JP2023013990A - Coil component - Google Patents

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Jong Rock Lee
グム キム、ミ
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Abstract

To provide a coil component which can prevent degradation of reliability due to plating oozing in a plating step of forming an external electrode.SOLUTION: A coil component includes a body including metal magnetic particles 131 and 132 and an insulating resin 120, a coil part arranged in the body, and a first external electrode and a second external electrode which are arranged in the body so as to be separated from one another and are connected to both ends of the coil part. The surface of the body has a first region and a second region where the first external electrode and the second external electrode are arranged, and a third region where the first external electrode and the second external electrode are not arranged. A part of the metal magnetic particles is exposed to the third region of the body, and a monomolecular organic matter 10 including a hydrophobic part is provided on the exposed surface of the metal magnetic particles exposed to the third region of the body.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本発明は、コイル部品に関する。 The present invention relates to coil components.

コイル部品の一つであるインダクタ(inductor)は、抵抗器(Resistor)及びキャパシタ(Capacitor)と共に電子機器に用いられる代表的な受動電子部品である。 An inductor, which is one of coil components, is a typical passive electronic component used in electronic devices along with resistors and capacitors.

電子機器が次第に高性能化及び小型化されることにより、電子機器に用いられる電子部品の数が増加し、小型化されている。 As electronic devices become more sophisticated and smaller in size, the number of electronic components used in the electronic devices is increasing and the size is being reduced.

薄膜型インダクタの場合、めっきでコイル部を形成した絶縁基板に、金属磁性粒子と絶縁樹脂を含む磁性複合シートを積層及び硬化して本体を形成し、本体の表面に外部電極を形成する。 In the case of a thin-film inductor, a magnetic composite sheet containing metal magnetic particles and insulating resin is laminated and cured on an insulating substrate on which a coil portion is formed by plating to form a main body, and external electrodes are formed on the surface of the main body.

部品の薄型化のため外部電極の一部をめっきで形成することができるが、この場合、本体の表面に露出した金属磁性粒子によりめっき滲み(Solder Wicking)が発生する場合がある。 Although part of the external electrodes can be formed by plating in order to reduce the thickness of the parts, in this case, plating bleeding (solder wicking) may occur due to the metal magnetic particles exposed on the surface of the main body.

日本公開特許第2016-178282号Japanese Patent Publication No. 2016-178282

本発明の一例による目的は、外部電極を形成するためのめっき工程において、めっき滲みによる信頼性の低下を防止することができるコイル部品を提供することである。 An object of an example of the present invention is to provide a coil component capable of preventing deterioration in reliability due to plating bleeding in a plating process for forming external electrodes.

本発明の一例による他の目的は、工程数を減少させることができるコイル部品を提供することである。 Another object of an example of the present invention is to provide a coil component that can reduce the number of steps.

本発明の一側面によると、金属磁性粒子及び絶縁樹脂を含む本体と、上記本体内に配置されたコイル部と、上記本体に互いに離隔配置され、それぞれ上記コイル部の両端部と連結される第1及び第2外部電極とを含み、上記本体の表面は、上記第1及び第2外部電極が配置された第1及び第2領域と、上記第1及び第2外部電極が配置されていない第3領域とを有し、上記金属磁性粒子の一部は上記本体の第3領域に露出し、上記本体の第3領域に露出した上記金属磁性粒子の面には、疎水性(hydrophobic)部を含む単分子有機物があるコイル部品が提供される。 According to one aspect of the present invention, a main body including metal magnetic particles and an insulating resin, a coil part disposed in the main body, and coil parts spaced apart from each other in the main body and connected to both ends of the coil part, respectively. The surface of the body includes first and second regions where the first and second external electrodes are arranged and a second region where the first and second external electrodes are not arranged. part of the metal magnetic particles are exposed in the third region of the main body, and the surface of the metal magnetic particles exposed in the third region of the main body has a hydrophobic portion; A coil component is provided having a monomolecular organic comprising.

本発明に一例によると、外部電極を形成するためのめっき工程でめっき滲みにより部品の信頼性が低下することを防止することができる。 According to one embodiment of the present invention, it is possible to prevent deterioration of the reliability of parts due to plating bleeding in the plating process for forming the external electrodes.

また、本発明に一例によると、コイル部品の製造工程数を減少させることができる。 Also, according to an example of the present invention, the number of manufacturing steps of the coil component can be reduced.

本発明の一実施形態によるコイル部品を概略的に示す図面である。It is a drawing schematically showing a coil component according to an embodiment of the present invention. 図1のI-I'線に沿った断面を示す図面である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II′ of FIG. 1; FIG. 図1のII-II'線に沿った断面を示す図面である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II′ of FIG. 1; FIG. 図2のAを拡大したものを示す図面である。FIG. 3 is an enlarged view of A of FIG. 2; FIG. 図3のBを拡大したものを示す図面である。4 is an enlarged view of B of FIG. 3; FIG. 本発明の他の実施形態によるコイル部品を概略的に示す図面である。FIG. 4 is a schematic view of a coil component according to another embodiment of the present invention; FIG. 本発明のまた他の実施形態によるコイル部品を概略的に示す図面である。FIG. 4 is a schematic view of a coil component according to still another embodiment of the present invention; FIG. 図7のIII-III'線に沿った断面を示す図面である。FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line III-III' of FIG. 7;

本出願で使用した用語は、単に特定の実施形態を説明するために使用されたもので、本発明を限定しようとする意図ではない。単数の表現は、文脈上明らかに異なって意味しない限り、複数の表現を含む。本出願において、「含む」または「有する」などの用語は、明細書上に記載された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものが存在することを指定しようとするもので、一つまたはそれ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものなどの存在または付加可能性を予め排除しないと理解されるべきである。そして、明細書全体において「上に」とは、対象部分の上または下に位置することを意味するものであり、必ずしも重力方向を基準として上側に位置することを意味するものではない。 The terminology used in this application is only used to describe particular embodiments and is not intended to be limiting of the invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this application, terms such as "including" or "having" are intended to specify the presence of the features, numbers, steps, acts, components, parts, or combinations thereof set forth in the specification. does not preclude the presence or addition of one or more other features, figures, steps, acts, components, parts or combinations thereof. In addition, "above" throughout the specification means to be positioned above or below the target portion, and does not necessarily mean to be positioned above with respect to the direction of gravity.

また、結合とは、各構成要素間の接触関係において、各構成要素間に物理的に直接接触する場合のみを意味するものではなく、他の構成が各構成要素間に介在され、その他の構成に構成要素がそれぞれ接触されている場合まで包括する概念として使用する。 In addition, in the contact relationship between each component, the connection does not mean only the case where each component is in direct physical contact, but another configuration is interposed between each component, and another configuration It is used as a concept that includes the case where the components are in contact with each other.

図面で示された各構成の大きさ及び厚さは、説明の便宜のために任意に示したため、本発明が必ずしも示されたものに限定されるものではない。 The size and thickness of each component shown in the drawings are arbitrarily shown for convenience of explanation, and the present invention is not necessarily limited to those shown.

図面において、L方向は第1方向または長さ方向、W方向は第2方向または幅方向、T方向は第3方向または厚さ方向と定義されることができる。 In the drawings, the L direction may be defined as a first direction or length direction, the W direction may be defined as a second direction or width direction, and the T direction may be defined as a third direction or thickness direction.

以下、本発明の実施形態によるコイル部品を添付図面を参照して詳しく説明し、添付図面を参照して説明するにあたって、同一であるか対応する構成要素は同一の図面番号を付与し、これに対する重複する説明は省略する。 Hereinafter, coil components according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Redundant explanations are omitted.

電子機器には多様な種類の電子部品が用いられるが、かかる電子部品の間にはノイズ除去などの目的で多様な種類のコイル部品が適切に用いられることができる。 Various types of electronic components are used in electronic devices, and various types of coil components can be suitably used among such electronic components for purposes such as noise removal.

即ち、電子機器におけるコイル部品は、パワーインダクタ(Power Inductor)、高周波インダクタ(HF Inductor)、通常のビード(General Bead)、高周波用ビード(GHz Bead)、共通モードフィルタ(Common Mode Filter)などに用いられることができる。 That is, coil components in electronic devices are used in power inductors, high frequency inductors (HF inductors), general beads, high frequency beads (GHz beads), common mode filters, and the like. can be

図1は、本発明の一実施形態によるコイル部品を概略的に示す図面であり、図2は、図1のI-I'線に沿った断面を示す図面であり、図3は、図1のII-II'線に沿った断面を示す図面であり、図4は、図2のAを拡大したものを示す図面であり、図5は、図3のBを拡大したものを示す図面である。 FIG. 1 is a drawing schematically showing a coil component according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a drawing showing a cross section along line II′ of FIG. 1, and FIG. 4 is an enlarged view of A of FIG. 2, and FIG. 5 is an enlarged view of B of FIG. be.

図1~図5を参照すると、本発明の一実施形態によるコイル部品1000は、本体100、絶縁基板200、コイル部300、外部電極400、500及び絶縁膜IFを含むことができる。 1 to 5, a coil component 1000 according to an embodiment of the present invention may include a main body 100, an insulating substrate 200, a coil part 300, external electrodes 400 and 500, and an insulating film IF.

本体100は、本実施形態によるコイル部品1000の外観をなし、内部に後述する絶縁基板200及びコイル部300を埋設する。 The main body 100 has the appearance of the coil component 1000 according to the present embodiment, and has an insulating substrate 200 and a coil portion 300 embedded therein, which will be described later.

本体100は、全体的に六面体状で形成されることができる。 The body 100 may be generally formed in a hexahedral shape.

本体100は、図1~図3を基準として、長さ方向Lに互いに向かい合う第1面101と第2面102、幅方向Wに互いに向かい合う第3面103と第4面104、厚さ方向Tに向かい合う第5面105及び第6面106を含む。本体100の第1~第4面101、102、103、104のそれぞれは、本体100の第5面105と第6面106を連結する本体100の壁面に該当する。以下において、本体100の両断面(一断面及び他断面)は本体の第1面101及び第2面102を意味し、本体100の両側面(一側面及び他側面)は本体の第3面103及び第4面104を意味することができる。また、本体100の一面と他面はそれぞれ、本体100の第6面106と第5面105を意味することができる。本体100の第6面106は、本実施形態によるコイル部品1000を印刷回路絶縁基板などの実装絶縁基板に実装するにあたって実装面として用いられることができる。 1 to 3, the main body 100 has a first surface 101 and a second surface 102 facing each other in the length direction L, a third surface 103 and a fourth surface 104 facing each other in the width direction W, and a thickness direction T. It includes a fifth surface 105 and a sixth surface 106 facing each other. Each of the first to fourth surfaces 101 , 102 , 103 and 104 of the main body 100 corresponds to a wall surface of the main body 100 connecting the fifth surface 105 and the sixth surface 106 of the main body 100 . Hereinafter, both cross sections (one cross section and another cross section) of the body 100 refer to the first side 101 and the second side 102 of the body, and both sides (one side and the other side) of the body 100 refer to the third side 103 of the body. and fourth surface 104 . Also, the one side and the other side of the body 100 can mean the sixth side 106 and the fifth side 105 of the body 100, respectively. The sixth surface 106 of the main body 100 can be used as a mounting surface when mounting the coil component 1000 according to the present embodiment on a mounting insulating substrate such as a printed circuit insulating substrate.

本体100の全体表面101、102、103、104、105、106は、後述する外部電極400、500が配置された第1及び第2領域と、外部電極400、500が配置されていない第3領域とを有することができる。例として、図1~図3に示されたように、本体100の全体表面101、102、103、104、105、106のうち第1領域は、第1外部電極400が配置された領域、すなわち、本体100の第1面101全体と、本体100の第3~第6面103、104、105、106のそれぞれの一部を意味することができる。そして、本体100の全体表面101、102、103、104、105、106のうち第2領域は、第2外部電極500が配置された領域、すなわち、本体100の第2面102の全体と、本体100の第3~第6面103、104、105、106のそれぞれの一部を意味することができる。そして、本体100の全体表面101、102、103、104、105、106のうち第3領域は、第1及び第2外部電極400、500のそれぞれが配置されていない領域、すなわち、本体100の第3~第6面103、104、105、106のそれぞれの一部を意味することができる。 The entire surface 101, 102, 103, 104, 105, 106 of the main body 100 has first and second regions where the external electrodes 400, 500 are arranged and a third region where the external electrodes 400, 500 are not arranged. and As an example, as shown in FIGS. 1 to 3, the first regions of the entire surfaces 101, 102, 103, 104, 105, and 106 of the body 100 are the regions where the first external electrodes 400 are arranged, i.e. , can mean the entire first side 101 of the body 100 and a portion of each of the third to sixth sides 103, 104, 105, 106 of the body 100. As shown in FIG. The second area of the entire surfaces 101, 102, 103, 104, 105, and 106 of the main body 100 is the area where the second external electrode 500 is arranged, that is, the entire second surface 102 of the main body 100 and the main body. A portion of each of the third to sixth faces 103, 104, 105, 106 of 100 can be meant. A third region of the entire surfaces 101, 102, 103, 104, 105, and 106 of the body 100 is a region where the first and second external electrodes 400 and 500 are not arranged, that is, the third region of the body 100. It can mean a portion of each of the third to sixth surfaces 103, 104, 105, .

本体100は、例示的に、後述する外部電極400、500が形成された本実施形態によるコイル部品1000が2.5mmの長さ、2.0mmの幅及び1.0mmの厚さを有するか、1.6mmの長さ、0.8mmの幅及び0.8mmの厚さを有するか、1.0mmの長さ、0.5mmの幅及び0.5mmの厚さを有するか、0.8mmの長さ、0.4mmの幅及び0.65mmの厚さを有するように形成されることができるが、これに制限されるものではない。一方、コイル部品1000の長さ、幅及び厚さに対する前述した例示的な数値は、工程誤差を反映していない数値であるため、工程誤差であると認められる範囲の数値は、前述した例示的な数値に該当するというべきである。 The main body 100 has a length of 2.5 mm, a width of 2.0 mm, and a thickness of 1.0 mm, for example, the coil component 1000 according to the present embodiment in which external electrodes 400 and 500 are formed, which will be described later. 1.6 mm length, 0.8 mm width and 0.8 mm thickness; 1.0 mm length, 0.5 mm width and 0.5 mm thickness; It can be formed to have a length of 0.4 mm and a thickness of 0.65 mm, but is not limited thereto. On the other hand, the exemplary numerical values for the length, width, and thickness of the coil component 1000 are numerical values that do not reflect the process error. It should be said that it corresponds to a reasonable numerical value.

上述したコイル部品1000の長さとは、コイル部品1000の幅方向Wの中央部における長さ方向L-厚さ方向T断面(cross-section)に対する光学顕微鏡またはSEM(Scanning Electron Microscope)写真を基準として、上記断面写真に示されたコイル部品1000の長さ方向Lに向い合う2個の最外側境界線をそれぞれ連結し、長さ方向Lと平行な複数の線分それぞれのディメンション(dimension)のうち最大値を意味するものであることができる。または、上記断面写真に示されたコイル部品1000の長さ方向Lに向い合う2個の最外側境界線をそれぞれ連結し、長さ方向Lと平行な複数の線分のそれぞれのディメンション(dimension)のうち最小値を意味するものであることができる。または、上記断面写真に示されたコイル部品1000の長さ方向Lに向い合う2個の最外側境界線をそれぞれ連結し、長さ方向Lと平行な複数の線分のそれぞれのディメンション(dimension)のうち少なくとも3個以上の算術平均値を意味するものであることができる。ここで、長さ方向Lと平行な複数の線分は厚さ方向Tに互いに等間隔であることができるが、本発明の範囲がこれに制限されるものではない。 The length of the coil component 1000 described above is based on an optical microscope or SEM (Scanning Electron Microscope) photograph of a cross-section in the length direction L-thickness direction T at the center in the width direction W of the coil component 1000. , connecting two outermost boundary lines facing each other in the length direction L of the coil component 1000 shown in the cross-sectional photograph, and among the dimensions of each of a plurality of line segments parallel to the length direction L It can mean the maximum value. Alternatively, the dimension of each of a plurality of line segments parallel to the length direction L connecting two outermost boundary lines facing the length direction L of the coil component 1000 shown in the cross-sectional photograph can mean the minimum value of Alternatively, the dimension of each of a plurality of line segments parallel to the length direction L connecting two outermost boundary lines facing the length direction L of the coil component 1000 shown in the cross-sectional photograph can mean an arithmetic mean value of at least three or more of Here, the plurality of line segments parallel to the length direction L may be equally spaced in the thickness direction T, but the scope of the present invention is not limited thereto.

上述したコイル部品1000の厚さとは、コイル部品1000の幅方向Wの中央部における長さ方向L-厚さ方向T断面(cross-section)に対する光学顕微鏡またはSEM(Scanning Electron Microscope)写真を基準として、上記断面写真に示されたコイル部品1000の厚さ方向Tに向い合う2個の最外側境界線をそれぞれ連結し、厚さ方向Tと平行な複数の線分のそれぞれのディメンション(dimension)のうち最大値を意味するものであることができる。または、上記断面写真に示されたコイル部品1000の厚さ方向Tに向い合う2個の最外側境界線をそれぞれ連結し、厚さ方向Tと平行な複数の線分のそれぞれのディメンション(dimension)のうち最小値を意味するものであることができる。または、上記断面写真に示されたコイル部品1000の厚さ方向Tに向い合う2個の最外側境界線をそれぞれ連結し、厚さ方向Tと平行な複数の線分のそれぞれのディメンション(dimension)のうち少なくとも3個以上の算術平均値を意味するものであることができる。ここで、厚さ方向Tと平行な複数の線分は、長さ方向Lに互いに等間隔であることができるが、本発明の範囲がこれに制限されるものではない。 The thickness of the coil component 1000 described above is based on an optical microscope or SEM (Scanning Electron Microscope) photograph of a cross-section in the length direction L-thickness direction T at the center in the width direction W of the coil component 1000. , connecting the two outermost boundary lines facing the thickness direction T of the coil component 1000 shown in the cross-sectional photograph, and measuring the dimensions of each of a plurality of line segments parallel to the thickness direction T It can mean the maximum value among them. Alternatively, each dimension of a plurality of line segments parallel to the thickness direction T by connecting two outermost boundary lines facing the thickness direction T of the coil component 1000 shown in the cross-sectional photograph can mean the minimum value of Alternatively, each dimension of a plurality of line segments parallel to the thickness direction T by connecting two outermost boundary lines facing the thickness direction T of the coil component 1000 shown in the cross-sectional photograph can mean an arithmetic mean value of at least three or more of Here, the plurality of line segments parallel to the thickness direction T may be equidistant in the length direction L, but the scope of the present invention is not limited thereto.

上述したコイル部品1000の幅とは、コイル部品1000の厚さ方向T の中央部における長さ方向L-幅方向W断面(cross-section)に対する光学顕微鏡またはSEM(Scanning Electron Microscope)写真を基準として、上記断面写真に示されたコイル部品1000の幅方向Wに向い合う2個の最外側境界線をそれぞれ連結し、幅方向Wと平行な複数の線分のそれぞれのディメンション(dimension)のうち最大値を意味するものであることができる。または、上記断面写真に示されたコイル部品1000の幅方向Wに向い合う2個の最外側境界線をそれぞれ連結し、幅方向Wと平行な複数の線分のそれぞれのディメンション(dimension)のうち最小値を意味するものであることができる。または、上記断面写真に示されたコイル部品1000の幅方向Wに向い合う2個の最外側境界線をそれぞれ連結し、幅方向Wと平行な複数の線分のそれぞれのディメンション(dimension)のうち少なくとも3個以上の算術平均値を意味するものであることができる。ここで、幅方向Wと平行な複数の線分は、長さ方向Lに互いに等間隔であることができるが、本発明の範囲がこれに制限されるものではない。 The width of the coil component 1000 described above is based on an optical microscope or SEM (Scanning Electron Microscope) photograph of a cross-section in the length direction L-width direction W at the center in the thickness direction T of the coil component 1000. , connecting the two outermost boundary lines facing the width direction W of the coil component 1000 shown in the cross-sectional photograph, and the maximum dimension of each of a plurality of line segments parallel to the width direction W can represent a value. Alternatively, the two outermost boundary lines facing the width direction W of the coil component 1000 shown in the cross-sectional photograph are respectively connected, and the dimension of each of a plurality of line segments parallel to the width direction W is It can mean the minimum value. Alternatively, the two outermost boundary lines facing the width direction W of the coil component 1000 shown in the cross-sectional photograph are respectively connected, and the dimension of each of a plurality of line segments parallel to the width direction W is It can mean the arithmetic mean of at least three or more. Here, the plurality of line segments parallel to the width direction W may be equidistant from each other in the length direction L, but the scope of the present invention is not limited thereto.

または、コイル部品1000の長さ、幅及び厚さのそれぞれは、マイクロメーター測定法で測定されることもできる。マイクロメーター測定法は、Gage R&R(Repeatability and Reproducibility)されたマイクロメーターで零点を設定し、マイクロメーターのチップの間に本実施形態によるコイル部品1000を挿入し、マイクロメーターの測定レバーを回して測定することができる。一方、マイクロメーター測定法でコイル部品1000の長さを測定するにあたって、コイル部品1000の長さは1回測定された値を意味してもよく、複数回測定された値の算術平均を意味してもよい。これは、コイル部品1000の幅及び厚さにも同一に適用されることができる。 Alternatively, each of the length, width and thickness of coil component 1000 can be measured by micrometer measurement. In the micrometer measurement method, the zero point is set with a Gage R&R (Repeatability and Reproducibility) micrometer, the coil component 1000 according to the present embodiment is inserted between the chips of the micrometer, and the measuring lever of the micrometer is turned to measure. can do. On the other hand, when measuring the length of the coil component 1000 using a micrometer measurement method, the length of the coil component 1000 may mean a value measured once, or may mean an arithmetic mean of values measured a plurality of times. may The same can be applied to the width and thickness of the coil component 1000 as well.

本体100は、後述する絶縁基板200及びコイル部300のそれぞれの中央部を貫通するコア110を有することができる。コア110は、磁性複合シートがコイル部300及び絶縁基板200のそれぞれの中央部を貫通する貫通ホールを充填することで形成されることができるが、これに制限されるものではない。 The main body 100 may have a core 110 penetrating through the central portions of the insulating substrate 200 and the coil portion 300, which will be described later. The core 110 may be formed by filling a through hole penetrating through the center of each of the coil part 300 and the insulating substrate 200 with a magnetic composite sheet, but is not limited thereto.

本体100は、絶縁樹脂110及び金属磁性粒子131、132を含む。例として、本体100は、絶縁樹脂110及び絶縁樹脂110に分散された金属磁性粒子131、132を含む磁性複合シートを一つ以上積層して形成されることができる。 The body 100 includes an insulating resin 110 and metal magnetic particles 131 and 132 . For example, the main body 100 may be formed by stacking one or more magnetic composite sheets including the insulating resin 110 and the metal magnetic particles 131 and 132 dispersed in the insulating resin 110 .

絶縁樹脂110は、エポキシ(epoxy)、ポリイミド(polyimide)、液晶結晶性ポリマー(Liquid Crystal Polymer)などを単独または混合して含むことができるが、これに限定されるものではない。 The insulating resin 110 may include epoxy, polyimide, liquid crystal polymer, etc. alone or in combination, but is not limited thereto.

金属磁性粒子131、132のそれぞれは、鉄(Fe)、シリコン(Si)、クロム(Cr)、コバルト(Co)、モリブデン(Mo)、アルミニウム(Al)、ニオブ(Nb)、銅(Cu)、ホウ素(B)及びニッケル(Ni)からなる群から選択されたいずれか一つ以上を含むことができる。例えば、金属磁性粒子131、132は、純鉄粒子、Fe-Si系合金粒子、Fe-Si-Al系合金粒子、Fe-Ni系合金粒子、Fe-Ni-Mo系合金粒子、Fe-Ni-Mo-Cu系合金粒子、Fe-Co系合金粒子、Fe-Ni-Co系合金粒子、Fe-Cr系合金粒子、Fe-Cr-Si系合金粒子、Fe-Si-Cu-Nb系合金粒子、Fe-Ni-Cr系合金粒子、Fe-Cr-Al系合金粒子のうち少なくとも一つ以上であることができる。 Each of the metal magnetic particles 131 and 132 includes iron (Fe), silicon (Si), chromium (Cr), cobalt (Co), molybdenum (Mo), aluminum (Al), niobium (Nb), copper (Cu), At least one selected from the group consisting of boron (B) and nickel (Ni) may be included. For example, the metal magnetic particles 131 and 132 are pure iron particles, Fe—Si alloy particles, Fe—Si—Al alloy particles, Fe—Ni alloy particles, Fe—Ni—Mo alloy particles, Fe—Ni— Mo—Cu alloy particles, Fe—Co alloy particles, Fe—Ni—Co alloy particles, Fe—Cr alloy particles, Fe—Cr—Si alloy particles, Fe—Si—Cu—Nb alloy particles, At least one of Fe--Ni--Cr based alloy particles and Fe--Cr--Al based alloy particles may be used.

金属磁性粒子131、132のそれぞれは、非晶質または結晶質であることができる。例えば、金属磁性粒子131、132は、Fe-Si-B-Cr系非晶質合金粒子であることができるが、必ずしもこれに制限されるものではない。金属磁性粒子131、132のそれぞれは、平均直径が約0.1μm~30μmであることができるが、これに制限されるものではない。 Each of the metal magnetic particles 131, 132 can be amorphous or crystalline. For example, the metal magnetic particles 131 and 132 may be Fe--Si--B--Cr based amorphous alloy particles, but are not necessarily limited thereto. Each of the metal magnetic particles 131, 132 may have an average diameter of about 0.1 μm to 30 μm, but is not limited thereto.

金属磁性粒子131、132は、第1粒子131、及び第1粒子131より粒径の小さい第2粒子132を含むことができる。本明細書上において、粒径または平均直径とは、D90またはD50などで表現される粒度分布を意味するものであることができる。本発明の場合、金属磁性粒子131、132が、第1粒子131及び第1粒子131より粒径の小さい第2粒子132を含むことで、第2粒子132が第1粒子131の間の空間に配置されることができ、その結果、同一体積の本体100と比べて本体100内の磁性物質の割合が向上されることができる。一方、以下では、説明の便宜のため、本体100の金属磁性粒子131、132の粒径が互いに異なる第1粒子131と第2粒子132で構成されることを前提として説明するが、本発明の範囲がこれに制限されるものではない。本発明の制限されない他の例として、金属磁性粒子は、粒径が互いに異なる3種の粒子を含むことができる。 The metal magnetic particles 131 and 132 may include first particles 131 and second particles 132 having a smaller particle size than the first particles 131 . As used herein, particle size or average diameter can mean a particle size distribution expressed as D90 or D50 . In the case of the present invention, the metal magnetic particles 131 and 132 include the first particles 131 and the second particles 132 having a smaller particle size than the first particles 131, so that the second particles 132 are placed in the spaces between the first particles 131. can be arranged so that the proportion of magnetic material in the body 100 can be improved compared to the body 100 of the same volume. On the other hand, in the following description, for convenience of explanation, it is assumed that the metal magnetic particles 131 and 132 of the main body 100 are composed of the first particles 131 and the second particles 132 having different particle sizes. The scope is not limited to this. As another non-limiting example of the present invention, the metal magnetic particles may include three types of particles with different particle sizes.

金属磁性粒子131、132の表面には絶縁被覆層が形成されることができる。具体的に、第1粒子131は、導電性の第1コア粒子及び第1コア粒子の表面のうち少なくとも一部を被覆する第1絶縁被覆層を含むことができる。第2粒子132は、導電性の第2コア粒子及び第2コア粒子の表面のうち少なくとも一部を被覆する第2絶縁被覆層を含むことができる。絶縁被覆層は、例として、エポキシ(epoxy)、ポリイミド(polyimide)、液晶結晶性ポリマー(Liquid Crystal Polymer)などを単独または混合して含む有機膜であるか、シリカ(SiO)またはアルミナ(Al)を含む無機膜であるか、金属を含む金属酸化膜であることができる。ここで、絶縁被覆層が金属酸化膜である場合、金属酸化膜は、金属磁性粒子131、132の金属元素を含むことができるが、本発明の範囲がこれに制限されるものではなく、金属酸化膜は、金属磁性粒子131、132の金属元素以外の金属元素を含むことができる。 An insulating coating layer may be formed on the surfaces of the metal magnetic particles 131 and 132 . Specifically, the first particle 131 may include a conductive first core particle and a first insulating coating layer covering at least a portion of the surface of the first core particle. The second particles 132 may include conductive second core particles and a second insulating coating layer covering at least a portion of the surfaces of the second core particles. The insulating coating layer is, for example, an organic film containing epoxy, polyimide, liquid crystal polymer (Liquid Crystal Polymer) alone or in combination, or silica (SiO 2 ) or alumina (Al). 2 O 3 ) or a metal oxide film containing metal. Here, when the insulating coating layer is a metal oxide film, the metal oxide film may contain the metal elements of the metal magnetic particles 131 and 132, but the scope of the present invention is not limited to this. The oxide film can contain metal elements other than the metal elements of the metal magnetic particles 131 and 132 .

金属磁性粒子131、132は、本体100の第1~第6面101、102、103、104、105、106のそれぞれに露出する。 The metal magnetic particles 131, 132 are exposed on the first to sixth surfaces 101, 102, 103, 104, 105, 106 of the main body 100, respectively.

本体100の第1~第4面101、102、103、104のそれぞれに露出した金属磁性粒子131、132は、露出面が本体100の第1~第4面101、102、103、104と実質的に平行な切断面を有することができる。一般的にコイル部品の場合、大面積の絶縁基板に複数のコイル部が互いに連結された形態のコイル基板を形成し、金属磁性粒子及び絶縁樹脂を含む磁性複合シートをコイル基板に積層及び硬化して複数の本体が互いに連結された形態のコイルバー(coil bar)を製造し、個別部品の長さ方向L及び幅方向Wとそれぞれ平行なダイシングライン(dicing line)に沿ってダイシング工程を行い複数の部品の本体を個別化することができる。金属磁性粒子のうちダイシングラインに配置されたものなどは、ダイシング工程でダイシングソー(dicing saw)により切断される。これにより、本実施形態の場合、長さ方向L及び幅方向Wに互いに向い合う本体100の第1~第4面101、102、103、104に露出した金属磁性粒子131、132の露出面は、本体100の第1~第4面101、102、103、104と実質的に平行な切断面を有することができる。例として、図5を参照すると、本体100の第4面104に露出した第1金属磁性粒子131は切断面を有し、本体100の第4面104に露出した第1金属磁性粒子131の切断面は、本体100の第4面104と実質的に平行であることができる。また、図5を参照すると、本体100の第4面104に露出した第1金属磁性粒子131の切断面は、本体100の第4面104と共面(coplanar)であることができる。本体100の第4面104に露出した第1金属磁性粒子131の切断面は、第1金属磁性粒子131の第1コア粒子及び第1絶縁被覆層が共に切断されたものであることができる。このような結果、第1金属磁性粒子131の切断面には、第1金属磁性粒子131の第1コア粒子が本体100の第4面104に露出し、第1金属磁性粒子131の金属成分が本体100の第4面104に露出することができる。一方、図5には、第1金属磁性粒子131のみが本体100の第4面104に露出し、切断面を有すると示しているが、これは例示的な事項に過ぎず、第2金属磁性粒子132も本体100の第4面104に露出し切断面を有することができる。また、上述した本体100の第4面104及び本体100の第4面104に露出した金属磁性粒子131、132に対する内容は、本体100の第1面101及び本体100の第1面101に露出した金属磁性粒子131、132、本体100の第2面102及び本体100の第2面102に露出した金属磁性粒子131、132、及び本体100の第3面103及び本体100の第3面103に露出した金属磁性粒子131、132にもそれぞれ適用されることができる。 The exposed surfaces of the metal magnetic particles 131 and 132 exposed on the first to fourth surfaces 101, 102, 103 and 104 of the body 100 are substantially the same as the first to fourth surfaces 101, 102, 103 and 104 of the body 100. can have planes parallel to each other. Generally, in the case of a coil component, a coil substrate is formed in a form in which a plurality of coil parts are connected to each other on a large-area insulating substrate, and a magnetic composite sheet containing metal magnetic particles and an insulating resin is laminated and cured on the coil substrate. to manufacture a coil bar in which a plurality of bodies are connected to each other, and perform a dicing process along dicing lines parallel to the length direction L and the width direction W of the individual parts, respectively. The body of the part can be individualized. Among the metal magnetic particles, those arranged on the dicing line are cut by a dicing saw in the dicing process. Accordingly, in the case of the present embodiment, the exposed surfaces of the metal magnetic particles 131 and 132 exposed on the first to fourth surfaces 101, 102, 103 and 104 of the main body 100 facing each other in the length direction L and the width direction W are , can have a cutting plane substantially parallel to the first to fourth faces 101 , 102 , 103 , 104 of the body 100 . As an example, referring to FIG. 5, the first metal magnetic particles 131 exposed on the fourth surface 104 of the body 100 have cut surfaces, and the first metal magnetic particles 131 exposed on the fourth surface 104 of the body 100 are cut. The plane can be substantially parallel to the fourth side 104 of the body 100 . Also, referring to FIG. 5 , the cut surfaces of the first metal magnetic particles 131 exposed on the fourth surface 104 of the body 100 may be coplanar with the fourth surface 104 of the body 100 . The cut surfaces of the first metal magnetic particles 131 exposed on the fourth surface 104 of the body 100 may be obtained by cutting both the first core particles and the first insulating coating layer of the first metal magnetic particles 131 . As a result, the first core particles of the first metal magnetic particles 131 are exposed on the fourth surface 104 of the main body 100 on the cut surfaces of the first metal magnetic particles 131, and the metal components of the first metal magnetic particles 131 are exposed. It can be exposed on the fourth surface 104 of the body 100 . On the other hand, FIG. 5 shows that only the first metal magnetic particles 131 are exposed on the fourth surface 104 of the main body 100 and have cut surfaces, but this is only an example and the second metal magnetic particles Particles 132 may also be exposed on fourth surface 104 of body 100 and have a cut surface. In addition, the fourth surface 104 of the main body 100 and the contents of the metal magnetic particles 131 and 132 exposed on the fourth surface 104 of the main body 100 are exposed on the first surface 101 of the main body 100 and the first surface 101 of the main body 100. The metal magnetic particles 131 and 132, the second surface 102 of the main body 100 and the metal magnetic particles 131 and 132 exposed on the second surface 102 of the main body 100 and the third surface 103 of the main body 100 and exposed on the third surface 103 of the main body 100 can also be applied to the metal magnetic particles 131 and 132, respectively.

本体100の第5及び第6面105、106のそれぞれに露出した金属磁性粒子131、132は、露出面上に配置された絶縁被覆層の一部が除去されてコア粒子を露出することができる。一般的に、前述したダイシング工程以後の後続工程で個別本体の上下面は、外部の化学的及び/または物理的要因に露出するようになる。これにより、本実施形態の場合、厚さ方向Tに互いに向い合う本体100の第5及び第6面105、106に露出した金属磁性粒子131、132は、露出面上に配置された絶縁被覆層の一部が除去されることができる。例として、図4を参照すると、本体100の第5面105に露出した第1金属磁性粒子131は、外部に露出した部分の絶縁被覆層の一部が除去されることができる。一方、図4には、第1金属磁性粒子131のみが本体100の第5面105に露出し、絶縁被覆層の一部が除去されたものと示しているが、これは例示的な事項に過ぎず、第2金属磁性粒子132も本体100の第5面105に露出することができる。また、図4には、本体100の第5面105に露出した全ての第1金属磁性粒子131の絶縁被覆層の一部が除去されたものを示しているが、これは例示的なものに過ぎないため、露出した第1金属磁性粒子131のうち一部の絶縁被覆層が除去されていない場合を本発明から除外するものではない。さらに、上述した本体100の第5面105及び本体100の第5面105に露出した金属磁性粒子131、132に対する内容は、本体100の第6面106及び本体100の第6面106に露出した金属磁性粒子131、132にもそれぞれ適用されることができる。 The metal magnetic particles 131 and 132 exposed on the fifth and sixth surfaces 105 and 106 of the main body 100 may be partially removed from the insulating coating layer disposed on the exposed surfaces to expose the core particles. . In general, the upper and lower surfaces of the individual bodies are exposed to external chemical and/or physical factors in subsequent processes after the dicing process. Accordingly, in the case of the present embodiment, the metal magnetic particles 131 and 132 exposed on the fifth and sixth surfaces 105 and 106 of the main body 100 facing each other in the thickness direction T are covered by the insulating coating layers disposed on the exposed surfaces. can be removed. For example, referring to FIG. 4, the first metal magnetic particles 131 exposed on the fifth surface 105 of the main body 100 may have a part of the insulating coating layer that is exposed to the outside removed. On the other hand, FIG. 4 shows that only the first metal magnetic particles 131 are exposed on the fifth surface 105 of the main body 100 and part of the insulating coating layer is removed, but this is only an example. Not only that, the second metal magnetic particles 132 may also be exposed on the fifth surface 105 of the body 100 . In addition, FIG. 4 shows that part of the insulating coating layer of all the first metal magnetic particles 131 exposed on the fifth surface 105 of the main body 100 is removed, but this is an example. Therefore, the present invention does not exclude the case where the insulating coating layer of some of the exposed first metal magnetic particles 131 is not removed. In addition, the fifth surface 105 of the main body 100 and the contents of the metal magnetic particles 131 and 132 exposed on the fifth surface 105 of the main body 100 are exposed on the sixth surface 106 of the main body 100 and the sixth surface 106 of the main body 100. It can also be applied to metal magnetic particles 131 and 132, respectively.

このような結果、本実施形態の場合、本体100の全体表面101、102、103、104、105、106のうち第3領域である、本体100の第3~第6面103、104、105、106のそれぞれの一部には、金属磁性粒子131、132が露出する。本体100の第3~第6面103、104、105、106のそれぞれに露出した金属磁性粒子131、132の露出面は、前述したように、金属磁性粒子131、132のコア粒子が露出することができる。 As a result, in the case of the present embodiment, the third to sixth surfaces 103, 104, 105, Metal magnetic particles 131 and 132 are exposed on a portion of each of 106 . As described above, the exposed surfaces of the metal magnetic particles 131 and 132 exposed on the third to sixth surfaces 103, 104, 105 and 106 of the body 100 expose the core particles of the metal magnetic particles 131 and 132. can be done.

本体100の第3領域における金属磁性粒子131、132の露出面には、単分子有機物10が配置されることができる。単分子有機物10は、疎水性(hydrophobic)部と、疎水性部及び金属磁性粒子131、132の露出面の間に配置された親水性(hydrophilic)部とを有する。すなわち、単分子有機物10は界面活性剤であることができる。単分子有機物10の親水性部は、金属磁性粒子131、132の露出面に存在する金属陽イオン(Mn+)と結合するために陰電荷を含むことができる。よって、単分子有機物10は、陰イオン(系)界面活性剤(anionic surfactant)及び/または両性界面活性剤(amphoteric surfactant)を用いて形成されることができる。例として、単分子有機物10の親水性部は、カルボキシル基(COO-)、スルホン酸基(SOO-)及びリン酸基(POO-)のうち少なくとも一つを含むことができる。一方、本明細書において単分子有機物10とは、重合反応(polymerization)を経らない単量体を意味することができる。また、単分子有機物10とは、分子量が100以上500以下の有機物を意味することができる。一方、単分子有機物10の分子量が100未満の場合は、疎水性部の長さが短く単分子有機物10の疎水性部の疎水性が低くなるおそれがあり、その結果、後続工程であるめっき工程でめっき滲みが発生し得る。また、単分子有機物10の分子量が500超の場合は、本体100の表面に単分子有機物10を形成するための工程に用いられる処理液に単分子有機物が溶解されにくいおそれがある。また、単分子有機物10の分子量が500超の場合は、外部電極400、500の導電性樹脂層410、510に単分子有機物10が固着し得るため、後続工程であるめっき工程で形成される第1金属層421、521が導電性樹脂層410、510に形成されにくいか、形成されても剥離され易い。 A monomolecular organic material 10 may be disposed on the exposed surfaces of the metal magnetic particles 131 and 132 in the third region of the body 100 . The monomolecular organic material 10 has a hydrophobic portion and a hydrophilic portion disposed between the hydrophobic portion and the exposed surfaces of the metal magnetic particles 131 , 132 . That is, the unimolecular organic material 10 can be a surfactant. The hydrophilic portion of the unimolecular organic material 10 can contain negative charges to bind with the metal cations (M n+ ) present on the exposed surfaces of the metal magnetic particles 131,132. Therefore, the unimolecular organic material 10 can be formed using an anionic surfactant and/or an amphoteric surfactant. For example, the hydrophilic portion of the monomolecular organic material 10 may include at least one of a carboxyl group (COO-), a sulfonic acid group (SOO-) and a phosphate group (POO-). Meanwhile, in the present specification, the monomolecular organic material 10 may mean a monomer that does not undergo polymerization. In addition, the monomolecular organic substance 10 may mean an organic substance having a molecular weight of 100 or more and 500 or less. On the other hand, when the molecular weight of the monomolecular organic substance 10 is less than 100, the length of the hydrophobic part is short, and the hydrophobicity of the hydrophobic part of the monomolecular organic substance 10 may become low. Bleeding of the plating may occur. In addition, when the molecular weight of the monomolecular organic substance 10 exceeds 500, the monomolecular organic substance may be difficult to dissolve in the processing liquid used in the process for forming the monomolecular organic substance 10 on the surface of the main body 100 . In addition, when the molecular weight of the monomolecular organic substance 10 exceeds 500, the monomolecular organic substance 10 may adhere to the conductive resin layers 410, 510 of the external electrodes 400, 500, so that the second layer formed in the subsequent plating step is formed. 1 The metal layers 421 and 521 are difficult to form on the conductive resin layers 410 and 510, or are easily peeled off even if they are formed.

本体100に単分子有機物10を配置する工程は、本体100の第1及び第2領域に後述する外部電極400、500の導電性樹脂層410、510を形成して本体100の第3領域のみを外部に露出させた後、行われることができる。よって、単分子有機物10は、本体100の表面のうち第1及び第2領域に配置されず、本体100の表面のうち第3領域のみに配置されることができる。 The step of disposing the monomolecular organic material 10 on the main body 100 includes forming conductive resin layers 410 and 510 of the external electrodes 400 and 500 described later on the first and second regions of the main body 100 and leaving only the third region of the main body 100. It can be done after exposing to the outside. Therefore, the monomolecular organic material 10 may be disposed only on the third region of the surface of the body 100 without being disposed on the first and second regions of the surface of the body 100 .

金属磁性粒子131、132の露出面に存在する金属陽イオン(Mn+)は、例として、金属磁性粒子131、132のコア粒子に由来したものであってもよく、コア粒子以外に由来したものであってもよい。前者の場合は、例として、本体100の表面を酸洗処理するからであり、金属磁性粒子131、132の露出面に存在する金属陽イオン(Mn+)は鉄イオン(Fe2+またはFe3+)を含むことができる。後者の場合は、例として、本体100の表面をリン酸塩などを用いて化成処理するからであり、金属磁性粒子131、132の露出面に存在する金属陽イオン(Mn+)は、リン酸塩に由来したマンガンイオン(Mg2+)及び/または亜鉛イオン(Zn2+)を含むことができる。一方、本体100に酸洗処理とリン酸塩処理のいずれも行った場合は、金属磁性粒子131、132の露出面には、鉄イオン(Fe2+またはFe3+)と、マンガンイオン(Mg2+)及び亜鉛イオン(Zn2+)のうち少なくとも一つが、それぞれ存在することができる。 The metal cations (M n+ ) present on the exposed surfaces of the metal magnetic particles 131 and 132 may, for example, originate from the core particles of the metal magnetic particles 131 and 132, or may originate from sources other than the core particles. may be In the former case, for example, the surface of the main body 100 is pickled . can include In the latter case, for example, the surface of the main body 100 is chemically treated using a phosphate or the like, and the metal cations (M n+ ) present on the exposed surfaces of the metal magnetic particles 131 and 132 are converted to phosphoric acid. Manganese ions (Mg 2+ ) and/or zinc ions (Zn 2+ ) derived from salts may be included. On the other hand, when the main body 100 is subjected to both the pickling treatment and the phosphating treatment, the exposed surfaces of the metal magnetic particles 131 and 132 have iron ions (Fe 2+ or Fe 3+ ) and manganese ions (Mg 2+ ). and zinc ions (Zn 2+ ) can each be present.

一方、図4及び図5には、本実施形態の単分子有機物10が金属陽イオン(Mn+)と結合してステアリン酸塩(stearate)を形成することが示されているが、これに制限されるものではない。他の例として、単分子有機物10は、金属陽イオン(Mn+)と結合して、アルキルベンゼンスルホン酸塩(alkylbenzene sulfonate)、アルキルスルホン酸塩(alkyl sulfonate)、アルキル硫酸塩(alkyl sulfate)、フッ化脂肪酸塩(salts of fluorinated fatty acid)、脂肪アルコール硫酸塩(fatty alcohol sulfate)、α-オレフィンスルホン酸塩(α-olefin sulfonate)、アルキルアルコールアミド(alkyl alcohol amide)、アルキルスルホン酸アセトアミド(alkyl sulfonic acid acetamide)、アルキルスクシン酸スルホン酸塩(alkyl succinate sulfonate salts)、アミノアルコールアルキルベンゼンスルホン酸塩(amino alcohol alkylbenzene sulfonate)、ナフテン酸塩(naphthenate)、アルキルフェノールスルホン酸塩(alkylphenol sulfonate)、ナフタレンスルホン酸塩(naphthalene sulfonate)、ナフタレンカルボキシル酸塩(naphthalene carboxylate)のうち少なくとも一つを形成することができる。 On the other hand, FIGS. 4 and 5 show that the monomolecular organic material 10 of the present embodiment combines with metal cations (M n+ ) to form stearate, but this is not the only limitation. not to be As another example, the unimolecular organics 10 combine with metal cations (M n+ ) to form alkylbenzene sulfonates, alkyl sulfonates, alkyl sulfates, and fluorides. salts of fluorinated fatty acid, fatty alcohol sulfate, α-olefin sulfonate, alkyl alcohol amide, alkyl sulfonic acid acetamide acid acetamide, alkyl succinate sulfonate salts, amino alcohol alkylbenzene sulfonate, naphthenate, alkylphenol sulfonate, naphthalene sulfonate At least one of a salt (naphthalene sulfonate) and a naphthalene carboxylate can be formed.

単分子有機物10が、本体100の表面のうち第3領域にあること、または本体100が表面のうち金属磁性粒子131、132が露出した領域にあることは、物質の移動性差によって物質を区別するクロマトグラフィー(Chromatography)法を通じて観測することができる。クロマトグラフィーは、液体クロマトグラフィー(Liquid Chromatography、LC)または気体クロマトグラフィー(Gas Chromatography、GC)であってよい。すなわち、本体の表面のうち第3領域をエチルアルコール、IPA及びベンゼンのうち少なくとも一つを含む有機溶媒に沈積すると、当該有機溶媒に単分子有機物10が溶解抽出されるが、かかる有機溶媒にクロマトグラフィーを行えば単分子有機物10を定量分析及び定性分析することができる。 The fact that the monomolecular organic substance 10 is present on the third region of the surface of the body 100 or that the body 100 is present on the region where the metal magnetic particles 131 and 132 are exposed on the surface distinguishes the substances according to their mobility difference. It can be observed through a chromatographic method. Chromatography may be Liquid Chromatography (LC) or Gas Chromatography (GC). That is, when the third region of the surface of the main body is deposited in an organic solvent containing at least one of ethyl alcohol, IPA and benzene, the monomolecular organic substance 10 is dissolved and extracted in the organic solvent. Quantitative analysis and qualitative analysis of the monomolecular organic substance 10 can be carried out by the photography.

一般的なコイル部品の場合、前述したダイシング工程などにより、個別本体の表面には導電性である金属磁性粒子が露出する。本体の表面に金属磁性粒子が露出すると、外部電極形成工程中のめっき工程において、めっき層が本体の表面のうち外部電極形成を意図した領域だけでなく、それ以外の領域にも形成されることがある。すなわち、本体の表面に露出した導電性の金属磁性粒子により、めっき液に含まれた金属イオンが本体の表面全体に選択性なく形成されるおそれがある。これを防止するために、従来のコイル部品の場合、外部電極を形成するためのめっき工程の前に、本体の表面のうち外部電極形成領域を除いた残りの領域に表面絶縁層を選択的に形成する工程を追加する必要があった。しかし、本体の表面に表面絶縁層を選択的に形成するためには、表面絶縁層を本体の表面全体に形成した後、表面絶縁層のうち外部電極を形成するための領域に対応する領域のみを除去するか、表面絶縁層を本体の表面のうち一部に選択的に形成する必要があるが、前者の場合、部品の軽薄短小化により個別本体の整列が非常に難しくなるという問題点が生じるおそれがあり、後者の場合、各部品別に表面絶縁層の選択的形成工程が個別で進行される必要があるため、生産性に問題が生じるおそれがある。さらに、従来の表面絶縁層は、樹脂ペーストを塗布及び硬化するか、絶縁樹脂フィルムを積層及び硬化して形成されるため、相対的に表面絶縁層の厚さが厚くなり、同一サイズの部品に対して磁性物質の有効体積が減少するという問題が生じるおそれがある。 In the case of a general coil component, conductive metal magnetic particles are exposed on the surface of the individual body by the dicing process described above. When the metal magnetic particles are exposed on the surface of the main body, a plating layer is formed not only on the area of the surface of the main body intended for forming the external electrode but also on other areas in the plating process during the process of forming the external electrode. There is That is, the conductive metal magnetic particles exposed on the surface of the main body may cause metal ions contained in the plating solution to be formed on the entire surface of the main body without selectivity. In order to prevent this, in the case of conventional coil components, a surface insulating layer is selectively formed on the remaining area of the surface of the main body excluding the external electrode formation area before the plating process for forming the external electrodes. It was necessary to add a forming step. However, in order to selectively form the surface insulating layer on the surface of the main body, after the surface insulating layer is formed on the entire surface of the main body, only the regions of the surface insulating layer corresponding to the regions for forming the external electrodes are formed. However, in the former case, it is very difficult to align the individual bodies due to the reduction in the size and weight of the parts. In the latter case, the process of selectively forming the surface insulating layer needs to be individually performed for each component, which may cause problems in productivity. Furthermore, since the conventional surface insulating layer is formed by applying and curing a resin paste or by laminating and curing an insulating resin film, the thickness of the surface insulating layer is relatively thick, which makes it possible to manufacture parts of the same size. On the other hand, there is a possibility that the effective volume of the magnetic substance is reduced.

本実施形態の場合、本体100の第3領域に露出した金属磁性粒子131、132の露出面に疎水性(hydrophobic)部を含む単分子有機物10を配置することで、前述した従来技術の問題を解決する。単分子有機物10は、金属磁性粒子131、132の露出面に存在し疎水性部を含むため、めっき工程のめっき液及びめっき液の金属イオンとの反応性が顕著に低下する。よって、本実施形態の場合、金属磁性粒子131、132の露出面に沿って発生し得る前述しためっき滲みの問題点を減少させることができる。また、本実施形態の場合、単分子有機物10のみで前述しためっき滲みを防止することができるため、従来の表面絶縁層と異なり、めっき防止機能を担当する構成の厚さを顕著に薄型化することができる。これにより、同一サイズの部品に対する磁性物質の有効体積を増加させることができる。また、本実施形態の場合、単分子有機物10形成工程のみでめっき滲みを防止することができるため、前述した従来技術の部品の軽薄短小化による個別本体の整列の問題、各部品の本体に表面絶縁層を形成するための工程が個別進行されることによる生産性低下の問題などを効果的に防止することができる。例として、外部電極400、500の導電性樹脂層410、510を本体100の第1及び第2領域に形成した後、単分子有機物10を形成する工程を行う場合において、導電性樹脂層410、510に含まれた銀(Ag)及び/または銅(Cu)などの導電性粒子は、前述した酸洗処理及びリン酸塩処理に用いられる酸性溶液との反応性が相対的に低く、これにより酸洗処理及びリン酸塩処理をしても、外部電極400、500の導電性樹脂層410、510の露出面には金属陽イオンが存在しないことがある。その結果、酸洗処理及びリン酸塩処理などを経た本体100は、本体100の表面のうち本体100の第3領域のみに部分的に陽電荷を有する。単分子有機物10の親水部が陰イオンを有するため、単分子有機物10は、本体100の表面のうち陽電荷を有する本体100の第3領域のみに高い選択性を有し配置されることができる。この結果、めっき滲みを防止するための構成を複数の本体表面に一括して配置させることができ、生産性が向上されることができる。 In the case of the present embodiment, by disposing the monomolecular organic material 10 including the hydrophobic portion on the exposed surfaces of the metal magnetic particles 131 and 132 exposed in the third region of the main body 100, the above-described problems of the prior art are solved. Resolve. Since the monomolecular organic substance 10 exists on the exposed surfaces of the metal magnetic particles 131 and 132 and includes a hydrophobic portion, the reactivity of the plating solution and the metal ions of the plating solution in the plating process is significantly reduced. Therefore, in the case of this embodiment, it is possible to reduce the aforementioned problem of plating bleeding that may occur along the exposed surfaces of the metal magnetic particles 131 and 132 . In addition, in the case of the present embodiment, since the above-mentioned plating bleeding can be prevented only by the monomolecular organic substance 10, unlike the conventional surface insulating layer, the thickness of the structure responsible for the plating prevention function can be significantly reduced. be able to. This can increase the effective volume of magnetic material for the same size part. In addition, in the case of the present embodiment, since plating bleeding can be prevented only by the process of forming the monomolecular organic substance 10, there is the problem of the alignment of individual main bodies due to the lightness, thinness, shortness and miniaturization of the parts of the conventional technology described above. It is possible to effectively prevent the problem of lower productivity due to the individual progress of the process for forming the insulating layer. For example, when the step of forming the monomolecular organic material 10 is performed after the conductive resin layers 410 and 510 of the external electrodes 400 and 500 are formed in the first and second regions of the main body 100, the conductive resin layers 410, The conductive particles such as silver (Ag) and/or copper (Cu) contained in 510 have relatively low reactivity with the acidic solutions used in the pickling and phosphating processes described above, which Metal cations may not exist on the exposed surfaces of the conductive resin layers 410 and 510 of the external electrodes 400 and 500 even after pickling and phosphating. As a result, the main body 100 that has undergone the pickling treatment, the phosphating treatment, etc. has positive charges only in the third region of the main body 100 in the surface of the main body 100 . Since the hydrophilic part of the monomolecular organic material 10 has an anion, the monomolecular organic material 10 can be disposed with high selectivity only on the third region of the body 100 having a positive charge among the surfaces of the body 100. . As a result, the configuration for preventing plating bleeding can be collectively arranged on a plurality of main body surfaces, and productivity can be improved.

単分子有機物10を形成するための処理液の濃度は、0.001g/L~10g/Lであることができる。好ましくは、0.1g/L~2g/Lである。処理液の濃度が0.001g/L未満の場合は、単分子有機物10が不均一に本体100の表面に存在するおそれがある。処理液の濃度が10g/L超の場合は、単分子有機物10が溶媒に溶解されにくいおそれがあり、本体100の表面に単分子有機物10が必要以上に存在して、導電性樹脂層410に外部電極400、500の金属層421、521;422、522がめっき形成されるのが困難なおそれがある。 The concentration of the treatment liquid for forming the unimolecular organics 10 can be from 0.001 g/L to 10 g/L. Preferably, it is 0.1 g/L to 2 g/L. If the concentration of the treatment liquid is less than 0.001 g/L, the monomolecular organic matter 10 may exist unevenly on the surface of the main body 100 . If the concentration of the treatment liquid exceeds 10 g/L, the monomolecular organic matter 10 may be difficult to dissolve in the solvent. 422, 522 of the external electrodes 400, 500 may be difficult to plate.

金属磁性粒子131、132は、本体100の表面のうち第3領域、すなわち、本体100の第3~第6面103、104、105、106のそれぞれで互いに離隔した複数で露出するため、単分子有機物10は、複数の金属磁性粒子131、132の露出面のそれぞれに存在することができる。例として、本体100の第3面103には、複数の金属磁性粒子131、132が互いに離隔した形態で複数で露出するが、このような金属磁性粒子131、132の複数の露出面に単分子有機物10が配置されることができる。この結果、単分子有機物10は、本体100のいずれか一つの面で島状で存在することができるが、本発明の範囲がこれに制限されるものではない。 The metal magnetic particles 131 and 132 are exposed in the third region of the surface of the main body 100, that is, in the third to sixth surfaces 103, 104, 105, and 106 of the main body 100, respectively. The organic matter 10 can exist on each of the exposed surfaces of the plurality of metal magnetic particles 131 and 132 . For example, a plurality of metal magnetic particles 131 and 132 are exposed on the third surface 103 of the main body 100 while being separated from each other. An organic matter 10 can be placed. As a result, the monomolecular organic material 10 may exist in the form of islands on any one surface of the body 100, but the scope of the present invention is not limited thereto.

単分子有機物10は、本体100の第3領域を形成する絶縁樹脂120の少なくとも一部にさらに存在することができる。例として、単分子有機物10は、本体100の第5面105のうち第1及び第2外部電極400、500が形成されない領域において、金属磁性粒子131、132の露出面だけでなく、絶縁樹脂120の露出面にも配置されることができる。単分子有機物10を形成するための表面処理工程において、工程時間、当該表面処理溶液の濃度などによって単分子有機物10は絶縁樹脂120とも結合されることができる。 The monomolecular organic material 10 may further reside in at least a portion of the insulating resin 120 forming the third region of the body 100 . For example, the monomolecular organic material 10 is applied not only to the exposed surfaces of the metal magnetic particles 131 and 132 but also to the insulating resin 120 in the regions where the first and second external electrodes 400 and 500 are not formed on the fifth surface 105 of the main body 100 . can also be placed on the exposed surface of the In the surface treatment process for forming the monomolecular organic material 10, the monomolecular organic material 10 may be combined with the insulating resin 120 depending on the process time, the concentration of the surface treatment solution, and the like.

絶縁基板200は本体100に埋設される。絶縁基板200は後述するコイル部300を支持する構成である。 An insulating substrate 200 is embedded in the body 100 . The insulating substrate 200 is configured to support a coil section 300 which will be described later.

絶縁基板200は、エポキシ樹脂のような熱硬化性絶縁樹脂、ポリイミドのような熱可塑性絶縁樹脂、及び感光性絶縁樹脂のうち少なくとも一つを含む絶縁材料で形成されることができる。または、上述した少なくとも一つの樹脂にガラス繊維または無機フィラーのような補強材が含浸された絶縁材料で形成されることができる。例として、絶縁基板200は、プリプレグ(prepreg)、ABF(Ajinomoto Build-up Film)、FR-4、BT(Bismaleimide Triazine)樹脂、PID(Photo Imagable Dielectric)などの絶縁材料として形成されることができるが、これに制限されるものではない。 The insulating substrate 200 may be made of an insulating material including at least one of a thermosetting insulating resin such as epoxy resin, a thermoplastic insulating resin such as polyimide, and a photosensitive insulating resin. Alternatively, it may be formed of an insulating material in which at least one of the above resins is impregnated with a reinforcing material such as glass fiber or inorganic filler. For example, the insulating substrate 200 may be formed of an insulating material such as prepreg, Ajinomoto Build-up Film (ABF), FR-4, Bismaleimide Triazine (BT) resin, and Photo Imaginable Dielectric (PID). However, it is not limited to this.

無機フィラーとしては、シリカ(SiO)、アルミナ(Al)、炭化ケイ素(SiC)、硫酸バリウム(BaSO)、タルク、泥、雲母パウダー、水酸化アルミニウム(Al(OH))、水酸化マグネシウム(Mg(OH))、炭酸カルシウム(CaCO)、炭酸マグネシウム(MgCO)、酸化マグネシウム(MgO)、窒化ホウ素(BN)、ホウ酸アルミニウム(AlBO)、チタン酸バリウム(BaTiO)及びジルコン酸カルシウム(CaZrO)で構成された群から選択された少なくとも一つ以上が使用されることができる。 Inorganic fillers include silica ( SiO2 ), alumina ( Al2O3 ), silicon carbide (SiC), barium sulfate ( BaSO4 ), talc, mud, mica powder, aluminum hydroxide (Al(OH) 3 ) , magnesium hydroxide (Mg(OH) 2 ), calcium carbonate ( CaCO3 ), magnesium carbonate ( MgCO3 ), magnesium oxide (MgO), boron nitride (BN), aluminum borate ( AlBO3 ), barium titanate (BaTiO 3 ) and calcium zirconate (CaZrO 3 ).

絶縁基板200が補強材を含む絶縁材料で形成される場合、絶縁基板200は、より優れた剛性を提供することができる。絶縁基板200がガラス繊維を含まない絶縁材料で形成される場合、絶縁基板200は、コイル部300全体の厚さを薄型化するのに有利である。絶縁基板200が感光性絶縁樹脂を含む絶縁材料で形成される場合、コイル部300を形成するための工程数が減り生産費の節減に有利であり、微細なビアを形成するのに有利である。 If the insulating substrate 200 is made of an insulating material that includes a reinforcing material, the insulating substrate 200 can provide better rigidity. If the insulating substrate 200 is made of an insulating material that does not contain glass fiber, the insulating substrate 200 is advantageous in reducing the thickness of the entire coil part 300 . If the insulating substrate 200 is formed of an insulating material including a photosensitive insulating resin, the number of processes for forming the coil part 300 is reduced, which is advantageous in reducing production costs and in forming fine vias. .

コイル部300は、本体100の内部に配置され、コイル部品の特性を発現する。例えば、本実施形態のコイル部品1000がパワーインダクタとして活用される場合、コイル部300は、電場を磁場で貯蔵して出力電圧を維持することで、電子機器の電源を安定させる役割をすることができる。 The coil part 300 is arranged inside the main body 100 and exhibits the characteristics of the coil component. For example, when the coil component 1000 of the present embodiment is used as a power inductor, the coil unit 300 stores an electric field in a magnetic field to maintain an output voltage, thereby stabilizing the power supply of an electronic device. can.

コイル部300は、コイルパターン311、312、ビア320及び引出パターン331、332を含む。具体的に、コイル部300は、図1~図3の方向を基準として、本体100の第6面106と向かい合う絶縁基板200の下面に第1コイルパターン311及び第1引出パターン331が配置され、絶縁基板200の下面と向かい合う絶縁基板200の上面に第2コイルパターン312及び第2引出パターン332が配置される。ビア320は、絶縁基板200を貫通して第1コイルパターン311及び第2コイルパターン312のそれぞれの内側端部に接触連結される。第1及び第2引出パターン331、332は、本体100の第1及び第2面101、102に露出し、後述する第1及び第2外部電極400、500とそれぞれ連結される。このようにすることで、コイル部300は、第1及び第2外部電極400、500の間で全体的に一つのコイルとして機能することができる。 The coil part 300 includes coil patterns 311 and 312 , vias 320 and lead patterns 331 and 332 . Specifically, in the coil part 300, the first coil pattern 311 and the first lead pattern 331 are arranged on the lower surface of the insulating substrate 200 facing the sixth surface 106 of the main body 100 with reference to the direction of FIGS. A second coil pattern 312 and a second lead pattern 332 are arranged on the upper surface of the insulating substrate 200 facing the lower surface of the insulating substrate 200 . The vias 320 pass through the insulating substrate 200 and are contact-connected to inner ends of the first coil pattern 311 and the second coil pattern 312 . The first and second extraction patterns 331 and 332 are exposed on the first and second surfaces 101 and 102 of the body 100 and connected to first and second external electrodes 400 and 500, respectively, which will be described later. By doing so, the coil part 300 can function as a single coil as a whole between the first and second external electrodes 400 and 500 .

第1コイルパターン311と第2コイルパターン312のそれぞれは、コア110を軸として少なくとも一つのターン(turn)を形成した平面螺旋状であることができる。例として、第1コイルパターン311は、絶縁基板200の下面でコア110を軸として少なくとも一つのターン(turn)を形成することができる。 Each of the first coil pattern 311 and the second coil pattern 312 may have a planar spiral shape forming at least one turn around the core 110 . For example, the first coil pattern 311 may form at least one turn around the core 110 on the bottom surface of the insulating substrate 200 .

引出パターン331、332は、それぞれ本体100の第1及び第2面101、102に露出する。具体的に、第1引出パターン331は本体100の第1面101に露出し、第2引出パターン332は本体100の第2面102に露出する。 The lead patterns 331 and 332 are exposed on the first and second surfaces 101 and 102 of the main body 100, respectively. Specifically, the first extraction pattern 331 is exposed on the first surface 101 of the body 100 , and the second extraction pattern 332 is exposed on the second surface 102 of the body 100 .

コイルパターン311、312、ビア320及び引出パターン331、332のうち少なくとも一つは、少なくとも一つの導電層を含むことができる。 At least one of the coil patterns 311 and 312, the via 320 and the extraction patterns 331 and 332 may include at least one conductive layer.

例として、第2コイルパターン312、ビア320及び第2引出パターン332を絶縁基板200の上面側にめっきで形成する場合、第2コイルパターン312、ビア320及び第2引出パターン332は、それぞれシード層と電解めっき層を含むことができる。ここで、電解めっき層は断層構造であってもよく、多層構造であってもよい。多層構造の電解めっき層は、いずれか一つの電解めっき層の表面に沿って他の一つの電解めっき層が形成されたコンフォーマル(conformal)な膜構造で形成されてもよく、いずれか一つの電解めっき層の一面のみに他の一つの電解めっき層が積層された形状で形成されてもよい。シード層は、無電解めっき法またはスパッタリングなどの気相蒸着法などで形成されることができる。第2コイルパターン312、ビア320及び第2引出パターン332のそれぞれのシード層は、一体で形成され、相互間に境界が形成されなくてよいが、これに制限されるものではない。第2コイルパターン312、ビア320及び第2引出パターン332のそれぞれの電解めっき層は、一体で形成され、相互間に境界が形成されなくてよいが、これに制限されるものではない。 As an example, when the second coil pattern 312, the vias 320, and the second lead pattern 332 are formed by plating on the upper surface side of the insulating substrate 200, the second coil pattern 312, the vias 320, and the second lead pattern 332 are formed on the seed layer. and electroplated layers. Here, the electroplated layer may have a fault structure or a multi-layer structure. The multi-layer electrolytic plated layer may be formed with a conformal film structure in which another electrolytic plated layer is formed along the surface of any one electrolytic plated layer. The electroplating layer may be formed in a shape in which another electroplating layer is laminated on only one surface of the electroplating layer. The seed layer may be formed by an electroless plating method or a vapor deposition method such as sputtering. The seed layers of the second coil pattern 312, the via 320, and the second extraction pattern 332 may be integrally formed without forming a boundary therebetween, but the present invention is not limited thereto. Electroplated layers of the second coil pattern 312, the via 320, and the second extraction pattern 332 may be integrally formed without forming a boundary therebetween, but the present invention is not limited thereto.

コイルパターン311、312、ビア320及び引出パターン331、332のそれぞれは、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、銀(Ag)、スズ(Sn)、金(Au)、ニッケル(Ni)、鉛(Pb)、チタン(Ti)、クロム(Cr)またはこれらの合金などの導電性物質で形成されることができるが、これに限定されるものではない。 Coil patterns 311, 312, vias 320, and lead patterns 331, 332 are respectively made of copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), lead ( Pb), titanium (Ti), chromium (Cr), or an alloy thereof, but not limited thereto.

外部電極400、500は、本体100に互いに離隔配置されてコイル部300とそれぞれ連結される。具体的に、第1外部電極400は、本体100の第1面101に配置され、本体100の第1面101に露出したコイル部300の第1引出パターン331と接触連結され、第2外部電極500は、本体100の第2面102に配置され、本体100の第2面102に露出したコイル部300の第2引出パターン332と接触連結される。 The external electrodes 400 and 500 are spaced apart from each other on the main body 100 and connected to the coil part 300 . Specifically, the first external electrode 400 is disposed on the first surface 101 of the main body 100 and is contact-connected with the first extraction pattern 331 of the coil part 300 exposed on the first surface 101 of the main body 100 to form a second external electrode. 500 is disposed on the second surface 102 of the main body 100 and contacts and connects with the second extraction pattern 332 of the coil part 300 exposed on the second surface 102 of the main body 100 .

第1及び第2外部電極400、500のそれぞれは、本体100の第1及び第2領域と接する導電性樹脂層410、510、導電性樹脂層410、510に配置された第1金属層421、521、第1金属層に配置された第2金属層422、522を含むことができる。導電性樹脂層410、510は、銀(Ag)及び銅(Cu)のうち少なくとも一つを含む導電性粒子がエポキシ樹脂などの樹脂に分散された形態である導電性ペーストを、本体100の第1及び第2領域に塗布及び硬化することで形成されることができる。第1金属層421、521は、電解めっきで形成されたニッケル(Ni)めっき層であることができる。第2金属層422、522は、電解めっきで形成されたスズ(Sn)めっき層であることができる。一方、前述したように、導電性樹脂層410、510を形成した後、単分子有機物10を形成する場合、電解めっきで形成される第1及び第2金属層421、521;422、522は、相対的に高い選択性を有し、導電性樹脂層410、510に順次形成されることができる。 Each of the first and second external electrodes 400 and 500 includes conductive resin layers 410 and 510 in contact with the first and second regions of the main body 100, a first metal layer 421 disposed on the conductive resin layers 410 and 510, 521, a second metal layer 422, 522 disposed on the first metal layer. The conductive resin layers 410 and 510 are formed by applying a conductive paste in which conductive particles containing at least one of silver (Ag) and copper (Cu) are dispersed in a resin such as an epoxy resin. It can be formed by coating and curing the first and second regions. The first metal layers 421 and 521 may be nickel (Ni) plating layers formed by electroplating. The second metal layers 422 and 522 may be tin (Sn) plating layers formed by electroplating. On the other hand, as described above, when the monomolecular organic material 10 is formed after forming the conductive resin layers 410 and 510, the first and second metal layers 421 and 521; 422 and 522 formed by electroplating are It has relatively high selectivity and can be sequentially formed on the conductive resin layers 410 and 510 .

絶縁膜IFは、コイル部300を本体100から絶縁させるためのもので、パリレンなどの公知の絶縁物質を含むことができる。絶縁膜IFに含まれる絶縁物質は如何なるものでも可能であり、特に制限はない。絶縁膜IFは、気相蒸着などの方法で形成されることができるが、これに制限されるものではなく、絶縁フィルムを絶縁基板200の両面に積層することで形成されることもできる。 The insulating film IF is for insulating the coil part 300 from the main body 100, and may include a known insulating material such as parylene. Any insulating material can be used for the insulating film IF, and there is no particular limitation. The insulating film IF may be formed by a method such as vapor deposition, but is not limited thereto, and may be formed by stacking insulating films on both sides of the insulating substrate 200 .

図6は、本発明の他の実施形態によるコイル部品を概略的に示す図面であり、図7は、本発明のまた他の実施形態によるコイル部品を概略的に示す図面であり、図8は、図7のIII-III'線に沿った断面を示す図面である。 FIG. 6 is a schematic diagram of a coil component according to another embodiment of the present invention, FIG. 7 is a schematic diagram of a coil component according to another embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line III-III′ of FIG. 7; FIG.

図1~図5と、図6~図7を比べると、本発明の他の実施形態及びまた他の実施形態によるコイル部品2000、3000は、本発明の一実施形態によるコイル部品1000と比べてコイル部300が異なる。よって、本発明の他の実施形態及びまた他の実施形態を説明する際に、本発明の一実施形態と異なるコイル部300についてのみ説明する。本発明の他の実施形態及びまた他の実施形態の他の構成に対する説明は、本発明の一実施形態における説明がそのまま適用されることができる。 Comparing FIGS. 1-5 with FIGS. 6-7, coil components 2000 and 3000 according to other embodiments and also other embodiments of the present invention are compared to coil component 1000 according to one embodiment of the present invention. The coil part 300 is different. Therefore, only the coil portion 300 that differs from one embodiment of the present invention will be described when describing other embodiments and still other embodiments of the present invention. The description of one embodiment of the present invention can be applied as it is to the description of other embodiments of the present invention and other configurations of other embodiments.

図6を参照すると、本発明の他の実施形態によるコイル部品2000に適用される絶縁基板200及びコイル部300のそれぞれは、本体100の実装面である第6面106と垂直に配置される。コイル部300が実装面である本体100の第6面106に垂直に配置されるため、本体100及びコイル部300の体積を維持しながらも実装面積を減少させることができる。これにより、同一面積の実装基板により多数の電子部品を実装することができる。また、上述した理由により、コイル部300によってコア110に誘導される磁束方向が本体100の第6面106と平行に配置される。これにより、実装基板の実装面に誘導されるノイズが相対的に減少することができる。 Referring to FIG. 6, each of the insulating substrate 200 and the coil part 300 applied to the coil component 2000 according to another embodiment of the present invention is arranged perpendicular to the sixth surface 106, which is the mounting surface of the main body 100. As shown in FIG. Since the coil part 300 is arranged perpendicular to the sixth surface 106 of the main body 100, which is the mounting surface, the mounting area can be reduced while maintaining the volume of the main body 100 and the coil part 300. FIG. As a result, a large number of electronic components can be mounted on a mounting board having the same area. Also, for the reason described above, the direction of the magnetic flux induced in the core 110 by the coil part 300 is arranged parallel to the sixth surface 106 of the main body 100 . As a result, noise induced on the mounting surface of the mounting substrate can be relatively reduced.

図7及び図8を参照すると、本発明のまた他の実施形態によるコイル部品3000に適用されるコイル部300は、表面に被覆層CIが形成された金属線MWを巻線して形成されたものであることができる。よって、本実施形態に適用されるコイル部300は、複数のターン(turn)のそれぞれの表面全体が被覆層IFで被覆される。金属線MWは平角線であることができるが、これに制限されるものではない。平角線でコイル部300を形成した場合、例として、図8に示すように、コイル部300は各ターン(turn)の断面が全体的に長方形状を有することができる。一方、図8には、コイル部300がアルファ(α)巻線であると示しているが、これは例示的なものに過ぎず、コイル部300はエッジワイズ(edge-wise)巻線であってもよい。 7 and 8, a coil part 300 applied to a coil component 3000 according to another embodiment of the present invention is formed by winding a metal wire MW having a coating layer CI formed on its surface. can be a thing Therefore, in the coil part 300 applied to this embodiment, the entire surface of each of the multiple turns is covered with the covering layer IF. The metal wire MW may be a rectangular wire, but is not limited to this. When the coil part 300 is formed of a rectangular wire, for example, as shown in FIG. 8, the cross section of each turn of the coil part 300 may have an overall rectangular shape. On the other hand, although FIG. 8 shows coil section 300 as being an alpha (α) winding, this is exemplary only and coil section 300 is an edge-wise winding. may

以上、本発明の一実施形態について説明したが、当該技術分野で通常の知識を有する者であれば特許請求の範囲に記載された本発明の思想から逸脱しない範囲内で、構成要素の付加、変更または削除などにより本発明を多様に修正及び変更させることができ、これも本発明の権利範囲内に含まれるといえる。 An embodiment of the present invention has been described above. The present invention can be modified and changed in various ways such as alterations or deletions, which are also included in the scope of the present invention.

100:本体
110:コア
200:絶縁基板
300:コイル部
311、312:コイルパターン
320:ビア
400、500:外部電極
IF:絶縁膜
1000、2000、3000:コイル部品
100: Main Body 110: Core 200: Insulating Substrate 300: Coil Part 311, 312: Coil Pattern 320: Via 400, 500: External Electrode IF: Insulating Film 1000, 2000, 3000: Coil Parts

Claims (16)

金属磁性粒子及び絶縁樹脂を含む本体と、
前記本体内に配置されたコイル部と、
前記本体に互いに離隔配置され、それぞれ前記コイル部の両端部と連結される第1及び第2外部電極とを含み、
前記本体の表面は、前記第1及び第2外部電極が配置された第1及び第2領域と、前記第1及び第2外部電極が配置されていない第3領域とを有し、
前記金属磁性粒子の一部は前記本体の第3領域に露出し、
前記本体の第3領域に露出した前記金属磁性粒子の面には、疎水性(hydrophobic)部を含む単分子有機物がある、コイル部品。
a main body containing metal magnetic particles and an insulating resin;
a coil portion disposed within the body;
first and second external electrodes spaced apart from each other on the main body and connected to both ends of the coil part, respectively;
the surface of the body has first and second regions where the first and second external electrodes are arranged and a third region where the first and second external electrodes are not arranged;
a portion of the metal magnetic particles are exposed in a third region of the body;
A coil component, wherein the surface of the metal magnetic particles exposed in the third region of the body has a monomolecular organic material including a hydrophobic portion.
前記単分子有機物は、
前記金属磁性粒子の露出面に存在する金属、及び前記疎水性部のそれぞれと結合された親水性(hydrophilic)部をさらに有する、請求項1に記載のコイル部品。
The unimolecular organic substance is
2. The coil component of claim 1, further comprising a hydrophilic portion coupled to each of the metal present on the exposed surface of the metal magnetic particles and the hydrophobic portion.
前記親水性部は、カルボキシル基、スルホン酸基及びリン酸基のうち少なくとも一つを含む、請求項2に記載のコイル部品。 3. The coil component according to claim 2, wherein said hydrophilic portion includes at least one of a carboxyl group, a sulfonic acid group and a phosphoric acid group. 前記親水性部は、鉄(Fe)と結合された、請求項3に記載のコイル部品。 4. The coil component according to claim 3, wherein said hydrophilic portion is combined with iron (Fe). 前記親水性部は、マンガン(Mn)及び/または亜鉛(Zn)と結合された、請求項3に記載のコイル部品。 4. The coil component according to claim 3, wherein said hydrophilic portion is combined with manganese (Mn) and/or zinc (Zn). 前記第1及び第2外部電極のそれぞれは、
前記本体の第1及び第2領域に接し、樹脂及び導電性粒子を含む導電性樹脂層を含む、請求項3に記載のコイル部品。
Each of the first and second external electrodes is
4. The coil component according to claim 3, comprising a conductive resin layer that is in contact with the first and second regions of the main body and contains resin and conductive particles.
前記導電性粒子は、銀(Ag)及び銅(Cu)のうち少なくとも一つを含む、請求項6に記載のコイル部品。 7. The coil component according to claim 6, wherein said conductive particles contain at least one of silver (Ag) and copper (Cu). 前記第1及び第2外部電極のそれぞれは、
前記導電性樹脂層に配置された第1金属層、及び前記第1金属層に配置された第2金属層をさらに含む、請求項6に記載のコイル部品。
Each of the first and second external electrodes is
7. The coil component according to claim 6, further comprising a first metal layer arranged on said conductive resin layer and a second metal layer arranged on said first metal layer.
前記本体内に配置された絶縁基板をさらに含み、
前記コイル部は、
前記絶縁基板の少なくとも一面に配置されたコイルパターンと、
それぞれ前記絶縁基板の少なくとも一面に配置され、前記コイルパターンと連結され、前記本体の第1及び第2領域に露出し、前記第1及び第2外部電極のそれぞれの前記導電性樹脂層と連結された第1及び第2引出パターンとを含む、請求項7に記載のコイル部品。
further comprising an insulating substrate disposed within the body;
The coil part is
a coil pattern disposed on at least one surface of the insulating substrate;
are disposed on at least one surface of the insulating substrate, connected to the coil pattern, exposed to the first and second regions of the main body, and connected to the conductive resin layers of the first and second external electrodes, respectively. 8. The coil component of claim 7, comprising first and second lead patterns.
前記コイル部は、表面に被覆層が形成された金属線が巻線されて形成された、請求項7に記載のコイル部品。 8. The coil component according to claim 7, wherein said coil portion is formed by winding a metal wire having a coating layer formed on its surface. 前記単分子有機物は、100以上500以下の分子量を有する、請求項2に記載のコイル部品。 3. The coil component according to claim 2, wherein said unimolecular organic substance has a molecular weight of 100 or more and 500 or less. 前記単分子有機物と前記金属磁性粒子の金属は、
アルキルベンゼンスルホン酸塩(alkylbenzene sulfonate)、アルキルスルホン酸塩(alkyl sulfonate)、アルキル硫酸塩(alkyl sulfate)、フッ化脂肪酸塩(salts of fluorinated fatty acid)、脂肪アルコール硫酸塩(fatty alcohol sulfate)、α-オレフィンスルホン酸塩(α-olefin sulfonate)、アルキルアルコールアミド(alkyl alcohol amide)、アルキルスルホン酸アセトアミド(alkyl sulfonic acid acetamide)、アルキルスクシン酸スルホン酸塩(alkyl succinate sulfonate salts)、アミノアルコールアルキルベンゼンスルホン酸塩(amino alcohol alkylbenzene sulfonate)、ナフテン酸塩(naphthenate)、アルキルフェノールスルホン酸塩(alkylphenol sulfonate)、ナフタレンスルホン酸塩(naphthalene sulfonate)、ナフタレンカルボキシル酸塩(naphthalene carboxylate)のうち少なくとも一つを形成する、請求項2に記載のコイル部品。
The monomolecular organic substance and the metal of the metal magnetic particles are
Alkylbenzene sulfonates, alkyl sulfonates, alkyl sulfates, salts of fluorinated fatty acids, fatty alcohol sulfates, α- α-olefin sulfonates, alkyl alcohol amides, alkyl sulfonic acid acetamides, alkyl succinate sulfonate salts, amino alcohol alkyl benzene sulfonates forming at least one of amino alcohol alkylbenzene sulfonate, naphthenate, alkylphenol sulfonate, naphthalene sulfonate, naphthalene carboxylate; The coil component according to claim 2.
前記金属磁性粒子は、前記本体の第3領域で互いに離隔した複数で露出し、
前記単分子有機物は、複数の前記金属磁性粒子の露出面のそれぞれに存在する、請求項1に記載のコイル部品。
the metal magnetic particles are exposed in a plurality of spaced apart portions in a third region of the body;
2. The coil component according to claim 1, wherein said monomolecular organic substance exists on each of the exposed surfaces of said plurality of metal magnetic particles.
前記単分子有機物は、前記本体の第3領域を形成する前記絶縁樹脂の少なくとも一部にさらに存在する、請求項1に記載のコイル部品。 2. The coil component according to claim 1, wherein said monomolecular organic substance further exists in at least part of said insulating resin forming a third region of said main body. 金属磁性粒子及び絶縁樹脂を含む本体と、
前記本体内に配置されたコイル部と、
前記本体に互いに離隔配置され、それぞれ前記コイル部の両端部と連結される第1及び第2外部電極とを含み、
前記本体の表面は、前記第1及び第2外部電極が配置された第1及び第2領域と、前記第1及び第2外部電極が配置されていない第3領域とを有し、
前記金属磁性粒子の一部は前記本体の第3領域に露出し、
前記本体の第3領域に露出した前記金属磁性粒子の面には、
疎水性(hydrophobic)部を含み、前記金属磁性粒子の露出面に存在する鉄(Fe)と結合された単分子有機物がある、
コイル部品。
a main body containing metal magnetic particles and an insulating resin;
a coil portion disposed within the body;
first and second external electrodes spaced apart from each other on the main body and connected to both ends of the coil part, respectively;
the surface of the body has first and second regions where the first and second external electrodes are arranged and a third region where the first and second external electrodes are not arranged;
a portion of the metal magnetic particles are exposed in a third region of the body;
On the surface of the metal magnetic particles exposed in the third region of the main body,
there is a monomolecular organic material comprising a hydrophobic portion and bound to iron (Fe) present on the exposed surface of the metal magnetic particles;
coil parts.
前記第1及び第2外部電極のそれぞれは、
前記本体の第1及び第2領域に接し、樹脂及び導電性粒子を含む導電性樹脂層を含む、請求項15に記載のコイル部品。
Each of the first and second external electrodes is
16. The coil component according to claim 15, comprising a conductive resin layer in contact with the first and second regions of the main body and containing resin and conductive particles.
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