JP2022017306A - 核融合反応方法、機器、及びシステム - Google Patents
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Abstract
Description
ここで、Efusionは核融合反応により放出される総エネルギーであり、Einは反応の生成に用いられるエネルギーである。Joint European Torus(JET)はQ≒0.7を実現したと主張しており、最近US National Ignition FacilityはQ>1(レーザの相当なエネルギー損失を無視)を実現したと主張している。「ブレークイーブン」と称するQ=1の状態は、核融合反応により放出されるエネルギーの量がエネルギーの入力量に等しいことを示している。実際、発電用の反応炉においては、有用な形に変換できるのが核融合エネルギーの一部のみであるため、商業的に実現可能となるには、1よりも大幅に高いQ値を示していなければならない。従来の考え方では、強イオン化プラズマのみがQ>1の実現に必要である。これらの条件により、核融合反応炉において実現可能な粒子密度及びエネルギー閉じ込め時間が制限される。したがって当技術分野では、制御核融合反応の基準として、ローソン基準に着目している。この基準は、すべてのエネルギー入力を説明する場合に、誰も実現できていないものと考えられる。当技術分野におけるローソン基準の追究又は実質的に類似するパラダイムによって、核融合機器及びシステムは大型且つ複雑になり、管理が困難であり、高コストで経済的に実現不可能となっている。
[00121]融合には、2つの原子核が接触する必要がある。ただし、原子核は非常に小さく(10-15mのオーダ)、正に帯電しているため、静電的に反発し合う。図5A~図5Cには、2粒子系のポテンシャルエネルギー曲線の例示的な使用による本発明の一実施形態の影響の説明の例を示している。図5Aには、第1の原子核502が第2の原子核に近づいている2粒子系のポテンシャルエネルギー曲線501を示している。水平軸506上において、xは2つの原子核間の距離である。この系のエネルギーはy軸505に示している。系のポテンシャル501は、第1の原子核が第2の原子核から遠くに配置されている場合はゼロに近く、第1の原子核が第2の原子核に近づくと高くなる。系のポテンシャル501は(正の)クーロン反発ポテンシャル及び(負の)強い核引力ポテンシャルの合計である。2つの原子核が距離xn(xnは2つの融合原子核の半径の合計に略等しい)だけ離れて非常に近くなると、系のポテンシャル501は強い核力の影響で負になる。したがって、用語「クーロン障壁(Coulomb barrier)」は、図5Aに示すポテンシャル曲線の通過又は乗り越えによって2つの原子核が接触することの困難さを記述するためのものである。
ここで、v=v1-v2において、v1及びv2は2つの原子核の速度であり、mrは系の換算質量であって、以下により表される。
ここで、m1及びm2は2つの原子核の質量である。古典力学では、原子核が互いに近づいている場合、これらの原子核が接触するには、εをクーロン障壁の高さよりも大きくする必要があるとされている。ただし量子力学では、ポテンシャル障壁を通る「トンネリング」xTによって、εがこの閾値を下回る場合の核融合反応が可能である。ただし、障壁の大きさは依然としてトンネリングxTの障害となっているため、クーロン障壁がより大きな(例えば、高く、広く、又はその両方)反応は一般的に、小さな障壁の場合よりも生じ難い。したがって古典力学では、領域503のエネルギーがクーロン障壁を乗り越えることはない。
[00125]物質が閉鎖空間で回転する場合は、回転物質により生成される力(遠心力)に対する反力(向心力)を隔壁が与える。これらの反力によって、回転物質は隔壁に隣接する領域の他の物質に押し付けられる。この圧迫によって負の遠心ポテンシャルが生じる。遠心ポテンシャルは、隔壁に向かう引力を効果的に生成し、この力は物質が隔壁に近づくと強くなる。本発明の実施形態では、閉鎖空間内で粒子の急速回転を誘導し、閉鎖構造の外壁に向かって粒子を加速させることにより、強い遠心ポテンシャルを生成するようにしてもよい。本発明の一実施形態においては、プラズマの回転によって109gの遠心加速度が生成されるが、この値は系のパラメータを変化させることによって(例えば、機器の曲率半径又は反応物の方位角方向の速度を変化させることによって)高くすることも低くすることもできる。この遠心加速度は重力に似ているが、有効な力は、重力の場合の半径方向内方とは対照的に、半径方向外方を向いている。したがって局在的な核融合反応部位、すなわち2つの原子核間においては、数億或いは数十億psiの圧力に相当する力が存在する可能性がある。遠心加速度を使用する利点として、物質が点に向かってではなく面に隣接して押し付けられることが挙げられる。これにより反応物が密に接触して核融合が生じ得るより大きな領域が得られるため、核融合の可能性及び速度が高くなるものと考えられる。このように、核融合反応により生成されたエネルギーを抽出して使用するための容易且つ簡単に利用可能な手段がさらに提供される。遠心ポテンシャル506の効果については、図5Cに示している。
[00126]弱イオン化プラズマを使用する利点は、反応物が主に中性原子を含むことである。原子核間に介在する電子は、正に帯電した原子核間のクーロン反発力を遮蔽する。この現象は、クーロン反発に影響してクーロン障壁を低減させる場合がある。また、高効率の電子放出体である反応物を使用することによって、正に帯電した反応物間に電子雲、負の空間電荷が導入され、これにより遮蔽効果がさらに増強される。本発明の一実施形態において、第2の作業物質は、あらゆる既知の化合物の中で電子放出率が最も高いものの1つである六ホウ化ランタンを含むように選択される。六ホウ化ランタン作業物質によって放出された電子はホウ素の近傍に留まって、クーロン障壁を低減させるとともに核融合反応速度を向上させる電子遮蔽効果を与えるものと考えられる。別の実施形態において、第2の作業物質は、同じく高効率の電子放出体であり、同様の効果を有する窒化ホウ素を含む。電子遮蔽ポテンシャル507の効果については、図5Cに示している。さらに別の実施形態においては、不均一な電界を生成する形状又は表面プロファイルの物質が系に存在していてもよい。これにより、一例として、核融合のための局在的な電子遮蔽を生成するには、樹枝状プロファイルの六ホウ化ランタン表面が望ましい場合がある。
[00127]多くの原子核は、それぞれの微小な磁界と関連付けられた角運動量の形態の固有の「スピン」を有する。磁力線は原子核の一端が磁気的なN極、他端が磁気的なS極であるかのように形成されるため、原子核を「磁気双極子」と称するとともに、双極子の強度及び方位は「核磁気モーメント」で記述される。
[00130]一対の原子核間の核融合反応の確率は、反応断面「σ」によって表される。断面は通常、静止した原子核ターゲットに原子核のビームを衝突させることにより、εの関数として実験で測定される。この断面は通常、以下のように規定される。
ここで、Bはターゲット原子核当たり単位時間当たりの反応数であり、Iは単位ターゲット面積当たり単位時間当たりの入射粒子数である。断面がこのように規定及び測定される場合、各核融合反応は、所与の系の特定のεにおいて一定の比断面を有することになる。
ここで、第1の原子核及び第2の原子核が同じ種類の原子核である(例えば、重水素が重水素と核融合する)場合はδ12=1、それ以外の場合はδ12=0であり、〈σv〉は系の「平均反応度」であって、以下のように規定される。
ここで、f(v)は
となるように正規化された相対速度の分布関数である。第2の原子核が静止している場合は、〈σv〉=σvである。ただし、先の規定は第2の原子核が移動する状況を説明したものであり、相互作用する各原子核対は異なる相対速度vを有していてもよい。
ここで、Wは単位体積当たりに放出される総核融合エネルギーであり、Eは単一の反応で放出されるエネルギーである(p-11B核融合の場合はE=8.68MeV)。
ここで、eはオイラー数、εGはクーロン障壁の修正エネルギーである。2つの原子核が距離x≧xTだけ離れている場合、εGは以下により記述される。
ここで、q1は第1の原子核の電荷、φ(x)はxの関数として表されたポテンシャル、xTは、φ(xT)=εとなるclassical turning pointである。
も小さくなる傾向にある。したがって、φが大きな系では核融合事象が少なく、核融合エネルギーの放出速度が低くなり、φが小さな系では核融合事象が多く、核融合エネルギーの放出速度が高くなる傾向にある。上述の通り、クーロン障壁を低減させることはφを小さくすることと同等であり、本発明の実施形態ではこれらの技術を採用して、断面を全体的に大きくすることにより、核融合反応速度を高くするようにしてもよい。
[00135]本発明の一実施形態では、電磁力を利用するため、荷電粒子が存在している必要がある。ただし、強イオン化プラズマを生成する代わりに弱イオン化プラズマを生成した後、イオンに依拠することにより、イオン-ニュートラル結合の原理を通してニュートラルを駆動する。この手法ではプラズマが不安定になることはないため、粒子密度(n1及びn2)を強イオン化プラズマの場合よりもはるかに高くすることができる。本発明の一実施形態において、粒子密度は機器の容積全体において、少なくとも1017/cm3である。さらに遠心ポテンシャルが誘導する圧迫により、核融合事象の集中が予想される領域において粒子の密度が高くなり、核融合反応が集中する機器の領域においては密度がおよそ1018/cm3となる。
[00138]高圧圧縮下の水素原子は、圧縮力及びそれぞれの回転状態に応じて、液体又は固体金属になり得る。液体又は固体状態のいずれにおいても、密度は気体状態よりもはるかに高い。これに対応して、総反応速度は、2つの反応物の粒子密度の積に従って高くなる。
[00141]本発明では、動作時に粒子が生成される場合がある。場合により、これらの粒子は機器の機能に利益をもたらす場合がある。イオン化粒子を利用する実施形態においては、イオン化放射線の生成によって、作業物質又はプラズマのイオン化又は回転運動の増大、変更、維持、又は改善により付加的な核融合がさらに増強される場合がある。これにより、一例として、第1の作業物質が水素であり、第2の作業物質がホウ素である弱イオン化プラズマ及び回転機構を用いる装置では、アルファ粒子が生成される場合がある。これらの粒子は付加的な水素をイオン化するとともに、回転エネルギーを付与する場合がある。したがって、この付加的なイオンを生成する核融合生成物の相乗効果は、外部源からの付加的なエネルギーを必要とすることなく、回転エネルギーを増大させる効果を有する場合がある。さらにこの特徴が暴走反応に至ることのないように、系の温度及び水素の供給が常にモニタリングされ、これに応じて水素の供給を調整することにより、ニュートラルの存在数を変更して反応速度を制御することができる。
[00143]以下の実施例は、本発明の制御核融合方法、機器、及びシステムの種々実施形態を説明するためのものである。これらの実施例は説明を目的としており、本発明の範囲として見なされるべきではなく、そうでなければ本発明の範囲を制限するもではない。
[00144]全体的に図3の実施形態に示したような制御核融合機器を動作させて、高エネルギーのアルファ粒子及びヘリウムを生成する制御核融合反応を与えた。この機器の第1の作業物質は水素である。この機器の第2の作業物質は、外側電極の内壁上のプレート等の窒化ホウ素ターゲット及び棒により反応チャンバに挿入されたディスク等の六ホウ化ランタンターゲットとして機器に導入されたホウ素である。制御核融合機器の内部構成要素に磁石が与える磁界は0.5テスラである。制御圧力チャンバはパージしている。パージ後、制御圧力チャンバ及び核融合空洞には、常温でおよそ3torrまで水素ガスを充填させる。電流制限抵抗を通しておよそ1.4kVの電圧を内側電極に印加することにより、およそ25Aのプラズマ電流が生成される。これにより、磁界及び電流が生成するローレンツ力によって、およそ800~2,000RPSと考えられる初期回転又は予備回転が付与される。電極及び装置は、生成される電界が実質的に装置の所望の部分にあって、望ましくない表面へのアーク放電が最小限に抑えられるように設計されている。初期回転の確立後、外側及び内側電極間のおよそ400V~1kVのパルスによって、最大およそ43kAのプラズマ電流が生成され、これにより、イオンのニュートラルに対する比率がおよそ1:100,000と考えられる弱イオン化プラズマが生成される。またこれにより、少なくともおよそ100,000RPSの回転が弱イオン化プラズマ(イオン及びニュートラル)に付与される。弱イオン化プラズマの回転は、およそ10ミリ秒間にわたって維持される。
[00149]実施例1の方法及び機器を十分な磁界及び電圧で動作させることにより、少なくともおよそ250MMBtu/時の熱エネルギーを与える。この熱エネルギーは、熱交換器、蒸気タービン、及び発電機等、電力及び発電技術分野の当業者に既知の装置により変換され、少なくともおよそ25MWの電力が与えられる。
[00150]実施例1のような機器10台を併せて動作させることにより、合計で少なくともおよそ2,500MMBtu/時の熱エネルギーを与える。この熱エネルギーは、熱交換器、蒸気タービン、及び発電機等、電力及び発電技術分野の当業者に既知の装置により変換され、少なくともおよそ250MWの電力が与えられる。これらの機器をより少なく又はより多く組み合わせてより大きな熱エネルギーを与えることにより、1台がオフラインになった場合のバックアップユニットを提供するようにしてもよく、このアセンブリは当業者に既知の熱変換機器と関連付け可能である。
[00151]実施例1の方法及び機器を十分な磁界及び電圧で動作させることにより、少なくともおよそ10,000MMBtu/時の熱エネルギーを与える。この熱エネルギーは、熱交換器、蒸気タービン、及び発電機等、電力及び発電技術分野の当業者に既知の装置により変換され、少なくともおよそ1,000MWの電力が与えられる。
[00152]実施例1の方法及び機器を十分な磁界及び電圧で動作させることにより、少なくともおよそ5MMBtu/時の熱エネルギーを与える。この熱エネルギーは、熱交換器、蒸気タービン、及び発電機等、電力及び発電技術分野の当業者に既知の装置により変換され、少なくともおよそ500kWの電力が与えられる。実施例1の機器のうちの1つ又は複数を組み合わせてより大きな熱エネルギーを与えることにより、1台がオフラインになった場合のバックアップユニットを提供するようにしてもよく、このアセンブリは当業者に既知の熱変換機器と関連付け可能である。
[00153]実施例1の方法及び機器を十分な磁界及び電圧で動作させることにより、少なくともおよそ0.1MMBtu/時の熱エネルギーを与える。この熱エネルギーは、熱交換器、蒸気タービン、及び発電機等、電力及び発電技術分野の当業者に既知の装置により変換され、少なくともおよそ10kWの電力が与えられる。実施例1の機器のうちの1つ又は複数を組み合わせてより大きな熱エネルギーを与えることにより、1台がオフラインになった場合のバックアップユニットを提供するようにしてもよく、このアセンブリは当業者に既知の熱変換機器と関連付け可能である。
[00154]実施例1に従って、機器の動作を400回以上繰り返した。各回にヘリウム及び高エネルギーアルファ粒子の生成の証拠が観測された。
[00155]全体的に図3に示した実施形態のような制御核融合機器の一実施形態では、希土類磁石を有する。
[00156]全体的に図3に示した実施形態のような制御核融合機器の一実施形態では、電磁石を有する。
[00157]制御核融合機器の一実施形態を図9A及び図9Bに示すが、図9Aは軸方向断面図、図9Bは側方断面図である。本実施形態では、外側電極901及び同心内側電極903を有し、これら2つの電極901、903間の環状空間には、局在的な軸方向磁界904が生成されている。磁界は、回転を誘発する領域905の両側に軸方向に隣接して配置された導電コイル902によって生成されており、各対のコイル902は、それぞれが生成する磁界が同じ軸方向(例えば矢印B)を向くように動作する。これにより、本実施形態において、コイル対が生成する磁界は2つの電極間の関心領域の中心軸と平行に延びており、プラズマの回転を誘導している。本実施形態には、大規模な発電ユニット等の大規模な用途での利点が考えられる。
[00158]実施例4の方法及び機器を十分な磁界及び電圧で動作させることにより、少なくともおよそ250MMBtu/時の熱エネルギーを与える。この熱エネルギーは、熱交換器、蒸気タービン、及び発電機等、電力及び発電技術分野の当業者に既知の装置により変換され、少なくともおよそ25MWの電力が与えられる。
[00159]実施例4のような機器10台を併せて動作させることにより、合計で少なくともおよそ2,500MMBtu/時の熱エネルギーを与える。この熱エネルギーは、熱交換器、蒸気タービン、及び発電機等、電力及び発電技術分野の当業者に既知の装置により変換され、少なくともおよそ250MWの電力が与えられる。これらの機器をより少なく又はより多く組み合わせてより大きな熱エネルギーを与えることにより、1台がオフラインになった場合のバックアップユニットを提供するようにしてもよく、このアセンブリは当業者に既知の熱変換機器と関連付け可能である。
[00160]実施例4の方法及び機器を十分な磁界及び電圧で動作させることにより、少なくともおよそ10,000MMBtu/時の熱エネルギーを与える。この熱エネルギーは、熱交換器、蒸気タービン、及び発電機等、電力及び発電技術分野の当業者に既知の装置により変換され、少なくともおよそ1,000MWの電力が与えられる。
[00161]実施例4の方法及び機器を十分な磁界及び電圧で動作させることにより、少なくともおよそ5MMBtu/時の熱エネルギーを与える。この熱エネルギーは、熱交換器、蒸気タービン、及び発電機等、電力及び発電技術分野の当業者に既知の装置により変換され、少なくともおよそ500kWの電力が与えられる。実施例4の機器のうちの1つ又は複数を組み合わせてより大きな熱エネルギーを与えることにより、1台がオフラインになった場合のバックアップユニットを提供するようにしてもよく、このアセンブリは当業者に既知の熱変換機器と関連付け可能である。
[00162]実施例4の方法及び機器を十分な磁界及び電圧で動作させることにより、少なくともおよそ0.1MMBtu/時の熱エネルギーを与える。この熱エネルギーは、熱交換器、蒸気タービン、及び発電機等、電力及び発電技術分野の当業者に既知の装置により変換され、少なくともおよそ10kWの電力が与えられる。実施例4の機器のうちの1つ又は複数を組み合わせてより大きな熱エネルギーを与えることにより、1台がオフラインになった場合のバックアップユニットを提供するようにしてもよく、このアセンブリは当業者に既知の熱変換機器と関連付け可能である。
[00163]図10に示すように、制御核融合機器の一実施形態においては、電極(例えば1001)を用いることにより物質が方位角方向に加速されることによって、物質が回転している環状空間1003に局在的な電界(例えば1002)が生成される。電界は振動によって(磁気浮上式の鉄道車両が軌道中の磁界の振動によって駆動されるのと同等に)物質を意図する方向に加速させる。内側電極(環状空間1003の内表面)は支持部1005に搭載され、外側電極(環状空間1003の外表面)は支持部1004上にある。回転物質中にはいくつかのイオンが存在する。電界の結果としてニュートラル原子が直接的な力を受けることはないが、これはイオン-ニュートラル結合の原理によって、ニュートラルの駆動には比較的少数のイオンがあれば十分であるためである。このシステムでは軸方向の静磁界は不要である。
[00164]全体的に図3の実施形態に示したような制御核融合機器は、動作によって、高エネルギーアルファ粒子及びヘリウムを生成する制御核融合反応を与える。この機器の第1の作業物質は水素である。この機器の第2の作業物質はリチウムである。制御核融合機器の内部構成要素に磁石が与える磁界は0.5テスラである。制御圧力チャンバはパージしている。パージ後、制御圧力チャンバ及び核融合空洞には、常温でおよそ3torrまで水素ガスを充填させる。電流制限抵抗を通しておよそ1.4kVの電圧を内側電極に印加することにより、およそ25Aのプラズマ電流が生成される。これにより、磁界及び電流が生成するローレンツ力によって、およそ800~2,000RPSと考えられる初期又は予備回転が付与される。初期回転の確立後、外側及び内側電極間のおよそ400V~1kVのパルスによって、最大およそ43kAのプラズマ電流が生成され、これにより、イオンのニュートラルに対する比率がおよそ1:100,000と考えられる弱イオン化プラズマが生成される。またこれにより、少なくともおよそ100,000RPSの回転が弱イオン化プラズマ(イオン及びニュートラル)に付与される。弱イオン化プラズマの回転はおよそ10ミリ秒間にわたって維持され、核融合反応が生じる。
[00165]図11に示すように、制御核融合機器の一実施形態において、第2の作業物質は複数の固形物質から成る。1つの物質である元素としてのホウ素1101は、第2の物質である酸化バリウム1102との複合構造で配置されている。元素としてのホウ素は、水素-1とホウ素-11との反応(第1の作業物質は水素)に必要なホウ素源を与えるように選択されている。第2の作業物質は、クーロン障壁を低下させるとともに核融合の速度を増大させる強い電子遮蔽効果を生成するため、高効率の電子放出体であるのが望ましい。元素としてのホウ素は低効率の電子放出体であるが、酸化バリウムは高効率の電子放出体である。このように、複合材には各物質の利点又はより大きな利点を組み合わせる相乗効果がある。核融合反応物及び高効率の電子放出体の両方を含むように第2の作業物質を構成することによって、強い電子遮蔽効果が生成される。さらに、図11に示す層状構造の他、例えばマイクロ構造、ナノ粒子、マトリクス、及び混合物を含む、この相乗効果を得るための異なる物質の他の構成が使用され得る。
[00166]制御核融合機器の一実施形態においては、動重力を利用して核磁気モーメントポテンシャルを増幅するイオンサイクロトロン共鳴器が制御核融合機器と関連付けられている。イオンサイクロトロン共鳴器は、2.45ギガヘルツ(GHz)の周波数で電磁放射を行うマイクロ波源を具備する。制御核融合機器に存在する磁界は、マイクロ波源が導入された点において、電子のサイクロトロン周波数がマイクロ波源の周波数と整合するように調節される。これにより、制御核融合機器中の電子が励起され、それぞれの磁力線周りの旋回半径が大きくなる。
ここで、qは粒子又はイオンの電荷の絶対値、Bは磁界強度、mは粒子又はイオンの質量である。qは電子及び水素-1イオンに等しいが、mは水素-1イオンの方が桁違いに大きいため、所与のB値において、水素-1のサイクロトロン周波数は電子のサイクロトロン周波数よりも桁違いに低い。本実施形態において、回転が誘導されている制御核融合機器の領域における水素-1イオンのサイクロトロン周波数は、約7.6メガヘルツ(MHz)と考えられる。この第2の周波数が電子によって水素-1に伝えられることにより水素-1が励起され、それぞれの磁力線周りの旋回半径が大きくなる。その結果水素-1の総角運動量も大きくなる。水素-1イオン及び原子の旋回方向が一致する傾向にあるため、核磁気モーメントポテンシャルは増幅される。
[00168]図12には、制御核融合機器1200の一実施形態の斜視断面図を示している。本実施形態は図2に示した実施形態に類似しているが、内側電極1202、外側電極1203、制御圧力チャンバ1205、及び磁石1206が円筒ではなく輪環体の形状である点が明らかに異なる。輪環体は開いた構成も可能であるし、閉じた構成も可能である。作動ガス入口ライン1201は、磁石1206及び制御圧力チャンバ1205を挿通して、内側電極1202と外側電極1203との間の環状空間に至っている。核融合チャンバ1207は磁石1206の磁界内に位置決めされている。核融合表面1208は制御圧力チャンバ1205と関連付けられている。
[00169]制御核融合機器の一実施形態においては、当該制御核融合機器を用いて物質を形成する。この形成は変成転換によって実現されるため、水素-1及びリチウム-6の核融合反応によりヘリウム-3及びヘリウム-4が生成される。ヘリウム-3は、中性子検出、医療用画像、及び低温学に用いられる極めて有益な同位体である。本実施形態においては、水素が第1の作業物質であり、フッ化リチウム(リチウムにリチウム-6を混入、すなわち天然存在度よりも高い割合のリチウム-6を含有)が第2の作業物質である。制御核融合機器の動作後、当該制御核融合機器からガスが除去される。このガスはヘリウム-3を含み、後で分離することによって、使用に適した高純度のヘリウム-3を得ることができる。
[00170]制御核融合機器の一実施形態において、当該制御核融合機器は図2に示した実施形態に類似している。相違点は以下に説明するように、改良によってホウ素板による電子の放出を向上させることにより、電子遮蔽効果を強化していることである。外側電極1301の一部及びホウ素板1302の拡大図を図13に示す。本実施形態においては、ホウ素板1302と正反対の外側電極1301の部分に加熱コイル1303を追加している。ホウ素板1302は、加熱時に優れた電子放出体となる六ホウ化ランタンで構成されている。
[00172]制御核融合機器の一実施形態において、当該制御核融合機器は図2に示した実施形態に類似している。相違点は以下に説明するように、改良によって電子遮蔽効果を向上させていることである。外側電極1401の内表面208の詳細図を図14に示す。外側電極1401には、高効率の電子放出体であるカーボンナノチューブ1402が付着している。
[00174]制御核融合機器の一実施形態において、当該制御核融合機器は図3に示した実施形態に類似している。本実施形態において、第1の作業物質は(図3の好適な実施形態における水素ガスの代わりに)ヘリウム-3ガスであり、第2の作業物質は一般的に「重水」と称する液体である酸化重水素で構成されている。ホウ素板305a、305bは不要であり、重水は外側電極304の内表面312に沿って配置されている。
[00176]制御核融合機器の一実施形態において、クーロンポテンシャルを低減させるとともに核融合反応の断面を大きくする方法には、制御核融合システムの作動範囲に存在する電子を生成して制御する手段等、負の電位の導入、改良、増強、又は制御を含む。この方法及び効果を利用した制御核融合機器を図16の模式図に示す。この機器において、制御核融合機器1600は、第1の作業物質1602及びこれと関連付けられた第2の作業物質1604を有する。また、制御核融合機器1600は、壁1606及び空洞1605を有するチャンバ1601を有する。チャンバ1601と、電子放出物質1603が関連付けられている。また、この機器と、物質1603からの電子放出を誘導するエネルギー源1607が関連付けられている。電子放出物質1603としては、窒化ホウ素、六ホウ化ランタン等の高効率の電子放出体が挙げられる。また、放出物質1603は、化合物、マトリクス、被膜、バルク材料、又は他の構成であってもよい。エネルギー源1607としては、光子、イオン、加速粒子、電界、磁界、熱、放射線、抵抗加熱等が挙げられるが、これらに限定されない。これにより、一例としては、加速粒子源が制御核融合機器1600と関連付けられ、粒子の一部又は全部が電子放出体1603へと向かっていてもよい。さらに、別の例としては、光子源が制御核融合機器1600と関連付けられ、粒子の一部又は全部が電子放出体1603へと向かっていてもよい。
[00177]制御核融合機器の一実施形態においては、イオンが不要であってもよい。これにより、本実施形態において、制御核融合機器はイオンを含まないのが好ましいが、いくつかのイオンの存在によってその利点が依然として得られるようになっていてもよい。そこで、回転源として光子圧力を利用した制御核融合機器を図15に示す。制御核融合機器1500は、第1の作業物質1503及びこれと関連付けられた第2の作業物質1502を有する。また、制御核融合機器1500は、回転チャンバ壁1505及び空洞1506を有する回転チャンバ1501を有する。回転チャンバ1501と、光子源1504が関連付けられている。
[00182]制御核融合機器の一実施形態においては、クーロンポテンシャルによって、障壁を通る量子トンネリングが可能であってもよい。このトンネリングの確率は通常、原子核の相対エネルギーの関数として理解されており、エネルギーが高いほどトンネリングの確率も高くなる。ただし、ある「形状」のクーロンポテンシャルによって、共鳴と称する状態により相対的に低いエネルギーでトンネリングの向上が可能であってもよい。図17は共鳴状態を示している。1701は入射原子核の波動関数、1702は系のクーロンポテンシャル、1703は減衰波動関数又は1701のエバネッセント波、1704はクーロン障壁を超えて存在する波動関数の部分である。
[00185]制御核融合機器の一実施形態においては、様々な形状及び向きを利用するようにしてもよい。一例として、図19は本明細書に記載の原理上で動作するマイクロ反応炉1900を示している。本実施形態において、回転源は電磁石であり、共鳴に基づいて動作する。この機器は、反応チャンバ1901、チャンバ壁1902、第1の作業物質1903、第2の作業物質1904、及び空洞1905を具備する。この空洞及びチャンバの形状が本実施形態において重要であり、ここでは一例として、特性寸法L 1906により表わしている。
[00189]制御核融合機器の一実施形態において、当該制御核融合機器は図3に示した実施形態に類似している。このため、図20に示すように、内側電極2004を囲む絶縁体2003を貫通した光ファイバ2002にレーザ2001が追加及び接続されている。光ファイバ2002は、プレート2006a近傍の点2005で終端している。ファイバ2002の端部は、出射する光がプレート2006aに向かうように配向している。また、プレート2006aは光電子放出化合物を含む。
[00192]制御核融合機器の一実施形態において、当該制御核融合機器は図3に示した実施形態に類似している。このため、図21に示すように、ホウ素板305a及び305bを排除し、それらを、制御核融合機器を軸方向に貫通して内側電極2103と外側電極2104との間の環状空間に至る2つのワイヤ2101及び2102で置き換えるのが好ましく、内側電極が非絶縁状態2107となっている制御核融合機器の軸方向部分において、ホウ素被膜2105及び2106がワイヤ2101及び2102を覆っている。ホウ素被膜2105及び2106が外側電極2104の内表面2108から半径方向内方にある距離で配置されているため、核融合反応は、図3に示した実施形態よりも半径方向内方の領域に集中する傾向となる。このことは、境界層の成長によって粒子速度が低下し得る外側電極2104の内表面2108に沿う場合よりも、ホウ素被膜2105及び2106の近傍において粒子のエネルギーが大きくなり得るため、好都合と考えられる。粒子エネルギーが高くなると、それに応じてトンネリングの速度も高くなり、核融合の速度も上昇する傾向にある。本実施形態では、制御圧力ハウジング2112及び磁石2113を有する。
[00193]図22には、制御核融合機器及びエネルギー利用アセンブリを模式的に示している。この構成2200は、DC-AC電源2205、ガス入力ライン2204、電源ケーブル2206、及び絶縁カバー2203を有する放電棒2202を有する核融合機器2200である。放電棒2202は絶縁カバー2203を超えて、核融合機器内及びガス回転領域2220へと延びている。ガス回転領域2220内には、ホウ素ターゲット2217、2219及び制御アーム2210と機械的に関連付けられたホウ素ターゲット2218が存在する。核融合機器は、外側電極2201及び磁石2216を有する。本実施形態において、エネルギー利用アセンブリ2260は、核融合機器の圧力制御構造の内側且つ外側電極2201のすぐ外側に配置されるとともに、ガス回転領域2220に直接隣接している。また、核融合機器は、カメラ2209、真空ポンプ2207、及び弁2208を有する。また、本実施形態においては、サンプリング及び分析アセンブリも設けられている。このアセンブリは、弁2211、分析チャンバ2212、ポンプ2213、弁2214、及びRGA(残留ガス分析器)2215を有する。分析チャンバの圧力は10-5torrであってもよい。
[00197]図23には、制御核融合機器及びエネルギー利用アセンブリを模式的に示している。この構成2300は、DC-AC電源2305、ガス入力ライン2304、電源ケーブル2306、及び絶縁カバー2303を有する放電棒2302を有する核融合機器2300である。放電棒2302は絶縁カバー2303を超えて、核融合機器内及びガス回転領域2320へと延びている。ガス回転領域2320内には、ホウ素ターゲット2317、2319及び制御アーム2310と機械的に関連付けられたホウ素ターゲット2318が存在する。核融合機器は、外側電極2301及び磁石2316を有する。本実施形態において、直接エネルギー変換アセンブリ2350等のエネルギー利用アセンブリは、核融合機器の圧力制御構造の内側且つ外側電極2301のすぐ外側に配置されるとともに、ガス回転領域2320から(下流側に)離れている。また、核融合機器は、カメラ2309、真空ポンプ2307、及び弁2308を有する。また本実施形態においては、サンプリング及び分析アセンブリも設けられている。このアセンブリは、弁2311、分析チャンバ2312、ポンプ2313、弁2314、及びRGA(残留ガス分析器)2315を有する。分析チャンバの圧力は10-5torrであってもよい。
[00201]図24Aは、放射源2401、第1の作業物質2404、放射ターゲット2403、第2の作業物質2402、及び空洞2405を備えた制御核融合機器2400を示している。放射線2401は、放射ターゲット2403に衝突して第1の作業物質2404を生成する。放射線は、レーザ、イオンビーム、パルス放射源等であってもよい。放射ターゲットは、金属箔、ポリマー等であってもよい。第1の作業物質は、プロトン、イオン等の望ましい反応物及び物質であってもよい。また、第1の作業物質は、第2の作業物質2402の方向に移動するようになっている。第1の作業物質のエネルギーは、1eV超、100eV超、1keV超、100keV超、1MeV超、又は10MeV超であってもよい。
[00203]制御核融合機器の一実施形態において、当該制御核融合機器は全体的に図3に示したようなものである。このため、ワイヤ上に位置決めされた複数のホウ素構造体が内側電極と外側電極との間のホウ素化合物のホウ素シェルを構成していてもよい。
[00204]制御核融合機器の本実施形態は、相対的にコンパクト且つ小型とすることができる。これにより、サイズが問題となる多くの用途にこれらの機器を採用することができる。また、これら小さな機器をいくつか併用して、所要量の電力を供給することも可能である。これらの機器は、例えばおよそ小型冷蔵庫、ゴルフクラブのバッグ、スーツケース、数フィート×数フィート、例えば大型のコーヒー缶のサイズである1平方フィート以下のサイズ等、本質的に小型且つコンパクトにすることができる。
[00207]実施例24の機器は、核融合物質の供給によって非中性子核融合を可能としており、電気自動車に給電するためのものである。
[00208]図25の実施形態は図24の機器よりも大きく、物質供給によって中性子核融合及び中性子の生成を可能としている。この機器は医療機器で使用することにより、制御して的を絞った中性子ビームによる疾患の治療が可能である。
[00209]図25の実施形態は、小型で外径がおよそ6インチ未満であり、物質供給によって中性子核融合及び中性子の生成を可能としている。この機器は、石油及びガス探索用(例えば石油探鉱用)縦穴検層及び測定具(LWD、MWD、及びLMWDと称する場合が多い)に組み込まれている。機器により生成された中性子を分析目的で使用することにより、掘削孔に関連する形成の性質を評価する。この機器で中性子を生成するのに必要な電力はわずか(いくつかの実施形態においてはゼロ)であるため、特に、例えば10,000フィート超の非常に深い(すなわち長い)掘削孔の測定又は検層においては、縦穴に電気を伝送する際の大幅な電力損失を克服する必要がないため、非常に有益である。
[00210]本実施例の実施形態においては、マイクロ波源を使用することにより、ガス(弱イオン化ガス)の回転の始動を補助する。このように、マイクロ波源であれば、電流を用いてガスの初期の回転を得る場合よりも必要な電力が少なくて済むので、マイクロ波発生器を使用することによって、より良好(例えば、より効率的)なエネルギーバランスが可能となる。
[00212]全体的に図3に示したような機器を用いて、核融合相互作用を実行した。図27は、ガスを回転させるために機器に印加した電流及び電圧を示している。これにより、線2702は電極の経時的(ms)な電圧を示している。また、線2701は、経時的なパルス電流(アンペア)を示している。これら2つの線は、CW電圧とパルス中の電流との関係を示している。図27のグラフ上の点(A)は図27Aに対応し、図27のグラフ上の点(B)は図27Bに対応し、図27のグラフ上の点(C)は図27Cに対応し、図27のグラフ上の点(D)は図27Dに対応し、図27のグラフ上の点(E)は図27Eに対応し、図27のグラフ上の点(F)は図27Fに対応している。
[00214]全体的に図3に示したような機器を用いて、核融合相互作用を実行した。図28は、時間10.7msにおいて、587.5nm(±2.5nm FWHW)を中心とするフィルタを用いて観測したHe lニュートラルの放出2801を図解表示したものであり、ガスを回転させるために機器に印加した電流及び電圧を示している。
[00215]全体的に図3に示したような機器を用いて、核融合相互作用を実行した。図29は、時間10.7msにおいて、587.5nm(±2.5nm FWHW)を中心とするフィルタを用いて観測したHe lニュートラルの放出を図解表示したものである。核融合生成物及び弱イオン化ガス2901は、2.52×106m/sで計算したものであり、核融合生成物及び弱イオン化ガス2902は、1.63×106m/sで計算したものであり、核融合生成物及び弱イオン化ガス2903は、1.15×106m/sで計算したものであり、核融合生成物及び弱イオン化ガス2904は、9.95×105m/sで計算したものである。
[00216]図30及び図31は、ホウ素ターゲットを用いた場合及びホウ素ターゲットを用いていない場合のHe放出の強度を示している。
[00221]本実施形態において、機器における弱イオン化プラズマの回転は、波動及び粒子捕獲によって得られる。一般的に、機器においては内壁の近傍、好ましくは内壁に直接隣接して円形の電磁波が誘導される。イオン化粒子はこの円形波に結合し、機器の周りを移動することによって中性粒子を運ぶ。このように、機器における弱イオン化プラズマの高速回転は、磁界を必要とすることなく実現可能である。したがって、陽イオン、陰イオン、及び中性分子(ニュートラル)から成る3成分プラズマ系における非線形波動及び粒子捕獲及びイオン-ニュートラル結合の基本原理として理論化されているものを用いることにより、粒子の核融合相互作用に必要な条件が得られる。その結果としての集団現象は、各部分を合わせたものよりもはるかに豊富且つ多様である。通常、不安定なイオンは安定に保たれ、また逆帯電した粒子は波動ポテンシャルトラフにおいて分離した状態に保たれ、空間電荷の制約なく、非常に高い全体密度が得られる。ニュートラルとイオンとの間の衝突によって、電磁界による高密度媒体の制御が可能となる。これらの現象は、気体及び液体の両方に当てはまる。
本明細書は以下の実施形態を開示する。
(実施形態1)
物質の制御核融合反応のためのシステムであって、
a.内表面及び外表面を備える第1のハウジングであり、前記内表面が空洞を規定した、第1のハウジングと、
b.前記空洞内に配置された内側ハウジングであり、前記内側ハウジングが内表面を有し、前記内表面が回転空洞を規定した、内側ハウジングと、
c.前記回転空洞内に配置された弱イオン化プラズマを形成する第1の物質と、
d.前記回転空洞と関連付けられた第2の物質と、
e.イオン化装置であり、前記イオン化装置が前記第1の物質と動作可能に関連付けられることによって、前記第1の物質の成分をイオン化することによりプラズマを生成可能なイオン化装置と、
f.前記イオン化装置、前記第1のハウジング、及び前記回転チャンバと動作可能に関連付けられることにより、前記回転チャンバにおいて前記プラズマを高速で回転可能な回転誘導アセンブリと、
g.前記プラズマの高速回転中に前記第1の物質及び前記第2の物質の前記核融合反応を提供するように構成された前記回転チャンバと、
を具備した、システム。
(実施形態2)
前記核融合反応が、非中性子性である、実施形態1に記載のシステム。
(実施形態3)
前記核融合反応が、中性子性である、実施形態1に記載のシステム。
(実施形態4)
前記第1の物質が、水素を含む、実施形態1に記載のシステム。
(実施形態5)
前記第1の物質が、水素を含む、実施形態2に記載のシステム。
(実施形態6)
前記第1の物質が、水素を含む、実施形態3に記載のシステム。
(実施形態7)
前記第1の物質が、水素、重水素、三重水素、ヘリウム、アルゴン、ネオン、キセノン、窒素、及び酸素から成る群から選択される物質を含む、実施形態1に記載のシステム。
(実施形態8)
前記第1の物質が、水素、重水素、三重水素、ヘリウム、アルゴン、ネオン、キセノン、窒素、及び酸素から成る群から選択される物質を含む、実施形態2に記載のシステム。
(実施形態9)
前記第1の物質が、水素、重水素、三重水素、ヘリウム、アルゴン、ネオン、キセノン、窒素、及び酸素から成る群から選択される物質を含む、実施形態3に記載のシステム。
(実施形態10)
前記第1の物質が、気化した固体を含む、実施形態1に記載のシステム。
(実施形態11)
前記第1の物質が、気化した固体を含む、実施形態2に記載のシステム。
(実施形態12)
前記第1の物質が、気化した固体を含む、実施形態3に記載のシステム。
(実施形態13)
前記第1の物質が、水素、ヘリウム、アルゴン、及び気化した固体から成る群から選択される物質を含む、実施形態1に記載のシステム。
(実施形態14)
前記第2の物質が、ホウ素を含む、実施形態1に記載のシステム。
(実施形態15)
前記第2の物質が、ホウ素を含む、実施形態2に記載のシステム。
(実施形態16)
前記第2の物質が、ホウ素を含む、実施形態7に記載のシステム。
(実施形態17)
前記第2の物質が、ホウ素を含む、実施形態8に記載のシステム。
(実施形態18)
前記第2の物質が、ホウ素を含む、実施形態9に記載のシステム。
(実施形態19)
前記第2の物質が、ホウ素-11を含む、実施形態14に記載のシステム。
(実施形態20)
前記第2の物質が、リチウムを含む、実施形態1に記載のシステム。
(実施形態21)
前記第2の物質が、リチウム-6を含む、実施形態20に記載のシステム。
(実施形態22)
前記第1の物質が、水素-1を含む、実施形態4に記載のシステム。
(実施形態23)
前記第2の物質が、窒化ホウ素及び六ホウ化ランタンから成る群から選択される物質を含む、実施形態1に記載のシステム。
(実施形態24)
前記第2の物質が、窒化ホウ素及び六ホウ化ランタンから成る群から選択される物質を含む、実施形態2に記載のシステム。
(実施形態25)
前記第2の物質が、窒化ホウ素及び六ホウ化ランタンから成る群から選択される物質を含む、実施形態4に記載のシステム。
(実施形態26)
前記第1の物質及び前記第2の物質が、窒化ホウ素、六ホウ化ランタン、水素、重水素、三重水素、ヘリウム、アルゴン、ネオン、キセノン、窒素、酸素、気化した固体、水素-1、ホウ素-11、リチウム-6、リチウム-7、ヘリウム-3、リチウム-6、及び窒素-15から成る群から選択される物質を含む、実施形態1に記載のシステム。
(実施形態27)
前記第1の物質が、良好な電子放出体を含む、実施形態1に記載のシステム。
(実施形態28)
前記第1の物質が、良好な電子放出体を含む、実施形態2に記載のシステム。
(実施形態29)
前記第1の物質が、良好な電子放出体を含む、実施形態3に記載のシステム。
(実施形態30)
前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、実施形態1に記載のシステム。
(実施形態31)
前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、実施形態2に記載のシステム。
(実施形態32)
前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、実施形態3に記載のシステム。
(実施形態33)
前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、実施形態5に記載のシステム。
(実施形態34)
前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、実施形態7に記載のシステム。
(実施形態35)
前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、実施形態10に記載のシステム。
(実施形態36)
前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、実施形態14に記載のシステム。
(実施形態37)
前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、実施形態20に記載のシステム。
(実施形態38)
前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、実施形態24に記載のシステム。
(実施形態39)
前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、実施形態1に記載のシステム。
(実施形態40)
前記磁石が、超伝導磁石を含む、実施形態30に記載のシステム。
(実施形態41)
前記磁石が、永久磁石を含む、実施形態30に記載のシステム。
(実施形態42)
前記磁石が、少なくともおよそ0.5テスラの磁界を生成する能力を有する、実施形態30に記載のシステム。
(実施形態43)
前記磁石が、少なくともおよそ1テスラの磁界を生成する能力を有する、実施形態30に記載のシステム。
(実施形態44)
前記磁石が、少なくともおよそ2テスラの磁界を生成する能力を有する、実施形態30に記載のシステム。
(実施形態45)
前記回転誘導アセンブリが、超伝導磁石、永久磁石、電磁石、高周波源、マイクロ波源、レーザ、及びイオン銃から成る群から選択される機器を備えた、実施形態1~9のいずれか一項に記載のシステム。
(実施形態46)
核融合反応を誘導及び制御する機器であって、
回転器に対して動作可能に結合された回転チャンバと、
前記回転チャンバと関連付けられ、第1の作業物質を前記回転チャンバに導入するように構成された第1の反応物取り扱い機構であり、前記第1の作業物質が第1の核融合反応物を含む、第1の反応物取り扱い機構と、
前記回転チャンバと関連付けられ、第2の作業物質を前記回転チャンバ内で位置決めするように構成された第2の反応物取り扱い機構であり、前記第2の作業物質が第2の核融合反応物を含む、第2の反応物取り扱い機構と、
前記回転チャンバに対して動作可能に結合され、少なくとも前記第1の作業物質のイオン化を誘導して弱イオン化プラズマを生成するように構成されたプラズマ生成器と、
を備え、
前記回転器が、前記第1の核融合反応物と前記第2の核融合反応物との間で核融合反応が生じるように、前記回転チャンバ内において少なくとも前記第1の作業物質を含む前記弱イオン化プラズマの急速回転を誘導するように構成された、機器。
(実施形態47)
前記回転器が、
前記回転チャンバを通って延びる磁界を生成するように構成された磁界発生器と、
前記磁界と実質的に垂直な方向に前記回転チャンバを通って延びる電界に沿って少なくとも最初は移動するとともに、前記磁界によるローレンツ力を受けるように前記弱イオン化プラズマ中のイオンが誘導されるように、前記電界を生成するように構成された電界発生器と、
を備えた、実施形態46に記載の機器。
(実施形態48)
前記磁界発生器が、少なくとも1つの電磁石を備えた、実施形態47に記載の機器。
(実施形態49)
前記少なくとも1つの電磁石が、超伝導性である、実施形態48に記載の機器。
(実施形態50)
前記磁界発生器が、少なくとも1つの永久磁石を備えた、実施形態47に記載の機器。
(実施形態51)
前記少なくとも1つの永久磁石が、希土類磁石である、実施形態50に記載の機器。
(実施形態52)
前記磁界発生器が、0.5~2テスラの磁界強度を前記回転チャンバ中に生成するように構成された、実施形態47に記載の機器。
(実施形態53)
前記磁界発生器が、およそ50,000~100,000回転毎秒の前記弱イオン化プラズマの平均回転速度を誘導するのに十分な強度の磁界を前記回転チャンバ中に生成するように構成された、実施形態47に記載の機器。
(実施形態54)
前記磁界発生器が、およそ100,000回転毎秒より大きな前記弱イオン化プラズマの平均回転速度を誘導するのに十分な強度の磁界を前記回転チャンバ中に生成するように構成された、実施形態47に記載の機器。
(実施形態55)
前記回転チャンバが、略円筒状であり、前記回転チャンバの対称軸が前記磁界と実質的に平行となるように配向するように構成された、実施形態47に記載の機器。
(実施形態56)
前記電界発生器が、
前記回転チャンバの前記対称軸に実質的に沿って位置決めされた中心電極と、
実質的に円筒形状を有し、前記中心電極と同軸に位置決めされた外側電極と、
前記中心電極と前記外側電極との間に電圧を供給して、前記回転チャンバ内で実質的に半径方向に延びる電界を生成するように構成された電源と、
を備えた、実施形態55に記載の機器。
(実施形態57)
前記電源が、実質的に連続波(CW)の電圧を与えるように構成された電力機器を具備した、実施形態56に記載の機器。
(実施形態58)
前記電源が、1つ又は複数の電圧パルスを与えるように構成された電力機器を具備した、実施形態56に記載の機器。
(実施形態59)
前記電源が、少なくとも1つのエネルギー蓄積キャパシタを具備した、実施形態56に記載の機器。
(実施形態60)
前記回転チャンバが、定在電磁波を支持するようにさらに構成され、
前記回転器が、
前記回転チャンバ内に回転定在波が発生するように、電磁波を前記回転チャンバに印加するように構成された高周波供給装置を備え、
前記回転定在波が、前記回転チャンバ中の前記弱イオン化プラズマを回転させるように構成された、実施形態46に記載の機器。
(実施形態61)
前記回転器が、前記高周波供給装置に印加される前記電磁波に変調を適用して、前記弱イオン化プラズマの回転を促進するように構成された変調器をさらに具備した、実施形態60に記載の機器。
(実施形態62)
前記変調器が、およそ1kHz~200kHzの振幅変調を適用するように構成された、実施形態60に記載の機器。
(実施形態63)
前記変調器が、およそ1kHz~200kHzの位相変調を適用するように構成された、実施形態60に記載の機器。
(実施形態64)
前記変調器が、調節可能な変調周波数を適用するように構成された、実施形態60に記載の機器。
(実施形態65)
前記回転器が、前記回転チャンバに対して動作可能に結合された光子源を備え、前記光子源が、少なくとも前記第1の作業物質への照射によって、前記第1の作業物質を前記回転チャンバ内で回転させるのに十分な光子圧力を生成するように構成された、実施形態46に記載の機器。
(実施形態66)
前記光子源が、レーザを備えた、実施形態65に記載の機器。
(実施形態67)
前記光子源を前記第1の作業物質へと案内する少なくとも1つの光ファイバをさらに備えた、実施形態65に記載の機器。
(実施形態68)
前記プラズマ生成器が、
前記第1の作業物質と動作可能に関連付けられた第1の電極と、
前記第1の作業物質と動作可能に関連付けられた第2の電極と、
前記第1の作業物質の一部をイオン化させるのに十分な電圧を前記第1の電極と前記第2の電極との間に印加するように構成された電源と、
を備えた、実施形態46に記載の機器。
(実施形態69)
前記プラズマ生成器が、
磁界を前記回転チャンバ内に印加するように構成された磁界発生器と、
前記第1の作業物質と動作可能に関連付けられ、電磁信号を前記回転チャンバに導入するように構成された高周波供給装置と、
を備え、
前記電磁信号の周波数が、前記電磁界から前記第1の作業物質への共鳴エネルギー移動によって前記第1の作業物質の少なくとも一部がイオン化されるように、前記磁界の存在下での前記第1の作業物質のシンクロトロン周波数に対応するように選択される、実施形態46に記載の機器。
(実施形態70)
前記高周波供給装置が、導波管である、実施形態69に記載の機器。
(実施形態71)
前記第1の反応物取り扱い機構が、前記第1の作業物質を前記回転チャンバに注入するように構成された入口弁アセンブリを備えた、実施形態46に記載の機器。
(実施形態72)
前記第2の反応物取り扱い機構が、前記第2の作業物質を前記回転チャンバに注入するように構成された入口弁アセンブリを備えた、実施形態46に記載の機器。
(実施形態73)
前記第2の反応物取り扱い機構が、前記第2の作業物質を前記回転チャンバ内に位置決めするように構成された搭載アセンブリを備えた、実施形態46に記載の機器。
(実施形態74)
前記搭載アセンブリが、前記回転チャンバ内で実質的に固定されたアセンブリをさらに備えた、実施形態73に記載の機器。
(実施形態75)
前記搭載アセンブリが、前記第2の作業物質の前記回転チャンバへの挿入及び前記回転チャンバからの取り出しを行うように構成された可動棒をさらに備えた、実施形態73に記載の機器。
(実施形態76)
前記第1の核融合反応物が、水素-1である、実施形態46に記載の機器。
(実施形態77)
前記第1の作業物質が、水素である、実施形態46に記載の機器。
(実施形態78)
前記第1の作業物質が、希ガスを含む、実施形態46に記載の機器。
(実施形態79)
前記希ガスが、前記第1の核融合反応物の担体である、実施形態78に記載の機器。
(実施形態80)
前記第2の核融合反応物が、ホウ素-11である、実施形態46に記載の機器。
(実施形態81)
前記第2の作業物質が、窒化ホウ素及び六ホウ化ランタンの一方である、実施形態80に記載の機器。
(実施形態82)
前記第1の核融合反応物が、水素-1、重水素、三重水素、ヘリウム-3、リチウム-6、リチウム-7、ホウ素-11、及び窒素-15から成る群から選択される、実施形態46に記載の機器。
(実施形態83)
前記第2の核融合反応物が、水素-1、重水素、三重水素、ヘリウム-3、リチウム-6、リチウム-7、ホウ素-11、及び窒素-15から成る群から選択される、実施形態46に記載の機器。
(実施形態84)
前記第1の核融合反応物及び前記第2の核融合反応物が、同じ種類の原子核を含む、実施形態46に記載の機器。
(実施形態85)
前記第1の核融合反応物及び前記第2の核融合反応物が、異なる種類の原子核を含む、実施形態46に記載の機器。
(実施形態86)
前記第1の核融合反応物及び前記第2の核融合反応物の少なくとも一方が、高効率の電子放出体である物質を含む、実施形態46に記載の機器。
(実施形態87)
前記回転チャンバが、銅を含む構造を備えた、実施形態46に記載の機器。
(実施形態88)
前記回転チャンバが、銅、ステンレス鋼、銀、金属メッキ、セラミック、複合材、プラスチック、金属、半金属、有機物、酸化物、ガラス、ポリマー材料、合金、及びグラファイトから成る群から選択される1つ又は複数の材料で作製された構造を備えた、実施形態46に記載の機器。
(実施形態89)
前記回転チャンバ及び前記回転器が、イオンのニュートラルに対する比率が1~およそ100超である弱イオン化プラズマと関連して動作するように構成された、実施形態46に記載の機器。
(実施形態90)
前記回転チャンバ及び前記回転器が、イオンのニュートラルに対する比率が1~およそ1000超である弱イオン化プラズマと関連して動作するように構成された、実施形態46に記載の機器。
(実施形態91)
前記回転チャンバ及び前記回転器が、イオンのニュートラルに対する比率が1~およそ10000超である弱イオン化プラズマと関連して動作するように構成された、実施形態46に記載の機器。
(実施形態92)
前記回転器が、前記回転チャンバの領域における前記弱イオン化プラズマの粒子密度が少なくとも10 17 個毎立方センチメートルに達するように、回転速度を誘導するように構成された、実施形態46に記載の機器。
(実施形態93)
前記回転器が、前記回転チャンバの領域における前記弱イオン化プラズマの粒子密度が少なくとも10 18 個毎立方センチメートルに達するように、回転速度を誘導するように構成された、実施形態46に記載の機器。
(実施形態94)
前記回転器が、核融合が生じる領域において前記第1の作業物質及び前記第2の作業物質の粒子密度が合わせて10 22 個毎立方センチメートル超に達するように、回転速度を誘導するように構成された、実施形態46に記載の機器。
(実施形態95)
前記回転器が、核融合が生じる領域において前記第1の作業物質及び前記第2の作業物質の粒子密度が合わせて10 23 個毎立方センチメートル超に達するように、回転速度を誘導するように構成された、実施形態46に記載の機器。
(実施形態96)
前記回転チャンバに対して動作可能に結合されたエネルギー利用アセンブリをさらに備え、前記エネルギー利用アセンブリが、核融合により生成されたエネルギーを前記回転チャンバに隣接する領域から取り出すように構成された、実施形態46に記載の機器。
(実施形態97)
前記エネルギー利用アセンブリが、前記回転チャンバに対して熱的に結合された熱交換器を備えた、実施形態96に記載の機器。
(実施形態98)
前記熱交換器が、前記回転チャンバを少なくとも部分的に囲むシュラウドとして構成された、実施形態97に記載の機器。
(実施形態99)
前記熱交換器が、前記回転チャンバと熱的に接触し、熱エネルギーを運ぶ作動流体を搬送するコイルを具備するように構成された、実施形態97に記載の機器。
(実施形態100)
前記作動流体が、水、高圧水、蒸気、及び液体ナトリウムから成る群から選択される、実施形態99に記載の熱交換器。
(実施形態101)
前記回転チャンバの近傍に位置決めされ、前記核融合反応において生成された粒子を減速及び捕集するように構成された物質を前記エネルギー利用アセンブリが備えた、実施形態96に記載の機器。
(実施形態102)
前記回転チャンバの近傍に位置決めされ、粒子を減速及び捕集するように構成された前記物質が、前記回転チャンバの近傍に位置決めされた前記物質から熱を除去するように構成された熱交換器にさらに結合された、実施形態101に記載の機器。
(実施形態103)
前記核融合反応において生成された荷電粒子からエネルギーを抽出し、前記エネルギーを電流に変換するように構成された直接エネルギー変換アセンブリをさらに備えた、実施形態46に記載の機器。
(実施形態104)
前記核融合反応において生成された荷電粒子がPN接合に衝突して電子-ホール対を生成することにより電流を誘導するように、前記回転チャンバに隣接して位置決めされた半導体PN接合のアレイをさらに備えた、実施形態103に記載の直接エネルギー変換アセンブリ。
(実施形態105)
仕事関数が低い第1の電極と仕事関数が高い第2の電極との間に配設された作業物質をさらに備え、荷電粒子が前記作業物質に衝突して電子-ホール対を生成することにより前記第1の電極及び前記第2の電極から電流を誘導するように、前記作業物質が、前記回転チャンバに隣接して配置された、実施形態103に記載の直接エネルギー変換アセンブリ。
(実施形態106)
前記作業物質が、希ガスである、実施形態105に記載の直接エネルギー変換アセンブリ。
(実施形態107)
前記作業物質が、ゲルである、実施形態105に記載の直接エネルギー変換アセンブリ。
(実施形態108)
前記作業物質が、液体である、実施形態105に記載の直接エネルギー変換アセンブリ。
(実施形態109)
前記液体作業物質が、配管システムを通して循環可能である、実施形態108に記載の直接エネルギー変換アセンブリ。
(実施形態110)
仕事関数が低い前記第1の電極が、マグネシウムで作製された、実施形態105に記載の直接エネルギー変換アセンブリ。
(実施形態111)
仕事関数が高い前記第2の電極が、金で作製された、実施形態105に記載の直接エネルギー変換アセンブリ。
(実施形態112)
回転チャンバにおいて、第1の作業物質中の第1の反応物と第2の作業物質中の第2の反応物との間で制御核融合を実現する方法であって、
前記第1の作業物質を軽くイオン化して、複数のイオンを生成するステップと、
イオン-ニュートラル結合によって、前記回転チャンバ内で前記第1の作業物質の急速回転を誘導するステップと、
前記第1の反応物及び前記第2の反応物の核融合を誘導するのに前記第1の作業物質の速度が十分に高い前記回転チャンバの領域に前記第1の反応物及び前記第2の反応物の両方を取り込むステップと、
を含む、制御核融合を実現する方法。
(実施形態113)
前記第1の作業物質の急速回転を誘導する前記ステップが、
軸の周りに生じることを意図された前記急速回転の前記軸に沿って、前記回転チャンバを通って延びる磁界を規定するステップと、
前記軸の周りに生じることを意図された前記急速回転の前記軸から半径方向外方に延びる電界を規定するステップであって、前記第1の作業物質の回転が実現されるように、前記複数のイオンが、前記電界により加速されるとともに、前記磁界によるローレンツ力を受けるステップと、
をさらに含む、実施形態112に記載の制御核融合を実現する方法。
(実施形態114)
前記第1の作業物質の急速回転を誘導する前記ステップが、前記磁界と実質的に垂直な方向に、前記軽くイオン化された第1の作業物質を通して電流パルスを印加するステップをさらに含む、実施形態113に記載の制御核融合を実現する方法。
(実施形態115)
空間電荷効果の作用によって前記核融合反応の断面が大きくなるように、高効率の電子放出体である前記第1の作業物質及び前記第2の作業物質の少なくとも一方を用意するステップをさらに含む、実施形態112に記載の制御核融合を実現する方法。
(実施形態116)
水素-1、重水素、三重水素、ヘリウム-3、リチウム-6、リチウム-7、ホウ素-11、及び窒素-15から成る群から選択される第1の反応物を含む第1の作業物質を用意するステップをさらに含む、実施形態112に記載の制御核融合を実現する方法。
(実施形態117)
水素-1、重水素、三重水素、ヘリウム-3、リチウム-6、リチウム-7、ホウ素-11、及び窒素-15から成る群から選択される第2の反応物を含む第2の作業物質を用意するステップをさらに含む、実施形態112に記載の制御核融合を実現する方法。
(実施形態118)
物質の制御核融合反応のためのシステムであって、
a.内表面及び外表面を備える第1のハウジングであり、前記内表面が空洞を規定した、第1のハウジングと、
b.前記空洞内に配置された内側ハウジングであり、前記内側ハウジングが内表面を備え、前記内表面が回転空洞を規定した、内側ハウジングと、
c.前記回転空洞内に配置された弱イオン化プラズマを形成する第1の物質と、
d.前記回転空洞と関連付けられた第2の物質と、
e.イオン化装置であり、前記イオン化装置が前記第1の物質と動作可能に関連付けられることによって、前記第1の物質の成分をイオン化することによりプラズマを生成可能なイオン化装置と、
f.回転誘導アセンブリであり、前記回転誘導アセンブリが、前記イオン化装置、前記第1のハウジング、及び前記回転チャンバと動作可能に関連付けられることにより、前記回転チャンバにおいて前記プラズマを高速で回転可能であるとともに、前記第2の物質を解離可能な回転誘導アセンブリと、
g.前記プラズマの高速回転中に前記第1の物質及び前記第2の物質の前記核融合反応を提供するように構成された前記回転チャンバと、
を具備した、システム。
(実施形態119)
前記第2の作業物質が、六ホウ化ランタンであることにより、ランタン及びホウ素に解離する、実施形態118に記載のシステム。
(実施形態120)
前記核融合反応による第3の物質と、前記第3の物質との核融合反応のための第4の物質とを備えた、実施形態1に記載のシステム。
(実施形態121)
前記第3の物質が、アルファ粒子、ヘリウム-3、及び中性子から成る群から選択される物質を含む、実施形態120に記載のシステム。
(実施形態122)
前記第4の物質が、炭素、窒素、酸素、クロム、及びネオンから成る群から選択される物質を含む、実施形態120に記載のシステム。
(実施形態123)
前記第3の物質が、アルファ粒子、ヘリウム-3、及び中性子から成る群から選択される物質を含み、前記第4の物質が、炭素、窒素、酸素、クロム、及びネオンから成る群から選択される物質を含む、実施形態120に記載のシステム。
(実施形態124)
前記第1の物質及び前記第2の物質が、窒化ホウ素、六ホウ化ランタン、水素、重水素、三重水素、ヘリウム、アルゴン、ネオン、キセノン、窒素、酸素、気化した固体、水素-1、ホウ素-11、リチウム-6、リチウム-7、ヘリウム-3、リチウム-6、及び窒素-15から成る群から選択される物質を含み、前記システムが、前記核融合反応による第3の物質を備え、前記第3の物質との反応のための第4の物質を備え、前記第4の物質が、炭素、窒素、酸素、クロム、及びネオンから成る群から選択される物質を含む、実施形態1に記載のシステム。
(実施形態125)
前記核融合反応が、本質的に非中性子性である、実施形態1に記載のシステム。
(実施形態126)
前記核融合反応が、本質的に中性子性である、実施形態1に記載のシステム。
(実施形態127)
前記第3の物質が、アルファ粒子、ヘリウム-3、及びガンマ線から成る群から選択される物質を含む、実施形態120に記載のシステム。
(実施形態128)
前記第3の物質が、アルファ粒子、ヘリウム-3、及びガンマ線から成る群から選択される物質を含み、前記第4の物質が、炭素、窒素、酸素、クロム、及びネオンから成る群から選択される物質を含む、実施形態120に記載のシステム。
Claims (128)
- 物質の制御核融合反応のためのシステムであって、
a.内表面及び外表面を備える第1のハウジングであり、前記内表面が空洞を規定した、第1のハウジングと、
b.前記空洞内に配置された内側ハウジングであり、前記内側ハウジングが内表面を有し、前記内表面が回転空洞を規定した、内側ハウジングと、
c.前記回転空洞内に配置された弱イオン化プラズマを形成する第1の物質と、
d.前記回転空洞と関連付けられた第2の物質と、
e.イオン化装置であり、前記イオン化装置が前記第1の物質と動作可能に関連付けられることによって、前記第1の物質の成分をイオン化することによりプラズマを生成可能なイオン化装置と、
f.前記イオン化装置、前記第1のハウジング、及び前記回転チャンバと動作可能に関連付けられることにより、前記回転チャンバにおいて前記プラズマを高速で回転可能な回転誘導アセンブリと、
g.前記プラズマの高速回転中に前記第1の物質及び前記第2の物質の前記核融合反応を提供するように構成された前記回転チャンバと、
を具備した、システム。 - 前記核融合反応が、非中性子性である、請求項1に記載のシステム。
- 前記核融合反応が、中性子性である、請求項1に記載のシステム。
- 前記第1の物質が、水素を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記第1の物質が、水素を含む、請求項2に記載のシステム。
- 前記第1の物質が、水素を含む、請求項3に記載のシステム。
- 前記第1の物質が、水素、重水素、三重水素、ヘリウム、アルゴン、ネオン、キセノン、窒素、及び酸素から成る群から選択される物質を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記第1の物質が、水素、重水素、三重水素、ヘリウム、アルゴン、ネオン、キセノン、窒素、及び酸素から成る群から選択される物質を含む、請求項2に記載のシステム。
- 前記第1の物質が、水素、重水素、三重水素、ヘリウム、アルゴン、ネオン、キセノン、窒素、及び酸素から成る群から選択される物質を含む、請求項3に記載のシステム。
- 前記第1の物質が、気化した固体を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記第1の物質が、気化した固体を含む、請求項2に記載のシステム。
- 前記第1の物質が、気化した固体を含む、請求項3に記載のシステム。
- 前記第1の物質が、水素、ヘリウム、アルゴン、及び気化した固体から成る群から選択される物質を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記第2の物質が、ホウ素を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記第2の物質が、ホウ素を含む、請求項2に記載のシステム。
- 前記第2の物質が、ホウ素を含む、請求項7に記載のシステム。
- 前記第2の物質が、ホウ素を含む、請求項8に記載のシステム。
- 前記第2の物質が、ホウ素を含む、請求項9に記載のシステム。
- 前記第2の物質が、ホウ素-11を含む、請求項14に記載のシステム。
- 前記第2の物質が、リチウムを含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記第2の物質が、リチウム-6を含む、請求項20に記載のシステム。
- 前記第1の物質が、水素-1を含む、請求項4に記載のシステム。
- 前記第2の物質が、窒化ホウ素及び六ホウ化ランタンから成る群から選択される物質を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記第2の物質が、窒化ホウ素及び六ホウ化ランタンから成る群から選択される物質を含む、請求項2に記載のシステム。
- 前記第2の物質が、窒化ホウ素及び六ホウ化ランタンから成る群から選択される物質を含む、請求項4に記載のシステム。
- 前記第1の物質及び前記第2の物質が、窒化ホウ素、六ホウ化ランタン、水素、重水素、三重水素、ヘリウム、アルゴン、ネオン、キセノン、窒素、酸素、気化した固体、水素-1、ホウ素-11、リチウム-6、リチウム-7、ヘリウム-3、リチウム-6、及び窒素-15から成る群から選択される物質を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記第1の物質が、良好な電子放出体を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記第1の物質が、良好な電子放出体を含む、請求項2に記載のシステム。
- 前記第1の物質が、良好な電子放出体を含む、請求項3に記載のシステム。
- 前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、請求項1に記載のシステム。
- 前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、請求項2に記載のシステム。
- 前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、請求項3に記載のシステム。
- 前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、請求項5に記載のシステム。
- 前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、請求項7に記載のシステム。
- 前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、請求項10に記載のシステム。
- 前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、請求項14に記載のシステム。
- 前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、請求項20に記載のシステム。
- 前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、請求項24に記載のシステム。
- 前記回転誘導アセンブリが、磁石を備えた、請求項1に記載のシステム。
- 前記磁石が、超伝導磁石を含む、請求項30に記載のシステム。
- 前記磁石が、永久磁石を含む、請求項30に記載のシステム。
- 前記磁石が、少なくともおよそ0.5テスラの磁界を生成する能力を有する、請求項30に記載のシステム。
- 前記磁石が、少なくともおよそ1テスラの磁界を生成する能力を有する、請求項30に記載のシステム。
- 前記磁石が、少なくともおよそ2テスラの磁界を生成する能力を有する、請求項30に記載のシステム。
- 前記回転誘導アセンブリが、超伝導磁石、永久磁石、電磁石、高周波源、マイクロ波源、レーザ、及びイオン銃から成る群から選択される機器を備えた、請求項1~9のいずれか一項に記載のシステム。
- 核融合反応を誘導及び制御する機器であって、
回転器に対して動作可能に結合された回転チャンバと、
前記回転チャンバと関連付けられ、第1の作業物質を前記回転チャンバに導入するように構成された第1の反応物取り扱い機構であり、前記第1の作業物質が第1の核融合反応物を含む、第1の反応物取り扱い機構と、
前記回転チャンバと関連付けられ、第2の作業物質を前記回転チャンバ内で位置決めするように構成された第2の反応物取り扱い機構であり、前記第2の作業物質が第2の核融合反応物を含む、第2の反応物取り扱い機構と、
前記回転チャンバに対して動作可能に結合され、少なくとも前記第1の作業物質のイオン化を誘導して弱イオン化プラズマを生成するように構成されたプラズマ生成器と、
を備え、
前記回転器が、前記第1の核融合反応物と前記第2の核融合反応物との間で核融合反応が生じるように、前記回転チャンバ内において少なくとも前記第1の作業物質を含む前記弱イオン化プラズマの急速回転を誘導するように構成された、機器。 - 前記回転器が、
前記回転チャンバを通って延びる磁界を生成するように構成された磁界発生器と、
前記磁界と実質的に垂直な方向に前記回転チャンバを通って延びる電界に沿って少なくとも最初は移動するとともに、前記磁界によるローレンツ力を受けるように前記弱イオン化プラズマ中のイオンが誘導されるように、前記電界を生成するように構成された電界発生器と、
を備えた、請求項46に記載の機器。 - 前記磁界発生器が、少なくとも1つの電磁石を備えた、請求項47に記載の機器。
- 前記少なくとも1つの電磁石が、超伝導性である、請求項48に記載の機器。
- 前記磁界発生器が、少なくとも1つの永久磁石を備えた、請求項47に記載の機器。
- 前記少なくとも1つの永久磁石が、希土類磁石である、請求項50に記載の機器。
- 前記磁界発生器が、0.5~2テスラの磁界強度を前記回転チャンバ中に生成するように構成された、請求項47に記載の機器。
- 前記磁界発生器が、およそ50,000~100,000回転毎秒の前記弱イオン化プラズマの平均回転速度を誘導するのに十分な強度の磁界を前記回転チャンバ中に生成するように構成された、請求項47に記載の機器。
- 前記磁界発生器が、およそ100,000回転毎秒より大きな前記弱イオン化プラズマの平均回転速度を誘導するのに十分な強度の磁界を前記回転チャンバ中に生成するように構成された、請求項47に記載の機器。
- 前記回転チャンバが、略円筒状であり、前記回転チャンバの対称軸が前記磁界と実質的に平行となるように配向するように構成された、請求項47に記載の機器。
- 前記電界発生器が、
前記回転チャンバの前記対称軸に実質的に沿って位置決めされた中心電極と、
実質的に円筒形状を有し、前記中心電極と同軸に位置決めされた外側電極と、
前記中心電極と前記外側電極との間に電圧を供給して、前記回転チャンバ内で実質的に半径方向に延びる電界を生成するように構成された電源と、
を備えた、請求項55に記載の機器。 - 前記電源が、実質的に連続波(CW)の電圧を与えるように構成された電力機器を具備した、請求項56に記載の機器。
- 前記電源が、1つ又は複数の電圧パルスを与えるように構成された電力機器を具備した、請求項56に記載の機器。
- 前記電源が、少なくとも1つのエネルギー蓄積キャパシタを具備した、請求項56に記載の機器。
- 前記回転チャンバが、定在電磁波を支持するようにさらに構成され、
前記回転器が、
前記回転チャンバ内に回転定在波が発生するように、電磁波を前記回転チャンバに印加するように構成された高周波供給装置を備え、
前記回転定在波が、前記回転チャンバ中の前記弱イオン化プラズマを回転させるように構成された、請求項46に記載の機器。 - 前記回転器が、前記高周波供給装置に印加される前記電磁波に変調を適用して、前記弱イオン化プラズマの回転を促進するように構成された変調器をさらに具備した、請求項60に記載の機器。
- 前記変調器が、およそ1kHz~200kHzの振幅変調を適用するように構成された、請求項60に記載の機器。
- 前記変調器が、およそ1kHz~200kHzの位相変調を適用するように構成された、請求項60に記載の機器。
- 前記変調器が、調節可能な変調周波数を適用するように構成された、請求項60に記載の機器。
- 前記回転器が、前記回転チャンバに対して動作可能に結合された光子源を備え、前記光子源が、少なくとも前記第1の作業物質への照射によって、前記第1の作業物質を前記回転チャンバ内で回転させるのに十分な光子圧力を生成するように構成された、請求項46に記載の機器。
- 前記光子源が、レーザを備えた、請求項65に記載の機器。
- 前記光子源を前記第1の作業物質へと案内する少なくとも1つの光ファイバをさらに備えた、請求項65に記載の機器。
- 前記プラズマ生成器が、
前記第1の作業物質と動作可能に関連付けられた第1の電極と、
前記第1の作業物質と動作可能に関連付けられた第2の電極と、
前記第1の作業物質の一部をイオン化させるのに十分な電圧を前記第1の電極と前記第2の電極との間に印加するように構成された電源と、
を備えた、請求項46に記載の機器。 - 前記プラズマ生成器が、
磁界を前記回転チャンバ内に印加するように構成された磁界発生器と、
前記第1の作業物質と動作可能に関連付けられ、電磁信号を前記回転チャンバに導入するように構成された高周波供給装置と、
を備え、
前記電磁信号の周波数が、前記電磁界から前記第1の作業物質への共鳴エネルギー移動によって前記第1の作業物質の少なくとも一部がイオン化されるように、前記磁界の存在下での前記第1の作業物質のシンクロトロン周波数に対応するように選択される、請求項46に記載の機器。 - 前記高周波供給装置が、導波管である、請求項69に記載の機器。
- 前記第1の反応物取り扱い機構が、前記第1の作業物質を前記回転チャンバに注入するように構成された入口弁アセンブリを備えた、請求項46に記載の機器。
- 前記第2の反応物取り扱い機構が、前記第2の作業物質を前記回転チャンバに注入するように構成された入口弁アセンブリを備えた、請求項46に記載の機器。
- 前記第2の反応物取り扱い機構が、前記第2の作業物質を前記回転チャンバ内に位置決めするように構成された搭載アセンブリを備えた、請求項46に記載の機器。
- 前記搭載アセンブリが、前記回転チャンバ内で実質的に固定されたアセンブリをさらに備えた、請求項73に記載の機器。
- 前記搭載アセンブリが、前記第2の作業物質の前記回転チャンバへの挿入及び前記回転チャンバからの取り出しを行うように構成された可動棒をさらに備えた、請求項73に記載の機器。
- 前記第1の核融合反応物が、水素-1である、請求項46に記載の機器。
- 前記第1の作業物質が、水素である、請求項46に記載の機器。
- 前記第1の作業物質が、希ガスを含む、請求項46に記載の機器。
- 前記希ガスが、前記第1の核融合反応物の担体である、請求項78に記載の機器。
- 前記第2の核融合反応物が、ホウ素-11である、請求項46に記載の機器。
- 前記第2の作業物質が、窒化ホウ素及び六ホウ化ランタンの一方である、請求項80に記載の機器。
- 前記第1の核融合反応物が、水素-1、重水素、三重水素、ヘリウム-3、リチウム-6、リチウム-7、ホウ素-11、及び窒素-15から成る群から選択される、請求項46に記載の機器。
- 前記第2の核融合反応物が、水素-1、重水素、三重水素、ヘリウム-3、リチウム-6、リチウム-7、ホウ素-11、及び窒素-15から成る群から選択される、請求項46に記載の機器。
- 前記第1の核融合反応物及び前記第2の核融合反応物が、同じ種類の原子核を含む、請求項46に記載の機器。
- 前記第1の核融合反応物及び前記第2の核融合反応物が、異なる種類の原子核を含む、請求項46に記載の機器。
- 前記第1の核融合反応物及び前記第2の核融合反応物の少なくとも一方が、高効率の電子放出体である物質を含む、請求項46に記載の機器。
- 前記回転チャンバが、銅を含む構造を備えた、請求項46に記載の機器。
- 前記回転チャンバが、銅、ステンレス鋼、銀、金属メッキ、セラミック、複合材、プラスチック、金属、半金属、有機物、酸化物、ガラス、ポリマー材料、合金、及びグラファイトから成る群から選択される1つ又は複数の材料で作製された構造を備えた、請求項46に記載の機器。
- 前記回転チャンバ及び前記回転器が、イオンのニュートラルに対する比率が1~およそ100超である弱イオン化プラズマと関連して動作するように構成された、請求項46に記載の機器。
- 前記回転チャンバ及び前記回転器が、イオンのニュートラルに対する比率が1~およそ1000超である弱イオン化プラズマと関連して動作するように構成された、請求項46に記載の機器。
- 前記回転チャンバ及び前記回転器が、イオンのニュートラルに対する比率が1~およそ10000超である弱イオン化プラズマと関連して動作するように構成された、請求項46に記載の機器。
- 前記回転器が、前記回転チャンバの領域における前記弱イオン化プラズマの粒子密度が少なくとも1017個毎立方センチメートルに達するように、回転速度を誘導するように構成された、請求項46に記載の機器。
- 前記回転器が、前記回転チャンバの領域における前記弱イオン化プラズマの粒子密度が少なくとも1018個毎立方センチメートルに達するように、回転速度を誘導するように構成された、請求項46に記載の機器。
- 前記回転器が、核融合が生じる領域において前記第1の作業物質及び前記第2の作業物質の粒子密度が合わせて1022個毎立方センチメートル超に達するように、回転速度を誘導するように構成された、請求項46に記載の機器。
- 前記回転器が、核融合が生じる領域において前記第1の作業物質及び前記第2の作業物質の粒子密度が合わせて1023個毎立方センチメートル超に達するように、回転速度を誘導するように構成された、請求項46に記載の機器。
- 前記回転チャンバに対して動作可能に結合されたエネルギー利用アセンブリをさらに備え、前記エネルギー利用アセンブリが、核融合により生成されたエネルギーを前記回転チャンバに隣接する領域から取り出すように構成された、請求項46に記載の機器。
- 前記エネルギー利用アセンブリが、前記回転チャンバに対して熱的に結合された熱交換器を備えた、請求項96に記載の機器。
- 前記熱交換器が、前記回転チャンバを少なくとも部分的に囲むシュラウドとして構成された、請求項97に記載の機器。
- 前記熱交換器が、前記回転チャンバと熱的に接触し、熱エネルギーを運ぶ作動流体を搬送するコイルを具備するように構成された、請求項97に記載の機器。
- 前記作動流体が、水、高圧水、蒸気、及び液体ナトリウムから成る群から選択される、請求項99に記載の熱交換器。
- 前記回転チャンバの近傍に位置決めされ、前記核融合反応において生成された粒子を減速及び捕集するように構成された物質を前記エネルギー利用アセンブリが備えた、請求項96に記載の機器。
- 前記回転チャンバの近傍に位置決めされ、粒子を減速及び捕集するように構成された前記物質が、前記回転チャンバの近傍に位置決めされた前記物質から熱を除去するように構成された熱交換器にさらに結合された、請求項101に記載の機器。
- 前記核融合反応において生成された荷電粒子からエネルギーを抽出し、前記エネルギーを電流に変換するように構成された直接エネルギー変換アセンブリをさらに備えた、請求項46に記載の機器。
- 前記核融合反応において生成された荷電粒子がPN接合に衝突して電子-ホール対を生成することにより電流を誘導するように、前記回転チャンバに隣接して位置決めされた半導体PN接合のアレイをさらに備えた、請求項103に記載の直接エネルギー変換アセンブリ。
- 仕事関数が低い第1の電極と仕事関数が高い第2の電極との間に配設された作業物質をさらに備え、荷電粒子が前記作業物質に衝突して電子-ホール対を生成することにより前記第1の電極及び前記第2の電極から電流を誘導するように、前記作業物質が、前記回転チャンバに隣接して配置された、請求項103に記載の直接エネルギー変換アセンブリ。
- 前記作業物質が、希ガスである、請求項105に記載の直接エネルギー変換アセンブリ。
- 前記作業物質が、ゲルである、請求項105に記載の直接エネルギー変換アセンブリ。
- 前記作業物質が、液体である、請求項105に記載の直接エネルギー変換アセンブリ。
- 前記液体作業物質が、配管システムを通して循環可能である、請求項108に記載の直接エネルギー変換アセンブリ。
- 仕事関数が低い前記第1の電極が、マグネシウムで作製された、請求項105に記載の直接エネルギー変換アセンブリ。
- 仕事関数が高い前記第2の電極が、金で作製された、請求項105に記載の直接エネルギー変換アセンブリ。
- 回転チャンバにおいて、第1の作業物質中の第1の反応物と第2の作業物質中の第2の反応物との間で制御核融合を実現する方法であって、
前記第1の作業物質を軽くイオン化して、複数のイオンを生成するステップと、
イオン-ニュートラル結合によって、前記回転チャンバ内で前記第1の作業物質の急速回転を誘導するステップと、
前記第1の反応物及び前記第2の反応物の核融合を誘導するのに前記第1の作業物質の速度が十分に高い前記回転チャンバの領域に前記第1の反応物及び前記第2の反応物の両方を取り込むステップと、
を含む、制御核融合を実現する方法。 - 前記第1の作業物質の急速回転を誘導する前記ステップが、
軸の周りに生じることを意図された前記急速回転の前記軸に沿って、前記回転チャンバを通って延びる磁界を規定するステップと、
前記軸の周りに生じることを意図された前記急速回転の前記軸から半径方向外方に延びる電界を規定するステップであって、前記第1の作業物質の回転が実現されるように、前記複数のイオンが、前記電界により加速されるとともに、前記磁界によるローレンツ力を受けるステップと、
をさらに含む、請求項112に記載の制御核融合を実現する方法。 - 前記第1の作業物質の急速回転を誘導する前記ステップが、前記磁界と実質的に垂直な方向に、前記軽くイオン化された第1の作業物質を通して電流パルスを印加するステップをさらに含む、請求項113に記載の制御核融合を実現する方法。
- 空間電荷効果の作用によって前記核融合反応の断面が大きくなるように、高効率の電子放出体である前記第1の作業物質及び前記第2の作業物質の少なくとも一方を用意するステップをさらに含む、請求項112に記載の制御核融合を実現する方法。
- 水素-1、重水素、三重水素、ヘリウム-3、リチウム-6、リチウム-7、ホウ素-11、及び窒素-15から成る群から選択される第1の反応物を含む第1の作業物質を用意するステップをさらに含む、請求項112に記載の制御核融合を実現する方法。
- 水素-1、重水素、三重水素、ヘリウム-3、リチウム-6、リチウム-7、ホウ素-11、及び窒素-15から成る群から選択される第2の反応物を含む第2の作業物質を用意するステップをさらに含む、請求項112に記載の制御核融合を実現する方法。
- 物質の制御核融合反応のためのシステムであって、
a.内表面及び外表面を備える第1のハウジングであり、前記内表面が空洞を規定した、第1のハウジングと、
b.前記空洞内に配置された内側ハウジングであり、前記内側ハウジングが内表面を備え、前記内表面が回転空洞を規定した、内側ハウジングと、
c.前記回転空洞内に配置された弱イオン化プラズマを形成する第1の物質と、
d.前記回転空洞と関連付けられた第2の物質と、
e.イオン化装置であり、前記イオン化装置が前記第1の物質と動作可能に関連付けられることによって、前記第1の物質の成分をイオン化することによりプラズマを生成可能なイオン化装置と、
f.回転誘導アセンブリであり、前記回転誘導アセンブリが、前記イオン化装置、前記第1のハウジング、及び前記回転チャンバと動作可能に関連付けられることにより、前記回転チャンバにおいて前記プラズマを高速で回転可能であるとともに、前記第2の物質を解離可能な回転誘導アセンブリと、
g.前記プラズマの高速回転中に前記第1の物質及び前記第2の物質の前記核融合反応を提供するように構成された前記回転チャンバと、
を具備した、システム。 - 前記第2の作業物質が、六ホウ化ランタンであることにより、ランタン及びホウ素に解離する、請求項118に記載のシステム。
- 前記核融合反応による第3の物質と、前記第3の物質との核融合反応のための第4の物質とを備えた、請求項1に記載のシステム。
- 前記第3の物質が、アルファ粒子、ヘリウム-3、及び中性子から成る群から選択される物質を含む、請求項120に記載のシステム。
- 前記第4の物質が、炭素、窒素、酸素、クロム、及びネオンから成る群から選択される物質を含む、請求項120に記載のシステム。
- 前記第3の物質が、アルファ粒子、ヘリウム-3、及び中性子から成る群から選択される物質を含み、前記第4の物質が、炭素、窒素、酸素、クロム、及びネオンから成る群から選択される物質を含む、請求項120に記載のシステム。
- 前記第1の物質及び前記第2の物質が、窒化ホウ素、六ホウ化ランタン、水素、重水素、三重水素、ヘリウム、アルゴン、ネオン、キセノン、窒素、酸素、気化した固体、水素-1、ホウ素-11、リチウム-6、リチウム-7、ヘリウム-3、リチウム-6、及び窒素-15から成る群から選択される物質を含み、前記システムが、前記核融合反応による第3の物質を備え、前記第3の物質との反応のための第4の物質を備え、前記第4の物質が、炭素、窒素、酸素、クロム、及びネオンから成る群から選択される物質を含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記核融合反応が、本質的に非中性子性である、請求項1に記載のシステム。
- 前記核融合反応が、本質的に中性子性である、請求項1に記載のシステム。
- 前記第3の物質が、アルファ粒子、ヘリウム-3、及びガンマ線から成る群から選択される物質を含む、請求項120に記載のシステム。
- 前記第3の物質が、アルファ粒子、ヘリウム-3、及びガンマ線から成る群から選択される物質を含み、前記第4の物質が、炭素、窒素、酸素、クロム、及びネオンから成る群から選択される物質を含む、請求項120に記載のシステム。
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