JP2022048924A - Coaxial cable and cable assembly - Google Patents

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Abstract

To provide a coaxial cable and a cable assembly hardly causing lowering of a shield effect, and hardly causing abrupt attenuation in a predetermined frequency band.SOLUTION: A coaxial cable 1 is such that: a shield layer 4 has a laterally wound shield part 41 formed by winding a plurality of metal element wires 411 having plating layers 411b in the outermost layers around the periphery of an insulator 3, and a collective plating part 42 comprising hot-dip plating covering the periphery of the laterally wound shield part 41; the shield layer 4 has a connection part 43 in which the metal element wires 411 adjacent in the peripheral direction are connected by the collective plating part 42 in a separation part 45 in which the metal element wires 411 adjacent in the peripheral direction are separated from each other; and the shield layer 4 has an inner peripheral part 4b in which the plurality of metal element wires 411 are not covered by the collective plating part 42 and a plating layer 411b is exposed, and is provided with the connection part 43 between the adjacent inner peripheral parts 4b.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、同軸ケーブル及びケーブルアセンブリに関する。 The present invention relates to coaxial cables and cable assemblies.

自動運転等に用いられる撮像装置や、スマートフォン、タブレット端末等電子機器の内部配線、あるいは、産業用ロボット等の工作機械で配線として用いられる高周波信号伝送用のケーブルとして、同軸ケーブルが用いられている。 Coaxial cables are used as internal wiring for image pickup devices used for automatic driving and electronic devices such as smartphones and tablet terminals, or as cables for high-frequency signal transmission used as wiring in machine tools such as industrial robots. ..

従来の同軸ケーブルとして、樹脂層上に銅箔を設けた銅テープ等のテープ部材を、絶縁体の周囲に螺旋状に巻き付けてシールド層を構成したものが知られている(例えば、特許文献1参照)。 As a conventional coaxial cable, a tape member such as a copper tape in which a copper foil is provided on a resin layer is spirally wound around an insulator to form a shield layer (for example, Patent Document 1). reference).

特開2000-285747号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-285747

しかしながら、上述の従来の同軸ケーブルでは、所定の周波数帯域(例えば、1.25GHz等の数GHzの帯域)で急激な減衰が生じるサックアウトと呼ばれる現象が発生してしまうという課題がある。 However, the above-mentioned conventional coaxial cable has a problem that a phenomenon called suckout occurs in which a rapid attenuation occurs in a predetermined frequency band (for example, a band of several GHz such as 1.25 GHz).

これに対して、例えば、絶縁体の外表面にめっきを施してシールド層を構成することで、サックアウトの発生を抑制することが可能である。しかし、同軸ケーブルを繰り返し曲げたときに、めっきからなるシールド層に亀裂や絶縁体外面からのはく離が発生することがある。めっきからなるシールド層に亀裂や絶縁体外面からのはく離が発生すると、シールド効果が低下してしまう。すなわち、同軸ケーブルに生じるノイズをシールド層よって遮蔽する効果が低下してしまう。 On the other hand, for example, by plating the outer surface of the insulator to form a shield layer, it is possible to suppress the occurrence of suckout. However, when the coaxial cable is repeatedly bent, cracks and peeling from the outer surface of the insulator may occur in the shield layer made of plating. If the shield layer made of plating cracks or peels off from the outer surface of the insulator, the shielding effect is reduced. That is, the effect of shielding the noise generated in the coaxial cable by the shield layer is reduced.

そこで、本発明は、シールド効果の低下が生じにくく、所定の周波数帯域で急激な減衰が生じにくい同軸ケーブル及びケーブルアセンブリを提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a coaxial cable and a cable assembly in which a decrease in the shielding effect is unlikely to occur and a rapid attenuation is unlikely to occur in a predetermined frequency band.

本発明は、上記課題を解決することを目的として、導体と、前記導体の周囲を覆う絶縁体と、前記絶縁体の周囲を覆うシールド層と、前記シールド層の周囲を覆うシースと、を備え、前記シールド層は、最外層にめっき層を有する複数の金属素線を前記絶縁体の周囲に螺旋状に巻き付けて構成された横巻きシールド部と、前記横巻きシールド部の周囲を覆う溶融めっきからなる一括めっき部と、を有し、前記シールド層は、周方向に隣り合う前記金属素線同士が離間している離間部分において、周方向に隣り合う前記金属素線同士が前記一括めっき部により連結されている連結部を有し、かつ、前記シールド層は、前記複数の金属素線が前記一括めっき部で覆われておらず前記めっき層が露出した内周部分を有し、隣り合う前記内周部分の間に前記連結部が設けられている、同軸ケーブルを提供する。 The present invention includes a conductor, an insulator that covers the periphery of the conductor, a shield layer that covers the periphery of the insulator, and a sheath that covers the periphery of the shield layer, for the purpose of solving the above problems. The shield layer is a horizontal winding shield portion formed by spirally winding a plurality of metal strands having a plating layer on the outermost layer around the insulator, and hot-dip plating covering the periphery of the horizontal winding shield portion. The shield layer has a batch plating portion including, and in a separated portion where the metal strands adjacent to each other in the circumferential direction are separated from each other, the metal strands adjacent to each other in the circumferential direction are the batch plating portion. The shield layer has an inner peripheral portion in which the plurality of metal strands are not covered by the collective plating portion and the plating layer is exposed, and the shield layer is adjacent to each other. Provided is a coaxial cable in which the connecting portion is provided between the inner peripheral portions.

また、本発明は、上記課題を解決することを目的として、前記同軸ケーブルと、前記同軸ケーブルの少なくとも一方の端部に一体に設けられた端末部材と、を備えた、ケーブルアセンブリを提供する。 The present invention also provides a cable assembly comprising the coaxial cable and a terminal member integrally provided at at least one end of the coaxial cable, for the purpose of solving the above problems.

本発明によれば、シールド効果の低下が生じにくく、所定の周波数帯域で急激な減衰が生じにくい同軸ケーブル及びケーブルアセンブリを提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a coaxial cable and a cable assembly in which a decrease in the shielding effect is unlikely to occur and a rapid attenuation is unlikely to occur in a predetermined frequency band.

本発明の一実施の形態に係る同軸ケーブルを示す図であり、(a)は長手方向に垂直な断面を示す断面図、(b)はその要部拡大図である。It is a figure which shows the coaxial cable which concerns on one Embodiment of this invention, (a) is the sectional view which shows the cross section perpendicular to the longitudinal direction, (b) is the main part enlarged view. 一括めっき部の形成を説明する図である。It is a figure explaining the formation of the batch plating part. シールド層を剥がして観察した際の写真及びその拡大写真である。It is a photograph and an enlarged photograph thereof when the shield layer was peeled off and observed. (a)は剥がしたシールド層において銀が存在する領域を分析した結果を示す写真であり、(b)は剥がしたシールド層において錫が存在する領域を分析した結果を示す写真である。(A) is a photograph showing the result of analyzing the region where silver is present in the peeled shield layer, and (b) is a photograph showing the result of analyzing the region where tin is present in the peeled shield layer. 周波数特性の評価結果を示すグラフ図である。It is a graph which shows the evaluation result of a frequency characteristic. 本発明の一実施の形態に係るケーブルアセンブリの端末部を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the terminal part of the cable assembly which concerns on one Embodiment of this invention.

[実施の形態]
以下、本発明の実施の形態を添付図面にしたがって説明する。
[Embodiment]
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

(同軸ケーブル1の全体構成)
図1は、本実施の形態に係る同軸ケーブル1を示す図であり、(a)は長手方向に垂直な断面を示す断面図、(b)はその要部拡大図である。
(Overall configuration of coaxial cable 1)
1A and 1B are views showing a coaxial cable 1 according to the present embodiment, FIG. 1A is a cross-sectional view showing a cross section perpendicular to the longitudinal direction, and FIG. 1B is an enlarged view of a main part thereof.

図1(a),(b)に示すように、同軸ケーブル1は、導体2と、導体2の周囲を覆うように設けられている絶縁体3と、絶縁体3の周囲を覆うように設けられているシールド層4と、シールド層4の周囲を覆うように設けられているシース5と、を備えている。 As shown in FIGS. 1A and 1B, the coaxial cable 1 is provided so as to cover the conductor 2, the insulator 3 provided so as to cover the periphery of the conductor 2, and the insulator 3. It includes a shield layer 4 provided and a sheath 5 provided so as to cover the periphery of the shield layer 4.

導体2は、複数本の金属素線21を撚り合わせた撚線導体からなる。本実施の形態では、外径0.023mmの軟銅線からなる金属素線21を7本撚り合わせた導体2を用いた。これに限らず、導体2としては、金属素線21を撚り合わせた後、ケーブル長手方向に垂直な断面形状が円形状となるように圧縮加工された圧縮撚線導体を用いることもできる。導体2として圧縮撚線導体を用いることで、導電率が向上し良好な伝送特性が得られると共に、曲げやすさも維持できる。また、金属素線21は、導電率や機械的強度を向上させる観点から、錫(Sn)、銀(Ag)、インジウム(In)、チタン(Ti)、マグネシウム(Mg)、鉄(Fe)等を含む銅合金線であってもよい。 The conductor 2 is composed of a stranded conductor in which a plurality of metal strands 21 are twisted together. In this embodiment, a conductor 2 obtained by twisting seven metal strands 21 made of annealed copper wire having an outer diameter of 0.023 mm is used. Not limited to this, as the conductor 2, a compression stranded conductor obtained by twisting the metal strands 21 and then compression-processing so that the cross-sectional shape perpendicular to the cable longitudinal direction becomes a circular shape can also be used. By using a compressed stranded conductor as the conductor 2, the conductivity is improved, good transmission characteristics can be obtained, and bendability can be maintained. Further, from the viewpoint of improving conductivity and mechanical strength, the metal wire 21 includes tin (Sn), silver (Ag), indium (In), titanium (Ti), magnesium (Mg), iron (Fe) and the like. It may be a copper alloy wire containing.

絶縁体3は、例えば、PFAやFEP(四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体)フッ素樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等からなる。絶縁体3は、発泡樹脂であってもよく、耐熱性を向上すべく架橋された樹脂で構成されてもよい。また、絶縁体3は、さらに多層構造となっていてもよい。例えば、導体2の周囲に非発泡のポリエチレンからなる第1非発泡層を設け、第1非発泡層の周囲に発泡ポリエチレンからなる発泡層を設け、発泡層の周囲に非発泡のポリエチレンからなる第2非発泡層を設けた3層構成とすることもできる。本実施の形態では、導体2の周囲に、PFAからなる絶縁体3をチューブ押出しにより形成した。絶縁体3をチューブ押出しにより形成することで、端末加工時に導体2から絶縁体3を剥がし易くなり、端末加工性が向上する。 The insulator 3 is made of, for example, PFA, FEP (fluorinated ethylene / propylene hexafluoride copolymer) fluororesin, polyethylene, polypropylene or the like. The insulator 3 may be a foamed resin or may be made of a crosslinked resin in order to improve heat resistance. Further, the insulator 3 may have a multi-layer structure. For example, a first non-foaming layer made of non-foaming polyethylene is provided around the conductor 2, a foaming layer made of foamed polyethylene is provided around the first non-foaming layer, and a first non-foaming polyethylene is provided around the foaming layer. It is also possible to have a three-layer structure in which two non-foamed layers are provided. In the present embodiment, an insulator 3 made of PFA is formed by tube extrusion around the conductor 2. By forming the insulator 3 by extruding a tube, it becomes easy to peel off the insulator 3 from the conductor 2 at the time of terminal processing, and the terminal workability is improved.

シース5は、例えば、PFAやFEP等のフッ素樹脂、ポリ塩化ビニル、架橋ポリオレフィン等からなる。本実施の形態では、フッ素樹脂からなるシース5をチューブ押出しにより形成した。 The sheath 5 is made of, for example, a fluororesin such as PFA or FEP, polyvinyl chloride, crosslinked polyolefin or the like. In the present embodiment, the sheath 5 made of fluororesin is formed by tube extrusion.

(シールド層4)
本実施の形態に係る同軸ケーブル1では、シールド層4は、絶縁体3の周囲に複数の金属素線411を螺旋状に巻き付けた横巻きシールド部41と、横巻きシールド部41の周囲全体を一括して覆うように設けられた導電性の一括めっき部42と、を有する。
(Shield layer 4)
In the coaxial cable 1 according to the present embodiment, the shield layer 4 includes a horizontal winding shield portion 41 in which a plurality of metal strands 411 are spirally wound around the insulator 3, and the entire circumference of the horizontal winding shield portion 41. It has a conductive batch plating portion 42 provided so as to collectively cover it.

本実施の形態では、一括めっき部42によって金属素線411が固定されることになるため、同軸ケーブル1の曲げやすさを確保するために、金属素線411としては、塑性変形しやすい低耐力な材質からなるものを用いる必要がある。より具体的には、金属素線411としては、引張強さが200MPa以上380Pa以下であり、かつ伸びが7%以上20%以下であるものを用いるとよい。 In the present embodiment, the metal wire 411 is fixed by the collective plating portion 42. Therefore, in order to ensure the bendability of the coaxial cable 1, the metal wire 411 has a low yield strength that is easily plastically deformed. It is necessary to use a material made of various materials. More specifically, as the metal wire 411, it is preferable to use a metal wire having a tensile strength of 200 MPa or more and 380 Pa or less and an elongation of 7% or more and 20% or less.

本実施の形態では、金属素線411として、軟銅線からなる金属線411aの周囲に銀からなるめっき層411bを有する銀めっき軟銅線を用いた。なお、金属線411aとしては、軟銅線に限らず、銅合金線、アルミニウム線、アルミニウム合金線、あるいは純銅に微量の金属元素(例えば、チタン、マグネシウム等)を添加した低軟化温度の線材等を用いることができる。また、めっき層411bを構成する金属は銀に限らず、例えば錫や金であってもよい。ただし、同軸ケーブル1の電気特性を良好とするために、めっき層411bは導電率が高いことが望ましく、少なくとも一括めっき部42よりも導電率が高い材質からなるものを用いることが望ましい。すなわち、導電率が高い銀からなるめっき層411bを用いることがより好ましいといえる。ここでは、外径0.025mmの銀めっき軟銅線からなる金属素線411を22本用いることで、横巻きシールド部41を形成した。 In the present embodiment, as the metal strand 411, a silver-plated annealed copper wire having a plating layer 411b made of silver around the metal wire 411a made of annealed copper wire is used. The metal wire 411a is not limited to annealed copper wire, but may be a copper alloy wire, an aluminum wire, an aluminum alloy wire, or a wire having a low softening temperature in which a trace amount of a metal element (for example, titanium, magnesium, etc.) is added to pure copper. Can be used. Further, the metal constituting the plating layer 411b is not limited to silver, and may be, for example, tin or gold. However, in order to improve the electrical characteristics of the coaxial cable 1, it is desirable that the plating layer 411b has a high conductivity, and it is desirable to use a material having at least a higher conductivity than the batch plating portion 42. That is, it can be said that it is more preferable to use the plating layer 411b made of silver having high conductivity. Here, the horizontal winding shield portion 41 is formed by using 22 metal strands 411 made of silver-plated annealed copper wire having an outer diameter of 0.025 mm.

また、本実施の形態では、溶融めっきからなる一括めっき部42として、錫からなるものを用いた。ただし、これに限らず、一括めっき部42として、例えば銀、金、銅、亜鉛等からなるものを用いることができる。ただし、製造の容易さの観点から、錫からなる一括めっき部42を用いることがより好ましいといえる。 Further, in the present embodiment, as the batch plating portion 42 made of hot-dip plating, one made of tin is used. However, the present invention is not limited to this, and as the batch plating portion 42, for example, one made of silver, gold, copper, zinc or the like can be used. However, from the viewpoint of ease of manufacture, it can be said that it is more preferable to use the batch plating portion 42 made of tin.

図2は、一括めっき部42の形成を説明する図である。まず、一括めっき部42の形成に先立ち、絶縁体3の周囲に複数本の金属素線411を撚り合わせて横巻きシールド部41を形成する。絶縁体3の周囲に横巻きシールド部41を形成したものをケーブル基体101と呼称する。一括めっき部42を形成する際は、まず、送り出し装置102にケーブル基体101を巻き付けたドラム102aをセットし、送り出し装置102からケーブル基体101を送り出す。送り出し装置102から送り出されたケーブル基体101は、フラックス槽103に導入され、ケーブル基体101の周囲(すなわち横巻きシールド部41の周囲)に、フラックスが塗布される。フラックスは、横巻きシールド部41の周囲全体に溶融した錫が一括して付着しやすくするためのものであり、例えば、ロジン系のフラックス等を用いることができる。フラックス槽103を通過したケーブル基体101は、250℃以上300℃未満の温度に溶融した錫を貯留しためっき槽104に導入され、ダイス105を通過する。ダイス105の通過後に残った錫が冷却されることで、一括めっき部42が形成される。すなわち、一括めっき部42は、溶融めっきによって形成された溶融めっき層である。その後、一括めっき部42を形成したケーブル基体101を、巻き取り機106で巻き取る。なお、横巻きシールド部41が形成されたケーブル基体101をめっき槽104に通すときの線速度は、例えば、40m/min以上80m/min以下であり、より好ましくは、50m/min以上70m/min以下である。 FIG. 2 is a diagram illustrating the formation of the batch plating portion 42. First, prior to the formation of the batch plating portion 42, a plurality of metal strands 411 are twisted around the insulator 3 to form the horizontal winding shield portion 41. A cable substrate 101 in which a laterally wound shield portion 41 is formed around the insulator 3 is referred to as a cable substrate 101. When forming the batch plating portion 42, first, the drum 102a around which the cable substrate 101 is wound is set in the delivery device 102, and the cable substrate 101 is sent out from the delivery device 102. The cable substrate 101 delivered from the delivery device 102 is introduced into the flux tank 103, and the flux is applied to the periphery of the cable substrate 101 (that is, the periphery of the horizontal winding shield portion 41). The flux is for facilitating the simultaneous adhesion of molten tin to the entire circumference of the horizontal winding shield portion 41, and for example, a rosin-based flux or the like can be used. The cable substrate 101 that has passed through the flux tank 103 is introduced into the plating tank 104 that stores tin melted at a temperature of 250 ° C. or higher and lower than 300 ° C., and passes through the die 105. The tin remaining after passing through the die 105 is cooled to form the batch plating portion 42. That is, the batch plating portion 42 is a hot-dip plating layer formed by hot-dip plating. After that, the cable substrate 101 on which the batch plating portion 42 is formed is wound up by the winder 106. The linear velocity when the cable substrate 101 on which the horizontal winding shield portion 41 is formed is passed through the plating tank 104 is, for example, 40 m / min or more and 80 m / min or less, and more preferably 50 m / min or more and 70 m / min or less. It is as follows.

一括めっき部42を形成する際、溶融した錫(すなわち、溶融めっき)に接触する部分のめっき層411bを構成する銀はめっき槽104内の錫に拡散し、金属素線411と一括めっき部42との間(すなわち、金属線411aと一括めっき部42との間であって、当該金属線411の表面と接する部分)に銅と錫を含む金属間化合物411cが形成される。本発明者らがSEM(走査型電子顕微鏡)を用いたEDX分析(エネルギー分散型X線分光法による分析)を行ったところ、金属素線411の表面(金属素線411と一括めっき部42との間)に、銅と錫とからなる金属間化合物411cが層状に存在することが確認できた。すなわち、金属間化合物411cは、溶融めっきからなる一括めっき部42を構成する金属元素(錫等)と金属素線411の主成分を構成する金属元素(銅等)とが金属的に拡散反応して金属素線411の表面に化合物層が形成されたものである。金属間化合物411cの層の厚さは、例えば0.2μm~1.5μm程度である。なお、金属間化合物411cには、めっき層411bを構成する銀が含まれていると考えられるが、金属間化合物411cにおける銀の含有量は、EDX分析で検出が難しい程度のごく微量である。 When forming the batch plating portion 42, the silver constituting the plating layer 411b of the portion in contact with the molten tin (that is, hot-dip plating) diffuses into the tin in the plating tank 104, and the metal strand 411 and the batch plating portion 42 (That is, the portion between the metal wire 411a and the batch plating portion 42 that is in contact with the surface of the metal wire 411), an intermetal compound 411c containing copper and tin is formed. When the present inventors performed EDX analysis (analysis by energy dispersive X-ray spectroscopy) using SEM (scanning electron microscope), the surface of the metal wire 411 (the metal wire 411 and the batch plating portion 42) It was confirmed that the intermetallic compound 411c composed of copper and tin was present in layers. That is, in the intermetallic compound 411c, the metal element (tin, etc.) constituting the batch plating portion 42 made of hot-dip plating and the metal element (copper, etc.) constituting the main component of the metal strand 411 undergo a metallic diffusion reaction. A compound layer is formed on the surface of the metal wire 411. The thickness of the layer of the intermetallic compound 411c is, for example, about 0.2 μm to 1.5 μm. It is considered that the intermetallic compound 411c contains silver constituting the plating layer 411b, but the silver content in the intermetallic compound 411c is so small that it is difficult to detect by EDX analysis.

シールド層4は、金属素線411と一括めっき部42との間に金属間化合物411cが形成されることにより、同軸ケーブル1を繰り返し曲げたときや捩ったときに、金属素線411の表面から一括めっき部42が剥がれにくく、金属素線411と一括めっき部42との間に隙間が生じにくくなる。これにより、同軸ケーブル1では、曲げや捩りが加わった場合にも、横巻シールド部41の外側から一括めっき部42によって横巻シールド部41を固定した状態を保つことができ、シールド層4と導体2との距離が変化しにくくなる。そのため、同軸ケーブル1では、曲げや捩りによってシールド効果の低下が生じにくく、所定の周波数帯域で急激な減衰も生じにくくすることができる。金属間化合物411cの層の厚さは、例えば、光学顕微鏡あるいは電子顕微鏡を用いて、同軸ケーブル1の横断面(同軸ケーブル1の長手方向に垂直な断面)を観察することにより求められる。 The shield layer 4 has an intermetallic compound 411c formed between the metal wire 411 and the batch plating portion 42, so that the surface of the metal wire 411 is formed when the coaxial cable 1 is repeatedly bent or twisted. The batch plating portion 42 is less likely to come off, and a gap is less likely to occur between the metal wire 411 and the batch plating portion 42. As a result, in the coaxial cable 1, even if bending or twisting is applied, the horizontal winding shield portion 41 can be kept fixed by the collective plating portion 42 from the outside of the horizontal winding shield portion 41, and the shield layer 4 and the shield layer 4 can be maintained. The distance to the conductor 2 is less likely to change. Therefore, in the coaxial cable 1, it is possible to prevent the shielding effect from being lowered due to bending or twisting, and it is possible to prevent abrupt attenuation from occurring in a predetermined frequency band. The thickness of the layer of the intermetallic compound 411c is determined by observing the cross section of the coaxial cable 1 (the cross section perpendicular to the longitudinal direction of the coaxial cable 1) using, for example, an optical microscope or an electron microscope.

一括めっき部42と接触しない部分の金属素線411(めっき時に溶融した錫と接触しない部分の金属素線411)には、銀からなるめっき層411bが残存する。すなわち、ケーブル径方向において内側(絶縁体3側)の部分の金属素線411には、銀からなるめっき層411bが残存する。すなわち、本実施の形態に係る同軸ケーブル1におけるシールド層4は、複数の金属素線411が一括めっき部4によって覆われる外周部分4aよりも、複数の金属素線411が一括めっき部41で覆われておらずめっき層411bが露出した内周部分4bの導電率が高くなっている。高周波信号の伝送においては、電流はシールド層4における絶縁体3側に集中するため、銀等の高い導電率を有するめっき層411bがシールド層4の内周部分4bに存在することにより、シールド層4の導電性の低下を抑制し、良好な減衰特性を維持することが可能になる。一括めっき部42を構成する錫めっきの導電率は15%IACSであり、めっき層411bを構成する銀めっきの導電率は108%IACSである。 A plating layer 411b made of silver remains on the metal wire 411 in the portion that does not come into contact with the batch plating portion 42 (the metal wire 411 in the portion that does not come into contact with the tin melted during plating). That is, the plating layer 411b made of silver remains on the metal strand 411 at the inner side (insulator 3 side) in the cable radial direction. That is, in the shield layer 4 of the coaxial cable 1 according to the present embodiment, the plurality of metal strands 411 are covered by the batch plating portion 41 rather than the outer peripheral portion 4a in which the plurality of metal strands 411 are covered by the batch plating portion 4. The conductivity of the inner peripheral portion 4b where the plating layer 411b is exposed is high. In the transmission of high-frequency signals, the current is concentrated on the insulator 3 side of the shield layer 4, so that the plating layer 411b having high conductivity such as silver is present in the inner peripheral portion 4b of the shield layer 4, so that the shield layer is formed. It is possible to suppress the decrease in conductivity of 4 and maintain good damping characteristics. The conductivity of the tin plating constituting the batch plating portion 42 is 15% IACS, and the conductivity of the silver plating constituting the plating layer 411b is 108% IACS.

なお、ここでいう外周部分4aとは、金属素線411が溶融めっき時に溶融しためっき(錫等)に接触する部分(すなわち金属間化合物411cが形成された部分)である。また、内周部分4bとは、銀めっき等からなるめっき層411bが残存している部分である。 The outer peripheral portion 4a referred to here is a portion where the metal wire 411 comes into contact with the plating (tin or the like) melted during hot-dip plating (that is, a portion where the intermetallic compound 411c is formed). The inner peripheral portion 4b is a portion where the plating layer 411b made of silver plating or the like remains.

(連結部43の説明)
シールド層4は、周方向に隣り合う金属素線同士が離間している離間部分45を有している。なお、全ての金属素線411が離間している必要はなく、周方向に隣り合う一部の金属素線411同士が接触している接触部分が存在してもよい。なお、接触部分では、横巻きシールド部41の外周において、周方向に隣り合う金属素線411同士の間が一括めっき部42によって充填された充填部を有する。
(Explanation of connecting portion 43)
The shield layer 4 has a separated portion 45 in which metal strands adjacent to each other in the circumferential direction are separated from each other. It is not necessary that all the metal strands 411 are separated from each other, and there may be a contact portion in which some of the metal strands 411 adjacent to each other in the circumferential direction are in contact with each other. The contact portion has a filling portion on the outer periphery of the horizontal winding shield portion 41 in which the metal strands 411 adjacent to each other in the circumferential direction are filled by the batch plating portion 42.

そして、シールド層4は、周方向に隣り合う金属素線411同士が一括めっき部42により連結されている連結部43を有している。一括めっき部42は、周方向および軸方向において横巻きシールド部41の周囲全体を一括して覆い、複数の金属素線411を機械的及び電気的に接続するように設けられることが望ましい。本実施の形態に係る同軸ケーブル1のシールド層4では、隣り合う内周部分4bの間に連結部43が設けられている。内周部分4bの周囲は一括めっき部42により覆われていないため、隣り合う金属素線411の内周部分4b同士の間で、かつ、絶縁体3の外面と一括めっき部42(連結部43)の内面との間には、空気層44が存在する。この空気層44に関し、絶縁体3の外面と対向する連結部43の内面は、連結部43の内部側へ凹むように湾曲した形状を有している。このような湾曲した形状を有することにより、絶縁体3の外面と連結部43の内面との間に所定の大きさの空気層44を設けることができるため、シールド効果の低下が生じにくく、所定の周波数帯域(例えば、26GHzまでの周波数帯域)で急激な減衰が生じにくい同軸ケーブル1とすることができる。 The shield layer 4 has a connecting portion 43 in which metal strands 411 adjacent to each other in the circumferential direction are connected by a batch plating portion 42. It is desirable that the batch plating portion 42 is provided so as to collectively cover the entire circumference of the lateral winding shield portion 41 in the circumferential direction and the axial direction, and to mechanically and electrically connect a plurality of metal strands 411. In the shield layer 4 of the coaxial cable 1 according to the present embodiment, a connecting portion 43 is provided between adjacent inner peripheral portions 4b. Since the periphery of the inner peripheral portion 4b is not covered by the collective plating portion 42, it is between the inner peripheral portions 4b of the adjacent metal strands 411 and between the outer surface of the insulator 3 and the collective plating portion 42 (connecting portion 43). ), There is an air layer 44 between the inner surface and the inner surface. With respect to the air layer 44, the inner surface of the connecting portion 43 facing the outer surface of the insulator 3 has a shape curved so as to be recessed toward the inner side of the connecting portion 43. By having such a curved shape, an air layer 44 having a predetermined size can be provided between the outer surface of the insulator 3 and the inner surface of the connecting portion 43, so that the shielding effect is less likely to deteriorate and the predetermined size is determined. It is possible to use the coaxial cable 1 in which abrupt attenuation is unlikely to occur in the frequency band (for example, the frequency band up to 26 GHz).

図3は、同軸ケーブル1を実際に試作し、シールド層4を剥がして観察した際の写真及びその拡大写真である。図3に示すように、本実施の形態では、シールド層4の少なくとも一部において、ケーブル径方向内側(絶縁体3の表面からシールド層4へ向かう方向)から見て、連結部32を構成する一括めっき部42と、内周部分4bで露出するめっき層411bとが、金属素線411の長手方向に対して垂直な方向に交互に配置されている。すなわち、シールド層4を径方向内側から見ると、一括めっき部42を構成する錫と、めっき層411bを構成する銀とが、縞状に交互に配置された状態となっている。 FIG. 3 is a photograph and an enlarged photograph thereof when the coaxial cable 1 is actually prototyped, the shield layer 4 is peeled off, and observed. As shown in FIG. 3, in the present embodiment, at least a part of the shield layer 4 constitutes the connecting portion 32 when viewed from the inside in the cable radial direction (direction from the surface of the insulator 3 toward the shield layer 4). The batch plating portion 42 and the plating layer 411b exposed at the inner peripheral portion 4b are alternately arranged in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the metal wire 411. That is, when the shield layer 4 is viewed from the inside in the radial direction, the tin constituting the collective plating portion 42 and the silver constituting the plating layer 411b are alternately arranged in a striped pattern.

隣り合う内周部分4bの間に連結部43を有することにより、例えば周方向に隣り合う全ての金属素線411同士が接触する場合と比べて、曲げや捩れを加えたときに一括めっき部42が割れたり剥がれたりしにくくなる。すなわち、金属素線441同士が離間している部分が一括めっき部42によって連結された連結部43は、金属素線411よりも柔軟性のある溶融めっきからなる一括めっき部42のみで構成される。曲げや捻回が加わったときに、連結部分の一括めっき部42が伸張するように作用し、シールド層4全体の柔軟性が向上する。これにより、曲げや捩れを加えたときに一括めっき部42が割れたり剥がれたりしにくくなる。なお、周方向に隣り合う金属素線411同士が離間する距離は、一方の金属素線411の表面から他方の金属素線411までの最短距離が金属素線411の外径の半分以下であると、上述した作用効果が得られやすい。 By having the connecting portion 43 between the adjacent inner peripheral portions 4b, for example, as compared with the case where all the metal strands 411 adjacent in the circumferential direction come into contact with each other, the batch plating portion 42 is subjected to bending or twisting. Is less likely to crack or peel off. That is, the connecting portion 43 in which the portions where the metal strands 441 are separated from each other are connected by the batch plating portion 42 is composed of only the batch plating portion 42 made of hot-dip plating that is more flexible than the metal strands 411. .. When bending or twisting is applied, the collective plating portion 42 of the connecting portion acts to stretch, and the flexibility of the entire shield layer 4 is improved. As a result, the batch plating portion 42 is less likely to crack or peel off when bent or twisted. The distance between the adjacent metal strands 411 in the circumferential direction is such that the shortest distance from the surface of one metal strand 411 to the other metal strand 411 is less than half the outer diameter of the metal strand 411. And, the above-mentioned action and effect can be easily obtained.

また、連結部43における一括めっき部42の径方向に沿った厚さW(連結部43における一括めっき部42の内面から外面までの最小の直線距離)は、例えば、金属素線411の外径(直径)dの30%(0.3×d)以上であると、一括めっき部42の割れが生じにくくなる。特に、連結部43における一括めっき部42の厚さWは、金属素線411の外径(直径)dと同じか、それよりも大きい場合に、金属素線411同士の接合強度が大きくなり、更に割れが生じにくくなる。また、同軸ケーブル1では、一括めっき部42が上述したような連結部43を有することにより、ケーブルアセンブリを行うときに、横巻シールド部41を構成する複数の金属素線411が一括めっき部42にくっついた状態で、複数の金属素線411の巻き方向に沿って螺旋状に巻き回しながらシールド層4が除去しやすくなる。連結部43における一括めっき部42の厚さWの上限値としては、例えば、金属素線411の外径dの130%(1.3×d)であるとよい。なお、金属素線411の外径dは、例えば、0.02mm~0.10mmである。連結部43の厚さWや金属素線411の外径dは、例えば、光学顕微鏡あるいは電子顕微鏡を用いて、同軸ケーブル1の横断面(同軸ケーブル1の長手方向に垂直な断面)を観察することにより求められる。 Further, the thickness W (the minimum linear distance from the inner surface to the outer surface of the collective plating portion 42 in the connecting portion 43) along the radial direction of the collective plating portion 42 in the connecting portion 43 is, for example, the outer diameter of the metal strand 411. When it is 30% (0.3 × d) or more of (diameter) d, cracking of the batch plating portion 42 is less likely to occur. In particular, when the thickness W of the batch plating portion 42 in the connecting portion 43 is the same as or larger than the outer diameter (diameter) d of the metal strands 411, the bonding strength between the metal strands 411 becomes large. Further, cracking is less likely to occur. Further, in the coaxial cable 1, since the collective plating portion 42 has the connecting portion 43 as described above, when the cable assembly is performed, the plurality of metal strands 411 constituting the horizontal winding shield portion 41 are combined with the collective plating portion 42. The shield layer 4 can be easily removed while spirally winding along the winding direction of the plurality of metal strands 411 in a state of being attached to the coaxial wire. The upper limit of the thickness W of the collective plating portion 42 in the connecting portion 43 may be, for example, 130% (1.3 × d) of the outer diameter d of the metal wire 411. The outer diameter d of the metal wire 411 is, for example, 0.02 mm to 0.10 mm. For the thickness W of the connecting portion 43 and the outer diameter d of the metal wire 411, for example, the cross section of the coaxial cable 1 (the cross section perpendicular to the longitudinal direction of the coaxial cable 1) is observed using an optical microscope or an electron microscope. It is required by that.

例えば、シールド層4を横巻きシールド部41のみで構成すると、金属素線411間に隙間が発生してノイズ特性が低下してしまう。さらに、金属素線411の間に生じる隙間の影響により、所定の周波数帯域(例えば、10GHz~25GHzの帯域)で急激な減衰が生じるサックアウトと呼ばれる現象が発生してしまう。本実施の形態のように、横巻きシールド部41の周囲全体を覆うように溶融めっきからなる一括めっき部42を設けることで、一括めっき部42により金属素線411間の隙間を塞ぐことができ、シールド効果を向上できる。これにより、信号伝送の損失が生じにくくなる。さらに、金属素線411間の隙間がなくなることにより、サックアウトの発生を抑制することが可能になる。 For example, if the shield layer 4 is composed of only the horizontal winding shield portion 41, a gap is generated between the metal strands 411 and the noise characteristics are deteriorated. Further, due to the influence of the gap generated between the metal strands 411, a phenomenon called suckout occurs in which abrupt attenuation occurs in a predetermined frequency band (for example, a band of 10 GHz to 25 GHz). As in the present embodiment, by providing the collective plating portion 42 made of hot-dip plating so as to cover the entire circumference of the horizontal winding shield portion 41, the gap between the metal strands 411 can be closed by the collective plating portion 42. , The shielding effect can be improved. This makes signal transmission loss less likely to occur. Further, by eliminating the gap between the metal strands 411, it is possible to suppress the occurrence of suckout.

さらに、横巻きシールド部41の周囲を覆うように一括めっき部42を設けることで、端末加工時にケーブル端末部においてシース5を除去しシールド層4を露出させた際に、金属素線411が解けにくくなり、端末加工を容易に行うことが可能になる。さらにまた、横巻きシールド部41の周囲を覆うように一括めっき部42を設けることで、ケーブル長手方向においてインピーダンスを安定して一定に維持することも可能になる。 Further, by providing the batch plating portion 42 so as to cover the periphery of the horizontal winding shield portion 41, the metal wire 411 is unwound when the sheath 5 is removed at the cable terminal portion to expose the shield layer 4 during terminal processing. It becomes difficult and it becomes possible to easily perform terminal processing. Furthermore, by providing the batch plating portion 42 so as to cover the periphery of the horizontal winding shield portion 41, it is possible to keep the impedance stable and constant in the longitudinal direction of the cable.

図4(a)は、絶縁体3から剥がしたシールド層4において銀が存在する領域を分析した結果を示す写真であり、図4(b)は剥がしたシールド層4において錫が存在する領域を分析した結果を示す写真である。図4(a),(b)とも、剥がしたシールド層4をケーブル径方向内側から観察した状態を示しており、両者の縮尺は同じとなっている。図4(a)では、色が薄い部分が銀(Ag)が存在している領域を表しており、図4(b)では、色が薄い部分が錫(Sn)が存在している領域を表している。なお、図4(a),(b)は、SEMを用いたEDX分析から得られるデータを元素マッピングすることにより得られたものである。 FIG. 4A is a photograph showing the result of analyzing the region where silver is present in the shield layer 4 peeled off from the insulator 3, and FIG. 4B is a photograph showing the region where tin is present in the peeled shield layer 4. It is a photograph showing the result of analysis. Both FIGS. 4A and 4B show a state in which the peeled shield layer 4 is observed from the inside in the radial direction of the cable, and the scales of both are the same. In FIG. 4A, the light-colored portion represents the region where silver (Ag) is present, and in FIG. 4B, the light-colored portion represents the region where tin (Sn) is present. Represents. Note that FIGS. 4 (a) and 4 (b) are obtained by elementally mapping the data obtained from EDX analysis using SEM.

図4(a),(b)に示すように、シールド層4では、ケーブル径方向内側から見て、銀(Ag)が存在している領域の幅が、錫(Sn)が存在している領域の幅よりも大きくなっている。すなわち、本実施の形態では、ケーブル径方向内側から見て、内周部分4bで露出するめっき層411bの幅が、連結部43を構成する一括めっき部42の幅よりも大きくなっている。ここでいう幅とは、めっき層411bと一括めっき部42の配列方向(図4(a),(b)の上下方向)における幅であり、金属素線411の長手方向に対して垂直な方向の幅をいう。 As shown in FIGS. 4A and 4B, in the shield layer 4, tin (Sn) is present in the width of the region where silver (Ag) is present when viewed from the inside in the cable radial direction. It is larger than the width of the area. That is, in the present embodiment, the width of the plating layer 411b exposed at the inner peripheral portion 4b is larger than the width of the collective plating portion 42 constituting the connecting portion 43 when viewed from the inside in the radial direction of the cable. The width referred to here is the width in the arrangement direction (vertical direction of FIGS. 4A and 4B) of the plating layer 411b and the collective plating portion 42, and is a direction perpendicular to the longitudinal direction of the metal wire 411. The width of.

絶縁体3側からシールド層4に電流(シールド電流)が流れる際、このシールド電流が、導電率が高い銀からなるめっき層411bへと流れた方が、損失が小さくなり、伝送特性が向上する。そのため、本実施の形態のように、ケーブル径方向内側から見て、めっき層411bの幅を、一括めっき部42(連結部43)の幅よりも大きくすることで、シールド電流がめっき層411bへと流れやすくなり、伝送特性を向上させることが可能になる。特に、めっき層411bの幅が大きいほど、内周部分4bの領域が大きくなり、絶縁体3から一括めっき部42(連結部43)の内面までの距離が遠くなるため、錫からなる一括めっき部42にシールド電流が流れにくくなり、伝送特性がより向上する。 When a current (shielding current) flows from the insulator 3 side to the shield layer 4, the loss is smaller and the transmission characteristics are improved when this shield current flows to the plating layer 411b made of silver having high conductivity. .. Therefore, as in the present embodiment, by making the width of the plating layer 411b larger than the width of the collective plating portion 42 (connecting portion 43) when viewed from the inside in the cable radial direction, the shield current is transferred to the plating layer 411b. It becomes easier to flow and it becomes possible to improve the transmission characteristics. In particular, the wider the width of the plating layer 411b, the larger the region of the inner peripheral portion 4b, and the longer the distance from the insulator 3 to the inner surface of the batch plating portion 42 (connecting portion 43). The shield current is less likely to flow in 42, and the transmission characteristics are further improved.

(同軸ケーブル1の特性評価)
本実施の形態に係る同軸ケーブル1を作製して実施例とし、周波数特性の評価を行った。ケーブル長は、1mとした。また、実施例における同軸ケーブル1では、導体2として外径が0.023mmの軟銅線からなる金属素線21を7本撚り合わせたものを用い、絶縁体3としてPFA(パーフルオロアルコキシアルカン)をチューブ押出ししてなるものを用い、横巻きシールド部41として外径が0.025mm(43AWG)で表面に銀めっきを有する金属素線411を22本螺旋状に巻き付けしたものを用い、一括めっき部42として溶融した錫からなる溶融めっきを用い、シース5としてフッ素樹脂からなるものを用いた。周波数特性の評価では、ネットワークアナライザを用いて、伝送特性S21の測定を行った。測定範囲は10MHz~30GHzとし、出力パワーは-8dBmとした。測定結果を図5に示す。
(Characteristic evaluation of coaxial cable 1)
The coaxial cable 1 according to the present embodiment was produced and used as an example, and the frequency characteristics were evaluated. The cable length was 1 m. Further, in the coaxial cable 1 in the embodiment, a conductor 2 made by twisting seven metal strands 21 made of annealed copper wire having an outer diameter of 0.023 mm is used, and PFA (perfluoroalkoxyalkane) is used as the insulator 3. A tube-extruded one is used, and 22 metal strands 411 having an outer diameter of 0.025 mm (43 AWG) and silver plating on the surface are spirally wound as the horizontal winding shield portion 41, and the batch plating portion is used. As 42, hot-dip plating made of molten tin was used, and as the sheath 5, one made of fluororesin was used. In the evaluation of the frequency characteristic, the transmission characteristic S21 was measured using a network analyzer. The measurement range was 10 MHz to 30 GHz, and the output power was −8 dBm. The measurement results are shown in FIG.

図5に示すように、実施例の同軸ケーブル1では、20GHz以降まで(例えば、26GHzまで)急激な減衰がみられず、サックアウトが抑制されていることが確認できた。図5の結果より、少なくとも25GHz以下の周波数帯域において、サックアウトフリーとなっていることが確認できた。 As shown in FIG. 5, in the coaxial cable 1 of the embodiment, no rapid attenuation was observed up to 20 GHz or later (for example, up to 26 GHz), and it was confirmed that the suckout was suppressed. From the result of FIG. 5, it was confirmed that it was suck-out free in the frequency band of at least 25 GHz or less.

(ケーブルアセンブリ)
次に、同軸ケーブル1を用いたケーブルアセンブリについて説明する。図6は、本実施の形態に係るケーブルアセンブリの端末部を示す断面図である。
(Cable assembly)
Next, a cable assembly using the coaxial cable 1 will be described. FIG. 6 is a cross-sectional view showing a terminal portion of the cable assembly according to the present embodiment.

図6に示すように、ケーブルアセンブリ10は、本実施の形態に係る同軸ケーブル1と、同軸ケーブル1の少なくとも一方の端部に一体に設けられた端末部材11と、を備えている。 As shown in FIG. 6, the cable assembly 10 includes a coaxial cable 1 according to the present embodiment and a terminal member 11 integrally provided at at least one end of the coaxial cable 1.

端末部材11は、例えば、コネクタ、センサ、コネクタやセンサ内に搭載される基板、あるいは電子機器内の基板等である。図6では、端末部材11が基板11aである場合を示している。基板11aには、導体2が接続される信号電極12、及び、シールド層4が接続されるグランド電極13が形成されている。基板11aは、樹脂からなる基材16に信号電極12及びグランド電極13を含む導体パターンが印刷されたプリント基板からなる。 The terminal member 11 is, for example, a connector, a sensor, a substrate mounted on the connector or the sensor, a substrate in an electronic device, or the like. FIG. 6 shows a case where the terminal member 11 is a substrate 11a. The substrate 11a is formed with a signal electrode 12 to which the conductor 2 is connected and a ground electrode 13 to which the shield layer 4 is connected. The substrate 11a is a printed circuit board on which a conductor pattern including a signal electrode 12 and a ground electrode 13 is printed on a base material 16 made of resin.

同軸ケーブル1の端末部においては、端末から所定長さの部分のシース5が除去されシールド層4が露出されており、さらに露出されたシールド層4及び絶縁体3の端末部が除去され導体2が露出されている。露出された導体2が半田等の接続材14によって信号電極12に固定され、導体2が信号電極12に電気的に接続されている。また、露出されたシールド層4が半田等の接続材15によってグランド電極13に固定され、シールド層4がグランド電極13に電気的に接続されている。なお、導体2やシールド層4の接続は半田等の接続材14,15を用いずともよく、例えば、固定用の金具に導体2やシールド層4を加締め等により固定することで、導体2やシールド層4を接続してもよい。また、端末部材11がコネクタやセンサである場合、導体2やシールド層4を直接電極や素子に接続する構成としてもよい。 In the terminal portion of the coaxial cable 1, the sheath 5 having a predetermined length is removed from the terminal to expose the shield layer 4, and the exposed shield layer 4 and the terminal portion of the insulator 3 are removed to expose the conductor 2. Is exposed. The exposed conductor 2 is fixed to the signal electrode 12 by a connecting material 14 such as solder, and the conductor 2 is electrically connected to the signal electrode 12. Further, the exposed shield layer 4 is fixed to the ground electrode 13 by a connecting material 15 such as solder, and the shield layer 4 is electrically connected to the ground electrode 13. The conductor 2 and the shield layer 4 need not be connected by using connecting materials 14 and 15 such as solder. For example, the conductor 2 and the shield layer 4 are fixed to the fixing metal fittings by crimping or the like. Or the shield layer 4 may be connected. Further, when the terminal member 11 is a connector or a sensor, the conductor 2 or the shield layer 4 may be directly connected to the electrode or the element.

(実施の形態の作用及び効果)
以上説明したように、本実施の形態に係る同軸ケーブル1では、シールド層4は、絶縁体3の周囲を覆うように複数の金属素線411が螺旋状に巻き付けされた横巻きシールド部41と、横巻きシールド部41の周囲を覆う溶融めっきからなる一括めっき部42と、を有し、シールド層4は、周方向に隣り合う金属素線411同士が離間している離間部分45において、周方向に隣り合う金属素線411同士が一括めっき部42により連結されている連結部43を有し、かつ、シールド層4は、複数の金属素線411が一括めっき部42で覆われておらずめっき層411bが露出した内周部分4bを有し、隣り合う内周部分4bの間に連結部43が設けられている。
(Actions and effects of embodiments)
As described above, in the coaxial cable 1 according to the present embodiment, the shield layer 4 is the horizontal winding shield portion 41 in which a plurality of metal strands 411 are spirally wound so as to cover the periphery of the insulator 3. The shield layer 4 has a peripheral plating portion 42 made of hot-dip plating that covers the periphery of the horizontal winding shield portion 41, and the shield layer 4 is peripherally formed at a separated portion 45 in which metal strands 411 adjacent to each other in the circumferential direction are separated from each other. The shield layer 4 has a connecting portion 43 in which metal strands 411 adjacent to each other in the direction are connected to each other by a batch plating portion 42, and a plurality of metal strands 411 are not covered by the batch plating portion 42 in the shield layer 4. The plating layer 411b has an exposed inner peripheral portion 4b, and a connecting portion 43 is provided between adjacent inner peripheral portions 4b.

このように構成することで、シールド層4が一括めっき部42を介して略全周で繋がることになり、横巻きシールド部41の金属素線411間の隙間を一括めっき部42で塞ぐことが可能になり、ノイズ特性を向上し、サックアウトの発生を抑制することが可能になる。すなわち、本実施の形態によれば、シールド効果の低下が生じにくく、所定の周波数帯域(例えば、26GHzまでの周波数帯域)で急激な減衰が生じにくい同軸ケーブル1を実現できる。さらに、金属素線411同士の間に入り込むように一括めっき部42が設けられることで、金属素線411同士の接合強度を向上でき、また、一括めっき部42が剥がれにくくなる。 With this configuration, the shield layer 4 is connected to the entire circumference via the batch plating portion 42, and the gap between the metal strands 411 of the horizontal winding shield portion 41 can be closed by the batch plating portion 42. This makes it possible to improve noise characteristics and suppress the occurrence of suckout. That is, according to the present embodiment, it is possible to realize the coaxial cable 1 in which the shielding effect is unlikely to be lowered and the rapid attenuation is unlikely to occur in a predetermined frequency band (for example, a frequency band up to 26 GHz). Further, by providing the batch plating portion 42 so as to enter between the metal strands 411, the bonding strength between the metal strands 411 can be improved, and the batch plating portion 42 is less likely to be peeled off.

(実施の形態のまとめ)
次に、以上説明した実施の形態から把握される技術思想について、実施の形態における符号等を援用して記載する。ただし、以下の記載における各符号等は、特許請求の範囲における構成要素を実施の形態に具体的に示した部材等に限定するものではない。
(Summary of embodiments)
Next, the technical idea grasped from the embodiment described above will be described with reference to the reference numerals and the like in the embodiment. However, the respective reference numerals and the like in the following description are not limited to the members and the like in which the components within the scope of the claims are specifically shown in the embodiment.

[1]導体(2)と、前記導体(2)の周囲を覆う絶縁体(3)と、前記絶縁体(3)の周囲を覆うシールド層(4)と、前記シールド層(4)の周囲を覆うシース(5)と、を備え、前記シールド層(4)は、最外層にめっき層(411b)を有する複数の金属素線(411)を前記絶縁体(3)の周囲に螺旋状に巻き付けて構成された横巻きシールド部(41)と、前記横巻きシールド部(41)の周囲を覆う溶融めっきからなる一括めっき部(42)と、を有し、前記シールド層(4)は、周方向に隣り合う前記金属素線(411)同士が離間している離間部分(45)において、周方向に隣り合う前記金属素線(411)同士が前記一括めっき部(42)により連結されている連結部(43)を有し、かつ、前記シールド層(4)は、前記複数の金属素線(411)が前記一括めっき部(42)で覆われておらず前記めっき層(411b)が露出した内周部分(4b)を有し、隣り合う前記内周部分(4b)の間に前記連結部(43)が設けられている、同軸ケーブル(1)。 [1] The conductor (2), the insulator (3) that covers the periphery of the conductor (2), the shield layer (4) that covers the periphery of the insulator (3), and the periphery of the shield layer (4). The shield layer (4) has a plurality of metal strands (411) having a plating layer (411b) on the outermost layer in a spiral shape around the insulator (3). The shield layer (4) has a horizontal winding shield portion (41) configured by winding and a collective plating portion (42) made of hot-dip plating that covers the periphery of the horizontal winding shield portion (41). In the separated portion (45) where the metal strands (411) adjacent to each other in the circumferential direction are separated from each other, the metal strands (411) adjacent to each other in the circumferential direction are connected by the collective plating portion (42). In the shield layer (4), the plurality of metal strands (411) are not covered with the collective plating portion (42), and the plating layer (411b) is formed. A coaxial cable (1) having an exposed inner peripheral portion (4b) and having the connecting portion (43) between adjacent inner peripheral portions (4b).

[2]前記シールド層(4)の少なくとも一部において、ケーブル径方向内側から見て、前記連結部(43)を構成する前記一括めっき部(42)と、前記内周部分(4b)で露出する前記めっき層(411b)とが、前記金属素線(411)の長手方向に対して垂直な方向に交互に配置されている、[1]に記載の同軸ケーブル(1)。 [2] At least a part of the shield layer (4) is exposed at the collective plating portion (42) constituting the connecting portion (43) and the inner peripheral portion (4b) when viewed from the inside in the radial direction of the cable. The coaxial cable (1) according to [1], wherein the plating layers (411b) are alternately arranged in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the metal wire (411).

[3]ケーブル径方向内側から見て、前記内周部分(4b)で露出する前記めっき層(411b)の幅が、前記連結部(43)を構成する前記一括めっき部(42)の幅よりも大きい、[2]に記載の同軸ケーブル(1)。 [3] When viewed from the inside in the radial direction of the cable, the width of the plating layer (411b) exposed at the inner peripheral portion (4b) is larger than the width of the collective plating portion (42) constituting the connecting portion (43). The coaxial cable (1) according to [2], which is also large.

[4]前記めっき層(411b)の導電率が、前記一括めっき部(42)の導電率よりも高い、[1]乃至[3]の何れか1項に記載の同軸ケーブル(1)。 [4] The coaxial cable (1) according to any one of [1] to [3], wherein the conductivity of the plating layer (411b) is higher than that of the collective plating portion (42).

[5]前記めっき層(411b)が銀からなり、前記一括めっき部(42)が錫からなる、[1]乃至[4]の何れか1項に記載の同軸ケーブル(1)。 [5] The coaxial cable (1) according to any one of [1] to [4], wherein the plating layer (411b) is made of silver and the collective plating portion (42) is made of tin.

[6]前記シールド層(4)は、前記複数の金属素線(411)が前記一括めっき部(42)によって覆われる外周部分(4a)を有し、前記外周部分(4a)は、前記複数の金属素線(411)と前記一括めっき部(42)との間に金属間化合物(411c)を有する、[1]乃至[5]の何れか1項に記載の同軸ケーブル(1)。 [6] The shield layer (4) has an outer peripheral portion (4a) in which the plurality of metal strands (411) are covered by the batch plating portion (42), and the outer peripheral portion (4a) is the plurality of. The coaxial cable (1) according to any one of [1] to [5], which has an intermetallic compound (411c) between the metal wire (411) and the collective plating portion (42).

[7][1]乃至[6]の何れか1項に記載の同軸ケーブル(1)と、前記同軸ケーブル(1)の少なくとも一方の端部に一体に設けられた端末部材(11)と、を備えた、ケーブルアセンブリ(10)。 [7] The coaxial cable (1) according to any one of [1] to [6], and the terminal member (11) integrally provided at at least one end of the coaxial cable (1). Cable assembly (10).

以上、本発明の実施の形態を説明したが、上記に記載した実施の形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。また、実施の形態の中で説明した特徴の組合せの全てが発明の課題を解決するための手段に必須であるとは限らない点に留意すべきである。また、本発明は、その趣旨を逸脱しない範囲で適宜変形して実施することが可能である。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the embodiments described above do not limit the invention according to the claims. It should also be noted that not all combinations of features described in the embodiments are essential to the means for solving the problems of the invention. Further, the present invention can be appropriately modified and implemented without departing from the spirit of the present invention.

1…同軸ケーブル
2…導体
3…絶縁体
4…シールド層
4a…外周部分
4b…内周部分
41…横巻きシールド部
411…金属素線
411a…金属線
411b…めっき層
411c…金属間化合物
42…一括めっき部
4a…外周部分
4b…内周部分
43…連結部
45…離間部分
5…シース
10…ケーブルアセンブリ
11…端末部材
1 ... Coaxial cable 2 ... Conductor 3 ... Insulator 4 ... Shield layer 4a ... Outer peripheral part 4b ... Inner peripheral part 41 ... Horizontal winding shield part 411 ... Metal wire 411a ... Metal wire 411b ... Plating layer 411c ... Metallic compound 42 ... Batch plating part 4a ... Outer peripheral part 4b ... Inner peripheral part 43 ... Connecting part 45 ... Separation part 5 ... Sheath 10 ... Cable assembly 11 ... Terminal member

Claims (7)

導体と、
前記導体の周囲を覆う絶縁体と、
前記絶縁体の周囲を覆うシールド層と、
前記シールド層の周囲を覆うシースと、を備え、
前記シールド層は、最外層にめっき層を有する複数の金属素線を前記絶縁体の周囲に螺旋状に巻き付けて構成された横巻きシールド部と、前記横巻きシールド部の周囲を覆う溶融めっきからなる一括めっき部と、を有し、
前記シールド層は、周方向に隣り合う前記金属素線同士が離間している離間部分において、周方向に隣り合う前記金属素線同士が前記一括めっき部により連結されている連結部を有し、
かつ、前記シールド層は、前記複数の金属素線が前記一括めっき部で覆われておらず前記めっき層が露出した内周部分を有し、
隣り合う前記内周部分の間に前記連結部が設けられている、
同軸ケーブル。
With the conductor
The insulator that surrounds the conductor and
A shield layer that covers the periphery of the insulator and
A sheath that covers the periphery of the shield layer is provided.
The shield layer is made of a horizontal winding shield portion formed by spirally winding a plurality of metal strands having a plating layer on the outermost layer around the insulator, and melt plating covering the periphery of the horizontal winding shield portion. With a batch plating part,
The shield layer has a connecting portion in which the metal strands adjacent to each other in the circumferential direction are connected by the collective plating portion in a separated portion where the metal strands adjacent to each other in the circumferential direction are separated from each other.
Moreover, the shield layer has an inner peripheral portion in which the plurality of metal strands are not covered by the collective plating portion and the plating layer is exposed.
The connecting portion is provided between the adjacent inner peripheral portions.
coaxial cable.
前記シールド層の少なくとも一部において、ケーブル径方向内側から見て、前記連結部を構成する前記一括めっき部と、前記内周部分で露出する前記めっき層とが、前記金属素線の長手方向に対して垂直な方向に交互に配置されている、
請求項1に記載の同軸ケーブル。
In at least a part of the shield layer, when viewed from the inside in the radial direction of the cable, the collective plating portion constituting the connecting portion and the plating layer exposed at the inner peripheral portion are formed in the longitudinal direction of the metal strand. Alternately arranged in the direction perpendicular to the opposite,
The coaxial cable according to claim 1.
ケーブル径方向内側から見て、前記内周部分で露出する前記めっき層の幅が、前記連結部を構成する前記一括めっき部の幅よりも大きい、
請求項2に記載の同軸ケーブル。
When viewed from the inside in the cable radial direction, the width of the plating layer exposed at the inner peripheral portion is larger than the width of the collective plating portion constituting the connecting portion.
The coaxial cable according to claim 2.
前記めっき層の導電率が、前記一括めっき部の導電率よりも高い、
請求項1乃至3の何れか1項に記載の同軸ケーブル。
The conductivity of the plating layer is higher than that of the batch plating portion.
The coaxial cable according to any one of claims 1 to 3.
前記めっき層が銀からなり、前記一括めっき部が錫からなる、
請求項1乃至4の何れか1項に記載の同軸ケーブル。
The plating layer is made of silver, and the batch plating portion is made of tin.
The coaxial cable according to any one of claims 1 to 4.
前記シールド層は、前記複数の金属素線が前記一括めっき部によって覆われる外周部分を有し、
前記外周部分は、前記複数の金属素線と前記一括めっき部との間に金属間化合物を有する、
請求項1乃至5の何れか1項に記載の同軸ケーブル。
The shield layer has an outer peripheral portion in which the plurality of metal strands are covered by the batch plating portion.
The outer peripheral portion has an intermetallic compound between the plurality of metal strands and the batch plating portion.
The coaxial cable according to any one of claims 1 to 5.
請求項1乃至6の何れか1項に記載の同軸ケーブルと、
前記同軸ケーブルの少なくとも一方の端部に一体に設けられた端末部材と、を備えた、
ケーブルアセンブリ。
The coaxial cable according to any one of claims 1 to 6 and the coaxial cable.
A terminal member integrally provided at at least one end of the coaxial cable.
Cable assembly.
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