JP2022111423A - Thermosetting cyclic imide resin composition - Google Patents
Thermosetting cyclic imide resin composition Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022111423A JP2022111423A JP2021006834A JP2021006834A JP2022111423A JP 2022111423 A JP2022111423 A JP 2022111423A JP 2021006834 A JP2021006834 A JP 2021006834A JP 2021006834 A JP2021006834 A JP 2021006834A JP 2022111423 A JP2022111423 A JP 2022111423A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cyclic imide
- resin composition
- component
- thermosetting
- imide resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- -1 cyclic imide Chemical class 0.000 title claims abstract description 81
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 48
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 46
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 37
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 36
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 36
- 239000000539 dimer Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 21
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims abstract description 20
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 claims abstract description 20
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 17
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 14
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 63
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 18
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 5
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 4
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 claims description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 claims description 3
- VILAVOFMIJHSJA-UHFFFAOYSA-N dicarbon monoxide Chemical group [C]=C=O VILAVOFMIJHSJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 25
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 18
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 17
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 9
- 229920006132 styrene block copolymer Polymers 0.000 description 9
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 7
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 5
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 5
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 3
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 3
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N [hydroxy(octoxy)phosphoryl] octyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(=O)OP(O)(=O)OCCCCCCCC UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000012787 coverlay film Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 2
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- ONMLAAZEQUPQSE-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2-dimethylpropyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)CO ONMLAAZEQUPQSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRQJLSWAMYZFGP-UHFFFAOYSA-N 1,1'-biphenyl;phenol Chemical group OC1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 JRQJLSWAMYZFGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPJGAEWUPXWFPL-UHFFFAOYSA-N 1-[3-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC(N2C(C=CC2=O)=O)=C1 IPJGAEWUPXWFPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIQAWCBKWSQMRQ-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecanoic acid;2-methylprop-2-enoic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O HIQAWCBKWSQMRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEKHISJGRIEHRE-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecanoic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IEKHISJGRIEHRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- ZKLMKZINKNMVKA-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxypropoxy)propan-1-ol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(O)COC(C)CO ZKLMKZINKNMVKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKOHCQAVIJDYAF-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O.CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O.CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O KKOHCQAVIJDYAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTITJMSUGCZDH-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxy-2,6-dimethylphenyl)-3,5-dimethylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=CC(C)=C1C1=C(C)C=C(O)C=C1C XSTITJMSUGCZDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLPSGQNMVAHPHF-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)O.C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C(C12)(C1=CC=C(C=C1)OCCO)C1=CC=C(C=C1)OCCO Chemical compound C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)O.C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C(C12)(C1=CC=C(C=C1)OCCO)C1=CC=C(C=C1)OCCO LLPSGQNMVAHPHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N [2-[2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)butoxymethyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CC)COCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N ac1mi23b Chemical compound C1C2C3C(COC(=O)C=C)CCC3C1C(COC(=O)C=C)C2 VEBCLRKUSAGCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- XOSYHSRXLVMOBA-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;phenol Chemical compound C1C=CC=C1.C1C=CC=C1.OC1=CC=CC=C1 XOSYHSRXLVMOBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004427 diamine group Chemical group 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006471 dimerization reaction Methods 0.000 description 1
- HTDKEJXHILZNPP-UHFFFAOYSA-N dioctyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(=O)OCCCCCCCC HTDKEJXHILZNPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMQYIPNJVLNWOE-UHFFFAOYSA-N dioctyl hydrogen phosphite Chemical compound CCCCCCCCOP(O)OCCCCCCCC XMQYIPNJVLNWOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHWQYYPUYFYELO-UHFFFAOYSA-N ditridecyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOP([O-])OCCCCCCCCCCCCC XHWQYYPUYFYELO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010295 mobile communication Methods 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229930014626 natural product Natural products 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoindene-1,5-diyldimethanol Chemical compound C1C2C3C(CO)CCC3C1C(CO)C2 OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N piperidine-4-carbonitrile Chemical compound N#CC1CCNCC1 FSDNTQSJGHSJBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Chemical group 0.000 description 1
- 235000015112 vegetable and seed oil Nutrition 0.000 description 1
- 235000019871 vegetable fat Nutrition 0.000 description 1
- 239000008158 vegetable oil Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
Description
本発明は、熱硬化性環状イミド樹脂組成物、その樹脂組成物からなる未硬化及び硬化樹脂フィルム、接着剤、また熱硬化性環状イミド樹脂組成物を含む基板に関する。 The present invention relates to a thermosetting cyclic imide resin composition, uncured and cured resin films comprising the resin composition, adhesives, and substrates containing the thermosetting cyclic imide resin composition.
近年、5Gという次世代の移動通信システムが流行しており、高速、大容量、低遅延通信を実現しようとしている。これらを実現するためには、高周波帯用の材料が必要であり、ノイズ対策として伝送損失の低減が必須となるために、誘電特性の優れた絶縁材料の開発が求められている。 In recent years, 5G, a next-generation mobile communication system, has become popular, and attempts are being made to realize high-speed, large-capacity, low-delay communication. In order to achieve these, materials for high-frequency bands are necessary, and since reduction of transmission loss is essential as a countermeasure against noise, the development of insulating materials with excellent dielectric properties is required.
その中でも基板用途で、このような誘電特性の優れた絶縁材料が求められている。リジット基板やフレキシブル基板などの基板に対して誘電特性の優れた絶縁材料が求められており、リジッド基板では反応性ポリフェニレンエーテル樹脂(PPE)、フレキシブルプリント基板(FPC)では液晶ポリマー(LCP)や特性を改良した変性ポリイミド(MPI)と呼ばれる製品が使用されるようになってきている。 Among them, there is a demand for an insulating material having such excellent dielectric properties for use as a substrate. There is a demand for insulating materials with excellent dielectric properties for substrates such as rigid substrates and flexible substrates. For rigid substrates, reactive polyphenylene ether resin (PPE) A product called modified polyimide (MPI), which is an improved polyimide, has come to be used.
上記のFPCを製造する際、ベースフィルムやカバーレイフィルムを、配線部分を有する面などに熱プレス等を用いて貼りつけるための接着剤が必要である。従来は、エポキシ樹脂を主に使用した接着剤を用いているが、最近は接着剤も誘電特性の優れた材料が求められるようになってきている。 When manufacturing the above-mentioned FPC, an adhesive is required for attaching the base film or the coverlay film to the surface having the wiring portion using a hot press or the like. Conventionally, an adhesive mainly using an epoxy resin has been used, but recently, adhesives with excellent dielectric properties have been required.
このような背景から、誘電特性が優れる接着剤が報告されているが(例えば、特許文献1~4)、その多くは、エポキシ樹脂、その他の熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂の組合せである。これらの組成は周波数10GHz以下の領域では優れた誘電特性を有するが、5Gではさらにミリ波と呼ばれる28GHz以上の周波数領域での誘電特性を有することが求められており、従来の誘電特性に優れると言われた接着剤は、現在ではまだ十分な誘電特性とは言えないものが多い。 Against this background, adhesives with excellent dielectric properties have been reported (for example, Patent Documents 1 to 4), but most of them are combinations of epoxy resins, other thermosetting resins and thermoplastic resins. These compositions have excellent dielectric properties in the frequency range of 10 GHz or less, but 5G is required to have dielectric properties in the frequency range of 28 GHz or higher, which is called millimeter waves. At present, many of the said adhesives cannot be said to have sufficient dielectric properties.
また、特殊なマレイミド化合物と熱可塑性樹脂とを含有する樹脂組成物が優れた高周波特性を備え、導体との接着性をも高い水準で備える組成物として開示されている(特許文献5)。 Further, a resin composition containing a special maleimide compound and a thermoplastic resin is disclosed as a composition having excellent high-frequency characteristics and a high level of adhesion to conductors (Patent Document 5).
しかしながら、特許文献5に記載の樹脂組成物は、ワニス状で互いの樹脂の相溶性がなく、ワニスの分離が生じてしまい、樹脂フィルムが得られなかったり、仮に樹脂フィルムが得られても接着性が発現しなかったりすることが確認され、基板用途に適さないことがわかった。
従って、本発明は、優れた誘電特性を有し、LCPやMPIなど有機樹脂及び銅に対しても強い接着力を有する熱硬化性環状イミド樹脂組成物並びにそれからなる未硬化及び硬化樹脂フィルム、接着剤、また熱硬化性環状イミド樹脂組成物を含む基板を提供することを目的とする。
However, the resin composition described in Patent Document 5 is in the form of a varnish and does not have compatibility between the resins, and the varnish is separated. It was confirmed that the properties did not appear, and it was found that it was not suitable for use as a substrate.
Therefore, the present invention provides a thermosetting cyclic imide resin composition having excellent dielectric properties and strong adhesion to organic resins such as LCP and MPI and copper, as well as uncured and cured resin films and adhesive An object of the present invention is to provide a substrate containing a thermosetting cyclic imide resin composition.
本発明者は、上記課題を解決するため鋭意研究を重ねた結果、下記熱硬化性環状イミド樹脂組成物が、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成した。 Means for Solving the Problems As a result of earnest research to solve the above problems, the present inventors have found that the following thermosetting cyclic imide resin composition can achieve the above objects, and completed the present invention.
<1>
(A)スチレン系エラストマー、
(B)1分子中に、少なくとも1つのダイマー酸骨格、少なくとも1つの炭素数6以上の直鎖アルキレン基、及び少なくとも2つの環状イミド基を含有する環状イミド化合物、
(C)1分子中にエポキシ基を2つ以上有するエポキシ樹脂 及び
(D)反応促進剤
を含み、
前記(A)、(B)及び(C)成分の質量比率が(A)成分100質量部に対して、(B)成分と(C)成分の合計量が1~50質量部であり、かつ、(B)成分の量が(C)成分の量よりも多いものである、熱硬化性環状イミド樹脂組成物。
<2>
(A)成分のスチレン系エラストマーが、スチレンと、アルケン及び/又は非共役ジエンとの共重合体であって、部分又は完全水添されている共重合体である<1>に記載の熱硬化性環状イミド樹脂組成物。
<3>
(B)成分の環状イミド化合物が、下記式(1)で示されるマレイミド化合物であって、1分子中に少なくとも1つのダイマー酸骨格を有するマレイミド化合物である<1>又は<2>に記載の熱硬化性環状イミド樹脂組成物。
Aは独立して環状構造を有する4価の有機基であり、
Bは独立して炭素数6~200の2価炭化水素基であり、
Qは独立して下記式(2)
で示されるシクロヘキサン骨格を有する炭素数6~60の2価の脂環式炭化水素基であり、
WはB又はQであり、
nは0~100であり、mは0~200であるが、n及びmは同時に0とはならず、
n及びmで括られた各繰り返し単位の順序は限定されず、結合様式は、交互であっても、ブロックであっても、ランダムであってもよい。)
<4>
式(1)中のAが下記構造式で示される4価の有機基のいずれかである<3>に記載の熱硬化性環状イミド樹脂組成物。
<5>
(D)成分の反応促進剤が少なくともアニオン重合開始触媒及びラジカル重合開始剤のいずれである<1>から<4>のいずれかに1項に記載の熱硬化性環状イミド樹脂組成物。
<6>
(E)成分としてさらに接着助剤を含む<1>から<5>のいずれかに1項に記載の熱硬化性環状イミド樹脂組成物。
<7>
<1>に記載の熱硬化性環状イミド樹脂組成物からなる未硬化樹脂フィルム。
<8>
<1>に記載の熱硬化性環状イミド樹脂組成物からなる硬化樹脂フィルム。
<9>
<1>に記載の熱硬化性環状イミド樹脂組成物からなる接着剤。
<10>
<1>に記載の熱硬化性環状イミド樹脂組成物を含む基板。
<1>
(A) a styrene-based elastomer,
(B) a cyclic imide compound containing, in one molecule, at least one dimer acid skeleton, at least one linear alkylene group having 6 or more carbon atoms, and at least two cyclic imide groups;
(C) an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule and (D) a reaction accelerator,
The mass ratio of components (A), (B) and (C) is 1 to 50 parts by mass per 100 parts by mass of component (A), and the total amount of components (B) and (C) is 1 to 50 parts by mass, and , a thermosetting cyclic imide resin composition, wherein the amount of component (B) is greater than the amount of component (C).
<2>
The thermosetting according to <1>, wherein the styrene-based elastomer of component (A) is a partially or completely hydrogenated copolymer of styrene and an alkene and/or a non-conjugated diene. cyclic imide resin composition.
<3>
<1> or <2>, wherein the cyclic imide compound of component (B) is a maleimide compound represented by the following formula (1) and having at least one dimer acid skeleton in one molecule. A thermosetting cyclic imide resin composition.
A is independently a tetravalent organic group having a cyclic structure,
B is independently a divalent hydrocarbon group having 6 to 200 carbon atoms,
Q is independently the following formula (2)
A divalent alicyclic hydrocarbon group having 6 to 60 carbon atoms and having a cyclohexane skeleton represented by
W is B or Q;
n is 0 to 100 and m is 0 to 200, but n and m are not 0 at the same time,
The order of each repeating unit bracketed by n and m is not limited, and the binding mode may be alternating, block, or random. )
<4>
The thermosetting cyclic imide resin composition according to <3>, wherein A in formula (1) is any one of tetravalent organic groups represented by the following structural formulas.
<5>
The thermosetting cyclic imide resin composition according to any one of <1> to <4>, wherein the reaction accelerator of component (D) is at least one of an anionic polymerization initiation catalyst and a radical polymerization initiator.
<6>
The thermosetting cyclic imide resin composition according to any one of <1> to <5>, further comprising an adhesion aid as component (E).
<7>
An uncured resin film made of the thermosetting cyclic imide resin composition according to <1>.
<8>
A cured resin film comprising the thermosetting cyclic imide resin composition according to <1>.
<9>
An adhesive comprising the thermosetting cyclic imide resin composition according to <1>.
<10>
A substrate containing the thermosetting cyclic imide resin composition according to <1>.
本発明の熱硬化性環状イミド樹脂組成物は、ワニスにしても分離が生じず、その硬化物は誘電特性と接着力に優れるものであり、特にLCP及びMPIなどの有機樹脂並びに銅に対して強い接着力を有する。従って、本発明の熱硬化性環状イミド樹脂組成物は、特に、FPC用材料として有用である。 The thermosetting cyclic imide resin composition of the present invention does not separate even if it is a varnish, and the cured product thereof has excellent dielectric properties and adhesive strength. It has strong adhesion. Therefore, the thermosetting cyclic imide resin composition of the present invention is particularly useful as an FPC material.
以下、本発明につき更に詳しく説明する。 The present invention will be described in more detail below.
(A)スチレン系エラストマー
(A)成分のスチレン系エラストマーは主に、組成物の硬化物の高周波での低誘電特性、耐熱性及び接着性向上、並びに組成物をフィルム化した際の柔軟性向上に寄与し、スチレン系化合物由来の構造単位を有する熱可塑性エラストマーであれば特に制限はなく、スチレン由来の構造単位を有する熱可塑性エラストマーであってもよい。
(A) Styrene-based elastomer The styrene-based elastomer of component (A) mainly has low dielectric properties at high frequencies of the cured composition, improves heat resistance and adhesiveness, and improves flexibility when the composition is made into a film. is not particularly limited as long as it is a thermoplastic elastomer having a structural unit derived from a styrene-based compound, and a thermoplastic elastomer having a structural unit derived from styrene may be used.
本発明においてスチレン系エラストマーは、スチレンと、アルケン及び/又は非共役ジエンとの共重合体であって、部分又は完全水添されている共重合体であることが好ましい。すなわち、スチレンをハードセグメント、アルケン及び/又は非共役ジエンをソフトセグメントとしたブロック共重合体及び/又はランダム共重合体であり、スチレン系エラストマーの例としては、スチレン/ブタジエン/スチレン・ブロック/ランダム共重合体、スチレン/イソプレン/スチレン・ブロック/ランダム共重合体、スチレン/エチレン/ブチレン/スチレン・ブロック/ランダム共重合体、スチレン/エチレン/プロピレン/スチレン・ブロック/ランダム共重合体、スチレン/ブタジエン・ブロック/ランダム共重合体などが挙げられる。品質の安定性からブロック共重合体が好ましい。 In the present invention, the styrenic elastomer is preferably a copolymer of styrene and an alkene and/or a non-conjugated diene, which is partially or completely hydrogenated. That is, block copolymers and/or random copolymers having styrene as a hard segment and alkenes and/or non-conjugated dienes as soft segments. Examples of styrene-based elastomers include styrene/butadiene/styrene block/random Copolymers, styrene/isoprene/styrene block/random copolymers, styrene/ethylene/butylene/styrene block/random copolymers, styrene/ethylene/propylene/styrene block/random copolymers, styrene/butadiene - Block/random copolymers and the like can be mentioned. Block copolymers are preferred for quality stability.
耐熱性の観点から、水素添加反応(水添)により共役ジエン成分の二重結合をなくした、スチレン/エチレン/ブチレン/スチレン・ブロック/ランダム共重合体、スチレン/エチレン/プロピレン/スチレン・ブロック/ランダム共重合体、スチレン/ブタジエン・ブロック/ランダム共重合体などを用いることが好ましい。水添は部分水添でも完全水添でもよいが、耐熱性の観点から完全水添又は水添率の高いものがより好ましい。 From the viewpoint of heat resistance, styrene/ethylene/butylene/styrene block/random copolymers, styrene/ethylene/propylene/styrene block/ Random copolymers, styrene/butadiene block/random copolymers and the like are preferably used. Hydrogenation may be partial hydrogenation or complete hydrogenation, but from the viewpoint of heat resistance, complete hydrogenation or a high degree of hydrogenation is more preferable.
スチレン共重合体におけるスチレン/共役ジエン及びその二重結合を水添した部の質量比は、10/90~70/30であることが好ましく、20/80~67/33がより好ましい。当該質量比がこの範囲内であれば、相溶性、分散性に優れて、品質の安定した組成物とすることができる。すなわち、スチレン系エラストマー中の質量基準のスチレン含有率として、10~90%であることが好ましく、20~67%であることがより好ましい。 The mass ratio of styrene/conjugated diene and hydrogenated double bonds thereof in the styrene copolymer is preferably from 10/90 to 70/30, more preferably from 20/80 to 67/33. If the mass ratio is within this range, a composition with excellent compatibility and dispersibility and stable quality can be obtained. That is, the styrene content based on mass in the styrene elastomer is preferably 10 to 90%, more preferably 20 to 67%.
スチレン系エラストマーはカルボキシル基やアミノ基などによって変性されていてもよい。スチレン系エラストマーの変性は、例えば、スチレン系エラストマーの重合時に、不飽和カルボン酸を共重合させることにより行うことができる。また、スチレン系エラストマーと不飽和カルボン酸を有機パーオキサイドの存在下に加熱、混練することにより行うこともできる。不飽和カルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水フマル酸等を挙げることができる。 The styrene elastomer may be modified with a carboxyl group, an amino group, or the like. The styrenic elastomer can be modified, for example, by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid during polymerization of the styrenic elastomer. It can also be carried out by heating and kneading a styrene-based elastomer and an unsaturated carboxylic acid in the presence of an organic peroxide. Examples of unsaturated carboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic anhydride, itaconic anhydride, and fumaric anhydride.
スチレン系エラストマー(A)の数平均分子量(Mn)は、10,000~300,000であることが好ましく、10,000~200,000であることがより好ましい。数平均分子量が指定の範囲内であれば、得られる組成物が優れたフィルム性を有し、(B)成分や(C)成分などの他の成分の相溶性、分散性に優れ、良好な接着性を示す。
なお、本発明中で言及する数平均分子量とは、下記条件で測定したゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によるポリスチレンを標準物質とした数平均分子量を指すこととする。
The number average molecular weight (Mn) of the styrene elastomer (A) is preferably 10,000 to 300,000, more preferably 10,000 to 200,000. If the number average molecular weight is within the specified range, the resulting composition has excellent film properties, and has excellent compatibility and dispersibility with other components such as component (B) and component (C). Shows adhesion.
The number average molecular weight referred to in the present invention refers to the number average molecular weight measured by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions using polystyrene as a standard substance.
[測定条件]
展開溶媒:テトラヒドロフラン(THF)
流量:0.35mL/min
検出器:示差屈折率検出器(RI)
カラム: TSK Guardcolumn SuperH-L
TSKgel SuperHZ4000(4.6mmI.D.×15cm×1)
TSKgel SuperHZ3000(4.6mmI.D.×15cm×1)
TSKgel SuperHZ2000(4.6mmI.D.×15cm×2)
(いずれも東ソー社製)
カラム温度:40℃
試料注入量:5μL(濃度0.2質量%のTHF溶液)
[Measurement condition]
Developing solvent: tetrahydrofuran (THF)
Flow rate: 0.35mL/min
Detector: Differential Refractive Index Detector (RI)
Column: TSK Guard column SuperH-L
TSKgel SuperHZ4000 (4.6mm ID x 15cm x 1)
TSKgel SuperHZ3000 (4.6mm ID x 15cm x 1)
TSKgel SuperHZ2000 (4.6mm I.D. x 15cm x 2)
(both manufactured by Tosoh Corporation)
Column temperature: 40°C
Sample injection volume: 5 μL (THF solution with a concentration of 0.2% by mass)
(A)成分のスチレン系エラストマーは市販されたものを用いてもよい。具体例としては、旭化成社製のタフテックシリーズや、クラレ社製のハイブラーシリーズなどが挙げられる。なお、本発明の組成物には、スチレン系エラストマーを1種単独で用いても、2種以上混合して用いてもよい。 (A) A commercially available styrene-based elastomer may be used. Specific examples include the Tuftec series manufactured by Asahi Kasei Corporation and the Hybler series manufactured by Kuraray. In the composition of the present invention, one type of styrene elastomer may be used alone, or two or more types may be mixed and used.
(B)特定の環状イミド化合物
本発明で用いる(B)成分は、特定の環状イミド化合物であり、1分子中に、少なくとも1つのダイマー酸骨格、少なくとも1つの炭素数6以上の直鎖アルキレン基、及び少なくとも2つの環状イミド基を含有する環状イミド化合物である。
(B) Specific cyclic imide compound The component (B) used in the present invention is a specific cyclic imide compound having at least one dimer acid skeleton and at least one linear alkylene group having 6 or more carbon atoms in one molecule. , and at least two cyclic imido groups.
ここで言う、ダイマー酸とは、植物系油脂などの天然物を原料とする炭素数18の不飽和脂肪酸の二量化によって生成された、炭素数36のジカルボン酸を主成分とする液状の二塩基酸であり、ダイマー酸(ダイマージアミン)骨格とは前記ダイマー酸からカルボキシ基(アミノ基)を除いた構造を指す。そのため、ダイマー酸骨格は単一の骨格ではなく、複数の構造を有し、何種類かの異性体が存在することが知られている。ダイマー酸の代表的なものは直鎖型(a)、単環型(b)、芳香族環型(c)、多環型(d)という名称で分類される。
すなわち、(B)成分は、ダイマー酸骨格として、下記(a)~(d)で示されるダイマー酸から2つのカルボキシ基を除いた基を有するものが好ましい。
That is, the component (B) preferably has, as a dimer acid skeleton, groups obtained by removing two carboxyl groups from the dimer acids shown in (a) to (d) below.
(B)成分の環状イミド化合物としては、下記式(1)で示されるマレイミド化合物であって、1分子中に少なくとも1つのダイマー酸骨格を有するマレイミド化合物が好ましい。この下記式(1)で示されるマレイミド化合物を使用すると、硬化前後共に、得られるフィルムの機械的特性が良く、ハンドリングしやすくなるだけでなく、後述する(C)成分との相溶性が高く、特性が場所によってムラのない組成物を得ることができる。また、(B)成分を配合することにより、銅箔との密着力が強く、信頼性の高い組成物となる。 As the cyclic imide compound (B), a maleimide compound represented by the following formula (1) and having at least one dimer acid skeleton in one molecule is preferable. When the maleimide compound represented by the following formula (1) is used, the resulting film has good mechanical properties both before and after curing, is easy to handle, and has high compatibility with component (C) described later. It is possible to obtain a composition with uniform properties depending on the location. Moreover, by blending the component (B), the composition has strong adhesion to the copper foil and is highly reliable.
Aは独立して環状構造を有する4価の有機基であり、
Bは独立して炭素数6~200の2価炭化水素基であり、
Qは独立して下記式(2)
で示されるシクロヘキサン骨格を有する炭素数6~60の2価の脂環式炭化水素基であり、
WはB又はQであり、
nは0~100であり、mは0~200であるが、n及びmは同時に0とはならず、
n及びmで括られた各繰り返し単位の順序は限定されず、結合様式は、交互であっても、ブロックであっても、ランダムであってもよい。)
A is independently a tetravalent organic group having a cyclic structure,
B is independently a divalent hydrocarbon group having 6 to 200 carbon atoms,
Q is independently the following formula (2)
A divalent alicyclic hydrocarbon group having 6 to 60 carbon atoms and having a cyclohexane skeleton represented by
W is B or Q;
n is 0 to 100 and m is 0 to 200, but n and m are not 0 at the same time,
The order of each repeating unit bracketed by n and m is not limited, and the binding mode may be alternating, block, or random. )
ここで、前記式(1)中、Aは独立して環状構造を有する4価の有機基を示し、中でも下記構造式で示される4価の有機基のいずれかであることが好ましい。
また、前記式(1)中、Bは独立して炭素数6~200、好ましくは8~100、より好ましくは10~50の2価炭化水素基である。中でも、前記2価炭化水素基中の水素原子の1個以上が、炭素数6~200、好ましくは8~100、より好ましくは10~50のアルキル基又はアルケニル基で置換されている分岐状2価炭化水素基であることが好ましい。分岐状2価炭化水素基としては、飽和脂肪族炭化水素基、不飽和炭化水素基のいずれでもよく、分子鎖の途中に脂環式構造又は芳香族環構造を有していてもよい。
前記分岐状2価炭化水素基として、具体的には、ダイマージアミンと呼ばれる両末端ジアミン由来の2価炭化水素基が挙げられる。なお、ダイマージアミンとは、オレイン酸などの不飽和脂肪酸の二量体(ダイマー酸)から誘導される化合物であり、従って、Bとしては、上記(a)~(d)で示されるダイマー酸から2つのカルボキシ基を除いた基が特に好ましい。
In the above formula (1), B is independently a divalent hydrocarbon group having 6 to 200 carbon atoms, preferably 8 to 100 carbon atoms, more preferably 10 to 50 carbon atoms. Among them, branched 2 in which one or more hydrogen atoms in the divalent hydrocarbon group are substituted with an alkyl or alkenyl group having 6 to 200 carbon atoms, preferably 8 to 100 carbon atoms, more preferably 10 to 50 carbon atoms. A valent hydrocarbon group is preferred. The branched divalent hydrocarbon group may be either a saturated aliphatic hydrocarbon group or an unsaturated hydrocarbon group, and may have an alicyclic structure or an aromatic ring structure in the middle of the molecular chain.
Specific examples of the branched divalent hydrocarbon group include divalent hydrocarbon groups derived from diamines at both ends, called dimer diamine. Dimer diamine is a compound derived from a dimer (dimer acid) of an unsaturated fatty acid such as oleic acid. Particularly preferred are groups that exclude two carboxy groups.
また、前記式(1)中、Qは独立して下記式(2)
で示されるシクロヘキサン骨格を有する炭素数6~60、好ましくは8~30、より好ましくは10~20の2価の脂環式炭化水素基である。
Further, in the above formula (1), Q is independently the following formula (2)
is a divalent alicyclic hydrocarbon group having 6 to 60, preferably 8 to 30, more preferably 10 to 20 carbon atoms and having a cyclohexane skeleton represented by
ここで、R1の具体例は、水素原子、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基などが挙げられる。中でも水素原子やメチル基が好ましい。なお、各R1は同じであっても異なっていてもよい。
また、前記x1及びx2はそれぞれ独立に0~4の数であり、好ましくは0~2の数である。なお、x1及びx2は同じであっても異なっていてもよい。
Here, specific examples of R 1 include hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group and t-butyl group. Among them, a hydrogen atom and a methyl group are preferred. Each R 1 may be the same or different.
In addition, x1 and x2 are each independently a number from 0 to 4, preferably a number from 0 to 2. Note that x1 and x2 may be the same or different.
前記Qの具体例としては、以下のような構造式で表される2価の脂環式炭化水素基が挙げられる。
前記式(1)において、WはB又はQである。前記Wについては、製造方法の違いによって、B又はQを有するいずれの構造単位かが決まる。 In the above formula (1), W is B or Q. Regarding W, it is determined whether it is a structural unit having B or Q depending on the manufacturing method.
前記式(1)において、nは0~100であり、好ましくは2~60であり、より好ましくは5~50であり、mは0~200であり、好ましくは1~50であり、より好ましくは3~40であるが、n及びmは同時に0とはならない。nやmが大きすぎると流動性が低下し、成形性に劣るおそれがある。 In the formula (1), n is 0 to 100, preferably 2 to 60, more preferably 5 to 50, m is 0 to 200, preferably 1 to 50, more preferably is 3 to 40, but n and m are not 0 at the same time. If n or m is too large, the fluidity may decrease and the moldability may deteriorate.
また、式(1)で示されるマレイミド化合物において、式中のn及びmで括られた各繰り返し単位の順序は限定されず、結合様式は、交互であっても、ブロックであっても、ランダムであってもよいが、ブロック結合であることが好ましい。 In addition, in the maleimide compound represented by formula (1), the order of each repeating unit bracketed by n and m in the formula is not limited, and the binding mode may be alternating, block, or random. , but block bonding is preferred.
(B)成分の環状イミド化合物としては、更に、下記式(1’)で示されるマレイミド化合物であって、1分子中に少なくとも1つのダイマー酸骨格を有するマレイミド化合物又は下記式(3)で示されるマレイミド化合物であって、1分子中に少なくとも1つのダイマー酸骨格を有するマレイミド化合物が好ましい。 The cyclic imide compound of component (B) further includes a maleimide compound represented by the following formula (1′), which has at least one dimer acid skeleton in one molecule, or a maleimide compound represented by the following formula (3). A maleimide compound having at least one dimer acid skeleton in one molecule is preferable.
Aは独立して環状構造を有する4価の有機基であり、
Bは独立して炭素数6~200の2価炭化水素基であり、
Qは独立して下記式(2)
で示されるシクロヘキサン骨格を有する炭素数6~60の2価の脂環式炭化水素基であり、
WはB又はQであり、
n’は1~100であり、mは0~200であり、
n及びmで括られた各繰り返し単位の順序は限定されず、結合様式は、交互であっても、ブロックであっても、ランダムであってもよい。)
A is independently a tetravalent organic group having a cyclic structure,
B is independently a divalent hydrocarbon group having 6 to 200 carbon atoms,
Q is independently the following formula (2)
A divalent alicyclic hydrocarbon group having 6 to 60 carbon atoms and having a cyclohexane skeleton represented by
W is B or Q;
n' is 1 to 100, m is 0 to 200,
The order of each repeating unit bracketed by n and m is not limited, and the binding mode may be alternating, block, or random. )
式(1')中のA、B、Q及びWの具体例としては、式(1)中のA、B、Q及びWで例示したものとそれぞれ同様のものが挙げられ、n'は1~100であり、好ましくは2~60であり、より好ましくは5~50であり、mは0~200であり、好ましくは1~50であり、より好ましくは3~40である。 Specific examples of A, B, Q and W in formula (1′) are the same as those exemplified for A, B, Q and W in formula (1), and n′ is 1 ~100, preferably 2-60, more preferably 5-50, m is 0-200, preferably 1-50, more preferably 3-40.
Aは独立して環状構造を有する4価の有機基であり、
Bは独立して炭素数6~200の2価炭化水素基であり、
mは1~200である。)
A is independently a tetravalent organic group having a cyclic structure,
B is independently a divalent hydrocarbon group having 6 to 200 carbon atoms,
m is 1-200. )
式(3)中のA及びBの具体例としては、式(1)中のA及びBで例示したものとそれぞれ同様のものが挙げられ、mは1~200であり、好ましくは1~50であり、より好ましくは3~40である。 Specific examples of A and B in formula (3) are the same as those exemplified for A and B in formula (1), m is 1 to 200, preferably 1 to 50 and more preferably 3-40.
(B)成分の環状イミド化合物の数平均分子量は特に制限はないが、組成物のハンドリング性の観点から2,000~50,000が好ましく、より好ましくは5,000~40,000である。また、(B)成分は1種単独で用いても、2種以上混合して用いても良い。 Although the number average molecular weight of the cyclic imide compound (B) is not particularly limited, it is preferably from 2,000 to 50,000, more preferably from 5,000 to 40,000, from the viewpoint of handleability of the composition. Moreover, (B) component may be used individually by 1 type, or may be used in mixture of 2 or more types.
(C)1分子中にエポキシ基を2つ以上有するエポキシ樹脂
本発明で用いる(C)成分は、1分子中にエポキシ基を2つ以上有するエポキシ樹脂である。エポキシ樹脂は本発明の熱硬化性環状イミド樹脂組成物の流動性や機械特性を向上させたり、改善させたり、LCPやMPIなどの有機樹脂に対する接着力を向上させたりする。エポキシ樹脂としては1分子中に2つ以上のエポキシ基を有するものであれば、特に制限なく使用することができるが、ハンドリング性の観点から室温(25℃)で固体であることが好ましく、より好ましくは融点が40℃以上150℃以下又は軟化点が50℃以上160℃以下の固体のものである。
(C) Epoxy Resin Having Two or More Epoxy Groups in One Molecule The component (C) used in the present invention is an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule. Epoxy resins improve or improve fluidity and mechanical properties of the thermosetting cyclic imide resin composition of the present invention, and improve adhesion to organic resins such as LCP and MPI. Any epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule can be used without particular limitation. Preferably, it is a solid with a melting point of 40° C. or higher and 150° C. or lower or a softening point of 50° C. or higher and 160° C. or lower.
エポキシ樹脂の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、3,3’,5,5’-テトラメチル-4,4’-ビフェノール型エポキシ樹脂及び4,4’-ビフェノール型エポキシ樹脂等のビフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレンジオール型エポキシ樹脂、トリスフェニロールメタン型エポキシ樹脂、テトラキスフェニロールエタン型エポキシ樹脂、フェノールビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、フェノールジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂の芳香環を水素化したエポキシ樹脂、トリアジン誘導体エポキシ樹脂及び脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。中でもジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂及びビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂が好ましく用いられる。 Specific examples of epoxy resins include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, 3,3',5,5'-tetramethyl-4,4'-biphenol type epoxy resin and 4,4'-biphenol type epoxy resin. Biphenol-type epoxy resins such as epoxy resins, phenol novolac-type epoxy resins, cresol novolac-type epoxy resins, bisphenol A novolac-type epoxy resins, naphthalene diol-type epoxy resins, trisphenylolmethane-type epoxy resins, tetrakisphenylolethane-type epoxy resins, Examples include phenol biphenyl type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, biphenyl aralkyl type epoxy resin, epoxy resin obtained by hydrogenating the aromatic ring of phenol dicyclopentadiene novolac type epoxy resin, triazine derivative epoxy resin and alicyclic epoxy resin. be done. Among them, dicyclopentadiene-type epoxy resins and biphenylaralkyl-type epoxy resins are preferably used.
前記(A)、(B)及び(C)成分の質量比率は(A)成分100質量部に対して、(B)成分と(C)成分の合計量が1~50質量部であり、(B)成分と(C)成分の合計量が2~40質量部であることが好ましい。(B)成分及び(C)成分がこの範囲より多いと、例えばワニスにした際に分離が生じ、一部ゲル化したような状態で流動性を失う。さらにはフィルム化してもフィルムにムラが発生してしまうおそれがある。逆に、(B)成分及び(C)成分がこの範囲より少ないと接着力に乏しい組成物になってしまうおそれがある。
また、(B)成分の量は(C)成分の量よりも多く、(B)成分が(C)成分より少ないと金属に対する接着力が低下するだけでなく、(C)成分の影響で誘電特性が悪くなってしまったり、硬化のバランスが崩れてしまったりするおそれがある。(B)成分100質量部に対して、(C)成分の量は1~50質量部であることが好ましい。
さらに、(A)、(B)及び(C)成分の総量を基準として、(A)成分の配合量は70~95質量%であることが好ましく、71~93質量%であることがより好ましく、72~90質量%であることが特に好ましい。
The mass ratio of the components (A), (B) and (C) is 1 to 50 parts by mass of the total amount of the components (B) and (C) with respect to 100 parts by mass of the component (A). The total amount of components B) and (C) is preferably 2 to 40 parts by mass. If the amount of component (B) and component (C) exceeds this range, for example, when the varnish is made into a varnish, separation occurs, resulting in a partially gelled state and loss of fluidity. Furthermore, even if it is made into a film, there is a possibility that unevenness will occur in the film. Conversely, if the amounts of components (B) and (C) are less than this range, the resulting composition may have poor adhesive strength.
Also, if the amount of component (B) is greater than the amount of component (C), and if the amount of component (B) is less than component (C), not only will the adhesive strength to metals decrease, but component (C) will also cause dielectric There is a risk that the properties will deteriorate or the curing balance will be lost. The amount of component (C) is preferably 1 to 50 parts by mass per 100 parts by mass of component (B).
Furthermore, based on the total amount of components (A), (B) and (C), the amount of component (A) is preferably 70 to 95% by mass, more preferably 71 to 93% by mass. , 72 to 90% by weight.
(D)反応促進剤
(D)成分である反応促進剤は、主に(B)成分である環状イミド化合物の架橋反応や(C)成分であるエポキシ樹脂中のエポキシ基と反応し、その後環状イミドの架橋反応を開始させたり、(A)成分のスチレン系エラストマー中に官能基がある際は、その官能基と(B)成分の環状イミド又は(C)成分中のエポキシ基との反応を促進したりするために添加するものである。
(D)成分としては架橋反応を促進するものであれば特に制限されるものではなく、イミダゾール類、第3級アミン類、第4級アンモニウム塩類、三フッ化ホウ素アミン錯体、オルガノホスフィン類、オルガノホスホニウム塩等のイオン触媒、ジアリルパーオキシド、ジアルキルパーオキシド、パーオキシドカーボネート及びヒドロパーオキシド等の有機過酸化物並びにアゾイソブチロニトリル等のラジカル重合開始剤などが挙げられる。これらの中でも、(B)成分単独での反応を促進させる有機過酸化物のようなラジカル重合開始剤、(C)成分中のエポキシ基を開環し、その後エポキシ樹脂との付加体が環状イミド化合物の架橋反応を促進するようなイミダゾール類及び第3級アミン類などのアニオン重合開始触媒が好ましい。
(D) Reaction Accelerator The reaction accelerator, which is component (D), reacts mainly with the crosslinking reaction of the cyclic imide compound, which is component (B), and the epoxy group in the epoxy resin, which is component (C). Initiating the cross-linking reaction of the imide, or if there is a functional group in the styrene elastomer of the component (A), reacts the functional group with the cyclic imide of the component (B) or the epoxy group in the component (C). It is added to promote
Component (D) is not particularly limited as long as it promotes the cross-linking reaction. Examples include ionic catalysts such as phosphonium salts, organic peroxides such as diallyl peroxide, dialkyl peroxide, peroxide carbonate and hydroperoxide, and radical polymerization initiators such as azoisobutyronitrile. Among these, a radical polymerization initiator such as an organic peroxide that promotes the reaction of the component (B) alone, and an epoxy group in the component (C) that opens the ring and then the adduct with the epoxy resin is a cyclic imide. Anionic polymerization initiation catalysts such as imidazoles and tertiary amines, which promote the cross-linking reaction of the compound, are preferred.
反応促進剤は、(A)成分が無官能タイプの場合(スチレン系エラストマー中に官能基を有さない場合)、(B)及び(C)成分などの熱硬化性樹脂成分の総和100質量部に対して0.05~10質量部、特に0.1~5質量部の範囲内で配合することが好ましい。反応促進剤は、(A)成分が官能基を有するタイプの場合、(A)、(B)及び(C)成分などの樹脂成分の総和100質量部に対して0.05~10質量部、特に0.1~5質量部の範囲内で配合することが好ましい。
上記範囲を外れると、熱硬化性環状イミド樹脂組成物の成形時に硬化が非常に遅くなったり速くなったりするおそれがあるため好ましくない。また、得られた硬化物の耐熱性及び耐湿性のバランスも悪くなるおそれがある。
When the (A) component is non-functional (when the styrene-based elastomer does not have a functional group), the total amount of the thermosetting resin components such as (B) and (C) is 100 parts by mass. 0.05 to 10 parts by mass, particularly preferably 0.1 to 5 parts by mass. When the (A) component has a functional group, the reaction accelerator is 0.05 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total resin components such as the (A), (B) and (C) components, In particular, it is preferable to blend within the range of 0.1 to 5 parts by mass.
If it is out of the above range, the thermosetting cyclic imide resin composition may be cured very slowly or rapidly during molding, which is not preferable. In addition, the balance between the heat resistance and moisture resistance of the obtained cured product may be deteriorated.
(E)接着助剤
本発明の熱硬化性環状イミド樹脂組成物には、(A)~(C)の樹脂成分と銅箔又はLCP及びMPIといった有機樹脂との接着性を高くしたりするため、接着助剤を添加することができる。
接着助剤としては、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤などのカップリング剤や(メタ)アクリル基を有するモノマーを配合することができる。
シランカップリング剤としては、例えば、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性アルコキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性アルコキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミン官能性アルコキシシランなどが挙げられる。
チタンカップリング剤としては、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート) オキシアセテートチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、イソプロピルトリ(N-アミノエチル・アミノエチル)チタネートなどが挙げられる。
(メタ)アクリル基を有するモノマーとしては、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジプロプレングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、9,9-ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンジアクリレート、ビスフェノールA型ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス(2-アクリロキシメチル)イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールメタクリレート、ジプロプレングリコールメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールメタクリレート、9,9-ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンメタクリレート、ビスフェノールA型ジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリス(2-メタクリロキシメチル)イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレートなどが挙げられる。
(E) Adhesion aid The thermosetting cyclic imide resin composition of the present invention contains the resin components (A) to (C) in order to increase the adhesion between the resin components (A) to (C) and copper foil or organic resins such as LCP and MPI. , an adhesion aid can be added.
As the adhesion aid, a coupling agent such as a silane coupling agent or a titanate coupling agent, or a monomer having a (meth)acrylic group can be blended.
Examples of silane coupling agents include epoxy-functional alkoxys such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, and the like. silanes, mercapto-functional alkoxysilanes such as γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, amine-functional alkoxysilanes such as γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, and the like. mentioned.
Titanium coupling agents include isopropyltriisostearoyl titanate, isopropyltridodecylbenzenesulfonyltitanate, isopropyltris(dioctylpyrophosphate)titanate, tetraisopropylbis(dioctylphosphite)titanate, tetraoctylbis(ditridecylphosphite)titanate, Bis(dioctyl pyrophosphate) oxyacetate titanate, isopropyl trioctanoyl titanate, isopropyl dimethacryl isostearoyl titanate, isopropyl isostearoyl diacryl titanate, isopropyl tri(dioctyl phosphate) titanate, isopropyl tricumylphenyl titanate, isopropyl tri(N-amino ethyl aminoethyl) titanate and the like.
(Meth) acrylic group-containing monomers include 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, tricyclodecanedimethanol diacrylate, 9,9-bis[4-(2 -hydroxyethoxy)phenyl]fluorene diacrylate, bisphenol A type diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tris(2-acryloxymethyl)isocyanurate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl Glycol methacrylate, dipropylene glycol methacrylate, tricyclodecanedimethanol methacrylate, 9,9-bis[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]fluorene methacrylate, bisphenol A type dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, tris(2- methacryloxymethyl)isocyanurate, ditrimethylolpropane tetramethacrylate and the like.
(E)成分の配合量は、(A)、(B)及び(C)成分の総和に対して、0.1~8.0質量%とすることが好ましく、特に0.5~6.0質量%とすることが好ましい。0.1質量%以上であれば、基材への接着効果を十分得ることができ、また8.0質量%以下であれば、粘度が低くなり過ぎないので、ボイドの原因になりづらく好ましい。 The amount of component (E) to be blended is preferably 0.1 to 8.0% by mass, particularly 0.5 to 6.0%, based on the sum of components (A), (B) and (C). % by mass is preferable. When the amount is 0.1% by mass or more, a sufficient adhesive effect to the substrate can be obtained, and when the amount is 8.0% by mass or less, the viscosity does not become too low, so voids are less likely to occur, which is preferable.
<その他の添加剤>
本発明の熱硬化性環状イミド樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、更に必要に応じて各種の添加剤を配合することができる。該添加剤としては、シリカやアルミナ、窒化ホウ素を初めとする無機充填材、PTFEパウダーを初めとした樹脂パウダー、銀などの金属粒子、反応性官能基を有するオルガノポリシロキサン、無官能シリコーンオイル、熱可塑性樹脂、スチレン系以外の熱可塑性エラストマー、有機合成ゴム、光増感剤、光安定剤、重合禁止剤、難燃剤、顔料、染料等が挙げられる。また、熱硬化性環状イミド樹脂組成物の硬化物の電気特性を改善するために、その他の添加剤としてイオントラップ剤等を配合してもよい。
<Other additives>
Various additives can be added to the thermosetting cyclic imide resin composition of the present invention as necessary within a range that does not impair the effects of the present invention. Examples of the additive include inorganic fillers such as silica, alumina, and boron nitride, resin powder such as PTFE powder, metal particles such as silver, organopolysiloxane having a reactive functional group, non-functional silicone oil, Examples include thermoplastic resins, thermoplastic elastomers other than styrene, organic synthetic rubbers, photosensitizers, light stabilizers, polymerization inhibitors, flame retardants, pigments, and dyes. Further, in order to improve the electrical properties of the cured product of the thermosetting cyclic imide resin composition, an ion trapping agent or the like may be blended as other additives.
本発明の熱硬化性環状イミド樹脂組成物は、(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分並びに必要に応じて添加される(E)成分及びその他の添加剤を混合することにより製造することができる。
本発明の熱硬化性環状イミド樹脂組成物は、有機溶剤に溶解してワニスとして扱うこともできる。熱硬化性環状イミド樹脂組成物は、ワニスにすることによってシート状又はフィルム状に成形しやすくなる。有機溶剤は(A)成分、(B)成分及び(C)成分の熱硬化性樹脂分が溶解するものであれば制限なく使用することができる。有機溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、アニソール、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等を好適に用いることができる。上記の有機溶剤は単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。ワニス中の本発明の熱硬化性環状イミド樹脂組成物の濃度は、5~80質量%が好ましく、10~75質量%がより好ましい。
The thermosetting cyclic imide resin composition of the present invention comprises (A) component, (B) component, (C) component and (D) component, and optionally added (E) component and other additives. It can be manufactured by mixing.
The thermosetting cyclic imide resin composition of the present invention can also be dissolved in an organic solvent and treated as a varnish. The thermosetting cyclic imide resin composition can be easily formed into a sheet or film by forming it into a varnish. Any organic solvent can be used without limitation as long as it dissolves the thermosetting resin components of components (A), (B) and (C). As the organic solvent, for example, toluene, xylene, anisole, cyclohexanone, cyclopentanone, etc. can be preferably used. The above organic solvents may be used alone or in combination of two or more. The concentration of the thermosetting cyclic imide resin composition of the present invention in the varnish is preferably 5-80% by mass, more preferably 10-75% by mass.
この熱硬化性環状イミド樹脂組成物は、主に接着剤、プライマー、基板用のボンディングフィルムやシート材料、FPC用カバーレイフィルムの接着層として好適に用いることができる。使用方法、形態には制限なく使用することができる。例えば、未硬化樹脂フィルムや硬化樹脂フィルムとして、また接着剤として使用出来る。以下に使用例を例示するが、これに限定されるものではない。 This thermosetting cyclic imide resin composition can be suitably used mainly as adhesives, primers, bonding films and sheet materials for substrates, and adhesive layers for coverlay films for FPC. It can be used without limitation in the usage method and form. For example, it can be used as an uncured resin film, a cured resin film, or as an adhesive. Examples of use are shown below, but are not limited to these.
例えば、有機溶剤に溶解した熱硬化性環状イミド樹脂組成物(ワニス)を支持シートに塗工した後、通常80℃以上、好ましくは100℃以上の温度で0.5~5時間加熱することによって有機溶剤が除去され、未硬化のフィルム状やシート状の組成物を得ることができる。該支持シートとしては、一般的に用いられるのを用いてよく、例えばポリエチレン(PE)樹脂、ポリプロピレン(PP)樹脂、ポリスチレン(PS)樹脂などのポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂、ポリブチレンテレフタレート(PBT)樹脂、ポリカーボネート(PC)樹脂などのポリエステル樹脂、などが挙げられ、これら支持シートの表面を離形処理していても構わない。また、塗工方法も特に限定されず、ギャップコーター、カーテンコーター、ロールコーター及びラミネータ等が挙げられる。また、塗工層の厚さも特に限定されないが、溶剤留去後の厚さが1~100μm、好ましくは3~80μmの範囲である。さらに塗工層の上にカバーフィルムを使用しても構わない。 For example, after coating a support sheet with a thermosetting cyclic imide resin composition (varnish) dissolved in an organic solvent, it is usually heated at a temperature of 80° C. or higher, preferably 100° C. or higher for 0.5 to 5 hours. The organic solvent is removed, and an uncured film-like or sheet-like composition can be obtained. As the support sheet, commonly used ones may be used, for example, polyethylene (PE) resin, polypropylene (PP) resin, polyolefin resin such as polystyrene (PS) resin, polyethylene terephthalate (PET) resin, polybutylene terephthalate. (PBT) resin, polyester resin such as polycarbonate (PC) resin, etc., and the like, and the surface of these support sheets may be subjected to release treatment. Also, the coating method is not particularly limited, and examples thereof include a gap coater, a curtain coater, a roll coater, a laminator, and the like. Also, the thickness of the coating layer is not particularly limited, but the thickness after removal of the solvent is in the range of 1 to 100 μm, preferably 3 to 80 μm. Furthermore, a cover film may be used on the coating layer.
また、塗工層の上に銅箔を貼り付けて、基板材料として用いることもできる。 Moreover, it can also be used as a substrate material by attaching a copper foil on the coating layer.
さらに、基材にワニスを塗布し、通常80℃以上、好ましくは100℃以上の温度で0.5~5時間加熱することによって有機溶剤を除去し、基材に接着したいものを加熱しながら圧着させ、130℃以上、好ましくは150℃以上の温度で0.5~10時間加熱することで、接着させることができる。塗布方法として、スピンコーター、スリットコーター、スプレー、ディップコーター、バーコーター等が挙げられるが特に制限はない。
他にも、フレキシブルフラットケーブルにも用いることができる。
Furthermore, the varnish is applied to the substrate, and the organic solvent is removed by heating at a temperature of usually 80° C. or higher, preferably 100° C. or higher for 0.5 to 5 hours, and the object to be adhered to the substrate is pressed while heating. Then, they can be bonded by heating at a temperature of 130° C. or higher, preferably 150° C. or higher for 0.5 to 10 hours. A spin coater, a slit coater, a spray, a dip coater, a bar coater and the like can be used as the coating method, but there is no particular limitation.
In addition, it can also be used for flexible flat cables.
以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below by showing examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.
実施例及び比較例で使用した各成分を以下に示す。尚、以下において数平均分子量(Mn)はポリスチレンを基準として、下記測定条件により測定されたものである。
展開溶媒:テトラヒドロフラン(THF)
流量:0.35mL/min
検出器:示差屈折率検出器(RI)
カラム: TSK Guardcolumn SuperH-L
TSKgel SuperHZ4000(4.6mmI.D.×15cm×1)
TSKgel SuperHZ3000(4.6mmI.D.×15cm×1)
TSKgel SuperHZ2000(4.6mmI.D.×15cm×2)
(いずれも東ソー社製)
カラム温度:40℃
試料注入量:5μL(濃度0.2質量%のTHF溶液)
Components used in Examples and Comparative Examples are shown below. In the following, the number average molecular weight (Mn) is measured under the following measurement conditions using polystyrene as a standard.
Developing solvent: tetrahydrofuran (THF)
Flow rate: 0.35mL/min
Detector: Differential Refractive Index Detector (RI)
Column: TSK Guard column SuperH-L
TSKgel SuperHZ4000 (4.6mm ID x 15cm x 1)
TSKgel SuperHZ3000 (4.6mm ID x 15cm x 1)
TSKgel SuperHZ2000 (4.6mm I.D. x 15cm x 2)
(both manufactured by Tosoh Corporation)
Column temperature: 40°C
Sample injection volume: 5 μL (THF solution with a concentration of 0.2% by mass)
(A)スチレン系エラストマー
(A-1)スチレン/エチレン/ブチレン/スチレン・ブロック共重合体の水添物、スチレン含有率30%(タフテックH1041:旭化成(株)製)
(A-2)カルボン酸変性スチレン/エチレン/ブチレン/スチレン・ブロック共重合体、スチレン含有率30%(タフテックM1913:旭化成(株)製)
(A-3)アミン酸変性スチレン/エチレン/ブチレン/スチレン・ブロック共重合体、スチレン含有率30%(タフテックMP-10:旭化成(株)製)
(A) Styrene-based elastomer (A-1) Hydrogenated styrene/ethylene/butylene/styrene block copolymer, styrene content 30% (Tuftec H1041: manufactured by Asahi Kasei Corporation)
(A-2) Carboxylic acid-modified styrene/ethylene/butylene/styrene block copolymer, styrene content 30% (Tuftec M1913: manufactured by Asahi Kasei Corporation)
(A-3) Amine acid-modified styrene/ethylene/butylene/styrene block copolymer, styrene content 30% (Tuftec MP-10: manufactured by Asahi Kasei Corporation)
(B)環状イミド化合物
(B-1):下記式で示される直鎖アルキレン基含有ビスマレイミド化合物(SLK-2600、信越化学工業(株)製)
n≒3、m≒1
(B-2):下記式で示される直鎖アルキレン基含有ビスマレイミド化合物(BMI-3000、Designer Molecules Inc.製)
n≒5(平均値)
(B-3):4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド(BMI-1000:大和化成工業(株)製、比較例用)
(B) Cyclic imide compound (B-1): a linear alkylene group-containing bismaleimide compound represented by the following formula (SLK-2600, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
n≈3, m≈1
(B-2): A linear alkylene group-containing bismaleimide compound represented by the following formula (BMI-3000, manufactured by Designer Molecules Inc.)
n≈5 (mean value)
(B-3): 4,4′-diphenylmethanebismaleimide (BMI-1000: manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd., for comparative example)
(C)1分子中にエポキシ基を2つ以上有するエポキシ樹脂
(C-1):ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(NC-3000:日本化薬(株)製)
(C-2):Bis-A型エポキシ樹脂(jER-828:三菱ケミカル(株)製)
(C) Epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule (C-1): biphenyl aralkyl type epoxy resin (NC-3000: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
(C-2): Bis-A type epoxy resin (jER-828: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
(D)反応促進剤
(D-1):ジクミルパーオキシド(パークミルD:日油(株)製)
(D-2):2-エチル-4-メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成(株)製)
(D) Reaction accelerator (D-1): Dicumyl peroxide (Percumyl D: manufactured by NOF Corporation)
(D-2): 2-ethyl-4-methylimidazole (2E4MZ: manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.)
(E)接着助剤
(E-1):3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(KBM-403:信越化学工業(株)製)
(E) Adhesion aid (E-1): 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (KBM-403: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
<ワニスの作製及びワニス外観、安定性>
表1、2の配合で、ジムロート冷却管及び撹拌装置を備えた500mLの4つ口フラスコに各成分を投入し、50℃で2時間撹拌させることでワニス状の樹脂組成物を得た。
<Preparation of varnish and varnish appearance, stability>
With the formulations shown in Tables 1 and 2, each component was put into a 500 mL four-necked flask equipped with a Dimroth condenser and a stirring device, and stirred at 50° C. for 2 hours to obtain a varnish-like resin composition.
撹拌直後及び25℃で72時間放置後のワニス状組成物の外観が、分離なく均一であるものを○、分離が発生しているものは×として、結果を表1、2に記載した。 The results are shown in Tables 1 and 2, with the appearance of the varnish-like composition immediately after stirring and after standing at 25°C for 72 hours being uniform without separation, and being separated, being x.
表1及び2の結果より、実施例1~9のワニス組成物は分離することなく安定であることが確認された。比較例1~3、10及び11もワニス組成物の安定性を確認できた。一方、比較例4~9はワニスが分離してしまった。特に比較例6~8は国際公開第2018-16489号の実施例1~3の無機充填材を除いた組成であるが、実際には分離してしまうことが確認できた。 From the results in Tables 1 and 2, it was confirmed that the varnish compositions of Examples 1-9 were stable without separation. Comparative Examples 1 to 3, 10 and 11 also confirmed the stability of the varnish composition. On the other hand, in Comparative Examples 4 to 9, the varnish was separated. In particular, Comparative Examples 6 to 8 have compositions excluding the inorganic fillers of Examples 1 to 3 of WO 2018-16489, but it was confirmed that they were actually separated.
<未硬化フィルムの作製> <Production of uncured film>
上記表1、2の中でワニスの分離が発生しなかった実施例1~9、比較例1~3、10及び11のワニス状熱硬化性環状イミド樹脂組成物を厚さ38μmのPETフィルム上に、乾燥後の厚さが50μmとなるようにローラーコーターで塗布し、120℃で10分間乾燥させて未硬化樹脂フィルムを得た。 The varnish-like thermosetting cyclic imide resin compositions of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3, 10 and 11 in which the varnish did not separate in Tables 1 and 2 above were coated on a PET film having a thickness of 38 μm. , was coated with a roller coater so that the thickness after drying was 50 μm, and dried at 120° C. for 10 minutes to obtain an uncured resin film.
<比誘電率、誘電正接> <Relative permittivity, dielectric loss tangent>
前記未硬化樹脂フィルムを厚さ100μmのテトラフルオロエチレン-エチレン共重合樹脂フィルム(AGC株式会社製、製品名:アフレックス)上に、未硬化樹脂フィルムの樹脂層がテトラフルオロエチレン-エチレン共重合樹脂フィルムに接するように載せ、180℃で2時間の条件で硬化させることで硬化樹脂フィルムを得た。 The uncured resin film is placed on a 100 μm thick tetrafluoroethylene-ethylene copolymer resin film (manufactured by AGC Co., Ltd., product name: Aflex), and the resin layer of the uncured resin film is a tetrafluoroethylene-ethylene copolymer resin. A cured resin film was obtained by placing it in contact with the film and curing it at 180° C. for 2 hours.
PETフィルム及びテトラフルオロエチレン-エチレン共重合樹脂フィルムを剥がした硬化樹脂フィルムを用いて、ネットワークアナライザ(キーサイト社製 E5063-2D5)とストリップライン(キーコム株式会社製)を接続し、上記硬化樹脂フィルムの周波数10GHzにおける比誘電率と誘電正接を測定した。 Using a cured resin film from which the PET film and tetrafluoroethylene-ethylene copolymer resin film were peeled off, a network analyzer (E5063-2D5 manufactured by Keysight Corporation) and a strip line (manufactured by Keycom Co., Ltd.) were connected, and the cured resin film was connected. The dielectric constant and dielectric loss tangent at a frequency of 10 GHz were measured.
<剥離強度> <Peel strength>
縦75mm、幅25mm、厚さ1.0mmのスライドガラスを用意し、その一方の表面に前記のPETフィルム付き未硬化フィルムのPET基材の貼っていない樹脂組成物面を載せ、100℃、0.3MPa圧、60秒の条件でラミネートを行った。ラミネート後、PET基材を剥がし、樹脂組成物面に18μm厚の銅箔(三井金属(株)製、Ra0.6μm)、50μm厚のLCP(千代田インテグレ(株)製)又はMPI(PIXEO SR、(株)カネカ製)を載せ、100℃、0.3MPa圧、60秒の条件でラミネートを行った。ラミネート後、180℃で2時間の条件で硬化させることで接着試験片を作成した。 A slide glass with a length of 75 mm, a width of 25 mm, and a thickness of 1.0 mm was prepared, and the resin composition side of the uncured film with the PET film on which the PET substrate was not attached was placed on one surface of the slide glass. Lamination was performed under the conditions of 3 MPa pressure and 60 seconds. After lamination, the PET substrate is peeled off, and a 18 μm thick copper foil (manufactured by Mitsui Kinzoku Co., Ltd., Ra 0.6 μm), a 50 μm thick LCP (manufactured by Chiyoda Integre Co., Ltd.) or MPI (PIXEO SR, (manufactured by Kaneka Co., Ltd.), and lamination was performed under the conditions of 100° C., 0.3 MPa pressure, and 60 seconds. After lamination, the laminate was cured at 180° C. for 2 hours to prepare an adhesion test piece.
接着性を評価するために、JIS-C-6481「プリント配線板用銅張積層板試験方法」に準拠し、温度23℃及び引張速度50mm/分の条件で、各接着試験片の銅箔、LCP又はMPIをスライドガラスから剥がすときの90°はく離接着強さ(kN/m)を測定した。 In order to evaluate the adhesion, in accordance with JIS-C-6481 "Test method for copper-clad laminates for printed wiring boards", under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a tensile speed of 50 mm / min, copper foil of each adhesion test piece, The 90° peel adhesive strength (kN/m) was measured when the LCP or MPI was peeled off from the slide glass.
以上の評価結果を表3、4に示す。 Tables 3 and 4 show the above evaluation results.
以上の結果から、本発明の熱硬化性環状イミド樹脂組成物は、ワニスにしても分離せず、硬化物の誘電特性に優れ、金属(例えば、銅)に対してのみならず、有機樹脂(例えば、LCP及びMPI)に対しても強い接着力を有することから、基板用途に適した絶縁材料としての有用性を確認できた。 From the above results, the thermosetting cyclic imide resin composition of the present invention does not separate even if it is a varnish, is excellent in dielectric properties of the cured product, and is not only resistant to metals (e.g., copper), but also to organic resins (e.g., For example, it has a strong adhesion to LCP and MPI), so it was confirmed that it is useful as an insulating material suitable for use as a substrate.
Claims (10)
(B)1分子中に、少なくとも1つのダイマー酸骨格、少なくとも1つの炭素数6以上の直鎖アルキレン基、及び少なくとも2つの環状イミド基を含有する環状イミド化合物、
(C)1分子中にエポキシ基を2つ以上有するエポキシ樹脂 及び
(D)反応促進剤
を含み、
前記(A)、(B)及び(C)成分の質量比率が(A)成分100質量部に対して、(B)成分と(C)成分の合計量が1~50質量部であり、かつ、(B)成分の量が(C)成分の量よりも多いものである、熱硬化性環状イミド樹脂組成物。 (A) a styrene-based elastomer,
(B) a cyclic imide compound containing, in one molecule, at least one dimer acid skeleton, at least one linear alkylene group having 6 or more carbon atoms, and at least two cyclic imide groups;
(C) an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule and (D) a reaction accelerator,
The mass ratio of components (A), (B) and (C) is 1 to 50 parts by mass per 100 parts by mass of component (A), and the total amount of components (B) and (C) is 1 to 50 parts by mass, and , a thermosetting cyclic imide resin composition, wherein the amount of component (B) is greater than the amount of component (C).
Aは独立して環状構造を有する4価の有機基であり、
Bは独立して炭素数6~200の2価炭化水素基であり、
Qは独立して下記式(2)
で示されるシクロヘキサン骨格を有する炭素数6~60の2価の脂環式炭化水素基であり、
WはB又はQであり、
nは0~100であり、mは0~200であるが、n及びmは同時に0とはならず、
n及びmで括られた各繰り返し単位の順序は限定されず、結合様式は、交互であっても、ブロックであっても、ランダムであってもよい。) The thermosetting according to claim 1 or 2, wherein the cyclic imide compound of component (B) is a maleimide compound represented by the following formula (1) and having at least one dimer acid skeleton in one molecule. cyclic imide resin composition.
A is independently a tetravalent organic group having a cyclic structure,
B is independently a divalent hydrocarbon group having 6 to 200 carbon atoms,
Q is independently the following formula (2)
A divalent alicyclic hydrocarbon group having 6 to 60 carbon atoms and having a cyclohexane skeleton represented by
W is B or Q;
n is 0 to 100 and m is 0 to 200, but n and m are not 0 at the same time,
The order of each repeating unit bracketed by n and m is not limited, and the binding mode may be alternating, block, or random. )
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021006834A JP7399590B2 (en) | 2021-01-20 | 2021-01-20 | Thermosetting cyclic imide resin composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021006834A JP7399590B2 (en) | 2021-01-20 | 2021-01-20 | Thermosetting cyclic imide resin composition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022111423A true JP2022111423A (en) | 2022-08-01 |
JP7399590B2 JP7399590B2 (en) | 2023-12-18 |
Family
ID=82655807
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021006834A Active JP7399590B2 (en) | 2021-01-20 | 2021-01-20 | Thermosetting cyclic imide resin composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7399590B2 (en) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020071154A1 (en) * | 2018-10-02 | 2020-04-09 | ナミックス株式会社 | Resin composition, film, layered sheet, and semiconductor device |
-
2021
- 2021-01-20 JP JP2021006834A patent/JP7399590B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020071154A1 (en) * | 2018-10-02 | 2020-04-09 | ナミックス株式会社 | Resin composition, film, layered sheet, and semiconductor device |
WO2020071153A1 (en) * | 2018-10-02 | 2020-04-09 | ナミックス株式会社 | Resin composition, substrate-attached film, metal/resin laminated body and semiconductor device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7399590B2 (en) | 2023-12-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7468502B2 (en) | Resin composition, laminate, multilayer printed wiring board, resin film and prepreg | |
JP7102691B2 (en) | Copper-clad laminate for flexible printed wiring board and flexible printed wiring board | |
CN107113968B (en) | Flexible printed circuit board resin film, the metal foil with resin, cover film, bonding sheet and flexible printed circuit board | |
JP7202691B2 (en) | Resin compositions, films, laminates and semiconductor devices | |
CN106995678B (en) | Polyimide adhesive | |
JP2023002638A (en) | resin composition | |
KR102099545B1 (en) | Resin composition, prepreg, metal foil-clad laminate, resin sheet and printed wiring board | |
CN108690194A (en) | Polyimides, adhesive, adhesive material, adhesive layer, sheet adhesive, copper foil, copper-clad laminated board, wiring plate and manufacturing method | |
CN108690552A (en) | Adhesive, adhesive material, adhesive layer, sheet adhesive, copper foil, copper-clad laminated board, wiring plate and manufacturing method | |
TW202248307A (en) | Resin sheet | |
JP2021031530A (en) | Thermosetting resin composition, and adhesive, film, prepreg, laminate, circuit board and printed wiring board using the same | |
JP2015004009A (en) | Resin compositions | |
JP7322153B2 (en) | Adhesive composition, thermosetting adhesive sheet and printed wiring board | |
JP7555684B2 (en) | Thermosetting maleimide resin composition | |
JP2023070764A (en) | Heat-curable maleimide resin composition | |
JP7399590B2 (en) | Thermosetting cyclic imide resin composition | |
JP7087963B2 (en) | Epoxy resin compositions, multilayer printed wiring boards, and semiconductor devices | |
JP7251482B2 (en) | Thermosetting resin composition, resin film for interlayer insulation, composite film, printed wiring board and semiconductor package | |
JP2021025052A (en) | Resin material and multilayer printed wiring board | |
JP2024063367A (en) | Thermosetting maleimide resin composition | |
JP7251681B1 (en) | Thermosetting maleimide resin composition, slurry, film, prepreg, laminate and printed wiring board | |
TWI851851B (en) | Adhesive films, laminates, and printed wiring boards | |
JP7238798B2 (en) | Thermosetting resin composition, resin film for interlayer insulation, composite film, printed wiring board and semiconductor package | |
TW200916547A (en) | Flame-retardant adhesive resin composition and adhesive film using the same | |
JP2024040585A (en) | Curable resin composition for bonding film, bonding film, and print circuit board |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221122 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230803 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230905 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231003 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231205 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231205 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7399590 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |