JP2022519977A - マイクロ流体弁およびシステムを製造する方法 - Google Patents
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Abstract
開示するマイクロ流体弁は、内部の少なくとも1つの空洞と、空洞を入力ゲート末端と出力ゲート末端とに分離するゲート伝送要素と、駆動流体を入力ゲート末端内に運ぶように構成されたゲートポートと、流体チャネルとを有する弁体を含んでもよい。ゲート伝送要素は、可撓性膜と、可撓性膜に結合されたプランジャとを含んでもよい。ゲート伝送要素は、入力ゲート末端の加圧時に流体チャネルの入口ポートから出口ポートへの主要流体の流れを抑制するために、また入力ゲート末端の減圧時に入口ポートから出口ポートへの主要流体の流れを可能にするために、空洞内で移動するように構成されてもよい。さまざまな他の関連するシステムおよび方法もまた、開示される。【選択図】図40及び図41
Description
本出願は、2019年2月19日出願の米国特許出願第16/279,152号に対する優先権を主張するものであり、この文献の内容は、あらゆる目的のために参照によって全体的に本明細書に組み込まれる。
本発明は、マイクロ流体デバイスに関する。より詳細には、本発明は、マイクロ流体弁を製造する方法に関する。
マイクロ流体システムは、流体の流れを伴う小型の機械的システムである。マイクロ流体システムは、バイオ医療、化学、遺伝学、バイオ化学、医薬、触覚学および他の分野などの数多くの異なる分野で使用することができる。マイクロ流体弁は、マイクロ流体システムの基本的な構成要素であり、マイクロ流体システム内の流体の流れを停止する、開始する、または別の形で制御するために使用されてもよい。従来のマイクロ流体弁は、たとえば、流体圧力を介して、圧電材料によって、またはばね懸架式機構によって作動されてもよい。
マイクロ流体システムのスケールで再使用可能で信頼性の高い弁を製造することは、困難となり得る。たとえば、(たとえば弁の構成要素間の弁座などにおいて)信頼性の高いシールを弁によって作り出すことができるようにそのような小スケールで弁を形成することは、難しくなり得る。さらに、マイクロ流体弁などの小型の機構内の可動部は、脆弱であり、また損傷を引き起こさずに制御することは難しくなる可能性がある。
したがって、本開示は、改良されたマイクロ流体弁およびシステム、マイクロ流体システム内の流体の流れを制御するための方法、ならびにマイクロ流体弁およびシステムを製造するための方法に対するニーズを認識し、そのための解決策を提供する。
本発明によれば、マイクロ流体弁を製造する方法であって、マイクロ流体弁体内に空洞を形成することと、空洞内にゲート伝送要素を位置決めすることであって、ゲート伝送要素は、空洞を入力ゲート末端と出力ゲート末端とに分離する、ゲート伝送要素を位置決めすることと、入力ポートと、出力ゲート末端内の少なくとも部分的な制限領域と、出口ポートとを含む流体チャネルをマイクロ流体弁体内に形成することとを含み、ゲート伝送要素は、入力ゲート末端の加圧時に入力ポートから出口ポートへの主要流体の流れを抑制するために制限領域を制限するために、また入力ゲート末端の減圧時に入口ポートから出口ポートへの主要流体の流れを可能にするか、または増大させるために、入力ゲート末端の加圧および減圧時に行き来して移動するように位置決めされ構成される、方法が提供される。
任意選択により、ゲート伝送要素は、プランジャに結合された可撓性膜を含んでもよく、プランジャは、流体チャネルを通る主要流体の流れを制御するために開位置と閉位置との間で移動可能であってもよい。
任意選択により、本開示は、マイクロ流体弁を含む。マイクロ流体弁は、内部の少なくとも1つの空洞と、空洞内に配設され、空洞を入力ゲート末端と出力ゲート末端とに分離するゲート伝送要素とを有する弁体を含んでもよい。ゲート伝送要素は、可撓性膜と、可撓性膜に結合されたプランジャとを含んでもよい。ゲートポートは、入力ゲート末端を加圧するために、駆動流体を入力ゲート末端内に向けるように構成されてもよい。流体チャネルは、入口ポートと、制限領域と、出口ポートとを含んでもよい。流体チャネルは、主要流体を入口ポートから、制限領域を通って出口ポートに運ぶように構成されてもよい。ゲート伝送要素は、入力ゲート末端の加圧時に入口ポートから出口ポートへの主要流体の流れを抑制するために制限領域を制限するために、また入力ゲート末端の減圧時に入口ポートから出口ポートへの主要流体の流れを可能にするか、または増大させるために制限領域を拡張させるために、空洞内で移動するように構成されてもよい。
任意選択により、制限領域は、可撓性バブルによって少なくとも部分的に画定されてもよく、可撓性バブルは、出力ゲート末端内に、入口および出口ポート上を覆って、プランジャと入口ポートおよび出口ポートとの間に位置決めされる。可撓性バブルは、出力ゲート末端を可撓性バブル内の制限領域と、可撓性バブルの外部とゲート伝送要素との間の出力ゲート排気チャンバとに分離してもよい。プランジャは、制限領域を収縮させるために、入力ゲート末端の加圧時に可撓性バブルを押し付けるように構成されてもよい。弁体はまた、流体を出力ゲート排気チャンバにおよび出力ゲート排気チャンバから向けるように構成された排気出口を含んでもよい。出力ゲート排気チャンバは、排気出口を通して加圧され減圧されるように構成されてもよい。弁体は、いくつかの例では、可撓性膜と可撓性バブルを形成する可撓性材料との間に配設されたゲート本体部分と、可撓性膜の、ゲート本体部分とは反対側に配設され、ゲートポートを備える駆動本体部分と、可撓性バブルを形成する可撓性材料の、ゲート本体部分とは反対側に配設され、入口ポートおよび出口ポートを備える流体チャネル本体部分とを含んでもよい。
さらに任意選択により、可撓性膜に平行にとられた空洞の断面積は、約1mm2以下などの約25mm2以下であってもよい。プランジャは、可撓性膜に化学的に接合されてもよい。弁体は、ケイ素、二酸化ケイ素、ガラス、ポリカーボネート、または剛性ポリマーのうちの少なくとも1つを含んでもよい。可撓性膜は、ポリシロキサン材料などのポリマー材料を含んでもよい。
任意選択により、本開示は、マイクロ流体システムを含む。マイクロ流体システムは、マイクロ流体弁と、駆動流体源と、主要流体源と、流体駆動式機構とを含んでもよい。マイクロ流体弁は、内部の少なくとも1つの空洞と、空洞内に配設され空洞を入力ゲート末端と出力ゲート末端とに分離するゲート伝送要素とを有する弁体を含んでもよい。ゲートポートは、入力ゲート末端を加圧するために駆動流体を入力ゲート末端内に向けるように構成されてもよい。入口ポートは、主要流体を流体チャネルの制限領域内に運ぶように構成されてもよい。出口ポートは、主要流体を流体チャネルの制限領域から外に運ぶように構成されてもよい。可撓性バブルは、流体チャネル内の入口ポートと出口ポートとの間に位置決めされてもよい。可撓性バブルは、流体チャネル内に制限領域を画定してもよく、この制限領域は、入力ゲート末端の加圧時に入口ポートから出口ポートへの主要流体の流れを抑制するために流体チャネルを入口ポートと出口ポートとの間でブロックするために、また入力ゲート末端の減圧時に入口ポートから出口ポートへの主要流体の流れを可能にするために、変形されるように構成されてもよい。駆動流体源は、駆動流体を、ゲートポートを通って入力ゲート末端に出入りするように運ぶように構成されてもよい。主要流体源は、主要流体を入口ポートに運ぶように構成されてもよい。流体駆動式機構は、主要流体を出口ポートから受け入れるように構成されてもよい。
任意選択により、ゲート伝送要素は、可撓性膜と、空洞内に配設され可撓性膜に結合されたプランジャとを含んでもよい。プランジャは、入口ポートと出口ポートとの間の制限領域をブロックするために、入力ゲート末端の加圧時に可撓性バブルを押し付けるように構成されてもよい。流体駆動式機構は、マイクロ電気機械デバイス、伸縮性空洞、ピストンシステム、または触覚フィードバックデバイスの少なくとも1つを含んでもよい。空洞内の可撓性膜の表面積は、いくつかの実施形態では、可撓性バブルの表面積より大きくてもよい。
任意選択により、マイクロ流体システムは、マイクロ流体弁を備えてもよい。マクロ流体弁は、駆動本体部分から材料を除去することによって形成された、入力ゲート末端およびゲート末端内に至るゲートポートを備えてもよい。任意選択により、マイクロ流体弁は、ゲート本体部分を含んでもよく、前記ゲート本体部分上に形成された可撓性膜を任意選択により備える。任意選択により、弁は、ゲート本体部分から材料を除去することによって任意選択により形成された、出力ゲート末端を備えてもよい。任意選択により、プランジャが、任意選択によりゲート本体部分から材料を除去することによって、出力ゲート末端内に画定されてもよい。任意選択により、プランジャは、可撓性膜に接合される。任意選択により、マイクロ流体弁の流体チャネル本体部分は、流体チャネル本体部分上に形成された可撓性バブルを備えてもよい。任意選択により、マイクロ流体弁は、可撓性バブルの内部と流体連通する入口ポートおよび出口ポートを備える。任意選択により、入口ポートおよび出口ポートは、流体チャネル本体部分から材料を除去することによって形成される。
任意選択により、駆動本体部分は、ゲート本体部分に結合される。任意選択により、入力ゲート末端は、可撓性膜によって出力ゲート末端から分離される。任意選択により、ゲート本体部分は、流体チャネル本体部分に結合される。任意選択により、駆動流体源は、ゲートポートに動作可能に結合される。任意選択により、主要流体源は、入口ポートに動作可能に結合される。任意選択により、流体駆動式機構は、出口ポートに動作可能に結合され、マイクロ流体弁が開状態にあるときに主要流体によって動作されるように構成される。
任意選択により、マイクロ流体弁は、複数のマイクロ流体弁を同時に形成することによって形成される。任意選択により、駆動本体部分は、任意選択により複数の駆動本体部分を含む駆動本体基板材料を、任意選択により複数のゲート本体部分を含むゲート本体基板材料に接合することによってゲート本体部分に結合される。任意選択により、ゲート本体部分は、任意選択により複数のゲート本体部分を含むゲート本体基板材料を、任意選択により複数の流体チャネル本体部分を含む流体チャネル本体基板材料に接合することによって流体チャネル本体部分に結合される。
任意選択により、駆動本体部分、ゲート本体部分、および/または流体チャネル本体部分は、フォトリソグラフィ工程によって選択的に材料が除去されている。
任意選択により、流体チャネル本体部分は、その上に形成されたブロックを含む。任意選択により、ブロックおよび流体チャネル本体部分は、前記ブロック上を覆って形成された可撓性材料と、流体チャネル本体部分とを備える。任意選択によりブロックは、流体本体部分上に可撓性材料を残したままで除去されるように構成され、それによって流体チャネル本体部分上に可撓性バブルを形成する。
任意選択により、ブロックは、選択的な材料除去プロセスによって入口ポートまたは出口ポートの少なくとも1つを通してブロックの一材料またはその材料を選択的に除去することによって、除去されるように適合される。
任意選択により、可撓性材料および/または可撓性膜は、エラストマー材料で形成されてもよい。
任意選択により、出口ポートに動作可能に結合された流体駆動式機構は、マイクロ電気機械デバイス、伸縮性空洞、ピストンシステム、または触覚フィードバックデバイスの少なくとも1つを備える。
任意選択により、可撓性バブルは、入力ゲート末端と出力ゲート末端とを分離する可撓性膜の表面積より小さい表面積を有するように形成される。
任意選択により、流体チャネル本体部分に結合されたゲート本体部分は、可撓性バブルに当接されたプランジャを備える。
任意選択により、本開示は、マイクロ流体システム内の主要流体の流れを制御する方法を含む。任意選択により、主要流体は、流体チャネルの制限領域を通って入口ポートから出口ポートに運ばれてもよい。駆動流体が、ゲートポートからマイクロ流体弁体内の空洞内の入力ゲート末端内に流されてもよい。出力ゲート末端および入力ゲート末端は、可撓性膜と、可撓性膜に結合されたプランジャとを含んでもよいゲート伝送要素によって互いに分離されてもよい。入力ゲート末端内に流れる駆動流体に応答して、ゲート伝送要素は、出力ゲート末端内に位置決めされた可撓性バブルを押し付け、変形させるように移動されてもよい。可撓性バブルは、出力ゲート末端を制限領域から分離してもよい。入口ポートから出口ポートへの主要流体の流れは、変形された可撓性バブルによって制限領域をブロックすることによって抑制されてもよい。
任意選択により、主要流体の流れを制御する方法は、流体駆動式機構を起動させるために主要流体を出口ポートから流体駆動式機構内に流すことを含んでもよい。流体駆動式機構を起動させることは、人工現実システムの触覚フィードバックデバイスを起動させることを含んでもよい。駆動流体は、可撓性バブルに対する圧力を緩和し、制限領域をブロック解除するためにゲート伝送要素を移動させるために、入口ゲート末端からゲートポートを通して引き出されてもよい。
任意選択により、ゲート伝送要素は、入力ゲート末端の減圧時に入口ポートから出口ポートへの主要流体の流れを可能にするか、または増大させるために制限領域を拡張させるために、入力ゲート末端の加圧および減圧時に行き来して移動するように位置決めされ構成される。
任意選択により、空洞内にゲート伝送要素を位置決めすることは、出力ゲート末端内にプランジャを位置決めすることと、任意選択によりプランジャを可撓性膜に結合させることとを含んでもよい。可撓性バブルは、出力ゲート末端内かつ入口ポートおよび出口ポート上を覆って位置決めされてもよい。制限領域は、入口ポートと出口ポートとの間の流体チャネル内かつ可撓性バブル内に画定されてもよい。プランジャは、入口ポートから出口ポートへの主要流体の流れを抑制するために制限領域を変形された可撓性バブルによってブロックするために、入力ゲート末端の加圧時に可撓性バブルを変形させるように構成されてもよい。マイクロ流体弁体内に空洞を形成することは、可撓性膜に平行にとられた約1mm2以下の断面積を有するように空洞を形成することを含んでもよい。排気出口が、マイクロ流体弁体内に形成されてもよい。排気出口は、出力ゲート末端と流体連通してもよい。
任意選択により、マイクロ流体弁体内に空洞を形成することは、マイクロ流体弁体の駆動本体部分内に入力ゲート末端を形成することと、マイクロ流体弁体のゲート本体部分内に出力ゲート末端を形成することとを含んでもよい。可撓性膜は、ゲート本体部分の表面上に形成されてもよい。駆動本体部分は、ゲート本体部分に結合されてもよく、流体チャネル本体部分は、ゲート本体部分に結合されてもよい。可撓性バブルは、流体チャネル本体部分の表面上に形成されてもよい。少なくとも1つの位置合わせマークが、駆動本体部分、ゲート本体部分、または流体チャネル本体部分の少なくとも1つ上、またはその内部に形成されてもよい。駆動本体部分をゲート本体部分に結合することおよび流体チャネル本体部分をゲート本体部分に結合することは、少なくとも1つの位置合わせマークを使用して駆動本体部分、ゲート本体部分、および流体チャネル本体部分を互いに位置合わせすることを含んでもよい。
マイクロ流体弁体内に空洞を形成することは、少なくとも1つのフォトリソグラフィ工程を実行することを含んでもよい。マイクロ流体弁体内に空洞を形成することは、ケイ素材料、二酸化ケイ素材料、ガラス材料、ポリカーボネート材料、または剛性ポリマー材料の少なくとも1つ内に空洞を形成することを含んでもよい。
任意選択により、本開示は、マイクロ流体システムを製造する方法を含む。マイクロ流体弁が、形成されてもよい。入力ゲート末端および入力ゲート末端内に至るゲートポートを形成するために、駆動本体部分から材料が除去されてもよい。可撓性膜が、ゲート本体部分上に形成されてもよい。出力ゲート末端を形成し、出力ゲート末端内にプランジャを画定するために、ゲート本体部分から材料が除去されてもよく、プランジャは、可撓性膜に接合されている。可撓性バブルが、流体チャネル本体部分上に形成されてもよい。可撓性バブルの内部と流体連通する入口ポートおよび出口ポートを形成するために、流体チャネル本体部分から材料が除去されてもよい。駆動本体部分は、ゲート本体部分に結合されてもよく、入力ゲート末端は、可撓性膜によって出力ゲート末端から分離されてもよい。ゲート本体部分は、流体チャネル本体部分に結合されてもよい。駆動流体源が、ゲートポートに動作可能に結合されてもよい。主要流体源が、入口ポートに動作可能に結合されてもよい。流体駆動式機構は、マイクロ流体弁が開状態にあるときに主要流体によって動作させるために、出口ポートに動作可能に結合されてもよい。
マイクロ流体弁を形成することは、複数のマイクロ流体弁を同時に形成することを含んでもよい。駆動本体部分をゲート本体部分に結合することは、複数の駆動本体部分を含む駆動本体基板材料を、複数のゲート本体部分を含むゲート本体基板材料に接合することを含んでもよい。ゲート本体部分を流体チャネル本体部分に結合することは、複数のゲート本体部分を含むゲート本体基板材料を、複数の流体チャネル本体部分を含む流体チャネル本体基板材料に接合することを含んでもよい。
任意選択により、駆動本体部分から材料を除去すること、ゲート本体部分から材料を除去すること、および/または流体チャネル本体部分から材料を除去することは、材料を選択的に除去するためにフォトリソグラフィ工程を実行することを含んでもよい。流体チャネル本体部分上に可撓性バブルを形成することは、流体チャネル本体部分上にブロックを形成することと、ブロックおよび流体チャネル本体部分上を覆って可撓性材料を形成することと、可撓性材料を流体チャネル本体部分上に残したままでブロックを除去することとを含んでもよい。ブロックを除去することは、選択的材料除去プロセスを使用して、入口ポートまたは出口ポートの少なくとも1つを通してブロックの材料を除去することを含んでもよい。ブロックおよび流体チャネル本体部分上を覆って可撓性材料を形成することおよびゲート本体部分上に可撓性膜を形成することのそれぞれは、エラストマー材料を形成することを含んでもよい。流体駆動式機構を出口ポートに動作可能に結合することは、出口ポートに、マイクロ電気機械デバイス、伸縮性空洞、ピストンシステム、または触覚フィードバックデバイスの少なくとも1つを動作可能に結合することを含んでもよい。流体チャネル本体部分上に可撓性バブルを形成することは、いくつかの実施形態では、入力ゲート末端と出力ゲート末端とを分離する可撓性膜の表面積より小さい表面積を有するように、可撓性バブルを形成することを含んでもよい。ゲート本体部分を流体チャネル本体部分に結合することは、プランジャを可撓性バブルに当接させることを含んでもよい。
本明細書に説明する基本原則に従って、本明細書に説明する実施形態のいずれかからの特徴を互いに組み合わせて使用してもよい。これらおよび他の実施形態、特徴、および利点は、添付の図および特許請求の範囲と併せて以下の詳細な説明を読むことによってより完全に理解されるであろう。
添付の図は、いくつかの例示的な実施形態を示し、本明細書の一部である。以下の説明と一緒になってこれらの図は、本開示のさまざまな原理を実証し説明する。
図を通して、同一の参照記号および説明は、同様であるが必ずしも同一ではない要素を示す。本明細書に説明する例示的な実施形態は、さまざまな改変形態および代替的形態を容易に生み出せるが、図内では特有の実施形態が、例として示されており、本明細書において詳細に説明される。しかし、本明細書に説明する例示的な実施形態は、開示する特定の形態に限定されるようには意図されない。そうではなく、本開示は、付属の特許請求の範囲に含まれるすべての改変形態、等価物、および代替的形態を対象とする。
本開示は、全般的に、マイクロ流体弁、システム、および関連する方法に向けられる。以下でより詳細に説明するように、本開示の実施形態は、弁体内の空洞内に配設された可撓性膜を有するマイクロ流体弁を含んでもよい。可撓性膜は、空洞を入力ゲート末端と出力ゲート末端とに分離してもよい。入口ポートは、主要流体を制限領域内に向けるように構成されてもよく、出口ポートは、マイクロ流体弁が開状態にあるときに主要流体を制限領域の外に向けるように構成されてもよい。プランジャが空洞内に配設され、可撓性膜に結合されてもよい。可撓性膜およびプランジャは、入力ゲート末端の加圧時に入口ポートから出口ポートへの主要流体の流れを抑制するために、また入力ゲート末端の減圧時に主要流体の流れを可能にするために、空洞内を移動するように構成されてもよい。いくつかの実施形態では、可撓性バブルは、出力ゲート末端内かつ制限領域上を覆って位置決めされてもよい。マイクロ流体システムは、そのようなマイクロ流体弁を組み込んでもよい。流体の流れを制御し、マイクロ流体システムを製造する関連する方法もまた、開示される。
以下では、図1~5を参照して、例示的な流体システムおよび弁(たとえばマイクロ流体システムおよびマイクロ流体弁)の詳細な説明が、提供される。図6から39を参照して、マイクロ流体弁の製造のさまざまな段階に関する詳細な説明が、提供される。図40および41を参照して、開状態および閉状態それぞれの例示的なマイクロ流体弁に関する詳細な説明が、提供される。図42を参照して、流体の流れを制御する例示的な方法の詳細な説明が、提供される。図43および44を参照して、マイクロ流体システムを製造する例示的な方法に関する詳細な説明が、提供される。さまざまな人工現実システムの詳細な説明は、図45~47を参照して提供される。図48~50を参照して、触覚学、人工現実、および仮想現実のための例示的なシステムおよびデバイスに関する詳細な説明が、提供される。
本開示は、流体チャネルを通る流体の流れの制御(たとえば停止、開始、制限、増大など)を伴う触覚流体システムを含んでもよい。流体の流れの制御は、流体弁によって達成されてもよい。図1は、本開示の少なくとも1つの実施形態による、流体チャネル12を通る流れを制御するための流体弁10の概略図を示す。流体源(たとえば加圧された流体源、流体ポンプなど)からの流体は、流体チャネル12を通って入口ポート14から出口ポート16に流れてもよく、出口ポートは、たとえば流体駆動式機構、別の流体チャネル、または流体リザーバに動作可能に結合されてもよい。
流体弁10は、流体チャネル12を通る流体の流れを制御するためのゲート18を含んでもよい。ゲート18は、ゲート伝送要素20を含んでもよく、ゲート伝送要素は、流体チャネル12を通る流れを制限または停止するために、入力の力、圧力、または変位を制限領域22に伝送するように構成された移動可能な構成要素であってもよい。その反対に、いくつかの例では、力、圧力、または変位をゲート伝送要素20に加え、その結果制限領域22を開いて流体チャネル12を通る流れを可能にするか、または増大させてもよい。ゲート伝送要素20に加えられた力、圧力、または変位は、ゲート力、ゲート圧力、またはゲート変位と称されてもよい。ゲート伝送要素20は、可撓性要素(たとえばエラストマー膜、ダイアフラムなど)、剛性要素(たとえば移動可能なピストン、レバーなど)、またはその組合せ(たとえばエラストマー膜またはダイアフラムに結合された移動可能なピストンまたはレバー)であってもよい。
図1に示すように、流体弁10のゲート18は、ゲート伝送要素20の両側に入力ゲート末端24Aおよび出力ゲート末端24B(集約的に本明細書では「ゲート末端24」と称される)などの1つまたは複数のゲート末端を含んでもよい。ゲート末端24は、ゲート伝送要素20に力(たとえば圧力)を加えるための要素であってもよい。例として、ゲート末端24はそれぞれ、ゲート伝送要素20に隣接する流体チャンバであってもよく、またはこれを含んでもよい。あるいは、またはさらに、ゲート末端24の1つまたは複数は、ゲート伝送要素20に力を加えるように構成された、レバー、ねじ、またはピストンなどの固体構成要素であってもよい。
いくつかの例では、ゲートポート26は、入力ゲート末端24A内に正または負の流体圧力を加えるために、入力ゲート末端24Aと流体連通してもよい。制御流体源(たとえば加圧された流体源、流体ポンプなど)が、入力ゲート末端24Aを選択的に加圧および/または減圧するために、ゲートポート26と流体連通してもよい。さらなる実施形態では、圧電要素または電気機械アクチュエータを用いてなどの他の方法で、力または圧力を入力ゲート末端24Aに加えてもよい。
図1に示す実施形態では、入力ゲート末端24Aの加圧は、ゲート伝送要素20を制限領域22に向かって変位させ、その結果出力ゲート末端24Bをそれに対応して加圧してもよい。出力ゲート末端24Bの加圧は、さらに、制限領域22を部分的にまたは完全に制限して流体チャネル12を通る流体の流れを低減または停止してもよい。入力ゲート末端24Aの減圧は、ゲート伝送要素20を制限領域22から離れるように変位させ、その結果出力ゲート末端24Bをそれに対応して減圧してもよい。出力ゲート末端24Bの減圧は、さらに、流体チャネル12を通る流体の流れを可能にするか、または増大させるために、制限領域22を部分的または完全に拡張させてもよい。こうして、流体弁10のゲート18は、流体チャネル12の入口ポート14から出口ポート16への流体の流れを制御するために使用されてもよい。
図2は、マイクロ流体システム100の概略上面図であり、マイクロ流体システムは、マイクロ流体弁102と、マイクロ流体弁102によって起動されるように構成された流体駆動式機構104と、マイクロ流体弁102を駆動するための駆動流体源106と、流体駆動式機構104を起動するために主要流体を流すための主要流体源108とを含む。主要流体の流れは、マイクロ流体弁102のゲートによって制御されてもよい。ゲートポート110は、駆動流体源106とマイクロ流体弁102との間の流体連通を提供してもよい。入口ポート112は、主要流体源108とマイクロ流体弁102との間の流体連通を提供してもよい。出口ポート114は、マイクロ流体弁102と流体駆動式機構104との間の流体連通を提供してもよい。マイクロ流体弁102は、プランジャ116を含んでもよく、プランジャは、主要流体の流れを制御するためにマイクロ流体弁102を開閉するために、空洞118内で移動可能であってもよい。
マイクロ流体システム100は、基板120を含んでもよく、基板内または基板上には、マイクロ流体システム100の構成要素の少なくとも一部が配設される。たとえば、基板120の少なくとも一部は、マイクロ流体弁102の弁体122、駆動流体源106、主要流体源108、ゲートポート110、入口ポート112、出口ポート114、空洞118および/または流体駆動式機構104のうちの1つまたは複数を画定してもよい。いくつかの実施形態では、基板120は、駆動本体部分、少なくとも1つの可撓性材料(たとえば弾性材料)、ゲート本体部分、および/または流体チャネル本体部分などの材料のスタックを含んでもよい。いくつかの例では、用語「可撓性」は、恒久的な損傷無しに元の状態に撓むおよび/または戻ることができることを意味し得る。可撓性材料はまた、伸張可能であってもよい。いくつかの例では、基板120は、ケイ素、二酸化ケイ素、ガラス、および/または剛性ポリマー(たとえばポリカーボネート材料、アクリル材料、ウレタン材料、フッ素系エラストマー材料、ポリシロキサン材料など)の少なくとも1つを含んでもよい。
流体駆動式機構104は、マイクロ流体スケールで主要流体を流すおよび/または加圧することによって駆動または制御されてもよい任意の機構であってもよい。例として、そして非限定的には、流体駆動式機構104は、マイクロ電気機械デバイス(たとえば、いわゆるMEMSデバイス)、伸縮性空洞、ピストンシステムおよび/または触覚フィードバックデバイスの少なくとも1つを含んでもよい。
駆動流体源106および主要流体源108のそれぞれは、加圧された流体(たとえばガス(たとえば空気、窒素など)または液体(たとえば水、油など))をマイクロ流体弁102に提供することができる任意の供給源または機構であってもよい。例として、そして非限定的には、駆動流体源106および主要流体源108はそれぞれ、加圧されたリザーバ、ファン、ポンプ、またはピストンシステムなどであってもよく、またはこれを含んでもよい。
任意選択により、いくつかの実施形態では、(図2に点線で示す)排気出口124が、マイクロ流体弁102と流体連通してもよい。排気出口124は、以下でより詳細に説明するように、マイクロ流体弁102を開閉するために、プランジャ116が行き来するように移動されるときにマイクロ流体弁102内の1つまたは複数のチャンバが拡張および/または収縮することを可能にしてもよい。
いくつかの実施形態では、マイクロ流体システム100は、人工現実(たとえば、仮想現実、拡張現実、複合現実、またはハイブリッド現実)システムで使用するなどのために、触覚フィードバックデバイス内に組み込まれてもよい。マイクロ流体システム100は、ユーザに触覚フィードバック(たとえば振動、圧力など)を提供するように構成されたウェアラブルデバイス(たとえばヘッドバンド、ヘッドマウントディスプレイ、手袋、アームバンドなど)上にまたはその内部に位置決めされてもよい。たとえば、マイクロ流体システム100の流体駆動式機構104は、マイクロ流体弁102の開放時に主要流体によって充填し拡張するように構成された伸縮性空洞であってもよい。拡張する空洞はユーザを押し付けてもよく、ユーザは、拡張する空洞から、人工現実においてユーザがとるアクションの結果生じるものなどの圧力を感じてもよい。例として、マイクロ流体システム100は、手袋の指内に組み込まれてもよく、ユーザは空間内で自身の指を使用して、人工現実環境内で選択を行ってもよい。マイクロ流体システム100の伸縮性空洞は、ユーザによって行われる選択を確認するために、ユーザの指に圧力点を提供するために主要流体によって充填され拡張されてもよい。圧力点は、ユーザが実際の物体に接触している感覚を提供してもよい。あるいは、流体駆動式機構104は、偏心回転要素を含んでもよく、この偏心回転要素は、マイクロ流体弁102が開状態にあるときに主要流体を流すことによって回転されて、その結果ユーザに対して触覚フィードバックとして振動感覚を生じさせてもよい。
マイクロ流体弁102に使用されてもよいアーキテクチャの例は、図3A~5、40、および41に関連して以下で説明される。
図3A~5は、本開示の少なくとも1つの実施形態によるマイクロ流体弁200のさまざまな図を示す。図3A~5に示すマイクロ流体弁200は、たとえば、図2に示すマイクロ流体システム100のマイクロ流体弁102として使用されてもよい。
マイクロ流体弁200は、ゲート211を制御するためのゲートポート210を含んでもよい。ゲート211は、入口ポート212から出口ポート214への流体チャネルを通る主要流体の流れを制御してもよい。ゲートポート210、入口ポート212、および出口ポート214はそれぞれ、弁体222を通過し、弁体222内に形成された空洞218内に入ってもよい。空洞218は、可撓性膜234によって分離された入力ゲート末端230および出力ゲート末端232に分割されてもよい。ゲートポート210は、入力ゲート末端230と流体連通してもよい。プランジャ216が、空洞218内に配設されてもよく、マイクロ流体弁200を開閉するために行き来して(たとえば図3A、4、および5の斜視図からは上下に)移動するように構成されてもよい。プランジャ216は、可撓性膜234に結合され(たとえば接着され、化学的に接合され、締結され)てもよい。プランジャ216および可撓性膜234は一緒になって、マイクロ流体弁200のゲート伝送要素を画定してもよい。可撓性膜234は、ポリマー(たとえばポリシロキサン材料などのエラストマー材料)で形成されてもよい。
いくつかの実施形態では、可撓性バブル236は、出力ゲート末端232内に、入口ポート212および出口ポート214上を覆って、プランジャと入口ポート212および出口ポート214との間に位置決めされてもよい。可撓性バブル236は、ポリマー(たとえばポリシロキサン材料などのエラストマー材料)で形成されてもよい。可撓性バブル236は、可撓性バブル236内の(図4および5に特定する)流体チャネルの制限領域238、および可撓性バブル236の外部と可撓性膜234との間の(図4および5に特定する)出力ゲート排気チャンバ240から出力ゲート末端232を分離してもよい。プランジャ216は、出力ゲート排気チャンバ240内に位置決めされてもよい。いくつかの実施形態では、少なくとも1つの排気出口224は、出力ゲート排気チャンバ240と流体連通してもよく、それによって出力ゲート排気チャンバ240が、入力ゲート末端230の加圧および減圧時に、自由に(すなわち出力ゲート排気チャンバ240内の流体圧力からの抵抗を受けずに)拡張し収縮することを可能にする。
弁体222は、入力ゲート末端230を少なくとも部分的に画定する駆動本体部分244と、プランジャ216および/または出力ゲート末端232を少なくとも部分的に画定するゲート本体部分246と、入口ポート212および出口ポート214を少なくとも部分的に画定する流体チャネル本体部分248とを含んでもよい。駆動本体部分244およびゲート本体部分246は、互いから分離され、可撓性膜234によって互いに結合され(たとえば接着され、化学的に接合され)てもよい。ゲート本体部分246および流体チャネル本体部分248は、互いから分離され、可撓性バブル236を形成する可撓性膜250によって互いに結合され(たとえば、接着され、化学的に接合され)てもよい。
駆動流体をゲートポート210を通して導入するか、または引き出すことによって入力ゲート末端230を十分に加圧し減圧することにより、プランジャ216および可撓性膜234それぞれを(図3A、4、および5の斜視図から)上下に移動させてもよい。したがって、入力ゲート末端230が十分に加圧されると、プランジャ216は、下方向に移動されて、入口ポート212と出口ポート214との間の制限領域238を制限しても(たとえば縮めてもまたはブロックしても)よい。いくつかの実施形態では、プランジャ216の下方向の移動は、可撓性バブル236を押し付け変形させ(たとえば押し下げ)て、制限領域238を収縮させてもよい。制限領域238をブロックすることにより、入口ポート212から出口ポート214への主要流体の流れを抑制(たとえば低減または終了)してもよく、こうしてマイクロ流体弁200を閉じる。
入力ゲート末端230の十分な減圧時、プランジャ216は、上方向に移動されて、制限領域238をブロック解除してもよい。たとえば、プランジャ216の上方向の移動により、可撓性バブル236上の圧力を緩和して制限領域238を拡張させることを可能にしてもよい。制限領域238の拡張は、可撓性バブル236の弾性特性および/または入口ポート212の加圧の一方または両方によって達成されてもよい。制限領域238をブロック解除することにより、主要流体が入口ポート212から出口ポート214に流れることを可能にしてもよく、こうしてマイクロ流体弁200を開く。
いくつかの例では、排気出口224は、制限領域238のブロックまたはブロック解除を容易にするために、出力ゲート排気チャンバ240を加圧および/または減圧するために使用されてもよい。
非限定的な例として、空洞218内の可撓性膜234の表面積は、可撓性バブル236の表面積より大きくてもよい。入力ゲート末端230が加圧されるとき、可撓性バブル236に対してプランジャが加える力は、可撓性バブル236の表面積に対する可撓性膜234の表面積の比に比例してもよい。したがって、可撓性バブル236の表面積と比較して可撓性膜234の表面積が大きいことは、これらの表面積が等しい場合よりも入力ゲート末端230内の駆動流体の圧力を低くしてマイクロ流体弁200を閉じるという機械的利点を与え得る。いくつかの例では、可撓性膜(すなわち空洞218内の可撓性膜234の表面積)に平行にとられた空洞218の断面積は、約1mm2以下などの約25mm2以下であってもよい。
図3Aおよび3Bに示すように、プランジャ216および空洞218それぞれは、円形断面を有する円筒形状を有してもよい。しかし、本開示は、そのように限定されない。たとえば、さらなる実施形態では、プランジャ216および/または空洞218の一方または両方は、正方形、長方形、長円、楕円、または不定形である断面形状を有してもよい。プランジャ216、空洞218、ゲートポート210、入口ポート212および出口ポート214の形状およびサイズは、マイクロ流体弁200の機械的、流体的、および機能的特性を調整するように選択されてもよい。
図6~41は、本開示の少なくとも1つの実施形態による、マイクロ流体弁300の製造のさまざまな段階の断面図を示す。大まかに言えば、マイクロ流体弁300は、駆動本体部分344、ゲート本体部分346、および流体チャネル本体部分348を形成し、組み立てることによって形成されてもよい。図6~15は、駆動本体部分344の製造のさまざまな段階の断面図を示す。図16~25は、ゲート本体部分346の製造のさまざまな段階の断面図を示す。図26~39は、流体チャネル本体部分348の製造のさまざまな段階の断面図を示す。図40は、駆動本体部分344、ゲート本体部分346、および流体チャネル本体部分348が一緒に組み立てられた後の、開状態にあるゲートを備えたマイクロ流体弁300の断面図を示す。図41は、閉状態にあるゲートを備えた、組み立てられたマイクロ流体弁300の断面図を示す。
図6を参照すれば、駆動本体基板材料352が、(図15にその完成した状態で示す)駆動本体部分344を形成するように処理するために選択されてもよい。例として、そして非限定的には、駆動本体基板材料352は、ケイ素材料、二酸化ケイ素材料、ガラス材料、または剛性ポリマー材料であってもよく、またはこれを含んでもよい。いくつかの実施形態では、駆動本体基板材料352は、それぞれのマイクロ流体弁300(図40)の複数の駆動本体部分344を含むように処理されるウエハまたは他のバルク基板であってもよい。
第1のフォトレジスト材料354が、図7に示すように、駆動本体基板材料352の上面上を覆って配設されてもよい。第1のフォトレジスト材料354は、フォトリソグラフィの分野で知られているように、放射(たとえば紫外光、赤外光など)および現像への選択的露出によってパターニングすることができてもよい。たとえば、第1のフォトレジスト材料354は、スピンコーティングプロセスまたは別の堆積プロセスによって駆動本体基板材料352に加えられてもよい。
図8に示すように、第1のマスク356が、第1のフォトレジスト材料354上を覆って位置決めされてもよい。第1のマスク356は、放射ブロッキング部分および放射透過性部分(たとえば透明部分または空隙)のパターンを有してもよい。第1のフォトレジスト材料354は、第1の矢印358によって示すように、第1のマスク356の放射透過性部分を通って選択的に放射されてもよい。放射は、第1のマスク356の放射ブロッキング部分によってブロックされてもよい。第1のフォトレジスト材料354の化学構造は、放射への露出によって変えられてもよく、第1のフォトレジスト材料354の非放射部分に対して選択的に除去可能(たとえば可溶性)となってもよい。
図9を参照すれば、第1のフォトレジスト材料354の放射部分は、除去(たとえば現像)されてもよい。たとえば、第1のフォトレジスト材料354は、いわゆる正型フォトレジスト材料であってもよく、正型フォトレジスト材料は、フォトリソグラフィの分野において知られているように、適切な放射によって放射された後に現像溶媒または他の化学物質によって除去可能(たとえば可溶性)となり、放射されないときは現像溶媒または他の化学物質によって除去可能とはならない。現像後、第1のフォトレジスト材料354の放射部分の下にあった駆動本体基板材料352は、第1のフォトレジスト材料354の非放射部分を通して露出されてもよい。駆動本体基板材料352の露出された部分は、所定のパターン(たとえば形状、サイズ、数など)にあってもよい。
図10に示すように、駆動本体基板材料352の露出された部分は、駆動本体基板材料352内に入力ゲート末端330を少なくとも部分的に画定するように除去されてもよい。例として、異方性材料除去プロセス(たとえばエッチングプロセス)が、駆動本体基板材料352の露出された部分を除去するように実行されてもよい。材料除去プロセスは、第1のフォトレジスト材料354の残りの非放射部分より駆動本体基板材料352に選択的であってもよい。
図11を参照すれば、残りの第1のフォトレジスト材料354は、等方性または異方性材料除去プロセス(たとえば、化学エッチングプロセス、イオンエッチングプロセス、研磨プロセス、化学機械平坦化(「CMP」)プロセス、溶媒への露出など)などによって、駆動本体基板材料352から除去されてもよい。
図12に示すように、駆動本体キャリア基板360が、駆動本体基板材料352に、かつその内部に形成された入力ゲート末端330上を覆って接着材料362などによって取り付けられてもよい。駆動本体基板材料352は、図12~15では図6~11に対して逆向きに示される。
さらに図12を参照すれば、第2のフォトレジスト材料364が、入力ゲート末端330とは反対側の駆動本体基板材料352の表面上を覆って配設されてもよい。第2のマスク366が、第2のフォトレジスト材料364上を覆って位置決めされてもよく、第2のフォトレジスト材料364は、第2の矢印368に示すように、第2のマスク366を通して選択的に放射されてもよい。
例として、第2のフォトレジスト材料364は、第1のフォトレジスト材料354を参照して上記で説明したように、正型フォトレジスト材料であってもよい。したがって、図13に示すように、第2のフォトレジスト材料364の放射部分は、選択的に除去(たとえば現像)されてもよく、第2のフォトレジスト材料364の非放射部分は、駆動本体基板材料352上を覆って残っていてもよい。
図14を参照すれば、第2のフォトレジスト材料364の残りの部分を通して露出された駆動本体基板材料352の部分は、第2のフォトレジスト材料364より駆動本体基板材料352に選択的である異方性材料除去プロセス(たとえばエッチングプロセス)などによって除去されてもよい。この材料除去プロセスは、駆動本体基板材料352内にゲートポート310を形成してもよく、このゲートポートは、入力ゲート末端330と流体連通してもよい。
図15に示すように、第2のフォトレジスト材料364および駆動本体キャリア基板360は、駆動本体基板材料352から除去(たとえば現像)されてもよく、駆動本体部分344は、結果として生じた構造によって画定されてもよい。駆動本体部分344は、ゲートポート310と、入力ゲート末端330とを含んでもよい。複数のそれぞれのマイクロ流体弁300の複数の駆動本体部分344が形成される実施形態では、ウエハまたは他のバルク基板の複数の駆動本体部分344は、このときにまたは事後に互いから分離されても(たとえば切り分けられても)よく、これを以下でさらに説明する。
上記で留意したように、図16~25は、ゲート本体部分346の製造のさまざまな段階を示す。図16を参照すれば、ゲート本体基板材料370は、(図25にその完成した状態で示す)ゲート本体部分346を形成するように処理するために選択されてもよい。例として、そして非限定的には、ゲート本体基板材料370は、ケイ素材料、二酸化ケイ素材料、ガラス材料、または剛性ポリマー材料であってもよいか、またはこれを含んでもよい。いくつかの実施形態では、ゲート本体基板材料370は、それぞれのマイクロ流体弁300(図40)の複数のゲート本体部分346を含むように処理されるウエハまたは他のバルク基板の形態であってもよい。
図17を参照すれば、二酸化ケイ素などの第1のエッチング阻止材料372が、ゲート本体基板材料370上を覆って形成されてもよい。例として、そして非限定的には、第1のエッチング阻止材料372は、化学蒸着(「CVD」)プロセス、プラズマ強化CVD(「PECVD」)プロセス、拡散プロセスなどによって形成されてもよい。
図18に示すように、二酸化ケイ素などの第2のエッチング阻止材料374が、第1のエッチング阻止材料372とは反対側のゲート本体基板材料370の表面上に形成されてもよい。例として、そして非限定的には、第2のエッチング阻止材料374は、化学蒸着(「CVD」)プロセス、プラズマ強化CVD(「PECVD」)プロセス、拡散プロセスなどによって形成されてもよい。
図19を参照すれば、第1の可撓性材料376が、第1のエッチング阻止材料372上を覆って形成されてもよい。第1の可撓性材料376は、たとえば、ポリマー材料(たとえばポリシロキサン材料などのエラストマー材料)であってもよい。いくつかの例では、第1の可撓性材料376は、第1のエッチング阻止材料372に化学的に接合されてもよく、第1のエッチング阻止材料372は、さらに、ゲート本体基板材料370に化学的に接合されてもよい。いくつかの実施形態では、第1のエッチング阻止材料372上を覆って第1の可撓性材料376を形成する前に、第1のエッチング阻止材料372は、たとえば第1の可撓性材料376と第1のエッチング阻止材料372との間の接合を改善するなどのためにプラズマ処理されてもよい。
図20では、ゲート本体基板材料、第1のエッチング阻止材料372、第2のエッチング阻止材料374、および第1の可撓性材料376は、図19に対して逆向きに示される。第3のフォトレジスト材料378が、第2のエッチング阻止材料374上を覆って形成されてもよく、第3のマスク380が、第3のフォトレジスト材料378上を覆って位置決めされてもよい。第3のフォトレジスト材料378は、第3の矢印382によって示すように、第3のマスク380を通して放射されてもよい。
例として、第3のフォトレジスト材料378は、いわゆる負型フォトレジスト材料であってもよく、負型フォトレジスト材料は、放射されないときは現像剤中に可溶性であり、放射されたときは現像剤中に不溶性となる。図21に示すように、放射されなかった第3のフォトレジスト材料378の部分は、第2のエッチング阻止材料374の下にある部分を露出するために除去(たとえば現像)されてもよい。
図22を参照すれば、第2のエッチング阻止材料374の露出された部分は、ゲート本体基板材料370の下にある部分を露出するために除去されてもよい。
図23に示すように、ゲート本体基板材料370の露出された部分は、第3のフォトレジスト材料378、第1のエッチング阻止材料372、および/または第2のエッチング阻止材料374の残りの部分よりゲート本体基板材料370に選択的である、異方性材料除去プロセス(たとえば乾式反応性イオンエッチングプロセスなどのエッチングプロセス)などによって除去されてもよい。この材料除去プロセスは、ゲート本体基板材料370内に溝を形成してもよく、溝の底部において第1のエッチング阻止材料372の一部を露出させてもよい。
いくつかの実施形態では、任意選択の排気出口324(図41に示す)が、図21~23を参照して説明した材料除去プロセスと併せて形成されてもよい。たとえば、第3のフォトレジスト材料378は、第3のマスク380を通して放射に露出されてもよく、排気出口324を含むパターンを形成するように現像されてもよい。第3のフォトレジスト材料378内のパターンは、溝と排気出口324の両方を形成するために、第2のエッチング阻止材料374およびゲート本体基板材料370に、上記で説明した材料除去プロセスによって移されてもよい。
図24に示すように、第1のエッチング阻止材料372の露出された部分は、次いで、第1の可撓性材料376より第1のエッチング阻止材料372に選択的である材料除去プロセスなどによって溝の底部から除去されてもよい。図21~24を参照して説明した材料除去プロセスは、出力ゲート末端332と出力ゲート末端332内のプランジャ316とを画定してもよい。
図25を参照すれば、第3のフォトレジスト材料378が除去されてもよく、結果として生じる構造は、ゲート本体部分346およびプランジャ316を含んでもよい。プランジャ316は、出力ゲート末端332によって、近傍のゲート本体部分346から物理的に分離されてもよい。しかし、プランジャ316は、第1の可撓性材料376を介してゲート本体部分346に結合されてもよく、第1の可撓性材料は、出力ゲート末端332に広がる可撓性膜334を画定してもよい。第1の可撓性材料376は、ゲート本体部分346およびプランジャ316に化学的に接合されてもよい。プランジャ316および可撓性膜334は、一緒になってゲート伝送要素を画定してもよい。複数のそれぞれのマイクロ流体弁300の複数のゲート本体部分346が形成される実施形態では、ウエハまたは他のバルク基板の複数のゲート本体部分346は、このときにまたは事後に互いから分離されても(たとえば切り分けられても)よく、これを以下でさらに説明する。
上記で留意したように、図26~39は、流体チャネル本体部分348の製造のさまざまな段階を示す。図26を参照すれば、流体チャネル本体基板材料386は、(図39にその完成した状態で示す)流体チャネル本体部分348を形成するように処理するために選択されてもよい。例として、そして非限定的には、流体チャネル本体基板材料386は、ケイ素材料、二酸化ケイ素材料、ガラス材料、または剛性ポリマー材料であってもよいか、またはこれを含んでもよい。いくつかの実施形態では、流体チャネル本体基板材料386は、それぞれのマイクロ流体弁300(図40)の複数の流体チャネル本体部分348を含むように処理されるウエハまたは他のバルク基板の形態であってもよい。
図27に示すように、第4のフォトレジスト材料388が、流体チャネル本体基板材料386の表面上を覆って配設されてもよい。例として、第4のフォトレジスト材料388は、第3のフォトレジスト材料378を参照して上記で説明したような負型フォトレジスト材料であってもよい。
図28を参照すれば、第4のマスク390が、第4のフォトレジスト材料388上を覆って位置決めされてもよく、放射が、図28に第4の矢印392によって示すように、第4のマスク390を通して第4のフォトレジスト材料388の露出された部分に向けられてもよい。
図29では、放射されなかった第4のフォトレジスト材料388の部分は、下にある流体チャネル本体基板材料386の一部を選択的に露出させるために、現像剤によって除去されてもよい。金属材料394が、残っている第4のフォトレジスト材料388および流体チャネル本体基板材料386の露出された部分上を覆って堆積されてもよい。例として、金属材料394は、スパッタリングプロセスなどの物理蒸着(「PVD」)プロセスによって堆積されてもよい。金属材料394は、たとえばアルミニウム材料であってもよく、またはこれを含んでもよい。
図30を参照すれば、第4のフォトレジスト材料388およびその上の金属材料394の部分は、金属材料394のパターンを流体チャネル本体基板材料386上に残して除去されてもよい。残りの金属材料394は、流体チャネル内の制限領域をブロックする際に可撓性バブルが押し付けられる着地パッドを形成してもよい。
図31を参照すれば、第5のフォトレジスト材料396が、流体チャネル本体基板材料386および金属材料394上を覆って配設されてもよい。第5のフォトレジスト材料396は、第1のフォトレジスト材料354を参照して上記で説明したような、正型フォトレジスト材料であってもよい。第5のマスク398が、第5のフォトレジスト材料396上を覆って位置決めされてもよく、このアセンブリは、第5の矢印400によって示すように、第5のフォトレジスト材料396の一部を選択的に露出させるように放射されてもよい。
図33に示すように、第5のフォトレジスト材料396の放射部分は、金属材料394および流体チャネル本体基板材料386の隣接する部分上を覆う第5のフォトレジスト材料396のブロック402を残して除去されてもよい。
図34を参照すれば、第5のフォトレジスト材料396は、第5のフォトレジスト材料396のブロック402の上側コーナを丸くするように熱処理されてもよく、それによって丸みのあるブロック404を形成する。熱処理の温度および時間は、ブロック402を構成する材料のタイプ、熱に対するその物理的反応(たとえばコーナの平坦丸み度(level rounding))、熱処理後の結果として生じる丸みのあるブロック404の所望のプロファイルに基づいて選択されてもよい。丸みのあるブロック404は基本構造を形成してもよく、この基本構造上を覆って、以下でさらに説明するように可撓性バブルが形成されることになる。したがって、丸みのあるブロック404の形状は、結果として生じる可撓性バブルの所望の形状に基づいて選択されてもよい。
図35を参照すれば、第2の可撓性材料406が、流体チャネル本体基板材料386上を覆ってかつ丸みのあるブロック404上を覆って配設されてもよい。たとえば、第2の可撓性材料406は、ポリマー材料(たとえばポリシロキサン材料などのエラストマー材料)であってもよい。丸みのあるブロック404上を覆う第2の可撓性材料406の部分は、可撓性バブル336を画定してもよい。
図36~38では、流体チャネル本体基板材料386、金属材料394、第5のフォトレジスト材料396の丸みのあるブロック404、および第2の可撓性材料406は、図26~35に対して逆向きで示される。
図36を参照すれば、第6のフォトレジスト材料408が、第2の可撓性材料406とは反対側の流体チャネル本体基板材料386の表面上を覆って配設されてもよい。第6のフォトレジスト材料408は、第3のフォトレジスト材料378を参照して上記で説明したように負型フォトレジスト材料であってもよい。第6のマスク410が、第6のフォトレジスト材料408上を覆って位置決めされてもよい。第6のフォトレジスト材料408は、第6のマスク410のパターンを第6のフォトレジスト材料408に移すために、第6の矢印412によって示すように第6のマスク410を通して放射されてもよい。
図37を参照すれば、放射されなかった第6のフォトレジスト材料408の部分は、第6のフォトレジスト材料408の残りの部分を通して流体チャネル本体基板材料386の一部を露出させるために、除去されてもよい。
図38に示すように、流体チャネル本体基板材料386の露出された部分は、フォトリソグラフィの分野で知られているようなエッチングプロセス(たとえば化学エッチングプロセス、乾式反応性イオンエッチングプロセスなど)などの等方性材料除去プロセスにおいて除去されてもよい。この材料除去プロセスは、流体チャネル本体基板材料386内に孔を形成してもよく、この孔は、結果として生じるマイクロ流体弁300(図40を参照)内の入口ポート312および出口ポート314を画定することになる。第2の可撓性材料406の下方の丸みのあるブロック404の第5のフォトレジスト材料396は、入口ポート312および出口ポート314を通して露出されてもよい。
図39では、構造は、図36~38に示すものに対して逆向きで(すなわち図26~35と同じ向きで)示される。図39に示すように、丸みのあるブロック404の第5のフォトレジスト材料396は、フォトリソグラフィの分野で知られているような異方性材料除去プロセス(たとえば湿式エッチングプロセス、化学エッチングプロセスなど)などによって、入口ポート312および出口ポート314を通して除去されてもよい。この時点において、入口ポート312から出口ポート314の間の流体チャネルの可撓性バブル336および制限領域338が、形成され画定されてもよい。加えて、流体チャネル本体部分348もまた形成され画定されてもよい。複数のそれぞれのマイクロ流体弁300の複数の流体チャネル本体部分348が形成される実施形態では、ウエハまたは他のバルク基板の複数の流体チャネル本体部分348は、このときにまたは事後に互いから分離されても(たとえば切り分けられても)よく、これを以下でさらに説明する。
次に、駆動本体部分344(図15)、ゲート本体部分346(図25)、および流体チャネル本体部分348(図39)は、図40に示すようなマイクロ流体弁300を形成するように組み立てられ互いに結合されてもよい。いくつかの例では、駆動本体部分344、ゲート本体部分346、および流体チャネル本体部分348の個々のユニット(たとえば切り分け部)が形成され、1つのマイクロ流体弁300を形成するように個々に組み立てられ互いに結合されてもよい。あるいは駆動本体部分344、ゲート本体部分346、および流体チャネル本体部分348の複数のユニットをそれぞれ含むウエハまたは他のバルク基板が、位置合わせされ、組み立てられ、互いに結合されてもよい。次いで、複数のマイクロ流体弁300が、互いから分離され(たとえば切断される、切り分けられるなど)、同時に形成されてもよい。
いくつかの例では、駆動本体部分344、ゲート本体部分346、および流体チャネル本体部分348は、組み立てられ、接着材料によって互いに結合されてもよい。さらなる例では、駆動本体部分344、ゲート本体部分346、および流体チャネル本体部分348は、組み立てられ、化学接合によって互いに結合されてもよい。たとえば、駆動本体部分344、ゲート本体部分346、および流体チャネル本体部分348は、化学接合を形成するために、互いに押し付けられおよび/または熱処理されてもよい。1つまたは複数の接合剤が、駆動本体部分344、ゲート本体部分346、および流体チャネル本体部分348間の界接面に加えられて、これらの構成要素間の化学接合の形成を容易にしてもよい。
図40に示すように、ゲート本体部分346を流体チャネル本体部分348に組み付ける際、可撓性バブル336の構造により、プランジャ316を流体チャネル本体部分348から離れるように(図40の斜視図に対して)上方向に強制してもよい。可撓性膜334は、プランジャ316が図40に示す位置になるように伸張してもよい。いくつかの実施形態では、可撓性バブル336の構造は、いかなる流体力または加圧も加えられない状態でプランジャ316をこの上方向に位置に保つのに十分であってよい。さらなる実施形態では、プランジャ316は、入口ポート312の加圧時、入力ゲート末端330の減圧時、および/または出力ゲート排気チャンバ340の加圧時に上方向位置(図40)になるように強制されてもよい。プランジャ316が図40に示す上方向位置にあるとき、制限領域338はブロック解除されてもよく、マイクロ流体弁300は開状態にあってもよく、主要流体は、入口ポート312から出口ポート314に(最終的には流体駆動式機構に)流れてもよい。
図41では、マイクロ流体弁300は閉状態で示され、このときプランジャ316は、流体チャネル本体部分348に向かって(図41の斜視図に対して)下方向位置にある。プランジャ316は、入口ポート312と出口ポート314との間の制限領域338(図40)をブロックするために、可撓性バブル336を押し付け変形させてもよい。プランジャ316は、ゲートポート310を通して入力ゲート末端330を十分に加圧した際、および/または排気出口324を通して出力ゲート排気チャンバ340を減圧した際にこの下方向位置まで移動してもよい。
図41はまた、駆動本体部分344、ゲート本体部分346、および流体チャネル本体部分348の表面上に形成された(点線で示す)任意選択の位置合わせマーク414を示す。位置合わせマーク414は、任意選択により、それぞれの駆動本体部分344、ゲート本体部分346、および/または流体チャネル本体部分348の製造中に形成されてもよい。たとえば、位置合わせマーク414は、印刷(たとえばインクジェット印刷)プロセス、エッチングプロセス、および/またはフォトリソグラフィプロセスによって形成されてもよい。位置合わせマーク414は、存在する場合、駆動本体部分344、ゲート本体部分346、および流体チャネル本体部分348を適切に組み立てるために位置合わせすることを容易にし得る。あるいは、入力ゲート末端330の縁、出力ゲート末端332の縁、入口ポート312および/または出口ポート314など、駆動本体部分344、ゲート本体部分346、および流体チャネル本体部分348内に形成された他の特徴が、組み立て中にこれらの構造の位置合わせを容易にするために使用されてもよい。
図42は、本開示の少なくとも1つの実施形態による、マイクロ流体システム内の主要流体の流れを制御する方法500を示す流れ図である。工程510において、主要流体は、流体チャネルの制限領域を通って入口ポートから出口ポートに運ばれてもよい。たとえば、制限領域は、上記で説明したように、出力ゲート末端内にあってもよく、可撓性バブルの内部によって画定されてもよい。いくつかの例では、出口ポート内に運ばれた流体は、流体駆動式機構を起動させるために流体駆動式機構まで流されてもよい。非限定的な例として、流体駆動式機構は、人工現実システムの触覚フィードバックデバイスであってもよい。
工程520において、駆動流体が、ゲート伝送要素(たとえばプランジャに結合された可撓性膜)によって出力ゲート末端から分離された入力ゲート末端内に流されてもよい。たとえば、駆動流体は、上記で説明したように、ゲートポートを介して駆動流体源から入力ゲート末端内に導入されてもよい。
工程530において、ゲート伝送要素は、出力ゲート末端内に位置決めされた可撓性バブルを押し付け変形させるように移動されてもよい。出力ゲート末端は、可撓性バブルによって制限領域から分離されてもよい。たとえば、ゲート伝送要素は、駆動流体が入力ゲート末端内に流れることに応答して移動されてもよい。
工程540において、入口ポートから出口ポートへの主要流体の流れは、変形された可撓性バブルによって制限領域をブロックすることによって抑制されてもよい。たとえば、制限領域は、上記で説明したように、可撓性バブルの変形によって収縮されてもよい。このようにして、マイクロ流体弁は、閉状態に動作されてもよい。マイクロ流体弁が閉状態から開状態に動作されることが望まれる場合、方法500はまた、可撓性バブルに対する圧力を緩和し、制限領域をブロック解除するために、ゲート伝送要素を移動させるために駆動流体を入力ゲート末端からゲートポートを通して引き出すことを含んでもよい。
図43および44は、それぞれ本開示の少なくとも1つの実施形態による、マイクロ流体システムを製造する方法600および700を示す流れ図である。
図43を参照すれば、方法600は、マイクロ流体弁体内に空洞を形成する工程610を含んでもよく、マイクロ流体弁体は、ケイ素材料、二酸化ケイ素材料、ガラス材料、または剛性ポリマー材料の少なくとも1つであってもよいか、またはこれを含んでもよい。たとえば、上記で説明したように、入力ゲート末端は、マイクロ流体弁体の駆動本体部分内に形成されてもよく、出力ゲート末端は、マイクロ流体弁体のゲート本体部分内に形成されてもよい。少なくとも1つのフォトリソグラフィ工程が、マイクロ流体弁体内に空洞を形成するために実行されてもよい。空洞は、約1mm2以下などの約25mm2以下の断面積を有するように形成されてもよい。
工程620において、ゲート伝送要素は、可撓性膜をゲート本体部分の表面上に配設し、プランジャを可撓性膜に結合させるなどによって、入力ゲート末端を出力ゲート末端から分離するために空洞内に位置決めされてもよい。ゲート本体部分および駆動本体部分は、互いに結合されてもよい。
いくつかの実施形態では、流体チャネル本体部分は、ゲート本体部分の駆動本体部分とは反対側のゲート本体部分に結合されてもよい。
工程630において、流体チャネルは、入口ポートと、制限領域と、出口ポートとをマイクロ流体弁体内に含むように形成されてもよい。ゲート伝送要素は、入力ゲート末端の加圧時に入口ポートから出口ポートへの主要流体の流れを抑制するために制限領域を制限するために、入力ゲート末端の加圧および減圧時に行き来して移動するように位置決めされ構成されてもよい。同様にゲート伝送要素は、入力ゲート末端の減圧時に入口ポートから出口ポートへの主要流体の流れを可能にするか、または増大させるために、行き来して移動するように構成されてもよい。可撓性バブルは、出力ゲート末端の出力ゲート排気チャンバから制限領域を分離してもよい。したがって、可撓性バブルは、制限領域上を覆って形成され、出力ゲート末端内に位置決めされてもよい。排気出口が、出力ゲート排気チャンバと流体連通してマイクロ流体弁体内に形成されてもよい。
図44を参照すれば、マイクロ流体システムを製造する方法700は、工程710に示すようにマイクロ流体弁を形成することを含んでもよい。マイクロ流体弁は、上記で説明したように形成されてもよい。たとえば、入力ゲート末端および入力ゲート末端内に至るゲートポートを形成するために、マイクロ流体弁体の駆動本体部分から(たとえば少なくとも1つのフォトリソグラフィ工程を実行することによって)材料が除去されてもよい。可撓性膜が、マイクロ流体弁体のゲート本体部分上に形成されてもよい。たとえば、可撓性膜は、ポリマー材料(たとえばポリシロキサン材料などのエラストマー材料)であってもよく、またはこれを含んでもよい。出力ゲート末端を形成し、出力ゲート末端内にプランジャを画定するために、ゲート本体部分から(たとえば少なくとも1つのフォトリソグラフィ工程を実行することによって)材料が除去されてもよい。プランジャは、可撓性膜に接合されてもよいが、別の形でゲート本体部分から分離されてもよい。可撓性バブルが、マイクロ流体弁体の流体チャネル本体部分上に形成されてもよく、入口ポートおよび出口ポートを形成するために、流体チャネル本体部分から(たとえば少なくとも1つのフォトリソグラフィ工程を実行することによって)材料が除去されてもよい。入口ポートおよび出口ポートは、可撓性バブルの内部と流体連通してもよい。駆動本体部分は、ゲート本体部分に結合されてもよい。入力ゲート末端は、可撓性膜によって出力ゲート末端から分離されてもよい。ゲート本体部分は、流体チャネル本体部分に結合されてもよい。
いくつかの例では、マイクロ流体弁を形成することは、複数のマイクロ流体弁を同時に形成することを含んでもよい。駆動本体部分をゲート本体部分に結合することは、複数の駆動本体部分を含む駆動本体基板材料を、複数のゲート本体部分を含むゲート本体基板材料に接合することを含んでもよい。ゲート本体部分を流体チャネル本体部分に結合させることは、複数のゲート本体部分を含むゲート本体基板材料を、複数の流体チャネル本体部分を含む流体チャネル本体基板材料に接合することを含んでもよい。プランジャは、ゲート本体部分が流体チャネル本体部分に結合された後、可撓性バブルに当接されてもよい。
いくつかの例では、流体チャネル本体上に可撓性バブルを形成することは、流体チャネル本体部分上にブロックを形成することを含んでもよい。ブロックは、ブロックを熱処理することなどによって丸みが付けられてもよい。可撓性材料(たとえばポリシロキサン材料などのエラストマー材料)が、ブロックおよび流体チャネル本体部分上を覆って形成されてもよい。ブロックは、可撓性材料を流体チャネル本体部分上に残したままで除去されてもよい。たとえば、ブロックは、選択的材料除去プロセスを使用して、入口ポートまたは出口ポートの少なくとも1つを通してブロックの材料を除去することによって除去されてもよい。可撓性バブルは、マイクロ流体弁を動作させるための機械的利点を提供するなどのために、可撓性膜の表面積より小さい表面積を有するように形成されてもよい。
工程720において、駆動流体源が、マイクロ流体弁のゲートポートに動作可能に結合されてもよい。たとえば、駆動流体源は、ゲートポートと流体連通して置かれてもよい、加圧されたリザーバ、ファン、ポンプ、またはピストンシステムなどであってもよいか、またはこれを含んでもよい。
工程730において、主要流体源が、(たとえば流体チャネルの)マイクロ流体弁の入口ポートに動作可能に結合されてもよい。たとえば、主要流体源は、入口ポートと流体連通して置かれてもよい、加圧されたリザーバ、ファン、ポンプ、またはピストンシステムなどであってもよいか、またはこれを含んでもよい。
工程740において、流体駆動式機構が、(たとえば流体チャネルの)マイクロ流体弁の出口ポートに動作可能に結合されてもよい。流体駆動式機構は、マイクロ流体弁が開状態にあるときに主要流体によって動作されてもよい。たとえば、流体駆動式機構は、MEMSデバイス、伸縮性空洞、ピストンシステムおよび/または触覚フィードバックデバイスの少なくとも1つを含んでもよい。
したがって、流体の流れを制御するためのマイクロ流体弁および関連するシステムならびに方法が、開示される。マイクロ流体弁は、内部の少なくとも1つの空洞と、空洞を入力ゲート末端と出力ゲート末端とに分割するゲート伝送要素とを有する弁体を含んでもよい。ゲート伝送要素は、可撓性膜に結合されたプランジャを含んでもよい。ゲート伝送要素は、入力ゲート末端の加圧時に流体チャネルの入口ポートから出口ポートへの主要流体の流れを抑制するために、また入力ゲート末端の減圧時に主要流体の流れを可能にするために、空洞内で移動するように構成されてもよい。開示する概念は、流体の流れをマクロ流体スケールで制御することを可能にし、容易にする、改良されたアーキテクチャおよび方法を提供してもよい。
本開示の実施形態は、さまざまなタイプの人工現実システムを含んでもよく、またはこれらと併せて実施されてもよい。人工現実は、ユーザへの提示前に何らかの方法で調整された現実の形態であり、たとえば仮想現実(VR)、拡張現実、複合現実(MR)、ハイブリッド現実、またはこれらの何らかの組合せおよび/または派生物を含んでもよい。人工現実コンテンツは、完全に生成されたコンテンツ、または取り込まれた(たとえば現実世界)のコンテンツと組み合わせられた、生成されたコンテンツを含んでもよい。人工現実コンテンツは、動画、音声、触覚フィードバック、またはこれらの何らかの組合せを含んでもよく、これらのいずれも、単一チャンネルまたは複数チャンネルで提示されてもよい(たとえば三次元効果を視聴者に向けて生み出すステレオ動画)。さらに、いくつかの実施形態では、人工現実はまた、たとえば人工現実においてコンテンツを作り出すために使用され、および/または人工現実において(たとえば活動を実行するために)別の形で使用される、アプリケーション、製品、アクセサリ、サービス、またはこれらの何らかの組合せに関連付けられてもよい。
人工現実システムは、さまざまな異なる形態のファクタおよび構成において実施されてもよい。いくつかの人工現実システムは、ニアアイディスプレイ(NED)無しで作用するように設計されてもよく、その一例は、図45の人工現実システム800である。他の人工現実システムは、NEDを含んでもよく、このNEDは、現実世界への可視性も提供し(たとえば図46の人工現実システム900)、またはユーザを人工現実に視覚的に没入させる(たとえば図47のVRシステム1000)。いくつかの人工現実デバイスは、自己完結型システムであってもよいが、他の人工現実デバイスは、ユーザに人工現実の体験を提供するために外部デバイスと通信および/または連携してもよい。そのような外部デバイスの例は、手持ち式コントローラ、モバイルデバイス、デスクトップコンピュータ、ユーザによって着用されるデバイス、1人または複数の他のユーザによって着用されるデバイス、および/または任意の他の適切な外部システムを含む。
図45に移れば、人工現実システム800は、ユーザの体の部分(たとえば頭部)周りにフィットするように寸法設定されたウェアラブルデバイスを全体的に表す。図45に示すように、人工現実システム800は、フレーム802と、フレーム802に結合され、局所環境を観察することによって局所環境についての情報を集めるように構成されたカメラアセンブリ804とを含んでもよい。人工現実システム800はまた、出力音声変換器808(A)および808(B)ならびに入力音声変換器810などの1つまたは複数の音声デバイスを含んでもよい。出力音声変換器808(A)および808(B)は、音声フィードバックおよび/またはコンテンツをユーザに提供してもよく、入力音声変換器810は、ユーザの環境内の音声を取り込んでもよい。
図示するように、人工現実システム800は、必ずしもユーザの眼の前方に位置決めされたNEDを含まなくてもよい。NED無しの人工現実システムは、ヘッドバンド、帽子、ヘアバンド、ベルト、時計、リストバンド、アンクルバンド、リング、ネックバンド、ネックレス、チェストバンド、アイウェアフレーム、および/または任意の他の適切なタイプまたは形態の装置などのさまざまな形態をとってもよい。人工現実システム800はNEDを含まなくてもよいが、人工現実システム800は、他のタイプのスクリーンまたは視覚フィードバックデバイス(たとえばフレーム802の側部に一体化されたディスプレイスクリーン)を含んでもよい。人工現実システム800は、1つまたは複数の触覚フィードバックデバイス812を含んでもよく、この触覚フィードバックデバイスは、図1の流体システム10および/または図2のマイクロ流体システム100であってもよく、またはこれを含んでもよい。
本開示で論じる実施形態はまた、1つまたは複数のNEDを含む人工現実システムに実装されてもよい。たとえば、図46に示すように、人工現実システム900は、ユーザの眼の前方に左ディスプレイデバイス915(A)および右ディスプレイデバイス915(B)を保持するように構成されたフレーム910を備えたアイウェアデバイス902を含んでもよい。ディスプレイデバイス915(A)および915(B)は、画像または一連の画像をユーザに提示するために、一緒になってまたは独立的に作用してもよい。人工現実システム900は、2つのディスプレイを含むものとして示されているが、本開示の実施形態は、単一のNEDまたは3つ以上のNEDを備えた人工現実システム内に実装されてもよい。
いくつかの実施形態では、人工現実システム900は、センサ940などの1つまたは複数のセンサを含んでもよい。センサ940は、人工現実システム900の運動に応答して測定信号を生成してもよく、フレーム910の実質的に任意の部分に位置してもよい。センサ940は、位置センサ、慣性計測装置(IMU)、深度カメラアセンブリ、またはこれらの任意の組合せを含んでもよい。いくつかの実施形態では、人工現実システム900は、センサ940を含んでも含まなくてもよく、または2つ以上のセンサを含んでもよい。センサ940がIMUを含む実施形態では、IMUは、センサ940からの測定信号に基づいて較正データを生成してもよい。センサ940の例は、限定的ではないが、加速度計、ジャイロスコープ、磁気センサ、運動を検出する他の適切なタイプのセンサ、IMUの誤差補正に使用されるセンサ、またはこれらの何らかの組合せを含んでもよい。
人工現実システム900はまた、集約的に音響センサ920と称される、複数の音響センサ920(A)~920(J)を備えたマイクロホンアレイを含んでもよい。音響センサ920は、音波によって誘発された空気圧力の変動を検出する変換器であってもよい。各音響センサ920は、音を検出し、検出された音を電子フォーマット(たとえばアナログまたはデジタルフォーマット)に変換するように構成されてもよい。図46のマイクロホンアレイは、たとえば、10個の音響センサ、すなわちユーザの対応する耳の内側に置かれるように設計されてもよい920(A)および920(B)、フレーム910上のさまざまな場所に位置決めされてもよい音響センサ920(C)、920(D)、920(E)、920(F)、920(G)、および920(H)、ならびに/または対応するネックバンド905上に位置決めされてもよい音響センサ920(I)および920(J)を含んでもよい。
マイクロホンアレイの音響センサ920の構成は、さまざまであってもよい。人工現実システム900は、10個の音響センサ920を有するものとして図46に示されているが、音響センサ920の数は、10個より多くても少なくてもよい。いくつかの実施形態では、より多くの数の音響センサ920を使用することで、収集される音声情報の量、および/または音声情報の感度および/または精度を増大させてもよい。その反対に、より少ない数の音響センサ920を使用することで、収集される音声情報を処理するためにコントローラ950によって必要とされる計算能力を低下させてもよい。加えて、マイクロホンアレイの各音響センサ920の位置は、さまざまであってもよい。たとえば、音響センサ920の位置は、ユーザにおける規定された位置、フレーム910上の規定された座標、各音響センサに関連付けられた向き、またはこれらの何らかの組合せを含んでもよい。
音響センサ920(A)および920(B)は、耳介の後方または外耳もしくは窩内などのユーザの耳の異なる部分上に位置決めされてもよい。または、外耳道内側の音響センサ920に加えて、耳上にまたは耳を取り囲んで追加の音響センサが存在してもよい。ユーザの外耳道の隣に位置決めされた音響センサを有することで、マイクロホンアレイが、外耳道に音がどのように到達するかについての情報を収集することを可能にしてもよい。ユーザの頭部の両側に音響センサ920の少なくとも2つを位置決めすることにより(たとえば両耳用のマイクロホン)、人工現実デバイス900は、両耳の聴覚をシミュレートし、ユーザの頭部周りの3Dステレオ音場を取り込んでもよい。いくつかの実施形態では、音響センサ920(A)および920(B)は、有線接続によって人工現実システム900に接続されてもよく、他の実施形態では、音響センサ920(A)および920(B)は、無線接続(たとえばブルートゥース接続)を介して人工現実システム900に接続されてもよい。さらに他の実施形態では、音響センサ920(A)および920(B)は、人工現実システム900と併せて全く使用されなくてもよい。
フレーム910上の音響センサ920は、テンプルの長さに沿って、ブリッジを渡して、ディスプレイデバイス915(A)および915(B)の上方または下方、またはこれらの何らかの組合せで位置決めされてもよい。音響センサ920は、人工現実システム900を着用しているユーザを取り囲む広範囲の方向の音をマイクロホンアレイが検出することができるように向けられてもよい。いくつかの実施形態では、マイクロホンアレイ内の各音響センサ920の相対的位置決めを決定するために、最適化プロセスが、人工現実システム900の製造中に実行されてもよい。
人工現実システム900は、ネックバンド905などの外部デバイス(たとえばペアにされるデバイス)をさらに含んでもよく、またはこれに連結されてもよい。図示するように、ネックバンド905は、1つまたは複数のコネクタ930によってアイウェアデバイス902に結合されてもよい。コネクタ930は、有線または無線コネクタであってもよく、電気および/または非電気の(たとえば構造的)構成要素を含んでもよい。いくつかの場合、アイウェアデバイス902およびネックバンド905は、これらの間にいかなる有線または無線の接続を有することなく独立的に動作してもよい。図46は、アイウェアデバイス902およびネックバンド905の構成要素をアイウェアデバイス902およびネックバンド905上の例示的な場所で示しているが、構成要素は他所に位置してもよく、ならびに/またはアイウェアデバイス902および/またはネックバンド905上に異なって分散されてもよい。いくつかの実施形態では、アイウェアデバイス902およびネックバンド905の構成要素は、アイウェアデバイス902、ネックバンド905、またはこれらの何らかの組合せとペアにされる1つまたは複数の追加の周辺デバイス上に位置してもよい。さらに、ネックバンド905は、任意のタイプまたは形態のペアにされるデバイスを全体的に表す。したがって、ネックバンド905の以下の論議は、スマートウォッチ、スマートホン、リストバンド、他のウェアラブルデバイス、手持ち式コントローラ、タブレットコンピュータ、ラップトップコンピュータなどのさまざまな他のペアにされるデバイスに適用してもよい。
ネックバンド905などの外部デバイスを人工現実アイウェアデバイスとペアにすることにより、アイウェアデバイスが、拡張された能力のための十分なバッテリおよび計算能力を提供しながらも、めがねのフォームファクタを達成することを可能にしてもよい。人工現実システム900のバッテリパワー、計算リソース、および/または追加の特徴のいくらかまたはすべては、ペアにされるデバイスによって提供されてもよく、またはペアにされるデバイスとアイウェアデバイスとの間で共有されてもよく、したがって、所望の機能性を保持しながらも、アイウェアデバイス全体の重量、熱プロファイル、およびフォームファクタを低減する。たとえば、ネックバンド905は、ユーザが自身の頭部または顔において耐える以上の重さの重量を自身の肩において耐え得るため、アイウェアデバイス上にそうではない場合に含まれる構成要素がネックバンド905内に含まれることを可能にしてもよい。ネックバンド905はまた、周囲環境にこれを介して熱を拡散し分散させるためのより大きな表面積を有してもよい。したがって、ネックバンド905は、そうでない場合に単独のアイウェアデバイス上で可能であり得たものより大きなバッテリおよび計算能力を可能にしてもよい。ネックバンド905において担持される重量は、アイウェアデバイス902において担持される重量よりもユーザにとって低侵襲的となり得るため、ユーザは、重い単独型のアイウェアデバイスを着用することをユーザが耐えるよりも長い時間の間、より軽いアイウェアデバイスを着用し、ペアにされるデバイスを担持または着用することに耐えることができ、それによって人工現実環境をユーザの日常の活動により完全に組み込むことが可能になる。
ネックバンド905は、アイウェアデバイス902および/または他のデバイスと通信式に結合されてもよい。他のデバイスは、特定の機能(たとえば、追跡、局所化、深度マッピング、処理、記憶、触覚フィードバックなど)を人工現実システム900に提供してもよい。図46の実施形態では、ネックバンド905は、マイクロホンアレイの一部である(またはそれ自体のマイクロホンサブアレイを潜在的に形成する)2つの音響センサ(たとえば920(I)および920(J))を含んでもよい。ネックバンド905はまた、コントローラ925と、パワー源935とを含んでもよい。
ネックバンド905の音響センサ920(I)および920(J)は、音を検出し、検出された音を電子フォーマット(アナログまたはデジタル)に変換するように構成されてもよい。図46の実施形態では、音響センサ920(I)および920(J)は、ネックバンド905上またはその内部に位置決めされてもよく、それによってネックバンドの音響センサ920(I)および920(J)と、アイウェアデバイス902上に位置決めされた他の音響センサ920との間の距離を増大させる。いくつかの場合、マイクロホンアレイの音響センサ920間の距離を増大させることにより、マイクロホンアレイによって実行されるビーム形成の精度を改良してもよい。たとえば、音響センサ920(C)および920(D)によって音が検出され、音響センサ920(C)と920(D)との間の距離が、たとえば、音響センサ920(D)と920(E)との間の距離より長い場合、検出された音の決定された音源の場所は、音響センサ920(D)および920(E)によって音が検出された場合よりも精度が高くなり得る。
ネックバンド905のコントローラ925は、ネックバンド905および/または人工現実システム900上のセンサによって生成された情報を処理してもよい。たとえば、コントローラ925は、マイクロホンアレイによって検出された音を説明する、マイクロホンアレイからの情報を処理してもよい。検出された音ごとに、コントローラ925はDoA推定を実行して、検出された音がどの方向からマイクロホンアレイに到達したかを推定してもよい。マイクロホンアレイが音を検出するとき、コントローラ925は、音声データセットに情報を投入してもよい。人工現実システム900が慣性計測装置を含む実施形態では、コントローラ925は、アイウェアデバイス902上に位置するIMUからのすべての慣性および空間算出を計算してもよい。コネクタ930は、人工現実システム900とネックバンド905との間、および人工現実システム900とコントローラ925との間で情報を伝えてもよい。情報は、光データ、電子データ、無線データ、または任意の他の送信可能なデータ形態の形態であってもよい。人工現実システム900によって生成された情報の処理をネックバンド905に移動させることにより、アイウェアデバイス902における重量および熱を低減させて、アイウェアデバイスをユーザにとってより快適なものとしてもよい。
ネックバンド905内のパワー源935は、アイウェアデバイス902および/またはネックバンド905にパワーを提供してもよい。パワー源935は、限定的ではないが、リチウムイオンバッテリ、リチウムポリマーバッテリ、リチウム一次バッテリ、アルカリバッテリ、または任意の他の形態のパワー貯蔵装置を含んでもよい。いくつかの場合、パワー源935は、有線パワー源であってもよい。パワー源935をアイウェアデバイス902上ではなくネックバンド905上に含むことにより、パワー源935によって生成される重量および熱のより良好な分散を助けてもよい。
人工現実システム900は、1つまたは複数の触覚フィードバックデバイス945を含んでもよく、触覚フィードバックデバイスは、図1の流体システム10および/または図2のマイクロ流体システム100であってもよく、またはこれを含んでもよい。触覚フィードバックデバイス945は、ユーザの頭部または顔に触覚フィードバックを提供するためにアイウェアデバイス902内に組み込まれてもよく、および/またはユーザの首または別の体部分に触覚フィードバックを提供するためにネックバンド905または別のウェアラブルデバイス(たとえば、手袋、ヘッドバンド、アームバンドなど)内に組み込まれてもよい。
留意したように、いくつかの人工現実システムは、人工現実を実際の現実と混ぜ合わせる代わりに、現実世界のユーザの感覚性知覚の1つまたは複数を仮想体験で実質的に置き換えてもよい。このタイプのシステムの1つの例は、ユーザの視野のほとんどをまたは完全にカバーする、図47のVRシステム1000などのヘッドマウントディスプレイシステムである。VRシステム1000は、前部剛性本体1002と、ユーザの頭部周りにフィットするように成形されたバンド1004とを含んでもよい。VRシステム1000はまた、出力音声変換器1006(A)および1006(B)を含んでもよい。図1の流体システム10および/または図2のマイクロ流体システム100であってもよいか、またはこれを含んでもよい1つまたは複数の触覚フィードバックデバイス1008もまた、(それだけに限定されないが)バンド1004内またはそれ上など、VRシステム1000内に含まれてもよい。さらに、図47に示していないが、前部剛性本体1002は、1つまたは複数の電子ディスプレイ、1つまたは複数の慣性測定装置(IMU)、1つまたは複数の追跡エミッタもしくは検出器、および/または人工現実体験を作り出すための任意の他の適切なデバイスもしくはシステムを含む、1つまたは複数の電子要素を含んでもよい。
人工現実システムは、さまざまなタイプの視覚フィードバック機構を含んでもよい。たとえば、人工現実システム900内および/またはVRシステム1000内のディスプレイデバイスは、1つまたは複数の液晶ディスプレイ(LCD)、発光ダイオード(LED)ディスプレイ、有機LED(OLED)ディスプレイ、および/または任意の他の適切なタイプのディスプレイスクリーンを含んでもよい。人工現実システムは、両眼用に単一のディスプレイスクリーンを含んでもよく、または各眼に対してディスプレイスクリーンを提供してもよく、それによって可変焦点調整のためまたはユーザの屈折異常を補正するための追加の柔軟性を可能にしてもよい。いくつかの人工現実システムはまた、ユーザがそれを通してディスプレイスクリーンを見てもよい1つまたは複数のレンズ(たとえば従来の凹レンズまたは凸レンズ、フレネルレンズ、調整可能な液体レンズなど)を有する光学サブシステムを含んでもよい。
ディスプレイスクリーンを使用することに加えて、またはその代わりに、いくつかの人工現実システムは、1つまたは複数の投影システムを含んでもよい。たとえば、人工現実システム900および/またはVRシステム1000におけるディスプレイデバイスは、周辺光を通過させることを可能にするクリアコンバイナーレンズなどの、光を(たとえば導波管を使用して)ディスプレイデバイス内に投影するマイクロLEDプロジェクタを含んでもよい。ディスプレイデバイスは、投影された光をユーザの瞳孔に向けて屈折させてもよく、ユーザが人工現実コンテンツと現実世界の両方を同時に見ることを可能にしてもよい。人工現実システムはまた、任意の他の適切なタイプまたは形態の画像投影システムを備えて構成されてもよい。
人工現実システムはまた、さまざまなタイプのコンピュータビジョン構成要素およびサブシステムを含んでもよい。たとえば、人工現実システム800、人工現実システム900、および/またはVRシステム1000は、二次元(2D)または三次元(3D)カメラ、タイムオブフライト深度カメラ、単一ビームまたは掃引レーザレンジファインダ、3D LiDARセンサおよび/または任意の他の適切なタイプまたは形態の光学センサなどの1つまたは複数の光学センサを含んでもよい。人工現実システムは、これらのセンサの1つまたは複数からのデータを処理して、ユーザの場所を特定し、現実世界をマッピングし、現実世界の周囲についてのコンテキストをユーザに提供し、および/またはさまざまな他の機能を実行してもよい。
人工現実システムはまた、1つまたは複数の入力および/または出力音声変換器を含んでもよい。図45および47に示す例では、出力音声変換器808(A)、808(B)、1006(A)、および1006(B)は、ボイスコイルスピーカ、リボンスピーカ、静電スピーカ、圧電スピーカ、骨伝導変換器、軟骨伝導変換器、および/または任意の他の適切なタイプまたは形態の音声変換器を含んでもよい。同様に、入力音声変換器810は、コンデンサマイクロホン、ダイナミックマイクロホン、リボンマイクロホン、および/または任意の他のタイプまたは形態の入力変換器を含んでもよい。いくつかの実施形態では、単一の変換器が、音声入力と音声出力の両方に使用されてもよい。
図45~47には示さないが、人工現実システムは、触知性(すなわち触覚)フィードバックシステムを含んでもよく、このフィードバックシステムは、ヘッドウェア、手袋、ボディスーツ、手持ち式コントローラ、環境デバイス(たとえば椅子、フロアマットなど)および/または任意の他のタイプのデバイスまたはシステム内に組み込まれてもよい。触覚フィードバックシステムは、振動、力、けん引力、手触りおよび/または温度を含む、さまざまなタイプの皮膚に関するフィードバックを提供してもよい。触覚フィードバックはまた、運動および伸展などのさまざまなタイプの運動感覚フィードバックを提供してもよい。触覚フィードバックは、モータ、圧電アクチュエータ、流体システム、および/またはさまざまな他のタイプのフィードバック機構を使用して実施されてもよい。触覚フィードバックシステムは、他の人工現実デバイスから独立して、他の人工現実デバイス内で、および/または他の人工現実デバイスと併せて実施されてもよい。
触覚感覚、音声コンテンツ、および/または視覚コンテンツを提供することにより、人工現実システムは、完全な仮想体験を作り出してもよく、またはユーザの現実世界の体験をさまざまなコンテキストおよび環境において強化してもよい。たとえば、人工現実システムは、特定の環境内のユーザの知覚、記憶、または認識力を支援または拡大してもよい。いくつかのシステムは、ユーザと現実世界における他人との相互作用を強化してもよく、または仮想世界における他人とのより没入感のある相互作用を可能にしてもよい。人工現実システムはまた、教育目的(たとえば、学校、病院、政府機関、軍事機関、企業における授業または訓練など)、エンタテインメント目的(たとえば動画ゲームで遊ぶ、音楽を聴く、動画コンテンツを観るなど)、および/またはユーザ補助目的(たとえば補聴器、視覚補助具など)に使用されてもよい。本明細書に開示する実施形態は、ユーザの人工現実体験をこれらのコンテキストおよび環境の1つまたは複数においておよび/または他のコンテキストおよび環境において可能にしてもよく、または強化してもよい。
留意したように、人工現実システム800、900、および1000は、より引き込まれる(compelling)人工現実体験を提供するために、さまざまな他のタイプのデバイスと共に使用されてもよい。これらのデバイスは、触覚フィードバックを提供し、および/またはユーザと環境との相互作用についての触覚情報を収集する変換器との触覚インターフェースであってもよい。本明細書に開示する人工現実システムは、触知性フィードバック(たとえば、皮膚に関するフィードと称されてもよい、ユーザが皮膚の神経を介して検出するフィードバック)および/または運動感覚フィードバック(たとえば、ユーザが、筋肉、関節、および/または腱に位置するレセプタを介して検出するフィードバック)を含む、さまざまなタイプの触覚情報を検出するか、または伝えるさまざまなタイプの触覚インターフェースを含んでもよい。
触覚フィードバックは、ユーザの環境(たとえば椅子、テーブル、フロアなど)内に位置決めされたインターフェースおよび/またはユーザによって着用または担持されてもよい(たとえば手袋、リストバンドなど)物品上のインターフェースによって提供されてもよい。例として、図48は、ウェアラブルの手袋(触覚デバイス4810)およびリストバンド(触覚デバイス4820)の形態の振動触覚システム4800を示す。触覚デバイス4810および触覚デバイス4820は、ユーザの手および手首それぞれに押し付けて位置決めするように成形され構成された可撓性のウェアラブル繊維材料4830を含む、ウェアラブルデバイスの例として示されている。本開示はまた、指、腕、頭部、胴体、足、または脚などの人体の他の部分に押し付けて位置決めするように成形され構成されてもよい振動触覚システムを含む。例として、そして非限定的には、本開示のさまざまな実施形態による振動触覚システムはまた、他の可能性の中でも、手袋、ヘッドバンド、アームバンド、スリーブ、頭部カバー、ソックス、シャツ、またはパンツの形態であってもよい。いくつかの例では、用語「繊維」は、織布、不織布、皮、布、可撓性ポリマー材料、複合材料などを含む、任意の可撓性のウェアラブル材料を含んでもよい。
1つまたは複数の振動触覚デバイス4840は、振動触覚システム4800の繊維材料4830内に形成された1つまたは複数の対応するポケット内に少なくとも部分的に位置決めされてもよい。振動触覚デバイス4840は、振動感覚(たとえば触覚フィードバック)を振動触覚システム4800のユーザに提供するための場所に位置決めされてもよい。たとえば、振動触覚デバイス4840は、図48に示すようにユーザの指、親指、または手首に押し付けるように位置決めされてもよい。振動触覚デバイス4840は、いくつかの例では、ユーザの対応する体の部分に適合するか、または体の部分と共に曲がるのに十分な可撓性のものであってもよい。
振動触覚デバイス4840を起動させるためにこれに電圧を加えるためのパワー源4850(たとえばバッテリ)が、導電配線4852を介するなどして、振動触覚デバイス4840に電気的に結合されてもよい。いくつかの例では、振動触覚デバイス4840のそれぞれは、個々の起動のためにパワー源4850に独立的に電気的に結合されてもよい。いくつかの実施形態では、プロセッサ4860が、パワー源4850に動作可能に結合され、振動触覚デバイス4840の起動を制御するように構成(たとえばプログラム)されてもよい。
振動触覚システム4800は、さまざまな方法で実施されてもよい。いくつかの例では、振動触覚システム4800は、他のデバイスおよびシステムから独立した動作のための一体型のサブシステムおよび構成要素を備えた単独システムであってもよい。別の例として、振動触覚システム4800は、別のデバイスまたはシステム4870と相互作用するように構成されてもよい。たとえば、振動触覚システム4800は、いくつかの例では、他のデバイスまたはシステム4870と信号を送受信するための通信インターフェース4880を含んでもよい。他のデバイスまたはシステム4870は、モバイルデバイス、ゲーミングコンソール、人工現実(たとえば仮想現実、拡張現実、複合現実)デバイス、パーソナルコンピュータ、タブレットコンピュータ、ネットワークデバイス(たとえばモデム、ルータなど)、手持ち式コントローラなどであってもよい。通信インターフェース4880は、振動触覚システム4800と他のデバイスまたはシステム4870との間の無線(たとえばWi-Fi、ブルートゥース、セルラー、無線装置など)リンクまたは有線リンクによる通信を可能にしてもよい。存在する場合、通信インターフェース4880は、振動触覚デバイス4840の1つまたは複数を起動または停止させるために信号をプロセッサ4860に提供するなどのために、プロセッサ4860と通信していてもよい。
振動触覚システム4800は、任意選択により、接触感知式パッド4890、圧力センサ、運動センサ、位置センサ、発光要素、および/またはユーザインターフェース要素(たとえばオン/オフボタン、振動制御要素など)などの他のサブシステムおよび構成要素を含んでもよい。使用中、振動触覚デバイス4840は、ユーザとユーザインターフェース要素との相互作用、運動または位置センサからの信号、接触感知式パッド4890からの信号、圧力センサからの信号、他のデバイスまたはシステム4870からの信号などに応答するなどのさまざまな異なる理由で起動するように構成されてもよい。
パワー源4850、プロセッサ4860、および通信インターフェース4880は、触覚デバイス4820内に位置決めされるように図48では示されているが、本開示はそのように限定されない。たとえば、パワー源4850、プロセッサ4860、または通信インターフェース4880の1つまたは複数は、触覚デバイス4810内または別のウェアラブル繊維内に位置決めされてもよい。
図48に示し、関連して説明するものなどの触覚ウェアラブル品は、さまざまなタイプの人工現実システムおよび環境において実装されてもよい。図49は、1つのヘッドマウント仮想現実ディスプレイおよび2つの触覚デバイス(すなわち手袋)を含む例示的な人工現実環境4900を示し、他の実施形態では、任意の数および/または組合せのこれらの構成要素および他の構成要素が、人工現実システム内に含まれてもよい。たとえば、いくつかの実施形態では、関連する触覚デバイスをそれぞれが有する複数のヘッドマウントディスプレイが存在してもよく、この場合各ヘッドマウントディスプレイおよび各触覚デバイスは、同じコンソール、携帯用コンピューティングデバイス、または他のコンピューティングデバイスと通信する。
ヘッドマウントディスプレイ4902は、図47の仮想現実システム4700などの任意のタイプまたは形態の仮想現実システムを全体的に表す。触覚デバイス4904は、ユーザが仮想物体を物理的につかんでいる(engage)知覚をユーザに与えるためにユーザに触覚フィードバックを提供する、人工現実システムのユーザによって着用される任意のタイプまたは形態のウェアラブルデバイスを全体的に表す。いくつかの実施形態では、触覚デバイス4904は、振動、運動、および/または力をユーザに加えることによって触覚フィードバックを提供してもよい。たとえば、触覚デバイス4904は、ユーザの動きを限定または増強してもよい。特有の例を与えるために、触覚デバイス4904は、ユーザの手が仮想壁に物理的に接触する知覚をユーザが有するように、ユーザの手が前方に動くのを限定してもよい。この特有の例では、触覚デバイス内の1つまたは複数のアクチュエータは、触覚デバイスの膨張可能なブラダ内に流体を圧送することによって物理的な動きの制限を達成してもよい。いくつかの例では、ユーザはまた、触覚デバイス4904を使用してコンソールにアクションリクエストを送信してもよい。アクションリクエストの例は、限定的ではないが、アプリケーションを開始するおよび/もしくはアプリケーションを終了するリクエスト、ならびに/またはアプリケーション内で特有のアクションを実行するリクエストを含む。
触覚インターフェースは、図49に示すように仮想現実システムと共に使用されてもよいが、触覚インターフェースはまた、図50に示すように拡張現実システムと共に使用されてもよい。図50は、拡張現実システム5000と相互作用するユーザ5010の斜視図である。この例では、ユーザ5010は、拡張現実めがね5020を着用してもよく、この拡張現実めがねは、1つまたは複数のディスプレイ5022を有し、触覚デバイス5030とペアにされる。触覚デバイス5030は、複数のバンド要素5032と、バンド要素5032を互いに連結する張力機構5034とを含むリストバンドであってもよい。
バンド要素5032の1つまたは複数は、触覚フィードバックを提供するのに適した任意のタイプまたは形態のアクチュエータを含んでもよい。たとえば、バンド要素5032の1つまたは複数は、振動、力、けん引力、手触り、および/または温度を含む、さまざまなタイプの皮膚に関するフィードバックの1つまたは複数を提供するように構成されてもよい。そのようなフィードバックを提供するために、バンド要素5032は、さまざまなタイプのアクチュエータの1つまたは複数を含んでもよい。1つの例では、バンド要素5032のそれぞれは、さまざまなタイプの触覚感覚の1つまたは複数をユーザに提供するために一緒にまたは独立的に振動するように構成された、振動触覚装置(たとえば振動触覚アクチュエータ)を含んでもよい。あるいは、単一のバンド要素のみ、またはバンド要素のサブセットが、振動触覚装置を含んでもよい。
触覚デバイス4810、4820、4904、および5030は、任意の適切な数および/またはタイプの触覚変換器、センサ、および/またはフィードバック機構を含んでもよい。たとえば、触覚デバイス4810、4820、4904、および5030は、1つまたは複数の機械変換器、圧電変換器、および/または流体変換器を含んでもよい。触覚デバイス4810、4820、4904、および5030はまた、異なるタイプおよび形態の変換器のさまざまな組合せを含んでもよく、これらの組合せは、ユーザの人工現実体験を強化するために一緒になってまたは独立的に作用する。1つの例では、触覚デバイス5030のバンド要素5032のそれぞれは、さまざまなタイプの触覚感覚の1つまたは複数をユーザに提供するために一緒にまたは独立的に振動するように構成された、振動触覚装置(たとえば振動触覚アクチュエータ)を含んでもよい。
本明細書において説明および/または図示するステップのプロセスパラメータおよび順序は、例としてのみ与えられ、所望に応じて変更することができる。たとえば、本明細書において図示および/または説明するステップは特定の順序で示され論じられ得るが、これらのステップは、図示するか、または論じる順序で必ずしも実行される必要はない。本明細書において説明および/図示するさまざまな例示的な方法はまた、本明細書において説明または図示するステップの1つまたは複数を省略するか、またはこれらの開示に加えて追加のステップを含んでもよい。
前述の説明は、当業者が本明細書において開示する例示的な実施形態のさまざまな態様を最適に利用することができるように提供されている。この例示的な説明は、網羅的であること、または開示するいずれの形態にも厳密に限定されることを意図するものではない。多くの改変形態および変形形態が、本開示の範囲から逸脱することなく可能である。本明細書に開示する実施形態は、あらゆる点において、制限的ではなく例示的に考慮されなければならない。本開示の範囲を決定する上で、添付の特許請求の範囲およびその等価物に参照がなされなければならない。
特記しない限り、本明細書および特許請求の範囲で使用する用語「連結される」および「結合される」(およびその派生語)は、直接的および間接的(すなわち他の要素または構成要素を介した)の両方の連結を可能にすると解釈されるものとする。加えて、本明細書および特許請求の範囲で使用する用語「1つ(a)」、「1つ(an)」は、「少なくとも1つ」を意味すると解釈されるものとする。最後に、使用を容易にするために、本明細書および特許請求の範囲で使用する用語「含む」および「有する」(ならびにその派生語)は、「備える」という言葉と交換可能であり、これと同じ意味を有する。
Claims (15)
- マイクロ流体弁を製造する方法であって、
マイクロ流体弁体内に空洞を形成することと、
前記空洞内にゲート伝送要素を位置決めすることであって、前記ゲート伝送要素は、前記空洞を入力ゲート末端と出力ゲート末端とに分離する、ゲート伝送要素を位置決めすることと、
入力ポートと、前記出力ゲート末端内の少なくとも部分的な制限領域と、出口ポートとを含む流体チャネルを前記マイクロ流体弁体内に形成することとを含み、
前記ゲート伝送要素は、前記入力ゲート末端の加圧時に前記入力ポートから前記出口ポートへの主要流体の流れを抑制するために前記制限領域を制限するために、また前記入力ゲート末端の減圧時に前記入口ポートから前記出口ポートへの主要流体の流れを可能にするか、または増大させるために、前記入力ゲート末端の加圧および減圧時に行き来して移動するように位置決めされ構成される、方法。 - 前記空洞内に前記ゲート伝送要素を位置決めすることが、主要流体チャンバ内にプランジャを位置決めすることと、前記プランジャを可撓性膜に結合することとを含み、さらに、
前記出力ゲート末端内かつ前記入口ポートおよび前記出口ポート上を覆って可撓性バブルを位置決めすることであって、前記制限領域が、前記入口ポートと前記出口ポートとの間の前記流体チャネル内かつ前記可撓性バブル内に画定される、可撓性バブルを位置決めすることとを含み、
前記プランジャは、前記入口ポートから前記出口ポートへの前記主要流体の流れを抑制するために前記制限領域を変形された前記可撓性バブルによってブロックするために、前記入力ゲート末端の加圧時に前記可撓性バブルを変形させるように構成される、請求項1に記載の方法。 - 前記マイクロ流体弁体内に前記空洞を形成することが、前記可撓性膜に平行にとられた約1mm2以下の断面積を有するように前記空洞を形成することを含む、請求項2に記載の方法。
- 前記マイクロ流体弁体内に排気出口を形成することをさらに含み、前記排気出口は、前記出力ゲート末端と流体連通している、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記マイクロ流体弁体内に前記空洞を形成することが、
前記マイクロ流体弁体の駆動本体部分内に前記入力ゲート末端を形成することと、
前記マイクロ流体弁体のゲート本体部分内に前記出力ゲート末端を形成することと、
前記ゲート本体部分の表面上に前記可撓性膜を形成することとを含む、請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。 - 前記駆動本体部分を前記ゲート本体部分に結合することと、
流体チャネル本体部分を前記ゲート本体部分に結合することと、
前記流体チャネル本体部分の表面上に可撓性バブルを形成することとをさらに含む、請求項5に記載の方法。 - 前記駆動本体部分、前記ゲート本体部分、または前記流体チャネル本体部分の少なくとも1つ上、またはその内部に少なくとも1つの位置合わせマークを形成することをさらに含み、
前記駆動本体部分を前記ゲート本体部分に結合することおよび前記流体チャネル本体部分を前記ゲート本体部分に結合することが、前記少なくとも1つの位置合わせマークを使用して前記駆動本体部分、前記ゲート本体部分、および前記流体チャネル本体部分を互いに位置合わせすることを含む、請求項6に記載の方法。 - 前記マイクロ流体弁体内に前記空洞を形成することが、少なくとも1つのフォトリソグラフィ工程を実行することを含む、請求項1から7のいずれか一項に記載の方法。
- マイクロ流体システムを製造する方法であって、
マイクロ流体弁を形成することであって、
入力ゲート末端および前記入力ゲート末端内に至るゲートポートを形成するために、駆動本体部分から材料を除去することと、
ゲート本体部分上に可撓性膜を形成することと、
出力ゲート末端を形成し、前記出力ゲート末端内にプランジャを画定するために、前記ゲート本体部分から材料を除去することであって、前記プランジャは、前記可撓性膜に接合される、材料を除去することと、
流体チャネル本体部分上に可撓性バブルを形成することと、
前記可撓性バブルの内部と流体連通する入口ポートおよび出口ポートを形成するために、前記流体チャネル本体部分から材料を除去することと、
前記駆動本体部分を前記ゲート本体部分に結合し、前記入力ゲート末端を前記可撓性膜によって前記出力ゲート末端から分離することと、
前記ゲート本体部分を前記流体チャネル本体部分に結合することとを含む、マイクロ流体弁を形成することと、
駆動流体源を前記ゲートポートに動作可能に結合することと、
主要流体源を前記入口ポートに動作可能に結合することと、
流体駆動式機構を、前記マイクロ流体弁が開状態にあるときに主要流体によって動作させるために前記出口ポートに動作可能に結合することとを含む、方法。 - 前記マイクロ流体弁を形成することが、複数のマイクロ流体弁を同時に形成することを含み、
前記駆動本体部分を前記ゲート本体部分に結合することが、複数の駆動本体部分を含む駆動本体基板材料を、複数のゲート本体部分を含むゲート本体基板材料に接合することを含み、
前記ゲート本体部分を前記流体チャネル本体部分に結合することが、前記複数のゲート本体部分を含む前記ゲート本体基板材料を、複数の流体チャネル本体部分を含む流体チャネル本体基板材料に接合することを含む、請求項9に記載の方法。 - 前記駆動本体部分から材料を除去すること、前記ゲート本体部分から材料を除去すること、および/または前記流体チャネル本体部分から材料を除去することのそれぞれが、前記材料を選択的に除去するためにフォトリソグラフィ工程を実行することを含む、請求項9または10に記載の方法。
- 前記流体チャネル本体部分上に前記可撓性バブルを形成することが、
前記流体チャネル本体部分上にブロックを形成することと、
前記ブロックおよび前記流体チャネル本体部分上を覆って可撓性材料を形成することと、
前記可撓性材料を前記流体チャネル本体部分上に残したままで前記ブロックを除去することとを含み、
前記ブロックを除去することが、選択的材料除去プロセスを使用して、前記入口ポートまたは前記出口ポートの少なくとも1つを通して前記ブロックの材料を除去することを含む、請求項9から11のいずれか一項に記載の方法。 - 前記流体駆動式機構を前記出口ポートに動作可能に結合することが、前記出口ポートに、
マイクロ電気機械デバイス、
伸縮性空洞、
ピストンシステム、または
触覚フィードバックデバイスの少なくとも1つを動作可能に結合することを含む、請求項9から12のいずれか一項に記載の方法。 - 前記流体チャネル本体部分上に前記可撓性バブルを形成することが、前記入力ゲート末端と前記出力ゲート末端とを分離する前記可撓性膜の表面積より小さい表面積を有するように、前記可撓性バブルを形成することを含む、請求項9から13のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ゲート本体部分を前記流体チャネル本体部分に結合することが、前記プランジャを前記可撓性バブルに当接させることを含む、請求項9から14のいずれか一項に記載の方法。
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