、25℃で、10秒間仮プレスした。その後、固体電解質層から剥離シートを剥がした。これにより、第2積層体を得た。 Next, the negative electrode was set in a roll press and pressed at 60 kN/cm and 25°C. Thus, a pressed negative electrode was obtained. After that, a solid electrolyte layer for bonding and a transfer member were arranged in order from the negative electrode layer side. At this time, the bonding solid electrolyte layer and the solid electrolyte layer of the transfer member were arranged so as to face each other. The obtained laminate was set in a flat uniaxial press and temporarily pressed at 100 MPa and 25° C. for 10 seconds. After that, the release sheet was peeled off from the solid electrolyte layer. Thus, a second laminate was obtained.

次に、第1積層体における接合用の固体電解質層と、第2積層体における固体電解質層と、を対向するように配置し、平面一軸プレス機にセットし、200MPa、120℃で、1分間プレスした。これにより、全固体電池を得た。 Next, the solid electrolyte layer for bonding in the first laminate and the solid electrolyte layer in the second laminate are arranged so as to face each other, set in a flat uniaxial press, and press at 200 MPa and 120° C. for 1 minute. pressed. Thus, an all-solid battery was obtained.

[実施例5]
実施例2で得られた活物質を、負極活物質として用いたこと以外は、実施例4と同様にして全固体電池を得た。
[Example 5]
An all-solid battery was obtained in the same manner as in Example 4, except that the active material obtained in Example 2 was used as the negative electrode active material.

[実施例6]
実施例3で得られた活物質を、負極活物質として用いたこと以外は、実施例4と同様にして全固体電池を得た。
[Example 6]
An all-solid battery was obtained in the same manner as in Example 4, except that the active material obtained in Example 3 was used as the negative electrode active material.

[比較例2]
比較例1で得られた活物質を、負極活物質として用いたこと以外は、実施例4と同様にして全固体電池を得た。
[Comparative Example 2]
An all-solid battery was obtained in the same manner as in Example 4, except that the active material obtained in Comparative Example 1 was used as the negative electrode active material.

[評価]
(空隙量の測定)
実施例4~6および比較例2で作製した、プレスされた負極における負極活物質の空隙量を求めた。空隙量の測定方法は、上記と同様である。その結果を表2に示す。
[evaluation]
(Measurement of void volume)
The amount of voids in the negative electrode active material of the pressed negative electrodes produced in Examples 4 to 6 and Comparative Example 2 was determined. The method for measuring the void volume is the same as described above. Table 2 shows the results.

(拘束圧増加量の測定)
実施例4~6および比較例2で得られた全固体電池に対して充電を行い、拘束圧増加量を測定した。試験条件は、拘束圧(定寸)5MPa、充電0.1C、カット電圧4.55Vとし、4.55Vでの拘束圧を測定し、充電前の状態からの拘束圧増加量を求めた。その結果を表2に示す。なお、表2における拘束圧増加量の結果は、比較例2の結果を100とした場合の相対値である。
(Measurement of increase in confining pressure)
The all-solid-state batteries obtained in Examples 4 to 6 and Comparative Example 2 were charged, and the increase in confining pressure was measured. The test conditions were a confining pressure (fixed dimension) of 5 MPa, a charge of 0.1 C, and a cut voltage of 4.55 V. The confining pressure at 4.55 V was measured to determine the amount of increase in the confining pressure from the state before charging. Table 2 shows the results. It should be noted that the results of the amount of increase in confining pressure in Table 2 are relative values when the result of Comparative Example 2 is set to 100.

Figure 2023044620000003
Figure 2023044620000003

表2に示すように、実施例4~6は、比較例2に比べて、拘束圧増加量が小さくなることが確認された。これは、実施例4~6で得られた負極活物質は、プレス後の状態においても、細孔直径が50nm以下である微小な空隙を多く有しているためであると推定される。 As shown in Table 2, in Examples 4 to 6, compared with Comparative Example 2, it was confirmed that the amount of increase in confining pressure was smaller. It is presumed that this is because the negative electrode active materials obtained in Examples 4 to 6 have many minute voids with pore diameters of 50 nm or less even after being pressed.

[実施例7]
実施例3と同様にして、粉末状のポーラスSiを得た。Si源として、Si粉末の代わりに、得られたポーラスSiを用いたこと、および、AlF添加後の加熱条件を、310℃、60時間から310℃、120時間に変更したこと以外は、実施例1と同様にして活物質を得た。
[Example 7]
Powdery porous Si was obtained in the same manner as in Example 3. Except that the obtained porous Si was used as the Si source instead of the Si powder, and the heating conditions after the addition of AlF3 were changed from 310 ° C., 60 hours to 310 ° C., 120 hours. An active material was obtained in the same manner as in Example 1.

[実施例8]
実施例3と同様にして、粉末状のポーラスSiを得た。Si源として、Si粉末の代わりに、得られたポーラスSiを用いたこと、および、AlF添加後の加熱条件を、310℃、60時間から290℃、120時間に変更したこと以外は、実施例1と同様にして活物質を得た。
[Example 8]
Powdery porous Si was obtained in the same manner as in Example 3. Except that the obtained porous Si was used as the Si source instead of the Si powder, and that the heating conditions after the addition of AlF3 were changed from 310 ° C., 60 hours to 290 ° C., 120 hours. An active material was obtained in the same manner as in Example 1.

[実施例9]
実施例3と同様にして、粉末状のポーラスSiを得た。Si源として、Si粉末の代わりに、得られたポーラスSiを用いたこと以外は、実施例1と同様にして活物質を得た。その後、得られた活物質を、HF水溶液に3時間浸漬させることで洗浄した(HF洗浄)。
[Example 9]
Powdery porous Si was obtained in the same manner as in Example 3. An active material was obtained in the same manner as in Example 1, except that the obtained porous Si was used as the Si source instead of the Si powder. After that, the obtained active material was washed by being immersed in an aqueous HF solution for 3 hours (HF washing).

[実施例10]
実施例2と同様にして、粉末状のポーラスSi(第1ポーラスSi)を得た。Si粉末の代わりに、得られた第1ポーラスSiを用いたこと以外は、実施例3と同様にして、粉末状のポーラスSi(第2ポーラスSi)を得た。Si源として、Si粉末の代わりに、得られた第2ポーラスSiを用いたこと以外は、実施例1と同様にして活物質を得た。
[Example 10]
Powdery porous Si (first porous Si) was obtained in the same manner as in Example 2. Powdered porous Si (second porous Si) was obtained in the same manner as in Example 3, except that the obtained first porous Si was used instead of the Si powder. An active material was obtained in the same manner as in Example 1, except that the obtained second porous Si was used as the Si source instead of the Si powder.

[実施例11]
実施例10と同様にして、第2ポーラスSiを得た。Si源として、Si粉末の代わりに、得られた第2ポーラスSiを用いたこと、および、AlF添加後の加熱条件を、310℃、60時間から270℃、120時間に変更したこと以外は、実施例1と同様にして活物質を得た。
[Example 11]
A second porous Si was obtained in the same manner as in Example 10. Except that the obtained second porous Si was used as the Si source instead of the Si powder, and that the heating conditions after the addition of AlF3 were changed from 310°C for 60 hours to 270°C for 120 hours. , an active material was obtained in the same manner as in Example 1.

[実施例12]
実施例10と同様にして、活物質を得た。その後、得られた活物質を、HF水溶液に3時間浸漬させることで洗浄した(HF洗浄)。
[Example 12]
An active material was obtained in the same manner as in Example 10. After that, the obtained active material was washed by being immersed in an aqueous HF solution for 3 hours (HF washing).

[評価]
(XRD測定)
実施例7~12で得られた活物質に対して、CuKα線を用いたX線回折(XRD)測定を行った。その結果、いずれの活物質も、シリコンクラスレートII型の結晶相を主相として有することが確認された。
[evaluation]
(XRD measurement)
The active materials obtained in Examples 7 to 12 were subjected to X-ray diffraction (XRD) measurement using CuKα rays. As a result, it was confirmed that all the active materials had a silicon clathrate II type crystal phase as a main phase.

また、シリコンクラスレートII型の結晶相における、2θ=20.09°付近に位置するピークAの強度をIとし、2θ=31.72°付近に位置するピークBの強度をIとした。また、2θ=22°~23°における最大強度をIとし、I/IおよびI/Iを求めた。その結果を表3に示す。 The intensity of peak A located near 2θ=20.09° in the crystal phase of silicon clathrate type II was defined as IA , and the intensity of peak B located near 2θ=31.72° was defined as IB . . Further, I M was the maximum intensity at 2θ=22° to 23°, and I A /I M and I B /I M were obtained. Table 3 shows the results.

(空隙量の測定)
実施例7~12で得られた活物質の空隙量を求めた。空隙量の測定方法は、上記と同様である。その結果を表3に示す。また、実施例9については、プレスされた負極における負極活物質の空隙量を求めた。その結果、細孔直径が50nm以下である空隙の空隙量Dは0.110cc/gであり、細孔直径が100nm以下である空隙の空隙量Eは0.156cc/gであった。
(Measurement of void volume)
The void volume of the active materials obtained in Examples 7 to 12 was determined. The method for measuring the void volume is the same as described above. Table 3 shows the results. For Example 9, the amount of voids in the negative electrode active material in the pressed negative electrode was determined. As a result, the void volume D of voids with a pore diameter of 50 nm or less was 0.110 cc/g, and the void volume E of voids with a pore diameter of 100 nm or less was 0.156 cc/g.

(拘束圧増加量の測定)
実施例7~12で得られた活物質を用いて、実施例4と同様にして、それぞれ全固体電池を得た。得られた全固体電池に対して充電を行い、拘束圧増加量を測定した。試験条件は、上記と同様である。その結果を表3に示す。なお、表3における拘束圧増加量の結果は、比較例2の結果を100とした場合の相対値である。
(Measurement of increase in confining pressure)
All-solid-state batteries were obtained in the same manner as in Example 4 using the active materials obtained in Examples 7 to 12. The obtained all-solid-state battery was charged, and the increase in confining pressure was measured. The test conditions are the same as above. Table 3 shows the results. It should be noted that the results of the amount of increase in confining pressure in Table 3 are relative values when the result of Comparative Example 2 is set to 100.

Figure 2023044620000004
Figure 2023044620000004

表3に示すように、実施例7~12は、比較例2に比べて、拘束圧増加量が小さくなることが確認された。これは、実施例7~12で得られた活物質は、プレス後の状態においても、細孔直径が50nm以下である微小な空隙を多く有しているためであると推定される。 As shown in Table 3, in Examples 7 to 12, compared with Comparative Example 2, it was confirmed that the amount of increase in confining pressure was smaller. It is presumed that this is because the active materials obtained in Examples 7 to 12 have many minute voids with pore diameters of 50 nm or less even after being pressed.

1 …正極層
2 …負極層
3 …電解質層
4 …正極集電体
5 …負極集電体
10 …電池
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Positive electrode layer 2... Negative electrode layer 3... Electrolyte layer 4... Positive electrode collector 5... Negative electrode collector 10... Battery

Claims (11)

シリコンクラスレートII型の結晶相を有し、
一次粒子の内部に空隙を有し、
細孔直径が100nm以下である前記空隙の空隙量Aが、0.15cc/gより大きく、0.40cc/g以下である、活物質。
Having a silicon clathrate type II crystal phase,
Having voids inside the primary particles,
The active material, wherein the void volume A of the voids having a pore diameter of 100 nm or less is greater than 0.15 cc/g and equal to or less than 0.40 cc/g.
シリコンクラスレートII型の結晶相を有し、
一次粒子の内部に空隙を有し、
細孔直径が50nm以下である前記空隙の空隙量Bが、0.065cc/gより大きく、0.25cc/g以下である、活物質。
Having a silicon clathrate type II crystal phase,
Having voids inside the primary particles,
The active material, wherein the void volume B of the voids having a pore diameter of 50 nm or less is greater than 0.065 cc/g and equal to or less than 0.25 cc/g.
細孔直径が100nm以下である前記空隙の空隙量Aが、0.05cc/g以上、0.40cc/g以下である、請求項2に記載の活物質。 3. The active material according to claim 2, wherein the void volume A of the voids having a pore diameter of 100 nm or less is 0.05 cc/g or more and 0.40 cc/g or less. CuKα線を用いたX線回折測定において、前記シリコンクラスレートII型の前記結晶相のピークとして、2θ=20.09°±0.50°に位置するピークAと、2θ=31.72°±0.50°に位置するピークBと、が観察され、
前記ピークAの強度をIとし、前記ピークBの強度をIとし、2θ=22°~23°における最大強度をIとした場合に、I/Iが1.75以上2.00以下であり、I/Iが1.35以上1.75以下である、請求項1または請求項2に記載の活物質。
In the X-ray diffraction measurement using CuKα rays, peak A located at 2θ = 20.09° ± 0.50° and 2θ = 31.72° ± A peak B located at 0.50° is observed,
I A /I M is 1.75 or more, where I A is the intensity of the peak A , I B is the intensity of the peak B, and I M is the maximum intensity at 2θ=22° to 23°2. 00 or less, and I B /I M is 1.35 or more and 1.75 or less.
請求項1または請求項2に記載の活物質を含有する、負極層。 A negative electrode layer containing the active material according to claim 1 . 正極層と、負極層と、前記正極層および前記負極層の間に配置された電解質層と、を有する電池であって、
前記負極層が、請求項5に記載の負極層である、電池。
A battery comprising a positive electrode layer, a negative electrode layer, and an electrolyte layer disposed between the positive electrode layer and the negative electrode layer,
A battery, wherein the negative electrode layer is the negative electrode layer according to claim 5 .
請求項1または請求項2に記載の活物質の製造方法であって、
Na源およびSi源を反応させてNa-Si合金を得る合金化工程と、
前記Na-Si合金を加熱して、前記Na-Si合金におけるNa量を減少させ、シリコンクラスレートII型の結晶相を生成するシリコンクラスレート生成工程と、を有し、
前記シリコンクラスレート生成工程において、前記Na-Si合金におけるNaを捕捉する捕捉剤を用い、
前記Si源として、細孔直径が50nm以下である空隙の空隙量Cが、0.02cc/g以上、0.20cc/g以下である粒子を用いる、活物質の製造方法。
A method for producing the active material according to claim 1 or 2,
an alloying step of reacting a Na source and a Si source to obtain a Na—Si alloy;
a silicon clathrate forming step of heating the Na—Si alloy to reduce the amount of Na in the Na—Si alloy to form a silicon clathrate II type crystal phase;
In the silicon clathrate generation step, using a scavenger that captures Na in the Na—Si alloy,
A method for producing an active material, wherein particles having pores with a pore diameter of 50 nm or less and a void volume C of 0.02 cc/g or more and 0.20 cc/g or less are used as the Si source.
請求項7に記載の活物質の製造方法により活物質を製造する活物質製造工程と、
前記活物質を用いて負極層を形成する負極層形成工程と、
を有する負極層の製造方法。
an active material manufacturing process for manufacturing an active material by the method for manufacturing an active material according to claim 7;
a negative electrode layer forming step of forming a negative electrode layer using the active material;
A method for producing a negative electrode layer having
前記負極層形成工程は、前記負極層を厚さ方向にプレスするプレス処理を有し、
前記プレス処理により、前記活物質における、細孔直径が50nm以下である前記空隙の空隙量Dを、0.035cc/g以上、0.11cc/g以下にする、請求項8に記載の負極層の製造方法。
The negative electrode layer forming step includes a pressing process for pressing the negative electrode layer in a thickness direction,
9. The negative electrode layer according to claim 8, wherein the press treatment sets the void volume D of the voids having a pore diameter of 50 nm or less in the active material to 0.035 cc/g or more and 0.11 cc/g or less. manufacturing method.
前記プレス処理により、前記活物質における、細孔直径が100nm以下である前記空隙の空隙量Eを、0.053cc/g以上、0.16cc/g以下にする、請求項9に記載の負極層の製造方法。 10. The negative electrode layer according to claim 9, wherein the press treatment reduces the void volume E of the voids having a pore diameter of 100 nm or less in the active material to 0.053 cc/g or more and 0.16 cc/g or less. manufacturing method. 請求項7に記載の活物質の製造方法により活物質を製造する活物質製造工程と、
前記活物質を用いて負極層を形成する負極層形成工程と、
を有する電池の製造方法。
an active material manufacturing process for manufacturing an active material by the method for manufacturing an active material according to claim 7;
a negative electrode layer forming step of forming a negative electrode layer using the active material;
A method for manufacturing a battery having
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