JP2022142813A - Electrostatic film forming apparatus and electrostatic film forming method - Google Patents

Electrostatic film forming apparatus and electrostatic film forming method Download PDF

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汀 嶋崎
Migiwa Shimazaki
正樹 渡邉
Masaki Watanabe
美由紀 松山
Miyuki Matsuyama
壮吉 大久保
Sokichi Okubo
知之 上薗
Tomoyuki Uezono
桃香 宮島
Momoka MIYAJIMA
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Toyota Motor Corp
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Abstract

To provide a technology that can obtain high film-forming efficiency in an electrostatic film forming apparatus.SOLUTION: An electrostatic film forming apparatus includes a magnet roller having a magnetic pole, and attracting a carrier having magnetism to which electrode particles as a film forming material are attached by a magnetic force, and a backup roller spaced apart from the magnet roller, and having a film-forming surface on which the electrode particles separated from the carrier are formed, and inside the backup roller, a repelling magnetic pole member having a repelling magnetic pole that repels the magnetic pole of the magnet roller, and causing a change in the magnetic field in a flying region located between the magnet roller and the backup roller is provided.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本開示は、静電成膜装置、および、静電成膜方法の技術に関する。 The present disclosure relates to technology of an electrostatic film forming apparatus and an electrostatic film forming method.

従来、現像装置において、磁界発生手段としてのマグネットローラを内側に備えた現像剤担持体の表面に、現像剤を担持して搬送することで、現像剤担持体と対向する感光ドラムの表面にトナー像を現像する技術が知られている(特許文献1)。現像剤は、トナーと、磁性を有するキャリアとを備える。この技術では、キャリアがマグネットローラの磁束に拘束された状態で、摩擦帯電したトナーが静電的にキャリアに拘束され磁気穂を形成する。そして、磁気穂を感光ドラムと接触させてトナーを感光ドラムに供給することで、トナー像を現像する。 Conventionally, in a developing device, toner is transferred onto the surface of a photosensitive drum facing the developer carrier by carrying the developer on the surface of the developer carrier having a magnet roller as a magnetic field generating means inside and conveying the toner. A technique for developing an image is known (Patent Document 1). The developer includes toner and a magnetic carrier. In this technique, triboelectrically charged toner is electrostatically bound by the carrier while the carrier is bound by the magnetic flux of the magnet roller to form magnetic brushes. Then, the toner image is developed by bringing the magnetic brush into contact with the photosensitive drum and supplying toner to the photosensitive drum.

特開2017-129607号公報JP 2017-129607 A

リチウムイオン電池等に用いられる電極を成膜する技術として、例えば、電極粒子を含むペーストを帯状金属箔の表面に塗布して乾燥させる湿式成膜がある。本願発明者らは、特許文献1に記載された磁界発生手段を備える現像装置によってトナー像を現像する技術を電極の成膜に適用することを検討した。特許文献1に記載された技術を電極の成膜に適用する場合、電極粒子がキャリアから分離しづらく、高い成膜効率を得ることができない場合が生じ得る。よって、マグネットローラから電極粒子をより多く飛翔させて、成膜効率を向上させることのできる技術が望まれる。 As a technique for forming electrodes used in lithium ion batteries and the like, for example, there is a wet film forming method in which a paste containing electrode particles is applied to the surface of a strip-shaped metal foil and dried. The inventors of the present application have studied application of the technique of developing a toner image with a developing device having a magnetic field generating means described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-300001 to electrode film formation. When the technique described in Patent Document 1 is applied to electrode film formation, it may be difficult to separate the electrode particles from the carrier, making it impossible to obtain high film formation efficiency. Therefore, there is a demand for a technique capable of increasing the film formation efficiency by causing more electrode particles to fly from the magnet roller.

本開示は、以下の形態として実現することが可能である。 The present disclosure can be implemented as the following forms.

(1)本開示の一形態によれば、静電成膜装置が提供される。この静電成膜装置は、磁極を有するマグネットローラであって、成膜材料である電極粒子が付着した磁性を有するキャリアを磁力により吸着させるマグネットローラと、前記マグネットローラと離間して設けられたバックアップローラであって、前記キャリアから分離した前記電極粒子が成膜される被成膜面を表面に有するバックアップローラと、を備え、前記バックアップローラの内部には、前記マグネットローラの前記磁極と反発する反発磁極を有する反発磁極部材であって、前記マグネットローラと前記バックアップローラとの間に位置する飛翔領域において磁界変化を生じさせる反発磁極部材が設けられている。この形態によれば、飛翔領域において、磁極と反発する反発磁極とによって磁界変化を生じさせる。そのため、電極粒子が付着したキャリアを磁界変化によって振動させることができる。この振動によってキャリアに対して静電的に拘束された電極粒子をキャリアから分離しやすくできるので、成膜効率を向上させることができる。
(2)上記形態であって、前記マグネットローラは、前記電極粒子が付着した前記キャリアを吸着する筒状部材と、前記筒状部材の内部に設けられ、前記磁極を有する磁極部材と、を有し、前記反発磁極部材は、前記磁極と前記反発磁極とが周期的に対向するように回転可能に構成されていてもよい。この形態によれば、反発磁極部材が周期的に回転することで、磁界変化を容易に生じさせることができる。
(3)上記形態であって、前記磁極と前記反発磁極とが1秒間当たりに対向する回数は、20回以上270回以下であってもよい。この形態によれば、成膜効率をより一層向上させることができる。
(4)上記形態であって、前記バックアップローラは、回転軸を有し、前記反発磁極部材は、前記内部のうちで前記回転軸と前記マグネットローラとの間に位置してもよい。この形態によれば、反発磁極部材をバックアップローラの内部全体に設ける場合と比べて、反発磁極部材を小型化できる。これにより、同一の駆動力に対する単位時間当たりの反発磁極部材の回転数を効率的に増大できる。
(5)本開示の他の形態によれば、静電成膜方法が提供される。この静電成膜方法は、(a)磁性を有するキャリアであって成膜材料である電極粒子が付着した前記キャリアを、磁極の磁力によってマグネットローラに吸着させる工程と、(b)前記キャリアから前記電極粒子を分離させて、前記電極粒子をバックアップローラの被成膜面に付着させる工程と、を備え、前記工程(b)は、前記バックアップローラの内部に有する前記磁極と反発する反発磁極によって、前記マグネットローラと前記バックアップローラとの間に位置する飛翔領域において磁界変化を生じさせて前記キャリアを振動させる工程を含む。この形態によれば、飛翔領域において、磁極と反発する反発磁極とによって周期的な磁界変化を生じさせる。そのため、電極粒子が付着したキャリアを磁界変化によって振動させることができる。この振動によってキャリアに対して静電的に拘束された電極粒子をキャリアから分離しやすくできるので、成膜効率を向上させることができる。
本開示は、上記の静電成膜装置、および、静電成膜方法以外の種々の形態で実現することが可能である。例えば、静電成膜装置の製造方法や静電成膜装置の制御方法、その制御方法を実現するコンピュータプログラム、そのコンピュータプログラムを記録した一時的でない記録媒体等の形態で実現することができる。
(1) According to one aspect of the present disclosure, an electrostatic deposition apparatus is provided. This electrostatic film forming apparatus includes a magnet roller having a magnetic pole, and a magnet roller for attracting a carrier having magnetism to which electrode particles as a film forming material are adhered by a magnetic force, and the magnet roller being spaced from the magnet roller. a backup roller having a film-forming surface on which the electrode particles separated from the carrier are film-formed; a repelling magnetic pole member having a repulsive magnetic pole that is located between the magnet roller and the backup roller, the repelling magnetic pole member generating a magnetic field change in a flight region located between the magnet roller and the backup roller. According to this configuration, in the flight region, a magnetic field change is caused by the magnetic poles and the repelling magnetic poles. Therefore, the carrier to which the electrode particles are attached can be vibrated by changing the magnetic field. Since the electrode particles electrostatically bound to the carrier can be easily separated from the carrier by this vibration, the film forming efficiency can be improved.
(2) In the above aspect, the magnet roller has a cylindrical member that attracts the carrier to which the electrode particles are attached, and a magnetic pole member that is provided inside the cylindrical member and has the magnetic pole. The repelling magnetic pole member may be rotatable such that the magnetic pole and the repelling magnetic pole periodically face each other. According to this aspect, the periodic rotation of the repulsive magnetic pole member can easily cause a change in the magnetic field.
(3) In the above aspect, the number of times the magnetic pole and the repelling magnetic pole face each other per second may be 20 times or more and 270 times or less. According to this aspect, the film formation efficiency can be further improved.
(4) In the above aspect, the backup roller may have a rotating shaft, and the repelling magnetic pole member may be positioned between the rotating shaft and the magnet roller in the interior. According to this aspect, the size of the repulsive magnetic pole member can be reduced compared to the case where the repulsive magnetic pole member is provided throughout the inside of the backup roller. As a result, the number of rotations of the repelling magnetic pole member per unit time for the same driving force can be efficiently increased.
(5) According to another aspect of the present disclosure, an electrostatic deposition method is provided. This electrostatic film forming method includes (a) a step of attracting the carrier, which is a carrier having magnetism and to which electrode particles as a film forming material are adhered, to a magnet roller by the magnetic force of the magnetic poles; a step of separating the electrode particles and adhering the electrode particles to a film-forming surface of a backup roller, wherein the step (b) is performed by a repelling magnetic pole that repels the magnetic pole inside the backup roller. and vibrating the carrier by generating a change in the magnetic field in a flight area located between the magnet roller and the backup roller. According to this configuration, in the flight region, the magnetic poles and the repelling magnetic poles repel each other to cause periodic magnetic field changes. Therefore, the carrier to which the electrode particles are attached can be vibrated by changing the magnetic field. Since the electrode particles electrostatically bound to the carrier can be easily separated from the carrier by this vibration, the film forming efficiency can be improved.
The present disclosure can be realized in various forms other than the above-described electrostatic film forming apparatus and electrostatic film forming method. For example, it can be realized in the form of a manufacturing method of an electrostatic film forming apparatus, a control method of the electrostatic film forming apparatus, a computer program for realizing the control method, a non-temporary recording medium recording the computer program, or the like.

本実施形態の静電成膜装置の概略構成を示す図。1 is a diagram showing a schematic configuration of an electrostatic film forming apparatus according to this embodiment; FIG. 本実施形態の成膜部における各構成要素の位置関係を説明するための図。FIG. 4 is a diagram for explaining the positional relationship of each component in the film forming section of the embodiment; 成膜部における電極粒子とキャリアとの挙動を説明するための図。FIG. 4 is a diagram for explaining the behavior of electrode particles and carriers in a film forming section; 電極粒子の成膜量と磁気振動数との関係を示すグラフ。4 is a graph showing the relationship between the amount of electrode particles deposited and the magnetic frequency.

A.実施形態:
図1は、本実施形態の静電成膜装置1の概略構成を示す図である。図1では、静電成膜装置1を側面から見たときの状態を示している。静電成膜装置1は、成膜材料である電極粒子Eが付着した磁性を有するキャリアCを、マグネットローラ20の磁力により吸着し、磁界変化を利用して電極粒子Eが付着したキャリアCを振動させる。この振動と、マグネットローラ20の回転に伴う遠心力により、静電成膜装置1は、キャリアCから電極粒子Eを分離させることで電極粒子Eの集合体としての電極を成膜する。静電成膜装置1は、例えば、シート状の電極を成膜する。シート状の電極は、例えば、リチウムイオン電池などの二次電池用の電極として用いられる。静電成膜装置1は、供給部2と、成膜部3と、回収部4と、調整部5と、定着部6と、制御装置7と、を備える。電極粒子Eは、供給部2、成膜部3、調整部5、定着部6の順に搬送される。つまり、本実施形態では、供給部2が電極粒子Eの搬送方向における上流側である。また、定着部6が電極粒子Eの搬送方向における下流側である。また、以下において、重力方向を下側、重力方向とは反対方向を上側とする。
A. Embodiment:
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an electrostatic film forming apparatus 1 of this embodiment. FIG. 1 shows the state when the electrostatic film forming apparatus 1 is viewed from the side. The electrostatic film forming apparatus 1 attracts the magnetic carrier C to which the electrode particles E, which are film forming materials, are attached by the magnetic force of the magnet roller 20, and uses the magnetic field change to remove the carrier C to which the electrode particles E are attached. vibrate. By this vibration and the centrifugal force caused by the rotation of the magnet roller 20, the electrostatic film forming apparatus 1 separates the electrode particles E from the carrier C, thereby forming an electrode as an aggregate of the electrode particles E. As shown in FIG. The electrostatic film forming apparatus 1 forms, for example, a sheet-like electrode. A sheet-shaped electrode is used as an electrode for secondary batteries, such as a lithium ion battery, for example. The electrostatic film forming apparatus 1 includes a supply section 2 , a film forming section 3 , a collecting section 4 , an adjusting section 5 , a fixing section 6 and a control device 7 . The electrode particles E are transported to the supply section 2, the film formation section 3, the adjustment section 5, and the fixing section 6 in this order. In other words, in the present embodiment, the supply section 2 is the upstream side in the transport direction of the electrode particles E. As shown in FIG. Further, the fixing section 6 is the downstream side in the conveying direction of the electrode particles E. As shown in FIG. In the following description, the direction of gravity is defined as the lower side, and the direction opposite to the direction of gravity is defined as the upper side.

供給部2は、静電成膜装置1の搬送方向において成膜部3よりも上流側に設けられる。供給部2は、電極粒子EとキャリアCを後述する成膜部3に供給する。供給部2は、混合体貯留室200と、3つの供給室211,212,213とを備える。以下において、まず、電極粒子EおよびキャリアCについて説明する。 The supply unit 2 is provided upstream of the film forming unit 3 in the conveying direction of the electrostatic film forming apparatus 1 . The supply unit 2 supplies the electrode particles E and the carrier C to the film forming unit 3, which will be described later. The supply unit 2 includes a mixture storage chamber 200 and three supply chambers 211 , 212 and 213 . First, the electrode particles E and the carrier C will be described below.

電極粒子Eは、反磁性体であり、後述する磁極部材21や反発磁極部材60による磁力によって吸着されない。さらに、電極粒子Eは、電子伝導性を有し、活物質を含む。正極の電極を成膜する場合、電極粒子Eは正極の活物質を含む。正極の活物質としては、種々の酸化物、例えば、リチウムコバルト複合酸化物、リチウムマンガン複合酸化物が用いられる。また、負極の電極を成膜する場合、電極粒子Eは負極の活物質を含む。負極の活物質は、例えば、炭素系材料、チタン酸リチウム系材料、酸化物系材料、合金系材料、リチウム金属系材料が用いられる。なお、電極を構成する電極粒子Eは、本開示に限定されるものではなく、電子伝導性を有するものであればよい。また、電極粒子Eは、同極の活物質同士であれば2種以上の活物質を含んでもよい。 The electrode particles E are diamagnetic and are not attracted by the magnetic force of the magnetic pole member 21 and the repulsive magnetic pole member 60, which will be described later. Furthermore, the electrode particles E have electronic conductivity and contain an active material. When forming a positive electrode, the electrode particles E contain a positive electrode active material. Various oxides such as lithium-cobalt composite oxides and lithium-manganese composite oxides are used as the positive electrode active material. Moreover, when forming a negative electrode into a film, the electrode particles E contain a negative electrode active material. Carbon-based materials, lithium titanate-based materials, oxide-based materials, alloy-based materials, and lithium metal-based materials are used as the negative electrode active material, for example. It should be noted that the electrode particles E constituting the electrode are not limited to those disclosed in the present disclosure, and may be those having electronic conductivity. Moreover, the electrode particles E may contain two or more active materials of the same polarity.

キャリアCは、磁性体であるフェライト系粒子に非金属である樹脂被覆を施して構成されている。非金属の樹脂被覆は、導電性を有することが好ましい。キャリアCは、磁性を有するため、後述するマグネットローラ20の磁力によって引き寄せられて、後述する筒状部材30の表面に吸着される。 The carrier C is configured by coating ferrite particles, which are magnetic substances, with a resin, which is a non-metal. The nonmetallic resin coating preferably has conductivity. Since the carrier C has magnetism, it is attracted by the magnetic force of the magnet roller 20, which will be described later, and is attracted to the surface of the cylindrical member 30, which will be described later.

電極粒子EとキャリアCとは、攪拌装置によって混合されて、電極粒子EがキャリアCに付着して混合体ECとなった状態で静電成膜装置1に供給される。具体的には、電極粒子EがキャリアCとの摩擦によって負に帯電し、キャリアCの表面に分散した状態で静電的に付着することで混合体ECが形成される。なお、混合体ECは、磁性を有するキャリアCを含むため、磁性体として機能する。 The electrode particles E and the carrier C are mixed by a stirring device, and supplied to the electrostatic film forming apparatus 1 in a state in which the electrode particles E adhere to the carrier C to form a mixture EC. Specifically, the electrode particles E are negatively charged by friction with the carrier C, and electrostatically adhere to the surface of the carrier C in a dispersed state, thereby forming the mixture EC. In addition, since the mixture EC contains the carrier C having magnetism, it functions as a magnetic material.

続いて、供給部2の各構成要素とその機能について説明する。混合体貯留室200は、供給部2において、後述する第1供給室211よりも上流側に設けられる。混合体貯留室200は、混合体ECを貯留する。混合体ECは、図示しない通路により、混合体貯留室200へと供給される。さらに、混合体ECは、混合体貯留室200と後述する第1供給室211とが連通する連通口201を通じて、混合体貯留室200から後述する第1供給室211へと供給される。 Next, each component of the supply section 2 and its function will be described. The mixed material storage chamber 200 is provided upstream of a first supply chamber 211 (to be described later) in the supply section 2 . The mixture storage chamber 200 stores the mixture EC. The mixture EC is supplied to the mixture storage chamber 200 through a passage (not shown). Furthermore, the mixture EC is supplied from the mixture storage chamber 200 to a first supply chamber 211 described later through a communication port 201 that communicates the mixture storage chamber 200 and a first supply chamber 211 described later.

供給室211,212,213は、供給部2において、混合体貯留室200の下流側にこの順で設けられる。供給室211,212,213は、混合体貯留室200から供給される混合体ECを後述する成膜部3に向けて搬送し、後述する成膜部3に供給する。以下において、3つの供給室211,212,213は、それぞれを第1供給室211、第2供給室212、第3供給室213と呼ぶ。 The supply chambers 211 , 212 , 213 are provided in this order on the downstream side of the mixture storage chamber 200 in the supply section 2 . The supply chambers 211, 212, and 213 convey the mixture EC supplied from the mixture storage chamber 200 toward the film forming section 3, which will be described later, and supply it to the film forming section 3, which will be described later. The three supply chambers 211, 212, and 213 are hereinafter referred to as the first supply chamber 211, the second supply chamber 212, and the third supply chamber 213, respectively.

第1供給室211は、混合体貯留室200から供給される混合体ECを受容し、第2供給室212に供給する。第1供給室211は、混合体貯留室200の下流側、かつ、第2供給室212の上流側に設けられる。第1供給室211は、半円筒形状であり、上部が開口した形状を成す。第1供給室211のうち、混合体貯留室200の連通口201が位置する側には、後述する第2壁部216よりも高さが高い第1壁部215が形成されている。第1供給室211は、複数の羽を有する第1回転翼221を備える。本実施形態では、第1回転翼221は、6つの羽を有する。第1回転翼221の6つの羽は、図示しない中心軸から放射状に広がる形状を成す。また、第1回転翼221は、後述する制御装置7の制御により、図示しない中心軸を中心として回転する。第1回転翼221の回転方向は、混合体ECを第2供給室212へと供給できる向きである。図1では、第1回転翼221は搬送方向と同じ方向に回転している。これにより、混合体貯留室200から供給される混合体ECは、第1供給室211における第1回転翼221の回転により、第2供給室212へと供給される。 The first supply chamber 211 receives the mixture EC supplied from the mixture storage chamber 200 and supplies it to the second supply chamber 212 . The first supply chamber 211 is provided downstream of the mixture storage chamber 200 and upstream of the second supply chamber 212 . The first supply chamber 211 has a semi-cylindrical shape with an open top. A first wall portion 215 higher than a second wall portion 216 described later is formed on the side of the first supply chamber 211 where the communication port 201 of the mixture storage chamber 200 is located. The first supply chamber 211 has a first rotor 221 having a plurality of blades. In this embodiment, the first rotor 221 has six blades. The six blades of the first rotor blade 221 form a shape that radiates from a central axis (not shown). Also, the first rotor blade 221 rotates around a central axis (not shown) under the control of the control device 7, which will be described later. The rotation direction of the first rotor blade 221 is the direction in which the mixture EC can be supplied to the second supply chamber 212 . In FIG. 1, the first rotor blade 221 is rotating in the same direction as the conveying direction. Thereby, the mixture EC supplied from the mixture storage chamber 200 is supplied to the second supply chamber 212 by the rotation of the first rotor blade 221 in the first supply chamber 211 .

第2供給室212は、第1供給室211から供給される混合体ECを受容し、成膜部3に供給する。第2供給室212は、第1供給室211の下流側、かつ、第3供給室213の上流側に設けられる。本実施形態では、供給室211,212,213のうち、第2供給室212が後述する汲み上げ磁極N1の最も近くに位置する。第2供給室212は、半円筒形状であり、上部が開口した形状を成す。第1供給室211と第2供給室212との間には、両者を隔てる間仕切りとしての第2壁部216が形成されている。第2供給室212は、第1回転翼221と同様の形状を成す第2回転翼222を備える。第2回転翼222は、第2供給室212と成膜部3との位置関係により、混合体ECが良好に供給できる方向に回転させることが好ましい。本実施形態では、第2回転翼222は、後述する制御装置7の制御により、図示しない中心軸を中心として第1回転翼221と同じ方向に回転する。これにより、第1供給室211から供給される混合体ECは、第2供給室212における第2回転翼222の回転により、成膜部3へと供給される。成膜部3に供給される混合体ECは、後述するマグネットローラ20の磁極の1つである汲み上げ磁極N1の磁力によって引き寄せられ、後述する筒状部材30の表面に吸着される。このとき、第2供給室212から供給される混合体ECの一部は、筒状部材30の表面に吸着されず、第2供給室212内に戻るほか、後述する第3壁部217を超えて第3供給室213へ流入する。 The second supply chamber 212 receives the mixture EC supplied from the first supply chamber 211 and supplies it to the film forming section 3 . The second supply chamber 212 is provided downstream of the first supply chamber 211 and upstream of the third supply chamber 213 . In this embodiment, of the supply chambers 211, 212, and 213, the second supply chamber 212 is positioned closest to the later-described pumping magnetic pole N1. The second supply chamber 212 has a semi-cylindrical shape with an open top. A second wall portion 216 is formed between the first supply chamber 211 and the second supply chamber 212 as a partition separating the two. The second supply chamber 212 includes a second rotor blade 222 having the same shape as the first rotor blade 221 . The second rotor blade 222 is preferably rotated in a direction in which the mixture EC can be well supplied depending on the positional relationship between the second supply chamber 212 and the film forming section 3 . In this embodiment, the second rotor blade 222 rotates in the same direction as the first rotor blade 221 about a central axis (not shown) under the control of the control device 7, which will be described later. Thereby, the mixture EC supplied from the first supply chamber 211 is supplied to the film forming section 3 by the rotation of the second rotor blade 222 in the second supply chamber 212 . The mixture EC supplied to the film forming section 3 is attracted by the magnetic force of a drawing-up magnetic pole N1, which is one of the magnetic poles of the magnet roller 20 described later, and is attracted to the surface of the cylindrical member 30 described later. At this time, a part of the mixture EC supplied from the second supply chamber 212 is not adsorbed on the surface of the cylindrical member 30 and returns into the second supply chamber 212. and flows into the third supply chamber 213 .

第3供給室213は、第2回転翼222の回転により後述する第3壁部217を超えて第3供給室213に流入した混合体ECを受容し、第2供給室212に供給する。第3供給室213は、半円筒形状であり、上部が開口した形状を成す。第2供給室212と第3供給室213との間には、両者を隔てる間仕切りとしての第3壁部217が形成されている。また、第3供給室213と後述する回収室420との間には、両者を隔てる第4壁部218が形成されている。第3供給室213は、第1回転翼221と同様の形状を成す第3回転翼223を備える。第3回転翼223は、第2回転翼222の回転方向とは反対の方向に回転させることが好ましい。本実施形態では、第3回転翼223は、後述する制御装置7の制御により、図示しない中心軸を中心として第2回転翼222とは反対の方向に回転する。これにより、第2回転翼222の回転により第3壁部217を越えて第3供給室213に流入した混合体ECを第2供給室212に供給することができる。 The third supply chamber 213 receives the mixture EC that has flowed into the third supply chamber 213 over a third wall portion 217 to be described later due to the rotation of the second rotor blade 222 , and supplies the mixture to the second supply chamber 212 . The third supply chamber 213 has a semi-cylindrical shape with an open top. A third wall portion 217 is formed between the second supply chamber 212 and the third supply chamber 213 as a partition separating the two. A fourth wall portion 218 is formed between the third supply chamber 213 and a recovery chamber 420, which will be described later, to separate them. The third supply chamber 213 includes a third rotor blade 223 having the same shape as the first rotor blade 221 . The third rotor blade 223 is preferably rotated in a direction opposite to the direction of rotation of the second rotor blade 222 . In this embodiment, the third rotor blade 223 rotates in the opposite direction to the second rotor blade 222 about a central axis (not shown) under the control of the control device 7, which will be described later. As a result, the mixture EC that has flowed into the third supply chamber 213 over the third wall portion 217 due to the rotation of the second rotor blade 222 can be supplied to the second supply chamber 212 .

成膜部3は、静電成膜装置1において、供給部2よりも上流側、かつ、後述する調整部5よりも下流側に設けられる。成膜部3では、供給部2から供給される混合体ECを後述するマグネットローラ20に吸着させる工程と、後述するバックアップローラ50と対向する位置に向けて搬送する工程とが実行される。さらに、成膜部3では、後述する飛翔領域300において電極粒子EをキャリアCから分離させ、後述する被成膜面68に電極粒子Eを成膜する工程が実行される。成膜部3の詳細構成は後述する。 The film forming unit 3 is provided upstream of the supply unit 2 and downstream of the adjusting unit 5 described later in the electrostatic film forming apparatus 1 . In the film forming unit 3, a step of attracting the mixture EC supplied from the supply unit 2 to a magnet roller 20 described later and a step of conveying the mixture EC toward a position facing a backup roller 50 described later are performed. Further, in the film-forming section 3, a step of separating the electrode particles E from the carrier C in the flight region 300 described later and forming a film of the electrode particles E on the film-forming surface 68 described later is executed. A detailed configuration of the film forming unit 3 will be described later.

図2は、本実施形態の成膜部3における各構成要素の位置関係を説明するための図である。図2では、静電成膜装置1の成膜部3を正面から見たときの状態を模式的に示している。図2では、静電成膜装置1の内部構成も模式的に示している。成膜部3は、マグネットローラ20と、バックアップローラ50と、反発磁極部材60と、図1に示す接地部材80と、これらの土台となる台座18と、を備える。以下において、成膜部3における各構成要素とその位置関係とを説明する。なお、成膜部3における電極粒子EとキャリアCとの挙動については、後述する。以下において、まず成膜部3の各構成要素およびその位置関係について説明する。 FIG. 2 is a diagram for explaining the positional relationship of each component in the film forming section 3 of this embodiment. FIG. 2 schematically shows a state when the film forming unit 3 of the electrostatic film forming apparatus 1 is viewed from the front. FIG. 2 also schematically shows the internal configuration of the electrostatic film forming apparatus 1 . The film forming section 3 includes a magnet roller 20, a backup roller 50, a repelling magnetic pole member 60, a ground member 80 shown in FIG. 1, and a pedestal 18 serving as a base for these. Below, each component in the film-forming part 3 and its positional relationship are demonstrated. The behavior of the electrode particles E and the carrier C in the film forming section 3 will be described later. First, each component of the film forming section 3 and the positional relationship thereof will be described below.

マグネットローラ20は、筒状部材30と、磁界発生手段としての磁極部材21と、図1に示す規制部材25と、図示しない電圧供給部と、図示しない電気配線と、を備える。 The magnet roller 20 includes a tubular member 30, a magnetic pole member 21 as magnetic field generating means, a regulating member 25 shown in FIG. 1, a voltage supply section (not shown), and electrical wiring (not shown).

筒状部材30は、後述する磁極部材21の磁力により、混合体ECを吸着して搬送する表面を有する。筒状部材30は、円筒形状を成す。筒状部材30は、導電性の非磁性材料で形成され、例えば、アルミニウムや非磁性ステンレス鋼で形成される。筒状部材30の長手方向は、台座18に対して水平となる方向である。筒状部材30は、筒状部材本体31と、第1軸部32とにより構成される。筒状部材本体31は、後述する磁極部材21を内包する。第1軸部32は、筒状部材30の回転軸である筒回転軸O1を形成する。第1軸部32は台座18から垂直方向に立設する第1支持部材33により回転可能に支持され、これにより、筒状部材30は支持される。なお、筒状部材30は、後述する制御装置7の制御により、筒回転軸O1回りに回転する。後述の図3において図示するが、本実施形態では、筒状部材30の回転方向は、第2回転翼222の回転方向とは反対の方向である。である。また、本実施形態では、筒回転軸O1が延びる方向は、水平方向である。 The cylindrical member 30 has a surface that attracts and conveys the mixture EC by the magnetic force of the magnetic pole member 21, which will be described later. The cylindrical member 30 has a cylindrical shape. The tubular member 30 is made of a conductive non-magnetic material, such as aluminum or non-magnetic stainless steel. The longitudinal direction of the tubular member 30 is a direction horizontal to the base 18 . The tubular member 30 is composed of a tubular member main body 31 and a first shaft portion 32 . The tubular member main body 31 includes a magnetic pole member 21, which will be described later. The first shaft portion 32 forms a cylinder rotation axis O<b>1 that is the rotation axis of the tubular member 30 . The first shaft portion 32 is rotatably supported by a first support member 33 erected vertically from the pedestal 18 , thereby supporting the tubular member 30 . The cylindrical member 30 rotates around the cylinder rotation axis O1 under the control of the control device 7, which will be described later. As shown in FIG. 3 to be described later, in this embodiment, the rotation direction of the tubular member 30 is opposite to the rotation direction of the second rotor blade 222 . is. Further, in the present embodiment, the direction in which the cylinder rotation axis O1 extends is the horizontal direction.

磁極部材21は、筒状部材30の内部に設けられる。磁極部材21は、筒状部材30より径が小さく設けられた磁極部材本体21aと、第2軸部22と、により構成される。磁極部材21の長手方向は、筒状部材30と同様に、水平方向である。 The magnetic pole member 21 is provided inside the tubular member 30 . The magnetic pole member 21 is composed of a magnetic pole member body 21 a having a diameter smaller than that of the cylindrical member 30 and a second shaft portion 22 . Like the cylindrical member 30, the longitudinal direction of the magnetic pole member 21 is the horizontal direction.

磁極部材本体21aは、複数の磁石で構成され、それぞれに磁極N1,S1,N2,S2,N3を有する。磁極部材本体21aは、後述する第2軸部22を中心として放射状に形成される。磁極部材本体21aの詳細については、図3を用いて後述する。 The magnetic pole member main body 21a is composed of a plurality of magnets, each having magnetic poles N1, S1, N2, S2 and N3. The magnetic pole member main body 21a is radially formed around a second shaft portion 22, which will be described later. Details of the magnetic pole member body 21a will be described later with reference to FIG.

第2軸部22は、磁極部材本体21aよりも径が小さくなるよう設けられる。磁極部材21は、磁極部材21の第2軸部22を、第1支持部材33により支持することで、筒状部材30の内部に固定されている。なお、本実施形態では、磁極部材21は、回転することなく固定されている。なお、磁極部材21は、筒状部材30の内部において回転することなく固定されていればよく、磁極部材21を支持する位置および数は、本開示に限られるものではない。 The second shaft portion 22 is provided so as to have a smaller diameter than the magnetic pole member main body 21a. The magnetic pole member 21 is fixed inside the tubular member 30 by supporting the second shaft portion 22 of the magnetic pole member 21 with the first support member 33 . In addition, in this embodiment, the magnetic pole member 21 is fixed without rotating. Note that the magnetic pole member 21 only needs to be fixed inside the cylindrical member 30 without rotating, and the position and number of supporting the magnetic pole member 21 are not limited to the present disclosure.

規制部材25は、磁極部材21の磁力により筒状部材30の表面に吸着された混合体ECのうち、過剰分を脱落させる。規制部材25の詳細は、図3を用いて後述する。 The regulating member 25 removes excess of the mixture EC attracted to the surface of the tubular member 30 by the magnetic force of the magnetic pole member 21 . Details of the restricting member 25 will be described later with reference to FIG.

電圧供給部は、図示しないが、マグネットローラ20、特に筒状部材30に電圧を供給する電圧供給装置を含む。マグネットローラ20と図示しない電圧供給部は、図示しない電気配線により接続される。マグネットローラ20は、図示しない電気配線を介して、電圧供給部から予め定められた電圧を印加される。電極粒子Eの成膜時におけるマグネットローラ20に対する電圧の印加の態様については、後述する。なお、マグネットローラ20における各構成要素の形状、形成位置、大きさ、および、回転の態様は本開示に限られるものではない。 The voltage supply section includes a voltage supply device (not shown) that supplies voltage to the magnet roller 20 , particularly the tubular member 30 . The magnet roller 20 and the voltage supply unit (not shown) are connected by electric wiring (not shown). A predetermined voltage is applied to the magnet roller 20 from a voltage supply unit via electric wiring (not shown). A mode of voltage application to the magnet roller 20 during film formation of the electrode particles E will be described later. It should be noted that the shape, formation position, size, and manner of rotation of each component in the magnet roller 20 are not limited to the present disclosure.

バックアップローラ50は、バックアップローラ50の表面に被成膜面68を有し、後述する箔Fを搬送する。バックアップローラ50は、マグネットローラ20と離間して設けられる。図2で示す例では、バックアップローラ50は、マグネットローラ20の上側に設けられている。また、図2では、マグネットローラ20の表面における一部とバックアップローラ50の表面における一部とは対向している。バックアップローラ50は、円筒形状を成す。バックアップローラ50は、金属等の導電性材料で形成され、例えば、アルミニウムで形成される。バックアップローラ50の長手方向は、水平方向である。 The backup roller 50 has a film-forming surface 68 on the surface of the backup roller 50, and conveys a foil F, which will be described later. The backup roller 50 is provided apart from the magnet roller 20 . In the example shown in FIG. 2 , the backup roller 50 is provided above the magnet roller 20 . In FIG. 2, a portion of the surface of the magnet roller 20 and a portion of the surface of the backup roller 50 face each other. The backup roller 50 has a cylindrical shape. The backup roller 50 is made of a conductive material such as metal, for example, aluminum. The longitudinal direction of the backup roller 50 is the horizontal direction.

バックアップローラ50は、バックアップローラ本体51と、第3軸部52と、により構成される。バックアップローラ本体51は、後述する反発磁極部材60を内包する。バックアップローラ50は、バックアップローラ回転軸O3を形成する第3軸部52を有する。図2では、第3軸部52は、バックアップローラ本体51より径が小さくなるよう設けられている。第3軸部52は、台座18から垂直方向に立設する第3支持部材53により回転可能に支持され、これにより、バックアップローラ50は支持される。バックアップローラ50は、後述する制御装置7の制御により、バックアップローラ50の中心軸であるバックアップローラ回転軸O3回りに回転する。本実施形態では、バックアップローラ50の回転方向は、マグネットローラ20の回転方向とは反対方向である。また、本実施形態では、バックアップローラ回転軸O3が延びる方向は、水平方向である。 The backup roller 50 is composed of a backup roller main body 51 and a third shaft portion 52 . The backup roller main body 51 includes a repelling magnetic pole member 60, which will be described later. The backup roller 50 has a third shaft portion 52 that forms the backup roller rotation axis O3. In FIG. 2 , the third shaft portion 52 is provided so as to have a diameter smaller than that of the backup roller main body 51 . The third shaft portion 52 is rotatably supported by a third support member 53 erected vertically from the pedestal 18 , thereby supporting the backup roller 50 . The backup roller 50 rotates around a backup roller rotation axis O3, which is the central axis of the backup roller 50, under the control of the control device 7, which will be described later. In this embodiment, the rotation direction of the backup roller 50 is opposite to the rotation direction of the magnet roller 20 . Further, in the present embodiment, the direction in which the backup roller rotation axis O3 extends is the horizontal direction.

バックアップローラ50は、バックアップローラ50の表面のうち、マグネットローラ20と対向する位置において、キャリアCから分離した電極粒子Eが成膜される被成膜面68を有する。本実施形態では、図1に示すように、被成膜面68に沿うように長尺状の箔Fが連続的に供給される。すなわち、キャリアCから分離した電極粒子Eは、被成膜面68に直接成膜されるのではなく、被成膜面68上に供給される箔F上に成膜される。箔Fは、金属等の導電性材料で形成され、例えば、アルミニウムにより形成される。箔Fはシート状の電極の土台としての機能を有する。箔Fと、箔F上に成膜された電極粒子Eとしての成形前電極Iと、は後述する定着部6において押圧され、箔Fと電極粒子Eとが密着して一体となることで、シート状の電極が製造される。 The backup roller 50 has a film formation surface 68 on which the electrode particles E separated from the carrier C are formed at a position facing the magnet roller 20 on the surface of the backup roller 50 . In this embodiment, as shown in FIG. 1, a long foil F is continuously supplied along the film-forming surface 68 . That is, the electrode particles E separated from the carrier C are not deposited directly on the film-forming surface 68 but are deposited on the foil F supplied onto the film-forming surface 68 . The foil F is made of a conductive material such as metal, for example aluminum. The foil F functions as a base for the sheet-shaped electrodes. The foil F and the pre-formed electrode I as the electrode particles E deposited on the foil F are pressed in a fixing section 6 described later, and the foil F and the electrode particles E are brought into close contact with each other to be integrated. A sheet-like electrode is produced.

なお、バックアップローラ50は、反発磁極部材60よりも径が大きければよく、バックアップローラ50の各構成要素の形状、形成位置、大きさ、および、回転の態様は本開示に限定されるものではない。 The backup roller 50 only needs to have a larger diameter than the repulsive magnetic pole member 60, and the shape, formation position, size, and rotation mode of each component of the backup roller 50 are not limited to the present disclosure. .

反発磁極部材60は、バックアップローラ50の内部のうち、バックアップローラ回転軸O3とマグネットローラ20との間に設けられている。本実施形態では、反発磁極部材60は、バックアップローラ回転軸O3よりも下側に設けられている。反発磁極部材60は、磁界発生手段である。反発磁極部材60は、磁極部材21が有する後述する対向磁極N2と反発磁極部材60が有する反発磁極Nとが対向する対向位置と、後述する対向磁極N2と反発磁極Nとが対向しない非対向位置と、に変位可能に構成される。本実施形態では、固定された位置に存在する後述する対向磁極N2に対して、反発磁極Nを有する反発磁極部材60を回転させることで、対向位置と非対向位置とに変位可能としている。反発磁極部材60は、反発磁極部材本体60aと、反発磁極回転軸O4を形成する第4軸部62とを有する。反発磁極部材60の長手方向は、バックアップローラ50と同様に、水平方向である。 The repelling magnetic pole member 60 is provided inside the backup roller 50 between the backup roller rotating shaft O<b>3 and the magnet roller 20 . In this embodiment, the repelling magnetic pole member 60 is provided below the backup roller rotation axis O3. The repulsive magnetic pole member 60 is magnetic field generating means. The repelling magnetic pole member 60 has a facing position where the later-described opposing magnetic pole N2 of the magnetic pole member 21 faces the repelling magnetic pole N of the repelling magnetic pole member 60, and a non-facing position where the later-described opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N do not face each other. , and are configured to be displaceable. In this embodiment, by rotating a repelling magnetic pole member 60 having a repelling magnetic pole N with respect to a later-described opposing magnetic pole N2 that exists at a fixed position, it can be displaced between a facing position and a non-opposing position. The repulsion magnetic pole member 60 has a repulsion magnetic pole member main body 60a and a fourth shaft portion 62 that forms a repulsion magnetic pole rotation axis O4. The longitudinal direction of the repelling magnetic pole member 60 is horizontal, like the backup roller 50 .

反発磁極部材本体60aは、複数の磁石で構成される。図1で示すように、反発磁極部材本体60aを構成する磁石は、それぞれに反発磁極Nを有する。図1および図2に示すように、反発磁極部材本体60aを構成する複数の磁石は板状であり、第4軸部62により支持される。 The repulsion magnetic pole member main body 60a is composed of a plurality of magnets. As shown in FIG. 1, the magnets forming the repulsive magnetic pole member body 60a each have a repulsive magnetic pole N. As shown in FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, the plurality of magnets forming the repulsion magnetic pole member main body 60 a are plate-shaped and supported by the fourth shaft portion 62 .

第4軸部62は、バックアップローラ50の内部において、回転可能に支持される。このとき、反発磁極部材本体60aは、後述する制御装置7の制御により、反発磁極回転軸O4回りに回転する。本実施形態では、反発磁極部材60は、マグネットローラ20とは反対の方向に回転する。反発磁極回転軸O4が延びる方向は、水平方向である。なお、反発磁極部材本体60aを構成する磁石の数および形成位置は、これに限られるものではない。反発磁極部材本体60aは、後述する対向磁極N2と対向して反発する反発磁極Nを有していればよい。反発磁極部材本体60aは、例えば、5つの磁石により構成され、5つの磁極を有してもよい。反発磁極部材本体60aの詳細については、図3を用いて後述する。 The fourth shaft portion 62 is rotatably supported inside the backup roller 50 . At this time, the repulsion magnetic pole member main body 60a rotates around the repulsion magnetic pole rotation axis O4 under the control of the control device 7, which will be described later. In this embodiment, the repelling magnetic pole member 60 rotates in the direction opposite to the magnet roller 20 . The direction in which the repulsion magnetic pole rotation axis O4 extends is the horizontal direction. The number and positions of the magnets forming the repulsive magnetic pole member main body 60a are not limited to this. The repelling magnetic pole member main body 60a may have a repelling magnetic pole N that opposes and repels a later-described opposing magnetic pole N2. The repelling magnetic pole member main body 60a may be composed of, for example, five magnets and have five magnetic poles. Details of the repulsion magnetic pole member body 60a will be described later with reference to FIG.

反発磁極部材60の各構成要素の形状、形成位置、大きさ、回転の態様、対向位置と非対向位置との変位手段は、上記に限定されるものではない。反発磁極部材60は、バックアップローラ50よりも径が小さく設けられ、対向磁極N2と反発磁極Nとが対向する対向位置と、対向磁極N2と反発磁極Nとが対向しない非対向位置と、に変位可能に構成されればよい。 The shape, formation position, size, manner of rotation, and displacement means between the opposed position and the non-opposed position of each component of the repulsive magnetic pole member 60 are not limited to those described above. The repelling magnetic pole member 60 is provided with a diameter smaller than that of the backup roller 50, and is displaced between a facing position where the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N face each other and a non-facing position where the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N do not face each other. It is sufficient if it is configured to be possible.

図1に戻り、静電成膜装置1が備える他の構成要素について説明する。回収部4は、磁極部材21の磁力により筒状部材30の表面に吸着されていた混合体ECが離脱した際に、離脱した混合体ECを回収する。回収部4は、排出部材410と、回収室420とを備える。 Returning to FIG. 1, other components included in the electrostatic film forming apparatus 1 will be described. The recovery unit 4 recovers the detached mixture EC when the mixture EC adsorbed to the surface of the cylindrical member 30 is detached by the magnetic force of the magnetic pole member 21 . The collection unit 4 includes a discharge member 410 and a collection chamber 420 .

排出部材410は、上述のように離脱した混合体ECを受容し、回収室420へと導く。以下において、排出部材410のうち、マグネットローラ20が位置する側を先端側とする。また、排出部材410の先端側とは反対側に位置する部分を基端側とする。排出部材410の先端側は、磁極部材21が有する複数の磁極N1,S1,N2,S2,N3のうち、後述する離脱磁極N3と汲み上げ磁極N1との間であって、筒状部材30の表面と対向するように設けられる。また、排出部材410の基端側は、第4壁部218において、回収室420の一部と当接する部分に設けられ、回収室420の一部に固定されている。なお、排出部材410の形状は、本開示に限られるものではない。排出部材410は、マグネットローラ20から離脱した混合体ECを回収室へと導くことができる形状であればよい。 The discharge member 410 receives the separated mixture EC as described above and guides it to the recovery chamber 420 . Hereinafter, the side of the ejecting member 410 on which the magnet roller 20 is positioned is referred to as the leading end side. In addition, the portion located on the side opposite to the distal end side of the ejection member 410 is defined as the proximal end side. The tip end side of the discharging member 410 is between a later-described separating magnetic pole N3 and a pumping magnetic pole N1 among the plurality of magnetic poles N1, S1, N2, S2, and N3 possessed by the magnetic pole member 21, and is located on the surface of the cylindrical member 30. provided to face the The base end side of the discharge member 410 is provided at a portion of the fourth wall portion 218 that abuts on a portion of the recovery chamber 420 and is fixed to a portion of the recovery chamber 420 . Note that the shape of the discharge member 410 is not limited to the present disclosure. The discharge member 410 may have any shape as long as it can guide the mixture EC separated from the magnet roller 20 to the collection chamber.

回収室420は、排出部材410の基端側に設けられる。回収室420は、排出部材410を伝って供給される混合体ECを回収する空間である。このようにして、回収部4は、キャリアCと、成膜部3においてキャリアCから分離しなかった電極粒子Eと、を回収する。なお、回収室420に回収された電極粒子EおよびキャリアCは、図示しない連結部材により、供給部2に供給してもよい。このようにすると、回収室420に回収された電極粒子EおよびキャリアCを簡便に再利用することができる。 The recovery chamber 420 is provided on the proximal end side of the discharge member 410 . The recovery chamber 420 is a space for recovering the mixture EC supplied along the discharge member 410 . In this manner, the recovery section 4 recovers the carrier C and the electrode particles E that have not been separated from the carrier C in the film forming section 3 . The electrode particles E and carriers C collected in the collection chamber 420 may be supplied to the supply section 2 by a connecting member (not shown). By doing so, the electrode particles E and the carrier C collected in the collection chamber 420 can be easily reused.

調整部5は、成膜部3において箔F上に成膜された電極粒子Eとしての成形前電極Iの状態を確認し、膜の厚み等の調整を行う。調整部5は、厚み補正部材510と、押圧部材520と、センサ530と、キャリア除去装置540と、を備える。本実施形態では、厚み補正部材510と、押圧部材520と、センサ530と、キャリア除去装置540とは、静電成膜装置1の搬送方向において、この順に設けられている。なお、調整部5の各構成要素および配置される順番は、本開示に限られるものではない。例えば、調整部5に列挙した構成要素は必須ではなく、調整部5は別の構成要素を付加的に備えてもよい。また、各構成要素は本実施形態とは異なる順に配置されてもよい。 The adjustment unit 5 checks the state of the pre-formed electrode I as the electrode particles E formed on the foil F in the film formation unit 3, and adjusts the thickness of the film. The adjustment section 5 includes a thickness correction member 510 , a pressing member 520 , a sensor 530 and a carrier removal device 540 . In this embodiment, the thickness correction member 510, the pressing member 520, the sensor 530, and the carrier removing device 540 are provided in this order in the transport direction of the electrostatic film forming apparatus 1. FIG. Note that each component of the adjustment unit 5 and the order in which the components are arranged are not limited to the present disclosure. For example, the components listed in the adjustment section 5 are not essential, and the adjustment section 5 may additionally include other components. Also, each component may be arranged in an order different from that of the present embodiment.

厚み補正部材510は、被成膜面68における箔F上に成膜された成形前電極Iの厚みを規制する。厚み補正部材510は、いわゆるスクレーバである。厚み補正部材510の先端は、成形前電極Iの外表面と対向するよう設けられる。また、厚み補正部材510は、被成膜面68から成形前電極Iの外表面までの厚み方向において、予め定められた距離の分だけ被成膜面68から離れた位置に設けられる。ここで、バックアップローラ50が回転しながら、厚み補正部材510の先端が成形前電極Iの表面に接触することで、予め定められた厚みを超える部分は削ぎ落とされる。すなわち、厚み補正部材510により、被成膜面68における箔F上に成膜された成形前電極Iは予め定められた厚みに規制される。 The thickness correction member 510 regulates the thickness of the preformed electrode I formed on the foil F on the film formation surface 68 . The thickness correction member 510 is a so-called scraper. The tip of the thickness correction member 510 is provided so as to face the outer surface of the electrode I before molding. Further, the thickness correction member 510 is provided at a position separated from the film formation surface 68 by a predetermined distance in the thickness direction from the film formation surface 68 to the outer surface of the electrode I before molding. Here, while the backup roller 50 rotates, the tip of the thickness correction member 510 comes into contact with the surface of the preformed electrode I, thereby scraping off the portion exceeding the predetermined thickness. That is, the thickness correction member 510 regulates the thickness of the preformed electrode I formed on the foil F on the film formation surface 68 to a predetermined thickness.

押圧部材520は、被成膜面68において箔F上に成膜された成形前電極Iを押圧し、成膜された電極粒子Eの厚みを一定にする。本実施形態では、押圧部材520は、後述する制御装置7の制御により、図示しない中心軸を中心に回転するロール状の形状を成す。本実施形態では、押圧部材520の回転方向は、バックアップローラ50の回転方向と同じである。押圧部材520は、絶縁体材料により形成され、例えば、ゴムで形成される。押圧部材520は、バックアップローラ50の被成膜面68上の成形前電極Iと接触する接触面を備える。押圧部材520の接触面は、バックアップローラ50の表面と対向するように平行に設けられる。押圧部材520は、図示しない中心軸を中心に回転しながら成形前電極Iの表面と接触する。本実施形態では、押圧部材520は、バックアップローラ50の回転方向とは反対の方向に回転する。ここで、成形前電極Iの厚み方向において、押圧部材520と成形前電極Iの表面との距離は、厚み補正部材510と成形前電極Iの表面との距離よりも短くすることが好ましい。このようにすると、厚み補正部材510によって予め定められた厚みに規制された箔F上の成形前電極Iを、押圧部材520の接触面と接触させたときに、成形前電極Iの厚みが均一になる。 The pressing member 520 presses the pre-molding electrode I deposited on the foil F on the deposition surface 68 to make the thickness of the deposited electrode particles E constant. In this embodiment, the pressing member 520 has a roll-like shape that rotates around a central axis (not shown) under the control of the control device 7, which will be described later. In this embodiment, the rotating direction of the pressing member 520 is the same as the rotating direction of the backup roller 50 . The pressing member 520 is made of an insulating material, such as rubber. The pressing member 520 has a contact surface that contacts the pre-molding electrode I on the film-forming surface 68 of the backup roller 50 . A contact surface of the pressing member 520 is provided in parallel so as to face the surface of the backup roller 50 . The pressing member 520 contacts the surface of the preformed electrode I while rotating around a central axis (not shown). In this embodiment, the pressing member 520 rotates in a direction opposite to the rotating direction of the backup roller 50 . Here, in the thickness direction of the electrode I before molding, the distance between the pressing member 520 and the surface of the electrode I before molding is preferably shorter than the distance between the thickness correction member 510 and the surface of the electrode I before molding. In this way, when the pre-shaped electrode I on the foil F, which is regulated to a predetermined thickness by the thickness correction member 510, is brought into contact with the contact surface of the pressing member 520, the thickness of the pre-shaped electrode I is uniform. become.

センサ530は、被成膜面68における箔F上に成膜された成形前電極Iの状態、例えば、表面の凹凸や厚み、キャリアCの混入の有無、異物の混入の有無などを検出する。センサ530は、検出した情報を制御装置7に伝達する。 The sensor 530 detects the state of the pre-molding electrode I deposited on the foil F on the film-forming surface 68, for example, the unevenness and thickness of the surface, the presence or absence of carrier C contamination, the presence or absence of foreign matter contamination, and the like. Sensor 530 transmits detected information to control device 7 .

キャリア除去装置540は、成膜部3における成膜に際し、成形前電極IにキャリアCが混入した場合に、成形前電極IからキャリアCを除去する。キャリア除去装置540は、例えば、磁石で構成され、成形前電極Iと対向するよう設けられる。成形前電極Iが箔Fとともに搬送方向に搬送され、箔F上の成形前電極Iがキャリア除去装置540と対向すると、成形前電極Iに混入した磁性を有するキャリアCは、キャリア除去装置540の磁力によりキャリア除去装置540に吸着される。これに対して、本実施形態における箔Fはアルミニウムで構成されるため磁性を有さず、成形前電極Iを構成する電極粒子Eは反磁性体である。そのため、箔Fおよび成形前電極Iは、キャリア除去装置540による磁力に引き寄せられず、キャリア除去装置540に吸着しない。このようにすれば、成形前電極Iに混入したキャリアCを除去し、箔F上の電極粒子Eの純度を向上させることができる。なお、箔Fとして磁性を有する金属箔を使用する場合には、キャリア除去装置540の磁力による箔Fの浮き上がりを防止するためのローラを設ければよい。この場合、例えば、箔Fの搬送方向において、キャリア除去装置540の上流側と下流側とに一対のローラを設ける。なお、キャリア除去装置540は、成形前電極Iに混入したキャリアCに関する情報、例えば、混入箇所や混入量を、センサで認識し、制御装置7を介して取得してもよい。 The carrier removal device 540 removes the carrier C from the pre-molding electrode I when the carrier C is mixed in the pre-molding electrode I during film formation in the film forming section 3 . The carrier removing device 540 is composed of, for example, a magnet and provided so as to face the pre-molding electrode I. As shown in FIG. When the pre-shaped electrode I is transported in the transport direction together with the foil F, and the pre-shaped electrode I on the foil F faces the carrier removing device 540, the magnetic carrier C mixed in the pre-shaped electrode I is removed from the carrier removing device 540. It is attracted to the carrier removal device 540 by magnetic force. On the other hand, the foil F in the present embodiment is made of aluminum and does not have magnetism, and the electrode particles E constituting the preformed electrode I are diamagnetic. Therefore, the foil F and the preformed electrode I are not attracted by the magnetic force of the carrier removing device 540 and are not attracted to the carrier removing device 540 . By doing so, the carrier C mixed in the preformed electrode I can be removed, and the purity of the electrode particles E on the foil F can be improved. When a magnetic metal foil is used as the foil F, a roller may be provided to prevent the foil F from floating due to the magnetic force of the carrier removing device 540 . In this case, for example, a pair of rollers are provided upstream and downstream of the carrier removing device 540 in the direction in which the foil F is conveyed. Note that the carrier removing device 540 may recognize information about the carrier C mixed in the pre-molding electrode I, such as the mixed location and the mixed amount, using a sensor and acquire the information via the control device 7 .

定着部6は、箔Fと箔F上に成膜された成形前電極Iとを押圧し、箔Fと成形前電極Iとを密着させ、一体化させる。定着部6は、搬送方向において、調整部5の下流側に設けられる。定着部6は、定着ローラ610,620を備える。定着ローラ610,620は、箔Fと箔F上に成膜された成形前電極Iとを搬送方向に挟み込む一対のローラである。すなわち、定着ローラ610,620は、箔F側に位置する一面と、一面とは反対側に位置し成形前電極I側としての他面と、にそれぞれ設けられる。定着ローラ610,620は、後述する制御装置7の制御により、箔Fの搬送速度に同期して回転するとともに、図示しない加熱装置にて箔Fと成形前電極Iとを加熱する。そして、定着部6は、対を成す定着ローラ610と定着ローラ620との間を、箔Fと成形前電極Iとが通過する際に、圧力および熱を加えて、成形前電極Iを箔Fに定着させる。これにより、箔Fと成形前電極Iとが一体になることで、シート状の電極が製造される。 The fixing unit 6 presses the foil F and the pre-molding electrode I formed on the foil F to bring the foil F and the pre-molding electrode I into close contact and integrate them. The fixing section 6 is provided downstream of the adjustment section 5 in the transport direction. The fixing section 6 includes fixing rollers 610 and 620 . The fixing rollers 610 and 620 are a pair of rollers that sandwich the foil F and the pre-molding electrode I formed on the foil F in the conveying direction. That is, the fixing rollers 610 and 620 are provided on one surface located on the foil F side and on the other surface located on the opposite side to the one surface and on the pre-molding electrode I side. The fixing rollers 610 and 620 are rotated in synchronism with the transport speed of the foil F under the control of the control device 7, which will be described later, and heat the foil F and the preformed electrode I by a heating device (not shown). The fixing unit 6 applies pressure and heat when the foil F and the pre-molded electrode I pass between a pair of fixing rollers 610 and 620 to fix the pre-molded electrode I to the foil F. to settle. As a result, the foil F and the preformed electrode I are integrated to produce a sheet-like electrode.

接地部材80は、導電性を有するバックアップローラ50および箔Fを無電荷にする。接地部材80は、接地(アース)されている。接地部材80は、バックアップローラ50のバックアップローラ本体51と当接し、バックアップローラ50の電荷を無電荷の状態に保つ。 The grounding member 80 renders the conductive backup roller 50 and the foil F uncharged. The grounding member 80 is grounded (earthed). The grounding member 80 contacts the backup roller main body 51 of the backup roller 50 and keeps the backup roller 50 in an uncharged state.

制御装置7は、以上において説明した静電成膜装置1の各構成要素に対して、駆動力を与えて制御する。図1では、制御装置7と電気的に接続されて制御される静電成膜装置1の各構成要素のうち、電気的な接続の態様の一部を代表して模式的に図示している。具体的には、制御装置7は、第1回転翼221と、第2回転翼222と、第3回転翼223と、筒状部材30と、バックアップローラ50と、反発磁極部材60と、押圧部材520と、定着ローラ610,620と、に駆動力を与える。これにより、静電成膜装置1の各構成要素221,222,223,30,50,60,520,610,620は、回転する。制御装置7は、図示しないモータを含む。制御装置7と各構成要素221,222,223,30,50,60,520,610,620とは、電気配線により接続されている。なお、静電成膜装置1の各構成要素221,222,223,30,50,60,520,610,620の回転速度は、制御装置7のモータの回転数により制御される。 The control device 7 applies a driving force to each component of the electrostatic film forming apparatus 1 described above to control them. In FIG. 1, among the constituent elements of the electrostatic film forming apparatus 1 that are electrically connected to and controlled by the control device 7, a part of the electrical connection mode is schematically illustrated as a representative. . Specifically, the control device 7 controls the first rotor blade 221, the second rotor blade 222, the third rotor blade 223, the tubular member 30, the backup roller 50, the repelling magnetic pole member 60, and the pressing member. 520 and fixing rollers 610 and 620 are provided with a driving force. Thereby, each component 221, 222, 223, 30, 50, 60, 520, 610, 620 of the electrostatic film forming apparatus 1 rotates. The control device 7 includes a motor (not shown). The control device 7 and each component 221, 222, 223, 30, 50, 60, 520, 610, 620 are connected by electrical wiring. The rotation speed of each component 221 , 222 , 223 , 30 , 50 , 60 , 520 , 610 , 620 of the electrostatic film forming apparatus 1 is controlled by the rotation speed of the motor of the controller 7 .

以上で説明した静電成膜装置1を前提として、成膜部3における各構成要素の詳細および電極粒子EとキャリアCとの挙動について説明する。 Based on the electrostatic film forming apparatus 1 described above, the details of each component in the film forming unit 3 and the behavior of the electrode particles E and the carrier C will be described.

図3は、成膜部3における電極粒子EとキャリアCとの挙動を説明するための図である。図3では、静電成膜装置1の成膜部3を側面から見たときの状態を模式的に示している。また、図3では、被成膜面68に搬送される長尺状の箔Fは、バックアップローラ50と当接する部分のみを模式的に示している。以下において、まず、磁極部材21が有する各磁極N1,S1,N2,S2,N3の構成ついて説明する。 FIG. 3 is a diagram for explaining the behavior of the electrode particles E and the carrier C in the film forming section 3. As shown in FIG. FIG. 3 schematically shows a state of the film forming unit 3 of the electrostatic film forming apparatus 1 viewed from the side. In addition, FIG. 3 schematically shows only a portion of the elongated foil F conveyed to the film formation surface 68 that contacts the backup roller 50 . First, the configuration of each of the magnetic poles N1, S1, N2, S2, and N3 that the magnetic pole member 21 has will be described below.

前述の通り、磁極部材21において、磁界発生手段として機能する磁極部材本体21aは、複数の磁石で構成され、それぞれに磁極N1,S1,N2,S2,N3を有する。本実施形態では、磁極部材本体21aは5つの磁石によって構成される。すなわち、磁極部材本体21aの磁極の数は5つである。5つの磁石は、図3に示すように、板状を成し、第2軸部22を中心として放射状に広がる形状を成す。以下において、磁極部材本体21aを構成する各磁石と第2軸部22とが当接する部分を第1基端部とする。また、各磁石において第1基端部とは反対側に位置する部分、すなわち、筒状部材30の内表面と対向する部分を第1先端部とする。磁極部材本体21aの磁極N1,S1,N2,S2,N3は、各磁石の第1先端部に位置する。 As described above, in the magnetic pole member 21, the magnetic pole member main body 21a functioning as a magnetic field generating means is composed of a plurality of magnets, each having magnetic poles N1, S1, N2, S2 and N3. In this embodiment, the magnetic pole member body 21a is composed of five magnets. That is, the number of magnetic poles of the magnetic pole member main body 21a is five. As shown in FIG. 3 , the five magnets are plate-shaped and form a shape that spreads radially around the second shaft portion 22 . Hereinafter, the portion where each magnet constituting the magnetic pole member main body 21a and the second shaft portion 22 abut is referred to as a first base end portion. A portion of each magnet located on the side opposite to the first base end portion, that is, a portion facing the inner surface of the cylindrical member 30 is defined as a first tip portion. The magnetic poles N1, S1, N2, S2, and N3 of the magnetic pole member main body 21a are located at the first tip of each magnet.

磁極部材本体21aの各磁極N1,S1,N2,S2,N3は、汲み上げ磁極N1と、第1搬送磁極S1と、対向磁極N2と、第2搬送磁極S2と、離脱磁極N3である。汲み上げ磁極N1と、第1搬送磁極S1と、対向磁極N2と、第2搬送磁極S2と、離脱磁極N3とは、筒状部材30の内部において、この順に設けられる。 The magnetic poles N1, S1, N2, S2, N3 of the magnetic pole member main body 21a are a pumping magnetic pole N1, a first transfer magnetic pole S1, a facing magnetic pole N2, a second transfer magnetic pole S2, and a detachment magnetic pole N3. The pumping magnetic pole N1, the first transport magnetic pole S1, the opposing magnetic pole N2, the second transport magnetic pole S2, and the detachment magnetic pole N3 are provided inside the tubular member 30 in this order.

汲み上げ磁極N1は、図1に示すように、第2供給室212の上側において、第2供給室212と対向する位置に設けられる。本実施形態では、汲み上げ磁極N1の極性は、N極である。 The pumping magnetic pole N1 is provided at a position facing the second supply chamber 212 on the upper side of the second supply chamber 212, as shown in FIG. In this embodiment, the polarity of the pumping magnetic pole N1 is north pole.

対向磁極N2は、反発磁極部材60と対向する位置に設けられる。すなわち、対向磁極N2は、バックアップローラ50の被成膜面68および被成膜面68に供給される箔Fと対向する。本実施形態では、対向磁極N2の極性は、N極である。 The opposing magnetic pole N2 is provided at a position facing the repulsive magnetic pole member 60. As shown in FIG. That is, the opposing magnetic pole N2 faces the film-forming surface 68 of the backup roller 50 and the foil F supplied to the film-forming surface 68 . In this embodiment, the polarity of the opposing magnetic pole N2 is N pole.

第1搬送磁極S1は、汲み上げ磁極N1と対向磁極N2との間に設けられる。本実施形態では、第1搬送磁極S1の極性は、汲み上げ磁極N1と対向磁極N2とは異なるS極である。 The first transport magnetic pole S1 is provided between the pumping magnetic pole N1 and the opposing magnetic pole N2. In this embodiment, the polarity of the first transport magnetic pole S1 is an S pole different from that of the pumping magnetic pole N1 and the opposing magnetic pole N2.

離脱磁極N3は、汲み上げ磁極N1と隣り合う位置、かつ、筒状部材30の表面と排出部材410の先端とが対向する位置よりも第2搬送磁極S2側に設けられる。本実施形態では、離脱磁極N3の極性は、離脱磁極N3と隣り合う汲み上げ磁極N1と同極のN極である。 The separating magnetic pole N3 is provided at a position adjacent to the pumping magnetic pole N1 and closer to the second transport magnetic pole S2 than the position where the surface of the cylindrical member 30 and the tip of the discharging member 410 face each other. In this embodiment, the polarity of the separating magnetic pole N3 is the same N pole as the pumping magnetic pole N1 adjacent to the separating magnetic pole N3.

第2搬送磁極S2は、対向磁極N2と離脱磁極N3との間に設けられる。本実施形態では、第2搬送磁極S2の極性は、対向磁極N2と離脱磁極N3とは異なるS極である。 The second transport magnetic pole S2 is provided between the opposing magnetic pole N2 and the separating magnetic pole N3. In this embodiment, the polarity of the second transport magnetic pole S2 is an S pole different from that of the opposing magnetic pole N2 and the separating magnetic pole N3.

なお、磁極部材本体21aが有する複数の磁極N1,S1,N2,S2,N3の位置および数は、これに限られるものではない。磁極部材本体21aが有する磁極は、後述する反発磁極Nと対向する位置に後述する反発磁極Nと同極の対向磁極N2を有し、マグネットローラ20により混合体ECを搬送する部分は、異極の磁極同士が隣り合うように位置すればよい。 The positions and number of the plurality of magnetic poles N1, S1, N2, S2, and N3 included in the magnetic pole member main body 21a are not limited to these. The magnetic pole of the magnetic pole member main body 21a has an opposing magnetic pole N2 having the same polarity as the repulsive magnetic pole N described later at a position facing the repulsive magnetic pole N described later. should be positioned so that their magnetic poles are adjacent to each other.

次に、磁極部材本体21aが有する各磁極N1,S1,N2,S2,N3の機能と、マグネットローラ20による混合体ECの搬送時における電極粒子EとキャリアCとの挙動について説明する。 Next, the functions of the magnetic poles N1, S1, N2, S2, and N3 of the magnetic pole member main body 21a and the behavior of the electrode particles E and the carrier C when the mixture EC is conveyed by the magnet roller 20 will be described.

まず、混合体ECはマグネットローラ20に吸着される。混合体ECがマグネットローラ20へ吸着される吸着態様は以下の通りである。図1に示すように、供給部2には、負に帯電した電極粒子EがキャリアCに対して静電的に付着した混合体ECが供給される。この混合体ECは、混合体貯留室200と第1供給室211とを経由して、第2供給室212へと搬送される。第2供給室212に搬送された混合体ECは、第2回転翼222の回転により、第2回転翼222が有する複数の羽に押し上げられて、マグネットローラ20に近づく。このとき、第2供給室212の最も近くに位置する磁極は、汲み上げ磁極N1である。汲み上げ磁極N1の極性はN極であり、N極の磁極は、磁力により磁性体を引き寄せる性質を有する。また、磁性を有するキャリアCと電極粒子Eとの混合物である混合体ECは、前述した通り磁性体として機能している。そのため、混合体ECは、磁力が加わると、加わった磁力により引き寄せられたり反発したりする状態であり、その挙動は磁力線に追従する。ここで言う磁力線とは、各磁極の周囲に生じる磁界の分布を仮想的に表す線のことである。これにより、第2供給室212の第2回転翼222によって押し上げられた混合体ECは、第2供給室212の最も近くに位置する汲み上げ磁極N1の磁力によりマグネットローラ20側に引き寄せられる。さらに、汲み上げ磁極N1に引き寄せられた混合体ECは、磁極部材21の外形を構成する筒状部材30の表面のうち、汲み上げ磁極N1と対向する位置に吸着される。 First, the mixture EC is attracted to the magnet roller 20 . The manner in which the mixture EC is attracted to the magnet roller 20 is as follows. As shown in FIG. 1, the supply unit 2 is supplied with a mixture EC in which negatively charged electrode particles E are electrostatically adhered to a carrier C. As shown in FIG. This mixture EC is conveyed to the second supply chamber 212 via the mixture storage chamber 200 and the first supply chamber 211 . The mixture EC transported to the second supply chamber 212 is pushed up by the plurality of blades of the second rotor 222 due to the rotation of the second rotor 222 and approaches the magnet roller 20 . At this time, the magnetic pole closest to the second supply chamber 212 is the pumping magnetic pole N1. The polarity of the pumping magnetic pole N1 is the N pole, and the N pole has the property of attracting the magnetic material by magnetic force. Moreover, the mixture EC, which is a mixture of the magnetic carrier C and the electrode particles E, functions as a magnetic material as described above. Therefore, when a magnetic force is applied, the mixture EC is in a state of being attracted or repulsed by the applied magnetic force, and its behavior follows the lines of magnetic force. The magnetic lines of force referred to here are lines that virtually represent the distribution of the magnetic field generated around each magnetic pole. As a result, the mixture EC pushed up by the second rotor blades 222 of the second supply chamber 212 is drawn toward the magnet roller 20 by the magnetic force of the drawing magnetic pole N1 located closest to the second supply chamber 212 . Further, the mixture EC attracted to the pumping magnetic pole N1 is attracted to a position facing the pumping magnetic pole N1 on the surface of the cylindrical member 30 forming the outer shape of the magnetic pole member 21. FIG.

筒状部材30の表面に吸着された混合体ECは、磁力線の向きに追従した形状を成す。具体的には、汲み上げ磁極N1と対向する位置に吸着された混合体ECは、図3に示すように、汲み上げ磁極N1と筒状部材30とが対向する位置から遠ざかる方向に向かって、立ち上がる。このとき、混合体ECは、キャリアCを軸とし、このキャリアCに電極粒子Eが付着した稲穂形状を成す磁気穂を形成する。すなわち、稲穂における穂軸が本実施形態におけるキャリアCに相当する。また、稲穂における籾が本実施形態における電極粒子Eに相当する。図3に示す例では、汲み上げ磁極N1と対向する位置に吸着された混合体ECは、7つのキャリアCに複数の電極粒子Eが付着した状態である。このとき、筒状部材30の回転に伴い、混合体ECは、筒状部材30の表面に吸着された状態で、稲穂形状を磁力線に追従した形状に変化させながら、図3に示すように、マグネットローラ20の回転方向に搬送される。 The mixture EC attracted to the surface of the cylindrical member 30 forms a shape that follows the direction of the magnetic lines of force. Specifically, the mixture EC attracted to the position facing the pumping magnetic pole N1 rises in a direction away from the position where the pumping magnetic pole N1 and the cylindrical member 30 face each other, as shown in FIG. At this time, the mixture EC forms a rice ear-shaped magnetic ear in which the electrode particles E are attached to the carrier C with the carrier C as an axis. That is, the cob in the ear of rice corresponds to the carrier C in this embodiment. In addition, the husks in the ears of rice correspond to the electrode particles E in this embodiment. In the example shown in FIG. 3, the mixture EC attracted to the position facing the pumping magnetic pole N1 is in a state in which a plurality of electrode particles E are attached to seven carriers C. As shown in FIG. At this time, as the tubular member 30 rotates, the mixture EC is adsorbed to the surface of the tubular member 30, and while changing the shape of the ear of rice into a shape that follows the lines of magnetic force, as shown in FIG. It is conveyed in the direction of rotation of the magnet roller 20 .

汲み上げ磁極N1と第1搬送磁極S1との間には、規制部材25が設けられている。このとき、マグネットローラ20の搬送工程において、マグネットローラ20に吸着された混合体ECの長さを予め定められた長さに規制するため、規制部材25が筒状部材30の表面から予め定められた距離だけ離間した位置に設けられる。また、規制部材25は、先端側が筒状部材30の表面と対向するように設けられるため、筒状部材30が回転すると、マグネットローラ20に吸着された混合体ECは、規制部材25の先端側と接触する。そして、予め定められた長さを超えて過剰に吸着されたキャリアCおよび電極粒子Eは、規制部材25の先端側との接触により切り離され、脱落する。これにより、マグネットローラ20に吸着された混合体ECは、その混合体ECの長さが均一化された状態で第1搬送磁極S1に向けて搬送される。なお、マグネットローラ20に吸着された混合体ECのうち、規制部材25により切り離されて脱落した電極粒子EとキャリアCとは、供給室211~213に受容され、再び汲み上げ磁極N1に供給される。なお、規制部材25の形状および形成位置は、本開示に限られるものではない。規制部材25は、筒状部材30の回転方向において、汲み上げ磁極N1と対向磁極N2との間であって、マグネットローラ20に吸着された混合体ECと対向する位置に設ければよい。規制部材25は、例えば、第1搬送磁極S1と対向磁極N2との間に位置してもよい。 A regulating member 25 is provided between the pumping magnetic pole N1 and the first transport magnetic pole S1. At this time, in the conveying process of the magnet roller 20, in order to regulate the length of the mixture EC attracted to the magnet roller 20 to a predetermined length, the regulation member 25 is predetermined from the surface of the tubular member 30. spaced apart by a distance. In addition, since the regulating member 25 is provided so that the front end thereof faces the surface of the tubular member 30, when the tubular member 30 rotates, the mixture EC attracted to the magnet roller 20 moves toward the front end of the regulating member 25. come into contact with Then, the carrier C and the electrode particles E, which are excessively adsorbed over a predetermined length, come into contact with the tip side of the regulating member 25 and are detached and dropped. As a result, the mixture EC attracted to the magnet roller 20 is transported toward the first transport magnetic pole S1 in a state where the length of the mixture EC is made uniform. Of the mixture EC attracted to the magnet roller 20, the electrode particles E and the carrier C separated and dropped by the regulating member 25 are received in the supply chambers 211 to 213 and supplied again to the pumped-up magnetic pole N1. . Note that the shape and formation position of the regulating member 25 are not limited to those of the present disclosure. The regulating member 25 may be provided at a position facing the mixture EC attracted to the magnet roller 20 between the pumping magnetic pole N1 and the opposing magnetic pole N2 in the rotational direction of the tubular member 30 . The regulating member 25 may be positioned, for example, between the first transport magnetic pole S1 and the opposing magnetic pole N2.

さらに、筒状部材30の回転により、マグネットローラ20に吸着された混合体ECは、その形状を磁力線に追従させながら第1搬送磁極S1に搬送される。汲み上げ磁極N1と第1搬送磁極S1とは、磁極の極性が異なる。仮に、第1搬送磁極S1に位置する磁極が汲み上げ磁極N1と同じN極である場合、汲み上げ磁極N1と隣り合う磁極との間に反発する磁界が生じ、マグネットローラ20に吸着された混合体ECがマグネットローラ20から離脱してしまう。これに対して、本実施形態では、汲み上げ磁極N1とは異なる極性の第1搬送磁極S1を設けることで、混合体ECを反転させながら搬送している。筒状部材30の表面のうち、汲み上げ磁極N1と第1搬送磁極S1との中央付近では、混合体ECは磁力線に追従して弓状に湾曲した形状を成している。つまり、混合体ECの基端と先端とは、汲み上げ磁極N1と対向する位置に吸着される時点と、第1搬送磁極S1と対向する位置に吸着される時点との間で反転している。 Furthermore, due to the rotation of the cylindrical member 30, the mixture EC attracted to the magnet roller 20 is conveyed to the first conveying magnetic pole S1 while making its shape follow the lines of magnetic force. The pumping magnetic pole N1 and the first transport magnetic pole S1 have different magnetic pole polarities. If the magnetic pole positioned at the first conveying magnetic pole S1 is the same N pole as the scooping magnetic pole N1, a repulsive magnetic field is generated between the scooping magnetic pole N1 and the adjacent magnetic pole, and the mixture EC attracted to the magnet roller 20 separates from the magnet roller 20. On the other hand, in the present embodiment, by providing the first transport magnetic pole S1 having a polarity different from that of the pumping magnetic pole N1, the mixture EC is transported while being reversed. On the surface of the tubular member 30, near the center between the pumping magnetic pole N1 and the first transport magnetic pole S1, the mixture EC has a bow-like curved shape following the lines of magnetic force. In other words, the base end and the front end of the mixture EC are reversed between the time when the mixture EC is attracted to the position facing the pumping magnetic pole N1 and the time when it is attracted to the position facing the first transport magnetic pole S1.

第1搬送磁極S1と対向する位置に搬送された混合体ECは、さらに、マグネットローラ20とバックアップローラ50とが対向する位置に向けて搬送され、筒状部材30の表面において、対向磁極N2に近接する領域に到達する。対向磁極N2を内包するマグネットローラ20とバックアップローラ50との間の領域において、電極粒子EがキャリアCから分離して飛翔することで、箔F上に付着する。よって、マグネットローラ20とバックアップローラ50との間に位置するこの領域を飛翔領域300とも呼ぶ。なお、第1搬送磁極S1と対向磁極N2とは、磁極の極性が異なっている。そのため、マグネットローラ20に吸着された混合体ECが第1搬送磁極S1から対向磁極N2へと搬送されるときの態様は、前述した搬送態様と同様である。 The mixture EC conveyed to the position facing the first conveying magnetic pole S1 is further conveyed toward the position where the magnet roller 20 and the backup roller 50 face each other, and on the surface of the cylindrical member 30, the opposite magnetic pole N2. Reach nearby areas. In the region between the magnet roller 20 and the backup roller 50 containing the opposing magnetic pole N2, the electrode particles E are separated from the carrier C and fly to adhere to the foil F. As shown in FIG. Therefore, this area located between the magnet roller 20 and the backup roller 50 is also called a flying area 300 . The first transport magnetic pole S1 and the opposing magnetic pole N2 have different magnetic pole polarities. Therefore, the manner in which the mixture EC attracted to the magnet roller 20 is conveyed from the first conveying magnetic pole S1 to the opposing magnetic pole N2 is the same as the conveying manner described above.

前述の通り、反発磁極部材60において、磁界発生手段として機能する反発磁極部材本体60aは、複数の磁石で構成され、それぞれに反発磁極Nを有する。本実施形態では、反発磁極部材本体60aは4つの磁石で構成される。すなわち、本実施形態の反発磁極部材本体60aは4つの反発磁極Nを有する。反発磁極部材本体60aにおける4つの反発磁極Nの機能は同一であるため、図3において同じ符号を付している。反発磁極部材本体60aを構成する4つの磁石は、図3に示すように、板状を成し、第4軸部62を中心として放射状に広がった形状を成す。本実施形態では、反発磁極部材本体60aを構成する4つの磁石は等間隔に設けられている。以下において、反発磁極部材本体60aを構成する各磁石と第4軸部62とが当接する部分を第2基端部とする。また、各磁石において第2基端部とは反対側に位置する部分、すなわち、筒状部材30の内表面と対向する部分を第2先端部とする。反発磁極部材本体60aの4つの反発磁極Nは、各磁石の第2先端部に位置する。 As described above, in the repulsive magnetic pole member 60, the repulsive magnetic pole member main body 60a functioning as the magnetic field generating means is composed of a plurality of magnets, each of which has a repulsive magnetic pole N. As shown in FIG. In this embodiment, the repulsion magnetic pole member main body 60a is composed of four magnets. That is, the repulsion magnetic pole member main body 60a of this embodiment has four repulsion magnetic poles N. As shown in FIG. Since the functions of the four repulsive magnetic poles N in the repulsive magnetic pole member main body 60a are the same, they are given the same reference numerals in FIG. As shown in FIG. 3, the four magnets forming the repulsion magnetic pole member body 60a are plate-shaped and spread radially around the fourth shaft portion 62. As shown in FIG. In this embodiment, the four magnets forming the repulsive magnetic pole member main body 60a are provided at regular intervals. Hereinafter, the portion where each magnet constituting the repelling magnetic pole member main body 60a and the fourth shaft portion 62 abut is referred to as a second base end portion. A portion of each magnet located on the side opposite to the second base end portion, that is, a portion facing the inner surface of the cylindrical member 30 is defined as a second tip portion. The four repulsive magnetic poles N of the repulsive magnetic pole member body 60a are located at the second tip of each magnet.

反発磁極Nは、対向磁極N2と対向して反発する磁極である。すなわち、対向磁極N2の極性はN極であるため、反発磁極Nも対向磁極N2と同極のN極である。以下において、静電成膜装置1を用いた静電成膜方法と、飛翔領域300における混合体ECの挙動と電極粒子Eの成膜態様と、について説明する。 The repelling magnetic pole N is a magnetic pole that opposes and repels the opposing magnetic pole N2. That is, since the opposing magnetic pole N2 has the N pole, the repelling magnetic pole N is also the same N pole as the opposing magnetic pole N2. An electrostatic film forming method using the electrostatic film forming apparatus 1, the behavior of the mixture EC in the flying region 300, and the film forming mode of the electrode particles E will be described below.

飛翔領域300に搬送された混合体ECは、以下の2つの力により、混合体ECを構成する電極粒子Eの一部がキャリアCから分離する。 In the mixture EC conveyed to the flying region 300, some of the electrode particles E forming the mixture EC are separated from the carrier C by the following two forces.

1つ目の力は、遠心力である。具体的には、筒状部材30の回転に伴う遠心力により、混合体ECを構成する電極粒子Eの一部がキャリアCから分離する。遠心力による分離態様では、後述する被成膜面68上の箔Fに電極粒子Eが静電的に付着する成膜よりも、混合体ECにおける電極粒子EとキャリアCとの静電的拘束が優位となりやすい。すなわち、静電的に拘束された電極粒子EがキャリアCから分離しづらい。よって、電極粒子Eの成膜において、高い成膜効率を得ることができない場合が生じ得る。 The first force is centrifugal force. Specifically, part of the electrode particles E forming the mixture EC is separated from the carrier C by the centrifugal force accompanying the rotation of the tubular member 30 . In the separation mode by centrifugal force, electrostatic restraint of the electrode particles E and the carrier C in the mixture EC rather than the film formation in which the electrode particles E electrostatically adhere to the foil F on the film formation surface 68 to be described later. tends to take precedence. That is, the electrostatically bound electrode particles E are difficult to separate from the carrier C. Therefore, in the film formation of the electrode particles E, a case may arise in which high film formation efficiency cannot be obtained.

これに対して、本実施形態の静電成膜装置1は、以下に示す2つ目の力を追加的に発生させる。2つ目の力は、飛翔領域300において周期的な磁界変化を生じさせてキャリアCを振動させる力である。具体的には、以下の通りである。対向磁極N2と反発磁極Nとは同極のN極同士であり、対向磁極N2と反発磁極Nとが対向するときには、両者が発する磁力により形成される磁界同士がぶつかり合い、両者の間に反発する方向の磁界が生じる。ここで、磁極部材21は回転することなく、固定されており、反発磁極部材60は反発磁極回転軸O4を中心に回転している。これにより、飛翔領域300において、反発磁極Nは、固定された位置に存在する対向磁極N2に対して周期的に対向する。 On the other hand, the electrostatic film forming apparatus 1 of this embodiment additionally generates the second force described below. The second force is a force that causes periodic magnetic field changes in the flying region 300 to cause the carrier C to vibrate. Specifically, it is as follows. The opposing magnetic pole N2 and the repulsive magnetic pole N are N poles of the same polarity. When the opposing magnetic pole N2 and the repulsive magnetic pole N face each other, the magnetic fields formed by the magnetic forces generated by the two collide with each other, and repulsion occurs between the two. A magnetic field is generated in the direction of Here, the magnetic pole member 21 is fixed without rotating, and the repulsive magnetic pole member 60 rotates around the repulsive magnetic pole rotation axis O4. As a result, in the flight region 300, the repelling magnetic pole N periodically opposes the opposing magnetic pole N2 existing at a fixed position.

対向磁極N2と反発磁極Nとが対向した対向位置から、反発磁極部材60の回転により、対向磁極N2と反発磁極Nとの距離が遠ざかる場合を考える。この場合、対向磁極N2と反発磁極Nとの間に生じる反発する方向の磁界の強度は、対向位置の場合と比べて、対向磁極N2と反発磁極Nとの距離に比例しながら弱くなっていく。前述した非対向位置のうち、対向磁極N2と反発磁極Nとの距離が最も離れたとき、両者の間に生じる反発する方向の磁界の強度は最小となる。一方、反発磁極部材60がさらに回転すると、対向磁極N2と反発磁極Nとの距離が再び近づいていく。このとき、対向磁極N2と反発磁極Nとの間に生じる反発する方向の磁界の強度は、反発磁極Nが対向磁極N2に近づくにつれて強くなる。そして、再び対向磁極N2と反発磁極Nとが対向する対向位置になると、両者の間に生じる反発する方向の磁界の強度は最大となる。このようにして、静電成膜装置1は、飛翔領域300において、周期的な磁界変化を生じさせる。 Consider a case where the opposing magnetic pole N2 and the repulsive magnetic pole N are separated from each other by the rotation of the repulsive magnetic pole member 60 from the position where the opposing magnetic pole N2 and the repulsive magnetic pole N face each other. In this case, the strength of the magnetic field in the repelling direction generated between the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N becomes weaker in proportion to the distance between the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N than in the case of the opposing position. . Among the non-opposing positions described above, when the distance between the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N is the greatest, the strength of the magnetic field in the repelling direction generated between them is minimized. On the other hand, when the repulsion magnetic pole member 60 rotates further, the distance between the opposing magnetic pole N2 and the repulsion magnetic pole N becomes closer again. At this time, the strength of the magnetic field in the repelling direction generated between the opposing magnetic pole N2 and the repulsive magnetic pole N increases as the repulsive magnetic pole N approaches the opposing magnetic pole N2. Then, when the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N again come to the opposing positions, the strength of the magnetic field in the repelling direction generated between them becomes maximum. In this manner, the electrostatic film forming apparatus 1 causes periodic magnetic field changes in the flying region 300 .

磁界変化が混合体ECに与える影響を考える際には、対向磁極N2および反発磁極Nの周囲に生じる磁界の分布を仮想的に表す磁力線を用いると理解が容易になる。上記のように、周期的な磁界変化を生じさせると、マグネットローラ20に吸着された混合体ECは、周期的な磁界変化に伴う磁力線の変化に追従して、混合体ECの形状が変化する。具体的には、対向磁極N2と反発磁極Nとが対向する対向位置、すなわち反発する方向の磁界の強度が最大の場合、両者の間に形成される反発する方向の磁界は、両者を分断するような磁力線で描かれる。そのため、マグネットローラ20に吸着された混合体ECは、この磁力線に追従し、混合体ECにおいて軸を成すキャリアCが倒れた状態になる。図3では、対向位置において、反発する方向の磁界の強度が最大になったときの混合体ECの形状を実線で模式的に示している。これに対して、対向磁極N2と反発磁極Nとの距離が最も離れた状態、すなわち反発する方向の磁界の強度が最小の場合、両者の磁力線は互いを遮ることなく存在する。つまり、対向磁極N2と反発磁極Nとを分断するような磁界は発生しない。そのため、マグネットローラ20に吸着された混合体ECは、非対向位置のうち、対向磁極N2と反発磁極Nとの距離が最も離れた状態のとき、混合体ECにおいて軸を成すキャリアCは立ち上がった状態になる。図3では、非対向位置において、反発する方向の磁界の強度が最小となったときの混合体ECの形状を点線で模式的に示している。このように、周期的な磁界変化に伴い、マグネットローラ20に吸着された混合体ECは、キャリアCが混合体ECの軸を成した状態で、まるで埃叩きのように、倒れたり立ち上がったりを繰り返す。すなわち、周期的な磁界変化に伴い、マグネットローラ20に吸着された状態において、混合体ECは振動する。図3では、飛翔領域300において、この振動により混合体ECの軸を成すキャリアCが揺れるときの振れを模式的に両矢印で示している。ここで、混合体ECは磁性体であるため、周期的な磁界変化に伴う混合体ECの振動は、磁気振動とも言える。 When considering the effects of magnetic field changes on the mixture EC, it is easier to understand using magnetic lines of force that virtually represent the distribution of the magnetic field generated around the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N. As described above, when a periodic magnetic field change is caused, the mixture EC attracted to the magnet roller 20 follows changes in magnetic lines of force caused by the periodic magnetic field change, and the shape of the mixture EC changes. . Specifically, when the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N face each other, that is, when the strength of the magnetic field in the repelling direction is maximum, the magnetic field in the repelling direction formed between them separates them. It is drawn with magnetic lines of force such as Therefore, the mixture EC attracted to the magnet roller 20 follows this line of magnetic force, and the carrier C forming the axis of the mixture EC falls down. In FIG. 3, the solid line schematically shows the shape of the mixture EC when the intensity of the magnetic field in the repelling direction is maximized at the opposing position. On the other hand, when the distance between the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N is the greatest, that is, when the strength of the magnetic field in the repelling direction is minimum, the lines of magnetic force of both exist without blocking each other. In other words, a magnetic field that separates the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N is not generated. Therefore, in the mixture EC attracted to the magnet roller 20, when the distance between the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N is the greatest among the non-opposing positions, the carrier C forming the axis in the mixture EC rises. become a state. In FIG. 3, the dotted line schematically shows the shape of the mixture EC when the intensity of the magnetic field in the repelling direction is minimized at the non-facing position. In this manner, the mixture EC attracted to the magnet roller 20 falls down and rises as if by beating dust, with the carrier C forming the axis of the mixture EC, along with the periodical change of the magnetic field. repeat. That is, the mixture EC vibrates while being attracted to the magnet roller 20 as the magnetic field periodically changes. In FIG. 3, in the flying region 300, the double-headed arrow schematically shows the vibration when the carrier C forming the axis of the mixture EC shakes due to this vibration. Here, since the mixture EC is a magnetic material, the vibration of the mixture EC accompanying periodic magnetic field changes can also be said to be magnetic vibration.

ここで、混合体ECは、キャリアCに電極粒子Eが付着した状態である。そのため、上記のように、飛翔領域300において、周期的な磁界変化に伴い、キャリアCが磁気振動することで混合体EC全体に磁気振動が伝播する。これにより、電極粒子Eの一部がキャリアCから分離する。このとき、混合体ECの磁気振動によって電極粒子Eの一部がキャリアCから分離する態様は、混合体ECを構成するキャリアCに付着した電極粒子Eが磁気振動により、振り落とされる状態である。すなわち、磁気振動により電極粒子Eの一部がキャリアCから分離する場合には、キャリアCから分離した一部の電極粒子Eが被成膜面68上の箔Fに向けて飛翔するとも言える。なお、図3に示す例では、飛翔領域300において、キャリアCから分離して飛翔した電極粒子Eを飛翔電極粒子E1として示している。 Here, the mixture EC is a state in which the electrode particles E are attached to the carrier C. As shown in FIG. Therefore, as described above, in the flight region 300, magnetic vibration is propagated to the entire mixture EC due to the magnetic vibration of the carrier C accompanying the periodic magnetic field change. As a result, some of the electrode particles E are separated from the carrier C. As shown in FIG. At this time, the mode in which some of the electrode particles E are separated from the carrier C by the magnetic vibration of the mixture EC is a state in which the electrode particles E adhering to the carrier C constituting the mixture EC are shaken off by the magnetic vibration. . That is, when some of the electrode particles E are separated from the carrier C by magnetic vibration, it can be said that some of the electrode particles E separated from the carrier C fly toward the foil F on the film formation surface 68 . In the example shown in FIG. 3, the electrode particles E separated from the carrier C and flew in the flying region 300 are shown as flying electrode particles E1.

本実施形態における反発磁極部材60は、バックアップローラ50の内部のうち、バックアップローラ回転軸O3とマグネットローラ20との間に設けられる。このようにすると、反発磁極部材60をバックアップローラ50の内部全体に設ける場合と比べて、反発磁極部材60を小型化できる。これにより、同一の駆動力に対する単位時間当たりの反発磁極部材60の回転数を効率的に増大できる。すなわち、反発磁極部材60を小型化することで、後述する磁気振動数を効率的に増大できる。 The repelling magnetic pole member 60 in this embodiment is provided inside the backup roller 50 between the backup roller rotating shaft O<b>3 and the magnet roller 20 . By doing so, the size of the repulsive magnetic pole member 60 can be reduced as compared with the case where the repulsive magnetic pole member 60 is provided in the entire inside of the backup roller 50 . As a result, the number of rotations of the repulsion magnetic pole member 60 per unit time for the same driving force can be efficiently increased. That is, by miniaturizing the repulsive magnetic pole member 60, the magnetic frequency, which will be described later, can be efficiently increased.

続いて、前述した2つの力としての遠心力と磁気振動による力との少なくとも一方により、キャリアCから分離した電極粒子Eとしての飛翔電極粒子E1が、被成膜面68に搬送される箔F上に成膜される態様について説明する。 Subsequently, the flying electrode particles E1 as the electrode particles E separated from the carrier C are conveyed to the film formation surface 68 by at least one of the centrifugal force and the magnetic vibration force as the two forces described above. The manner in which a film is formed on the film will be described.

マグネットローラ20は、前述した通り、マグネットローラ20に電圧を供給するための図示しない電圧供給部と接続されている。本実施形態では、図示しない電圧供給部は、マグネットローラ20に対し、2550Vの直流電圧を印加している。一方、バックアップローラ50は、前述した通り、接地部材80と接続されている。本実施形態では、バックアップローラ50は、接地部材80により接地(アース)されているため、電圧は0Vである。これにより、静電成膜装置1は、マグネットローラ20とバックアップローラ50との間に電位差が設けられた状態である。なお、マグネットローラ20に印加する電圧はこれに限られるものではなく、例えば、直流電圧に交流電圧を重畳したものを印加してもよい。 The magnet roller 20 is connected to a voltage supply section (not shown) for supplying voltage to the magnet roller 20, as described above. In this embodiment, a voltage supply section (not shown) applies a DC voltage of 2550 V to the magnet roller 20 . On the other hand, the backup roller 50 is connected to the grounding member 80 as described above. In this embodiment, the voltage of the backup roller 50 is 0V because it is grounded by the grounding member 80 . Thereby, the electrostatic film forming apparatus 1 is in a state in which a potential difference is provided between the magnet roller 20 and the backup roller 50 . The voltage applied to the magnet roller 20 is not limited to this, and for example, a voltage obtained by superimposing an AC voltage on a DC voltage may be applied.

上記のように、静電成膜装置1では、混合体ECを吸着して搬送するマグネットローラ20と、被成膜面68を表面に備えるバックアップローラ50との間には電位差が設けられる。そのため、負に帯電した飛翔電極粒子E1は、マグネットローラ20からバックアップローラ50へ向かう静電力(クーロン力)を受ける。具体的には、負に帯電した飛翔電極粒子E1がバックアップローラ50に近づくと、静電誘導により、バックアップローラ50の表面には正電荷が集まる。このとき、バックアップローラ50は、接地部材80により接地(アース)されている。そのため、バックアップローラ50における負電荷は大地に流れ、大地からの自由電子の正電荷とバックアップローラ50の負電荷とが中和し、あたかも、バックアップローラ50の負電荷は大地に流れたかのように消滅する。その結果、バックアップローラ50の表面は、正に帯電した状態となる。これにより、遠心力と磁気振動による力との少なくとも一方に起因してキャリアCから分離した飛翔電極粒子E1は、静電力によってバックアップローラ50の被成膜面68に向かって飛翔し、被成膜面68に搬送される箔F上に付着することで、成膜される。 As described above, in the electrostatic film forming apparatus 1, a potential difference is provided between the magnet roller 20 that attracts and conveys the mixture EC and the backup roller 50 that has the film forming surface 68 on its surface. Therefore, the negatively charged flying electrode particles E1 receive an electrostatic force (Coulomb force) from the magnet roller 20 toward the backup roller 50 . Specifically, when the negatively charged flying electrode particles E1 approach the backup roller 50, positive charges gather on the surface of the backup roller 50 due to electrostatic induction. At this time, the backup roller 50 is grounded (earthed) by the grounding member 80 . Therefore, the negative charges on the backup roller 50 flow to the ground, the positive charges of the free electrons from the ground and the negative charges on the backup roller 50 are neutralized, and the negative charges on the backup roller 50 disappear as if they flowed to the ground. do. As a result, the surface of the backup roller 50 is positively charged. As a result, the flying electrode particles E1 separated from the carrier C due to at least one of the centrifugal force and the magnetic vibration force fly toward the film-forming surface 68 of the backup roller 50 by electrostatic force. A film is formed by adhering to the foil F which is conveyed to the surface 68 .

なお、マグネットローラ20とバックアップローラ50との間に生じる静電力は、キャリアCから分離した電極粒子Eとしての飛翔電極粒子E1を箔F上に成膜する工程に加えて、キャリアCから電極粒子Eを分離させる工程にも寄与する。すなわち、キャリアCに付着した電極粒子Eを分離させる2つの力において、マグネットローラ20とバックアップローラ50との間に生じる静電力は、キャリアCから電極粒子Eが分離するのを促進する方向に働く。 It should be noted that the electrostatic force generated between the magnet roller 20 and the backup roller 50 is generated not only by the step of forming the flying electrode particles E1 as the electrode particles E separated from the carrier C on the foil F, but also by the electrode particles from the carrier C. It also contributes to the process of separating E. That is, among the two forces that separate the electrode particles E adhering to the carrier C, the electrostatic force generated between the magnet roller 20 and the backup roller 50 works in the direction of promoting the separation of the electrode particles E from the carrier C. .

飛翔領域300に搬送された混合体ECは、さらに、筒状部材30の回転により、第2搬送磁極S2に搬送される。続いて、第2搬送磁極S2に搬送された混合体ECは、筒状部材30の回転により、離脱磁極N3へと搬送される。このときの混合体ECの搬送態様は、前述した汲み上げ磁極N1から第1搬送磁極S1を経由して対向磁極N2へと搬送される搬送態様と同様であるため、説明を省略する。 The mixture EC transported to the flight region 300 is further transported to the second transport magnetic pole S2 by the rotation of the cylindrical member 30. As shown in FIG. Subsequently, the mixture EC transported to the second transport magnetic pole S2 is transported to the detachment magnetic pole N3 by the rotation of the tubular member 30. As shown in FIG. The transporting mode of the mixture EC at this time is the same as the transporting mode in which the mixture EC is transported from the pumping magnetic pole N1 to the opposing magnetic pole N2 via the first transporting magnetic pole S1, and therefore the description thereof is omitted.

離脱磁極N3に搬送された混合体ECは、筒状部材30の回転により、汲み上げ磁極N1が位置する方向に搬送される。この搬送過程において、離脱磁極N3と汲み上げ磁極N1とは同極であるため、離脱磁極N3と汲み上げ磁極N1との間には反発する方向の磁界が形成される。この離脱磁極N3と汲み上げ磁極N1との間を分断するように形成される反発する方向の磁界は、両者の境界に無磁力帯を形成する。これにより、マグネットローラ20に吸着された混合体ECはマグネットローラ20から離脱する。 The mixture EC conveyed to the separating magnetic pole N3 is conveyed in the direction in which the pumping magnetic pole N1 is positioned due to the rotation of the cylindrical member 30 . In this transfer process, since the separating magnetic pole N3 and the pumping magnetic pole N1 have the same polarity, a magnetic field is formed between the separating magnetic pole N3 and the pumping magnetic pole N1 in a repelling direction. The magnetic field in the repelling direction that is formed so as to separate the separating magnetic pole N3 and the pumping magnetic pole N1 forms a non-magnetic zone at the boundary between the two. As a result, the mixture EC attracted to the magnet roller 20 is separated from the magnet roller 20 .

以上で説明した静電成膜装置1によれば、混合体ECを吸着して搬送するマグネットローラ20の内部に磁極部材21を備える。この磁極部材21は、磁極部材本体21aが備える複数の磁極N1,S1,N2,S2,N3のうち、飛翔領域300に位置する磁極としての対向磁極N2を備える。一方、被成膜面68を有するバックアップローラ50は、内部に反発磁極部材60を備える。この反発磁極部材60は、対向磁極N2と対向して反発する磁極としての反発磁極Nを備える。この対向磁極N2と反発磁極Nとが周期的に対向することで、静電成膜装置1は、周期的な磁界変化を生じさせている。すなわち、マグネットローラ20に吸着された状態において、静電成膜装置1は、筒状部材30の回転に伴う遠心力に加えて、磁界変化により混合体ECを磁気振動させることでキャリアCから電極粒子Eを振り落とす力を生じさせる。 According to the electrostatic film forming apparatus 1 described above, the magnetic pole member 21 is provided inside the magnet roller 20 that attracts and conveys the mixture EC. The magnetic pole member 21 includes an opposing magnetic pole N2 as a magnetic pole positioned in the flying region 300 among the plurality of magnetic poles N1, S1, N2, S2, and N3 provided in the magnetic pole member main body 21a. On the other hand, the backup roller 50 having the film-forming surface 68 has the repelling magnetic pole member 60 inside. The repelling magnetic pole member 60 has a repelling magnetic pole N as a magnetic pole that opposes and repels the opposing magnetic pole N2. The opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N periodically face each other, so that the electrostatic film forming apparatus 1 causes a periodic magnetic field change. That is, in the state of being attracted to the magnet roller 20, the electrostatic film forming apparatus 1 causes the mixture EC to magnetically vibrate due to the change in the magnetic field in addition to the centrifugal force associated with the rotation of the cylindrical member 30, thereby moving the carrier C from the electrode. A force is generated that shakes off the particles E.

反発磁極部材60の回転数を変化させて、電極粒子Eの成膜量の変化を測定した。図4は、電極粒子Eの成膜量と磁気振動数(回転数)との関係を示すグラフである。図4では、本測定の結果として、測定時の磁気振動数と、測定時の磁気振動数に対応した成膜量の値との関係性を表している。図4におけるグラフの縦軸は、被成膜面68に搬送される箔F上に成膜された電極粒子Eの成膜量として、1cm当たりに成膜された電極粒子Eの重量を示している。また、図4におけるグラフの横軸は、磁気振動数を示している。また、本測定の結果から成膜効率を算出した。ここで言う成膜効率は、被成膜面68に搬送される箔F上に成膜された電極粒子Eの重量を、成膜部3への電極粒子Eの供給量で割った値である。すなわち、成膜効率は、成膜部3への電極粒子Eの供給量に対して、箔F1cm当たりにどれだけの重量の電極粒子Eが成膜されたかを示す値である。本測定では、(箔F上に成膜された電極粒子Eの重量)/(成膜されずに回収された電極粒子Eの重量+箔F上に成膜された電極粒子Eの重量)として成膜効率を算出した。なお、本測定において、成膜された電極粒子Eの重量の単位は、ミリグラム(mg)で表す。また、本測定における成膜効率の単位はmg/cmである。 The change in the film thickness of the electrode particles E was measured by changing the number of rotations of the repulsion magnetic pole member 60 . FIG. 4 is a graph showing the relationship between the film formation amount of the electrode particles E and the magnetic frequency (rotational speed). FIG. 4 shows the relationship between the magnetic frequency at the time of measurement and the value of the film formation amount corresponding to the magnetic frequency at the time of measurement as the result of this measurement. The vertical axis of the graph in FIG. 4 represents the weight of the electrode particles E formed per 1 cm 2 as the film formation amount of the electrode particles E formed on the foil F conveyed to the film formation surface 68. ing. The horizontal axis of the graph in FIG. 4 indicates the magnetic frequency. Also, the film formation efficiency was calculated from the results of this measurement. The film formation efficiency referred to here is a value obtained by dividing the weight of the electrode particles E formed on the foil F transported to the film formation surface 68 by the supply amount of the electrode particles E to the film formation unit 3. . That is, the film formation efficiency is a value that indicates the weight of the electrode particles E formed per cm 2 of the foil F with respect to the supply amount of the electrode particles E to the film formation section 3 . In this measurement, (weight of electrode particles E deposited on foil F)/(weight of electrode particles E collected without being deposited + weight of electrode particles E deposited on foil F) A film formation efficiency was calculated. In this measurement, the unit of the weight of the film-formed electrode particles E is expressed in milligrams (mg). The unit of film formation efficiency in this measurement is mg/cm 2 .

図4のグラフを作成する前提条件として、マグネットローラ20の外形を構成する筒状部材30と、被成膜面68を表面に有するバックアップローラ50と、の最近接距離を6~10mmとした。また、マグネットローラ20には2550Vの直流電圧を印加し、バックアップローラ50には接地(アース)されている接地部材80を当接させることで0Vとし、両者間に2550Vの電位差を設けた。キャリアCと電極粒子Eとは、重量比において10:1の比率となるように供給部2へ供給した。本測定では、成膜部3に供給される混合体ECの供給量をおおよそ30mg/cmとした。具体的には、混合体ECの供給量は、後述する磁気振動数が0Hzのとき29.27mg/cm、20Hzのときには29.29mg/cm、200Hzのときには29.22mg/cm、267Hzとのきには29.31mg/cmであった。なお、本測定において、筒状部材30およびバックアップローラ50の回転速度としての周速度は、予め定められた値とし、磁気振動数に関わらず一定とした。また、反発磁極部材60の回転速度としての周速度は、測定対象とする磁気振動数と一致するように制御装置7を構成するモータにより制御し、反発磁極部材60の回転数を制御した。上記条件における本測定の結果を図4に示す。 As a prerequisite for creating the graph of FIG. 4, the closest distance between the cylindrical member 30 forming the outer shape of the magnet roller 20 and the backup roller 50 having the film-forming surface 68 on its surface was 6 to 10 mm. A DC voltage of 2,550 V was applied to the magnet roller 20, and 0 V was set to 0 V by bringing a grounded member 80 into contact with the backup roller 50, creating a potential difference of 2,550 V between the two. The carrier C and the electrode particles E were supplied to the supply section 2 so as to have a weight ratio of 10:1. In this measurement, the supply amount of the mixture EC supplied to the film forming unit 3 was approximately 30 mg/cm 2 . Specifically, the supply amount of the mixture EC is 29.27 mg/cm 2 when the magnetic frequency described later is 0 Hz, 29.29 mg/cm 2 when the magnetic frequency is 20 Hz, 29.22 mg/cm 2 when the magnetic frequency is 200 Hz, and 267 Hz. At that time, it was 29.31 mg/cm 2 . In this measurement, the circumferential speeds of the cylindrical member 30 and the backup roller 50, which are the rotational speeds, were set to predetermined values, which were constant regardless of the magnetic frequency. In addition, the peripheral speed as the rotational speed of the repulsive magnetic pole member 60 was controlled by the motor constituting the control device 7 so as to match the magnetic frequency to be measured, and the rotational speed of the repulsive magnetic pole member 60 was controlled. The results of this measurement under the above conditions are shown in FIG.

本測定における磁気振動数とは、前述した対向磁極N2と反発磁極Nとが1秒間当たりに対向する回数を表す。すなわち、磁気振動数は、前述した対向磁極N2と反発磁極Nとが対向することにより生じる、1秒間当たりの磁気振動回数でもある。以下において、本測定における磁気振動数の単位は、ヘルツ(Hz)で表す。なお、本実施形態における磁気振動数は、反発磁極部材60が有する磁石の数およびこれに付随する反発磁極Nの数と、反発磁極部材60の回転数と、に依拠する。このとき、反発磁極部材60の回転数は、反発磁極部材60の回転速度によって調整する。本測定では、反発磁極Nの数を4つとして一定にした状態において、反発磁極部材60の回転数を変動させることで磁気振動数を調整している。 The magnetic frequency in this measurement represents the number of times the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N face each other per second. That is, the magnetic frequency is also the number of magnetic vibrations per second caused by the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N facing each other. In the following, the unit of magnetic frequency in this measurement is hertz (Hz). The magnetic frequency in this embodiment depends on the number of magnets included in the repulsive magnetic pole member 60, the number of repulsive magnetic poles N attached thereto, and the number of rotations of the repulsive magnetic pole member 60. FIG. At this time, the number of rotations of the repulsive magnetic pole member 60 is adjusted by the rotational speed of the repulsive magnetic pole member 60 . In this measurement, the number of repulsive magnetic poles N is kept constant at four, and the magnetic frequency is adjusted by varying the rotational speed of the repulsive magnetic pole member 60 .

本測定では、磁気振動数の変化に伴う成膜効率の変化を比較するため、4種類の磁気振動数で測定を行った。測定を行った4種類の磁気振動数は、図4に示すように、0Hz、20Hz、200Hz、267Hzである。ここで、磁気振動数が0Hzのときは、反発磁極部材60を回転させない状態、すなわち、周期的な磁界変化を生じさせず、混合体ECは磁気振動していない状態である。以下において、磁気振動数が0Hzである場合と、混合体ECがいくらか磁気振動している場合(磁気振動数が20Hz,200Hz,267Hz)とを比較する。 In this measurement, measurements were performed at four different magnetic frequencies in order to compare changes in film formation efficiency that accompany changes in the magnetic frequency. The four types of magnetic frequencies that were measured are 0 Hz, 20 Hz, 200 Hz, and 267 Hz, as shown in FIG. Here, when the magnetic frequency is 0 Hz, the repulsion magnetic pole member 60 is not rotated, that is, the mixture EC is not magnetically vibrating without generating a periodic magnetic field change. In the following, the case where the magnetic frequency is 0 Hz is compared with the case where the mixture EC is somewhat magnetically vibrated (magnetic frequencies of 20 Hz, 200 Hz, and 267 Hz).

まず、図4に示すように、磁気振動数が0Hzの場合、電極粒子Eの成膜量は4.39mg/cmであり、このときの成膜効率は約15.0%であった。これに対して、磁気振動数を20Hz、すなわち、対向磁極N2と反発磁極Nとを1秒間あたりに20回対向させた場合、電極粒子Eの成膜量は4.98mg/cmであり、このときの成膜効率は約17.0%であった。これにより、混合体ECを磁気振動させない場合と、混合体ECを磁気振動させる場合と、では、混合体ECを磁気振動させる場合の方が電極粒子Eの成膜量が増加した。これに付随して、混合体ECを磁気振動させた場合は、混合体ECを磁気振動させなかった場合と比べて、約2.0%の成膜効率の向上が見られた。 First, as shown in FIG. 4, when the magnetic frequency was 0 Hz, the film formation amount of the electrode particles E was 4.39 mg/cm 2 , and the film formation efficiency at this time was approximately 15.0%. On the other hand, when the magnetic frequency is 20 Hz, that is, when the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N face each other 20 times per second, the amount of film formation of the electrode particles E is 4.98 mg/cm 2 . The film formation efficiency at this time was about 17.0%. As a result, the film formation amount of the electrode particles E increased when the mixture EC was magnetically oscillated, compared to when the mixture EC was not magnetically oscillated. Accompanying this, when the mixture EC was magnetically oscillated, the film formation efficiency was improved by about 2.0% compared to the case where the mixture EC was not magnetically oscillated.

さらに、磁気振動数を200Hz、すなわち、対向磁極N2と反発磁極Nとを1秒間あたりに200回対向させた場合、電極粒子Eの成膜量は5.26mg/cmであり、このときの成膜効率は約18.0%であった。つまり、磁気振動数を増大させる、すなわち、対向磁極N2と反発磁極Nとの1秒間当たりに対向する回数を増やすことで、電極粒子Eの成膜量は増加し、これに付随して、成膜効率の向上が見られた。具体的には、混合体ECを磁気振動数200Hzにて磁気振動させた場合は、混合体ECを磁気振動させなかった場合と比べて、成膜効率が約3.0%向上した。さらに、混合体ECを磁気振動数200Hzにて磁気振動させた場合は、混合体ECを磁気振動数20Hzにて磁気振動させた場合と比べて、成膜効率が約1.0%向上した。このことから、周期的な磁界変化を生じさせ、混合体ECを磁気振動させることで成膜効率を向上させることができた。さらに、磁気振動数を増大させて200Hzにすると、成膜効率の更なる向上が達成された。 Furthermore, when the magnetic frequency is 200 Hz, that is, when the opposing magnetic pole N2 and the repulsive magnetic pole N are opposed 200 times per second, the film formation amount of the electrode particles E is 5.26 mg/cm 2 . The film formation efficiency was about 18.0%. That is, by increasing the magnetic frequency, that is, by increasing the number of times the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N face each other per second, the amount of the electrode particles E deposited increases. An improvement in membrane efficiency was observed. Specifically, when the mixture EC was magnetically oscillated at a magnetic frequency of 200 Hz, the film formation efficiency was improved by about 3.0% compared to the case where the mixture EC was not magnetically oscillated. Furthermore, when the mixture EC was magnetically oscillated at a magnetic frequency of 200 Hz, the film formation efficiency was improved by about 1.0% compared to the case where the mixture EC was magnetically oscillated at a magnetic frequency of 20 Hz. From this, it was possible to improve the film formation efficiency by generating a periodic magnetic field change and magnetically oscillating the mixture EC. Furthermore, when the magnetic frequency was increased to 200 Hz, a further improvement in deposition efficiency was achieved.

ここで、磁気振動数を200Hzから増大させて267Hz、すなわち、対向磁極N2と反発磁極Nとを1秒間あたりに267回対向させた場合、電極粒子Eの成膜量は5.13mg/cmであり、このときの成膜効率は約17.5%であった。具体的には、混合体ECを磁気振動数267Hzにて磁気振動させた場合は、混合体ECを磁気振動数200Hzにて磁気振動させた場合と比べて、成膜効率が約0.5%低下した。つまり、周期的な磁界変化による混合体ECの磁気振動は、電極粒子Eの成膜量と、これに付随する成膜効率と、の向上に寄与する。しかし、磁気振動数が特定の値(以下において、閾値とする)を超えると、電極粒子Eの成膜量および成膜効率は低下傾向にある。すなわち、磁気振動数は、電極粒子Eの成膜量と成膜効率とを向上させる効果を奏するための指標であり、閾値はその最大値と言える。 Here, when the magnetic frequency is increased from 200 Hz to 267 Hz, that is, when the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N face each other 267 times per second, the film formation amount of the electrode particles E is 5.13 mg/cm 2 . , and the film formation efficiency at this time was about 17.5%. Specifically, when the mixture EC is magnetically oscillated at a magnetic frequency of 267 Hz, the film formation efficiency is about 0.5% compared to the case where the mixture EC is magnetically oscillated at a magnetic frequency of 200 Hz. Decreased. In other words, the magnetic oscillation of the mixture EC due to the periodic magnetic field change contributes to the improvement of the film formation amount of the electrode particles E and the associated film formation efficiency. However, when the magnetic frequency exceeds a specific value (hereinafter referred to as a threshold value), the film formation amount and film formation efficiency of the electrode particles E tend to decrease. That is, the magnetic frequency is an index for achieving the effect of improving the film formation amount and the film formation efficiency of the electrode particles E, and the threshold value can be said to be its maximum value.

以上の結果から、混合体ECを磁気振動させた場合は、混合体ECを磁気振動させない場合と比べて、成膜量が最大約19.8%向上した。これに付随して、混合体ECを磁気振動させた場合は、混合体ECを磁気振動させない場合と比べて、成膜効率が最大約3.0%向上した。すなわち、対向磁極N2と反発磁極Nとを周期的に対向させることで生じる周期的な磁界変化により、混合体ECを磁気振動させると、被成膜面68に対する電極粒子Eの成膜量および成膜効率が向上する。 From the above results, when the mixture EC was magnetically oscillated, the film formation amount was improved by up to about 19.8% compared to the case where the mixture EC was not magnetically oscillated. Accompanying this, when the mixture EC was magnetically oscillated, the film formation efficiency was improved by up to about 3.0% compared to the case where the mixture EC was not magnetically oscillated. That is, when the mixture EC is magnetically oscillated by a periodic magnetic field change caused by periodically opposing the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N, the amount of film formation and growth of the electrode particles E on the film formation surface 68 are increased. Membrane efficiency is improved.

さらに、以上の結果から、磁界発生手段としてのマグネットローラを用いて電極粒子E等の粒子を成膜する静電成膜装置1における磁気振動数は、20Hz以上が好ましい。また、静電成膜装置1における磁気振動数は、270Hz以下が好ましく、267Hz以下がより好ましい。換言すると、静電成膜装置1において、対向磁極N2と、対向磁極N2と対向して反発する磁極としての反発磁極Nと、が1秒間当たりに対向する回数は、20回以上が好ましい。また、静電成膜装置1において、対向磁極N2と反発磁極Nとが1秒間当たりに対向する回数は、270回以下が好ましく、267回以下がより好ましい。 Furthermore, from the above results, it is preferable that the magnetic frequency in the electrostatic film forming apparatus 1 that forms a film of particles such as the electrode particles E using a magnet roller as a magnetic field generating means is 20 Hz or higher. Moreover, the magnetic frequency in the electrostatic film forming apparatus 1 is preferably 270 Hz or less, more preferably 267 Hz or less. In other words, in the electrostatic deposition apparatus 1, the number of times the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N as a magnetic pole opposing and repelling the opposing magnetic pole N2 face each other is preferably 20 times or more per second. In the electrostatic film forming apparatus 1, the number of times the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N face each other per second is preferably 270 times or less, more preferably 267 times or less.

なお、磁気振動数が閾値を超える場合に、電極粒子Eの成膜量と、これに付随する成膜効率とが低下する要因として、以下のことが考えられる。まず、対向磁極N2と反発磁極Nとの対向によって両者の間に生じる反発する方向の磁界により、混合体ECはキャリアCを軸として立ち上がることができず、筒状部材30の表面側に沿うように倒れた状態となる。このように、混合体ECが倒れた状態となった後、反発磁極部材60の回転に伴い、対向磁極N2と反発磁極Nとの距離が遠ざかる。この過程において、磁気振動数が閾値以下である場合には、対向磁極N2と反発磁極Nとの間に生じる反発する方向の磁界の強度は弱まり、混合体ECは徐々にキャリアCを軸として立ち上がる。さらに、再び対向磁極N2と反発磁極Nとの距離が近づく過程において、両者の間に生じる反発する方向の磁界の強度が強まると、混合体ECは再び倒れた状態となり、これを繰り返すことで、混合体ECは磁気振動する。しかし、磁気振動数が閾値を超えた場合、対向磁極N2と反発磁極Nとが対向した後に、再び対向磁極N2と反発磁極Nとが対向するまでの間隔は、磁気振動数が閾値以下である場合よりも短くなる。これにより、前述のように対向磁極N2と反発磁極Nとの間に形成される反発する方向の磁界により混合体ECが倒れた後、キャリアCを軸として立ち上がる前に、再び対向磁極N2と反発磁極Nとが対向して反発する方向の磁界が生じることで、混合体ECは倒れたままの状態が続く。すなわち、磁気振動数が閾値を超えた場合、混合体ECは、対向磁極N2と反発磁極Nとが作り出す磁界の変化に追従しなくなることが考えられる。 In addition, when the magnetic frequency exceeds the threshold value, the following factors are conceivable as factors for the decrease in the film formation amount of the electrode particles E and the associated film formation efficiency. First, due to the magnetic field in the direction of repulsion generated between the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N due to their opposition, the mixture EC cannot stand up with the carrier C as an axis, and is arranged along the surface side of the tubular member 30. It will be in a state of falling down. In this way, after the mixture EC falls down, the distance between the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N increases as the repelling magnetic pole member 60 rotates. In this process, when the magnetic frequency is equal to or less than the threshold, the strength of the magnetic field in the repulsive direction generated between the opposing magnetic pole N2 and the repulsive magnetic pole N weakens, and the mixture EC gradually rises with the carrier C as its axis. . Furthermore, in the process in which the distance between the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N approaches again, the strength of the magnetic field in the repelling direction generated between them increases, causing the mixture EC to collapse again. The mixture EC magnetically oscillates. However, when the magnetic frequency exceeds the threshold, the magnetic frequency is equal to or less than the threshold in the interval from when the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N face each other until the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N again face each other. shorter than the case. As a result, after the mixture EC falls down due to the magnetic field in the repelling direction formed between the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N as described above, it repels the opposing magnetic pole N2 again before it rises with the carrier C as its axis. A magnetic field is generated in a direction in which the magnetic pole N opposes and repels the magnetic pole N, so that the mixture EC continues to lie down. That is, when the magnetic frequency exceeds the threshold, it is conceivable that the mixture EC will not follow the change in the magnetic field produced by the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N.

上記実施形態によれば、静電成膜装置1は、電極粒子Eが付着したキャリアCとしての混合体ECを、吸着して搬送するマグネットローラ20を備え、マグネットローラ20の内部に位置する対向磁極N2と、被成膜面68を有するバックアップローラ50の内部に位置し、対向磁極N2と対向して反発する反発磁極Nと、を備える。この対向磁極N2と反発磁極Nとが周期的に対向することで、静電成膜装置1は、周期的な磁界変化を生じさせる。すなわち、マグネットローラ20に吸着された状態において、静電成膜装置1は、筒状部材30の回転に伴う遠心力に加えて、磁界変化により混合体ECを磁気振動させる。これにより、磁界発生手段としてのマグネットローラ20を用いた成膜技術において、キャリアCに対して静電的に拘束された電極粒子EとキャリアCとの分離を容易にし得る。換言すると、静電成膜装置1は、キャリアCに対して静電的に拘束された電極粒子EをキャリアCから分離しやすくできる。その結果、成膜効率を向上できる。 According to the above-described embodiment, the electrostatic film forming apparatus 1 includes the magnet roller 20 that attracts and conveys the mixture EC as the carrier C to which the electrode particles E are attached. A magnetic pole N2 and a repelling magnetic pole N located inside the backup roller 50 having the film-forming surface 68 and opposing and repelling the opposing magnetic pole N2. The opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N periodically face each other, so that the electrostatic film forming apparatus 1 causes a periodic magnetic field change. That is, in the state of being attracted to the magnet roller 20 , the electrostatic film forming apparatus 1 causes the mixture EC to magnetically vibrate due to the change in the magnetic field in addition to the centrifugal force accompanying the rotation of the cylindrical member 30 . As a result, in the film formation technique using the magnet roller 20 as the magnetic field generating means, the separation of the carrier C and the electrode particles E electrostatically bound to the carrier C can be facilitated. In other words, the electrostatic film forming apparatus 1 can easily separate the electrode particles E electrostatically bound to the carrier C from the carrier C. As shown in FIG. As a result, film formation efficiency can be improved.

また、上記実施形態によれば、周期的な磁界変化を生じさせて混合体ECを磁気振動させた場合は、混合体ECを磁気振動させなかった場合よりも単位面積あたりの電極粒子Eの成膜量と、これに付随する成膜効率とが向上した。これにより、静電成膜装置1は、周期的な磁界変化を生じさせることで、キャリアCに対して静電的に拘束された粒子をキャリアCから分離しやすくできる。 Further, according to the above-described embodiment, when the mixture EC is magnetically oscillated by generating a periodic magnetic field change, the number of electrode particles E per unit area is greater than when the mixture EC is not magnetically oscillated. Increased film yield and concomitant deposition efficiency. As a result, the electrostatic film forming apparatus 1 can easily separate the particles electrostatically bound to the carrier C from the carrier C by causing a periodic magnetic field change.

また、上記実施形態によれば、モータの制御により、対向磁極N2と反発磁極Nとが1秒間当たりに対向する回数、すなわち、磁気振動数を制御できる。この制御可能な磁気振動数は、電極粒子Eの成膜量と相関する。これにより、磁気振動数を制御することで、静電成膜装置1は、電極粒子Eの成膜量と、これに付随する成膜効率と、をより一層向上させることができる。 Further, according to the above embodiment, by controlling the motor, the number of times the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N face each other per second, that is, the magnetic frequency can be controlled. This controllable magnetic frequency correlates with the amount of electrode particles E deposited. Thus, by controlling the magnetic frequency, the electrostatic film forming apparatus 1 can further improve the film forming amount of the electrode particles E and the associated film forming efficiency.

B.他の実施形態:
B-1.他の実施形態1:
上記実施形態では、バックアップローラ50の全体が接地部材80により無電荷の状態になるように保たれていた。すなわち、バックアップローラ50の表面に位置する被成膜面68の全体において、被成膜面68に搬送される箔F上にキャリアCから分離した電極粒子Eが成膜されていた。しかし、本開示は、これに限られるものではない。接地部材80の代わりに、バックアップローラ50を一様の電荷に帯電させる帯電ローラと、被成膜面68の一部を無電荷にするレーザ装置と、を備えてもよい。例えば、帯電ローラは、バックアップローラ50の表面を負に帯電させる。また、レーザ装置は、例えば、トナー現像におけるレーザ照射のように、バックアップローラ50と離間した位置に設けられ、被成膜面68において予め定められた領域にレーザ光を照射することで除電し、被成膜面68の一部に無電荷の領域を形成する。このような形態であっても、静電成膜装置1は、対向磁極N2と反発磁極Nとを備え、両者を周期的に対向させることで、周期的な磁界変化を生じさせる。これにより、磁界発生手段としてのマグネットローラ20を用いた成膜技術において、キャリアCに対して静電的に拘束された電極粒子EとキャリアCとの分離を容易にし得る。すなわち、成膜効率を向上させることができる。さらに、このような形態であれば、被成膜面68において、電極粒子Eを成膜する領域や成膜幅を制御することができる。
B. Other embodiments:
B-1. Alternative Embodiment 1:
In the above-described embodiment, the entire backup roller 50 is kept in an uncharged state by the grounding member 80 . That is, the electrode particles E separated from the carrier C were deposited on the foil F conveyed to the film-forming surface 68 located on the surface of the backup roller 50 . However, the present disclosure is not limited to this. Instead of the grounding member 80, a charging roller that uniformly charges the backup roller 50 and a laser device that renders a part of the film formation surface 68 uncharged may be provided. For example, the charging roller negatively charges the surface of the backup roller 50 . Further, the laser device is provided at a position separated from the backup roller 50, for example, like laser irradiation in toner development, and removes static electricity by irradiating a predetermined region of the film formation surface 68 with a laser beam, An uncharged region is formed in part of the film formation surface 68 . Even in such a form, the electrostatic film forming apparatus 1 includes the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N, and by periodically opposing the two, a periodic magnetic field change is generated. As a result, in the film formation technique using the magnet roller 20 as the magnetic field generating means, the separation of the carrier C and the electrode particles E electrostatically bound to the carrier C can be facilitated. That is, film formation efficiency can be improved. Furthermore, with such a form, the area and the film formation width of the electrode particles E can be controlled on the film formation surface 68 .

B-2.他の実施形態2:
上記実施形態では、固定された位置に存在する対向磁極N2に対して、反発磁極Nを有する複数の磁石によって形成される反発磁極部材60を回転させることで、対向位置と非対向位置とに変位可能としていた。しかし、本開示はこれに限られるものではない。反発磁極部材60は、反発磁極Nを有する単一の磁石によって形成されてもよく、回転する代わりに、バックアップローラ50の内部において水平方向に移動することで、対向位置と非対向位置とを変位可能にしてもよい。このような形態であっても、静電成膜装置1は、対向磁極N2と反発磁極Nとを備え、対向位置と非対向位置とを変位可能にすることで、電極粒子Eが付着したキャリアCを磁界変化によって振動させることができる。この振動によってキャリアCに対して静電的に拘束された電極粒子EをキャリアCから分離しやすくできるので、成膜効率を向上させることができる。
B-2. Alternative Embodiment 2:
In the above embodiment, by rotating the repulsive magnetic pole member 60 formed by a plurality of magnets having the repulsive magnetic poles N with respect to the opposed magnetic pole N2 existing at a fixed position, it is displaced between the opposed position and the non-opposed position. It was possible. However, the present disclosure is not limited to this. The repelling magnetic pole member 60 may be formed by a single magnet having a repelling magnetic pole N, and instead of rotating, moves horizontally inside the backup roller 50 to displace between opposed and non-opposed positions. It may be possible. Even in such a form, the electrostatic film forming apparatus 1 includes the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N, and is displaceable between the opposing position and the non-opposing position. C can be oscillated by magnetic field changes. Since the electrode particles E electrostatically bound to the carrier C can be easily separated from the carrier C by this vibration, the film forming efficiency can be improved.

B-3.他の実施形態3:
上記実施形態では、固定された位置に存在する対向磁極N2に対して、反発磁極Nを有する複数の磁石によって形成される反発磁極部材60を回転させることで、対向位置と非対向位置とに変位可能としていた。しかし、本開示はこれに限られるものではない。磁極部材21および反発磁極部材60は電磁石であってもよい。このような形態であっても、静電成膜装置1は、対向磁極N2と反発磁極Nとを備え、対向磁極N2と反発磁極Nとが対向する対向状態と、両者が対向しない非対向状態とを変位可能にできる。これにより、電極粒子Eが付着したキャリアCを磁界変化によって振動させることができる。すなわち、この振動によってキャリアCに対して静電的に拘束された電極粒子EをキャリアCから分離しやすくできるので、成膜効率を向上させることができる。
B-3. Alternative Embodiment 3:
In the above embodiment, by rotating the repulsive magnetic pole member 60 formed by a plurality of magnets having the repulsive magnetic poles N with respect to the opposed magnetic pole N2 existing at a fixed position, it is displaced between the opposed position and the non-opposed position. It was possible. However, the present disclosure is not limited to this. The magnetic pole member 21 and the repelling magnetic pole member 60 may be electromagnets. Even in such a form, the electrostatic film forming apparatus 1 is provided with the opposing magnetic pole N2 and the repulsive magnetic pole N. The opposing state in which the opposing magnetic pole N2 and the repulsive magnetic pole N face each other, and the non-facing state in which they do not face each other. and can be made displaceable. As a result, the carrier C to which the electrode particles E are attached can be vibrated by changing the magnetic field. That is, since the electrode particles E electrostatically bound to the carrier C can be easily separated from the carrier C by this vibration, the film forming efficiency can be improved.

B-4.他の実施形態4:
上記実施形態では、反発磁極部材本体60aを構成する磁石の数は4つであり、板状を成していた。また、反発磁極部材本体60aを構成する磁石は、それぞれに反発磁極Nを有しているため、反発磁極部材60が備える反発磁極Nの数は4つであった。これに対して、本開示はこれに限られるものではなく、反発磁極部材60を構成する磁石の形状や数、大きさ、反発磁極Nの数は任意とすることができる。反発磁極部材60は、電極粒子Eが付着したキャリアCを吸着して搬送するマグネットローラ20の内部に位置する対向磁極N2と対向して反発する反発磁極Nを備えればよい。このような形態であっても、静電成膜装置1は、対向磁極N2と反発磁極Nとを備え、両者を周期的に対向させ、周期的な磁界変化を生じさせる。これにより、磁界発生手段としてのマグネットローラ20を用いた成膜技術において、キャリアCに対して静電的に拘束された電極粒子EとキャリアCとの分離を容易にし得る。すなわち、成膜効率を向上させることができる。さらに、このような形態であれば、反発磁極部材60が備える磁石の形状や数、大きさを調整することで、バックアップローラ50を小型化できる。
B-4. Alternative Embodiment 4:
In the above-described embodiment, the number of magnets constituting the repulsion magnetic pole member main body 60a is four, and the magnets are plate-shaped. Further, since the magnets forming the repulsive magnetic pole member main body 60a each have a repulsive magnetic pole N, the number of repulsive magnetic poles N included in the repulsive magnetic pole member 60 is four. On the other hand, the present disclosure is not limited to this, and the shape, number and size of the magnets forming the repulsive magnetic pole member 60 and the number of repulsive magnetic poles N can be arbitrary. The repulsive magnetic pole member 60 may include a repulsive magnetic pole N that opposes and repels the opposing magnetic pole N2 located inside the magnet roller 20 that attracts and conveys the carrier C to which the electrode particles E are attached. Even in such a form, the electrostatic film forming apparatus 1 includes the opposing magnetic pole N2 and the repelling magnetic pole N, which are periodically opposed to each other to generate a periodic magnetic field change. As a result, in the film formation technique using the magnet roller 20 as the magnetic field generating means, the separation of the carrier C and the electrode particles E electrostatically bound to the carrier C can be facilitated. That is, film formation efficiency can be improved. Furthermore, with such a configuration, the size of the backup roller 50 can be reduced by adjusting the shape, number, and size of the magnets included in the repulsive magnetic pole member 60 .

本開示は、上述の実施形態に限られるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の構成で実現することができる。例えば、発明の概要の欄に記載した各形態中の技術的特徴に対応する実施形態の技術的特徴は、上述の課題の一部又は全部を解決するため に、あるいは、上述の効果の一部又は全部を達成するために、適宜、差し替えや、組み合わせを行うことが可能である。また、その技術的特徴が本明細書中に必須なものとして説明されていなければ、適宜、削除することが可能である。 The present disclosure is not limited to the embodiments described above, and can be implemented in various configurations without departing from the scope of the present disclosure. For example, the technical features of the embodiments corresponding to the technical features in each form described in the outline of the invention are used to solve some or all of the above-mentioned problems, or to achieve some of the above-mentioned effects. Alternatively, replacements and combinations can be made as appropriate to achieve all. Also, if the technical features are not described as essential in this specification, they can be deleted as appropriate.

1…静電成膜装置、2…供給部、3…成膜部、4…回収部、5…調整部、6…定着部、7…制御装置、18…台座、20…マグネットローラ、21…磁極部材、21a…磁極部材本体、22…第2軸部、25…規制部材、30…筒状部材、31…筒状部材本体、32…第1軸部、33…第1支持部材、50…バックアップローラ、51…バックアップローラ本体、52…第3軸部、53…第3支持部材、60…反発磁極部材、60a…反発磁極部材本体、62…第4軸部、68…被成膜面、80…接地部材、200…混合体貯留室、201…連通口、211…第1供給室、212…第2供給室、213…第3供給室、215…第1壁部、216…第2壁部、217…第3壁部、218…第4壁部、221…第1回転翼、222…第2回転翼、223…第3回転翼、300…飛翔領域、410…排出部材、420…回収室、510…厚み補正部材、520…押圧部材、530…センサ、540…キャリア除去装置、610,620…定着ローラ、C…キャリア、E…電極粒子、E1…飛翔電極粒子、EC…混合体、F…箔、I…成形前電極、N…反発磁極、N1…汲み上げ磁極、N2…対向磁極、N3…離脱磁極、O1…筒回転軸、O3…バックアップローラ回転軸、O4…反発磁極回転軸、S1…第1搬送磁極、S2…第2搬送磁極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Electrostatic film-forming apparatus 2... Supply part 3... Film-forming part 4... Recovery part 5... Adjusting part 6... Fixing part 7... Control device 18... Base 20... Magnet roller 21... Magnetic pole member 21a Magnetic pole member main body 22 Second shaft portion 25 Regulation member 30 Tubular member 31 Tubular member main body 32 First shaft portion 33 First support member 50 Backup roller 51 Backup roller main body 52 Third shaft 53 Third support member 60 Repulsion magnetic pole member 60a Repulsion magnetic pole member main body 62 Fourth shaft 68 Film-forming surface 80... Grounding member 200... Mixture storage chamber 201... Communication port 211... First supply chamber 212... Second supply chamber 213... Third supply chamber 215... First wall 216... Second wall Section 217 Third wall 218 Fourth wall 221 First rotor 222 Second rotor 223 Third rotor 300 Flight area 410 Ejection member 420 Recovery Chamber 510 Thickness correction member 520 Pressing member 530 Sensor 540 Carrier removal device 610, 620 Fixing roller C Carrier E Electrode particles E1 Flying electrode particles EC Mixture F... Foil, I... Electrode before forming, N... Repulsion magnetic pole, N1... Drawing up magnetic pole, N2... Opposing magnetic pole, N3... Detachable magnetic pole, O1... Cylinder rotary shaft, O3... Backup roller rotary shaft, O4... Repulsive magnetic pole rotary shaft, S1... First transport magnetic pole, S2... Second transport magnetic pole

Claims (5)

静電成膜装置であって、
磁極を有するマグネットローラであって、成膜材料である電極粒子が付着した磁性を有するキャリアを磁力により吸着させるマグネットローラと、
前記マグネットローラと離間して設けられたバックアップローラであって、前記キャリアから分離した前記電極粒子が成膜される被成膜面を表面に有するバックアップローラと、を備え、
前記バックアップローラの内部には、前記マグネットローラの前記磁極と反発する反発磁極を有する反発磁極部材であって、前記マグネットローラと前記バックアップローラとの間に位置する飛翔領域において磁界変化を生じさせる反発磁極部材が設けられている、静電成膜装置。
An electrostatic deposition apparatus,
A magnet roller having a magnetic pole, the magnet roller attracting a carrier having magnetism to which electrode particles as a film forming material are attached by a magnetic force;
A backup roller provided apart from the magnet roller, the backup roller having a film-forming surface on which the electrode particles separated from the carrier are formed,
Inside the backup roller is a repelling magnetic pole member having a repelling magnetic pole that repels the magnetic pole of the magnet roller, the repelling magnetic pole member causing a magnetic field change in a flying region located between the magnet roller and the backup roller. An electrostatic deposition apparatus provided with a magnetic pole member.
請求項1に記載の静電成膜装置であって、
前記マグネットローラは、前記電極粒子が付着した前記キャリアを吸着する筒状部材と、
前記筒状部材の内部に設けられ、前記磁極を有する磁極部材と、を有し、
前記反発磁極部材は、前記磁極と前記反発磁極とが周期的に対向するように回転可能に構成されている、静電成膜装置。
The electrostatic film forming apparatus according to claim 1,
The magnet roller includes a cylindrical member that attracts the carrier to which the electrode particles are attached;
a magnetic pole member provided inside the cylindrical member and having the magnetic pole,
The electrostatic film forming apparatus, wherein the repulsion magnetic pole member is rotatable so that the magnetic pole and the repulsion magnetic pole periodically face each other.
請求項2に記載の静電成膜装置であって、
前記磁極と前記反発磁極とが1秒間当たりに対向する回数は、20回以上270回以下である、静電成膜装置。
The electrostatic film forming apparatus according to claim 2,
The electrostatic film forming apparatus, wherein the number of times the magnetic pole and the repelling magnetic pole face each other is 20 times or more and 270 times or less per second.
請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の静電成膜装置であって、
前記バックアップローラは、回転軸を有し、
前記反発磁極部材は、前記内部のうちで前記回転軸と前記マグネットローラとの間に位置する、静電成膜装置。
The electrostatic film forming apparatus according to any one of claims 1 to 3,
The backup roller has a rotating shaft,
The electrostatic film forming apparatus, wherein the repelling magnetic pole member is positioned between the rotating shaft and the magnet roller within the interior.
静電成膜方法であって、
(a)磁性を有するキャリアであって成膜材料である電極粒子が付着した前記キャリアを、磁極の磁力によってマグネットローラに吸着させる工程と、
(b)前記キャリアから前記電極粒子を分離させて、前記電極粒子をバックアップローラの被成膜面に付着させる工程と、を備え、
前記工程(b)は、前記バックアップローラの内部に有する前記磁極と反発する反発磁極によって、前記マグネットローラと前記バックアップローラとの間に位置する飛翔領域において磁界変化を生じさせて前記キャリアを振動させる工程を含む、静電成膜方法。
An electrostatic deposition method,
(a) a step of attracting the carrier, which is a carrier having magnetism and to which electrode particles as a film forming material are attached, to a magnet roller by the magnetic force of the magnetic pole;
(b) separating the electrode particles from the carrier and adhering the electrode particles to a film-forming surface of a backup roller;
In the step (b), a magnetic field change is generated in a flying region located between the magnet roller and the backup roller by a repelling magnetic pole that repels the magnetic pole inside the backup roller to vibrate the carrier. An electrostatic deposition method, comprising steps.
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