JP2022073745A - Inspection system, inspection method, and method for manufacturing inspection system - Google Patents

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JP2022073745A JP2020183918A JP2020183918A JP2022073745A JP 2022073745 A JP2022073745 A JP 2022073745A JP 2020183918 A JP2020183918 A JP 2020183918A JP 2020183918 A JP2020183918 A JP 2020183918A JP 2022073745 A JP2022073745 A JP 2022073745A
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明子 北村
Akiko Kitamura
学 山本
Manabu Yamamoto
満 北村
Mitsuru Kitamura
陽介 上羽
Yosuke Ueba
啓史 川崎
Hiroshi Kawasaki
星子 山本
Seiko Yamamoto
秀明 小池
Hideaki Koike
一輝 北島
Kazuki Kitajima
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Abstract

To reduce the influence of an atmospheric temperature on a determination result of a state of an object.SOLUTION: An inspection system comprises: a generation unit that generates an object spectrum including information on the intensity of light reflected from or transmitted through an object; a processing unit that processes the object spectrum to calculate a plurality of parameter values at a plurality of wavelength points; and a determination unit that calculates, on the basis of a regression equation and the plurality of parameter values, the predicted molecular weight of a resin material of the object, so as to determine the state of the object. The regression equation is created on the basis of: a value obtained by processing a standard spectrum obtained by acquiring, at a predetermined atmospheric temperature, light reflected from or transmitted through a plurality of standard samples; and a value obtained by processing a duplicate standard spectrum generated by moving the standard spectrum in parallel to the wavelength direction.SELECTED DRAWING: Figure 24

Description

本開示の実施形態は、検査システム、検査方法、及び検査システムの製造方法に関する。 Embodiments of the present disclosure relate to inspection systems, inspection methods, and methods of manufacturing inspection systems.

対象物を非破壊で検査する方法が提案されている。例えば特許文献1は、光を樹脂に照射することによって得られたスペクトルに基づいて、樹脂の予測分子量を算出し、予測分子量に基づいて対象物の状態を検査する方法を開示している。 A non-destructive method of inspecting an object has been proposed. For example, Patent Document 1 discloses a method of calculating a predicted molecular weight of a resin based on a spectrum obtained by irradiating a resin with light and inspecting the state of an object based on the predicted molecular weight.

特開2019-86499号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2019-86499

予測分子量の算出に用いられるスペクトルは、当該スペクトルを生成するために用いられる反射光を取得する際の検査システムの温度や検査システムが置かれている雰囲気温度の影響を受ける。この結果、検査システムにより得られる検査結果も、検査システムの温度や雰囲気温度の影響を受ける。 The spectrum used to calculate the predicted molecular weight is affected by the temperature of the inspection system used to obtain the reflected light used to generate the spectrum and the ambient temperature in which the inspection system is located. As a result, the inspection result obtained by the inspection system is also affected by the temperature of the inspection system and the atmospheric temperature.

本開示の実施形態は、このような課題を解決し得る検査システム、検査方法、及び検査システムの製造方法を提供することを目的とする。 It is an object of the present disclosure to provide an inspection system, an inspection method, and a method for manufacturing an inspection system that can solve such a problem.

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
前記照射装置及び/又は前記検出装置を冷却する冷却部と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式が予め記憶された記憶部と、前記記憶部の前記回帰式及び前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する解析部と、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備える、検査システムである。
One embodiment of the present disclosure is an inspection system for inspecting the state of an object including a resin layer containing a resin material.
An irradiation device including an irradiation unit that irradiates the object with irradiation light,
A detection device that detects the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light.
A generator that generates an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
A cooling unit that cools the irradiation device and / or the detection device,
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing device that calculates the values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point.
Based on a storage unit in which a regression equation showing the relationship between a plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material is stored in advance, and a plurality of parameter values of the regression equation of the storage unit and the resin layer calculated by the processing apparatus. It is an inspection system including an analysis unit for calculating the predicted molecular weight of the resin material of the resin layer, and a determination unit for determining the state of the object based on the predicted molecular weight.

本開示の一実施形態による検査システムにおいて、前記冷却部は送風機であってもよい。 In the inspection system according to the embodiment of the present disclosure, the cooling unit may be a blower.

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式が予め記憶された記憶部と、前記記憶部の前記回帰式及び前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する解析部と、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を所定の雰囲気温度で取得することにより得られる標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における値、又は、前記複製標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、検査システムである。
One embodiment of the present disclosure is an inspection system for inspecting the state of an object including a resin layer containing a resin material.
An irradiation device including an irradiation unit that irradiates the object with irradiation light,
A detection device that detects the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light.
A generator that generates an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing device that calculates the values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point.
Based on a storage unit in which a regression equation showing the relationship between a plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material is stored in advance, the regression equation of the storage unit, and a plurality of parameter values of the resin layer calculated by the processing apparatus. A determination device including an analysis unit for calculating the predicted molecular weight of the resin material of the resin layer and a determination unit for determining the state of the object based on the predicted molecular weight is provided.
The regression equation is a plurality of wavelengths of a standard spectrum obtained by acquiring standard reflected light or standard transmitted light which is reflected light or transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a predetermined ambient temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a point, or the standard spectrum includes averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. The value obtained at a plurality of wavelength points by applying the treatment, the value of the light intensity represented by the duplicated standard spectrum generated by moving the standard spectrum in parallel in the wavelength direction, or the value at a plurality of wavelength points. Based on the values obtained at a plurality of wavelength points by subjecting the duplicated standard spectrum to a process including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. It is an inspection system created by.

本開示の一実施形態による検査システムにおいて、前記複製標準スペクトルは、前記標準スペクトルを波長方向に-0.5nm~+1.0nmの範囲で平行移動させることにより生成されてもよい。 In the inspection system according to one embodiment of the present disclosure, the duplicate standard spectrum may be generated by translating the standard spectrum in the range of −0.5 nm to +1.0 nm in the wavelength direction.

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
雰囲気温度を測定する温度モニタと、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式が予め記憶された記憶部と、前記記憶部の前記回帰式及び前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する解析部と、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第1の雰囲気温度で取得することにより得られる第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度で取得することにより得られる第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、検査システムである。
One embodiment of the present disclosure is an inspection system for inspecting the state of an object including a resin layer containing a resin material.
A temperature monitor that measures the ambient temperature,
An irradiation device including an irradiation unit that irradiates the object with irradiation light,
A detection device that detects the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light.
A generator that generates an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing device that calculates the values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point.
Based on a storage unit in which a regression equation showing the relationship between a plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material is stored in advance, and a plurality of parameter values of the regression equation of the storage unit and the resin layer calculated by the processing apparatus. A determination device including an analysis unit for calculating the predicted molecular weight of the resin material of the resin layer and a determination unit for determining the state of the object based on the predicted molecular weight is provided.
The regression equation is a first standard spectrum obtained by acquiring standard reflected light or standard transmitted light which is reflected light or transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or the first standard spectrum. Obtained by acquiring a value obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including a combination thereof and the standard reflected light or the standard transmitted light at a second atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the second standard spectrum, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, and baseline correction to the second standard spectrum. , Peak shift correction, or a process including a combination thereof, which is an inspection system created based on the values obtained at a plurality of wavelength points.

本開示の一実施形態による検査システムにおいて、
前記回帰式は、前記第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度及び前記第2の雰囲気温度とは異なる第3の雰囲気温度で取得することにより得られる第3標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第3標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成されてもよい。
In the inspection system according to the embodiment of the present disclosure.
The regression equation is a value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the first standard spectrum, or averaged, smoothed, normalized, differentiated, and scattered to the first standard spectrum. A value obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof, and the standard reflected light or the standard transmission at the plurality of wavelength points of the second standard spectrum. Multiple wavelengths by subjecting the second standard spectrum to a value of light intensity or processing including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. The value obtained at the point and the third standard spectrum obtained by acquiring the standard reflected light or the standard transmitted light at a third atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature and the second atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or the third standard spectrum. It may be created based on the values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including a combination thereof.

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
雰囲気温度を測定する温度モニタと、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す第1の回帰式及び第2の回帰式を含む複数の回帰式が予め記憶された記憶部と、前記記憶部の前記第1の回帰式及び前記第2の回帰式を含む複数の前記回帰式の中から選択された一の回帰式と前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する解析部と、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備え、
前記第1の回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を前記第1の雰囲気温度で取得することにより得られる第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記第2の回帰式は、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度で取得することにより得られる第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記解析部は、前記対象物の前記反射光又は前記透過光が取得された際に前記温度モニタで測定された前記雰囲気温度に応じて前記第1の回帰式及び前記第2の回帰式を含む複数の前記回帰式の中から一の回帰式を選択して、当該選択された回帰式と前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する、検査システムである。
One embodiment of the present disclosure is an inspection system for inspecting the state of an object including a resin layer containing a resin material.
A temperature monitor that measures the ambient temperature,
An irradiation device including an irradiation unit that irradiates the object with irradiation light,
A detection device that detects the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light.
A generator that generates an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing device that calculates the values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point.
A storage unit in which a plurality of regression equations including a first regression equation and a second regression equation showing the relationship between a plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material are stored in advance, and the first regression equation of the storage unit. And the resin material of the resin layer based on one regression equation selected from the plurality of regression equations including the second regression equation and a plurality of parameter values of the resin layer calculated by the processing apparatus. A determination device including an analysis unit for calculating a predicted molecular weight, a determination unit for determining the state of the object based on the predicted molecular weight, and a determination device.
The first regression equation is obtained by acquiring standard reflected light or standard transmitted light which is reflected light or transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at the first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of one standard spectrum, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, and peak to the first standard spectrum. It is created based on the values obtained at multiple wavelength points by performing shift correction or processing including a combination thereof.
The second regression equation is the said at a plurality of wavelength points of the second standard spectrum obtained by acquiring the standard reflected light or the standard transmitted light at a second atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature. Processing including standard reflected light or the value of the intensity of the standard transmitted light, or the second standard spectrum including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. Is created based on the values obtained at multiple wavelength points.
The analysis unit includes the first regression equation and the second regression equation according to the atmospheric temperature measured by the temperature monitor when the reflected light or the transmitted light of the object is acquired. One regression equation is selected from the plurality of regression equations, and the prediction of the resin material of the resin layer is based on the selected regression equation and the plurality of parameter values of the resin layer calculated by the processing apparatus. It is an inspection system that calculates the molecular weight.

本開示の一実施形態による検査システムにおいて、
複数の前記回帰式は、前記第1の回帰式と、前記第2の回帰式と、複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す第3の回帰式とを含み、
前記第3の回帰式は、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度及び前記第2の雰囲気温度とは異なる第3の雰囲気温度で取得することにより得られる第3標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第3標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記解析部は、前記対象物の前記反射光又は前記透過光が取得された際に前記温度モニタで測定された前記雰囲気温度に応じて前記第1の回帰式と前記第2の回帰式と前記第3の回帰式を含む複数の前記回帰式の中から一の回帰式を選択して、当該選択された回帰式と前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出してもよい。
In the inspection system according to the embodiment of the present disclosure.
The plurality of the regression equations include the first regression equation, the second regression equation, and a third regression equation showing the relationship between the plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material.
The third regression equation is a third standard spectrum obtained by acquiring the standard reflected light or the standard transmitted light at a third atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature and the second atmospheric temperature. Intensity value of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, to the third standard spectrum. Or it is created based on the values obtained at multiple wavelength points by performing a process including a combination thereof.
The analysis unit has the first regression equation, the second regression equation, and the second regression equation according to the atmospheric temperature measured by the temperature monitor when the reflected light or the transmitted light of the object is acquired. One regression equation is selected from the plurality of regression equations including the third regression equation, and the said regression equation is based on the selected regression equation and the plurality of parameter values of the resin layer calculated by the processing apparatus. The predicted molecular weight of the resin material of the resin layer may be calculated.

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
雰囲気温度を測定する温度モニタと、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式と前記回帰式及び前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて算出された前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を前記雰囲気温度に応じて補正する温度別補正式とが予め記憶された記憶部と、前記予測分子量を算出し、当該予測分子量を前記雰囲気温度に応じて前記温度別補正式で補正した補正分子量を算出する解析部と、前記補正分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備える、検査システムである。
One embodiment of the present disclosure is an inspection system for inspecting the state of an object including a resin layer containing a resin material.
A temperature monitor that measures the ambient temperature,
An irradiation device including an irradiation unit that irradiates the object with irradiation light,
A detection device that detects the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light.
A generator that generates an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing device that calculates the values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point.
A regression equation showing the relationship between a plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material, and a predicted molecular weight of the resin material of the resin layer calculated based on the regression equation and the plurality of parameter values of the resin layer calculated by the processing apparatus. A storage unit in which a temperature-specific correction formula for correcting the above atmospheric temperature is stored in advance, and a corrected molecular weight obtained by calculating the predicted molecular weight and correcting the predicted molecular weight according to the atmospheric temperature by the temperature-based correction formula. It is an inspection system including an analysis unit for calculating the above, a determination unit for determining the state of the object based on the corrected molecular weight, and a determination device including the determination unit.

本開示の一実施形態による検査システムにおいて、前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を所定の雰囲気温度で取得することにより得られる標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における値、又は、前記複製標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成されてもよい。 In the inspection system according to the embodiment of the present disclosure, the regression equation acquires standard reflected light or standard transmitted light which is reflected light or transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a predetermined ambient temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the standard spectrum obtained by the above, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, and baseline correction to the standard spectrum. , Peak shift correction, or a process including a combination thereof, and the value obtained at a plurality of wavelength points, and the light represented by the duplicated standard spectrum generated by moving the standard spectrum in parallel in the wavelength direction. Multiple values of intensity at multiple wavelength points, or by processing the duplicated standard spectrum to include averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. It may be created based on the value obtained at the wavelength point of.

本開示の一実施形態による検査システムにおいて、前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第1の雰囲気温度で取得することにより得られる第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準試料の反射光又は透過光を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度で取得することにより得られる第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成されてもよい。 In the inspection system according to the embodiment of the present disclosure, the regression equation is a standard reflected light or a standard transmitted light which is a reflected light or a transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the first standard spectrum obtained by acquisition, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, and scattering to the first standard spectrum. The value obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof, and the reflected light or transmitted light of the standard sample are different from the first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the second standard spectrum obtained by acquiring at the second atmospheric temperature, or averaging and smoothing to the second standard spectrum. It may be created based on the values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof.

本開示の一実施形態による検査システムにおいて、前記回帰式は、前記第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準試料の反射光又は透過光を前記第1の雰囲気温度及び前記第2の雰囲気温度とは異なる第3の雰囲気温度で取得することにより得られる第3標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第3標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成されてもよい。 In the inspection system according to one embodiment of the present disclosure, the regression equation is the value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the first standard spectrum, or averages to the first standard spectrum. Values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including normalization, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof, and a plurality of the second standard spectra. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at the wavelength point, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or their The value obtained at a plurality of wavelength points by performing the treatment including the combination, and the reflected light or the transmitted light of the standard sample at a third atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature and the second atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the third standard spectrum obtained by acquisition, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, and scattering to the third standard spectrum. It may be created based on the values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof.

本開示の一実施形態による検査システムは、前記照射装置及び/又は前記検出装置を冷却する冷却部を更に備えていてもよい。 The inspection system according to one embodiment of the present disclosure may further include a cooling unit for cooling the irradiation device and / or the detection device.

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
照射装置を用いて前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出装置によって検出する検出工程と、
前記照射装置及び/又は前記検出装置を冷却する冷却工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式及び前記処理工程において算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備える、検査方法である。
One embodiment of the present disclosure is an inspection method for inspecting the state of an object including a resin layer containing a resin material.
An inspection method for inspecting the condition of an object having a resin layer containing a resin material.
An irradiation step of irradiating the object with irradiation light using an irradiation device, and
A detection step of detecting the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light by a detection device.
A cooling step for cooling the irradiation device and / or the detection device, and
A generation step of generating an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing step of calculating values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point, and a processing step.
The predicted molecular weight of the resin material of the resin layer is calculated based on the regression equation showing the relationship between the plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material and the plurality of parameter values of the resin layer calculated in the processing step, and the prediction is made. It is an inspection method including a determination step of determining the state of the object based on the molecular weight.

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式及び前記処理工程で算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を所定の雰囲気温度で取得することにより得られる標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における値、又は、前記複製標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、検査方法である。
One embodiment of the present disclosure is an inspection method for inspecting the state of an object including a resin layer containing a resin material.
An inspection method for inspecting the condition of an object having a resin layer containing a resin material.
The irradiation step of irradiating the object with irradiation light and
A detection step for detecting the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light, and a detection step.
A generation step of generating an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing step of calculating values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point, and a processing step.
The predicted molecular weight of the resin material of the resin layer is calculated based on the regression equation showing the relationship between the plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material and the plurality of parameter values of the resin layer calculated in the processing step, and the prediction is made. A determination step of determining the state of the object based on the molecular weight is provided.
The regression equation is a plurality of wavelengths of a standard spectrum obtained by acquiring standard reflected light or standard transmitted light which is reflected light or transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a predetermined ambient temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a point, or the standard spectrum includes averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. The value obtained at a plurality of wavelength points by applying the treatment, the value of the light intensity represented by the duplicated standard spectrum generated by moving the standard spectrum in parallel in the wavelength direction, or the value at a plurality of wavelength points. Based on the values obtained at a plurality of wavelength points by subjecting the duplicated standard spectrum to a process including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. It is an inspection method created by.

本開示の一実施形態による検査方法において、前記複製標準スペクトルは、前記標準スペクトルを波長方向に-0.5nm~+1.0nmの範囲で平行移動させることにより生成されてもよい。 In the inspection method according to one embodiment of the present disclosure, the duplicate standard spectrum may be generated by translating the standard spectrum in the range of −0.5 nm to +1.0 nm in the wavelength direction.

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式及び前記処理工程で算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第1の雰囲気温度で取得することにより得られる第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度で取得することにより得られる第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、検査方法である。
One embodiment of the present disclosure is an inspection method for inspecting the state of an object including a resin layer containing a resin material.
The irradiation step of irradiating the object with irradiation light and
A detection step for detecting the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light, and a detection step.
A generation step of generating an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing step of calculating values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point, and a processing step.
The predicted molecular weight of the resin material of the resin layer is calculated based on the regression equation showing the relationship between the plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material and the plurality of parameter values of the resin layer calculated in the processing step, and the prediction is made. A determination step of determining the state of the object based on the molecular weight is provided.
The regression equation is a first standard spectrum obtained by acquiring standard reflected light or standard transmitted light which is reflected light or transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or the first standard spectrum. Obtained by acquiring a value obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including a combination thereof and the standard reflected light or the standard transmitted light at a second atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the second standard spectrum, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, and baseline correction to the second standard spectrum. , Peak shift correction, or a process including a combination thereof, which is an inspection method created based on the values obtained at a plurality of wavelength points.

本開示の一実施形態による検査方法において、前記回帰式は、前記第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度及び前記第2の雰囲気温度とは異なる第3の雰囲気温度で取得することにより得られる第3標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第3標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成されてもよい。 In the inspection method according to one embodiment of the present disclosure, the regression equation is the value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the first standard spectrum, or averages to the first standard spectrum. Values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including normalization, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof, and a plurality of the second standard spectra. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at the wavelength point, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or their The value obtained at a plurality of wavelength points by performing the treatment including the combination, and the standard reflected light or the standard transmitted light at a third atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature and the second atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the third standard spectrum obtained by acquisition, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, and scattering to the third standard spectrum. It may be created based on the values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof.

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
雰囲気温度を測定する温度測定工程と、
前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す第1の回帰式及び第2の回帰式を含む複数の回帰式の中から選択された一の回帰式と前記処理工程で算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備え、
前記第1の回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第1の雰囲気温度で取得することにより得られる第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記第2の回帰式は、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度で取得することにより得られる第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記判定工程では、前記対象物の前記反射光又は前記透過光が取得された際に前記温度測定工程で測定された前記雰囲気温度に応じて前記第1の回帰式及び前記第2の回帰式を含む複数の前記回帰式の中から一の回帰式を選択して、当該選択された回帰式と前記処理工程で算出された複数の前記パラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する、検査方法。
One embodiment of the present disclosure is an inspection method for inspecting the state of an object including a resin layer containing a resin material.
The temperature measurement process to measure the atmospheric temperature and
The irradiation step of irradiating the object with irradiation light and
A detection step for detecting the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light, and a detection step.
A generation step of generating an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing step of calculating values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point, and a processing step.
One regression equation selected from a plurality of regression equations including a first regression equation and a second regression equation showing the relationship between a plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material, and the calculation calculated in the processing step. A determination step of calculating the predicted molecular weight of the resin material of the resin layer based on a plurality of parameter values of the resin layer and determining the state of the object based on the predicted molecular weight is provided.
The first regression equation is obtained by acquiring standard reflected light or standard transmitted light which is reflected light or transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the standard spectrum, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, and peak shift to the first standard spectrum. Created based on values obtained at multiple wavelength points by correction or processing including combinations thereof.
The second regression equation is the said at a plurality of wavelength points of the second standard spectrum obtained by acquiring the standard reflected light or the standard transmitted light at a second atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature. Processing including standard reflected light or the value of the intensity of the standard transmitted light, or the second standard spectrum including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. Is created based on the values obtained at multiple wavelength points.
In the determination step, the first regression equation and the second regression equation are performed according to the atmospheric temperature measured in the temperature measuring step when the reflected light or the transmitted light of the object is acquired. One regression equation is selected from the plurality of regression equations including, and the predicted molecular weight of the resin material of the resin layer is predicted based on the selected regression equation and the plurality of parameter values calculated in the processing step. The inspection method to calculate.

本開示の一実施形態による検査方法において、複数の前記回帰式は、前記第1の回帰式と、前記第2の回帰式と、複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す第3の回帰式とを含み、
前記第3の回帰式は、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度及び前記第2の雰囲気温度とは異なる第3の雰囲気温度で取得することにより得られる第3標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記判定工程では、前記対象物の前記反射光又は前記透過光が取得された際に前記温度測定工程で測定された前記雰囲気温度に応じて前記第1の回帰式と前記第2の回帰式と前記第3の回帰式を含む複数の前記回帰式の中から一の回帰式を選択して、当該選択された回帰式と前記処理工程で算出された複数の前記パラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出してもよい。
In the inspection method according to the embodiment of the present disclosure, the plurality of the regression equations are the first regression equation, the second regression equation, and the third parameter showing the relationship between the plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material. Including the regression equation of
The third regression equation is a third standard spectrum obtained by acquiring the standard reflected light or the standard transmitted light at a third atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature and the second atmospheric temperature. Intensity value of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, to the second standard spectrum. Or it is created based on the values obtained at multiple wavelength points by performing a process including a combination thereof.
In the determination step, the first regression equation and the second regression equation are obtained according to the atmospheric temperature measured in the temperature measuring step when the reflected light or the transmitted light of the object is acquired. One regression equation is selected from the plurality of regression equations including the third regression equation, and the resin is based on the selected regression equation and the plurality of parameter values calculated in the processing step. The predicted molecular weight of the resin material of the layer may be calculated.

本開示の一実施形態は、樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
雰囲気温度を測定する温度測定工程と、
前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式及び前記処理工程で算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量を前記温度測定工程で測定された雰囲気温度に応じた温度別補正式で補正することにより補正分子量を算出し、前記補正分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備える、検査方法である。
One embodiment of the present disclosure is an inspection method for inspecting the state of an object including a resin layer containing a resin material.
The temperature measurement process to measure the atmospheric temperature and
The irradiation step of irradiating the object with irradiation light and
A detection step for detecting the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light, and a detection step.
A generation step of generating an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing step of calculating values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point, and a processing step.
The predicted molecular weight of the resin material of the resin layer is calculated based on the regression equation showing the relationship between the plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material and the plurality of parameter values of the resin layer calculated in the processing step, and the prediction is made. The present invention comprises a determination step of calculating a corrected molecular weight by correcting the molecular weight by a temperature-based correction formula according to the atmospheric temperature measured in the temperature measuring step and determining the state of the object based on the corrected molecular weight. , Inspection method.

本開示の一実施形態による検査方法において、前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を所定の雰囲気温度で取得することにより得られる標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における値、又は、前記複製標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成されてもよい。 In the inspection method according to the embodiment of the present disclosure, the regression equation acquires standard reflected light or standard transmitted light which is reflected light or transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a predetermined ambient temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the standard spectrum obtained by the above, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, and baseline correction to the standard spectrum. , Peak shift correction, or a process including a combination thereof, and the value obtained at a plurality of wavelength points, and the light represented by the duplicated standard spectrum generated by moving the standard spectrum in parallel in the wavelength direction. Multiple by applying a process including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof to the values at a plurality of wavelength points of the intensity or the duplicated standard spectrum. It may be created based on the value obtained at the wavelength point of.

本開示の一実施形態による検査方法において、前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第1の雰囲気温度で取得することにより得られる第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度で取得することにより得られる第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成されてもよい。 In the inspection method according to the embodiment of the present disclosure, the regression equation is a standard reflected light or a standard transmitted light which is a reflected light or a transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the first standard spectrum obtained by acquisition, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, and scattering to the first standard spectrum. The value obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof, and the standard reflected light or the standard transmitted light are different from the first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the second standard spectrum obtained by acquiring at the second atmospheric temperature, or averaging and smoothing to the second standard spectrum. It may be created based on the values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof.

本開示の一実施形態による検査方法において、前記回帰式は、前記第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度及び前記第2の雰囲気温度とは異なる第3の雰囲気温度で取得することにより得られる第3標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成されてもよい。 In the inspection method according to one embodiment of the present disclosure, the regression equation is the value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the first standard spectrum, or averages to the first standard spectrum. Values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including normalization, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof, and a plurality of the second standard spectra. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at the wavelength point, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or their The value obtained at a plurality of wavelength points by performing the treatment including the combination, and the standard reflected light or the standard transmitted light at a third atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature and the second atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the third standard spectrum obtained by acquisition, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, and scattering to the second standard spectrum. It may be created based on the values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof.

本開示の一実施形態による検査方法において、
前記照射光は照射装置によって照射され、
前記反射光又は前記透過光の強度は検出装置によって検出され、
前記検査方法は、前記照射装置及び/又は前記検出装置を冷却する冷却工程を更に備えてもよい。
In the inspection method according to the embodiment of the present disclosure,
The irradiation light is irradiated by an irradiation device and
The intensity of the reflected light or the transmitted light is detected by the detection device, and the intensity is detected.
The inspection method may further include a cooling step of cooling the irradiation device and / or the detection device.

本開示の一実施形態は、上記検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料に照射光を照射する標準試料照射工程と、
前記照射光を複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む、複数の標準スペクトルを取得する標準スペクトル生成工程と、
複数の標準スペクトルの複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、複数の前記標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値としてそれぞれ算出する標準試料処理工程と、
各標準試料の複数のパラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する解析工程と、を備える、検査システムの製造方法である。
One embodiment of the present disclosure is a method for manufacturing the above inspection system.
A standard sample irradiation step of irradiating a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight with irradiation light, and
A standard sample detection step for detecting the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples with the irradiation light, and a standard sample detection step.
A standard spectrum generation step of acquiring a plurality of standard spectra, each containing information regarding the intensity of the reflected light or the transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the reflected light or transmitted light at multiple wavelength points of the plurality of standard spectra, or averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, for each of the plurality of standard spectra. A standard sample processing step in which values obtained at a plurality of wavelength points by performing a peak shift correction or a process including a combination thereof are calculated as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point.
It is a manufacturing method of an inspection system including an analysis step of creating a regression equation expressing a relationship between a plurality of parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample by using a multivariate analysis method.

本開示の一実施形態は、上記検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料に照射光を照射する標準試料照射工程と、
前記照射光を複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む、複数の標準スペクトルを取得する標準スペクトル生成工程と、
前記標準スペクトル及び前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトル及び前記複製標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値としてそれぞれ算出する標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する解析工程と、を備える、検査システムの製造方法である。
One embodiment of the present disclosure is a method for manufacturing the above inspection system.
A standard sample irradiation step of irradiating a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight with irradiation light, and
A standard sample detection step for detecting the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples with the irradiation light, and a standard sample detection step.
A standard spectrum generation step of acquiring a plurality of standard spectra, each containing information regarding the intensity of the reflected light or the transmitted light at a plurality of wavelength points.
The value of the intensity of the reflected or transmitted light at a plurality of wavelength points of the intensity of the light represented by the standard spectrum and the duplicated standard spectrum generated by moving the standard spectrum in parallel in the wavelength direction, or the above. It is obtained at a plurality of wavelength points by subjecting each of the standard spectrum and the duplicated standard spectrum to a process including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. A standard sample processing step in which values are calculated as multiple parameter values corresponding to each wavelength point, and
A method for manufacturing an inspection system, comprising an analysis step of creating a regression equation expressing the relationship between a plurality of the parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample by using a multivariate analysis method. ..

本開示の一実施形態は、上記検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料を第1の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第1標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第1の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第1標準反射光又は第1標準透過光の強度を検出する第1標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第1標準反射光又は前記第1標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第1標準スペクトルを取得する第1標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第1標準スペクトルの複数の波長点における前記第1標準反射光又は前記第1標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第1標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第1標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第1標準試料処理工程と、
複数の前記標準試料を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第2標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第2の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第2標準反射光又は第2標準透過光の強度を検出する第2標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第2標準反射光又は前記第2標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第2標準スペクトルを取得する第2標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第2標準スペクトルの複数の波長点における前記第2標準反射光又は前記第2標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第2標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第2標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第2標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第1標準パラメータ値及び複数の前記第2標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する解析工程と、を備える、検査システムの製造方法である。
One embodiment of the present disclosure is a method for manufacturing the above inspection system.
A first standard sample irradiation step of irradiating a plurality of standard samples with irradiation light by placing a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a first atmospheric temperature.
A first standard reflected light or a first standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the first atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 1 Standard sample detection process and
A first standard spectrum generation step of acquiring a plurality of first standard spectra, each containing information about the intensity of the first standard reflected light or the first standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the first standard reflected light or the first standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the first standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the first standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of first standard parameter values corresponding to each wavelength point. The first standard sample processing step to be calculated respectively, and
A second standard sample irradiation step of irradiating the plurality of standard samples with irradiation light by placing the plurality of the standard samples at a second atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature.
A second standard reflected light or a second standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the second atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 2 Standard sample detection process and
A second standard spectrum generation step of acquiring a plurality of second standard spectra, each containing information about the intensity of the second standard reflected light or the second standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the second standard reflected light or the second standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the second standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the second standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of second standard parameter values corresponding to each wavelength point. The second standard sample processing step to be calculated respectively, and
An analysis step for creating a regression equation expressing the relationship between a plurality of the first standard parameter values and a plurality of the second standard parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample using a multivariate analysis method. It is a manufacturing method of an inspection system including.

本開示の一実施形態は、上記検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料を第1の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第1標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第1の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第1標準反射光又は第1標準透過光の強度を検出する第1標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第1標準反射光又は前記第1標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第1標準スペクトルを取得する第1標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第1標準スペクトルの複数の波長点における前記第1標準反射光又は前記第1標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第1標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第1標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第1標準試料処理工程と、
複数の前記標準試料を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第2標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第2の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第2標準反射光又は第2標準透過光の強度を検出する第2標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第2標準反射光又は前記第2標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第2標準スペクトルを取得する第2標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第2標準スペクトルの複数の波長点における前記第2標準反射光又は前記第2標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第2標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第2標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第2標準試料処理工程と、
複数の前記標準試料を前記第1の雰囲気温度及び前記第2の雰囲気温度とは異なる第3の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第3標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第3の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第3標準反射光又は第3標準透過光の強度を検出する第3標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第3標準反射光又は前記第3標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第3標準スペクトルを取得する第3標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第3標準スペクトルの複数の波長点における前記第3標準反射光又は前記第3標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第3標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第3標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第3標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第1標準パラメータ値、複数の前記第2標準パラメータ値及び複数の前記第3標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する解析工程と、を備える、検査システムの製造方法である。
One embodiment of the present disclosure is a method for manufacturing the above inspection system.
A first standard sample irradiation step of irradiating a plurality of standard samples with irradiation light by placing a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a first atmospheric temperature.
A first standard reflected light or a first standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the first atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 1 Standard sample detection process and
A first standard spectrum generation step of acquiring a plurality of first standard spectra, each containing information about the intensity of the first standard reflected light or the first standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the first standard reflected light or the first standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the first standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the first standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of first standard parameter values corresponding to each wavelength point. The first standard sample processing step to be calculated respectively, and
A second standard sample irradiation step of irradiating the plurality of standard samples with irradiation light by placing the plurality of the standard samples at a second atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature.
A second standard reflected light or a second standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the second atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 2 Standard sample detection process and
A second standard spectrum generation step of acquiring a plurality of second standard spectra, each containing information about the intensity of the second standard reflected light or the second standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the second standard reflected light or the second standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the second standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the second standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of second standard parameter values corresponding to each wavelength point. The second standard sample processing step to be calculated respectively, and
A third standard sample irradiation step of irradiating the plurality of standard samples with irradiation light by placing the plurality of the standard samples at a third atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature and the second atmospheric temperature.
A third standard reflected light or a third standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the third atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 3 Standard sample detection process and
A third standard spectrum generation step of acquiring a plurality of third standard spectra, each containing information on the intensity of the third standard reflected light or the third standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the third standard reflected light or the third standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the third standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the third standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of third standard parameter values corresponding to each wavelength point. The third standard sample processing step to be calculated respectively, and
A regression equation expressing the relationship between the plurality of the first standard parameter values, the plurality of the second standard parameter values, and the plurality of the third standard parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample is multivariate. It is a manufacturing method of an inspection system including an analysis process created by using an analysis method.

本開示の一実施形態は、上記検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料を第1の雰囲気温度に置いて前記標準試料に照射光を照射する第1標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第1の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第1標準反射光又は第1標準透過光の強度を検出する第1標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第1標準反射光又は前記第1標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第1標準スペクトルを取得する第1標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第1標準スペクトルの複数の波長点における前記第1標準反射光又は前記第1標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第1標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第1標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第1標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第1標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第1の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第1解析工程と、
複数の前記標準試料を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第2標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第2の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第2標準反射光又は第2標準透過光の強度を検出する第2標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第2標準反射光又は前記第2標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第2標準スペクトルを取得する第2標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第2標準スペクトルの複数の波長点における前記第2標準反射光又は前記第2標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第2標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第2標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第2標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第2標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第2の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第2解析工程と、を備える、検査システムの製造方法である。
One embodiment of the present disclosure is a method for manufacturing the above inspection system.
A first standard sample irradiation step of irradiating the standard sample with irradiation light by placing a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a first atmospheric temperature.
A first standard reflected light or a first standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the first atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 1 Standard sample detection process and
A first standard spectrum generation step of acquiring a plurality of first standard spectra, each containing information about the intensity of the first standard reflected light or the first standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the first standard reflected light or the first standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the first standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the first standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of first standard parameter values corresponding to each wavelength point. The first standard sample processing step to be calculated respectively, and
A first analysis step of creating a first regression equation expressing the relationship between a plurality of the first standard parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample by using a multivariate analysis method.
A second standard sample irradiation step of irradiating the plurality of standard samples with irradiation light by placing the plurality of the standard samples at a second atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature.
A second standard reflected light or a second standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the second atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 2 Standard sample detection process and
A second standard spectrum generation step of acquiring a plurality of second standard spectra, each containing information about the intensity of the second standard reflected light or the second standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the second standard reflected light or the second standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the second standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the second standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of second standard parameter values corresponding to each wavelength point. The second standard sample processing step to be calculated respectively, and
A second analysis step of creating a second regression equation expressing the relationship between a plurality of the second standard parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample by using a multivariate analysis method is provided. , A method of manufacturing an inspection system.

本開示の一実施形態は、上記検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料を第1の雰囲気温度に置いて前記標準試料に照射光を照射する第1標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第1の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第1標準反射光又は第1標準透過光の強度を検出する第1標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第1標準反射光又は前記第1標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第1標準スペクトルを取得する第1標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第1標準スペクトルの複数の波長点における前記第1標準反射光又は前記第1標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第1標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第1標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第1標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第1標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第1の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第1解析工程と、
複数の前記標準試料を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第2標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第2の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第2標準反射光又は第2標準透過光の強度を検出する第2標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第2標準反射光又は前記第2標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第2標準スペクトルを取得する第2標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第2標準スペクトルの複数の波長点における前記第2標準反射光又は前記第2標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第2標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第2標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第2標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第2標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第2の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第2解析工程と、
複数の前記標準試料を前記第1の雰囲気温度及び前記第2の雰囲気温度とは異なる第3の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第3標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第3の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第3標準反射光又は第3標準透過光の強度を検出する第3標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第3標準反射光又は前記第3標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第3標準スペクトルを取得する第3標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第3標準スペクトルの複数の波長点における前記第3標準反射光又は前記第3標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第3標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第3標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第3標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第2標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第3の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第3解析工程と、
を備える、検査システムの製造方法である。
One embodiment of the present disclosure is a method for manufacturing the above inspection system.
A first standard sample irradiation step of irradiating the standard sample with irradiation light by placing a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a first atmospheric temperature.
A first standard reflected light or a first standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the first atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 1 Standard sample detection process and
A first standard spectrum generation step of acquiring a plurality of first standard spectra, each containing information about the intensity of the first standard reflected light or the first standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the first standard reflected light or the first standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the first standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the first standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of first standard parameter values corresponding to each wavelength point. The first standard sample processing step to be calculated respectively, and
A first analysis step of creating a first regression equation expressing the relationship between a plurality of the first standard parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample by using a multivariate analysis method.
A second standard sample irradiation step of irradiating the plurality of standard samples with irradiation light by placing the plurality of the standard samples at a second atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature.
A second standard reflected light or a second standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the second atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 2 Standard sample detection process and
A second standard spectrum generation step of acquiring a plurality of second standard spectra, each containing information about the intensity of the second standard reflected light or the second standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the second standard reflected light or the second standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the second standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the second standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of second standard parameter values corresponding to each wavelength point. The second standard sample processing step to be calculated respectively, and
A second analysis step of creating a second regression equation expressing the relationship between a plurality of the second standard parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample by using a multivariate analysis method.
A third standard sample irradiation step of irradiating the plurality of standard samples with irradiation light by placing the plurality of the standard samples at a third atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature and the second atmospheric temperature.
A third standard reflected light or a third standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the third atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 3 Standard sample detection process and
A third standard spectrum generation step of acquiring a plurality of third standard spectra, each containing information on the intensity of the third standard reflected light or the third standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the third standard reflected light or the third standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the third standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the third standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of third standard parameter values corresponding to each wavelength point. The third standard sample processing step to be calculated respectively, and
A third analysis step of creating a third regression equation expressing the relationship between a plurality of the second standard parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample by using a multivariate analysis method.
It is a manufacturing method of an inspection system.

本開示の一実施形態によれば、検査システムの温度や雰囲気温度が検査結果に与える影響を低減させることができる。 According to one embodiment of the present disclosure, it is possible to reduce the influence of the temperature of the inspection system and the atmospheric temperature on the inspection result.

一実施形態に係る対象物を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the object which concerns on one Embodiment. 一実施形態に係る検査システムを示すブロック図である。It is a block diagram which shows the inspection system which concerns on one Embodiment. 一実施形態に係る検査システムの照射装置及び検出装置を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the irradiation apparatus and the detection apparatus of the inspection system which concerns on one Embodiment. 照射装置及び検出装置を収容するケースの一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of the case which accommodates an irradiation apparatus and a detection apparatus. 検査システムの一使用例を示す図である。It is a figure which shows one use example of an inspection system. 検査工程の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of an inspection process. 検査用校正スペクトル生成工程の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the calibration spectrum generation process for inspection. 校正試料に照射光を照射する工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the process of irradiating a calibration sample with irradiation light. 対象パラメータ値算出工程の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the target parameter value calculation process. 検査システム製造工程の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of an inspection system manufacturing process. 回帰式作成工程の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the regression equation creation process. 標準パラメータ値算出工程の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the standard parameter value calculation process. 第1ノイズ評価工程の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the 1st noise evaluation process. 対象スペクトルの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the target spectrum. 平均化スペクトルの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the averaging spectrum. 対象スペクトルと平均化スペクトルの差の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the difference between a target spectrum and an averaged spectrum. 第2ノイズ評価工程の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the 2nd noise evaluation process. 校正スペクトルの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the calibration spectrum. 対象スペクトルの例を示す図である。It is a figure which shows the example of the target spectrum. 対象スペクトルの例を示す図である。It is a figure which shows the example of the target spectrum. 対象スペクトルの例を示す図である。It is a figure which shows the example of the target spectrum. 予測分子量の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the predicted molecular weight. 予測分子量の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the predicted molecular weight. 一実施形態に係る検査システムを示すブロック図である。It is a block diagram which shows the inspection system which concerns on one Embodiment. 標準スペクトル及び複製標準スペクトルの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a standard spectrum and a duplicate standard spectrum. 対象物の樹脂材料の予測分子量と実際の分子量との関係の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the relationship between the predicted molecular weight and the actual molecular weight of the resin material of an object. 対象物の樹脂材料の予測分子量と実際の分子量との関係の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the relationship between the predicted molecular weight and the actual molecular weight of the resin material of an object. 一実施形態に係る検査システムを示すブロック図である。It is a block diagram which shows the inspection system which concerns on one Embodiment. 標準試料の樹脂材料の予測分子量と実際の分子量との関係の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the relationship between the predicted molecular weight and the actual molecular weight of the resin material of a standard sample. 対象物の樹脂材料の補正分子量と実際の分子量との関係の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the relationship between the corrected molecular weight of the resin material of an object, and the actual molecular weight. 一実施形態に係る検査システムを示すブロック図である。It is a block diagram which shows the inspection system which concerns on one Embodiment. 対象物の樹脂材料の補正分子量と実際の分子量との関係の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the relationship between the corrected molecular weight of the resin material of an object, and the actual molecular weight. 一実施形態に係る検査システムを示すブロック図である。It is a block diagram which shows the inspection system which concerns on one Embodiment. ケースの一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of a case. ケースの一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of a case.

本開示の実施形態に係る対象物及び検査システムの構成について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示はこれらの実施形態に限定して解釈されるものではない。本発明において、「基材」や「シート」などの用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「基材」は、シートやフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念である。 The configuration of the object and the inspection system according to the embodiment of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings. It should be noted that the embodiments shown below are examples of the embodiments of the present disclosure, and the present disclosure is not construed as being limited to these embodiments. In the present invention, terms such as "base material" and "sheet" are not distinguished from each other based only on the difference in designation. For example, "base material" is a concept that includes members that may be called sheets or films.

本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈する。 The terms such as "parallel" and "orthogonal" and the values of length and angle used in the present specification to specify the shape and geometric conditions and their degrees are not bound by a strict meaning. , Interpret including the range where similar functions can be expected.

本明細書において、あるパラメータに関して複数の上限値の候補及び複数の下限値の候補が挙げられている場合、そのパラメータの数値範囲は、任意の1つの上限値の候補と任意の1つの下限値の候補とを組み合わせることによって構成されてもよい。例えば、「パラメータPは、例えばQ1以上であり、Q2以上であってもよく、Q3以上であってもよい。パラメータPは、例えばQ4以下であり、Q5以下であってもよく、Q6以下であってもよい。」と記載されている場合を考える。この場合、パラメータPの数値範囲は、Q1以上Q4以下であってもよく、Q1以上Q5以下であってもよく、Q1以上Q6以下であってもよく、Q2以上Q4以下であってもよく、Q2以上Q5以下であってもよく、Q2以上Q6以下であってもよく、Q3以上Q4以下であってもよく、Q3以上Q5以下であってもよく、Q3以上Q6以下であってもよい。 In the present specification, when a plurality of candidates for an upper limit value and a plurality of candidates for a lower limit value are listed for a certain parameter, the numerical range of the parameter is any one candidate for the upper limit value and any one lower limit value. It may be configured by combining with the candidates of. For example, "The parameter P may be, for example, Q1 or more, Q2 or more, or Q3 or more. The parameter P may be, for example, Q4 or less, Q5 or less, or Q6 or less. It may be. " In this case, the numerical range of the parameter P may be Q1 or more and Q4 or less, Q1 or more and Q5 or less, Q1 or more and Q6 or less, or Q2 or more and Q4 or less. It may be Q2 or more and Q5 or less, Q2 or more and Q6 or less, Q3 or more and Q4 or less, Q3 or more and Q5 or less, or Q3 or more and Q6 or less.

本実施形態で参照する図面において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号又は類似の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上実際の比率とは異なる場合や、構成の一部が図面から省略される場合がある。 In the drawings referred to in the present embodiment, the same parts or parts having similar functions are designated by the same reference numerals or similar reference numerals, and the repeated description thereof may be omitted. Further, the dimensional ratio of the drawing may differ from the actual ratio for convenience of explanation, or a part of the configuration may be omitted from the drawing.

(第1の実施の形態)
図1は、対象物10の一例を示す図である。対象物10は、例えば樹脂シートである。樹脂シートは、床材などの建材の化粧シート、農業用シート、半導体素子の封止シート、包装用シートなど、様々な用途で用いられる。
(First Embodiment)
FIG. 1 is a diagram showing an example of an object 10. The object 10 is, for example, a resin sheet. Resin sheets are used in various applications such as decorative sheets for building materials such as flooring materials, agricultural sheets, sealing sheets for semiconductor elements, and packaging sheets.

対象物10は、基材シート11と、基材シート11に積層された樹脂層12と、を備える。樹脂層12は、基材シート11の面の全域に設けられていてもよく、若しくは、模様を呈するように基材シート11の面に部分的に設けられていてもよい。以下の説明において、樹脂層12側に位置する対象物10の面を第1面10xと称し、基材シート11側に位置する対象物10の面を第2面10yと称する。 The object 10 includes a base sheet 11 and a resin layer 12 laminated on the base sheet 11. The resin layer 12 may be provided on the entire surface of the base sheet 11, or may be partially provided on the surface of the base sheet 11 so as to exhibit a pattern. In the following description, the surface of the object 10 located on the resin layer 12 side is referred to as a first surface 10x, and the surface of the object 10 located on the base sheet 11 side is referred to as a second surface 10y.

基材シート11は、例えば紙、合成樹脂、金属、セラミック、薬剤などを含む。より具体的には、基材シート11は、セルロース樹脂を含んでいてもよく、ポリプロピレンなどのオレフィン系合成樹脂を含んでいてもよい。基材シート11の坪量は、例えば50g/m以上である。基材シート11の坪量は、例えば300g/m以下であり、120g/m以下であってもよい。 The base sheet 11 contains, for example, paper, synthetic resin, metal, ceramic, chemicals and the like. More specifically, the base sheet 11 may contain a cellulosic resin or may contain an olefin-based synthetic resin such as polypropylene. The basis weight of the base sheet 11 is, for example, 50 g / m 2 or more. The basis weight of the base sheet 11 is, for example, 300 g / m 2 or less, and may be 120 g / m 2 or less.

樹脂層12は、樹脂材料を含む。樹脂層12に含まれる樹脂材料は、特に限定されないが、例えば高分子樹脂である。高分子樹脂の例としては、ポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂(PVC)、ポリビニルアルコール樹脂(PVA)、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイミドなどを挙げることができる。
ポリエチレン系樹脂の例としては、ポリエチレンの他、エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂(EVA)、エチレン-αオレフィン共重合体などの、エチレンとエチレン以外の成分とをモノマーとするエチレン共重合体などを挙げることができる。また、樹脂層12は、ゴムを含んでいてもよい。ゴムの例としては、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニトリル-ブタジエン共重合ゴム、スチレン-ブタジエン共重合ゴムなどを挙げることができる。樹脂層12の厚みは、例えば50μm以上である。樹脂層12の厚みは、例えば40μm以上である。樹脂層12の厚みは、700μm以下であってもよい。
後述するように、樹脂層12は、樹脂材料に加えて、発泡剤又は発泡助剤を含んでいてもよい。この場合、発泡前の樹脂層12の厚みは、例えば40μm以上100μm以下である。発泡後の樹脂層12の厚みは、例えば300μm以上700μm以下である。
The resin layer 12 contains a resin material. The resin material contained in the resin layer 12 is not particularly limited, but is, for example, a polymer resin. Examples of polymer resins include polyethylene resin, polyvinyl chloride resin (PVC), polyvinyl alcohol resin (PVA), polypropylene, polystyrene, polyvinyl acetate, acrylic resin, polyethylene terephthalate, polyester, polyamide, polycarbonate, polyurethane, and polyimide. And so on.
Examples of polyethylene-based resins include ethylene-vinyl acetate copolymer resin (EVA), ethylene-α-olefin copolymer, and other ethylene copolymers containing ethylene and components other than ethylene as monomers, in addition to polyethylene. Can be mentioned. Further, the resin layer 12 may contain rubber. Examples of the rubber include isoprene rubber, butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber, styrene-butadiene copolymer rubber and the like. The thickness of the resin layer 12 is, for example, 50 μm or more. The thickness of the resin layer 12 is, for example, 40 μm or more. The thickness of the resin layer 12 may be 700 μm or less.
As will be described later, the resin layer 12 may contain a foaming agent or a foaming aid in addition to the resin material. In this case, the thickness of the resin layer 12 before foaming is, for example, 40 μm or more and 100 μm or less. The thickness of the resin layer 12 after foaming is, for example, 300 μm or more and 700 μm or less.

樹脂層12は、顔料などの着色材を更に含んでいてもよい。顔料は、無機顔料であってもよく、有機顔料であってもよい。無機顔料の例としては、酸化チタン、亜鉛華、カーボンブラック、黒色酸化鉄、黄色酸化鉄、黄鉛、モリブデートオレンジ、カドミウムイエロー、ニッケルチタンイエロー、クロムチタンイエロー、酸化鉄(弁柄)、カドミウムレッド、群青、紺青、コバルトブルー、酸化クロム、コバルトグリーン、アルミニウム粉、ブロンズ粉、雲母チタン、硫化亜鉛等が挙げられる。また、有機顔料の例としては、アニリンブラック、ペリレンブラック、アゾ系(アゾレーキ、不溶性アゾ、縮合アゾ)、多環式(イソインドリノン、イソインドリン、キノフタロン、ペリノン、フラバントロン、アントラピリミジン、アントラキノン、キナクリドン、ペリレン、ジケトピロロピロール、ジブロムアンザントロン、ジオキサジン、チオインジゴ、フタロシアニン、インダントロン、ハロゲン化フタロシアニン)等が挙げられる。樹脂層12における顔料の含有量は、樹脂成分100質量部に対して、例えば5質量部以上であってもよく、15質量部以上であってもよい。樹脂層12における顔料の含有量は、樹脂成分100質量部に対して、例えば50質量部以下であってもよく、30質量部以下であってもよい。 The resin layer 12 may further contain a coloring material such as a pigment. The pigment may be an inorganic pigment or an organic pigment. Examples of inorganic pigments are titanium oxide, zinc flower, carbon black, black iron oxide, yellow iron oxide, yellow lead, molybdate orange, cadmium yellow, nickel titanium yellow, chrome titanium yellow, iron oxide (valve handle), cadmium. Examples thereof include red, ultramarine blue, dark blue, cobalt blue, chromium oxide, cobalt green, aluminum powder, bronze powder, mica titanium, zinc sulfide and the like. Examples of organic pigments include aniline black, perylene black, azo (azolake, insoluble azo, condensed azo), polycyclic (isoindoline, isoindoline, quinophthalone, perinone, flavantron, anthrapyrimidine, anthraquinone, etc.). Quinacridone, perylene, diketopyrrolopyrrole, dibrom anzantron, dioxazine, thioindigo, phthalocyanine, indantron, halogenated phthalocyanine) and the like can be mentioned. The content of the pigment in the resin layer 12 may be, for example, 5 parts by mass or more, or 15 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the resin component. The content of the pigment in the resin layer 12 may be, for example, 50 parts by mass or less or 30 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin component.

樹脂層12は、フィラーを含んでいてもよい。これにより、樹脂層12の強度、硬度などを高めることができる。フィラーは、例えば、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、三酸化アンチモン、ホウ酸亜鉛、モリブデン化合物、タルクなどの無機材料を含む。樹脂層12におけるフィラーの含有量は、樹脂材料100質量部に対して、例えば0.1質量部以上であってもよく、20質量部以上であってもよい。樹脂層12におけるフィラーの含有量は、樹脂材料100質量部に対して、例えば100質量部以下であってもよく、70質量部以下であってもよい。 The resin layer 12 may contain a filler. Thereby, the strength, hardness and the like of the resin layer 12 can be increased. Fillers include, for example, inorganic materials such as calcium carbonate, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, antimony trioxide, zinc borate, molybdenum compounds, talc and the like. The content of the filler in the resin layer 12 may be, for example, 0.1 part by mass or more or 20 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the resin material. The content of the filler in the resin layer 12 may be, for example, 100 parts by mass or less, or 70 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the resin material.

樹脂層12は、防カビ剤、防虫剤、防腐剤、抗菌剤、消臭剤、重合開始剤、重合禁止剤、増感剤、架橋剤、可塑剤、難燃剤、帯電制御剤、熱安定剤、光安定剤、導電剤、消泡剤、防錆剤、酸化防止剤、発泡剤、発泡助剤、近赤外吸収剤、紫外吸収剤、乳化剤などの添加剤を含んでいてもよい。 The resin layer 12 is an antifungal agent, an insect repellent, an antiseptic, an antibacterial agent, a deodorant, a polymerization initiator, a polymerization inhibitor, a sensitizer, a cross-linking agent, a plasticizer, a flame retardant, a charge control agent, and a heat stabilizer. It may contain additives such as a light stabilizer, a conductive agent, a defoaming agent, a rust preventive, an antioxidant, a foaming agent, a foaming aid, a near infrared absorber, an ultraviolet absorber, and an emulsifier.

〔検査システム〕
図2は、対象物10を検査するための検査システム15を示すブロック図である。検査システム15は、樹脂層12の特徴を表すスペクトルを測定する。検査システム15は、樹脂層12を構成する材料の予測分子量を、スペクトルに基づいて算出する。また、検査システム15は、算出した予測分子量に基づいて、対象物10の脆化などの状態を判定する。この場合、対象物10の状態と樹脂層12に含まれる樹脂材料の分子量との関係を示す情報は、予め検査システム15に記憶されている。なお、検査システム15で判定される対象物10の状態は、対象物10の脆化に関する状態に限定されない。
[Inspection system]
FIG. 2 is a block diagram showing an inspection system 15 for inspecting an object 10. The inspection system 15 measures a spectrum representing the characteristics of the resin layer 12. The inspection system 15 calculates the predicted molecular weight of the material constituting the resin layer 12 based on the spectrum. Further, the inspection system 15 determines a state such as embrittlement of the object 10 based on the calculated predicted molecular weight. In this case, the information indicating the relationship between the state of the object 10 and the molecular weight of the resin material contained in the resin layer 12 is stored in advance in the inspection system 15. The state of the object 10 determined by the inspection system 15 is not limited to the state related to the embrittlement of the object 10.

検査システム15は、照射装置21、検出装置24、生成装置25、処理装置27、判定装置28及び冷却部29を備える。照射装置21及び検出装置24は、分光モジュール20を構成する。分光モジュール20は、後述するケース40に収容される。生成装置25、処理装置27、判定装置28及び冷却部29の一部又は全部は、分光モジュール20に含まれていてもよく、分光モジュール20以外の構成要素に含まれていてもよい。例えば、生成装置25、処理装置27及び判定装置28の一部又は全部は、分光モジュール20と通信可能なコンピュータによって実現されてもよい。 The inspection system 15 includes an irradiation device 21, a detection device 24, a generation device 25, a processing device 27, a determination device 28, and a cooling unit 29. The irradiation device 21 and the detection device 24 constitute a spectroscopic module 20. The spectroscopic module 20 is housed in a case 40 described later. A part or all of the generation device 25, the processing device 27, the determination device 28, and the cooling unit 29 may be included in the spectroscopic module 20, or may be included in components other than the spectroscopic module 20. For example, a part or all of the generation device 25, the processing device 27, and the determination device 28 may be realized by a computer capable of communicating with the spectroscopic module 20.

〔照射装置〕
照射装置21は、対象物10に近赤外線などの照射光L1を照射する。照射装置21は、照射部211を含む。照射部211は、対象物10の第1面10xに照射光L1を照射する。照射光L1の波長は、例えば800nm以上であり、900nm以上であってもよい。照射光L1の波長は、例えば2500nm以下であり、2000nm以下であってもよく、1700nm以下であってもよい。近赤外線を照射する照射装置21としては、例えば、オーシャンフォトニクス社製の重水素ハロゲン光源 DH-2000を用いることができる。
[Irradiation device]
The irradiation device 21 irradiates the object 10 with irradiation light L1 such as near infrared rays. The irradiation device 21 includes an irradiation unit 211. The irradiation unit 211 irradiates the first surface 10x of the object 10 with the irradiation light L1. The wavelength of the irradiation light L1 is, for example, 800 nm or more, and may be 900 nm or more. The wavelength of the irradiation light L1 is, for example, 2500 nm or less, 2000 nm or less, or 1700 nm or less. As the irradiation device 21 for irradiating near infrared rays, for example, a deuterium halogen light source DH-2000 manufactured by Ocean Photonics can be used.

図3は、照射装置21及び検出装置24を模式的に示す図である。
照射装置21は、拡散部212を含んでいてもよい。拡散部212は、照射部211から放射された照射光L1を拡散させる。これにより、様々な方向から照射光L1を対象物10に照射できる。このため、検査システム15は、反射スペクトルを得ることができる。拡散部212は、例えば、照射部211と対象物10との間に配置される拡散板である。
FIG. 3 is a diagram schematically showing an irradiation device 21 and a detection device 24.
The irradiation device 21 may include a diffusion unit 212. The diffusing unit 212 diffuses the irradiation light L1 emitted from the irradiation unit 211. As a result, the object 10 can be irradiated with the irradiation light L1 from various directions. Therefore, the inspection system 15 can obtain a reflection spectrum. The diffusion unit 212 is, for example, a diffusion plate arranged between the irradiation unit 211 and the object 10.

〔検出装置〕
検出装置24は、対象物10によって反射された反射光L2を受光する。検出装置24は、反射光L2の強度を検出できる。
[Detector]
The detection device 24 receives the reflected light L2 reflected by the object 10. The detection device 24 can detect the intensity of the reflected light L2.

検出装置24は、複数の波長点において反射光L2を検出する検出部241を含む。波長点の数は、検出部241の分解能に応じて定まる。例えば、検出部241が900nm以上1800nm以下の範囲内において、3nmの分解能で反射光L2の強度を検出する場合、波長点の数は301である。検出部241としては、近赤外分光器、近赤外ハイパースペクトルカメラなどを用いることができる。 The detection device 24 includes a detection unit 241 that detects the reflected light L2 at a plurality of wavelength points. The number of wavelength points is determined according to the resolution of the detection unit 241. For example, when the detection unit 241 detects the intensity of the reflected light L2 with a resolution of 3 nm in the range of 900 nm or more and 1800 nm or less, the number of wavelength points is 301. As the detection unit 241, a near-infrared spectroscope, a near-infrared hyperspectral camera, or the like can be used.

検出部241は、対象物10によって正反射された反射光L2を検出する。検出部241は、対象物10によって正反射された反射光L2に加えて、対象物10によって拡散反射された反射光L2を検出してもよい。これにより、樹脂材料に関する情報をより多く得ることができる。このため、樹脂層12の組成の判定の精度を向上させることができる。図3において、符号H1は、検出部241と対象物10との距離を表し、符号W1は、検出部241の幅を表す。距離H1及び幅W1は、対象物10によって拡散反射された反射光L2が検出部241に入射するよう適切に定められている。 The detection unit 241 detects the reflected light L2 that is specularly reflected by the object 10. The detection unit 241 may detect the reflected light L2 diffusely reflected by the object 10 in addition to the reflected light L2 specularly reflected by the object 10. This makes it possible to obtain more information about the resin material. Therefore, the accuracy of determining the composition of the resin layer 12 can be improved. In FIG. 3, the reference numeral H1 represents the distance between the detection unit 241 and the object 10, and the reference numeral W1 represents the width of the detection unit 241. The distance H1 and the width W1 are appropriately determined so that the reflected light L2 diffusely reflected by the object 10 is incident on the detection unit 241.

なお、照射装置21及び検出装置24としては、照射光L1の照射機能と反射光L2の検出機能とが一体化した分光器を用いてもよい。そのような分光器としては、例えば、innoSpectra製の近赤外線分光組込み反射モジュール M-R2を用いることができる。 As the irradiation device 21 and the detection device 24, a spectroscope in which the irradiation function of the irradiation light L1 and the detection function of the reflected light L2 are integrated may be used. As such a spectroscope, for example, a near-infrared spectroscopic built-in reflection module M-R2 manufactured by innoSpectra can be used.

〔生成装置〕
生成装置25は、第1生成部251及び第2生成部252を含む。第1生成部251は、複数の波長点における反射光L2の強度に関する情報を含むスペクトルを生成する。以下の説明において、対象物10によって反射された反射光L2の強度に関する情報を含むスペクトルのことを、対象スペクトルとも称する。
[Generator]
The generation device 25 includes a first generation unit 251 and a second generation unit 252. The first generation unit 251 generates a spectrum including information on the intensity of the reflected light L2 at a plurality of wavelength points. In the following description, a spectrum including information on the intensity of the reflected light L2 reflected by the object 10 is also referred to as an object spectrum.

本明細書において、「スペクトル」は、波長点に対応するデータのグループを意味する。データのグループを図示すると、後述する図14に示すようなグラフが生成される。データは、波長点における反射光L2の強度に関する情報を含む。データは、反射光L2の強度そのものであってもよい。データは、波長点における反射光L2の強度に何らかの処理を施すことによって算出されたものであってもよい。例えば、データは、吸光度であってもよい。吸光度とは、対象物10が光を吸収する程度を表す無次元量である。吸光度Absは、例えば以下の式により算出される。
Abs=-log10(Itar/Iref)
Itarは、対象物10によって反射された反射光の強度である。Irefは、校正試料によって反射された反射光の強度である。校正試料は、例えば標準反射板である。標準反射板は、標準白色板、白色板などとも称される。このような校正試料としては、例えばLabsphere製のスペクトラロンを採用可能である。
As used herein, "spectrum" means a group of data corresponding to a wavelength point. When a group of data is illustrated, a graph as shown in FIG. 14, which will be described later, is generated. The data includes information about the intensity of the reflected light L2 at the wavelength point. The data may be the intensity of the reflected light L2 itself. The data may be calculated by applying some processing to the intensity of the reflected light L2 at the wavelength point. For example, the data may be absorbance. Absorbance is a dimensionless quantity indicating the degree to which the object 10 absorbs light. Absorbance Abs is calculated by, for example, the following formula.
Abs = -log 10 (Itar / Iref)
Itar is the intensity of the reflected light reflected by the object 10. Iref is the intensity of the reflected light reflected by the calibration sample. The calibration sample is, for example, a standard reflector. The standard reflector is also referred to as a standard white plate, a white plate, or the like. As such a calibration sample, for example, Spectralon manufactured by Labsphere can be adopted.

第2生成部252は、複数の波長点における、校正試料によって反射された反射光の強度に関する情報を含むスペクトルを生成する。以下の説明において、校正試料によって反射された反射光の強度に関する情報を含むスペクトルのことを、校正スペクトルとも称する。第1生成部251は、上述の式で表されているように、校正スペクトルを基準として用いることにより対象スペクトルを生成してもよい。 The second generation unit 252 generates a spectrum containing information on the intensity of the reflected light reflected by the calibration sample at a plurality of wavelength points. In the following description, a spectrum containing information on the intensity of the reflected light reflected by the calibration sample is also referred to as a calibration spectrum. The first generation unit 251 may generate the target spectrum by using the calibration spectrum as a reference, as represented by the above equation.

なお、検出装置24及び生成装置25としては、反射光の受光機能及び反射スペクトルの取得機能とが一体化した装置を用いてもよい、そのような装置としては、例えば、JFEテクノリサーチ株式会社製の近赤外線用イメージング分光解析装置SWIR-2400や、VIVA社製のMicro NIR Spectrometer等を用いることができる。 As the detection device 24 and the generation device 25, a device in which the light receiving function of the reflected light and the acquisition function of the reflection spectrum are integrated may be used. As such a device, for example, manufactured by JFE Techno Research Co., Ltd. SWIR-2400, an imaging spectroscopic analyzer for near-infrared rays, Micro NIR Spectrometer manufactured by VIVA, and the like can be used.

〔処理装置〕
処理装置27は、第1処理部271及び第2処理部272を含む。第1処理部271は、対象スペクトルに何らかの処理を施す。例えば、第1処理部271は、対象スペクトルを局所的に平均化することにより平均化スペクトルを生成する局所平均化を実施してもよい。第1処理部271は、対象スペクトルと局所平均化スペクトルの差に基づいて第1ノイズ指標を算出する第1ノイズ評価を実施してもよい。第1処理部271は、第1ノイズ指標が第1閾値TH1以上である場合に、対象スペクトルを記録する第1記録を実施してもよい。
[Processing equipment]
The processing device 27 includes a first processing unit 271 and a second processing unit 272. The first processing unit 271 performs some processing on the target spectrum. For example, the first processing unit 271 may perform local averaging to generate an averaging spectrum by locally averaging the target spectrum. The first processing unit 271 may carry out a first noise evaluation that calculates a first noise figure based on the difference between the target spectrum and the local averaged spectrum. The first processing unit 271 may perform the first recording for recording the target spectrum when the first noise figure is equal to or higher than the first threshold value TH1.

第1処理部271は、第1記録によって記録又は生成された対象スペクトルに更に何らかの処理を施してもよい。例えば、第1処理部271は、平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を対象スペクトルに施してもよい。これにより、第1処理部271は、複数の波長点に対応する複数のパラメータ値を算出できる。これらの処理の詳細は、例えば特開2019-86499号公報に記載されている。 The first processing unit 271 may further perform some processing on the target spectrum recorded or generated by the first recording. For example, the first processing unit 271 may perform processing including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof on the target spectrum. As a result, the first processing unit 271 can calculate a plurality of parameter values corresponding to a plurality of wavelength points. Details of these processes are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-86499.

第2処理部272は、校正スペクトルに何らかの処理を施してもよい。例えば、第2処理部272は、校正スペクトルを二次微分することにより二次微分スペクトルを生成する二次微分を実施してもよい。第2処理部272は、二次微分スペクトルに基づいて第2ノイズ指標を算出する第2ノイズ評価を実施してもよい。第2処理部272は、第2ノイズ指標が第2閾値TH2以上である場合に、校正スペクトルを記録する第2記録を実施してもよい。 The second processing unit 272 may perform some processing on the calibration spectrum. For example, the second processing unit 272 may carry out a second derivative to generate a second derivative spectrum by secondarily differentiating the calibration spectrum. The second processing unit 272 may carry out a second noise evaluation that calculates a second noise figure based on the second derivative spectrum. The second processing unit 272 may perform a second recording of recording the calibration spectrum when the second noise figure is equal to or higher than the second threshold value TH2.

〔判定装置〕
判定装置28は、第1処理部271による処理によって記録又は生成された情報に基づいて樹脂層12の樹脂材料の予測分子量を算出することにより、対象物10の状態を判定する。例えば、判定装置28は、第1処理部271が算出したパラメータ値に基づいて、樹脂層12の樹脂材料の予測分子量を算出する。判定装置28は、処理装置27と一体化していてもよい。判定装置28は、記憶部281と、解析部282と、判定部283と、を含む。
[Judgment device]
The determination device 28 determines the state of the object 10 by calculating the predicted molecular weight of the resin material of the resin layer 12 based on the information recorded or generated by the processing by the first processing unit 271. For example, the determination device 28 calculates the predicted molecular weight of the resin material of the resin layer 12 based on the parameter values calculated by the first processing unit 271. The determination device 28 may be integrated with the processing device 27. The determination device 28 includes a storage unit 281, an analysis unit 282, and a determination unit 283.

記憶部281は、複数のパラメータ値と樹脂層12の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式が予め記憶された構成要素である。記憶部281は、例えばROMやRAMなどのメモリーである。回帰式は、後述するように、照射装置21の照射部211から標準試料に照射されて検出装置24の検出部241で検出される反射光の強度に基づいて作成される。回帰式の詳細は、例えば特開2019-86499号公報に記載されている。
なお、図2に示す例では、回帰式は、記憶部281には特定の(単一の)雰囲気温度(例えば25℃)に置かれた標準試料から得られる反射光の反射強度に基づいて作成され、以下では標準回帰式とも呼ぶ。
The storage unit 281 is a component in which a regression equation representing the relationship between a plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material of the resin layer 12 is stored in advance. The storage unit 281 is, for example, a memory such as a ROM or a RAM. As will be described later, the regression equation is created based on the intensity of the reflected light that is irradiated from the irradiation unit 211 of the irradiation device 21 to the standard sample and detected by the detection unit 241 of the detection device 24. Details of the regression equation are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-86499.
In the example shown in FIG. 2, the regression equation is created based on the reflection intensity of the reflected light obtained from the standard sample placed in the storage unit 281 at a specific (single) atmospheric temperature (for example, 25 ° C.). In the following, it is also called the standard regression equation.

解析部282は、記憶部281の回帰式(図2に示す例では標準回帰式)を、複数のパラメータ値にそれぞれ適用する。これにより、樹脂層12の樹脂材料の予測分子量を算出できる。解析部282は、例えばCPUである。予測分子量の算出方法の詳細は、例えば特開2019-86499号公報に記載されている。 The analysis unit 282 applies the regression equation of the storage unit 281 (standard regression equation in the example shown in FIG. 2) to each of a plurality of parameter values. Thereby, the predicted molecular weight of the resin material of the resin layer 12 can be calculated. The analysis unit 282 is, for example, a CPU. Details of the method for calculating the predicted molecular weight are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-86499.

判定部283は、解析部282が算出した予測分子量に基づいて、樹脂層12の状態を判定する。判定部283により対象物10の状態を判定する方法は、特に限定されない。例えば、樹脂材料としてポリエチレン系樹脂を含む樹脂層12を備える対象物10が脆化しているか否かを判定する場合には、樹脂材料の分子量が80000以上と算出された対象物10は脆化しておらず、80000未満と算出された樹脂シート10は脆化している、と判定してもよい。判定部283は、例えばCPUである。 The determination unit 283 determines the state of the resin layer 12 based on the predicted molecular weight calculated by the analysis unit 282. The method of determining the state of the object 10 by the determination unit 283 is not particularly limited. For example, when determining whether or not an object 10 having a resin layer 12 containing a polyethylene-based resin as a resin material is brittle, the object 10 whose molecular weight of the resin material is calculated to be 80,000 or more is brittle. Therefore, it may be determined that the resin sheet 10 calculated to be less than 80,000 is brittle. The determination unit 283 is, for example, a CPU.

図示はしないが、判定装置28は、判定結果を表示する表示部を有していてもよい。表示部における判定結果の表示の仕方は、表示から判定結果が理解できる限り、特に限定されない。例えば、対象物10が脆化しているか否かを判定する場合には、解析部282において算出された予測分子量を表示してもよく、判定部283において対象物10が脆化していないと判定された場合には丸等の記号を表示してもよい。また、予測分子量と丸等の記号との両方を表示してもよい。また、判定結果によって異なる色を表示部に表示してもよい。 Although not shown, the determination device 28 may have a display unit for displaying the determination result. The method of displaying the determination result on the display unit is not particularly limited as long as the determination result can be understood from the display. For example, when determining whether or not the object 10 is brittle, the predicted molecular weight calculated by the analysis unit 282 may be displayed, and the determination unit 283 determines that the object 10 is not brittle. In that case, a symbol such as a circle may be displayed. Further, both the predicted molecular weight and the symbol such as a circle may be displayed. Further, different colors may be displayed on the display unit depending on the determination result.

〔冷却部〕
冷却部29は、照射装置21及び/又は検出装置24を冷却する。図示された例では、冷却部29は、ファンを含む送風機であり、ファンによって分光モジュール20に送風することにより照射装置21及び/又は検出装置24を冷却するが、これに限られない。冷却部29は、ベルチェ素子や放熱板により照射装置21及び/又は検出装置24を冷却するものであってもよい。
[Cooling unit]
The cooling unit 29 cools the irradiation device 21 and / or the detection device 24. In the illustrated example, the cooling unit 29 is a blower including a fan, and the irradiation device 21 and / or the detection device 24 is cooled by blowing air to the spectroscopic module 20 by the fan, but the present invention is not limited to this. The cooling unit 29 may cool the irradiation device 21 and / or the detection device 24 by a Belche element or a heat sink.

分光モジュール20が冷却部29により冷却されることにより、検査システム15が稼働中に検査システム15に内蔵されたランプや電子回路等が発する熱によって分光モジュール20の温度が上昇する、ということが抑制される。ここで、本件発明者らは、照射装置21又は検出装置24の温度が、検出装置24で検出される反射光の強度(生成装置25で生成されるスペクトルのピーク位置)に影響を与えることを見出した。すなわち、同じ対象物10或いは同じ試料によって反射された反射光であっても、検出装置24で検出される反射光の強度は当該反射光を検出する際の照射装置21又は検出装置24の温度によって異なることを見出した。そして、検査システム15が稼働中に分光モジュール20を冷却部29で冷却することにより、分光モジュール20の温度上昇が抑制され、検出装置24で検出される反射光の強度が安定することを見出した。 By cooling the spectroscopic module 20 by the cooling unit 29, it is possible to prevent the temperature of the spectroscopic module 20 from rising due to the heat generated by the lamps, electronic circuits, etc. built in the inspection system 15 while the inspection system 15 is in operation. Will be done. Here, the present inventors have determined that the temperature of the irradiation device 21 or the detection device 24 affects the intensity of the reflected light detected by the detection device 24 (the peak position of the spectrum generated by the generation device 25). I found it. That is, even if the reflected light is reflected by the same object 10 or the same sample, the intensity of the reflected light detected by the detection device 24 depends on the temperature of the irradiation device 21 or the detection device 24 at the time of detecting the reflected light. Found different. Then, it has been found that by cooling the spectroscopic module 20 by the cooling unit 29 while the inspection system 15 is in operation, the temperature rise of the spectroscopic module 20 is suppressed and the intensity of the reflected light detected by the detection device 24 is stabilized. ..

次に、検査システム15の具体的な構造を説明する。図4に示すように、検査システム15は、分光モジュール20及び冷却部29を収容するケース40を備えていてもよい。分光モジュール20は、照射装置21及び検出装置24を含む。ケース40は、持ち運び可能な形態を有することが好ましい。照射装置21及び検出装置24が収容されているケース40の重量は、例えば5kg以下であり、2kg以下であってもよく、好ましくは1kg以下である。ケース40を持ち運ぶことにより、様々な場所に配置されている対象物10を検査できる。 Next, the specific structure of the inspection system 15 will be described. As shown in FIG. 4, the inspection system 15 may include a case 40 that houses the spectroscopic module 20 and the cooling unit 29. The spectroscopic module 20 includes an irradiation device 21 and a detection device 24. The case 40 preferably has a portable form. The weight of the case 40 in which the irradiation device 21 and the detection device 24 are housed is, for example, 5 kg or less, may be 2 kg or less, and is preferably 1 kg or less. By carrying the case 40, it is possible to inspect the objects 10 arranged in various places.

ケース40は、第1面41、第2面42及び側面を含んでいてもよい。第1面41は、検査システム15を用いる検査方法を実施するとき、対象物10に対向する。第1面41は、光が通過するウインドウ48を含む。光は、照射装置21から放射された光、又は、検出装置24によって受光される反射光である。ウインドウ48は、第1面41に形成されている開口を含んでいてもよい。第2面42は、第1面41に対向している。側面は、第1面41と第2面42の間に位置している。側面は、例えば、第1側面43、第2側面44、第3側面45及び第4側面46を含んでいてもよい。第2面42は第1面41に対向している。第2側面44は第1側面43に対向している。第1側面43及び第2側面44は第1面41と第2面42の間に位置している。 The case 40 may include a first surface 41, a second surface 42, and a side surface. The first surface 41 faces the object 10 when the inspection method using the inspection system 15 is carried out. The first surface 41 includes a window 48 through which light passes. The light is the light emitted from the irradiation device 21 or the reflected light received by the detection device 24. The window 48 may include an opening formed in the first surface 41. The second surface 42 faces the first surface 41. The side surface is located between the first surface 41 and the second surface 42. The side surface may include, for example, a first side surface 43, a second side surface 44, a third side surface 45, and a fourth side surface 46. The second surface 42 faces the first surface 41. The second side surface 44 faces the first side surface 43. The first side surface 43 and the second side surface 44 are located between the first surface 41 and the second surface 42.

ケース40は、例えば、第1外縁411、第2外縁412、第3外縁413及び第4外縁414を含んでいてもよい。第1外縁411、第2外縁412、第3外縁413及び第4外縁414は、対象物10に対向するケース40の部分の外縁を構成する。 The case 40 may include, for example, a first outer edge 411, a second outer edge 412, a third outer edge 413, and a fourth outer edge 414. The first outer edge 411, the second outer edge 412, the third outer edge 413, and the fourth outer edge 414 constitute the outer edge of the portion of the case 40 facing the object 10.

第1外縁411、第2外縁412、第3外縁413及び第4外縁414の一部又は全部は、第1面41の外縁であってもよい。第1外縁411、第2外縁412、第3外縁413及び第4外縁414の一部又は全部は、第1側面43、第2側面44、第3側面45及び第4側面46などの側面の外縁であってもよい。 A part or all of the first outer edge 411, the second outer edge 412, the third outer edge 413, and the fourth outer edge 414 may be the outer edge of the first surface 41. Part or all of the first outer edge 411, the second outer edge 412, the third outer edge 413, and the fourth outer edge 414 are the outer edges of the side surfaces such as the first side surface 43, the second side surface 44, the third side surface 45, and the fourth side surface 46. May be.

第1外縁411の寸法K1は、例えば500mm以下であり、400mm以下であってもよく、300mm以下であってもよい。第1外縁411の寸法K1は、例えば50mm以上であり、100mm以上であってもよく、150mm以上であってもよい。
第3外縁413の寸法K2は、例えば500mm以下であり、400mm以下であってもよく、300mm以下であってもよい。第3外縁413の寸法K2は、例えば50mm以上であり、100mm以上であってもよく、150mm以上であってもよい。
第1面41と第2面42の間の距離K3は、例えば500mm以下であり、400mm以下であってもよく、300mm以下であってもよい。距離K3は、例えば50mm以上であり、100mm以上であってもよく、150mm以上であってもよい。
The dimension K1 of the first outer edge 411 is, for example, 500 mm or less, may be 400 mm or less, or may be 300 mm or less. The dimension K1 of the first outer edge 411 is, for example, 50 mm or more, may be 100 mm or more, or may be 150 mm or more.
The dimension K2 of the third outer edge 413 is, for example, 500 mm or less, 400 mm or less, or 300 mm or less. The dimension K2 of the third outer edge 413 is, for example, 50 mm or more, may be 100 mm or more, or may be 150 mm or more.
The distance K3 between the first surface 41 and the second surface 42 is, for example, 500 mm or less, may be 400 mm or less, or may be 300 mm or less. The distance K3 is, for example, 50 mm or more, may be 100 mm or more, or may be 150 mm or more.

図5は、検査システム15の一使用例を示す図である。図5に示す例においては、人の右手61及び左手62によってケース40が保持されている。ケース40の第1面41は、対象物10に対向している。検査システム15を用いる検査方法を実施するとき、第1外縁411、第2外縁412、第3外縁413及び第4外縁414の一部又は全部が対象物10に接していてもよい。 FIG. 5 is a diagram showing an example of use of the inspection system 15. In the example shown in FIG. 5, the case 40 is held by a person's right hand 61 and left hand 62. The first surface 41 of the case 40 faces the object 10. When carrying out the inspection method using the inspection system 15, a part or all of the first outer edge 411, the second outer edge 412, the third outer edge 413 and the fourth outer edge 414 may be in contact with the object 10.

〔検査方法〕
次に、上述の検査システム15を用いて対象物10の状態を検査する方法の一例を説明する。検査方法は、対象物10の状態の検査を実施する検査工程を含む。
〔Inspection methods〕
Next, an example of a method of inspecting the state of the object 10 by using the above-mentioned inspection system 15 will be described. The inspection method includes an inspection step of carrying out an inspection of the state of the object 10.

〔検査工程〕
検査工程について説明する。図6に示す例では、検査工程は、検査用校正スペクトル記録工程S1と、対象パラメータ値算出工程S2と、判定工程S3とを含む。
[Inspection process]
The inspection process will be described. In the example shown in FIG. 6, the inspection step includes an inspection calibration spectrum recording step S1, a target parameter value calculation step S2, and a determination step S3.

まず、検査用校正スペクトル記録工程S1について説明する。検査用校正スペクトル記録工程S1は、図7に示すように、校正試料準備工程S11と、校正試料照射工程S12と、校正試料検出工程S13と、校正スペクトル生成工程S14と、第2ノイズ評価工程S15と、第2記録工程S16と、を含む。
校正試料準備工程S11では、校正試料51を準備する。
校正試料照射工程S12では、冷却部29によって分光モジュール20を冷却した状態(図示された例では、冷却部29によって分光モジュール20へ送風した状態)で、照射装置21が、校正試料51に照射光として近赤外線を照射する。
校正試料検出工程S13では、冷却部29によって分光モジュール20を冷却した状態(図示された例では、冷却部29によって分光モジュール20へ送風した状態)で、検出装置25が、校正試料51によって反射された反射光(「校正反射光」といい、以下同じ)の強度を検出する。
校正試料照射工程S12及び校正試料検出工程S13は、図8に示すように、ウインドウ48を覆うように校正試料51を第1面41に接触させた状態で実施されてもよい。この場合、ケース40に対して校正試料51が固定されていてもよい。例えば、ケース40に巻き付けたゴムバンド52によって校正試料51がウインドウ48に押し付けられていてもよい。図示はしないが、校正試料51が第1面41から離れていてもよい。なお、校正試料51が第1面41から離れている場合、周囲を暗室にすることが好ましい。これにより、検査システム15が外光を検出することを抑制できる。また、対象物10の検出を行う工程において、対象物10と第1面41との間の距離が校正試料51と第1面41との間の距離と同一であることが好ましい。
また、図2に示す例では、校正試料照射工程S12及び校正試料検出工程S13は、特定の(単一の)雰囲気温度(例えば25℃)に置かれた校正試料51に対して行われる。
校正スペクトル生成工程S14では、生成装置25の第2生成部252が、校正スペクトルを生成する。校正スペクトルは、複数の波長点における校正反射光の強度に関する情報を含む。
第2ノイズ評価工程S15では、校正スペクトルに二次微分を施して、二次微分スペクトルを生成し、二次微分スペクトルに基づいて第2ノイズ指標を算出する。第2ノイズ指標は、校正スペクトルに含まれるノイズの程度の指標である。
第2記録工程S16では、第2処理部272が、第2ノイズ指標が第2閾値TH2以上である校正スペクトルを記録する。
First, the inspection calibration spectrum recording step S1 will be described. As shown in FIG. 7, the inspection calibration spectrum recording step S1 includes a calibration sample preparation step S11, a calibration sample irradiation step S12, a calibration sample detection step S13, a calibration spectrum generation step S14, and a second noise evaluation step S15. And the second recording step S16.
In the calibration sample preparation step S11, the calibration sample 51 is prepared.
In the calibration sample irradiation step S12, the irradiation device 21 irradiates the calibration sample 51 with light in a state where the spectroscopic module 20 is cooled by the cooling unit 29 (in the illustrated example, the spectroscopic module 20 is blown to the spectroscopic module 20 by the cooling unit 29). Irradiate near infrared rays as.
In the calibration sample detection step S13, the detection device 25 is reflected by the calibration sample 51 in a state where the spectroscopic module 20 is cooled by the cooling unit 29 (in the illustrated example, the spectroscopic module 20 is blown to the spectroscopic module 20 by the cooling unit 29). The intensity of the reflected light (referred to as "calibrated reflected light", the same shall apply hereinafter) is detected.
As shown in FIG. 8, the calibration sample irradiation step S12 and the calibration sample detection step S13 may be performed in a state where the calibration sample 51 is in contact with the first surface 41 so as to cover the window 48. In this case, the calibration sample 51 may be fixed to the case 40. For example, the calibration sample 51 may be pressed against the window 48 by the rubber band 52 wrapped around the case 40. Although not shown, the calibration sample 51 may be separated from the first surface 41. When the calibration sample 51 is separated from the first surface 41, it is preferable to make the surroundings a dark room. As a result, it is possible to suppress the inspection system 15 from detecting external light. Further, in the step of detecting the object 10, it is preferable that the distance between the object 10 and the first surface 41 is the same as the distance between the calibration sample 51 and the first surface 41.
Further, in the example shown in FIG. 2, the calibration sample irradiation step S12 and the calibration sample detection step S13 are performed on the calibration sample 51 placed at a specific (single) atmospheric temperature (for example, 25 ° C.).
In the calibration spectrum generation step S14, the second generation unit 252 of the generation device 25 generates the calibration spectrum. The calibration spectrum contains information about the intensity of the calibration reflected light at multiple wavelength points.
In the second noise evaluation step S15, the calibration spectrum is subjected to the second derivative to generate the second derivative spectrum, and the second noise index is calculated based on the second derivative spectrum. The second noise figure is an index of the degree of noise included in the calibration spectrum.
In the second recording step S16, the second processing unit 272 records the calibration spectrum in which the second noise figure is equal to or higher than the second threshold value TH2.

次に、対象パラメータ値算出工程S2について説明する。対象パラメータ値算出工程S2は、図9に示すように、対象物照射工程S21と、対象物検出工程S22と、対象スペクトル生成工程S23と、対象物第1ノイズ評価工程S24と、対象物第1記録工程S25と、対象物処理工程S26と、を含む。
対象物照射工程S21では、冷却部29によって分光モジュール20を冷却した状態(図示された例では、冷却部29によって分光モジュール20へ送風した状態)で、照射装置21が、対象物10に照射光L1として近赤外線を照射する。
対象物検出工程S22では、冷却部29によって分光モジュール20を冷却した状態(図示された例では、冷却部29によって分光モジュール20へ送風した状態)で、検出装置25が、対象物10によって反射された反射光(対象反射光)L2の強度を検出する。
図2に示す例では、対象物照射工程S21及び対象物検出工程S22は、図7の校正試料照射工程S12及び校正試料検出工程S13で校正試料51が置かれた雰囲気温度と概ね同じ雰囲気温度に置かれた対象物10に対して行われることが望ましい。
対象スペクトル生成工程S23は、第1対象スペクトル生成工程と、第2対象スペクトル生成工程とを含む。第1対象スペクトル生成工程では、生成装置25の第1生成部251が、第1対象スペクトルを生成する。第1対象スペクトルは、複数の波長点における対象反射光L2の強度に関する情報を含む。第2対象スペクトル生成工程では、第1対象スペクトルと第2記録工程S16で記録された校正スペクトルとに基づいて複数の波長点における吸光度を算出し、複数の波長点における吸光度を含む吸光度スペクトル(第2対象スペクトル)を算出する。
対象物第1ノイズ評価工程S24では、第1処理部271が、第2対象スペクトルを局所的に平均化して、局所平均化スペクトル(局所平均化対象スペクトル)を生成する。また、対象物第1ノイズ評価工程S24では、第1処理部271が、第2対象スペクトルと局所平均化対象スペクトルの差に基づいて第1ノイズ指標(対象物第1ノイズ指標)を算出する。対象物第1ノイズ指標は、対象スペクトルに含まれるノイズの程度の指標である。算出された対象物第1ノイズ指標は、処理装置27を構成するコンピュータのディスプレイに表示されてもよい。
対象物第1記録工程S25では、第1処理部271が、第1ノイズ指標が第1閾値TH1以上である第2対象スペクトルを記録する。第1ノイズ指標と第1閾値TH1の比較結果は、処理装置27を構成するコンピュータのディスプレイに表示されてもよい。
対象物処理工程S26では、対象物第1記録工程S25で記録された第2対象スペクトルの各々に、処理装置27により、平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施して、複数の波長点に対応する複数のパラメータ値を算出する。このような処理の詳細は、例えば特開2019-86499号公報に記載されている。
Next, the target parameter value calculation step S2 will be described. As shown in FIG. 9, the target parameter value calculation step S2 includes an object irradiation step S21, an object detection step S22, a target spectrum generation step S23, an object first noise evaluation step S24, and an object first. The recording step S25 and the object processing step S26 are included.
In the object irradiation step S21, the irradiation device 21 irradiates the object 10 with light in a state where the spectroscopic module 20 is cooled by the cooling unit 29 (in the illustrated example, the spectroscopic module 20 is blown to the spectroscopic module 20 by the cooling unit 29). Irradiate near infrared rays as L1.
In the object detection step S22, the detection device 25 is reflected by the object 10 in a state where the spectroscopic module 20 is cooled by the cooling unit 29 (in the illustrated example, the spectroscopic module 20 is blown to the spectroscopic module 20 by the cooling unit 29). The intensity of the reflected light (target reflected light) L2 is detected.
In the example shown in FIG. 2, the object irradiation step S21 and the object detection step S22 have substantially the same atmospheric temperature as the atmospheric temperature in which the calibration sample 51 was placed in the calibration sample irradiation step S12 and the calibration sample detection step S13 of FIG. It is desirable to do this for the placed object 10.
The target spectrum generation step S23 includes a first target spectrum generation step and a second target spectrum generation step. In the first target spectrum generation step, the first generation unit 251 of the generation device 25 generates the first target spectrum. The first target spectrum contains information regarding the intensity of the target reflected light L2 at a plurality of wavelength points. In the second target spectrum generation step, the absorbance at a plurality of wavelength points is calculated based on the first target spectrum and the calibration spectrum recorded in the second recording step S16, and the absorbance spectrum including the absorbance at the plurality of wavelength points (first). 2 Target spectrum) is calculated.
In the object first noise evaluation step S24, the first processing unit 271 locally averages the second target spectrum to generate a local averaging spectrum (local averaging target spectrum). Further, in the object first noise evaluation step S24, the first processing unit 271 calculates the first noise index (object first noise index) based on the difference between the second target spectrum and the local averaging target spectrum. The object first noise figure is an index of the degree of noise included in the target spectrum. The calculated object first noise figure may be displayed on the display of the computer constituting the processing device 27.
In the first object recording step S25, the first processing unit 271 records the second target spectrum in which the first noise figure is equal to or higher than the first threshold value TH1. The comparison result of the first noise index and the first threshold value TH1 may be displayed on the display of the computer constituting the processing device 27.
In the object processing step S26, each of the second object spectra recorded in the object first recording step S25 is averaged, smoothed, normalized, differentiated, scattered, baseline corrected, and peaked by the processing device 27. A plurality of parameter values corresponding to a plurality of wavelength points are calculated by performing a shift correction or a process including a combination thereof. Details of such processing are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-86499.

次に、判定工程S3について説明する。
判定工程S3では、解析部282が、判定装置28の記憶部281に記憶された回帰式(図2に示す例では標準回帰式)、及び対象物処置工程S26において算出したパラメータ値に基づいて、対象物10の樹脂材料の予測分子量を算出する。そして、算出した予測分子量に基づいて、判定部283において対象物10の状態を判定する。このような判定の詳細は、例えば特開2019-86499号公報に記載されている。
Next, the determination step S3 will be described.
In the determination step S3, the analysis unit 282 is based on the regression equation (standard regression equation in the example shown in FIG. 2) stored in the storage unit 281 of the determination device 28 and the parameter values calculated in the object treatment step S26. The predicted molecular weight of the resin material of the object 10 is calculated. Then, based on the calculated predicted molecular weight, the determination unit 283 determines the state of the object 10. Details of such a determination are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-86499.

以上の方法により、対象物10の状態を判定することができる。 By the above method, the state of the object 10 can be determined.

なお、検査工程は検査用校正スペクトル記録工程S1を含まなくてもよい。この場合、対象パラメータ算出工程S2の対象スペクトル生成工程S23は、第2対象スペクトル生成工程を含まなくてもよい。また、この場合、対象パラメータ算出工程S2の対象物第1ノイズ評価工程S24では、第1対象スペクトルを局所的に平均化して、局所平均化対象スペクトルを生成し、第1対象スペクトルと局所平均化対象スペクトルとの差に基づいて第1ノイズ指標を算出してもよい。また、この場合、対象物第1記録工程S25では、第1処理部271が、第1ノイズ指標が第1閾値TH1以上である第1対象スペクトルを記録してもよい。そして、対象物処理工程S26では、記録された第1対象スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施して、複数の波長点に対応する複数の対象パラメータ値を算出してもよい。 The inspection step may not include the inspection calibration spectrum recording step S1. In this case, the target spectrum generation step S23 of the target parameter calculation step S2 may not include the second target spectrum generation step. Further, in this case, in the object first noise evaluation step S24 of the target parameter calculation step S2, the first target spectrum is locally averaged to generate a local averaging target spectrum, and the first target spectrum and the local averaging are performed. The first noise index may be calculated based on the difference from the target spectrum. Further, in this case, in the object first recording step S25, the first processing unit 271 may record the first target spectrum in which the first noise figure is equal to or higher than the first threshold value TH1. Then, in the object processing step S26, each of the recorded first object spectra is subjected to processing including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. Therefore, a plurality of target parameter values corresponding to a plurality of wavelength points may be calculated.

また、検査用校正スペクトル記録工程S1は、第2ノイズ評価工程S15を含まなくてもよい。この場合、第2記録工程S16では、校正スペクトル生成工程S14で生成された全ての校正スペクトルが記録されてよい。 Further, the inspection calibration spectrum recording step S1 may not include the second noise evaluation step S15. In this case, in the second recording step S16, all the calibration spectra generated in the calibration spectrum generation step S14 may be recorded.

また、対象パラメータ値算出工程S2は、対象物第1ノイズ評価工程S24を含まなくてもよい。この場合、対象物第1記録工程S25では、対象スペクトル生成工程S23で生成された全ての第1対象スペクトルが記録されてよい。 Further, the target parameter value calculation step S2 may not include the target object first noise evaluation step S24. In this case, in the object first recording step S25, all the first target spectra generated in the target spectrum generation step S23 may be recorded.

〔検査システムの製造方法〕
次に、上述の検査システム15の製造方法について説明する。検査システム15の製造方法は、検査システム製造工程を含む。図10に示す例では、検査システム製造工程は、準備工程S4と、回帰式作成工程S5とを含む。
[Manufacturing method of inspection system]
Next, the manufacturing method of the above-mentioned inspection system 15 will be described. The manufacturing method of the inspection system 15 includes an inspection system manufacturing process. In the example shown in FIG. 10, the inspection system manufacturing step includes a preparation step S4 and a regression equation creating step S5.

準備工程S4では、図2に示すような分光モジュール20(照射装置21及び検出装置24)、処理装置27、判定装置28及び冷却部29を準備する。 In the preparation step S4, the spectroscopic module 20 (irradiation device 21 and detection device 24), the processing device 27, the determination device 28, and the cooling unit 29 as shown in FIG. 2 are prepared.

〔回帰式作成工程〕
次に、回帰式作成工程S5について説明する。回帰式作成工程S5は、図11に示すように、標準試料準備工程S51と、回帰式用校正スペクトル記録工程S52と、標準パラメータ値算出工程S53と、解析工程S54と、回帰式記録工程S55とを含む。回帰式用校正スペクトル記録工程S52は、上述した検査用校正スペクトル記録工程S1と同様の工程であるため、ここでは説明を省略する。
[Regression formula creation process]
Next, the regression equation creation step S5 will be described. As shown in FIG. 11, the regression equation creation step S5 includes a standard sample preparation step S51, a regression equation calibration spectrum recording step S52, a standard parameter value calculation step S53, an analysis step S54, and a regression equation recording step S55. including. Since the regression spectrum calibration spectrum recording step S52 is the same step as the inspection calibration spectrum recording step S1 described above, the description thereof is omitted here.

標準試料準備工程S51では、複数の標準試料を準備する。各標準試料は、対象物10と同様に構成されており、樹脂材料を含む樹脂層を備えている。樹脂材料の分子量は既知である。例えば、各標準試料の樹脂材料の分子量は、事前に液体クロマトグラフ付属のゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)システムにより測定されている。各標準試料の分子量は、例えば、10000以上220000以下である。 In the standard sample preparation step S51, a plurality of standard samples are prepared. Each standard sample is configured in the same manner as the object 10, and includes a resin layer containing a resin material. The molecular weight of the resin material is known. For example, the molecular weight of the resin material of each standard sample is measured in advance by a gel permeation chromatography (GPC) system attached to a liquid chromatograph. The molecular weight of each standard sample is, for example, 10,000 or more and 220,000 or less.

標準パラメータ値算出工程S53は、図12に示すように、標準試料照射工程S531と、標準試料検出工程S532と、標準スペクトル生成工程S533と、標準試料第1ノイズ評価工程S534と、標準試料第1記録工程S535と、標準試料処理工程S536と、を含む。
標準試料照射工程S531では、冷却部29によって分光モジュール20を冷却した状態(図示された例では、冷却部29によって分光モジュール20へ送風した状態)で、照射装置21が、標準試料準備工程S51で準備した標準試料に照射光として近赤外線を照射する。
標準試料検出工程S532では、冷却部29によって分光モジュール20を冷却した状態(図示された例では、冷却部29によって分光モジュール20へ送風した状態)で、検出装置25が、標準試料によって反射された反射光(標準反射光)の強度を検出する。
なお、標準試料照射工程S531及び標準試料検出工程S532は、図9に示す対象物照射工程S21及び対象物検出工程S22が行われる際に対象物10が置かれる雰囲気温度と概ね同じ雰囲気温度に置かれた標準試料に対して行われることが望ましい。図2に示す例では、標準試料照射工程S531及び標準試料検出工程S532は、特定の(単一の)雰囲気温度(例えば25℃)に置かれた標準試料に対して行われる。
標準スペクトル生成工程S533は、第1標準スペクトル生成工程と、第2標準スペクトル生成工程とを含む。第1標準スペクトル生成工程では、生成装置25の第1生成部251が、標準スペクトル(第1標準スペクトル)を生成する。第1標準スペクトルは、複数の波長点における標準反射光の強度に関する情報を含む。第2対象スペクトル生成工程では、第1標準スペクトルと回帰式用校正スペクトル記録工程S52の第2記録工程で記録された校正スペクトルとに基づいて複数の波長点における吸光度を算出し、複数の波長点における吸光度を含む吸光度スペクトル(第2標準スペクトル)を算出する。
標準試料第1ノイズ評価工程S534では、第1処理部271が、第2標準スペクトルを局所的に平均化して、局所平均化スペクトル(局所平均化標準スペクトル)を生成する。また、標準試料第1ノイズ評価工程S534では、第1処理部271が、第2標準スペクトルと局所平均化標準スペクトルの差に基づいて第1ノイズ指標(標準試料第1ノイズ指標)を算出する。標準試料第1ノイズ指標は、標準スペクトルに含まれるノイズの程度の指標である。算出された標準試料第1ノイズ指標は、処理装置27を構成するコンピュータのディスプレイに表示されてもよい。
標準試料第1記録工程S535では、第1処理部271が、標準試料第1ノイズ指標が第1閾値TH1以上である第2標準スペクトルを記録する。標準試料第1ノイズ指標と第1閾値TH1の比較結果は、処理装置27を構成するコンピュータのディスプレイに表示されてもよい。
標準試料処理工程S536では、標準試料第1記録工程S535で記録された第2標準スペクトルの各々に、処理装置27により、平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施して、複数の波長点に対応する複数のパラメータ値(標準パラメータ値)を算出する。
As shown in FIG. 12, the standard parameter value calculation step S53 includes a standard sample irradiation step S531, a standard sample detection step S532, a standard spectrum generation step S533, a standard sample first noise evaluation step S534, and a standard sample first. It includes a recording step S535 and a standard sample processing step S536.
In the standard sample irradiation step S531, the irradiation device 21 is in the standard sample preparation step S51 in a state where the spectroscopic module 20 is cooled by the cooling unit 29 (in the illustrated example, the spectroscopic module 20 is blown to the spectroscopic module 20 by the cooling unit 29). Irradiate the prepared standard sample with near infrared rays as irradiation light.
In the standard sample detection step S532, the detection device 25 is reflected by the standard sample in a state where the spectroscopic module 20 is cooled by the cooling unit 29 (in the illustrated example, the spectroscopic module 20 is blown to the spectroscopic module 20 by the cooling unit 29). Detects the intensity of reflected light (standard reflected light).
The standard sample irradiation step S531 and the standard sample detection step S532 are placed at substantially the same atmospheric temperature as the atmospheric temperature at which the object 10 is placed when the object irradiation step S21 and the object detection step S22 shown in FIG. 9 are performed. It is desirable to do this for the standard sample that has been squeezed. In the example shown in FIG. 2, the standard sample irradiation step S531 and the standard sample detection step S532 are performed on a standard sample placed at a specific (single) atmospheric temperature (eg, 25 ° C.).
The standard spectrum generation step S533 includes a first standard spectrum generation step and a second standard spectrum generation step. In the first standard spectrum generation step, the first generation unit 251 of the generation device 25 generates a standard spectrum (first standard spectrum). The first standard spectrum contains information about the intensity of standard reflected light at multiple wavelength points. In the second target spectrum generation step, the absorbance at a plurality of wavelength points is calculated based on the first standard spectrum and the calibration spectrum recorded in the second recording step of the regression equation calibration spectrum recording step S52, and the plurality of wavelength points are calculated. The absorbance spectrum (second standard spectrum) including the absorbance in the above is calculated.
In the standard sample first noise evaluation step S534, the first processing unit 271 locally averages the second standard spectrum to generate a local averaging spectrum (local averaging standard spectrum). Further, in the standard sample first noise evaluation step S534, the first processing unit 271 calculates the first noise index (standard sample first noise index) based on the difference between the second standard spectrum and the locally averaged standard spectrum. The standard sample first noise figure is an index of the degree of noise contained in the standard spectrum. The calculated standard sample first noise figure may be displayed on the display of the computer constituting the processing device 27.
In the standard sample first recording step S535, the first processing unit 271 records the second standard spectrum in which the standard sample first noise figure is equal to or higher than the first threshold value TH1. The comparison result of the standard sample first noise index and the first threshold value TH1 may be displayed on the display of the computer constituting the processing device 27.
In the standard sample processing step S536, each of the second standard spectra recorded in the standard sample first recording step S535 is averaged, smoothed, normalized, differentiated, scattered, corrected, baseline corrected, and peaked by the processing device 27. A plurality of parameter values (standard parameter values) corresponding to a plurality of wavelength points are calculated by performing a shift correction or a process including a combination thereof.

解析工程S54では、判定装置28の解析部282が、各標準試料の複数の標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式(図2に示す例では標準回帰式)を、多変量解析手法を用いて作成する。多変量解析は、記憶部281に多変量解析用のプログラムを記録しておき、このプログラムを解析部282において実行することによって行うことができる。
多変量解析手法として、例えばPLS回帰分析を行うことができる。PLS回帰分析を実施するためのソフトウエアとして、カモソフトウェア製の多変量解析ソフト The Unscrambler Xを用いることができる。
解析工程S54においては、PLS回帰分析以外の多変量解析が採用されてもよい。例えば、CLS(Classical least square)、ILS(Inverse least square)、MLR(Multiple liner regression)、PCR(Princical component regression analysis)などの多変量解析手法が採用されてもよい。
In the analysis step S54, the analysis unit 282 of the determination device 28 expresses the relationship between the plurality of standard parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample (standard regression equation in the example shown in FIG. 2). Is created using a multivariate analysis method. The multivariate analysis can be performed by recording a program for multivariate analysis in the storage unit 281 and executing this program in the analysis unit 282.
As a multivariate analysis method, for example, PLS regression analysis can be performed. As software for performing PLS regression analysis, multivariate analysis software The Unscrambler X manufactured by Camo Software can be used.
In the analysis step S54, multivariate analysis other than PLS regression analysis may be adopted. For example, a multivariate analysis method such as CLS (Classical Regression square), ILS (Inverse rest sphere), MLR (Multiple liner regression), PCR (Principal Regression analysis) may be adopted.

回帰式記録工程S55では、判定装置28の記憶部281が、解析工程で作成した回帰式を記録する。 In the regression equation recording step S55, the storage unit 281 of the determination device 28 records the regression equation created in the analysis step.

以上の方法により、上述の検査システム15を製造することができる。 By the above method, the above-mentioned inspection system 15 can be manufactured.

なお、回帰式作成工程S5は、回帰式用校正スペクトル記録工程S52を含まなくてもよい。この場合、標準パラメータ値算出工程S53の標準スペクトル生成工程S533は、第2標準スペクトル生成工程を含まなくてもよい。また、この場合、標準パラメータ値算出工程S53の標準試料第1ノイズ評価工程S534では、第1標準スペクトルを局所的に平均化して、局所平均化標準スペクトルを生成し、第1標準スペクトルと局所平均化標準スペクトルとの差に基づいて標準試料第1ノイズ指標を算出してもよい。また、この場合、標準試料第1記録工程S535では、第1処理部271が、標準試料第1ノイズ指標が第1閾値TH1以上である第1標準スペクトルを記録してもよい。そして、標準試料処理工程S536では、記録された第1標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施して、複数の波長点に対応する複数の標準パラメータ値を算出してもよい。 The regression equation creation step S5 does not have to include the regression equation calibration spectrum recording step S52. In this case, the standard spectrum generation step S533 of the standard parameter value calculation step S53 may not include the second standard spectrum generation step. Further, in this case, in the standard sample first noise evaluation step S534 of the standard parameter value calculation step S53, the first standard spectrum is locally averaged to generate a locally averaged standard spectrum, and the first standard spectrum and the local average are generated. The standard sample first noise index may be calculated based on the difference from the standard spectrum. Further, in this case, in the standard sample first recording step S535, the first processing unit 271 may record the first standard spectrum in which the standard sample first noise figure is equal to or higher than the first threshold value TH1. Then, in the standard sample processing step S536, each of the recorded first standard spectra is subjected to processing including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. Therefore, a plurality of standard parameter values corresponding to a plurality of wavelength points may be calculated.

また、標準パラメータ値算出工程S53は、標準試料第1ノイズ評価工程S534を含まなくてもよい。この場合、標準試料第1記録工程S535では、標準スペクトル生成工程S533で生成された全ての第1標準スペクトルが記録されてよい。 Further, the standard parameter value calculation step S53 may not include the standard sample first noise evaluation step S534. In this case, in the standard sample first recording step S535, all the first standard spectra generated in the standard spectrum generation step S533 may be recorded.

また、標準試料処理工程S536及び解析工程S54では、生成装置25で生成された第1標準スペクトル(反射スペクトル)又は第2標準スペクトル(吸光度スペクトル)に微分などの処理を施すことによって得られる標準パラメータ値に基づいて、多変量解析を実施する例を示した。しかしながら、これに限られることはない。例えば、第1標準スペクトル(反射スペクトル)を反転させることによって得られる吸収スペクトル(標準吸収スペクトル)に微分などの処理を施すことによって得られるパラメータ値に基づいて、多変量解析を実施してもよい。また、第1標準スペクトル(反射スペクトル)、第2標準スペクトル(吸光度スペクトル)又は標準吸収スペクトルに含まれる、各波長点における強度、反射率、吸収率などの値に基づいて、多変量解析を実施してもよい。 Further, in the standard sample processing step S536 and the analysis step S54, the standard parameters obtained by subjecting the first standard spectrum (reflection spectrum) or the second standard spectrum (absorbance spectrum) generated by the generator 25 to processing such as differentiation. An example of performing a multivariate analysis based on the values is shown. However, it is not limited to this. For example, multivariate analysis may be performed based on the parameter values obtained by subjecting the absorption spectrum (standard absorption spectrum) obtained by inverting the first standard spectrum (reflection spectrum) to processing such as differentiation. .. In addition, multivariate analysis is performed based on the values of intensity, reflectance, absorptivity, etc. at each wavelength point included in the first standard spectrum (reflection spectrum), the second standard spectrum (absorbance spectrum), or the standard absorption spectrum. You may.

さらに、標準試料第1記録工程S535で使用される第1閾値TH1は、対象物第1記録工程S25で使用される第1閾値TH1と同じであってもよいし、異なっていてもよい。
同様に、回帰式用校正スペクトル記録工程S52で使用される第2閾値TH2は、検査用校正スペクトル記録工程S1で使用される第2閾値TH2と同じであってもよいし、異なっていてもよい。
Further, the first threshold value TH1 used in the standard sample first recording step S535 may be the same as or different from the first threshold value TH1 used in the object first recording step S25.
Similarly, the second threshold TH2 used in the regression calibration spectrum recording step S52 may be the same as or different from the second threshold TH2 used in the inspection calibration spectrum recording step S1. ..

回帰式作成工程S5の具体例については、例えば特開2019-86499号公報に記載されている。 A specific example of the regression equation creating step S5 is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-86499.

〔第1ノイズ評価工程の詳細〕
次に、第1ノイズ評価工程S24,S534について詳述する。図13に示す例では、第1ノイズ評価工程S24,S534は、局所平均化スペクトル生成工程S6と、第1ノイズ指標算出工程S7とを含む。ここでは、対象物第1ノイズ評価工程S24を例に挙げて説明する。
[Details of the first noise evaluation process]
Next, the first noise evaluation steps S24 and S534 will be described in detail. In the example shown in FIG. 13, the first noise evaluation steps S24 and S534 include a local averaging spectrum generation step S6 and a first noise figure calculation step S7. Here, the object first noise evaluation step S24 will be described as an example.

まず、局所平均化スペクトル生成工程S6について説明する。局所平均化スペクトル生成工程S6では、局所平均化スペクトルを生成する。ここでは、局所平均化スペクトルとして局所平均化対象スペクトルを生成する場合を例に挙げて説明する。図14は、対象スペクトルA1の一例を示す図である。 First, the local averaging spectrum generation step S6 will be described. In the local averaging spectrum generation step S6, a local averaging spectrum is generated. Here, a case where a local averaging target spectrum is generated as a local averaging spectrum will be described as an example. FIG. 14 is a diagram showing an example of the target spectrum A1.

まず、対象スペクトルA1を局所的に平均化する。例えば、対象スペクトルA1の各波長点において局所平均値を算出する工程を実施する。局所平均値は、対象となる波長点における対象スペクトルA1の値、及び対象となる波長点の近傍に位置する複数の波長点における対象スペクトルA1の値を平均することによって算出される。 First, the target spectrum A1 is locally averaged. For example, a step of calculating a local mean value at each wavelength point of the target spectrum A1 is carried out. The local average value is calculated by averaging the value of the target spectrum A1 at the target wavelength point and the value of the target spectrum A1 at a plurality of wavelength points located in the vicinity of the target wavelength point.

対象スペクトルA1の値が吸光度である例を説明する。例えば1200nmの波長点における局所平均値は、以下のように算出される。
まず、1200nmにおける吸光度Abs(1200)を取得する。続いて、1200nmの近傍に位置する複数の波長点における対象スペクトルA1の値を取得する。検出装置24の分解能が3nmである場合、例えば、1188nmにおける吸光度Abs(1188)、1191nmにおける吸光度Abs(1191)、1194nmにおける吸光度Abs(1194)、1197nmにおける吸光度Abs(1197)、1203nmにおける吸光度Abs(1203)、1206nmにおける吸光度Abs(1206)、1209nmにおける吸光度Abs(1209)及び1212nmにおける吸光度Abs(1212)を取得する。続いて、これらの9個の波長点における吸光度の平均値を算出する。この平均値が、1200nmの波長点における局所平均値である。
An example in which the value of the target spectrum A1 is the absorbance will be described. For example, the local mean value at the wavelength point of 1200 nm is calculated as follows.
First, the absorbance Abs (1200) at 1200 nm is obtained. Subsequently, the value of the target spectrum A1 at a plurality of wavelength points located in the vicinity of 1200 nm is acquired. When the resolution of the detection device 24 is 3 nm, for example, the absorbance Abs (1188) at 1188 nm, the absorbance Abs (1191) at 1191 nm, the absorbance Abs (1194) at 1194 nm, the absorbance Abs (1197) at 1197 nm, and the absorbance Abs at 1203 nm (1197). 1203) Obtain the absorbance Abs (1206) at 1206 nm, the absorbance Abs (1209) at 1209 nm, and the absorbance Abs (1212) at 1212 nm. Subsequently, the average value of the absorbances at these nine wavelength points is calculated. This average value is a local average value at a wavelength point of 1200 nm.

各波長点において局所平均値を算出する。これによって、図15に示すように、局所平均化スペクトルA2を生成できる。図15においては、対象スペクトルA1が一点鎖線で表され、平均化スペクトルA2が実線で表されている。 The local mean value is calculated at each wavelength point. As a result, as shown in FIG. 15, the local averaging spectrum A2 can be generated. In FIG. 15, the target spectrum A1 is represented by a alternate long and short dash line, and the averaged spectrum A2 is represented by a solid line.

局所平均値を算出する時の波長点の数は、上述の9個には限られない。波長点の数は、例えば5個以上であり、7個以上であってもよい。波長点の数は、例えば15個以下であり、13個以下であってもよい。 The number of wavelength points when calculating the local mean value is not limited to the above-mentioned nine. The number of wavelength points is, for example, 5 or more, and may be 7 or more. The number of wavelength points is, for example, 15 or less, and may be 13 or less.

なお、局所平均化標準スペクトルは、局所平均化対象スペクトルを生成する場合と同様に、標準スペクトルを局所的に平均化して各波長点における局所平均値を算出することにより生成される。 The local averaging standard spectrum is generated by locally averaging the standard spectrum and calculating the local averaging value at each wavelength point, as in the case of generating the local averaging target spectrum.

次に、第1ノイズ指標算出工程S7について説明する。第1ノイズ指標算出工程S7では、第1ノイズ指標を算出する。ここでは、第1ノイズ指標として対象物第1ノイズ指標を算出する場合を例に挙げて説明する。 Next, the first noise figure calculation step S7 will be described. In the first noise figure calculation step S7, the first noise figure is calculated. Here, a case where the first noise figure of the object is calculated as the first noise figure will be described as an example.

第1ノイズ指標算出工程S7においては、対象スペクトルA1と局所平均化スペクトルA2の差を算出する。例えば、各波長点において、対象スペクトルA1の吸光度から平均化スペクトルA2の局所平均値を減算する。これによって生成されるスペクトルを、差分スペクトルとも称する。図16は、差分スペクトルA3の一例を示す図である。図16においては、対象スペクトルA1が一点鎖線で表され、平均化スペクトルA2が二点鎖線で表され、差分スペクトルA3が実線で表されている。 In the first noise figure calculation step S7, the difference between the target spectrum A1 and the local averaging spectrum A2 is calculated. For example, at each wavelength point, the local mean value of the averaged spectrum A2 is subtracted from the absorbance of the target spectrum A1. The spectrum generated by this is also referred to as a difference spectrum. FIG. 16 is a diagram showing an example of the difference spectrum A3. In FIG. 16, the target spectrum A1 is represented by a alternate long and short dash line, the averaged spectrum A2 is represented by a alternate long and short dash line, and the difference spectrum A3 is represented by a solid line.

続いて、第1ノイズ指標算出工程S7においては、対象スペクトルA1と局所平均化スペクトルA2の差の標準偏差を算出する。標準偏差は、対象スペクトルA1と局所平均化スペクトルA2の差のばらつきの程度を表す。仮に、対象スペクトルA1にノイズが含まれていない場合、対象スペクトルA1と局所平均化スペクトルA2の差がほぼゼロになると予想される。従って、標準偏差が小さいことは、対象スペクトルA1に含まれるノイズが少ないことを意味する。標準偏差が大きいことは、対象スペクトルA1に含まれるノイズが多いことを意味する。 Subsequently, in the first noise figure calculation step S7, the standard deviation of the difference between the target spectrum A1 and the local averaging spectrum A2 is calculated. The standard deviation represents the degree of variation in the difference between the target spectrum A1 and the local averaged spectrum A2. If the target spectrum A1 does not contain noise, it is expected that the difference between the target spectrum A1 and the local averaging spectrum A2 will be almost zero. Therefore, a small standard deviation means that the noise contained in the target spectrum A1 is small. A large standard deviation means that there is a lot of noise contained in the target spectrum A1.

なお、ノイズとは関係なく、対象スペクトルA1のピークの位置では対象スペクトルA1と局所平均化スペクトルA2の差が大きい。対象スペクトルA1に含まれるノイズを適切に評価するためには、対象スペクトルA1のピークから離れた位置において差の標準偏差を算出することが好ましい。例えば図16に示すように、ピークから離れている安定領域R1において差の標準偏差を算出してもよい。具体的には、まず、安定領域R1に含まれる複数の波長点における差の値を取得する。続いて、複数の差の値の標準偏差を算出する。 It should be noted that the difference between the target spectrum A1 and the local averaging spectrum A2 is large at the position of the peak of the target spectrum A1 regardless of the noise. In order to appropriately evaluate the noise contained in the target spectrum A1, it is preferable to calculate the standard deviation of the difference at a position away from the peak of the target spectrum A1. For example, as shown in FIG. 16, the standard deviation of the difference may be calculated in the stable region R1 away from the peak. Specifically, first, the value of the difference at a plurality of wavelength points included in the stable region R1 is acquired. Subsequently, the standard deviation of the values of the plurality of differences is calculated.

安定領域R1は、対象物10に含まれると予想される材料の情報に基づいて予め定められていてもよい。例えば、対象物10にポリエチレンが含まれると予想される場合、対象スペクトルA1は、約1200nmに現れるピークを含む。この場合、970nm以上1100nm以下の波長域が安定領域R1として予め定められていてもよい。 The stable region R1 may be predetermined based on the information of the material expected to be contained in the object 10. For example, if the object 10 is expected to contain polyethylene, the object spectrum A1 contains a peak that appears at about 1200 nm. In this case, the wavelength range of 970 nm or more and 1100 nm or less may be predetermined as the stable region R1.

続いて、第1ノイズ指標算出工程S7においては、標準偏差に基づいて第1ノイズ指標を算出する。第1ノイズ指標は、対象スペクトルA1に含まれるノイズの程度の指標である。第1ノイズ指標は、例えば、標準偏差の逆数である。第1ノイズ指標が大きいことは、対象スペクトルA1に含まれるノイズが少ないことを意味する。第1ノイズ指標が小さいことは、対象スペクトルA1に含まれるノイズが多いことを意味する。算出された第1ノイズ指標は、処理装置27を構成するコンピュータのディスプレイに表示されてもよい。 Subsequently, in the first noise figure calculation step S7, the first noise figure is calculated based on the standard deviation. The first noise figure is an index of the degree of noise included in the target spectrum A1. The first noise figure is, for example, the reciprocal of the standard deviation. When the first noise figure is large, it means that the noise included in the target spectrum A1 is small. When the first noise figure is small, it means that there is a lot of noise contained in the target spectrum A1. The calculated first noise figure may be displayed on the display of the computer constituting the processing device 27.

なお、標準試料第1ノイズ指標は、対象物第1ノイズ指標を算出する場合と同様に、標準スペクトルとその局所平均化スペクトルの差の標準偏差に基づいて算出される。 The standard sample first noise figure is calculated based on the standard deviation of the difference between the standard spectrum and the local averaged spectrum thereof, as in the case of calculating the object first noise figure.

対象物第1ノイズ指標が第1閾値TH1未満である場合、図9に示すように、工程S21、S22、S23及びS24を再び対象物10に対して実施してもよい。同様に、標準試料第1ノイズ指標が第1閾値TH1未満である場合、図12に示すように、工程S531、S532、S533及びS534を再び標準試料に対して実施してもよい。図5に示すようにケース40を手で保持する場合、検査工程又は検査システム製造工程(回帰式作成工程S5)の間に手が動くことなどに起因して対象スペクトルA1又は標準スペクトルにノイズが生じることが考えられる。図6に示す検査工程又は図10に示す検査システム製造工程によれば、手の動きなどに起因して生じたノイズを多く含む対象スペクトルA1又は標準スペクトルを排除できる。例えば、分光モジュール20の振動に起因して生じたノイズを多く含む対象スペクトルA1又は標準スペクトルを排除できる。また、例えば、図9の対象物検出工程S22又は図12の標準試料検出工程S532において空気の反射光を取得し、この反射光が対象スペクトルA1や標準スペクトルの生成に用いられることに起因して生じたノイズを多く含む対象スペクトルA1又は標準スペクトルを排除できる。また、第1閾値TH1以上の第1ノイズ指標を有する対象スペクトルA1又は標準スペクトルが得られるまで検査工程又は回帰式作成工程S5を繰り返し実施できる。このため、適切な対象スペクトルA1又は標準スペクトルを記録できる。 When the first noise figure of the object is less than the first threshold value TH1, the steps S21, S22, S23 and S24 may be performed again on the object 10 as shown in FIG. Similarly, if the standard sample first noise figure is less than the first threshold TH1, steps S531, S532, S533 and S534 may be performed again on the standard sample, as shown in FIG. As shown in FIG. 5, when the case 40 is held by hand, noise is generated in the target spectrum A1 or the standard spectrum due to the movement of the hand during the inspection process or the inspection system manufacturing process (regression formula creation step S5). It is possible that it will occur. According to the inspection process shown in FIG. 6 or the inspection system manufacturing process shown in FIG. 10, the target spectrum A1 or the standard spectrum containing a large amount of noise caused by the movement of the hand or the like can be excluded. For example, the target spectrum A1 or the standard spectrum containing a lot of noise caused by the vibration of the spectroscopic module 20 can be excluded. Further, for example, the reflected light of air is acquired in the object detection step S22 of FIG. 9 or the standard sample detection step S532 of FIG. 12, and the reflected light is used to generate the target spectrum A1 or the standard spectrum. The target spectrum A1 or the standard spectrum containing a large amount of generated noise can be excluded. Further, the inspection step or the regression equation creation step S5 can be repeated until the target spectrum A1 or the standard spectrum having the first noise figure having the first threshold value TH1 or more is obtained. Therefore, an appropriate target spectrum A1 or a standard spectrum can be recorded.

〔第2ノイズ評価工程の詳細〕
次に、第2ノイズ評価工程S15について詳述する。図17に示す例では、第2ノイズ評価工程S15は、二次微分スペクトル生成工程S151と、第2ノイズ指標算出工程S152とを含む。
[Details of the second noise evaluation process]
Next, the second noise evaluation step S15 will be described in detail. In the example shown in FIG. 17, the second noise evaluation step S15 includes a second-order differential spectrum generation step S151 and a second noise figure calculation step S152.

まず、二次微分スペクトル生成工程S151について説明する。二次微分スペクトル生成工程S151においては、校正スペクトルを二次微分する。二次微分スペクトルを生成する。二次微分スペクトルの値が小さいことは、校正スペクトルに含まれているノイズが少ないことを意味する。 First, the second derivative spectrum generation step S151 will be described. In the second derivative spectrum generation step S151, the calibration spectrum is secondarily differentiated. Generate a second derivative spectrum. A small value in the second derivative spectrum means less noise in the calibration spectrum.

第2ノイズ指標算出工程S152においては、二次微分スペクトルに基づいて標準偏差を算出する。例えば、まず、複数の波長点における二次微分スペクトルの値の標準偏差を算出する。二次微分スペクトルの全波長域に基づいて標準偏差が算出されてもよく、二次微分スペクトルの一部の波長域に基づいて標準偏差が算出されてもよい。例えば、図18に示すように1600nm以上の波長域においては校正スペクトルの値が低下することが予想される場合、1600nm以上の波長域における二次微分スペクトルの値を考慮せずに標準偏差を算出してもよい。 In the second noise figure calculation step S152, the standard deviation is calculated based on the second derivative spectrum. For example, first, the standard deviation of the values of the second derivative spectra at a plurality of wavelength points is calculated. The standard deviation may be calculated based on the entire wavelength range of the second derivative spectrum, or the standard deviation may be calculated based on a part of the wavelength range of the second derivative spectrum. For example, as shown in FIG. 18, when the value of the calibration spectrum is expected to decrease in the wavelength range of 1600 nm or more, the standard deviation is calculated without considering the value of the second derivative spectrum in the wavelength range of 1600 nm or more. You may.

続いて、第2ノイズ指標算出工程S152においては、標準偏差に基づいて第2ノイズ指標を算出する。第2ノイズ指標は、校正スペクトルに含まれるノイズの程度の指標である。第2ノイズ指標は、例えば、標準偏差の逆数である。第2ノイズ指標が大きいことは、校正スペクトルに含まれるノイズが少ないことを意味する。第2ノイズ指標が小さいことは、校正スペクトルに含まれるノイズが多いことを意味する。 Subsequently, in the second noise figure calculation step S152, the second noise figure is calculated based on the standard deviation. The second noise figure is an index of the degree of noise included in the calibration spectrum. The second noise figure is, for example, the reciprocal of the standard deviation. A large second noise figure means that there is little noise contained in the calibration spectrum. A small second noise figure means that there is a lot of noise contained in the calibration spectrum.

なお、第2ノイズ指標が第2閾値TH2未満である場合、校正試料51の表面の全体又は一部が汚れていることが考えられる。この場合、校正試料51を別のものに変更するか、若しくは、校正試料51における測定位置を変更してもよい。その後、新たな校正試料51に対して、若しくは校正試料51の新たな測定位置に対して、図7に示すように、工程S12、S13、S14及びS15を再び実施してもよい。
或いは、第2ノイズ指標が第2閾値TH2未満である場合、校正反射光の受光中に、手の動きなどに起因して分光モジュール20が校正試料51に対して移動したことが考えられる。この場合、同じ校正試料51の同じ測定位置に対して、若しくは同じ校正試料51の新たな測定位置に対して、図7に示すように、工程S12、S13、S14及びS15を再び実施してもよい。
このような第2ノイズ評価工程S15を行うことにより、校正試料51の表面の汚れや手の動きなどに起因して生じたノイズを多く含む校正スペクトルを排除できる。また、第2閾値TH2以上の第2ノイズ指標を有する校正スペクトルが得られるまで校正工程を繰り返し実施できる。このため、適切な校正スペクトルを記録できる。
When the second noise figure is less than the second threshold value TH2, it is considered that the whole or a part of the surface of the calibration sample 51 is contaminated. In this case, the calibration sample 51 may be changed to another one, or the measurement position in the calibration sample 51 may be changed. Then, as shown in FIG. 7, steps S12, S13, S14, and S15 may be performed again for the new calibration sample 51 or for the new measurement position of the calibration sample 51.
Alternatively, when the second noise index is less than the second threshold value TH2, it is considered that the spectroscopic module 20 has moved with respect to the calibration sample 51 due to the movement of the hand or the like while receiving the calibration reflected light. In this case, steps S12, S13, S14 and S15 may be performed again for the same measurement position of the same calibration sample 51 or for a new measurement position of the same calibration sample 51, as shown in FIG. good.
By performing the second noise evaluation step S15 as described above, it is possible to eliminate a calibration spectrum containing a large amount of noise generated due to stains on the surface of the calibration sample 51, hand movements, and the like. Further, the calibration step can be repeated until a calibration spectrum having a second noise figure having a second threshold value TH2 or higher is obtained. Therefore, an appropriate calibration spectrum can be recorded.

検査用校正スペクトル生成工程S1では、第2閾値TH2以上の第2ノイズ指標を有するN個の校正スペクトルが得られるまで、工程S12、S13、S14及びS15が繰り返されてもよい。例えば、記録されている校正スペクトルの数がN個未満である場合、校正試料51における測定位置を変更してもよい。その後、校正試料51の新たな測定位置に対して、S12、S13、S14及びS15を再び実施してもよい。このような検査用校正スペクトル生成工程S1によれば、第2閾値TH2以上の第2ノイズ指標を有するN個の校正スペクトルを得ることができる。Nは、例えば2以上であり、3以上であってもよく、4以上であってもよい。Nは、例えば10以下であってもよい。 In the inspection calibration spectrum generation step S1, steps S12, S13, S14 and S15 may be repeated until N calibration spectra having a second noise index of the second threshold value TH2 or higher are obtained. For example, if the number of recorded calibration spectra is less than N, the measurement position in the calibration sample 51 may be changed. After that, S12, S13, S14 and S15 may be performed again for the new measurement position of the calibration sample 51. According to such an inspection calibration spectrum generation step S1, it is possible to obtain N calibration spectra having a second noise figure having a second threshold value TH2 or more. N is, for example, 2 or more, may be 3 or more, or may be 4 or more. N may be, for example, 10 or less.

検査用校正スペクトル生成工程S1においては、記録されているN個の校正スペクトルの平均を算出してもよい。これによって、平均化校正スペクトルを生成できる。平均化校正スペクトルの各波長点におけるスペクトル値は、N個の校正スペクトルのスペクトル値の平均値である。例えば、1200nmの波長点における平均化校正スペクトルの値は、N個の校正スペクトルの、1200nmの波長点における値の平均値である。 In the inspection calibration spectrum generation step S1, the average of N recorded calibration spectra may be calculated. This makes it possible to generate an averaged calibration spectrum. The spectral value at each wavelength point of the averaged calibration spectrum is the average value of the spectrum values of the N calibration spectra. For example, the value of the averaged calibration spectrum at the wavelength point of 1200 nm is the average value of the values of the N calibration spectra at the wavelength point of 1200 nm.

上述の第1生成部251は、平均化校正スペクトルを基準として用いることにより対象スペクトルを生成してもよい。これにより、校正スペクトルのノイズの影響が対象スペクトルに現れることを更に抑制できる。 The first generation unit 251 described above may generate an object spectrum by using the averaged calibration spectrum as a reference. As a result, it is possible to further suppress the influence of noise in the calibration spectrum from appearing in the target spectrum.

〔ノイズが対象スペクトルに与える影響〕
次に、図19乃至図23を参照して、上述したノイズが対象スペクトル及び予測分子量に与える影響について説明する。ここでは校正スペクトルに含まれるノイズが対象スペクトル及び予測分子量に与える影響について説明する。
[Effect of noise on the target spectrum]
Next, with reference to FIGS. 19 to 23, the influence of the above-mentioned noise on the target spectrum and the predicted molecular weight will be described. Here, the influence of noise contained in the calibration spectrum on the target spectrum and the predicted molecular weight will be described.

図19は、対象物10の第1スペクトルとノイズの少ない校正スペクトルとを用いて生成された、対象物10の第2対象スペクトル(吸光度スペクトル)を示す図である。具体的には、図19に示す例では、表面の汚れが無い校正試料51が用いられ、校正試料51に対して分光モジュール20がしっかりと固定された状態で校正反射光が受光された。そして、このような適切な条件で受光された校正反射光に基づいて、校正スペクトルが生成された。
図19には、1つの対象物10の9つの測定位置に対して行われた検査工程で生成された第2対象スペクトルが示されている。
図19に示す例では、生成された9つの第2対象スペクトルのノイズ指標は、それぞれ、9652.83、14216.5、10542.8、12783.5、12084.6、10231.1、13034.2、13440.5及び11907.5であった。
FIG. 19 is a diagram showing a second target spectrum (absorbance spectrum) of the object 10 generated by using the first spectrum of the object 10 and the calibration spectrum with less noise. Specifically, in the example shown in FIG. 19, a calibration sample 51 having no surface stain was used, and the calibration reflected light was received in a state where the spectroscopic module 20 was firmly fixed to the calibration sample 51. Then, a calibration spectrum was generated based on the calibration reflected light received under such appropriate conditions.
FIG. 19 shows a second target spectrum generated in an inspection step performed on nine measurement positions of one object 10.
In the example shown in FIG. 19, the noise figures of the nine generated second target spectra are 9652.83, 142165, 10542.8, 12783.5, 12084.6, 10231.1, 13034.2, respectively. , 13440.5 and 11907.5.

図20は、対象物10の第1スペクトルとノイズの多い校正スペクトルとを用いて生成された、対象物10の第2対象スペクトル(吸光度スペクトル)を示す図である。図20に示す例では、図19に示す例で使用された対象物10及び校正試料51と同じ対象物10及び同じ校正試料51が用いられた。しかし、図20に示す例では、校正スペクトルは、校正試料51から適切に受光された校正反射光と空気からの反射光とに基づいて生成された。空気からの反射光は、手の動きなどに起因して分光モジュール20が校正試料51から離れた状態で、検出装置24によって受光されたものと考えられる。
図20には、図19に示す例と同様に、対象物10の9つの測定位置に対して行われた検査工程で生成された第2対象スペクトルが示されている。
図20に示す9つの第2対象スペクトルのノイズ指標は、それぞれ、77.0739、77.1067、77.0010、77.0618、77.0862、77.0764、77.0791、77.0143及び77.1123であった。
FIG. 20 is a diagram showing a second target spectrum (absorbance spectrum) of the object 10 generated by using the first spectrum of the object 10 and the calibration spectrum having a lot of noise. In the example shown in FIG. 20, the same object 10 and the same calibration sample 51 as the object 10 and the calibration sample 51 used in the example shown in FIG. 19 were used. However, in the example shown in FIG. 20, the calibration spectrum was generated based on the calibration reflected light appropriately received from the calibration sample 51 and the reflected light from the air. It is probable that the reflected light from the air was received by the detection device 24 with the spectroscopic module 20 away from the calibration sample 51 due to the movement of the hand or the like.
FIG. 20 shows a second target spectrum generated in an inspection step performed on nine measurement positions of the object 10, similar to the example shown in FIG.
The noise figures of the nine second target spectra shown in FIG. 20 are 77.0739, 77.1067, 77.0010, 77.0618, 77.0862, 77.0764, 77.0791, 77.0143 and 77, respectively. It was .1123.

図21は、対象物10の第1スペクトルとノイズの多い校正スペクトルとを用いて生成された、対象物10の第2対象スペクトル(吸光度スペクトル)を示す図である。図21に示す例では、図19に示す例で使用された対象物10及び校正試料51と同じ対象物10及び同じ校正試料51が用いられた。しかし、図21に示す例では、校正反射光を受光する際、手の動きなどに起因して分光モジュール20が校正試料51に対して振動した。
図21には、図19に示す例と同様に、対象物10の9つの測定位置に対して行われた検査工程で生成された第2対象スペクトルが示されている。
図21に示す9つの第2対象スペクトルのノイズ指標は、それぞれ、376.256、377.219、381.004、381.094、377.306、379.493、377.383、377.824及び376.819であった。
FIG. 21 is a diagram showing a second target spectrum (absorbance spectrum) of the object 10 generated by using the first spectrum of the object 10 and the calibration spectrum having a lot of noise. In the example shown in FIG. 21, the same object 10 and the same calibration sample 51 as the object 10 and the calibration sample 51 used in the example shown in FIG. 19 were used. However, in the example shown in FIG. 21, the spectroscopic module 20 vibrates with respect to the calibration sample 51 due to the movement of the hand or the like when receiving the calibration reflected light.
FIG. 21 shows a second target spectrum generated in an inspection step performed on nine measurement positions of the object 10, similar to the example shown in FIG.
The noise figures of the nine second target spectra shown in FIG. 21 are 376.256, 377.219, 381.004, 381.094, 377.306, 379.493, 377.383, 377.824 and 376, respectively. It was .819.

図19乃至図21から理解されるように、校正スペクトルのノイズは、校正スペクトルを用いて生成される対象スペクトルに影響を与える。そして、対象スペクトルに基づいて算出される予測分子量に影響を与える。 As can be seen from FIGS. 19-21, noise in the calibration spectrum affects the target spectrum generated using the calibration spectrum. Then, it affects the predicted molecular weight calculated based on the target spectrum.

図22には、分子量が130000、40000及び95000の樹脂材料を含む対象物10について、図19に示す条件と同様の条件で算出された予測分子量と、図20に示す条件と同様の条件で算出された予測分子量とが示されている。図22において、図19に示す条件で算出された予測分子量は、四角の記号で示されている。また、図22において、図20に示す条件で算出された予測分子量は、三角の記号で示されている。図22から理解されるように、算出された予測分子量は、実際の分子量と大きく異なっていることがわかる。 In FIG. 22, for the object 10 containing the resin materials having molecular weights of 130000, 40,000 and 95000, the predicted molecular weight calculated under the same conditions as those shown in FIG. 19 and the predicted molecular weight calculated under the same conditions as those shown in FIG. 20 are shown. The predicted molecular weight is shown. In FIG. 22, the predicted molecular weight calculated under the conditions shown in FIG. 19 is indicated by a square symbol. Further, in FIG. 22, the predicted molecular weight calculated under the conditions shown in FIG. 20 is indicated by a triangular symbol. As can be seen from FIG. 22, it can be seen that the calculated predicted molecular weight is significantly different from the actual molecular weight.

図23には、分子量が130000、40000及び95000の樹脂材料を含む対象物10について、図19に示す条件と同様の条件で算出された予測分子量と、図21に示す条件と同様の条件で算出された予測分子量とが示されている。図23において、図19に示す条件で算出された予測分子量は、四角の記号で示されている。また、図23において、図21に示す条件で算出された予測分子量は、丸の記号で示されている。図23に示すように、算出された予測分子量のいくつかは負の値となっている。このことは、予測分子量を適切に算出できていないことを示している。 In FIG. 23, for the object 10 containing the resin materials having molecular weights of 130000, 40,000 and 95000, the predicted molecular weight calculated under the same conditions as those shown in FIG. 19 and the predicted molecular weight calculated under the same conditions as those shown in FIG. 21 are shown. The predicted molecular weight is shown. In FIG. 23, the predicted molecular weight calculated under the conditions shown in FIG. 19 is indicated by a square symbol. Further, in FIG. 23, the predicted molecular weight calculated under the conditions shown in FIG. 21 is indicated by a circle symbol. As shown in FIG. 23, some of the calculated predicted molecular weights are negative values. This indicates that the predicted molecular weight could not be calculated properly.

なお、図示された例では、対象物10、校正試料51及び標準試料の反射光を利用して対象スペクトル、校正スペクトル及び標準スペクトルを生成したが、これに限られない。対象物10、校正試料51及び標準試料の透過光を利用して対象スペクトル、校正スペクトル及び標準スペクトルを生成してもよい。
この場合、パラメータ値算出工程S2、S53では、複数の波長点における透過光の強度の値が、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出されもよい。
また、この場合、吸光度Absは、例えば以下の式により算出される。
Abs=-log10(I/Io)
Iは、対象物10を透過した透過光の強度である。Ioは、校正試料を透過した透過光の強度である。
In the illustrated example, the target spectrum, the calibration spectrum, and the standard spectrum are generated by using the reflected light of the object 10, the calibration sample 51, and the standard sample, but the present invention is not limited to this. The object spectrum, the calibration spectrum, and the standard spectrum may be generated by using the transmitted light of the object 10, the calibration sample 51, and the standard sample.
In this case, in the parameter value calculation steps S2 and S53, the value of the intensity of the transmitted light at the plurality of wavelength points may be calculated as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point.
Further, in this case, the absorbance Abs is calculated by, for example, the following formula.
Abs = -log 10 (I / Io)
I is the intensity of the transmitted light transmitted through the object 10. Io is the intensity of transmitted light transmitted through the calibration sample.

また、図示された例では、回帰式は、対象物10の反射光又は透過光に基づいて得られる複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示すが、これに限られない。回帰式は、対象物10の反射光又は透過光に基づいて得られる複数のパラメータ値と、対象物10の樹脂材料の破断強度、線膨張係数、弾性係数、硬度、結晶度、その他の物性値との関係を示すものであってもよい。言い換えると、判定工程S3では、対象物10の樹脂材料の破断強度、線膨張係数、弾性係数、硬度、結晶度、その他の物性値が算出されてもよい。この場合も、算出された物性値に基づいて、対象物10の状態を判定することができる。 Further, in the illustrated example, the regression equation shows the relationship between a plurality of parameter values obtained based on the reflected light or transmitted light of the object 10 and the molecular weight of the resin material, but is not limited thereto. The regression equation includes a plurality of parameter values obtained based on the reflected light or transmitted light of the object 10, and the breaking strength, linear expansion coefficient, elastic modulus, hardness, crystallinity, and other physical property values of the resin material of the object 10. It may indicate the relationship with. In other words, in the determination step S3, the breaking strength, linear expansion coefficient, elastic modulus, hardness, crystallinity, and other physical property values of the resin material of the object 10 may be calculated. Also in this case, the state of the object 10 can be determined based on the calculated physical property value.

〔第1の実施の形態の効果〕
第1の実施の形態によれば、照射装置21及び/又は検出装置24が冷却部29により冷却されることにより、対象物10、校正試料51又は標準試料からの反射光の強度を検出中に分光モジュール20の温度が上昇することが抑制される。これにより、対象物10、校正試料51又は標準試料からの反射光の強度を安定して検出するこができ、信頼性の高い検査結果を得ることができる。
[Effect of the first embodiment]
According to the first embodiment, the irradiation device 21 and / or the detection device 24 is cooled by the cooling unit 29, so that the intensity of the reflected light from the object 10, the calibration sample 51, or the standard sample is being detected. The temperature rise of the spectroscopic module 20 is suppressed. As a result, the intensity of the reflected light from the object 10, the calibration sample 51, or the standard sample can be stably detected, and a highly reliable inspection result can be obtained.

なお、検出システム15が置かれている雰囲気温度が低い場合は、分光モジュール20の温度が分光モジュール20で検出される反射光の強度に影響を与えるほど上昇する、という虞は低い。この場合、照射装置21及び/又は検出装置24を冷却部29により冷却しなくてもよい。 When the ambient temperature in which the detection system 15 is placed is low, there is little possibility that the temperature of the spectroscopic module 20 will rise to the extent that it affects the intensity of the reflected light detected by the spectroscopic module 20. In this case, it is not necessary to cool the irradiation device 21 and / or the detection device 24 by the cooling unit 29.

また、検出システム15が置かれている雰囲気温度が低く、当該雰囲気温度が分光モジュール20により検出される反射光の強度に影響を与える場合は、照射装置21及び/又は検出装置24を断熱性の高い材料で覆って、照射装置21及び/又は検出装置24の温度低下を防止してもよい。言い換えると、検査システム15は、照射装置21及び/又は検出装置24を覆う断熱材を備えていてもよい。あるいは、この場合、照射装置21及び/又は検出装置24をヒーター等で加熱してもよい。言い換えると、検査システム15は、照射装置21及び/又は検出装置24を加熱する加熱部を備えていてもよい。 Further, when the ambient temperature in which the detection system 15 is placed is low and the ambient temperature affects the intensity of the reflected light detected by the spectroscopic module 20, the irradiation device 21 and / or the detection device 24 may be heat-insulated. It may be covered with a high material to prevent the temperature of the irradiation device 21 and / or the detection device 24 from dropping. In other words, the inspection system 15 may include a heat insulating material that covers the irradiation device 21 and / or the detection device 24. Alternatively, in this case, the irradiation device 21 and / or the detection device 24 may be heated by a heater or the like. In other words, the inspection system 15 may include a heating unit that heats the irradiation device 21 and / or the detection device 24.

さらに、分光モジュール20による反射光の強度の検出は、分光モジュール20の電源を入れてからある程度の時間が経過してから行うことが好ましい。言い換えると、反射光を検出する前に、分光モジュール20を暖機運転することが好ましい。この場合、暖機運転中に照射装置21及び/又は検出装置24の温度が安定して、反射光の強度を安定して検出することができる。 Further, it is preferable that the intensity of the reflected light by the spectroscopic module 20 is detected after a certain amount of time has elapsed after the power of the spectroscopic module 20 is turned on. In other words, it is preferable to warm up the spectroscopic module 20 before detecting the reflected light. In this case, the temperature of the irradiation device 21 and / or the detection device 24 is stable during the warm-up operation, and the intensity of the reflected light can be stably detected.

また、第1の実施の形態によれば、図9に示す対象物第1ノイズ評価工程S24を実施することにより、対象スペクトルに含まれるノイズを評価できる。このため、手の動きなどに起因して生じたノイズを多く含む対象スペクトルを排除できる。また、第1閾値TH1以上の第1ノイズ指標を有する対象スペクトルが得られるまで対象パラメータ値算出工程S2を繰り返し実施できる。このため、適切な対象スペクトルを記録できる。従って、樹脂層12を構成する材料の状態を適切に判定できる。 Further, according to the first embodiment, the noise included in the target spectrum can be evaluated by carrying out the object first noise evaluation step S24 shown in FIG. Therefore, it is possible to eliminate the target spectrum containing a large amount of noise caused by the movement of the hand or the like. Further, the target parameter value calculation step S2 can be repeatedly performed until a target spectrum having a first noise figure of the first threshold value TH1 or higher is obtained. Therefore, an appropriate target spectrum can be recorded. Therefore, the state of the material constituting the resin layer 12 can be appropriately determined.

また、第1の実施の形態によれば、図12に示す標準試料第1ノイズ評価工程S534を実施することにより、標準スペクトルに含まれるノイズを評価できる。このため、手の動きなどに起因して生じたノイズを多く含む標準スペクトルを排除できる。また、第1閾値TH1以上の第1ノイズ指標を有する標準スペクトルが得られるまで標準パラメータ値算出工程S53を繰り返し実施できる。このため、適切な標準スペクトルを記録できる。従って、樹脂層12を構成する材料の予測分子量を適切に算出可能な回帰式を作成することができる。 Further, according to the first embodiment, the noise included in the standard spectrum can be evaluated by carrying out the standard sample first noise evaluation step S534 shown in FIG. Therefore, it is possible to eliminate the standard spectrum containing a lot of noise caused by the movement of the hand or the like. Further, the standard parameter value calculation step S53 can be repeated until a standard spectrum having a first noise figure of the first threshold value TH1 or higher is obtained. Therefore, an appropriate standard spectrum can be recorded. Therefore, it is possible to create a regression equation that can appropriately calculate the predicted molecular weight of the material constituting the resin layer 12.

また、第2ノイズ評価工程S15を実施することにより、校正スペクトルに含まれるノイズを評価できる。このため、校正試料51の表面が汚れていることなどに起因して生じたノイズを多く含む校正スペクトルを排除できる。また、第2閾値TH2以上の第2ノイズ指標を有する校正スペクトルが得られるまで検査用校正スペクトル記録工程S1を繰り返し実施できる。このため、適切な校正スペクトルを記録できる。従って、樹脂層12を構成する材料の組成を適切に判定できる。 Further, by carrying out the second noise evaluation step S15, the noise included in the calibration spectrum can be evaluated. Therefore, it is possible to eliminate a calibration spectrum containing a large amount of noise generated due to the surface of the calibration sample 51 being dirty or the like. Further, the inspection calibration spectrum recording step S1 can be repeatedly performed until a calibration spectrum having a second noise figure having a second threshold value TH2 or higher is obtained. Therefore, an appropriate calibration spectrum can be recorded. Therefore, the composition of the material constituting the resin layer 12 can be appropriately determined.

上述した一実施形態を様々に変更できる。以下、必要に応じて図面を参照しながら、その他の実施形態について説明する。以下の説明及び以下の説明で用いる図面では、上述した一実施形態と同様に構成され得る部分について、上述の一実施形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いる。重複する説明は省略する。また、上述した一実施形態において得られる作用効果がその他の実施形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略する場合もある。 The above-described embodiment can be changed in various ways. Hereinafter, other embodiments will be described with reference to the drawings as necessary. In the following description and the drawings used in the following description, the same reference numerals as those used for the corresponding portions in the above-described embodiment are used for the portions that can be configured in the same manner as in the above-described embodiment. Duplicate explanations will be omitted. Further, when it is clear that the action and effect obtained in one embodiment described above can be obtained in other embodiments, the description thereof may be omitted.

(第2の実施の形態)
次に、図24乃至図27を参照して、第2の実施の形態による検査システムについて説明する。第2の実施の形態による検査システムは、第1の実施の形態による検査システム15と比較して、判定工程S3で用いられる回帰式(すなわち、回帰式作成工程S5における回帰式の作成方法)が異なっている。その他の点は、第1の実施の形態による検査システム15と同様である。第2の実施の形態において、第1の実施の形態による検査システム15と同様の部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
(Second embodiment)
Next, the inspection system according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. 24 to 27. The inspection system according to the second embodiment has a regression equation used in the determination step S3 (that is, a method for creating a regression equation in the regression equation creation step S5) as compared with the inspection system 15 according to the first embodiment. It's different. Other points are the same as the inspection system 15 according to the first embodiment. In the second embodiment, the same parts as those of the inspection system 15 according to the first embodiment are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

図24は、第2の実施の形態による検査システム15を示すブロック図である。
図24に示す検査システム15で用いられる回帰式には、次のような工夫がなされている。まず、本件発明者らは、同じ対象物10であっても、対象物10が置かれている雰囲気温度が変化すると、得られる反射スペクトルが変化することがあることを発見した。このことは、対象物10の樹脂材料の予測分子量及び予測分子量に基づく検査結果が、雰囲気温度による影響を受けることを意味する。そこで、第2の実施の形態の回帰式には、対象物10が置かれている雰囲気温度の変化に起因する予測分子量の変化を低減させるための工夫がなされている。
FIG. 24 is a block diagram showing the inspection system 15 according to the second embodiment.
The regression equation used in the inspection system 15 shown in FIG. 24 is devised as follows. First, the inventors of the present invention have discovered that even if the object 10 is the same, the obtained reflection spectrum may change when the atmospheric temperature in which the object 10 is placed changes. This means that the predicted molecular weight of the resin material of the object 10 and the inspection result based on the predicted molecular weight are affected by the ambient temperature. Therefore, the regression equation of the second embodiment is devised to reduce the change in the predicted molecular weight due to the change in the atmospheric temperature in which the object 10 is placed.

対象物10が置かれている雰囲気温度が変化すると生成装置25で生成される反射スペクトルが変化する原因として、本件発明者らは、上記雰囲気温度が検出装置24で検出される反射光の強度(生成装置25で生成される反射スペクトルのピーク位置)に影響を与えることを見出した。すなわち、同じ対象物10によって反射された反射光であっても、対象物10が置かれている雰囲気温度によって、検出装置24で検出される反射光の強度が異なることを見出した。 As a cause of the change in the reflection spectrum generated by the generation device 25 when the ambient temperature at which the object 10 is placed changes, the present inventors have determined that the ambient temperature is the intensity of the reflected light detected by the detection device 24 ( It has been found that it affects the peak position of the reflection spectrum generated by the generator 25). That is, it has been found that even if the reflected light is reflected by the same object 10, the intensity of the reflected light detected by the detection device 24 differs depending on the atmospheric temperature in which the object 10 is placed.

この点について、本件発明者らは、様々な(複数の)雰囲気温度に置かれた標準試料のパラメータ値に基づいて回帰式を作成すれば、対象反射光L2が取得される雰囲気温度の違いが予測分子量に与える影響を抑制することができることを発見した。すなわち、従来、回帰式の作成は、一の雰囲気温度(例えば25℃)に置かれた標準試料の反射スペクトルに基づいて行われた。これに対し、標準試料を様々な雰囲気温度(例えば5℃、15℃、25℃、35℃)に置いて標準スペクトルを得、これら様々な雰囲気温度における標準スペクトルの情報を回帰式に反映させることにより、対象反射光L2が取得される雰囲気温度の違いが予測分子量に与える影響を抑制することができることを発見した。 In this regard, if the inventors create a regression equation based on the parameter values of the standard samples placed at various (plural) atmospheric temperatures, the difference in the atmospheric temperature at which the target reflected light L2 is acquired will be different. It was discovered that the effect on the predicted molecular weight can be suppressed. That is, conventionally, the regression equation was created based on the reflection spectrum of a standard sample placed at one atmospheric temperature (for example, 25 ° C.). On the other hand, the standard sample is placed at various atmospheric temperatures (for example, 5 ° C, 15 ° C, 25 ° C, 35 ° C) to obtain a standard spectrum, and the information of the standard spectrum at these various atmospheric temperatures is reflected in the regression equation. Therefore, it was discovered that the influence of the difference in the atmospheric temperature at which the target reflected light L2 is acquired on the predicted molecular weight can be suppressed.

さらに、本件発明者らは、標準試料が置かれた雰囲気温度の違いによって標準スペクトルのピーク位置が概ね波長方向にのみ変化することを発見した。つまり、ある雰囲気温度(例えば25℃)に置かれた標準試料から取得された標準反射光に基づいて生成された標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより、上記雰囲気温度とは異なる雰囲気温度(例えば5℃、15℃、35℃)に置かれた標準試料から取得される標準反射光に基づいて生成される標準スペクトルに似たスペクトルを得ることができることを発見した。したがって、標準反射光を実際に様々な雰囲気温度(例えば5℃、15℃、25℃、35℃)に置かれた標準試料から取得しなくても、一つの雰囲気温度(例えば25℃)に置かれた標準試料から取得された標準反射光に基づいて生成される標準スペクトルから、上記複数の雰囲気温度に置かれた標準試料から取得される標準反射光に基づいて生成される標準スペクトルに似たスペクトルを、簡単に生成することができることを見出した。 Furthermore, the present inventors have found that the peak position of the standard spectrum changes almost only in the wavelength direction due to the difference in the atmospheric temperature in which the standard sample is placed. That is, by translating the standard spectrum generated based on the standard reflected light obtained from the standard sample placed at a certain atmospheric temperature (for example, 25 ° C.) in the wavelength direction, the atmospheric temperature different from the above atmospheric temperature (for example, 25 ° C.) For example, it has been discovered that it is possible to obtain a spectrum similar to the standard spectrum generated based on the standard reflected light obtained from a standard sample placed at 5 ° C, 15 ° C, 35 ° C). Therefore, even if the standard reflected light is not actually obtained from the standard sample placed at various ambient temperatures (eg 5 ° C, 15 ° C, 25 ° C, 35 ° C), it is placed at one ambient temperature (eg 25 ° C). Similar to the standard spectrum generated based on the standard reflected light obtained from the standard samples placed at the above multiple ambient temperatures from the standard spectrum generated based on the standard reflected light obtained from the standard sample. We have found that the spectrum can be easily generated.

図25には、ある雰囲気温度(例えば25℃)に置かれた標準試料から取得された標準反射光に基づいて生成された標準スペクトルB1が実線で示されている。また、図25には、標準スペクトルB1を波長方向(図25の横軸方向)に平行移動させることにより生成された複製標準スペクトルB11、B12、B13、B14、B15、B16が示されている。第1複製標準スペクトルB11は、標準スペクトルB1を波長方向に-1nm平行移動させることにより生成されたスペクトルである。第2複製標準スペクトルB12は、標準スペクトルB1を波長方向に-0.5nm平行移動させることにより生成されたスペクトルである。第3複製標準スペクトルB13は、標準スペクトルB1を波長方向に+0.5nm平行移動させることにより生成されたスペクトルである。第4複製標準スペクトルB14は、標準スペクトルB1を波長方向に+1nm平行移動させることにより生成されたスペクトルである。第5複製標準スペクトルB15は、標準スペクトルB1を波長方向に+1.5nm平行移動させることにより生成されたスペクトルである。第6複製標準スペクトルB16は、標準スペクトルB1を波長方向に+2nm平行移動させることにより生成されたスペクトルである。複製標準スペクトルB11、B12、B13、B14、B15、B16は、標準スペクトルB1が取得された標準試料を約-15~約45℃の雰囲気温度に置いて取得された標準反射光から生成される標準スペクトルに似ている。 In FIG. 25, the standard spectrum B1 generated based on the standard reflected light obtained from the standard sample placed at a certain atmospheric temperature (for example, 25 ° C.) is shown by a solid line. Further, FIG. 25 shows duplicate standard spectra B11, B12, B13, B14, B15, and B16 generated by translating the standard spectrum B1 in the wavelength direction (horizontal axis direction in FIG. 25). The first duplicate standard spectrum B11 is a spectrum generated by translating the standard spectrum B1 in the wavelength direction by -1 nm. The second duplicate standard spectrum B12 is a spectrum generated by translating the standard spectrum B1 in the wavelength direction by −0.5 nm. The third duplicate standard spectrum B13 is a spectrum generated by translating the standard spectrum B1 in the wavelength direction by +0.5 nm. The fourth duplicate standard spectrum B14 is a spectrum generated by translating the standard spectrum B1 in the wavelength direction by + 1 nm. The fifth duplicate standard spectrum B15 is a spectrum generated by translating the standard spectrum B1 in the wavelength direction by +1.5 nm. The sixth duplicate standard spectrum B16 is a spectrum generated by translating the standard spectrum B1 in the wavelength direction by +2 nm. The duplicated standard spectra B11, B12, B13, B14, B15, and B16 are standards generated from standard reflected light obtained by placing the standard sample obtained with the standard spectrum B1 at an atmospheric temperature of about -15 to about 45 ° C. Similar to the spectrum.

以上の点を考慮して、図24に示す検査システム15で用いられる回帰式(汎用回帰式)は、次のようにして作成される。
まず、図12の標準試料検出工程S532において、ある雰囲気温度(例えば25℃)に置かれた標準試料からの標準反射光を取得する。そして、標準スペクトル生成工程S533において、上記標準反射光に基づいて標準スペクトル(図12に示す例では第2標準スペクトル)を算出する。次に、標準スペクトルを波長方向に平行移動させて複製標準スペクトルを生成する。なお、複製標準スペクトルを生成する際に標準スペクトルを波長方向にどれだけ平行移動させるかは、検査システム15が置かれることが想定される雰囲気温度に基づいて決定される。例えば、検査システム15が5℃~35℃の雰囲気温度に置かれることが想定される場合には、25℃の雰囲気温度に置かれた標準試料からの標準反射光に基づいて生成された標準スペクトルを、波長方向(図25の横軸方向)に-0.5nm~+1.0nm平行移動させて複製標準スペクトルを生成ればよい。この場合、5℃~35℃の雰囲気温度に置かれた標準試料からの標準反射光に基づいて生成される標準スペクトルに似た複製標準スペクトルを得ることができる。
次に、標準スペクトル及び複製標準スペクトルの各々に、平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施して、複数の波長点に対応する複数のパラメータ値をそれぞれ算出する。
そして、各標準試料の複数のパラメータ値(各標準試料の標準スペクトルに基づいて算出されたパラメータ値及び各標準スペクトルから生成された複製標準スペクトルに基づいて算出されたパラメータ値)と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する。
In consideration of the above points, the regression equation (general-purpose regression equation) used in the inspection system 15 shown in FIG. 24 is created as follows.
First, in the standard sample detection step S532 of FIG. 12, the standard reflected light from the standard sample placed at a certain atmospheric temperature (for example, 25 ° C.) is acquired. Then, in the standard spectrum generation step S533, the standard spectrum (the second standard spectrum in the example shown in FIG. 12) is calculated based on the standard reflected light. Next, the standard spectrum is translated in the wavelength direction to generate a duplicate standard spectrum. It should be noted that how much the standard spectrum is translated in the wavelength direction when the duplicated standard spectrum is generated is determined based on the ambient temperature at which the inspection system 15 is expected to be placed. For example, if the inspection system 15 is expected to be placed at an ambient temperature of 5 ° C to 35 ° C, a standard spectrum generated based on standard reflected light from a standard sample placed at an ambient temperature of 25 ° C. May be translated by −0.5 nm to +1.0 nm in the wavelength direction (horizontal axis direction in FIG. 25) to generate a duplicate standard spectrum. In this case, it is possible to obtain a duplicate standard spectrum similar to the standard spectrum generated based on the standard reflected light from the standard sample placed at an atmospheric temperature of 5 ° C to 35 ° C.
Next, each of the standard spectrum and the duplicate standard spectrum is subjected to a process including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof, and a plurality of wavelength points are subjected to processing. Calculate each of the multiple parameter values corresponding to.
Then, a plurality of parameter values of each standard sample (parameter values calculated based on the standard spectrum of each standard sample and parameter values calculated based on the duplicated standard spectrum generated from each standard spectrum) and each standard sample. A regression equation expressing the relationship with the molecular weight of the resin material is created using the multivariate analysis method.

このようにして得られた汎用回帰式を用いることにより、対象物10が置かれた雰囲気温度の変化が当該対象物10の樹脂材料の予測分子量に与える影響を、低減させることができる。とりわけ、標準反射光が取得された雰囲気温度(例えば25℃)に置かれた対象物10からの対象反射光に基づいて算出された予測分子量と、標準反射光が取得された雰囲気温度(例えば25℃)以外の雰囲気温度(例えば0~24℃、26~40℃)に置かれた対象物10からの対象反射光に基づいて算出された予測分子量との違いを、小さくすることができる。このことは、標準反射光が取得された雰囲気温度(例えば25℃)以外の雰囲気温度(例えば0~24℃、26~40℃)に置かれた対象物10からの対象反射光に基づいて予測分子量を算出した場合であっても、当該対象物10の樹脂材料の実際の分子量に近い予測分子量を算出することができることを意味する。 By using the general-purpose regression equation thus obtained, it is possible to reduce the influence of the change in the atmospheric temperature on which the object 10 is placed on the predicted molecular weight of the resin material of the object 10. In particular, the predicted molecular weight calculated based on the target reflected light from the object 10 placed at the atmospheric temperature (for example, 25 ° C.) at which the standard reflected light was acquired, and the atmospheric temperature at which the standard reflected light was acquired (for example, 25 ° C.). The difference from the predicted molecular weight calculated based on the target reflected light from the object 10 placed at an ambient temperature other than (° C.) (for example, 0 to 24 ° C., 26 to 40 ° C.) can be reduced. This is predicted based on the target reflected light from the object 10 placed at an atmospheric temperature (for example, 0 to 24 ° C., 26 to 40 ° C.) other than the atmospheric temperature (for example, 25 ° C.) at which the standard reflected light was acquired. Even when the molecular weight is calculated, it means that the predicted molecular weight close to the actual molecular weight of the resin material of the object 10 can be calculated.

なお、上述の実施の形態においては、標準スペクトル及び複製標準スペクトルを用いて汎用回帰式を作成したが、これに限られない。汎用回帰式は、複製標準スペクトルのみを用いて作成されてもよい。 In the above-described embodiment, the general-purpose regression equation is created using the standard spectrum and the duplicate standard spectrum, but the present invention is not limited to this. The general-purpose regression equation may be created using only duplicated standard spectra.

図26に、5℃、15℃、25℃及び35℃の雰囲気温度に置かれた対象物10に対して、図2に示す検査システム15を用いることにより算出された当該対象物10の樹脂材料の予測分子量と、当該樹脂材料の実際の分子量との関係が示されている。図26に示す例では、回帰式として、25℃の雰囲気温度に置かれた標準試料からの標準反射光から生成された標準スペクトルに基づいて作成された標準回帰式が用いられている。また、図27には、図26に示す例と同じ雰囲気温度に置かれた同じ対象物10に対し、図24に示す検査システム15を用いることにより算出された対象物10の樹脂材料の予測分子量と、当該樹脂材料の実際の分子量との関係が示されている。図27に示す例では、回帰式として、25℃の雰囲気温度に置かれた標準試料からの標準反射光から生成された標準スペクトルと、当該標準スペクトルを波長方向に-0.5nm~+1.0nmの範囲で平行移動させることにより生成された複製標準スペクトルとに基づいて作成された汎用回帰式が用いられている。図26及び図27から理解されるように、図24に示す検査システム15を用いて予測分子量を算出した場合、図2に示す検査システム15を用いて予測分子量を算出した場合と比較して、対象物10が置かれていた雰囲気温度による予測分子量の違いが全体的に小さい。 In FIG. 26, the resin material of the object 10 calculated by using the inspection system 15 shown in FIG. 2 for the object 10 placed at the atmospheric temperatures of 5 ° C, 15 ° C, 25 ° C and 35 ° C. The relationship between the predicted molecular weight of the above and the actual molecular weight of the resin material is shown. In the example shown in FIG. 26, as the regression equation, a standard regression equation created based on a standard spectrum generated from a standard reflected light from a standard sample placed at an atmospheric temperature of 25 ° C. is used. Further, in FIG. 27, the predicted molecular weight of the resin material of the object 10 calculated by using the inspection system 15 shown in FIG. 24 for the same object 10 placed at the same atmospheric temperature as the example shown in FIG. And the actual molecular weight of the resin material are shown. In the example shown in FIG. 27, as a regression equation, a standard spectrum generated from standard reflected light from a standard sample placed at an ambient temperature of 25 ° C. and the standard spectrum are obtained in the wavelength direction from −0.5 nm to +1.0 nm. A general-purpose regression equation created based on the duplicated standard spectrum generated by translating in the range of is used. As can be understood from FIGS. 26 and 27, when the predicted molecular weight is calculated using the inspection system 15 shown in FIG. 24, the predicted molecular weight is calculated using the inspection system 15 shown in FIG. The difference in the predicted molecular weight depending on the ambient temperature on which the object 10 is placed is small as a whole.

〔第2の実施の形態の効果〕
第2の実施の形態によれば、回帰式は、様々な雰囲気温度で取得される複数の標準スペクトルに各々対応する複数のスペクトル(標準スペクトル及び複製標準スペクトル)に基づいて作成されている。これにより、対象物10が置かれた雰囲気温度が変化することによる予測分子量の変化が抑制される。とりわけ、標準反射光が取得された雰囲気温度(例えば25℃)に置かれた対象物10からの対象反射光に基づいて算出された予測分子量と、標準反射光が取得された雰囲気温度(例えば25℃)以外の雰囲気温度(例えば0~24℃、26~40℃)に置かれた対象物10からの対象反射光に基づいて算出された予測分子量との違いを、小さくすることができる。そして、標準反射光が取得された雰囲気温度(例えば25℃)以外の雰囲気温度(例えば0~24℃、26~40℃)に置かれた対象物10からの対象反射光に基づいて予測分子量を算出した場合であっても、当該対象物10の樹脂材料の実際の分子量に近い予測分子量を算出することができる。
[Effect of the second embodiment]
According to the second embodiment, the regression equation is created based on a plurality of spectra (standard spectrum and duplicate standard spectrum) corresponding to the plurality of standard spectra acquired at various atmospheric temperatures. As a result, the change in the predicted molecular weight due to the change in the atmospheric temperature in which the object 10 is placed is suppressed. In particular, the predicted molecular weight calculated based on the target reflected light from the object 10 placed at the ambient temperature at which the standard reflected light was acquired (eg 25 ° C.) and the ambient temperature at which the standard reflected light was acquired (eg 25 ° C.). The difference from the predicted molecular weight calculated based on the target reflected light from the object 10 placed at an ambient temperature other than (° C.) (for example, 0 to 24 ° C., 26 to 40 ° C.) can be reduced. Then, the predicted molecular weight is determined based on the target reflected light from the object 10 placed at an atmospheric temperature (for example, 0 to 24 ° C, 26 to 40 ° C) other than the atmospheric temperature (for example, 25 ° C) from which the standard reflected light was acquired. Even in the case of calculation, it is possible to calculate the predicted molecular weight close to the actual molecular weight of the resin material of the object 10.

(第2の実施の形態の変形例)
第2の実施の形態の変形例では、複製標準スペクトルを用いずに、様々な雰囲気温度で実際に取得された標準反射光から生成された標準スペクトルを用いて汎用回帰式を作成する。例えば、第1の雰囲気温度(例えば5℃)に置かれた標準試料の標準スペクトルである第1標準スペクトルと、第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度(例えば15℃)に置かれた標準試料の標準スペクトルである第2標準スペクトルと、第1~第2の雰囲気温度とは異なる第3の雰囲気温度(例えば25℃)に置かれた標準試料の標準スペクトルである第3標準スペクトルと、第1~第3の雰囲気温度とは異なる第4の雰囲気温度(例えば35℃)に置かれた標準試料の標準スペクトルである第4標準スペクトルと、に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施して得られるパラメータ値に基づいて、汎用回帰式を作成する。この場合も、第2の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
(Modified example of the second embodiment)
In the modification of the second embodiment, the general-purpose regression equation is created by using the standard spectrum generated from the standard reflected light actually acquired at various atmospheric temperatures without using the duplicate standard spectrum. For example, a first standard spectrum, which is a standard spectrum of a standard sample placed at a first atmospheric temperature (for example, 5 ° C.), and a second atmospheric temperature (for example, 15 ° C.) different from the first atmospheric temperature are placed. The second standard spectrum, which is the standard spectrum of the standard sample, and the third standard spectrum, which is the standard spectrum of the standard sample placed at a third atmospheric temperature (for example, 25 ° C.) different from the first and second atmospheric temperatures. And a fourth standard spectrum, which is a standard spectrum of a standard sample placed at a fourth atmospheric temperature (for example, 35 ° C.) different from the first to third atmospheric temperatures, and averaged, smoothed, and normalized. A general-purpose regression equation is created based on the parameter values obtained by performing processing including differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. In this case as well, the same effect as that of the second embodiment can be obtained.

(第3の実施の形態)
次に、図28乃至図30を参照して、第3の実施の形態による検査システムについて説明する。第3の実施の形態による検査システムは、第1の実施の形態による検査システム15と比較して、判定工程S3で算出された予測分子量を温度別補正式で補正する点が異なっている。また、第1の実施の形態による検査システム15と比較して、温度モニタ30を備える点が異なっている。その他の点は、第1の実施の形態による検査システム15と同様である。第3の実施の形態において、第1の実施の形態による検査システム15と同様の部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
(Third embodiment)
Next, the inspection system according to the third embodiment will be described with reference to FIGS. 28 to 30. The inspection system according to the third embodiment is different from the inspection system 15 according to the first embodiment in that the predicted molecular weight calculated in the determination step S3 is corrected by the temperature-based correction formula. Further, it is different in that the temperature monitor 30 is provided as compared with the inspection system 15 according to the first embodiment. Other points are the same as the inspection system 15 according to the first embodiment. In the third embodiment, the same parts as those of the inspection system 15 according to the first embodiment are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

図28は、第3の実施の形態による検査システム15を示すブロック図である。図28に示す検査システム15は、温度モニタ30を備えている。また、判定装置28の記憶部281は、回帰式(図28に示す例では標準回帰式)に加えて温度別補正式を記憶している。 FIG. 28 is a block diagram showing the inspection system 15 according to the third embodiment. The inspection system 15 shown in FIG. 28 includes a temperature monitor 30. Further, the storage unit 281 of the determination device 28 stores a temperature-based correction formula in addition to the regression equation (standard regression equation in the example shown in FIG. 28).

〔温度モニタ〕
温度モニタ30は、検査システム15の雰囲気温度(より具体的には、分光モジュール20が置かれている雰囲気温度)を測定する。温度モニタ30は、分光モジュール20に含まれていてもよい。温度モニタ30は、後述するケース40に収容されていてもよい。温度モニタ30は、分光モジュール20及びケース40から分離された構造を有していてもよい。温度モニタ30は、雰囲気温度に関する情報を判定装置28に伝える。
[Temperature monitor]
The temperature monitor 30 measures the atmospheric temperature of the inspection system 15 (more specifically, the atmospheric temperature in which the spectroscopic module 20 is placed). The temperature monitor 30 may be included in the spectroscopic module 20. The temperature monitor 30 may be housed in a case 40 described later. The temperature monitor 30 may have a structure separated from the spectroscopic module 20 and the case 40. The temperature monitor 30 conveys information about the atmospheric temperature to the determination device 28.

上述したように、同じ対象物10であっても、対象物10が置かれている雰囲気温度が変化すると、得られる反射スペクトルが変化することがある。このため、対象物10の樹脂材料の予測分子量及び予測分子量に基づく検査結果が、雰囲気温度によって変化することがある。この点に関し、本件発明者らは、回帰式に基づいて算出された予測分子量を以下のようにして作成された温度別補正式で補正することにより、検査システム15で算出される分子量(補正分子量)を実際の分子量に近づけることができることを見出した。すなわち、回帰式だけでなく温度別補正式も用いて対象物10の状態を検査することにより、検査の精度が向上することを見出した。なお、温度別補正式は、判定装置28の記憶部281に予め記録されている。 As described above, even if the object 10 is the same, the obtained reflection spectrum may change when the atmospheric temperature at which the object 10 is placed changes. Therefore, the predicted molecular weight of the resin material of the object 10 and the inspection result based on the predicted molecular weight may change depending on the ambient temperature. In this regard, the inventors of the present invention correct the predicted molecular weight calculated based on the regression equation by the temperature-specific correction formula prepared as follows, and thereby the molecular weight (corrected molecular weight) calculated by the inspection system 15. ) Was found to be able to approach the actual molecular weight. That is, it has been found that the accuracy of the inspection is improved by inspecting the state of the object 10 using not only the regression equation but also the temperature-based correction equation. The temperature-based correction formula is recorded in advance in the storage unit 281 of the determination device 28.

〔温度別補正式の作成方法〕
まず、温度別補正式の作成方法について説明する。
標準試料を第1の雰囲気温度(例えば5℃)に置いて、図11及び図12に示す標準パラメータ値算出工程S53を行う。次に、得られたパラメータ値を回帰式(図28に示す例では標準回帰式)に回帰させて予測分子量を算出し、図29に示すような散布図を描く。図29では、縦軸yが回帰式に基づいて得られた標準試料の樹脂材料の予測分子量を示し、横軸xが標準試料の樹脂材料の実際の分子量を示す。そして、第1の雰囲気温度に置かれた標準試料の散布図の近似直線(第1の近似線C1)を求める。その後、第1の近似線C1の傾きを1にし、切片を零にするような、第1の温度別補正式y1を求める。例えば、第1の近似直線C1がy=ax+bで表される場合、第1の温度別補正式はy1=(y-b)/aとなる。
同様に、標準試料を第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度(例えば15℃)に置いて、図11及び図12に示す標準パラメータ値算出工程S53を行う。次に、得られたパラメータ値を回帰式に回帰させて予測分子量を算出し、図29に示すような散布図を描く。そして、第2の雰囲気温度に置かれた標準試料の散布図の近似直線(第2の近似線C2)を求める。その後、第2の近似線C2の傾きを1にし、切片を零にするような、第2の温度別補正式y2を求める。第2の温度別補正式y2の求め方は、第1温度別補正式y1の求め方と同様である。
同様に、標準試料を第1~第2の雰囲気温度とは異なる第3の雰囲気温度(例えば25℃)に置いて、図11及び図12に示す標準パラメータ値算出工程S53を行う。次に、得られたパラメータ値を回帰式に回帰させて予測分子量を算出し、図29に示すような散布図を描く。そして、第3の雰囲気温度に置かれた標準試料の散布図の近似直線(第3の近似線C3)を求める。その後、第3の近似線C3の傾きを1にし、切片を零にするような、第3の温度別補正式y3を求める。第3の温度別補正式y3の求め方も、第1温度別補正式y1の求め方と同様である。
同様に、標準試料を第1~第3の雰囲気温度とは異なる第4の雰囲気温度(例えば35℃)に置いて、図11及び図12に示す標準パラメータ値算出工程S53を行う。次に、得られたパラメータ値を回帰式に回帰させて予測分子量を算出し、図29に示すような散布図を描く。そして、第4の雰囲気温度に置かれた標準試料の散布図の近似直線(第4の近似線C4)を求める。その後、第4の近似線C4の傾きを1にし、切片を零にするような、第4の温度別補正式y4を求める。第4の温度別補正式y4の求め方も、第1温度別補正式y1の求め方と同様である。
[How to create a temperature-based correction formula]
First, a method of creating a temperature-based correction formula will be described.
The standard sample is placed at the first atmospheric temperature (for example, 5 ° C.), and the standard parameter value calculation step S53 shown in FIGS. 11 and 12 is performed. Next, the obtained parameter values are regressed to a regression equation (standard regression equation in the example shown in FIG. 28) to calculate the predicted molecular weight, and a scatter diagram as shown in FIG. 29 is drawn. In FIG. 29, the vertical axis y shows the predicted molecular weight of the resin material of the standard sample obtained based on the regression equation, and the horizontal axis x shows the actual molecular weight of the resin material of the standard sample. Then, an approximate straight line (first approximate line C1) of the scatter plot of the standard sample placed at the first atmospheric temperature is obtained. After that, the first temperature-specific correction formula y1 is obtained so that the slope of the first approximation line C1 is set to 1 and the intercept is set to zero. For example, when the first approximate straight line C1 is represented by y = ax + b, the first temperature-based correction formula is y1 = (y−b) / a.
Similarly, the standard sample is placed at a second atmospheric temperature (for example, 15 ° C.) different from the first atmospheric temperature, and the standard parameter value calculation step S53 shown in FIGS. 11 and 12 is performed. Next, the obtained parameter values are regressed in a regression equation to calculate the predicted molecular weight, and a scatter diagram as shown in FIG. 29 is drawn. Then, an approximate straight line (second approximate line C2) of the scatter plot of the standard sample placed at the second atmospheric temperature is obtained. After that, the second temperature-specific correction formula y2 is obtained so that the slope of the second approximation line C2 is set to 1 and the intercept is set to zero. The method of obtaining the second temperature-based correction formula y2 is the same as the method of obtaining the first temperature-based correction formula y1.
Similarly, the standard sample is placed at a third atmospheric temperature (for example, 25 ° C.) different from the first and second atmospheric temperatures, and the standard parameter value calculation step S53 shown in FIGS. 11 and 12 is performed. Next, the obtained parameter values are regressed in a regression equation to calculate the predicted molecular weight, and a scatter diagram as shown in FIG. 29 is drawn. Then, an approximate straight line (third approximate line C3) of the scatter plot of the standard sample placed at the third atmospheric temperature is obtained. After that, the third temperature-specific correction formula y3 is obtained so that the slope of the third approximation line C3 is set to 1 and the intercept is set to zero. The method of obtaining the third temperature-based correction formula y3 is the same as the method of obtaining the first temperature-based correction formula y1.
Similarly, the standard sample is placed at a fourth atmospheric temperature (for example, 35 ° C.) different from the first to third atmospheric temperatures, and the standard parameter value calculation step S53 shown in FIGS. 11 and 12 is performed. Next, the obtained parameter values are regressed in a regression equation to calculate the predicted molecular weight, and a scatter diagram as shown in FIG. 29 is drawn. Then, an approximate straight line (fourth approximate line C4) of the scatter plot of the standard sample placed at the fourth atmospheric temperature is obtained. After that, the fourth temperature-specific correction formula y4 is obtained so that the slope of the fourth approximation line C4 is set to 1 and the intercept is set to zero. The method for obtaining the fourth temperature-based correction formula y4 is the same as the method for obtaining the first temperature-based correction formula y1.

〔温度別補正式を用いた検査方法〕
次に、上述の温度別補正式を用いて対象物10の状態を検査するための検査方法について説明する。
まず、図6及び図7に示す検査用校正スペクトル記録工程S1、並びに、図6及び図9に示す対象パラメータ値算出工程S2を行う。対象パラメータ値算出工程S2は、温度モニタ30によって対象物10の雰囲気温度(より具体的には、対象反射光L2を取得した際の雰囲気温度)を測定する温度測定工程を含む。
次に、図6に示す判定工程S3を行う。判定工程S3においては、まず判定装置28の記憶部281に記憶された回帰式、及び対象パラメータ値算出工程S2において算出したパラメータ値に基づいて、解析部282が対象物10の樹脂材料の予測分子量を算出する。また、温度モニタ30によって測定された上記測定温度に基づいて、記憶部281に記録された第1~第4温度別補正式y1,y2,y3,y4のうち一の温度別補正式を選択する。次に、解析部282は、選択した温度補正式で予測分子量を補正することにより、補正分子量を算出する。
最後に、補正分子量に基づいて、判定部283において対象物10の状態を判定する。
[Inspection method using temperature-based correction formula]
Next, an inspection method for inspecting the state of the object 10 by using the above-mentioned temperature-based correction formula will be described.
First, the inspection calibration spectrum recording step S1 shown in FIGS. 6 and 7, and the target parameter value calculation step S2 shown in FIGS. 6 and 9 are performed. The target parameter value calculation step S2 includes a temperature measurement step of measuring the atmospheric temperature of the object 10 (more specifically, the atmospheric temperature when the target reflected light L2 is acquired) by the temperature monitor 30.
Next, the determination step S3 shown in FIG. 6 is performed. In the determination step S3, the analysis unit 282 first predicts the predicted molecular weight of the resin material of the object 10 based on the regression equation stored in the storage unit 281 of the determination device 28 and the parameter value calculated in the target parameter value calculation step S2. Is calculated. Further, based on the measured temperature measured by the temperature monitor 30, one of the first to fourth temperature-specific correction formulas y1, y2, y3, and y4 recorded in the storage unit 281 is selected. .. Next, the analysis unit 282 calculates the corrected molecular weight by correcting the predicted molecular weight with the selected temperature correction formula.
Finally, the determination unit 283 determines the state of the object 10 based on the corrected molecular weight.

なお、記憶部281は、上記対象物10の雰囲気温度と温度補正式y1,y2,y3,y4との対応関係に関する情報を、予め記憶している。例えば、10℃未満の雰囲気温度に対応する温度補正式は第1の温度別補正式y1である、という情報を記憶している。また、10℃以上20℃未満の雰囲気温度に対応する温度補正式は第2の温度別補正式y2である、という情報を記憶している。また、20℃以上30℃未満の雰囲気温度に対応する温度補正式は第3の温度別補正式y3である、という情報を記憶している。また、30℃以上の雰囲気温度に対応する温度補正式は第4の温度別補正式y4である、という情報を記憶している。この場合、上記対象物10の雰囲気温度が10℃未満であれば、解析部282は、予測分子量を第1の温度別補正式y1で補正して、補正分子量を算出する。また、上記対象物10の雰囲気温度が10℃以上20℃未満であれば、解析部282は、予測分子量を第2の温度別補正式y2で補正して、補正分子量を算出する。また、上記対象物10の雰囲気温度が20℃以上30℃未満であれば、解析部282は、予測分子量を第3の温度別補正式y3で補正して、補正分子量を算出する。また、上記対象物10の雰囲気温度が30℃以上であれば、解析部282は、予測分子量を第4の温度別補正式y4で補正して、補正分子量を算出する。 The storage unit 281 stores in advance information regarding the correspondence between the atmospheric temperature of the object 10 and the temperature correction formulas y1, y2, y3, and y4. For example, the information that the temperature correction formula corresponding to the atmospheric temperature of less than 10 ° C. is the first temperature-specific correction formula y1 is stored. Further, the information that the temperature correction formula corresponding to the atmospheric temperature of 10 ° C. or higher and lower than 20 ° C. is the second temperature-specific correction formula y2 is stored. Further, the information that the temperature correction formula corresponding to the atmospheric temperature of 20 ° C. or higher and lower than 30 ° C. is the third temperature-specific correction formula y3 is stored. Further, the information that the temperature correction formula corresponding to the atmospheric temperature of 30 ° C. or higher is the fourth temperature-specific correction formula y4 is stored. In this case, if the atmospheric temperature of the object 10 is less than 10 ° C., the analysis unit 282 corrects the predicted molecular weight by the first temperature-based correction formula y1 to calculate the corrected molecular weight. If the atmospheric temperature of the object 10 is 10 ° C. or higher and lower than 20 ° C., the analysis unit 282 corrects the predicted molecular weight by the second temperature-specific correction formula y2 to calculate the corrected molecular weight. If the atmospheric temperature of the object 10 is 20 ° C. or higher and lower than 30 ° C., the analysis unit 282 corrects the predicted molecular weight by the third temperature-specific correction formula y3 to calculate the corrected molecular weight. If the atmospheric temperature of the object 10 is 30 ° C. or higher, the analysis unit 282 corrects the predicted molecular weight by the fourth temperature-specific correction formula y4 to calculate the corrected molecular weight.

図30に、図26に示す例と同じ雰囲気温度に置かれた同じ対象物10に対し、図28に示す検査システム15を用いることにより算出された対象物10の樹脂材料の補正分子量と、当該樹脂材料の実際の分子量との関係を示す。図26及び図30から理解されるように、図28に示す検査システム15を用いて算出された補正分子量は、図2に示す検査システム15を用いて算出された予測分子量と比較して、対象物10が置かれていた雰囲気温度による違いが全体的に小さい。このことは、図28に示す検査システム15によれば、対象物10が置かれていた雰囲気温度によって検査結果が変化することを抑制することができる、ということを意味する。 FIG. 30 shows the corrected molecular weight of the resin material of the object 10 calculated by using the inspection system 15 shown in FIG. 28 for the same object 10 placed at the same atmospheric temperature as the example shown in FIG. The relationship with the actual molecular weight of the resin material is shown. As can be seen from FIGS. 26 and 30, the corrected molecular weight calculated using the test system 15 shown in FIG. 28 is subject to comparison with the predicted molecular weight calculated using the test system 15 shown in FIG. The difference due to the atmospheric temperature on which the object 10 was placed is small as a whole. This means that according to the inspection system 15 shown in FIG. 28, it is possible to suppress the change in the inspection result depending on the atmospheric temperature in which the object 10 is placed.

〔第3の実施の形態の効果〕
第3の実施の形態によれば、予測分子量を温度別補正式で補正した補正分子量を用いて対象物10の検査を行っている。これにより、対象物10が置かれていた雰囲気温度によって検査結果が変化することを抑制することができる。
[Effect of the third embodiment]
According to the third embodiment, the object 10 is inspected using the corrected molecular weight obtained by correcting the predicted molecular weight by the temperature-based correction formula. As a result, it is possible to prevent the inspection result from changing depending on the atmospheric temperature at which the object 10 is placed.

(第4の実施の形態)
図31及び図32を参照して、第4の実施の形態による検査システム15について説明する。第4の実施の形態による検査システム15は、第3の実施の形態の検査システム15と比較して、回帰式として第2の実施の形態の回帰式を用いる点が異なっている。その他の点は、第3の実施の形態の検査システム15と同様である。
(Fourth Embodiment)
The inspection system 15 according to the fourth embodiment will be described with reference to FIGS. 31 and 32. The inspection system 15 according to the fourth embodiment is different from the inspection system 15 according to the third embodiment in that the regression equation of the second embodiment is used as the regression equation. Other points are the same as the inspection system 15 of the third embodiment.

図31は、第4の実施の形態による検査システム15を示すブロック図である。図31に示す検査システム15は、温度モニタ30を備えている。また、判定装置28の記憶部281は、汎用回帰式及び温度別補正式を記憶している。 FIG. 31 is a block diagram showing an inspection system 15 according to a fourth embodiment. The inspection system 15 shown in FIG. 31 includes a temperature monitor 30. Further, the storage unit 281 of the determination device 28 stores a general-purpose regression equation and a temperature-based correction equation.

図32に、図26に示す例と同じ雰囲気温度に置かれた同じ対象物10に対し、図31に示す検査システム15を用いることにより算出された対象物10の樹脂材料の補正分子量と、当該樹脂材料の実際の分子量との関係を示す。図26及び図32から理解されるように、図31に示す検査システム15を用いて算出された補正分子量は、図2に示す検査システム15を用いて算出された予測分子量と比較して、対象物10が置かれていた雰囲気温度による違いが全体的に小さい。このことは、図31に示す検査システム15によれば、対象物10が置かれていた雰囲気温度によって検査結果が変化することを抑制することができる、ということを意味する。 FIG. 32 shows the corrected molecular weight of the resin material of the object 10 calculated by using the inspection system 15 shown in FIG. 31 for the same object 10 placed at the same atmospheric temperature as the example shown in FIG. The relationship with the actual molecular weight of the resin material is shown. As can be seen from FIGS. 26 and 32, the corrected molecular weight calculated using the test system 15 shown in FIG. 31 is subject to comparison with the predicted molecular weight calculated using the test system 15 shown in FIG. The difference due to the atmospheric temperature on which the object 10 was placed is small as a whole. This means that according to the inspection system 15 shown in FIG. 31, it is possible to suppress the change in the inspection result depending on the atmospheric temperature in which the object 10 is placed.

さらに、図30及び図32から理解されるように、図31に示す検査システム15を用いて算出された補正分子量は、図28に示す検査システム15を用いて算出された補正分子量と比較して、実際の分子量に近いことが分かる。このことは、図31に示す検査システム15によれば、対象物10をより精度高く検査することができる、ということを意味する。 Further, as can be seen from FIGS. 30 and 32, the corrected molecular weight calculated using the inspection system 15 shown in FIG. 31 is compared with the corrected molecular weight calculated using the inspection system 15 shown in FIG. 28. , It turns out that it is close to the actual molecular weight. This means that according to the inspection system 15 shown in FIG. 31, the object 10 can be inspected with higher accuracy.

〔第4の実施の形態の効果〕
第4の実施の形態によれば、回帰式として、様々な雰囲気温度で取得される複数の標準スペクトルに各々対応する複数のスペクトル(標準スペクトル及び複製標準スペクトル)に基づいて作成された回帰式を用いている。そして、当該回帰式に基づいて算出された予測分子量を温度別補正式で補正して補正分子量を算出し、補正分子量を用いて対象物10の検査を行っている。これにより、対象物10が置かれていた雰囲気温度によって検査結果が変化することを抑制することができるだけでなく、対象物10をより精度高く検査することができる。
[Effect of the fourth embodiment]
According to the fourth embodiment, as a regression equation, a regression equation created based on a plurality of spectra (standard spectrum and duplicate standard spectrum) corresponding to a plurality of standard spectra acquired at various atmospheric temperatures is used. I am using it. Then, the predicted molecular weight calculated based on the regression equation is corrected by the temperature-based correction formula to calculate the corrected molecular weight, and the object 10 is inspected using the corrected molecular weight. As a result, not only can the inspection result be suppressed from changing depending on the atmospheric temperature on which the object 10 is placed, but also the object 10 can be inspected with higher accuracy.

(第5の実施の形態)
図33を参照して、第5の実施の形態による検査システム15について説明する。第5の実施の形態による検査システム15は、第1の実施の形態の検査システム15と比較して、温度モニタ30を備える点で異なっている。また、第5の実施の形態による検査システム15は、第1の実施の形態の検査システム15と比較して、対象物10が置かれた雰囲気温度によって判定工程S3で用いられる回帰式が異なる点が異なっている。その他の点は、第1の実施の形態の検査システム15と同様である。第5の実施の形態において、第1の実施の形態による検査システム15と同様の部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
(Fifth Embodiment)
The inspection system 15 according to the fifth embodiment will be described with reference to FIG. 33. The inspection system 15 according to the fifth embodiment is different from the inspection system 15 according to the first embodiment in that it includes a temperature monitor 30. Further, the inspection system 15 according to the fifth embodiment has a different regression equation used in the determination step S3 depending on the ambient temperature at which the object 10 is placed, as compared with the inspection system 15 according to the first embodiment. Is different. Other points are the same as the inspection system 15 of the first embodiment. In the fifth embodiment, the same parts as those of the inspection system 15 according to the first embodiment are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

図33は、第5の実施の形態による検査システム15を示すブロック図である。図33に示す検査システム15は、図28に示す温度モニタ30と同様の温度モニタ30を備えている。また、判定装置28の記憶部281は、複数の回帰式を記憶している。 FIG. 33 is a block diagram showing the inspection system 15 according to the fifth embodiment. The inspection system 15 shown in FIG. 33 includes a temperature monitor 30 similar to the temperature monitor 30 shown in FIG. 28. Further, the storage unit 281 of the determination device 28 stores a plurality of regression equations.

上述したように、同じ対象物10であっても、対象物10が置かれている雰囲気温度が変化すると、得られる反射スペクトルが変化することがある。このため、対象物10の樹脂材料の予測分子量及び予測分子量に基づく検査結果が、雰囲気温度によって変化することがある。この点に関し、本件発明者らは、互いに異なる複数の回帰式を準備し、対象物10が置かれた雰囲気温度に応じて異なる回帰式を用いて予測分子量を算出することにより、予測分子量を実際の分子量に近づけることができることを見出した。
より具体的には、第1の雰囲気温度に置かれた標準試料の標準反射光から生成された第1標準スペクトルに基づいて作成された第1の回帰式と、第2の雰囲気温度に置かれた標準試料の標準反射光から生成された第2標準スペクトルに基づいて作成された第2の回帰式とを準備する。そして、対象物10の対象反射光が取得された際に温度モニタ30で測定された雰囲気温度に応じて、第1の回帰式及び第2の回帰式から一の回帰式を選択して、当該選択された回帰式を用いて予測分子量を算出する。
As described above, even if the object 10 is the same, the obtained reflection spectrum may change when the atmospheric temperature at which the object 10 is placed changes. Therefore, the predicted molecular weight of the resin material of the object 10 and the inspection result based on the predicted molecular weight may change depending on the ambient temperature. In this regard, the inventors prepare a plurality of regression equations different from each other and calculate the predicted molecular weight using different regression equations according to the atmospheric temperature in which the object 10 is placed to actually obtain the predicted molecular weight. It was found that it can be approached to the molecular weight of.
More specifically, the first regression equation created based on the first standard spectrum generated from the standard reflected light of the standard sample placed at the first atmospheric temperature and the second atmospheric temperature are placed. Prepare a second regression equation created based on the second standard spectrum generated from the standard reflected light of the standard sample. Then, one regression equation is selected from the first regression equation and the second regression equation according to the atmospheric temperature measured by the temperature monitor 30 when the target reflected light of the object 10 is acquired. The predicted molecular weight is calculated using the selected regression equation.

図示された例では、制御装置28の記憶部281は、第1の回帰式と、第2の回帰式と、第3の回帰式と、第4の回帰式とを記憶している。
第1の回帰式は、5℃の雰囲気温度に置かれた標準試料の標準反射光から生成された標準スペクトル(すなわち、5℃の雰囲気温度で取得された標準反射光から生成された標準スペクトル)に基づいて作成されている。
第2の回帰式は、15℃の雰囲気温度に置かれた標準試料の標準反射光から生成された標準スペクトル(すなわち、15℃の雰囲気温度で取得された標準反射光から生成された標準スペクトル)に基づいて作成されている。
第3の回帰式は、25℃の雰囲気温度に置かれた標準試料の標準反射光から生成された標準スペクトル(すなわち、25℃の雰囲気温度で取得された標準反射光から生成された標準スペクトル)に基づいて作成されている。
第4の回帰式は、35℃の雰囲気温度に置かれた標準試料の標準反射光から生成された標準スペクトル(すなわち、35℃の雰囲気温度で取得された標準反射光から生成された標準スペクトル)に基づいて作成されている。
In the illustrated example, the storage unit 281 of the control device 28 stores the first regression equation, the second regression equation, the third regression equation, and the fourth regression equation.
The first regression equation is a standard spectrum generated from the standard reflected light of a standard sample placed at an atmospheric temperature of 5 ° C (that is, a standard spectrum generated from the standard reflected light obtained at an atmospheric temperature of 5 ° C). It is created based on.
The second regression equation is a standard spectrum generated from the standard reflected light of a standard sample placed at an atmospheric temperature of 15 ° C. (ie, a standard spectrum generated from the standard reflected light obtained at an atmospheric temperature of 15 ° C.). It is created based on.
The third regression equation is a standard spectrum generated from the standard reflected light of a standard sample placed at an atmospheric temperature of 25 ° C. (that is, a standard spectrum generated from the standard reflected light obtained at an atmospheric temperature of 25 ° C.). It is created based on.
The fourth regression equation is a standard spectrum generated from the standard reflected light of a standard sample placed at an atmospheric temperature of 35 ° C. (that is, a standard spectrum generated from the standard reflected light obtained at an atmospheric temperature of 35 ° C.). It is created based on.

〔複数の回帰式を用いた検査方法〕
次に、上述の複数の回帰式を用いて対象物10の状態を検査するための検査方法について説明する。
まず、図6及び図7に示す検査用校正スペクトル記録工程S1、並びに、図6及び図9に示す対象パラメータ値算出工程S2を行う。対象パラメータ値算出工程S2は、温度モニタ30によって対象物10の雰囲気温度(より具体的には、対象反射光L2を取得した際の雰囲気温度)を測定する温度測定工程を含む。
次に、図6に示す判定工程S3を行う。判定工程S3においては、まず、制御装置28の解析部282は、対象反射光L2が取得された際に温度モニタ30により測定された雰囲気温度に応じて、第1~第4の回帰式の中から一の回帰式を選択する。次に、解析部282は、選択した回帰式に基づいて予測分子量を算出する。
最後に、予測分子量に基づいて、判定部283において対象物10の状態を判定する。
[Inspection method using multiple regression equations]
Next, an inspection method for inspecting the state of the object 10 by using the above-mentioned plurality of regression equations will be described.
First, the inspection calibration spectrum recording step S1 shown in FIGS. 6 and 7, and the target parameter value calculation step S2 shown in FIGS. 6 and 9 are performed. The target parameter value calculation step S2 includes a temperature measurement step of measuring the atmospheric temperature of the object 10 (more specifically, the atmospheric temperature when the target reflected light L2 is acquired) by the temperature monitor 30.
Next, the determination step S3 shown in FIG. 6 is performed. In the determination step S3, first, the analysis unit 282 of the control device 28 is in the first to fourth regression equations according to the atmospheric temperature measured by the temperature monitor 30 when the target reflected light L2 is acquired. Select one regression equation from. Next, the analysis unit 282 calculates the predicted molecular weight based on the selected regression equation.
Finally, the determination unit 283 determines the state of the object 10 based on the predicted molecular weight.

なお、記憶部281は、上記対象物10の雰囲気温度と第1~第4の回帰式との対応関係に関する情報を、予め記憶している。例えば、10℃未満の雰囲気温度に対応する回帰式は第1の回帰式である、という情報を記憶している。また、10℃以上20℃未満の雰囲気温度に対応する回帰式は第2の回帰式である、という情報を記憶している。また、20℃以上30℃未満の雰囲気温度に対応する回帰式は第3の回帰式である、という情報を記憶している。また、30℃以上の雰囲気温度に対応する回帰式は第4の回帰式である、という情報を記憶している。この場合、上記対象物10の雰囲気温度が10℃未満であれば、解析部282は、第1~第4の回帰式の中から第1の回帰式を選択し、第1の回帰式に基づいて予測分子量を算出する。また、上記対象物10の雰囲気温度が10℃以上20℃未満であれば、解析部282は、第1~第4の回帰式の中から第2の回帰式を選択し、第2の回帰式に基づいて予測分子量を算出する。また、上記対象物10の雰囲気温度が20℃以上30℃未満であれば、解析部282は、第1~第4の回帰式の中から第3の回帰式を選択し、第3の回帰式に基づいて予測分子量を算出する。また、上記対象物10の雰囲気温度が30℃以上であれば、解析部282は、第1~第4の回帰式の中から第4の回帰式を選択し、第4の回帰式に基づいて予測分子量を算出する。 The storage unit 281 stores in advance information regarding the correspondence between the atmospheric temperature of the object 10 and the first to fourth regression equations. For example, the information that the regression equation corresponding to the atmospheric temperature of less than 10 ° C. is the first regression equation is stored. Further, the information that the regression equation corresponding to the atmospheric temperature of 10 ° C. or higher and lower than 20 ° C. is the second regression equation is stored. Further, the information that the regression equation corresponding to the atmospheric temperature of 20 ° C. or higher and lower than 30 ° C. is the third regression equation is stored. Further, the information that the regression equation corresponding to the atmospheric temperature of 30 ° C. or higher is the fourth regression equation is stored. In this case, if the atmospheric temperature of the object 10 is less than 10 ° C., the analysis unit 282 selects the first regression equation from the first to fourth regression equations and is based on the first regression equation. To calculate the predicted molecular weight. If the atmospheric temperature of the object 10 is 10 ° C. or higher and lower than 20 ° C., the analysis unit 282 selects the second regression equation from the first to fourth regression equations, and the second regression equation. The predicted molecular weight is calculated based on. If the atmospheric temperature of the object 10 is 20 ° C. or higher and lower than 30 ° C., the analysis unit 282 selects a third regression equation from the first to fourth regression equations, and the third regression equation. The predicted molecular weight is calculated based on. Further, if the atmospheric temperature of the object 10 is 30 ° C. or higher, the analysis unit 282 selects a fourth regression equation from the first to fourth regression equations, and based on the fourth regression equation. Calculate the predicted molecular weight.

〔第5の実施の形態の効果〕
第5の実施の形態によれば、互いに異なる複数の回帰式を準備し、対象物10が置かれた雰囲気温度に応じて異なる回帰式を用いて予測分子量を算出している。これにより、検査システム15で算出される予測分子量を実際の分子量に近づけることができる。そして、このようにして算出された予測分子量を用いて対象物10の検査を行うことにより、対象物10が置かれていた雰囲気温度によって検査結果が変化することを抑制することができる。
[Effect of the fifth embodiment]
According to the fifth embodiment, a plurality of regression equations different from each other are prepared, and the predicted molecular weight is calculated using different regression equations according to the atmospheric temperature in which the object 10 is placed. As a result, the predicted molecular weight calculated by the inspection system 15 can be brought close to the actual molecular weight. Then, by inspecting the object 10 using the predicted molecular weight calculated in this way, it is possible to suppress the change in the inspection result depending on the atmospheric temperature in which the object 10 is placed.

(第6の実施の形態)
第6の実施の形態による検査システム15は、第1の実施の形態の検査システム15と比較して、検査工程の間にケース40が動くことを抑制するための工夫がなされている。これにより、対象スペクトルや校正スペクトルにノイズが生じる虞を抑制することができる。その他の点は、第1の実施の形態の検査システム15と同様である。
(Sixth Embodiment)
The inspection system 15 according to the sixth embodiment is devised to suppress the movement of the case 40 during the inspection process as compared with the inspection system 15 according to the first embodiment. As a result, it is possible to suppress the possibility of noise occurring in the target spectrum or the calibration spectrum. Other points are the same as the inspection system 15 of the first embodiment.

図34は、第6の実施の形態による検査システム15のケース40の一例を示す斜視図である。図34に示すように、ケース40は、第1面41又は外縁に設けられている第1摩擦層53を備えている。図34に示す例において、第1摩擦層53は、第3外縁413及び第4外縁414に沿って第1面41に設けられている。 FIG. 34 is a perspective view showing an example of the case 40 of the inspection system 15 according to the sixth embodiment. As shown in FIG. 34, the case 40 includes a first friction layer 53 provided on the first surface 41 or the outer edge. In the example shown in FIG. 34, the first friction layer 53 is provided on the first surface 41 along the third outer edge 413 and the fourth outer edge 414.

第1摩擦層53と対象物10との間の静摩擦力は、第1面41と対象物10との間の静摩擦力よりも大きい。第1摩擦層53をケース40に設けることにより、検査工程の間にケース40が動くことを抑制できる。これにより、手の動きなどに起因して生じたノイズが対象スペクトルや校正スペクトルに現れることを抑制できる。 The static friction force between the first friction layer 53 and the object 10 is larger than the static friction force between the first surface 41 and the object 10. By providing the first friction layer 53 in the case 40, it is possible to prevent the case 40 from moving during the inspection process. As a result, it is possible to suppress the appearance of noise generated by the movement of the hand or the like in the target spectrum or the calibration spectrum.

第1摩擦層53の構成は任意である。例えば、第1摩擦層53は、第1面41に貼り付けられているテープの表面の層によって構成されていてもよい。テープとしては、株式会社マイスト製の滑り止めテープ アイテムNo.5187などを用いることができる。 The configuration of the first friction layer 53 is arbitrary. For example, the first friction layer 53 may be composed of a layer on the surface of the tape attached to the first surface 41. The tape is a non-slip tape made by Meist Co., Ltd. Item No. 5187 and the like can be used.

(第6の実施の形態の変形例)
第6の実施の形態の変形例による検査システム15も、検査工程の間にケース40が動くことを抑制するための工夫がなされている。第6の実施の形態の変形例による検査システム15は、第6の実施の形態の検査システム15と比較して、第1摩擦層53に代えて支持部材54を備えている点が異なっている。その他の点は、第6の実施の形態の検査システム15と同様である。
(Modified example of the sixth embodiment)
The inspection system 15 according to the modified example of the sixth embodiment is also devised to prevent the case 40 from moving during the inspection process. The inspection system 15 according to the modification of the sixth embodiment is different from the inspection system 15 of the sixth embodiment in that the support member 54 is provided in place of the first friction layer 53. .. Other points are the same as the inspection system 15 of the sixth embodiment.

図35は、第6の実施の形態の変形例による検査システム15のケース40の一例を示す斜視図である。図35に示すように、ケース40は、側面に固定されている支持部材54を備えている。図35に示す例において、ケース40は、第1側面43に固定されている1本の支持部材54、及び、第2側面44に固定されている2本の支持部材54を備える。図示はしないが、ケース40は、1本又は2本の支持部材54を備えていてもよく、4本以上の支持部材54を備えていてもよい。支持部材54は、第3側面45又は第4側面46に固定されていてもよい。 FIG. 35 is a perspective view showing an example of the case 40 of the inspection system 15 according to the modified example of the sixth embodiment. As shown in FIG. 35, the case 40 includes a support member 54 fixed to the side surface. In the example shown in FIG. 35, the case 40 includes one support member 54 fixed to the first side surface 43 and two support members 54 fixed to the second side surface 44. Although not shown, the case 40 may include one or two support members 54, or may include four or more support members 54. The support member 54 may be fixed to the third side surface 45 or the fourth side surface 46.

支持部材54は、側面に固定されている第1部分541と、第1部分541に接続されている第2部分542を含んでいてもよい。第1部分541は、側面から第1面41に向かって延びていてもよい。第2部分542は、第1面41に平行に広がる面を含んでいてもよい。第2部分542は、検査工程の時に対象物10に接してもよい。これにより、検査工程の間、ケース40の姿勢をより安定に維持できる。このため、手の動きなどに起因して生じたノイズが対象スペクトルや校正スペクトルに現れることを抑制できる。 The support member 54 may include a first portion 541 fixed to the side surface and a second portion 542 connected to the first portion 541. The first portion 541 may extend from the side surface toward the first surface 41. The second portion 542 may include a surface extending parallel to the first surface 41. The second portion 542 may come into contact with the object 10 during the inspection process. As a result, the posture of the case 40 can be maintained more stably during the inspection process. Therefore, it is possible to suppress the appearance of noise generated by the movement of the hand or the like in the target spectrum or the calibration spectrum.

図35に示すように、ケース40は、第2部分542に設けられている第2摩擦層55を備えていてもよい。第2摩擦層55は、例えばゴムを含む。第2摩擦層55は、検査工程の時に対象物10に接してもよい。第2摩擦層55と対象物10との間の静摩擦力は、第1面41と対象物10との間の静摩擦力よりも大きい。第2摩擦層55を第2部分542に設けることにより、検査工程の間にケース40が動くことを更に抑制できる。 As shown in FIG. 35, the case 40 may include a second friction layer 55 provided in the second portion 542. The second friction layer 55 contains, for example, rubber. The second friction layer 55 may come into contact with the object 10 during the inspection step. The static friction force between the second friction layer 55 and the object 10 is larger than the static friction force between the first surface 41 and the object 10. By providing the second friction layer 55 in the second portion 542, it is possible to further suppress the movement of the case 40 during the inspection process.

なお、以上において上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。 Although some modifications to the above-described embodiments have been described above, it is naturally possible to apply a plurality of modifications in combination as appropriate.

10 対象物
10x 第1面
10y 第2面
11 基材シート
12 樹脂層
15 検査システム
20 分光モジュール
21 照射装置
211 照射部
24 検出装置
241 検出部
25 生成装置
251 第1生成部
252 第2生成部
27 処理装置
271 第1処理部
272 第2処理部
28 判定装置
281 記憶部
282 解析部
283 判定部
29 冷却部
30 温度モニタ
40 ケース
41 第1面
42 第2面
48 ウインドウ
51 校正試料
53 第1摩擦層
54 支持部材
541 第1部分
542 第2部分
55 第2摩擦層
10 Object 10x 1st surface 10y 2nd surface 11 Base sheet 12 Resin layer 15 Inspection system 20 Spectro module 21 Irradiation device 211 Irradiation unit 24 Detection device 241 Detection unit 25 Generation device 251 First generation unit 252 Second generation unit 27 Processing device 271 1st processing unit 272 2nd processing unit 28 Judgment device 281 Storage unit 282 Analysis unit 283 Judgment unit 29 Cooling unit 30 Temperature monitor 40 Case 41 1st surface 42 2nd surface 48 Window 51 Calibration sample 53 1st friction layer 54 Support member 541 First part 542 Second part 55 Second friction layer

Claims (31)

樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
前記照射装置及び/又は前記検出装置を冷却する冷却部と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式が予め記憶された記憶部と、前記記憶部の前記回帰式及び前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する解析部と、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備える、検査システム。
An inspection system that inspects the condition of an object having a resin layer containing a resin material.
An irradiation device including an irradiation unit that irradiates the object with irradiation light,
A detection device that detects the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light.
A generator that generates an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
A cooling unit that cools the irradiation device and / or the detection device,
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing device that calculates the values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point.
Based on a storage unit in which a regression equation showing the relationship between a plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material is stored in advance, the regression equation of the storage unit, and a plurality of parameter values of the resin layer calculated by the processing apparatus. An inspection system including an analysis unit for calculating a predicted molecular weight of the resin material of the resin layer, and a determination unit for determining the state of the object based on the predicted molecular weight.
前記冷却部は送風機である、請求項1に記載の検査システム。 The inspection system according to claim 1, wherein the cooling unit is a blower. 樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式が予め記憶された記憶部と、前記記憶部の前記回帰式及び前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する解析部と、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を所定の雰囲気温度で取得することにより得られる標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における値、又は、前記複製標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、検査システム。
An inspection system that inspects the condition of an object having a resin layer containing a resin material.
An irradiation device including an irradiation unit that irradiates the object with irradiation light,
A detection device that detects the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light.
A generator that generates an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing device that calculates the values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point.
Based on a storage unit in which a regression equation showing the relationship between a plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material is stored in advance, the regression equation of the storage unit, and a plurality of parameter values of the resin layer calculated by the processing apparatus. A determination device including an analysis unit for calculating the predicted molecular weight of the resin material of the resin layer and a determination unit for determining the state of the object based on the predicted molecular weight is provided.
The regression equation is a plurality of wavelengths of a standard spectrum obtained by acquiring standard reflected light or standard transmitted light which is reflected light or transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a predetermined ambient temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a point, or the standard spectrum includes averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. The value obtained at a plurality of wavelength points by applying the treatment, the value of the light intensity represented by the duplicated standard spectrum generated by moving the standard spectrum in parallel in the wavelength direction, or the value at a plurality of wavelength points. Based on the values obtained at a plurality of wavelength points by subjecting the duplicated standard spectrum to a process including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. An inspection system created by
前記複製標準スペクトルは、前記標準スペクトルを波長方向に-0.5nm~+1.0nmの範囲で平行移動させることにより生成される、請求項3に記載の検査システム。 The inspection system according to claim 3, wherein the duplicated standard spectrum is generated by translating the standard spectrum in the range of −0.5 nm to +1.0 nm in the wavelength direction. 樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
雰囲気温度を測定する温度モニタと、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式が予め記憶された記憶部と、前記記憶部の前記回帰式及び前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する解析部と、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第1の雰囲気温度で取得することにより得られる第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度で取得することにより得られる第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、検査システム。
An inspection system that inspects the condition of an object having a resin layer containing a resin material.
A temperature monitor that measures the ambient temperature,
An irradiation device including an irradiation unit that irradiates the object with irradiation light,
A detection device that detects the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light.
A generator that generates an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing device that calculates the values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point.
Based on a storage unit in which a regression equation showing the relationship between a plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material is stored in advance, the regression equation of the storage unit, and a plurality of parameter values of the resin layer calculated by the processing apparatus. A determination device including an analysis unit for calculating the predicted molecular weight of the resin material of the resin layer and a determination unit for determining the state of the object based on the predicted molecular weight is provided.
The regression equation is a first standard spectrum obtained by acquiring standard reflected light or standard transmitted light which is reflected light or transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or the first standard spectrum. Obtained by acquiring a value obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including a combination thereof and the standard reflected light or the standard transmitted light at a second atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the second standard spectrum, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, and baseline correction to the second standard spectrum. , Peak shift correction, or an inspection system created based on the values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including a combination thereof.
前記回帰式は、前記第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度及び前記第2の雰囲気温度とは異なる第3の雰囲気温度で取得することにより得られる第3標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第3標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、請求項5に記載の検査システム。 The regression equation is a value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the first standard spectrum, or averaged, smoothed, normalized, differentiated, and scattered to the first standard spectrum. A value obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof, and the standard reflected light or the standard transmission at the plurality of wavelength points of the second standard spectrum. Multiple wavelengths by subjecting the second standard spectrum to a value of light intensity or processing including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. The value obtained at the point and the third standard spectrum obtained by acquiring the standard reflected light or the standard transmitted light at a third atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature and the second atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or the third standard spectrum. The inspection system according to claim 5, which is created based on the values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including a combination thereof. 樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
雰囲気温度を測定する温度モニタと、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す第1の回帰式及び第2の回帰式を含む複数の回帰式が予め記憶された記憶部と、前記記憶部の前記第1の回帰式及び前記第2の回帰式を含む複数の前記回帰式の中から選択された一の回帰式と前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する解析部と、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備え、
前記第1の回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を前記第1の雰囲気温度で取得することにより得られる第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記第2の回帰式は、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度で取得することにより得られる第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記解析部は、前記対象物の前記反射光又は前記透過光が取得された際に前記温度モニタで測定された前記雰囲気温度に応じて前記第1の回帰式及び前記第2の回帰式を含む複数の前記回帰式の中から一の回帰式を選択して、当該選択された回帰式と前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する、検査システム。
An inspection system that inspects the condition of an object having a resin layer containing a resin material.
A temperature monitor that measures the ambient temperature,
An irradiation device including an irradiation unit that irradiates the object with irradiation light,
A detection device that detects the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light.
A generator that generates an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing device that calculates the values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point.
A storage unit in which a plurality of regression equations including a first regression equation and a second regression equation showing the relationship between a plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material are stored in advance, and the first regression equation of the storage unit. And the resin material of the resin layer based on one regression equation selected from the plurality of regression equations including the second regression equation and a plurality of parameter values of the resin layer calculated by the processing apparatus. A determination device including an analysis unit for calculating a predicted molecular weight, a determination unit for determining the state of the object based on the predicted molecular weight, and a determination device.
The first regression equation is obtained by acquiring standard reflected light or standard transmitted light which is reflected light or transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at the first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of one standard spectrum, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, and peak to the first standard spectrum. It is created based on the values obtained at multiple wavelength points by performing shift correction or processing including a combination thereof.
The second regression equation is the said at a plurality of wavelength points of the second standard spectrum obtained by acquiring the standard reflected light or the standard transmitted light at a second atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature. Processing including standard reflected light or the value of the intensity of the standard transmitted light, or the second standard spectrum including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. Is created based on the values obtained at multiple wavelength points.
The analysis unit includes the first regression equation and the second regression equation according to the atmospheric temperature measured by the temperature monitor when the reflected light or the transmitted light of the object is acquired. One regression equation is selected from the plurality of regression equations, and the prediction of the resin material of the resin layer is based on the selected regression equation and the plurality of parameter values of the resin layer calculated by the processing apparatus. An inspection system that calculates the molecular weight.
複数の前記回帰式は、前記第1の回帰式と、前記第2の回帰式と、複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す第3の回帰式とを含み、
前記第3の回帰式は、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度及び前記第2の雰囲気温度とは異なる第3の雰囲気温度で取得することにより得られる第3標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第3標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記解析部は、前記対象物の前記反射光又は前記透過光が取得された際に前記温度モニタで測定された前記雰囲気温度に応じて前記第1の回帰式と前記第2の回帰式と前記第3の回帰式を含む複数の前記回帰式の中から一の回帰式を選択して、当該選択された回帰式と前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する、請求項7に記載の検査システム。
The plurality of the regression equations include the first regression equation, the second regression equation, and a third regression equation showing the relationship between the plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material.
The third regression equation is a third standard spectrum obtained by acquiring the standard reflected light or the standard transmitted light at a third atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature and the second atmospheric temperature. Intensity value of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, to the third standard spectrum. Or it is created based on the values obtained at multiple wavelength points by performing a process including a combination thereof.
The analysis unit has the first regression equation, the second regression equation, and the second regression equation according to the atmospheric temperature measured by the temperature monitor when the reflected light or the transmitted light of the object is acquired. One regression equation is selected from the plurality of regression equations including the third regression equation, and the said regression equation is based on the selected regression equation and the plurality of parameter values of the resin layer calculated by the processing apparatus. The inspection system according to claim 7, wherein the predicted molecular weight of the resin material of the resin layer is calculated.
樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査システムであって、
雰囲気温度を測定する温度モニタと、
前記対象物に照射光を照射する照射部を含む照射装置と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成装置と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理装置と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式と前記回帰式及び前記処理装置が算出した前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて算出された前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を前記雰囲気温度に応じて補正する温度別補正式とが予め記憶された記憶部と、前記予測分子量を算出し、当該予測分子量を前記雰囲気温度に応じて前記温度別補正式で補正した補正分子量を算出する解析部と、前記補正分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定部と、を含む判定装置と、を備える、検査システム。
An inspection system that inspects the condition of an object having a resin layer containing a resin material.
A temperature monitor that measures the ambient temperature,
An irradiation device including an irradiation unit that irradiates the object with irradiation light,
A detection device that detects the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light.
A generator that generates an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing device that calculates the values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point.
A regression equation showing the relationship between a plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material, and a predicted molecular weight of the resin material of the resin layer calculated based on the regression equation and the plurality of parameter values of the resin layer calculated by the processing apparatus. A storage unit in which a temperature-specific correction formula for correcting the above atmospheric temperature is stored in advance, and a corrected molecular weight obtained by calculating the predicted molecular weight and correcting the predicted molecular weight according to the atmospheric temperature by the temperature-based correction formula. An inspection system including an analysis unit for calculating the above, a determination unit for determining the state of the object based on the corrected molecular weight, and a determination device including the determination unit.
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を所定の雰囲気温度で取得することにより得られる標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における値、又は、前記複製標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、請求項9に記載の検査システム。 The regression equation is a plurality of wavelengths of a standard spectrum obtained by acquiring standard reflected light or standard transmitted light which is reflected light or transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a predetermined ambient temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a point, or the standard spectrum includes averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. The value obtained at a plurality of wavelength points by the treatment, the value of the light intensity represented by the duplicated standard spectrum generated by moving the standard spectrum in parallel in the wavelength direction, or the value at a plurality of wavelength points. Based on the values obtained at a plurality of wavelength points by subjecting the duplicated standard spectrum to a process including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. 9. The inspection system according to claim 9. 前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第1の雰囲気温度で取得することにより得られる第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準試料の反射光又は透過光を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度で取得することにより得られる第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、請求項9に記載の検査システム。 The regression equation is a first standard spectrum obtained by acquiring standard reflected light or standard transmitted light which is reflected light or transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or the first standard spectrum. Obtained by acquiring the values obtained at a plurality of wavelength points by performing the treatment including the combination thereof and the reflected light or transmitted light of the standard sample at a second atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the second standard spectrum, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, and baseline correction to the second standard spectrum. The inspection system according to claim 9, wherein the inspection system is created based on the values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including peak shift correction or a combination thereof. 前記回帰式は、前記第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準試料の反射光又は透過光を前記第1の雰囲気温度及び前記第2の雰囲気温度とは異なる第3の雰囲気温度で取得することにより得られる第3標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第3標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、請求項11に記載の検査システム。 The regression equation is a value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the first standard spectrum, or averaged, smoothed, normalized, differentiated, and scattered to the first standard spectrum. A value obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof, and the standard reflected light or the standard transmission at the plurality of wavelength points of the second standard spectrum. Multiple wavelengths by subjecting the second standard spectrum to a value of light intensity or processing including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. The value obtained at the point and the third standard spectrum obtained by acquiring the reflected light or transmitted light of the standard sample at a third atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature and the second atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or the third standard spectrum. The inspection system according to claim 11, which is created based on the values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including a combination thereof. 前記照射装置及び/又は前記検出装置を冷却する冷却部を更に備える、請求項3乃至12のいずれか一項に記載の検査システム。 The inspection system according to any one of claims 3 to 12, further comprising a cooling unit for cooling the irradiation device and / or the detection device. 樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
照射装置を用いて前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出装置によって検出する検出工程と、
前記照射装置及び/又は前記検出装置を冷却する冷却工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式及び前記処理工程において算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備える、検査方法。
An inspection method for inspecting the condition of an object having a resin layer containing a resin material.
An irradiation step of irradiating the object with irradiation light using an irradiation device, and
A detection step of detecting the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light by a detection device.
A cooling step for cooling the irradiation device and / or the detection device, and
A generation step of generating an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing step of calculating values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point, and a processing step.
The predicted molecular weight of the resin material of the resin layer is calculated based on the regression equation showing the relationship between the plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material and the plurality of parameter values of the resin layer calculated in the processing step, and the prediction is made. An inspection method comprising a determination step of determining the state of the object based on the molecular weight.
樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式及び前記処理工程で算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を所定の雰囲気温度で取得することにより得られる標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における値、又は、前記複製標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、検査方法。
An inspection method for inspecting the condition of an object having a resin layer containing a resin material.
The irradiation step of irradiating the object with irradiation light and
A detection step for detecting the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light, and a detection step.
A generation step of generating an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing step of calculating values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point, and a processing step.
The predicted molecular weight of the resin material of the resin layer is calculated based on the regression equation showing the relationship between the plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material and the plurality of parameter values of the resin layer calculated in the processing step, and the prediction is made. A determination step of determining the state of the object based on the molecular weight is provided.
The regression equation is a plurality of wavelengths of a standard spectrum obtained by acquiring standard reflected light or standard transmitted light which is reflected light or transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a predetermined ambient temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a point, or the standard spectrum includes averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. The value obtained at a plurality of wavelength points by applying the treatment, the value of the light intensity represented by the duplicated standard spectrum generated by moving the standard spectrum in parallel in the wavelength direction, or the value at a plurality of wavelength points. Based on the values obtained at a plurality of wavelength points by subjecting the duplicated standard spectrum to a process including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. Inspection method created by.
前記複製標準スペクトルは、前記標準スペクトルを波長方向に-0.5nm~+1.0nmの範囲で平行移動させることにより生成される、請求項15に記載の検査方法。 The inspection method according to claim 15, wherein the duplicated standard spectrum is generated by translating the standard spectrum in the range of −0.5 nm to +1.0 nm in the wavelength direction. 樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式及び前記処理工程で算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備え、
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第1の雰囲気温度で取得することにより得られる第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度で取得することにより得られる第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、検査方法。
An inspection method for inspecting the condition of an object having a resin layer containing a resin material.
The irradiation step of irradiating the object with irradiation light and
A detection step for detecting the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light, and a detection step.
A generation step of generating an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing step of calculating values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point, and a processing step.
The predicted molecular weight of the resin material of the resin layer is calculated based on the regression equation showing the relationship between the plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material and the plurality of parameter values of the resin layer calculated in the processing step, and the prediction is made. A determination step of determining the state of the object based on the molecular weight is provided.
The regression equation is a first standard spectrum obtained by acquiring standard reflected light or standard transmitted light which is reflected light or transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or the first standard spectrum. Obtained by acquiring a value obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including a combination thereof and the standard reflected light or the standard transmitted light at a second atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the second standard spectrum, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, and baseline correction to the second standard spectrum. , Peak shift correction, or an inspection method created based on the values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including a combination thereof.
前記回帰式は、前記第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度及び前記第2の雰囲気温度とは異なる第3の雰囲気温度で取得することにより得られる第3標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第3標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、請求項17に記載の検査方法。 The regression equation is a value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the first standard spectrum, or averaged, smoothed, normalized, differentiated, and scattered to the first standard spectrum. A value obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof, and the standard reflected light or the standard transmission at the plurality of wavelength points of the second standard spectrum. Multiple wavelengths by subjecting the second standard spectrum to a value of light intensity or processing including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. The value obtained at the point and the third standard spectrum obtained by acquiring the standard reflected light or the standard transmitted light at a third atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature and the second atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or the third standard spectrum. The inspection method according to claim 17, which is created based on a value obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including a combination thereof. 樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
雰囲気温度を測定する温度測定工程と、
前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す第1の回帰式及び第2の回帰式を含む複数の回帰式の中から選択された一の回帰式と前記処理工程で算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備え、
前記第1の回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第1の雰囲気温度で取得することにより得られる第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記第2の回帰式は、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度で取得することにより得られる第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記判定工程では、前記対象物の前記反射光又は前記透過光が取得された際に前記温度測定工程で測定された前記雰囲気温度に応じて前記第1の回帰式及び前記第2の回帰式を含む複数の前記回帰式の中から一の回帰式を選択して、当該選択された回帰式と前記処理工程で算出された複数の前記パラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する、検査方法。
An inspection method for inspecting the condition of an object having a resin layer containing a resin material.
The temperature measurement process to measure the atmospheric temperature and
The irradiation step of irradiating the object with irradiation light and
A detection step for detecting the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light, and a detection step.
A generation step of generating an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing step of calculating values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point, and a processing step.
One regression equation selected from a plurality of regression equations including a first regression equation and a second regression equation showing the relationship between a plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material, and the calculation calculated in the processing step. A determination step of calculating the predicted molecular weight of the resin material of the resin layer based on a plurality of parameter values of the resin layer and determining the state of the object based on the predicted molecular weight is provided.
The first regression equation is obtained by acquiring standard reflected light or standard transmitted light which is reflected light or transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the standard spectrum, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, and peak shift to the first standard spectrum. Created based on values obtained at multiple wavelength points by correction or processing including combinations thereof.
The second regression equation is the said at a plurality of wavelength points of the second standard spectrum obtained by acquiring the standard reflected light or the standard transmitted light at a second atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature. Processing including standard reflected light or the value of the intensity of the standard transmitted light, or the second standard spectrum including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. Is created based on the values obtained at multiple wavelength points.
In the determination step, the first regression equation and the second regression equation are performed according to the atmospheric temperature measured in the temperature measuring step when the reflected light or the transmitted light of the object is acquired. One regression equation is selected from the plurality of regression equations including, and the predicted molecular weight of the resin material of the resin layer is predicted based on the selected regression equation and the plurality of parameter values calculated in the processing step. The inspection method to calculate.
複数の前記回帰式は、前記第1の回帰式と、前記第2の回帰式と、複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す第3の回帰式とを含み、
前記第3の回帰式は、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度及び前記第2の雰囲気温度とは異なる第3の雰囲気温度で取得することにより得られる第3標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値に基づいて作成され、
前記判定工程では、前記対象物の前記反射光又は前記透過光が取得された際に前記温度測定工程で測定された前記雰囲気温度に応じて前記第1の回帰式と前記第2の回帰式と前記第3の回帰式を含む複数の前記回帰式の中から一の回帰式を選択して、当該選択された回帰式と前記処理工程で算出された複数の前記パラメータ値とに基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出する、請求項19に記載の検査方法。
The plurality of the regression equations include the first regression equation, the second regression equation, and a third regression equation showing the relationship between the plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material.
The third regression equation is a third standard spectrum obtained by acquiring the standard reflected light or the standard transmitted light at a third atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature and the second atmospheric temperature. Intensity value of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, to the second standard spectrum. Or it is created based on the values obtained at multiple wavelength points by performing a process including a combination thereof.
In the determination step, the first regression equation and the second regression equation are obtained according to the atmospheric temperature measured in the temperature measuring step when the reflected light or the transmitted light of the object is acquired. One regression equation is selected from the plurality of regression equations including the third regression equation, and the resin is based on the selected regression equation and the plurality of parameter values calculated in the processing step. The inspection method according to claim 19, wherein the predicted molecular weight of the resin material of the layer is calculated.
樹脂材料を含む樹脂層を備える対象物の状態を検査する検査方法であって、
雰囲気温度を測定する温度測定工程と、
前記対象物に照射光を照射する照射工程と、
前記照射光を前記対象物に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する検出工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む対象スペクトルを生成する生成工程と、
複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記対象スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値として算出する処理工程と、
複数のパラメータ値と樹脂材料の分子量との関係を示す回帰式及び前記処理工程で算出された前記樹脂層の複数のパラメータ値に基づいて前記樹脂層の樹脂材料の予測分子量を算出し、前記予測分子量を前記温度測定工程で測定された雰囲気温度に応じた温度別補正式で補正することにより補正分子量を算出し、前記補正分子量に基づいて前記対象物の状態を判定する判定工程と、を備える、検査方法。
An inspection method for inspecting the condition of an object having a resin layer containing a resin material.
The temperature measurement process to measure the atmospheric temperature and
The irradiation step of irradiating the object with irradiation light and
A detection step for detecting the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating the object with the irradiation light, and a detection step.
A generation step of generating an object spectrum containing information about the intensity of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points.
Intensity values of the reflected or transmitted light at multiple wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof in the target spectrum. A processing step of calculating values obtained at a plurality of wavelength points by performing the including processing as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point, and a processing step.
The predicted molecular weight of the resin material of the resin layer is calculated based on the regression equation showing the relationship between the plurality of parameter values and the molecular weight of the resin material and the plurality of parameter values of the resin layer calculated in the processing step, and the prediction is made. The present invention comprises a determination step of calculating a corrected molecular weight by correcting the molecular weight by a temperature-based correction formula according to the atmospheric temperature measured in the temperature measuring step and determining the state of the object based on the corrected molecular weight. ,Inspection methods.
前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を所定の雰囲気温度で取得することにより得られる標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における値、又は、前記複製標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、請求項21に記載の検査方法。 The regression equation is a plurality of wavelengths of a standard spectrum obtained by acquiring standard reflected light or standard transmitted light which is reflected light or transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a predetermined ambient temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a point, or the standard spectrum includes averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. The value obtained at a plurality of wavelength points by the treatment, the value of the light intensity represented by the duplicated standard spectrum generated by moving the standard spectrum in parallel in the wavelength direction, or the value at a plurality of wavelength points. Based on the values obtained at a plurality of wavelength points by subjecting the duplicated standard spectrum to a process including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. 21. The inspection method according to claim 21. 前記回帰式は、分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料の反射光又は透過光である標準反射光又は標準透過光を第1の雰囲気温度で取得することにより得られる第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度で取得することにより得られる第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、請求項21に記載の検査方法。 The regression equation is a first standard spectrum obtained by acquiring standard reflected light or standard transmitted light which is reflected light or transmitted light of a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or the first standard spectrum. Obtained by acquiring a value obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including a combination thereof and the standard reflected light or the standard transmitted light at a second atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the second standard spectrum, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, and baseline correction to the second standard spectrum. The inspection method according to claim 21, wherein the inspection method is created based on a value obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including peak shift correction or a combination thereof. 前記回帰式は、前記第1標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第1標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記第2標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、前記標準反射光又は前記標準透過光を前記第1の雰囲気温度及び前記第2の雰囲気温度とは異なる第3の雰囲気温度で取得することにより得られる第3標準スペクトルの複数の波長点における前記標準反射光又は前記標準透過光の強度の値、又は、前記第2標準スペクトルに平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値と、に基づいて作成される、請求項23に記載の検査方法。 The regression equation is a value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the first standard spectrum, or averaged, smoothed, normalized, differentiated, and scattered to the first standard spectrum. A value obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof, and the standard reflected light or the standard transmission at the plurality of wavelength points of the second standard spectrum. Multiple wavelengths by subjecting the second standard spectrum to a value of light intensity or processing including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. The value obtained at the point and the third standard spectrum obtained by acquiring the standard reflected light or the standard transmitted light at a third atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature and the second atmospheric temperature. The value of the intensity of the standard reflected light or the standard transmitted light at a plurality of wavelength points, or averaging, smoothing, normalizing, differentiating, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or the second standard spectrum. 23. The inspection method according to claim 23, which is created based on a value obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including a combination thereof. 前記照射光は照射装置によって照射され、
前記反射光又は前記透過光の強度は検出装置によって検出され、
前記検査方法は、前記照射装置及び/又は前記検出装置を冷却する冷却工程を更に備える、請求項12乃至18のいずれか一項に記載の検査方法。
The irradiation light is irradiated by an irradiation device and
The intensity of the reflected light or the transmitted light is detected by the detection device, and the intensity is detected.
The inspection method according to any one of claims 12 to 18, further comprising a cooling step for cooling the irradiation device and / or the detection device.
請求項1、2及び9のいずれか一項に記載の検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料に照射光を照射する標準試料照射工程と、
前記照射光を複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む、複数の標準スペクトルを取得する標準スペクトル生成工程と、
複数の標準スペクトルの複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、複数の前記標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値としてそれぞれ算出する標準試料処理工程と、
各標準試料の複数のパラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する解析工程と、を備える、検査システムの製造方法。
The method for manufacturing an inspection system according to any one of claims 1, 2 and 9.
A standard sample irradiation step of irradiating a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight with irradiation light, and
A standard sample detection step for detecting the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples with the irradiation light, and a standard sample detection step.
A standard spectrum generation step of acquiring a plurality of standard spectra, each containing information regarding the intensity of the reflected light or the transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the reflected light or transmitted light at multiple wavelength points of the plurality of standard spectra, or averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, for each of the plurality of standard spectra. A standard sample processing step in which values obtained at a plurality of wavelength points by performing a peak shift correction or a process including a combination thereof are calculated as a plurality of parameter values corresponding to each wavelength point, respectively.
A method for manufacturing an inspection system, comprising an analysis step of creating a regression equation expressing the relationship between a plurality of parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample using a multivariate analysis method.
請求項3又は10に記載の検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料に照射光を照射する標準試料照射工程と、
前記照射光を複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光の強度を検出する標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度に関する情報を含む、複数の標準スペクトルを取得する標準スペクトル生成工程と、
前記標準スペクトル及び前記標準スペクトルを波長方向に平行移動させることにより生成される複製標準スペクトルによって表される光の強度の複数の波長点における前記反射光又は前記透過光の強度の値、又は、前記標準スペクトル及び前記複製標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数のパラメータ値としてそれぞれ算出する標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する解析工程と、を備える、検査システムの製造方法。
The method for manufacturing an inspection system according to claim 3 or 10.
A standard sample irradiation step of irradiating a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight with irradiation light, and
A standard sample detection step for detecting the intensity of reflected light or transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples with the irradiation light, and a standard sample detection step.
A standard spectrum generation step of acquiring a plurality of standard spectra, each containing information regarding the intensity of the reflected light or the transmitted light at a plurality of wavelength points.
The value of the intensity of the reflected or transmitted light at a plurality of wavelength points of the intensity of the light represented by the standard spectrum and the duplicated standard spectrum generated by moving the standard spectrum in parallel in the wavelength direction, or the above. It is obtained at a plurality of wavelength points by subjecting each of the standard spectrum and the duplicated standard spectrum to a process including averaging, smoothing, normalization, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof. A standard sample processing step in which values are calculated as multiple parameter values corresponding to each wavelength point, and
A method for manufacturing an inspection system, comprising an analysis step of creating a regression equation expressing the relationship between a plurality of the parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample by using a multivariate analysis method.
請求項5又は11に記載の検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料を第1の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第1標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第1の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第1標準反射光又は第1標準透過光の強度を検出する第1標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第1標準反射光又は前記第1標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第1標準スペクトルを取得する第1標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第1標準スペクトルの複数の波長点における前記第1標準反射光又は前記第1標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第1標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第1標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第1標準試料処理工程と、
複数の前記標準試料を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第2標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第2の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第2標準反射光又は第2標準透過光の強度を検出する第2標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第2標準反射光又は前記第2標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第2標準スペクトルを取得する第2標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第2標準スペクトルの複数の波長点における前記第2標準反射光又は前記第2標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第2標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第2標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第2標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第1標準パラメータ値及び複数の前記第2標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する解析工程と、を備える、検査システムの製造方法。
The method for manufacturing an inspection system according to claim 5 or 11.
A first standard sample irradiation step of irradiating a plurality of standard samples with irradiation light by placing a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a first atmospheric temperature.
A first standard reflected light or a first standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the first atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 1 Standard sample detection process and
A first standard spectrum generation step of acquiring a plurality of first standard spectra, each containing information about the intensity of the first standard reflected light or the first standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the first standard reflected light or the first standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the first standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the first standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of first standard parameter values corresponding to each wavelength point. The first standard sample processing step to be calculated respectively, and
A second standard sample irradiation step of irradiating the plurality of standard samples with irradiation light by placing the plurality of the standard samples at a second atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature.
A second standard reflected light or a second standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the second atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 2 Standard sample detection process and
A second standard spectrum generation step of acquiring a plurality of second standard spectra, each containing information about the intensity of the second standard reflected light or the second standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the second standard reflected light or the second standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the second standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the second standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of second standard parameter values corresponding to each wavelength point. The second standard sample processing step to be calculated respectively, and
An analysis step for creating a regression equation expressing the relationship between a plurality of the first standard parameter values and a plurality of the second standard parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample using a multivariate analysis method. And, the manufacturing method of the inspection system.
請求項6又は12に記載の検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料を第1の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第1標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第1の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第1標準反射光又は第1標準透過光の強度を検出する第1標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第1標準反射光又は前記第1標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第1標準スペクトルを取得する第1標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第1標準スペクトルの複数の波長点における前記第1標準反射光又は前記第1標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第1標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第1標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第1標準試料処理工程と、
複数の前記標準試料を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第2標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第2の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第2標準反射光又は第2標準透過光の強度を検出する第2標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第2標準反射光又は前記第2標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第2標準スペクトルを取得する第2標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第2標準スペクトルの複数の波長点における前記第2標準反射光又は前記第2標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第2標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第2標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第2標準試料処理工程と、
複数の前記標準試料を前記第1の雰囲気温度及び前記第2の雰囲気温度とは異なる第3の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第3標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第3の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第3標準反射光又は第3標準透過光の強度を検出する第3標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第3標準反射光又は前記第3標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第3標準スペクトルを取得する第3標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第3標準スペクトルの複数の波長点における前記第3標準反射光又は前記第3標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第3標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第3標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第3標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第1標準パラメータ値、複数の前記第2標準パラメータ値及び複数の前記第3標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する解析工程と、を備える、検査システムの製造方法。
The method for manufacturing an inspection system according to claim 6 or 12.
A first standard sample irradiation step of irradiating a plurality of standard samples with irradiation light by placing a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a first atmospheric temperature.
A first standard reflected light or a first standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the first atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 1 Standard sample detection process and
A first standard spectrum generation step of acquiring a plurality of first standard spectra, each containing information about the intensity of the first standard reflected light or the first standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the first standard reflected light or the first standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the first standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the first standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of first standard parameter values corresponding to each wavelength point. The first standard sample processing step to be calculated respectively, and
A second standard sample irradiation step of irradiating the plurality of standard samples with irradiation light by placing the plurality of the standard samples at a second atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature.
A second standard reflected light or a second standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the second atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 2 Standard sample detection process and
A second standard spectrum generation step of acquiring a plurality of second standard spectra, each containing information about the intensity of the second standard reflected light or the second standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the second standard reflected light or the second standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the second standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the second standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of second standard parameter values corresponding to each wavelength point. The second standard sample processing step to be calculated respectively, and
A third standard sample irradiation step of irradiating the plurality of standard samples with irradiation light by placing the plurality of the standard samples at a third atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature and the second atmospheric temperature.
A third standard reflected light or a third standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the third atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 3 Standard sample detection process and
A third standard spectrum generation step of acquiring a plurality of third standard spectra, each containing information on the intensity of the third standard reflected light or the third standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the third standard reflected light or the third standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the third standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the third standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of third standard parameter values corresponding to each wavelength point. The third standard sample processing step to be calculated respectively, and
A regression equation expressing the relationship between the plurality of the first standard parameter values, the plurality of the second standard parameter values, and the plurality of the third standard parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample is multivariate. A manufacturing method of an inspection system including an analysis process created by using an analysis method.
請求項7に記載の検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料を第1の雰囲気温度に置いて前記標準試料に照射光を照射する第1標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第1の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第1標準反射光又は第1標準透過光の強度を検出する第1標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第1標準反射光又は前記第1標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第1標準スペクトルを取得する第1標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第1標準スペクトルの複数の波長点における前記第1標準反射光又は前記第1標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第1標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第1標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第1標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第1標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第1の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第1解析工程と、
複数の前記標準試料を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第2標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第2の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第2標準反射光又は第2標準透過光の強度を検出する第2標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第2標準反射光又は前記第2標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第2標準スペクトルを取得する第2標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第2標準スペクトルの複数の波長点における前記第2標準反射光又は前記第2標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第2標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第2標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第2標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第2標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第2の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第2解析工程と、を備える、検査システムの製造方法。
The method for manufacturing an inspection system according to claim 7.
A first standard sample irradiation step of irradiating the standard sample with irradiation light by placing a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a first atmospheric temperature.
A first standard reflected light or a first standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the first atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 1 Standard sample detection process and
A first standard spectrum generation step of acquiring a plurality of first standard spectra, each containing information about the intensity of the first standard reflected light or the first standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the first standard reflected light or the first standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the first standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the first standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of first standard parameter values corresponding to each wavelength point. The first standard sample processing step to be calculated respectively, and
A first analysis step of creating a first regression equation expressing the relationship between a plurality of the first standard parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample by using a multivariate analysis method.
A second standard sample irradiation step of irradiating the plurality of standard samples with irradiation light by placing the plurality of the standard samples at a second atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature.
A second standard reflected light or a second standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the second atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 2 Standard sample detection process and
A second standard spectrum generation step of acquiring a plurality of second standard spectra, each containing information about the intensity of the second standard reflected light or the second standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the second standard reflected light or the second standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the second standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the second standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of second standard parameter values corresponding to each wavelength point. The second standard sample processing step to be calculated respectively, and
A second analysis step of creating a second regression equation expressing the relationship between a plurality of the second standard parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample by using a multivariate analysis method is provided. , How to manufacture the inspection system.
請求項8に記載の検査システムの製造方法であって、
分子量が既知の樹脂材料を含む複数の標準試料を第1の雰囲気温度に置いて前記標準試料に照射光を照射する第1標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第1の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第1標準反射光又は第1標準透過光の強度を検出する第1標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第1標準反射光又は前記第1標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第1標準スペクトルを取得する第1標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第1標準スペクトルの複数の波長点における前記第1標準反射光又は前記第1標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第1標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第1標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第1標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第1標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第1の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第1解析工程と、
複数の前記標準試料を前記第1の雰囲気温度とは異なる第2の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第2標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第2の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第2標準反射光又は第2標準透過光の強度を検出する第2標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第2標準反射光又は前記第2標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第2標準スペクトルを取得する第2標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第2標準スペクトルの複数の波長点における前記第2標準反射光又は前記第2標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第2標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第2標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第2標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第2標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第2の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第2解析工程と、
複数の前記標準試料を前記第1の雰囲気温度及び前記第2の雰囲気温度とは異なる第3の雰囲気温度に置いて複数の前記標準試料に照射光を照射する第3標準試料照射工程と、
前記照射光を前記第3の雰囲気温度に置かれた複数の前記標準試料に照射することにより得られる反射光又は透過光である第3標準反射光又は第3標準透過光の強度を検出する第3標準試料検出工程と、
各々が複数の波長点における前記第3標準反射光又は前記第3標準透過光の強度に関する情報を含む、複数の第3標準スペクトルを取得する第3標準スペクトル生成工程と、
複数の前記第3標準スペクトルの複数の波長点における前記第3標準反射光又は前記第3標準透過光の強度の値、又は、複数の前記第3標準スペクトルの各々に平均化、平滑化、正規化、微分、散乱補正、ベースライン補正、ピークシフト補正、又はそれらの組み合わせを含む処理を施すことによって複数の波長点において得られる値を、各波長点に対応する複数の第3標準パラメータ値としてそれぞれ算出する第3標準試料処理工程と、
各標準試料の複数の前記第2標準パラメータ値と各標準試料の樹脂材料の分子量との関係を表す第3の回帰式を、多変量解析手法を用いて作成する第3解析工程と、
を備える、検査システムの製造方法。
The method for manufacturing an inspection system according to claim 8.
A first standard sample irradiation step of irradiating the standard sample with irradiation light by placing a plurality of standard samples containing a resin material having a known molecular weight at a first atmospheric temperature.
A first standard reflected light or a first standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the first atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 1 Standard sample detection process and
A first standard spectrum generation step of acquiring a plurality of first standard spectra, each containing information about the intensity of the first standard reflected light or the first standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the first standard reflected light or the first standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the first standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the first standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of first standard parameter values corresponding to each wavelength point. The first standard sample processing step to be calculated respectively, and
A first analysis step of creating a first regression equation expressing the relationship between a plurality of the first standard parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample by using a multivariate analysis method.
A second standard sample irradiation step of irradiating the plurality of standard samples with irradiation light by placing the plurality of the standard samples at a second atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature.
A second standard reflected light or a second standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the second atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 2 Standard sample detection process and
A second standard spectrum generation step of acquiring a plurality of second standard spectra, each containing information about the intensity of the second standard reflected light or the second standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the second standard reflected light or the second standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the second standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the second standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of second standard parameter values corresponding to each wavelength point. The second standard sample processing step to be calculated respectively, and
A second analysis step of creating a second regression equation expressing the relationship between a plurality of the second standard parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample by using a multivariate analysis method.
A third standard sample irradiation step of irradiating the plurality of standard samples with irradiation light by placing the plurality of the standard samples at a third atmospheric temperature different from the first atmospheric temperature and the second atmospheric temperature.
A third standard reflected light or a third standard transmitted light, which is a reflected light or a transmitted light obtained by irradiating a plurality of the standard samples placed at the third atmospheric temperature with the irradiation light, is detected. 3 Standard sample detection process and
A third standard spectrum generation step of acquiring a plurality of third standard spectra, each containing information on the intensity of the third standard reflected light or the third standard transmitted light at a plurality of wavelength points.
Intensity values of the third standard reflected light or the third standard transmitted light at a plurality of wavelength points of the plurality of the third standard spectra, or averaged, smoothed, and normalized to each of the plurality of the third standard spectra. The values obtained at a plurality of wavelength points by performing a process including conversion, differentiation, scattering correction, baseline correction, peak shift correction, or a combination thereof are used as a plurality of third standard parameter values corresponding to each wavelength point. The third standard sample processing step to be calculated respectively, and
A third analysis step of creating a third regression equation expressing the relationship between a plurality of the second standard parameter values of each standard sample and the molecular weight of the resin material of each standard sample by using a multivariate analysis method.
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