JP2021504169A - Coated polishing disc and its manufacturing method and usage method - Google Patents

Coated polishing disc and its manufacturing method and usage method Download PDF

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Abstract

被覆研磨ディスクは、ディスクバッキングと、その上に配置された研磨層と、を含む。研磨層は、少なくとも1つの結合剤材料によってディスクバッキングの主表面に固着された研磨要素を備えている。研磨要素は、長方形格子パターンの水平線と垂直線との接触した交点に配置されている。交点の少なくとも70パーセントに、研磨要素のうちの1つが配置されている。研磨要素の各々は2つの三角形研磨小板を有している。三角形研磨小板の各々は、互いに接続されると共に3つの側壁によって分離されたそれぞれの頂部表面及び底部表面を有している。それぞれ、三角形研磨小板の少なくとも90パーセントの1つの側壁は、ディスクバッキングに面すると共にディスクバッキングに近接して配置されている。研磨要素は、直交して隣接する研磨要素中の三角形研磨小板が、互いに直交から10度以内のZ軸回転配置方向を有するように配置されている。被覆研磨ディスクを製造する方法及び使用する方法が同じく開示される。The coated polishing disc includes a disc backing and a polishing layer placed on the disc backing. The polishing layer comprises a polishing element secured to the main surface of the disc backing by at least one binder material. Polishing elements are located at the point of contact of the horizontal and vertical lines of the rectangular grid pattern. At least 70 percent of the intersections have one of the polishing elements located. Each of the polishing elements has two triangular polishing plates. Each of the triangular polished plates has its own top and bottom surfaces connected to each other and separated by three side walls. One side wall, each of which is at least 90 percent of the triangular polished plates, faces the disc backing and is located close to the disc backing. The polishing elements are arranged so that the triangular polishing plates in the adjacent polishing elements are orthogonal to each other and have a Z-axis rotation arrangement direction within 10 degrees from the orthogonal to each other. Also disclosed are methods of manufacturing and using coated polished discs.

Description

本開示は、広義には被覆研磨ディスク、それらの製造方法及びそれらの使用方法に関する。 The present disclosure relates, in a broad sense, to coated abrasive discs, their manufacturing methods and their use.

三角形研磨小板から製造される被覆研磨ディスクは、商品の製造における広範囲にわたる様々な材料及び表面の研磨、仕上げ又は研削のために有用である。詳細には、溶接ビーズ(例えばとりわけ軟鋼溶接)の仕上げ、フラッシュ、ゲート、及びハンドヘルド直角研削盤を使用したオフ−ハンド研磨によるライザー・オフ鋳造は、被覆研磨ディスクのための重要なアプリケーションである。上記に鑑みて、被覆研磨ディスクのコスト、性能及び/又は寿命を改善するための必要性が引き続いて存在している。 Coated polishing discs made from triangular polishing strips are useful for polishing, finishing or grinding a wide variety of materials and surfaces in the manufacture of commodities. In particular, finishing of weld beads (eg, mild steel welds in particular), flash, gate, and riser-off casting by off-hand polishing using a handheld right angle grinding machine are important applications for coated polishing discs. In view of the above, there continues to be a need to improve the cost, performance and / or life of coated polished discs.

回転整列した三角形研磨小板を有する被覆研磨物品は、米国特許第9,776,302号(Keipert)に開示されている。被覆研磨物品は、表面特徴を個々に有する複数の三角形研磨小板を有している。複数の三角形研磨小板は、研磨層を形成する樹脂状接着剤を含むメークコートによって可撓性バッキングに取り付けられる。表面特徴は、規定されたz方向回転配置方向を有しており、このz方向回転配置方向は、研磨層において、表面特徴のランダムz方向回転配置方向によって生じるであろう頻度よりも頻繁に生じる。 A coated polished article having a rotatably aligned triangular polishing strip is disclosed in US Pat. No. 9,776,302 (Keipert). The coated polished article has a plurality of triangular polished strips having individual surface features. The plurality of triangular polishing strips are attached to the flexible backing by a make coat containing a resinous adhesive that forms a polishing layer. The surface feature has a defined z-direction rotational arrangement direction, which occurs more frequently in the polishing layer than would be caused by the random z-direction rotational arrangement direction of the surface feature. ..

一態様では、本開示は、
ディスクバッキングと、
ディスクバッキングの上に配置された研磨層であって、少なくとも1つの結合剤材料によってディスクバッキングの主表面に固着された研磨要素を備え、研磨要素が、長方形格子パターンの水平線と垂直線との交点に配置され、交点の少なくとも70パーセントに、研磨要素のうちの1つが配置されている、研磨層と
を備え、
研磨要素の各々が2つの三角形研磨小板を有し、三角形研磨小板の各々が、互いに接続されると共に3つの側壁によって分離されたそれぞれの頂部表面及び底部表面を有し、それぞれ、三角形研磨小板の少なくとも90パーセントの1つの側壁が、ディスクバッキングに面すると共にディスクバッキングに近接して配置され、
研磨要素が、直交して隣接する研磨要素中の三角形研磨小板が、互いに直交から10度以内のZ軸回転配置方向を有するように配置される、
被覆研磨ディスクを提供する。
In one aspect, the present disclosure
With disc backing
A polishing layer placed on top of the disc backing, comprising a polishing element secured to the main surface of the disc backing by at least one binder material, where the polishing element is the intersection of the horizontal and vertical lines of a rectangular lattice pattern. With a polishing layer, where one of the polishing elements is located, at least 70% of the intersections.
Each of the polishing elements has two triangular polishing plates, each of which has a top surface and a bottom surface that are connected to each other and separated by three side walls, respectively. At least 90 percent of the plaque has one side wall facing the disc backing and placed in close proximity to the disc backing.
The polishing elements are arranged so that the triangular polishing plates in the adjacent polishing elements are orthogonal to each other and have a Z-axis rotation arrangement direction within 10 degrees from the orthogonal to each other.
A coated polishing disc is provided.

有利には、本開示による被覆研磨ディスクは、軟鋼(例えば軟鋼溶接仕上げ)のオフ−ハンド研磨のために有用であり、それらは、従来の同様のディスクと比較して優れた性能を示す。 Advantageously, the coated polishing discs according to the present disclosure are useful for off-hand polishing of mild steel (eg, mild steel welded finish), and they exhibit superior performance compared to similar conventional discs.

したがって第2の態様では、本開示は、ワークピースを研磨する方法を提供し、方法は、本開示による被覆研磨ディスクの研磨層の一部をワークピースと摩擦接触させることと、ワークピースを研磨するために、ワークピース及び研磨物品ディスクのうちの少なくとも一方を他方に対して移動させることと、を含む。 Thus, in a second aspect, the present disclosure provides a method of polishing a workpiece, the method of frictionally contacting a portion of the polishing layer of a coated polishing disc according to the present disclosure with the workpiece and polishing the workpiece. This involves moving at least one of the workpiece and the abrasive disc to the other.

第3の態様では、本開示は、被覆研磨ディスクを製造する方法を提供し、方法は、
硬化性メーク層前駆体をディスクバッキングの主表面に配置することと、
研磨要素を硬化性メーク層前駆体に接着することであって、
研磨要素が、長方形格子パターンの水平線と垂直線との交点に配置され、交点の少なくとも70パーセントに、研磨要素のうちの1つが配置されており、
研磨要素の各々が2つの三角形研磨小板を有し、三角形研磨小板の各々が、互いに接続されると共に3つの側壁によって分離されたそれぞれの頂部表面及び底部表面を有し、それぞれ、三角形研磨小板の少なくとも90パーセントの1つの側壁が、ディスクバッキングに面すると共にディスクバッキングに近接して配置され、
研磨要素が、直交して隣接する研磨要素中の三角形研磨小板が、互いに直交から10度以内のZ軸回転配置方向を有するように配置される、
研磨要素を硬化性メーク層前駆体に接着することと、
硬化性サイズ層前駆体を、少なくとも部分的に硬化したメーク層前駆体及び三角形研磨小板の上に配置することと、
サイズ層を提供するために、硬化性サイズ層前駆体を少なくとも部分的に硬化させることと、を含む。
In a third aspect, the present disclosure provides a method of making a coated abrasive disc, the method of which is:
Placing the curable make-up layer precursor on the main surface of the disc backing,
Adhering the polishing element to the curable make-up layer precursor,
Abrasive elements are located at the intersections of the horizontal and vertical lines of the rectangular grid pattern, with at least 70 percent of the intersections having one of the abrasive elements.
Each of the polishing elements has two triangular polishing plates, each of which has a top surface and a bottom surface that are connected to each other and separated by three side walls, respectively. At least 90 percent of the plaque has one side wall facing the disc backing and placed in close proximity to the disc backing.
The polishing elements are arranged so that the triangular polishing plates in the adjacent polishing elements are orthogonal to each other and have a Z-axis rotation arrangement direction within 10 degrees from the orthogonal to each other.
Adhering the polishing element to the curable make-up layer precursor and
Placing the curable size layer precursor on at least a partially cured make-up layer precursor and a triangular polishing plate.
To provide a size layer, the curable size layer precursor is at least partially cured.

本明細書において使用される場合、
「軟鋼」という用語は、約0.25重量パーセント未満の炭素を含有する炭素系鋼合金を意味し、
「オフ−ハンド研磨」という用語は、オペレータが手動でディスク/ホイールをワークピースに対して付勢するか、又はその逆である研磨を意味し、
「近接」という用語は、極めて近いか、又は隣接している(例えば結合剤層と接触している、又は結合剤層中に埋め込まれている)ことを意味し、
「ワークピース」という用語は、研磨される物を意味している。
As used herein,
The term "mild steel" means a carbon-based steel alloy containing less than about 0.25 weight percent carbon.
The term "off-hand polishing" means polishing where the operator manually urges the disc / wheel against the workpiece and vice versa.
The term "proximity" means very close or adjacent (eg, in contact with or embedded in the binder layer).
The term "workpiece" means an object to be polished.

本明細書において使用される場合、「三角形研磨小板」という用語は、整形前駆体研磨粒子を形成するために使用される型空洞から複製される所定の形状を有する研磨粒子の少なくとも一部を有するセラミック研磨粒子を意味している。三角形研磨小板は、概ね、三角形研磨小板を形成するために使用された型空洞を実質的に複製する所定の幾何学的形状を有することになる。本明細書において使用される三角形研磨小板は、機械的な破砕操作によって得られるランダムなサイズの研磨粒子を除く。 As used herein, the term "triangular abrasive plate" refers to at least a portion of abrasive particles having a predetermined shape that are replicated from the mold cavity used to form the shaped precursor abrasive particles. It means ceramic abrasive particles having. The triangular-polished plate will generally have a predetermined geometry that substantially duplicates the mold cavity used to form the triangular-polished plate. The triangular polishing strips used herein exclude randomly sized abrasive particles obtained by mechanical crushing operations.

本明細書において使用される場合、「Z軸回転配置方向」は、ディスクバッキングの主表面に対して直角のZ軸の周りの、ディスクバッキングに最も面する三角形研磨小板側壁の長手方向の寸法の角回転を意味している。 As used herein, the "Z-axis rotational arrangement direction" is the longitudinal dimension of the side wall of the triangular polished disc that faces the disc backing most around the Z axis perpendicular to the main surface of the disc backing. It means the angular rotation of.

本開示の特徴及び利点は、詳細な説明並びに添付の特許請求の範囲を考察することによって更に理解されるであろう。 The features and advantages of the present disclosure will be further understood by considering the detailed description and the appended claims.

例示的被覆研磨ディスク100の概略上面図である。It is a schematic top view of the exemplary coated polishing disc 100. 図1の領域1Aの拡大図である。It is an enlarged view of the area 1A of FIG. 図1Aの線1B−1Bに沿って取った例示的被覆研磨ディスク100の略側面図である。It is a schematic side view of the exemplary coated polishing disc 100 taken along line 1B-1B of FIG. 1A. 例示的三角形研磨小板130aの概略上面図である。It is a schematic top view of the exemplary triangular polishing small plate 130a. 例示的三角形研磨小板130aの略斜視図である。It is a schematic perspective view of the exemplary triangular polishing small plate 130a. 例示的三角形研磨小板330の概略上面図である。It is a schematic top view of the exemplary triangular polishing small plate 330. 例示的三角形研磨小板330の略断面側面図である。It is a schematic cross-sectional side view of the exemplary triangular polishing small plate 330. 被覆研磨ディスク100を製造するために有用な例示的生産工具400の上面図である。It is a top view of the exemplary production tool 400 useful for manufacturing the coated polishing disc 100. 図4の領域4Aの拡大図である。It is an enlarged view of the area 4A of FIG. 図4Aの線4B−4Bに沿って取った生産工具400の略断面図である。It is a schematic sectional view of the production tool 400 taken along the line 4B-4B of FIG. 4A. 図4Aの線4C−4Cに沿って取った生産工具400の略断面図である。It is a schematic sectional view of the production tool 400 taken along the line 4C-4C of FIG. 4A.

本明細書及び図面中での参照文字の反復使用は、本開示の同じ又は類似の特徴又は要素を表すことが意図されている。当業者は多くの他の修正形態及び実施形態を考案することができ、それらは本開示の原理の範囲及び趣旨の範疇であることを理解されたい。図は、縮尺通りに描かれていないことがあり得る。 Repeated use of reference characters herein and in the drawings is intended to represent the same or similar features or elements of the present disclosure. Those skilled in the art can devise many other modifications and embodiments, and it should be understood that they fall within the scope and intent of the principles of the present disclosure. The figure may not be drawn to scale.

図1は、本開示による例示的被覆研磨ディスク100を示したものであり、研磨要素160は、ディスクバッキング110に対して正確な位置に、及びZ軸回転配置方向で固着されている。 FIG. 1 shows an exemplary coated polishing disc 100 according to the present disclosure, in which the polishing element 160 is fixed in an accurate position with respect to the disc backing 110 and in the Z-axis rotational arrangement direction.

ここで図1Aを参照すると、研磨要素160はそれぞれ2つの三角形研磨小板130を有している。研磨要素160は、長方形格子パターン196の水平線192及び垂直線194との交点190に配置されている。交点190の少なくとも70パーセントに、研磨要素160のうちの1つが配置されている。 Here, referring to FIG. 1A, each polishing element 160 has two triangular polishing plates 130. The polishing element 160 is arranged at the intersection 190 with the horizontal line 192 and the vertical line 194 of the rectangular grid pattern 196. At least 70 percent of the intersections 190 have one of the polishing elements 160 located.

研磨要素160は、直交して隣接する研磨要素160中の三角形研磨小板130が、互いに直交から10度以内のZ軸回転配置方向を有するように配置されている。 The polishing element 160 is arranged so that the triangular polishing plates 130 in the adjacent polishing elements 160 are orthogonal to each other and have a Z-axis rotation arrangement direction within 10 degrees from the orthogonal to each other.

次に図1Bを参照すると、被覆研磨ディスク100は、ディスクバッキング110の主表面115に配置された研磨層120を備えている。研磨層120は、少なくとも1つの結合剤材料140(メーク層142及びサイズ層144として示されている)によって主表面115に固着された2つの三角形研磨小板130を個々に有する研磨要素160を備えている。任意選択のスーパーサイズ層146がサイズ層144の上に配置されている。 Next, referring to FIG. 1B, the coated polishing disc 100 includes a polishing layer 120 arranged on the main surface 115 of the disc backing 110. The polishing layer 120 comprises a polishing element 160 individually having two triangular polishing plates 130 secured to the main surface 115 by at least one binder material 140 (shown as make layer 142 and size layer 144). ing. An optional super size layer 146 is arranged on top of the size layer 144.

次に図2A及び図2Bを参照すると、個々の三角形研磨小板130aは、互いに接続されると共に3つの側壁(136a、136b、136c)によって分離されたそれぞれの頂部表面及び底部表面(132、134)を有している。 Next, referring to FIGS. 2A and 2B, the individual triangular-polished plates 130a are connected to each other and separated by three side walls (136a, 136b, 136c), respectively, at the top and bottom surfaces (132, 134). )have.

図3A及び図3Bは、有用な三角形研磨小板330の別の実施形態を示したものであり、三角形研磨小板330は、互いに接続されると共に3つの傾斜側壁(336)によって分離されたそれぞれの頂部表面及び底部表面(332、334)を有している。 3A and 3B show another embodiment of the useful triangular abrasive plate 330, which are connected to each other and separated by three inclined side walls (336), respectively. It has a top surface and a bottom surface (332, 334).

ディスクバッキングは、例えば任意の知られている被覆研磨バッキングを備えることができる。いくつかの実施形態では、ディスクバッキングは、連続的な中断されていないディスクを備えており、一方、他の実施形態では、ディスクバッキングは、取付けのための中央アーバー孔を有することができる。同様に、ディスクバッキングは平らであってもよく、あるいは押下された中央ハブ、例えばType27の押し下げられた中央ディスクを有することができる。ディスクバッキングは、剛直、半剛直、又は可撓性であってもよい。いくつかの実施形態では、バッキングは、メカニカルファスナー、又は研磨層の反対側の主表面に堅固に取り付けられた接着ファスナーを有している。基板のために適した材料としては、重合膜、金属箔、織布、編織物、紙、加硫ファイバ、不織布、発泡体、スクリーン、積層体、それらの組合せ、及びそれらの処理バージョンが挙げられる。剛性及びコストが懸念されるオフ−ハンド研削アプリケーションでは、通常、加硫ファイババッキングが好ましい。バッキングの剛性が所望されるアプリケーションでは、研削工具に取り付けられた剛直なバックアップ・パッドに取り付けることによって可撓性バッキングを使用することもできる。 The disc backing can include, for example, any known coating polishing backing. In some embodiments, the disc backing comprises a continuous, uninterrupted disc, while in other embodiments, the disc backing can have a central arbor hole for mounting. Similarly, the disc backing may be flat or may have a pressed central hub, eg, a depressed central disc of Type 27. The disc backing may be rigid, semi-rigid, or flexible. In some embodiments, the backing has a mechanical fastener, or an adhesive fastener that is firmly attached to the main surface opposite the polishing layer. Suitable materials for substrates include polymerized films, metal foils, woven fabrics, knitted fabrics, paper, vulcanized fibers, non-woven fabrics, foams, screens, laminates, combinations thereof, and treated versions thereof. .. Vulcanized fiber backing is usually preferred for off-hand grinding applications where rigidity and cost are a concern. In applications where the backing rigidity is desired, flexible backing can also be used by attaching to a rigid backup pad attached to the grinding tool.

ディスクバッキングは、一般的には円形であり、その中心の周りに回転対称であることが好ましい。ディスクバッキングは円形の周囲を有していることが好ましいが、例えばスキャロップされた周囲外周の事例などでは、周囲に沿って追加特徴を有することができる。 The disc backing is generally circular, preferably rotationally symmetric around its center. The disc backing preferably has a circular perimeter, but may have additional features along the perimeter, for example in the case of a scalloped perimeter.

研磨層は、その中に保持された研磨粒子を有する単一の結合剤層を備えることができ、より典型的には、メーク層及びサイズ層を有する多層構造を備えることができる。本開示による被覆研磨ディスクは、例えば研磨層の上に重畳される任意選択のスーパーサイズ層などの追加層を含むことができ、あるいは必要に応じてバッキング帯電防止処理層を含むことも可能である。適切な例示的結合剤は、熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂及びそれらの組合せから準備することができる。 The polishing layer can include a single binder layer with abrasive particles retained therein, and more typically can have a multi-layer structure with a make-up layer and a size layer. The coated polishing disc according to the present disclosure can include an additional layer such as an optional super-sized layer superimposed on the polishing layer, or can optionally include a backing antistatic treatment layer. .. Suitable exemplary binders can be prepared from thermosetting resins, radiation curable resins and combinations thereof.

メーク層は、硬化性メーク層前駆体をバッキングの主表面にコーティングすることによって形成することができる。メーク層前駆体は、例えば接着剤、フェノール樹脂、アミノプラスト樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ウレタン樹脂、遊離基重合性多官能性(メタ)アクリレート(例えばペンダントα、β−不飽和基、アクリル化ウレタン、アクリル化エポキシ、アクリル化イソシアヌレートを有するアミノプラスト樹脂)、エポキシ樹脂(ビス−マレイミド及びフルオレン変性エポキシ樹脂を含む)、イソシアヌレート樹脂及びそれらの混合物を含むことができる。これらのうち、とりわけ加硫ファイババッキングと組み合わせて使用される場合、フェノール樹脂が好ましい。 The make layer can be formed by coating the main surface of the backing with a curable make layer precursor. The make layer precursor is, for example, an adhesive, a phenol resin, an aminoplast resin, a urea-formaldehyde resin, a melamine-formaldehyde resin, a urethane resin, a free group polymerizable polyfunctional (meth) acrylate (for example, pendant α, β-unsaturated). It can contain groups, acrylated urethanes, acrylated epoxies, aminoplast resins with acrylated isocyanurates), epoxy resins (including bis-maleimide and fluorene modified epoxy resins), isocyanurate resins and mixtures thereof. Of these, phenolic resins are preferred, especially when used in combination with vulcanized fiber backing.

フェノール樹脂は、一般に、フェノールとホルムアルデヒドの縮合によって形成され、通常、レゾール樹脂又はノボラック・フェノール樹脂に分類される。ノボラック・フェノール樹脂は酸触媒され、ホルムアルデヒドとフェノールのモル比は1:1未満である。レゾール・フェノール樹脂は、アルカリ性触媒によって触媒作用させることが可能であり、ホルムアルデヒドとフェノールのモル比は1以上であり、典型的には1.0〜3.0であり、ペンダント・メチロール基を提供する。アルデヒドとレゾール・フェノール樹脂のフェノール成分との間の反応を触媒するために適したアルカリ性触媒には、水酸化ナトリウム、水酸化バリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、有機アミン及び炭酸ナトリウムがあり、これらはすべて、水に溶解した触媒の溶液としてのものである。 Phenol resins are generally formed by condensation of phenol and formaldehyde and are usually classified as resole resins or novolac phenol resins. Novolac phenol resin is acid catalyzed and has a molar ratio of formaldehyde to phenol less than 1: 1. The resol-phenol resin can be catalyzed by an alkaline catalyst and has a formaldehyde to phenol molar ratio of 1 or greater, typically 1.0 to 3.0, providing a pendant methylol group. To do. Suitable alkaline catalysts for catalyzing the reaction between the aldehyde and the phenolic component of the resol-phenolic resin include sodium hydroxide, barium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, organic amines and sodium carbonate. All of these are as a solution of the catalyst dissolved in water.

レゾール・フェノール樹脂は、典型的には、水及び/又は有機溶媒(例えばアルコール)との溶液として被覆される。典型的には、溶液は、約70重量パーセント〜約85重量パーセントの固体を含むが、他の濃度を使用してもよい。固体含有量が極めて少ない場合、水及び/又は溶媒を除去するためにより多くのエネルギーが必要である。固体含有量が極めて多い場合、結果として得られるフェノール樹脂の粘度が高くなりすぎて、典型的には処理問題をもたらすことになる。 The resole-phenolic resin is typically coated as a solution with water and / or an organic solvent (eg, alcohol). Typically, the solution comprises from about 70 weight percent to about 85 weight percent solid, but other concentrations may be used. If the solid content is very low, more energy is needed to remove the water and / or solvent. If the solid content is extremely high, the resulting phenolic resin will become too viscous, typically leading to processing problems.

フェノール樹脂はよく知られており、商用供給源から容易に入手可能である。本開示の実践に有用な、商用的に入手可能なレゾール・フェノール樹脂の例としては、商標名VARCUM(例えば29217、29306、29318、29338、29353)でDurez Corporationによって販売されているレゾール・フェノール樹脂、商標名AEROFENE(例えばAEROFENE 295)で、Florida州Bartow在所のAshland Chemical Co.によって販売されているレゾール・フェノール樹脂、及び商標名PHENOLITE(例えばPHENOLITE TD−2207)で、韓国Seoul在所のKangnam Chemical Company Ltd.によって販売されているレゾール・フェノール樹脂が挙げられる。 Phenol forms are well known and are readily available from commercial sources. Examples of commercially available resole-phenol resins useful in the practice of the present disclosure are resole-phenol resins sold by Durez Corporation under the trade names VARCUM (eg 29217, 29306, 29318, 29338, 29353). , Under the trade name AEROFENE (eg, AEROFENE 295), Ashland Chemical Co., Ltd., located in Bartow, Florida. Resol phenol resin sold by PHENOLITE (eg, PHENOLITE TD-2207), Gangnam Chemical Company Ltd., located in Seoul, South Korea. Examples include resole-phenolic resins sold by.

メーク層前駆体は、例えばロール・コーティング、押出しダイ・コーティング、カーテン・コーティング、ナイフ・コーティング、グラビア・コーティング及び噴霧コーティングなどのバッキングにメーク層を加えるための任意の知られているコーティング方法によって加えることができる。 Make layer precursors are added by any known coating method for adding make layers to backing, such as roll coatings, extruded die coatings, curtain coatings, knife coatings, gravure coatings and spray coatings. be able to.

利用されるメーク層の斤量は、例えば意図される使用、研磨粒子のタイプ、及び準備される被覆研磨ディスクの性質に依存し得るが、典型的には、1、2、5、10、又は15グラム/平方メートル(gsm)〜20、25、100、200、300、400、更には600gsmの範囲である。メーク層は、例えばロール・コーティング、押出しダイ・コーティング、カーテン・コーティング、ナイフ・コーティング、グラビア・コーティング及び噴霧コーティングを含む、バッキングにメーク層(例えばメークコート)を加えるための任意の知られているコーティング方法によって加えることができる。 The weight of the make-up layer utilized may depend, for example, on the intended use, the type of abrasive particles, and the nature of the coated abrasive disc being prepared, but is typically 1, 2, 5, 10, or 15. It ranges from grams / square meter (gsm) to 20, 25, 100, 200, 300, 400 and even 600 gsm. The make-up layer is any known for adding a make-up layer (eg, make-up coat) to the backing, including, for example, roll coating, extruded die coating, curtain coating, knife coating, gravure coating and spray coating. It can be added by the coating method.

メーク層前駆体がバッキング上にコーティングされると、三角形研磨小板がメーク層前駆体に加えられ、かつ、接着される(例えばその中に埋め込まれる)。三角形研磨小板は、名目上は、メーク層前駆体の上に所定のパターン及びZ軸回転配置方向に従って加えられる。 When the make-up layer precursor is coated on the backing, a triangular polishing plate is added to and adhered to (eg, embedded in) the make-up layer precursor. Triangular polishing strips are nominally added onto the make-up layer precursor according to a predetermined pattern and Z-axis rotational arrangement direction.

いくつかの好ましい実施形態では、研磨要素同士の間の水平間隔及び/又は垂直間隔は、繊維ディスクバッキングに面している三角形研磨小板の側壁の平均長さの1〜3倍、より好ましくは1.2〜2倍であるが、他の間隔を使用することも可能である。 In some preferred embodiments, the horizontal and / or vertical spacing between the polishing elements is 1-3 times, more preferably, the average length of the side walls of the triangular polishing plate facing the fiber disc backing. It is 1.2 to 2 times, but other intervals can be used.

三角形研磨小板の各々の少なくとも90パーセント(例えば少なくとも95パーセント、少なくとも99パーセント、更には100パーセント)の1つの側壁は、ディスクバッキングに面して配置される(好ましくはディスクバッキングに近接して)。更に、ディスクバッキングに面して配置される側壁は、それらの位置に応じて垂直線又は水平線から10度以内(好ましくは5度以内、より好ましくは2度以内)のZ軸回転配置方向を有する(すなわち縦方向のZ軸回転配置方向を有する)。この点に関して、バッキングに面している側壁のZ軸回転方向は、長方形格子パターン(平面である)上へのそのZ軸投影が垂直線のうちの少なくとも1つと10度以下の角度で交差する場合(共線を含む)、垂直線から10度以内であると見なされる。同様に、バッキングに面している側壁のZ軸回転方向は、長方形格子パターン(平面である)上へのそのZ軸投影が水平線のうちの少なくとも1つと10度以下の角度で交差する場合(共線を含む)、水平線から10度以内であると見なされる。 One side wall of at least 90 percent (eg, at least 95 percent, at least 99 percent, and even 100 percent) of each of the triangular polished plates is placed facing the disc backing (preferably in close proximity to the disc backing). .. Further, the side walls arranged facing the disc backing have a Z-axis rotation arrangement direction within 10 degrees (preferably within 5 degrees, more preferably within 2 degrees) from the vertical or horizontal line depending on their position. (That is, it has a vertical Z-axis rotation arrangement direction). In this regard, the Z-axis rotation direction of the side wall facing the backing is such that its Z-axis projection onto a rectangular grid pattern (planar) intersects at least one of the vertical lines at an angle of 10 degrees or less. If (including collinear), it is considered to be within 10 degrees of the vertical line. Similarly, the Z-axis rotation direction of the side wall facing the backing is when its Z-axis projection onto a rectangular grid pattern (planar) intersects at least one of the horizontal lines at an angle of 10 degrees or less ( (Including collinear), considered to be within 10 degrees of the horizon.

三角形研磨小板は、研磨プロセスにおける研磨粒子として機能するのに十分な硬度を有している。三角形研磨小板は、少なくとも4、少なくとも5、少なくとも6、少なくとも7、更には少なくとも8のMohs硬度を有することが好ましい。それらはアルファ・アルミナを含むことが好ましい。 The triangular polishing strip has sufficient hardness to function as polishing particles in the polishing process. The triangular polished plate preferably has a Mohs hardness of at least 4, at least 5, at least 6, at least 7, and even at least 8. They preferably contain alpha alumina.

いくつかの実施形態では、三角形研磨小板は、薄い三角柱として整形されるが、他の実施形態では、三角形研磨小板は、切頭三角錐(好ましくは約8度のテーパー角を有する)として整形される。三角形研磨小板は、異なる側面長を有することができるが、それらの最大面上で等辺であることが好ましい。 In some embodiments, the triangular-polished plate is shaped as a thin triangular prism, while in other embodiments, the triangular-polished plate is as a truncated triangular pyramid (preferably having a taper angle of about 8 degrees). It is shaped. Triangular polished plates can have different side lengths, but are preferably equilateral on their maximum plane.

破砕研磨粒子又は非研磨粒子は、研磨要素及び/又は研磨小板に加えて、研磨層中に、好ましくは閉鎖コート(すなわち研磨層中に保持され得る公称規定等級の研磨粒子の実質的に最大可能数)を形成するのに十分な量で含むことができる。 The crushed or non-abrasive particles, in addition to the abrasive element and / or the abrasive plate, are substantially the largest of the nominally defined grade abrasive particles that can be retained in the abrasive layer, preferably a closed coat (ie, in the abrasive layer). It can be included in an amount sufficient to form a possible number).

適切な研磨粒子の例としては、溶融酸化アルミニウム、熱処理酸化アルミニウム、白色溶融酸化アルミニウム、商標名3M CERAMIC ABRASIVE GRAINで、Minnesota州St.Paul在所の3M Companyから商用的に入手することができるセラミック酸化アルミニウム材料などのセラミック酸化アルミニウム材料、褐色酸化アルミニウム、青色酸化アルミニウム、炭化ケイ素(緑色炭化ケイ素を含む)、二ホウ化チタン、炭化ホウ素、炭化タングステン、ガーネット、炭化チタン、ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素、ガーネット、溶融アルミナ・ジルコニア、酸化鉄、クロミア、ジルコニア、チタニア、酸化スズ、石英、長石、すい石、金剛砂、ゾル−ゲル誘導研磨粒子及びそれらの組合せが挙げられる。これらのうち、成形ゾル−ゲル誘導アルファ・アルミナ三角形研磨小板が、多くの実施形態において好ましい。ゾル−ゲル経路によって処理することができない研磨材は、一時的又は永久的な結合剤を使用して成形することができ、それにより整形された前駆体粒子が形成され、次に、焼結されて、例えば米国特許出願公開第2016/0068729(A1)号(Ericksonら)に記載されている三角形研磨小板が形成される。 Examples of suitable abrasive particles are molten aluminum oxide, heat treated aluminum oxide, white molten aluminum oxide, trade name 3M CERAMIC ABRASIVE GRAIN, St. Minnesota. Ceramic aluminum oxide materials such as ceramic aluminum oxide materials commercially available from Paul's 3M Company, brown aluminum oxide, blue aluminum oxide, silicon carbide (including green silicon carbide), titanium diboride, carbonized Boron, Tungsten Carbide, Garnet, Titanium Carbide, Diamond, Cubic Borone Nitride, Garnet, Fused Alumina Zirconia, Iron Oxide, Chromia, Zirconia, Titania, Tin Oxide, Quartz, Changstone, Pine Stone, Kongo Sand, Sol-Gel Induced Polish Examples include particles and combinations thereof. Of these, molded sol-gel-derived alpha-alumina triangular polished strips are preferred in many embodiments. Abrasives that cannot be treated by the sol-gel pathway can be molded using a temporary or permanent binder, which forms shaped precursor particles and then is sintered. Thus, for example, the triangular abrasive strips described in US Patent Application Publication No. 2016/0068729 (A1) (Erickson et al.) Are formed.

ゾル−ゲル誘導研磨粒子及びそれらを準備するための方法の例は、米国特許第4,314,827号(Leitheiserら)、同第4,623,364号(Cottringerら)、同第4,744,802号(Schwabel)、同第4,770,671号(Monroeら)及び同第4,881,951号(Monroeら)に見出すことができる。また、研磨粒子は、例えば米国特許第4,652,275号(Bloecherら)又は同第4,799,939号(Bloecherら)に記載されている研磨集塊などの研磨集塊を含み得ることも同じく企図されている。いくつかの実施形態では、三角形研磨小板は、結合剤(例えばメーク層及び/又はサイズ層)に対する研磨粒子の接着を強化するために、カップリング剤(例えばオルガノシラン・カップリング剤)又は他の物理的処理(例えば酸化鉄又は酸化チタン)で表面処理することができる。研磨粒子は、それらを対応する結合剤前駆体結合する前に処理することができ、あるいは研磨粒子は、結合剤にカップリング剤を含むことによってin situで表面処理することができる。 Examples of sol-gel-induced abrasive particles and methods for preparing them are U.S. Pat. Nos. 4,314,827 (Leetheiser et al.), 4,623,364 (Cottringer et al.), 4,744. , 802 (Schwabel), 4,770,671 (Monroe et al.) And 4,881,951 (Monroe et al.). Further, the polishing particles may include, for example, polishing agglomerates such as the polishing agglomerates described in US Pat. No. 4,652,275 (Bloecher et al.) Or No. 4,799,939 (Bloecher et al.). Is also planned. In some embodiments, the triangular abrasive plate is a coupling agent (eg, an organosilane coupling agent) or the like to enhance the adhesion of the abrasive particles to the binder (eg, make-up layer and / or size layer). The surface can be treated with the physical treatment of (for example, iron oxide or titanium oxide). The abrasive particles can be treated prior to binding them to the corresponding binder precursor, or the abrasive particles can be surface treated in situ by including a coupling agent in the binder.

三角形研磨小板は、例えばゾル−ゲル誘導多結晶アルファ・アルミナ粒子などのセラミック研磨粒子を含むことが好ましい。アルファ・アルミナ、マグネシウム・アルミナ・スピネル及び希土類六方晶アルミン酸塩の晶子から構成される三角形研磨小板は、例えば米国特許第5,213,591号(Celikkayaら)並びに米国特許出願公開第2009/0165394(A1)号(Cullerら)及び同第2009/0169816(A1)号(Ericksonら)に記載されている方法によるゾル−ゲル前駆体アルファ・アルミナ粒子を使用して準備することができる。 The triangular polishing strip preferably contains ceramic polishing particles such as sol-gel-derived polycrystalline alpha-alumina particles. Triangular polished small plates composed of alpha alumina, magnesium alumina spinel and rare earth hexagonal aluminate crystals are described, for example, in US Pat. No. 5,213,591 (Celikkaya et al.) And US Patent Application Publication No. 2009 / It can be prepared using sol-gel precursor alpha-alumina particles by the methods described in 0165394 (A1) (Culler et al.) And 2009/0169816 (A1) (Erickson et al.).

アルファ・アルミナ系三角形研磨小板は、よく知られている多重ステップ・プロセスに従って製造することができる。簡潔には、方法は、アルファ・アルミナに変換することができる種晶添加又は種晶非添加のいずれかのゾル−ゲル・アルファ・アルミナ前駆体分散体を製造するステップと、所望の外部形状の三角形研磨小板を有する1つ以上の型空洞にゾル−ゲルを充填するステップと、ゾル−ゲルを乾燥させて前駆体三角形研磨小板を形成するステップと、前駆体三角形研磨小板を型空洞から除去するステップと、前駆体三角形研磨小板をか焼し、か焼された前駆体三角形研磨小板を形成するステップと、次に、か焼された前駆体三角形研磨小板を焼結して三角形研磨小板を形成するステップとを含む。以下、プロセスを更に詳細に説明する。 Alpha-alumina-based triangular polished strips can be manufactured according to the well-known multi-step process. Briefly, the method comprises the steps of producing either seeded or non-seeded sol-gel alpha-alumina precursor dispersion that can be converted to alpha-alumina and the desired external shape. A step of filling one or more mold cavities with a triangular polishing platen with sol-gel, a step of drying the sol-gel to form a precursor triangular polishing plateau, and a mold cavity of the precursor triangular polishing plateau. Steps to remove from, and steps to calcinate the precursor triangle-polished plaque to form a calcinated precursor triangle-polished plaque, and then to calcinate the calcinated precursor triangle-polished plaque. Including the step of forming a triangular polishing plate. The process will be described in more detail below.

ゾル−ゲル誘導研磨粒子の製造方法に関する更なる詳細は、例えば米国特許第4,314,827号(Leitheiser)、同第5,152,917号(Pieperら)、同第5,435,816号(Spurgeonら)、同第5,672,097号(Hoopmanら)、同第5,946,991号(Hoopmanら)、同第5,975,987号(Hoopmanら)、及び同第6,129,540号(Hoopmanら)、並びに米国公開特許出願第2009/0165394(A1)号(Cullerら)に見出すことができる。 Further details regarding the method for producing sol-gel-induced abrasive particles are described, for example, in US Pat. Nos. 4,314,827 (Leitheaser), 5,152,917 (Pieper et al.), 5,435,816. (Spurgeon et al.), No. 5,672,097 (Hoopman et al.), No. 5,946,991 (Hoopman et al.), No. 5,975,987 (Hoopman et al.), And No. 6,129. , 540 (Hoopman et al.), And US Patent Application No. 2009/0165394 (A1) (Culler et al.).

三角形研磨小板は、単一の種類の三角形研磨小板、又は2つ以上のサイズ及び/若しくは組成の三角形研磨小板のブレンドを含むことができる。いくつかの好ましい実施形態では、三角形研磨小板は、個々の三角形研磨小板が、任意選択のか焼及び焼結に先立って、本質的に、粒子前駆体が乾燥された成形工具又は生産工具の空洞の部分の形状である形状を有することになる。 The triangular polishing plate can include a single type of triangular polishing plate or a blend of two or more sizes and / or compositions of the triangular polishing plate. In some preferred embodiments, the triangular-polished plate is essentially a molding tool or means of production in which the individual triangular-polished plates are dried prior to the optional baking and sintering. It will have a shape that is the shape of the hollow portion.

本開示に使用されている三角形研磨小板は、典型的には、例えば打抜き又は押抜きなどの他の製造代替よりも高い特徴画定を提供する精密機械加工を使用して切断された工具(すなわち型)を使用して製造される。典型的には、工具表面における空洞は、鋭い縁に沿って合致する平らな面を有し、切頭角錐の側面及び頂部を形成する。結果として得られる三角形研磨小板は、それぞれの公称平均形状を有し、これは工具表面における空洞の形状(例えば切頭角錐)に対応するが、公称平均形状からの変化(例えば無作為の変化)が製造中に生じることがあり、このような変化を示す三角形研磨小板は、本明細書において使用されている三角形研磨小板の定義内に含まれる。 The triangular-polished flakes used in the present disclosure are typically tools cut using precision machining that provide higher feature demarcation than other manufacturing alternatives, such as punching or punching. Manufactured using a mold). Typically, the cavity on the tool surface has a matching flat surface along the sharp edges, forming the sides and apex of the truncated pyramid. The resulting triangular-polished plate has a nominal average shape, which corresponds to the shape of the cavity on the tool surface (eg, truncated pyramid), but changes from the nominal average shape (eg, random changes). ) May occur during production, and triangular-polished plates exhibiting such changes are included within the definition of triangular-polished plates used herein.

いくつかの実施形態では、三角形研磨小板の基部及び頂部は実質的に平行であり、角柱状又は切頭角錐形状をもたらすが、これは必要条件ではない。いくつかの実施形態では、切頭三角柱の側面は等しい寸法を有し、基部と約82度の二面角を形成する。しかしながら他の二面角(90度を含む)も同じく使用され得ることは認識されるであろう。例えば基部と側面の各々との間の二面角は、独立して45〜90度、典型的には70〜90度、より典型的には75〜85度の範囲であってもよい。 In some embodiments, the base and top of the triangular-polished plate are substantially parallel, resulting in a prismatic or truncated pyramidal shape, but this is not a requirement. In some embodiments, the sides of the truncated triangular prism have equal dimensions and form a dihedral angle of approximately 82 degrees with the base. However, it will be recognized that other dihedral angles (including 90 degrees) can be used as well. For example, the dihedral angle between each of the base and the sides may independently range from 45 to 90 degrees, typically 70 to 90 degrees, and more typically 75 to 85 degrees.

本明細書において、三角形研磨小板の参照で使用される場合、「長さ」という用語は、三角形研磨小板の最大寸法を意味している。「幅」は、長さに対して直角である三角形研磨小板の最大寸法を意味している。「厚さ」又は「高さ」という用語は、長さ及び幅に対して直角である三角形研磨小板の寸法を意味している。 As used herein in reference to a triangular-polished plate, the term "length" means the maximum dimension of a triangular-polished plate. "Width" means the maximum dimension of a triangular polished plate that is perpendicular to its length. The term "thickness" or "height" means the dimensions of a triangular-polished plate that is perpendicular to length and width.

ゾル−ゲル誘導三角形アルファ・アルミナ(すなわちセラミック)研磨粒子の例は、米国特許第5,201,916号(Berg)、同第5,366,523号(Rowenhorst(Re 35,570))、及び同第5,984,988号(Berg)に見出すことができる。このような研磨粒子及びそれらを準備するための方法に関する詳細は、例えば米国特許第8,142,531号(Adefrisら)、同第8,142,891号(Cullerら)及び同第8,142,532号(Ericksonら)、並びに米国特許出願公開第2012/0227333号(Adefrisら)、同第2013/0040537号(Schwabelら)及び同第2013/0125477号(Adefris)に見出すことができる。 Examples of sol-gel-induced triangular alpha-alumina (ie ceramic) abrasive particles are US Pat. Nos. 5,201,916 (Berg), 5,366,523 (Lowenhorst (Re 35,570)), and It can be found in No. 5,984,988 (Berg). Details regarding such abrasive particles and methods for preparing them are described, for example, in US Pat. Nos. 8,142,531 (Adefris et al.), 8,142,891 (Culler et al.) And 8,142. , 532 (Erickson et al.), And US Patent Application Publication Nos. 2012/0227333 (Adefris et al.), 2013/0040537 (Schwabel et al.) And 2013/0125477 (Adefris).

三角形研磨小板は、典型的には1ミクロン〜15000ミクロン、より典型的には10ミクロン〜約10000ミクロン、更により典型的には150〜2600ミクロンの範囲の長さを有するように選択されるが、他の長さを同じく使用することができる。 Triangular polished plates are typically selected to have lengths in the range of 1 micron to 15000 microns, more typically 10 microns to about 10000 microns, and even more typically 150 to 2600 microns. However, other lengths can be used as well.

三角形研磨小板は、典型的には0.1ミクロン〜3500ミクロン、より典型的には100ミクロン〜3000ミクロン、より典型的には100ミクロン〜2600ミクロンの範囲の幅を有するように選択されるが、他の長さを同じく使用することができる。 Triangular polished strips are typically selected to have a width in the range of 0.1 micron to 3500 microns, more typically 100 to 3000 microns, and more typically 100 to 2600 microns. However, other lengths can be used as well.

三角形研磨小板は典型的には、0.1ミクロン〜1600ミクロン、より典型的には1ミクロン〜1200ミクロンの範囲の厚さを有するように選択されるが、他の厚さを使用してもよい。 Triangular ground plates are typically selected to have a thickness in the range of 0.1 micron to 1600 microns, more typically 1 micron to 1200 microns, but using other thicknesses. May be good.

いくつかの実施形態では、三角形研磨小板は、少なくとも2、3、4、5、6又はそれ以上のアスペクト比(長さ対厚さ)を有することができる。 In some embodiments, the triangular-polished plate can have an aspect ratio (length vs. thickness) of at least 2, 3, 4, 5, 6 or higher.

三角形研磨小板上の表面コーティングを使用して、研磨物品中の三角形研磨小板と結合剤の間の接着を改善することができ、あるいは三角形研磨小板の静電堆積を促進することができる。一実施形態では、米国特許第5,352,254号(Celikkaya)に記載されている表面コーティングを、三角形研磨小板の重量に対して0.1〜2パーセントの表面コーティングの量で使用することができる。このような表面コーティングは、米国特許第5,213,591号(Celikkayaら)、同第5,011,508号(Waldら)、同第1,910,444号(Nicholson)、同第3,041,156号(Rowseら)、同第5,009,675号(Kunzら)、同第5,085,671号(Martinら)、同第4,997,461号(Markhoff−Mathenyら)及び同第5,042,991号(Kunzら)に記載されている。更に、表面コーティングは三角形研磨小板のキャッピングを防止することができる。キャッピングとは、研磨されているワークピースからの金属粒子が三角形研磨小板の頂上に溶接されるようになる現象を記述する用語である。上記の機能を発揮する表面コーティングは当業者に知られている。 The surface coating on the triangular polishing sheet can be used to improve the adhesion between the triangular polishing sheet and the binder in the polished article, or to promote electrostatic deposition of the triangular polishing sheet. .. In one embodiment, the surface coating described in US Pat. No. 5,352,254 (Celikkaya) is used in an amount of surface coating of 0.1 to 2 percent based on the weight of the triangular polished plate. Can be done. Such surface coatings are described in US Pat. Nos. 5,213,591 (Celikkaya et al.), 5,011,508 (Wald et al.), 1,910,444 (Nicholson), No. 3, 041,156 (Rouse et al.), 5,09,675 (Kunz et al.), 5,085,671 (Martin et al.), 4,997,461 (Markoff-Matheny et al.) And It is described in the same No. 5,042,991 (Kunz et al.). In addition, the surface coating can prevent capping of the triangular polished strips. Capping is a term that describes the phenomenon in which metal particles from a workpiece being polished become welded to the top of a triangular abrasive plate. Surface coatings that perform the above functions are known to those skilled in the art.

研磨粒子は、研磨業界で認知されている規定公称等級に従って、独立してサイズ化することができる。研磨業界で認知されている例示的等級規格としては、ANSI(American National Standards Institute、米国国家規格協会)、FEPA(Federation of European Producers of Abrasives、欧州研磨材生産者連盟)及びJIS(Japanese Industrial Standard、日本工業規格)によって公布されているものが挙げられる。ANSI等級指定(すなわち規定公称等級)としては、例えばANSI4、ANSI6、ANSI8、ANSI16、ANSI24、ANSI36、ANSI46、ANSI54、ANSI60、ANSI70、ANSI80、ANSI90、ANSI100、ANSI120、ANSI150、ANSI180、ANSI220、ANSI240、ANSI280、ANSI320、ANSI360、ANSI400及びANSI600が挙げられる。FEPA等級指定としては、F4、F5、F6、F7、F8、F10、F12、F14、F16、F16、F20、F22、F24、F30、F36、F40、F46、F54、F60、F70、F80、F90、F100、F120、F150、F180、F220、F230、F240、F280、F320、F360、F400、F500、F600、F800、F1000、F1200、F1500及びF2000が挙げられる。JIS等級指定としては、JIS8、JIS12、JIS16、JIS24、JIS36、JIS46、JIS54、JIS60、JIS80、JIS100、JIS150、JIS180、JIS220、JIS240、JIS280、JIS320、JIS360、JIS400、JIS600、JIS800、JIS1000、JIS1500、JIS2500、JIS4000、JIS6000、JIS8000及びJIS10000が挙げられる。本開示の一実施形態によれば、研磨粒子の平均直径は、FEPA等級F60〜F24による260〜1400ミクロンの範囲内であってよい。 Abrasive particles can be independently sized according to the specified nominal grades recognized in the polishing industry. Examples of grading standards recognized in the polishing industry include ANSI (American National Standards Institute, American National Standards Institute), FEPA (Federation of European Products of Abrasives, European Federation of Abrasive Producers, Japanese Industrial Standards Institute) and JIS (American National Standards Institute) and JIS (American National Standards Institute). Those promulgated by the Japanese Industrial Standards) can be mentioned. ANSI grade designations (ie defined nominal grades) include, for example, ANSI4, ANSI6, ANSI8, ANSI16, ANSI24, ANSI36, ANSI46, ANSI54, ANSI60, ANSI70, ANSI80, ANSI90, ANSI100, ANSI120, ANSI150, ANSI180, ANSI220, ANSI240, ANSI280. , ANSI320, ANSI360, ANSI400 and ANSI600. FEPA grade designations include F4, F5, F6, F7, F8, F10, F12, F14, F16, F16, F20, F22, F24, F30, F36, F40, F46, F54, F60, F70, F80, F90, Examples thereof include F100, F120, F150, F180, F220, F230, F240, F280, F320, F360, F400, F500, F600, F800, F1000, F1200, F1500 and F2000. As JIS grade designation, JIS8, JIS12, JIS16, JIS24, JIS36, JIS46, JIS54, JIS60, JIS80, JIS100, JIS150, JIS180, JIS220, JIS240, JIS280, JIS320, JIS360, JIS400, JIS600, JIS800, JIS1000, JIS1 Examples thereof include JIS2500, JIS4000, JIS6000, JIS8000 and JIS10000. According to one embodiment of the present disclosure, the average diameter of the abrasive particles may be in the range of 260 to 1400 microns according to FEPA grades F60 to F24.

別法としては、ASTM E−11「Standard Specification for Wire Cloth and Sieves for Testing Purposes」に準拠したU.S.A.Standard Test Sievesを使用した公称審査済み等級に研磨粒子を格付けすることができる。ASTM E−11は、指定された粒径に従って材料を分類するための、フレーム中に取り付けられた織金網の媒体を使用した試験ふるいの設計及び構造に対する必要条件を規定している。典型的な指定は、−18+20のように表すことができ、これは、研磨粒子が18番ふるいに対するASTM E−11仕様を満たす試験ふるいを通過し、かつ、20番ふるいに対するASTM E−11仕様を満たす試験ふるい上で保持されることを意味する。一実施形態では、研磨粒子は、ほとんどの粒子が18メッシュ試験ふるいを通過し、かつ、20、25、30、35、40、45又は50メッシュ試験ふるい上で保持され得るような粒径を有している。様々な実施形態では、研磨粒子は、−18+20、−20/+25、−25+30、−30+35、−35+40、5−40+45、−45+50、−50+60、−60+70、−70/+80、−80+100、−100+120、−120+140、−140+170、−170+200、−200+230、−230+270、−270+325、−325+400、−400+450、−450+500又は−500+635の公称審査済み等級を有することができる。別法としては、−90+100などの特注メッシュ・サイズを使用することができる。 Alternatively, U.S.A., which complies with ASTM E-11 "Standard Specialization for Wire Cross and Specifications for Testing Purposes". S. A. Abrasive particles can be rated to a nominally reviewed grade using the Standard Test Sieves. ASTM E-11 defines the requirements for the design and construction of test sieves using a woven wire mesh medium mounted in a frame to classify materials according to a specified particle size. A typical designation can be expressed as -18 + 20, which means that the abrasive particles pass a test sieve that meets the ASTM E-11 specifications for sieve # 18 and the ASTM E-11 specifications for sieve # 20. Means that it is held on a test sieve that meets the requirements. In one embodiment, the abrasive particles have a particle size such that most of the particles pass through an 18 mesh test sieve and can be retained on a 20, 25, 30, 35, 40, 45 or 50 mesh test sieve. doing. In various embodiments, the abrasive particles are -18 + 20, -20 / + 25, -25 + 30, -30 + 35, -35 + 40, 5-40 + 45, -45 + 50, -50 + 60, -60 + 70, -70 / + 80, -80 + 100, -100 + 120. , -120 + 140, -140 + 170, -170 + 200, -200 + 230, -230 + 270, -270 + 325, -325 + 400, -400 + 450, -450 + 500 or -500 + 635 can have a nominally examined grade. Alternatively, a custom mesh size such as -90 + 100 can be used.

もう一度図1Aを参照すると、長方形格子パターン196は、垂直線194(垂直方向に展開している)及び水平線192(水平方向に展開している)によって形成されており、水平線は垂直線に対して直角に画定されている。垂直線及び/又は水平線の間隔は、規則的又は不規則的であってもよい。間隔は、垂直方向及び水平方向の両方において規則的であることが好ましい。垂直方向の間隔及び水平方向の間隔は全く同じであることが好ましい。例えばいくつかの好ましい実施形態では、三角形研磨小板同士間の規則的な垂直方向の間隔(すなわち垂直方向のピッチ)は、小板長さの1.2〜2倍にすることができ、三角形研磨小板同士間の規則的な水平方向の間隔(すなわち水平方向のピッチ)は、小板長さの1.2〜2倍にすることができる。当然、これらの間隔は、三角形研磨小板のサイズ及び厚さに応じて変化し得る。 Referring again to FIG. 1A, the rectangular grid pattern 196 is formed by vertical lines 194 (developed vertically) and horizontal lines 192 (expanded horizontally), with the horizontal lines relative to the vertical lines. It is defined at a right angle. The spacing between vertical and / or horizontal lines may be regular or irregular. The spacing is preferably regular in both the vertical and horizontal directions. It is preferable that the vertical spacing and the horizontal spacing are exactly the same. For example, in some preferred embodiments, the regular vertical spacing (ie, vertical pitch) between the triangular polished slabs can be 1.2 to 2 times the slab length, and the triangle. The regular horizontal spacing (ie, horizontal pitch) between the polishing plates can be 1.2 to 2 times the plate length. Of course, these spacings can vary depending on the size and thickness of the triangular polished strips.

いくつかの好ましい実施形態では、垂直方向のピッチ及び水平方向のピッチは、三角形研磨粒子の厚さの1〜6倍、より好ましくは2〜5倍、より一層好ましくは3〜5倍である。 In some preferred embodiments, the vertical and horizontal pitches are 1 to 6 times, more preferably 2 to 5 times, even more preferably 3 to 5 times the thickness of the triangular abrasive particles.

本開示による被覆研磨ディスクは、三角形研磨小板が正確に置かれ、かつ、配置方向が定められる方法によって製造することができる。方法は、通常、生産工具中の空洞を1つ以上の三角形研磨小板(典型的には1つ又は2つ)でそれぞれ充填するステップと、充填された生産工具と、三角形研磨小板をメーク層前駆体に移すためのメーク層前駆体被覆バッキングとを整列させるステップと、研磨粒子を空洞からメーク層前駆体被覆バッキング上に移すステップと、整列した位置から生産工具を除去するステップとを含む。次に、メーク層前駆体が少なくとも部分的に硬化され(典型的には三角形研磨小板がバッキングに堅固に接着される十分な程度まで)、次に、サイズ層前駆体がメーク層前駆体及び研磨粒子の上に加えられ、かつ、少なくとも部分的に硬化され、それにより被覆研磨ディスクを提供する。バッチ式であっても連続的であってもよいプロセスは、手で実践することも、あるいは例えばロボット装置を使用して自動化することもできる。すべてのステップを実施する必要はなく、あるいはそれらを順次実施する必要もないが、これらのステップは、リストに挙げられている順序で実施することができ、あるいはそれらの間で追加ステップを実施してもよい。 The coated polishing disc according to the present disclosure can be manufactured by a method in which a triangular polishing plate is accurately placed and the placement direction is determined. The method usually involves filling the cavities in the means with one or more triangular polishing plates (typically one or two), respectively, and making the filled production tools and triangular polishing plates. Includes a step of aligning the make-up layer precursor coating backing for transfer to the layer precursor, a step of transferring the abrasive particles from the cavity onto the make-up layer precursor coating backing, and a step of removing the means from the aligned position. .. The make-up layer precursor is then at least partially cured (typically to the extent that the triangular-polished sheet metal is firmly adhered to the backing), and then the size layer precursor is the make-up layer precursor and It is added on top of the abrasive particles and at least partially cured, thereby providing a coated abrasive disc. The process, which may be batch or continuous, can be practiced by hand or automated using, for example, a robotic device. It is not necessary to perform all the steps, or they need to be performed sequentially, but these steps can be performed in the order listed, or additional steps can be performed between them. You may.

三角形研磨小板は、最初に、相補的な長方形格子パターンを有するように配置された生産工具の分配表面の適切に整形された空洞中にそれらを置くことによって形成される所望のZ軸回転配置方向で置くことができる。 Triangular abrasive plates are initially formed by placing them in a properly shaped cavity of the distribution surface of the means of production arranged to have a complementary rectangular grid pattern in the desired Z-axis rotational arrangement. Can be placed in the direction.

図1及び図1A〜図1Cに示されている、熱可塑性シートを鋳造することによって形成される被覆研磨ディスク100を製造するための例示的生産工具400が、図4及び図4A〜図4Cに示されている。次に図4及び図4A〜図4Cを参照すると、生産工具400は、三角形研磨小板を受け取るようにサイズ化され、かつ、整形された、対になされた空洞420の長方形アレイ430を備えた分配表面410を有している。空洞420はZ軸回転配置方向を有しており、したがって三角形研磨小板が充填されると、それらが引き続いて移される際に、それらは、結果として得られる、図1に示されている被覆研磨ディスク中に所望の対応する長方形アレイパターン及びZ軸回転配置方向を形成する。 An exemplary production tool 400 for manufacturing the coated polishing disc 100 formed by casting a thermoplastic sheet, shown in FIGS. 1 and 1A to 1C, is shown in FIGS. 4 and 4A to 4C. It is shown. Next, referring to FIGS. 4 and 4A-4C, the means of production 400 comprises a rectangular array 430 of paired cavities 420 sized and shaped to receive triangular abrasive strips. It has a distribution surface 410. The cavities 420 have a Z-axis rotational orientation, so that when the triangular-polished plates are filled, they are obtained as a result as they are subsequently transferred, the coating shown in FIG. The desired corresponding rectangular array pattern and Z-axis rotational arrangement direction are formed in the polishing disc.

ほとんど、又はすべての空洞が所望の数の三角形研磨小板で充填されると、分配表面は、ディスクバッキング上のメーク層前駆体層に極めて近接するか、あるいは接触し、それにより名目上は水平方向の配置方向を維持しながら、三角形研磨小板を生産工具からメーク層前駆体に埋め込んで移す。当然、何らかの意図しない配置方向損失が生じ得るが、通常、配置方向損失は、±10度以下の許容範囲内で管理可能であるべきである。 When almost or all cavities are filled with the desired number of triangular-polished plates, the distribution surface is very close to or in contact with the make-up layer precursor layer on the disc backing, thereby making it nominally horizontal. Triangular polishing strips are embedded and transferred from the means of production into the make-up layer precursor while maintaining the orientation of the orientation. Of course, some unintended placement loss can occur, but in general, placement loss should be manageable within a tolerance of ± 10 degrees or less.

いくつかの実施形態では、生産工具中の空洞の深さは、三角形研磨小板が空洞内に完全に篏合するように選択される。いくつかの好ましい実施形態では、三角形研磨小板は、空洞の開口をわずかに越えて展開する。この方法によれば、直接接触によってそれらをメーク層前駆体へ移すことができ、樹脂が生産工具へ移る機会が少なくなる。いくつかの好ましい実施形態では、三角形研磨小板が完全に空洞中に挿入されると、個々の三角形研磨小板の質量中心は、生産工具のそれぞれの空洞内に存在する。空洞の深さが浅くなりすぎると、三角形研磨小板の質量中心が空洞の外側に位置し、三角形研磨小板は空洞内に容易に保持されず、生産工具が装置内で使用されると、三角形研磨小板が飛び退くことになり得る。 In some embodiments, the depth of the cavity in the means of production is selected so that the triangular abrasive platelets fit perfectly into the cavity. In some preferred embodiments, the triangular-polished plate extends slightly beyond the opening of the cavity. According to this method, they can be transferred to the make-up layer precursor by direct contact, and the chances of the resin being transferred to the production tool are reduced. In some preferred embodiments, when the triangular polishing plate is completely inserted into the cavity, the center of mass of the individual triangular polishing plate is present within each cavity of the means of production tool. If the depth of the cavity becomes too shallow, the center of mass of the triangular polishing plate is located outside the cavity, the triangular polishing plate is not easily held in the cavity, and when the means of production is used in the equipment, Triangular polishing plaques can jump off.

生産工具中の空洞を充填するために、空洞の数より多い三角形研磨小板が提供されるよう、過剰な三角形研磨小板が生産工具の分配表面に加えられることが好ましい。生産工具の単位長さ当たりに存在する三角形研磨小板の数が、存在している空洞の数よりも多いことを意味する過剰な三角形研磨小板は、三角形研磨小板が分配表面上に蓄積し、かつ、重力又は他の機械的に加えられる力のいずれかによって動き回り、それによりそれらが空洞中に平行移動する際に、生産工具内のほとんどの空洞が最終的に三角形研磨小板で充填されることの保証を促進する。研磨粒子の軸受面積及び間隔は、生産工具において、特定の研削アプリケーションに合わせて設計されることがしばしばであるため、通常、充填されない空洞の数における過剰な可変性を有さないことが望ましい。 It is preferable that an excess of triangular polishing plates is added to the distribution surface of the production tool so that more triangular polishing plates are provided to fill the cavities in the production tool. Excessive triangular polishing plates, which means that the number of triangular polishing plates present per unit length of the means of production is greater than the number of cavities present, causes the triangular polishing plates to accumulate on the distribution surface. And, as they move around by either gravity or other mechanically applied force, thereby moving in parallel into the cavity, most of the cavity in the means of production is finally filled with triangular-polished plates. Promote assurance that it will be done. Bearing areas and spacing of abrasive particles are often designed for a particular grinding application in the means of production, so it is usually desirable not to have excessive variability in the number of unfilled cavities.

分配表面内の空洞の大部分は、空洞及び小板の側面が少なくともほぼ平行になるよう、個々の空洞中に配置された三角形研磨小板で充填されることが好ましい。これは、三角形研磨小板(又はその複数)よりもわずかに大きい空洞を整形することによって達成することができる。充填及び解放を容易にするために、空洞は、深さが深くなるにつれて内側に向かって傾斜する側壁を有する、及び/又は空洞の底に真空開口を有することが望ましい場合があり、真空開口は真空源につながる。三角形研磨小板は、それらが立ち上がっているか、あるいはそれらが直立した状態で加えられるように、メーク層前駆体被覆バッキング上へ移すことが望ましい。したがって空洞の形状は、三角形研磨小板を直立した状態で保持するように設計される。 Most of the cavities in the distribution surface are preferably filled with triangular-polished slabs arranged in the individual cavities so that the cavities and the sides of the slabs are at least approximately parallel. This can be achieved by shaping cavities that are slightly larger than the triangular ground plate (or more). To facilitate filling and release, the cavity may have side walls that incline inward as the depth increases, and / or it may be desirable to have a vacuum opening at the bottom of the cavity. Connect to a vacuum source. Triangular polishing plates should be transferred onto the make-up layer precursor coating backing so that they are added upright or upright. Therefore, the shape of the cavity is designed to hold the triangular polished strip in an upright position.

様々な実施形態では、分配表面の空洞の少なくとも60、70、80、90又は95パーセントは三角形研磨小板を含む。いくつかの実施形態では、重力を使用して空洞を充填することができる。他の実施形態では、生産工具を逆さまにし、真空を印加して三角形研磨小板を空洞中に保持することができる。三角形研磨小板は、例えば噴霧、流動床(空気又は振動)又は静電コーティングによって加えることができる。保持されない研磨粒子は、すべて落下することになるため、過剰な三角形研磨小板は、重力によって除去されることになる。次に、真空を除去することにより、三角形研磨小板をメーク層前駆体被覆ディスクバッキングへ移すことができる。 In various embodiments, at least 60, 70, 80, 90 or 95 percent of the distribution surface cavities include a triangular polished plate. In some embodiments, gravity can be used to fill the cavity. In another embodiment, the means of production can be turned upside down and a vacuum can be applied to hold the triangular polishing plate in the cavity. Triangular polishing strips can be added, for example, by spraying, fluidized bed (air or vibration) or electrostatic coating. Excess triangular polishing strips will be removed by gravity because all unretained abrasive particles will fall. The vacuum can then be removed to transfer the triangular polished strips to make layer precursor coated disc backing.

上で言及したように、所望の数の空洞が充填された後に、三角形研磨小板の一部が分配表面に残ることになるよう、空洞の数よりも過剰な三角形研磨小板を加えることができる。これらの過剰な三角形研磨小板は、多くの場合、分配表面から吹き飛ばし、ぬぐい取り、あるいは他の方法で除去することができる。例えば真空又は他の力を加えて、三角形研磨小板を空洞中に保持し、かつ、分配表面を逆さまにして過剰な三角形研磨小板の残りの部分を分配表面から除去することができる。 As mentioned above, after the desired number of cavities have been filled, it is possible to add more triangular-polished plates than the number of cavities so that some of the triangular-polished plates will remain on the distribution surface. it can. These excess triangular-polished plates can often be blown off, wiped off, or otherwise removed from the distribution surface. For example, a vacuum or other force can be applied to hold the triangular-polished plate in the cavity and upside down the distribution surface to remove excess portion of the triangular-polished plate from the distribution surface.

生産工具の分配表面の実質的にすべての空洞が三角形研磨小板で充填された後、生産工具の分配表面がメーク層前駆体に近づけられる。 After substantially all the cavities of the distribution surface of the production tool are filled with triangular abrasive strips, the distribution surface of the production tool is brought closer to the make-up layer precursor.

好ましい実施形態では、生産工具は、例えば金属マスター・ツールからのポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル又はポリカーボネートなどの熱可塑性重合体から形成される。生産工具及びそれらの製造に使用されるマスター・ツーリングの製造方法は、例えば米国特許第5,152,917号(Pieperら)、同第5,435,816号(Spurgeonら)、同第5,672,097号(Hoopmanら)、同第5,946,991号(Hoopmanら)、同第5,975,987号(Hoopmanら)及び同第6,129,540号(Hoopmanら)、並びに米国特許出願公開第2013/0344786(A1)号(Keipert)及び同第2016/0311084(A1)号(Cullerら)に見出すことができる。 In a preferred embodiment, the production tool is formed from a thermoplastic polymer such as polyethylene, polypropylene, polyester or polycarbonate from, for example, a metal master tool. The means of production of the means of production and the master touring used in their manufacture are, for example, US Pat. Nos. 5,152,917 (Pieper et al.), 5,435,816 (Spurgeon et al.), 5, 672,097 (Hoopman et al.), 5,946,991 (Hoopman et al.), 5,975,987 (Hoopman et al.) And 6,129,540 (Hoopman et al.), And the United States. It can be found in Patent Application Publication Nos. 2013/03444786 (A1) (Keipert) and 2016/0311084 (A1) (Culler et al.).

いくつかの好ましい実施形態では、生産工具は、積層造形(additive manufacturing)すなわち「3D印刷」技法を使用して製造される。 In some preferred embodiments, the means of production are manufactured using additive manufacturing or "3D printing" techniques.

三角形研磨小板がメーク層前駆体中に埋め込まれると、メーク層前駆体は、サイズ層前駆体を加えている間、鉱物の配置方向を維持するために少なくとも部分的に硬化される。典型的には、これは、メーク層前駆体をB段階化することを含むが、必要に応じてより高度な硬化を使用することも可能である。B段階化は、例えば選択されたメーク層前駆体の性質に応じて、熱及び/又は光を使用して達成することができ、及び/又は硬化剤を使用して達成することができる。 When the triangular-polished plate is embedded in the make-up layer precursor, the make-up layer precursor is at least partially cured to maintain the orientation of the minerals while adding the size layer precursor. Typically, this involves B-stepping the make-up layer precursor, but it is also possible to use a higher degree of curing if desired. B-stepping can be achieved using heat and / or light, and / or using a curing agent, for example, depending on the nature of the selected make-up layer precursor.

次に、サイズ層前駆体が少なくとも部分的に硬化したメーク層前駆体及び三角形研磨小板の上に加えられる。サイズ層は、硬化性サイズ層前駆体をバッキングの主表面にコーティングすることによって形成することができる。サイズ層前駆体は、例えば接着剤、フェノール樹脂、アミノプラスト樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ウレタン樹脂、遊離基重合性多官能性(メタ)アクリレート(例えばペンダントα、β−不飽和基、アクリル化ウレタン、アクリル化エポキシ、アクリル化イソシアヌレートを有するアミノプラスト樹脂)、エポキシ樹脂(ビス−マレイミド及びフルオレン変性エポキシ樹脂を含む)、イソシアヌレート樹脂及びそれらの混合物を含むことができる。フェノール樹脂を使用してメーク層が形成される場合、同様にフェノール樹脂を使用してサイズ層が形成されることが好ましい。サイズ層前駆体は、ロール・コーティング、押出しダイ・コーティング、カーテン・コーティング、ナイフ・コーティング、グラビア・コーティング、噴霧コーティング、等々を含む、サイズ層をバッキングに加えるための任意の知られているコーティング方法によって加えることができる。必要に応じて、本開示によるプレサイズ層前駆体又はメーク層前駆体をサイズ層前駆体として使用することも同じく可能である。 The size layer precursor is then added onto the make-up layer precursor and the triangular-polished plate, which are at least partially cured. The sizing layer can be formed by coating the main surface of the backing with a curable sizing layer precursor. Size layer precursors include, for example, adhesives, phenolic resins, aminoplast resins, urea-formaldehyde resins, melamine-formaldehyde resins, urethane resins, free group polymerizable polyfunctional (meth) acrylates (eg pendants α, β-unsaturated). It can contain groups, acrylated urethanes, acrylated epoxies, aminoplast resins with acrylated isocyanurates), epoxy resins (including bis-maleimide and fluorene modified epoxy resins), isocyanurate resins and mixtures thereof. When the make-up layer is formed by using the phenol resin, it is preferable that the size layer is formed by using the phenol resin as well. The size layer precursor is any known coating method for adding a size layer to the backing, including roll coating, extrusion die coating, curtain coating, knife coating, gravure coating, spray coating, etc. Can be added by. If desired, the presized layer precursor or make layer precursor according to the present disclosure can also be used as the size layer precursor.

また、意図される使用、研磨粒子のタイプ、及び準備される被覆研磨ディスクの性質に応じて、サイズ層の斤量も必然的に異なることになるが、通常、1又は5gsm〜300、400、更には500gsm以上の範囲である。サイズ層前駆体は、例えばロール・コーティング、押出しダイ・コーティング、カーテン・コーティング及び噴霧コーティングを含む、サイズ層前駆体(例えばサイズ・コート)をバッキングに適用するための任意の知られているコーティング方法によって加えることができる。 Also, depending on the intended use, the type of abrasive particles, and the nature of the coated abrasive disc being prepared, the weight of the size layer will necessarily vary, but is usually 1 or 5 gsm to 300, 400, and more. Is in the range of 500 gsm or more. The size layer precursor is any known coating method for applying the size layer precursor (eg size coat) to the backing, including, for example, roll coating, extrusion die coating, curtain coating and spray coating. Can be added by.

加えられると、使用可能な被覆研磨ディスクを提供するために、サイズ層前駆体、及び典型的には部分的に硬化したメーク層前駆体が十分に硬化される。通常、この硬化ステップには熱エネルギーが必要であるが、例えば放射線硬化などの他の形態のエネルギーを使用することも可能である。熱エネルギーの有用な形態としては、例えば熱及び赤外線放射が挙げられる。熱エネルギーの例示的な供給源としては、オーブン(例えばフェストーン・オーブン)、加熱ロール、熱風ブロワー、赤外線ランプ及びそれらの組合せが挙げられる。 In addition, the size layer precursor, and typically the partially cured make-up layer precursor, is sufficiently cured to provide a usable coated abrasive disc. Normally, this curing step requires thermal energy, but other forms of energy, such as radiation curing, can also be used. Useful forms of thermal energy include, for example, heat and infrared radiation. Illustrative sources of thermal energy include ovens (eg, festoon ovens), heating rolls, hot air blowers, infrared lamps and combinations thereof.

他の成分に加えて、存在している場合、本開示による被覆研磨ディスクのメーク層前駆体及び/又はプレサイズ層前駆体中の結合剤前駆体は、任意選択で、触媒(例えば熱活性化触媒又は光触媒)、遊離基開始剤(例えば熱開始剤又は光開始剤)、硬化を容易にするための硬化剤を含有することができる。このような触媒(例えば熱活性化触媒又は光触媒)、遊離基開始剤(例えば熱開始剤又は光開始剤)及び/又は硬化剤は、例えば本明細書に記載されるものを含む、被覆研磨ディスクに使用するために知られている任意のタイプのものであってもよい。 In addition to the other components, the binder precursors in the make-up and / or pre-size layer precursors of the coated polished discs according to the present disclosure, if present, are optionally catalysts (eg, thermal activation). It can contain a catalyst or photocatalyst), a free radical initiator (eg, a thermal initiator or photoinitiator), and a curing agent to facilitate curing. Such catalysts (eg, thermal activation catalysts or photocatalysts), free radical initiators (eg, thermal initiators or photoinitiators) and / or curing agents include, for example, those described herein. It may be of any type known for use in.

他の成分に加えて、メーク層前駆体及びサイズ層前駆体は、例えば性能及び/又は外観を修正するための任意選択の添加剤を更に含むことができる。例示的添加剤としては、粉砕添加物、充填剤、可塑剤、湿潤剤、界面活性剤、顔料、カップリング剤、繊維、潤滑剤、チキソトロープ材料、帯電防止剤、懸濁化剤及び/又は染料が挙げられる。 In addition to other components, make-up layer precursors and size layer precursors can further include, for example, optional additives to modify performance and / or appearance. Illustrative additives include grinded additives, fillers, plasticizers, wetting agents, surfactants, pigments, coupling agents, fibers, lubricants, thixotrope materials, antistatic agents, suspending agents and / or dyes. Can be mentioned.

有機又は無機であってもよい例示的粉砕添加物としては、ワックス、テトラクロロナフタレン、ペンタクロロナフタレン及びポリ塩化ビニルのような塩素化ワックスなどのハロゲン化有機化合物、塩化ナトリウム、カリウム氷晶石、ナトリウム氷晶石、アンモニア氷晶石、テトラフルオロホウ酸塩カリウム、テトラフルオロホウ酸塩ナトリウム、フッ化ケイ素、塩化カリウム、塩化マグネシウムなどのハロゲン化物塩、並びにスズ、鉛、ビスマス、コバルト、アンチモン、カドミウム、鉄、及びチタンなどの金属及びそれらの合金が挙げられる。他の粉砕添加物の例としては、イオウ、有機イオウ化合物、黒鉛及び金属硫化物が挙げられる。異なる粉砕添加物の組合せを使用することができる。 Exemplary milling additives, which may be organic or inorganic, include halogenated organic compounds such as waxes, tetrachloronaphthalene, pentachloronaphthalene and chlorinated waxes such as polyvinyl chloride, sodium chloride, potassium glacial stones, etc. Halide salts such as sodium glacial stone, ammonia glacial stone, potassium tetrafluoroborate, sodium tetrafluoroborate, silicon fluoride, potassium chloride, magnesium chloride, as well as tin, lead, bismuth, cobalt, antimony, Examples include metals such as chloride, iron, and titanium and their alloys. Examples of other milling additives include sulfur, organic sulfur compounds, graphite and metal sulfides. A combination of different milling additives can be used.

例示的帯電防止剤としては、結合剤中の五酸化バナジウム(例えばスルホン化ポリエステル中に分散された)、湿潤剤、カーボン・ブラック及び/又は黒鉛などの導電性材料が挙げられる。 Exemplary antistatic agents include conductive materials such as vanadium pentoxide (dispersed in sulfonated polyester, for example), wetting agents, carbon black and / or graphite in the binder.

本開示のための有用な充填剤の例としては、石英、ガラス・ビーズ、ガラス・バブル及びガラス繊維などのシリカ、タルク、粘土、(モンモリロナイト)長石、雲母、ケイ酸カルシウム、メタケイ酸カルシウム、アルミノケイ酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウムなどのケイ酸塩、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、硫酸ナトリウム、硫酸アルミニウム・ナトリウム、硫酸アルミニウムなどの金属硫酸塩、石膏、バーミキュライト、木粉、アルミニウム三水和物、カーボン・ブラック、酸化アルミニウム、二酸化チタン、氷晶石、白雪石、及び亜硫酸カルシウムなどの金属亜硫酸塩が挙げられる。 Examples of useful fillers for the present disclosure include silica such as quartz, glass beads, glass bubbles and glass fibers, talc, clay, (montmorillonite) feldspar, mica, calcium silicate, calcium metasilicate, aluminokei. Silicates such as sodium silicate and sodium silicate, calcium sulfate, barium sulfate, sodium sulfate, aluminum / sodium sulfate, metal sulfates such as aluminum sulfate, gypsum, vermiculite, wood flour, aluminum trihydrate, carbon black , Aluminum oxide, titanium dioxide, feldspar, feldspar, and metal sulfates such as calcium sulfate.

任意選択で、スーパーサイズ層は、サイズ層の少なくとも一部分に加えることができる。存在する場合、スーパーサイズは、通常、粉砕添加物及び/又はアンチローディング材料を含む。任意選択のスーパーサイズ層は、研磨粒子同士の間の切屑(ワークピースから研磨された材料)の蓄積を防止又は低減する働きをすることができ、この切屑の蓄積は、被覆研磨ディスクの切断能力を劇的に低減し得る。有用なスーパーサイズ層は、典型的には、粉砕添加物(例えばテトラフルオロホウ酸塩カリウム)、脂肪酸の金属塩(例えばステアリン酸亜鉛又はステアリン酸カルシウム)、リン酸エステルの塩(例えばベヘニルリン酸カリウム)、リン酸エステル、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、鉱油、架橋シラン、架橋シリコーン及び/又はフルオロケミカルを含む。有用なスーパーサイズ材料は、例えば米国特許第5,556,437号(Leeら)に更に記載されている。通常、被覆研磨製品に組み込まれる粉砕添加物の量は、約50〜約400gsm、より典型的には約80〜約300gsmである。スーパーサイズは、例えばサイズ層又はメーク層を準備するために使用される結合剤などの結合剤を含有することができるが、任意の結合剤を有する必要はない。 Optionally, the supersize layer can be added to at least a portion of the size layer. If present, supersizes usually include milling additives and / or antiloading materials. The optional super-sized layer can serve to prevent or reduce the accumulation of chips (material polished from the workpiece) between the abrasive particles, and this accumulation of chips is the ability to cut the coated abrasive disc. Can be dramatically reduced. Useful supersize layers are typically ground additives (eg potassium tetrafluoroborate), metal salts of fatty acids (eg zinc stearate or calcium stearate), salts of phosphate esters (eg potassium behenyl phosphate). , Phosphates, urea-formaldehyde resins, mineral oils, crosslinked silanes, crosslinked silicones and / or fluorochemicals. Useful super-sized materials are further described, for example, in US Pat. No. 5,556,437 (Lee et al.). Generally, the amount of milling additive incorporated into the coated abrasive product is from about 50 to about 400 gsm, more typically from about 80 to about 300 gsm. The supersize can contain a binder, such as a binder used to prepare a size layer or make-up layer, but it is not necessary to have any binder.

バッキングに固着された研磨層を備える被覆研磨ディスクであって、研磨層が研磨粒子並びにメーク層、サイズ層及び任意選択のスーパーサイズ層を備える、被覆研磨ディスクに関する更なる詳細はよく知られており、例えば米国特許第4,734,104号(Broberg)、同第4,737,163号(Larkey)、同第5,203,884号(Buchananら)、同第5,152,917号(Pieperら)、同第5,378,251号(Cullerら)、同第5,417,726号(Stoutら)、同第5,436,063号(Follettら)、同第5,496,386号(Brobergら)、同第5,609,706号(Benedictら)、同第5,520,711号(Helmin)、同第5,954,844号(Lawら)、同第5,961,674号(Gagliardiら)、同第4,751,138号(Bangeら)、同第5,766,277号(DeVoeら)、同第6,077,601号(DeVoeら)、同第6,228,133号(Thurberら)及び同第5,975,988号(Christianson)に見出すことができる。 Further details regarding a coated polishing disc comprising a polishing layer fixed to the backing, wherein the polishing layer comprises polishing particles and a make-up layer, a size layer and an optional super-sized layer, are well known. For example, U.S. Pat. Nos. 4,734,104 (Broverg), 4,737,163 (Larkey), 5,203,884 (Buchanan et al.), 5,152,917 (Pieper). Et al.), No. 5,378,251 (Culler et al.), No. 5,417,726 (Stout et al.), No. 5,436,063 (Follett et al.), No. 5,469,386. (Brover et al.), No. 5,609,706 (Bendict et al.), No. 5,520,711 (Helmin), No. 5,954,844 (Law et al.), No. 5,961,674 No. (Gagliardi et al.), No. 4,751,138 (Banger et al.), No. 5,766,277 (DeVoe et al.), No. 6,077,601 (DeVoe et al.), No. 6,228 , 133 (Turber et al.) And 5,975,988 (Christianson).

本開示による被覆研磨ディスクは、例えばハンドヘルド直角研削盤を使用したオフ−ハンド研磨によってワークピースを研磨するために有用である。好ましいワークピースとしては、溶接ビーズ(例えば、とりわけ軟鋼溶接)、フラッシュ、ゲート及びライザー・オフ鋳造が挙げられる。 The coated polishing discs according to the present disclosure are useful for polishing workpieces, for example, by off-hand polishing using a handheld right angle grinding machine. Preferred workpieces include weld beads (eg, mild steel welds in particular), flushes, gates and riser-off castings.

本開示の選択実施形態
第1の態様では、本開示は、
ディスクバッキングと、
ディスクバッキングの上に配置された研磨層であって、少なくとも1つの結合剤材料によってディスクバッキングの主表面に固着された研磨要素を備え、研磨要素が、長方形格子パターンの水平線と垂直線との交点に配置され、交点の少なくとも70パーセント(好ましくは少なくとも75パーセント、より好ましくは少なくとも80パーセント、より好ましくは少なくとも85パーセント、より一層好ましくは少なくとも90パーセント)に、研磨要素のうちの1つが配置されている、研磨層と、
を備え、
研磨要素の各々が2つの三角形研磨小板を有し、三角形研磨小板の各々が、互いに接続されると共に3つの側壁によって分離されたそれぞれの頂部表面及び底部表面を有し、それぞれ、三角形研磨小板の少なくとも90パーセントの1つの側壁が、ディスクバッキングに面すると共にディスクバッキングに近接して配置され、
研磨要素が、直交して隣接する研磨要素中の三角形研磨小板が、互いに直交から10度以内のZ軸回転配置方向を有するように配置される、
被覆研磨ディスクを提供する。
In the first aspect of the selected embodiment of the present disclosure, the present disclosure
With disc backing
A polishing layer placed on top of the disc backing, comprising a polishing element secured to the main surface of the disc backing by at least one binder material, where the polishing element is the intersection of the horizontal and vertical lines of a rectangular lattice pattern. One of the polishing elements is located at least 70% of the intersections (preferably at least 75%, more preferably at least 80%, more preferably at least 85%, even more preferably at least 90%). There is a polishing layer and
With
Each of the polishing elements has two triangular polishing plates, each of which has a top surface and a bottom surface that are connected to each other and separated by three side walls, respectively. At least 90 percent of the plaque has one side wall facing the disc backing and placed in close proximity to the disc backing.
The polishing elements are arranged so that the triangular polishing plates in the adjacent polishing elements are orthogonal to each other and have a Z-axis rotation arrangement direction within 10 degrees from the orthogonal to each other.
A coated polishing disc is provided.

第2の実施形態では、本開示は、交点の少なくとも80パーセントに、研磨要素のうちの1つが配置されている、第1の実施形態による被覆研磨ディスクを提供する。 In a second embodiment, the present disclosure provides a coated polishing disc according to the first embodiment, in which one of the polishing elements is located at least 80 percent of the intersections.

第3の実施形態では、本開示は、第1の実施形態又は第2の実施形態による被覆研磨ディスクを提供し、それぞれ、三角形研磨小板の少なくとも90パーセントの1つの側壁が、ディスクバッキングに面すると共にディスクバッキングに近接して配置され、個々の水平線に沿って交互の交点に隣接して配置された三角形研磨小板が、水平線から5度以内のZ軸回転配置方向を有し、個々の垂直線に沿って交互の交点に隣接して配置された三角形研磨小板が、垂直線から5度以内のZ軸回転配置方向を有する。 In a third embodiment, the present disclosure provides coated polished discs according to the first or second embodiment, each having at least 90% of one side wall of a triangular polished plate surface facing the disc backing. Triangular polishing strips placed in close proximity to the disc backing and adjacent to alternating intersections along the individual horizon have Z-axis rotational placement directions within 5 degrees of the horizon and are individual. Triangular polished strips arranged adjacent to alternating intersections along the vertical line have a Z-axis rotational arrangement direction within 5 degrees of the vertical line.

第4の実施形態では、本開示は、第1の実施形態〜第3の実施形態のいずれか1つによる被覆研磨ディスクを提供し、それぞれ、三角形研磨小板の少なくとも90パーセントの1つの側壁が、ディスクバッキングに面すると共にディスクバッキングに近接して配置され、個々の水平線に沿って交互の交点に隣接して配置された三角形研磨小板が、水平線から2度以内のZ軸回転配置方向を有し、個々の垂直線に沿って交互の交点に隣接して配置された三角形研磨小板が、垂直線から2度以内のZ軸回転配置方向を有する。 In a fourth embodiment, the present disclosure provides a coated polishing disc according to any one of the first to third embodiments, each having one side wall of at least 90% of the triangular polishing plates. Triangular polished strips, which face the disc backing and are placed close to the disc backing and adjacent to the alternating intersections along the individual horizon, rotate in the Z-axis within 2 degrees of the horizon. Triangular polishing strips having and arranged adjacent to alternating intersections along the individual vertical lines have a Z-axis rotational arrangement direction within 2 degrees of the vertical line.

第5の実施形態では、本開示は、研磨層が、破砕研磨粒子又は非研磨粒子を更に含む、第1の実施形態〜第4の実施形態のうちのいずれか1つによる被覆研磨ディスクを提供する。 In a fifth embodiment, the present disclosure provides a coated polishing disc according to any one of the first to fourth embodiments, wherein the polishing layer further comprises crushed polished particles or non-polished particles. To do.

第6の実施形態では、本開示は、ディスクバッキングが、加硫ファイバを含む、第1の実施形態〜第5の実施形態のうちのいずれか1つによる被覆研磨ディスクを提供する。 In a sixth embodiment, the present disclosure provides a coated polished disc with disc backing according to any one of the first to fifth embodiments, including vulcanized fibers.

第7の実施形態では、本開示は、研磨層が、メーク層と、メーク層及び研磨要素の上に配置されたサイズ層と、を備える、第1の実施形態〜第6の実施形態のうちのいずれか1つによる被覆研磨ディスクを提供する。 In a seventh embodiment, the present disclosure comprises one of the first to sixth embodiments, wherein the polishing layer comprises a make-up layer and a size layer arranged on the make-up layer and the polishing element. A coated polishing disc made of any one of the above is provided.

第8の実施形態では、本開示は、三角形研磨小板がアルファ・アルミナを含む、第1の実施形態〜第7の実施形態のうちのいずれか1つによる被覆研磨ディスクを提供する。 In an eighth embodiment, the present disclosure provides a coated polishing disc according to any one of the first to seventh embodiments, wherein the triangular polishing strip contains alpha alumina.

第9の実施形態では、本開示は、ワークピースを研磨する方法を提供し、方法は、第1の実施形態〜第8の実施形態のうちのいずれか1つによる被覆研磨ディスクの研磨層の一部をワークピースと摩擦接触させることと、ワークピース及び被覆研磨ディスクのうちの少なくとも1つを他方に対して移動させてワークピースを研磨することと、を含む。 In a ninth embodiment, the present disclosure provides a method of polishing a workpiece, the method of which is a polishing layer of a coated polishing disc according to any one of the first to eighth embodiments. This includes frictionally contacting a portion with the workpiece and moving at least one of the workpiece and the coated abrasive disc against the other to polish the workpiece.

第10の実施形態では、本開示は、ワークピースが軟鋼溶接部を含み、研磨層が軟鋼溶接部に接触する、第9の実施形態による、ワークピースを研磨する方法を提供する。 In a tenth embodiment, the present disclosure provides a method of polishing a workpiece according to a ninth embodiment, wherein the workpiece includes a mild steel weld and the polishing layer contacts the mild steel weld.

第11の実施形態では、本開示は、被覆研磨ディスクを製造する方法を提供し、方法は、
硬化性メーク層前駆体をディスクバッキングの主表面に配置することと、
研磨要素を硬化性メーク層前駆体に接着する(例えば接触させる、及び/又は埋め込む)ことであって、
研磨要素が、長方形格子パターンの水平線と垂直線との交点に配置され、交点の少なくとも70パーセント(好ましくは少なくとも75パーセント、より好ましくは少なくとも80パーセント、より好ましくは少なくとも85パーセント、より一層好ましくは少なくとも90パーセント)に、研磨要素のうちの1つが配置されており、
研磨要素の各々が2つの三角形研磨小板を有し、三角形研磨小板の各々が、互いに接続されると共に3つの側壁によって分離されたそれぞれの頂部表面及び底部表面を有し、それぞれ、三角形研磨小板の少なくとも90パーセントの1つの側壁が、ディスクバッキングに面すると共にディスクバッキングに近接して配置され、
研磨要素が、直交して隣接する研磨要素中の三角形研磨小板が、互いに直交から10度以内のZ軸回転配置方向を有するように配置される、
研磨要素を硬化性メーク層前駆体に接着する(例えば接触させる、及び/又は埋め込む)ことと、
硬化性サイズ層前駆体を、少なくとも部分的に硬化したメーク層前駆体及び三角形研磨小板の上に配置することと、
サイズ層を提供するために、硬化性サイズ層前駆体を少なくとも部分的に硬化させることと、を含む。
In the eleventh embodiment, the present disclosure provides a method of manufacturing a coated polished disc, wherein the method is:
Placing the curable make-up layer precursor on the main surface of the disc backing,
Adhering (eg, contacting and / or embedding) the polishing element to the curable make-up layer precursor.
The polishing elements are placed at the intersections of the horizontal and vertical lines of the rectangular grid pattern, with at least 70 percent (preferably at least 75 percent, more preferably at least 80 percent, more preferably at least 85 percent, even more preferably at least) of the intersections. 90%), one of the polishing elements is placed,
Each of the polishing elements has two triangular polishing plates, each of which has a top surface and a bottom surface that are connected to each other and separated by three side walls, respectively. At least 90 percent of the plaque has one side wall facing the disc backing and placed in close proximity to the disc backing.
The polishing elements are arranged so that the triangular polishing plates in the adjacent polishing elements are orthogonal to each other and have a Z-axis rotation arrangement direction within 10 degrees from the orthogonal to each other.
Adhering (eg, contacting and / or embedding) the abrasive element to the curable make-up layer precursor and
Placing the curable size layer precursor on at least a partially cured make-up layer precursor and a triangular polishing plate.
To provide a size layer, the curable size layer precursor is at least partially cured.

第12の実施形態では、本開示は、交点の少なくとも80パーセントに、研磨要素のうちの1つが配置されている、第11の実施形態による方法を提供する。 In a twelfth embodiment, the present disclosure provides a method according to an eleventh embodiment in which one of the polishing elements is located at at least 80 percent of the intersections.

第13の実施形態では、本開示は、第11の実施形態又は第12の実施形態による方法を提供し、それぞれ、三角形研磨小板の少なくとも90パーセントの1つの側壁が、ディスクバッキングに面すると共にディスクバッキングに近接して配置され、個々の水平線に沿って交互の交点に隣接して配置された三角形研磨小板が、水平線から5度以内のZ軸回転配置方向を有し、個々の垂直線に沿って交互の交点に隣接して配置された三角形研磨小板が、垂直線から5度以内のZ軸回転配置方向を有する。 In a thirteenth embodiment, the present disclosure provides the method according to the eleventh or twelfth embodiment, each in which at least 90% of one side wall of the triangular polished plate faces the disc backing. Triangular polished strips placed close to the disc backing and adjacent to alternating intersections along the individual horizon have a Z-axis rotation placement direction within 5 degrees of the horizon and are individual vertical lines. Triangular polishing strips arranged adjacent to alternating intersections along the vertical line have a Z-axis rotational arrangement direction within 5 degrees of the vertical line.

第14の実施形態では、本開示は、第11の実施形態又は第12の実施形態による方法を提供し、それぞれ、三角形研磨小板の少なくとも90パーセントの1つの側壁が、ディスクバッキングに面すると共にディスクバッキングに近接して配置され、個々の水平線に沿って交互の交点に隣接して配置された三角形研磨小板が、水平線から2度以内のZ軸回転配置方向を有し、個々の垂直線に沿って交互の交点に隣接して配置された三角形研磨小板が、垂直線から2度以内のZ軸回転配置方向を有する。 In a fourteenth embodiment, the present disclosure provides a method according to an eleventh or twelfth embodiment, each in which at least 90% of one side wall of a triangular polished plate faces a disc backing. Triangular polished strips placed close to the disc backing and adjacent to alternating intersections along the individual horizon have Z-axis rotation placement directions within 2 degrees of the horizon and are individual vertical lines. Triangular polishing strips arranged adjacent to alternating intersections along the vertical line have a Z-axis rotational arrangement direction within 2 degrees of the vertical line.

第15の実施形態では、本開示は、研磨層が破砕研磨粒子又は非研磨粒子を更に含む、第11の実施形態〜第14の実施形態のうちのいずれか1つによる方法を提供する。 In a fifteenth embodiment, the present disclosure provides a method according to any one of the eleventh to fourteenth embodiments, wherein the polishing layer further comprises crushed polished particles or non-polished particles.

第16の実施形態では、本開示は、ディスクバッキングが加硫ファイバを含む、第11の実施形態〜第15の実施形態のうちのいずれか1つによる方法を提供する。 In a sixteenth embodiment, the present disclosure provides a method according to any one of the eleventh to fifteenth embodiments, wherein the disc backing comprises a vulcanized fiber.

第17の実施形態では、本開示は、三角形研磨小板がアルファ・アルミナを含む、第11の実施形態から第16の実施形態のうちのいずれか1つによる方法を提供する。 In a seventeenth embodiment, the present disclosure provides a method according to any one of the eleventh to sixteenth embodiments, wherein the triangular polishing strip comprises alpha alumina.

本開示の目的及び利点は、以下の非制限の実施例によって更に例証されるが、これらの実施例に記載されている特定の材料及びそれらの量、並びに他の条件及び詳細は、本開示を不当に制限するものとして解釈されるべきではない。 The purposes and advantages of this disclosure are further illustrated by the following non-limiting examples, but the specific materials and amounts thereof, as well as other conditions and details described in these examples, are described in this disclosure. It should not be construed as an unreasonable restriction.

特に言及されていない限り、実施例におけるすべてのパート、百分率、比率などは、重量によるものである。 Unless otherwise stated, all parts, percentages, ratios, etc. in the Examples are by weight.

特に記載のない限り、他のすべての試薬はSigma−Aldrich Company(St.Louis,Missouri)などのファインケミカル業者から入手したか、又は入手可能であり、あるいは知られている方法で合成することができる。 Unless otherwise stated, all other reagents can be obtained, available, or synthesized by known methods from fine chemical vendors such as Sigma-Aldrich Company (St. Louis, Missouri). ..

実施例1
図4及び図4A〜図4Cに示されているような三角形の空洞を有する7インチ(178mm)の円形プラスチック転写工具が3D印刷によって準備された。工具の個々の繰返し単位は、それらの長軸を平行にして配向された一対の空洞からなり、0.08インチ(2.03mm)の辺寸法を有する正方形単位セルを形成した。隣接する単位セル内の空洞は、4つのアレイのすべての方向に90度回転された。このパターンは、1平方インチ当たり312個の空洞密度(1cm2当たり48.4個の空洞)に対して、工具全体の表面にわたって繰り返された。転写工具は、研磨粒子の解放を促進するために、硫化モリブデン噴霧潤滑剤(Michigan州Midland在所のDow Corning Corporationから商標名MOLYCOATで入手された)で処理された。
Example 1
A 7 inch (178 mm) circular plastic transfer tool with triangular cavities as shown in FIGS. 4 and 4A-4C was prepared by 3D printing. The individual repeating units of the tool consisted of a pair of cavities oriented parallel to their major axes, forming a square unit cell with a side dimension of 0.08 inches (2.03 mm). The cavities in adjacent unit cells were rotated 90 degrees in all directions of the four arrays. This pattern was repeated over the entire surface of the tool for a density of 312 cavities per square inch (48.4 cavities per cm2). The transfer tool was treated with a molybdenum sulfide spray lubricant (obtained under the trade name MOLYCOAT from the Dow Corning Corporation in Midland, Michigan) to facilitate the release of abrasive particles.

過剰な研磨粒子AP1が、空洞開口を有する転写工具の表面に加えられ、ツーリングが手で左右に振られた。転写工具空洞は、すぐに、上下逆さまの配置方向で保持され、かつ、空洞長軸に沿って整列したAP1粒子で充填された。追加AP1が加えられ、95パーセントを超える転写工具空洞がAP1粒子によって充填されるまでプロセスが繰り返された。過剰な粒子が転写工具の表面から除去され、空洞内に含有された粒子のみが残された。 Excess abrasive particles AP1 were added to the surface of the transfer tool with the cavity opening and the tooling was shaken from side to side by hand. The transfer tool cavity was immediately held upside down and filled with AP1 particles aligned along the long axis of the cavity. The process was repeated until additional AP1 was added and more than 95 percent of the transfer tool cavities were filled with AP1 particles. Excess particles were removed from the surface of the transfer tool, leaving only the particles contained within the cavity.

メーク樹脂は、49パートのレゾール・フェノール樹脂(ホルムアルデヒド:フェノールの1.5:1〜2.1:1のモル比の塩基触媒縮合物)、41パートの炭酸カルシウム(HUBERCARB、Illinois州Quincy在所のHuber Engineered Materials)及び10パートの水を混合することによって準備された。2.8グラムのメーク樹脂が、ブラシによって、0.875インチ(2.22cm)の中心孔を有する直径7インチ(17.8cm)×厚さ0.83mmの加硫ファイバウェブ(DYNOS VULCANIZED FIBER、ドイツTroisdorf在所のDYNOS GmbH)に加えられた。 The make-up resin is 49-part resol-phenolic resin (formaldehyde: phenol, a base-catalyzed condensate with a molar ratio of 1.5: 1 to 2.1: 1) and 41-part calcium carbonate (HUBERCARB, Quincy, Illinois). Huber Engineered Materials) and 10 parts of water were prepared by mixing. 2.8 grams of make-up resin brushed with a vulcanized fiber web (DYNOS VULCANIZED FIBER, 7 inches (17.8 cm) x 0.83 mm thick" with a central hole of 0.875 inches (2.22 cm). It was added to DYNOS GmbH) located in Troisdorf, Germany.

AP1が充填された転写工具は、7インチ(18cm)×7インチ(18cm)の正方形の木製板の上に、空洞側を上にして置かれた。加硫ファイバディスクのメーク樹脂被覆表面を、充填された転写工具に接触させ、別の7インチ×7インチ(18cm×18cm)の正方形の木製板がその上に置かれた。得られたアセンブリは、下の方から先にメーク樹脂表面に落ちるよう、剛直な接触を保持しながら反転され、そっと軽く叩いて転写工具からAP1粒子が移された。次に、加硫ファイバディスクバッキングを、もはや実質的に粒子を含まない転写工具から落下させ、それにより転写ツーリングパターンを複製するAP1被覆加硫ファイバディスクが得られた。 The transfer tool filled with AP1 was placed on a 7 inch (18 cm) x 7 inch (18 cm) square wooden plate with the cavity side up. The make-resin-coated surface of the vulcanized fiber disc was brought into contact with the filled transfer tool and another 7 "x 7" (18 cm x 18 cm) square wooden board was placed on it. The resulting assembly was inverted while maintaining rigid contact so that it fell from the bottom to the surface of the make-up resin first, and then tapped gently to transfer AP1 particles from the transfer tool. The vulcanized fiber disc backing was then dropped from a transfer tool that was no longer substantially particle free, thereby resulting in an AP1-coated vulcanized fiber disc that replicated the transfer tooling pattern.

AP5からなるドロップ・コート充填剤粒子が湿潤メーク樹脂に過剰に加えられ、露出したメーク樹脂表面全体がAP5で容量まで充填されるまで撹拌された。ディスクが反転されて過剰なAP5が除去された。AP5添加量は10.4+/−0.1グラムであった。45分間にわたって70℃で加熱し、続いて45分間にわたって90℃で加熱し、続いて3時間にわたって105℃で加熱することにより、メーク樹脂がオーブンの中で部分的に硬化された。 Drop coat filler particles consisting of AP5 were added in excess to the wet make-up resin and stirred until the entire exposed make-up resin surface was filled with AP5 to volume. The disc was flipped to remove excess AP5. The amount of AP5 added was 10.4 +/- 0.1 g. The make-up resin was partially cured in the oven by heating at 70 ° C. for 45 minutes, then at 90 ° C. for 45 minutes, and then at 105 ° C. for 3 hours.

実施例2
実施例2は、AP1粒子の代わりにAP2粒子が使用された点を除き、実施例1の方法によって準備された。
Example 2
Example 2 was prepared by the method of Example 1 except that AP2 particles were used instead of AP1 particles.

実施例3
実施例3は、AP1粒子の代わりにAP3粒子が使用された点を除き、実施例1の方法によって準備され、メーク樹脂重量は3.2+/−0.2グラムであり、AP5の代わりにAP4が使用され、サイズ樹脂重量は12.2+/−0.1グラムであった。
Example 3
Example 3 was prepared by the method of Example 1 except that AP3 particles were used instead of AP1 particles, the make-up resin weight was 3.2 +/- 0.2 grams, and AP4 instead of AP5. Was used and the size resin weight was 12.2 +/- 0.1 grams.

比較例A
比較例Aは、AP2研磨粒子(Minnesota州Saint Paul在所の3M Companyから商標名982Cグレード36+の商品名で入手)を使用して製造された、商用的に入手可能な、電気コーティングされた加硫ファイバディスクであった。
Comparative Example A
Comparative Example A is a commercially available, electrically coated additive manufactured using AP2 abrasive particles (obtained from 3M Company in Saint Paul, Minnesota under the trade name 982C Grade 36+). It was a vulcanized fiber disk.

比較例B
比較例Bは、概ね、実施例1で説明されているように準備された。転写工具空洞は、正方形の格子パターンで配置され、粒子の半径方向の配置方向は、両方の格子方向に90度で交互になっている。空洞アレイは、両方の方向において、1インチ当たり17個(1cm当たり6.7個)であり、すなわち1平方インチ当たり289個(1平方cm当たり44.8)、すなわち工具全体で約10950個の空洞であった。このパターンは、米国特許第9,776,302号(Keipert)における実施例4として既に説明されている。転写工具にはAP3粒子が充填された。メーク樹脂量は3.5グラムであった。ドロップ・コート二次粒子は、9.4グラムのAP4であった。氷晶石サイズ樹脂レベルは12.1グラムであった。
Comparative Example B
Comparative Example B was generally prepared as described in Example 1. The transfer tool cavities are arranged in a square grid pattern, with the radial placement directions of the particles alternating at 90 degrees in both grid directions. There are 17 cavity arrays per inch (6.7 per cm) in both directions, ie 289 per square inch (44.8 per square cm), or about 10950 for the entire tool. It was hollow. This pattern has already been described as Example 4 in US Pat. No. 9,776,302 (Keipert). The transfer tool was filled with AP3 particles. The amount of make resin was 3.5 grams. The drop-coated secondary particles were 9.4 grams of AP4. Cryolite-sized resin levels were 12.1 grams.

比較例C
比較例Cは、実施例1で説明されているように準備された。転写工具パターンは、中心から縁までの螺旋パターンであり、すべての空洞開口は、回転研磨ディスクの研削方向に対して実質的に縁に沿って配置方向が定められた。螺旋の長さに沿った空洞間隔は、1インチ当たり約9個(1cm当たり3.5個)であり、螺旋ピッチは1インチ当たり約30行(1cm当たり11.8行)であった。実施例1及び比較例Bでは、1ディスク当たりの総空洞密度及び空洞数は、転写工具に匹敵した。使用された研磨粒子はAP2であった。AP5ドロップ・コート二次粒子の量は11+/−0.1グラムであり、氷晶石サイズ樹脂の量は13.7+/−0.1グラムであった。
Comparative Example C
Comparative Example C was prepared as described in Example 1. The transfer tool pattern was a center-to-edge spiral pattern in which all cavity openings were oriented substantially along the edge with respect to the grinding direction of the rotary polishing disc. The cavity spacing along the length of the spiral was about 9 per inch (3.5 per cm) and the spiral pitch was about 30 rows per inch (11.8 rows per cm). In Example 1 and Comparative Example B, the total cavity density and the number of cavities per disk were comparable to the transfer tool. The abrasive particles used were AP2. The amount of AP5 drop-coated secondary particles was 11 +/- 0.1 grams and the amount of cryolite-sized resin was 13.7 +/- 0.1 grams.

研削試験方法
以下の手順を使用して1018軟炭素鋼を研削することにより、様々なディスクの研削性能が評価された。評価のための直径7インチ(17.8cm)の研磨ディスクが、5000rpmの一定の回転速度で動作するように設定された自動サーボ・モータ回転研削盤に取り付けられ、かつ、7インチ(17.8cm)のリブ付きディスクパッド面プレート(051144 EXTRA HARD RED RIBBED、3M Companyから入手)を使用して固定された。試験の間、研削盤に掛かるトルクが測定された。研削盤が起動され、6ポンド(2.7kg)の開始負荷の下で、1×1インチ(2.54×2.54cm)の予め計量された1018鋼棒材の端面に押し付けられた。これらの条件の下で、10秒の研削インターバル(通過)でワークピースが研磨された。個々の研削インターバルの後、一定のトルク測定値を維持するために負荷が調整された。個々の10秒間のインターバルに続いて、ワークピースが室温に冷却され、かつ、計量されて、研磨操作の研削量が決定された。試験結果は、インターバル毎の増分研削量及び除去された総研削量として報告された。研削量が初期研削量の値の25%未満になるか、又は負荷が18ポンド(8.2kg)に達すると、試験終了点が決定された。総研削量が報告され、データは、研削インターバル研削量が15グラム未満になる点で頭打ちにされた。試験結果は、インターバル毎の増分研削量(g/サイクル)及び除去された総ストック(g)として報告された。試験結果を以下の表2に報告する。
Grinding test method By grinding 1018 mild carbon steel using the following procedure, the grinding performance of various discs was evaluated. A 7 inch (17.8 cm) diameter polishing disc for evaluation is attached to an automatic servomotor rotary grinding machine set to operate at a constant rotational speed of 5000 rpm and is 7 inches (17.8 cm). ) Ribbed disc pad face plate (051144 EXTRA HARD RED RIBBED, obtained from 3M Company). During the test, the torque applied to the grinding machine was measured. The grinding machine was activated and pressed against the end face of a 1 x 1 inch (2.54 x 2.54 cm) pre-weighed 1018 steel bar under a starting load of 6 pounds (2.7 kg). Under these conditions, the workpiece was ground with a grinding interval of 10 seconds. After each grinding interval, the load was adjusted to maintain a constant torque measurement. Following individual 10 second intervals, the workpiece was cooled to room temperature and weighed to determine the amount of grinding for the polishing operation. The test results were reported as the incremental grinding amount per interval and the total grinding amount removed. The end point of the test was determined when the amount of grinding was less than 25% of the value of the initial amount of grinding or when the load reached 18 pounds (8.2 kg). The total grinding amount was reported and the data peaked at the grinding interval grinding amount of less than 15 grams. Test results were reported as incremental grinding amount (g / cycle) per interval and total stock removed (g). The test results are reported in Table 2 below.

上記の特許出願において引用されたすべての参考文献、特許文献又は特許出願は、一貫した形でその全文が参照により本明細書に組み込まれる。組み込まれている参考文献の一部と本出願の一部の間に矛盾又は否認がある場合、上記説明における情報が優先するものとする。特許請求されている開示の当業者による実践を可能にするために与えられた上記説明は、本開示の範囲を限定するものと解釈してはならず、本開示の範囲は、特許請求の範囲及びそのすべての等価物によって定義される。
All references, patent documents or patent applications cited in the above patent applications are incorporated herein by reference in their entirety in a consistent manner. In the event of any conflict or denial between a portion of the incorporated references and a portion of the present application, the information in the above description shall prevail. The above description given to enable the practice of a patented disclosure by a person skilled in the art should not be construed as limiting the scope of the present disclosure, and the scope of the present disclosure is the scope of the claims. And all its equivalents.

Claims (15)

研磨ディスクであって、
ディスクバッキングと、
前記ディスクバッキングの上に配置された研磨層であって、少なくとも1つの結合剤材料によって前記ディスクバッキングの主表面に固着された研磨要素を備え、前記研磨要素が、長方形格子パターンの水平線と垂直線との交点に配置され、前記交点の少なくとも70パーセントに、前記研磨要素のうちの1つが配置されている、研磨層と、
を備え、
前記研磨要素の各々が2つの三角形研磨小板を有し、前記三角形研磨小板の各々が、互いに接続されると共に3つの側壁によって分離されたそれぞれの頂部表面及び底部表面を有し、それぞれ、前記三角形研磨小板の少なくとも90パーセントの1つの側壁が、前記ディスクバッキングに面すると共に前記ディスクバッキングに近接して配置され、
前記研磨要素が、直交して隣接する研磨要素中の前記三角形研磨小板が、互いに直交から10度以内のZ軸回転配置方向を有するように配置される、
研磨ディスク。
It ’s a polishing disc,
With disc backing
A polishing layer placed on top of the disc backing, comprising a polishing element secured to the main surface of the disc backing by at least one binder material, the polishing element having horizontal and vertical lines of a rectangular lattice pattern. A polishing layer, which is arranged at an intersection with, and at least 70% of the intersection, where one of the polishing elements is arranged.
With
Each of the polishing elements has two triangular polishing plates, each of which has a top surface and a bottom surface that are connected to each other and separated by three side walls, respectively. One side wall of at least 90% of the triangular polished plate is placed facing the disc backing and in close proximity to the disc backing.
The polishing elements are arranged so that the triangular polishing plates in the adjacent polishing elements are orthogonal to each other and have a Z-axis rotation arrangement direction within 10 degrees from the orthogonal to each other.
Abrasive disc.
前記交点の少なくとも90パーセントに、前記研磨要素のうちの1つが配置されている、請求項1に記載の被覆研磨ディスク。 The coated polishing disc according to claim 1, wherein one of the polishing elements is arranged at at least 90% of the intersections. それぞれ、前記三角形研磨小板の少なくとも90パーセントの1つの側壁が、前記ディスクバッキングに面すると共に前記ディスクバッキングに近接して配置され、個々の水平線に沿って交互の交点に隣接して配置された前記三角形研磨小板が、前記水平線から5度以内のZ軸回転配置方向を有し、個々の垂直線に沿って交互の交点に隣接して配置された前記三角形研磨小板が、前記垂直線から5度以内のZ軸回転配置方向を有する、請求項1に記載の被覆研磨ディスク。 Each side wall of at least 90% of the triangular polished plaques was placed facing the disc backing and in close proximity to the disc backing, adjacent to alternating intersections along the individual horizon. The triangular polishing plate has a Z-axis rotation arrangement direction within 5 degrees from the horizontal line, and the triangular polishing plate arranged adjacent to an alternating intersection along each vertical line is the vertical line. The coated polishing disk according to claim 1, which has a Z-axis rotation arrangement direction within 5 degrees from. 前記研磨層が、破砕研磨粒子又は非研磨粒子を更に含む、請求項1に記載の被覆研磨ディスク。 The coated polishing disc according to claim 1, wherein the polishing layer further contains crushed polishing particles or non-polishing particles. 前記ディスクバッキングが、加硫ファイバを含む、請求項1に記載の被覆研磨ディスク。 The coated polishing disc according to claim 1, wherein the disc backing includes a vulcanized fiber. 前記研磨層が、メーク層と、前記メーク層及び前記研磨要素の上に配置されたサイズ層と、を備える、請求項1に記載の被覆研磨ディスク。 The coated polishing disc according to claim 1, wherein the polishing layer includes a make-up layer and a size layer arranged on the make-up layer and the polishing element. 前記三角形研磨小板がアルファ・アルミナを含む、請求項1に記載の被覆研磨ディスク。 The coated polishing disc according to claim 1, wherein the triangular polishing small plate contains alpha alumina. ワークピースを研磨する方法であって、請求項1に記載の被覆研磨ディスクの前記研磨層の一部を前記ワークピースと摩擦接触させることと、前記ワークピースを研磨するために、前記ワークピース及び研磨物品のうちの少なくとも一方を他方に対して移動させることと、を含む、方法。 A method of polishing a work piece, wherein a part of the polishing layer of the coated polishing disc according to claim 1 is brought into frictional contact with the work piece, and the work piece and the work piece are polished. A method comprising moving at least one of the polished articles relative to the other. 前記ワークピースが軟鋼溶接部を含み、前記研磨層が前記軟鋼溶接部に接触する、請求項8に記載の方法。 The method according to claim 8, wherein the workpiece includes a mild steel weld and the polishing layer contacts the mild steel weld. 被覆研磨ディスクを製造する方法であって、
硬化性メーク層前駆体をディスクバッキングの主表面に配置することと、
研磨要素を前記硬化性メーク層前駆体に接着することであって、
前記研磨要素が、長方形格子パターンの水平線と垂直線との交点に配置され、前記交点の少なくとも70パーセントに、前記研磨要素のうちの1つが配置されており、
前記研磨要素の各々が2つの三角形研磨小板を有し、前記三角形研磨小板の各々が、互いに接続されると共に3つの側壁によって分離されたそれぞれの頂部表面及び底部表面を有し、それぞれ、前記三角形研磨小板の少なくとも90パーセントの1つの側壁が、前記ディスクバッキングに面すると共に前記ディスクバッキングに近接して配置され、
前記研磨要素が、直交して隣接する研磨要素中の前記三角形研磨小板が、互いに直交から10度以内のZ軸回転配置方向を有するように配置される、
研磨要素を前記硬化性メーク層前駆体に接着することと、
硬化性サイズ層前駆体を、少なくとも部分的に硬化したメーク層前駆体及び三角形研磨小板の上に配置することと、
サイズ層を提供するために、硬化性サイズ層前駆体を少なくとも部分的に硬化させることと、
を含む、方法。
It is a method of manufacturing a coated polishing disc.
Placing the curable make-up layer precursor on the main surface of the disc backing,
Adhering the polishing element to the curable make-up layer precursor,
The polishing element is arranged at the intersection of the horizontal and vertical lines of the rectangular lattice pattern, and at least 70% of the intersection is arranged with one of the polishing elements.
Each of the polishing elements has two triangular polishing plates, each of which has a top surface and a bottom surface that are connected to each other and separated by three side walls, respectively. One side wall of at least 90% of the triangular polished plate is placed facing the disc backing and in close proximity to the disc backing.
The polishing elements are arranged so that the triangular polishing plates in the adjacent polishing elements are orthogonal to each other and have a Z-axis rotation arrangement direction within 10 degrees from the orthogonal to each other.
Adhering the polishing element to the curable make-up layer precursor and
Placing the curable size layer precursor on at least a partially cured make-up layer precursor and a triangular polishing plate.
To provide a size layer, the curable size layer precursor is at least partially cured,
Including methods.
前記交点の少なくとも90パーセントに、前記研磨要素のうちの1つが配置されている、請求項10に記載の方法。 The method of claim 10, wherein one of the polishing elements is located at least 90 percent of the intersections. それぞれ、前記三角形研磨小板の少なくとも90パーセントの1つの側壁が、前記ディスクバッキングに面すると共に前記ディスクバッキングに近接して配置され、個々の水平線に沿って交互の交点に隣接して配置された前記三角形研磨小板が、前記水平線から5度以内のZ軸回転配置方向を有し、個々の垂直線に沿って交互の交点に隣接して配置された前記三角形研磨小板が、前記垂直線から5度以内のZ軸回転配置方向を有する、請求項10に記載の方法。 Each side wall of at least 90% of the triangular polished plaques was placed facing the disc backing and in close proximity to the disc backing, adjacent to alternating intersections along the individual horizon. The triangular polishing plate has a Z-axis rotation arrangement direction within 5 degrees from the horizontal line, and the triangular polishing plate arranged adjacent to an alternating intersection along each vertical line is the vertical line. The method according to claim 10, which has a Z-axis rotation arrangement direction within 5 degrees from. 研磨層が破砕研磨粒子又は非研磨粒子を更に含む、請求項10に記載の方法。 The method of claim 10, wherein the abrasive layer further comprises crushed abrasive particles or non-abrasive particles. 前記ディスクバッキングが加硫ファイバを含む、請求項10に記載の方法。 10. The method of claim 10, wherein the disc backing comprises a vulcanized fiber. 前記三角形研磨小板がアルファ・アルミナを含む、請求項10に記載の方法。
10. The method of claim 10, wherein the triangular polishing strip comprises alpha alumina.
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