JP2022019311A - 有機ｅｌ表示装置、透過制御パネル及び透過制御パネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】外光反射を抑制しつつ出光率を向上できる有機ＥＬ表示装置を提供する。【解決手段】複数の有機ＥＬ素子１１と、有機ＥＬ素子の駆動に用いられる電気回路部２０と、電気回路部より、有機ＥＬ素子の光射出側に配置される透過制御パネル３０と、を備え、透過制御パネルは、有機ＥＬ素子の少なくとも一部と向き合う素子光透過領域３０ｂと、電気回路部の少なくとも一部と向き合い素子光透過領域よりも低い可視光透過率を有する透過制限領域３０ａと、を有する有機ＥＬ表示装置１。【選択図】図１

Description

本発明は、有機ＥＬ表示装置、透過制御パネル及び透過制御パネルの製造方法に関する。

従来、平面ディスプレイ等の分野において、有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ表示装置が提案されており、その応用研究が盛んに行われている。従来の有機ＥＬ表示装置において、周囲から有機ＥＬ表示装置に入射する外光が、有機ＥＬ表示装置の内部の構造によって反射されることが知られていた。この場合、明るい環境下において周囲の景色が写り込んだり、外光の反射によってコントラスト比が低下したりする課題があった。

上記の課題を解決する方法として、例えば特許文献１や特許文献２に開示されているように、光射出面側に円偏光板が配置された有機ＥＬ表示装置が提案されている。円偏光板は、１／４波長板として機能する位相差板と、位相差板よりも光射出面側に位置する偏光板と、から構成される。円偏光板は以下の通り作用する。周囲から有機ＥＬ表示装置に入射する外光が偏光板を通過する際、特定の１方向に偏光面を持つ直線偏光は透過し、これと偏光面が直交する直線偏光は吸収される。偏光板を透過した直線偏光は位相差板の作用を受け、偏光面が回転する円偏光となる。位相差板を通過した光は有機ＥＬ表示装置の内部の構造によって反射される際、回転方向が逆の円偏光になる。反射した光は再び位相差板に入射し、これを通過するときその作用を受けて直線偏光に変換されて今度は偏光板で吸収されるため外部には戻らなくなる。

特開平８－３２１３８１号公報 特開２００４－３０９５５号公報

円偏光板を備える有機ＥＬ表示装置では、有機ＥＬ素子が発した光のうち１方向の偏光成分のみが偏光板を透過する。このため、有機ＥＬ素子が発する光に対する有機ＥＬ表示装置から射出される光の割合（以下、出光率とも称する）が、半分以下となる。

本発明は、このような点を考慮してなされたものであって、外光反射を抑制しつつ出光率を向上できる有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。

本発明による有機ＥＬ表示装置は、複数の有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子の駆動に用いられる電気回路部と、前記電気回路部より、前記有機ＥＬ素子の光射出側に配置される透過制御パネルと、を備え、前記透過制御パネルは、前記有機ＥＬ素子の少なくとも一部と向き合う素子光透過領域と、前記電気回路部の少なくとも一部と向き合い前記素子光透過領域よりも低い可視光透過率を有する透過制限領域と、を有する。

本発明による有機ＥＬ表示装置において、前記有機ＥＬ素子からの光が射出される外部に向けて、前記有機ＥＬ素子、前記電気回路部及び前記透過制御パネルがこの順で配置されてもよい。

本発明による有機ＥＬ表示装置において、前記有機ＥＬ素子からの光が射出される外部に向けて、前記電気回路部、前記有機ＥＬ素子及び前記透過制御パネルがこの順で配置されてもよい。

本発明による有機ＥＬ表示装置において、前記透過制限領域は、前記電気回路部の少なくとも一部と向き合う第１領域と、前記有機ＥＬ素子の一部と向き合う第２領域と、を有してもよい。

本発明による有機ＥＬ表示装置において、複数の前記有機ＥＬ素子は、第１の色の光を射出するための複数の第１素子と、第２の色の光を射出するための複数の第２素子と、を少なくとも含み、前記第２領域は、複数の前記第１素子と向き合ってもよい。

本発明による有機ＥＬ表示装置において、前記第１素子は、白色光を射出してもよい。

本発明による有機ＥＬ表示装置において、前記第１素子は、カラーフィルタに設けられた白色画素部を介して白色光を射出し、前記第２領域は、前記白色画素部を介して前記第１素子と向き合ってもよい。

本発明による有機ＥＬ表示装置において、前記第２領域は、前記第１領域よりも高い可視光透過率を有してもよい。

本発明による有機ＥＬ表示装置において、前記第１領域は、０％以上５％以下の可視光透過率を有し、前記第２領域は、３０％以上５０％以下の可視光透過率を有してもよい。

本発明による有機ＥＬ表示装置において、前記透過制御パネルは、前記第１領域に、第１透過制限層を有するとともに、前記第２領域に前記第１透過制限層よりも厚みの小さい第２透過制限層を有してもよい。

本発明による有機ＥＬ表示装置において、前記透過制御パネルは、前記第１領域及び前記第２領域に、それぞれ透過部及び前記透過部よりも低い可視光透過率を有する透過制限部を有し、前記有機ＥＬ素子から光が射出していく方向で見た際、前記第１領域の面積に対する前記第１領域中の前記透過制限部の面積の割合は、前記第２領域の面積に対する前記第２領域中の前記透過制限部の面積の割合よりも大きくてもよい。

本発明による透過制御パネルは、複数の有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子の駆動に用いられる電気回路部と、を備える有機ＥＬ表示装置に設けられる透過制御パネルであって、前記有機ＥＬ表示装置に前記透過制御パネルを設けた際に前記有機ＥＬ素子の少なくとも一部と向き合う素子光透過領域と、前記有機ＥＬ表示装置に前記透過制御パネルを設けた際に前記電気回路部の少なくとも一部と向き合い且つ前記素子光透過領域よりも低い可視光透過率を有する透過制限領域と、を備える。

本発明による透過制御パネルの製造方法は、複数の有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子の駆動に用いられる電気回路部と、を備える有機ＥＬ表示装置に設けられる透過制御パネルの製造方法であって、前記有機ＥＬ表示装置に前記透過制御パネルを設けた際に前記電気回路部の少なくとも一部と向き合う凹部を有する、シート状の透過層を形成する工程と、前記凹部内に、透過制限層を形成する工程と、を備え、前記透過制限層の材料は、同じ厚みで比較した場合に前記透過層の材料よりも低い可視光透過率を有する。

本発明による透過制御パネルの製造方法において、前記凹部は、前記有機ＥＬ表示装置に前記透過制御パネルを設けた際に前記電気回路部の少なくとも一部と向き合う第１底面と、前記有機ＥＬ表示装置に前記透過制御パネルを設けた際に前記有機ＥＬ素子の一部と向き合う第２底面と、を有し、前記透過層の前記第１底面が位置する領域における厚みは、前記透過層の前記第２底面が位置する領域における厚みよりも小さくてもよい。

本発明による透過制御パネルの製造方法は、複数の有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子の駆動に用いられる電気回路部と、を備える有機ＥＬ表示装置に設けられる透過制御パネルの製造方法であって、前記有機ＥＬ表示装置に前記透過制御パネルを設けた際に前記電気回路部の少なくとも一部と向き合い且つ複数の開口を含む開口領域を有する、シート状の透過部を形成する工程と、前記開口内に、前記透過部よりも低い可視光透過率を有する透過制限部を形成する工程と、を備える。

本発明による透過制御パネルの製造方法において、前記開口領域は、前記有機ＥＬ表示装置に前記透過制御パネルを設けた際に前記電気回路部の少なくとも一部と向き合う第１開口領域と、前記有機ＥＬ表示装置に前記透過制御パネルを設けた際に前記有機ＥＬ素子の一部と向き合う第２開口領域と、を有し、前記有機ＥＬ素子から光が射出していく方向で見た際、前記第１開口領域の面積に対する前記第１開口領域中の前記開口の面積の割合は、前記第２開口領域の面積に対する前記第２開口領域中の前記開口の面積の割合よりも大きくてもよい。

本発明によれば、外光反射を抑制しつつ出光率を向上できる有機ＥＬ表示装置を提供することができる。

図１は、本発明の一実施の形態を説明するための図であって、有機ＥＬ表示装置の概略構成を示す一部断面図。 図２は、図１の有機ＥＬ表示装置における、駆動回路部及び有機ＥＬ素子の位置を示す平面図。 図３は、図１の有機ＥＬ表示装置における、駆動回路部及び有機ＥＬ素子の位置、並びに透過制御パネルの透過制限領域及び素子光透過領域の形状を示す平面図。 図４は、第１の変形例に係る有機ＥＬ表示装置の概略構成を示す一部断面図。 図５は、第２の変形例に係る有機ＥＬ表示装置の概略構成を示す一部断面図。 図６は、第３の変形例に係る有機ＥＬ表示装置の概略構成を示す平面図。 図７は、第４の変形例に係る有機ＥＬ表示装置の概略構成を示す一部断面図。

図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。

図１は、本発明の一実施の形態を説明するための図であって、有機ＥＬ表示装置１の概略構成を示す一部断面図である。本実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置１は、有機ＥＬ素子１１を有する素子層１４と、複数の有機ＥＬ素子１１の駆動に用いられる電気回路部２０を有する回路層２４と、電気回路部２０より、有機ＥＬ素子１１の光射出側に配置される透過制御パネル３０と、を備える。素子層１４は複数の有機ＥＬ素子１１を内部に含み、回路層２４は電気回路部２０を内部に含む。本実施の形態にかかる有機ＥＬ表示装置１はボトムエミッション型であり、有機ＥＬ素子１１より、有機ＥＬ素子１１の光射出側に電気回路部２０を有する回路層２４が配置され、有機ＥＬ素子１１からの光が電気回路部２０（回路層２４）を介して表示画像の視認者が位置する外部に向けて射出される。透過制御パネル３０は外部側から電気回路部２０を覆うように配置され、本実施の形態では、有機ＥＬ素子１１からの光が射出される外部に向けて、有機ＥＬ素子１１、電気回路部２０及び透過制御パネル３０がこの順で配置されることになる。なお、「有機ＥＬ素子１１の光射出側」とは、上述した光が射出される外部側、つまり視認者側を意味しており、図１においては上側を意味している。例えば、電気回路部２０より、有機ＥＬ素子１１の光射出側に透過制御パネル３０が配置される、とは、電気回路部２０より視認者側に透過制御パネル３０が配置されることを指す。以下の説明において、「有機ＥＬ素子１１の光射出側」を単に「光射出側」とも称する。図１に示すように、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置１は、基板５と、カラーフィルタ４０と、バリア層４と、合金板２と、バリア層４と合金板２とを接着する接着層３と、ハードコート６とを更に備える。本実施の形態において、回路層２４は、カラーフィルタ４０より光射出側に配置されている。

まず、回路層２４について説明する。回路層２４の内部には、有機ＥＬ素子の駆動に用いられる電気回路部２０が含まれる。図１に示す例において、回路層２４は、電気回路部２０を光射出側とは反対側から覆う絶縁層２３を更に有する。絶縁層２３の材料は、絶縁性を有する限り、特に限定されない。

一例として、有機ＥＬ表示装置１が、各有機ＥＬ素子１１を駆動する方式としてアクティブマトリクス方式を採用している場合の電気回路部２０について説明する。この場合、電気回路部２０は、駆動回路２１及び駆動配線２２を含む。

駆動回路２１は、有機ＥＬ素子１１毎に設けられ、各有機ＥＬ素子１１を駆動する回路である。図１に示す例において、駆動回路２１は、後述する基板５の、有機ＥＬ素子１１が位置する側の面上に配置されている。駆動回路２１は、有機ＥＬ素子１１を駆動するためのトランジスタＴ等の駆動素子を含む。これにより、駆動回路２１が設けられている基板５は、有機ＥＬ素子１１を駆動するための基板、いわゆるＴＦＴ基板となっている。駆動回路２１が、有機ＥＬ素子１１の陽極から陰極に向かって駆動電流が流れるよう制御を行うとき、有機ＥＬ素子１１の発光層が発光する。

図１を参照して、トランジスタＴについて詳細に説明する。図１に示す例において、各トランジスタＴは、基板５の、有機ＥＬ素子１１が配置されている側の面上に間隔を空けて設けられたソース電極２５およびドレイン電極２６と、隣り合うソース電極２５及びドレイン電極２６の間に位置するように、基板５の有機ＥＬ素子１１が配置されている側の面上に設けられた半導体層２７と、を有する。図示はしないが、トランジスタＴは、半導体層２７を覆うように設けられた絶縁層２３の、有機ＥＬ素子１１が配置されている側の面上に設けられたゲート電極を更に有する。ドレイン電極２６は、オーバーコート層４２を貫通して有機ＥＬ素子１１の透明電極及びドレイン電極２６に電気的に接続する貫通電極２８を介して、有機ＥＬ素子１１の透明電極と電気的に接続されている。

駆動配線２２は、基板５の、有機ＥＬ素子１１が配置されている側の面上に設けられている。図２は、図１の有機ＥＬ表示装置１を光射出面１ａ側から観察した場合における、駆動回路２１と駆動配線２２とを含む電気回路部２０の位置を示すとともに、有機ＥＬ素子１１及び基板５の位置を示す図である。なお、図２に示す例においては、基板５については図示を省略し、基板５の輪郭を、符号５ａを付した破線によって示している。駆動配線２２は、複数の有機ＥＬ素子１１が並ぶ方向である第１方向ｄ１及び第２方向ｄ２に延びている。また、駆動配線２２は、少なくとも部分的に、有機ＥＬ素子１１同士の間を延びている。

アクティブマトリクス方式が採用されている場合、電気回路部２０は、駆動配線２２として、各有機ＥＬ素子１１の透明電極や反射電極に接続するとともに電流源又は電圧源に接続し、各有機ＥＬ素子１１に電流又は電圧を印加する配線を含む。また、電気回路部２０は、駆動配線２２として、各有機ＥＬ素子１１に設けられた駆動回路２１を制御するために駆動回路２１に接続されている配線、例えばトランジスタＴに接続されている配線等を含む。

電気回路部２０が一方の面上に設けられる基板５は、電気回路部２０を支持するとともに、外気を遮断することができるものであれば特に限定されるものではないが、安定性、耐久性等が良好なことから、ガラスや透明ポリマーであることが好ましい。

次に、カラーフィルタ４０について説明する。図１に示すように、カラーフィルタ４０は、有機ＥＬ素子１１より光射出側に配置される。また、カラーフィルタ４０は、回路層２４の、光射出側とは反対側（図１に示す下側）の面上に設けられた画素部４１と、画素部４１を光射出側とは反対側から覆うオーバーコート層４２と、を備えている。

カラーフィルタ４０は、画素部４１として、回路層２４の、光射出側とは反対側の面上に設けられた第１画素部４１ａ、第２画素部４１ｂ、第３画素部４１ｃ及び第４画素部４１ｄを有している。ここでは、第１画素部４１ａが、第１の色として白色の光を透過させる白色画素部であり、第２画素部４１ｂが、第２の色として赤色の光を選択的に透過させる赤色画素部であり、第３画素部４１ｃが、第３の色として緑色の光を選択的に透過させる緑色画素部であり、第４画素部が、第４の色として青色の光を透過させる青色画素部である例について説明する。各画素部４１ａ、４１ｂ、４１ｃ及び４１ｄは、一例として、各色の顔料や染料等の着色材を感光性樹脂中に分散または溶解させることにより形成されている。

赤色用の着色材としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。

緑色用の着色材としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。

青色用の着色材としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。

また、白色画素部は、可視光域の光を広域にわたって適切に透過させるよう構成されている。例えば白色画素部は、白色画素部の透過スペクトルＳ_Ａにおける、波長３８０～７８０ｎｍの範囲内での平均透過率が、３０％以上となるよう構成されている。この場合、白色画素部からはほぼ白色の光が観察者に向けて放射される。有機ＥＬ表示装置１は、図１に示すように、赤色、緑色、青色に白色を加えた４色の副画素を有する画素群で構成されていてもよい。

なお、画素部４１の色が上記の白色、赤色、緑色及び青色に限られることは無く、その他の色の画素部４１、例えば黄色画素部が含まれていてもよい。一例として、黄色画素部は、白色画素部以外の他の画素部４１、例えば赤色、緑色及び青色の画素部４１よりも高い平均透過率を有する。

また、カラーフィルタ４０としては、量子ドット（Ｑｕａｎｔｕｍ Ｄｏｔ）のフィルムを用いてもよい。この場合、有機ＥＬ表示装置１は、量子ドット有機ＥＬ（ＱＤ－ＯＬＥＤ）表示装置となる。

図１に示す例においては、画素部４１の全体が、オーバーコート層４２によって覆われている。これによって、後述する有機ＥＬ素子１１の形成面を平坦化することができる。また、画素部４１を保護することができる。オーバーコート層４２を構成する材料や、その形成方法としては、オーバーコート層として従来から一般に用いられている材料や形成方法を適宜用いることができる。

次に、素子層１４について説明する。素子層１４の内部には、複数の有機ＥＬ素子１１が配列されている。有機ＥＬ素子１１は、有機ＥＬ表示装置１の外部に光を射出する。一例として、有機ＥＬ素子１１は、第１の色の光を射出するための複数の第１素子１１ａと、第２の色の光を射出するための複数の第２素子１１ｂと、を少なくとも含む。本実施の形態に係る素子層１４は、有機ＥＬ素子１１として、それぞれ基板５の平面視において第１画素部４１ａ、第２画素部４１ｂ、第３画素部４１ｃ及び第４画素部４１ｄと向き合う、第１素子１１ａ、第２素子１１ｂ、第３素子１１ｃ及び第４素子１１ｄを含む。このため、各素子１１ａ、１１ｂ、１１ｃ及び１１ｄが発した光は、有機ＥＬ表示装置１の外部に射出される前に、各画素部４１ａ、４１ｂ、４１ｃ及び４１ｄを通る。これによって、有機ＥＬ表示装置１の外部に各画素部４１ａ、４１ｂ、４１ｃ及び４１ｄの色の光が射出される。

本実施の形態においては、各画素部４１ａ、４１ｂ、４１ｃ及び４１ｄの色に対応して、有機ＥＬ表示装置１の外部に白色光、赤色光、緑色光及び青色光が射出される。この場合、特に、第１素子１１ａは、有機ＥＬ表示装置１の外部に白色光を射出するための素子となっている。第１素子１１ａは、カラーフィルタ４０に設けられた、白色画素部である第１画素部４１ａを介して、白色光を射出する。

図示はしないが、有機ＥＬ素子１１は、いずれもオーバーコート層４２の、光射出側とは反対側の面上に設けられた透明電極と、透明電極上に設けられた発光層と、発光層上に設けられた反射電極とを有する。

透明電極には、透明体が用いられる。透明電極が陽極として使われる場合、陽極には、酸化インジウムスズ化合物（ＩＴＯ）等の透明体が用いられる。

発光層は、例えば、透明電極の側から順に、正孔注入層、正孔輸送層、発光体、電子輸送層及び電子注入層を積層した構成を有する。これらのうち発光体以外の層は必要に応じて設ければよい。本実施の形態においては、発光層の発光体として、第１素子１１ａ、第２素子１１ｂ、第３素子１１ｃ及び第４素子１１ｄとも、全て白色に発光するものが用いられている。この場合、発光体としては、電圧を印加することにより白色光を発光するよう構成された蛍光性有機物質を含有するものを特に限定なく用いることができる。例えば、発光体として、キノリノール錯体、オキサゾール錯体、各種レーザー色素、ポリパラフェニレンビニレン等を用いることができる。

正孔注入層は、正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔輸送層は、発光体への正孔輸送効率を高めるためのものである。発光体は、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものである。電子輸送層は、発光体への電子輸送効率を高めるためのものである。電子注入層は、電子注入効率を高めるためのものである。

反射電極は、反射層としての機能も兼ねており、できるだけ高い反射率を有するようにすることが発光効率を高める上で望ましい。特に、反射電極が陰極として使われる場合には、反射電極には、電子を注入しやすく、かつ安定性に優れた材料を用いることが好ましい。反射電極として、例えばマグネシウム、銀、アルミニウム、銀とリチウムとの合金、マグネシウムと銀との合金、アルミニウムとリチウムとの合金等が用いられる。

また、図１に示す例において、素子層１４は、保護層１３を更に有する。保護層１３は、各有機ＥＬ素子１１を光射出側とは反対側から覆い、これらを保護している。保護層１３の材料は、例えば窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素のような透明体である。

次に、透過制御パネル３０について説明する。透過制御パネル３０は、有機ＥＬ表示装置１に入射する外光が有機ＥＬ表示装置１の内部の構造によって反射されることを抑制する層である。図１に示すように、透過制御パネル３０は、素子光透過領域３０ｂと、素子光透過領域３０ｂよりも低い可視光透過率を有する透過制限領域３０ａとを有する。また、図１に示す例において、透過制御パネル３０は、素子層１４より光射出側に配置される。

図１に示すように有機ＥＬ表示装置１に透過制御パネル３０を設けた際に、素子光透過領域３０ｂは、有機ＥＬ素子１１の少なくとも一部と向き合う。また、透過制限領域３０ａは、電気回路部２０の少なくとも一部と向き合う。

図１に示す例において、透過制御パネル３０の素子光透過領域３０ｂは、透過層３２によって構成されている。また、透過制御パネル３０は、透過制限領域３０ａに透過制限層３１を有する。透過制限層３１の材料は、同じ厚みで比較した場合に、透過層３２の材料よりも低い可視光透過率を有する材料である。図１に示す例において、透過層３２は、透過制限領域３０ａに、後述する基材３３が配置されている側に向かって凹む凹部３２ａを有している。そして、透過制限層３１が、凹部３２ａ内に形成されている。このため、透過制限領域３０ａにおいて、透過制限層３１と透過層３２とが積層されている。透過制限領域３０ａは、透過制限層３１によって構成されていてもよい。

透過制御パネル３０は、透過制限領域３０ａにおいて透過性を有していてもよく、透過制限領域３０ａにおいて透過性を有していなくてもよい。透過制御パネル３０の透過制限領域３０ａにおける可視光透過率は、例えば１％以上９０％以下である。また、透過制御パネル３０の素子光透過領域３０ｂにおける可視光透過率は、例えば７０％以上１００％以下である。

なお、透過制御パネル３０に関して、可視光透過率とは、有機ＥＬ素子１１が光を射出していく方向ｄＬ（以下、射出方向ｄＬとも称する。）における可視光透過率である。透過制御パネル３０等の可視光透過率は、例えば島津製作所製の紫外可視光分光光度計ＵＶ－３６００を用いて測定することができる。なお、ここでの可視光透過率とは、光波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲内における平均透過率を指す。

透過制限層３１の材料は、透過制限領域３０ａの可視光透過率を低くすることができる限り、特に限定されないが、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、およびブタジエン（メタ）アクリレート等の光硬化型樹脂の中に着色された光吸収粒子が分散されている組成物を挙げることができる。また光吸収粒子を分散させる代わりに顔料や染料により光吸収部全体を着色することもできる。光吸収粒子を用いる場合には、カーボンブラック等の光吸収性の着色粒子が好ましく用いられるが、これらに限定されるものではなく、映像光の特性に合わせて特定の波長を選択的に吸収する着色粒子を使用してもよい。具体的には、カーボンブラック、グラファイト、黒色酸化鉄等の金属塩、染料、顔料等で着色した有機微粒子や着色したガラスビーズ等を挙げることができる。特に、着色した有機微粒子が、コスト面、品質面、入手の容易さ等の観点から好ましく用いられる。透過制限層３１の材料は、厚みが１００μｍの場合に１％以上９０％以下の可視光透過率を有する材料である。透過層３２の材料は、素子光透過領域３０ｂの可視光透過率を高くすることができる限り、特に限定されないが、例えば紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、熱硬化樹脂を硬化させることで形成されてもよい。透過層３２が紫外線硬化樹脂を硬化して形成される場合、紫外線硬化樹脂はアクリル系樹脂を含むものでもよいし、エポキシ系樹脂を含むものでもよい。一例として、透過層３２の材料は、厚みが５０μｍの場合に７０％以上１００％以下の可視光透過率を有する材料である。

図３は、図１の有機ＥＬ表示装置１を光射出面１ａ側から観察した場合における、駆動配線２２、有機ＥＬ素子１１及び基板５の位置、並びに透過制御パネル３０の透過制限領域３０ａ及び素子光透過領域３０ｂの分布範囲を示す図である。図３において、符号２０ａを付した破線は、電気回路部２０の輪郭を示している。図３に示す例において、素子光透過領域３０ｂは、第１方向ｄ１及び第２方向ｄ２に並び、マトリックス状のパターンを有している。図１及び図３に示す例において、素子光透過領域３０ｂは、有機ＥＬ素子１１と向き合っている。回路層２４のうち素子光透過領域３０ｂと有機ＥＬ素子１１とが向き合っている部分には、電気回路部２０が位置していない。そして、透過制限領域３０ａは、電気回路部２０と向き合っている。

図１に示す例において、透過制御パネル３０は、透過層３２のうち光射出側に配置される基材３３を更に有する。基材３３の材料は、基材３３上に透過層３２及び透過制限層３１を形成することが可能であれば、特に限定されないが、例えば樹脂のフィルムによって構成されているフィルム基材である。

本実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置１は、素子層１４の、カラーフィルタ４０とは反対側に配置されるバリア層４と、バリア層４の、素子層１４とは反対側に配置される合金板２と、バリア層４と合金板２との間に位置する接着層３と、透過制御パネル３０よりも光射出側に配置されるハードコート６とを更に備えてもよい。接着層３は、合金板２とバリア層４とを接着する層である。接着層３の材料は、合金板２とバリア層４とを接着することができる限り、特に限定されない。ハードコート６は、透過制御パネル３０をはじめ、有機ＥＬ表示装置１のうちハードコート６以外の部分を保護するための層である。ハードコート６は、例えば硬化性樹脂組成物を含むハードコート層塗布液から形成することができる。硬化性樹脂組成物としては、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物等が挙げられる。

以下、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置１の作用効果について説明する。電気回路部２０が、有機ＥＬ表示装置１に入射する外光を反射させる懸念がある。特に、電気回路部２０が金属材料等の光をよく反射させる材料を含む場合、電気回路部２０による外光の反射の影響が大きくなってしまう。

これに対し、本実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置１は、電気回路部２０の少なくとも一部と向き合う透過制限領域３０ａを有する透過制御パネル３０を備える。透過制限領域３０ａによって、電気回路部２０のうち透過制限領域３０ａと向き合う部分に到達する外光の割合を減らすことができる。また、透過制限領域３０ａによって、電気回路部２０において反射された外光が有機ＥＬ表示装置１の外部に射出される割合を減らすことができる。以上により、電気回路部２０における外光の反射に起因する悪影響を抑制することができる。

また、本実施の形態において、透過制御パネル３０は、素子光透過領域３０ｂを有している。そして、素子光透過領域３０ｂは、複数の有機ＥＬ素子１１の少なくとも一部と向き合っている。このため、有機ＥＬ素子１１のうち素子光透過領域３０ｂと向き合っている部分においては、有機ＥＬ素子１１が発する光を、透過制限領域３０ａによって減じられることなく、有機ＥＬ表示装置１の外部に射出させることができる。このため、例えば外光の反射を低減するために円偏光板を用いた場合等と比較して、有機ＥＬ表示装置１の出光率を向上することができる。

また、特に、回路層２４が素子層１４より光射出側に配置される、ボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置１においては、電気回路部２０と、有機ＥＬ表示装置１の光射出面１ａとの距離が小さくなりやすい。そして、電気回路部２０と光射出面１ａとの距離が小さい場合、電気回路部２０において、より多くの外光が反射されやすいとも考えられる。この点につき、本実施の形態では、透過制御パネル３０が、電気回路部２０よりも光射出側に配置され、透過制限領域３０ａが電気回路部２０の少なくとも一部と向き合っている。これによって、ボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置１においても、電気回路部２０における外光の反射を抑制することができる。

また、本実施の形態においては、図１に示すように、回路層２４は、カラーフィルタ４０より光射出側に配置される。この場合であっても、透過制御パネル３０が、回路層２４よりも光射出側に配置されることによって、電気回路部２０における外光の反射を抑制することができる。

また、本実施の形態においては、図１に示すように、有機ＥＬ素子１１及び画素部４１を基準として、有機ＥＬ表示装置１の光射出面１ａに対して傾斜した方向に、透過制限領域３０ａが配置されている。このため、透過制限領域３０ａによって、有機ＥＬ素子１１又は画素部４１から光射出面１ａに対して傾斜した方向に発される光が有機ＥＬ表示装置１の外部に射出される割合を、調整することができる。これによって、例えば特定の色の光が斜め方向に射出されやすくなっている場合に、透過制限領域３０ａによって、当該特定の色の光が斜め方向に射出されることを抑制できる。このため、画面の斜め方向からの観察において、特定の色の光が強く斜め方向に射出されることに起因して画面上の色彩のバランスがくずれて見えてしまうことを、抑制できる。

本実施の形態に係る透過制御パネル３０の製造方法は、例えば以下の通りである。まず、凹部３２ａを有するシート状の透過層３２を形成する。透過層３２は、例えば基材３３の一方の側に形成される。凹部３２ａは、有機ＥＬ表示装置１に透過制御パネル３０を設けた際、換言すれば透過制御パネル３０を有機ＥＬ表示装置１に組み込んだ際に、電気回路部２０の少なくとも一部と向き合うように形成される。

次に、凹部３２ａ内に、透過制限層３１を形成する。以上によって、図１に示す透過制御パネル３０を製造することができる。

次に、上述の方法によって製造された透過制御パネル３０を用いて有機ＥＬ表示装置１を製造する方法について説明する。まず、基板５上に電気回路部２０を形成し、また電気回路部２０を覆う絶縁層２３を形成することによって、回路層２４を形成する。次に、回路層２４上に画素部４１を形成し、また画素部４１を覆うオーバーコート層４２を形成することによって、カラーフィルタ４０を形成する。次に、カラーフィルタ４０上に、透明電極と、発光層と、反射電極とを順次設けて、複数の有機ＥＬ素子１１を形成する。また、有機ＥＬ素子１１を覆う保護層１３を形成する。これによって、素子層１４を形成する。次に、素子層１４上にバリア層４を形成する。そして、接着層３を介してバリア層４に合金板２を接着する。また、図示しない接着層を介して、基板５のうち電気回路部２０を形成した側とは反対側の面に、透過制御パネル３０を接着する。また、透過制御パネル３０のうち基板５に接着される側とは反対側の面上に、ハードコート６を形成する。以上によって、図１に示す有機ＥＬ表示装置１を製造することができる。

一実施の形態を具体例により説明してきたが、この具体例が一実施の形態を限定することを意図していない。上述した一実施の形態は、その他の様々な具体例で実施されることが可能であり、その要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更、追加を行うことができる。

以下、図面を参照しながら、変形の一例について説明する。以下の説明及び以下の説明で用いる図面では、上述した具体例と同様に構成され得る部分について、上述の具体例における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いるとともに、重複する説明を省略する。

（第１の変形例）
図４は、第１の変形例における有機ＥＬ表示装置１の概略構成を示す一部断面図である。図４に示す例において、透過制限領域３０ａは、電気回路部２０の少なくとも一部と向き合う第１領域３０ａ１と、有機ＥＬ素子１１の一部と向き合う第２領域３０ａ２と、を有する。図４に示す例において、有機ＥＬ素子１１は、電気回路部２０と向き合っていない部分を有する。そして、第２領域３０ａ２は、有機ＥＬ素子１１のうち電気回路部２０と向き合っていない部分と向き合っている。

図４に示す例において、第２領域３０ａ２は第１素子１１ａと向き合う。本変形例に係る有機ＥＬ表示装置１は複数の第１素子１１ａを有しており、第２領域３０ａ２は複数の第１素子１１ａと向き合う。

また、図４に示す例において、透過制限層３１及び透過層３２は、基材３３の光射出側に配置されている。

透過制限領域３０ａが第２領域３０ａ２を有することの作用効果について説明する。有機ＥＬ素子１１、又はカラーフィルタ４０のうち有機ＥＬ素子１１と向き合っている画素部４１が、有機ＥＬ表示装置１に入射する外光を反射させる懸念がある。これに対し、透過制限領域３０ａが有機ＥＬ素子１１と向き合う第２領域３０ａ２を有することによって、有機ＥＬ表示装置１に入射した外光が有機ＥＬ素子１１および画素部４１に到達することを抑制できる。これにより、有機ＥＬ素子１１又は画素部４１において反射されて有機ＥＬ表示装置１の外部に射出される外光を減らすことができる。

また、外光が有機ＥＬ素子１１又は画素部４１において反射される場合、外光は、有機ＥＬ表示装置１の外部から有機ＥＬ素子１１又は画素部４１に向かうときと、反射されて有機ＥＬ表示装置１の外部に向かうときとの２回、第２領域３０ａ２を通過する。その一方で、有機ＥＬ素子１１が発する光は、第２領域３０ａ２を１回だけ通過すれば、有機ＥＬ表示装置１の外部に射出される。このため、有機ＥＬ素子１１及び画素部４１において反射されて有機ＥＬ表示装置１の外部に射出される外光を効率良く減らしつつ、出光率を向上することができる。

有機ＥＬ素子１１及び画素部４１において反射されて有機ＥＬ表示装置１の外部に射出される外光を減らす観点からは、第２領域３０ａ２は、外光を反射させやすい有機ＥＬ素子１１及び画素部４１と向き合っていることが好ましい。例えば、有機ＥＬ表示装置１の外部に白色光を射出するように構成されている有機ＥＬ素子１１は、外光を反射し易い。このため、例えば、第１素子１１ａが白色光を射出するように構成されている場合、第２領域３０ａ２が、白色光を射出する複数の第１素子１１ａと向き合うことが好ましい。特に、第１素子１１ａと向き合う第１画素部４１ａが白色画素部である場合、第２領域３０ａ２が白色画素部を介して第１素子１１ａと向き合うことが好ましい。

（第２の変形例）
また、透過制限領域３０ａが第１領域３０ａ１と第２領域３０ａ２とを含んでいる場合、第１領域３０ａ１の可視光透過率と第２領域３０ａ２の可視光透過率とが異なっていてもよい。例えば、第２領域３０ａ２が、第１領域３０ａ１よりも高い可視光透過率を有してもよい。この場合、第１領域３０ａ１は、例えば０％以上５％以下の可視光透過率を有し、第２領域３０ａ２は、例えば３０％以上５０％以下の可視光透過率を有する。

図５は、第２の変形例における有機ＥＬ表示装置１の概略構成を示す一部断面図である。図５に示す例において、透過制御パネル３０は、透過制限層３１として、第１領域３０ａ１に第１透過制限層３１ａを有するとともに、第２領域３０ａ２に第２透過制限層３１ｂを有する。第２の変形例において、第１透過制限層３１ａの材料と第２透過制限層３１ｂの材料とは同一である。第１透過制限層３１ａ及び第２透過制限層３１ｂの材料は、同じ厚みで比較した場合に、透過層３２の材料よりも低い可視光透過率を有する材料である。そして、第２透過制限層３１ｂの厚みは第１透過制限層３１ａの厚みよりも小さい。これによって、第２領域３０ａ２が、第１領域３０ａ１よりも高い可視光透過率を有している。

第２領域３０ａ２が、第１領域３０ａ１よりも高い可視光透過率を有していることによって、有機ＥＬ素子１１と向き合う第２領域３０ａ２の可視光透過率を十分に大きくして、出光率を向上することができる。また、電気回路部２０と向き合う第１領域３０ａ１の可視光透過率を十分に低くして、電気回路部２０における外光の反射を抑制することができる。

図５に示す透過制御パネル３０の製造方法は、例えば以下の通りである。まず、基材３３の一方の側の面上に、凹部３２ａを有する透過層３２を形成する。凹部３２ａは、第１底面３２ａ１と第２底面３２ａ２とを有するように形成される。有機ＥＬ表示装置１に透過制御パネル３０を設けた際に、第１底面３２ａ１は電気回路部２０の少なくとも一部と向き合う。また、第２底面３２ａ２は、有機ＥＬ素子１１の一部と向き合う。ここで、透過層３２の第１底面３２ａ１が位置する領域における厚みは、透過層３２の第２底面３２ａ２が位置する領域における厚みよりも小さい。次に、凹部３２ａ内に、透過制限層３１を形成する。以上によって、図５に示す透過制御パネル３０を製造することができる。

（第３の変形例）
また、上述の実施の形態及び各変形例においては、透過制限領域３０ａに透過制限層３１を有する透過制御パネル３０について示したが、透過制御パネル３０の形態は、これに限られない。図６は、第３の変形例に係る有機ＥＬ表示装置１の透過制御パネル３０の一部を、射出方向ｄＬで見た様子示す平面図である。

図６に示す例において、透過制御パネル３０は、透過制限領域３０ａに、透過部３５及び透過部３５よりも低い可視光透過率を有する透過制限部３４を有する。また、透過制御パネル３０の素子光透過領域３０ｂは、透過部３５によって構成されている。一例として、透過制限部３４の射出方向ｄＬにおける寸法と、透過部３５の射出方向ｄＬにおける寸法とは、等しくなっている。図６に示すように、透過制限領域３０ａの一部に透過制限部３４が配置されることによって、透過制限領域３０ａにおける平均の可視光透過率が、素子光透過領域３０ｂにおける平均の可視光透過率よりも低くなっている。

また、図６に示す例において、透過制御パネル３０は、第１領域３０ａ１及び第２領域３０ａ２に、それぞれ透過部３５及び透過制限部３４を有する。そして、射出方向ｄＬで見た際に、第１領域３０ａ１の面積に対する第１領域３０ａ１中の透過制限部３４の面積の割合が、第２領域３０ａ２の面積に対する第２領域３０ａ２中の透過制限部３４の面積の割合よりも大きくなっている。これによって、第２領域３０ａ２における平均の可視光透過率が、第１領域３０ａ１における平均の可視光透過率よりも高くなっている。

なお、第１領域３０ａ１及び第２領域３０ａ２が、それぞれ透過部３５及び透過制限部３４を有する場合、第１領域３０ａ１及び第２領域３０ａ２の可視光透過率は、以下のように定められる。第１領域３０ａ１の可視光透過率は、透過部３５の可視光透過率に第１領域３０ａ１中を透過部３５が占める割合を乗じた値と、透過制限部３４の可視光透過率に第１領域３０ａ１中を透過制限部３４が占める割合を乗じた値との和である。また、第２領域３０ａ２の可視光透過率は、透過部３５の可視光透過率に第２領域３０ａ２中を透過部３５が占める割合を乗じた値と、透過制限部３４の可視光透過率に第２領域３０ａ２中を透過制限部３４が占める割合を乗じた値との和である。

図６に示す例において、透過部３５は、透過制限領域３０ａに、複数の開口３５ｂを有している。開口３５ｂは、有機ＥＬ素子１１の光射出方向に透過部３５を貫通している。図６に示す例において、透過部３５は、複数の開口３５ｂが配列されたメッシュ状の形状を有している。そして、透過制限部３４が、開口３５ｂ内に形成されている。

透過制限部３４の材料は、例えば上述した透過制限層３１の材料と同様である。また、透過部３５の材料は、例えば上述した透過層３２の材料と同様である。

図６に示す透過制御パネル３０の製造方法は、例えば以下の通りである。まず、複数の開口３５ｂを含む開口領域３５ａを有する、シート状の透過部３５を形成する。透過部３５は、例えば基材３３の一方の側に形成される。開口領域３５ａは、有機ＥＬ表示装置１に透過制御パネル３０を設けた際、電気回路部２０の少なくとも一部と向き合うように形成される。開口領域３５ａは、有機ＥＬ表示装置１に透過制御パネル３０を設けた際に電気回路部２０の少なくとも一部と向き合う第１開口領域３５ａ１と、有機ＥＬ素子１１の一部と向き合う第２開口領域３５ａ２と、を有する。そして、透過制御パネル３０を有機ＥＬ表示装置１に組み込んだ際に、以下の関係が成立する。射出方向ｄＬで見た際に、第１開口領域３５ａ１の面積に対する第１開口領域３５ａ１中の開口３５ｂの面積の割合が、第２開口領域３５ａ２の面積に対する第２開口領域３５ａ２中の開口３５ｂの面積の割合よりも大きい。

次に、開口３５ｂ内に、透過部３５よりも低い可視光透過率を有する透過制限部３４を形成する。以上によって、図６に示す透過制御パネル３０を製造することができる。

（第４の変形例）
上述の実施の形態及び各変形例においては、有機ＥＬ表示装置１が、トランジスタＴ等の駆動素子を含む回路層２４が素子層１４よりも光射出側に配置される、いわゆるボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置である場合について説明した。しかしながら、有機ＥＬ表示装置１の形態はこれに限定されない。図７は、第２の変形例における有機ＥＬ表示装置１の概略構成を示す一部断面図である。図７に示す例において、有機ＥＬ表示装置１は、素子層１４が回路層２４よりも光射出側に配置される、いわゆるトップエミッション型の有機ＥＬ表示装置となっている。図７に示す例においては、有機ＥＬ素子１１からの光が射出される外部に向けて、電気回路部２０、有機ＥＬ素子１１及び透過制御パネル３０がこの順で配置されている。なお、図示はしないが、有機ＥＬ素子１１からの光が射出される外部に向けて、電気回路部２０、透過制御パネル３０及び有機ＥＬ素子１１がこの順で配置されていてもよい。

また、上述の実施の形態及び各変形例においては、有機ＥＬ表示装置１が、各有機ＥＬ素子１１を駆動する方式としてアクティブマトリクス方式を採用している例について説明した。しかしながら、有機ＥＬ表示装置１の形態はこれに限定されない。例えば、有機ＥＬ表示装置１は、有機ＥＬ素子１１を駆動するためのトランジスタＴ等の駆動素子を設けずに、有機ＥＬ素子１１の透明電極及び反射電極をそれぞれ垂直走査線、水平走査線に直結して駆動する、パッシブマトリクス方式の有機ＥＬ表示装置であってもよい。この場合、電気回路部２０には、例えば垂直走査線及び水平走査線が含まれる。

また、上述の実施の形態及び各変形例においては、有機ＥＬ表示装置１が、発光層の発光体として白色に発光するものを用いた有機ＥＬ素子１１とカラーフィルタ４０とによって、各色の光を射出する例について説明した。しかしながら、有機ＥＬ表示装置１の形態はこれに限定されない。例えば、各色の光を射出する方法として、塗り分け方式を採用してもよいし、色変換方式を採用してもよい。各色の光を射出する方法として他の方式を採用した場合であっても、透過制御パネル３０によって、電気回路部２０における外光の反射を抑制することができる。また、特に第１領域３０ａ１及び第２領域３０ａ２を有する形態の透過制御パネル３０によって、有機ＥＬ素子１１における外光の反射を抑制することができる。また、有機ＥＬ表示装置１がカラーフィルタ４０を備える場合には、画素部４１における外光の反射を抑制することができる。このように、有機ＥＬ素子１１及び画素部４１における外光の反射を抑制しつつ、出光率を向上することができる。なお、塗り分け方式を採用する場合等において、有機ＥＬ表示装置１は、カラーフィルタ４０を備えなくてもよい。

１ 有機ＥＬ表示装置
５ 基板
１１ 有機ＥＬ素子
１３ 保護層
１４ 素子層
２０ 電気回路部
２１ 駆動回路
２２ 駆動配線
２３ 絶縁層
２４ 回路層
３０ 透過制御パネル
３０ａ 透過制限領域
３０ａ１ 第１領域
３０ａ２ 第２領域
３０ｂ 素子光透過領域
３１ 透過制限層
３１ａ 第１透過制限層
３１ｂ 第２透過制限層
３２ 透過層
３３ 基材
３４ 透過制限部
３５ 透過部
３５ａ 開口領域
３５ｂ 開口
Ｔ トランジスタ

Claims (16)

1. 複数の有機ＥＬ素子と、
   前記有機ＥＬ素子の駆動に用いられる電気回路部と、
   前記電気回路部より、前記有機ＥＬ素子の光射出側に配置される透過制御パネルと、を備え、
   前記透過制御パネルは、前記有機ＥＬ素子の少なくとも一部と向き合う素子光透過領域と、前記電気回路部の少なくとも一部と向き合い前記素子光透過領域よりも低い可視光透過率を有する透過制限領域と、を有する、有機ＥＬ表示装置。
2. 前記有機ＥＬ素子からの光が射出される外部に向けて、前記有機ＥＬ素子、前記電気回路部及び前記透過制御パネルがこの順で配置される、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
3. 前記有機ＥＬ素子からの光が射出される外部に向けて、前記電気回路部、前記有機ＥＬ素子及び前記透過制御パネルがこの順で配置される、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
4. 前記透過制限領域は、前記電気回路部の少なくとも一部と向き合う第１領域と、前記有機ＥＬ素子の一部と向き合う第２領域と、を有する、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置。
5. 複数の前記有機ＥＬ素子は、第１の色の光を射出するための複数の第１素子と、第２の色の光を射出するための複数の第２素子と、を少なくとも含み、
   前記第２領域は、複数の前記第１素子と向き合う、請求項４に記載の有機ＥＬ表示装置。
6. 前記第１素子は、白色光を射出する、請求項５に記載の有機ＥＬ表示装置。
7. 前記第１素子は、カラーフィルタに設けられた白色画素部を介して白色光を射出し、前記第２領域は、前記白色画素部を介して前記第１素子と向き合う、請求項６に記載の有機ＥＬ表示装置。
8. 前記第２領域は、前記第１領域よりも高い可視光透過率を有する、請求項４乃至７のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置。
9. 前記第１領域は、０％以上５％以下の可視光透過率を有し、
   前記第２領域は、３０％以上５０％以下の可視光透過率を有する、請求項８に記載の有機ＥＬ表示装置。
10. 前記透過制御パネルは、前記第１領域に、第１透過制限層を有するとともに、前記第２領域に前記第１透過制限層よりも厚みの小さい第２透過制限層を有する、請求項４乃至９のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置。
11. 前記透過制御パネルは、前記第１領域及び前記第２領域に、それぞれ透過部及び前記透過部よりも低い可視光透過率を有する透過制限部を有し、
    前記有機ＥＬ素子から光が射出していく方向で見た際、前記第１領域の面積に対する前記第１領域中の前記透過制限部の面積の割合は、前記第２領域の面積に対する前記第２領域中の前記透過制限部の面積の割合よりも大きい、請求項４乃至９のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置。
12. 複数の有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子の駆動に用いられる電気回路部と、を備える有機ＥＬ表示装置に設けられる透過制御パネルであって、
    前記有機ＥＬ表示装置に前記透過制御パネルを設けた際に前記有機ＥＬ素子の少なくとも一部と向き合う素子光透過領域と、前記有機ＥＬ表示装置に前記透過制御パネルを設けた際に前記電気回路部の少なくとも一部と向き合い且つ前記素子光透過領域よりも低い可視光透過率を有する透過制限領域と、を備える、透過制御パネル。
13. 複数の有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子の駆動に用いられる電気回路部と、を備える有機ＥＬ表示装置に設けられる透過制御パネルの製造方法であって、
    前記有機ＥＬ表示装置に前記透過制御パネルを設けた際に前記電気回路部の少なくとも一部と向き合う凹部を有する、シート状の透過層を形成する工程と、
    前記凹部内に、透過制限層を形成する工程と、を備え、
    前記透過制限層の材料は、同じ厚みで比較した場合に前記透過層の材料よりも低い可視光透過率を有する、透過制御パネルの製造方法。
14. 前記凹部は、前記有機ＥＬ表示装置に前記透過制御パネルを設けた際に前記電気回路部の少なくとも一部と向き合う第１底面と、前記有機ＥＬ表示装置に前記透過制御パネルを設けた際に前記有機ＥＬ素子の一部と向き合う第２底面と、を有し、
    前記透過層の前記第１底面が位置する領域における厚みは、前記透過層の前記第２底面が位置する領域における厚みよりも小さい、請求項１３に記載の透過制御パネルの製造方法。
15. 複数の有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子の駆動に用いられる電気回路部と、を備える有機ＥＬ表示装置に設けられる透過制御パネルの製造方法であって、
    前記有機ＥＬ表示装置に前記透過制御パネルを設けた際に前記電気回路部の少なくとも一部と向き合い且つ複数の開口を含む開口領域を有する、シート状の透過部を形成する工程と、
    前記開口内に、前記透過部よりも低い可視光透過率を有する透過制限部を形成する工程と、を備える、透過制御パネルの製造方法。
16. 前記開口領域は、前記有機ＥＬ表示装置に前記透過制御パネルを設けた際に前記電気回路部の少なくとも一部と向き合う第１開口領域と、前記有機ＥＬ表示装置に前記透過制御パネルを設けた際に前記有機ＥＬ素子の一部と向き合う第２開口領域と、を有し、
    前記有機ＥＬ素子から光が射出していく方向で見た際、前記第１開口領域の面積に対する前記第１開口領域中の前記開口の面積の割合は、前記第２開口領域の面積に対する前記第２開口領域中の前記開口の面積の割合よりも大きい、請求項１５に記載の透過制御パネルの製造方法。

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