JP2022011433A - Wiring board, and manufacturing method and designing method for wiring board - Google Patents

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Abstract

To provide a wiring board including a wire intersecting with another wire on one surface of a substrate, in which the thickness of the intersecting wires is substantially uniform, and a manufacturing method and a designing method for the wiring board.SOLUTION: A wiring board includes a substrate including a first surface and a second surface on the opposite side of the first surface, a first wire provided to the first surface of the substrate and including a first part extending in a first direction on the first surface, a second wire provided to the first surface of the substrate and including a second part extending in a second direction intersecting with the first direction on the first surface, and an insulating part covering at least the first part of the first wire. The second part of the second wire is a printed wire formed by printing on the insulating part.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、配線基板、配線基板の製造方法及び配線基板の設計方法に関する。 The present disclosure relates to a wiring board, a method for manufacturing a wiring board, and a method for designing a wiring board.

近年、電子機器の高機能化、小型化等に伴い、電子機器等に用いられる各種の素子を実装するための配線基板の小型化が進行している。これにより、配線基板における配線の高密度化、配線の微細化等が進行し、基板の一方面にすべての配線を形成するのが困難となってきている。このような状況下において、複数の配線を交差させて配置することで、配線の高密度化、配線の微細化等に対応し、より多数の配線を基板の一方面に形成することができる。 In recent years, along with the sophistication and miniaturization of electronic devices, the miniaturization of wiring boards for mounting various elements used in electronic devices and the like has been progressing. As a result, the density of wiring on the wiring board is increasing, the wiring is miniaturized, and the like, and it is becoming difficult to form all the wiring on one surface of the substrate. Under such circumstances, by arranging a plurality of wirings in a crossed manner, it is possible to cope with high density wiring, miniaturization of wirings, and the like, and to form a larger number of wirings on one surface of the substrate.

複数の配線を交差させて配置する方法として、例えば、配線層と絶縁層とを交互に積層し、絶縁層の厚さ方向に設けられるビア(層間接続体)を介して、絶縁層の積層方向上下に設けられる配線層同士を電気的に接続する多層配線基板が知られている(特許文献1参照)。また、有機エレクトロルミネッセンス表示装置等に用いられる薄膜トランジスタ(TFT)基板において、基板の一方面上に形成した走査線や信号線の上に絶縁層を介して交差する電源線を形成する方法が知られている(特許文献2参照)。 As a method of arranging a plurality of wirings in a crossed manner, for example, the wiring layers and the insulating layers are alternately laminated, and the insulating layer is laminated via vias (interlayer connectors) provided in the thickness direction of the insulating layer. A multi-layer wiring board that electrically connects the wiring layers provided above and below is known (see Patent Document 1). Further, in a thin film transistor (TFT) substrate used for an organic electroluminescence display device or the like, a method of forming a power supply line intersecting with a scanning line or a signal line formed on one surface of the substrate via an insulating layer is known. (See Patent Document 2).

特開2014-179518号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-179518 特開2006-186154号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-186154

上記特許文献1に記載の多層配線基板を用いることで、配線基板の小型化、それに伴う配線の高密度化や微細化に対応することができる。しかしながら、上記多層配線基板を製造するためには、配線層と絶縁層とを順に積層形成し、かつ絶縁層の積層方向上下に設けられている配線層同士を電気的に接続するためのビアを絶縁層に形成しなければならない。そのため、多層配線基板の製造にかかる工程数が多くなり、多層配線基板の製造に多大な時間とコストがかかるという問題がある。 By using the multilayer wiring board described in Patent Document 1, it is possible to cope with the miniaturization of the wiring board and the accompanying increase in the density and miniaturization of the wiring. However, in order to manufacture the multilayer wiring board, a via is formed in which the wiring layer and the insulating layer are laminated in order and the wiring layers provided above and below the insulating layer in the stacking direction are electrically connected to each other. It must be formed on the insulating layer. Therefore, there is a problem that the number of steps required for manufacturing the multilayer wiring board increases, and it takes a lot of time and cost to manufacture the multilayer wiring board.

上記特許文献2に記載のTFT基板は、例えば、以下の工程により製造される。まず、走査線(又は信号線)と当該走査線(又は信号線)を両側から挟む電源線パターンとを基板上に形成する。次に、当該電源線パターンに挟まれる走査線(又は信号線)上に絶縁層を形成する。そして、当該絶縁層上に電源線パターンを無電解めっきにより電気的に接続するめっき金属を形成する。これにより、走査線(又は信号線)及びそれに交差する電源線を形成する。電源線パターンを電気的に接続するめっき金属は、走査線(又は信号線)を挟む2つの電源線パターンからともに成長し、走査線(又は信号線)を被覆する絶縁層上で互いに接合して形成される。そのため、2つの電源線パターンを電気的に接続するめっき金属の膜厚が不均一になってしまうという問題がある。 The TFT substrate described in Patent Document 2 is manufactured by, for example, the following process. First, a scanning line (or signal line) and a power supply line pattern sandwiching the scanning line (or signal line) from both sides are formed on the substrate. Next, an insulating layer is formed on the scanning line (or signal line) sandwiched between the power supply line patterns. Then, a plated metal that electrically connects the power supply line pattern by electroless plating is formed on the insulating layer. This forms a scanning line (or signal line) and a power line intersecting it. The plated metal that electrically connects the power line patterns grows together from the two power line patterns that sandwich the scan line (or signal line) and joins each other on the insulating layer that covers the scan line (or signal line). It is formed. Therefore, there is a problem that the film thickness of the plated metal that electrically connects the two power line patterns becomes non-uniform.

また、TFT基板には複数の走査線(又は信号線)とそれに交差する複数の電源線とが形成されるため、TFT基板の面内における複数箇所において電源線パターンを電気的に接続するめっき金属が形成される。しかしながら、複数箇所のめっき金属のすべての膜厚が実質的に同一となるように、TFT基板の面内におけるめっきの成長速度を均一に制御することは極めて困難である。特に、TFT基板の面内において走査線(又は信号線)上に交差するめっき金属の面内方向における長さ(交差距離)にばらつきがある場合には、TFT基板の面内におけるめっき金属の膜厚にばらつきを生じさせてしまうという問題がある。 Further, since a plurality of scanning lines (or signal lines) and a plurality of power supply lines intersecting the scanning lines are formed on the TFT substrate, a plated metal that electrically connects the power supply line patterns at a plurality of locations in the plane of the TFT substrate. Is formed. However, it is extremely difficult to uniformly control the growth rate of plating in the plane of the TFT substrate so that the film thicknesses of all the plated metals at the plurality of locations are substantially the same. In particular, when the length (intersection distance) of the plated metal intersecting the scanning line (or signal line) in the plane of the TFT substrate varies in the in-plane direction, the film of the plated metal in the plane of the TFT substrate is formed. There is a problem that the thickness varies.

上記課題に鑑みて、本開示は、基板の一方面上で一の配線に交差する配線を有し、当該交差する配線の膜厚が実質的に均一である配線基板、並びに当該配線基板の製造方法及び設計方法を提供することを一目的とする。 In view of the above problems, the present disclosure discloses a wiring board having wirings intersecting one wiring on one surface of the substrate and having a substantially uniform film thickness of the intersecting wirings, and manufacturing of the wiring board. One purpose is to provide a method and a design method.

上記課題を解決するために、本開示の一実施形態として、第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を有する基板と、前記基板の前記第1面に設けられ、前記第1面上における第1方向に延びる第1部分を含む第1配線と、前記基板の前記第1面に設けられ、前記第1面上における前記第1方向に交差する第2方向に延びる第2部分を含む第2配線と、少なくとも前記第1部分を被覆する絶縁部とを備え、前記第2配線の前記第2部分は、前記絶縁部上に印刷により形成されている印刷配線である配線基板が提供される。 In order to solve the above-mentioned problems, as one embodiment of the present disclosure, a substrate having a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and a substrate provided on the first surface of the substrate are provided. A first wiring including a first portion extending in the first direction on the first surface, and a second wiring provided on the first surface of the substrate and extending in a second direction intersecting the first direction on the first surface. A wiring including a second wiring including two portions and an insulating portion covering at least the first portion, and the second portion of the second wiring is a printed wiring formed on the insulating portion by printing. A substrate is provided.

また、本開示の一実施形態として、第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を有する基板と、前記基板の前記第1面に設けられ、前記第1面上における第1方向に延びる複数の第1部分を含む第1配線と、前記基板の前記第1面に設けられ、前記第1面上における前記第1方向に交差する第2方向に延びる第2部分を含む第2配線と、少なくとも前記複数の第1部分を一体的に被覆する絶縁部とを備え、前記複数の第1部分は、前記第1方向に対する直交方向に沿って並列しており、前記第2配線の前記第2部分は、前記絶縁部上に設けられている配線基板が提供される。 Further, as an embodiment of the present disclosure, a substrate having a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and a first surface provided on the first surface of the substrate and on the first surface. A first wiring including a plurality of first portions extending in one direction, and a second portion provided on the first surface of the substrate and extending in a second direction intersecting the first direction on the first surface. A second wiring and an insulating portion that integrally covers at least the plurality of first portions are provided, and the plurality of first portions are arranged in parallel along a direction orthogonal to the first direction, and the second portion is described. The second portion of the wiring is provided with a wiring board provided on the insulating portion.

前記第1配線は、前記第1方向に直交する方向に沿って並列する複数の前記第1部分を含み、前記絶縁部は、前記複数の第1部分を一体に被覆していてもよく、隣接する前記第1部分の間隔が、40μm~10000μmの範囲内であればよい。 The first wiring includes a plurality of the first portions arranged in parallel along a direction orthogonal to the first direction, and the insulating portion may integrally cover the plurality of first portions and is adjacent to each other. The distance between the first portions may be in the range of 40 μm to 10000 μm.

前記第2方向に沿った断面視において、前記絶縁部の前記第2方向における中央部の厚さが、前記第2方向における両端部の厚さよりも厚ければよく、前記絶縁部の厚さは、前記絶縁部の前記両端部から前記中央部に向かって徐々に厚くなっていればよく、前記第1面を上方に位置させた状態での前記第2方向に沿った断面視において、前記絶縁部は上方に向かって凸状に湾曲していてもよく、前記第2配線は、前記第2方向に直交する方向に沿って並列する複数の前記第2部分を含み、隣接する前記第2部分の間隔が、60μm~10000μmの範囲内であればよい。 In a cross-sectional view along the second direction, the thickness of the central portion of the insulating portion in the second direction may be thicker than the thickness of both ends in the second direction, and the thickness of the insulating portion is It suffices to gradually increase the thickness from both ends of the insulating portion toward the central portion, and in a cross-sectional view along the second direction with the first surface positioned upward, the insulating portion is used. The portion may be curved upwardly, and the second wiring includes a plurality of the second portions arranged in parallel along a direction orthogonal to the second direction, and the second portion adjacent to the second portion. The interval may be in the range of 60 μm to 10000 μm.

一の前記第2配線は、複数の前記第2部分を含んでいてもよく、前記複数の第2部分は、一の前記絶縁部上に形成されていてもよく、前記第2方向における前記第2部分の長さが、前記第2方向における前記絶縁部の長さよりも長くてもよく、前記第2方向に直交する方向における前記第2部分の長さが、前記第2方向に直交する方向における前記絶縁部の長さよりも短くてもよい。 The second wiring may include a plurality of the second portions, and the plurality of second portions may be formed on the insulating portion of the one, and the second portion in the second direction may be formed. The length of the two portions may be longer than the length of the insulating portion in the second direction, and the length of the second portion in the direction orthogonal to the second direction is orthogonal to the second direction. It may be shorter than the length of the insulating portion in the above.

本開示の一実施形態として、第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を有する基板と、前記基板の前記第1面上に設けられている第1配線及び第2配線を有する配線基板を製造する方法であって、前記第1配線は、前記第1面上における第1方向に延びる第1部分を含み、前記第2配線は、前記第1面上における前記第1方向に交差する第2方向に延びる第2部分を含み、前記配線基板の製造方法は、前記基板の前記第1面上に、前記第1配線と、前記第1配線の前記第1部分を前記第2方向に沿って両側から挟む少なくとも一組の第2配線パターンとを形成する工程と、少なくとも前記第1部分を被覆する絶縁部を形成する工程と、前記絶縁部上に前記第2配線パターン同士を電気的に接続する前記第2部分としての交差配線を形成する工程とを含み、前記交差配線は、前記絶縁部上に導電性ペースト又は導電性インクを用いた印刷により形成される配線基板の製造方法が提供される。 As one embodiment of the present disclosure, a substrate having a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and first wiring and second wiring provided on the first surface of the substrate. The first wiring includes a first portion extending in a first direction on the first surface, and the second wiring is the first portion on the first surface. The method for manufacturing the wiring board includes the first wiring and the first portion of the first wiring on the first surface of the board, including a second portion extending in a second direction intersecting the directions. A step of forming at least a set of second wiring patterns sandwiched from both sides along a second direction, a step of forming an insulating portion covering at least the first portion, and the second wiring pattern on the insulating portion. The cross wiring includes a step of forming the cross wiring as the second part for electrically connecting the two to each other, and the cross wiring is a wiring substrate formed by printing with a conductive paste or a conductive ink on the insulating portion. Manufacturing method is provided.

本開示の一実施形態として、第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を有する基板と、前記基板の前記第1面上に設けられている第1配線及び第2配線を有する配線基板を製造する方法であって、前記第1配線は、前記第1面上における第1方向に延びる複数の第1部分を含み、前記第2配線は、前記第1面上における前記第1方向に交差する第2方向に延びる第2部分を含み、前記配線基板の製造方法は、前記基板の前記第1面上に、前記複数の第1部分が前記第1方向に直交する方向に沿って並列するように前記第1配線を形成する工程と、前記基板の前記第1面上に、前記第1配線の前記複数の第1部分を前記第2方向に沿って両側から挟む少なくとも一組の第2配線パターンを形成する工程と、少なくとも前記第1部分を一体に被覆する絶縁部を形成する工程と、前記絶縁部上に前記第2配線パターン同士を電気的に接続する前記第2部分としての交差配線を形成する工程とを含む配線基板の製造方法が提供される。 As one embodiment of the present disclosure, a substrate having a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and first wiring and second wiring provided on the first surface of the substrate. The first wiring includes a plurality of first portions extending in a first direction on the first surface, and the second wiring is the same on the first surface. The method for manufacturing the wiring board includes a second portion extending in a second direction intersecting the first direction, and the method of manufacturing the wiring board is a direction in which the plurality of first portions are orthogonal to the first direction on the first surface of the board. At least in the step of forming the first wiring so as to be parallel to each other and sandwiching the plurality of first portions of the first wiring on the first surface of the substrate from both sides along the second direction. The step of forming a set of second wiring patterns, the step of forming an insulating portion that integrally covers at least the first portion, and the first step of electrically connecting the second wiring patterns to each other on the insulating portion. A method for manufacturing a wiring board including a step of forming cross wiring as two parts is provided.

複数の前記第1部分が前記第1方向に直交する方向に沿って並列するように前記第1配線を形成し、前記複数の第1部分を一体として被覆する前記絶縁部を形成してもよく、隣接する前記第1部分の間隔が40μm~10000μmの範囲内となるように前記第1配線を形成してもよい。 The first wiring may be formed so that the plurality of the first portions are parallel to each other along a direction orthogonal to the first direction, and the insulating portion that integrally covers the plurality of first portions may be formed. The first wiring may be formed so that the distance between the adjacent first portions is within the range of 40 μm to 10,000 μm.

前記第2方向に沿った断面を見たときに、前記第2方向における前記絶縁部の中央部の厚さが両端部の厚さよりも厚くなるように、前記絶縁部を形成してもよく、前記絶縁部の厚さが前記絶縁部の前記両端部から前記中央部に向かって徐々に厚くなるように、前記絶縁部を形成してもよく、前記第2方向に直交する方向に沿って並列する複数組の前記第2配線パターンを、隣接する前記第2配線パターンの間隔が60μm~10000mの範囲内となるように形成してもよい。 The insulating portion may be formed so that the thickness of the central portion of the insulating portion in the second direction is thicker than the thickness of both ends when the cross section along the second direction is viewed. The insulating portion may be formed so that the thickness of the insulating portion gradually increases from both ends of the insulating portion toward the central portion, and the insulating portions may be formed in parallel along a direction orthogonal to the second direction. A plurality of sets of the second wiring patterns may be formed so that the distance between the adjacent second wiring patterns is within the range of 60 μm to 10000 m.

前記複数組の第2配線パターンのそれぞれを電気的に接続する複数の前記交差配線を、一の前記絶縁部上に形成してもよく、前記第2方向における前記交差配線の長さが前記第2方向における前記絶縁部の長さよりも長くなるように、前記交差配線を形成してもよく、前記交差配線の線幅方向における前記交差配線の長さが前記交差配線の線幅方向における前記絶縁部の長さよりも短くなるように、前記交差配線を形成してもよい。 A plurality of the cross wirings that electrically connect each of the plurality of sets of the second wiring patterns may be formed on one of the insulating portions, and the length of the cross wirings in the second direction is the first. The cross wiring may be formed so as to be longer than the length of the insulating portion in two directions, and the length of the cross wiring in the line width direction of the cross wiring may be longer than the length of the insulation portion in the line width direction of the cross wiring. The cross wiring may be formed so as to be shorter than the length of the portion.

本開示の一実施形態として、上記製造方法により製造される配線基板を設計する方法であって、前記第2配線パターンと前記交差配線との接触長さLを決定する工程と、前記交差配線の幅W、前記絶縁部の幅W、前記第1部分の側面から前記交差配線の端部までの長さL及び前記第1部分の側面から前記絶縁部の端部までの長さLを算出する工程とを含み、前記絶縁部の形成尤度α、前記交差配線の形成尤度α及び前記第2配線パターンと前記交差配線との接触長さLに基づき、下記式に示す関係を満足するように前記交差配線の幅W、前記絶縁部の幅W、前記第1部分の側面から前記交差配線の端部までの長さL及び前記第1部分の側面から前記絶縁部の端部までの長さLを算出する配線基板の設計方法が提供される。
≧W+2α ・・・(1)
≧W+2(α+α) ・・・(2)
≧D+α ・・・(3)
≧L+L+α+α ・・・(4)
上記式(1)において、Wは「第2配線パターンの線幅の設計値」を表す。
As one embodiment of the present disclosure, there is a method of designing a wiring board manufactured by the above manufacturing method, wherein the step of determining the contact length L between the second wiring pattern and the cross wiring, and the cross wiring. Width WM , width WI of the insulating portion, length LM from the side surface of the first portion to the end of the cross wiring, and length L from the side surface of the first portion to the end of the insulating portion. Including the step of calculating I , based on the formation probability α I of the insulating portion, the formation probability α M of the cross wiring, and the contact length L between the second wiring pattern and the cross wiring, the following equation is used. From the width WM of the cross wiring, the width WI of the insulation portion, the length LM from the side surface of the first portion to the end portion of the cross wiring, and the side surface of the first portion so as to satisfy the relationship shown. A method for designing a wiring board for calculating the length LI to the end of the insulating portion is provided.
WM ≧ W 2 + 2α M ... (1)
WI ≧ WM +2 (α M + α I ) ・ (2)
L I ≧ D + α I・ ・ ・ (3)
LM ≧ LI + L + α M + α I ・ (4)
In the above equation (1), W 2 represents "the design value of the line width of the second wiring pattern".

本開示によれば、基板の一方面上で一の配線に交差する配線を有し、当該交差する配線の膜厚が実質的に均一である配線基板、並びに当該配線基板の製造方法及び設計方法を提供することができる。 According to the present disclosure, a wiring board having wiring intersecting one wiring on one surface of the substrate and having a substantially uniform film thickness of the intersecting wiring, and a method for manufacturing and designing the wiring board. Can be provided.

図1は、本開示の一実施形態に係る配線基板の要部の概略構成を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a main part of a wiring board according to an embodiment of the present disclosure. 図2は、本開示の一実施形態に係る配線基板の要部の概略構成を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a schematic configuration of a main part of a wiring board according to an embodiment of the present disclosure. 図3は、本開示の一実施形態に係る配線基板の要部の概略構成を示す、図2におけるA-A線切断端面図である。FIG. 3 is a cut end view taken along line AA in FIG. 2, showing a schematic configuration of a main part of a wiring board according to an embodiment of the present disclosure. 図4は、本開示の一実施形態に係る配線基板の要部の他の態様の概略構成を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a schematic configuration of another aspect of the main part of the wiring board according to the embodiment of the present disclosure. 図5は、本開示の一実施形態に係る配線基板の要部の他の態様の概略構成を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing a schematic configuration of another aspect of the main part of the wiring board according to the embodiment of the present disclosure. 図6は、本開示の一実施形態に係る配線基板の要部の概略構成を示す部分拡大切断端面図である。FIG. 6 is a partially enlarged cut end view showing a schematic configuration of a main part of a wiring board according to an embodiment of the present disclosure. 図7は、本開示の一実施形態に係る配線基板の要部の他の態様の概略構成を示す平面図である。FIG. 7 is a plan view showing a schematic configuration of another aspect of the main part of the wiring board according to the embodiment of the present disclosure. 図8は、本開示の一実施形態に係る配線基板の要部の他の態様の概略構成を示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing a schematic configuration of another aspect of the main part of the wiring board according to the embodiment of the present disclosure. 図9は、本開示の一実施形態に係る配線基板の要部の他の態様の概略構成を示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing a schematic configuration of another aspect of the main part of the wiring board according to the embodiment of the present disclosure. 図10は、本開示の一実施形態に係る配線基板の要部の他の態様の概略構成を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view showing a schematic configuration of another aspect of the main part of the wiring board according to the embodiment of the present disclosure. 図11Aは、本開示の一実施形態に係る配線基板の製造方法の一工程を説明するための平面図である。FIG. 11A is a plan view for explaining one step of the method for manufacturing a wiring board according to an embodiment of the present disclosure. 図11Bは、本開示の一実施形態に係る配線基板の製造方法の一工程であって、図11Aに続く工程を説明するための平面図である。FIG. 11B is a plan view for explaining a step of the wiring board manufacturing method according to the embodiment of the present disclosure, which follows the step of FIG. 11A. 図11Cは、本開示の一実施形態に係る配線基板の製造方法の一工程であって、図11Bに続く工程を説明するための平面図である。FIG. 11C is a plan view for explaining a step of the wiring board manufacturing method according to the embodiment of the present disclosure, which follows the step of FIG. 11B. 図11Dは、本開示の一実施形態に係る配線基板の製造方法の一工程であって、図11Cに続く工程を説明するための平面図である。FIG. 11D is a plan view for explaining a step of the wiring board manufacturing method according to the embodiment of the present disclosure, which follows the step of FIG. 11C. 図11Eは、本開示の一実施形態に係る配線基板の製造方法の一工程であって、図11Dに続く工程を説明するための平面図である。FIG. 11E is a plan view for explaining a step of the wiring board manufacturing method according to the embodiment of the present disclosure, which follows the step of FIG. 11D. 図12Aは、本開示の一実施形態に係る配線基板の製造方法の一工程を説明するための切断端面図である。FIG. 12A is a cut end view for explaining one step of the method for manufacturing a wiring board according to an embodiment of the present disclosure. 図12Bは、本開示の一実施形態に係る配線基板の製造方法の一工程であって、図12Aに続く工程を説明するための切断端面図である。FIG. 12B is a cut end view for explaining a step of the wiring board manufacturing method according to the embodiment of the present disclosure, which follows the step of FIG. 12A. 図12Cは、本開示の一実施形態に係る配線基板の製造方法の一工程であって、図12Bに続く工程を説明するための切断端面図である。FIG. 12C is a cut end view for explaining a step of the wiring board manufacturing method according to the embodiment of the present disclosure, which follows the step of FIG. 12B. 図12Dは、本開示の一実施形態に係る配線基板の製造方法の一工程であって、図12Cに続く工程を説明するための切断端面図である。FIG. 12D is a cut end view for explaining a step of the wiring board manufacturing method according to the embodiment of the present disclosure, which follows the step of FIG. 12C. 図12Eは、本開示の一実施形態に係る配線基板の製造方法の一工程であって、図12Dに続く工程を説明するための切断端面図である。FIG. 12E is a cut end view for explaining a step of the wiring board manufacturing method according to the embodiment of the present disclosure, which follows the step of FIG. 12D. 図13は、本開示の一実施形態に係る配線基板の設計方法を説明するための平面図である。FIG. 13 is a plan view for explaining a method of designing a wiring board according to an embodiment of the present disclosure. 図14は、本開示の一実施形態に係る配線基板の要部の他の態様の概略構成を示す平面図である。FIG. 14 is a plan view showing a schematic configuration of another aspect of the main part of the wiring board according to the embodiment of the present disclosure.

本開示の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
当該図面においては、理解を容易にするために、各部の形状、縮尺、縦横の寸法比等を、実物から変更したり、誇張したりして示している場合がある。本明細書等において「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値のそれぞれを下限値及び上限値として含む範囲であることを意味する。本明細書等において、「フィルム」、「シート」、「板」等の用語は、呼称の相違に基づいて相互に区別されない。例えば、「板」は、「シート」、「フィルム」と一般に呼ばれ得るような部材をも含む概念である。
Embodiments of the present disclosure will be described with reference to the drawings.
In the drawings, in order to facilitate understanding, the shape, scale, aspect ratio, etc. of each part may be changed or exaggerated from the actual product. The numerical range represented by using "-" in the present specification and the like means a range including each of the numerical values described before and after "-" as a lower limit value and an upper limit value. In the present specification and the like, terms such as "film", "sheet", and "board" are not distinguished from each other based on the difference in designation. For example, "board" is a concept that also includes members that may be commonly referred to as "sheets" or "films".

図1は、本実施形態に係る配線基板の要部の概略構成を示す斜視図であり、図2は、本実施形態に係る配線基板の要部の概略構成を示す平面図であり、図3は、図2におけるA-A線切断端面図である FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a main part of a wiring board according to the present embodiment, and FIG. 2 is a plan view showing a schematic configuration of a main part of the wiring board according to the present embodiment. Is a cut end view of the line AA in FIG.

本実施形態に係る配線基板1は、第1面21及び当該第1面21の反対側に位置する第2面22を有する基板2と、基板2の第1面21に設けられた第1配線3及び第2配線4とを有する。本実施形態に係る配線基板1は、配線基板1が用いられる電子機器の種類に応じた一又は複数の電子部品が搭載されるものである。本実施形態に係る配線基板1において、第1配線3及び第2配線4は、それらの間に絶縁部5を介在させて互いに交差する部分を含む配線である。以下、第1配線3における交差部分を「第1部分」と称する場合があり、第2配線4における交差部分を「第2部分」と称する場合がある。なお、本実施形態に係る配線基板1においては、他の配線と交差することのない配線が基板2の第1面21に設けられていてもよい。 The wiring board 1 according to the present embodiment includes a substrate 2 having a first surface 21 and a second surface 22 located on the opposite side of the first surface 21, and a first wiring provided on the first surface 21 of the substrate 2. It has 3 and a second wiring 4. The wiring board 1 according to the present embodiment is equipped with one or a plurality of electronic components according to the type of electronic device in which the wiring board 1 is used. In the wiring board 1 according to the present embodiment, the first wiring 3 and the second wiring 4 are wirings including a portion where an insulating portion 5 is interposed between them and intersects with each other. Hereinafter, the intersecting portion in the first wiring 3 may be referred to as a “first portion”, and the intersecting portion in the second wiring 4 may be referred to as a “second portion”. In the wiring board 1 according to the present embodiment, wiring that does not intersect with other wiring may be provided on the first surface 21 of the board 2.

基板2は、配線基板として一般的に用いられるものであればよく、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)基板等のポリエステル系樹脂基板、ポリイミド基板等のポリイミド系樹脂基板、ポリメチルメタクリレート基板等のアクリル系樹脂基板、ポリカーボネート系樹脂基板、シクロオレフィンポリマー基板等のポリオレフィン系樹脂基板等のフレキシブル基板であってもよいし、シリコン基板、ガラス基板、ガラスコンポジッド基板、ガラスエポキシ基板、テフロン(登録商標)基板、アルミナ基板、セラミックス基板等のリジッド基板であってもよい。また、基板2は、上記フレキシブル基板を構成するフレキシブル材料(例えば、ポリイミド等の上記樹脂材料等)からなるフレキシブル部と、上記リジッド基板を構成するリジッド材料からなるリジッド部とを有するリジッドフレキシブル基板であってもよい。 The substrate 2 may be any one generally used as a wiring board, for example, a polyester-based resin substrate such as a polyethylene terephthalate (PET) substrate, a polyimide-based resin substrate such as a polyimide substrate, and an acrylic-based substrate such as a polymethylmethacrylate substrate. It may be a flexible substrate such as a resin substrate, a polycarbonate resin substrate, a polyimide resin substrate such as a cycloolefin polymer substrate, a silicon substrate, a glass substrate, a glass composite substrate, a glass epoxy substrate, or a Teflon (registered trademark) substrate. It may be a rigid substrate such as an alumina substrate or a ceramics substrate. Further, the substrate 2 is a rigid flexible substrate having a flexible portion made of a flexible material (for example, the resin material such as polyimide) constituting the flexible substrate and a rigid portion made of a rigid material constituting the rigid substrate. There may be.

基板2の形状は、特に限定されるものではなく、例えば、平面視略矩形状等であればよい。また、基板2の大きさ及び厚さは、特に限定されるものではなく、例えば、配線基板1が用いられる電子機器において要求される大きさ及び厚さであればよい。 The shape of the substrate 2 is not particularly limited, and may be, for example, a substantially rectangular shape in a plan view. The size and thickness of the substrate 2 are not particularly limited, and may be, for example, any size and thickness required for an electronic device in which the wiring board 1 is used.

第1配線3は、基板2の第1面21上に設けられている。第1配線3は、少なくとも第1方向D1に延びる第1部分を含んでいればよく、第1方向D1と異なる方向に延びる部分を含んでいてもよい。第1配線3は、例えば、第2方向D2に延びる部分及び/又は第1方向D1と第2方向D2とのいずれとも異なる方向に延びる部分を含んでいてもよい。本実施形態においては、複数(5つ)の第1部分が基板2の第1面21上において第1方向D1に延びているが(図1及び図2参照)、この態様に限定されるものではない。少なくとも1つの第1部分が基板2の第1面21上において第1方向D1に延びていればよい。なお、図1及び図2に示す態様において、複数の第1部分は、1つの第1配線3に含まれるものであってもよいし、複数の第1配線3のそれぞれに含まれるものであってもよい。 The first wiring 3 is provided on the first surface 21 of the substrate 2. The first wiring 3 may include at least a first portion extending in the first direction D1, and may include a portion extending in a direction different from the first direction D1. The first wiring 3 may include, for example, a portion extending in the second direction D2 and / or a portion extending in a direction different from both the first direction D1 and the second direction D2. In the present embodiment, a plurality (five) first portions extend in the first direction D1 on the first surface 21 of the substrate 2 (see FIGS. 1 and 2), but are limited to this embodiment. is not it. At least one first portion may extend in the first direction D1 on the first surface 21 of the substrate 2. In the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, the plurality of first portions may be included in one first wiring 3 or may be included in each of the plurality of first wirings 3. You may.

第1配線3の第1部分の幅Wは、特に限定されるものではないが、例えば、20μm~5000μmの範囲内であればよく、100μm~3000μmの範囲内であるのが好ましい。また、複数の第1配線3が設けられている場合において、第1配線3の第1部分のピッチP(隣接する第1配線3の第1部分の間隔)は、特に限定されるものではないが、例えば、40μm~10000μmの範囲内であればよく、200μm~6000μmの範囲内であるのが好ましい。第1配線3の第1部分の幅W及びピッチPが上記範囲内であることで、配線基板の小型化、配線の高密度化等に対応しつつ、第1部分を交差する交差配線42によって、基板2の第1面21にすべての第1配線3及び第2配線4を設けることができる。なお、第1配線3の第1部分のピッチPは、基板2の第1面21の面内において均一でなくてもよい。また、第1配線3の幅や、第1配線3の第1部分の幅Wは、基板2の第1面21の面内において均一でなくてもよいし、一定でなくてもよい。例えば、一の第1配線3は、その幅の異なる部分を含んでいてもよく、一の第1部分は、その幅Wの異なる部分を含んでいてもよい。複数の第1配線3が設けられている場合において、一の第1配線3の幅と他の第1配線3の幅とは互いに異なっていてもよく、一の第1部分の幅Wと他の第1部分の幅Wとは互いに異なっていてもよい。 The width W 3 of the first portion of the first wiring 3 is not particularly limited, but may be, for example, in the range of 20 μm to 5000 μm, and preferably in the range of 100 μm to 3000 μm. Further, when a plurality of first wirings 3 are provided, the pitch P3 of the first portion of the first wiring 3 (the interval between the first portions of the adjacent first wirings 3) is not particularly limited. However, for example, it may be in the range of 40 μm to 10000 μm, and preferably in the range of 200 μm to 6000 μm. Since the width W 3 and the pitch P 3 of the first portion of the first wiring 3 are within the above ranges, the cross wiring that intersects the first portion while coping with the miniaturization of the wiring board and the increase in the density of the wiring. By 42, all the first wiring 3 and the second wiring 4 can be provided on the first surface 21 of the substrate 2. The pitch P 3 of the first portion of the first wiring 3 does not have to be uniform in the plane of the first surface 21 of the substrate 2. Further, the width of the first wiring 3 and the width W 3 of the first portion of the first wiring 3 may not be uniform or constant in the plane of the first surface 21 of the substrate 2. For example, the first wiring 3 of one may include portions having different widths, and the first portion of one may include portions having different widths W3. When a plurality of first wirings 3 are provided, the width of one first wiring 3 and the width of the other first wiring 3 may be different from each other, and the width W 3 of the first portion of one may be different from each other. The width W 3 of the other first portion may be different from each other.

第2配線4は、基板2の第1面21上に設けられている。第2配線4は、少なくとも第2方向D2に延びる第2部分を含んでいればよく、第2方向D2と異なる方向に延びる部分を含んでいてもよいし、第2方向D2にのみ延びていてもよい。第1方向D1及び第2方向D2は、互いに交差する方向である。それらの交差角度は特に限定されるものではなく、例えば、図1に示す態様において、第1方向D1及び第2方向D2の交差角度は90°である。すなわち、第1配線3と第2配線4とは、基板2の第1面21上において互いに直角に交差する第1部分及び第2部分を含む。 The second wiring 4 is provided on the first surface 21 of the substrate 2. The second wiring 4 may include at least a second portion extending in the second direction D2, may include a portion extending in a direction different from the second direction D2, or extends only in the second direction D2. May be good. The first direction D1 and the second direction D2 are directions that intersect each other. The crossing angle thereof is not particularly limited, and for example, in the embodiment shown in FIG. 1, the crossing angle of the first direction D1 and the second direction D2 is 90 °. That is, the first wiring 3 and the second wiring 4 include a first portion and a second portion that intersect each other at right angles on the first surface 21 of the substrate 2.

図1及び図2に示す態様において、第2配線4は、第2方向D2において第1配線3の第1部分の両側から挟むようにして基板2の第1面21上に設けられている少なくとも一組の第2配線パターン41,41と、第1配線3に交差するようにして第2配線パターン41,41同士を電気的に接続する第2部分としての交差配線42とを含む。なお、第2配線4のうち、少なくとも交差配線42が第2方向D2に延びていればよく、第2配線パターン41の全体が第2方向D2に延びていなくてもよい。すなわち、本実施形態において、第2方向D2は、交差配線42が延びる方向として定義され得る。例えば、図4に示すように、一方の第2配線パターン41は第2方向D2に延び、他方の第2配線パターン41は第2方向D2と異なる方向(例えば、第1方向D1又は第1方向D1と異なる第3方向)に延びていてもよい。また、図5に示すように、双方の第2配線パターン41,41は第2方向D2と異なる方向に延び、交差配線42が第2方向D2に延びていてもよい。図4及び図5に示す態様において、第2方向D2と異なる方向に延びる第2配線パターン41において、その端部の近傍は、第2方向D2に向かうようにして湾曲又は屈曲していてもよい。 In the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, the second wiring 4 is provided on the first surface 21 of the substrate 2 so as to be sandwiched from both sides of the first portion of the first wiring 3 in the second direction D2. The second wiring patterns 41 and 41 of the above are included, and the crossed wiring 42 as a second portion for electrically connecting the second wiring patterns 41 and 41 to each other so as to intersect the first wiring 3 is included. Of the second wiring 4, at least the crossed wiring 42 may extend in the second direction D2, and the entire second wiring pattern 41 may not extend in the second direction D2. That is, in the present embodiment, the second direction D2 can be defined as the direction in which the cross wiring 42 extends. For example, as shown in FIG. 4, one second wiring pattern 41 extends in the second direction D2, and the other second wiring pattern 41 is in a direction different from the second direction D2 (for example, the first direction D1 or the first direction). It may extend in a third direction different from D1). Further, as shown in FIG. 5, both second wiring patterns 41 and 41 may extend in a direction different from that of the second direction D2, and the cross wiring 42 may extend in the second direction D2. In the embodiment shown in FIGS. 4 and 5, in the second wiring pattern 41 extending in a direction different from the second direction D2, the vicinity of the end thereof may be curved or bent toward the second direction D2. ..

本実施形態において、第2配線パターン41の端部と当該端部に最近位の第1部分との間隔Dは、特に限定されるものではない。配線基板1の製造の観点から、当該間隔Dは、例えば、絶縁部5がそれらの間に充填され得る長さであればよく、かつ導電性材料膜をエッチングして第1配線3及び第2配線パターン41を形成可能な長さであればよい。また、当該間隔Dは、配線基板1の用途に応じて第2配線4(第2配線パターン41)と第1配線3との間に位置する絶縁部5によってそれらを電気的に絶縁可能な長さ(絶縁耐力を満たす程度の長さ)であればよい。 In the present embodiment, the distance D between the end portion of the second wiring pattern 41 and the first portion closest to the end portion is not particularly limited. From the viewpoint of manufacturing the wiring board 1, the interval D may be, for example, a length that allows the insulating portion 5 to be filled between them, and the conductive material film is etched to form the first wiring 3 and the second wiring. Any length may be used as long as the wiring pattern 41 can be formed. Further, the interval D is a length capable of electrically insulating them by an insulating portion 5 located between the second wiring 4 (second wiring pattern 41) and the first wiring 3 depending on the use of the wiring board 1. It suffices as long as it is long enough to satisfy the dielectric strength.

交差配線42は、第1配線3の第1方向D1に延びる第1部分を少なくとも被覆する絶縁部5上に、第1配線3の第1部分を両側から挟む一組の第2配線パターン41,41を電気的に接続するように設けられている。交差配線42は、導電性ペースト、導電性インク等を用いた印刷法、例えばスクリーン印刷により形成される印刷配線である。本実施形態における第2配線4は、複数組の第2配線パターン41,41と各組の第2配線パターン41,41を電気的に接続する複数の交差配線42を含んでいてもよい。この場合において、複数組の第2配線パターン41,41と複数の交差配線42とは、1本の第2配線4に含まれるものであってもよいし、複数本の第2配線4のそれぞれに含まれるものであってもよい。すなわち、1本の第2配線4は、一組の第2配線パターン41,41と1本の交差配線42とを含んでいてもよいし、複数組の第2配線パターン41,41と複数の交差配線42とを含んでいてもよい。 The cross wiring 42 is a set of second wiring patterns 41, in which the first portion of the first wiring 3 is sandwiched from both sides on the insulating portion 5 that at least covers the first portion extending in the first direction D1 of the first wiring 3. The 41 is provided so as to be electrically connected. The cross wiring 42 is a printing wiring formed by a printing method using a conductive paste, a conductive ink, or the like, for example, screen printing. The second wiring 4 in the present embodiment may include a plurality of cross wirings 42 that electrically connect a plurality of sets of the second wiring patterns 41 and 41 and each set of the second wiring patterns 41 and 41. In this case, the plurality of sets of the second wiring patterns 41, 41 and the plurality of crossed wirings 42 may be included in one second wiring 4, or each of the plurality of second wirings 4. It may be included in. That is, one second wiring 4 may include a set of second wiring patterns 41, 41 and one cross wiring 42, or may include a plurality of sets of second wiring patterns 41, 41 and a plurality of sets. The cross wiring 42 may be included.

交差配線42は、一方の第2配線パターン41から他方の第2配線パターン41に向けて実質的に一定の膜厚T42を有する。本実施形態において特に言及しない限り、交差配線42の膜厚T42とは、交差配線42が絶縁部5に接している部分における、交差配線42の表面の法線方向に沿った膜厚を意味するものとする。交差配線42が実質的に一定の膜厚T42を有するとは、一の交差配線42の膜厚T42の最小値が最大値の80%以上であることを意味し、当該最小値が最大値の85%以上であるのが好ましい。なお、交差配線42の膜厚T42は、例えば、極低加速電圧走査電子顕微鏡(ULV-SEM,ZEISS社製,製品名:ULTRA55)等を用いて計測される値であればよい。また、本実施形態に係る配線基板1が複数の交差配線42を含む場合において、当該複数の交差配線42間の膜厚T42のばらつきは、複数の交差配線42のそれぞれの膜厚T42の平均値(膜厚平均値A42)を求め、各膜厚平均値A42の算術平均値Avgと当該膜厚平均値A42との差分(Avg-A42)が算術平均値Avgに対して15%以内であればよい。なお、交差配線42の膜厚T42の平均値(膜厚平均値A42)は、例えば以下のようにして求められ得る。例えば、上記極低加速電圧走査電子顕微鏡を用いて、交差配線42の任意に選択された複数箇所(例えば5箇所)のそれぞれの断面SEM像を取得し、各断面SEM像から各選択箇所の膜厚T42を計測し、当該膜厚T42の算術平均値を交差配線42の膜厚平均値A42としてもよい。また、交差配線42の第2方向D2に沿った断面SEM像を取得し、当該断面SEM像から絶縁部5及び交差配線42の境界線と、交差配線42の上面を示す線分とを、それぞれ最小二乗法等を利用してスムージング(平滑化)し、スムージング(平滑化)した2つの線分間の距離の平均値を交差配線42の膜厚平均値A42としてもよい。 The cross wiring 42 has a substantially constant film thickness T 42 from one second wiring pattern 41 toward the other second wiring pattern 41. Unless otherwise specified in the present embodiment, the film thickness T 42 of the cross wiring 42 means the film thickness along the normal direction of the surface of the cross wiring 42 in the portion where the cross wiring 42 is in contact with the insulating portion 5. It shall be. The fact that the crossed wiring 42 has a substantially constant film thickness T 42 means that the minimum value of the film thickness T 42 of one crossed wiring 42 is 80% or more of the maximum value, and the minimum value is the maximum. It is preferably 85% or more of the value. The thickness T 42 of the cross wiring 42 may be a value measured by using, for example, an ultra-low acceleration voltage scanning electron microscope (ULV-SEM, manufactured by ZEISS, product name: ULTRA55). Further, when the wiring board 1 according to the present embodiment includes a plurality of intersecting wirings 42, the variation in the film thickness T 42 among the plurality of intersecting wirings 42 is the thickness T 42 of each of the plurality of intersecting wirings 42. The average value (thickness average value A 42 ) is obtained, and the difference (Avg-A 42 ) between the arithmetic mean value Avg of each film thickness average value A 42 and the thickness average value A 42 is relative to the arithmetic mean value Avg. It may be within 15%. The average value of the film thickness T 42 of the crossed wiring 42 (film thickness average value A 42 ) can be obtained, for example, as follows. For example, using the above-mentioned ultra-low acceleration voltage scanning electron microscope, cross-sectional SEM images of each of a plurality of arbitrarily selected points (for example, 5 places) of the cross wiring 42 are acquired, and a film of each selected place is obtained from each cross-sectional SEM image. The thickness T 42 may be measured, and the arithmetic mean value of the film thickness T 42 may be set as the film thickness average value A 42 of the crossed wiring 42. Further, a cross-sectional SEM image along the second direction D2 of the cross-sectional wiring 42 is acquired, and from the cross-sectional SEM image, the boundary line of the insulating portion 5 and the cross-wire 42 and the line segment indicating the upper surface of the cross-wire 42 are obtained, respectively. Smoothing (smoothing) is performed using the minimum square method or the like, and the average value of the distances between the two smoothed line segments may be the average film thickness value A 42 of the cross wiring 42.

交差配線42の膜厚T42は、交差配線42に含まれる導電性材料の種類、第2配線パターン41の抵抗値、第2配線4の長さ等に応じて適宜設定されればよい。交差配線42が印刷法により形成される印刷配線であることで、当該交差配線42の膜厚T42を実質的に均一にすることができる。 The film thickness T 42 of the cross wiring 42 may be appropriately set according to the type of the conductive material included in the cross wiring 42, the resistance value of the second wiring pattern 41, the length of the second wiring 4, and the like. Since the crossed wiring 42 is a printed wiring formed by a printing method, the film thickness T 42 of the crossed wiring 42 can be substantially made uniform.

交差配線42の幅W42(第2方向D2に直交する第1方向D1における長さ)は、第2配線パターン41の幅W41(第2方向D2に直交する第1方向D1における長さ)よりも大きい。例えば、第2配線パターン41の幅W41は20μm~5000μmの範囲内であればよく、交差配線42の幅W42は30μm~5500μmの範囲内であればよい。なお、第2配線パターン41の幅W41や交差配線42の幅W42は、基板2の第1面21の面内において均一でなくてもよいし、一定でなくてもよい。例えば、一の第2配線パターン41は、その幅W41の異なる部分を含んでいてもよく、一の交差配線42は、その幅W42の異なる部分を含んでいてもよい。複数の第2配線パターン41や複数の交差配線42が設けられている場合において、一の第2配線パターン41の幅W41と他の第2配線パターン41の幅W41とは互いに異なっていてもよく、一の交差配線42の幅W42と他の交差配線42の幅W42とは互いに異なっていてもよい。 The width W 42 of the cross wiring 42 (the length in the first direction D1 orthogonal to the second direction D2) is the width W 41 of the second wiring pattern 41 (the length in the first direction D1 orthogonal to the second direction D2). Greater than. For example, the width W 41 of the second wiring pattern 41 may be in the range of 20 μm to 5000 μm, and the width W 42 of the crossed wiring 42 may be in the range of 30 μm to 5500 μm. The width W 41 of the second wiring pattern 41 and the width W 42 of the cross wiring 42 may not be uniform or constant in the plane of the first surface 21 of the substrate 2. For example, one second wiring pattern 41 may include different portions of its width W 41 , and one crossed wiring 42 may include different portions of its width W 42 . When a plurality of second wiring patterns 41 and a plurality of intersecting wirings 42 are provided, the width W 41 of one second wiring pattern 41 and the width W 41 of the other second wiring pattern 41 are different from each other. Also, the width W 42 of one cross wiring 42 and the width W 42 of the other cross wiring 42 may be different from each other.

なお、基板2の第1面21を上方に位置させ、第2面22を下方に位置させた状態において、交差配線42の凸状に湾曲している上面と側面(第1方向D1に実質的に平行な側面及び第2方向D2に実質的に平行な側面)との連続部が角部となるように図示されているが(図1参照)、当該上面と側面との連続部は、丸められた角部となっていてもよい。 In a state where the first surface 21 of the substrate 2 is positioned upward and the second surface 22 is positioned downward, the upper surface and the side surface (substantially in the first direction D1) curved in a convex shape of the cross wiring 42. The continuous portion with the side surface parallel to and the side surface substantially parallel to the second direction D2) is shown as a corner portion (see FIG. 1), but the continuous portion between the upper surface and the side surface is rounded. It may be a corner.

第1配線3及び第2配線パターン41は、互いに同一の導電性材料を含む配線用導電膜60(図12A参照)を加工して形成された配線であってもよいし、互いに同一の導電性材料を含む印刷配線であってもよい。配線用導電膜60としては、例えば、導電性材料の蒸着薄膜、導電性材料としての金属材料の金属箔、導電性高分子膜等が挙げられ、配線用導電膜60を加工して形成された配線としては、蒸着薄膜を加工して形成された配線(蒸着配線)、金属箔を加工して形成された配線(金属箔配線)、導電性高分子膜を加工して形成された配線等が挙げられる。導電性材料としては、例えば、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)等の金属材料;無定形カーボン(カーボンブラック)、グラファイト、炭化ケイ素、炭化チタン、窒化チタン、炭化タングステン、炭化ジルコニウム等の非金属導電性材料;導電性高分子等が挙げられる。印刷配線とは、上記金属材料や非金属導電性材料等の導電性材料からなる粒子(導電性粒子)を少なくとも含む導電性ペースト又は導電性インクや、導電性高分子等を用いた印刷により形成された配線を意味する。なお、第1配線3及び第2配線パターン41が、例えば銅箔を加工して形成された金属箔配線である場合、第1配線3及び第2配線パターン41の表面が酸化により劣化することがある。そのため、第1配線3及び第2配線パターン41は、表面にニッケルめっきや金めっきが施された銅箔を加工して形成された金属箔配線であってもよい。 The first wiring 3 and the second wiring pattern 41 may be wiring formed by processing a wiring conductive film 60 (see FIG. 12A) containing the same conductive material, or may have the same conductivity. It may be a printed wiring containing a material. Examples of the conductive film 60 for wiring include a vapor-deposited thin film of a conductive material, a metal foil of a metal material as a conductive material, a conductive polymer film, and the like, which are formed by processing the conductive film 60 for wiring. Wiring includes wiring formed by processing a vapor-deposited thin film (vapor-deposited wiring), wiring formed by processing a metal foil (metal foil wiring), wiring formed by processing a conductive polymer film, and the like. Can be mentioned. Examples of the conductive material include metal materials such as gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), and aluminum (Al); amorphous carbon (carbon black), graphite, silicon carbide, titanium carbide, and titanium nitride. , Non-metal conductive materials such as tungsten carbide and zirconium carbide; conductive polymers and the like. The printed wiring is formed by printing using a conductive paste or ink containing at least particles (conductive particles) made of a conductive material such as the above-mentioned metal material or non-metal conductive material, or a conductive polymer. Means the wiring that has been done. When the first wiring 3 and the second wiring pattern 41 are, for example, metal foil wiring formed by processing a copper foil, the surfaces of the first wiring 3 and the second wiring pattern 41 may be deteriorated by oxidation. be. Therefore, the first wiring 3 and the second wiring pattern 41 may be metal foil wiring formed by processing a copper foil whose surface is nickel-plated or gold-plated.

交差配線42は、導電性材料を含む印刷配線であってもよい。交差配線42に含まれる導電性材料としては、例えば、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)等の金属材料;無定形カーボン(カーボンブラック)、グラファイト、炭化ケイ素、炭化チタン、窒化チタン、炭化タングステン、炭化ジルコニウム等の非金属導電性材料;導電性高分子等が挙げられる。 The cross wiring 42 may be a printed wiring containing a conductive material. Examples of the conductive material contained in the cross wiring 42 include metal materials such as gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), and aluminum (Al); amorphous carbon (carbon black), graphite, and silicon carbide. , Non-metal conductive materials such as titanium carbide, titanium nitride, tungsten carbide, zirconium carbide; conductive polymers and the like.

絶縁部5は、第1配線3の第1部分と第2配線4の交差配線42(第2部分)との間に介在し、第1配線3と第2配線4とを電気的に絶縁している。絶縁部5を構成する材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等の絶縁性樹脂材料等であればよい。 The insulating portion 5 is interposed between the first portion of the first wiring 3 and the intersecting wiring 42 (second portion) of the second wiring 4, and electrically insulates the first wiring 3 and the second wiring 4. ing. The material constituting the insulating portion 5 is not particularly limited, and may be, for example, an insulating resin material such as a polyurethane resin, an epoxy resin, or a polyimide resin.

第2方向D2に沿った断面を見たときに、第2方向D2における絶縁部5の中央部の厚さT5Cは、第2配線パターン41の端部側に位置する絶縁部5の厚さT5Eよりも厚ければよく、第2配線パターン41,41の両端部から絶縁部5の中央部に向かって徐々に厚くなっていてもよい(図6参照)。厚さT5Cと厚さT5Eとが同一であると、厚さT5Eの絶縁部5上の交差配線42の膜厚が厚さT5Cの絶縁部5上の交差配線42の膜厚よりも薄くなってしまい、交差配線42の膜厚T42が不均一になるおそれがあるが、厚さT5Cが厚さT5Eよりも厚いことで、交差配線42の膜厚T42を実質的に均一にすることができる。絶縁部5の厚さは、第1配線3と第2配線4とを電気的に絶縁可能な厚さである必要がある。そのため、絶縁部5の厚さT5E及び厚さT5Cは、配線基板1の用途やその用途に基づく電圧設計値等に応じ、絶縁部5が絶縁耐力を維持可能な厚さ以上に設定されていればよい。なお、絶縁部5の厚さは、絶縁部5の上面の法線方向に沿った長さとして定義され、例えば、極低加速電圧走査電子顕微鏡(ULV-SEM,ZEISS社製,製品名:ULTRA55)等を用いて計測され得る。 When the cross section along the second direction D2 is viewed, the thickness T 5C of the central portion of the insulating portion 5 in the second direction D2 is the thickness of the insulating portion 5 located on the end side of the second wiring pattern 41. It may be thicker than T 5E , and may be gradually thickened from both ends of the second wiring patterns 41 and 41 toward the central portion of the insulating portion 5 (see FIG. 6). When the thickness T 5C and the thickness T 5E are the same, the film thickness of the cross wiring 42 on the insulating portion 5 of the thickness T 5E is larger than the film thickness of the cross wiring 42 on the insulating portion 5 of the thickness T 5C . However, since the thickness T 5C is thicker than the thickness T 5E , the film thickness T 42 of the cross wiring 42 is substantially reduced. Can be made uniform. The thickness of the insulating portion 5 needs to be such that the first wiring 3 and the second wiring 4 can be electrically insulated. Therefore, the thickness T 5E and the thickness T 5C of the insulating portion 5 are set to a thickness equal to or larger than the thickness at which the insulating portion 5 can maintain the dielectric strength according to the application of the wiring board 1 and the voltage design value based on the application. You just have to. The thickness of the insulating portion 5 is defined as a length along the normal direction of the upper surface of the insulating portion 5. For example, an ultra-low acceleration voltage scanning electron microscope (ULV-SEM, manufactured by ZEISS, product name: ULTRA55). ) Etc. can be measured.

基板2の第1面21を上方に位置させ、第2面22を下方に位置させた状態において、絶縁部5は、上方に向かって凸状に湾曲していてもよい。絶縁部5の表面に角部が存在すると、絶縁部5上に形成される交差配線42において角部上の膜厚が他の部分の膜厚よりも薄くなる可能性があるが、絶縁部5が上方に向かって凸状に湾曲していることによって、交差配線42の膜厚T42を実質的に均一にすることができる。好ましくは、基板2の第1面21を上方に位置させ、第2面22を下方に位置させた状態において、絶縁部5は、当該絶縁部5の上面(特に交差配線42に接する上面)に角部を存在させることなく上方に向かって凸状に湾曲していればよい。これにより、絶縁部5上に設けられる交差配線42の厚みを実質的に均一にすることがより容易となる。なお、本実施形態において、絶縁部5は、交差配線42の膜厚が相対的に薄くなってしまうような角部を絶縁部5の表面に存在させない程度に、全体として上方に向かって凸状に湾曲していればよい。そのため、絶縁部5の表面の一部が下方に向かって僅かに凹んでいてもよいし、絶縁部5の表面が山部と谷部とを含む滑らかな波形状であってもよい。例えば、絶縁部5が複数の第1配線3の第1部分を一体に被覆する場合において、絶縁部5のうち、隣接する第1部分の間の上方に位置する部分が谷部となり、第1部分の上方に位置する部分が山部となって、谷部が山部よりも下方に向かって凹み、絶縁部5の表面が滑らかな波形状となっていてもよい。 In a state where the first surface 21 of the substrate 2 is positioned upward and the second surface 22 is positioned downward, the insulating portion 5 may be curved upward in a convex shape. If the corner portion is present on the surface of the insulating portion 5, the film thickness on the corner portion may be thinner than the film thickness of the other portion in the cross wiring 42 formed on the insulating portion 5, but the insulating portion 5 Is curved upward in a convex shape, so that the film thickness T 42 of the cross wiring 42 can be substantially made uniform. Preferably, in a state where the first surface 21 of the substrate 2 is positioned above and the second surface 22 is positioned below, the insulating portion 5 is placed on the upper surface of the insulating portion 5 (particularly, the upper surface in contact with the cross wiring 42). It suffices to be curved upward in a convex shape without the presence of corners. This makes it easier to make the thickness of the cross wiring 42 provided on the insulating portion 5 substantially uniform. In the present embodiment, the insulating portion 5 is convex upward as a whole so that the corner portion where the film thickness of the cross wiring 42 becomes relatively thin does not exist on the surface of the insulating portion 5. It suffices if it is curved. Therefore, a part of the surface of the insulating portion 5 may be slightly recessed downward, or the surface of the insulating portion 5 may have a smooth wavy shape including peaks and valleys. For example, when the insulating portion 5 integrally covers the first portion of the plurality of first wirings 3, the portion of the insulating portion 5 located above between the adjacent first portions becomes a valley portion, and the first portion is formed. The portion located above the portion may be a mountain portion, the valley portion may be recessed downward from the mountain portion, and the surface of the insulating portion 5 may have a smooth wavy shape.

絶縁部5は、一組の第2配線パターン41,41により挟まれる第1配線3の第1部分を一体に被覆していればよいが、第2配線パターン41,41の端部も一体に被覆していてもよい。 The insulating portion 5 may integrally cover the first portion of the first wiring 3 sandwiched by the set of the second wiring patterns 41 and 41, but the end portions of the second wiring patterns 41 and 41 are also integrally covered. It may be covered.

なお、基板2の第1面21を上方に位置させ、第2面22を下方に位置させた状態において、絶縁部5の上面(凸状に湾曲している上面)と側面(第1方向D1に実質的に平行な側面及び第2方向D2に実質的に平行な側面)との連続部が角部となるように図示されているが(図1参照)、当該上面と側面との連続部は、丸められた角部となっていてもよい。 In a state where the first surface 21 of the substrate 2 is positioned upward and the second surface 22 is positioned downward, the upper surface (upper surface curved in a convex shape) and the side surface (first direction D1) of the insulating portion 5 are positioned. Although the continuous portion with the side surface substantially parallel to and the side surface substantially parallel to the second direction D2) is shown as a corner portion (see FIG. 1), the continuous portion between the upper surface and the side surface is shown. May be rounded corners.

第2方向D2における交差配線42の長さL42は、第2方向D2における絶縁部5の長さLよりも長く、第2方向D2に直交する方向(第1方向D1)における交差配線42の長さW42は、第2方向D2に直交する方向(第1方向D1)における絶縁部5の長さWよりも短い。これにより、第2配線パターン41と交差配線42とを確実に電気的に接続可能であるとともに、交差配線42と第1配線3との短絡を確実に防止することができる。 The length L 42 of the cross wiring 42 in the second direction D2 is longer than the length L 5 of the insulating portion 5 in the second direction D2, and the cross wiring 42 in the direction orthogonal to the second direction D2 (first direction D1). The length W 42 of is shorter than the length W 5 of the insulating portion 5 in the direction orthogonal to the second direction D2 (first direction D1). As a result, the second wiring pattern 41 and the cross wiring 42 can be reliably and electrically connected, and a short circuit between the cross wiring 42 and the first wiring 3 can be reliably prevented.

本実施形態に係る配線基板1において、第1配線3の複数の第1部分を第2部分としての交差配線42が交差する場合、図7に示すように、各交差配線42と、その交差配線42が交差する各第1部分との間に絶縁部5が介在していてもよいし、図8に示すように、隣接する複数の交差配線42と、それらの交差配線42が交差する複数箇所の第1部分との間に1つの絶縁部5が介在していてもよい。図8に示す態様においては、隣接する第2配線パターン41のピッチP41(隣接する第2配線パターン41の間隔)が相対的に小さい場合、例えば1000μm以下程度である場合に、絶縁部5の形成工程を簡略化することができる等の効果が奏され得る。なお、隣接する第2配線パターン41のピッチP41や隣接する交差配線42のピッチは、基板2の第1面21の面内において均一でなくてもよい。 In the wiring board 1 according to the present embodiment, when the intersecting wiring 42 having the plurality of first portions of the first wiring 3 as the second portion intersects, as shown in FIG. 7, each intersecting wiring 42 and the intersecting wiring thereof. An insulating portion 5 may be interposed between each first portion where the 42 intersects, or as shown in FIG. 8, a plurality of adjacent intersecting wiring 42s and a plurality of locations where the intersecting wirings 42 intersect. One insulating portion 5 may be interposed between the first portion and the first portion of the above. In the embodiment shown in FIG. 8, when the pitch P 41 (interval between adjacent second wiring patterns 41) of the adjacent second wiring pattern 41 is relatively small, for example, when it is about 1000 μm or less, the insulating portion 5 is provided. The effect that the forming process can be simplified can be achieved. The pitch P 41 of the adjacent second wiring pattern 41 and the pitch of the adjacent cross wiring 42 may not be uniform in the plane of the first surface 21 of the substrate 2.

また、本実施形態に係る配線基板1において、第2方向D2に沿って並列する複数の第1配線3を含む第1配線群3A,3Bが、所定の間隔を開けて配置されている場合、第2配線4は、第1配線群3A,3B間に設けられた第2配線パターン41Aと、第1配線群3Aを挟むようにして第2配線パターン41Aに対向する第2配線パターン41Bと、第1配線群3Bを挟むようにして第2配線パターン41Aに対向する第2配線パターン41Cとを含んでいてもよい。この場合において、第2配線2は、第1配線群3Aを両側から挟む第2配線パターン41A,41Bを電気的に接続する交差配線42Aと、第1配線群3Bを両側から挟む第2配線パターン41A,41Cを電気的に接続する交差配線42Bとを含むものであってもよいし(図9参照)、第2配線パターン41A~41Cを一体的に電気的に接続する交差配線42を含むものであってもよい(図10参照)。図10に示す態様においては、交差配線42に第2配線パターン41Aが完全に埋め込まれていることで、第2配線パターン41Aの一部が交差配線42に被覆されている図9に示す態様に比べ、第2配線4の断面積を大きくすることができるため、第2配線4の抵抗値を相対的に下げることができるという効果が奏される。 Further, in the wiring board 1 according to the present embodiment, when the first wiring groups 3A and 3B including a plurality of first wirings 3 parallel to each other along the second direction D2 are arranged at predetermined intervals. The second wiring 4 includes a second wiring pattern 41A provided between the first wiring groups 3A and 3B, a second wiring pattern 41B facing the second wiring pattern 41A so as to sandwich the first wiring group 3A, and a first wiring pattern 41B. The second wiring pattern 41C facing the second wiring pattern 41A may be included so as to sandwich the wiring group 3B. In this case, the second wiring 2 includes a cross wiring 42A that electrically connects the second wiring patterns 41A and 41B that sandwich the first wiring group 3A from both sides, and a second wiring pattern that sandwiches the first wiring group 3B from both sides. It may include the cross wiring 42B that electrically connects 41A and 41C (see FIG. 9), or includes the cross wiring 42 that integrally electrically connects the second wiring patterns 41A to 41C. It may be (see FIG. 10). In the embodiment shown in FIG. 10, the second wiring pattern 41A is completely embedded in the cross wiring 42, so that a part of the second wiring pattern 41A is covered with the cross wiring 42. In comparison, since the cross-sectional area of the second wiring 4 can be increased, the effect that the resistance value of the second wiring 4 can be relatively lowered is achieved.

本実施形態に係る配線基板1によれば、第2配線パターン41,41を電気的に接続する交差配線42が、印刷により形成される印刷配線であることで、当該交差配線42の膜厚T42を実質的に均一にすることができる。交差配線42の膜厚T42が実質的に均一であることで、特に、第2配線4が複数の交差配線42を含む場合において、配線基板1内における交差配線42の膜厚T42のばらつきが相対的に小さいことで、配線基板1を用いた電子機器を、ほぼ設計通りに動作させることができる。 According to the wiring board 1 according to the present embodiment, the cross wiring 42 for electrically connecting the second wiring patterns 41 and 41 is a printed wiring formed by printing, so that the film thickness T of the cross wiring 42 is T. 42 can be made substantially uniform. Since the film thickness T 42 of the cross wiring 42 is substantially uniform, the variation of the film thickness T 42 of the cross wiring 42 in the wiring board 1 is particularly high when the second wiring 4 includes a plurality of cross wiring 42. Is relatively small, so that the electronic device using the wiring board 1 can be operated almost as designed.

上述した本実施形態に係る配線基板1の製造方法について説明する。
図11A~11Eは、本実施形態に係る配線基板1の製造方法の各工程を示す平面図であり、図12A~12Eは、本実施形態に係る配線基板1の製造方法の各工程を示す切断端面図である。
The method for manufacturing the wiring board 1 according to the present embodiment described above will be described.
11A to 11E are plan views showing each step of the manufacturing method of the wiring board 1 according to the present embodiment, and FIGS. 12A to 12E are cuts showing each step of the manufacturing method of the wiring board 1 according to the present embodiment. It is an end view.

本実施形態に係る配線基板1の製造方法は、第1面21及び第1面21の反対側に位置する第2面22を有する基板2を準備し、基板2の第1面21上に第1配線3及び第2配線パターン41を形成する。 In the method for manufacturing a wiring board 1 according to the present embodiment, a substrate 2 having a second surface 22 located on the opposite side of the first surface 21 and the first surface 21 is prepared, and the substrate 2 is placed on the first surface 21 of the substrate 2. 1 Wiring 3 and a second wiring pattern 41 are formed.

基板2の第1面21上に第1配線3及び第2配線パターン41を形成するには、まず、基板2の第1面21上に第1配線3及び第2配線パターン41を構成する導電性材料を含む配線用導電膜60を形成し、当該配線用導電膜60を被覆するレジスト層70を形成する(図11A、図12A参照)。 In order to form the first wiring 3 and the second wiring pattern 41 on the first surface 21 of the substrate 2, first, the conductivity constituting the first wiring 3 and the second wiring pattern 41 on the first surface 21 of the substrate 2 A wiring conductive film 60 containing a material is formed, and a resist layer 70 covering the wiring conductive film 60 is formed (see FIGS. 11A and 12A).

配線用導電膜60を形成する方法としては、例えば、配線用導電膜60に含まれる導電性材料としての金属材料や非金属導電性材料等を基板2の第1面21上に真空蒸着等により形成する方法、当該導電性材料としての金属材料の金属箔を高温高圧下で基板2の第1面21に積層接着する方法、当該導電性材料としての導電性高分子を基板2の第1面21に塗布する方法等が挙げられる。 As a method for forming the conductive film 60 for wiring, for example, a metal material, a non-metal conductive material, or the like as a conductive material contained in the conductive film 60 for wiring is vacuum-deposited on the first surface 21 of the substrate 2. A method of forming, a method of laminating and adhering a metal foil of a metal material as the conductive material to the first surface 21 of the substrate 2 under high temperature and high pressure, and a method of laminating and adhering a conductive polymer as the conductive material to the first surface of the substrate 2. Examples thereof include a method of applying to 21.

配線用導電膜60の膜厚は、第1配線3及び第2配線パターン41において要求される膜厚に応じて適宜設定され得るものであり、例えば、5μm~100μm程度であればよい。 The film thickness of the wiring conductive film 60 can be appropriately set according to the film thickness required for the first wiring 3 and the second wiring pattern 41, and may be, for example, about 5 μm to 100 μm.

レジスト層70を構成するレジスト材料は、特に限定されるものではなく、例えば、ネガ型又はポジ型の感光性材料等を用いることができるが、ネガ型の感光性材料を用いるのが好ましい。第1配線3及び第2配線パターン41は、レジスト層70のパターニングによって形成されるマスクパターン71を介した配線用導電膜60のエッチングにより形成される。そのため、レジスト層70の膜厚は、配線用導電膜60の構成材料に応じたエッチング選択比等に応じて適宜設定され得る。 The resist material constituting the resist layer 70 is not particularly limited, and for example, a negative type or positive type photosensitive material can be used, but a negative type photosensitive material is preferably used. The first wiring 3 and the second wiring pattern 41 are formed by etching the conductive film 60 for wiring via the mask pattern 71 formed by patterning the resist layer 70. Therefore, the film thickness of the resist layer 70 can be appropriately set according to the etching selection ratio or the like according to the constituent material of the conductive film 60 for wiring.

レジスト層70を形成する方法としては、特に限定されるものではなく、従来公知の塗膜形成方法を採用すればよい。例えば、レジスト層70を構成するレジスト材料を、ダイコート法、スピンコート法等により配線用導電膜60上に塗布する方法等が挙げられる。また、上記レジスト材料からなるドライフィルムレジストを、ラミネーター等を用いて配線用導電膜60上に積層形成する方法等であってもよい。 The method for forming the resist layer 70 is not particularly limited, and a conventionally known coating film forming method may be adopted. For example, a method of applying the resist material constituting the resist layer 70 onto the conductive film 60 for wiring by a die coating method, a spin coating method, or the like can be mentioned. Further, a method of laminating and forming a dry film resist made of the resist material on the conductive film 60 for wiring using a laminator or the like may be used.

次に、レジスト層70のパターニングにより、第1配線3及び第2配線パターン41に対応するエッチングマスク71を形成する(図11B、図12B参照)。レジスト層70のパターニング方法としては、例えば、エッチングマスク71に対応するフォトマスクを介した露光・現像による方法等であればよい。なお、レジスト層70の形成及びそのパターニングに代えて、配線用導電膜60上に第1配線3及び第2配線パターン41に対応するエッチングマスク71を、上記レジスト材料の印刷により形成してもよい。 Next, the etching mask 71 corresponding to the first wiring 3 and the second wiring pattern 41 is formed by patterning the resist layer 70 (see FIGS. 11B and 12B). The patterning method of the resist layer 70 may be, for example, a method of exposure / development via a photomask corresponding to the etching mask 71. Instead of forming the resist layer 70 and patterning the resist layer 70, an etching mask 71 corresponding to the first wiring 3 and the second wiring pattern 41 may be formed on the wiring conductive film 60 by printing the resist material. ..

そして、エッチングマスク71を介して配線用導電膜60をドライエッチング又はウェットエッチングすることにより、基板2の第1面21上に第1配線3及び第2配線パターン41を形成する(図11C、図12C参照)。 Then, the first wiring 3 and the second wiring pattern 41 are formed on the first surface 21 of the substrate 2 by dry etching or wet etching the wiring conductive film 60 via the etching mask 71 (FIG. 11C, FIG. See 12C).

続いて、第2配線パターン41に挟まれる第1配線3の第1部分を少なくとも被覆する絶縁部5を形成し(図11D、図12D参照)、第2配線パターン41,41を電気的に接続する交差配線42を当該絶縁部5上に形成する(図11E、図12E参照)。このようにして、本実施形態に係る配線基板1が製造される。 Subsequently, an insulating portion 5 that at least covers the first portion of the first wiring 3 sandwiched between the second wiring patterns 41 is formed (see FIGS. 11D and 12D), and the second wiring patterns 41 and 41 are electrically connected. Cross wiring 42 is formed on the insulating portion 5 (see FIGS. 11E and 12E). In this way, the wiring board 1 according to the present embodiment is manufactured.

絶縁部5及び交差配線42の形成にあたり、配線基板1の設計方法、特に絶縁部5及び交差配線42の設計方法について説明する。
後述するように、絶縁部5は、インクジェット法や、スクリーン印刷等の印刷法等により形成され、交差配線42は、スクリーン印刷等の印刷法により形成され得る。絶縁部5や交差配線42の形成方法、絶縁部5や交差配線42の形成に使用される装置の精度等によって、絶縁部5や交差配線42が形成される際に所定の位置ずれが生じ得る。そのため、絶縁部5及び交差配線42の大きさ(図13参照)等は、上記位置ずれ量(絶縁部5の形成尤度α及び交差配線42の形成尤度α)を考慮して設計される必要がある。なお、絶縁部5の形成尤度α及び交差配線42の形成尤度αには、第1方向D1に沿った位置ずれ量及び第2方向D2に沿った位置ずれ量が少なくとも含まれる。
In forming the insulating portion 5 and the cross wiring 42, a design method of the wiring board 1, particularly a design method of the insulating portion 5 and the cross wiring 42 will be described.
As will be described later, the insulating portion 5 may be formed by an inkjet method, a printing method such as screen printing, or the like, and the cross wiring 42 may be formed by a printing method such as screen printing. Depending on the method of forming the insulating portion 5 and the cross wiring 42, the accuracy of the device used for forming the insulating portion 5 and the cross wiring 42, and the like, a predetermined positional deviation may occur when the insulating portion 5 and the cross wiring 42 are formed. .. Therefore, the sizes of the insulating portion 5 and the cross wiring 42 (see FIG. 13) and the like are designed in consideration of the above-mentioned misalignment amount (formation likelihood α I of the insulating portion 5 and formation likelihood α M of the cross wiring 42). Need to be done. The formation likelihood α I of the insulating portion 5 and the formation likelihood α M of the cross wiring 42 include at least the amount of misalignment along the first direction D1 and the amount of misalignment along the second direction D2.

まずは、第2配線パターン41と交差配線42との接触長さLを決定する。接触長さLは、第2方向D2(交差配線42の配線方向)において第2配線パターン41と交差配線42とが接触する長さである(図13参照)。 First, the contact length L between the second wiring pattern 41 and the cross wiring 42 is determined. The contact length L is the length at which the second wiring pattern 41 and the crossed wiring 42 come into contact with each other in the second direction D2 (wiring direction of the crossed wiring 42) (see FIG. 13).

次に、交差配線42の幅Wと、絶縁部5の幅Wと、交差配線42の端部(第2方向D2における端部)から当該端部に最近位の第1配線3の第1部分の側面までの長さLと、絶縁部5の端部(第2方向D2における端部)から当該端部に最近位の第1配線3の第1部分の側面までの長さLとを、絶縁部5の形成尤度α、交差配線42の形成尤度α及び接触長さLに基づき、下記式(1)~(4)示す関係を満足するように算出する。
≧W+2α ・・・(1)
≧W+2(α+α) ・・・(2)
≧D+α ・・・(3)
≧L+L+α+α ・・・(4)
上記式(1)において、Wは「第2配線パターン41の線幅の設計値」を表す。
Next, the width WM of the crossed wiring 42, the width WI of the insulating portion 5, and the first wiring 3 of the first wiring 3 which is most recent from the end portion (end portion in the second direction D2) of the crossed wiring 42 to the end portion. The length L M to the side surface of one portion and the length L from the end portion (end portion in the second direction D2) of the insulating portion 5 to the side surface of the first portion of the first wiring 3 which is the closest to the end portion. I is calculated based on the formation likelihood α I of the insulating portion 5, the formation likelihood α M of the crossed wiring 42, and the contact length L so as to satisfy the relationships shown in the following equations (1) to (4).
WM ≧ W 2 + 2α M ... (1)
WI ≧ WM +2 (α M + α I ) ・ (2)
L I ≧ D + α I・ ・ ・ (3)
LM ≧ LI + L + α M + α I ・ (4)
In the above equation (1), W 2 represents "the design value of the line width of the second wiring pattern 41".

絶縁部5の形成尤度α及び交差配線42の形成尤度αを考慮せずに配線基板1の設計を行うと、絶縁部5や交差配線42を形成する際の位置ずれにより、交差配線42と第2配線パターン41とが電気的に接続されなくなってしまったり、交差配線42と第1配線3とが電気的に接続されてしまったりするという問題が生じ得る。しかしながら、上述のようにして絶縁部5及び交差配線42の設計をすることで、後述する絶縁部5の形成工程及び交差配線42の形成工程によって、上記のような問題を生じさせることなく絶縁部5及び交差配線42を形成することができる。 If the wiring board 1 is designed without considering the formation likelihood α I of the insulating portion 5 and the formation likelihood α M of the cross wiring 42, the wiring board 1 is crossed due to the positional deviation when the insulating portion 5 and the cross wiring 42 are formed. There may be a problem that the wiring 42 and the second wiring pattern 41 are not electrically connected, or the cross wiring 42 and the first wiring 3 are electrically connected. However, by designing the insulating portion 5 and the cross wiring 42 as described above, the insulating portion is not caused by the above-mentioned problems by the process of forming the insulating portion 5 and the step of forming the cross wiring 42 described later. 5 and the cross wiring 42 can be formed.

上記設計に基づいて、第1配線3の第1部分を被覆する絶縁部5を形成する(図11D、図12D参照)。絶縁部5の形成方法としては、絶縁部5を構成する絶縁材料(樹脂材料)を用いた印刷法、インクジェット法等が挙げられる。本実施形態において、交差配線42の配線方向である第2方向D2に沿った断面を見たときに、第2方向D2における絶縁部5の中央部の厚さT5Cが第2配線パターン41の端部側に位置する絶縁部5の厚さT5Eよりも厚くなるように、好ましくは第2配線パターン41,41の両端部から絶縁部5の中央部に向かって徐々に厚くなるように(図6参照)、絶縁部5を形成する。 Based on the above design, the insulating portion 5 covering the first portion of the first wiring 3 is formed (see FIGS. 11D and 12D). Examples of the method for forming the insulating portion 5 include a printing method using an insulating material (resin material) constituting the insulating portion 5, an inkjet method, and the like. In the present embodiment, when the cross section along the second direction D2, which is the wiring direction of the crossed wiring 42, is viewed, the thickness T 5C of the central portion of the insulating portion 5 in the second direction D2 is the second wiring pattern 41. The thickness of the insulating portion 5 located on the end side is thicker than that of T 5E , preferably gradually increasing from both ends of the second wiring patterns 41 and 41 toward the central portion of the insulating portion 5 ( (See FIG. 6), the insulating portion 5 is formed.

本実施形態において、絶縁部5を構成する樹脂材料の粘度を適宜調整することで、上記のような厚さの分布を有する絶縁部5を形成することができる。絶縁部5を構成する絶縁材料の粘度(25℃)は、例えば、1Pa・s~300Pa・s程度であればよい。 In the present embodiment, the insulating portion 5 having the above-mentioned thickness distribution can be formed by appropriately adjusting the viscosity of the resin material constituting the insulating portion 5. The viscosity (25 ° C.) of the insulating material constituting the insulating portion 5 may be, for example, about 1 Pa · s to 300 Pa · s.

上記のようにして絶縁部5を形成した後、第2配線パターン41,41同士を電気的に接続する交差配線42を絶縁部5上に形成する(図11E、図12E)。交差配線42は、交差配線42を構成する導電性粒子を含む導電性ペースト又は導電性インクや、導電性高分子を用いたスクリーン印刷等の印刷法により形成される。交差配線42を印刷法により形成することで、実質的に均一な膜厚の交差配線42を形成することができる。 After forming the insulating portion 5 as described above, the cross wiring 42 for electrically connecting the second wiring patterns 41 and 41 to each other is formed on the insulating portion 5 (FIGS. 11E and 12E). The cross wiring 42 is formed by a printing method such as a conductive paste or ink containing conductive particles constituting the cross wiring 42, or screen printing using a conductive polymer. By forming the cross wiring 42 by the printing method, it is possible to form the cross wiring 42 having a substantially uniform film thickness.

以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。 The embodiments described above are described for facilitating the understanding of the present invention, and are not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.

上記実施形態において、交差配線42が導電性ペースト、導電性インク等を用いた印刷法、例えばスクリーン印刷により形成される印刷配線である態様を例に挙げて説明したが、この態様に限定されるものではない。例えば、交差配線42が第1方向D1に直交する方向に沿って並列する複数の第1部分を一体的に被覆する場合において(例えば図1等を参照)、当該交差配線42は、交差配線42を構成する材料(導電性材料)のスパッタリング、蒸着、めっき等により形成されたスパッタ配線、蒸着配線、めっき配線等であってもよい。 In the above embodiment, an embodiment in which the crossed wiring 42 is a printing method using a conductive paste, a conductive ink, or the like, for example, a printed wiring formed by screen printing has been described as an example, but the present invention is limited to this embodiment. It's not a thing. For example, when the cross wiring 42 integrally covers a plurality of first portions parallel to each other along a direction orthogonal to the first direction D1 (see, for example, FIG. 1), the cross wiring 42 is the cross wiring 42. It may be sputter wiring, vapor deposition wiring, plating wiring or the like formed by sputtering, vapor deposition, plating or the like of the material (conductive material) constituting the above.

上記実施形態において、交差配線42の幅W42が第2方向D2に沿って実質的に同一である態様を例に挙げて説明したが、この態様に限定されるものではない。例えば、図14に示すように、交差配線42は、相対的に小さい幅W421を有する幅狭部421と、幅狭部421の第2方向D2に沿った両端に位置し、幅狭部421よりも大きい幅W422を有する幅広部422とを含んでいてもよい。幅狭部421の幅W421は、第2配線パターン41の幅W41と同一でもよいし、当該幅W41より大きくてもよいし、幅W41より小さくてもよい。このような態様の交差配線42を有する配線基板1を製造する場合において、幅広部422の幅W’の設計値及び絶縁部5の幅Wの設計値は、下記式(5)及び(6)により算出されればよい。
’≧W+2α ・・・(5)
≧W’+2(α+α) ・・・(6)
上記式(5)において、Wは「第2配線パターン41の線幅の設計値」を、αは「交差配線42の形成尤度」を、αは「絶縁部5の形成尤度」を表す。
In the above embodiment, the embodiment in which the width W 42 of the crossed wiring 42 is substantially the same along the second direction D2 has been described as an example, but the present invention is not limited to this embodiment. For example, as shown in FIG. 14, the cross wiring 42 is located at both ends of the narrow portion 421 having a relatively small width W 421 and the narrow portion 421 along the second direction D2, and the narrow portion 421. It may include a wide portion 422 having a width W 422 larger than that. The width W 421 of the narrow portion 421 may be the same as the width W 41 of the second wiring pattern 41, may be larger than the width W 41 , or may be smaller than the width W 41 . In the case of manufacturing the wiring board 1 having the crossed wiring 42 in such an embodiment, the design value of the width WM'of the wide portion 422 and the design value of the width WI of the insulating portion 5 are the following equations (5) and ( It may be calculated by 6).
WM '≧ W 2 + 2α M ... (5)
WI ≧ WM '+2 (α M + α I ) ・・ (6)
In the above equation (5), W 2 is the “design value of the line width of the second wiring pattern 41”, α M is the “likelihood of formation of the crossed wiring 42”, and α I is the “likelihood of formation of the insulating portion 5”. ".

1…配線基板
2…基板
21…第1面
22…第2面
3…第1配線
4…第2配線
41,41A,41B,41C…第2配線パターン
42…交差配線
5…絶縁部
1 ... Wiring board 2 ... Board 21 ... 1st surface 22 ... 2nd surface 3 ... 1st wiring 4 ... 2nd wiring 41, 41A, 41B, 41C ... 2nd wiring pattern 42 ... Cross wiring 5 ... Insulation

Claims (23)

第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を有する基板と、
前記基板の前記第1面に設けられ、前記第1面上における第1方向に延びる第1部分を含む第1配線と、
前記基板の前記第1面に設けられ、前記第1面上における前記第1方向に交差する第2方向に延びる第2部分を含む第2配線と、
少なくとも前記第1部分を被覆する絶縁部と
を備え、
前記第2配線の前記第2部分は、前記絶縁部上に印刷により形成されている印刷配線である配線基板。
A substrate having a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface,
A first wiring provided on the first surface of the substrate and including a first portion extending in a first direction on the first surface.
A second wiring provided on the first surface of the substrate and including a second portion of the first surface that intersects the first direction and extends in a second direction.
It is provided with at least an insulating portion that covers the first portion.
The second portion of the second wiring is a wiring board which is a printed wiring formed on the insulating portion by printing.
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を有する基板と、
前記基板の前記第1面に設けられ、前記第1面上における第1方向に延びる複数の第1部分を含む第1配線と、
前記基板の前記第1面に設けられ、前記第1面上における前記第1方向に交差する第2方向に延びる第2部分を含む第2配線と、
少なくとも前記複数の第1部分を一体的に被覆する絶縁部と
を備え、
前記複数の第1部分は、前記第1方向に対する直交方向に沿って並列しており、
前記第2配線の前記第2部分は、前記絶縁部上に設けられている配線基板。
A substrate having a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface,
A first wiring provided on the first surface of the substrate and including a plurality of first portions extending in a first direction on the first surface.
A second wiring provided on the first surface of the substrate and including a second portion of the first surface that intersects the first direction and extends in a second direction.
It is provided with an insulating portion that integrally covers at least the plurality of first portions.
The plurality of first portions are arranged in parallel along the direction orthogonal to the first direction.
The second portion of the second wiring is a wiring board provided on the insulating portion.
前記第1配線は、前記第1方向に直交する方向に沿って並列する複数の前記第1部分を含み、
前記絶縁部は、前記複数の第1部分を一体に被覆する請求項1に記載の配線基板。
The first wiring includes a plurality of the first portions arranged in parallel along a direction orthogonal to the first direction.
The wiring board according to claim 1, wherein the insulating portion integrally covers the plurality of first portions.
隣接する前記第1部分の間隔が、40μm~10000μmの範囲内である請求項2又は3に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 2 or 3, wherein the distance between the adjacent first portions is in the range of 40 μm to 10000 μm. 前記第2方向に沿った断面視において、前記絶縁部の前記第2方向における中央部の厚さが、前記第2方向における両端部の厚さよりも厚い請求項1~4のいずれかに記載の配線基板。 The aspect according to any one of claims 1 to 4, wherein the thickness of the central portion of the insulating portion in the second direction is thicker than the thickness of both ends in the second direction in a cross-sectional view along the second direction. Wiring board. 前記第2方向に沿った断面視において、前記絶縁部の厚さは、前記絶縁部の前記両端部から前記中央部に向かって徐々に厚くなる請求項5に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 5, wherein the thickness of the insulating portion gradually increases from both ends of the insulating portion toward the central portion in a cross-sectional view along the second direction. 前記第1面を上方に位置させた状態での前記第2方向に沿った断面視において、前記絶縁部は上方に向かって凸状に湾曲している請求項1~6のいずれかに記載の配線基板。 The invention according to any one of claims 1 to 6, wherein the insulating portion is curved upward in a cross-sectional view along the second direction with the first surface positioned upward. Wiring board. 前記第2配線は、前記第2方向に直交する方向に沿って並列する複数の前記第2部分を含み、
隣接する前記第2部分の間隔が、60μm~10000μmの範囲内である請求項1~7のいずれかに記載の配線基板。
The second wiring includes a plurality of the second portions parallel along a direction orthogonal to the second direction.
The wiring board according to any one of claims 1 to 7, wherein the distance between the adjacent second portions is in the range of 60 μm to 10000 μm.
一の前記第2配線は、複数の前記第2部分を含む請求項1~8のいずれかに記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 8, wherein the second wiring is the wiring board including the plurality of the second portions. 前記複数の第2部分は、一の前記絶縁部上に形成されている請求項9に記載の配線基板。 The wiring board according to claim 9, wherein the plurality of second portions are formed on one of the insulating portions. 前記第2方向における前記第2部分の長さが、前記第2方向における前記絶縁部の長さよりも長い請求項1~10のいずれかに記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 1 to 10, wherein the length of the second portion in the second direction is longer than the length of the insulating portion in the second direction. 前記第2方向に直交する方向における前記第2部分の長さが、前記第2方向に直交する方向における前記絶縁部の長さよりも短い請求項1~11のいずれかに記載の配線基板。 The wiring substrate according to any one of claims 1 to 11, wherein the length of the second portion in the direction orthogonal to the second direction is shorter than the length of the insulating portion in the direction orthogonal to the second direction. 第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を有する基板と、前記基板の前記第1面上に設けられている第1配線及び第2配線を有する配線基板を製造する方法であって、
前記第1配線は、前記第1面上における第1方向に延びる第1部分を含み、
前記第2配線は、前記第1面上における前記第1方向に交差する第2方向に延びる第2部分を含み、
前記配線基板の製造方法は、
前記基板の前記第1面上に、前記第1配線と、前記第1配線の前記第1部分を前記第2方向に沿って両側から挟む少なくとも一組の第2配線パターンとを形成する工程と、
少なくとも前記第1部分を被覆する絶縁部を形成する工程と、
前記絶縁部上に前記第2配線パターン同士を電気的に接続する前記第2部分としての交差配線を形成する工程と
を含み、
前記交差配線は、前記絶縁部上に導電性ペースト又は導電性インクを用いた印刷により形成される配線基板の製造方法。
A method for manufacturing a substrate having a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and a wiring board having a first wiring and a second wiring provided on the first surface of the substrate. And,
The first wiring includes a first portion extending in a first direction on the first surface.
The second wiring includes a second portion of the first surface extending in a second direction intersecting the first direction.
The method for manufacturing the wiring board is as follows.
A step of forming the first wiring and at least a set of second wiring patterns sandwiching the first portion of the first wiring from both sides along the second direction on the first surface of the substrate. ,
A step of forming an insulating portion that covers at least the first portion, and
A step of forming cross wiring as the second portion for electrically connecting the second wiring patterns to each other on the insulating portion is included.
The cross wiring is a method for manufacturing a wiring board formed by printing on the insulating portion using a conductive paste or a conductive ink.
第1面及び前記第1面の反対側に位置する第2面を有する基板と、前記基板の前記第1面上に設けられている第1配線及び第2配線を有する配線基板を製造する方法であって、
前記第1配線は、前記第1面上における第1方向に延びる複数の第1部分を含み、
前記第2配線は、前記第1面上における前記第1方向に交差する第2方向に延びる第2部分を含み、
前記配線基板の製造方法は、
前記基板の前記第1面上に、前記複数の第1部分が前記第1方向に直交する方向に沿って並列するように前記第1配線を形成する工程と、
前記基板の前記第1面上に、前記第1配線の前記複数の第1部分を前記第2方向に沿って両側から挟む少なくとも一組の第2配線パターンを形成する工程と、
少なくとも前記第1部分を一体に被覆する絶縁部を形成する工程と、
前記絶縁部上に前記第2配線パターン同士を電気的に接続する前記第2部分としての交差配線を形成する工程と
を含む配線基板の製造方法。
A method for manufacturing a substrate having a first surface and a second surface located on the opposite side of the first surface, and a wiring board having a first wiring and a second wiring provided on the first surface of the substrate. And,
The first wiring includes a plurality of first portions extending in a first direction on the first surface.
The second wiring includes a second portion of the first surface extending in a second direction intersecting the first direction.
The method for manufacturing the wiring board is as follows.
A step of forming the first wiring on the first surface of the substrate so that the plurality of first portions are arranged in parallel along a direction orthogonal to the first direction.
A step of forming at least one set of second wiring patterns on the first surface of the substrate, sandwiching the plurality of first portions of the first wiring from both sides along the second direction.
A step of forming an insulating portion that integrally covers at least the first portion, and
A method for manufacturing a wiring board, comprising a step of forming cross wiring as the second portion for electrically connecting the second wiring patterns to each other on the insulating portion.
複数の前記第1部分が前記第1方向に直交する方向に沿って並列するように前記第1配線を形成し、
前記複数の第1部分を一体として被覆する前記絶縁部を形成する請求項13に記載の配線基板の製造方法。
The first wiring is formed so that the plurality of the first portions are arranged in parallel along the direction orthogonal to the first direction.
The method for manufacturing a wiring board according to claim 13, wherein the insulating portion that integrally covers the plurality of first portions is formed.
隣接する前記第1部分の間隔が40μm~10000μmの範囲内となるように前記第1配線を形成する請求項14又は15に記載の配線基板の製造方法。 The method for manufacturing a wiring board according to claim 14 or 15, wherein the first wiring is formed so that the distance between the adjacent first portions is within the range of 40 μm to 10000 μm. 前記第2方向に沿った断面を見たときに、前記第2方向における前記絶縁部の中央部の厚さが両端部の厚さよりも厚くなるように、前記絶縁部を形成する請求項13~16のいずれかに記載の配線基板の製造方法。 Claims 13 to 13 for forming the insulating portion so that the thickness of the central portion of the insulating portion in the second direction becomes thicker than the thickness of both ends when the cross section along the second direction is viewed. 16. The method for manufacturing a wiring board according to any one of 16. 前記第2方向に沿った断面を見たときに、前記絶縁部の厚さが前記絶縁部の前記両端部から前記中央部に向かって徐々に厚くなるように、前記絶縁部を形成する請求項17に記載の配線基板の製造方法。 A claim for forming the insulating portion so that the thickness of the insulating portion gradually increases from both ends of the insulating portion toward the central portion when the cross section along the second direction is viewed. 17. The method for manufacturing a wiring board according to 17. 前記第2方向に直交する方向に沿って並列する複数組の前記第2配線パターンを、隣接する前記第2配線パターンの間隔が60μm~10000μmの範囲内となるように形成する請求項13~18のいずれかに記載の配線基板の製造方法。 Claims 13 to 18 for forming a plurality of sets of the second wiring patterns parallel to each other along a direction orthogonal to the second direction so that the distance between adjacent second wiring patterns is within the range of 60 μm to 10000 μm. The method for manufacturing a wiring board according to any one of the above. 前記複数組の第2配線パターンのそれぞれを電気的に接続する複数の前記交差配線を、一の前記絶縁部上に形成する請求項19に記載の配線基板の製造方法。 The method for manufacturing a wiring board according to claim 19, wherein a plurality of the cross wirings for electrically connecting each of the plurality of sets of the second wiring patterns are formed on one of the insulating portions. 前記第2方向における前記交差配線の長さが前記第2方向における前記絶縁部の長さよりも長くなるように、前記交差配線を形成する請求項13~20のいずれかに記載の配線基板。 The wiring board according to any one of claims 13 to 20, wherein the crossed wiring is formed so that the length of the crossed wiring in the second direction is longer than the length of the insulating portion in the second direction. 前記交差配線の線幅方向における前記交差配線の長さが前記交差配線の線幅方向における前記絶縁部の長さよりも短くなるように、前記交差配線を形成する請求項13~21のいずれかに記載の配線基板。 One of claims 13 to 21 for forming the cross wiring so that the length of the cross wiring in the line width direction of the cross wiring is shorter than the length of the insulating portion in the line width direction of the cross wiring. The wiring board described. 請求項13~22のいずれかに記載の製造方法により製造される配線基板を設計する方法であって、
前記第2配線パターンと前記交差配線との接触長さLを決定する工程と、
前記交差配線の幅W、前記絶縁部の幅W、前記第1部分の側面から前記交差配線の端部までの長さL及び前記第1部分の側面から前記絶縁部の端部までの長さLを算出する工程と
を含み、
前記絶縁部の形成尤度α、前記交差配線の形成尤度α及び前記第2配線パターンと前記交差配線との接触長さLに基づき、下記式(1)~(4)に示す関係を満足するように前記交差配線の幅W、前記絶縁部の幅W、前記第1部分の側面から前記交差配線の端部までの長さL及び前記第1部分の側面から前記絶縁部の端部までの長さLを算出する配線基板の設計方法。
≧W+2α ・・・(1)
≧W+2(α+α) ・・・(2)
≧D+α ・・・(3)
≧L+L+α+α ・・・(4)
上記式(1)において、Wは「第2配線パターンの線幅の設計値」を表す。
A method for designing a wiring board manufactured by the manufacturing method according to any one of claims 13 to 22.
A step of determining the contact length L between the second wiring pattern and the cross wiring, and
The width WM of the cross wiring, the width WI of the insulation portion, the length LM from the side surface of the first portion to the end portion of the cross wiring, and the side surface of the first portion to the end portion of the insulation portion. Including the step of calculating the length LI of
Relationships shown in the following equations (1) to (4) based on the formation likelihood α I of the insulating portion, the formation likelihood α M of the cross wiring, and the contact length L between the second wiring pattern and the cross wiring. The width WM of the crossed wiring, the width WI of the insulating portion, the length LM from the side surface of the first portion to the end portion of the crossed wiring, and the insulation from the side surface of the first portion so as to satisfy the above. A method for designing a wiring board for calculating the length LI to the end of a portion.
WM ≧ W 2 + 2α M ... (1)
WI ≧ WM +2 (α M + α I ) ・ (2)
L I ≧ D + α I・ ・ ・ (3)
LM ≧ LI + L + α M + α I ・ (4)
In the above equation (1), W 2 represents "the design value of the line width of the second wiring pattern".
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