JP2022166893A - 粉末床レーザ加工装置、粉末積層造形装置、加工方法およびプログラム - Google Patents

粉末床レーザ加工装置、粉末積層造形装置、加工方法およびプログラム Download PDF

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Abstract

【課題】様々な造形面積に対して効率よく加工できる粉末床レーザ加工装置、粉末積層造形装置、加工方法およびプログラムを提供する。【解決手段】粉末床レーザ加工装置10は、第1走査部13A、第2走査部13B、第1駆動部12Aおよび第2駆動部12Bを有する。第1走査部13Aは、粉末床に第1レーザ光を走査して照射する。第2走査部13Bは、粉末床に第2レーザ光を走査して照射する。第1駆動部12Aは、第1レーザ光を第1照射領域に照射可能に第1走査部13Aを移動させる。第2駆動部12Bは、第2レーザ光を第1照射領域の一部を含む第2照射領域に照射可能に、且つ、第1走査部との相対的な位置が変化可能に、第2走査部13Bを移動させる。【選択図】図2

Description

本発明は粉末床レーザ加工装置、粉末積層造形装置、加工方法およびプログラムに関する。
粉末積層造形装置において、大きい造形面積に対応したレーザ加工装置が開発されている。
例えば、1つのレーザの加工範囲を拡大するための工夫として、ガルバノスキャナ本体をレーザ装置内で移動させる技術が開示されている(特許文献1)。
特開2011-240403号公報
しかしながら、上述の技術の場合、大きい造形面積に対応するためには、粉末床に対してレーザ光照射部を移動させながら加工する必要があり、効率がよくない。またこのような課題に対して、複数のレーザ光源を用意して異なる加工領域毎に異なるレーザ光を照射する技術が一般に知られている。しかしながら、このような技術を採用する場合には、レーザ光源ごとのレーザパワーがばらつくため、製品の精度が低下する虞がある。また複数のレーザ光源を用意する場合、比較的に小さい造形面積の加工において複数のレーザ光が活用できず、無駄が生じる場合がある。
本開示は、このような課題を解決するためになされたものであって、様々な造形面積に対して効率よく加工できる粉末床レーザ加工装置等を提供するものである。
本開示にかかる粉末床レーザ加工装置は、第1走査部、第2走査部、第1駆動部および第2駆動部を有する。第1走査部は、粉末床に第1レーザ光を走査して照射する。第2走査部は、粉末床に第2レーザ光を走査して照射する。第1駆動部は、第1レーザ光を第1照射領域に照射可能に第1走査部を移動させる。第2駆動部は、第2レーザ光を第1照射領域の一部を含む第2照射領域に照射可能に、且つ、第1走査部との相対的な位置が変化可能に、第2走査部を移動させる。
本開示にかかる加工方法は、コンピュータが、第1駆動ステップ、第2駆動ステップ、第1走査ステップおよび第2走査ステップを実行する。第1駆動ステップにおいて、コンピュータは、第1レーザ光を第1照射領域に照射可能に第1走査部を移動させる。第2駆動ステップにおいて、コンピュータは、第2レーザ光を前記第1照射領域の一部を含む第2照射領域に照射可能に、且つ、前記第1走査部との相対的な位置が変化可能に、第2走査部を移動させる。第1走査ステップにおいて、コンピュータは、前記第1照射領域に前記第1レーザ光を走査して照射させる。第2走査ステップにおいて、コンピュータは、前記第2照射領域に前記第2レーザ光を走査して照射させる。
本開示にかかるプログラムは、コンピュータに以下の加工方法を実行させる。第1駆動ステップにおいて、コンピュータは、第1レーザ光を第1照射領域に照射可能に第1走査部を移動させる。第2駆動ステップにおいて、コンピュータは、第2レーザ光を前記第1照射領域の一部を含む第2照射領域に照射可能に、且つ、前記第1走査部との相対的な位置が変化可能に、第2走査部を移動させる。第1走査ステップにおいて、コンピュータは、前記第1照射領域に前記第1レーザ光を走査して照射させる。第2走査ステップにおいて、コンピュータは、前記第2照射領域に前記第2レーザ光を走査して照射させる。
本開示によれば、様々な造形面積に対して効率よく加工できる粉末床レーザ加工装置、粉末積層造形装置、加工方法およびプログラムを提供することができる。
実施の形態にかかる粉末積層造形装置の全体図である。 実施の形態にかかるレーザ加工装置の概観斜視図である。 加工ユニットの概観斜視図である。 走査部の構成を示す図である。 レーザ光の構成を示す上面図である。 加工ユニットの照射領域を示す上面図である。 レーザ加工装置が製造品を製造している状況の第1の例を示す上面図である。 レーザ加工装置が製造品を製造している状況の第2の例を示す上面図である。 レーザ加工装置が製造品を製造している状況の第3の例を示す上面図である。 粉末積層造形装置のブロック図である。 レーザ加工装置のブロック図である。 粉末積層造形装置の動作を示すフローチャートである。
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、特許請求の範囲にかかる発明を以下の実施形態に限定するものではない。また、実施形態で説明する構成の全てが課題を解決するための手段として必須であるとは限らない。説明の明確化のため、以下の記載および図面は、適宜、省略、および簡略化がなされている。なお、各図面において、同一の要素には同一の符号が付されており、必要に応じて重複説明は省略されている。
<実施の形態>
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図1は、実施の形態にかかる粉末積層造形装置の全体図である。図1に示す粉末積層造形装置1は、いわゆる3Dプリンタの一種であって、3次元の設計データを基にして、薄くスライスされた2次元の層を1層ずつ形成して積層することによって、所望の3次元形状を製造する。図1は、粉末積層造形装置1の側面図であって、説明の便宜上一部が断面として示されている。粉末積層造形装置1は主な構成として、粉末床レーザ加工装置10および本体ブロック20を有している。
なお、構成要素の位置関係を説明するための便宜的なものとして、図1は、右手系の直交座標系が付されている。また、図2以降において、直交座標系が付されている場合、図1のX軸、Y軸、およびZ軸方向と、これらの直交座標系のX軸、Y軸、およびZ軸方向はそれぞれ一致している。
以下に、本体ブロック20について説明する。本体ブロック20は粉末積層造形装置1を静置面上に支持する筐体を含む。本体ブロック20は主な構成として、リコータ30、粉末供給部40および粉末床支持部50を含む。
リコータ30は、粉末供給部40から供給される粉末80を粉末床90に掃いたうえでこの粉末80を粉末床90に均しながら敷き詰める。リコータ30は、本体ブロック20の上面を往復可能に設置された板状部材を含む。粉末積層造形装置1はリコータ30が一端部である右側(Y軸マイナス側)から他端部である左側(Y軸プラス側)に移動することにより粉末80を粉末床90に敷き詰める。すなわち粉末積層造形装置1において、リコータ30は図1の右側が初期位置であり、かかる初期位置から左側に移動することにより、製造品の材料となる粉末80を粉末床90に敷き詰める。なお、リコータ30が有する板状部材は、ローラであってもよい。
粉末供給部40は、粉末床90を生成するための所定量の粉末80をリコータ30に供給する。粉末供給部40は、本体ブロック20の上面に設けられた角柱状の凹部である粉末貯留部と、かかる粉末貯留部の底面を上下動させる板状部材と、を含む。粉末供給部40は、この板状部材を予め設定された距離押し上げる。これにより、粉末供給部40は、リコータ30に所定量の粉末80を供給する。
粉末床支持部50は、本体ブロック20の上面に設けられた矩形状の穴に上下動可能に係合する。粉末床支持部50は上面が平坦になっており、かかる上面において粉末床90を支持する。
粉末床レーザ加工装置10は粉末床支持部50の上方に設置され、粉末床支持部50の上面に形成される粉末床90に対して所望の位置にレーザ光を照射する。粉末床レーザ加工装置10が粉末床90にレーザ光を照射することにより、粉末床90が溶融して結合し、製造品92が形成される。
次に、図2を参照して粉末床レーザ加工装置10の詳細について説明する。図2は、実施の形態にかかるレーザ加工装置の概観斜視図である。粉末床レーザ加工装置10は主な構成として、複数の加工ユニット11を有している。図に示す粉末床レーザ加工装置10は、粉末床90の上方において、粉末床90をX軸方向に2分割し、且つ、Y軸方向に2分割した4つの分割領域91にそれぞれ対応した4つの加工ユニット11を有している。
より具体的には、4つの分割領域91の1つである第1分割領域91Aの上方には第1加工ユニット11Aが設置されている。同様に、第2分割領域91B、第3分割領域91Cおよび第4分割領域91Dのそれぞれの上方には、第2加工ユニット11B、第3加工ユニット11Cおよび第4加工ユニット11Dがそれぞれ設置されている。また上述の複数の加工ユニット11は、粉末床90の表面と平行な面にそれぞれ配置されている。
なお、以降の説明において、例えば単に加工ユニット11と称する場合には、第1加工ユニット11A、第2加工ユニット11B、第3加工ユニット11Cおよび第4加工ユニット11Dを総称しているものとする。加工ユニット11が有する各構成においても、特に第1加工ユニット11A、第2加工ユニット11B、第3加工ユニット11Cおよび第4加工ユニット11Dのいずれかに対応した符号を示していない場合には、全ての加工ユニット11に対応した構成を示すものとする。
図2に示す粉末床レーザ加工装置10は、粉末床90にレーザ光を照射して製造品92を製造している状態を示している。図において太い点線で示されているのは、加工ユニット11から粉末床90に対して照射されるレーザ光である。複数の加工ユニット11はそれぞれがレーザ光を照射する機能を有している。
例えば、第1加工ユニット11Aは、第1駆動部12Aおよび第1走査部13Aをそれぞれ有している。同様に、第2加工ユニット11Bは、第2駆動部12Bおよび第2走査部13Bをそれぞれ有している。第3加工ユニット11Cは、第3駆動部12Cおよび第3走査部13Cをそれぞれ有している。第4加工ユニット11Dは、第4駆動部12Dおよび第4走査部13Dをそれぞれ有している。駆動部12は、それぞれの走査部13が照射するレーザ光を粉末床90に照射可能に走査部13を移動させる。また駆動部12は、共通の移動面において走査部13をそれぞれ移動させる。
次に、図3を参照して加工ユニット11の構成について説明する。図3は加工ユニット11の概観斜視図である。加工ユニット11は主な構成として、駆動部12および走査部13を有している。また図3は、加工ユニット11の下方における分割領域91、走査領域101および照射可能範囲102を示している。
駆動部12は任意の支持部材(不図示)により分割領域91の上方に設置されている。駆動部12は、第1搬送部12Xおよび第2搬送部12Yを含むガントリ機構を有する。ガントリ機構は、駆動部12の一実施形態である。
第1搬送部12Xは、任意の支持部材に固定され、X軸方向に延伸するガイドレールを含み、第2搬送部12YをX軸方向に直動可能に支持する。すなわち第1搬送部12Xは、粉末床90の表面に平行な第1方向(X方向)に走査部13を搬送する。第2搬送部12Yは、第1搬送部12Xに支持され、Y軸方向に延伸するガイドレールを含み、走査部13をY軸方向に直動可能に支持する。すなわち第2搬送部12Yは、粉末床90の表面に平行であって第1方向と異なる第2方向(Y方向)に走査部13を搬送する。
次に図3を参照して、加工ユニット11が有するレーザ光の照射領域について説明する。走査部13は、粉末床にレーザ光L13を走査して照射する。走査部13は、走査領域101の範囲内においてレーザ光L13を走査する。すなわち走査領域101は、走査部13の位置が変わらない場合にレーザ光L13が照射され得る領域を示す。
また駆動部12は、照射可能範囲102にレーザ光L13が照射可能となるように走査部13を移動させる。照射可能範囲102は分割領域91を含むように設定される。換言すると、照射可能範囲102は、分割領域91を超える範囲にレーザ光L13が照射できるように設定される。このように、粉末床レーザ加工装置10は走査部13を移動させることにより広い領域にレーザ光を照射可能としている。
次に、図4を参照して走査部13についてさらに説明する。図4は、走査部の構成を示す図である。走査部13は主な構成として、第1ガルバノユニット131、第2ガルバノユニット132およびレンズ133を有する。走査部13は、レーザ光を受け、レーザ光を走査する走査部の一実施態様として、第1ガルバノユニット131および第2ガルバノユニット132を有する。
第1ガルバノユニット131は、レーザ光を反射するミラー131Aと、所定の軸周りに所定の角度の範囲でこのミラーを往復回動させるミラー駆動部131Bとを有する。第1ガルバノユニット131は、外部からレーザ光L13を受け入れ、ミラー131Aに反射させ、反射したレーザ光L13を第2ガルバノユニット132に供給する。
第2ガルバノユニット132も、第1ガルバノユニット131と同様に、レーザ光を反射するミラー132Aと、所定の軸周りに所定の角度の範囲でこのミラーを往復回動させるミラー駆動部132Bとを有する。そして第1ガルバノユニット131が有するミラーが回動する軸と第2ガルバノユニット132が有するミラーが回動する軸とは直交するように設定されている。第2ガルバノユニット132は、第1ガルバノユニット131から供給されたレーザ光L13をミラー132Aに反射させ、反射したレーザ光L13をレンズ133に供給する。
レンズ133は、第1ガルバノユニット131および第2ガルバノユニット132が走査したレーザ光を受けて粉末床90にレーザ光を照射する。レンズ133は、所定の光学レンズであって、第2ガルバノユニット132から供給されたレーザ光L13を粉末床90に照射する。このような構成により、走査部13は、外部から供給されたレーザ光L13を、走査領域101に走査して照射する。なおレンズ133は複数のレンズを組み合わせた構成であってもよい。
なお、走査部13が有するガルバノユニットは、ミラーを往復させる機構としてガルバノモータを有していてもよいし、ミラーがMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)の技術により構成されたものであれば、MEMSミラードライバであってもよい。走査部13は、ガルバノユニットとレンズ133との相対的な位置関係が変化する構成を含んでもよい。ガルバノユニットとレンズ133との位置が変化することにより、粉末床レーザ加工装置10は、走査部13の走査領域101を大きくできる。
次に、図5を参照して、粉末床レーザ加工装置10においてレーザ光を供給する構成および走査部13が有する照射領域について説明する。図5は、レーザ光の構成を示す上面図である。粉末床レーザ加工装置10は、走査部13にレーザ光を供給するための構成として、レーザ光源140、部分反射ミラー141、全反射ミラー142、部分反射ミラー143、全反射ミラー144、部分反射ミラー145および全反射ミラー146を有する。
レーザ光源140は、例えば炭酸ガスレーザを発振して出射する炭酸ガスレーザ発振装置を含む。レーザ光源140は、レーザ光を部分反射ミラー141に供給する。部分反射ミラー141は、レーザ光源140から受けたレーザ光の一部を反射して全反射ミラー142に供給する。また部分反射ミラー141は、レーザ光源140から受けたレーザ光の一部を透過して部分反射ミラー145に供給する。
全反射ミラー142は、部分反射ミラー141から受けたレーザ光を反射して部分反射ミラー143に供給する。部分反射ミラー143は、全反射ミラー142から受けたレーザ光の一部を反射して第1分割領域91Aに対応する第1走査部13Aに供給する。また部分反射ミラー143は、全反射ミラー142から受けたレーザ光の一部を透過して全反射ミラー144に供給する。全反射ミラー144は、部分反射ミラー143から受けたレーザ光を反射して第3分割領域91Cに対応する第3走査部13Cに供給する。
部分反射ミラー145は、部分反射ミラー141から受けたレーザ光の一部を反射して第2分割領域91Bに対応する第2走査部13Bに供給する。また部分反射ミラー145は、部分反射ミラー141から受けたレーザ光の一部を透過して全反射ミラー146に供給する。全反射ミラー146は、部分反射ミラー145から受けたレーザ光を反射して第4分割領域91Dに対応する第4走査部13Dに供給する。
以上の構成により、粉末床レーザ加工装置10はレーザ光源140が生成したレーザ光を分岐して4つの走査部13のそれぞれに供給する。なお、上述の構成における部分反射ミラーの反射率または透過率は、4つの走査部13に供給するレーザパワーが均等になるように調整されている。
上述の例の場合、レーザ光源140が出力するレーザ光のレーザパワーを100%とすると、部分反射ミラー141を透過または反射したレーザ光のレーザパワーは50%となる。また部分反射ミラー143を透過または反射したレーザ光のレーザパワーは25%となる。同様に、部分反射ミラー145を透過または反射したレーザ光のレーザパワーは25%となる。その結果、走査部13が受けるレーザ光のレーザパワーはそれぞれ25%となる。
このように1つのレーザ光源が生成するレーザ光を分岐して複数の走査部13に供給することにより、粉末床レーザ加工装置10は複数有する走査部13のレーザパワーのばらつきを抑制できる。そのため、粉末積層造形装置1は効率よく寸法ばらつきを抑制した製造品を製造できる。
なお、上述のミラー構成は粉末床レーザ加工装置10における一例であって、粉末床レーザ加工装置10におけるミラー構成は上述のものに限られない。また上述のミラー構成において、部分反射ミラー143、全反射ミラー144、部分反射ミラー145および全反射ミラー146は、それぞれがレーザ光を供給する走査部13の動きに追随可能に設計され得る。
次に走査部13が有する照射領域について説明する。図5において、太い点線により示す領域は、第1照射領域103Aである。第1照射領域103Aは、第1走査部13Aが有する照射可能範囲102の内、粉末床90の範囲に対応する領域である。すなわち第1照射領域103Aは、第1走査部13Aが粉末床90にレーザ光を照射できる領域である。第1照射領域103Aは、第1分割領域91Aを含み、また第1分割領域91Aに隣接する第2分割領域91B、第3分割領域91Cおよび第4分割領域91Dの一部も含む。
図6を参照して、照射領域についてさらに説明する。図6は、加工ユニットの照射領域を示す上面図である。図6には、第1照射領域103Aに加えて、第2照射領域103B、第3照射領域103Cおよび第4照射領域103Dが示されている。第2照射領域103Bは、第2走査部13Bが粉末床90にレーザ光を照射できる領域である。第3照射領域103Cは、第3走査部13Cが粉末床90にレーザ光を照射できる領域である。第4照射領域103Dは、第4走査部13Dが粉末床90にレーザ光を照射できる領域である。図に示すように、第1照射領域103A~第4照射領域103Dは、互いに重なり合う領域が存在する。
例えば、第1照射領域103Aは図に示す第1加工領域A1、第2加工領域A2、第3加工領域A3、第4加工領域A4、を有する。第1加工領域A1は、第1照射領域103Aに含まれ、且つ、他の照射領域とは重複していない領域である。すなわち第1加工領域A1は、第1走査部13Aによってレーザ光が照射され得る領域である。
第2加工領域A2は、第1照射領域103Aと第2照射領域103Bとが重なっている領域である。すなわち第2加工領域A2は、第1走査部13Aおよび第2走査部13Bによってレーザ光が照射され得る領域である。
第3加工領域A3は、第1照射領域103Aと第3照射領域103Cとが重なっている領域である。すなわち第3加工領域A3は、第1走査部13Aおよび第3走査部13Cによってレーザ光が照射され得る領域である。
第4加工領域A4は、第1照射領域103Aと第2照射領域103Bと第3照射領域103Cと第4照射領域103Dとが重なっている領域である。すなわち第4加工領域A4は、第1走査部13A、第2走査部13B、第3走査部13Cおよび第4走査部13Dによってレーザ光が照射され得る領域である。
上述のとおり、粉末床レーザ加工装置10において、複数の走査部13がそれぞれ有するレーザ光の照射領域の一部は互いに重複する。例えば第1駆動部12Aは、第1走査部13Aが照射するレーザ光を第1照射領域に照射可能に第1走査部を移動させる。そして第2駆動部12Bは、第2走査部13Bが照射するレーザ光を、第1照射領域の一部を含む第2照射領域に照射可能に第2走査部13Bを移動させる。また第1駆動部12Aおよび第2駆動部12Bは、それぞれの第1走査部13Aと第2走査部13Bとの相対的な位置が変化可能に、第1走査部13Aおよび第2走査部13Bを移動させる。このような構成により、粉末床レーザ加工装置10は、様々な大きさや形状の製造品を効率的に製造できる。
次に、粉末床レーザ加工装置10が製造する製造品の例について説明する。図7は、製造品を製造している状況の第1の例を示す上面図である。図7は、理解を容易にするため、複数の走査部13がそれぞれ有するレンズ133の位置およびそれぞれのレンズから照射されるレーザ光を粉末床90に重畳して示している。
図7は、粉末床90において製造品92が製造されている状況を示している。製造品92は第1分割領域91A、第2分割領域91B、第3分割領域91Cおよび第4分割領域91Dに跨る比較的に大きいものである。粉末床レーザ加工装置10は、製造品92を製造するために、第1分割領域91Aにおける加工(すなわちレーザ光の照射)を第1走査部13Aに担わせる。同様に、粉末床レーザ加工装置10は第2分割領域91Bにおける加工を第2走査部13Bに、第3分割領域91Cにおける加工を第3走査部13Cに、そして第4分割領域91Dにおける加工を第4走査部13Dにそれぞれ担わせる。このような方法により、粉末床レーザ加工装置10は4つの走査部13が加工面積を均等に分担して製造品92を効率的に製造する。
次に図8を参照して粉末床レーザ加工装置10が製造品を製造する場合のさらなる例について説明する。図8は、レーザ加工装置が製造品を製造している状況の第2の例を示す上面図である。図8は、粉末床90において製造品93が製造されている状況を示している。製造品93は第1分割領域91Aの中に存在する比較的に小さいものである。
上述の状況において、粉末床レーザ加工装置10は、製造品93を製造するために、例えば第1分割領域91Aの第1加工領域A1における加工を第1走査部13Aに担わせる。また、粉末床レーザ加工装置10は第2加工領域A2における加工を第2走査部13Bに、第3加工領域A3における加工を第3走査部13Cに、そして第4加工領域A4における加工を第4走査部13Dにそれぞれ担わせる。このような方法により、粉末床レーザ加工装置10は4つの走査部13が分担して製造品93を効率的に製造する。
次に図9について説明する。図9は、レーザ加工装置が製造品を製造している状況の第3の例を示す上面図である。図9は、粉末床90において製造品93および製造品94が製造されている状況を示している。製造品93は第1分割領域91Aにおいて製造される。また製造品94は、製造品93と同様の大きさであって、第4分割領域91Dにおいて製造される。
上述の状況において、粉末床レーザ加工装置10は、例えば第1分割領域91Aにおける製造品93の加工を第1走査部13Aおよび第3走査部13Cに担わせる。また、粉末床レーザ加工装置10は第4分割領域91Dにおける製造品94の加工を第2走査部13Bおよび第4走査部13Dに担わせる。こうすることにより、粉末床レーザ加工装置10は製造品93および製造品94を効率的に製造する。
以上、図7、図8および図9を参照して粉末床レーザ加工装置10が行う加工方法の例について説明した。上述のように、粉末床レーザ加工装置10は、様々な大きさの製造品に対して、複数の走査部13を効率的に利用できる。
次に、図10を参照して粉末積層造形装置1の機能構成について説明する。図10は、粉末積層造形装置のブロック図である。粉末積層造形装置1は主な構成として、全体制御部21、操作受付部22、表示部23、粉末床レーザ加工装置10、リコータ30、粉末供給部40および粉末床支持部50を有する。なお、図10に示す各構成は、適宜通信可能に所定の通信手段により接続している。
全体制御部21は、CPU(Central Processing Unit)またはMPU(Micro Processing Unit)などの演算装置を含み、粉末積層造形装置1の各構成と通信可能に接続し、粉末積層造形装置1の全体を制御する。例えば全体制御部21は、ユーザから製造品を製造する支持を受けた場合に、製造品の大きさおよび形状に応じて、粉末床レーザ加工装置10、リコータ30、粉末供給部40および粉末床支持部50を制御して製造品を製造する。
操作受付部22は例えばキーボード、ボタン、タッチパネル等を含むユーザインタフェースである。操作受付部22は、粉末積層造形装置1を使用するユーザからの操作を受け付け、受け付けた操作に関する信号を全体制御部21に供給する。表示部23は、液晶パネル、有機エレクトロルミネッセンスパネルまたはLED(light-emitting diode)等の表示装置を含み、粉末積層造形装置1の動作状況等の情報をユーザに通知する。
記憶部24は、不揮発性メモリを含む記憶装置であって、例えば粉末積層造形装置1が実行するプログラムを記憶する。記憶部24は粉末積層造形装置1が起動すると、記憶するプログラムを全体制御部21に供給してもよい。
図に示す粉末床レーザ加工装置10については後述する。リコータ30、粉末供給部40および粉末床支持部50は、それぞれ全体制御部21からの支持を受けて動作可能に設定されている。例えばリコータ30、粉末供給部40および粉末床支持部50は、動作の状態を監視するためのセンサ、動作を実行するためのモータおよびこのモータを駆動するためのモータドライバ等を有する。
次に、図11を参照して、粉末床レーザ加工装置10の機能構成についてさらに説明する。図11は、粉末床レーザ加工装置10のブロック図である。粉末床レーザ加工装置10は主な構成として、制御ユニット15、第1加工ユニット11A、第2加工ユニット11B、第3加工ユニット11Cおよび第4加工ユニット11Dを有する。
制御ユニット15は、粉末床レーザ加工装置10が有する複数の走査部13の制御を行う。制御ユニット15は主な構成として、位置監視部110、駆動制御部111およびレーザ光制御部112を有する。
位置監視部110は、第1走査部13A、第2走査部13B、第3走査部13Cおよび第4走査部13Dの位置を監視する。より具体的には、位置監視部110は、第1加工ユニット11Aが有する第1位置センサ14Aから第1走査部13Aの位置に関するデータを取得する。同様に位置監視部110は、第2加工ユニット11Bが有する第2位置センサ14B、第3加工ユニット11Cが有する第3位置センサ14C、および第4加工ユニット11Dが有する第4位置センサ14Dからそれぞれの走査部13の位置に関するデータを取得する。位置監視部110は、それぞれの走査部13の位置に関するデータを取得すると、取得したデータを駆動制御部111に供給する。
駆動制御部111は、CPUまたはMPU等の演算装置を含む。駆動制御部111はまた揮発性または不揮発性の記憶装置を含み、所定のプログラムを実行する。これにより駆動制御部111は、位置監視部110と連携して第1駆動部12A、第2駆動部12B、第3駆動部12C、および前記第4駆動部12Dの動作を制御する。すなわち、駆動制御部111は、位置監視部110からそれぞれの走査部13の位置に関するデータを受け取り、受け取ったデータに応じてそれぞれの駆動部12に対して駆動を支持する信号を供給する。さらに駆動制御部111は、設定された位置に走査部13が移動した場合には、レーザ光制御部112とも連携してレーザ光をそれぞれの照射領域に走査して照射させるレーザ光制御部112は、駆動制御部111からの指示を受けてレーザ光源140に含まれるレーザ光の発振を制御する。
第1加工ユニット11Aは、主な構成として、第1駆動部12A、第1走査部13Aおよび第1位置センサ14Aを有する。第1駆動部12Aは、第1走査部13Aを移動させるためのモータを含む。第1駆動部12Aは、このモータを駆動するためのモータドライバを含んでいてもよい。第1走査部13Aは、レーザ光を粉末床90に走査して照射するためのスキャナを駆動するための駆動部およびこの駆動部を駆動するためのドライバを含む。スキャナを駆動するための駆動部は例えばガルバノモータである。またスキャナがMEMSミラーにより構成される場合には、駆動部はMEMSミラードライバである。第1位置センサ14Aは、第1走査部13Aの位置を検出するためのセンサであって、例えばリニアポジションセンサやモータの動作状態を検出するエンコーダ等である。
第2加工ユニット11Bは、主な構成として、第2駆動部12B、第2走査部13Bおよび第2位置センサ14Bを有する。第3加工ユニット11Cは、主な構成として、第3駆動部12C、第3走査部13Cおよび第3位置センサ14Cを有する。第4加工ユニット11Dは、主な構成として、第4駆動部12D、第4走査部13Dおよび第4位置センサ14Dを有する。第2加工ユニット11B、第3加工ユニット11Cおよび第4加工ユニット11Dがそれぞれ有する構成は、上述の第1加工ユニット11Aの構成と同等である。
次に、図12を参照して粉末積層造形装置1が実行する処理について説明する。図12は、粉末積層造形装置1の動作を示すフローチャートである。図12に示すフローチャートは、例えば粉末積層造形装置1が起動されることにより開始する。
まず、粉末積層造形装置1の全体制御部21は、粉末積層造形装置1の各構成を初期位置に設定する(ステップS10)。初期位置とは、製造品の製造を開始する場合における動作の初期位置である。例えばリコータ30の初期位置は、図1に示した本体ブロック20の右端位置である。また粉末供給部40の初期位置は、粉末80の上面と本体ブロック20の上面とが一致する位置である。また粉末床支持部50の初期位置は、粉末床90を生成する面が本体ブロック20の上面と一致する位置である。全体制御部21は、各構成を初期位置に設定すると、ステップS11からステップS13までの処理と、ステップS14の処理とを、並行して実行する。
以下にステップS11~ステップS13の処理について説明する。全体制御部21は粉末床支持部50を、粉末床90の1層分の厚さ下降させる(ステップS11)。次に、全体制御部21は、粉末供給部40に粉末床90の1層分に相当する粉末80を供給させる(ステップS12)。次に、全体制御部21は、リコータ30を移動させて、粉末供給部40から供給された粉末80を粉末床90に敷き詰め、粉末床90を生成する(ステップS13)。以上、ステップS11~ステップS13について説明した。
ステップS14において、全体制御部21は、粉末床レーザ加工装置10の走査部13を所定の位置に移動させる(ステップS14)。より具体的には、全体制御部21は、粉末床レーザ加工装置10の駆動制御部111に対してそれぞれの走査部13の位置を指示する。駆動制御部111は全体制御部21から受けた指示に応じて、第1走査部13A~第4走査部13Dを移動させる。
次に、全体制御部21はレーザ照射が可能か否かを判定する(ステップS15)。より具体的には、全体制御部21は、上述のステップS11~ステップS13の処理およびステップS14の処理が完了していることそれぞれ検出した場合には、レーザ照射が可能であると判定し、いずれかの処理が完了していない場合には、レーザ照射が可能であると判定しない。レーザ照射が可能であると判定しない場合(ステップS15:NO)、全体制御部21はステップS15を繰り返す。レーザ照射が可能であると判定する場合(ステップS15:YES)、全体制御部21はステップS16に進む。
ステップS16において、全体制御部21は粉末床レーザ加工装置10に対してレーザ光を照射する指示をする(ステップS16)。粉末床レーザ加工装置10は、かかる指示を受けると、レーザ光制御部112がレーザ光を照射領域に走査して照射させる。
次に、全体制御部21は、処理が終了したか否かを判定する(ステップS17)。処理が終了したと判定しない場合(ステップS17:NO)、全体制御部21は、ステップS11およびステップS14の処理に戻る。処理が終了したと判定する場合(ステップS17:YES)、全体制御部21は、一連の処理を終了する。
以上、粉末積層造形装置1が実行する処理について説明した。図11に示すフローチャートは、粉末床レーザ加工装置10が実行する加工方法を含む。すなわち粉末床レーザ加工装置10は、レーザ光をそれぞれの照射領域に照射可能に走査部13を移動させ(ステップS14)、さらに、レーザ光をそれぞれの照射領域に走査して照射させる(ステップS16)。
また上述の処理において、第1駆動部12A~第4駆動部12Dは、粉末床支持部が粉末床を下降させ、またはリコータが駆動する期間(ステップS11からステップS13の期間)に、走査部13を移動させる(ステップS14)。このような処理により、粉末床レーザ加工装置10は、効率的に走査部13を移動して製造品を製造できる。
以上、実施の形態について説明した。上述のように、実施の形態によれば、様々な造形面積に対して効率よく加工できる粉末床レーザ加工装置、粉末積層造形装置、加工方法およびプログラムを提供することができる。
なお、上述したプログラムは、様々なタイプの非一時的なコンピュータ可読媒体を用いて格納され、コンピュータに供給することができる。非一時的なコンピュータ可読媒体は、様々なタイプの実体のある記録媒体を含む。非一時的なコンピュータ可読媒体の例は、磁気記録媒体(例えばフレキシブルディスク、磁気テープ、ハードディスクドライブ)、光磁気記録媒体(例えば光磁気ディスク)、CD-ROM(Read Only Memory)CD-R、CD-R/W、半導体メモリ(例えば、マスクROM、PROM(Programmable ROM)、EPROM(Erasable PROM)、フラッシュROM、RAM(Random Access Memory))を含む。また、プログラムは、様々なタイプの一時的なコンピュータ可読媒体によってコンピュータに供給されてもよい。一時的なコンピュータ可読媒体の例は、電気信号、光信号、及び電磁波を含む。一時的なコンピュータ可読媒体は、電線及び光ファイバ等の有線通信路、又は無線通信路を介して、プログラムをコンピュータに供給できる。
以上、実施の形態について説明したが、実施の形態にかかる粉末床レーザ加工装置10および粉末積層造形装置1は、上述の構成に限られない。例えば走査部13は4つでなく、2つ以上であればよい。粉末床レーザ加工装置10は、複数のレーザ光源を有し、かかる複数のレーザ光源からのレーザ光を走査部13に供給するものであってもよい。
なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。
1 粉末積層造形装置
10 粉末床レーザ加工装置
11 加工ユニット
12 駆動部
12X 第1搬送部
12Y 第2搬送部
13 走査部
14 位置センサ
15 制御ユニット
20 本体ブロック
21 全体制御部
22 操作受付部
23 表示部
24 記憶部
30 リコータ
40 粉末供給部
50 粉末床支持部
80 粉末
90 粉末床
91 分割領域
92 製造品
93 製造品
94 製造品
101 走査領域
102 照射可能範囲
103 照射領域
110 位置監視部
111 駆動制御部
112 レーザ光制御部
131 第1ガルバノユニット
132 第2ガルバノユニット
133 レンズ
140 レーザ光源
141 部分反射ミラー
142 全反射ミラー
143 部分反射ミラー
144 全反射ミラー
145 部分反射ミラー
146 全反射ミラー

Claims (11)

  1. 粉末床に第1レーザ光を走査して照射する第1走査部と、
    前記粉末床に第2レーザ光を走査して照射する第2走査部と、
    前記第1レーザ光を第1照射領域に照射可能に前記第1走査部を移動させる第1駆動部と、
    前記第2レーザ光を前記第1照射領域の一部を含む第2照射領域に照射可能に、且つ、前記第1走査部との相対的な位置が変化可能に、前記第2走査部を移動させる第2駆動部と、を備える
    粉末床レーザ加工装置。
  2. レーザ光を出射する一のレーザ光源と、
    前記レーザ光源から前記レーザ光を受け、前記レーザ光を前記第1走査部と前記第2走査部とに分岐する部分反射ミラーと、をさらに有する、
    請求項1に記載の粉末床レーザ加工装置。
  3. 前記第1走査部および前記第2走査部は、
    レーザ光を受け、前記レーザ光を走査する走査部と、
    前記走査部が走査した前記レーザ光を受けて前記粉末床に前記レーザ光を照射するレンズと、をそれぞれ有する、
    請求項1または2に記載の粉末床レーザ加工装置。
  4. 前記第1駆動部および前記第2駆動部は、
    共通の移動面において、前記第1走査部および前記第2走査部をそれぞれ移動させる、
    請求項1~3のいずれか一項に記載の粉末床レーザ加工装置。
  5. 前記第1駆動部および前記第2駆動部は、
    前記粉末床の表面に平行な第1方向に前記第1走査部および前記第2走査部をそれぞれ搬送する第1搬送部と、
    前記粉末床の表面に平行であって前記第1方向と異なる第2方向に前記第1走査部および前記第2走査部を搬送する第2搬送部と、を含む、
    請求項1~4のいずれか一項に記載の粉末床レーザ加工装置。
  6. 前記第1駆動部および前記第2駆動部は、
    前記第1方向および前記第2方向のそれぞれにガイドレールを有するガントリ機構である、
    請求項5に記載の粉末床レーザ加工装置。
  7. 前記第1走査部および前記第2走査部の位置を制御する位置制御部と、
    前記位置制御部と連携して前記第1駆動部および前記第2駆動部の動作を制御する駆動制御部と、
    をさらに備える、
    請求項1~6のいずれか一項に記載の粉末床レーザ加工装置。
  8. 請求項1~7のいずれか一項に記載の粉末床レーザ加工装置と、
    前記粉末床を支持する粉末床支持部と、
    前記粉末床に粉末を敷き詰めるリコータと、を備える
    粉末積層造形装置。
  9. 前記第1駆動部および前記第2駆動部は、
    前記粉末床支持部が前記粉末床を下降させ、または前記リコータが駆動する期間に、前記第1走査部および前記第2走査部を移動させる、
    請求項8に記載の粉末積層造形装置。
  10. コンピュータが、
    第1レーザ光を第1照射領域に照射可能に第1走査部を移動させる第1駆動ステップと、
    第2レーザ光を前記第1照射領域の一部を含む第2照射領域に照射可能に、且つ、前記第1走査部との相対的な位置が変化可能に、第2走査部を移動させる第2駆動ステップと、
    前記第1照射領域に前記第1レーザ光を走査して照射させる第1走査ステップと、
    前記第2照射領域に前記第2レーザ光を走査して照射させる第2走査ステップと、
    を実行する
    加工方法。
  11. 第1レーザ光を第1照射領域に照射可能に第1走査部を移動させる第1駆動ステップと、
    第2レーザ光を前記第1照射領域の一部を含む第2照射領域に照射可能に、且つ、前記第1走査部との相対的な位置が変化可能に、第2走査部を移動させる第2駆動ステップと、
    前記第1照射領域に前記第1レーザ光を走査して照射させる第1走査ステップと、
    前記第2照射領域に前記第2レーザ光を走査して照射させる第2走査ステップと、
    を備える加工方法をコンピュータに実行させる
    プログラム。
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