JP2022074386A - Porous chuck table manufacturing method and porous chuck table - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ガラスで形成された多孔質のポーラス板を有するポーラスチャックテーブルの製造方法、及び、当該ポーラスチャックテーブルに関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a porous chuck table having a porous porous plate made of glass, and the porous chuck table.
半導体ウェーハ等の被加工物を加工するために、被加工物を吸引保持する保持面を有するチャックテーブルが知られている。一般的なチャックテーブルは、金属又は非多孔質セラミックスで形成された円盤状の枠体を有する。 In order to process a workpiece such as a semiconductor wafer, a chuck table having a holding surface for sucking and holding the workpiece is known. A typical chuck table has a disk-shaped frame made of metal or non-porous ceramics.
枠体の上部には、円盤状の凹部が形成されており、当該凹部には、多孔質セラミックス製の円盤状の板(即ち、ポーラス板)が固定されている。ポーラス板は、通常、枠体に対して接着剤で固定される(例えば、特許文献1参照)。 A disk-shaped recess is formed in the upper part of the frame, and a disk-shaped plate (that is, a porous plate) made of porous ceramics is fixed to the recess. The porous plate is usually fixed to the frame with an adhesive (see, for example, Patent Document 1).
しかし、ポーラス板内に吸引される液体や、ポーラス板に繰り返し印加される負圧及び正圧等に起因して、接着剤の固定力が低下し、ポーラス板が枠体から外れる恐れがある。本発明は係る問題点に鑑みてなされたものであり、接着剤を使用せずにポーラス板を枠体に固定することを目的とする。 However, the fixing force of the adhesive may decrease due to the liquid sucked into the porous plate, the negative pressure and the positive pressure repeatedly applied to the porous plate, and the porous plate may come off from the frame. The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to fix a porous plate to a frame without using an adhesive.
本発明の一態様によれば、ポーラスチャックテーブルの製造方法であって、ガラスで形成された多孔質のポーラス板を、ガラスで形成された非多孔質の枠体の凹部に嵌合させ、テーブル体を形成するテーブル体準備ステップと、該テーブル体準備ステップの後、該テーブル体を該枠体の軟化点以上且つ融点未満の温度で加熱し、該枠体の該凹部のうち該ポーラス板の外表面に対面する対面領域を軟化させることで、該凹部の該対面領域を該ポーラス板の該外表面の凹凸に倣うように変形させて密着させ固定する加熱ステップと、を備えるポーラスチャックテーブルの製造方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, which is a method for manufacturing a porous chuck table, a porous porous plate made of glass is fitted into a recess of a non-porous frame made of glass to fit the table. After the table body preparation step for forming the body and the table body preparation step, the table body is heated at a temperature equal to or higher than the softening point of the frame body and lower than the melting point, and the porous plate in the concave portion of the frame body is heated. A porous chuck table comprising a heating step that softens the facing region facing the outer surface to deform the facing region of the recess so as to imitate the unevenness of the outer surface of the porous plate so as to adhere and fix the porous plate. A manufacturing method is provided.
好ましくは、該加熱ステップでは、該枠体の該対面領域は、該対面領域に対面する該ポーラス板の該外表面よりも先に軟化する。 Preferably, in the heating step, the facing region of the frame is softened before the outer surface of the porous plate facing the facing region.
好ましくは、ポーラスチャックテーブルの製造方法は、該テーブル体準備ステップの後に、該ポーラス板の上面と、該枠体の上面と、を研削して面一にし、被加工物を吸引保持する保持面を形成する保持面形成ステップを更に備える。 Preferably, in the method for manufacturing a porous chuck table, after the table body preparation step, the upper surface of the porous plate and the upper surface of the frame are ground to be flush with each other, and a holding surface for sucking and holding the workpiece is held. A holding surface forming step for forming the above is further provided.
本発明の他の態様によれば、ガラス製で多孔質のポーラス板と、該ポーラス板が嵌合される凹部を有するガラス製で非多孔質の枠体と、を備え、該枠体の該凹部のうち該ポーラス板の外表面に対面する対面領域は、該ポーラス板の該外表面の凹凸に倣い、且つ、該ポーラス板の該外表面の凹凸に密着している密着領域を有するポーラスチャックテーブルが提供される。 According to another aspect of the present invention, the frame is provided with a glass and porous porous plate and a glass and non-porous frame having a recess into which the porous plate is fitted. The facing region of the concave portion facing the outer surface of the porous plate follows the unevenness of the outer surface of the porous plate and has a close contact region in close contact with the unevenness of the outer surface of the porous plate. A table is provided.
本発明の一態様に係るポーラスチャックテーブルの製造方法は、ガラスで形成された多孔質のポーラス板がガラスで形成された非多孔質の枠体の円盤状の凹部に嵌合されたテーブル体を、枠体の軟化点以上且つ融点未満の温度で加熱し、枠体のうちポーラス板の外表面に対面する対面領域を軟化させることで、凹部の対面領域をポーラス板の外表面の凹凸に倣うように変形させて密着させ固定する加熱ステップを備える。それゆえ、接着剤を用いることなく、ポーラス板を枠体に固定できる。 In the method for manufacturing a porous chuck table according to one aspect of the present invention, a table body in which a porous porous plate made of glass is fitted into a disk-shaped recess of a non-porous frame made of glass is formed. By heating at a temperature above the softening point of the frame and below the melting point to soften the facing region of the frame facing the outer surface of the porous plate, the facing region of the recesses follows the unevenness of the outer surface of the porous plate. It is provided with a heating step that is deformed so as to be brought into close contact and fixed. Therefore, the porous plate can be fixed to the frame without using an adhesive.
添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。図1は、第1の実施形態に係るポーラスチャックテーブル8(図6参照)の製造方法のフロー図である。本実施形態の製造方法では、まず、枠体2及びポーラス板4(図2(A)参照)で、テーブル体6(図2(B)参照)を形成する(テーブル体準備ステップS10)。
An embodiment according to one aspect of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a flow chart of a manufacturing method of the porous chuck table 8 (see FIG. 6) according to the first embodiment. In the manufacturing method of the present embodiment, first, the
図2(A)は、枠体2及びポーラス板4の断面図である。枠体2は、円盤状であり、可視光に対して透明性を有するソーダガラス(ソーダ石灰ガラス)で形成された非多孔質体である。但し、枠体2は、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス等の各種ガラスで形成されてもよい。
FIG. 2A is a cross-sectional view of the
枠体2の上面2a側には、枠体2の外径よりも小さな径を有する円盤状の凹部2bが形成されている。凹部2bは、円形の底面2b1及び曲面状の側面2b2を含む。凹部2bの底面2b1の中央部には、枠体2の下面2cまで貫通する略円柱形状の流路2d1が形成されている。
A disk-
また、凹部2bの底面2b1には、流路2d1を囲む同心円状の流路2d2,2d3,2d4が形成されている。流路2d2,2d3,2d4は、いずれも流路2d1よりも浅く、底面2b1を上面視した場合に略十字形状の連通路(不図示)を介して流路2d1と連通している。
Further, concentric flow paths 2d 2 , 2d 3 , and 2d 4 surrounding the flow paths 2d 1 are formed on the
凹部2bと略同じ径を有する円盤状のポーラス板4を、凹部2bに嵌合させることで、テーブル体6(図2(B)参照)が形成される。図2(B)は、テーブル体6の断面図である。ポーラス板4は、各々略円形の上面4a及び下面4cと、曲面状の側面4bと、を有する。
A table body 6 (see FIG. 2B) is formed by fitting a disk-shaped
ポーラス板4は、枠体2と略同じガラス材料(本実施形態ではソーダガラス)で形成されているが、ポーラス板4は、複数のガラス粒5(図5(A)、図5(B)参照)を互いに連結することで構成された多孔質体である。
The
各ガラス粒5は、球状であり、粒径が概ね揃っている。ガラス粒5は、気泡を有していない緻密な粒であることが好ましい。この様なガラス粒5は、例えば、スプレードライ(噴霧乾燥)により製造できる。
Each
スプレードライヤー(噴霧乾燥装置)は、ガラスの原液を微粒化するためのノズル又はディスクを有する。表面張力等によって球状に微粒化されたガラスの原液を乾燥室内に供給される熱風に曝すことで、微粒化された原液は固化して、球状且つ粒径の揃ったガラス粒5となる。
The spray dryer (spray dryer) has a nozzle or a disc for atomizing the undiluted solution of glass. By exposing the undiluted solution of glass that has been atomized into spheres due to surface tension or the like to hot air supplied to the drying chamber, the atomized undiluted solution is solidified to become spherical and
本実施形態では、3μm以上4mm以下の粒径を有するガラス粒5が用いられている。ガラス粒5の粒径は、より望ましくは5μm以上300μm以下であり、更に望ましくは30μm以上200μm以下である。
In this embodiment,
ガラス粒5の粒径は、ガウス分布に従って所定のバラつきを有するが、例えば、ガラス粒5の粒径が100μm以下の所定の値の場合、標準偏差が5μm以下の粒子群を用いる。また、例えば、ガラス粒5の粒径が101μm以上300μm以下の所定の値の場合、標準偏差が10μm以下の粒子群を用いる。
The particle size of the
ポーラス板4を製造するためには、まず、円盤状の凹部を有する型枠(不図示)中に複数のガラス粒5を入れ、蓋板(不図示)で封止する。そして、型枠、蓋板及びガラス粒5を焼成炉に入れて、600℃以上1300℃以下の所定の温度で焼成する。
In order to manufacture the
本実施形態では、700℃以上800℃以下の所定の温度で、約30分以上約3時間以下の所定の時間、ガラス粒5を焼成する。焼成により、図5(A)及び図5(B)に示す様に、ガラス粒5同士の隙間に気孔7を残しつつ、互いに隣接する球状のガラス粒5が部分的に接続された、ポーラス板4を形成できる。
In the present embodiment, the
ガラス粒5を焼成する時間が長いほど、ガラス材料が流動的になる時間が長くなるので、ガラス粒5同士の接触面積が増加し、気孔率は低くなる。例えば、焼成時間が3時間のポーラス板4の気孔率は、焼成時間が30分のポーラス板4の気孔率よりも低い。
The longer the time for firing the
ポーラス板4の気孔率は、例えば、5%以上40%以下である。本実施形態では、ポーラス板4の気孔率を30%以上40%以下とする。しかし、気孔率を5%以上20%以下、20%以上30%以下等としてもよい。
The porosity of the
気孔率は、焼成時間に加えて、焼成時の温度、圧力、ガラス粒5に付加するフリットの量等によっても、適宜調節できる。なお、フリットは、ガラス粒5と同じガラス材料で形成された、ガラス粒5よりも小径の粉末である。
The porosity can be appropriately adjusted by not only the firing time but also the temperature and pressure at the time of firing, the amount of frit added to the
ポーラス板4の気孔率は、ポーラスチャックテーブル8に作用させる吸着力に応じて適宜調節される。例えば、ポーラス板4が枠体2の流路2d1等を介してエジェクタ等の吸引源34(図8参照)に接続されている場合に、気孔率が高いほど上面4aでの吸着力が高くなり、気孔率が低いほど上面4aでの吸着力が低くなる。
The porosity of the
しかし、気孔率が低いほど、被加工物11(図8、図9参照)を支持する上面4aの面積が増加するので、例えば、被加工物11を切削する際に、被加工物11の被吸着面で欠け(チッピング)が発生し難くなるというメリットがある。
However, the lower the porosity, the larger the area of the
なお、ポーラス板4がガラス粒5で形成されている場合の気孔7の大きさは、サイズの不揃いなセラミックス粒でポーラス板が形成されている場合の気孔の大きさに比べて均一になるので、吸引力がポーラス板4の上面4aで略均一になる。それゆえ、面内ばらつきが比較的少ない安定した保持力を提供できる。
The size of the
これにより、例えば、半導体ウェーハ等の被加工物11を切削して複数のチップに分割する場合に、チップの動きが少なくなる。従って、チップが動くことで発生するチップの裏面におけるコーナークラック(角部の欠け)の発生を抑えることができる。また、チップの裏面における欠け(チッピング)の発生も抑えることができる。
As a result, for example, when the
加えて、ポーラス板4は、細長い形状(即ち、所謂、アンギュラー形状)の砥粒ではなく、球状のガラス粒5で形成されているので、被加工物11の加工により発生した加工屑を含む加工液がポーラス板4の内部に入り込んでも、加工屑がポーラス板4の内部に引っ掛かり難い。
In addition, since the
それゆえ、アンギュラー形状の砥粒でポーラス板が形成されている場合に比べて、ポーラス板4では、比較的スムーズに加工屑が排出される。従って、ポーラス板4の内部に加工屑が詰まり、ポーラス板4の吸引力が低下するリスクを低減できる。
Therefore, compared to the case where the porous plate is formed of the angular abrasive grains, the
ところで、ガラス粒5同士を接続することによりポーラス板4を形成した後、ポーラス板4の大きさ、形状等を修正するために、ポーラス板4の上面4a、側面4b及び下面4cに対して、研削、研磨等を適宜施してもよい。
By the way, after forming the
本実施形態では、テーブル体準備ステップS10の後、研削装置10(図3参照)を用いて、枠体2の上面2aと、ポーラス板4の上面4aと、を研削して面一にすることで、保持面8a(図6参照)を形成する(保持面形成ステップS20)。図3は、保持面形成ステップS20を示す図である。
In the present embodiment, after the table body preparation step S10, the
研削装置10は、一般的なチャックテーブル12を有する。チャックテーブル12は、非多孔質セラミックスで形成された円盤状の枠体を含む。枠体の上部には、円盤状の凹部(不図示)が形成されており、この凹部には、多孔質セラミックスで形成された円盤状のポーラス板(不図示)が接着剤で固定されている。
The grinding
接着剤は、主として樹脂で形成されており、化学的力及び物理的力の少なくともいずれかで枠体とポーラス板とを結合する。接着剤としては、代表的には、エポキシ系接着剤、アクリル系接着剤、ウレタン系接着剤等が用いられる。 The adhesive is mainly made of resin and binds the frame to the porous plate by at least one of chemical and physical forces. As the adhesive, an epoxy-based adhesive, an acrylic-based adhesive, a urethane-based adhesive, or the like is typically used.
チャックテーブル12の枠体には流路(不図示)が形成されている。流路の一端は、エジェクタ等の吸引源14に接続されており、流路の他端には、ポーラス板の下面が接続されている。吸引源14を動作させると、ポーラス板の上面には、負圧が伝達される。
A flow path (not shown) is formed in the frame of the chuck table 12. One end of the flow path is connected to a
枠体の上面と、ポーラス板の上面とは、面一となっており、被加工物11を吸引保持するための保持面12aを構成している。保持面12a上には、枠体2の上面2a及びポーラス板4の上面4aが上を向く態様で、テーブル体6が配置される。
The upper surface of the frame and the upper surface of the porous plate are flush with each other, and form a holding
枠体2の下面2cには、樹脂製の保護シート16が貼り付けられ、テーブル体6は、保護シート16を介して保持面12aで吸引保持される。チャックテーブル12の下部には不図示の回転駆動機構が連結されている。チャックテーブル12は、回転駆動機構により、Z軸方向に略平行な所定の回転軸12bの周りに回転する。
A resin-made
チャックテーブル12の上方には研削ユニット18が配置されている。研削ユニット18は、Z軸方向(高さ方向、上下方向、研削送り方向)に沿って配置された円筒状のスピンドルハウジング(不図示)を有する。
A grinding
スピンドルハウジングには、研削送り機構(不図示)が連結されており、研削ユニット18は、研削送り機構によりZ軸方向に沿って移動させられる。スピンドルハウジングには、円柱状のスピンドル20の一部が回転可能に収容されている。
A grinding feed mechanism (not shown) is connected to the spindle housing, and the grinding
スピンドル20の上端部には、モーター等の回転駆動源(不図示)が連結され、スピンドル20の下端部には、円盤状のホイールマウント22が固定されている。ホイールマウント22の下面には、ホイールマウント22と略同径の研削ホイール24が装着される。
A rotary drive source (not shown) such as a motor is connected to the upper end of the
研削ホイール24は、アルミニウム等の金属材料で形成された環状のホイール基台24aを含む。ホイール基台24aの上面側は、ホイールマウント22に装着され、ホイール基台24aの下面側には、複数の研削砥石24bが固定されている。
The grinding
それぞれブロック状の複数の研削砥石24bは、ホイール基台24aの下面の周方向において、隣り合う研削砥石24b同士の間に間隙が設けられる態様で環状に配列されている。
The plurality of block-shaped
研削砥石24bは、例えば、金属、セラミックス、樹脂等の結合材に、ダイヤモンド、cBN(cubic boron nitride)等の砥粒を混合して形成される。ただし、結合材や砥粒に制限はなく、研削対象に応じて適宜選択される。
The
保持面形成ステップS20では、まず、テーブル体6の下面2c側を、保持面12aで吸引保持する。その後、研削ホイール24をスピンドル20の周りに回転させた状態で、研削ユニット18を研削送りし、研削砥石24bで上面2a,4a側を研削する。上面2a,4a側を研削した後、水、超音波等を用いてテーブル体6を洗浄し、研削により生じた研削屑を除去する。
In the holding surface forming step S20, first, the
保持面形成ステップS20により、上面2a,4aは、略平坦となる。上面2a,4aが、略平坦であるとは、例えば、中心線平均粗さRaが5.0μm以下であることを意味する。本実施形態の上面2a,4aのRaは、基準長さ(輪郭曲線から抜き取った一定の部分の長さ)約2.4mmで、4.3μmである。
By the holding surface forming step S20, the
なお、中心線平均粗さRaに代えて、最大高さRyを用いて平坦性を規定してもよい。この場合、上面2a,4aが、略平坦であるとは、例えば、最大高さRyが25μm以下であることを意味する。本実施形態の上面2a,4aのRyは、基準長さ約2.4mmで、22.1μmである。
The flatness may be defined by using the maximum height Ry instead of the center line average roughness Ra. In this case, the fact that the
ポーラス板4の上面4aの平坦性は、被加工物11の加工に影響する。ガラス粒5で構成される上面4aに対して気孔7の割合が多いと、被加工物11の裏面11bを支持する面積の割合が少なくなり、被加工物11の裏面11b側における欠けが発生しやすくなる。
The flatness of the
本発明に係るポーラス板4は、セラミックス粒に比べて硬度の低いガラス粒5で形成されているので、セラミックス粒で形成されているポーラス板を研削する場合に比べて、弱い力で上面4aを研削できる。それゆえ、ポーラス板4の上面4aを平坦にしやすい。
Since the
略平坦な上面4aを用いることで、被加工物11を切削して製造されるチップの裏面側における欠けの発生を抑制できる。例えば、チップが、一辺の長さが1mm以下の矩形形状の小チップである場合に、略平坦な上面4aを有するポーラス板4が特に適している。
By using the substantially flat
保持面形成ステップS20の後、加熱炉26(図4参照)を用いて、テーブル体6を枠体2の軟化点以上且つ融点未満の温度で加熱する(加熱ステップS30)。図4は、加熱ステップS30を示す図である。
After the holding surface forming step S20, the
加熱炉26は、例えば、電気加熱式のヒーターを有する電気炉である。加熱炉26内の温度は、加熱炉26に設けられた温度制御装置(不図示)により、所定の温度となる様に制御される。
The
非多孔質の枠体2は、所定の温度(例えば、600℃)において軟化する。これに対して、多孔質のポーラス板4は、枠体2と同じ材料で形成されているが、気孔7を有するので、枠体2に比べて熱が伝わり難い。それゆえ、所定の温度において非多孔質の枠体2は、多孔質のポーラス板4に比べて早く軟化する。
The
本実施形態では、加熱炉26中にテーブル体6を配置し、炉内を大気雰囲気下で500℃以上650℃以下とする。この状態で、約30分以上約3時間以下の所定の時間、テーブル体6を加熱する。
In the present embodiment, the
なお、加熱ステップS30では、テーブル体6における温度分布の最適化や、枠体2の外周側面の変形防止を目的として、テーブル体6に接する様に、適宜、構造物を配置してもよい。
In the heating step S30, a structure may be appropriately arranged so as to be in contact with the
図5(A)は、加熱ステップS30前の枠体2の凹部2bの側面2b2における対面領域2e近傍の断面図であり、図5(B)は、加熱ステップS30後の枠体2の凹部2bの側面2b2における対面領域2e近傍の断面図である。
FIG. 5A is a cross-sectional view of the vicinity of the facing
加熱ステップS30では、凹部2bの底面2b1及び側面2b2のうち、ポーラス板4の側面4b及び下面4c(外表面)に対面する枠体2の対面領域2eが、ポーラス板4の側面4b及び下面4c(外表面)に比べて、早く軟化する。それゆえ、対面領域2eの方が、側面4b及び下面4c(外表面)に比べて大きく変形する。
In the heating step S30, of the
図5(B)に示す様に、ポーラス板4の側面4b(外表面)に対面する側面2b2の対面領域2eは、ガラス粒5の凹凸に倣うように変形して、側面4bの凹凸に密着する密着領域となる。
As shown in FIG. 5B, the facing
また、ポーラス板4の下面4c(外表面)に対面する底面2b1の対面領域も、ガラス粒5の凹凸に倣うように変形して、下面4cの凹凸に密着する密着領域となる。具体的には、底面2b1のうち、流路2d1,2d2,2d3,2d4を除く範囲が密着領域となる。
Further, the facing region of the
この様に、加熱ステップS30において、枠体2の対面領域は、ポーラス板4の側面4b及び下面4c(外表面)の凹凸に密着するので、接着剤を用いることなく、ポーラス板4を枠体2に固定できる。
As described above, in the heating step S30, the facing region of the
図6は、加熱ステップS30後のポーラスチャックテーブル8の断面図である。上述の様に、ガラス製の枠体2の上面2aと、ガラス製のポーラス板4の上面4aとは、被加工物11(図8、図9参照)を吸引保持するための保持面8aとして機能する。
FIG. 6 is a cross-sectional view of the porous chuck table 8 after the heating step S30. As described above, the
本実施形態では、ポーラス板4を構成する微小なガラス粒5の凹凸を枠体2の凹部2bに密着させることで、樹脂等の接着剤を用いることなく、枠体2とポーラス板4とが物理的に固定されたポーラスチャックテーブル8を製造できる。
In the present embodiment, the unevenness of the
次に、第2の実施形態について説明する。図7は、第2の実施形態に係るポーラスチャックテーブル8の製造方法のフロー図である。第2の実施形態は、テーブル体準備ステップS10の後、加熱ステップS30を行い、次いで、保持面形成ステップS32を行う。 Next, the second embodiment will be described. FIG. 7 is a flow chart of a manufacturing method of the porous chuck table 8 according to the second embodiment. In the second embodiment, after the table body preparation step S10, the heating step S30 is performed, and then the holding surface forming step S32 is performed.
係る点が、第1の実施形態と異なるが、他の点は、第1の実施形態と同じである。第2の実施形態でも、枠体2の対面領域が、ポーラス板4の側面4b及び下面4c(外表面)の凹凸に密着するので、接着剤を用いることなく、ポーラス板4を枠体2に固定できる。
This point is different from the first embodiment, but other points are the same as the first embodiment. Also in the second embodiment, since the facing region of the
次に、ガラス製のポーラスチャックテーブル8を用いて、被加工物11を加工する例を説明する。まず、ポーラスチャックテーブル8を備えるレーザー加工装置30を説明する。図8は、レーザー加工装置30の一部断面側面図である。
Next, an example of processing the
枠体2の流路2d1には、電磁弁32を介して、エジェクタ等の吸引源34が接続されている。吸引源34で発生した負圧は、流路2d1等を介して保持面8aに伝達される。保持面8aには、樹脂製の保護テープ13を介して被加工物11が吸引保持される。
A
被加工物11は、例えば、シリコンウェーハである。被加工物11の表面11aには、複数の分割予定ライン(不図示)が格子状に設定されている。複数の分割予定ラインで区画された各領域の表面11a側には、IC(Integrated Circuit)等のデバイス(不図示)が形成されている。
The
ポーラスチャックテーブル8の下部には、Z軸方向に略平行な回転軸の周りにポーラスチャックテーブル8を回転させるθテーブル(不図示)が連結されている。θテーブルの下部には、θテーブル及びポーラスチャックテーブル8をX軸方向(加工送り方向)へ移動させるX軸移動機構(不図示)が連結されている。 A θ table (not shown) for rotating the porous chuck table 8 is connected to the lower portion of the porous chuck table 8 around a rotation axis substantially parallel to the Z-axis direction. An X-axis moving mechanism (not shown) for moving the θ table and the porous chuck table 8 in the X-axis direction (machining feed direction) is connected to the lower part of the θ table.
また、保持面8aの上方には、レーザービーム照射ユニット36が配置されている。レーザービーム照射ユニット36は、レーザー発振器、所定の光学系、集光レンズ等(いずれも不図示)を有しており、被加工物11を透過する波長(例えば、1064nm)を有するパルス状のレーザービームLを、保持面8aに向けて照射する。
Further, a laser
被加工物11をレーザー加工する場合には、例えば、まず、被加工物11の表面11a側を保持面8aで吸引保持する。そして、1つの分割予定ラインがX軸方向と略平行になる様に、θテーブルでポーラスチャックテーブル8の向きを調整する。
When the
次いで、レーザービームLの集光点Pを被加工物11の所定の深さ位置に位置付けた状態で、集光点Pに対してポーラスチャックテーブル8をX軸方向に相対的に移動させる。これにより、集光点Pの移動経路に沿って、改質領域15が形成される。
Next, with the focusing point P of the laser beam L positioned at a predetermined depth position of the
改質領域15は、レーザービームLが照射されていない領域に比べて比較的脆弱な領域であり、被加工物11の内部では、改質領域15を起点として表面11a及び裏面11bへクラックが伸展する。
The modified
上述の様にポーラスチャックテーブル8は、枠体2もポーラス板4もガラスで形成されている。上述した赤外帯域の波長を有するレーザービームLは、ポーラスチャックテーブル8を透過するので、レーザービームLによりポーラスチャックテーブル8が損傷しないという利点がある。
As described above, in the porous chuck table 8, both the
次に、ガラス製のポーラスチャックテーブル38を備える研削装置40を説明する。図9は、研削装置40の一部断面側面図である。ポーラスチャックテーブル38は、上述の枠体2の上面2aと、ポーラス板4の上面4aと、から構成される保持面38aを有する。
Next, a grinding
但し、枠体2の底部の外周部には、環状の縁部2fを有する。縁部2fには、枠体2の周方向に沿って離散的に複数の貫通ねじ穴が形成されている。各ねじ穴に挿入されたねじ2gにより、ポーラスチャックテーブル38は、その下部に配置された回転駆動機構42に固定されている。
However, the outer peripheral portion of the bottom portion of the
ポーラスチャックテーブル8は、回転駆動機構42により、Z軸方向に略平行な所定の回転軸38bの周りに回転する。ポーラスチャックテーブル8と同様に、ポーラスチャックテーブル38の流路2d1等には、電磁弁44を介して、エジェクタ等の吸引源46が接続されている。
The porous chuck table 8 is rotated around a
吸引源46で発生した負圧は、流路2d1等を介して保持面38aに伝達される。保持面38aには、樹脂製の保護テープ13を介して被加工物11が吸引保持される。保持面8aの上方には、上述の研削ユニット18が配置されている。研削ユニット18は、図3と同じであるので、詳細な説明は省略する。
The negative pressure generated in the
被加工物11の裏面11b側を研削する場合には、保持面8aで表面11a側を吸引保持する。次いで、研削ホイール24をスピンドル20の周りに回転させた状態で、研削ユニット18を所定の速度で下方に研削送りし、裏面11bに研削砥石24bを押し当てることで裏面11b側を研削する。
When grinding the
ところで、一般的な研削装置では、チャックテーブルの保持面を修正するために、保持面を研削することがある(所謂、セルフグラインド)。一般的な研削装置では、ポーラス板が多孔質のセラミックスで形成され、枠体が非多孔質のセラミックスで形成されている。 By the way, in a general grinding apparatus, the holding surface may be ground in order to correct the holding surface of the chuck table (so-called self-grinding). In a general grinding apparatus, the porous plate is made of porous ceramics, and the frame is made of non-porous ceramics.
セラミックスは、通常、ガラスに比べて硬いので、セラミックス製のポーラス板及び枠体を研削するためには、研削ホイール24を保持面研削用の研削ホイールに交換する必要がある。
Since ceramics are usually harder than glass, it is necessary to replace the
しかし、ポーラスチャックテーブル38は、枠体2もポーラス板4もガラスで形成されている。それゆえ、保持面研削用の研削ホイールに交換すること無く、被加工物11を研削するための研削ホイール24で、保持面8aを研削できるという利点がある。
However, in the porous chuck table 38, both the
その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structure, method, and the like according to the above-described embodiment can be appropriately modified and implemented as long as they do not deviate from the scope of the object of the present invention.
2:枠体、2a:上面、2b:凹部、2b1:底面、2b2:側面、2c:下面
2d1,2d2,2d3,2d4:流路、2e:対面領域、2f:縁部、2g:ねじ
4:ポーラス板、4a:上面、4b:側面、4c:下面
5:ガラス粒、7:気孔
6:テーブル体、
8,38:ポーラスチャックテーブル、8a,38a:保持面、38b:回転軸
10:研削装置
11:被加工物、11a:表面、11b:裏面、13:保護テープ、15:改質領域
12:チャックテーブル、12a:保持面、12b:回転軸、14:吸引源
16:保護シート
18:研削ユニット、20:スピンドル、22:ホイールマウント
24:研削ホイール、24a:ホイール基台、24b:研削砥石
26:加熱炉、30:レーザー加工装置、32:電磁弁、34:吸引源
36:レーザービーム照射ユニット
40:研削装置、42:回転駆動機構、44:電磁弁、46:吸引源
L:レーザービーム、P:集光点
2: Frame body, 2a: Top surface, 2b: Concave part, 2b 1 : Bottom surface, 2b 2 : Side surface, 2c: Bottom surface 2d 1 , 2d 2 , 2d 3 , 2d 4 : Flow path, 2e: Face-to-face area, 2f: Edge , 2g: Screw 4: Porous plate, 4a: Top surface, 4b: Side surface, 4c: Bottom surface 5: Glass grain, 7: Pore 6: Table body,
8,38: Porous chuck table, 8a, 38a: Holding surface, 38b: Rotating shaft 10: Grinding device 11: Work piece, 11a: Front surface, 11b: Back surface, 13: Protective tape, 15: Modification area 12: Chuck Table, 12a: Holding surface, 12b: Rotating shaft, 14: Suction source 16: Protective sheet 18: Grinding unit, 20: Spindle, 22: Wheel mount 24: Grinding wheel, 24a: Wheel base, 24b: Grinding grindstone 26: Heating furnace, 30: Laser processing device, 32: Electromagnetic valve, 34: Suction source 36: Laser beam irradiation unit 40: Grinding device, 42: Rotary drive mechanism, 44: Electromagnetic valve, 46: Suction source L: Laser beam, P : Focus point
Claims (4)
ガラスで形成された多孔質のポーラス板を、ガラスで形成された非多孔質の枠体の凹部に嵌合させ、テーブル体を形成するテーブル体準備ステップと、
該テーブル体準備ステップの後、該テーブル体を該枠体の軟化点以上且つ融点未満の温度で加熱し、該枠体の該凹部のうち該ポーラス板の外表面に対面する対面領域を軟化させることで、該凹部の該対面領域を該ポーラス板の該外表面の凹凸に倣うように変形させて密着させ固定する加熱ステップと、を備えることを特徴とするポーラスチャックテーブルの製造方法。 It is a method of manufacturing a porous chuck table.
A table body preparation step of fitting a porous porous plate made of glass into a recess of a non-porous frame body made of glass to form a table body,
After the table body preparation step, the table body is heated at a temperature equal to or higher than the softening point of the frame body and lower than the melting point to soften the facing region of the concave portion of the frame body facing the outer surface of the porous plate. A method for manufacturing a porous chuck table, which comprises a heating step of deforming the facing region of the concave portion so as to imitate the unevenness of the outer surface of the porous plate to bring it into close contact with the porous plate.
該ポーラス板が嵌合される凹部を有するガラス製で非多孔質の枠体と、を備え、
該枠体の該凹部のうち該ポーラス板の外表面に対面する対面領域は、該ポーラス板の該外表面の凹凸に倣い、且つ、該ポーラス板の該外表面の凹凸に密着している密着領域を有することを特徴とするポーラスチャックテーブル。 With a glass and porous porous plate,
A glass, non-porous frame with recesses into which the porous plate is fitted.
The facing region of the concave portion of the frame body facing the outer surface of the porous plate follows the unevenness of the outer surface of the porous plate and is in close contact with the unevenness of the outer surface of the porous plate. A porous chuck table characterized by having an area.
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