JP2022157406A - Virus inactivation structure - Google Patents

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Abstract

To provide a virus inactivation structure that has a high virus inactivation function and can retain such a high virus inactivation function for a long time.SOLUTION: The present invention discloses a virus inactivation structure having a virus inactivation function, comprising a polymer brush structure that comprises a plurality of polymer chains each comprising a functional group selected from an ionic group, a nonionic hydrophilic group and an electron-donating group.SELECTED DRAWING: None

Description

特許法第30条第2項適用申請有り 令和2年12月24日、https://www.amed.go.jp/news/topics/covid19_06.html [刊行物等]令和3年1月4日、https://www.tsuruoka-nct.ac.jp/wp-content/uploads/2020/12/20210104-r.pdf [刊行物等]令和3年1月9日、荘内日報 令和3年1月9日付 第1面Patent Law Article 30, Paragraph 2 application filed December 24, 2020, https://www. amed. go. jp/news/topics/covid19_06. html [Publications, etc.] January 4, 2021, https://www. tsuruoka-nct. ac. jp/wp-content/uploads/2020/12/20210104-r. pdf [Publications, etc.] January 9, 3rd year of Reiwa, Shonai Nippo January 9, 3rd year of Reiwa, page 1

本発明は、高いウイルス不活化機能を備え、かつ、高いウイルス不活化機能を長期に亘って持続可能なウイルス不活化構造に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a virus-inactivating structure having a high virus-inactivating function and capable of maintaining the high virus-inactivating function over a long period of time.

インフルエンザ、麻疹、水痘などの多くのウイルス性疾患は、身近な物品に付着したウイルス、飛沫感染、飛沫核感染等によって容易に伝播する。このため、ウイルス感染対策は現代社会における大きな課題である。ウイルス感染対策の試みとして、たとえば、特許文献1などでは、ウイルス不活化作用を有する化合物が提案されている。 Many viral diseases such as influenza, measles, and chickenpox are easily transmitted by viruses attached to familiar objects, droplet infection, droplet nuclear infection, and the like. Therefore, countermeasures against viral infections are a major issue in modern society. As an attempt to combat virus infection, for example, Patent Document 1 proposes a compound having a virus-inactivating action.

一方で、新型コロナウイルス(COVID-19)の世界的な流行は、社会生活の変革を迫る大きな問題となり、新型コロナウイルス(COVID-19)などのウイルスによる感染症の世界的な流行を早期に、しかも安定的に沈静化するという観点からも、高いウイルス不活化機能を備え、しかも、高いウイルス不活化機能を長期に亘って持続可能な材料等が熱望されている。 On the other hand, the global epidemic of the new coronavirus (COVID-19) has become a major problem that is pressing for changes in social life. In addition, from the viewpoint of stable sedation, a material that has a high virus-inactivating function and that can maintain the high virus-inactivating function over a long period of time is eagerly desired.

特開2020-128342号公報JP 2020-128342 A

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、高いウイルス不活化機能を備え、しかも、高いウイルス不活化機能を長期に亘って持続可能なウイルス不活化構造を提供することにある。 The present invention has been made in view of such circumstances, and its object is to provide a virus-inactivating structure that has a high virus-inactivating function and that can sustain the high virus-inactivating function over a long period of time. .

本発明者等は、上記目的を達成するために鋭意研究した結果、イオン性基、非イオン性親水基および電子供与基から選択される官能基を有する高分子鎖を複数含むポリマーブラシ構造が、高いウイルス不活化機能を備えること、さらには、高いウイルス不活化機能を長期に亘って持続可能であることを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that a polymer brush structure containing a plurality of polymer chains having functional groups selected from ionic groups, nonionic hydrophilic groups and electron donating groups, The inventors have found that they have a high virus-inactivating function and that the high virus-inactivating function can be maintained over a long period of time, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、以下の事項に関する。
[1]イオン性基、非イオン性親水基および電子供与基から選択される官能基を有する高分子鎖を複数含むポリマーブラシ構造を備えた、ウイルス不活化機能を有するウイルス不活化構造。
[2]複数の前記高分子鎖が、水溶性を示す[1]に記載のウイルス不活化構造。
[3]複数の前記高分子鎖が、基材上に共有結合で固定されることで、ポリマーブラシ構造を形成するものである[1]または[2]に記載のウイルス不活化構造。
[4]前記ポリマーブラシ構造を構成する前記高分子鎖の平均分子鎖長さLに対する、前記ポリマーブラシ構造の厚みTの比(T/L)が、0.001~0.6である[3]に記載のウイルス不活化構造。
[5]前記基材が、繊維、単繊維、撚糸、織布、不織布、カット繊維、中空繊維、ガラス、金属またはこれらの加工品である[3]または[4]に記載のウイルス不活化構造。
[6]複数の前記高分子鎖が、少なくとも一端が基材重合体中に存在し、少なくとも一部が前記基材重合体から露出した状態で存在することで、ポリマーブラシ構造を形成するものである[1]または[2]に記載のウイルス不活化構造。
[7]複数の前記高分子鎖が、主鎖となる高分子鎖から分岐した高分子グラフト鎖であることにより、ボトルブラシ状のポリマーブラシ構造を形成するものである[1]または[2]に記載のウイルス不活化構造。
[8]前記ポリマーブラシ構造のイオン伝導度が、5.0×10-1S/m以下である[1]~[7]のいずれかに記載のウイルス不活化構造。
[9]複数の前記高分子鎖が、アンモニウム基を有する[1]~[8]のいずれかに記載のウイルス不活化構造。
That is, the present invention relates to the following matters.
[1] A virus-inactivating structure having a virus-inactivating function, comprising a polymer brush structure containing a plurality of polymer chains having functional groups selected from ionic groups, nonionic hydrophilic groups and electron-donating groups.
[2] The virus-inactivating structure according to [1], wherein the plurality of polymer chains are water-soluble.
[3] The virus-inactivating structure according to [1] or [2], wherein the plurality of polymer chains are covalently immobilized on a substrate to form a polymer brush structure.
[4] The ratio (T b /L p ) of the thickness T b of the polymer brush structure to the average molecular chain length L p of the polymer chains constituting the polymer brush structure is 0.001 to 0.6. The virus-inactivating structure according to [3].
[5] The virus-inactivating structure according to [3] or [4], wherein the substrate is fiber, single fiber, twisted yarn, woven fabric, non-woven fabric, cut fiber, hollow fiber, glass, metal, or a processed product thereof. .
[6] At least one end of the plurality of polymer chains is present in the base polymer, and at least a portion thereof is exposed from the base polymer, thereby forming a polymer brush structure. A virus-inactivating structure according to [1] or [2].
[7] The plurality of polymer chains are polymer graft chains branched from a polymer chain serving as a main chain, thereby forming a bottle brush-like polymer brush structure [1] or [2] A virus-inactivating structure as described in .
[8] The virus-inactivating structure according to any one of [1] to [7], wherein the polymer brush structure has an ionic conductivity of 5.0×10 −1 S/m or less.
[9] The virus-inactivating structure according to any one of [1] to [8], wherein the plurality of polymer chains have an ammonium group.

本発明によれば、高いウイルス不活化機能を備え、しかも、高いウイルス不活化機能を長期に亘って持続可能なウイルス不活化構造を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a virus-inactivating structure that has a high virus-inactivating function and that can maintain the high virus-inactivating function over a long period of time.

図1は、本発明の第1実施形態に係るウイルス不活化構造を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a virus inactivation structure according to a first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第2実施形態に係るウイルス不活化構造を示す図である。FIG. 2 shows a virus inactivation structure according to a second embodiment of the invention. 図3は、本発明の第3実施形態に係るウイルス不活化構造を示す図である。FIG. 3 shows a virus inactivation structure according to a third embodiment of the invention.

本発明のウイルス不活化構造は、イオン性基、非イオン性親水基および電子供与基から選択される特定官能基を有する高分子鎖を複数含むポリマーブラシ構造を備え、かつ、ウイルス不活化機能を有するものである。
本発明者等が鋭意検討を行ったところ、イオン性基、非イオン性親水基および電子供与基から選択される特定官能基を有する高分子鎖を複数含むポリマーブラシ構造によれば、高いウイルス不活化を有すること、さらには、このようなウイルス不活化機能が長期に亘って維持されることを見出し、本発明を完成させるに至ったものである。特に、このような効果は、ポリマーブラシ構造に特有の効果であることを、本発明者等が初めて見出したものである。ここで、ポリマーブラシ構造とは、何らかの基体に、物理的あるいは化学的に固定された複数の高分子鎖を備える構造であればよく、このような構造である限り、その形状等は特に限定されるものではない。
The virus-inactivating structure of the present invention comprises a polymer brush structure containing a plurality of polymer chains having specific functional groups selected from ionic groups, non-ionic hydrophilic groups and electron-donating groups, and has a virus-inactivating function. have.
As a result of intensive studies by the present inventors, it was found that a polymer brush structure containing a plurality of polymer chains having specific functional groups selected from ionic groups, nonionic hydrophilic groups, and electron-donating groups was highly resistant to viruses. The present inventors have completed the present invention based on the discovery that it has activation and that such virus-inactivating function is maintained over a long period of time. In particular, the present inventors have found for the first time that such effects are unique to the polymer brush structure. Here, the polymer brush structure may be any structure provided with a plurality of polymer chains physically or chemically fixed to some kind of substrate, and as long as it has such a structure, its shape and the like are not particularly limited. not something.

<第1実施形態>
まず、本発明の第1実施形態について、説明する。
図1は、本発明の第1実施形態に係るウイルス不活化構造を示す図である。図1に示すように、第1実施形態に係るウイルス不活化構造は、基材10と、基材10上に形成されたポリマーブラシ層20とから構成される。
<First embodiment>
First, a first embodiment of the present invention will be described.
FIG. 1 is a diagram showing a virus inactivation structure according to a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the virus inactivating structure according to the first embodiment comprises a substrate 10 and a polymer brush layer 20 formed on the substrate 10. As shown in FIG.

基材10としては、特に限定されず、繊維、単繊維、撚糸、織布、不織布、カット繊維、中空繊維、ガラス、金属またはこれらの加工品などの幅広い材料が挙げられる。また、シリカやカーボンブラックなどの粒子であってもよい。特に、本発明によれば、基材10として、任意の材料および任意の形状を有するものを用い、その表面にポリマーブラシ層20を形成することで、任意の形状を有する任意の材料に対し、ポリマーブラシ層20による、ウイルス不活化効果を付与することができるものである。 The substrate 10 is not particularly limited, and includes a wide range of materials such as fibers, single fibers, twisted yarns, woven fabrics, non-woven fabrics, cut fibers, hollow fibers, glass, metals, and processed products thereof. Particles such as silica and carbon black may also be used. In particular, according to the present invention, by using an arbitrary material and an arbitrary shape as the substrate 10 and forming the polymer brush layer 20 on the surface thereof, for an arbitrary material having an arbitrary shape, A virus inactivating effect can be imparted by the polymer brush layer 20 .

ポリマーブラシ層20は、基体としての基材10上に共有結合で固定された複数の高分子鎖を含む層であり、本発明にいては、ポリマーブラシ層20を、イオン性基、非イオン性親水基および電子供与基から選択される特定官能基(以下、適宜、「特定官能基」とする。)を有する高分子鎖により形成するものである。 The polymer brush layer 20 is a layer containing a plurality of polymer chains covalently fixed on the substrate 10 as a substrate. It is formed by a polymer chain having a specific functional group (hereinafter referred to as "specific functional group" as appropriate) selected from a hydrophilic group and an electron donating group.

本発明において、ポリマーブラシ層20が、ウイルスに対して、不活化作用を示す理由としては、必ずしも明らかではないが、次の理由が考えられる。すなわち、ポリマーブラシ層20表面にウイルスが付着すると、熱力学的なミセル融合現象によって、ポリマーブラシ層20を構成する、特定官能基を有する複数の高分子鎖が、ウイルスを構成するエンベロープと融合(疑似感染)し、エンベロープの開裂が引き起こされる。そして、ウイルス内部のRNAが、特定官能基を有する高分子鎖の高い浸透圧によって外部に排出され、これによりウイルスが不活化するものと考えられる。 In the present invention, the reason why the polymer brush layer 20 exhibits the virus inactivating action is not necessarily clear, but the following reasons are conceivable. That is, when a virus adheres to the surface of the polymer brush layer 20, a plurality of polymer chains having specific functional groups that constitute the polymer brush layer 20 fuse with the envelope that constitutes the virus ( pseudo-infection), causing envelope cleavage. It is believed that the RNA inside the virus is expelled to the outside due to the high osmotic pressure of the polymer chain having the specific functional group, thereby inactivating the virus.

本発明において、ポリマーブラシ層20は、特定官能基を有する複数の高分子鎖から構成されるものであり、このような特定官能基を有することにより、ウイルスを構成するエンベロープと融合し易く、さらには、複数の高分子鎖で構成されるものであることから、高い浸透圧を示すものであり、これにより高いウイルス不活化機能を発揮するものといえる。また、ポリマーブラシ層20は、複数の高分子鎖で構成された構造であることから、このような高いウイルス不活化機能を、その構造変化等を伴うことなく、安定的に発揮することが出来るものであることから、高いウイルス不活化機能を長期に亘って持続可能なものとなるといえる。 In the present invention, the polymer brush layer 20 is composed of a plurality of polymer chains having specific functional groups. Since it is composed of a plurality of polymer chains, it exhibits high osmotic pressure, and it can be said that it exhibits a high virus-inactivating function. In addition, since the polymer brush layer 20 has a structure composed of a plurality of polymer chains, such a high virus inactivation function can be stably exhibited without accompanying structural changes. Therefore, it can be said that the high virus inactivation function is sustainable over a long period of time.

そのため、本発明によれば、各種ウイルス、とりわけ、エンベロープを有するエンベロープウイルスに対し、高い不活化効果を奏するものである。なお、上述したように、本発明においては、ポリマーブラシ層20を構成する、特定官能基を有する複数の高分子鎖が、ウイルスを構成するエンベロープと融合(疑似感染)し、エンベロープを開裂させるものと考えられ、ウイルスを構成するエンベロープは、リン脂質二重膜から構成されるものであることが一般的である。これに対し、細菌などの菌類は、多糖類などから構成される細胞膜を有するものであり、この点において、ウイルスと、細菌などの菌類とは、全く異なり、さらには、そのサイズも特性も、ウイルスとは全く異なるものである。特に、殺菌作用あるいは抗菌作用を示すものは、多糖類などから構成される細胞膜を破壊する(すなわち、多糖類に作用する)ものが一般的であるのに対し、本発明においては、リン脂質二重膜から構成されるエンベロープと融合し、開裂させるという作用を奏する(すなわち、リン脂質二重膜に作用する)と考えられることから、その作用機構や必要とされる特性は、殺菌作用あるいは抗菌作用を示すものとは異なるものと考えられる。 Therefore, according to the present invention, a high inactivation effect can be obtained for various viruses, particularly enveloped viruses. As described above, in the present invention, a plurality of polymer chains having specific functional groups, which constitute the polymer brush layer 20, fuse (pseudo-infect) with the envelope constituting the virus to cleave the envelope. , and the envelope that constitutes the virus is generally composed of a phospholipid bilayer membrane. On the other hand, fungi such as bacteria have cell membranes composed of polysaccharides, etc. In this respect, viruses and fungi such as bacteria are completely different. They are completely different from viruses. In particular, those exhibiting a bactericidal or antibacterial effect generally destroy cell membranes composed of polysaccharides (that is, act on polysaccharides), whereas in the present invention, phospholipid dihydrogenase Since it is thought to have the effect of fusing with and cleaving the envelope composed of a heavy membrane (that is, acting on the phospholipid bilayer membrane), its mechanism of action and required properties are bactericidal or antibacterial. It is considered that it is different from the one showing the action.

ポリマーブラシ層20を構成する複数の高分子鎖は、特定官能基として、イオン性基、非イオン性親水基および電子供与基から選択される官能基を備える。 A plurality of polymer chains constituting the polymer brush layer 20 have functional groups selected from ionic groups, nonionic hydrophilic groups and electron donating groups as specific functional groups.

イオン性基としては、特に限定されず、カチオン性の官能基、アニオン性の官能基のいずれであってもよいが、アンモニウム基、スルホン酸基、スルホンイミド基、硫酸基、ホスホン酸基、リン酸基、カルボン酸基、アクリル酸基、メタクリル酸基又はそれらの塩である基、および水酸基、チオール基、などの塩が挙げられる。 The ionic group is not particularly limited, and may be either a cationic functional group or an anionic functional group. Examples include acid groups, carboxylic acid groups, acrylic acid groups, methacrylic acid groups or groups that are salts thereof, and salts such as hydroxyl groups and thiol groups.

なお、イオン性基は、カチオン性の官能基である場合には、通常、対アニオンとともに、塩構造を形成しており、また、アニオン性の官能基である場合には、通常、対カチオンとともに、塩構造を形成している。対アニオンとしては、特に限定されないが、BF 、PF 、AsF 、SbF 、AlCl 、NbF 、HSO 、ClO 、CHSO 、CFSO 、CFCO 、(CFSO、Cl、Br、Iなどが挙げられる。対カチオンとしては、特に限定されないが、Na、K、Liなどのアルカリ金属イオン;Ca2+、Mg2+などのアルカリ土類金属イオン;アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオンなどの有機カチオン;などが挙げられる。 When the ionic group is a cationic functional group, it usually forms a salt structure together with a counter anion. , forming a salt structure. Counter anions include, but are not limited to, BF 4 , PF 6 , AsF 6 , SbF 6 , AlCl 4 , NbF 6 , HSO 4 , ClO 4 , CH 3 SO 3 , CF 3 SO 3 , CF 3 CO 2 , (CF 3 SO 2 ) 2 N , Cl , Br , I and the like. Examples of counter cations include, but are not limited to, alkali metal ions such as Na + , K + and Li + ; alkaline earth metal ions such as Ca 2+ and Mg 2+ ; organic cations such as ammonium ions and alkylammonium ions; mentioned.

非イオン性親水基としては、特に限定されないが、たとえば、ヒドロキシル基、アミド基、アミノ基、エーテル結合、チオール基などが挙げられる。 Examples of nonionic hydrophilic groups include, but are not particularly limited to, hydroxyl groups, amide groups, amino groups, ether bonds, thiol groups, and the like.

電子供与基としては、上記したイオン性基および非イオン性親水基に該当しない電子供与性を示す基であればよいが、たとえば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、ケイ素原子、リン原子などを含む基が挙げられ、その具体例としては、ヒドロキシ基、アミノ基、メトキシ基、スルフィド基などが挙げられる。 The electron-donating group may be a group exhibiting electron-donating properties that does not correspond to the above-mentioned ionic groups and nonionic hydrophilic groups. Examples include nitrogen, oxygen, sulfur, silicon and phosphorus atoms. containing groups, specific examples of which include a hydroxy group, an amino group, a methoxy group, a sulfide group, and the like.

上記した特定官能基の中でも、ウイルスを構成するエンベロープに対する親和性がより高く、そのため、より高いウイルス不活化機能を奏するという観点より、イオン性基、非イオン性親水基が好ましく、イオン性基がより好ましく、カチオン性の官能基がさらに好ましく、アンモニウム基がより好ましい。なお、ポリマーブラシ層20を構成する複数の高分子鎖は、特定官能基を、1種のみ含有するものであってもよいし、2種以上含有するものであってもよい。 Among the above-mentioned specific functional groups, ionic groups and nonionic hydrophilic groups are preferable from the viewpoint of having higher affinity for the envelope that constitutes the virus and, therefore, exhibiting a higher virus inactivating function. More preferred are cationic functional groups, and more preferred are ammonium groups. The plurality of polymer chains forming the polymer brush layer 20 may contain only one type of specific functional group, or may contain two or more types of specific functional groups.

また、ポリマーブラシ層20を構成する複数の高分子鎖は、水溶性を示す高分子から構成されるものであることが好ましい。特に、ポリマーブラシ層20に、微量の水分が含まれている状態、あるいは、ポリマーブラシ層20が、水で濡れている状態(水を保持した層である状態)である場合に、ウイルスの付着性が高いという観点、ひいては、ウイルスの不活化を高い効率で実現できるという観点から、ポリマーブラシ層20を構成する複数の高分子鎖は、水溶性を示す高分子から構成されるものであることが好ましい。なお、本発明においては、pH=1~12の範囲のいずれかにおいて、水溶性を示す場合(たとえば、1重量%の高分子を、水中に分散させた場合における、吸光度が、0.3以下となる場合)に、水溶性を示す高分子であると判断すればよい。 Moreover, it is preferable that the plurality of polymer chains constituting the polymer brush layer 20 be composed of a water-soluble polymer. In particular, when the polymer brush layer 20 contains a small amount of water, or when the polymer brush layer 20 is wet with water (a layer that retains water), virus attachment From the standpoint of high efficiency, and further from the standpoint of achieving highly efficient virus inactivation, the plurality of polymer chains constituting the polymer brush layer 20 should be composed of water-soluble polymers. is preferred. In the present invention, when exhibiting water solubility in any of the pH range of 1 to 12 (for example, when 1% by weight of a polymer is dispersed in water, the absorbance is 0.3 or less). ), it can be determined that the polymer is water-soluble.

ポリマーブラシ層20は、たとえば、基材10上に、複数の高分子鎖を共有結合により固定することにより形成することができ、より具体的には、基材10表面に、表面開始リビングラジカル重合法により高分子鎖を導入することにより形成することができる。 The polymer brush layer 20 can be formed, for example, by covalently fixing a plurality of polymer chains on the substrate 10. More specifically, the surface of the substrate 10 is subjected to surface-initiated living radical polymerization. It can be formed by introducing a polymer chain by a method.

表面開始リビングラジカル重合法は、高分子鎖の起点となる基材10表面に、重合開始基を導入し、該重合開始基を始点として、リビングラジカル重合を行うことで、高分子鎖(高分子グラフト鎖)を形成する手法であり、たとえば、特開2009-59659号公報や特開2010-218984号公報に記載された方法などを適用することができる。 In the surface-initiated living radical polymerization method, a polymer chain (polymer graft chain), and for example, the methods described in JP-A-2009-59659 and JP-A-2010-218984 can be applied.

高分子鎖を形成するためのモノマーとしては、特に限定されず、上述した特定官能基を有するモノマーを少なくとも用いればよいが、特定官能基として、アンモニウム基を有するモノマーが好ましく、高分子鎖の側鎖に、アンモニウム基を導入できるようなモノマーがより好ましく(すなわち、ポリマーブラシ層20を構成する複数の高分子鎖が、側鎖にアンモニウム基を有する構造であることがより好ましく)、たとえば、特定官能基として、アンモニウム基を有するモノマーとして、下記一般式(1)に示す化合物などが挙げられる。なお、特定官能基を有するモノマーとしては、1種単独で用いてもよいし、あるいは、2種以上を併用してもよい。また、高分子鎖を形成するためのモノマーとして、特定官能基を有するモノマーと共重合可能なモノマー(特定官能基を有しないモノマー)を用いてもよい。

Figure 2022157406000001
〔上記一般式(1)中、mは、1以上10以下の整数を示す。nは、1以上5以下の整数を示す。Rは、水素原子、または炭素数1~3のアルキル基を示す。R、R、Rは、炭素数1~5のアルキル基を示す。R、R、Rは、酸素原子、硫黄原子、フッ素原子から選ばれる1種以上のヘテロ原子を含んでいてもよく、R、R、Rは、2つ以上が連結して環状構造であってもよい。また、Zは一価のアニオンを示す。〕 The monomer for forming the polymer chain is not particularly limited, and at least a monomer having the above-described specific functional group may be used. A monomer that can introduce an ammonium group into the chain is more preferable (that is, it is more preferable that a plurality of polymer chains constituting the polymer brush layer 20 have a structure having an ammonium group in a side chain). Examples of monomers having an ammonium group as a functional group include compounds represented by the following general formula (1). In addition, as a monomer having a specific functional group, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination. Moreover, as a monomer for forming a polymer chain, a monomer copolymerizable with a monomer having a specific functional group (monomer having no specific functional group) may be used.
Figure 2022157406000001
[In the above general formula (1), m represents an integer of 1 or more and 10 or less. n represents an integer of 1 or more and 5 or less. R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. R 2 , R 3 and R 4 represent alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms. R 2 , R 3 and R 4 may contain one or more heteroatoms selected from an oxygen atom, a sulfur atom and a fluorine atom, and two or more of R 2 , R 3 and R 4 are linked may have a cyclic structure. Also, Z represents a monovalent anion. ]

上記一般式(1)における一価のアニオンZとしては、特に限定されるものではなく、BF 、PF 、AsF 、SbF 、AlCl 、NbF 、HSO 、ClO 、CHSO 、CFSO 、CFCO 、(CFSO、Cl、Br、I等のアニオンを用いることができるが、BF 、PF 、(CFSO、CFSO 、またはCFCO であることが好適である。 The monovalent anion Z in the general formula (1) is not particularly limited, and is BF 4 , PF 6 , AsF 6 , SbF 6 , AlCl 4 , NbF 6 , HSO 4 . Anions such as , ClO 4 , CH 3 SO 3 , CF 3 SO 3 , CF 3 CO 2 , (CF 3 SO 2 ) 2 N , Cl , Br and I can be used. is BF 4 , PF 6 , (CF 3 SO 2 ) 2 N , CF 3 SO 3 , or CF 3 CO 2 .

上記一般式(1)で表される化合物のなかでも、ウイルスに対する不活化効果が高いという観点より、下記一般式(2)~(9)で表される化合物が特に好適に用いることができる。なお、これらは1種単独で、あるいは2種以上を併用して用いることができる。

Figure 2022157406000002
〔上記一般式(2)~(9)中、n、m、R、R、Zは、上記一般式(1)と同様である。〕 Among the compounds represented by the above general formula (1), the compounds represented by the following general formulas (2) to (9) can be particularly preferably used from the viewpoint of their high virus inactivation effect. In addition, these can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
Figure 2022157406000002
[In the above general formulas (2) to (9), n, m, R 1 , R 2 and Z - are the same as in the above general formula (1). ]

また、高分子鎖の形成に用いられるモノマーとしては、上記一般式(1)で表される化合物に代えて、あるいは、上記一般式(1)で表される化合物とともに、たとえば、(メタ)アクリル酸系モノマー、スチレン系モノマー、付加重合性の二重結合を1つ有する単官能性のモノマー、疎水性モノマー、親水性モノマー、側鎖にカルボキシル基またはカルボキシル基に容易に転換できる基を有するモノマー等を用いることもできる。 Further, as the monomer used for forming the polymer chain, instead of the compound represented by the general formula (1), or together with the compound represented by the general formula (1), for example, (meth)acrylic Acid-based monomers, styrene-based monomers, monofunctional monomers having one addition-polymerizable double bond, hydrophobic monomers, hydrophilic monomers, monomers having a carboxyl group or a group that can be easily converted to a carboxyl group in the side chain etc. can also be used.

(メタ)アクリル酸系モノマーの具体例としては、
(メタ)アクリル酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert-ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート;
ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、トルイル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート;
2-メトキシエチル(メタ)アクリレート、3-メトキシプロピル(メタ)アクリレート、3-メトキシブチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、3-エチル-3-(メタ)アクリロイルオキシメチルオキセタン;
2-(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、(メタ)アクリレート-2-アミノエチル、2-(2-ブロモプロピオニルオキシ)エチル(メタ)アクリレート、2-(2-ブロモイソブチリルオキシ)エチル(メタ)アクリレート;
1-(メタ)アクリロキシ-2-フェニル-2-(2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシ)エタン、1-(4-((4-(メタ)アクリロキシ)エトキシエチル)フェニルエトキシ)ピペリジン、γ-(メタクリロイルオキシプロピル)トリメトキシシラン;
3-(3,5,7,9,11,13,15-ヘプタエチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イル)プロピル(メタ)アクリレート、3-(3,5,7,9,11,13,15-ヘプタイソブチル-ペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イル)プロピル(メタ)アクリレート、3-(3,5,7,9,11,13,15-ヘプタイソオクチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イル)プロピル(メタ)アクリレート;
3-(3,5,7,9,11,13,15-ヘプタシクロペンチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イル)プロピル(メタ)アクリレート、3-(3,5,7,9,11,13,15-ヘプタフェニルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イル)プロピル(メタ)アクリレート、3-[(3,5,7,9,11,13,15-ヘプタエチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イルオキシ)ジメチルシリル]プロピル(メタ)アクリレート;
3-[(3,5,7,9,11,13,15-ヘプタイソブチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イルオキシ)ジメチルシリル]プロピル(メタ)アクリレート、3-[(3,5,7,9,11,13,15-ヘプタイソオクチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イルオキシ)ジメチルシリル]プロピル(メタ)アクリレート;
3-[(3,5,7,9,11,13,15-ヘプタシクロペンチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イルオキシ)ジメチルシリル]プロピル(メタ)アクリレート、3-[(3,5,7,9,11,13,15-ヘプタフェニルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イルオキシ)ジメチルシリル]プロピル(メタ)アクリレート;
(メタ)アクリル酸のエチレンオキサイド付加物、トリフルオロメチルメチル(メタ)アクリレート、2-トリフルオロメチルエチル(メタ)アクリレート、2-ペルフルオロエチルエチル(メタ)アクリレート、2-ペルフルオロエチル-2-ペルフルオロブチルエチル(メタ)アクリレート、2-ペルフルオロエチル(メタ)アクリレート、トリフルオロメチル(メタ)アクリレート、ジペルフルオロメチルメチル(メタ)アクリレート;
2-ペルフルオロメチル-2-ペルフルオロエチルエチル(メタ)アクリレート、2-ペルフルオロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、2-ペルフルオロデシルエチル(メタ)アクリレート、2-ペルフルオロヘキサデシルエチル(メタ)アクリレート;等が挙げられる。
Specific examples of (meth)acrylic acid-based monomers include:
(meth) acrylic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate;
heptyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, dodecyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate, toluyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate;
2-methoxyethyl (meth)acrylate, 3-methoxypropyl (meth)acrylate, 3-methoxybutyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate , glycidyl (meth)acrylate, 3-ethyl-3-(meth)acryloyloxymethyloxetane;
2-(meth)acryloyloxyethyl isocyanate, (meth)acrylate-2-aminoethyl, 2-(2-bromopropionyloxy)ethyl (meth)acrylate, 2-(2-bromoisobutyryloxy)ethyl (meth) acrylate;
1-(meth)acryloxy-2-phenyl-2-(2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinyloxy)ethane, 1-(4-((4-(meth)acryloxy)ethoxyethyl) ) phenylethoxy)piperidine, γ-(methacryloyloxypropyl)trimethoxysilane;
3-(3,5,7,9,11,13,15-heptaethylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ]octasiloxane-1-yl) Propyl (meth)acrylate, 3-(3,5,7,9,11,13,15-heptaisobutyl-pentacyclo[9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ]octa Siloxane-1-yl)propyl (meth)acrylate, 3-(3,5,7,9,11,13,15-heptaisooctylpentacyclo[9.5.1.1 3,9.1 5,15 .1 7,13 ]octasiloxane-1-yl)propyl (meth)acrylate;
3-(3,5,7,9,11,13,15-heptacyclopentylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ]octasiloxane-1-yl) Propyl (meth)acrylate, 3-(3,5,7,9,11,13,15-heptaphenylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ]octa Siloxane-1-yl)propyl (meth)acrylate, 3-[(3,5,7,9,11,13,15-heptaethylpentacyclo[ 9.5.1.1 3,9.1 5,15 .1 7,13 ]octasiloxane-1-yloxy)dimethylsilyl]propyl (meth)acrylate;
3-[(3,5,7,9,11,13,15-heptaisobutylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ]octasiloxane-1-yloxy ) dimethylsilyl]propyl (meth)acrylate, 3-[(3,5,7,9,11,13,15-heptaisooctylpentacyclo[ 9.5.1.1 3,9.1 5,15 . 1 7,13 ]octasiloxane-1-yloxy)dimethylsilyl]propyl (meth)acrylate;
3-[(3,5,7,9,11,13,15-heptacyclopentylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ]octasiloxane-1-yloxy ) dimethylsilyl]propyl (meth)acrylate, 3-[(3,5,7,9,11,13,15-heptaphenylpentacyclo[9.5.1.1 3,9.1 5,15.1 7,13 ]octasiloxane-1-yloxy)dimethylsilyl]propyl (meth)acrylate;
(Meth)acrylic acid ethylene oxide adduct, trifluoromethylmethyl (meth)acrylate, 2-trifluoromethylethyl (meth)acrylate, 2-perfluoroethylethyl (meth)acrylate, 2-perfluoroethyl-2-perfluorobutyl ethyl (meth)acrylate, 2-perfluoroethyl (meth)acrylate, trifluoromethyl (meth)acrylate, diperfluoromethylmethyl (meth)acrylate;
2-perfluoromethyl-2-perfluoroethylethyl (meth)acrylate, 2-perfluorohexylethyl (meth)acrylate, 2-perfluorodecylethyl (meth)acrylate, 2-perfluorohexadecylethyl (meth)acrylate; .

スチレン系モノマーの具体例としては、
スチレン、ビニルトルエン、α-メチルスチレン、p-クロルスチレン、p-クロロメチルスチレン、m-クロロメチルスチレン、o-アミノスチレン、p-スチレンクロロスルホン酸、スチレンスルホン酸及びその塩、ビニルフェニルメチルジチオカルバメート、2-(2-ブロモプロピオニルオキシ)スチレン、2-(2-ブロモイソブチリルオキシ)スチレン;
1-(2-((4-ビニルフェニル)メトキシ)-1-フェニルエトキシ)-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、1-(4-ビニルフェニル)-3,5,7,9,11,13,15-ヘプタエチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン、1-(4-ビニルフェニル)-3,5,7,9,11,13,15-ヘプタイソブチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン;
1-(4-ビニルフェニル)-3,5,7,9,11,13,15-ヘプタイソオクチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン、1-(4-ビニルフェニル)-3,5,7,9,11,13,15-ヘプタシクロペンチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン、1-(4-ビニルフェニル)-3,5,7,9,11,13,15-ヘプタフェニルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン;
3-(3,5,7,9,11,13,15-ヘプタエチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イル)エチルスチレン、3-(3,5,7,9,11,13,15-ヘプタイソブチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イル)エチルスチレン、3-(3,5,7,9,11,13,15-ヘプタイソオクチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イル)エチルスチレン;
3-(3,5,7,9,11,13,15-ヘプタシクロペンチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イル)エチルスチレン、3-(3,5,7,9,11,13,15-ヘプタフェニルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イル)エチルスチレン、3-(3,5,7,9,11,13,15-ヘプタエチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イルオキシ)ジメチルシリル)エチルスチレン;
3-(3,5,7,9,11,13,15-ヘプタイソブチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イルオキシ)ジメチルシリル)エチルスチレン、3-(3,5,7,9,11,13,15-ヘプタイソオクチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イルオキシ)ジメチルシリル)エチルスチレン;
3-((3,5,7,9,11,13,15-ヘプタシクロペンチルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イルオキシ)ジメチルシリル)エチルスチレン、3-((3,5,7,9,11,13,15-ヘプタフェニルペンタシクロ[9.5.1.13,9.15,15.17,13]オクタシロキサン-1-イルオキシ)ジメチルシリル)エチルスチレン;等が挙げられる。
Specific examples of styrene-based monomers include
Styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, p-chlorostyrene, p-chloromethylstyrene, m-chloromethylstyrene, o-aminostyrene, p-styrenechlorosulfonic acid, styrenesulfonic acid and its salts, vinylphenylmethyldithio carbamate, 2-(2-bromopropionyloxy)styrene, 2-(2-bromoisobutyryloxy)styrene;
1-(2-((4-vinylphenyl)methoxy)-1-phenylethoxy)-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1-(4-vinylphenyl)-3,5,7,9, 11,13,15-heptaethylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 . 15,15 . 1 7,13 ]octasiloxane, 1-(4-vinylphenyl)-3,5,7,9,11,13,15-heptaisobutylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 . 15,15 . 1 7,13 ]octasiloxane;
1-(4-vinylphenyl)-3,5,7,9,11,13,15-heptaisooctylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 . 15,15 . 1 7,13 ]octasiloxane, 1-(4-vinylphenyl)-3,5,7,9,11,13,15-heptacyclopentylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 . 15,15 . 1 7,13 ]octasiloxane, 1-(4-vinylphenyl)-3,5,7,9,11,13,15-heptaphenylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 . 15,15 . 1 7,13 ]octasiloxane;
3-(3,5,7,9,11,13,15-heptaethylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ]octasiloxane-1-yl) Ethylstyrene, 3-(3,5,7,9,11,13,15-heptaisobutylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ]octasiloxane-1 -yl)ethylstyrene, 3-(3,5,7,9,11,13,15-heptaisooctylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ] octasiloxane-1-yl)ethylstyrene;
3-(3,5,7,9,11,13,15-heptacyclopentylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ]octasiloxane-1-yl) Ethylstyrene, 3-(3,5,7,9,11,13,15-heptaphenylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ]octasiloxane-1 -yl)ethylstyrene, 3-(3,5,7,9,11,13,15-heptaethylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ]octa siloxane-1-yloxy)dimethylsilyl)ethylstyrene;
3-(3,5,7,9,11,13,15-heptaisobutylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ]octasiloxane-1-yloxy) dimethylsilyl)ethylstyrene, 3-(3,5,7,9,11,13,15-heptaisooctylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ] octasiloxane-1-yloxy)dimethylsilyl)ethylstyrene;
3-((3,5,7,9,11,13,15-heptacyclopentylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ]octasiloxane-1-yloxy )dimethylsilyl)ethylstyrene, 3-((3,5,7,9,11,13,15-heptaphenylpentacyclo[9.5.1.1 3,9 .1 5,15 .1 7,13 ] octasiloxane-1-yloxy)dimethylsilyl)ethylstyrene; and the like.

付加重合性の二重結合を1つ有する単官能性のモノマーの具体例としては、
フッ素含有ビニルモノマー(ペルフルオロエチレン、ペルフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン等)、ケイ素含有ビニル系モノマー(ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等)、無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン酸のモノアルキルエステルおよびジアルキルエステル、フマル酸、フマル酸のモノアルキルエステルおよびジアルキルエステル;
マレイミド系モノマー(マレイミド、メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、ブチルマレイミド、ヘキシルマレイミド、オクチルマレイミド、ドデシルマレイミド、ステアリルマレイミド、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等);
ニトリル基含有モノマー(アクリロニトリル、メタクリロニトリル等)、アミド基含有モノマー(アクリルアミド、メタクリルアミド等)、ビニルエステル系モノマー(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニル等);
オレフィン類(エチレン、プロピレン等)、共役ジエン系モノマー(ブタジエン、イソプレン等)、ハロゲン化ビニル(塩化ビニル等)、ハロゲン化ビニリデン(塩化ビニリデン等)、ハロゲン化アリル(塩化アリル等);
アリルアルコール、ビニルピロリドン、ビニルピリジン、N-ビニルカルバゾール、メチルビニルケトン、ビニルイソシアナート;等が挙げられる。
また、付加重合性の二重結合を1つ有する単官能性のモノマーとしては、重合性二重結合を1分子中に1つ有し、かつ、主鎖がスチレン、(メタ)アクリル酸エステル、シロキサン等から誘導されたものであるマクロモノマー等も使用できる。
Specific examples of monofunctional monomers having one addition-polymerizable double bond include:
Fluorine-containing vinyl monomers (perfluoroethylene, perfluoropropylene, vinylidene fluoride, etc.), silicon-containing vinyl monomers (vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, etc.), maleic anhydride, maleic acid, maleic acid monoalkyl esters and dialkyls esters, fumaric acid, mono- and dialkyl esters of fumaric acid;
Maleimide-based monomers (maleimide, methylmaleimide, ethylmaleimide, propylmaleimide, butylmaleimide, hexylmaleimide, octylmaleimide, dodecylmaleimide, stearylmaleimide, phenylmaleimide, cyclohexylmaleimide, etc.);
Nitrile group-containing monomers (acrylonitrile, methacrylonitrile, etc.), amide group-containing monomers (acrylamide, methacrylamide, etc.), vinyl ester monomers (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl pivalate, vinyl benzoate, vinyl cinnamate, etc.) ;
Olefins (ethylene, propylene, etc.), conjugated diene monomers (butadiene, isoprene, etc.), vinyl halides (vinyl chloride, etc.), vinylidene halides (vinylidene chloride, etc.), allyl halides (allyl chloride, etc.);
allyl alcohol, vinylpyrrolidone, vinylpyridine, N-vinylcarbazole, methylvinylketone, vinylisocyanate;
Further, the monofunctional monomer having one addition polymerizable double bond includes one polymerizable double bond in one molecule, and the main chain is styrene, (meth)acrylic acid ester, Macromonomers and the like derived from siloxanes and the like can also be used.

疎水性モノマーの具体例としては、
アクリル酸エステル(メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ヘキサフルオロイソプロピルアクリレート等のアクリル酸のアルキルエステル;フェニルアクリレート等のアリールアクリレート;ベンジルアクリレート等のアリールアルキルアクリレート;メトキシメチルアクリレート等のアルコキシアルキルアクリレート等);
メタクリル酸エステル(メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート等のメタクリル酸のアルキルエステル;フェニルメタクリレート等のアリールメタクリレート;ベンジルメタクリレート等のアリールアルキルメタクリレート;メトキシメチルメタクリレート等のアルコキシアルキルメタクリレート等);
フマル酸エステル(フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジアリル等のフマル酸のアルキルエステル等)、マレイン酸エステル(マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジアリル等のマレイン酸のアルキルエステル等);
イタコン酸エステル(イタコン酸のアルキルエステル等)、クロトン酸エステル(クロトン酸のアルキルエステル等)、メチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルベンゾエート、スチレン;
アルキルスチレン、塩化ビニル、ビニルメチルケトン、ビニルステアレート、ビニルアルキルエーテル;等が挙げられる。
Specific examples of hydrophobic monomers include
Acrylic acid esters (alkyl esters of acrylic acid such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, hexafluoroisopropyl acrylate; aryl acrylates such as phenyl acrylate; aryl alkyl acrylates such as benzyl acrylate; methoxymethyl acrylate, etc. alkoxyalkyl acrylate, etc.);
Methacrylic acid esters (alkyl esters of methacrylic acid such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, hexafluoroisopropyl methacrylate; aryl methacrylates such as phenyl methacrylate; arylalkyl methacrylates such as benzyl methacrylate; methoxymethyl methacrylate, etc. alkoxyalkyl methacrylate, etc.);
fumaric acid ester (dimethyl fumarate, diethyl fumarate, alkyl ester of fumaric acid such as diallyl fumarate, etc.), maleic acid ester (alkyl ester of maleic acid such as dimethyl maleate, diethyl maleate, diallyl maleate, etc.);
Itaconic acid esters (such as alkyl esters of itaconic acid), crotonic acid esters (such as alkyl esters of crotonic acid), methyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl benzoate, styrene;
Alkyl styrene, vinyl chloride, vinyl methyl ketone, vinyl stearate, vinyl alkyl ether;

親水性モノマーの具体例としては、
ヒドロキシ置換アルキルアクリレート(2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2,3-ジヒドロキシプロピルアクリレート、ポリエトキシエチルアクリレート、ポリエトキシプロピルアクリレート等);
ヒドロキシ置換アルキルメタクリレート(2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2,3-ジヒドロキシプロピルメタクリレート、ポリエトキシエチルメタクリレート、ポリエトキシプロピルメタクリレート等);
アクリルアミド、N-アルキルアクリルアミド(N-メチルアクリルアミド、N,N-ジメチルアクリルアミド等)、N-アルキルメタクリルアミド(N-メチルメタクリルアミド等);
ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート、アルコキシポリエチレングリコールアクリレート、アルコキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、2-グルコシロキシエチルメタクリレート;
アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸、クロトン酸、メタクリルアミド、アリルアルコール、N-ビニルピロリドン、N,N-ジメチルアミノエチルアクリレート;等が挙げられる。
Specific examples of hydrophilic monomers include
hydroxy-substituted alkyl acrylates (2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2,3-dihydroxypropyl acrylate, polyethoxyethyl acrylate, polyethoxypropyl acrylate, etc.);
hydroxy-substituted alkyl methacrylates (2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2,3-dihydroxypropyl methacrylate, polyethoxyethyl methacrylate, polyethoxypropyl methacrylate, etc.);
acrylamide, N-alkylacrylamide (N-methylacrylamide, N,N-dimethylacrylamide, etc.), N-alkylmethacrylamide (N-methylmethacrylamide, etc.);
polyethylene glycol monoacrylate, polyethylene glycol monomethacrylate, alkoxypolyethyleneglycol acrylate, alkoxypolyethyleneglycol methacrylate, phenoxypolyethyleneglycol acrylate, phenoxypolyethyleneglycol methacrylate, 2-glucosyloxyethyl methacrylate;
acrylic acid, methacrylic acid, fumaric acid, maleic acid, itaconic acid, crotonic acid, methacrylamide, allyl alcohol, N-vinylpyrrolidone, N,N-dimethylaminoethyl acrylate;

側鎖にカルボキシル基またはカルボキシル塩基に容易に転換できる基を有するモノマーの具体例としては、
1-メトキシエチルアクリレート、1-エトキシエチルアクリレート、1-プロポキシエチルアクリレート、1-(1-メチルエトキシ)エチルアクリレート、1-ブトキシエチルアクリレート、1-(2-メチルプロポキシ)エチルアクリレート、1-(2-エチルヘキソキシ)エチルアクリレート;
ピラニルアクリレート、1-メトキシエチルメタクリート、1-エトキシエチルメタクリート、1-プロポキシエチルメトクリート、1-(1-メチルエトキシ)エチルメタクリート、1-ブトキシエチルメタクリート、1-(2-メチルプロポキシ)エチルメタクリート、1-(2-エチルヘキソシキ)エチルメタクリレート;
ピラニルメタクリート、ジ-1-メトキシエチルマレート、ジ-1-エトキシエチルマレート、ジ-1-プロポキシエチルマレート、ジ-1-(1-メチルエトキシ)エチルマレート、ジ-1-ブトキシエチルマレート、ジ-1-(2-メチルプロポキシ)エチルマレート、ジピラニルマレート;等が挙げられる。
Specific examples of monomers having a carboxyl group or a group that can be easily converted to a carboxyl base in the side chain include:
1-methoxyethyl acrylate, 1-ethoxyethyl acrylate, 1-propoxyethyl acrylate, 1-(1-methylethoxy)ethyl acrylate, 1-butoxyethyl acrylate, 1-(2-methylpropoxy)ethyl acrylate, 1-(2 - ethylhexoxy) ethyl acrylate;
pyranyl acrylate, 1-methoxyethyl methacrylate, 1-ethoxyethyl methacrylate, 1-propoxyethyl methacrylate, 1-(1-methylethoxy)ethyl methacrylate, 1-butoxyethyl methacrylate, 1-(2-methyl propoxy)ethyl methacrylate, 1-(2-ethylhexoxy)ethyl methacrylate;
pyranyl methacrylate, di-1-methoxyethyl maleate, di-1-ethoxyethyl maleate, di-1-propoxyethyl maleate, di-1-(1-methylethoxy)ethyl maleate, di-1-butoxyethyl Malate, di-1-(2-methylpropoxy)ethyl maleate, dipyranyl maleate; and the like.

また、表面開始リビングラジカル重合法により重合を行うに際し、基材10表面に導入する重合開始基としては、重合が開始できるものであればよく、特に限定されないが、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化スルホニル基等が好ましい。 Further, when the polymerization is performed by the surface-initiated living radical polymerization method, the polymerization initiating group to be introduced onto the surface of the base material 10 is not particularly limited as long as it can initiate polymerization. Groups and the like are preferred.

重合開始基としては、グラフト密度およびグラフトされた高分子鎖の一次構造(分子量、分子量分布、モノマー配列様式)の制御性の観点より、基材10表面に物理的あるいは化学的に結合されていることが好ましい。 The polymerization initiation group is physically or chemically bonded to the surface of the substrate 10 from the viewpoint of controllability of the graft density and the primary structure (molecular weight, molecular weight distribution, monomer arrangement pattern) of the grafted polymer chain. is preferred.

重合開始基の基材10表面への導入(結合)方法としては、化学吸着法、ラングミュアー・ブロジェット(LB)法等が挙げられる。 Methods for introducing (bonding) the polymerization initiation group to the surface of the substrate 10 include a chemical adsorption method, a Langmuir-Blodgett (LB) method, and the like.

たとえば、基材10として、シリコンウエハを使用する場合には、シリコンウエハ表面へのクロロスルホニル基(重合開始基)の化学結合による固定化は、2-(4-クロロスルホニルフェニル)エチルトリメトキシシラン、2-(4-クロロスルホニルフェニル)エチルトリクロロシラン等を用い、シリコンウエハ表面の酸化層と反応させることにより行うことができる。 For example, when a silicon wafer is used as the substrate 10, 2-(4-chlorosulfonylphenyl)ethyltrimethoxysilane is immobilized on the surface of the silicon wafer by chemical bonding of a chlorosulfonyl group (polymerization initiation group). , 2-(4-chlorosulfonylphenyl)ethyltrichlorosilane or the like is used to react with the oxide layer on the surface of the silicon wafer.

また、表面開始リビングラジカル重合のための重合開始基を基材10表面に導入するに際しては、重合開始基と、基材に対する結合性を有する基あるいは基材に対する親和性を有する基と、を備える重合開始基含有表面処理剤を用いることが好ましい。このような重合開始基含有表面処理剤は低分子化合物であっても、高分子化合物であってもよい。 Further, when introducing a polymerization initiation group for surface-initiated living radical polymerization to the surface of the base material 10, the polymerization initiation group and a group having bonding property to the base material or a group having affinity for the base material are provided. It is preferable to use a surface treatment agent containing a polymerization initiation group. Such a polymerization initiation group-containing surface treatment agent may be a low-molecular-weight compound or a high-molecular-weight compound.

重合開始基含有表面処理剤としては、特に限定されないが、基材10に結合可能な基と、ラジカル発生基とを有する化合物が好ましく、たとえば、特開2010-218984号公報に開示されている重合開始基含有表面処理剤、すなわち、TEMPO系、ATRP系、RAFT系、RTCP系の重合開始基含有表面処理剤を用いることができる。これらのなかでも、TEMPO系、RAFT系、RTCP系の重合開始基含有表面処理剤がより好ましい。また、TEMPO系の重合開始基含有表面処理剤の中では、特にDEPN系の重合開始基含有表面処理剤が好ましい。なお、基材10に結合可能な基としては、たとえば、-SiCl、-Si(CH)Cl、-Si(CHCl、-Si(OR)(これらの式中、Rはメチル、エチル、プロピルまたはブチルを示す。)などが挙げられる。あるいは、重合開始基含有表面処理剤としては、国際公開第2006/087839号に記載されている、(2-ブロモ-2-メチル)プロピオニルオキシヘキシルトリエトキシシラン(BHE)、(2-ブロモ-2-メチル)プロピオニルオキシプロピルトリエトキシシラン(BPE)等を用いることもできる。 The surface treatment agent containing a polymerization initiating group is not particularly limited, but a compound having a group capable of bonding to the substrate 10 and a radical generating group is preferable. Initiating group-containing surface treating agents, that is, TEMPO-based, ATRP-based, RAFT-based, and RTCP-based polymerization initiating group-containing surface treating agents can be used. Among these, TEMPO-based, RAFT-based, and RTCP-based polymerization initiation group-containing surface treatment agents are more preferable. Among TEMPO-based surface treating agents containing a polymerization initiating group, DEPN-based surface treating agents containing a polymerization initiating group are particularly preferred. Examples of groups that can be bonded to the substrate 10 include -SiCl 3 , -Si(CH 3 )Cl 2 , -Si(CH 3 ) 2 Cl, and -Si(OR) 3 (in these formulas, R represents methyl, ethyl, propyl or butyl.) and the like. Alternatively, the polymerization initiation group-containing surface treatment agent is described in WO 2006/087839, (2-bromo-2-methyl)propionyloxyhexyltriethoxysilane (BHE), (2-bromo-2 -methyl)propionyloxypropyltriethoxysilane (BPE) and the like can also be used.

また、グラフト密度を調整する観点から、上記した重合開始基含有表面処理剤に加え、重合開始基を含有しないシランカップリング剤(たとえば、一般に使用されるアルキルシランカップリング剤)を併用してもよい。 Further, from the viewpoint of adjusting the graft density, a silane coupling agent containing no polymerization initiation group (for example, a commonly used alkylsilane coupling agent) may be used in combination with the polymerization initiation group-containing surface treatment agent. good.

グラフト密度は、重合開始基含有表面処理剤と重合開始基を含有しないシランカップリング剤との割合を調整することで、自在に変更することができる。また、基材10表面への重合開始基の導入は、導入される重合開始基の均一性、重合開始基のグラフト密度の制御性等の点で、LB法や気相吸着法を採用することも可能である。 The graft density can be freely changed by adjusting the ratio of the polymerization initiation group-containing surface treatment agent and the silane coupling agent containing no polymerization initiation group. In introducing the polymerization initiation group to the surface of the base material 10, the LB method or the vapor phase adsorption method may be adopted from the viewpoints of the uniformity of the polymerization initiation group to be introduced and the controllability of the graft density of the polymerization initiation group. is also possible.

LB法においては、まず膜形成材料を適切な溶媒(たとえば、クロロホルム、ベンゼン等)に溶解する。次に、この溶液少量を清浄な液面、好ましくは純水の液面上に展開した後、溶媒を蒸発させるか、あるいは隣接する水相に拡散させて、水面上に膜形成分子による低密度の膜を形成させる。 In the LB method, first, a film-forming material is dissolved in a suitable solvent (eg, chloroform, benzene, etc.). Next, after spreading a small amount of this solution on a clean liquid surface, preferably a pure water surface, the solvent is allowed to evaporate or diffuse into the adjacent aqueous phase, resulting in a low density film-forming molecule on the water surface. to form a film of

続いて、通常、仕切り板を水面上で機械的に掃引し、膜形成分子が展開している水面の表面積を減少させることにより膜を圧縮して密度を増加させ、緻密な水面上単分子膜を得る。 The diaphragm is then typically mechanically swept over the water surface to compress the membrane by reducing the surface area of the water surface over which the membrane-forming molecules are deployed, thereby increasing the density and forming a dense monolayer on the water surface. get

次いで、適切な条件下で、水面上単分子膜内を構成する分子の表面密度を一定に保ちながら、単分子層を堆積する基材を、水面上単分子膜を横切る方向に浸漬または引き上げることによって、水面上単分子膜を基材10上に移し取り、単分子層を該基材上に堆積する。 Next, under appropriate conditions, while maintaining a constant surface density of the molecules that make up the monomolecular film on the water surface, the substrate on which the monomolecular layer is to be deposited is immersed or pulled up in a direction across the monomolecular film on the water surface. transfers the monomolecular film on the water surface onto the substrate 10 and deposits a monolayer on the substrate.

LB法の詳細および具体例は、 「福田清成他著、新実験化学講座18巻(界面とコロイド)6章、(1977年)丸善」、 「福田清成・杉道夫・雀部博之編集、LB膜とエレクトロニクス、(1986年)シーエムシー」、「石井淑夫著、よいLB膜をつくる実践的技術、(1989年)共立出版」 等に記載されている。 For details and specific examples of the LB method, see Kiyonari Fukuda et al., New Experimental Chemistry Course, Volume 18 (Interface and Colloid), Chapter 6, (1977) Maruzen, Edited by Kiyonari Fukuda, Michio Sugi and Hiroyuki Sasabe, LB Membrane and Electronics, (1986) CMC", "Yoshio Ishii, Practical Techniques for Producing Good LB Films, (1989) Kyoritsu Shuppan".

そして、上述した重合開始剤を用いて、基材10表面に重合開始基を導入し、次いで、重合開始基を導入した基材10を、上述したモノマーを含有する重合反応溶液に浸漬し、必要に応じて加熱することで、基材10表面に、重合単位として上述したモノマーを含有する高分子鎖を形成することができる。なお、重合反応溶液には、上述したモノマーの他、各種ラジカル開始剤や、溶剤など重合反応に必要な成分を含有させることができる。 Then, using the polymerization initiator described above, a polymerization initiating group is introduced onto the surface of the substrate 10, and then the substrate 10 into which the polymerization initiating group has been introduced is immersed in a polymerization reaction solution containing the above-described monomers. By heating according to , it is possible to form polymer chains containing the above-described monomers as polymerized units on the surface of the substrate 10 . In addition to the monomers described above, the polymerization reaction solution can contain various components necessary for the polymerization reaction, such as various radical initiators and solvents.

本発明においては、基材10表面に形成する高分子鎖は、基材10表面の面積に対する専有面積率(ポリマー断面積当たりの占有率)で0.1~50%となるようなグラフト密度で形成されることが好ましく、より好ましくは10~45%、さらに好ましくは20~40%である。なお、グラフト密度は、高分子鎖の数平均分子量(Mn)の絶対値、グラフトされたポリマー量、基材10の表面積より算出することができる。また、ポリマーブラシ層20中の専有面積率は、ポリマーの伸びきり形態における繰り返し単位長さとポリマーのバルク密度より断面積を求め、グラフト密度を掛けて算出することができる。なお、専有面積率は、基材10表面をグラフト点(1つ目のモノマー)が占める割合という意味になる(最密充填で100%、これ以上にはグラフトできない)。高分子鎖の、基材10表面の面積に対する専有面積率を上記範囲とすることにより、ウイルスに対する不活化機能をより適切に高めることができ、専有面積率が低すぎても、あるいは、高すぎても、ウイルスに対する不活化機能が低下してしまう。 In the present invention, the polymer chains formed on the surface of the substrate 10 have a graft density of 0.1 to 50% in terms of the exclusive area ratio (occupancy ratio per cross-sectional area of the polymer) with respect to the surface area of the substrate 10. It is preferably formed, more preferably 10-45%, still more preferably 20-40%. The graft density can be calculated from the absolute value of the number average molecular weight (Mn) of the polymer chains, the amount of the grafted polymer, and the surface area of the substrate 10 . Further, the exclusive area ratio in the polymer brush layer 20 can be calculated by obtaining the cross-sectional area from the length of the repeating unit in the stretched form of the polymer and the bulk density of the polymer, and multiplying the cross-sectional area by the graft density. The occupied area ratio means the ratio of the surface of the base material 10 occupied by the graft points (the first monomer) (100% in close packing, no more grafting is possible). By setting the exclusive area ratio of the polymer chains to the surface area of the base material 10 within the above range, the virus inactivation function can be more appropriately enhanced, and the exclusive area ratio is too low or too high. However, the inactivation function against viruses is reduced.

なお、本発明者等の知見によると、ポリマーブラシ層20中の高分子鎖の存在状態は、必ずしも均一である必要はなく、微視的に見て、高分子鎖が疎である部分や、高分子鎖が密である部分が混在した態様であってもよく、このような態様でも、ウイルスに対する不活化機能を十分に発揮できるものである。そのため、上記専有面積率の測定に際しては、基材10表面のうち、比較的広い面積範囲(具体的には、5cm×5cmの面積範囲)を測定対象とし、その測定を行った際に、専有面積率が上記範囲となることが好ましい。 According to the findings of the present inventors, the state of existence of the polymer chains in the polymer brush layer 20 does not necessarily have to be uniform. It may be in an aspect in which portions with dense polymer chains are mixed, and even in such an aspect, the function of inactivating viruses can be sufficiently exhibited. Therefore, when measuring the above-mentioned exclusive area ratio, a relatively wide area range (specifically, an area range of 5 cm × 5 cm) on the surface of the base material 10 is measured, and when the measurement is performed, It is preferable that the area ratio is within the above range.

また、高分子鎖の単位面積当たりのグラフト密度は、好ましくは0.0005~0.4鎖/nm、より好ましくは0.05~0.4鎖/nm、さらに好ましくは0.1~0.4鎖/nm 特に好ましくは0.12~0.25鎖/nmである。 The graft density per unit area of polymer chains is preferably 0.0005 to 0.4 chains/nm 2 , more preferably 0.05 to 0.4 chains/nm 2 , and still more preferably 0.1 to 0.4 chains/nm 2 . 0.4 chains/nm 2 , particularly preferably 0.12 to 0.25 chains/nm 2 .

なお、高分子鎖のグラフト密度は、例えば、Macromolecules, 31, 5934-5936 (1998)、Macromolecules, 33, 5608-5612 (2000)、Macromolecules, 38, 2137-2142 (2005)等に記載の方法に従って測定することができる。具体的には、グラフト密度(鎖/nm)は、グラフト量(W)とグラフト鎖の数平均分子量(M n)を測定し、下記式にしたがって、求めることができる。
グラフト密度(鎖/nm)=W(g/nm)/M n×(アボガドロ数)
(式中、Wはグラフト量を表し、M nは数平均分子量を表す。)
The graft density of the polymer chain can be determined, for example, according to the method described in Macromolecules, 31, 5934-5936 (1998), Macromolecules, 33, 5608-5612 (2000), Macromolecules, 38, 2137-2142 (2005), etc. can be measured. Specifically, the graft density (chains/nm 2 ) can be obtained by measuring the graft amount (W) and the number average molecular weight (Mn) of the grafted chains and using the following formula.
Graft density (chain/nm 2 ) = W (g/nm 2 )/M n x (Avogadro's number)
(In the formula, W represents the amount of grafting and Mn represents the number average molecular weight.)

グラフト量(W)は、基材10が平面基板である場合には、エリプソメトリー法により乾燥状態の膜厚、すなわち、グラフトされた高分子鎖層の乾燥状態における厚みを測定し、バルクフィルムの密度を用いて、単位面積当たりのグラフト量を算出することにより求めることができる。あるいは、基材10が繊維状等の場合には、赤外吸収分光測定(IR)、熱重量損失測定(TG)、元素分析測定等により測定することができる。 When the base material 10 is a flat substrate, the graft amount (W) is obtained by measuring the thickness of the dry state, that is, the thickness of the grafted polymer chain layer in the dry state by an ellipsometry method, and calculating the thickness of the bulk film. It can be obtained by calculating the graft amount per unit area using the density. Alternatively, when the base material 10 is fibrous or the like, it can be measured by infrared absorption spectrometry (IR), thermogravimetric loss measurement (TG), elemental analysis measurement, or the like.

ポリマーブラシ層20を構成する高分子鎖の数平均分子量(Mn)は、好ましくは500~10,000,000、より好ましくは100,000~10,000,000である。また、ポリマーブラシ層20を形成する高分子鎖の分子量分布(Mw/Mn)は、ウイルス不活化機能をより高めるという観点より、1に近いことが好ましく、好ましくは1.5以下であり、より好ましくは1.3以下であり、さらに好ましくは1.25以下、さらにより好ましくは1.2以下、特に好ましくは1.15以下である。高分子鎖の数平均分子量(Mn)、および分子量分布(Mw/Mn)は、たとえば、フッ化水素酸処理により基材10から高分子鎖を切り出し、切り出した高分子鎖を用いてゲルパーミエーションクロマトグラフ法により、ポリエチレンオキシド換算の値にて、測定する方法が挙げられる。あるいは、重合時に生成するフリーポリマーが基材10に導入された高分子鎖と等しい分子量を有すると仮定し、該フリーポリマーについてゲルパーミエーションクロマトグラフ法により、ポリエチレンオキシド換算の値にて、数平均分子量(Mn)、および分子量分布(Mw/Mn)を測定し、これをそのまま用いる方法を採用してもよい。 The number average molecular weight (Mn) of the polymer chains constituting the polymer brush layer 20 is preferably 500 to 10,000,000, more preferably 100,000 to 10,000,000. In addition, the molecular weight distribution (Mw/Mn) of the polymer chains forming the polymer brush layer 20 is preferably close to 1, preferably 1.5 or less, from the viewpoint of further enhancing the virus inactivation function. It is preferably 1.3 or less, more preferably 1.25 or less, even more preferably 1.2 or less, and particularly preferably 1.15 or less. The number average molecular weight (Mn) and the molecular weight distribution (Mw/Mn) of the polymer chains are obtained, for example, by cutting out the polymer chains from the base material 10 by hydrofluoric acid treatment and subjecting the cut polymer chains to gel permeation. A method of measuring with a value converted to polyethylene oxide by a chromatographic method can be mentioned. Alternatively, assuming that the free polymer generated during polymerization has the same molecular weight as the polymer chain introduced into the base material 10, the free polymer is subjected to gel permeation chromatography, and the number average A method of measuring the molecular weight (Mn) and the molecular weight distribution (Mw/Mn) and using them as they are may be employed.

また、ポリマーブラシ層20を構成する高分子鎖の平均分子鎖長さL(すなわち、ポリマーブラシ長)は、好ましくは10nm以上であり、実用的な観点より、10~1000nmの範囲であることがより好ましい。高分子鎖の平均分子鎖長さLが短すぎると、ウイルス不活化機能が十分でなくなるおそれがある。また、高分子鎖の平均分子鎖長さLは、たとえば、高分子鎖を構成するモノマーの種類や、重合条件等により調整することができる。 In addition, the average molecular chain length L p (that is, the polymer brush length) of the polymer chains constituting the polymer brush layer 20 is preferably 10 nm or more, and from a practical point of view, it should be in the range of 10 to 1000 nm. is more preferred. If the average molecular chain length Lp of the polymer chain is too short, the virus inactivating function may not be sufficient. Also, the average molecular chain length Lp of the polymer chain can be adjusted by, for example, the type of monomers constituting the polymer chain, polymerization conditions, and the like.

なお、高分子鎖の平均分子鎖長さLは、たとえば、高分子鎖の数平均分子量(Mn)、および分子量分布(Mw/Mn)を測定し、これらの測定結果から求めることができる。また、高分子鎖の数平均分子量(Mn)、および分子量分布(Mw/Mn)は、たとえば、フッ化水素酸処理により基材10から高分子鎖を切り出し、切り出した高分子鎖を用いてゲルパーミエーションクロマトグラフ法により測定する方法が挙げられる。あるいは、重合時に生成するフリーポリマーが基材10に導入された高分子鎖と等しい分子量を有すると仮定し、該フリーポリマーについてゲルパーミエーションクロマトグラフ法により、数平均分子量(Mn)、および分子量分布(Mw/Mn)を測定し、これをそのまま用いる方法を採用してもよい。なお、第1摺動面を形成するポリマーブラシの分子量分布(Mw/Mn)は1に近いことが好ましく、好適には、1.3以下であり、より好ましくは1.25以下、さらに好ましくは1.2以下、特に好ましくは1.15以下である。 The average molecular chain length Lp of the polymer chain can be determined from the measurement results obtained by measuring the number average molecular weight (Mn) and molecular weight distribution (Mw/Mn) of the polymer chain. In addition, the number average molecular weight (Mn) and molecular weight distribution (Mw/Mn) of the polymer chains can be obtained by, for example, cutting out the polymer chains from the substrate 10 by hydrofluoric acid treatment, and using the cut-out polymer chains to form a gel. A method of measuring by a permeation chromatography method can be mentioned. Alternatively, assuming that the free polymer generated during polymerization has the same molecular weight as the polymer chains introduced into the substrate 10, the number average molecular weight (Mn) and molecular weight distribution of the free polymer are determined by gel permeation chromatography. A method of measuring (Mw/Mn) and using it as it is may be adopted. The molecular weight distribution (Mw/Mn) of the polymer brush forming the first sliding surface is preferably close to 1, preferably 1.3 or less, more preferably 1.25 or less, and even more preferably It is 1.2 or less, particularly preferably 1.15 or less.

また、ポリマーブラシ層20を構成する平均分子鎖長さLに対する、ポリマーブラシ層20の厚みTの比(T/L)は、好ましくは0.001~0.6であり、より好ましくは0.1~0.6、さらに好ましくは0.2~0.6、特に好ましくは0.3~0.5である。平均分子鎖長さLに対する、ポリマーブラシ層20の厚みTの比(T/L)を上記範囲とすることにより、ウイルス不活化機能をより高めることができる。 In addition, the ratio (T b /L p ) of the thickness T b of the polymer brush layer 20 to the average molecular chain length L p constituting the polymer brush layer 20 is preferably 0.001 to 0.6. It is preferably 0.1 to 0.6, more preferably 0.2 to 0.6, particularly preferably 0.3 to 0.5. By setting the ratio (T b /L p ) of the thickness T b of the polymer brush layer 20 to the average molecular chain length L p within the above range, the virus inactivation function can be further enhanced.

なお、ポリマーブラシ層20の厚みTは、ポリマーブラシ層20について、25℃、1時間にて真空乾燥を行い、主として水分を含む揮発分を除去した状態にて、分光エリプソメトリー法により、測定することができる。すなわち、本発明において、平均分子鎖長さLに対する、ポリマーブラシ層20の厚みTの比(T/L)は、揮発成分を除去した状態での値である。そのため、ポリマーブラシ層20は、その使用状態において、水分などの揮発性成分を含む場合においては、水分を含むことにより、ポリマーブラシ層20を構成する高分子鎖が完全伸長状態に近づいていき、含まれる水分の影響により、比(T/L)が上記範囲を超える場合もあるが、このような場合においても、揮発成分を除去した状態における、比(T/L)が上記範囲とすることが好ましい。また、たとえば、潤滑油やイオン液体などの不揮発性液体で膨潤したポリマーブラシ層は、揮発成分を除去した後においても、潤滑油やイオン液体などの不揮発性液体で膨潤された状態が維持されているため、揮発成分を除去した後においても、比(T/L)が0.6超となる大きな値を示すのが一般的である。 The thickness Tb of the polymer brush layer 20 is measured by spectroscopic ellipsometry in a state in which the polymer brush layer 20 is vacuum-dried at 25° C. for 1 hour to remove volatile matter mainly containing water. can do. That is, in the present invention, the ratio (T b /L p ) of the thickness T b of the polymer brush layer 20 to the average molecular chain length L p is the value after removing volatile components. Therefore, when the polymer brush layer 20 contains a volatile component such as water in its use state, the inclusion of water causes the polymer chains constituting the polymer brush layer 20 to approach a fully elongated state. In some cases, the ratio (T b /L p ) exceeds the above range due to the influence of the moisture contained . A range is preferred. Further, for example, a polymer brush layer swollen with a non-volatile liquid such as a lubricating oil or an ionic liquid maintains the swollen state with the non-volatile liquid such as a lubricating oil or an ionic liquid even after the volatile components are removed. Therefore, even after removing volatile components, the ratio (T b /L p ) generally exhibits a large value exceeding 0.6.

また、ポリマーブラシ層20は、イオン伝導度が、好ましくは5.0×10-1S/m以下であり、より好ましくは1.0×10-1S/m以下、さらに好ましくは5.0×10-2S/m以下であり、下限は特に限定されないが、好ましくは1.0×10-4S/m以上である。すなわち、ポリマーブラシ層20は、イオン電導度が比較的高い液体(たとえば、イオン液体など)を実質的に含まず、そのため、イオン伝導度が、上記範囲のように低いものであり、これにより、水分を含まれ得る状態や、水分を含んでいる状態であることが、ウイルスの付着性が高いという観点、ひいては、ウイルスの不活化を高い効率で実現できるという観点から、好ましい。なお、ポリマーブラシ層20は、水分などの揮発成分を含んだ状態、あるいは、水分などの揮発成分を含まない状態のいずれかにおいて、イオン伝導度が、上記範囲にあることが好ましい。ポリマーブラシ層20のイオン電導度の測定方法は、特に限定されないが、4端子法による伝導度測定による方法(たとえば、抵抗率計(ロレスタ、日東精工アナリテック社製)を使用した測定などが挙げられる。 In addition, the polymer brush layer 20 preferably has an ionic conductivity of 5.0×10 −1 S/m or less, more preferably 1.0×10 −1 S/m or less, still more preferably 5.0×10 −1 S/m or less. Although the lower limit is not particularly limited, it is preferably 1.0×10 −4 S/m or more . That is, the polymer brush layer 20 does not substantially contain a liquid with a relatively high ionic conductivity (for example, an ionic liquid), so that the ionic conductivity is as low as the above range. A state in which water can be contained, or a state in which water is contained, is preferable from the viewpoint of high adhesion of viruses, and furthermore, from the viewpoint of realizing virus inactivation with high efficiency. The ion conductivity of the polymer brush layer 20 preferably falls within the above range either in a state containing volatile components such as water or in a state not containing volatile components such as water. A method for measuring the ionic conductivity of the polymer brush layer 20 is not particularly limited, but a method of measuring conductivity by a four-probe method (for example, measurement using a resistivity meter (Loresta, manufactured by Nitto Seiko Analytic Co., Ltd.), etc.) can be mentioned. be done.

<第2実施形態>
次いで、本発明の第2実施形態について、説明する。
図2(A)は、本発明の第2実施形態に係るウイルス不活化構造を示す図であり、図2(B)は、図2(A)のIIb部分の詳細な構造を示す図であり、図2(C)は、図2(A)のIIc部分の詳細な構造を示す図である。
<Second embodiment>
Next, a second embodiment of the invention will be described.
FIG. 2(A) is a diagram showing a virus inactivating structure according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 2(B) is a diagram showing the detailed structure of the IIb portion of FIG. 2(A). 2(C) is a diagram showing the detailed structure of the portion IIc of FIG. 2(A).

図2(B)に示すように、本発明の第2実施形態に係るウイルス不活化構造は、基材重合体30中に、複数のブロック共重合体鎖40が複数分散することにより形成れている。また、複数のブロック共重合体鎖40は、ポリマーブロック(A)と、ポリマーブロック(A)よりも基材重合体30に対する親和性が低いポリマーブロック(B)とを備え、かつ、ブロック共重合体鎖中において、ポリマーブロック(A)を少なくとも2箇所に有するものである。 As shown in FIG. 2B, the virus inactivating structure according to the second embodiment of the present invention is formed by dispersing a plurality of block copolymer chains 40 in a base polymer 30. there is In addition, the plurality of block copolymer chains 40 includes a polymer block (A) and a polymer block (B) having a lower affinity for the base polymer 30 than the polymer block (A), and It has at least two polymer blocks (A) in the combined chain.

なお、図2(B)中においては、ブロック共重合体鎖40を構成する、ポリマーブロック(A)を破線で示し、ポリマーブロック(B)を実線で示した。また、図2(B)中においては、ブロック共重合体鎖40として、ポリマーブロック(A)/ポリマーブロック(B)/ポリマーブロック(A)からなるABA型のブロック共重合体鎖を例示したが、ポリマーブロック(A)を少なくとも2箇所に有する構造であればよく、このような構造に限定されない。たとえば、ポリマーブロック(A)/ポリマーブロック(B)/ポリマーブロック(A)/ポリマーブロック(B)からなるABAB型のブロック共重合体鎖であってもよいし、さらには、ポリマーブロック(A)/ポリマーブロック(B)/ポリマーブロック(A)/ポリマーブロック(B)/ポリマーブロック(A)からなるABABA型のブロック共重合体鎖であってもよい。 In FIG. 2B, the polymer block (A) constituting the block copolymer chain 40 is indicated by a broken line, and the polymer block (B) is indicated by a solid line. In FIG. 2B, an ABA-type block copolymer chain composed of polymer block (A)/polymer block (B)/polymer block (A) is illustrated as the block copolymer chain 40. , the structure is not limited to such a structure as long as it has at least two polymer blocks (A). For example, it may be an ABAB-type block copolymer chain consisting of polymer block (A)/polymer block (B)/polymer block (A)/polymer block (B), or polymer block (A) /polymer block (B)/polymer block (A)/polymer block (B)/polymer block (A).

そして、図2(C)に示すように、第2実施形態に係るウイルス不活化構造においては、複数のブロック共重合体鎖40のうち少なくとも一部のブロック共重合体鎖40は、ポリマーブロック(A)が基材重合体30中にあり、かつ、ポリマーブロック(B)が基材重合体30から露出した状態で存在する。すなわち、第2実施形態に係るウイルス不活化構造においては、その表面において、ブロック共重合体鎖40に基づく、ポリマー鎖に形成されたループ構造が複数露出されたような構造を有するものである。具体的には、ポリマーブロック(A)が基材重合体30中に存在し、かつ、ポリマーブロック(B)により形成されたループ構造の高分子鎖が複数露出された、ポリマーブラシ構造を形成するものである。また、第2実施形態において、ポリマーブロック(B)は、イオン性基、非イオン性親水基および電子供与基から選択される特定官能基を有するものである。そして、これにより、第2実施形態に係るウイルス不活化構造によれば、上述した第1実施形態におけるポリマーブラシ層20と同様に、高いウイルス不活化機能を備え、さらには、高いウイルス不活化機能を長期に亘って持続可能なものである。 Then, as shown in FIG. 2(C), in the virus inactivating structure according to the second embodiment, at least some of the block copolymer chains 40 among the plurality of block copolymer chains 40 are polymer blocks ( A) is present in the base polymer 30 and the polymer block (B) is present in an exposed state from the base polymer 30 . That is, the virus-inactivating structure according to the second embodiment has a structure in which a plurality of loop structures formed in the polymer chain based on the block copolymer chain 40 are exposed on the surface. Specifically, the polymer block (A) exists in the base polymer 30, and a polymer brush structure is formed in which a plurality of polymer chains having a loop structure formed by the polymer block (B) are exposed. It is. Moreover, in the second embodiment, the polymer block (B) has a specific functional group selected from ionic groups, nonionic hydrophilic groups and electron donating groups. Thus, according to the virus inactivating structure according to the second embodiment, similar to the polymer brush layer 20 in the first embodiment described above, it has a high virus inactivating function, and further has a high virus inactivating function. sustainable over the long term.

第2実施形態に係るウイルス不活化構造においては、ブロック共重合体鎖40として、ポリマーブロック(A)/ポリマーブロック(B)/ポリマーブロック(A)の構造を有するものを用いるものであり、ポリマーブロック(A)は、相対的に基材重合体30に対する親和性が高く、その一方で、ポリマーブロック(B)は、相対的に基材重合体30に対する親和性が低いものである。そのため、ポリマーブロック(B)の両隣に位置する、ポリマーブロック(A)が基材重合体30中に残存した状態にて、ポリマーブロック(B)が基材重合体30から露出することで、図2(C)に示すような、ポリマーブロック(B)によるループ構造が形成されるものである。 In the virus inactivating structure according to the second embodiment, a block copolymer chain 40 having a structure of polymer block (A)/polymer block (B)/polymer block (A) is used. Block (A) has a relatively high affinity for the base polymer 30 , while polymer block (B) has a relatively low affinity for the base polymer 30 . Therefore, the polymer block (B) is exposed from the base polymer 30 while the polymer block (A) located on both sides of the polymer block (B) remains in the base polymer 30. A loop structure is formed by the polymer block (B) as shown in 2(C).

また、第2実施形態に係るウイルス不活化構造においては、基材重合体30中には、図2(C)に示すループ構造に関与していないブロック共重合体鎖40が、複数分散した構成となっている(たとえば、図2(B)参照)。そのため、たとえば、図2(C)に示すループ構造に関与しているブロック共重合体鎖40のうち一部に欠損が生じた場合に、基材重合体30中に分散しているブロック共重合体鎖40のうち欠損した部位近傍に位置するブロック共重合体鎖40が、図2(C)に示すループ構造を有するものに変化することで、このような欠損を補うことができるという自己修復作用をも有するものである。なお、たとえば、基材重合体30中に、複数のブロック共重合体鎖40を分散させる方法に代えて、基材重合体30表面に、複数のブロック共重合体鎖40を接触させ、これにより、ループ構造を形成させるという構成を採用した場合には、このようなループ構造の欠損が生じた場合に、該欠損を補う自己修復作用については期待できないものである。 In the virus inactivating structure according to the second embodiment, a plurality of block copolymer chains 40 not involved in the loop structure shown in FIG. 2(C) are dispersed in the base polymer 30. (see, for example, FIG. 2(B)). Therefore, for example, when a block copolymer chain 40 involved in the loop structure shown in FIG. Self-healing that such defects can be compensated for by changing the block copolymer chain 40 located in the vicinity of the defective site in the combined chain 40 to one having the loop structure shown in FIG. 2(C). It also has an effect. For example, instead of the method of dispersing the plurality of block copolymer chains 40 in the base polymer 30, the surface of the base polymer 30 is brought into contact with the plurality of block copolymer chains 40, thereby In the case of adopting a configuration in which a loop structure is formed, a self-repairing action for compensating for such defects in the loop structure cannot be expected.

基材重合体30としては、特に限定されず、各種樹脂およびゴムを制限なく用いることができる。樹脂としては、熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂のいずれでもよく、熱硬化性樹脂としては、たとえば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アミノ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、ジアリルフタレート樹脂などが挙げられる。 The base polymer 30 is not particularly limited, and various resins and rubbers can be used without limitation. The resin may be either a thermosetting resin or a thermoplastic resin. Thermosetting resins include, for example, epoxy resin, phenol resin, amino resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, urea resin, melamine resin, heat A curable polyimide resin, a diallyl phthalate resin, and the like are included.

熱可塑性樹脂としては、たとえば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリシクロオレフィンなどのポリオレフィン系樹脂;ポリスチレン、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアルコールなどのビニル系樹脂;ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂;ポリジメチルシロキサンなどのシリコーン樹脂;などが挙げられる。 Examples of thermoplastic resins include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, and polycycloolefin; vinyl resins such as polystyrene, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, and polyvinyl alcohol; fluorine resins such as polytetrafluoroethylene. polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; silicone resins such as polydimethylsiloxane; and the like.

また、ゴムとしては、ブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、イソプレンゴム、天然ゴム、ニトリルゴム、ブチルゴムなどのジエン系ゴム;エチレンプロピレンゴム、アクリルゴム、ポリエーテルゴム、ポリウレタンゴム、フッ素ゴム、シリコーンゴムなどのジエン系ゴム以外のゴム;などが挙げられる。 Examples of rubber include butadiene rubber, styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, isoprene rubber, natural rubber, nitrile rubber, diene rubber such as butyl rubber; ethylene propylene rubber, acrylic rubber, polyether rubber, polyurethane rubber, fluororubber, and silicone. Rubber other than diene rubber such as rubber; and the like.

これら樹脂またはゴムの中でも、ポリスチレン、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、スチレンブタジエンゴムが好ましく、アクリル樹脂が好ましく、アクリル樹脂の中でも、ポリブチルメタクリレートが特に好ましい。 Among these resins or rubbers, polystyrene, acrylic resin, silicone resin, and styrene-butadiene rubber are preferred, acrylic resins being preferred, and among acrylic resins, polybutyl methacrylate is particularly preferred.

基材重合体30としては、複合体10の使用温度よりも低いガラス転移温度(Tg)を有するものが好ましく、具体的には、Tgが50℃以下であるものが好ましく、Tgが20℃以下であるものがより好ましい。 The base polymer 30 preferably has a glass transition temperature (Tg) lower than the operating temperature of the composite 10. Specifically, it preferably has a Tg of 50°C or less, and a Tg of 20°C or less. is more preferable.

ブロック共重合体鎖40としては、ポリマーブロック(A)と、ポリマーブロック(A)よりも基材重合体30に対する親和性が低いポリマーブロック(B)とを備え、かつ、ブロック共重合体鎖中において、ポリマーブロック(A)を少なくとも2箇所に有するものであればよく、特に限定されないが、図2(C)に示すループ構造を工程に形成できるという観点より、ポリマーブロック(B)が、基材重合体30に対して非相溶であるものを用いることが好ましく、特に、ポリマーブロック(B)が、基材重合体30に対して非相溶であり、かつ、ポリマーブロック(A)が、基材重合体30に対して相溶であるものと用いることが特に好ましい。 The block copolymer chain 40 includes a polymer block (A) and a polymer block (B) having a lower affinity for the base polymer 30 than the polymer block (A), and , it is not particularly limited as long as it has at least two polymer blocks (A), but from the viewpoint that the loop structure shown in FIG. 2(C) can be formed in the process, the polymer block (B) It is preferable to use one that is incompatible with the material polymer 30. In particular, the polymer block (B) is incompatible with the base polymer 30, and the polymer block (A) is , which are compatible with the base polymer 30 are particularly preferably used.

ここで、ポリマーブロック(A)が、基材重合体30に対して相溶であるとは、次の状態をいう。すなわち、ポリマーブロック(A)のみからなる重合体と、基材重合体30とを、熱溶融混合や共溶液混合などにより混合した後、得られた混合物について、冷却あるいは溶媒蒸発除去などにより固化することにより得られた試料について、ガラス転移温度(Tg)を測定した場合に、ポリマーブロック(A)のみからなる重合体のTgと、基材重合体30のTgとの間の温度域に、これらとは異なるTgが観測できる場合に、相溶であると判断することができる。 Here, that the polymer block (A) is compatible with the base polymer 30 means the following state. That is, after the polymer consisting only of the polymer block (A) and the base polymer 30 are mixed by hot melt mixing or co-solution mixing, the obtained mixture is solidified by cooling or solvent evaporation removal. When measuring the glass transition temperature (Tg) of the sample obtained by When a Tg different from that can be observed, it can be judged to be compatible.

あるいは、ポリマーブロック(B)が、基材重合体30に対して非相溶であるとは、次の状態をいう。すなわち、ポリマーブロック(B)のみからなる重合体と、基材重合体30とを、熱溶融混合や共溶液混合などにより混合した後、得られた混合物について、冷却あるいは溶媒蒸発除去などにより固化することにより得られた試料について、ガラス転移温度(Tg)を測定した場合に、ポリマーブロック(B)のみからなる重合体のTgおよび基材重合体30のTg以外に、これらとは異なるTgが観測できない場合に、非相溶であると判断することができる。 Alternatively, the fact that the polymer block (B) is incompatible with the base polymer 30 refers to the following state. That is, after the polymer consisting only of the polymer block (B) and the base polymer 30 are mixed by hot melt mixing or co-solution mixing, the resulting mixture is solidified by cooling or solvent evaporation removal. When the glass transition temperature (Tg) of the sample obtained by the above was measured, Tg different from these was observed in addition to the Tg of the polymer consisting only of the polymer block (B) and the Tg of the base polymer 30. If not, it can be determined to be incompatible.

なお、ポリマーブロック(A)およびポリマーブロック(B)としては、基材重合体30に対する相溶性が上記の関係にあるものを用いればよいが、図2(C)に示すループ構造を工程に形成できるという観点より、これらのSP値(溶解度パラメータ)に関し、ポリマーブロック(A)のSP値と、ポリマーブロック(B)のSP値との差が1.5(MPa)1/2以上であることが好ましく、3(MPa)1/2以上であることがより好ましく、5(MPa)1/2以上であることがさらに好ましい。また、ポリマーブロック(A)のSP値に関し、ポリマーブロック(A)のSP値と、基材重合体とのSP値との差が0.5(MPa)1/2以下であることが好ましく、0.3(MPa)1/2以下であることがより好ましく、0.2(MPa)1/2以下であることがさらに好ましい。さらに、ポリマーブロック(B)のSP値に関し、ポリマーブロック(B)のSP値と、基材重合体とのSP値との差が1.5(MPa)1/2以上であることが好ましく、3(MPa)1/2以上であることがより好ましく、5(MPa)1/2以上であることがさらに好ましい。 As the polymer block (A) and the polymer block (B), those having the above compatibility with the base polymer 30 may be used, but the loop structure shown in FIG. From the viewpoint of being able to is preferred, 3 (MPa) 1/2 or more is more preferred, and 5 (MPa) 1/2 or more is even more preferred. Regarding the SP value of the polymer block (A), the difference between the SP value of the polymer block (A) and the SP value of the base polymer is preferably 0.5 (MPa) 1/2 or less. It is more preferably 0.3 (MPa) 1/2 or less, further preferably 0.2 (MPa) 1/2 or less. Furthermore, regarding the SP value of the polymer block (B), the difference between the SP value of the polymer block (B) and the SP value of the base polymer is preferably 1.5 (MPa) 1/2 or more. It is more preferably 3 (MPa) 1/2 or more, and even more preferably 5 (MPa) 1/2 or more.

ポリマーブロック(A)としては、上述した特性を満たすものであればよく、特に限定されず、用いる基材重合体30との関係で選択すればよいが、その具体例としては、上述した基材重合体30を構成する樹脂またはゴムとして例示した樹脂またはゴムを構成する重合体セグメントからなるものなどが挙げられる。 The polymer block (A) is not particularly limited as long as it satisfies the properties described above, and may be selected depending on the relationship with the base polymer 30 to be used. The resin or rubber exemplified as the resin or rubber that constitutes the polymer 30 may be made of a polymer segment that constitutes the resin or rubber.

ブロック共重合体鎖40のポリマーブロック(A)部分の分子量(重量平均分子量(Mw))は、特に限定されないが、基材重合体30と十分な相互作用を示し、これにより、ポリマーブロック(B)により形成されるループ構造をより適切に支えることにより、耐久性をより高めることができるという観点より、好ましくは1,000~100,000、より好ましくは1,000~50,000、さらに好ましくは1,000~20,000である。最も好ましいのは、2,000~20,000である。 The molecular weight (weight-average molecular weight (Mw)) of the polymer block (A) portion of the block copolymer chain 40 is not particularly limited, but exhibits sufficient interaction with the base polymer 30, whereby the polymer block (B ) is preferably 1,000 to 100,000, more preferably 1,000 to 50,000, more preferably 1,000 to 50,000, and even more preferably is between 1,000 and 20,000. Most preferred is between 2,000 and 20,000.

また、ポリマーブロック(B)としては、イオン性基、非イオン性親水基および電子供与基から選択される特定官能基を有し、かつ、上述した特性を満たすものであればよく、特に限定されず、用いる基材重合体30との関係で選択すればよいが、特定官能基を有するモノマーを含有するモノマー混合物を重合することにより形成される重合体ブロックであることが好ましく、上述した第1実施形態と同様に、特定官能基として、アンモニウム基を有するモノマー(さらに好ましくは、高分子鎖の側鎖に、アンモニウム基を導入できるようなモノマー、特に好ましくは上記一般式(1)で表される化合物)を含むモノマー混合物を重合することにより形成される重合体ブロックであることがより好ましく、特定官能基を有するモノマーとしては、1種単独で用いてもよいし、あるいは、2種以上を併用してもよい。また、高分子鎖を形成するためのモノマーとして、特定官能基を有するモノマーと共重合可能なモノマー(特定官能基を有しないモノマー)を用いてもよい。 In addition, the polymer block (B) is not particularly limited as long as it has a specific functional group selected from an ionic group, a nonionic hydrophilic group and an electron donating group and satisfies the properties described above. However, it is preferably a polymer block formed by polymerizing a monomer mixture containing a monomer having a specific functional group. As in the embodiment, a monomer having an ammonium group as a specific functional group (more preferably, a monomer capable of introducing an ammonium group into the side chain of the polymer chain, particularly preferably represented by the above general formula (1) It is more preferable that it is a polymer block formed by polymerizing a monomer mixture containing a compound having a specific functional group. They may be used together. Moreover, as a monomer for forming a polymer chain, a monomer copolymerizable with a monomer having a specific functional group (monomer having no specific functional group) may be used.

また、上述した第1実施形態と同様に、上記一般式(1)で表される化合物に代えて、あるいは、上記一般式(1)で表される化合物とともに、たとえば、(メタ)アクリル酸系モノマー、スチレン系モノマー、付加重合性の二重結合を1つ有する単官能性のモノマー、疎水性モノマー、親水性モノマー、側鎖にカルボキシル基またはカルボキシル基に容易に転換できる基を有するモノマー等を用いてもよい。 Further, as in the first embodiment described above, instead of the compound represented by the general formula (1), or together with the compound represented by the general formula (1), for example, a (meth)acrylic acid-based monomers, styrenic monomers, monofunctional monomers having one addition-polymerizable double bond, hydrophobic monomers, hydrophilic monomers, monomers having carboxyl groups in side chains or groups that can be easily converted to carboxyl groups, etc. may be used.

なお、ブロック共重合体鎖40のポリマーブロック(B)部分の分子量(重量平均分子量(Mw))は、特に限定されないが、ポリマーブロック(B)部分の分子量は形成されるループ長(ループ構造を構成するループの長さ)と密接な関係がある。ポリマーブロック(B)部分の分子量が大きければ、複合体10表面に形成されるループ長も大きくなる。すなわち、ポリマーループ層(ポリマーブロック(B)部分により形成されるループ構造からなる層)が厚膜化されることとなる。一方、ポリマーブロック(B)部分の分子量が小さければ、ポリマーループ層は薄くなる。ループブラシ層と対峙する摺動面の凹凸によるループブラシの破壊現象を考えると、ポリマーブロック(B)部分の分子量(重量平均分子量(Mw))は、好ましくは1,000~200,000、より好ましくは2,000~100,000、さらに好ましくは3,000~50,000であり、特に好ましくは3,000~20,000である。 The molecular weight (weight-average molecular weight (Mw)) of the polymer block (B) portion of the block copolymer chain 40 is not particularly limited, but the molecular weight of the polymer block (B) portion is the length of the formed loop (loop structure It is closely related to the length of the loop that constitutes it). The larger the molecular weight of the polymer block (B) portion, the larger the loop length formed on the surface of the composite 10 . That is, the polymer loop layer (layer having a loop structure formed by the polymer block (B) portion) is thickened. On the other hand, if the molecular weight of the polymer block (B) portion is small, the polymer loop layer will be thin. Considering the phenomenon of breaking the loop brush due to irregularities on the sliding surface facing the loop brush layer, the molecular weight (weight average molecular weight (Mw)) of the polymer block (B) portion is preferably 1,000 to 200,000, or more. It is preferably 2,000 to 100,000, more preferably 3,000 to 50,000, and particularly preferably 3,000 to 20,000.

ブロック共重合体鎖40の合成方法としては、特に限定されないが、ブロック共重合体鎖40が、ポリマーブロック(A)/ポリマーブロック(B)/ポリマーブロック(A)からなるABA型のブロック共重合体鎖である場合には、以下の方法により合成することができる。すなわち、ポリマーブロック(B)の存在下で、ポリマーブロック(A)を形成する単量体を重合させることで、ポリマーブロック(B)の両隣に、ポリマーブロック(A)を形成する方法や、ポリマーブロック(A)の存在下で、ポリマーブロック(B)を形成する単量体を重合させた後に、ポリマーブロック(A)を形成する単量体をさらに重合させる方法などが挙げられる。各ブロックの分子量の制御が可能で、分子量分布の狭いブロックコポリマーを得る方法として、リビングラジカル重合法は極めて好適に用いることができる。その中でも原子移動ラジカル重合法が特は特に好ましく用いることができる。 The method for synthesizing the block copolymer chain 40 is not particularly limited, but the block copolymer chain 40 is an ABA-type block copolymer consisting of polymer block (A)/polymer block (B)/polymer block (A). When it is a coalesced chain, it can be synthesized by the following method. That is, a method of forming polymer blocks (A) on both sides of the polymer block (B) by polymerizing a monomer forming the polymer block (A) in the presence of the polymer block (B); Examples thereof include a method of polymerizing the monomers forming the polymer block (B) in the presence of the block (A), and then further polymerizing the monomers forming the polymer block (A). A living radical polymerization method can be very suitably used as a method for obtaining a block copolymer having a narrow molecular weight distribution and capable of controlling the molecular weight of each block. Among them, the atom transfer radical polymerization method can be particularly preferably used.

また、ポリマーブロック(A)と、ポリマーブロック(B)とは直接結合したものであってもよいし、あるいは、ポリマーブロック(A)を形成する単量体およびポリマーブロック(B)を形成する単量体以外の単量体またはこのような単量体からなるオリゴマーブロックを介して、結合されたものであってもよい。また、ブロック共重合体鎖40中に含まれる複数のポリマーブロック(A)としては、実質的に同じポリマーブロック(すなわち、実質的に同じ単量体単位から構成されるブロック)であってもよいし、互いに異なるポリマーブロックであってもよい。さらに、ブロック共重合体鎖40中に、ポリマーブロック(B)が複数含まれる場合においても、複数のポリマーブロック(B)としては、実質的に同じポリマーブロック(すなわち、実質的に同じ単量体単位から構成されるブロック)であってもよいし、互いに異なるポリマーブロックであってもよい。 In addition, the polymer block (A) and the polymer block (B) may be directly bonded, or the monomer forming the polymer block (A) and the monomer forming the polymer block (B) may be It may be linked via a monomer other than the mer or an oligomer block consisting of such a monomer. Further, the plurality of polymer blocks (A) contained in the block copolymer chain 40 may be substantially the same polymer blocks (that is, blocks composed of substantially the same monomer units). However, they may be different polymer blocks. Furthermore, even when a plurality of polymer blocks (B) are included in the block copolymer chain 40, the plurality of polymer blocks (B) are substantially the same polymer block (i.e., substantially the same monomer units), or polymer blocks different from each other.

また、第2実施形態において、複数のブロック共重合体鎖40により形成されるポリマーブラシ層のイオン伝導度は、好ましくは5.0×10-1S/m以下であり、より好ましくは1.0×10-1S/m以下、さらに好ましくは5.0×10-2S/m以下であり、下限は特に限定されないが、好ましくは1.0×10-4S/m以上である。ポリマーブラシ層のイオン伝導度は、上述した第1実施形態と同様の方法により測定することができる。 Further, in the second embodiment, the ion conductivity of the polymer brush layer formed by the plurality of block copolymer chains 40 is preferably 5.0×10 −1 S/m or less, more preferably 1.0×10 −1 S/m or less. It is 0×10 −1 S/m or less, more preferably 5.0×10 −2 S/m or less, and although the lower limit is not particularly limited, it is preferably 1.0×10 −4 S/m or more. The ionic conductivity of the polymer brush layer can be measured by the same method as in the first embodiment described above.

第2実施形態によれば、ポリマーブロック(B)により形成されたループ構造の高分子鎖が複数露出された、ポリマーブラシ構造を備え、また、ポリマーブロック(B)は、イオン性基、非イオン性親水基および電子供与基から選択される特定官能基を備えるものである。そのため、上述した第1実施形態と同様に、ループ状に露出したポリマーブロック(B)からなるポリマーブラシ構造に含まれる、特定官能基を有することにより、ウイルスを構成するエンベロープと融合し易く、さらには、複数の高分子鎖で構成されるものであることから、高い浸透圧を示すものであり、これにより高いウイルス不活化機能を発揮するものといえる。また、ポリマーブロック(B)からなるポリマーブラシ構造は、複数のポリマーブロック(B)からなるポリマーブラシ構造で構成されたものあることから、このような高いウイルス不活化機能を、その構造変化等を伴うことなく、安定的に発揮することが出来るものであり、これにより、高いウイルス不活化機能を長期に亘って持続可能なものといえる。 According to the second embodiment, a polymer brush structure is provided in which a plurality of polymer chains having a loop structure formed by the polymer block (B) are exposed, and the polymer block (B) includes an ionic group and a nonionic group. It has a specific functional group selected from a hydrophilic group and an electron-donating group. Therefore, as in the above-described first embodiment, by having a specific functional group contained in the polymer brush structure composed of the polymer block (B) exposed in a loop shape, it is easy to fuse with the envelope that constitutes the virus, and further. Since it is composed of a plurality of polymer chains, it exhibits high osmotic pressure, and it can be said that it exhibits a high virus-inactivating function. In addition, since the polymer brush structure composed of the polymer block (B) is composed of a polymer brush structure composed of a plurality of polymer blocks (B), such a high virus inactivation function can be achieved by changing its structure. Therefore, it can be said that the high virus inactivation function can be sustained for a long period of time.

なお、第2実施形態では、ブロック共重合体鎖40として、ポリマーブロック(A)/ポリマーブロック(B)/ポリマーブロック(A)からなるABA型のブロック共重合体鎖を使用し、これにより、ポリマーブロック(B)により形成されたループ構造の高分子鎖が複数露出された、ポリマーブラシ構造を備える構造を例示したが、ポリマーブロック(A)/ポリマーブロック(B)からなるABのブロック共重合体鎖を使用し、これにより、ポリマーブロック(B)がループ構造を形成せずに、露出されたような構造であってもよい。 In the second embodiment, as the block copolymer chain 40, an ABA-type block copolymer chain composed of polymer block (A)/polymer block (B)/polymer block (A) is used. A structure having a polymer brush structure in which a plurality of polymer chains having a loop structure formed by the polymer block (B) are exposed is exemplified. The structure may be such that a coalescing chain is used whereby the polymer block (B) is exposed without forming a loop structure.

<第3実施形態>
次いで、本発明の第3実施形態について、説明する。
図3は、本発明の第3実施形態に係るウイルス不活化構造を示す図である。図3に示すように、第3実施形態に係るウイルス不活化構造は、分岐高分子50である。分岐高分子50は、図3に示すように、基体としての直鎖状の主鎖(主鎖となる直鎖状の高分子鎖)51から、複数の高分子グラフト鎖(側鎖)52が分岐した構造を有している。なお、分岐高分子50は、ボトルブラシ(ボトル構造を有する容器を洗浄するための洗浄ブラシ)様の形状をなしている。
<Third Embodiment>
Next, a third embodiment of the invention will be described.
FIG. 3 shows a virus inactivation structure according to a third embodiment of the invention. As shown in FIG. 3, the virus inactivating structure according to the third embodiment is a branched polymer 50. As shown in FIG. As shown in FIG. 3, the branched polymer 50 has a plurality of polymer graft chains (side chains) 52 from a linear main chain (a linear polymer chain serving as the main chain) 51 as a substrate. It has a branched structure. The branched polymer 50 has a shape like a bottle brush (a cleaning brush for cleaning a container having a bottle structure).

分岐高分子50は、上記のように直鎖状の主鎖51から複数の側鎖52が分岐している分岐高分子構造を有しており、主鎖51および側鎖52は、それぞれ、少なくとも炭素原子と水素原子を含む繰り返し単位が複数連結して構成されている。また、分岐高分子50において、側鎖52は、イオン性基、非イオン性親水基および電子供与基から選択される特定官能基を備えるものであり、分岐高分子50は、このような側鎖52を備えるものであることから、ウイルス不活化機能を備えるものである。 The branched polymer 50 has a branched polymer structure in which a plurality of side chains 52 are branched from a linear main chain 51 as described above. It is composed of a plurality of repeating units containing carbon atoms and hydrogen atoms linked together. In addition, in the branched polymer 50, the side chain 52 has a specific functional group selected from an ionic group, a nonionic hydrophilic group and an electron donating group, and the branched polymer 50 has such a side chain 52, it has a virus inactivation function.

主鎖51の数平均重合度は、好ましくは10~10,000であり、より好ましくは10~1,000、さらに好ましくは10~100である。主鎖51の数平均重合度としては、特に限定されないが、側鎖52を導入する前の主鎖前駆体の数平均分子量を測定し、その測定された数平均分子量をモノマー単位分子量で割ることで求めることができる。 The number average degree of polymerization of the main chain 51 is preferably 10-10,000, more preferably 10-1,000, still more preferably 10-100. The number average degree of polymerization of the main chain 51 is not particularly limited, but the number average molecular weight of the main chain precursor before introducing the side chain 52 is measured, and the measured number average molecular weight is divided by the monomer unit molecular weight. can be found at

側鎖52は、直鎖状であってもよいし、あるいは分岐構造や架橋構造を有していてもよい。側鎖52の数平均重合度は、1~1,00であることが好ましく、1~50であることがより好ましく、5~20であることがさらに好ましい。側鎖の数平均重合度の測定方法としては、特に限定されないが、たとえば、分岐高分子50の合成工程において、主鎖51から側鎖52を伸長させる反応を行う際、反応系に低分子開始剤(たとえば、ハロゲン置換炭素基を有する有機化合物)を微量添加しておいて、側鎖52の高分子鎖と共通の繰り返し構造を有する遊離ポリマーを同時に合成されるようにし、その遊離ポリマーについて測定した数平均重合度を側鎖52の数平均重合度とすることができる。 The side chain 52 may be linear, or may have a branched structure or a crosslinked structure. The number average degree of polymerization of the side chains 52 is preferably 1-1,00, more preferably 1-50, and even more preferably 5-20. The method for measuring the number average degree of polymerization of the side chain is not particularly limited. A trace amount of an agent (for example, an organic compound having a halogen-substituted carbon group) is added to simultaneously synthesize a free polymer having a repeating structure common to the polymer chain of the side chain 52, and the free polymer is measured. The obtained number average degree of polymerization can be used as the number average degree of polymerization of the side chain 52 .

主鎖51および側鎖52を含めた分岐高分子50全体の数平均分子量(Mn)は、好ましくは1,000~10,000,000であり、より好ましくは1,000~1,000,000、さらに好ましくは5,000~500,000である。なお、分岐高分子50全体の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフ法により、ポリスチレン換算の値にて測定することができる。 The number average molecular weight (Mn) of the entire branched polymer 50 including the main chain 51 and side chains 52 is preferably 1,000 to 10,000,000, more preferably 1,000 to 1,000,000. , more preferably 5,000 to 500,000. The number-average molecular weight of the branched polymer 50 as a whole can be measured by gel permeation chromatography as a polystyrene-equivalent value.

主鎖から分岐する側鎖の密度は、主鎖径路長1nm当たりの数(鎖/nm)で、好ましくは1鎖/nm以上であり、より好ましくは2鎖/nm以上、さらに好ましくは3鎖/nm以上である。ここで、側鎖の密度は、グラフト効率から決定することができる。 The density of side chains branched from the main chain is the number per 1 nm of main chain path length (chain/nm), preferably 1 chain/nm or more, more preferably 2 chains/nm or more, and still more preferably 3 chains. /nm or more. Here, the density of side chains can be determined from the graft efficiency.

第3実施形態で用いる分岐高分子50としては、図3に示すように、基体としての直鎖状の主鎖51から、複数の側鎖52が分岐した構造を有し、かつ、複数の側鎖52が、イオン性基、非イオン性親水基および電子供与基から選択される特定官能基を備えるものであればよく特に限定されない。分岐高分子50は、たとえば、主鎖51を形成するための高分子に対し、公知のグラフト重合法により、特定官能基を有するモノマーを含有するモノマー混合物をグラフト重合することにより製造することができる。また、分岐高分子50としては、上述した第1実施形態と同様に、特定官能基として、アンモニウム基を有するモノマー(さらに好ましくは、高分子鎖の側鎖に、アンモニウム基を導入できるようなモノマー、特に好ましくは上記一般式(1)で表される化合物)を含むモノマー混合物をグラフト重合することにより製造されたものであることが好ましい。なお、特定官能基を有するモノマーとしては、1種単独で用いてもよいし、あるいは、2種以上を併用してもよい。また、高分子鎖を形成するためのモノマーとして、特定官能基を有するモノマーと共重合可能なモノマー(特定官能基を有しないモノマー)を用いてもよい。 As shown in FIG. 3, the branched polymer 50 used in the third embodiment has a structure in which a plurality of side chains 52 are branched from a linear main chain 51 as a substrate, and a plurality of side chains 52 are branched. The chain 52 is not particularly limited as long as it has a specific functional group selected from an ionic group, a nonionic hydrophilic group and an electron donating group. The branched polymer 50 can be produced, for example, by graft polymerizing a monomer mixture containing a monomer having a specific functional group to a polymer for forming the main chain 51 by a known graft polymerization method. . As the branched polymer 50, as in the above-described first embodiment, a monomer having an ammonium group as a specific functional group (more preferably, a monomer capable of introducing an ammonium group into the side chain of the polymer chain) , and particularly preferably the compound represented by the above general formula (1)) is preferably produced by graft polymerization of a monomer mixture. In addition, as a monomer having a specific functional group, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination. Moreover, as a monomer for forming a polymer chain, a monomer copolymerizable with a monomer having a specific functional group (monomer having no specific functional group) may be used.

また、上述した第1実施形態と同様に、上記一般式(1)で表される化合物に代えて、あるいは、上記一般式(1)で表される化合物とともに、たとえば、(メタ)アクリル酸系モノマー、スチレン系モノマー、付加重合性の二重結合を1つ有する単官能性のモノマー、疎水性モノマー、親水性モノマー、側鎖にカルボキシル基またはカルボキシル基に容易に転換できる基を有するモノマー等を用いてもよい。 Further, as in the first embodiment described above, instead of the compound represented by the general formula (1), or together with the compound represented by the general formula (1), for example, a (meth)acrylic acid-based monomers, styrenic monomers, monofunctional monomers having one addition-polymerizable double bond, hydrophobic monomers, hydrophilic monomers, monomers having carboxyl groups in side chains or groups that can be easily converted to carboxyl groups, etc. may be used.

また、第3実施形態においては、分岐高分子50として、複数の分岐高分子50が架橋構造を形成しているものを用いてもよいし、あるいは、複数の分岐高分子50が、イオン結合、水素結合、疎水性相互作用等により、互いに結合されたものを用いてもよい。あるいは、基材またはフィラーを使用し、これら基材またはフィラーの表面に、重合開始基を導入して、基材上、あるいはフィラーを含有する状態にて、重合反応を行うことで、分岐高分子50を、基材上、あるいはフィラーと複合化させてもよい。複数の分岐高分子50を、基材上に複合化させた場合には、基材上に、複数の分岐高分子50かならなるポリマーブラシ層を形成することができる。この場合における、複数の分岐高分子50かならなるポリマーブラシ層のイオン伝導度は、好ましくは5.0×10-1S/m以下であり、より好ましくは1.0×10-1S/m以下、さらに好ましくは5.0×10-2S/m以下であり、下限は特に限定されないが、好ましくは1.0×10-4S/m以上である。ポリマーブラシ層のイオン伝導度は、上述した第1実施形態と同様の方法により測定することができる。 Further, in the third embodiment, as the branched polymer 50, a plurality of branched polymers 50 forming a crosslinked structure may be used, or the plurality of branched polymers 50 may be composed of ionic bonds, Those bonded to each other by hydrogen bonding, hydrophobic interaction, or the like may be used. Alternatively, a base material or filler is used, a polymerization initiating group is introduced to the surface of the base material or filler, and a polymerization reaction is performed on the base material or in a state containing the filler to obtain a branched polymer. 50 may be on a substrate or composited with a filler. When a plurality of branched macromolecules 50 are compounded on a base material, a polymer brush layer composed of a plurality of branched macromolecules 50 can be formed on the base material. In this case, the ionic conductivity of the polymer brush layer composed of the plurality of branched polymers 50 is preferably 5.0×10 −1 S/m or less, more preferably 1.0×10 −1 S/m. m or less, more preferably 5.0×10 −2 S/m or less, and although the lower limit is not particularly limited, it is preferably 1.0×10 −4 S/m or more. The ionic conductivity of the polymer brush layer can be measured by the same method as in the first embodiment described above.

第3実施形態に係るウイルス不活化構造である分岐高分子50は、主鎖51から、複数の高分子グラフト鎖(側鎖)52が分岐した構造を有しており、側鎖52は、イオン性基、非イオン性親水基および電子供与基から選択される特定官能基を備えるものである。そのため、上述した第1実施形態と同様に、側鎖52に含まれる特定官能基の作用により、ウイルスを構成するエンベロープと融合し易く、さらには、複数の高分子鎖で構成されるものであることから、高い浸透圧を示すものであり、これにより高いウイルス不活化機能を発揮するものであるといえる。また、分岐高分子50は、複数の側鎖52を備えたボトルブラシ様の構造であることから、このような高いウイルス不活化機能を、その構造変化等を伴うことなく、安定的に発揮することが出来るものであることから、高いウイルス不活化機能を長期に亘って持続可能なものであるといえる。 A branched polymer 50, which is a virus-inactivating structure according to the third embodiment, has a structure in which a plurality of polymer graft chains (side chains) 52 are branched from a main chain 51. The side chains 52 are composed of ions It has a specific functional group selected from a functional group, a nonionic hydrophilic group and an electron donating group. Therefore, as in the first embodiment described above, due to the action of the specific functional group contained in the side chain 52, it is easy to fuse with the envelope that constitutes the virus, and furthermore, it is composed of a plurality of polymer chains. Therefore, it can be said that it exhibits a high osmotic pressure and thereby exerts a high virus-inactivating function. In addition, since the branched polymer 50 has a bottle-brush-like structure with a plurality of side chains 52, it stably exhibits such a high virus-inactivating function without undergoing structural changes or the like. Therefore, it can be said that the high virus inactivation function is sustainable over a long period of time.

以下に、実施例を挙げて、本発明についてより具体的に説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

<実施例1>
(ポリマーブラシ層の形成)
N,N-ジエチル-N-(2-メタクリロイルエチル)-N-メチルアンモニウム・ビス(トリフルオロメチルスルフォニル)イミド(DEMM-TFSI)の表面開始原子移動ラジカル重合(ATRP)を、以下のようにして行った。
すなわち、まず、フラスコに、2,2’-ビピリジン(Bipy)26.0 mg(0.13mmol)、N,N-ジエチル-N-(2-メタクリロイルエチル)-N-メチルアンモニウム・ビス(トリフルオロメチルスルフォニル)イミド(DEMM-TFSI)1.96 g、およびアセトニトリル8.0 gを入れ、アルゴンで10分間のバブリング処理を行い、溶液を脱気した。次いで、フラスコを、アルゴンでパージしたグローブボックスに移し、Cu(I)Cl 5.2mg(0.052mmol)およびCu(II)Cl 0.78mg(0.0058mmol)を加え、フラスコに三方活栓を取り付けた。その後、栓を閉めて密閉状態を保ちながら、フラスコを、グローブボックスから取り出し、60℃のオイルバスで攪拌し、銅およびBipyを完全に溶解させた。次いで、フラスコを、グローブボックスに移し、メンブレンフィルター(孔径:0.2μm)で溶液をろ過した。次いで、真空ポンプを用いて、アセトニトリルを揮発させて除去した。なお、上記手順にてアセトニトリルを添加するのは、溶液の粘度を下げ、銅およびリガンドとしてのBipyの溶解を促進するためである。また、重合過程での塩化銅の析出を抑えるために、銅に対するモル量において、必要なモル量に対して10%過剰量の配位子(Bipy)を用いて反応を行った。次に、別のシュレンク管にDEMM-TFSI 8.0g(16.6mmol)、および2-ブロモイソ酪酸エチル(2-(EiB)Br)0.65mg(0.0033mmol)を入れ、アルゴンで20分間バブリングして混合物を脱気した。シュレンクチューブとフラスコに、得られた溶液を入れて混合することで、不揮発性のATRP重合溶液を調製した。得られたATRP重合溶液におけるのモル組成比は、[DEMM-TFSI]/[2-(EiB)Br]/[Cu(I)Cl]/[Cu(II)Cl/[Bipy]=5000/1/20/5/50であった。
<Example 1>
(Formation of polymer brush layer)
Surface initiated atom transfer radical polymerization (ATRP) of N,N-diethyl-N-(2-methacryloylethyl)-N-methylammonium bis(trifluoromethylsulfonyl)imide (DEMM-TFSI) was performed as follows. gone.
That is, first, 26.0 mg (0.13 mmol) of 2,2′-bipyridine (Bipy), N,N-diethyl-N-(2-methacryloylethyl)-N-methylammonium bis(trifluoro 1.96 g of methylsulfonyl)imide (DEMM-TFSI) and 8.0 g of acetonitrile were added, and argon was bubbled for 10 minutes to degas the solution. The flask was then transferred to an argon-purged glovebox, 5.2 mg (0.052 mmol) of Cu(I)Cl and 0.78 mg (0.0058 mmol) of Cu(II) Cl2 were added, and the flask was capped with a three-way stopcock. installed. After that, the flask was taken out from the glove box while the cap was closed to keep the sealed state, and the flask was stirred in an oil bath at 60° C. to completely dissolve the copper and Bipy. The flask was then transferred to a glove box, and the solution was filtered through a membrane filter (pore size: 0.2 µm). A vacuum pump was then used to volatilize and remove the acetonitrile. The purpose of adding acetonitrile in the above procedure is to lower the viscosity of the solution and promote the dissolution of copper and Bipy as a ligand. In addition, in order to suppress precipitation of copper chloride during the polymerization process, the reaction was carried out using a ligand (Bipy) in a molar amount of 10% excess relative to the required molar amount relative to copper. Next, 8.0 g (16.6 mmol) of DEMM-TFSI and 0.65 mg (0.0033 mmol) of ethyl 2-bromoisobutyrate (2-(EiB)Br) were placed in another Schlenk tube, and argon was bubbled for 20 minutes. to degas the mixture. A non-volatile ATRP polymerization solution was prepared by putting the obtained solution into a Schlenk tube and a flask and mixing them. The molar composition ratio in the resulting ATRP polymerization solution was [DEMM-TFSI] 0 /[2-(EiB)Br] 0 /[Cu(I)Cl] 0 /[Cu(II)Cl 2 ] 0 /[ Bipy] 0 =5000/1/20/5/50.

次いで、このようにして得られたATRP重合溶液をろ過した後、グローブボックス内に設置した遠心分離機を用いて、ろ過したATRP重合溶液について、500×gで10分間の条件にて遠心分離することで、脱泡操作を行った。ろ過操作および脱泡操作は、溶液調製時に混入した塩化銅の未溶解固形成分あるいは気泡が、シリコンウエハやガラスなどの基板に付着すると、その部分にポリマーブラシを形成することができなくなるため、これを防止するために行う操作である。 Next, after filtering the ATRP polymerization solution thus obtained, the filtered ATRP polymerization solution is centrifuged at 500 x g for 10 minutes using a centrifuge installed in the glove box. Thus, the defoaming operation was performed. Filtration and defoaming operations are not recommended because if undissolved solid components of copper chloride or air bubbles mixed in during solution preparation adhere to substrates such as silicon wafers and glass, polymer brushes cannot be formed in those areas. This is an operation to prevent

次いで、グローブボックス内において、固定化開始剤としての(2-ブロモ-2-メチル)プロピオニルオキシプロピルトリエトキシシラン(BPE)を用いて、ATRP開始基を固定化したシリコンウエハ上に、ろ過操作および脱泡操作を行ったATRP重合溶液を塗布した。そして、温度70℃に設定したインキュベーター(グローブボックス内に設置)にて、ATRP重合反応を行った。なお、上記にて調製したATRP重合溶液は、不揮発性成分のみで調製されたものであり、比較的粘度が高いため、重合が完了するまではシリコンウエハ上に薄い液膜を持つ液体層として維持されていた。このATRP重合反応系においては、70時間後にモノマーの重合転化率が99%に達し、数平均分子量1,826,000、分子量分布(Mw/Mn)1.20のポリマー鎖を複数有するポリマーブラシ層を、シリコンウエハ上に形成した。得られたポリマーブラシ層は、分光エリプソメトリー法で測定した乾燥膜厚T(25℃、1時間真空乾燥した後の膜厚)は515nmであり、上記した方法により測定した、グラフト密度は0.15鎖/nm、表面占有率は35%と算出された。また、上記した方法により算出した、ポリマーブラシ層を構成する複数の高分子鎖の平均分子鎖長さLに対する、ポリマーブラシ層の厚みTの比(T/L)は0.41であり、 4端子法による伝導度測定(抵抗率計(ロレスタ、日東精工アナリテック社製)を使用)により測定したポリマーブラシ層のイオン伝導度は、1.60×10-2S/mであった。また、別途、DEMM-TFSIの重合体を調製し、pH=7にて、1重量%にて水中に、分散させ、吸光度を測定したところ、吸光度は0.3以下となり、水溶性を示すものであった。 Then, in a glove box, a filtration operation and a An ATRP polymerization solution subjected to a defoaming operation was applied. Then, an ATRP polymerization reaction was carried out in an incubator (installed in a glove box) set at a temperature of 70°C. The ATRP polymerization solution prepared above is prepared only with non-volatile components and has a relatively high viscosity, so it is maintained as a liquid layer with a thin liquid film on the silicon wafer until the polymerization is completed. It had been. In this ATRP polymerization reaction system, the polymerization conversion rate of the monomer reached 99% after 70 hours, and the polymer brush layer had a plurality of polymer chains with a number average molecular weight of 1,826,000 and a molecular weight distribution (Mw/Mn) of 1.20. was formed on a silicon wafer. The resulting polymer brush layer had a dry film thickness T b (film thickness after vacuum drying at 25°C for 1 hour) measured by spectroscopic ellipsometry of 515 nm, and a graft density of 0 measured by the above method. 0.15 strands/nm 2 and a surface coverage of 35% was calculated. Further, the ratio (T b /L p ) of the thickness T b of the polymer brush layer to the average molecular chain length L p of the plurality of polymer chains constituting the polymer brush layer, calculated by the above method, was 0.41. The ionic conductivity of the polymer brush layer measured by conductivity measurement by the 4-terminal method (using a resistivity meter (Loresta, manufactured by Nitto Seiko Analytic Co., Ltd.)) was 1.60 × 10 -2 S / m. there were. Separately, a polymer of DEMM-TFSI was prepared and dispersed in water at pH = 7 at 1% by weight, and when the absorbance was measured, the absorbance was 0.3 or less, indicating water solubility. Met.

(ウイルス不活化の評価)
上記にて得られた、ポリマーブラシ層を形成したシリコンウエハ(1cm×1cm)について滅菌処理を行った後、ポリマーブラシ層を形成した面上に、ウイルス液(牛ヘルペスウイルス液)3μLを滴下し、ウイルス液を、ポリマーブラシ層を形成した面上に塗り広げた後、カバーガラスで覆い、常温で、5分間静置した。そして、5分経過後、ポリマーブラシ層を形成したシリコンウエハを、培養液(MEM)500μLとともに、試験官中に入れ、ボルテックスミキサーにて、10秒間攪拌することで、ポリマーブラシ層の面上に付着しているウイルスを、培養液中に遊離させた。次いで、培養液の一部を抽出し、抽出した培養液について、細胞に接種させ、プラークの検出数として、カウントすることにより、ウイルス不活化効果を評価した。
なお、ウイルス不活化効果の評価においては、上記と同様の測定を、ポリマーブラシ層を形成していないガラス板について行い、カウントしたプラーク数を比較することにより行った。その結果、ポリマーブラシ層を形成したシリコンウエハにおけるプラークの検出数(平均:11)は、ポリマーブラシ層を形成していないガラス板におけるプラークの検出数(平均:157)に比べて、7%となった。すなわち、ウイルス数を93%減少させた結果となった。
(Evaluation of virus inactivation)
After sterilizing the silicon wafer (1 cm×1 cm) on which the polymer brush layer was formed, 3 μL of the virus solution (bovine herpes virus solution) was dropped on the surface on which the polymer brush layer was formed. After spreading the virus solution on the surface on which the polymer brush layer was formed, it was covered with a cover glass and allowed to stand at room temperature for 5 minutes. After 5 minutes, the silicon wafer on which the polymer brush layer was formed was placed in a test tube together with 500 μL of the culture medium (MEM), and stirred with a vortex mixer for 10 seconds to form a layer on the surface of the polymer brush layer. Adhering virus was released into the culture medium. Next, a portion of the culture medium was extracted, and the extracted culture medium was inoculated into cells and counted as the number of detected plaques to evaluate the virus inactivation effect.
In the evaluation of the virus inactivating effect, the same measurement as above was performed on a glass plate on which no polymer brush layer was formed, and the number of plaques counted was compared. As a result, the number of detected plaques (average: 11) on the silicon wafer with the polymer brush layer was 7% compared to the number of plaques (average: 157) detected on the glass plate without the polymer brush layer. became. That is, the result was a 93% reduction in the number of viruses.

また、上記と同様の測定を、静置時間を5分から30分に変更して行った。その結果、ポリマーブラシ層を形成したシリコンウエハにおけるプラークの検出数(平均:1.3)は、ポリマーブラシ層を形成していないガラス板におけるプラークの検出数(平均:104.3)に比べて、1.2%となった。すなわち、ウイルス数を98.8%減少させた結果となった。 Further, the same measurement as above was performed by changing the stationary time from 5 minutes to 30 minutes. As a result, the number of detected plaques (average: 1.3) on the silicon wafer on which the polymer brush layer was formed was higher than the number of plaques detected on the glass plate (average: 104.3) on which the polymer brush layer was not formed. , 1.2%. That is, the result was a 98.8% reduction in the number of viruses.

さらに、上記ウイルス不活化の評価を行ったポリマーブラシ層を形成したシリコンウエハ(静置時間30分)について、蒸留水で洗浄し、再度、上記ウイルス不活化の評価(静置時間30分)を行ったところ(すなわち、再利用による評価を行ったところ)、ポリマーブラシ層を形成したシリコンウエハにおけるプラークの検出数は、ポリマーブラシ層を形成していないガラス板におけるプラークの検出数に比べて、10%未満となった。すなわち、ウイルス数を90%以上減少させた結果となった。
なお、蒸留水による洗浄に代えて、70%エタノール水溶液による洗浄を行い、上記と同様に、評価を行ったところ、同様に、ポリマーブラシ層を形成したシリコンウエハにおけるプラークの検出数は、ポリマーブラシ層を形成していないガラス板におけるプラークの検出数に比べて、10%未満となった。すなわち、ウイルス数を90%以上減少させた結果となった。
Furthermore, the silicon wafer on which the polymer brush layer was formed (standing time: 30 minutes) on which the virus inactivation was evaluated was washed with distilled water, and the virus inactivation was evaluated again (standing time: 30 minutes). As a result (i.e., evaluation by reuse), the number of plaques detected on a silicon wafer with a polymer brush layer was lower than the number of plaques detected on a glass plate without a polymer brush layer. less than 10%. That is, the result was that the number of viruses was reduced by 90% or more.
In addition, instead of washing with distilled water, washing with a 70% ethanol aqueous solution was performed, and evaluation was performed in the same manner as described above. It was less than 10% of the number of plaques detected on the uncoated glass plate. That is, the result was that the number of viruses was reduced by 90% or more.

以上より、イオン性基、非イオン性親水基および電子供与基から選択される特定官能基を有する高分子鎖を複数含むポリマーブラシによれば、高いウイルス不活化機能を実現でき、さらには、このような高いウイルス不活化機能を長期に亘って持続可能なものであることが確認できる。 From the above, according to the polymer brush containing a plurality of polymer chains having specific functional groups selected from ionic groups, nonionic hydrophilic groups and electron donating groups, it is possible to achieve high virus inactivation function. It can be confirmed that such a high virus inactivation function is sustainable over a long period of time.

<実施例2>
(ポリマーブラシ層の形成)
固定化開始剤として、(2-ブロモ-2-メチル)プロピオニルオキシプロピルトリエトキシシラン(BPE)に代えて、(2-ブロモ-2-メチル)プロピオニルオキシヘキシルトリエトキシシラン(BHE)を使用するとともに、シリコンウエハに代えて、シリカ粒子を使用した以外は、実施例1と同様にして、シリカ粒子上に、ポリマーブラシ層を形成した。得られたポリマーブラシ層は熱重量分析より定量され、ポリマーの含有量の重量分率は8.9%であった。上記した方法により測定した、グラフト密度は0.15鎖/nm、表面占有率は34%と算出された。なお、実施例2においては、その製造条件等を考慮すると、ポリマーブラシ層を構成するポリマー鎖の数平均分子量および分子量分布(Mw/Mn)、ポリマーブラシ層の乾燥膜厚T、ポリマーブラシ層の厚みTの比(T/L)、ならびにポリマーブラシ層のイオン伝導度は、実施例1とほぼ同様であるといえる。
<Example 2>
(Formation of polymer brush layer)
using (2-bromo-2-methyl)propionyloxyhexyltriethoxysilane (BHE) instead of (2-bromo-2-methyl)propionyloxypropyltriethoxysilane (BPE) as an immobilized initiator and A polymer brush layer was formed on silica particles in the same manner as in Example 1, except that silica particles were used instead of silicon wafers. The obtained polymer brush layer was quantified by thermogravimetric analysis, and the weight fraction of the polymer content was 8.9%. The graft density was calculated to be 0.15 chains/nm 2 and the surface coverage was calculated to be 34%, as measured by the method described above. In Example 2, considering the production conditions and the like, the number average molecular weight and molecular weight distribution (Mw/Mn) of the polymer chains constituting the polymer brush layer, the dry film thickness T b of the polymer brush layer, the polymer brush layer It can be said that the ratio (T b /L p ) of the thickness T b of the polymer brush layer and the ionic conductivity of the polymer brush layer are almost the same as in Example 1.

(ウイルス不活化の評価)
得られたポリマーブラシ層を形成したシリカ粒子1.0gを、0.5M酢酸アセトニトリル溶液と水を等容量で混合した溶媒200mLに分散させることで、ポリマーブラシ層を形成したシリカ粒子の酢酸分散液を得た。そして、得られたポリマーブラシ層を形成したシリカ粒子の酢酸分散液0.925mLと、ウイルス液(牛ヘルペスウイルス液)100μLと、リン酸緩衝生理食塩水(PBS)1.475mLを試験管に入れることで、試験液を調製した。そして、得られた試験液25μL(調製後サンプル)を採取した後、1時間振とう操作を行い、1時間振とうした後の試験液25μL(1時間振とうサンプル)を採取し、さらに、1時間振とう操作を行い、1時間振とうした後の試験液25μL(2時間振とうサンプル)を採取した。そして、採取した調製後サンプル、1時間振とうサンプル、および2時間振とうサンプルを、培養液(MEM)で10,000倍に希釈して細胞に接種、1時間静置した後、メチルセルロースメディウムを重層し、2日間培養した後、実施例1と同様に、ウイルス不活化効果を評価した。実施例2においては、ポリマーブラシ層を形成していないシリカ粒子を用いたサンプルも同じ条件で作製し、これを比較対象とした。その結果、実施例2においても、実施例1と同等のウイルス不活化機能が確認された。
(Evaluation of virus inactivation)
1.0 g of the resulting silica particles forming a polymer brush layer were dispersed in 200 mL of a solvent in which equal volumes of a 0.5 M acetonitrile acetate solution and water were mixed to obtain an acetic acid dispersion of silica particles forming a polymer brush layer. got Then, 0.925 mL of the acetic acid dispersion of the obtained silica particles forming the polymer brush layer, 100 μL of virus solution (bovine herpes virus solution), and 1.475 mL of phosphate buffered saline (PBS) are placed in a test tube. Thus, a test solution was prepared. Then, after collecting 25 μL of the obtained test solution (sample after preparation), perform a shaking operation for 1 hour, collect 25 μL of the test solution after shaking for 1 hour (sample shaken for 1 hour), After shaking for 1 hour, 25 μL of the test solution (sample shaken for 2 hours) was sampled. Then, the sample after preparation, the sample shaken for 1 hour, and the sample shaken for 2 hours were diluted 10,000-fold with culture medium (MEM), inoculated into cells, allowed to stand for 1 hour, and then methylcellulose medium was added. After overlaying and culturing for 2 days, virus inactivation effect was evaluated in the same manner as in Example 1. In Example 2, a sample using silica particles that did not form a polymer brush layer was also produced under the same conditions and used for comparison. As a result, even in Example 2, a virus inactivation function equivalent to that in Example 1 was confirmed.

Claims (9)

イオン性基、非イオン性親水基および電子供与基から選択される官能基を有する高分子鎖を複数含むポリマーブラシ構造を備えた、ウイルス不活化機能を有するウイルス不活化構造。 A virus-inactivating structure having a virus-inactivating function, comprising a polymer brush structure comprising a plurality of polymer chains having functional groups selected from ionic groups, non-ionic hydrophilic groups and electron-donating groups. 複数の前記高分子鎖が、水溶性を示す請求項1に記載のウイルス不活化構造。 2. The virus-inactivating structure according to claim 1, wherein said polymer chains are water-soluble. 複数の前記高分子鎖が、基材上に共有結合で固定されることで、ポリマーブラシ構造を形成するものである請求項1または2に記載のウイルス不活化構造。 3. The virus-inactivating structure according to claim 1 or 2, wherein a plurality of said polymer chains are covalently fixed on a substrate to form a polymer brush structure. 前記ポリマーブラシ構造を構成する前記高分子鎖の平均分子鎖長さLに対する、前記ポリマーブラシ構造の厚みTの比(T/L)が、0.001~0.6である請求項3に記載のウイルス不活化構造。 The ratio (T b /L p ) of the thickness T b of the polymer brush structure to the average molecular chain length L p of the polymer chains constituting the polymer brush structure is 0.001 to 0.6. Item 4. The virus inactivating structure according to item 3. 前記基材が、繊維、単繊維、撚糸、織布、不織布、カット繊維、中空繊維、ガラス、金属またはこれらの加工品である請求項3または4に記載のウイルス不活化構造。 5. The virus inactivating structure according to claim 3 or 4, wherein the base material is fiber, monofilament, twisted yarn, woven fabric, nonwoven fabric, cut fiber, hollow fiber, glass, metal, or processed products thereof. 複数の前記高分子鎖が、少なくとも一端が基材重合体中に存在し、少なくとも一部が前記基材重合体から露出した状態で存在することで、ポリマーブラシ構造を形成するものである請求項1または2に記載のウイルス不活化構造。 wherein at least one end of the plurality of polymer chains is present in the base polymer and at least a portion thereof is exposed from the base polymer to form a polymer brush structure. 3. The virus inactivating structure according to 1 or 2. 複数の前記高分子鎖が、主鎖となる高分子鎖から分岐した高分子グラフト鎖であることにより、ボトルブラシ状のポリマーブラシ構造を形成するものである請求項1または2に記載のウイルス不活化構造。 3. The antivirus according to claim 1 or 2, wherein the plurality of polymer chains are polymer graft chains branched from a polymer chain serving as a main chain, thereby forming a bottle brush-like polymer brush structure. activation structure. 前記ポリマーブラシ構造のイオン伝導度が、5.0×10-1S/m以下である請求項1~7のいずれかに記載のウイルス不活化構造。 The virus inactivating structure according to any one of claims 1 to 7, wherein the polymer brush structure has an ionic conductivity of 5.0 × 10 -1 S/m or less. 複数の前記高分子鎖が、アンモニウム基を有する請求項1~8のいずれかに記載のウイルス不活化構造。 9. The virus-inactivating structure according to any one of claims 1 to 8, wherein said polymer chains have an ammonium group.
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