JP2021170498A - Light emitting device - Google Patents

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Abstract

To provide a light emitting device enabling light extraction efficiency to be more reliably improved and enabling view angle dependency to be reduced.SOLUTION: A light emitting device 10 according to one embodiment comprises: a substrate 12; a first electrode layer 14 provided on the substrate; an intermediate structure 16 provided on the first electrode layer and including a light emitting layer 161; and a second electrode layer 18 provided on the intermediate structure. One of the first electrode layer and the second electrode layer is a translucent electrode layer, and the other is a light reflective electrode layer. When a peak wavelength in a color-matching function corresponding to green color in an XYZ colorimetric system is defined as λG [nm], an optical distance in the intermediate structure between a light-emitting position 165 of light having the wavelength λG and the translucent electrode layer is within any one of a first range of 140-200 nm, a second range of 400-460 nm, and a third range of 680-720 nm, and an optical distance between the light emitting position and the light reflective electrode layer is odd-number times of λG/4.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、発光デバイスに関する。 The present invention relates to a light emitting device.

発光デバイスの例として特許文献1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子(有機ELデバイス)が知られている。特許文献1に記載の発光デバイスは、光透過性を有する基板と、上記基板の表面に設けられた光拡散層と、上記光拡散層の表面に設けられた光透過性電極と、上記光透過性電極と対をなす光反射性電極と、上記光透過性電極と上記光反射性電極との間に離間して設けられた複数の発光層と、を有する。 As an example of the light emitting device, the organic electroluminescence device (organic EL device) described in Patent Document 1 is known. The light emitting device described in Patent Document 1 includes a substrate having light transmission, a light diffusion layer provided on the surface of the substrate, a light transmission electrode provided on the surface of the light diffusion layer, and the light transmission. It has a light-reflecting electrode paired with a sex electrode, and a plurality of light emitting layers provided at a distance between the light-transmitting electrode and the light-reflecting electrode.

特許第5830194号Patent No. 5830194

特許文献1に記載の発光デバイスは例えば照明装置に用いられる。この場合、発光デバイスからの光取り出し効率が高く且つ視野角依存性が低いことが好ましい。特許文献1では、高い光取り出し効率を実現するともに視野角依存性を低減するために、各発光位置(各発光層の例えば中央位置)と光反射性電極との間の光学距離がλ/4の奇数倍からずれた値になるように設計されている。 The light emitting device described in Patent Document 1 is used, for example, in a lighting device. In this case, it is preferable that the light extraction efficiency from the light emitting device is high and the viewing angle dependence is low. In Patent Document 1, the optical distance between each light emitting position (for example, the center position of each light emitting layer) and the light reflecting electrode is λ / 4 in order to realize high light extraction efficiency and reduce the viewing angle dependence. It is designed so that the value deviates from an odd multiple of.

しかしながら、上記設計では、各発光位置(各発光層の例えば中央位置)と光反射性電極との間のキャビティ効果が低減するため、光取り出し効率が実際には低減すると考えられる。 However, in the above design, it is considered that the light extraction efficiency is actually reduced because the cavity effect between each light emitting position (for example, the center position of each light emitting layer) and the light reflecting electrode is reduced.

そこで、本発明は、光取り出し効率をより確実に向上可能であるとともに、視野角依存性の低減可能な発光デバイスを提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a light emitting device capable of more reliably improving the light extraction efficiency and reducing the viewing angle dependence.

本発明の一側面に係る発光デバイスは、基板と、基板上に設けられた第1電極層と、上記第1電極層上に設けられており、発光層を含む中間構造体と、上記中間構造体上に設けられた第2電極層と、を備え、上記第1電極層及び上記第2電極層のうち一方は透光性電極層であり、他方は光反射性電極層であり、XYZ表色系における緑色に対応する等色関数におけるピーク波長をλ[nm]としたとき、上記中間構造体内において波長λの光の発光位置と、上記透光性電極層との間の光学距離が、140nm〜200nmの第1範囲、400nm〜460nmの第2範囲及び680nm〜720nmの第3範囲のいずれかの範囲内であり、上記発光位置と上記光反射性電極層との間の光学距離がλ/4の奇数倍である。 The light emitting device according to one aspect of the present invention includes a substrate, a first electrode layer provided on the substrate, an intermediate structure including the light emitting layer, and the intermediate structure. A second electrode layer provided on the body is provided, and one of the first electrode layer and the second electrode layer is a translucent electrode layer and the other is a light-reflecting electrode layer. When the peak wavelength in the color matching function corresponding to green in the color system is λ G [nm], the optical distance between the light emitting position of the wavelength λ G in the intermediate structure and the translucent electrode layer. Is within any of the first range of 140 nm to 200 nm, the second range of 400 nm to 460 nm, and the third range of 680 nm to 720 nm, and the optical distance between the light emitting position and the light reflecting electrode layer. Is an odd multiple of λ G / 4.

上記構成では、上記発光位置で発せられた光は透光性電極層側から出力される。上記発光位置と透光性電極層との光学距離が上記第1〜第3範囲の何れかの範囲であれば、視野角依存性が低減する。更に、上記光反射性電極層との間の光学距離がλ/4の奇数倍であれば、発光位置から直接透光性電極層に向かう光と、発光位置から光反射性電極層で反射して透光性電極層に向かう光との干渉効果(又はキャビティ効果)により、光取り出し効率が向上する。よって、発光デバイスでは、光取り出し効率を向上可能であるとともに、視野角依存性の低減可能である。 In the above configuration, the light emitted at the light emitting position is output from the translucent electrode layer side. When the optical distance between the light emitting position and the translucent electrode layer is in any of the first to third ranges, the viewing angle dependence is reduced. Further, if the optical distance between the light-reflecting electrode layer and the light-reflecting electrode layer is an odd multiple of λ G / 4, the light directly directed from the light emitting position to the light-transmitting electrode layer and the light reflected from the light-emitting position by the light-reflecting electrode layer. The light extraction efficiency is improved by the interference effect (or cavity effect) with the light directed to the translucent electrode layer. Therefore, in the light emitting device, the light extraction efficiency can be improved and the viewing angle dependence can be reduced.

上記発光層は白色光を出力してもよい。この場合、発光デバイスは例えば照明デバイスに適用可能である。 The light emitting layer may output white light. In this case, the light emitting device can be applied to, for example, a lighting device.

上記発光層が、第1発光層と、上記第1発光層に隣接しており且つ上記第1発光層に積層された第2発光層と、を有し、上記第2発光層から発せられる光は、上記第1発光層から発せられる光の補色であってもよい。この場合、発光デバイスからは白色光が出力され得る。 The light emitting layer has a first light emitting layer and a second light emitting layer adjacent to the first light emitting layer and laminated on the first light emitting layer, and light emitted from the second light emitting layer. May be the complementary color of the light emitted from the first light emitting layer. In this case, white light can be output from the light emitting device.

上記第1電極層は、銀又は銀合金を含んでもよい。この場合、上記第1電極層の厚さは8nm以上35nm以下であってもよい。 The first electrode layer may contain silver or a silver alloy. In this case, the thickness of the first electrode layer may be 8 nm or more and 35 nm or less.

一実施形態に係る発光デバイスは、上記基板と上記第1電極層との間に設けられており上記基板より高い屈折率を有する高屈折率層を更に備え、上記基板は透光性基板であり、上記第1電極層が上記透光性電極層であってもよい。この場合、透光性基板側から光が出力される。上記構成では、光性基板と高屈折率層との間での反射が防止され得るので、透光性基板側からより効率的に光を取り出し得る。 The light emitting device according to the embodiment further includes a high refractive index layer provided between the substrate and the first electrode layer and having a higher refractive index than the substrate, and the substrate is a translucent substrate. The first electrode layer may be the translucent electrode layer. In this case, light is output from the translucent substrate side. In the above configuration, reflection between the light-transmitting substrate and the high-refractive index layer can be prevented, so that light can be extracted more efficiently from the translucent substrate side.

上記発光位置と上記光反射性電極層との間の光学距離が100nm以上155nm以下であってもよい。 The optical distance between the light emitting position and the light reflecting electrode layer may be 100 nm or more and 155 nm or less.

XYZ表色系における赤色及び青色に対応する等色関数におけるピーク波長をそれぞれλ[nm]及びλ[nm]としたとき、上記中間構造体内において波長λの光の発光位置及び波長λの光の発光位置それぞれと、上記透光性電極層との間の光学距離が、上記第1範囲、上記第2範囲及び上記第3範囲のいずれかの範囲内であり、波長λの光の発光位置と上記光反射性電極層との間の光学距離がλ/4の奇数倍であり、波長λの光の発光位置と上記光反射性電極層との間の光学距離がλ/4の奇数倍であってもよい。 When the peak wavelengths in the color matching functions corresponding to red and blue in the XYZ color system are λ R [nm] and λ B [nm], respectively, the light emission position and wavelength λ of the wavelength λ R in the intermediate structure are The optical distance between each of the light emitting positions of B and the translucent electrode layer is within any of the first range, the second range, and the third range, and has a wavelength of λ R. The optical distance between the light emitting position and the light reflecting electrode layer is an odd multiple of λ R / 4, and the optical distance between the light emitting position of wavelength λ B and the light reflecting electrode layer is It may be an odd multiple of λ B / 4.

本発明によれば、光取り出し効率をより確実に向上可能であるとともに、視野角依存性の低減可能な発光デバイスを提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a light emitting device capable of more reliably improving the light extraction efficiency and reducing the viewing angle dependence.

図1は、一実施形態に係る発光デバイスの一例である有機エレクトロルミネッセンスデバイス(有機ELデバイス)の構成を説明するための模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram for explaining the configuration of an organic electroluminescence device (organic EL device) which is an example of a light emitting device according to an embodiment. 図2は、シミュレーションAの結果を示す図面である。FIG. 2 is a drawing showing the result of simulation A. 図3は、シミュレーションBの結果を示す図面である。FIG. 3 is a drawing showing the result of simulation B. 図4は、シミュレーションCの結果を示す図面である。FIG. 4 is a drawing showing the result of simulation C.

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The same elements are designated by the same reference numerals, and duplicate description will be omitted. The dimensional ratios in the drawings do not always match those described.

図1は、一実施形態に係る発光デバイスの一例である有機エレクトロルミネッセンスデバイス(有機ELデバイス)の構成を説明するための模式図である。図1に示した有機ELデバイス10は、基板12と、第1電極層14と、中間構造体16と、第2電極層18と、を備える。有機ELデバイス10は白色光を出力する発光デバイスである。有機ELデバイス10は、基板12と第1電極層14との間に高屈折率層20を備えてもよい。本実施形態では、ボトムエミッション型の有機ELデバイスを説明するとともに、第1電極層14が陽極(又はその一部)として機能し、第2電極層18が陰極として機能する場合を説明する。 FIG. 1 is a schematic diagram for explaining the configuration of an organic electroluminescence device (organic EL device) which is an example of a light emitting device according to an embodiment. The organic EL device 10 shown in FIG. 1 includes a substrate 12, a first electrode layer 14, an intermediate structure 16, and a second electrode layer 18. The organic EL device 10 is a light emitting device that outputs white light. The organic EL device 10 may include a high refractive index layer 20 between the substrate 12 and the first electrode layer 14. In the present embodiment, the bottom emission type organic EL device will be described, and the case where the first electrode layer 14 functions as an anode (or a part thereof) and the second electrode layer 18 functions as a cathode will be described.

[基板]
基板12は、製造すべき有機ELデバイス(電子デバイス)10が出射する光(波長400nm〜800nmの可視光を含む)に対して透光性を有する透光性基板である。基板12の透過率は、可視光において40%〜92%であり得る。基板12の厚さの例は、30μm〜700μmである。
[substrate]
The substrate 12 is a translucent substrate having translucency with respect to light (including visible light having a wavelength of 400 nm to 800 nm) emitted by the organic EL device (electronic device) 10 to be manufactured. The transmittance of the substrate 12 can be 40% to 92% in visible light. An example of the thickness of the substrate 12 is 30 μm to 700 μm.

基板12は、例えばガラス基板及びシリコン基板などのリジッド基板であってもよいし、又は、プラスチック基板及び高分子フィルムなどの可撓性基板であってもよい。可撓性基板とは、基板に所定の力を加えても基板が剪断したり破断したりすることがなく、基板を撓めることが可能な性質を有する基板である。基板12は、水分バリア機能を有するバリア層を更に有してもよい。バリア層は、水分をバリアする機能に加えて、ガス(例えば酸素)をバリアする機能を有してもよい。 The substrate 12 may be a rigid substrate such as a glass substrate and a silicon substrate, or a flexible substrate such as a plastic substrate and a polymer film. The flexible substrate is a substrate having a property of being able to bend the substrate without shearing or breaking even when a predetermined force is applied to the substrate. The substrate 12 may further have a barrier layer having a moisture barrier function. The barrier layer may have a function of barriering gas (for example, oxygen) in addition to a function of barriering water.

[高屈折率層]
高屈折率層20は基板12上に設けられており、基板12より高い屈折率を有する。高屈折率層20は反射防止層として機能する。高屈折率層20の例は金属酸化物層である。高屈折率層20の材料の例は、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウムスズを含む。高屈折率層20の厚さは、透光性を考慮して決定され得る。高屈折率層20の厚さの例は、10nm〜150nmであり、好ましくは、45nm〜55nmである。高屈折率層20は陽極の一部であってもよい。
[High refractive index layer]
The high refractive index layer 20 is provided on the substrate 12 and has a higher refractive index than the substrate 12. The high refractive index layer 20 functions as an antireflection layer. An example of the high refractive index layer 20 is a metal oxide layer. Examples of the material of the high refractive index layer 20 include indium oxide, zinc oxide, tin oxide, and indium tin oxide. The thickness of the high refractive index layer 20 can be determined in consideration of translucency. An example of the thickness of the high refractive index layer 20 is 10 nm to 150 nm, preferably 45 nm to 55 nm. The high refractive index layer 20 may be a part of the anode.

高屈折率層20は、ドライ成膜法、メッキ法、塗布法などにより形成され得る。ドライ成膜法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、CVD法などが挙げられる。塗布法としては、例えば、インクジェット印刷法、スリットコート法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法及びノズル印刷法等が挙げられる。 The high refractive index layer 20 can be formed by a dry film forming method, a plating method, a coating method, or the like. Examples of the dry film forming method include a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a CVD method. Examples of the coating method include an inkjet printing method, a slit coating method, a micro gravure coating method, a gravure coating method, a bar coating method, a roll coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a screen printing method, a flexographic printing method, and an offset printing method. Examples include a printing method and a nozzle printing method.

[第1電極層]
第1電極層14は基板12上に設けられている。図1に示したように、有機ELデバイス10が高屈折率層20を備える形態では、第1電極層14は、高屈折率層20上に設けられる。第1電極層14は、例えば金属層である。第1電極層14の材料としては、例えば銀(Ag)、金(Au)、アルミニウム(Al)、銅(Cu)、鉄(Fe)及びモリブデン(Mo)からなる群から選択される少なくも一種の金属又は銀合金を含む。第1電極層14は、銀又は銀合金を含むことが好ましい。
[First electrode layer]
The first electrode layer 14 is provided on the substrate 12. As shown in FIG. 1, in the form in which the organic EL device 10 includes the high refractive index layer 20, the first electrode layer 14 is provided on the high refractive index layer 20. The first electrode layer 14 is, for example, a metal layer. The material of the first electrode layer 14 is at least one selected from the group consisting of, for example, silver (Ag), gold (Au), aluminum (Al), copper (Cu), iron (Fe) and molybdenum (Mo). Includes metal or silver alloys. The first electrode layer 14 preferably contains silver or a silver alloy.

第1電極層14は、有機ELデバイス10が出力する光に対して透光性を有する透光性電極層である。第1電極層14の厚さは、透光性、光取り出し効率、電気伝導度等を考慮して決定され得る。第1電極層14の厚さの例は8nm〜35nmである。 The first electrode layer 14 is a translucent electrode layer having translucency with respect to the light output by the organic EL device 10. The thickness of the first electrode layer 14 can be determined in consideration of translucency, light extraction efficiency, electrical conductivity, and the like. An example of the thickness of the first electrode layer 14 is 8 nm to 35 nm.

第1電極層14は、ドライ成膜法、メッキ法、塗布法などにより形成され得る。ドライ成膜法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、CVD法などが挙げられる。塗布法としては、例えば、インクジェット印刷法、スリットコート法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法及びノズル印刷法等が挙げられる。 The first electrode layer 14 can be formed by a dry film forming method, a plating method, a coating method, or the like. Examples of the dry film forming method include a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a CVD method. Examples of the coating method include an inkjet printing method, a slit coating method, a micro gravure coating method, a gravure coating method, a bar coating method, a roll coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a screen printing method, a flexographic printing method, and an offset printing method. Examples include a printing method and a nozzle printing method.

[中間構造体]
中間構造体16は発光層161を有する。発光層161は、光(可視光を含む)を発する機能を有する機能層であり、本実施形態では白色光を出力する。発光層161は有機物を含む有機層である。発光層161は、通常、主として蛍光及びりん光の少なくとも一方を発光する有機物、又はこの有機物とこれを補助するドーパント材料とから構成される。ドーパント材料は、例えば発光効率の向上や、発光波長を変化させるために加えられる。上記有機物は、低分子化合物でも高分子化合物でもよい。
[Intermediate structure]
The intermediate structure 16 has a light emitting layer 161. The light emitting layer 161 is a functional layer having a function of emitting light (including visible light), and outputs white light in the present embodiment. The light emitting layer 161 is an organic layer containing an organic substance. The light emitting layer 161 is usually composed of an organic substance that mainly emits at least one of fluorescence and phosphorescence, or a dopant material that assists the organic substance. Dopant materials are added, for example, to improve luminous efficiency and change the emission wavelength. The organic substance may be a small molecule compound or a high molecular compound.

主として蛍光及びりん光の少なくとも一方を発光する発光性材料である有機物としては、例えば以下の色素系材料、金属錯体系材料及び高分子系材料が挙げられる。 Examples of organic substances that are luminescent materials that mainly emit at least one of fluorescence and phosphorescence include the following pigment-based materials, metal complex-based materials, and polymer-based materials.

(色素系材料)
色素系材料としては、例えば、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体などが挙げられる。
(Dye material)
Examples of the dye-based material include cyclopendamine derivatives, tetraphenylbutadiene derivative compounds, triphenylamine derivatives, oxaziazole derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, pyrrole derivatives, and thiophene ring compounds. , Pylin ring compounds, perinone derivatives, perylene derivatives, oligothiophene derivatives, oxaziazole dimers, pyrazoline dimers, quinacridone derivatives, coumarin derivatives and the like.

(金属錯体系材料)
金属錯体系材料としては、例えばTb、Eu、Dyなどの希土類金属、又はAl、Zn、Be、Ir、Ptなどを中心金属に有し、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造などを配位子に有する金属錯体が挙げられ、例えばイリジウム錯体、白金錯体などの三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミニウムキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、フェナントロリンユーロピウム錯体などが挙げられる。
(Metal complex material)
Examples of the metal complex material include rare earth metals such as Tb, Eu, and Dy, or Al, Zn, Be, Ir, and Pt as the central metal, and oxadiazole, thiadiazol, phenylpyridine, phenylbenzoimidazole, and quinoline. Examples of metal complexes having a structure as a ligand include metal complexes that emit light from a triple-term excited state such as iridium complexes and platinum complexes, aluminum quinolinol complexes, benzoquinolinol berylium complexes, and benzoxazolyl zinc complexes. Examples thereof include a benzothiazole zinc complex, an azomethylzinc complex, a porphyrin zinc complex, and a phenanthroline europium complex.

(高分子系材料)
高分子系材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素系材料や金属錯体系発光材料を高分子化したものなどが挙げられる。
(Polymer-based material)
As the polymer-based material, a polyparaphenylene vinylene derivative, a polythiophene derivative, a polyparaphenylene derivative, a polysilane derivative, a polyacetylene derivative, a polyfluorene derivative, a polyvinylcarbazole derivative, and the above-mentioned dye-based material and metal complex-based luminescent material are polymerized. Things and so on.

本実施形態において、発光層161は、第1発光層161Aと第2発光層161Bとを有する。 In the present embodiment, the light emitting layer 161 has a first light emitting layer 161A and a second light emitting layer 161B.

第1発光層161Aは、第2発光層161Bより第1電極層14側に配置されている。第1発光層161Aは、赤色に発光する材料を含む。赤色に発光する材料としては、例えばクマリン誘導体、チオフェン環化合物及びそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが挙げられる。赤色に発光する材料としては、高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。 The first light emitting layer 161A is arranged on the first electrode layer 14 side of the second light emitting layer 161B. The first light emitting layer 161A contains a material that emits red light. Examples of the material that emits red light include a coumarin derivative, a thiophene ring compound and a polymer thereof, a polyparaphenylene vinylene derivative, a polythiophene derivative, and a polyfluorene derivative. As the material that emits red light, a polyparaphenylene vinylene derivative, a polythiophene derivative, a polyfluorene derivative, and the like, which are polymer materials, are preferable.

第2発光層161Bは、第1発光層161Aに隣接しており且つ第1発光層161A上に積層されている。第2発光層161Bは、青色に発光する材料と緑色に発光する材料とを含む。青色に発光する材料としては、例えばジスチリルアリーレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、及びそれらの重合体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが挙げられる。青色に発光する材料としては、高分子材料のポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体やポリフルオレン誘導体などが好ましい。緑色に発光する材料としては、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体及びそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが挙げられる。緑色に発光する材料としては、高分子材料のポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体などが好ましい。 The second light emitting layer 161B is adjacent to the first light emitting layer 161A and is laminated on the first light emitting layer 161A. The second light emitting layer 161B includes a material that emits blue light and a material that emits green light. Examples of the material that emits blue light include dystilyl arylene derivatives, oxadiazole derivatives, and polymers thereof, polyvinylcarbazole derivatives, polyparaphenylene derivatives, polyfluorene derivatives, and the like. As the material that emits blue light, a polyvinyl carbazole derivative, a polyparaphenylene derivative, a polyfluorene derivative, or the like, which is a polymer material, is preferable. Examples of the material that emits green light include quinacridone derivatives, coumarin derivatives and polymers thereof, polyparaphenylene vinylene derivatives, polyfluorene derivatives and the like. As the material that emits green light, a polyparaphenylene vinylene derivative, a polyfluorene derivative, or the like, which is a polymer material, is preferable.

中間構造体16は、第1電極層14と発光層161(図1に示した構成において具体的に第1発光層161A)との間に導電層162及び正孔注入層163の少なくとも一方を備えてもよい。 The intermediate structure 16 includes at least one of a conductive layer 162 and a hole injection layer 163 between the first electrode layer 14 and the light emitting layer 161 (specifically, the first light emitting layer 161A in the configuration shown in FIG. 1). You may.

導電層162は、第1電極層14に隣接しており且つ第1電極層14上に積層される。導電層162は透光性を有する。導電層162は陽極の一部であってもよい。導電層162の材料としては、例えばインジウム錫酸化物(Indium Tin Oxide:略称ITO)、インジウム亜鉛酸化物(Indium Zinc Oxide:略称IZO)等が挙げられる。 The conductive layer 162 is adjacent to the first electrode layer 14 and is laminated on the first electrode layer 14. The conductive layer 162 has translucency. The conductive layer 162 may be a part of the anode. Examples of the material of the conductive layer 162 include indium tin oxide (abbreviated as ITO) and indium zinc oxide (abbreviated as IZO).

導電層162は、ドライ成膜法、メッキ法、塗布法などにより形成され得る。ドライ成膜法及び塗布法の例は、第1電極層14の形成方法で挙げた例と同様であり得る。 The conductive layer 162 can be formed by a dry film forming method, a plating method, a coating method, or the like. Examples of the dry film forming method and the coating method can be the same as the examples given in the method of forming the first electrode layer 14.

有機ELデバイス10が、高屈折率層20及び導電層162を備える形態では、高屈折率層20、第1電極層14及び導電層162を有する積層体であって、高屈折率層20上に、第1電極層14及び導電層162が順に積層されている、上記積層体が陽極であり得る。 In the form in which the organic EL device 10 includes the high refractive index layer 20 and the conductive layer 162, it is a laminate having the high refractive index layer 20, the first electrode layer 14 and the conductive layer 162, and is on the high refractive index layer 20. , The first electrode layer 14 and the conductive layer 162 are laminated in this order, and the laminated body may be an anode.

基板12と上記積層体(高屈折率層20、第1電極層14及び導電層162を有する積層体)とを含む積層構造の可視領域における透過率は例えば40%〜90%であり、反射率は例えば4%〜40%であり得る。換言すれば、上記透過率及び反射率を実現可能なように、基板12、高屈折率層20、第1電極層14及び導電層162の材料、厚さなどが設定され得る。上記基板12と上記積層構造が、高屈折率層20及び導電層162の少なくとも一方を有しない場合も同様である。 The transmittance in the visible region of the laminated structure including the substrate 12 and the laminated body (the laminated body having the high refractive index layer 20, the first electrode layer 14 and the conductive layer 162) is, for example, 40% to 90%, and the reflectance is Can be, for example, 4% -40%. In other words, the material, thickness, and the like of the substrate 12, the high refractive index layer 20, the first electrode layer 14, and the conductive layer 162 can be set so that the above-mentioned transmittance and reflectance can be realized. The same applies when the substrate 12 and the laminated structure do not have at least one of the high refractive index layer 20 and the conductive layer 162.

正孔注入層163は、第1電極層14(中間構造体16が導電層162を備える形態では導電層162)から発光層161(図1に示した構成において具体的には第1発光層161A)への正孔注入効率を向上させる機能を有する機能層である。正孔注入層163は、無機層でもよいし、有機層でもよい。正孔注入層163を構成する正孔注入材料は、低分子化合物でもよいし、高分子化合物でもよい。 The hole injection layer 163 is formed from the first electrode layer 14 (the conductive layer 162 in the form in which the intermediate structure 16 includes the conductive layer 162) to the light emitting layer 161 (specifically, the first light emitting layer 161A in the configuration shown in FIG. 1). ) Is a functional layer having a function of improving the hole injection efficiency. The hole injection layer 163 may be an inorganic layer or an organic layer. The hole injection material constituting the hole injection layer 163 may be a low molecular weight compound or a high molecular weight compound.

低分子化合物としては、例えば、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、及び酸化アルミニウムなどの金属酸化物、銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン化合物、カーボンなどが挙げられる。 Examples of the low molecular weight compound include metal oxides such as vanadium oxide, molybdenum oxide, ruthenium oxide, and aluminum oxide, metal phthalocyanine compounds such as copper phthalocyanine, and carbon.

高分子化合物としては、例えば、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)のようなポリチオフェン誘導体、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポリキノリン及びポリキノキサリン、並びに、これらの誘導体;芳香族アミン構造を主鎖又は側鎖に含む重合体等の導電性高分子などが挙げられる。 Polymeric compounds include, for example, polythiophene derivatives such as polyaniline, polythiophene, polyethylenedioxythiophene (PEDOT), polypyrrole, polyphenylene vinylene, polythienylene vinylene, polyquinoline and polyquinoxaline, and derivatives thereof; aromatic amine structures. Examples thereof include conductive polymers such as polymers containing the above in the main chain or the side chain.

正孔注入層163は、ドライ成膜法、メッキ法、塗布法などにより形成され得る。ドライ成膜法及び塗布法の例は、第1電極層14の形成方法で挙げた例と同様であり得る。 The hole injection layer 163 can be formed by a dry film forming method, a plating method, a coating method, or the like. Examples of the dry film forming method and the coating method can be the same as the examples given in the method of forming the first electrode layer 14.

中間構造体16は、発光層161と第2電極層18との間に電子輸送層164を備えてもよい。 The intermediate structure 16 may include an electron transport layer 164 between the light emitting layer 161 and the second electrode layer 18.

電子輸送層164は、第2電極層18から電子を受け取り、発光層161(図1に示した構成において具体的には第2発光層161B)まで電子を輸送する機能を有する機能層である。 The electron transport layer 164 is a functional layer having a function of receiving electrons from the second electrode layer 18 and transporting electrons to the light emitting layer 161 (specifically, the second light emitting layer 161B in the configuration shown in FIG. 1).

電子輸送層164は電子輸送材料を含む有機層である。電子輸送材料には、公知の材料が用いられ得る。電子輸送層164を構成する電子輸送材料としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン若しくはその誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、ナフトキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、テトラシアノアントラキノジメタン若しくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン若しくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、または8−ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の金属錯体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体などが挙げられる。 The electron transport layer 164 is an organic layer containing an electron transport material. A known material can be used as the electron transport material. Examples of the electron transporting material constituting the electron transporting layer 164 include oxadiazole derivative, anthracinodimethane or its derivative, benzoquinone or its derivative, naphthoquinone or its derivative, anthraquinone or its derivative, tetracyanoanthraquinodimethane or its derivative. , Fluolenone derivative, diphenyldicyanoethylene or its derivative, diphenoquinone derivative, or metal complex of 8-hydroxyquinoline or its derivative, polyquinolin or its derivative, polyquinoxalin or its derivative, polyfluorene or its derivative and the like.

電子輸送層164は、ドライ成膜法、メッキ法、塗布法などにより形成され得る。ドライ成膜法及び塗布法の例は、第1電極層14の形成方法で挙げた例と同様であり得る。 The electron transport layer 164 can be formed by a dry film forming method, a plating method, a coating method, or the like. Examples of the dry film forming method and the coating method can be the same as the examples given in the method of forming the first electrode layer 14.

[第2電極層]
第2電極層18は中間構造体16上に設けられている。第2電極層18は反射性電極層である。第2電極層18は、反射率が70%以上、より好ましくは90%以上を有していればよい。
[Second electrode layer]
The second electrode layer 18 is provided on the intermediate structure 16. The second electrode layer 18 is a reflective electrode layer. The second electrode layer 18 may have a reflectance of 70% or more, more preferably 90% or more.

第2電極層18の材料としては、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属及び周期表第13族元素等が挙げられる。第2電極層18の材料としては、具体的には、例えばリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウム等の金属、前記金属のうちの2種以上の合金、前記金属のうちの1種以上と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうちの1種以上との合金、又はグラファイト若しくはグラファイト層間化合物等が挙げられる。合金の例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金等が挙げられる。 Examples of the material of the second electrode layer 18 include alkali metals, alkaline earth metals, transition metals, and elements of Group 13 of the periodic table. Specific examples of the material of the second electrode layer 18 include lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium, aluminum, scandium, vanadium, zinc, ittrium, indium, and cerium. Metals such as samarium, europium, terbium, itterbium, alloys of two or more of the metals, one or more of the metals, and gold, silver, platinum, copper, manganese, titanium, cobalt, nickel, tungsten, Examples include alloys with one or more of tin, graphite, graphite interlayer compounds, and the like. Examples of alloys include magnesium-silver alloys, magnesium-indium alloys, magnesium-aluminum alloys, indium-silver alloys, lithium-aluminum alloys, lithium-magnesium alloys, lithium-indium alloys, calcium-aluminum alloys and the like.

第2電極層18の厚さは、電気伝導度、耐久性を考慮して設定される。第2電極層18の厚さは、通常、10nm〜10μmであり、好ましくは20nm〜1μmであり、さらに好ましくは50nm〜500nmである。 The thickness of the second electrode layer 18 is set in consideration of electrical conductivity and durability. The thickness of the second electrode layer 18 is usually 10 nm to 10 μm, preferably 20 nm to 1 μm, and more preferably 50 nm to 500 nm.

第2電極層18の形成方法として、例えば、インクジェット印刷法、スリットコート法、グラビアコート法、スクリーン印刷法、スプレーコート法等の塗布法、真空蒸着法、スパッタリング法、金属薄膜を熱圧着するラミネート法等が挙げられる。 Examples of the method for forming the second electrode layer 18 include an inkjet printing method, a slit coating method, a gravure coating method, a screen printing method, a spray coating method and other coating methods, a vacuum deposition method, a sputtering method, and a lamination in which a metal thin film is thermocompression bonded. Law etc. can be mentioned.

XYZ表色系における緑色の等色関数のピークに対応する波長(以下、「ピーク波長」と称す場合もある)をλ[nm]と称したとき、有機ELデバイス10が備える中間構造体16内において波長λの光の発光位置165(図1参照)と、第1電極層14との間の光学距離(光学的厚さ)nd1は、140nm〜200nmである第1範囲、400nm〜460nmである第2範囲及び680nm〜720nmである第3範囲のいずれかの範囲内である。第3範囲は、680nm〜720nmでもよい。 When the wavelength corresponding to the peak of the green color matching function in the XYZ color system (hereinafter, may be referred to as “peak wavelength”) is referred to as λ G [nm], the intermediate structure 16 included in the organic EL device 10 The optical distance (optical thickness) nd1 between the emission position 165 (see FIG. 1) of light having a wavelength of λ G and the first electrode layer 14 is 140 nm to 200 nm, which is the first range, 400 nm to 460 nm. It is within any of the second range of 680 nm to 720 nm and the third range of 680 nm to 720 nm. The third range may be 680 nm to 720 nm.

発光位置165は、電荷の再結合が生じる位置であり、実際には複数存在する。本実施形態において、有機ELデバイス10を構成する各層は平坦な層を想定しているため、複数の発光位置165は実質的に同一平面上に存在し得る。よって、図1では、発光位置165を面、具体的には、第1発光層161A及び第2発光層161Bの界面として図示している。第1発光層161A及び第2発光層161Bは発光層161に含まれるので、発光位置165は発光層161内に位置している。上記のように、発光位置165は電荷の再結合が生じる位置であることから、第1発光層161A及び第2発光層161Bの界面の位置に限定されず、第1発光層161A内、第2発光層161B内、又は発光層161の表面の場合もあり得る。製造された有機ELデバイス10において、発光位置165は例えば、発せられる光の波長毎に、発光強度角度分布と、発光位置を変更した際の発光強度角度分布を転送行列法により計算した結果とを照合することによって特定され得る。転送行列法により発光強度角度分布を計算する方法としては、FLUXIM社によって開発されているシミュレーションプログラムsetfosを用いることができる。 The light emitting positions 165 are positions where charge recombination occurs, and there are actually a plurality of light emitting positions. In the present embodiment, since each layer constituting the organic EL device 10 is assumed to be a flat layer, a plurality of light emitting positions 165 may exist substantially on the same plane. Therefore, in FIG. 1, the light emitting position 165 is shown as a surface, specifically, as an interface between the first light emitting layer 161A and the second light emitting layer 161B. Since the first light emitting layer 161A and the second light emitting layer 161B are included in the light emitting layer 161, the light emitting position 165 is located in the light emitting layer 161. As described above, since the light emitting position 165 is a position where charge recombination occurs, the position is not limited to the position of the interface between the first light emitting layer 161A and the second light emitting layer 161B, and is not limited to the position of the interface between the first light emitting layer 161A and the second light emitting layer 161B. It may be inside the light emitting layer 161B or the surface of the light emitting layer 161. In the manufactured organic EL device 10, the light emitting position 165 is, for example, the result of calculating the light emitting intensity angle distribution and the light emitting intensity angle distribution when the light emitting position is changed for each wavelength of the emitted light by the transfer matrix method. It can be identified by matching. As a method of calculating the emission intensity angle distribution by the transfer matrix method, the simulation program setfos developed by FLUXIM can be used.

上記等色関数のピーク波長とは、等色関数で表される曲線における最大値に対応する波長を意味しており、波長λは、例えばCIE1931において555nmである。 The peak wavelength of the color matching function means a wavelength corresponding to the maximum value in the curve represented by the color matching function, and the wavelength λ G is, for example, 555 nm in CIE 1931.

光学距離nd1は、中間構造体16において発光位置165と第1電極層14との間に存在する複数の層の波長λの光に対する光学距離(層の厚さと波長λの光に対する層の屈折率の積)の和である。換言すれば、中間構造体16において発光位置165と第1電極層14との間に存在する複数の層の厚さは、各層の波長λの光に対する屈折率を考慮して、上記光学距離nd1を実現するように設定される。ある層が複数の材料を含む場合、その層の波長λの光に対する光学距離とは、層に含まれる複数の材料の波長λの光に対する屈折率と膜厚を乗じた値の和であり得る(以下、同様)。 Optical distance nd1 is the intermediate structure 16 and emission position 165 of the layer to light in the thickness and the wavelength lambda G optical distance (a layer for light having a wavelength lambda G of a plurality of layers present between the first electrode layer 14 It is the sum of the products of the refractive indexes). In other words, the thickness of the plurality of layers existing between the light emitting position 165 and the first electrode layer 14 in the intermediate structure 16 is the optical distance in consideration of the refractive index of each layer with respect to light having a wavelength of λ G. It is set to realize nd1. If a layer contains a plurality of materials, the optical distance for light with a wavelength lambda G of the layer, by the sum of the values obtained by multiplying the refractive index and thickness with respect to light having a wavelength lambda G of a plurality of materials in the layer It is possible (hereinafter, the same applies).

図1に示した例では、光学距離nd1は、導電層162の厚さt1と導電層162の波長λに対する屈折率の積と、正孔注入層163の厚さt2と正孔注入層163の波長λに対する屈折率の積と、第1発光層161Aの厚さt3と第1発光層161Aの波長λに対する屈折率の積との和である。換言すれば、厚さt1〜t3は、導電層162、正孔注入層163及び第1発光層161Aそれぞれの波長λに対する屈折率を考慮して、上記光学距離nd1を満たすように、設定される。 In the example shown in FIG. 1, the optical distance nd1 is the product of the thickness t1 of the conductive layer 162 and the refractive index of the conductive layer 162 with respect to the wavelength λ G , the thickness t2 of the hole injection layer 163, and the hole injection layer 163. the product of the refractive index for the wavelength lambda G of the sum of the product of the refractive index and the thickness t3 of the first light-emitting layer 161A with respect to the wavelength lambda G of the first light-emitting layer 161A. In other words, the thicknesses t1 to t3 are set so as to satisfy the optical distance nd1 in consideration of the refractive indexes of the conductive layer 162, the hole injection layer 163, and the first light emitting layer 161A with respect to the wavelength λ G. NS.

厚さt1の例は、10nm〜200nmである。厚さt2の例は、10nm〜110nmである。厚さt3の例は、10nm〜60nmである。 An example of thickness t1 is 10 nm to 200 nm. An example of thickness t2 is 10 nm to 110 nm. An example of thickness t3 is 10 nm to 60 nm.

光反射性電極層である第2電極層18と発光位置165との間の光学距離nd2は、λ/4の奇数倍である。本明細書において、λ/4の奇数倍は、λ/4の奇数倍に対して一定の許容範囲を含む概念である。一定の許容範囲は、例えば製造誤差、薄膜干渉において光を強め合う場合に通常許容される範囲等を考慮して設定され、例えばλ/4の奇数倍に対して±5(好ましくは2.5)nmである。光学距離nd2は例えば100nm以上155nm以下である。 The optical distance nd2 between the second electrode layer 18 which is the light-reflecting electrode layer and the light emitting position 165 is an odd multiple of λ G / 4. In this specification, an odd multiple of lambda G / 4 is a concept including a certain tolerance with respect to an odd multiple of λ G / 4. A certain allowable range is set in consideration of, for example, a manufacturing error, a range normally allowed when light is intensified due to thin film interference, and the like, for example, ± 5 (preferably 2.) with respect to an odd multiple of λ G / 4. 5) nm. The optical distance nd2 is, for example, 100 nm or more and 155 nm or less.

光学距離nd2は、中間構造体16において発光位置165と第2電極層18との間に存在する複数の層の波長λの光に対する光学距離(層の厚さと波長λの光に対する層の屈折率の積)の和である。換言すれば、中間構造体16において発光位置165と第2電極層18との間に存在する複数の層の厚さは、各層の波長λの光に対する屈折率を考慮して、上記光学距離nd2を実現するように設定される。 Optical distance nd2 is the intermediate structure 16 and emission position 165 of the layer to light in the thickness and the wavelength lambda G optical distance (a layer for light having a wavelength lambda G of a plurality of layers present between the second electrode layer 18 It is the sum of the products of the refractive indexes). In other words, the thickness of the plurality of layers existing between the light emitting position 165 and the second electrode layer 18 in the intermediate structure 16 is the optical distance in consideration of the refractive index of each layer with respect to light having a wavelength of λ G. It is set to realize nd2.

図1に示した例では、光学距離nd2は、第2発光層161Bの厚さt4と第2発光層161Bの波長λに対する屈折率の積と、電子輸送層164の厚さt5と電子輸送層164の厚さt5の波長λに対する屈折率の積との和である。換言すれば、厚さt4及び厚さt5は、第2発光層161B及び電子輸送層164それぞれの波長λに対する屈折率を考慮して、上記光学距離nd2を満たすように、設定される。 In the example shown in FIG. 1, the optical distance nd2 is the product of the thickness t4 of the second light emitting layer 161B and the refractive index of the second light emitting layer 161B with respect to the wavelength λ G, and the thickness t5 of the electron transport layer 164 and electron transport. It is the sum of the product of the refractive index with respect to the wavelength λ G of the thickness t5 of the layer 164. In other words, the thickness t4 and the thickness t5 are set so as to satisfy the optical distance nd2 in consideration of the refractive indexes of the second light emitting layer 161B and the electron transporting layer 164 with respect to the wavelength λ G.

厚さt4の例は、50nm〜80nmである。厚さt5の例は、10nm〜30nmである。 An example of thickness t4 is 50 nm-80 nm. An example of thickness t5 is 10 nm to 30 nm.

有機ELデバイス10は、第1電極層14、中間構造体16及び第2電極層18を例示した方法によって基板12上に第1電極層14、中間構造体16及び第2電極層18の順に形成することによって製造される。中間構造体16が多層構造を有する形態では、中間構造体16のうち第1電極層14に隣接する層から順に形成すればよい。 The organic EL device 10 is formed on the substrate 12 in the order of the first electrode layer 14, the intermediate structure 16, and the second electrode layer 18 by the method exemplifying the first electrode layer 14, the intermediate structure 16, and the second electrode layer 18. Manufactured by In the form in which the intermediate structure 16 has a multi-layer structure, the intermediate structure 16 may be formed in order from the layer adjacent to the first electrode layer 14.

上記光学距離nd1及び光学距離nd2を有するように有機ELデバイス10を製造するために、例えば予めシミュレーションなどによって、光学距離nd1及び光学距離nd2が例示した範囲になるように、中間構造体16が有する各層の厚さを設定しておけばよい。 In order to manufacture the organic EL device 10 so as to have the optical distance nd1 and the optical distance nd2, the intermediate structure 16 has the intermediate structure 16 so that the optical distance nd1 and the optical distance nd2 are within the illustrated ranges by, for example, a simulation in advance. The thickness of each layer may be set.

有機ELデバイス10では、第1電極層14及び第2電極層18を介して有機ELデバイス10に通電することによって発光層161が発光する。第2電極層18が反射性電極層であり、第1電極層14が透過性電極層であることから、発光層161から出力される光は、基板12側から光が出射される。発光層161は、赤色を発光する材料、緑色を発光する材料及び青色を発光する材料を含むことから、有機ELデバイス10からは白色光が出力される。白色光を出力する有機ELデバイス10は例えば照明デバイスとして機能する。 In the organic EL device 10, the light emitting layer 161 emits light by energizing the organic EL device 10 via the first electrode layer 14 and the second electrode layer 18. Since the second electrode layer 18 is the reflective electrode layer and the first electrode layer 14 is the transmissive electrode layer, the light output from the light emitting layer 161 is emitted from the substrate 12 side. Since the light emitting layer 161 contains a material that emits red light, a material that emits green light, and a material that emits blue light, white light is output from the organic EL device 10. The organic EL device 10 that outputs white light functions as, for example, a lighting device.

光学距離nd1が上記第1〜第3範囲の何れかに含まれていることにより、有機ELデバイス10の視野角依存性を低減可能である。この点について、シミュレーション結果を参照して詳述する。光学距離nd2がλ/4の奇数倍である場合、発光位置165から直接基板12側(光取り出し側)に向かう光と、第2電極層18に向かい第2電極層18で反射された光との干渉効果(又はキャビティ効果)に起因して高い発光効率、すなわち、高い光取り出し効率が得られる。従って、有機ELデバイス10の構成では、高い光取り出し効率を実現可能であるとともに、視野角依存性の低減を実現可能である。 Since the optical distance nd1 is included in any of the first to third ranges, the viewing angle dependence of the organic EL device 10 can be reduced. This point will be described in detail with reference to the simulation results. When the optical distance nd2 is an odd multiple of λ G / 4, the light directly from the luminous position 165 toward the substrate 12 side (light extraction side) and the light reflected by the second electrode layer 18 toward the second electrode layer 18 High luminous efficiency, that is, high light extraction efficiency can be obtained due to the interference effect (or cavity effect) with the light. Therefore, in the configuration of the organic EL device 10, high light extraction efficiency can be realized and viewing angle dependence can be reduced.

第1電極層14が銀又は銀合金を含む場合、高い導電率が実現されるので、電力効率を向上可能である。更に、銀又は銀合金を含む第1電極層14では、第1電極層14において優れた表面平坦性を実現可能であることから、有機ELデバイス10の発光ムラを低減可能である。銀又は銀合金を含む第1電極層14の厚さは、8nm以上35nm以下であることが好ましい。第1電極層14の厚さが8nm未満であると導電率が低下し、第1電極層14の厚さが35nmより大きいと第1電極層14での反射率が増大し、光の取り出し効率が低下する。そのため、第1電極層14の厚さが上記範囲であれば、高い導電率を可能にしながら、高い光取り出し効率も実現可能である。 When the first electrode layer 14 contains silver or a silver alloy, high conductivity is realized, so that power efficiency can be improved. Further, in the first electrode layer 14 containing silver or a silver alloy, excellent surface flatness can be realized in the first electrode layer 14, so that the light emission unevenness of the organic EL device 10 can be reduced. The thickness of the first electrode layer 14 containing silver or a silver alloy is preferably 8 nm or more and 35 nm or less. If the thickness of the first electrode layer 14 is less than 8 nm, the conductivity decreases, and if the thickness of the first electrode layer 14 is larger than 35 nm, the reflectance of the first electrode layer 14 increases, and the light extraction efficiency increases. Decreases. Therefore, if the thickness of the first electrode layer 14 is within the above range, high light extraction efficiency can be realized while enabling high conductivity.

有機ELデバイス10が高屈折率層20を備えている形態では、基板12と高屈折率層20との界面での反射が防止されるので、光取り出し効率が更に向上し得る。 In the form in which the organic EL device 10 includes the high refractive index layer 20, reflection at the interface between the substrate 12 and the high refractive index layer 20 is prevented, so that the light extraction efficiency can be further improved.

次に、有機ELデバイス10の作用効果をシミュレーション結果に基づいて説明する。 Next, the action and effect of the organic EL device 10 will be described based on the simulation results.

シミュレーションモデルとして図1に示した構成を採用した。すなわち、基板12上に、基板12側から高屈折率層20、第1電極層14、中間構造体16及び第2電極層18が積層された有機ELデバイスを用いてシミュレーションを実施した。中間構造体16は、導電層162、正孔注入層163、第1発光層161A、第2発光層161B及び電子輸送層164を備えており、中間構造体16において、導電層162、正孔注入層163、第1発光層161A、第2発光層161B及び電子輸送層164はこの順に積層されていた。説明の便宜のため、シミュレーションモデルとしての有機ELデバイスを有機ELデバイス10Mと称す。波長λの光の発光位置165を、図1に示したように、第1発光層161Aと第2発光層161Bの界面とした。第1発光層161Aからは赤色が発光し、第2発光層161Bからは青色及び緑色が発光することによって、有機ELデバイス10Mから白色が発光するように設定した。 The configuration shown in FIG. 1 was adopted as the simulation model. That is, the simulation was carried out using an organic EL device in which the high refractive index layer 20, the first electrode layer 14, the intermediate structure 16 and the second electrode layer 18 were laminated on the substrate 12 from the substrate 12 side. The intermediate structure 16 includes a conductive layer 162, a hole injection layer 163, a first light emitting layer 161A, a second light emitting layer 161B, and an electron transport layer 164. In the intermediate structure 16, the conductive layer 162 and hole injection The layer 163, the first light emitting layer 161A, the second light emitting layer 161B, and the electron transport layer 164 were laminated in this order. For convenience of explanation, the organic EL device as a simulation model is referred to as an organic EL device 10M. As shown in FIG. 1, the light emitting position 165 of the wavelength λ G was set as the interface between the first light emitting layer 161A and the second light emitting layer 161B. The first light emitting layer 161A emits red light, and the second light emitting layer 161B emits blue and green, so that the organic EL device 10M emits white light.

<シミュレーションA>
シミュレーションAでは、有機ELデバイス10Mにおいて、第1電極層14の材料として銀を想定し、第1電極層14の厚さは14nmとし、第2電極層18の材料としてアルミニウムを想定し、第2電極層18の厚さは200nmに設定した。
<Simulation A>
In simulation A, in the organic EL device 10M, silver is assumed as the material of the first electrode layer 14, the thickness of the first electrode layer 14 is 14 nm, aluminum is assumed as the material of the second electrode layer 18, and the second electrode layer 18 is used. The thickness of the electrode layer 18 was set to 200 nm.

光学距離nd1及び光学距離nd2の組を(nd1,nd2)と称した場合、シミュレーションAでは、光学距離nd1と光学距離nd2の和が一定である複数の(nd1,nd2)に対して、有機ELデバイス10Mから白色光を出力した場合における相関色温度差ΔCCTを計算した。相関色温度差ΔCCTは、基板12の厚さ方向を放射角度0°とし、放射角度0°の色温度と放射角度70°の色温度の差である。 When the set of the optical distance nd1 and the optical distance nd2 is referred to as (nd1, nd2), in the simulation A, the organic EL is used for a plurality of (nd1, nd2) in which the sum of the optical distance nd1 and the optical distance nd2 is constant. The correlated color temperature difference ΔCCT when white light was output from the device 10M was calculated. The correlated color temperature difference ΔCCT is the difference between the color temperature at the radiation angle of 0 ° and the color temperature at the radiation angle of 70 °, where the thickness direction of the substrate 12 is the radiation angle of 0 °.

図2は、光学距離nd1及び光学距離nd2の組に対して相関色温度差ΔCCTをマッピングした図面であり、相関色温度差ΔCCTの光学距離nd1,nd2依存マップである。図2では、光学距離nd1と光学距離nd2の和が一定になるように、第1発光層161A及び第2発光層161Bの厚さを変えながら、相関色温度差ΔCCTが最大となる(nd1,nd2)に対する相関色温度差ΔCCTをマッピングしている。図2では、90組の(nd1,nd2)に対する相関色温度差ΔCCTをマッピングしている。図2に示されたマッピング像の右端の波長は、720nmである。 FIG. 2 is a drawing in which the correlated color temperature difference ΔCCT is mapped to the set of the optical distance nd1 and the optical distance nd2, and is an optical distance nd1 and nd2 dependent map of the correlated color temperature difference ΔCCT. In FIG. 2, the correlated color temperature difference ΔCCT is maximized while changing the thicknesses of the first light emitting layer 161A and the second light emitting layer 161B so that the sum of the optical distance nd1 and the optical distance nd2 is constant (nd1, The correlated color temperature difference ΔCCT with respect to nd2) is mapped. In FIG. 2, the correlated color temperature difference ΔCCT for 90 sets (nd1, nd2) is mapped. The wavelength at the right end of the mapping image shown in FIG. 2 is 720 nm.

図2では、色が濃い領域が、相関色温度差ΔCCTが小さい、換言すれば、視野角依存性が小さいことを示している。よって、図2より、光学距離nd1が第1〜第3範囲の何れかであれば視野角依存性が小さいことが検証された。 FIG. 2 shows that the dark-colored region has a small correlated color temperature difference ΔCCT, in other words, a small viewing angle dependence. Therefore, from FIG. 2, it was verified that the viewing angle dependence was small when the optical distance nd1 was in any of the first to third ranges.

<シミュレーションB>
シミュレーションBでは、第1電極層14の厚さを8nmに設定した点以外は、シミュレーションAと同じ条件でシミュレーションを実施した。シミュレーションBの結果は、図3に示したとおりである。図3の作図方法もシミュレーションAの場合と同様である。
<Simulation B>
In the simulation B, the simulation was carried out under the same conditions as in the simulation A except that the thickness of the first electrode layer 14 was set to 8 nm. The result of simulation B is as shown in FIG. The drawing method of FIG. 3 is the same as that of simulation A.

図3でも、色が濃い領域が、相関色温度差ΔCCTが小さい、換言すれば、視野角依存性が小さいことを示している。よって、シミュレーションBにおいても、図3より、光学距離nd1が第1〜第3範囲の何れかであれば視野角依存性が小さいことが検証された。 Also in FIG. 3, the dark-colored region shows that the correlated color temperature difference ΔCCT is small, in other words, the viewing angle dependence is small. Therefore, also in Simulation B, it was verified from FIG. 3 that the viewing angle dependence was small if the optical distance nd1 was in any of the first to third ranges.

上記シミュレーションA,Bにおいては、光学距離nd1は、前述したように緑色の等色関数(XYZ表色系)のピークに対応する波長λの光の発光位置153を基準にして設定している。波長λは、赤色の等色関数(XYZ表色系)のピーク波長λ[nm](具体的には、CIE1931において599nm)と青色の等色関数(XYZ表色系)のピーク波長λ[nm](具体的には、CIE1931において446nm)の間に位置する。よって、波長λの光の発光位置165を基準にして設定して光学距離nd1を設定することで、赤色及び青色の視野角依存性も低減し、結果として、白色光全体の視野角依存性が低減していると考えられる。 In the above simulations A and B, the optical distance nd1 is set with reference to the light emission position 153 of the wavelength λ G corresponding to the peak of the green color matching function (XYZ color system) as described above. .. Wavelength λ G is the peak wavelength λ R [nm] (specifically, 599 nm in CIE 1931) of the red color matching function (XYZ color system) and the peak wavelength λ of the blue color function (XYZ color system). It is located between B [nm] (specifically, 446 nm in CIE 1931). Therefore, by setting the optical distance nd1 by setting the light emission position 165 of the wavelength λ G as a reference, the viewing angle dependence of red and blue is also reduced, and as a result, the viewing angle dependence of the entire white light is reduced. Is considered to be decreasing.

上記のように、波長λの光の発光位置165を基準にして設定して光学距離nd1を設定することで白色光全体の視野角依存性が低減していることから、有機ELデバイス10の設計が容易である。そのため、有機ELデバイス10を製造し易い。波長λは、等色関数(XYZ表色系)のピークに対応する波長であることから、有機ELデバイス10からの光を受けるユーザが実際に体感する視野角依存性が低減できる。 As described above, since the viewing angle dependence of the entire white light is reduced by setting the optical distance nd1 by setting the light emission position 165 of the wavelength λ G as a reference, the organic EL device 10 is used. Easy to design. Therefore, it is easy to manufacture the organic EL device 10. Since the wavelength λ G is a wavelength corresponding to the peak of the color matching function (XYZ color system), the viewing angle dependence actually experienced by the user who receives the light from the organic EL device 10 can be reduced.

<シミュレーションC>
シミュレーションCで使用した有機ELデバイス10Mの層構成はシミュレーションAの場合と同様であった。シミュレーションCでは、光学距離nd1及び光学距離nd2の組を(nd1,nd2)と称した場合、光学距離nd1と光学距離nd2の和が一定である複数の(nd1,nd2)に対して、有機ELデバイス10Mから白色光を出力した場合における基板12の厚さ方向における全光束放射輝度を計算した。
<Simulation C>
The layer structure of the organic EL device 10M used in simulation C was the same as in simulation A. In the simulation C, when the set of the optical distance nd1 and the optical distance nd2 is referred to as (nd1, nd2), the organic EL is used for a plurality of (nd1, nd2) in which the sum of the optical distance nd1 and the optical distance nd2 is constant. The total optical radiance in the thickness direction of the substrate 12 when white light was output from the device 10M was calculated.

図4は、光学距離nd1及び光学距離nd2の組に対して全光束放射輝度(a.u.)をマッピングした図面であり、全光束放射輝度の光学距離nd1,nd2依存マップである。図4では、光学距離nd1と光学距離nd2の和が一定になるように、第1発光層161A及び第2発光層161Bの厚さを変えながら、全光束放射輝度が最大となる(nd1,nd2)に対する全光束放射輝度をマッピングしている。図4では、90組の(nd1,nd2)に対する全光束放射輝度をマッピングしている。 FIG. 4 is a drawing in which the total luminous flux radiance (au) is mapped to the set of the optical distance nd1 and the optical distance nd2, and is an optical distance nd1 and nd2 dependent map of the total luminous flux radiance. In FIG. 4, the total luminous flux radiance is maximized while changing the thickness of the first light emitting layer 161A and the second light emitting layer 161B so that the sum of the optical distance nd1 and the optical distance nd2 is constant (nd1, nd2). ) Is mapped to the total luminous flux radiance. In FIG. 4, the total luminous flux radiance for 90 sets (nd1, nd2) is mapped.

図4では、色が薄い領域が、全光束放射輝度が大きいことを示している。本シミュレーションにおいて、ピーク波長λ、ピーク波長λ及びピーク波長λはそれぞれ599nm、555nm及び446nmである。そのため、図4の縦軸の波長範囲には、λ/4及びその近傍が含まれる。よって、光学距離nd2を、λ/4の奇数倍に設定することで、高い光取り出し効率が実現できることが理解され得る。 In FIG. 4, the light-colored region shows that the total luminous flux radiance is large. In this simulation, the peak wavelength λ R , the peak wavelength λ G, and the peak wavelength λ B are 599 nm, 555 nm, and 446 nm, respectively. Therefore, the wavelength range on the vertical axis of FIG. 4 includes λ G / 4 and its vicinity. Therefore, it can be understood that high light extraction efficiency can be realized by setting the optical distance nd2 to an odd multiple of λ G / 4.

以上、本発明の種々の実施形態を説明した。しかしながら、本発明は、例示した種々の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能である。 The various embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to the various embodiments illustrated, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

発光位置は、発光層内において電荷の再結合が生じる位置であればよく、例示したように第1発光層及び第2発光層の界面でない場合もあり得る。 The light emitting position may be any position in the light emitting layer where charge recombination occurs, and may not be the interface between the first light emitting layer and the second light emitting layer as illustrated.

発光層が第1発光層及び第2発光層を備えており、有機ELデバイスが白色光を出力する形態では、第2発光層から発せられる光は、第1発光層から発せられる光の補色であり得る。 In a form in which the light emitting layer includes a first light emitting layer and a second light emitting layer, and the organic EL device outputs white light, the light emitted from the second light emitting layer is a complementary color of the light emitted from the first light emitting layer. could be.

発光層は、第1発光層及び第2発光層の2層を備えた積層構造を有するとしたが、2層に限定されない。例えば、例えば、赤色用の発光層、緑色用の発光層及び青色層の発光層など出力すべき色毎の層を備えていてもよい。発光層は、複数の発光材料を含む一つの層であってもよい。 The light emitting layer is said to have a laminated structure including two layers of a first light emitting layer and a second light emitting layer, but is not limited to the two layers. For example, a layer for each color to be output may be provided, such as a light emitting layer for red, a light emitting layer for green, and a light emitting layer for blue. The light emitting layer may be one layer containing a plurality of light emitting materials.

有機ELデバイスは、中間構造体内において波長λの光の発光位置及び波長λの光の発光位置それぞれと、第1電極層(透光性電極層)との間の光学距離が、上記第1〜第3範囲のいずれかの範囲内であり、波長λの光の発光位置と第2電極層(光反射性電極層)との間の光学距離がλ/4の奇数倍であり、波長λの光の発光位置と第2電極層(光反射性電極層)との間の光学距離がλ/4の奇数倍であるという条件を更に満たしてもよい。このような条件を満たしていれば、視野角度依存性がより一層低減する。上記λ/4の奇数倍は、一定の許容範囲(例えば±5(好ましくは2.5)nm)を含む概念である。同様に、λ/4の奇数倍は、一定の許容範囲(例えば±5(好ましくは2.5)nm)を含む概念である。 In the organic EL device, the optical distance between the light emitting position of the wavelength λ R and the light emitting position of the wavelength λ B and the first electrode layer (translucent electrode layer) in the intermediate structure is the above-mentioned first. It is within any of the 1st to 3rd ranges, and the optical distance between the light emitting position of the wavelength λ R and the second electrode layer (light reflective electrode layer) is an odd multiple of λ R / 4. , The condition that the optical distance between the light emitting position of the wavelength λ B and the second electrode layer (light reflective electrode layer) is an odd multiple of λ B / 4 may be further satisfied. If such a condition is satisfied, the viewing angle dependence is further reduced. The odd multiple of λ R / 4 is a concept that includes a certain allowable range (for example, ± 5 (preferably 2.5) nm). Similarly, odd multiples of λ B / 4 are concepts that include a certain tolerance (eg ± 5 (preferably 2.5) nm).

中間構造体は、第2電極層と電子輸送層(電子輸送層が存在しない場合は発光層)との間に電子注入層を備えてもよい。電子注入層は、第2電極層から発光層(図1に示した構成において具体的には第2発光層)への電子注入効率を向上させる機能を有する機能層である。電子注入層は無機層でもよいし、有機層でもよい。電子注入層を構成する材料は、発光層の種類に応じて最適な材料が適宜選択される。電子注入層を構成する材料の例としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アルカリ金属及びアルカリ土類金属のうちの1種類以上を含む合金、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩、又はこれらの物質の混合物などを挙げることができる。アルカリ金属、アルカリ金属の酸化物、ハロゲン化物、及び炭酸塩の例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、酸化リチウム、フッ化リチウム、酸化ナトリウム、フッ化ナトリウム、酸化カリウム、フッ化カリウム、酸化ルビジウム、フッ化ルビジウム、酸化セシウム、フッ化セシウム、炭酸リチウムなどを挙げることができる。また、アルカリ土類金属、アルカリ土類金属の酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩の例としては、マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、酸化カルシウム、フッ化カルシウム、酸化バリウム、フッ化バリウム、酸化ストロンチウム、フッ化ストロンチウム、炭酸マグネシウムなどが挙げられる。 The intermediate structure may include an electron injection layer between the second electrode layer and the electron transport layer (the light emitting layer if the electron transport layer does not exist). The electron injection layer is a functional layer having a function of improving the electron injection efficiency from the second electrode layer to the light emitting layer (specifically, the second light emitting layer in the configuration shown in FIG. 1). The electron injection layer may be an inorganic layer or an organic layer. As the material constituting the electron injection layer, the optimum material is appropriately selected according to the type of the light emitting layer. Examples of materials constituting the electron injection layer include alkali metals, alkaline earth metals, alkali metals and alloys containing one or more of alkaline earth metals, alkali metals or alkali earth metal oxides, and halides. , Carbonate, or a mixture of these substances. Examples of alkali metals, alkali metal oxides, halides, and carbonates include lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, lithium oxide, lithium fluoride, sodium oxide, sodium fluoride, potassium oxide, potassium fluoride. , Rubidium oxide, rubidium fluoride, cesium oxide, cesium fluoride, lithium carbonate and the like. Examples of alkaline earth metals, oxides of alkaline earth metals, halides, and carbonates include magnesium, calcium, barium, strontium, magnesium oxide, magnesium fluoride, calcium oxide, calcium fluoride, and barium oxide. Examples thereof include barium fluoride, strontium oxide, strontium fluoride, magnesium carbonate and the like.

この他に従来知られた電子輸送性の有機材料と、アルカリ金属の有機金属錯体を混合した層を電子注入層として利用できる。 In addition to this, a layer obtained by mixing a conventionally known electron-transporting organic material and an organometallic complex of an alkali metal can be used as an electron injection layer.

電子注入層は、ドライ成膜法、メッキ法、塗布法などにより形成され得る。ドライ成膜法及び塗布法の例は、第1電極層の形成方法で挙げた例と同様であり得る。電子注入層は第2電極層の一部でもよい。 The electron injection layer can be formed by a dry film forming method, a plating method, a coating method, or the like. Examples of the dry film forming method and the coating method can be the same as the examples given in the method of forming the first electrode layer. The electron injection layer may be a part of the second electrode layer.

有機ELデバイスは、基板側から光を発する形態に限定されず、基板と反対側から光を出力する有機ELデバイス(トップエミッション型の有機ELデバイス)でもよい。この場合、第1電極層が反射性電極層であり、第2電極層が透光性電極層である。第1電極層が陽極(またはその一部)であり、第2電極層が陰極である形態を説明したが、第2電極層が陽極(またはその一部)であり第1電極層が陰極であってもよい。 The organic EL device is not limited to a form that emits light from the substrate side, and may be an organic EL device (top emission type organic EL device) that outputs light from the side opposite to the substrate. In this case, the first electrode layer is a reflective electrode layer, and the second electrode layer is a translucent electrode layer. The embodiment in which the first electrode layer is an anode (or a part thereof) and the second electrode layer is a cathode has been described, but the second electrode layer is an anode (or a part thereof) and the first electrode layer is a cathode. There may be.

上記発光デバイスの例は、中間構造体が有する例えば発光層に有機材料を用いた有機ELデバイスに限定されず、例えば上記発光層が全て無機材料から構成されるデバイスであってもよい。 The example of the light emitting device is not limited to an organic EL device having an intermediate structure, for example, using an organic material for the light emitting layer, and may be, for example, a device in which the light emitting layer is entirely made of an inorganic material.

10…有機ELデバイス(発光デバイス)、12…基板(透光性基板)、14…第1電極層、16…中間構造体、18…第2電極層、20…高屈折率層、161…発光層。161A…第1発光層、161B…第2発光層、165…発光位置。 10 ... Organic EL device (light emitting device), 12 ... Substrate (translucent substrate), 14 ... First electrode layer, 16 ... Intermediate structure, 18 ... Second electrode layer, 20 ... High refractive index layer, 161 ... Light emission layer. 161A ... 1st light emitting layer, 161B ... 2nd light emitting layer, 165 ... Light emitting position.

Claims (8)

基板と、
基板上に設けられた第1電極層と、
前記第1電極層上に設けられており、発光層を含む中間構造体と、
前記中間構造体上に設けられた第2電極層と、
を備え、
前記第1電極層及び前記第2電極層のうち一方は透光性電極層であり、他方は光反射性電極層であり、
XYZ表色系における緑色に対応する等色関数におけるピーク波長をλ[nm]としたとき、前記中間構造体内において波長λの光の発光位置と、前記透光性電極層との間の光学距離が、140nm〜200nmの第1範囲、400nm〜460nmの第2範囲及び680nm〜720nmの第3範囲のいずれかの範囲内であり、
前記発光位置と前記光反射性電極層との間の光学距離がλ/4の奇数倍である、
発光デバイス。
With the board
The first electrode layer provided on the substrate and
An intermediate structure provided on the first electrode layer and including a light emitting layer, and
A second electrode layer provided on the intermediate structure and
With
One of the first electrode layer and the second electrode layer is a translucent electrode layer, and the other is a light-reflecting electrode layer.
When the peak wavelength in the color matching function corresponding to green in the XYZ color system is λ G [nm], between the light emitting position of the wavelength λ G in the intermediate structure and the translucent electrode layer. The optical distance is within one of the first range of 140 nm to 200 nm, the second range of 400 nm to 460 nm, and the third range of 680 nm to 720 nm.
The optical distance between the light emitting position and the light reflecting electrode layer is an odd multiple of λ G / 4.
Luminescent device.
前記発光層は白色光を出力する、
請求項1に記載の発光デバイス。
The light emitting layer outputs white light.
The light emitting device according to claim 1.
前記発光層が、
第1発光層と、
前記第1発光層に隣接しており且つ前記第1発光層に積層された第2発光層と、
を有し、
前記第2発光層から発せられる光は、前記第1発光層から発せられる光の補色である、
請求項1又は2に記載の発光デバイス。
発光デバイス。
The light emitting layer
The first light emitting layer and
A second light emitting layer adjacent to the first light emitting layer and laminated on the first light emitting layer,
Have,
The light emitted from the second light emitting layer is a complementary color of the light emitted from the first light emitting layer.
The light emitting device according to claim 1 or 2.
Luminescent device.
前記第1電極層は、銀又は銀合金を含む、
請求項1〜3の何れか一項に記載の発光デバイス。
The first electrode layer contains silver or a silver alloy.
The light emitting device according to any one of claims 1 to 3.
前記第1電極層の厚さは8nm以上35nm以下である、
請求項4に記載の発光デバイス。
The thickness of the first electrode layer is 8 nm or more and 35 nm or less.
The light emitting device according to claim 4.
前記基板と前記第1電極層との間に設けられており前記基板より高い屈折率を有する高屈折率層を更に備え、
前記基板は透光性基板であり、
前記第1電極層が前記透光性電極層である、
請求項1〜4の何れか一項に記載の発光デバイス。
A high refractive index layer provided between the substrate and the first electrode layer and having a higher refractive index than the substrate is further provided.
The substrate is a translucent substrate and
The first electrode layer is the translucent electrode layer.
The light emitting device according to any one of claims 1 to 4.
前記発光位置と前記光反射性電極層との間の光学距離が100nm以上155nm以下である、
請求項1〜6の何れか一項に記載の光デバイス。
The optical distance between the light emitting position and the light-reflecting electrode layer is 100 nm or more and 155 nm or less.
The optical device according to any one of claims 1 to 6.
XYZ表色系における赤色及び青色に対応する等色関数におけるピーク波長をそれぞれλ[nm]及びλ[nm]としたとき、前記中間構造体内において波長λの光の発光位置及び波長λの光の発光位置それぞれと、前記透光性電極層との間の光学距離が、前記第1範囲、前記第2範囲及び前記第3範囲のいずれかの範囲内であり、
波長λの光の発光位置と前記光反射性電極層との間の光学距離がλ/4の奇数倍であり、
波長λの光の発光位置と前記光反射性電極層との間の光学距離がλ/4の奇数倍である、
請求項1〜7の何れか一項に記載の発光デバイス。
When the peak wavelengths in the color matching functions corresponding to red and blue in the XYZ color system are λ R [nm] and λ B [nm], respectively, the light emission position and wavelength λ of the wavelength λ R in the intermediate structure are The optical distance between each of the light emitting positions of B and the translucent electrode layer is within any of the first range, the second range, and the third range.
The optical distance between the light emitting position of the wavelength λ R and the light-reflecting electrode layer is an odd multiple of λ R / 4.
The optical distance between the light emitting position of the wavelength λ B and the light-reflecting electrode layer is an odd multiple of λ B / 4.
The light emitting device according to any one of claims 1 to 7.
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