JP2021193437A - Nonmagnetic waveguide type isolator - Google Patents

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Abstract

To provide a nonmagnetic waveguide type isolator capable of integrating on a silicon optical circuit.SOLUTION: A nonmagnetic waveguide type isolator 1 includes: a topological photonic structure 12 which is an insulator having an energy gap inside and of which edge 13 is in a gapless metal state; and a chiral antenna 20 that is arranged on a surface of the topological photonic structure 12 and that is formed of metal or a dielectric which is a metamaterial having chirality.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、シリコン光回路上に集積可能な非磁性の導波路型アイソレータに関する。 The present invention relates to a non-magnetic waveguide isolator that can be integrated on a silicon optical circuit.

光ネットワークに用いられている各種光素子には、レーザ、変調器、多重化素子、光スイッチ等がある。光集積回路とは、レーザ・変調器・合分波器などの各種モジュールを、光ファイバを介さずに1チップ上に集積したものである。光集積回路の利点は、光通信における様々な機能を1チップの小型モジュールで実現することにより、消費電力・製造コストを抑えることができる点にある。 Various optical elements used in optical networks include lasers, modulators, multiplexing elements, optical switches, and the like. An optical integrated circuit is a circuit in which various modules such as a laser, a modulator, and a duplexer are integrated on one chip without using an optical fiber. The advantage of optical integrated circuits is that power consumption and manufacturing costs can be reduced by realizing various functions in optical communication with a single-chip small module.

上記光集積回路の材料としては、インジウムリン(InP)またはSiがある。上記多重化素子の材料としては、SiOがある。また、上記変調器の材料としては、大きなEO(Electro-optic、電気光学)効果を示すニオブ酸リチウム(LiNbO)、ランタン添加のチタン酸ジルコン酸鉛((Pb,La)(Zr,Ti)O)などの無機光学結晶が広く用いられている。 Materials for the optical integrated circuit include indium phosphide (InP) or Si. The material of the multiplexing element is SiO 2 . The materials for the modulator include lithium niobate (LiNbO 3 ), which exhibits a large EO (Electro-optic) effect, and lead zirconate titanate ((Pb, La) (Zr, Ti)) with lanthanum added. Inorganic optical crystals such as O 3) are widely used.

現在の光通信システムは、個別の光素子部品の組み合わせで実現されている。これらシステムをより高機能なものとするためには、各種の光素子を集積一体化(光回路化)するとともに、光源となるレーザ光の強度・周波数・位相の高度な安定化が必須となる。レーザの発振状態は外部からの反射による戻り光の影響を受けて不安定化しやすいため、レーザの出力光は透過させるが反対方向の戻り光は遮断するような非相反素子である光アイソレータ(optical isolator)が必要不可欠となる。 The current optical communication system is realized by a combination of individual optical element components. In order to make these systems more sophisticated, it is essential to integrate and integrate various optical elements (optical circuit) and to highly stabilize the intensity, frequency, and phase of the laser beam that is the light source. .. Since the oscillating state of a laser is easily destabilized by the influence of return light due to reflection from the outside, an optical isolator (optical) is a non-reciprocal element that transmits the output light of the laser but blocks the return light in the opposite direction. isolator) is indispensable.

光アイソレータは、入射光が直線偏光の場合に対応する偏光依存型光アイソレータ(Polarization Dependent Isolator)と、入射光の偏光状態に依存しない偏光無依存型光アイソレータ(Polarization Independent Isolator)に分類される。何れの光アイソレータも、磁界によって光の偏光状態が回転する磁気光学効果(ファラデー効果)を用いている。ファラデー回転子は、直線偏光の偏光面を回転させる働きを持っており、通信用では、ビスマス・鉄・ガーネット(BIG)、イットリウム・鉄・ガーネット(YIG)のような強磁性体結晶を用いる。 Optical isolators are classified into Polarization Dependent Isolators, which correspond to the case where the incident light is linearly polarized light, and Polarization Independent Isolators, which do not depend on the polarization state of the incident light. Each optical isolator uses a magneto-optical effect (Faraday effect) in which the polarization state of light is rotated by a magnetic field. The Faraday rotator has a function of rotating a plane of polarization of linearly polarized light, and for communication, a ferromagnetic crystal such as bismuth / iron / garnet (BIG) and yttrium / iron / garnet (YIG) is used.

シリコンフォトニクスを用いた光送信機においては、光源としてDFB(Distributed Feed-Back:分布帰還型)レーザ等が用いられる。光送信機においては、DFBレーザから出射された光は、シリコン基板に形成された光導波路等に入射するが、このような光がDFBレーザにおいて光を出射する出射端より反射戻り光として入射する場合がある。反射戻り光がDFBレーザに入射すると、レーザ発振が不安定となり、ノイズの原因となる。 In an optical transmitter using silicon photonics, a DFB (Distributed Feed-Back) laser or the like is used as a light source. In the optical transmitter, the light emitted from the DFB laser is incident on an optical waveguide or the like formed on a silicon substrate, and such light is incident as reflected return light from the emission end of the DFB laser. In some cases. When the reflected return light is incident on the DFB laser, the laser oscillation becomes unstable and causes noise.

このような反射戻り光の対策としては、DFBレーザと光導波路との間に、光アイソレータを挿入し、DFBレーザの外部からの反射戻り光が入射することを抑制する方法がある(例えば、特許文献1参照)。 As a countermeasure against such reflected return light, there is a method of inserting an optical isolator between the DFB laser and the optical waveguide to suppress the incident of the reflected return light from the outside of the DFB laser (for example, patent). See Document 1).

特開2019−160842号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2019-160842

現在実用化されている光アイソレータは,磁性ガーネット結晶の両側に偏光子を配置した、いわゆるバルク型光アイソレータと呼ばれるものである。磁性ガーネット結晶は,光回路で一般的に用いられている半導体基板(シリコン,InPなど)上に形成することが難しく、偏光子を必要とすることから考えても他素子との集積一体化は極めて難しいとされている。 The optical isolators currently in practical use are so-called bulk type optical isolators in which polarizing elements are arranged on both sides of a magnetic garnet crystal. Magnetic garnet crystals are difficult to form on semiconductor substrates (silicon, InP, etc.) that are generally used in optical circuits, and because they require a decoder, they cannot be integrated with other devices. It is said to be extremely difficult.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、シリコン光回路上に集積可能な非磁性の導波路型アイソレータを提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a non-magnetic waveguide type isolator that can be integrated on a silicon optical circuit.

前記した課題を解決するため、本発明に係る非磁性の導波路型アイソレータは、内部がエネルギーギャップを持つ絶縁体であり、そのエッジがギャップレスの金属状態であるトポロジカルフォトニック構造体と、前記トポロジカルフォトニック構造体に配置された、カイラル性を有するメタマテリアルと、を有することを特徴とする。
その他の手段については、発明を実施するための形態のなかで説明する。
In order to solve the above-mentioned problems, the non-magnetic waveguide isolator according to the present invention includes a topological photonic structure in which the inside is an insulator having an energy gap and the edges thereof are in a gapless metallic state, and the topological photonic structure. It is characterized by having a metamaterial having a chiral property, which is arranged in a photonic structure.
Other means will be described in the form for carrying out the invention.

本発明によれば、シリコン光回路上に集積可能な非磁性の導波路型アイソレータを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a non-magnetic waveguide type isolator that can be integrated on a silicon optical circuit.

本発明の実施形態に係る非磁性の導波路型アイソレータの構造を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the non-magnetic waveguide type isolator which concerns on embodiment of this invention. 図1のA−A’断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view taken along the line AA'in FIG. 本発明の実施形態に係る非磁性の導波路型アイソレータの上面図である。It is a top view of the non-magnetic waveguide type isolator which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る非磁性の導波路型アイソレータにおけるC6v対称性を有するナノホールの構造を示すブリルアンゾーン(Brillouin Zone)の図である。It is a figure of the Brillouin Zone which shows the structure of the nanohole having C6v symmetry in the non-magnetic waveguide type isolator which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る非磁性の導波路型アイソレータにおけるトポロジカルエッジ伝送路で用いるフォトニック構造体とトポロジカルフォトニック構造体のバンド図である。It is a band diagram of the photonic structure and the topological photonic structure used in the topological edge transmission line in the non-magnetic waveguide type isolator according to the embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る非磁性の導波路型アイソレータにおけるトポロジカルエッジ伝送路で用いるフォトニック構造体とトポロジカルフォトニック構造体のバンドダイヤグラムの概要図である。It is a schematic diagram of the band diagram of the photonic structure and the topological photonic structure used in the topological edge transmission line in the non-magnetic waveguide type isolator according to the embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る非磁性の導波路型アイソレータにおけるトポロジカルフォトニック構造体境界近傍の磁界分布(Hy)を示す図である。It is a figure which shows the magnetic field distribution (Hy) near the boundary of the topological photonic structure in the non-magnetic waveguide type isolator which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る非磁性の導波路型アイソレータのトポロジカルフォトニック構造体を有する光集積回路上での戻り光の低減を説明する図である。It is a figure explaining the reduction of the return light on the optical integrated circuit which has the topological photonic structure of the non-magnetic waveguide type isolator which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る非磁性の導波路型アイソレータのトポロジカルフォトニック構造体を有する光集積回路において、単一方向光伝播を説明する図である。It is a figure explaining the unidirectional light propagation in the optical integrated circuit which has the topological photonic structure of the non-magnetic waveguide type isolator which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る非磁性の導波路型アイソレータのトポロジカルフォトニック構造体を有する光集積回路において、単一方向光伝播を説明する図である。It is a figure explaining the unidirectional light propagation in the optical integrated circuit which has the topological photonic structure of the non-magnetic waveguide type isolator which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る非磁性の導波路型アイソレータのカイラルアンテナを説明する図である。It is a figure explaining the chiral antenna of the non-magnetic waveguide type isolator which concerns on embodiment of this invention. 図8のトポロジカルフォトニック構造体上に、カイラルアンテナを配置した構成を示す図である。It is a figure which shows the structure which arranged the chiral antenna on the topological photonic structure of FIG. 図8のトポロジカルエッジ伝送路による光集積回路の光入出力側にモニタを載置したシミュレーションモデルである。This is a simulation model in which a monitor is mounted on the optical input / output side of the optical integrated circuit by the topological edge transmission line of FIG. 図12のトポロジカルフォトニック構造体上にカイラルアンテナを2つ配置するとともに、光集積回路の光入出力側にモニタを載置したシミュレーションモデルである。This is a simulation model in which two chiral antennas are arranged on the topological photonic structure of FIG. 12 and a monitor is placed on the optical input / output side of an optical integrated circuit. 図12のトポロジカルフォトニック構造体上にカイラルアンテナ20Rを2つ配置するとともに、光集積回路の光入出力側にモニタを載置したシミュレーションモデルである。This is a simulation model in which two chiral antennas 20R are arranged on the topological photonic structure of FIG. 12 and a monitor is placed on the optical input / output side of an optical integrated circuit. 本発明の実施形態に係る非磁性の導波路型アイソレータにおけるカイラルアンテナなし、カイラルアンテナ20を1つ、カイラルアンテナ20Rを1つ、カイラルアンテナ20Rを2つ、およびカイラルアンテナ20Rを2つのそれぞれにおいて、leftからrightへの光の伝播のLossと、rightからleftへの光の伝播のLossとを比較して示すグラフである。In the non-magnetic waveguide type isolator according to the embodiment of the present invention, there is no chiral antenna, one chiral antenna 20, one chiral antenna 20R, two chiral antennas 20R, and two chiral antennas 20R. It is a graph which compares and shows the Loss of the light propagation from left to right and the Loss of light propagation from right to left. 図16のシミュレーションモデルのシミュレーション結果を表にして示す図である。It is a figure which shows the simulation result of the simulation model of FIG. 16 in a table. 図14に示すトポロジカルフォトニック構造体上にカイラルアンテナ20を2つ配置した場合の磁界分布(Hy)を示す図である。It is a figure which shows the magnetic field distribution (Hy) when two chiral antennas 20 are arranged on the topological photonic structure shown in FIG. 図15に示すトポロジカルフォトニック構造体上にカイラルアンテナ20Rを2つ配置した場合の磁界分布(Hy)を示す図である。It is a figure which shows the magnetic field distribution (Hy) when two chiral antennas 20R are arranged on the topological photonic structure shown in FIG. 本発明の実施形態に係る変形例の非磁性の導波路型アイソレータの上面図である。It is a top view of the non-magnetic waveguide type isolator of the modification which concerns on embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
(実施形態)
図1は、本発明の実施形態に係る非磁性の導波路型アイソレータの構造を示す斜視図である。図2は、図1のA−A’断面図(Cross section of topological edge state waveguide)である。図3は、図1の非磁性の導波路型アイソレータの上面図(Si-based topological edge state waveguide we used in simulation)である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
(Embodiment)
FIG. 1 is a perspective view showing the structure of a non-magnetic waveguide type isolator according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross section (Cross section of topological edge state waveguide) of FIG. FIG. 3 is a top view (Si-based topological edge state waveguide we used in simulation) of the non-magnetic waveguide type isolator of FIG.

トポロジカル絶縁体(Topological insulator)やワイル半金属(Weyl Semimetal)などにおける電子系のトポロジーをフォトンの系にトレースする試みは、トポロジカルフォトニクスと呼ばれ、近年急速に進展している。トポロジカル絶縁体は、バルクはエネルギーギャップを持つ絶縁体でありながら、エッジ(2次元系では端、3次元系では表面)にギャップレスの金属状態が生じている物質をいう。 Attempts to trace the topology of electronic systems such as topological insulators and Weyl Semimetal to photon systems are called topological photonics and have been rapidly progressing in recent years. A topological insulator is a substance in which a bulk is an insulator having an energy gap, but a gapless metallic state is generated at an edge (an edge in a two-dimensional system and a surface in a three-dimensional system).

特に、C6v対称性(60°回転させると重なる対称性)を有する誘電体が蜂の巣格子状に配列された構造におけるZトポロジー(電子波動関数のもつトポロジカルな構造の分野における一つのクラス)の発現は、光渦の伝送が可能なトポロジカルエッジ状態の実現を可能にする。 In particular, C 6v symmetry (one class in the field of topological structures with electron wave function) Z 2 topologies in the structure in which a dielectric is arranged in a honeycomb lattice shape having a (60 ° Rotation overlap symmetry) The manifestation allows the realization of a topological edge state in which optical vortices can be transmitted.

図1乃至図3に示すように、非磁性の導波路型アイソレータ1は、内部がエネルギーギャップを持つ絶縁体であり、そのエッジがギャップレスの金属状態であるトポロジカルフォトニック構造体(Topological photonic structure)12と、トポロジカルフォトニック構造体12の表面に配置された、カイラル性を有するメタマテリアル(Chiral metamaterial)20と、を有する。
本実施形態では、非磁性の導波路型アイソレータ1は、バルクがエネルギーギャップを持つ絶縁体であるフォトニック構造体(Trivial photonic structure)11と、トポロジカルフォトニック構造体12と、フォトニック構造体11とトポロジカルフォトニック構造体12の境界において光渦伝播が可能なトポロジカルエッジ状態を発現するトポロジカルエッジ(Topological edge)13と、トポロジカルエッジ13近傍に配置されたメタマテリアル20と、を有する。
As shown in FIGS. 1 to 3, the non-magnetic waveguide isolator 1 is an insulator having an energy gap inside, and its edge is a gapless metallic state. Topological photonic structure. 12 and a chiral metamaterial 20 arranged on the surface of the topological photonic structure 12.
In the present embodiment, the non-magnetic waveguide type isolator 1 includes a photonic structure 11 in which the bulk is an insulator having an energy gap, a topological photonic structure 12, and a photonic structure 11. And a topological edge 13 that expresses a topological edge state capable of propagating an optical vortex at the boundary of the topological photonic structure 12, and a metamaterial 20 arranged in the vicinity of the topological edge 13.

<メタマテリアル20>
メタマテリアル20は、伝送方向によって回転方向が逆転する方向依存性を有する特定の偏光または光渦の、いずれか一方の回転方向の偏光または光渦を有する光と相互作用(interaction)して放射させる。
メタマテリアル20は、円偏光に対して、カイラル性を有するナノスケール金属構造である。
メタマテリアル20は、円偏光に対して、カイラル性を有する誘電体であってもよい。
メタマテリアル20は、1.55μm波長帯を含む所定波長帯で相互作用(interaction)する共振条件を満たす構造のアンテナである。
メタマテリアル20は、トポロジカルフォトニック構造体12の表面から上面視して、卍形状または逆卍形状のカイラルアンテナである。
メタマテリアル20は、トポロジカルフォトニック構造体12に、1または複数配置される。
<Metamaterial 20>
The metamaterial 20 interacts with light having a polarization or an optical vortex in one of the rotation directions of a specific polarized light or an optical vortex having a direction dependence in which the rotation direction is reversed depending on the transmission direction. ..
The metamaterial 20 is a nanoscale metal structure having chiral symmetry with respect to circularly polarized light.
The metamaterial 20 may be a dielectric having chiral symmetry with respect to circularly polarized light.
The metamaterial 20 is an antenna having a structure that satisfies a resonance condition of interacting in a predetermined wavelength band including a 1.55 μm wavelength band.
The metamaterial 20 is a swastika-shaped or inverted swastika-shaped chiral antenna when viewed from the surface of the topological photonic structure 12.
The metamaterial 20 is arranged in one or more in the topological photonic structure 12.

<トポロジカルフォトニック構造体12>
トポロジカルフォトニック構造体12によって作られた2つの領域の界面に生じる光状態(トポロジカルエッジ状態)は、特定の偏光・光渦を有する光のみを許容し、これら特定の偏光・光渦は伝播方向依存性を有する。
<Topological photonic structure 12>
The light state (topological edge state) generated at the interface between the two regions created by the topological photonic structure 12 allows only light having a specific polarization / optical vortex, and these specific polarization / optical vortex are in the propagation direction. Has a dependency.

フォトニック構造体11は、C6v対称性を有する第1誘電体111が蜂の巣格子状(例えば、周期a=800nm)に配列された構造である。
トポロジカルフォトニック構造体12は、C6v対称性を有する第2誘電体112が蜂の巣格子状(例えば、周期a=800nm)に配列された構造である。
The photonic structure 11 is a structure in which the first dielectric 111 having C 6v symmetry is arranged in a honeycomb lattice pattern (for example, period a = 800 nm).
The topological photonic structure 12 is a structure in which the second dielectric 112 having C 6v symmetry is arranged in a honeycomb lattice pattern (for example, period a = 800 nm).

第1誘電体111は、SOI(Silicon-On-Insulator)ウェハ上に、C6v対称性を有するナノホール111aを蜂の巣格子状(周期a=800nm)のセル(unit cell)121に配列したナノ(nm,1nm=10−9m)構造を用いる。
第2誘電体112は、SOIウェハ(例えばSi膜厚220nm)131上に、C6v対称性を有するナノホール112aを蜂の巣格子状(周期a=800nm)のセル122に配列したナノ構造を用いる。第1誘電体111のナノホール111aと第2誘電体112のナノホール112aは、蜂の巣格子のセル121,122中心からナノホール111a,112aの中心までの距離rおよびナノホール1辺の長さlのパラメータがそれぞれ異なる(後記)。
The first dielectric 111 is a nano (nm) in which nanoholes 111a having C 6v symmetry are arranged in a honeycomb lattice-like (period a = 800 nm) cell (unit cell) 121 on an SOI (Silicon-On-Insulator) wafer. , 1 nm = 10-9 m) structure is used.
The second dielectric 112 uses a nanostructure in which nanoholes 112a having C 6v symmetry are arranged in a honeycomb lattice-shaped (period a = 800 nm) cell 122 on an SOI wafer (for example, Si film thickness 220 nm) 131. The nanohole 111a of the first dielectric 111 and the nanohole 112a of the second dielectric 112 have parameters of the distance r from the center of the honeycomb lattice cells 121 and 122 to the center of the nanoholes 111a and 112a and the length l of one side of the nanohole, respectively. Different (see below).

図2に示すように、トポロジカルエッジ伝送路は、Si基板(Si substrate)131上に、膜厚1.0μmのSiO絶縁膜132と、膜厚220nmのSi膜133と、膜厚20nmのAuからなるメタマテリアル20と、を積層する。Si膜133上のエアギャプは、1.0μm以上である。 As shown in FIG. 2, the topological edge transmission line consists of a SiO 2 insulating film 132 having a film thickness of 1.0 μm, a Si film 133 having a film thickness of 220 nm, and Au having a film thickness of 20 nm on a Si substrate 131. The metamaterial 20 made of the material 20 is laminated. The air gap on the Si film 133 is 1.0 μm or more.

Si膜133には、Si基板131に向かって、C6v対称性を有するナノホール111aとナノホール112aとが開孔され、残存Si膜133と当該Si膜133に開孔したナノホール111aからなるフォトニック構造は、フォトニック構造体11を形成する。また、残存Si膜133と当該Si膜133に開孔したナノホール112aからなるフォトニック構造は、トポロジカルフォトニック構造体12を形成する。
フォトニック構造体11とトポロジカルフォトニック構造体12の境界のトポロジカルエッジ13には、トポロジカルエッジモード(Topological edge mode)が発現している。
In the Si film 133, nanoholes 111a and nanoholes 112a having C6v symmetry are opened toward the Si substrate 131, and a photonic structure composed of the residual Si film 133 and the nanoholes 111a opened in the Si film 133. Form the photonic structure 11. Further, the photonic structure composed of the residual Si film 133 and the nanohole 112a opened in the Si film 133 forms the topological photonic structure 12.
A topological edge mode is expressed in the topological edge 13 at the boundary between the photonic structure 11 and the topological photonic structure 12.

図4は、C6v対称性を有するナノホールの構造を示すブリルアンゾーンの図(Schematic image of a unit cell)である。フォトニック構造体11の第1誘電体111のナノホール111aを例に採る。トポロジカルフォトニック構造体12の第2誘電体112のナノホール112aについても同様の構造である。
図4の右図に示すように、蜂の巣格子のセル121の中心をブリルアンゾーンの中心(原点)Γ点とする。また、ブリルアンゾーンの高対称点として、M点(長方形面の中心)、K点(2つの長方形面をつなぐ辺の中心)、A点(六角形面の中心)、H点(端点)、L点(六角形面と長方形面をつなぐ辺の中心)がある。
FIG. 4 is a Schematic image of a unit cell showing the structure of a nanohole having C 6v symmetry. Taking the nanohole 111a of the first dielectric 111 of the photonic structure 11 as an example. The structure is the same for the nanohole 112a of the second dielectric 112 of the topological photonic structure 12.
As shown in the right figure of FIG. 4, the center of the cell 121 of the honeycomb lattice is set as the center (origin) Γ point of the Brillouin zone. The high symmetry points of the Brill en zone are point M (center of rectangular surface), point K (center of side connecting two rectangular surfaces), point A (center of hexagonal surface), point H (end point), and L. There is a point (the center of the side connecting the hexagonal surface and the rectangular surface).

図4の左図に示すように、Si膜133(図3参照)は、蜂の巣格子状のセル121とセル121に配列されたC6v対称性を有するナノホール111aとが形成される。残存Si膜133と当該Si膜133に開孔したナノホール111aからなるフォトニック構造は、フォトニック構造体11の第1誘電体111を形成する。図4の左図は、フォトニック構造体11のセル121を上面手前の斜め上から見た図であり、開孔したナノホール111aの下のSiO絶縁膜132が露出している。
図4の左図のナノホール111aは、蜂の巣格子のセル121の中心(Γ点)からナノホール111aの中心までの距離r、ナノホール111aの1辺の長さlをパラメータとする。隣り合うナノホール111aのセル121の中心角は、π/3である。
フォトニック構造体11のナノホール111aの場合、例えばr=240nm,l=240nmである。
また、トポロジカルフォトニック構造体12のナノホール112aの場合、例えばr=290nm,l=250nmである。
さらに、図4の左図に示すように、隣り合う蜂の巣格子のセル121同士の中心(Γ点)間距離a1、a2は、同じ(ここでは、a1=a2=800nm≡a)である。
As shown in the left figure of FIG. 4, the Si film 133 (see FIG. 3) is formed with honeycomb lattice-shaped cells 121 and nanoholes 111a having C6v symmetry arranged in the cells 121. The photonic structure composed of the residual Si film 133 and the nanoholes 111a opened in the Si film 133 forms the first dielectric 111 of the photonic structure 11. The left figure of FIG. 4 is a view of the cell 121 of the photonic structure 11 viewed from diagonally above in front of the upper surface, and the SiO 2 insulating film 132 under the opened nanohole 111a is exposed.
The nanohole 111a in the left figure of FIG. 4 has parameters of the distance r from the center (Γ point) of the cell 121 of the honeycomb lattice to the center of the nanohole 111a and the length l of one side of the nanohole 111a. The central angle of the cells 121 of the adjacent nanoholes 111a is π / 3.
In the case of the nanohole 111a of the photonic structure 11, for example, r = 240 nm and l = 240 nm.
Further, in the case of the nanohole 112a of the topological photonic structure 12, for example, r = 290 nm and l = 250 nm.
Further, as shown in the left figure of FIG. 4, the distances a1 and a2 between the centers (Γ points) of the cells 121 of the adjacent honeycomb lattices are the same (here, a1 = a2 = 800 nm≡a).

図5は、本発明の実施形態に係る非磁性の導波路型アイソレータにおけるトポロジカルエッジ伝送路で用いるフォトニック構造体11とトポロジカルフォトニック構造体12のバンド図(Typical photonic bands for (left) trivial and (right) topological photonic crystals)である。図5の横軸にWave vector(2■/■)をとり、縦軸にNormalized frequency(ωa/2■c ■/λ)をとる。横軸のWave vector(2■/■)のΓ点は、蜂の巣格子状のセル121(図2参照)のブリルアンゾーンの中心、K点は2つの長方形面をつなぐ辺の中心、M点は長方形面の中心である(図4の右図参照)。図6は、本発明の実施形態に係る非磁性の導波路型アイソレータにおけるトポロジカルエッジ伝送路で用いるフォトニック構造体11とトポロジカルフォトニック構造体12のバンドダイヤグラムの概要図(Band diagram for optical vortex propagation with charge number of ±1)である。 FIG. 5 is a band diagram (Typical photonic bands for (left) trivial and) of the photonic structure 11 and the topological photonic structure 12 used in the topological edge transmission line in the non-magnetic waveguide type isolator according to the embodiment of the present invention. (right) topological photonic crystals). The horizontal axis of FIG. 5 is the Wave vector (2 ■ / ■), and the vertical axis is the Normalized frequency (ωa / 2 ■ c ■ / λ). The Γ point of the Wave vector (2 ■ / ■) on the horizontal axis is the center of the Brillouin zone of the honeycomb lattice-shaped cell 121 (see Fig. 2), the K point is the center of the side connecting the two rectangular surfaces, and the M point is a rectangle. It is the center of the surface (see the right figure in FIG. 4). FIG. 6 is a schematic diagram (Band diagram for optical vortex propagation) of the photonic structure 11 and the topological photonic structure 12 used in the topological edge transmission line in the non-magnetic waveguide type isolator according to the embodiment of the present invention. with charge number of ± 1).

図7は、FDTD法(Finite-difference time-domain method:時間領域差分法)により計算されたトポロジカルエッジ伝送路(フォトニック構造体11とトポロジカルフォトニック構造体12の境界)近傍の磁界分布(Hz)を示す図(Calculated magnetic field Hy)である。横軸にx軸(x axis)(μm)、縦軸にy軸(y axis)(μm)をとる。
図7の濃淡は、磁界分布(Hz)の強度(濃いほど強度が大きい)を表わしている。図7に示すように、電磁場は、フォトニック構造体11とトポロジカルフォトニック構造体12の境界のトポロジカルエッジ13に局在している。
FIG. 7 shows the magnetic field distribution (Hz) near the topological edge transmission path (boundary between the photonic structure 11 and the topological photonic structure 12) calculated by the FDTD method (Finite-difference time-domain method). ) Is shown in the figure (Calculated magnetic field Hy). The horizontal axis is x-axis (μm), and the vertical axis is y-axis (μm).
The shades in FIG. 7 represent the intensity of the magnetic field distribution (Hz) (the darker the intensity, the greater the intensity). As shown in FIG. 7, the electromagnetic field is localized at the topological edge 13 at the boundary between the photonic structure 11 and the topological photonic structure 12.

ここで、トポロジカルエッジ伝送路は、フォトニック構造体11とトポロジカルフォトニック構造体12の境界でトポロジカルエッジ状態を発現するトポロジカルエッジ13を有するものであればよく、フォトニック構造は、限定されない。例えば、誘電体が、C6v対称性を有する蜂の巣格子状に配置されていることには限定されず、自明なフォトニック構造体は、配列されたセル内で対称性を有する第1誘電体を備え、トポロジカルフォトニック構造体は、配列されたセル内で対称性を有する第2誘電体を備えるものであればよい。 Here, the topological edge transmission line may be any one having a topological edge 13 that expresses a topological edge state at the boundary between the photonic structure 11 and the topological photonic structure 12, and the photonic structure is not limited. For example, the dielectrics are not limited to being arranged in a honeycomb lattice with C 6v symmetry, and the obvious photonic structure is the first dielectric with symmetry within the arranged cells. The topological photonic structure may include a second dielectric having symmetry within the arranged cells.

また、誘電体を形成する方法は、上述したナノホールに限らず、例えば誘電体ピラーを設ける構成でもよい。さらに、ナノホールのパラメータは勿論のこと、ナノホールの個数も限定されない。ただし、セルが蜂の巣格子状に配置される場合、ナノホールの配置もC6v対称性を有する構造が自然である。同様に、セルの形状も蜂の巣格子状に限定されない。 Further, the method for forming the dielectric is not limited to the nanoholes described above, and for example, a configuration in which a dielectric pillar is provided may be used. Furthermore, the number of nanoholes is not limited as well as the parameters of the nanoholes. However, when the cells are arranged in a honeycomb lattice, the arrangement of the nanoholes naturally has a structure having C 6v symmetry. Similarly, the shape of the cell is not limited to the honeycomb grid pattern.

<戻り光の低減>
図8は、トポロジカルエッジ13を有する光集積回路上での戻り光の低減を説明する図である。
トポロジカルフォトニック構造体12を用いるトポロジカルエッジ伝送路40は、TE(Transverse Electric)/TM(Transverse Magnetic)モードの光を伝送するInput用Si系導波路(Si waveguide)41と、TE/TMモードの光を伝送するMonitor用Si系導波路(Si waveguide)42と、TE/TMモード伝送から光渦伝送へ変換するトポロジカルエッジ13と、を有する。
<Reduction of return light>
FIG. 8 is a diagram illustrating reduction of return light on an optical integrated circuit having a topological edge 13.
The topological edge transmission line 40 using the topological photonic structure 12 is a Si-based waveguide (Si waveguide) 41 for Input that transmits light in TE (Transverse Electric) / TM (Transverse Magnetic) mode, and a TE / TM mode. It has a Si-based waveguide (Si waveguide) 42 for monitoring that transmits light, and a topological edge 13 that converts TE / TM mode transmission to optical vortex transmission.

Input用Si系導波路41およびMonitor用Si系導波路42は、例えばc-Si(crystal silicon)からなるc-Si導波路、またはa-Si(amorphous silicon):Hからなるa-Si:H導波路である。Input用Si系導波路41およびMonitor用Si系導波路42の材質は、シリコン(Si)には限定されず、どのような材質でもよい。例えば、導波路の材質が化合物半導体(例えば、InP)であってもよい。
Input用Si系導波路41およびMonitor用Si系導波路42は、先端に向かって幅が狭くなるテーパ(taper)41a,42aを有する。Input用Si系導波路41およびMonitor用Si系導波路42のテーパ41a,42aの先頭から延びる光軸は、テーパが形成されたフォトニック構造体11とトポロジカルフォトニック構造体12の境界のトポロジカルエッジ13に向かっている。
The Si-based waveguide 41 for Input and the Si-based waveguide 42 for Monitor are, for example, a c-Si waveguide made of c-Si (crystal silicon) or a-Si: H made of a-Si (amorphous silicon): H. It is a waveguide. The material of the Si-based waveguide 41 for Input and the Si-based waveguide 42 for Monitor is not limited to silicon (Si) and may be any material. For example, the material of the waveguide may be a compound semiconductor (for example, InP).
The Si-based waveguide 41 for Input and the Si-based waveguide 42 for Monitor have tapers 41a and 42a whose width narrows toward the tip. The optical axis extending from the head of the taper 41a, 42a of the Si-based waveguide 41 for Input and the Si-based waveguide 42 for Monitor is the topological edge of the boundary between the tapered photonic structure 11 and the topological photonic structure 12. I'm heading for 13.

図8の白抜矢印に示すように、Input用Si系導波路41に入れたTE/TMモードの入力光(Incident light)51が、フォトニック構造体11とトポロジカルフォトニック構造体12の境界のトポロジカルエッジ状態のトポロジカルエッジ13に入力され、トポロジカル伝送路上を光渦(図示省略)で伝送する。すなわち、Input用Si系導波路41に入れたTE/TMモードの入力光(Incident light)51が、トポロジカルエッジ状態で光渦に高効率で変換されている。また、トポロジカル伝送路上を伝送した光渦は、Monitor用Si系導波路42に導かれ、TE/TMモードの光51に高効率で変換される。 As shown by the white arrow in FIG. 8, the input light 51 in the TE / TM mode inserted in the Si system waveguide 41 for input is the boundary between the photonic structure 11 and the topological photonic structure 12. It is input to the topological edge 13 in the topological edge state, and is transmitted by an optical vortex (not shown) on the topological transmission path. That is, the TE / TM mode input light 51 inserted in the input Si system waveguide 41 is converted into an optical vortex with high efficiency in the topological edge state. Further, the optical vortex transmitted on the topological transmission path is guided to the Si-based waveguide 42 for monitoring and converted into the light 51 in the TE / TM mode with high efficiency.

Monitor用Si系導波路42から出た光は、例えばDFBレーザにおいて光を出射する出射端より反射戻り光として入射する場合がある。図8の網掛矢印に示すように、Monitor用Si系導波路42からの戻り光(Return light from Si waveguide)52は、光集積回路上で所望ではない光伝播である。 The light emitted from the Si-based waveguide 42 for a monitor may be incident as reflected return light from an emission end that emits light in, for example, a DFB laser. As shown by the shaded arrow in FIG. 8, the return light from Si waveguide 52 from the monitor Si-based waveguide 42 is undesired light propagation on the optical integrated circuit.

図8に示すように、フォトニック構造11とトポロジカルフォトニック構造体12によって作られた2つの領域の界面に生じる光状態(トポロジカルエッジ状態)は、特定の偏光・光渦を有する光のみを許容し、これらは方向依存性を有する。具体的には、伝送方向によって、偏光・光渦の回転方向が逆転する。 As shown in FIG. 8, the light state (topological edge state) generated at the interface between the two regions created by the photonic structure 11 and the topological photonic structure 12 allows only light having a specific polarized light / optical vortex. However, they are directionally dependent. Specifically, the rotation direction of the polarized light / optical vortex is reversed depending on the transmission direction.

以上、図8のフォトニック構造11とトポロジカルフォトニック構造体12を有する光集積回路において、下記(1)(2)が要請される。
(1)トポロジカルエッジ13では、単一方向に特定の偏光または光渦を伝播させる。
(2)光集積回路上での戻り光を低減させる。
As described above, in the optical integrated circuit having the photonic structure 11 and the topological photonic structure 12 of FIG. 8, the following (1) and (2) are required.
(1) The topological edge 13 propagates a specific polarized light or optical vortex in a single direction.
(2) Reduce the return light on the optical integrated circuit.

図9および図10は、図8のトポロジカルフォトニック構造体12を有する光集積回路において、単一方向光伝播を説明する図である。図9は、図8のトポロジカルフォトニック構造体12のトポロジカルエッジ13の表面の上方に、反時計回りのカイラル性を有するカイラルアンテナ(LCP)(図11左図参照)を配置した例を示し、図10は、同じく、時計回りのカイラル性を有するカイラルアンテナ(RCP)(図11右図参照)を配置した例を示す。 9 and 10 are diagrams illustrating unidirectional light propagation in an optical integrated circuit with the topological photonic structure 12 of FIG. FIG. 9 shows an example in which a chiral antenna (LCP) having a counterclockwise chiral property (see the left figure of FIG. 11) is arranged above the surface of the topological edge 13 of the topological photonic structure 12 of FIG. FIG. 10 shows an example in which a chiral antenna (RCP) (see the right figure of FIG. 11), which also has a clockwise chiral property, is arranged.

各偏光に対して、吸収・放射が大きいカイラルアンテナLCP,RCPを光集積回路上に配置する。
図9の矢印に示すように、トポロジカルエッジ13部分にカイラルアンテナLCPを配置することで、LCPに依存した単一方向光伝播(図9左方向光伝播)を実現できる。
また、図10の矢印に示すように、トポロジカルエッジ13部分にカイラルアンテナRCPを配置することで、RCPに依存した単一方向光伝播(図10右方向光伝播)を実現できる。
Chiral antennas LCP and RCP, which absorb and emit large amounts of light, are arranged on the optical integrated circuit for each polarized light.
As shown by the arrow in FIG. 9, by arranging the chiral antenna LCP at the topological edge 13 portion, unidirectional light propagation depending on the LCP (leftward light propagation in FIG. 9) can be realized.
Further, as shown by the arrow in FIG. 10, by arranging the chiral antenna RCP at the topological edge 13 portion, unidirectional light propagation depending on the RCP (rightward light propagation in FIG. 10) can be realized.

このように、各偏光に対して、吸収・放射が大きいカイラルアンテナをデバイス上に配置することで、それに対応した方向の光伝播が抑えられる。 In this way, by arranging a chiral antenna having a large absorption / emission for each polarized light on the device, light propagation in the corresponding direction can be suppressed.

図11は、カイラルアンテナを説明する図である。図11左図は、反時計回りのカイラル性を有するカイラルアンテナ(LCP)20を示す図であり、図11右図は、時計回りのカイラル性を有するカイラルアンテナ(RCP)20Rを示す図である。 FIG. 11 is a diagram illustrating a chiral antenna. The left figure of FIG. 11 is a diagram showing a chiral antenna (LCP) 20 having a counterclockwise chiral property, and the right figure of FIG. 11 is a diagram showing a chiral antenna (RCP) 20R having a clockwise chiral property. ..

カイラルアンテナ20,20Rは、円偏光に対して、カイラル性を有し、いずれか一方の回転方向の偏光または光渦を有する光と相互作用(interaction)して光を放射(損失)させるものであればよく、構造(外観形状も含む)や材質はどのようなものでもよい。例えば、カイラルアンテナ20,20Rは、円偏光に対して、カイラル性を有するナノスケール金属構造である。また、カイラル性を有する誘電体(図示省略)であってもよい。 The chiral antennas 20 and 20R have a chiral property with respect to circularly polarized light, and interact with light having either polarized light or an optical vortex in one of the rotational directions to radiate (loss) light. Any structure (including appearance shape) and material may be used. For example, the chiral antennas 20 and 20R have a nanoscale metal structure having chiral properties with respect to circularly polarized light. Further, it may be a dielectric having chiral properties (not shown).

カイラルアンテナ20,20Rは、1.55μm波長帯を含む所定波長帯で相互作用(interaction)する共振条件を満たす構造のアンテナである。カイラルアンテナ20,20Rは、方向依存性を有する特定の偏光または光渦の、いずれか一方の回転方向の偏光または光渦を有する光と相互作用(interaction)して放射させる。具体的には、カイラルアンテナ20,20Rに電磁波が入ると、カイラルアンテナの中で電子が共振振動する状態となり一部は熱等で損失となり(吸収)、また誘導電流によってカイラルアンテナの中の電子を介して電磁場においてカイラルアンテナの上側に光を放射する(放射)。 The chiral antennas 20 and 20R are antennas having a structure that satisfies the resonance condition of interacting in a predetermined wavelength band including the 1.55 μm wavelength band. The chiral antennas 20, 20R interact with and emit light having a polarization or an optical vortex in one of the rotational directions of a specific polarized light or an optical vortex having a direction dependence. Specifically, when an electromagnetic wave enters the chiral antennas 20 and 20R, the electrons resonate and vibrate in the chiral antenna, and some of them are lost (absorbed) due to heat or the like, and the electrons in the chiral antenna are generated by the induced current. Light is emitted above the chiral antenna in an electromagnetic field via (radiation).

カイラルアンテナ(LCP)20とカイラルアンテナ(RCP)20Rとは、図11左図の破線に対して鏡像対称である。
カイラルアンテナ(LCP)20は、トポロジカルフォトニック領域の表面から上面視して、例えば卍形状であり、カイラルアンテナ(LCP)20Rは、逆卍形状である。
The chiral antenna (LCP) 20 and the chiral antenna (RCP) 20R are mirror image symmetric with respect to the broken line in the left figure of FIG.
The chiral antenna (LCP) 20 has, for example, a swastika shape when viewed from the surface of the topological photonic region, and the chiral antenna (LCP) 20R has an inverted swastika shape.

カイラルアンテナ20,20Rは、材質がAu、中心点を基点に四等分した場合の一辺の長さVerticalを200nm、メタマテリアルの幅Sideを90nm、メタマテリアルの厚さHeightを20nmとする。
なお、カイラルアンテナ20,20Rを構成するメタマテリアルの材質や、各部の寸法は、一例であり、限定されない。また、カイラルアンテナの形状も限定されず、後記図20に示す形状のカイラルアンテナ20Aなどであってもよい。
For the chiral antennas 20 and 20R, the material is Au, the length of one side when divided into four equal parts from the center point is 200 nm, the width Side of the metamaterial is 90 nm, and the thickness Height of the metamaterial is 20 nm.
The materials of the metamaterials constituting the chiral antennas 20 and 20R and the dimensions of each part are examples and are not limited. Further, the shape of the chiral antenna is not limited, and the chiral antenna 20A having the shape shown in FIG. 20 described later may be used.

<非磁性の導波路型アイソレータの構造例>
図12は、図8のトポロジカルフォトニック構造体12上に、カイラルアンテナ(LCP)20を配置した非磁性の導波路型アイソレータ1を示す図である。
図12に示すように、非磁性の導波路型アイソレータ1は、図8に示すトポロジカルフォトニック構造体12上に、図11左図に示すカイラルアンテナ(LCP)20を配置する。
<Structural example of non-magnetic waveguide type isolator>
FIG. 12 is a diagram showing a non-magnetic waveguide type isolator 1 in which a chiral antenna (LCP) 20 is arranged on the topological photonic structure 12 of FIG.
As shown in FIG. 12, in the non-magnetic waveguide type isolator 1, the chiral antenna (LCP) 20 shown in the left figure of FIG. 11 is arranged on the topological photonic structure 12 shown in FIG.

トポロジカルフォトニック構造体12上に、偏光に対して、吸収・放射が大きいカイラルアンテナ(LCP)20を配置することで、それに対応した方向の光伝播が抑えることができる。すなわち、カイラルアンテナ(LCP)20は、円偏光に対して、カイラル性を有し、いずれか一方の回転方向の偏光または光渦を有する光との相互作用(interaction)によりMonitor用Si系導波路42からの戻り光52を放射(損失)させるので、光集積回路は一方向性のアイソレータとして動作する。 By arranging the chiral antenna (LCP) 20 having a large absorption / emission with respect to polarized light on the topological photonic structure 12, light propagation in the corresponding direction can be suppressed. That is, the chiral antenna (LCP) 20 has a chiral property with respect to circularly polarized light, and is a Si-based waveguide for monitoring due to an interaction with light having either polarized light in the rotation direction or an optical vortex. Since the return light 52 from 42 is radiated (loss), the optical integrated circuit operates as a unidirectional isolator.

[シミュレーション]
本実施形態に係る非磁性の導波路型アイソレータ1の実現にあたっては,「シリコン光回路上に空孔を作製する技術」と「ナノスケールの金属構造を配置する技術」の2つの技術が必要となるが、いずれも標準的なシリコンフォトニクスのプロセスを用いて実現することができる。シミュレーションモデル(条件)を図12乃至図15に示し、シミュレーション結果を図16および図17に示す。
[simulation]
In order to realize the non-magnetic waveguide type isolator 1 according to the present embodiment, two techniques, "a technique for forming a hole on a silicon optical circuit" and "a technique for arranging a nanoscale metal structure", are required. However, both can be achieved using standard silicon photonics processes. Simulation models (conditions) are shown in FIGS. 12 to 15, and simulation results are shown in FIGS. 16 and 17.

図13は、図8のトポロジカルエッジ13による光集積回路の光入出力側にモニタ(Monitor)61,62を載置したシミュレーションモデルであり、図13左図は、図13左図の矢印に示すように、左側からの入力光(Incident light)51をモニタ61,62で検出する例(leftからrightへの光の伝播)、図13右図は、図13右図の矢印に示すように、右側からの入力光51をモニタ62,61で検出する例(rightからleftへの光の伝播)である。図13のシミュレーションモデルのシミュレーション結果は、図16および図17の「WG」に示される。 FIG. 13 is a simulation model in which monitors 61 and 62 are mounted on the optical input / output side of the optical integrated circuit by the topological edge 13 of FIG. 8, and the left figure of FIG. 13 is shown by the arrow of the left figure of FIG. As shown in the example (propagation of light from left to right) in which the Incident light 51 from the left side is detected by the monitors 61 and 62, the figure on the right in FIG. 13 is shown by the arrow in the figure on the right in FIG. This is an example (propagation of light from right to left) in which the input light 51 from the right side is detected by the monitors 62 and 61. The simulation results of the simulation model of FIG. 13 are shown in "WG" of FIGS. 16 and 17.

図14は、図12のトポロジカルフォトニック構造体12上にカイラルアンテナ20(図11左図参照)を2つ配置するとともに、光集積回路の光入出力側にモニタ61,62を載置したシミュレーションモデルである。図14左図は、図14左図の矢印に示すように、左側からの入力光51をモニタ61,62で検出する例(leftからrightへの光の伝播)、図14右図は、図14右図の矢印に示すように、右側からの入力光51をモニタ62,61で検出する例(rightからleftへの光の伝播)である。図14のシミュレーションモデルのシミュレーション結果は、図16および図17の「卍×2」に示される。 FIG. 14 shows a simulation in which two chiral antennas 20 (see the left figure of FIG. 11) are arranged on the topological photonic structure 12 of FIG. 12, and monitors 61 and 62 are placed on the optical input / output side of an optical integrated circuit. It is a model. As shown by the arrow in the left figure of FIG. 14, the left figure of FIG. 14 shows an example in which the input light 51 from the left side is detected by the monitors 61 and 62 (propagation of light from left to right), and the right figure of FIG. 14 is a diagram. 14 As shown by the arrow in the right figure, this is an example (propagation of light from right to left) in which the input light 51 from the right side is detected by the monitors 62 and 61. The simulation results of the simulation model of FIG. 14 are shown in “swastika × 2” of FIGS. 16 and 17.

図15は、図12のトポロジカルフォトニック構造体12上にカイラルアンテナ20R(図11右図参照)を2つ配置するとともに、光集積回路の光入出力側にモニタ61,62を載置したシミュレーションモデルである。図15左図は、図15左図の矢印に示すように、左側からの入力光51をモニタ61,62で検出する例(leftからrightへの伝播)、図15右図は、図15右図の矢印に示すように、右側からの入力光51をモニタ62,61で検出する例(rightからleftへの伝播)である。図15のシミュレーションモデルのシミュレーション結果は、図16および図17の「逆卍×2」に示される。 FIG. 15 shows a simulation in which two chiral antennas 20R (see the right figure of FIG. 11) are arranged on the topological photonic structure 12 of FIG. 12, and monitors 61 and 62 are placed on the optical input / output side of an optical integrated circuit. It is a model. As shown by the arrow in the left figure of FIG. 15, the left figure of FIG. 15 shows an example in which the input light 51 from the left side is detected by the monitors 61 and 62 (propagation from left to right), and the right figure of FIG. 15 shows the right side of FIG. As shown by the arrow in the figure, this is an example (propagation from right to left) in which the input light 51 from the right side is detected by the monitors 62 and 61. The simulation results of the simulation model of FIG. 15 are shown in “reverse swastika × 2” of FIGS. 16 and 17.

カイラルアンテナの回転方向と伝播方向の関係について説明する。
カイラルアンテナは、円偏光に対して、いずれか一方の回転方向の偏光または光渦を有する光と相互作用(interaction)して吸収し、この偏光または光渦を有する光を放射(損失)させる。カイラルアンテナが、各偏光に対して、吸収・放射する吸収・放射量が伝播ロスLoss[dB]であり、次式(1)で示される。Lossが大きいほど、アンテナにおける吸収・放射量が大きい。なお、順方向であっても伝播ロスLossがある(図16および図17のカイラルアンテナなし(WG)参照)。
The relationship between the rotation direction and the propagation direction of the chiral antenna will be described.
The chiral antenna interacts with and absorbs circularly polarized light with light having either polarized light or an optical vortex in one of the rotational directions, and emits (losses) the light having this polarized light or an optical vortex. The absorption / radiation amount absorbed / emitted by the chiral antenna for each polarized light is the propagation loss Loss [dB], which is expressed by the following equation (1). The larger the Loss, the larger the amount of absorption and radiation in the antenna. There is a propagation loss loss even in the forward direction (see No chiral antenna (WG) in FIGS. 16 and 17).

Figure 2021193437
Figure 2021193437

図16は、カイラルアンテナなし(WG)、カイラルアンテナ20を1つ(卍×1)、カイラルアンテナ20Rを1つ(逆卍×1)、カイラルアンテナ20を2つ(卍×2)、およびカイラルアンテナ20Rを2つ(逆卍×2)のそれぞれにおいて、図13乃至図15のleftからrightへの光の伝播のLossと、rightからleftへの光の伝播のLossとを比較して示すグラフである。 FIG. 16 shows no chiral antenna (WG), one chiral antenna 20 (swastika x 1), one chiral antenna 20R (reverse swastika x 1), two chiral antennas 20 (swastika x 2), and chiral. A graph showing a comparison between the loss of light propagation from left to right and the loss of light propagation from right to left in each of two antennas 20R (reverse swastika × 2). Is.

図17は、図16のシミュレーションモデルのシミュレーション結果を表にして示す図である。
図16および図17に示すように、トポロジカルフォトニック構造体12上にカイラルアンテナを配置しないカイラルアンテナなし(WG)の場合は、Lossについて有意な差異はない。
FIG. 17 is a diagram showing the simulation results of the simulation model of FIG. 16 in a table.
As shown in FIGS. 16 and 17, there is no significant difference in Loss in the case of no chiral antenna (WG) with no chiral antenna on topological photonic structure 12.

図16および図17に示すように、カイラルアンテナ20を1つ配置したシミュレーションモデル(卍×1)は、leftからrightへの光の伝播はloss小、rightからleftへの光の伝播はloss大である。また、カイラルアンテナ20を2つ配置したシミュレーションモデル(卍×2)は、カイラルアンテナ20,20Rを1つ配置した場合よりも光の伝播のlossの差(leftとrightの吸収量の差)は、格段に大きい。 As shown in FIGS. 16 and 17, in the simulation model (swastika × 1) in which one chiral antenna 20 is arranged, the light propagation from left to right is small loss, and the light propagation from right to left is large loss. Is. In addition, the simulation model (swastika x 2) in which two chiral antennas 20 are arranged has a difference in loss of light propagation (difference in absorption amount between left and right) as compared with the case where one chiral antenna 20 and 20R is arranged. , Remarkably large.

同様に、カイラルアンテナ20を1つ配置したシミュレーションモデル(逆卍×1)は、leftからrightへの光の伝播はloss大、rightからleftへの光の伝播はloss小である。カイラルアンテナ20Rを2つ配置したシミュレーションモデル(逆卍×2)は、カイラルアンテナ20Rを1つ配置した場合よりも光の伝播のlossの差(leftとrightの吸収量の差)は、格段に大きい。 Similarly, in the simulation model (reverse swastika × 1) in which one chiral antenna 20 is arranged, the light propagation from left to right has a large loss, and the light propagation from right to left has a small loss. In the simulation model (reverse swastika x 2) in which two chiral antennas 20R are arranged, the difference in loss of light propagation (difference in absorption amount between left and right) is significantly larger than that in the case where one chiral antenna 20R is arranged. big.

このように、トポロジカルフォトニック構造体12上にカイラルアンテナ20を配置したシミュレーションモデル(卍×1,卍×2)では、leftからrightへの光の伝播はloss小、rightからleftへの光の伝播はloss大となる。また、カイラルアンテナ20を2つ配置した場合は、カイラルアンテナ20を1つ配置した場合よりも光の伝播のlossの差は、大きいことが確かめられた。例えば、カイラルアンテナ20を2つ配置した場合は、左右の吸収量の差は5[dB]得られている。
同様に、トポロジカルフォトニック構造体12上にカイラルアンテナ20Rを配置したシミュレーションモデル(卍×1,卍×2)では、leftからrightへの光の伝播はloss大、rightからleftへの光の伝播はloss小となる。また、カイラルアンテナ20Rを2つ配置した場合は、カイラルアンテナ20Rを1つ配置した場合よりも光の伝播のlossの差は、大きいことが確かめられた。
In this way, in the simulation model (swastika x 1, swastika x 2) in which the chiral antenna 20 is arranged on the topological photonic structure 12, the light propagation from left to right is small loss, and the light propagates from right to left. Propagation is lossy. Further, it was confirmed that when two chiral antennas 20 were arranged, the difference in loss of light propagation was larger than when one chiral antenna 20 was arranged. For example, when two chiral antennas 20 are arranged, the difference in absorption amount between the left and right is 5 [dB].
Similarly, in the simulation model (swastika x 1, swastika x 2) in which the chiral antenna 20R is arranged on the topological photonic structure 12, the light propagation from left to right is large loss, and the light propagation from right to left is large. Is small loss. Further, it was confirmed that when two chiral antennas 20R were arranged, the difference in loss of light propagation was larger than that when one chiral antenna 20R was arranged.

[実測]
図18は、図14に示すトポロジカルフォトニック構造体12上にカイラルアンテナ20を2つ配置した場合の磁界分布(Hz)を示す図(Calculated magnetic field Hy)である。縦軸にz軸(z axis)(μm)、横軸にy軸(y axis)(μm)をとる。図18の濃淡は、磁界分布(Hz)の強度(濃いほど強度が大きい)を表わしている。
[Actual measurement]
FIG. 18 is a diagram (Calculated magnetic field Hy) showing a magnetic field distribution (Hz) when two chiral antennas 20 are arranged on the topological photonic structure 12 shown in FIG. The vertical axis is the z-axis (μm), and the horizontal axis is the y-axis (μm). The shades in FIG. 18 represent the intensity of the magnetic field distribution (Hz) (the darker the intensity, the greater the intensity).

図18左図に示すように、leftからrightへの光の伝播では、1つ目のleft側のカイラルアンテナ20の影響を受けずに2つ目のright側のカイラルアンテナ20にlossなく伝播し、leftからrightへの光の伝播はloss小であることが確認できた。また、図18右図に示すように、rightからleftへの光の伝播では、1つ目のright側のカイラルアンテナ20で相互作用(interaction)し、放射(損失)された光がleft側のカイラルアンテナ20に伝播されている、すなわちrightからleftへの光の伝播はloss大であることが確認できた。 As shown in the left figure of FIG. 18, in the propagation of light from left to right, the light propagates to the second chiral antenna 20 on the right side without loss without being affected by the first chiral antenna 20 on the left side. It was confirmed that the light propagation from left to right had a small loss. Further, as shown in the right figure of FIG. 18, in the propagation of light from right to left, the light that interacts with the first chiral antenna 20 on the right side and is radiated (loss) is on the left side. It was confirmed that the light propagating to the chiral antenna 20, that is, the light propagating from right to left has a large loss.

図19は、図15に示すトポロジカルフォトニック構造体12上にカイラルアンテナ20Rを2つ配置した場合の磁界分布(Hy)を示す図(Calculated magnetic field Hz)である。縦軸にy軸(yaxis)(μm)、横軸にx軸(x axis)(μm)をとる。図18の濃淡は、磁界分布(Hz)の強度(濃いほど強度が大きい)を表わしている。 FIG. 19 is a diagram (Calculated magnetic field Hz) showing the magnetic field distribution (Hy) when two chiral antennas 20R are arranged on the topological photonic structure 12 shown in FIG. The vertical axis is y-axis (μm), and the horizontal axis is x-axis (μm). The shades in FIG. 18 represent the intensity of the magnetic field distribution (Hz) (the darker the intensity, the greater the intensity).

図19左図に示すように、leftからrightへの伝播は、1つ目のleft側のカイラルアンテナ20Rで相互作用(interaction)し、放射(損失)された光がright側のカイラルアンテナ20に伝播されている、すなわちleftからrightへの光の伝播はloss大であることが確認できた。これに対し、図19右図に示すように、rightからleftへの伝播では、1つ目のright側のカイラルアンテナ20Rの影響を受けずに2つ目のleft 側のカイラルアンテナ20Rにlossなく光が伝播し、rightからleftへの光の伝播はloss小であることが確認できた。 As shown in the left figure of FIG. 19, the propagation from left to right interacts with the first chiral antenna 20R on the left side, and the emitted (loss) light is transferred to the chiral antenna 20 on the right side. It was confirmed that the light propagating, that is, the light propagating from left to right has a large loss. On the other hand, as shown in the right figure of FIG. 19, in the propagation from right to left, the chiral antenna 20R on the second left side is not affected by the first chiral antenna 20R on the right side, and there is no loss on the chiral antenna 20R on the second left side. It was confirmed that the light propagated and the light propagation from right to left was small loss.

[変形例]
図20は、本発明の実施形態に係る変形例の非磁性の導波路型アイソレータの上面図である。図3と同一構成部分には同一符号を付している。
変形例の非磁性の導波路型アイソレータ1は、トポロジカルフォトニック構造体12上にカイラルアンテナ20Aを有する。
[Modification example]
FIG. 20 is a top view of a non-magnetic waveguide type isolator of a modified example according to the embodiment of the present invention. The same components as those in FIG. 3 are designated by the same reference numerals.
The non-magnetic waveguide isolator 1 of the modification has a chiral antenna 20A on the topological photonic structure 12.

カイラルアンテナ20Aは、カイラル性を有するナノスケール金属構造である。カイラルアンテナ20Aは、上面視して、4つ羽の風車形状であり、トポロジカルエッジ13に沿って、羽の向きが光渦伝播方向と水平・垂直になるように配置される。 The chiral antenna 20A is a nanoscale metal structure having chiral properties. The chiral antenna 20A has a four-wing windmill shape when viewed from above, and is arranged along the topological edge 13 so that the direction of the wings is horizontal and perpendicular to the optical vortex propagation direction.

以上説明したように、本実施形態に係る非磁性の導波路型アイソレータ1(図3参照)は、内部がエネルギーギャップを持つ絶縁体であり、そのエッジがギャップレスの金属状態であるトポロジカルフォトニック構造体12と、トポロジカルフォトニック構造体12の表面に配置された、カイラル性を有するカイラルアンテナ20,20R(メタマテリアル)と、を有する。 As described above, the non-magnetic waveguide type isolator 1 (see FIG. 3) according to the present embodiment is a topological photonic structure in which the inside is an insulator having an energy gap and the edge thereof is a gapless metallic state. It has a body 12 and chiral antennas 20 and 20R (metamaterials) arranged on the surface of the topological photonic structure 12.

この構成により、各偏光に対して、吸収・放射が大きいカイラルアンテナ20,20Rをデバイス上に配置することで、いずれかの偏光・光渦を有する光を放射(損失)させる。すなわち、図3に示すように、非磁性の導波路型アイソレータ1では、入力光(Incident light)51が、トポロジカルエッジ状態で光渦伝播する。また、非磁性の導波路型アイソレータ1への戻り光(Counter propagation)52は、カイラルアンテナ20で相互作用(interaction)し、Radiation of counter propagating light53となって放射(損失)する。これにより、戻り光52は、放射(損失)した戻り光54となる。これにより、対応した方向の光伝播を抑えることができ、光集積デバイスは一方向性のアイソレータとして動作する。トポロジカルシリコン光回路(Topological photonic integrated circuits:T-PICs)上に集積可能な非磁性の導波路型アイソレータを実現することができる。 With this configuration, by arranging the chiral antennas 20 and 20R having a large absorption / emission for each polarization on the device, light having either polarization / optical vortex is emitted (loss). That is, as shown in FIG. 3, in the non-magnetic waveguide type isolator 1, the input light 51 propagates in an optical vortex in a topological edge state. Further, the return light (Counter propagation) 52 to the non-magnetic waveguide type isolator 1 interacts with the chiral antenna 20 to become a Radiation of counter propagating light 53 and radiate (loss). As a result, the return light 52 becomes the radiated (loss) return light 54. As a result, light propagation in the corresponding direction can be suppressed, and the optical integrated device operates as a one-way isolator. It is possible to realize a non-magnetic waveguide type isolator that can be integrated on topological photonic integrated circuits (T-PICs).

本実施形態に係る非磁性の導波路型アイソレータ1は、シリコン光回路上に形成された他素子とのモノリシック集積が容易であり、ガーネット結晶のような別材料系(磁性材料系)をシリコンプラットフォームへ導入する必要もない。既存技術に対する課題解決策として有望である。 The non-magnetic waveguide type isolator 1 according to the present embodiment can easily monolithically integrate with other elements formed on a silicon optical circuit, and can be made of another material system (magnetic material system) such as a garnet crystal on a silicon platform. There is no need to introduce it to. It is promising as a solution to problems with existing technologies.

本実施形態では、非磁性の導波路型アイソレータ1は、バルクがエネルギーギャップを持つ絶縁体であるフォトニック構造体11と、トポロジカルフォトニック構造体12と、フォトニック構造体11とトポロジカルフォトニック構造体12の境界において光渦伝播が可能なトポロジカルエッジ状態を発現するトポロジカルエッジ13と、トポロジカルエッジ13近傍に配置された20,20Rと、を有する。 In the present embodiment, the non-magnetic waveguide type isolator 1 includes a photonic structure 11, a topological photonic structure 12, a photonic structure 11, and a topological photonic structure in which the bulk is an insulator having an energy gap. It has a topological edge 13 that expresses a topological edge state capable of propagating an optical vortex at the boundary of the body 12, and 20, 20R arranged in the vicinity of the topological edge 13.

この構成により、特殊な光伝播が可能なトポロジカルエッジ状態で光渦の伝送が可能な非磁性の導波路型アイソレータを実現することができる。 With this configuration, it is possible to realize a non-magnetic waveguide type isolator capable of transmitting an optical vortex in a topological edge state capable of special light propagation.

非磁性の導波路型アイソレータ10は、トポロジカル特性の光回路への応用が可能である。光渦の伝送を用いた非磁性の導波路型アイソレータは、半導体基板(シリコン,InPなど)上に形成することができ、半導体レーザや大容量伝送のキーコンポーネントであるマルチコアファイバとの整合性にも優れていることから光通信との親和性の向上も期待できる。 The non-magnetic waveguide type isolator 10 can be applied to an optical circuit having topological characteristics. Non-magnetic waveguide isolators that use optical vortex transmission can be formed on semiconductor substrates (silicon, InP, etc.) for consistency with semiconductor lasers and multi-core fibers, which are key components of large-capacity transmission. Since it is also excellent, it can be expected to improve its affinity with optical communication.

本発明は上記の実施形態例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した本発明の要旨を逸脱しない限りにおいて、他の変形例、応用例を含む。
例えば、カイラル性を有するメタマテリアルは、トポロジカルフォトニック構造体に配置されるものであれば、どのような配置でもよい。ここで、トポロジカルフォトニック構造体の配置には、トポロジカルエッジ近傍(トポロジカルエッジ近傍は、フォトニック構造体も含む)に配置される場合も含まれる。
The present invention is not limited to the above embodiment, and includes other modifications and applications as long as it does not deviate from the gist of the present invention described in the claims.
For example, the chiral metamaterial may be arranged in any arrangement as long as it is arranged in the topological photonic structure. Here, the arrangement of the topological photonic structure includes the case where the topological photonic structure is arranged in the vicinity of the topological edge (the vicinity of the topological edge also includes the photonic structure).

また、メタマテリアルの構造、配列、寸法、個数、材質は、実施形態・変形例には限定されない。メタマテリアルは、3個以上でもよいが、順方向の伝播ロスが増えることに留意する。また、メタマテリアルは、ナノスケール金属構造であることで、カイラルアンテナを作成しやすい利点がある。ただし、メタマテリアルメタルを用いた場合、interactionが大きく順方向の伝播ロスが大きくなる。メタマテリアルは、誘電体を用いて作製してもよく、誘電体を使うとinteractionを小さくできる可能性があるが、アイソレータとして使用するためには数個配置する。 Further, the structure, arrangement, dimensions, number, and material of the metamaterial are not limited to the embodiments / modifications. The number of metamaterials may be three or more, but keep in mind that the forward propagation loss increases. Further, since the metamaterial has a nanoscale metal structure, it has an advantage that it is easy to create a chiral antenna. However, when metamaterial metal is used, the interaction is large and the forward propagation loss is large. The metamaterial may be manufactured using a dielectric, and there is a possibility that the interaction can be reduced by using a dielectric, but several metamaterials are arranged for use as an isolator.

また、上記実施の形態では、非磁性の導波路型アイソレータという名称を用いたが、これは説明の便宜上であり、光アイソレータ等であってもよい。 Further, in the above embodiment, the name of the non-magnetic waveguide type isolator is used, but this is for convenience of explanation, and may be an optical isolator or the like.

1 非磁性の導波路型アイソレータ
11 フォトニック構造体(Trivial photonic structure)
12 トポロジカルフォトニック構造体(Topological photonic structure)
13 トポロジカルエッジ(Topological edge)
20,20R,20A カイラルアンテナ(カイラル性を有するメタマテリアル)(Chiral metamaterial)
40 トポロジカルエッジ伝送路
41 Input用Si系導波路
42 Monitor用Si系導波路
51 入力光(Incident light)
52 戻り光(Counter propagation)
53 Radiation of counter propagating light
54 放射(損失)した戻り光
111 第1誘電体
112 第2誘電体
121 フォトニック構造体のセル
122 トポロジカルフォトニック構造体のセル
1 Non-magnetic waveguide type isolator 11 Photonic structure (Trivial photonic structure)
12 Topological photonic structure
13 Topological edge
20,20R, 20A Chiral antenna (Chiral metamaterial)
40 Topological edge transmission line 41 Si-based waveguide for Input 42 Si-based waveguide for Monitor 51 Incident light
52 Return light (Counter propagation)
53 Radiation of counter propagating light
54 Radiated (loss) return light 111 1st dielectric 112 2nd dielectric 121 Photonic structure cell 122 Topological photonic structure cell

Claims (14)

内部がエネルギーギャップを持つ絶縁体であり、そのエッジがギャップレスの金属状態であるトポロジカルフォトニック構造体(Topological photonic structure)と、
前記トポロジカルフォトニック構造体に配置された、カイラル性を有するメタマテリアル(Chiral metamaterial)と、を有する
ことを特徴とする非磁性の導波路型アイソレータ。
A topological photonic structure, which is an insulator with an energy gap inside and whose edges are in a gapless metallic state,
A non-magnetic waveguide type isolator characterized by having a chiral metamaterial arranged in the topological photonic structure.
前記メタマテリアルは、伝送方向によって回転方向が逆転する方向依存性を有する特定の偏光または光渦の、いずれか一方の回転方向の前記偏光または前記光渦を有する光と相互作用(interaction)して放射させる
ことを特徴とする請求項1に記載の非磁性の導波路型アイソレータ。
The metamaterial interacts with light having the polarized light or the optical vortex in one of the rotational directions of a specific polarized light or an optical vortex having a direction dependence in which the rotation direction is reversed depending on the transmission direction. The non-magnetic waveguide type isolator according to claim 1, wherein the light is emitted.
前記メタマテリアルは、円偏光に対して、カイラル性を有するナノスケール金属構造である
ことを特徴とする請求項1に記載の非磁性の導波路型アイソレータ。
The non-magnetic waveguide type isolator according to claim 1, wherein the metamaterial has a nanoscale metal structure having chiral symmetry with respect to circularly polarized light.
前記メタマテリアルは、円偏光に対して、カイラル性を有する誘電体である
ことを特徴とする請求項1に記載の非磁性の導波路型アイソレータ。
The non-magnetic waveguide type isolator according to claim 1, wherein the metamaterial is a dielectric having chiral symmetry with respect to circularly polarized light.
前記メタマテリアルは、1.55μm波長帯を含む所定波長帯で相互作用する共振条件を満たす構造のアンテナである
ことを特徴とする請求項1に記載の非磁性の導波路型アイソレータ。
The non-magnetic waveguide type isolator according to claim 1, wherein the metamaterial is an antenna having a structure that satisfies a resonance condition that interacts in a predetermined wavelength band including a 1.55 μm wavelength band.
前記メタマテリアルは、前記トポロジカルフォトニック構造体の表面から上面視して、卍形状または逆卍形状のカイラルアンテナである
ことを特徴とする請求項1に記載の非磁性の導波路型アイソレータ。
The non-magnetic waveguide type isolator according to claim 1, wherein the metamaterial is a swastika-shaped or inverted swastika-shaped chiral antenna when viewed from the surface of the topological photonic structure.
前記メタマテリアルは、前記トポロジカルフォトニック構造体に、1または複数配置される
ことを特徴とする請求項1に記載の非磁性の導波路型アイソレータ。
The non-magnetic waveguide type isolator according to claim 1, wherein the metamaterial is arranged one or more in the topological photonic structure.
バルクがエネルギーギャップを持つ絶縁体であるフォトニック構造体(Trivial photonic structure)と、
前記フォトニック構造体と前記トポロジカルフォトニック構造体の境界において光渦伝播が可能なトポロジカルエッジ状態を発現するトポロジカルエッジ(Topological edge)と、を有する
ことを特徴とする請求項1に記載の非磁性の導波路型アイソレータ。
The Trivial photonic structure, in which the bulk is an insulator with an energy gap,
The non-magnetism according to claim 1, wherein the photonic structure has a topological edge that expresses a topological edge state capable of propagating an optical vortex at the boundary between the photonic structure and the topological photonic structure. Waveguide isolator.
前記トポロジカルエッジは、特定の偏光または光渦を有する光を許容する
ことを特徴とする請求項8に記載の非磁性の導波路型アイソレータ。
The non-magnetic waveguide type isolator according to claim 8, wherein the topological edge allows light having a specific polarized light or an optical vortex.
特定の前記偏光または前記光渦は、伝送方向によって前記偏光または前記光渦の回転方向が逆転する方向依存性を有する
ことを特徴とする請求項9に記載の非磁性の導波路型アイソレータ。
The non-magnetic waveguide type isolator according to claim 9, wherein the specific polarized light or the optical vortex has a direction dependence in which the rotation direction of the polarized light or the optical vortex is reversed depending on the transmission direction.
前記メタマテリアルは、前記トポロジカルエッジに近接して配置される
ことを特徴とする請求項8に記載の非磁性の導波路型アイソレータ。
The non-magnetic waveguide type isolator according to claim 8, wherein the metamaterial is arranged in the vicinity of the topological edge.
前記トポロジカルフォトニック構造体は、配列されたセル内で対称性を有する誘電体を備える
ことを特徴とする請求項1に記載の非磁性の導波路型アイソレータ。
The non-magnetic waveguide type isolator according to claim 1, wherein the topological photonic structure includes a dielectric having symmetry in the arranged cells.
前記トポロジカルフォトニック構造体は、C6v対称性を有するナノホールを含む誘電体が蜂の巣格子状セルに配列される構造を備える
ことを特徴とする請求項1に記載の非磁性の導波路型アイソレータ。
The non-magnetic waveguide isolator according to claim 1, wherein the topological photonic structure comprises a structure in which dielectrics including nanoholes having C 6v symmetry are arranged in honeycomb lattice cells.
前記トポロジカルフォトニック構造体は、Zトポロジーで表わされるトポロジカル構造である
ことを特徴とする請求項1に記載の非磁性の導波路型アイソレータ。
The topological photonic structure, non-magnetic waveguide isolator of claim 1, characterized in that the topological structure represented by Z 2 topology.
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