JP2023034967A - Film, production method thereof, laminate film, and laminate article - Google Patents

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大介 林
Daisuke Hayashi
慶太 ▲高▼橋
Keita Takahashi
弦也 田中
Genya Tanaka
浩隆 北川
Hirotaka Kitagawa
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Abstract

To provide a film excellent in peel strength from a metal substrate with an in-between adhesive layer, a production method thereof, a laminate film and a laminate article made of the film.SOLUTION: There is provided a film, a production method thereof, and a laminate film and a laminate article made of the film. The film contains a liquid crystal polymer and has a difference of a contact angle with water measured by a water droplet method in the air of 25°C, 50% RH between the inside of the film and one surface of the film of 7° or more. The production method of the film includes an oxidation step for oxidizing the surface of the film that contains the liquid crystal polymer and produces the film having a difference of a contact angle with water measured by a water droplet method in the air of 25°C, 50% RH between the inside of the film and one surface of the film of 7° or more.SELECTED DRAWING: None

Description

本開示は、フィルム及びその製造方法、積層フィルム、並びに、積層体に関する。 TECHNICAL FIELD The present disclosure relates to films and methods of manufacturing the same, laminated films, and laminates.

近年、通信機器に使用される周波数は非常に高くなる傾向にある。高周波帯域における伝送損失を抑えるため、回路基板に用いられる絶縁材料の比誘電率と誘電正接とを低くすることが要求されている。 In recent years, the frequency used in communication equipment tends to be very high. In order to suppress transmission loss in a high frequency band, it is required to lower the dielectric constant and dielectric loss tangent of insulating materials used for circuit boards.

従来の液晶フィルムの製造方法としては、例えば、特許文献1に記載された方法が知られている。
特許文献1には、液晶ポリマー材料からなる物品の表面にイオン照射することを含む、液晶ポリマー材料からなる物品の表面改質方法が記載されている。
As a conventional method for manufacturing a liquid crystal film, for example, the method described in Patent Document 1 is known.
Patent Literature 1 describes a method for modifying the surface of an article made of a liquid crystal polymer material, which includes irradiating the surface of the article made of a liquid crystal polymer material with ions.

特開2008-308616号公報JP 2008-308616 A

本発明の実施形態が解決しようとする課題は、接着層を介した金属基板との剥離強度に優れるフィルム及びその製造方法を提供することである。
また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記フィルムを用いた積層フィルム及び積層体を提供することである。
The problem to be solved by the embodiments of the present invention is to provide a film excellent in peel strength from a metal substrate via an adhesive layer, and a method for producing the same.
Another problem to be solved by another embodiment of the present invention is to provide a laminate film and a laminate using the above film.

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
<1> 液晶ポリマーを含み、25℃50%RHでの空中水滴法による水との接触角の、フィルムの内部とフィルムの一方の表面とにおける差が、7°以上であるフィルム。
<2> 上記フィルムの一方の表面における表面自由エネルギーが、47N/m~60N/mである<1>に記載のフィルム。
<3> 上記フィルムの一方の表面における25℃50%RHでの空中水滴法による水との接触角が、50°以上75°未満である<1>又は<2>に記載のフィルム。
<4> 上記25℃50%RHでの空中水滴法による水との接触角の、フィルムの内部とフィルムの一方の表面とにおける差が、7°以上32°以下である<1>~<3>のいずれか1つに記載のフィルム。
<5> 上記フィルムの一方の表面における表面粗さRaが、0.05μm以下である<1>~<4>のいずれか1つに記載のフィルム。
<6> 上記液晶ポリマーが、パラヒドロキシ安息香酸に由来する構成単位、及び、6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸に由来する構成単位よりなる群から選ばれた少なくとも1種の構成単位を有する液晶ポリマーを含む<1>~<5>のいずれか1つに記載のフィルム。
<7> 上記液晶ポリマーが、6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸に由来する構成単位、芳香族ジオール化合物に由来する構成単位、テレフタル酸に由来する構成単位、及び、2,6-ナフタレンジカルボン酸に由来する構成単位よりなる群から選ばれた少なくとも1種の構成単位を有する液晶ポリマーを含む<1>~<5>のいずれか1つに記載のフィルム。
<8> ポリオレフィンを更に含む<1>~<7>のいずれか1つに記載のフィルム。
<9> 上記ポリオレフィンの含有量が、上記フィルムの全質量に対して、0.1質量%~40質量%である<8>に記載のフィルム。
<10> 上記フィルム中において、上記ポリオレフィンが分散相を形成している<8>又は<9>に記載のフィルム。
<11> 上記分散相の平均分散径が、0.01μm~10μmである<10>に記載のフィルム。
<12> 上記フィルムの一方の表面の240℃における弾性率が、300MPa以上である<1>~<11>のいずれか1つに記載のフィルム。
<13> 層Aと、上記層Aの少なくとも一方の表面に層Bを有し、上記層Aが、<1>~<12>のいずれか1つに記載のフィルムである積層フィルム。
<14> 上記層Bの140℃における弾性率が、0.1MPa以下である<13>に記載の積層フィルム。
<15> <1>~<12>のいずれか1つに記載のフィルムの一方の表面、又は、<13>若しくは<14>に記載の積層フィルムの層B側の表面に、金属基板を有する積層体。
<16> <1>~<12>のいずれか1つに記載のフィルムの一方の表面、又は、<13>若しくは<14>に記載の積層フィルムのいずれかの表面に、官能基を有する化合物を含む樹脂層と、金属基板とを有し、上記官能基が、エポキシ基、オキセタニル基、イソシアネート基、酸無水物基、カルボジイミド基、N-ヒドロキシエステル基、グリオキサール基、イミドエステル基、ハロゲン化アルキル基、及び、チオール基のいずれか1つ以上を含む積層体。
<17> 上記金属基板のフィルム側表面の最大高さRzが、2.0μm以下である<15>又は<16>に記載の積層体。
<18> 液晶ポリマーを含むフィルムの表面を酸化させる酸化処理工程を含み、製造されたフィルムにおいて、25℃50%RHでの空中水滴法による水との接触角の、フィルムの内部とフィルムの一方の表面とにおける差が、7°以上であるフィルムの製造方法。
<19> 上記製造されたフィルムの一方の表面における25℃50%RHでの空中水滴法による水との接触角が、50°以上75°未満とする酸化処理工程を有する<18>に記載のフィルムの製造方法。
<20> 上記酸化処理工程が、水溶液中で上記フィルムの表面と酸化剤と接触させる工程である<18>又は<19>に記載のフィルムの製造方法。
<21> 上記酸化剤の標準酸化還元電位が、1.5V以上である<20>に記載のフィルムの製造方法。
<22> 上記酸化剤が、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素、過マンガン酸カリウム、次亜塩素酸ナトリウム、硝酸アンモニウムセリウム、クロム酸カリウム、二クロム酸カリウム、及び、ペルオキシ一硫酸カリウム・硫酸水素カリウム・硫酸カリウムからなる複塩よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含む<20>又は<21>に記載のフィルムの製造方法。
<23> 上記水溶液のpHが、12以上である<20>~<22>のいずれか1つに記載のフィルムの製造方法。
Means for solving the above problems include the following aspects.
<1> A film containing a liquid crystal polymer and having a difference of 7° or more between the inside of the film and one surface of the film in contact angle with water measured by the water droplet method at 25° C. and 50% RH.
<2> The film according to <1>, wherein one surface of the film has a surface free energy of 47 N/m to 60 N/m.
<3> The film according to <1> or <2>, wherein the contact angle with water on one surface of the film is 50° or more and less than 75° by the water droplet method at 25°C and 50% RH.
<4> The difference between the contact angle with water measured by the water droplet method at 25° C. and 50% RH between the inside of the film and one surface of the film is 7° or more and 32° or less <1> to <3. The film according to any one of >.
<5> The film according to any one of <1> to <4>, wherein one surface of the film has a surface roughness Ra of 0.05 μm or less.
<6> The liquid crystal polymer has at least one structural unit selected from the group consisting of structural units derived from parahydroxybenzoic acid and structural units derived from 6-hydroxy-2-naphthoic acid. The film according to any one of <1> to <5>.
<7> The liquid crystal polymer contains structural units derived from 6-hydroxy-2-naphthoic acid, structural units derived from an aromatic diol compound, structural units derived from terephthalic acid, and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid. The film according to any one of <1> to <5>, comprising a liquid crystal polymer having at least one structural unit selected from the group consisting of structural units derived from the liquid crystal polymer.
<8> The film according to any one of <1> to <7>, further comprising polyolefin.
<9> The film according to <8>, wherein the content of the polyolefin is 0.1% by mass to 40% by mass with respect to the total mass of the film.
<10> The film according to <8> or <9>, wherein the polyolefin forms a dispersed phase in the film.
<11> The film according to <10>, wherein the dispersed phase has an average dispersed diameter of 0.01 μm to 10 μm.
<12> The film according to any one of <1> to <11>, wherein one surface of the film has an elastic modulus at 240° C. of 300 MPa or more.
<13> A laminated film having a layer A and a layer B on at least one surface of the layer A, wherein the layer A is the film according to any one of <1> to <12>.
<14> The laminated film according to <13>, wherein the layer B has an elastic modulus at 140° C. of 0.1 MPa or less.
<15> A metal substrate is provided on one surface of the film according to any one of <1> to <12> or on the layer B side surface of the laminated film according to <13> or <14>. laminate.
<16> A compound having a functional group on one surface of the film according to any one of <1> to <12> or on either surface of the laminated film according to <13> or <14> and a metal substrate, wherein the functional group is an epoxy group, an oxetanyl group, an isocyanate group, an acid anhydride group, a carbodiimide group, an N-hydroxyester group, a glyoxal group, an imidoester group, a halogenated A laminate containing at least one of an alkyl group and a thiol group.
<17> The laminate according to <15> or <16>, wherein the maximum height Rz of the film-side surface of the metal substrate is 2.0 μm or less.
<18> Including an oxidation treatment step of oxidizing the surface of the film containing the liquid crystal polymer, in the produced film, the contact angle with water by the water droplet method at 25 ° C. 50% RH, the inside of the film and one of the film A method for producing a film having a difference of 7° or more from the surface of
<19> According to <18>, having an oxidation treatment step in which the contact angle with water on one surface of the produced film is 50 ° or more and less than 75 ° by the water droplet method at 25 ° C. 50% RH. Film production method.
<20> The method for producing a film according to <18> or <19>, wherein the oxidation treatment step is a step of contacting the surface of the film with an oxidizing agent in an aqueous solution.
<21> The method for producing a film according to <20>, wherein the oxidizing agent has a standard oxidation-reduction potential of 1.5 V or more.
<22> The oxidizing agent is sodium persulfate, potassium persulfate, ammonium persulfate, hydrogen peroxide, potassium permanganate, sodium hypochlorite, ammonium cerium nitrate, potassium chromate, potassium dichromate, and peroxyl The method for producing a film according to <20> or <21>, which contains at least one compound selected from the group consisting of double salts consisting of potassium sulfate, potassium hydrogensulfate and potassium sulfate.
<23> The method for producing a film according to any one of <20> to <22>, wherein the aqueous solution has a pH of 12 or more.

本発明の実施形態によれば、接着層を介した金属基板との剥離強度に優れるフィルム及びその製造方法を提供することができる。
また、本発明の他の実施形態によれば、上記フィルムを用いた積層フィルム及び積層体を提供することができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the embodiment of this invention, the film which is excellent in the peeling strength with the metal substrate through an adhesive layer, and its manufacturing method can be provided.
Further, according to another embodiment of the present invention, it is possible to provide a laminate film and a laminate using the above film.

以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、数値範囲を示す「~」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
また、本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本明細書において、「(メタ)アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。 また、本開示において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
更に、本開示において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、特に断りのない限り、TSKgel SuperHM-H(東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)分析装置により、溶剤PFP(ペンタフルオロフェノール)/クロロホルム=1/2(質量比)、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
The content of the present disclosure will be described in detail below. The description of the constituent elements described below may be made based on representative embodiments of the present disclosure, but the present disclosure is not limited to such embodiments.
In this specification, the term "to" indicating a numerical range is used to include the numerical values before and after it as lower and upper limits.
In the numerical ranges described step by step in the present disclosure, the upper limit or lower limit of one numerical range may be replaced with the upper or lower limit of another numerical range described step by step. . Moreover, in the numerical ranges described in the present disclosure, the upper or lower limits of the numerical ranges may be replaced with the values shown in the examples.
In addition, in the description of groups (atomic groups) in the present specification, the descriptions that do not indicate substitution or unsubstituted include those having no substituents as well as those having substituents. For example, the term “alkyl group” includes not only alkyl groups having no substituents (unsubstituted alkyl groups) but also alkyl groups having substituents (substituted alkyl groups).
In the present specification, "(meth)acrylic" is a term used as a concept that includes both acrylic and methacrylic, and "(meth)acryloyl" is a term that is used as a concept that includes both acryloyl and methacryloyl. is.
In addition, the term "step" in this specification is not only an independent step, but even if it cannot be clearly distinguished from other steps, if the intended purpose of the step is achieved included. In addition, in the present disclosure, "% by mass" and "% by weight" are synonymous, and "parts by mass" and "parts by weight" are synonymous.
Furthermore, in the present disclosure, a combination of two or more preferred aspects is a more preferred aspect.
In addition, unless otherwise specified, the weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) in the present disclosure are measured by gel permeation chromatography using a TSKgel SuperHM-H (trade name of Tosoh Corporation) column ( GPC) analyzer, solvent PFP (pentafluorophenol)/chloroform = 1/2 (mass ratio), detection with a differential refractometer, molecular weight converted using polystyrene as a standard substance.

(フィルム)
本開示に係るフィルムは、液晶ポリマーを含み、25℃50%RHでの空中水滴法による水との接触角の、フィルムの内部とフィルムの一方の表面とにおける差が、7°以上である。
(the film)
The film according to the present disclosure contains a liquid crystal polymer, and the difference in contact angle with water between the inside of the film and one surface of the film by the water droplet method at 25° C. and 50% RH is 7° or more.

従来の液晶ポリマーを含むフィルムは、接着層を介した金属基板との剥離強度に問題がある場合があった。
本開示に係るフィルムは、25℃50%RHでの空中水滴法による水との接触角の、フィルムの内部とフィルムの一方の表面とにおける差が、7°以上であることにより、フィルムの上記表面がより親水的になり、上記表面とエポキシ樹脂等を含む接着層との密着力が向上するため、接着層を介した金属基板との剥離強度に優れるフィルムを提供することができる。
また、本開示に係るフィルムは、上記態様であることにより、湿熱経時後であっても接着層を介した金属基板との剥離強度にも優れる。
A film containing a conventional liquid crystal polymer sometimes has a problem of peel strength from a metal substrate via an adhesive layer.
The film according to the present disclosure has a difference of 7° or more between the inside of the film and one surface of the film in the contact angle with water measured by the water-in-air method at 25°C and 50% RH. Since the surface becomes more hydrophilic and the adhesion between the surface and the adhesive layer containing epoxy resin or the like is improved, it is possible to provide a film having excellent peel strength from the metal substrate via the adhesive layer.
In addition, the film according to the present disclosure is excellent in peel strength from the metal substrate via the adhesive layer even after wet heat aging due to the above aspect.

<フィルムの内部とフィルムの一方の表面とにおける水との接触角の差>
本開示に係るフィルムは、25℃50%RHでの空中水滴法による水との接触角の、フィルムの内部とフィルムの一方の表面とにおける差が、7°以上であり、接着層を介した金属基板との剥離強度の向上(以下、単に「剥離強度」ともいう。)、及び、湿熱経時後における接着層を介した金属基板との剥離強度の向上(以下、「湿熱経時後剥離強度」ともいう。)の観点から、7°以上32°以下であることが好ましく、10°以上30°以下であることがより好ましく、20°以上28°以下であることが特に好ましい。
また、本開示に係るフィルムは、上記水の接触角の差の範囲を満たす上記フィルムの一方の表面が、接着層を接触させる面、すなわち、接着層を介して金属基板と貼り合わせる面であることが好ましい。
<Difference in contact angle with water between the inside of the film and one surface of the film>
In the film according to the present disclosure, the difference in the contact angle with water measured by the water droplet method at 25 ° C. and 50% RH between the inside of the film and one surface of the film is 7 ° or more, and the contact angle is 7 ° or more. Improvement of the peel strength with the metal substrate (hereinafter also simply referred to as "peel strength"), and improvement of the peel strength with the metal substrate via the adhesive layer after wet heat aging (hereinafter, "peeling strength after wet heat aging" ), the angle is preferably 7° or more and 32° or less, more preferably 10° or more and 30° or less, and particularly preferably 20° or more and 28° or less.
Further, in the film according to the present disclosure, one surface of the film that satisfies the range of the difference in contact angle of water is the surface that contacts the adhesive layer, that is, the surface that is bonded to the metal substrate via the adhesive layer. is preferred.

上記フィルムの一方の表面における上記水との接触角の値は、剥離強度、及び、湿熱経時後剥離強度の観点から、上記フィルムの内部における上記水との接触角の値よりも小さいことが好ましい。
また、上記フィルムの一方の表面における上記水との接触角の値は、剥離強度、及び、湿熱経時後剥離強度の観点から、50°以上75°未満であることが好ましく、55°以上73°以下であることがより好ましく、60°以上70°以下であることが特に好ましい。
上記フィルムの内部における上記水との接触角の値は、剥離強度、及び、湿熱経時後剥離強度の観点から、75°以上100°以下であることが好ましく、80°以上90°以下であることがより好ましい。
The value of the contact angle with water on one surface of the film is preferably smaller than the value of the contact angle with water inside the film, from the viewpoint of peel strength and peel strength after wet heat aging. .
In addition, the value of the contact angle with water on one surface of the film is preferably 50° or more and less than 75°, from the viewpoint of peel strength and peel strength after wet heat aging, and 55° or more and 73°. or less, and particularly preferably 60° or more and 70° or less.
The value of the contact angle with the water inside the film is preferably 75° or more and 100° or less, and 80° or more and 90° or less, from the viewpoint of peel strength and peel strength after wet heat aging. is more preferred.

本開示におけるフィルム表面の25℃50%RHでの空中水滴法による水接触角の測定は、以下の方法により行うものとする。
25℃湿度50%RHにおいて、フィルムの一方の表面の水に対する接触角を測定する。測定には、協和界面科学(株)製接触角計(DM700)を使用する。接触角は液滴を作製してから5秒後の接触角の値を読み、10点平均で算出する。
In the present disclosure, the measurement of the water contact angle of the film surface at 25° C. and 50% RH by the water drop method in air is performed by the following method.
The contact angle of water on one surface of the film is measured at 25° C. and 50% RH. A contact angle meter (DM700) manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. is used for the measurement. The contact angle is calculated by averaging 10 points by reading the value of the contact angle 5 seconds after the droplet is prepared.

本開示におけるフィルム内部の25℃50%RHでの空中水滴法による水接触角の測定は、以下の方法により行うものとする。
フィルムが含有する液晶ポリマーの融点以上に加熱してフィルムを溶融させた後、再度フィルム状に成型する。成型されたフィルムは、一度融点以上に加熱されているため元の表面と内部は完全に混同していると考えられる。このようにして得られたフィルムの一方の表面の水接触角を上記と同様の方法で測定し、その値を、フィルム内部の水との接触角と定義する。
In the present disclosure, the measurement of the water contact angle inside the film at 25° C. and 50% RH by the water drop method in air is performed by the following method.
After the film is melted by heating above the melting point of the liquid crystal polymer contained in the film, it is molded into a film again. It is considered that the original surface and the inside of the molded film are completely mixed up because the molded film has been heated above the melting point once. The water contact angle on one surface of the film thus obtained is measured in the same manner as above, and the value is defined as the water contact angle inside the film.

<表面自由エネルギー>
上記フィルムの一方の表面における表面自由エネルギーは、剥離強度、及び、湿熱経時後剥離強度の観点から、46N/m~65N/mであることが好ましく、47N/m~60N/mであることがより好ましく、49N/m~60N/mであることが特に好ましい。
また、本開示に係るフィルムは、上記表面自由エネルギーの範囲を満たす上記フィルムの一方の表面が、接着層を形成する面、すなわち、接着層を形成し、金属基板と貼り合わせる面であることが好ましい。
<Surface free energy>
The surface free energy on one surface of the film is preferably 46 N/m to 65 N/m, more preferably 47 N/m to 60 N/m, from the viewpoint of peel strength and peel strength after wet heat aging. More preferably, it is particularly preferably 49 N/m to 60 N/m.
Further, in the film according to the present disclosure, one surface of the film that satisfies the range of surface free energy is a surface that forms an adhesive layer, that is, a surface that forms an adhesive layer and is attached to a metal substrate. preferable.

本開示におけるフィルム表面の表面自由エネルギーの測定方法は、以下の通りである。
Owensによる方法に基づき、表面自由エネルギーが既知である水及びヨウ化メチレンを用い、フィルム表面に水を滴下して水の接触角、及び、フィルム表面にヨウ化メチレンを滴下してヨウ化メチレンの接触角をそれぞれ測定し、表面自由エネルギー(N/m)を算出する。各接触角の測定方法は、上記フィルム表面の水接触角の測定方法と同様である。
The method for measuring the surface free energy of the film surface in the present disclosure is as follows.
Based on the method by Owens, using water and methylene iodide with known surface free energy, water is dropped on the film surface to determine the contact angle of water, and methylene iodide is dropped on the film surface to determine the contact angle of methylene iodide. Each contact angle is measured and the surface free energy (N/m) is calculated. The method for measuring each contact angle is the same as the method for measuring the water contact angle on the film surface.

<表面粗さRa>
本開示に係るフィルムにおいて、上記フィルムの一方の表面における表面粗さRaが、0.05μm以下であることが好ましく、0.03μm以下であることがより好ましく、0.025μm以下であることが特に好ましい。下限値は、0.001μm以上であることが好ましく、0.005μm以上であることがより好ましく、0.010μm以上であることが特に好ましい。
<Surface roughness Ra>
In the film according to the present disclosure, the surface roughness Ra on one surface of the film is preferably 0.05 μm or less, more preferably 0.03 μm or less, and particularly 0.025 μm or less. preferable. The lower limit is preferably 0.001 μm or more, more preferably 0.005 μm or more, and particularly preferably 0.010 μm or more.

本開示における表面粗さRaは、表面粗さ計を用いて算出され、例えば、(株)小坂研究所製の触針式表面粗さ計「サーフコーダSE3500」を用い、JIS B0601:2013の算術平均粗さRaの算出方法に基づいて算出される。 The surface roughness Ra in the present disclosure is calculated using a surface roughness meter. It is calculated based on the calculation method of the average roughness Ra.

<誘電正接>
本開示に係るフィルムは、誘電正接が、剥離時の破断故障抑制、及び、作製された基板の伝送損失低減の観点から、0.01以下であることが好ましく、0.005以下であることがより好ましく、0.004以下であることが更に好ましく、0を超え0.003以下であることが特に好ましい。
<Dielectric loss tangent>
The dielectric loss tangent of the film according to the present disclosure is preferably 0.01 or less, and preferably 0.005 or less, from the viewpoint of suppressing breakage failure during peeling and reducing transmission loss of the manufactured substrate. It is more preferably 0.004 or less, and particularly preferably more than 0 and 0.003 or less.

本開示におけるフィルム又はポリマーの誘電正接の測定方法は、以下の通りである。
誘電正接は周波数10GHzで共振摂動法により測定する。ネットワークアナライザ(Agilent Technology社製「E8363B」)に10GHzの空洞共振器((株)関東電子応用開発CP531)を接続し、空洞共振器にフィルムのサンプル(幅:2.0mm×長さ:80mmを挿入し、温度25℃、湿度60%RH環境下、96時間の挿入前後の共振周波数の変化からフィルムの誘電正接を測定する。
A method for measuring the dielectric loss tangent of a film or polymer in the present disclosure is as follows.
A dielectric loss tangent is measured by a resonance perturbation method at a frequency of 10 GHz. A 10 GHz cavity resonator (Kanto Electronics Applied Development Co., Ltd. CP531) was connected to a network analyzer ("E8363B" manufactured by Agilent Technology), and a film sample (width: 2.0 mm x length: 80 mm) was connected to the cavity resonator. The film is inserted, and the dielectric loss tangent of the film is measured from the change in resonance frequency before and after the insertion for 96 hours under an environment of temperature 25° C. and humidity 60% RH.

<液晶ポリマー>
本開示に係るフィルムは、液晶ポリマーを含む。
液晶ポリマーは、溶融状態で液晶性を示すサーモトロピック液晶ポリマーでもよく、溶液状態で液晶性を示すリオトロピック液晶ポリマーでもよい。また、サーモトロピック液晶の場合は、450℃以下の温度で溶融するものであることが好ましい。
液晶ポリマーとしては、例えば、液晶ポリエステル、液晶ポリエステルにアミド結合が導入された液晶ポリエステルアミド、液晶ポリエステルにエーテル結合が導入された液晶ポリエステルエーテル、液晶ポリエステルにカーボネート結合が導入された液晶ポリエ
ステルカーボネートなどを挙げることができる。
また、液晶ポリマーは、液晶性、及び、線膨張係数の観点から、芳香環を有するポリマーであることが好ましく、芳香族ポリエステル又は芳香族ポリエステルアミドであることがより好ましい。
更に、液晶ポリマーは、芳香族ポリエステル又は芳香族ポリエステルアミドに、更にイミド結合、カルボジイミド結合やイソシアヌレート結合などのイソシアネート由来の結合等が導入されたポリマーであってもよい。
また、液晶ポリマーは、原料モノマーとして芳香族化合物のみを用いてなる全芳香族液晶ポリマーであることが好ましい。
<Liquid crystal polymer>
A film according to the present disclosure comprises a liquid crystal polymer.
The liquid crystal polymer may be a thermotropic liquid crystal polymer that exhibits liquid crystallinity in a molten state, or a lyotropic liquid crystal polymer that exhibits liquid crystallinity in a solution state. In the case of thermotropic liquid crystal, it is preferable that it melts at a temperature of 450° C. or less.
Examples of liquid crystalline polymers include liquid crystalline polyesters, liquid crystalline polyester amides in which amide bonds are introduced into liquid crystalline polyesters, liquid crystalline polyester ethers in which ether bonds are introduced into liquid crystalline polyesters, and liquid crystalline polyester carbonates in which carbonate bonds are introduced into liquid crystalline polyesters. can be mentioned.
From the viewpoint of liquid crystallinity and linear expansion coefficient, the liquid crystal polymer is preferably a polymer having an aromatic ring, more preferably an aromatic polyester or an aromatic polyesteramide.
Further, the liquid crystal polymer may be a polymer obtained by introducing an isocyanate-derived bond such as an imide bond, a carbodiimide bond, or an isocyanurate bond into an aromatic polyester or an aromatic polyesteramide.
Further, the liquid crystal polymer is preferably a wholly aromatic liquid crystal polymer using only aromatic compounds as raw material monomers.

液晶ポリマーの例としては、例えば、以下が挙げられる。
1)(i)芳香族ヒドロキシカルボン酸と、(ii)芳香族ジカルボン酸と、(iii)芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンよりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物と、を重縮合させてなるもの。
2)複数種の芳香族ヒドロキシカルボン酸を重縮合させてなるもの。
3)(i)芳香族ジカルボン酸と、(ii)芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンよりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物と、を重縮合させてなるもの。
4)(i)ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルと、(ii)芳香族ヒドロキシカルボン酸と、を重縮合させてなるもの。
ここで、芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸、芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンはそれぞれ独立に、その一部又は全部に代えて、その重縮合可能な誘導体が用いられてもよい。
Examples of liquid crystal polymers include, for example:
1) (i) an aromatic hydroxycarboxylic acid, (ii) an aromatic dicarboxylic acid, and (iii) at least one compound selected from the group consisting of an aromatic diol, an aromatic hydroxylamine and an aromatic diamine; A product obtained by polycondensation.
2) Those obtained by polycondensing a plurality of types of aromatic hydroxycarboxylic acids.
3) Polycondensation of (i) an aromatic dicarboxylic acid and (ii) at least one compound selected from the group consisting of aromatic diols, aromatic hydroxylamines and aromatic diamines.
4) Polycondensation of (i) a polyester such as polyethylene terephthalate and (ii) an aromatic hydroxycarboxylic acid.
Here, aromatic hydroxycarboxylic acids, aromatic dicarboxylic acids, aromatic diols, aromatic hydroxyamines and aromatic diamines are each independently used in place of part or all of their polycondensable derivatives. good too.

芳香族ヒドロキシカルボン酸及び芳香族ジカルボン酸のようなカルボキシ基を有する化合物の重合可能な誘導体の例としては、カルボキシ基をアルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基に変換してなるもの(エステル)、カルボキシ基をハロホルミル基に変換してなるもの(酸ハロゲン化物)、及びカルボキシ基をアシルオキシカルボニル基に変換してなるもの(酸無水物)が挙げられる。
芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジオール及び芳香族ヒドロキシアミンのようなヒドロキシ基を有する化合物の重合可能な誘導体の例としては、ヒドロキシ基をアシル化してアシルオキシ基に変換してなるもの(アシル化物)が挙げられる。
芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンのようなアミノ基を有する化合物の重合可能な誘導体の例としては、アミノ基をアシル化してアシルアミノ基に変換してなるもの(アシル化物)が挙げられる。
Examples of polymerizable derivatives of compounds having a carboxy group such as aromatic hydroxycarboxylic acids and aromatic dicarboxylic acids include those obtained by converting the carboxy group to an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group (ester), carboxy Examples thereof include those obtained by converting a group to a haloformyl group (acid halides) and those obtained by converting a carboxy group to an acyloxycarbonyl group (acid anhydrides).
Examples of polymerizable derivatives of compounds having a hydroxy group such as aromatic hydroxycarboxylic acids, aromatic diols and aromatic hydroxyamines include those obtained by acylating the hydroxy group to convert it to an acyloxy group (acylated product). is mentioned.
Examples of polymerizable derivatives of compounds having an amino group such as aromatic hydroxylamines and aromatic diamines include those obtained by acylating the amino group to convert it to an acylamino group (acylated product).

液晶ポリマーは、液晶性、フィルムの誘電正接、及び、金属基板との密着性の観点から、下記式(1)~式(3)のいずれかで表される構成繰り返し単位(以下、式(1)で表される構成繰り返し単位等を、繰り返し単位(1)等ということがある。)を有することが好ましく、下記式(1)で表される構成繰り返し単位を有することがより好ましく、下記式(1)で表される構成繰り返し単位と、下記式(2)で表される構成繰り返し単位と、下記式(2)で表される構成繰り返し単位とを有することが特に好ましい。
式(1) -O-Ar-CO-
式(2) -CO-Ar-CO-
式(3) -X-Ar-Y-
式(1)~式(3)中、Arは、フェニレン基、ナフチレン基又はビフェニリレン基を表し、Ar及びArはそれぞれ独立に、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニリレン基又は下記式(4)で表される基を表し、X及びYはそれぞれ独立に、酸素原子又はイミノ基を表し、Ar~Arで表される上記基にある水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。
式(4) -Ar-Z-Ar
式(4)中、Ar及びArはそれぞれ独立に、フェニレン基又はナフチレン基を表し、Zは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキレン基を表す。
From the viewpoint of liquid crystallinity, dielectric loss tangent of the film, and adhesion to the metal substrate, the liquid crystal polymer is a structural repeating unit represented by any of the following formulas (1) to (3) (hereinafter, formula (1 ) is sometimes referred to as a repeating unit (1), etc.), more preferably has a constituent repeating unit represented by the following formula (1), and the following formula It is particularly preferable to have a structural repeating unit represented by (1), a structural repeating unit represented by the following formula (2), and a structural repeating unit represented by the following formula (2).
Formula (1) —O—Ar 1 —CO—
Formula (2) —CO—Ar 2 —CO—
Formula (3) -X-Ar 3 -Y-
In formulas (1) to (3), Ar 1 represents a phenylene group, naphthylene group or biphenylylene group, and Ar 2 and Ar 3 each independently represent a phenylene group, naphthylene group, biphenylylene group or the following formula (4) represents a group represented by X and Y each independently represents an oxygen atom or an imino group, and hydrogen atoms in the groups represented by Ar 1 to Ar 3 each independently represent a halogen atom, an alkyl group Alternatively, it may be substituted with an aryl group.
Formula (4) -Ar 4 -Z-Ar 5 -
In formula (4), Ar 4 and Ar 5 each independently represent a phenylene group or a naphthylene group, and Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, a carbonyl group, a sulfonyl group, or an alkylene group.

上記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
上記アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ヘキシル基、2-エチルヘキシル基、n-オクチル基及びn-デシル基が挙げられ、その炭素数は、好ましくは1~10である。
上記アリール基の例としては、フェニル基、o-トリル基、m-トリル基、p-トリル基、1-ナフチル基及び2-ナフチル基が挙げられ、その炭素数は、好ましくは6~20である。
上記水素原子がこれらの基で置換されている場合、その数は、Ar、Ar又はArで表される上記基毎にそれぞれ独立に、好ましくは2個以下であり、より好ましくは1個である。
The halogen atoms include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms.
Examples of the above alkyl groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group, 2-ethylhexyl group, n-octyl group and n-decyl group, preferably having 1 to 10 carbon atoms.
Examples of the aryl group include phenyl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, 1-naphthyl group and 2-naphthyl group, preferably having 6 to 20 carbon atoms. be.
When the above hydrogen atoms are substituted with these groups, the number thereof is preferably 2 or less, more preferably 1, independently for each of the above groups represented by Ar 1 , Ar 2 or Ar 3 . is one.

上記アルキレン基の例としては、メチレン基、1,1-エタンジイル基、1-メチル-1,1-エタンジイル基、1,1-ブタンジイル基及び2-エチル-1,1-ヘキサンジイル基が挙げられ、その炭素数は、好ましくは1~10である。 Examples of the alkylene group include methylene group, 1,1-ethanediyl group, 1-methyl-1,1-ethanediyl group, 1,1-butanediyl group and 2-ethyl-1,1-hexanediyl group. , preferably has 1 to 10 carbon atoms.

繰り返し単位(1)は、所定の芳香族ヒドロキシカルボン酸に由来する構成繰り返し単位である。
繰り返し単位(1)としては、Arがp-フェニレン基であるもの(p-ヒドロキシ安香酸に由来する構成繰り返し単位)、及びArが2,6-ナフチレン基であるもの(6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸に由来する構成繰り返し単位)、又は、4,4’-ビフェニリレン基であるもの(4’-ヒドロキシ-4-ビフェニルカルボン酸に由来する構成繰り返し単位)が好ましい。
Repeating unit (1) is a structural repeating unit derived from a predetermined aromatic hydroxycarboxylic acid.
Examples of the repeating unit (1) include those in which Ar 1 is a p-phenylene group (a structural repeating unit derived from p-hydroxybenzoic acid) and those in which Ar 1 is a 2,6-naphthylene group (a 6-hydroxy -2-naphthoic acid-derived structural repeating unit) or a 4,4'-biphenylylene group (4'-hydroxy-4-biphenylcarboxylic acid-derived structural repeating unit).

繰り返し単位(2)は、所定の芳香族ジカルボン酸に由来する構成繰り返し単位である。
繰り返し単位(2)としては、Arがp-フェニレン基であるもの(テレフタル酸に由来する構成繰り返し単位)、Arがm-フェニレン基であるもの(イソフタル酸に由来する構成繰り返し単位)、Arが2,6-ナフチレン基であるもの(2,6-ナフタレンジカルボン酸に由来する構成繰り返し単位)、又は、Arがジフェニルエーテル-4,4’-ジイル基であるもの(ジフェニルエーテル-4,4’-ジカルボン酸に由来する構成繰り返し単位)が好ましい。
Repeating unit (2) is a structural repeating unit derived from a predetermined aromatic dicarboxylic acid.
The repeating unit (2) includes those in which Ar 2 is a p-phenylene group (structural repeating unit derived from terephthalic acid), those in which Ar 2 is an m-phenylene group (structural repeating unit derived from isophthalic acid), Ar 2 is a 2,6-naphthylene group (a structural repeating unit derived from 2,6-naphthalenedicarboxylic acid), or Ar 2 is a diphenyl ether-4,4'-diyl group (diphenyl ether-4, A structural repeating unit derived from 4'-dicarboxylic acid) is preferred.

繰り返し単位(3)は、所定の芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシルアミン又は芳香族ジアミンに由来する構成繰り返し単位である。
繰り返し単位(3)としては、Arがp-フェニレン基であるもの(ヒドロキノン、p-アミノフェノール又はp-フェニレンジアミンに由来する構成繰り返し単位)、Arがm-フェニレン基であるもの(イソフタル酸に由来する構成繰り返し単位)、又は、Arが4,4’-ビフェニリレン基であるもの(4,4’-ジヒドロキシビフェニル、4-アミノ-4’-ヒドロキシビフェニル又は4,4’-ジアミノビフェニルに由来する構成繰り返し単位)が好ましい。
Repeating unit (3) is a structural repeating unit derived from a predetermined aromatic diol, aromatic hydroxylamine or aromatic diamine.
Examples of the repeating unit (3) include those in which Ar 3 is a p-phenylene group (structural repeating units derived from hydroquinone, p-aminophenol or p-phenylenediamine), those in which Ar 3 is an m-phenylene group (isophthalene structural repeating unit derived from an acid), or those in which Ar 3 is a 4,4'-biphenylylene group (4,4'-dihydroxybiphenyl, 4-amino-4'-hydroxybiphenyl or 4,4'-diaminobiphenyl Structural repeating units derived from) are preferred.

繰り返し単位(1)の含有量は、全構成繰り返し単位の合計量(液晶ポリマーを構成する各構成繰り返し単位の質量をその各繰り返し単位の式量で割ることにより、各繰り返し単位の物質量相当量(モル)を求め、それらを合計した値)に対して、好ましくは30モル%以上、より好ましくは30モル%~80モル%、更に好ましくは30モル%~60モル%、特に好ましくは30モル%~40モル%である。
繰り返し単位(2)の含有量は、全構成繰り返し単位の合計量に対して、好ましくは35モル%以下、より好ましくは10モル%~35モル%、更に好ましくは20モル%~35モル%、特に好ましくは30モル%~35モル%である。
繰り返し単位(3)の含有量は、全構成繰り返し単位の合計量に対して、好ましくは35モル%以下、より好ましくは10モル%~35モル%、更に好ましくは20モル%~35モル%、特に好ましくは30モル%~35モル%である。
繰り返し単位(1)の含有量が多いほど、耐熱性、強度及び剛性が向上し易いが、あまり多いと、溶媒に対する溶解性が低くなり易い。
The content of the repeating unit (1) is the total amount of all constituent repeating units (the mass of each constituent repeating unit constituting the liquid crystal polymer is divided by the formula weight of each repeating unit, and the amount equivalent to the substance amount of each repeating unit (mole) is calculated and the total value) is preferably 30 mol% or more, more preferably 30 mol% to 80 mol%, still more preferably 30 mol% to 60 mol%, particularly preferably 30 mol % to 40 mol %.
The content of the repeating unit (2) is preferably 35 mol% or less, more preferably 10 mol% to 35 mol%, still more preferably 20 mol% to 35 mol%, based on the total amount of all constituent repeating units, Particularly preferably, it is 30 mol % to 35 mol %.
The content of the repeating unit (3) is preferably 35 mol% or less, more preferably 10 mol% to 35 mol%, still more preferably 20 mol% to 35 mol%, based on the total amount of all constituent repeating units, Particularly preferably, it is 30 mol % to 35 mol %.
The higher the content of the repeating unit (1), the more likely the heat resistance, strength and rigidity are improved.

繰り返し単位(2)の含有量と繰り返し単位(3)の含有量との割合は、[繰り返し単位(2)の含有量]/[繰り返し単位(3)の含有量](モル/モル)で表して、好ましくは0.9/1~1/0.9、より好ましくは0.95/1~1/0.95、更に好ましくは0.98/1~1/0.98である。 The ratio between the content of the repeating unit (2) and the content of the repeating unit (3) is expressed as [content of the repeating unit (2)]/[content of the repeating unit (3)] (mol/mol). , preferably 0.9/1 to 1/0.9, more preferably 0.95/1 to 1/0.95, still more preferably 0.98/1 to 1/0.98.

なお、液晶ポリマーは、繰り返し単位(1)~(3)をそれぞれ独立に、2種以上有してもよい。また、液晶ポリマーは、繰り返し単位(1)~(3)以外の構成繰り返し単位を有してもよいが、その含有量は、全繰り返し単位の合計量に対して、好ましくは10モル%以下、より好ましくは5モル%以下である。 The liquid crystal polymer may have two or more types of repeating units (1) to (3) independently. In addition, the liquid crystal polymer may have constituent repeating units other than the repeating units (1) to (3), but the content thereof is preferably 10 mol% or less with respect to the total amount of all repeating units. More preferably, it is 5 mol % or less.

液晶ポリマーは、繰り返し単位(3)として、X及びYの少なくとも一方がイミノ基であるものを有すること、すなわち、所定の芳香族ヒドロキシルアミンに由来する構成繰り返し単位及び芳香族ジアミンに由来する構成繰り返し単位の少なくとも一方を有することが、溶媒に対する溶解性が優れるので、好ましく、繰り返し単位(3)として、X及びYの少なくとも一方がイミノ基であるもののみを有することが、より好ましい。 The liquid crystal polymer has, as repeating units (3), at least one of X and Y being an imino group, i.e., a structural repeating unit derived from a predetermined aromatic hydroxylamine and a structural repeating unit derived from an aromatic diamine. It is preferable to have at least one of the units because the solubility in a solvent is excellent, and it is more preferable to have only repeating units (3) in which at least one of X and Y is an imino group.

中でも、液晶ポリマーは、分散性、及び、引張強度の観点から、パラヒドロキシ安息香酸に由来する構成単位、及び、6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸に由来する構成単位よりなる群から選ばれた少なくとも1種の構成単位を有する液晶ポリマーを含むことが好ましく、パラヒドロキシ安息香酸に由来する構成単位、及び、6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸に由来する構成単位を有する液晶ポリマーを含むことがより好ましい。
また、液晶ポリマーは、分散性、及び、引張強度の観点から、6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸に由来する構成単位、芳香族ジオール化合物に由来する構成単位、テレフタル酸に由来する構成単位、及び、2,6-ナフタレンジカルボン酸に由来する構成単位よりなる群から選ばれた少なくとも1種の構成単位を有する液晶ポリマーを含むことが好ましく、6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸に由来する構成単位、芳香族ジオール化合物に由来する構成単位、テレフタル酸に由来する構成単位、及び、2,6-ナフタレンジカルボン酸に由来する構成単位を有する液晶ポリマーを含むことがより好ましい。
Among them, from the viewpoint of dispersibility and tensile strength, the liquid crystal polymer contains at least a structural unit derived from parahydroxybenzoic acid and a structural unit derived from 6-hydroxy-2-naphthoic acid. It preferably contains a liquid crystal polymer having one type of structural unit, and more preferably contains a liquid crystal polymer having a structural unit derived from parahydroxybenzoic acid and a structural unit derived from 6-hydroxy-2-naphthoic acid. .
In addition, from the viewpoint of dispersibility and tensile strength, the liquid crystal polymer has a structural unit derived from 6-hydroxy-2-naphthoic acid, a structural unit derived from an aromatic diol compound, a structural unit derived from terephthalic acid, and , It preferably contains a liquid crystal polymer having at least one structural unit selected from the group consisting of structural units derived from 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, a structural unit derived from 6-hydroxy-2-naphthoic acid, More preferably, it contains a liquid crystal polymer having structural units derived from an aromatic diol compound, structural units derived from terephthalic acid, and structural units derived from 2,6-naphthalenedicarboxylic acid.

液晶ポリマーは、それを構成する構成繰り返し単位に対応する原料モノマーを溶融重合させることにより製造することが好ましい。溶融重合は、触媒の存在下に行ってもよく、この触媒の例としては、酢酸マグネシウム、酢酸第一錫、テトラブチルチタネート、酢酸鉛、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、三酸化アンチモン等の金属化合物、4-(ジメチルアミノ)ピリジン、1-メチルイミダゾール等の含窒素複素環式化合物などが挙げられ、含窒素複素環式化合物が好ましく用いられる。なお、溶融重合は、必要に応じて、更に固相重合させてもよい。 The liquid crystal polymer is preferably produced by melt-polymerizing raw material monomers corresponding to the constituent repeating units constituting the liquid crystal polymer. The melt polymerization may be carried out in the presence of a catalyst, examples of which include metal compounds such as magnesium acetate, stannous acetate, tetrabutyl titanate, lead acetate, sodium acetate, potassium acetate, antimony trioxide, Nitrogen-containing heterocyclic compounds such as 4-(dimethylamino)pyridine and 1-methylimidazole are included, and nitrogen-containing heterocyclic compounds are preferably used. In addition, the melt polymerization may be further subjected to solid phase polymerization, if necessary.

液晶ポリマーは、その流動開始温度が、好ましくは250℃以上、より好ましくは250℃以上350℃以下、更に好ましくは260℃以上330℃以下である。液晶ポリマーの流動開始温度が上記範囲であると、溶解性、耐熱性、強度及び剛性に優れ、また、溶液の粘度が適度である。 The liquid crystal polymer has a flow initiation temperature of preferably 250° C. or higher, more preferably 250° C. or higher and 350° C. or lower, and still more preferably 260° C. or higher and 330° C. or lower. When the flow initiation temperature of the liquid crystal polymer is within the above range, the solubility, heat resistance, strength and rigidity are excellent, and the viscosity of the solution is moderate.

流動開始温度は、フロー温度又は流動温度とも呼ばれ、毛細管レオメーターを用いて、9.8MPa(100kg/cm)の荷重下、4℃/分の速度で昇温しながら、液晶ポリマーを溶融させ、内径1mm及び長さ10mmのノズルから押し出すときに、4,800Pa・s(48,000ポイズ)の粘度を示す温度であり、液晶ポリエステルの分子量の目安となるものである(小出直之編、「液晶ポリマー-合成・成形・応用-」、株式会社シーエムシー、1987年6月5日、p.95参照)。 The flow initiation temperature is also called flow temperature or flow temperature, and melts the liquid crystal polymer while increasing the temperature at a rate of 4 ° C./min under a load of 9.8 MPa (100 kg/cm 2 ) using a capillary rheometer. It is the temperature at which a viscosity of 4,800 Pa s (48,000 poise) is exhibited when extruded from a nozzle with an inner diameter of 1 mm and a length of 10 mm. , "Liquid Crystal Polymer -Synthesis/Molding/Application-", CMC Co., Ltd., June 5, 1987, p.95).

また、液晶ポリマーは、その重量平均分子量が1,000,000以下であることが好ましく、3,000~300,000であることがより好ましく、5,000~100,000であることが更に好ましく、5,000~30,000であることが特に好ましい。この液晶ポリマーの重量平均分子量が上記範囲であると、熱処理後のフィルムにおいて、厚さ方向の熱伝導性、耐熱性、強度及び剛性に優れる。 The liquid crystal polymer preferably has a weight average molecular weight of 1,000,000 or less, more preferably 3,000 to 300,000, and even more preferably 5,000 to 100,000. , 5,000 to 30,000 are particularly preferred. When the weight average molecular weight of the liquid crystal polymer is within the above range, the heat-treated film is excellent in thermal conductivity, heat resistance, strength and rigidity in the thickness direction.

液晶ポリマーは、特定の有機溶媒に可溶性のポリマー(以下、「可溶性ポリマー」ともいう。)であることが好ましい。
具体的には、本開示における可溶性ポリマーは、25℃において、N-メチルピロリドン、N-エチルピロリドン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、N,N-ジメチルアセトアミド、γ-ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、エチレングリコールモノブチルエーテル及びエチレングリコールモノエチルエーテルよりなる群から選ばれる少なくとも1種の溶媒100gに、0.1g以上溶解するポリマーである。
The liquid crystal polymer is preferably a polymer soluble in a specific organic solvent (hereinafter also referred to as "soluble polymer").
Specifically, the soluble polymers in the present disclosure are N-methylpyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, N,N-dimethylacetamide, γ-butyrolactone, dimethylformamide, ethylene glycol monobutyl ether at 25°C. and ethylene glycol monoethyl ether.

本開示に係るフィルムは、液晶ポリマーを1種のみ含んでいても、2種以上含んでいてもよい。
本開示に係るフィルムにおける液晶ポリマーの含有量は、フィルムの誘電正接、及び、金属基板との密着性の観点から、上記フィルムの全質量に対し、20質量%~100質量%であることが好ましく、30質量%~100質量%であることがより好ましく、40質量%~100質量%であることが特に好ましい。
A film according to the present disclosure may contain only one type of liquid crystal polymer, or may contain two or more types.
The content of the liquid crystal polymer in the film according to the present disclosure is preferably 20% by mass to 100% by mass with respect to the total mass of the film from the viewpoint of dielectric loss tangent of the film and adhesion to the metal substrate. , more preferably 30% by mass to 100% by mass, and particularly preferably 40% by mass to 100% by mass.

<ポリオレフィン>
本開示に係るフィルムは、剥離強度、及び、湿熱経時後剥離強度の観点から、ポリオレフィンを更に含むことが好ましい。
ポリオレフィンとしては、特に制限はないが、ポリ-α-オレフィンであることが好ましく、ポリエチレン、又は、ポリプロピレンであることがより好ましい。
<Polyolefin>
The film according to the present disclosure preferably further contains polyolefin from the viewpoint of peel strength and peel strength after wet heat aging.
The polyolefin is not particularly limited, but is preferably poly-α-olefin, more preferably polyethylene or polypropylene.

上記フィルムがポリオレフィンを含む場合、剥離強度、及び、湿熱経時後剥離強度の観点から、上記フィルム中において、上記ポリオレフィンが分散相を形成していることが好ましく、ポリオレフィンが島構造、液晶ポリマーが海構造である海島構造を有することがより好ましい。
上記分散相の平均分散径は、剥離強度、及び、湿熱経時後剥離強度の観点から、0.01μm~20μmであることが好ましく、0.01μm~10μmであることがより好ましい。
上記分散相の平均分散径の測定方法は、フィルムの断面を観察し、分散相の最大径を大きいほうから順に10個測定し、平均をとるものとする。
When the film contains polyolefin, from the viewpoint of peel strength and peel strength after wet heat aging, it is preferable that the polyolefin forms a dispersed phase in the film, the polyolefin is an island structure, and the liquid crystal polymer is a sea. It is more preferable to have a sea-island structure.
The average dispersed diameter of the dispersed phase is preferably 0.01 μm to 20 μm, more preferably 0.01 μm to 10 μm, from the viewpoint of peel strength and peel strength after wet heat aging.
The method for measuring the average dispersed diameter of the dispersed phase is to observe the cross section of the film, measure the maximum diameter of 10 dispersed phases in descending order, and take the average.

本開示に係るフィルムは、ポリオレフィンを1種単独で含んでいても、2種以上を含んでいてもよい。
上記ポリオレフィンの含有量は、剥離強度、及び、湿熱経時後剥離強度の観点から、上記フィルムの全質量に対して、0.1質量%~40質量%であることが好ましく、1質量%~30質量%であることがより好ましい。
The film according to the present disclosure may contain one type of polyolefin alone, or may contain two or more types.
The content of the polyolefin is preferably 0.1% by mass to 40% by mass, and preferably 1% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the film, from the viewpoint of peel strength and peel strength after wet heat aging. % by mass is more preferred.

<フィラー>
本開示に係るフィルムは、誘電特性、熱膨張係数、及び、金属基板との密着性の観点から、フィラーを含むことが好ましい。
フィラーは、粒子状であっても、繊維状であってもよく、また、無機フィラーであっても、有機フィラーであってもよい。
本開示に係るフィルムにおいて、上記フィラーの数密度は、誘電特性、熱膨張係数、及び、金属基板との密着性の観点から、上記フィルムの表面より内部の方が大きいことが好ましい。
<Filler>
The film according to the present disclosure preferably contains a filler from the viewpoint of dielectric properties, coefficient of thermal expansion, and adhesion to metal substrates.
The filler may be particulate or fibrous, and may be an inorganic filler or an organic filler.
In the film according to the present disclosure, the number density of the filler is preferably higher inside the film than on the surface, from the viewpoint of dielectric properties, coefficient of thermal expansion, and adhesion to the metal substrate.

無機フィラーとしては、公知の無機フィラーを用いることができる。
無機フィラーの材質としては、例えば、BN、Al、AlN、TiO、SiO、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、水酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、及び、これらを2種以上含む材質が挙げられる。
中でも、無機フィラーとしては、金属基板との密着性の観点から、金属酸化物粒子、又は、繊維が好ましく、シリカ粒子、チタニア粒子、又は、ガラス繊維がより好ましく、シリカ粒子、又は、ガラス繊維が特に好ましい。
無機フィラーの平均粒径は、特に制限されないが、フィラーを含有する層の厚みの約20%~約40%であることが好ましく、例えば、フィラーを含有する層の厚みの25%、30%又は35%にあるものを選択してもよい。粒子又は繊維が扁平状の場合には、短辺方向の長さを示す。
また、無機フィラーの平均粒径は、金属基板との密着性の観点から、5nm~20μmであることが好ましく、10nm~10μmであることがより好ましく、20nm~1μmであることが更に好ましく、25nm~500nmであることが特に好ましい。
A known inorganic filler can be used as the inorganic filler.
Examples of inorganic filler materials include BN, Al 2 O 3 , AlN, TiO 2 , SiO 2 , barium titanate, strontium titanate, aluminum hydroxide, calcium carbonate, and materials containing two or more of these. be done.
Among them, from the viewpoint of adhesion to the metal substrate, the inorganic filler is preferably metal oxide particles or fibers, more preferably silica particles, titania particles or glass fibers, and silica particles or glass fibers. Especially preferred.
The average particle size of the inorganic filler is not particularly limited, but is preferably about 20% to about 40% of the thickness of the layer containing the filler, for example, 25%, 30% or 30% of the thickness of the layer containing the filler. The one at 35% may be selected. When the particles or fibers are flattened, the length in the short side direction is indicated.
Further, the average particle size of the inorganic filler is preferably 5 nm to 20 μm, more preferably 10 nm to 10 μm, even more preferably 20 nm to 1 μm, and 25 nm, from the viewpoint of adhesion to the metal substrate. ~500 nm is particularly preferred.

有機フィラーとしては、公知の有機フィラーを用いることができる。
有機フィラーの材質としては、例えば、ポリエチレン、ポリスチレン、尿素-ホルマリンフィラー、ポリエステル、セルロース、アクリル樹脂、フッ素樹脂、硬化エポキシ樹脂、架橋ベンゾグアナミン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋スチレン、及び、これらを2種以上含む材質が挙げられる。
また、有機フィラーは、ナノファイバーのような繊維状であってもよく、中空樹脂粒子であってもよい。
中でも、有機フィラーとしては、金属基板との密着性の観点から、フッ素樹脂粒子、若しくは、ポリエステル系樹脂粒子、又は、セルロース系樹脂のナノファイバーであることが好ましく、ポリテトラフルオロエチレン粒子であることがより好ましい。
有機フィラーの平均粒径は、金属基板との密着性の観点から、5nm~20μmであることが好ましく、10nm~1μmであることがより好ましく、20nm~500nmであることが更に好ましく、25nm~90nmであることが特に好ましい。
A well-known organic filler can be used as an organic filler.
Examples of the material of the organic filler include polyethylene, polystyrene, urea-formalin filler, polyester, cellulose, acrylic resin, fluorine resin, cured epoxy resin, crosslinked benzoguanamine resin, crosslinked acrylic resin, crosslinked styrene, and two or more of these. material containing.
Further, the organic filler may be fibrous such as nanofibers, or may be hollow resin particles.
Among them, the organic filler is preferably fluororesin particles, polyester resin particles, or cellulose resin nanofibers from the viewpoint of adhesion to the metal substrate, and polytetrafluoroethylene particles. is more preferred.
The average particle size of the organic filler is preferably 5 nm to 20 μm, more preferably 10 nm to 1 μm, even more preferably 20 nm to 500 nm, further preferably 25 nm to 90 nm, from the viewpoint of adhesion to the metal substrate. is particularly preferred.

本開示に係るフィルムは、フィラーを1種のみ含んでいても、2種以上含んでいてもよい。
本開示に係るフィルムにおけるフィラーの含有量は、熱膨張係数、及び、金属基板との密着性の観点から、フィルムの全体積に対し、5質量%~80質量%であることが好ましく、10質量%~70質量%であることがより好ましく、20質量%~70質量%であることが更に好ましく、25質量%~60質量%であることが特に好ましい。
The film according to the present disclosure may contain only one type of filler, or may contain two or more types.
The content of the filler in the film according to the present disclosure is preferably 5% by mass to 80% by mass, based on the total volume of the film, from the viewpoint of the coefficient of thermal expansion and adhesion to the metal substrate, and 10% by mass. % to 70% by mass, more preferably 20% to 70% by mass, and particularly preferably 25% to 60% by mass.

-その他の添加剤-
本開示に係るフィルムは、その他の添加剤を含んでいてもよい。
その他の添加剤としては、公知の添加剤を用いることができる。具体的には、例えば、レベリング剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、着色剤等が挙げられる。
-Other additives-
Films according to the present disclosure may contain other additives.
As other additives, known additives can be used. Specific examples include leveling agents, antifoaming agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, flame retardants, colorants and the like.

また、その他の添加剤として、上述した成分以外の樹脂を含んでいてもよい。
上述した以外の樹脂の例としては、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエステル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル及びその変性物、ポリエーテルイミド等の熱可塑性樹脂;グリシジルメタクリレートとポリエチレンとの共重合体等のエラストマー;フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、シアネート樹脂等の熱硬化性樹脂が挙げられる。
Moreover, as other additives, resins other than the components described above may be included.
Examples of resins other than those mentioned above include thermoplastic resins such as cycloolefin polymers, polyamides, polyesters, polyphenylene sulfides, polyetherketones, polycarbonates, polyethersulfones, polyphenylene ethers and modified products thereof, and polyetherimides; Elastomers such as copolymers with polyethylene; and thermosetting resins such as phenol resins, epoxy resins, polyimide resins and cyanate resins.

その他の添加剤の総含有量は、ポリマーの含有量100質量部に対して、好ましくは25質量部以下であり、より好ましくは10質量部以下であり、更に好ましくは5質量部以下である。 The total content of other additives is preferably 25 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or less, and still more preferably 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polymer content.

<熱膨張係数>
本開示に係るフィルムの熱膨張係数は、熱安定性の観点から、-20ppm/K~50ppm/Kであることが好ましく、-10ppm/K~40ppm/Kであることがより好ましく、0ppm/K~35ppm/Kであることが更に好ましく、10ppm/K~30ppm/Kであることが特に好ましい。
<Thermal expansion coefficient>
From the viewpoint of thermal stability, the thermal expansion coefficient of the film according to the present disclosure is preferably −20 ppm/K to 50 ppm/K, more preferably −10 ppm/K to 40 ppm/K, and 0 ppm/K. ~35 ppm/K is more preferred, and 10 ppm/K to 30 ppm/K is particularly preferred.

本開示における熱膨張係数の測定方法は、以下の方法により測定するものとする。
熱機械分析装置(TMA)を用いて、幅5mm、長さ20mmのフィルムの両端に1gの引張荷重をかけ、5℃/分の速度で25℃~200℃まで昇温した後、2℃/分の速度で30℃まで冷却し、再び5℃/分の速度で昇温したときの、30℃~150℃の間のTMA曲線の傾きから熱膨張係数を算出する。なお、銅箔は、測定前に、塩化第二鉄で除去する。
The method for measuring the coefficient of thermal expansion in the present disclosure shall be measured by the following method.
Using a thermomechanical analyzer (TMA), a tensile load of 1 g was applied to both ends of a film with a width of 5 mm and a length of 20 mm, and the temperature was raised from 25 ° C. to 200 ° C. at a rate of 5 ° C./min, and then 2 ° C./ The thermal expansion coefficient is calculated from the slope of the TMA curve between 30° C. and 150° C. when the temperature is cooled to 30° C. at a rate of 5° C./min and the temperature is again raised at a rate of 5° C./min. The copper foil is removed with ferric chloride before measurement.

<弾性率>
本開示に係るフィルムの一方の表面の240℃における弾性率は、力学強度、及び、剥離時の破断故障抑制の観点から、100MPa以上であることが好ましく、300MPa以上であることがより好ましい。
また、本開示に係るフィルムの一方の表面の25℃における弾性率は、力学強度、及び、剥離時の破断故障抑制の観点から、100MPa以上であることが好ましい。
また、上記弾性率の範囲を満たす表面は、上記水接触角の差の範囲を満たす面、上記表面自由エネルギーの範囲を満たす面、又は、上記表面粗さRaの範囲を満たす面であることが好ましい。
<Elastic modulus>
The elastic modulus of one surface of the film according to the present disclosure at 240° C. is preferably 100 MPa or more, more preferably 300 MPa or more, from the viewpoint of mechanical strength and prevention of breakage failure during peeling.
In addition, the elastic modulus at 25° C. of one surface of the film according to the present disclosure is preferably 100 MPa or more from the viewpoint of mechanical strength and prevention of breakage failure during peeling.
In addition, the surface satisfying the range of elastic modulus may be a surface satisfying the range of difference in water contact angle, a surface satisfying the range of surface free energy, or a surface satisfying the range of surface roughness Ra. preferable.

本開示において、フィルム表面の弾性率は、以下の方法により測定するものとする。
フィルム表面の弾性率は、微小表面硬度計((株)フィッシャー・インスツルメンツ製「フィッシャースコープH100VP-HCU」)を用いて求める。具体的には、ダイヤモンド製の四角錐圧子(先端対面角度:136°)を使用し、押し込み深さが1μmを超えない範囲で、適当な試験荷重下での押し込み深さを240℃又は25℃において測定し、除荷重時の荷重と変位の変化から、貯蔵弾性率を算出する。
In the present disclosure, the elastic modulus of the film surface shall be measured by the following method.
The elastic modulus of the film surface is determined using a microsurface hardness tester (“Fisherscope H100VP-HCU” manufactured by Fisher Instruments Co., Ltd.). Specifically, using a diamond square pyramid indenter (tip facing angle: 136 °), the indentation depth under an appropriate test load is set to 240 ° C. or 25 ° C. , and the storage modulus is calculated from the change in load and displacement when the load is unloaded.

本開示に係るフィルムは、単層構造であってもよく、多層構造であってもよい。 A film according to the present disclosure may have a single-layer structure or a multi-layer structure.

本開示に係るフィルムの平均厚みは、強度、熱膨張係数、及び、金属箔又は金属配線との密着性の観点から、6μm~200μmであることが好ましく、12μm~100μmであることがより好ましく、20μm~60μmであることが特に好ましい。 The average thickness of the film according to the present disclosure is preferably 6 μm to 200 μm, more preferably 12 μm to 100 μm, from the viewpoint of strength, coefficient of thermal expansion, and adhesion to metal foil or metal wiring. 20 μm to 60 μm is particularly preferred.

ポリマーフィルムの平均厚みは、任意の5箇所について、接着式の膜厚計、例えば、電子マイクロメータ(製品名「KG3001A]、アンリツ社製)を用いて測定し、それらの平均値とする。 The average thickness of the polymer film is measured at any five locations using an adhesive film thickness gauge, for example, an electronic micrometer (product name “KG3001A”, manufactured by Anritsu Corporation), and the average value thereof is taken.

<用途>
本開示に係るフィルムは、種々の用途に用いることができる、中でも、プリント配線板などの電子部品用フィルムに好適に用いることができ、フレキシブルプリント回路基板により好適に用いることができる。
また、本開示に係るフィルムは、金属接着用フィルムとして好適に用いることができる。
<Application>
The film according to the present disclosure can be used for various purposes, and among others, it can be suitably used as a film for electronic parts such as printed wiring boards, and more suitably used as a flexible printed circuit board.
Moreover, the film according to the present disclosure can be suitably used as a metal adhesion film.

(フィルムの製造方法)
本開示に係るフィルムの製造方法は、液晶ポリマーを含むフィルムの表面を酸化させる酸化処理工程を含み、製造されたフィルムにおいて、25℃50%RHでの空中水滴法による水との接触角の、製造されたフィルムの内部と製造されたフィルムの一方の表面とにおける差が、7°以上である。
本開示に係るフィルムは、本開示に係るフィルムの製造方法により製造されたフィルムであることが好ましい。
(Film manufacturing method)
A method for producing a film according to the present disclosure includes an oxidation treatment step of oxidizing the surface of a film containing a liquid crystal polymer, and in the produced film, the contact angle with water by the water drop method at 25 ° C. 50% RH The difference between the inside of the produced film and one surface of the produced film is 7° or more.
The film according to the present disclosure is preferably a film produced by the method for producing a film according to the present disclosure.

本開示に係るフィルムの製造方法において、使用する各成分のうち上述した成分、並びに、得られるフィルムに含まれる各成分及び含有量の好ましい態様はそれぞれ、上述した本開示に係るフィルムにおける好ましい態様と同様である。
また、本開示に係るフィルムの製造方法において、使用する各成分の使用量は、上記本開示に係るフィルムにおける各成分の含有量の好ましい態様に対応する好ましい量と同様である。
本開示に係るフィルムの製造方法において、製造されたフィルムの好ましい各物性値はそれぞれ、上述した本開示に係るフィルムにおける好ましい態様と同様である。
In the method for producing a film according to the present disclosure, the above-described components among the components used, and the preferred aspects of each component and content contained in the resulting film are the above-described preferred aspects of the film according to the present disclosure. It is the same.
In addition, in the method for producing a film according to the present disclosure, the amount of each component used is the same as the preferred amount corresponding to the preferable aspect of the content of each component in the film according to the present disclosure.
In the method for producing a film according to the present disclosure, each preferred physical property value of the produced film is the same as the preferred embodiment of the film according to the present disclosure described above.

<酸化処理工程>
本開示に係るフィルムの製造方法は、液晶ポリマーを含むフィルムの表面を酸化させる酸化処理工程を含むことが好ましい。
酸化処理工程においては、酸化剤を用いて上記フィルムの表面を酸化させる工程であることが好ましく、水溶液中で上記フィルムの表面と酸化剤とを接触させて、上記フィルムの少なくとも一方の表面を酸化させる工程であることがより好ましい。
また、液晶ポリマーを含むフィルムの両面を酸化させる工程であることが好ましい。
上記水溶液のpHは、酸化可能であれば特に制限はないが、8以上が好ましく、12以上がより好ましく、13以上が更に好ましい。
上記水溶液のpHの上限に制限はなく、例えば、14である。
<Oxidation treatment process>
The method for producing a film according to the present disclosure preferably includes an oxidation treatment step of oxidizing the surface of the film containing the liquid crystal polymer.
The oxidation treatment step is preferably a step of oxidizing the surface of the film using an oxidizing agent, and the surface of the film is brought into contact with the oxidizing agent in an aqueous solution to oxidize at least one surface of the film. It is more preferable to be a step of allowing
Moreover, it is preferable to oxidize both sides of the film containing the liquid crystal polymer.
The pH of the aqueous solution is not particularly limited as long as it can be oxidized, but is preferably 8 or higher, more preferably 12 or higher, and even more preferably 13 or higher.
The upper limit of the pH of the aqueous solution is not limited, and is 14, for example.

上記水溶液中で、フィルムの表面と酸化剤とを接触させる時間は、1分~24時間が好ましく、3分~5時間がより好ましく、5分~3時間が更に好ましい。
また、フィルムの表面と酸化剤とを接触させる際の上記水溶液の温度は、1℃~95℃が好ましく、25℃~80℃がより好ましく、45℃~65℃が更に好ましい。
The time for contacting the surface of the film with the oxidizing agent in the aqueous solution is preferably 1 minute to 24 hours, more preferably 3 minutes to 5 hours, and even more preferably 5 minutes to 3 hours.
The temperature of the aqueous solution when the surface of the film is brought into contact with the oxidizing agent is preferably 1°C to 95°C, more preferably 25°C to 80°C, and even more preferably 45°C to 65°C.

上記水溶液中で、フィルムの表面と酸化剤とを接触させる方法に制限はなく、例えば、酸化剤水溶液にフィルムを浸漬させる方法が挙げられる。 The method of bringing the surface of the film into contact with the oxidizing agent in the above aqueous solution is not particularly limited, and examples thereof include a method of immersing the film in the oxidizing agent aqueous solution.

上記水溶液中で、フィルムの表面と酸化剤とを接触させた後、得られたフィルムを上記水溶液中から取り出すことが好ましい。
得られたフィルムを、水、有機溶媒等で洗浄することも好ましい。
After bringing the surface of the film into contact with the oxidizing agent in the aqueous solution, it is preferable to remove the obtained film from the aqueous solution.
It is also preferable to wash the obtained film with water, an organic solvent, or the like.

-酸化剤-
上記酸化処理工程においては、酸化剤を用いることが好ましい。
上記水溶液は、酸化剤を含むことが好ましい。
酸化剤としては、制限はなく、例えば、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、及び、過硫酸アンモニウムのような過硫酸塩;硝酸セリウムアンモニウム、硝酸ナトリウム、及び、硝酸アンモニウムのような硝酸塩;過酸化水素、及び、tert-ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物;過マンガン酸カリウム、二酸化マンガンのようなマンガン化合物;クロム酸カリウム、二クロム酸カリウムのようなクロム化合物;過ヨウ素酸カリウム、及び、過ヨウ素酸ナトリウムのような超原子価ヨウ素化合物;p-ベンゾキノン、1,2-ナフトキノン、アントラキノン、及び、クロラニルのようなキノン化合物;N-メチルモルホリンN-オキシドのようなアミンオキシド化合物、次亜塩素酸ナトリウム、及び、亜塩素酸ナトリウムのようなハロゲンオキソ酸の塩、並びに、ペルオキシ一硫酸カリウム・硫酸水素カリウム・硫酸カリウムからなる複塩(デュポン社製OXONE)等が挙げられる。
中でも酸化剤は、酸化性、分散性、及び、引張強度の観点から、過硫酸塩を含むことが好ましく、過硫酸塩であることがより好ましい。
また、酸化剤としては、酸化性の観点から、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素、過マンガン酸カリウム、次亜塩素酸ナトリウム、硝酸アンモニウムセリウム、クロム酸カリウム、二クロム酸カリウム、及び、ペルオキシ一硫酸カリウム・硫酸水素カリウム・硫酸カリウムからなる複塩よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含むことが好ましく、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素、次亜塩素酸ナトリウム、硝酸アンモニウムセリウム、及び、ペルオキシ一硫酸カリウム・硫酸水素カリウム・硫酸カリウムからなる複塩よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含むことがより好ましく、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、及び、過硫酸アンモニウムよりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含むことが特に好ましい。
-Oxidant-
It is preferable to use an oxidizing agent in the oxidation treatment step.
The aqueous solution preferably contains an oxidizing agent.
The oxidizing agent is without limitation, for example persulfates such as sodium persulfate, potassium persulfate and ammonium persulfate; nitrates such as ceric ammonium nitrate, sodium nitrate and ammonium nitrate; hydrogen peroxide and Manganese compounds such as potassium permanganate and manganese dioxide; Chromium compounds such as potassium chromate and potassium dichromate; Potassium periodate and periodic acid. hypervalent iodine compounds such as sodium; quinone compounds such as p-benzoquinone, 1,2-naphthoquinone, anthraquinone and chloranil; amine oxide compounds such as N-methylmorpholine N-oxide, sodium hypochlorite , salts of halogen oxoacids such as sodium chlorite, and double salts composed of potassium peroxymonosulfate, potassium hydrogensulfate and potassium sulfate (OXONE manufactured by DuPont).
Among them, the oxidizing agent preferably contains a persulfate, more preferably a persulfate, from the viewpoint of oxidizing property, dispersibility and tensile strength.
As the oxidizing agent, sodium persulfate, potassium persulfate, ammonium persulfate, hydrogen peroxide, potassium permanganate, sodium hypochlorite, ammonium cerium nitrate, potassium chromate, potassium dichromate, from the viewpoint of oxidation. , and preferably contains at least one compound selected from the group consisting of double salts consisting of potassium peroxymonosulfate, potassium hydrogensulfate and potassium sulfate, sodium persulfate, potassium persulfate, ammonium persulfate, hydrogen peroxide, It is more preferable to contain at least one compound selected from the group consisting of sodium hypochlorite, ammonium cerium nitrate, and a double salt consisting of potassium peroxymonosulfate, potassium hydrogensulfate, and potassium sulfate, sodium persulfate, persulfate It is particularly preferable to contain at least one compound selected from the group consisting of potassium and ammonium persulfate.

また、酸化剤の作用を補助するために、酸化剤とは別に触媒を使用してもよい。上記触媒としては、例えば、二価の鉄化合物(FeSO等)、及び、三価の鉄化合物が挙げられる。
なお、酸化剤及び触媒はそれぞれ、水和物であってもよい。
In addition, a catalyst may be used separately from the oxidant to assist the action of the oxidant. Examples of the catalyst include divalent iron compounds (such as FeSO 4 ) and trivalent iron compounds.
Note that the oxidizing agent and the catalyst may each be a hydrate.

また、酸化剤の標準酸化還元電位は、酸化性の観点から、0.30V以上であることが好ましく、1.50V以上であることがより好ましく、1.70以上であることが更に好ましい。酸化剤の標準酸化還元電位の上限は、特に制限はなく、例えば、4.00V以下であることが好ましく、2.50V以下であることがより好ましい。
上記標準酸化還元電位は、標準水素電極を基準とする。
In addition, the standard oxidation-reduction potential of the oxidizing agent is preferably 0.30 V or higher, more preferably 1.50 V or higher, and even more preferably 1.70 or higher, from the viewpoint of oxidizing properties. The upper limit of the standard oxidation-reduction potential of the oxidizing agent is not particularly limited. For example, it is preferably 4.00 V or less, more preferably 2.50 V or less.
The above standard oxidation-reduction potential is based on a standard hydrogen electrode.

上記水溶液中、酸化剤の含有量は、上記水溶液における水100質量部に対して、0.05質量部~20質量部が好ましく、0.1質量部~20質量部がより好ましく、1質量部~20質量部が特に好ましい。
酸化剤は、一種単独で使用してもよく、二種以上を使用してもよい。
上記水溶液が触媒を含む場合、その酸化剤の含有量は、上記水溶液における水100質量部に対して、0.005質量部~20質量部が好ましく、0.01質量部~10質量部がより好ましく、0.1質量部~2質量部が更に好ましい。
触媒は、一種単独で使用してもよく、二種以上を使用してもよい。
The content of the oxidizing agent in the aqueous solution is preferably 0.05 parts by mass to 20 parts by mass, more preferably 0.1 part by mass to 20 parts by mass, and 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of water in the aqueous solution. ~20 parts by weight is particularly preferred.
The oxidizing agents may be used singly or in combination of two or more.
When the aqueous solution contains a catalyst, the content of the oxidizing agent is preferably 0.005 parts by mass to 20 parts by mass, more preferably 0.01 parts by mass to 10 parts by mass, relative to 100 parts by mass of water in the aqueous solution. Preferably, 0.1 to 2 parts by mass is more preferable.
A catalyst may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types.

-アルカリ性化合物-
上記水溶液は、上記水溶液のpHを調製するために、上述の成分以外にアルカリ性化合物を含むことも好ましい。
上記アルカリ性化合物としては、例えば、アルカリ金属水酸化物(水酸化ナトリウム等)、及び、アルカリ土類金属水酸化物のような無機塩基;並びに、有機塩基が挙げられる。中でも、アルカリ金属水酸化物が好ましい。
上記水溶液中、アルカリ性化合物の含有量は、上記水溶液のpHを所望の温度に調整できるように適宜調整すればよく、例えば、上記水溶液における水100質量部に対して、0.1質量部~10質量部であることが好ましい。
-Alkaline compound-
In order to adjust the pH of the aqueous solution, the aqueous solution preferably contains an alkaline compound in addition to the components described above.
Examples of the alkaline compound include inorganic bases such as alkali metal hydroxides (sodium hydroxide, etc.) and alkaline earth metal hydroxides; and organic bases. Among them, alkali metal hydroxides are preferred.
The content of the alkaline compound in the aqueous solution may be adjusted as appropriate so that the pH of the aqueous solution can be adjusted to a desired temperature. Parts by mass are preferred.

<形成工程>
本開示に係るフィルムの製造方法は、液晶ポリマーと、溶媒とが含まれる組成物を基材上に塗布し乾燥することによりフィルムを形成する形成工程を含むことが好ましい。
フィルムの形状に形成する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を参照することができ、例えば、流延法、塗布法、押出法等が好適に挙げられ、中でも、流延法が特に好ましい。また、上記フィルムが、多層構造を有する場合には、例えば、共流延法、重層塗布法、共押出法等が好適に挙げられる。中でも、比較的薄手の製膜には共流延法が特に好ましく、厚手の製膜には共押出法が特に好ましい。
フィルムにおける多層構造を共流延法及び重層塗布法により製造する場合、液晶ポリマー等の各層の成分をそれぞれ溶媒に溶解又は分散した層A形成用組成物、層B形成用組成物等を用いて、共流延法又は重層塗布法を行うことが好ましい。
<Formation process>
A method for producing a film according to the present disclosure preferably includes a forming step of applying a composition containing a liquid crystal polymer and a solvent onto a substrate and drying the composition to form a film.
The method for forming the film into a shape is not particularly limited, and known methods can be referred to. Preferred examples include casting, coating, extrusion, and the like, and casting is particularly preferred. preferable. Moreover, when the film has a multilayer structure, for example, a co-casting method, a multi-layer coating method, a co-extrusion method, and the like can be preferably used. Among them, the co-casting method is particularly preferable for forming a relatively thin film, and the co-extrusion method is particularly preferable for forming a thick film.
When a multilayer structure in a film is produced by a co-casting method and a multi-layer coating method, a layer A-forming composition, a layer B-forming composition, etc. in which each layer component such as a liquid crystal polymer is dissolved or dispersed in a solvent is used. , a co-casting method or a multi-layer coating method is preferably performed.

溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、1,1-ジクロロエタン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2,2-テトラクロロエタン、1-クロロブタン、クロロベンゼン、o-ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素;p-クロロフェノール、ペンタクロロフェノール、ペンタフルオロフェノール等のハロゲン化フェノール;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル;アセトン、シクロヘキサノン等のケトン;酢酸エチル、γ-ブチロラクトン等のエステル;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート;トリエチルアミン等のアミン;ピリジン等の含窒素複素環芳香族化合物;アセトニトリル、スクシノニトリル等のニトリル;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド、テトラメチル尿素等の尿素化合物;ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物;ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物;ヘキサメチルリン酸アミド、トリn-ブチルリン酸等のリン化合物等が挙げられ、それらを2種以上用いてもよい。 Examples of solvents include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, 1,1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane, 1,1,2,2-tetrachloroethane, 1-chlorobutane, chlorobenzene and o-dichlorobenzene; Halogenated phenols such as p-chlorophenol, pentachlorophenol, pentafluorophenol; ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane; ketones such as acetone and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate and γ-butyrolactone; Carbonates such as carbonate and propylene carbonate; Amines such as triethylamine; Nitrogen-containing heterocyclic aromatic compounds such as pyridine; Nitriles such as acetonitrile and succinonitrile; N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methyl amides such as pyrrolidone; urea compounds such as tetramethylurea; nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene; sulfur compounds such as dimethylsulfoxide and sulfolane; You may use 2 or more types of them.

溶媒としては、腐食性が低く、取り扱い易いことから、非プロトン性化合物、特にハロゲン原子を有しない非プロトン性化合物を主成分とする溶媒が好ましく、溶媒全体に占める非プロトン性化合物の割合は、好ましくは50質量%~100質量%、より好ましくは70質量%~100質量%、特に好ましくは90質量%~100質量%である。また、上記非プロトン性化合物としては、液晶ポリマーを溶解し易いことから、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、テトラメチル尿素、N-メチルピロリドン等のアミド又はγ-ブチロラクトン等のエステルを用いることが好ましく、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、及びN-メチルピロリドンがより好ましい。 As the solvent, it is preferable to use a solvent mainly composed of an aprotic compound, particularly an aprotic compound having no halogen atom, because of its low corrosiveness and ease of handling. It is preferably 50% by mass to 100% by mass, more preferably 70% by mass to 100% by mass, and particularly preferably 90% by mass to 100% by mass. Further, as the aprotic compound, amides such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, etc., or γ-butyrolactone, etc., can be used because they easily dissolve the liquid crystal polymer. Esters are preferably used, more preferably N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone.

また、溶媒としては、液晶ポリマーを溶解し易いことから、双極子モーメントが3~5である化合物を主成分とする溶媒が好ましく、溶媒全体に占める双極子モーメントが3~5である化合物の割合は、好ましくは50質量%~100質量%、より好ましくは70質量%~100質量%、特に好ましくは90質量%~100質量%である。
上記非プロトン性化合物として、双極子モーメントが3~5である化合物を用いることが好ましい。
As the solvent, a solvent mainly composed of a compound having a dipole moment of 3 to 5 is preferable because it easily dissolves the liquid crystal polymer. The proportion of the compound having a dipole moment of 3 to 5 in the total solvent is preferably 50% to 100% by mass, more preferably 70% to 100% by mass, and particularly preferably 90% to 100% by mass.
A compound having a dipole moment of 3 to 5 is preferably used as the aprotic compound.

また、溶媒としては、除去し易いことから、1気圧における沸点が220℃以下である化合物を主成分とするとする溶媒が好ましく、溶媒全体に占める1気圧における沸点が220℃以下である化合物の割合は、好ましくは50質量%~100質量%、より好ましくは70質量%~100質量%、特に好ましくは90質量%~100質量%である。
上記非プロトン性化合物として、1気圧における沸点が220℃以下である化合物を用いることが好ましい。
As the solvent, it is preferable to use a solvent mainly composed of a compound having a boiling point of 220° C. or lower at 1 atm because it is easy to remove. is preferably 50% to 100% by mass, more preferably 70% to 100% by mass, and particularly preferably 90% to 100% by mass.
As the aprotic compound, it is preferable to use a compound having a boiling point of 220° C. or lower at 1 atm.

また、上記フィルムの製造方法は、上記流延法、共流延法、塗布法、重層塗布法、押出法、及び共押出法等により製造する場合、支持体を使用してもよい。また、後述する積層体に用いる金属層(金属箔)等を支持体として使用する場合、剥離せずそのまま使用してもよい。
支持体としては、例えば、金属ドラム、金属バンド、ガラス板、樹脂フィルム又は金属箔が挙げられる。中でも、金属ドラム、金属バンド、樹脂フィルムが好ましい。
樹脂フィルムとしては、例えばポリイミド(PI)フィルムを挙げることができ、市販品の例としては、宇部興産(株)製U-ピレックスS及びU-ピレックスR、東レデュポン(株)製カプトン、並びに、SKCコーロンPI社製IF30、IF70及びLV300等が挙げられる。
また、支持体は、容易に剥離できるように、表面に表面処理層が形成されていてもよい。表面処理層は、ハードクロムメッキ、フッ素樹脂等を用いることができる。
樹脂フィルム支持体の平均厚みは、特に制限はないが、好ましくは25μm以上75μm以下であり、より好ましくは50μm以上75μmである。
Further, when the film is produced by the casting method, the co-casting method, the coating method, the multi-layer coating method, the extrusion method, the co-extrusion method, or the like, a support may be used. In addition, when a metal layer (metal foil) or the like used in a laminate to be described later is used as a support, it may be used as it is without being peeled off.
Examples of the support include metal drums, metal bands, glass plates, resin films, and metal foils. Among them, metal drums, metal bands, and resin films are preferred.
Examples of resin films include polyimide (PI) films, and examples of commercially available products include U-Pyrex S and U-Pyrex R manufactured by Ube Industries, Ltd., Kapton manufactured by DuPont Toray Co., Ltd., and IF30, IF70 and LV300 manufactured by SKC Kolon PI, and the like.
Further, the support may have a surface-treated layer formed thereon so that it can be easily peeled off. Hard chrome plating, fluorine resin, or the like can be used for the surface treatment layer.
The average thickness of the resin film support is not particularly limited, but is preferably 25 μm or more and 75 μm or less, more preferably 50 μm or more and 75 μm.

また、流延、又は、塗布された膜状の組成物(流延膜又は塗膜)から溶媒の少なくとも一部を除去する方法としては、特に制限はなく、公知の乾燥方法を用いることができる。 The method for removing at least part of the solvent from the cast or coated film composition (cast film or coating film) is not particularly limited, and a known drying method can be used. .

<延伸工程>
本開示に係るフィルムの製造方法は、上記フィルムを延伸する延伸工程を含むことが好ましく、形成工程と酸化処理工程との間に、上記フィルムを延伸する延伸工程を含むことがより好ましい。
本開示に係るフィルムの製造方法においては、得られるフィルムの分子配向を制御し、線膨張係数や力学物性を調整する観点で、適宜、延伸を組み合わせることができる。延伸の方法は、特に制限はなく、公知の方法を参照することができ、溶媒を含んだ状態で実施してもよく、乾膜の状態で実施してもよい。溶媒を含んだ状態での延伸は、フィルムを把持して伸長してもよく、伸長せずに乾燥によるウェブの自己収縮力を利用して実施してもよく、それらの組み合わせでもよい。延伸は、無機フィラー等の添加によってフィルム脆性が低下した場合に、破断伸度や破断強度を改善する目的で特に有効である。
<Stretching process>
The method for producing a film according to the present disclosure preferably includes a stretching step of stretching the film, and more preferably includes a stretching step of stretching the film between the forming step and the oxidation treatment step.
In the method for producing a film according to the present disclosure, stretching can be combined as appropriate from the viewpoint of controlling the molecular orientation of the resulting film and adjusting the coefficient of linear expansion and mechanical properties. The stretching method is not particularly limited, and known methods can be referred to, and it may be carried out in a solvent-containing state or in a dry film state. Stretching in a solvent-containing state may be performed by gripping and stretching the film, by utilizing the self-shrinking force of the web due to drying without stretching, or by a combination thereof. Stretching is particularly effective for the purpose of improving the elongation at break and the strength at break when the brittleness of the film is reduced by the addition of an inorganic filler or the like.

<加熱工程>
本開示に係るフィルムの製造方法は、上記フィルムを加熱する加熱工程を含んでいてもよい。加熱工程は、酸化処理工程の前であっても、後であってもよい。
加熱工程を行うことにより、フィルム中にて液晶ポリマーの結晶化が進行し、フィルムの誘電正接を低くすることができると推定している。
本開示に係るフィルムの製造方法では、フィルムの加熱開始時において、溶存酸素量が500ppm以下であることが好ましく、300ppm以下であることがより好ましい。溶存酸素量が上記範囲であると、誘電正接のより低いフィルムが得られる。
なお、上記加熱開始時とは、フィルムに対して熱の付与を開始した時点のことをいう。
<Heating process>
A method for manufacturing a film according to the present disclosure may include a heating step of heating the film. The heating step may be performed before or after the oxidation treatment step.
It is presumed that the heating process promotes crystallization of the liquid crystal polymer in the film, and lowers the dielectric loss tangent of the film.
In the film manufacturing method according to the present disclosure, the dissolved oxygen content is preferably 500 ppm or less, more preferably 300 ppm or less, at the start of heating the film. When the dissolved oxygen content is within the above range, a film with a lower dielectric loss tangent can be obtained.
The term "at the start of heating" refers to the time at which application of heat to the film is started.

本開示において、溶存酸素量は、溶存酸素計を用いて測定され、例えば、ハック・ウルトラ社製のポータブル酸素アナライザー「ORBISPHERE 3650」を用いて測定される。 In the present disclosure, the dissolved oxygen content is measured using a dissolved oxygen meter, for example, using a portable oxygen analyzer "ORBISPHERE 3650" manufactured by Huck Ultra.

加熱工程における加熱温度は、100℃~400℃であることが好ましい。また、加熱時間は0.1分~10時間であることが好ましい。加熱温度及び加熱時間は、ポリマーの種類に応じて適宜変更することができ、触媒の添加等の別の手段によって、低温化又は短時間化することもできる。 The heating temperature in the heating step is preferably 100°C to 400°C. Also, the heating time is preferably 0.1 minute to 10 hours. The heating temperature and heating time can be appropriately changed according to the type of polymer, and the temperature can be lowered or shortened by another means such as adding a catalyst.

加熱工程は、不活性ガス雰囲気下で実施されてもよく、酸素を含む雰囲気下で実施されてもよい。製造効率の観点からは、加熱工程は、酸素濃度が500ppm以上の雰囲気下で実施されることが好ましく、大気(空気)雰囲気下で実施されることがより好ましい。 The heating step may be performed under an inert gas atmosphere, or may be performed under an oxygen-containing atmosphere. From the viewpoint of production efficiency, the heating step is preferably performed in an atmosphere with an oxygen concentration of 500 ppm or more, and more preferably in an atmospheric (air) atmosphere.

<巻き取り工程>
本開示に係るフィルムの製造方法は、上記フィルムをロール状に巻き取る巻き取り工程を含むことが好ましく、形成工程の後、かつ加熱工程の前に、上記フィルムをロール状に巻き取る巻き取り工程を含むことがより好ましい。
ロール状に巻き取る工程は、窒素雰囲気下で実施されることが好ましい。窒素雰囲気下で実施することにより、フィルムの加熱開始時において、フィルム中の溶存酸素量をより低下させることができる。
<Winding process>
The method for producing a film according to the present disclosure preferably includes a winding step of winding the film into a roll, and a winding step of winding the film into a roll after the forming step and before the heating step. It is more preferable to include
The step of winding into a roll is preferably carried out under a nitrogen atmosphere. By carrying out the heating in a nitrogen atmosphere, the amount of dissolved oxygen in the film can be further reduced at the start of heating the film.

<巻き出し工程>
本開示に係るフィルムの製造方法は、上記巻き取り工程後に、ロール状のフィルムを巻き出す巻き出し工程を含むことが好ましい。
また、上記巻き出し工程での上記フィルムを巻き出す際の剥離力が、1.0kN/m以下であることが好ましい。
<Unwinding process>
The method for producing a film according to the present disclosure preferably includes an unwinding step of unwinding the roll-shaped film after the winding step.
Moreover, it is preferable that the peeling force when unwinding the film in the unwinding step is 1.0 kN/m or less.

<剥離工程>
本開示に係るフィルムの製造方法は、形成工程後、又は、加熱工程後、かつ酸化処理工程前に、上記基材より、上記フィルムを剥離する剥離工程を含むことが好ましく、形成工程後、上記基材より、上記フィルムを剥離する剥離工程を含むことがより好ましく、形成工程の後、かつ加熱工程の前に、上記基材より、上記フィルムを剥離する剥離工程を含むことが特に好ましい。基材からフィルムを剥離することにより、フィルムとして得られ、他の用途へ適用することができる。
<Peeling process>
The method for producing a film according to the present disclosure preferably includes a peeling step of peeling the film from the substrate after the forming step or after the heating step and before the oxidation treatment step. It is more preferable to include a peeling step of peeling the film from the substrate, and it is particularly preferable to include a peeling step of peeling the film from the substrate after the forming step and before the heating step. By peeling the film from the substrate, the film can be obtained and applied to other uses.

<その他の工程>
本開示に係るフィルムの製造方法は、上述した以外のその他工程を含んでいてもよい。
その他の工程としては、公知の工程を含むことができる。
<Other processes>
The method for manufacturing a film according to the present disclosure may include other processes than those described above.
Other steps may include known steps.

(積層フィルム)
本開示に係る積層フィルムは、層Aと、上記層Aの少なくとも一方の表面に層Bを有し、上記層Aが、本開示に係るフィルムである。
(Laminated film)
The laminated film according to the present disclosure has a layer A and a layer B on at least one surface of the layer A, and the layer A is the film according to the present disclosure.

層Bの140℃における弾性率は、配線追従性を向上させ、かつ、配線歪みをより抑制する観点から、0.1MPa以下であることが好ましく、0.08MPa以下であることがより好ましい。上記弾性率の下限値は特に限定されず、例えば、0.0001MPaである。 The elastic modulus of the layer B at 140° C. is preferably 0.1 MPa or less, more preferably 0.08 MPa or less, from the viewpoint of improving wiring followability and further suppressing wiring strain. The lower limit of the elastic modulus is not particularly limited, and is, for example, 0.0001 MPa.

層Bは、ポリマーを含むことが好ましい。
層Bに含まれるポリマーとしては、例えば、液晶ポリマー、フッ素系ポリマー、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和結合を有する基とを有する化合物の重合物、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリエステル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル及びその変性物、ポリエーテルイミド等の熱可塑性ポリマー;グリシジルメタクリレートとポリエチレンとの共重合体等のエラストマー;フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、シアネート樹脂等の熱硬化性ポリマーが挙げられる。
Layer B preferably comprises a polymer.
Examples of polymers contained in layer B include liquid crystal polymers, fluorine-based polymers, polymers of compounds having a cycloaliphatic hydrocarbon group and a group having an ethylenically unsaturated bond, polyether ether ketones, polyolefins, polyamides, Thermoplastic polymers such as polyesters, polyphenylene sulfides, polyetherketones, polycarbonates, polyethersulfones, polyphenylene ethers and modified products thereof, and polyetherimides; elastomers such as copolymers of glycidyl methacrylate and polyethylene; phenolic resins, epoxy resins, Thermosetting polymers such as polyimide resins and cyanate resins can be used.

中でも、誘電正接の観点から、層Bは、熱可塑性ポリマーを含むことが好ましい。また、熱可塑性ポリマーは、液晶ポリマーであることが好ましい。
なお、本開示において、熱可塑性ポリマーとは、融点まで加熱すると軟化するポリマーを意味する。
Above all, from the viewpoint of dielectric loss tangent, the layer B preferably contains a thermoplastic polymer. Also, the thermoplastic polymer is preferably a liquid crystal polymer.
In the present disclosure, a thermoplastic polymer means a polymer that softens when heated to its melting point.

層Bは、誘電正接が0.006以下であることが好ましく、0を超え0.003以下であることがより好ましい。 Layer B preferably has a dielectric loss tangent of 0.006 or less, more preferably more than 0 and 0.003 or less.

ポリマーの含有量は、層Bの全質量に対して、10質量%以上であることが好ましく、50質量%以上であることがより好ましい。ポリマーの含有量の上限値は特に限定されず、100質量%であってもよい。 The polymer content is preferably 10% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, relative to the total mass of Layer B. The upper limit of the polymer content is not particularly limited, and may be 100% by mass.

層Bの平均厚みは特に限定されないが、0.1μm~10μmであることが好ましく、1μm~5μmであることがより好ましい。 Although the average thickness of the layer B is not particularly limited, it is preferably 0.1 μm to 10 μm, more preferably 1 μm to 5 μm.

本開示に係るフィルムにおける各層の平均厚みは、以下の方法を用いて測定される。
配線基板をミクロトームで切削し、断面を光学顕微鏡で観察して、各層の厚みを評価する。断面サンプルは3ヶ所以上切り出し、各断面において、3点以上厚みを測定し、それらの平均値を平均厚みとする。
The average thickness of each layer in the films of the present disclosure is measured using the following method.
The wiring board is cut with a microtome, and the cross section is observed with an optical microscope to evaluate the thickness of each layer. Three or more cross-sectional samples are cut out, the thickness is measured at three or more points in each cross section, and the average value thereof is taken as the average thickness.

層A及び層Bはそれぞれ独立に、その他の添加剤を含んでいてもよい。
層A又は層Bに用いられるその他の添加剤の好ましい態様は、上述したその他の添加剤の好ましい態様と同様である。
Layer A and layer B may each independently contain other additives.
Preferred embodiments of other additives used in Layer A or Layer B are the same as the preferred embodiments of other additives described above.

(積層体)
本開示に係る積層体は、本開示に係るフィルムが積層したものであればよいが、本開示に係るフィルムの一方の表面、又は、本開示に係る積層フィルムの層B側の表面に、金属基板を有する積層体であることが好ましく、本開示に係るフィルムの一方の表面、又は、本開示に係る積層フィルムのいずれかの表面に、官能基を有する化合物を含む樹脂層と、金属基板とを有し、上記官能基が、エポキシ基、オキセタニル基、イソシアネート基、酸無水物基、カルボジイミド基、N-ヒドロキシエステル基、グリオキサール基、イミドエステル基、ハロゲン化アルキル基、及び、チオール基のいずれか1つ以上を含む積層体であることがより好ましい。
また、上記フィルムにおける金属基板が配置された面は、上記表面自由エネルギーの範囲を満たす面であるか、上記表面被覆率の範囲を満たす面であるか、又は、上記表面自由エネルギーの範囲及び上記表面被覆率の範囲を満たす面であることが好ましい。
(Laminate)
The laminate according to the present disclosure may be obtained by laminating the film according to the present disclosure, but a metal It is preferably a laminate having a substrate, and a resin layer containing a compound having a functional group and a metal substrate on one surface of the film according to the present disclosure or on either surface of the laminated film according to the present disclosure. and the functional group is an epoxy group, an oxetanyl group, an isocyanate group, an acid anhydride group, a carbodiimide group, an N-hydroxyester group, a glyoxal group, an imidoester group, a halogenated alkyl group, or a thiol group It is more preferable to be a laminate containing one or more of
In addition, the surface of the film on which the metal substrate is arranged is a surface that satisfies the range of surface free energy, a surface that satisfies the range of surface coverage, or a surface that satisfies the range of surface free energy and A surface that satisfies the range of surface coverage is preferred.

上記金属基板のフィルム側表面の表面粗さRzが、2.0μm以下であることが好ましく、1.0μm以下であることがより好ましく、0.5μm以下であることが特に好ましい。上記範囲であると、フィルムと金属基板との界面における表面抵抗が低下する。 The surface roughness Rz of the film-side surface of the metal substrate is preferably 2.0 μm or less, more preferably 1.0 μm or less, and particularly preferably 0.5 μm or less. Within the above range, the surface resistance at the interface between the film and the metal substrate is lowered.

本開示において「表面粗さRz」とは、基準長さにおける粗さ曲線で観察される山の高さの最大値と谷の深さの最大値との合計値をナノメートルで表した値を意味する。
本開示において、金属基板のフィルム側表面の表面粗さRzは、以下の方法により測定するものとする。
非接触表面・層断面形状計測システムVertScan((株)菱化システム製)を用い、縦465.48μm、横620.64μm四方を測定して、測定対象物(液晶ポリマーフィルム)の表面における粗さ曲線及び上記粗さ曲線の平均線を作成する。粗さ曲線から基準長さに相当する部分を抜き取る。抜き出した粗さ曲線で観察される山の高さ(すなわち、平均線から山頂までの高さ)の最大値と谷の深さ(すなわち、平均線から谷底までの高さ)の最大値との合計値を求めることで、測定対象物の表面粗さRzを測定する。
In the present disclosure, the “surface roughness Rz” is the total value of the maximum peak height and the maximum valley depth observed in the roughness curve at the reference length, expressed in nanometers. means.
In the present disclosure, the surface roughness Rz of the film-side surface of the metal substrate shall be measured by the following method.
Using a non-contact surface/layer cross-sectional shape measurement system VertScan (manufactured by Ryoka System Co., Ltd.), measure a square of 465.48 μm in length and 620.64 μm in width, and measure the surface roughness of the measurement object (liquid crystal polymer film). Create a curve and an average line of the roughness curve. A portion corresponding to the reference length is extracted from the roughness curve. The maximum value of the peak height (i.e., the height from the mean line to the peak) and the maximum value of the valley depth (i.e., the height from the mean line to the bottom of the valley) observed in the extracted roughness curve By obtaining the total value, the surface roughness Rz of the object to be measured is measured.

上記金属基板は、表面に金属層又は金属配線を有することが好ましく、表面に銅層又は銅配線を有することがより好ましい。
上記金属基板、金属層及び金属配線は、特に制限はなく、公知の金属基板、金属層及び金属配線であればよい。金属層及び金属配線としては、例えば、銀層、銀配線、銅層又は銅配線であることが好ましく、銅層又は銅配線であることがより好ましい。
また、上記金属基板は、金属配線を有することが好ましい。
更に、上記金属層及び金属配線における金属は、銀、又は、銅であることが好ましく、銅であることがより好ましい。
The metal substrate preferably has a metal layer or metal wiring on the surface, and more preferably has a copper layer or copper wiring on the surface.
The metal substrate, metal layer and metal wiring are not particularly limited as long as they are known metal substrates, metal layers and metal wiring. The metal layer and metal wiring are preferably, for example, silver layers, silver wiring, copper layers or copper wiring, and more preferably copper layers or copper wiring.
Moreover, it is preferable that the said metal substrate has metal wiring.
Furthermore, the metal in the metal layer and metal wiring is preferably silver or copper, more preferably copper.

本開示に係るフィルムと金属基板とを貼り付ける方法としては、特に制限はなく、公知のラミネート方法を用いることができる。 The method for attaching the film according to the present disclosure and the metal substrate is not particularly limited, and a known lamination method can be used.

上記フィルムと上記銅層との剥離強度は、0.5kN/m以上であることが好ましく、0.7kN/m以上であることがより好ましく、0.7kN/m~2.0kN/mであることが更に好ましく、0.9kN/m~1.5kN/mであることが特に好ましい。 The peel strength between the film and the copper layer is preferably 0.5 kN/m or more, more preferably 0.7 kN/m or more, and is 0.7 kN/m to 2.0 kN/m. is more preferable, and 0.9 kN/m to 1.5 kN/m is particularly preferable.

本開示において、フィルムと金属層(例えば、銅層)との剥離強度は、以下の方法により測定するものとする。
フィルムと金属層との積層体から1.0cm幅の剥離用試験片を作製し、フィルムを両面接着テープで平板に固定し、JIS C 5016(1994)に準じて90°法により、50mm/分の速度で金属層からフィルムを剥離したときの強度(kN/m)を測定する。
In the present disclosure, the peel strength between a film and a metal layer (eg, copper layer) shall be measured by the following method.
A 1.0 cm wide peeling test piece was prepared from the laminate of the film and the metal layer, the film was fixed to a flat plate with double-sided adhesive tape, and the speed was 50 mm / min by the 90 ° method according to JIS C 5016 (1994). The strength (kN/m) is measured when the film is peeled from the metal layer at a speed of .

金属層は、銀層又は銅層であることが好ましく、銅層であることがより好ましい。銅層としては、圧延法により形成された圧延銅箔、又は、電解法により形成された電解銅箔が好ましく、耐屈曲性の観点から、圧延銅箔であることがより好ましい。 The metal layer is preferably a silver layer or a copper layer, more preferably a copper layer. The copper layer is preferably a rolled copper foil formed by a rolling method or an electrolytic copper foil formed by an electrolytic method, and more preferably a rolled copper foil from the viewpoint of bending resistance.

金属基板の平均厚みは、特に限定されないが、2μm~20μmであることが好ましく、3μm~18μmであることがより好ましく、5μm~12μmであることが更に好ましい。金属基板は、支持体(キャリア)上に剥離可能に形成されているキャリア付き金属箔であってもよい。キャリアとしては、公知のものを用いることができ、樹脂フィルム等を好適に用いることができる。キャリアの平均厚みは、特に限定されないが、10μm~100μmであることが好ましく、18μm~50μmであることがより好ましい。 The average thickness of the metal substrate is not particularly limited, but is preferably 2 μm to 20 μm, more preferably 3 μm to 18 μm, even more preferably 5 μm to 12 μm. The metal substrate may be a carrier-attached metal foil that is releasably formed on a support (carrier). A known carrier can be used, and a resin film or the like can be preferably used as the carrier. Although the average thickness of the carrier is not particularly limited, it is preferably 10 μm to 100 μm, more preferably 18 μm to 50 μm.

本開示に係る積層体は、本開示に係るフィルム又は本開示に係る積層フィルムと、樹脂層と、金属基板とを有することが好ましい。
樹脂層は、ポリマーを含む。ポリマーとしては、熱可塑性樹脂が好適に挙げられる。
熱可塑性樹脂としては、(メタ)アクリル樹脂、ポリ桂皮酸ビニル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリスルフォン、ポリパラキシレン、ポリエステル、ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリビニルアルコール、セルロースアシレート、フッ素化樹脂、液晶ポリマー、シンジオタクチックポリスチレン、シリコーン樹脂、エポキシシリコーン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、芳香族スルホンアミド、ベンゾグアナミン樹脂、シリコーンエラストマー、脂肪族ポリオレフィン(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン)、環状オレフィンコポリマー等が挙げられる。中でも、本開示における効果がより発揮される観点から、ポリイミド、液晶ポリマー、シンジオタクチックポリスチレン及び環状オレフィンコポリマーよりなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂が好ましく、ポリイミドがより好ましい。
The laminate according to the present disclosure preferably includes the film according to the present disclosure or the laminated film according to the present disclosure, a resin layer, and a metal substrate.
The resin layer contains a polymer. Preferred polymers include thermoplastic resins.
Thermoplastic resins include (meth)acrylic resin, polyvinyl cinnamate, polycarbonate, polyimide, polyamideimide, polyesterimide, polyetherimide, polyetherketone, polyetheretherketone, polyethersulfone, polysulfone, and polyparaxylene. , polyester, polyvinyl acetal, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, polyamide, polystyrene, polyurethane, polyvinyl alcohol, cellulose acylate, fluorinated resin, liquid crystal polymer, syndiotactic polystyrene, silicone resin, epoxy silicone resin, phenolic resin, alkyd Resins, epoxy resins, maleic acid resins, melamine resins, urea resins, aromatic sulfonamides, benzoguanamine resins, silicone elastomers, aliphatic polyolefins (eg, polyethylene, polypropylene), cyclic olefin copolymers, and the like. Among them, at least one resin selected from the group consisting of polyimide, liquid crystal polymer, syndiotactic polystyrene, and cyclic olefin copolymer is preferable, and polyimide is more preferable, from the viewpoint of more exhibiting the effects of the present disclosure.

樹脂の含有量は、樹脂層の全質量に対して、60質量%~99.9質量%が好ましく、70質量%~99.0質量%がより好ましく、80質量%~97.0質量%が更に好ましい。 The resin content is preferably 60% by mass to 99.9% by mass, more preferably 70% by mass to 99.0% by mass, and 80% by mass to 97.0% by mass with respect to the total mass of the resin layer. More preferred.

樹脂層を構成するポリマー以外の材料は、特に限定されず、有機物及び無機物のいずれであってもよく、有機物と無機物とを併用してもよい。
樹脂層は、金属基板との密着性の観点から、接着層であることが好ましく、接着剤を含む接着層であることがより好ましい。
A material other than the polymer that constitutes the resin layer is not particularly limited, and may be either an organic substance or an inorganic substance, or a combination of an organic substance and an inorganic substance.
From the viewpoint of adhesion to the metal substrate, the resin layer is preferably an adhesive layer, more preferably an adhesive layer containing an adhesive.

本開示において、接着剤の種類は特に限定されず、公知の接着剤を用いることができる。
上記接着剤としては、ポリマーとして、熱硬化性樹脂が好適に挙げられる。
熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、不飽和イミド樹脂、シアネート樹脂、イソシアネート樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、オキセタン樹脂、アミノ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アリル樹脂、ジシクロペンタジエン樹脂、シリコーン樹脂、トリアジン樹脂及びメラミン樹脂等が挙げられる。また、熱硬化性樹脂としては、特にこれらに制限されず、公知の熱硬化性樹脂を使用できる。これらの熱硬化性樹脂は、単独で、又は複数種を併用して用いることができる。
また、上記接着剤としては、市販の熱硬化性樹脂含有接着剤を用いることもできる。
In the present disclosure, the type of adhesive is not particularly limited, and known adhesives can be used.
Thermosetting resins are preferably used as polymers for the adhesive.
Examples of thermosetting resins include epoxy resins, phenol resins, unsaturated imide resins, cyanate resins, isocyanate resins, benzoxazine resins, oxetane resins, amino resins, unsaturated polyester resins, allyl resins, dicyclopentadiene resins, silicone resins. resins, triazine resins, melamine resins, and the like. Moreover, the thermosetting resin is not particularly limited to these, and known thermosetting resins can be used. These thermosetting resins can be used alone or in combination of multiple types.
As the adhesive, a commercially available thermosetting resin-containing adhesive can also be used.

樹脂層は、金属基板との密着性の観点から、反応性基を有する化合物を含むことが好ましい。
反応性基は、ポリマーフィルムの表面に存在し得る基(特に、カルボキシ基及びヒドロキシ基等の酸素原子を有する基)と反応可能な基であることが好ましい。
反応性基は、本開示における効果がより発揮される観点から、エポキシ基、オキセタニル基、イソシアネート基、酸無水物基、カルボジイミド基、N-ヒドロキシエステル基、グリオキサール基、イミドエステル基、ハロゲン化アルキル基、及び、チオール基よりなる群から選択される少なくとも1種の基が好ましく、エポキシ基、酸無水物基、及び、カルボジイミド基よりなる群から選択される少なくとも1種の基がより好ましく、エポキシ基が更に好ましい。
From the viewpoint of adhesion to the metal substrate, the resin layer preferably contains a compound having a reactive group.
The reactive group is preferably a group capable of reacting with a group that may exist on the surface of the polymer film (in particular, a group having an oxygen atom such as a carboxy group and a hydroxy group).
Reactive groups include epoxy group, oxetanyl group, isocyanate group, acid anhydride group, carbodiimide group, N-hydroxyester group, glyoxal group, imidoester group, alkyl halide, and and, preferably at least one group selected from the group consisting of a thiol group, more preferably at least one group selected from the group consisting of an epoxy group, an acid anhydride group, and a carbodiimide group, epoxy groups are more preferred.

エポキシ基を有する反応性化合物の具体例としては、芳香族グリシジルアミン化合物(例えば、N,N-ジグリシジル-4-グリシジルオキシアニリン、4,4’-メチレンビス(N,N-ジグリシジルアニリン)、N,N-ジグリシジル-o-トルイジン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、4-t-ブチルフェニルグリシジルエーテル)、脂肪族グリシジルアミン化合物(例えば、1,3-ビス(ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン等)、脂肪族グリシジルエーテル化合物(例えば、ソルビトールポリグリシジルエーテル)が挙げられる。中でも、本開示に係る効果がより発揮される観点から、芳香族グリシジルアミン化合物が好ましい。 Specific examples of reactive compounds having an epoxy group include aromatic glycidylamine compounds (e.g., N,N-diglycidyl-4-glycidyloxyaniline, 4,4′-methylenebis(N,N-diglycidylaniline), N , N-diglycidyl-o-toluidine, N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylylenediamine, 4-t-butylphenylglycidyl ether), aliphatic glycidylamine compounds (e.g., 1,3-bis (diglycidylaminomethyl)cyclohexane, etc.) and aliphatic glycidyl ether compounds (eg, sorbitol polyglycidyl ether). Among them, aromatic glycidylamine compounds are preferable from the viewpoint of exhibiting the effects of the present disclosure more.

酸無水物基を有する反応性化合物の具体例としては、テトラカルボン酸二無水物(例えば、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、2,3,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ジフェニルスルホン-3,4,3’,4’-テトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)スルフィド二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,3,3’,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、p-フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、p-ビフェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、m-ターフェニル-3,4,3’,4’-テトラカルボン酸二無水物、p-ターフェニル-3,4,3’,4’-テトラカルボン酸二無水物、1,3-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、1,4-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、1,4-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシ)ビフェニル二無水物、2,2-ビス〔(3,4-ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕プロパン二無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、4,4’-(2,2-ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物)が挙げられる。 Specific examples of reactive compounds having an acid anhydride group include tetracarboxylic dianhydrides (eg, 3,3′,4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3′,4,4 '-biphenyltetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, 2,3,3',4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, oxydiphthalic dianhydride, diphenylsulfone-3,4,3' ,4'-tetracarboxylic dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfide dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-1,1,1,3,3 ,3-hexafluoropropane dianhydride, 2,3,3′,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 2,2-bis(3 ,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, p-phenylene bis (trimellitic monoester anhydride), p-biphenylene bis (trimellitic monoester anhydride), m-terphenyl-3,4 ,3′,4′-tetracarboxylic dianhydride, p-terphenyl-3,4,3′,4′-tetracarboxylic dianhydride, 1,3-bis(3,4-dicarboxyphenoxy) Benzene dianhydride, 1,4-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)benzene dianhydride, 1,4-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)biphenyl dianhydride, 2,2-bis[( 3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propane dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 4,4 '-(2,2-hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride).

カルボジイミド基を有する反応性化合物の具体例としては、モノカルボジイミド化合物(例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、ジメチルカルボジイミド、ジイソブチルカルボジイミド、ジオクチルカルボジイミド、t-ブチルイソプロピルカルボジイミド、ジフェニルカルボジイミド、ジ-t-ブチルカルボジイミド、ジ-β-ナフチルカルボジイミド、N,N’-ジ-2,6-ジイソプロピルフェニルカルボジイミド)、ポリカルボジイミド化合物(例えば、米国特許第2941956号明細書、特公昭47-33279号公報、J.Org.Chem.,28巻,p2069-2075(1963)、及び、Chemical Review,1981,81巻,第4号,p.619-621等に記載された方法により製造された化合物)が挙げられる。
カルボジイミド基を有する反応性化合物の市販品としては、カルボジライト HMV-8CA、LA-1、V-03(日清紡ケミカル(株)製)、スタバクゾール P、P100、P400(ラインケミー社製)、スタビライザー 9000(ラシヒケミ社製)等が挙げられる。
Specific examples of reactive compounds having a carbodiimide group include monocarbodiimide compounds (e.g., dicyclohexylcarbodiimide, diisopropylcarbodiimide, dimethylcarbodiimide, diisobutylcarbodiimide, dioctylcarbodiimide, t-butylisopropylcarbodiimide, diphenylcarbodiimide, di-t-butylcarbodiimide, di-β-naphthylcarbodiimide, N,N'-di-2,6-diisopropylphenylcarbodiimide), polycarbodiimide compounds (e.g., US Pat. No. 2,941,956, JP-B-47-33279, J.Org.Chem ., vol.28, p.2069-2075 (1963) and Chemical Review, 1981, vol.81, No. 4, p.619-621, etc.).
Commercially available reactive compounds having a carbodiimide group include Carbodilite HMV-8CA, LA-1, V-03 (manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd.), Stabaxol P, P100, P400 (manufactured by Rhein Chemie), Stabilizer 9000 (Rashih Chemie). company) and the like.

反応性化合物が有する反応性基の数は、1個以上であるが、金属層の密着性がより優れる点から、3個以上が好ましい。
反応性化合物が有する反応性基の数は、金属層以外の部分の誘電正接がより低い積層体が得られる点から、6個以下が好ましく、5個以下がより好ましく、4個以下が更に好ましい。
The number of reactive groups possessed by the reactive compound is 1 or more, but preferably 3 or more from the viewpoint of better adhesion of the metal layer.
The number of reactive groups possessed by the reactive compound is preferably 6 or less, more preferably 5 or less, and even more preferably 4 or less, in order to obtain a laminate having a lower dielectric loss tangent in portions other than the metal layer. .

樹脂層は、反応性化合物を1種のみ含んでいても、2種以上含んでいてもよい。
反応性化合物の含有量は、樹脂層の全質量に対して、0.1質量%~40質量%が好ましく、1質量%~30質量%がより好ましく、3質量%~20質量%が更に好ましい。下限値以上であれば、金属層の密着性がより優れ、上限値以下であれば、金属層以外の部分の誘電正接がより低い積層体が得られる。
The resin layer may contain only one type of reactive compound, or may contain two or more types.
The content of the reactive compound is preferably 0.1% by mass to 40% by mass, more preferably 1% by mass to 30% by mass, and even more preferably 3% by mass to 20% by mass, relative to the total mass of the resin layer. . If it is at least the lower limit value, the adhesion of the metal layer is more excellent, and if it is at most the upper limit value, a laminate having a lower dielectric loss tangent in portions other than the metal layer can be obtained.

樹脂層は、接着剤以外のその他の添加剤を含んでいてもよい。
その他の添加剤としては、公知の添加剤を用いることができる。具体的には、例えば、レベリング剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、着色剤、フィラー等が挙げられる。
The resin layer may contain additives other than the adhesive.
As other additives, known additives can be used. Specific examples include leveling agents, antifoaming agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, flame retardants, coloring agents, fillers, and the like.

樹脂層の厚みは、1μm以下であり、金属層以外の部分の誘電正接がより低い積層体を形成できる点から、0.8μm以下が好ましく、0.7μm以下がより好ましく、0.6μm以下が更に好ましい。
樹脂層の厚みは、金属層の密着性がより優れる点から、0.05μm以上が好ましく、0.1μm以上がより好ましく、0.2μm以上が更に好ましい。
樹脂層の厚みは、走査型電子顕微鏡(SEM)による樹脂層付きフィルムの断面画像に基づいて測定され、任意の異なる100点における樹脂層の厚みの測定値の算術平均値である。
The thickness of the resin layer is 1 μm or less, and is preferably 0.8 μm or less, more preferably 0.7 μm or less, and 0.6 μm or less in order to form a laminate having a lower dielectric loss tangent in portions other than the metal layer. More preferred.
The thickness of the resin layer is preferably 0.05 μm or more, more preferably 0.1 μm or more, and even more preferably 0.2 μm or more, from the viewpoint of better adhesion of the metal layer.
The thickness of the resin layer is measured based on a cross-sectional image of the film with the resin layer by a scanning electron microscope (SEM), and is the arithmetic mean value of the measured values of the thickness of the resin layer at 100 arbitrary different points.

-弾性率-
樹脂層の硬化後の25℃における弾性率は、0.8GPa以上であり、金属層の密着性がより優れる点から、1.0GPa以上が好ましく、1.1GPa以上がより好ましく、1.2GPa以上が更に好ましい。
樹脂層の硬化後の弾性率の上限値は、特に制限されず、例えば5GPa以下である。
-elastic modulus-
The elastic modulus at 25° C. after curing of the resin layer is 0.8 GPa or more, and is preferably 1.0 GPa or more, more preferably 1.1 GPa or more, more preferably 1.2 GPa or more, in terms of better adhesion of the metal layer. is more preferred.
The upper limit of the elastic modulus of the resin layer after curing is not particularly limited, and is, for example, 5 GPa or less.

-誘電正接-
樹脂層の硬化後における誘電正接は、金属層以外の部分の誘電正接がより低い積層体を形成できる点から、0.01以下が好ましく、0.008以下がより好ましく、0.005以下が更に好ましい。下限値は特に制限されず、0.0001以上であってもよい。
-Dielectric loss tangent-
The dielectric loss tangent after curing of the resin layer is preferably 0.01 or less, more preferably 0.008 or less, more preferably 0.008 or less, and further 0.005 or less, because a laminate with a lower dielectric loss tangent in portions other than the metal layer can be formed. preferable. The lower limit is not particularly limited, and may be 0.0001 or more.

本開示に係る積層体における金属層を、例えば、エッチングにより所望の回路パターンに加工し、フレキシブルプリント回路基板とすることも好ましい。エッチング方法としては、特に制限はなく、公知のエッチング方法を用いることができる。 It is also preferable to process the metal layer in the laminate according to the present disclosure into a desired circuit pattern by etching, for example, to form a flexible printed circuit board. The etching method is not particularly limited, and known etching methods can be used.

本開示に係る積層体の製造方法は、上記フィルムの少なくとも一方の表面に樹脂層を設ける樹脂層形成工程、及び、上記樹脂層と、金属基板とを積層させる積層工程を含むことが好ましい。
樹脂層の形成方法は、特に制限はなく、公知の塗布方法及び公知の接着剤付与方法を用いることができる。
また、上記積層工程においては、金属配線を貼り合わせることが好ましい。
上記積層工程における積層方法は、特に制限はなく、公知のラミネート方法を用いることができる。
上記積層工程における貼り合わせ圧力は、特に制限はないが、0.1MPa以上であることが好ましく、0.2MPa~10MPaであることが好ましい。
上記積層工程における貼り合わせ温度は、使用するフィルム等に応じて適宜選択することができるが、150℃以上であることが好ましく、170℃以上250℃以下であることがより好ましい。
また、本開示に係る積層体の製造方法は、樹脂層を硬化させ接着させるため、例えば、樹脂層としてホットメルト接着剤を用いた場合、積層体を冷却する工程を含むことが好ましい。
The method for producing a laminate according to the present disclosure preferably includes a resin layer forming step of providing a resin layer on at least one surface of the film, and a lamination step of laminating the resin layer and a metal substrate.
A method for forming the resin layer is not particularly limited, and a known coating method and a known adhesive application method can be used.
Moreover, in the lamination step, it is preferable to bond the metal wiring.
A lamination method in the lamination step is not particularly limited, and a known lamination method can be used.
The bonding pressure in the lamination step is not particularly limited, but is preferably 0.1 MPa or more, preferably 0.2 MPa to 10 MPa.
The bonding temperature in the lamination step can be appropriately selected according to the film to be used, etc., but is preferably 150° C. or higher, and more preferably 170° C. or higher and 250° C. or lower.
Further, the method for manufacturing a laminate according to the present disclosure preferably includes a step of cooling the laminate in order to cure and adhere the resin layer, for example, when a hot-melt adhesive is used as the resin layer.

以下に実施例を挙げて本開示を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本開示の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。したがって、本開示の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
なお、特に断りのない限り、「部」、「%」は質量基準である。
EXAMPLES The present disclosure will be described more specifically with reference to examples below. Materials, usage amounts, proportions, processing details, processing procedures, etc. shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the gist of the present disclosure. Accordingly, the scope of the present disclosure is not limited to the specific examples shown below.
"Parts" and "%" are based on mass unless otherwise specified.

LCPフィルムA(LCP-A):(株)クラレ製「ベクスター CTQ-25」、厚み25μm、液晶ポリマーを含むポリマーフィルム LCP film A (LCP-A): "Vecstar CTQ-25" manufactured by Kuraray Co., Ltd., thickness 25 μm, polymer film containing liquid crystal polymer

LCPフィルムB(LCP-B):以下に記載の方法により作製した、フィルム中においてポリオレフィンが分散相を形成しているフィルム。 LCP film B (LCP-B): A film in which polyolefin forms a dispersed phase, produced by the method described below.

<使用した原料>
液晶ポリマーB:特開2019-116586号公報の実施例1に基づいて合成されたポリマー。融点320℃のサーモトロピック液晶ポリマーに該当する。LCP-Bは、6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸に由来する構成繰返し単位、4,4’-ジヒドロキシビフェニルに由来する構成繰返し単位、テレフタル酸に由来する構成繰返し単位、及び、2,6-ナフタレンジカルボン酸に由来する構成繰返し単位で構成されている。
ポリオレフィン:日本ポリエチレン(株)製ノバテックLD(低密度ポリエチレン)
相溶成分:エチレン/グリシジルメタクリレート共重合体
熱安定剤:(株)ADEKA製「AO-80」(セミヒンダードフェノール系安定剤)
<Raw materials used>
Liquid crystal polymer B: A polymer synthesized according to Example 1 of JP-A-2019-116586. It corresponds to a thermotropic liquid crystal polymer with a melting point of 320°C. LCP-B is a structural repeating unit derived from 6-hydroxy-2-naphthoic acid, a structural repeating unit derived from 4,4'-dihydroxybiphenyl, a structural repeating unit derived from terephthalic acid, and 2,6-naphthalene It is composed of structural repeating units derived from dicarboxylic acids.
Polyolefin: Nippon Polyethylene Co., Ltd. Novatec LD (low density polyethylene)
Compatible component: ethylene / glycidyl methacrylate copolymer Thermal stabilizer: ADEKA Corporation "AO-80" (semi-hindered phenolic stabilizer)

<供給工程>
液晶ポリマーB、ポリオレフィン、相溶成分、及び、熱安定剤を以下に示す通りの配合で混合し、押出機を用いて混練ペレット化した。
・液晶ポリマーB:84.5%
・ポリオレフィン:12.4%
・相溶成分:2.5%
・熱安定剤:0.6%
混練ペレット化して得られたペレットを80℃で露点温度-45℃の除湿熱風乾燥機を用いて12時間乾燥させて含有水分量を200ppm以下とした。
このようにして乾燥されたペレットを原料Aともいう。
<Supply process>
The liquid crystal polymer B, polyolefin, compatible component, and heat stabilizer were mixed according to the formulation shown below, and kneaded into pellets using an extruder.
・Liquid crystal polymer B: 84.5%
・ Polyolefin: 12.4%
・Compatible component: 2.5%
・Heat stabilizer: 0.6%
The pellets obtained by kneading and pelletizing were dried at 80° C. for 12 hours using a dehumidifying hot air dryer with a dew point temperature of −45° C. to reduce the moisture content to 200 ppm or less.
The pellets dried in this manner are also referred to as raw material A.

<製膜工程>
原料Aを、スクリュ径50mmの二軸押出機の同一供給口からシリンダー内に供給し、加熱混練し、ダイ幅750mmのダイから溶融状態の原料Aをフィルム状として回転するキャストロール上に吐出させて冷却固化し、所望に応じて延伸することにより、厚み150μmのフィルムを得た。
なお、加熱混練の温度、原料Aを吐出する際の吐出速度、ダイリップのクリアランス、及び、キャストロールの周速度は、それぞれ以下の範囲で調整した。
・加熱混練の温度:270℃~350℃
・クリアランス:0.01mm~5mm
・吐出速度:0.1mm/sec~1,000mm/sec
・キャストロールの周速度:0.1m/min~100m/min
<Film forming process>
Raw material A is supplied into the cylinder from the same supply port of a twin-screw extruder with a screw diameter of 50 mm, heated and kneaded, and discharged from a die with a width of 750 mm onto a rotating cast roll in the form of a film of raw material A in a molten state. A film having a thickness of 150 μm was obtained by cooling and solidifying with a heat source and stretching as desired.
The temperature for heating and kneading, the speed at which raw material A was discharged, the clearance of the die lip, and the peripheral speed of the cast roll were each adjusted within the following ranges.
・Temperature for heating and kneading: 270°C to 350°C
・Clearance: 0.01mm to 5mm
・Discharge speed: 0.1 mm/sec to 1,000 mm/sec
・Peripheral speed of cast roll: 0.1 m/min to 100 m/min

<横延伸工程>
製膜工程で作製されたフィルムを、テンターを用いてTD方向(フィルムの幅方向)に延伸した。このときの延伸倍率は3.2倍であった。
<Lateral stretching process>
The film produced in the film forming process was stretched in the TD direction (the width direction of the film) using a tenter. The draw ratio at this time was 3.2 times.

<後加熱処理>
横延伸工程を施したフィルムの幅方向の両端部を治具で把持し、フィルムが幅方向に収縮しないように固定した。この固定状態にあるフィルムに対して、赤外線ヒーター、又は、熱風乾燥機を用いて後加熱処理を行った。
赤外線ヒーターを用いた後加熱処理では、1組の赤外線ヒーターを用いて、膜面温度300℃の条件で30秒間、フィルムの両面を加熱した。
熱風乾燥機を用いた後加熱処理では、治具で固定されたフィルムを熱風乾燥機内に入れ、膜面温度300℃の条件で180秒間加熱した後、熱風乾燥機からフィルムを取り出し、LCPフィルムB(55μm)を得た。
熱処理工程においては、熱処理を行うフィルムの近傍に膜面温度測定用フィルムを設置し、膜面温度測定用フィルムの表面にポリイミド材質のテープで貼り付けた熱電対を用いて、フィルムの膜面温度を測定した。
<Post-heat treatment>
Both ends in the width direction of the film subjected to the lateral stretching step were held with jigs and fixed so that the film would not shrink in the width direction. The film in this fixed state was post-heated using an infrared heater or a hot air dryer.
In the post-heating treatment using an infrared heater, both sides of the film were heated at a film surface temperature of 300° C. for 30 seconds using a pair of infrared heaters.
In the post-heating treatment using a hot air dryer, the film fixed with a jig was placed in a hot air dryer and heated for 180 seconds at a film surface temperature of 300 ° C., then the film was removed from the hot air dryer and LCP film B was obtained. (55 μm) was obtained.
In the heat treatment process, a film surface temperature measurement film is placed near the film to be heat treated, and a thermocouple attached to the surface of the film surface temperature measurement film with a polyimide tape is used to measure the film surface temperature. was measured.

(実施例1)
NaOH水(NaOH:10g/水:100mL)に過硫酸ナトリウム水(過硫酸ナトリウム:2.4g/水:25mL)を添加した後、50℃に昇温した液に、LCPフィルムA(3cm×8cm)を20分間浸漬した。20分後LCPフィルムを取り出し、100mLの水で洗浄後、室温(25℃、以下同様)で乾燥させることで表面改質LCPフィルム1(LCP-F1)を得た。
(Example 1)
After adding sodium persulfate water (sodium persulfate: 2.4 g/water: 25 mL) to NaOH water (NaOH: 10 g / water: 100 mL), the liquid heated to 50 ° C. was coated with LCP film A (3 cm × 8 cm ) was soaked for 20 minutes. After 20 minutes, the LCP film was taken out, washed with 100 mL of water, and dried at room temperature (25° C., hereinafter the same) to obtain surface-modified LCP film 1 (LCP-F1).

(実施例2)
NaOH水(NaOH:10g/水:100mL)に、過硫酸ナトリウム水(過硫酸ナトリウム:2.4g/水:25mL)と硫酸鉄七水和物(0.28g)とを添加した後、50℃に昇温した液に、LCPフィルムA(3cm×8cm)を20分間浸漬した。20分後LCPフィルムを取り出し、100mLの水で洗浄後、室温で乾燥させることで表面改質LCPフィルム2(LCP-F2)を得た。
(Example 2)
NaOH water (NaOH: 10 g / water: 100 mL), sodium persulfate water (sodium persulfate: 2.4 g / water: 25 mL) and iron sulfate heptahydrate (0.28 g) were added, and then heated to 50 ° C. The LCP film A (3 cm×8 cm) was immersed in the liquid heated to 20 minutes. After 20 minutes, the LCP film was taken out, washed with 100 mL of water, and dried at room temperature to obtain surface-modified LCP film 2 (LCP-F2).

(実施例3)
水(100mL)に次亜塩素酸ナトリウム水(次亜塩素酸ナトリウム5水和物:2.4g/水:25mL)を添加した後、上記混合液を50℃に昇温した液に、LCPフィルムA(3cm×8cm)を20分間浸漬した。20分後LCPフィルムを取り出し、100mLの水で洗浄後、室温で乾燥させることで表面改質LCPフィルム3(LCP-F3)を得た。
(Example 3)
After adding sodium hypochlorite water (sodium hypochlorite pentahydrate: 2.4 g / water: 25 mL) to water (100 mL), the mixture was heated to 50 ° C. and added to the LCP film. A (3 cm x 8 cm) was soaked for 20 minutes. After 20 minutes, the LCP film was taken out, washed with 100 mL of water, and dried at room temperature to obtain surface-modified LCP film 3 (LCP-F3).

(実施例4)
NaOH水(NaOH:10g/水:100mL)に硝酸セリウムアンモニウム水(硝酸セリウムアンモニウム:2.4g/水:25mL)を添加した後、上記NaOH水を50℃に昇温した液に、LCPフィルムA(3cm×8cm)を20分間浸漬した。20分後LCPフィルムを取り出し、100mLの水で洗浄後、室温で乾燥させることで表面改質LCPフィルム4(LCP-F4)を得た。
(Example 4)
After adding cerium ammonium nitrate water (cerium ammonium nitrate: 2.4 g / water: 25 mL) to NaOH water (NaOH: 10 g / water: 100 mL), the NaOH water was heated to 50 ° C. LCP film A was added to the liquid. (3 cm x 8 cm) was soaked for 20 minutes. After 20 minutes, the LCP film was taken out, washed with 100 mL of water, and dried at room temperature to obtain surface-modified LCP film 4 (LCP-F4).

(実施例5)
実施例1における「過硫酸ナトリウム:2.4g/水:25mL」の配合の過硫酸ナトリウム水を、「過硫酸ナトリウム:12g/水:25mL」の配合の過硫酸ナトリウム水に変更した以外は実施例1と同様の製法で表面改質LCPフィルム5(LCP-F5)を得た。
(Example 5)
Example 1 except that the sodium persulfate water containing "sodium persulfate: 2.4 g/water: 25 mL" was changed to sodium persulfate water containing "sodium persulfate: 12 g/water: 25 mL". A surface-modified LCP film 5 (LCP-F5) was obtained in the same manner as in Example 1.

(実施例6)
実施例1における「NaOH:10g/水:100mL」の配合のNaOH水を、「NaOH:0.5g/水:100mL」の配合のNaOH水に変更した以外は実施例1と同様の製法で表面改質LCPフィルム6(LCP-F6)を得た。
(Example 6)
The surface was prepared in the same manner as in Example 1 except that the NaOH water containing "NaOH: 10 g / water: 100 mL" in Example 1 was changed to NaOH water containing "NaOH: 0.5 g / water: 100 mL". A modified LCP film 6 (LCP-F6) was obtained.

(実施例7)
実施例1における「過硫酸ナトリウム:2.4g/水:25mL」の配合の過硫酸ナトリウム水を、「ヨウ素酸カリウム:2.4g/水:25mL」の配合のヨウ素酸カリウム水に変更した以外は実施例1と同様の製法で表面改質LCPフィルム7(LCP-F7)を得た。
(Example 7)
Except that the sodium persulfate water containing "sodium persulfate: 2.4 g/water: 25 mL" in Example 1 was changed to potassium iodate water containing "potassium iodate: 2.4 g/water: 25 mL". obtained a surface-modified LCP film 7 (LCP-F7) in the same manner as in Example 1.

(実施例8)
実施例1における「NaOH:10g/水:100mL」の配合のNaOH水を、「NaOH:0.005g/水:100mL」の配合のNaOH水に変更した以外は実施例1と同様の製法で表面改質LCPフィルム8(LCP-F8)を得た。
(Example 8)
The surface was prepared in the same manner as in Example 1 except that the NaOH water containing "NaOH: 10 g / water: 100 mL" in Example 1 was changed to NaOH water containing "NaOH: 0.005 g / water: 100 mL". A modified LCP film 8 (LCP-F8) was obtained.

(実施例9)
実施例1における「過硫酸ナトリウム:2.4g/水:25mL」の配合の過硫酸ナトリウム水を、「過硫酸カリウム:2.4g/水:25mL」の配合の過硫酸カリウム水に変更した以外は実施例1と同様の製法で表面改質LCPフィルム9(LCP-F9)を得た。
(Example 9)
Except that the sodium persulfate water containing "sodium persulfate: 2.4 g/water: 25 mL" in Example 1 was changed to potassium persulfate water containing "potassium persulfate: 2.4 g/water: 25 mL". obtained a surface-modified LCP film 9 (LCP-F9) in the same manner as in Example 1.

(実施例10)
実施例1における「過硫酸ナトリウム:2.4g/水:25mL」の配合の過硫酸ナトリウム水を、「過硫酸アンモニウム:2.4g/水:25mL」の配合の過硫酸アンモニウム水に変更した以外は実施例1と同様の製法で表面改質LCPフィルム10(LCP-F10)を得た。
(Example 10)
The procedure was carried out except that the sodium persulfate water containing "sodium persulfate: 2.4 g/water: 25 mL" in Example 1 was changed to ammonium persulfate water containing "ammonium persulfate: 2.4 g/water: 25 mL". A surface-modified LCP film 10 (LCP-F10) was obtained in the same manner as in Example 1.

(実施例11)
実施例1におけるLCPフィルムAをLCPフィルムBに変更した以外は実施例1と同様の製法で表面改質LCPフィルム11(LCP-F11)を得た。
(Example 11)
A surface-modified LCP film 11 (LCP-F11) was obtained in the same manner as in Example 1 except that LCP film A in Example 1 was changed to LCP film B.

(実施例12)
NaOH水(NaOH:10g/水:100mL)に過硫酸ナトリウム水(過硫酸ナトリウム:2.4g/水:25mL)を添加した後、50℃に昇温した液に、LCPフィルムA(3cm×8cm)の片面のみが処理液に接するように、20分間浮かべた。20分後LCPフィルムを取り出し、100mLの水で洗浄後、室温で乾燥させることで、片面のみ表面改質した表面改質LCPフィルム12(LCP-F12)を得た。
(Example 12)
After adding sodium persulfate water (sodium persulfate: 2.4 g/water: 25 mL) to NaOH water (NaOH: 10 g / water: 100 mL), the liquid heated to 50 ° C. was coated with LCP film A (3 cm × 8 cm ) was allowed to float for 20 minutes so that only one side was in contact with the treatment liquid. After 20 minutes, the LCP film was taken out, washed with 100 mL of water, and dried at room temperature to obtain a surface-modified LCP film 12 (LCP-F12) in which only one side was surface-modified.

(比較例3)
NaOH水(NaOH:10g/水:100mL)を50℃に昇温した液に、LCPフィルムA(3cm×8cm)を20分間浸漬した。20分後LCPフィルムを取り出し、100mLの水で洗浄後、室温で乾燥させることで表面改質LCPフィルム13(LCP-F13)を得た。
(Comparative Example 3)
An LCP film A (3 cm×8 cm) was immersed in a solution of NaOH water (NaOH: 10 g/water: 100 mL) heated to 50° C. for 20 minutes. After 20 minutes, the LCP film was taken out, washed with 100 mL of water, and dried at room temperature to obtain surface-modified LCP film 13 (LCP-F13).

<フィルム表面の水接触角の測定方法>
25℃湿度50%RHにおいて、LCPフィルム(LCP-F1~13、並びに、LCP-A及びB)の水に対する接触角を測定した(LCP-12は処理面を測定)。測定には協和界面科学(株)製接触角計(DM700)を使用した。接触角は液滴を作製してから5秒後の接触角の値を読み、10点平均で算出した。上記方法で測定したものを、LCPフィルム(LCP-F1~13、並びに、LCP-A及びB)のフィルム表面の水接触角と定義する。
<Method for measuring water contact angle on film surface>
The water contact angles of the LCP films (LCP-F1 to 13, and LCP-A and B) were measured at 25° C. and 50% RH (LCP-12 measured the treated surface). A contact angle meter (DM700) manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. was used for the measurement. The contact angle was calculated by averaging 10 points by reading the contact angle 5 seconds after the droplet was prepared. The value measured by the above method is defined as the water contact angle on the film surface of the LCP films (LCP-F1 to 13, and LCP-A and B).

<表面自由エネルギーの測定方法>
上記フィルム表面の水接触角の測定方法と同様の手法により、フィルム表面のジヨードメタンに対する接触角を測定し、Owensの式に基づいて表面自由エネルギーを算出した。
<Method for measuring surface free energy>
The contact angle of the film surface to diiodomethane was measured by the same method as the method for measuring the water contact angle of the film surface, and the surface free energy was calculated based on the Owens equation.

<フィルム内部の水接触角の測定方法>
LCPフィルム(LCP-F1~13、並びに、LCP-A及びB)を融点以上に加熱して溶融させた後、再度フィルム状に成型した。一度融点以上に加熱されているため元の表面と内部は完全に混同していると考えられる。このようにして得られたLCPフィルムの水接触角を上記と同様の方法で測定したものを、LCPフィルム(LCP-F1~13、並びに、LCP-A及びB)のフィルム内部の水接触角と定義する。
<Method for measuring the water contact angle inside the film>
The LCP films (LCP-F1 to 13, and LCP-A and B) were melted by heating to the melting point or higher, and then molded into films again. It is thought that the original surface and the inside are completely confused because they have been heated above the melting point once. The water contact angle of the LCP film obtained in this way was measured by the same method as above, and the water contact angle inside the LCP film (LCP-F1 to 13, and LCP-A and B). Define.

表面改質処理前のLCPフィルム(LCP-A及びB)の粒子表面の水接触角とフィルム内部の水接触角とは一致した。
また、LCPフィルム(LCP-F1~13)のフィルム内部の水接触角は、表面改質処理前のLCPフィルム(LCP-A及びB)のフィルム表面及びフィルム内部の水接触角と一致した。
The water contact angle on the particle surface of the LCP films (LCP-A and B) before the surface modification treatment was consistent with the water contact angle inside the film.
In addition, the water contact angles inside the LCP films (LCP-F1 to 13) coincided with the water contact angles inside and on the film surface of the LCP films (LCP-A and B) before the surface modification treatment.

<剥離強度>
-積層体の作製方法-
ポリイミド樹脂溶液(荒川化学工業(株)製「PIAD-200」、固形分30質量%、溶媒:シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン及びエチレングリコールジメチルエーテル)17.7g、N,N-ジグリシジル-4-グリシジルオキシアニリン(シグマアルドリッチ社製)0.27g、及び、トルエン1.97gを混合し、撹拌することによって、固形分濃度28質量%の接着剤ワニス1(接着剤層形成用組成物)を得た。
得られた接着剤ワニス1を、LCPフィルムの片面(LCP-12は処理面)にアプリケーターを用いて塗布した。塗布膜を85℃及び1時間の条件で乾燥することで、厚み0.8μmの接着剤層(樹脂層)を設け、接着剤層付きLCPフィルムを作製した。
<Peel strength>
- Laminate production method -
Polyimide resin solution ("PIAD-200" manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., solid content 30% by mass, solvent: cyclohexane, methylcyclohexane and ethylene glycol dimethyl ether) 17.7 g, N,N-diglycidyl-4-glycidyloxyaniline ( (manufactured by Sigma-Aldrich Co.) and 1.97 g of toluene were mixed and stirred to obtain an adhesive varnish 1 (composition for forming an adhesive layer) having a solid content concentration of 28% by mass.
The resulting adhesive varnish 1 was applied to one side of the LCP film (the treated side for LCP-12) using an applicator. By drying the coating film at 85° C. for 1 hour, an adhesive layer (resin layer) having a thickness of 0.8 μm was provided to prepare an LCP film with an adhesive layer.

接着剤層付きLCPフィルム及び無粗化処理銅箔(福田金属箔粉工業(株)製「CF-T9DA-SV-18」、厚み18μm)を、接着剤層付きフィルムの接着剤層と無粗化処理銅箔の無粗化処理面(最大高さRz0.85μm)とが互いに接するように積層し、次いで、熱プレス機((株)東洋精機製作所製)を用いて200℃及び4MPaの条件で1時間圧着することにより、LCPフィルム、樹脂層(接着剤層の硬化膜)及び金属層(銅箔)がこの順に積層してなる積層体を作製した。 An LCP film with an adhesive layer and a non-roughened copper foil (“CF-T9DA-SV-18” manufactured by Fukuda Metal Foil & Powder Co., Ltd., thickness 18 μm) were combined with the adhesive layer of the film with an adhesive layer and the non-roughened copper foil. Laminated so that the non-roughened surface (maximum height Rz 0.85 μm) of the heat treated copper foil is in contact with each other, then using a heat press (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.) at 200 ° C. and 4 MPa A laminate was produced by laminating the LCP film, the resin layer (cured film of the adhesive layer), and the metal layer (copper foil) in this order.

-初期剥離強度試験測定-
各積層体を1cm×5cmの短冊状に切断して、サンプルを作製した。得られたサンプルの剥離強度(単位:N/cm)を、JIS C 6481に記載の常態での引きはがし強さの測定方法に従って測定した。剥離強度試験におけるサンプルからの金属層の剥離は、サンプルに対して90°の角度で、50mm/分の剥離速度で実施した。評価基準を以下に示す。
A:剥離強度が4N/cm以上
B:剥離強度が3N/cm以上4N/cm未満
C:剥離強度が2N/cm以上3N/cm未満
D:剥離強度が2N/cm未満
- Initial peel strength test measurement -
Each laminate was cut into strips of 1 cm×5 cm to prepare samples. The peel strength (unit: N/cm) of the obtained sample was measured according to the method for measuring peel strength under normal conditions described in JIS C 6481. Peeling of the metal layer from the sample in the peel strength test was performed at an angle of 90° to the sample at a peel speed of 50 mm/min. Evaluation criteria are shown below.
A: Peel strength of 4 N/cm or more B: Peel strength of 3 N/cm or more and less than 4 N/cm C: Peel strength of 2 N/cm or more and less than 3 N/cm D: Peel strength of less than 2 N/cm

-湿熱経時後の剥離強度測定-
各積層体を85℃85%RH雰囲気下に500時間置いた後に上記と同様の剥離強度試験を行った。評価基準を以下に示す。
A:剥離強度が4N/cm以上
B:剥離強度が3N/cm以上4N/cm未満
C:剥離強度が2N/cm以上3N/cm未満
D:剥離強度が2N/cm未満
-Measurement of peel strength after wet heat aging-
After placing each laminate in an atmosphere of 85° C. and 85% RH for 500 hours, the same peel strength test as above was conducted. Evaluation criteria are shown below.
A: Peel strength of 4 N/cm or more B: Peel strength of 3 N/cm or more and less than 4 N/cm C: Peel strength of 2 N/cm or more and less than 3 N/cm D: Peel strength of less than 2 N/cm

Figure 2023034967000001
Figure 2023034967000001

なお、実施例1~10及び12の各フィルムにおける内部の接触角は、84°であり、実施例11のフィルムにおける内部の接触角は、85°であった。
また、実施例1~12の各フィルムは、一方の表面の240℃における弾性率がいずれも、300MPa以上であった。
The internal contact angle of each of the films of Examples 1 to 10 and 12 was 84°, and the internal contact angle of the film of Example 11 was 85°.
In addition, each of the films of Examples 1 to 12 had an elastic modulus of 300 MPa or more at 240° C. on one surface.

表1に示すように、実施例1~12のフィルムは、比較例1~3のフィルムに比べ、接着層を介した金属基板との剥離強度に優れるものであった。 As shown in Table 1, the films of Examples 1-12 were superior to the films of Comparative Examples 1-3 in peel strength to the metal substrate via the adhesive layer.

(実施例101~112)
ポリイミド樹脂溶液(上述の「PIAD-200」)17.7g、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(東京化成工業(株)製)0.27g、及び、トルエン1.97gを混合し、撹拌することによって、固形分濃度28質量%の接着剤ワニス2(接着剤層形成用組成物)を得た。
実施例1~12において、接着剤ワニス1の代わりに接着剤ワニス2をそれぞれ用いた場合でも、それぞれ、実施例1~12と同様の剥離強度、及び、湿熱経時後の剥離強度であった。
(Examples 101-112)
Polyimide resin solution (above-mentioned "PIAD-200") 17.7 g, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 0.27 g, and toluene 1 By mixing 97 g and stirring, an adhesive varnish 2 (composition for forming an adhesive layer) having a solid content concentration of 28% by mass was obtained.
In Examples 1 to 12, even when the adhesive varnish 2 was used instead of the adhesive varnish 1, respectively, the same peel strength and peel strength after wet heat aging as in Examples 1 to 12 were obtained.

Claims (23)

液晶ポリマーを含み、
25℃50%RHでの空中水滴法による水との接触角の、フィルムの内部とフィルムの一方の表面とにおける差が、7°以上である
フィルム。
containing a liquid crystal polymer,
A film having a difference of 7° or more between the inside of the film and one surface of the film in the contact angle with water measured by the water-in-air method at 25°C and 50% RH.
前記フィルムの一方の表面における表面自由エネルギーが、47N/m~60N/mである請求項1に記載のフィルム。 The film according to claim 1, wherein the surface free energy on one surface of said film is from 47 N/m to 60 N/m. 前記フィルムの一方の表面における25℃50%RHでの空中水滴法による水との接触角が、50°以上75°未満である請求項1又は請求項2に記載のフィルム。 3. The film according to claim 1, wherein the contact angle of water on one surface of the film at 25[deg.] C. and 50% RH is 50[deg.] or more and less than 75[deg.]. 前記25℃50%RHでの空中水滴法による水との接触角の、フィルムの内部とフィルムの一方の表面とにおける差が、7°以上32°以下である請求項1~請求項3のいずれか1項に記載のフィルム。 4. Any one of claims 1 to 3, wherein the difference between the contact angle with water measured by the water droplet method at 25° C. and 50% RH between the inside of the film and one surface of the film is 7° or more and 32° or less. or the film according to item 1. 前記フィルムの一方の表面における表面粗さRaが、0.05μm以下である請求項1~請求項4のいずれか1項に記載のフィルム。 The film according to any one of claims 1 to 4, wherein one surface of the film has a surface roughness Ra of 0.05 µm or less. 前記液晶ポリマーが、パラヒドロキシ安息香酸に由来する構成単位、及び、6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸に由来する構成単位よりなる群から選ばれた少なくとも1種の構成単位を有する液晶ポリマーを含む請求項1~請求項5のいずれか1項に記載のフィルム。 The liquid crystal polymer comprises a liquid crystal polymer having at least one structural unit selected from the group consisting of structural units derived from parahydroxybenzoic acid and structural units derived from 6-hydroxy-2-naphthoic acid. The film according to any one of claims 1 to 5. 前記液晶ポリマーが、6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸に由来する構成単位、芳香族ジオール化合物に由来する構成単位、テレフタル酸に由来する構成単位、及び、2,6-ナフタレンジカルボン酸に由来する構成単位よりなる群から選ばれた少なくとも1種の構成単位を有する液晶ポリマーを含む請求項1~請求項5のいずれか1項に記載のフィルム。 The liquid crystal polymer comprises a structural unit derived from 6-hydroxy-2-naphthoic acid, a structural unit derived from an aromatic diol compound, a structural unit derived from terephthalic acid, and a structure derived from 2,6-naphthalenedicarboxylic acid. 6. The film according to any one of claims 1 to 5, comprising a liquid crystal polymer having at least one structural unit selected from the group consisting of units. ポリオレフィンを更に含む請求項1~請求項7のいずれか1項に記載のフィルム。 The film according to any one of claims 1 to 7, further comprising a polyolefin. 前記ポリオレフィンの含有量が、前記フィルムの全質量に対して、0.1質量%~40質量%である請求項8に記載のフィルム。 9. The film according to claim 8, wherein the content of said polyolefin is 0.1% by mass to 40% by mass with respect to the total mass of said film. 前記フィルム中において、前記ポリオレフィンが分散相を形成している請求項8又は請求項9に記載のフィルム。 10. A film according to claim 8 or 9, wherein said polyolefin forms a dispersed phase in said film. 前記分散相の平均分散径が、0.01μm~10μmである請求項10に記載のフィルム。 11. The film according to claim 10, wherein the dispersed phase has an average dispersed diameter of 0.01 μm to 10 μm. 前記フィルムの一方の表面の240℃における弾性率が、300MPa以上である請求項1~請求項11のいずれか1項に記載のフィルム。 The film according to any one of claims 1 to 11, wherein one surface of the film has an elastic modulus at 240°C of 300 MPa or more. 層Aと、前記層Aの少なくとも一方の表面に層Bを有し、
前記層Aが、請求項1~請求項12のいずれか1項に記載のフィルムである
積層フィルム。
Having a layer A and a layer B on at least one surface of the layer A,
A laminated film, wherein the layer A is the film according to any one of claims 1 to 12.
前記層Bの140℃における弾性率が、0.1MPa以下である請求項13に記載の積層フィルム。 The laminated film according to claim 13, wherein the layer B has an elastic modulus at 140°C of 0.1 MPa or less. 請求項1~請求項12のいずれか1項に記載のフィルムの一方の表面、又は、請求項13若しくは請求項14に記載の積層フィルムの層B側の表面に、金属基板を有する積層体。 A laminate having a metal substrate on one surface of the film according to any one of claims 1 to 12 or on the layer B side surface of the laminated film according to claim 13 or 14. 請求項1~請求項12のいずれか1項に記載のフィルムの一方の表面、又は、請求項13若しくは請求項14に記載の積層フィルムのいずれかの表面に、官能基を有する化合物を含む樹脂層と、金属基板とを有し、
前記官能基が、エポキシ基、オキセタニル基、イソシアネート基、酸無水物基、カルボジイミド基、N-ヒドロキシエステル基、グリオキサール基、イミドエステル基、ハロゲン化アルキル基、及び、チオール基のいずれか1つ以上を含む
積層体。
A resin containing a compound having a functional group on one surface of the film according to any one of claims 1 to 12 or on either surface of the laminated film according to claim 13 or 14. a layer and a metal substrate;
The functional group is one or more of an epoxy group, an oxetanyl group, an isocyanate group, an acid anhydride group, a carbodiimide group, an N-hydroxyester group, a glyoxal group, an imidoester group, a halogenated alkyl group, and a thiol group. including a laminate.
前記金属基板のフィルム側表面の最大高さRzが、2.0μm以下である請求項15又は請求項16に記載の積層体。 17. The laminate according to claim 15, wherein the maximum height Rz of the film-side surface of the metal substrate is 2.0 [mu]m or less. 液晶ポリマーを含むフィルムの表面を酸化させる酸化処理工程を含み、
製造されたフィルムにおいて、25℃50%RHでの空中水滴法による水との接触角の、フィルムの内部とフィルムの一方の表面とにおける差が、7°以上である
フィルムの製造方法。
including an oxidation treatment step of oxidizing the surface of the film containing the liquid crystal polymer,
The film produced has a difference of 7° or more between the inside of the film and one surface of the film in contact angle with water measured by the water droplet method at 25°C and 50% RH.
前記製造されたフィルムの一方の表面における25℃50%RHでの空中水滴法による水との接触角が、50°以上75°未満とする酸化処理工程を有する請求項18に記載のフィルムの製造方法。 19. The production of the film according to claim 18, comprising an oxidation treatment step in which the contact angle with water on one surface of the produced film is 50° or more and less than 75° by the water droplet method at 25°C and 50% RH. Method. 前記酸化処理工程が、水溶液中で前記フィルムの表面と酸化剤と接触させる工程である請求項18又は請求項19に記載のフィルムの製造方法。 20. The method for producing a film according to claim 18 or 19, wherein the oxidation treatment step is a step of contacting the surface of the film with an oxidizing agent in an aqueous solution. 前記酸化剤の標準酸化還元電位が、1.5V以上である請求項20に記載のフィルムの製造方法。 21. The method for producing a film according to claim 20, wherein the oxidizing agent has a standard oxidation-reduction potential of 1.5 V or higher. 前記酸化剤が、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素、過マンガン酸カリウム、次亜塩素酸ナトリウム、硝酸アンモニウムセリウム、クロム酸カリウム、二クロム酸カリウム、及び、ペルオキシ一硫酸カリウム・硫酸水素カリウム・硫酸カリウムからなる複塩よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含む請求項20又は請求項21に記載のフィルムの製造方法。 The oxidizing agent is sodium persulfate, potassium persulfate, ammonium persulfate, hydrogen peroxide, potassium permanganate, sodium hypochlorite, ammonium cerium nitrate, potassium chromate, potassium dichromate, and potassium peroxymonosulfate. 22. The method for producing a film according to claim 20 or 21, comprising at least one compound selected from the group consisting of double salts consisting of potassium hydrogensulfate and potassium sulfate. 前記水溶液のpHが、12以上である請求項20~請求項22のいずれか1項に記載のフィルムの製造方法。
The method for producing a film according to any one of claims 20 to 22, wherein the aqueous solution has a pH of 12 or higher.
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