JP2022072499A - Ophthalmologic apparatus, control method of ophthalmologic apparatus and program - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、眼科装置、眼科装置の制御方法、及びプログラムに関する。 The present invention relates to an ophthalmic apparatus, a control method for the ophthalmic apparatus, and a program.
走査型レーザー検眼鏡(Scanning Laser Ophthalmoscope :以下、SLO)は、眼球内をレーザー光で走査し、眼底からの反射光を検出することで眼底像を取得する。 The scanning laser ophthalmoscope (SLO) scans the inside of the eyeball with a laser beam and detects the reflected light from the fundus to acquire a fundus image.
このようなSLOを用いて広角の眼底像を取得する場合、非特許文献1に記載されているように眼球光学系の収差の影響を受け、撮影中心を含む中心部の外側の外周部においてフォーカスのずれが生ずる。これは、中心部にフォーカスを合わせると外周部における画質の劣化が顕著になることを意味する。
When a wide-angle fundus image is acquired using such an SLO, it is affected by aberrations of the eyeball optical system as described in Non-Patent
例えば、特許文献1には、光スキャナを用いて測定光で眼底を走査する眼底断層像撮影装置において、各サークルスキャンの撮影位置毎に光路調整を行うことで同一の感度で断層像を取得し、全撮影領域において感度の良い断層像を取得する手法が開示されている。
For example, in
また、SLOを用いて眼底像を取得する場合、対物レンズの中心からの反射成分に起因したアーチファクトが眼底像に描出される場合があることが知られている。 Further, when acquiring a fundus image using SLO, it is known that an artifact caused by a reflection component from the center of the objective lens may be visualized on the fundus image.
例えば、特許文献2には、瞳分割面における照射ゾーンと検出ゾーンとの間のデッドゾーンの寸法を適切に設定することで、対物レンズの中心からの反射成分等に起因したアーチファクトを除去する手法が開示されている。 For example, Patent Document 2 describes a method of removing artifacts caused by a reflection component from the center of an objective lens by appropriately setting the size of a dead zone between an irradiation zone and a detection zone on a pupil division surface. Is disclosed.
例えば、特許文献1と同様に、SLOにおいてサークルスキャンを実行し、撮影中心を含む中心部と中心部の外側の周辺部における撮影位置毎にフォーカスを調整する場合、フォーカス調整に時間を要し、被検眼の動き等に起因した画質の劣化を招く。また、光束の断面形状がライン状等の所定形状を有する光で眼底をスキャンする場合、眼底における照明領域内で撮影中心を含む領域と撮影中心から離れた領域とでフォーカス位置が異なる。従って、眼球光学系の収差に起因した画質の劣化を避けることは困難である。画角が大きくなるほど眼球光学系の収差に起因した画質の劣化の程度が大きくなる。
For example, as in
一方、特許文献2に開示された手法では、対物レンズの中心からの反射成分等に起因したアーチファクトを除去できるものの、眼球光学系の収差に起因した画質の劣化を避けることはできない。 On the other hand, although the method disclosed in Patent Document 2 can remove artifacts caused by a reflection component from the center of the objective lens, deterioration of image quality due to aberrations of the eyeball optical system cannot be avoided.
以上のように、従来の手法では、画角が大きくなっても、被検眼の高画質の画像を簡便に取得することが困難である。 As described above, it is difficult to easily obtain a high-quality image of the eye to be inspected by the conventional method even if the angle of view is large.
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的の1つは、画角が大きい場合でも、被検眼の高画質の画像を簡便に取得するための新たな技術を提供することにある。 The present invention has been made in view of such circumstances, and one of the objects thereof is to provide a new technique for easily acquiring a high-quality image of an eye to be inspected even when the angle of view is large. To do.
実施形態に係る第1態様は、被検眼の所定部位における撮影中心を中心に回転する照明範囲に照明光を照射する照射系と、受光面が前記所定部位と光学的に略共役な位置に配置可能なイメージセンサを含み、前記照明範囲に照射された前記照明光の戻り光を受光する受光系と、前記撮影中心を含む中心部を前記照明光でスキャンする中心部スキャンと、前記中心部の外側の1以上の周辺部のそれぞれを前記照明光でスキャンする1以上の周辺部スキャンとを実行するように前記照射系及び前記受光系を制御する制御部と、前記中心部スキャンにより得られた前記戻り光の受光結果と、前記1以上の周辺部スキャンにより得られた前記戻り光の受光結果とに基づいて前記被検眼の画像を形成する画像形成部と、を含む、眼科装置である。 The first aspect according to the embodiment is an irradiation system that irradiates an illumination range that rotates around a imaging center in a predetermined portion of the eye to be inspected, and a light receiving surface is arranged at a position that is optically coupled to the predetermined portion. A light receiving system that includes a possible image sensor and receives the return light of the illumination light radiated to the illumination range, a central scan that scans the central portion including the imaging center with the illumination light, and a central portion of the central portion. Obtained by the central scan and a control unit that controls the irradiation system and the light receiving system to perform one or more peripheral scans that scan each of the outer one or more peripherals with the illumination light. It is an ophthalmic apparatus including an image forming unit that forms an image of the eye to be inspected based on the light receiving result of the return light and the light receiving result of the return light obtained by scanning one or more peripheral portions.
実施形態に係る第2態様では、第1態様において、前記制御部は、前記中心部スキャンにより得られる前記戻り光の光量と前記1以上の周辺部スキャンにより得られる前記戻り光の光量との差が小さくなるように前記照射系及び前記受光系の少なくとも一方を制御する。 In the second aspect according to the embodiment, in the first aspect, the control unit has a difference between the light amount of the return light obtained by the central scan and the light amount of the return light obtained by one or more peripheral scans. At least one of the irradiation system and the light receiving system is controlled so that
実施形態に係る第3態様では、第1態様又は第2態様において、前記照射系、及び前記受光系は、撮影光軸の方向に移動可能である。 In the third aspect according to the embodiment, in the first aspect or the second aspect, the irradiation system and the light receiving system can move in the direction of the photographing optical axis.
実施形態に係る第4態様は、第1態様~第3態様のいずれかにおいて、前記照射系の光路及び前記受光系の光路に配置され、前記光路に沿って移動可能なレンズを含む。 The fourth aspect according to the embodiment includes, in any one of the first to third aspects, a lens arranged in the optical path of the irradiation system and the optical path of the light receiving system and movable along the optical path.
実施形態に係る第5態様は、第1態様~第4態様のいずれかにおいて、撮影光軸から偏心した位置に穴部が形成され、前記照射系の光路と前記受光系の光路とを結合する瞳分割回転ミラーを含み、前記穴部は、前記被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置に配置可能であり、前記瞳分割回転ミラーは、前記照明範囲の移動に同期して前記撮影光軸を中心に前記穴部を回転可能である。 In the fifth aspect according to the embodiment, in any one of the first to fourth aspects, a hole is formed at a position eccentric from the optical axis for photographing, and the optical path of the irradiation system and the optical path of the light receiving system are coupled. The hole portion includes the pupil division rotation mirror, and the hole portion can be arranged at a position optically conjugate with the pupil of the eye to be inspected, and the pupil division rotation mirror is such that the photographing light is synchronized with the movement of the illumination range. The hole can be rotated around the shaft.
実施形態に係る第6態様は、第5態様において、撮影光軸を中心に回転可能なスリットが形成され、前記瞳分割回転ミラーによって結合された光路に選択的に配置可能な2以上のスリットを含み、前記2以上のスリットは、前記撮影光軸が通る中心領域にスリットが形成された第1スリットと、前記撮影光軸が通る中心領域の外側の1以上の周辺領域のそれぞれにスリットが形成された1以上の第2スリットと、を含み、前記第1スリットに形成されたスリットは、前記中心部と光学的に略共役な位置に配置可能であり、前記1以上の第2スリットに形成されたスリットは、前記所定部位における前記1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である。 In the sixth aspect according to the embodiment, in the fifth aspect, two or more slits are formed so as to be rotatable about the optical axis of photography and can be selectively arranged in the optical path connected by the pupil split rotating mirror. The two or more slits include a first slit in which a slit is formed in the central region through which the optical axis of photography passes, and one or more peripheral regions outside the central region in which the optical axis of photography passes. The slit formed in the first slit, including the one or more second slits formed therein, can be arranged at a position optically conjugate with the central portion, and is formed in the one or more second slits. The slit can be arranged at a position optically coupled to the one or more peripheral portions in the predetermined portion.
実施形態に係る第7態様は、第5態様において、前記瞳分割回転ミラーによって結合された光路を2以上の光路に分割する光路分割部材と、前記光路分割部材により分割された前記2以上の光路のそれぞれに配置され撮影光軸を中心に回転可能なスリットが形成された2以上のスリットと、前記光路分割部材によって分割された前記2以上の光路を結合し、結合された光路の光を前記被検眼に導く光路結合部材と、を含み、前記2以上のスリットは、前記撮影光軸が通る中心領域にスリットが形成された第1スリットと、前記撮影光軸が通る中心領域の外側の1以上の周辺領域のそれぞれにスリットが形成された1以上の第2スリットと、を含み、前記第1スリットに形成されたスリットは、前記中心部と光学的に略共役な位置に配置可能であり、前記1以上の第2スリットに形成されたスリットは、前記所定部位における前記1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である。 A seventh aspect according to the embodiment is, in the fifth aspect, an optical path dividing member that divides an optical path coupled by the pupil division rotating mirror into two or more optical paths, and the two or more optical paths divided by the optical path dividing member. Two or more slits arranged in each of the above and having a rotatable slit about the shooting optical axis are combined with the two or more optical paths divided by the optical path dividing member, and the light of the combined optical path is emitted. The two or more slits include an optical path coupling member leading to the eye to be inspected, and the two or more slits include a first slit in which a slit is formed in a central region through which the photographing optical axis passes, and one outside the central region through which the photographing optical axis passes. The slits formed in the first slits include one or more second slits in which slits are formed in each of the above peripheral regions, and the slits formed in the first slits can be arranged at positions optically coupled to the central portion. The slits formed in the one or more second slits can be arranged at positions optically coupled to the one or more peripheral portions in the predetermined portion.
実施形態に係る第8態様は、第5態様において、スリットが形成され、前記瞳分割回転ミラーによって結合された光路に選択的に配置可能な2以上のスリットと、前記瞳分割回転ミラーと前記2以上のスリットとの間に配置され、前記所定部位において前記撮影中心を中心に回転するように前記2以上のスリットのいずれかに形成されたスリットを通過した光を偏向する光スキャナと、を含み、前記2以上のスリットは、撮影光軸が通る中心領域にスリットが形成された第1スリットと、前記撮影光軸が通る中心領域の外側の1以上の周辺領域のそれぞれにスリットが形成された1以上の第2スリットと、を含み、前記第1スリットに形成されたスリットは、前記中心部と光学的に略共役な位置に配置可能であり、前記1以上の第2スリットに形成されたスリットは、前記所定部位における前記1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である。 An eighth aspect according to the embodiment is, in the fifth aspect, two or more slits in which slits are formed and can be selectively arranged in an optical path coupled by the pupil division rotation mirror, the pupil division rotation mirror and the second aspect. Includes an optical scanner arranged between the above slits and deflecting light that has passed through a slit formed in any of the two or more slits so as to rotate about the imaging center at the predetermined portion. The two or more slits are the first slit in which the slit is formed in the central region through which the photographing optical axis passes, and the slit is formed in each of one or more peripheral regions outside the central region through which the photographing optical axis passes. The slit formed in the first slit including one or more second slits can be arranged at a position optically conjugate with the central portion, and is formed in the one or more second slits. The slit can be arranged at a position optically coupled to the one or more peripheral portions in the predetermined portion.
実施形態に係る第9態様では、第6態様~第8態様のいずれかにおいて、前記2以上のスリットは、前記2以上のスリットのいずれか1つを除いて前記撮影光軸の方向の移動可能である。 In the ninth aspect according to the embodiment, in any one of the sixth to eighth aspects, the two or more slits are movable in the direction of the photographing optical axis except for one of the two or more slits. Is.
実施形態に係る第10態様は、第6態様~第9態様のいずれかにおいて、前記被検眼の屈折度数に基づいて、前記1以上の第2スリットのそれぞれを前記撮影光軸の方向に移動する1以上の移動機構を含む。 In the tenth aspect according to the embodiment, in any one of the sixth aspect to the ninth aspect, each of the one or more second slits is moved in the direction of the photographing optical axis based on the refractive power of the eye to be inspected. Includes one or more moving mechanisms.
実施形態に係る第11態様は、第6態様~第10態様のいずれかにおいて、前記被検眼のOCTデータに基づいて、前記1以上の第2スリットのそれぞれを前記撮影光軸の方向に移動する1以上の移動機構を含む。 In the eleventh aspect according to the embodiment, in any one of the sixth aspect to the tenth aspect, each of the one or more second slits is moved in the direction of the photographing optical axis based on the OCT data of the eye to be inspected. Includes one or more moving mechanisms.
実施形態に係る第12態様では、第6態様~第11態様のいずれかにおいて、前記2以上のスリットのそれぞれに形成されたスリットは、前記撮影光軸から遠くなるほど広くなるように形成されている。 In the twelfth aspect according to the embodiment, in any one of the sixth aspect to the eleventh aspect, the slits formed in each of the two or more slits are formed so as to become wider as the distance from the photographing optical axis increases. ..
実施形態に係る第13態様では、第12態様において、前記2以上のスリットのそれぞれに形成されたスリットは、略台形形状又は三角形状を有している。 In the thirteenth aspect according to the embodiment, in the twelfth aspect, the slits formed in each of the two or more slits have a substantially trapezoidal shape or a triangular shape.
実施形態に係る第14態様は、被検眼の所定部位における撮影中心を中心に回転する照明範囲に照明光を照射する照射ステップと、受光面が前記所定部位と光学的に略共役な位置に配置可能なイメージセンサを用いて、前記照明範囲に照射された前記照明光の戻り光を受光する受光ステップと、前記撮影中心を含む中心部を前記照明光でスキャンする中心部スキャンと、前記中心部の外側の1以上の周辺部のそれぞれを前記照明光でスキャンする1以上の周辺部スキャンとを実行する制御ステップと、前記中心部スキャンにより得られた前記戻り光の受光結果と、前記1以上の周辺部スキャンにより得られた前記戻り光の受光結果とに基づいて前記被検眼の画像を形成する画像形成ステップと、を含む、眼科装置の制御方法である。 A fourteenth aspect according to the embodiment is an irradiation step of irradiating an illumination range that rotates around a imaging center in a predetermined portion of the eye to be inspected, and a position where the light receiving surface is optically coupled to the predetermined portion. A light receiving step that receives the return light of the illumination light radiated to the illumination range using a possible image sensor, a central scan that scans the central portion including the imaging center with the illumination light, and the central portion. A control step for executing one or more peripheral scans in which each of the one or more peripheral portions outside the above is scanned with the illumination light, a light receiving result of the return light obtained by the central scan, and the one or more. It is a control method of an ophthalmologic apparatus including an image formation step of forming an image of the eye under test based on the light receiving result of the return light obtained by scanning the peripheral portion of the eye.
実施形態に係る第15態様では、第14態様において、前記制御ステップは、前記中心部スキャンにより得られる前記戻り光の光量と前記1以上の周辺部スキャンにより得られる前記戻り光の光量との差が小さくなるように前記照明光を照射する照射系及び前記戻り光を受光する受光系の少なくとも一方を制御する。 In the fifteenth aspect according to the embodiment, in the fourteenth aspect, in the control step, the difference between the light amount of the return light obtained by the central scan and the light amount of the return light obtained by one or more peripheral scans. At least one of the irradiation system that irradiates the illumination light and the light receiving system that receives the return light is controlled so that
実施形態に係る第16態様では、第14態様又は第15態様において、前記眼科装置は、撮影光軸から偏心した位置に穴部が形成され、前記照明光を照射する照射系の光路と前記戻り光を受光する受光系の光路とを結合する瞳分割回転ミラーを含み、前記穴部は、前記被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置に配置可能であり、前記制御ステップは、前記照明範囲の移動に同期して前記撮影光軸を中心に前記穴部を回転するように前記瞳分割回転ミラーを制御する。 In the 16th aspect according to the embodiment, in the 14th aspect or the 15th aspect, in the ophthalmologic apparatus, a hole is formed at a position eccentric from the photographing optical axis, and the optical path of the irradiation system irradiating the illumination light and the return. A pupil split rotating mirror that couples with an optical path of a light receiving system that receives light is included, and the hole portion can be arranged at a position optically conjugate with the pupil of the eye to be inspected, and the control step is the illumination. The pupil division rotation mirror is controlled so as to rotate the hole portion around the photographing optical axis in synchronization with the movement of the range.
実施形態に係る第17態様では、第16態様において、前記眼科装置は、撮影光軸を中心に回転可能なスリットが形成され、前記瞳分割回転ミラーによって結合された光路に選択的に配置可能な2以上のスリットを含み、前記2以上のスリットは、前記撮影光軸が通る中心領域にスリットが形成された第1スリットと、前記撮影光軸が通る中心領域の外側の1以上の周辺領域のそれぞれにスリットが形成された1以上の第2スリットと、を含み、前記第1スリットに形成されたスリットは、前記中心部と光学的に略共役な位置に配置可能であり、前記1以上の第2スリットに形成されたスリットは、前記所定部位における前記1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である。 In the 17th aspect according to the embodiment, in the 16th aspect, the ophthalmologic apparatus is formed with a slit rotatable about an optical axis for imaging, and can be selectively arranged in an optical path coupled by the pupil split rotating mirror. The two or more slits include two or more slits, the first slit having a slit formed in the central region through which the photographing optical axis passes, and one or more peripheral regions outside the central region through which the photographing optical axis passes. The slit formed in the first slit includes one or more second slits each having a slit formed therein, and the slit formed in the first slit can be arranged at a position optically coupled to the central portion thereof, and the one or more slits can be arranged. The slit formed in the second slit can be arranged at a position optically coupled to the one or more peripheral portions in the predetermined portion.
実施形態に係る第18態様では、第16態様において、前記眼科装置は、前記瞳分割回転ミラーによって結合された光路を2以上の光路に分割する光路分割部材と、前記光路分割部材により分割された前記2以上の光路のそれぞれに配置され撮影光軸を中心に回転可能なスリットが形成された2以上のスリットと、前記光路分割部材によって分割された前記2以上の光路を結合し、結合された光路の光を前記被検眼に導く光路結合部材と、を含み、前記2以上のスリットは、前記撮影光軸が通る中心領域にスリットが形成された第1スリットと、前記撮影光軸が通る中心領域の外側の1以上の周辺領域のそれぞれにスリットが形成された1以上の第2スリットと、を含み、前記第1スリットに形成されたスリットは、前記中心部と光学的に略共役な位置に配置可能であり、前記1以上の第2スリットに形成されたスリットは、前記所定部位における前記1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である。 In the eighteenth aspect of the embodiment, in the sixteenth aspect, the ophthalmologic apparatus is divided into an optical path dividing member that divides an optical path coupled by the pupil division rotating mirror into two or more optical paths, and the optical path dividing member. The two or more optical paths arranged in each of the two or more optical paths and having a rotatable slit about the photographing optical axis formed, and the two or more optical paths divided by the optical path dividing member are combined and combined. The two or more slits include a first slit formed in a central region through which the photographing optical axis passes, and a center through which the photographing optical axis passes, including an optical path coupling member that guides the light of the optical path to the eye to be inspected. The slit formed in the first slit includes one or more second slits in which slits are formed in each of the one or more peripheral regions outside the region, and the slits formed in the first slit are located at positions optically coupled to the central portion. The slits formed in the one or more second slits can be arranged at positions optically coupled to the one or more peripheral portions in the predetermined portion.
実施形態に係る第19態様では、第16態様において、前記眼科装置は、スリットが形成され、前記瞳分割回転ミラーによって結合された光路に選択的に配置可能な2以上のスリットと、前記瞳分割回転ミラーと前記2以上のスリットとの間に配置され、前記所定部位において前記撮影中心を中心に回転するように前記2以上のスリットのいずれかに形成されたスリットを通過した光を偏向する光スキャナと、を含み、前記2以上のスリットは、撮影光軸が通る中心領域にスリットが形成された第1スリットと、前記撮影光軸が通る中心領域の外側の1以上の周辺領域のそれぞれにスリットが形成された1以上の第2スリットと、を含み、前記第1スリットに形成されたスリットは、前記中心部と光学的に略共役な位置に配置可能であり、前記1以上の第2スリットに形成されたスリットは、前記所定部位における前記1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である。 In the nineteenth aspect according to the embodiment, in the sixteenth aspect, the ophthalmologic apparatus has two or more slits in which slits are formed and can be selectively arranged in an optical path coupled by the pupil division rotation mirror, and the pupil division. Light that is arranged between the rotating mirror and the two or more slits and deflects light that has passed through a slit formed in any of the two or more slits so as to rotate about the imaging center at the predetermined portion. The two or more slits, including the scanner, are provided in the first slit in which the slit is formed in the central region through which the photographing optical axis passes, and in one or more peripheral regions outside the central region through which the photographing optical axis passes. The slit formed in the first slit includes one or more second slits in which the slits are formed, and the slits formed in the first slit can be arranged at a position optically conjugate with the central portion, and the first or more second slits can be arranged. The slit formed in the slit can be arranged at a position optically coupled to the one or more peripheral portions in the predetermined portion.
実施形態に係る第20態様では、第17態様~第19態様のいずれかにおいて、前記2以上のスリットのそれぞれに形成されたスリットは、前記撮影光軸から遠くなるほど広くなるように形成されている。 In the 20th aspect according to the embodiment, in any one of the 17th to 19th aspects, the slits formed in each of the two or more slits are formed so as to become wider as the distance from the photographing optical axis increases. ..
実施形態に係る第21態様では、第20態様において、前記2以上のスリットのそれぞれに形成されたスリットは、略台形形状又は三角形状を有している。 In the 21st aspect according to the embodiment, in the 20th aspect, the slits formed in each of the two or more slits have a substantially trapezoidal shape or a triangular shape.
実施形態に係る第22態様では、コンピュータに、第14態様~第21態様のいずれかに記載の眼科装置の制御方法の各ステップを実行させるプログラムである。 In the 22nd aspect according to the embodiment, the program causes a computer to execute each step of the control method of the ophthalmic apparatus according to any one of the 14th aspect to the 21st aspect.
なお、上記した複数の態様に係る構成を任意に組み合わせることが可能である。 It is possible to arbitrarily combine the configurations according to the above-mentioned plurality of aspects.
本発明によれば、画角が大きい場合でも被検眼の高画質の画像を簡便に取得するための新たな技術を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a new technique for easily acquiring a high-quality image of an eye to be inspected even when the angle of view is large.
この発明に係る眼科装置、眼科装置の制御方法、及びプログラムの実施形態の一例について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、実施形態において、この明細書において引用されている文献に記載された技術を任意に援用することが可能である。 An example of the ophthalmic apparatus, the control method of the ophthalmic apparatus, and the embodiment of the program according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the embodiment, the technique described in the document cited in this specification can be arbitrarily used.
実施形態に係る眼科装置は、被検眼の所定部位を照明光でスキャンし、所定部位からの照明光の戻り光の受光結果に基づいて被検眼の正面画像を形成する走査型レーザー検眼鏡(SLO)の機能を有する。SLOには、スポット状の光で所定部位をスキャンするポイントスキャンSLOと、ライン状の光で所定部位をスキャンするラインスキャンSLOとがある。以下の実施形態に係る構成は、ポイントスキャンSLO及びラインスキャンSLOの双方に適用可能である。 The ophthalmic apparatus according to the embodiment is a scanning laser ophthalmoscope (SLO) that scans a predetermined portion of the eye to be inspected with illumination light and forms a front image of the eye to be inspected based on the result of receiving the return light of the illumination light from the predetermined portion. ) Has the function. The SLO includes a point scan SLO that scans a predetermined portion with spot-shaped light and a line scan SLO that scans a predetermined portion with line-shaped light. The configuration according to the following embodiment is applicable to both the point scan SLO and the line scan SLO.
具体的には、眼科装置は、中心部スキャンと、1以上の周辺部スキャンとを実行する。中心部スキャンでは、被検眼の所定部位において任意に設定可能な撮影中心を含む中心部が、撮影中心を中心に照明範囲が回転するように照明光でスキャンされる。1以上の周辺部スキャンでは、被検眼の所定部位において中心部の外側の1以上の周辺部(例えば、環状又は弧状)のそれぞれが、撮影中心を中心に照明範囲が回転するように照明光でスキャンされる。眼科装置は、中心部スキャンにより得られた戻り光の受光結果と、1以上の周辺部スキャンにより得られた戻り光の受光結果とに基づいて被検眼の画像を形成する。 Specifically, the ophthalmic appliance performs a central scan and one or more peripheral scans. In the central scan, the central portion including the imaging center that can be arbitrarily set in a predetermined portion of the eye to be inspected is scanned with illumination light so that the illumination range rotates around the imaging center. In one or more peripheral scans, each of the one or more peripherals (eg, annular or arcuate) outside the central part of the predetermined area of the eye to be inspected is illuminated by illumination light so that the illumination range rotates around the center of imaging. It will be scanned. The ophthalmologic apparatus forms an image of the eye to be inspected based on the light reception result of the return light obtained by the central scan and the light reception result of the return light obtained by one or more peripheral scans.
これにより、被検眼の所定部位における中心部、及び1以上の周辺部のそれぞれに対して、互いに独立にフォーカス位置が調整された照明光でスキャンすることが可能になる。その結果、画角が大きい場合でも所定部位の全体にわたってピントが合った被検眼の画像を簡便に取得することができる。 This makes it possible to scan the central portion of the predetermined portion of the eye to be inspected and one or more peripheral portions with illumination light whose focus positions are adjusted independently of each other. As a result, even when the angle of view is large, it is possible to easily obtain an image of the eye to be in focus over the entire predetermined portion.
更に、眼科装置は、所定部位における撮影中心を中心に照明範囲が回転するように中心部を照明光でスキャン(中心部スキャン)する。これにより、対物レンズの中心等からの反射成分の強度を弱め、反射成分に起因したアーチファクトを除去することができる。従って、画角が大きい場合でも被検眼の高画質の画像を簡便に取得することが可能になる。 Further, the ophthalmologic apparatus scans the central portion with the illumination light (center scan) so that the illumination range rotates around the imaging center at the predetermined portion. As a result, the intensity of the reflection component from the center of the objective lens or the like can be weakened, and the artifact caused by the reflection component can be removed. Therefore, even when the angle of view is large, it is possible to easily acquire a high-quality image of the eye to be inspected.
撮影中心の例として、被検眼の所定部位において撮影光軸(例えば、照明光を照射する照射系の光軸、照明光の戻り光を受光する受光系の光軸)と交差する位置などがある。被検眼の所定部位の例として、眼底、前眼部などがある。 As an example of the center of photography, there is a position that intersects the optical axis of the imaging system (for example, the optical axis of the irradiation system that irradiates the illumination light, the optical axis of the light receiving system that receives the return light of the illumination light) at a predetermined part of the eye to be inspected. .. Examples of predetermined parts of the eye to be inspected include the fundus and the anterior eye.
実施形態に係る眼科装置の制御方法は、上記の眼科装置を制御する1以上のステップを含む。実施形態に係るプログラムは、実施形態に係る眼科装置の制御方法の各ステップをコンピュータ(プロセッサ)に実行させる。実施形態に係る記録媒体は、実施形態に係るプログラムが記録された非一時的な記録媒体(記憶媒体)である。 The method for controlling an ophthalmologic device according to an embodiment includes one or more steps for controlling the above-mentioned ophthalmic device. The program according to the embodiment causes a computer (processor) to execute each step of the control method of the ophthalmologic apparatus according to the embodiment. The recording medium according to the embodiment is a non-temporary recording medium (storage medium) on which the program according to the embodiment is recorded.
本明細書において、プロセッサは、例えば、CPU(Central Processing Unit)、GPU(Graphics Processing Unit)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、プログラマブル論理デバイス(例えば、SPLD(Simple Programmable Logic Device)、CPLD(Complex Programmable Logic Device)、FPGA(Field Programmable Gate Array))等の回路を含む。プロセッサは、例えば、記憶回路又は記憶装置に格納されているプログラムを読み出し実行することで、実施形態に係る機能を実現する。記憶回路又は記憶装置がプロセッサに含まれていてよい。また、記憶回路又は記憶装置がプロセッサの外部に設けられていてよい。 In the present specification, the processor is, for example, a CPU (Central Processing Unit), a GPU (Graphics Processing Unit), an ASIC (Application Specific Integrated Circuit), a programmable logic device (for example, a SPLD (Simple Includes circuits such as Logic Devices), FPGAs (Field Processor Gate Array)). The processor realizes the function according to the embodiment by reading and executing, for example, a program stored in a storage circuit or a storage device. A storage circuit or storage device may be included in the processor. Further, a storage circuit or a storage device may be provided outside the processor.
いくつかの実施形態に係る眼科装置は、眼底に固視標を投影する機能を備える。固視標には、内部固視標や外部固視標を用いることができる。 The ophthalmic apparatus according to some embodiments has a function of projecting a fixative on the fundus. As the fixative, an internal fixative or an external fixative can be used.
以下、眼科装置は、被検眼の眼底の画像を取得する場合について説明するが、実施形態に係る構成はこれに限定されるものではない。実施形態に係る眼科装置は、眼底以外の被検眼の所定部位(例えば、前眼部)の画像を取得する場合にも適用可能である。 Hereinafter, the case where the ophthalmic apparatus acquires an image of the fundus of the eye to be inspected will be described, but the configuration according to the embodiment is not limited to this. The ophthalmic apparatus according to the embodiment can also be applied to acquire an image of a predetermined part (for example, anterior eye portion) of the eye to be inspected other than the fundus.
以下、特に明記しない限り、被検者から見て左右方向をX方向とし、上下方向をY方向とし、前後方向(奥行き方向)をZ方向とする。X方向、Y方向及びZ方向は、3次元直交座標系を定義する。 Hereinafter, unless otherwise specified, the left-right direction is the X direction, the vertical direction is the Y direction, and the front-back direction (depth direction) is the Z direction when viewed from the subject. The X, Y and Z directions define a three-dimensional Cartesian coordinate system.
<第1実施形態>
[構成]
図1に、第1実施形態に係る眼科装置の構成例のブロック図を示す。
<First Embodiment>
[Constitution]
FIG. 1 shows a block diagram of a configuration example of an ophthalmic apparatus according to the first embodiment.
第1実施形態に係る眼科装置1は、被検眼Eの眼底Efにおいて任意に設定可能な撮影中心を中心に所定形状の照明範囲が回転するように眼底Efを照明光でスキャンし、眼底Efからの照明光を受光することにより眼底Efの画像を取得する。
The
眼科装置1は、光学系(装置光学系)10と、制御ユニット100と、データ処理ユニット200と、操作ユニット110と、表示ユニット120と、移動機構10D、50D、70Dと、回転機構40R、50Rとを含む。
The
光学系10は、撮影中心を中心に所定形状の照明領域が回転するように眼底Efを照明光でスキャンする。
The
光学系10は、前眼部観察光学系20と、回転スリット50と、撮影光学系70と、光学素子M1と、対物レンズ11とを含む。
The
対物レンズ11は、被検眼Eに対向するように前眼部観察光学系20の光路(観察光軸、観察光路)と撮影光学系70の光路(撮影光軸、撮影光路)との結合光路上に配置される。ここで、観察光軸は、前眼部観察光学系20におけるイメージセンサが配置される光軸に相当する。また、撮影光軸は、撮影光学系70におけるイメージセンサ60が配置される光軸(又は、照明光の光路に沿った光軸)に相当する。
The
光学素子M1は、前眼部観察光学系20の光路とそれ以外に光学系(撮影光学系70、回転スリット50)の光路とを結合したり、被検眼Eからの戻り光の光路を前眼部観察光学系20の光路とそれ以外の光学系の光路とに分離したりする。光学素子M1は、前眼部観察光学系20の光軸がそれ以外の光学系の光軸と略同軸になるように、これら光学系を結合することが望ましい。
The optical element M1 combines the optical path of the anterior segment observation
例えば、光学素子M1は、ビームスプリッタ(偏光ビームスプリッタ、ハーフミラー)、ダイクロイックミラー、又はダイクロイックビームスプリッタである。 For example, the optical element M1 is a beam splitter (polarization beam splitter, half mirror), a dichroic mirror, or a dichroic beam splitter.
対物レンズ11は、被検眼Eと光学素子M1との間に配置される。すなわち、光学系10は、各光学系に共通の対物レンズを含む。光学系10において、対物レンズ11が省略されていてもよい。
The
(前眼部観察光学系20)
前眼部観察光学系20は、照明光により照明されている被検眼Eの前眼部を観察するために用いられる。前眼部観察光学系20は、前眼部観察用の照明光学系を含む。
(Anterior eye observation optical system 20)
The anterior eye portion observation
前眼部観察光学系20は、接眼レンズ及びイメージセンサの少なくとも一方を含む。接眼レンズは、被検眼Eの肉眼観察に用いられる。イメージセンサは、被検眼Eの前眼部の正面画像の取得に用いられる。イメージセンサを用いて取得された画像は、イメージセンサからの検出信号を受けた制御ユニット100が表示ユニット120を制御することによって表示ユニット120の表示デバイスに表示される。
The anterior eye observation
例えば、図示しない前眼部照明光源からの照明光は、光学素子M1を透過し、対物レンズ11を介して前眼部に導かれる。いくつかの実施形態では、図示しない前眼部照明光源からの照明光は、被検眼Eの前眼部を直接に照明する。
For example, the illumination light from the front eye portion illumination light source (not shown) passes through the optical element M1 and is guided to the front eye portion via the
被検眼Eからの照明光の戻り光(反射光)は、対物レンズ11を透過し、光学素子M1を透過し、前眼部観察光学系20に導かれる。
The return light (reflected light) of the illumination light from the eye E to be inspected passes through the
(撮影光学系70)
撮影光学系70は、照明光により照明されている被検眼Eの眼底Efを撮影するために用いられる。撮影光学系70は、照明光学系30と、瞳分割回転ミラー40と、イメージセンサ60とを含む。
(Shooting optical system 70)
The photographing
撮影光学系70(光学系10)における照射系は、照明光学系30と、回転スリット50とを含む。撮影光学系70(光学系10)における受光系は、イメージセンサ60を含む。瞳分割回転ミラー40は、照射系の光路と受光系の光路とを結合する。
The irradiation system in the photographing optical system 70 (optical system 10) includes an illumination
(瞳分割回転ミラー40)
瞳分割回転ミラー40は、撮影光軸上に配置され、被検眼Eの瞳孔(瞳)において照明光と戻り光を瞳分割するように穴部が形成され、照明光学系30からの照明光の光路と被検眼Eからの照明光の戻り光の光路とを結合する。瞳分割回転ミラー40は、撮影光軸に対して斜設された状態で撮影光軸を中心に回転可能に構成され、回転中心から偏心した位置に穴部が形成される。すなわち、瞳分割回転ミラー40は、撮影光軸と交差する軸を回転軸として撮影光軸を中心に穴部を回転可能に構成される。瞳分割回転ミラー40の穴部は、被検眼Eの瞳孔(虹彩)と光学的に略共役な位置に配置可能である。瞳分割回転ミラー40は、光学系全体を移動する移動機構(移動機構10D又は移動機構70D)、又は図示しない移動機構により撮影光軸の方向に移動可能である。
(Eye division rotation mirror 40)
The pupil
例えば、照明光学系30(照射系)は瞳分割回転ミラー40の反射方向に配置され、イメージセンサ60(受光系)は瞳分割回転ミラー40の通過方向に配置される。この場合、照明光学系30からの照明光が穴部の周辺部に形成されたミラーで被検眼Eに向けて反射され、被検眼Eからの照明光の戻り光が穴部を通過してイメージセンサ60に導かれるように、瞳分割回転ミラー40が撮影光軸上に配置される。
For example, the illumination optical system 30 (irradiation system) is arranged in the reflection direction of the pupil
例えば、照明光学系30(照射系)は瞳分割回転ミラー40の通過方向に配置され、イメージセンサ60(受光系)は瞳分割回転ミラー40の反射方向に配置される。この場合、照明光学系30からの照明光が穴部を通過し、被検眼Eからの照明光の戻り光が穴部の周辺部に形成されたミラーでイメージセンサ60に向けて反射されるように、瞳分割回転ミラー40が撮影光軸上に配置される。
For example, the illumination optical system 30 (irradiation system) is arranged in the passing direction of the pupil
このような瞳分割回転ミラー40は、開口絞りとして機能する。
Such a pupil
瞳分割回転ミラー40は、図1に示すように撮影光軸に対して斜設されるものに限定されるものではない。例えば、瞳分割回転ミラー40の機能を、瞳分割部材と、ミラーとにより実現するようにしてもよい。
As shown in FIG. 1, the pupil
(照明光学系30)
照明光学系30は、被検眼Eの前眼部又は眼底Efを照明する。照明光学系30は、照明光源、レンズなどを含む。
(Illumination optical system 30)
The illumination
例えば、照明光学系30により生成された照明光は、瞳分割回転ミラー40の穴部の周辺部で反射され、回転スリット50に形成されたスリットを通過し、光学素子M1により反射され、対物レンズ11を透過し、被検眼Eに導かれる。
For example, the illumination light generated by the illumination
例えば、被検眼Eからの照明光の戻り光(反射光)は、対物レンズ11を透過し、光学素子M1により反射され、回転スリット50に形成されたスリットを通過し、瞳分割回転ミラー40の穴部を通過し、イメージセンサ60に導かれる。
For example, the return light (reflected light) of the illumination light from the eye E to be inspected passes through the
(イメージセンサ60)
イメージセンサ60は、受光素子が2次元的に配列された2次元センサ(エリアセンサ)である。このようなイメージセンサ60は、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサ又はCCD(Charge Coupled Device)イメージセンサにより実現される。
(Image sensor 60)
The
イメージセンサ60における戻り光の受光面は、被検眼Eの眼底Ef(撮影中心)と光学的に略共役な位置に配置可能である。いくつかの実施形態では、イメージセンサ60の受光面は、眼底Efの中心部と1以上の周辺部との間の位置(例えば、撮影中心と撮影範囲の最も外側の位置との間の位置)と光学的に略共役な位置に配置可能である。
The light receiving surface of the return light in the
いくつかの実施形態では、イメージセンサ60は、後述の中心部スキャンにより得られた中心部からの照明光の戻り光と、後述の周辺部スキャンにより得られた1以上の周辺部からの照明光の戻り光とを同時に受光するように構成される。
In some embodiments, the
いくつかの実施形態では、イメージセンサ60は、後述の中心部スキャンにより得られた中心部からの照明光の戻り光と、後述の周辺部スキャンにより得られた周辺部からの照明光の戻り光とを時分割で独立に受光するように構成される。
In some embodiments, the
いくつかの実施形態では、イメージセンサ60は、制御ユニット100からの制御を受け、受光面において、眼底Efにおける照明光の照明領域に対応する開口範囲を設定することが可能である。開口範囲は、眼底Efにおける照明光の照明領域に対応する受光面における戻り光の照射範囲を含む範囲である。これにより、開口範囲以外の範囲で受光される不要光の影響を受けることなく、眼底Efの画像の高画質化を図ることが可能になる。
In some embodiments, the
(回転スリット50)
回転スリット50には、中心部スキャン用のスリットと、1以上の周辺部スキャン用のスリットとが形成されている。中心部スキャン用のスリットは、眼底Efにおける撮影中心を含む中心部に対して照明光を照射するために用いられる。1以上の周辺部スキャン用のスリットは、眼底Efにおける中心部の外側の1以上の周辺部のそれぞれに対して照明光を照射するために用いられる。
(Rotating slit 50)
The rotary slit 50 is formed with a slit for scanning the central portion and a slit for scanning one or more peripheral portions. The slit for scanning the central portion is used to irradiate the central portion including the imaging center in the fundus Ef with illumination light. One or more peripheral scan slits are used to irradiate each of the one or more peripherals outside the central part of the fundus Ef with illumination light.
回転スリット50は、撮影光軸と略平行な所定の回転軸を中心に回転可能に構成される。以下、回転スリット50は、撮影光軸を中心に回転可能に構成されるものとする。すなわち、回転スリット50は、撮影光軸を中心に2以上のスリットを回転可能に構成される。 The rotation slit 50 is configured to be rotatable about a predetermined rotation axis substantially parallel to the photographing optical axis. Hereinafter, the rotary slit 50 is configured to be rotatable about the photographing optical axis. That is, the rotary slit 50 is configured to be rotatable around two or more slits about the shooting optical axis.
回転スリット50に形成された中心部スキャン用のスリットは、眼底Efにおける撮影中心を含む中心部と光学的に略共役な位置に配置可能である。回転スリット50に形成された1以上の周辺部スキャン用のスリットのそれぞれは、眼底Efにおける撮影中心を含む中心部の外側の1以上の周辺部(周辺部の代表位置)と光学的に略共役な位置に配置可能である。例えば、周辺部の代表位置は、当該周辺部の境界において撮影中心に最も近い位置、当該周辺部の境界において撮影中心に最も遠い位置である。また、周辺部の代表位置は、撮影中心を通る直線が当該周辺部の撮影中心側の境界と交差する位置と当該周辺部の外側の境界と交差する位置との中心位置若しくは重心位置であってよい。 The slit for scanning the central portion formed in the rotary slit 50 can be arranged at a position optically conjugate with the central portion including the imaging center in the fundus Ef. Each of the one or more peripheral scan slits formed in the rotary slit 50 is optically conjugate with one or more peripheral portions (representative positions of the peripheral portions) outside the central portion including the imaging center in the fundus Ef. Can be placed in any position. For example, the representative position of the peripheral portion is the position closest to the photographing center at the boundary of the peripheral portion and the position farthest from the photographing center at the boundary of the peripheral portion. The representative position of the peripheral portion is the center position or the center of gravity position of the position where the straight line passing through the imaging center intersects the boundary on the imaging center side of the peripheral portion and the position where the straight line passes through the outer boundary of the peripheral portion. good.
照明光学系30が瞳分割回転ミラー40の反射方向に配置され、イメージセンサ60が瞳分割回転ミラー40の通過方向に配置される場合、回転スリット50は、瞳分割回転ミラー40の穴部の周辺部に形成されたミラーで反射された照明光学系30からの照明光が中心部スキャン用のスリット又は周辺部スキャン用のスリットを通過するように回転される。言い換えれば、回転スリット50は、被検眼Eに照射された照明光の戻り光が、中心部スキャン用のスリット又は周辺部スキャン用のスリットを通過し、且つ、瞳分割回転ミラー40に形成された穴部を通過してイメージセンサ60に導かれるように回転される。
When the illumination
照明光学系30が瞳分割回転ミラー40の通過方向に配置され、イメージセンサ60が瞳分割回転ミラー40の反射方向に配置される場合、回転スリット50は、照明光学系30からの照明光が瞳分割回転ミラー40に形成された穴部を通過し、且つ、中心部スキャン用のスリット又は周辺部スキャン用のスリットを通過するように回転される。言い換えれば、回転スリット50は、被検眼Eに照射された照明光の戻り光が、中心部スキャン用のスリット又は周辺部スキャン用のスリットを通過し、瞳分割回転ミラー40の穴部の周辺部に形成されたミラーで反射されてイメージセンサ60に導かれるように回転される。
When the illumination
いくつかの実施形態では、回転スリット50は、2以上の回転スリットを含む。この場合、回転スリット50は、中心部スキャン用の中心部回転スリットと、1以上の周辺部のそれぞれに対する周辺部スキャン用の1以上の周辺部回転スリットとを含む。中心部回転スリットに形成されたスリットは、眼底Efにおける中心部と光学的に略共役な位置に配置可能である。1以上の周辺部回転スリットのそれぞれに形成されたスリットは、眼底Efにおける1以上の周辺部のそれぞれと光学的に略共役な位置に配置可能である。 In some embodiments, the rotary slit 50 comprises two or more rotary slits. In this case, the rotary slit 50 includes a central rotary slit for central scan and one or more peripheral rotary slits for peripheral scan for each of the one or more peripheral portions. The slit formed in the central rotation slit can be arranged at a position optically conjugate with the central portion of the fundus Ef. The slits formed in each of the one or more peripheral rotation slits can be arranged at positions optically conjugate with each of the one or more peripheral portions in the fundus Ef.
(制御ユニット100)
制御ユニット100は、光学系10と、移動機構10D、50D、70Dと、回転機構40R、50Rと、データ処理ユニット200と、操作ユニット110と、表示ユニット120と、前眼部観察光学系20とを制御する。
(Control unit 100)
The
制御ユニット100は、制御部(コントローラ)101と、記憶部102とを含む。制御部101の機能は、プロセッサにより実現される。記憶部102には、眼科装置1を制御するためのコンピュータプログラムがあらかじめ格納される。このコンピュータプログラムには、光源制御用プログラム、瞳分割回転ミラー40の回転制御用プログラム、回転スリット50の回転制御用プログラム、イメージセンサ60の制御用プログラム、前眼部観察光学系20の制御用のプログラム、移動機構10D、50D、70Dの制御用プログラム、データ処理用プログラム、及びユーザインターフェイス用プログラムなどが含まれる。このようなコンピュータプログラムに従って制御部101が動作することにより、制御ユニット100は制御処理を実行する。
The
光学系10に対する制御には、照明光学系30に対する制御、イメージセンサ60に対する制御などがある。照明光学系30に対する制御には、光源の点灯及び消灯の切り替え、及び光量の制御などがある。イメージセンサ60に対する制御には、開口範囲の制御、受光素子の露光調整、受光素子のゲイン調整、受光レート調整などがある。
The control for the
移動機構10Dに対する制御には、光学系10の移動制御などがある。移動機構50Dに対する制御には、回転スリット50の移動制御などがある。移動機構70Dに対する制御には、撮影光学系70の移動制御などがある。
The control for the moving
回転機構40Rに対する制御には、瞳分割回転ミラー40の回転制御(回転速度制御、所望の回転角度範囲の回転制御、所望の回転開始角度への回転、所望の回転終了角度での回転停止)などがある。回転機構50Rに対する制御には、回転スリット50(後述の中心部回転スリット又は周辺部回転スリット)の回転制御(回転速度制御、所望の回転角度範囲の回転制御、所望の回転開始角度への回転、所望の回転終了角度での回転停止)などがある。瞳分割回転ミラー40の回転と回転スリット50の回転とが同期するように、回転機構40R、50Rが制御される。
The control for the
データ処理ユニット200に対する制御には、後述のデータ処理ユニット200における各処理の実行制御などがある。
The control for the
操作ユニット110に対する制御には、操作ユニット110に対する操作内容の受付制御などがある。表示ユニット120に対する制御には、表示部を用いた表示制御などがある。
The control for the
記憶部102は、各種のデータを記憶する。記憶部102に記憶されるデータとしては、イメージセンサ60を用いて取得された眼底Efの画像、被検眼情報などがある。被検眼情報は、患者IDや氏名などの被検者情報や、左眼/右眼の識別情報や、電子カルテ情報などを含む。
The
(データ処理ユニット200)
データ処理ユニット200は、イメージセンサ60により取得された照明光の戻り光の受光結果に基づいて眼底Efの画像を形成する。
(Data processing unit 200)
The
例えば、データ処理ユニット200は、中心部スキャンを実行することによりイメージセンサ60により取得された照明光の戻り光の受光結果に基づいて眼底Efの中心部の正面画像を形成し、1以上の周辺部スキャンを実行することによりイメージセンサ60により取得された照明光の戻り光の受光結果に基づいて眼底Efの1以上の周辺部の正面画像を形成する。データ処理ユニット200は、形成された中心部の正面画像と1以上の周辺部の正面画像とを合成した合成画像を取得することが可能である。
For example, the
例えば、データ処理ユニット200は、中心部スキャンと周辺部スキャンとを同時に実行することによりイメージセンサ60により取得された照明光の戻り光の受光結果に基づいて、中心部及び1以上の周辺部を含む眼底Efの正面画像を形成する。
For example, the
また、データ処理ユニット200は、制御ユニット100からの制御を受け、光学系10を用いて得られた受光結果に対して各種のデータ処理(画像処理)や解析処理を施すことが可能である。例えば、データ処理ユニット200は、画像の輝度補正や分散補正等の補正処理を実行する。いくつかの実施形態では、データ処理ユニット200は、画像解析、画像評価、診断支援などのデータ処理を実行する。
Further, the
データ処理ユニット200の機能は、データ処理用プログラムに従って動作するプロセッサにより実現される。
The function of the
移動機構10Dは、光学系10を3次元的に(X方向、Y方向、Z方向に)移動する。それにより、被検眼Eに対して光学系10を相対的に移動することが可能である。例えば、移動機構10Dには、光学系10を保持する保持部材と、この保持部材を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。アクチュエータは、例えばパルスモータにより構成される。伝達機構は、例えば歯車の組み合わせやラック・アンド・ピニオンなどによって構成される。制御ユニット100は、移動機構10Dを制御して、光学系10を3次元的に移動することができる。例えば、この制御は、アライメントやトラッキングにおいて用いられる。アライメントとは、眼底Efにおける所望の部位が撮影中心となるように被検眼Eと光学系10との位置合わせである。アライメントを行う場合、前眼部観察光学系20を用いて被検眼Eを撮影して得られる画像に基づき被検眼Eに対する光学系10の位置関係が所定の関係を有するように光学系10を移動させるものである。トラッキングとは、被検眼Eの運動に合わせて光学系10を移動させるものである。トラッキングを行う場合には、事前にアライメントとピント合わせが実行される。トラッキングは、前眼部観察光学系20を用いて被検眼Eを動画撮影して得られる画像に基づき被検眼Eの位置や向きに合わせて光学系10をリアルタイムで移動させることにより、アライメントとピントが合った好適な位置関係を維持する機能である。
The moving
いくつかの実施形態では、光学系10には、被検眼Eに対する光学系10のアライメントを行うためのアライメント系、及び被検眼Eに対する光学系10のフォーカシングを行うためのフォーカス系のうちの少なくとも1つを含む。
In some embodiments, the
移動機構50Dは、眼底Efにおける撮影光軸の方向に回転スリット50を移動する。上記のように、回転スリット50は、中心部スキャン用の中心部回転スリットと、1以上の周辺部スキャン用の周辺部回転スリットとを含む。移動機構50Dは、1以上の移動機構を含み、1以上の移動機構は、中心部回転スリット及び1以上の周辺部回転スリットのうち所定の回転スリットを除く他の1以上の回転スリットのそれぞれを撮影光軸の方向に移動する。この場合、当該所定の回転スリットは、光学系10又は撮影光学系70の移動により、被検眼Eの所定部位と光学的に略共役な位置に移動される。
The moving
いくつかの実施形態では、1以上の移動機構は、被検眼Eの屈折度数に基づいて、中心部回転スリット及び1以上の周辺部回転スリットのうち所定の回転スリットを除く他の1以上の回転スリットのそれぞれを撮影光軸の方向に移動する。被検眼Eの屈折度数に基づいて眼底Efの形状(曲率)を推定することができるため、推定された眼底Efの形状に応じて、各回転スリットに形成されたスリットを、照明光を用いたスキャン対象部位と光学的に略共役な位置に配置することが可能になる。 In some embodiments, the one or more moving mechanisms are one or more rotations of the central rotation slit and one or more peripheral rotation slits other than the predetermined rotation slit, based on the refractive index of the eye E to be inspected. Move each of the slits in the direction of the shooting optical axis. Since the shape (curvature) of the fundus Ef can be estimated based on the refractive index of the eye E to be inspected, illumination light is used for the slits formed in each rotating slit according to the estimated shape of the fundus Ef. It can be placed at a position that is optically coupled to the scan target site.
いくつかの実施形態では、1以上の移動機構は、被検眼Eの眼底Efに対して光コヒーレンストモグラフィ(Optical Coherence Tomography:以下、OCT)を実行することによりえられたOCTデータに基づいて、中心部回転スリット及び1以上の周辺部回転スリットのうち所定の回転スリットを除く他の1以上の回転スリットのそれぞれを撮影光軸の方向に移動する。被検眼EのOCTデータに基づいて眼底Efの形状を高精度に特定することができるため、特定された眼底Efの形状に応じて、各回転スリットに形成されたスリットを、照明光を用いたスキャン対象部位と光学的に略共役な位置に配置することが可能になる。 In some embodiments, one or more movement mechanisms are based on OCT data obtained by performing optical coherence tomography (OCT) on the fundus Ef of the eye E to be inspected. Each of the central rotation slit and one or more peripheral rotation slits other than the predetermined rotation slit is moved in the direction of the photographing optical axis. Since the shape of the fundus Ef can be specified with high accuracy based on the OCT data of the eye E to be inspected, illumination light is used for the slits formed in each rotating slit according to the specified shape of the fundus Ef. It is possible to place it at a position optically conjugate with the scan target site.
例えば、移動機構50Dに含まれる1以上の移動機構のそれぞれには、移動機構10Dと同様に、移動対象の回転スリットを保持する保持部材と、この保持部材を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。制御ユニット100は、移動機構50D(1以上の移動機構のそれぞれ)を制御して、中心部回転スリット及び1以上の周辺部回転スリットのうち所定の回転スリットを除く他の1以上の回転スリットのそれぞれを撮影光軸の方向に移動することができる。
For example, each of the one or more moving mechanisms included in the moving
移動機構70Dは、撮影光学系70を撮影光軸の方向に移動する。それにより、被検眼Eに対して撮影光学系70をZ方向に移動することが可能である。例えば、移動機構70Dには、移動機構10Dと同様に、撮影光学系70を保持する保持部材と、この保持部材を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。制御ユニット100は、移動機構70Dを制御して、撮影光学系70をZ方向に移動することができる。
The moving
回転機構40Rは、所定の回転軸(例えば、撮影光軸)を中心に瞳分割回転ミラー40を回転する。例えば、回転機構40Rは、瞳分割回転ミラー40を保持する保持部材と、この保持部材を回転するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。制御ユニット100は、回転機構40Rを制御して、瞳分割回転ミラー40を回転することができる。いくつかの実施形態では、回転機構40Rには、ロータリーエンコーダが設けられ、瞳分割回転ミラー40の回転の変位量が検出可能である。制御ユニット100は、ロータリーエンコーダにより検出された変位量に基づいて瞳分割回転ミラー40の回転角度及び回転速度を制御することが可能である。
The
回転機構50Rは、所定の回転軸(例えば、撮影光軸)を中心に中心部回転スリット51、又は1以上の周辺部回転スリット52のいずれかを回転する。例えば、回転機構50Rは、中心部回転スリット51、又は1以上の周辺部回転スリット52のいずれかを保持する保持部材と、この保持部材を回転するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。制御ユニット100は、回転機構50Rを制御して、中心部回転スリット51、又は1以上の周辺部回転スリット52のいずれかを回転することができる。いくつかの実施形態では、回転機構50Rには、ロータリーエンコーダが設けられ、中心部回転スリット51、又は1以上の周辺部回転スリット52のいずれかの回転の変位量が検出可能である。制御ユニット100は、ロータリーエンコーダにより検出された変位量に基づいて中心部回転スリット51、又は1以上の周辺部回転スリット52のいずれかの回転角度及び回転制御を制御することが可能である。
The
(操作ユニット110)
操作ユニット110は、眼科装置1に対してユーザが指示を入力するために使用される。操作ユニット110は、コンピュータに用いられる公知の操作デバイスを含んでよい。例えば、操作ユニット110は、マウスやタッチパッドやトラックボール等のポインティングデバイスを含んでよい。また、操作ユニット110は、キーボードやペンタブレット、専用の操作パネルなどを含んでよい。
(Operation unit 110)
The
(表示ユニット120)
表示ユニット120は、液晶ディスプレイなどの表示部(表示デバイス)を備え、制御ユニット100からの制御を受け、画像などの各種情報を表示する。表示ユニット120と操作ユニット110は、それぞれ個別のユニットとして構成される必要はない。例えばタッチパネルのように、表示機能と操作機能とが一体化されたデバイスを用いることも可能である。
(Display unit 120)
The
ここで、第1実施形態に係る眼科装置1の光学系10の構成例を具体的に説明する。
Here, a configuration example of the
[光学系の構成]
以下、説明の便宜上、眼底Efに対して、眼底Efにおける撮影中心を含む中心部を照明光でスキャンする中心部スキャンと、眼底Efにおける中心部の外側の単一の周辺部を照明光でスキャンする単一の周辺部スキャンとを実行する場合について説明する。しかしながら、実施形態に係る構成は、以下で説明する構成に限定されない。実施形態に係る構成は、2以上の周辺部スキャンを実行するものに適用可能である。
[Optical system configuration]
Hereinafter, for convenience of explanation, a central scan for scanning the central portion of the fundus Ef including the imaging center with illumination light and a single peripheral portion outside the central portion of the fundus Ef being scanned with illumination light. A single peripheral scan and a case of performing a single peripheral scan will be described. However, the configuration according to the embodiment is not limited to the configuration described below. The configuration according to the embodiment is applicable to those that perform two or more peripheral scans.
図2、図3、図4A及び図4Bに、図1の光学系10の構成例を示す。図2は、図1の光学系10の具体的な構成例を模式的に表す。図3は、撮影光軸Oの方向から見た図2の瞳分割回転ミラー40の構成例を模式的に表す。図4Aは、撮影光軸Oの方向から見た図2の中心部スキャン用の中心部回転スリット51の構成例を模式的に表す。図4Bは、撮影光軸Oの方向から見た図2の周辺部スキャン用の周辺部回転スリット52の構成例を模式的に表す。図2~図4Bにおいて、図1と同様の部分には同一符号を付し、適宜説明を省略する。
2, FIG. 3, FIGS. 4A and 4B show configuration examples of the
なお、図2では、前眼部観察光学系20の図示が省略されている。例えば、前眼部観察光学系20の光路と撮影光学系70の光路とを結合する光学素子M1は、レンズ(合焦レンズ)12と瞳分割回転ミラー40との間に配置される。
In addition, in FIG. 2, the illustration of the anterior eye portion observation
照明光学系30は、光源30Aと、コンデンサレンズ30Bとを含む。光源30Aから出力された照明光は、コンデンサレンズ30Bを透過し、瞳分割回転ミラー40により被検眼Eに向けて反射される。
The illumination
図3に示すように、瞳分割回転ミラー40は、撮影光軸Oから偏心した位置に穴部40aが形成され、撮影光軸Oを中心に穴部40aを回転可能に構成される。穴部40aは、例えば、内径側及び外径側のそれぞれの形状が撮影光軸Oを中心とする円弧の一部となるように形成される。コンデンサレンズ30Bを通過した照明光は、瞳分割回転ミラー40において穴部40aの周辺部に形成されたミラーでレンズ12に向けて反射される。
As shown in FIG. 3, in the pupil
レンズ12は、瞳分割回転ミラー40と回転スリット50との間に配置される。いくつかの実施形態では、レンズ12は、撮影光軸の方向に移動可能な合焦レンズである。この場合、制御ユニット100は、図示しない移動機構を制御することによりレンズ12を撮影光軸の方向に移動することが可能である。瞳分割回転ミラー40により反射された照明光は、レンズ12を透過し、回転スリット50に導かれる。
The
図2において、回転スリット50は、中心部回転スリット51と、周辺部回転スリット52とを含む。中心部回転スリット51及び周辺部回転スリット52は、瞳分割回転ミラー40と被検眼Eとの間の光路(瞳分割回転ミラー40によって結合された光路)に選択的に配置可能である。すなわち、回転スリット50に含まれる2以上の回転スリットが、当該光路に選択的に配置される。この場合、上記の移動機構50Dが、瞳分割回転ミラー40と被検眼Eとの間の光路に中心部回転スリット51及び周辺部回転スリット52を選択的に配置する。
In FIG. 2, the rotary slit 50 includes a central rotary slit 51 and a peripheral rotary slit 52. The central rotation slit 51 and the peripheral rotation slit 52 can be selectively arranged in the optical path between the pupil
図4Aに示すように、中心部回転スリット51には、撮影光軸Oが通る中心領域にスリット51aが形成されている。中心部回転スリット51は、撮影光軸Oを回転軸として、撮影光軸Oを中心にスリット51aが回転するように回転される。撮影光軸Oは、スリット51aを通過するように配置される。中心部回転スリット51に形成されたスリット51aは、移動機構10Dにより光学系10を移動することにより、眼底Efにおける撮影中心を含む中心部と光学的に略共役な位置に配置される。
As shown in FIG. 4A, the central rotation slit 51 is formed with a
図4Bに示すように、周辺部回転スリット52には、撮影光軸Oが通る中心領域の外側の周辺領域にスリット52aが形成されている。周辺部回転スリット52は、撮影光軸Oを回転軸として、撮影光軸Oを中心にスリット52aが回転するように回転される。周辺部回転スリット52に形成されたスリット52aは、移動機構50Dにより撮影光軸方向に移動することにより、眼底Efにおける撮影中心を含む中心部の外側の周辺部と光学的に略共役な位置に配置される。
As shown in FIG. 4B, the peripheral rotation slit 52 is formed with a
眼底Efにおける2以上の周辺部のそれぞれに対して周辺部スキャンを実行する場合、回転スリット50は、2以上の周辺部に対応した2以上の周辺部回転スリットを含む。各周辺部回転スリットには、周辺部スキャンの対象部位に対応した位置にスリットが形成される。移動機構50Dを含む各移動機構は、対応する周辺部回転スリットを撮影光軸方向に移動することにより、眼底Efにおける周辺部スキャンの対象部位と光学的に略共役な位置に配置される。
When performing a peripheral scan for each of the two or more peripherals in the fundus Ef, the rotary slit 50 includes two or more peripheral rotary slits corresponding to the two or more peripherals. In each peripheral rotation slit, a slit is formed at a position corresponding to the target portion of the peripheral scan. Each moving mechanism including the moving
図4A及び図4Bに示すように、回転スリットに形成されたスリットは、撮影光軸(回転軸)から遠くなるほど広くなるように形成される(スリットを通過する回転軸を中心とする円弧の長さが長くなるように形成される)。いくつかの実施形態では、スリットは、略台形形状又は三角形状を有するように形成される。ここで、略台形形状は、台形の上底及び下底が直線状である形状だけでなく、台形の上底及び下底の少なくとも一方が円弧状である形状も意味するものとする。これにより、撮影中心を含む中心部に照射された照明光の戻り光の光量と、中心部の外側の周辺部に照射された照明光の戻り光の光量との差を小さくすることができる。また、照明光の光量を補正することが可能になり、光源の配光分布(照明光の光量分布)を補正することもできるようになる。 As shown in FIGS. 4A and 4B, the slit formed in the rotary slit is formed so as to become wider as the distance from the photographing optical axis (rotation axis) increases (the length of the arc centered on the rotation axis passing through the slit). Is formed to be longer). In some embodiments, the slits are formed to have a substantially trapezoidal or triangular shape. Here, the substantially trapezoidal shape means not only a shape in which the upper and lower bases of the trapezoid are linear, but also a shape in which at least one of the upper base and the lower base of the trapezoid is arcuate. As a result, it is possible to reduce the difference between the amount of return light of the illumination light radiated to the central portion including the center of photography and the amount of return light of the illumination light radiated to the peripheral portion outside the central portion. In addition, it becomes possible to correct the amount of illumination light, and it becomes possible to correct the light distribution of the light source (the distribution of the amount of illumination light).
いくつかの実施形態では、制御ユニット100は、中心部スキャンにより得られる戻り光の光量と1以上の周辺部スキャンにより得られる戻り光の光量との差が小さくなるように照射系及び受光系の少なくとも一方を制御する。例えば、制御ユニット100は、照明光の光量を制御することにより上記の光量の差を小さくすることができる。例えば、制御ユニット100は、イメージセンサ60の露光時間を制御することにより上記の光量の差を小さくすることができる。
In some embodiments, the
いくつかの実施形態では、中心部スキャンにより得られる中心部からの戻り光の光量と周辺部スキャンにより得られる周辺部からの戻り光の光量とのバランスを考慮して、制御ユニット100は、データ処理ユニット200を制御して、中心部スキャンにより得られる画像における中心部の画素の輝度を画素毎に輝度補正する。例えば、中心部スキャンにより複数の画像が取得される領域の画素の輝度を平均化する。
In some embodiments, the
中心部スキャンを実行する場合、撮影光軸上に中心部回転スリット51が配置され、撮影光軸から周辺部回転スリット52が退避される。中心部回転スリット51は、瞳分割回転ミラー40の回転に同期して回転する。いくつかの実施形態では、中心部回転スリット51の回転速度は、瞳分割回転ミラー40の回転速度と同一である。いくつかの実施形態では、中心部回転スリット51の回転速度は、瞳分割回転ミラー40の回転速度の2以上の整数倍である。いくつかの実施形態では、瞳分割回転ミラー40の回転速度は、中心部回転スリット51の回転速度の2以上の整数倍である。
When the central portion scan is executed, the central
上記のようにレンズ12を透過した照明光は、中心部回転スリット51に形成されたスリット51aを通過し、対物レンズ11により屈折されて、被検眼Eの瞳孔を通じて眼内に入射し、眼底Efにおける撮影中心を含む中心部を照射する。眼底Efに照射された照明光の戻り光は、対物レンズ11を通過し、中心部回転スリット51に形成されたスリット51aを通過し、レンズ12を通過し、瞳分割回転ミラー40に形成された穴部40aを通過し、結像レンズ13によりイメージセンサ60の受光面に結像する。
The illumination light transmitted through the
周辺部スキャンを実行する場合、撮影光軸上に周辺部回転スリット52が配置され、撮影光軸から中心部回転スリット51が退避される。周辺部回転スリット52は、瞳分割回転ミラー40の回転に同期して回転する。いくつかの実施形態では、周辺部回転スリット52の回転速度は、瞳分割回転ミラー40の回転速度と同一である。いくつかの実施形態では、周辺部回転スリット52の回転速度は、瞳分割回転ミラー40の回転速度の2以上の整数倍である。いくつかの実施形態では、瞳分割回転ミラー40の回転速度は、周辺部回転スリット52の回転速度の2以上の整数倍である。
When the peripheral portion scan is executed, the peripheral
上記のようにレンズ12を透過した照明光は、周辺部回転スリット52に形成されたスリット52aを通過し、対物レンズ11により屈折されて、被検眼Eの瞳孔を通じて眼内に入射し、眼底Efにおける撮影中心を含む中心部の外側の周辺部を照射する。眼底Efに照射された照明光の戻り光は、対物レンズ11を通過し、周辺部回転スリット52に形成されたスリット52aを通過し、レンズ12を通過し、瞳分割回転ミラー40に形成された穴部40aを通過し、結像レンズ13によりイメージセンサ60の受光面に結像する。
The illumination light transmitted through the
ここで、実施形態の比較例と対比して、第1実施形態に係る眼科装置1の動作について説明する。
Here, the operation of the
図5及び図6に、実施形態の比較例に係る眼科装置の動作説明図を示す。図5は、眼底Efに対する一般的なスキャンを模式的に表したものである。図6は、眼球に入射する照明光と眼底Efにおけるスキャン領域との関係を模式的に表したものである。 5 and 6 show an operation explanatory diagram of the ophthalmic apparatus according to the comparative example of the embodiment. FIG. 5 schematically shows a general scan for the fundus Ef. FIG. 6 schematically shows the relationship between the illumination light incident on the eyeball and the scan region in the fundus Ef.
実施形態の比較例では、眼底Efにおける撮影中心Pcを含む所定のスキャン領域に対して所定のスキャン方向DRに移動する照明領域IR0に照明光が照射される。図5では、ライン状の照明領域IR0がスキャン方向DRに移動される。各照明領域に照射された照明光の戻り光は、イメージセンサにおいて受光される。これにより、眼底Efにおける撮影中心Pcを含むスキャン領域の全体が照明光でスキャンされる。 In the comparative example of the embodiment, the illumination light is irradiated to the illumination region IR0 that moves in the predetermined scan direction DR with respect to the predetermined scan region including the imaging center Pc in the fundus Ef. In FIG. 5, the linear illumination region IR0 is moved in the scanning direction DR. The return light of the illumination light applied to each illumination area is received by the image sensor. As a result, the entire scan area including the imaging center Pc in the fundus Ef is scanned by the illumination light.
従って、眼底Efにおける注目部位に設定された撮影中心Pcに対して照明光のフォーカス調整が行われると、撮影中心Pcから離れた眼底の周辺部では、照明光のフォーカス位置がずれる。その結果、撮影中心Pcから離れた周辺部でぼけが発生した画像が得られる。これは、被検眼Eが略正常な眼軸長を有する場合だけでなく、被検眼Eの眼軸長が長い場合でも同様である。 Therefore, when the focus adjustment of the illumination light is performed on the photographing center Pc set at the attention portion in the fundus Ef, the focus position of the illumination light shifts in the peripheral portion of the fundus away from the photographing center Pc. As a result, an image in which blurring occurs in a peripheral portion away from the shooting center Pc can be obtained. This is true not only when the eye E to be inspected has a substantially normal axial length, but also when the axial length of the eye to be inspected E is long.
図7及び図8に、第1実施形態に係る眼科装置1の動作説明図を示す。図7は、眼底Efに対する中心部スキャンと周辺部スキャンとを模式的に表したものである。図8は、眼球に入射する照明光と眼底Efにおけるスキャン領域との関係を模式的に表したものである。
7 and 8 show an operation explanatory diagram of the
中心部スキャンCSでは、眼底Efにおける撮影中心Pcを中心に回転する照明領域IR1に照明光が照射される。例えば、照明領域IR1は、撮影中心Pcを含む。図7では、スリット状の照明領域IR1が撮影中心Pcを中心に回転される。各照明領域に照射された照明光の戻り光は、上記のようにイメージセンサ60において受光される。これにより、眼底Efにおける撮影中心Pcを含む中心部が照明光でスキャンされる。
In the central scan CS, the illumination light is irradiated to the illumination region IR1 rotating around the imaging center Pc in the fundus Ef. For example, the illumination region IR1 includes a shooting center Pc. In FIG. 7, the slit-shaped illumination region IR1 is rotated around the photographing center Pc. The return light of the illumination light applied to each illumination area is received by the
周辺部スキャンPSでは、眼底Efにおける撮影中心Pcを中心に回転する照明領域IR2に照明光が照射される。照明領域IR2には、撮影中心Pc(及び中心部)が含まれない。図7では、スリット状の照明領域IR2が撮影中心Pcを中心に回転される。各照明領域に照射された照明光の戻り光は、上記のようにイメージセンサ60において受光される。これにより、眼底Efにおける撮影中心Pcを含む中心部の外側の周辺部が照明光でスキャンされる。
In the peripheral scan PS, the illumination light is applied to the illumination region IR2 rotating around the imaging center Pc in the fundus Ef. The illumination region IR2 does not include the photographing center Pc (and the center portion). In FIG. 7, the slit-shaped illumination region IR2 is rotated around the photographing center Pc. The return light of the illumination light applied to each illumination area is received by the
いくつかの実施形態では、中心部スキャンCSと周辺部スキャンPSとは同時に実行される。いくつかの実施形態では、中心部スキャンCSと周辺部スキャンPSとは時分割で独立に実行される。 In some embodiments, the central scan CS and the peripheral scan PS are performed simultaneously. In some embodiments, the central scan CS and the peripheral scan PS are time-division-independent.
従って、被検眼Eの眼軸長が略正常で略正常な眼底形状を有する場合(図8の左側の図)、撮影中心Pcを含む中心部は、中心部スキャンCSにより被検眼Eの瞳孔PLを通じて眼内に入射した照明光でピントが合った状態でスキャンされる。また、中心部の外側の周辺部もまた、周辺部スキャンPSにより被検眼Eの瞳孔PLを通じて眼内に入射した照明光でピントが合った状態でスキャンされる。 Therefore, when the axial length of the eye to be inspected E is substantially normal and the fundus has a substantially normal shape (left side of FIG. 8), the central portion including the imaging center Pc is the pupil PL of the eye to be inspected E by the central scan CS. It is scanned in a state of being in focus by the illumination light incident on the eye through. Further, the peripheral portion outside the central portion is also scanned by the peripheral portion scan PS in a state of being in focus by the illumination light incident on the inside of the eye through the pupil PL of the eye E to be inspected.
一方、被検眼Eの眼軸長が長い場合でも(図8の右側の図)、撮影中心Pcを含む中心部は、中心部スキャンCSにより被検眼Eの瞳孔PLを通じて眼内に入射した照明光でピントが合った状態でスキャンされる。また、中心部の外側の周辺部もまた、周辺部スキャンPSにより被検眼Eの瞳孔PLを通じて眼内に入射した照明光でピントが合った状態でスキャンされる。 On the other hand, even when the axial length of the eye to be inspected E is long (the figure on the right side of FIG. 8), the central portion including the imaging center Pc is the illumination light incident on the eye through the pupil PL of the eye to be inspected E by the central scan CS. Is scanned in focus. Further, the peripheral portion outside the central portion is also scanned by the peripheral portion scan PS in a state of being in focus by the illumination light incident on the inside of the eye through the pupil PL of the eye E to be inspected.
従って、実施形態によれば、被検眼Eの眼底形状にかかわらず、眼底Efの中心部だけでなく周辺部についてもピントが合った画像を取得することが可能になる。 Therefore, according to the embodiment, it is possible to acquire an image in which not only the central portion of the fundus Ef but also the peripheral portion is in focus regardless of the shape of the fundus of the eye E to be inspected.
眼底Efは、実施形態に係る「被検眼の所定部位」の一例である。照明光学系30は、実施形態に係る「照射系」の一例である。イメージセンサ60は、実施形態に係る「受光系」の一例である。制御ユニット100又は制御部101は、実施形態に係る「制御部」の一例である。データ処理ユニット200は、実施形態に係る「画像形成部」の一例である。回転スリット50(中心部回転スリット51、1以上の周辺部回転スリット52)は、実施形態に係る「2以上のスリット」の一例である。中心部回転スリット51は、実施形態に係る「第1スリット」の一例である。周辺部回転スリット52は、実施形態に係る「第2スリット」の一例である。移動機構50Dは、実施形態に係る「1以上の移動機構」の一例である。
The fundus Ef is an example of the "predetermined part of the eye to be inspected" according to the embodiment. The illumination
[動作例]
第1実施形態に係る眼科装置1の動作の例を説明する。
[Operation example]
An example of the operation of the
図9A及び図9Bに、第1実施形態に係る眼科装置1の動作例の概要を示す。図9A及び図9Bは、第1実施形態に係る眼科装置1の動作例のフロー図を表す。制御ユニット100の記憶部102には、図9A及び図9Bに示す処理を実現するためのコンピュータプログラムが記憶されている。制御ユニット100の制御部101は、このコンピュータプログラムに従って動作することにより、図9A及び図9Bに示す処理を実行する。
9A and 9B show an outline of an operation example of the
(S1:屈折度を受け付け)
まず、制御部101は、被検眼Eの屈折度を受け付ける。
(S1: Accepts refraction)
First, the
いくつかの実施形態では、制御部101は、表示ユニット120を制御して、被検眼Eの屈折度の入力をユーザに促す情報を表示部に表示させる。ユーザは、操作ユニット110に対して操作を行うことで被検眼Eの屈折度を入力する。制御部101は、操作ユニット110に対する操作内容に基づいて被検眼Eの屈折度を受け付ける。
In some embodiments, the
いくつかの実施形態では、制御部101は、外部に設けられた屈折力測定装置に対して被検眼Eの屈折度の送信を要求し、屈折力測定装置にあらかじめ記憶された被検眼Eの屈折度を受信することで被検眼Eの屈折度を受け付ける。
In some embodiments, the
(S2:中心部と周辺部のフォーカス位置の差を決定)
続いて、制御部101は、ステップS1において受け付けられた被検眼Eの屈折度に基づいて、眼底Efにおける撮影中心を含む中心部に対する照明光のフォーカス位置と中心部の外側の周辺部に対する照明光のフォーカス位置との差を特定する。
(S2: Determine the difference in focus position between the central part and the peripheral part)
Subsequently, the
被検眼の屈折度は、被検眼の眼底の形状と相関があることが知られている。例えば、近視の場合には被検眼の眼軸長が長くなり、近視が進行するほど、眼底の形状を表す眼底の曲率が大きくなる。従って、被検眼の屈折度に応じて、眼底における撮影中心の撮影光軸方向の位置と眼底における周辺部の撮影光軸方向の位置との差を特定することができる。すなわち、中心部と光学的に略共役な位置に配置されるべき中心部回転スリット51の光軸上の位置と、周辺部と光学的に略共役な位置に配置されるべき周辺部回転スリット52の光軸上の位置とが特定可能である。 It is known that the refractive index of the eye to be inspected correlates with the shape of the fundus of the eye to be inspected. For example, in the case of myopia, the axial length of the eye to be examined becomes long, and as myopia progresses, the curvature of the fundus, which represents the shape of the fundus, increases. Therefore, it is possible to specify the difference between the position in the optical axis direction of the imaging center on the fundus and the position in the optical axis direction of the peripheral portion on the fundus according to the refractive index of the eye to be inspected. That is, the position on the optical axis of the central portion rotating slit 51 that should be arranged at a position substantially conjugate with the central portion, and the peripheral portion rotating slit 52 that should be arranged at a position substantially conjugate with the peripheral portion. The position on the optical axis of is identifiable.
例えば、記憶部102には、中心部回転スリット51の光軸上の位置を基準とした周辺部回転スリット52の光軸上の位置の差分と複数の屈折度とを関連付けたテーブル情報があらかじめ記憶されている。制御部101は、記憶部102に記憶されたテーブル情報を参照して、ステップS1において受け付けられた被検眼Eの屈折度に対応付けられた光軸上の位置の差分を特定することが可能である。
For example, the
いくつかの実施形態では、反復的に取得された眼底像のコントラストを解析することにより、中心部と光学的に略共役な位置に配置されるべき中心部回転スリット51の光軸上の位置と、周辺部と光学的に略共役な位置に配置されるべき周辺部回転スリット52の光軸上の位置とが特定される。例えば、中心部と周辺部のコントラストの差が最も小さくなるように、中心部に対する照明光のフォーカス位置と周辺部に対する照明光のフォーカス位置との差が特定される。 In some embodiments, the contrast of the fundus image obtained iteratively is analyzed to determine the position on the optical axis of the central rotation slit 51 that should be located at a position optically coupled to the central portion. , The position on the optical axis of the peripheral rotation slit 52 to be arranged at a position optically conjugate with the peripheral portion is specified. For example, the difference between the focus position of the illumination light with respect to the central portion and the focus position of the illumination light with respect to the peripheral portion is specified so that the difference in contrast between the central portion and the peripheral portion is minimized.
(S3:周辺部回転スリットを移動)
次に、制御部101は、ステップS2において特定されたフォーカス位置の差に基づいて移動機構50Dを制御することにより、周辺部回転スリット52を撮影光軸の方向に移動する。すなわち、中心部回転スリット51に対する周辺部回転スリット52の撮影光軸の方向の位置をシフトする。
(S3: Move the peripheral rotation slit)
Next, the
いくつかの実施形態では、制御部101は、移動機構50Dを制御して撮影光軸上の所定の基準位置に中心部回転スリット51を移動すると共に、周辺部回転スリット52を移動する。周辺部回転スリット52は、上記の基準位置から上記のフォーカス位置の差に対応した距離d(図2参照)だけ撮影光軸方向にシフトするように移動される。
In some embodiments, the
(S4:アライメント)
続いて、制御部101は、移動機構10D等を制御して光学系10を初期位置に移動させる。その後、制御部101は、被検眼Eに対して光学系10の位置合わせを行うためのアライメントの実行を制御する。例えば、ステップS4において、イメージセンサ60の受光面が眼底Efと光学的に略共役な位置に配置され、瞳分割回転ミラー40に形成された穴部40aは被検眼Eの瞳孔と光学的に略共役な位置に配置される。
(S4: Alignment)
Subsequently, the
例えば、制御部101は、前眼部観察光学系20を用いて取得された被検眼Eの前眼部像を表示ユニット120の表示部に表示させる。制御部101は、操作ユニット110を用いてユーザにより指定された方向に光学系10を移動するように移動機構10Dを制御することが可能である。
For example, the
いくつかの実施形態では、制御部101は、図示しないアライメント系に含まれるアライメント光源からの光を被検眼Eに投射し、その戻り光に対応した像に基づいて移動機構10Dを制御することにより、被検眼Eに対する光学系10の位置合わせを実行する。
In some embodiments, the
いくつかの実施形態では、制御部101は、図示しない2以上のカメラを用いて互いに異なる方向から被検眼Eの前眼部を撮影させ、視差が設けられた2以上の画像から被検眼Eの位置を特定させる。制御部101は、特定された被検眼Eの位置に基づいて移動機構10Dを制御することにより、被検眼Eに対する光学系10の位置合わせを実行する。
In some embodiments, the
(S5:中心部回転スリットを光路に配置)
続いて、制御部101は、移動機構50Dを制御して、撮影光路(撮影光軸)に中心部回転スリット51を配置する。周辺部回転スリット52は、撮影光路から退避される。
(S5: Central rotation slit is placed in the optical path)
Subsequently, the
(S6:スリット位置を調整)
次に、制御部101は、回転機構40R、50Rを制御して、瞳分割回転ミラー40と中心部回転スリット51とを所定の回転開始位置に回転させる。
(S6: Adjust the slit position)
Next, the
(S7:フォーカス調整)
次に、制御部101は、移動機構70D又はレンズ12を移動する移動機構を制御して、照明光のフォーカス位置を調整する。
(S7: Focus adjustment)
Next, the
例えば、制御部101は、撮影光学系70により得られた眼底像の合焦状態(ぼけ具合)を特定し、特定された合焦状態が所望の合焦状態となるように移動機構70D又はレンズ12を移動する移動機構を制御することで照明光のフォーカス位置を調整する。
For example, the
これにより、中心部回転スリット51に形成されたスリット51aは、眼底Efにおける撮影中心を含む中心部と光学的に略共役な位置に配置される。この位置を基準に上記のフォーカス位置の差に対応したシフト位置に周辺部回転スリット52が配置された場合、周辺部回転スリット52に形成されたスリット52aは、眼底Efにおける撮影中心を含む中心部の外側の周辺部と光学的に略共役な位置に配置される。
As a result, the
(S8:眼底照明用光源を点灯)
続いて、制御部101は、照明光学系30の光源30Aを制御して、眼底スキャン用に光源を点灯させる。
(S8: Turn on the light source for fundus lighting)
Subsequently, the
(S9:露光開始)
次に、制御部101は、イメージセンサ60を制御して、眼底Efからの照明光の戻り光の露光を開始させる。
(S9: Start of exposure)
Next, the
(S10:瞳分割回転ミラーと中心部回転スリットとを回転)
続いて、制御部101は、回転機構40R、50Rを制御して、瞳分割回転ミラー40と中心部回転スリット51の回転を開始させる。制御部101は、瞳分割回転ミラー40と中心部回転スリット51とが同時に回転を開始し、且つ同一の回転速度で回転するように回転機構40R、50Rを制御する。
(S10: Rotate the pupil split rotation mirror and the central rotation slit)
Subsequently, the
これにより、中心部スキャンが実行される。中心部スキャンでは、各照明範囲に照射された照明光の戻り光がイメージセンサ60において受光される。
This will perform a central scan. In the central scan, the return light of the illumination light applied to each illumination range is received by the
(S11:次?)
制御部101は、中心部スキャンに続いて、周辺部スキャンを実行するか否かを判定する。
(S11: Next?)
The
中心部スキャンに続いて周辺部スキャンを実行すると判定されたとき(S11:Y)、眼科装置1の動作はステップS12に移行する。中心部スキャンに続いて周辺部スキャンを実行しないと判定されたとき(S11:N)、眼科装置1の動作はステップS15に移行する。
When it is determined to execute the peripheral scan following the central scan (S11: Y), the operation of the
(S12:周辺部スリットを光路に配置)
ステップS11において中心部スキャンに続いて周辺部スキャンを実行すると判定されたとき(S11:Y)、制御部101は、移動機構50Dを制御して、撮影光路(撮影光軸)に周辺部回転スリット52を配置する。中心部回転スリット51は、撮影光路から退避される。
(S12: Peripheral slits are placed in the optical path)
When it is determined in step S11 that the peripheral scan is to be executed following the central scan (S11: Y), the
(S13:スリット位置を調整)
次に、制御部101は、回転機構40R、50Rを制御して、瞳分割回転ミラー40と中心部回転スリット51とを所定の回転開始位置に回転させる。
(S13: Adjust the slit position)
Next, the
(S14:瞳分割回転ミラーと中心部回転スリットとを回転)
続いて、制御部101は、回転機構40R、50Rを制御して、瞳分割回転ミラー40と周辺部回転スリット52の回転を開始させる。制御部101は、瞳分割回転ミラー40と周辺部回転スリット52とが同時に回転を開始し、且つ同一の回転速度で回転するように回転機構40R、50Rを制御する。
(S14: Rotate the pupil split rotation mirror and the central rotation slit)
Subsequently, the
これにより、周辺部スキャンが実行される。周辺部スキャンでも、各照明範囲に照射された照明光の戻り光がイメージセンサ60において受光される。
As a result, a peripheral scan is executed. Even in the peripheral scan, the return light of the illumination light applied to each illumination range is received by the
(S15:露光終了)
ステップS14に続いて、又はステップS11において中心部スキャンに続いて周辺部スキャンを実行しないと判定されたとき(S11:N)、制御部101は、イメージセンサ60を制御して、眼底Efからの照明光の戻り光の露光を終了させる。
(S15: end of exposure)
When it is determined not to execute the peripheral scan following the central scan in step S14 or in step S11 (S11: N), the
(S16:表示)
制御部101は、ステップS10における中心部スキャンによりイメージセンサ60において得られた受光結果と、ステップS14における周辺部スキャンによりイメージセンサ60において得られた受光結果とに基づいて眼底Efの画像を表示ユニット120に含まれる表示部に表示させる。
(S16: Display)
The
いくつかの実施形態では、制御部101は、データ処理ユニット200を制御して、ステップS10における中心部スキャンによりイメージセンサ60において得られた受光結果に基づいて眼底Efの中心部の画像を取得させる。また、制御部101は、データ処理ユニット200を制御して、ステップS14における周辺部スキャンによりイメージセンサ60において得られた受光結果に基づいて眼底Efの周辺部の画像を取得させる。制御部101は、データ処理ユニット200を制御して、取得された中心部の画像と周辺部の画像とを合成した合成画像を形成させる。
In some embodiments, the
以上で、眼科装置1の動作は終了である(エンド)。 This completes the operation of the ophthalmic appliance 1 (end).
図10に、第1実施形態に係る眼科装置1の動作説明図を示す。図10は、第1実施形態の比較例に係る眼科装置により取得される眼底Efの画像IMG0と、第1実施形態に係る眼科装置1により取得される眼底Efの画像IMG1とを模式的に表す。
FIG. 10 shows an operation explanatory diagram of the
第1実施形態の比較例に係る眼科装置では、眼底Efの中心部と周辺部とに照明光のフォーカス位置を設定することができないため、中心部が鮮明になり、且つ、周辺部がぼけた眼底Efの画像IMG0が取得される。 In the ophthalmic apparatus according to the comparative example of the first embodiment, since the focus position of the illumination light cannot be set between the central portion and the peripheral portion of the fundus Ef, the central portion becomes clear and the peripheral portion is blurred. The image IMG0 of the fundus Ef is acquired.
これに対して、第1実施形態に係る眼科装置1によれば、眼底Efの中心部と周辺部とのそれぞれに照明光のフォーカス位置を設定することができるため、中心部及び周辺部が鮮明な高画質の眼底Efの画像IMG1が取得される。
On the other hand, according to the
以上説明したように、第1実施形態によれば、撮影中心を含む中心部において撮影中心に回転する照明領域に照明光を照射する中心部スキャンと、中心部の外側の周辺部において撮影中心を中心に回転する照明領域に照明光を照射する周辺部スキャンとにより眼底Efの画像が取得される。それにより、中心部及び周辺部のそれぞれにフォーカス位置が設定可能な照明光で眼底Efの画像を取得することができる。その結果、画角が大きい場合でも被検眼の高画質の画像を簡便に取得することが可能になる。 As described above, according to the first embodiment, the central scan for irradiating the illumination region rotating around the imaging center in the central portion including the imaging center with the illumination light, and the imaging center in the peripheral portion outside the central portion. An image of the fundus Ef is acquired by peripheral scanning that irradiates the illumination area rotating around the center with illumination light. Thereby, the image of the fundus Ef can be acquired with the illumination light whose focus position can be set for each of the central portion and the peripheral portion. As a result, it is possible to easily acquire a high-quality image of the eye to be inspected even when the angle of view is large.
また、被検眼Eの眼底Efにおける撮影中心を中心に照明範囲が回転するように眼底Efを照明光でスキャン(中心部スキャン、周辺部スキャン)するようにしたので、対物レンズ11の中心からの反射成分の強度を弱め、反射成分に起因したアーチファクトを除去することができる。従って、画角が大きい場合でも被検眼Eの高画質の画像を簡便に取得することが可能になる。
Further, since the fundus Ef is scanned with the illumination light (center scan, peripheral scan) so that the illumination range rotates around the center of the image in the fundus Ef of the eye to be inspected E, the fundus Ef is scanned from the center of the
<第2実施形態>
第1実施形態では、中心部回転スリット51と周辺部回転スリット52とを選択的に光路に配置して、中心部スキャンと周辺部スキャンとを時分割で実行する場合について説明したが、実施形態に係る構成はこれに限定されるものではない。
<Second Embodiment>
In the first embodiment, a case where the central rotation slit 51 and the peripheral rotation slit 52 are selectively arranged in the optical path and the central scan and the peripheral scan are executed in a time-division manner has been described. The configuration according to the above is not limited to this.
例えば、瞳分割回転ミラー40によって結合された光路(撮影光路)を2以上の光路に分割し、分割された2以上の光路のそれぞれに中心部回転スリット及び1以上の周辺部回転スリットを配置することで、中心部スキャンと1以上の周辺部スキャンとを同時に実行することが可能となる。
For example, the optical path (photographing optical path) coupled by the pupil
以下、第2実施形態に係る眼科装置について、第1実施形態との相違点を中心に説明する。 Hereinafter, the ophthalmic apparatus according to the second embodiment will be described focusing on the differences from the first embodiment.
図11に、第2実施形態に係る眼科装置の光学系の構成例を示す。図11において、図2と同様の部分には同一符号を付し、適宜説明を省略する。 FIG. 11 shows a configuration example of the optical system of the ophthalmic apparatus according to the second embodiment. In FIG. 11, the same parts as those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted as appropriate.
第2実施形態に係る眼科装置の光学系の構成が第1実施形態に係る眼科装置1の光学系10の構成と異なる点は、撮影光学系70と対物レンズ11との間に配置された光学系の構成である。
The difference between the configuration of the optical system of the ophthalmologic apparatus according to the second embodiment and the configuration of the
具体的には、撮影光学系70と対物レンズ11との間には、ビームスプリッタ71、74、反射ミラー72、76、レンズ73、75、中心部回転スリット51、及び周辺部回転スリット52が設けられている。ビームスプリッタ71、74の少なくとも一方は、ハーフミラーであってよい。
Specifically, a
瞳分割回転ミラー40によって結合された撮影光路(照明光の光路、戻り光の光路)には、ビームスプリッタ71が配置される。ビームスプリッタ71は、撮影光路を中心部スキャン用の第1撮影光路と周辺部スキャン用の第2撮影光路とに分割する。第1撮影光路には、中心部回転スリット51と、反射ミラー72と、レンズ73とが配置される。第2撮影光路には、周辺部回転スリット52と、反射ミラー76と、レンズ75とが配置される。第1撮影光路と第2撮影光路は、ビームスプリッタ74により結合され、対物レンズ11に導かれる。
A
このような第2実施形態に係る眼科装置の制御は、第1実施形態と同様である。しかしながら、第2実施形態によれば、中心部回転スリット51と周辺部回転スリット52とを光路上に配置したまま眼底Efに対するスキャンを実行することができるため、図9BのステップS10とステップS14とを同時に実行することが可能になる。 The control of the ophthalmic apparatus according to the second embodiment is the same as that of the first embodiment. However, according to the second embodiment, the scan for the fundus Ef can be performed while the central rotation slit 51 and the peripheral rotation slit 52 are arranged on the optical path. Therefore, in steps S10 and S14 of FIG. 9B, Can be executed at the same time.
ビームスプリッタ71は、実施形態に係る「光路分割部材」の一例である。回転スリット50は、実施形態に係る「2以上のスリット」の一例である。ビームスプリッタ74は、実施形態に係る「光路結合部材」の一例である。中心部回転スリット51は、実施形態に係る「第1スリット」の一例である。周辺部回転スリット52は、実施形態に係る「第2スリット」の一例である。
The
以上説明したように、第2実施形態によれば、第1実施形態と同様に、中心部及び周辺部のそれぞれにフォーカス位置が設定可能な照明光で眼底Efの画像を取得することができる。その結果、画角が大きい場合でも被検眼の高画質の画像を簡便に取得することが可能になる。また、中心部スキャンと周辺部スキャンとを同時に実行することができるため、被検眼の高画質の画像をより簡便に取得することができる。 As described above, according to the second embodiment, the image of the fundus Ef can be acquired by the illumination light in which the focus position can be set for each of the central portion and the peripheral portion, as in the first embodiment. As a result, it is possible to easily acquire a high-quality image of the eye to be inspected even when the angle of view is large. Further, since the central scan and the peripheral scan can be executed at the same time, it is possible to more easily acquire a high-quality image of the eye to be inspected.
また、被検眼Eの眼底Efにおける撮影中心を中心に照明範囲が回転するように眼底Efを照明光でスキャン(中心部スキャン、周辺部スキャン)するようにしたので、対物レンズ11の中心からの反射成分の強度を弱め、反射成分に起因したアーチファクトを除去することができる。従って、画角が大きい場合でも被検眼Eの高画質の画像を簡便に取得することが可能になる。
Further, since the fundus Ef is scanned with the illumination light (center scan, peripheral scan) so that the illumination range rotates around the center of imaging in the fundus Ef of the eye to be inspected E, the fundus Ef is scanned from the center of the
<第3実施形態>
第1実施形態及び第2実施形態では、瞳分割回転ミラー40に同期して回転スリット50を回転するように構成されていたが、実施形態に係る構成はこれに限定されるものではない。
<Third Embodiment>
In the first embodiment and the second embodiment, the rotation slit 50 is configured to rotate in synchronization with the pupil
例えば、中心部スキャン用のスリットを通過した照明光及び周辺スキャン用のスリットを通過した照明光を光スキャナを用いて偏向することにより、第1実施形態及び第2実施形態と同様に眼底Efを照明光でスキャンすることができる。 For example, by deflecting the illumination light that has passed through the slit for central scanning and the illumination light that has passed through the slit for peripheral scanning using an optical scanner, the fundus Ef can be obtained as in the first embodiment and the second embodiment. It can be scanned with illumination light.
以下、第3実施形態に係る眼科装置について、第1実施形態との相違点を中心に説明する。 Hereinafter, the ophthalmic apparatus according to the third embodiment will be described focusing on the differences from the first embodiment.
図12に、第3実施形態に係る眼科装置の構成例のブロック図を示す。図12において、図1と同様の部分には同一符号を付し、適宜説明を省略する。 FIG. 12 shows a block diagram of a configuration example of the ophthalmic apparatus according to the third embodiment. In FIG. 12, the same parts as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted as appropriate.
第3実施形態に係る眼科装置1aの構成が第1実施形態に係る眼科装置1の構成と異なる主な点は、光学系10に代えて光学系10aが設けられた点と、回転機構50Rが省略された点と、制御ユニット100に代えて制御ユニット100aが設けられた点である。
The main points that the configuration of the
光学系10aの構成が光学系10の構成と異なる主な点は、回転スリット50に代えて、照明光学系30と瞳分割回転ミラー40との間にスリット50aと光スキャナ80とが設けられた点である。
The main difference between the configuration of the
制御ユニット100aが制御ユニット100と異なる主な点は、回転機構50Rに対する回転制御に代えて光スキャナ80に対して偏向制御を行う点である。
The main difference between the
スリット50aは、回転スリット50と同様に、中心部スキャン用の中心部スリットと、1以上の周辺部スキャン用の1以上の周辺部スリットとを含む。第1実施形態と同様に、中心部スキャン用の中心部スリットと、1以上の周辺部スキャン用の1以上の周辺部スリットとは、撮影光路に選択的に配置される。
Similar to the rotary slit 50, the
光スキャナ80は、スリット50a(中心部スリット、及び1以上の周辺部スリットのいずれか)に形成されたスリットを通過した光を偏向し、偏向された光を瞳分割回転ミラー40に導く。光スキャナ80は、被検眼Eにおける所定部位と光学的に略共役な位置に配置される。所定部位として、瞳孔中心位置、瞳孔重心位置などがある。それにより、スリット50aに形成されたスリットを通過した照明光は、被検眼Eにおける所定部位をスキャン中心位置として偏向される。
The
いくつかの実施形態では、光スキャナ80は、1軸の偏向部材又は互いに直交する2軸の偏向部材を含む。偏向部材の例として、ガルバノミラー、ポリゴンミラー、回転ミラー、ダボプリズム、ダブルダボプリズム、ローテーションプリズム、MEMSミラースキャナーなどがある。2軸の偏向部材が用いられる場合、高速スキャン用の偏向部材(例えばポリゴンミラー)と低速スキャン用の偏向部材(例えばガルバノミラー)とを組み合わせることができる。光スキャナ80は、偏向された光を被検眼Eに投射するための光学素子を更に含んでもよい。
In some embodiments, the
光スキャナ80は、制御ユニット100aの制御を受け、スリット50aに形成されたスリットを通過した照明光を偏向することが可能である。それにより、眼底Efにおける照明光の照射位置がX方向及びY方向の少なくとも1つの方向に変更される。
The
例えば、光スキャナ80により偏向された照明光は、瞳分割回転ミラー40に形成された穴部を通過し、光学素子M1により反射され、対物レンズ11を透過し、被検眼Eに導かれる。被検眼Eからの戻り光は、対物レンズ11を透過し、光学素子M1により反射され、瞳分割回転ミラー40の穴部の周辺部に形成されたミラーにより反射されイメージセンサ60に導かれる。
For example, the illumination light deflected by the
制御ユニット100aは、制御部101aと、記憶部102aとを含む。制御部101aは、制御部101と同様の制御を実行すると共に、光スキャナ80を制御することが可能である。記憶部102aは、記憶部102と同様の内容を記憶すると共に、制御部101aで実行されるコンピュータプログラムが記憶される。
The
図13に、第3実施形態に係る眼科装置1aの光学系10aの構成例を示す。図13において、図2と同様の部分には同一符号を付し、適宜説明を省略する。図2と同様に、図13においても、前眼部観察光学系20の図示が省略されている。
FIG. 13 shows a configuration example of the
図13では、瞳分割回転ミラー40の反射方向に受光系(イメージセンサ60、結像レンズ13)が配置され、瞳分割回転ミラー40の透過方向に照射系(光源30A、コンデンサレンズ30B)が配置されている。
In FIG. 13, the light receiving system (
瞳分割回転ミラー40とコンデンサレンズ30Bとの間に、レンズ82、光スキャナ80、レンズ81、及びスリット50aが配置されている。
A
スリット50aは、中心部スキャン用の中心部スリット53と、1以上の周辺部スキャン用の1以上の周辺部スリットとを含む。図13では、スリット50aは、単一の周辺部スリット54を含む。中心部スリット53と1以上の周辺部スリットとは、選択的に光路に配置される。この場合、移動機構50Dが、中心部スリット53と1以上の周辺部スリットを選択的に光路に配置する。
The
例えば、中心部スリット53には、中心部回転スリット51と同様に、撮影光軸Oが通る中心領域にスリット51aが形成されている。スリット51aを通過した照明光は、光スキャナ80による偏向動作によって撮影光軸Oを中心に照明領域が回転するように眼底Efの中心部に照射される。移動機構10Dにより光学系10aを照明光軸(撮影光軸)方向に移動することにより、中心部スリット53に形成されたスリット51aは、眼底Efにおける撮影中心を含む中心部と光学的に略共役な位置に配置可能である。
For example, in the central portion slit 53, the
例えば、周辺部スリット54には、周辺部回転スリット52と同様に、撮影光軸Oが通る中心領域の外側の周辺領域にスリット52aが形成されている。スリット52aを通過した照明光は、光スキャナ80による偏向動作によって撮影光軸Oを中心に照明領域が回転するように眼底Efの周辺部に照射される。移動機構50Dにより照明光軸(撮影光軸)方向に周辺部スリット54を移動することにより、周辺部スリット54に形成されたスリット52aは、眼底Efにおける撮影中心を含む中心部の外側の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である。
For example, in the
スリット50aは、実施形態に係る「2以上のスリット」の一例である。中心部スリット53は、実施形態に係る「第1スリット」の一例である。周辺部スリット54は、実施形態に係る「第2スリット」の一例である。
The
図14A及び図14Bに、第3実施形態に係る眼科装置1aの動作例の概要を示す。図14A及び図14Bは、第3実施形態に係る眼科装置1aの動作例のフロー図を表す。制御ユニット100aの記憶部102aには、図14A及び図14Bに示す処理を実現するためのコンピュータプログラムが記憶されている。制御ユニット100aの制御部101aは、このコンピュータプログラムに従って動作することにより、図14A及び図14Bに示す処理を実行する。
14A and 14B show an outline of an operation example of the
(S21:屈折度を受け付け)
まず、制御部101aは、ステップS1と同様に、被検眼Eの屈折度を受け付ける。
(S21: Accepts refraction)
First, the
(S22:中心部と周辺部のフォーカス位置の差を決定)
続いて、制御部101aは、ステップS2と同様に、ステップS21において受け付けられた被検眼Eの屈折度に基づいて、眼底Efにおける撮影中心を含む中心部に対する照明光のフォーカス位置と中心部の外側の周辺部に対する照明光のフォーカス位置との差を特定する。
(S22: Determine the difference in focus position between the central part and the peripheral part)
Subsequently, similarly to step S2, the
(S23:周辺部スリットを移動)
次に、制御部101aは、ステップS3と同様に、ステップS22において特定されたフォーカス位置の差に基づいて移動機構50Dを制御することにより、周辺部スリット54を照明光軸(広義には、撮影光軸)の方向に移動する。
(S23: Move the peripheral slit)
Next, similarly to step S3, the
(S24:アライメント)
続いて、制御部101aは、ステップS4と同様に、移動機構10Dを制御して光学系10aを初期位置に移動させる。その後、制御部101aは、被検眼Eに対して光学系10aの位置合わせを行うためのアライメントの実行を制御する。
(S24: Alignment)
Subsequently, the
(S25:中心部回転スリットを光路に配置)
続いて、制御部101aは、ステップS5と同様に、移動機構50Dを制御して、照明光路(撮影光路、撮影光軸)に中心部スリット53を配置する。周辺部スリット54は、照明光路から退避される。
(S25: Central rotation slit is placed in the optical path)
Subsequently, the
(S26:スリット位置を調整)
次に、制御部101aは、ステップS6と同様に、回転機構40Rを制御して、瞳分割回転ミラー40を所定の回転開始位置に回転させる。
(S26: Adjust the slit position)
Next, the
(S27:フォーカス調整)
次に、制御部101aは、ステップS7と同様に、移動機構70D又はレンズ12を移動する移動機構を制御して、照明光のフォーカス位置を調整する。
(S27: Focus adjustment)
Next, the
(S28:眼底照明用光源を点灯)
続いて、制御部101aは、ステップS8と同様に、照明光学系30の光源30Aを制御して、眼底スキャン用に光源を点灯させる。
(S28: Turn on the light source for fundus lighting)
Subsequently, the
(S29:露光開始)
次に、制御部101aは、ステップS9と同様に、イメージセンサ60を制御して、眼底Efからの照明光の戻り光の露光を開始させる。
(S29: Start of exposure)
Next, the
(S30:瞳分割回転ミラーを回転制御、光スキャナを偏向制御)
続いて、制御部101aは、回転機構40Rを制御して、瞳分割回転ミラー40の回転を開始させると共に、光スキャナ80を制御して照明光の偏向制御を開始する。制御部101aは、眼底Efにおける撮影中心に回転する照明領域に瞳分割回転ミラー40を経由した照明光が照射されるように瞳分割回転ミラー40の回転制御と光スキャナ80の偏向制御とを同期させる。
(S30: Rotation control of pupil division rotation mirror, deflection control of optical scanner)
Subsequently, the
これにより、中心部スキャンが実行される。中心部スキャンでは、各照明範囲に照射された照明光の戻り光がイメージセンサ60において受光される。
This will perform a central scan. In the central scan, the return light of the illumination light applied to each illumination range is received by the
(S31:次?)
制御部101aは、ステップS11と同様に、中心部スキャンに続いて、周辺部スキャンを実行するか否かを判定する。
(S31: Next?)
Similar to step S11, the
中心部スキャンに続いて周辺部スキャンを実行すると判定されたとき(S31:Y)、眼科装置1aの動作はステップS32に移行する。中心部スキャンに続いて周辺部スキャンを実行しないと判定されたとき(S31:N)、眼科装置1aの動作はステップS35に移行する。
When it is determined to execute the peripheral scan following the central scan (S31: Y), the operation of the
(S32:周辺部スリットを光路に配置)
ステップS31において、中心部スキャンに続いて周辺部スキャンを実行すると判定されたとき(S31:Y)、制御部101aは、ステップS12と同様に、移動機構50Dを制御して、照明光路(撮影光軸)に周辺部スリット54を配置する。中心部スリット53は、照明光路から退避される。
(S32: Peripheral slits are placed in the optical path)
When it is determined in step S31 that the peripheral scan is to be executed following the central scan (S31: Y), the
(S33:スリット位置を調整)
次に、制御部101aは、ステップS13と同様に、回転機構40Rを制御して、瞳分割回転ミラー40を所定の回転開始位置に回転させる。
(S33: Adjust the slit position)
Next, the
(S34:瞳分割回転ミラーを回転制御、光スキャナを偏向制御)
続いて、制御部101aは、回転機構40Rを制御して、瞳分割回転ミラー40の回転を開始させると共に、光スキャナ80を制御して照明光の偏向制御を開始する。制御部101aは、眼底Efにおける撮影中心に回転する照明領域に瞳分割回転ミラー40を経由した照明光が照射されるように瞳分割回転ミラー40の回転制御と光スキャナ80の偏向制御とを同期させる。
(S34: Rotation control of pupil division rotation mirror, deflection control of optical scanner)
Subsequently, the
これにより、周辺部スキャンが実行される。周辺部スキャンでも、各照明範囲に照射された照明光の戻り光がイメージセンサ60において受光される。
As a result, a peripheral scan is executed. Even in the peripheral scan, the return light of the illumination light applied to each illumination range is received by the
(S35:露光終了)
ステップS34に続いて、又はステップS31において中心部スキャンに続いて周辺部スキャンを実行しないと判定されたとき(S31:N)、制御部101aは、ステップS15と同様に、イメージセンサ60を制御して、眼底Efからの照明光の戻り光の露光を終了させる。
(S35: end of exposure)
When it is determined not to execute the peripheral scan following the central scan in step S34 or in step S31 (S31: N), the
(S36:表示)
制御部101aは、ステップS16と同様に、ステップS30における中心部スキャンによりイメージセンサ60において得られた受光結果と、ステップS34における周辺部スキャンによりイメージセンサ60において得られた受光結果とに基づいて眼底Efの画像を表示ユニット120に含まれる表示部に表示させる。
(S36: Display)
Similar to step S16, the
以上で、眼科装置1aの動作は終了である(エンド)。
This completes the operation of the
<作用>
実施形態に係る眼科装置、眼科装置の制御方法、及びプログラムについて説明する。
<Action>
The ophthalmic apparatus, the control method of the ophthalmic apparatus, and the program according to the embodiment will be described.
いくつかの実施形態に係る眼科装置(1、1a)は、照射系(照明光学系30)と、受光系(イメージセンサ60)と、制御部(制御ユニット100、制御部101)と、画像形成部(データ処理ユニット200)と、を含む。照射系は、被検眼(E)の所定部位(眼底Ef)における撮影中心を中心に回転する照明範囲に照明光を照射する。受光系は、受光面が所定部位と光学的に略共役な位置に配置可能なイメージセンサ(60)を含み、照明範囲に照射された照明光の戻り光を受光する。制御部は、撮影中心を含む中心部を照明光でスキャンする中心部スキャンと、中心部の外側の1以上の周辺部のそれぞれを照明光でスキャンする1以上の周辺部スキャンとを実行するように照射系及び受光系を制御する。画像形成部は、中心部スキャンにより得られた戻り光の受光結果と、1以上の周辺部スキャンにより得られた戻り光の受光結果とに基づいて被検眼の画像を形成する。
The ophthalmic apparatus (1, 1a) according to some embodiments includes an irradiation system (illumination optical system 30), a light receiving system (image sensor 60), a control unit (
このような態様によれば、被検眼の所定部位における中心部、及び1以上の周辺部のそれぞれに対して、互いに独立にフォーカス位置が調整された照明光でスキャンすることが可能になる。更に、所定部位における撮影中心を中心に照明範囲が回転するように被検眼の所定部位を照明光でスキャンするようにしたので、対物レンズ等の光学系からの反射成分の強度を弱め、反射成分に起因したアーチファクトを除去することができる。従って、画角が大きい場合でも所定部位の全体にわたってピントが合った被検眼の高画質の画像を簡便に取得することができる。 According to such an aspect, it becomes possible to scan the central portion of a predetermined portion of the eye to be inspected and one or more peripheral portions with illumination light whose focus positions are adjusted independently of each other. Furthermore, since the predetermined area of the eye to be inspected is scanned with the illumination light so that the illumination range rotates around the center of imaging in the predetermined area, the intensity of the reflection component from the optical system such as the objective lens is weakened, and the reflection component is reflected. The artifacts caused by can be removed. Therefore, even when the angle of view is large, it is possible to easily obtain a high-quality image of the eye to be in focus, which is in focus over the entire predetermined portion.
いくつかの実施形態では、制御部は、中心部スキャンにより得られる戻り光の光量と1以上の周辺部スキャンにより得られる戻り光の光量との差が小さくなるように照射系及び受光系の少なくとも一方を制御する。 In some embodiments, the control unit at least the irradiation system and the light receiving system so that the difference between the amount of return light obtained by the central scan and the amount of return light obtained by one or more peripheral scans is small. Control one.
このような態様によれば、中心部スキャンで得られる画像の明るさと周辺部スキャンで得られる画像の明るさを揃えることができるため、被検眼の画像の高画質化を図ることが可能になる。 According to such an aspect, the brightness of the image obtained by the central scan and the brightness of the image obtained by the peripheral scan can be made uniform, so that the image quality of the image to be inspected can be improved. ..
いくつかの実施形態では、照射系、及び受光系は、撮影光軸の方向に移動可能である。 In some embodiments, the irradiation system and the light receiving system are movable in the direction of the photographing optical axis.
このような態様によれば、被検眼の所定部位にピントが合った画像を簡便に取得することが可能になる。 According to such an aspect, it becomes possible to easily acquire an image in which a predetermined portion of the eye to be inspected is in focus.
いくつかの実施形態は、照射系の光路及び受光系の光路に配置され、光路に沿って移動可能なレンズ(12)を含む。 Some embodiments include a lens (12) that is located in the optical path of the irradiation system and the optical path of the light receiving system and is movable along the optical path.
このような態様によれば、被検眼の所定部位にピントが合った画像を簡便に取得することが可能になる。 According to such an aspect, it becomes possible to easily acquire an image in which a predetermined portion of the eye to be inspected is in focus.
いくつかの実施形態は、撮影光軸から偏心した位置に穴部(40a)が形成され、照射系の光路と受光系の光路とを結合する瞳分割回転ミラー(40)を含み、穴部は、被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置に配置可能であり、瞳分割回転ミラーは、照明範囲の移動に同期して撮影光軸を中心に穴部を回転可能である。 Some embodiments include a pupil split rotating mirror (40) in which a hole (40a) is formed at a position eccentric from the optical axis of photography and connects the optical path of the irradiation system and the optical path of the light receiving system. It can be arranged at a position optically conjugate with the pupil of the eye to be inspected, and the pupil division rotation mirror can rotate the hole portion around the optical axis of photography in synchronization with the movement of the illumination range.
このような態様によれば、瞳分割で照明光と戻り光を分離して、所定部位の全体にわたってピントが合った被検眼のより高画質の画像を簡便に取得することができる。 According to such an embodiment, the illumination light and the return light can be separated by pupil division, and a higher image quality image of the eye to be inspected, which is in focus over the entire predetermined portion, can be easily obtained.
いくつかの実施形態は、撮影光軸を中心に回転可能なスリットが形成され、瞳分割回転ミラーによって結合された光路に選択的に配置可能な2以上のスリット(中心部回転スリット51、周辺部回転スリット52)を含み、2以上のスリットは、撮影光軸が通る中心領域にスリット(51a)が形成された第1スリット(中心部回転スリット51)と、撮影光軸が通る中心領域の外側の1以上の周辺領域のそれぞれにスリット(52a)が形成された1以上の第2スリット(周辺部回転スリット52)と、を含み、第1スリットに形成されたスリットは、中心部と光学的に略共役な位置に配置可能であり、1以上の第2スリットに形成されたスリットは、所定部位における1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である。 In some embodiments, two or more slits (center rotation slit 51, peripheral portion) in which a slit rotatable about the optical axis of photography is formed and can be selectively arranged in the optical path connected by the pupil division rotation mirror. The two or more slits including the rotary slit 52) include the first slit (central rotary slit 51) in which the slit (51a) is formed in the central region through which the optical axis of photography passes, and the outside of the central region through which the optical axis of photography passes. 1 or more second slits (peripheral rotation slits 52) in which slits (52a) are formed in each of one or more peripheral regions of the above, and the slits formed in the first slits are optically formed with the central portion. The slits formed in one or more second slits can be arranged at positions substantially conjugate with one or more peripheral portions in a predetermined portion.
このような態様によれば、対物レンズ等の光学系からの反射成分に起因したアーチファクトを除去しつつ、画角が大きい場合でも所定部位の全体にわたってピントが合った被検眼の高画質の画像を簡便に取得することができる。 According to such an aspect, while removing artifacts caused by reflection components from an optical system such as an objective lens, a high-quality image of the eye to be inspected that is in focus over the entire predetermined portion even when the angle of view is large can be obtained. It can be easily obtained.
いくつかの実施形態は、瞳分割回転ミラーによって結合された光路を2以上の光路に分割する光路分割部材(ビームスプリッタ71)と、光路分割部材により分割された2以上の光路のそれぞれに配置され撮影光軸を中心に回転可能なスリットが形成された2以上のスリット(中心部回転スリット51、周辺部回転スリット52)と、光路分割部材によって分割された2以上の光路を結合し、結合された光路の光を被検眼に導く光路結合部材(ビームスプリッタ74)と、を含み、2以上のスリットは、撮影光軸が通る中心領域にスリット(51a)が形成された第1スリット(中心部回転スリット51)と、撮影光軸が通る中心領域の外側の1以上の周辺領域のそれぞれにスリット(52a)が形成された1以上の第2スリット(周辺部回転スリット52)と、を含み、第1スリットに形成されたスリットは、中心部と光学的に略共役な位置に配置可能であり、1以上の第2スリットに形成されたスリットは、所定部位における1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である。 Some embodiments are arranged in each of an optical path dividing member (beam splitter 71) that divides an optical path coupled by a pupil division rotating mirror into two or more optical paths, and two or more optical paths divided by the optical path dividing member. Two or more slits (central rotation slit 51, peripheral rotation slit 52) having a rotatable slit about the shooting optical axis and two or more optical paths divided by the optical path dividing member are connected and connected. The first slit (central portion) in which a slit (51a) is formed in the central region through which the photographing optical axis passes, includes an optical path coupling member (beam splitter 74) that guides the light of the optical path to the eye to be inspected. Includes a rotary slit 51) and one or more second slits (peripheral rotary slits 52) in which slits (52a) are formed in each of one or more peripheral regions outside the central region through which the photographing optical axis passes. The slit formed in the first slit can be arranged at a position optically conjugate with the central portion, and the slits formed in one or more second slits are optically with one or more peripheral portions in a predetermined portion. It can be placed at a position that is substantially conjugate to the optical path.
このような態様によれば、対物レンズ等の光学系からの反射成分に起因したアーチファクトを除去しつつ、画角が大きい場合でも所定部位の全体にわたってピントが合った被検眼の高画質の画像を簡便に取得することができる。また、中心部スキャンと1以上の周辺部スキャンとを同時に実行することが可能になるため、より簡便に被検眼の高画質の画像を簡便に取得するが可能になる。 According to such an aspect, while removing artifacts caused by reflection components from an optical system such as an objective lens, a high-quality image of the eye to be inspected that is in focus over the entire predetermined portion even when the angle of view is large can be obtained. It can be easily obtained. Further, since the central scan and one or more peripheral scans can be performed at the same time, it is possible to more easily acquire a high-quality image of the eye to be inspected.
いくつかの実施形態は、スリットが形成され、瞳分割回転ミラーによって結合された光路に選択的に配置可能な2以上のスリット(中心部スリット53、周辺部スリット54)と、瞳分割回転ミラーと2以上のスリットとの間に配置され、所定部位において撮影中心を中心に回転するように2以上のスリットのいずれかに形成されたスリットを通過した光を偏向する光スキャナ(80)と、含み、2以上のスリットは、撮影光軸が通る中心領域にスリットが形成された第1スリット(中心部スリット53)と、撮影光軸が通る中心領域の外側の1以上の周辺領域のそれぞれにスリットが形成された1以上の第2スリット(周辺部スリット54)と、を含み、第1スリットに形成されたスリットは、中心部と光学的に略共役な位置に配置可能であり、1以上の第2スリットに形成されたスリットは、所定部位における1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である。
In some embodiments, two or more slits (
このような態様によれば、対物レンズ等の光学系からの反射成分に起因したアーチファクトを除去しつつ、画角が大きい場合でも所定部位の全体にわたってピントが合った被検眼の高画質の画像を簡便に取得することができる。また、光スキャナを用いて撮影中心を中心に照明領域を回転させるようにしたので、簡素な構成で、対物レンズ等の光学系からの反射成分に起因したアーチファクトを除去することが可能になる。 According to such an aspect, while removing artifacts caused by reflection components from an optical system such as an objective lens, a high-quality image of the eye to be inspected that is in focus over the entire predetermined portion even when the angle of view is large can be obtained. It can be easily obtained. In addition, since the illumination area is rotated around the center of photography by using an optical scanner, it is possible to remove artifacts caused by reflection components from an optical system such as an objective lens with a simple configuration.
いくつかの実施形態では、2以上のスリットは、2以上のスリットのいずれか1つを除いて撮影光軸の方向の移動可能である。 In some embodiments, the two or more slits are movable in the direction of the photographing optical axis except for any one of the two or more slits.
このような態様によれば、2以上スリットのいずれかを撮影中心を含む中心部、及び1以上の周辺部のいずれかと光学的に略共役な位置に配置し、それ以外のスリットについても所定部位における所望の部位と光学的に略共役な位置に配置することが可能になる。それにより、構成を簡素化しつつ、所定部位の全体にわたってピントが合った被検眼の高画質の画像を取得することが可能になる。 According to such an embodiment, any one of the two or more slits is arranged at a position optically conjugate with any of the central portion including the imaging center and the one or more peripheral portions, and the other slits are also predetermined portions. It becomes possible to place it at a position optically conjugate with the desired site in the above. As a result, it becomes possible to acquire a high-quality image of the eye to be in focus in focus over the entire predetermined portion while simplifying the configuration.
いくつかの実施形態では、被検眼の屈折度数に基づいて、1以上の第2スリットのそれぞれを撮影光軸の方向に移動する1以上の移動機構(移動機構50D)を含む。
In some embodiments, one or more moving mechanisms (moving
このような態様によれば、簡便に、1以上の第2スリットのそれぞれを被検眼の所定部位における1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置することが可能になり、所定部位の全体にわたってピントが合った被検眼の高画質の画像を取得することが可能になる。 According to such an embodiment, it becomes possible to easily arrange each of the one or more second slits at a position optically conjugate with the one or more peripheral portions in the predetermined portion of the eye to be inspected, and the predetermined portion. It is possible to acquire a high-quality image of the eye to be inspected that is in focus over the entire area.
いくつかの実施形態では、被検眼のOCTデータに基づいて、1以上の第2スリットのそれぞれを撮影光軸の方向に移動する1以上の移動機構(移動機構50D)を含む。
In some embodiments, it comprises one or more moving mechanisms (moving
このような態様によれば、簡便に、且つ、高精度に、1以上の第2スリットのそれぞれを被検眼の所定部位における1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置することが可能になる。それにより、所定部位の全体にわたってピントが合った被検眼の高画質の画像を取得することが可能になる。 According to such an embodiment, it is possible to easily and highly accurately arrange each of the one or more second slits at a position optically conjugate with one or more peripheral portions in a predetermined portion of the eye to be inspected. It will be possible. As a result, it becomes possible to acquire a high-quality image of the eye to be inspected, which is in focus over the entire predetermined portion.
いくつかの実施形態では、2以上のスリットのそれぞれに形成されたスリットは、撮影光軸から遠くなるほど広くなるように形成されている。 In some embodiments, the slits formed in each of the two or more slits are formed so as to become wider as the distance from the optical axis of photography increases.
このような態様によれば、撮影中心を含む中心部に照射される照明光の光量と1以上の周辺部に照射される照明光の光量との差を簡便に小さくすることができる。それにより、所定部位の全体にわたってピントが合い、輝度むらが低減された被検眼の高画質の画像を取得することが可能になる。 According to such an aspect, it is possible to easily reduce the difference between the amount of illumination light emitted to the central portion including the center of photography and the amount of illumination light emitted to one or more peripheral portions. As a result, it becomes possible to acquire a high-quality image of the eye to be inspected, in which the entire predetermined portion is in focus and the luminance unevenness is reduced.
いくつかの実施形態では、2以上のスリットのそれぞれに形成されたスリットは、略台形形状又は三角形状を有している。 In some embodiments, the slits formed in each of the two or more slits have a substantially trapezoidal or triangular shape.
このような態様によれば、簡素な構成で、所定部位の全体にわたってピントが合い、輝度むらが低減された被検眼の高画質の画像を取得することが可能になる。 According to such an aspect, it is possible to acquire a high-quality image of the eye to be inspected with a simple configuration, in which the entire predetermined portion is in focus and the luminance unevenness is reduced.
いくつかの実施形態は、被検眼(E)の所定部位(眼底Ef)における撮影中心を中心に回転する照明範囲に照明光を照射する照射ステップと、受光面が所定部位と光学的に略共役な位置に配置可能なイメージセンサ(60)を用いて、照明範囲に照射された照明光の戻り光を受光する受光ステップと、撮影中心を含む中心部を照明光でスキャンする中心部スキャンと、中心部の外側の1以上の周辺部のそれぞれを照明光でスキャンする1以上の周辺部スキャンとを実行する制御ステップと、中心部スキャンにより得られた戻り光の受光結果と、1以上の周辺部スキャンにより得られた戻り光の受光結果とに基づいて被検眼の画像を形成する画像形成ステップと、を含む、眼科装置(1、1a)の制御方法である。 In some embodiments, the irradiation step of irradiating the illumination range rotating around the imaging center in the predetermined portion (fundament Ef) of the eye to be inspected (E) with the illumination light, and the light receiving surface optically coupled to the predetermined portion. A light receiving step that receives the return light of the illumination light radiated to the illumination range using an image sensor (60) that can be arranged at various positions, and a central scan that scans the central portion including the shooting center with the illumination light. A control step that performs one or more peripheral scans that scan each of one or more peripherals outside the central area with illumination light, a return light reception result obtained by the central scan, and one or more peripherals. It is a control method of an ophthalmologic apparatus (1, 1a) including an image formation step of forming an image of an eye to be inspected based on a light receiving result of a return light obtained by a partial scan.
このような態様によれば、被検眼の所定部位における中心部、及び1以上の周辺部のそれぞれに対して、互いに独立にフォーカス位置が調整された照明光でスキャンすることが可能になる。更に、所定部位における撮影中心を中心に照明範囲が回転するように被検眼の所定部位を照明光でスキャンするようにしたので、対物レンズ等の光学系からの反射成分の強度を弱め、反射成分に起因したアーチファクトを除去することができる。従って、画角が大きい場合でも所定部位の全体にわたってピントが合った被検眼の高画質の画像を簡便に取得することができる。 According to such an aspect, it becomes possible to scan the central portion of a predetermined portion of the eye to be inspected and one or more peripheral portions with illumination light whose focus positions are adjusted independently of each other. Furthermore, since the predetermined area of the eye to be inspected is scanned with the illumination light so that the illumination range rotates around the center of imaging in the predetermined area, the intensity of the reflection component from the optical system such as the objective lens is weakened, and the reflection component is reflected. The artifacts caused by can be removed. Therefore, even when the angle of view is large, it is possible to easily obtain a high-quality image of the eye to be in focus, which is in focus over the entire predetermined portion.
いくつかの実施形態では、制御ステップは、中心部スキャンにより得られる戻り光の光量と1以上の周辺部スキャンにより得られる戻り光の光量との差が小さくなるように照明光を照射する照射系及び戻り光を受光する受光系の少なくとも一方を制御する。 In some embodiments, the control step is an irradiation system that illuminates the illumination light so that the difference between the amount of return light obtained by the central scan and the amount of return light obtained by one or more peripheral scans is small. And at least one of the light receiving systems that receive the return light is controlled.
このような態様によれば、中心部スキャンで得られる画像の明るさと周辺部スキャンで得られる画像の明るさを揃えることができるため、被検眼の画像の高画質化を図ることが可能になる。 According to such an aspect, the brightness of the image obtained by the central scan and the brightness of the image obtained by the peripheral scan can be made uniform, so that the image quality of the image to be inspected can be improved. ..
いくつかの実施形態では、眼科装置は、撮影光軸から偏心した位置に穴部(40a)が形成され、照明光を照射する照射系の光路と戻り光を受光する受光系の光路とを結合する瞳分割回転ミラー(40)を含み、穴部は、被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置に配置可能であり、制御ステップは、照明範囲の移動に同期して撮影光軸を中心に穴部を回転するように瞳分割回転ミラーを制御する。 In some embodiments, the ophthalmologic apparatus has a hole (40a) formed at a position eccentric from the imaging optical axis to combine the optical path of the irradiation system that irradiates the illumination light with the optical path of the light receiving system that receives the return light. The hole can be placed at a position optically conjugate with the pupil of the eye to be inspected, and the control step is centered on the shooting optical axis in synchronization with the movement of the illumination range. The pupil division rotation mirror is controlled so as to rotate the hole.
このような態様によれば、瞳分割で照明光と戻り光を分離して、所定部位の全体にわたってピントが合った被検眼のより高画質の画像を簡便に取得することができる。 According to such an embodiment, the illumination light and the return light can be separated by pupil division, and a higher image quality image of the eye to be inspected, which is in focus over the entire predetermined portion, can be easily obtained.
いくつかの実施形態では、眼科装置は、撮影光軸を中心に回転可能なスリットが形成され、瞳分割回転ミラーによって結合された光路に選択的に配置可能な2以上のスリット(中心部回転スリット51、周辺部回転スリット52)を含み、2以上のスリットは、撮影光軸が通る中心領域にスリット(51a)が形成された第1スリット(中心部回転スリット51)と、撮影光軸が通る中心領域の外側の1以上の周辺領域のそれぞれにスリット(52a)が形成された1以上の第2スリット(周辺部回転スリット52)と、を含み、第1スリットに形成されたスリットは、中心部と光学的に略共役な位置に配置可能であり、1以上の第2スリットに形成されたスリットは、所定部位における1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である。 In some embodiments, the ophthalmologic apparatus has two or more slits (center rotation slits) in which a rotatable slit is formed about the imaging optical axis and can be selectively placed in an optical path coupled by a pupil split rotating mirror. 51, including the peripheral rotation slit 52), the two or more slits are the first slit (central rotation slit 51) in which the slit (51a) is formed in the central region through which the optical axis of photography passes, and the optical axis of photography passes through. The slit formed in the first slit includes one or more second slits (peripheral rotation slit 52) in which slits (52a) are formed in each of one or more peripheral regions outside the central region. It can be arranged at a position optically conjugate with the portion, and the slits formed in one or more second slits can be arranged at a position optically conjugate with one or more peripheral portions at a predetermined portion.
このような態様によれば、対物レンズ等の光学系からの反射成分に起因したアーチファクトを除去しつつ、画角が大きい場合でも所定部位の全体にわたってピントが合った被検眼の高画質の画像を簡便に取得することができる。 According to such an embodiment, while removing artifacts caused by reflection components from an optical system such as an objective lens, a high-quality image of the eye to be inspected that is in focus over the entire predetermined portion even when the angle of view is large can be obtained. It can be easily obtained.
いくつかの実施形態では、眼科装置は、瞳分割回転ミラーによって結合された光路を2以上の光路に分割する光路分割部材(ビームスプリッタ71)と、光路分割部材により分割された2以上の光路のそれぞれに配置され撮影光軸を中心に回転可能なスリットが形成された2以上のスリット(中心部回転スリット51、周辺部回転スリット52)と、光路分割部材によって分割された2以上の光路を結合し、結合された光路の光を被検眼に導く光路結合部材(ビームスプリッタ74)と、を含み、2以上のスリットは、撮影光軸が通る中心領域にスリット(51a)が形成された第1スリット(中心部回転スリット51)と、撮影光軸が通る中心領域の外側の1以上の周辺領域のそれぞれにスリット(52a)が形成された1以上の第2スリット(周辺部回転スリット52)と、を含み、第1スリットに形成されたスリットは、中心部と光学的に略共役な位置に配置可能であり、1以上の第2スリットに形成されたスリットは、所定部位における1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である。 In some embodiments, the ophthalmic apparatus consists of an optical path dividing member (beam splitter 71) that divides an optical path coupled by a pupil dividing rotating mirror into two or more optical paths, and two or more optical paths divided by the optical path dividing member. Two or more slits (central rotation slit 51, peripheral rotation slit 52) arranged in each and formed with a slit rotatable about the shooting optical axis are combined with two or more optical paths divided by an optical path dividing member. The first, which includes an optical path coupling member (beam splitter 74) that guides the light of the coupled optical path to the eye to be inspected, and two or more slits have a slit (51a) formed in the central region through which the photographing optical axis passes. A slit (central rotation slit 51) and one or more second slits (peripheral rotation slit 52) in which slits (52a) are formed in each of one or more peripheral regions outside the central region through which the shooting optical axis passes. , And the slit formed in the first slit can be arranged at a position optically conjugate with the central portion, and one or more slits formed in the second slit are one or more peripherals in a predetermined portion. It can be arranged at a position optically conjugate with the part.
このような態様によれば、対物レンズ等の光学系からの反射成分に起因したアーチファクトを除去しつつ、画角が大きい場合でも所定部位の全体にわたってピントが合った被検眼の高画質の画像を簡便に取得することができる。また、中心部スキャンと1以上の周辺部スキャンとを同時に実行することが可能になるため、より簡便に被検眼の高画質の画像を簡便に取得するが可能になる。 According to such an aspect, while removing artifacts caused by reflection components from an optical system such as an objective lens, a high-quality image of the eye to be inspected that is in focus over the entire predetermined portion even when the angle of view is large can be obtained. It can be easily obtained. Further, since the central scan and one or more peripheral scans can be performed at the same time, it is possible to more easily acquire a high-quality image of the eye to be inspected.
いくつかの実施形態では、眼科装置は、スリットが形成され、瞳分割回転ミラーによって結合された光路に選択的に配置可能な2以上のスリット(中心部スリット53、周辺部スリット54)と、瞳分割回転ミラーと2以上のスリットとの間に配置され、所定部位において撮影中心を中心に回転するように2以上のスリットのいずれかに形成されたスリットを通過した光を偏向する光スキャナと、を含み、2以上のスリットは、撮影光軸が通る中心領域にスリットが形成された第1スリット(中心部スリット53)と、撮影光軸が通る中心領域の外側の1以上の周辺領域のそれぞれにスリットが形成された1以上の第2スリット(周辺部スリット54)と、を含み、第1スリットに形成されたスリットは、中心部と光学的に略共役な位置に配置可能であり、1以上の第2スリットに形成されたスリットは、所定部位における1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である。
In some embodiments, the ophthalmologic apparatus has two or more slits (
このような態様によれば、対物レンズ等の光学系からの反射成分に起因したアーチファクトを除去しつつ、画角が大きい場合でも所定部位の全体にわたってピントが合った被検眼の高画質の画像を簡便に取得することができる。また、光スキャナを用いて撮影中心を中心に照明領域を回転させるようにしたので、簡素な構成で、対物レンズ等の光学系からの反射成分に起因したアーチファクトを除去することが可能になる。 According to such an embodiment, while removing artifacts caused by reflection components from an optical system such as an objective lens, a high-quality image of the eye to be inspected that is in focus over the entire predetermined portion even when the angle of view is large can be obtained. It can be easily obtained. In addition, since the illumination area is rotated around the center of photography by using an optical scanner, it is possible to remove artifacts caused by reflection components from an optical system such as an objective lens with a simple configuration.
いくつかの実施形態では、2以上のスリットのそれぞれに形成されたスリットは、撮影光軸から遠くなるほど広くなるように形成されている。 In some embodiments, the slits formed in each of the two or more slits are formed so as to become wider as the distance from the optical axis of photography increases.
このような態様によれば、撮影中心を含む中心部に照射される照明光の光量と1以上の周辺部に照射される照明光の光量との差を簡便に小さくすることができる。それにより、所定部位の全体にわたってピントが合い、輝度むらが低減された被検眼の高画質の画像を取得することが可能になる。 According to such an aspect, it is possible to easily reduce the difference between the amount of illumination light emitted to the central portion including the center of photography and the amount of illumination light emitted to one or more peripheral portions. As a result, it becomes possible to acquire a high-quality image of the eye to be inspected, in which the entire predetermined portion is in focus and the luminance unevenness is reduced.
いくつかの実施形態では、2以上のスリットのそれぞれに形成されたスリットは、略台形形状又は三角形状を有している。 In some embodiments, the slits formed in each of the two or more slits have a substantially trapezoidal or triangular shape.
このような態様によれば、簡素な構成で、所定部位の全体にわたってピントが合い、輝度むらが低減された被検眼の高画質の画像を取得することが可能になる。 According to such an aspect, it is possible to acquire a high-quality image of the eye to be inspected with a simple configuration, in which the entire predetermined portion is in focus and the luminance unevenness is reduced.
いくつかの実施形態は、コンピュータに、上記のいずれかに記載の眼科装置の制御方法の各ステップを実行させるプログラムである。 Some embodiments are programs that cause a computer to perform each step of the method of controlling an ophthalmic appliance according to any of the above.
このような態様によれば、被検眼の所定部位における中心部、及び1以上の周辺部のそれぞれに対して、互いに独立にフォーカス位置が調整された照明光でスキャンすることが可能になる。更に、所定部位における撮影中心を中心に照明範囲が回転するように被検眼の所定部位を照明光でスキャンするようにしたので、対物レンズ等の光学系からの反射成分の強度を弱め、反射成分に起因したアーチファクトを除去することができる。従って、画角が大きい場合でも所定部位の全体にわたってピントが合った被検眼の高画質の画像を簡便に取得することができる。 According to such an aspect, it becomes possible to scan the central portion of a predetermined portion of the eye to be inspected and one or more peripheral portions with illumination light whose focus positions are adjusted independently of each other. Furthermore, since the predetermined area of the eye to be inspected is scanned with the illumination light so that the illumination range rotates around the center of imaging in the predetermined area, the intensity of the reflection component from the optical system such as the objective lens is weakened, and the reflection component is reflected. The artifacts caused by can be removed. Therefore, even when the angle of view is large, it is possible to easily obtain a high-quality image of the eye to be in focus, which is in focus over the entire predetermined portion.
以上に示された実施形態は、この発明を実施するための一例に過ぎない。この発明を実施しようとする者は、この発明の要旨の範囲内において任意の変形、省略、追加等を施すことが可能である。 The embodiments shown above are merely examples for carrying out the present invention. A person who intends to carry out the present invention can make arbitrary modifications, omissions, additions, etc. within the scope of the gist of the present invention.
1、1a 眼科装置
10、10a 光学系
10D、50D、70D 移動機構
11 対物レンズ
12、73、75、81、82 レンズ
13 結像レンズ
20 前眼部観察光学系
30 照明光学系
30A 光源
30B コンデンサレンズ
40 瞳分割回転ミラー
40a 穴部
40R、50R 回転機構
50 回転スリット
50a スリット
51 中心部回転スリット
51a、52a スリット
52 周辺部回転スリット
53 中心部スリット
54 周辺部スリット
60 イメージセンサ
70 撮影光学系
71、74 ビームスプリッタ
72、76 反射ミラー
80 光スキャナ
100、100a 制御ユニット
101、101a 制御部
102、102a 記憶部
110 操作ユニット
120 表示ユニット
200 データ処理ユニット
E 被検眼
Ef 眼底
M1 光学素子
1,
Claims (22)
受光面が前記所定部位と光学的に略共役な位置に配置可能なイメージセンサを含み、前記照明範囲に照射された前記照明光の戻り光を受光する受光系と、
前記撮影中心を含む中心部を前記照明光でスキャンする中心部スキャンと、前記中心部の外側の1以上の周辺部のそれぞれを前記照明光でスキャンする1以上の周辺部スキャンとを実行するように前記照射系及び前記受光系を制御する制御部と、
前記中心部スキャンにより得られた前記戻り光の受光結果と、前記1以上の周辺部スキャンにより得られた前記戻り光の受光結果とに基づいて前記被検眼の画像を形成する画像形成部と、
を含む、眼科装置。 An irradiation system that irradiates the illumination range that rotates around the center of imaging at a predetermined part of the eye to be inspected, and an irradiation system.
A light receiving system that includes an image sensor that can be arranged at a position where the light receiving surface is optically conjugate to the predetermined portion and receives the return light of the illumination light radiated to the illumination range.
A central scan that scans the central portion including the imaging center with the illumination light and one or more peripheral scans that scan each of the one or more peripheral portions outside the central portion with the illumination light are performed. A control unit that controls the irradiation system and the light receiving system,
An image forming unit that forms an image of the eye to be inspected based on the light reception result of the return light obtained by the central scan and the light reception result of the return light obtained by one or more peripheral scans.
Including ophthalmic equipment.
ことを特徴とする請求項1に記載の眼科装置。 The control unit has at least the irradiation system and the light receiving system so that the difference between the light amount of the return light obtained by the central scan and the light amount of the return light obtained by one or more peripheral scans is small. The ophthalmic apparatus according to claim 1, wherein one of them is controlled.
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の眼科装置。 The ophthalmic apparatus according to claim 1 or 2, wherein the irradiation system and the light receiving system are movable in the direction of the photographing optical axis.
ことを特徴とする請求項1~請求項3のいずれか一項に記載の眼科装置。 The ophthalmologic apparatus according to any one of claims 1 to 3, further comprising a lens arranged in the optical path of the irradiation system and the optical path of the light receiving system and movable along the optical path.
前記穴部は、前記被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置に配置可能であり、
前記瞳分割回転ミラーは、前記照明範囲の移動に同期して前記撮影光軸を中心に前記穴部を回転可能である
ことを特徴とする請求項1~請求項4のいずれか一項に記載の眼科装置。 A hole is formed at a position eccentric from the optical axis of photography, and includes a pupil split rotating mirror that connects the optical path of the irradiation system and the optical path of the light receiving system.
The hole can be arranged at a position optically conjugate with the pupil of the eye to be inspected.
The aspect according to any one of claims 1 to 4, wherein the pupil split rotation mirror can rotate the hole portion about the photographing optical axis in synchronization with the movement of the illumination range. Ophthalmology equipment.
前記2以上のスリットは、
前記撮影光軸が通る中心領域にスリットが形成された第1スリットと、
前記撮影光軸が通る中心領域の外側の1以上の周辺領域のそれぞれにスリットが形成された1以上の第2スリットと、
を含み、
前記第1スリットに形成されたスリットは、前記中心部と光学的に略共役な位置に配置可能であり、
前記1以上の第2スリットに形成されたスリットは、前記所定部位における前記1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である
ことを特徴とする請求項5に記載の眼科装置。 A rotatable slit is formed around the shooting optical axis, and includes two or more slits that can be selectively arranged in the optical path connected by the pupil split rotating mirror.
The two or more slits
A first slit in which a slit is formed in the central region through which the optical axis of photography passes, and
One or more second slits in which slits are formed in each of one or more peripheral regions outside the central region through which the optical axis of photography passes, and
Including
The slit formed in the first slit can be arranged at a position optically conjugate with the central portion.
The ophthalmic apparatus according to claim 5, wherein the slits formed in the one or more second slits can be arranged at positions optically conjugate with the one or more peripheral portions in the predetermined portion. ..
前記光路分割部材により分割された前記2以上の光路のそれぞれに配置され撮影光軸を中心に回転可能なスリットが形成された2以上のスリットと、
前記光路分割部材によって分割された前記2以上の光路を結合し、結合された光路の光を前記被検眼に導く光路結合部材と、
を含み、
前記2以上のスリットは、
前記撮影光軸が通る中心領域にスリットが形成された第1スリットと、
前記撮影光軸が通る中心領域の外側の1以上の周辺領域のそれぞれにスリットが形成された1以上の第2スリットと、
を含み、
前記第1スリットに形成されたスリットは、前記中心部と光学的に略共役な位置に配置可能であり、
前記1以上の第2スリットに形成されたスリットは、前記所定部位における前記1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である
ことを特徴とする請求項5に記載の眼科装置。 An optical path dividing member that divides an optical path coupled by the pupil division rotating mirror into two or more optical paths, and an optical path dividing member.
Two or more slits arranged in each of the two or more optical paths divided by the optical path dividing member and having a rotatable slit about the shooting optical axis, and two or more slits.
An optical path coupling member that combines the two or more optical paths divided by the optical path dividing member and guides the light of the combined optical path to the eye to be inspected.
Including
The two or more slits
A first slit in which a slit is formed in the central region through which the optical axis of photography passes, and
One or more second slits in which slits are formed in each of one or more peripheral regions outside the central region through which the optical axis of photography passes, and
Including
The slit formed in the first slit can be arranged at a position optically conjugate with the central portion.
The ophthalmic apparatus according to claim 5, wherein the slits formed in the one or more second slits can be arranged at positions optically conjugate with the one or more peripheral portions in the predetermined portion. ..
前記瞳分割回転ミラーと前記2以上のスリットとの間に配置され、前記所定部位において前記撮影中心を中心に回転するように前記2以上のスリットのいずれかに形成されたスリットを通過した光を偏向する光スキャナと、
を含み、
前記2以上のスリットは、
撮影光軸が通る中心領域にスリットが形成された第1スリットと、
前記撮影光軸が通る中心領域の外側の1以上の周辺領域のそれぞれにスリットが形成された1以上の第2スリットと、
を含み、
前記第1スリットに形成されたスリットは、前記中心部と光学的に略共役な位置に配置可能であり、
前記1以上の第2スリットに形成されたスリットは、前記所定部位における前記1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である
ことを特徴とする請求項5に記載の眼科装置。 Two or more slits in which slits are formed and can be selectively arranged in the optical path coupled by the pupil split rotation mirror,
Light that has passed through a slit arranged between the pupil split rotation mirror and the two or more slits and formed in any of the two or more slits so as to rotate about the imaging center at the predetermined portion. An optical scanner that deflects,
Including
The two or more slits
The first slit, in which a slit is formed in the central region through which the shooting optical axis passes,
One or more second slits in which slits are formed in each of one or more peripheral regions outside the central region through which the optical axis of photography passes, and
Including
The slit formed in the first slit can be arranged at a position optically conjugate with the central portion.
The ophthalmic apparatus according to claim 5, wherein the slits formed in the one or more second slits can be arranged at positions optically conjugate with the one or more peripheral portions in the predetermined portion. ..
ことを特徴とする請求項6~請求項8のいずれか一項に記載の眼科装置。 The invention according to any one of claims 6 to 8, wherein the two or more slits are movable in the direction of the photographing optical axis except for one of the two or more slits. Ophthalmology equipment.
ことを特徴とする請求項6~請求項9のいずれか一項に記載の眼科装置。 6. The ophthalmic apparatus according to the first paragraph.
ことを特徴とする請求項6~請求項10のいずれか一項に記載の眼科装置。 6. The ophthalmic apparatus according to the first paragraph.
ことを特徴とする請求項6~請求項11のいずれか一項に記載の眼科装置。 The ophthalmology according to any one of claims 6 to 11, wherein the slits formed in each of the two or more slits are formed so as to become wider as the distance from the photographing optical axis increases. Device.
ことを特徴とする請求項12に記載の眼科装置。 The ophthalmic apparatus according to claim 12, wherein the slits formed in each of the two or more slits have a substantially trapezoidal shape or a triangular shape.
受光面が前記所定部位と光学的に略共役な位置に配置可能なイメージセンサを用いて、前記照明範囲に照射された前記照明光の戻り光を受光する受光ステップと、
前記撮影中心を含む中心部を前記照明光でスキャンする中心部スキャンと、前記中心部の外側の1以上の周辺部のそれぞれを前記照明光でスキャンする1以上の周辺部スキャンとを実行する制御ステップと、
前記中心部スキャンにより得られた前記戻り光の受光結果と、前記1以上の周辺部スキャンにより得られた前記戻り光の受光結果とに基づいて前記被検眼の画像を形成する画像形成ステップと、
を含む、眼科装置の制御方法。 An irradiation step of irradiating an illumination range that rotates around the center of imaging at a predetermined part of the eye to be inspected, and an irradiation step.
A light receiving step of receiving the return light of the illumination light applied to the illumination range by using an image sensor in which the light receiving surface can be arranged at a position optically conjugate to the predetermined portion.
Control to execute a central scan that scans the central portion including the shooting center with the illumination light, and one or more peripheral scans that scan each of the one or more peripheral portions outside the central portion with the illumination light. Steps and
An image forming step of forming an image of the eye to be inspected based on the light reception result of the return light obtained by the central scan and the light reception result of the return light obtained by one or more peripheral scans.
Methods of controlling ophthalmic appliances, including.
ことを特徴とする請求項14に記載の眼科装置の制御方法。 The control step includes an irradiation system that irradiates the illumination light so that the difference between the light amount of the return light obtained by the central scan and the light amount of the return light obtained by one or more peripheral scans is small. The control method for an ophthalmic apparatus according to claim 14, wherein at least one of the light receiving systems that receive the return light is controlled.
前記穴部は、前記被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置に配置可能であり、
前記制御ステップは、前記照明範囲の移動に同期して前記撮影光軸を中心に前記穴部を回転するように前記瞳分割回転ミラーを制御する
ことを特徴とする請求項14又は請求項15に記載の眼科装置の制御方法。 The ophthalmic apparatus includes a pupil split rotating mirror in which a hole is formed at a position eccentric from the optical axis of photography and connects an optical path of an irradiation system that irradiates the illumination light and an optical path of a light receiving system that receives the return light. ,
The hole can be arranged at a position optically conjugate with the pupil of the eye to be inspected.
14. The control step according to claim 14 or 15, wherein the pupil division rotation mirror is controlled so as to rotate the hole portion about the photographing optical axis in synchronization with the movement of the illumination range. The method of controlling an ophthalmic apparatus according to the description.
前記2以上のスリットは、
前記撮影光軸が通る中心領域にスリットが形成された第1スリットと、
前記撮影光軸が通る中心領域の外側の1以上の周辺領域のそれぞれにスリットが形成された1以上の第2スリットと、
を含み、
前記第1スリットに形成されたスリットは、前記中心部と光学的に略共役な位置に配置可能であり、
前記1以上の第2スリットに形成されたスリットは、前記所定部位における前記1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である
ことを特徴とする請求項16に記載の眼科装置の制御方法。 The ophthalmologic apparatus comprises two or more slits in which a rotatable slit is formed about the imaging optical axis and which can be selectively arranged in an optical path coupled by the pupil split rotating mirror.
The two or more slits
A first slit in which a slit is formed in the central region through which the optical axis of photography passes, and
One or more second slits in which slits are formed in each of one or more peripheral regions outside the central region through which the optical axis of photography passes, and
Including
The slit formed in the first slit can be arranged at a position optically conjugate with the central portion.
The ophthalmic apparatus according to claim 16, wherein the slits formed in the one or more second slits can be arranged at positions optically conjugate with the one or more peripheral portions in the predetermined portion. Control method.
前記瞳分割回転ミラーによって結合された光路を2以上の光路に分割する光路分割部材と、
前記光路分割部材により分割された前記2以上の光路のそれぞれに配置され撮影光軸を中心に回転可能なスリットが形成された2以上のスリットと、
前記光路分割部材によって分割された前記2以上の光路を結合し、結合された光路の光を前記被検眼に導く光路結合部材と、
を含み、
前記2以上のスリットは、
前記撮影光軸が通る中心領域にスリットが形成された第1スリットと、
前記撮影光軸が通る中心領域の外側の1以上の周辺領域のそれぞれにスリットが形成された1以上の第2スリットと、
を含み、
前記第1スリットに形成されたスリットは、前記中心部と光学的に略共役な位置に配置可能であり、
前記1以上の第2スリットに形成されたスリットは、前記所定部位における前記1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である
ことを特徴とする請求項16に記載の眼科装置の制御方法。 The ophthalmic appliance
An optical path dividing member that divides an optical path coupled by the pupil division rotating mirror into two or more optical paths, and an optical path dividing member.
Two or more slits arranged in each of the two or more optical paths divided by the optical path dividing member and having a rotatable slit about the shooting optical axis, and two or more slits.
An optical path coupling member that combines the two or more optical paths divided by the optical path dividing member and guides the light of the combined optical path to the eye to be inspected.
Including
The two or more slits
A first slit in which a slit is formed in the central region through which the optical axis of photography passes, and
One or more second slits in which slits are formed in each of one or more peripheral regions outside the central region through which the optical axis of photography passes, and
Including
The slit formed in the first slit can be arranged at a position optically conjugate with the central portion.
The ophthalmic apparatus according to claim 16, wherein the slits formed in the one or more second slits can be arranged at positions optically conjugate with the one or more peripheral portions in the predetermined portion. Control method.
スリットが形成され、前記瞳分割回転ミラーによって結合された光路に選択的に配置可能な2以上のスリットと、
前記瞳分割回転ミラーと前記2以上のスリットとの間に配置され、前記所定部位において前記撮影中心を中心に回転するように前記2以上のスリットのいずれかに形成されたスリットを通過した光を偏向する光スキャナと、
を含み、
前記2以上のスリットは、
撮影光軸が通る中心領域にスリットが形成された第1スリットと、
前記撮影光軸が通る中心領域の外側の1以上の周辺領域のそれぞれにスリットが形成された1以上の第2スリットと、
を含み、
前記第1スリットに形成されたスリットは、前記中心部と光学的に略共役な位置に配置可能であり、
前記1以上の第2スリットに形成されたスリットは、前記所定部位における前記1以上の周辺部と光学的に略共役な位置に配置可能である
ことを特徴とする請求項16に記載の眼科装置の制御方法。 The ophthalmic appliance
Two or more slits in which slits are formed and can be selectively arranged in the optical path coupled by the pupil split rotation mirror,
Light that has passed through a slit arranged between the pupil split rotation mirror and the two or more slits and formed in any of the two or more slits so as to rotate about the imaging center at the predetermined portion. An optical scanner that deflects,
Including
The two or more slits
The first slit, in which a slit is formed in the central region through which the shooting optical axis passes,
One or more second slits in which slits are formed in each of one or more peripheral regions outside the central region through which the optical axis of photography passes, and
Including
The slit formed in the first slit can be arranged at a position optically conjugate with the central portion.
The ophthalmic apparatus according to claim 16, wherein the slits formed in the one or more second slits can be arranged at positions optically conjugate with the one or more peripheral portions in the predetermined portion. Control method.
ことを特徴とする請求項17~請求項19のいずれか一項に記載の眼科装置の制御方法。 The ophthalmology according to any one of claims 17 to 19, wherein the slits formed in each of the two or more slits are formed so as to become wider as the distance from the photographing optical axis increases. How to control the device.
ことを特徴とする請求項20に記載の眼科装置の制御方法。 The control method for an ophthalmic apparatus according to claim 20, wherein the slits formed in each of the two or more slits have a substantially trapezoidal shape or a triangular shape.
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