JP2022048309A - Optically-transparent film with protective film, and protective film - Google Patents

Optically-transparent film with protective film, and protective film Download PDF

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JP2022048309A JP2022014903A JP2022014903A JP2022048309A JP 2022048309 A JP2022048309 A JP 2022048309A JP 2022014903 A JP2022014903 A JP 2022014903A JP 2022014903 A JP2022014903 A JP 2022014903A JP 2022048309 A JP2022048309 A JP 2022048309A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optically-transparent film with a protective film, which can give an optically-transparent film having excellent smoothness, and to provide a protective film.
SOLUTION: The present invention discloses an optically-transparent film 10 with a protective film, which includes a foldable, optically-transparent film 20 at least having a resin substrate 21, and a protective film 30 stuck to a surface 20A of the optically-transparent film 20 in a detachable manner. The protective film 30 has a thickness of 30 μm or more. The protective film 30 has a haze value of 10% or less, in the optically-transparent film 10.
SELECTED DRAWING: Figure 1
COPYRIGHT: (C)2022,JPO&INPIT

Description

本発明は、保護フィルム付き光透過性フィルムおよび保護フィルムに関する。 The present invention relates to a light transmissive film with a protective film and a protective film.

従来から、スマートフォンやタブレット端末等の画像表示装置が知られているが、現在
、折り畳み可能な画像表示装置の開発が行われている。通常、スマートフォンやタブレッ
ト端末等はカバーガラスで覆われているが、画像表示装置にカバーガラスを用いた場合、
硬度は優れるものの、折り畳もうとすると割れてしまうおそれが高い。このため、折り畳
み可能な画像表示装置には、カバーガラスの代わりに折り畳み可能な光学フィルムを用い
ることが検討されている(例えば、特許文献1参照)。
Conventionally, image display devices such as smartphones and tablet terminals have been known, but foldable image display devices are currently being developed. Normally, smartphones and tablet terminals are covered with a cover glass, but when a cover glass is used for the image display device,
Although it has excellent hardness, it is likely to crack when it is folded. Therefore, it has been studied to use a foldable optical film instead of the cover glass for the foldable image display device (see, for example, Patent Document 1).

特開2016-125063号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-125063

このような光学フィルムの形成には、樹脂基材のみから構成された折り畳み可能な光透
過性フィルムまたは樹脂基材と樹脂基材の少なくとも片面に積層された樹脂層から構成さ
れた折り畳み可能な光透過性フィルムが用いられている。光透過性フィルムは、通常、ロ
ール状に巻回されており、使用時に引き出されるが、光透過性フィルムをロール状に巻回
すると、光透過性フィルム同士が貼り付いてしまうため、引き出しが困難になる。また、
樹脂基材を備える光透過性フィルムは、傷が付きやすく、また高価である。このようなこ
とから、光透過性フィルムの少なくとも片面に保護フィルムが貼り合わせられることが多
い。保護フィルムは、光透過性フィルムに剥離可能に貼り合わせられており、光透過性フ
ィルムの加工の際に剥離される。
For the formation of such an optical film, a foldable light-transmitting film composed of only a resin base material or a foldable light composed of a resin base material and a resin layer laminated on at least one surface of the resin base material is used. A permeable film is used. The light-transmitting film is usually wound in a roll shape and pulled out at the time of use, but when the light-transmitting film is wound in a roll shape, the light-transmitting films stick to each other, which makes it difficult to pull out. become. again,
A light transmissive film provided with a resin substrate is easily scratched and expensive. For this reason, the protective film is often attached to at least one side of the light transmissive film. The protective film is releasably attached to the light-transmitting film and is peeled off when the light-transmitting film is processed.

光透過性フィルムにおいては、高い透明性を得ることおよび見た目の品位向上の目的か
ら、優れた平滑性が求められているが、光透過性フィルムに保護フィルムを貼り付けた状
態で巻き取られ、圧力が加わることで、保護フィルムの表面の凹凸形状が転写されてしま
うので、光透過性フィルムから保護フィルムを剥離すると、樹脂基材の表面に凹凸が現れ
てしまうという問題がある。特に、光透過性フィルムの樹脂基材に保護フィルムが直接貼
り付けられている場合には、樹脂基材の表面に凹凸が顕著に現れる。なお、光透過性フィ
ルムを高温で処理すれば、光透過性フィルムの表面の凹凸を直すことはできるが、非効率
であるので、光透過性フィルムの表面に凹凸が現れないことが重要である。
The light-transmitting film is required to have excellent smoothness for the purpose of obtaining high transparency and improving the appearance, but it is wound up with a protective film attached to the light-transmitting film. Since the uneven shape of the surface of the protective film is transferred by applying pressure, there is a problem that unevenness appears on the surface of the resin base material when the protective film is peeled off from the light transmissive film. In particular, when the protective film is directly attached to the resin base material of the light-transmitting film, unevenness appears remarkably on the surface of the resin base material. If the light-transmitting film is treated at a high temperature, the unevenness on the surface of the light-transmitting film can be corrected, but it is inefficient, so it is important that the unevenness does not appear on the surface of the light-transmitting film. ..

本発明は、上記問題を解決するためになされたものである。すなわち、優れた平滑性を
有する光透過性フィルムを得ることが可能な保護フィルム付き光透過性フィルムおよび保
護フィルムを提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems. That is, it is an object of the present invention to provide a light transmissive film with a protective film and a protective film capable of obtaining a light transmissive film having excellent smoothness.

本発明の一の態様によれば、少なくとも樹脂基材を備える折り畳み可能な光透過性フィ
ルムと、前記光透過性フィルムの少なくとも片面に剥離可能に貼り付けられた保護フィル
ムとを備える保護フィルム付き光透過性フィルムであって、前記保護フィルムの厚みが、
30μm以上であり、前記保護フィルムのヘイズ値が、10%以下である、保護フィルム
付き光透過性フィルムが提供される。
According to one aspect of the present invention, light with a protective film comprising a foldable light-transmitting film comprising at least a resin substrate and a protective film detachably attached to at least one side of the light-transmitting film. It is a permeable film, and the thickness of the protective film is
A light transmissive film with a protective film having a haze value of 30 μm or more and a haze value of the protective film of 10% or less is provided.

上記保護フィルム付き光透過性フィルムにおいては、前記保護フィルムが、前記光透過
性フィルムの両面に剥離可能に貼り付けられていてもよい。
In the light transmissive film with a protective film, the protective film may be detachably attached to both sides of the light transmissive film.

上記保護フィルム付き光透過性フィルムにおいては、前記樹脂基材の第1の表面が前記
光透過性フィルムの第1の表面をなし、前記保護フィルムが、前記樹脂基材の前記第1の
表面に剥離可能に貼り付けられていてもよい。
In the light transmissive film with a protective film, the first surface of the resin base material forms the first surface of the light transmissive film, and the protective film is formed on the first surface of the resin base material. It may be attached so as to be peelable.

上記保護フィルム付き光透過性フィルムにおいては、前記光透過性フィルムが、前記樹
脂基材の少なくとも片面に設けられた樹脂層をさらに備えていてもよい。
In the light-transmitting film with a protective film, the light-transmitting film may further include a resin layer provided on at least one side of the resin base material.

上記保護フィルム付き光透過性フィルムにおいては、前記保護フィルムが、ポリエステ
ル系樹脂からなる基材フィルムと、前記基材フィルムにおける前記光透過性フィルム側の
面に設けられた粘着層とを備えていてもよい。
In the light transmissive film with a protective film, the protective film includes a base film made of a polyester resin and an adhesive layer provided on the surface of the base film on the light transmissive film side. May be good.

上記保護フィルム付き光透過性フィルムにおいては、前記樹脂基材が、ポリイミド系樹
脂、ポリアミド系樹脂、またはこれらの混合物からなる基材であってもよい。
In the light transmissive film with a protective film, the resin base material may be a base material made of a polyimide resin, a polyamide resin, or a mixture thereof.

上記保護フィルム付き光透過性フィルムにおいては、前記保護フィルム付き光透過性フ
ィルムが、ロール状に巻回されていてもよい。
In the light transmissive film with a protective film, the light transmissive film with a protective film may be wound in a roll shape.

本発明の他の態様によれば、少なくとも樹脂基材を備える折り畳み可能な光透過性フィ
ルムに貼り付け可能な保護フィルムであって、前記保護フィルムの厚みが30μm以上で
あり、前記保護フィルムのヘイズ値が、10%以下である、保護フィルムが提供される。
According to another aspect of the present invention, it is a protective film that can be attached to a foldable light transmissive film provided with at least a resin base material, the thickness of the protective film is 30 μm or more, and the haze of the protective film. A protective film having a value of 10% or less is provided.

本発明の一の態様および他の態様によれば、優れた平滑性を有する光透過性フィルムを
得ることが可能な保護フィルム付き光透過性フィルムおよび保護フィルムを提供できる。
According to one aspect and the other aspect of the present invention, it is possible to provide a light-transmitting film with a protective film and a protective film capable of obtaining a light-transmitting film having excellent smoothness.

実施形態に係る保護フィルム付き光透過性フィルムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the light transmissive film with a protective film which concerns on embodiment. 連続折り畳み試験の様子を模式的に示した図である。It is a figure which showed the state of the continuous folding test schematically. 折り畳み静置試験の様子を模式的に示した図である。It is the figure which showed the state of the folding static test schematically. 実施形態に係る他の保護フィルム付き光透過性フィルムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the light transmissive film with another protective film which concerns on embodiment. 実施形態に係る他の保護フィルム付き光透過性フィルムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the light transmissive film with another protective film which concerns on embodiment. 実施形態に係る光学フィルムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the optical film which concerns on embodiment. 実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the image display device which concerns on embodiment.

以下、本発明の実施形態に係る保護フィルム付き光透過性フィルムおよび保護フィルム
について、図面を参照しながら説明する。本明細書において、「フィルム」、「シート」
等の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって
、例えば、「フィルム」はシートとも呼ばれるような部材も含む意味で用いられる。図1
は本実施形態に係る保護フィルム付き光透過性フィルムの概略構成図であり、図2は連続
折り畳み試験の様子を模式的に示した図であり、図3は折り畳み静置試験の様子を模式的
に示した図であり、図4および図5は本実施形態に係る他の保護フィルム付き光透過性フ
ィルムの概略構成図である。
Hereinafter, the light transmissive film with a protective film and the protective film according to the embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present specification, "film" and "sheet"
Terms such as are not distinguished from each other based solely on the difference in designation. Therefore, for example, "film" is used to include a member that is also called a sheet. Figure 1
Is a schematic configuration diagram of a light transmissive film with a protective film according to the present embodiment, FIG. 2 is a diagram schematically showing a state of a continuous folding test, and FIG. 3 is a diagram schematically showing a state of a folding static test. 4 and 5 are schematic configuration diagrams of another light transmissive film with a protective film according to the present embodiment.

<<<保護フィルム付き光透過性フィルム>>>
図1に示される保護フィルム付き光透過性フィルム10は、少なくとも樹脂基材21を
備える折り畳み可能な光透過性フィルム20と、光透過性フィルム20の第1の表面20
A(以下、単に「表面20A」と称することもある。)に剥離可能に貼り付けられた第1
の保護フィルム30(以下、単に「保護フィルム30」と称することもある。)と、光透
過性フィルム20の第1の表面20Aとは反対側の第2の表面20B(以下、単に「表面
20B」と称することもある。)に剥離可能に貼り付けられた第2の保護フィルム40(
以下、単に「保護フィルム40」と称することもある。)とを備えている。すなわち、図
1に示される保護フィルム付き光透過性フィルム10においては、光透過性フィルム20
の両面に保護フィルム30、40を備えている。保護フィルム30、40は、いずれも、
後述するように厚みが30μm以上であり、ヘイズ値が10%以下であるので、本発明の
要件を満たすものである。保護フィルム付き光透過性フィルムは、少なくとも光透過性フ
ィルムの片面に本発明の要件を満たす保護フィルムを備えていれば、両面に本発明の要件
を満たす保護フィルムを備えていなくともよい。例えば、図1の保護フィルム付き光透過
性フィルム10は、保護フィルム30を備えていれば、保護フィルム40を備えていなく
ともよい。また、保護フィルム付き光透過性フィルム10は、ロール状に巻回されていて
もよい。
<<< Light-transmitting film with protective film >>>
The light-transmitting film 10 with a protective film shown in FIG. 1 includes a foldable light-transmitting film 20 having at least a resin base material 21, and a first surface 20 of the light-transmitting film 20.
The first detachably attached to A (hereinafter, may be simply referred to as "surface 20A").
The protective film 30 (hereinafter, may be simply referred to as “protective film 30”) and the second surface 20B (hereinafter, simply “surface 20B” opposite to the first surface 20A of the light transmissive film 20). The second protective film 40 (which may be peelably attached to the protective film 40 (sometimes referred to as)).
Hereinafter, it may be simply referred to as "protective film 40". ) And. That is, in the light transmissive film 10 with a protective film shown in FIG. 1, the light transmissive film 20
Protective films 30 and 40 are provided on both sides of the above. The protective films 30 and 40 are both
As will be described later, the thickness is 30 μm or more and the haze value is 10% or less, which satisfies the requirements of the present invention. The light transmissive film with a protective film may not be provided with a protective film satisfying the requirements of the present invention on both sides as long as the protective film satisfying the requirements of the present invention is provided on at least one side of the light transmissive film. For example, the light transmissive film 10 with a protective film of FIG. 1 does not have to include the protective film 40 as long as it includes the protective film 30. Further, the light transmissive film 10 with a protective film may be wound in a roll shape.

光透過性フィルム20の表面20Aは、樹脂基材21の第1の表面21A(以下、単に
「表面21A」と称することもある。)となっている。また、図1に示される光透過性フ
ィルム20は、後述するように、樹脂基材21のみから構成されているので、光透過性フ
ィルム20の表面20Bは、樹脂基材21における第1の表面21Aとは反対側の第2の
表面21B(以下、単に「表面21B」と称することもある。)となっている。したがっ
て、保護フィルム付き光透過性フィルム10においては、保護フィルム30は、樹脂基材
21の表面21Aに剥離可能に貼り付けられており、また保護フィルム40は、樹脂基材
21の表面21Bに剥離可能に貼り付けられている。光透過性フィルムの両面に剥離可能
に貼り付けられており、かつ保護フィルムが樹脂基材の表面に剥離可能に貼り付けられて
いる場合には、少なくとも一方の保護フィルムが樹脂基材の片面に剥離可能に貼り付けら
れていればよく、必ずしも両方の保護フィルムが樹脂基材の両面に剥離可能に貼り付けら
れていなくてもよい。
The surface 20A of the light transmissive film 20 is the first surface 21A of the resin base material 21 (hereinafter, may be simply referred to as “surface 21A”). Further, since the light-transmitting film 20 shown in FIG. 1 is composed of only the resin base material 21, as will be described later, the surface 20B of the light-transmitting film 20 is the first surface of the resin base material 21. It is a second surface 21B (hereinafter, may be simply referred to as "surface 21B") on the opposite side of 21A. Therefore, in the light transmissive film 10 with a protective film, the protective film 30 is removably attached to the surface 21A of the resin base material 21, and the protective film 40 is peeled off from the surface 21B of the resin base material 21. It is pasted as possible. If the light-transmitting film is detachably attached to both sides of the light-transmitting film and the protective film is detachably attached to the surface of the resin substrate, at least one protective film is attached to one side of the resin substrate. It suffices as long as it is peelably attached, and it is not always necessary that both protective films are detachably attached to both sides of the resin base material.

<<光透過性フィルム>>
光透過性フィルム20は、光透過性を有するフィルムである。本明細書における「光透
過性フィルム」とは、光透過性を有するフィルムであれば、光学フィルムを製造する際に
用いられる中間段階のフィルムおよび完成品である光学フィルムのいずれであってもよい
。なお、図1に示される光透過性フィルム20は、光学フィルム100を製造する際に用
いられる中間段階のフィルムである。また、「光透過性」とは、光を透過させる性質を意
味し、例えば、全光線透過率が50%以上、好ましくは70%以上、より好ましくは80
%以上、特に好ましくは90%以上であることを含む。光透過性とは、必ずしも透明であ
る必要はなく、半透明であってもよい。
<< Light-transmitting film >>
The light-transmitting film 20 is a film having light-transmitting property. As used herein, the "light-transmitting film" may be either an intermediate-stage film used in producing an optical film or an optical film as a finished product, as long as it is a film having light-transmitting property. .. The light transmissive film 20 shown in FIG. 1 is an intermediate stage film used when manufacturing the optical film 100. Further, "light transmittance" means a property of transmitting light, for example, a total light transmittance of 50% or more, preferably 70% or more, more preferably 80.
% Or more, particularly preferably 90% or more. The light transparency does not necessarily have to be transparent, but may be translucent.

図1に示される光透過性フィルム20は、樹脂基材21のみから構成されている。光透
過性フィルム20は、樹脂基材21のみから構成されているので、以下の光透過性フィル
ム20の記載は、樹脂基材21にも当てはまる。光透過性フィルム20は、樹脂基材21
の単層構造となっているが、樹脂基材と、樹脂基材の少なくとも片面に設けられた樹脂層
との積層構造となっていてもよい。
The light transmissive film 20 shown in FIG. 1 is composed of only the resin base material 21. Since the light-transmitting film 20 is composed of only the resin base material 21, the following description of the light-transmitting film 20 also applies to the resin base material 21. The light transmissive film 20 is a resin base material 21.
Although it has a single-layer structure, it may have a laminated structure of a resin base material and a resin layer provided on at least one side of the resin base material.

光透過性フィルム20は、折り畳み可能となっているが、具体的には、光透過性フィル
ム20に対し次に説明する折り畳み試験(連続折り畳み試験)を10万回繰り返し行った
場合であっても、光透過性フィルム20に割れまたは破断が生じないことが好ましく、連
続折り畳み試験を20万回繰り返し行った場合であっても、光透過性フィルム20に割れ
または破断が生じないことがより好ましく、100万回繰り返し行った場合であっても、
光透過性フィルム20に割れまたは破断が生じないことがさらに好ましい。光透過性フィ
ルム20に対し連続折り畳み試験を10万回繰り返し行った場合に、光透過性フィルム2
0に割れ等が生じると、光透過性フィルム20の折り畳み性が不充分となる。
The light-transmitting film 20 is foldable. Specifically, even when the light-transmitting film 20 is subjected to the folding test (continuous folding test) described below 100,000 times. It is preferable that the light transmissive film 20 does not crack or break, and it is more preferable that the light transmissive film 20 does not crack or break even when the continuous folding test is repeated 200,000 times. Even if you repeat it 1 million times
It is more preferable that the light transmissive film 20 does not crack or break. When the continuous folding test is repeated 100,000 times on the light-transmitting film 20, the light-transmitting film 2
If cracks or the like occur in 0, the foldability of the light transmissive film 20 becomes insufficient.

連続折り畳み試験は、以下のようにして行われる。なお、光透過性フィルム20の連続
折り畳み試験は、保護フィルム30、40を剥離した状態で行うものとする。図2(A)
に示すように連続折り畳み試験においては、まず、光透過性フィルム20の辺部20Cと
、辺部20Cと対向する辺部20Dとを、平行に配置された固定部50でそれぞれ固定す
る。なお、光透過性フィルム20は、任意の形状であってよいが、連続折り畳み試験にお
ける光透過性フィルム20は、矩形(例えば、30mm×100mmの矩形)であること
が好ましい。また、図2(A)に示すように、固定部50は水平方向にスライド移動可能
になっている。
The continuous folding test is performed as follows. The continuous folding test of the light transmissive film 20 shall be performed with the protective films 30 and 40 peeled off. FIG. 2 (A)
As shown in the above, in the continuous folding test, first, the side portion 20C of the light transmissive film 20 and the side portion 20D facing the side portion 20C are fixed by the fixing portions 50 arranged in parallel. The light-transmitting film 20 may have any shape, but the light-transmitting film 20 in the continuous folding test is preferably a rectangle (for example, a rectangle of 30 mm × 100 mm). Further, as shown in FIG. 2A, the fixed portion 50 can be slidably moved in the horizontal direction.

次に、図2(B)に示すように、固定部50を互いに近接するように移動させることで
、光透過性フィルム20を折り畳むように変形させ、更に、図2(C)に示すように、光
透過性フィルム20の固定部50で固定された対向する2つの辺部の間隔が30mmとな
る位置まで固定部50を移動させた後、固定部50を逆方向に移動させて光透過性フィル
ム20の変形を解消させる。
Next, as shown in FIG. 2B, by moving the fixing portions 50 so as to be close to each other, the light transmissive film 20 is deformed so as to be folded, and further, as shown in FIG. 2C. After moving the fixed portion 50 to a position where the distance between the two opposing side portions fixed by the fixed portion 50 of the light transmissive film 20 is 30 mm, the fixed portion 50 is moved in the opposite direction to transmit light. The deformation of the film 20 is eliminated.

図2(A)~(C)に示すように固定部50を移動させることで、光透過性フィルム2
0を180°折り畳むことができる。また、光透過性フィルム20の屈曲部20Eが固定
部50の下端からはみ出さないように連続折り畳み試験を行い、かつ固定部50が最接近
したときの間隔を30mmに制御することで、光透過性フィルム20の対向する2つの辺
部の間隔を30mmにできる。この場合、屈曲部20Eの外径を30mmとみなす。なお
、光透過性フィルム20の厚みは、固定部50の間隔(30mm)と比較して充分に小さ
な値であるため、光透過性フィルム20の連続折り畳み試験の結果は、光透過性フィルム
20の厚みの違いによる影響は受けないとみなすことができる。光透過性フィルム20に
おいては、光透過性フィルム20の対向する辺部の間隔が30mmとなるように180°
折り畳む試験を10万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが好ましい
が、光透過性フィルム20の対向する辺部の間隔が20mm、15mm、10mm、6m
m、3mm、または2mmとなるように180°折り畳む連続折り畳み試験を10万回繰
り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことがより好ましい(辺部の間隔が小さい
ほど好ましい)。
By moving the fixing portion 50 as shown in FIGS. 2 (A) to 2 (C), the light transmissive film 2
0 can be folded 180 °. Further, a continuous folding test is performed so that the bent portion 20E of the light transmissive film 20 does not protrude from the lower end of the fixed portion 50, and the distance when the fixed portions 50 are closest to each other is controlled to 30 mm to transmit light. The distance between the two opposing sides of the sex film 20 can be 30 mm. In this case, the outer diameter of the bent portion 20E is regarded as 30 mm. Since the thickness of the light-transmitting film 20 is sufficiently smaller than the distance between the fixed portions 50 (30 mm), the result of the continuous folding test of the light-transmitting film 20 is that of the light-transmitting film 20. It can be considered that it is not affected by the difference in thickness. In the light transmissive film 20, the distance between the facing sides of the light transmissive film 20 is 180 ° so as to be 30 mm.
It is preferable that cracking or breakage does not occur when the folding test is repeated 100,000 times, but the distance between the opposite sides of the light transmissive film 20 is 20 mm, 15 mm, 10 mm, and 6 m.
It is more preferable that cracking or breaking does not occur when the continuous folding test of folding 180 ° so as to be m, 3 mm, or 2 mm is repeated 100,000 times (the smaller the distance between the sides, the more preferable).

光透過性フィルム20においては、図3(A)に示されるように、光透過性フィルム2
0の辺部20Cと、辺部20Cと対向する辺部20Dとを、辺部20Cと辺部20Dの間
隔が30mmとなるように平行に配置された固定部55でそれぞれ固定して、光透過性フ
ィルム20を折り畳んだ状態で、70℃で240時間静置する折り畳み静置試験を行い、
図3(B)に示されるように、折り畳み静置試験後に辺部20Dから固定部55を外すこ
とによって、折り畳み状態を開放して、室温で30分後に光透過性フィルム20において
光透過性フィルム20が自然に開く角度である開き角θを測定した場合に、光透過性フィ
ルム20の開き角θが100°以上であることが好ましい。なお、開き角θは、大きいほ
ど復元性が良好であることを意味し、最大で180°である。なお、光透過性フィルム2
0の折り畳み静置試験は、保護フィルム30、40を剥離した状態で行うものとする。
In the light transmissive film 20, as shown in FIG. 3A, the light transmissive film 2
The side portion 20C of 0 and the side portion 20D facing the side portion 20C are fixed by fixed portions 55 arranged in parallel so that the distance between the side portion 20C and the side portion 20D is 30 mm, respectively, and light is transmitted. A folding static test was conducted in which the sex film 20 was allowed to stand at 70 ° C. for 240 hours in a folded state.
As shown in FIG. 3 (B), the folded state is released by removing the fixed portion 55 from the side portion 20D after the folding static test, and after 30 minutes at room temperature, the light transmitting film is formed on the light transmitting film 20. When the opening angle θ, which is the angle at which 20 naturally opens, is measured, it is preferable that the opening angle θ of the light transmissive film 20 is 100 ° or more. The larger the opening angle θ, the better the stability, and the maximum is 180 °. The light transmissive film 2
The folding static test of 0 shall be performed with the protective films 30 and 40 peeled off.

光透過性フィルム20のヘイズ値(全ヘイズ値)は3%以下となっていることが好まし
い。光透過性フィルム20のヘイズ値が3%以下であれば、樹脂基材21の表面21Aお
よび表面21Bにおける凹凸が少ないので、より優れた平滑性を有している。上記光透過
性フィルム20のヘイズ値は、50mm×100mmの大きさに切り出した保護フィルム
付き光透過性フィルム10から保護フィルム30、40を剥離し、光透過性フィルム20
単体の状態であって、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で、ヘイズメーター
(製品名「HM-150」、株式会社村上色彩技術研究所製)を用いてJIS K713
6:2000に準拠した方法により測定することができる。光透過性フィルムのヘイズ値
は、光透過性フィルム1枚に対して3回測定して得られた値の算術平均値とする。本明細
書における「3回測定する」とは、同じ場所を3回測定するのではなく、異なる3箇所を
測定することを意味するものとする。なお、光透過性フィルムを上記大きさに切り出せな
い場合には、例えば、HM-150は測定する際の入口開口が20mmφであるので、直
径21mm以上となるようなサンプル大きさが必要になる。このため、22mm×22m
m以上の大きさに光透過性フィルムを適宜切り出してもよい。光透過性フィルムの大きさ
が小さい場合は、光源スポットが外れない範囲で少しずつずらす、または角度を変えるな
どして測定点を3箇所にする。光透過性フィルム20のヘイズ値は、2%以下、1%以下
の順にさらに好ましい(数値が小さいほど好ましい)。
The haze value (total haze value) of the light transmissive film 20 is preferably 3% or less. When the haze value of the light transmissive film 20 is 3% or less, the surface 21A and the surface 21B of the resin base material 21 have less unevenness, and thus have better smoothness. The haze value of the light transmissive film 20 is obtained by peeling the protective films 30 and 40 from the light transmissive film 10 with a protective film cut into a size of 50 mm × 100 mm, and the light transmissive film 20.
JIS K713 using a haze meter (product name "HM-150", manufactured by Murakami Color Technology Research Institute Co., Ltd.) in a single state, without curls or wrinkles, and without fingerprints or dust.
It can be measured by a method according to 6: 2000. The haze value of the light-transmitting film is an arithmetic mean value of the values obtained by measuring three times for one light-transmitting film. As used herein, "measuring three times" means measuring three different points rather than measuring the same place three times. If the light transmissive film cannot be cut out to the above size, for example, the HM-150 has an inlet opening of 20 mmφ for measurement, so a sample size having a diameter of 21 mm or more is required. Therefore, 22 mm x 22 m
The light transmissive film may be appropriately cut out to a size of m or more. If the size of the light-transmitting film is small, the measurement points are set to three points by shifting the light source spot little by little or changing the angle within the range where the light source spot does not deviate. The haze value of the light transmissive film 20 is more preferably 2% or less and 1% or less (the smaller the value, the more preferable).

光透過性フィルム20の全光線透過率は、85%以上であることが好ましい。光透過性
フィルム20の全光線透過率が85%以上であれば、充分な光学的性能を得ることができ
る。全光線透過率は、50mm×100mmの大きさに切り出した保護フィルム付き光透
過性フィルム10から保護フィルム30、40を剥離し、光透過性フィルム20単体の状
態であって、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で、JIS K7361-1
:1997に準拠して、ヘイズメーター(製品名「HM-150」、株式会社村上色彩技
術研究所製)を用いて、測定することができる。光透過性フィルムの全光線透過率は、光
透過性フィルム1枚に対して3回測定して得られた値の算術平均値とする。なお、光透過
性フィルムを上記大きさに切り出せない場合には、例えば、HM-150は測定する際の
入口開口が20mmφであるので、直径21mm以上となるようなサンプル大きさが必要
になる。このため、22mm×22mm以上の大きさに光透過性フィルムを適宜切り出し
てもよい。光透過性フィルムの大きさが小さい場合は、光源スポットが外れない範囲で少
しずつずらす、または角度を変えるなどして測定点を3箇所にする。光透過性フィルム2
0の全光線透過率は、88%以上、90%以上の順にさらに好ましい(数値が大きいほど
好ましい)。
The total light transmittance of the light transmissive film 20 is preferably 85% or more. When the total light transmittance of the light transmissive film 20 is 85% or more, sufficient optical performance can be obtained. The total light transmittance is such that the protective films 30 and 40 are peeled off from the light transmitting film 10 with a protective film cut out to a size of 50 mm × 100 mm, and the light transmitting film 20 is in a single state without curls or wrinkles. And without fingerprints or dust, JIS K7361-1
: According to 1997, it can be measured using a haze meter (product name "HM-150", manufactured by Murakami Color Technology Laboratory Co., Ltd.). The total light transmittance of the light-transmitting film is an arithmetic mean value obtained by measuring three times for one light-transmitting film. If the light transmissive film cannot be cut out to the above size, for example, the HM-150 has an inlet opening of 20 mmφ for measurement, so a sample size having a diameter of 21 mm or more is required. Therefore, the light transmissive film may be appropriately cut into a size of 22 mm × 22 mm or more. If the size of the light-transmitting film is small, the measurement points are set to three points by shifting the light source spot little by little or changing the angle within the range where the light source spot does not deviate. Light transmissive film 2
The total light transmittance of 0 is more preferable in the order of 88% or more and 90% or more (the larger the value, the more preferable).

光透過性フィルム20は、イエローインデックス(YI)が15以下であることが好ま
しい。光透過性フィルム20のYIが15以下であれば、光透過性フィルム20の黄色味
を抑制でき、透明性が求められる用途に適用できる。イエローインデックス(YI)は、
分光光度計(製品名「UV-3100PC」、株式会社島津製作所製、光源:タングステ
ンランプおよび重水素ランプ)を用いて50mm×100mmの大きさに切り出した保護
フィルム付き光透過性フィルム10から保護フィルム30、40を剥離し、光透過性フィ
ルム20単体の状態で測定された値からJIS Z8722:2009に記載された演算
式に従って色度三刺激値X、Y、Zを計算し、三刺激値X、Y、ZからASTM D19
25:1962に記載された演算式に従って算出された値である。光透過性フィルム20
のイエローインデックス(YI)の上限は、10未満、1.5未満の順にさらに好ましい
(数値が小さいほど好ましい)。
The light transmissive film 20 preferably has a yellow index (YI) of 15 or less. When the YI of the light-transmitting film 20 is 15 or less, the yellowness of the light-transmitting film 20 can be suppressed, and it can be applied to applications where transparency is required. Yellow Index (YI) is
A protective film from a light transmissive film 10 with a protective film cut into a size of 50 mm x 100 mm using a spectrophotometer (product name "UV-3100PC", manufactured by Shimadzu Corporation, light source: tungsten lamp and deuterium lamp). 30 and 40 are peeled off, and the chromaticity tristimulus values X, Y, and Z are calculated from the values measured in the state of the light transmissive film 20 alone according to the calculation formula described in JIS Z8722: 2009, and the tristimulus values X are calculated. , Y, Z to ASTM D19
It is a value calculated according to the arithmetic expression described in 25:1962. Light transmissive film 20
The upper limit of the yellow index (YI) of is more preferably less than 10 and less than 1.5 (the smaller the value, the more preferable).

光透過性フィルム20のイエローインデックス(YI)を調整するために、例えば、樹
脂基材21に、黄色の補色となる青色の色素を含有させてもよく、また樹脂基材の少なく
とも片面に設けられた層(例えば後述する樹脂層71、91、92)に青色の色素を含有
させてもよい。樹脂基材21として、ポリイミド基材を用いたことで、黄色味が問題とな
るような場合であったとしても、樹脂基材21に青色の色素を含ませることで、光透過性
フィルムのイエローインデックス(YI)を低下させることができる。
In order to adjust the yellow index (YI) of the light transmissive film 20, for example, the resin base material 21 may contain a blue dye that is a complementary color of yellow, or may be provided on at least one side of the resin base material. The layer (for example, the resin layers 71, 91, 92 described later) may contain a blue dye. Even if the yellowness becomes a problem due to the use of the polyimide base material as the resin base material 21, the yellow color of the light-transmitting film can be obtained by including the blue dye in the resin base material 21. The index (YI) can be lowered.

上記青色の色素としては、顔料または染料のいずれであってもよいが、例えば、光透過
性フィルム20が有機発光ダイオード表示装置に用いられる場合、耐光性や耐熱性を兼ね
備えたものが好ましい。上記青色の色素として、多環系有機顔料や金属錯体有機顔料等は
、染料の分子分散に比べて紫外線による分子裂断の度合いが少なく耐光性が格段に優れる
ため、耐光性等が求められる用途に好ましく、より具体的には、フタロシアニン系の有機
顔料等が好適に挙げられる。ただし、顔料は溶剤に対して粒子分散するため、粒子散乱に
よる透明性阻害は存在するため、顔料分散体の粒度をレイリー散乱域に入れることが好ま
しい。一方、光透過性フィルムの透明性が重要視される場合には、上記青色の色素として
は、溶剤に対して分子分散する染料を用いることが好ましい。
The blue dye may be either a pigment or a dye, but for example, when the light transmissive film 20 is used in an organic light emitting diode display device, a dye having both light resistance and heat resistance is preferable. As the blue dye, polycyclic organic pigments, metal complex organic pigments, etc. have a lower degree of molecular tearing due to ultraviolet rays than the molecular dispersion of dyes and have significantly excellent light resistance, so that applications requiring light resistance, etc. More specifically, phthalocyanine-based organic pigments and the like are preferably mentioned. However, since the pigment disperses particles with respect to the solvent, transparency is hindered by particle scattering. Therefore, it is preferable to put the particle size of the pigment dispersion in the Rayleigh scattering region. On the other hand, when the transparency of the light-transmitting film is important, it is preferable to use a dye that is molecularly dispersed with respect to the solvent as the blue dye.

光透過性フィルム20の用途は、特に限定されないが、光透過性フィルム20の用途と
しては、例えば、スマートフォン、タブレット端末、パーソナルコンピュータ(PC)、
ウェアラブル端末、デジタルサイネージ、テレビジョン、カーナビゲーション等の画像表
示装置が挙げられる。
The use of the light transmissive film 20 is not particularly limited, but the use of the light transmissive film 20 includes, for example, smartphones, tablet terminals, personal computers (PCs), and the like.
Examples include image display devices such as wearable terminals, digital signage, televisions, and car navigation systems.

光透過性フィルム20は、所望の大きさにカットされていてもよいが、ロール状であっ
てもよい。光透過性フィルム20が所望の大きさにカットされている場合、光透過性フィ
ルムの大きさは、特に制限されず、画像表示装置の表示面の大きさに応じて適宜決定され
る。具体的には、光透過性フィルム20の大きさは、例えば、2.8インチ以上500イ
ンチ以下となっていてもよい。本明細書における「インチ」とは、光学フィルムが四角形
状である場合には対角線の長さを意味し、円形状である場合には直径を意味し、楕円形状
である場合には、短径と長径の和の平均値を意味するものとする。ここで、光学フィルム
が四角形状である場合、上記インチを求める際の光学フィルムの縦横比は、画像表示装置
の表示画面として問題がなければ特に限定されない。例えば、縦:横=1:1、4:3、
16:10、16:9、2:1等が挙げられる。ただし、特に、デザイン性に富む車載用
途やデジタルサイネージにおいては、このような縦横比に限定されない。また、光透過性
フィルム20の大きさが大きい場合には、任意の位置からA5サイズ(148mm×21
0mm)に切り出した後、各測定項目の大きさに切り出すものとする。
The light-transmitting film 20 may be cut to a desired size, but may be in the form of a roll. When the light-transmitting film 20 is cut to a desired size, the size of the light-transmitting film is not particularly limited and is appropriately determined according to the size of the display surface of the image display device. Specifically, the size of the light transmissive film 20 may be, for example, 2.8 inches or more and 500 inches or less. As used herein, the term "inch" means the length of the diagonal line when the optical film is square, the diameter when it is circular, and the minor axis when it is elliptical. It shall mean the average value of the sum of the major axis and the major axis. Here, when the optical film has a rectangular shape, the aspect ratio of the optical film when obtaining the inch is not particularly limited as long as there is no problem as a display screen of the image display device. For example, vertical: horizontal = 1: 1, 4: 3,
Examples include 16:10, 16: 9, 2: 1 and the like. However, the aspect ratio is not limited to this, especially in in-vehicle applications and digital signage, which are rich in design. If the size of the light transmissive film 20 is large, it is A5 size (148 mm × 21) from an arbitrary position.
After cutting out to 0 mm), it shall be cut out to the size of each measurement item.

<樹脂基材>
樹脂基材21は、樹脂からなる基材である。樹脂基材21の厚みは、10μm以上10
0μm以下となっていることが好ましい。樹脂基材21の厚みが10μm以上であれば、
カールを抑制でき、また充分な硬度を得ることができ、更に、光透過性フィルムをRol
l to Rollで製造する場合であっても、皺が発生しにくくなり、外観の悪化を招
くおそれがない。一方、樹脂基材21の厚みが100μm以下であれば、光透過性フィル
ムの折り畳み性能が良好であり、連続折り畳み試験の要件を満足させることができ、また
、光透過性フィルムの軽量化の面で好ましい。樹脂基材21の厚みは、走査型電子顕微鏡
(SEM)を用いて、樹脂基材21の断面を撮影し、その断面の画像において樹脂基材2
1の厚みを10箇所測定し、その10箇所の厚みの算術平均値とする。樹脂基材21の下
限は20μm以上であることがより好ましく、樹脂基材21の上限は80μm以下である
ことがより好ましい。
<Resin base material>
The resin base material 21 is a base material made of resin. The thickness of the resin base material 21 is 10 μm or more and 10
It is preferably 0 μm or less. If the thickness of the resin base material 21 is 10 μm or more,
Curling can be suppressed, sufficient hardness can be obtained, and a light-transmitting film can be made into Rol.
Even in the case of manufacturing with l to Roll, wrinkles are less likely to occur and there is no risk of deterioration of the appearance. On the other hand, when the thickness of the resin base material 21 is 100 μm or less, the folding performance of the light-transmitting film is good, the requirements of the continuous folding test can be satisfied, and the weight of the light-transmitting film is reduced. Is preferable. For the thickness of the resin base material 21, a cross section of the resin base material 21 is photographed using a scanning electron microscope (SEM), and the resin base material 2 is shown in the image of the cross section.
The thickness of 1 is measured at 10 points and used as the arithmetic mean value of the thickness at the 10 points. The lower limit of the resin base material 21 is more preferably 20 μm or more, and the upper limit of the resin base material 21 is more preferably 80 μm or less.

樹脂基材21を構成する樹脂としては、例えば、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド
系樹脂、ポリアミド系樹脂、またはこれらの樹脂を2以上混合した混合物等が挙げられる
。これらの中でも、連続折り畳み試験において割れ又は破断が発生しにくいだけでなく、
優れた硬度及び透明性をも有し、また、耐熱性にも優れ、焼成することにより、更に優れ
た硬度及び透明性を付与することもできる観点から、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹
脂、またはこれらの混合物が好ましい。
Examples of the resin constituting the resin base material 21 include a polyimide resin, a polyamide-imide resin, a polyamide resin, and a mixture of two or more of these resins. Among these, not only is it less likely to crack or break in the continuous folding test, but it is also less likely to break.
Polyimide-based resin, polyamide-based resin, or these, from the viewpoint of having excellent hardness and transparency, excellent heat resistance, and being able to impart further excellent hardness and transparency by firing. Mixture of is preferred.

ポリイミド系樹脂は、テトラカルボン酸成分とジアミン成分とを反応させて得られるも
のである。テトラカルボン酸成分とジアミン成分の重合によってポリアミド酸を得てイミ
ド化することが好ましい。イミド化は、熱イミド化で行っても、化学イミド化で行っても
よい。また、熱イミド化と化学イミド化とを併用した方法で製造することもできる。ポリ
イミド系樹脂は、脂肪族のポリイミド系樹脂であってもよいが、芳香族環を含むポリイミ
ド系樹脂であることが好ましい。芳香族環を含むポリイミド系樹脂は、テトラカルボン酸
成分およびジアミン成分の少なくとも一方に芳香族環を含むものである。
The polyimide-based resin is obtained by reacting a tetracarboxylic acid component with a diamine component. It is preferable to obtain polyamic acid by polymerization of a tetracarboxylic acid component and a diamine component and imidize it. The imidization may be performed by thermal imidization or chemical imidization. It can also be produced by a method in which thermal imidization and chemical imidization are used in combination. The polyimide-based resin may be an aliphatic polyimide-based resin, but is preferably a polyimide-based resin containing an aromatic ring. The polyimide resin containing an aromatic ring contains an aromatic ring in at least one of a tetracarboxylic acid component and a diamine component.

テトラカルボン酸成分の具体例としては、テトラカルボン酸二無水物が好適に用いられ
、シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物
、ジシクロヘキサン-3,4,3’,4’-テトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸
二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,
3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2
,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル
)エーテル二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、1,1
-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシ
フェニル)メタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、2
,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオ
ロプロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)-1,1,1,3
,3,3-ヘキサフルオロプロパン二無水物、1,3-ビス〔(3,4-ジカルボキシ)
ベンゾイル〕ベンゼン二無水物、1,4-ビス〔(3,4-ジカルボキシ)ベンゾイル〕
ベンゼン二無水物、2,2-ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フ
ェニル}プロパン二無水物、2,2-ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノ
キシ〕フェニル}プロパン二無水物、ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノ
キシ〕フェニル}ケトン二無水物、ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキ
シ〕フェニル}ケトン二無水物、4,4’-ビス〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノ
キシ〕ビフェニル二無水物、4,4’-ビス〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ
〕ビフェニル二無水物、ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニ
ル}ケトン二無水物、ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル
}ケトン二無水物、ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}
スルホン二無水物、ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}
スルホン二無水物、ビス{4-〔4-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル}
スルフィド二無水物、ビス{4-〔3-(1,2-ジカルボキシ)フェノキシ〕フェニル
}スルフィド二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水
物、3,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物、3,3’-(ヘ
キサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラ
カルボン酸二無水物、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,
5,6-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-ベンゼンテトラカルボ
ン酸二無水物、3,4,9,10-ペリレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7
-アントラセンテトラカルボン酸二無水物、1,2,7,8-フェナントレンテトラカル
ボン酸二無水物等が挙げられる。これらは単独でも、2種以上を混合して用いることもで
きる。
As a specific example of the tetracarboxylic acid component, tetracarboxylic acid dianhydride is preferably used, and cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic acid dianhydride, dicyclohexane-3,4,3', 4 '-Tetracarboxylic acid dianhydride, pyromellitic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2',
3,3'-Benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2 , 2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2)
, 3-Dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 1,1
-Bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 2
, 2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropanedianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) -1, 1,1,3
, 3,3-Hexafluoropropane dianhydride, 1,3-bis [(3,4-dicarboxy)
Benzoyl] Benzene dianhydride, 1,4-bis [(3,4-dicarboxy) benzoyl]
Benzene dianhydride, 2,2-bis {4- [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} propane dianhydride, 2,2-bis {4- [3- (1,2-di) Carboxy) phenoxy] phenyl} propane dianhydride, bis {4- [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} ketone dianhydride, bis {4- [3- (1,2-dicarboxy) Phenoxy] phenyl} ketone dianhydride, 4,4'-bis [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] biphenyl dianhydride, 4,4'-bis [3- (1,2-dicarboxy) Phenoxy] biphenyl dianhydride, bis {4- [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} ketone dianhydride, bis {4- [3- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} Ketone dianhydride, bis {4- [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl}
Sulfone dianhydride, bis {4- [3- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl}
Sulfone dianhydride, bis {4- [4- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl}
Sulfide dianhydride, bis {4- [3- (1,2-dicarboxy) phenoxy] phenyl} sulfide dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid anhydride, 3,4'- (Hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid anhydride, 3,3'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalate anhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride, 1,4,5,8 -Naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride, 1, 2,
5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-benzenetetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6 7
-Anthracene tetracarboxylic dianhydride, 1,2,7,8-phenanthrene tetracarboxylic dianhydride and the like can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.

ジアミン成分の具体例としては、p-フェニレンジアミン、m-フェニレンジアミン、
o-フェニレンジアミン、3,3’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノ
ジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,3’-ジアミノジフ
ェニルスルフィド、3,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’-ジアミノジフ
ェニルスルフィド、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、3,4’-ジアミノジフェ
ニルスルホン、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノベンゾフェ
ノン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、3,4’-ジアミノベンゾフェノン、4,4
’-ジアミノベンズアニリド、3,3’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミ
ノジフェニルメタン、3,4’-ジアミノジフェニルメタン、2,2-ジ(3-アミノフ
ェニル)プロパン、2,2-ジ(4-アミノフェニル)プロパン、2-(3-アミノフェ
ニル)-2-(4-アミノフェニル)プロパン、2,2-ジ(3-アミノフェニル)-1
,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ジ(4-アミノフェニル)-
1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2-(3-アミノフェニル)-2-
(4-アミノフェニル)-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、1,1-
ジ(3-アミノフェニル)-1-フェニルエタン、1,1-ジ(4-アミノフェニル)-
1-フェニルエタン、1-(3-アミノフェニル)-1-(4-アミノフェニル)-1-
フェニルエタン、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-
アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4
-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(3-アミノベンゾイル)ベン
ゼン、1,3-ビス(4-アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4-ビス(3-アミノベン
ゾイル)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノベンゾイル)ベンゼン、1,3-ビス(3
-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノ-α,α-
ジメチルベンジル)ベンゼン、1,4-ビス(3-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)
ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)ベンゼン、1,3-
ビス(3-アミノ-α,α-ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,3-ビス(
4-アミノ-α,α-ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,4-ビス(3-ア
ミノ-α,α-ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノ-
α,α-ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、2,6-ビス(3-アミノフェノキ
シ)ベンゾニトリル、2,6-ビス(3-アミノフェノキシ)ピリジン、N,N’-ビス
(4-アミノフェニル)テレフタルアミド、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオ
レン、2,2’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’-ジトリフルオロ
メチル-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジクロロ-4,4’-ジアミノビフ
ェニル、3,3’-ジメトキシ-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジメチル-
4,4’-ジアミノビフェニル、4,4’-ビス(3-アミノフェノキシ)ビフェニル、
4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4-(3-アミノフェノキ
シ)フェニル]ケトン、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[
4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4-(4-アミノフェノキ
シ)フェニル]スルフィド、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、
ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(3-アミノフェ
ノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]エーテル
、2,2-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4
-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[3-(3-アミノフェ
ノキシ)フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス
[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ
プロパン、1,3-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,3
-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(3
-アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(4-アミノフェノキ
シ)ベンゾイル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)-α,α-ジ
メチルベンジル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)-α,α-ジ
メチルベンジル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)-α,α-ジ
メチルベンジル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)-α,α-ジ
メチルベンジル]ベンゼン、4,4’-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)ベンゾイル
]ジフェニルエーテル、4,4’-ビス[4-(4-アミノ-α,α-ジメチルベンジル
)フェノキシ]ベンゾフェノン、4,4’-ビス[4-(4-アミノ-α,α-ジメチル
ベンジル)フェノキシ]ジフェニルスルホン、4,4’-ビス[4-(4-アミノフェノ
キシ)フェノキシ]ジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノ-4,4’-ジフェノキシ
ベンゾフェノン、3,3’-ジアミノ-4,4’-ジビフェノキシベンゾフェノン、3,
3’-ジアミノ-4-フェノキシベンゾフェノン、3,3’-ジアミノ-4-ビフェノキ
シベンゾフェノン、6,6’-ビス(3-アミノフェノキシ)-3,3,3’,3’-テ
トラメチル-1,1’-スピロビインダン、6,6’-ビス(4-アミノフェノキシ)-
3,3,3’,3’-テトラメチル-1,1’-スピロビインダン、1,3-ビス(3-
アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3-ビス(4-アミノブチル)テトラ
メチルジシロキサン、α,ω-ビス(3-アミノプロピル)ポリジメチルシロキサン、α
,ω-ビス(3-アミノブチル)ポリジメチルシロキサン、ビス(アミノメチル)エーテ
ル、ビス(2-アミノエチル)エーテル、ビス(3-アミノプロピル)エーテル、ビス(
2-アミノメトキシ)エチル]エーテル、ビス[2-(2-アミノエトキシ)エチル]エ
ーテル、ビス[2-(3-アミノプロピル)エチル]エーテル、trans-シクロヘキ
サンジアミン、trans-1,4-ビスメチレンシクロヘキサンジアミン、2,6-ビ
ス(アミノメチル)ビシクロ[2,2,1]ヘプタン、2,5-ビス(アミノメチル)ビ
シクロ[2,2,1]ヘプタン、また、上記ジアミンの芳香族環上水素原子の一部もしく
は全てをフルオロ基、メチル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、またはトリフルオ
ロメトキシ基から選ばれた置換基で置換したジアミンも使用することができる。これらは
単独でも、2種以上を混合して用いることもできる。
Specific examples of the diamine component include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, and the like.
o-phenylenediamine, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide, 3,4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4 '-Diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 3 , 4'-diaminobenzophenone, 4,4
'-Diaminobenzanilide, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2-di (3-aminophenyl) propane, 2,2-di (4) -Aminophenyl) propane, 2- (3-aminophenyl) -2- (4-aminophenyl) propane, 2,2-di (3-aminophenyl) -1
, 1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-di (4-aminophenyl)-
1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2- (3-aminophenyl) -2-
(4-Aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 1,1-
Di (3-aminophenyl) -1-phenylethane, 1,1-di (4-aminophenyl)-
1-Phenylethane, 1- (3-Aminophenyl) -1- (4-Aminophenyl) -1-
Phenylethane, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-)
Aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4
-Bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminobenzoyl) benzene, 1,3-bis (4-aminobenzoyl) benzene, 1,4-bis (3-aminobenzoyl) benzene, 1 , 4-bis (4-aminobenzoyl) benzene, 1,3-bis (3)
-Amino-α, α-dimethylbenzyl) benzene, 1,3-bis (4-amino-α, α-
Dimethylbenzyl) benzene, 1,4-bis (3-amino-α, α-dimethylbenzyl)
Benzene, 1,4-bis (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) benzene, 1,3-
Bis (3-amino-α, α-ditrifluoromethylbenzyl) benzene, 1,3-bis (
4-Amino-α, α-ditrifluoromethylbenzyl) benzene, 1,4-bis (3-amino-α, α-ditrifluoromethylbenzyl) benzene, 1,4-bis (4-amino-)
α, α-ditrifluoromethylbenzyl) benzene, 2,6-bis (3-aminophenoxy) benzonitrile, 2,6-bis (3-aminophenoxy) pyridine, N, N'-bis (4-aminophenyl) Telephthalamide, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-ditrifluoromethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3, 3'-Dichloro-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-
4,4'-Diaminobiphenyl, 4,4'-bis (3-aminophenoxy) biphenyl,
4,4'-Bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [
4- (3-Aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone,
Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, 2,2-bis [4- (3-Aminophenoxy) Phenyl] Propane, 2,2-Bis [4
-(4-Aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [ 4- (4-Aminophenoxy) Phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 1,3-bis [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,3
-Bis [4- (4-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,4-bis [4- (3)
-Aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,4-bis [4- (4-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,3-bis [4- (3-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,4-bis [4- (3-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1, 4-bis [4- (4-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 4,4'-bis [4- (4-aminophenoxy) benzoyl] diphenyl ether, 4,4'-bis [4- (4-Amino-α, α-dimethylbenzyl) phenoxy] benzophenone, 4,4'-bis [4- (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) phenoxy] diphenyl sulfone, 4,4'-bis [4 -(4-Aminophenoxy) phenoxy] diphenyl sulfone, 3,3'-diamino-4,4'-diphenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4,4'-dibiphenoxybenzophenone, 3,
3'-diamino-4-phenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4-biphenoxybenzophenone, 6,6'-bis (3-aminophenoxy) -3,3,3', 3'-tetramethyl-1 , 1'-Spirovinedan, 6,6'-Bis (4-aminophenoxy)-
3,3,3', 3'-tetramethyl-1,1'-spirobiindan, 1,3-bis (3-
Aminopropyl) tetramethyldisiloxane, 1,3-bis (4-aminobutyl) tetramethyldisiloxane, α, ω-bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane, α
, Ω-bis (3-aminobutyl) polydimethylsiloxane, bis (aminomethyl) ether, bis (2-aminoethyl) ether, bis (3-aminopropyl) ether, bis (
2-Aminomethoxy) ethyl] ether, bis [2- (2-aminoethoxy) ethyl] ether, bis [2- (3-aminopropyl) ethyl] ether, trans-cyclohexanediamine, trans-1,4-bismethylene Cyclohexanediamine, 2,6-bis (aminomethyl) bicyclo [2,2,1] heptane, 2,5-bis (aminomethyl) bicyclo [2,2,1] heptane, and on the aromatic ring of the above diamine. Diamines in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with a substituent selected from a fluoro group, a methyl group, a methoxy group, a trifluoromethyl group, or a trifluoromethoxy group can also be used. These can be used alone or in combination of two or more.

光透過性を向上し、かつ、剛性を向上する点から、ポリイミド系樹脂としては、芳香族
環を含み、かつ、(i)フッ素原子、(ii)脂肪族環、及び(iii)芳香族環同士の
電子共役を切断する連結基からなる群から選択される少なくとも1つを含むポリイミド系
樹脂であることが好ましい。ポリイミド系樹脂に芳香族環を含むと配向性が高まり、剛性
が向上するが、芳香族環の吸収波長によって透過率が低下する傾向がある。ポリイミド系
樹脂が(i)フッ素原子を含む場合には、ポリイミド骨格内の電子状態を電荷移動し難く
することができる点から光透過性が向上する。また、ポリイミド系樹脂が(ii)脂肪族
環を含む場合には、ポリイミド骨格内のπ電子の共役を断ち切ることで骨格内の電荷の移
動を阻害することができる点から光透過性が向上する。さらに、ポリイミド系樹脂が(i
ii)芳香族環同士の電子共役を切断する連結基を含む場合には、ポリイミド骨格内のπ
電子の共役を断ち切ることで骨格内の電荷の移動を阻害することができる点からの点から
光透過性が向上する。このような芳香族環同士の電子共役を切断する連結基としては、例
えば、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、チオカルボニル結合、アミド
結合、スルホニル結合、及び、スルフィニル結合、並びに、フッ素で置換されていても良
いアルキレン基等の2価の連結基が挙げられる。
From the viewpoint of improving light transmission and rigidity, the polyimide-based resin contains an aromatic ring, and (i) a fluorine atom, (ii) an aliphatic ring, and (iii) an aromatic ring. A polyimide resin containing at least one selected from the group consisting of linking groups that cleave electron conjugation with each other is preferable. When the polyimide resin contains an aromatic ring, the orientation is increased and the rigidity is improved, but the transmittance tends to decrease depending on the absorption wavelength of the aromatic ring. When the polyimide resin (i) contains a fluorine atom, the light transmittance is improved from the point that it is possible to make it difficult for the electronic state in the polyimide skeleton to transfer charges. Further, when the polyimide resin contains (ii) an aliphatic ring, the light transmission is improved in that the transfer of charges in the skeleton can be inhibited by breaking the conjugation of π electrons in the polyimide skeleton. .. Furthermore, the polyimide resin is (i)
ii) π in the polyimide skeleton when it contains a linking group that cleaves the electron conjugation between aromatic rings.
Light transmission is improved from the point that the transfer of electric charge in the skeleton can be hindered by breaking the electron conjugate. Examples of the linking group for cleaving the electron conjugation between the aromatic rings include an ether bond, a thioether bond, a carbonyl bond, a thiocarbonyl bond, an amide bond, a sulfonyl bond, a sulfinyl bond, and a fluorine-substituted linking group. Examples thereof include a divalent linking group such as an alkylene group which may be used.

こられの中でも、芳香族環を含み、かつフッ素原子を含むポリイミド系樹脂であること
が、光透過性を向上し、かつ剛性を向上する点から好ましく用いられる。フッ素原子を含
むポリイミド系樹脂におけるフッ素原子の含有割合は、ポリイミド系樹脂の表面をX線光
電子分光法により測定したフッ素原子数(F)と炭素原子数(C)の比率(F/C)が、
0.01以上であることが好ましく、更に0.05以上であることが好ましい。一方でフ
ッ素原子の含有割合が高すぎるとポリイミド系樹脂の本来の耐熱性などが低下する恐れが
あることから、前記フッ素原子数(F)と炭素原子数(C)の比率(F/C)が1以下で
あることが好ましく、更に0.8以下であることが好ましい。ここで、X線光電子分光法
(XPS)の測定による上記比率は、X線光電子分光装置(例えば、Thermo Sc
ientific社 Theta Probe)を用いて測定される各原子の原子%の値
から求めることができる。
Among these, a polyimide-based resin containing an aromatic ring and containing a fluorine atom is preferably used from the viewpoint of improving light transmission and rigidity. The content ratio of fluorine atoms in the polyimide resin containing fluorine atoms is the ratio (F / C) of the number of fluorine atoms (F) and the number of carbon atoms (C) measured on the surface of the polyimide resin by X-ray photoelectron spectroscopy. ,
It is preferably 0.01 or more, and more preferably 0.05 or more. On the other hand, if the content ratio of fluorine atoms is too high, the original heat resistance of the polyimide resin may decrease. Therefore, the ratio (F / C) of the number of fluorine atoms (F) to the number of carbon atoms (C). Is preferably 1 or less, and more preferably 0.8 or less. Here, the above ratio measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) is an X-ray photoelectron spectroscope (for example, Thermo Sc).
It can be obtained from the value of the atomic% of each atom measured using Theta Probe).

また、ポリイミド系樹脂に含まれる炭素原子に結合する水素原子の70%以上が、芳香
族環に直接結合する水素原子であるポリイミド系樹脂であることが、光透過性を向上し、
かつ、剛性を向上する点から好ましく用いられる。ポリイミド系樹脂に含まれる炭素原子
に結合する全水素原子(個数)中の、芳香族環に直接結合する水素原子(個数)の割合は
、更に、80%以上であることが好ましく、85%以上であることがより好ましい。ポリ
イミドに含まれる炭素原子に結合する水素原子の70%以上が、芳香族環に直接結合する
水素原子であるポリイミドである場合には、大気中における加熱工程を経ても、例えば2
00℃以上で延伸を行っても、光学特性、特に全光線透過率やイエローインデックス(Y
I)の変化が少ない点から好ましい。ポリイミド系樹脂に含まれる炭素原子に結合する水
素原子の70%以上が、芳香族環に直接結合する水素原子であるポリイミドである場合に
は、酸素との反応性が低いため、ポリイミド系樹脂の化学構造が変化し難いことが推定さ
れる。ポリイミド系樹脂からなる基材はその高い耐熱性を利用し、加熱を伴う加工工程が
必要なデバイスなどに用いられる場合が多いが、ポリイミド系樹脂に含まれる炭素原子に
結合する水素原子の70%以上が、芳香族環に直接結合する水素原子であるポリイミド系
樹脂である場合には、これら後工程を透明性維持のために不活性雰囲気下で実施する必要
が生じないので、設備コストや雰囲気制御にかかる費用を抑制できるというメリットがあ
る。ここで、ポリイミド系樹脂に含まれる炭素原子に結合する全水素原子(個数)中の、
芳香族環に直接結合する水素原子(個数)の割合は、ポリイミドの分解物を高速液体クロ
マトグラフィー、ガスクロマトグラフ質量分析計及びNMRを用いて求めることができる
。例えば、サンプルを、アルカリ水溶液、または、超臨界メタノールにより分解し、得ら
れた分解物を、高速液体クロマトグラフィーで分離し、当該分離した各ピークの定性分析
をガスクロマトグラフ質量分析計およびNMR等を用いて行い、高速液体クロマトグラフ
ィーを用いて定量することでポリイミドに含まれる全水素原子(個数)中の、芳香族環に
直接結合する水素原子(個数)の割合を求めることができる。
Further, the polyimide resin in which 70% or more of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms contained in the polyimide resin are hydrogen atoms directly bonded to the aromatic ring improves the light transmission property.
Moreover, it is preferably used from the viewpoint of improving the rigidity. The ratio of the hydrogen atoms (number) directly bonded to the aromatic ring to the total hydrogen atoms (number) bonded to the carbon atoms contained in the polyimide resin is further preferably 80% or more, preferably 85% or more. Is more preferable. When 70% or more of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms contained in the polyimide are polyimides, which are hydrogen atoms directly bonded to the aromatic ring, even after undergoing a heating step in the atmosphere, for example, 2
Even if stretching is performed at 00 ° C or higher, the optical characteristics, especially the total light transmittance and the yellow index (Y)
It is preferable because there is little change in I). When 70% or more of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms contained in the polyimide resin are polyimides, which are hydrogen atoms directly bonded to the aromatic ring, the reactivity with oxygen is low, so that the polyimide resin has a low reactivity. It is presumed that the chemical structure is difficult to change. A base material made of a polyimide resin utilizes its high heat resistance and is often used for devices that require a processing process involving heating, but 70% of hydrogen atoms bonded to carbon atoms contained in the polyimide resin are used. In the case of the polyimide resin which is a hydrogen atom directly bonded to the aromatic ring, it is not necessary to carry out these subsequent steps in an inert atmosphere in order to maintain transparency, so that the equipment cost and atmosphere are not required. There is an advantage that the cost for control can be suppressed. Here, among the total hydrogen atoms (number) bonded to the carbon atoms contained in the polyimide resin,
The ratio of hydrogen atoms (number) directly bonded to the aromatic ring can be determined by using high performance liquid chromatography, gas chromatograph mass spectrometer and NMR for the decomposition product of polyimide. For example, the sample is decomposed with an alkaline aqueous solution or supercritical methanol, the obtained decomposition product is separated by high performance liquid chromatography, and the qualitative analysis of each separated peak is performed by a gas chromatograph mass spectrometer, NMR, etc. The ratio of hydrogen atoms (number) directly bonded to the aromatic ring can be obtained from the total hydrogen atoms (number) contained in the polyimide by performing the test using high performance liquid chromatography and quantifying the amount.

また、光透過性を向上し、かつ、剛性を向上する点から、ポリイミド系樹脂としては、
中でも、下記一般式(1)および下記一般式(3)で表される構造からなる群から選ばれ
る少なくとも1種の構造を有することが好ましい。
In addition, as a polyimide resin, it is used as a polyimide resin because it improves light transmission and rigidity.
Above all, it is preferable to have at least one structure selected from the group consisting of the structures represented by the following general formula (1) and the following general formula (3).

Figure 2022048309000002
上記一般式(1)において、Rはテトラカルボン酸残基である4価の基、Rは、t
rans-シクロヘキサンジアミン残基、trans-1,4-ビスメチレンシクロヘキ
サンジアミン残基、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン残基、3,4’-ジアミノジ
フェニルスルホン残基、および下記一般式(2)で表される2価の基からなる群から選ば
れる少なくとも1種の2価の基を表す。nは繰り返し単位数を表し、1以上である。本明
細書において、「テトラカルボン酸残基」とは、テトラカルボン酸から、4つのカルボキ
シル基を除いた残基をいい、テトラカルボン酸二無水物から酸二無水物構造を除いた残基
と同じ構造を表す。また、「ジアミン残基」とは、ジアミンから2つのアミノ基を除いた
残基をいう。
Figure 2022048309000002
In the above general formula (1), R 1 is a tetravalent group which is a tetracarboxylic acid residue, and R 2 is t.
Lans-cyclohexanediamine residue, trans-1,4-bismethylenecyclohexanediamine residue, 4,4'-diaminodiphenylsulfone residue, 3,4'-diaminodiphenylsulfone residue, and the following general formula (2) Represents at least one divalent group selected from the group consisting of the represented divalent groups. n represents the number of repeating units and is 1 or more. As used herein, the term "tetracarboxylic acid residue" refers to a residue obtained by removing four carboxyl groups from a tetracarboxylic acid, and is a residue obtained by removing an acid dianhydride structure from a tetracarboxylic acid dianhydride. Represents the same structure. Further, the "diamine residue" means a residue obtained by removing two amino groups from a diamine.

Figure 2022048309000003
上記一般式(2)において、RおよびRはそれぞれ独立して、水素原子、アルキル
基、またはパーフルオロアルキル基を表す。
Figure 2022048309000003
In the above general formula (2), R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or a perfluoroalkyl group, respectively.

Figure 2022048309000004
上記一般式(3)において、Rはシクロヘキサンテトラカルボン酸残基、シクロペン
タンテトラカルボン酸残基、ジシクロヘキサン-3,4,3’,4’-テトラカルボン酸
残基、および4,4'-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸残基からなる群
から選ばれる少なくとも1種の4価の基、Rは、ジアミン残基である2価の基を表す。
n’は繰り返し単位数を表し、1以上である。
Figure 2022048309000004
In the above general formula (3), R 5 is a cyclohexanetetracarboxylic acid residue, a cyclopentanetetracarboxylic acid residue, a dicyclohexane-3,4,3', 4'-tetracarboxylic acid residue, and 4,4'. -At least one tetravalent group selected from the group consisting of (hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid residues, R6 represents a divalent group which is a diamine residue.
n'represents the number of repeating units and is 1 or more.

上記一般式(1)における、Rはテトラカルボン酸残基であり、前記例示されたよう
なテトラカルボン酸二無水物から酸二無水物構造を除いた残基とすることができる。上記
一般式(1)におけるRとしては、中でも、光透過性を向上し、かつ剛性を向上する点
から、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸残基、3,3’,4,
4’-ビフェニルテトラカルボン酸残基、ピロメリット酸残基、2,3’,3,4’-ビ
フェニルテトラカルボン酸残基、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸
残基、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸残基、4,4'-オキシ
ジフタル酸残基、シクロヘキサンテトラカルボン酸残基、およびシクロペンタンテトラカ
ルボン酸残基からなる群から選択される少なくとも1種を含むことが好ましく、さらに、
4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸残基、4,4’-オキシジフ
タル酸残基、および3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸残基から
なる群から選択される少なくとも1種を含むことが好ましい。
In the above general formula (1), R 1 is a tetracarboxylic dianhydride residue, and can be a residue obtained by removing the acid dianhydride structure from the tetracarboxylic dianhydride as exemplified above. The R1 in the above general formula (1) includes 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid residues, 3,3', from the viewpoint of improving light transmission and rigidity. 4,
4'-biphenyltetracarboxylic acid residue, pyromellitic acid residue, 2,3', 3,4'-biphenyltetracarboxylic acid residue, 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid residue, Selected from the group consisting of 3,3', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic acid residues, 4,4'-oxydiphthalic acid residues, cyclohexanetetracarboxylic acid residues, and cyclopentanetetracarboxylic acid residues. It preferably contains at least one, and further
Selected from the group consisting of 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid residues, 4,4'-oxydiphthalic acid residues, and 3,3', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic acid residues. It is preferable to contain at least one of these.

において、これらの好適な残基を合計で、50モル%以上含むことが好ましく、更
に70モル%以上含むことが好ましく、より更に90モル%以上含むことが好ましい。
In R1 , it is preferable to contain 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, and further preferably 90 mol% or more of these suitable residues in total.

また、Rとして、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸残基、3,3’
,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸残基、およびピロメリット酸残基からなる
群から選択される少なくとも1種のような剛直性を向上するのに適したテトラカルボン酸
残基群(グループA)と、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸残
基、2,3’,3,4’-ビフェニルテトラカルボン酸残基、3,3’,4,4’-ジフ
ェニルスルホンテトラカルボン酸残基、4,4'-オキシジフタル酸残基、シクロヘキサ
ンテトラカルボン酸残基、およびシクロペンタンテトラカルボン酸残基からなる群から選
択される少なくとも1種のような透明性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群(
グループB)とを混合して用いることも好ましい。
Further, as R 1 , 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid residue, 3,3'
, 4,4'-Benzophenone tetracarboxylic acid residues, and tetracarboxylic acid residue groups suitable for improving rigidity such as at least one selected from the group consisting of pyromellitic acid residues (Group A). ) And 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid residue, 2,3', 3,4'-biphenyltetracarboxylic acid residue, 3,3', 4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic Suitable for improving transparency, such as at least one selected from the group consisting of acid residues, 4,4'-oxydiphthalic acid residues, cyclohexanetetracarboxylic acid residues, and cyclopentanetetracarboxylic acid residues. Tetracarboxylic acid residue group (
It is also preferable to use it in combination with Group B).

この場合、前記剛直性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群(グループA)と
、透明性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群(グループB)との含有比率は、
透明性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群(グループB)1モルに対して、前
記剛直性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群(グループA)が0.05モル以
上9モル以下であることが好ましく、更に0.1モル以上5モル以下であることが好まし
く、より更に0.3モル以上4モル以下であることが好ましい。
In this case, the content ratio of the tetracarboxylic acid residue group (group A) suitable for improving the rigidity and the tetracarboxylic acid residue group (group B) suitable for improving the transparency is
1 mol of tetracarboxylic acid residue group (group B) suitable for improving transparency, 0.05 mol of tetracarboxylic acid residue group (group A) suitable for improving rigidity. It is preferably 9 mol or more, more preferably 0.1 mol or more and 5 mol or less, and further preferably 0.3 mol or more and 4 mol or less.

上記一般式(1)におけるRとしては、中でも、光透過性を向上し、かつ剛性を向上
する点から、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン残基、3,4’-ジアミノジフェニ
ルスルホン残基、および上記一般式(2)で表される2価の基からなる群から選ばれる少
なくとも1種の2価の基であることが好ましく、更に、4,4’-ジアミノジフェニルス
ルホン残基、3,4’-ジアミノジフェニルスルホン残基、ならびに、RおよびR
パーフルオロアルキル基である上記一般式(2)で表される2価の基からなる群から選ば
れる少なくとも1種の2価の基であることが好ましい。
The R 2 in the above general formula (1) includes 4,4'-diaminodiphenyl sulfone residues and 3,4'-diaminodiphenyl sulfone residues from the viewpoint of improving light transmission and rigidity. , And at least one divalent group selected from the group consisting of the divalent group represented by the above general formula (2), and further, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone residue, 3 , 4'-Diaminodiphenyl sulfone residue, and at least one divalent selected from the group consisting of a divalent group represented by the above general formula (2) in which R 3 and R 4 are perfluoroalkyl groups. It is preferable that it is a group of.

上記一般式(3)におけるRとしては、中でも、光透過性を向上し、かつ剛性を向上
する点から、4,4'-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸残基、3,3’
,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸残基、及びオキシジフタル酸残基を含
むことが好ましい。
The R5 in the above general formula ( 3 ) includes 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid residues, 3,3', among others, from the viewpoint of improving light transmission and rigidity.
, 4,4'-Diphenyl sulfone tetracarboxylic acid residue, and oxydiphthalic acid residue are preferably contained.

において、これらの好適な残基を、50モル%以上含むことが好ましく、更に70
モル%以上含むことが好ましく、より更に90モル%以上含むことが好ましい。
In R5, these suitable residues are preferably contained in an amount of 50 mol% or more, further 70.
It is preferably contained in an amount of mol% or more, and more preferably 90 mol% or more.

上記一般式(3)におけるRはジアミン残基であり、前記例示されたようなジアミン
から2つのアミノ基を除いた残基とすることができる。上記一般式(3)におけるR
しては、中でも、光透過性を向上し、かつ剛性を向上する点から、2,2’-ビス(トリ
フルオロメチル)ベンジジン残基、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スル
ホン残基、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン残基、2,2-ビス[4-(4-アミ
ノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン残基、ビス[4-(3-アミノフェノ
キシ)フェニル]スルホン残基、4,4’-ジアミノ-2,2’-ビス(トリフルオロメ
チル)ジフェニルエーテル残基、1,4-ビス[4-アミノ-2-(トリフルオロメチル
)フェノキシ]ベンゼン残基、2,2-ビス[4-(4-アミノ-2-トリフルオロメチ
ルフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン残基、4,4’-ジアミノ-2-(ト
リフルオロメチル)ジフェニルエーテル残基、4,4’-ジアミノベンズアニリド残基、
N,N’-ビス(4-アミノフェニル)テレフタルアミド残基、及び9,9-ビス(4-
アミノフェニル)フルオレン残基からなる群から選ばれる少なくとも1種の2価の基を含
むことが好ましく、更に、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン残基、ビス
[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン残基、及び4,4’-ジアミノジフ
ェニルスルホン残基からなる群から選ばれる少なくとも1種の2価の基を含むことが好ま
しい。
R6 in the above general formula ( 3 ) is a diamine residue, and can be a residue obtained by removing two amino groups from the diamine as exemplified above. Among the R6s in the above general formula (3), 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine residue and bis [4- (4) are used from the viewpoint of improving light transmission and rigidity. -Aminophenoxy) phenyl] sulfone residue, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone residue, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane residue, bis [4- (3- (3-) Aminophenoxy) phenyl] sulfone residue, 4,4'-diamino-2,2'-bis (trifluoromethyl) diphenyl ether residue, 1,4-bis [4-amino-2- (trifluoromethyl) phenoxy] Benzene residue, 2,2-bis [4- (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) phenyl] hexafluoropropane residue, 4,4'-diamino-2- (trifluoromethyl) diphenyl ether residue, 4,4'-Diaminobenzanilide residue,
N, N'-bis (4-aminophenyl) terephthalamide residue, and 9,9-bis (4-aminophenyl)
It preferably contains at least one divalent group selected from the group consisting of aminophenyl) fluorene residues, and further contains 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine residues, bis [4- (4- (4- (4- (4- (4-) 4-). It preferably contains at least one divalent group selected from the group consisting of aminophenoxy) phenyl] sulfone residues and 4,4'-diaminodiphenyl sulfone residues.

において、これらの好適な残基を合計で、50モル%以上含むことが好ましく、更
に70モル%以上含むことが好ましく、より更に90モル%以上含むことが好ましい。
In R6, it is preferable to contain 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, and further preferably 90 mol% or more of these suitable residues in total.

また、Rとして、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン残基、4
,4’-ジアミノベンズアニリド残基、N,N’-ビス(4-アミノフェニル)テレフタ
ルアミド残基、パラフェニレンジアミン残基、メタフェニレンジアミン残基、および4,
4’-ジアミノジフェニルメタン残基からなる群から選択される少なくとも1種のような
剛直性を向上するのに適したジアミン残基群(グループC)と、2,2’-ビス(トリフ
ルオロメチル)ベンジジン残基、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン残基、2,2-
ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン残基、ビス[4
-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン残基、4,4’-ジアミノ-2,2’-
ビス(トリフルオロメチル)ジフェニルエーテル残基、1,4-ビス[4-アミノ-2-
(トリフルオロメチル)フェノキシ]ベンゼン残基、2,2-ビス[4-(4-アミノ-
2-トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン残基、4,4’
-ジアミノ-2-(トリフルオロメチル)ジフェニルエーテル残基、及び9,9-ビス(
4-アミノフェニル)フルオレン残基からなる群から選択される少なくとも1種のような
透明性を向上するのに適したジアミン残基群(グループD)とを混合して用いることも好
ましい。
In addition, as R6, a bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone residue, 4
, 4'-diaminobenzanilide residue, N, N'-bis (4-aminophenyl) terephthalamide residue, para-phenylenediamine residue, meta-phenylenediamine residue, and 4,
A group of diamine residues (Group C) suitable for improving rigidity, such as at least one selected from the group consisting of 4'-diaminodiphenylmethane residues, and 2,2'-bis (trifluoromethyl). Benzidine residue, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone residue, 2,2-
Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane residue, bis [4
-(3-Aminophenoxy) Phenyl] Sulfone Residue, 4,4'-Diamino-2,2'-
Bis (trifluoromethyl) diphenyl ether residue, 1,4-bis [4-amino-2-
(Trifluoromethyl) phenoxy] benzene residue, 2,2-bis [4- (4-amino-)
2-Trifluoromethylphenoxy) Phenyl] Hexafluoropropane residue, 4,4'
-Diamino-2- (trifluoromethyl) diphenyl ether residue, and 9,9-bis (
It is also preferable to use a mixture with a group of diamine residues (Group D) suitable for improving transparency, such as at least one selected from the group consisting of 4-aminophenyl) fluorene residues.

この場合、前記剛直性を向上するのに適したジアミン残基群(グループC)と、透明性
を向上するのに適したジアミン残基群(グループD)との含有比率は、透明性を向上する
のに適したジアミン残基群(グループD)1モルに対して、前記剛直性を向上するのに適
したジアミン残基群(グループC)が0.05モル以上9モル以下であることが好ましく
、更に0.1モル以上5モル以下であることが好ましく、0.3モル以上4モル以下であ
ることがより好ましい。
In this case, the content ratio of the diamine residue group (group C) suitable for improving the rigidity and the diamine residue group (group D) suitable for improving the transparency improves the transparency. The amount of the diamine residue group (group C) suitable for improving the rigidity is 0.05 mol or more and 9 mol or less with respect to 1 mol of the diamine residue group (group D) suitable for the preparation. It is preferable, more preferably 0.1 mol or more and 5 mol or less, and more preferably 0.3 mol or more and 4 mol or less.

上記一般式(1)および上記一般式(3)で表される構造において、nおよびn’はそ
れぞれ独立に、繰り返し単位数を表し、1以上である。ポリイミドにおける繰り返し単位
数nは、後述する好ましいガラス転移温度を示すように、構造に応じて適宜選択されれば
良く、特に限定されない。平均繰り返し単位数は、通常10~2000であり、更に15
~1000であることが好ましい。
In the structures represented by the general formula (1) and the general formula (3), n and n'independently represent the number of repeating units and are 1 or more. The number of repeating units n in the polyimide may be appropriately selected depending on the structure so as to indicate a preferable glass transition temperature described later, and is not particularly limited. The average number of repeating units is usually 10 to 2000, and an additional 15
It is preferably ~ 1000.

また、ポリイミド系樹脂は、その一部にポリアミド構造を含んでいても良い。含んでい
ても良いポリアミド構造としては、例えば、トリメリット酸無水物のようなトリカルボン
酸残基を含むポリアミドイミド構造や、テレフタル酸のようなジカルボン酸残基を含むポ
リアミド構造が挙げられる。
Further, the polyimide-based resin may contain a polyamide structure as a part thereof. Examples of the polyamide structure that may be contained include a polyamide-imide structure containing a tricarboxylic acid residue such as trimellitic acid anhydride and a polyamide structure containing a dicarboxylic acid residue such as terephthalic acid.

ポリイミド系樹脂は、耐熱性の点から、ガラス転移温度が250℃以上であることが好
ましく、更に、270℃以上であることが好ましい。一方、延伸の容易さやベーク温度低
減の点から、ガラス転移温度が400℃以下であることが好ましく、更に、380℃以下
であることが好ましい。
From the viewpoint of heat resistance, the polyimide resin preferably has a glass transition temperature of 250 ° C. or higher, and more preferably 270 ° C. or higher. On the other hand, from the viewpoint of ease of stretching and reduction of baking temperature, the glass transition temperature is preferably 400 ° C. or lower, and more preferably 380 ° C. or lower.

具体的には、ポリイミド系樹脂としては、例えば、下記式で表される構造を有する化合
物が挙げられる。下記式中、nは、繰り返し単位であり、2以上の整数を表す。

Figure 2022048309000005
Specifically, examples of the polyimide-based resin include compounds having a structure represented by the following formula. In the following formula, n is a repeating unit and represents an integer of 2 or more.
Figure 2022048309000005

Figure 2022048309000006
Figure 2022048309000006

Figure 2022048309000007
Figure 2022048309000007

Figure 2022048309000008
Figure 2022048309000008

Figure 2022048309000009
Figure 2022048309000009

Figure 2022048309000010
Figure 2022048309000010

Figure 2022048309000011
Figure 2022048309000011

Figure 2022048309000012
Figure 2022048309000012

Figure 2022048309000013
Figure 2022048309000013

Figure 2022048309000014
Figure 2022048309000014

Figure 2022048309000015
Figure 2022048309000015

Figure 2022048309000016
Figure 2022048309000016

Figure 2022048309000017
Figure 2022048309000017

Figure 2022048309000018
Figure 2022048309000018

Figure 2022048309000019
Figure 2022048309000019

Figure 2022048309000020
Figure 2022048309000020

Figure 2022048309000021
Figure 2022048309000021

ポリアミド系樹脂は、脂肪族ポリアミドのみならず、芳香族ポリアミド(アラミド)を
含む概念である。ポリアミド系樹脂としては、例えば、下記式(21)~(23)で表さ
れる骨格を有する化合物が挙げられる。なお、下記式中、nは、繰り返し単位であり、2
以上の整数を表す。
Polyamide-based resin is a concept including not only aliphatic polyamide but also aromatic polyamide (aramid). Examples of the polyamide-based resin include compounds having a skeleton represented by the following formulas (21) to (23). In the following formula, n is a repeating unit and 2
Represents the above integers.

Figure 2022048309000022
Figure 2022048309000022

Figure 2022048309000023
Figure 2022048309000023

Figure 2022048309000024
Figure 2022048309000024

上記式(4)~(20)および(23)で表されるポリイミド系樹脂またはポリアミド
系樹脂からなる基材は、市販のものを用いても良い。上記ポリイミド系樹脂からなる基材
の市販品としては、例えば、三菱ガス化学株式会社製のネオプリム等が挙げられ、上記ポ
リアミド系樹脂からなる基材の市販品としては、例えば、東レ株式会社製のミクトロン等
が挙げられる。
As the substrate made of the polyimide resin or the polyamide resin represented by the above formulas (4) to (20) and (23), commercially available ones may be used. Examples of commercially available products of the base material made of the polyimide resin include Neoprim manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., and examples of the commercially available product of the base material made of the above-mentioned polyamide resin include those manufactured by Toray Industries, Inc. Examples include Mictron.

また、上記式(4)~(20)および(23)で表されるポリイミド系樹脂またはポリ
アミド系樹脂は、公知の方法により合成したものを用いても良い。例えば、上記式(4)
で表されるポリイミド系樹脂の合成方法は、特開2009-132091に記載されてお
り、具体的には、下記式(24)で表される4,4’-ヘキサフルオロプロピリデンビス
フタル酸二無水物(FPA)と2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジア
ミノビフェニル(TFDB)とを反応させることにより得ることができる。

Figure 2022048309000025
Further, as the polyimide-based resin or the polyamide-based resin represented by the above formulas (4) to (20) and (23), those synthesized by a known method may be used. For example, the above equation (4)
The method for synthesizing the polyimide resin represented by the above is described in JP-A-2009-132091, and specifically, 4,4'-hexafluoropropyridenebis phthalic acid dianhydride represented by the following formula (24). It can be obtained by reacting anhydrate (FPA) with 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl (TFDB).
Figure 2022048309000025

上記ポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂の重量平均分子量は、3000以上50
万以下の範囲であることが好ましく、5000~30万の範囲であることがより好ましく
、1万以上20万以下の範囲であることが更に好ましい。重量平均分子量が3000未満
であると、充分な強度が得られないことがあり、50万を超えると粘度が上昇し、溶解性
が低下するため、表面が平滑で膜厚が均一な基材が得られないことがある。なお、本明細
書において、「重量平均分子量」とは、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測
定したポリスチレン換算値である。
The weight average molecular weight of the polyimide resin or the polyamide resin is 3000 or more and 50.
It is preferably in the range of 10,000 or less, more preferably in the range of 5,000 to 300,000, and even more preferably in the range of 10,000 or more and 200,000 or less. If the weight average molecular weight is less than 3000, sufficient strength may not be obtained, and if it exceeds 500,000, the viscosity increases and the solubility decreases, so that a substrate having a smooth surface and a uniform film thickness is used. It may not be obtained. In the present specification, the "weight average molecular weight" is a polystyrene-equivalent value measured by gel permeation chromatography (GPC).

上記ポリイミド系樹脂およびポリアミド系樹脂のなかでも、優れた透明性を有すること
から、分子内又は分子間の電荷移動が起こりにくい構造を有するポリイミド系樹脂または
ポリアミド系樹脂が好ましく、具体的には、上記式(4)~(11)等のフッ素化ポリイ
ミド系樹脂、上記式(13)~(16)等の脂環構造を有するポリイミド系樹脂、上記式
(23)等のハロゲン基を有するポリアミド系樹脂が挙げられる。
Among the above-mentioned polyimide-based resins and polyamide-based resins, polyimide-based resins or polyamide-based resins having a structure in which charge transfer within or between molecules is unlikely to occur are preferable because they have excellent transparency. Fluorinated polyimide-based resins such as the above formulas (4) to (11), polyimide-based resins having an alicyclic structure such as the above formulas (13) to (16), and polyamide-based resins having a halogen group such as the above formula (23). Resin is mentioned.

また、上記式(4)~(11)等のフッ素化ポリイミド系樹脂では、フッ素化された構
造を有するため、高い耐熱性を有しており、ポリイミド系樹脂からなる基材の製造時の熱
によって着色されることもないので、優れた透明性を有する。
Further, the fluorinated polyimide resins of the above formulas (4) to (11) have high heat resistance because they have a fluorinated structure, and the heat at the time of manufacturing the base material made of the polyimide resin is high. It has excellent transparency because it is not colored by.

樹脂基材21は、硬度を向上させることが可能な観点から、上記式(4)~(11)等
で表されるフッ素化ポリイミド系樹脂または上記式(23)等のハロゲン基を有するアラ
ミド樹脂からなる基材を用いることが好ましい。なかでも、硬度をより向上させることが
できる観点から、上記式(4)で表されるポリイミド系樹脂からなる基材を用いることが
より好ましい。
The resin base material 21 is a fluorinated polyimide resin represented by the above formulas (4) to (11) or an aramid resin having a halogen group such as the above formula (23) from the viewpoint of being able to improve the hardness. It is preferable to use a base material made of. Above all, from the viewpoint of further improving the hardness, it is more preferable to use a base material made of a polyimide resin represented by the above formula (4).

<<第1の保護フィルム>>
保護フィルム30は、樹脂基材21の表面21Aに貼り付けされている。保護フィルム
30の厚みは、30μm以上となっている。保護フィルム30の厚みが30μm以上であ
れば、カールを抑制することができる。保護フィルム30の厚みは、樹脂基材21の厚み
と同様の方法によって測定することができる。保護フィルム付き光透過性フィルム10の
状態で出荷する場合には、保護フィルム付き光透過性フィルム10のカール抑制のため、
保護フィルム30の厚みは、50μm以上であることが好ましい。保護フィルム30の厚
みの上限は、剥離時のハンドリング性や断裁のしやすさから、250μm以下であること
が好ましい。
<< First protective film >>
The protective film 30 is attached to the surface 21A of the resin base material 21. The thickness of the protective film 30 is 30 μm or more. If the thickness of the protective film 30 is 30 μm or more, curling can be suppressed. The thickness of the protective film 30 can be measured by the same method as the thickness of the resin base material 21. When the light transmissive film 10 with a protective film is shipped, the curl of the light transmissive film 10 with a protective film is suppressed.
The thickness of the protective film 30 is preferably 50 μm or more. The upper limit of the thickness of the protective film 30 is preferably 250 μm or less from the viewpoint of handleability at the time of peeling and ease of cutting.

保護フィルム30のヘイズ値(全ヘイズ値)は10%以下となっている。保護フィルム
30のヘイズ値が10%以下であれば、光透過性フィルム20の表面20Aにおける凹凸
が少なくなり、優れた平滑性を有する光透過性フィルム20を得ることができる。保護フ
ィルム30のヘイズ値は、50mm×100mmの大きさに切り出した保護フィルム付き
光透過性フィルム10から保護フィルム30を剥離し、保護フィルム30単体の状態であ
って、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で、ヘイズメーター(製品名「HM
-150」、株式会社村上色彩技術研究所製)を用いてJIS K7136:2000に
準拠した方法によって保護フィルム30の基材フィルム31側から測定することができる
。保護フィルム30のヘイズ値は、保護フィルム30に対し3回測定して得られた値の算
術平均値とする。なお、保護フィルムを上記大きさに切り出せない場合には、例えば、H
M-150は測定する際の入口開口が20mmφであるので、直径21mm以上となるよ
うなサンプル大きさが必要になる。このため、22mm×22mm以上の大きさに保護フ
ィルムを適宜切り出してもよい。保護フィルムの大きさが小さい場合は、光源スポットが
外れない範囲で少しずつずらす、または角度を変えるなどして測定点を3箇所にする。保
護フィルム30のヘイズ値は、5%以下、3%以下の順にさらに好ましい(数値が小さい
ほど好ましい)。本明細書において、単なる「ヘイズ値」とは、全ヘイズ値を意味するも
のであり、後述する外部ヘイズ値とは異なるものである。
The haze value (total haze value) of the protective film 30 is 10% or less. When the haze value of the protective film 30 is 10% or less, the unevenness on the surface 20A of the light transmitting film 20 is reduced, and the light transmitting film 20 having excellent smoothness can be obtained. The haze value of the protective film 30 is such that the protective film 30 is peeled off from the light transmissive film 10 with a protective film cut into a size of 50 mm × 100 mm, and the protective film 30 is in a single state without curls or wrinkles. Haze meter (product name "HM") without fingerprints or dust
-150 ”, manufactured by Murakami Color Technology Laboratory Co., Ltd.) can be measured from the base film 31 side of the protective film 30 by a method conforming to JIS K7136: 2000. The haze value of the protective film 30 is an arithmetic mean value obtained by measuring the protective film 30 three times. If the protective film cannot be cut out to the above size, for example, H
Since the inlet opening of M-150 at the time of measurement is 20 mmφ, a sample size having a diameter of 21 mm or more is required. Therefore, the protective film may be appropriately cut out to a size of 22 mm × 22 mm or more. If the size of the protective film is small, shift the light source spot little by little or change the angle so that the measurement points are set to three points. The haze value of the protective film 30 is more preferably 5% or less, in the order of 3% or less (the smaller the value, the more preferable). In the present specification, the mere "haze value" means the total haze value, and is different from the external haze value described later.

保護フィルム30の全ヘイズ値は10%以下となっているので、保護フィルム30にお
ける樹脂基材21の表面21Aと接していた表面における外部ヘイズも、10%以下とな
っている。外部ヘイズ値は、全ヘイズ値から内部ヘイズを差し引くことによって求められ
る値である。外部ヘイズ値は、ヘイズメーター(製品名「HM-150」、株式会社村上
色彩技術研究所製)を用いて、求めることができる。具体的には、まず、上記全ヘイズ値
の測定法方法に従って、保護フィルム30のヘイズ値(全ヘイズ値)を求める。その後、
保護フィルム30における樹脂基材21の表面21Aと接していた表面に、膜厚が25μ
mの透明光学粘着層(製品名「パナクリーンPD-S1」、パナック株式会社製)を介し
て厚みが60μmのトリアセチルセルロース基材(製品名「TD60UL」、富士フイル
ム株式会社製)を貼り付ける。これによって、保護フィルム30の表面の凹凸形状が潰れ
、保護フィルム30の表面が平坦化される。そして、この状態で、上記全ヘイズ値の測定
方法と同様の方法によって、ヘイズ値を測定することで内部ヘイズ値を求め、全ヘイズ値
から内部ヘイズを差し引くことによって外部ヘイズ値を求める。保護フィルム30の外部
ヘイズ値は、5%以下、3%以下の順にさらに好ましい(数値が小さいほど好ましい)。
Since the total haze value of the protective film 30 is 10% or less, the external haze on the surface of the protective film 30 in contact with the surface 21A of the resin base material 21 is also 10% or less. The external haze value is a value obtained by subtracting the internal haze from the total haze value. The external haze value can be obtained using a haze meter (product name "HM-150", manufactured by Murakami Color Technology Laboratory Co., Ltd.). Specifically, first, the haze value (total haze value) of the protective film 30 is obtained according to the above-mentioned method for measuring the total haze value. after that,
The film thickness is 25 μm on the surface of the protective film 30 that was in contact with the surface 21A of the resin base material 21.
A triacetyl cellulose substrate (product name "TD60UL", manufactured by FUJIFILM Corporation) having a thickness of 60 μm is attached via a transparent optical adhesive layer (product name "Panaclean PD-S1", manufactured by PANAC Co., Ltd.). .. As a result, the uneven shape of the surface of the protective film 30 is crushed, and the surface of the protective film 30 is flattened. Then, in this state, the internal haze value is obtained by measuring the haze value by the same method as the above-mentioned method for measuring the total haze value, and the external haze value is obtained by subtracting the internal haze from the total haze value. The external haze value of the protective film 30 is more preferably 5% or less, in the order of 3% or less (the smaller the value, the more preferable).

保護フィルム30は、基材フィルム31と、基材フィルム31における樹脂基材21側
の面に設けられた粘着層32とを備えている。図1に示される保護フィルム30は、粘着
層32を備えているが、保護フィルムによっては、粘着層を備えていなくともよい。
The protective film 30 includes a base film 31 and an adhesive layer 32 provided on the surface of the base film 31 on the side of the resin base material 21. The protective film 30 shown in FIG. 1 includes an adhesive layer 32, but depending on the protective film, it may not be provided with the adhesive layer.

<基材フィルム>
基材フィルム31は、表面21Aの凹凸を低減するために、ポリエステル系樹脂から構
成されていることが好ましい。ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート等の少なくとも1種の樹脂が挙げられる。これらの中でも、透明性と価格
の点から、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。
<Base film>
The base film 31 is preferably made of a polyester resin in order to reduce the unevenness of the surface 21A. Examples of the polyester-based resin include at least one resin such as polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. Among these, polyethylene terephthalate is preferable from the viewpoint of transparency and price.

基材フィルム31の厚みは、保護フィルム30の厚みと同様の理由から、30μm以上
となっていることが好ましい。基材フィルム31の厚みは、樹脂基材21の厚みと同様の
方法によって測定することができる。保護フィルム付き光透過性フィルム10の状態で搬
送や出荷する場合には、保護フィルム付き光透過性フィルム10のカール抑制のため、基
材フィルム31の厚みは、50μm以上であることが好ましい。基材フィルム31の厚み
の上限は、剥離時のハンドリング性および断裁のしやすさから、250μm以下であるこ
とが好ましい。
The thickness of the base film 31 is preferably 30 μm or more for the same reason as the thickness of the protective film 30. The thickness of the base film 31 can be measured by the same method as the thickness of the resin base material 21. When the light transmissive film 10 with a protective film is transported or shipped, the thickness of the base film 31 is preferably 50 μm or more in order to suppress curl of the light transmissive film 10 with a protective film. The upper limit of the thickness of the base film 31 is preferably 250 μm or less from the viewpoint of handleability at the time of peeling and ease of cutting.

<粘着層>
粘着層32を構成する粘着剤としては、所望の粘着性を有するものであれば特に限定さ
れるものではなく、保護フィルムに用いられる一般的な粘着剤を用いることができる。こ
のような粘着剤は、例えば、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤
、またはこれらの混合物が挙げられる。これらの中でも適度な密着性を調整しやすい点か
ら、アクリル系粘着剤が好ましい。
<Adhesive layer>
The pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer 32 is not particularly limited as long as it has a desired adhesiveness, and a general pressure-sensitive adhesive used for a protective film can be used. Examples of such a pressure-sensitive adhesive include an acrylic pressure-sensitive adhesive, a urethane-based pressure-sensitive adhesive, a silicone-based pressure-sensitive adhesive, and a mixture thereof. Among these, an acrylic pressure-sensitive adhesive is preferable because it is easy to adjust an appropriate adhesion.

粘着層32の膜厚は、1μm以上50μm以下となっていることが好ましい。粘着層3
2の膜厚が1μm以上であれば、保護フィルム30を樹脂基材21に確実に貼り付けるこ
とができ、また粘着層32の膜厚が50μm以下であれば、粘着層32の表面を平滑する
ことができ、剥離時に粘着層32が引き裂かれる、いわゆる泣き別れ現象を抑制すること
ができる。粘着層32の膜厚は、樹脂基材21の厚みと同様の方法によって測定すること
ができる。粘着層32の膜厚の下限は、5μm以上であることがより好ましく、上限は、
30μm以下であることがより好ましい。
The film thickness of the adhesive layer 32 is preferably 1 μm or more and 50 μm or less. Adhesive layer 3
If the film thickness of 2 is 1 μm or more, the protective film 30 can be reliably attached to the resin base material 21, and if the film thickness of the adhesive layer 32 is 50 μm or less, the surface of the adhesive layer 32 is smoothed. This makes it possible to suppress the so-called crying separation phenomenon in which the adhesive layer 32 is torn at the time of peeling. The film thickness of the adhesive layer 32 can be measured by the same method as the thickness of the resin base material 21. The lower limit of the film thickness of the adhesive layer 32 is more preferably 5 μm or more, and the upper limit is
It is more preferably 30 μm or less.

<<第2の保護フィルム>>
保護フィルム40は、樹脂基材21の表面21Bに貼り付けられている。保護フィルム
40の厚みは、30μm以上となっている。保護フィルム40の厚みが30μm以上であ
れば、カールを抑制できる。保護フィルム40の厚みは、樹脂基材21の厚みと同様の方
法によって測定することができる。保護フィルム付き光透過性フィルム10の状態で搬送
や出荷する場合には、保護フィルム付き光透過性フィルム10のカール抑制のため、保護
フィルム40の厚みは、50μm以上であることが好ましい。保護フィルム40の厚みの
上限は、剥離時のハンドリング性および断裁のしやすさから、250μm以下であること
が好ましい。
<< Second protective film >>
The protective film 40 is attached to the surface 21B of the resin base material 21. The thickness of the protective film 40 is 30 μm or more. If the thickness of the protective film 40 is 30 μm or more, curling can be suppressed. The thickness of the protective film 40 can be measured by the same method as the thickness of the resin base material 21. When the light transmissive film 10 with a protective film is transported or shipped, the thickness of the protective film 40 is preferably 50 μm or more in order to suppress curl of the light transmissive film 10 with a protective film. The upper limit of the thickness of the protective film 40 is preferably 250 μm or less from the viewpoint of handleability at the time of peeling and ease of cutting.

保護フィルム40の厚みは、保護フィルム30の厚みと異なっていてもよい。保護フィ
ルム30と保護フィルム40の厚みが異なることによって、カールを調整することができ
る。
The thickness of the protective film 40 may be different from the thickness of the protective film 30. The curl can be adjusted by changing the thickness of the protective film 30 and the protective film 40.

保護フィルム40のヘイズ値(全ヘイズ値)は10%以下となっている。保護フィルム
40のヘイズ値が10%以下であれば、光透過性フィルム20の表面20Bにおける凹凸
が少なくなり、より優れた平滑性を有する光透過性フィルム20を得ることができる。保
護フィルム40のヘイズ値は、50mm×100mmの大きさに切り出した保護フィルム
付き光透過性フィルム10から保護フィルム40を剥離し、保護フィルム40単体の状態
で、ヘイズメーター(製品名「HM-150」、株式会社村上色彩技術研究所製)を用い
てJIS K7136:2000に準拠した方法によって測定することができる。保護フ
ィルム40のヘイズ値は、保護フィルム40に対し3回測定して得られた値の算術平均値
とする。なお、保護フィルムを上記大きさに切り出せない場合には、例えば、HM-15
0は測定する際の入口開口が20mmφであるので、直径21mm以上となるようなサン
プル大きさが必要になる。このため、22mm×22mm以上の大きさに保護フィルムを
適宜切り出してもよい。保護フィルムの大きさが小さい場合は、光源スポットが外れない
範囲で少しずつずらす、または角度を変えるなどして測定点を3箇所にする。保護フィル
ム40のヘイズ値は、5%以下、3%以下の順にさらに好ましい(数値が小さいほど好ま
しい)。
The haze value (total haze value) of the protective film 40 is 10% or less. When the haze value of the protective film 40 is 10% or less, the unevenness on the surface 20B of the light transmissive film 20 is reduced, and the light transmissive film 20 having more excellent smoothness can be obtained. The haze value of the protective film 40 is such that the protective film 40 is peeled off from the light transmissive film 10 with the protective film cut out to a size of 50 mm × 100 mm, and the haze meter (product name “HM-150”) is used as the protective film 40 alone. , Manufactured by Murakami Color Technology Laboratory Co., Ltd.), and can be measured by a method compliant with JIS K7136: 2000. The haze value of the protective film 40 is an arithmetic mean value obtained by measuring the protective film 40 three times. If the protective film cannot be cut out to the above size, for example, HM-15.
Since 0 has an inlet opening of 20 mmφ for measurement, a sample size having a diameter of 21 mm or more is required. Therefore, the protective film may be appropriately cut out to a size of 22 mm × 22 mm or more. If the size of the protective film is small, shift the light source spot little by little or change the angle so that the measurement points are set to three points. The haze value of the protective film 40 is more preferably 5% or less, in the order of 3% or less (the smaller the value, the more preferable).

保護フィルム40の全ヘイズ値は10%以下となっているので、保護フィルム40にお
ける光透過性フィルム20の表面20Bと接していた表面における外部ヘイズも、10%
以下となっている。保護フィルム40の外部ヘイズ値は、保護フィルム30の外部ヘイズ
値と同様の方法によって求めることができる。保護フィルム40の外部ヘイズ値は、5%
以下、3%以下の順にさらに好ましい(数値が小さいほど好ましい)。
Since the total haze value of the protective film 40 is 10% or less, the external haze on the surface of the protective film 40 in contact with the surface 20B of the light transmissive film 20 is also 10%.
It is as follows. The external haze value of the protective film 40 can be obtained by the same method as the external haze value of the protective film 30. The external haze value of the protective film 40 is 5%.
Hereinafter, it is more preferable in the order of 3% or less (the smaller the value, the more preferable).

保護フィルム40は、基材フィルム41と、基材フィルム41における樹脂基材21側
の面に設けられた粘着層42とを備えている。
The protective film 40 includes a base film 41 and an adhesive layer 42 provided on the surface of the base film 41 on the side of the resin base material 21.

<基材フィルムおよび粘着層>
基材フィルム41は、基材フィルム31と同様であり、粘着層42は、粘着層32と同
様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
<Base film and adhesive layer>
Since the base film 41 is the same as the base film 31 and the adhesive layer 42 is the same as the adhesive layer 32, the description thereof will be omitted here.

<<<他の保護フィルム付き光透過性フィルム>>>
図1に示される保護フィルム付き光透過性フィルム10においては、樹脂基材21の表
面21Aに貼り付けられた保護フィルム30と、表面21Bに貼り付けられた保護フィル
ム40とを備えているが、図4に示されるように保護フィルムは光透過性フィルムの片面
のみに備えられていてもよい。
<<< Light-transmitting film with other protective film >>>
The light transmissive film 10 with a protective film shown in FIG. 1 includes a protective film 30 attached to the surface 21A of the resin base material 21 and a protective film 40 attached to the surface 21B. As shown in FIG. 4, the protective film may be provided on only one side of the light transmissive film.

図4に示される保護フィルム付き光透過性フィルム60は、樹脂基材21と樹脂層71
とを備える折り畳み可能な光透過性フィルム70と、光透過性フィルム70の第1の表面
70A(以下、単に「表面70A」と称することもある。)に剥離可能に貼り付けられた
保護フィルム30とを備えている。図4においては、光透過性フィルム70の第2の表面
70B側には、保護フィルムは設けられていないが、光透過性フィルム70の第1の表面
70Aに剥離可能に貼り付けられた保護フィルム30の他、光透過性フィルム70の第2
の表面70Bにも保護フィルム40と同様の保護フィルムが剥離可能に貼り付けられてい
てもよい。なお、図4において、図1と同じ符号が付されている部材は、図1に示されて
いる部材と同じものであるので、下記以外は、説明を省略するものとする。
The light transmissive film 60 with a protective film shown in FIG. 4 has a resin base material 21 and a resin layer 71.
A foldable light-transmitting film 70 comprising the And have. In FIG. 4, the protective film is not provided on the second surface 70B side of the light transmissive film 70, but the protective film is removably attached to the first surface 70A of the light transmissive film 70. In addition to 30, the second light-transmitting film 70
A protective film similar to the protective film 40 may be detachably attached to the surface 70B of the surface 70B. In FIG. 4, the members having the same reference numerals as those in FIG. 1 are the same as the members shown in FIG. 1, so the description thereof will be omitted except for the following.

光透過性フィルム70の表面70Aは、樹脂基材21の第1の表面21Aとなっている
。したがって、保護フィルム付き光透過性フィルム60においては、保護フィルム30は
、樹脂基材21の表面21Aに剥離可能に貼り付けられている。また、図4に示される光
透過性フィルム70は、樹脂基材21の他に樹脂層71を備えているので、光透過性フィ
ルム70の第2の表面70B(以下、単に「表面70B」と称することもある。)は、樹
脂層71における樹脂基材21側の表面とは反対側の表面71Aとなっている。
The surface 70A of the light transmissive film 70 is the first surface 21A of the resin base material 21. Therefore, in the light transmissive film 60 with a protective film, the protective film 30 is removably attached to the surface 21A of the resin base material 21. Further, since the light transmissive film 70 shown in FIG. 4 includes the resin layer 71 in addition to the resin base material 21, the second surface 70B of the light transmissive film 70 (hereinafter, simply referred to as “surface 70B”). (Sometimes referred to as) is the surface 71A of the resin layer 71 opposite to the surface of the resin base material 21 side.

また、図1に示される保護フィルム付き光透過性フィルム10においては、保護フィル
ム30は樹脂基材21の表面21Aに剥離可能に貼り付けられているが、図5に示される
ように保護フィルムは樹脂層の表面に剥離可能に貼り付けられていてもよい。
Further, in the light transmissive film 10 with a protective film shown in FIG. 1, the protective film 30 is detachably attached to the surface 21A of the resin base material 21, but the protective film is as shown in FIG. It may be detachably attached to the surface of the resin layer.

図5に示される保護フィルム付き光透過性フィルム80は、樹脂基材21と樹脂基材2
1の両面側に設けられた樹脂層91、92とを備える折り畳み可能な光透過性フィルム9
0と、光透過性フィルム90の第1の表面90A(以下、単に「表面90A」と称するこ
ともある。)に剥離可能に貼り付けられた保護フィルム30を備えている。図5において
は、光透過性フィルム90の第2の表面90B側には、保護フィルムは設けられていない
が、光透過性フィルム90の第1の表面90Aに剥離可能に貼り付けられた保護フィルム
30の他、光透過性フィルム90の第2の表面90Bにも保護フィルム40と同様の保護
フィルムが剥離可能に貼り付けられていてもよい。なお、図5において、図1と同じ符号
が付されている部材は、図1に示されている部材と同じものであるので、下記以外は、説
明を省略するものとする。
The light transmissive film 80 with a protective film shown in FIG. 5 has a resin base material 21 and a resin base material 2.
A foldable light-transmitting film 9 having resin layers 91 and 92 provided on both sides of 1.
0 and a protective film 30 detachably attached to the first surface 90A of the light transmissive film 90 (hereinafter, may be simply referred to as “surface 90A”) are provided. In FIG. 5, the protective film is not provided on the second surface 90B side of the light transmissive film 90, but the protective film is removably attached to the first surface 90A of the light transmissive film 90. In addition to 30, a protective film similar to the protective film 40 may be detachably attached to the second surface 90B of the light transmissive film 90. In FIG. 5, the members having the same reference numerals as those in FIG. 1 are the same as the members shown in FIG. 1, so the description thereof will be omitted except for the following.

光透過性フィルム90の表面90Aは樹脂層91の表面91Aとなっている。したがっ
て、保護フィルム付き光透過性フィルム90においては、保護フィルム30は、樹脂層9
1の表面91Aに剥離可能に貼り付けられている。また、光透過性フィルム90の表面9
0Bは樹脂層92の表面92Aとなっている。
The surface 90A of the light transmissive film 90 is the surface 91A of the resin layer 91. Therefore, in the light transmissive film 90 with the protective film, the protective film 30 is the resin layer 9.
It is detachably attached to the surface 91A of 1. Further, the surface 9 of the light transmissive film 90
0B is the surface 92A of the resin layer 92.

<<光透過性フィルム>>
光透過性フィルム70、90は、折り畳み可能となっている。具体的には、光透過性フ
ィルム70、90に対し上記で説明した折り畳み試験(連続折り畳み試験)を10万回繰
り返し行った場合であっても、光透過性フィルム70、90に割れまたは破断が生じない
ことが好ましく、連続折り畳み試験を30万回繰り返し行った場合であっても、光透過性
フィルム70、90に割れまたは破断が生じないことがより好ましく、100万回繰り返
し行った場合であっても、光透過性フィルム70、90に割れまたは破断が生じないこと
がさらに好ましい。連続折り畳み試験は、樹脂層71、92が内側となるように光透過性
フィルム70、90を折り畳むように行われてもよく、また樹脂層71、92が外側とな
るように光透過性フィルム70、90を折り畳むように行われてもよいが、いずれの場合
であっても、光透過性フィルム70、90に割れまたは破断が生じないことが好ましい。
連続折り畳み試験の条件は、光透過性フィルム20の欄で説明した連続折り畳み試験の条
件と同様であるので、説明を省略するものとする。
<< Light-transmitting film >>
The light transmissive films 70 and 90 are foldable. Specifically, even when the folding test (continuous folding test) described above is repeated 100,000 times on the light transmitting films 70 and 90, the light transmitting films 70 and 90 are cracked or broken. It is preferable that it does not occur, and even when the continuous folding test is repeated 300,000 times, it is more preferable that the light transmissive films 70 and 90 do not crack or break, and when the continuous folding test is repeated 1 million times. However, it is more preferable that the light transmissive films 70 and 90 do not crack or break. The continuous folding test may be performed so as to fold the light-transmitting films 70 and 90 so that the resin layers 71 and 92 are on the inside, and the light-transmitting film 70 so that the resin layers 71 and 92 are on the outside. , 90 may be folded, but in any case, it is preferable that the light transmissive films 70 and 90 do not crack or break.
Since the conditions of the continuous folding test are the same as the conditions of the continuous folding test described in the column of the light transmissive film 20, the description thereof will be omitted.

光透過性フィルム70、90においても、上記において説明した折り畳み静置試験を行
い、その後、折り畳み状態を開放して、開き角を測定した場合に、光透過性フィルム70
、90の開き角θが100°以上であることが好ましい。折り畳み静置試験の条件は、光
透過性フィルム20の欄で説明した折り畳み静置試験の条件と同様であり、また開き角の
測定条件も光透過性フィルム20の欄で説明した開き角の測定条件と同様であるので、説
明を省略するものとする。
The light-transmitting films 70 and 90 are also subjected to the folding static test described above, and then the folded state is opened and the opening angle is measured.
, 90 preferably has an opening angle θ of 100 ° or more. The conditions of the folding static test are the same as the conditions of the folding static test described in the column of the light transmissive film 20, and the measurement conditions of the opening angle are also the measurement of the opening angle described in the column of the light transmissive film 20. Since it is the same as the condition, the description will be omitted.

光透過性フィルム70、90のヘイズ値(全ヘイズ値)は3%以下となっていることが
好ましい。光透過性フィルム20の上記ヘイズ値が3%以下であれば、光透過性フィルム
70、90の表面70A、90Aの凹凸が少なく、優れた平滑性を有している。ヘイズ値
の測定条件は、光透過性フィルム20の欄で説明したヘイズ値の測定条件と同様であるの
で、ここでは説明を省略する。光透過性フィルム70、90のヘイズ値は、2%以下、1
%以下の順にさらに好ましい(数値が小さいほど好ましい)。
The haze value (total haze value) of the light transmissive films 70 and 90 is preferably 3% or less. When the haze value of the light-transmitting film 20 is 3% or less, the surfaces 70A and 90A of the light-transmitting films 70 and 90 have less unevenness and have excellent smoothness. Since the measurement conditions for the haze value are the same as the measurement conditions for the haze value described in the column of the light transmissive film 20, the description thereof will be omitted here. The haze value of the light transmissive films 70 and 90 is 2% or less, 1
It is more preferable in the order of% or less (the smaller the value, the more preferable).

光透過性フィルム70、90の全光線透過率は、85%以上であることが好ましい。光
透過性フィルム70、90の全光線透過率が85%以上であれば、充分な光学的性能を得
ることができる。全光線透過率の測定条件は、光透過性フィルム20の欄で説明した全光
線透過率の測定条件と同様であるので、ここでは説明を省略する。光透過性フィルム70
の全光線透過率は、88%以上、90%以上の順にさらに好ましい(数値が大きいほど好
ましい)。
The total light transmittance of the light-transmitting films 70 and 90 is preferably 85% or more. When the total light transmittance of the light transmitting films 70 and 90 is 85% or more, sufficient optical performance can be obtained. Since the measurement conditions for the total light transmittance are the same as the measurement conditions for the total light transmittance described in the column of the light transmittance film 20, the description thereof will be omitted here. Light transmissive film 70
The total light transmittance of is more preferable in the order of 88% or more and 90% or more (the larger the value, the more preferable).

光透過性フィルム70、90は、イエローインデックス(YI)が15以下であること
が好ましい。光透過性フィルム70、90のYIが15以下であれば、光透過性フィルム
70の黄色味を抑制でき、透明性が求められる用途に適用できる。イエローインデックス
の測定条件は、光透過性フィルム20の欄で説明したイエローインデックスの測定条件と
同様であるので、ここでは説明を省略する。光透過性フィルム70のイエローインデック
ス(YI)の上限は、10未満、1.5未満の順にさらに好ましい(数値が小さいほど好
ましい)。
The light transmissive films 70 and 90 preferably have a yellow index (YI) of 15 or less. When the YI of the light-transmitting films 70 and 90 is 15 or less, the yellowness of the light-transmitting film 70 can be suppressed, and the film can be applied to applications requiring transparency. Since the measurement conditions for the yellow index are the same as the measurement conditions for the yellow index described in the column of the light transmissive film 20, the description thereof will be omitted here. The upper limit of the yellow index (YI) of the light transmissive film 70 is more preferably less than 10 and less than 1.5 (smaller numerical values are more preferable).

<<樹脂層>>
樹脂層71、91、92は、樹脂から構成されている層である。樹脂層71、92は、
樹脂基材21の表面21Bに積層されており、樹脂層91は樹脂基材21の表面21Aに
積層されている。樹脂層91のように樹脂層の表面に保護フィルムが貼り付けられている
場合、樹脂層の膜厚が薄いほど保護フィルムの影響により樹脂層の表面に凹凸が現れやす
い。このため、樹脂層の表面に本発明の保護フィルムを貼り付ける場合には、樹脂層の膜
厚が、例えば、1μm以下、500nm以下、200nm以下の場合に、特に有効である
(値が小さいほど特に有効である)。
<< Resin layer >>
The resin layers 71, 91, and 92 are layers made of resin. The resin layers 71 and 92 are
It is laminated on the surface 21B of the resin base material 21, and the resin layer 91 is laminated on the surface 21A of the resin base material 21. When the protective film is attached to the surface of the resin layer as in the resin layer 91, the thinner the film thickness of the resin layer, the more uneven the surface of the resin layer is likely to appear due to the influence of the protective film. Therefore, when the protective film of the present invention is attached to the surface of the resin layer, it is particularly effective when the film thickness of the resin layer is, for example, 1 μm or less, 500 nm or less, and 200 nm or less (the smaller the value, the more). Especially effective).

樹脂層71、91、92は、樹脂の他、粒子や添加剤等を含んでいてもよい。樹脂層7
1、92としては、例えば、ハードコート層や衝撃吸収層等が挙げられる。樹脂層91と
しては、例えば、下地層等が挙げられる。樹脂層71、91、92は、単層であってもよ
いが、多層構造であってもよい。
The resin layers 71, 91, and 92 may contain particles, additives, and the like in addition to the resin. Resin layer 7
Examples of 1 and 92 include a hard coat layer and a shock absorbing layer. Examples of the resin layer 91 include a base layer and the like. The resin layers 71, 91, and 92 may be a single layer or may have a multi-layer structure.

<ハードコート層>
ハードコート層とは、光透過性を有し、かつマルテンス硬度が、樹脂基材のマルテンス
硬度よりも高い層を意味するものとする。本明細書において、「マルテンス硬度」とは、
ナノインデンテーション法による硬度測定により、圧子を500nm押込んだときの硬度
である。上記ナノインデンテーション法によるマルテンス硬度の測定は、HYSITRO
N(ハイジトロン)社製の「TI950 TriboIndenter」を用いて行うも
のとする。具体的には、まず、1mm×10mmに切り出した保護フィルム付き光透過性
フィルムから全ての保護フィルムを剥離して、光透過性フィルム単体を得る。そして、こ
の光透過性フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックから一
般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ70nm以上100nm以下の切片
を切り出す。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム EM UC7」(ライカ マイク
ロシステムズ株式会社)等を用いることができる。そして、この穴等がない均一な切片が
切り出された残りのブロックを測定サンプルとする。次いで、このような測定サンプルに
おける上記切片が切り出されることによって得られた断面において、以下の測定条件で、
上記圧子としてBerkovich圧子(三角錐)をハードコート層の断面中央に、50
0nm押し込み、一定時間保持して残留応力の緩和を行った後、除荷させて、緩和後の最
大荷重を計測し、該最大荷重Pmax(μN)と深さ500nmのくぼみ面積A(nm
)とを用い、Pmax/Aにより、マルテンス硬度を算出する。マルテンス硬度は、10
箇所測定して得られた値の算術平均値とする。樹脂基材21のマルテンス硬度も上記と同
様の方法によって測定するものとする。
(測定条件)
・荷重速度:10nm/秒
・保持時間:5秒
・荷重除荷速度:10nm/秒
・測定温度:25℃
<Hard coat layer>
The hard coat layer means a layer having light transmittance and having a martensity hardness higher than that of the resin substrate. In the present specification, "Martens hardness" means
It is the hardness when the indenter is pushed in by 500 nm by the hardness measurement by the nanoindentation method. The measurement of Martens hardness by the above nanoindentation method is performed by HYSITRO.
It shall be performed using "TI950 TriboIndenter" manufactured by N (Heiditron). Specifically, first, all the protective films are peeled off from the light-transmitting film with a protective film cut into 1 mm × 10 mm to obtain a light-transmitting film alone. Then, a block in which this light-transmitting film is embedded with an embedding resin is prepared, and a uniform section having a thickness of 70 nm or more and 100 nm or less without holes or the like is cut out from this block by a general section preparation method. "Ultra Microtome EM UC7" (Leica Microsystems, Inc.) or the like can be used for preparing the sections. Then, the remaining block from which a uniform section having no holes or the like is cut out is used as a measurement sample. Then, in the cross section obtained by cutting out the above-mentioned section in such a measurement sample, under the following measurement conditions,
As the indenter, a Berkovich indenter (triangular pyramid) is placed in the center of the cross section of the hardcourt layer, 50.
After pushing in 0 nm and holding for a certain period of time to relax the residual stress, the load is unloaded, the maximum load after relaxation is measured, and the maximum load P max (μN) and the recess area A (nm 2 ) with a depth of 500 nm are measured.
) And P max / A to calculate the Martens hardness. Martens hardness is 10
It shall be the arithmetic mean value of the value obtained by measuring the location. The Martens hardness of the resin base material 21 shall also be measured by the same method as described above.
(Measurement condition)
・ Load speed: 10 nm / sec ・ Holding time: 5 seconds ・ Load unloading speed: 10 nm / sec ・ Measurement temperature: 25 ° C

ハードコート層の膜厚は、1μm以上20μm以下となっていることが好ましい。ハー
ドコート層の膜厚が、1μm未満であると、ハードコート層の硬度が低下するおそれがあ
り、また20μmを超えると、厚みが厚すぎることに起因して加工性が悪化するおそれが
ある。本明細書における「ハードコート層の膜厚」とは、ハードコート層が多層構造とな
っている場合には、各ハードコート層の膜厚を合計した膜厚(総厚)を意味するものとす
る。ハードコート層の上限は15μm以下であることがより好ましく、10μm以下であ
ることがさらに好ましい。
The film thickness of the hard coat layer is preferably 1 μm or more and 20 μm or less. If the film thickness of the hard coat layer is less than 1 μm, the hardness of the hard coat layer may decrease, and if it exceeds 20 μm, the workability may deteriorate due to the excessive thickness. In the present specification, the "thickness of the hard coat layer" means the total film thickness (total thickness) of the hard coat layers when the hard coat layer has a multi-layer structure. do. The upper limit of the hard coat layer is more preferably 15 μm or less, further preferably 10 μm or less.

ハードコート層の膜厚は、走査透過型電子顕微鏡(STEM)、または透過型電子顕微
鏡(TEM)を用いて、ハードコート層の断面を撮影し、その断面の画像においてハード
コート層の膜厚を10箇所測定し、その10箇所の膜厚の算術平均値とする。具体的な断
面写真の撮影方法を以下に記載する。まず、1mm×10mmに切り出した保護フィルム
付き光透過性フィルムから全ての保護フィルムを剥離して、光透過性フィルム単体を得る
。そして、この光透過性フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブ
ロックから一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ70nm以上100n
m以下の切片を切り出す。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム EM UC7」(
ライカ マイクロシステムズ株式会社)等を用いることができる。そして、この穴等がな
い均一な切片を測定サンプルとする。その後、走査透過型電子顕微鏡(STEM)(製品
名「S-4800」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製)を用いて、測定サンプルの断
面写真を撮影する。この断面写真の撮影の際には、検出器を「TE」、加速電圧を30k
V、エミッションを「10μA」にして断面観察を行う。倍率については、フォーカスを
調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察しながら5000倍~20
万倍で適宜調節する。好ましい倍率は、1万倍~10万倍、更に好ましい倍率は1万倍~
5万倍であり、最も好ましい倍率2.5万倍~5万倍である。なお、断面写真の撮影の際
には、さらに、アパーチャーをビームモニタ絞り3にし、対物レンズ絞りを3にし、また
W.D.を8mmにしてもよい。ハードコート層の膜厚を測定する際には、断面観察した
折に、ハードコート層と他の層(例えば、樹脂基材)との界面コントラストが可能な限り
明確に観察できることが重要となる。仮に、コントラスト不足でこの界面が見え難い場合
には、四酸化オスミウム、四酸化ルテニウム、リンタングステン酸など染色処理を施すと
、有機層間の界面が見やすくなるので、染色処理を行ってもよい。また、界面のコントラ
ストは高倍率である方が分かりにくい場合がある。その場合には、低倍率も同時に観察す
る。例えば、2.5万倍と5万倍や、5万倍と10万倍など、高低の2つの倍率で観察し
、両倍率で上記した算術平均値を求め、さらにその平均値をハードコート層の膜厚の値と
する。
For the film thickness of the hard coat layer, a cross section of the hard coat layer is photographed using a scanning transmission electron microscope (STEM) or a transmission electron microscope (TEM), and the film thickness of the hard coat layer is measured in the image of the cross section. Measure at 10 points and use the arithmetic average value of the film thickness at those 10 points. A specific method for taking a cross-sectional photograph is described below. First, all the protective films are peeled off from the light-transmitting film with a protective film cut into 1 mm × 10 mm to obtain a single light-transmitting film. Then, a block in which this light-transmitting film is embedded with an embedding resin is produced, and a uniform thickness of 70 nm or more and 100 n without holes or the like is produced from this block by a general section forming method.
Cut out a section of m or less. For preparation of sections, "Ultra Microtome EM UC7" (
Leica Microsystems, Inc.) and the like can be used. Then, a uniform section having no holes or the like is used as a measurement sample. Then, a cross-sectional photograph of the measurement sample is taken using a scanning transmission electron microscope (STEM) (product name "S-4800", manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). When taking this cross-sectional photograph, the detector is "TE" and the acceleration voltage is 30k.
Cross-section observation is performed with V and emission set to "10 μA". Regarding the magnification, adjust the focus and observe whether each layer can distinguish the contrast and brightness from 5000 times to 20 times.
Adjust appropriately at 10,000 times. The preferred magnification is 10,000 to 100,000 times, and the more preferable magnification is 10,000 to 100,000.
It is 50,000 times, and the most preferable magnification is 25,000 to 50,000 times. When taking a cross-sectional photograph, the aperture was set to the beam monitor aperture 3, the objective lens aperture was set to 3, and W. D. May be 8 mm. When measuring the film thickness of the hard coat layer, it is important that the interfacial contrast between the hard coat layer and another layer (for example, a resin base material) can be observed as clearly as possible when observing the cross section. If this interface is difficult to see due to insufficient contrast, dyeing treatment such as osmium tetroxide, ruthenium tetroxide, and phosphotungstic acid makes it easier to see the interface between the organic layers, and the dyeing treatment may be performed. In addition, the contrast at the interface may be difficult to understand when the magnification is high. In that case, observe the low magnification at the same time. For example, observe at two magnifications, high and low, such as 25,000 times and 50,000 times, and 50,000 times and 100,000 times, obtain the above-mentioned arithmetic mean value at both magnifications, and further calculate the average value for the hardcourt layer. The value of the film thickness of.

ハードコート層は単層構造であってもよいが、折り畳み性能を向上させる観点から2層
以上の多層構造であることが好ましい。ハードコート層は、第1のハードコート層と、第
1のハードコート層上に積層された第2のハードコート層とから構成されていることが好
ましい。第1のハードコート層は、第2のハードコート層よりも樹脂基材側に位置してい
る。
The hardcourt layer may have a single-layer structure, but is preferably a multi-layer structure having two or more layers from the viewpoint of improving folding performance. The hard coat layer is preferably composed of a first hard coat layer and a second hard coat layer laminated on the first hard coat layer. The first hard coat layer is located closer to the resin base material than the second hard coat layer.

(第1のハードコート層)
第1のハードコート層は、主に光透過性フィルムに硬度を付与するための層である。第
1のハードコート層は、第1のハードコート層の断面中央におけるマルテンス硬度が50
0MPa以上2000MPa以下であることが好ましい。500MPa未満であると、ハ
ードコート層の硬度が不充分となることがあり、2000MPaを超えると、光透過性フ
ィルムの折り畳み性能が不充分となることがある。第1のハードコート層の断面中央にお
けるマルテンス硬度の下限は600MPa以上であることが好ましく、上限は1500M
Pa以下であることが好ましい。
(First hard coat layer)
The first hard coat layer is mainly a layer for imparting hardness to the light-transmitting film. The first hardcoat layer has a Martens hardness of 50 at the center of the cross section of the first hardcoat layer.
It is preferably 0 MPa or more and 2000 MPa or less. If it is less than 500 MPa, the hardness of the hard coat layer may be insufficient, and if it exceeds 2000 MPa, the folding performance of the light transmissive film may be insufficient. The lower limit of the Martens hardness at the center of the cross section of the first hard coat layer is preferably 600 MPa or more, and the upper limit is 1500 M.
It is preferably Pa or less.

第1のハードコート層のマルテンス硬度は、第2のハードコート層のマルテンス硬度よ
りも大きいことが好ましい。このようなマルテンス硬度の関係を有することで、光透過性
フィルムは、鉛筆硬度が特に良好となる。これは、鉛筆硬度試験は鉛筆に荷重を加えなが
ら行われるが鉛筆が光透過性フィルムに押し込まれたときであっても、光透過性フィルム
の変形が抑制されて、傷や凹み変形が少なくなるためである。第1のハードコート層のマ
ルテンス硬度が第2のハードコート層のマルテンス硬度よりも大きくする方法としては、
例えば、後述する無機粒子の含有量を第1のハードコート層側により多く含有するよう制
御する方法等が挙げられる。なお、ハードコート層が単層構造の場合には、ハードコート
層に無機粒子が基材フィルム側に偏在するように、すなわち、上記ハードコート層におけ
る無機粒子の存在割合が、樹脂基材側でより大きく、樹脂基材の表面側に向かう従って小
さくなるよう傾斜していることが好ましい。
It is preferable that the maltens hardness of the first hard coat layer is larger than the maltens hardness of the second hard coat layer. By having such a relationship of Martens hardness, the light-transmitting film has a particularly good pencil hardness. This is because the pencil hardness test is performed while applying a load to the pencil, but even when the pencil is pushed into the light-transmitting film, the deformation of the light-transmitting film is suppressed and the deformation of scratches and dents is reduced. Because. As a method of making the maltens hardness of the first hard coat layer larger than the maltens hardness of the second hard coat layer,
For example, a method of controlling the content of the inorganic particles described later to be contained more on the first hard coat layer side can be mentioned. When the hard coat layer has a single layer structure, the inorganic particles are unevenly distributed on the base film side in the hard coat layer, that is, the abundance ratio of the inorganic particles in the hard coat layer is on the resin base material side. It is preferable that the resin substrate is larger and is inclined so as to be smaller toward the surface side of the resin substrate.

第1のハードコート層は、樹脂を含んでいる。第1のハードコート層は、樹脂中に分散
された無機粒子をさらに含有することが好ましい。
The first hardcoat layer contains a resin. The first hardcoat layer preferably further contains inorganic particles dispersed in the resin.

樹脂は、重合性化合物(硬化性化合物)の重合体(硬化物)を含む。重合性化合物は、
分子内に重合性官能基を少なくとも1つ有するものである。重合性官能基としては、例え
ば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和基が挙げられる
。なお、「(メタ)アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル
基」の両方を含む意味である。
The resin contains a polymer (cured product) of a polymerizable compound (curable compound). The polymerizable compound is
It has at least one polymerizable functional group in the molecule. Examples of the polymerizable functional group include ethylenically unsaturated groups such as (meth) acryloyl group, vinyl group and allylic group. The "(meth) acryloyl group" means to include both "acryloyl group" and "methacryloyl group".

重合性化合物としては、多官能(メタ)アクリレートが好ましい。上記多官能(メタ)
アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ト
リプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリ
レート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペン
タエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ
)アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ(メタ)アクリレート、イソシアヌル
酸トリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、ポリエステルト
リ(メタ)アクリレート、ポリエステルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールジ(メ
タ)アクリレート、ジグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、アダマンチルジ(メタ)
アクリレート、イソボロニルジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタンジ(メタ)アク
リレート、トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ
(メタ)アクリレートや、これらをPO、EO、カプロラクトン等で変性したものが挙げ
られる。
As the polymerizable compound, polyfunctional (meth) acrylate is preferable. The above polysensitivity (meta)
Examples of the acrylate include trimethyl propanetri (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and pentaerythritol. Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylol propanetri (meth) acrylate, ditrimethylol propanetetra ( Meta) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, tripentaerythritol octa (meth) acrylate, tetrapentaerythritol deca (meth) acrylate, isocyanuric acid tri (meth) acrylate, isocyanuric acid di (meth) acrylate, polyester tri (meth) acrylate Meta) acrylate, polyester di (meth) acrylate, bisphenol di (meth) acrylate, diglycerin tetra (meth) acrylate, adamantyldi (meth)
Examples include acrylates, isoboronyldi (meth) acrylates, dicyclopentanedi (meth) acrylates, tricyclodecandi (meth) acrylates, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylates, and those modified with PO, EO, caprolactone, etc. Be done.

これらの中でも上述したマルテンス硬度を好適に満たし得ることから、3~6官能のも
のが好ましく、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)、ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート(PETTA)、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(DPPA)、トリメ
チロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)
アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ(メタ)アクリレート等が好ましい。な
お、本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートを
意味する。
Among these, those having 3 to 6 functionalities are preferable because they can preferably satisfy the above-mentioned Martens hardness, and for example, pentaerythritol triacrylate (PETA), dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), and pentaerythritol tetraacrylate (PETTA) are preferable. , Dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA), trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tripentaerythritol octa (meth)
Acrylate, tetrapentaerythritol deca (meth) acrylate and the like are preferable. In addition, in this specification, (meth) acrylate means acrylate and methacrylate.

なお、硬度や組成物の粘度調整、密着性の改善等のために、更に単官能(メタ)アクリ
レートモノマーを含んでいてもよい。上記単官能(メタ)アクリレートモノマーとしては
、例えば、ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)、グリシジルメタクリレート、メト
キシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレー
ト、2-アクリロイルオキシエチルサクシネート、アクリロイルモルホリン、N-アクリ
ロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒ
ドロフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、
及び、アダマンチルアクリレート等が挙げられる。
In addition, a monofunctional (meth) acrylate monomer may be further contained in order to adjust the hardness and the viscosity of the composition, improve the adhesion, and the like. Examples of the monofunctional (meth) acrylate monomer include hydroxyethyl acrylate (HEA), glycidyl methacrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, 2-acryloyloxyethyl succinate, acryloyl morpholine, and N. -Acryloyloxyethyl hexahydrophthalimide, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofuryl acrylate, isobornyl acrylate, phenoxyethyl acrylate,
And adamantane acrylate and the like.

上記モノマーの重量平均分子量は、樹脂層の硬度を向上させる観点から、1000未満
が好ましく、200以上800以下がより好ましい。また、上記重合性オリゴマーの重量
平均分子量は、1000以上2万以下であることが好ましく、1000以上1万以下であ
ることがより好ましく、2000以上7000以下であることが更に好ましい。
The weight average molecular weight of the monomer is preferably less than 1000, more preferably 200 or more and 800 or less, from the viewpoint of improving the hardness of the resin layer. The weight average molecular weight of the polymerizable oligomer is preferably 1000 or more and 20,000 or less, more preferably 1000 or more and 10,000 or less, and further preferably 2000 or more and 7,000 or less.

無機粒子としては、硬度を向上させることができれば、特に限定されないが、優れた硬
度を得る観点から、シリカ粒子が好ましい。シリカ粒子の中でも、反応性シリカ粒子が好
ましい。上記反応性シリカ粒子は、上記多官能(メタ)アクリレートとの間で架橋構造を
構成することが可能なシリカ粒子であり、この反応性シリカ粒子を含有することで、第1
のハードコート層の硬度を充分に高めることができる。
The inorganic particles are not particularly limited as long as they can improve the hardness, but silica particles are preferable from the viewpoint of obtaining excellent hardness. Among the silica particles, reactive silica particles are preferable. The reactive silica particles are silica particles capable of forming a crosslinked structure with the polyfunctional (meth) acrylate, and by containing the reactive silica particles, the first
The hardness of the hard coat layer can be sufficiently increased.

上記反応性シリカ粒子は、その表面に反応性官能基を有することが好ましく、該反応性
官能基とてしては、例えば、上記の重合性官能基が好適に用いられる。
The reactive silica particles preferably have a reactive functional group on the surface thereof, and as the reactive functional group, for example, the above-mentioned polymerizable functional group is preferably used.

上記反応性シリカ粒子としては特に限定されず、従来公知のものを用いることができ、
例えば、特開2008-165040号公報記載の反応性シリカ粒子等が挙げられる。ま
た、上記反応性シリカ粒子の市販品としては、例えば、日産化学工業株式会社製のMIB
K-SD、MIBK-SDMS、MIBK-SDL、MIBK-SDZL、日揮触媒化成
株式会社製のV8802、V8803等が挙げられる。
The reactive silica particles are not particularly limited, and conventionally known particles can be used.
For example, reactive silica particles described in JP-A-2008-165040 and the like can be mentioned. As a commercially available product of the above-mentioned reactive silica particles, for example, a MIB manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
Examples thereof include K-SD, MIBK-SDMS, MIBK-SDL, MIBK-SDZL, V8802 and V8803 manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Co., Ltd.

また、上記シリカ粒子は、球形シリカ粒子であってもよいが、異形シリカ粒子であるこ
とが好ましい。球形シリカ粒子と異形シリカ粒子とを混合させてもよい。なお、本明細書
における「球形シリカ粒子」とは、例えば、真球状、楕円球状等のシリカ粒子を意味し、
また、「異形シリカ粒子」とは、ジャガイモ状(断面観察時のアスペクト比が1.2以上
40以下)のランダムな凹凸を表面に有する形状のシリカ粒子を意味する。上記異形シリ
カ粒子は、その表面積が球形シリカ粒子と比較して大きいため、このような異形シリカ粒
子を含有することで、上記多官能(メタ)アクリレート等との接触面積が大きくなり、上
記ハードコート層の硬度を向上させることができる。ハードコート層に含まれているシリ
カ粒子が異形シリカ粒子であるか否かは、ハードコート層の断面を透過型電子顕微鏡(T
EM)または走査透過型電子顕微鏡(STEM)で観察することによって確認することが
できる。
Further, the silica particles may be spherical silica particles, but are preferably irregularly shaped silica particles. Spherical silica particles and irregularly shaped silica particles may be mixed. The term "spherical silica particles" as used herein means, for example, silica particles such as a true sphere and an elliptical sphere.
Further, the "deformed silica particles" mean silica particles having a potato-like shape (aspect ratio of 1.2 or more and 40 or less at the time of cross-sectional observation) having random irregularities on the surface. Since the surface area of the deformed silica particles is larger than that of the spherical silica particles, the inclusion of such deformed silica particles increases the contact area with the polyfunctional (meth) acrylate and the like, and the hard coat. The hardness of the layer can be improved. Whether or not the silica particles contained in the hard coat layer are irregular silica particles is determined by examining the cross section of the hard coat layer with a transmission electron microscope (T).
It can be confirmed by observing with an EM) or a scanning transmission electron microscope (STEM).

上記シリカ粒子の平均粒子径は、5nm以上200nm以下であることが好ましい。5
nm未満であると、粒子自身の製造が困難になり、粒子同士が凝集したりすることがあり
、また、異形にするのが極めて困難になることがあり、更に、上記塗工前のインキの段階
で異形シリカ粒子の分散性が悪く凝集したりすることがある。一方、上記異形シリカ粒子
の平均粒子径が200nmを超えると、ハードコート層に大きな凹凸が形成されたり、ヘ
イズの上昇といった不具合が生じたりすることがある。シリカ粒子が球形シリカ粒子の場
合には、シリカ粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡(TEM)または走査透過型電子
顕微鏡(STEM)を用いて撮影した粒子の断面の画像から20個の粒子の粒子径を測定
し、20個の粒子の粒子径の算術平均値とする。また、シリカ粒子が異形シリカ粒子であ
る場合には、シリカ粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡(TEM)または走査透過型
電子顕微鏡(STEM)を用いて撮影したハードコート層の断面の画像から粒子の外周の
2点間距離の最大値(長径)と最小値(短径)とを測定し、平均して粒子径を求め、20
個の粒子の粒子径の算術平均値とする。
The average particle size of the silica particles is preferably 5 nm or more and 200 nm or less. 5
If it is less than nm, it becomes difficult to manufacture the particles themselves, the particles may agglomerate with each other, and it may be extremely difficult to make the particles into irregular shapes. At the stage, the dispersibility of the irregularly shaped silica particles may be poor and aggregated. On the other hand, if the average particle size of the deformed silica particles exceeds 200 nm, large irregularities may be formed on the hard coat layer, or problems such as an increase in haze may occur. When the silica particles are spherical silica particles, the average particle size of the silica particles is 20 particles from the image of the cross section of the particles taken using a transmission electron microscope (TEM) or a scanning transmission electron microscope (STEM). The particle size of 20 particles is measured and used as the arithmetic average value of the particle size of 20 particles. When the silica particles are irregularly shaped silica particles, the average particle size of the silica particles is an image of a cross section of the hard coat layer taken with a transmission electron microscope (TEM) or a scanning transmission electron microscope (STEM). The maximum value (major axis) and the minimum value (minor axis) of the distance between two points on the outer circumference of the particle are measured from, and the particle size is calculated by averaging.
It is the arithmetic mean value of the particle size of each particle.

上記無機粒子の大きさ及び配合量を制御することで第1のハードコート層の硬度(マル
テンス硬度)を制御できる。例えば、第1のハードコート層を形成する場合、上記シリカ
粒子は直径が5nm以上200nm以下であり、上記重合性化合物100質量部に対して
、25~60質量部であることが好ましい。
By controlling the size and blending amount of the inorganic particles, the hardness (martence hardness) of the first hard coat layer can be controlled. For example, when forming the first hard coat layer, the silica particles have a diameter of 5 nm or more and 200 nm or less, preferably 25 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound.

(第2のハードコート層)
第2のハードコート層は、上述した連続折り畳み試験を充足させるための層である。第
2のハードコート層は、第2のハードコート層の断面中央におけるマルテンス硬度が37
5MPa以上1500MPa以下であることが好ましい。375MPa未満であると、ハ
ードコート層の耐擦傷性が不充分となることがあり、1500MPaを超えると、樹脂基
材の耐折り畳み性能が不充分となって上述した連続折り畳み試験を充足できないことがあ
る。第2のハードコート層の断面中央におけるマルテンス硬度の下限は450MPa以上
であることがより好ましく、上限は575MPa以下であることがより好ましい。
(Second hard coat layer)
The second hardcourt layer is a layer for satisfying the above-mentioned continuous folding test. The second hardcoat layer has a Martens hardness of 37 at the center of the cross section of the second hardcoat layer.
It is preferably 5 MPa or more and 1500 MPa or less. If it is less than 375 MPa, the scratch resistance of the hard coat layer may be insufficient, and if it exceeds 1500 MPa, the folding resistance of the resin base material may be insufficient and the above-mentioned continuous folding test may not be satisfied. be. The lower limit of the Martens hardness at the center of the cross section of the second hard coat layer is more preferably 450 MPa or more, and the upper limit is more preferably 575 MPa or less.

第2のハードコート層は、樹脂を含んでいる。第2のハードコート層は、樹脂中に分散
された無機粒子をさらに含んでいてもよい。
The second hardcoat layer contains a resin. The second hardcoat layer may further contain inorganic particles dispersed in the resin.

樹脂は、重合性化合物(硬化性化合物)の重合体(硬化物)を含む。重合性化合物とし
ては、多官能(メタ)アクリレートが好ましい。上記多官能(メタ)アクリレートとして
は、第1のハードコート層の欄の多官能(メタ)アクリレートと同様のものが挙げられる
。また、第2のハードコート層は、上記多官能(メタ)アクリレートに加えて、多官能ウ
レタン(メタ)アクリレート及び/又は多官能エポキシ(メタ)アクリレート等が含まれ
てもよい。
The resin contains a polymer (cured product) of a polymerizable compound (curable compound). As the polymerizable compound, polyfunctional (meth) acrylate is preferable. Examples of the polyfunctional (meth) acrylate include the same as the polyfunctional (meth) acrylate in the column of the first hard coat layer. Further, the second hard coat layer may contain a polyfunctional urethane (meth) acrylate and / or a polyfunctional epoxy (meth) acrylate in addition to the above-mentioned polyfunctional (meth) acrylate.

無機粒子としては、第1のハードコート層の欄の無機粒子と同様のものが挙げられる。
第2のハードコート層における無機粒子の含有量としては、特に限定されないが、例えば
、第2のハードコート層に対し0~50質量%であることが好ましい。
Examples of the inorganic particles include those similar to the inorganic particles in the column of the first hard coat layer.
The content of the inorganic particles in the second hard coat layer is not particularly limited, but is preferably 0 to 50% by mass with respect to the second hard coat layer, for example.

第1のハードコート層および第2のハードコート層の少なくともいずれかは、上述した
マルテンス硬度を充足する範囲で、上述した材料以外の材料を含んでいてもよく、例えば
、樹脂成分の材料として、電離放射線の照射により硬化物を形成する重合性モノマーや重
合性オリゴマー等を含んでいてもよい。上記重合性モノマー又は重合性オリゴマーとして
は、例えば、分子中にラジカル重合性不飽和基を有する(メタ)アクリレートモノマー、
又は、分子中にラジカル重合性不飽和基を有する(メタ)アクリレートオリゴマーが挙げ
られる。上記分子中にラジカル重合性不飽和基を有する(メタ)アクリレートモノマー、
又は、分子中にラジカル重合性不飽和基を有する(メタ)アクリレートオリゴマーとして
は、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポ
キシ(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、ポリフルオロアルキル(メ
タ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート等のモノマー又はオリゴマーが挙げ
られる。これら重合性モノマー又は重合性オリゴマーは、1種又は2種以上を組み合わせ
て使用してもよい。なかでも、多官能(6官能以上)で重量平均分子量が1000~1万
のウレタン(メタ)アクリレートが好ましい。
At least one of the first hard coat layer and the second hard coat layer may contain a material other than the above-mentioned material as long as the above-mentioned Martens hardness is satisfied, and for example, as a material of the resin component, as a material of the resin component. It may contain a polymerizable monomer, a polymerizable oligomer, or the like that forms a cured product by irradiation with ionizing radiation. Examples of the polymerizable monomer or the polymerizable oligomer include a (meth) acrylate monomer having a radically polymerizable unsaturated group in the molecule.
Alternatively, a (meth) acrylate oligomer having a radically polymerizable unsaturated group in the molecule can be mentioned. A (meth) acrylate monomer having a radically polymerizable unsaturated group in the molecule,
Alternatively, examples of the (meth) acrylate oligomer having a radically polymerizable unsaturated group in the molecule include urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, and polyfluoroalkyl. Examples thereof include monomers or oligomers such as (meth) acrylate and silicone (meth) acrylate. These polymerizable monomers or polymerizable oligomers may be used alone or in combination of two or more. Of these, urethane (meth) acrylates that are polyfunctional (six or more functional) and have a weight average molecular weight of 1,000 to 10,000 are preferable.

ハードコート層(第1のハードコート層および第2のハードコート層の少なくともいず
れか)は、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、および/または防汚剤をさらに含んでいて
もよい。
The hardcoat layer (at least one of the first hardcoat layer and the second hardcoat layer) may further contain an ultraviolet absorber, a spectral transmittance adjuster, and / or an antifouling agent.

(紫外線吸収剤)
樹脂基材は、折り畳み可能なスマートフォンやタブレット端末のようなモバイル端末に
特に好適に用いられるが、このようなモバイル端末は屋外で使用されることが多く、その
ため、樹脂基材より表示素子側に配置された偏光子が紫外線に晒されて劣化しやすいとい
う問題がある。しかしながら、樹脂層は、偏光子の表示画面側に配置されるため、樹脂層
に紫外線吸収剤が含有されていると、偏光子が紫外線に晒されることによる劣化を好適に
防止することができる。なお、上記紫外線吸収剤(UVA)は、樹脂基材21に含有され
ていてもよい。この場合、紫外線吸収剤(UVA)は、ハードコート層に含有されていな
くてもよい。
(UV absorber)
The resin base material is particularly preferably used for mobile terminals such as foldable smartphones and tablet terminals, but such mobile terminals are often used outdoors, and therefore, the resin base material is closer to the display element side than the resin base material. There is a problem that the arranged polarizing elements are easily deteriorated by being exposed to ultraviolet rays. However, since the resin layer is arranged on the display screen side of the polarizing element, if the resin layer contains an ultraviolet absorber, deterioration due to exposure of the polarizing element to ultraviolet rays can be suitably prevented. The ultraviolet absorber (UVA) may be contained in the resin base material 21. In this case, the ultraviolet absorber (UVA) may not be contained in the hardcoat layer.

紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線
吸収剤、及び、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等が挙げられる。
Examples of the ultraviolet absorber include a triazine-based ultraviolet absorber, a benzophenone-based ultraviolet absorber, a benzotriazole-based ultraviolet absorber, and the like.

上記トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、2-(2-ヒドロキシ-4-[1-
オクチルオキシカルボニルエトキシ]フェニル)-4,6-ビス(4-フェニルフェニル
)-1,3,5-トリアジン、2-[4-[(2-ヒドロキシ-3-ドデシルオキシプロ
ピル)オキシ]-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル
)-1,3,5-トリアジン、2,4-ビス[2-ヒドロキシ-4-ブトキシフェニル]
-6-(2,4-ジブトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-[4-[(2-
ヒドロキシ-3-トリデシルオキシプロピル)オキシ]-2-ヒドロキシフェニル]-4
,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、および2-[4-
[(2-ヒドロキシ-3-(2’-エチル)ヘキシル)オキシ]-2-ヒドロキシフェニ
ル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン等が挙げら
れる。市販されているトリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、TINUVIN46
0、TINUVIN477(いずれも、BASF社製)、LA-46(ADEKA社製)
等が挙げられる。
Examples of the triazine-based ultraviolet absorber include 2- (2-hydroxy-4- [1-].
Octyloxycarbonylethoxy] phenyl) -4,6-bis (4-phenylphenyl) -1,3,5-triazine, 2- [4-[(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl) oxy] -2- Hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis [2-hydroxy-4-butoxyphenyl]
-6- (2,4-dibutoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2- [4-[(2-]
Hydroxy-3-tridecyloxypropyl) Oxy] -2-Hydroxyphenyl] -4
, 6-Bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, and 2- [4-
[(2-Hydroxy-3- (2'-ethyl) hexyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine and the like can be mentioned. .. As a commercially available triazine-based ultraviolet absorber, for example, TINUVIN46
0, TINUVIN477 (all manufactured by BASF), LA-46 (manufactured by ADEKA)
And so on.

上記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、2-ヒドロキシベンゾフェノン
、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’-ジヒドロキシ-4,4’-ジメトキ
シベンゾフェノン、2,2’,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2-ヒドロ
キシ-4-メトキシベンゾフェノン、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸及び
その三水塩、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸ナトリウム等が挙げられる。
市販されているベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、CHMASSORB8
1/FL(BASF社製)等が挙げられる。
Examples of the benzophenone-based ultraviolet absorber include 2-hydroxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2,2', 4,4'-tetrahydroxy. Examples thereof include benzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, hydroxymethoxybenzophenone sulfonic acid and its trihydrate, sodium hydroxymethoxybenzophenone sulfonate and the like.
Examples of commercially available benzophenone-based ultraviolet absorbers include CHMASSORB8.
1 / FL (manufactured by BASF) and the like can be mentioned.

上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、2-エチルヘキシル-3-
〔3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-(5-クロロ-2H-ベンゾトリアゾー
ル-2-イル)フェニル〕プロピオネート、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル
)-6-(直鎖及び側鎖ドデシル)-4-メチルフェノール、2-〔5-クロロ(2H)
-ベンゾトリアゾール-2-イル〕-4-メチル-6-(tert-ブチル)フェノール
、2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4,6-ジ-tert-ペンチルフェ
ノール、2-(2’-ヒドロキシ-5’-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(
2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-tert-ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、
2-(2’-ヒドロキシ-3’-tert-ブチル-5’-メチルフェニル)ベンゾトリ
アゾール、2-(2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-tert-ブチルフェニル)-5
-クロロベンゾトリアゾール、2-(2’-ヒドロキシ-3’-(3’’,4’’,5’
’,6’’-テトラヒドロフタルイミドメチル)-5’-メチルフェニル)ベンゾトリア
ゾール、2,2-メチレンビス(4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)-6-(
2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)フェノール)、及び、2-(2’-ヒドロキシ-
3′-tert-ブチル-5′-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール等が
挙げられる。市販されているベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、KE
MISORB71D、KEMISORB79(いずれも、ケミプロ化成株式会社製)、J
F-80、JAST-500(いずれも、城北化学工業株式会社製)、ULS-1933
D(一方社油脂工業株式会社製)、RUVA-93(大塚化学株式会社製)等が挙げられ
る。
Examples of the benzotriazole-based ultraviolet absorber include 2-ethylhexyl-3-.
[3-tert-Butyl-4-hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazole-2-yl) phenyl] propionate, 2- (2H-benzotriazole-2-yl) -6- (straight chain and Side chain dodecyl) -4-methylphenol, 2- [5-chloro (2H)
-Benzotriazole-2-yl] -4-methyl-6- (tert-butyl) phenol, 2- (2H-benzotriazole-2-yl) -4,6-di-tert-pentylphenol, 2- (2) '-Hydroxy-5'-Methylphenyl) Benzotriazole, 2- (
2'-Hydroxy-3', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole,
2- (2'-Hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5'-di-tert-butylphenyl) -5
-Chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-(3'', 4'', 5'
', 6''-Tetrahydrophthalimidemethyl) -5'-Methylphenyl) Benzotriazole, 2,2-Methylenebis (4- (1,1,3,3-Tetramethylbutyl) -6- (
2H-benzotriazole-2-yl) phenol) and 2- (2'-hydroxy-
Examples thereof include 3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole. Examples of commercially available benzotriazole-based ultraviolet absorbers include KE.
MISORB71D, KEMISORB79 (all manufactured by Chemipro Kasei Co., Ltd.), J
F-80, JAST-500 (all manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd.), ULS-1933
Examples thereof include D (manufactured by Yushi Kogyo Co., Ltd.) and RUVA-93 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.).

紫外線吸収剤は、なかでも、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線
吸収剤が好適に用いられる。紫外線吸収剤は、ハードコート層を構成する樹脂成分との溶
解性が高いほうが好ましく、また、上述した連続折り畳み試験後のブリードアウトが少な
いほうが好ましい。紫外線吸収剤は、ポリマー化又はオリゴマー化されていることが好ま
しい。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール、トリアジン、ベンゾフェノン骨格を
有するポリマー又はオリゴマーが好ましく、具体的には、ベンゾトリアゾールやベンゾフ
ェノン骨格を有する(メタ)アクリレートと、メチルメタクリレート(MMA)とを任意
の比率で熱共重合したものであることが好ましい。なお、有機発光ダイオード(OLED
)表示装置に樹脂基材を適用する場合、紫外線吸収剤は、OLEDを紫外線から保護する
役割も果たすことができる。
As the ultraviolet absorber, a triazine-based ultraviolet absorber and a benzotriazole-based ultraviolet absorber are preferably used. The ultraviolet absorber preferably has high solubility in the resin component constituting the hard coat layer, and preferably has less bleed-out after the above-mentioned continuous folding test. The UV absorber is preferably polymerized or oligomerized. The ultraviolet absorber is preferably a polymer or oligomer having a benzotriazole, triazine, or benzophenone skeleton, and specifically, a (meth) acrylate having a benzotriazole or benzophenone skeleton and methyl methacrylate (MMA) in an arbitrary ratio. It is preferably heat-copolymerized. An organic light emitting diode (OLED)
) When applying a resin substrate to the display device, the UV absorber can also serve to protect the OLED from UV light.

紫外線吸収剤の含有量としては特に限定されないが、ハードコート層用組成物の固形分
100質量部に対して1質量部以上6質量部以下であることが好ましい。1質量部未満で
あると、上述した紫外線吸収剤をハードコート層に含有させる効果を充分に得ることがで
きないことがあり、6質量部を超えると、ハードコート層に著しい着色や強度低下が生じ
ることがある。上記紫外線吸収剤の含有量のより好ましい下限は2質量部以上、より好ま
しい上限は5質量部以下である。
The content of the ultraviolet absorber is not particularly limited, but is preferably 1 part by mass or more and 6 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the solid content of the composition for the hard coat layer. If it is less than 1 part by mass, the effect of containing the above-mentioned ultraviolet absorber in the hard coat layer may not be sufficiently obtained, and if it exceeds 6 parts by mass, the hard coat layer is significantly colored or its strength is lowered. Sometimes. The more preferable lower limit of the content of the ultraviolet absorber is 2 parts by mass or more, and the more preferable upper limit is 5 parts by mass or less.

(分光透過率調整剤)
分光透過率調整剤は、光透過性フィルムの分光透過率を調整するものである。ハードコ
ート層に、例えば、下記一般式(25)で表されるセサモール型ベンゾトリアゾール系単
量体を含ませた場合には、所望の分光透過率を満たすことができる。

Figure 2022048309000026
式中、Rは水素原子又はメチル基を表す。Rは炭素数1~6の直鎖状又は枝分かれ
鎖状のアルキレン基又は炭素数1~6の直鎖状または分岐鎖状のオキシアルキレン基を表
す。 (Spectrotransmittance adjuster)
The spectral transmittance adjusting agent adjusts the spectral transmittance of the light-transmitting film. When the hardcoat layer contains, for example, a sesamol-type benzotriazole-based monomer represented by the following general formula (25), the desired spectral transmittance can be satisfied.
Figure 2022048309000026
In the formula, R 7 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 8 represents a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms or a linear or branched oxyalkylene group having 1 to 6 carbon atoms.

上記のセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体としては特に制限されないが、具体的
な物質名としては、2-[2-(6-ヒドロキシベンゾ[1,3]ジオキソール-5-イ
ル)-2H-ベンゾトリアゾール-5-イル]エチルメタクリレート、2-[2-(6-
ヒドロキシベンゾ[1,3]ジオキソール-5-イル)-2H-ベンゾトリアゾール-5
-イル]エチルアクリレート、3-[2-(6-ヒドロキシベンゾ[1,3]ジオキソー
ル-5-イル)-2H-ベンゾトリアゾール-5-イル]プロピルメタクリレート、3-
[2-(6-ヒドロキシベンゾ[1,3]ジオキソール-5-イル)-2H-ベンゾトリ
アゾール-5-イル]プロピルアクリレート、4-[2-(6-ヒドロキシベンゾ[1,
3]ジオキソール-5-イル)-2H-ベンゾトリアゾール-5-イル]ブチルメタクリ
レート、4-[2-(6-ヒドロキシベンゾ[1,3]ジオキソール-5-イル)-2H
-ベンゾトリアゾール-5-イル]ブチルアクリレート、2-[2-(6-ヒドロキシベ
ンゾ[1,3]ジオキソール-5-イル)-2H-ベンゾトリアゾール-5-イルオキシ
]エチルメタクリレート、2-[2-(6-ヒドロキシベンゾ[1,3]ジオキソール-
5-イル)-2H-ベンゾトリアゾール-5-イルオキシ]エチルアクリレート、2-[
3-{2-(6-ヒドロキシベンゾ[1,3]ジオキソール-5-イル)-2H-ベンゾ
トリアゾール-5-イル}プロパノイルオキシ]エチルメタクリレート、2-[3-{2-
(6-ヒドロキシベンゾ[1,3]ジオキソール-5-イル)-2H-ベンゾトリアゾー
ル-5-イル}プロパノイルオキシ]エチルアクリレート、4-[3-{2-(6-ヒドロ
キシベンゾ[1,3]ジオキソール-5-イル)-2H-ベンゾトリアゾール-5-イル
}プロパノイルオキシ]ブチルメタクリレート、4-[3-{ 2 -(6-ヒドロキシベン
ゾ[1,3]ジオキソール-5-イル)-2H-ベンゾトリアゾール-5-イル}プロパ
ノイルオキシ]ブチルアクリレート、2-[3-{2-(6-ヒドロキシベンゾ[1,3
]ジオキソール-5-イル)-2H-ベンゾトリアゾール-5-イル}プロパノイルオキ
シ]エチルメタクリレート、2-[3-{2-(6-ヒドロキシベンゾ[1,3]ジオキ
ソール-5-イル)-2H-ベンゾトリアゾール-5-イル}プロパノイルオキシ]エチ
ルアクリレート、2-(メタクリロイルオキシ)エチル2-(6-ヒドロキシベンゾ[1
,3]ジオキソール-5-イル)-2H-ベンゾトリアゾール-5カルボキシレート、2
-(アクリロイルオキシ)エチル2-(6-ヒドロキシベンゾ[1,3]ジオキソール-
5-イル)-2H-ベンゾトリアゾール-5-カルボキシレート、4-(メタクリロイル
オキシ)ブチル2-(6-ヒドロキシベンゾ[1,3]ジオキソール-5-イル)-2H
-ベンゾトリアゾール-5-カルボキシレート、4-(アクリロイルオキシ)ブチル2-
(6-ヒドロキシベンゾ[1,3]ジオキソール-5-イル)-2H-ベンゾトリアゾー
ル-5-カルボキシレート等を挙げることができる。また、これらセサモール型ベンゾト
リアゾール系単量体は1種類で用いてもよいし、また2種類以上用いてもよい。
The sesamol-type benzotriazole-based monomer is not particularly limited, but specific substance names include 2- [2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxotol-5-yl) -2H-benzo. Triazole-5-yl] ethyl methacrylate, 2- [2- (6- (6-)
Hydroxybenzo [1,3] dioxotol-5-yl) -2H-benzotriazole-5
-Il] ethyl acrylate, 3- [2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H-benzotriazole-5-yl] propylmethacrylate, 3-
[2- (6-Hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H-benzotriazole-5-yl] propyl acrylate, 4- [2- (6-hydroxybenzo [1,3]
3] Dioxol-5-yl) -2H-Benzotriazole-5-yl] Butyl methacrylate, 4- [2- (6-Hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H
-Benzotriazole-5-yl] butyl acrylate, 2- [2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H-benzotriazole-5-yloxy] ethyl methacrylate, 2- [2- [2-] (6-Hydroxybenzo [1,3] dioxotri-
5-yl) -2H-benzotriazole-5-yloxy] ethyl acrylate, 2- [
3- {2- (6-Hydroxybenzo [1,3] dioxotol-5-yl) -2H-benzotriazole-5-yl} propanoyloxy] ethyl methacrylate, 2- [3- {2-
(6-Hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H-benzotriazole-5-yl} propanoyloxy] ethyl acrylate, 4- [3- {2- (6-hydroxybenzo [1,3] ] Dioxol-5-yl) -2H-benzotriazole-5-yl
} Propanoyloxy] Butyl methacrylate, 4- [3- {2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H-benzotriazole-5-yl} propanoyloxy] butyl acrylate, 2 -[3- {2- (6-Hydroxybenzo [1,3]
] Dioxol-5-yl) -2H-benzotriazole-5-yl} propanoyloxy] ethyl methacrylate, 2- [3- {2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxol-5-yl) -2H -Benzotriazole-5-yl} propanoyloxy] ethyl acrylate, 2- (methacryloyloxy) ethyl 2- (6-hydroxybenzo [1]
, 3] Dioxol-5-yl) -2H-benzotriazole-5 carboxylate, 2
-(Acryloyloxy) Ethyl 2- (6-Hydroxybenzo [1,3] dioxol-
5-yl) -2H-benzotriazole-5-carboxylate, 4- (methacryloyloxy) butyl 2- (6-hydroxybenzo [1,3] dioxotol-5-yl) -2H
-Benzotriazole-5-carboxylate, 4- (acryloyloxy) butyl 2-
(6-Hydroxybenzo [1,3] dioxotol-5-yl) -2H-benzotriazole-5-carboxylate and the like can be mentioned. Further, these sesamol-type benzotriazole-based monomers may be used alone or in combination of two or more.

上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は、樹脂層が2以上の多層構造である場
合には、2層以上の樹脂層に含有されて、所望の分光透過率を満たしてもよい。例えば、
樹脂層の一つに波長380nmにおける分光透過率のみを達成できるように上記セサモー
ル型ベンゾトリアゾール系単量体を含有し、他の樹脂層に波長410nm及び波長440
nmにおける分光透過率の条件を達成できるように上記セサモール型ベンゾトリアゾール
系単量体を含有している構成等が挙げられる。更に、樹脂層が3層以上からなり、各樹脂
層にて所望の分光透過率を満たすよう上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を含
有していてもよい。
When the resin layer has a multilayer structure of two or more, the sesamol-type benzotriazole-based monomer may be contained in the two or more resin layers to satisfy a desired spectral transmittance. for example,
The sesamol-type benzotriazole-based monomer is contained in one of the resin layers so that only the spectral transmittance at a wavelength of 380 nm can be achieved, and the other resin layers have a wavelength of 410 nm and a wavelength of 440.
Examples thereof include a configuration containing the sesamol-type benzotriazole-based monomer so that the condition of spectral transmittance at nm can be achieved. Further, the resin layer may be composed of three or more layers, and each resin layer may contain the sesamol-type benzotriazole-based monomer so as to satisfy a desired spectral transmittance.

上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体がハードコート層に含有されている場合
、例えば、上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は、ハードコート層中に15~
30質量%で含有されていることが好ましい。このような範囲でセサモール型ベンゾトリ
アゾール系単量体が含有されていることで、所望の分光透過率を満たすことができる。な
お、上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は、ハードコート層において、ハード
コート層を構成する樹脂成分と反応して一体的に含有されていてもよく、ハードコート層
を構成する樹脂成分と反応することなく単独で含有されていてもよい。
When the sesamol-type benzotriazole-based monomer is contained in the hard coat layer, for example, the sesamol-type benzotriazole-based monomer is contained in the hard coat layer from 15 to 15.
It is preferably contained in an amount of 30% by mass. By containing the sesamol-type benzotriazole-based monomer in such a range, the desired spectral transmittance can be satisfied. The sesamol-type benzotriazole-based monomer may be integrally contained in the hardcoat layer by reacting with the resin component constituting the hardcoat layer, and may react with the resin component constituting the hardcoat layer. It may be contained alone without any problem.

(防汚剤)
防汚剤は、ハードコート層に均一に防汚剤が分散されていてもよいが、少ない添加量で
充分な防汚性を得るとともにハードコート層の強度低下を抑制する観点から、ハードコー
ト層の表面側に偏在して含まれていることが好ましい。ハードコート層が単層構造の場合
において、防汚剤をハードコート層の表面側に偏在させる方法としては、例えば、ハード
コート層を形成時において、ハードコート層用組成物を用いて形成した塗膜を乾燥させ、
硬化させる前に、塗膜を加熱して、塗膜に含まれる樹脂成分の粘度を下げることにより流
動性を上げて、防汚剤をハードコート層の表面側に偏在させる方法や、表面張力の低い防
汚剤を選定して用い、塗膜の乾燥時に熱をかけずに塗膜の表面に防汚剤を浮かせ、その後
塗膜を硬化させることで、上記防汚剤をハードコート層の最表面側に偏在させる方法等が
挙げられる。また、ハードコート層が多層構造の場合には、表面側のハードコート層に防
汚剤を含有させることによってハードコート層の表面側に防汚剤を偏在させることができ
る。
(Anti-fouling agent)
As the antifouling agent, the antifouling agent may be uniformly dispersed in the hard coat layer, but from the viewpoint of obtaining sufficient antifouling property with a small amount of addition and suppressing a decrease in the strength of the hard coat layer, the hard coat layer It is preferable that it is unevenly distributed on the surface side of the. When the hard coat layer has a single layer structure, as a method of unevenly distributing the antifouling agent on the surface side of the hard coat layer, for example, when the hard coat layer is formed, the coating film formed by using the composition for the hard coat layer is used. Dry the membrane,
Before curing, the coating film is heated to reduce the viscosity of the resin component contained in the coating film to increase the fluidity, and the antifouling agent is unevenly distributed on the surface side of the hard coat layer. By selecting and using a low antifouling agent, the antifouling agent is floated on the surface of the coating film without applying heat when the coating film is dried, and then the coating film is cured, the above-mentioned antifouling agent is applied to the hard coat layer. Examples thereof include a method of uneven distribution on the surface side. Further, when the hard coat layer has a multi-layer structure, the antifouling agent can be unevenly distributed on the surface side of the hard coat layer by containing the antifouling agent in the hard coat layer on the surface side.

防汚剤としては特に限定されず、例えば、シリコーン系防汚剤、フッ素系防汚剤、シリ
コーン系かつフッ素系防汚剤が挙げられ、それぞれ単独で使用してもよく、混合して使用
してもよい。また、防汚剤としては、アクリル系防汚剤であってもよい。
The antifouling agent is not particularly limited, and examples thereof include a silicone-based antifouling agent, a fluorine-based antifouling agent, and a silicone-based and fluorine-based antifouling agent. You may. Further, the antifouling agent may be an acrylic antifouling agent.

防汚剤の含有量としては、上述した樹脂成分100質量部に対して、0.01~3.0
質量部であることが好ましい。0.01質量部未満であると、樹脂層に充分な防汚性能を
付与できないことがあり、また、3.0質量部を超えると、ハードコート層の硬度が低下
するおそれがある。
The content of the antifouling agent is 0.01 to 3.0 with respect to 100 parts by mass of the resin component described above.
It is preferably parts by mass. If it is less than 0.01 parts by mass, sufficient antifouling performance may not be imparted to the resin layer, and if it exceeds 3.0 parts by mass, the hardness of the hard coat layer may decrease.

防汚剤は、重量平均分子量が5000以下であることが好ましく、防汚性能の耐久性を
改善するために、反応性官能基を好ましくは1以上、より好ましくは2以上有する化合物
である。なかでも、2以上の反応性官能基を有する防汚剤を用いることにより、優れた耐
擦傷性を付与することができる。
The antifouling agent is preferably a compound having a weight average molecular weight of 5000 or less, and preferably has 1 or more, more preferably 2 or more reactive functional groups in order to improve the durability of the antifouling performance. Above all, excellent scratch resistance can be imparted by using an antifouling agent having two or more reactive functional groups.

防汚剤が反応性官能基を有さない場合、樹脂基材がロール状の場合でも、シート状の場
合でも、重ねたときに樹脂基材の裏面に防汚剤が転移してしまい、樹脂基材の裏面に他の
層を貼り付けまたは塗布しようとすると、他の層の剥がれが発生することがあり、更に、
複数回の連続折り畳み試験を行うことで容易に剥がれる場合がある。
When the antifouling agent does not have a reactive functional group, whether the resin base material is in the form of a roll or in the form of a sheet, the antifouling agent is transferred to the back surface of the resin base material when stacked, and the resin Attempting to attach or apply another layer to the back surface of the substrate may cause the other layer to peel off, and further.
It may be easily peeled off by performing multiple continuous folding tests.

更に、上記反応性官能基を有する防汚剤は、防汚性能の性能持続性(耐久性)が良好と
なり、なかでも、上述したフッ素系防汚剤を含むハードコート層は、指紋が付きにくく(
目立ちにくく)、拭き取り性も良好である。更に、ハードコート層用組成物の塗工時の表
面張力を下げることができるので、レベリング性がよく、形成するハードコート層の外観
が良好なものとなる。
Further, the antifouling agent having the above-mentioned reactive functional group has good durability (durability) of the antifouling performance, and among them, the hard coat layer containing the above-mentioned fluorine-based antifouling agent is hard to be fingerprinted. ((
It is inconspicuous) and has good wipeability. Further, since the surface tension of the composition for the hard coat layer at the time of coating can be lowered, the leveling property is good and the appearance of the hard coat layer to be formed is good.

シリコーン系防汚剤を含むハードコート層は、滑り性がよく、耐スチールウール性が良
好である。ハードコート層にこのようなシリコーン系防汚剤を含む樹脂基材を搭載したタ
ッチセンサは、指やペンなどで接触したときの滑りがよくなるため、触感がよくなる。ま
た、ハードコート層に指紋も付きにくく(目立ちにくく)、拭き取り性も良好となる。更
に、ハードコート層用組成物の塗工時の表面張力を下げることができるので、レベリング
性がよく、形成するハードコート層の外観が良好なものとなる。
The hard coat layer containing a silicone-based antifouling agent has good slipperiness and steel wool resistance. A touch sensor on which a resin base material containing such a silicone-based antifouling agent is mounted on a hard coat layer has a better slipperiness when touched with a finger, a pen, or the like, and thus has a better tactile sensation. In addition, fingerprints are less likely to be attached to the hard coat layer (less conspicuous), and the wiping property is also good. Further, since the surface tension of the composition for the hard coat layer at the time of coating can be lowered, the leveling property is good and the appearance of the hard coat layer to be formed is good.

シリコーン系防汚剤の市販品としては、例えば、SUA1900L10(新中村化学工
業株式会社製)、SUA1900L6(新中村化学工業株式会社製)、Ebecryl1
360(ダイセルサイテック株式会社製)、UT3971(日本合成化学工業株式会社製
)、BYKUV3500(ビックケミー社製)、BYKUV3510(ビックケミー社製
)、BYKUV3570(ビックケミー社製)、X22-164E、X22-174BX
、X22-2426、KBM503、KBM5103(信越化学工業株式会社製)、TE
GO-RAD2250、TEGO-RAD2300、TEGO-RAD2200N、TE
GO-RAD2010、TEGO-RAD2500、TEGO-RAD2600、TEG
O-RAD2700(エボニックジャパン株式会社製)、メガファックRS854(DI
C株式会社製)等が挙げられる。
Examples of commercially available silicone-based antifouling agents include SUA1900L10 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), SUA1900L6 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), and Ebecryl1.
360 (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.), UT3971 (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), BYKUV3500 (manufactured by Big Chemie), BYKUV3510 (manufactured by Big Chemie), BYKUV3570 (manufactured by Big Chemie), X22-164E, X22-174BX
, X22-2426, KBM503, KBM5103 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), TE
GO-RAD2250, TEGO-RAD2300, TEGO-RAD2200N, TE
GO-RAD2010, TEGO-RAD2500, TEGO-RAD2600, TEG
O-RAD2700 (manufactured by Evonik Japan Co., Ltd.), Megafuck RS854 (DI)
C Co., Ltd.) and the like.

フッ素系防汚剤の市販品としては、例えば、オプツールDAC、オプツールDSX(ダ
イキン工業株式会社製)、メガファックRS71、メガファックRS74(DIC株式会
社製)、LINC152EPA、LINC151EPA、LINC182UA(共栄社化
学株式会社製)、フタージェント650A、フタージェント601AD、フタージェント
602等が挙げられる。
Commercially available fluorine-based antifouling agents include, for example, Optool DAC, Optool DSX (manufactured by Daikin Industries, Ltd.), Megafuck RS71, Megafuck RS74 (manufactured by DIC Corporation), LINK152EPA, LINK151EPA, LINK182UA (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.). ), Footergent 650A, Footergent 601AD, Footergent 602 and the like.

フッ素系かつシリコーン系で反応性官能基を有する防汚剤の市販品としては、例えば、
メガファックRS851、メガファックRS852、メガファックRS853、メガファ
ックRS854(DIC株式会社製)、オプスターTU2225、オプスターTU222
4(JSR株式会社製)、X71-1203M(信越化学工業株式会社製)等が挙げられ
る。
Examples of commercially available products of fluorine-based and silicone-based antifouling agents having a reactive functional group include, for example.
Megafuck RS851, Megafuck RS852, Megafuck RS853, Megafuck RS854 (manufactured by DIC Corporation), Opstar TU2225, Opstar TU222
4 (manufactured by JSR Corporation), X71-1203M (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like can be mentioned.

<衝撃吸収層>
衝撃吸収層は、衝撃吸収性を有する層である。衝撃吸収層は、2層以上の多層構造とな
っていてもよい。
<Impact absorption layer>
The shock absorbing layer is a layer having shock absorbing properties. The shock absorbing layer may have a multi-layered structure of two or more layers.

衝撃吸収層の膜厚は、10μm以上500μm以下となっていることが好ましい。衝撃
吸収層の膜厚が、10μm以上であれば、衝撃吸収層の硬度低下を抑制でき、また500
μm以下であれば、膜厚が厚すぎることもないので、薄型化に適し、また加工性の悪化を
抑制できる。衝撃吸収層の膜厚は、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて、衝撃吸収層の
断面を撮影し、その断面の画像において衝撃吸収層の膜厚を20箇所測定し、その20箇
所の膜厚の算術平均値とする。衝撃吸収層の下限は50μm以上であることがより好まし
く、衝撃吸収層の上限は150μm以下であることがより好ましく、100μm以下であ
ることがさらに好ましい。
The film thickness of the shock absorbing layer is preferably 10 μm or more and 500 μm or less. If the film thickness of the shock absorbing layer is 10 μm or more, the decrease in hardness of the shock absorbing layer can be suppressed, and 500.
If it is μm or less, the film thickness is not too thick, so that it is suitable for thinning and deterioration of workability can be suppressed. To determine the film thickness of the shock absorbing layer, use a scanning electron microscope (SEM) to photograph the cross section of the shock absorbing layer, measure the film thickness of the shock absorbing layer at 20 points in the image of the cross section, and measure the film thickness at 20 points. The arithmetic average value of the film thickness. The lower limit of the shock absorbing layer is more preferably 50 μm or more, the upper limit of the shock absorbing layer is more preferably 150 μm or less, and further preferably 100 μm or less.

衝撃吸収層においては、25℃、500Hz以上1000Hz以下の周波数域での剪断
貯蔵弾性率G´が、1MPa以上1500MPa以下となっていることが好ましい。衝撃
吸収層の剪断貯蔵弾性率G´が1MP以上であれば、樹脂基材の表面に衝撃が加わった際
に、樹脂基材自体の変形のみならず、樹脂基材よりも画像表示装置の内部に粘着層が配置
されている場合であっても粘着層の塑性変形をより抑制することができる。また、衝撃吸
収層の剪断貯蔵弾性率G´が1500MPa以下であれば、折り畳みの際の樹脂基材の割
れをより抑制できる。衝撃吸収層の剪断貯蔵弾性率G´の下限は、100MPa以上とな
っていることがより好ましく、衝撃吸収層の剪断貯蔵弾性率G´の上限は、1200MP
a以下となっていることがより好ましい。このような上限とすることで、折り畳んで静置
し、再び開いた際に、良好な復元性を得ることができる。
In the shock absorbing layer, it is preferable that the shear storage elastic modulus G'in the frequency range of 25 ° C. and 500 Hz or more and 1000 Hz or less is 1 MPa or more and 1500 MPa or less. When the shear storage elastic modulus G'of the shock absorbing layer is 1 MP or more, when an impact is applied to the surface of the resin base material, not only the deformation of the resin base material itself but also the inside of the image display device is more than the resin base material. Even when the adhesive layer is arranged on the surface, the plastic deformation of the adhesive layer can be further suppressed. Further, when the shear storage elastic modulus G'of the impact absorbing layer is 1500 MPa or less, cracking of the resin base material at the time of folding can be further suppressed. The lower limit of the shear storage elastic modulus G'of the impact absorbing layer is more preferably 100 MPa or more, and the upper limit of the shear storage elastic modulus G'of the impact absorbing layer is 1200 MP.
It is more preferable that it is a or less. With such an upper limit, good resilience can be obtained when the product is folded, allowed to stand, and reopened.

衝撃吸収層においては、25℃、500Hz以上1000Hz以下の周波数域での剪断
損失弾性率G´´が、0.1MPa以上200MPa以下となっていることが好ましい。
衝撃吸収層の剪断損失弾性率G´´が0.1MPa以上であれば、衝撃吸収性能をより得
ることができる。また、衝撃吸収層の剪断損失弾性率G´´が200MPa以下であれば
、衝撃吸収層の硬度が低下するおそれもない。衝撃吸収層の剪断損失弾性率G´´の下限
は、1MPa以上となっていることが好ましく、また衝撃吸収層の剪断損失弾性率G´´
の上限は、衝撃吸収層の薄型化の観点から、150MPa以下となっていることがより好
ましい。
In the shock absorbing layer, it is preferable that the shear loss elastic modulus G ″ in the frequency range of 25 ° C. and 500 Hz or more and 1000 Hz or less is 0.1 MPa or more and 200 MPa or less.
When the shear loss elastic modulus G ″ of the impact absorbing layer is 0.1 MPa or more, the impact absorbing performance can be further obtained. Further, if the shear loss elastic modulus G ″ of the impact absorbing layer is 200 MPa or less, there is no possibility that the hardness of the impact absorbing layer will decrease. The lower limit of the shear loss elastic modulus G ″ of the impact absorbing layer is preferably 1 MPa or more, and the shear loss elastic modulus G ″ of the impact absorbing layer ″.
The upper limit of is more preferably 150 MPa or less from the viewpoint of thinning the shock absorbing layer.

衝撃吸収層の剪断貯蔵弾性率G´および剪断損失弾性率G´´は、動的粘弾性測定装置
(DMA)によって測定することができる。動的粘弾性測定装置(DMA)によって、衝
撃吸収層の剪断貯蔵弾性率G´および剪断損失弾性率G´´を測定する際には、まず、保
護フィルム付き光透過性フィルムから全ての保護フィルムを剥離して、衝撃吸収層を含む
光透過性フィルム単体を得る。次いで、この光透過性フィルムを、10mm×5mmの長
方形状に打ち抜いて、サンプルを得る。そして、このサンプルを2枚準備し、動的粘弾性
測定装置(製品名「Rheogel-E4000」、株式会社ユービーエム社製)のオプションである
固体剪断用治具に取り付ける。具体的には、固体剪断用治具は、厚さ1mmの1枚の金属
製の固体剪断板と、この固体剪断板の両側に配置された2つのL型金具を備えており、固
体剪断板と一方のL型金具との間で一方のサンプルを挟み、かつ固体剪断板と他方のL型
金具で他方のサンプルを挟む。この場合、衝撃吸収層が固体剪断板側となり、樹脂基材が
L型金具側となるようにサンプルを挟む。そして、ビスでL型金具間を締めて、サンプル
を固定する。次いで、動的粘弾性測定装置(製品名「Rheogel-E4000」、株式会社ユービ
ーエム社製)に上部チャックおよび下部チャックからなる引張り試験用チャックを取り付
けた後、上部チャックと下部チャックの間に固体剪断用治具をチャック間距離20mmで
取り付ける。チャック間距離は、上部チャックと下部チャックの間の距離である。そして
、設定温度を25℃とし2℃/minで昇温させる。この状態で、固体剪断板を固定しな
がら2つのL型金具に歪み量1%かつ周波数500Hz以上1000Hz以下の範囲の縦
振動を与えながら、25℃での固体の動的粘弾性測定を行い、衝撃吸収層の剪断貯蔵弾性
率G´および剪断損失弾性率G´´を測定する。ここで、サンプルは、衝撃吸収層以外に
も樹脂基材を含むものであるが、樹脂基材は衝撃吸収層よりも硬いので、樹脂基材の影響
は無視することができる。このため、サンプルが、衝撃吸収層以外に、樹脂基材を含んで
いたとしても、サンプルから測定された剪断貯蔵弾性率G´および剪断損失弾性率G´´
は、衝撃吸収層の剪断貯蔵弾性率G´および剪断損失弾性率G´´とみなすことができる
。衝撃吸収層における500Hz以上1000Hz以下の周波数域での剪断貯蔵弾性率G
´および剪断損失弾性率G´´は、外板に周波数500Hz、750Hz、950Hzの
縦振動をそれぞれ与えて、それぞれの周波数において衝撃吸収層の剪断貯蔵弾性率G´お
よび剪断損失弾性率G´´を測定し、これらの剪断貯蔵弾性率G´および剪断損失弾性率
G´´の算術平均値を求め、さらに、この測定を3回繰り返し、それぞれ得られた3つの
算術平均値をさらに算術平均した値とする。なお、上記において、500Hz以上100
0Hz以下の周波数域としたのは、この周波数域の周波数が、数cmの高さから物体を自
由落下させたときに、光透過性フィルムの表面が数ミクロンから数十ミクロン変形する周
波数であり、かつ光透過性フィルムより画像表示装置の内部に存在する表示パネル等に損
傷を与える周波数であるからである。
The shear storage elastic modulus G ′ and the shear loss elastic modulus G ′ ′ of the impact absorbing layer can be measured by a dynamic viscoelasticity measuring device (DMA). When measuring the shear storage elastic modulus G ′ and the shear loss elastic modulus G ″ of the impact absorbing layer by the dynamic viscoelasticity measuring device (DMA), first, all the protective films are selected from the light transmissive film with the protective film. Is peeled off to obtain a single light-transmitting film containing a shock absorbing layer. Next, this light-transmitting film is punched into a rectangular shape of 10 mm × 5 mm to obtain a sample. Then, two samples are prepared and attached to an optional solid shearing jig of a dynamic viscoelasticity measuring device (product name "Rheogel-E4000", manufactured by UBM Co., Ltd.). Specifically, the solid shearing jig includes a single metal solid shearing plate having a thickness of 1 mm and two L-shaped metal fittings arranged on both sides of the solid shearing plate. One sample is sandwiched between the and one L-shaped metal fitting, and the other sample is sandwiched between the solid shear plate and the other L-shaped metal fitting. In this case, the sample is sandwiched so that the shock absorbing layer is on the solid shear plate side and the resin base material is on the L-shaped metal fitting side. Then, tighten the space between the L-shaped metal fittings with screws to fix the sample. Next, after attaching a tensile test chuck consisting of an upper chuck and a lower chuck to a dynamic viscoelasticity measuring device (product name "Rheogel-E4000", manufactured by UBM Co., Ltd.), a solid is formed between the upper chuck and the lower chuck. Attach the shearing jig with a chuck distance of 20 mm. The distance between chucks is the distance between the upper chuck and the lower chuck. Then, the set temperature is set to 25 ° C. and the temperature is raised at 2 ° C./min. In this state, while fixing the solid shear plate and applying longitudinal vibration with a strain amount of 1% and a frequency of 500 Hz to 1000 Hz to the two L-shaped metal fittings, the dynamic viscoelasticity of the solid was measured at 25 ° C. The shear storage elastic modulus G ′ and the shear loss elastic modulus G ″ of the shock absorbing layer are measured. Here, the sample contains a resin base material in addition to the shock absorbing layer, but since the resin base material is harder than the shock absorbing layer, the influence of the resin base material can be ignored. Therefore, even if the sample contains a resin base material in addition to the shock absorbing layer, the shear storage elastic modulus G ′ and the shear loss elastic modulus G ″ measured from the sample.
Can be regarded as the shear storage elastic modulus G ′ and the shear loss elastic modulus G ′ ′ of the impact absorbing layer. Shear storage elastic modulus G in the frequency range of 500 Hz or more and 1000 Hz or less in the shock absorbing layer
The shear modulus G ′ and the shear loss elastic modulus G ″ are applied to the outer plate with longitudinal vibrations having frequencies of 500 Hz, 750 Hz, and 950 Hz, respectively, and the shear storage elastic modulus G ′ and the shear loss elastic modulus G ″ of the shock absorbing layer at each frequency. Was measured, and the arithmetic average values of these shear storage elastic modulus G ′ and shear loss elastic modulus G ″ were obtained. Further, this measurement was repeated three times, and the three arithmetic average values obtained respectively were further arithmetically averaged. Use as a value. In the above, 500 Hz or more and 100
The frequency range of 0 Hz or less is defined as the frequency in which the surface of the light transmissive film is deformed by several microns to several tens of microns when an object is freely dropped from a height of several cm. This is because the frequency is such that the light transmissive film damages the display panel or the like existing inside the image display device.

衝撃吸収層を構成する樹脂は、衝撃吸収層における25℃、500HzHz以上100
0Hz以下の周波数域の剪断貯蔵弾性率G´および剪断損失弾性率G´´が上記範囲内と
なるような樹脂であれば、特に限定されない。このような樹脂としては、アクリル系ゲル
、ウレタン系ゲル、シリコーン系ゲル、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる
。これらの中でも、アクリル系ゲルが好ましい。「ゲル」とは、一般に、高粘度で流動性
を失った分散系をいう。なお、衝撃吸収層は、アクリル系ゲルやウレタン系樹脂等の他、
ゴムや熱可塑性エラストマーを含有していてもよい。また、上記アクリル系ゲルは粘着性
があるので、衝撃吸収層が上記アクリル系ゲルからなる場合には、衝撃吸収層と樹脂基材
との間に粘着層を設けなくとも、衝撃吸収層と樹脂基材を直接貼り付けることができる。
The resin constituting the shock absorbing layer is 100 at 25 ° C. and 500 Hz Hz or higher in the shock absorbing layer.
The resin is not particularly limited as long as the resin has a shear storage elastic modulus G ′ and a shear loss elastic modulus G ″ in the frequency range of 0 Hz or less within the above ranges. Examples of such a resin include acrylic gel, urethane gel, silicone gel, urethane resin, epoxy resin and the like. Among these, acrylic gel is preferable. "Gel" generally refers to a dispersion system with high viscosity and loss of fluidity. The shock absorbing layer includes acrylic gel, urethane resin, etc., as well as
It may contain rubber or a thermoplastic elastomer. Further, since the acrylic gel has adhesiveness, when the shock absorbing layer is made of the acrylic gel, the shock absorbing layer and the resin do not need to be provided with the adhesive layer between the shock absorbing layer and the resin base material. The base material can be directly attached.

(アクリル系ゲル)
アクリル系ゲルとしては、粘着剤などに用いられている、アクリル酸エステルを含むモ
ノマーを重合してなるポリマーであれば種々のものを使用することができる。具体的には
、アクリル系ゲルとしては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、n-プロピル(メタ
)アクリレート、i-プロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート
、i-ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n-ヘ
キシル(メタ)アクリレート、n-アミル(メタ)アクリレート、i-アミル(メタ)ア
クリレート、オクチル(メタ)アクリレート、i-オクチル(メタ)アクリレート、i-
ミリスチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アク
リレート、i-ノニル(メタ)アクリレート、i-デシル(メタ)アクリレート、トリデ
シル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、i-ステアリル(メタ)
アクリレート等のアクリル系モノマーを重合または共重合したものを用いることができる
。本明細書において、「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート」および「メタク
リレート」の両方を含む意味である。なお、上記(共)重合する際に使用するアクリル酸
エステルは、単独で用いる他、2種類以上併用してもよい。
(Acrylic gel)
As the acrylic gel, various polymers used for adhesives and the like, which are obtained by polymerizing a monomer containing an acrylic acid ester, can be used. Specifically, examples of the acrylic gel include ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, i-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, and i-butyl (meth) acrylate. , 2-Ethylhexyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, n-amyl (meth) acrylate, i-amyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, i-octyl (meth) acrylate, i-
Myristyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, i-nonyl (meth) acrylate, i-decyl (meth) acrylate, tridecylic (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, i-stearyl ( Meta)
Acrylic monomers such as acrylate polymerized or copolymerized can be used. As used herein, the term "(meth) acrylate" is meant to include both "acrylate" and "methacrylate". The acrylic acid ester used for the above (co) polymerization may be used alone or in combination of two or more.

(ウレタン系樹脂)
ウレタン系樹脂は、ウレタン結合を有する樹脂である。ウレタン系樹脂としては、電離
放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物の硬化物や熱硬化性ウレタン系樹脂組成物の硬化物等
が挙げられる。これらの中でも、高硬度が得られ、硬化速度も早く量産性に優れる観点か
ら、電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。
(Urethane resin)
The urethane-based resin is a resin having a urethane bond. Examples of the urethane-based resin include a cured product of an ionizing radiation-curable urethane-based resin composition and a cured product of a thermosetting urethane-based resin composition. Among these, a cured product of an ionizing radiation curable urethane resin composition is preferable from the viewpoint of obtaining high hardness, fast curing speed, and excellent mass productivity.

電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物は、ウレタン(メタ)アクリレートを含んでお
り、熱硬化性ウレタン系樹脂は、ポリオール化合物と、イソシアネート化合物とを含んで
いる。ウレタン(メタ)アクリレート、ポリオール化合物、およびイソシアネート化合物
は、モノマー、オリゴマー、およびプレポリマーのいずれであってもよい。
The ionizing radiation curable urethane resin composition contains a urethane (meth) acrylate, and the thermosetting urethane resin contains a polyol compound and an isocyanate compound. The urethane (meth) acrylate, the polyol compound, and the isocyanate compound may be any of a monomer, an oligomer, and a prepolymer.

ウレタン(メタ)アクリレート中の(メタ)アクリロイル基の数(官能基数)は、2以
上4以下であることが好ましい。ウレタン(メタ)アクリレート中の(メタ)アクリロイ
ル基の数が、2未満であると、鉛筆硬度が低くなるおそれがあり、また4を超えると、硬
化収縮が大きくなり、樹脂基材がカールしてしまい、また折り曲げ時に樹脂層にクラック
が入るおそれがある。ウレタン(メタ)アクリレート中の(メタ)アクリロイル基の数の
上限は、3以下であることがより好ましい。
The number of (meth) acryloyl groups (number of functional groups) in the urethane (meth) acrylate is preferably 2 or more and 4 or less. If the number of (meth) acryloyl groups in the urethane (meth) acrylate is less than 2, the pencil hardness may decrease, and if it exceeds 4, the curing shrinkage increases and the resin substrate curls. In addition, there is a risk that the resin layer will crack during bending. The upper limit of the number of (meth) acryloyl groups in the urethane (meth) acrylate is more preferably 3 or less.

ウレタン(メタ)アクリレートの重量平均分子量は、1500以上20000以下であ
ることが好ましい。ウレタン(メタ)アクリレートの重量平均分子量が、1500未満で
あると、耐衝撃性が低下するおそれがあり、また20000を超えると、電離放射線硬化
性ウレタン系樹脂組成物の粘度が上昇し、塗工性が悪化するおそれがある。ウレタン(メ
タ)アクリレートの重量平均分子量の下限は2000以上であることがより好ましく、上
限は15000以下であることがより好ましい。
The weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate is preferably 1500 or more and 20000 or less. If the weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate is less than 1500, the impact resistance may decrease, and if it exceeds 20000, the viscosity of the ionizing radiation curable urethane resin composition increases, and coating is performed. Sex may worsen. The lower limit of the weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate is more preferably 2000 or more, and the upper limit is more preferably 15,000 or less.

また、ウレタン(メタ)アクリレート由来の構造を有する繰り返し単位としては、例え
ば、下記一般式(26)、(27)、(28)または(29)で表される構造等が挙げら
れる。

Figure 2022048309000027
上記一般式(26)中、Rは分岐鎖状アルキル基を示し、R10は分岐鎖状アルキル
基又は飽和環状脂肪族基を示し、R11は水素原子又はメチル基を示し、R12は、水素
原子、メチル基又はエチル基を示し、mは0以上の整数を示し、xは0~3の整数を示す
。 Examples of the repeating unit having a structure derived from urethane (meth) acrylate include structures represented by the following general formulas (26), (27), (28) or (29).
Figure 2022048309000027
In the above general formula (26), R 9 represents a branched alkyl group, R 10 represents a branched alkyl group or a saturated cyclic aliphatic group, R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 12 represents a hydrogen atom or a methyl group. , Hydrogen atom, methyl group or ethyl group, m indicates an integer of 0 or more, and x indicates an integer of 0 to 3.

Figure 2022048309000028
上記一般式(27)中、Rは分岐鎖状アルキル基を示し、R10は分岐鎖状アルキル
基又は飽和環状脂肪族基を示し、R11は水素原子又はメチル基を示し、R12は、水素
原子、メチル基又はエチル基を示し、nは1以上の整数を示し、xは0~3の整数を示す
Figure 2022048309000028
In the above general formula (27), R 9 represents a branched alkyl group, R 10 represents a branched alkyl group or a saturated cyclic aliphatic group, R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 12 represents a hydrogen atom or a methyl group. , Hydrogen atom, methyl group or ethyl group, n represents an integer of 1 or more, and x represents an integer of 0 to 3.

Figure 2022048309000029
上記一般式(28)中、Rは分岐鎖状アルキル基を示し、R10は分岐鎖状アルキル
基又は飽和環状脂肪族基を示し、R11は水素原子又はメチル基を示し、R12は、水素
原子、メチル基又はエチル基を示し、mは0以上の整数を示し、xは0~3の整数を示す
Figure 2022048309000029
In the above general formula (28), R 9 represents a branched alkyl group, R 10 represents a branched alkyl group or a saturated cyclic aliphatic group, R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 12 represents a hydrogen atom or a methyl group. , Hydrogen atom, methyl group or ethyl group, m indicates an integer of 0 or more, and x indicates an integer of 0 to 3.

Figure 2022048309000030
上記一般式(29)中、Rは分岐鎖状アルキル基を示し、R10は分岐鎖状アルキル
基又は飽和環状脂肪族基を示し、R11は水素原子又はメチル基を示し、R12は、水素
原子、メチル基又はエチル基を示し、nは1以上の整数を示し、xは0~3の整数を示す
Figure 2022048309000030
In the above general formula (29), R 9 represents a branched alkyl group, R 10 represents a branched alkyl group or a saturated cyclic aliphatic group, R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 12 represents a hydrogen atom or a methyl group. , Hydrogen atom, methyl group or ethyl group, n represents an integer of 1 or more, and x represents an integer of 0 to 3.

なお、衝撃吸収層を構成する樹脂が、どのような構造の高分子鎖(繰り返し単位)によ
って形成されているかは、例えば、熱分解GC-MS及びFT-IRによって衝撃吸収層
を分析することによって判断可能である。特に、熱分解GC-MSは、衝撃吸収層に含ま
れる単量体単位をモノマー成分として検知できるため有用である。
The structure of the polymer chain (repeating unit) in which the resin constituting the shock absorbing layer is formed can be determined by, for example, analyzing the shock absorbing layer by thermal decomposition GC-MS and FT-IR. It is possible to judge. In particular, pyrolysis GC-MS is useful because it can detect the monomer unit contained in the shock absorbing layer as a monomer component.

衝撃吸収層は、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、防汚剤、無機粒子および/または有
機粒子等を含んでいてもよい。紫外線吸収剤等は、ハードコート層の欄で説明した紫外線
吸収剤等と同様のものが使用できるので、ここでは説明を省略するものとする。
The shock absorbing layer may contain an ultraviolet absorber, a spectral transmittance adjusting agent, an antifouling agent, inorganic particles and / or organic particles and the like. As the ultraviolet absorber or the like, the same ultraviolet absorber or the like described in the column of the hard coat layer can be used, so the description thereof will be omitted here.

<下地層>
下地層は、樹脂基材と樹脂基材上に設けられる他の機能層(例えば、ハードコート層や
衝撃吸収層)との間の密着性を向上させるための層である。樹脂基材の表面に下地層を設
けることにより、樹脂基材の表面と他の機能層が直接接している場合よりも、密着性を向
上させることができる。
<Underground layer>
The base layer is a layer for improving the adhesion between the resin base material and another functional layer (for example, a hard coat layer or a shock absorbing layer) provided on the resin base material. By providing the base layer on the surface of the resin base material, the adhesion can be improved as compared with the case where the surface of the resin base material is in direct contact with another functional layer.

下地層の膜厚は、30nm以上200nm以下となっていることが好ましい。下地層の
膜厚が、30nm以上であれば、樹脂基材と他の機能層の充分な密着性を確保でき、また
200nm以下であれば、干渉縞の発生を抑制できる。下地層の膜厚は、ハードコート層
の膜厚と同様の方法によって求めるものとする。下地層の膜厚の下限は50nm以上であ
ることがより好ましく、上限は150nm以下であることがより好ましい。
The film thickness of the base layer is preferably 30 nm or more and 200 nm or less. When the film thickness of the base layer is 30 nm or more, sufficient adhesion between the resin base material and other functional layers can be ensured, and when it is 200 nm or less, the occurrence of interference fringes can be suppressed. The film thickness of the base layer shall be determined by the same method as the film thickness of the hard coat layer. The lower limit of the film thickness of the base layer is more preferably 50 nm or more, and the upper limit is more preferably 150 nm or less.

下地層は、樹脂を含んでいる。下地層の樹脂は、(メタ)アクリル系樹脂、セルロース
系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹
脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、およびABS樹脂からなる群より選択
される少なくとも1種の樹脂であることが好ましい。
The base layer contains a resin. The resin of the base layer is selected from the group consisting of (meth) acrylic resin, cellulose resin, urethane resin, vinyl chloride resin, polyester resin, polyolefin resin, polycarbonate, nylon, polystyrene, and ABS resin. It is preferably at least one kind of resin.

<<保護フィルム付き光透過性フィルムの製造方法>>
保護フィルム付き光透過性フィルム10は、以下のようにして得ることができる。まず
、光透過性フィルム20の表面20A(樹脂基材21の表面21A)に粘着層32側が表
面20A側となるように保護フィルム30を貼り付ける。そして、光透過性フィルム20
の表面20B(樹脂基材21の表面21B)に粘着層42側が表面20B側となるように
保護フィルム40を貼り付ける。これにより、保護フィルム付き光透過性フィルム10が
得られる。
<< Manufacturing method of light transmissive film with protective film >>
The light transmissive film 10 with a protective film can be obtained as follows. First, the protective film 30 is attached to the surface 20A of the light transmissive film 20 (the surface 21A of the resin base material 21) so that the adhesive layer 32 side is the surface 20A side. And the light transmissive film 20
The protective film 40 is attached to the surface 20B (the surface 21B of the resin base material 21) so that the adhesive layer 42 side is the surface 20B side. As a result, the light transmissive film 10 with a protective film is obtained.

また、保護フィルム付き光透過性フィルム60は、以下のようにして得ることができる
。まず、樹脂基材21の表面21Aに粘着層32側が表面21A側となるように保護フィ
ルム30を貼り付ける。そして、樹脂基材21の表面21Bに、樹脂層71(例えば、ハ
ードコート層や衝撃吸収層)を形成し、樹脂基材21と樹脂層71からなる光透過性フィ
ルム70を形成する。これにより、保護フィルム付き光透過性フィルム60が得られる。
なお、樹脂層71等を形成する際の加工プロセスが、保護フィルム30の軟化点以上の温
度になる場合には、樹脂基材21から保護フィルム30を一度剥がした後に、加工プロセ
スを行い、その後再度光透過性フィルム20の表面20Aに保護フィルム30を貼り付け
てもよい。
Further, the light transmissive film 60 with a protective film can be obtained as follows. First, the protective film 30 is attached to the surface 21A of the resin base material 21 so that the adhesive layer 32 side is the surface 21A side. Then, a resin layer 71 (for example, a hard coat layer or a shock absorbing layer) is formed on the surface 21B of the resin base material 21, and a light transmissive film 70 composed of the resin base material 21 and the resin layer 71 is formed. As a result, the light transmissive film 60 with a protective film is obtained.
When the processing process for forming the resin layer 71 or the like reaches a temperature equal to or higher than the softening point of the protective film 30, the protective film 30 is once peeled off from the resin base material 21 and then the processing process is performed. The protective film 30 may be attached to the surface 20A of the light transmissive film 20 again.

樹脂層71として、第1のハードコート層と、第1のハードコート層上に積層された第
2のハードコート層とからなるハードコート層を形成する場合には、樹脂基材21の表面
21Bに、まず、第1のハードコート層を形成するための第1のハードコート層用組成物
を塗布し、第1のハードコート層用組成物の塗膜を形成する。
When the resin layer 71 is formed as a hard coat layer composed of a first hard coat layer and a second hard coat layer laminated on the first hard coat layer, the surface 21B of the resin base material 21 is formed. First, the composition for the first hard coat layer for forming the first hard coat layer is applied, and the coating film for the composition for the first hard coat layer is formed.

<第1のハードコート層用組成物>
第1のハードコート層用組成物は、第1のハードコート層を形成するための重合性化合
物を含んでいる。第1のハードコート層用組成物は、その他、必要に応じて、紫外線吸収
剤、分光透過率調整剤、防汚剤、無機粒子、レベリング剤、溶剤、重合開始剤を含んでい
てもよい。
<Composition for the first hard coat layer>
The composition for the first hardcourt layer contains a polymerizable compound for forming the first hardcourt layer. The composition for the first hard coat layer may also contain an ultraviolet absorber, a spectral transmittance adjusting agent, an antifouling agent, inorganic particles, a leveling agent, a solvent, and a polymerization initiator, if necessary.

(溶媒)
上記溶媒としては、アルコール(例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプ
ロパノール、n-ブタノール、s-ブタノール、t-ブタノール、ベンジルアルコール、
PGME、エチレングリコール、ジアセトンアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプ
タノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジアセトンアルコール)、エステル(酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸n-プロピル、酢酸イソプロピル、蟻酸メチル
、PGMEA)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水
素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベン
ゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、N-メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン)、エーテルアルコール(例、1-メトキシ-2-プロパノール)、カーボネ
ート(炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸エチルメチル)、等が挙げられる。これらの溶
媒は、単独で用いられてもよく、2種類以上が併用されてもよい。なかでも、上記溶媒と
しては、ウレタン(メタ)アクリレート等の成分、並びに、他の添加剤を溶解或いは分散
させ、第1のハードコート層用組成物を好適に塗工できる点で、メチルイソブチルケトン
、メチルエチルケトンが好ましい。
(solvent)
Examples of the solvent include alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, s-butanol, t-butanol, benzyl alcohol, etc.).
PGME, ethylene glycol, diacetone alcohol), ketones (eg acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, heptanone, diisobutyl ketone, diethyl ketone, diacetone alcohol), esters (methyl acetate, ethyl acetate, acetate) Butyl, n-propyl acetate, isopropyl acetate, methyl formate, PGMEA), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride) Examples, benzene, toluene, xylene), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone), ethers (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohols (eg, 1-methoxy-2-propanol). , Carbonate (dimethyl carbonate, diethyl carbonate, ethylmethyl carbonate), and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Among them, as the above-mentioned solvent, a component such as urethane (meth) acrylate and other additives can be dissolved or dispersed, and the composition for the first hard coat layer can be suitably applied. , Methyl ethyl ketone is preferred.

(重合開始剤)
重合開始剤は、電離放射線照射より分解されて、ラジカルを発生して重合性化合物の重
合(架橋)を開始または進行させる成分である。
(Polymer initiator)
The polymerization initiator is a component that is decomposed by ionizing radiation irradiation to generate radicals to initiate or proceed with the polymerization (crosslinking) of the polymerizable compound.

重合開始剤は、電離放射線照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが
可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを用
いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラー
ベンゾイルベンゾエート、α-アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェ
ノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、
光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、n-ブチルア
ミン、トリエチルアミン、ポリ-n-ブチルホスフィン等が挙げられる。
The polymerization initiator is not particularly limited as long as it can release a substance that initiates radical polymerization by irradiation with ionizing radiation. The polymerization initiator is not particularly limited, and known ones can be used. Specific examples thereof include acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoates, α-amyloxime esters, thioxanthones, and propiophenones. Classes, benzyls, benzoins, acylphosphine oxides and the like. again,
It is preferable to use a photosensitizer in combination, and specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine and the like.

第1のハードコート層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例え
ば30℃以上120℃以下の温度で10秒間~120秒間加熱することにより乾燥させ、
溶剤を蒸発させる。
After forming the coating film of the composition for the first hard coat layer, the coating film is dried by heating at a temperature of, for example, 30 ° C. or higher and 120 ° C. or lower for 10 seconds to 120 seconds by various known methods.
Evaporate the solvent.

塗膜を乾燥させた後、塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、塗膜を半硬化(ハーフ
キュア)させる。本明細書における「半硬化」とは、電離放射線をさらに照射すると硬化
が実質的に進行することを意味する。ただし、この段階で、塗膜を完全硬化(フルキュア
)させてもよい。本明細書における「完全硬化」とは、これ以上電離放射線を照射しても
硬化が実質的に進行しないことを意味する。
After the coating film is dried, the coating film is irradiated with ionizing radiation such as ultraviolet rays to semi-cure the coating film. As used herein, "semi-curing" means that further irradiation with ionizing radiation substantially proceeds with curing. However, at this stage, the coating film may be completely cured (full cure). As used herein, the term "completely cured" means that further irradiation with ionizing radiation does not substantially proceed with curing.

塗膜を半硬化させた後、塗膜上に、バーコーター等の塗布装置によって、第2のハード
コート層を形成するための第2のハードコート層用組成物を塗布して、第2のハードコー
ト層用組成物の塗膜を形成する。
After the coating film is semi-cured, the composition for the second hard coat layer for forming the second hard coat layer is applied onto the coating film by a coating device such as a bar coater. A coating film of the composition for the hard coat layer is formed.

<第2のハードコート層用組成物>
第2のハードコート層用組成物は、第2のハードコート層を形成するための重合性化合
物を含んでいる。第2のハードコート層用組成物は、その他、必要に応じて、紫外線吸収
剤、溶剤、重合開始剤を含んでいてもよい。第2のハードコート層用組成物は、第1のハ
ードコート層用組成物と同様に、総固形分が25~55%であることが好ましい。溶剤お
よび重合開始剤は、第1のハードコート層用組成物で説明した溶剤および重合開始剤と同
様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
<Composition for second hard coat layer>
The composition for the second hardcourt layer contains a polymerizable compound for forming the second hardcourt layer. The composition for the second hard coat layer may also contain an ultraviolet absorber, a solvent, and a polymerization initiator, if necessary. The composition for the second hard coat layer preferably has a total solid content of 25 to 55%, similarly to the composition for the first hard coat layer. Since the solvent and the polymerization initiator are the same as the solvent and the polymerization initiator described in the composition for the first hard coat layer, the description thereof will be omitted here.

第2のハードコート層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を例えば
30℃以上120℃以下の温度で10秒間~120秒間加熱することにより乾燥させ、溶
剤を蒸発させる。
After forming the coating film of the composition for the second hard coat layer, the coating film is dried by heating at a temperature of, for example, 30 ° C. or higher and 120 ° C. or lower for 10 seconds to 120 seconds by various known methods to dry the solvent. Evaporate.

塗膜を乾燥させた後、第2のハードコート層用組成物の塗膜に紫外線等の電離放射線を
照射して、第1のハードコート層用組成物の塗膜および第2のハードコート層用組成物の
塗膜を完全硬化(フルキュア)させて、第1のハードコート層および第2のハードコート
層からなるハードコート層を得る。
After the coating film is dried, the coating film of the composition for the second hard coat layer is irradiated with ionizing radiation such as ultraviolet rays to irradiate the coating film of the composition for the first hard coat layer and the second hard coat layer. The coating film of the composition for use is completely cured (fully cured) to obtain a hard coat layer composed of a first hard coat layer and a second hard coat layer.

また、樹脂層71として、衝撃吸収層を形成する場合には、樹脂基材21の表面21B
に、衝撃吸収層を形成するための衝撃吸収層用組成物を塗布して、衝撃吸収層用組成物の
塗膜を形成する。衝撃吸収層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を例
えば30℃以上120℃以下の温度で10秒間~120秒間加熱することにより乾燥させ
、溶剤を蒸発させる。塗膜を乾燥させた後、樹脂層用組成物の塗膜に紫外線等の電離放射
線を照射して、衝撃吸収層の塗膜を硬化させて、衝撃吸収層を形成する。
Further, when the shock absorbing layer is formed as the resin layer 71, the surface 21B of the resin base material 21 is formed.
Is coated with a shock absorbing layer composition for forming a shock absorbing layer to form a coating film of the shock absorbing layer composition. After forming the coating film of the composition for the shock absorbing layer, the coating film is dried by heating at a temperature of, for example, 30 ° C. or higher and 120 ° C. or lower for 10 seconds to 120 seconds by various known methods, and the solvent is evaporated. After the coating film is dried, the coating film of the resin layer composition is irradiated with ionizing radiation such as ultraviolet rays to cure the coating film of the shock absorbing layer to form a shock absorbing layer.

また、保護フィルム付き光透過性フィルム80は、以下のようにして得ることができる
。まず、樹脂基材21の表面21Aに樹脂層91(例えば、下地層)を形成し、樹脂層9
1の表面91Aに粘着層32側が樹脂層91側となるように保護フィルム30を貼り付け
る。そして、樹脂基材21の表面21Bに樹脂層92(例えば、ハードコート層や衝撃吸
収層)を形成する。これにより、保護フィルム付き光透過性フィルム80が得られる。な
お、樹脂層91、92等を形成する際の加工プロセスが、保護フィルム30の軟化点以上
の温度になる場合には、樹脂層91から保護フィルム30を一度剥がした後に、加工プロ
セスを行い、その後再度樹脂層91の表面90Aに保護フィルム30を貼り付けてもよい
Further, the light transmissive film 80 with a protective film can be obtained as follows. First, a resin layer 91 (for example, a base layer) is formed on the surface 21A of the resin base material 21, and the resin layer 9 is formed.
The protective film 30 is attached to the surface 91A of No. 1 so that the adhesive layer 32 side is the resin layer 91 side. Then, a resin layer 92 (for example, a hard coat layer or a shock absorbing layer) is formed on the surface 21B of the resin base material 21. As a result, the light transmissive film 80 with a protective film is obtained. When the processing process for forming the resin layers 91, 92, etc. reaches a temperature equal to or higher than the softening point of the protective film 30, the protective film 30 is once peeled off from the resin layer 91, and then the processing process is performed. After that, the protective film 30 may be attached to the surface 90A of the resin layer 91 again.

光透過性フィルムから保護フィルムを剥離すると、光透過性フィルムの表面に凹凸が現
れるのは、光透過性フィルムの表面に保護フィルムの表面の凹凸が転写されてしまうから
であると考えられる。特に、この現象が、ロール状に巻回した状態の光透過性フィルムで
発生しやすいのは、光透過性フィルムをロール状に巻回することによって保護フィルムか
ら光透過性フィルムに圧力が加わるからであると考えられる。一方で、JIS K713
6:2000には、ヘイズは、試験片を通過する透過光のうち、前方散乱によって、入射
光から0.044rad(2.5°)以上それた透過光の百分率であることが規定されて
いる。すなわち、ヘイズの定義においては入射光に対し2.5°以上それた透過光はヘイ
ズとして測定されるが、入射光に対し2.5°未満の透過光であればヘイズとして測定さ
れない。ここで、保護フィルムの表面に凹凸が存在すると、この凹凸によって保護フィル
ムを透過する光が拡散するので、ヘイズ値は大きくなる。したがって、保護フィルムのヘ
イズ値が小さいことは、保護フィルムの表面に存在する凹凸が少なく、平滑性に優れるこ
とを意味する。本実施形態においては、ヘイズ値が10%以下の保護フィルム30、40
を用いているので、保護フィルム30、40の表面に存在する凹凸が少ない。このため、
凹凸が少ない光透過性フィルム20の表面20A、20Bを得ることができる。これによ
り、優れた平滑性を有する光透過性フィルム20を得ることができる。また、同様の理由
から、優れた平滑性を有する光透過性フィルム70、90を得ることができる。
When the protective film is peeled off from the light-transmitting film, unevenness appears on the surface of the light-transmitting film because the unevenness on the surface of the protective film is transferred to the surface of the light-transmitting film. In particular, this phenomenon is likely to occur in a light-transmitting film in a rolled state because pressure is applied from the protective film to the light-transmitting film by winding the light-transmitting film in a roll shape. Is considered to be. On the other hand, JIS K713
6: 2000 specifies that haze is a percentage of the transmitted light passing through the test piece that is more than 0.044 rad (2.5 °) deviated from the incident light due to forward scattering. .. That is, in the definition of haze, transmitted light deviated by 2.5 ° or more with respect to incident light is measured as haze, but transmitted light less than 2.5 ° with respect to incident light is not measured as haze. Here, if the surface of the protective film has irregularities, the light transmitted through the protective film is diffused by the irregularities, so that the haze value becomes large. Therefore, a small haze value of the protective film means that there are few irregularities existing on the surface of the protective film and the smoothness is excellent. In the present embodiment, the protective films 30 and 40 having a haze value of 10% or less
Therefore, there are few irregularities existing on the surfaces of the protective films 30 and 40. For this reason,
It is possible to obtain the surfaces 20A and 20B of the light transmissive film 20 having less unevenness. This makes it possible to obtain a light transmissive film 20 having excellent smoothness. Further, for the same reason, the light transmissive films 70 and 90 having excellent smoothness can be obtained.

<<<光学フィルム>>>
光透過性フィルム20、70、90は、折り畳み可能な光学フィルムの形成に用いるこ
とができる。図6は、本実施形態に係る光学フィルムの概略構成図である。
<<< Optical film >>>
The light transmissive films 20, 70, 90 can be used to form a foldable optical film. FIG. 6 is a schematic configuration diagram of an optical film according to this embodiment.

図6に示される光学フィルム100は、樹脂基材21からなる光透過性フィルム20と
、樹脂基材21の表面21Aに設けられた樹脂層101と、樹脂基材21の表面21Bに
設けられた樹脂層102とを備えている。
The optical film 100 shown in FIG. 6 is provided on a light transmissive film 20 made of a resin base material 21, a resin layer 101 provided on the surface 21A of the resin base material 21, and a surface 21B of the resin base material 21. It includes a resin layer 102.

<<樹脂層>>
樹脂層101、102としては、特に限定されないが、ハードコート層や衝撃吸収層が
挙げられる。例えば、樹脂層101が、ハードコート層である場合には、樹脂層102は
、衝撃吸収層とすることが可能である。ハードコート層は、樹脂層71の欄で説明したハ
ードコート層と同様であり、衝撃吸収層は、樹脂層71の欄で説明した衝撃吸収層と同様
であるので、ここでは説明を省略するものとする。
<< Resin layer >>
The resin layers 101 and 102 are not particularly limited, and examples thereof include a hard coat layer and a shock absorbing layer. For example, when the resin layer 101 is a hard coat layer, the resin layer 102 can be a shock absorbing layer. The hard coat layer is the same as the hard coat layer described in the column of the resin layer 71, and the shock absorbing layer is the same as the shock absorbing layer described in the column of the resin layer 71, so the description thereof is omitted here. And.

光学フィルム100を形成する場合には、まず、保護フィルム付き光透過性フィルム1
0において、光透過性フィルム20から保護フィルム30を剥離した状態で、樹脂層71
の形成と同様にして、樹脂基材21の表面21Aに樹脂層101を形成する。次いで、光
透過性フィルム20から保護フィルム40を剥離した状態で、樹脂層71の形成と同様に
して、樹脂基材21の表面21Bに樹脂層102を形成する。
When forming the optical film 100, first, the light transmissive film 1 with a protective film 1 is formed.
At 0, the resin layer 71 is in a state where the protective film 30 is peeled off from the light transmissive film 20.
The resin layer 101 is formed on the surface 21A of the resin base material 21 in the same manner as the formation of the above. Next, in the state where the protective film 40 is peeled off from the light transmissive film 20, the resin layer 102 is formed on the surface 21B of the resin base material 21 in the same manner as the formation of the resin layer 71.

<<<画像表示装置>>>
光学フィルム100は、折り畳み可能な画像表示装置に組み込んで使用することが可能
である。図7は、本実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。図7に示されるよ
うに、画像表示装置110は、観察者側に向けて、主に、電池等が収納された筐体111
、保護フィルム112、表示パネル113、円偏光板114、タッチセンサ115、およ
び光学フィルム100がこの順で積層されている。表示パネル113と円偏光板114と
の間、円偏光板114とタッチセンサ115との間、タッチセンサ115と光学フィルム
100との間には、光透過性を有する粘着層116が配置されており、これらの部材は粘
着層116によって互いに固定されている。粘着層116は、表示パネル113と円偏光
板114との間、円偏光板114とタッチセンサ115との間、タッチセンサ115と光
学フィルム100との間に配置されているが、粘着層116の配置箇所は、光学フィルム
100と表示パネル113との間であれば、特に限定されない。
<<< Image display device >>>
The optical film 100 can be used by incorporating it into a foldable image display device. FIG. 7 is a schematic configuration diagram of an image display device according to the present embodiment. As shown in FIG. 7, the image display device 110 faces the observer side and is mainly a housing 111 in which a battery or the like is housed.
, The protective film 112, the display panel 113, the circularly polarizing plate 114, the touch sensor 115, and the optical film 100 are laminated in this order. A light-transmitting adhesive layer 116 is arranged between the display panel 113 and the circular polarizing plate 114, between the circular polarizing plate 114 and the touch sensor 115, and between the touch sensor 115 and the optical film 100. , These members are fixed to each other by the adhesive layer 116. The adhesive layer 116 is arranged between the display panel 113 and the circular polarizing plate 114, between the circular polarizing plate 114 and the touch sensor 115, and between the touch sensor 115 and the optical film 100. The arrangement location is not particularly limited as long as it is between the optical film 100 and the display panel 113.

光学フィルム100において、樹脂層101がハードコート層であり、樹脂層102が
衝撃吸収層である場合、光学フィルム100は、樹脂層101が樹脂層102よりも観察
者側となるように配置されている。画像表示装置110においては、光学フィルム100
の樹脂層101の表面が、画像表示装置110の表面を構成している。
In the optical film 100, when the resin layer 101 is a hard coat layer and the resin layer 102 is a shock absorbing layer, the optical film 100 is arranged so that the resin layer 101 is closer to the observer than the resin layer 102. There is. In the image display device 110, the optical film 100
The surface of the resin layer 101 of the above constitutes the surface of the image display device 110.

画像表示装置110においては、表示パネル113は、有機発光ダイオード等を含む有
機発光ダイオードパネルとなっている。タッチセンサ115は、円偏光板115よりも観
察者側に配置されているが、表示パネル113と円偏光板114との間に配置されていて
もよい。また、タッチセンサ115は、オンセル方式やインセル方式であってもよい。
In the image display device 110, the display panel 113 is an organic light emitting diode panel including an organic light emitting diode and the like. Although the touch sensor 115 is arranged on the observer side of the circular polarizing plate 115, it may be arranged between the display panel 113 and the circular polarizing plate 114. Further, the touch sensor 115 may be an on-cell system or an in-cell system.

粘着層116としては、例えば、OCA(Optical Clear Adhesive)を用いることができ
るが、耐衝撃性を向上させて、表示パネル113の損傷を防ぐ観点から、上記アクリル系
ゲルからなる粘着層を用いることが好ましい。なお、粘着層116に上記アクリル系ゲル
からなる粘着層を用いる場合、表示パネル113と円偏光板114との間、円偏光板11
4とタッチセンサ115との間、タッチセンサ115と光学フィルム100との間の少な
くともいずれかに上記アクリル系ゲルからなる粘着層を配置すればよい。
As the adhesive layer 116, for example, OCA (Optical Clear Adhesive) can be used, but from the viewpoint of improving impact resistance and preventing damage to the display panel 113, the adhesive layer made of the acrylic gel is used. Is preferable. When the adhesive layer made of the acrylic gel is used for the adhesive layer 116, the circular polarizing plate 11 is located between the display panel 113 and the circular polarizing plate 114.
An adhesive layer made of the acrylic gel may be arranged at least between the touch sensor 115 and the touch sensor 115, and between the touch sensor 115 and the optical film 100.

なお、上記実施形態においては、光学フィルム100は、画像表示装置110の表面を
構成するカバーフィルムとして用いられているが、光学フィルム100は、画像表示装置
の内部に存在するフィルムとして用いられてもよい。
In the above embodiment, the optical film 100 is used as a cover film constituting the surface of the image display device 110, but the optical film 100 may be used as a film existing inside the image display device. good.

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの
記載に限定されない。なお、下記の「固形分100%換算値」とは、溶剤希釈品中の固形
分を100%としたときの値である。
In order to explain the present invention in detail, examples will be given below, but the present invention is not limited to these descriptions. The "100% solid content conversion value" below is a value when the solid content in the solvent-diluted product is 100%.

<ハードコート層用組成物の調製>
まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、ハードコート層用組成物を得た
<Preparation of composition for hard coat layer>
First, each component was blended so as to have the composition shown below to obtain a composition for a hard coat layer.

(ハードコート層用組成物1)
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ートの混合物(製品名「M403」、東亜合成株式会社製):25質量部
・ジペンタエリスリトールEO変性ヘキサアクリレート(製品名「A-DPH-6E」、
新中村化学工業株式会社製):25質量部
・異形シリカ粒子(平均粒子径25nm、日揮触媒化成株式会社製):50質量部(固形
分100%換算値)
・光重合開始剤(1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Irgacu
re(登録商標)184」、BASFジャパン社製):4質量部
・フッ素系レベリング剤(製品名「F568」、DIC株式会社製):0.2質量部(固
形分100%換算値)
・メチルイソブチルケトン(MIBK):150質量部
(Composition 1 for hard coat layer)
-Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (product name "M403", manufactured by Toagosei Co., Ltd.): 25 parts by mass-dipentaerythritol EO modified hexaacrylate (product name "A-DPH-6E",
Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.): 25 parts by mass, irregularly shaped silica particles (average particle diameter 25 nm, manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Co., Ltd.): 50 parts by mass (100% solid content conversion value)
-Photopolymerization initiator (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, product name "Irgacu"
re (registered trademark) 184 ", manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass, fluorine-based leveling agent (product name" F568 ", manufactured by DIC Corporation): 0.2 parts by mass (100% solid content conversion value)
-Methyl isobutyl ketone (MIBK): 150 parts by mass

(ハードコート層用組成物2)
・ウレタンアクリレート(製品名「UX5000」、日本化薬株式会社製):25質量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ートの混合物(製品名「M403」、東亜合成株式会社製):50質量部
・多官能アクリレートポリマー(製品名「アクリット8KX-012C」、大成ファイン
ケミカル株式会社製):25質量部(固形分100%換算値)
・防汚剤(製品名「BYKUV3500」、ビックケミー社製):1.5質量部(固形分
100%換算値)
・光重合開始剤(1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Irgacu
re(登録商標)184」、BASFジャパン社製):4質量部
・メチルイソブチルケトン(MIBK):150質量部
(Composition 2 for hard coat layer)
-Urethane acrylate (product name "UX5000", manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 25 parts by mass-Mixed mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (product name "M403", manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.): 50 By mass, polyfunctional acrylate polymer (product name "Acryt 8KX-012C", manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.): 25 parts by mass (100% solid content conversion value)
-Antifouling agent (product name "BYKUV3500", manufactured by Big Chemie): 1.5 parts by mass (100% solid content conversion value)
-Photopolymerization initiator (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, product name "Irgacu"
re (registered trademark) 184 ", manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass, methyl isobutyl ketone (MIBK): 150 parts by mass

<下地層用組成物の調製>
下記に示す組成となるように各成分を配合して、下地層用組成物を得た。
(下地層用組成物)
・ウレタン変性ポリエステル系樹脂(製品名「UR-3200」、東洋紡株式会社製):
5質量部(固形分100%換算値)
・メチルイソブチルケトン(MIBK):170質量部
<Preparation of composition for base layer>
Each component was blended so as to have the composition shown below to obtain a composition for an underlayer.
(Composition for base layer)
-Urethane-modified polyester resin (product name "UR-3200", manufactured by Toyobo Co., Ltd.):
5 parts by mass (100% solid content conversion value)
-Methyl isobutyl ketone (MIBK): 170 parts by mass

<実施例1>
樹脂基材として、厚さ50μmのポリイミド基材(製品名「ネオプリム」、三菱ガス化
学株式会社製)の一方の表面である第1の表面に、基材フィルムとしての厚さ38μmの
ポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)およびPETフィルムの一方の
面に設けられた粘着層からなる総厚63μmの第1の保護フィルム(製品名「SAT-4
2J」、サンエー化研株式会社製)を、粘着層がポリイミド基材側となるように貼り付け
、またポリイミド基材の第1の表面とは反対側の第2の表面に、基材フィルムとしての厚
さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)およびPETフィ
ルムの一方の面に設けられた粘着層からなる総厚63μmの第2の保護フィルム(製品名
「SAT-42J」、サンエー化研株式会社製)を貼り付けて、第1の保護フィルムと、
ポリイミド基材からなる光透過性フィルムと、第2の保護フィルムとを備える保護フィル
ム付き光透過性フィルムを得た。
<Example 1>
As a resin base material, a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm as a base film is formed on a first surface, which is one surface of a polyimide base material (product name “Neoprim”, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm. (PET film) and a first protective film (product name "SAT-4") having a total thickness of 63 μm composed of an adhesive layer provided on one surface of the PET film.
2J ”, manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd.) is attached so that the adhesive layer is on the polyimide base material side, and as a base film on the second surface opposite to the first surface of the polyimide base material. A second protective film with a total thickness of 63 μm (product name “SAT-42J”, Sanei Kaken Co., Ltd.) consisting of a polyethylene terephthalate film (PET film) with a thickness of 38 μm and an adhesive layer provided on one surface of the PET film. (Made), and the first protective film,
A light-transmitting film with a protective film including a light-transmitting film made of a polyimide base material and a second protective film was obtained.

<実施例2>
実施例2においては、第1の保護フィルムおよび第2の保護フィルム(製品名「SAT
-42J」、サンエー化研株式会社製)の代わりに、基材フィルムとしての厚さ38μm
のポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)およびPETフィルムの一方
の面に設けられた粘着層からなる総厚60μmの第1の保護フィルムおよび第2の保護フ
ィルム(製品名「TP200」、日東電工株式会社製)を用いたこと以外、実施例1と同
様に保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。
<Example 2>
In Example 2, the first protective film and the second protective film (product name "SAT").
-42J ", manufactured by Sun A. Kaken Co., Ltd.), with a thickness of 38 μm as a base film
First protective film and second protective film (product name "TP200", manufactured by Nitto Denko Co., Ltd.) having a total thickness of 60 μm composed of a polyethylene terephthalate film (PET film) and an adhesive layer provided on one surface of the PET film. ) Was used, and a light-transmitting film with a protective film was obtained in the same manner as in Example 1.

<実施例3>
実施例3においては、ポリイミド基材(製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学株式会社
製)の代わりに、ポリアミド基材(製品名「ミクトロン」、東レ株式会社製)を用いたこ
と以外、実施例1と同様に保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。
<Example 3>
In Example 3, a polyamide base material (product name “Mictron”, manufactured by Toray Industries, Inc.) was used instead of the polyimide base material (product name “Neoprim”, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.). A light transmissive film with a protective film was obtained in the same manner as in 1.

<実施例4>
実施例4においては、第1の保護フィルムおよび第2の保護フィルム(製品名「SAT
-42J」、サンエー化研株式会社製)の代わりに、基材フィルムとしての厚さ125μ
mのポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)およびPETフィルムの一
方の面に設けられた粘着層からなる総厚135μmの第1の保護フィルムおよび第2の保
護フィルム(製品名「SAT TM30125」、サンエー化研社製)を用いたこと以外
、実施例1と同様に保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。
<Example 4>
In Example 4, the first protective film and the second protective film (product name "SAT").
-42J ", manufactured by Sun A. Kaken Co., Ltd.), with a thickness of 125μ as a base film
First protective film and second protective film with a total thickness of 135 μm consisting of a polyethylene terephthalate film (PET film) of m and an adhesive layer provided on one surface of the PET film (product name “SAT TM30125”, Sanei Kaken). A light-transmitting film with a protective film was obtained in the same manner as in Example 1 except that (manufactured by the same company) was used.

<実施例5>
樹脂基材として、厚さ50μmのポリイミド基材(製品名「ネオプリム」、三菱ガス化
学株式会社製)の一方の表面である第1の表面に、基材フィルムとしての厚さ38μmの
ポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)およびPETフィルムの一方の
面に設けられた粘着層からなる総厚63μmの第1の保護フィルム(製品名「SAT-4
2J」、サンエー化研株式会社製)を、粘着層がポリイミド基材側となるように貼り付け
た。その後、ポリイミド基材における第1の表面とは反対側の第2の表面に、バーコータ
ーでハードコート層用組成物1を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対し
て、70℃、1分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置(フ
ュージョンUVシステムジャパン株式会社製、光源Hバルブ)を用いて、紫外線を空気中
にて積算光量が100mJ/cmになるように照射して塗膜を半硬化(ハーフキュア)
させた。次いで、半硬化させたハードコート層用組成物1の塗膜の表面に、バーコーター
でハードコート層用組成物2を塗布し、塗膜を形成した。形成した塗膜に対して、70℃
、1分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置(フュージョン
UVシステムジャパン株式会社製、光源Hバルブ)を用いて、紫外線を酸素濃度が200
ppm以下の条件下にて積算光量が200mJ/cmになるように照射して塗膜を完全
硬化(フルキュア)させて、膜厚が10μmの第1のハードコート層と、第1のハードコ
ート層上に積層された膜厚が5μmの第2のハードコート層とからなるハードコート層を
形成した。これにより、ポリイミド基材およびハードコート層からなる光透過性フィルム
と、ポリイミド基材の第1の表面に剥離可能に貼り付けられた第1の保護フィルムとを備
える保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。
<Example 5>
As a resin base material, a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm as a base film is formed on a first surface, which is one surface of a polyimide base material (product name “Neoprim”, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm. (PET film) and a first protective film (product name "SAT-4") having a total thickness of 63 μm composed of an adhesive layer provided on one surface of the PET film.
2J ”, manufactured by Sun A. Kaken Co., Ltd.) was attached so that the adhesive layer was on the polyimide substrate side. Then, the composition 1 for the hard coat layer was applied to the second surface of the polyimide base material opposite to the first surface with a bar coater to form a coating film. Then, the formed coating film is heated at 70 ° C. for 1 minute to evaporate the solvent in the coating film, and ultraviolet rays are emitted using an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan Co., Ltd., light source H bulb). Semi-curing the coating film by irradiating it in the air so that the integrated light amount is 100 mJ / cm 2 (half cure).
I let you. Next, the composition 2 for the hard coat layer was applied to the surface of the coating film of the semi-cured hard coat layer composition 1 with a bar coater to form a coating film. 70 ° C. for the formed coating film
Evaporate the solvent in the coating film by heating for 1 minute, and use an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan Co., Ltd., light source H bulb) to generate ultraviolet light with an oxygen concentration of 200.
The coating film is completely cured (fully cured) by irradiating it so that the integrated light amount becomes 200 mJ / cm 2 under the condition of ppm or less, and the first hard coat layer having a film thickness of 10 μm and the first hard coat A hard coat layer composed of a second hard coat layer having a film thickness of 5 μm laminated on the layer was formed. As a result, a light-transmitting film with a protective film including a light-transmitting film composed of a polyimide base material and a hard coat layer and a first protective film removably attached to the first surface of the polyimide base material can be obtained. Obtained.

上記ハードコート層の膜厚は、走査透過型電子顕微鏡(STEM)(製品名「S-48
00」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製)を用いて、ハードコート層の断面を撮影し
、その断面の画像においてハードコート層の膜厚を10箇所測定し、その10箇所の膜厚
の算術平均値とした。ハードコート層の断面写真は、以下のようにして撮影した。まず、
1mm×10mmに切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製
し、このブロックから一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ70nm以
上100nm以下の切片を切り出した。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム EM
UC7」(ライカ マイクロシステムズ株式会社)等を用いた。そして、この穴等がない
均一な切片を測定サンプルとした。その後、走査透過型電子顕微鏡(STEM)を用いて
、測定サンプルの断面写真を撮影した。この断面写真の撮影の際には、検出器を「TE」
、加速電圧を30kV、エミッションを「10μA」にしてSTEM観察を行った。倍率
については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察
しながら5000倍~20万倍で適宜調節した。なお、断面写真の撮影の際には、さらに
、アパーチャーをビームモニタ絞り3にし、対物レンズ絞りを3にし、またW.D.を8
mmにした。
The film thickness of the hard coat layer is a scanning transmission electron microscope (STEM) (product name "S-48").
00 ”, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation), the cross section of the hard coat layer was photographed, the film thickness of the hard coat layer was measured at 10 points in the image of the cross section, and the arithmetic average value of the film thickness at the 10 points was measured. And said. A cross-sectional photograph of the hardcourt layer was taken as follows. first,
A block in which an optical film cut out to 1 mm × 10 mm was embedded with an embedding resin was prepared, and a uniform section having a thickness of 70 nm or more and 100 nm or less without holes was cut out from this block by a general section preparation method. To prepare the section, "Ultra Microtome EM"
UC7 ”(Leica Microsystems, Inc.) and the like were used. Then, a uniform section having no holes or the like was used as a measurement sample. Then, a cross-sectional photograph of the measurement sample was taken using a scanning transmission electron microscope (STEM). When taking this cross-section photograph, the detector is "TE"
, STEM observation was performed with an acceleration voltage of 30 kV and an emission of "10 μA". The magnification was adjusted appropriately at 5000 to 200,000 times while adjusting the focus and observing whether each layer could be distinguished. When taking a cross-sectional photograph, the aperture was set to the beam monitor aperture 3, the objective lens aperture was set to 3, and W. D. 8
It was set to mm.

<実施例6>
樹脂基材として、厚さ50μmのポリイミド基材(製品名「ネオプリム」、三菱ガス化
学株式会社製)の一方の表面である第1の表面に下地層用組成物1を塗布し、塗膜を形成
した。その後、形成した塗膜に対して、90℃で1分間加熱させることにより塗膜中の溶
剤を蒸発させて、膜厚100nmの下地層を形成した。次いで、下地層の表面に、基材フ
ィルムとしての厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)
およびPETフィルムの一方の面に設けられた粘着層からなる総厚63μmの第1の保護
フィルム(製品名「SAT-42J」、サンエー化研株式会社製)を、粘着層が下地層側
となるように貼り付けた。その後、ポリイミド基材における第1の表面とは反対側の第2
の表面に、バーコーターでハードコート層用組成物1を塗布し、塗膜を形成した。その後
、形成した塗膜に対して、70℃、1分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ
、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン株式会社製、光源Hバルブ)を用
いて、紫外線を空気中にて積算光量が100mJ/cmになるように照射して塗膜を半
硬化(ハーフキュア)させた。次いで、半硬化させたハードコート層用組成物1の塗膜の
表面に、バーコーターでハードコート層用組成物2を塗布し、塗膜を形成した。形成した
塗膜に対して、70℃、1分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照
射装置(フュージョンUVシステムジャパン株式会社製、光源Hバルブ)を用いて、紫外
線を酸素濃度が200ppm以下の条件下にて積算光量が200mJ/cmになるよう
に照射して塗膜を完全硬化(フルキュア)させて、膜厚が10μmの第1のハードコート
層と、第1のハードコート層上に積層された膜厚が5μmの第2のハードコート層とから
なるハードコート層を形成した。これにより、下地層、ポリイミド基材およびハードコー
ト層からなる光透過性フィルムと、下地層の表面に剥離可能に貼り付けられた第1の保護
フィルムとを備える保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。上記下地層およびハード
コート層の膜厚は、実施例5の欄に記載したハードコート層の膜厚の測定方法と同様の方
法によって測定した。
<Example 6>
As a resin base material, the base layer composition 1 is applied to the first surface, which is one surface of a polyimide base material (product name "Neoprim", manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company Limited) having a thickness of 50 μm, to form a coating film. Formed. Then, the formed coating film was heated at 90 ° C. for 1 minute to evaporate the solvent in the coating film to form a base layer having a film thickness of 100 nm. Next, on the surface of the base layer, a polyethylene terephthalate film (PET film) having a thickness of 38 μm as a base film was used.
A first protective film (product name "SAT-42J", manufactured by Sun A. Kaken Co., Ltd.) having a total thickness of 63 μm, which is composed of an adhesive layer provided on one surface of the PET film, has an adhesive layer on the base layer side. I pasted it like this. Then, the second surface of the polyimide substrate opposite to the first surface.
The composition 1 for the hard coat layer was applied to the surface of the hard coat layer with a bar coater to form a coating film. Then, the formed coating film is heated at 70 ° C. for 1 minute to evaporate the solvent in the coating film, and ultraviolet rays are emitted using an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan Co., Ltd., light source H bulb). The coating film was semi-cured (half-cured) by irradiating in air so that the integrated light amount was 100 mJ / cm 2 . Next, the composition 2 for the hard coat layer was applied to the surface of the coating film of the semi-cured hard coat layer composition 1 with a bar coater to form a coating film. The formed coating film is heated at 70 ° C. for 1 minute to evaporate the solvent in the coating film, and the ultraviolet rays are converted into oxygen concentration using an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan Co., Ltd., light source H valve). The coating film is completely cured (fully cured) by irradiating it so that the integrated light amount becomes 200 mJ / cm 2 under the condition of 200 ppm or less, and the first hard coat layer having a film thickness of 10 μm and the first hard A hard coat layer composed of a second hard coat layer having a film thickness of 5 μm laminated on the coat layer was formed. As a result, a light-transmitting film with a protective film including a light-transmitting film composed of a base layer, a polyimide base material, and a hard coat layer and a first protective film removably attached to the surface of the base layer is obtained. rice field. The film thicknesses of the base layer and the hard coat layer were measured by the same method as the method for measuring the film thickness of the hard coat layer described in the column of Example 5.

<比較例1>
比較例1においては、第1の保護フィルムおよび第2の保護フィルム(製品名「SAT
-42J」、サンエー化研株式会社製)の代わりに、ポリエチレンからなる厚さ60μm
の自己粘着型の第1の保護フィルムおよび第2の保護フィルム(製品名「PAC3-50
THK」、サンエー化研株式会社製)を用いたこと以外、実施例1と同様に保護フィルム
付き光透過性フィルムを得た。
<Comparative Example 1>
In Comparative Example 1, the first protective film and the second protective film (product name “SAT”).
-42J ", manufactured by Sun A. Kaken Co., Ltd.), made of polyethylene with a thickness of 60 μm
Self-adhesive first protective film and second protective film (product name "PAC3-50"
A light transmissive film with a protective film was obtained in the same manner as in Example 1 except that "THK" (manufactured by Sun A. Kaken Co., Ltd.) was used.

<比較例2>
比較例2においては、第1の保護フィルムおよび第2の保護フィルム(製品名「SAT
-42J」、サンエー化研株式会社製)の代わりに、ポリエチレンからなる厚さ60μm
の自己粘着型の第1の保護フィルムおよび第2の保護フィルム(製品名「PAC4K-6
0」、サンエー化研株式会社製)を用いたこと以外、実施例1と同様に保護フィルム付き
光透過性フィルムを得た。
<Comparative Example 2>
In Comparative Example 2, the first protective film and the second protective film (product name “SAT”).
-42J ", manufactured by Sun A. Kaken Co., Ltd.), made of polyethylene with a thickness of 60 μm
Self-adhesive type first protective film and second protective film (product name "PAC4K-6"
0 ”, manufactured by Sun A. Kaken Co., Ltd.), a light-transmitting film with a protective film was obtained in the same manner as in Example 1.

<比較例3>
比較例3においては、第1の保護フィルムおよび第2の保護フィルム(製品名「SAT
-42J」、サンエー化研株式会社製)の代わりに、基材フィルムとしてのポリプロピレ
ンフィルム(PPフィルム)およびPPフィルムの一方の面に設けられた粘着層からなる
総厚30μmの第1の保護フィルムおよび第2の保護フィルム(製品名「KD23」、サ
ンエー化研株式会社製)を用いたこと以外、実施例1と同様に保護フィルム付き光透過性
フィルムを得た。
<Comparative Example 3>
In Comparative Example 3, the first protective film and the second protective film (product name “SAT”).
-42J ", manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd.), a polypropylene film (PP film) as a base film, and a first protective film having a total thickness of 30 μm composed of an adhesive layer provided on one surface of the PP film. A light transmissive film with a protective film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the second protective film (product name "KD23", manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd.) was used.

<比較例4>
比較例4においては、第1の保護フィルム(製品名「SAT-42J」、サンエー化研
株式会社製)の代わりに、ポリエチレンからなる厚さ60μmの自己粘着型の第1の保護
フィルムおよび第2の保護フィルム(製品名「PAC3-50THK」、サンエー化研株
式会社製)を用いたこと以外、実施例5と同様に保護フィルム付き光透過性フィルムを得
た。
<Comparative Example 4>
In Comparative Example 4, instead of the first protective film (product name "SAT-42J", manufactured by Sun A. Kaken Co., Ltd.), a self-adhesive first protective film and a second protective film having a thickness of 60 μm made of polyethylene were used. A light-transmitting film with a protective film was obtained in the same manner as in Example 5, except that the protective film (product name “PAC3-50THK”, manufactured by Sun A. Kaken Co., Ltd.) was used.

<比較例5>
比較例5においては、第1の保護フィルム(製品名「SAT-42J」、サンエー化研
株式会社製)の代わりに、ポリエチレンからなる厚さ60μmの自己粘着型の第1の保護
フィルム(製品名「PAC4K-60」、サンエー化研株式会社製)を用いたこと以外、
実施例5と同様に保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。
<Comparative Example 5>
In Comparative Example 5, instead of the first protective film (product name "SAT-42J", manufactured by Sun A. Kaken Co., Ltd.), a self-adhesive first protective film (product name) made of polyethylene and having a thickness of 60 μm. Other than using "PAC4K-60", manufactured by Sun A. Kaken Co., Ltd.)
A light transmissive film with a protective film was obtained in the same manner as in Example 5.

<比較例6>
比較例6においては、第1の保護フィルム(製品名「SAT-42J」、サンエー化研
株式会社製)の代わりに、ポリエチレンからなる厚さ60μmの自己粘着型の第1の保護
フィルム(製品名「PAC4K-60」、サンエー化研株式会社製)を用いたこと以外、
実施例6と同様に保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。
<Comparative Example 6>
In Comparative Example 6, instead of the first protective film (product name "SAT-42J", manufactured by Sun A. Kaken Co., Ltd.), a self-adhesive first protective film (product name) made of polyethylene and having a thickness of 60 μm. Other than using "PAC4K-60", manufactured by Sun A. Kaken Co., Ltd.)
A light transmissive film with a protective film was obtained in the same manner as in Example 6.

<連続折り畳み試験>
実施例および比較例に係る保護フィルム付き光透過性フィルムにおいて、光透過性フィ
ルムから全ての保護フィルムを剥離した状態で、光透過性フィルムの折り畳み性を評価し
た。具体的には、各保護フィルム付き光透過性フィルムを30mm×100mmの大きさ
に切り出して、この切り出した保護フィルム付き光透過性フィルムにおいて、光透過性フ
ィルムから全ての保護フィルムを剥離して、光透過性フィルムを得た。そして、得られた
光透過性フィルムを、耐久試験機(製品名「DLDMLH-FS」、ユアサシステム機器
株式会社製)に、光透過性フィルムの短辺(30mm)側を固定部でそれぞれ固定し、図
2(C)に示したように対向する2つの辺部の最小の間隔が30mmとなるようにして取
り付け、光透過性フィルムを180°折り畳む連続折り畳み試験を10万回行い、屈曲部
に割れ又は破断が生じていないか調べた。なお、実施例5、6および比較例4~6に係る
保護フィルム付き光透過性フィルムから得た光透過性フィルムにおいては、ハードコート
層側の面が内側に180°折り畳まれるように光透過性フィルムを耐久試験機に取り付け
た。連続折り畳み試験の結果を、以下の基準で評価した。
○:連続折り畳み試験において、屈曲部に割れ又は破断が生じていなかった。
×:連続折り畳み試験において、屈曲部に割れ又は破断が生じていた。
<Continuous folding test>
In the light-transmitting film with a protective film according to Examples and Comparative Examples, the foldability of the light-transmitting film was evaluated in a state where all the protective films were peeled off from the light-transmitting film. Specifically, each light-transmitting film with a protective film is cut into a size of 30 mm × 100 mm, and in the cut-out light-transmitting film with a protective film, all the protective films are peeled off from the light-transmitting film. A light transmissive film was obtained. Then, the obtained light-transmitting film is fixed to a durability tester (product name "DLDMLLH-FS", manufactured by Yuasa System Equipment Co., Ltd.) with the short side (30 mm) side of the light-transmitting film fixed at a fixing portion. , As shown in FIG. 2C, attach the two opposing sides so that the minimum distance is 30 mm, and perform a continuous folding test of folding the light transmissive film by 180 ° 100,000 times to the bent part. It was examined whether cracks or breaks occurred. In the light transmissive film obtained from the light transmissive film with the protective film according to Examples 5 and 6 and Comparative Examples 4 to 6, the light transmissive so that the surface on the hard coat layer side is folded inward by 180 °. The film was attached to the durability tester. The results of the continuous folding test were evaluated according to the following criteria.
◯: In the continuous folding test, no crack or break occurred in the bent portion.
X: In the continuous folding test, the bent portion was cracked or broken.

<ヘイズ測定>
実施例および比較例に係る保護フィルム付き光透過性フィルムで用いた保護フィルムの
ヘイズ値(全ヘイズ値)を測定した。まず、各保護フィルム付き光透過性フィルムを50
mm×100mmの大きさに切り出して、この切り出した保護フィルム付き光透過性フィ
ルムにおいて、光透過性フィルムから全ての保護フィルムを剥離した。具体的には、実施
例1~4および比較例1~3においては、光透過性フィルムから第1の保護フィルムおよ
び第2の保護フィルムを剥離し、また実施例5、6および比較例4~6においては、光透
過性フィルムから第1の保護フィルムを剥離した。そして、剥離した第1の保護フィルム
および第2の保護フィルムのヘイズ値を、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態
で、ヘイズメーター(製品名「HM-150」、株式会社村上色彩技術研究所製)を用い
てJIS K7136:2000に準拠した方法により測定した。なお、第1の保護フィ
ルムおよび第2の保護フィルムのヘイズ値は、各保護フィルム1枚に対して3回測定して
得られた値の算術平均値とした。
<Haze measurement>
The haze value (total haze value) of the protective film used in the light transmissive film with the protective film according to the examples and the comparative examples was measured. First, 50 light-transmitting films with each protective film
It was cut out to a size of mm × 100 mm, and in the cut-out light-transmitting film with a protective film, all the protective films were peeled off from the light-transmitting film. Specifically, in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3, the first protective film and the second protective film were peeled off from the light-transmitting film, and Examples 5 and 6 and Comparative Examples 4 to 4 to 20 were peeled off. In No. 6, the first protective film was peeled off from the light-transmitting film. Then, the haze values of the first protective film and the second protective film that have been peeled off are measured by a haze meter (product name "HM-150", Murakami Co., Ltd.) with no curls or wrinkles and no fingerprints or dust. It was measured by a method compliant with JIS K7136: 2000 using (manufactured by Color Technology Laboratory). The haze value of the first protective film and the second protective film was an arithmetic mean value obtained by measuring three times for each protective film.

<全光線透過率>
実施例および比較例に係る保護フィルム付き光透過性フィルムにおいて、光透過性フィ
ルムから全ての保護フィルムを剥離した状態で、以下のようにして、光透過性フィルムの
全光線透過率を測定した。まず、各保護フィルム付き光透過性フィルムを50mm×10
0mmの大きさに切り出して、この切り出した保護フィルム付き光透過性フィルムにおい
て、光透過性フィルムから全ての保護フィルムを剥離して、光透過性フィルムを得た。そ
して、光透過性フィルムの全光線透過率を、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状
態でヘイズメーター(製品名「HM-150」、株式会社村上色彩技術研究所製)を用い
てJIS K7361-1:1997に準拠した方法により測定した。なお、全光線透過
率は、光透過性フィルム1枚に対し3回測定して得られた値の算術平均値とした。
<Total light transmittance>
In the light-transmitting film with a protective film according to Examples and Comparative Examples, the total light transmittance of the light-transmitting film was measured as follows in a state where all the protective films were peeled off from the light-transmitting film. First, the light-transmitting film with each protective film is 50 mm x 10
It was cut out to a size of 0 mm, and in the cut-out light-transmitting film with a protective film, all the protective films were peeled off from the light-transmitting film to obtain a light-transmitting film. Then, the total light transmittance of the light transmissive film is measured using a haze meter (product name "HM-150", manufactured by Murakami Color Technology Laboratory Co., Ltd.) with no curls or wrinkles and no fingerprints or dust. The measurement was performed by a method according to JIS K7361-1: 1997. The total light transmittance was taken as an arithmetic mean value obtained by measuring three times for one light-transmitting film.

<イエローインデックス(YI)>
実施例および比較例に係る保護フィルム付き光透過性フィルムにおいて、ポリイミド基
材等の樹脂基材から全ての保護フィルムを剥離した状態で、以下のようにして、光透過性
フィルムのイエローインデックスを測定し、評価した。まず、各保護フィルム付き光透過
性フィルムを50mm×100mmの大きさに切り出して、この切り出した保護フィルム
付き光透過性フィルムにおいて、光透過性フィルムから全ての保護フィルムを剥離して、
光透過性フィルムを得た。そして、分光光度計(製品名「UV-3100PC」、株式会
社島津製作所製、光源:タングステンランプおよび重水素ランプ)を用いて、光透過性フ
ィルムの裏面側から波長200nm~780nmの光を照射し、光透過性フィルムを透過
する波長200nm~780nmの光からイエローインデックスを測定した。イエローイ
ンデックスは、測定された値からJIS Z8722:2009に記載された演算式に従
って色度三刺激値X、Y、Zを計算し、三刺激値X、Y、ZからASTM D1925:
1962に記載された演算式に従って算出し、また3回測定して得られた値の算術平均値
とした。評価基準は、以下の通りとした。
◎:YIが1.5未満であった。
○:YIが1.5以上10.0未満であった。
△:YIが10.0以上15.0以下であった。
×:YIが15.0を越えていた。
<Yellow Index (YI)>
In the light-transmitting film with a protective film according to Examples and Comparative Examples, the yellow index of the light-transmitting film was measured as follows in a state where all the protective films were peeled off from the resin base material such as the polyimide base material. And evaluated. First, each light-transmitting film with a protective film is cut into a size of 50 mm × 100 mm, and in the cut-out light-transmitting film with a protective film, all the protective films are peeled off from the light-transmitting film.
A light transmissive film was obtained. Then, using a spectrophotometer (product name "UV-3100PC", manufactured by Shimadzu Corporation, light source: tungsten lamp and deuterium lamp), light with a wavelength of 200 nm to 780 nm is irradiated from the back surface side of the light transmissive film. The yellow index was measured from light having a wavelength of 200 nm to 780 nm transmitted through the light transmissive film. The yellow index calculates the chromaticity tristimulus values X, Y, Z from the measured values according to the arithmetic expression described in JIS Z8722: 2009, and from the tristimulus values X, Y, Z, ASTM D1925:
It was calculated according to the arithmetic expression described in 1962, and was used as the arithmetic mean value of the values obtained by measuring three times. The evaluation criteria were as follows.
⊚: YI was less than 1.5.
◯: YI was 1.5 or more and less than 10.0.
Δ: YI was 10.0 or more and 15.0 or less.
X: YI exceeded 15.0.

<外観評価>
実施例および比較例に係る保護フィルム付き光透過性フィルムにおいて、光透過性フィ
ルムから全ての保護フィルムを剥離した状態で、光透過性フィルムの第1の表面および第
2の表面に凹凸が形成されているか目視により評価した。具体的には、各保護フィルム付
き光透過性フィルムを100mm×100mmの大きさに切り出して、この切り出した保
護フィルム付き光透過性フィルムにおいて、光透過性フィルムから全ての保護フィルムを
剥離して、光透過性フィルムを得た。そして、光透過性フィルムの第1の表面(実施例1
~5および比較例1~5においては樹脂基材の第1の表面、実施例6および比較例6にお
いては下地層の表面)に凹凸が形成されているか否か、また光透過性フィルムの第2の表
面(実施例1~4および比較例1、2における樹脂基材の第2の表面)に凹凸が形成され
ているか否か、3波長蛍光ランプ下で目視により評価した。
(実施例1~4および比較例1~3)
○:光透過性フィルムの第1の表面および第2の表面のいずれにも凹凸が確認されなか
った、または凹凸が若干確認されたが実用上問題のないレベルであった。
×:光透過性フィルムの第1の表面および第2の表面のいずれも凹凸が明確に確認され
た。
(実施例5、6および比較例4~6)
○:光透過性フィルムの第1の表面に凹凸が確認されなかった、または凹凸が若干確認
されたが実用上問題のないレベルであった。
×:光透過性フィルムの第1の表面に凹凸が明確に確認された。
<Appearance evaluation>
In the light-transmitting film with a protective film according to Examples and Comparative Examples, irregularities are formed on the first surface and the second surface of the light-transmitting film in a state where all the protective films are peeled off from the light-transmitting film. It was visually evaluated. Specifically, each light-transmitting film with a protective film is cut into a size of 100 mm × 100 mm, and in the cut-out light-transmitting film with a protective film, all the protective films are peeled off from the light-transmitting film. A light transmissive film was obtained. Then, the first surface of the light-transmitting film (Example 1).
Whether or not unevenness is formed on the first surface of the resin base material in 5 and Comparative Examples 1 to 5, and the surface of the base layer in Examples 6 and 6), and the light transmissive film No. Whether or not the surface of No. 2 (the second surface of the resin base material in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2) had irregularities was visually evaluated under a three-wavelength fluorescent lamp.
(Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3)
◯: No unevenness was confirmed on either the first surface or the second surface of the light transmissive film, or some unevenness was confirmed, but the level was not practically problematic.
X: Concavities and convexities were clearly confirmed on both the first surface and the second surface of the light-transmitting film.
(Examples 5 and 6 and Comparative Examples 4 to 6)
◯: No unevenness was confirmed on the first surface of the light transmissive film, or some unevenness was confirmed, but the level was not practically problematic.
X: Unevenness was clearly confirmed on the first surface of the light transmissive film.

以下、結果を表1に示す。

Figure 2022048309000031
The results are shown in Table 1 below.
Figure 2022048309000031

以下、結果について述べる。比較例1~3に係る保護フィルム付き光透過性フィルムに
おいては、第1の保護フィルムのヘイズ値および第2の保護フィルムのヘイズ値がそれぞ
れ10%を超えていたので、保護フィルム付き光透過性フィルムから第1の保護フィルム
および第2の保護フィルムを剥離して得られた光透過性フィルムの第1の表面および第2
の表面のいずれも凹凸が明確に確認された。これに対し、実施例1~4に係る保護フィル
ム付き光透過性フィルムにおいては、第1の保護フィルムのヘイズ値および第2の保護フ
ィルムのヘイズ値がそれぞれ10%以下であったので、光透過性フィルムの第1の表面お
よび第2の表面のいずれにも凹凸が確認されなかった、または凹凸が若干確認されたが実
用上問題のないレベルであった。
The results will be described below. In the light-transmitting film with a protective film according to Comparative Examples 1 to 3, the haze value of the first protective film and the haze value of the second protective film each exceeded 10%, so that the light-transmitting property with the protective film was used. The first surface and the second surface of the light transmissive film obtained by peeling the first protective film and the second protective film from the film.
Unevenness was clearly confirmed on any of the surfaces of. On the other hand, in the light transmissive film with the protective film according to Examples 1 to 4, the haze value of the first protective film and the haze value of the second protective film were 10% or less, respectively, so that the light transmissive. No unevenness was confirmed on either the first surface or the second surface of the sex film, or some unevenness was confirmed, but the level was not a problem in practical use.

また、比較例4~6に係る保護フィルム付き光透過性フィルムにおいては、第1の保護
フィルムのヘイズ値が10%を超えていたので、保護フィルム付き光透過性フィルムから
第1の保護フィルムを剥離して得られた光透過性フィルムの第1の表面に凹凸が明確に確
認された。これに対し、実施例5、6に係る保護フィルム付き光透過性フィルムにおいて
は、第1の保護フィルムのヘイズ値が10%以下であったので、保護フィルム付き光透過
性フィルムから第1の保護フィルムを剥離して得られた光透過性フィルムの第1の表面に
凹凸が確認されなかった、または凹凸が若干確認されたが実用上問題のないレベルであっ
た。
Further, in the light transmissive film with the protective film according to Comparative Examples 4 to 6, the haze value of the first protective film exceeded 10%, so that the light transmissive film with the protective film was replaced with the first protective film. Unevenness was clearly confirmed on the first surface of the light-transmitting film obtained by peeling. On the other hand, in the light transmissive film with the protective film according to Examples 5 and 6, since the haze value of the first protective film was 10% or less, the first protection from the light transmissive film with the protective film. No unevenness was confirmed on the first surface of the light transmissive film obtained by peeling the film, or some unevenness was confirmed, but the level was not practically problematic.

また、実施例5、6に係る光透過性フィルムにおいて、樹脂基材、第1のハードコート
層および第2のハードコート層のマルテンス硬度をそれぞれ測定したところ、ポリイミド
基材のマルテンス硬度は300MPaであり、第1のハードコート層のマルテンス硬度は
830MPaであり、第2のハードコート層のマルテンス硬度は500MPaであった。
マルテンス硬度は、HYSITRON(ハイジトロン)社製の「TI950 Tribo
Indenter」を用いて測定した。具体的には、まず1mm×10mmに切り出した
保護フィルム付き光透過性フィルムから全ての保護フィルムを剥離して、光透過性フィル
ム単体を得た。そして、この光透過性フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作
製し、このブロックから一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ70nm
以上100nm以下の切片を切り出した。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム E
M UC7」(ライカ マイクロシステムズ株式会社)を用いた。そして、この穴等がない
均一な切片が切り出された残りのブロックを測定サンプルとした。次いで、このような測
定サンプルにおける上記切片が切り出されることによって得られた断面において、圧子と
してBerkovich圧子(三角錐)を用いて、以下の測定条件で、各ハードコート層
の断面中央においてそれぞれBerkovich圧子(三角錐)を500nm押し込み、
一定時間保持して残留応力の緩和を行った後、除荷させて、緩和後の最大荷重を計測し、
該最大荷重Pmax(μN)と深さ500nmのくぼみ面積A(nm)とを用い、P
ax/Aにより算出した。マルテンス硬度は、10箇所測定して得られた値の算術平均値
とした。また、樹脂基材のマルテンス硬度もポリイミド基材のマルテンス硬度と同様に測
定した。
(測定条件)
・荷重速度:10nm/秒
・保持時間:5秒
・荷重除荷速度:10nm/秒
・測定温度:25℃
Further, in the light transmissive films according to Examples 5 and 6, when the maltens hardness of the resin base material, the first hard coat layer and the second hard coat layer were measured, the maltens hardness of the polyimide base material was 300 MPa. The first hard coat layer had a maltens hardness of 830 MPa, and the second hard coat layer had a maltens hardness of 500 MPa.
Martens hardness is "TI950 Tribo" manufactured by HYSITRON.
It was measured using "Indenter". Specifically, first, all the protective films were peeled off from the light-transmitting film with the protective film cut into 1 mm × 10 mm to obtain a light-transmitting film alone. Then, a block in which this light-transmitting film is embedded with an embedding resin is produced, and a uniform thickness of 70 nm without holes or the like is produced from this block by a general section forming method.
Sections of 100 nm or less were cut out. To prepare the section, "Ultra Microtome E"
MUC7 ”(Leica Microsystems, Inc.) was used. Then, the remaining block from which a uniform section having no holes or the like was cut out was used as a measurement sample. Next, in the cross section obtained by cutting out the above section in such a measurement sample, a Berkovich indenter (triangular pyramid) was used as an indenter, and under the following measurement conditions, a Berkovich indenter was used at the center of the cross section of each hardcourt layer. Push in (triangular pyramid) 500 nm,
After holding for a certain period of time to relax the residual stress, unload it, measure the maximum load after relaxation, and measure it.
Using the maximum load P max (μN) and the recessed area A (nm 2 ) at a depth of 500 nm, P m .
Calculated by ax / A. The Martens hardness was taken as the arithmetic mean value of the values obtained by measuring at 10 points. The Martens hardness of the resin base material was also measured in the same manner as the Martens hardness of the polyimide base material.
(Measurement condition)
・ Load speed: 10 nm / sec ・ Holding time: 5 seconds ・ Load unloading speed: 10 nm / sec ・ Measurement temperature: 25 ° C

10、60、80…保護フィルム付き光透過性フィルム
20、70、90…光透過性フィルム
20A、70A、90A…第1の表面
20B、70B、90B…第2の表面
21…樹脂基材
21A…第1の表面
21B…第2の表面
30…第1の保護フィルム
40…第2の保護フィルム

10, 60, 80 ... Light-transmitting film with protective film 20, 70, 90 ... Light-transmitting film 20A, 70A, 90A ... First surface 20B, 70B, 90B ... Second surface 21 ... Resin base material 21A ... 1st surface 21B ... 2nd surface 30 ... 1st protective film 40 ... 2nd protective film

Claims (1)

少なくとも樹脂基材を備える折り畳み可能な光透過性フィルムと、前記光透過性フィル
ムの少なくとも片面に剥離可能に貼り付けられた保護フィルムとを備える保護フィルム付
き光透過性フィルムであって、
前記保護フィルムの厚みが、30μm以上であり、
前記保護フィルムのヘイズ値が、10%以下である、保護フィルム付き光透過性フィル
ム。


A light transmissive film with a protective film comprising a foldable light transmissive film having at least a resin substrate and a protective film detachably attached to at least one side of the light transmissive film.
The thickness of the protective film is 30 μm or more, and the thickness is 30 μm or more.
A light transmissive film with a protective film, wherein the haze value of the protective film is 10% or less.


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