JP2022032011A - Vibration device - Google Patents

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剛夫 舟川
Takeo Funekawa
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Abstract

To provide a vibration device that can be reduced in size in plan view.SOLUTION: A vibration device 1 comprises: a stationary part 50 that projects from a substrate 3 in a Z direction; a base 40 that is connected with the stationary part 50; and a first vibration arm 11 and a second vibration arm 21 that extend from the base 40 in a Y direction and are arranged side by side in the Z direction. The stationary part 50 is included in the contour of the base 40 in plan view from the Z direction and has a smaller area than that of the base 40.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、振動デバイスに関する。 The present invention relates to a vibrating device.

従来、特許文献1に示すように、基板から突出している固定部と、固定部から基板との間に間隙を有して延出している基部と、基部の一端から対になって延出している振動腕と、を備え、対になっている振動腕は、平面視で互いに重なっている振動片を有する振動子が知られている。 Conventionally, as shown in Patent Document 1, a fixed portion protruding from a substrate, a base extending with a gap between the fixed portion and the substrate, and a base extending from one end of the base as a pair. An oscillator having a vibrating arm and a pair of vibrating arms having vibrating pieces overlapping each other in a plan view is known.

特開2015-46807号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-466807

しかしながら、特許文献1に記載の振動片は、基板と、振動片の基部との間に間隙を設けるために、平面視において固定部の一部が基部からはみ出す構造となり、基板の平面方向において更なる小型化を図ることが困難であるという課題がある。 However, the vibrating piece described in Patent Document 1 has a structure in which a part of the fixed portion protrudes from the base in a plan view because a gap is provided between the substrate and the base of the vibrating piece. There is a problem that it is difficult to reduce the size.

振動デバイスは、平面を有する基板と、前記基板から前記平面の法線方向に突出している固定部と、前記固定部に接続されている基部と、前記基部から前記法線方向と交差する方向に延出し、前記法線方向に並んで配置されている複数の振動腕と、を備え、前記固定部は、前記法線方向からの平面視において、前記基部の外形に内包され、かつ、前記基部よりも面積が小さい。 The vibrating device includes a substrate having a flat surface, a fixed portion protruding from the substrate in the normal direction of the plane, a base connected to the fixed portion, and a direction intersecting the normal direction from the base portion. A plurality of vibrating arms extending and arranged side by side in the normal direction are provided, and the fixed portion is included in the outer shape of the base in a plan view from the normal direction, and the base portion is included. Area is smaller than.

実施形態1に係る振動デバイスの概略構成を示す平面図。The plan view which shows the schematic structure of the vibration device which concerns on Embodiment 1. FIG. 図1中のA-A線での断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 実施形態1に係る振動デバイスの主要な製造工程を示すフローチャート。The flowchart which shows the main manufacturing process of the vibration device which concerns on Embodiment 1. 実施形態1に係る振動デバイスの製造工程を表す断面模式図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process of the vibration device according to the first embodiment. 実施形態1に係る振動デバイスの製造工程を表す断面模式図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process of the vibration device according to the first embodiment. 実施形態1に係る振動デバイスの製造工程を表す断面模式図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process of the vibration device according to the first embodiment. 実施形態1に係る振動デバイスの製造工程を表す断面模式図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process of the vibration device according to the first embodiment. 実施形態1に係る振動デバイスの製造工程を表す断面模式図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process of the vibration device according to the first embodiment. 実施形態2に係る振動デバイスの概略構成を示す平面図。The plan view which shows the schematic structure of the vibration device which concerns on Embodiment 2. 図9中のB-B線での断面図。FIG. 9 is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG. 実施形態3に係る振動デバイスの概略構成を示す平面図。The plan view which shows the schematic structure of the vibration device which concerns on Embodiment 3. 図11中のC-C線での断面図。FIG. 11 is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. 実施形態4に係る振動デバイスの概略構成を示す平面図。The plan view which shows the schematic structure of the vibration device which concerns on Embodiment 4. 図13中のD-D線での断面図。FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line DD in FIG. 実施形態5に係る振動デバイスの概略構成を示す平面図。The plan view which shows the schematic structure of the vibration device which concerns on Embodiment 5. 図15中のE-E線での断面図。FIG. 15 is a cross-sectional view taken along the line EE in FIG. 図15中のF-F線での断面図。FIG. 15 is a cross-sectional view taken along the line FF in FIG. 実施形態6に係る振動デバイスの概略構成を示す平面図。The plan view which shows the schematic structure of the vibration device which concerns on Embodiment 6. 図18中のG-G線での断面図。FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line GG in FIG. 図18中のH-H線での断面図。FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line OH in FIG.

1.実施形態1
実施形態1に係る振動デバイス1について、図1及び図2を参照して説明する。なお、図1において、振動デバイス1の内部の構成を説明する便宜上、蓋体4を取り外した状態を図示している。また、図中、説明の便宜上、配線や端子等を省略してあり、各構成要素の寸法比率は実際と異なる。
1. 1. Embodiment 1
The vibration device 1 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2. Note that FIG. 1 illustrates a state in which the lid 4 is removed for convenience of explaining the internal configuration of the vibration device 1. Further, in the figure, wiring, terminals, and the like are omitted for convenience of explanation, and the dimensional ratio of each component is different from the actual one.

図面に付記する座標においては、互いに直交する3つの軸をX軸、Y軸及びZ軸として説明する。X軸に沿う方向を「X方向」、Y軸に沿う方向を「Y方向」、Z軸に沿う方向を「Z方向」とし、矢印の方向がプラス方向である。また、Z方向のプラス方向を「上」又は「上方」、Z方向のマイナス方向を「下」又は「下方」として説明する。また、Z方向から見たときの平面視において、Z方向プラス側の面を上面、これと反対側となるZ方向マイナス側の面を下面として説明する。 In the coordinates added to the drawings, the three axes orthogonal to each other will be described as the X-axis, the Y-axis, and the Z-axis. The direction along the X axis is the "X direction", the direction along the Y axis is the "Y direction", the direction along the Z axis is the "Z direction", and the direction of the arrow is the plus direction. Further, the positive direction in the Z direction will be described as "up" or "upward", and the negative direction in the Z direction will be described as "down" or "downward". Further, in a plan view when viewed from the Z direction, the surface on the plus side in the Z direction will be described as the upper surface, and the surface on the minus side in the Z direction opposite to this will be described as the lower surface.

図1及び図2に示すように、振動デバイス1は、振動素子2と、基板3と、蓋体4と、を備えている。基板3は平板状であり、基板3は平面である上面3hを有する。振動素子2は、基板3の上面3hに、後述する固定部50を介して固定される。蓋体4は、蓋体4と基板3が接続する側である下面の中央部に、振動素子2を収容する収容空間6となる凹部を有する箱状であり、振動素子2を覆うように、基板3の上面3hに固定される。 As shown in FIGS. 1 and 2, the vibration device 1 includes a vibration element 2, a substrate 3, and a lid 4. The substrate 3 has a flat plate shape, and the substrate 3 has a flat upper surface 3h. The vibrating element 2 is fixed to the upper surface 3h of the substrate 3 via a fixing portion 50 described later. The lid 4 has a box shape having a recess that serves as an accommodation space 6 for accommodating the vibrating element 2 in the central portion of the lower surface on the side where the lid 4 and the substrate 3 are connected so as to cover the vibrating element 2. It is fixed to the upper surface 3h of the substrate 3.

振動素子2は、第1振動素子10と、第2振動素子20と、を有する。第2振動素子20は、第1振動素子10のZ方向プラス側に配置されており、第1振動素子10と、第2振動素子20と、は基板3の上面3hの法線方向であるZ方向から見た平面視で重なっている。 The vibrating element 2 includes a first vibrating element 10 and a second vibrating element 20. The second vibrating element 20 is arranged on the positive side in the Z direction of the first vibrating element 10, and the first vibrating element 10 and the second vibrating element 20 are Z in the normal direction of the upper surface 3h of the substrate 3. They overlap in a plan view from the direction.

第1振動素子10は、第1基部41と、第1基部41から延出する第1振動腕11と、第1振動腕11を振動させるための第1駆動部12及び第2駆動部13と、第1基部41の下面からZ方向マイナス側に突出し、振動素子2を基板3に固定するための固定部50と、を有する。 The first vibrating element 10 includes a first base 41, a first vibrating arm 11 extending from the first base 41, and a first driving unit 12 and a second driving unit 13 for vibrating the first vibrating arm 11. It has a fixing portion 50 for fixing the vibrating element 2 to the substrate 3 so as to project from the lower surface of the first base portion 41 to the minus side in the Z direction.

第2振動素子20は、第2基部42と、第2基部42から延出する第2振動腕21と、第2振動腕21を振動させるための第3駆動部22及び第4駆動部23と、を有する。第2基部42のZ方向の厚さは、第2基部42の下面が、第2振動腕21の下面よりも下方に位置するように、第2振動腕21のZ方向の厚さよりも厚く形成されている。 The second vibrating element 20 includes a second base portion 42, a second vibrating arm 21 extending from the second base portion 42, and a third driving unit 22 and a fourth driving unit 23 for vibrating the second vibrating arm 21. , Have. The thickness of the second base 42 in the Z direction is formed to be thicker than the thickness of the second vibrating arm 21 in the Z direction so that the lower surface of the second base 42 is located below the lower surface of the second vibrating arm 21. Has been done.

第1基部41の上面と、第2基部42の下面と、は平面視で重なるように接続されており、これにより、第1基部41と、第2基部42と、を有する基部40が形成されている。 The upper surface of the first base 41 and the lower surface of the second base 42 are connected so as to overlap each other in a plan view, whereby a base 40 having the first base 41 and the second base 42 is formed. ing.

第1振動腕11と、第2振動腕21と、は基部40のY方向プラス側の一端40aから、基板3の上面3hの法線方向であるZ方向と交差するY方向に延出している。また、第1振動腕11と、第2振動腕21と、はZ方向に並んで配置されており、平面視で重なっている。このように、第1振動腕11と、第2振動腕21と、の複数の振動腕が平面視で重なることにより、基板3の平面方向において、小型化された振動デバイス1を得ることができる。 The first vibrating arm 11 and the second vibrating arm 21 extend from one end 40a on the positive side in the Y direction of the base 40 in the Y direction intersecting the Z direction which is the normal direction of the upper surface 3h of the substrate 3. .. Further, the first vibrating arm 11 and the second vibrating arm 21 are arranged side by side in the Z direction and overlap each other in a plan view. As described above, by overlapping the plurality of vibrating arms of the first vibrating arm 11 and the second vibrating arm 21 in a plan view, it is possible to obtain a miniaturized vibrating device 1 in the plane direction of the substrate 3. ..

第1振動腕11の下面には、第1振動腕11側から第2電極17、圧電膜16、第1電極15の順で積層されている第1駆動部12が設けられている。第1振動腕11の上面には、第1振動腕11側から第1電極15、圧電膜16、第2電極17の順で積層されている第2駆動部13が設けられている。 On the lower surface of the first vibrating arm 11, a first driving unit 12 in which the second electrode 17, the piezoelectric film 16, and the first electrode 15 are laminated in this order from the first vibrating arm 11 side is provided. On the upper surface of the first vibrating arm 11, a second driving unit 13 in which the first electrode 15, the piezoelectric film 16, and the second electrode 17 are laminated in this order from the first vibrating arm 11 side is provided.

第2振動腕21の下面には、第2振動腕21側から第1電極15、圧電膜16、第2電極17の順で積層される第3駆動部22が設けられている。第2振動腕21の上面には、第2振動腕21側から第2電極17、圧電膜16、第1電極15の順で積層される第4駆動部23が設けられている。 On the lower surface of the second vibrating arm 21, a third driving unit 22 is provided in which the first electrode 15, the piezoelectric film 16, and the second electrode 17 are laminated in this order from the second vibrating arm 21 side. On the upper surface of the second vibrating arm 21, a fourth drive unit 23 is provided in which the second electrode 17, the piezoelectric film 16, and the first electrode 15 are laminated in this order from the side of the second vibrating arm 21.

なお、第1駆動部12と、第2駆動部13と、第3駆動部22と、第4駆動部23と、のそれぞれの第1電極15は、図示しない配線により電気的に接続されている。また、第1駆動部12と、第2駆動部13と、第3駆動部22と、第4駆動部23と、のそれぞれの第2電極17は、図示しない配線により電気的に接続されている。さらに、第1電極15と、第2電極17と、は基板3の下面に設けられた複数の外部電極19と、図示しない貫通電極や層間配線を介して、電気的に接続されている。 The first electrodes 15 of the first drive unit 12, the second drive unit 13, the third drive unit 22, and the fourth drive unit 23 are electrically connected by wiring (not shown). .. Further, the second electrodes 17 of the first drive unit 12, the second drive unit 13, the third drive unit 22, and the fourth drive unit 23 are electrically connected by wiring (not shown). .. Further, the first electrode 15 and the second electrode 17 are electrically connected to a plurality of external electrodes 19 provided on the lower surface of the substrate 3 via through electrodes and interlayer wiring (not shown).

なお、第1電極15及び第2電極17には、例えば、TiN、ITO、Au、Cu、Alなどの材料を用いることができる。圧電膜16には、例えば、AlN、ZnO、PZTなどの材料を用いることができる。また、第1電極15、圧電膜16、第2電極17の他に、温度の変化による共振周波数の低下を防ぐため温度補正膜や、圧電膜16の配向性を高めるための絶縁配向膜などを形成しても構わない。 For the first electrode 15 and the second electrode 17, for example, materials such as TiN, ITO, Au, Cu, and Al can be used. For the piezoelectric film 16, for example, materials such as AlN, ZnO, and PZT can be used. Further, in addition to the first electrode 15, the piezoelectric film 16, and the second electrode 17, a temperature correction film for preventing a decrease in the resonance frequency due to a change in temperature, an insulating alignment film for improving the orientation of the piezoelectric film 16, and the like are provided. It may be formed.

第1駆動部12及び第2駆動部13の圧電膜16は、第1電極15と第2電極17との間に電圧が印加されると第1振動腕11の延出方向であるY方向に伸縮する。第1駆動部12と第2駆動部13とは、第1電極15と、圧電膜16と、第2電極17と、の積層順が逆になっているので、第1駆動部12の圧電膜16が伸びると、第2駆動部13の圧電膜16が縮まり、逆に、第1駆動部12の圧電膜16が縮むと、第2駆動部13の圧電膜16が伸びる。そのため、第1振動腕11の上面と下面が逆に伸縮するので、第1振動腕11をZ方向に屈曲振動させることができる。 The piezoelectric film 16 of the first drive unit 12 and the second drive unit 13 is in the Y direction, which is the extension direction of the first vibrating arm 11, when a voltage is applied between the first electrode 15 and the second electrode 17. It expands and contracts. Since the first drive unit 12 and the second drive unit 13 have the first electrode 15, the piezoelectric film 16 and the second electrode 17 in the reverse stacking order, the piezoelectric film of the first drive unit 12 is used. When 16 is stretched, the piezoelectric film 16 of the second drive unit 13 is shrunk, and conversely, when the piezoelectric film 16 of the first drive unit 12 is shrunk, the piezoelectric film 16 of the second drive unit 13 is stretched. Therefore, since the upper surface and the lower surface of the first vibrating arm 11 expand and contract in the opposite direction, the first vibrating arm 11 can be flexed and vibrated in the Z direction.

また、第1振動素子10の第1駆動部12及び第2駆動部13と、第2振動素子20の第3駆動部22及び第4駆動部23と、は第1電極15と、圧電膜16と、第2電極17と、の積層順が逆になっているので、第1振動素子10の第1振動腕11と、第2振動素子20の第2振動腕21と、はZ方向に沿って互いに逆位相で振動する。つまり、振動素子2は、第1振動腕11の先端部がZ方向プラス側に変位すると、第2振動腕21の先端部がZ方向マイナス側に変位し、逆に、第1振動腕11の先端部がZ方向マイナス側に変位すると、第2振動腕21の先端部がZ方向プラス側に変位する屈曲振動で振動する。 Further, the first drive unit 12 and the second drive unit 13 of the first vibration element 10 and the third drive unit 22 and the fourth drive unit 23 of the second vibration element 20 are the first electrode 15 and the piezoelectric film 16. Since the stacking order of the second electrode 17 and the second electrode 17 is reversed, the first vibrating arm 11 of the first vibrating element 10 and the second vibrating arm 21 of the second vibrating element 20 are along the Z direction. And vibrate in opposite phase to each other. That is, in the vibrating element 2, when the tip of the first vibrating arm 11 is displaced to the positive side in the Z direction, the tip of the second vibrating arm 21 is displaced to the negative side in the Z direction, and conversely, the tip of the first vibrating arm 11 is displaced. When the tip portion is displaced to the minus side in the Z direction, the tip portion of the second vibrating arm 21 vibrates due to bending vibration that is displaced to the plus side in the Z direction.

このように、第1振動素子10の第1振動腕11と、第2振動素子20の第2振動腕21と、が逆位相で振動することにより、振動素子2の振動が安定する。なお、本実施形態では、振動素子2において、第1振動素子10の第1振動腕11と、第2振動素子20の第2振動腕21と、の2つの振動腕を使用しているが、3つ以上の振動腕をZ方向に並べて配置しても構わない。3つ以上の振動腕をZ方向に並べて配置する場合は、隣接するそれぞれの振動腕の振動は、互いに逆位相になるように駆動することが好ましい。 In this way, the first vibrating arm 11 of the first vibrating element 10 and the second vibrating arm 21 of the second vibrating element 20 vibrate in opposite phases, so that the vibration of the vibrating element 2 is stabilized. In the present embodiment, the vibrating element 2 uses two vibrating arms, a first vibrating arm 11 of the first vibrating element 10 and a second vibrating arm 21 of the second vibrating element 20. Three or more vibrating arms may be arranged side by side in the Z direction. When three or more vibrating arms are arranged side by side in the Z direction, it is preferable that the vibrations of the adjacent vibrating arms are driven so as to be in opposite phase to each other.

また、本実施形態では、第1振動腕11及び第2振動腕21の下面及び上面に、それぞれ第1駆動部12、第2駆動部13、第3駆動部22、第4駆動部23が設けられているが、振動腕の下面又は上面の一方の面だけに駆動部を設けても構わない。例えば、第1駆動部12と第3駆動部22との2つ、又は、第2駆動部13と第4駆動部23との2つだけでも本実施形態と同様の振動をさせることができる。 Further, in the present embodiment, the first drive unit 12, the second drive unit 13, the third drive unit 22, and the fourth drive unit 23 are provided on the lower surface and the upper surface of the first vibrating arm 11 and the second vibrating arm 21, respectively. However, the drive unit may be provided only on one surface of the lower surface or the upper surface of the vibrating arm. For example, the same vibration as in the present embodiment can be caused by only two of the first drive unit 12 and the third drive unit 22, or only two of the second drive unit 13 and the fourth drive unit 23.

また、本実施形態では、第1振動腕11と、第2振動腕21と、の両方の振動腕に駆動部を設けているが、第1振動腕11又は第2振動腕21の一方に駆動部を設け、他方の振動腕には駆動部を設けないことにしても構わない。例えば、第1駆動部12と第2駆動部13との2つ、又は、第3駆動部22と第4駆動部23との2つ、又は、第1駆動部12、第2駆動部13、第3駆動部22、第4駆動部23のうち1つだけでも構わない。第1振動腕11の固有振動数と、第2振動腕21の固有振動数と、を略一致させることにより、駆動部を設けた一方の振動腕が屈曲振動すると、駆動部を設けていない他方の振動腕が、共振作用で、逆位相で屈曲振動するため、少なくとも1つの振動腕に駆動部を設けることにより、本実施形態と同様の振動をさせることができる。 Further, in the present embodiment, the drive unit is provided on both the first vibrating arm 11 and the second vibrating arm 21, but it is driven by either the first vibrating arm 11 or the second vibrating arm 21. It is also possible to provide a portion and not to provide a drive portion on the other vibrating arm. For example, two of the first drive unit 12 and the second drive unit 13, two of the third drive unit 22 and the fourth drive unit 23, or the first drive unit 12, the second drive unit 13, Only one of the third drive unit 22 and the fourth drive unit 23 may be used. By substantially matching the natural frequency of the first vibrating arm 11 and the natural frequency of the second vibrating arm 21, when one vibrating arm provided with a drive unit flexes and vibrates, the other without a drive unit. Since the vibrating arm of No. 1 bends and vibrates in the opposite phase due to the resonance action, it is possible to vibrate in the same manner as in the present embodiment by providing a drive unit on at least one vibrating arm.

固定部50は、振動素子2を基板3の上面3hに固定するものである。固定部50の下面は、基板3の上面3hと接続し、固定部50の上面は、基部40の下面と接続している。言い換えると、固定部50は、基板3から、基板3の上面3hの法線方向であるZ方向プラス側に突出している。 The fixing portion 50 fixes the vibrating element 2 to the upper surface 3h of the substrate 3. The lower surface of the fixing portion 50 is connected to the upper surface 3h of the substrate 3, and the upper surface of the fixing portion 50 is connected to the lower surface of the base portion 40. In other words, the fixing portion 50 projects from the substrate 3 to the plus side in the Z direction, which is the normal direction of the upper surface 3h of the substrate 3.

本実施形態では、固定部50は、略直方体であり、Z方向から見た平面視で、固定部50の下面が基板3の上面3hと接続している基板側接続部50rの面積S1と、固定部50の上面が基部40の下面と接続している基部側接続部50hの面積S2と、は略等しい。 In the present embodiment, the fixing portion 50 is a substantially rectangular parallelepiped, and the area S1 of the substrate side connecting portion 50r in which the lower surface of the fixing portion 50 is connected to the upper surface 3h of the substrate 3 in a plan view seen from the Z direction. The area S2 of the base side connecting portion 50h in which the upper surface of the fixing portion 50 is connected to the lower surface of the base portion 40 is substantially equal to.

固定部50は、基板3の上面3hの法線方向であるZ方向から見た平面視で、基部40の外形に内包されており、かつ、基部40の面積よりも固定部50の面積は小さい。固定部50が、平面視で、基部40の外形に内包されていることにより、固定部50は、平面視で、基部40からはみ出さないので、基板3の平面方向において、小型化された振動デバイス1を得ることができる。また、平面視で、基部40の面積よりも固定部50の面積は小さいので、振動素子2の振動エネルギーが基部40から固定部50へ伝わり難くなり、振動素子2の振動エネルギーが基板3に漏洩することを抑制できるので、振動効率の高い振動デバイス1を得ることができる。 The fixed portion 50 is included in the outer shape of the base 40 in a plan view seen from the Z direction, which is the normal direction of the upper surface 3h of the substrate 3, and the area of the fixed portion 50 is smaller than the area of the base 40. .. Since the fixed portion 50 is included in the outer shape of the base 40 in a plan view, the fixed portion 50 does not protrude from the base 40 in a plan view, so that the vibration is reduced in the plane direction of the substrate 3. Device 1 can be obtained. Further, since the area of the fixed portion 50 is smaller than the area of the base 40 in a plan view, it becomes difficult for the vibration energy of the vibrating element 2 to be transmitted from the base 40 to the fixed portion 50, and the vibration energy of the vibrating element 2 leaks to the substrate 3. Since it is possible to suppress the vibration device 1, it is possible to obtain a vibration device 1 having high vibration efficiency.

また、固定部50は、Z方向から見た平面視で、基部40の第1振動腕11及び第2振動腕21が延出する側であるY方向プラス側の一端40aとは反対側であるY方向マイナス側に偏って配置されている。本実施形態では、固定部50は、固定部50のY方向の中心線L1が基部40のY方向の中心線L2よりもY方向マイナス側の位置となるように配置されている。固定部50を、平面視で、基部40の第1振動腕11及び第2振動腕21が延出する側とは反対側に偏って配置することにより、第1振動腕11及び第2振動腕21と、固定部50と、の間隔を離すことができるので、振動素子2の振動エネルギーが基板3に漏洩することを抑制できる。 Further, the fixed portion 50 is a side opposite to one end 40a on the plus side in the Y direction, which is the side on which the first vibrating arm 11 and the second vibrating arm 21 of the base 40 extend, in a plan view seen from the Z direction. It is unevenly arranged on the minus side in the Y direction. In the present embodiment, the fixing portion 50 is arranged so that the center line L1 in the Y direction of the fixing portion 50 is located on the minus side in the Y direction with respect to the center line L2 in the Y direction of the base portion 40. By arranging the fixed portion 50 biased to the side opposite to the extending side of the first vibrating arm 11 and the second vibrating arm 21 of the base 40 in a plan view, the first vibrating arm 11 and the second vibrating arm 21 are arranged. Since the distance between the 21 and the fixing portion 50 can be separated, it is possible to prevent the vibration energy of the vibrating element 2 from leaking to the substrate 3.

また、本実施形態では、第2振動腕21の上面と、基部40の上面と、が同一平面にあるが、基部40の上面が第2振動腕21の上面よりも上方に位置するように、基部40の上面をZ方向プラス側に突出させても構わない。基部40の上面を上方に突出させることで、基部40の重量が増し、振動素子2が安定し、振動エネルギーの漏洩を低減することができる。 Further, in the present embodiment, the upper surface of the second vibrating arm 21 and the upper surface of the base 40 are on the same plane, but the upper surface of the base 40 is located above the upper surface of the second vibrating arm 21. The upper surface of the base 40 may be projected to the plus side in the Z direction. By projecting the upper surface of the base 40 upward, the weight of the base 40 is increased, the vibration element 2 is stabilized, and the leakage of vibration energy can be reduced.

次に、振動デバイス1の製造方法について、図3~図8を参照しながら説明する。振動デバイス1の製造方法は、図3に示すように、第1振動素子形成工程と、第2振動素子形成工程と、第1振動素子10を基板3に接続する基板接続工程と、第1振動素子10と第2振動素子20を接続して振動素子2を形成する振動素子形成工程と、基板3に蓋体4を接続する蓋体接続工程と、を含んでいる。 Next, a method of manufacturing the vibration device 1 will be described with reference to FIGS. 3 to 8. As shown in FIG. 3, the manufacturing method of the vibrating device 1 includes a first vibrating element forming step, a second vibrating element forming step, a substrate connecting step of connecting the first vibrating element 10 to the substrate 3, and a first vibration. It includes a vibration element forming step of connecting the element 10 and the second vibration element 20 to form the vibration element 2, and a lid connection step of connecting the lid 4 to the substrate 3.

1.1 第1振動素子形成工程
図4に示すように、ステップS101において、第1振動素子10を形成する。具体的には、シリコンのウェハをエッチングし、第1振動腕11と、第1基部41と、固定部50と、を形成する。
次に、フォトリソグラフィー技法により、第1電極15と、圧電膜16と、第2電極17と、を含む第1駆動部12及び第2駆動部13を、第1振動腕11の下面及び上面にそれぞれ形成する。
1.1 First vibrating element forming step As shown in FIG. 4, the first vibrating element 10 is formed in step S101. Specifically, a silicon wafer is etched to form a first vibrating arm 11, a first base portion 41, and a fixing portion 50.
Next, by a photolithography technique, the first drive unit 12 and the second drive unit 13 including the first electrode 15, the piezoelectric film 16, and the second electrode 17 are placed on the lower surface and the upper surface of the first vibrating arm 11. Form each.

1.2 第2振動素子形成工程
図5に示すように、ステップS102において、第2振動素子20を形成する。具体的には、シリコンのウェハをエッチングし、第2振動腕21と、第2基部42と、を形成する。
次に、フォトリソグラフィー技法により、第1電極15と、圧電膜16と、第2電極17と、を含む第3駆動部22及び第4駆動部23を、第2振動腕21の下面及び上面にそれぞれ形成する。
1.2 Second vibrating element forming step As shown in FIG. 5, the second vibrating element 20 is formed in step S102. Specifically, the silicon wafer is etched to form the second vibrating arm 21 and the second base portion 42.
Next, by a photolithography technique, the third drive unit 22 and the fourth drive unit 23 including the first electrode 15, the piezoelectric film 16, and the second electrode 17 are placed on the lower surface and the upper surface of the second vibrating arm 21. Form each.

1.3 基板接続工程
図6に示すように、ステップS103において、第1振動素子10を基板3に接続する。具体的には、まず、基板3を準備する。基板3は、シリコンのウェハをエッチングして形成された、平面視で、第1振動素子10及び第2振動素子20よりも大きな矩形の平板である。基板3は、フォトリソグラフィー技法により形成された外部電極19や図示しない貫通電極や配線を有している。
次に、第1振動素子10の固定部50の下面と、基板3の上面3hとを接続する。接続方法としては、例えば、直接接合、陽極接合、拡散接合、金属共晶接合などを用いることができる。なお、本実施形態では、基板3は、シリコンで形成しているが、絶縁性セラミックスやガラスなどで形成しても構わない。
1.3 Board connection process As shown in FIG. 6, in step S103, the first vibrating element 10 is connected to the board 3. Specifically, first, the substrate 3 is prepared. The substrate 3 is a rectangular flat plate formed by etching a silicon wafer, which is larger than the first vibrating element 10 and the second vibrating element 20 in a plan view. The substrate 3 has an external electrode 19 formed by a photolithography technique, a through electrode (not shown), and wiring.
Next, the lower surface of the fixed portion 50 of the first vibrating element 10 and the upper surface 3h of the substrate 3 are connected. As the connection method, for example, direct bonding, anode bonding, diffusion bonding, metal eutectic bonding and the like can be used. In the present embodiment, the substrate 3 is made of silicon, but may be made of insulating ceramics, glass, or the like.

1.4 振動素子形成工程
図7に示すように、ステップS104において、第1振動素子10と、第2振動素子20と、を接続し、振動素子2を形成する。具体的には、平面視で、第1振動素子10と、第2振動素子20と、が重なるように、第1振動素子10の第1基部41の上面と、第2振動素子20の第2基部42の下面と、を接続する。これにより、第1振動素子10と、第2振動素子20と、が接続された振動素子2が形成される。接続方法としては、例えば、直接接合、陽極接合、拡散接合、金属共晶接合などを用いることができる。
1.4 Vibration element forming process As shown in FIG. 7, in step S104, the first vibration element 10 and the second vibration element 20 are connected to form the vibration element 2. Specifically, the upper surface of the first base 41 of the first vibrating element 10 and the second vibrating element 20 so that the first vibrating element 10 and the second vibrating element 20 overlap each other in a plan view. The lower surface of the base 42 is connected to the lower surface. As a result, the vibrating element 2 to which the first vibrating element 10 and the second vibrating element 20 are connected is formed. As the connection method, for example, direct bonding, anode bonding, diffusion bonding, metal eutectic bonding and the like can be used.

1.5 蓋体接続工程
図8に示すように、ステップS105において、基板3と、蓋体4と、を接続する。具体的には、まず、蓋体4を準備する。蓋体4は、シリコンのウェハをエッチングして形成された、振動素子2よりも大きな凹部を下面の中央部に有する箱状である。
次に、基板3の上面3hと、蓋体4の下面とを接続する。接続方法としては、例えば、直接接合、陽極接合、拡散接合、金属共晶接合などを用いることができる。このようにして、蓋体4の凹部が、振動素子2を囲うことにより、振動素子2を収容する収容空間6を有する振動デバイス1を得ることができる。なお、本実施形態では、蓋体4は、シリコンで形成しているが、金属、セラミックスやガラスなどで形成しても構わない。
1.5 Cover connection step As shown in FIG. 8, in step S105, the substrate 3 and the lid 4 are connected. Specifically, first, the lid 4 is prepared. The lid 4 has a box shape having a recess larger than that of the vibrating element 2 formed by etching a silicon wafer in the center of the lower surface.
Next, the upper surface 3h of the substrate 3 and the lower surface of the lid 4 are connected. As the connection method, for example, direct bonding, anode bonding, diffusion bonding, metal eutectic bonding and the like can be used. In this way, the recess of the lid 4 surrounds the vibrating element 2, so that the vibrating device 1 having the accommodating space 6 accommodating the vibrating element 2 can be obtained. In the present embodiment, the lid 4 is made of silicon, but may be made of metal, ceramics, glass, or the like.

なお、第1振動素子10と、第2振動素子20と、基板3と、蓋体4と、はそれぞれを形成したウェハからダイシングにより個片化してから接続しても良く、あるいは、個片化せずにバッチ処理方式で、第1振動素子10と、第2振動素子20と、基板3と、蓋体4と、がそれぞれ複数形成されたウェハを接続してからダイシングにより個片化しても構わない。 The first vibrating element 10, the second vibrating element 20, the substrate 3, and the lid 4 may be separated from the wafer on which they are formed by dicing and then connected, or they may be separated. Even if a wafer in which a plurality of first vibrating elements 10, a second vibrating element 20, a substrate 3, and a lid 4 are formed is connected by a batch processing method without using a batch processing method, the wafers are individually diced. I do not care.

本実施形態では、基板3と、固定部50と、基部40と、第1振動腕11と、第2振動腕21と、蓋体4と、はシリコンを用いて製造されている。ポリシリコンやアモルファスシリコンのような半導体材料を用いることにより、所望の形状に容易に加工することができる。 In the present embodiment, the substrate 3, the fixing portion 50, the base portion 40, the first vibrating arm 11, the second vibrating arm 21, and the lid 4 are manufactured using silicon. By using a semiconductor material such as polysilicon or amorphous silicon, it can be easily processed into a desired shape.

なお、振動デバイス1の製造方法は上述した製造方法に限らず、例えば、第1振動素子10を形成したウェハに、CVD法やスパッタ法などを用いてポリシリコンやアモルファスシリコンなどの半導体材料を成膜し、フォトリソグラフィー技法などを用いてパターニングを繰り返す半導体プロセスによって、第1振動素子10の上方に第2振動素子20を積層構造状に形成しても構わない。 The manufacturing method of the vibrating device 1 is not limited to the manufacturing method described above, and for example, a semiconductor material such as polysilicon or amorphous silicon is formed on a wafer on which the first vibrating element 10 is formed by using a CVD method, a sputtering method, or the like. The second vibrating element 20 may be formed in a laminated structure above the first vibrating element 10 by a semiconductor process in which a film is formed and patterning is repeated using a photolithographic technique or the like.

以上述べた通り、本実施形態によれば、以下の効果を得ることができる。基部40から延出する第1振動腕11と、第2振動腕21と、がZ方向に並んで配置され、平面視で、重なっており、さらに、固定部50が、平面視で、基部40の外形に内包されていることにより、基板3の平面方向において、小型化された振動デバイス1を得ることができる。また、平面視で、固定部50の面積は、基部40の面積よりも小さいので、振動素子2の振動エネルギーの漏洩を抑制でき、振動効率の高い振動デバイス1を得ることができる。 As described above, according to the present embodiment, the following effects can be obtained. The first vibrating arm 11 extending from the base 40 and the second vibrating arm 21 are arranged side by side in the Z direction and overlap each other in a plan view. Further, the fixed portion 50 is a base 40 in a plan view. By being included in the outer shape of the substrate 3, it is possible to obtain a miniaturized vibration device 1 in the plane direction of the substrate 3. Further, since the area of the fixed portion 50 is smaller than the area of the base portion 40 in a plan view, the leakage of the vibration energy of the vibration element 2 can be suppressed, and the vibration device 1 having high vibration efficiency can be obtained.

2.実施形態2
次に、実施形態2に係る振動デバイス1aを、図9及び図10を参照して説明する。なお、以下の説明では、上述した実施形態1との相違点を中心に説明し、実施形態1と同一の構成については、同一の符号を付して、重複する説明を省略する。
2. 2. Embodiment 2
Next, the vibration device 1a according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. 9 and 10. In the following description, the differences from the above-described first embodiment will be mainly described, and the same components as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals and duplicated description will be omitted.

本実施形態に係る振動デバイス1aは、実施形態1の振動デバイス1に比べ、振動素子2aの形状が異なる。具体的には、第1振動素子10aの固定部50aの形状が異なり、固定部50aは、くびれ部55を有する。 The vibration device 1a according to the present embodiment has a different shape of the vibration element 2a from the vibration device 1 of the first embodiment. Specifically, the shape of the fixed portion 50a of the first vibrating element 10a is different, and the fixed portion 50a has a constricted portion 55.

図9及び図10に示すように、固定部50aは、固定部50aの基板側接続部50rと、固定部50aの基部側接続部50hと、の間に、固定部50aの基板3の上面3hと平行な断面の断面積が、基板側接続部50rから基部側接続部50hに向かう方向であるZ方向プラス側に向かって、減少から増加に転じるくびれ部55を有する。 As shown in FIGS. 9 and 10, the fixing portion 50a is placed between the substrate side connecting portion 50r of the fixing portion 50a and the base side connecting portion 50h of the fixing portion 50a, and the upper surface 3h of the substrate 3 of the fixing portion 50a. The cross-sectional area of the cross section parallel to the above has a constricted portion 55 that changes from decreasing to increasing toward the plus side in the Z direction, which is the direction from the substrate side connecting portion 50r to the base side connecting portion 50h.

図9に示すように、平面視で、固定部50aのくびれ部55の面積S3は、固定部50aの基板側接続部50rの面積S1よりも小さい。また、平面視で、固定部50aのくびれ部55の面積S3は、固定部50aの基部側接続部50hの面積S2よりも小さい。なお、本実施形態では、基板側接続部50rの面積S1と、基部側接続部50hの面積S2と、は略等しいが、基板側接続部50rの面積S1と、基部側接続部50hの面積S2と、は異なっていても構わない。 As shown in FIG. 9, in a plan view, the area S3 of the constricted portion 55 of the fixed portion 50a is smaller than the area S1 of the substrate-side connecting portion 50r of the fixed portion 50a. Further, in a plan view, the area S3 of the constricted portion 55 of the fixed portion 50a is smaller than the area S2 of the base side connecting portion 50h of the fixed portion 50a. In the present embodiment, the area S1 of the substrate side connection portion 50r and the area S2 of the base side connection portion 50h are substantially the same, but the area S1 of the substrate side connection portion 50r and the area S2 of the base side connection portion 50h. And may be different.

図10に示すように、固定部50aは、X方向の断面視で、くびれ部55を有する鼓形状を有する。固定部50aの基板3の上面3hと平行な断面の断面積は、平面視で、固定部50aの基板側接続部50rからくびれ部55に向かうにつれて漸減し、くびれ部55から固定部50aの基部側接続部50hに向かうにつれて漸増している。なお、本実施形態では、平面視で、固定部50aの基板3の上面3hと平行な断面の断面積は、連続的に変化しているが、例えば、固定部50aを階段状とし、固定部50aの断面積が不連続的に変化するようにしても構わない。ただし、固定部50aの断面積を不連続的に変化させると、固定部50aに外部から応力が加わった際に、固定部50aの断面積が不連続的に変化する部分に応力が集中し、固定部50aが破損する虞があるため、固定部50aの断面積は連続的に変化させることが好ましい。 As shown in FIG. 10, the fixed portion 50a has a drum shape having a constricted portion 55 in a cross-sectional view in the X direction. The cross-sectional area of the cross section of the fixed portion 50a parallel to the upper surface 3h of the substrate 3 gradually decreases from the substrate side connecting portion 50r of the fixed portion 50a toward the constricted portion 55, and from the constricted portion 55 to the base portion of the fixed portion 50a. It gradually increases toward the side connection portion 50h. In the present embodiment, the cross-sectional area of the fixed portion 50a parallel to the upper surface 3h of the substrate 3 changes continuously. For example, the fixed portion 50a is stepped and the fixed portion is fixed. The cross-sectional area of 50a may be changed discontinuously. However, if the cross-sectional area of the fixed portion 50a is discontinuously changed, when stress is applied to the fixed portion 50a from the outside, the stress is concentrated on the portion where the cross-sectional area of the fixed portion 50a changes discontinuously. Since the fixed portion 50a may be damaged, it is preferable to continuously change the cross-sectional area of the fixed portion 50a.

本実施形態によれば、実施形態1での効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
固定部50aにくびれ部55を設けることにより、振動素子2aの振動エネルギーが固定部50aから基板3へ伝わり難くなり、振動素子2aの振動エネルギーの漏洩をさらに抑制できるので、振動効率の高い振動デバイス1aを得ることができる。さらに、固定部50aが基板3と接続している基板側接続部50rと、固定部50aが基部40と接続している基部側接続部50hと、のそれぞれの面積を広く確保できるので、基板側接続部50rあるいは基部側接続部50hにおいて固定部50aが破損し難くなり、信頼性の高い振動デバイス1aを得ることができる。
According to the present embodiment, the following effects can be obtained in addition to the effects in the first embodiment.
By providing the constricted portion 55 in the fixed portion 50a, the vibration energy of the vibrating element 2a is less likely to be transmitted from the fixed portion 50a to the substrate 3, and the leakage of the vibration energy of the vibrating element 2a can be further suppressed. 1a can be obtained. Further, since it is possible to secure a wide area for each of the board-side connecting portion 50r in which the fixing portion 50a is connected to the substrate 3 and the base-side connecting portion 50h in which the fixing portion 50a is connected to the base portion 40, the substrate side can be secured. The fixed portion 50a is less likely to be damaged at the connecting portion 50r or the base side connecting portion 50h, and a highly reliable vibration device 1a can be obtained.

3.実施形態3
次に、実施形態3に係る振動デバイス1bを、図11及び図12を参照して説明する。なお、以下の説明では、上述した実施形態1との相違点を中心に説明し、実施形態1と同一の構成については、同一の符号を付して、重複する説明を省略する。
3. 3. Embodiment 3
Next, the vibration device 1b according to the third embodiment will be described with reference to FIGS. 11 and 12. In the following description, the differences from the above-described first embodiment will be mainly described, and the same components as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals and duplicated description will be omitted.

本実施形態に係る振動デバイス1bは、実施形態1の振動デバイス1に比べ、振動素子2bの形状が異なる。具体的には、第1振動素子10bの固定部50bの形状が異なり、固定部50bは、四角錐台形形状を有する。 The vibration device 1b according to the present embodiment has a different shape of the vibration element 2b from the vibration device 1 of the first embodiment. Specifically, the shape of the fixed portion 50b of the first vibrating element 10b is different, and the fixed portion 50b has a quadrangular pyramid trapezoidal shape.

図11及び図12に示すように、固定部50bは、固定部50bの基板3の上面3hと平行な断面の断面積が固定部50bの基板側接続部50rから固定部50bの基部側接続部50hに向かうにつれて漸減する四角錐台形形状を有し、X方向から見た断面視で、テーパー形状を有する。 As shown in FIGS. 11 and 12, the fixing portion 50b has a cross-sectional area parallel to the upper surface 3h of the substrate 3 of the fixing portion 50b from the substrate side connecting portion 50r of the fixing portion 50b to the base side connecting portion of the fixing portion 50b. It has a quadrangular pyramid trapezoidal shape that gradually decreases toward 50 hours, and has a tapered shape in a cross-sectional view seen from the X direction.

図11に示すように、平面視で、固定部50bの基板側接続部50rの面積S1と、固定部50bの基部側接続部50hの面積S2と、は異なり、S1≠S2の関係を満たす。また、固定部50bの基板側接続部50rの面積S1は、固定部50bの基部側接続部50hの面積S2よりも大きく、S1>S2の関係を満たす。 As shown in FIG. 11, in a plan view, the area S1 of the substrate-side connecting portion 50r of the fixed portion 50b and the area S2 of the base-side connecting portion 50h of the fixed portion 50b are different from each other, and the relationship of S1 ≠ S2 is satisfied. Further, the area S1 of the substrate-side connecting portion 50r of the fixing portion 50b is larger than the area S2 of the base-side connecting portion 50h of the fixing portion 50b, and satisfies the relationship S1> S2.

なお、本実施形態では、固定部50bの基板3の上面3hと平行な断面の断面積は、固定部50bの基板側接続部50rから固定部50bの基部側接続部50hに向かうにつれて、連続的に変化しているが、例えば、固定部50bを階段状とし、固定部50bの断面積が不連続的に変化するようにしても構わない。 In the present embodiment, the cross-sectional area of the fixed portion 50b parallel to the upper surface 3h of the substrate 3 is continuous from the substrate side connecting portion 50r of the fixing portion 50b toward the base side connecting portion 50h of the fixing portion 50b. However, for example, the fixed portion 50b may be stepped so that the cross-sectional area of the fixed portion 50b changes discontinuously.

本実施形態によれば、実施形態1での効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
平面視で、固定部50bの基板側接続部50rの面積S1と、固定部50bの基部側接続部50hの面積S2と、がS1≠S2の関係を満たすことにより、振動効率の高い振動デバイス1bを得ることができる。これは、固定部50bの基板側接続部50r又は固定部50bの基部側接続部50hのうち面積の小さい側、つまり、本実施形態では固定部50bの基部側接続部50hにおいて、振動素子2bの振動エネルギーが基部40から固定部50bに伝わり難くなり、振動エネルギーの漏洩をさらに抑制することができるからである。
According to the present embodiment, the following effects can be obtained in addition to the effects in the first embodiment.
In a plan view, the area S1 of the substrate side connection portion 50r of the fixed portion 50b and the area S2 of the base side connection portion 50h of the fixed portion 50b satisfy the relationship S1 ≠ S2, so that the vibration device 1b with high vibration efficiency is satisfied. Can be obtained. This is the smaller area side of the substrate side connection portion 50r of the fixing portion 50b or the base side connection portion 50h of the fixing portion 50b, that is, in the present embodiment, at the base side connection portion 50h of the fixing portion 50b, the vibrating element 2b. This is because the vibration energy is less likely to be transmitted from the base 40 to the fixed portion 50b, and the leakage of the vibration energy can be further suppressed.

また、平面視で、固定部50bの基板側接続部50rの面積S1と、固定部50bの基部側接続部50hの面積S2と、がS1>S2の関係を満たすことにより、固定部50bの基板側接続部50rの面積S1を広く確保できるので、基板側接続部50rにおいて固定部50bが破損し難くなり、信頼性の高い振動デバイス1bを得ることができる。 Further, in a plan view, the area S1 of the substrate side connection portion 50r of the fixed portion 50b and the area S2 of the base side connection portion 50h of the fixed portion 50b satisfy the relationship of S1> S2, so that the substrate of the fixed portion 50b is satisfied. Since the area S1 of the side connecting portion 50r can be secured widely, the fixed portion 50b is less likely to be damaged in the substrate side connecting portion 50r, and a highly reliable vibration device 1b can be obtained.

4.実施形態4
次に、実施形態4に係る振動デバイス1cを、図13及び図14を参照して説明する。なお、以下の説明では、上述した実施形態1との相違点を中心に説明し、実施形態1と同一の構成については、同一の符号を付して、重複する説明を省略する。
4. Embodiment 4
Next, the vibration device 1c according to the fourth embodiment will be described with reference to FIGS. 13 and 14. In the following description, the differences from the above-described first embodiment will be mainly described, and the same components as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals and duplicated description will be omitted.

本実施形態に係る振動デバイス1cは、実施形態1の振動デバイス1に比べ、振動素子2cの形状が異なる。具体的には、第1振動素子10cの固定部50cの形状が異なり、固定部50cは、逆四角錘台形形状を有する。 The vibration device 1c according to the present embodiment has a different shape of the vibration element 2c from the vibration device 1 of the first embodiment. Specifically, the shape of the fixed portion 50c of the first vibrating element 10c is different, and the fixed portion 50c has an inverted square pyramidal trapezoidal shape.

図13及び図14に示すように、固定部50cは、固定部50cの基板3の上面3hと平行な断面の断面積が固定部50cの基板側接続部50rから固定部50cの基部側接続部50hに向かうにつれて、漸増する逆四角錘台形形状を有し、X方向から見た断面視で、逆テーパー形状を有する。 As shown in FIGS. 13 and 14, the fixing portion 50c has a cross-sectional area parallel to the upper surface 3h of the substrate 3 of the fixing portion 50c from the substrate side connecting portion 50r of the fixing portion 50c to the base side connecting portion of the fixing portion 50c. It has an inverted square pyramidal trapezoidal shape that gradually increases toward 50 hours, and has an inverted tapered shape in a cross-sectional view seen from the X direction.

図13に示すように、平面視で、固定部50cの基板側接続部50rの面積S1と、固定部50cの基部側接続部50hの面積S2と、は異なり、S1≠S2の関係を満たす。また、固定部50cの基板側接続部50rの面積S1は、固定部50cの基部側接続部50hの面積S2よりも小さく、S1<S2の関係を満たす。 As shown in FIG. 13, in a plan view, the area S1 of the substrate-side connecting portion 50r of the fixed portion 50c and the area S2 of the base-side connecting portion 50h of the fixed portion 50c satisfy the relationship of S1 ≠ S2. Further, the area S1 of the substrate side connecting portion 50r of the fixing portion 50c is smaller than the area S2 of the base side connecting portion 50h of the fixing portion 50c, and the relationship of S1 <S2 is satisfied.

なお、本実施形態では、固定部50cの基板3の上面3hと平行な断面の断面積は、固定部50cの基板側接続部50rから固定部50cの基部側接続部50hに向かうにつれて、連続的に変化しているが、例えば、固定部50cを階段状とし、固定部50cの断面積が不連続的に変化するようにしても構わない。 In the present embodiment, the cross-sectional area of the cross section of the fixing portion 50c parallel to the upper surface 3h of the substrate 3 is continuous as it goes from the substrate side connecting portion 50r of the fixing portion 50c toward the base side connecting portion 50h of the fixing portion 50c. However, for example, the fixed portion 50c may be formed in a stepped shape so that the cross-sectional area of the fixed portion 50c changes discontinuously.

本実施形態によれば、実施形態1での効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
平面視で、固定部50cの基板側接続部50rの面積S1と、固定部50cの基部側接続部50hの面積S2と、がS1≠S2の関係を満たすことにより、実施形態3と同等の効果を得ることができ、振動効率の高い振動デバイス1cを得ることができる。
According to the present embodiment, the following effects can be obtained in addition to the effects in the first embodiment.
In a plan view, the area S1 of the substrate-side connecting portion 50r of the fixed portion 50c and the area S2 of the base-side connecting portion 50h of the fixed portion 50c satisfy the relationship of S1 ≠ S2, thereby having the same effect as that of the third embodiment. Can be obtained, and a vibration device 1c having high vibration efficiency can be obtained.

また、平面視で、固定部50cの基板側接続部50rの面積S1と、固定部50cの基部側接続部50hの面積S2と、の関係がS1<S2の関係を満たすことにより、生産性の良い振動デバイス1cを得ることができる。これは、ウェハをエッチングして固定部50cを形成する場合、固定部50cの基部側接続部50hをアンダーカットせずに形成できるため、エッチング時間の短縮化が図れ、固定部50cを製造し易くなるからである。 Further, in a plan view, the relationship between the area S1 of the substrate-side connecting portion 50r of the fixed portion 50c and the area S2 of the base-side connecting portion 50h of the fixed portion 50c satisfies the relationship of S1 <S2, thereby increasing productivity. A good vibrating device 1c can be obtained. This is because when the wafer is etched to form the fixed portion 50c, the base side connecting portion 50h of the fixed portion 50c can be formed without undercutting, so that the etching time can be shortened and the fixed portion 50c can be easily manufactured. Because it becomes.

5.実施形態5
次に、実施形態5に係る振動デバイス1dを、図15~図17を参照して説明する。なお、以下の説明では、上述した実施形態1との相違点を中心に説明し、実施形態1と同一の構成については、同一の符号を付して、重複する説明を省略する。
5. Embodiment 5
Next, the vibration device 1d according to the fifth embodiment will be described with reference to FIGS. 15 to 17. In the following description, the differences from the above-described first embodiment will be mainly described, and the same components as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals and duplicated description will be omitted.

本実施形態に係る振動デバイス1dは、実施形態1の振動デバイス1に比べ、振動素子2dの振動する方向が異なる。具体的には、振動素子2dは、第1振動素子10dと、第2振動素子20dと、第3振動素子30と、を有し、第1振動素子10dと、第2振動素子20dと、第3振動素子30と、はX方向に振動する。 The vibration device 1d according to the present embodiment has a different vibration direction of the vibration element 2d than the vibration device 1 of the first embodiment. Specifically, the vibrating element 2d includes a first vibrating element 10d, a second vibrating element 20d, and a third vibrating element 30, a first vibrating element 10d, a second vibrating element 20d, and a first vibration element. 3 The vibrating element 30 vibrates in the X direction.

図15及び図16に示すように、振動素子2dは、第1振動素子10dと、第2振動素子20dと、第3振動素子30と、を有し、四角錘台形形状を有する固定部50dと、基板3と、が接続されている。 As shown in FIGS. 15 and 16, the vibrating element 2d includes a first vibrating element 10d, a second vibrating element 20d, and a third vibrating element 30, and has a fixed portion 50d having a square pyramidal trapezoidal shape. , And the substrate 3 are connected.

第3振動素子30は、第3基部43と、第3基部43から延出する第3振動腕31と、第3振動腕31を振動させるための第5駆動部32及び第6駆動部33と、を有する。本実施形態では、第3振動素子30の第3基部43と、第3振動腕31と、は、第2振動素子20dの第2基部42dと、第2振動腕21dと、それぞれ略同じ形状を有している。 The third vibrating element 30 includes a third base 43, a third vibrating arm 31 extending from the third base 43, and a fifth driving unit 32 and a sixth driving unit 33 for vibrating the third vibrating arm 31. , Have. In the present embodiment, the third base 43 of the third vibrating element 30 and the third vibrating arm 31 have substantially the same shape as the second base 42d of the second vibrating element 20d and the second vibrating arm 21d, respectively. Have.

第1振動素子10dの第1基部41dと、第2振動素子20dの第2基部42dと、第3振動素子30の第3基部43と、は、Z方向プラス側に向かって、この順番で接続され、基部40dとなっている。 The first base portion 41d of the first vibrating element 10d, the second base portion 42d of the second vibrating element 20d, and the third base portion 43 of the third vibrating element 30 are connected in this order toward the plus side in the Z direction. The base is 40d.

第1振動素子10dの第1振動腕11dと、第2振動素子20dの第2振動腕21dと、第3振動素子30の第3振動腕31と、はZ方向に並んで、基部40dのY方向プラス側の一端40aからY方向プラス側に延出している。 The first vibrating arm 11d of the first vibrating element 10d, the second vibrating arm 21d of the second vibrating element 20d, and the third vibrating arm 31 of the third vibrating element 30 are arranged in the Z direction and Y of the base 40d. It extends from one end 40a on the plus side in the direction to the plus side in the Y direction.

また、第3振動腕31のX方向マイナス側の側面には、第3振動腕31側から第2電極17d、圧電膜16d、第1電極15dの順で積層されている第5駆動部32が設けられている。第3振動腕31のX方向プラス側の側面には、第3振動腕31側から第1電極15d、圧電膜16d、第2電極17dの順で積層されている第6駆動部33が設けられている。 Further, on the side surface of the third vibrating arm 31 on the negative side in the X direction, a fifth drive unit 32 in which the second electrode 17d, the piezoelectric film 16d, and the first electrode 15d are laminated in this order from the third vibrating arm 31 side is formed. It is provided. On the side surface of the third vibrating arm 31 on the plus side in the X direction, a sixth drive unit 33 in which the first electrode 15d, the piezoelectric film 16d, and the second electrode 17d are laminated in this order from the third vibrating arm 31 side is provided. ing.

図16及び図17に示すように、第2振動腕21dのX方向マイナス側の側面には、第2振動腕21d側から第1電極15d、圧電膜16d、第2電極17dの順で積層されている第3駆動部22dが設けられている。第2振動腕21dのX方向プラス側の側面には、第2振動腕21d側から第2電極17d、圧電膜16d、第1電極15dの順で積層されている第4駆動部23dが設けられている。 As shown in FIGS. 16 and 17, on the side surface of the second vibrating arm 21d on the negative side in the X direction, the first electrode 15d, the piezoelectric film 16d, and the second electrode 17d are laminated in this order from the second vibrating arm 21d side. A third drive unit 22d is provided. On the side surface of the second vibrating arm 21d on the plus side in the X direction, a fourth drive unit 23d in which the second electrode 17d, the piezoelectric film 16d, and the first electrode 15d are laminated in this order from the second vibrating arm 21d side is provided. ing.

また、第1振動腕11dのX方向マイナス側の側面には、第5駆動部32と同じ構成の第1駆動部12dが設けられている。第1振動腕11dのX方向プラス側の側面には、第6駆動部33と同じ構成の第2駆動部13dが設けられている。 Further, a first drive unit 12d having the same configuration as the fifth drive unit 32 is provided on the side surface of the first vibrating arm 11d on the negative side in the X direction. A second drive unit 13d having the same configuration as the sixth drive unit 33 is provided on the side surface of the first vibrating arm 11d on the plus side in the X direction.

第1駆動部12dと、第2駆動部13dと、第3駆動部22dと、第4駆動部23dと、第5駆動部32と、第6駆動部33と、のそれぞれの第1電極15dは、図示しない配線により電気的に接続されている。第1駆動部12dと、第2駆動部13dと、第3駆動部22dと、第4駆動部23dと、第5駆動部32と、第6駆動部33と、のそれぞれの第2電極17dは、図示しない配線により電気的に接続されている。 The first electrodes 15d of the first drive unit 12d, the second drive unit 13d, the third drive unit 22d, the fourth drive unit 23d, the fifth drive unit 32, and the sixth drive unit 33 are respectively. , Electrically connected by wiring (not shown). The second electrodes 17d of the first drive unit 12d, the second drive unit 13d, the third drive unit 22d, the fourth drive unit 23d, the fifth drive unit 32, and the sixth drive unit 33 are respectively. , Electrically connected by wiring (not shown).

第1振動素子10dの第1振動腕11dと、第3振動素子30の第3振動腕31と、はX方向に沿って同位相で振動し、第1振動腕11d及び第3振動腕31と、第2振動素子20dの第2振動腕21dと、はX方向に沿って互いに逆位相で振動する。このように隣り合う振動腕を互いに逆位相で振動させることにより、振動素子2dの振動が安定する。 The first vibrating arm 11d of the first vibrating element 10d and the third vibrating arm 31 of the third vibrating element 30 vibrate in the same phase along the X direction, and the first vibrating arm 11d and the third vibrating arm 31 , The second vibrating arm 21d of the second vibrating element 20d vibrates in opposite phases along the X direction. By vibrating the adjacent vibrating arms in opposite phases in this way, the vibration of the vibrating element 2d is stabilized.

本実施形態によれば、振動素子2dの振動する方向をX方向としたときも、実施形態1と同様な効果を得ることができる。 According to the present embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained even when the vibrating direction of the vibrating element 2d is the X direction.

また、本実施形態によれば、固定部50dは、四角錘台形形状であるので、実施形態3と同等の効果を得ることができる。 Further, according to the present embodiment, since the fixed portion 50d has a square pyramidal trapezoidal shape, the same effect as that of the third embodiment can be obtained.

6.実施形態6
次に、実施形態6に係る振動デバイス1eを、図18~図20を参照して説明する。なお、以下の説明では、上述した実施形態1との相違点を中心に説明し、実施形態1と同一の構成については、同一の符号を付して、重複する説明を省略する。
6. Embodiment 6
Next, the vibration device 1e according to the sixth embodiment will be described with reference to FIGS. 18 to 20. In the following description, the differences from the above-described first embodiment will be mainly described, and the same components as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals and duplicated description will be omitted.

本実施形態に係る振動デバイス1eは、実施形態1の振動デバイス1に比べ、振動素子2eの材質が異なる。具体的には、第1振動素子10eの第1振動腕11eと、第1基部41eと、固定部50eと、第2振動素子20eの第2振動腕21eと、第2基部42eと、を圧電材料である、例えば、水晶により形成している。 The material of the vibration element 2e of the vibration device 1e according to the present embodiment is different from that of the vibration device 1 of the first embodiment. Specifically, the first vibrating arm 11e of the first vibrating element 10e, the first base portion 41e, the fixing portion 50e, the second vibrating arm 21e of the second vibrating element 20e, and the second base portion 42e are piezoelectric. It is made of a material, such as quartz.

図18及び図19に示すように、振動素子2eは、第1振動素子10eと、第2振動素子20eと、を有し、四角錘台形形状を有する固定部50eと、基板3と、が接続されている。 As shown in FIGS. 18 and 19, the vibrating element 2e has a first vibrating element 10e and a second vibrating element 20e, and a fixed portion 50e having a square trapezoidal shape and a substrate 3 are connected to each other. Has been done.

第1振動素子10eの第1基部41eと、第2振動素子20eの第2基部42eと、は、Z方向プラス側に向かって、この順番で接続され、基部40eを形成している。 The first base portion 41e of the first vibrating element 10e and the second base portion 42e of the second vibrating element 20e are connected in this order toward the plus side in the Z direction to form the base portion 40e.

第1振動素子10eの第1振動腕11eと、第2振動素子20eの第2振動腕21eと、はZ方向に並んで、基部40eのY方向プラス側の一端40aからY方向プラス側に延出している。 The first vibrating arm 11e of the first vibrating element 10e and the second vibrating arm 21e of the second vibrating element 20e are aligned in the Z direction and extend from one end 40a on the positive side in the Y direction of the base 40e to the positive side in the Y direction. It is out.

第2振動腕21eの上面及び下面には第2電極17eが形成され、第2振動腕21eのX方向プラス側及びX方向マイナス側の両側面には、第1電極15eが形成されている。 The second electrode 17e is formed on the upper surface and the lower surface of the second vibrating arm 21e, and the first electrode 15e is formed on both the positive side and the negative side in the X direction of the second vibrating arm 21e.

図19及び図20に示すように、第1振動腕11eの上面及び下面には第1電極15eが形成され、第1振動腕11eのX方向プラス側及びマイナス側の両側面には、第2電極17eが形成されている。 As shown in FIGS. 19 and 20, a first electrode 15e is formed on the upper surface and the lower surface of the first vibrating arm 11e, and a second electrode 15e is formed on both the positive and negative sides of the first vibrating arm 11e in the X direction. The electrode 17e is formed.

第1振動腕11eの第1電極15eと、第2振動腕21eの第1電極15eとは、図示しない配線により電気的に接続されている。第1振動腕11eの第2電極17eと、第2振動腕21eの第2電極17eと、は、図示しない配線により電気的に接続されている。 The first electrode 15e of the first vibrating arm 11e and the first electrode 15e of the second vibrating arm 21e are electrically connected by wiring (not shown). The second electrode 17e of the first vibrating arm 11e and the second electrode 17e of the second vibrating arm 21e are electrically connected by wiring (not shown).

第1振動腕11eと、第2振動腕21eと、を水晶で形成することにより、第1電極15eと、第2電極17eと、第1振動腕11eと、により第1振動素子10eを振動させることができ、同様に、第1電極15eと、第2電極17eと、第2振動腕21eと、により第2振動素子20eを振動させることができる。 By forming the first vibrating arm 11e and the second vibrating arm 21e with a crystal, the first vibrating element 10e is vibrated by the first electrode 15e, the second electrode 17e, and the first vibrating arm 11e. Similarly, the second vibrating element 20e can be vibrated by the first electrode 15e, the second electrode 17e, and the second vibrating arm 21e.

第1振動腕11eにおける第1電極15e及び第2電極17eの配置と、第2振動腕21eにおける第1電極15e及び第2電極17eの配置と、はそれぞれ逆になっている。これにより、第1振動素子10eと、第2振動素子20eと、は互いに逆位相で振動するので、振動素子2eの振動が安定する。なお、本実施形態では、第1振動素子10e及び第2振動素子20eと、がZ方向に振動するように、第1振動腕11e及び第2振動腕21eを構成する水晶の結晶軸を選定しているが、X方向に振動するように結晶軸を選定してもよい。 The arrangement of the first electrode 15e and the second electrode 17e on the first vibrating arm 11e and the arrangement of the first electrode 15e and the second electrode 17e on the second vibrating arm 21e are opposite to each other. As a result, the first vibrating element 10e and the second vibrating element 20e vibrate in opposite phases to each other, so that the vibration of the vibrating element 2e is stable. In this embodiment, the crystal axes of the crystals constituting the first vibrating arm 11e and the second vibrating arm 21e are selected so that the first vibrating element 10e and the second vibrating element 20e vibrate in the Z direction. However, the crystal axis may be selected so as to vibrate in the X direction.

なお、本実施形態では、圧電材料として水晶を用いているが、圧電材料としては、例えば、AlN、ZnO、PZTなどのセラミックスであってもよい。 In this embodiment, quartz is used as the piezoelectric material, but the piezoelectric material may be, for example, ceramics such as AlN, ZnO, and PZT.

本実施形態によれば、第1振動腕11e及び第2振動腕21eとして水晶を用いたときも、実施形態1と同様な効果を得ることができる。 According to the present embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained even when the crystal is used as the first vibrating arm 11e and the second vibrating arm 21e.

また、本実施形態によれば、固定部50eは、四角錘台形形状であるので、実施形態3と同等の効果を得ることができる。 Further, according to the present embodiment, since the fixed portion 50e has a square pyramidal trapezoidal shape, the same effect as that of the third embodiment can be obtained.

なお、上述した振動デバイス1~1eは、発振器や、加速度センサーや角速度センサーなどの慣性センサーとして好適に用いることができる。 The vibration devices 1 to 1e described above can be suitably used as an inertial sensor such as an oscillator, an acceleration sensor, or an angular velocity sensor.

1~1e…振動デバイス、2~2e…振動素子、3…基板、3h…基板の平面である上面、4…蓋体、6…収容空間、10~10e…第1振動素子、11,11d,11e…第1振動腕、12,12d…第1駆動部、13,13d…第2駆動部、15,15d,15e…第1電極、16,16d…圧電膜、17,17d,17e…第2電極、19…外部電極、20,20d,20e…第2振動素子、21,21d,21e…第2振動腕、22,22d…第3駆動部、23,23d…第4駆動部、30…第3振動素子、31…第3振動腕、32…第5駆動部、33…第6駆動部、40,40d,40e…基部、40a…基部のY方向プラス側の一端、41,41d,41e…第1基部、42,42d,42e…第2基部、43…第3基部、50~50e…固定部、50h…固定部の基部側接続部、50r…固定部の基板側接続部、55…くびれ部、S1…固定部の基板側接続部の面積、S2…固定部の基部側接続部の面積、S3…くびれ部の面積、L1…固定部のY方向の中心線、L2…基部のY方向の中心線。 1 to 1e ... vibration device, 2 to 2e ... vibration element, 3 ... substrate, 3h ... top surface of the substrate, 4 ... lid, 6 ... accommodation space, 10 to 10e ... first vibration element, 11, 11d, 11e ... 1st vibrating arm, 12, 12d ... 1st drive unit, 13, 13d ... 2nd drive unit, 15, 15d, 15e ... 1st electrode, 16, 16d ... Piezoelectric film, 17, 17d, 17e ... 2nd Electrodes, 19 ... External electrodes, 20, 20d, 20e ... Second vibrating elements, 21,21d, 21e ... Second vibrating arms, 22, 22d ... Third drive unit, 23, 23d ... Fourth drive unit, 30 ... 3 vibrating element, 31 ... 3rd vibrating arm, 32 ... 5th drive unit, 33 ... 6th drive unit, 40, 40d, 40e ... base, 40a ... one end of the base on the positive side in the Y direction, 41, 41d, 41e ... 1st base, 42, 42d, 42e ... 2nd base, 43 ... 3rd base, 50-50e ... Fixed part, 50h ... Base side connection part of fixed part, 50r ... Board side connection part of fixed part, 55 ... Constriction Part, S1 ... Area of the substrate side connection part of the fixed part, S2 ... Area of the base side connection part of the fixed part, S3 ... Area of the constricted part, L1 ... Center line in the Y direction of the fixed part, L2 ... Y direction of the base Center line.

Claims (9)

平面を有する基板と、
前記基板から前記平面の法線方向に突出している固定部と、
前記固定部に接続されている基部と、
前記基部から前記法線方向と交差する方向に延出し、前記法線方向に並んで配置されている複数の振動腕と、を備え、
前記固定部は、前記法線方向からの平面視において、前記基部の外形に内包され、かつ、前記基部よりも面積が小さい、
振動デバイス。
A board with a flat surface and
A fixing portion protruding from the substrate in the normal direction of the plane,
The base connected to the fixing part and
A plurality of vibrating arms extending from the base in a direction intersecting the normal direction and arranged side by side in the normal direction are provided.
The fixed portion is included in the outer shape of the base portion in a plan view from the normal direction, and has a smaller area than the base portion.
Vibration device.
前記固定部は、前記平面視において、前記基部の前記複数の振動腕が延出する側とは反対側に偏って配置されている、
請求項1記載の振動デバイス。
The fixed portion is arranged so as to be biased to the side opposite to the extending side of the plurality of vibrating arms of the base portion in the plan view.
The vibration device according to claim 1.
前記固定部は、前記基板と前記固定部とが接続している基板側接続部と、前記固定部と前記基部とが接続している基部側接続部と、の間にくびれ部を有する、
請求項1又は請求項2記載の振動デバイス。
The fixing portion has a constricted portion between a substrate-side connecting portion in which the substrate and the fixing portion are connected and a base-side connecting portion in which the fixing portion and the base portion are connected.
The vibration device according to claim 1 or 2.
前記平面視において、前記基板側接続部の面積をS1とし、前記基部側接続部の面積をS2としたとき、
S1≠S2
である、
請求項1乃至請求項3の何れか一項に記載の振動デバイス。
In the plan view, when the area of the substrate side connection portion is S1 and the area of the base side connection portion is S2,
S1 ≠ S2
Is,
The vibration device according to any one of claims 1 to 3.
前記S1及び前記S2は、
S1>S2
の関係を満たす、
請求項4記載の振動デバイス。
The S1 and the S2 are
S1> S2
Satisfy the relationship,
The vibration device according to claim 4.
前記S1及び前記S2は、
S1<S2
の関係を満たす、
請求項4記載の振動デバイス。
The S1 and the S2 are
S1 <S2
Satisfy the relationship,
The vibration device according to claim 4.
前記固定部は、前記平面視において、前記基板側接続部から前記基部側接続部に向かって断面積が漸増または漸減している、
請求項3乃至請求項6の何れか一項に記載の振動デバイス。
The fixed portion has a gradual increase or decrease in cross-sectional area from the substrate-side connection portion to the base-side connection portion in the plan view.
The vibration device according to any one of claims 3 to 6.
前記基板、前記固定部、前記基部、前記振動腕はシリコンからなり、
少なくとも一つの前記振動腕には圧電膜が形成されている、
請求項1乃至請求項7の何れか一項に記載の振動デバイス。
The substrate, the fixing portion, the base portion, and the vibrating arm are made of silicon.
A piezoelectric film is formed on at least one of the vibrating arms.
The vibration device according to any one of claims 1 to 7.
前記固定部、前記基部、前記振動腕は水晶からなる、
請求項1乃至請求項7の何れか一項に記載の振動デバイス。
The fixed portion, the base portion, and the vibrating arm are made of quartz.
The vibration device according to any one of claims 1 to 7.
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