JP2022011501A - Polyimide precursor resin, manufacturing method of polyimide film, manufacturing method of laminate, polyimide film, laminate, member for display, member for touch panel, liquid crystal display unit and organic electroluminescent display unit - Google Patents

Polyimide precursor resin, manufacturing method of polyimide film, manufacturing method of laminate, polyimide film, laminate, member for display, member for touch panel, liquid crystal display unit and organic electroluminescent display unit Download PDF

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勝哉 坂寄
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Abstract

To provide a manufacturing method of a polyimide film capable of inhibiting a deterioration of a flexure resistance and further reducing a phase difference while securing sufficient transparency.SOLUTION: A manufacturing method of a polyimide film includes a step of imidization by heating using a polyimide precursor resin composition containing a polyimide precursor resin including a general formula (1-1) or a general formula (1-2), in which 95.0% or more with regard to all R included the general formula (1-1) and the general formula (1-2) is a 1-10C alkyl group, and weight average molecular weight in terms of polystyrene by gel permeation chromatography is 108,000 or more. (Each symbol in the formula is as stated in the description.)SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、ポリイミド前駆体樹脂、当該ポリイミド前駆体樹脂を用いたポリイミドフィルムの製造方法及び積層体の製造方法、ポリイミドフィルム、積層体、ディスプレイ用部材、タッチパネル部材、液晶表示装置、並びに有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関するものである。 The present invention relates to a polyimide precursor resin, a method for producing a polyimide film using the polyimide precursor resin, a method for producing a laminate, a polyimide film, a laminate, a display member, a touch panel member, a liquid crystal display device, and an organic electroluminescence. It is related to the display device.

薄い板ガラスは、硬度、耐熱性等に優れている反面、曲げにくく、落とすと割れやすく、加工性に問題があり、また、プラスチック製品と比較して重いといった欠点があった。このため、近年、樹脂基材や樹脂フィルム等の樹脂製品が、加工性、軽量化の観点でガラス製品と置き換わりつつあり、ガラス代替製品となる樹脂製品の研究が行われてきている。 While thin flat glass is excellent in hardness, heat resistance, etc., it is difficult to bend, easily breaks when dropped, has problems in workability, and is heavier than plastic products. For this reason, in recent years, resin products such as resin base materials and resin films are being replaced with glass products from the viewpoint of workability and weight reduction, and research on resin products that can be used as glass substitute products has been conducted.

例えば、液晶や有機EL等のディスプレイや、タッチパネル等のエレクトロニクスの急速な進歩に伴い、デバイスの薄型化や軽量化、更には、フレキシブル化が要求されるようになってきた。これらのデバイスには従来、薄い板ガラス上に様々な電子素子、例えば、薄型トランジスタや透明電極等が形成されているが、この薄い板ガラスを樹脂フィルムに変えることにより、パネル自体の耐衝撃性の強化、フレキシブル化、薄型化や軽量化が図れる。 For example, with the rapid progress of displays such as liquid crystals and organic EL and electronics such as touch panels, it has become necessary to make devices thinner, lighter, and more flexible. Conventionally, various electronic elements such as thin transistors and transparent electrodes are formed on a thin plate glass in these devices, but by changing the thin plate glass to a resin film, the impact resistance of the panel itself is enhanced. , Flexible, thinner and lighter.

ガラス代替となる樹脂材料として、例えば、ポリイミドが検討されている。一般にポリイミドは黄色或いは褐色に着色を示すことから、ディスプレイ用途や光学用途など透明性が要求される分野に用いることは困難であったが、透明性を向上したポリイミドが検討されてきている。
透明性を向上したポリイミドとしては、例えば、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物と4,4’-ジアミノ-2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ビフェニルを重合したポリイミドが知られている(例えば、特許文献1)。
また、特許文献2には、優れた透明性を有し、高い耐熱性及び低い線熱膨張係数を併せ持ち、低吸湿性溶媒による溶媒加工性を示すとして、特定構造のテトラカルボン酸二無水物と4,4’-ジアミノ-2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ビフェニルを重合したポリイミドが開示されている。
As a resin material that can replace glass, for example, polyimide is being studied. In general, polyimide is colored yellow or brown, so it is difficult to use it in fields where transparency is required, such as display applications and optical applications, but polyimides with improved transparency have been studied.
As the polyimide with improved transparency, for example, a polyimide obtained by polymerizing 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid anhydride and 4,4'-diamino-2,2'-bis (trifluoromethyl) biphenyl. Is known (for example, Patent Document 1).
Further, Patent Document 2 describes that the tetracarboxylic acid dianhydride having a specific structure has excellent transparency, high heat resistance and a low coefficient of linear thermal expansion, and exhibits solvent processability with a low hygroscopic solvent. A polyimide obtained by polymerizing 4,4'-diamino-2,2'-bis (trifluoromethyl) biphenyl is disclosed.

特開平4-288331号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 4-288331 国際公開2014/046180号公報International Publication No. 2014/046180

ガラス代替製品となる樹脂製品には、透明性だけでなく、表面硬度や耐衝撃性のために、高い弾性率に加えて、光学的歪みが小さいことが求められる。
しかしながら、ポリイミドフィルムにおいて、高い弾性率を付与する成分は着色し易く透明性を低くする傾向があり、着色し難く高い透明性を付与する成分は弾性率を低くする傾向があり、高弾性率と高透明性とはトレードオフの特性関係であった。また、従来のポリイミドフィルムは、光学的歪みが大きく、特に膜厚方向の位相差が大きいという問題があった。
更に、画面が折り畳めるモバイル機器は、持ち運ぶ際には折り畳んだ状態とし、使用する際には折り畳みを開いた状態とする。そのため、モバイル機器に搭載されるフレキシブルディスプレイには、繰り返し屈曲させても表示不良が発生しないことが求められ、フレキシブルディスプレイ用の基材や表面材には、繰り返し屈曲させたときの屈曲耐性(以下、動的屈曲耐性という場合がある)が求められる。
特許文献1及び2に記載されているポリイミドフィルムでは、透明性は十分であり、弾性率は比較的良好なものの、光学的歪みが大きく、特に膜厚方向の位相差が大きいという問題がある。そのため、屈曲耐性の低下を抑制して、位相差をより低減するポリイミドフィルムの製造方法が求められていた。
また、透明性と、低い位相差と、高い弾性率と、良好な屈曲耐性を同時に満たすフィルムが求められていた。
Resin products that can be used as glass substitutes are required to have low optical strain in addition to high elastic modulus because of not only transparency but also surface hardness and impact resistance.
However, in a polyimide film, a component that imparts a high elastic modulus tends to be easily colored and tends to have a low transparency, and a component that is difficult to color and imparts a high transparency tends to have a low elastic modulus. High transparency was a trade-off characteristic relationship. Further, the conventional polyimide film has a problem that the optical distortion is large, and the phase difference in the film thickness direction is particularly large.
Furthermore, mobile devices with foldable screens should be in a folded state when carried and in an unfolded state when used. Therefore, it is required that the flexible display mounted on the mobile device does not cause display defects even if it is repeatedly bent, and the base material and surface material for the flexible display are resistant to bending when repeatedly bent (hereinafter referred to as "bending resistance"). , Sometimes referred to as dynamic flexion resistance) is required.
The polyimide films described in Patent Documents 1 and 2 have sufficient transparency and a relatively good elastic modulus, but have a problem that optical strain is large and a phase difference in the film thickness direction is particularly large. Therefore, there has been a demand for a method for producing a polyimide film that suppresses a decrease in bending resistance and further reduces a phase difference.
Further, there has been a demand for a film that simultaneously satisfies transparency, low phase difference, high elastic modulus, and good bending resistance.

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、十分な透明性を有しつつ、屈曲耐性の低下を抑制して、位相差をより低減するポリイミドフィルムの製造方法を提供することを第一の目的とする。また、本発明は、前記ポリイミドフィルムの製造方法に用いられるポリイミド前駆体樹脂、及び前記ポリイミドフィルムの製造方法を用いた積層体の製造方法を提供することを目的とする。
更に、本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、十分な透明性を有しつつ、低い位相差と、高い弾性率と、向上した屈曲耐性を有するポリイミドフィルム、及び積層体を提供することを第二の目的とする。また、本発明は、前記ポリイミドフィルム又は前記積層体であるディスプレイ用部材、並びに、前記ポリイミドフィルム又は前記積層体を備えるタッチパネル部材、液晶表示装置、及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and provides a method for producing a polyimide film which has sufficient transparency, suppresses a decrease in bending resistance, and further reduces a phase difference. The first purpose. Another object of the present invention is to provide a polyimide precursor resin used in the method for producing a polyimide film, and a method for producing a laminate using the method for producing the polyimide film.
Further, the present invention has been made in view of the above problems, and a polyimide film and a laminate having a low phase difference, a high elastic modulus, and improved bending resistance while having sufficient transparency are provided. The second purpose is to provide. Another object of the present invention is to provide a display member which is the polyimide film or the laminate, and a touch panel member, a liquid crystal display device, and an organic electroluminescence display device provided with the polyimide film or the laminate. do.

前記第一の目的を解決するための第一の本発明は、下記一般式(1-1)又は下記一般式(1-2) The first invention for solving the first object is the following general formula (1-1) or the following general formula (1-2).

Figure 2022011501000001
(一般式(1-1)及び(1-2)において、Aは、下記グループA1及び下記グループA2からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基である4価の基を表し、Bは下記グループB1及び下記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基である2価の基を表し、Rは水素原子又は炭素数1~10のアルキル基を表す。)で表される構成単位を有し、
<グループA1:4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、及び下記化学式(a-1)で表される酸二無水物>
Figure 2022011501000001
(In the general formulas (1-1) and (1-2), A is a tetravalent residue of at least one tetracarboxylic acid dianhydride selected from the group consisting of the following groups A1 and the following groups A2. B represents a divalent group which is a residue of at least one diamine selected from the group consisting of the following group B1 and the following group B2, and R represents a hydrogen atom or an alkyl having 1 to 10 carbon atoms. It has a structural unit represented by () and is represented by a group.
<Group A1: 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, and the following chemical formula (a-1). Acid dianhydride>

Figure 2022011501000002
<グループA2:ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、及びp-フェニレンビス(トリメリテート無水物)>
<グループB1:2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、ビス(4-アミノフェニル)スルホン、及びビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン>
<グループB2:フェニレンジアミン、4-アミノ安息香酸4-アミノフェニル、ビス(4-アミノフェニル)テレフタレート、4,4’-ジアミノベンズアニリド、及びN,N’-ビス(4-アミノフェニル)テレフタルアミド>
前記一般式(1-1)及び(1-2)において、前記グループA1からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基であるA、及び、前記グループB1からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基であるBの少なくとも一方を含有し、
前記一般式(1-1)及び(1-2)中に含まれる全てのRに対する95.0%以上が炭素数1~10のアルキル基であり、
更に、下記一般式(2)
Figure 2022011501000002
<Group A2: pyromellitic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, and p-phenylenebis (trimeritate anhydride)>
<Group B1: 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, bis (4-aminophenyl) sulfone, and bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone>
<Group B2: Phenylene diamine, 4-aminophenyl 4-aminobenzoic acid, bis (4-aminophenyl) terephthalate, 4,4'-diaminobenzanilide, and N, N'-bis (4-aminophenyl) terephthalamide. >
In the general formulas (1-1) and (1-2), it consists of A which is a residue of at least one tetracarboxylic dianhydride selected from the group consisting of the group A1 and the group B1. Containing at least one of B, which is a residue of at least one diamine selected from the group,
95.0% or more of all R contained in the general formulas (1-1) and (1-2) are alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms.
Furthermore, the following general formula (2)

Figure 2022011501000003
{一般式(2)において、Xは下記式(x1)~(x4)
Figure 2022011501000003
{In the general formula (2), X is the following formulas (x1) to (x4).

Figure 2022011501000004
(式(x3)において、Lは、-O-、-S-、-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、又は-CO-を表し、*は結合手を表す。)で表される構造からなる群から選択される少なくとも1つの2価の基を表し、Bは前記グループB1及び前記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基である2価の基を表す。}で表される構成単位を有していてもよく、
ゲル浸透クロマトグラフィーのポリスチレン換算による重量平均分子量が108,000以上である、ポリイミド前駆体樹脂を提供する。
Figure 2022011501000004
(In equation (x3), L is -O-, -S-, -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , or. -CO-, * represents at least one divalent group selected from the group consisting of the structures represented by), and B represents the group consisting of the group B1 and the group B2. Represents a divalent group that is a residue of at least one diamine to be made. } May have a structural unit represented by
Provided is a polyimide precursor resin having a weight average molecular weight of 108,000 or more in terms of polystyrene in gel permeation chromatography.

第一の本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂においては、前記一般式(1-1)及び(1-2)において、Aが4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、及び前記化学式(a-1)で表される酸二無水物からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基である4価の基を表すことが、透明性と溶解性付与の点から好ましい。 In the polyimide precursor resin according to the first embodiment of the present invention, in the general formulas (1-1) and (1-2), A is 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid anhydride. A tetravalent residue of at least one tetracarboxylic acid dianhydride selected from the group consisting of a substance, a cyclobutane tetracarboxylic acid dianhydride, and an acid dianhydride represented by the chemical formula (a-1). It is preferable to represent the group of the above from the viewpoint of transparency and imparting solubility.

第一の本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂においては、前記一般式(1-1)及び(1-2)において、Bが2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンの残基である2価の基を表すことが、透明性付与の点から好ましい。 In the polyimide precursor resin according to the first embodiment of the present invention, in the general formulas (1-1) and (1-2), B is the residue of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine. It is preferable to represent a divalent group which is a group from the viewpoint of imparting transparency.

また第一の本発明は、前記第一の本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂と、有機溶剤とを含むポリイミド前駆体樹脂組成物を調製する工程と、
前記ポリイミド前駆体樹脂組成物を支持体に塗布して、ポリイミド前駆体樹脂塗膜を形成する工程と、
前記ポリイミド前駆体樹脂塗膜を加熱することにより、前記ポリイミド前駆体樹脂をイミド化する工程と、を含むポリイミドフィルムの製造方法を提供する。
The first invention also comprises a step of preparing a polyimide precursor resin composition containing the polyimide precursor resin according to the first embodiment of the present invention and an organic solvent.
A step of applying the polyimide precursor resin composition to a support to form a polyimide precursor resin coating film, and a step of forming the polyimide precursor resin coating film.
Provided is a method for producing a polyimide film, which comprises a step of imidizing the polyimide precursor resin by heating the polyimide precursor resin coating film.

また第一の本発明は、前記第一の本発明の1実施形態であるポリイミドフィルムの製造方法により、ポリイミドフィルムを製造する工程と、
前記ポリイミドフィルムの少なくとも一面に、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種を含有するハードコート層用組成物を塗布して、ハードコート層形成用塗膜を形成する工程と、
前記ハードコート層形成用塗膜を硬化することにより、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有するハードコート層を形成する工程と、を含む積層体の製造方法を提供する。
Further, the first invention relates to a step of manufacturing a polyimide film by the method of manufacturing a polyimide film according to the first embodiment of the present invention.
A step of applying a composition for a hard coat layer containing at least one of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound to at least one surface of the polyimide film to form a coating film for forming a hard coat layer.
A method for producing a laminate including a step of forming a hard coat layer containing at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound by curing the coating film for forming a hard coat layer. offer.

前記第二の目的を解決するための第二の本発明は、下記一般式(1’) The second invention for solving the second object is described in the following general formula (1').

Figure 2022011501000005
(一般式(1’)において、Aは、下記グループA1及び下記グループA2からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基である4価の基を表し、Bは下記グループB1及び下記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基である2価の基を表す。)で表される構成単位を有し、
<グループA1:4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、及び下記化学式(a-1)で表される酸二無水物>
Figure 2022011501000005
(In the general formula (1'), A represents a tetravalent group which is a residue of at least one tetracarboxylic acid dianhydride selected from the group consisting of the following groups A1 and the following groups A2, and B is. It has a structural unit represented by (representing a divalent group which is a residue of at least one diamine selected from the group consisting of the following group B1 and the following group B2).
<Group A1: 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, and the following chemical formula (a-1). Acid dianhydride>

Figure 2022011501000006
<グループA2:ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸ニ無水物、及びp-フェニレンビス(トリメリテート無水物)>
<グループB1:2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、ビス(4-アミノフェニル)スルホン、及びビス[4-(4-アニノフェノキシ)フェニル]スルホン>
<グループB2:フェニレンジアミン、4-アミノ安息香酸4-アミノフェニル、ビス(4-アミノフェニル)テレフタレート、4,4’-ジアミノベンズアニリド、及びN,N’-ビス(4-アミノフェニル)テレフタルアミド>
前記一般式(1’)において、Aは、少なくとも前記化学式(a-1)で表される酸二無水物の残基である4価の基を含有し、
更に、下記一般式(2)
Figure 2022011501000006
<Group A2: pyromellitic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, and p-phenylenebis (trimeritate anhydride)>
<Group B1: 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, bis (4-aminophenyl) sulfone, and bis [4- (4-aninophenoxy) phenyl] sulfone>
<Group B2: Phenylene diamine, 4-aminophenyl 4-aminobenzoic acid, bis (4-aminophenyl) terephthalate, 4,4'-diaminobenzanilide, and N, N'-bis (4-aminophenyl) terephthalamide. >
In the general formula (1'), A contains at least a tetravalent group which is a residue of the acid dianhydride represented by the chemical formula (a-1).
Furthermore, the following general formula (2)

Figure 2022011501000007
{一般式(2)において、Xは下記式(x1)~(x4)
Figure 2022011501000007
{In the general formula (2), X is the following formulas (x1) to (x4).

Figure 2022011501000008
(式(x3)において、Lは、-O-、-S-、-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、又は-CO-を表し、*は結合手を表す。)で表される構造からなる群から選択される少なくとも1つの2価の基を表し、Bは前記グループB1及び前記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基である2価の基を表す。}で表される構成単位を有していてもよいポリイミド樹脂を含有し、
JIS K7361-1に準拠して測定する全光線透過率が、膜厚40μmの換算値で85.0%以上であり、JIS K7373-2006に準拠して算出される黄色度を膜厚(μm)で除した値が、0.15未満であり、
波長590nmにおける厚み方向の複屈折率が、0.025未満であり、
10mm×150mmの試験片を、JIS K7127に準拠し、引張り速度を50mm/分、チャック間距離を100mmとして、25℃で測定する引張試験における引張弾性率が4.0GPa以上であり、且つ、下記動的屈曲試験において、屈曲回数が、10万回以上である、ポリイミドフィルムを提供する。
(動的屈曲試験)
20mm×100mmの試験片を、長辺の半分の位置で湾曲させて、平行に配置した金属板で挟み、両側の金属板間の距離が60mmから2.5mmとなるように25℃、60%相対湿度(RH)の環境下で、1分間に90回の屈曲回数で繰り返し変化させ、試験片の屈曲を繰り返す。
Figure 2022011501000008
(In equation (x3), L is -O-, -S-, -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , or. -CO-, * represents at least one divalent group selected from the group consisting of the structures represented by), and B represents the group consisting of the group B1 and the group B2. Represents a divalent group that is a residue of at least one diamine to be made. Contains a polyimide resin that may have a structural unit represented by }.
The total light transmittance measured according to JIS K7361-1 is 85.0% or more in terms of the film thickness of 40 μm, and the yellowness calculated according to JIS K7373-2006 is the film thickness (μm). The value divided by is less than 0.15,
The birefringence in the thickness direction at a wavelength of 590 nm is less than 0.025.
A test piece of 10 mm × 150 mm has a tensile elastic modulus of 4.0 GPa or more in a tensile test measured at 25 ° C., with a tensile speed of 50 mm / min and a distance between chucks of 100 mm, in accordance with JIS K7127, and is as follows. Provided is a polyimide film having a bending frequency of 100,000 times or more in a dynamic bending test.
(Dynamic bending test)
A 20 mm × 100 mm test piece is curved at the half position of the long side, sandwiched between metal plates arranged in parallel, and 25 ° C., 60% so that the distance between the metal plates on both sides is 60 mm to 2.5 mm. In a relative humidity (RH) environment, the test piece is repeatedly bent 90 times per minute.

また、第二の本発明は、前記第二の本発明の1実施形態であるポリイミドフィルムと、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有するハードコート層とを有する、積層体を提供する。 Further, the second invention has a polyimide film according to one embodiment of the second invention and a hard coat layer containing at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound. , Provide a laminate.

また、第二の本発明は、前記第二の本発明のポリイミドフィルム、又は、前記第二の本発明の積層体である、ディスプレイ用部材を提供する。 The second invention also provides a display member which is the polyimide film of the second invention or the laminate of the second invention.

また、第二の本発明は、前記第二の本発明の1実施形態であるポリイミドフィルム、又は、前記第二の本発明の1実施形態である積層体と、
前記ポリイミドフィルム、又は、前記積層体の一方の面側に配置された、複数の導電部からなる透明電極と、
前記導電部の端部の少なくとも一方側において電気的に接続される複数の取り出し線と、を有するタッチパネル部材を提供する。
Further, the second invention is the polyimide film according to the second embodiment of the present invention, or the laminate according to the second embodiment of the present invention.
A transparent electrode composed of a plurality of conductive portions arranged on one surface side of the polyimide film or the laminated body, and the like.
Provided is a touch panel member having a plurality of take-out wires electrically connected on at least one side of an end portion of the conductive portion.

また、第二の本発明は、前記第二の本発明の1実施形態であるポリイミドフィルム、又は、前記第二の本発明の1実施形態である積層体と、
前記ポリイミドフィルム、又は、前記積層体の一方の面側に配置された、対向基板間に液晶層を有してなる液晶表示部と、を有する液晶表示装置を提供する。
Further, the second invention is the polyimide film according to the second embodiment of the present invention, or the laminate according to the second embodiment of the present invention.
Provided is a liquid crystal display device having the polyimide film or a liquid crystal display unit having a liquid crystal layer between facing substrates arranged on one surface side of the laminated body.

また、第二の本発明は、前記第二の本発明の1実施形態であるポリイミドフィルム、又は、前記第二の本発明の1実施形態である積層体と、
前記ポリイミドフィルム、或いは前記積層体の一方の面側に配置された、対向基板間に有機エレクトロルミネッセンス層を有してなる有機エレクトロルミネッセンス表示部と、を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供する。
Further, the second invention is the polyimide film according to the second embodiment of the present invention, or the laminate according to the second embodiment of the present invention.
Provided is an organic electroluminescence display device having an organic electroluminescence display unit having an organic electroluminescence layer between facing substrates arranged on one surface side of the polyimide film or the laminate.

第一の本発明によれば、十分な透明性を有しつつ、屈曲耐性の低下を抑制して、位相差をより低減するポリイミドフィルムの製造方法を提供することができる。また、第一の本発明は、前記ポリイミドフィルムの製造方法に用いられるポリイミド前駆体樹脂、及び前記ポリイミドフィルムの製造方法を用いた積層体の製造方法を提供することができる。
更に、第二の本発明によれば、十分な透明性を有しつつ、低い位相差と、高い弾性率と、向上した屈曲耐性を有するポリイミドフィルム、及び積層体を提供することができる。また、第二の本発明によれば、前記ポリイミドフィルム又は前記積層体であるディスプレイ用部材、並びに、前記ポリイミドフィルム又は前記積層体を備えるタッチパネル部材、液晶表示装置、及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することができる。
According to the first aspect of the present invention, it is possible to provide a method for producing a polyimide film which has sufficient transparency, suppresses a decrease in bending resistance, and further reduces a phase difference. In addition, the first invention can provide a polyimide precursor resin used in the method for producing a polyimide film and a method for producing a laminate using the method for producing a polyimide film.
Further, according to the second invention, it is possible to provide a polyimide film and a laminate having a low phase difference, a high elastic modulus, and improved bending resistance while having sufficient transparency. Further, according to the second invention, there is provided a display member which is the polyimide film or the laminate, a touch panel member provided with the polyimide film or the laminate, a liquid crystal display device, and an organic electroluminescence display device. can do.

動的屈曲試験の方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the method of a dynamic bending test. 本発明のタッチパネル部材の一例の一方の面の概略平面図である。It is a schematic plan view of one surface of an example of the touch panel member of this invention. 図2に示すタッチパネル部材のもう一方の面の概略平面図である。It is a schematic plan view of the other side of the touch panel member shown in FIG. 図2及び図3に示すタッチパネル部材のA-A’断面図である。2 is a cross-sectional view taken along the line AA'of the touch panel member shown in FIGS. 2 and 3. 本発明の積層体を備える導電性部材の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the conductive member provided with the laminated body of this invention. 本発明の積層体を備える導電性部材の別の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows another example of the conductive member provided with the laminated body of this invention. 本発明のタッチパネル部材の別の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows another example of the touch panel member of this invention. 本発明の液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the liquid crystal display device of this invention. 本発明の液晶表示装置の別の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows another example of the liquid crystal display device of this invention. 本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the organic electroluminescence display device of this invention. 本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の別の一例を示す概略断面図である。It is schematic cross-sectional view which shows another example of the organic electroluminescence display device of this invention.

以下、第一の本発明に係るポリイミド前駆体樹脂、ポリイミドフィルムの製造方法、積層体の製造方法、第二の本発明に係るポリイミドフィルム、積層体、ディスプレイ用部材、タッチパネル部材、液晶表示装置、及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置について詳細に説明する。
また、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
また、本明細書において(メタ)アクリルとは、アクリル及びメタアクリルの各々を表す。
また、本明細書において「光」とは、活性光線又は放射線を意味し、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線(EUV光)、X線、電子線等が包含されるものである。
また、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある場合がある。
また、本明細書において数値範囲を示す「~」とは、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
Hereinafter, the polyimide precursor resin according to the present invention, the method for producing a polyimide film, the method for producing a laminate, the second polyimide film according to the present invention, a laminate, a display member, a touch panel member, a liquid crystal display device, and the like. And the organic polyimide display device will be described in detail.
In addition, the terms such as "parallel", "orthogonal", and "identical" and the values of length and angle, etc., which specify the shape and geometric conditions and their degrees as used in the present specification, are strictly referred to. Without being bound by the meaning, we will interpret it including the range where similar functions can be expected.
Further, in the present specification, (meth) acrylic represents each of acrylic and methacrylic.
Further, in the present specification, "light" means active light or radiation, and for example, the emission line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet rays typified by an excimer laser, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, electron beams and the like. It is included.
Further, in the drawings attached to the present specification, the scale, the aspect ratio, and the like may be appropriately changed from those of the actual product and exaggerated for the convenience of illustration and comprehension.
Further, in the present specification, "-" indicating a numerical range is used in the sense that the numerical values described before and after the numerical range are included as the lower limit value and the upper limit value.

I.ポリイミド前駆体樹脂
第一の本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂は、下記一般式(1-1)又は下記一般式(1-2)
I. Polyimide precursor resin The polyimide precursor resin according to the first embodiment of the present invention has the following general formula (1-1) or the following general formula (1-2).

Figure 2022011501000009
(一般式(1-1)及び(1-2)において、Aは、下記グループA1及び下記グループA2からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基である4価の基を表し、Bは下記グループB1及び下記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基である2価の基を表し、Rは水素原子又は炭素数1~10のアルキル基を表す。)で表される構成単位を有し、
<グループA1:4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、及び下記化学式(a-1)で表される酸二無水物>
Figure 2022011501000009
(In the general formulas (1-1) and (1-2), A is a tetravalent residue of at least one tetracarboxylic acid dianhydride selected from the group consisting of the following groups A1 and the following groups A2. B represents a divalent group which is a residue of at least one diamine selected from the group consisting of the following group B1 and the following group B2, and R represents a hydrogen atom or an alkyl having 1 to 10 carbon atoms. It has a structural unit represented by () and is represented by a group.
<Group A1: 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, and the following chemical formula (a-1). Acid dianhydride>

Figure 2022011501000010
<グループA2:ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、及びp-フェニレンビス(トリメリテート無水物)>
<グループB1:2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、ビス(4-アミノフェニル)スルホン、及びビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン>
<グループB2:フェニレンジアミン、4-アミノ安息香酸4-アミノフェニル、ビス(4-アミノフェニル)テレフタレート、4,4’-ジアミノベンズアニリド、及びN,N’-ビス(4-アミノフェニル)テレフタルアミド>
前記一般式(1-1)及び(1-2)において、前記グループA1からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基であるA、及び、前記グループB1からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基であるBの少なくとも一方を含有し、
前記一般式(1-1)及び(1-2)中に含まれる全てのRに対する95.0%以上が炭素数1~10のアルキル基であり、
更に、下記一般式(2)
Figure 2022011501000010
<Group A2: pyromellitic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, and p-phenylenebis (trimeritate anhydride)>
<Group B1: 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, bis (4-aminophenyl) sulfone, and bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone>
<Group B2: Phenylene diamine, 4-aminophenyl 4-aminobenzoic acid, bis (4-aminophenyl) terephthalate, 4,4'-diaminobenzanilide, and N, N'-bis (4-aminophenyl) terephthalamide. >
In the general formulas (1-1) and (1-2), it consists of A which is a residue of at least one tetracarboxylic dianhydride selected from the group consisting of the group A1 and the group B1. Containing at least one of B, which is a residue of at least one diamine selected from the group,
95.0% or more of all R contained in the general formulas (1-1) and (1-2) are alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms.
Furthermore, the following general formula (2)

Figure 2022011501000011
{一般式(2)において、Xは下記式(x1)~(x4)
Figure 2022011501000011
{In the general formula (2), X is the following formulas (x1) to (x4).

Figure 2022011501000012
(式(x3)において、Lは、-O-、-S-、-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、又は-CO-を表し、*は結合手を表す。)で表される構造からなる群から選択される少なくとも1つの2価の基を表し、Bは前記グループB1及び前記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基である2価の基を表す。}で表される構成単位を有していてもよく、
ゲル浸透クロマトグラフィーのポリスチレン換算による重量平均分子量が108,000以上である。
Figure 2022011501000012
(In equation (x3), L is -O-, -S-, -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , or. -CO-, * represents at least one divalent group selected from the group consisting of the structures represented by), and B represents the group consisting of the group B1 and the group B2. Represents a divalent group that is a residue of at least one diamine to be made. } May have a structural unit represented by
The polystyrene-equivalent weight average molecular weight of gel permeation chromatography is 108,000 or more.

従来よりポリイミドフィルムの製法としては、可溶性ポリイミドを溶剤に溶解したポリイミドワニスを用いて塗膜を形成し、溶剤を乾燥することによりポリイミドフィルムを製造する方法と、ポリイミド前駆体溶液を用いてポリイミド前駆体塗膜を形成し、当該ポリイミド前駆体塗膜を加熱することによりイミド化して、ポリイミドフィルムを製造する方法の2つが挙げられる。
しかしながら、可溶性ポリイミドを用いた製法によるポリイミドフィルムは、光学的歪みが大きく、特に膜厚方向の位相差が大きいという問題があり、特に弾性率が高い剛直な骨格を有するポリイミドを用いると、その傾向が強かった。
一方、ポリイミド前駆体を用いた製法によるポリイミドフィルムは、光学的歪みは改善されるものの、屈曲耐性が低下するという問題があった。
Conventionally, as a method for producing a polyimide film, a method for producing a polyimide film by forming a coating film using a polyimide varnish in which soluble polyimide is dissolved in a solvent and drying the solvent, and a method for producing a polyimide film using a polyimide precursor solution are used. There are two methods for producing a polyimide film by forming a body coating film and imidizing the polyimide precursor coating film by heating.
However, the polyimide film produced by the manufacturing method using soluble polyimide has a problem that the optical strain is large and the phase difference in the film thickness direction is particularly large, and this tendency is particularly felt when a polyimide having a rigid skeleton having a high elastic modulus is used. Was strong.
On the other hand, the polyimide film produced by the manufacturing method using the polyimide precursor has a problem that the bending resistance is lowered although the optical strain is improved.

位相差は、屈折率の異方性が原因で発生する。高分子の場合、屈折率の異方性は、一般に固体中で高分子鎖がランダムに存在せず、方向性を持って規則正しく並んでいる場合に生じる。ポリイミドは、他の樹脂と比較して、前記化学構造中に折れ曲がり可能な結合箇所が少ないため、高分子鎖中に直線状の分子構造が多くなりやすい。特に弾性率が高い剛直な骨格を有するポリイミドワニスを用いると、塗膜形成時に直線状の分子構造が膜厚方向に配向した状態で規則的に折り重なりやすくなり、溶剤を乾燥して形成されたポリイミドフィルムでは膜厚方向の位相差が大きくなると想定される。
一方、ポリイミドよりもポリイミド前駆体の方が骨格の柔軟性が高く、塗膜中に不規則な形で存在しやすい。そういった不規則な状態で存在しているポリイミド前駆体から、実質的な固層中でイミド化をすることで、ポリイミドとした後でも、不規則な構造を取りやすい。その結果、ポリイミド前駆体の製膜後に加熱によりポリイミドフィルムとする製造方法の方が、位相差が低くなりやすいと推定される。
The phase difference is caused by the anisotropy of the refractive index. In the case of polymers, the anisotropy of the refractive index generally occurs when the polymer chains are not randomly present in the solid and are arranged in a directional and regular manner. Compared with other resins, polyimide has few bendable bond points in the chemical structure, so that linear molecular structures tend to increase in the polymer chain. In particular, when a polyimide varnish having a rigid skeleton with a high elastic modulus was used, the linear molecular structure was easily folded regularly in a state of being oriented in the film thickness direction at the time of forming the coating film, and was formed by drying the solvent. It is assumed that the phase difference in the film thickness direction becomes large in the polyimide film.
On the other hand, the polyimide precursor has a higher skeleton flexibility than the polyimide, and tends to be present in an irregular shape in the coating film. By imidizing the polyimide precursor existing in such an irregular state in a substantially solid layer, it is easy to take an irregular structure even after the polyimide is formed. As a result, it is presumed that the phase difference tends to be lower in the manufacturing method of forming the polyimide film by heating after forming the polyimide precursor.

一般的なポリイミド前駆体であるポリアミド酸は、140℃程度の分解温度を超えると、原料のテトラカルボン酸二無水物とジアミンとに戻る分解反応と平衡反応になる。一般的なポリイミド前駆体であるポリアミド酸を加熱イミド化する場合、ポリアミド酸の分解温度よりも高温で加熱するので、イミド化のための加熱によって、分解反応が必ず起こり、分子量低下が引き起こされる。そのため、ポリイミド前駆体の分子量がイミド化後に維持されず低下してしまう。この分子量低下によって、ポリイミド前駆体を用いた製法によるポリイミドフィルムは、屈曲耐性が低下すると推定される。 When the decomposition temperature of about 140 ° C. is exceeded, polyamic acid, which is a general polyimide precursor, undergoes a decomposition reaction and an equilibrium reaction that return to the raw material tetracarboxylic acid dianhydride and diamine. When polyamic acid, which is a general polyimide precursor, is heated and imidized, it is heated at a temperature higher than the decomposition temperature of polyamic acid. Therefore, heating for imidization always causes a decomposition reaction and causes a decrease in molecular weight. Therefore, the molecular weight of the polyimide precursor is not maintained after imidization and is lowered. It is presumed that due to this decrease in molecular weight, the polyimide film produced by the production method using the polyimide precursor has a decrease in bending resistance.

それに対して、本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂は、ポリイミド前駆体樹脂中に含まれる全ての-COOR基(Rは水素原子又は炭素数1~10のアルキル基)のRに対する95.0%以上が炭素数1~10のアルキル基、すなわち、ポリイミド前駆体樹脂中に含まれる全ての-COOR基の95.0%以上がアルキルエステル基であり、且つ、ゲル浸透クロマトグラフィーのポリスチレン換算による重量平均分子量が108,000以上である。そのため、本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂は、イミド化のために高温で加熱しても分解が抑制され、分子量低下を起こし難く、ポリイミドの重量平均分子量が106,000以上を維持できるものである。
また、本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂は、前記特定の構成単位を有するポリイミド前駆体樹脂であるため、十分な透明性を有しつつ、高い弾性率を有するポリイミドフィルムを提供可能であり、且つ、上述のように加熱イミド化しても分子量低下が起こらず特定以上の高分子量を維持できるため、加熱イミド化をすることによる屈曲耐性の低下を抑制して、位相差をより低減するポリイミドフィルムの製造方法を提供することができる。
On the other hand, the polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention is 95 with respect to R of all −COOR groups (R is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) contained in the polyimide precursor resin. .0% or more are alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms, that is, 95.0% or more of all -COOR groups contained in the polyimide precursor resin are alkyl ester groups, and polystyrene for gel penetration chromatography is used. The converted weight average molecular weight is 108,000 or more. Therefore, the polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention suppresses decomposition even when heated at a high temperature for imidization, is unlikely to cause a decrease in molecular weight, and maintains a weight average molecular weight of 106,000 or more. It can be done.
Further, since the polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention is a polyimide precursor resin having the specific structural unit, it is possible to provide a polyimide film having sufficient transparency and high elasticity. Moreover, since the molecular weight does not decrease even if the heat imidization is performed as described above and the high molecular weight above a specific level can be maintained, the decrease in bending resistance due to the heat imidization is suppressed and the phase difference is further reduced. It is possible to provide a method for producing a polyimide film.

また、従来のポリイミド前駆体であるポリアミド酸は、水分が存在すると分解しやすく、保存安定性が悪かった。それに対して、本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂は、カルボキシ基の殆どがエステル化されていることにより、水分による分解反応が抑制されるため、保存安定性が良好である。
更に、従来のポリイミド前駆体であるポリアミド酸は、ポリアミド酸のカルボン酸同士の水素結合により、低極性溶剤への溶解性が低かった。それに対して、本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂は、カルボキシ基がエステル化されていることにより、低極性溶剤への溶解性も良好になり、樹脂の溶解濃度が同一の場合、ポリアミド酸と比較して低粘度化できるというメリットがある。
以下、本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂の詳細について説明する。
In addition, polyamic acid, which is a conventional polyimide precursor, is easily decomposed in the presence of water and has poor storage stability. On the other hand, the polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention has good storage stability because most of the carboxy groups are esterified and the decomposition reaction due to moisture is suppressed.
Further, the polyamic acid, which is a conventional polyimide precursor, has low solubility in a low-polarity solvent due to hydrogen bonds between the carboxylic acids of the polyamic acid. On the other hand, the polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention has good solubility in a low-polarity solvent because the carboxy group is esterified, and when the dissolution concentration of the resin is the same, It has the advantage of being able to have a lower viscosity than polyamic acid.
Hereinafter, the details of the polyimide precursor resin according to the embodiment of the present invention will be described.

前記一般式(1-1)及び(1-2)において、Aは、前記グループA1及び前記グループA2からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基である4価の基を表す。
前記グループA1は、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、及び前記化学式(a-1)で表される酸二無水物からなり、いずれも透明性を向上し、且つ弾性率が良好になる構成単位を付与する。芳香族環同士をフッ素で置換されていても良いアルキレン基やエーテル基で連結した構造を含むと、ポリイミド骨格内のπ電子の共役を断ち切ることで骨格内の電荷の移動を阻害することができる点から透明性が向上する。また、脂肪族環を含むと、ポリイミド骨格内のπ電子の共役を断ち切ることで骨格内の電荷の移動を阻害することができる点から、透明性が向上する。また、前記化学式(a-1)で表される酸二無水物においては、主鎖にエステル結合を介して2面角が捻れたパラビフェニレン基を含むので、π電子の共役を断ち切ることで骨格内の電荷の移動を阻害することができる点から透明性が向上する。また、芳香環又は脂肪族環を含有すると弾性率は良好になる。
前記グループA1において、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、4,4’-オキシジフタル酸二無水物及び前記化学式(a-1)で表される酸二無水物を用いると、芳香族環間に屈曲部位を有する点から更にポリイミドの溶剤溶解性を向上する傾向があり、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物を用いると、脂肪族骨格である点から更にポリイミドフィルムの光学歪みを低減させる傾向がある。
In the general formulas (1-1) and (1-2), A is a tetravalent residue of at least one tetracarboxylic dianhydride selected from the group consisting of the group A1 and the group A2. Represents the basis of.
The group A1 is a 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride, a 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, a cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, and the chemical formula (a-1). It is composed of the represented acid dianhydride, and all of them provide a structural unit having improved transparency and good elastic coefficient. Including a structure in which aromatic rings are linked with an alkylene group or an ether group which may be substituted with fluorine can inhibit the transfer of charges in the skeleton by breaking the conjugation of π electrons in the polyimide skeleton. Transparency is improved from the point of view. In addition, when an aliphatic ring is included, transparency is improved in that the transfer of charges in the skeleton can be inhibited by breaking the conjugation of π electrons in the polyimide skeleton. Further, in the acid dianhydride represented by the chemical formula (a-1), since the main chain contains a parabiphenylene group having a twisted dihedral angle via an ester bond, the skeleton is formed by breaking the conjugation of π electrons. Transparency is improved in that it can inhibit the movement of charges within. Further, when an aromatic ring or an aliphatic ring is contained, the elastic modulus becomes good.
In the group A1, 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride and the acid dianhydride represented by the chemical formula (a-1) are used. And, there is a tendency to further improve the solvent solubility of the polyimide from the point that it has a bending site between the aromatic rings, and when cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride is used, the optical strain of the polyimide film is further improved from the point that it is an aliphatic skeleton. Tends to reduce.

グループA2は、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェルテトラカルボン酸二無水物、及びp-フェニレンビス(トリメリテート無水物)からなり、いずれも弾性率を高くする構成単位を付与する。これらはいずれも、芳香族環を含み、且つ剛直な構造を有するので、ポリマー同士がπ-π相互作用によりスタッキング構造を取りやすく、弾性率を向上する。 Group A2 consists of pyromellitic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-bifertetracarboxylic dianhydride, and p-phenylenebis (trimeritate anhydride), all of which increase the elastic modulus. Give a constituent unit. Since all of these contain an aromatic ring and have a rigid structure, the polymers can easily form a stacking structure by π-π interaction and improve the elastic modulus.

前記一般式(1-1)及び(1-2)において、Bは、前記グループB1及び前記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基である2価の基を表す。
グループB1は、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、ビス(4-アミノフェニル)スルホン、及びビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホンからなり、いずれも透明性を向上し、且つ弾性率が良好になる構成単位を付与する。フッ素原子を含むとポリイミド骨格内の電子状態を電荷移動し難くすることができる点から透明性が向上する。芳香族環同士をスルホニル基やエーテル基で連結した構造を含むと、ポリイミド骨格内のπ電子の共役を断ち切ることで骨格内の電荷の移動を阻害することができる点から透明性が向上する。また、芳香環を含有すると弾性率は良好になる。
前記グループB1において、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、及びビス(4-アミノフェニル)スルホンを用いると、芳香族環同士の捻れや屈曲部位を有する事でポリマーのスタッキングを抑制できる点から更にポリイミドフィルムの光学歪みを低減させる傾向がある。また、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホンを用いると、屈曲部位の数が増し、スタッキング構造を抑制できる点から更にポリイミドの溶剤溶解性を向上する傾向がある。
In the general formulas (1-1) and (1-2), B represents a divalent group which is a residue of at least one diamine selected from the group consisting of the group B1 and the group B2.
Group B1 consists of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, bis (4-aminophenyl) sulfone, and bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone. , Both provide a structural unit that improves transparency and has a good elastic modulus. When a fluorine atom is contained, the electronic state in the polyimide skeleton can be made difficult to transfer charge, and the transparency is improved. Including a structure in which aromatic rings are linked to each other with a sulfonyl group or an ether group improves transparency in that the transfer of charges in the skeleton can be inhibited by breaking the conjugation of π electrons in the polyimide skeleton. Further, when an aromatic ring is contained, the elastic modulus becomes good.
In Group B1, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, and bis (4-aminophenyl) sulfone have twisting and bending sites between aromatic rings. Therefore, there is a tendency to further reduce the optical distortion of the polyimide film from the point that the stacking of the polymer can be suppressed. Further, when bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone is used, the number of bending portions is increased, and the stacking structure can be suppressed, so that the solvent solubility of polyimide tends to be further improved.

グループB2は、フェニレンジアミン、4-アミノ安息香酸4-アミノフェニル、ビス(4-アミノフェニル)テレフタレート、4,4’-ジアミノベンズアニリド、及びN,N’-ビス(4-アミノフェニル)テレフタルアミドからなり、いずれも弾性率を高くする構成単位を付与する。これらはいずれも、芳香族環を含み、且つ剛直な構造を有するので、π-π相互作用または水素結合による分子間力が強固となり、弾性率を向上する。 Group B2 includes phenylenediamine, 4-aminophenyl 4-aminobenzoic acid, bis (4-aminophenyl) terephthalate, 4,4'-diaminobenzanilide, and N, N'-bis (4-aminophenyl) terephthalamide. In each case, a structural unit that increases the elastic ratio is given. Since all of these contain an aromatic ring and have a rigid structure, the intermolecular force due to π-π interaction or hydrogen bond becomes strong, and the elastic modulus is improved.

本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂は、前記一般式(1-1)及び(1-2)において、前記グループA1からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基であるA、及び、前記グループB1からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基であるBの少なくとも一方を含有することから、透明性が向上し、弾性率が良好になる構成単位を必ず含み、更に、弾性率を向上する構成単位を含んでいてもよいので、これらの組み合わせにより、前述のように、十分な透明性を有しつつ、高い弾性率を有するポリイミドフィルムを提供可能である。 The polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention is at least one tetracarboxylic acid dianhydride selected from the group consisting of the group A1 in the general formulas (1-1) and (1-2). Since it contains at least one of A, which is a residue of the above, and B, which is a residue of at least one diamine selected from the group consisting of the group B1, the transparency is improved and the elastic modulus is good. As described above, a polyimide film having a high elastic modulus while having sufficient transparency by a combination of these constituent units, which always contains the constituent units and may further contain a constituent unit for improving the elastic modulus. Can be provided.

本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂は、前記一般式(1-1)及び(1-2)中に含まれる全てのAに対して50%以上、更に60%以上、より更に70%以上が前記グループA1からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基であることが好ましい。
一方、本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂は、前記一般式(1-1)及び(1-2)中に含まれる全てのAに対して50%以下、更に40%以下、より更に30%以下が前記グループA2からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基であってよい。
The polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention is 50% or more, more 60% or more, more than 70% with respect to all A contained in the general formulas (1-1) and (1-2). % Or more is preferably a residue of at least one tetracarboxylic dianhydride selected from the group consisting of the group A1.
On the other hand, the polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention is 50% or less, more 40% or less, based on all A contained in the general formulas (1-1) and (1-2). Further, 30% or less may be residues of at least one tetracarboxylic dianhydride selected from the group consisting of the group A2.

本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂は、前記一般式(1-1)及び(1-2)中に含まれる全てのBに対して50%以上、更に60%以上、より更に70%以上が前記グループB1からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基であることが好ましい。
一方、本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂は、前記一般式(1-1)及び(1-2)中に含まれる全てのBに対して50%以下、更に40%以下、より更に30%以下が前記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基であってよい。
The polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention is 50% or more, more 60% or more, more than 70% with respect to all B contained in the general formulas (1-1) and (1-2). % Or more is preferably a residue of at least one tetracarboxylic dianhydride selected from the group consisting of the group B1.
On the other hand, the polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention is 50% or less, more 40% or less, with respect to all B contained in the general formulas (1-1) and (1-2). Further, 30% or less may be residues of at least one tetracarboxylic dianhydride selected from the group consisting of the group B2.

本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂は、透明性と弾性率の特性バランス及び溶剤への溶解性の点から、前記一般式(1-1)及び(1-2)において、Aが4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、及び前記化学式(a-1)で表される酸二無水物からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基である4価の基を表すことが好ましく、更に、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、及び前記化学式(a-1)で表される酸二無水物からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基である4価の基であることがより好ましい。 In the polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention, A is used in the general formulas (1-1) and (1-2) from the viewpoint of the characteristic balance of transparency and elasticity and the solubility in a solvent. At least one selected from the group consisting of 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid anhydride, cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, and acid dianhydride represented by the above chemical formula (a-1). It is preferable to represent a tetravalent group which is a residue of the tetracarboxylic acid dianhydride, and further comprises a cyclobutane tetracarboxylic acid dianhydride and an acid dianhydride represented by the chemical formula (a-1). More preferably, it is a tetravalent group that is a residue of at least one tetracarboxylic acid dianhydride selected from the group.

また、本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂は、透明性および溶剤溶解性の点から、前記一般式(1-1)及び(1-2)において、Bが2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンの残基である2価の基を表すことが好ましい。 Further, in the polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention, B is 2,2'-bis in the general formulas (1-1) and (1-2) from the viewpoint of transparency and solvent solubility. It preferably represents a divalent group that is a residue of (trifluoromethyl) benzidine.

本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂は、前記一般式(1-1)及び(1-2)中に含まれる全てのRに対する95.0%以上が炭素数1~10のアルキル基である。
炭素数1~10のアルキル基としては、直鎖、分岐又は環状であってよく、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、シクロペンチル基、n-ヘキシル基、シクロヘキシル基、n-オクチル基等が挙げられる。
Rにおける炭素数1~10のアルキル基としては、熱イミド化時におけるアルコールの脱離性能を高める点から、炭素数1~6のアルキル基であることが好ましく、炭素数1~4のアルキル基であることがより好ましく、メチル基、エチル基、n-プロピル基、又はi-プロピル基であることがさらに好ましく、メチル基又はエチル基であることがよりさらに好ましい。
The polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention has an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms in an amount of 95.0% or more with respect to all R contained in the general formulas (1-1) and (1-2). Is.
The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms may be linear, branched or cyclic, and may be, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group or a t-butyl group. Examples thereof include an n-pentyl group, a cyclopentyl group, an n-hexyl group, a cyclohexyl group, and an n-octyl group.
The alkyl group having 1 to 10 carbon atoms in R is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and having 1 to 4 carbon atoms from the viewpoint of enhancing the desorption performance of alcohol during thermal imidization. It is more preferably a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, or an i-propyl group, and even more preferably a methyl group or an ethyl group.

本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂は、前記一般式(1-1)及び(1-2)中に含まれる全てのRに対する95.0%以上が炭素数1~10のアルキル基であるが、ポリイミド前駆体の大気中での安定性の点から、全てのRに対する炭素数1~10のアルキル基の比率は、98.0%以上が好ましく、99.0%以上がより好ましく、100%であってもよい。 The polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention has an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having 95.0% or more of all R contained in the general formulas (1-1) and (1-2). However, from the viewpoint of the stability of the polyimide precursor in the atmosphere, the ratio of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms to all R is preferably 98.0% or more, more preferably 99.0% or more. , 100%.

本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂中の前記一般式(1-1)及び(1-2)で表される構成単位はそれぞれ、1種又は2種以上含まれて良い。
本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂中の構成単位の合計に対して、前記一般式(1-1)及び(1-2)で表される構成単位の合計含有割合は100モル%であってもよいが、本発明の1実施形態であるポリイミド樹脂中には、本発明の効果が損なわれない限り、前記一般式(1-1)及び(1-2)で表される構成単位とは異なる構成単位を含有していても良い。
異なる構成単位を含有する場合であっても、本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂の全構成単位に対して、前記一般式(1-1)及び(1-2)で表される構成単位の合計含有割合は80モル%以上であることが好ましく、更に90モル%以上であることがより好ましい。
The structural units represented by the general formulas (1-1) and (1-2) in the polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention may contain one kind or two or more kinds, respectively.
The total content of the structural units represented by the general formulas (1-1) and (1-2) is 100 mol% with respect to the total of the structural units in the polyimide precursor resin according to the embodiment of the present invention. However, the polyimide resin according to the embodiment of the present invention contains the configurations represented by the general formulas (1-1) and (1-2) as long as the effects of the present invention are not impaired. It may contain a constituent unit different from the unit.
Even when different structural units are contained, they are represented by the general formulas (1-1) and (1-2) with respect to all the structural units of the polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention. The total content ratio of the constituent units is preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more.

本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂は、十分な透明性を有しつつ、高い弾性率を有するポリアミドイミドフィルムを提供可能になる点から、更に、下記一般式(2)で表される構成単位を有していてもよい。 The polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention is further represented by the following general formula (2) from the viewpoint that a polyamide-imide film having a high elastic modulus while having sufficient transparency can be provided. It may have a structural unit.

Figure 2022011501000013
{一般式(2)において、Xは下記式(x1)~(x4)で表される構造からなる群から選択される少なくとも1つの2価の基を表し、Bは前記グループB1及び前記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基である2価の基を表す。
Figure 2022011501000013
{In the general formula (2), X represents at least one divalent group selected from the group consisting of the structures represented by the following formulas (x1) to (x4), and B represents the group B1 and the group B2. Represents a divalent group that is a residue of at least one diamine selected from the group consisting of.

Figure 2022011501000014
(式(x3)において、Lは、-O-、-S-、-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、又は-CO-を表し、*は結合手を表す。)}
Figure 2022011501000014
(In equation (x3), L is -O-, -S-, -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , or. -CO-, * represents a bond.)}

前記式(x1)~(x4)で表される構造の中では、高弾性率、及び屈曲耐性が向上する点から、前記式(x1)~(x3)で表される構造からなる群から選択される1種以上が好ましく、前記式(x1)又は式(x2)で表される構造がより好ましく、前記式(x2)で表される構造がより更に好ましい。 Among the structures represented by the formulas (x1) to (x4), select from the group consisting of the structures represented by the formulas (x1) to (x3) from the viewpoint of improving high elasticity and bending resistance. One or more of the above formulas are preferable, the structure represented by the formula (x1) or the formula (x2) is more preferable, and the structure represented by the formula (x2) is even more preferable.

Bは、前記グループB1及び前記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基と同様であって良く、透明性の点から、前記グループB1からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基であることが好ましく、透明性と高弾性率化の点から、Bが2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンの残基である2価の基を表すことが好ましい。 B may be similar to the residue of at least one diamine selected from the group consisting of the group B1 and the group B2, and from the viewpoint of transparency, at least one selected from the group consisting of the group B1. It is preferably a residue of the seed diamine, and B may represent a divalent group which is a residue of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine in terms of transparency and high modulus. preferable.

一般式(2)で表される構成単位において、X及びBはそれぞれ独立に、1種であっても2種以上含まれていても良い。 In the structural unit represented by the general formula (2), X and B may be independently contained in one type or two or more types.

本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂の全構成単位に対して、前記一般式(2)で表される構成単位の合計含有割合は、60モル%以下であることが好ましく、更に40モル%以下であることがより好ましい。
すなわち、本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂において、ジカルボン酸残基の合計の含有割合は、0モル%であってもよいが、全テトラカルボン酸残基と全ジカルボン酸残基の合計に対して、60モル%以下であることが好ましく、更に40モル%以下であることがより好ましい。
ジカルボン酸残基は、ポリイミド前駆体樹脂の分解に影響を与えないので、本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂の全構成単位に対して、50モル%超過であっても含有可能である。
The total content ratio of the structural units represented by the general formula (2) is preferably 60 mol% or less, further 40, with respect to all the structural units of the polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention. It is more preferably mol% or less.
That is, in the polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention, the total content ratio of the dicarboxylic acid residues may be 0 mol%, but the total tetracarboxylic acid residues and the total dicarboxylic acid residues. It is preferably 60 mol% or less, more preferably 40 mol% or less, based on the total.
Since the dicarboxylic acid residue does not affect the decomposition of the polyimide precursor resin, it can be contained even if it exceeds 50 mol% with respect to all the constituent units of the polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention. be.

また、本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂は、透明性、複屈折率、弾性率のバランスを崩さなければ良く、更に、前記一般式(1-1)及び(1-2)において、Aが、前記グループA1及び前記グループA2とは異なる他のテトラカルボン酸二無水物の残基である4価の基を表すか、或いは、Bが前記グループB1及び前記グループB2とは異なる他のジアミンの残基である2価の基を表すような、前記一般式(1-1)及び(1-2)とは異なる構成単位を含んでいてもよい。
前記グループA1及び前記グループA2とは異なる他のテトラカルボン酸二無水物や、前記グループB1及び前記グループB2とは異なる他のジアミンは、ポリイミドに用いられるテトラカルボン酸二無水物やジアミンから適宜選択されればよく、例えば国際公開2018/030410号、国際公開2019/078051号、国際公開2019/013169号等に記載されているテトラカルボン酸二無水物やジアミンが挙げられる。
なお、前記一般式(1-1)及び(1-2)とは異なるポリイミド前駆体構成単位を含む場合であっても、ポリイミド前駆体樹脂中に含まれる全ての-COOR基の95.0%以上が炭素数1~10のアルキルエステル基であることが好ましい。
Further, the polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention does not have to upset the balance of transparency, double modulus and elastic modulus, and further, in the above general formulas (1-1) and (1-2). , A represents a tetravalent group which is a residue of another tetracarboxylic acid dianhydride different from the group A1 and the group A2, or B is different from the group B1 and the group B2. It may contain a structural unit different from the general formulas (1-1) and (1-2), such as representing a divalent group which is a residue of the diamine of.
Other tetracarboxylic acid dianhydrides different from the group A1 and the group A2, and other diamines different from the group B1 and the group B2 are appropriately selected from the tetracarboxylic acid dianhydrides and diamines used for the polyimide. Examples thereof include tetracarboxylic acid dianhydrides and diamines described in International Publication No. 2018/030410, International Publication No. 2019/078051, International Publication No. 2019/013169 and the like.
Even when the polyimide precursor structural unit different from the general formulas (1-1) and (1-2) is contained, 95.0% of all the −COOR groups contained in the polyimide precursor resin. The above is preferably an alkyl ester group having 1 to 10 carbon atoms.

前記一般式(1-1)及び(1-2)とは異なるポリイミド前駆体構成単位を含む場合であっても、前記グループA1及び前記グループA2とは異なる他のテトラカルボン酸二無水物の残基の合計の含有割合は、全テトラカルボン酸残基と全ジカルボン酸残基の合計に対して、20モル%以下であることが好ましく、10モル%以下であることがより好ましく、5モル%以下であることがさらに好ましく、2モル%以下であることがよりさらに好ましい。
また、前記グループB1及び前記グループB2とは異なる他のジアミンの残基の合計の含有割合は、全ジアミン残基の合計に対して、20モル%以下であることが好ましく、更に10モル%以下であることがより好ましく、5モル%以下であることがさらに好ましく、2モル%以下であることがよりさらに好ましい。
Remaining of other tetracarboxylic acid dianhydrides different from the group A1 and the group A2 even when the polyimide precursor constituent units different from the general formulas (1-1) and (1-2) are contained. The total content of the groups is preferably 20 mol% or less, more preferably 10 mol% or less, and 5 mol% with respect to the total of all tetracarboxylic acid residues and all dicarboxylic acid residues. It is more preferably less than or equal to, and even more preferably 2 mol% or less.
Further, the total content ratio of the residues of other diamines different from the group B1 and the group B2 is preferably 20 mol% or less, more preferably 10 mol% or less, based on the total of all diamine residues. It is more preferably 5 mol% or less, and even more preferably 2 mol% or less.

本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂は、前記一般式(1-1)で表される構成単位、前記一般式(1-2)で表される構成単位、及び前記一般式(2)で表される構成単位の合計が、ポリイミド前駆体樹脂の全構成単位の95%以上であることが好ましく、98%以上であることがより好ましく、100%であることがより更に好ましい。 The polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention has a structural unit represented by the general formula (1-1), a structural unit represented by the general formula (1-2), and the general formula (2). ), The total of the structural units represented by) is preferably 95% or more, more preferably 98% or more, and even more preferably 100% of all the structural units of the polyimide precursor resin.

本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂のゲル浸透クロマトグラフィーのポリスチレン換算による重量平均分子量は、108,000以上であるが、好ましくは120,000以上、より好ましくは150,000以上であり、好ましくは1,000,000以下であり、より好ましくは500,000以下、より更に好ましくは300,000以下である。
前記ポリイミド前駆体樹脂の重量平均分子量が前記下限値以上であると、屈曲耐性が良好であり、また、焼成後にクラックや白化などの外観不良が生じ難く、透明性が良好なフィルムを得やすい点から好ましい。一方、前記上限値以下であると、合成、ワニス調製、フィルム形成時に高粘度化が抑制され、フィルムを形成しやすくなる点から好ましい。
The polystyrene-equivalent weight average molecular weight of the polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention is 108,000 or more, preferably 120,000 or more, and more preferably 150,000 or more. It is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less, and even more preferably 300,000 or less.
When the weight average molecular weight of the polyimide precursor resin is at least the lower limit, bending resistance is good, appearance defects such as cracks and whitening are unlikely to occur after firing, and a film with good transparency can be easily obtained. Is preferable. On the other hand, when it is at least the above upper limit value, it is preferable from the viewpoint that high viscosity is suppressed during synthesis, varnish preparation, and film formation, and it becomes easy to form a film.

なお、ポリイミド前駆体樹脂の重量平均分子量は、ポリイミド前駆体樹脂を0.5重量%の濃度のN-メチルピロリドン(NMP)溶液とし、その溶液をシリンジフィルター(孔径:0.45μm)に通じて濾過させ、展開溶媒として、含水量500ppm以下の10mmol%LiBr-NMP溶液を用い、GPC装置(東ソー製、HLC-8120、使用カラム:SHODEX製GPC LF-804)を用い、サンプル打ち込み量50μL、溶媒流量0.5mL/分、40℃の条件で測定を行う。ポリイミド前駆体樹脂の重量平均分子量は、サンプルと同濃度のポリスチレン標準サンプル(重量平均分子量:364,700、204,000、103,500、44,360、27,500、13,030、6,300、3,070)を基準に測定した標準ポリスチレンに対する換算値とした。溶出時間を検量線と比較し、重量平均分子量を求める。 The weight average molecular weight of the polyimide precursor resin is such that the polyimide precursor resin is prepared as an N-methylpyrrolidone (NMP) solution having a concentration of 0.5% by weight, and the solution is passed through a syringe filter (pore size: 0.45 μm). After filtering, a 10 mmol% LiBr-NMP solution having a water content of 500 ppm or less was used as a developing solvent, and a GPC device (HLC-8120 manufactured by Toso Co., Ltd., column used: GPC LF-804 manufactured by SHODEX) was used. The measurement is performed under the conditions of a flow rate of 0.5 mL / min and 40 ° C. The weight average molecular weight of the polyimide precursor resin is a polystyrene standard sample having the same concentration as the sample (weight average molecular weight: 364,700,204,000, 103,500, 44,360, 27,500, 13,030, 6,300). , 3,070) as a reference value for standard polystyrene. Compare the elution time with the calibration curve to determine the weight average molecular weight.

(ポリイミド前駆体樹脂の製造方法)
本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂の製造方法としては特に限定されないが、例えば、前記特定のテトラカルボン酸二無水物を含む1種又は2種以上のテトラカルボン酸二無水物と、前記特定のジアミンを含む1種又は2種以上のジアミンとを反応させることにより、ポリアミド酸を得る工程と、必要に応じて、得られたポリアミド酸と、芳香族環を有するジカルボン酸成分とを反応させることにより、ポリアミド-ポリアミド酸共重合体を得る工程とを有し、得られた前記ポリアミド酸又は前記ポリアミド-ポリアミド酸共重合体のカルボキシ基をアルキルエステル化する工程を経て製造することができる。
(Manufacturing method of polyimide precursor resin)
The method for producing the polyimide precursor resin according to the embodiment of the present invention is not particularly limited, and for example, one or more kinds of tetracarboxylic acid dianhydrides containing the specific tetracarboxylic acid dianhydride and two or more kinds of tetracarboxylic acid dianhydrides. A step of obtaining a polyamic acid by reacting with one or more kinds of diamines containing the specific diamine, and if necessary, the obtained polyamic acid and a dicarboxylic acid component having an aromatic ring. It has a step of obtaining a polyamide-polyamic acid copolymer by reacting, and can be produced through a step of alkyl esterifying the carboxy group of the obtained polyamic acid or the polyamide-polyamic acid copolymer. can.

前記ポリアミド酸は、上述のテトラカルボン酸二無水物と、上述のジアミンとを、溶剤中で反応させて得られる。ポリアミド酸の合成に用いる溶剤としては、上述のテトラカルボン酸二無水物及びジアミンを溶解可能であれば特に制限はなく、例えば非プロトン性極性溶剤または水溶性アルコール系溶剤等を用い得る。本発明においては、中でも、N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等の窒素原子を含む有機溶剤;γ-ブチロラクトン等を用いることが好ましい。なお、有機溶剤とは、炭素原子を含む溶剤である。 The polyamic acid is obtained by reacting the above-mentioned tetracarboxylic dianhydride with the above-mentioned diamine in a solvent. The solvent used for synthesizing the polyamic acid is not particularly limited as long as the above-mentioned tetracarboxylic acid dianhydride and diamine can be dissolved, and for example, an aprotic polar solvent or a water-soluble alcohol-based solvent can be used. In the present invention, among others, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphoramide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc. It is preferable to use an organic solvent containing a nitrogen atom; γ-butyrolactone or the like. The organic solvent is a solvent containing a carbon atom.

また、前記ポリアミド酸が、少なくとも2種のテトラカルボン酸二無水物を組み合わせて調製される場合、ジアミンが溶解した重合溶媒に少なくとも2種のテトラカルボン酸二無水物を一度に添加し、ポリアミド酸を合成してもよいし、少なくとも2種のテトラカルボン酸二無水物を適切なモル比で段階を踏んで反応液に添加し、ある程度、各原料が高分子鎖へ組み込まれるシーケンスをコントロールしてもよい。
たとえば、ジアミンが溶解された反応液に、前記化学式(a-1)で表される酸二無水物を投入し反応させることで、前記化学式(a-1)で表される酸二無水物とジアミンが反応したアミド酸を合成し、そこへ、前記化学式(a-1)で表される酸二無水物とは異なるテトラカルボン酸二無水物を投入し、必要に応じて更にジアミンを加えてポリアミド酸を重合しても良い。この方法で重合すると、前記化学式(a-1)で表される酸二無水物が1つのジアミンを介して、連結した形でポリアミド酸の中に導入される。
このような方法でポリアミド酸を重合することは、特定の構造のテトラカルボン酸残基の位置関係がある程度特定され、表面硬度が良好で屈曲耐性の優れたポリイミドフィルムを得易い点から好ましい。
When the polyamic acid is prepared by combining at least two types of tetracarboxylic dianhydride, at least two types of tetracarboxylic dianhydride are added at once to the polymerization solvent in which the diamine is dissolved to obtain the polyamic acid. At least two tetracarboxylic dianhydrides may be added stepwise to the reaction solution at an appropriate molar ratio to control the sequence in which each raw material is incorporated into the polymer chain to some extent. May be good.
For example, by adding the acid dianhydride represented by the chemical formula (a-1) to the reaction solution in which the diamine is dissolved and reacting the reaction solution, the acid dianhydride represented by the chemical formula (a-1) can be obtained. An amic acid reacted with a diamine is synthesized, a tetracarboxylic acid dianhydride different from the acid dianhydride represented by the chemical formula (a-1) is added thereto, and if necessary, further diamine is added. Polyamic acid may be polymerized. When polymerized by this method, the acid dianhydride represented by the chemical formula (a-1) is introduced into the polyamic acid in a linked form via one diamine.
Polymerizing polyamic acid by such a method is preferable because the positional relationship of tetracarboxylic acid residues having a specific structure can be specified to some extent, and a polyimide film having good surface hardness and excellent bending resistance can be easily obtained.

必要に応じてポリアミド-ポリアミド酸共重合体を得る場合、ポリアミド酸を得る工程においては、例えば、溶剤中、ジアミン成分100モル%に対して、テトラカルボン酸二無水物成分aモル%を反応させることにより、ポリアミド酸を得て、その後、当該反応溶液中で、前記ポリアミド酸と(100-a)モル%のジカルボン酸成分とを反応させることにより、ポリアミド-ポリアミド酸共重合体を得ることが、より高分子量体を得られる点から好ましい。 When a polyamide-polyamic acid copolymer is obtained as required, in the step of obtaining the polyamic acid, for example, 100 mol% of the diamine component is reacted with a mol% of the tetracarboxylic acid dianhydride component in the solvent. Thereby, a polyamic acid can be obtained, and then the polyamic acid is reacted with a (100-a) mol% dicarboxylic acid component in the reaction solution to obtain a polyamide-polyamic acid copolymer. , It is preferable from the viewpoint that a higher molecular weight substance can be obtained.

前記ポリアミド酸溶液中のジアミンのモル数をX、テトラカルボン酸二無水物のモル数をYとしたとき、Y/Xを0.9以上1.1以下とすることが好ましく、0.95以上1.05以下とすることがより好ましく、0.97以上1.03以下とすることがさらに好ましく、0.99以上1.01以下とすることが特に好ましい。このような範囲とすることにより得られるポリアミド酸の分子量(重合度)を適度に調整することができる。 When the number of moles of diamine in the polyamic acid solution is X and the number of moles of tetracarboxylic acid dianhydride is Y, Y / X is preferably 0.9 or more and 1.1 or less, preferably 0.95 or more. It is more preferably 1.05 or less, further preferably 0.97 or more and 1.03 or less, and particularly preferably 0.99 or more and 1.01 or less. Within such a range, the molecular weight (degree of polymerization) of the polyamic acid obtained can be appropriately adjusted.

得られた前記ポリアミド酸又は前記ポリアミド-ポリアミド酸共重合体のカルボキシ基をアルキルエステル化する工程において、炭素数1~10のアルキルエステル化は、例えば、N,N-ジメチルホルムアミドジメチルアセタール、N,N-ジメチルホルムアミドジエチルアセタール、N,N-ジメチルホルムアミドジプロピルアセタール等のN,N-ジメチルホルムアミドジアルキルアセタールを用いて行うことができる。中でも、エステル化剤の反応性および熱イミド化時における閉環のしやすさの点からN,N-ジメチルホルムアミドジメチルアセタールを用いることが好ましい。
エステル化は、25℃のポリアミド酸溶液に対して、ポリアミド酸を構成しているテトラカルボン酸二無水物のモル数の2倍となるように、N,N-ジメチルホルムアミドジアルキルアセタールを加えて3時間ほど撹拌する事が好ましい。ポリアミド酸溶液の溶剤はN,N-ジメチルアセトアミドを用いることが透明性向上の点からより好ましい。
In the step of alkyl esterifying the carboxy group of the obtained polyamic acid or the polyamide-polyamic acid copolymer, the alkyl esterification having 1 to 10 carbon atoms is, for example, N, N-dimethylformamide dimethylacetal, N, This can be carried out using N, N-dimethylformamide dialkyl acetals such as N-dimethylformamide diethyl acetal, N, N-dimethylformamide dipropyl acetal. Above all, it is preferable to use N, N-dimethylformamide dimethylacetal from the viewpoint of the reactivity of the esterifying agent and the ease of ring closure during thermal imidization.
For esterification, N, N-dimethylformamide dialkylacetal was added to the polyamic acid solution at 25 ° C. so that the number of moles of the tetracarboxylic acid dianhydride constituting the polyamic acid was doubled. It is preferable to stir for about an hour. It is more preferable to use N, N-dimethylacetamide as the solvent of the polyamic acid solution from the viewpoint of improving transparency.

本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂の構造は、NMR分析、各種質量分析、元素分析、IR分析等を用いて求めることができる。 The structure of the polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention can be obtained by using NMR analysis, various mass spectrometry, elemental analysis, IR analysis and the like.

II.ポリイミドフィルムの製造方法
第一の本発明の1実施形態であるポリイミドフィルムの製造方法は、前記本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂と、有機溶剤とを含むポリイミド前駆体樹脂組成物を調製する工程と、
前記ポリイミド前駆体樹脂組成物を支持体に塗布して、ポリイミド前駆体樹脂塗膜を形成する工程と、
前記ポリイミド前駆体樹脂塗膜を加熱することにより、前記ポリイミド前駆体樹脂をイミド化する工程と、を含む。
II. Method for Producing Polyimide Film In the method for producing a polyimide film according to the first embodiment of the present invention, a polyimide precursor resin composition containing the polyimide precursor resin according to the first embodiment of the present invention and an organic solvent is used. The process of preparation and
A step of applying the polyimide precursor resin composition to a support to form a polyimide precursor resin coating film, and a step of forming the polyimide precursor resin coating film.
The step of imidizing the polyimide precursor resin by heating the polyimide precursor resin coating film is included.

本発明の1実施形態であるポリイミドフィルムの製造方法においては、前記本発明の1実施形態である特定の構造と分子量を有するポリイミド前駆体樹脂を用いて、熱イミド化することにより製造される。そのため、前述のように、フィルム中でポリイミドが不規則な構造を取りやすく、且つ、ポリイミドは熱イミド化の過程で分解されることなく特定の高分子量が維持されていることから、十分な透明性を有しつつ、屈曲耐性の低下を抑制して、位相差をより低減するポリイミドフィルムを製造することができる。 In the method for producing a polyimide film according to an embodiment of the present invention, the polyimide film is produced by thermal imidization using a polyimide precursor resin having a specific structure and molecular weight according to the embodiment of the present invention. Therefore, as described above, the polyimide tends to have an irregular structure in the film, and the polyimide maintains a specific high molecular weight without being decomposed in the process of thermal imidization, so that it is sufficiently transparent. It is possible to produce a polyimide film having properties, suppressing a decrease in bending resistance, and further reducing a phase difference.

本発明の1実施形態であるポリイミドフィルムの製造方法においては、更に、前記ポリイミド前駆体樹脂塗膜、及び、前記ポリイミド前駆体樹脂塗膜をイミド化したイミド化後塗膜の少なくとも一方を延伸する工程(以下、延伸工程という)を有していてもよい。
以下、ポリイミドフィルムの製造方法の例について工程ごとに詳細に説明する。
In the method for producing a polyimide film according to one embodiment of the present invention, at least one of the polyimide precursor resin coating film and the imidized coating film obtained by imidizing the polyimide precursor resin coating film is further stretched. It may have a step (hereinafter referred to as a stretching step).
Hereinafter, an example of a method for manufacturing a polyimide film will be described in detail for each process.

1.ポリイミド前駆体樹脂組成物調製工程
ポリイミド前駆体樹脂組成物は、前記本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂と、有機溶剤とを含有し、必要に応じて添加剤等を含有してもよい。
前記本発明の1実施形態であるポリイミド前駆体樹脂としては、前記と同様であって良いので、ここでの説明を省略する。
合成反応により得られたポリイミド前駆体樹脂溶液をそのまま用い、そこに必要に応じて他の成分を混合しても良いし、合成反応により得られたポリイミド前駆体樹脂溶液の溶剤を乾燥させ、別の溶剤に溶解して用いても良い。
1. 1. Polyimide precursor resin composition preparation step The polyimide precursor resin composition may contain the polyimide precursor resin according to one embodiment of the present invention and an organic solvent, and may contain additives and the like as necessary. good.
The polyimide precursor resin according to the embodiment of the present invention may be the same as described above, and thus the description thereof is omitted here.
The polyimide precursor resin solution obtained by the synthesis reaction may be used as it is, and other components may be mixed therewith, if necessary, or the solvent of the polyimide precursor resin solution obtained by the synthesis reaction is dried and separated. It may be used by dissolving it in the solvent of.

前記ポリイミド前駆体樹脂組成物に用いられる有機溶剤は、前記ポリイミド前駆体樹脂が溶解可能であれば特に制限はない。例えば、N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等の窒素原子を含む有機溶剤;γ-ブチロラクトン等を用いることができる。 The organic solvent used in the polyimide precursor resin composition is not particularly limited as long as the polyimide precursor resin can be dissolved. For example, it contains nitrogen atoms such as N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphoramide, and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. Organic solvent; γ-butyrolactone and the like can be used.

必要に応じて含有してもよい添加剤としては、例えば、巻き取りを円滑にするためのシリカフィラーや、製膜性や脱泡性を向上させる界面活性剤等が挙げられる。 Examples of the additive that may be contained if necessary include a silica filler for facilitating winding, a surfactant for improving film forming property and defoaming property, and the like.

前記ポリイミド前駆体樹脂組成物中の前記ポリイミド前駆体樹脂の含有量は、均一な塗膜及びハンドリング可能な強度を有するポリイミドフィルムを形成する点から、樹脂組成物の固形分中に50質量%以上であることが好ましく、更に60質量%以上であることが好ましく、上限は含有成分により適宜調整されればよい。
前記ポリイミド前駆体樹脂組成物中の有機溶剤は、均一な塗膜及びポリイミドフィルムを形成する点から、樹脂組成物中に40質量%以上であることが好ましく、更に50質量%以上であることが好ましく、また99質量%以下であることが好ましい。
The content of the polyimide precursor resin in the polyimide precursor resin composition is 50% by mass or more in the solid content of the resin composition from the viewpoint of forming a polyimide film having a uniform coating film and handleable strength. It is preferably 60% by mass or more, and the upper limit may be appropriately adjusted depending on the contained components.
The organic solvent in the polyimide precursor resin composition is preferably 40% by mass or more, and more preferably 50% by mass or more in the resin composition from the viewpoint of forming a uniform coating film and a polyimide film. It is preferable, and it is preferably 99% by mass or less.

また、前記ポリイミド前駆体樹脂組成物は、含有水分量が1000ppm以下であることが、ポリイミド前駆体樹脂組成物の保存安定性が良好になり、生産性を向上することができる点から好ましい。ポリイミド前駆体樹脂組成物中に水分を多く含むと、ポリイミド前駆体が分解しやすくなる恐れがある。
なお、ポリイミド前駆体樹脂組成物の含有水分量は、カールフィッシャー水分計(例えば、三菱化学株式会社製、微量水分測定装置CA-200型)を用いて求めることができる。
Further, it is preferable that the water content of the polyimide precursor resin composition is 1000 ppm or less because the storage stability of the polyimide precursor resin composition is improved and the productivity can be improved. If the polyimide precursor resin composition contains a large amount of water, the polyimide precursor may be easily decomposed.
The water content of the polyimide precursor resin composition can be determined using a Karl Fisher Moisture Meter (for example, Mitsubishi Chemical Corporation, trace moisture measuring device CA-200 type).

前記ポリイミド前駆体樹脂組成物は、回転粘度計により測定した25℃における粘度が好ましくは1000mPa・s以上、より好ましくは3000mPa・s以上であり、好ましくは15000mPa・s以下、より好ましくは10000mPa・s以下、さらに好ましくは6000Pa・s以下である。
ポリイミドフィルムの製造時に、ポリイミド前駆体樹脂組成物の粘度が前記下限値以上であると、フィルム形成時の膜厚ムラや乾燥ムラが発生しにくくなる点から好ましく、前記上限値以下であると、コーティング前の準備として異物除去のために濾過を行うが、樹脂組成物の通過性が良好である点から好ましい。
ここでポリイミド前駆体樹脂組成物の粘度は、JIS K7117-1に記載の方法で、単一円筒型回転粘度計(例えば、東機産業株式会社製、TVB-10形粘度計)を用いて、25℃において測定することができる。
The polyimide precursor resin composition has a viscosity at 25 ° C. measured by a rotational viscometer of preferably 1000 mPa · s or more, more preferably 3000 mPa · s or more, preferably 15,000 mPa · s or less, and more preferably 10,000 mPa · s. Below, it is more preferably 6000 Pa · s or less.
When the viscosity of the polyimide precursor resin composition is at least the above lower limit value at the time of producing the polyimide film, it is preferable from the viewpoint that uneven film thickness and uneven drying at the time of film formation are less likely to occur, and when it is at least the above upper limit value, it is preferable. Filtration is performed to remove foreign substances as a preparation before coating, which is preferable because the resin composition has good permeability.
Here, the viscosity of the polyimide precursor resin composition is determined by the method described in JIS K7117-1 using a single cylindrical rotary viscometer (for example, TVB-10 type viscometer manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.). It can be measured at 25 ° C.

2.ポリイミド前駆体樹脂塗膜形成工程
前記ポリイミド前駆体樹脂組成物を支持体に塗布して、ポリイミド前駆体樹脂塗膜を形成する工程において、用いられる支持体としては、表面が平滑で耐熱性および耐溶剤性のある材料であれば特に制限はない。例えばガラス板などの無機材料、表面を鏡面処理した金属板等が挙げられる。また支持体の形状は塗布方式によって選択され、例えば板状であってもよく、またドラム状やベルト状、ロールに巻き取り可能なシート状等であってもよい。
2. 2. Polyimide precursor resin coating film forming step The support used in the step of applying the polyimide precursor resin composition to a support to form a polyimide precursor resin coating film has a smooth surface, heat resistance and resistance. There is no particular limitation as long as it is a solvent-based material. For example, an inorganic material such as a glass plate, a metal plate whose surface is mirror-treated, and the like can be mentioned. The shape of the support is selected by the coating method, and may be, for example, a plate shape, a drum shape, a belt shape, a sheet shape that can be wound on a roll, or the like.

前記塗布手段は目的とする膜厚で塗布可能な方法であれば特に制限はなく、例えばダイコータ、コンマコータ、ロールコータ、グラビアコータ、カーテンコータ、スプレーコータ、リップコータ等の公知のものを用いることができる。
塗布は、枚葉式の塗布装置により行ってもよく、ロールtoロール方式の塗布装置により行ってもよい。
The coating means is not particularly limited as long as it can be coated with a desired film thickness, and for example, known ones such as a die coater, a comma coater, a roll coater, a gravure coater, a curtain coater, a spray coater, and a lip coater can be used. ..
The coating may be performed by a single-wafer coating device or a roll-to-roll coating device.

ポリイミド前駆体樹脂組成物を支持体に塗布した後は、塗膜がタックフリーとなるまで、150℃以下の温度、好ましくは30℃以上120℃以下で前記塗膜中の溶剤を乾燥する。溶剤の乾燥温度を150℃以下とすることにより、ポリアミド酸のイミド化を抑制することができる。 After applying the polyimide precursor resin composition to the support, the solvent in the coating film is dried at a temperature of 150 ° C. or lower, preferably 30 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, until the coating film becomes tack-free. By setting the drying temperature of the solvent to 150 ° C. or lower, the imidization of the polyamic acid can be suppressed.

乾燥時間は、ポリイミド前駆体樹脂塗膜の膜厚や、溶剤の種類、乾燥温度等に応じて適宜調整されれば良いが、通常1分~60分、好ましくは2分~30分とする。上限値を超える場合には、ポリイミドフィルムの作製効率の面から好ましくない。一方、下限値を下回る場合には、急激な溶剤の乾燥によって、得られるポリイミドフィルムの外観等に影響を与える恐れがある。 The drying time may be appropriately adjusted according to the film thickness of the polyimide precursor resin coating film, the type of solvent, the drying temperature, etc., but is usually 1 minute to 60 minutes, preferably 2 minutes to 30 minutes. If it exceeds the upper limit, it is not preferable from the viewpoint of the production efficiency of the polyimide film. On the other hand, if it is below the lower limit, the appearance of the obtained polyimide film may be affected by the rapid drying of the solvent.

溶剤の乾燥方法は、上記温度で溶剤の乾燥が可能であれば特に制限はなく、例えばオーブンや、乾燥炉、ホットプレート、赤外線加熱等を用いることが可能である。
光学特性の高度な管理が必要な場合、溶剤の乾燥時の雰囲気は、不活性ガス雰囲気下であることが好ましい。不活性ガス雰囲気下としては、窒素雰囲気下であることが好ましく、酸素濃度が100ppm以下であることが好ましく、50ppm以下であることがより好ましい。大気下で熱処理を行うと、フィルムが酸化され、着色したり、性能が低下する可能性がある。
The method for drying the solvent is not particularly limited as long as the solvent can be dried at the above temperature, and for example, an oven, a drying oven, a hot plate, infrared heating, or the like can be used.
When a high degree of control of optical properties is required, the atmosphere of the solvent when it is dried is preferably an inert gas atmosphere. The inert gas atmosphere is preferably a nitrogen atmosphere, preferably an oxygen concentration of 100 ppm or less, and more preferably 50 ppm or less. Heat treatment in the atmosphere can oxidize the film, causing it to color or reduce its performance.

3.熱イミド化工程
本発明の1実施形態のポリイミドフィルムの製造方法では加熱によりイミド化する。
前述のように、熱イミド化では、ポリイミド前駆体の状態で塗膜を形成後イミド化するが、製膜された状態では熱による分子鎖の運動の影響でポリイミド前駆体のアミド結合が折れ曲がり形状になりやすいため、得られるポリイミド中の高分子鎖が折れ曲がり形状の分子構造をとりやすく、低位相差のポリイミドフィルムを得ることができるからである。
3. 3. Thermal imidization step In the method for producing a polyimide film according to the embodiment of the present invention, imidization is performed by heating.
As described above, in thermal imidization, the coating film is formed and then imidized in the state of the polyimide precursor, but in the film-formed state, the amide bond of the polyimide precursor is bent due to the influence of the movement of the molecular chain due to heat. This is because the polymer chains in the obtained polyimide are likely to have a bent molecular structure, and a polyimide film having a low phase difference can be obtained.

ポリイミドフィルムの残留溶剤量を低減し、屈曲耐性を向上するために、ポリイミド前駆体樹脂塗膜を、塗布する際に用いた支持体から剥離後、加熱をすることにより、前記ポリイミド前駆体をイミド化する工程を行うことが好ましい。塗布する際に用いた支持体から剥離して、フィルムの両表面が支持体等に接していない状態で加熱することにより、フィルムの両表面から溶剤を揮発させることができ、残留溶剤を十分に低減することができる。
また、支持体から剥離後のポリイミド前駆体樹脂塗膜は、加熱時の収縮を防止する点から、端部を固定後に加熱することが好ましい。
ポリイミド前駆体樹脂塗膜の端部を固定する方法としては、例えば、ポリイミド前駆体樹脂塗膜が枚様の場合、ポリイミド前駆体樹脂塗膜と概略同様の外寸と適切な内寸を有する金属枠を2枚使用して、ポリイミド前駆体樹脂塗膜を挟持し、固定治具で2枚の金属枠とポリイミド前駆体樹脂塗膜とを固定する方法が挙げられる。
また、例えば、ポリイミド前駆体樹脂塗膜がロール状の場合、例えば、連続する樹脂フィルムの左右両端をクリップ等の固定治具で把持して樹脂フィルムを搬送可能な装置を用いて、ポリイミド前駆体樹脂塗膜の端部を固定する方法が挙げられる。
In order to reduce the amount of residual solvent in the polyimide film and improve bending resistance, the polyimide precursor resin coating film is peeled off from the support used for coating and then heated to imide the polyimide precursor. It is preferable to carry out the step of converting. By peeling from the support used for coating and heating in a state where both surfaces of the film are not in contact with the support or the like, the solvent can be volatilized from both surfaces of the film, and the residual solvent can be sufficiently removed. Can be reduced.
Further, it is preferable to heat the polyimide precursor resin coating film after peeling from the support after fixing the end portion from the viewpoint of preventing shrinkage during heating.
As a method of fixing the end portion of the polyimide precursor resin coating, for example, when the polyimide precursor resin coating is sheet-like, a metal having substantially the same outer dimensions and appropriate inner dimensions as the polyimide precursor resin coating. A method of sandwiching the polyimide precursor resin coating film by using two frames and fixing the two metal frames and the polyimide precursor resin coating film with a fixing jig can be mentioned.
Further, for example, when the polyimide precursor resin coating film is in the form of a roll, for example, a polyimide precursor is used by using a device capable of transporting the resin film by grasping the left and right ends of the continuous resin film with a fixing jig such as a clip. A method of fixing the end portion of the resin coating film can be mentioned.

当該製造方法において、延伸工程を有する場合、熱イミド化工程は、延伸工程前の前記ポリイミド前駆体樹脂塗膜中のポリイミド前駆体に対して行っても良いし、延伸工程後の前記ポリイミド前駆体樹脂塗膜中のポリイミド前駆体に対して行っても良いし、延伸工程前の前記ポリイミド前駆体樹脂塗膜中のポリイミド前駆体及び延伸工程後の膜中に存在するポリイミド前駆体の両方に対して行っても良い。 When the manufacturing method has a stretching step, the thermal imidization step may be performed on the polyimide precursor in the polyimide precursor resin coating film before the stretching step, or the polyimide precursor after the stretching step. This may be performed on the polyimide precursor in the resin coating film, or on both the polyimide precursor in the polyimide precursor resin coating film before the stretching step and the polyimide precursor existing in the film after the stretching step. You may go there.

イミド化の温度は、ポリイミド前駆体中の高分子鎖が折れ曲がり形状の分子構造をとりやすいように、ポリイミド前駆体の構造に合わせて適宜選択されれば良い。
通常、昇温開始温度を30℃以上とすることが好ましく、100℃以上とすることがより好ましい。一方、昇温終了温度は250℃以上とすることが好ましい。
The imidization temperature may be appropriately selected according to the structure of the polyimide precursor so that the polymer chain in the polyimide precursor can easily take a bent molecular structure.
Usually, the temperature rise start temperature is preferably 30 ° C. or higher, and more preferably 100 ° C. or higher. On the other hand, the temperature rise end temperature is preferably 250 ° C. or higher.

昇温速度は、得られるポリイミドフィルムの膜厚によって適宜選択することが好ましく、ポリイミドフィルムの膜厚が厚い場合には、昇温速度を遅くすることが好ましい。
ポリイミドフィルムの製造効率の点から、5℃/分以上とすることが好ましい。一方、昇温速度の上限は、通常50℃/分以下とされ、好ましくは40℃/分以下、さらに好ましくは30℃/分以下である。上記昇温速度とすることが、フィルムの外観不良や強度低下の抑制、イミド化反応に伴う白化をコントロールでき、光透過性が向上する点から好ましい。
The temperature rising rate is preferably appropriately selected depending on the film thickness of the obtained polyimide film, and when the film thickness of the polyimide film is thick, it is preferable to slow down the temperature rising rate.
From the viewpoint of the production efficiency of the polyimide film, it is preferably 5 ° C./min or more. On the other hand, the upper limit of the temperature rising rate is usually 50 ° C./min or less, preferably 40 ° C./min or less, and more preferably 30 ° C./min or less. It is preferable to set the temperature rise rate from the viewpoints of suppressing poor appearance and decrease in strength of the film, controlling whitening due to the imidization reaction, and improving light transmission.

昇温は、連続的でも段階的でもよいが、連続的とすることが、得られるポリイミド中の高分子鎖が折れ曲がり形状の分子構造がとりやすくなるため好ましい。また、上述の全温度範囲において、昇温速度を一定としてもよく、また途中で変化させてもよい。 The temperature rise may be continuous or stepwise, but it is preferable to raise the temperature continuously because the polymer chain in the obtained polyimide tends to have a bent molecular structure. Further, the temperature rising rate may be constant or may be changed in the middle of the above-mentioned entire temperature range.

イミド化の昇温時の雰囲気は、不活性ガス雰囲気下であることが好ましい。不活性ガス雰囲気下としては、窒素雰囲気下であることが好ましく、酸素濃度が500ppm以下であることが好ましく、200ppm以下であることがより好ましく、100ppm以下であることがさらに好ましい。大気下で熱処理を行うと、フィルムが酸化され、着色したり、性能が低下する可能性がある。 The atmosphere at the time of temperature rise of imidization is preferably an inert gas atmosphere. The inert gas atmosphere is preferably a nitrogen atmosphere, preferably an oxygen concentration of 500 ppm or less, more preferably 200 ppm or less, and even more preferably 100 ppm or less. Heat treatment in the atmosphere can oxidize the film, causing it to color or reduce its performance.

イミド化のための加熱方法は、上記温度で昇温が可能であれば特に制限はなく、例えばオーブンや、加熱炉、赤外線加熱、電磁誘導加熱等を用いることが可能である。 The heating method for imidization is not particularly limited as long as the temperature can be raised at the above temperature, and for example, an oven, a heating furnace, infrared heating, electromagnetic induction heating, or the like can be used.

中でも、延伸工程前に、ポリイミド前駆体のイミド化率を50%以上とすることがより好ましい。延伸工程前にイミド化率を50%以上とすることにより、当該工程後に延伸を行い、その後さらに高い温度で一定時間加熱を行い、イミド化を行った場合であっても、フィルムの外観不良や白化が抑制される。中でもポリイミドフィルムの表面硬度が向上する点から、延伸工程前に、当該イミド化工程において、イミド化率を80%以上とすることが好ましく、90%以上、さらには100%まで反応を進行させることが好ましい。イミド化後に延伸することにより、剛直な高分子鎖が配向しやすいことから表面硬度が向上すると推定される。
なお、イミド化率の測定は、赤外測定(IR)によるスペクトルの分析等により行うことができる。
Above all, it is more preferable to set the imidization ratio of the polyimide precursor to 50% or more before the stretching step. By setting the imidization ratio to 50% or more before the stretching step, even when stretching is performed after the step and then heating is performed at a higher temperature for a certain period of time to perform imidization, the appearance of the film may be poor. Whitening is suppressed. Above all, from the viewpoint of improving the surface hardness of the polyimide film, it is preferable to set the imidization ratio to 80% or more, further to 90% or more, and further to 100% in the imidization step before the stretching step. Is preferable. It is presumed that the surface hardness is improved by stretching after imidization because the rigid polymer chains are easily oriented.
The imidization rate can be measured by analyzing the spectrum by infrared measurement (IR) or the like.

最終的なポリイミドフィルムを得るには、イミド化を90%以上、さらには95%以上、さらには100%まで反応を進行させることが好ましい。
イミド化を90%以上、さらには100%まで反応を進行させるには、昇温終了温度で一定時間保持することが好ましく、当該保持時間は、通常1分~180分、更に、5分~150分とすることが好ましい。
In order to obtain the final polyimide film, it is preferable to proceed the reaction to 90% or more, further 95% or more, and further 100% of imidization.
In order to allow the reaction to proceed to 90% or more and even 100% of imidization, it is preferable to keep the temperature at the end temperature for a certain period of time, and the holding time is usually 1 minute to 180 minutes, further 5 minutes to 150 minutes. It is preferably a minute.

4.延伸工程
前記ポリイミド前駆体樹脂塗膜、及び、前記ポリイミド前駆体樹脂塗膜をイミド化したイミド化後塗膜の少なくとも一方を延伸する延伸工程を有していてもよい。当該延伸工程を有する場合は、中でも、イミド化後塗膜を延伸する工程を含むことが、ポリイミドフィルムの表面硬度が向上する点から好ましい。
4. Stretching Step It may have a stretching step of stretching at least one of the polyimide precursor resin coating film and the imidized coating film obtained by imidizing the polyimide precursor resin coating film. When the stretching step is provided, it is particularly preferable to include a step of stretching the coating film after imidization from the viewpoint of improving the surface hardness of the polyimide film.

延伸を実施する前の初期の寸法を100%とした時に101%以上10000%以下延伸する工程を、80℃以上で加熱しながら行うことが好ましい。
延伸時の加熱温度は、ポリイミド乃至ポリイミド前駆体のガラス転移温度±50℃の範囲内であることが好ましく、ガラス転移温度±40℃の範囲内であることが好ましい。延伸温度が低すぎるとフィルムが変形せず充分に配向を誘起できない恐れがある。一方で、延伸温度が高すぎると延伸によって得られた配向が温度で緩和し、充分な配向が得られない恐れがある。
延伸工程は、イミド化工程と同時に行っても良い。イミド化率80%以上、更に90%以上、より更に95%以上、特に実質的に100%イミド化を行った後のイミド化後塗膜を延伸することが、ポリイミドフィルムの表面硬度を向上する点から好ましい。
It is preferable to carry out the step of stretching 101% or more and 10000% or less while heating at 80 ° C. or higher when the initial dimension before carrying out the stretching is 100%.
The heating temperature during stretching is preferably in the range of the glass transition temperature of the polyimide or the polyimide precursor ± 50 ° C., and preferably in the range of the glass transition temperature ± 40 ° C. If the stretching temperature is too low, the film may not be deformed and sufficient orientation may not be induced. On the other hand, if the stretching temperature is too high, the orientation obtained by stretching may be relaxed by the temperature, and sufficient orientation may not be obtained.
The stretching step may be performed at the same time as the imidization step. Stretching the imidized coating film after imidization of 80% or more, further 90% or more, further 95% or more, particularly substantially 100% imidization improves the surface hardness of the polyimide film. It is preferable from the point of view.

ポリイミドフィルムの延伸倍率は、好ましくは101%以上10000%以下であり、さらに好ましくは101%以上500%以下である。上記範囲で延伸を行うことにより、得られるポリイミドフィルムの表面硬度をより向上することができる。 The draw ratio of the polyimide film is preferably 101% or more and 10000% or less, and more preferably 101% or more and 500% or less. By stretching in the above range, the surface hardness of the obtained polyimide film can be further improved.

延伸時におけるポリイミドフィルムの固定方法は、特に制限はなく、延伸装置の種類等に合わせて選択される。また、延伸方法は特に制限はなく、例えばテンター等の搬送装置を有する延伸装置を用い、加熱炉を通しながら延伸することが可能である。ポリイミドフィルムは、一方向のみに延伸(縦延伸または横延伸)してもよく、また同時2軸延伸、もしくは逐次2軸延伸、斜め延伸等によって、二方向に延伸処理を行ってもよい。 The method for fixing the polyimide film at the time of stretching is not particularly limited, and is selected according to the type of stretching device and the like. Further, the stretching method is not particularly limited, and it is possible to stretch while passing through a heating furnace by using a stretching device having a transporting device such as a tenter. The polyimide film may be stretched in only one direction (longitudinal stretching or transverse stretching), or may be stretched in two directions by simultaneous biaxial stretching, sequential biaxial stretching, diagonal stretching, or the like.

5.製造されるポリイミドフィルム
前記第一の本発明の1実施形態のポリイミドフィルムの製造方法により製造されるポリイミドフィルムは、下記一般式(1)
5. Manufactured Polyimide Film The polyimide film produced by the method for producing the polyimide film according to the first embodiment of the present invention is described in the following general formula (1).

Figure 2022011501000015
(一般式(1)において、Aは、下記グループA1及び下記グループA2からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基である4価の基を表し、Bは下記グループB1及び下記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基である2価の基を表す。)で表される構成単位を有し、
<グループA1:4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、及び下記化学式(a-1)で表される酸二無水物>
Figure 2022011501000015
(In the general formula (1), A represents a tetravalent group which is a residue of at least one tetracarboxylic acid dianhydride selected from the group consisting of the following groups A1 and the following groups A2, and B is the following. It has a structural unit represented by a divalent group which is a residue of at least one diamine selected from the group consisting of group B1 and the following group B2).
<Group A1: 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, and the following chemical formula (a-1). Acid dianhydride>

Figure 2022011501000016
<グループA2:ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸ニ無水物、及びp-フェニレンビス(トリメリテート無水物)>
<グループB1:2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、ビス(4-アミノフェニル)スルホン、及びビス[4-(4-アニノフェノキシ)フェニル]スルホン>
<グループB2:フェニレンジアミン、4-アミノ安息香酸4-アミノフェニル、ビス(4-アミノフェニル)テレフタレート、4,4’-ジアミノベンズアニリド、及びN,N’-ビス(4-アミノフェニル)テレフタルアミド>
前記一般式(1)において、前記グループA1からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基であるA、及び、前記グループB1からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基であるBの少なくとも一方を含有し、
更に、下記一般式(2)
Figure 2022011501000016
<Group A2: pyromellitic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, and p-phenylenebis (trimeritate anhydride)>
<Group B1: 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, bis (4-aminophenyl) sulfone, and bis [4- (4-aninophenoxy) phenyl] sulfone>
<Group B2: Phenylene diamine, 4-aminophenyl 4-aminobenzoic acid, bis (4-aminophenyl) terephthalate, 4,4'-diaminobenzanilide, and N, N'-bis (4-aminophenyl) terephthalamide. >
In the general formula (1), A which is a residue of at least one tetracarboxylic dianhydride selected from the group consisting of the group A1 and at least one selected from the group consisting of the group B1. Containing at least one of B, which is a residue of the diamine of
Furthermore, the following general formula (2)

Figure 2022011501000017
{一般式(2)において、Xは下記式(x1)~(x4)
Figure 2022011501000017
{In the general formula (2), X is the following formulas (x1) to (x4).

Figure 2022011501000018
(式(x3)において、Lは、-O-、-S-、-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、又は-CO-を表し、*は結合手を表す。)で表される構造からなる群から選択される少なくとも1つの2価の基を表し、Bは前記グループB1及び前記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基である2価の基を表す。}で表される構成単位を有していてもよいポリイミド樹脂を含有する。
Figure 2022011501000018
(In equation (x3), L is -O-, -S-, -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , or. -CO-, * represents at least one divalent group selected from the group consisting of the structures represented by), and B represents the group consisting of the group B1 and the group B2. Represents a divalent group that is a residue of at least one diamine to be made. } Contains a polyimide resin which may have a structural unit represented by.

前記一般式(1)で表される構成単位におけるテトラカルボン酸二無水物の残基であるA、及び、ジアミンの残基であるBは、前記本発明の1実施形態のポリイミド前駆体樹脂における前記一般式(1-1)又は前記一般式(1-2)で表される構成単位におけるテトラカルボン酸二無水物の残基であるA、及び、ジアミンの残基であるBと同様であって良い。
更に、前記一般式(2)で表される構成単位も、前記本発明の1実施形態のポリイミド前駆体樹脂における前記一般式(2)で表される構成単位と同様であって良い。
第一の本発明の1実施形態のポリイミドフィルムに対しても、後述の第二の本発明の1実施形態のポリイミドフィルムと同様の特性を有することが好ましい。
A, which is a residue of tetracarboxylic acid dianhydride in the structural unit represented by the general formula (1), and B, which is a residue of diamine, are in the polyimide precursor resin of one embodiment of the present invention. It is the same as A which is a residue of tetracarboxylic acid dianhydride and B which is a residue of diamine in the structural unit represented by the general formula (1-1) or the general formula (1-2). Good.
Further, the structural unit represented by the general formula (2) may be the same as the structural unit represented by the general formula (2) in the polyimide precursor resin of one embodiment of the present invention.
It is preferable that the polyimide film of the first embodiment of the present invention has the same characteristics as the polyimide film of the second embodiment of the present invention described later.

III.積層体の製造方法
第一の本発明の積層体の製造方法は、
前記第一の本発明の1実施形態であるポリイミドフィルムの製造方法により、ポリイミドフィルムを製造する工程と、
前記ポリイミドフィルムの少なくとも一面に、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種を含有するハードコート層用組成物を塗布して、ハードコート層形成用塗膜を形成する工程と、
前記ハードコート層形成用塗膜を硬化することにより、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有するハードコート層を形成する工程と、を含む。
III. Method of manufacturing a laminate
The first method for producing a laminate of the present invention is
A step of manufacturing a polyimide film by the method of manufacturing a polyimide film according to the first embodiment of the present invention.
A step of applying a composition for a hard coat layer containing at least one of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound to at least one surface of the polyimide film to form a coating film for forming a hard coat layer.
The present invention comprises a step of forming a hard coat layer containing at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound by curing the coating film for forming the hard coat layer.

前記第一の本発明の1実施形態のポリイミドフィルムの製造方法により、ポリイミドフィルムを製造する工程については、前記II.ポリイミドフィルムの製造方法に記載した方法と同様であって良いので、ここでの説明を省略する。 Regarding the step of manufacturing the polyimide film by the method of manufacturing the polyimide film of the first embodiment of the present invention, the above II. Since the method may be the same as that described in the method for manufacturing a polyimide film, the description thereof is omitted here.

前記ハードコート層形成用組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種を含有し、必要に応じて更に重合開始剤、溶剤及び添加剤等を含有していてもよい。
ここで、前記ハードコート層形成用組成物が含有するラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、重合開始剤及び添加剤については、後述する第二の本発明の1実施形態の積層体のハードコート層において説明するものと同様のものを用いることができ、溶剤は、公知の溶剤から適宜選択して用いることができる。
The composition for forming a hard coat layer contains at least one of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound, and may further contain a polymerization initiator, a solvent, an additive and the like, if necessary.
Here, regarding the radically polymerizable compound, the cationically polymerizable compound, the polymerization initiator and the additive contained in the composition for forming the hard coat layer, the hard coat of the laminate of the second embodiment of the present invention described later will be described. The same ones described in the layer can be used, and the solvent can be appropriately selected from known solvents and used.

前記第一の本発明の1実施形態のポリイミドフィルムの製造方法により製造されたポリイミドフィルムの少なくとも一方の面に、前記ハードコート層形成用組成物の塗膜を形成する方法としては、例えば、ポリイミドフィルムの少なくとも一方の面に、前記ハードコート層形成用組成物を、公知の塗布手段により塗布する方法が挙げられる。
前記塗布手段は、目的とする膜厚で塗布可能な方法であれば特に制限はなく、例えば、前記ポリイミド前駆体樹脂組成物を支持体に塗布する手段と同様のものが挙げられる。
As a method for forming a coating film of the composition for forming a hard coat layer on at least one surface of the polyimide film produced by the method for producing a polyimide film according to the first embodiment of the present invention, for example, polyimide is used. A method of applying the composition for forming a hard coat layer to at least one surface of a film by a known coating means can be mentioned.
The coating means is not particularly limited as long as it can be applied with a desired film thickness, and examples thereof include the same means as those for applying the polyimide precursor resin composition to the support.

前記ハードコート層用硬化性樹脂組成物の塗膜は必要に応じて乾燥することにより溶剤を除去する。乾燥方法としては、例えば、減圧乾燥又は加熱乾燥、更にはこれらの乾燥を組み合わせる方法等が挙げられる。また、常圧で乾燥させる場合は、30℃以上110℃以下で乾燥させることが好ましい。 The coating film of the curable resin composition for the hard coat layer is dried as necessary to remove the solvent. Examples of the drying method include vacuum drying, heat drying, and a method of combining these drying methods. When drying at normal pressure, it is preferable to dry at 30 ° C. or higher and 110 ° C. or lower.

前記ハードコート層用硬化性樹脂組成物を塗布、必要に応じて乾燥させた塗膜に対し、当該硬化性樹脂組成物に含まれるラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の重合性基に応じて、光照射及び加熱の少なくともいずれかにより塗膜を硬化させることにより、ポリイミドフィルムの少なくとも一方の面に、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有するハードコート層を形成することができる。 Depending on the polymerizable group of the radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound contained in the curable resin composition, the curable resin composition for the hard coat layer is applied to the coating film and dried as necessary. By curing the coating film by at least one of light irradiation and heating, a hard coat layer containing at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound is formed on at least one surface of the polyimide film. Can be formed.

光照射には、主に、紫外線、可視光、電子線、電離放射線等が使用される。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長365nmでの積算露光量として、50~5000mJ/cm程度である。
加熱をする場合は、通常40℃以上120℃以下の温度にて処理する。また、室温(25℃)で24時間以上放置することにより反応を行っても良い。
Ultraviolet rays, visible light, electron beams, ionizing radiation and the like are mainly used for light irradiation. In the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays emitted from light rays such as ultra-high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, carbon arcs, xenon arcs, and metal halide lamps are used. The irradiation amount of the energy radiation source is about 50 to 5000 mJ / cm 2 as the integrated exposure amount at the ultraviolet wavelength of 365 nm.
When heating, it is usually treated at a temperature of 40 ° C. or higher and 120 ° C. or lower. Further, the reaction may be carried out by leaving it at room temperature (25 ° C.) for 24 hours or more.

IV.ポリイミドフィルム
第二の本発明の1実施形態のポリイミドフィルムは、下記一般式(1’)
IV. Polyimide film The polyimide film of the second embodiment of the present invention has the following general formula (1').

Figure 2022011501000019
(一般式(1’)において、Aは、下記グループA1及び下記グループA2からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基である4価の基を表し、Bは下記グループB1及び下記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基である2価の基を表す。)で表される構成単位を有し、
<グループA1:4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、及び下記化学式(a-1)で表される酸二無水物>
Figure 2022011501000019
(In the general formula (1'), A represents a tetravalent group which is a residue of at least one tetracarboxylic acid dianhydride selected from the group consisting of the following groups A1 and the following groups A2, and B is. It has a structural unit represented by (representing a divalent group which is a residue of at least one diamine selected from the group consisting of the following group B1 and the following group B2).
<Group A1: 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, and the following chemical formula (a-1). Acid dianhydride>

Figure 2022011501000020
<グループA2:ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸ニ無水物、及びp-フェニレンビス(トリメリテート無水物)>
<グループB1:2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、ビス(4-アミノフェニル)スルホン、及びビス[4-(4-アニノフェノキシ)フェニル]スルホン>
<グループB2:フェニレンジアミン、4-アミノ安息香酸4-アミノフェニル、ビス(4-アミノフェニル)テレフタレート、4,4’-ジアミノベンズアニリド、及びN,N’-ビス(4-アミノフェニル)テレフタルアミド>
前記一般式(1’)において、Aは、少なくとも前記化学式(a-1)で表される酸二無水物の残基である4価の基を含有し、
更に、下記一般式(2)
Figure 2022011501000020
<Group A2: pyromellitic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, and p-phenylenebis (trimeritate anhydride)>
<Group B1: 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, bis (4-aminophenyl) sulfone, and bis [4- (4-aninophenoxy) phenyl] sulfone>
<Group B2: Phenylene diamine, 4-aminophenyl 4-aminobenzoic acid, bis (4-aminophenyl) terephthalate, 4,4'-diaminobenzanilide, and N, N'-bis (4-aminophenyl) terephthalamide. >
In the general formula (1'), A contains at least a tetravalent group which is a residue of the acid dianhydride represented by the chemical formula (a-1).
Furthermore, the following general formula (2)

Figure 2022011501000021
{一般式(2)において、Xは下記式(x1)~(x4)
Figure 2022011501000021
{In the general formula (2), X is the following formulas (x1) to (x4).

Figure 2022011501000022
(式(x3)において、Lは、-O-、-S-、-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、又は-CO-を表し、*は結合手を表す。)で表される構造からなる群から選択される少なくとも1つの2価の基を表し、Bは前記グループB1及び前記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基である2価の基を表す。}で表される構成単位を有していてもよいポリイミド樹脂を含有し、
JIS K7361-1に準拠して測定する全光線透過率が、膜厚40μmの換算値で85.0%以上であり、JIS K7373-2006に準拠して算出される黄色度を膜厚(μm)で除した値が、0.15未満であり、
波長590nmにおける厚み方向の複屈折率が、0.025未満であり、
10mm×150mmの試験片を、JIS K7127に準拠し、引張り速度を50mm/分、チャック間距離を100mmとして、25℃で測定する引張試験における引張弾性率が4.0GPa以上であり、且つ、下記動的屈曲試験において、屈曲回数が、10万回以上である、ポリイミドフィルムである。
(動的屈曲試験)
20mm×100mmの試験片を、長辺の半分の位置で湾曲させて、平行に配置した金属板で挟み、両側の金属板間の距離が60mmから2.5mmとなるように25℃、60%相対湿度(RH)の環境下で、1分間に90回の屈曲回数で繰り返し変化させ、試験片の屈曲を繰り返す。
Figure 2022011501000022
(In equation (x3), L is -O-, -S-, -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , or. -CO-, * represents at least one divalent group selected from the group consisting of the structures represented by), and B represents the group consisting of the group B1 and the group B2. Represents a divalent group that is a residue of at least one diamine to be made. Contains a polyimide resin that may have a structural unit represented by }.
The total light transmittance measured according to JIS K7361-1 is 85.0% or more in terms of the film thickness of 40 μm, and the yellowness calculated according to JIS K7373-2006 is the film thickness (μm). The value divided by is less than 0.15,
The birefringence in the thickness direction at a wavelength of 590 nm is less than 0.025.
A test piece of 10 mm × 150 mm has a tensile elastic modulus of 4.0 GPa or more in a tensile test measured at 25 ° C., with a tensile speed of 50 mm / min and a distance between chucks of 100 mm, in accordance with JIS K7127, and is as follows. A polyimide film having a bending count of 100,000 or more in a dynamic bending test.
(Dynamic bending test)
A 20 mm × 100 mm test piece is curved at the half position of the long side, sandwiched between metal plates arranged in parallel, and 25 ° C., 60% so that the distance between the metal plates on both sides is 60 mm to 2.5 mm. In a relative humidity (RH) environment, the test piece is repeatedly bent 90 times per minute.

第二の本発明の1実施形態のポリイミドフィルムは、前記第一の本発明の1実施形態の中でも特定の構造を有するポリイミド前駆体樹脂を用いて、熱イミド化することにより製造されてなるものであってよい。
第一の本発明によれば、前述のように、フィルム中でポリイミドが不規則な構造を取りやすく、且つ、ポリイミドは熱イミド化の過程で分解されることなく、特定の高分子量が維持されることから、十分な透明性を有しつつ、屈曲耐性の低下を抑制して、位相差をより低減するポリイミドフィルムを製造できる。中でも特定の構造を有するポリイミド前駆体樹脂を用いることにより、第二の本発明の1実施形態のポリイミドフィルムは、透明性と、位相差と、弾性率と、屈曲耐性のバランスが良好になり、十分な透明性を有しつつ、低い位相差と、高い弾性率と、向上した屈曲耐性を有するポリイミドフィルムを達成することができる。
The polyimide film of the second embodiment of the present invention is produced by thermally imidizing using a polyimide precursor resin having a specific structure in the first embodiment of the present invention. May be.
According to the first invention, as described above, the polyimide tends to have an irregular structure in the film, and the polyimide is not decomposed in the process of thermal imidization, and a specific high molecular weight is maintained. Therefore, it is possible to produce a polyimide film having sufficient transparency, suppressing a decrease in bending resistance, and further reducing a phase difference. Above all, by using the polyimide precursor resin having a specific structure, the polyimide film of the second embodiment of the present invention has a good balance of transparency, phase difference, elastic modulus and bending resistance. It is possible to achieve a polyimide film having a low phase difference, a high elastic modulus, and an improved bending resistance while having sufficient transparency.

1.ポリイミド樹脂
第二の本発明の1実施形態のポリイミドフィルムに含まれるポリイミド樹脂は、前記一般式(1’)で表される構成単位を有し、前記一般式(1’)において、Aは、少なくとも前記化学式(a-1)で表される酸二無水物の残基である4価の基を含有し、更に、前記一般式(2)で表される構成単位を有していてもよいポリイミド樹脂である。
1. 1. Polyimide resin The polyimide resin contained in the polyimide film of the second embodiment of the present invention has a structural unit represented by the general formula (1'), and in the general formula (1'), A is. It may contain at least a tetravalent group which is a residue of the acid dianhydride represented by the chemical formula (a-1), and may further have a structural unit represented by the general formula (2). It is a polyimide resin.

前記一般式(1’)で表される構成単位におけるテトラカルボン酸二無水物の残基であるA、及び、ジアミンの残基であるBは、前記本発明の1実施形態のポリイミド前駆体樹脂における前記一般式(1-1)又は前記一般式(1-2)で表される構成単位におけるテトラカルボン酸二無水物の残基であるA、及び、ジアミンの残基であるBと同様であって良い。
更に、前記一般式(2)で表される構成単位も、前記本発明の1実施形態のポリイミド前駆体樹脂における前記一般式(2)で表される構成単位と同様であって良い。
A, which is a residue of tetracarboxylic acid dianhydride in the structural unit represented by the general formula (1'), and B, which is a residue of diamine, are the polyimide precursor resin of one embodiment of the present invention. Similar to A, which is a residue of tetracarboxylic acid dianhydride in the structural unit represented by the general formula (1-1) or the general formula (1-2), and B, which is a residue of diamine. It's okay to have it.
Further, the structural unit represented by the general formula (2) may be the same as the structural unit represented by the general formula (2) in the polyimide precursor resin of one embodiment of the present invention.

前記一般式(1’)において、Aは、少なくとも前記化学式(a-1)で表される酸二無水物の残基である4価の基を含有する。
本発明の1実施形態であるポリイミド樹脂は、前記一般式(1’)で表される構成単位における全てのAに対して50%以上、更に60%以上、より更に70%以上が前記化学式(a-1)で表される酸二無水物の残基である4価の基であることが好ましく、100%であってもよい。
一方、本発明の1実施形態であるポリイミド樹脂は、前記一般式(1’)で表される構成単位における全てのAに対して50%以下、更に40%以下、より更に30%以下が、前記化学式(a-1)で表される酸二無水物とは異なる前記グループA1及び前記グループA2からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基であってよい。
In the general formula (1'), A contains at least a tetravalent group which is a residue of the acid dianhydride represented by the chemical formula (a-1).
The polyimide resin according to one embodiment of the present invention has the chemical formula (1') of 50% or more, 60% or more, and 70% or more with respect to all A in the structural unit represented by the general formula (1'). It is preferably a tetravalent group which is a residue of the acid dianhydride represented by a-1), and may be 100%.
On the other hand, the polyimide resin according to one embodiment of the present invention contains 50% or less, further 40% or less, and further 30% or less with respect to all A in the structural unit represented by the general formula (1'). It may be a residue of at least one tetracarboxylic dianhydride selected from the group consisting of the group A1 and the group A2, which is different from the acid dianhydride represented by the chemical formula (a-1).

本発明の1実施形態であるポリイミド樹脂は、前記一般式(1’)で表される構成単位における全てのBに対して50%以上、更に60%以上、より更に70%以上が前記グループB1からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基であることが好ましい。
一方、本発明の1実施形態であるポリイミド樹脂は、前記一般式(1’)で表される構成単位における全てのBに対して50%以下、更に40%以下、より更に30%以下が前記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基であってよい。
The polyimide resin according to one embodiment of the present invention has 50% or more, more 60% or more, and further 70% or more with respect to all B in the structural unit represented by the general formula (1'). It is preferably a residue of at least one tetracarboxylic dianhydride selected from the group consisting of.
On the other hand, the polyimide resin according to one embodiment of the present invention is 50% or less, further 40% or less, and further 30% or less with respect to all B in the structural unit represented by the general formula (1'). It may be a residue of at least one tetracarboxylic dianhydride selected from the group consisting of group B2.

ポリイミド樹脂に、前記一般式(1’)で表される構成単位とは異なるポリイミド構成単位を含有する場合であっても、本発明に用いられるポリイミド樹脂の全ポリイミド構成単位に対して、前記一般式(1’)で表される構成単位の合計含有割合は80モル%以上であることが好ましく、90モル%以上であることがより好ましく、95モル%以上であることがさらに好ましく、98モル%以上であることがよりさらに好ましい。 Even when the polyimide resin contains a polyimide structural unit different from the structural unit represented by the general formula (1'), the general polyimide structural unit of the polyimide resin used in the present invention is referred to. The total content of the structural units represented by the formula (1') is preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, further preferably 95 mol% or more, and 98 mol. % Or more is even more preferable.

また、本発明に用いられるポリイミド樹脂の全構成単位に対して、前記一般式(2)で表される構成単位の合計含有割合は、60モル%以下であることが好ましく、更に40モル%以下であることがより好ましい。
すなわち、本発明に用いられるポリイミド樹脂において、ジカルボン酸残基の合計の含有割合は、0モル%であってもよいが、全テトラカルボン酸残基と全ジカルボン酸残基の合計に対して、60モル%以下であることが好ましく、更に40モル%以下であることがより好ましい。
Further, the total content ratio of the structural units represented by the general formula (2) is preferably 60 mol% or less, more preferably 40 mol% or less, with respect to all the structural units of the polyimide resin used in the present invention. Is more preferable.
That is, in the polyimide resin used in the present invention, the total content of dicarboxylic acid residues may be 0 mol%, but with respect to the total of all tetracarboxylic acid residues and all dicarboxylic acid residues. It is preferably 60 mol% or less, and more preferably 40 mol% or less.

また、本発明に用いられるポリイミド樹脂が本発明の効果が損なわれない限り含んでいてもよい、前記一般式(1’)において、Aが、前記グループA1及び前記グループA2とは異なる他のテトラカルボン酸二無水物の残基である4価の基を表すか、或いは、Bが前記グループB1及び前記グループB2とは異なる他のジアミンの残基である2価の基を表すような、前記一般式(1’)とは異なる構成単位も、前述のポリイミド前駆体樹脂と同様であって良い。このような前記一般式(1’)とは異なる構成単位を含む場合であっても、前記グループA1及び前記グループA2とは異なる他のテトラカルボン酸二無水物の残基の合計の含有割合は、全テトラカルボン酸残基と全ジカルボン酸残基の合計に対して、20モル%以下であることが好ましく、10モル%以下であることがより好ましく、5モル%以下であることがさらに好ましく、2モル%以下であることがよりさらに好ましい。
また、前記グループB1及び前記グループB2とは異なる他のジアミンの残基の合計の含有割合は、全ジアミン残基の合計に対して、20モル%以下であることが好ましく、更に10モル%以下であることがより好ましく、5モル%以下であることがさらに好ましく、2モル%以下であることがよりさらに好ましい。
Further, the polyimide resin used in the present invention may contain the polyimide resin as long as the effect of the present invention is not impaired. In the general formula (1'), A is another tetra different from the group A1 and the group A2. The said, wherein B represents a tetravalent group that is a residue of the carboxylic acid dianhydride, or B represents a divalent group that is a residue of another diamine different from said group B1 and said group B2. The structural unit different from the general formula (1') may be the same as that of the above-mentioned polyimide precursor resin. Even when such a structural unit different from the general formula (1') is contained, the total content ratio of the residues of other tetracarboxylic acid dianhydrides different from the group A1 and the group A2 is , 20 mol% or less, more preferably 10 mol% or less, still more preferably 5 mol% or less, based on the total of all tetracarboxylic acid residues and all dicarboxylic acid residues. It is more preferably 2 mol% or less.
Further, the total content ratio of the residues of other diamines different from the group B1 and the group B2 is preferably 20 mol% or less, more preferably 10 mol% or less, based on the total of all diamine residues. It is more preferably 5 mol% or less, and even more preferably 2 mol% or less.

本発明に用いられるポリイミド樹脂は、前記一般式(1’)で表される構成単位、及び前記一般式(2)で表される構成単位の合計が、ポリイミドの全構成単位の95%以上であることが好ましく、98%以上であることがより好ましく、100%であることがより更に好ましい。 In the polyimide resin used in the present invention, the total of the structural units represented by the general formula (1') and the structural units represented by the general formula (2) is 95% or more of the total structural units of the polyimide. It is preferably present, more preferably 98% or more, and even more preferably 100%.

本発明に用いられるポリイミド樹脂は、ゲル浸透クロマトグラフィーのポリスチレン換算による重量平均分子量が、好ましくは106,000以上であり、より好ましくは120,000以上、さらに好ましくは150,000以上であり、好ましくは1,000,000以下であり、より好ましくは500,000以下、さらに好ましくは300,000以下である。
前記ポリイミドの重量平均分子量が前記下限値以上であると、屈曲耐性が良好になりやすい点から好ましい。一方、前記上限値以下であると、ワニス粘度を抑えられ、支持体へのコーティングがしやすくなる点から好ましい。
The polyimide resin used in the present invention has a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of gel permeation chromatography preferably 106,000 or more, more preferably 120,000 or more, still more preferably 150,000 or more, and is preferable. Is 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less, still more preferably 300,000 or less.
When the weight average molecular weight of the polyimide is at least the lower limit value, bending resistance tends to be good, which is preferable. On the other hand, when it is at least the above upper limit value, the viscosity of the varnish can be suppressed and the coating on the support can be easily performed, which is preferable.

なお、ポリイミド樹脂の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)によって測定できる。具体的には、ポリイミド樹脂を0.1質量%の濃度のN-メチルピロリドン(NMP)溶液とし、展開溶媒は、含水量500ppm以下の30mmol%LiBr-NMP溶液を用い、東ソー製GPC装置(HLC-8120、使用カラム:SHODEX製GPC LF-804)を用い、サンプル打ち込み量50μL、溶媒流量0.4mL/分、37℃の条件で測定を行う。重量平均分子量は、サンプルと同濃度のポリスチレン標準サンプルを基準に求める。 The weight average molecular weight of the polyimide resin can be measured by gel permeation chromatography (GPC). Specifically, a polyimide resin is used as an N-methylpyrrolidone (NMP) solution having a concentration of 0.1% by mass, and a 30 mmol% LiBr-NMP solution having a water content of 500 ppm or less is used as a developing solvent. -8120, column used: GPC LF-804 manufactured by SHODEX), the sample injection amount is 50 μL, the solvent flow rate is 0.4 mL / min, and the measurement is performed at 37 ° C. The weight average molecular weight is determined based on a polystyrene standard sample having the same concentration as the sample.

本発明に用いられるポリイミド樹脂は、下記の方法によって、原料組成の比率を確認し、各残基の含有割合(モル%)を求めることができる。
まず、水酸化ナトリウムを2.0g、水を25mL、メタノールを25mLを混合した水酸化ナトリウム溶液を準備し、当該水酸化ナトリウム溶液10mLに対して、樹脂200mgを溶解させる。前記溶液を耐圧容器中で250℃で1時間加熱することによって、ポリイミド樹脂の解重合を促進させる。得られた溶液をクロロホルムと水で抽出し、分解物(原料モノマー)を分離する。原料組成の比率はガスクロマトグラフィー(アジレント・テクノロジー社製のHP6890/HP5973)により測定(カラムは「InertCap 5MS/Sil(30m×250μm×0.25μm、ジーエルサイエンス社製」を使用。測定条件は50℃で5min保持、その後10℃/minで320℃まで昇温して3min保持。)する。各原料の組成比率については、ガスクロマトグラフィーの面積比から算出することができる。
ポリイミド樹脂中の各残基の含有割合(モル%)は、樹脂製造時には原料の仕込み比から求めることもできる。また、ポリイミド樹脂の構造は、NMR、各種質量分析、元素分析、XPS/ESCA及びTOF-SIMS等を用いて求めることができる。
In the polyimide resin used in the present invention, the ratio of the raw material composition can be confirmed and the content ratio (mol%) of each residue can be determined by the following method.
First, a sodium hydroxide solution prepared by mixing 2.0 g of sodium hydroxide, 25 mL of water, and 25 mL of methanol is prepared, and 200 mg of the resin is dissolved in 10 mL of the sodium hydroxide solution. Depolymerization of the polyimide resin is promoted by heating the solution in a pressure-resistant container at 250 ° C. for 1 hour. The obtained solution is extracted with chloroform and water, and the decomposition product (raw material monomer) is separated. The ratio of the raw material composition is measured by gas chromatography (HP6890 / HP5793 manufactured by Agilent Technologies) (the column uses "InertCap 5MS / Sil (30m x 250μm x 0.25μm, manufactured by GL Sciences)". The measurement condition is 50. Hold at ° C for 5 min, then raise to 320 ° C at 10 ° C / min and hold for 3 min.) The composition ratio of each raw material can be calculated from the area ratio of gas chromatography.
The content ratio (mol%) of each residue in the polyimide resin can also be obtained from the charging ratio of the raw materials at the time of resin production. Further, the structure of the polyimide resin can be obtained by using NMR, various mass spectrometry, elemental analysis, XPS / ESCA, TOF-SIMS and the like.

2.全光線透過率
本発明の1実施形態のポリイミドフィルムは、良好な透明性の点から、JIS K7361-1に準拠して測定する全光線透過率が、膜厚40μmの換算値で85.0%以上である。本発明の1実施形態のポリイミドフィルムのJIS K7361-1に準拠して測定する全光線透過率は、膜厚40μmの換算値で87.0%以上であることがより好ましく、89.0%以上であることが更に好ましく、89.2%以上であることがより更に好ましい。
2. 2. Total light transmittance The polyimide film of one embodiment of the present invention has a total light transmittance of 85.0% in terms of a film thickness of 40 μm, as measured in accordance with JIS K7631-1 from the viewpoint of good transparency. That is all. The total light transmittance measured according to JIS K7361-1 of the polyimide film of one embodiment of the present invention is more preferably 87.0% or more, more preferably 89.0% or more in terms of a film thickness of 40 μm. It is more preferably 89.2% or more, and even more preferably 89.2% or more.

JIS K7361-1に準拠して測定する全光線透過率は、例えば、ヘイズメーター(例えば村上色彩技術研究所製 HM150)により測定することができる。なお、ある厚みの全光線透過率の測定値から、異なる厚みの全光線透過率は、ランベルトベールの法則により換算値を求めることができ、それを利用することができる。
具体的には、ランベルトベールの法則によれば、透過率Tは、
Log10(1/T)=kcb
(k=物質固有の定数、c=濃度、b=光路長)で表される。
フィルムの透過率の場合、膜厚が変化しても密度が一定であると仮定するとcも定数となるので、上記式は、定数fを用いて
Log10(1/T)=fb
(f=kc)と表すことができる。ここで、ある膜厚の時の透過率がわかれば、各物質の固有の定数fを求めることができる。従って、T=1/10f・b の式を用いて、fに固有の定数、bに目標の膜厚を代入すれば、所望の膜厚の時の透過率を求めることができる。
The total light transmittance measured according to JIS K7361-1 can be measured by, for example, a haze meter (for example, HM150 manufactured by Murakami Color Technology Laboratory). From the measured value of the total light transmittance of a certain thickness, the converted value of the total light transmittance of different thickness can be obtained by Lambertbert's law, and it can be used.
Specifically, according to Lambert-Beer's law, the transmittance T is
Log 10 (1 / T) = kcb
It is represented by (k = substance-specific constant, c = concentration, b = optical path length).
In the case of the transmittance of the film, c is also a constant assuming that the density is constant even if the film thickness changes. Therefore, in the above equation, Log 10 (1 / T) = fb using the constant f.
It can be expressed as (f = kc). Here, if the transmittance at a certain film thickness is known, the unique constant f of each substance can be obtained. Therefore, by substituting a constant unique to f and a target film thickness into b using the equation of T = 1/10 f · b , the transmittance at a desired film thickness can be obtained.

3.黄色度
本発明の1実施形態のポリイミドフィルムは、黄色味の着色が抑制され、光透過性が向上し、ガラス代替材料として好適に用いることができる点から、前記JIS K7373-2006に準拠して算出される黄色度(YI値)を当該ポリイミドフィルムの膜厚(μm)で除した値(YI値/膜厚(μm))が0.15以下であり、0.13以下であることがより好ましく、0.10以下であることがより更に好ましい。
なお、本発明において、前記黄色度(YI値)を当該ポリイミドフィルムの膜厚(μm)で除した値(YI値/膜厚(μm))は、JIS Z8401:1999の規則Bに従い、小数点以下第2位に丸めた値とする。
3. 3. Yellowness The polyimide film of one embodiment of the present invention is based on JIS K7373-2006 because it suppresses yellowish coloring, improves light transmission, and can be suitably used as a glass substitute material. The value (YI value / film thickness (μm)) obtained by dividing the calculated yellowness (YI value) by the film thickness (μm) of the polyimide film is 0.15 or less, and 0.13 or less. It is preferably 0.10 or less, and even more preferably 0.10 or less.
In the present invention, the value (YI value / film thickness (μm)) obtained by dividing the yellowness (YI value) by the film thickness (μm) of the polyimide film is below the decimal point in accordance with Rule B of JIS Z8401: 1999. The value is rounded to the second decimal place.

また、本発明の1実施形態のポリイミドフィルムは、前記JIS K7373-2006に準拠して算出される黄色度(YI値)が、JIS K7373-2006に準拠して算出される黄色度(YI値)が、膜厚40μmの換算値で、10.0以下であることが好ましい。このように黄色度が低いと、黄色味の着色が抑制され、光透過性が向上する点から好ましい。前記JIS K7373-2006に準拠して算出される黄色度(YI値)は、膜厚40μmの換算値で、5.0以下であることがより好ましく、4.0以下であることが更に好ましい。
なお、黄色度(YI値)は、前記JIS K7373-2006に準拠して、紫外可視近赤外分光光度計(例えば、日本分光(株) V-7100)を用い、分光測色方法により、補助イルミナントC、2度視野を用いて、250nm以上800nm以下の範囲を1nm間隔で測定される透過率をもとに、XYZ表色系における三刺激値X,Y,Zを求め、そのX,Y,Zの値から以下の式より算出することができる。
YI=100(1.2769X-1.0592Z)/Y
なお、ある厚みの黄色度の測定値から、異なる厚みの黄色度は、ある特定の膜厚のサンプルの250nm以上800nm以下の間の1nm間隔で測定された各波長における各透過率について、前記全光線透過率と同様にランベルトベールの法則により異なる厚みの各波長における各透過率の換算値を求め、それを元に算出し用いることができる。
Further, in the polyimide film of one embodiment of the present invention, the yellowness (YI value) calculated in accordance with JIS K7373-2006 is calculated in accordance with JIS K7373-2006. However, it is preferably 10.0 or less in terms of a film thickness of 40 μm. Such a low degree of yellowness is preferable from the viewpoint that yellowish coloring is suppressed and light transmission is improved. The yellowness (YI value) calculated in accordance with JIS K7373-2006 is more preferably 5.0 or less, and further preferably 4.0 or less, in terms of a film thickness of 40 μm.
The yellowness (YI value) is assisted by a spectrophotometric method using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer (for example, JASCO Corporation V-7100) in accordance with the JIS K7373-2006. The tristimulus values X, Y, Z in the XYZ colorimetric system are obtained based on the transmittance measured at 1 nm intervals in the range of 250 nm or more and 800 nm or less using the Illuminant C and the two-degree field, and the X, Y are obtained. , Z can be calculated from the following formula.
YI = 100 (1.2769X-1.592Z) / Y
From the measured value of the yellowness of a certain thickness, the yellowness of a different thickness is the above-mentioned total for each transmittance at each wavelength measured at 1 nm intervals between 250 nm and 800 nm or less of a sample of a specific film thickness. Similar to the light transmittance, the converted value of each transmittance at each wavelength having a different thickness can be obtained by Lambertvale's law, and can be calculated and used based on the converted value.

4.複屈折率
本発明の1実施形態のポリイミドフィルムは、低位相差を実現できたものであり、波長590nmにおける厚み方向の複屈折率が、0.025未満である。
このような複屈折率を有することから、本態様のポリイミドフィルムは光学的歪みが低減したものである。前記波長590nmにおける複屈折率は、より小さい方が好ましく、0.023以下であることが好ましく、0.022以下であることがより好ましく、0.021以下であることが更に好ましい。
なお、本発明の1実施形態のポリイミドフィルムの前記波長590nmにおける厚み方向の複屈折率は、以下のように求めることができる。
まず、位相差測定装置(例えば、王子計測機器株式会社製、製品名「KOBRA-WR」)を用いて、23℃、波長590nmの光で、ポリイミドフィルムの厚み方向位相差値(Rth)を測定する。厚み方向位相差値(Rth)は、0度入射の位相差値と、斜め40度入射の位相差値を測定し、これらの位相差値から厚み方向位相差値Rthを算出する。前記斜め40度入射の位相差値は、位相差フィルムの法線から40度傾けた方向から、波長590nmの光を位相差フィルムに入射させて測定する。
ポリイミドフィルムの厚み方向の複屈折率は、式:Rth/dに代入して求めることができる。前記dは、ポリイミドフィルムの膜厚(nm)を表す。
なお、厚み方向位相差値は、フィルムの面内方向における遅相軸方向(フィルム面内方向における屈折率が最大となる方向)の屈折率をnx、フィルム面内における進相軸方向(フィルム面内方向における屈折率が最小となる方向)の屈折率をny、及びフィルムの厚み方向の屈折率をnzとしたときに、Rth[nm]={(nx+ny)/2-nz}×dに従って算出されるものである。
また、波長590nmにおける面内位相差値(Re)は、200nm以下であることが好ましく、150nm以下であることがより好ましく、50nm以下であることが更に好ましく、30nm以下であることがより更に好ましい。なお、Re[nm]=(nx-ny)×dに従って算出されるものである。
4. Birefringence The polyimide film of one embodiment of the present invention can realize a low phase difference, and the birefringence in the thickness direction at a wavelength of 590 nm is less than 0.025.
Since it has such a birefringence, the polyimide film of this embodiment has reduced optical strain. The birefringence at the wavelength of 590 nm is preferably smaller, preferably 0.023 or less, more preferably 0.022 or less, and even more preferably 0.021 or less.
The birefringence in the thickness direction of the polyimide film of one embodiment of the present invention at a wavelength of 590 nm can be determined as follows.
First, the thickness direction retardation value (Rth) of the polyimide film is measured with light at 23 ° C. and a wavelength of 590 nm using a phase difference measuring device (for example, manufactured by Oji Measuring Instruments Co., Ltd., product name “KOBRA-WR”). do. For the thickness direction retardation value (Rth), the phase difference value incident at 0 degrees and the phase difference value incident at an angle of 40 degrees are measured, and the thickness direction retardation value Rth is calculated from these phase difference values. The retardation value of the oblique 40-degree incident is measured by injecting light having a wavelength of 590 nm onto the retardation film from a direction inclined by 40 degrees from the normal of the retardation film.
The birefringence in the thickness direction of the polyimide film can be obtained by substituting it into the formula: Rth / d. The d represents the film thickness (nm) of the polyimide film.
The thickness direction retardation value is nx for the refractive index in the slow-phase axial direction (the direction in which the refractive index is maximized in the in-plane direction of the film) in the in-plane direction of the film, and the phase-advancing axial direction (the film surface) in the film surface. Calculated according to Rth [nm] = {(nx + ny) /2-nz} × d, where ny is the refractive index (in the direction in which the refractive index is minimized in the inward direction) and nz is the refractive index in the thickness direction of the film. Is to be done.
The in-plane retardation value (Re) at a wavelength of 590 nm is preferably 200 nm or less, more preferably 150 nm or less, further preferably 50 nm or less, still more preferably 30 nm or less. .. It is calculated according to Re [nm] = (nx-ny) × d.

5.弾性率
本発明の1実施形態のポリイミドフィルムは、10mm×150mmの試験片を、JIS K7127に準拠し、引張り速度を50mm/分、チャック間距離を100mmとして、25℃で測定する引張試験における引張弾性率が4.0GPa以上である。このように、25℃(室温)での引張弾性率が高いと、保護フィルムとして十分な表面硬度を室温でも維持することができ、表面材乃至基材として用いることができる。前記引張弾性率は、4.3GPa以上であることがより好ましい。一方で、前記引張弾性率は、屈曲耐性を向上させる点から、15.0GPa以下であっても良い。
前記引張弾性率は、引張り試験機(例えば島津製作所製:オートグラフAG-X 1N、ロードセル:SBL-1KN)を用い、幅10mm×長さ150mmの試験片をポリイミドフィルムから切り出して、25℃で、引張り速度50mm/分、チャック間距離は100mmとして測定することができる。前記引張弾性率を求める際のポリイミドフィルムは厚みが40μm±5μmであることが好ましい。
5. Elastic modulus The polyimide film of one embodiment of the present invention is a tensile test in a tensile test in which a 10 mm × 150 mm test piece is measured at 25 ° C. in accordance with JIS K7127 with a tensile speed of 50 mm / min and a chuck distance of 100 mm. The elastic modulus is 4.0 GPa or more. As described above, when the tensile elastic modulus at 25 ° C. (room temperature) is high, sufficient surface hardness as a protective film can be maintained even at room temperature, and it can be used as a surface material or a base material. The tensile elastic modulus is more preferably 4.3 GPa or more. On the other hand, the tensile elastic modulus may be 15.0 GPa or less from the viewpoint of improving bending resistance.
The tensile elastic modulus was determined by cutting a test piece having a width of 10 mm and a length of 150 mm from a polyimide film using a tensile tester (for example, manufactured by Shimadzu Corporation: Autograph AG-X 1N, load cell: SBL-1KN) and at 25 ° C. The tensile speed can be measured as 50 mm / min, and the distance between chucks can be measured as 100 mm. The thickness of the polyimide film used to determine the tensile elastic modulus is preferably 40 μm ± 5 μm.

6.動的屈曲試験
本発明の1実施形態のポリイミドフィルムは、屈曲耐性の点から、下記動的屈曲試験において、屈曲回数が10.0万回以上であり、11.0万回以上であることが好ましく、12.5万回以上であることがより好ましい。
(動的屈曲試験)
動的屈曲試験の方法について、図1を参照して説明する。
可動部11aと非可動部11bとを備える可動式の金属板11(100mm×30mm)を2枚用意し、2枚の金属板11の非可動部11b間の距離が60mmとなるように、平行に配置する。金属板11の可動部11aを、図1の(A)に示すように、非可動部11bに対して垂直になるように折り曲げ、可動部11aの上に、20mm×100mmに切り出したポリイミドフィルムの試験片1を置き、試験片1の中央が金属板間の距離の中央に位置するように、試験片1の両端をカプトン(登録商標)テープで可動部11aに固定する。次いで、可動部11aと非可動部11bとを直線状に配置して、図1の(B)に示すような状態とし、すなわち、長辺の半分の位置で湾曲させた試験片1を両側から金属板11で挟み、両側の金属板11間の距離が60mmとなるように両側の金属板11を平行に配置した状態とする。このような状態と、図1の(C)に示すような、両側の金属板11間の距離が2.5mmとなるように両側の金属板を平行に配置した状態に、25℃、60%相対湿度(RH)の環境下で、1分間に90回の屈曲回数で繰り返し変化させ、屈曲を繰り返す。試験治具としては、恒温恒湿器内耐久試験システム(ユアサシステム機器製、面状体無負荷U字伸縮試験治具 DMX-FS)を用いることができる。
破断するまでの屈曲回数(破断回数)を測定する。
6. Dynamic bending test The polyimide film of one embodiment of the present invention has a bending count of 100,000 times or more and 11,000,000 times or more in the following dynamic bending test from the viewpoint of bending resistance. It is preferable, and more preferably 125,000 times or more.
(Dynamic bending test)
The method of the dynamic bending test will be described with reference to FIG.
Two movable metal plates 11 (100 mm × 30 mm) having a movable portion 11a and a non-movable portion 11b are prepared, and the two metal plates 11 are parallel so that the distance between the non-movable portions 11b is 60 mm. Place in. As shown in FIG. 1A, the movable portion 11a of the metal plate 11 is bent so as to be perpendicular to the non-movable portion 11b, and the polyimide film cut out on the movable portion 11a to a size of 20 mm × 100 mm is formed. The test piece 1 is placed, and both ends of the test piece 1 are fixed to the movable portion 11a with Kapton (registered trademark) tape so that the center of the test piece 1 is located at the center of the distance between the metal plates. Next, the movable portion 11a and the non-movable portion 11b are arranged in a straight line so as to be in the state shown in FIG. 1 (B), that is, the test piece 1 curved at the position of half of the long side is placed from both sides. It is sandwiched between the metal plates 11 and the metal plates 11 on both sides are arranged in parallel so that the distance between the metal plates 11 on both sides is 60 mm. In such a state and in a state where the metal plates on both sides are arranged in parallel so that the distance between the metal plates 11 on both sides is 2.5 mm as shown in FIG. 1 (C), the temperature is 25 ° C. and 60%. In a relative humidity (RH) environment, the bending is repeated 90 times per minute. As the test jig, a constant temperature and humidity constant humidity test system (manufactured by Yuasa System Equipment Co., Ltd., surface-shaped no-load U-shaped expansion and contraction test jig DMX-FS) can be used.
Measure the number of bends (number of breaks) before breaking.

7.鉛筆硬度
本発明の1実施形態のポリイミドフィルムは、JIS 5600-5-4(1999)で規定される鉛筆硬度試験において、表面の鉛筆硬度がB以上であることが好ましく、HB以上であることがより好ましく、F以上であることがより更に好ましい。
前記ポリイミドフィルムの鉛筆硬度は、測定サンプルを温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間調湿した後、JIS-S-6006が規定する試験用鉛筆を用いて、JIS K5600-5-4(1999)に規定する鉛筆硬度試験(0.98N荷重)をフィルム表面に行い、傷がつかない最も高い鉛筆硬度を評価することにより行うことができる。試験機としては、例えば東洋精機(株)製 鉛筆引っかき塗膜硬さ試験機を用いることができる。
7. Pencil hardness The polyimide film of one embodiment of the present invention preferably has a surface pencil hardness of B or higher, preferably HB or higher, in the pencil hardness test specified in JIS 5600-5-4 (1999). More preferably, it is more preferably F or more.
The pencil hardness of the polyimide film is determined by adjusting the humidity of the measurement sample for 2 hours under the conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, and then using a test pencil specified by JIS-S-6006, JIS K5600-5-4. It can be performed by performing a pencil hardness test (0.98 N load) specified in (1999) on the film surface and evaluating the highest pencil hardness that does not damage the film. As the testing machine, for example, a pencil scratch coating film hardness testing machine manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. can be used.

8.フィルムの厚さ
本発明の1実施形態のポリイミドフィルムの厚さは、用途により適宜選択されれば良いが、1μm以上であればよく、5μm以上であることが好ましく、10μm以上であることが好ましく、20μm以上であってよい。一方、300μm以下であることが好ましく、更に200μm以下であることが好ましく、より更に150μm以下であることが好ましく、より更に100μm以下であることが好ましい。
厚みが薄いと強度が低下し、厚みが厚いと屈曲時の内径と外径の差が大きくなり、フィルムへの負荷が大きくなることから屈曲耐性が低下する恐れがある。
8. Film Thickness The thickness of the polyimide film according to the embodiment of the present invention may be appropriately selected depending on the intended use, but may be 1 μm or more, preferably 5 μm or more, and preferably 10 μm or more. , 20 μm or more. On the other hand, it is preferably 300 μm or less, more preferably 200 μm or less, further preferably 150 μm or less, and further preferably 100 μm or less.
If the thickness is thin, the strength is lowered, and if the thickness is thick, the difference between the inner diameter and the outer diameter at the time of bending becomes large, and the load on the film becomes large, so that the bending resistance may decrease.

9.表面処理
また、本発明の1実施形態のポリイミドフィルムには、例えば、けん化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線処理、火炎処理等の表面処理が施されていてもよい。
9. Surface treatment Further, the polyimide film of one embodiment of the present invention may be subjected to surface treatment such as saponification treatment, glow discharge treatment, corona discharge treatment, ultraviolet treatment, and flame treatment.

10.ポリイミドフィルムの用途
本発明のポリイミドフィルムの用途は特に限定されるものではないが、十分な透明性を有しつつ、低い位相差と、高い弾性率と、向上した屈曲耐性を有することから、従来薄い板ガラス等ガラス製品が用いられていた基材や表面材等の部材として用いることができる。
本発明のポリイミドフィルムは、具体的には例えば、薄くて曲げられるフレキシブルタイプの有機ELディスプレイや、スマートフォンや腕時計型端末などの携帯端末、自動車内部の表示装置、腕時計などに使用するフレキシブルパネル等、フレキシブルディスプレイ用の基材や表面材に好適に用いることができる。また、本発明のポリイミドフィルムは、液晶表示装置、有機EL表示装置等の画像表示装置用部材や、タッチパネル用部材、フレキシブルプリント基板、表面保護膜や基板材料等の太陽電池パネル用部材、光導波路用部材、その他半導体関連部材等に適用することもできる。
10. Uses of Polyimide Film The use of the polyimide film of the present invention is not particularly limited, but it has a low phase difference, a high elastic modulus, and an improved bending resistance while having sufficient transparency. It can be used as a member such as a base material or a surface material for which a glass product such as a thin plate glass has been used.
Specifically, the polyimide film of the present invention includes, for example, a thin and bendable flexible type organic EL display, a mobile terminal such as a smartphone or a wristwatch type terminal, a display device inside an automobile, a flexible panel used for a wristwatch, or the like. It can be suitably used as a base material or a surface material for a flexible display. Further, the polyimide film of the present invention is a member for an image display device such as a liquid crystal display device or an organic EL display device, a member for a touch panel, a flexible printed substrate, a member for a solar cell panel such as a surface protective film or a substrate material, and an optical waveguide. It can also be applied to members and other semiconductor-related members.

V.積層体
第二の本発明の1実施形態の積層体は、前記第二の本発明の1実施形態のポリイミドフィルムと、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有するハードコート層とを有する積層体である。
ここで、「ハードコート層」とは、表面硬度を向上させるための層であり、具体的には、JIS 5600-5-4(1999)で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものをいう。
第二の本発明の1実施形態の積層体は、前記第二の本発明の1実施形態のポリイミドフィルムを用いたものであるため、十分な透明性を有しつつ、低い位相差と、高い弾性率と、向上した屈曲耐性を有するものであり、更にハードコート層を有するため、表面硬度がより向上したフィルムである。
V. Laminate The laminate of the second embodiment of the present invention contains the polyimide film of the second embodiment of the present invention and at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound. It is a laminate having a hard coat layer.
Here, the "hard coat layer" is a layer for improving the surface hardness, and specifically, the hardness of "H" or higher in the pencil hardness test specified in JIS 5600-5-4 (1999). Indicates something that indicates.
Since the laminate of the second embodiment of the present invention uses the polyimide film of the second embodiment of the present invention, it has sufficient transparency, low phase difference, and high. It is a film having an elastic modulus and improved bending resistance, and further has a hard coat layer, so that the surface hardness is further improved.

1.ポリイミドフィルム
第二の本発明の1実施形態の積層体に用いられるポリイミドフィルムとしては、前述した第二の本発明の1実施形態のポリイミドフィルムと同様のものを用いることができるので、ここでの説明を省略する。
1. 1. Polyimide film As the polyimide film used for the laminate of the second embodiment of the present invention, the same polyimide film as the above-mentioned second polyimide film of the first embodiment of the present invention can be used. The explanation is omitted.

2.ハードコート層
本発明の積層体に用いられるハードコート層は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有する。本発明の効果が損なわれない限り、必要に応じて、任意添加成分を含有していても良い。
2. 2. Hard Coat Layer The hard coat layer used in the laminate of the present invention contains at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound. If necessary, an optional additive component may be contained as long as the effect of the present invention is not impaired.

(ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物)
ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種を、必要に応じて重合開始剤を用い、公知の方法で重合反応させることにより得ることができる。
(At least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound)
For the polymer of at least one of the radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound, at least one of the radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound is polymerized by a known method using a polymerization initiator, if necessary. Can be obtained by

ラジカル重合性化合物とは、ラジカル重合性基を有する化合物である。前記ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、ラジカル重合反応を生じ得る官能基であればよく、特に限定されないが、例えば、炭素-炭素不飽和二重結合を含む基などが挙げられ、具体的には、ビニル基、(メタ)アクリロイル基などが挙げられる。なお、前記ラジカル重合性化合物が2個以上のラジカル重合性基を有する場合、これらのラジカル重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。 The radically polymerizable compound is a compound having a radically polymerizable group. The radically polymerizable group contained in the radically polymerizable compound may be any functional group capable of causing a radical polymerization reaction, and is not particularly limited, and examples thereof include a group containing a carbon-carbon unsaturated double bond. Specific examples thereof include a vinyl group and a (meth) acryloyl group. When the radically polymerizable compound has two or more radically polymerizable groups, these radically polymerizable groups may be the same or different from each other.

前記ラジカル重合性化合物が1分子中に有するラジカル重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、2つ以上であることが好ましく、更に3つ以上であることが好ましい。
前記ラジカル重合性化合物としては、反応性の高さの点から、中でも(メタ)アクリロイル基を有する化合物が好ましく、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、ポリフルオロアルキル(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート等と称される分子内に数個の(メタ)アクリロイル基を有する分子量が数百から数千の多官能(メタ)アクリレートモノマー及びオリゴマーを好ましく使用でき、またアクリレートポリマーの側鎖に(メタ)アクリロイル基を2個以上有する多官能(メタ)アクリレートポリマーも好ましく使用できる。中でも、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレートモノマーを好ましく使用できる。前記ハードコート層が、前記多官能(メタ)アクリレートモノマーの重合物を含むことにより、ハードコート層の硬度を向上し、さらに、密着性を向上することができる。また、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレートオリゴマー又はポリマーも好ましく使用できる。前記ハードコート層が、前記多官能(メタ)アクリレートオリゴマー又はポリマーの重合物を含むことにより、ハードコート層の硬度及び屈曲耐性を向上し、さらに、密着性を向上することができる。
なお、本明細書において、(メタ)アクリロイルとは、アクリロイル及びメタクリロイルの各々を表し、(メタ)アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートの各々を表す。
The number of radically polymerizable groups contained in one molecule of the radically polymerizable compound is preferably two or more, and more preferably three or more, from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer.
As the radically polymerizable compound, a compound having a (meth) acryloyl group is preferable from the viewpoint of high reactivity, and for example, urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and melamine. Polyfunctional (meth) acrylates having several (meth) acryloyl groups in molecules called (meth) acrylates, polyfluoroalkyl (meth) acrylates, silicone (meth) acrylates, etc. and having a molecular weight of hundreds to thousands. Monomers and oligomers can be preferably used, and polyfunctional (meth) acrylate polymers having two or more (meth) acryloyl groups in the side chains of the acrylate polymer can also be preferably used. Among them, a polyfunctional (meth) acrylate monomer having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule can be preferably used. By including the polymer of the polyfunctional (meth) acrylate monomer in the hard coat layer, the hardness of the hard coat layer can be improved, and the adhesion can be further improved. Further, a polyfunctional (meth) acrylate oligomer or polymer having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule can also be preferably used. When the hard coat layer contains a polymer of the polyfunctional (meth) acrylate oligomer or polymer, the hardness and bending resistance of the hard coat layer can be improved, and the adhesion can be further improved.
In addition, in this specification, (meth) acryloyl represents each of acryloyl and methacryloyl, and (meth) acrylate represents each of acrylate and methacrylate.

前記多官能(メタ)アクリレートモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、ポリエステルトリ(メタ)アクリレート、ポリエステルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールジ(メタ)アクリレート、ジグリセリンテトラ(メタ)アクリレート、アダマンチルジ(メタ)アクリレート、イソボロニルジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタンジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、及びこれらをPO、EO、カプロラクトン等で変性したもの等が挙げられる。中でも、反応性が高く、ハードコート層の硬度を向上する点、及び密着性の点から、1分子中に3個以上6個以下の(メタ)アクリロイル基を有するものが好ましく、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETTA)、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(DPPA)、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ(メタ)アクリレート等を好ましく用いることができ、特に、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、及びジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートから選ばれる少なくとも1種が好ましい。 Examples of the polyfunctional (meth) acrylate monomer include trimethyl propantri (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, and pentaerythritol tri. (Meta) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethyl propantri (meth) Acrylate, ditrimethylol propanetetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, tripentaerythritol octa (meth) acrylate, tetrapentaerythritol deca (meth) acrylate, isocyanuric acid tri (meth) acrylate, isocyanuric acid di ( Meta) acrylate, polyester tri (meth) acrylate, polyester di (meth) acrylate, bisphenol di (meth) acrylate, diglycerin tetra (meth) acrylate, adamantyldi (meth) acrylate, isoboroldi (meth) acrylate, dicyclopentanedi Examples thereof include (meth) acrylate, tricyclodecandi (meth) acrylate, ditrimethylolpropanetetra (meth) acrylate, and those modified with PO, EO, caprolactone and the like. Among them, those having 3 or more and 6 or less (meth) acryloyl groups in one molecule are preferable from the viewpoint of high reactivity, improvement of the hardness of the hard coat layer, and adhesion, for example, pentaerythritol. Triacrylate (PETA), Dipentaerythritol Hexaacrylate (DPHA), Pentaerythritol Tetraacrylate (PETTA), Dipentaerythritol Pentaacrylate (DPPA), Trimethylol Propantri (meth) Acrylate, Trypentaerythritol Octa (Meta) Acrylate, Tetrapentaerythritol deca (meth) acrylate and the like can be preferably used, and in particular, at least one selected from pentaerythritol tri (meth) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) acrylate is preferable.

本発明においては、前記ラジカル重合性化合物として、硬度やハードコート層用組成物の粘度調整、密着性の向上等のために、単官能(メタ)アクリレートモノマーを含んでいてもよい。前記単官能(メタ)アクリレートモノマーとしては、例えば、ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)、グリシジルメタクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、2-アクリロイルオキシエチルサクシネート、アクリロイルモルホリン、N-アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、及び、アダマンチルアクリレート等が挙げられる。 In the present invention, the radically polymerizable compound may contain a monofunctional (meth) acrylate monomer in order to adjust the hardness, the viscosity of the composition for a hard coat layer, improve the adhesion, and the like. Examples of the monofunctional (meth) acrylate monomer include hydroxyethyl acrylate (HEA), glycidyl methacrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, 2-acryloyloxyethyl succinate, acryloyl morpholine, and N. -Acryloyloxyethyl hexahydrophthalimide, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofuryl acrylate, isobornyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, adamantyl acrylate and the like can be mentioned.

カチオン重合性化合物とは、カチオン重合性基を有する化合物である。前記カチオン重合性化合物が有するカチオン重合性基としては、カチオン重合反応を生じ得る官能基であればよく、特に限定されないが、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基などが挙げられる。なお、前記カチオン重合性化合物が2個以上のカチオン重合性基を有する場合、これらのカチオン重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。 The cationically polymerizable compound is a compound having a cationically polymerizable group. The cationically polymerizable group contained in the cationically polymerizable compound may be any functional group capable of causing a cationically polymerizable reaction, and is not particularly limited, and examples thereof include an epoxy group, an oxetanyl group, and a vinyl ether group. When the cationically polymerizable compound has two or more cationically polymerizable groups, the cationically polymerizable groups may be the same or different from each other.

前記カチオン重合性化合物が1分子中に有するカチオン重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、2つ以上であることが好ましく、更に3つ以上であることが好ましい。
また、前記カチオン重合性化合物としては、中でも、カチオン重合性基としてエポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも1種を有する化合物が好ましく、エポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも1種を1分子中に2個以上有する化合物がより好ましい。エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル基は、重合反応に伴う収縮が小さいという点から好ましい。また、環状エーテル基のうちエポキシ基を有する化合物は多様な構造の化合物が入手し易く、得られたハードコート層の耐久性に悪影響を与えず、ラジカル重合性化合物との相溶性もコントロールし易いという利点がある。また、環状エーテル基のうちオキセタニル基は、エポキシ基と比較して重合度が高い、低毒性であり、得られたハードコート層を、エポキシ基を有する化合物と組み合わせた際に塗膜中でのカチオン重合性化合物から得られるネットワーク形成速度を早め、ラジカル重合性化合物と混在する領域でも未反応のモノマーを膜中に残さずに独立したネットワークを形成する等の利点がある。
The number of cationically polymerizable groups contained in one molecule of the cationically polymerizable compound is preferably two or more, and more preferably three or more, from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer.
Further, as the cationically polymerizable compound, a compound having at least one of an epoxy group and an oxetanyl group as a cationically polymerizable group is preferable, and at least one of an epoxy group and an oxetanyl group is contained in one molecule. Compounds are more preferred. A cyclic ether group such as an epoxy group or an oxetanyl group is preferable because the shrinkage associated with the polymerization reaction is small. Further, among the cyclic ether groups, compounds having an epoxy group are easily available, compounds having various structures are easily available, the durability of the obtained hard coat layer is not adversely affected, and compatibility with radically polymerizable compounds is easily controlled. There is an advantage. Further, among the cyclic ether groups, the oxetanyl group has a higher degree of polymerization than the epoxy group and has low toxicity, and when the obtained hard coat layer is combined with a compound having an epoxy group, it is contained in the coating film. There are advantages such as increasing the network formation rate obtained from the cationically polymerizable compound and forming an independent network without leaving an unreacted monomer in the film even in a region mixed with the radically polymerizable compound.

エポキシ基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又は、シクロヘキセン環、シクロペンテン環含有化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化する事によって得られる脂環族エポキシ樹脂;脂肪族多価アルコール、又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル(メタ)アクリレートのホモポリマー、コポリマーなどの脂肪族エポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールFや水添ビスフェノールA等のビスフェノール類、又はそれらのアルキレンオキサイド付加体、カプロラクトン付加体等の誘導体と、エピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル、及びノボラックエポキシ樹脂等でありビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of the cationically polymerizable compound having an epoxy group include polyglycidyl ether of a polyhydric alcohol having an alicyclic ring, or a cyclohexene ring or cyclopentene ring-containing compound with an appropriate oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. Alicyclic epoxy resin obtained by epoxidation; polyglycidyl ether of aliphatic polyhydric alcohol or its alkylene oxide adduct, polyglycidyl ester of aliphatic long chain polybasic acid, homopolymer of glycidyl (meth) acrylate, An aliphatic epoxy resin such as a copolymer; a glycidyl ether produced by reacting bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F and hydrogenated bisphenol A, or derivatives such as alkylene oxide adducts and caprolactone adducts thereof with epichlorohydrin. And novolak epoxy resin and the like, and examples thereof include glycidyl ether type epoxy resin derived from bisphenols.

上記脂環族エポキシ樹脂としては、例えば、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス-3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアディペート等が挙げられる。 Examples of the alicyclic epoxy resin include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, bis-3,4-epoxycyclohexylmethyl adipate and the like.

また、上記グリシジルエーテル型エポキシ樹脂としては、例えば、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトルポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、レソルチノールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ヒドロジビスフェノールAジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、2-エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、フェノールグリシジルエーテル、ブチルフェニルグリシジルエーテル、ジグリシジルフタレート、ヒドロキノンジグリシジルエーテル、ジグリシジルテレフタレート、グリシジルフタルイミド、ジブロモフェニルグリシジルエーテル、ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル等が挙げられる。
また、その他の市販品のエポキシ樹脂を用いても良い。
Examples of the glycidyl ether type epoxy resin include sorbitol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, pentaeryth little polyglycidyl ether, diglycerol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, and reso. Lutinol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6 hexanediol diglycidyl ether, hydrodibisphenol A diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol glycidyl ether, polypropylene glycol glycidyl ether , Allyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, phenol glycidyl ether, butyl phenyl glycidyl ether, diglycidyl phthalate, hydroquinone diglycidyl ether, diglycidyl terephthalate, glycidyl phthalimide, dibromophenyl glycidyl ether, dibromoneopentyl glycol di Examples include glycidyl ether and the like.
Further, other commercially available epoxy resins may be used.

オキセタニル基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、1,4-ビス-3-エチルオキセタン-3-イルメトキシメチルベンゼン、ビス-1-エチル-3-オキセタニルメチルエーテル、3-エチル-3-2-エチルへキシロキシメチルオキセタン、3-エチル-3-フェノキシメチルオキセタン等が挙げられる。 Examples of the cationically polymerizable compound having an oxetanyl group include 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 1,4-bis-3-ethyloxetane-3-ylmethoxymethylbenzene, and bis-1-ethyl-3-oxetanyl. Examples thereof include methyl ether, 3-ethyl-3-2-ethylhexyloxymethyloxetane, 3-ethyl-3-phenoxymethyloxetane and the like.

(重合開始剤)
本発明に用いられるハードコート層が含有する前記ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物は、例えば、前記ラジカル重合性化合物及び前記カチオン重合性化合物の少なくとも1種に、必要に応じて重合開始剤を添加して、公知の方法で重合反応させることにより得ることができる。
(Polymer initiator)
The polymer of at least one of the radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound contained in the hard coat layer used in the present invention is required for, for example, at least one of the radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound. It can be obtained by adding a polymerization initiator and carrying out a polymerization reaction by a known method.

前記重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等を適宜選択して用いることができる。これらの重合開始剤は、光照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。 As the polymerization initiator, a radical polymerization initiator, a cationic polymerization initiator, a radical, a cationic polymerization initiator and the like can be appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of light irradiation and heating to generate radicals or cations to promote radical polymerization and cation polymerization.

ラジカル重合開始剤は、光照射及び加熱の少なくともいずれかによりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば良い。例えば、光ラジカル重合開始剤としては、イミダゾール誘導体、ビスイミダゾール誘導体、N-アリールグリシン誘導体、有機アジド化合物、チタノセン類、アルミナート錯体、有機過酸化物、N-アルコキシピリジニウム塩、チオキサントン誘導体等が挙げられ、更に具体的には、1,3-ジ(tert-ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’-テトラキス(tert-ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3-フェニル-5-イソオキサゾロン、2-メルカプトベンズイミダゾール、ビス(2,4,5-トリフェニル)イミダゾール、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン(商品名イルガキュア651、チバ・ジャパン(株)製)、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン(商品名イルガキュア184、チバ・ジャパン(株)製)、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタン-1-オン(商品名イルガキュア369、チバ・ジャパン(株)製)、ビス(η5-2,4-シクロペンタジエン-1-イル)-ビス(2,6-ジフルオロ-3-(1H-ピロール-1-イル)-フェニル)チタニウム)(商品名イルガキュア784、チバ・ジャパン(株)製)等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
上記以外にも、適宜選択して市販品を使用できる。
The radical polymerization initiator may be any kind as long as it can release a substance that initiates radical polymerization by at least one of light irradiation and heating. For example, examples of the photoradical polymerization initiator include imidazole derivatives, bisimidazole derivatives, N-arylglycine derivatives, organic azide compounds, titanocenes, aluminate complexes, organic peroxides, N-alkoxypyridinium salts, thioxanthone derivatives and the like. More specifically, 1,3-di (tert-butyldioxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetrakis (tert-butyldioxycarbonyl) benzophenone, 3-phenyl-5-. Isooxazolone, 2-mercaptobenzimidazole, bis (2,4,5-triphenyl) imidazole, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one (trade name: Irgacure 651, Ciba Japan Co., Ltd.) , 1-Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (trade name: Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butane-1- On (trade name: Irgacure 369, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.), bis (η5-2,4-cyclopentadiene-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrole-1-yl) ) -Phenyl) Titanium) (trade name: Irgacure 784, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.), etc., but is not limited thereto.
In addition to the above, commercially available products can be used by appropriately selecting them.

また、カチオン重合開始剤は、光照射及び加熱の少なくともいずれかによりカチオン重合を開始させる物質を放出することが可能であれば良い。カチオン重合開始剤としては、スルホン酸エステル、イミドスルホネート、ジアルキル-4-ヒドロキシスルホニウム塩、アリールスルホン酸-p-ニトロベンジルエステル、シラノール-アルミニウム錯体、(η-ベンゼン)(η-シクロペンタジエニル)鉄(II)等が例示され、さらに具体的には、ベンゾイントシレート、2,5-ジニトロベンジルトシレート、N-トシフタル酸イミド等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Further, the cationic polymerization initiator may be any material as long as it can release a substance that initiates cationic polymerization by at least one of light irradiation and heating. Examples of the cationic polymerization initiator include sulfonic acid ester, imide sulfonate, dialkyl-4-hydroxysulfonium salt, aryl sulfonic acid-p-nitrobenzyl ester, silanol-aluminum complex, (η 6 -benzene) (η 5 -cyclopentadi). Enyl) iron (II) and the like are exemplified, and more specific examples thereof include, but are not limited to, benzointosylate, 2,5-dinitrobenzyltosylate, N-tosiphthalateimide and the like.

ラジカル重合開始剤としても、カチオン重合開始剤としても用いられるものとしては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、トリアジン化合物、鉄アレーン錯体等が例示されるが、これらに限定されるものではない。 Examples of those used as both the radical polymerization initiator and the cationic polymerization initiator include aromatic iodonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic diazonium salts, aromatic phosphonium salts, triazine compounds, and iron arene complexes. However, it is not limited to these.

(任意添加成分)
本発明に用いられるハードコート層は、前記重合物の他に、必要に応じて、任意添加成分を更に含有することができる。
前記任意添加成分は、ハードコート層に付与する機能に応じて適宜選択され、特に限定はされないが、例えば、硬度や屈折率を調整するための無機又は有機微粒子、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、防眩剤、防汚剤、帯電防止剤等が挙げられ、更に、レベリング剤、界面活性剤、易滑剤、各種増感剤、難燃剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等を含んでいても良い。
(Optional additive component)
The hard coat layer used in the present invention may further contain an optional additive component, if necessary, in addition to the polymer.
The optional additive component is appropriately selected depending on the function to be imparted to the hard coat layer, and is not particularly limited, but for example, an inorganic or organic fine particle for adjusting the hardness and the refractive index, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, and the like. Anti-glare agents, antifouling agents, antistatic agents, etc., as well as leveling agents, surfactants, anti-slip agents, various sensitizers, flame-retardant agents, adhesion-imparting agents, polymerization inhibitors, antioxidants, surface modifications. It may contain a pledge agent or the like.

なお、本発明に用いられるハードコート層に含まれるラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物等は、フーリエ変換赤外分光光度計(FTIR)、熱分解ガスクロマトグラフ装置(GC-MS)や、重合物の分解物について、高速液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフ質量分析計、NMR、元素分析、XPS/ESCA及びTOF-SIMS等の組み合わせを用いて分析することができる。 The polymer of at least one of the radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound contained in the hard coat layer used in the present invention includes a Fourier transform infrared spectrophotometer (FTIR) and a thermal decomposition gas chromatograph device (GC). -MS) and the decomposition products of the polymer can be analyzed using a combination of high-speed liquid chromatography, gas chromatograph mass spectrometer, NMR, elemental analysis, XPS / ESCA, TOF-SIMS and the like.

3.積層体の構成
本発明の積層体は、前記ポリイミドフィルムと、前記ハードコート層とを有するものであれば特に限定はされず、前記ポリイミドフィルムの一方の面側に前記ハードコート層が積層されたものであってもよいし、前記ポリイミドフィルムの両面に前記ハードコート層が積層されたものであってもよい。また、本発明の積層体は、本発明の効果を損なわない範囲で、前記ポリイミドフィルム及び前記ハードコート層の他に、例えば、前記ポリイミドフィルムと前記ハードコート層との密着性を向上させるためのプライマー層等の他の層を有するものであってもよく、前記ポリイミドフィルムと前記ハードコート層とがプライマー層等の他の層を介して積層されたものであっても良い。また、本発明の積層体は、前記ポリイミドフィルムと、前記ハードコート層とが隣接して位置するものであってもよい。また、本発明の積層体はさらに、耐衝撃層、指紋付着防止層、接着乃至粘着層等を有していても良い。
3. 3. Structure of Laminate The laminate of the present invention is not particularly limited as long as it has the polyimide film and the hard coat layer, and the hard coat layer is laminated on one surface side of the polyimide film. It may be one in which the hard coat layer is laminated on both sides of the polyimide film. Further, the laminate of the present invention is used to improve the adhesion between the polyimide film and the hard coat layer, for example, in addition to the polyimide film and the hard coat layer, as long as the effects of the present invention are not impaired. It may have another layer such as a primer layer, or the polyimide film and the hard coat layer may be laminated via another layer such as a primer layer. Further, in the laminate of the present invention, the polyimide film and the hard coat layer may be located adjacent to each other. Further, the laminated body of the present invention may further have an impact resistant layer, a fingerprint adhesion preventing layer, an adhesive or adhesive layer and the like.

本発明の積層体の全体厚さは、用途により適宜選択されれば良いが、強度の点から、10μm以上であることが好ましく、更に40μm以上であることが好ましい。一方、屈曲耐性の点から、300μm以下であることが好ましく、更に250μm以下であることが好ましい。
また、本発明の積層体において、各ハードコート層の厚さは、用途により適宜選択されれば良いが、2μm以上80μm以下であることが好ましく、3μm以上50μm以下であることがより好ましい。また、カール防止の観点からポリイミドフィルムの両面にハードコート層を形成しても良い。
The overall thickness of the laminate of the present invention may be appropriately selected depending on the intended use, but is preferably 10 μm or more, and more preferably 40 μm or more from the viewpoint of strength. On the other hand, from the viewpoint of bending resistance, it is preferably 300 μm or less, and more preferably 250 μm or less.
Further, in the laminated body of the present invention, the thickness of each hardcoat layer may be appropriately selected depending on the intended use, but is preferably 2 μm or more and 80 μm or less, and more preferably 3 μm or more and 50 μm or less. Further, from the viewpoint of curl prevention, a hard coat layer may be formed on both sides of the polyimide film.

4.積層体の特性
本発明の1実施形態の積層体は、ハードコート層側表面の鉛筆硬度がH以上であることが好ましく、2H以上であることがより好ましく、3H以上であることが更に好ましく、4H以上であることがより更に好ましい。
本発明の積層体の鉛筆硬度は、前記ポリイミドフィルムの鉛筆硬度の測定方法において、荷重を9.8Nとする以外は同様にして測定することができる。
4. Characteristics of Laminate The laminate of the embodiment of the present invention preferably has a pencil hardness of H or more, more preferably 2H or more, and even more preferably 3H or more on the surface on the hard coat layer side. It is more preferably 4H or more.
The pencil hardness of the laminate of the present invention can be measured in the same manner in the method for measuring the pencil hardness of the polyimide film except that the load is 9.8 N.

本発明の1実施形態の積層体は、良好な透明性の点から、JIS K7361-1に準拠して測定する全光線透過率が、膜厚50μmの換算値で85.0%以上である。本発明の1実施形態の積層体のJIS K7361-1に準拠して測定する全光線透過率は、膜厚40μmの換算値で87.0%以上であることがより好ましく、89.0%以上であることが更に好ましく、89.3%以上であることがより更に好ましい。
本発明の積層体の前記全光線透過率は、前記ポリイミドフィルムのJIS K7361-1に準拠して測定する全光線透過率と同様にして測定することができる。
From the viewpoint of good transparency, the laminated body of one embodiment of the present invention has a total light transmittance of 85.0% or more in terms of a film thickness of 50 μm, which is measured according to JIS K7361-1. The total light transmittance measured according to JIS K7361-1 of the laminate of one embodiment of the present invention is more preferably 87.0% or more, more preferably 89.0% or more in terms of a film thickness of 40 μm. It is more preferably 89.3% or more, and even more preferably 89.3% or more.
The total light transmittance of the laminate of the present invention can be measured in the same manner as the total light transmittance measured in accordance with JIS K7361-1 of the polyimide film.

本発明の1実施形態の積層体は、黄色味の着色が抑制され、光透過性が向上し、ガラス代替材料として好適に用いることができる点から、前記JIS K7373-2006に準拠して算出される黄色度(YI値)をポリイミドフィルムとハードコート層の合計膜厚(μm)で除した値(YI値/膜厚(μm))が0.15以下であり、0.10以下であることがより好ましく、0.08以下であることがより更に好ましい。
なお、本発明において、前記黄色度(YI値)をポリイミドフィルムとハードコート層の合計膜厚(μm)で除した値(YI値/膜厚(μm))は、JIS Z8401:1999の規則Bに従い、小数点以下第2位に丸めた値とする。
本発明の積層体の前記黄色度(YI値)は、前記ポリイミドフィルムのJIS K7373-2006に準拠して算出される黄色度(YI値)と同様にして測定することができる。
The laminate of one embodiment of the present invention is calculated in accordance with JIS K7373-2006 because yellowish coloring is suppressed, light transmission is improved, and it can be suitably used as a glass substitute material. The value (YI value / film thickness (μm)) obtained by dividing the yellowness (YI value) by the total film thickness (μm) of the polyimide film and the hard coat layer is 0.15 or less, and is 0.10 or less. Is more preferable, and 0.08 or less is even more preferable.
In the present invention, the value (YI value / film thickness (μm)) obtained by dividing the yellowness (YI value) by the total film thickness (μm) of the polyimide film and the hard coat layer is determined by Rule B of JIS Z8401: 1999. Therefore, the value is rounded to the second decimal place.
The yellowness (YI value) of the laminate of the present invention can be measured in the same manner as the yellowness (YI value) calculated in accordance with JIS K7373-2006 of the polyimide film.

また、本発明の1実施形態の積層体は、前記JIS K7373-2006に準拠して算出される黄色度(YI値)が、JIS K7373-2006に準拠して算出される黄色度(YI値)が、膜厚50μmの換算値で、10.0以下であることが好ましい。このように黄色度が低いと、黄色味の着色が抑制され、光透過性が向上する点から好ましい。前記JIS K7373-2006に準拠して算出される黄色度(YI値)は、膜厚50μmの換算値で、5.0以下であることがより好ましく、4.0以下であることが更に好ましい。 Further, in the laminated body of one embodiment of the present invention, the yellowness (YI value) calculated in accordance with JIS K7373-2006 is calculated in accordance with JIS K7373-2006. However, it is preferably 10.0 or less in terms of a film thickness of 50 μm. Such a low degree of yellowness is preferable from the viewpoint that yellowish coloring is suppressed and light transmission is improved. The yellowness (YI value) calculated in accordance with JIS K7373-2006 is more preferably 5.0 or less, and further preferably 4.0 or less, in terms of a film thickness of 50 μm.

本発明の1実施形態の積層体は、低位相差を実現できたものであり、波長590nmにおける厚み方向の複屈折率が、0.025未満である。
このような複屈折率を有することから、本態様の積層体は光学的歪みが低減したものである。前記波長590nmにおける複屈折率は、より小さい方が好ましく、0.023以下であることが好ましく、更に0.022以下であることが好ましく、より更に0.021以下であることが好ましい。
本発明の積層体の波長590nmにおける厚み方向の複屈折率は、前記ポリイミドフィルムの波長590nmにおける厚み方向の複屈折率と同様にして測定することができる。
The laminate of one embodiment of the present invention can realize a low phase difference, and the birefringence in the thickness direction at a wavelength of 590 nm is less than 0.025.
Since it has such a birefringence index, the laminated body of this embodiment has reduced optical strain. The birefringence at the wavelength of 590 nm is preferably smaller, preferably 0.023 or less, more preferably 0.022 or less, and even more preferably 0.021 or less.
The birefringence in the thickness direction of the laminate of the present invention at a wavelength of 590 nm can be measured in the same manner as the birefringence in the thickness direction of the polyimide film at a wavelength of 590 nm.

本発明の1実施形態の積層体は、10mm×150mmの試験片を、JIS K7127に準拠し、引張り速度を50mm/分、チャック間距離を100mmとして、25℃で測定する引張試験における引張弾性率が4.0GPa以上である。このように、25℃(室温)での引張弾性率が高いと、保護フィルムとして十分な表面硬度を室温でも維持することができ、表面材乃至基材として用いることができる。前記引張弾性率は、4.3GPa以上であることがより好ましい。一方で、前記引張弾性率は、屈曲耐性を向上させる点から、15.0GPa以下であっても良い。
本発明の積層体の前記引張弾性率は、前記ポリイミドフィルムの前記引張弾性率と同様にして測定することができる。
The laminated body of one embodiment of the present invention is a tensile elastic modulus in a tensile test in which a test piece of 10 mm × 150 mm is measured at 25 ° C. in accordance with JIS K7127, with a tensile speed of 50 mm / min and a distance between chucks of 100 mm. Is 4.0 GPa or more. As described above, when the tensile elastic modulus at 25 ° C. (room temperature) is high, sufficient surface hardness as a protective film can be maintained even at room temperature, and it can be used as a surface material or a base material. The tensile elastic modulus is more preferably 4.3 GPa or more. On the other hand, the tensile elastic modulus may be 15.0 GPa or less from the viewpoint of improving bending resistance.
The tensile elastic modulus of the laminate of the present invention can be measured in the same manner as the tensile elastic modulus of the polyimide film.

本発明の1実施形態の積層体は、屈曲耐性の点から、前記動的屈曲試験において、屈曲回数が10万回以上であり、11万回以上であることが好ましく、12.5万回以上であることがより好ましい。
本発明の積層体の動的屈曲試験は、前記ポリイミドフィルムの動的屈曲試験と同様にして測定することができる。
From the viewpoint of bending resistance, the laminated body of one embodiment of the present invention has a bending frequency of 100,000 times or more, preferably 110,000 times or more, and preferably 125,000 times or more in the dynamic bending test. Is more preferable.
The dynamic bending test of the laminate of the present invention can be measured in the same manner as the dynamic bending test of the polyimide film.

5.積層体の用途
本発明の1実施形態の積層体の用途は特に限定されるものではなく、例えば、前述した本発明の1実施形態のポリイミドフィルムの用途と同様の用途に用いることができる。
5. Use of Laminate The use of the laminate of one embodiment of the present invention is not particularly limited, and for example, it can be used in the same manner as the above-mentioned use of the polyimide film of one embodiment of the present invention.

VI.ディスプレイ用部材
本発明の1実施形態のディスプレイ用部材は、前述した本発明の1実施形態のポリイミドフィルム、或いは、本発明の1実施形態の積層体を含む。
本発明の1実施形態のディスプレイ用部材としては、例えば、ディスプレイ用表面材やディスプレイ用基材等が挙げられる。
本発明の1実施形態のディスプレイ用部材は、前述した本発明の1実施形態のポリイミドフィルム、或いは、本発明の1実施形態の積層体であってよい。
VI. Display member The display member of one embodiment of the present invention includes the polyimide film of one embodiment of the present invention described above, or the laminate of one embodiment of the present invention.
Examples of the display member according to one embodiment of the present invention include a display surface material and a display base material.
The display member of one embodiment of the present invention may be the polyimide film of one embodiment of the present invention described above, or the laminated body of one embodiment of the present invention.

本発明の1実施形態のディスプレイ用部材は、例えばディスプレイ用表面材として、各種ディスプレイの表面に位置するように配置して用いられる。本発明の1実施形態のディスプレイ用部材は、前述した本発明のポリイミドフィルム及び本発明の積層体と同様に、十分な透明性を有しつつ、低い位相差と、高い弾性率と、向上した屈曲耐性を有するため、フレキシブルディスプレイ用として特に好適に用いることができる。 The display member of one embodiment of the present invention is used, for example, as a surface material for a display by arranging it so as to be located on the surface of various displays. Similar to the polyimide film of the present invention and the laminate of the present invention described above, the display member of one embodiment of the present invention has sufficient transparency, but has improved low phase difference and high elastic modulus. Since it has bending resistance, it can be particularly preferably used for flexible displays.

本発明の1実施形態のディスプレイ用部材は、公知の各種ディスプレイに用いることができ、特に限定はされないが、例えば、前記本発明のポリイミドフィルムの用途で説明したディスプレイ等に用いることができる。 The display member of one embodiment of the present invention can be used for various known displays, and is not particularly limited, but can be used, for example, for the display described in the application of the polyimide film of the present invention.

なお、本発明の1実施形態のディスプレイ用部材が前記本発明の1実施形態の積層体である場合、当該積層体をディスプレイの表面に配置した後に最表面となる面は、ポリイミドフィルム側の表面であってもよいし、ハードコート層側の表面であってもよい。中でも、ハードコート層側の表面が、より表側の面となるように本発明のディスプレイ用部材を配置することが好ましい。また、本発明の1実施形態のディスプレイ用部材は、最表面に指紋付着防止層を有するものであっても良い。 When the display member of one embodiment of the present invention is the laminate of one embodiment of the present invention, the surface that becomes the outermost surface after arranging the laminate on the surface of the display is the surface on the polyimide film side. It may be the surface on the hard coat layer side. Above all, it is preferable to arrange the display member of the present invention so that the surface on the hard coat layer side becomes the surface on the front side. Further, the display member of one embodiment of the present invention may have a fingerprint adhesion prevention layer on the outermost surface.

また、本発明の1実施形態のディスプレイ用部材をディスプレイの表面に配置する方法としては、特に限定はされないが、例えば、接着層を介する方法等が挙げられる。前記接着層としては、ディスプレイ用部材の接着に用いることができる従来公知の接着層を用いることができる。 Further, the method of arranging the display member of one embodiment of the present invention on the surface of the display is not particularly limited, and examples thereof include a method via an adhesive layer. As the adhesive layer, a conventionally known adhesive layer that can be used for adhering display members can be used.

VII.タッチパネル部材
本発明の1実施形態のタッチパネル部材は、前述した本発明の1実施形態のポリイミドフィルム、或いは前述した本発明の1実施形態の積層体と、
前記ポリイミドフィルム、或いは前記積層体の一方の面側に配置された、複数の導電部からなる透明電極と、
前記導電部の端部の少なくとも一方側において電気的に接続される複数の取り出し線と、を有する。
VII. Touch panel member The touch panel member of one embodiment of the present invention includes the polyimide film of one embodiment of the present invention described above or the laminate of one embodiment of the present invention described above.
A transparent electrode composed of a plurality of conductive portions arranged on one surface side of the polyimide film or the laminate,
It has a plurality of take-out wires that are electrically connected on at least one side of the end of the conductive portion.

本発明の1実施形態のタッチパネル部材は、前述した本発明の1実施形態のポリイミドフィルム、或いは前記積層体を備えるものであることから、十分な透明性を有しつつ、低い位相差と、高い弾性率と、向上した屈曲耐性を有するものであるため、フレキシブルディスプレイ用として特に好適に用いることができ、また光学特性に優れる。
本発明の1実施形態のタッチパネル部材に用いられる本発明の積層体は、前記ポリイミドフィルムの両面に隣接して、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有するハードコート層を有するものであることが好ましい。
また、本発明の1実施形態のタッチパネル部材は、特に限定はされないが、前記透明電極が、前記積層体の一方の面側に接して積層されてなるものであることが好ましい。
本発明の1実施形態のタッチパネル部材は、例えば、各種ディスプレイの表面に位置するように配置して用いることができる。また、各種ディスプレイの表面に、本発明のタッチパネル部材と、表面材としての本発明の1実施形態のポリイミドフィルム或いは積層体とを、この順に配置して用いることもできる。
Since the touch panel member of one embodiment of the present invention includes the polyimide film of one embodiment of the present invention or the laminated body described above, the touch panel member has sufficient transparency, low phase difference, and high. Since it has an elastic modulus and improved bending resistance, it can be particularly preferably used for a flexible display and has excellent optical characteristics.
The laminate of the present invention used for the touch panel member of one embodiment of the present invention is a hard coat containing at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound adjacent to both sides of the polyimide film. It preferably has a layer.
Further, the touch panel member of one embodiment of the present invention is not particularly limited, but it is preferable that the transparent electrode is laminated in contact with one surface side of the laminated body.
The touch panel member of one embodiment of the present invention can be arranged and used, for example, so as to be located on the surface of various displays. Further, the touch panel member of the present invention and the polyimide film or laminate of one embodiment of the present invention as a surface material can be arranged and used in this order on the surface of various displays.

以下、本発明の1実施形態のタッチパネル部材について、前述した本発明の1実施形態の積層体を用いた例で説明するが、前述した本発明の積層体の代わりに、前述した本発明のポリイミドフィルムも同様に用いることができる。
図2は、本発明の1実施形態のタッチパネル部材の一例の一方の面の概略平面図であり、図3は、図2に示すタッチパネル部材のもう一方の面の概略平面図であり、図4は、図2及び図3に示すタッチパネル部材のA-A’断面図である。図2、図3及び図4に示すタッチパネル部材20は、本発明の積層体10と、積層体10の一方の面に接して配置された第一の透明電極4と、積層体10のもう一方の面に接して配置された第二の透明電極5とを備える。第一の透明電極4においては、x軸方向に伸長するように延在する短冊状の電極片である複数の第一の導電部41が、所定の間隔を空けて配置されている。第一の導電部41には、その長手方向の端部のいずれか一方において、当該第一の導電部41と電気的に接続される第一の取出し線7が接続されている。積層体10の端縁21まで延設された第一の取出し線7の端部には、外部回路と電気的に接続するための第一の端子71を設けることがよい。第一の導電部41と第一の取出し線7とは、一般には、タッチパネルの使用者が視認可能なアクティブエリア22の外側に位置する、非アクティブエリア23内において接続される。
第一の導電部41と第一の取出し線7との接続は、例えば図2に示すように、接続部24を介在させた接続構造を採用することができる。接続部24は、具体的には、第一の導電部41の長手方向端部から、非アクティブエリア23内の所定の位置まで導電性材料の層を延設することにより形成することができる。さらに、当該接続部24上に、第一の取出し線7の少なくとも一部を重ねることにより、第一の導電部41と第一の取出し線7との接続構造を形成することができる。
第一の導電部41と第一の取出し線7との接続は、図2に示すような、接続部24を形成する構造には限定されない。例えば、図示は省略するが、第一の導電部41の長手方向端部を非アクティブエリア23まで伸長させ、非アクティブエリア23内において、当該非アクティブエリア23まで伸長させた第一の導電部41の端部に、第一の取出し線7を乗り上げさせることによって、両者を電気的に接続させてもよい。
なお、図2では、第一の導電部41の長手方向端部のいずれか一方と、第一の取出し線7とを接続する形態を示したが、本発明においては、1つの第一の導電部41の長手方向の両端に、それぞれ、第一の取出し線7を電気的に接続する形態としてもよい。
Hereinafter, the touch panel member of one embodiment of the present invention will be described with an example using the above-mentioned laminate of one embodiment of the present invention, but instead of the above-mentioned laminate of the present invention, the above-mentioned polyimide of the present invention will be described. Films can be used as well.
FIG. 2 is a schematic plan view of one surface of an example of the touch panel member according to the embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a schematic plan view of the other surface of the touch panel member shown in FIG. 2. FIG. Is a cross-sectional view taken along the line AA'of the touch panel member shown in FIGS. 2 and 3. The touch panel member 20 shown in FIGS. 2, 3 and 4 has a laminated body 10 of the present invention, a first transparent electrode 4 arranged in contact with one surface of the laminated body 10, and the other of the laminated body 10. It is provided with a second transparent electrode 5 arranged in contact with the surface of the above. In the first transparent electrode 4, a plurality of first conductive portions 41, which are strip-shaped electrode pieces extending so as to extend in the x-axis direction, are arranged at predetermined intervals. A first take-out wire 7 electrically connected to the first conductive portion 41 is connected to the first conductive portion 41 at any one of its longitudinal end portions. A first terminal 71 for electrically connecting to an external circuit may be provided at the end of the first take-out wire 7 extending to the end edge 21 of the laminated body 10. The first conductive portion 41 and the first take-out wire 7 are generally connected in an inactive area 23 located outside the active area 22 visible to the user of the touch panel.
For the connection between the first conductive portion 41 and the first take-out wire 7, for example, as shown in FIG. 2, a connection structure in which the connecting portion 24 is interposed can be adopted. Specifically, the connecting portion 24 can be formed by extending a layer of the conductive material from the longitudinal end portion of the first conductive portion 41 to a predetermined position in the inactive area 23. Further, by superimposing at least a part of the first take-out wire 7 on the connection portion 24, a connection structure between the first conductive portion 41 and the first take-out wire 7 can be formed.
The connection between the first conductive portion 41 and the first take-out wire 7 is not limited to the structure forming the connecting portion 24 as shown in FIG. For example, although not shown, the longitudinal end of the first conductive portion 41 is extended to the inactive area 23, and the first conductive portion 41 is extended to the inactive area 23 in the inactive area 23. The two may be electrically connected by riding the first take-out line 7 on the end portion of the above.
Note that FIG. 2 shows a form in which either one of the longitudinal end portions of the first conductive portion 41 is connected to the first take-out wire 7, but in the present invention, one first conductive portion is shown. The first take-out wire 7 may be electrically connected to both ends of the portion 41 in the longitudinal direction.

図3に示すように、タッチパネル部材20は、積層体10のもう一方の面に接して配置された第二の透明電極5とを備える。第二の透明電極5においては、y軸方向に伸長するように延在する複数の短冊状の電極片である第二の導電部51が、x軸方向に所定の間隔を空けて配置されている。
第二の導電部51には、その長手方向端部の一方において、当該第二の導電部51と電気的に接続される第二の取出し線8が接続されている。
第二の取出し線8は、積層体10の端縁のうち、前述した第一の取出し線7が延設された端縁21における、第一の端子71と重ならない位置まで延設されている。
積層体10の端縁21まで延設された第二の取出し線8の端部には、外部回路と電気的に接続するための第二の端子81を設けることがよい。
第二の導電部51と第二の取出し線8との電気的な接続は、第一の取出し線7と第一の導電部41との電気的な接続と同様の形態を適用することができる。
As shown in FIG. 3, the touch panel member 20 includes a second transparent electrode 5 arranged in contact with the other surface of the laminated body 10. In the second transparent electrode 5, a second conductive portion 51, which is a plurality of strip-shaped electrode pieces extending so as to extend in the y-axis direction, is arranged at a predetermined interval in the x-axis direction. There is.
A second take-out wire 8 electrically connected to the second conductive portion 51 is connected to the second conductive portion 51 at one of its longitudinal end portions.
The second take-out line 8 extends to a position of the end edge of the laminated body 10 that does not overlap with the first terminal 71 on the end edge 21 on which the above-mentioned first take-out line 7 is extended. ..
A second terminal 81 for electrically connecting to an external circuit may be provided at the end of the second take-out wire 8 extending to the end edge 21 of the laminated body 10.
As for the electrical connection between the second conductive portion 51 and the second take-out wire 8, the same form as the electrical connection between the first take-out wire 7 and the first conductive portion 41 can be applied. ..

なお、図2及び図3に示すような、第1取出し線7を長尺配線とし、第2取出し線8を短尺配線とするパターンは、本発明のタッチパネル部材の一実施形態に過ぎず、例えば、第一の取出し線7を短尺配線とし、第二の取出し線8を長尺配線とするパターンとすることも可能である。また、第一の取出し線7の伸長方向及び第二の取出し線8の伸長方向も、図2及び図3に示す方向に限られず、任意に設計することが可能である。 The pattern in which the first take-out wire 7 is a long wiring and the second take-out wire 8 is a short wiring as shown in FIGS. 2 and 3 is only one embodiment of the touch panel member of the present invention, for example. It is also possible to use a pattern in which the first take-out wire 7 is a short wiring and the second take-out wire 8 is a long wiring. Further, the extension direction of the first take-out line 7 and the extension direction of the second take-out line 8 are not limited to the directions shown in FIGS. 2 and 3, and can be arbitrarily designed.

本発明の1実施形態のタッチパネル部材が備える導電部は、タッチパネル部材において透明電極を構成するものを適宜選択して適用することができ、導電部のパターンは、図2及び図3に示すものに限定されない。例えば、静電容量方式によって、指などの接触または接触に近い状態による電気容量の変化を検知可能な透明電極のパターンを適宜選択して適用することができる。
前記導電部の材料としては、光透過性の材料であることが好ましく、例えば、インジウム錫オキサイド(ITO)、酸化インジウム、インジウム亜鉛オキサイド(IZO)等を主たる構成成分とする酸化インジウム系透明電極材料、酸化錫(SnO)、酸化亜鉛(ZnO)等を主たる構成成分とする透明導電膜、ポリアニリン、ポリアセチレン等の導電性高分子化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、第一の導電部41及び第二の導電部51は、互いに同種の導電性材料を用いて形成してもよいし、異種の材料を用いて形成してもよい。特に同種の導電性材料を用いて第一の導電部41及び第2導電部51を形成すると、タッチパネル部材の反りや歪みの発生をより効果的に抑制できる観点で好ましい。
前記導電部の厚みは、特に限定されないが、例えばフォトリソグラフィ手法により導電部を形成する場合には、一般的には、10nm~500nm程度に形成することができる。
As the conductive portion included in the touch panel member according to the first embodiment of the present invention, a touch panel member constituting a transparent electrode can be appropriately selected and applied, and the pattern of the conductive portion is as shown in FIGS. 2 and 3. Not limited. For example, by the capacitance method, a pattern of a transparent electrode capable of detecting a change in electric capacity due to contact with a finger or the like or a state close to contact can be appropriately selected and applied.
The material of the conductive portion is preferably a light-transmitting material, and for example, an indium oxide-based transparent electrode material containing indium tin oxide (ITO), indium oxide, indium zinc oxide (IZO), or the like as a main component. , Transparent conductive film containing tin oxide (SnO 2 ), zinc oxide (ZnO) and the like as main constituents, conductive polymer compounds such as polyaniline and polyacetylene, and the like, but the present invention is not limited thereto. Further, the first conductive portion 41 and the second conductive portion 51 may be formed by using the same kind of conductive materials as each other, or may be formed by using different materials. In particular, it is preferable to form the first conductive portion 41 and the second conductive portion 51 using the same kind of conductive material from the viewpoint of more effectively suppressing the occurrence of warpage and distortion of the touch panel member.
The thickness of the conductive portion is not particularly limited, but when the conductive portion is formed by, for example, a photolithography method, it can generally be formed to be about 10 nm to 500 nm.

本発明の1実施形態のタッチパネル部材が備える取出し線を構成する導電材料は、光透過性の有無を問わない。一般的には、取出し線は、高い導電性を有する銀や銅などの金属材料を用いて形成することができる。具体的には、金属単体、金属の複合体、金属と金属化合物の複合体、金属合金を挙げることができる。金属単体としては、銀、銅、金、クロム、プラチナ、アルミニウムの単体などを例示することができる。金属の複合体としては、MAM(モリブデン、アルミニウム、モリブデンの3層構造体)等を例示することができる。金属と金属化合物の複合体としては、酸化クロムとクロムの積層体等を例示することができる。金属合金としては、銀合金や銅合金が汎用される。また、金属合金としては、APC(銀、パラジウム及び銅の合金)等を例示することができる。また、前記取出し線には、前述した金属材料に、適宜樹脂成分が混在していてもよい。
本発明の1実施形態のタッチパネル部材において、取出し線の端部に設けられる端子は、例えば、前記取出し線と同じ材料を用いて形成することができる。
前記取出し線の厚み、及び幅寸法は、特に限定されないが、例えばフォトリソグラフィ手法により取出し線を形成する場合には、一般的には、厚みは10nm~1000nm程度に形成され、幅寸法は5μm~200μm程度に形成される。一方、スクリーン印刷などの印刷により取出し線を形成する場合には、一般的には、厚みは5μm~20μm程度に形成され、幅寸法は20μm~300μm程度に形成される。
The conductive material constituting the take-out wire included in the touch panel member according to the first embodiment of the present invention may or may not have light transmission. In general, the take-out wire can be formed by using a metal material such as silver or copper having high conductivity. Specific examples thereof include elemental metals, composites of metals, composites of metals and metal compounds, and metal alloys. Examples of the simple substance of metal include silver, copper, gold, chromium, platinum, and simple substance of aluminum. As the metal complex, MAM (three-layer structure of molybdenum, aluminum, and molybdenum) and the like can be exemplified. Examples of the composite of the metal and the metal compound include a laminate of chromium oxide and chromium. As the metal alloy, silver alloys and copper alloys are widely used. Further, as the metal alloy, APC (alloy of silver, palladium and copper) and the like can be exemplified. Further, the take-out wire may appropriately contain a resin component in the above-mentioned metal material.
In the touch panel member of one embodiment of the present invention, the terminal provided at the end of the take-out wire can be formed, for example, by using the same material as the take-out wire.
The thickness and width of the take-out line are not particularly limited, but when the take-out line is formed by, for example, a photolithography method, the thickness is generally formed to be about 10 nm to 1000 nm, and the width dimension is from 5 μm. It is formed to about 200 μm. On the other hand, when the take-out line is formed by printing such as screen printing, the thickness is generally formed to be about 5 μm to 20 μm, and the width dimension is formed to be about 20 μm to 300 μm.

本発明の1実施形態のタッチパネル部材は、図2~図4に示す形態には限られず、例えば、第一の透明電極と、第二の透明電極とが、それぞれ別個の積層体の上に積層されて構成されるものであってもよい。
図5及び図6は、各々本発明の積層体を備える導電性部材の一例を示す概略平面図である。図5に示す第一の導電性部材201は、本発明の積層体10と、当該積層体10の一方の面に接して配置された第一の透明電極4とを有し、当該第一の透明電極4は、複数の第一の導電部41を有する。図6に示す第二の導電性部材202は、本発明の積層体10’と、当該積層体10’の一方の面に接して配置された第二の透明電極5とを有し、当該第二の透明電極5は、複数の第二の導電部51を有する。
図7は、本発明の1実施形態のタッチパネル部材の別の一例を示す概略断面図であり、図7に示すタッチパネル部材20’は、図5に示す第一の導電性部材201と、図6に示す第二の導電性部材202とを備える。タッチパネル部材20’においては、第一の導電性部材201の第一の透明電極4を有しない面と、第二の導電性部材202の透明電極5を有する面とが、接着層6を介して貼り合わせられている。なお、本発明において、例えば、本発明の1実施形態の積層体と本発明の1実施形態のタッチパネル部材とを接着するための接着層、本発明のタッチパネル部材同士を接着するための接着層、本発明のタッチパネル部材と表示装置等とを接着するための接着層としては、光学部材に用いられている従来公知の接着層を適宜選択して用いることができる。本発明のタッチパネル部材に用いられる導電性部材において、透明電極、取出し線及び端子の構成及び材料は、前述した本発明のタッチパネル部材に用いられる透明電極、取出し線及び端子と各々同様とすることができる。
The touch panel member of one embodiment of the present invention is not limited to the embodiments shown in FIGS. 2 to 4, and for example, a first transparent electrode and a second transparent electrode are laminated on separate laminated bodies. It may be configured to be.
5 and 6 are schematic plan views showing an example of a conductive member provided with the laminate of the present invention, respectively. The first conductive member 201 shown in FIG. 5 has a laminated body 10 of the present invention and a first transparent electrode 4 arranged in contact with one surface of the laminated body 10. The transparent electrode 4 has a plurality of first conductive portions 41. The second conductive member 202 shown in FIG. 6 has a laminated body 10'of the present invention and a second transparent electrode 5 arranged in contact with one surface of the laminated body 10'. The second transparent electrode 5 has a plurality of second conductive portions 51.
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing another example of the touch panel member according to the embodiment of the present invention, and the touch panel member 20'shown in FIG. 7 has the first conductive member 201 shown in FIG. 5 and FIG. The second conductive member 202 shown in the above is provided. In the touch panel member 20', the surface of the first conductive member 201 not having the first transparent electrode 4 and the surface of the second conductive member 202 having the transparent electrode 5 are interposed via the adhesive layer 6. It is pasted together. In the present invention, for example, an adhesive layer for adhering the laminate of one embodiment of the present invention and the touch panel member of the first embodiment of the present invention, and an adhesive layer for adhering the touch panel members of the present invention to each other. As the adhesive layer for adhering the touch panel member of the present invention to the display device or the like, a conventionally known adhesive layer used for the optical member can be appropriately selected and used. In the conductive member used for the touch panel member of the present invention, the configuration and material of the transparent electrode, the take-out wire and the terminal may be the same as those of the transparent electrode, the take-out wire and the terminal used for the touch panel member of the present invention described above. can.

VIII.液晶表示装置
本発明の1実施形態の液晶表示装置は、前述した本発明の1実施形態のポリイミドフィルム、或いは前述した本発明の1実施形態の積層体と、前記ポリイミドフィルム、或いは前記積層体の一方の面側に配置された、対向基板間に液晶層を有してなる液晶表示部とを有する。
VIII. Liquid crystal display device The liquid crystal display device of one embodiment of the present invention is the polyimide film of one embodiment of the present invention described above, or the laminate of the above-mentioned one embodiment of the present invention, and the polyimide film or the laminate. It has a liquid crystal display unit having a liquid crystal layer between facing substrates, which is arranged on one surface side.

本発明の1実施形態の液晶表示装置は、前述した本発明の1実施形態のポリイミドフィルム、或いは積層体を備えるものであることから、十分な透明性を有しつつ、低い位相差と、高い弾性率と、向上した屈曲耐性を有し、フレキシブルディスプレイ用として特に好適に用いることができ、光学特性に優れる。
本発明の1実施形態の液晶表示装置に用いられる本発明の1実施形態の積層体は、前記ポリイミドフィルムの両面に隣接して、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有するハードコート層を有するものであることが好ましい。
また、本発明の1実施形態の液晶表示装置は、前述した本発明の1実施形態のタッチパネル部材を備えるものであっても良い。
また、本発明の1実施形態の液晶表示装置が有する対向基板は、本発明の1実施形態のポリイミドフィルム、或いは積層体を備えるものであっても良い。
Since the liquid crystal display device of one embodiment of the present invention includes the polyimide film or laminate of the above-mentioned one embodiment of the present invention, it has sufficient transparency, low phase difference, and high. It has elastic modulus and improved bending resistance, can be used particularly preferably for flexible displays, and has excellent optical characteristics.
The laminate of one embodiment of the present invention used in the liquid crystal display device of one embodiment of the present invention is adjacent to both sides of the polyimide film and is a polymer of at least one of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound. It is preferable to have a hard coat layer containing.
Further, the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention may include the touch panel member according to the embodiment of the present invention described above.
Further, the opposed substrate of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention may include the polyimide film or the laminate according to the first embodiment of the present invention.

以下、本発明の1実施形態の液晶表示装置について、前述した本発明の1実施形態の積層体を用いた例で説明するが、前述した本発明の1実施形態の積層体の代わりに、前述した本発明の1実施形態のポリイミドフィルムも同様に用いることができる。
図8は、本発明の1実施形態の液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。図8に示す液晶表示装置100は、本発明の1実施形態の積層体10と、本発明の1実施形態の積層体10’の一方の面に第一の透明電極4を備え、もう一方の面に第二の透明電極5を備えるタッチパネル部材20と、液晶表示部30とを有する。液晶表示装置100において、積層体10は表面材として用いられており、積層体10とタッチパネル部材20とは、接着層6を介して貼り合わせられている。
Hereinafter, the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention will be described with an example using the above-mentioned laminate of the first embodiment of the present invention, but instead of the above-mentioned laminate of the first embodiment of the present invention, the above-mentioned The polyimide film of one embodiment of the present invention can also be used in the same manner.
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing an example of the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. The liquid crystal display device 100 shown in FIG. 8 is provided with a first transparent electrode 4 on one surface of the laminate 10 of one embodiment of the present invention and the laminate 10'of one embodiment of the present invention, and the other. It has a touch panel member 20 having a second transparent electrode 5 on the surface, and a liquid crystal display unit 30. In the liquid crystal display device 100, the laminated body 10 is used as a surface material, and the laminated body 10 and the touch panel member 20 are bonded to each other via an adhesive layer 6.

本発明の1実施形態の液晶表示装置に用いられる液晶表示部は、対向配置された基板の間に形成された液晶層を有するものであり、従来公知の液晶表示装置に用いられている構成を採用することができる。
本発明の1実施形態の液晶表示装置の駆動方式としては、特に限定はなく一般的に液晶表示装置に用いられている駆動方式を採用することができ、例えば、TN方式、IPS方式、OCB方式、及びMVA方式等を挙げることができる。
本発明の1実施形態の液晶表示装置に用いられる対向基板としては、液晶表示装置の駆動方式等に応じて適宜選択して用いることができ、本発明の1実施形態のポリイミドフィルム或いは積層体を備えるものを用いても良い。
液晶層を構成する液晶としては、本発明の液晶表示装置の駆動方式等に応じて、誘電異方性の異なる各種液晶、及びこれらの混合物を用いることができる。
液晶層の形成方法としては、一般に液晶セルの作製方法として用いられる方法を使用することができ、例えば、真空注入方式や液晶滴下方式等が挙げられる。前記方法によって液晶層を形成後、液晶セルを常温まで徐冷することにより、封入された液晶を配向させることができる。
本発明の1実施形態の液晶表示装置において、対向配置された基板の間には、さらに複数色の着色層や、画素を画定する遮光部を有していてもよい。また、液晶表示部は、対向配置された基板の外側において、タッチパネル部材が位置する側とは反対側の位置に、発光素子や蛍光体を有するバックライト部を有していてもよい。また、対向配置された基板の外表面には、それぞれ偏光板を有していてもよい。
The liquid crystal display unit used in the liquid crystal display device of one embodiment of the present invention has a liquid crystal layer formed between the substrates arranged so as to face each other, and has a configuration used in a conventionally known liquid crystal display device. Can be adopted.
The drive method of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention is not particularly limited, and a drive method generally used for a liquid crystal display device can be adopted. For example, a TN method, an IPS method, or an OCB method can be adopted. , And the MVA method and the like.
The facing substrate used in the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention can be appropriately selected and used according to the drive method of the liquid crystal display device and the like, and the polyimide film or the laminate according to the first embodiment of the present invention can be used. You may use what is provided.
As the liquid crystal constituting the liquid crystal layer, various liquid crystals having different dielectric anisotropy and a mixture thereof can be used depending on the driving method of the liquid crystal display device of the present invention.
As a method for forming the liquid crystal layer, a method generally used as a method for producing a liquid crystal cell can be used, and examples thereof include a vacuum injection method and a liquid crystal dropping method. After forming the liquid crystal layer by the above method, the enclosed liquid crystal can be oriented by slowly cooling the liquid crystal cell to room temperature.
In the liquid crystal display device of one embodiment of the present invention, a colored layer of a plurality of colors and a light-shielding portion for defining pixels may be further provided between the substrates arranged to face each other. Further, the liquid crystal display unit may have a backlight unit having a light emitting element or a phosphor at a position opposite to the side where the touch panel member is located on the outside of the substrate arranged so as to face each other. Further, a polarizing plate may be provided on the outer surface of the substrates arranged so as to face each other.

図9は、本発明の1実施形態の液晶表示装置の別の一例を示す概略断面図である。図9に示す液晶表示装置200は、本発明の1実施形態の積層体10と、本発明の1実施形態の積層体10’の一方の面に第一の透明電極4を備える第一の導電性部材201と、本発明の1実施形態の積層体10”の一方の面に第二の透明電極5を備える第二の導電性部材202とを有するタッチパネル部材20’と、液晶表示部30とを有する。液晶表示装置200において、積層体10と第一の導電性部材201、及び第一の導電性部材201と第二の導電性部材202とは、各々接着層6を介して貼り合わせられている。タッチパネル部材20’の構成は、例えば、図7に示すタッチパネル部材20’の構成と同様にすることができる。本発明の1実施形態の液晶表示装置に用いられる導電性部材としては、本発明の1実施形態のタッチパネル部材に用いられる導電性部材と同様のものを用いることができる。 FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing another example of the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. The liquid crystal display device 200 shown in FIG. 9 has a first conductive body having a first transparent electrode 4 on one surface of the laminated body 10 of one embodiment of the present invention and the laminated body 10'of one embodiment of the present invention. A touch panel member 20'having a sex member 201 and a second conductive member 202 provided with a second transparent electrode 5 on one surface of the laminate 10 "of one embodiment of the present invention, and a liquid crystal display unit 30. In the liquid crystal display device 200, the laminate 10 and the first conductive member 201, and the first conductive member 201 and the second conductive member 202 are bonded to each other via the adhesive layer 6. The configuration of the touch panel member 20'can be, for example, the same as the configuration of the touch panel member 20'shown in FIG. 7. As the conductive member used in the liquid crystal display device of one embodiment of the present invention, the conductive member is used. The same conductive member as that used for the touch panel member according to the embodiment of the present invention can be used.

IX.有機エレクトロルミネッセンス表示装置
本発明の1実施形態の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、前述した本発明の1実施形態のポリイミドフィルム、或いは前述した本発明の1実施形態の積層体と、前記ポリイミドフィルム、或いは前記積層体の一方の面側に配置された、対向基板間に有機エレクトロルミネッセンス層を有してなる有機エレクトロルミネッセンス表示部とを有する。
IX. Organic electroluminescence display device The organic electroluminescence display device of one embodiment of the present invention is the polyimide film of one embodiment of the present invention described above, or the above-mentioned laminate of one embodiment of the present invention and the polyimide film, or the polyimide film. It has an organic electroluminescence display unit having an organic electroluminescence layer between facing substrates arranged on one surface side of the laminate.

本発明の1実施形態の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、前述した本発明の1実施形態のポリイミドフィルム、或いは積層体を備えるものであることから、十分な透明性を有しつつ、低い位相差と、高い弾性率と、向上した屈曲耐性を有するものであるため、フレキシブルディスプレイ用として特に好適に用いることができ、光学特性に優れる。
本発明の1実施形態の有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられる本発明の1実施形態の積層体は、前記ポリイミドフィルムの両面に隣接して、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有するハードコート層を有するものであることが好ましい。
また、本発明の1実施形態の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、前述した本発明の1実施形態のタッチパネル部材を備えるものであっても良い。
また、本発明の1実施形態の有機エレクトロルミネッセンス表示装置が有する対向基板は、本発明の1実施形態のポリイミドフィルム或いは積層体を備えるものであっても良い。
Since the organic electroluminescence display device of one embodiment of the present invention includes the polyimide film or laminate of one embodiment of the present invention described above, it has sufficient transparency and a low phase difference. Since it has a high elastic modulus and improved bending resistance, it can be particularly preferably used for a flexible display and has excellent optical characteristics.
The laminate of one embodiment of the present invention used in the organic electroluminescence display device of one embodiment of the present invention is adjacent to both sides of the polyimide film and is at least one of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound. It preferably has a hard coat layer containing a polymer.
Further, the organic electroluminescence display device according to the embodiment of the present invention may include the touch panel member according to the embodiment of the present invention described above.
Further, the facing substrate included in the organic electroluminescence display device according to the embodiment of the present invention may include the polyimide film or the laminate according to the embodiment of the present invention.

図10は、本発明の1実施形態の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の一例を示す概略断面図である。図10に示す有機エレクトロルミネッセンス表示装置300は、本発明の1実施形態の積層体10と、本発明の1実施形態の積層体10’の一方の面に第一の透明電極4を備え、もう一方の面に第二の透明電極5を備えるタッチパネル部材20と、有機エレクトロルミネッセンス表示部40とを有する。有機エレクトロルミネッセンス表示装置300において、積層体10は表面材として用いられており、積層体10とタッチパネル部材20とは、接着層6を介して貼り合わせられている。 FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing an example of an organic electroluminescence display device according to an embodiment of the present invention. The organic electroluminescence display device 300 shown in FIG. 10 includes a first transparent electrode 4 on one surface of the laminate 10 of one embodiment of the present invention and the laminate 10'of one embodiment of the present invention. It has a touch panel member 20 having a second transparent electrode 5 on one surface, and an organic electroluminescence display unit 40. In the organic electroluminescence display device 300, the laminated body 10 is used as a surface material, and the laminated body 10 and the touch panel member 20 are bonded to each other via an adhesive layer 6.

本発明の1実施形態の有機エレクトロルミネッセンス表示装置(有機EL表示装置)に用いられる有機エレクトロルミネッセンス表示部(有機EL表示部)は、対向配置された基板の間に形成された有機エレクトロルミネッセンス層(有機EL層)を有するものであり、従来公知の有機EL表示装置に用いられている構成を採用することができる。
有機EL表示部は、さらに、支持基板と、有機EL層並びに有機EL層を挟持する陽極層及び陰極層を含む有機EL素子と、有機EL素子を封止する封止基材と、を有していてもよい。前記有機EL層としては、少なくとも有機EL発光層を有するものであれば良いが、例えば、上記陽極層側から、正孔注入層、正孔輸送層、有機EL発光層、電子輸送層および電子注入層がこの順で積層した構造を有するものを有するものを用いることができる。
本発明の有機EL表示装置は、例えば、パッシブ駆動方式の有機ELディスプレイにもアクティブ駆動方式の有機ELディスプレイにも適用可能である。本発明の有機EL表示装置に用いられる対向基板としては、有機EL表示装置の駆動方式等に応じて適宜選択して用いることができ、本発明の積層体を備えるものを用いても良い。
The organic electroluminescence display unit (organic EL display unit) used in the organic electroluminescence display device (organic EL display device) according to the first embodiment of the present invention is an organic electroluminescence layer (organic electroluminescence layer) formed between substrates arranged opposite to each other. It has an organic EL layer), and a configuration used in a conventionally known organic EL display device can be adopted.
The organic EL display unit further includes a support substrate, an organic EL element including an anode layer and a cathode layer sandwiching the organic EL layer, and a sealing base material for sealing the organic EL element. May be. The organic EL layer may be any one having at least an organic EL light emitting layer, and for example, from the anode layer side, a hole injection layer, a hole transport layer, an organic EL light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection. Those having a structure in which the layers are laminated in this order can be used.
The organic EL display device of the present invention can be applied to, for example, both a passive drive type organic EL display and an active drive type organic EL display. As the facing substrate used in the organic EL display device of the present invention, it can be appropriately selected and used according to the driving method of the organic EL display device and the like, and the one provided with the laminate of the present invention may be used.

図11は、本発明の1実施形態の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の別の一例を示す概略断面図である。図11に示す有機エレクトロルミネッセンス表示装置400は、本発明の1実施形態の積層体10と、本発明の1実施形態の積層体10’の一方の面に第一の透明電極4を備える第一の導電性部材201と、本発明の1実施形態の積層体10”の一方の面に第二の透明電極5を備える第二の導電性部材202とを有するタッチパネル部材20’と、有機エレクトロルミネッセンス表示部40とを有する。有機エレクトロルミネッセンス表示装置400において、積層体10と第一の導電性部材201、第一の導電性部材201と第二の導電性部材202とは、各々接着層6を介して貼り合わせられている。タッチパネル部材20’の構成は、例えば、図7に示すタッチパネル部材20’の構成と同様にすることができる。本発明の1実施形態の有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられる導電性部材としては、本発明の1実施形態のタッチパネル部材に用いられる導電性部材と同様のものを用いることができる。 FIG. 11 is a schematic cross-sectional view showing another example of the organic electroluminescence display device according to the embodiment of the present invention. The organic electroluminescence display device 400 shown in FIG. 11 includes a first transparent electrode 4 on one surface of the laminate 10 of one embodiment of the present invention and the laminate 10'of one embodiment of the present invention. The touch panel member 20'having the conductive member 201 of the above, the second conductive member 202 provided with the second transparent electrode 5 on one surface of the laminate 10 "of one embodiment of the present invention, and organic electroluminescence. In the organic electroluminescence display device 400 having a display unit 40, the laminate 10 and the first conductive member 201, and the first conductive member 201 and the second conductive member 202 each have an adhesive layer 6. The configuration of the touch panel member 20'that is bonded to each other can be the same as the configuration of the touch panel member 20'shown in FIG. 7. Used in the organic electroluminescence display device of one embodiment of the present invention. As the conductive member to be used, the same conductive member as that used for the touch panel member according to the embodiment of the present invention can be used.

[評価方法]
以下、特に断りがない場合は、25℃で測定又は評価を行った。
フィルムの試験片は、フィルムの中央部付近から切り出した。
フィルムの試験片は、特に断りがない場合は、温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間調湿した後、評価に用いた。
[Evaluation methods]
Hereinafter, unless otherwise specified, measurements or evaluations were performed at 25 ° C.
The test piece of the film was cut out from the vicinity of the center of the film.
Unless otherwise specified, the test piece of the film was used for evaluation after adjusting the humidity for 2 hours under the conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%.

<ポリイミド前駆体樹脂のエステル化率>
ポリイミド前駆体樹脂のエステル化率は、ポリイミド前駆体樹脂についてH NMR測定を実施し、11~15ppmに存在するカルボン酸プロトン由来のピークと1.0~1.4ppm及び3.5~4.5ppmに存在する置換されたエステルのアルキル部に由来するピークの強度比から算出する。算出式としては、ポリアミド酸のカルボン酸プロトン由来のピーク積分値を“a”とし、ポリアミド酸エステルの末端アルキルプロトンのピーク積分値を“b”とし、アルキルのプロトン数を“n”とした時に、「エステル化率(%)=(b/n)/(a + b/n)×100」から求める。例えばエステルのアルキル部がメチルの場合、ポリアミド酸のカルボン酸プロトン由来のピーク積分値を“a”とし、ポリアミド酸エステルの末端メチルプロトンのピーク積分値を“b”とした時に、「エステル化率(%)=(b/3)/(a + b/3)×100」から求める。
<Esterification rate of polyimide precursor resin>
The esterification rate of the polyimide precursor resin was measured by 1 H NMR measurement for the polyimide precursor resin, and the peak derived from the proton carboxylate present at 11 to 15 ppm and 1.0 to 1.4 ppm and 3.5 to 4. It is calculated from the intensity ratio of the peak derived from the alkyl part of the substituted ester present at 5 ppm. As a calculation formula, when the peak integrated value derived from the carboxylic acid proton of the polyamic acid is "a", the peak integrated value of the terminal alkyl proton of the polyamic acid ester is "b", and the number of alkyl protons is "n". , "Esterification rate (%) = (b / n) / (a + b / n) × 100". For example, when the alkyl portion of the ester is methyl, the "esterification rate" is set when the peak integrated value derived from the carboxylic acid proton of the polyamic acid is "a" and the peak integrated value of the terminal methyl proton of the polyamic acid ester is "b". (%) = (B / 3) / (a + b / 3) × 100 ”.

<ポリイミド前駆体樹脂の重量平均分子量>
ポリイミド前駆体樹脂の重量平均分子量は、ポリイミド前駆体樹脂を0.5重量%の濃度のN-メチルピロリドン(NMP)溶液とし、その溶液をシリンジフィルター(孔径:0.45μm)に通じて濾過させ、展開溶媒として、含水量500ppm以下の10mmol%LiBr-NMP溶液を用い、GPC装置(東ソー製、HLC-8120、使用カラム:SHODEX製GPC LF-804)を用い、サンプル打ち込み量50μL、溶媒流量0.5mL/分、40℃の条件で測定を行った。ポリイミド前駆体樹脂の重量平均分子量は、サンプルと同濃度のポリスチレン標準サンプル(重量平均分子量:364,700、204,000、103,500、44,360、27,500、13,030、6,300、3,070)を基準に測定した標準ポリスチレンに対する換算値とした。溶出時間を検量線と比較し、重量平均分子量を求めた。
<Weight average molecular weight of polyimide precursor resin>
The weight average molecular weight of the polyimide precursor resin is such that the polyimide precursor resin is prepared as a N-methylpyrrolidone (NMP) solution having a concentration of 0.5% by weight, and the solution is filtered through a syringe filter (pore size: 0.45 μm). As a developing solvent, a 10 mmol% LiBr-NMP solution having a water content of 500 ppm or less was used, and a GPC device (HLC-8120 manufactured by Tosoh Co., Ltd., column used: GPC LF-804 manufactured by SHODEX) was used, the sample injection amount was 50 μL, and the solvent flow rate was 0. The measurement was performed under the conditions of .5 mL / min and 40 ° C. The weight average molecular weight of the polyimide precursor resin is a polystyrene standard sample having the same concentration as the sample (weight average molecular weight: 364,700,204,000, 103,500, 44,360, 27,500, 13,030, 6,300). , 3,070) as a reference value for standard polystyrene. The elution time was compared with the calibration curve to determine the weight average molecular weight.

<ポリイミドの重量平均分子量>
ポリイミド粉体、又は、ポリイミドフィルム15mgを、15000mgのN-メチルピロリドン(NMP)に浸漬し、ウォーターバスで60℃に加熱しながら、スターラーを用いて回転速度200rpmで、目視で溶解を確認するまで3~60時間撹拌することにより、0.1質量%の濃度のNMP溶液を得た。その溶液をシリンジフィルター(孔径:0.45μm)に通じて濾過させ、展開溶媒として、含水量500ppm以下の30mmol%LiBr-NMP溶液を用い、GPC装置(東ソー製、HLC-8120、検出器:示差屈折率(RID)検出器、使用カラム:SHODEX製GPC LF-804を2本直列に接続)を用い、サンプル打ち込み量50μL、溶媒流量0.4mL/分、カラム温度37℃、検出器温度37℃の条件で測定を行った。ポリイミドの重量平均分子量は、サンプルと同濃度のポリスチレン標準サンプル(重量平均分子量:364,700、204,000、103,500、44,360,27,500、13,030、6,300、3,070)を基準に測定した標準ポリスチレンに対する換算値とした。溶出時間を検量線と比較し、重量平均分子量を求めた。
<Weight average molecular weight of polyimide>
Immerse 15 mg of polyimide powder or polyimide film in 15000 mg of N-methylpyrrolidone (NMP), heat to 60 ° C in a water bath, and use a stirrer at a rotation speed of 200 rpm until the dissolution is visually confirmed. Stirring for 3 to 60 hours gave an NMP solution having a concentration of 0.1% by mass. The solution is filtered through a syringe filter (pore size: 0.45 μm), and a 30 mmol% LiBr-NMP solution having a water content of 500 ppm or less is used as a developing solvent, and a GPC device (manufactured by Tosoh, HLC-8120, detector: differential) is used. Refractometer (RID) detector, column used: SHODEX GPC LF-804 connected in series), sample injection amount 50 μL, solvent flow rate 0.4 mL / min, column temperature 37 ° C, detector temperature 37 ° C The measurement was performed under the conditions of. The weight average molecular weight of the polyimide is a polystyrene standard sample having the same concentration as the sample (weight average molecular weight: 364,700, 204,000, 103,500, 44,360,27,500, 13,030, 6,300, 3, It was used as a conversion value with respect to standard polystyrene measured based on 070). The elution time was compared with the calibration curve to determine the weight average molecular weight.

<膜厚測定法>
10cm×10cmの大きさに切り出したポリイミドフィルム又は積層体の試験片の四隅と中央の計5点の膜厚を、デジタルリニアゲージ(株式会社尾崎製作所製、型式PDN12 デジタルゲージ)を用いて測定し、測定値の平均をポリイミドフィルム又は積層体の膜厚とした。
<Film thickness measurement method>
A total of 5 film thicknesses at the four corners and the center of the test piece of the polyimide film or laminate cut out to a size of 10 cm x 10 cm were measured using a digital linear gauge (manufactured by Ozaki Seisakusho Co., Ltd., model PDN12 digital gauge). The average of the measured values was taken as the film thickness of the polyimide film or the laminate.

<全光線透過率>
全光線透過率は、JIS K7361-1に準拠して、ヘイズメーター(村上色彩技術研究所製 HM150)により測定した。
<Total light transmittance>
The total light transmittance was measured by a haze meter (HM150 manufactured by Murakami Color Technology Research Institute) in accordance with JIS K7361-1.

<YI値(黄色度)>
YI値は、JIS K7373-2006に準拠して、紫外可視近赤外分光光度計(日本分光(株) V-7100)を用い、分光測色方法により、補助イルミナントC、2度視野を用いて、250nm以上800nm以下の範囲を1nm間隔で測定される透過率をもとに、XYZ表色系における三刺激値X,Y,Zを求め、そのX,Y,Zの値から以下の式より算出した。
YI=100(1.2769X-1.0592Z)/Y
<YI value (yellowness)>
The YI value is based on JIS K7373-2006, using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer (JASCO Corporation V-7100), and using an auxiliary illuminant C and a two-degree field of view by the spectrophotometric method. Based on the transmittance measured at intervals of 1 nm in the range of 250 nm or more and 800 nm or less, the tristimulus values X, Y, Z in the XYZ colorimetric system are obtained, and the values of X, Y, Z are obtained from the following equation. Calculated.
YI = 100 (1.2769X-1.592Z) / Y

<引張弾性率>
10mm×150mmに切り出したフィルムの試験片を、JIS K7127に準拠し、引張り速度を50mm/分、チャック間距離を100mmとして、25℃における引張弾性率を測定した。引張り試験機は(島津製作所製:オートグラフAG-X 1N、ロードセル:SBL-1KN)を用いた。
<Tension modulus>
A test piece of a film cut into a size of 10 mm × 150 mm was measured for a tensile elastic modulus at 25 ° C. in accordance with JIS K7127, with a tensile speed of 50 mm / min and a distance between chucks of 100 mm. A tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation: Autograph AG-X 1N, load cell: SBL-1KN) was used.

<複屈折率>
波長590nmにおける厚み方向の複屈折率は、以下のように求めた。
まず、位相差測定装置(例えば、王子計測機器株式会社製、製品名「KOBRA-WR」)を用いて、23℃、波長590nmの光で、ポリイミドフィルムの面内位相差値(Re)及び厚み方向位相差値(Rth)を測定した。厚み方向位相差値(Rth)は、0度入射の位相差値と、斜め40度入射の位相差値を測定し、これらの位相差値から厚み方向位相差値Rthを算出した。前記斜め40度入射の位相差値は、位相差フィルムの法線から40度傾けた方向から、波長590nmの光を位相差フィルムに入射させて測定した。
ポリイミドフィルムの厚み方向の複屈折率は、式:Rth/d(ポリイミドフィルムの膜厚(nm))に代入して求めた。
積層体の複屈折率もポリイミドフィルムと同様にして求めた。
<Birerefringence>
The birefringence in the thickness direction at a wavelength of 590 nm was determined as follows.
First, using a phase difference measuring device (for example, manufactured by Oji Measuring Instruments Co., Ltd., product name "KOBRA-WR"), the in-plane retardation value (Re) and thickness of the polyimide film are used with light at 23 ° C. and a wavelength of 590 nm. The directional retardation value (Rth) was measured. For the thickness direction retardation value (Rth), the phase difference value incident at 0 degrees and the phase difference value incident at an angle of 40 degrees were measured, and the thickness direction retardation value Rth was calculated from these phase difference values. The retardation value of the oblique 40-degree incident was measured by injecting light having a wavelength of 590 nm onto the retardation film from a direction inclined by 40 degrees from the normal of the retardation film.
The birefringence in the thickness direction of the polyimide film was obtained by substituting it into the formula: Rth / d (film thickness (nm) of the polyimide film).
The birefringence of the laminate was also determined in the same manner as for the polyimide film.

<動的屈曲試験(φ2.5mm)>
以下、動的屈曲試験の方法について、図1を参照して説明する。
可動部11aと非可動部11bとを備える可動式の金属板11(100mm×30mm)を2枚用意し、2枚の金属板11の非可動部11b間の距離が60mmとなるように、平行に配置する。金属板11の可動部11aを、図1の(A)に示すように、非可動部11bに対して垂直になるように折り曲げ、可動部11aの上に、20mm×100mmに切り出したポリイミドフィルムの試験片1を置き、試験片1の中央が金属板間の距離の中央に位置するように、試験片1の両端をカプトン(登録商標)テープで可動部11aに固定する。次いで、可動部11aと非可動部11bとを直線状に配置して、図1の(B)に示すような状態とし、すなわち、長辺の半分の位置で湾曲させた試験片1を両側から金属板11で挟み、両側の金属板11間の距離が60mmとなるように両側の金属板11を平行に配置した状態とする。このような状態と、図1の(C)に示すような、両側の金属板11間の距離が2.5mmとなるように両側の金属板を平行に配置した状態に、25℃、60%相対湿度(RH)の環境下で、1分間に90回の屈曲回数で繰り返し変化させ、屈曲を繰り返す。試験治具としては、恒温恒湿器内耐久試験システム(ユアサシステム機器製、面状体無負荷U字伸縮試験治具 DMX-FS)を用いることができる。
破断するまでの屈曲回数(破断回数)を測定した。
<Dynamic bending test (φ2.5 mm)>
Hereinafter, the method of the dynamic bending test will be described with reference to FIG.
Two movable metal plates 11 (100 mm × 30 mm) having a movable portion 11a and a non-movable portion 11b are prepared, and the two metal plates 11 are parallel so that the distance between the non-movable portions 11b is 60 mm. Place in. As shown in FIG. 1A, the movable portion 11a of the metal plate 11 is bent so as to be perpendicular to the non-movable portion 11b, and the polyimide film cut out on the movable portion 11a to a size of 20 mm × 100 mm is formed. The test piece 1 is placed, and both ends of the test piece 1 are fixed to the movable portion 11a with Kapton (registered trademark) tape so that the center of the test piece 1 is located at the center of the distance between the metal plates. Next, the movable portion 11a and the non-movable portion 11b are arranged in a straight line so as to be in the state shown in FIG. 1 (B), that is, the test piece 1 curved at the position of half of the long side is placed from both sides. It is sandwiched between the metal plates 11 and the metal plates 11 on both sides are arranged in parallel so that the distance between the metal plates 11 on both sides is 60 mm. In such a state and in a state where the metal plates on both sides are arranged in parallel so that the distance between the metal plates 11 on both sides is 2.5 mm as shown in FIG. 1 (C), the temperature is 25 ° C. and 60%. In a relative humidity (RH) environment, the bending is repeated 90 times per minute. As the test jig, a constant temperature and humidity constant humidity test system (manufactured by Yuasa System Equipment Co., Ltd., surface-shaped no-load U-shaped expansion and contraction test jig DMX-FS) can be used.
The number of bends (number of breaks) before breaking was measured.

<鉛筆硬度>
ポリイミドフィルムの鉛筆硬度は、測定サンプルを温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間調湿した後、JIS-S-6006が規定する試験用鉛筆を用いて、JIS K5600-5-4(1999)に規定する鉛筆硬度試験(0.98N荷重)をフィルム表面に行い、傷がつかない最も高い鉛筆硬度を評価することにより行った。試験機として、東洋精機(株)製 鉛筆引っかき塗膜硬さ試験機を用いた。
積層体の鉛筆硬度は、前記ポリイミドフィルムの鉛筆硬度の測定方法において、荷重を9.8Nとする以外は同様にして測定した。
<Pencil hardness>
The pencil hardness of the polyimide film is determined by adjusting the humidity of the measurement sample for 2 hours under the conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, and then using a test pencil specified by JIS-S-6006, JIS K5600-5-4 ( The pencil hardness test (0.98 N load) specified in 1999) was performed on the surface of the film to evaluate the highest pencil hardness that does not damage the film. As a testing machine, a pencil scratch coating film hardness testing machine manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. was used.
The pencil hardness of the laminate was measured in the same manner as in the method for measuring the pencil hardness of the polyimide film except that the load was 9.8 N.

(実施例1)
<式(a-1)で表されるテトラカルボン酸二無水物の合成>
国際公開2014/046180号公報の合成例1を参照して、下記式(a-1)で表されるテトラカルボン酸二無水物(TMPBPTME)を合成した。
(Example 1)
<Synthesis of tetracarboxylic dianhydride represented by formula (a-1)>
With reference to Synthesis Example 1 of WO2014 / 046180, a tetracarboxylic dianhydride (TMPBPTME) represented by the following formula (a-1) was synthesized.

Figure 2022011501000023
Figure 2022011501000023

<ポリイミド前駆体樹脂の合成>
500mLのセパラブルフラスコを窒素置換し、脱水されたジメチルアセトアミド(DMAc)を396.14g、及び2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(TFMB)を29.66g(92.7mmol)溶解させた溶液が液温30℃となるように制御したところに、TMPBPTME56.98g(92.1mmol)を温度上昇が2℃以下になるように徐々に投入し、メカニカルスターラーで3時間撹拌し、ポリアミド酸溶液を得た。その後、前記ポリアミド酸溶液にN,N-ジメチルホルムアミドジメチルアセタール(東京化成製)22.04g(185mmol)を添加して更に3時間撹拌することでポリアミド酸エステル溶液を得た。得られたポリアミド酸エステル溶液に水216.40gを徐々に加えて、僅かに濁りが見られる溶液を得た。濁りの見られる溶液に水649.19gを一気に加え白色スラリーを得た。上記スラリーをろ過して5回水で洗浄した後、100℃に加熱したオーブンで減圧しながら10時間乾燥させることでポリイミド前駆体樹脂1の粉体61.9gを得た。
ポリイミド前駆体樹脂1は、全カルボキシ基の99.9%がメチルエステル化されていた。
<Synthesis of polyimide precursor resin>
A 500 mL separable flask was replaced with nitrogen to dissolve 396.14 g of dehydrated dimethylacetamide (DMAc) and 29.66 g (92.7 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB). When the solution was controlled to have a liquid temperature of 30 ° C, 56.98 g (92.1 mmol) of TMPBPTME was gradually added so that the temperature rise was 2 ° C or less, and the mixture was stirred with a mechanical stirrer for 3 hours to obtain polyamic acid. A solution was obtained. Then, 22.04 g (185 mmol) of N, N-dimethylformamide dimethylacetal (manufactured by Tokyo Kasei) was added to the polyamic acid solution, and the mixture was further stirred for 3 hours to obtain a polyamic acid ester solution. 216.40 g of water was gradually added to the obtained polyamic acid ester solution to obtain a solution in which slight turbidity was observed. 649.19 g of water was added to the turbid solution at once to obtain a white slurry. The slurry was filtered, washed with water 5 times, and then dried in an oven heated to 100 ° C. under reduced pressure for 10 hours to obtain 61.9 g of a powder of the polyimide precursor resin 1.
In the polyimide precursor resin 1, 99.9% of all carboxy groups were methyl esterified.

<ポリイミドフィルムの製造>
ポリイミド前駆体樹脂1にN,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)を添加して、固形分が12%のポリイミド前駆体樹脂組成物1を調製した。
固形分が12%のポリイミド前駆体樹脂組成物1を用い、下記(1)~(2)の手順を行うことで、40μmの厚みの単層のポリイミドフィルムを製造した。
(1)ポリイミド前駆体樹脂組成物を、ガラス板上に塗布し、120℃の循環オーブンで10分乾燥後、25℃まで冷却し、ポリイミド前駆体樹脂塗膜を形成し、当該ポリイミド前駆体樹脂塗膜を剥離した。
(2)剥離したポリイミド前駆体樹脂塗膜を150mm×200mmの大きさに切り出した。金属枠(外寸150mm×200mm、内寸130mm×180mm)を2枚使用して、切り出したポリアミド酸エステル樹脂塗膜を挟持し、固定治具で金属枠とポリアミド酸エステル樹脂塗膜とを固定した。固定したポリイミド前駆体樹脂塗膜を窒素気流下(酸素濃度100ppm以下)、循環オーブン中で、昇温速度10℃/分で、300℃まで昇温し、300℃で1時間保持後、25℃まで冷却し、単層のポリイミドフィルムを製造した。
得られたポリイミドフィルムの評価結果を表1に示す。
<Manufacturing of polyimide film>
N, N-dimethylacetamide (DMAc) was added to the polyimide precursor resin 1 to prepare a polyimide precursor resin composition 1 having a solid content of 12%.
Using the polyimide precursor resin composition 1 having a solid content of 12%, the following steps (1) and (2) were carried out to produce a single-layer polyimide film having a thickness of 40 μm.
(1) The polyimide precursor resin composition is applied onto a glass plate, dried in a circulation oven at 120 ° C. for 10 minutes, cooled to 25 ° C. to form a polyimide precursor resin coating film, and the polyimide precursor resin is formed. The coating film was peeled off.
(2) The peeled polyimide precursor resin coating film was cut out to a size of 150 mm × 200 mm. Using two metal frames (outer dimensions 150 mm x 200 mm, inner dimensions 130 mm x 180 mm), the cut out polyamic acid ester resin coating film is sandwiched, and the metal frame and the polyamic acid ester resin coating film are fixed with a fixing jig. did. The fixed polyimide precursor resin coating film was heated to 300 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min in a circulation oven under a nitrogen stream (oxygen concentration 100 ppm or less), held at 300 ° C. for 1 hour, and then 25 ° C. It was cooled to the above to produce a single-layer polyimide film.
Table 1 shows the evaluation results of the obtained polyimide film.

(実施例2)
実施例1において、ポリイミド前駆体樹脂を製造する際に、N,N-ジメチルホルムアミドジメチルアセタール(東京化成製)22.04g(185mmol)を添加する代わりに、N,N-ジメチルホルムアミドジメチルアセタール(東京化成製)20.94g(176mmol)とした以外は、実施例1と同様にポリイミド前駆体樹脂2を製造した。ポリイミド前駆体樹脂2は、全カルボキシ基の95.0%がメチルエステル化されていた。
得られたポリイミド前駆体樹脂2を用いて、実施例1と同様にして、ポリイミドフィルムを製造した。
得られたポリイミドフィルムの評価結果を表1に示す。
(Example 2)
In Example 1, instead of adding 22.04 g (185 mmol) of N, N-dimethylformamide dimethylacetal (manufactured by Tokyo Kasei) when producing the polyimide precursor resin, N, N-dimethylformamide dimethylacetal (Tokyo). The polyimide precursor resin 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount was 20.94 g (176 mmol). In the polyimide precursor resin 2, 95.0% of all carboxy groups were methyl esterified.
Using the obtained polyimide precursor resin 2, a polyimide film was produced in the same manner as in Example 1.
Table 1 shows the evaluation results of the obtained polyimide film.

(実施例3)
実施例1において、ポリイミド前駆体樹脂を製造する際に、N,N-ジメチルホルムアミドジメチルアセタール(東京化成製)22.04g(185mmol)を添加する代わりに、N,N-ジメチルホルムアミドジエチルアセタール(東京化成製)25.90g(176mmol)とした以外は、実施例1と同様にポリイミド前駆体樹脂3を製造した。ポリイミド前駆体樹脂3は、全カルボキシ基の95.1%がメチルエステル化されていた。
得られたポリイミド前駆体樹脂3を用いて、実施例1と同様にして、ポリイミドフィルムを製造した。
得られたポリイミドフィルムの評価結果を表1に示す。
(Example 3)
In Example 1, when producing the polyimide precursor resin, instead of adding 22.04 g (185 mmol) of N, N-dimethylformamide dimethylacetal (manufactured by Tokyo Kasei), N, N-dimethylformamide diethylacetal (Tokyo). The polyimide precursor resin 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount was 25.90 g (176 mmol). In the polyimide precursor resin 3, 95.1% of all carboxy groups were methyl esterified.
Using the obtained polyimide precursor resin 3, a polyimide film was produced in the same manner as in Example 1.
Table 1 shows the evaluation results of the obtained polyimide film.

(実施例4)
実施例1において、ポリイミド前駆体樹脂を製造する際に、N,N-ジメチルホルムアミドジメチルアセタール(東京化成製)22.04g(185mmol)を添加する代わりに、N,N-ジメチルホルムアミドジn-プロピルアセタール(東京化成製)30.79g(176mmol)とした以外は、実施例1と同様にポリイミド前駆体樹脂4を製造した。ポリイミド前駆体樹脂4は、全カルボキシ基の95.0%がメチルエステル化されていた。
得られたポリイミド前駆体樹脂4を用いて、実施例1と同様にして、ポリイミドフィルムを製造した。
得られたポリイミドフィルムの評価結果を表1に示す。
(Example 4)
In Example 1, N, N-dimethylformamide din-propyl instead of adding 22.04 g (185 mmol) of N, N-dimethylformamide dimethylacetal (manufactured by Tokyo Kasei) when producing the polyimide precursor resin. The polyimide precursor resin 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that acetal (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.) weighed 30.79 g (176 mmol). In the polyimide precursor resin 4, 95.0% of all carboxy groups were methyl esterified.
Using the obtained polyimide precursor resin 4, a polyimide film was produced in the same manner as in Example 1.
Table 1 shows the evaluation results of the obtained polyimide film.

(実施例5)
500mLのセパラブルフラスコを窒素置換し、脱水されたジメチルアセトアミド(DMAc)を402.41g、及び2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(TFMB)を30.13g(94.1mmol)溶解させた溶液が液温30℃となるように制御したところに、TMPBPTME57.91g(93.6mmol)を温度上昇が2℃以下になるように徐々に投入し、メカニカルスターラーで3時間撹拌し、ポリアミド酸溶液を得た。その後、前記ポリアミド酸溶液にN,N-ジメチルホルムアミドジメチルアセタール(東京化成製)22.4g(189mmol)を添加して更に3時間撹拌することでポリアミド酸エステル溶液を得た。得られたポリアミド酸エステル溶液に水220.23gを徐々に加えて、僅かに濁りが見られる溶液を得た。濁りの見られる溶液に水668.81gを一気に加え白色スラリーを得た。上記スラリーをろ過して5回水で洗浄した後、100℃に加熱したオーブンで減圧しながら10時間乾燥させることでポリイミド前駆体樹脂5の粉体65.2gを得た。
ポリイミド前駆体樹脂5は、全カルボキシ基の95.1%がメチルエステル化されていた。
得られたポリイミド前駆体樹脂5を用いて、実施例1と同様にして、ポリイミドフィルムを製造した。
得られたポリイミドフィルムの評価結果を表1に示す。
(Example 5)
A 500 mL separable flask was replaced with nitrogen to dissolve 402.41 g of dehydrated dimethylacetamide (DMAc) and 30.13 g (94.1 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB). When the temperature of the solution was controlled to be 30 ° C, 57.91 g (93.6 mmol) of TMPBPTME was gradually added so that the temperature rise was 2 ° C or less, and the mixture was stirred with a mechanical stirrer for 3 hours to obtain polyamic acid. A solution was obtained. Then, 22.4 g (189 mmol) of N, N-dimethylformamide dimethylacetal (manufactured by Tokyo Kasei) was added to the polyamic acid solution, and the mixture was further stirred for 3 hours to obtain a polyamic acid ester solution. 220.23 g of water was gradually added to the obtained polyamic acid ester solution to obtain a solution in which slight turbidity was observed. 668.81 g of water was added to the turbid solution at once to obtain a white slurry. The slurry was filtered, washed with water 5 times, and then dried in an oven heated to 100 ° C. under reduced pressure for 10 hours to obtain 65.2 g of a powder of the polyimide precursor resin 5.
In the polyimide precursor resin 5, 95.1% of all carboxy groups were methyl esterified.
Using the obtained polyimide precursor resin 5, a polyimide film was produced in the same manner as in Example 1.
Table 1 shows the evaluation results of the obtained polyimide film.

(実施例6)
500mLのセパラブルフラスコを窒素置換し、脱水されたジメチルアセトアミド(DMAc)を388.37g、及び2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(TFMB)を29.08g(90.8mmol)溶解させた溶液が液温30℃となるように制御したところに、TMPBPTME55.27g(89.3mmol)を温度上昇が2℃以下になるように徐々に投入し、メカニカルスターラーで3時間撹拌し、ポリアミド酸溶液を得た。その後、前記ポリアミド酸溶液にN,N-ジメチルホルムアミドジメチルアセタール(東京化成製)20.36g(171mmol)を添加して更に3時間撹拌することでポリアミド酸エステル溶液を得た。得られたポリアミド酸エステル溶液に水211.40gを徐々に加えて、僅かに濁りが見られる溶液を得た。濁りの見られる溶液に水635.2gを一気に加え白色スラリーを得た。上記スラリーをろ過して5回水で洗浄した後、100℃に加熱したオーブンで減圧しながら10時間乾燥させることでポリイミド前駆体樹脂6の粉体57.6gを得た。
ポリイミド前駆体樹脂6は、全カルボキシ基の95.2%がメチルエステル化されていた。
得られたポリイミド前駆体樹脂6を用いて、実施例1と同様にして、ポリイミドフィルムを製造した。
得られたポリイミドフィルムの評価結果を表1に示す。
(Example 6)
A 500 mL separable flask was replaced with nitrogen to dissolve 388.37 g of dehydrated dimethylacetamide (DMAc) and 29.08 g (90.8 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB). When the solution was controlled to have a liquid temperature of 30 ° C., 55.27 g (89.3 mmol) of TMPBPTME was gradually added so that the temperature rise was 2 ° C. or less, and the mixture was stirred with a mechanical stirrer for 3 hours to obtain polyamic acid. A solution was obtained. Then, 20.36 g (171 mmol) of N, N-dimethylformamide dimethylacetal (manufactured by Tokyo Kasei) was added to the polyamic acid solution, and the mixture was further stirred for 3 hours to obtain a polyamic acid ester solution. 211.40 g of water was gradually added to the obtained polyamic acid ester solution to obtain a solution in which slight turbidity was observed. 635.2 g of water was added to the turbid solution at once to obtain a white slurry. The slurry was filtered, washed with water 5 times, and then dried in an oven heated to 100 ° C. under reduced pressure for 10 hours to obtain 57.6 g of a powder of the polyimide precursor resin 6.
In the polyimide precursor resin 6, 95.2% of all carboxy groups were methyl esterified.
Using the obtained polyimide precursor resin 6, a polyimide film was produced in the same manner as in Example 1.
Table 1 shows the evaluation results of the obtained polyimide film.

(比較例1)
実施例1において、ポリイミド前駆体樹脂を製造する際に、N,N-ジメチルホルムアミドジメチルアセタール(東京化成製)22.04g(185mmol)を添加する代わりに、N,N-ジメチルホルムアミドジメチルアセタール(東京化成製)20.71g(173mmol)とした以外は、実施例1と同様に比較ポリイミド前駆体樹脂1を製造した。比較ポリイミド前駆体樹脂1は、全カルボキシ基の94.0%がメチルエステル化されていた。
得られた比較ポリイミド前駆体樹脂1を用いて、実施例1と同様にして、ポリイミドフィルムC1を製造した。
得られたポリイミドフィルムの評価結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
In Example 1, instead of adding 22.04 g (185 mmol) of N, N-dimethylformamide dimethylacetal (manufactured by Tokyo Kasei) when producing the polyimide precursor resin, N, N-dimethylformamide dimethylacetal (Tokyo). A comparative polyimide precursor resin 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount was 20.71 g (173 mmol). In the comparative polyimide precursor resin 1, 94.0% of all carboxy groups were methyl esterified.
Using the obtained comparative polyimide precursor resin 1, a polyimide film C1 was produced in the same manner as in Example 1.
Table 1 shows the evaluation results of the obtained polyimide film.

(比較例2)
<ポリアミド酸の合成>
500mLのセパラブルフラスコを窒素置換し、脱水されたジメチルアセトアミド(DMAc)を396.14g、及び、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(TFMB)を29.66g(92.7mmol)溶解させた溶液が液温30℃となるように制御したところに、TMPBPTME56.98g(92.1mmol)を温度上昇が2℃以下になるように徐々に投入し、メカニカルスターラーで3時間撹拌することにより、ポリアミド酸溶液を得た。
(Comparative Example 2)
<Synthesis of polyamic acid>
A 500 mL separable flask was substituted with nitrogen to dissolve 396.14 g of dehydrated dimethylacetamide (DMAc) and 29.66 g (92.7 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB). When the solution was controlled to have a liquid temperature of 30 ° C., 56.98 g (92.1 mmol) of TMPBPTME was gradually added so that the temperature rise was 2 ° C. or lower, and the mixture was stirred with a mechanical stirrer for 3 hours. , A polyamic acid solution was obtained.

<ポリイミドフィルムの製造>
前記ポリアミド酸溶液にN,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)を添加することにより、固形分12%の比較ポリイミド前駆体樹脂組成物C2を調製した。
実施例1のポリイミドフィルムの製造において、ポリイミド前駆体樹脂組成物1を用いる代わりに、比較ポリイミド前駆体樹脂組成物C2を用いた以外は、実施例1と同様にして、比較例2のポリイミドフィルムC2を得た。
得られたポリイミドフィルムの評価結果を表1に示す。
<Manufacturing of polyimide film>
By adding N, N-dimethylacetamide (DMAc) to the polyamic acid solution, a comparative polyimide precursor resin composition C2 having a solid content of 12% was prepared.
In the production of the polyimide film of Example 1, the polyimide film of Comparative Example 2 was used in the same manner as in Example 1 except that the comparative polyimide precursor resin composition C2 was used instead of the polyimide precursor resin composition 1. I got C2.
Table 1 shows the evaluation results of the obtained polyimide film.

(比較例3)
<ポリイミドの合成>
500mLのセパラブルフラスコを窒素置換し、脱水されたジメチルアセトアミド(DMAc)を396.14g、及び、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(TFMB)を29.66g(92.7mmol)溶解させた溶液が液温30℃となるように制御したところに、TMPBPTME56.98g(92.1mmol)を温度上昇が2℃以下になるように徐々に投入し、メカニカルスターラーで3時間撹拌する事でポリアミド酸溶液を得た。次に触媒であるピリジン1.69g(16.6mmol)及び無水酢酸32.20g(412.8mmol)を投入して、更に3時間撹拌することでポリイミド溶液を得た。その後、常温まで冷却させた溶液に対して、2-プロピルアルコール(IPA)216.40gを徐々に加え、僅かに濁りが見られる溶液を得た。濁りの見られる溶液にIPA324.59gを一気に加え白色スラリーを得た。上記スラリーをろ過して5回IPAで洗浄した後、100℃に加熱したオーブンで減圧しながら6時間乾燥させることでポリイミドC3の粉体60.4gを得た。
(Comparative Example 3)
<Synthesis of polyimide>
A 500 mL separable flask was substituted with nitrogen to dissolve 396.14 g of dehydrated dimethylacetamide (DMAc) and 29.66 g (92.7 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB). When the temperature of the solution was controlled to be 30 ° C, 56.98 g (92.1 mmol) of TMPBPTME was gradually added so that the temperature rise was 2 ° C or less, and the mixture was stirred with a mechanical stirrer for 3 hours. A polyamic acid solution was obtained. Next, 1.69 g (16.6 mmol) of pyridine and 32.20 g (412.8 mmol) of acetic anhydride as catalysts were added, and the mixture was further stirred for 3 hours to obtain a polyimide solution. Then, 216.40 g of 2-propyl alcohol (IPA) was gradually added to the solution cooled to room temperature to obtain a solution in which slight turbidity was observed. IPA324.59 g was added to the turbid solution at once to obtain a white slurry. The slurry was filtered and washed with IPA 5 times, and then dried in an oven heated to 100 ° C. under reduced pressure for 6 hours to obtain 60.4 g of polyimide C3 powder.

<ポリイミドフィルムの製造>
前記ポリイミドC3の固形分濃度が19質量%となるように、ポリイミドC3にDMAcを添加して、ポリイミドC3がワニス中に19質量%のポリイミドワニスC3を作製した。
ポリイミドワニスC3を用い、下記(i)~(ii)の手順を行うことで、40μmの厚みの単層のポリイミドフィルムC3を作製した。
(i)ポリイミドワニスC3を、ガラス板上に塗布し、120℃の循環オーブンで10分乾燥後、25℃まで冷却し、ポリイミド樹脂塗膜を剥離した。
(ii)剥離したポリイミド樹脂塗膜を150mm×200mmの大きさに切り出した。金属枠(外寸150mm×200mm、内寸130mm×180mm)を2枚使用して、切り出したポリイミド樹脂塗膜を挟持し、固定治具で金属枠とポリイミド樹脂塗膜とを固定した。固定したポリイミド樹脂塗膜を窒素気流下(酸素濃度100ppm以下)、循環オーブン中で、昇温速度10℃/分で、300℃まで昇温し、300℃で1時間保持後、25℃まで冷却し、単層のポリイミドフィルムC3を製造した。
得られたポリイミドフィルムの評価結果を表1に示す。
<Manufacturing of polyimide film>
DMAc was added to the polyimide C3 so that the solid content concentration of the polyimide C3 was 19% by mass to prepare a polyimide varnish C3 in which the polyimide C3 was 19% by mass in the varnish.
By performing the following procedures (i) to (ii) using the polyimide varnish C3, a single-layer polyimide film C3 having a thickness of 40 μm was produced.
(I) Polyimide varnish C3 was applied onto a glass plate, dried in a circulation oven at 120 ° C. for 10 minutes, cooled to 25 ° C., and the polyimide resin coating film was peeled off.
(Ii) The peeled polyimide resin coating film was cut out to a size of 150 mm × 200 mm. Two metal frames (outer dimensions 150 mm × 200 mm, inner dimensions 130 mm × 180 mm) were used to sandwich the cut out polyimide resin coating film, and the metal frame and the polyimide resin coating film were fixed with a fixing jig. The fixed polyimide resin coating film is heated to 300 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min in a circulation oven under a nitrogen stream (oxygen concentration 100 ppm or less), held at 300 ° C. for 1 hour, and then cooled to 25 ° C. Then, a single-layer polyimide film C3 was produced.
Table 1 shows the evaluation results of the obtained polyimide film.

Figure 2022011501000024
Figure 2022011501000024

[表1のまとめ]
従来のポリイミド前駆体であるポリアミド酸を用いて熱イミド化して製造された比較例2のポリイミドフィルムは、フィルム製造後にポリイミドの分子量が低下してしまい、屈曲耐性が悪いものであり、透明性も低下してしまった。
エステル化率が低い比較ポリイミド前駆体樹脂1を用いて熱イミド化して製造された比較例1のポリイミドフィルムも、フィルム製造後にポリイミドの分子量が低下してしまい、屈曲耐性が悪化し、透明性も低下してしまった。
特許文献2に相当する比較例3のポリイミドフィルムは、弾性率は高く、屈曲耐性も良好なものの、位相差が高く、複屈折率が大きかった。
それに対して、本発明のエステル化されたポリイミド前駆体樹脂を用いて熱イミド化して製造された実施例1及び2のポリイミドフィルムは、フィルム製造後にポリイミドの分子量が低下することなく、屈曲耐性が良好なものであり、透明性も低下せず良好で、弾性率が高く、位相差が比較例1及び2よりもさらに低いポリイミドフィルムであった。
[Summary of Table 1]
The polyimide film of Comparative Example 2 produced by thermally imidizing using polyamic acid, which is a conventional polyimide precursor, has a low molecular weight of polyimide after film production, has poor bending resistance, and has high transparency. It has dropped.
The polyimide film of Comparative Example 1 produced by thermal imidization using the comparative polyimide precursor resin 1 having a low esterification rate also has a decrease in the molecular weight of the polyimide after the film is produced, which deteriorates bending resistance and transparency. It has dropped.
The polyimide film of Comparative Example 3 corresponding to Patent Document 2 had a high elastic modulus and good bending resistance, but had a high phase difference and a large birefringence.
On the other hand, the polyimide films of Examples 1 and 2 produced by thermal imidization using the esterified polyimide precursor resin of the present invention have bending resistance without reducing the molecular weight of the polyimide after film production. The polyimide film was good, had good transparency without deterioration, had a high elastic modulus, and had a phase difference even lower than that of Comparative Examples 1 and 2.

(実施例7)
<ポリイミド前駆体樹脂の合成>
500mLのセパラブルフラスコを窒素置換し、脱水されたジメチルアセトアミド(DMAc)を392.37g、及び2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(TFMB)を36.08g(112.7mmol)溶解させた溶液が液温30℃となるように制御したところに4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物(6FDA)49.19g(110.7mmol)を温度上昇が2℃以下になるように徐々に投入し、メカニカルスターラーで3時間撹拌し、ポリアミド酸溶液を得た。その後、前記ポリアミド酸溶液にN,N-ジメチルホルムアミドジメチルアセタール(東京化成製)24.99g(209.7mmol)を添加して更に3時間撹拌することでポリアミド酸エステル溶液を得た。得られたポリアミド酸エステル溶液に水226.55gを徐々に加えて、僅かに濁りが見られる溶液を得た。濁りの見られる溶液に水453.1gを一気に加え白色スラリーを得た。上記スラリーをろ過して5回水で洗浄した後、100℃に加熱したオーブンで減圧しながら10時間乾燥させることでポリイミド前駆体樹脂7の粉体62.9gを得た。
ポリイミド前駆体樹脂7は、全カルボキシ基の95.1%がメチルエステル化されていた。
得られたポリイミド前駆体樹脂7を用いて、実施例1と同様にして、ポリイミドフィルムを製造した。
得られたポリイミドフィルムの評価結果を表2に示す。
(Example 7)
<Synthesis of polyimide precursor resin>
A 500 mL separable flask was replaced with nitrogen to dissolve 392.37 g of dehydrated dimethylacetamide (DMAc) and 36.08 g (112.7 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB). When the temperature of the solution was controlled to be 30 ° C, 49.19 g (110.7 mmol) of 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid anhydride (6FDA) was added, and the temperature rise became 2 ° C or less. The mixture was gradually added and stirred with a mechanical stirrer for 3 hours to obtain a polyamic acid solution. Then, 24.99 g (209.7 mmol) of N, N-dimethylformamide dimethylacetal (manufactured by Tokyo Kasei) was added to the polyamic acid solution, and the mixture was further stirred for 3 hours to obtain a polyamic acid ester solution. 226.55 g of water was gradually added to the obtained polyamic acid ester solution to obtain a solution in which slight turbidity was observed. 453.1 g of water was added to the turbid solution at once to obtain a white slurry. The slurry was filtered, washed with water 5 times, and then dried in an oven heated to 100 ° C. under reduced pressure for 10 hours to obtain 62.9 g of a powder of the polyimide precursor resin 7.
In the polyimide precursor resin 7, 95.1% of all carboxy groups were methyl esterified.
Using the obtained polyimide precursor resin 7, a polyimide film was produced in the same manner as in Example 1.
Table 2 shows the evaluation results of the obtained polyimide film.

(比較例4)
<ポリアミド酸の合成>
500mLのセパラブルフラスコを窒素置換し、脱水されたジメチルアセトアミド(DMAc)を402.4g、及び2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(TFMB)を37.00g(115.5mmol)溶解させた溶液が液温30℃となるように制御したところに6FDA50.92g(114.6mmol)を温度上昇が2℃以下になるように徐々に投入し、メカニカルスターラーで3時間撹拌しポリアミド酸溶液を得た。
(Comparative Example 4)
<Synthesis of polyamic acid>
A 500 mL separable flask was replaced with nitrogen to dissolve 402.4 g of dehydrated dimethylacetamide (DMAc) and 37.0 g (115.5 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB). When the temperature of the solution was controlled to be 30 ° C, 50.92 g (114.6 mmol) of 6FDA was gradually added so that the temperature rise was 2 ° C or less, and the mixture was stirred with a mechanical stirrer for 3 hours to prepare the polyamic acid solution. Obtained.

<ポリイミドフィルムの製造>
前記ポリアミド酸溶液にN,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)を添加することにより、固形分12%の比較ポリイミド前駆体樹脂組成物C4を調製した。
実施例1のポリイミドフィルムの製造において、ポリイミド前駆体樹脂組成物1を用いる代わりに、比較ポリイミド前駆体樹脂組成物C4を用いた以外は、実施例1と同様にして、比較例4のポリイミドフィルムC4を得た。
得られたポリイミドフィルムの評価結果を表2に示す。
<Manufacturing of polyimide film>
By adding N, N-dimethylacetamide (DMAc) to the polyamic acid solution, a comparative polyimide precursor resin composition C4 having a solid content of 12% was prepared.
In the production of the polyimide film of Example 1, the polyimide film of Comparative Example 4 was used in the same manner as in Example 1 except that the comparative polyimide precursor resin composition C4 was used instead of the polyimide precursor resin composition 1. Obtained C4.
Table 2 shows the evaluation results of the obtained polyimide film.

(比較例5)
<ポリイミドの合成>
500mLのセパラブルフラスコを窒素置換し、脱水されたジメチルアセトアミド(DMAc)を398.58g、及び、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(TFMB)を36.65g(114.4mmol)溶解させた溶液が液温30℃となるように制御したところに、6FDA50.54g(113.8mmol)を温度上昇が2℃以下になるように徐々に投入し、メカニカルスターラーで3時間撹拌する事でポリアミド酸溶液を得た。次に触媒であるピリジン1.73g(79.1mmol)及び無水酢酸55.85g(547.1mmol)を投入して、更に3時間撹拌することでポリイミド溶液を得た。その後、常温まで冷却させた溶液に対して、2-プロピルアルコール(IPA)233.65gを徐々に加え、僅かに濁りが見られる溶液を得た。濁りの見られる溶液にIPA467.5gを一気に加え白色スラリーを得た。上記スラリーをろ過して5回IPAで洗浄した後、100℃に加熱したオーブンで減圧しながら6時間乾燥させることでポリイミドC5の粉体66.1gを得た。
(Comparative Example 5)
<Synthesis of polyimide>
A 500 mL separable flask was substituted with nitrogen to dissolve 398.58 g of dehydrated dimethylacetamide (DMAc) and 36.65 g (114.4 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB). When the temperature of the solution was controlled to be 30 ° C, 50.54 g (113.8 mmol) of 6FDA was gradually added so that the temperature rise was 2 ° C or less, and the mixture was stirred with a mechanical stirrer for 3 hours. A polyamic acid solution was obtained. Next, 1.73 g (79.1 mmol) of pyridine and 55.85 g (547.1 mmol) of acetic anhydride as catalysts were added, and the mixture was further stirred for 3 hours to obtain a polyimide solution. Then, 233.65 g of 2-propyl alcohol (IPA) was gradually added to the solution cooled to room temperature to obtain a solution in which slight turbidity was observed. IPA467.5 g was added to the turbid solution at once to obtain a white slurry. The slurry was filtered and washed with IPA 5 times, and then dried in an oven heated to 100 ° C. under reduced pressure for 6 hours to obtain 66.1 g of polyimide C5 powder.

<ポリイミドフィルムの製造>
比較例3において、前記ポリイミドC3の代わりに、前記ポリイミドC5を用いた以外は、比較例3と同様にして、単層のポリイミドフィルムC5を製造した。
得られたポリイミドフィルムの評価結果を表2に示す。
<Manufacturing of polyimide film>
In Comparative Example 3, a single-layer polyimide film C5 was produced in the same manner as in Comparative Example 3 except that the polyimide C5 was used instead of the polyimide C3.
Table 2 shows the evaluation results of the obtained polyimide film.

(実施例8)
<ポリイミド前駆体樹脂の合成>
500mLのセパラブルフラスコを窒素置換し、脱水されたジメチルアセトアミド(DMAc)を385.52g、及び2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(TFMB)を50.34g(157.2mmol)溶解させた溶液が液温30℃となるように制御したところにピロメリット酸二無水物(PMDA)24.15g(110.7mmol)を温度上昇が2℃以下になるように徐々に投入し、メカニカルスターラーで3時間撹拌し、ポリアミド酸溶液を得た。その後、前記ポリアミド酸溶液にN,N-ジメチルホルムアミドジメチルアセタール(東京化成製)53.53g(449.2mmol)を添加して更に3時間撹拌することでポリアミド酸エステル溶液を得た。得られたポリアミド酸エステル溶液に水223.3gを徐々に加えて、僅かに濁りが見られる溶液を得た。濁りの見られる溶液に水446.2gを一気に加え白色スラリーを得た。上記スラリーをろ過して5回水で洗浄した後、100℃に加熱したオーブンで減圧しながら10時間乾燥させることでポリイミド前駆体樹脂8の粉体66.7gを得た。
ポリイミド前駆体樹脂8は、全カルボキシ基の95.0%がメチルエステル化されていた。
得られたポリイミド前駆体樹脂8を用いて、実施例1と同様にして、ポリイミドフィルムを製造した。
得られたポリイミドフィルムの評価結果を表2に示す。
(Example 8)
<Synthesis of polyimide precursor resin>
A 500 mL separable flask was replaced with nitrogen to dissolve 385.52 g of dehydrated dimethylacetamide (DMAc) and 50.34 g (157.2 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB). When the temperature of the solution was controlled to be 30 ° C, 24.15 g (110.7 mmol) of pyromellitic dianhydride (PMDA) was gradually added so that the temperature rise was 2 ° C or less, and a mechanical stirrer was added. Was stirred for 3 hours to obtain a polyamic acid solution. Then, 53.53 g (449.2 mmol) of N, N-dimethylformamide dimethylacetal (manufactured by Tokyo Kasei) was added to the polyamic acid solution, and the mixture was further stirred for 3 hours to obtain a polyamic acid ester solution. 223.3 g of water was gradually added to the obtained polyamic acid ester solution to obtain a solution in which slight turbidity was observed. 446.2 g of water was added to the turbid solution at once to obtain a white slurry. The slurry was filtered, washed with water 5 times, and then dried in an oven heated to 100 ° C. under reduced pressure for 10 hours to obtain 66.7 g of a powder of the polyimide precursor resin 8.
In the polyimide precursor resin 8, 95.0% of all carboxy groups were methyl esterified.
Using the obtained polyimide precursor resin 8, a polyimide film was produced in the same manner as in Example 1.
Table 2 shows the evaluation results of the obtained polyimide film.

(比較例6)
<ポリアミド酸の合成>
500mLのセパラブルフラスコを窒素置換し、脱水されたジメチルアセトアミド(DMAc)を398.19g、及び2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(TFMB)を51.99g(162.4mmol)溶解させた溶液が液温30℃となるように制御したところにPMDA35.13g(161.1mmol)を温度上昇が2℃以下になるように徐々に投入し、メカニカルスターラーで3時間撹拌し、ポリアミド酸溶液を得た。
(Comparative Example 6)
<Synthesis of polyamic acid>
A 500 mL separable flask was replaced with nitrogen to dissolve 398.19 g of dehydrated dimethylacetamide (DMAc) and 51.99 g (162.4 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB). When the temperature of the solution was controlled to be 30 ° C, 35.13 g (161.1 mmol) of PMDA was gradually added so that the temperature rise was 2 ° C or less, and the mixture was stirred with a mechanical stirrer for 3 hours to prepare a polyamic acid solution. Got

<ポリイミドフィルムの製造>
前記ポリアミド酸溶液にN,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)を添加することにより、固形分12%の比較ポリイミド前駆体樹脂組成物C6を調製した。
実施例1のポリイミドフィルムの製造において、ポリイミド前駆体樹脂組成物1を用いる代わりに、比較ポリイミド前駆体樹脂組成物C6を用いた以外は、実施例1と同様にして、比較例6のポリイミドフィルムC6を得た。
得られたポリイミドフィルムの評価結果を表2に示す。
<Manufacturing of polyimide film>
By adding N, N-dimethylacetamide (DMAc) to the polyamic acid solution, a comparative polyimide precursor resin composition C6 having a solid content of 12% was prepared.
In the production of the polyimide film of Example 1, the polyimide film of Comparative Example 6 was used in the same manner as in Example 1 except that the comparative polyimide precursor resin composition C6 was used instead of the polyimide precursor resin composition 1. I got C6.
Table 2 shows the evaluation results of the obtained polyimide film.

(比較例7)
<ポリイミドの合成>
500mLのセパラブルフラスコを窒素置換し、脱水されたジメチルアセトアミド(DMAc)を405.60g、及び、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(TFMB)を52.96g(165.4mmol)溶解させた溶液が液温30℃となるように制御したところに、PMDA35.82g(164.2mmol)を温度上昇が2℃以下になるように徐々に投入し、メカニカルスターラーで3時間撹拌する事でポリアミド酸溶液を得た。次に触媒であるピリジン2.598g(32.8mmol)及び無水酢酸83.83g(821.1mmol)を投入して、更に3時間撹拌することでポリイミド溶液を得た。その後、常温まで冷却させた溶液に対して、2-プロピルアルコール(IPA)247.3gを徐々に加え、僅かに濁りが見られる溶液を得た。濁りの見られる溶液にIPA494.6gを一気に加え白色スラリーを得た。上記スラリーをろ過して5回IPAで洗浄した後、100℃に加熱したオーブンで減圧しながら6時間乾燥させることでポリイミドC7の粉体69.9gを得た。
(Comparative Example 7)
<Synthesis of polyimide>
A 500 mL separable flask was substituted with nitrogen to dissolve 405.60 g of dehydrated dimethylacetamide (DMAc) and 52.96 g (165.4 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB). When the temperature of the solution was controlled to be 30 ° C, 35.82 g (164.2 mmol) of PMDA was gradually added so that the temperature rise was 2 ° C or less, and the mixture was stirred with a mechanical stirrer for 3 hours. A polyamic acid solution was obtained. Next, 2.598 g (32.8 mmol) of pyridine and 83.83 g (821.1 mmol) of acetic anhydride as catalysts were added, and the mixture was further stirred for 3 hours to obtain a polyimide solution. Then, 247.3 g of 2-propyl alcohol (IPA) was gradually added to the solution cooled to room temperature to obtain a solution in which slight turbidity was observed. IPA494.6 g was added to the turbid solution at once to obtain a white slurry. The slurry was filtered and washed with IPA 5 times, and then dried in an oven heated to 100 ° C. under reduced pressure for 6 hours to obtain 69.9 g of polyimide C7 powder.

<ポリイミドフィルムの製造>
比較例3において、前記ポリイミドC3の代わりに、前記ポリイミドC7を用いた以外は、比較例3と同様にして、単層のポリイミドフィルムC7を製造した。
得られたポリイミドフィルムの評価結果を表2に示す。
<Manufacturing of polyimide film>
In Comparative Example 3, a single-layer polyimide film C7 was produced in the same manner as in Comparative Example 3 except that the polyimide C7 was used instead of the polyimide C3.
Table 2 shows the evaluation results of the obtained polyimide film.

Figure 2022011501000025
Figure 2022011501000025

(実施例9~14、比較例8~10:積層体の製造)
下記組成のハードコート層用樹脂組成物を調製した。
(ハードコート層用樹脂組成物)
・ペンタエリスリトールトリアクリレートの40質量%メチルイソブチルケトン溶液:固形分65質量部
・シリカ微粒子(日産化学製、MIBK-SD-L、メチルイソブチルケトン分散シリカゾル、SiO 30質量%):固形分30質量部
・1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン(BASF製、イルガキュア184)固形分5質量部
実施例1~6、及び比較例1~3の各ポリイミドフィルム上に前記ハードコート層用樹脂組成物を塗布し、紫外線を窒素気流下200mJ/cmの露光量で照射し硬化させ、約10μm膜厚の硬化膜(ハードコート層)を形成し、積層体を製造した。
得られた積層体の評価結果を表3に示す。
(Examples 9 to 14, Comparative Examples 8 to 10: Production of laminated body)
A resin composition for a hard coat layer having the following composition was prepared.
(Resin composition for hard coat layer)
・ 40% by mass methyl isobutyl ketone solution of pentaerythritol triacrylate: 65 parts by mass of solid content ・ Silica fine particles (MIBK-SD-L manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., methyl isobutyl ketone dispersed silica sol, SiO 2 30% by mass): 30% by mass of solid content Part 1-Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (BASF, Irgacure 184) 5 parts by mass solid content The resin composition for the hard coat layer is placed on each of the polyimide films of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3. It was applied and cured by irradiating it with ultraviolet rays at an exposure amount of 200 mJ / cm 2 under a nitrogen stream to form a cured film (hard coat layer) having a film thickness of about 10 μm, and a laminate was produced.
Table 3 shows the evaluation results of the obtained laminate.

Figure 2022011501000026
Figure 2022011501000026

(実施例15~16:積層体の製造)
実施例7及び8と同様にしてポリイミドフィルムを製造した。その後、得られた各ポリイミドフィルム上に前記実施例9と同じハードコート層用樹脂組成物を塗布し、ハードコート層形成用塗膜を形成し、当該ハードコート層形成用塗膜に紫外線を窒素気流下200mJ/cmの露光量で照射して硬化させ、約10μm膜厚の硬化膜(ハードコート層)を形成し、積層体を製造した。
得られた積層体の評価結果を表4に示す。
(Examples 15 to 16: Production of laminated body)
Polyimide films were produced in the same manner as in Examples 7 and 8. Then, the same resin composition for a hard coat layer as in Example 9 is applied onto each of the obtained polyimide films to form a coating film for forming a hard coat layer, and ultraviolet rays are applied to the coating film for forming the hard coat layer. It was cured by irradiating it with an exposure amount of 200 mJ / cm 2 under an air stream to form a cured film (hardcoat layer) having a film thickness of about 10 μm, and a laminate was produced.
Table 4 shows the evaluation results of the obtained laminate.

Figure 2022011501000027
Figure 2022011501000027

Claims (13)

下記一般式(1-1)又は下記一般式(1-2)
Figure 2022011501000028
(一般式(1-1)及び(1-2)において、Aは、下記グループA1及び下記グループA2からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基である4価の基を表し、Bは下記グループB1及び下記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基である2価の基を表し、Rは水素原子又は炭素数1~10のアルキル基を表す。)で表される構成単位を有し、
<グループA1:4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、及び下記化学式(a-1)で表される酸二無水物>
Figure 2022011501000029
<グループA2:ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、及びp-フェニレンビス(トリメリテート無水物)>
<グループB1:2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、ビス(4-アミノフェニル)スルホン、及びビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン>
<グループB2:フェニレンジアミン、4-アミノ安息香酸4-アミノフェニル、ビス(4-アミノフェニル)テレフタレート、4,4’-ジアミノベンズアニリド、及びN,N’-ビス(4-アミノフェニル)テレフタルアミド>
前記一般式(1-1)及び(1-2)において、前記グループA1からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基であるA、及び、前記グループB1からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基であるBの少なくとも一方を含有し、
前記一般式(1-1)及び(1-2)中に含まれる全てのRに対する95.0%以上が炭素数1~10のアルキル基であり、
更に、下記一般式(2)
Figure 2022011501000030
{一般式(2)において、Xは下記式(x1)~(x4)
Figure 2022011501000031
(式(x3)において、Lは、-O-、-S-、-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、又は-CO-を表し、*は結合手を表す。)で表される構造からなる群から選択される少なくとも1つの2価の基を表し、Bは前記グループB1及び前記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基である2価の基を表す。}で表される構成単位を有していてもよく、
ゲル浸透クロマトグラフィーのポリスチレン換算による重量平均分子量が108,000以上である、ポリイミド前駆体樹脂。
The following general formula (1-1) or the following general formula (1-2)
Figure 2022011501000028
(In the general formulas (1-1) and (1-2), A is a tetravalent residue of at least one tetracarboxylic acid dianhydride selected from the group consisting of the following groups A1 and the following groups A2. B represents a divalent group which is a residue of at least one diamine selected from the group consisting of the following group B1 and the following group B2, and R represents a hydrogen atom or an alkyl having 1 to 10 carbon atoms. It has a structural unit represented by () and is represented by a group.
<Group A1: 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, and the following chemical formula (a-1). Acid dianhydride>
Figure 2022011501000029
<Group A2: pyromellitic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, and p-phenylenebis (trimeritate anhydride)>
<Group B1: 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, bis (4-aminophenyl) sulfone, and bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone>
<Group B2: Phenylene diamine, 4-aminophenyl 4-aminobenzoic acid, bis (4-aminophenyl) terephthalate, 4,4'-diaminobenzanilide, and N, N'-bis (4-aminophenyl) terephthalamide. >
In the general formulas (1-1) and (1-2), it consists of A which is a residue of at least one tetracarboxylic dianhydride selected from the group consisting of the group A1 and the group B1. Containing at least one of B, which is a residue of at least one diamine selected from the group,
95.0% or more of all R contained in the general formulas (1-1) and (1-2) are alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms.
Furthermore, the following general formula (2)
Figure 2022011501000030
{In the general formula (2), X is the following formulas (x1) to (x4).
Figure 2022011501000031
(In equation (x3), L is -O-, -S-, -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , or. -CO-, * represents at least one divalent group selected from the group consisting of the structures represented by), and B represents the group consisting of the group B1 and the group B2. Represents a divalent group that is a residue of at least one diamine to be made. } May have a structural unit represented by
A polyimide precursor resin having a weight average molecular weight of 108,000 or more in terms of polystyrene in gel permeation chromatography.
前記一般式(1-1)及び(1-2)において、Aが4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、及び前記化学式(a-1)で表されるからなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基である4価の基を表す、請求項1に記載のポリイミド前駆体樹脂。 In the general formulas (1-1) and (1-2), A is 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid anhydride, cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, and the chemical formula (a-1). The polyimide precursor resin according to claim 1, which represents a tetravalent group which is a residue of at least one tetracarboxylic acid anhydride selected from the group consisting of. 前記一般式(1-1)及び(1-2)において、Bが2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンの残基である2価の基を表す、請求項1又は2に記載のポリイミド前駆体樹脂。 The second aspect of claim 1 or 2, wherein in the general formulas (1-1) and (1-2), B represents a divalent group which is a residue of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine. Polyimide precursor resin. 請求項1~3のいずれか1項に記載のポリイミド前駆体樹脂と、有機溶剤とを含むポリイミド前駆体樹脂組成物を調製する工程と、
前記ポリイミド前駆体樹脂組成物を支持体に塗布して、ポリイミド前駆体樹脂塗膜を形成する工程と、
前記ポリイミド前駆体樹脂塗膜を加熱することにより、前記ポリイミド前駆体樹脂をイミド化する工程と、を含むポリイミドフィルムの製造方法。
A step of preparing a polyimide precursor resin composition containing the polyimide precursor resin according to any one of claims 1 to 3 and an organic solvent.
A step of applying the polyimide precursor resin composition to a support to form a polyimide precursor resin coating film, and a step of forming the polyimide precursor resin coating film.
A method for producing a polyimide film, comprising a step of imidizing the polyimide precursor resin by heating the polyimide precursor resin coating film.
前記請求項4に記載のポリイミドフィルムの製造方法により、ポリイミドフィルムを製造する工程と、
前記ポリイミドフィルムの少なくとも一面に、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種を含有するハードコート層用組成物を塗布して、ハードコート層形成用塗膜を形成する工程と、
前記ハードコート層形成用塗膜を硬化することにより、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有するハードコート層を形成する工程と、を含む積層体の製造方法。
A step of manufacturing a polyimide film by the method for manufacturing a polyimide film according to claim 4;
A step of applying a composition for a hard coat layer containing at least one of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound to at least one surface of the polyimide film to form a coating film for forming a hard coat layer.
A method for producing a laminate, comprising a step of forming a hard coat layer containing at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound by curing the coating film for forming a hard coat layer.
下記一般式(1’)
Figure 2022011501000032
(一般式(1’)において、Aは、下記グループA1及び下記グループA2からなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基である4価の基を表し、Bは下記グループB1及び下記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基である2価の基を表す。)で表される構成単位を有し、
<グループA1:4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、及び下記化学式(a-1)で表される酸二無水物>
Figure 2022011501000033
<グループA2:ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸ニ無水物、及びp-フェニレンビス(トリメリテート無水物)>
<グループB1:2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、ビス(4-アミノフェニル)スルホン、及びビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン>
<グループB2:フェニレンジアミン、4-アミノ安息香酸4-アミノフェニル、ビス(4-アミノフェニル)テレフタレート、4,4’-ジアミノベンズアニリド、及びN,N’-ビス(4-アミノフェニル)テレフタルアミド>
前記一般式(1’)において、Aは、少なくとも前記化学式(a-1)で表される酸二無水物の残基である4価の基を含有し、
更に、下記一般式(2)
Figure 2022011501000034
{一般式(2)において、Xは下記式(x1)~(x4)
Figure 2022011501000035
(式(x3)において、Lは、-O-、-S-、-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、又は-CO-を表し、*は結合手を表す。)で表される構造からなる群から選択される少なくとも1つの2価の基を表し、Bは前記グループB1及び前記グループB2からなる群から選択される少なくとも1種のジアミンの残基である2価の基を表す。}で表される構成単位を有していてもよいポリイミド樹脂を含有し、
JIS K7361-1に準拠して測定する全光線透過率が、膜厚40μmの換算値で85.0%以上であり、JIS K7373-2006に準拠して算出される黄色度を膜厚(μm)で除した値が、0.15未満であり、
波長590nmにおける厚み方向の複屈折率が、0.025未満であり、
10mm×150mmの試験片を、JIS K7127に準拠し、引張り速度を50mm/分、チャック間距離を100mmとして、25℃で測定する引張試験における引張弾性率が4.0GPa以上であり、且つ、下記動的屈曲試験において、屈曲回数が10万回以上である、ポリイミドフィルム。
(動的屈曲試験)
20mm×100mmの試験片を、長辺の半分の位置で湾曲させて、平行に配置した金属板で挟み、両側の金属板間の距離が60mmから2.5mmとなるように25℃、60%相対湿度(RH)の環境下で、1分間に90回の屈曲回数で繰り返し変化させ、試験片の屈曲を繰り返す。
The following general formula (1')
Figure 2022011501000032
(In the general formula (1'), A represents a tetravalent group which is a residue of at least one tetracarboxylic acid dianhydride selected from the group consisting of the following groups A1 and the following groups A2, and B is. It has a structural unit represented by a divalent group which is a residue of at least one diamine selected from the group consisting of the following group B1 and the following group B2).
<Group A1: 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride, 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, and the following chemical formula (a-1). Acid dianhydride>
Figure 2022011501000033
<Group A2: pyromellitic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, and p-phenylenebis (trimeritate anhydride)>
<Group B1: 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, bis (4-aminophenyl) sulfone, and bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone>
<Group B2: Phenylene diamine, 4-aminophenyl 4-aminobenzoic acid, bis (4-aminophenyl) terephthalate, 4,4'-diaminobenzanilide, and N, N'-bis (4-aminophenyl) terephthalamide. >
In the general formula (1'), A contains at least a tetravalent group which is a residue of the acid dianhydride represented by the chemical formula (a-1).
Furthermore, the following general formula (2)
Figure 2022011501000034
{In the general formula (2), X is the following formulas (x1) to (x4).
Figure 2022011501000035
(In equation (x3), L is -O-, -S-, -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , or. -CO-, * represents at least one divalent group selected from the group consisting of the structures represented by), and B represents the group consisting of the group B1 and the group B2. Represents a divalent group that is a residue of at least one diamine to be made. Contains a polyimide resin that may have a structural unit represented by }.
The total light transmittance measured according to JIS K7361-1 is 85.0% or more in terms of the film thickness of 40 μm, and the yellowness calculated according to JIS K7373-2006 is the film thickness (μm). The value divided by is less than 0.15,
The birefringence in the thickness direction at a wavelength of 590 nm is less than 0.025.
A test piece of 10 mm × 150 mm has a tensile elastic modulus of 4.0 GPa or more in a tensile test measured at 25 ° C., with a tensile speed of 50 mm / min and a distance between chucks of 100 mm, in accordance with JIS K7127, and is as follows. A polyimide film having a bending count of 100,000 or more in a dynamic bending test.
(Dynamic bending test)
A 20 mm × 100 mm test piece is curved at the half position of the long side, sandwiched between metal plates arranged in parallel, and 25 ° C., 60% so that the distance between the metal plates on both sides is 60 mm to 2.5 mm. In a relative humidity (RH) environment, the test piece is repeatedly bent 90 times per minute.
前記一般式(1)において、Aが4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、及び前記化学式(a-1)で表されるからなる群から選択される少なくとも1種のテトラカルボン酸二無水物の残基である4価の基を表す、請求項6に記載のポリイミドフィルム。 In the general formula (1), A consists of a group consisting of 4,4'-(hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid anhydride, cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, and the chemical formula (a-1). The polyimide film according to claim 6, which represents a tetravalent group which is a residue of at least one tetracarboxylic acid anhydride selected. 前記一般式(1)において、Bが2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンの残基である2価の基を表す、請求項6又は7に記載のポリイミドフィルム。 The polyimide film according to claim 6 or 7, wherein in the general formula (1), B represents a divalent group which is a residue of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine. 請求項6乃至8のいずれか一項に記載のポリイミドフィルムと、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有するハードコート層とを有する積層体。 A laminate having the polyimide film according to any one of claims 6 to 8 and a hard coat layer containing at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound. 請求項6乃至8のいずれか一項に記載のポリイミドフィルム、又は、請求項9に記載の積層体である、ディスプレイ用部材。 A display member which is the polyimide film according to any one of claims 6 to 8 or the laminate according to claim 9. 請求項6乃至8のいずれか一項に記載のポリイミドフィルム又は請求項9に記載の積層体と、
前記ポリイミドフィルム又は前記積層体の一方の面側に配置された、複数の導電部からなる透明電極と、
前記導電部の端部の少なくとも一方側において電気的に接続される複数の取り出し線と、を有するタッチパネル部材。
The polyimide film according to any one of claims 6 to 8 or the laminate according to claim 9 and the laminate.
A transparent electrode composed of a plurality of conductive portions arranged on one surface side of the polyimide film or the laminate,
A touch panel member having a plurality of take-out wires electrically connected on at least one side of the end of the conductive portion.
請求項6乃至8のいずれか一項に記載のポリイミドフィルム又は請求項9に記載の積層体と、
前記ポリイミドフィルム又は前記積層体の一方の面側に配置された、対向基板間に液晶層を有してなる液晶表示部と、を有する液晶表示装置。
The polyimide film according to any one of claims 6 to 8 or the laminate according to claim 9 and the laminate.
A liquid crystal display device having a liquid crystal display unit having a liquid crystal layer between facing substrates, which is arranged on one surface side of the polyimide film or the laminated body.
請求項6乃至8のいずれか一項に記載のポリイミドフィルム又は請求項9に記載の積層体と、
前記ポリイミドフィルム又は前記積層体の一方の面側に配置された、対向基板間に有機エレクトロルミネッセンス層を有してなる有機エレクトロルミネッセンス表示部と、を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
The polyimide film according to any one of claims 6 to 8 or the laminate according to claim 9 and the laminate.
An organic electroluminescence display device having an organic electroluminescence display unit having an organic electroluminescence layer between facing substrates arranged on one surface side of the polyimide film or the laminate.
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