JP2021183557A - Boron-containing carbon material, conductive composition, and conductive film - Google Patents

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Abstract

To provide a boron-containing carbon material excellent in conductivity, and to provide an excellent conductive material containing the boron-containing carbon material.SOLUTION: A boron-containing carbon material is doped so that boron elements replace at least some of carbon elements in a carbon skeleton, and when the Raman shift of a G band is X and the Raman shift of a D band is Y in a laser Raman spectrum, the difference [X-Y] of the Raman shifts is 226 cm-1 or less, and the ratio of surface substitution type boron elements to all elements on a surface of the boron-containing carbon material, as measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), is 0.0001 or more.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、ホウ素含有炭素材料、導電性組成物、及び導電膜に関する。 The present invention relates to boron-containing carbon materials, conductive compositions, and conductive films.

近年、エレクトロニクスの発達は目覚ましいものがあり、各種電子機器で使用される導電性材料についても製品の小型・軽量化、低コスト化、様々な使用環境下での高寿命化が求められるようになってきている。例えば、電子機器の基盤配線や電子機器を接続する配線を製造する場合、導電性が良好な導電性組成物が必要となるが、銀や銅等の金属フィラーを用いる導電性組成物が一般的であり、コストや耐久性などの点で大きな課題が今なお解決出来ていない。一方、金属を用いない導電性のカーボン材料を用いた導電性組成物も様々な検討がなされているが、導電性が不十分なため、帯電防止用途等の半導電性用途での使用に限られてきた。 In recent years, the development of electronics has been remarkable, and conductive materials used in various electronic devices are required to be smaller and lighter, cost lower, and have a longer life in various usage environments. It's coming. For example, when manufacturing a board wiring for an electronic device or a wiring for connecting an electronic device, a conductive composition having good conductivity is required, but a conductive composition using a metal filler such as silver or copper is generally used. However, major problems in terms of cost and durability have not yet been solved. On the other hand, various studies have been conducted on conductive compositions using a conductive carbon material that does not use metal, but since the conductivity is insufficient, it is limited to use in semi-conductive applications such as antistatic applications. Has been done.

導電性のカーボン材料としては、グラファイトやカーボンナノチューブ等の高導電性カーボンも検討されてきた。これら高導電性カーボンの体積抵抗率は、10−2Ω・cm未満と優れた導電性を有しており、従来に比べ導電性の課題を改善できることが報告されている(特許文献1〜2)。しかしながら、材料自身の体積抵抗率が金属フィラーに比べると桁違いに高く、導電性カーボン単独で導電用途に十分な特性を発現できているとは言い難い。 As a conductive carbon material, highly conductive carbon such as graphite and carbon nanotubes has also been studied. It has been reported that the volume resistivity of these highly conductive carbons has excellent conductivity of less than 10-2 Ω · cm, and that the problem of conductivity can be improved as compared with the conventional ones (Patent Documents 1 and 2). ). However, the volume resistivity of the material itself is orders of magnitude higher than that of the metal filler, and it cannot be said that conductive carbon alone can exhibit sufficient characteristics for conductive applications.

他方、炭素の材料自身の導電性の問題を解決することを目的として、結晶性の高い炭素材料の研究がされている。例えば、カーボンナノチューブの製造方法に関して原料ガスの流速や濃度を改善し結晶性を向上させたり(特許文献3)、液体Gaの触媒作用によって炭素繊維表面のグラフェン同士を接合させた構造を形成させたりする(特許文献4)報告がされている。しかしながら、導電性の改善が十分とは言い難く、さらなる高導電性炭素材料の開発が求められている。 On the other hand, research on carbon materials with high crystallinity is being conducted for the purpose of solving the problem of conductivity of carbon materials themselves. For example, regarding the method for producing carbon nanotubes, the flow velocity and concentration of the raw material gas may be improved to improve the crystallinity (Patent Document 3), or the graphene on the surface of carbon fibers may be bonded to each other by the catalytic action of liquid Ga. (Patent Document 4) has been reported. However, it cannot be said that the improvement of conductivity is sufficient, and further development of a highly conductive carbon material is required.

特開平3−7740号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 3-7740 特開2008−293821号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-293821 特開2010−006663号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2010-006663 特開2009−179915号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-179915

本発明は前記問題点に鑑み、導電性に優れるホウ素含有炭素材料を実現することにより、優れた導電性材料を提供することを目的とする。 In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide an excellent conductive material by realizing a boron-containing carbon material having excellent conductivity.

本発明者は、前記諸問題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、本発明に至った。
すなわち本発明は、ホウ素元素が炭素骨格内の炭素元素の少なくとも一部を置換するようにドープされているホウ素含有炭素材料であって、レーザーラマンスペクトルにおけるGバンドのラマンシフトをXとし、DバンドのラマンシフトをYとした時、ラマンシフトの差[X−Y]が226cm−1以下であり、X線光電子分光法(XPS)によって測定した、ホウ素含有炭素材料表面の全元素に対する表面置換型ホウ素元素の割合が、0.0001以上であるホウ素含有炭素材料に関する。
The present inventor has arrived at the present invention as a result of repeated diligent studies to solve the above-mentioned problems.
That is, the present invention is a boron-containing carbon material in which a boron element is doped so as to replace at least a part of the carbon element in the carbon skeleton, and the Raman shift of the G band in the laser Raman spectrum is X and the D band. When the Raman shift is Y, the difference in Raman shift [XY] is 226 cm -1 or less, and the surface substitution type for all elements on the surface of the boron-containing carbon material as measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The present invention relates to a boron-containing carbon material having a boron element ratio of 0.0001 or more.

又、本発明は、黒鉛系炭素材料、グラフェン系炭素材料、及びカーボンナノチューブ系炭素材料からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む上記ホウ素含有炭素材料に関する。 The present invention also relates to the above-mentioned boron-containing carbon material containing at least one selected from the group consisting of a graphite-based carbon material, a graphene-based carbon material, and a carbon nanotube-based carbon material.

又、本発明は、レーザーラマンスペクトルにおけるGバンドとDバンドとの強度比[G/D]が6以下である上記ホウ素含有炭素材料に関する。 The present invention also relates to the above-mentioned boron-containing carbon material having an intensity ratio [G / D] of G band to D band in the laser Raman spectrum of 6 or less.

又、本発明は、ラマンシフトの差[X−Y]が218〜226cm−1である上記ホウ素含有炭素材料に関する。 The present invention also relates to the above-mentioned boron-containing carbon material having a Raman shift difference [XY] of 218 to 226 cm -1.

又、本発明は、上記ホウ素含有炭素材料と、バインダー樹脂又は溶媒の少なくとも一方と、を含む導電性組成物に関する。 The present invention also relates to a conductive composition containing the above-mentioned boron-containing carbon material and at least one of a binder resin or a solvent.

又、本発明は、さらに導電助剤を含む上記導電性組成物に関する。 The present invention also relates to the above conductive composition further containing a conductive auxiliary agent.

又、本発明は、導電助剤の比表面積が150〜550m/gである上記導電性組成物に関する。 The present invention also relates to the above-mentioned conductive composition having a specific surface area of a conductive auxiliary agent of 150 to 550 m 2 / g.

又、本発明は、上記導電性組成物から形成されてなる導電膜に関する。 The present invention also relates to a conductive film formed from the above conductive composition.

本発明によれば、導電性に優れるホウ素含有炭素材料を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a boron-containing carbon material having excellent conductivity.

図1は、レーザーラマンスペクトルにおけるホウ素含有炭素材料のGバンドとDバンドのピークを示す図である。FIG. 1 is a diagram showing peaks of G band and D band of a boron-containing carbon material in a laser Raman spectrum. 図2は、XPSにおけるB1sスペクトルのピーク分離例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an example of peak separation of the B1s spectrum in XPS.

以下、詳細に本発明について説明する。尚、本明細書では、「ホウ素含有炭素材料」を、単に炭素材料ということがある。 Hereinafter, the present invention will be described in detail. In the present specification, the "boron-containing carbon material" may be simply referred to as a carbon material.

<ホウ素含有炭素材料>
ホウ素元素が炭素骨格内の炭素元素の少なくとも一部を置換するようにドープされているホウ素含有炭素材料とは、炭素原子が六角網状に共有結合した網平面を形成した炭素六角網面を基本骨格とした炭素材料からなり、それらの構成単位間に物理的・化学的な相互作用(結合)を有し、少なくともホウ素元素が炭素元素の一部を置換するようにドープされており、場合によって窒素元素やリン元素などのヘテロ元素や、卑金属元素などが含まれる炭素材料である。
<Boron-containing carbon material>
The boron-containing carbon material in which the boron element is doped so as to replace at least a part of the carbon element in the carbon skeleton is a carbon hexagonal network surface in which carbon atoms are covalently bonded in a hexagonal network. It consists of carbon materials that have physical and chemical interactions (bonds) between their constituent units, and are doped so that at least elemental boron replaces part of the elemental carbon, and in some cases nitrogen. It is a carbon material containing heterogeneous elements such as elements and phosphorus elements, and base metal elements.

ホウ素含有炭素材料は、励起レーザー波長532nmのレーザーラマンスペクトルにおけるGバンド(1560〜1620cm−1)のラマンシフトをXとし、Dバンド(1330〜1370cm−1)のラマンシフトをYとした時、ラマンシフトの差[X−Y]が226cm−1以下であるとホウ素ドープによるキャリアの増加につながりやすい。好ましくは218cm−1以上226cm−1以下、より好ましくは222cm−1以上226cm−1以下である。 The boron-containing carbon material has Raman when the Raman shift of the G band (1560-1620 cm -1 ) in the laser Raman spectrum with an excitation laser wavelength of 532 nm is X and the Raman shift of the D band (1330-1370 cm -1 ) is Y. When the shift difference [XY] is 226 cm -1 or less, it tends to lead to an increase in carriers due to boron doping. Preferably 218cm -1 or 226 cm -1 or less, and more preferably 222cm -1 or 226 cm -1 or less.

ホウ素含有炭素材料の導電性は下記式で表される。
σ=μ×n×e (式1) μ:移動度、n:キャリア密度、e:電気素量(定数)
上記(式1)より導電性を向上させるためには移動度及び/又はキャリア密度の向上が必要となる。炭素材料へのホウ素ドープの主な狙いとしては炭素骨格への元素置換によるホールの導入によるキャリア密度の向上である。一方、炭素材料へのホウ素ドープは炭素の結晶構造や電子状態などに大きく影響を与え、炭素の結晶構造の乱れや結晶子の低下などを誘発し移動度を低下させる要因ともなる。
The conductivity of the boron-containing carbon material is expressed by the following formula.
σ = μ × n × e (Equation 1) μ: mobility, n: carrier density, e: elementary charge (constant)
In order to improve the conductivity from the above (Equation 1), it is necessary to improve the mobility and / or the carrier density. The main aim of boron doping in carbon materials is to improve the carrier density by introducing holes by element substitution in the carbon skeleton. On the other hand, the boron dope to the carbon material has a great influence on the crystal structure and electronic state of carbon, and induces disorder of the crystal structure of carbon and deterioration of crystallites, which is also a factor of lowering the mobility.

ホウ素により炭素材料にキャリアがドープされると、炭素材料のフェルミ準位の変化により、電子-格子間の相互作用に変化をもたらし、ラマンスペクトルにおいてDバンド及びGバンドのピークの高波数シフトを引き起こす。他方で、炭素の六角網面の積層数の減少によってもGバンドのピークに高波数シフトが生じる。これらより、ラマンシフトの差[X−Y]を本発明の範囲に保つことにより、ホウ素のドープによりキャリア密度を増加させ、かつ六角網面の積層数の減少(結晶性の低下)による移動度の低下を抑え、高い導電性を発現することができると考えられる。 When the carbon material is doped with carriers by boron, the change in the Fermi level of the carbon material causes a change in the electron-lattice interaction, causing a high wave shift of the D-band and G-band peaks in the Raman spectrum. .. On the other hand, a decrease in the number of layers of the hexagonal network surface of carbon also causes a high wave number shift at the peak of the G band. From these, by keeping the difference in Raman shift [XY] within the range of the present invention, the carrier density is increased by doping with boron, and the mobility due to the decrease in the number of stacked hexagonal net surfaces (decrease in crystallinity). It is considered that high conductivity can be exhibited by suppressing the decrease in the value.

ホウ素含有炭素材料は、励起レーザー波長532nmのレーザーラマンスペクトルにおけるDバンド(1330〜1370cm−1)とGバンド(1560〜1620cm−1)のピーク強度の比(IG/ID)であるG/D比が0.5以上20以下であると炭素表面の欠陥や結晶界面が少なく電子伝導が高くなりやすく好ましい。より好ましくは1以上10以下、さらに好ましくは1以上6以下、さらに好ましくは1以上5以下、特に好ましくは2以上5以下である。特にG/D比が6以下であるとホウ素のドープによるキャリア密度向上と結晶性の維持が両立しやすいため、電子伝導が高くなりやすい。、 Boron-containing carbon material, G / D ratio is the ratio of the peak intensity (IG / ID) of D-band (1330~1370cm -1) and G bands in the laser Raman spectrum of the excitation laser wavelength 532nm (1560~1620cm -1) When is 0.5 or more and 20 or less, there are few defects on the carbon surface and crystal interfaces, and electron conduction tends to be high, which is preferable. It is more preferably 1 or more and 10 or less, still more preferably 1 or more and 6 or less, still more preferably 1 or more and 5 or less, and particularly preferably 2 or more and 5 or less. In particular, when the G / D ratio is 6 or less, it is easy to improve the carrier density and maintain the crystallinity by doping with boron, so that the electron conduction tends to be high. ,

ホウ素含有炭素材料の表面のホウ素元素の形態は特に限定されないが、炭素骨格内の炭素元素の位置にホウ素元素が置換されている置換型ホウ素元素(BC型)、炭化ホウ素型及びホウ素クラスター型ホウ素元素(BC型、Bc型)、完全又は部分的に酸化された状態の酸化ホウ素型ホウ素元素(BCO型、BCO型、B型)等が挙げられる。 The form of the boron element on the surface of the boron-containing carbon material is not particularly limited, but is a substituted boron element (BC 3 type) in which the boron element is substituted at the position of the carbon element in the carbon skeleton, a boron carbide type and a boron cluster type. boron element (B 4 C type, Bc type), completely or partially oxidized boron type elemental boron oxidized state (BC 2 O type, BCO 2 type, B 2 O 3 type) and the like.

ホウ素含有炭素材料は、X線光電子分光法(XPS)によって測定した、ホウ素含有炭素材料表面の全元素に対する表面置換型ホウ素元素の割合が、0.0001以上であり、ホウ素元素ドープによるキャリア密度を向上させる効果がある。表面置換型ホウ素元素の割合は、XPSによって測定した炭素材料表面の全元素のスペクトル面積に対する全ホウ素元素のスペクトル面積の割合Bとし、XPSのB1sスペクトルより求めた、炭素材料表面の全ホウ素元素のスペクトル面積に対する置換型ホウ素元素のピーク面積の割合をBとしたとき、B×Bで表される。より好ましくは0.0002以上であり、更に好ましくは0.0004以上である。また、表面置換型ホウ素元素の割合は、好ましくは0.01以下であり、より好ましくは0.005以下である。 In the boron-containing carbon material, the ratio of the surface-substituted boron element to all the elements on the surface of the boron-containing carbon material measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) is 0.0001 or more, and the carrier density due to the boron element dope is determined. It has the effect of improving. The ratio of the surface-substituted boron element is the ratio B of the spectral area of the total boron element to the spectral area of all the elements on the surface of the carbon material measured by XPS, and the ratio of the total boron element on the surface of the carbon material obtained from the B1s spectrum of XPS. when the ratio of the peak area of substitutional boron element to the spectral area was B R, represented by B × B R. It is more preferably 0.0002 or more, still more preferably 0.0004 or more. The ratio of the surface-substituted boron element is preferably 0.01 or less, more preferably 0.005 or less.

ホウ素含有炭素材料がホウ素を含有することにより、溶媒やバインダー樹脂に対する濡れ性が高まり、分散液の分散性が向上する。また、ホウ素含有量が多いと炭素材料の硬さが増加する傾向にある。これにより、衝撃等の外力に対する耐久性が向上するため、分散安定性や膜強度が改善する。一方で、ホウ素含有量が多いと分散が難しくなる傾向にあるため、炭素材料の強度及び分散性の観点から、表面置換型ホウ素元素の割合は、好ましくは0.0002以上0.01以下であり、より好ましくは0.0004以上0.005以下である。 When the boron-containing carbon material contains boron, the wettability with respect to the solvent and the binder resin is enhanced, and the dispersibility of the dispersion liquid is improved. Further, when the boron content is high, the hardness of the carbon material tends to increase. As a result, the durability against an external force such as an impact is improved, so that the dispersion stability and the film strength are improved. On the other hand, if the boron content is high, dispersion tends to be difficult. Therefore, from the viewpoint of the strength and dispersibility of the carbon material, the ratio of the surface-substituted boron element is preferably 0.0002 or more and 0.01 or less. , More preferably 0.0004 or more and 0.005 or less.

XPS測定で得られるホウ素のB1sスペクトルは、ホウ素元素のB1s電子の結合エネルギー範囲(185〜197eV付近)に現れ、大別すると4つの成分からなることが知られている。各成分の結合エネルギーの値(ピークトップ)は、ホウ素クラスターが186〜187eV、炭化ホウ素が187〜188eV、六角網面を基本骨格とした炭素元素と置換するようにドープされているホウ素(BC)が188〜189.3eV、各種酸化ホウ素であるBCOが189.5〜190.5eV、BCOが191.5〜192eV、Bが192.5〜193eVに現れる。これらのピークが重なっている場合には、各成分をガウス関数としてピーク強度、ピーク位置、ピーク半値全幅をパラメーターとして最適化することにより、フィッティングを行ってピークを分離することにより割合を求めることができる。従って、B1sのピーク分離を行い、ホウ素ドープ炭素材料の表面のホウ素の状態を分析することが出来る。 It is known that the B1s spectrum of boron obtained by XPS measurement appears in the binding energy range (around 185 to 197 eV) of the B1s electron of the boron element, and is roughly classified into four components. The value of the binding energy (peak top) of each component is 186 to 187 eV for boron clusters, 187 to 188 eV for boron carbide, and boron (BC 3) doped so as to replace carbon elements having a hexagonal network as the basic skeleton. ) Appears in 188 to 189.3 eV, BC 2 O which is various boron oxides appears in 189.5 to 190.5 eV, BCO 2 appears in 191.5 to 192 eV, and B 2 O 3 appears in 192.5 to 193 eV. When these peaks overlap, the ratio can be obtained by performing fitting and separating the peaks by optimizing each component as a Gaussian function with the peak intensity, peak position, and full width at half maximum as parameters. can. Therefore, it is possible to perform peak separation of B1s and analyze the state of boron on the surface of the boron-doped carbon material.

ホウ素含有炭素材料は特に限定されないが、黒鉛系炭素材料、カーボンナノチューブ系炭素材料、グラフェン系炭素材料、カーボンブラック系炭素材料などが挙げられる。ホウ素含有炭素材料のG/D比など結晶性が高くなりやすいため、黒鉛系炭素材料及びカーボンナノチューブ系炭素材料、グラフェン系炭素材料が好ましい。 The boron-containing carbon material is not particularly limited, and examples thereof include a graphite-based carbon material, a carbon nanotube-based carbon material, a graphene-based carbon material, and a carbon black-based carbon material. Graphite-based carbon materials, carbon nanotube-based carbon materials, and graphene-based carbon materials are preferable because the crystallinity of the boron-containing carbon material tends to be high, such as the G / D ratio.

本発明におけるホウ素含有炭素材料の粒子は高結晶性で、粒子が大きい方が電子伝導性には有利となるため好ましい。粒子の厚みは50nmより大きい方が好ましい。更に好ましくは100nmより大きい方が好ましい。更に好ましくは250nm以上である。ホウ素含有炭素材料の粒子の厚みは、例えば電子顕微鏡などにおいて、無作為に抽出した粒子の厚みの平均値から算出できる。 The particles of the boron-containing carbon material in the present invention have high crystallinity, and a larger particle is preferable because it is advantageous for electron conductivity. The thickness of the particles is preferably larger than 50 nm. More preferably, it is larger than 100 nm. More preferably, it is 250 nm or more. The thickness of the particles of the boron-containing carbon material can be calculated from the average value of the thicknesses of the particles randomly sampled by, for example, an electron microscope.

<製造方法>
本発明のホウ素含有炭素材料の製造方法としては特に限定されないが、炭素系原料と、ホウ素を含む化合物とを混合する工程と、前記混合物を1000℃以上の高温で熱処理する工程を含む方法が好ましい。
本発明のホウ素含有炭素材料の製造方法として好ましくは、あらかじめ炭化された炭素源に対してホウ素をドープする方法である。ここでいう「炭化」とは、「結晶化」又は「黒鉛化」と同様の事象を表す。
例えば、炭化されていない炭素源とホウ素源を用いて、炭化しながらホウ素をドープしてホウ素含有炭素材料を得る方法や、事前に仮焼成処理を行った炭素源を用いる方法では、結晶化又は黒鉛化が不十分な場合がある。このため、炭化しながらホウ素をドープする方法よりも、あらかじめ炭化された炭素源に対してホウ素をドープするような、炭化の後にホウ素ドープ反応を行う方法を用いる方が、炭素粒子の表面と内部のホウ素の分布状態が好ましい炭素材料を製造することができるため好ましい。すなわち、優れた耐酸化性、導電性、分散性、耐久性の両立を可能とする本発明のホウ素含有炭素材料を得るためには、炭素源の選択、及び、ホウ素ドープ反応が起こる際の炭素源とホウ素源の混合状態等も重要である。
<Manufacturing method>
The method for producing the boron-containing carbon material of the present invention is not particularly limited, but a method including a step of mixing a carbon-based raw material and a compound containing boron and a step of heat-treating the mixture at a high temperature of 1000 ° C. or higher is preferable. ..
The method for producing the boron-containing carbon material of the present invention is preferably a method of doping a pre-carbonized carbon source with boron. The term "carbonization" as used herein represents an event similar to "crystallization" or "graphitization".
For example, in the method of obtaining a boron-containing carbon material by doping boron while carbonizing using an uncarbonized carbon source and a boron source, or in a method using a carbon source which has been subjected to a preliminary firing treatment in advance, crystallization or Graphitization may be inadequate. For this reason, it is better to use a method of performing a boron doping reaction after carbonization, such as doping a pre-carbonized carbon source with boron, rather than a method of doping boron while carbonizing, on the surface and inside of carbon particles. It is preferable because a carbon material having a preferable distribution state of boron can be produced. That is, in order to obtain the boron-containing carbon material of the present invention capable of achieving both excellent oxidation resistance, conductivity, dispersibility, and durability, selection of a carbon source and carbon when a boron doping reaction occurs are performed. The mixed state of the source and the boron source is also important.

ホウ素含有炭素材料を製造するための炭素系原料とホウ素を含む化合物の原料組成比は、特に限定されるものではないが、炭素系原料100質量部に対してホウ素を含む化合物の割合が好ましくは0.01〜300質量部であり、さらに好ましくは0.1〜100質量部である。 The raw material composition ratio of the carbon-based raw material for producing the boron-containing carbon material and the raw material composition ratio of the compound containing boron is not particularly limited, but the ratio of the compound containing boron to 100 parts by mass of the carbon-based raw material is preferable. It is 0.01 to 300 parts by mass, more preferably 0.1 to 100 parts by mass.

前記混合物の作製方法としては、炭素系原料と、ホウ素を含む化合物を少なくとも含んでいればよく、混合法としては乾式混合及び湿式混合が挙げられる。混合装置としては、混合装置としては、以下のような乾式混合装置や湿式混合装置を使用できる。 The method for producing the mixture may contain at least a carbon-based raw material and a compound containing boron, and examples of the mixing method include dry mixing and wet mixing. As the mixing device, the following dry mixing device and wet mixing device can be used as the mixing device.

乾式混合装置としては、例えば、2本ロールや3本ロール等のロールミル、ヘンシェルミキサーやスーパーミキサー等の高速攪拌機、マイクロナイザーやジェットミル等の流体エネルギー粉砕機、アトライター、ホソカワミクロン社製粒子複合化装置「ナノキュア」、「ノビルタ」、「メカノフュージョン」、奈良機械製作所社製粉体表面改質装置「ハイブ
リダイゼーションシステム」、「メカノマイクロス」、「ミラーロ」等が挙げられる。
Dry mixers include, for example, roll mills such as 2-roll and 3-roll, high-speed stirrers such as Henshell mixers and super mixers, fluid energy crushers such as micronizers and jet mills, attritors, and particle composites manufactured by Hosokawa Micron. Devices such as "Nanocure", "Novirta", "Mechanofusion", powder surface reformer "Hybridation System" manufactured by Nara Machinery Works, "Mechanomicros", "Miraro" and the like can be mentioned.

又、乾式混合装置を使用する際、2種以上の原料を粉体のまま直接混合しても良いが、より均一な混合物を作成するために、前もって1種以上の原料を少量の溶媒に溶解、又、分散させておき、混合する方法を用いても良い。更に処理効率を上げるために、加温しても良い。 Further, when using a dry mixing device, two or more kinds of raw materials may be directly mixed as powders, but in order to prepare a more uniform mixture, one or more kinds of raw materials are previously dissolved in a small amount of solvent. Alternatively, a method of dispersing and mixing may be used. In order to further increase the processing efficiency, heating may be performed.

湿式混合装置としては、例えば、ディスパー、ホモミキサー、若しくはプラネタリーミキサー等のミキサー類、エム・テクニック社製「クレアミックス」、若しくはPRIMIX社製「フィルミックス」等のホモジナイザー類、レッドデビル社製ペイントコンディショナー、ボールミル、シンマルエンタープライゼス社製「ダイノミル」等のサンドミル類、アトライター、若しくはコボールミル等のメディア型分散機、 ジーナス社製「ジーナスPY」、スギノマシン社製「スターバースト」、ナノマイザー社製「ナノマイザー」等の湿式ジェットミル類、エム・テクニック社製「クレアSS−5」、若しくは奈良機械製作所社製「マイクロス」等のメディアレス分散機類、又は、その他ロールミル、ニーダー等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。又、湿式混合装置としては、装置からの金属混入防止処理を施したものを用いることが好ましい場合がある。 Wet mixing devices include, for example, mixers such as a disper, homomixer, or planetary mixer, homogenizers such as "Clairemix" manufactured by M-Technique, or "Fillmix" manufactured by PRIMIX, and paint manufactured by Red Devil. Conditioner, ball mill, sand mills such as "Dyno Mill" manufactured by Symmal Enterprises, media type disperser such as Attritor or Coball Mill, "Genus PY" manufactured by Genus, "Star Burst" manufactured by Sugino Machine, manufactured by Nanomizer. Wet jet mills such as "Nanmizer", medialess dispersers such as "Claire SS-5" manufactured by M-Technique, or "Micros" manufactured by Nara Machinery Co., Ltd., or other roll mills, kneaders, etc. may be mentioned. However, it is not limited to these. Further, as the wet mixing device, it may be preferable to use a device that has been subjected to a metal contamination prevention treatment from the device.

例えば、メディア型分散機を使用する場合は、アジテーター及びベッセルがセラミック製又は樹脂製の分散機を使用する方法や、金属製アジテーター及びベッセル表面をタングステンカーバイド溶射や樹脂コーティング等の処理をした分散機を用いることが好ましい。そして、メディアとしては、ガラスビーズ、又は、ジルコニアビーズ、若しくはアルミナビーズ等のセラミックビーズを用いることが好ましい。又、ロールミルを使用する場合についても、セラミック製ロールを用いることが好ましい。分散装置は、1種のみを使用しても良いし、複数種の装置を組み合わせて使用しても良い。 For example, when using a media-type disperser, a method in which the agitator and vessel use a disperser made of ceramic or resin, or a disperser in which the surface of the metal agitator and vessel is treated with tungsten carbide spraying or resin coating. It is preferable to use. As the medium, it is preferable to use glass beads, zirconia beads, or ceramic beads such as alumina beads. Also, when using a roll mill, it is preferable to use a ceramic roll. As the dispersive device, only one type may be used, or a plurality of types of devices may be used in combination.

又、原料が均一に溶解した系でない場合、各原料の溶媒への濡れ性、分散性を向上させるために、一般的な分散剤を一緒に添加し、分散、混合しても良い。 Further, when the raw materials are not uniformly dissolved, a general dispersant may be added together, dispersed and mixed in order to improve the wettability and dispersibility of each raw material in the solvent.

分散剤としては、本発明において使用する分散剤は、各原料に対して分散剤として有効に機能し、その凝集を緩和することができる。凝集を緩和させる効果があれば特に限定されることはなく、従来公知のものを使用することができる。例えば、樹脂型分散剤、界面活性剤、顔料誘導体などの分散剤を用いることが出来る。 As the dispersant, the dispersant used in the present invention effectively functions as a dispersant for each raw material and can alleviate the aggregation thereof. There is no particular limitation as long as it has the effect of alleviating aggregation, and conventionally known ones can be used. For example, dispersants such as resin-type dispersants, surfactants, and pigment derivatives can be used.

樹脂型分散剤としては、ポリビニル系樹脂やポリウレタン系、ポリエステル系、ポリエーテル系、カルボキシメチルセルロース等のセルロース樹脂、ホルマリン縮合物、シリコン系、及びこれらの複合系ポリマー等が挙げられる。更に、これらの樹脂型分散剤は2種類以上を併用してもよい。ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸、カルボキシメチルセルロースなどが好ましい。 Examples of the resin-type dispersant include polyvinyl-based resins, polyurethane-based, polyester-based, polyether-based, cellulose resins such as carboxymethyl cellulose, formalin condensates, silicon-based polymers, and composite polymers thereof. Further, two or more kinds of these resin type dispersants may be used in combination. Polyvinylpyrrolidone, polyvinyl alcohol, polystyrene sulfonic acid, polyacrylic acid, carboxymethyl cellulose and the like are preferable.

前記混合物を熱処理する方法においては、原料となる炭素系原料やホウ素を含む化合物の種類や量によって異なるが、加熱温度は1000〜3200℃が好ましく、1800〜3000℃がより好ましい。 In the method for heat-treating the mixture, the heating temperature is preferably 1000 to 3200 ° C, more preferably 1800 to 3000 ° C, although it varies depending on the type and amount of the carbon-based raw material as a raw material and the compound containing boron.

加熱時間は特に限定されないが、通常は30分から10時間であることが好ましい。 The heating time is not particularly limited, but is usually preferably 30 minutes to 10 hours.

熱処理工程における雰囲気に関しては、原料の酸化を防ぐため、窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気や、真空雰囲気が好ましい。 Regarding the atmosphere in the heat treatment step, an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon or a vacuum atmosphere is preferable in order to prevent oxidation of the raw material.

また、熱処理工程に関しては、一定の雰囲気及び温度下において1段階で処理を行う方
法だけでなく、雰囲気や温度下を都度変更し多段階で行っても良い。
Further, regarding the heat treatment step, not only the method of performing the treatment in one step under a constant atmosphere and temperature, but also the heat treatment step may be performed in multiple steps by changing the atmosphere and temperature each time.

<炭素系原料>
本発明におけるホウ素含有炭素材料を製造するための、炭素系原料としては無機炭素系原料が好ましい。具体的な無機炭素系原料としては、カーボンブラック(ファーネスブラック、アセチレンブラック、ケッチェンブラック、ミディアムサーマルカーボンブラック)、活性炭、黒鉛、カーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、カーボンナノホーン、グラフェン、グラフェンナノプレートレット、ナノポーラスカーボン、炭素繊維、木炭等が挙げられる。上記炭素系原料の中でも、種類やメーカーによって、炭素六角網面の大きさや積層構造は様々で、結晶性、粒子径、形状、BET比表面積、細孔容積、細孔径、嵩密度、DBP吸油量、表面酸塩基度、表面親水度、導電性などの様々な物性や、コストが異なるため、使用する用途や要求性能に合わせて最適な材料を選択することができる。
<Carbon-based raw material>
As the carbon-based raw material for producing the boron-containing carbon material in the present invention, an inorganic carbon-based raw material is preferable. Specific examples of inorganic carbon-based raw materials include carbon black (furness black, acetylene black, ketjen black, medium thermal carbon black), activated carbon, graphite, carbon nanotubes, carbon nanofibers, carbon nanohorns, graphene, and graphene nanoplatelets. Examples include nanoporous carbon, carbon fiber, and charcoal. Among the above carbon-based raw materials, the size and laminated structure of the carbon hexagonal network vary depending on the type and manufacturer, and the crystallinity, particle size, shape, BET specific surface area, pore volume, pore diameter, bulk density, and DBP oil absorption amount. Since various physical properties such as surface acid basicity, surface hydrophilicity, and conductivity and costs are different, the optimum material can be selected according to the intended use and required performance.

市販の炭素系原料としては、例えば、市販の黒鉛としては、日本黒鉛工業社製のCMX、UP−5、UP−10、UP−20、UP−35N、CSSP、CSPE、CSP、CP、CB−150、CB−100、ACP、ACP−1000、ACB−50、ACB−100、ACB−150、SP−10、SP−20、J−SP、SP−270、HOP、GR−60、LEP、F#1、F#2、F#3、CGC−20、CGC−50、CGB−20、CGB−50、PAG−60、PAG−80、PAG−120、PAG−5、HAG−10W、HAG−150等、伊藤黒鉛工業社製のEC1500、EC1000、EC500、EC300、EC100、EC50等、中越黒鉛社製のCX−3000、FBF、BF、CBR、SSC−3000、SSC−600、SSC−3、SSC、CX−600、CPF−8、CPF−3、CPB−6S、CPB、96E、96L、96L−3、90L−3、CPC、S−87、K−3、CF−80、CF−48、CF−32、CP−150、CP−100、CP、HF−80、HF−48、HF−32、SC−120、SC−80、SC−60、SC−32、RA−3000、RA−15、RA−44、GX−600、G−6S、G−3、G−150、G−100、G−48、G−30、G−50、SECカーボン社製のSGP−100、SGP−50、SGP−25、SGP−15、SGP−5、SGP−1、SGO−100、SGO−50、SGO−25、SGO−15、SGO−5、SGO−1、SGX−100、SGX−50、SGX−25、SGX−15、SGX−5、SGX−1等、西村黒鉛社製の10099M、PB−99等が挙げられる。
市販のカーボンブラックとしては、ライオン・スペシャリティ・ケミカルズ社製のケッチェンブラックEC−300J、EC−600JD、ライオナイトEC−200L等、
三菱化学社製のファーネスブラック#2350、#2600、#3050B、#3030B、#3230B、及び#3400B等、デンカ社製のデンカブラックHS−100、FX−35等が挙げられる。
市販のカーボンナノチューブとしては、昭和電工社製VGCF−H、VGCF−X等、
名城ナノカーボン社製カーボンナノチューブ、NTP社製NTP3003、NTP3021、NTP3121、NTP8012、NTP8022、NTP9012、NTP9112等、OCSiAl社製TUBALL等が挙げられる。
市販のグラフェン系炭素としては、XGSciences社製グラフェンナノプレートレットxGnP−C−300、xGnP−C−500、xGnP−C−750、xGnP−M−5、xGnP−M−15、xGnP−M−25、xGnP−H−5、xGnP−H−15、xGnP−H−25等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
中でも導電性やコストの観点から市販の炭素系原料としては黒鉛が好ましい。
As commercially available carbon-based raw materials, for example, as commercially available graphite, CMX, UP-5, UP-10, UP-20, UP-35N, CSSP, CSPE, CSP, CP, CB- manufactured by Nippon Graphite Industry Co., Ltd. 150, CB-100, ACP, ACP-100, ACB-50, ACB-100, ACB-150, SP-10, SP-20, J-SP, SP-270, HOP, GR-60, LEP, F # 1, F # 2, F # 3, CGC-20, CGC-50, CGB-20, CGB-50, PAG-60, PAG-80, PAG-120, PAG-5, HAG-10W, HAG-150, etc. , EC1500, EC1000, EC500, EC300, EC100, EC50, etc. manufactured by Ito Graphite Industry Co., Ltd., CX-3000, FBF, BF, CBR, SSC-3000, SSC-600, SSC-3, SSC, CX manufactured by Chuetsu Graphite Co., Ltd. -600, CPF-8, CPF-3, CPB-6S, CPB, 96E, 96L, 96L-3, 90L-3, CPC, S-87, K-3, CF-80, CF-48, CF-32 , CP-150, CP-100, CP, HF-80, HF-48, HF-32, SC-120, SC-80, SC-60, SC-32, RA-3000, RA-15, RA-44 , GX-600, G-6S, G-3, G-150, G-100, G-48, G-30, G-50, SGP-100, SGP-50, SGP-25, manufactured by SEC Carbon Co., Ltd. SGP-15, SGP-5, SGP-1, SGO-100, SGO-50, SGO-25, SGO-15, SGO-5, SGO-1, SGX-100, SGX-50, SGX-25, SGX- 15, SGX-5, SGX-1, etc., 10099M, PB-99, etc. manufactured by Nishimura Graphite Co., Ltd. can be mentioned.
Commercially available carbon blacks include Ketjen Black EC-300J, EC-600JD, Lionite EC-200L, etc. manufactured by Lion Specialty Chemicals.
Examples include Furness Black # 2350, # 2600, # 3050B, # 3030B, # 3230B, # 3400B, etc. manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, and Denka Black HS-100, FX-35, etc. manufactured by Denka Corporation.
Examples of commercially available carbon nanotubes include VGCF-H and VGCF-X manufactured by Showa Denko KK.
Examples thereof include carbon nanotubes manufactured by Meijo Nanocarbon, NTP3003, NTP3021, NTP3121, NTP8012, NTP8022, NTP9012, NTP9112, etc., and TUBALL manufactured by OCSiAl.
Commercially available graphene-based carbons include graphene nanoplatelets xGnP-C-300, xGnP-C-500, xGnP-C-750, xGnP-M-5, xGnP-M-15, xGnP-M-25 manufactured by XGSciences. , XGnP-H-5, xGnP-H-15, xGnP-H-25 and the like, but are not limited thereto.
Among them, graphite is preferable as a commercially available carbon-based raw material from the viewpoint of conductivity and cost.

本発明におけるホウ素含有炭素材料を製造するための炭素系原料としては、無機炭素系原料だけでなく、熱処理後炭素粒子となる有機材料である有機炭素系原料も使用することができる。具体的な有機材料としては、フェノール系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアクリロニトリル系樹脂、ポリアニリン系樹脂、フェノールホルムアルデヒド樹脂系樹脂、ポリイミダゾール系樹脂、ポリピロール系樹脂、ポリベンゾイミダゾール系樹脂、メラミン系樹脂、ピッチ、コークス、褐炭、ポリカルボジイミド、バイオマス、タンパク質、フミン酸等やそれらの誘導体などが挙げられる。中でも黒鉛の原料としても使われるコークスやピッチの使用が好ましい。 As the carbon-based raw material for producing the boron-containing carbon material in the present invention, not only the inorganic carbon-based raw material but also the organic carbon-based raw material which is an organic material which becomes carbon particles after heat treatment can be used. Specific organic materials include phenol-based resin, polyimide-based resin, polyamide-based resin, polyamideimide-based resin, polyacrylonitrile-based resin, polyaniline-based resin, phenolformaldehyde resin-based resin, polyimidazole-based resin, polypyrrole-based resin, and poly. Examples thereof include benzoimidazole-based resins, melamine-based resins, pitch, coke, brown charcoal, polycarbodiimide, biomass, proteins, fumic acid and the like, and derivatives thereof. Of these, it is preferable to use coke or pitch, which is also used as a raw material for graphite.

<ホウ素を含む化合物>
次に、ホウ素含有炭素材料の製造に用いられるホウ素を含む化合物について説明する。ホウ素を含む化合物は、特に限定されるものではないが、炭化ホウ素、酸化ホウ素、窒化ホウ素、金属ホウ化物、ホウ素オキソ酸、ボラン、ホウ素含有有機化合物等が挙げられる。
具体的には、炭化ホウ素では、BC(B12)、B12(BC)等、
酸化ホウ素では、BCO、BCO、B22、B23 、B43、B45等、
窒化ホウ素では、BN等、
金属ホウ化物では、AlB、CoB、FeB、MgB、NiB、TiB等、
ホウ素オキソ酸では、オルトホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸等、
ボランでは、モノボラン、ジボラン、デカボラン等、
ホウ素含有有機化合物では、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル等のホウ酸エステル類、トリエチルボラン、トリフェニルボラン等の置換ボラン類、フェニルボロン酸、フェニルボロン酸エステル等のボロン酸類等が挙げられる。
<Compounds containing boron>
Next, a boron-containing compound used for producing a boron-containing carbon material will be described. The compound containing boron is not particularly limited, and examples thereof include boron carbide, boron oxide, boron nitride, metal boride, boronoxoic acid, borane, and a boron-containing organic compound.
Specifically, for boron carbide, B 4 C (B 12 C 3 ), B 12 C 2 (B 6 C), etc.
For boron oxide, BC 2 O, BCO 2 , B 2 O 2 , B 2 O 3 , B 4 O 3 , B 4 O 5, etc.
For boron nitride, BN, etc.
For metal borides, AlB 2 , CoB, FeB, MgB 2 , NiB, TiB 2, etc.
For boron oxo acid, orthoboric acid, metaboric acid, tetraboric acid, etc.
In Borane, Monoborane, Diborane, Decaborane, etc.
Examples of the boron-containing organic compound include borate esters such as trimethyl borate and triethyl borate, substituted boranes such as triethylborane and triphenylborane, and borane acids such as phenylboronic acid and phenylboronic acid ester.

<導電性組成物>
本発明の導電性組成物は、上述したホウ素含有炭素材料と、バインダー樹脂又は溶媒の少なくとも一方と、を含有するものである。導電性組成物は、異なる二種以上の炭素材料を併用してもよいし、必要に応じて導電助剤を含有してもよい。
<Conductive composition>
The conductive composition of the present invention contains the above-mentioned boron-containing carbon material and at least one of a binder resin or a solvent. The conductive composition may contain two or more different carbon materials in combination, or may contain a conductive auxiliary agent if necessary.

<バインダー樹脂>
バインダー樹脂としては、特に制限されず、例えば、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、アクリロニトリル系樹脂、アクリル系樹脂、ブタジエン系樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、EVA系樹脂、ポリフッ化ビニリデン系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、カルボキシメチルセルロース等のセルロース系樹脂等からなる群より選ばれる少なくとも1種類を含むことができる。
上記バインダー樹脂は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Binder resin>
The binder resin is not particularly limited, and is not particularly limited, for example, polyurethane resin, polyamide resin, acrylonitrile resin, acrylic resin, butadiene resin, polyvinyl resin, polyvinyl butyral resin, polyolefin resin, polyester resin, polystyrene. It may contain at least one selected from the group consisting of based resins, EVA resins, polyvinylidene fluoride resins, polytetrafluoroethylene resins, silicone resins, polyether resins, cellulose resins such as carboxymethyl cellulose and the like. can.
The binder resin may be used alone or in combination of two or more.

バインダー樹脂は、体積抵抗率、基材への密着性及び耐久性の観点から、ポリウレタン系、ポリアミド系樹脂及びポリエステル系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種を含むことが好ましく、ポリウレタン系樹脂を含むことがより好ましい。バインダー樹脂は、導電性組成物を基材上に印刷又は塗工した後、プレス又は熱プレス(以下、(熱)プレスと記載する)する際、適度に軟化又は流動するものが好ましい。このような樹脂を用いることにより、導電性組成物が塗膜の平面的なパターン形状を維持しつつ厚み方向に流動し、膜中の空隙が減少して炭素材料同士の接触点が増加するため、体積抵抗率が低い導電膜を得ることができる。 The binder resin preferably contains at least one selected from the group consisting of polyurethane-based, polyamide-based resin and polyester-based resin from the viewpoint of volume resistance, adhesion to the substrate and durability, and contains polyurethane-based resin. Is more preferable. The binder resin is preferably one that is appropriately softened or flows when the conductive composition is printed or coated on a substrate and then pressed or hot-pressed (hereinafter referred to as (heat) press). By using such a resin, the conductive composition flows in the thickness direction while maintaining the planar pattern shape of the coating film, the voids in the film are reduced, and the contact points between the carbon materials are increased. , A conductive film having a low volume resistivity can be obtained.

[ポリウレタン樹脂]
ポリウレンタン樹脂の合成方法は特に限定はされないが、例えば、ポリオール化合物(a)とジイソシアネート(b)とを反応させる方法、ポリオール化合物(a)とジイソシアネート(b)とカルボキシル基を有するジオール化合物(c)とを反応させてイソシアネート基を有するウレタンプレポリマー(d)を得る方法、前記ウレタンプレポリマー(d)にポリアミノ化合物(e)をさらに反応させる方法、あるいは前記3つの方法において、必要に応じて反応停止剤を反応させる方法、が挙げられる。
[Polyurethane resin]
The method for synthesizing the polyurentane resin is not particularly limited, but for example, a method for reacting the polyol compound (a) with the diisocyanate (b), the polyol compound (a), the diisocyanate (b), and the diol compound (c) having a carboxyl group. In a method of obtaining a urethane prepolymer (d) having an isocyanate group, a method of further reacting the urethane prepolymer (d) with the polyamino compound (e), or the above three methods, if necessary, the reaction is carried out. A method of reacting the terminator may be mentioned.

ポリオール化合物(a)としては、ポリウレタン樹脂を構成するポリオール成分として公知の各種のポリエーテルポリオール類、ポリエステルポリオール類、ポリカーボネートポリオール類、ポリブタジエングリコール類、又はこれらの混合物等が使用できる。 As the polyol compound (a), various known polyether polyols, polyester polyols, polycarbonate polyols, polybutadiene glycols, or a mixture thereof can be used as the polyol component constituting the polyurethane resin.

ポリエーテルポリオール類としては、例えば、酸化エチレン、酸化プロピレン、テトラヒドロフランなどの重合体又は共重合体が挙げられる。
ポリエステルポリオール類としては、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、1,4−ブチレンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ダイマージオール等の飽和及び不飽和の低分子ジオール類、ならびにn−ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル類のアルキルグリシジルエーテル類、バーサティック酸グリシジルエステル等のモノカルボン酸グリシジルエステル類と、アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマル酸、コハク酸、シュウ酸、マロン酸、グルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸等のジカルボン酸類、又はこれらの無水物類を、脱水縮合して得られるポリエステルポリオール類や、環状エステル化合物を開環重合して得られるポリエステルポリオール類が挙げられる。
ポリカーボネートポリオール類としては、(1)ジオール又はビスフェノールと炭酸エステルとの反応物、及び、(2)ジオール又はビスフェノールにアルカリの存在下でホスゲンとの反応物が使用できる。炭酸エステルとしては、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジフェニルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等が挙げられる。ジオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ブチレングリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、3,3’−ジメチロールヘプタン、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、オクタンジオール、ブチルエチルペンタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、シクロヘキサンジオール、3,9−ビス(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル、2,2,8,10−テトラオキソスピロ〔5.5〕ウンデカン等が挙げられる。また、ビスフェノールとしては、ビスフェノールAやビスフェノールF、ビスフェノール類にエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等のアルキレンオキサイドを付加させたビスフェノール類等が挙げられる。
Examples of the polyether polyols include polymers or copolymers of ethylene oxide, propylene oxide, tetrahydrofuran and the like.
Examples of the polyester polyols include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, pentanediol, 3-methyl-1, Saturated and unsaturated low molecular weight diols such as 5-pentanediol, hexanediol, octanediol, 1,4-butylenediol, diethyleneglycol, triethyleneglycol, dipropyleneglycol, dimerdiol, and n-butylglycidyl ether, 2 -Alkyl glycidyl ethers of ethylhexyl glycidyl ethers, monocarboxylic acid glycidyl esters such as versatic acid glycidyl esters, adipic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, maleic acid, fumaric acid, succinic acid, oxalic acid, Dicarboxylic acids such as malonic acid, glutaric acid, pimelli acid, oxalic acid, azelaic acid, and sebacic acid, or anhydrides thereof are dehydrated and condensed to obtain polyester polyols or cyclic ester compounds by ring-opening polymerization. Examples thereof include the obtained polyester polyols.
As the polycarbonate polyols, (1) a reaction product of diol or bisphenol and carbonic acid ester, and (2) a reaction product of diol or bisphenol with phosgene in the presence of alkali can be used. Examples of the carbonic acid ester include dimethyl carbonate, diethyl carbonate, diphenyl carbonate, ethylene carbonate, propylene carbonate and the like. Examples of the diol include ethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, butylene glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, and 3,3'-. Dimethylol heptane, polyoxyethylene glycol, polyoxypropylene glycol, propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nonane Diol, Neopentyl Glycol, Octanediol, Butylethylpentanediol, 2-Ethyl-1,3-Hexanediol, Cyclohexanediol, 3,9-Bis (1,1-dimethyl-2-hydroxyethyl, 2,2,8) , 10-Tetraoxospiro [5.5] undecane and the like. Examples of the bisphenol include bisphenol A and bisphenol F, and bisphenols obtained by adding alkylene oxides such as ethylene oxide and propylene oxide to bisphenols. Be done.

上記ポリオール化合物の数平均分子量(Mn)は、導電性組成物を製造する際のポリウレタン樹脂の溶解性、形成される導電膜の耐久性や基材に対する接着強度等を考慮して適宜決定されるが、通常は580〜8,000の範囲が好ましく、より好ましくは1,000〜5,000の範囲である。
上記ポリオール化合物は、単独で用いても、2種類以上併用してもよい。更に、ポリウレタン樹脂の性能が失われない範囲内で、上記ポリオール化合物の一部を低分子ジオール類、例えば前記ポリオール化合物の製造に用いられる各種低分子ジオールに替えることもできる。
The number average molecular weight (Mn) of the polyol compound is appropriately determined in consideration of the solubility of the polyurethane resin in producing the conductive composition, the durability of the conductive film formed, the adhesive strength to the substrate, and the like. However, it is usually preferably in the range of 580 to 8,000, more preferably in the range of 1,000 to 5,000.
The above-mentioned polyol compound may be used alone or in combination of two or more. Further, as long as the performance of the polyurethane resin is not lost, a part of the polyol compound can be replaced with low molecular weight diols, for example, various low molecular weight diols used for producing the polyol compound.

ジイソシアネート化合物(b)としては、芳香族ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート、脂環族ジイソシアネート、又はこれらの混合物を使用できる。好ましくは脂環族ジイソシアネートであり、より好ましくはイソホロンジイソシアネートである。芳香族ジイソシアネートとしては、1,5−ナフチレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、4,4′−ベンジルイソシアネート、ジアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、テトラアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等が挙げられる。 As the diisocyanate compound (b), an aromatic diisocyanate, an aliphatic diisocyanate, an alicyclic diisocyanate, or a mixture thereof can be used. It is preferably an alicyclic diisocyanate, and more preferably an isophorone diisocyanate. Examples of the aromatic diisocyanate include 1,5-naphthylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diphenyldimethylmethane diisocyanate, 4,4'-benzyl isocyanate, dialkyldiphenylmethane diisocyanate, tetraalkyldiphenylmethane diisocyanate, and 1, , 3-Phenylene diisocyanate, 1,4-Phenylene diisocyanate, Tolylene diisocyanate, Xylylene diisocyanate and the like.

脂肪族ジイソシアネートとしては、例えば、ブタン−1,4−ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートが挙げられる。
脂環族ジイソシアネートとしては、例えば、シクロヘキサン−1,4−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアナートメチル、ビス(4−イソシアネートシクロヘキシル)メタン、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンジイソシアネートが挙げられる。
Examples of the aliphatic diisocyanate include butane-1,4-diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate.
Examples of the alicyclic diisocyanate include cyclohexane-1,4-diisocyanate, isophorone diisocyanate, norbornane diisocyanatomethyl, bis (4-isocyanatecyclohexyl) methane, 1,3-bis (isocyanatemethyl) cyclohexane, and methylcyclohexanediisocyanate. Can be mentioned.

カルボキシル基を有するジオール化合物(c)としては、例えば、ジメチロール酢酸、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸、ジメチロールペンタン酸等のジメチロールアルカン酸、ジヒドロキシコハク酸、ジヒドロキシ安息香酸が挙げられる。特に反応性、溶解性の点からジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸が好ましい。
ポリオール化合物(a)とジイソシアネート(b)とカルボキシル基を有するジオール化合物(c)とを反応させ、イソシアネート基を有するウレタンプレポリマー(d)を得る際の条件は、イソシアネート基を過剰にすればよく、その他は特に制限されないが、イソシアネート基/水酸基の当量比が1.05/1〜3/1の範囲内であることが好ましい。更に好ましくは1.2/1〜2/1である。また、反応は通常常温〜150℃の間で行なわれ、更に製造時間、副反応の制御の面から好ましくは60〜120℃の間で行なわれる。
Examples of the diol compound (c) having a carboxyl group include dimethylol alkanoic acid such as dimethylol acetic acid, dimethylol propionic acid, dimethylol butanoic acid and dimethylol pentanoic acid, dihydroxysuccinic acid and dihydroxybenzoic acid. In particular, dimethylolpropionic acid and dimethylolbutanoic acid are preferable from the viewpoint of reactivity and solubility.
The condition for reacting the polyol compound (a) with the diisocyanate (b) and the diol compound (c) having a carboxyl group to obtain the urethane prepolymer (d) having an isocyanate group may be an excess of the isocyanate group. , Others are not particularly limited, but the isocyanate group / hydroxyl group equivalent ratio is preferably in the range of 1.05 / 1-3 / 1. More preferably, it is 1.2 / 1 to 2/1. The reaction is usually carried out between room temperature and 150 ° C., and is preferably carried out between 60 and 120 ° C. in terms of production time and control of side reactions.

ポリアミノ化合物(e)は、鎖延長剤として働くものであり、例えば、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、イソホロンジアミン、ジシクロヘキシルメタン−4,4′−ジアミン、ノルボルナンジアミンの他、2−(2−アミノエチルアミノ)エタノール、2−ヒドロキシエチルエチレンジアミン、2−ヒドロキシエチルプロピレンジアミン、ジ−2−ヒドロキシエチルエチレンジアミン、ジ−2−ヒドロキシプロピルエチレンジアミン等の水酸基を有するアミン類を使用することができる。なかでも、イソホロンジアミンが好適に使用される。 The polyamino compound (e) acts as a chain extender, for example, ethylenediamine, propylenediamine, hexamethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, isophoronediamine, dicyclohexylmethane-4,4'-diamine, norbornandiamine and others. , 2- (2-Aminoethylamino) ethanol, 2-hydroxyethylethylenediamine, 2-hydroxyethylpropylenediamine, di-2-hydroxyethylethylenediamine, di-2-hydroxypropylethylenediamine and other amines with hydroxyl groups are used. be able to. Among them, isophorone diamine is preferably used.

イソシアネート基を有するウレタンプレポリマー(d)とポリアミノ化合物(e)を反応させてポリウレタン樹脂を合成する際、得られるポリウレタン樹脂の分子量を調整する目的で反応停止剤を併用することができる。反応停止剤としては、ジ−n−ブチルアミン等のジアルキルアミン類、ジエタノールアミン等のジアルカノールアミン類や、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類が使用できる。 When synthesizing a polyurethane resin by reacting a urethane prepolymer (d) having an isocyanate group with a polyamino compound (e), a reaction terminator can be used in combination for the purpose of adjusting the molecular weight of the obtained polyurethane resin. As the reaction terminator, dialkylamines such as di-n-butylamine, dialkanolamines such as diethanolamine, and alcohols such as ethanol and isopropyl alcohol can be used.

イソシアネート基を有するウレタンプレポリマー(d)と、ポリアミノ化合物(e)、及び必要に応じて反応停止剤を反応させる際の条件は特に制限されないが、ウレタンプレポリマーの両末端に有する遊離のイソシアネート基を1当量とした場合、ポリアミノ化合物(e)及び反応停止剤中のアミノ基の合計当量が0.5〜1.3の範囲内であることが好ましい。更に好ましくは0.8〜0.995の範囲内である。
ポリウレタン樹脂の重量平均分子量は、塗工性や取扱い性の観点から、5,000〜200,000の範囲が好ましい。
The conditions for reacting the urethane prepolymer (d) having an isocyanate group with the polyamino compound (e) and, if necessary, a reaction terminator are not particularly limited, but the free isocyanate groups at both ends of the urethane prepolymer are not particularly limited. When 1 equivalent is used, the total equivalent of the polyamino compound (e) and the amino group in the reaction terminator is preferably in the range of 0.5 to 1.3. More preferably, it is in the range of 0.8 to 0.995.
The weight average molecular weight of the polyurethane resin is preferably in the range of 5,000 to 200,000 from the viewpoint of coatability and handleability.

[ポリアミド樹脂]
ポリアミド樹脂は、二塩基酸とジアミンの重縮合、アミノカルボン酸の重縮合、或いはラクタムの開環重合などの各種反応で得られるアミド結合を有する高分子の総称であり、各種の変性ポリアミドをはじめ、一部水素添加された反応物で製造されたものであり、他のモノマーが一部共重合された重合体、或いは各種添加剤などの他の物質が混合されたものを用いることができる。
ポリアミド樹脂は、特に限定されないが、ダイマー酸を主成分とする二塩基酸とポリアミン類とを縮合重合させて得られるダイマー酸変性ポリアミド樹脂が好ましい。ダイマー酸変性ポリアミド樹脂を製造する際のダイマー酸としては、トール油脂肪酸、大豆油脂肪酸などに含まれる天然の一塩基性不飽和脂肪酸を重合したダイマー酸が工業的に広く用いられるが、原理的には、飽和脂肪族、不飽和脂肪族、脂環式、或いは芳香族などの各種ジカルボン酸などであってもよい。当該ダイマー酸の市販品としては、ハリダイマー200、300(ハリマ化成社製)、バーサダイム228、216、エンポール1018、1019、1061、1062(コグニス社製)などが挙げられる。さらに、水素添加されたダイマー酸も使用でき、水添ダイマー酸の市販品としてはプリポール1009(クローダジャパン株式会社製)、エンポール1008(コグニス社製)などが挙げられる。
上記ダイマー酸以外に、適当な柔軟性を有するポリアミド樹脂にするため、二塩基酸として各種のジカルボン酸を用いることができる。ジカルボン酸としては、具体的には、シュウ酸、マロン酸、(無水)コハク酸、(無水)マレイン酸、グルタル酸、アジピン酸、ビメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ナフタレンジカルボン酸、1,3−又は1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,18−オクタデカンジカルボン酸、1,16−ヘキサデカンジカルボン酸などが用いられる。
[Polyamide resin]
Polyamide resin is a general term for polymers having an amide bond obtained by various reactions such as polycondensation of dibasic acid and diamine, polycondensation of aminocarboxylic acid, or ring-opening polymerization of lactam, and includes various modified polyamides. , It is produced by a partially hydrogenated reaction product, and a polymer in which other monomers are partially copolymerized, or a polymer in which other substances such as various additives are mixed can be used.
The polyamide resin is not particularly limited, but a dimer acid-modified polyamide resin obtained by condensation polymerization of a dibasic acid containing dimer acid as a main component and polyamines is preferable. Dimer acid As the dimer acid for producing the modified polyamide resin, dimer acid obtained by polymerizing natural monobasic unsaturated fatty acids contained in tall oil fatty acid, soybean oil fatty acid, etc. is widely used industrially, but in principle. May be various dicarboxylic acids such as saturated fatty acid, unsaturated fatty acid, alicyclic, or aromatic. Examples of commercially available products of the dimer acid include Hari Dimer 200, 300 (manufactured by Harima Chemicals, Inc.), Versa Dime 228, 216, Empole 1018, 1019, 1061, 1062 (manufactured by Cognis Co., Ltd.) and the like. Further, hydrogenated dimer acid can also be used, and examples of commercially available hydrogenated dimer acid include Prepole 1009 (manufactured by Croda Japan Co., Ltd.) and Empole 1008 (manufactured by Cognis Co., Ltd.).
In addition to the dimer acid, various dicarboxylic acids can be used as the dibasic acid in order to obtain a polyamide resin having appropriate flexibility. Specific examples of the dicarboxylic acid include oxalic acid, malonic acid, (anhydrous) succinic acid, (anhydrous) maleic acid, glutaric acid, adipic acid, bimeric acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, terephthalic acid, and isophthalic acid. Acids, phthalic acids, naphthalenedicarboxylic acids, 1,3- or 1,4-cyclohexanedicarboxylic acids, 1,18-octadecanedicarboxylic acids, 1,16-hexadecanedicarboxylic acids and the like are used.

さらに、二塩基酸としてフェノール性水酸基を有するものも使用できる。フェノール性水酸基を有する二塩基酸を使用することによって、ポリアミド樹脂の側鎖にフェノール性水酸基を導入することができ、硬化剤との反応に利用することができる。
フェノール性水酸基を有する二塩基酸としては、2−ヒドロキシイソフタル酸、4−ヒドロキシイソフタル酸、5−ヒドロキシイソフタル酸等のヒドロキシイソフタル酸、2,5−ジヒドロキシイソフタル酸、2,4−ジヒドロキシイソフタル酸、4,6−ジヒドロキシイソフタル酸等のジヒドロキシイソフタル酸、2−ヒドロキシテレフタル酸、2,3−ジヒドロキシテレフタル酸、2,6−ジヒドロキシテレフタル酸等のジヒドロキシテレフタル酸、4−ヒドロキシフタル酸、3−ヒドロキシフタル酸等のヒドロキシフタル酸、3,4−ジヒドロキシフタル酸、3,5−ジヒドロキシフタル酸、4,5−ジヒドロキシフタル酸、3,6−ジヒドロキシフタル酸等のジヒドロキシフタル酸などが挙げられる。
更にこれらの酸無水物や例えば多塩基酸メチルエステルのようなエステル誘導体なども挙げられる。
なかでも、共重合性、入手の容易さなどの点から、5−ヒドロキシイソフタル酸が好ましい。
Further, a dibasic acid having a phenolic hydroxyl group can also be used. By using a dibasic acid having a phenolic hydroxyl group, the phenolic hydroxyl group can be introduced into the side chain of the polyamide resin and can be used for the reaction with the curing agent.
Examples of the dibasic acid having a phenolic hydroxyl group include hydroxyisophthalic acid such as 2-hydroxyisophthalic acid, 4-hydroxyisophthalic acid and 5-hydroxyisophthalic acid, 2,5-dihydroxyisophthalic acid and 2,4-dihydroxyisophthalic acid. Dihydroxyisophthalic acid such as 4,6-dihydroxyisophthalic acid, 2-hydroxyterephthalic acid, 2,3-dihydroxyterephthalic acid, dihydroxyterephthalic acid such as 2,6-dihydroxyterephthalic acid, 4-hydroxyphthalic acid, 3-hydroxyphthalic acid Examples thereof include hydroxyphthalic acid such as acid, dihydroxyphthalic acid such as 3,4-dihydroxyphthalic acid, 3,5-dihydroxyphthalic acid, 4,5-dihydroxyphthalic acid and 3,6-dihydroxyphthalic acid.
Further, these acid anhydrides and ester derivatives such as polybasic acid methyl esters can also be mentioned.
Of these, 5-hydroxyisophthalic acid is preferable from the viewpoint of copolymerizability and easy availability.

さらに、加熱時に適当な流動性を有するポリアミド樹脂にするため、必要に応じて各種のモノカルボン酸を用いる。モノカルボン酸としては、具体的には、プロピオン酸、酢酸、カプリル酸(オクタン酸)、ステアリン酸、オレイン酸などが用いられる。
上記ダイマー酸変性ポリアミド樹脂を製造する際の反応物としてのポリアミン類は、例えば、脂肪族、脂環式、芳香族などの各種ジアミン、トリアミン、ポリアミンなどである。
上記ジアミンの具体例としては、エチレンジアミン、プロパンジアミン、ブタンジアミン、トリエチレンジアミン、テトラエチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、p−又はm−キシレンジアミン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)、2,2−ビス−(4−シクロヘキシルアミン)、ポリグリコールジアミン、イソホロンジアミン、1,2−、1,3−又は1,4−シクロヘキサンジアミン、1,4−ビス−(2’−アミノエチル)ベンゼン、N−エチルアミノピペラジン、ピペラジンなどが挙げられる。
また、トリアミンにはジエチレントリアミンなどが挙げられ、ポリアミンにはトリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミンなどが挙げられる。さらに、二量体化された脂肪族のニトリル基を変換して水素還元して得られたダイマージアミンも使用することができる。
Further, various monocarboxylic acids are used as needed in order to obtain a polyamide resin having appropriate fluidity when heated. Specifically, as the monocarboxylic acid, propionic acid, acetic acid, caprylic acid (octanoic acid), stearic acid, oleic acid and the like are used.
The polyamines as a reaction product in producing the dimer acid-modified polyamide resin are, for example, various diamines such as aliphatic, alicyclic and aromatic, triamine and polyamine.
Specific examples of the above diamines include ethylenediamine, propanediamine, butanediamine, triethylenediamine, tetraethylenediamine, hexamethylenediamine, p- or m-xylene diamine, 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine), and 2,2-bis. -(4-Cyclohexylamine), polyglycoldiamine, isophoronediamine, 1,2-, 1,3- or 1,4-cyclohexanediamine, 1,4-bis- (2'-aminoethyl) benzene, N-ethyl Amino piperazine, piperazine and the like can be mentioned.
Further, examples of the triamine include diethylenetriamine, and examples of the polyamine include triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, and pentaethylenehexamine. Further, a dimer diamine obtained by converting a dimerized aliphatic nitrile group and reducing it with hydrogen can also be used.

また、ポリアミン化合物としては、炭素数20〜48の環状又は非環状の炭化水素基を有する多塩基酸化合物のカルボシキル基をアミノ基に転化した化合物が挙げられ、市販品の例としては例えば、クローダジャパン株式会社製の「プリアミン1071」「プリアミン1073」「プリアミン1074」「プリアミン1075」や、コグニスジャパン株式会社製の「バーサミン551」などが挙げられる。
ジアミンにはアルカノールアミンを併用してもよい。アルカノールアミンにはエタノールアミン、プロパノールアミン、ジエタノールアミン、ブタノールアミン、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール、2−(2−アミノエトキシ)エタノール等が挙げられる。また、酸素を骨格に有するポリエーテルジアミンを用いることができる。このポリエーテルは一般式 HN−R−(RO)−R−NH (式中、nは2〜100であり、R、Rは炭素原子数が1〜14個であるアルキル基又は脂環式炭化水素基であり、Rは炭素原子数が1〜10個であるアルキル基又は脂環式炭化水素基である。アルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。)で表すことができる。このエーテルジアミンとしてはポリオキシプロピレンジアミン等が挙げられ、市販品としてはジェファーミン類(サンテクノケミカル社製)がある。また、ビス−(3−アミノプロピル)−ポリテトラヒドロフランも挙げることができる。
上記ポリアミン類とダイマー酸或いは各種ジカルボン酸とは常法により加熱縮合され、脱水を伴ったアミド化工程によりダイマー酸変性ポリアミド樹脂をはじめとする各種ポリアミド樹脂が製造される。一般に、反応温度は100〜300℃程度、反応時間は1〜8時間程度である。
Examples of the polyamine compound include a compound obtained by converting a carbosyl group of a polybasic acid compound having a cyclic or acyclic hydrocarbon group having 20 to 48 carbon atoms into an amino group, and examples of commercially available products include croaders. Examples thereof include "Priamine 1071", "Priamine 1073", "Priamine 1074" and "Priamine 1075" manufactured by Japan Co., Ltd. and "Versamine 551" manufactured by Cognis Japan Co., Ltd.
Alkanolamine may be used in combination with the diamine. Examples of alkanolamines include ethanolamine, propanolamine, diethanolamine, butanolamine, 2-amino-2-methyl-1-propanol, 2- (2-aminoethoxy) ethanol and the like. Further, a polyether diamine having oxygen in its skeleton can be used. This polyether has the general formula H 2 N-R 1- (RO) n- R 2- NH 2 (in the formula, n is 2 to 100, and R 1 and R 2 have 1 to 14 carbon atoms. It is an alkyl group or an alicyclic hydrocarbon group, and R is an alkyl group or an alicyclic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. The alkyl group may be linear or branched. It may be expressed by). Examples of this ether diamine include polyoxypropylene diamine and the like, and commercial products include Jeffamines (manufactured by San Techno Chemical Co., Ltd.). Further, bis- (3-aminopropyl) -polytetrahydrofuran can also be mentioned.
The polyamines and dimer acid or various dicarboxylic acids are heat-condensed by a conventional method, and various polyamide resins including dimer acid-modified polyamide resin are produced by an amidation step accompanied by dehydration. Generally, the reaction temperature is about 100 to 300 ° C., and the reaction time is about 1 to 8 hours.

[ポリエステル樹脂]
ポリエステル樹脂は、単量体として多価カルボン酸と多価アルコールより構成される重合体である。ポリエステル樹脂は、公知のものが採用でき、具体的には、樹脂の凝集力の確保の点から、重量平均分子量が1,000〜100,000であることが好ましい。また、密着の観点から、ガラス転移温度が−10℃〜200℃であることが好ましい。
多価カルボン酸成分としては、例えば、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸、不飽和ジカルボン酸、3価以上のカルボン酸等が挙げられ、これらの中から1種又は2種以上を選択し使用できる。一方、多価アルコール成分としては、脂肪族グリコール、エーテルグリコール類、3価以上のポリアルコール等が挙げあられ、これらの中から1種、又はそれ以上を選び使用できる。
ポリエステル樹脂の市販品としてはバイロン(東洋紡株式会社製、「バイロン」は登録商標)、ポリエスター(日本合成化学工業株式会社製、「ポリエスター」は登録商標)、テスラック(日立化成ポリマー株式会社製、「テスラック」は登録商標)などが挙げられる。
[Polyester resin]
The polyester resin is a polymer composed of a polyvalent carboxylic acid and a polyhydric alcohol as a monomer. As the polyester resin, known ones can be adopted, and specifically, from the viewpoint of ensuring the cohesive force of the resin, the weight average molecular weight is preferably 1,000 to 100,000. Further, from the viewpoint of adhesion, the glass transition temperature is preferably −10 ° C. to 200 ° C.
Examples of the polyvalent carboxylic acid component include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, unsaturated dicarboxylic acids, trivalent or higher carboxylic acids, and one or more of these are selected and used. can. On the other hand, examples of the polyhydric alcohol component include aliphatic glycols, ether glycols, and trihydric or higher polyalcohols, and one or more of these can be selected and used.
Commercially available polyester resins include Byron (manufactured by Toyobo Co., Ltd., "Byron" is a registered trademark), Polyester (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., "Polyester" is a registered trademark), and Tesslac (manufactured by Hitachi Chemical Polymer Co., Ltd.). , "Teslac" is a registered trademark).

バインダー樹脂としては、加熱時の流動性、体積抵抗率、基材への密着性及び耐久性の観点から、イソシアネート基と反応可能な官能基を有する、ポリエーテル、ポリエステル、ポリカーボネート及びポリブタジエンからなる群より選ばれる少なくとも1種の構造を側鎖に有するビニル系重合体を含むことも好ましい。側鎖の導入方法は特に限定されず、各種の合成方法により得ることができる。 The binder resin is a group consisting of polyether, polyester, polycarbonate and polybutadiene having a functional group capable of reacting with an isocyanate group from the viewpoints of fluidity at the time of heating, volume resistance, adhesion to a substrate and durability. It is also preferable to include a vinyl-based polymer having at least one of the above-selected structures in the side chain. The method for introducing the side chain is not particularly limited, and it can be obtained by various synthetic methods.

イソシアネート基と反応可能な官能基としては、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基、N−メチロール基、N−アルコキシメチル基等が挙げられるが、反応性の点で水酸基が好適である。
イソシアネート基と反応可能な官能基は、ビニル系重合体の側鎖又は主鎖に導入することができ、導入方法は特に限定されず各種の合成方法により導入することができる。高い強靱性、耐久性を必要とする用途に用いる場合には、ビニル系重合体の主鎖に直接、イソシアネートと反応可能な官能基を導入することが望ましく、これにより樹脂の架橋密度を向上できる。
Examples of the functional group capable of reacting with the isocyanate group include a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, an epoxy group, an N-methylol group, an N-alkoxymethyl group and the like, and a hydroxyl group is preferable in terms of reactivity.
The functional group capable of reacting with the isocyanate group can be introduced into the side chain or the main chain of the vinyl polymer, and the introduction method is not particularly limited and can be introduced by various synthetic methods. When used in applications that require high toughness and durability, it is desirable to introduce a functional group capable of reacting with isocyanate directly into the main chain of the vinyl-based polymer, which can improve the crosslink density of the resin. ..

ビニル系重合体のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは5,000〜500,000、更に好ましくは10,000〜100,000である。重量平均分子量が500,000以下の場合には、溶媒への溶解性が向上し、5,000以上の場合には、(熱)プレス後に十分な塗膜強度が得られる。 The polystyrene-equivalent weight average molecular weight of the vinyl polymer is preferably 5,000 to 500,000, more preferably 10,000 to 100,000. When the weight average molecular weight is 500,000 or less, the solubility in a solvent is improved, and when it is 5,000 or more, sufficient coating film strength is obtained after (heat) pressing.

バインダー樹脂は、バインダー樹脂が基材に適用された後に、硬化(架橋)反応を受ける、硬化性樹脂を用いることもできる。
硬化性樹脂に用いられる架橋剤としては、特に限定されないが、2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物等が挙げられる。ポリイソシアネート化合物としては特に限定されないが、屋外で使用する場合には、塗膜が経時で劣化することを防ぐために、脂環族又は脂肪族の化合物のみを用いることが好ましい。
脂環族ポリイソシアネート化合物としては、例えば、イソホロンジイソシアネート、水添トリレンジイソシアネート、水添4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートなどが挙げられる。
脂肪族ポリイソシアネート化合物としては、例えば、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートなどが挙げられる。
芳香族ポリイソシアネート化合物としては、例えば、ジフェニルメタンジイソシアネート、トルイレンジイソシアネート、ナフチレン−1,5−ジイソシアネート、o−キシレンジイソシアネート、m−キシレンジイソシアネート、p−キシレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネートなどが挙げられる。
ポリイソシアネート化合物としては、上記化合物とグリコール類又はジアミン類との両末端イソシアネートアダクト体、ビウレット変性体、イソシアヌレート変性体を用いても構わない。
特に、ポリイソシアネート化合物がイソシアヌレート変性体、特にイソシアヌレート環含有トリイソシアネートを含む場合には、熱プレス後に十分な塗膜強度が得ることができるため、好ましい。イソシアヌレート環含有トリイソシアネートとして具体的には、イソシアヌレート変性イソホロンジイソシアネート(例えば、住友バイエルウレタン株式会社製のデスモジュールZ4470)、イソシアヌレート変性ヘキサメチレンジイソシアネート(例えば、住友バイエルウレタン株式会社製のスミジュールN3300)、イソシアヌレート変性トルイレンジイソシアネート(例えば、住友バイエルウレタン株式会社製のスミジュールFL−2、FL−3、FL−4、HLBA)が挙げられる。
ポリイソシアネート化合物は、要求性能に応じて、バインダー樹脂官能基の総数に対して、イソシアネート基の総数が、好ましくは0.1倍〜5.0倍、更に好ましくは0.5倍〜3.0倍、特に好ましくは0.8〜2.0倍となるような比率で、1種、又は2種以上を混合して用いることができる。
As the binder resin, a curable resin that undergoes a curing (crosslinking) reaction after the binder resin is applied to the substrate can also be used.
The cross-linking agent used for the curable resin is not particularly limited, and examples thereof include polyisocyanate compounds having two or more isocyanate groups. The polyisocyanate compound is not particularly limited, but when used outdoors, it is preferable to use only an alicyclic or aliphatic compound in order to prevent the coating film from deteriorating over time.
Examples of the alicyclic polyisocyanate compound include isophorone diisocyanate, hydrogenated tolylene diisocyanate, hydrogenated 4,4'-diphenylmethane diisocyanate and the like.
Examples of the aliphatic polyisocyanate compound include trimethylhexamethylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate.
Examples of the aromatic polyisocyanate compound include diphenylmethane diisocyanate, toluylene diisocyanate, naphthylene-1,5-diisocyanate, o-xylene diisocyanate, m-xylene diisocyanate, p-xylene diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, and polymethylene polyphenyl. Examples include isocyanate.
As the polyisocyanate compound, a bi-terminal isocyanate adduct, a biuret-modified product, or an isocyanurate-modified product of the above compound and glycols or diamines may be used.
In particular, when the polyisocyanate compound contains an isocyanurate modified product, particularly an isocyanurate ring-containing triisocyanate, sufficient coating film strength can be obtained after hot pressing, which is preferable. Specific examples of the isocyanurate ring-containing triisocyanate include isocyanurate-modified isophorone diisocyanate (for example, Death Module Z4470 manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.) and isocyanurate-modified hexamethylene diisocyanate (for example, Sumijur manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.). N3300), isocyanurate-modified tolylene diisocyanate (for example, Sumijour FL-2, FL-3, FL-4, HLBA manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.).
The total number of isocyanate groups of the polyisocyanate compound is preferably 0.1 to 5.0 times, more preferably 0.5 to 3.0 times, based on the total number of binder resin functional groups, depending on the required performance. One kind or a mixture of two or more kinds can be used at a ratio of times, particularly preferably 0.8 to 2.0 times.

バインダー樹脂は、溶剤に溶解する溶解性樹脂、及び溶剤中で溶解せずに、微粒子の状態で存在する分散型樹脂微粒子(エマルション)のいずれの形態であってもよい。 The binder resin may be in the form of either a soluble resin that dissolves in a solvent or a dispersed resin fine particles (emulsion) that does not dissolve in the solvent and exists in the state of fine particles.

分散型樹脂微粒子の粒子構造は、多層構造、いわゆるコアシェル粒子にすることもできる。例えば、コア部、又はシェル部に官能基を有する単量体を主に重合させた樹脂を局在化させたり、コアとシェルによってTgや組成に差を設けたりすることにより、硬化性、乾燥性、成膜性、バインダーの機械強度を向上させることができる。樹脂微粒子の平均粒子径は、結着性や粒子の安定性の観点から、10〜1000nmであることが好ましく、10〜300nmであることが好ましい。また、1μmを超えるような粗大粒子が多く含有されるようになると粒子の安定性が損なわれるので、1μmを超える粗大粒子は多くとも5%以下であることが好ましい。
なお、上記の平均粒子径とは、体積平均粒子径のことを表し、動的光散乱法により測定できる。動的光散乱法による平均粒子径の測定は、以下のようにして行うことができる。樹脂微粒子の固形分に応じて、分散媒と同じ分散液で200〜1000倍に希釈しておく。該希釈分散液約5mlを測定装置(日機装社製ナノトラック)のセルに注入し、サンプルに応じた分散媒及び樹脂の屈折率条件を入力後、測定を行う。この時得られた体積粒子径分布データ(ヒストグラム)のピークによって測定することができる。
分散型樹脂微粒子としては、架橋型樹脂微粒子を含むことが好ましい。架橋型樹脂微粒子とは、内部架橋構造(三次元架橋構造)を有する樹脂微粒子を示し、粒子内部で架橋していることが重要である。また、架橋型樹脂微粒子が特定の官能基を含有することにより、基材との密着性に寄与することができる。さらには架橋構造や官能基の量を調整することで、優れた耐久性の塗膜を得ることができる。
The particle structure of the dispersed resin fine particles may be a multilayer structure, so-called core-shell particles. For example, by localizing a resin in which a monomer having a functional group is mainly polymerized in the core portion or the shell portion, or by providing a difference in Tg and composition between the core and the shell, curability and drying are performed. It is possible to improve the property, film forming property, and mechanical strength of the binder. The average particle size of the resin fine particles is preferably 10 to 1000 nm, preferably 10 to 300 nm, from the viewpoint of binding properties and particle stability. Further, if a large amount of coarse particles exceeding 1 μm is contained, the stability of the particles is impaired, so that the amount of coarse particles exceeding 1 μm is preferably 5% or less at most.
The above average particle size represents a volume average particle size and can be measured by a dynamic light scattering method. The average particle size can be measured by the dynamic light scattering method as follows. Dilute 200 to 1000 times with the same dispersion as the dispersion medium, depending on the solid content of the resin fine particles. Approximately 5 ml of the diluted dispersion is injected into a cell of a measuring device (Nanotrack manufactured by Nikkiso Co., Ltd.), the refractive index conditions of the dispersion medium and the resin corresponding to the sample are input, and then the measurement is performed. It can be measured by the peak of the volume particle size distribution data (histogram) obtained at this time.
The dispersed resin fine particles preferably include crosslinked resin fine particles. The crosslinked resin fine particles indicate resin fine particles having an internal crosslinked structure (three-dimensional crosslinked structure), and it is important that the particles are crosslinked inside the particles. Further, the crosslinked resin fine particles containing a specific functional group can contribute to the adhesion to the substrate. Furthermore, by adjusting the crosslinked structure and the amount of functional groups, a coating film having excellent durability can be obtained.

環境負荷などの観点では、水系の溶剤、好ましくは水中で使用することができる水溶性樹脂及び水性樹脂微粒子が好ましい。また、導電性組成物のスラリー安定性や塗工性等の観点から、水溶性樹脂及び水性樹脂微粒子を併用することがさらに好ましい。 From the viewpoint of environmental load and the like, a water-based solvent, preferably a water-soluble resin and water-based resin fine particles that can be used in water are preferable. Further, from the viewpoint of slurry stability and coatability of the conductive composition, it is more preferable to use the water-soluble resin and the water-based resin fine particles in combination.

[水溶性樹脂]
水溶性樹脂とは、25℃の水99g中に樹脂1gを入れて撹拌し、25℃で24時間放置した後、分離・析出せずに水中で完全に溶解可能な樹脂である。水溶性樹脂には、炭素材料の分散性を高める効果があるため、少ない樹脂量で安定な組成物が得られる。
水溶性樹脂は、アニオン性樹脂、カチオン性樹脂、アニオン性とカチオン性の性質を併せ持つ両性樹脂、またそれ以外のノニオン性樹脂に大別され、更にその樹脂が複数の単量体から構成されてもよい。また、水溶性樹脂は1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。
アニオン性樹脂としては、例えば、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基及びそれらを一部あるいは全てを中和した骨格を含有する樹脂が挙げられる。例示すると、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、2−スルホエチルメタクリレート、2−メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェートなどの重合性単量体の単独重合物、又は他の重合性単量体との共重合物、カルボキシメチルセルロース、及びそれらのアルカリ中和物等が挙げられる。
カチオン性樹脂としては、例えば、環状を含むアミノ基及びアミノ基の一部あるいは全て中和した骨格や4級アンモニウム塩を含有する樹脂等が挙げられる。例示すると、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチル(メタ)アクリレート、ビニルピリジンなどの重合性単量体の単独重合物、又は他の重合性単量体との共重合物及びそれらの酸中和物が挙げられる。
両性樹脂としては、例えば、前記アニオン性骨格と前記カチオン性骨格を共に含有する樹脂が挙げられる。例示すると、スチレン−マレイン酸−N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレートの共重合物などが挙げられる。
ノニオン性樹脂は、前記アニオン性、カチオン性及び両性樹脂以外の樹脂である。例示すると、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリアクリルアミド、ポリ−N−ビニルアセトアミド、ポリアルキレングリコールなどが挙げられる。
水溶性樹脂の分子量は特に限定されないが、好ましくは質量平均分子量が5,000〜2,500,000である。質量平均分子量(Mw)とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)におけるポリエチレンオキサイド換算分子量を示す。
[Water-soluble resin]
The water-soluble resin is a resin that can be completely dissolved in water without separation and precipitation after 1 g of the resin is put in 99 g of water at 25 ° C., stirred, and left at 25 ° C. for 24 hours. Since the water-soluble resin has the effect of enhancing the dispersibility of the carbon material, a stable composition can be obtained with a small amount of resin.
Water-soluble resins are roughly classified into anionic resins, cationic resins, amphoteric resins having both anionic and cationic properties, and other nonionic resins, and the resins are further composed of a plurality of monomers. May be good. Further, the water-soluble resin may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the anionic resin include a resin containing a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group, and a skeleton in which some or all of them are neutralized. For example, homopolymers of polymerizable monomers such as (meth) acrylic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic acid, 2-sulfoethylmethacrylate, 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate, or other polymerizable single amounts. Examples thereof include copolymers with the body, carboxymethyl cellulose, and alkali-neutralized products thereof.
Examples of the cationic resin include an amino group containing a cyclic substance, a skeleton in which a part or all of the amino group is neutralized, a resin containing a quaternary ammonium salt, and the like. For example, homopolymers of polymerizable monomers such as N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-diethyl (meth) acrylate, vinylpyridine, or co-polymerization with other polymerizable monomers. Examples include polymers and their acid-neutralized products.
Examples of the amphoteric resin include a resin containing both the anionic skeleton and the cationic skeleton. Examples thereof include a copolymer of styrene-maleic acid-N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate.
The nonionic resin is a resin other than the anionic, cationic and amphoteric resins. Examples thereof include polyvinylpyrrolidone, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polyacrylamide, poly-N-vinylacetamide, polyalkylene glycol and the like.
The molecular weight of the water-soluble resin is not particularly limited, but the mass average molecular weight is preferably 5,000 to 2,500,000. The mass average molecular weight (Mw) indicates a polyethylene oxide-equivalent molecular weight in gel permeation chromatography (GPC).

[水性樹脂微粒子]
水性樹脂微粒子(水性エマルション)は、樹脂が水中で溶解せずに微粒子の状態で存在する分散型樹脂微粒子であり、例えば、(メタ)アクリル系エマルション、ニトリル系エマルション、ウレタン系エマルション、ポリオレフィン系エマルション、フッ素系エマルション(ポリフッ化ビニリデン(PVDF)やポリテトラフルオロエチレン(PTFE)など)、ジエン系エマルション(スチレン・ブタジエンゴム(SBR)等)が挙げられる。なお、(メタ)アクリルは、メタクリル又はアクリルを意味する。
水性樹脂微粒子を含む導電性組成物は、塗膜形成された場合、粒子間及び基材との密着性に優れ、強度の高い塗膜を提供できる。更に、密着性に優れることから必要な水性樹脂微粒子は少量で済むため、結果、導電性組成物の導電性が向上する。上述のような効果を得るため、水性樹脂微粒子としては、粒子間の結着性と柔軟性(膜の可とう性)に優れる(メタ)アクリル系エマルションやウレタン系エマルションが好ましい。
[Aqueous resin fine particles]
Aqueous resin fine particles (aqueous emulsions) are dispersed resin fine particles in which the resin does not dissolve in water and exists in the form of fine particles. For example, (meth) acrylic emulsion, nitrile emulsion, urethane emulsion, and polyolefin emulsion. , Fluorine-based emulsions (polyfluoride vinylidene (PVDF), polytetrafluoroethylene (PTFE), etc.), diene-based emulsions (styrene-butadiene rubber (SBR), etc.). In addition, (meth) acrylic means methacryl or acrylic.
When a coating film is formed, the conductive composition containing the water-based resin fine particles has excellent adhesion between the particles and the substrate, and can provide a high-strength coating film. Further, since the adhesiveness is excellent, a small amount of water-based resin fine particles is required, and as a result, the conductivity of the conductive composition is improved. In order to obtain the above-mentioned effects, as the aqueous resin fine particles, a (meth) acrylic emulsion or a urethane emulsion having excellent binding properties and flexibility (flexibility of the film) between the particles is preferable.

(メタ)アクリル系エマルションとは、(メタ)アクリロイル基を有する単量体を10質量部以上含有する乳化重合物であり、好ましくは20質量部以上、更に好ましくは30質量部以上含有されているとよい。アクリロイル基を有する単量体は反応性に優れるため、樹脂微粒子を比較的容易に作製することができる。したがって、水性樹脂微粒子として、(メタ)アクリル系エマルションは特に好ましい。 The (meth) acrylic emulsion is an emulsion polymer containing 10 parts by mass or more of a monomer having a (meth) acryloyl group, preferably 20 parts by mass or more, and more preferably 30 parts by mass or more. It is good. Since the monomer having an acryloyl group has excellent reactivity, resin fine particles can be produced relatively easily. Therefore, the (meth) acrylic emulsion is particularly preferable as the aqueous resin fine particles.

<溶媒>
本発明の導電性組成物は、炭素材料を分散させる場合や、炭素材料と、バインダー樹脂とを均一に混合する場合に、溶媒を適宜用いることができる。このような溶媒としては、樹脂を溶解できるものや、樹脂微粒子エマルションを安定に分散できるものであれば特に限定されず、水や有機溶剤を挙げることができる。
<Solvent>
In the conductive composition of the present invention, a solvent can be appropriately used when the carbon material is dispersed or when the carbon material and the binder resin are uniformly mixed. Such a solvent is not particularly limited as long as it can dissolve a resin or stably disperse a resin fine particle emulsion, and examples thereof include water and an organic solvent.

有機溶剤は、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の芳香族類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類などの内から導電性組成物の組成に応じ適当なものが使用できる。
また、溶媒は水と有機溶剤とを組み合わせて用いてもよく、2種以上の有機溶剤を組み合わせて用いてもよい。
Organic solvents include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol methyl ether and diethylene glycol methyl ether, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether and the like. Suitable for the composition of the conductive composition from among ethers, hydrocarbons such as hexane, heptane and octane, aromatics such as benzene, toluene, xylene and cumene, and esters such as ethyl acetate and butyl acetate. Can be used.
Further, the solvent may be a combination of water and an organic solvent, or two or more kinds of organic solvents may be used in combination.

水溶性樹脂や水性樹脂微粒子を用いる場合、溶解性や分散性の観点から、溶媒として水を使用することが好ましく、必要に応じて、水と相溶する液状媒体を添加してもよい。水と相溶する液状媒体としては、炭素数が4以下のアルコール系溶剤が好ましい。
また、本発明の導電性組成物には、必要に応じて、本発明による効果を妨げない範囲で、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、ラジカル補足剤、充填剤、チクソトロピー付与剤、老化防止剤、酸化防止剤、帯電防止剤、難燃剤、熱伝導性改良剤、可塑剤、ダレ防止剤、防汚剤、防腐剤、殺菌剤、消泡剤、レベリング剤、ブロッキング防止剤、硬化剤、増粘剤、分散剤、シランカップリング剤等の各種の添加剤を添加してもよい。
When a water-soluble resin or water-based resin fine particles are used, it is preferable to use water as a solvent from the viewpoint of solubility and dispersibility, and if necessary, a liquid medium compatible with water may be added. As the liquid medium compatible with water, an alcohol solvent having 4 or less carbon atoms is preferable.
Further, the conductive composition of the present invention may contain, if necessary, an ultraviolet absorber, an ultraviolet stabilizer, a radical catching agent, a filler, a thixotropic agent, an antistatic agent, as long as the effect of the present invention is not impaired. Antioxidants, antistatic agents, flame retardants, thermal conductivity improvers, plasticizers, anti-sag agents, antifouling agents, preservatives, bactericides, defoamers, leveling agents, anti-blocking agents, hardening agents, thickening agents Various additives such as agents, dispersants, and silane coupling agents may be added.

<導電助剤>
本発明の導電性組成物は、必要に応じてさらに、本発明の炭素材料以外の導電助剤を含有してもよい。導電助剤は、本発明の特定のホウ素含有炭素材料に該当しないものであればよく、例えば、カーボンブラック、活性炭、黒鉛、導電性炭素繊維(カーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー等)、カーボンナノホーン、グラフェン、グラフェンナノプレートレット、ナノポーラスカーボンのような炭素助剤、及び金属ナノ粒子(銀、銅等)のような金属助剤が挙げられる。
上記導電助剤は、ホウ素を含んでいてもよく、ホウ素をドープしたものであってもよい。導電助剤がホウ素を含む場合は、導電助剤中のホウ素の含有量は、好ましくは0.01〜2mol%であり、より好ましくは、0.1〜1mol%である。導電助剤中のホウ素の含有量が、0.01〜2mol%であると、溶媒やバインダー樹脂に対する濡れ性が高まったり、導電助剤の硬さが増加するため、導電性組成物の分散性が向上したり、衝撃などの外力に対する耐久性が向上するため、分散安定性や膜強度が改善する。
<Conductive aid>
The conductive composition of the present invention may further contain a conductive auxiliary agent other than the carbon material of the present invention, if necessary. The conductive auxiliary agent may be any material that does not correspond to the specific boron-containing carbon material of the present invention, for example, carbon black, activated carbon, graphite, conductive carbon fiber (carbon nanotube, carbon nanofiber, etc.), carbon nanohorn, graphene. , Graphene nanoplatelets, carbon auxiliaries such as nanoporous carbon, and metal auxiliaries such as metal nanoparticles (silver, copper, etc.).
The conductive auxiliary agent may contain boron or may be doped with boron. When the conductive auxiliary agent contains boron, the content of boron in the conductive auxiliary agent is preferably 0.01 to 2 mol%, more preferably 0.1 to 1 mol%. When the content of boron in the conductive auxiliary agent is 0.01 to 2 mol%, the wettability to the solvent and the binder resin is increased, and the hardness of the conductive auxiliary agent is increased, so that the dispersibility of the conductive composition is increased. And the durability against external force such as impact is improved, so that the dispersion stability and the film strength are improved.

比表面積及び粒子径の観点から、導電助剤として好ましくはカーボンブラックである。尚、炭素助剤として使用可能な、カーボンブラック、活性炭、黒鉛、導電性炭素繊維(カーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー等)、カーボンナノホーン、グラフェン、グラフェンナノプレートレット、ナノポーラスカーボンは上述で説明したものを使用することができる。 From the viewpoint of specific surface area and particle size, carbon black is preferable as the conductive auxiliary agent. The carbon black, activated carbon, graphite, conductive carbon fiber (carbon nanotube, carbon nanofiber, etc.), carbon nanohorn, graphene, graphene nanoplatelet, and nanoporous carbon that can be used as carbon auxiliaries are those described above. Can be used.

導電助剤は、導電主剤である本発明の炭素材料より比表面積が大きいことが好ましい。導電助剤の好ましい比表面積は、好ましくは10〜1500m/g、より好ましくは100〜1300m/g、さらに好ましくは150〜550m/gである。導電助剤の比表面積が1500m/g以下であると、導電性組成物の分散性が良く、比表面積が10m2/g以上であると、導電膜中の導電主剤間の隙間を効率良く埋めることができ、導電性や耐久性に優れた導電膜を得ることができる。
尚、本発明の比表面積は、窒素の吸着量から求められる比表面積(BET)を指す。
The conductive auxiliary agent preferably has a larger specific surface area than the carbon material of the present invention, which is the conductive main agent. The specific surface area of the conductive auxiliary agent is preferably 10 to 1500 m 2 / g, more preferably 100 to 1300 m 2 / g, and further preferably 150 to 550 m 2 / g. When the specific surface area of the conductive auxiliary agent is 1500 m 2 / g or less, the dispersibility of the conductive composition is good, and when the specific surface area is 10 m 2 / g or more, the gaps between the conductive main agents in the conductive film are efficiently filled. It is possible to obtain a conductive film having excellent conductivity and durability.
The specific surface area of the present invention refers to the specific surface area (BET) obtained from the amount of nitrogen adsorbed.

導電性組成物の総固形分に占めるホウ素含有炭素材料の割合は、好ましくは60〜99質量%であり、より好ましくは65〜85質量%である。
導電性組成物がさらに導電助剤を含む場合、導電性組成物の総固形分に占めるホウ素含有炭素材料の割合は、好ましくは40〜85質量%であり、より好ましくは45〜75質量%であり、さらに好ましくは50〜60質量%である。
一方、導電性組成物の総固形分に占める導電助剤の割合は、好ましくは5〜20質量%であり、より好ましくは8〜20質量%であり、さらに好ましくは10〜18質量%である。導電性組成物の総固形分に占める炭素材料、導電助剤の割合が、それぞれ50〜60質量%、10〜18質量%であると、導電性組成物の分散性が非常に良く、導電性や耐久性にとりわけ優れた導電膜を得ることができる。
The ratio of the boron-containing carbon material to the total solid content of the conductive composition is preferably 60 to 99% by mass, and more preferably 65 to 85% by mass.
When the conductive composition further contains a conductive auxiliary agent, the ratio of the boron-containing carbon material to the total solid content of the conductive composition is preferably 40 to 85% by mass, more preferably 45 to 75% by mass. Yes, more preferably 50-60% by mass.
On the other hand, the ratio of the conductive auxiliary agent to the total solid content of the conductive composition is preferably 5 to 20% by mass, more preferably 8 to 20% by mass, and further preferably 10 to 18% by mass. .. When the ratios of the carbon material and the conductive auxiliary agent to the total solid content of the conductive composition are 50 to 60% by mass and 10 to 18% by mass, respectively, the dispersibility of the conductive composition is very good and the conductive composition is conductive. It is possible to obtain a conductive film having particularly excellent durability.

導電性組成物の粘度は、導電性組成物の塗工方法によって適宜調整できるが、一般には、10mPa・s以上、30,000mPa・s以下とするのが好ましい。上記粘度は、例えば、B型粘度計を用いて測定することができる。
導電助剤としてホウ素含有炭素助剤を含む分散体の粘度は、上述したように炭素助剤の表面状態が変化しているため、ホウ素を含まない炭素助剤として分散体を作製した場合に比べ、粘度が低下する傾向があり、分散体の取り扱いが容易になる効果が見られる。
The viscosity of the conductive composition can be appropriately adjusted by the coating method of the conductive composition, but it is generally preferably 10 mPa · s or more and 30,000 mPa · s or less. The viscosity can be measured using, for example, a B-type viscometer.
Since the viscosity of the dispersion containing the boron-containing carbon auxiliary as the conductive auxiliary agent has changed as described above, the surface state of the carbon auxiliary has changed, so that the viscosity of the dispersion is compared with the case where the dispersion is prepared as the boron-free carbon auxiliary. , The viscosity tends to decrease, and the effect of facilitating the handling of the dispersion can be seen.

(分散機・混合機)
導電性組成物を得る際に用いられる装置としては、顔料分散等に通常用いられている分散機、混合機が使用できる。
(Disperser / Mixer)
As an apparatus used for obtaining the conductive composition, a disperser or a mixer usually used for pigment dispersion or the like can be used.

例えば、ディスパー、ホモミキサー、若しくはプラネタリーミキサー等のミキサー類;エム・テクニック社製「クレアミックス」、若しくはPRIMIX社「フィルミックス」等のホモジナイザー類;ペイントコンディショナー(レッドデビル社製)、ボールミル、サンドミル(シンマルエンタープライゼス社製「ダイノミル」等)、アトライター、パールミル(アイリッヒ社製「DCPミル」等)、若しくはコボールミル等のメディア型分散機;湿式ジェットミル(ジーナス社製「ジーナスPY」、スギノマシン社製「スターバースト」、ナノマイザー社製「ナノマイザー」等)、エム・テクニック社製「クレアSS−5」、若しくは奈良機械社製「MICROS」等のメディアレス分散機;又は、その他ロールミル、ニーダー、超音波分散機等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 For example, mixers such as disper, homomixer, or planetary mixer; homogenizers such as "Clairemix" manufactured by M-Technique or "Philmix" manufactured by PRIMIX; paint conditioner (manufactured by Red Devil), ball mill, sand mill. Media type disperser such as (Symmal Enterprises "Dyno Mill" etc.), Atreiter, Pearl Mill (Eirich "DCP Mill" etc.), or Coball Mill; Wet Jet Mill (Genus PY "Genus PY", Sugino Medialess disperser such as Machine's "Starburst", Nanomizer's "Nanomizer", etc.), M-Technique's "Claire SS-5", or Nara Machinery's "MICROS"; or other roll mills, kneaders , Ultrasonic disperser, etc., but is not limited thereto.

例えば、メディア型分散機を使用する場合は、アジテーター及びベッセルがセラミック製又は樹脂製の分散機を使用する方法や、金属製アジテーター及びベッセル表面をタングステンカーバイド溶射や樹脂コーティング等の処理をした分散機を用いることが好ましい。そして、メディアとしては、ガラスビーズ、又は、ジルコニアビーズ、若しくはアルミナビーズ等のセラミックビーズを用いることが好ましい。分散装置は、1種のみを使用してもよいし、複数種の装置を組み合わせて使用してもよい。 For example, when using a media-type disperser, a method in which the agitator and vessel use a disperser made of ceramic or resin, or a disperser in which the surface of the metal agitator and vessel is treated with tungsten carbide spraying or resin coating. It is preferable to use. As the medium, it is preferable to use glass beads, zirconia beads, or ceramic beads such as alumina beads. As the dispersive device, only one type may be used, or a plurality of types of devices may be used in combination.

<導電膜>
本発明の導電膜は、導電性組成物から形成されてなる膜であり、基材上に導電性組成物を塗工し、必要に応じて乾燥することで形成することができる。
<Conductor>
The conductive film of the present invention is a film formed of a conductive composition, and can be formed by applying the conductive composition on a substrate and drying it if necessary.

(基材)
導電膜成形に使用する基材の形状は特に限定されず、用途にあったものを適宜選択することができる。基材は、好ましくはシート状であり、より好ましくは絶縁性の樹脂フィルムである。
(Base material)
The shape of the base material used for forming the conductive film is not particularly limited, and a material suitable for the intended use can be appropriately selected. The base material is preferably in the form of a sheet, and more preferably an insulating resin film.

基材の材質は特に限定されず、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)、ポリイミド、ポリ塩ビニル、ポリアミド、ナイロン、OPP(延伸ポリプロピレン)、CPP(未延伸ポリプロピレン)が挙げられる。 The material of the base material is not particularly limited, and examples thereof include PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylene naphthalate), polyimide, polyvinyl chloride, polyamide, nylon, OPP (stretched polypropylene), and CPP (unstretched polypropylene). ..

また、形状としては、一般的には平板上のフィルムが用いられるが、表面を粗面化したものや、プライマー処理したもの、穴あき状のもの、及びメッシュ状の基材も使用できる。 As the shape, a film on a flat plate is generally used, but a film having a roughened surface, a primer-treated film, a perforated film, and a mesh-like substrate can also be used.

基材上に導電性組成物を塗工する方法としては、特に制限はなく公知の方法を用いることができる。このような塗工方法としては、例えば、ダイコーティング法、ディップコーティング法、ロールコーティング法、ドクターコーティング法、ナイフコーティング法、スプレーコティング法、グラビアコーティング法、スクリーン印刷法、静電塗装法が挙げられる。乾燥方法としては、例えば、放置乾燥、送風乾燥、温風乾燥、赤外線加熱、遠赤外線加熱が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。 The method for applying the conductive composition on the substrate is not particularly limited, and a known method can be used. Examples of such a coating method include a die coating method, a dip coating method, a roll coating method, a doctor coating method, a knife coating method, a spray coating method, a gravure coating method, a screen printing method, and an electrostatic coating method. Be done. Examples of the drying method include, but are not limited to, neglected drying, blast drying, warm air drying, infrared heating, and far infrared heating.

また、塗布後に平版プレスやカレンダーロール等による圧延処理を行ってもよく、導電膜を軟化させてプレスしやすくするため、圧延処理は加熱しながら行ってもよい。
導電膜の厚みは、一般的には0.1μm以上、1mm以下であり、好ましくは1μm以上、200μm以下である。
Further, after coating, a rolling process such as a lithographic press or a calendar roll may be performed, and the rolling process may be performed while heating in order to soften the conductive film and facilitate pressing.
The thickness of the conductive film is generally 0.1 μm or more and 1 mm or less, preferably 1 μm or more and 200 μm or less.

(導電膜の体積抵抗率)
本発明の導電膜の体積抵抗率は、好ましくは5×10−3Ω・cm未満であり、より好ましくは3×10−3Ω・cm未満であり、さらに好ましくは2×10−3Ω・cm未満である。体積抵抗率が5×10−3Ω・cm未満であることで、非常に導電性の高い組成物として、電池の電極、集電体や電池、電子機器の配線等に利用することができる。
(Volume resistivity of conductive film)
The volume resistivity of the conductive film of the present invention is preferably less than 5 × 10 -3 Ω · cm, more preferably less than 3 × 10 -3 Ω · cm, still more preferably 2 × 10 -3 Ω · cm. It is less than cm. Since the volume resistivity is less than 5 × 10 -3 Ω · cm, it can be used as a highly conductive composition for battery electrodes, current collectors and batteries, wiring of electronic devices, and the like.

以下に、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、以下の実施例は本発明の権利範囲を何ら制限するものではない。尚、実施例及び比較例における「部」は「質量部」、「%」は「質量%」を表す。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the following examples do not limit the scope of rights of the present invention in any way. In the examples and comparative examples, "parts" represents "parts by mass" and "%" represents "% by mass".

<炭素材料の製造>
<実施例1>
球状化黒鉛CGB−50(日本黒鉛工業社製)とホウ酸(富士フィルム和光純薬社製)を、質量比80/20(球状化黒鉛/ホウ酸)となるようにそれぞれ秤量し、自転公転ミキサーで混合した後、粒子複合化装置メカノフュージョン(ホソカワミクロン社製)にて複合化を行い、混合物を得た。上記混合物を、グラファイト製るつぼに充填し、多目的高温炉にてアルゴン雰囲気下、2100℃で1時間熱処理を行い、ホウ素含有炭素材料(1)を得た。
ホウ素含有炭素材料(1)の[X−Y]、G/D比、置換型ホウ素元素量、体積抵抗率は、後述の算出方法に沿って求められ、それぞれ225.3cm−1、1.8、0.0027、4.1×10−4Ω・cmであった。
<Manufacturing of carbon materials>
<Example 1>
Spheroidized graphite CGB-50 (manufactured by Nippon Graphite Industry Co., Ltd.) and boric acid (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) are weighed so as to have a mass ratio of 80/20 (spheroidized graphite / boric acid), and rotate and revolve. After mixing with a mixer, the mixture was compounded with a particle compounding device Mechanofusion (manufactured by Hosokawa Micron) to obtain a mixture. The above mixture was filled in a graphite crucible and heat-treated at 2100 ° C. for 1 hour in an argon atmosphere in a multipurpose high-temperature furnace to obtain a boron-containing carbon material (1).
The [XY], G / D ratio, amount of substituted boron element, and volume resistivity of the boron-containing carbon material (1) were obtained according to the calculation method described later, and were 225.3 cm -1 1.8, respectively. , 0.0027, 4.1 × 10 -4 Ω · cm.

<実施例2>
球状化黒鉛CGB−50(日本黒鉛工業社製)とホウ酸(富士フィルム和光純薬社製)を、質量比97/3(球状化黒鉛/ホウ酸)となるようにそれぞれ秤量し、溶媒として水を加え自転公転ミキサーで混合し、大気下80℃のオーブンで乾燥させ混合物を得た。上記混合物を、グラファイト製るつぼに充填し、多目的高温炉にてアルゴン雰囲気下、2100℃で1時間熱処理を行い、ホウ素含有炭素材料(2)を得た。
ホウ素含有炭素材料(2)の[X−Y]、G/D比、置換型ホウ素元素量、体積抵抗率はそれぞれ219.2cm−1、6.2、0.0003、9.1×10−4Ω・cmであった。
<Example 2>
Spheroidized graphite CGB-50 (manufactured by Nippon Graphite Industry Co., Ltd.) and boric acid (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) are weighed so as to have a mass ratio of 97/3 (spheroidized graphite / boric acid), and used as a solvent. Water was added, the mixture was mixed with a rotation / revolution mixer, and dried in an oven at 80 ° C. under the atmosphere to obtain a mixture. The above mixture was filled in a graphite crucible and heat-treated at 2100 ° C. for 1 hour in an argon atmosphere in a multipurpose high-temperature furnace to obtain a boron-containing carbon material (2).
Boron [X-Y] carbon-containing material (2), G / D ratio, substitutional boron element content, respectively a volume resistivity 219.2cm -1, 6.2,0.0003,9.1 × 10 - It was 4 Ω · cm.

<実施例3>
人造黒鉛PAG−5(日本黒鉛工業社製)とホウ酸(富士フィルム和光純薬社製)を、質量比80/20(人造黒鉛/ホウ酸)となるようにそれぞれ秤量し、粒子複合化装置メカノフュージョン(ホソカワミクロン社製)にて複合化を行い、混合物を得た。上記混合物をグラファイト製るつぼに充填し、多目的高温炉にてアルゴン雰囲気下、2100℃で1時間熱処理を行い、ホウ素含有炭素材料(3)を得た。
ホウ素含有炭素材料(3)の[X−Y]、G/D比、置換型ホウ素元素量、体積抵抗率はそれぞれ221.4cm−1、1.4、0.0052、7.9×10−4Ω・cmであった。
<Example 3>
Artificial graphite PAG-5 (manufactured by Nippon Graphite Industry Co., Ltd.) and boric acid (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) are weighed so as to have a mass ratio of 80/20 (artificial graphite / boric acid), and a particle compounding device is used. Complexation was carried out with Mechanofusion (manufactured by Hosokawa Micron) to obtain a mixture. The above mixture was filled in a graphite crucible and heat-treated at 2100 ° C. for 1 hour in an argon atmosphere in a multipurpose high-temperature furnace to obtain a boron-containing carbon material (3).
Boron [X-Y] carbon-containing material (3), G / D ratio, substitutional boron element content, respectively a volume resistivity 221.4cm -1, 1.4,0.0052,7.9 × 10 - It was 4 Ω · cm.

<実施例4>
天然黒鉛FB−150(日本黒鉛工業社製)とホウ酸(富士フィルム和光純薬社製)を、質量比80/20(天然黒鉛/ホウ酸)となるようにそれぞれ秤量し、粒子複合化装置メカノフュージョン(ホソカワミクロン社製)にて複合化を行い、混合物を得た。上記混合物をグラファイト製るつぼに充填し、多目的高温炉にてアルゴン雰囲気下、2100℃で1時間熱処理を行い、ホウ素含有炭素材料(4)を得た。
ホウ素含有炭素材料(4)の[X−Y]、G/D比、置換型ホウ素元素量、体積抵抗率はそれぞれ221.8cm−1、1.5、0.0036、6.9×10−4Ω・cmであった。
<Example 4>
Natural graphite FB-150 (manufactured by Nippon Graphite Industry Co., Ltd.) and boric acid (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) are weighed so as to have a mass ratio of 80/20 (natural graphite / boric acid), and a particle compounding device is used. Complexation was carried out with Mechanofusion (manufactured by Hosokawa Micron) to obtain a mixture. The above mixture was filled in a graphite crucible and heat-treated at 2100 ° C. for 1 hour in an argon atmosphere in a multipurpose high-temperature furnace to obtain a boron-containing carbon material (4).
Boron [X-Y] carbon-containing material (4), G / D ratio, substitutional boron element content, respectively a volume resistivity 221.8cm -1, 1.5,0.0036,6.9 × 10 - It was 4 Ω · cm.

<実施例5>
球状化黒鉛CGB−50(日本黒鉛工業社製)と炭化ホウ素(富士フィルム和光純薬社製)を、質量比96/4(球状化黒鉛/炭化ホウ素)となるようにそれぞれ秤量し、溶媒として水を加えた後、ガラスビーズを加え、ペイントシェーカを用いて混合し、大気下80℃のオーブンで乾燥させ混合物を得た。上記混合物をグラファイト製るつぼに充填し、多目的高温炉にてアルゴン雰囲気下、2900℃で1時間熱処理を行い、ホウ素含有炭素材料(5)を得た。
ホウ素含有炭素材料(5)の[X−Y]、G/D比、置換型ホウ素元素量、体積抵抗率はそれぞれ225.4cm−1、1.3、0.0080、5.7×10−4Ω・cmであった。
<Example 5>
Spheroidized graphite CGB-50 (manufactured by Nippon Graphite Industry Co., Ltd.) and boron carbide (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) are weighed so as to have a mass ratio of 96/4 (spheroidized graphite / boron carbide), and used as a solvent. After adding water, glass beads were added, mixed using a paint shaker, and dried in an oven at 80 ° C. in the air to obtain a mixture. The above mixture was filled in a graphite crucible and heat-treated at 2900 ° C. for 1 hour in an argon atmosphere in a multipurpose high-temperature furnace to obtain a boron-containing carbon material (5).
Boron [X-Y] carbon-containing material (5), G / D ratio, substitutional boron element content, respectively a volume resistivity 225.4cm -1, 1.3,0.0080,5.7 × 10 - It was 4 Ω · cm.

<実施例6>
炭化ホウ素(富士フィルム和光純薬社製)と、溶媒としてトルエンを加えた後、アルミナビーズを加え、ペイントシェーカを用いて粉砕し、大気下80℃のオーブンで乾燥させ炭化ホウ素の粉砕物を得た。次に、球状化黒鉛CGB−50(日本黒鉛工業社製)と炭化ホウ素の粉砕物を、質量比99.1/0.9(球状化黒鉛/炭化ホウ素)となるようにそれぞれ秤量し、粒子複合化装置メカノフュージョン(ホソカワミクロン社製)にて複合化を行い、混合物を得た。上記混合物をグラファイト製るつぼに充填し、多目的高温炉にてアルゴン雰囲気下、2000℃で1.5時間熱処理を行い、ホウ素含有炭素材料(8)を得た。
ホウ素含有炭素材料(8)の[X−Y]、G/D比、置換型ホウ素元素量、体積抵抗率はそれぞれ222.6cm−1、3.0、0.0005、2.8×10−4Ω・cmであった。
<Example 6>
Boron carbide (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and toluene as a solvent are added, then alumina beads are added, crushed using a paint shaker, and dried in an oven at 80 ° C. in the air to obtain crushed boron carbide. rice field. Next, the spheroidized graphite CGB-50 (manufactured by Nippon Graphite Industry Co., Ltd.) and the pulverized boron carbide are weighed so as to have a mass ratio of 99.1 / 0.9 (spheroidized graphite / boron carbide), and the particles are obtained. Complexing device Mechanofusion (manufactured by Hosokawa Micron Co., Ltd.) was used for compositing to obtain a mixture. The above mixture was filled in a graphite crucible and heat-treated at 2000 ° C. for 1.5 hours in an argon atmosphere in a multipurpose high-temperature furnace to obtain a boron-containing carbon material (8).
Boron [X-Y] carbon-containing material (8), G / D ratio, substitutional boron element content, respectively a volume resistivity 222.6cm -1, 3.0,0.0005,2.8 × 10 - It was 4 Ω · cm.

<実施例7>
球状化黒鉛CGB−50(日本黒鉛工業社製)とホウ酸(富士フィルム和光純薬社製)を、質量比85/15(球状化黒鉛/ホウ酸)となるようにそれぞれ秤量し、ボールミルにて粉砕混合をした後、球状化黒鉛/ホウ酸からなる混合物を分離して取り出し、粒子複合化装置メカノフュージョン(ホソカワミクロン社製)にて複合化を行って、混合物を得た。上記混合物をグラファイト製るつぼに充填し、多目的高温炉にてアルゴン雰囲気下、2050℃で2時間熱処理を行い、ホウ素含有炭素材料(9)を得た。
ホウ素含有炭素材料(9)の[X−Y]、G/D比、置換型ホウ素元素量、体積抵抗率はそれぞれ224cm−1、1.7、0.0046、3.8×10−4Ω・cmであった。
<Example 7>
Spheroidized graphite CGB-50 (manufactured by Nippon Graphite Industry Co., Ltd.) and boric acid (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) are weighed so as to have a mass ratio of 85/15 (spheroidized graphite / boric acid), and put into a ball mill. After pulverizing and mixing, the mixture consisting of spheroidized graphite / boric acid was separated and taken out, and composited with a particle compounding device Mechanofusion (manufactured by Hosokawa Micron) to obtain a mixture. The above mixture was filled in a graphite crucible and heat-treated at 2050 ° C. for 2 hours in an argon atmosphere in a multipurpose high temperature furnace to obtain a boron-containing carbon material (9).
The [XY], G / D ratio, amount of substituted boron element, and volume resistivity of the boron-containing carbon material (9) are 224 cm -1 1.7, 0.0046, 3.8 × 10 -4 Ω, respectively. -It was cm.

<実施例8>
球状化黒鉛CGB−50(日本黒鉛工業社製)と炭化ホウ素(富士フィルム和光純薬社製)を、質量比97/3(球状化黒鉛/炭化ホウ素)となるようにそれぞれ秤量し、ボールミルにて粉砕混合をした後、球状化黒鉛/炭化ホウ素からなる混合物を分離して取り出し、粒子複合化装置メカノフュージョン(ホソカワミクロン社製)にて複合化を行って、混合物を得た。上記混合物をグラファイト製るつぼに充填し、多目的高温炉にてアルゴン雰囲気下、2200℃で1.5時間熱処理を行い、ホウ素含有炭素材料(10)を得た。
ホウ素含有炭素材料(10)の[X−Y]、G/D比、置換型ホウ素元素量、体積抵抗率はそれぞれ222.3cm−1、1.5、0.0055、3.7×10−4Ω・cmであった。
<Example 8>
Spheroidized graphite CGB-50 (manufactured by Nippon Graphite Industry Co., Ltd.) and boron carbide (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) are weighed so as to have a mass ratio of 97/3 (spheroidized graphite / boron carbide), and put into a ball mill. After pulverizing and mixing, the mixture composed of spheroidized graphite / boron carbide was separated and taken out, and composited with a particle compounding device Mechanofusion (manufactured by Hosokawa Micron) to obtain a mixture. The above mixture was filled in a graphite crucible and heat-treated at 2200 ° C. for 1.5 hours in an argon atmosphere in a multipurpose high-temperature furnace to obtain a boron-containing carbon material (10).
Boron [X-Y] carbon-containing material (10), G / D ratio, substitutional boron element content, respectively a volume resistivity 222.3cm -1, 1.5,0.0055,3.7 × 10 - It was 4 Ω · cm.

<比較例1>
球状化黒鉛CGB−50(日本黒鉛社製)を炭素材料(6)として用いた。
炭素材料(6)の[X−Y]、G/D比、置換型ホウ素元素量、体積抵抗率はそれぞれ230cm−1、5.0、検出下限以下(≦0.0001)、2.0×10−3Ω・cmであった。
<Comparative Example 1>
Spheroidized graphite CGB-50 (manufactured by Nippon Graphite Co., Ltd.) was used as the carbon material (6).
[XY] of carbon material (6), G / D ratio, amount of substituted boron element, volume resistivity are 230 cm -1 , 5.0, respectively, below the lower limit of detection (≦ 0.0001), 2.0 × It was 10 -3 Ω · cm.

<比較例2>
多層カーボンナノチューブ(MWCNT)NTP3003(NTP社製)とホウ酸(富士フィルム和光純薬社製)を、質量比90/10(MWCNT/ホウ酸)となるようにそれぞれ秤量し、乳鉢で混合を行い、混合物を得た。上記混合物を、グラファイト製るつぼに充填し、多目的高温炉にてアルゴン雰囲気下、2200℃で1時間熱処理を行い、ホウ素含有炭素材料(7)を得た。
ホウ素含有炭素材料(7)の[X−Y]、G/D比、置換型ホウ素元素量、体積抵抗率はそれぞれ232cm−1、0.8、0.001、7.3×10−3Ω・cmであった。
<Comparative Example 2>
Multi-walled carbon nanotubes (MWCNT) NTP3003 (manufactured by NTP) and boric acid (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) are weighed so as to have a mass ratio of 90/10 (MWCNT / boric acid), and mixed in a mortar. , A mixture was obtained. The above mixture was filled in a graphite crucible and heat-treated at 2200 ° C. for 1 hour in an argon atmosphere in a multipurpose high temperature furnace to obtain a boron-containing carbon material (7).
The [XY], G / D ratio, amount of substituted boron element, and volume resistivity of the boron-containing carbon material (7) are 232 cm -1 , 0.8, 0.001, 7.3 × 10 -3 Ω, respectively. -It was cm.

<比較例3>
炭素源である石油コークス92.5部と、ホウ素源である酸化ホウ素(富士フイルム和光純薬社製)7.5部をメノウ乳鉢で混合した後、黒鉛ルツボに充填し、焼成炉にてアルゴン雰囲気下、2900℃で2時間熱処理を行い、ホウ素含有炭素材料(11)を得た。
ホウ素含有炭素材料(11)の[X−Y]、G/D比、置換型ホウ素元素量、体積抵抗率はそれぞれ227.2cm−1、7.0、0.0011、2.3×10−3Ω・cmであった。
<Comparative Example 3>
92.5 parts of petroleum coke, which is a carbon source, and 7.5 parts of boron oxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), which is a boron source, are mixed in a Menou dairy pot, filled in a graphite rutsubo, and argon in a firing furnace. The heat treatment was carried out at 2900 ° C. for 2 hours in an atmosphere to obtain a boron-containing carbon material (11).
Boron [X-Y] carbon-containing material (11), G / D ratio, substitutional boron element content, respectively a volume resistivity 227.2cm -1, 7.0,0.0011,2.3 × 10 - It was 3 Ω · cm.

<炭素材料の評価>
作製したホウ素含有炭素材料は下記の方法で物性を評価した。
<Evaluation of carbon materials>
The physical properties of the produced boron-containing carbon material were evaluated by the following method.

<ラマンシフトの差[X−Y]>
[X−Y]は日本分光社製レーザーラマン分光光度計NRS−3100を用いて評価した。励起レーザー波長532nmの条件下で測定し、得られた各サンプルのラマンスペクトルのDバンド(1330〜1370cm−1)のピークトップのラマンシフトとGバンド(1560〜1620cm−1)のピークトップのラマンシフトの差から、[X−Y]を算出した。
<Difference in Raman shift [XY]>
[XY] was evaluated using a laser Raman spectrophotometer NRS-3100 manufactured by JASCO Corporation. Raman shift at the peak top of the D band (1330-1370 cm -1 ) and Raman at the peak top of the G band (1560-1620 cm -1 ) of the Raman spectrum of each sample measured under the condition of an excitation laser wavelength of 532 nm. [XY] was calculated from the shift difference.

<G/D比>
G/D比は日本分光社製レーザーラマン分光光度計NRS−3100を用いて評価した。励起レーザー波長532nmの条件下で測定し、得られた各サンプルのラマンスペクトルのDバンド(1330〜1370cm−1)とGバンド(1560〜1620cm−1)のピーク強度の比(IG/ID)からG/D比を算出した。
<G / D ratio>
The G / D ratio was evaluated using a laser Raman spectrophotometer NRS-3100 manufactured by JASCO Corporation. Measured under the condition of an excited laser wavelength of 532 nm, from the ratio (IG / ID) of the peak intensities of the D band (1330-1370 cm -1 ) and the G band (1560-1620 cm -1) of the Raman spectrum of each sample obtained. The G / D ratio was calculated.

<表面全ホウ素元素量、表面置換型ホウ素元素量>
表面全ホウ素元素量及び表面置換型ホウ素元素量は、X線光電子分光装置ThermoFisher scientific社製K−Alphaを用いて評価した。ホウ素B1sスペクトルピークから得られた全スペクトル面積から表面全ホウ素元素の割合(モル比)を算出した。また、前記ホウ素の全スペクトル面積に対する188〜189.3eVのピーク面積の割合から表面置換型ホウ素元素の割合(モル比)を算出した。
<Amount of total surface boron element, amount of surface-replacement type boron element>
The total amount of surface boron element and the amount of surface-substituted boron element were evaluated using a K-Alpha manufactured by Thermo Fisher scientific company, an X-ray photoelectron spectroscope. The ratio (molar ratio) of the total surface boron elements was calculated from the total spectral area obtained from the boron B1s spectral peak. Further, the ratio (molar ratio) of the surface-substituted boron element was calculated from the ratio of the peak area of 188 to 189.3 eV to the total spectral area of the boron.

<体積抵抗率>
体積抵抗率は日東精工アナリテック社製粉体抵抗測定システムMCP−PD51型を用いて評価した。
低抵抗用粉体プローブを用いて四探針方式にて測定を行い、各サンプルに20kNの荷重を加えた際の体積抵抗率を値として使用した。
<Volume resistivity>
The volume resistivity was evaluated using a powder resistivity measuring system MCP-PD51 manufactured by Nittoseiko Analytech.
The measurement was performed by a four-probe method using a powder probe for low resistance, and the volume resistivity when a load of 20 kN was applied to each sample was used as a value.

上記で作製したホウ素含有炭素材料の物性を表1に示す。 Table 1 shows the physical characteristics of the boron-containing carbon material produced above.

Figure 2021183557
Figure 2021183557

表1より、比較例に比べ実施例ではいずれも体積抵抗率の改善(低抵抗化)が確認された。これはラマンシフトの差[X−Y]が本発明の範囲内にあることでキャリアのドープによるキャリア密度向上と結晶性(炭素の積層数)の維持が両立できたため、実施例においては比較例に比べ電子伝導性が向上したと考えられる。
このようにラマンシフトの差[X−Y]を本発明の範囲内に適切に制御することにより、顕著な高導電性を発現できることが明らかとなった。
From Table 1, it was confirmed that the volume resistivity was improved (lower resistance) in each of the examples as compared with the comparative example. This is because the difference in Raman shift [XY] is within the range of the present invention, so that the carrier density can be improved by doping the carriers and the crystallinity (number of carbon layers) can be maintained. It is considered that the electron conductivity was improved as compared with the above.
As described above, it has been clarified that remarkable high conductivity can be exhibited by appropriately controlling the difference in Raman shift [XY] within the range of the present invention.

<バインダー樹脂の製造>
[製造例1]ポリウレタン樹脂溶液
攪拌機、温度計、還流冷却器、滴下装置、及び窒素導入管を備えた反応容器に、テレフタル酸とアジピン酸と3−メチル−1,5−ペンタンジオールとから得られるポリエステルポリオール((株)クラレ製「クラレポリオールP−2011」、Mn=2,011)455.5部、ジメチロールブタン酸16.5部、イソホロンジイソシアネート105.2部、トルエン140部を仕込み、窒素雰囲気下90℃3時間反応させ、これにトルエン360部を加えてイソシアネート基を有するウレタンプレポリマー溶液を得た。
次に、イソホロンジアミン19.9部、ジ−n−ブチルアミン0.63部、2−プロパノール294.5部、トルエン335.5部を混合したものに、得られたイソシアネート基を有するウレタンプレポリマー溶液969.5部を添加し(ウレタンプレポリマーの両末端に有する遊離のイソシアネート基に対してアミノ基の合計当量は0.98である)、50℃で3時間反応させた後、続いて70℃2時間反応させ、トルエン126部、2−プロパノール54部で希釈し、重量平均分子量61,000、酸価10mgKOH/gであるポリウレタン樹脂の溶液を得た。
得られたポリウレタン樹脂の溶液を、トルエン/メチルエチルケトン/2−プロパノール(質量比:1/1/1)で希釈して、固形分20質量%のポリウレタン樹脂溶液を得た。
<Manufacturing of binder resin>
[Production Example 1] Obtained from terephthalic acid, adipic acid, and 3-methyl-1,5-pentanediol in a reaction vessel equipped with a polyurethane resin solution stirrer, a thermometer, a reflux cooler, a dropping device, and a nitrogen introduction tube. 455.5 parts of polyester polyol (“Kurare polyol P-2011” manufactured by Kurare Co., Ltd., Mn = 2,011), 16.5 parts of dimethylolbutanoic acid, 105.2 parts of isophorone diisocyanate, and 140 parts of toluene are charged. The reaction was carried out at 90 ° C. for 3 hours under a nitrogen atmosphere, and 360 parts of toluene was added thereto to obtain a urethane prepolymer solution having an isocyanate group.
Next, a urethane prepolymer solution having an isocyanate group obtained by mixing 19.9 parts of isophorondiamine, 0.63 parts of di-n-butylamine, 294.5 parts of 2-propanol, and 335.5 parts of toluene. 969.5 parts were added (the total equivalent of amino groups to the free isocyanate groups at both ends of the urethane prepolymer is 0.98), reacted at 50 ° C for 3 hours, followed by 70 ° C. The reaction was carried out for 2 hours and diluted with 126 parts of toluene and 54 parts of 2-propanol to obtain a solution of a polyurethane resin having a weight average molecular weight of 61,000 and an acid value of 10 mgKOH / g.
The obtained polyurethane resin solution was diluted with toluene / methyl ethyl ketone / 2-propanol (mass ratio: 1/1/1) to obtain a polyurethane resin solution having a solid content of 20% by mass.

[製造例2]ポリアミド樹脂溶液
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、及び温度計を備えた4口フラスコに、多塩基酸化合物としてプリポール1009(水添ダイマー酸、クローダジャパン株式会社製)を156.2部、5−ヒドロキシイソフタル酸を5.5部、ポリアミン化合物としてプリアミン1074(クローダジャパン株式会社製)を146.4部、イオン交換水を100部仕込み、発熱の温度が一定になるまで撹拌した。温度が安定したら110℃まで昇温し、水の流出を確認してから、30分後に温度を120℃に昇温し、その後、30分ごとに10℃ずつ昇温しながら脱水反応を続けた。温度が230℃になった後、その温度で3時間反応を続け、約2kPaの真空下で1時間保持し、温度を低下させた。最後に、酸化防止剤を添加し、重量平均分子量24,000、酸価13.2mgKOH/g、水酸基価5.5mgKOH/g、ガラス転移温度−32℃のポリアミド樹脂を得た。
得られたポリアミド樹脂を、トルエン/2−プロパノール(質量比:2/1)で希釈して、固形分20質量%のポリアミド樹脂溶液を得た。
[Production Example 2] Prepole 1009 (hydrophobic dimer acid, Croder Japan Co., Ltd.) as a polybasic acid compound in a 4-necked flask equipped with a polyamide resin solution stirrer, a reflux cooling tube, a nitrogen introduction tube, an introduction tube, and a thermometer. 156.2 parts, 5-hydroxyisophthalic acid 5.5 parts, preamine 1074 (manufactured by Croder Japan Co., Ltd.) 146.4 parts as a polyamine compound, 100 parts ion-exchanged water, and the temperature of heat generation is constant. It was stirred until it became. When the temperature became stable, the temperature was raised to 110 ° C, and after confirming the outflow of water, the temperature was raised to 120 ° C 30 minutes later, and then the dehydration reaction was continued while raising the temperature by 10 ° C every 30 minutes. .. After the temperature reached 230 ° C., the reaction was continued at that temperature for 3 hours and kept under a vacuum of about 2 kPa for 1 hour to lower the temperature. Finally, an antioxidant was added to obtain a polyamide resin having a weight average molecular weight of 24,000, an acid value of 13.2 mgKOH / g, a hydroxyl value of 5.5 mgKOH / g, and a glass transition temperature of −32 ° C.
The obtained polyamide resin was diluted with toluene / 2-propanol (mass ratio: 2/1) to obtain a polyamide resin solution having a solid content of 20% by mass.

[製造例3]ポリエステル樹脂溶液
バイロン200(東洋紡社製、ポリエステル樹脂)をトルエン/メチルエチルケトン(質量比:1/1)で希釈して、固形分20質量%ポリエステル樹脂溶液を得た。
[Production Example 3] Polyester resin solution Byron 200 (polyester resin manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was diluted with toluene / methyl ethyl ketone (mass ratio: 1/1) to obtain a polyester resin solution having a solid content of 20% by mass.

なお、樹脂の評価は以下の通りに行った。
(重量平均分子量(Mw))
重量平均分子量の測定は、東ソー株式会社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)「HPC−8020」を用いた。GPCは溶剤(THF;テトラヒドロフラン)に溶解した物質をその分子サイズの差によって分離定量する液体クロマトグラフィーである。本発明における測定は、カラムに「LF−604」(昭和電工株式会社製:迅速分析用GPCカラム:6mmID×150mmサイズ)を直列に2本接続して用い、流量0.6ml/min、カラム温度40℃の条件で行い、重量平均分子量の決定はポリスチレン換算で行った。
The resin was evaluated as follows.
(Weight average molecular weight (Mw))
The weight average molecular weight was measured by using gel permeation chromatography (GPC) "HPC-8020" manufactured by Tosoh Corporation. GPC is a liquid chromatography in which a substance dissolved in a solvent (THF; tetrahydrofuran) is separated and quantified according to the difference in molecular size. In the measurement in the present invention, two "LF-604" (manufactured by Showa Denko KK: GPC column for rapid analysis: 6 mm ID x 150 mm size) are connected in series to the column, the flow rate is 0.6 ml / min, and the column temperature is set. It was carried out under the condition of 40 ° C., and the weight average molecular weight was determined in terms of polystyrene.

(酸価(AV))
共栓三角フラスコ中に試料約1gを精密に量り採り、トルエン/エタノール(容量比:トルエン/エタノール=2/1)混合液100mlを加えて溶解した。これに、フェノールフタレイン試液を指示薬として加え、30秒間保持した。その後、溶液が淡紅色を呈するまで0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液で滴定し、次式により酸価を求めた。
酸価(mgKOH/g)=(5.611×a×F)/Sただし、
S:試料の採取量(g)
a:0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液の消費量(ml)
F:0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液の力価
(Acid value (AV))
Approximately 1 g of the sample was precisely weighed in a stoppered Erlenmeyer flask, and 100 ml of a toluene / ethanol (volume ratio: toluene / ethanol = 2/1) mixed solution was added and dissolved. Phenolphthalein test solution was added to this as an indicator and held for 30 seconds. Then, the solution was titrated with a 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution until the solution turned pink, and the acid value was determined by the following formula.
Acid value (mgKOH / g) = (5.611 × a × F) / S However,
S: Sample collection amount (g)
a: Consumption of 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution (ml)
F: Titer of 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution

(水酸基価(OHV))
水酸基価は、水酸基含有樹脂1g中に含まれる水酸基の量を、水酸基をアセチル化させたときに水酸基と結合した酢酸を中和するために必要な水酸化カリウムの量(mg)で表したものである。水酸基価は、JISK0070に準じて測定し、本発明においては、下記式に示す通り、酸価を考慮して求めた。
共栓三角フラスコ中に試料約1gを精密に量り採り、トルエン/エタノール(容量比:トルエン/エタノール=2/1)混合液100mlを加えて溶解した。更にアセチル化剤(無水酢酸25gをピリジンで溶解し、容量100mlとした溶液)を正確に5ml加え、約1時間攪拌した。これに、フェノールフタレイン試液を指示薬として加え、30秒間持続した。その後、溶液が淡紅色を呈するまで0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液で滴定し、次式により水酸基価を求めた。
水酸基価(mgKOH/g)=[{(b−a)×F×28.05}/S]+D
ただし、
S:試料の採取量(g)
a:0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液の消費量(ml)
b:空実験の0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液の消費量(ml)
F:0.1Nアルコール性水酸化カリウム溶液の力価
D:酸価(mgKOH/g)
(Hydroxy group value (OHV))
The hydroxyl value is the amount of hydroxyl group contained in 1 g of a hydroxyl group-containing resin expressed by the amount of potassium hydroxide (mg) required to neutralize acetic acid bonded to the hydroxyl group when the hydroxyl group is acetylated. Is. The hydroxyl value was measured according to JISK0070, and in the present invention, it was determined in consideration of the acid value as shown in the following formula.
Approximately 1 g of the sample was precisely weighed in a stoppered Erlenmeyer flask, and 100 ml of a toluene / ethanol (volume ratio: toluene / ethanol = 2/1) mixed solution was added and dissolved. Further, exactly 5 ml of an acetylating agent (a solution in which 25 g of acetic anhydride was dissolved in pyridine to make a volume of 100 ml) was added, and the mixture was stirred for about 1 hour. Phenolphthalein test solution was added to this as an indicator and lasted for 30 seconds. Then, the solution was titrated with a 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution until the solution turned pink, and the hydroxyl value was determined by the following formula.
Hydroxy group value (mgKOH / g) = [{(ba) × F × 28.05} / S] + D
However,
S: Sample collection amount (g)
a: Consumption of 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution (ml)
b: Consumption (ml) of 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution in the blank experiment
F: Titer of 0.1N alcoholic potassium hydroxide solution D: Acid value (mgKOH / g)

(ガラス転移温度(Tg))
樹脂のガラス転移温度は、溶剤を乾燥除去した樹脂を用い、メトラー・トレド(株)製「DSC−1」を使用し、−80〜150℃まで2℃/分で昇温して測定した。
(Glass transition temperature (Tg))
The glass transition temperature of the resin was measured by using a resin obtained by removing the solvent by drying and using "DSC-1" manufactured by METTLER TOLEDO Co., Ltd., and raising the temperature from -80 to 150 ° C. at 2 ° C./min.

<導電助剤の製造>
[製造例4]CB(A)
EC−300J(ケッチェンブラック、ライオン・スペシャリティ・ケミカルズ社製)90部とホウ酸(富士フィルム和光純薬社製)10部とに、溶媒であるトルエン600部とエタノール300部とを加え、自転公転ミキサーで混合し、大気下80℃のオーブンで乾燥させて混合物を得た。上記混合物を、グラファイト製るつぼに充填し、多目的高温炉にてアルゴン雰囲気下、1900℃で1時間熱処理を行い、CB(A)を得た。
CB(A)の[X−Y]は235cm−1であった。また、ホウ素含有量は1.06mol%であった。ホウ素含有量は、ICP発光分光分析(SPECTRO社製 SPECTROARCOS FHS12)を用いて、炭素材料中を測定した値である。また、比表面積は、230m/gであった。ガス吸着量測定装置(マイクロトラック・ベル社製 BELSORP−mini)を用いて、窒素吸着量測定を行い、BET法により比表面積を算出した。
<Manufacturing of conductive auxiliary agent>
[Manufacturing Example 4] CB (A)
Add 600 parts of toluene and 300 parts of ethanol as solvents to 90 parts of EC-300J (Ketchen Black, manufactured by Lion Specialty Chemicals) and 10 parts of boric acid (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and rotate. The mixture was mixed with a revolution mixer and dried in an oven at 80 ° C. under the air to obtain a mixture. The above mixture was filled in a graphite crucible and heat-treated at 1900 ° C. for 1 hour in an argon atmosphere in a multipurpose high-temperature furnace to obtain CB (A).
The [XY] of CB (A) was 235 cm -1 . The boron content was 1.06 mol%. The boron content is a value measured in a carbon material using ICP emission spectroscopic analysis (SPECTROARCOS FHS12 manufactured by SPECTRO). The specific surface area was 230 m 2 / g. The nitrogen adsorption amount was measured using a gas adsorption amount measuring device (BELSORP-mini manufactured by Microtrac Bell), and the specific surface area was calculated by the BET method.

[製造例5]CB(B)
EC−600J(ケッチェンブラック、ライオン・スペシャリティ・ケミカルズ社製)94部とホウ酸(富士フィルム和光純薬社製)6部とに、溶媒であるトルエン500部とエタノール500部とを加え、自転公転ミキサーで混合し、大気下80℃のオーブンで乾燥させて混合物を得た。上記混合物を、グラファイト製るつぼに充填し、多目的高温炉にてアルゴン雰囲気下、1680℃で2時間熱処理を行い、CB(B)を得た。
CB(A)の[X−Y]は237cm−1であった。また、ホウ素含有量は0.73mol%であり、比表面積は、350m/gであった。
[Manufacturing Example 5] CB (B)
To 94 parts of EC-600J (Ketchen Black, manufactured by Lion Specialty Chemicals Co., Ltd.) and 6 parts of boric acid (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 500 parts of toluene and 500 parts of ethanol, which are solvents, are added to rotate. The mixture was mixed with a revolution mixer and dried in an oven at 80 ° C. under the air to obtain a mixture. The above mixture was filled in a graphite crucible and heat-treated at 1680 ° C. for 2 hours in an argon atmosphere in a multipurpose high-temperature furnace to obtain CB (B).
The [XY] of CB (A) was 237 cm -1 . The boron content was 0.73 mol% and the specific surface area was 350 m 2 / g.

[製造例6]CNT
特開2019−108256の段落[0147]及び[0148]に記載の方法により、CNT合成用触媒を作製した。その後、加圧可能で、外部ヒーターで加熱可能な、内容積が10Lの横型反応管の中央部に、前記CNT合成用触媒1gを散布した石英ガラス製耐熱皿を設置した。窒素ガスを注入しながら排気を行い、反応管内の空気を窒素ガスで置換し、横型反応管中の雰囲気温度が700℃になるまで加熱した。700℃に到達した後、炭化水素としてエチレンガスを毎分2Lの流速で反応管内に導入し、15分間接触反応させた。反応終了後、反応管内のガスを窒素ガスで置換し、反応管の温度を100℃以下になるまで冷却し取り出すことでCNTを得た。また、比表面積は、630m/gであった。
[Manufacturing Example 6] CNT
A catalyst for CNT synthesis was prepared by the method described in paragraphs [0147] and [0148] of JP-A-2019-108256. After that, a quartz glass bakeware sprayed with 1 g of the CNT synthesis catalyst was installed in the center of a horizontal reaction tube having an internal volume of 10 L, which could be pressurized and heated by an external heater. Exhaust was performed while injecting nitrogen gas, the air in the reaction tube was replaced with nitrogen gas, and the mixture was heated until the atmospheric temperature in the horizontal reaction tube reached 700 ° C. After reaching 700 ° C., ethylene gas as a hydrocarbon was introduced into the reaction tube at a flow rate of 2 L / min, and the contact reaction was carried out for 15 minutes. After completion of the reaction, the gas in the reaction tube was replaced with nitrogen gas, and the temperature of the reaction tube was cooled to 100 ° C. or lower and taken out to obtain CNTs. The specific surface area was 630 m 2 / g.

<導電性組成物、導電膜の製造>
[実施例A1]
炭素材料(1)84部、バインダー樹脂としてポリエステル樹脂溶液80部(樹脂固形分16部)、溶媒としてトルエン/メチルエチルケトン/2−プロパノール(質量比:1/1/1)180部をミキサーに入れて混合し、更にサンドミルに入れて分散を行い、導電性組成物(1)を得た。次に、この導電性組成物(1)を、厚み100μmのPETフィルム基材上にドクターブレードを用いて塗布した後、オーブンの中で乾燥させた。その後、線圧300kg/cmの条件でロールプレスを行い、導電膜(1)を得た。
<Manufacturing of conductive compositions and conductive films>
[Example A1]
Put 84 parts of carbon material (1), 80 parts of polyester resin solution as binder resin (16 parts of resin solid content), and 180 parts of toluene / methyl ethyl ketone / 2-propanol (mass ratio: 1/1/1) as solvent in a mixer. The mixture was further mixed and further put into a sand mill for dispersion to obtain a conductive composition (1). Next, this conductive composition (1) was applied onto a PET film substrate having a thickness of 100 μm using a doctor blade, and then dried in an oven. Then, a roll press was performed under the condition of a linear pressure of 300 kg / cm to obtain a conductive film (1).

[実施例A2〜A4、比較例A1〜A3]
表2に示す配合組成に変更した以外は実施例A1と同様の方法により、導電性組成物(2)〜(7)、導電膜(2)〜(7)を得た。
[Examples A2 to A4, Comparative Examples A1 to A3]
Conductive compositions (2) to (7) and conductive films (2) to (7) were obtained by the same method as in Example A1 except that the composition was changed to that shown in Table 2.

[実施例A5]
炭素材料(1)60.8部、導電助剤としてCB(1)9.2部、バインダー樹脂としてポリアミド樹脂溶液150部(樹脂固形分30部)、溶媒としてトルエン/メチルエチルケトン/2−プロパノール(質量比:1/1/1)を組成物中の固形分が30質量%となるようにミキサーに入れて混合し、更にサンドミルに入れて分散を行い、導電性組成物(8)を得た。次に、この導電性組成物(8)を、厚み100μmのPETフィルム基材上にドクターブレードを用いて塗布した後、オーブンの中で乾燥させて、導電膜(8)を得た。
[Example A5]
Carbon material (1) 60.8 parts, CB (1) 9.2 parts as a conductive auxiliary agent, polyamide resin solution 150 parts (resin solid content 30 parts) as a binder resin, toluene / methyl ethyl ketone / 2-propanol (mass) as a solvent The ratio: 1/1/1) was put into a mixer and mixed so that the solid content in the composition was 30% by mass, and further put into a sand mill for dispersion to obtain a conductive composition (8). Next, this conductive composition (8) was applied onto a PET film substrate having a thickness of 100 μm using a doctor blade, and then dried in an oven to obtain a conductive film (8).

[実施例A6〜A18、比較例A4〜A6]
表2に示す配合組成に変更した以外は実施例A5と同様の方法により、導電性組成物(9)〜(21)、(23)〜(25)、導電膜(9)〜(21)、(23)〜(25)を得た。
[Examples A6 to A18, Comparative Examples A4 to A6]
Conductive compositions (9) to (21), (23) to (25), conductive films (9) to (21), by the same method as in Example A5 except that the composition was changed to the composition shown in Table 2. (23) to (25) were obtained.

[実施例A19]
炭素材料(4)57部、導電助剤としてCB(2)(アセチレンブラック HS−100、デンカ社製)18部、バインダー樹脂として水溶性樹脂CMC(ダイセルミライズ社製、カルボキシメチルセルロース#1240)を2質量%溶解した水溶液250部(樹脂固形分5部)、をミキサーに入れて混合し、更にサンドミルに入れて分散を行った。
次に、バインダー樹脂として水性樹脂微粒子(ポリアクリルエマルション W−168、トーヨーケム社製、固形分50質量%)を40部(樹脂固形分20部)追加してミキサーで混合し、導電性組成物(22)を得た。
次に、この導電性組成物(22)を、厚み100μmのPETフィルム基材上にドクターブレードを用いて塗布した後、オーブンの中で乾燥させて、導電膜(22)を得た。
[Example A19]
57 parts of carbon material (4), 18 parts of CB (2) (acetylene black HS-100, manufactured by Denka Co., Ltd.) as a conductive auxiliary agent, and 2 parts of water-soluble resin CMC (manufactured by Daicel FineChem, carboxymethyl cellulose # 1240) as a binder resin. 250 parts of a mass-% dissolved aqueous solution (5 parts of resin solid content) was put into a mixer to mix, and further put into a sand mill for dispersion.
Next, 40 parts (20 parts by mass of solid content) of aqueous resin fine particles (polyacrylic emulsion W-168, manufactured by Toyochem Co., Ltd., solid content 50% by mass) were added as a binder resin and mixed with a mixer to form a conductive composition (conducting composition). 22) was obtained.
Next, this conductive composition (22) was applied onto a PET film substrate having a thickness of 100 μm using a doctor blade, and then dried in an oven to obtain a conductive film (22).

<導電性組成物、導電膜の評価>
得られた導電性組成物及び導電膜について以下の方法で評価した。評価結果を表2に示す。
<Evaluation of conductive composition and conductive film>
The obtained conductive composition and conductive film were evaluated by the following methods. The evaluation results are shown in Table 2.

[分散安定性評価]
分散安定性は、導電性組成物を25℃にて7日間静置して保存した後の、液性状の変化から評価した。液性状の変化は、ヘラで撹拌した際の撹拌しやすさから判断した。
○:液性状の変化がない(良好)
△:粘度が上昇しているが、ゲル化はしていない(可)
×:ゲル化している(不良)
[Dispersion stability evaluation]
The dispersion stability was evaluated from the change in liquid properties after the conductive composition was allowed to stand at 25 ° C. for 7 days and stored. The change in liquid properties was judged from the ease of stirring with a spatula.
◯: No change in liquid properties (good)
Δ: Viscosity has increased, but gelation has not occurred (possible)
×: Gelled (defective)

[塗工性評価]
得られた導電膜を、ビデオマイクロスコープVHX−900(キーエンス社製)にて500倍で観察し、塗工ムラ及びピンホールについて、下記の基準で判定した。塗工ムラは、膜表面の濃淡により判断した。ピンホールは、膜中の塗布されていない欠陥の有無により判断した。
《塗工ムラ》
○:膜表面の濃淡が確認されない(良好)
△:膜表面の濃淡が2〜3箇所あるが極めて微小領域である(可)
×:膜表面の濃淡が多数確認される、又は濃淡の縞の長さが5mm以上のものが1個以上確認される(不良)
《ピンホ−ル》
○:ピンホールが確認されない(良好)
△:ピンホールが2〜3個あるが極めて微小である(可)
×:ピンホールが多数確認される、又は直径1mm以上のピンホールが1個以上確認される(不良)
[Evaluation of coatability]
The obtained conductive film was observed with a video microscope VHX-900 (manufactured by KEYENCE CORPORATION) at a magnification of 500, and coating unevenness and pinholes were judged according to the following criteria. The coating unevenness was judged by the shading of the film surface. Pinholes were determined by the presence or absence of uncoated defects in the membrane.
《Uneven coating》
◯: The shading of the film surface is not confirmed (good)
Δ: There are 2 to 3 shades on the film surface, but it is an extremely small area (possible).
X: Many shades on the film surface are confirmed, or one or more shades with a stripe length of 5 mm or more are confirmed (defective).
《Pinhole》
◯: No pinhole is confirmed (good)
Δ: There are 2 to 3 pinholes, but they are extremely small (possible).
X: Many pinholes are confirmed, or one or more pinholes with a diameter of 1 mm or more are confirmed (defective).

[膜の体積抵抗率]
導電膜の体積抵抗率は、JIS−K7194に準拠して、ロレスターGP(日東精工アナリテック社製)を用いて4端子法で測定した。
[Volume resistivity of membrane]
The volume resistivity of the conductive film was measured by the 4-terminal method using Lorester GP (manufactured by Nittoseiko Analytech Co., Ltd.) in accordance with JIS-K7194.

[膜の耐久性]
導電膜の耐久性は、JIS K5600−5−4:1999に準拠して、硬度がHBの鉛筆を用いて引っかき硬度(鉛筆法)により評価した。
〇:塑性変形及び凝集破壊が起こらない(良好)
△:塑性変形又は凝集破壊が部分的に起こっている(可)
×:塑性変形及び凝集破壊が起こっている (不良)
[Membrane durability]
The durability of the conductive film was evaluated by scratch hardness (pencil method) using a pencil having a hardness of HB in accordance with JIS K5600-5-4: 1999.
〇: Plastic deformation and cohesive fracture do not occur (good)
Δ: Plastic deformation or cohesive fracture is partially occurring (possible)
×: Plastic deformation and cohesive fracture have occurred (defective)

Figure 2021183557
Figure 2021183557

表2の結果によれば、本発明のホウ素含有炭素材料を用いた導電性組成物は、優れた分散安定性及び塗工性を有しており、該導電性組成物から形成された導電膜は、高い導電性と耐久性とを両立した。
また、実施例A3及びA4、実施例A11及びA12の比較から、炭素材料における導電性の序列と、導電膜における導電性の序列が必ずしも一致していないことが示された。
また、実施例A5〜A9の比較から、同一の炭素材料を用いた場合であっても、導電助剤の種類や配合比率の違いにより、導電性組成物の塗工性や導電膜の特性が変動することが示された。
また、導電助剤に着目すると、実施例A13〜A16の比較から、導電助剤の比表面積及び導電助剤中の置換型ホウ素含有量が、導電性組成物の塗工性や、導電膜の導電性に影響を及ぼすことが示された。
これらの結果は、炭素材料以外の要因が関与していることを示唆する。現段階では詳細は不明だが、本発明の導電性組成物は、ホウ素含有炭素材料自体が導電性に優れるだけでなく、分散性及び分散安定性が良好であり、さらには塗工性も良好なため、膜中で炭素材料が効率的に導電ネットワークを形成することにより、優れた導電性を発現していると推察される。また、炭素材料の均一なネットワークにより、導電膜の耐久性改善にも繋がったものと推察される。
また、本発明のホウ素含有炭素材料は、溶媒やバインダー樹脂に対する濡れ性が向上するだけでなく、炭素材料の硬さが硬くなる傾向にあり、分散性や塗工性まで影響を及ぼしていると考えられる。これにより、該ホウ素含有炭素材料を含む導電性組成物は、分散性や塗工性が向上し、優れた導電性を発揮したと推察される。
According to the results in Table 2, the conductive composition using the boron-containing carbon material of the present invention has excellent dispersion stability and coatability, and the conductive film formed from the conductive composition. Has both high conductivity and durability.
Further, from the comparison of Examples A3 and A4 and Examples A11 and A12, it was shown that the order of conductivity in the carbon material and the order of conductivity in the conductive film do not always match.
Further, from the comparison of Examples A5 to A9, even when the same carbon material is used, the coatability of the conductive composition and the characteristics of the conductive film are different depending on the type and the blending ratio of the conductive auxiliary agent. It was shown to fluctuate.
Focusing on the conductive auxiliary agent, from the comparison of Examples A13 to A16, the specific surface area of the conductive auxiliary agent and the content of the substituted boron in the conductive auxiliary agent are the coatability of the conductive composition and the conductive material. It has been shown to affect conductivity.
These results suggest that factors other than carbon materials are involved. Although the details are unknown at this stage, in the conductive composition of the present invention, not only the boron-containing carbon material itself is excellent in conductivity, but also the dispersibility and dispersion stability are good, and the coatability is also good. Therefore, it is presumed that the carbon material efficiently forms a conductive network in the film to exhibit excellent conductivity. In addition, it is presumed that the uniform network of carbon materials led to the improvement of the durability of the conductive film.
Further, the boron-containing carbon material of the present invention not only improves the wettability with respect to a solvent or a binder resin, but also tends to increase the hardness of the carbon material, which affects dispersibility and coatability. Conceivable. As a result, it is presumed that the conductive composition containing the boron-containing carbon material has improved dispersibility and coatability, and exhibits excellent conductivity.

1: ホウ素クラスター(186〜187eV)のピーク
2: 炭化ホウ素(187〜188eV)のピーク
3: 六角網面を基本骨格とした炭素元素と置換するようにドープされているホウ素(188〜189.3eV)のピーク
4: 酸化ホウ素BCO(189.5〜190.5eV)のピーク
5: 酸化ホウ素BCO(191.5〜192eV)のピーク
6: 酸化ホウ素B(192.5〜193eV)のピーク
1: Peak of boron cluster (186 to 187 eV) 2: Peak of boron carbide (187 to 188 eV) 3: Boron (188 to 189.3 eV) doped so as to replace a carbon element having a hexagonal network surface as a basic skeleton ) Peak 4: Boron BC 2 O (189.5 to 190.5 eV) peak 5: Boron BCO 2 (191.5-192 eV) peak 6: Boron B 2 O 3 (192.5-193 eV) ) Peak

Claims (8)

ホウ素元素が炭素骨格内の炭素元素の少なくとも一部を置換するようにドープされているホウ素含有炭素材料であって、レーザーラマンスペクトルにおけるGバンドのラマンシフトをXとし、DバンドのラマンシフトをYとした時、ラマンシフトの差[X−Y]が226cm−1以下であり、X線光電子分光法(XPS)によって測定した、ホウ素含有炭素材料表面の全元素に対する表面置換型ホウ素元素の割合が、0.0001以上であるホウ素含有炭素材料。 A boron-containing carbon material in which a boron element is doped so as to replace at least a part of the carbon element in the carbon skeleton, in which the G-band Raman shift in the laser Raman spectrum is X and the D-band Raman shift is Y. The difference in Raman shift [XY] is 226 cm -1 or less, and the ratio of surface-substituted boron elements to all elements on the surface of the boron-containing carbon material measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) is , 0.0001 or more boron-containing carbon material. 黒鉛系炭素材料、グラフェン系炭素材料、及びカーボンナノチューブ系炭素材料からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む請求項1のホウ素含有炭素材料。 The boron-containing carbon material according to claim 1, which comprises at least one selected from the group consisting of a graphite-based carbon material, a graphene-based carbon material, and a carbon nanotube-based carbon material. レーザーラマンスペクトルにおけるGバンドとDバンドとの強度比[G/D]が6以下である請求項1又は2に記載のホウ素含有炭素材料。 The boron-containing carbon material according to claim 1 or 2, wherein the intensity ratio [G / D] of the G band to the D band in the laser Raman spectrum is 6 or less. ラマンシフトの差[X−Y]が218〜226cm−1である請求項1〜3いずれか記載のホウ素含有炭素材料。 The boron-containing carbon material according to any one of claims 1 to 3, wherein the difference in Raman shift [XY] is 218 to 226 cm -1. 請求項1〜4いずれか一項に記載のホウ素含有炭素材料と、バインダー樹脂又は溶媒の少なくとも一方と、を含む導電性組成物。 A conductive composition comprising the boron-containing carbon material according to any one of claims 1 to 4 and at least one of a binder resin or a solvent. さらに導電助剤を含む請求項5に記載の導電性組成物。 The conductive composition according to claim 5, further comprising a conductive auxiliary agent. 導電助剤の比表面積が150〜550m/gである請求項6に記載の導電性組成物。 The conductive composition according to claim 6, wherein the specific surface area of the conductive auxiliary agent is 150 to 550 m 2 / g. 請求項5〜7いずれか一項に記載の導電性組成物から形成されてなる導電膜。 A conductive film formed from the conductive composition according to any one of claims 5 to 7.
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