JP2022093057A - Method for producing amlodipine besilate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、アムロジピン塩基およびアムロジピンベシル酸塩の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing an amlodipine base and an amlodipine besylate.
アムロジピン(化学名:2-(2-アミノエトキシメチル)-4-(2-クロルフェニル)-1,4-ジヒドロ-6-メチルピリジン-3,5-ジカルボン酸 3-エチル 5-メチル)及びその塩は、カルシウム拮抗作用を有する降圧療法に有用な薬物であり、虚血性心疾患及び高血圧症等の治療に用いられている。 Amlodipine (Chemical name: 2- (2-aminoethoxymethyl) -4- (2-chlorophenyl) -1,4-dihydro-6-methylpyridine-3,5-dicarboxylic acid 3-ethyl 5-methyl) and its thereof The salt is a drug useful for antihypertensive therapy having a calcium antagonistic action, and is used for the treatment of ischemic heart disease, hypertension and the like.
医薬成分としては、アムロジピン塩基を、ベシル酸塩などの薬学的に許容される塩に変換したものが使用されている。 As the pharmaceutical component, an amlodipine base converted into a pharmaceutically acceptable salt such as besilate is used.
アムロジピン塩基の製造方法について、従来、フタロイルアムロジピンに、脱保護剤としてヒドラジンまたはメチルアミンを反応させる方法が知られている(特許文献1、3~5)。アムロジピンベシル酸塩の製造方法については、アムロジピン塩基をベンゼンスルホン酸と反応させる方法が知られている(特許文献2)。 Regarding the method for producing an amlodipine base, conventionally, a method of reacting phthaloylamlodipine with hydrazine or methylamine as a deprotecting agent is known (Patent Documents 1, 3 to 5). As a method for producing amlodipine besilate, a method of reacting an amlodipine base with benzenesulfonic acid is known (Patent Document 2).
しかし、特許文献1記載の技術のように、フタロイルアムロジピンをヒドラジンで反応させると、脱離したフタルイミドが固体で析出してしまうので、それをろ過で除去する必要がある。この析出固体はろ過性が悪く、実生産では操作時間の遅延や洗浄不良によるロスなどのろ過トラブルに繋がる。またヒドラジンとその誘導体は、発がん性を有するため、残存量を厳密に管理する必要もある。 However, when phthaloylamlodipine is reacted with hydrazine as in the technique described in Patent Document 1, the desorbed phthalimide is precipitated as a solid, and it is necessary to remove it by filtration. This precipitated solid has poor filterability, and in actual production, it leads to filtration troubles such as delay in operation time and loss due to poor cleaning. In addition, since hydrazine and its derivatives are carcinogenic, it is necessary to strictly control the residual amount.
一方、特許文献1記載の技術で同じく脱保護剤として使用されているメチルアミンは、沸点が-6度と低いうえに、可燃性かつ毒性があるため、実生産での使用は回避したい。 On the other hand, methylamine, which is also used as a deprotecting agent in the technique described in Patent Document 1, has a low boiling point of -6 ° C and is flammable and toxic, so its use in actual production should be avoided.
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、安全かつ高収率でアムロジピンベシル酸塩を製造する方法を提供することを主な目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method for producing amlodipine besilate in a safe and high yield.
本発明の一態様に係る、アムロジピンベシル酸塩の製造方法は、下記式(1) The method for producing amlodipine besilate according to one aspect of the present invention is described in the following formula (1).
前記製造方法において、前記アムロジピン塩基とベンゼンスルホン酸(一水和物、もしくは無水物)と反応させて、アムロジピンベシル酸塩を得る工程をさらに含むことが好ましい。 In the production method, it is preferable to further include a step of reacting the amlodipine base with benzenesulfonic acid (monohydrate or anhydride) to obtain amlodipine besilate.
また、前記製造方法において、前記有機溶媒が、置換ベンゼン、酢酸エステル、エーテル、ケトン、及び、炭化水素から選択される少なくとも1つであることが好ましい。 Further, in the production method, it is preferable that the organic solvent is at least one selected from substituted benzene, acetic acid ester, ether, ketone, and hydrocarbon.
本発明によれば、安全かつ高収率でアムロジピンベシル酸塩を製造する方法を提供することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a method for producing amlodipine besilate in a safe and high yield.
以下、本発明に係る実施形態について具体的に説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments according to the present invention will be specifically described, but the present invention is not limited thereto.
本実施形態におけるアムロジピンベシル酸塩の製造方法は、下記式(1) The method for producing amlodipine besylate in the present embodiment is described in the following formula (1).
本実施形態のように、脱保護剤として従来のヒドラジンではなくエチレンジアミンを使用することによって、脱離したフタルイミドが水溶性になる。これにより、従来は固体で析出していたフタルイミドのろ過を行う必要がなくなり、操作時間の短縮をはかることができ、洗浄不良などのろ過トラブルの発生も抑えることができる。 By using ethylenediamine instead of conventional hydrazine as the deprotecting agent as in the present embodiment, the desorbed phthalimide becomes water-soluble. This eliminates the need to filter phthalimide, which was conventionally precipitated as a solid, shortens the operation time, and suppresses the occurrence of filtration troubles such as poor cleaning.
本実施形態において上記反応に用いられる溶媒は、水に混和しない有機溶媒と水とを含んでいる。このような2層系とすることによって、脱離した水溶性フタルイミドが水層に移行するため、アムロジピン塩基と反応中間体との平衡をアムロジピン塩基の方へ偏らせることができ、反応中間体の残存量を減少させることができると考えた。 The solvent used for the above reaction in the present embodiment includes an organic solvent immiscible with water and water. By adopting such a two-layer system, the desorbed water-soluble phthalimide is transferred to the aqueous layer, so that the equilibrium between the amlogipin base and the reaction intermediate can be biased toward the amlogipin base, and the reaction intermediate can be displaced. We thought that the residual amount could be reduced.
水に混和しない有機溶媒としては、特に限定はされないが、例えば、置換ベンゼン、酢酸エステル、エーテル、ケトン、及び、炭化水素等が挙げられる。より具体的には、例えば、トルエン、キシレン、ベンゼン、2-メチルテトラヒドロフラン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、ヘプタン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。 The organic solvent immiscible with water is not particularly limited, and examples thereof include substituted benzene, acetic acid ester, ether, ketone, and hydrocarbon. More specifically, for example, toluene, xylene, benzene, 2-methyltetratetraester, ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, heptane, methyl isobutyl ketone and the like can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
本実施形態において上記反応に用いられるエチレンジアミンの量は、原料であるフタロイルアムロジピンに対して、0.8倍体積から2.0倍体積であることが好ましい。 In the present embodiment, the amount of ethylenediamine used in the above reaction is preferably 0.8 to 2.0 times the volume of phthaloylamlodipine as a raw material.
また、本実施形態において上記反応に用いられる溶媒の合計量は、原料であるフタロイルアムロジピンに対して、2.0倍体積から5.0倍体積程度であることが好ましい。 In addition, the total amount of the solvent used in the above reaction in the present embodiment is preferably about 2.0 to 5.0 times the volume of the raw material phthaloylamlodipine.
さらに、溶媒中、水に混和しない有機溶媒と水との比率は、体積で、2:0.4~1:1程度であることが好ましい。溶媒中の水の比率がこの範囲であれば、上述したような効果がより得やすくなると考えられる。 Further, the ratio of the organic solvent immiscible to water and water in the solvent is preferably about 2: 0.4 to 1: 1 in volume. If the ratio of water in the solvent is in this range, it is considered that the above-mentioned effects can be more easily obtained.
前記反応は、フタロイルアムロジピンに、エチレンジアミンと溶媒を加えて、1段階で反応させてもよいし、あるいは、フタロイルアムロジピンにエチレンジアミンを加えて反応させ、その後、水に混和しない有機溶媒と水とを含む溶媒を加えて反応させてもよい(2段階反応)。効率、及び、副生不純物をより減少させるという観点からは、前者の1段階反応で行うことが好ましい。 The reaction may be carried out by adding ethylenediamine and a solvent to phthaloylamlodipine and reacting in one step, or by adding ethylenediamine to phthaloylamlodipine and reacting, and then using an organic solvent and water that are immiscible with water. A solvent containing the above may be added and reacted (two-step reaction). From the viewpoint of efficiency and further reduction of by-product impurities, the former one-step reaction is preferable.
1段階反応の場合、例えば、反応温度は35~85℃程度、反応時間は30分~25時間程度とすることが好ましい。 In the case of a one-step reaction, for example, the reaction temperature is preferably about 35 to 85 ° C., and the reaction time is preferably about 30 minutes to 25 hours.
また、上記反応を2段階で行う場合、例えば、1段階目(フタロイルアムロジピンにエチレンジアミンを加えて反応させる)の反応時間は、40~60℃程度、反応時間は、2~4時間程度とし、2段階目(溶媒を加えて反応させる)の反応時間は、50~70℃程度、反応時間は、2~20時間程度とすることができる。 When the above reaction is carried out in two steps, for example, the reaction time of the first step (reacting by adding ethylenediamine to phthaloylamlogipine) is about 40 to 60 ° C., and the reaction time is about 2 to 4 hours. The reaction time of the second step (the reaction is carried out by adding a solvent) can be about 50 to 70 ° C., and the reaction time can be about 2 to 20 hours.
いずれの場合であっても、反応後、溶媒中の水層を除去することによって、水層中に移行している水溶性フタルイミドを除去し、アムロジピン塩基を高収率で得ることができる。水層の除去は、アムロジピン塩基を含む反応液に水を添加することによって行うことができる。上述の通り、脱離した水溶性フタルイミドは水層中に存在するため、水層を除くことにより、脱離したフタルイミドを除去できる。 In either case, by removing the aqueous layer in the solvent after the reaction, the water-soluble phthalimide transferred to the aqueous layer can be removed, and the amlodipine base can be obtained in high yield. The removal of the aqueous layer can be performed by adding water to the reaction solution containing the amlodipine base. As described above, since the desorbed water-soluble phthalimide exists in the aqueous layer, the desorbed phthalimide can be removed by removing the aqueous layer.
本実施形態の製造方法は、前記反応工程を含んでいれば、その他の工程については特に限定されるものではなく、公知の手段で、下記式(3)で示されるアムロジピンベシル酸塩を得ることができる。 The production method of the present embodiment is not particularly limited as long as it includes the reaction step, and the amlodipine besylate represented by the following formula (3) can be obtained by a known means. Can be done.
例えば、前記工程で得られるアムロジピン塩基にそのままベンゼンスルホン酸と反応させて、アムロジピンベシル酸塩を得ることができる。あるいは、前記工程で得られるアムロジピン塩基をいったん単離した後で、アムロジピン塩基をベンゼンスルホン酸と反応させて、アムロジピンベシル酸塩を得てもよい。 For example, the amlodipine base obtained in the above step can be directly reacted with benzenesulfonic acid to obtain amlodipine besylate. Alternatively, the amlodipine base obtained in the above step may be isolated once, and then the amlodipine base may be reacted with benzenesulfonic acid to obtain amlodipine besylate.
生産性の観点からは、アムロジピン塩基をそのままベンゼンスルホン酸と反応させてアムロジピンベシル酸塩を得ることが好ましい。その場合、前述の反応工程を得た反応液にベンゼンスルホン酸を加えて反応させる。 From the viewpoint of productivity, it is preferable to directly react the amlodipine base with benzenesulfonic acid to obtain amlodipine besilate. In that case, benzenesulfonic acid is added to the reaction solution obtained from the above reaction step to react.
本実施形態では、便宜上、上述したようなアムロジピン塩基を得る工程を第1工程、得られるアムロジピン塩基をベンゼンスルホン酸と反応させて、アムロジピンベシル酸塩を得る工程を第2工程と称する。 In the present embodiment, for convenience, the step of obtaining the amlodipine base as described above is referred to as a first step, and the step of reacting the obtained amlodipine base with benzenesulfonic acid to obtain an amlodipine besylate is referred to as a second step.
前記第2工程についてより具体的に説明する。まず、上述の通り、第1工程で得られたアムロジピン塩基を含む反応液から水層は除去されているので、反応液中に残った有機層をさらに水で洗浄する。洗浄後、有機層中の水分低減のために、共沸脱水してもよい。その後、有機層にメタノールを添加後、ベンゼンスルホン酸を添加するが、その際は、ベンゼンスルホン酸一水和物を有機溶媒(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等)に溶解させたものを添加してもよい。 The second step will be described more specifically. First, as described above, since the aqueous layer has been removed from the reaction solution containing the amlodipine base obtained in the first step, the organic layer remaining in the reaction solution is further washed with water. After washing, azeotropic dehydration may be performed to reduce the water content in the organic layer. Then, after adding methanol to the organic layer, benzenesulfonic acid is added. At that time, benzenesulfonic acid monohydrate dissolved in an organic solvent (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, etc.) is added. You may.
また、本実施形態の第2工程で用いられるベンゼンスルホン酸の量は、アムロジピン塩基に対して、1.0当量から1.4当量程度であることが好ましい。 The amount of benzenesulfonic acid used in the second step of the present embodiment is preferably about 1.0 to 1.4 equivalents with respect to the amlodipine base.
また、本実施形態の第2工程で用いられるベンゼンスルホン酸は、一水和物を用いてもよいし、無水物を使用することもできる。 Further, as the benzenesulfonic acid used in the second step of the present embodiment, a monohydrate may be used or an anhydride may be used.
前記第2工程におけるベンゼンスルホン酸溶液の滴下温度は、10~40℃とすることが好ましく、より好ましくは25℃程度であり、滴下時間は、1~16時間程度であることが好ましい。 The dropping temperature of the benzenesulfonic acid solution in the second step is preferably 10 to 40 ° C, more preferably about 25 ° C, and the dropping time is preferably about 1 to 16 hours.
第2工程で得られた反応液を冷却し、析出したアムロジピンベシル酸塩をろ取して、洗浄、乾燥することにより、純度の高いアムロジピンベシル酸塩を高収率で得ることができる。前記冷却温度は、-5~25℃程度であり、前記析出物の洗浄は、イソプロピルアルコールで行うことができる。また、前記乾燥は、40~60℃で行うことが好ましく、より好ましくは50℃程度の温度で2時間以上乾燥すればよい。 The reaction solution obtained in the second step is cooled, the precipitated amlodipine besylate is collected by filtration, washed and dried, whereby a highly pure amlodipine besylate can be obtained in high yield. The cooling temperature is about −5 to 25 ° C., and the precipitate can be washed with isopropyl alcohol. Further, the drying is preferably performed at 40 to 60 ° C., more preferably at a temperature of about 50 ° C. for 2 hours or more.
次に、前記第1工程および第2工程の間に、アムロジピン塩基をいったん単離する場合について説明する。 Next, a case where the amlodipine base is once isolated between the first step and the second step will be described.
アムロジピン塩基の単離は、第1工程で得られる反応液を冷却して、アムロジピン塩基を析出させ、析出物をろ取して、洗浄・乾燥すること等によって行うことができる。 The isolation of the amlodipine base can be performed by cooling the reaction solution obtained in the first step, precipitating the amlodipine base, collecting the precipitate, washing and drying, and the like.
具体的には、例えば、第1工程の反応終了後に、水層が除去されて残った有機層に種晶を30~40℃で添加し、その後、ヘプタンなどの有機溶媒を25~40℃、好ましくは30~35℃で添加する。その後、-10~0℃まで冷却して、析出した結晶をろ取し、トルエンとヘプタンの混合溶媒で洗浄し、乾燥することによって、アムロジピン塩基を単離することができる。前記乾燥は、例えば、40~60℃で行うことが好ましく、より好ましくは50℃で2時間以上、減圧乾燥を行うことによって実施できる。 Specifically, for example, after the reaction of the first step is completed, seed crystals are added to the organic layer remaining after the aqueous layer is removed at 30 to 40 ° C., and then an organic solvent such as heptane is added at 25 to 40 ° C. It is preferably added at 30-35 ° C. Then, the amlodipine base can be isolated by cooling to −10 to 0 ° C., collecting the precipitated crystals, washing with a mixed solvent of toluene and heptane, and drying. The drying is preferably carried out, for example, at 40 to 60 ° C., more preferably at 50 ° C. for 2 hours or more under reduced pressure.
単離したアムロジピン塩基をメタノールに溶解後、ベンゼンスルホン酸をイソプロピルアルコールに溶解させたものを添加することによって、前記第2工程と同様に、アムロジピンベシル酸塩を得ることができる。 By dissolving the isolated amlodipine base in methanol and then adding a solution of benzenesulfonic acid in isopropyl alcohol, amlodipine besilate can be obtained in the same manner as in the second step.
本実施形態の製造方法によって得られるアムロジピンベシル酸塩は、そのまま医薬品用途に用いることができるが、必要に応じて、メタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類に溶解し、その後、再結晶化して使用することもできる。 The amlodipine besylate obtained by the production method of the present embodiment can be used as it is for pharmaceutical purposes, but if necessary, it is dissolved in alcohols such as methanol and isopropyl alcohol, and then recrystallized before use. You can also do it.
本実施形態で製造されたアムロジピンベシル酸塩は、公知の方法で製剤化し、様々な剤形で、単剤または配合剤の医薬品として使用できる。 The amlodipine besylate produced in the present embodiment can be formulated by a known method and used as a single agent or a combination drug in various dosage forms.
以下に、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the scope of the present invention is not limited thereto.
(実施例1:アムロジピン塩基の製造)
フタロイルアムロジピン(300g)、トルエン(600mL)、エチレンジアミン(300mL)および水(150mL)を加え、70℃で4時間反応させた。水(450mL)を添加し、水層を除去した後、得られる有機層に40℃で種晶(1.5g)、続いて35℃でヘプタン(1200mL)を加え、-10℃まで冷却した。析出した結晶を濾取し、トルエン(100mL)とヘプタン(200mL)の混合溶液で2回洗浄した。50℃で減圧乾燥を行い、表題化合物を207g(収率91%;HPLCにおけるピークエリア:98.66%)で得た。
(Example 1: Production of amlodipine base)
Phtaloyl amlodipine (300 g), toluene (600 mL), ethylenediamine (300 mL) and water (150 mL) were added and reacted at 70 ° C. for 4 hours. Water (450 mL) was added and the aqueous layer was removed, then seed crystals (1.5 g) were added to the resulting organic layer at 40 ° C., followed by heptane (1200 mL) at 35 ° C. and cooled to −10 ° C. The precipitated crystals were collected by filtration and washed twice with a mixed solution of toluene (100 mL) and heptane (200 mL). The product was dried under reduced pressure at 50 ° C. to obtain 207 g of the title compound (yield 91%; peak area in HPLC: 98.66%).
(実施例2:アムロジピンベシル酸塩の製造)
フタロイルアムロジピン(30g)、トルエン(60mL)、水(15mL)およびエチレンジアミン(30mL)を加え、70℃で5時間反応させた。水(45mL)を添加し、水層を除去した後、有機層を水(60mL)で洗浄した。トルエン(60mL)を加えて2回共沸脱水した。MeOH(4mL)、続いてベンゼンスルホン酸一水和物(11g)のイソプロピルアルコール(IPA)溶液(131mL)および種晶(3mg)を25℃で加え、-5℃まで冷却した。析出した結晶を濾取し、IPA(30mL)で2回洗浄した。50℃で減圧乾燥を行い、表題化合物を26g(収率87%;HPLCにおけるピークエリア:99.97%)で得た。
(Example 2: Production of amlodipine besylate)
Phtaloylamlodipine (30 g), toluene (60 mL), water (15 mL) and ethylenediamine (30 mL) were added and reacted at 70 ° C. for 5 hours. After adding water (45 mL) and removing the aqueous layer, the organic layer was washed with water (60 mL). Toluene (60 mL) was added and azeotropic dehydration was performed twice. MeOH (4 mL) followed by an isopropyl alcohol (IPA) solution (131 mL) of benzenesulfonic acid monohydrate (11 g) and seed crystals (3 mg) were added at 25 ° C and cooled to -5 ° C. The precipitated crystals were collected by filtration and washed twice with IPA (30 mL). The product was dried under reduced pressure at 50 ° C. to obtain 26 g of the title compound (yield 87%; peak area in HPLC: 99.97%).
(実施例3:アムロジピン塩基の製造(2段階での反応))
フタロイルアムロジピン(30g)およびエチレンジアミン(30mL)を加え、55℃で2時間反応させた。続いてトルエン(60mL)および水(60mL)を添加し、60℃で2時間反応させた。水層を除去した後、トルエン(60mL)、水(60mL)および塩酸を加えpH4に調整した。有機層を除去した後、酢酸イソプロピル(60mL)およびNaOH水溶液を加え、pH11に調製した。水層を除去した後、得られる有機層に種晶(0.2g)およびヘプタン(131mL)を35℃で添加し、-5℃まで冷却した。析出した結晶を濾取し、酢酸イソプロピルとヘプタンの混合溶液(体積比2:5の混合割合、30mL)で2回洗浄した。50℃で減圧乾燥を行い、表題化合物を19g(収率84%;HPLCにおけるピークエリア:98.85%)で得た。
(Example 3: Production of amlodipine base (reaction in two steps))
Phtaloylamlodipine (30 g) and ethylenediamine (30 mL) were added and reacted at 55 ° C. for 2 hours. Subsequently, toluene (60 mL) and water (60 mL) were added and reacted at 60 ° C. for 2 hours. After removing the aqueous layer, toluene (60 mL), water (60 mL) and hydrochloric acid were added to adjust the pH to 4. After removing the organic layer, isopropyl acetate (60 mL) and an aqueous NaOH solution were added to adjust the pH to 11. After removing the aqueous layer, seed crystals (0.2 g) and heptane (131 mL) were added to the obtained organic layer at 35 ° C. and cooled to −5 ° C. The precipitated crystals were collected by filtration and washed twice with a mixed solution of isopropyl acetate and heptane (mixing ratio of 2: 5 by volume, 30 mL). Drying under reduced pressure was carried out at 50 ° C. to obtain 19 g (yield 84%; peak area in HPLC: 98.85%).
(実施例4:アムロジピンベシル酸塩の製造(2段階での反応))
フタロイルアムロジピン(5.4g)、酢酸イソプロピル(27mL)およびエチレンジアミン(3.7mL)を加え、75℃で4時間反応させた。水(27mL)を添加し、75℃で2時間反応させた。水層を除去した後、水(27mL)で洗浄した。得られた有機層にベシル酸一水和物(1.76g)のIPA溶液(5.4mL)を室温で加え、0℃まで冷却した。析出した結晶を濾取し、IPA(5.4mL)で2回洗浄した。50℃で減圧乾燥を行い、表題化合物を3.9g(収率69%;HPLCにおけるピークエリア:99.95%)で得た。
(Example 4: Production of amlodipine besylate (reaction in two steps))
Phtaloylamlodipine (5.4 g), isopropyl acetate (27 mL) and ethylenediamine (3.7 mL) were added and reacted at 75 ° C. for 4 hours. Water (27 mL) was added and reacted at 75 ° C. for 2 hours. After removing the aqueous layer, it was washed with water (27 mL). An IPA solution (5.4 mL) of besilic acid monohydrate (1.76 g) was added to the obtained organic layer at room temperature, and the mixture was cooled to 0 ° C. The precipitated crystals were collected by filtration and washed twice with IPA (5.4 mL). The product was dried under reduced pressure at 50 ° C. to obtain 3.9 g of the title compound (yield 69%; peak area in HPLC: 99.95%).
以上、実施例1~4の結果によって、本発明の製造方法によって、高い収率で、不純物の少ないアムロジピン塩基及びアムロジピンベシル酸塩が得られることが確認できた。 As described above, from the results of Examples 1 to 4, it was confirmed that the amlodipine base and amlodipine besilate with less impurities can be obtained in high yield by the production method of the present invention.
[比較試験1]
従来のヒドラジンを脱保護に用いた場合における、脱離したフタルイミドのろ過性について評価した。
[Comparative test 1]
The filterability of the desorbed phthalimide when conventional hydrazine was used for deprotection was evaluated.
(比較例)
フタロイルアムロジピン(10.8g)、酢酸エチル(54mL)、ヒドラジン一水和物(4.0g)のメタノール溶液(5.4mL)を加え、30℃で反応させ、アムロジピン塩基とフタルイミド(固体)が含まれる懸濁液を得た。その懸濁液を用いて、圧縮ろ過試験機によりろ過性を評価したところ、平均ろ過比抵抗は1.1×1011であった。
(Comparative example)
Methanol solution (5.4 mL) of phthaloyl amlodipine (10.8 g), ethyl acetate (54 mL) and hydrazine monohydrate (4.0 g) was added and reacted at 30 ° C. to release the amlodipine base and phthalimide (solid). The included suspension was obtained. When the filterability was evaluated by a compression filtration tester using the suspension, the average filtration resistivity was 1.1 × 10 11 .
この結果について、「技術誌 住友化学 2007-II」(2007年11月30日発行)の26頁を参照すると、平均ろ過比抵抗は、2×1010~1011で「良くない」、1011超で「悪い」と評価されるため、上記比較例1(ヒドラジン法)のろ過性は「悪い」と評価できる。 Regarding this result, referring to page 26 of "Technical Journal Sumitomo Chemical 2007-II" (published on November 30, 2007), the average filtration resistivity is 2 × 10 10 to 10 11 which is “not good”, 10 11 Since it is evaluated as "bad" in the super, the filterability of Comparative Example 1 (hydrazine method) can be evaluated as "bad".
[比較試験2]
従来のヒドラジンを脱保護に用いた場合(比較例)と、本実施例のようにエチレンジアミンを脱保護に用いた場合とで、原料のフタロイルアムロジピンから脱離したフタルイミドのろ過にかかる時間と、目的物であるアムロジピン塩基の損失(ロス)について比較したところ、比較例ではろ過に20時間以上かかった上に、洗浄不良による目的物のロスが12%にも上ることがわかった。これに対し、本実施例の方法によれば、フタルイミドは分液によって除去するが、その分液にかかる時間はラボスケールで5分と非常に良好であった。また、目的物の水層へのロスも1%以下という結果であった。
[Comparative test 2]
When conventional hydrazine is used for deprotection (comparative example) and when ethylenediamine is used for deprotection as in this example, the time required for filtration of phthalimide desorbed from the raw material phthaloylamlodipine and When the loss of the amlodipine base, which is the target product, was compared, it was found that in the comparative example, filtration took 20 hours or more, and the loss of the target product due to poor cleaning was as high as 12%. On the other hand, according to the method of this example, phthalimide was removed by liquid separation, and the time required for the liquid separation was very good at 5 minutes on a laboratory scale. In addition, the loss of the target substance to the water layer was 1% or less.
以上より、本発明の製造方法によれば、従来法(ヒドラジンを用いる方法)と比べて、ろ過操作を行う必要がなく、分液のみでフタルイミドを除去することができ、さらに、目的物(アムロジピン塩基)のロスも少ないことがわかった。
From the above, according to the production method of the present invention, as compared with the conventional method (method using hydrazine), phthalimide can be removed only by liquid separation without the need for a filtration operation, and further, the target product (amlodipine) can be removed. It was found that the loss of base) was also small.
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