JP2022098240A - Shock absorbing sheet - Google Patents

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Abstract

To provide a shock absorbing sheet having excellent peeling resistance and bending resistance at a low temperature.SOLUTION: A shock absorbing sheet includes a silicone-containing layer containing a silicone resin and an adhesive layer that overlaps the silicone-containing layer. A thickness of the silicone-containing layer is 60% or more and 95% or less of a thickness of the shock absorbing sheet. A storage elastic modulus (G1) at -20°C and a storage elastic modulus (G2) at 25°C of the silicone-containing layer are both 1×104 Pa or more and 1×105 Pa or less. The adhesive layer contains a resin (A) having a peak temperature of tangent loss of 0°C or lower.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、衝撃吸収シートに関し、より詳しくは、シリコーン含有層と粘着層とを備える衝撃吸収シートに関する。 The present disclosure relates to a shock absorbing sheet, and more particularly to a shock absorbing sheet including a silicone-containing layer and an adhesive layer.

スマートフォン、タブレット型端末、ノートパソコン等の各種電子機器に用いられる表示装置においては、ディスプレイの背面側に、衝撃や振動を吸収するための衝撃吸収シートが設けられている。近年、これらの電子機器は小型化、薄型化が急速に進んでおり、これに対応して、衝撃吸収層を薄くしても優れた衝撃吸収性を発揮できる衝撃吸収シートが検討されている(特許文献1、特許文献2及び特許文献3参照)。 In display devices used in various electronic devices such as smartphones, tablet terminals, and notebook computers, a shock absorbing sheet for absorbing shock and vibration is provided on the back side of the display. In recent years, these electronic devices have been rapidly reduced in size and thickness, and in response to this, shock absorbing sheets that can exhibit excellent shock absorption even if the shock absorbing layer is thinned have been studied (in response to this). See Patent Document 1, Patent Document 2 and Patent Document 3).

特開2016-030394号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-03394 国際公開第2018/131619号International Publication No. 2018/131219 特開2012-102878号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-102878

最近では、フォルダブル端末や電子ペーパー等において、有機EL等の可撓性を有するディスプレイが用いられるようになってきている。このような可撓性ディスプレイを含む表示装置に用いられる衝撃吸収シートは、曲げられるたびに負荷がかかるため、界面剥離や構造変形等の不具合が起こることがある。この不具合は、特に0℃以下の低温環境下で顕著になるため、衝撃吸収シートは、低温下における耐剥離性及び耐屈曲性を共に向上させることが必要である。 Recently, flexible displays such as organic EL have come to be used in foldable terminals, electronic paper, and the like. Since the shock absorbing sheet used in the display device including such a flexible display is loaded each time it is bent, defects such as interface peeling and structural deformation may occur. Since this defect becomes particularly remarkable in a low temperature environment of 0 ° C. or lower, it is necessary for the shock absorbing sheet to improve both peeling resistance and bending resistance at low temperature.

本開示の課題は、低温下における耐剥離性及び耐屈曲性に共に優れる衝撃吸収シートを提供することにある。 An object of the present disclosure is to provide a shock absorbing sheet having excellent peeling resistance and bending resistance at low temperatures.

本開示の一態様に係る衝撃吸収シートは、シリコーン樹脂を含むシリコーン含有層と、前記シリコーン含有層に重なる粘着層とを備える。前記シリコーン含有層の厚みは、前記衝撃吸収シートの厚みの60%以上95%以下である。前記シリコーン含有層の-20℃における貯蔵弾性率(G1)及び25℃における貯蔵弾性率(G2)は、共に1×10Pa以上1×10Pa以下である。前記粘着層は、損失正接のピーク温度が0℃以下である樹脂(A)を含む。 The shock absorbing sheet according to one aspect of the present disclosure includes a silicone-containing layer containing a silicone resin and an adhesive layer overlapping the silicone-containing layer. The thickness of the silicone-containing layer is 60% or more and 95% or less of the thickness of the shock absorbing sheet. The storage elastic modulus (G1) at −20 ° C. and the storage elastic modulus (G2) at 25 ° C. of the silicone-containing layer are both 1 × 10 4 Pa or more and 1 × 10 5 Pa or less. The adhesive layer contains a resin (A) having a peak temperature of tangent loss of 0 ° C. or lower.

本開示によれば、低温下における耐剥離性及び耐屈曲性に共に優れる衝撃吸収シートを提供することができる。 According to the present disclosure, it is possible to provide a shock absorbing sheet having excellent peeling resistance and bending resistance at low temperatures.

図1は本開示の一実施形態に係る衝撃吸収シートの概略の断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a shock absorbing sheet according to an embodiment of the present disclosure. 図2は本開示の他の実施形態に係る衝撃吸収シートの概略の断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a shock absorbing sheet according to another embodiment of the present disclosure.

<衝撃吸収シート>
本実施形態に係る衝撃吸収シート(以下、衝撃吸収シート1ともいう)は、シリコーン樹脂を含むシリコーン含有層と、前記シリコーン含有層に重なる粘着層とを備える。シリコーン含有層の厚みは、衝撃吸収シート1の厚みの60%以上95%以下である。シリコーン含有層の-20℃における貯蔵弾性率(G1)及び25℃における貯蔵弾性率(G2)は、共に1×10Pa以上1×10Pa以下である。粘着層は、損失正接のピーク温度が0℃以下である樹脂(A)を含む。なお、「重なる」とは、平面視において、シリコーン含有層と粘着層とが重なることをいう。
<Shock absorption sheet>
The shock absorbing sheet according to the present embodiment (hereinafter, also referred to as shock absorbing sheet 1) includes a silicone-containing layer containing a silicone resin and an adhesive layer overlapping the silicone-containing layer. The thickness of the silicone-containing layer is 60% or more and 95% or less of the thickness of the shock absorbing sheet 1. The storage elastic modulus (G1) at −20 ° C. and the storage elastic modulus (G2) at 25 ° C. of the silicone-containing layer are both 1 × 10 4 Pa or more and 1 × 10 5 Pa or less. The adhesive layer contains a resin (A) having a peak temperature of tangent loss of 0 ° C. or lower. In addition, "overlapping" means that the silicone-containing layer and the adhesive layer overlap in a plan view.

衝撃吸収シート1は、G1及びG2が共に1×10Pa以上1×10Pa以下、かつ粘着層を構成する樹脂(A)の損失正接のピーク温度が0℃以下であることにより、低温下におけるシリコーン含有層と粘着層との間の粘着力が高くなり、耐剥離性に優れ、また、屈曲試験で評価される低温下の耐屈曲性も優れたものとなる。その理由は、以下のように推察することができる。シリコーン含有層のG1及びG2が共に前記特定範囲であり、かつ樹脂(A)の損失正接(tanδ)のピーク温度が前記特定温度以下であることで、衝撃吸収シート1は、低温下での柔軟性が適度になると考えられ、耐屈曲性を向上させることができる。また、低温下におけるシリコーン含有層と粘着層の界面の濡れ性を向上させることができると考えられ、層間の接着力が高くなり、低温下の耐剥離性が向上する。G1及びG2の少なくとも一方が1×10Pa未満若しくは1×10Pa超の場合、又は樹脂(A)の損失正接のピーク温度が0℃超の場合、低温下で層間の粘着力が小さくなり、耐剥離性が低下すると共に、低温又は常温における衝撃吸収シート1の柔軟性が適度でなくなり、耐屈曲性が低下する。また、衝撃吸収シート1の低温下の耐剥離性及び耐屈曲性を共に優れたものにするためには、これらに加えて、シリコーン含有層の厚みが、衝撃吸収シート1の厚みの60%以上90%以下であることが必要であることを見出した。この厚みが60%未満の場合、衝撃吸収シート1の柔軟性が適度でなくなり、低温下の耐屈曲性が低下する。また、この厚みが95%超の場合、粘着層の強度が弱くなり、シリコーン含有層と粘着層との間の低温下の耐剥離性が低下する。 The shock absorbing sheet 1 has a low temperature because both G1 and G2 are 1 × 10 4 Pa or more and 1 × 10 5 Pa or less, and the peak temperature of the loss tangent of the resin (A) constituting the adhesive layer is 0 ° C. or less. The adhesive strength between the silicone-containing layer and the adhesive layer underneath is increased, and the peeling resistance is excellent, and the bending resistance at low temperature evaluated in the bending test is also excellent. The reason can be inferred as follows. When both G1 and G2 of the silicone-containing layer are in the specific range and the peak temperature of the loss tangent (tan δ) of the resin (A) is equal to or lower than the specific temperature, the shock absorbing sheet 1 is flexible at a low temperature. It is considered that the property becomes appropriate, and the bending resistance can be improved. Further, it is considered that the wettability of the interface between the silicone-containing layer and the adhesive layer at low temperature can be improved, the adhesive strength between the layers is increased, and the peeling resistance at low temperature is improved. When at least one of G1 and G2 is less than 1 × 10 4 Pa or more than 1 × 10 5 Pa, or when the peak temperature of the loss tangent of the resin (A) is more than 0 ° C., the adhesive strength between the layers is small at low temperature. As a result, the peeling resistance is lowered, the flexibility of the shock absorbing sheet 1 at low temperature or normal temperature is not appropriate, and the bending resistance is lowered. Further, in order to make the shock absorbing sheet 1 excellent in both peeling resistance and bending resistance at low temperature, in addition to these, the thickness of the silicone-containing layer is 60% or more of the thickness of the shock absorbing sheet 1. We found that it was necessary to be 90% or less. If this thickness is less than 60%, the flexibility of the shock absorbing sheet 1 becomes unsuitable, and the bending resistance at low temperatures is lowered. Further, when this thickness exceeds 95%, the strength of the adhesive layer is weakened, and the peeling resistance between the silicone-containing layer and the adhesive layer at a low temperature is lowered.

図1に、本実施形態に係る衝撃吸収シートの一例を示す。図1の衝撃吸収シート1は、シリコーン含有層2と、シリコーン含有層2に直接重なる粘着層3とを備えている。 FIG. 1 shows an example of a shock absorbing sheet according to the present embodiment. The shock absorbing sheet 1 of FIG. 1 includes a silicone-containing layer 2 and an adhesive layer 3 that directly overlaps the silicone-containing layer 2.

[シリコーン含有層]
シリコーン含有層2は、シリコーン樹脂を含む。シリコーン含有層2は、シリコーン樹脂を主成分として含むことが好ましい。「主成分」とは、最も質量割合の大きい成分をいい、好ましくは50質量%以上、より好ましくは70質量%以上、さらに好ましくは90%以上含有する成分をいう。
[Silicone-containing layer]
The silicone-containing layer 2 contains a silicone resin. The silicone-containing layer 2 preferably contains a silicone resin as a main component. The "main component" refers to a component having the largest mass ratio, preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and further preferably 90% or more.

衝撃吸収シート1は、シリコーン含有層2を1層有しても、2層以上有してもよいが、通常1層である。シリコーン含有層2の形状は、例えばフィルム状、シート状、板状等である。 The shock absorbing sheet 1 may have one silicone-containing layer 2 or two or more layers, but is usually one layer. The shape of the silicone-containing layer 2 is, for example, a film shape, a sheet shape, a plate shape, or the like.

シリコーン含有層2の厚みは、衝撃吸収シート1の厚みの60%以上95%以下である。シリコーン含有層2の厚みは、63%以上であることが好ましく、66%以上であることがより好ましく、70%以上であることがさらに好ましく、73%以上であることが特に好ましい。シリコーン含有層2の厚みは、92%以下であることが好ましく、90%以下であることがより好ましく、87%以下であることがさらに好ましく、85%以下であることが特に好ましい。シリコーン含有層2の厚みを前記範囲とすることで、低温下における耐剥離性及び耐屈曲性をより向上させることができる。 The thickness of the silicone-containing layer 2 is 60% or more and 95% or less of the thickness of the shock absorbing sheet 1. The thickness of the silicone-containing layer 2 is preferably 63% or more, more preferably 66% or more, further preferably 70% or more, and particularly preferably 73% or more. The thickness of the silicone-containing layer 2 is preferably 92% or less, more preferably 90% or less, further preferably 87% or less, and particularly preferably 85% or less. By setting the thickness of the silicone-containing layer 2 within the above range, peeling resistance and bending resistance at low temperatures can be further improved.

シリコーン含有層2の厚みは、80μm以上であることが好ましい。この場合、衝撃吸収シート1の衝撃吸収率をより向上させることができる。この厚みは、100μm以上であることがより好ましく、150μm以上であることがさらに好ましく、200μm以上であることが特に好ましい。また、シリコーン含有層2の厚みは、700μm以下であることが好ましい。この場合、低温下における耐屈曲性をより向上させることができる。この厚みは、600μm以下であることがより好ましく、500μm以下であることがさらに好ましく、400μm以下であることが特に好ましい。 The thickness of the silicone-containing layer 2 is preferably 80 μm or more. In this case, the impact absorption rate of the impact absorption sheet 1 can be further improved. This thickness is more preferably 100 μm or more, further preferably 150 μm or more, and particularly preferably 200 μm or more. Further, the thickness of the silicone-containing layer 2 is preferably 700 μm or less. In this case, the bending resistance at low temperature can be further improved. This thickness is more preferably 600 μm or less, further preferably 500 μm or less, and particularly preferably 400 μm or less.

シリコーン含有層2の-20℃における貯蔵弾性率(G1)及び25℃における貯蔵弾性率(G2)は、共に1×10Pa以上1×10Pa以下である。G1及びG2の少なくとも一方は、1.5×10以上7×10以下であることが好ましく、1.8×10以上5×10以下であることがより好ましく、2×10以上3×10以下であることがさらに好ましく、2.2×10以上2.7×10以下であることが特に好ましい。また、G1及びG2が共に前記範囲であることが最も好ましい。G1及びG2を前記範囲とすることで、低温下における耐剥離性及び耐屈曲性をより向上させることができる。 The storage elastic modulus (G1) at −20 ° C. and the storage elastic modulus (G2) at 25 ° C. of the silicone-containing layer 2 are both 1 × 10 4 Pa or more and 1 × 10 5 Pa or less. At least one of G1 and G2 is preferably 1.5 × 10 4 or more and 7 × 10 4 or less, more preferably 1.8 × 10 4 or more and 5 × 10 4 or less, and 2 × 10 4 or more. It is more preferably 3 × 10 4 or less, and particularly preferably 2.2 × 10 4 or more and 2.7 × 10 4 or less. Further, it is most preferable that both G1 and G2 are in the above range. By setting G1 and G2 in the above range, peeling resistance and bending resistance at low temperatures can be further improved.

(シリコーン樹脂)
「シリコーン樹脂」とは、シロキサン結合からなるポリシロキサン鎖(-Si-O-Si-O-)を主骨格として含む化合物をいう。シリコーン樹脂としては、衝撃吸収性能の観点から、シリコーンゲルを含むことが好ましく、G1及びG2を前記範囲により調整しやすい観点から、付加反応型シリコーンゲルを含むことがより好ましい。付加反応型シリコーンゲルは、例えば後述するオルガノハイドロジェンポリシロキサンとアルケニルポリシロキサンとを原料とし、両者を触媒の存在下でハイドロシリル化反応(付加反応)させることにより得られる。オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、例えば下記式(1)で表される。
(Silicone resin)
The "silicone resin" refers to a compound containing a polysiloxane chain (-Si-O-Si-O-) composed of a siloxane bond as a main skeleton. The silicone resin preferably contains a silicone gel from the viewpoint of shock absorption performance, and more preferably contains an addition reaction type silicone gel from the viewpoint that G1 and G2 can be easily adjusted in the above range. The addition reaction type silicone gel is obtained, for example, by using organohydrogenpolysiloxane and alkenylpolysiloxane, which will be described later, as raw materials, and subjecting both to a hydrosilylation reaction (addition reaction) in the presence of a catalyst. The organohydrogenpolysiloxane is represented by, for example, the following formula (1).

Figure 2022098240000002
Figure 2022098240000002

式(1)中、Rは、同一又は異種の置換若しくは非置換の1価の炭化水素基を表す。R、R及びRは、R又は-Hを表し、R、R及びRの少なくとも2つは、-Hを表す。x及びyは、各単位の数を示し、それぞれ独立して、0以上の整数である。x+yは、5以上300以下の整数である。 In formula (1), R 1 represents the same or different substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group. R2 , R3 and R4 represent R1 or —H, and at least two of R2 , R3 and R4 represent —H. x and y indicate the number of each unit, and are independently integers of 0 or more. x + y is an integer of 5 or more and 300 or less.

xは、10以上30以下であることが好ましい。yは、1以上10以下であることが好ましい。x+yは、30以上200以下であることが好ましい。y/(x+y)は、0.1以下であることが好ましい。y/(x+y)が0.1を超えると、架橋点が多くなり、衝撃吸収性が低下する場合がある。 x is preferably 10 or more and 30 or less. y is preferably 1 or more and 10 or less. x + y is preferably 30 or more and 200 or less. y / (x + y) is preferably 0.1 or less. If y / (x + y) exceeds 0.1, the number of cross-linking points may increase and the impact absorption may decrease.

式(1)中の各単位の配置は、ランダムであってもブロックであってもよいが、ランダムが好ましい。 The arrangement of each unit in the equation (1) may be random or block, but random is preferable.

ケイ素原子に直接結合した水素原子(Si-H)は、ケイ素原子に直接又は間接に結合したアルケニル基と付加反応(ハイドロシリル化反応)を行うために必要であり、オルガノハイドロジェンポリシロキサン分子中に少なくとも2個有することが好ましい。 A hydrogen atom (Si—H) directly bonded to a silicon atom is required for an addition reaction (hydrosilylation reaction) with an alkenyl group directly or indirectly bonded to the silicon atom, and is contained in an organohydrogenpolysiloxane molecule. It is preferable to have at least two hydrogen atoms.

アルケニルポリシロキサンは、例えば下記式(2)で表される。 The alkenylpolysiloxane is represented by, for example, the following formula (2).

Figure 2022098240000003
Figure 2022098240000003

式(2)中、Rは、同一又は異種の置換若しくは非置換の1価の炭化水素基を表し、R、R及びRは、R又はアルケニル基を表し、R、R及びRの少なくとも2つは、アルケニル基を表す。s及びtは、各単位の数を示し、それぞれ独立して、0以上の整数である。s+tは、10以上600以下の整数である。 In formula (2), R 1 represents the same or different substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, R 5 , R 6 and R 7 represent R 1 or an alkenyl group, and R 5 , R. At least two of 6 and R 7 represent an alkenyl group. s and t indicate the number of each unit, and are independently integers of 0 or more. s + t is an integer of 10 or more and 600 or less.

sは、10以上30以下であることが好ましい。tは、1以上10以下であることが好ましい。t/(s+t)は0.1以下であることが好ましい。t/(s+t)が0.1を超えると、架橋点が多くなり、衝撃吸収性が低下する場合がある。 s is preferably 10 or more and 30 or less. t is preferably 1 or more and 10 or less. t / (s + t) is preferably 0.1 or less. If t / (s + t) exceeds 0.1, the number of cross-linking points may increase and the impact absorption may decrease.

ケイ素原子に直接又は間接に結合したアルケニル基(ビニル基、アリル基等)は、ケイ素原子に直接結合した水素原子(Si-H)と付加反応(ハイドロシリル化反応)を行うために必要であり、アルケニルポリシロキサン分子中に少なくとも2個有することが好ましい。 An alkenyl group (vinyl group, allyl group, etc.) directly or indirectly bonded to the silicon atom is necessary for carrying out an addition reaction (hydrosilylation reaction) with the hydrogen atom (Si—H) directly bonded to the silicon atom. , It is preferable to have at least two in the alkenylpolysiloxane molecule.

式(1)及び式(2)におけるRとしては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;フェニル基、トリル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;これらの基の水素原子の一部又は全部が塩素原子、フッ素原子等で置換されたハロゲン化炭化水素基などが挙げられる。 Examples of R 1 in the formula (1) and the formula (2) include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group; a cycloalkyl group such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group; a phenyl group and a trill group. Examples thereof include an aryl group; an aralkyl group such as a benzyl group and a phenethyl group; a halogenated hydrocarbon group in which a part or all of the hydrogen atom of these groups is substituted with a chlorine atom, a fluorine atom or the like.

ハイドロシリル化反応は、公知の技術を用いて行うことができる。ハイドロシリル化反応の触媒としては、例えば塩化白金酸、塩化白金酸とアルコールから得られる錯体、白金-オレフィン錯体、白金-ビニルシロキサン錯体、白金-リン錯体等が挙げられる。触媒の使用量は、アルケニルポリシロキサンに対して、白金原子として通常1ppm以上500ppm以下であり、3ppm以上200ppm以下であることが好ましい。 The hydrosilylation reaction can be carried out using known techniques. Examples of the catalyst for the hydrosilylation reaction include platinum chloride acid, a complex obtained from platinum chloride acid and alcohol, a platinum-olefin complex, a platinum-vinylsiloxane complex, and a platinum-phosphorus complex. The amount of the catalyst used is usually 1 ppm or more and 500 ppm or less, and preferably 3 ppm or more and 200 ppm or less as a platinum atom with respect to the alkenylpolysiloxane.

シリコーン含有層2は、シリコーン樹脂以外に、本開示の効果を損なわない範囲において、シリコーン樹脂以外の他の樹脂、顔料、放熱微粒子、難燃剤、熱安定剤等の成分を含んでいてもよい。 In addition to the silicone resin, the silicone-containing layer 2 may contain components other than the silicone resin, such as resins, pigments, heat-dissipating fine particles, flame-retardant agents, and heat stabilizers, as long as the effects of the present disclosure are not impaired.

シリコーン含有層2の形成方法は、特に限定されないが、例えばシリコーン樹脂の前駆体を含む組成物を押出成形法等の成形方法で成形した後、ハイドロシリル化反応等の硬化反応を行ってシリコーン樹脂を形成する方法などが挙げられる。 The method for forming the silicone-containing layer 2 is not particularly limited, but for example, a composition containing a precursor of a silicone resin is molded by a molding method such as an extrusion molding method, and then a curing reaction such as a hydrosilylation reaction is performed to carry out a curing reaction such as a hydroxysilylation reaction to carry out a silicone resin. The method of forming the above is mentioned.

シリコーン含有層2の-20℃におけるポリエチレンテレフタラートフィルムに対する粘着力は、5N/25mm以上であることが好ましい。この場合、低温下における耐剥離性をより向上させることができる。この粘着力は、7N/25mm以上であることがより好ましく、10N/25mm以上であることがさらに好ましい。この粘着力の上限値は特に限定されないが、例えば30N/25mmである。 The adhesive strength of the silicone-containing layer 2 to the polyethylene terephthalate film at −20 ° C. is preferably 5 N / 25 mm or more. In this case, the peel resistance at low temperature can be further improved. This adhesive strength is more preferably 7 N / 25 mm or more, and further preferably 10 N / 25 mm or more. The upper limit of this adhesive strength is not particularly limited, but is, for example, 30 N / 25 mm.

[粘着層]
粘着層3は、シリコーン含有層2に重ねて配置される。粘着層3は、損失正接のピーク温度が0℃以下である樹脂(A)を含んでいる。衝撃吸収シート1は、粘着層3を1層備えてもよく、2層備えてもよく、3層以上備えてもよい。
[Adhesive layer]
The adhesive layer 3 is arranged so as to be overlapped with the silicone-containing layer 2. The adhesive layer 3 contains a resin (A) having a peak temperature of tangent loss of 0 ° C. or lower. The shock absorbing sheet 1 may be provided with one adhesive layer 3, two layers, or three or more layers.

粘着層3の形状は、例えばフィルム状、シート状、板状等である。 The shape of the adhesive layer 3 is, for example, a film shape, a sheet shape, a plate shape, or the like.

粘着層3の厚みは、5μm以上であることが好ましい。この場合、低温下の耐剥離性をより向上させることができる。この厚みは、10μm以上であることがより好ましく、20μm以上であることがさらに好ましい。また、この厚みは、100μm以下であることが好ましい。この場合、低温下の耐屈曲性をより向上させることができる。この厚みは、90μm以下であることがより好ましく、80μm以下であることがさらに好ましい。 The thickness of the adhesive layer 3 is preferably 5 μm or more. In this case, the peel resistance at low temperature can be further improved. This thickness is more preferably 10 μm or more, and further preferably 20 μm or more. Further, this thickness is preferably 100 μm or less. In this case, the bending resistance at low temperature can be further improved. This thickness is more preferably 90 μm or less, and further preferably 80 μm or less.

(樹脂(A))
樹脂(A)は、損失正接のピーク温度が0℃以下である。このピーク温度は、-5℃以下であることが好ましく、-10℃以下であることがより好ましく、-15℃以下であることがさらに好ましい。この場合、低温下における耐剥離性及び耐屈曲性をより向上させることができる。損失正接のピーク温度の下限値は特に限定されないが、例えば-50℃である。
(Resin (A))
The resin (A) has a peak temperature of tangent loss of 0 ° C. or lower. The peak temperature is preferably −5 ° C. or lower, more preferably −10 ° C. or lower, and even more preferably −15 ° C. or lower. In this case, peeling resistance and bending resistance at low temperatures can be further improved. The lower limit of the peak temperature of the tangent loss is not particularly limited, but is, for example, −50 ° C.

樹脂(A)は、損失正接のピーク温度が前記範囲である樹脂であれば、特に限定されない。樹脂(A)としては、例えば(メタ)アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリビニル樹脂(ポリビニルアルコール、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体等)などが挙げられる。(メタ)アクリル樹脂は、アクリル樹脂及びメタクリル樹脂の両方を含み、(メタ)アクリル酸エステルに由来する構造単位を含む。 The resin (A) is not particularly limited as long as it is a resin in which the peak temperature of the tangent loss is in the above range. Examples of the resin (A) include (meth) acrylic resin, polyester resin, urethane resin, polyvinyl resin (polyvinyl alcohol, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, etc.) and the like. The (meth) acrylic resin comprises both acrylic and methacrylic resins and contains structural units derived from (meth) acrylic acid esters.

樹脂(A)は、低温下の耐剥離性をより向上させる観点から、(メタ)アクリル樹脂を含むことが好ましい。 The resin (A) preferably contains a (meth) acrylic resin from the viewpoint of further improving the peeling resistance at low temperatures.

(メタ)アクリル樹脂を与える(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば置換若しくは非置換の1価の炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルなどが挙げられる。 Examples of the (meth) acrylic acid ester that gives the (meth) acrylic resin include a (meth) acrylic acid ester having a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group.

1価の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、2-エチルヘキシル基等の炭素数1以上20以下のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数3以上20以下のシクロアルキル基;フェニル基、トリル基等の炭素数6以上20以下のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等の炭素数7以上20以下のアラルキル基などが挙げられる。 Examples of the monovalent hydrocarbon group include an alkyl group having 1 or more and 20 or less carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group and a 2-ethylhexyl group; and a cyclopentyl group and a cyclohexyl group having 3 or more and 20 carbon atoms. Examples thereof include the following cycloalkyl groups; aryl groups having 6 or more and 20 or less carbon atoms such as phenyl groups and trill groups; and aralkyl groups having 7 or more and 20 or less carbon atoms such as benzyl groups and phenethyl groups.

1価の炭化水素基の炭素数は、2以上であることが好ましく、3以上であることがより好ましく、4以上であることがさらに好ましく、5以上であることが特に好ましい。この炭素数は、15以下であることが好ましく、12以下であることがより好ましく、9以下であることがさらに好ましく、8以下であることが特に好ましい。 The number of carbon atoms of the monovalent hydrocarbon group is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, further preferably 4 or more, and particularly preferably 5 or more. The carbon number is preferably 15 or less, more preferably 12 or less, further preferably 9 or less, and particularly preferably 8 or less.

炭化水素基の置換基としては、例えば極性基等が挙げられる。「極性基」とは、少なくとも1個のヘテロ原子を含む基をいう。ヘテロ原子としては、例えば酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子、ハロゲン原子等が挙げられる。極性基としては、例えばカルボキシ基、ヒドロキシ基、酸素原子(-O-、エポキシ基)、アルコキシ基、アルコキシアルキルアルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基、スルファニル基、アルキルスルファニル基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子などが挙げられる。 Examples of the substituent of the hydrocarbon group include a polar group and the like. "Polar group" means a group containing at least one heteroatom. Examples of the hetero atom include an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a phosphorus atom, a halogen atom and the like. Examples of the polar group include a carboxy group, a hydroxy group, an oxygen atom (—O—, an epoxy group), an alkoxy group, an alkoxyalkylalkoxy group, an amino group, a substituted amino group, a sulfanyl group, an alkylsulfanyl group; a fluorine atom and a chlorine atom. , Bromine atom, halogen atom such as iodine atom and the like.

(メタ)アクリル酸エステルは、非置換の炭化水素基を含むことが好ましく、非置換のアルキル基を含むことがより好ましく、非置換の炭素数4以上9以下のアルキル基を含むことがさらに好ましい。 The (meth) acrylic acid ester preferably contains an unsubstituted hydrocarbon group, more preferably contains an unsubstituted alkyl group, and further preferably contains an unsubstituted alkyl group having 4 or more and 9 or less carbon atoms. ..

非置換の炭素数4以上9以下のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸sec-ブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル等の(メタ)アクリル酸ブチルエステル;(メタ)アクリル酸ペンチルエステル、(メタ)アクリル酸ヘキシルエステル、(メタ)アクリル酸へプチルエステル;(メタ)アクリル酸n-オクチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル等の(メタ)アクリル酸オクチルエステル;(メタ)アクリル酸ノニルエステルなどが挙げられる。これらの中で、アクリル酸エステルが好ましい。 Examples of the (meth) acrylic acid ester having an unsubstituted alkyl group having 4 or more and 9 or less carbon atoms include n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, and sec-butyl (meth) acrylate. (Meta) acrylic acid butyl ester such as t-butyl acrylate; (meth) acrylic acid pentyl ester, (meth) acrylic acid hexyl ester, (meth) acrylic acid heptyl ester; (meth) acrylic acid n-octyl , (Meta) acrylic acid octyl ester such as 2-ethylhexyl (meth) acrylic acid; (meth) acrylic acid nonyl ester and the like. Of these, acrylic acid esters are preferred.

樹脂(A)が非置換の炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する構造単位を有する場合、非置換の炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する構造単位の割合は、樹脂(A)を構成する全構造単位に対して、50質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましく、97質量%以上であることがさらに好ましく、98質量%以上であることが特に好ましい。この割合は、99.9質量%以下であることが好ましく、99.5質量%以下であることがより好ましく、99.3質量%以下であることがさらに好ましく、99.0質量%以下であることが特に好ましい。 When the resin (A) has a structural unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an unsubstituted hydrocarbon group, the proportion of the structural unit derived from the (meth) acrylic acid ester having an unsubstituted hydrocarbon group is , 50% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, further preferably 97% by mass or more, and 98% by mass, based on all the structural units constituting the resin (A). The above is particularly preferable. This ratio is preferably 99.9% by mass or less, more preferably 99.5% by mass or less, further preferably 99.3% by mass or less, and 99.0% by mass or less. Is particularly preferred.

樹脂(A)は、非置換の炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する構造単位を有している場合、極性基を含む構造単位をさらに有していることが好ましい。この場合、損失正接のピーク温度をより適度に調整することができる。極性基を含む構造単位としては、例えば(メタ)アクリル酸に由来する構造単位、極性基が結合している炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する構造単位などが挙げられる。 When the resin (A) has a structural unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an unsubstituted hydrocarbon group, it is preferable that the resin (A) further has a structural unit containing a polar group. In this case, the peak temperature of the loss tangent can be adjusted more appropriately. Examples of the structural unit containing a polar group include a structural unit derived from (meth) acrylic acid, a structural unit derived from a (meth) acrylic acid ester having a hydrocarbon group to which a polar group is bonded, and the like.

極性基が結合している炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば(メタ)アクリル酸ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシペンチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシフェニル、(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコールエステル等のヒドロキシ基含有(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸カルボキシペンチル、(メタ)アクリル酸カルボキシオクチル、(メタ)アクリル酸カルボキシシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸カルボキシフェニル等のカルボキシ基含有(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸エトキシブチル、(メタ)アクリル酸メトキシヘキシル、(メタ)アクリル酸メトキシシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸エトキシフェニル等のアルコキシ基含有(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸エポキシエチル、(メタ)アクリル酸エポキシブチル、(メタ)アクリル酸エポキシシクロヘキシル等のエポキシ基含有(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸アミノブチル、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノブチル、(メタ)アクリル酸アミノシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸メチルアミノフェニル等のアミノ基含有(メタ)アクリル酸エステルなどが挙げられる。 Examples of the (meth) acrylic acid ester having a hydrocarbon group to which a polar group is bonded include (meth) hydroxybutyl acrylate, (meth) hydroxypentyl acrylate, (meth) hydroxyhexyl acrylate, and (meth) acrylic. Hydroxy group-containing (meth) acrylic acid esters such as hydroxyoctyl acid, hydroxycyclohexyl (meth) acrylic acid, hydroxyphenyl (meth) acrylic acid, polyethylene glycol ester (meth) acrylic acid; carboxypentyl (meth) acrylic acid, (meth). ) Carboxyl carboxy octyl acrylate, (meth) carboxycyclohexyl acrylate, carboxy group-containing (meth) acrylic acid esters such as (meth) carboxyphenyl acrylate; ethoxybutyl (meth) acrylate, methoxyhexyl (meth) acrylate, ( (Meta) Acrylic acid ester containing an alkoxy group such as methoxycyclohexyl acrylate and ethoxyphenyl (meth) acrylate; (meth) epoxy ethyl acrylate, epoxy butyl (meth) acrylate, epoxy cyclohexyl (meth) acrylate and the like. Epoxy group-containing (meth) acrylic acid ester; containing amino groups such as (meth) aminobutyl acrylate, (meth) dimethylaminobutyl acrylate, (meth) aminocyclohexyl acrylate, and (meth) methylaminophenyl acrylate. Meta) Acrylic acid ester and the like can be mentioned.

極性基を含む構造単位は、(メタ)アクリル酸に由来する構造単位を含むことが好ましく、アクリル酸に由来する構造単位を含むことがより好ましい。 The structural unit containing a polar group preferably contains a structural unit derived from (meth) acrylic acid, and more preferably contains a structural unit derived from acrylic acid.

樹脂(A)において、極性基を含む構造単位の割合は、樹脂(A)を構成する全構造単位に対して、0.1質量%以上であることが好ましい。この場合、粘着層3とシリコーン含有層2との間の粘着力をより大きくすることができ、その結果、低温下の耐剥離性及び耐屈曲性をより向上させることができる。この割合は、0.5質量%以上であることがより好ましく、0.7質量%以上であることがさらに好ましく、1.0質量%以上であることが特に好ましい。この割合は、10質量%以下であることが好ましく、3質量%以下であることがより好ましく、2.5質量%以下であることがさらに好ましく、2質量%以下であることが特に好ましい。 In the resin (A), the ratio of the structural units containing the polar group is preferably 0.1% by mass or more with respect to all the structural units constituting the resin (A). In this case, the adhesive force between the adhesive layer 3 and the silicone-containing layer 2 can be further increased, and as a result, the peeling resistance and bending resistance at low temperatures can be further improved. This ratio is more preferably 0.5% by mass or more, further preferably 0.7% by mass or more, and particularly preferably 1.0% by mass or more. This ratio is preferably 10% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, further preferably 2.5% by mass or less, and particularly preferably 2% by mass or less.

樹脂(A)は、非置換の炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する構造単位と、極性基を含む構造単位とを有していることが好ましく、炭素数4以上9以下のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する構造単位と、(メタ)アクリル酸に由来する構造単位に由来する構造単位とを有していることがより好ましく、炭素数4以上9以下のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する構造単位を97質量%以上99.9質量%以下含み、かつ(メタ)アクリル酸に由来する構造単位を0.1質量%以上3質量%以下含むことがさらに好ましい。 The resin (A) preferably has a structural unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an unsubstituted hydrocarbon group and a structural unit containing a polar group, and has 4 or more and 9 or less carbon atoms. It is more preferable to have a structural unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alkyl group and a structural unit derived from a structural unit derived from (meth) acrylic acid, and the number of carbon atoms is 4 or more and 9 or less. It contains 97% by mass or more and 99.9% by mass or less of structural units derived from (meth) acrylic acid ester having an alkyl group, and 0.1% by mass or more and 3% by mass or less of structural units derived from (meth) acrylic acid. It is more preferable to include it.

粘着層3は、例えば樹脂(A)を含有する粘着剤などを用いて形成することができる。粘着層3の形成方法は、特に限定されないが、例えばシリコーン含有層2の面に樹脂(A)を含有する粘着剤を塗布し乾燥させて形成する方法、シリコーン含有層2を構成する材料と、樹脂(A)を含有する粘着剤とを共押出等することにより形成する方法などが挙げられる。 The pressure-sensitive adhesive layer 3 can be formed by using, for example, a pressure-sensitive adhesive containing the resin (A). The method for forming the adhesive layer 3 is not particularly limited, and for example, a method of applying a pressure-sensitive adhesive containing a resin (A) to the surface of the silicone-containing layer 2 and drying the adhesive layer 3 to form the adhesive layer 3 and a material constituting the silicone-containing layer 2. Examples thereof include a method of forming by coextruding with a pressure-sensitive adhesive containing the resin (A).

-20℃におけるシリコーン含有層2と粘着層3との間の粘着力は、3N/25mm以上であることが好ましい。この場合、低温下の耐剥離性及び耐屈曲性をより向上させることができる。この粘着力は、6N/25mm以上であることがより好ましく、8N/25mm以上であることがさらに好ましい。 The adhesive strength between the silicone-containing layer 2 and the adhesive layer 3 at −20 ° C. is preferably 3N / 25 mm or more. In this case, the peel resistance and bending resistance at low temperature can be further improved. This adhesive strength is more preferably 6 N / 25 mm or more, and further preferably 8 N / 25 mm or more.

25℃における粘着層3のSUSに対する粘着力は、10N/25mm以上であることが好ましく、13N/25mm以上であることがより好ましく、16N/25mm以上であることがさらに好ましい。 The adhesive strength of the adhesive layer 3 to SUS at 25 ° C. is preferably 10 N / 25 mm or more, more preferably 13 N / 25 mm or more, and further preferably 16 N / 25 mm or more.

[他の層]
衝撃吸収シート1は、シリコーン含有層2及び粘着層3以外に、他の層を備えてもよい。他の層の形状は、例えばフィルム状、シート状、板状等である。
[Other layers]
The shock absorbing sheet 1 may include other layers in addition to the silicone-containing layer 2 and the adhesive layer 3. The shape of the other layer is, for example, a film shape, a sheet shape, a plate shape, or the like.

他の層としては、例えば熱拡散性を有する熱拡散層、電磁波遮蔽性を有するシールド層、セパレーター等の保護層などが挙げられる。 Examples of the other layer include a heat-diffusing layer having a heat-diffusing property, a shield layer having an electromagnetic wave shielding property, a protective layer such as a separator, and the like.

[層構成]
本実施形態に係る衝撃吸収シート1の層構成としては、例えば下記(a)~(p)等が挙げられる。以下において、A/B/Cの表記は、例えばディスプレイの背面側から、A、B、Cの順に積層していることを示す。
(a)粘着層/シリコーン含有層
(b)粘着層/シリコーン含有層/粘着層
(c)粘着層/シリコーン含有層/熱拡散層
(d)粘着層/シリコーン含有層/熱拡散層/粘着層
(e)粘着層/シリコーン含有層/熱拡散層/粘着層/シールド層
(f)粘着層/シリコーン含有層/熱拡散層/粘着層/シールド層/粘着層
(g)粘着層/シリコーン含有層/粘着層/熱拡散層/粘着層/シールド層
(h)粘着層/シリコーン含有層/粘着層/熱拡散層/粘着層/シールド層/粘着層
(i)セパレーター/粘着層/シリコーン含有層
(j)セパレーター/粘着層/シリコーン含有層/粘着層/セパレーター
(k)セパレーター/粘着層/シリコーン含有層/熱拡散層
(l)セパレーター/粘着層/シリコーン含有層/熱拡散層/粘着層/セパレーター
(m)セパレーター/粘着層/シリコーン含有層/熱拡散層/粘着層/シールド層
(n)セパレーター/粘着層/シリコーン含有層/熱拡散層/粘着層/シールド層/粘着層/セパレーター
(o)セパレーター/粘着層/シリコーン含有層/粘着層/熱拡散層/粘着層/シールド層
(p)セパレーター/粘着層/シリコーン含有層/粘着層/熱拡散層/粘着層/シールド層/粘着層/セパレーター
[Layer structure]
Examples of the layer structure of the shock absorbing sheet 1 according to the present embodiment include the following (a) to (p). In the following, the notation of A / B / C indicates that, for example, A, B, and C are stacked in this order from the back side of the display.
(A) Adhesive layer / Silicone-containing layer (b) Adhesive layer / Silicone-containing layer / Adhesive layer (c) Adhesive layer / Silicone-containing layer / Heat diffusion layer (d) Adhesive layer / Silicone-containing layer / Heat diffusion layer / Adhesive layer (E) Adhesive layer / Silicone-containing layer / Heat diffusion layer / Adhesive layer / Shield layer (f) Adhesive layer / Silicone-containing layer / Heat diffusion layer / Adhesive layer / Shield layer / Adhesive layer (g) Adhesive layer / Silicone-containing layer / Adhesive layer / Heat diffusion layer / Adhesive layer / Shield layer (h) Adhesive layer / Silicone-containing layer / Adhesive layer / Heat diffusion layer / Adhesive layer / Shield layer / Adhesive layer (i) Separator / Adhesive layer / Silicone-containing layer ( j) Separator / Adhesive layer / Silicone-containing layer / Adhesive layer / Separator (k) Separator / Adhesive layer / Silicone-containing layer / Heat diffusion layer (l) Separator / Adhesive layer / Silicone-containing layer / Heat diffusion layer / Adhesive layer / Separator (M) Separator / Adhesive layer / Silicone-containing layer / Heat diffusion layer / Adhesive layer / Shield layer (n) Separator / Adhesive layer / Silicone-containing layer / Heat diffusion layer / Adhesive layer / Shield layer / Adhesive layer / Separator (o) Separator / Adhesive layer / Silicone-containing layer / Adhesive layer / Heat diffusion layer / Adhesive layer / Shield layer (p) Separator / Adhesive layer / Silicone-containing layer / Adhesive layer / Heat diffusion layer / Adhesive layer / Shield layer / Adhesive layer / Separator

図2は、前記(j)の層構成を有する衝撃吸収シートを示す。図2の衝撃吸収シート1は、シリコーン含有層2と、シリコーン含有層2の両面に直接積層される2つの粘着層3,3と、これらの粘着層3,3に直接積層される2つのセパレーター4,4とを備えている。 FIG. 2 shows a shock absorbing sheet having the layer structure of (j). The shock absorbing sheet 1 of FIG. 2 has a silicone-containing layer 2, two adhesive layers 3 and 3 directly laminated on both surfaces of the silicone-containing layer 2, and two separators directly laminated on these adhesive layers 3 and 3. It has 4 and 4.

衝撃吸収シート1におけるシリコーン含有層2の厚み及び粘着層3の厚みの総計は、100μm以上であることが好ましい。この場合、衝撃吸収シート1の衝撃吸収率をより向上させることができる。この厚みは、200μm以上であることがより好ましく、300μm以上であることがさらに好ましい。また、この厚みの総計は、1000μm以下であることが好ましい。この場合、低温下の耐屈曲性をより向上させることができる。この厚みは、900μm以下であることがより好ましく、800μm以下であることがさらに好ましい。 The total thickness of the silicone-containing layer 2 and the adhesive layer 3 in the shock absorbing sheet 1 is preferably 100 μm or more. In this case, the impact absorption rate of the impact absorption sheet 1 can be further improved. This thickness is more preferably 200 μm or more, and further preferably 300 μm or more. The total thickness is preferably 1000 μm or less. In this case, the bending resistance at low temperature can be further improved. This thickness is more preferably 900 μm or less, and further preferably 800 μm or less.

衝撃吸収シート1の厚みは、100μm以上であることが好ましい。この場合、衝撃吸収シート1の強度をより向上させることができる。この厚みは、200μm以上であることがより好ましく、300μm以上であることがさらに好ましい。衝撃吸収シート1の厚みは、1000μm以下であることが好ましい。この場合、ディスプレイを含む表示装置の薄型化をより図ることができる。この厚みは、900μm以下であることがより好ましく、800μm以下であることがさらに好ましい。 The thickness of the shock absorbing sheet 1 is preferably 100 μm or more. In this case, the strength of the shock absorbing sheet 1 can be further improved. This thickness is more preferably 200 μm or more, and further preferably 300 μm or more. The thickness of the shock absorbing sheet 1 is preferably 1000 μm or less. In this case, it is possible to further reduce the thickness of the display device including the display. This thickness is more preferably 900 μm or less, and further preferably 800 μm or less.

衝撃吸収シート1の衝撃吸収率は、10%以上であることが好ましく、20%以上であることがより好ましく、30%以上であることがさらに好ましく、50%以上であることが特に好ましい。この衝撃吸収率の上限値は、100%であってもよい。 The shock absorption rate of the shock absorbing sheet 1 is preferably 10% or more, more preferably 20% or more, further preferably 30% or more, and particularly preferably 50% or more. The upper limit of this shock absorption rate may be 100%.

衝撃吸収シート1の衝撃吸収率は、例えばJIS-C60068-2-27に準拠して、衝撃加速度を測定し、この衝撃加速度から算出される値である。衝撃吸収率の測定方法は、後掲の実施例の欄で説明する。 The impact absorption rate of the impact absorption sheet 1 is a value calculated from the impact acceleration measured by measuring the impact acceleration in accordance with, for example, JIS-C6000068-2-27. The method for measuring the shock absorption rate will be described in the column of Examples described later.

本実施形態に係る衝撃吸収シート1は、可撓性ディスプレイ用に好適に用いることができる。衝撃吸収シート1は、有機EL等の可撓性ディスプレイの背面側に配置して用いられることが好ましく、可撓性ディスプレイの背面に直接積層して用いられることがより好ましい。本実施形態に係る衝撃吸収シート1を、可撓性ディスプレイを含む表示装置において用いることにより、低温下において使用しても、衝撃吸収シート1における界面剥離や屈曲による破損の発生を抑制することができ、可撓性ディスプレイを衝撃や振動から保護することができる。 The shock absorbing sheet 1 according to the present embodiment can be suitably used for a flexible display. The shock absorbing sheet 1 is preferably used by being arranged on the back surface side of a flexible display such as an organic EL, and more preferably used by being directly laminated on the back surface of the flexible display. By using the shock absorbing sheet 1 according to the present embodiment in a display device including a flexible display, it is possible to suppress the occurrence of breakage due to interface peeling or bending in the shock absorbing sheet 1 even when used at a low temperature. It can protect the flexible display from shocks and vibrations.

以下、本開示を実施例によってさらに詳しく説明するが、本開示はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。 Hereinafter, the present disclosure will be described in more detail by way of examples, but the present disclosure is not limited to these examples.

1.衝撃吸収シートの作製
-シリコーン含有層及び粘着層の材料
(a)シリコーン含有層を与えるシリコーン樹脂として、2液付加反応型シリコーンゲル(信越化学工業社製、品番:X32-3443、主剤(A)と硬化剤(B)とを有する)を用いた。比較例2におけるシリコーン含有層を与えるシリコーン樹脂として、付加反応型シリコーンポリマー(信越化学工業社製、品番:X-40-3240)を用いた。
(b)粘着層を与える粘着剤として、アクリル系粘着剤(日本触媒社製、品番:HS51E、アクリル酸2-エチルヘキシル、アクリル酸n-ブチル及びアクリル酸を含むモノマー成分の共重合体を含有する)を用いた。
-衝撃吸収シートの作製
(i)2液付加反応型シリコーンゲルを、押出成形によりシート状に成形した後、乾燥及び硬化させることにより、表1に示す厚みのシリコーン含有層を形成した。
(ii)次に、このシリコーン含有層の一方の面に、アクリル系粘着剤を塗布し乾燥させることにより、表1に示す厚みの粘着層(1)を形成した。次いで、シリコーン含有層の粘着層(1)とは反対側の面に、前記同様に、アクリル系粘着剤を塗布し乾燥させることにより、表1に示す厚みの粘着層(2)を形成した。このようにして、衝撃吸収シートを作製した。
1. 1. Preparation of Shock Absorption Sheet-Materials for Silicone-Containing Layer and Adhesive Layer (a) As a silicone resin for providing the silicone-containing layer, a two-component addition reaction type silicone gel (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product number: X32-3443, main agent (A)) And the curing agent (B)) were used. An addition reaction type silicone polymer (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product number: X-40-3240) was used as the silicone resin for providing the silicone-containing layer in Comparative Example 2.
(B) As the pressure-sensitive adhesive for providing the pressure-sensitive adhesive layer, a copolymer of an acrylic pressure-sensitive adhesive (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., product number: HS51E, 2-ethylhexyl acrylate, n-butyl acrylate and a monomer component containing acrylic acid is contained. ) Was used.
-Preparation of shock absorbing sheet (i) The two-component addition reaction type silicone gel was formed into a sheet by extrusion molding, and then dried and cured to form a silicone-containing layer having the thickness shown in Table 1.
(Ii) Next, an acrylic pressure-sensitive adhesive was applied to one surface of the silicone-containing layer and dried to form a pressure-sensitive adhesive layer (1) having the thickness shown in Table 1. Next, an acrylic pressure-sensitive adhesive was applied to the surface of the silicone-containing layer opposite to the pressure-sensitive adhesive layer (1) and dried to form the pressure-sensitive adhesive layer (2) having the thickness shown in Table 1. In this way, a shock absorbing sheet was produced.

2.評価
[衝撃吸収率]
衝撃吸収シートを、厚みが1.0mmのポリカーボネートの板(PC板)に貼り合わせ、さらにその上に直径20mm、厚みが4mmの金属円柱を貼り合わせて、試験片を作製した。この試験片について、振子式衝撃試験装置(神栄テストマシナリー社製、型番PST-300)を用い、JIS-C60068-2-27に準拠して衝撃加速度を測定した。下記式により、衝撃吸収率(%)を算出した。
衝撃吸収率(%)=(1-(試験片の衝撃加速度))×100/(PC板単体の衝撃加速度)
2. 2. Evaluation [shock absorption rate]
A shock absorbing sheet was attached to a polycarbonate plate (PC plate) having a thickness of 1.0 mm, and a metal cylinder having a diameter of 20 mm and a thickness of 4 mm was attached thereto to prepare a test piece. The impact acceleration of this test piece was measured according to JIS-C6000068-2-27 using a pendulum type impact test device (manufactured by Shinyei Testing Machinery Co., Ltd., model number PST-300). The shock absorption rate (%) was calculated by the following formula.
Impact absorption rate (%) = (1- (impact acceleration of test piece)) x 100 / (impact acceleration of PC plate alone)

[シリコーン含有層・粘着層間の粘着力(-20℃)]
-20℃でのシリコーン含有層・粘着層間の粘着力は、衝撃吸収シートから、シリコーン含有層と粘着層との積層体を得、幅25mm、長さ125mmの寸法に切断し、シリコーン含有層は両面テープを用いてSUS板に貼合し、粘着層には幅30mm、長さ200mm、厚み25μmのPETフィルム(東レ社製、品番S10)を貼合し試験片を作製し、JIS-Z0237「粘着テープ・粘着シート試験方法」に準拠した方法(貼り合わせ条件:2kgローラー1往復、剥離速度:300mm/分、剥離角度:180°)により、-20℃の環境下で測定した。
[Adhesive strength between silicone-containing layer and adhesive layer (-20 ° C)]
For the adhesive strength between the silicone-containing layer and the adhesive layer at -20 ° C, a laminate of the silicone-containing layer and the adhesive layer was obtained from the shock absorbing sheet and cut into dimensions of 25 mm in width and 125 mm in length, and the silicone-containing layer was obtained. A PET film (manufactured by Toray Co., Ltd., product number S10) having a width of 30 mm, a length of 200 mm, and a thickness of 25 μm was bonded to a SUS plate using double-sided tape to prepare a test piece, and JIS-Z0237 " The measurement was performed in an environment of −20 ° C. by a method according to the “Adhesive Tape / Adhesive Sheet Test Method” (bonding conditions: 2 kg roller 1 reciprocation, peeling speed: 300 mm / min, peeling angle: 180 °).

[耐屈曲性(-20℃)]
衝撃吸収シートの-20℃での耐屈曲性について、以下に示す屈曲試験を-20℃の環境下で行うことにより評価した。衝撃吸収シートを、20cm角に切断し、試験片を作製した。この試験片を、自立型耐久試験機(ユアサシステム機器社製、型番TCD-BTFB)において、直径20mmの芯金と試験片の中心線が合うように固定した。屈曲試験は、1分間に30回の速度で、衝撃吸収シートを巻き付ける動作と元に戻す動作とを繰り返し、30時間行った。耐屈曲性は、屈曲試験後の衝撃吸収シートにおいて、破断や層間剥離が発生していない場合は「OK」と、破断や層間剥離が発生している場合は「NG」と評価した。
[Bending resistance (-20 ° C)]
The bending resistance of the shock absorbing sheet at −20 ° C. was evaluated by performing the bending test shown below in an environment of −20 ° C. The shock absorbing sheet was cut into 20 cm squares to prepare test pieces. This test piece was fixed in a self-standing endurance tester (manufactured by Yuasa System Equipment Co., Ltd., model number TCD-BTFB) so that the core metal having a diameter of 20 mm and the center line of the test piece were aligned with each other. The bending test was carried out for 30 hours by repeating the operation of winding the shock absorbing sheet and the operation of returning the shock absorbing sheet at a speed of 30 times per minute. The bending resistance was evaluated as "OK" when the impact absorbing sheet after the bending test did not break or delaminate, and as "NG" when the breaking or delamination occurred.

[粘着層のポリエチレンテレフタレートフィルムに対する粘着力(-20℃)]
粘着層の-20℃でのポリエチレンテレフタラートフィルムに対する粘着力は、衝撃吸収シートにおける粘着層(1)に、ポリエチレンテレフタラートフィルム(厚み25μm、東レ社製、品番S10)を貼合し、幅25mm×長さ125mmの試験片を作製し、JIS-Z0237「粘着テープ・粘着シート試験方法」に準拠した方法(貼り合わせ条件:2kgローラー1往復、剥離速度:300mm/min、剥離角度:180°)により、-20℃の環境下で測定した。
[Adhesive strength of the adhesive layer against polyethylene terephthalate film (-20 ° C)]
The adhesive strength of the adhesive layer to the polyethylene terephthalate film at -20 ° C is such that the polyethylene terephthalate film (thickness 25 μm, manufactured by Toray Co., Ltd., product number S10) is bonded to the adhesive layer (1) in the shock absorbing sheet, and the width is 25 mm. × A test piece with a length of 125 mm was prepared and conformed to JIS-Z0237 “Adhesive Tape / Adhesive Sheet Test Method” (bonding conditions: 2 kg roller 1 reciprocation, peeling speed: 300 mm / min, peeling angle: 180 °). The measurement was carried out in an environment of −20 ° C.

[粘着層のSUSに対する粘着力(25℃)]
衝撃吸収シートのSUSに対する粘着力は、JIS-Z0237「粘着テープ・粘着シート試験方法」に準拠した粘着力試験により、90度ピール試験機で引張速度300mm/minの条件で、25℃の環境下で測定した。
[Adhesive strength of the adhesive layer against SUS (25 ° C)]
The adhesive strength of the shock absorbing sheet to SUS was determined by an adhesive strength test based on JIS-Z0237 "Adhesive Tape / Adhesive Sheet Test Method" under the condition of a tensile speed of 300 mm / min with a 90 degree peel tester under an environment of 25 ° C. Measured at.

Figure 2022098240000004
Figure 2022098240000004

1 衝撃吸収シート
2 シリコーン含有層
3 粘着層
4 セパレーター
1 Shock absorbing sheet 2 Silicone-containing layer 3 Adhesive layer 4 Separator

Claims (6)

シリコーン樹脂を含むシリコーン含有層と、
前記シリコーン含有層に重なる粘着層と
を備える衝撃吸収シートであって、
前記シリコーン含有層の厚みが、前記衝撃吸収シートの厚みの60%以上95%以下であり、
前記シリコーン含有層の-20℃における貯蔵弾性率(G1)及び25℃における貯蔵弾性率(G2)が、共に1×10Pa以上1×10Pa以下であり、
前記粘着層が、損失正接のピーク温度が0℃以下である樹脂(A)を含む衝撃吸収シート。
A silicone-containing layer containing a silicone resin and
A shock absorbing sheet provided with an adhesive layer that overlaps the silicone-containing layer.
The thickness of the silicone-containing layer is 60% or more and 95% or less of the thickness of the shock absorbing sheet.
The storage elastic modulus (G1) at −20 ° C. and the storage elastic modulus (G2) at 25 ° C. of the silicone-containing layer are both 1 × 10 4 Pa or more and 1 × 10 5 Pa or less.
A shock absorbing sheet in which the adhesive layer contains a resin (A) having a peak temperature at which the loss tangent is 0 ° C. or lower.
前記シリコーン含有層の-20℃におけるポリエチレンテレフタラートフィルムに対する粘着力が、5N/25mm以上である請求項1に記載の衝撃吸収シート。 The shock absorbing sheet according to claim 1, wherein the silicone-containing layer has an adhesive force with respect to a polyethylene terephthalate film at −20 ° C. of 5 N / 25 mm or more. 前記樹脂(A)が、炭素数4以上9以下のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する構造単位を97質量%以上99.9質量%以下含み、かつ(メタ)アクリル酸に由来する構造単位を0.1質量%以上3質量%以下含む請求項1又は2に記載の衝撃吸収シート。 The resin (A) contains 97% by mass or more and 99.9% by mass or less of structural units derived from a (meth) acrylic acid ester having an alkyl group having 4 or more and 9 or less carbon atoms, and is derived from (meth) acrylic acid. The shock absorbing sheet according to claim 1 or 2, which contains 0.1% by mass or more and 3% by mass or less of the structural unit. 前記シリコーン含有層の厚みが、80μm以上700μm以下である請求項1から3のいずれか一項に記載の衝撃吸収シート。 The shock absorbing sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the thickness of the silicone-containing layer is 80 μm or more and 700 μm or less. 厚みが100μm以上1000μm以下である請求項1から4のいずれか一項に記載の衝撃吸収シート。 The shock absorbing sheet according to any one of claims 1 to 4, wherein the thickness is 100 μm or more and 1000 μm or less. 可撓性ディスプレイ用である請求項1から5のいずれか一項に記載の衝撃吸収シート。 The shock absorbing sheet according to any one of claims 1 to 5, which is for a flexible display.
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