JP2022008262A - 内燃機関の排気システムのための排ガス処理デバイス - Google Patents

Abstract

【課題】内燃機関の排気システムのための排ガス処理デバイスを提供すること。
【解決手段】処理デバイス１は、管状ダクト２であって、管状側壁４によって区切られており、入口開口部５と、出口開口部と、管状側壁４を通して得られ、還元物質の噴射装置を受け入れるように設計されている、噴射開口部７とを有する、管状ダクト２と、混合本体部であって、入口開口部５から出口開口部に流れるように排ガスが辿るべき強制経路を形成する、混合本体部とを有する。混合本体部は、管状ダクト２の出口開口部に面し、管状ダクト２の断面と部分的に係合し、半月状の形状の通路領域のみを残す、部分的に円形の形状を有する第１の基部壁と、管状ダクト２の入口開口部５に面し、管状ダクト２の断面と完全に係合し、中心のところで、主孔１２を有する、円形の形状を有する第２の基部壁とを有する。
【選択図】図１

Description

関連出願の相互参照
本特許出願は、開示全体が参照により本明細書に組み込まれている２０２０年６月２５日に出願したイタリア特許出願第１０２０２０００００１５３４６号の優先権を主張するものである。

本発明は、内燃機関の排気システムのための排ガス処理デバイスに関する。

自動車によって生成される汚染ガスの排出の制御に関係する国際規制では、大気中に放出され得るＮＯ_ｘ分子に対して非常に低い限界値を規定している。

そのような限界値の順守は、特にディーゼルモータにとってとりわけ重要であり、このような理由から、ディーゼルエンジンの排気システムに、ＮＯ_ｘ分子（ＮＯ_２またはＮＯ）を不活性ガスである窒素（Ｎ_２）と水（Ｈ_２Ｏ）とに変換するように設計されているＮＯ_ｘ用のさらなるＳＣＲ（選択触媒還元）触媒コンバータを装備することが提案されている。ＮＯ_ｘ分子の窒素（Ｎ_２）への還元反応は、アンモニア（ＮＨ_３）において一般的に識別されている好適な還元剤を使用しなければ達成することが困難である。還元剤は、ＳＣＲ触媒コンバータ内に入る前に排ガスと混合するように排気システム内とＳＣＲ触媒コンバータの上流とに噴射されなければならない。

しかしながら、自動車内にアンモニアを貯蔵することは、アンモニアが有毒であるという事実に関係する明らかな安全上の理由から得策ではない。結果として、尿素水溶液を貯蔵して噴射することが提案されているが、それは、尿素が排ガスの熱の効果によって、また一部は触媒効果によっても、アンモニアに分解されるからである。

ＳＣＲ触媒コンバータの効率を最大化するためには、ＳＣＲ触媒コンバータのモノリスの表面上のアンモニア濃度が可能な限り均一であることが必要である。さらに、尿素水溶液を排気システム内に噴射することに関係する問題点は、排気システムの内壁に、尿素と、尿素の分解の可能な誘導体である、イソシアン酸（ＨＮＣＯ）の両方からなる、取り除くことが困難な固体インクラステーションが形成され得るという事実に関係している。

ＳＣＲ触媒コンバータのモノリスの表面上のアンモニア濃度の均一性を最大化するために（また、排気システムの内壁に固体インクラステーションが形成されるのを防止するために）、排気システム内に、および尿素の噴射領域の近くにミキサーを挿入することが提案されており、前記ミキサーは排ガス内に乱流を形成することによって、排ガス中のアンモニアの均一な分散に有利に働く。国際出願第ＷＯ２０１８００１７８９Ａ１号では、静的ミキサー（すなわち、可動部分を含まない）のところに還元添加剤噴射装置を備えた排ガス処理デバイスを説明している。

しかしながら、前段で説明されているタイプの知られているミキサーには、有効性（すなわち、排ガスの好適な混合を確実にすること）と効率（すなわち、排ガスの圧力低下を制限すること）の反対の要件の間の最適なバランスを有していないという欠点がある。言い換えると、前段で説明されているタイプの知られているミキサーは、有効性が低い（すなわち、排ガスの好適な混合を確実にしない）か、または効率が低い（すなわち、排ガス中に大きな圧力低下を引き起こす）かのいずれかである。

中国特許出願第ＣＮ１０９５３８３３７Ａ号では、内燃機関の排気システムのための排ガス処理デバイスを説明しており、特に、排ガスと、指定された噴射装置によって噴射された尿素との混合をもたらす混合デバイスが提供されている。

国際出願第ＷＯ２０１８００１７８９Ａ１号 中国特許出願第ＣＮ１０９５３８３３７Ａ号

本発明の目的は、内燃機関の排気システムのための排ガス処理デバイスを提供することであり、この処理デバイスには、前段で説明されている欠点がなく、特に、製造が容易で費用対効果も高い。

本発明により、内燃機関の排気システムのための排ガス処理デバイスは、付属の請求項に記載されているとおりに提供される。

請求項では、本発明の好ましい実施形態を説明しており、本発明の説明の不可欠の部分を構成する。

次に、本発明は、非限定的な例示的実施形態を示す、添付図面を参照しつつ説明される。

本発明により製造される排ガス処理デバイスの斜視図である。 図１の処理デバイスのさらなる斜視図である。 図１の処理デバイスの混合本体部の斜視図である。 図１の処理デバイスの混合本体部の斜視図である。 基部壁をなくした図３および図４の混合本体部の斜視図である。 基部壁をなくした図３および図４の混合本体部の斜視図である。 図１の処理デバイスの縦断面図である。

図１および図２において、参照番号１は、全体として、好ましくはディーゼルサイクルに従って動作する（すなわち、ディーゼルまたは同様のものを動力源とする）内燃機関の排気システムのための排ガス処理デバイスを示している。

排ガス処理デバイス１は、長手方向軸３を有し、円筒形の形状（すなわち、一定の直径の円形断面）を有する管状ダクト２を備える。管状ダクト２は、シートメタルから作られた管状側壁４によって区切られ、管状ダクト２の第１の基部に配置構成されている排ガス入口開口部５（図１に例示されている）と、入口開口部５に対向し、管状ダクト２の第２の基部（明らかに管状ダクト２の第１の基部に対向する）に配置構成されている排ガス出口開口部６（図２に例示されている）とを有しており、その結果、使用時に、排ガスは、入口開口部５を通して管状ダクト２内に入り、管状ダクト２を横断し、出口開口部６を通して管状ダクト２から出る。

管状ダクト２は、さらに、入口開口部５と出口開口部６との間で管状側壁４を通して得られ、還元物質に対する噴射装置を受け入れ、収納するように設計されている、噴射開口部７を有しており、特に、管状側壁４から片持ち梁を突き出し、噴射装置を受け入れ、収納するように構成されている管状ハウジング８は、噴射開口部７の周りに配置構成される。

噴射装置は、還元添加剤、特に尿素水溶液（すなわち、尿素と水の溶液）を管状ダクト２内に噴射するように設計されており、使用時に、管状ダクト２の内側に存在する排ガスの熱の効果により、尿素はイソシアン酸（ＨＮＣＯ）とアンモニア（ＮＨ_３）に自然に分解し、アンモニアはその後のＳＣＲ触媒コンバータの内側で還元物質として作用し、ＮＯ_ｘ分子が窒素（Ｎ_２）と水（Ｈ_２Ｏ）とに分解する分解反応を円滑にする。

図３および図４にわかりやすく例示されているように、処理デバイス１は、管状ダクト２の内側に配置構成され、入口開口部５から出口開口部６に流れる排ガスが辿る強制経路を形成する混合本体部９（静的、すなわち可動部分を含まない）を備える。特に、混合本体部９は、管状ダクト２の内側に存在する排ガス中に乱流を発生させて、その後のＳＣＲ触媒コンバータの効率を高め、排ガス中のアンモニアの分散をより均質にする機能を有する。

混合本体部９は、管状ダクト２（すなわち、管状ダクト２の長手方向軸３）と同軸であり、部分的に円形の形状を有し、管状ダクト２の出口開口部６に面し、管状ダクト２の断面と部分的に係合して半月状の形状を有し障害物を含まない単一の通路領域のみを残す基部壁１０を備える。言い換えると、基部壁１０は、管状ダクト２の断面と同じサイズの円形ディスクから始まり（前記管状ダクト２を完全に遮るように）、半月の形状のセグメントをなくして（明らかに半月のような形状の）通路領域を形成することによって得られる。部分的に円形であり、孔のない、基部壁１０は、管状ダクト２の断面に部分的にしか係合せず（塞いでいる）、したがって排ガスは基部壁１０を越えて前記基部壁１０の隣りを通過し続け得る。

混合本体部９は、管状ダクト２（すなわち、管状ダクト２の長手方向軸３）と同軸であり、（完全に）円形の形状を有し、基部壁１０と平行であり、対向し、管状ダクト２の入口開口部５に面し、管状ダクト２の断面と完全に係合し、中心のところで、管状ダクト２（すなわち、長手方向軸３）と同軸であり、排ガスの通過を可能にするための貫通孔である主孔１２を有する、基部壁１１を備える。基部壁１１は、管状ダクト２の断面と完全に係合する（塞ぐ）（すなわち、排ガスは、前記基部壁１１の主孔１２を通って基部壁１１を越え続けることのみできる）。特に、基部壁１１は、中心のところで、単一の、ただ１つの主孔１２を有しており、これは、排ガスが基部壁１１を越え続けなければならない唯一の経路である。

図３～図７に例示されているように、混合本体部９は、平坦な形状を有するデフレクタ壁（ｄｅｆｌｅｃｔｏｒ ｗａｌｌ）１３を備え、これは、基部壁１０から基部壁１１の方へ延在し、基部壁１０さらには基部壁１１と鋭角α（図７に例示されている）をなし、出口開口部６に到達した（すなわち、基部壁１０の通路領域を通過した）排ガスに、前記デフレクタ壁１３を通り越すのに必要な横方向および／または円周方向の運動成分を強制的にとらせるように構成されている。デフレクタ壁１３は傾斜しており、したがって、管状ダクト２の側壁４とともに、排ガスの流れに有用な面積を有する通路チャネルを形成し、この面積は、出口開口部６に近づくにつれて、すなわち基部壁１０の通路領域に近づくにつれて徐々に増大する。明らかに、デフレクタ壁１３は、一方の側で基部壁１０と鋭角αをなすが、デフレクタ壁１３は、他方の側で基部壁１０と鈍角（鋭角αの補角）をなす。

好ましい実施形態により、デフレクタ壁１３は、交差伸長部（ｃｒｏｓｓ ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ）を有し、すなわち、管状ダクト２の長手方向軸３に垂直であり、これは、管状ダクト２の対応する交差伸長部よりも小さく、すなわち、デフレクタ壁１３は管状ダクト２よりも狭く、デフレクタ壁１３の側縁と側壁４との間に配置構成されている管状ダクト２の２つの領域を残す（すなわち、デフレクタ壁１３によって係合されていない）。

デフレクタ壁１３は、基部壁１１まで延在する中央バンド１４と、中央バンド１４の両側に配置構成され、基部壁１１の手前で終わる、すなわち基部壁１１からゼロ以外の距離のところに配置構成される２つの側部バンド１５とを有する。好ましくは、各側部バンド１５は、基部壁１１に面する外縁で終わり、平面内で半円形の形状を有する（図７にわかりやすく例示されているように）。

デフレクタ壁１３は、一端において、デフレクタ壁１３の残りの部分に対して横方向に配置構成され、デフレクタ壁１３を基部壁１０に接続（固定）するように基部壁１０に当たって静止するフランジ１６を有する。同様に、デフレクタ壁１３は、反対端において、デフレクタ壁１３の残りの部分に対して横方向に配置構成され、デフレクタ壁１３を基部壁１１に接続（固定）するように基部壁１１に当たって静止する別のフランジ１７を有し、明らかに、フランジ１６は、デフレクタ壁１３全体にわたって延在しているが、フランジ１７は、デフレクタ壁１３の中央バンド１４の領域内にのみ延在している。

添付の図に例示されている好ましいが、非限定的である、実施形態により、デフレクタ壁１３は、平坦な形状を有し、２つの対向する縁のところで、横方向に配置構成され、最も近い側壁４（すなわち、注入開口部７に対向する側）の方へ向けられたウィング１８を設けられている。

図５および図６にわかりやすく例示されているように、混合本体部９は、管状ダクト２の長手方向軸３の周りに対称的に配置構成され、互いからゼロ以外の距離のところにあり（すなわち、２つのデフレクタ壁１９は互いに接触せず、互いに向き合っている）２つのデフレクタ壁１９を備える、すなわち、２つのデフレクタ壁１９は、管状ダクト２の長手方向軸３に関して鏡面対称性を有している。

各デフレクタ壁１９は、基部壁１０を基部壁１１に接続し、デフレクタ壁１３に関して交差するように配向され、デフレクタ壁１３の横に、前記デフレクタ壁１３からゼロ以外の距離のところで配置構成され、主孔１２の隣りの（すなわち、主孔１２の縁に近接する）基部壁１１に接続されている。

各デフレクタ壁１９は、管状ダクト２と同軸である円筒形の形状を有しており、示されているように、各デフレクタ壁１９は、約１５°～２５°の角度広がりを有している。

添付の図に例示されている好ましいが、非限定的である、実施形態により、各デフレクタ壁１９は、管状ダクト２の中間平面（すなわち、管状ダクト２を２つの対称的な部分に２分割し、管状ダクト２の長手方向軸３を通過する平面）の領域内で終わる、すなわち、全体的にデフレクタ壁１３および１９は、管状ダクト２の内容積の半分と係合する。

デフレクタ壁１９は、一端において、デフレクタ壁１９の残りの部分に対して垂直方向に配置構成され、デフレクタ壁１９を基部壁１０に接続（固定）するように基部壁１０に当たって静止するフランジ２０を有する。同様に、各デフレクタ壁１９は、反対端において、デフレクタ壁１９の残りの部分に対して垂直方向に配置構成され、デフレクタ壁１９を基部壁１１に接続（固定）するように基部壁１１に当たって静止する別のフランジ２１を有する。添付図に例示されている実施形態によれば、各デフレクタ壁１９のフランジ２０は、デフレクタ壁１９の残りの部分よりも狭い。

噴射開口部７は、デフレクタ壁１３に関して最も遠い地点に、また２つのデフレクタ壁１９に関して中心に、配置されるようにデフレクタ壁１３の反対側に配置構成されており、この方式で、噴射装置によって噴霧される還元剤のジェットは、デフレクタ壁１３に当たるように向けられ、２つのデフレクタ壁１９を通過する。

図３および図４に例示されている好ましい実施形態により、基部壁１１は、複数の副孔２２を有しており、これらは、排ガスの通過を可能にする貫通孔（主孔１２の代わりとなる）であり、主孔１２よりも（かなり）小さい直径を有し、主孔１２の周囲に配置構成される。特に、副孔２２は、一方が他方の内側に入るように配置構成されている、２つの円周に沿って分布し、主孔１２と同軸であり、前記主孔１２を取り囲んでおり、さらに、副孔２２は、管状側壁４に（かなり）近く、主孔１２から（かなり）遠くなるように管状側壁４の近くに配置構成される。

基部壁１１は、並んで配置されている複数の小さな副貫通孔２２を多数有し、特に、数十個の副貫通孔２２が設けられている（約１８０～２４０個の副貫通孔２２）。各副貫通孔２２は、１～３ｍｍの間の大きさを含む直径を有しており、したがって、各副貫通孔２２の直径は、主孔１２の直径および管状ダクト２の直径よりかなり小さく、たとえば、各副貫通孔２２の直径は、主孔１２の直径の０．５～３％に等しい。

副貫通孔２２は、管状ダクト２の入口開口部５から到来する排ガスのうち、適度な割合のものだけが混合本体部９の基部壁１１を通過することを可能にするが、管状ダクト２の入口開口部５から到来する排ガスの主要な部分は、主孔１２（副貫通孔２２よりもはるかに大きいので、通過するときにかなり低い圧力低下を引き起こす）に強制的に通過させられることが重要である。言い換えると、副孔２２は、排ガスが混合本体部９の基部壁１１を通過するための主孔１２の代替的手段となっており、したがって、排ガスのわずかな部分は、主孔１２を通して基部壁１１を通過する代わりに、主孔１２のバイパスを構成する副孔２２を通して基部壁１１を通過する。

例示されていない異なる実施形態により、混合本体部９の基部壁１１には、副貫通孔２２が存在しない。

図４に例示されている好ましいが、非限定的である、実施形態により、基部壁１１は、基部壁１１の残りの部分に関して基部壁１０の方へ軸方向にオフセットされている陥凹セクタ２３を有している、すなわち、陥凹セクタ２３は、基部壁１１の残りの部分と同一平面上になく、基部壁１１の残りの部分に比べて、基部壁１０に軸方向に関して近い。陥凹円形セクタ２３は、示されているように、１５°～３０°の角度広がりを有する。

添付図に示されている好ましいが、非限定的である、実施形態により、混合本体部９の基部壁１０は、基部壁１０に垂直であり、長手方向軸線３の周りに展開し、管状ダクト２の管状側壁４の内面に当たって固定（溶接）されている環状縁２４を有している。

同様に、混合本体部９の基部壁１１も縁２５を有し、これは、基部壁１１に垂直であり、長手方向軸３の周りに３６０°未満で展開し（陥凹セクタ２３で中断するので）、管状側壁４の内面に当たって固定（溶接）されている。

排ガスは、主孔１２および副孔２２を介して、完全に軸方向の運動で（すなわち、横方向／円周方向成分なしで）混合本体部９の基部壁１１を通過し、その後、混合本体部９の基部壁１０およびデフレクタ壁１３が存在していることで、排ガスは２つの流れに分割され、基部壁１０の隣りに配置されている通路領域に到達できるように円形の運動でデフレクタ壁１３（さらにはデフレクタ壁１９）を横方向に通過する（これは基部壁１０を通過し、したがって、出口開口部６に到達する唯一の可能性を示す）。基部壁１０およびデフレクタ壁１３（および一部はデフレクタ壁１９の存在によっても）の存在によって課される運動の向きの変化は、排ガスに、噴射開口部７を通して配置構成されている噴射装置によって噴霧される還元剤の混合に有利に働く支配的な軸方向の運動成分に加えて（著しい）円周方向運動成分を与える、すなわち、乱流運動（混合本体部９の特定の形状によって誘発される半径方向および接線方向の運動成分による）は、噴射開口部７から噴射される還元添加剤と排ガスとの最適な混合に有利に働く。

例示されていない異なる実施形態により、管状ダクト２には、混合本体部９の上流（すなわち、排ガスが最初に通過する）に配置構成されている酸化触媒コンバータ、および／またはＮＯ_ｘ分子（ＮＯおよびＮＯ_２）の後処理のための、混合本体部９の下流（すなわち、排ガスが最後に通過する）に配置構成されているＳＣＲ（選択触媒還元）触媒コンバータを収納することも可能であり、ＳＣＲ触媒コンバータは、また、粒子フィルタを組み込むことも可能である。

本明細書で説明されている実施形態は、本発明の保護範囲から逸脱することなく互いに組み合わされ得る。

前段で説明されている処理デバイス１は、多数の利点を有している。

第１に、前段で説明されている処理デバイス１は、有効性（すなわち、排ガスの好適な混合を確実にすること）と効率（すなわち、排ガス中の圧力低下を制限すること）の相反する要件の間の最適なバランスを有している。言い換えると、前段で説明されている処理デバイス１は、高い有効性（すなわち、排ガスの適切な混合を確実にする）と高い効率（すなわち、排ガス中に適度な圧力低下を生じさせる）とを同時に有する。

それに加えて、前段で説明されている処理デバイス１は、備える部品が少ししかないので、特に堅牢である（したがって、耐用年数が長く、破損のリスクも非常に低い）。

前段で説明されている処理デバイス１は、（特に軸方向の）嵩が特に低減されており、全体の重量も適度なものとなっている。

最後に、前段で説明されている処理デバイス１は、形状が複雑でなく、標準的なリング溶接を用いて接合しやすい少数の部品で構成されているので、製造が容易であり、安価である。

１ 処理デバイス
２ 管状ダクト
３ 長手方向軸
４ 管状側壁
５ 入口開口部
６ 出口開口部
７ 噴射開口部
８ 管状ハウジング
９ 混合本体部
１０ 基部壁
１１ 基部壁
１２ 主孔
１３ デフレクタ壁
１４ 中央バンド
１５ 側部バンド
１６ フランジ
１７ フランジ
１８ ウィング
１９ デフレクタ壁
２０ フランジ
２１ フランジ
２２ 副孔
２３ 陥凹セクタ
２４ 環状縁
２５ 環状縁

Claims (15)

1. 内燃機関の排気システムのための排ガス処理デバイス（１）であって、前記処理デバイス（１）は、
   管状ダクト（２）であって、管状側壁（４）によって区切られており、排ガス入口開口部（５）と、前記入口開口部（５）の反対側にある排ガス出口開口部（６）と、前記入口開口部（５）と前記出口開口部（６）との間で前記管状側壁（４）を通して得られ、還元物質の噴射装置を受け入れるように設計されている、噴射開口部（７）とを有する管状ダクト（２）と、
   混合本体部（９）であって、前記管状ダクト（２）の内側に配置構成され、前記入口開口部（５）から前記出口開口部（６）に流れるように前記排ガスが辿るべき強制経路を形成する、混合本体部（９）とを備え、
   前記混合本体部（９）は、前記管状ダクト（２）の前記出口開口部（６）に面し、前記管状ダクト（２）の断面と部分的に係合し通路領域を残す、部分的に円形の形状を有する第１の基部壁（１０）を備え、
   前記混合本体部（９）は、前記管状ダクト（２）の前記入口開口部（５）に面し、前記管状ダクト（２）の前記断面と完全に係合し、中心のところで、前記管状ダクト（２）と同軸であり、前記排ガスの通過を可能にするための貫通孔である、主孔（１２）を有する、円形の形状を有する第２の基部壁（１１）を備え、
   前記混合本体部（９）は、前記第１の基部壁（１０）から前記第２の基部壁（１１）の方へ延在する、第１のデフレクタ壁（１３）を備え、
   前記処理デバイス（１）は、
   前記第１のデフレクタ壁（１３）が、前記第１の基部壁（１０）および前記第２の基部壁（１１）と鋭角をなし、
   前記第１の基部壁（１０）は、前記管状ダクト（２）の前記断面と部分的に係合し、半月状の形状を有する、障害物を含まない、１つの通路領域のみを残し、
   前記第２の基部壁（１１）は、中央のところに、単一の、ただ１つの主孔（１２）を有することを特徴とする排ガス処理デバイス（１）。
2. 前記第１のデフレクタ壁（１３）は、前記第２の基部壁（１１）まで延在する中央バンド（１４）と、前記中央バンド（１４）の両側に配置構成され、前記第２の基部壁（１１）の前で終わる２つの側部バンド（１５）とを有する請求項１に記載の処理デバイス（１）。
3. 前記第１のデフレクタ壁（１３）は、交差伸長部を有し、すなわち、前記管状ダクト（２）の長手方向軸（３）に垂直であり、これは、前記管状ダクト（２）の対応する交差伸長部よりも小さい請求項１または２に記載の処理デバイス（１）。
4. 前記第１のデフレクタ壁（１３）は、平坦な形状を有し、前記２つの対向する縁において、垂直に配置構成されているウィング（１８）を設けられる請求項１、２、または３に記載の処理デバイス（１）。
5. 前記混合本体部（９）は、少なくとも１つの第２のデフレクタ壁（１９）を備え、これは、前記第１の基部壁（１０）を前記第２の基部壁（１１）に接続し、前記第１のデフレクタ壁（１３）に関して交差方向に配向され、前記第１のデフレクタ壁（１３）からゼロ以外の距離のところで前記第１のデフレクタ壁（１３）の傍らに配置構成され、前記主孔（１２）の隣りで前記第２の基部壁（１１）に接続される請求項１から４のいずれか一項に記載の処理デバイス（１）。
6. 前記第２のデフレクタ壁（１９）は、前記管状ダクト（２）と同軸である円筒形の形状を有する請求項５に記載の処理デバイス（１）。
7. 前記第２のデフレクタ壁（１９）は、前記管状ダクト（２）の中間平面の領域内で終わる請求項５または６に記載の処理デバイス（１）。
8. 前記混合本体部（９）は、前記管状ダクト（２）の長手方向軸（３）の周りに対称的に配置構成され、互いからゼロ以外の距離のところにある、２つの第２のデフレクタ壁（１９）を備える請求項５、６、または７に記載の処理デバイス（１）。
9. 前記噴射開口部（７）は、前記第１のデフレクタ壁（１３）に関して最も遠い地点に、また前記２つのデフレクタ壁（１９）に関して中心にあるように前記第１のデフレクタ壁（１３）の反対側に配置構成される請求項８に記載の処理デバイス（１）。
10. 前記第２の基部壁（１１）は、前記排ガスの前記通過を可能にする貫通孔であり、前記主孔（１２）よりも小さい直径を有し、前記主孔（１２）の周りに配置されている複数の副孔（２２）を有する１から９のいずれか一項に記載の処理デバイス（１）。
11. 前記副孔（２２）は、前記主孔（１２）と同軸である、周に沿って分布し、前記主孔（１２）を取り囲んでいる請求項１０に記載の処理デバイス（１）。
12. 前記副孔（２２）は、互いの内側に配置構成されている２つの周に沿って分布し、前記主孔（１２）と同軸であり、前記主孔（１２）を取り囲んでいる請求項１０または１１に記載の処理デバイス（１）。
13. 前記副孔（２２）は、前記管状側壁（４）の近くに、前記主孔（１２）から遠くなるように前記管状側壁（４）の近くに配置構成される請求項１０、１１、または１２に記載の処理デバイス（１）。
14. 前記噴射開口部（７）は、前記第１のデフレクタ壁（１３）に関して最も遠い地点にあるように前記第１のデフレクタ壁（１３）の反対側に配置構成される請求項１から１３のいずれか一項に記載の処理デバイス（１）。
15. 前記第２の基部壁（１１）は、前記第２の基部壁（１１）の残りの部分に関して前記第１の基部壁（１０）の方へ軸方向にオフセットされている、陥凹セクタ（２３）を有する請求項１から１４のいずれか一項に記載の処理デバイス（１）。

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