JP2022035501A - Sheet pasting method and sheet pasting apparatus - Google Patents

Sheet pasting method and sheet pasting apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2022035501A
JP2022035501A JP2020139869A JP2020139869A JP2022035501A JP 2022035501 A JP2022035501 A JP 2022035501A JP 2020139869 A JP2020139869 A JP 2020139869A JP 2020139869 A JP2020139869 A JP 2020139869A JP 2022035501 A JP2022035501 A JP 2022035501A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sheet
outer peripheral
workpiece
heating
heated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020139869A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP7463036B2 (en
Inventor
敦 小田
Atsushi Oda
芳国 右山
Yoshikuni Migiyama
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2020139869A priority Critical patent/JP7463036B2/en
Priority to TW110129148A priority patent/TW202208188A/en
Publication of JP2022035501A publication Critical patent/JP2022035501A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7463036B2 publication Critical patent/JP7463036B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Dicing (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

To paste a sheet to a workpiece in such a manner that adhesiveness becomes suitable for each of a device region and an outer peripheral excessive region.SOLUTION: A sheet pasting method for pasting a thermoplastic sheet to a front face side of a tabular workpiece including at the front face side a device region in which a plurality of devices are formed and an annular outer peripheral excessive region enclosing the outside of the device region, includes: a sheet preparing step of preparing a sheet which is sized so as to cover the entire front face side of the workpiece; a first heating step of heating the workpiece or the sheet disposed on a table; a sheet pasting step of pressing and pasting the sheet to the entire front face side of the workpiece being heated in the first heating step, or pressing and pasting the entire front face side of the workpiece to the sheet being heated in the first heating step; and a second heating step of heating an outer peripheral portion of the sheet corresponding to the outer peripheral excessive region of the workpiece at a higher temperature than a temperature at which the workpiece or the sheet is heated in the first heating step.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本発明は、板状の被加工物の表面側に熱可塑性のシートを貼着するシート貼着方法、及び、板状の被加工物の表面側に熱可塑性のシートを貼着するシート貼着装置に関する。 The present invention is a sheet attachment method for attaching a thermoplastic sheet to the surface side of a plate-shaped workpiece, and a sheet attachment method for attaching a thermoplastic sheet to the surface side of a plate-shaped workpiece. Regarding the device.

各種電子機器に使用されるデバイスチップは、半導体ウェーハ等の円盤状の被加工物の表面側に複数のデバイスを形成した後、当該被加工物に対して研削、切削等の加工を施すことで製造される。 Device chips used in various electronic devices are made by forming multiple devices on the surface side of a disk-shaped workpiece such as a semiconductor wafer, and then grinding or cutting the workpiece. Manufactured.

例えば、被加工物の表面側を樹脂製のシート(保護部材)で保護した状態で、被加工物の裏面側を研削装置で研削することにより、被加工物を薄化する。次いで、切削装置を用いて被加工物をデバイス単位に分割することで、被加工物から複数のデバイスチップを製造する。 For example, the workpiece is thinned by grinding the back surface of the workpiece with a grinding device while the surface side of the workpiece is protected by a resin sheet (protective member). Next, a plurality of device chips are manufactured from the workpiece by dividing the workpiece into device units using a cutting device.

被加工物の表面側にシートを貼着する場合には、例えば、被加工物の裏面側をチャックテーブルで吸引保持した状態で、被加工物の表面の径よりも大きな径を有する円形のシートを表面側に圧着する。その後、シートを被加工物の径に対応する大きさに切り取る。 When the sheet is attached to the front surface side of the workpiece, for example, a circular sheet having a diameter larger than the diameter of the surface of the workpiece while the back surface side of the workpiece is sucked and held by a chuck table. Is crimped to the surface side. After that, the sheet is cut into a size corresponding to the diameter of the workpiece.

被加工物にシートを貼着する手法としては、シートを単に押圧して圧着する手法の他に、チャックテーブルを加熱したり、ローラー等の押圧体を加熱した状態で、シートを被加工物に熱圧着する手法がある(例えば、特許文献1参照)。熱圧着により、シートを単に押圧する場合に比べて、シートと表面側との密着性を向上できる。 As a method of attaching the sheet to the work piece, in addition to the method of simply pressing the sheet and crimping it, the sheet is attached to the work piece while the chuck table is heated or the pressed body such as a roller is heated. There is a method of thermocompression bonding (see, for example, Patent Document 1). By thermocompression bonding, the adhesion between the sheet and the surface side can be improved as compared with the case where the sheet is simply pressed.

ところで、被加工物の表面側に形成されているデバイスは凹凸を有する。更に、表面側のデバイス領域は、デバイス領域の外周に位置し且つデバイスが形成されていない外周余剰領域に比べて広いので、表面積が大きい。それゆえ、表面側にシートを貼着する場合、シートとデバイス領域との密着性の方が、シートと外周余剰領域との密着性に比べて高くなる。 By the way, the device formed on the surface side of the workpiece has irregularities. Further, the device region on the surface side is located on the outer periphery of the device region and is wider than the outer peripheral surplus region on which the device is not formed, so that the surface area is large. Therefore, when the sheet is attached to the surface side, the adhesion between the sheet and the device region is higher than the adhesion between the sheet and the outer peripheral excess region.

特開2020-43117号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2020-43117

デバイス領域に対してシートを適切に貼着するための貼着条件(温度、押圧力等)の下で、シートを表面側全体に貼着する場合、シートと外周余剰領域との密着性は、シートとデバイス領域との密着性に比べて低くなる。従って、例えば、研削工程で使用される研削水が、表面の外周余剰領域と、シートと、の界面に入り込み、シートが剥がれるという不良が生じ得る。 When the sheet is attached to the entire surface side under the attachment conditions (temperature, pressing force, etc.) for appropriately attaching the sheet to the device area, the adhesion between the sheet and the outer peripheral excess area is determined. It is lower than the adhesion between the sheet and the device area. Therefore, for example, the grinding water used in the grinding process may enter the interface between the outer peripheral excess region of the surface and the sheet, resulting in a defect that the sheet is peeled off.

逆に、外周余剰領域に対してシートを適切に貼着するための貼着条件の下で、シートを表面側全体に貼着する場合、シートとデバイス領域との密着性が、シートと外周余剰領域との密着性に比べて高い状態となる。従って、例えば、研削工程後に、シートをデバイス領域から剥離できない、又は、剥離するとシートの一部がデバイス領域に残るという不良が生じ得る。 On the contrary, when the sheet is attached to the entire surface side under the attachment conditions for appropriately attaching the sheet to the outer peripheral surplus area, the adhesion between the sheet and the device area is improved between the sheet and the outer peripheral surplus area. It is in a high state compared to the adhesion with the area. Therefore, for example, after the grinding step, there may be a defect that the sheet cannot be peeled from the device region, or when the sheet is peeled off, a part of the sheet remains in the device region.

本発明は係る問題点に鑑みてなされたものであり、デバイス領域及び外周余剰領域の各々に適した密着性となる様に、被加工物にシートを貼着することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to attach a sheet to a work piece so as to have adhesion suitable for each of a device region and an outer peripheral surplus region.

本発明の一態様によれば、複数のデバイスが形成されたデバイス領域と、該デバイス領域の外側を囲む環状の外周余剰領域と、を表面側に有する板状の被加工物の該表面側に、熱可塑性のシートを貼着するシート貼着方法であって、該被加工物の該表面側の全体を覆うことが可能な大きさを有する該シートを準備するシート準備工程と、テーブル上に配置された該被加工物又は該シートを加熱する第1加熱工程と、該第1加熱工程で加熱された状態の該被加工物の該表面側全体に該シートを押し付けて貼着する、又は、該第1加熱工程で加熱された状態の該シートに該被加工物の該表面側全体を押し付けて貼着する、シート貼着工程と、該被加工物の該外周余剰領域に対応する該シートの外周部分を、該第1加熱工程で該被加工物又は該シートを加熱した温度より高い温度に加熱する第2加熱工程と、を備えるシート貼着方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, on the surface side of a plate-shaped workpiece having a device region on which a plurality of devices are formed and an annular outer peripheral surplus region surrounding the outside of the device region on the surface side. A sheet attaching method for attaching a thermoplastic sheet, which prepares the sheet having a size capable of covering the entire surface side of the workpiece, and a sheet preparation step on the table. The sheet is pressed and attached to the entire surface side of the workpiece or the workpiece that has been arranged and heated in the first heating step and the workpiece that has been heated in the first heating step. The sheet attaching step of pressing and attaching the entire surface side of the workpiece to the sheet heated in the first heating step, and the outer peripheral excess region of the workpiece. Provided is a sheet attaching method comprising a second heating step of heating the outer peripheral portion of the sheet to a temperature higher than the temperature at which the workpiece or the sheet is heated in the first heating step.

好ましくは、該第2加熱工程では、温風ヒーターを用いて該温風ヒーターから該シートの外周部分へ温風を当てることにより、該シートの外周部分を加熱する。 Preferably, in the second heating step, the outer peripheral portion of the sheet is heated by applying warm air from the hot air heater to the outer peripheral portion of the sheet using a hot air heater.

本発明の他の態様によれば、複数のデバイスが形成されたデバイス領域と、該デバイス領域の外側を囲む環状の外周余剰領域と、を表面側に有する板状の被加工物の該表面側に、熱可塑性のシートを貼着するシート貼着装置であって、テーブルと、該テーブルに設けられた第1の発熱体とを有し、該第1の発熱体からの熱で該被加工物又は該シートを加熱する第1加熱ユニットと、押圧体を有し、該第1加熱ユニットで加熱された該被加工物の該表面側全体に該シートを押し付けて貼着する、又は、該第1加熱ユニットで加熱された該シートに該被加工物の該表面側全体を押し付けて貼着するシート貼着機構と、第2の発熱体を有し、該被加工物の該外周余剰領域に対応する該シートの外周部分が、該第1加熱ユニットで該被加工物又は該シートを加熱した温度より高い温度になる様に該外周部分を加熱する第2加熱ユニットと、を備えるシート貼着装置が提供される。 According to another aspect of the present invention, the surface side of the plate-shaped workpiece having a device region on which a plurality of devices are formed and an annular outer peripheral surplus region surrounding the outside of the device region on the surface side. A sheet attaching device for attaching a thermoplastic sheet, which has a table and a first heating element provided on the table, and is processed by the heat from the first heating element. It has a first heating unit for heating an object or the sheet, and a pressing body, and the sheet is pressed and attached to the entire surface side of the workpiece heated by the first heating unit, or the sheet is attached. It has a sheet attachment mechanism that presses and attaches the entire surface side of the workpiece to the sheet heated by the first heating unit, and a second heating element, and has an outer peripheral surplus region of the workpiece. A sheet attachment comprising a second heating unit for heating the outer peripheral portion so that the outer peripheral portion of the sheet corresponding to the above is heated to a temperature higher than the temperature at which the workpiece or the sheet is heated by the first heating unit. A landing device is provided.

好ましくは、該第2加熱ユニットは、温風ヒーターを有する。 Preferably, the second heating unit has a hot air heater.

本発明の一態様に係るシート貼着方法では、第1加熱工程を経て、シート貼着工程で表面側全体にシートを貼着した後、第2加熱工程で、被加工物の外周余剰領域に対応するシートの外周部分を、第1加熱工程より高い温度に加熱する。これにより、シートの外周部分が、シートの中央部分に比べて、柔軟になり、外周余剰領域との密着性が向上する。 In the sheet attaching method according to one aspect of the present invention, after the sheet is attached to the entire surface side in the sheet attaching step through the first heating step, the sheet is attached to the outer peripheral excess region of the workpiece in the second heating step. The outer peripheral portion of the corresponding sheet is heated to a temperature higher than that in the first heating step. As a result, the outer peripheral portion of the sheet becomes more flexible than the central portion of the sheet, and the adhesion to the outer peripheral excess region is improved.

それゆえ、第2加熱工程では、外周余剰領域と、シートの外周部分との密着性を、追加的に向上できるので、被加工物の外周端部でシートが剥がれる不良を抑制できる。更に、シートをデバイス領域から剥離できない、又は、剥離するとシートの一部がデバイス領域に残るという不良を抑制できる。この様に、デバイス領域及び外周余剰領域と、シートとの密着性を最適化できる。 Therefore, in the second heating step, the adhesion between the outer peripheral excess region and the outer peripheral portion of the sheet can be additionally improved, so that the defect that the sheet is peeled off at the outer peripheral end portion of the workpiece can be suppressed. Further, it is possible to suppress the defect that the sheet cannot be peeled off from the device region, or when the sheet is peeled off, a part of the sheet remains in the device region. In this way, the adhesion between the device region and the outer peripheral surplus region and the sheet can be optimized.

図1(A)はウェーハの斜視図であり、図1(B)は図1(A)のA-A断面図である。1 (A) is a perspective view of a wafer, and FIG. 1 (B) is a sectional view taken along the line AA of FIG. 1 (A). 第1加熱工程を示す図である。It is a figure which shows the 1st heating process. シート貼着工程を示す図である。It is a figure which shows the sheet sticking process. シート切断工程を示す図である。It is a figure which shows the sheet cutting process. 第2加熱工程を示す図である。It is a figure which shows the 2nd heating process. シート貼着方法のフロー図である。It is a flow chart of the sheet sticking method. 第2の実施形態に係る第1加熱工程を示す図である。It is a figure which shows the 1st heating process which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係るシート貼着工程を示す図である。It is a figure which shows the sheet sticking process which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係るシート切断工程を示す図である。It is a figure which shows the sheet cutting process which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係る第2加熱工程を示す図である。It is a figure which shows the 2nd heating process which concerns on 2nd Embodiment. 第3の実施形態に係る切断機構の部分拡大図である。It is a partially enlarged view of the cutting mechanism which concerns on 3rd Embodiment.

添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。まず、加工対象となる円盤状(板状)のウェーハ(被加工物)について説明する。図1(A)は、ウェーハ11の斜視図であり、図1(B)は、図1(A)のA-A断面図である。 An embodiment according to one aspect of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. First, a disk-shaped (plate-shaped) wafer (workpiece) to be processed will be described. 1 (A) is a perspective view of the wafer 11, and FIG. 1 (B) is a sectional view taken along the line AA of FIG. 1 (A).

ウェーハ11は、円盤形状であり、例えば、Si(シリコン)、SiC(炭化シリコン)、GaN(窒化ガリウム)、GaAs(ヒ化ガリウム)等の半導体材料で形成されている。なお、ウェーハ11の材質、形状、構造、大きさ等に制限はない。 The wafer 11 has a disk shape and is made of a semiconductor material such as Si (silicon), SiC (silicon carbide), GaN (gallium nitride), and GaAs (gallium arsenide). There are no restrictions on the material, shape, structure, size, etc. of the wafer 11.

例えば、ウェーハ11は、他の半導体、LiNbO、LiTaO等の複酸化物、サファイア、ガラス、セラミックス等の材料で形成されてもよい。ウェーハ11の表面11aには、複数の分割予定ライン13が格子状に設定されている。 For example, the wafer 11 may be made of another semiconductor, a compound oxide such as LiNbO 3 , LiTaO 3 , or a material such as sapphire, glass, or ceramics. A plurality of scheduled division lines 13 are set in a grid pattern on the surface 11a of the wafer 11.

複数の分割予定ライン13で区画された表面11a側の各領域には、IC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Integration)等のデバイス15が形成されている。これら複数のデバイス15は、表面11a側の中央領域に配置されている。 Devices 15 such as ICs (Integrated Circuits) and LSIs (Large Scale Integration) are formed in each region on the surface 11a side partitioned by a plurality of scheduled division lines 13. These plurality of devices 15 are arranged in the central region on the surface 11a side.

本明細書では、複数のデバイス15が配置されている表面11aの中央領域を、デバイス領域17aと称する。また、デバイス15が形成されておらず、且つ、デバイス領域17aの外側を囲む、表面11aの略環状の領域を、外周余剰領域17bと称する。 In the present specification, the central region of the surface 11a in which a plurality of devices 15 are arranged is referred to as a device region 17a. Further, a region in which the device 15 is not formed and which surrounds the outside of the device region 17a and which is substantially annular on the surface 11a is referred to as an outer peripheral surplus region 17b.

図1(B)に示す様に、デバイス15の上端部は、表面11aから僅かに突出している。デバイス15の上端部には、バンプ(不図示)が更に設けられる場合もある。バンプは、金(Au)等の金属で形成され、例えば、100μmから200μm程度の高さを有する。 As shown in FIG. 1 (B), the upper end of the device 15 slightly protrudes from the surface 11a. Bumps (not shown) may be further provided at the upper end of the device 15. The bump is made of a metal such as gold (Au) and has a height of, for example, about 100 μm to 200 μm.

それゆえ、デバイス領域17aは、外周余剰領域17bに比べて凹凸が大きい。また、デバイス領域17aは、表面11a側の大部分を占める。それゆえ、デバイス領域17aの表面積は、外周余剰領域17bの表面積に比べて大きい。 Therefore, the device region 17a has a larger unevenness than the outer peripheral surplus region 17b. Further, the device region 17a occupies most of the surface 11a side. Therefore, the surface area of the device region 17a is larger than the surface area of the outer peripheral surplus region 17b.

ウェーハ11を研削する際には、デバイス15へのダメージを防ぐために、まず、樹脂で形成された円形又は矩形の保護部材(即ち、シート19(図2等参照))を表面11a側に貼着する。ここで、シート19について説明する。 When grinding the wafer 11, in order to prevent damage to the device 15, a circular or rectangular protective member (that is, a sheet 19 (see FIG. 2 and the like)) made of resin is first attached to the surface 11a side. do. Here, the sheet 19 will be described.

シート19は、例えば、50μmから250μm程度の厚さと、ウェーハ11の表面11a側の全体を覆うことが可能な大きさと、を有する、ポリオレフィン系又はポリエステル系の薄膜である。 The sheet 19 is a polyolefin-based or polyester-based thin film having, for example, a thickness of about 50 μm to 250 μm and a size capable of covering the entire surface 11a side of the wafer 11.

ポリオレフィン系の材料としては、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン(PS)等を使用できる。また、ポリエステル系の材料としては、ポリエチレンテレフタラート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等を使用できる。 As the polyolefin-based material, polyethylene (PE), polypropylene (PP), polystyrene (PS) and the like can be used. Further, as the polyester-based material, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN) and the like can be used.

ところで、従来の一般的な粘着テープは、粘着層(糊層)と基材層との積層構造を有する。粘着層は、水、溶剤、熱等を使用せずに、被着体と粘着層とが接した状態で、常温で短時間、圧力を印加するだけで被着体と接着する。 By the way, the conventional general adhesive tape has a laminated structure of an adhesive layer (glue layer) and a base material layer. The adhesive layer adheres to the adherend by simply applying pressure at room temperature for a short time in a state where the adherend and the adhesive layer are in contact with each other without using water, a solvent, heat or the like.

これに対して、シート19は、粘着層を有さず、基材層に対応する樹脂層のみを有する。シート19は、熱可塑性であり、所定の温度で軟化又は溶融する。但し、軟化又は溶融する温度は、材料により異なる。 On the other hand, the sheet 19 does not have an adhesive layer and has only a resin layer corresponding to the base material layer. The sheet 19 is thermoplastic and softens or melts at a predetermined temperature. However, the temperature at which it softens or melts differs depending on the material.

シート19の材料に応じて、下記の例示的な温度範囲内でシート19を加熱することで、シート19を軟化又は溶融させることができる。 Depending on the material of the sheet 19, the sheet 19 can be softened or melted by heating the sheet 19 within the following exemplary temperature range.

ポリエチレン製のシート :120℃以上140℃以下
ポリプロピレン製のシート :160℃以上180℃以下
ポリスチレン製のシート :220℃以上240℃以下
ポリエチレンテレフタラート製のシート:250℃以上270℃以下
ポリエチレンナフタレート製のシート :160℃以上180℃以下
Polyethylene sheet: 120 ° C or higher and 140 ° C or lower Polypropylene sheet: 160 ° C or higher and 180 ° C or lower Polystyrene sheet: 220 ° C or higher and 240 ° C or lower Polyethylene terephthalate sheet: 250 ° C or higher and 270 ° C or lower Made of polyethylene naphthalate Sheet: 160 ° C or more and 180 ° C or less

次に、第1の実施形態に係るシート貼着方法で用いられるシート貼着装置2について説明する。シート貼着装置2は、円盤状のチャックテーブル(テーブル)4を有する(図2参照)。チャックテーブル4は、金属で形成された円盤状の枠体6を有する。 Next, the sheet attaching device 2 used in the sheet attaching method according to the first embodiment will be described. The sheet attaching device 2 has a disk-shaped chuck table (table) 4 (see FIG. 2). The chuck table 4 has a disk-shaped frame 6 made of metal.

枠体6の上面側には、枠体6を貫通しない程度の所定の深さを有する円環状の溝6aが形成されている。溝6aは、後述するシート切断機構18の切り刃20(図4参照)の逃げ溝として機能する。 An annular groove 6a having a predetermined depth that does not penetrate the frame 6 is formed on the upper surface side of the frame 6. The groove 6a functions as a relief groove for the cutting edge 20 (see FIG. 4) of the sheet cutting mechanism 18 described later.

図2に示す様に、枠体6の上部において溝6aよりも内側には、円盤状の凹部6bが形成されている。凹部6bの底面には、エジェクタ等の吸引源(不図示)に一端が接続された流路(不図示)の他端が、接続されている。 As shown in FIG. 2, a disk-shaped recess 6b is formed in the upper part of the frame 6 inside the groove 6a. The bottom surface of the recess 6b is connected to the other end of a flow path (not shown) having one end connected to a suction source (not shown) such as an ejector.

凹部6bには、多孔質セラミックスで形成された円盤状のポーラス板8が固定されている。吸引源で負圧を発生させると、流路を介して、ポーラス板8の上面に負圧を伝達可能である。ポーラス板8の上面に配置されたウェーハ11等は、この負圧で吸引される。 A disk-shaped porous plate 8 made of porous ceramics is fixed to the recess 6b. When a negative pressure is generated by the suction source, the negative pressure can be transmitted to the upper surface of the porous plate 8 via the flow path. The wafer 11 and the like arranged on the upper surface of the porous plate 8 are sucked by this negative pressure.

ポーラス板8の上面は、溝6aよりも内側の枠体6の上面と、略面一になっている。この枠体6の上面と、ポーラス板8の上面とは、略平坦な保持面4aを構成する。なお、保持面4aは、ウェーハ11の径と略同じ径を有する。 The upper surface of the porous plate 8 is substantially flush with the upper surface of the frame body 6 inside the groove 6a. The upper surface of the frame body 6 and the upper surface of the porous plate 8 form a substantially flat holding surface 4a. The holding surface 4a has substantially the same diameter as the diameter of the wafer 11.

チャックテーブル4の下面側には、発熱体(第1の発熱体)10が設けられている。発熱体10は、例えば、金属又はセラミックスで形成された抵抗加熱式の発熱体であり、配線(不図示)を介して電源(不図示)に接続されている。 A heating element (first heating element) 10 is provided on the lower surface side of the chuck table 4. The heating element 10 is, for example, a resistance heating type heating element made of metal or ceramics, and is connected to a power source (not shown) via wiring (not shown).

発熱体10、配線、電源等は、第1加熱ユニット12を構成する。但し、発熱体10は、抵抗加熱式に限定されるものではなく、誘導加熱、誘電加熱等の任意の方式で熱を発してもよい。本明細書で記載される他の発熱体についても同様である。 The heating element 10, wiring, power supply, etc. constitute the first heating unit 12. However, the heating element 10 is not limited to the resistance heating type, and heat may be generated by any method such as induction heating and dielectric heating. The same applies to the other heating elements described herein.

図3に示す様に、保持面4aの上方には、ローラー14が設けられている。ローラー14は、保持面4aに対して略平行に配置される円柱状の回転軸14aを有する。回転軸14aには、ベアリング(不図示)が連結されている。 As shown in FIG. 3, a roller 14 is provided above the holding surface 4a. The roller 14 has a columnar rotating shaft 14a arranged substantially parallel to the holding surface 4a. A bearing (not shown) is connected to the rotating shaft 14a.

ベアリングの外周部には、円筒状の筐体(押圧体)14bが連結されており、筐体14bは、回転軸14aの周りで回転可能である。なお、筐体14bの長さ(円筒の高さに対応する長さ)は、ウェーハ11の径と略同等か、当該径よりも大きい。 A cylindrical housing (pressing body) 14b is connected to the outer peripheral portion of the bearing, and the housing 14b can rotate around the rotation shaft 14a. The length of the housing 14b (the length corresponding to the height of the cylinder) is substantially equal to or larger than the diameter of the wafer 11.

回転軸14aには、上方に延伸する接続部(不図示)が固定されている。接続部の上部には、押圧機構(不図示)が接続されている。押圧機構でローラー14を下方へ押すことにより、保持面4aに向かって筐体14bを押すことができる。 A connecting portion (not shown) extending upward is fixed to the rotating shaft 14a. A pressing mechanism (not shown) is connected to the upper part of the connecting portion. By pushing the roller 14 downward with the pressing mechanism, the housing 14b can be pushed toward the holding surface 4a.

また、押圧機構には、第1の移動機構(不図示)が接続されている。第1の移動機構は、保持面4aと略平行な所定の直線方向に沿って押圧機構及び接続部を移動させることで、当該直線方向に沿ってローラー14を移動させる。 Further, a first moving mechanism (not shown) is connected to the pressing mechanism. The first moving mechanism moves the pressing mechanism and the connecting portion along a predetermined linear direction substantially parallel to the holding surface 4a, thereby moving the roller 14 along the linear direction.

第1の移動機構、押圧機構、ローラー14等は、シート19をウェーハ11へ押圧して貼着するためのシート貼着機構16を構成する。シート貼着機構16に加えて、保持面4aの上方には、シート切断機構18が設けられている(図4参照)。 The first moving mechanism, pressing mechanism, roller 14, and the like constitute a sheet attaching mechanism 16 for pressing and attaching the sheet 19 to the wafer 11. In addition to the sheet attaching mechanism 16, a sheet cutting mechanism 18 is provided above the holding surface 4a (see FIG. 4).

図4に示す様に、シート切断機構18は、切り刃20を有する。切り刃20の内側の平坦な側面20aは、バネ等の付勢部材(不図示)により、保持面4aの外周から中央に向かう方向に付勢されている。 As shown in FIG. 4, the sheet cutting mechanism 18 has a cutting edge 20. The flat side surface 20a inside the cutting edge 20 is urged from the outer periphery of the holding surface 4a toward the center by an urging member (not shown) such as a spring.

切り刃20は、通常、保持面4aに対して略垂直に配置されているが、図4に示す様に、切り刃20の先端部が保持面4aの中央から外周へ押し出されると、付勢部材により、保持面4aの外周から中央に向かう方向へ押される。 Normally, the cutting edge 20 is arranged substantially perpendicular to the holding surface 4a, but as shown in FIG. 4, when the tip end portion of the cutting edge 20 is pushed out from the center of the holding surface 4a to the outer periphery, the cutting edge 20 is urged. The member pushes the holding surface 4a from the outer periphery toward the center.

切り刃20の上部には、切り刃20をチャックテーブル4の周方向に沿って移動させるための第2の移動機構(不図示)が連結されている。第2の移動機構で切り刃20を移動させれば、表面11a側に貼着されたシート19をウェーハ11の外周端部に沿って切断できる。 A second moving mechanism (not shown) for moving the cutting blade 20 along the circumferential direction of the chuck table 4 is connected to the upper portion of the cutting blade 20. If the cutting edge 20 is moved by the second moving mechanism, the sheet 19 attached to the surface 11a side can be cut along the outer peripheral end portion of the wafer 11.

シート切断機構18に加えて、保持面4aの上方には、温風22aを送風可能な温風ヒーター22が設けられている(図5参照)。図5に示す様に、温風ヒーター22は、発熱体(第2の発熱体)22bを含む。 In addition to the sheet cutting mechanism 18, a hot air heater 22 capable of blowing hot air 22a is provided above the holding surface 4a (see FIG. 5). As shown in FIG. 5, the hot air heater 22 includes a heating element (second heating element) 22b.

発熱体22bは、例えば、細長い円筒状の筐体22c内に収容されている。筐体22cの上部には、ファン等の送風機構(不図示)が設けられており、筐体22cの下部には、直径が1mmから2mm程度の径を有する開口部22dが形成されている。 The heating element 22b is housed in, for example, an elongated cylindrical housing 22c. A ventilation mechanism (not shown) such as a fan is provided in the upper part of the housing 22c, and an opening 22d having a diameter of about 1 mm to 2 mm is formed in the lower part of the housing 22c.

筐体22cの上部には、第3の移動機構(不図示)が連結されている。第3の移動機構は、チャックテーブル4の周方向に沿って温風ヒーター22を移動させる。温風ヒーター22、第3の移動機構等は、第2加熱ユニット24を構成する。 A third moving mechanism (not shown) is connected to the upper part of the housing 22c. The third moving mechanism moves the hot air heater 22 along the circumferential direction of the chuck table 4. The hot air heater 22, the third moving mechanism, and the like constitute the second heating unit 24.

次に、図2から図6を用いて、シート貼着方法の各工程について説明する。図6は、第1の実施形態に係るシート貼着方法のフロー図である。まず、上述のシート19(図2参照)を準備する(シート準備工程S10)。 Next, each step of the sheet attaching method will be described with reference to FIGS. 2 to 6. FIG. 6 is a flow chart of the sheet attaching method according to the first embodiment. First, the above-mentioned sheet 19 (see FIG. 2) is prepared (sheet preparation step S10).

例えば、ポリエチレン製のシート19を準備する。シート準備工程S10の後、表面11aが上を向く様に、ウェーハ11の裏面11b側を保持面4aで吸引保持する。次いで、ウェーハ11を予備的に加熱する(第1加熱工程S20)。 For example, a polyethylene sheet 19 is prepared. After the sheet preparation step S10, the back surface 11b side of the wafer 11 is sucked and held by the holding surface 4a so that the front surface 11a faces upward. Next, the wafer 11 is preliminarily heated (first heating step S20).

図2は、第1加熱工程S20を示す図である。第1加熱工程S20では、発熱体10を例えば90℃に加熱することで、発熱体10からの熱でウェーハ11を約90℃に加熱する。第1加熱工程S20の後、シート貼着工程S30を行う。 FIG. 2 is a diagram showing a first heating step S20. In the first heating step S20, the heating element 10 is heated to, for example, 90 ° C., and the wafer 11 is heated to about 90 ° C. by the heat from the heating element 10. After the first heating step S20, the sheet attaching step S30 is performed.

図3は、シート貼着工程S30を示す図である。シート貼着工程S30では、第1加熱工程S20での発熱体10及びウェーハ11の温度を維持したまま、加熱された状態のウェーハ11の表面11a側全体に、ローラー14でシート19を押し付ける。 FIG. 3 is a diagram showing a sheet attaching step S30. In the sheet attaching step S30, the sheet 19 is pressed by the roller 14 against the entire surface 11a side of the heated wafer 11 while maintaining the temperatures of the heating element 10 and the wafer 11 in the first heating step S20.

これにより、シート19を表面11a側に貼着する。シート貼着工程S30では、表面11aの中心を通りデバイス領域17aを横断する様に所定の方向へローラー14を移動させる。これにより、表面11a側の全体にシート19を押し付ける。 As a result, the sheet 19 is attached to the surface 11a side. In the sheet attaching step S30, the roller 14 is moved in a predetermined direction so as to pass through the center of the surface 11a and cross the device region 17a. As a result, the sheet 19 is pressed against the entire surface 11a side.

シート貼着工程S30では、デバイス領域17aに対してシート19が適切に貼着されるので、仮にシート19を剥離しようとしても、シート19をデバイス領域17aから剥離できない、又は、剥離するとシート19の一部がデバイス領域17aに残るということはない。 In the sheet attachment step S30, the sheet 19 is appropriately attached to the device region 17a. Therefore, even if the sheet 19 is to be peeled off, the sheet 19 cannot be peeled off from the device region 17a, or if the sheet 19 is peeled off, the sheet 19 A part does not remain in the device area 17a.

なお、本実施形態では、ローラー14を押圧する際に、押圧機構でローラー14を押圧する。但し、押圧機構を使用せずに、ローラー14の自重だけでシート19を押圧してもよい。 In this embodiment, when the roller 14 is pressed, the roller 14 is pressed by the pressing mechanism. However, the sheet 19 may be pressed only by the weight of the roller 14 without using the pressing mechanism.

シート貼着工程S30の後、ローラー14を保持面4aの外側に移動させ、次いで、シート切断工程S40を行う。図4は、シート切断工程S40を示す図である。シート切断工程S40では、まず、切り刃20をシート19に切り込む。このとき、切り刃20の下端は、シート19を貫通し、溝6a内の所定深さに到達する。 After the sheet attaching step S30, the roller 14 is moved to the outside of the holding surface 4a, and then the sheet cutting step S40 is performed. FIG. 4 is a diagram showing a sheet cutting step S40. In the sheet cutting step S40, first, the cutting blade 20 is cut into the sheet 19. At this time, the lower end of the cutting edge 20 penetrates the sheet 19 and reaches a predetermined depth in the groove 6a.

切り刃20を切り込む際には、ウェーハ11の外周端部よりも僅かに内側の位置からシート19に切り刃20を切り込む。これにより、切り刃20の側面20aは、垂直方向Zからやや傾いた状態で、ウェーハ11の外周端部に接する。 When cutting the cutting edge 20, the cutting edge 20 is cut into the sheet 19 from a position slightly inside the outer peripheral end of the wafer 11. As a result, the side surface 20a of the cutting edge 20 comes into contact with the outer peripheral end portion of the wafer 11 in a state of being slightly tilted from the vertical direction Z.

このとき、側面20aと、ウェーハ11とは、上述の付勢部材により、互いに接した状態で維持される。この状態で、第2の移動機構によりウェーハ11の外周に沿って切り刃20を少なくとも一周移動させると、シート19はウェーハ11の外周端部に沿って切断される。 At this time, the side surface 20a and the wafer 11 are maintained in contact with each other by the above-mentioned urging member. In this state, when the cutting edge 20 is moved at least once along the outer peripheral edge of the wafer 11 by the second moving mechanism, the sheet 19 is cut along the outer peripheral end portion of the wafer 11.

なお、シート切断工程S40では、側面20aをウェーハ11の外周端部に接触させなくてもよい。例えば、側面20aをウェーハ11の外周端部から離間させ、且つ、側面20aの下端部を溝6aの内側の側面に押し当てた状態で、シート19を切断することもできる。 In the sheet cutting step S40, the side surface 20a does not have to be in contact with the outer peripheral end portion of the wafer 11. For example, the sheet 19 can be cut with the side surface 20a separated from the outer peripheral end portion of the wafer 11 and the lower end portion of the side surface 20a pressed against the inner side surface of the groove 6a.

シート切断工程S40の後、開口部22dをシート19の外周部分19bの直上に位置付けた状態で、第3の移動機構により温風ヒーター22を外周部分19bに沿って少なくとも一周移動させる(第2加熱工程S50)。図5は、第2加熱工程S50を示す図である。 After the sheet cutting step S40, with the opening 22d positioned directly above the outer peripheral portion 19b of the sheet 19, the warm air heater 22 is moved at least once along the outer peripheral portion 19b by the third moving mechanism (second heating). Step S50). FIG. 5 is a diagram showing a second heating step S50.

なお、図5に示す様に、シート19の外周部分19bとは、シート19のうち外周余剰領域17bに対応する領域であり、シート19の中央部分19aとは、シート19のうちデバイス領域17aに対応する領域である。 As shown in FIG. 5, the outer peripheral portion 19b of the sheet 19 is a region corresponding to the outer peripheral surplus region 17b of the sheet 19, and the central portion 19a of the sheet 19 is the device region 17a of the sheet 19. The corresponding area.

第2加熱工程S50では、温風ヒーター22から外周部分19bに温風22aを当てることにより、第1加熱工程S20でウェーハ11を加熱した温度よりも高い温度となる様に、外周部分19bを加熱して押圧する。 In the second heating step S50, the outer peripheral portion 19b is heated so that the temperature becomes higher than the temperature at which the wafer 11 is heated in the first heating step S20 by applying the warm air 22a from the hot air heater 22 to the outer peripheral portion 19b. And press.

具体的には、外周部分19bが、第1加熱工程S20でウェーハ11を加熱した温度よりも、20℃から30℃だけ高い温度となる様に、外周部分19bに温風22aを当てる。これにより、外周部分19bが、中央部分19aに比べて、柔軟になり、外周余剰領域17bとの密着性が向上する。 Specifically, warm air 22a is applied to the outer peripheral portion 19b so that the outer peripheral portion 19b has a temperature higher than the temperature at which the wafer 11 is heated in the first heating step S20 by 20 ° C to 30 ° C. As a result, the outer peripheral portion 19b becomes more flexible than the central portion 19a, and the adhesion with the outer peripheral excess region 17b is improved.

例えば、開口部22dの温度を300℃程度とすると、外周部分19bの温度を100℃程度にできる。本実施形態では、開口部22dの温度を約360℃にすることで、外周部分19bの温度を約120℃とする。 For example, if the temperature of the opening 22d is about 300 ° C., the temperature of the outer peripheral portion 19b can be set to about 100 ° C. In the present embodiment, the temperature of the opening 22d is set to about 360 ° C, so that the temperature of the outer peripheral portion 19b is set to about 120 ° C.

この様に、第2加熱工程S50では、外周余剰領域17bと外周部分19bとの密着性を、追加的に向上できる。従って、ウェーハ11の外周端部でシート19が表面11a側から剥がれる不良を抑制できる。 As described above, in the second heating step S50, the adhesion between the outer peripheral excess region 17b and the outer peripheral portion 19b can be additionally improved. Therefore, it is possible to suppress the defect that the sheet 19 is peeled off from the surface 11a side at the outer peripheral end portion of the wafer 11.

更に、第2加熱工程S50では、デバイス領域17aと中央部分19aとの密着性を変化させないので、シート19をデバイス領域17aから剥離できない、又は、剥離するとシート19の一部がデバイス領域17aに残るという不良を抑制できる。それゆえ、デバイス領域17a及び外周余剰領域17bと、シート19との密着性を最適化できる。 Further, in the second heating step S50, since the adhesion between the device region 17a and the central portion 19a is not changed, the sheet 19 cannot be peeled from the device region 17a, or when peeled, a part of the sheet 19 remains in the device region 17a. It is possible to suppress such a defect. Therefore, the adhesion between the device region 17a and the outer peripheral surplus region 17b and the sheet 19 can be optimized.

なお、第2加熱工程S50では、温風22aを当てることによりシート19の外周部分19bを加熱し且つ押圧したが、外周部分19bを加熱するだけでもよい。出願人は、シート19の温度に応じて、ウェーハ11との密着力が向上することを実験により確認している。 In the second heating step S50, the outer peripheral portion 19b of the sheet 19 is heated and pressed by applying warm air 22a, but the outer peripheral portion 19b may only be heated. The applicant has confirmed by experiments that the adhesion with the wafer 11 is improved according to the temperature of the sheet 19.

具体的には、デバイス15が形成されていないシリコン製のベアウェーハを所定温度に加熱して、ポリエチレン製シートを、この加熱されたベアウェーハに貼着し、その後、ポリエチレン製シートに切れ目を形成して、1つの短冊を形成した。 Specifically, a silicon bare wafer on which the device 15 is not formed is heated to a predetermined temperature, a polyethylene sheet is attached to the heated bare wafer, and then a cut is formed in the polyethylene sheet. Then, one strip was formed.

なお、短冊の幅(短辺方向の長さ)は、25mmとした。その後、万能試験機を用いて、短冊を長辺方向に沿って180度折り曲げて引き剥がす際の強さ(即ち、剥離接着強さ)を測定した。 The width of the strip (length in the short side direction) was set to 25 mm. Then, using a universal testing machine, the strength when the strip was bent 180 degrees along the long side direction and peeled off (that is, the peeling adhesive strength) was measured.

所定温度を90℃、110℃、130℃及び150℃として各々の剥離接着強さを測定すると、ポリエチレン製シートを貼着する際のベアウェーハの温度が高いほど、短冊の剥離接着強さが強いという下記表1の結果が得られた。 When the peeling adhesive strength of each is measured at predetermined temperatures of 90 ° C, 110 ° C, 130 ° C and 150 ° C, the higher the temperature of the bare wafer when the polyethylene sheet is attached, the stronger the peeling adhesive strength of the strip. The results shown in Table 1 below were obtained.

Figure 2022035501000002
Figure 2022035501000002

次に、第2の実施形態について説明する。第2の実施形態では、ウェーハ11ではなく、シート19をチャックテーブル4で吸引保持し、保持されたシート19にウェーハ11を押圧することで、シート19にウェーハ11を貼着する。係る点が、主として第1の実施形態と異なる。 Next, the second embodiment will be described. In the second embodiment, the sheet 19 is sucked and held by the chuck table 4 instead of the wafer 11, and the wafer 11 is pressed against the held sheet 19 to attach the wafer 11 to the sheet 19. This point is mainly different from the first embodiment.

第2の実施形態でも、まず、シート準備工程S10を行う。次いで、保持面4aでシート19を吸引保持した状態で、発熱体10を加熱して、発熱体10からの熱でシート19を加熱する(第1加熱工程S20)。図7は、第2の実施形態に係る第1加熱工程S20を示す図である。 Also in the second embodiment, first, the sheet preparation step S10 is performed. Next, the heating element 10 is heated while the sheet 19 is sucked and held by the holding surface 4a, and the sheet 19 is heated by the heat from the heating element 10 (first heating step S20). FIG. 7 is a diagram showing a first heating step S20 according to the second embodiment.

第1加熱工程S20の後、シート19と表面11a側とが接する様に、シート19上にウェーハ11を配置し、発熱体10及びシート19の温度を維持したまま、ローラー14でウェーハ11の裏面11b側を押し付ける。これにより、加熱された状態のシート19に、ウェーハ11の表面11a側全体を貼着する(シート貼着工程S30)。図8は、第2の実施形態に係るシート貼着工程S30を示す図である。 After the first heating step S20, the wafer 11 is arranged on the sheet 19 so that the sheet 19 and the surface 11a side are in contact with each other, and the back surface of the wafer 11 is formed by the roller 14 while maintaining the temperatures of the heating element 10 and the sheet 19. Press the 11b side. As a result, the entire surface 11a side of the wafer 11 is attached to the heated sheet 19 (sheet attaching step S30). FIG. 8 is a diagram showing a sheet attaching step S30 according to the second embodiment.

シート貼着工程S30の後、切り刃20をシート19に切り込み、ウェーハ11の外周に沿って切り刃20を移動させる。これにより、シート19をウェーハ11の外周端部に沿って切断する(シート切断工程S40)。図9は、第2の実施形態に係るシート切断工程S40を示す図である。 After the sheet attaching step S30, the cutting edge 20 is cut into the sheet 19 and the cutting edge 20 is moved along the outer periphery of the wafer 11. As a result, the sheet 19 is cut along the outer peripheral end portion of the wafer 11 (sheet cutting step S40). FIG. 9 is a diagram showing a sheet cutting step S40 according to the second embodiment.

シート切断工程S40の後、第2加熱工程S50を行う。第2加熱工程S50では、外周余剰領域17bに対応する裏面11b側の領域に、温風ヒーター22から温風22aを当てることで、外周部分19bを加熱して押圧する。 After the sheet cutting step S40, the second heating step S50 is performed. In the second heating step S50, the outer peripheral portion 19b is heated and pressed by applying the warm air 22a from the warm air heater 22 to the region on the back surface 11b side corresponding to the outer peripheral surplus region 17b.

これにより、シート19の外周部分19bを第1加熱工程S20でウェーハ11を加熱した温度よりも高い温度とする。図10は、第2の実施形態に係る第2加熱工程S50を示す図である。 As a result, the outer peripheral portion 19b of the sheet 19 is set to a temperature higher than the temperature at which the wafer 11 is heated in the first heating step S20. FIG. 10 is a diagram showing a second heating step S50 according to the second embodiment.

第1の実施形態と同様に、第2加熱工程S50では、外周部分19bが、中央部分19aに比べて柔軟になり、外周余剰領域17bとの密着性が向上する。それゆえ、第2加熱工程S50では、外周余剰領域17bと外周部分19bとの密着性を、追加的に向上できる。従って、ウェーハ11の外周端部でシート19が表面11a側から剥がれる不良を抑制できる。 Similar to the first embodiment, in the second heating step S50, the outer peripheral portion 19b becomes more flexible than the central portion 19a, and the adhesion with the outer peripheral excess region 17b is improved. Therefore, in the second heating step S50, the adhesion between the outer peripheral excess region 17b and the outer peripheral portion 19b can be additionally improved. Therefore, it is possible to suppress the defect that the sheet 19 is peeled off from the surface 11a side at the outer peripheral end portion of the wafer 11.

更に、第2加熱工程S50では、デバイス領域17aと中央部分19aとの密着性を変化させないので、シート19をデバイス領域17aから剥離できない、又は、剥離するとシート19の一部がデバイス領域17aに残るという不良を抑制できる。それゆえ、デバイス領域17a及び外周余剰領域17bと、シート19との密着性を最適化できる。 Further, in the second heating step S50, since the adhesion between the device region 17a and the central portion 19a is not changed, the sheet 19 cannot be peeled from the device region 17a, or when peeled, a part of the sheet 19 remains in the device region 17a. It is possible to suppress such a defect. Therefore, the adhesion between the device region 17a and the outer peripheral surplus region 17b and the sheet 19 can be optimized.

なお、上述した第1及び第2の実施形態では、シート切断工程S40の後に、第2加熱工程S50を行ったが、逆に、第2加熱工程S50の後に、シート切断工程S40を行ってもよい。また、シート切断工程S40及び第2加熱工程S50を同時に行ってもよい。 In the first and second embodiments described above, the second heating step S50 is performed after the sheet cutting step S40, but conversely, the sheet cutting step S40 may be performed after the second heating step S50. good. Further, the sheet cutting step S40 and the second heating step S50 may be performed at the same time.

図11は、シート切断工程S40及び第2加熱工程S50を同時に行う、第3の実施形態に係る切断機構28の部分拡大図である。切断機構28は、腕部30を有する。腕部30の上部には、上述の第2の移動機構(不図示)が連結されている。 FIG. 11 is a partially enlarged view of the cutting mechanism 28 according to the third embodiment, in which the sheet cutting step S40 and the second heating step S50 are simultaneously performed. The cutting mechanism 28 has an arm portion 30. The above-mentioned second moving mechanism (not shown) is connected to the upper part of the arm portion 30.

腕部30の下部には、直方体状の切り刃固定部32が固定されている。切り刃固定部32の下部には、上述の切り刃20の基端部が固定されている。なお、切り刃固定部32は、切り刃20を、例えば5mm程度、上下方向に移動させることもできる。 A rectangular parallelepiped cutting edge fixing portion 32 is fixed to the lower portion of the arm portion 30. The base end portion of the above-mentioned cutting edge 20 is fixed to the lower portion of the cutting edge fixing portion 32. The cutting edge fixing portion 32 can also move the cutting edge 20 in the vertical direction by, for example, about 5 mm.

切り刃固定部32とは別に、腕部30には、温風ヒーター34が固定されている。温風ヒーター34は、切り刃20の進行方向の前方に配置されている。温風ヒーター34は、略円筒形状のノズルヒーター36を有する。ノズルヒーター36は、環状の発熱体(第2の発熱体)を含む。 Apart from the cutting edge fixing portion 32, the warm air heater 34 is fixed to the arm portion 30. The hot air heater 34 is arranged in front of the cutting edge 20 in the traveling direction. The hot air heater 34 has a nozzle heater 36 having a substantially cylindrical shape. The nozzle heater 36 includes an annular heating element (second heating element).

ノズルヒーター36の貫通孔の上部には、エアブローノズル38が配置されている。ノズルヒーター36を加熱した状態で、エアブローノズル38からエアを噴射すれば、ノズルヒーター36の下部から温風34aを噴射できる。 An air blow nozzle 38 is arranged above the through hole of the nozzle heater 36. If air is injected from the air blow nozzle 38 in a state where the nozzle heater 36 is heated, warm air 34a can be injected from the lower part of the nozzle heater 36.

第3の実施形態では、温風34aを噴出しながら、切り刃20でシート19を切断することで、シート切断工程S40及び第2加熱工程S50を同時に行うことができる。なお、温風ヒーター34は、切り刃20の進行方向の前方に配置されているので、温風34aにより加熱及び押圧された外周部分19bの外側を切り刃20で切断できる。 In the third embodiment, the sheet cutting step S40 and the second heating step S50 can be performed at the same time by cutting the sheet 19 with the cutting blade 20 while blowing out the warm air 34a. Since the hot air heater 34 is arranged in front of the cutting edge 20 in the traveling direction, the cutting edge 20 can cut the outside of the outer peripheral portion 19b heated and pressed by the hot air 34a.

その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。例えば、上述の実施形態では、被加工物の一例として、円盤状のウェーハ11を挙げたが、被加工物は、矩形板状の樹脂パッケージ基板であってもよい。 In addition, the structure, method, and the like according to the above-described embodiment can be appropriately modified and implemented as long as they do not deviate from the scope of the object of the present invention. For example, in the above-described embodiment, the disk-shaped wafer 11 is mentioned as an example of the workpiece, but the workpiece may be a rectangular plate-shaped resin package substrate.

また、シート19の形状は、被加工物よりも大きいサイズであれば、円形であっても、矩形であってもよい。なお、被加工物と同じ形状及びサイズである場合には、シート切断工程S40を省略することもできる。 Further, the shape of the sheet 19 may be circular or rectangular as long as it has a size larger than that of the workpiece. If the shape and size are the same as those of the workpiece, the sheet cutting step S40 may be omitted.

上述の実施形態では、ウェーハ11又はシート19に対してローラー14を押圧するが、この押圧に加えて、ローラー14に内蔵された発熱体(不図示)を加熱してもよい。また、ローラー14に代えて、ウェーハ11や樹脂パッケージ基板よりも大きなサイズを有する押圧板(不図示)を用いてもよい。 In the above-described embodiment, the roller 14 is pressed against the wafer 11 or the sheet 19, but in addition to this pressing, a heating element (not shown) built in the roller 14 may be heated. Further, instead of the roller 14, a pressing plate (not shown) having a size larger than that of the wafer 11 or the resin package substrate may be used.

ところで、上述の実施形態におけるシート貼着装置2は、1つのチャックテーブル4を有するが、シート貼着装置2は、チャックテーブル4に加えて、発熱体10を有さず且つ溝6aを有する追加のチャックテーブル(不図示)を有してもよい。 By the way, the sheet attaching device 2 in the above-described embodiment has one chuck table 4, but the sheet attaching device 2 does not have a heating element 10 and has a groove 6a in addition to the chuck table 4. You may have a chuck table (not shown).

追加のチャックテーブルを用いる場合、第1加熱工程S20及びシート貼着工程S30をチャックテーブル4で行った後、加熱されていない追加のチャックテーブルを用いて、シート切断工程S40を行う。 When an additional chuck table is used, the first heating step S20 and the sheet attaching step S30 are performed on the chuck table 4, and then the sheet cutting step S40 is performed using the additional chuck table that has not been heated.

これにより、発熱体10でウェーハ11等を加熱した状態のままシート19を切断する場合に比べて、シート19を冷やすことができる。シート19の温度が低い方が、シート19が切り刃20にくっつき難くなるので、シート切断工程S40において、シート19をスムーズに切断できる。 As a result, the sheet 19 can be cooled as compared with the case where the sheet 19 is cut while the wafer 11 or the like is heated by the heating element 10. When the temperature of the sheet 19 is low, the sheet 19 is less likely to stick to the cutting edge 20, so that the sheet 19 can be smoothly cut in the sheet cutting step S40.

2:シート貼着装置、4:チャックテーブル、4a:保持面
6:枠体、6a:溝、6b:凹部、8:ポーラス板、10:発熱体
11:ウェーハ、11a:表面、11b:裏面、13:分割予定ライン、15:デバイス
12:第1加熱ユニット
14:ローラー、14a:回転軸、14b:筐体、16:シート貼着機構
17a:デバイス領域、17b:外周余剰領域
18:シート切断機構、20:切り刃、20a:側面
19:シート、19a:中央部分、19b:外周部分
22:温風ヒーター、22a:温風、22b:発熱体、22c:筐体、22d:開口部
24:第2加熱ユニット、28:切断機構、30:腕部、32:切り刃固定部
34:温風ヒーター、34a:温風、36:ノズルヒーター、38:エアブローノズル
Z:垂直方向
2: Sheet attaching device, 4: Chuck table, 4a: Holding surface 6: Frame body, 6a: Groove, 6b: Recessed plate, 8: Porous plate, 10: Heat generating body 11: Wafer, 11a: Front surface, 11b: Back surface, 13: Scheduled division line, 15: Device 12: First heating unit 14: Roller, 14a: Rotating shaft, 14b: Housing, 16: Sheet attachment mechanism 17a: Device area, 17b: Outer peripheral excess area 18: Sheet cutting mechanism , 20: cutting edge, 20a: side surface 19: sheet, 19a: central part, 19b: outer peripheral part 22: warm air heater, 22a: warm air, 22b: heating element, 22c: housing, 22d: opening 24: first 2 heating unit, 28: cutting mechanism, 30: arm, 32: cutting edge fixing part 34: warm air heater, 34a: warm air, 36: nozzle heater, 38: air blow nozzle Z: vertical direction

Claims (4)

複数のデバイスが形成されたデバイス領域と、該デバイス領域の外側を囲む環状の外周余剰領域と、を表面側に有する板状の被加工物の該表面側に、熱可塑性のシートを貼着するシート貼着方法であって、
該被加工物の該表面側の全体を覆うことが可能な大きさを有する該シートを準備するシート準備工程と、
テーブル上に配置された該被加工物又は該シートを加熱する第1加熱工程と、
該第1加熱工程で加熱された状態の該被加工物の該表面側全体に該シートを押し付けて貼着する、又は、該第1加熱工程で加熱された状態の該シートに該被加工物の該表面側全体を押し付けて貼着する、シート貼着工程と、
該被加工物の該外周余剰領域に対応する該シートの外周部分を、該第1加熱工程で該被加工物又は該シートを加熱した温度より高い温度に加熱する第2加熱工程と、を備えることを特徴とするシート貼着方法。
A thermoplastic sheet is attached to the surface side of a plate-shaped workpiece having a device region on which a plurality of devices are formed and an annular outer peripheral surplus region surrounding the outside of the device region on the surface side. It ’s a sheet sticking method.
A sheet preparation step of preparing the sheet having a size capable of covering the entire surface side of the workpiece, and a sheet preparation step.
The first heating step of heating the workpiece or the sheet arranged on the table, and
The sheet is pressed and attached to the entire surface side of the work piece heated in the first heating step, or the work piece is attached to the sheet heated in the first heating step. The sheet pasting process, in which the entire surface side of the sheet is pressed and pasted,
A second heating step of heating the outer peripheral portion of the sheet corresponding to the outer peripheral surplus region of the workpiece to a temperature higher than the temperature at which the workpiece or the sheet was heated in the first heating step is provided. A sheet attachment method characterized by this.
該第2加熱工程では、温風ヒーターを用いて該温風ヒーターから該シートの外周部分へ温風を当てることにより、該シートの外周部分を加熱することを特徴とする請求項1記載のシート貼着方法。 The sheet according to claim 1, wherein in the second heating step, the outer peripheral portion of the sheet is heated by applying warm air from the hot air heater to the outer peripheral portion of the sheet using a hot air heater. How to paste. 複数のデバイスが形成されたデバイス領域と、該デバイス領域の外側を囲む環状の外周余剰領域と、を表面側に有する板状の被加工物の該表面側に、熱可塑性のシートを貼着するシート貼着装置であって、
テーブルと、該テーブルに設けられた第1の発熱体とを有し、該第1の発熱体からの熱で該被加工物又は該シートを加熱する第1加熱ユニットと、
押圧体を有し、該第1加熱ユニットで加熱された該被加工物の該表面側全体に該シートを押し付けて貼着する、又は、該第1加熱ユニットで加熱された該シートに該被加工物の該表面側全体を押し付けて貼着するシート貼着機構と、
第2の発熱体を有し、該被加工物の該外周余剰領域に対応する該シートの外周部分が、該第1加熱ユニットで該被加工物又は該シートを加熱した温度より高い温度になる様に該外周部分を加熱する第2加熱ユニットと、を備えることを特徴とするシート貼着装置。
A thermoplastic sheet is attached to the surface side of a plate-shaped workpiece having a device region on which a plurality of devices are formed and an annular outer peripheral surplus region surrounding the outside of the device region on the surface side. It is a sheet sticking device,
A first heating unit having a table and a first heating element provided on the table and heating the workpiece or the sheet with heat from the first heating element.
The sheet has a pressing body and is attached by pressing the sheet to the entire surface side of the workpiece heated by the first heating unit, or the covering is attached to the sheet heated by the first heating unit. A sheet attachment mechanism that presses and attaches the entire surface side of the work piece,
The outer peripheral portion of the sheet having the second heating element and corresponding to the outer peripheral excess region of the workpiece becomes a temperature higher than the temperature at which the workpiece or the sheet is heated by the first heating unit. A sheet attaching device comprising a second heating unit for heating the outer peripheral portion as described above.
該第2加熱ユニットは、温風ヒーターを有することを特徴とする請求項3記載のシート貼着装置。 The sheet attaching device according to claim 3, wherein the second heating unit has a hot air heater.
JP2020139869A 2020-08-21 2020-08-21 Sheet sticking method and sheet sticking device Active JP7463036B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020139869A JP7463036B2 (en) 2020-08-21 2020-08-21 Sheet sticking method and sheet sticking device
TW110129148A TW202208188A (en) 2020-08-21 2021-08-06 Sheet adhering method and sheet adhering device for adhering sheet on workpiece being tight with each area of device area and outer peripheral remaining area

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020139869A JP7463036B2 (en) 2020-08-21 2020-08-21 Sheet sticking method and sheet sticking device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022035501A true JP2022035501A (en) 2022-03-04
JP7463036B2 JP7463036B2 (en) 2024-04-08

Family

ID=80443461

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020139869A Active JP7463036B2 (en) 2020-08-21 2020-08-21 Sheet sticking method and sheet sticking device

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP7463036B2 (en)
TW (1) TW202208188A (en)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005317634A (en) 2004-04-27 2005-11-10 Nitto Denko Corp Method for manufacturing semiconductor device and sticky sheet for use therein
JP2009275060A (en) 2008-05-12 2009-11-26 Nitto Denko Corp Adhesive sheet, method for processing adherend using the adhesive sheet, and adhesive sheet-peeling device
DE102018202254A1 (en) 2018-02-14 2019-08-14 Disco Corporation Method for processing a wafer
JP2019220550A (en) 2018-06-19 2019-12-26 株式会社ディスコ Processing method for wafer

Also Published As

Publication number Publication date
JP7463036B2 (en) 2024-04-08
TW202208188A (en) 2022-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4471563B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP7281873B2 (en) Wafer processing method
JP7154686B2 (en) Wafer processing method
JP7130323B2 (en) Wafer processing method
JP2002076096A (en) Method for picking up semiconductor element
JP7139047B2 (en) Wafer processing method
TWI810309B (en) Wafer processing method
JP7139048B2 (en) Wafer processing method
JP2004281659A (en) Holding member and method for manufacturing semiconductor device
JP7143023B2 (en) Wafer processing method
JP7191458B2 (en) Wafer processing method
JP2022035501A (en) Sheet pasting method and sheet pasting apparatus
JP7143019B2 (en) Wafer processing method
JP7139040B2 (en) Wafer processing method
JP7317482B2 (en) Wafer processing method
JP7237412B2 (en) Wafer processing method
JP2005260154A (en) Method of manufacturing chip
JP7154698B2 (en) Wafer processing method
JP4480701B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
CN112242352A (en) Wafer cutting method and circuit board
JP7134561B2 (en) Wafer processing method
JP2004079597A (en) Working method of semiconductor chip
JP6455837B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP7139042B2 (en) Wafer processing method
JP7139041B2 (en) Wafer processing method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20230629

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240326

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20240328

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240326

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7463036

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150