JP2022100934A - Scale remover and manufacturing method of metal material - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、スケール除去剤および金属材の製造方法に関する。 The present invention relates to a scale remover and a method for producing a metal material.
金属材の溶接は、一般に高温で行われる。そのため溶接部表面の周辺は、酸化して変色する。この変色はスケールと言われる。スケールは、金属材の外観変化をもたらすとともに、化成被膜の形成を阻害する。そのため、金属材の耐食性が低下し易い。 Welding of metal materials is generally performed at high temperatures. Therefore, the periphery of the welded portion surface is oxidized and discolored. This discoloration is called scale. The scale causes a change in the appearance of the metal material and inhibits the formation of a chemical conversion film. Therefore, the corrosion resistance of the metal material tends to decrease.
そこで、特許文献1は、有機ホスホン酸またはその塩を含むスケール除去剤を提案している。 Therefore, Patent Document 1 proposes a scale remover containing organic phosphonic acid or a salt thereof.
しかし、メッキ被膜を有する金属材に有機ホスホン酸等を含むスケール除去剤を適用すると、メッキ被膜が溶解することが判明した。 However, it was found that when a scale remover containing an organic phosphonic acid or the like was applied to a metal material having a plating film, the plating film was dissolved.
本発明の目的は、メッキ被膜を維持しながらスケールを除去できるスケール除去剤を提供することである。 An object of the present invention is to provide a scale remover capable of removing scale while maintaining a plating film.
上記課題を解決するため、本発明は下記態様を提供する。
[1]
キレート剤と、有機酸と、フッ素化合物と、界面活性剤と、を含み、
前記キレート剤は、アミノカルボン酸型キレート剤を含み、
前記アミノカルボン酸型キレート剤は、分子内に、窒素原子に結合する2以上のカルボキシアルキル基を有し、
前記カルボキシアルキル基は、直鎖のアルキレン基により構成されており、
前記カルボキシアルキル基の2以上は、カルボキシメチル基である、スケール除去剤。
In order to solve the above problems, the present invention provides the following aspects.
[1]
Containing a chelating agent, an organic acid, a fluorine compound, and a surfactant,
The chelating agent contains an aminocarboxylic acid type chelating agent.
The aminocarboxylic acid type chelating agent has two or more carboxyalkyl groups bonded to a nitrogen atom in the molecule.
The carboxyalkyl group is composed of a linear alkylene group.
A scale remover in which two or more of the carboxyalkyl groups are carboxymethyl groups.
[2]
前記アミノカルボン酸型キレート剤は、分子内に、窒素原子に結合する3以上のカルボキシメチル基を有する、上記[1]に記載のスケール除去剤。
[2]
The scale removing agent according to the above [1], wherein the aminocarboxylic acid type chelating agent has three or more carboxymethyl groups bonded to a nitrogen atom in the molecule.
[3]
前記アミノカルボン酸型キレート剤は、ニトリロ三酢酸を含む、上記[1]または[2]に記載のスケール除去剤。
[3]
The scale removing agent according to the above [1] or [2], wherein the aminocarboxylic acid type chelating agent contains nitrilotriacetic acid.
[4]
前記アミノカルボン酸型キレート剤の含有量CC1と前記有機酸との含有量CAとの質量比:CC1/CAは、10/90から90/10である、上記[1]~[3]のいずれかに記載のスケール除去剤。
[4]
The mass ratio of the content CC1 of the aminocarboxylic acid type chelating agent to the content CA of the organic acid: CC1 / CA is 10/90 to 90/10, the above [1] to [ 3] The scale remover according to any one of.
[5]
前記アミノカルボン酸型キレート剤の含有量CC1は、3,000質量ppm以上60,000質量ppm以下である、上記[1]~[4]のいずれかに記載のスケール除去剤。
[5]
The scale removing agent according to any one of [1] to [4] above, wherein the content C C1 of the aminocarboxylic acid type chelating agent is 3,000 mass ppm or more and 60,000 mass ppm or less.
[6]
前記有機酸の含有量CAは、3,000質量ppm以上60,000質量ppm以下である、上記[1]~[5]のいずれかに記載のスケール除去剤。
[6]
The scale remover according to any one of [1] to [5] above, wherein the content CA of the organic acid is 3,000 mass ppm or more and 60,000 mass ppm or less.
[7]
前記有機酸は、アルキルカルボン酸を含む、上記[1]~[6]のいずれかに記載のスケール除去剤。
[7]
The scale remover according to any one of the above [1] to [6], wherein the organic acid contains an alkylcarboxylic acid.
[8]
前記アルキルカルボン酸は、2以上のカルボキシ基を有する、上記[7]に記載のスケール除去剤。
[8]
The scale remover according to the above [7], wherein the alkylcarboxylic acid has two or more carboxy groups.
[9]
メッキ被膜を有する金属材用である、上記[1]~[8]のいずれかに記載のスケール除去剤。
[9]
The scale remover according to any one of the above [1] to [8], which is used for a metal material having a plating film.
[10]
スケール除去剤を、金属材に接触させる工程を備え、
前記スケール除去剤は、キレート剤と、有機酸と、フッ素化合物と、界面活性剤と、を含み、
前記キレート剤は、アミノカルボン酸型キレート剤を含み、
前記アミノカルボン酸型キレート剤は、分子内に、窒素原子に結合する2以上のカルボキシアルキル基を有し、
前記カルボキシアルキル基は、直鎖のアルキレン基により構成されており、
前記カルボキシアルキル基の2以上は、カルボキシメチル基である、金属材の製造方法。
[10]
Equipped with a process to bring the scale remover into contact with the metal material,
The scale remover contains a chelating agent, an organic acid, a fluorine compound, and a surfactant.
The chelating agent contains an aminocarboxylic acid type chelating agent.
The aminocarboxylic acid type chelating agent has two or more carboxyalkyl groups bonded to a nitrogen atom in the molecule.
The carboxyalkyl group is composed of a linear alkylene group.
A method for producing a metal material, wherein two or more of the carboxyalkyl groups are carboxymethyl groups.
[11]
前記接触させる工程において、前記金属材は前記スケール除去剤に浸漬される、上記[10]に記載の金属材の製造方法。
[11]
The method for producing a metal material according to the above [10], wherein the metal material is immersed in the scale removing agent in the contacting step.
[12]
前記金属材は、40℃以上70℃以下の前記スケール除去剤に、1分以上50分以内で浸漬される、上記[11]に記載の金属材の製造方法。
[12]
The method for producing a metal material according to the above [11], wherein the metal material is immersed in the scale removing agent at 40 ° C. or higher and 70 ° C. or lower within 1 minute or more and 50 minutes or less.
[13]
前記金属材は、メッキ被膜を有する金属材を含む、上記[10]~[12]のいずれかに記載の金属材の製造方法。
[13]
The method for producing a metal material according to any one of [10] to [12] above, wherein the metal material includes a metal material having a plating film.
[14]
前記メッキ被膜を有する金属材は、亜鉛メッキ鋼板を含む、上記[13]に記載の金属材の製造方法。
[14]
The method for producing a metal material according to the above [13], wherein the metal material having the plating film includes a galvanized steel sheet.
本発明によれば、メッキ被膜を維持しながらスケールを除去できるスケール除去剤を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a scale removing agent capable of removing scale while maintaining a plating film.
スケールは、鋼板などの金属材を溶接加工する際、金属成分が空気中の酸素と結合して生成した金属酸化物である。スケールには、金属酸化物とともにカーボンも含まれ得る。スケールは、溶接焼けとも言われる。 The scale is a metal oxide produced by combining a metal component with oxygen in the air when welding a metal material such as a steel plate. The scale may contain carbon as well as metal oxides. Scales are also called weld burns.
メッキ被膜を有する金属材を溶接する際も同様に、メッキ被膜上にスケールが形成される。このスケールを除去するためにホスホン酸系キレート剤を含むスケール除去剤を用いると、メッキ被膜も溶解してしまう。 Similarly, when welding a metal material having a plating film, a scale is formed on the plating film. If a scale remover containing a phosphonic acid-based chelating agent is used to remove this scale, the plating film will also be dissolved.
そこで本実施形態では、特定のアミノカルボン酸型キレート剤を含むスケール除去剤、および、これを用いる金属材の製造方法を提案する。本実施形態に係るスケール除去剤によれば、メッキ被膜を維持しながら、スケールを除去することができる。 Therefore, in the present embodiment, a scale removing agent containing a specific aminocarboxylic acid type chelating agent and a method for producing a metal material using the scale removing agent are proposed. According to the scale removing agent according to the present embodiment, scale can be removed while maintaining the plating film.
A.スケール除去剤
本実施形態に係るスケール除去剤は、キレート剤と、有機酸と、フッ素化合物と、界面活性剤と、を含む。キレート剤は、分子内に窒素原子に結合する2以上のカルボキシアルキル基を有する、特定のアミノカルボン酸型キレート剤(以下、第1のキレート剤と称す。)を含む。上記のカルボキシアルキル基は、直鎖のアルキレン基により構成されている。上記のカルボキシアルキル基の2以上は、カルボキシメチル基である。
A. Scale remover The scale remover according to the present embodiment contains a chelating agent, an organic acid, a fluorine compound, and a surfactant. The chelating agent contains a specific aminocarboxylic acid type chelating agent (hereinafter, referred to as a first chelating agent) having two or more carboxyalkyl groups bonded to a nitrogen atom in the molecule. The above carboxyalkyl group is composed of a linear alkylene group. Two or more of the above carboxyalkyl groups are carboxymethyl groups.
スケール除去剤のpHは、6以上8以下である。このようにほぼ中性のスケール除去剤であっても、キレート剤、有機酸、フッ素化合物および界面活性剤を含むことにより、スケールを効率よく除去することができる。さらに、金属材の変色や、環境に対する負荷が抑制される。 The pH of the scale remover is 6 or more and 8 or less. As described above, even a substantially neutral scale remover can efficiently remove scale by containing a chelating agent, an organic acid, a fluorine compound and a surfactant. Furthermore, discoloration of metal materials and environmental load are suppressed.
スケール除去剤は、上記の各成分を水性溶媒に添加して、混合することによって調製される。水性溶媒としては、例えば、純水、イオン交換水、水道水、工業水などの各種水が挙げられる。スケール除去剤は、必要に応じて、水とともに少量の水混和性有機溶媒(例えば、アルコール類)を含んでもよい。 The scale remover is prepared by adding each of the above components to an aqueous solvent and mixing them. Examples of the aqueous solvent include various types of water such as pure water, ion-exchanged water, tap water, and industrial water. If necessary, the scale remover may contain a small amount of a water-miscible organic solvent (for example, alcohols) together with water.
[キレート剤]
本実施形態に係るスケール除去剤は、キレート剤を含む。キレート剤は、金属材の表面からスケールを引き剥がし、捕捉する。
[Chelating agent]
The scale remover according to the present embodiment contains a chelating agent. The chelating agent strips and captures the scale from the surface of the metal material.
キレート剤は、分子内に、窒素原子に結合する2以上のカルボキシアルキル基を有する第1のキレート剤を含む。第1のキレート剤におけるカルボキシアルキル基は、直鎖のアルキレン基により構成されている。さらに、2以上のカルボキシアルキル基は、カルボキシメチル基である。 The chelating agent contains, in the molecule, a first chelating agent having two or more carboxyalkyl groups attached to a nitrogen atom. The carboxyalkyl group in the first chelating agent is composed of a linear alkylene group. Further, the two or more carboxyalkyl groups are carboxymethyl groups.
(第1のキレート剤)
第1のキレート剤は、分子内に、窒素原子に結合するカルボキシメチル基(-CH2-COOH)を2以上有している。2以上のカルボキシメチル基は、いずれも同じ窒素原子に結合していてもよいし、それぞれ別の窒素原子に結合していてもよいし、2つのカルボキシメチル基は同じ窒素原子に結合し、他のカルボキシメチル基は別の窒素原子に結合していてもよい。
(First chelating agent)
The first chelating agent has two or more carboxymethyl groups ( -CH2 -COOH) bonded to a nitrogen atom in the molecule. Two or more carboxymethyl groups may all be bonded to the same nitrogen atom, each may be bonded to a different nitrogen atom, two carboxymethyl groups may be bonded to the same nitrogen atom, and the other. The carboxymethyl group of the above may be bonded to another nitrogen atom.
第1のキレート剤は、アミノ基とカルボキシ基とを有する。両者によって、第1のキレート剤は金属材に吸着する。カルボキシ基はエッチング能を有するため、スケールの除去に寄与するが、同時に、メッキ被膜を溶解させてしまう。一方、アミノ基はエッチング作用を示さず、金属材の表面を保護するように作用する。理由は定かではないが、窒素原子に結合するカルボキシアルキル基が分岐構造を有していないことにより、アミノ基が金属材に吸着し易くなって、メッキ被膜の溶解を抑制する効果が発揮され易くなるものと考えられる。 The first chelating agent has an amino group and a carboxy group. By both, the first chelating agent is adsorbed on the metal material. Since the carboxy group has an etching ability, it contributes to the removal of scale, but at the same time, it dissolves the plating film. On the other hand, the amino group does not show an etching action and acts to protect the surface of the metal material. Although the reason is not clear, since the carboxyalkyl group bonded to the nitrogen atom does not have a branched structure, the amino group is easily adsorbed on the metal material, and the effect of suppressing the dissolution of the plating film is easily exhibited. It is thought that it will be.
窒素原子に結合するカルボキシアルキル基(-R-COOH)のうち、少なくとも2つがカルボキシメチル基であればよく、他は特に限定されない。ただし、窒素原子に結合するカルボキシアルキル基は、いずれも直鎖のアルキレン基(R=CnH2n)により構成されている。上記のカルボキシアルキル基を構成するアルキレン基の炭素数nは、例えば、1以上3以下程度である。 Of the carboxyalkyl groups (-R-COOH) bonded to the nitrogen atom, at least two may be carboxymethyl groups, and the others are not particularly limited. However, each of the carboxyalkyl groups bonded to the nitrogen atom is composed of a linear alkylene group (R = C n H 2n ). The carbon number n of the alkylene group constituting the above carboxyalkyl group is, for example, about 1 or more and 3 or less.
第1のキレート剤は、分子内に1以上の窒素原子を有する。窒素原子は2以上であってよい。つまり、第1のキレート剤は、モノアミノポリカルボン酸であってよく、ポリアミノポリカルボン酸であってよい。第1のキレート剤は、モノあるいはポリアミノポリカルボン酸のアルカリ金属塩(代表的には、ナトリウム塩)であってよい。 The first chelating agent has one or more nitrogen atoms in the molecule. The number of nitrogen atoms may be 2 or more. That is, the first chelating agent may be a monoaminopolycarboxylic acid or a polyaminopolycarboxylic acid. The first chelating agent may be an alkali metal salt (typically a sodium salt) of a mono or polyaminopolycarboxylic acid.
ポリアミノポリカルボン酸において、複数の窒素原子同士は、アルキレン基を介して結合していてもよい。窒素原子同士をつなぐアルキレン基は、直鎖であって、炭素数が1以上3以下程度であることが好ましい。 In a polyaminopolycarboxylic acid, a plurality of nitrogen atoms may be bonded to each other via an alkylene group. The alkylene group connecting the nitrogen atoms is preferably linear and has 1 or more and 3 or less carbon atoms.
メッキ被膜の溶解抑制の観点から、分子内における窒素原子に結合するカルボキシメチル基の数は、3以上が好ましく、4以上がより好ましい。 From the viewpoint of suppressing the dissolution of the plating film, the number of carboxymethyl groups bonded to the nitrogen atom in the molecule is preferably 3 or more, and more preferably 4 or more.
第1のキレート剤は、さらにヒドロキシ基(-OH)を有していてもよい。ただし、分子内に存在するヒドロキシ基の数は、カルボキシ基(詳細には、カルボキシアルキル基)の数より少ないことが好ましい。これにより、第1のキレート剤の親水性が過度に高まることが抑制される。スケールは、通常、カーボンを含むため、疎水性を示す。第1のキレート剤の親水性が過度に高くないことにより、水性溶媒中への拡散が抑制されるとともに、スケールに接触し易くなる。その結果、スケール除去効果はより向上し得る。 The first chelating agent may further have a hydroxy group (—OH). However, the number of hydroxy groups present in the molecule is preferably less than the number of carboxy groups (specifically, carboxyalkyl groups). This suppresses the excessive increase in hydrophilicity of the first chelating agent. Scales are hydrophobic because they usually contain carbon. Since the hydrophilicity of the first chelating agent is not excessively high, the diffusion into the aqueous solvent is suppressed and the scale is easily contacted. As a result, the scale removal effect can be further improved.
第1のキレート剤の分子量は特に限定されない。少量で効果が得られ易い点で、第1のキレート剤の分子量は、350以下が好ましく、300以下がより好ましく、250以下が特に好ましい。 The molecular weight of the first chelating agent is not particularly limited. The molecular weight of the first chelating agent is preferably 350 or less, more preferably 300 or less, and particularly preferably 250 or less, in that the effect can be easily obtained with a small amount.
第1のキレート剤としては、例えば、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)、ニトリロ三酢酸(NTA)、ジエチレントリアミン五酢酸(DTPA)、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸(HEDTA)、トリエチレンテトラアミン六酢酸(TTHA)、1,3-プロパンジアミン四酢酸(PDTA)、1,3-ジアミノ-2-ヒドロキシプロパン四酢酸(DPTA-OH)、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸(HIDA)、グリコールエーテルジアミン四酢酸(GEDTA)、Lグルタミン酸二酢酸(GLDA)が挙げられる。第1のキレート剤のいくつかの構造式を以下に示す。 Examples of the first chelating agent include ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA), nitrilotriacetic acid (NTA), diethylenetriaminetetraacetic acid (DTPA), hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid (HEDTA), triethylenetetraaminehexacetic acid (TTHA), and the like. 1,3-Propanide diaminetetraacetic acid (PDTA), 1,3-diamino-2-hydroxypropane tetraacetic acid (DPTA-OH), hydroxyethyliminodiacetic acid (HIDA), glycol etherdiaminetetraacetic acid (GEDTA), L-glutamic acid Diacetic acid (GLDA) can be mentioned. Some structural formulas of the first chelating agent are shown below.
第1のキレート剤は、1種を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いられる。なかでも、メッキ被膜の溶解が抑制され易い点で、NTA、EDTA、PDTAが好ましい。特に、NTAが好ましい。NTA、EDTAおよびPDTAは、分子量が比較的小さいため、金属材への吸着性が高い。よって、これらは、より高いメッキ被膜の溶解抑制効果を示す。 The first chelating agent may be used alone or in combination of two or more. Of these, NTA, EDTA, and PDTA are preferable because the dissolution of the plating film is easily suppressed. In particular, NTA is preferable. Since NTA, EDTA and PDTA have a relatively small molecular weight, they have high adsorptivity to metal materials. Therefore, these show a higher effect of suppressing the dissolution of the plating film.
第1のキレート剤の含有量CC1は、3,000質量ppm以上60,000質量ppm以下が好ましい。これにより、メッキ被膜の溶解抑制効果およびスケールの除去効果が、より発揮され易くなる。含有量CC1は、5,000質量ppm以上がより好ましく、7,000質量ppm以上が特に好ましい。含有量CC1は、50,000質量ppm以下がより好ましく、30,000質量ppm以下が特に好ましい。 The content CC1 of the first chelating agent is preferably 3,000 mass ppm or more and 60,000 mass ppm or less. As a result, the effect of suppressing the dissolution of the plating film and the effect of removing scale are more likely to be exhibited. The content C C1 is more preferably 5,000 mass ppm or more, and particularly preferably 7,000 mass ppm or more. The content CC1 is more preferably 50,000 mass ppm or less, and particularly preferably 30,000 mass ppm or less.
(第2のキレート剤)
第1のキレート剤以外のアミノカルボン酸型キレート剤(以下、第2のキレート剤と称する。)が含まれてもよい。この場合にも、メッキ被膜の溶解抑制効果およびスケールの除去効果は、発揮され得る。
(Second chelating agent)
An aminocarboxylic acid type chelating agent other than the first chelating agent (hereinafter, referred to as a second chelating agent) may be contained. Also in this case, the effect of suppressing the dissolution of the plating film and the effect of removing scale can be exhibited.
メッキ被膜の溶解抑制およびスケール除去の観点から、第2のキレート剤の含有量CC2は、第1のキレート剤の含有量CC1の30質量%以下が好ましく、10質量%以下がより好ましい。 From the viewpoint of suppressing the dissolution of the plating film and removing the scale, the content CC2 of the second chelating agent is preferably 30% by mass or less, more preferably 10% by mass or less of the content CC1 of the first chelating agent.
第2のキレート剤の含有量CC2は、18,000質量ppm以下が好ましい。これにより、メッキ被膜の溶解を抑制しながら、スケールの除去効果が得られ易い。含有量CC2は、15,000質量ppm以下がより好ましく、9,000質量ppm以下が特に好ましい。 The content C C2 of the second chelating agent is preferably 18,000 mass ppm or less. As a result, it is easy to obtain the effect of removing scale while suppressing the dissolution of the plating film. The content C C2 is more preferably 15,000 mass ppm or less, and particularly preferably 9,000 mass ppm or less.
第2のキレート剤としては、例えば、分岐構造のアルキレン基を有するアミノカルボン酸型キレート剤、および、窒素原子に結合するカルボキシアルキル基を1つだけ有するアミノカルボン酸型キレート剤が挙げられる。これらは、1種を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いられる。 Examples of the second chelating agent include an aminocarboxylic acid type chelating agent having an alkylene group having a branched structure and an aminocarboxylic acid type chelating agent having only one carboxyalkyl group bonded to a nitrogen atom. These may be used alone or in combination of two or more.
分岐構造のアルキレン基を有するアミノカルボン酸型キレート剤としては、例えば、メチルグリシン二酢酸(MGDA)、(S,S)-エチレンジアミンジコハク酸(EDDS)、アスパラギン酸二酢酸(ASDA)、グルタミン酸二酢酸(CMGA)が挙げられる。MGDA、EDDSおよびCMGAの構造式を以下に示す。 Examples of the aminocarboxylic acid type chelating agent having a branched alkylene group include methylglycine diacetic acid (MGDA), (S, S) -ethylenediamine disuccinic acid (EDDS), aspartate diacetic acid (ASDA), and glutamic acid diacetic acid. Acetic acid (CMGA) can be mentioned. The structural formulas of MGDA, EDDS and CMGA are shown below.
分子内に、窒素原子に結合するカルボキシアルキル基を1つだけ有するアミノカルボン酸型キレート剤としては、例えば、ジヒドロキシエチルグリシン(DHEG)が挙げられる。DHEGの構造式を以下に示す。 Examples of the aminocarboxylic acid type chelating agent having only one carboxyalkyl group bonded to a nitrogen atom in the molecule include dihydroxyethylglycine (DHEG). The structural formula of DHEG is shown below.
(第3のキレート剤)
アミノカルボン酸型キレート剤以外のキレート剤(以下、第3のキレート剤と称する。)が含まれてもよい。これにより、スケール除去効果が向上し得る。
(Third chelating agent)
A chelating agent other than the aminocarboxylic acid type chelating agent (hereinafter, referred to as a third chelating agent) may be contained. This can improve the scale removal effect.
ただし、メッキ被膜の溶解抑制の観点から、第3のキレート剤の含有量CC3は、第1のキレート剤の含有量CC1の30質量%以下が好ましく、20質量%以下がより好ましく、15質量%以下が特に好ましい。 However, from the viewpoint of suppressing the dissolution of the plating film, the content CC3 of the third chelating agent is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less of the content CC1 of the first chelating agent, and 15 Mass% or less is particularly preferable.
第3のキレート剤の含有量CC3は、5,000質量ppm以下が好ましく、2,000質量ppm以下がより好ましく、1,500質量ppm以下が特に好ましい。スケール除去の観点から、第3のキレート剤の含有量CC3は、600質量ppm以上であってよく、1,000質量ppm以上であってよい。 The content C C3 of the third chelating agent is preferably 5,000 mass ppm or less, more preferably 2,000 mass ppm or less, and particularly preferably 1,500 mass ppm or less. From the viewpoint of scale removal, the content CC3 of the third chelating agent may be 600 mass ppm or more, and may be 1,000 mass ppm or more.
ホスホン酸系キレート剤としては、例えば、ヒドロキシエチリデンジホスホン酸(HEDP)、ニトリロトリスメチレンホスホン酸(NTMP)、ホスホノブタントリカルボン酸(PBTC)、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸(EDTMP)が挙げられる。HEDP、NTMP、PBTCおよびEDTMPの構造式を以下に示す。 Examples of the phosphonic acid-based chelating agent include hydroxyethylidene diphosphonic acid (HEDP), nitrilotrismethylenephosphonic acid (NTMP), phosphonobutanetricarboxylic acid (PBTC), and ethylenediaminetetramethylenephosphonic acid (EDTMP). The structural formulas of HEDP, NTMP, PBTC and EDTMP are shown below.
[有機酸]
有機酸は、スケールの溶解性を向上させて、キレート剤がスケールを引き剥がすのを助ける。一方で、スケール除去剤のpHを過度に低下させない。
[Organic acid]
Organic acids improve the solubility of the scale and help the chelating agent peel off the scale. On the other hand, it does not excessively reduce the pH of the scale remover.
有機酸は特に限定されない。スケール除去効果の観点から、芳香環を有さない、アルキルカルボン酸が好ましい。アルキルカルボン酸における炭化水素基は、鎖式であってよく、脂環式であってよい。鎖式の炭化水素基は、直鎖であってよく、分岐していてもよい。上記炭化水素基は、飽和していてよく、不飽和であってもよい。上記炭化水素基における炭素数は、1以上20以下であってよく、2以上10以下であってよい。有機酸は、1種を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いられる。 The organic acid is not particularly limited. From the viewpoint of the scale removing effect, an alkylcarboxylic acid having no aromatic ring is preferable. The hydrocarbon group in the alkylcarboxylic acid may be a chain type or an alicyclic type. The chain hydrocarbon group may be linear or branched. The hydrocarbon group may be saturated or unsaturated. The number of carbon atoms in the hydrocarbon group may be 1 or more and 20 or less, and may be 2 or more and 10 or less. The organic acid may be used alone or in combination of two or more.
飽和脂肪族カルボン酸としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ラウリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸等の1価のカルボン酸;シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸等の2価のカルボン酸が挙げられる。不飽和脂肪族カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、オレイン酸、リノール酸等の1価のカルボン酸;フマル酸、マレイン酸等の2価のカルボン酸;アコニット酸等の3価のカルボン酸が挙げられる。脂環式カルボン酸としては、例えば、シクロヘキサンカルボン酸、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸が挙げられる。なかでも、2以上のカルボキシ基を有する(2価以上の)アルキルカルボン酸が好ましい。カルボキシ基の数は、4以下であってよい。 Examples of the saturated aliphatic carboxylic acid include monovalent carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid, fatty acid, valeric acid, lauric acid, palmitic acid, and stearic acid; oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, and adipic acid. Divalent carboxylic acids such as and the like can be mentioned. Examples of the unsaturated aliphatic carboxylic acid include monovalent carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, oleic acid and linoleic acid; divalent carboxylic acids such as fumaric acid and maleic acid; and trivalent carboxylic acids such as aconitic acid. Carboxylic acid can be mentioned. Examples of the alicyclic carboxylic acid include cyclohexanecarboxylic acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid. Of these, an alkylcarboxylic acid having two or more carboxy groups (divalent or higher) is preferable. The number of carboxy groups may be 4 or less.
有機酸は、さらにヒドロキシ基を有していてよい。これにより、スケール除去効果はさらに高まり易い。ただし、ヒドロキシ基の数は、分子内のカルボキシ基より少ないことが好ましい。上記の通り、スケールは疎水性を示す。ヒドロキシ基の数が少ないことにより、有機酸の親水性が過度に高くならず、水性溶媒中への拡散が抑制されるとともに、スケールに接触し易くなる。その結果、スケール除去効果はより向上し得る。ヒドロキシ基の数は、1または2であってよい。 The organic acid may further have a hydroxy group. As a result, the scale removal effect is likely to be further enhanced. However, the number of hydroxy groups is preferably less than the intramolecular carboxy group. As mentioned above, the scale is hydrophobic. When the number of hydroxy groups is small, the hydrophilicity of the organic acid is not excessively increased, diffusion into an aqueous solvent is suppressed, and it becomes easy to come into contact with scale. As a result, the scale removal effect can be further improved. The number of hydroxy groups may be 1 or 2.
ヒドロキシ基を有するアルキルカルボン酸(アルキルヒドロキシカルボン酸)としては、例えば、乳酸、リンゴ酸、クエン酸が挙げられる。なかでも、2価以上のアルキルヒドロキシカルボン酸である、リンゴ酸およびクエン酸がより好ましい。 Examples of the alkylcarboxylic acid having a hydroxy group (alkylhydroxycarboxylic acid) include lactic acid, malic acid, and citric acid. Of these, malic acid and citric acid, which are divalent or higher alkyl hydroxycarboxylic acids, are more preferable.
有機酸の含有量CAは、3,000質量ppm以上60,000質量ppm以下が好ましい。これにより、スケールがさらに効率よく除去されるとともに、メッキ被膜の溶解が抑制され易くなる。含有量CAは、5,000質量ppm以上がより好ましく、7,000質量ppm以上が特に好ましい。含有量CC1は、50,000質量ppm以下がより好ましく、30,000質量ppm以下が特に好ましい。 The organic acid content CA is preferably 3,000 mass ppm or more and 60,000 mass ppm or less. As a result, the scale is removed more efficiently, and the dissolution of the plating film is easily suppressed. The content CA is more preferably 5,000 mass ppm or more, and particularly preferably 7,000 mass ppm or more. The content CC1 is more preferably 50,000 mass ppm or less, and particularly preferably 30,000 mass ppm or less.
第1のキレート剤の含有量CC1と有機酸との含有量CAとの質量比:CC1/CAは、10/90から90/10の範囲が好ましい。これにより、スケールがさらに効率よく除去されるとともに、メッキ被膜の溶解が抑制され易くなる。CC1/CAは、30/70から70/30の範囲がより好ましく、45/55から55/45の範囲が特に好ましい。 The mass ratio of the content CC1 of the first chelating agent to the content CA of the organic acid: CC1 / CA is preferably in the range of 10/90 to 90/10. As a result, the scale is removed more efficiently, and the dissolution of the plating film is easily suppressed. CC1 / CA is more preferably in the range of 30/70 to 70/30, and particularly preferably in the range of 45/55 to 55/45 .
有機酸以外の酸(無機酸)が含まれてもよい。ただし、メッキ被膜の溶解抑制の観点から、フッ化水素酸以外の無機酸の含有量は、少ないほど望ましい。無機酸の含有量は、200質量ppm以下が好ましく、100質量ppm以下がより好ましく、検出限界以下が特に好ましい。フッ化水素酸以外の無機酸としては、例えば、塩酸、硝酸、リン酸、硫酸、ホウ酸が挙げられる。これらは、1種を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いられる。 Acids other than organic acids (inorganic acids) may be contained. However, from the viewpoint of suppressing the dissolution of the plating film, it is desirable that the content of the inorganic acid other than hydrofluoric acid is small. The content of the inorganic acid is preferably 200 mass ppm or less, more preferably 100 mass ppm or less, and particularly preferably not more than the detection limit. Examples of the inorganic acid other than hydrofluoric acid include hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, sulfuric acid, and boric acid. These may be used alone or in combination of two or more.
[フッ素化合物]
フッ素含有化合物は、フッ素イオンの供給源である。フッ素イオンは、スケールに含まれていた金属イオンをスケール除去剤中で安定化させる。これにより、金属材の表面からスケールが溶解し易くなって、スケールは効率よく除去される。
[Fluorine compound]
Fluorine-containing compounds are a source of fluorine ions. Fluorine ions stabilize the metal ions contained in the scale in the scale remover. This makes it easier for the scale to dissolve from the surface of the metal material, and the scale is efficiently removed.
フッ素含有化合物は、フッ素イオンを遊離するものであれば特に限定されない。フッ素含有化合物としては、例えば、フッ化水素酸、酸性フッ化ナトリウム、酸性フッ化アンモニウム、フルオロチタン酸、フルオロジルコニウム酸、フルオロ珪酸、フッ化アンモニウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、二フッ化水素カリウムが挙げられる。これらは、1種を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いられる。 The fluorine-containing compound is not particularly limited as long as it liberates fluorine ions. Examples of the fluorine-containing compound include hydrofluoric acid, sodium acidic fluoride, ammonium acidic fluoride, fluorotitanic acid, fluoroziric acid, fluorosilicic acid, ammonium fluoride, sodium fluoride, potassium fluoride, and hydrogen difluoride. Fluorine is mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
フッ素イオンの含有量CFは、フッ素原子量として、500質量ppm以上10,000質量ppm以下が好ましい。これにより、スケール中に含まれていた金属イオンのスケール除去剤中における安定性がより高まる。含有量CFは、1,000質量ppm以上がより好ましく、3,000質量ppm以上が特に好ましい。含有量CFは、8,000質量ppm以下がより好ましく、7,000質量ppm以下が特に好ましい。 The fluorine ion content CF is preferably 500 mass ppm or more and 10,000 mass ppm or less as the atomic weight of fluorine. This further enhances the stability of the metal ions contained in the scale in the scale remover. The content C F is more preferably 1,000 mass ppm or more, and particularly preferably 3,000 mass ppm or more. The content C F is more preferably 8,000 mass ppm or less, and particularly preferably 7,000 mass ppm or less.
[界面活性剤]
界面活性剤は、スケール除去性能をさらに高める。界面活性剤としては、陰イオン系界面活性剤およびノニオン系界面活性剤の少なくとも1種が挙げられる。
[Surfactant]
Surfactants further enhance scale removal performance. Examples of the surfactant include at least one of anionic surfactant and nonionic surfactant.
陰イオン系界面活性剤は特に限定されず、公知のものを用いることができる。陰イオン系界面活性剤としては、例えば、リン酸エステル型界面活性剤、カルボン酸型界面活性剤、スルホン酸型界面活性剤(スルホコハク酸系界面活性剤を含む)および硫酸エステル型界面活性剤が挙げられる。これらは、1種を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いられる。 The anionic surfactant is not particularly limited, and known ones can be used. Examples of anionic surfactants include phosphate ester-type surfactants, carboxylic acid-type surfactants, sulfonic acid-type surfactants (including sulfosuccinic acid-based surfactants), and sulfate ester-type surfactants. Can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
陰イオン系界面活性剤の市販品としては、例えば、DOW TRITON H66(登録商標)(ダウケミカル日本社製、リン酸カリウム型界面活性剤)、ネオゲンAS-20(第一工業製薬社製、スルホン酸型界面活性剤)、サンモリンOT-70(三洋化成社製、スルホコハク酸系界面活性剤)、ノイゲンES-99(第一工業製薬社製)、サンスパールPDN-173(三洋化成工業社製、カルボン酸型界面活性剤)が挙げられる。 Commercially available products of anionic surfactants include, for example, DOWN TRITON H66 (registered trademark) (Dow Chemical Japan Co., Ltd., potassium phosphate type surfactant), Neogen AS-20 (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., sulfone). Acid-type surfactant), Sanmorin OT-70 (manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd., sulfosuccinic acid-based surfactant), Neugen ES-99 (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), Sunspear PDN-173 (manufactured by Sanyo Kasei Kogyo Co., Ltd., (Carous acid type surfactant).
ノニオン系界面活性剤は特に限定されず、公知のものを用いることができる。ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシアルキレングリコール脂肪酸エステル類、ポリアルキレングリコール脂肪酸エステル類、およびポリオキシアルキレンアルキルエーテル類が挙げられる。 The nonionic surfactant is not particularly limited, and known ones can be used. Examples of the nonionic surfactant include polyoxyalkylene glycol fatty acid esters, polyalkylene glycol fatty acid esters, and polyoxyalkylene alkyl ethers.
ノニオン系界面活性剤の市販品としては、例えば、アデカノールUAシリーズ(ADEKA社製)、Genapol EP 2564(クラリアントジャパン社製)、ノイゲンXL100(第一工業製薬社製)、Genagen C 100(クラリアントジャパン社製)が挙げられる。 Commercially available nonionic surfactants include, for example, Adecanol UA series (manufactured by ADEKA), Genapol EP 2564 (manufactured by Clariant Japan), Neugen XL100 (manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), and Genagen C 100 (manufactured by Clariant Japan). Made by).
界面活性剤の含有量CSは、300質量ppm以上3,000質量ppm以下が好ましい。これにより、スケール除去性能はさらに高まり易い。含有量CSは、400質量ppm以上がより好ましい。含有量CSは、2,000質量ppm以下がより好ましい。 The content CS of the surfactant is preferably 300 mass ppm or more and 3,000 mass ppm or less. As a result, the scale removal performance is likely to be further improved. The content CS is more preferably 400 mass ppm or more. The content CS is more preferably 2,000 mass ppm or less.
[防錆剤]
スケール除去剤は、防錆剤を含んでもよい。これにより、スケール除去後、化成処理が行われるまでの金属材の防錆性が高まる。
[anti-rust]
The scale remover may contain a rust preventive. This enhances the rust resistance of the metal material after the scale is removed until the chemical conversion treatment is performed.
防錆剤としては、例えば、いわゆるP系、N系、S系、およびアセチレン系の防錆剤が挙げられる。P系の防錆剤としては、例えば、リン酸塩が挙げられる。N系の有機酸としては、例えば、アルキルアミン、イミダゾール、トリアゾールが挙げられる。S系の防錆剤としては、例えば、サンチオール、チオ尿素が挙げられる。アセチレン系の防錆剤としては、例えば、3-メチル-1-ブチン-3-オール、3-メチル-1-ペンチン-3-オール、2,5-ジメチル-3-ヘキシン-2,5-ジオールおよび3,6-ジメチル-4-オクチン-3,6-ジオールが挙げられる。防錆剤の市販品としては、例えば、KORANTIN PM(BASFジャパン社製)が挙げられる。 Examples of the rust preventive include so-called P-based, N-based, S-based, and acetylene-based rust preventives. Examples of the P-based rust preventive agent include phosphates. Examples of the N-based organic acid include alkylamines, imidazoles, and triazoles. Examples of the S-based rust preventive agent include santhiol and thiourea. Examples of acetylene-based rust preventives include 3-methyl-1-butyne-3-ol, 3-methyl-1-pentyne-3-ol, and 2,5-dimethyl-3-hexyne-2,5-diol. And 3,6-dimethyl-4-octyne-3,6-diol. Examples of commercially available rust preventives include KORANTIN PM (manufactured by BASF Japan Ltd.).
防錆剤の含有量CRは、50質量ppm以上300質量ppm以下が好ましい。これにより、金属材の防錆性はさらに高まり易い。 The content CR of the rust inhibitor is preferably 50% by mass or more and 300% by mass or less. As a result, the rust resistance of the metal material is likely to be further enhanced.
[他の成分]
スケール除去剤は、効果を損なわない範囲で他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、例えば、pH調整剤、保存安定剤、消泡剤、凍結防止剤、防腐剤、防カビ剤が挙げられる。
[Other ingredients]
The scale remover may contain other components as long as the effect is not impaired. Examples of other components include pH adjusters, storage stabilizers, defoamers, antifreeze agents, preservatives, and fungicides.
[金属材]
スケール除去剤は、金属材に用いられる。スケール除去剤は、特に、溶接部を有する金属材の溶接スケールの除去に用いられる。金属材は特に限定されず、例えば、鉄材、冷延鋼板、熱延鋼板、亜鉛メッキ鋼板、アルミ合金材等が挙げられる。
[Metallic material]
The scale remover is used for metal materials. The scale remover is particularly used for removing weld scales of metal materials having welds. The metal material is not particularly limited, and examples thereof include an iron material, a cold-rolled steel sheet, a hot-rolled steel sheet, a galvanized steel sheet, and an aluminum alloy material.
本実施形態に係るスケール除去剤によれば、メッキ被膜の溶解を抑制しながら、スケールを効率よく除去できる。そのため、本実施形態に係るスケール除去剤は、メッキ被膜を有する金属材(代表的には、亜鉛メッキ鋼板)や、メッキ被膜を有する金属材とメッキ被膜を有さない金属材とが溶接された材料のスケール除去に特に適している。 According to the scale removing agent according to the present embodiment, scale can be efficiently removed while suppressing the dissolution of the plating film. Therefore, in the scale removing agent according to the present embodiment, a metal material having a plating film (typically a zinc-plated steel plate) or a metal material having a plating film and a metal material having no plating film are welded together. Especially suitable for descaling materials.
B.金属材の製造方法
本実施形態に係るスケール除去剤を用いて、スケールが除去された金属材を製造することができる。金属材は、本実施形態に係るスケール除去剤を、金属材に接触させる工程を備える方法により製造される。
B. Method for Producing Metal Material A metal material from which scale has been removed can be produced by using the scale removing agent according to the present embodiment. The metal material is produced by a method comprising a step of bringing the scale removing agent according to the present embodiment into contact with the metal material.
(1)接触工程
スケール除去剤を金属材に接触させる方法は特に限定されない。接触方法としては、例えば、噴霧、浸漬が挙げられる。なかでも、接触効率が高い点で、浸漬が好ましい。浸漬法は、比較的短時間でスケール除去効果が得られるため、金属材を連続的に加工する方法として適している。
(1) Contact step The method of contacting the scale remover with the metal material is not particularly limited. Examples of the contact method include spraying and dipping. Of these, immersion is preferable because of its high contact efficiency. The dipping method is suitable as a method for continuously processing a metal material because the scale removing effect can be obtained in a relatively short time.
噴霧法において、噴霧圧力は0.08MPa以上2MPa以下であってよく、0.1MPa以上1.5MPa以下であってよい。 In the spraying method, the spraying pressure may be 0.08 MPa or more and 2 MPa or less, and may be 0.1 MPa or more and 1.5 MPa or less.
浸漬法では、金属材をスケール除去剤の浴に浸漬した状態で、金属材の表面に超音波を付与してもよい。超音波の周波数は、25kHz以上100kHz以下であってよく、30kHz以上50kHz以下であってよい。 In the dipping method, ultrasonic waves may be applied to the surface of the metal material while the metal material is immersed in a bath of a scale removing agent. The frequency of the ultrasonic wave may be 25 kHz or more and 100 kHz or less, and may be 30 kHz or more and 50 kHz or less.
浸漬法では、また、金属材をスケール除去剤の浴に浸漬した状態で、スケール除去剤を攪拌してもよい。これにより、スケール除去剤が流動する。金属材の表面におけるスケール除去剤の流速は、10cm/秒以上40cm/秒以下であってよく、15cm/秒以上35cm/秒以下であってよい。表面流速は、市販の表面流速計(例えばJFEアドバンテック社製、三軸電磁流速センサー、ACM3-RSなど)を用いて測定することができる。 In the dipping method, the scale removing agent may be stirred while the metal material is immersed in the scale removing agent bath. This causes the scale remover to flow. The flow rate of the scale remover on the surface of the metal material may be 10 cm / sec or more and 40 cm / sec or less, and may be 15 cm / sec or more and 35 cm / sec or less. The surface flow velocity can be measured using a commercially available surface flow meter (for example, JFE Advantech Co., Ltd., triaxial electromagnetic flow velocity sensor, ACM3-RS, etc.).
スケール除去剤の温度は、40℃以上70℃以下であってよい。これにより、スケールの除去効果が発揮され易くなるとともに、設備の負担が軽減される。スケール除去剤の温度は、50℃以上70℃以下が好ましく、55℃以上65℃以下が特に好ましい。 The temperature of the scale remover may be 40 ° C. or higher and 70 ° C. or lower. As a result, the effect of removing scale is easily exerted, and the burden on the equipment is reduced. The temperature of the scale remover is preferably 50 ° C. or higher and 70 ° C. or lower, and particularly preferably 55 ° C. or higher and 65 ° C. or lower.
スケール除去剤と金属材との接触時間は、接触方法に応じて適宜設定すればよい。噴霧法における接触時間は、例えば、3分以上30分以内であってよく、5分以上20分以内であってよい。浸漬法における接触時間は、例えば、1分以上50分以内であってよく、1分以上30分以内であってよく、1分以上15分以内であってよい。 The contact time between the scale remover and the metal material may be appropriately set according to the contact method. The contact time in the spraying method may be, for example, 3 minutes or more and 30 minutes or less, and may be 5 minutes or more and 20 minutes or less. The contact time in the dipping method may be, for example, 1 minute or more and 50 minutes or less, 1 minute or more and 30 minutes or less, and 1 minute or more and 15 minutes or less.
(2)化成工程
スケール除去剤の接触工程の後、金属材の表面を化成処理してもよい。本実施形態に係るスケール除去剤はスケールを効率よく除去するため、得られる金属材には、化成被膜が形成され易い。化成処理の方法としては、例えば、リン酸亜鉛化成処理、ジルコニウム化成処理が挙げられる。
(2) Chemical conversion step After the contact step of the scale removing agent, the surface of the metal material may be subjected to chemical conversion treatment. Since the scale removing agent according to the present embodiment efficiently removes scale, a chemical conversion film is easily formed on the obtained metal material. Examples of the chemical conversion treatment method include zinc phosphate chemical conversion treatment and zirconium chemical conversion treatment.
リン酸亜鉛化成処理では、リン酸亜鉛を含む化成処理剤が用いられる。リン酸亜鉛を含む化成処理剤は特に限定されず、従来公知のものが使用できる。好ましい化成処理剤は、亜鉛イオンを0.5g/L以上2g/L以下(より好ましくは0.7g/L以上1.2g/L以下)、リン酸イオンを5g/L以上30g/L以下(より好ましくは10g/L以上20g/L以下)、マンガンイオンを0.2g/L以上2g/L以下(より好ましくは0.3g/L以上1.2g/L以下)含む。 In the zinc phosphate chemical conversion treatment, a chemical conversion treatment agent containing zinc phosphate is used. The chemical conversion treatment agent containing zinc phosphate is not particularly limited, and conventionally known chemical conversion agents can be used. Preferred chemical treatment agents include zinc ions of 0.5 g / L or more and 2 g / L or less (more preferably 0.7 g / L or more and 1.2 g / L or less), and phosphate ions of 5 g / L or more and 30 g / L or less (more preferably 0.7 g / L or more and 1.2 g / L or less). More preferably, it contains 10 g / L or more and 20 g / L or less), and contains manganese ions of 0.2 g / L or more and 2 g / L or less (more preferably 0.3 g / L or more and 1.2 g / L or less).
リン酸亜鉛化成処理に先立って、金属材に対して表面調整処理を行ってもよい。これにより、金属材の表面にリン酸亜鉛皮膜の結晶が形成され易くなって、均一で緻密な化成被膜が得られ易くなる。表面処理剤は、例えば、分散するチタンコロイドを含む弱アルカリ溶液である。チタンコロイドが結晶の核となる。結晶は、チタンコロイドを起点として生成し、成長する。 Prior to the zinc phosphate chemical conversion treatment, a surface conditioning treatment may be performed on the metal material. As a result, crystals of the zinc phosphate film are easily formed on the surface of the metal material, and a uniform and dense chemical conversion film is easily obtained. The surface treatment agent is, for example, a weak alkaline solution containing a disperse titanium colloid. Titanium colloid becomes the core of the crystal. Crystals are formed from titanium colloid as a starting point and grow.
ジルコニウム化成処理では、ジルコニウムイオンを含む化成処理剤(ジルコニウム化成処理剤)が用いられる。ジルコニウム化成処理剤のジルコニウムイオンの濃度は、10ppm以上10,000ppm以下が好ましい。 In the zirconium chemical conversion treatment, a chemical conversion treatment agent containing zirconium ions (zirconium chemical conversion treatment agent) is used. The concentration of zirconium ions in the zirconium chemical conversion treatment agent is preferably 10 ppm or more and 10,000 ppm or less.
スケール除去および化成処理された金属材は、特に、乗用車、トラック、オートバイ、バス等の自動車車体およびその部品の製造に好適に用いられる。 The descaled and chemical-treated metal material is particularly preferably used in the manufacture of automobile bodies and parts thereof such as passenger cars, trucks, motorcycles and buses.
以下の実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。実施例中、「部」および「%」は、ことわりのない限り、質量基準による。 The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited thereto. In the examples, "parts" and "%" are based on mass unless otherwise specified.
[実施例1]
(a)スケール剤の調製
NTA(キレート剤)、アデカノールUA90N(ノニオン系界面活性剤、ADEKA社製、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル類)、クエン酸(有機酸)、酸性フッ化アンモニウム(フッ素化合物)およびKORANTIN PM(防錆剤、BASFジャパン社製)を、水に混合した。次いで、NaOH水溶液(40%)を用いてpHを6に調整し、スケール除去剤を得た。キレート剤の含有量は10,000ppm、界面活性剤の含有量は300ppm、有機酸の含有量は10,000ppm、フッ素化合物の含有量は5,000ppm、防錆剤の含有量は300ppmであった。
[Example 1]
(A) Preparation of scale agent NTA (chelating agent), Adecanol UA90N (nonionic surfactant, manufactured by ADEKA, polyoxyalkylene alkyl ethers), citric acid (organic acid), acidic ammonium fluoride (fluorine compound) and KORANTIN PM (rust preventive, manufactured by BASF Japan) was mixed with water. Then, the pH was adjusted to 6 with an aqueous NaOH solution (40%) to obtain a scale remover. The chelating agent content was 10,000 ppm, the surfactant content was 300 ppm, the organic acid content was 10,000 ppm, the fluorine compound content was 5,000 ppm, and the rust inhibitor content was 300 ppm. ..
(b)金属材の準備
2つの亜鉛メッキ鋼板を準備し、これらを溶接した。溶接ビード部付近に、スケールが生成していた。このスケールが生成した溶接物を、試験片とした。
(B) Preparation of metal material Two galvanized steel sheets were prepared and welded together. Scale was generated near the weld bead. The welded product produced by this scale was used as a test piece.
(c)スケール除去剤の接触
上記より得られたスケール除去剤を10Lの処理浴に入れて、温度を60℃に調整した。処理浴中に、上記試験片を10分間浸漬した。その後、試験片を取り出して十分に洗浄した。洗浄後、40℃で10分程度の乾燥を行った。
(C) Contact with scale remover The scale remover obtained above was placed in a 10 L treatment bath to adjust the temperature to 60 ° C. The test piece was immersed in the treatment bath for 10 minutes. Then, the test piece was taken out and washed thoroughly. After washing, it was dried at 40 ° C. for about 10 minutes.
(d)脱脂処理、表面調整および化成処理
処理(c)の後、pHを11に調製したサーフクリーナーEC90(日本ペイント・サーフケミカルズ社製)を用いて、試験片の脱脂処理を行った。処理温度は45℃、処理時間は120秒とした。脱脂処理後、試験片を水洗した。
続いて、pHを10に調製したサーフファイン7(日本ペイント・サーフケミカルズ社製)を用いて、試験片の表面調整を行った。処理温度は室温、処理時間は30秒とした。
最後に、サーフダインSD5300(リン酸亜鉛化成処理剤、日本ペイント・サーフケミカルズ社製)を用いて、試験片のリン酸亜鉛化成処理を行った。処理温度は35℃、処理時間は120秒とした。
(D) After degreasing treatment, surface adjustment and chemical conversion treatment (c), the test piece was degreased using a surf cleaner EC90 (manufactured by Nippon Paint Surf Chemicals Co., Ltd.) having a pH adjusted to 11. The treatment temperature was 45 ° C. and the treatment time was 120 seconds. After the degreasing treatment, the test piece was washed with water.
Subsequently, the surface of the test piece was adjusted using Surf Fine 7 (manufactured by Nippon Paint Surf Chemicals Co., Ltd.) whose pH was adjusted to 10. The treatment temperature was room temperature and the treatment time was 30 seconds.
Finally, a test piece was subjected to zinc phosphate chemical conversion treatment using Surfdyne SD5300 (zinc phosphate chemical conversion treatment agent, manufactured by Nippon Paint Surf Chemicals Co., Ltd.). The treatment temperature was 35 ° C. and the treatment time was 120 seconds.
[評価]
処理(c)または処理(d)後の試験片について、以下の評価を実施した。評価結果を表1に示す。
[evaluation]
The test pieces after the treatment (c) or the treatment (d) were evaluated as follows. The evaluation results are shown in Table 1.
(i)メッキ保持性
処理(c)前のメッキ厚(Mi)、および処理(c)後であって処理(d)前のメッキ厚(Mt)を、膜厚計(フィッシャー・インストルメンツ社製、DELTASCOPE MP30ES)により測定した。この測定値から、下記式に従ってメッキ残存率を算出した。
メッキ残存率(%)=100×処理後のメッキ厚(Mt)/処理前のメッキ厚(Mi)
(I) Plating retention The plating thickness (Mi) before the treatment (c) and the plating thickness (Mt) after the treatment (c) and before the treatment (d) are measured by a film thickness meter (Fisher Instruments). , DELTASCOPE MP30ES). From this measured value, the plating residual rate was calculated according to the following formula.
Plating residual rate (%) = 100 x plating thickness after treatment (Mt) / plating thickness before treatment (Mi)
メッキ残存率を、以下の基準に従って評価した。
最良:メッキ残存率が90%以上
良:メッキ残存率が70%以上90%未満
可:メッキ残存率が50%以上70%未満
不良:メッキ残存率が50%未満
The plating residual rate was evaluated according to the following criteria.
Best: Plating residual rate is 90% or more Good: Plating residual rate is 70% or more and less than 90% Possible: Plating residual rate is 50% or more and less than 70% Defective: Plating residual rate is less than 50%
(ii)スケール除去性
処理(c)前のスケール幅(bi)、および処理(c)後であって処理(d)前のスケール幅(bt)を、ノギスを用いて測定した。この測定値から、下記式に従ってスケール残存率を算出した。スケール幅は、溶接ビード部の周囲に生成したスケールの最も広い部分の幅である。
スケール残存率(%)=100×処理後のスケール幅(bt)/処理前のスケール幅(bi)
(Ii) Scale removability The scale width (bi) before the treatment (c) and the scale width (bt) after the treatment (c) and before the treatment (d) were measured using a caliper. From this measured value, the scale residual rate was calculated according to the following formula. The scale width is the width of the widest part of the scale generated around the weld bead portion.
Scale residual rate (%) = 100 × scale width after processing (bt) / scale width before processing (bi)
スケール残存率を、以下の基準に従って評価した。
最良:スケール残存率が30%未満
良:スケール残存率が30%以上40%未満
可:スケール残存率が40%以上50%未満
不良:スケール残存率が50%以上
The scale survival rate was evaluated according to the following criteria.
Best: Scale residual rate is less than 30% Good: Scale residual rate is 30% or more and less than 40% Possible: Scale residual rate is 40% or more and less than 50% Defective: Scale residual rate is 50% or more
図1Aは、実施例1で準備された試験片の溶接ビード部周辺を、拡大鏡を通して撮影した画像(倍率5倍)である。濃い黒の部分がスケールである。図1Bは、スケール除去剤で処理された後の図1Aに対応する部分を、拡大鏡を通して撮影した画像(倍率5倍)である。図1Bからわかるように、スケールの大半が除去されている。 FIG. 1A is an image (magnification 5 times) of the periphery of the weld bead portion of the test piece prepared in Example 1 taken through a magnifying glass. The dark black part is the scale. FIG. 1B is an image (magnification 5 times) of the portion corresponding to FIG. 1A after being treated with the scale remover, taken through a magnifying glass. As can be seen from FIG. 1B, most of the scale has been removed.
(iii)化成性
処理(d)後の溶接ビード部の周辺を、SEM(日本電子製、JSM6510A)を用いて観察した(倍率1,500倍)。観察視野内の溶接ビード周辺部の面積を100%として、そのうち化成被膜が形成されている部分の面積割合(化成率)を算出した。
(Iii) The periphery of the weld bead portion after the chemical conversion treatment (d) was observed using an SEM (JSM6510A manufactured by JEOL Ltd.) (magnification 1,500 times). The area ratio (chemical formation rate) of the portion where the chemical conversion film was formed was calculated with the area around the weld bead in the observation field as 100%.
化成率を、以下の基準に従って評価した。
最良:化成率が90%以上
良:化成率が70%以上90%未満
可:化成率が50%以上70%未満
不良:化成率が50%未満
The chemical conversion rate was evaluated according to the following criteria.
Best: Chemical rate is 90% or more Good: Chemical rate is 70% or more and less than 90% Possible: Chemical rate is 50% or more and less than 70% Bad: Chemical rate is less than 50%
図2は、実施例1で準備された試験片の、処理(d)後の溶接ビード部周辺のSEM画像(倍率1,500倍)である。図2からわかるように、溶接ビード部周辺全体に化成被膜が形成されている。 FIG. 2 is an SEM image (magnification of 1,500 times) around the weld bead portion after the treatment (d) of the test piece prepared in Example 1. As can be seen from FIG. 2, a chemical conversion film is formed around the entire weld bead portion.
[実施例2-3、比較例1-4]
キレート剤を表1に記載した通りに変更した以外は、実施例1と同様にしてスケール除去剤を調製し、処理(c)および処理(d)を行い、評価を行った。評価結果を表1に示す。
[Example 2-3, Comparative Example 1-4]
A scale remover was prepared in the same manner as in Example 1 except that the chelating agent was changed as shown in Table 1, and the treatment (c) and the treatment (d) were performed and evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.
[実施例4-8]
有機酸を表2に記載した通りに変更したこと以外は、実施例1と同様にしてスケール除去剤を調製し、処理(c)および処理(d)を行い、評価を行った。評価結果を表2に示す。
[Example 4-8]
A scale remover was prepared in the same manner as in Example 1 except that the organic acid was changed as shown in Table 2, and the treatment (c) and the treatment (d) were performed and evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.
[実施例9-13]
第1のキレート剤と第3のキレート剤(HEDP)とを、表3に記載した通りに配合したこと以外は、実施例1と同様にしてスケール除去剤を調製し、処理(c)および処理(d)を行い、評価を行った。評価結果を表3に示す。
[Example 9-13]
A scale remover was prepared in the same manner as in Example 1 except that the first chelating agent and the third chelating agent (HEDP) were blended as shown in Table 3, and the treatment (c) and treatment were performed. (D) was performed and evaluation was performed. The evaluation results are shown in Table 3.
本実施形態に係るスケール除去剤は、メッキ被膜を維持しながらスケールを除去できるため、メッキ被膜を有する金属材に好ましく適用される。 Since the scale remover according to the present embodiment can remove scale while maintaining the plating film, it is preferably applied to a metal material having a plating film.
Claims (14)
前記キレート剤は、アミノカルボン酸型キレート剤を含み、
前記アミノカルボン酸型キレート剤は、分子内に、窒素原子に結合する2以上のカルボキシアルキル基を有し、
前記カルボキシアルキル基は、直鎖のアルキレン基により構成されており、
前記カルボキシアルキル基の2以上は、カルボキシメチル基である、スケール除去剤。 Containing a chelating agent, an organic acid, a fluorine compound, and a surfactant,
The chelating agent contains an aminocarboxylic acid type chelating agent.
The aminocarboxylic acid type chelating agent has two or more carboxyalkyl groups bonded to a nitrogen atom in the molecule.
The carboxyalkyl group is composed of a linear alkylene group.
A scale remover in which two or more of the carboxyalkyl groups are carboxymethyl groups.
前記スケール除去剤は、キレート剤と、有機酸と、フッ素化合物と、界面活性剤と、を含み、
前記キレート剤は、アミノカルボン酸型キレート剤を含み、
前記アミノカルボン酸型キレート剤は、分子内に、窒素原子に結合する2以上のカルボキシアルキル基を有し、
前記カルボキシアルキル基は、直鎖のアルキレン基により構成されており、
前記カルボキシアルキル基の2以上は、カルボキシメチル基である、金属材の製造方法。 Equipped with a process to bring the scale remover into contact with the metal material,
The scale remover contains a chelating agent, an organic acid, a fluorine compound, and a surfactant.
The chelating agent contains an aminocarboxylic acid type chelating agent.
The aminocarboxylic acid type chelating agent has two or more carboxyalkyl groups bonded to a nitrogen atom in the molecule.
The carboxyalkyl group is composed of a linear alkylene group.
A method for producing a metal material, wherein two or more of the carboxyalkyl groups are carboxymethyl groups.
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