JP2021125487A - Board inspection device and board inspection method - Google Patents

Board inspection device and board inspection method Download PDF

Info

Publication number
JP2021125487A
JP2021125487A JP2020015773A JP2020015773A JP2021125487A JP 2021125487 A JP2021125487 A JP 2021125487A JP 2020015773 A JP2020015773 A JP 2020015773A JP 2020015773 A JP2020015773 A JP 2020015773A JP 2021125487 A JP2021125487 A JP 2021125487A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
imaging
region
image
light source
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2020015773A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
孝一郎 槙
Koichiro Maki
孝一郎 槙
久子 クルーグ
Hisako Krug
久子 クルーグ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority to JP2020015773A priority Critical patent/JP2021125487A/en
Publication of JP2021125487A publication Critical patent/JP2021125487A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

To provide a board inspection device capable of detecting color unevenness on a substrate surface.SOLUTION: A board inspection device includes a board stage on which a board is installed, a first light source that irradiates the first surface side of the board installed on the board stage with linear light, first imaging means that images an imaging region which is a region other than a bright region which is a region that reflects the linear light emitted from the first light source along the longitudinal direction of the bright region in the first surface of the board, first irradiation position control means that changes the position of the bright region, and first image processing means that processes the image obtained by the first imaging means.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、基板の検査装置、基板の検査方法に関する。 The present invention relates to a substrate inspection device and a substrate inspection method.

半導体デバイス等の製造のために各種基板が用いられている。半導体デバイス等の歩留まり向上のため、半導体デバイス等の製造工程に供する前に、基板を検査できる基板の検査装置や検査方法について従来から各種検討がなされていた。 Various substrates are used for manufacturing semiconductor devices and the like. In order to improve the yield of semiconductor devices and the like, various studies have been conventionally conducted on substrate inspection devices and inspection methods capable of inspecting substrates before they are used in the manufacturing process of semiconductor devices and the like.

例えば特許文献1には、基板の被検査面上に光を照射する光照射部と、前記被検査面上に映る前記光照射部の画像を取得する撮像部と、前記基板又は前記光照射部の位置を制御することで、前記被検査面上に映る前記光照射部の画像を移動させる移動部と、前記光照射部から照射された光が前記被検査面の欠陥部分で散乱することで形成された像であって前記光照射部の画像の輪郭線よりも外側に形成された像を検出することで、前記被検査面の検査を行う検査部と、を備える基板の検査装置が開示されている。 For example, Patent Document 1 describes a light irradiation unit that irradiates light on the surface to be inspected of a substrate, an imaging unit that acquires an image of the light irradiation unit reflected on the surface to be inspected, and the substrate or the light irradiation unit. By controlling the position of, the moving portion that moves the image of the light-irradiated portion reflected on the surface to be inspected and the light emitted from the light-irradiated portion are scattered at the defective portion of the surface to be inspected. A substrate inspection device including an inspection unit that inspects the surface to be inspected by detecting an image that is formed outside the contour line of the image of the light irradiation unit is disclosed. Has been done.

特開2016−020824号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-020824

ところで、近年では、熱処理などの反応工程後の基板の表面の組成が不均一となることや、厚さが均一ではないこと等で生じる、基板表面の色ムラについて検出可能な基板の検査装置が求められていた。 By the way, in recent years, a substrate inspection device capable of detecting color unevenness on the substrate surface caused by non-uniform composition of the surface of the substrate after a reaction process such as heat treatment or non-uniform thickness has been used. I was asked.

そこで上記従来技術が有する問題に鑑み、本発明の一側面では、基板表面の色ムラを検出することが可能な基板の検査装置を提供することを目的とする。 Therefore, in view of the problems of the prior art, one aspect of the present invention is to provide a substrate inspection apparatus capable of detecting color unevenness on the substrate surface.

上記課題を解決するため本発明の一態様によれば、
基板を設置する基板用ステージと、
前記基板用ステージに設置した基板の第1の表面側に線状の光を照射する第1光源と、
前記基板の前記第1の表面のうち、前記第1光源から照射された前記線状の光を反射する領域である明領域の長手方向に沿い、かつ前記明領域以外の領域である撮像領域を撮像する第1撮像手段と、
前記明領域の位置を変化させる第1照射位置制御手段と、
前記第1撮像手段により得られた画像を処理する第1画像処理手段と、を有する基板の検査装置を提供する。
According to one aspect of the present invention in order to solve the above problems.
The board stage on which the board is installed and
A first light source that irradiates the first surface side of the substrate installed on the substrate stage with linear light, and
Of the first surface of the substrate, an imaging region that is a region other than the bright region along the longitudinal direction of the bright region, which is a region that reflects the linear light emitted from the first light source. The first imaging means for imaging and
The first irradiation position control means for changing the position of the bright region and
Provided is a substrate inspection apparatus having a first image processing means for processing an image obtained by the first imaging means.

本発明の一態様によれば、基板表面の色ムラを検出することが可能な基板の検査装置を提供することができる。 According to one aspect of the present invention, it is possible to provide a substrate inspection apparatus capable of detecting color unevenness on the substrate surface.

本発明の第1の実施形態に係る検査装置の断面図。Sectional drawing of the inspection apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 明領域、撮像領域の説明図。Explanatory drawing of a bright region and an imaging region. 本発明の第2の実施形態に係る検査装置の断面図。Sectional drawing of the inspection apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 透過領域の説明図。Explanatory drawing of the transparent area. 本発明の第3の実施形態に係る検査装置の断面図。Sectional drawing of the inspection apparatus which concerns on 3rd Embodiment of this invention.

以下、本発明を実施するための形態について図面を用いながら説明するが、本発明は、下記の実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、下記の実施形態に種々の変形および置換を加えることができる。
[基板の検査装置]
本発明の発明者らは、基板表面の組成の不均一等に起因して生じる色ムラを検出することが可能な基板の検査装置について鋭意検討を行った。検討を行う中で、基板の表面側に線状の光を照射した場合に、基板の一方の表面のうち線状の光を反射する、すなわち光を直接照射した明領域以外の領域を観察することで、基板表面の色ムラ、すなわち色の異なる領域を容易に検知できることに着目した。そして、基板表面のうちの、上記明領域以外の領域を撮像する操作を、明領域の位置を変化させながら繰り返し実施し、得られた画像をつなぎ合わせることで、基板表面の色ムラを明確にした画像が得られることを見出し、本発明を完成させた。
(1)第1の実施形態
図1に第1の実施形態に係る基板の検査装置10の基板用ステージ11に配置した基板12の中心を通る面での断面図を示す。
Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the following embodiments and can be applied to the following embodiments without departing from the scope of the present invention. Various modifications and substitutions can be made.
[Board inspection device]
The inventors of the present invention have diligently studied a substrate inspection device capable of detecting color unevenness caused by non-uniformity of the composition of the substrate surface. During the study, when the surface side of the substrate is irradiated with linear light, the region of one surface of the substrate that reflects the linear light, that is, the region other than the bright region directly irradiated with light is observed. Therefore, we focused on the fact that color unevenness on the substrate surface, that is, regions with different colors can be easily detected. Then, the operation of imaging a region other than the bright region on the substrate surface is repeatedly performed while changing the position of the bright region, and the obtained images are stitched together to clarify the color unevenness of the substrate surface. The present invention was completed by finding that an image was obtained.
(1) First Embodiment FIG. 1 shows a cross-sectional view of a plane passing through the center of a substrate 12 arranged on a substrate stage 11 of a substrate inspection device 10 according to the first embodiment.

本実施形態の基板の検査装置10は、基板を設置する基板用ステージ11と、基板用ステージ11に設置した基板12の第1の表面12A側に対して線状の光を照射する第1光源13と、第1撮像手段14と、第1照射位置制御手段15と、第1画像処理手段16とを有することができる。 The substrate inspection device 10 of the present embodiment is a first light source that irradiates linear light to the substrate stage 11 on which the substrate is installed and the first surface 12A side of the substrate 12 installed on the substrate stage 11. It can have 13, a first imaging means 14, a first irradiation position control means 15, and a first image processing means 16.

第1撮像手段14は、基板12の第1の表面12Aのうち、第1光源13から照射された線状の光を反射する領域である明領域の長手方向に沿い、かつ明領域以外の領域である撮像領域を撮像することができる。 The first imaging means 14 is a region other than the bright region along the longitudinal direction of the bright region, which is a region of the first surface 12A of the substrate 12 that reflects the linear light emitted from the first light source 13. It is possible to image the imaging region.

第1照射位置制御手段15は、明領域の位置を変化させることができる。 The first irradiation position control means 15 can change the position of the bright region.

第1画像処理手段16は、第1撮像手段14により得られた画像を処理することができる。 The first image processing means 16 can process the image obtained by the first imaging means 14.

各部材について以下に説明する。
(基板用ステージ)
基板用ステージ11は、検査を行う基板を設置できるステージであれば良く、その構成は特に限定されない。
Each member will be described below.
(Stage for board)
The substrate stage 11 may be any stage as long as it can be installed with a substrate to be inspected, and its configuration is not particularly limited.

ただし、例えば第1照射位置制御手段15により明領域を移動させるために基板12を移動させる場合、基板用ステージ11を水平方向に移動できるように、基板用ステージ11に移動機構を設けておくことができる。また、例えば基板用ステージ11に設置した基板12の傾きを補正し、水平にする手段、例えば後述する傾き補正手段を設けておくこともできる。 However, for example, when the substrate 12 is moved to move the bright region by the first irradiation position control means 15, the substrate stage 11 should be provided with a moving mechanism so that the substrate stage 11 can be moved in the horizontal direction. Can be done. Further, for example, a means for correcting the inclination of the substrate 12 installed on the stage 11 for the substrate and making it horizontal, for example, an inclination correction means described later may be provided.

なお、本実施形態の基板の検査装置により検査を行う基板の種類は特に限定されず、各種基板を用いることができる。また、基板の形状も特に限定されないが、例えば円板形状の基板を用いることができる。
(第1光源)
第1光源13は、基板用ステージ11に設置した基板12の第1の表面12A側に線状の光を照射できるように構成されていればよく、光源の種類等の具体的な構成については特に限定されない。第1光源13は、上述のように、基板12の第1の表面12A側に線状の光を照射できるように、基板用ステージ11に設置した基板12の第1の表面12A側に配置できる。
The type of substrate to be inspected by the substrate inspection device of the present embodiment is not particularly limited, and various substrates can be used. Further, the shape of the substrate is not particularly limited, but for example, a disk-shaped substrate can be used.
(First light source)
The first light source 13 may be configured so as to irradiate the first surface 12A side of the substrate 12 installed on the substrate stage 11 with linear light, and the specific configuration such as the type of the light source may be described. There is no particular limitation. As described above, the first light source 13 can be arranged on the first surface 12A side of the substrate 12 installed on the substrate stage 11 so that the first surface 12A side of the substrate 12 can be irradiated with linear light. ..

第1光源13は、基板12の第1の表面12Aに直接光を照射する必要はなく、基板12の第1の表面12A近傍に光を照射しても良い。ただし、基板12の第1の表面12Aに対して直接光を照射しても良い。 The first light source 13 does not need to directly irradiate the first surface 12A of the substrate 12, but may irradiate the vicinity of the first surface 12A of the substrate 12. However, the first surface 12A of the substrate 12 may be directly irradiated with light.

線状の光としては線状形状を有していればよく、その具体的な形状は特に限定されないが、例えば直線状の光、屈曲部を含む線状の光、および波線状の光等から選択されたいずれかの光とすることができる。なお、屈曲部を含む線状の光の屈曲部の形状は特に限定されず、例えば円弧形状や、所定の角度で屈曲したL字形状(くの字形状)等とすることができる。屈曲部を含む線状の光の屈曲部の数は特に限定されず、1または複数の屈曲部を有することもできる。屈曲部を含む線状の光が、複数の屈曲部を有する場合、屈曲部の形状は同じ形状であってもよいが、異なる形状の屈曲部を有していても良い。また、波線状の光は、波線となるように所定の間隔で向きを交互に変えながら屈曲部を配置した線状の光となる。線状の光としては特に直線状の光であることが好ましい。 The linear light may have a linear shape, and the specific shape thereof is not particularly limited. For example, from linear light, linear light including a bent portion, wavy linear light, and the like. It can be any of the selected lights. The shape of the bent portion of the linear light including the bent portion is not particularly limited, and may be, for example, an arc shape, an L-shape bent at a predetermined angle (a dogleg shape), or the like. The number of linear light bending portions including the bending portion is not particularly limited, and one or more bending portions may be provided. When the linear light including the bent portion has a plurality of bent portions, the shape of the bent portion may be the same, but the bent portions may have different shapes. Further, the wavy light becomes linear light in which the bent portions are arranged while alternately changing the directions at predetermined intervals so as to be wavy lines. The linear light is particularly preferably linear light.

線状の光は、一定の厚みを有する光であるため、帯状の光と言い換えることもできる。例えば直線状の光の場合であれば略四角形状の光となる。 Since linear light is light having a certain thickness, it can be paraphrased as band-shaped light. For example, in the case of linear light, the light is substantially square.

線状の光の長手方向の長さは特に限定されないが、該線状の光の長手方向が検査を行う基板の幅方向に沿うように光を照射する場合、効率的に検査を行う観点から、例えば検査を行う基板の幅方向全体に渡って光を照射し、明領域を形成できるようにその長さを選択することができる。 The length of the linear light in the longitudinal direction is not particularly limited, but when the light is irradiated so that the longitudinal direction of the linear light is along the width direction of the substrate to be inspected, from the viewpoint of efficient inspection. For example, it is possible to irradiate light over the entire width direction of the substrate to be inspected and select its length so that a bright region can be formed.

光源の発光手段としては線状の光を形成できればよく、例えば蛍光灯や、有機または無機のエレクトロルミネッセンス(EL)、発光ダイオード等から選択された1種類以上を用いることができる。 As the light emitting means of the light source, it is sufficient that linear light can be formed, and for example, one or more selected from fluorescent lamps, organic or inorganic electroluminescence (EL), light emitting diodes and the like can be used.

また、光の波長も特に限定されず、例えば評価を行う基板12の第1の表面12Aで少なくとも一部の光を反射し、第1撮像手段14により反射像を撮像できるものであれば良い。このため、光源が発する光は、例えば赤外線光、可視光、紫外線光のいずれでも良いが、光の波長によっては撮像手段が高価になったり、そのサイズが大きくなる場合があるため、光源が発する光は、可視光を含むことが好ましい。 Further, the wavelength of light is not particularly limited as long as it can reflect at least a part of light on the first surface 12A of the substrate 12 to be evaluated and the reflected image can be imaged by the first imaging means 14. Therefore, the light emitted by the light source may be, for example, infrared light, visible light, or ultraviolet light, but the light source emits light because the imaging means may become expensive or its size may increase depending on the wavelength of the light. The light preferably contains visible light.

本実施形態の基板の検査装置では、基板表面のうち、第1光源13から照射された線状の光を反射する領域である明領域の長手方向に沿い、かつ明領域以外の領域である撮像領域を第1撮像手段14により撮像できる。そして、明領域の位置を変化させながら、撮像領域を撮影することを、得られた撮像領域の画像をつなぎ合わせた場合に検査を行う部分の画像、例えば基板表面全体の画像が得られるまで繰り返し実施することが好ましい。 In the substrate inspection apparatus of the present embodiment, imaging is performed along the longitudinal direction of the bright region, which is a region of the substrate surface that reflects linear light emitted from the first light source 13, and is a region other than the bright region. The region can be imaged by the first imaging means 14. Then, the imaging region is photographed while changing the position of the bright region until an image of a portion to be inspected when the obtained images of the imaging region are joined, for example, an image of the entire substrate surface is obtained. It is preferable to carry out.

このため、同時に撮像できる撮像領域を多くし、撮像する回数を少なくすることで検査を効率化する観点から、第1光源13は、互いに平行な複数の線状の光を同時に照射できることが好ましい。そこで、第1光源13は、互いに平行な複数の線状の光を基板の表面に対して照射することが可能なように構成されていることが好ましい。この場合には、基板に照射した複数の線状の光を反射する複数の明領域の間に、暗領域が形成されるように、複数の線状の光の間隔を調整しておくことが好ましい。なお、複数の線状の光を基板の表面に対して照射する場合、該線状の光は同じ形状であっても良く、異なる形状であっても良い。ただし、検査を容易に行えることから、複数の線状の光は同じ形状であることが好ましい。 Therefore, from the viewpoint of improving the efficiency of the inspection by increasing the number of imaging regions that can be simultaneously imaged and reducing the number of imagings, it is preferable that the first light source 13 can simultaneously irradiate a plurality of linear lights parallel to each other. Therefore, it is preferable that the first light source 13 is configured so that a plurality of linear lights parallel to each other can be applied to the surface of the substrate. In this case, it is necessary to adjust the interval between the plurality of linear lights so that a dark region is formed between the plurality of bright regions that reflect the plurality of linear lights irradiating the substrate. preferable. When irradiating the surface of the substrate with a plurality of linear lights, the linear lights may have the same shape or different shapes. However, it is preferable that the plurality of linear lights have the same shape because the inspection can be easily performed.

第1光源13は例えば図1に示したように基板の検査装置10に設置されたアーム17に固定しておくこともできる。ただし、係る形態に限定されず、第1光源13は、他の部材とは別に三脚等を用いて固定しておくこともできる。
(第1撮像手段)
第1撮像手段14は、基板12の第1の表面12Aのうち、第1光源13から照射された線状の光を反射する明領域の長手方向に沿い、かつ明領域以外の領域である撮像領域を撮像できる。
For example, as shown in FIG. 1, the first light source 13 can be fixed to an arm 17 installed in the inspection device 10 of the substrate. However, the present invention is not limited to this, and the first light source 13 can be fixed by using a tripod or the like separately from other members.
(First imaging means)
The first imaging means 14 is an imaging region other than the bright region along the longitudinal direction of the bright region that reflects the linear light emitted from the first light source 13 in the first surface 12A of the substrate 12. The area can be imaged.

ここで、図2を用いて第1撮像手段14により撮像する撮像領域について説明する。 Here, an imaging region to be imaged by the first imaging means 14 will be described with reference to FIG.

図2は、基板12の第1の表面12Aを示しており、第1光源13から、線状の光が照射されている状態を示している。このように第1光源13から基板12の第1の表面12Aに線状の光が照射されることで、基板12の第1の表面12Aには、第1光源13からの光を反射する明領域21Aが形成される。明領域21Aは第1光源13からの線状の光に対応した線状(帯状)の領域となる。 FIG. 2 shows the first surface 12A of the substrate 12, and shows a state in which linear light is emitted from the first light source 13. By irradiating the first surface 12A of the substrate 12 with linear light from the first light source 13 in this way, the light reflected from the first light source 13 is reflected on the first surface 12A of the substrate 12. Region 21A is formed. The bright region 21A is a linear (band-shaped) region corresponding to the linear light from the first light source 13.

そして、基板12の第1の表面12Aのうち、明領域21A以外の領域は、光源からの光が直接照射されていないため、明領域21Aと比較して暗い暗領域21Bとなっている。 The region other than the bright region 21A of the first surface 12A of the substrate 12 is a dark region 21B that is darker than the bright region 21A because the light from the light source is not directly irradiated.

第1撮像手段14は、例えば明領域21Aの長手方向に沿って、すなわち図中のX軸方向に沿って、明領域21A以外の、すなわち暗領域21B中の点線で囲まれた撮像領域22を撮像することができる。なお、この場合は少なくとも撮像領域22を含む領域を撮影すればよく、撮像領域22の周辺も併せて撮像しても良い。撮像領域22の周囲の領域も併せて撮像した場合、後述する第1画像処理手段により目的とする撮像領域の画像を、撮像した画像から切り出すことができる。 The first imaging means 14 captures an imaging region 22 other than the bright region 21A, that is, surrounded by a dotted line in the dark region 21B, for example, along the longitudinal direction of the bright region 21A, that is, along the X-axis direction in the drawing. It can be imaged. In this case, at least the region including the imaging region 22 may be photographed, and the periphery of the imaging region 22 may also be imaged. When the area around the imaging region 22 is also imaged, an image of the target imaging region can be cut out from the captured image by the first image processing means described later.

なお、ここでは、第1光源13からの光が、基板12の第1の表面12Aに直接照射されている場合を例に説明したが、既述の様に、第1光源13からの光は、基板12の第1の表面12Aに直接照射されている必要はない。例えば第1光源13から照射された光が基板12の第1の表面12A以外の場所に照射され、反射された間接的な光により照らされていても良い。 Here, the case where the light from the first light source 13 is directly irradiated to the first surface 12A of the substrate 12 has been described as an example, but as described above, the light from the first light source 13 is , It is not necessary that the first surface 12A of the substrate 12 is directly irradiated. For example, the light emitted from the first light source 13 may be applied to a place other than the first surface 12A of the substrate 12 and illuminated by the reflected indirect light.

ただし、色ムラを検出するためには、第1光源13からの光による、撮像領域22内の明るさの程度が均一であることが好ましい。このため、既述の様に基板12の第1の表面12Aまたはその近傍に第1光源13からの光を照射し、明領域21Aの長手方向に沿って撮像領域22を設定し、撮像することが好ましい。また、第1光源13からの光による、撮像領域22内の明るさの程度が均一となるように、撮像領域22の長手方向と垂直な方向の長さが過度に長くならないように、その領域を設定することが好ましい。ここでいう撮像領域の長手方向と垂直な方向の長さとは、図2中のY軸方向の長さを意味する。 However, in order to detect color unevenness, it is preferable that the degree of brightness in the imaging region 22 due to the light from the first light source 13 is uniform. Therefore, as described above, the first surface 12A of the substrate 12 or its vicinity is irradiated with light from the first light source 13, the imaging region 22 is set along the longitudinal direction of the bright region 21A, and imaging is performed. Is preferable. In addition, the region of the imaging region 22 so that the degree of brightness in the imaging region 22 due to the light from the first light source 13 is not excessively long in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the imaging region 22. It is preferable to set. The length in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the imaging region referred to here means the length in the Y-axis direction in FIG.

後述のように、第1画像処理手段により、撮像した撮像領域の画像をつなぎ合せ、基板表面全体の画像を形成することもできる。そして、形成した基板表面全体の画像から、色ムラをより精度よく検出する観点から、形成した基板表面全体の画像の明るさが均一であることが好ましい。すなわち、係る基板表面全体の画像を構成する複数の撮像領域の画像の明るさが均一であることが好ましい。このため、第1光源13からの線状の光が照射されて形成された明領域の位置を変化させる際、明領域と、撮像領域22との間の距離は一定に保つことが好ましい。 As will be described later, it is also possible to form an image of the entire surface of the substrate by stitching together the images of the captured imaging region by the first image processing means. Then, from the viewpoint of more accurately detecting color unevenness from the image of the entire surface of the formed substrate, it is preferable that the brightness of the image of the entire surface of the formed substrate is uniform. That is, it is preferable that the brightness of the images in the plurality of imaging regions constituting the image of the entire surface of the substrate is uniform. Therefore, when the position of the bright region formed by irradiating the linear light from the first light source 13 is changed, it is preferable to keep the distance between the bright region and the imaging region 22 constant.

後述するように撮像した画像を、3次元的に集めて画像ボリュームデータとして取り扱う場合には、第1撮像手段14は、撮像領域を含む基板12の第1の表面12A全体を撮像しても良い。 When the captured images are collected three-dimensionally and handled as image volume data as described later, the first imaging means 14 may image the entire first surface 12A of the substrate 12 including the imaging region. ..

本発明の発明者の検討によれば、基板の表面に線状の光を照射した場合に、基板の表面のうち線状の光を反射する明領域と、明領域に隣接する暗領域との境界近傍において、基板表面の凹凸のコントラストが高まる。そして、基板表面のうちの、上記明領域と暗領域との境界近傍を撮像する操作を、明領域の位置を変化させながら繰り返し実施し、得られた画像をつなぎ合わせることで、基板表面の凹凸を明確にした画像が得られる。 According to the study of the inventor of the present invention, when the surface of the substrate is irradiated with linear light, the bright region on the surface of the substrate that reflects the linear light and the dark region adjacent to the bright region are defined. In the vicinity of the boundary, the contrast of the unevenness on the substrate surface is increased. Then, the operation of imaging the vicinity of the boundary between the bright region and the dark region on the substrate surface is repeatedly performed while changing the position of the bright region, and the obtained images are stitched together to form unevenness on the substrate surface. An image that clarifies is obtained.

このため、基板12の第1の表面12Aの凹凸も検査する必要がある場合には、例えば明領域21Aと、明領域21Aに隣接した暗領域21Bとを含む凹凸検知用撮像領域23A、23Bから選択された1つ以上の領域を第1撮像手段14により撮像することもできる。なお、凹凸検知用撮像領域を撮像するために、第1撮像手段14とは別の撮像手段を設けることもできる。 Therefore, when it is necessary to inspect the unevenness of the first surface 12A of the substrate 12, for example, from the unevenness detection imaging regions 23A and 23B including the bright region 21A and the dark region 21B adjacent to the bright region 21A. One or more selected regions can also be imaged by the first imaging means 14. In addition, in order to image the unevenness detection imaging region, an imaging means different from the first imaging means 14 may be provided.

明領域21Aの上部側の領域である凹凸検知用撮像領域23Aと、明領域21Aの下部側の凹凸検知用撮像領域23Bとでは各撮像領域に含まれる明領域と、暗領域との配置が逆になっている。このため、凹凸検知用撮像領域23Aの画像をつなぎ合わせた場合と、凹凸検知用撮像領域23Bの画像をつなぎ合わせた場合とでは、得られる画像の白黒(明暗)が反転することになる。従って、取得したい画像にあわせて撮像する撮像領域を選択することもできる。 In the unevenness detection imaging region 23A, which is the upper region of the bright region 21A, and the unevenness detection imaging region 23B on the lower side of the bright region 21A, the arrangement of the bright region and the dark region included in each imaging region is reversed. It has become. Therefore, the black and white (brightness) of the obtained image is reversed between the case where the images in the unevenness detection imaging region 23A are joined and the case where the images in the unevenness detection imaging region 23B are joined. Therefore, it is possible to select an imaging region to be imaged according to the image to be acquired.

第1撮像手段14は、上述のように基板12に形成された明領域21Aの長手方向に沿って、明領域21A以外の撮像領域22を撮像できればよく、その構成は特に限定されない。第1撮像手段14としては、各種撮像素子を備えるカメラモジュールを用いることができる。撮像素子としては、例えばCMOS(complementary metal oxide semiconductor)センサや、CCD(Charge Coupled Device)センサなどの半導体撮像素子や光電管、撮像管等から選択された1種類以上を用いることができる。 The first imaging means 14 may be able to image an imaging region 22 other than the bright region 21A along the longitudinal direction of the bright region 21A formed on the substrate 12 as described above, and its configuration is not particularly limited. As the first image pickup means 14, a camera module including various image pickup elements can be used. As the image pickup element, for example, one or more types selected from semiconductor image pickup elements such as CMOS (Complementary metal accessory semiconductor) sensors, CCD (Chage Coupled Device) sensors, phototubes, image pickup tubes, and the like can be used.

第1撮像手段14が撮像する画像は、動画であっても静止画であっても良い。動画の場合、例えば後述する第1画像処理手段により、撮影した画像のうち任意のタイミングでの撮像領域の静止画を複数枚抽出してつなぎ合わせることができる。 The image captured by the first imaging means 14 may be a moving image or a still image. In the case of moving images, for example, a plurality of still images in the imaging region at an arbitrary timing can be extracted and stitched together by the first image processing means described later.

また、第1撮像手段14は、明領域の形状等によっては、線状(帯状)の撮像領域を撮像できる手段であれば足りるため、第1撮像手段は、例えばラインスキャンカメラとすることもできる。ラインスキャンカメラとは、撮像素子が直線状に配列され、線状(帯状)の撮像領域を撮像できるカメラモジュールを意味する。 Further, since the first imaging means 14 may be any means capable of imaging a linear (strip-shaped) imaging region depending on the shape of the bright region or the like, the first imaging means may be, for example, a line scan camera. .. The line scan camera means a camera module in which image pickup elements are arranged in a straight line and can image a linear (band-shaped) image pickup region.

第1撮像手段14は例えば図1に示したように基板の検査装置10に設置されたアーム18に固定しておくこともできる。アーム18には既述の第1光源13も併せて固定しておくこともできる。ただし、係る形態に限定されず、第1撮像手段14は、他の部材とは別に三脚等を用いて固定しておくこともできる。
(第1照射位置制御手段)
既述の様に、本実施形態の基板の検査装置では、基板の第1の表面のうち、明領域の長手方向に沿い、かつ明領域以外の領域である撮像領域を第1撮像手段により撮像できる。そして、明領域の位置を変化させながら、撮像領域を撮像することを、得られた撮像領域の画像をつなぎ合わせた場合に検査を行う部分の画像、例えば基板の第1の表面全体の画像が得られるまで繰り返し実施することが好ましい。
The first imaging means 14 may be fixed to an arm 18 installed in the substrate inspection device 10 as shown in FIG. 1, for example. The first light source 13 described above can also be fixed to the arm 18. However, the present invention is not limited to this, and the first imaging means 14 can be fixed by using a tripod or the like separately from other members.
(First irradiation position control means)
As described above, in the substrate inspection apparatus of the present embodiment, the imaging region of the first surface of the substrate along the longitudinal direction of the bright region and the region other than the bright region is imaged by the first imaging means. can. Then, while changing the position of the bright region, the image of the portion to be inspected when the images of the obtained imaging region are joined to image the imaging region, for example, the image of the entire first surface of the substrate is obtained. It is preferable to carry out repeatedly until it is obtained.

そこで、本実施形態の基板の検査装置は、基板の第1の表面に形成した明領域の位置を変化させる第1照射位置制御手段15を有することができる。 Therefore, the substrate inspection device of the present embodiment can have a first irradiation position control means 15 that changes the position of a bright region formed on the first surface of the substrate.

第1照射位置制御手段15は、例えば明領域を該明領域の長手方向と直交する方向、すなわち図2中のY軸方向に移動させることができる。この場合、例えば第1照射位置制御手段15は、基板用ステージ11と第1光源13とのうち、少なくとも一方の移動を制御することができる。 The first irradiation position control means 15 can move, for example, the bright region in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the bright region, that is, in the Y-axis direction in FIG. In this case, for example, the first irradiation position control means 15 can control the movement of at least one of the substrate stage 11 and the first light source 13.

例えば第1光源13が照射する線状の光の長手方向が、図1中の第1矢印11Aと直交する方向の場合、基板用ステージ11を、図1中の第1矢印11Aの方向に、もしくは第1矢印11Aと反対の方向に移動させることで、基板用ステージ11に設置した基板12を移動させることができる。これにより、基板12上に形成した明領域の位置を、明領域の長手方向と直交する方向に移動することができる。 For example, when the longitudinal direction of the linear light emitted by the first light source 13 is orthogonal to the first arrow 11A in FIG. 1, the substrate stage 11 is set in the direction of the first arrow 11A in FIG. Alternatively, the substrate 12 installed on the substrate stage 11 can be moved by moving it in the direction opposite to the first arrow 11A. As a result, the position of the bright region formed on the substrate 12 can be moved in the direction orthogonal to the longitudinal direction of the bright region.

また、第1光源13は、既述の様に例えば図1に示すようにアーム17に固定しておくことができ、アーム17を図中の第2矢印17Aの方向に、もしくは第2矢印17Aと反対の方向に移動させることで、第1光源13からの線状の光の照射位置を変化させることができる。このため、明領域の位置も移動させることができる。 Further, the first light source 13 can be fixed to the arm 17 as shown in FIG. 1, for example, as described above, and the arm 17 can be fixed in the direction of the second arrow 17A in the drawing or the second arrow 17A. By moving the light in the direction opposite to the above, the irradiation position of the linear light from the first light source 13 can be changed. Therefore, the position of the bright region can also be moved.

そこで、例えば基板用ステージ11、および第1光源13を固定したアーム17から選択された少なくとも1つの部材に、各部材を移動、もしくは回転させるための駆動手段、例えばモーター等を設けておくことができる。そして、第1照射位置制御手段15は、係る駆動手段と接続しておき、その変位量や変位の方向を制御することができる。 Therefore, for example, a driving means for moving or rotating each member, such as a motor, may be provided on at least one member selected from the stage 11 for the substrate and the arm 17 to which the first light source 13 is fixed. can. Then, the first irradiation position control means 15 can be connected to the driving means and can control the displacement amount and the direction of the displacement.

なお、第1光源13を移動させる場合、第1撮像手段14も、線状の光の照射位置の変化にあわせて移動できるように構成することもできる。 When the first light source 13 is moved, the first imaging means 14 can also be configured to be movable according to a change in the irradiation position of linear light.

明領域の移動方向は明領域の長手方向と直交する方向に限定されるものではなく、例えば明領域が、基板の周方向に沿って回転するように構成することもできる。この場合、基板用ステージ11を、水平面内で回転するように、モーター等の駆動手段を配置し、該駆動手段に第1照射位置制御手段15を接続しておくことができる。 The moving direction of the bright region is not limited to the direction orthogonal to the longitudinal direction of the bright region, and for example, the bright region may be configured to rotate along the circumferential direction of the substrate. In this case, a driving means such as a motor can be arranged so that the substrate stage 11 rotates in a horizontal plane, and the first irradiation position controlling means 15 can be connected to the driving means.

第1照射位置制御手段15が基板の第1の表面に形成した明領域を移動させるのに合わせて、第1撮像手段14により撮像する撮像領域も移動させ、撮像領域を撮像した画像をつなぎ合わせた場合に、検査を行う部分の画像、例えば基板表面全体の画像が形成できることが好ましい。このため、例えば基板の第1の表面の任意の端部である第1の端部や、その近傍に明領域を形成後、該明領域を、該明領域の長手方向と直交する方向に沿って、第1の端部の反対側、すなわち第1の端部と基板の中心とを通る直線が基板の端部と直交する第2の端部まで移動させることが、効率的かつ基板表面を隙間なく撮像できるため好ましい。 As the first irradiation position control means 15 moves the bright region formed on the first surface of the substrate, the imaging region to be imaged by the first imaging means 14 is also moved, and the images captured in the imaging region are stitched together. In this case, it is preferable that an image of the portion to be inspected, for example, an image of the entire surface of the substrate can be formed. Therefore, for example, after forming a bright region at or near the first end, which is an arbitrary end of the first surface of the substrate, the bright region is set along a direction orthogonal to the longitudinal direction of the bright region. It is efficient and efficient to move the surface of the substrate to the opposite side of the first end, that is, to the second end where the straight line passing through the first end and the center of the substrate is orthogonal to the end of the substrate. It is preferable because it can image without gaps.

第1照射位置制御手段15により明領域を移動させる際、例えば明領域を一定量移動させる毎に第1撮像手段14により、撮像領域を撮像し、後述する第1画像処理手段によりつなぎ合わせることができる。そして、第1撮像手段14により撮像した複数枚の撮像領域の画像をつなぎ合わせることで検査を行う部分の画像、例えば基板表面全体の画像を形成することが好ましい。このため、第1撮像手段によりn回目に撮像領域を撮像した後、n+1回目に撮像領域を撮像するまでに第1照射位置制御手段により明領域を移動させる距離と、つなぎ合わせる画像の幅、すなわち撮像領域の幅とが一致するように明領域を移動させることが好ましい。
(第1画像処理手段)
第1画像処理手段16は、第1撮像手段14で撮像した画像を処理することができる。
When the bright region is moved by the first irradiation position control means 15, for example, every time the bright region is moved by a certain amount, the imaging region is imaged by the first imaging means 14 and connected by the first image processing means described later. can. Then, it is preferable to form an image of a portion to be inspected, for example, an image of the entire surface of the substrate by joining the images of a plurality of imaging regions captured by the first imaging means 14. Therefore, after the nth imaging region is imaged by the first imaging means, the distance at which the bright region is moved by the first irradiation position control means before the n + 1th imaging region is imaged, and the width of the images to be stitched, that is, It is preferable to move the bright region so that it matches the width of the imaging region.
(First image processing means)
The first image processing means 16 can process the image captured by the first imaging means 14.

第1画像処理手段16は、ASIC(application specific integrated circuit:特定用途向け集積回路)などであって、第1撮像手段14で撮像した画像の処理を担当する。 The first image processing means 16 is an ASIC (application specific integrated circuit: an integrated circuit for a specific application) or the like, and is in charge of processing an image captured by the first imaging means 14.

第1画像処理手段16では、第1撮像手段14が撮像した画像から、必要に応じて既述の撮像領域に対応する例えば短冊状の画像を切り出し、明領域の移動方向に沿って並べ、つなぎ合わせることで、基板表面全体の画像を形成できる。この際、必要に応じて画像中のコントラスト等を補正したり、二値化処理等の画像処理を実施することもできる。 In the first image processing means 16, for example, a strip-shaped image corresponding to the above-mentioned imaging region is cut out from the image captured by the first imaging means 14, arranged along the moving direction of the bright region, and connected. By combining them, an image of the entire surface of the substrate can be formed. At this time, it is also possible to correct the contrast in the image or perform image processing such as binarization processing as necessary.

第1撮像手段14で動画を撮像した場合には、第1画像処理手段16は所定のタイミングでの撮像領域の静止画を複数枚抽出することもできる。 When a moving image is captured by the first imaging means 14, the first image processing means 16 can also extract a plurality of still images in the imaging region at a predetermined timing.

そして、第1画像処理手段16で作成した画像は第1出力手段19に出力することもでき、得られた画像中のコントラストの違いにより、得られた画像から目視で色ムラを検出できる。なお、第1出力手段19の構成は特に限定されず、例えば各種ディスプレイ等の表示手段や、プリンター等の印刷手段とすることができる。 The image created by the first image processing means 16 can also be output to the first output means 19, and color unevenness can be visually detected from the obtained image due to the difference in contrast in the obtained image. The configuration of the first output means 19 is not particularly limited, and can be, for example, a display means such as various displays or a printing means such as a printer.

第1画像処理手段16は、例えばAI(artificial intelligence)を備えておくことができ、上述のようにして得られた基板表面の画像から、基板の第1の表面の色ムラを検出し、通知するように構成することもできる。また、第1画像処理手段等において、例えば予め設定しておいた色度や明度等の閾値により、形成した画像中の色ムラが生じている箇所を検出、通知できるように構成することもできる。 The first image processing means 16 can be provided with, for example, an AI (artificial intelligence), and can detect and notify color unevenness of the first surface of the substrate from the image of the substrate surface obtained as described above. It can also be configured to do so. Further, the first image processing means or the like can be configured so that a portion of the formed image in which color unevenness occurs can be detected and notified by, for example, a preset threshold value such as chromaticity or lightness. ..

なお、第1画像処理手段16は、1つのASIC内で、ソフトウェア的に実現することもできるが、例えば複数のASICを設ける等して、一部または全部をハードウェアで実現してもよい。 The first image processing means 16 can be realized by software in one ASIC, but a part or all of it may be realized by hardware, for example, by providing a plurality of ASICs.

また、第1画像処理手段16は、第1撮像手段14が撮像した画像を3次元的に集めて画像ボリュームデータとして取り扱うこともできる。そして、第1画像処理手段16は、第1撮像手段14により得られた基板の表面の画像ボリュームデータについて、ボリュームレンダリング処理をすることができる。第1画像処理手段16は、具体的には例えば、画像ボリュームデータについて、撮像領域の輝度値での等値面画像を作成(レンダリング)することで、基板表面全体に渡って、撮像領域の画像を取出すことができる。この場合、撮像する際に光源、例えば蛍光灯が斜めになっていたり、写真毎に光源の位置がずれていたりしても、所定の輝度値の領域は共通になるので、所定の輝度値で分割することにより、写真の枚数に関わりなく、目的とする撮像領域を取り出し、色ムラをより容易に検出できるようになる。 Further, the first image processing means 16 can also three-dimensionally collect the images captured by the first imaging means 14 and handle them as image volume data. Then, the first image processing means 16 can perform volume rendering processing on the image volume data on the surface of the substrate obtained by the first imaging means 14. Specifically, for example, the first image processing means 16 creates (renders) an isosurface image at the brightness value of the imaging region for the image volume data, so that the image of the imaging region covers the entire surface of the substrate. Can be taken out. In this case, even if the light source, for example, the fluorescent lamp is slanted at the time of imaging, or the position of the light source is deviated for each photograph, the region of the predetermined luminance value is common, so that the predetermined luminance value is used. By dividing, the target imaging region can be taken out regardless of the number of photographs, and color unevenness can be detected more easily.

第1画像処理手段16において、得られた基板表面の画像を画像ボリュームデータとして取り扱うことで、検出したい色ムラのサイズ等に応じて、輝度等を設定し、基板表面の画像ボリュームデータを分割し、等値面(アイソサーフェス)を取出すことができる。 By treating the obtained image of the substrate surface as image volume data in the first image processing means 16, the brightness and the like are set according to the size of the color unevenness to be detected, and the image volume data of the substrate surface is divided. , The isosurface can be extracted.

既述の様に、凹凸検知用撮像領域の撮像も行った場合、第1画像処理手段16は、必要に応じて既述の凹凸検知用撮像領域に対応する例えば短冊状の画像を切り出し、明領域の移動方向に沿って並べ、つなぎ合わせることで、基板表面全体の画像を形成することもできる。この際、必要に応じて形成した画像中のコントラスト等を補正することもできる。 As described above, when the imaging region for unevenness detection is also imaged, the first image processing means 16 cuts out, for example, a strip-shaped image corresponding to the imaging region for unevenness detection described above as necessary. By arranging and joining the regions along the moving direction, it is possible to form an image of the entire surface of the substrate. At this time, it is also possible to correct the contrast and the like in the formed image as needed.

また、例えば第1画像処理手段16が、例えばAIを備えておくこともでき、得られた基板の第1の表面の画像から、基板表面の凹部や、凸部を検出し、通知するように構成することもできる。 Further, for example, the first image processing means 16 may be provided with, for example, AI so as to detect and notify the concave portion or the convex portion of the substrate surface from the obtained image of the first surface of the substrate. It can also be configured.

第1画像処理手段16は、第1撮像手段14により得られた基板の表面の画像ボリュームデータについて、ボリュームレンダリング処理をすることもできる。第1画像処理手段16は、具体的には例えば、画像ボリュームデータについて、明領域と、暗領域との境界の輝度値での等値面画像を作成(レンダリング)することで、基板表面全体に渡って、明領域と、暗領域との境界(境界の画像)を取出すことができる。この場合、撮像する際に光源、例えば蛍光灯が斜めになっていたり、写真毎に光源の位置がずれていたりしても、境界面は共通になるので、境界面で分割することにより、写真の枚数に関わりなく、明領域と、暗領域との境界を取り出し、凹部や凸部をより容易に検出できるようになる。 The first image processing means 16 can also perform volume rendering processing on the image volume data on the surface of the substrate obtained by the first imaging means 14. Specifically, for example, the first image processing means 16 creates (renders) an isosurface image at the brightness value of the boundary between the bright region and the dark region for the image volume data, thereby covering the entire surface of the substrate. Across, the boundary (image of the boundary) between the bright area and the dark area can be extracted. In this case, even if the light source, for example, the fluorescent lamp is slanted when taking an image, or the position of the light source is deviated for each photograph, the boundary surface is the same. Regardless of the number of sheets, the boundary between the bright region and the dark region can be taken out, and the concave portion and the convex portion can be detected more easily.

第1画像処理手段16において、得られた基板表面の画像を画像ボリュームデータとして取り扱うことで、検出したい凹凸のサイズ等に応じて、輝度等を設定し、基板表面の画像ボリュームデータを分割し、等値面(アイソサーフェス)を取出すことができる。 By treating the obtained image of the substrate surface as image volume data in the first image processing means 16, the brightness and the like are set according to the size of the unevenness to be detected, and the image volume data of the substrate surface is divided. The isosurface can be extracted.

なお、第1画像処理手段16とは別に画像処理手段を設け、係る凹凸検知用撮像領域の画像についての既述の処理を行うこともできる。そして、凹凸検知用撮像領域の画像について画像処理を、必要に応じて既述の第1出力手段19等に出力し、目視により基板の第1の表面の凹凸を検知することもできる。 It is also possible to provide an image processing means separately from the first image processing means 16 to perform the above-described processing on the image in the unevenness detection imaging region. Then, the image processing of the image in the image pickup region for detecting unevenness can be output to the first output means 19 or the like described above as necessary, and the unevenness on the first surface of the substrate can be visually detected.

本実施形態の基板の検査装置は、上述の各部材以外にも任意の部材をさらに有することもできる。 The substrate inspection device of the present embodiment may further include any member in addition to the above-mentioned members.

本実施形態の基板の検査装置は、例えば基板を水平にする傾き補正手段をさらに有することもできる。傾き補正手段は例えば既述の基板用ステージや、本実施形態の基板の検査装置の躯体に設けておき、光源に対して、検査を行う基板の表面が水平になるように、傾きを補正するように構成することができる。 The substrate inspection device of the present embodiment may further include, for example, an inclination correction means for leveling the substrate. The tilt correction means is provided, for example, on the stage for the substrate described above or the frame of the substrate inspection device of the present embodiment, and the inclination is corrected so that the surface of the substrate to be inspected is horizontal with respect to the light source. It can be configured as follows.

また、ここでは、基板12の第1の表面12A側にのみ、第1光源13、および第1撮像手段14を設けた例を示したが、係る形態に限定されない。例えば、基板12の第2の表面12B側に、第2光源や、第2撮像手段を設け、基板12の第1の表面12A、および第2の表面12Bの色ムラの有無を同時に検査できるように構成することもできる。この場合、第1光源からの光と、第2光源からの光とが干渉しないように、第1光源および第2光源の発光を制御する光源制御手段をさらに有することもできる。光源制御手段は、例えば第1光源と、第2光源とを交互に点灯するように制御することができる。 Further, here, an example in which the first light source 13 and the first imaging means 14 are provided only on the first surface 12A side of the substrate 12, but the present invention is not limited to this. For example, a second light source and a second imaging means are provided on the second surface 12B side of the substrate 12, so that the presence or absence of color unevenness on the first surface 12A and the second surface 12B of the substrate 12 can be inspected at the same time. It can also be configured to. In this case, it is also possible to further have a light source control means for controlling the light emission of the first light source and the second light source so that the light from the first light source and the light from the second light source do not interfere with each other. The light source control means can control, for example, the first light source and the second light source to be turned on alternately.

以上に説明した本実施形態の基板の検査装置によれば、光源、撮像手段、基板用ステージを備えたシンプルな装置構成により、容易に基板表面の色ムラを検出することが可能になる。 According to the substrate inspection apparatus of the present embodiment described above, it is possible to easily detect color unevenness on the substrate surface by a simple apparatus configuration including a light source, an imaging means, and a stage for the substrate.

また、本実施形態の基板の検査装置においては、線状の光を発する光源であれば足り、例えば大きな平板状の光源を用いる必要がない。このため、基板の検査装置全体を小型化することができ、コストも抑制することができる。
(2)第2の実施形態
図3に第2の実施形態に係る基板の検査装置30の基板用ステージ11に配置した基板12の中心を通る面での断面図を示す。
Further, in the substrate inspection device of the present embodiment, a light source that emits linear light is sufficient, and it is not necessary to use, for example, a large flat plate-shaped light source. Therefore, the entire substrate inspection device can be miniaturized, and the cost can be suppressed.
(2) Second Embodiment FIG. 3 shows a cross-sectional view of a plane passing through the center of the substrate 12 arranged on the substrate stage 11 of the substrate inspection device 30 according to the second embodiment.

本実施形態の基板の検査装置30は、既述の基板の検査装置10の構成に加えて、基板12の第1の表面12Aと反対側に位置する第2の表面12Bのうち、第1光源から照射された線状の光を透過した領域である透過領域を撮像する第2撮像手段と、
前記第2撮像手段により得られた画像を処理する第2画像処理手段と、をさらに有することもできる。
In the substrate inspection device 30 of the present embodiment, in addition to the configuration of the substrate inspection device 10 described above, the first light source of the second surface 12B located on the opposite side of the first surface 12A of the substrate 12 A second imaging means for imaging a transmission region, which is a region that transmits linear light emitted from the light source.
It is also possible to further have a second image processing means for processing the image obtained by the second imaging means.

第1の実施形態で説明した部材には同じ番号を付して説明を省略する。 The members described in the first embodiment are designated by the same numbers, and the description thereof will be omitted.

基板表面の色ムラは、例えば基板の表面の組成が不均一となることや、厚さが均一ではないこと等で生じている。そして、例えば基板の表面に凹部等が生じ、基板の厚さが均一ではない部分があると、第1の表面側の色ムラとして検出される場合がある。このため、基板の表面の凹凸もあわせて検出し、例えば基板の表面側の凹部等に起因するものであるかを確認できるように構成することがより好ましい。 Color unevenness on the surface of the substrate is caused by, for example, uneven composition of the surface of the substrate, non-uniform thickness, and the like. Then, for example, if there are recesses or the like on the surface of the substrate and the thickness of the substrate is not uniform, it may be detected as color unevenness on the first surface side. Therefore, it is more preferable to detect the unevenness of the surface of the substrate as well, and to confirm whether the cause is, for example, a recess on the surface side of the substrate.

そこで、本発明の発明者は、基板の表面の凹凸を検出可能な基板の検査装置について鋭意検討を行った。検討を行う中で、基板の一方の表面である第1の表面に、光源から線状の光を照射した場合に、基板の第1の表面と反対側に位置する第2の表面のうち、光源から照射された線状の光を透過した透過領域において、基板の表面の凹凸のコントラストが高まることに着目した。そして、基板の第2の表面のうちの、上記透過領域を撮像(撮影)する操作を、透過領域の位置を変化させながら繰り返し実施し、得られた画像をつなぎ合わせることで、基板の表面の凹凸を明確にした画像が得られることを見出した。 Therefore, the inventor of the present invention has diligently studied a substrate inspection device capable of detecting unevenness on the surface of the substrate. During the study, among the second surfaces located on the opposite side of the first surface of the substrate when the first surface, which is one surface of the substrate, is irradiated with linear light from a light source. We focused on the fact that the contrast of the unevenness on the surface of the substrate increases in the transmission region where the linear light emitted from the light source is transmitted. Then, the operation of imaging (photographing) the transmission region on the second surface of the substrate is repeatedly performed while changing the position of the transmission region, and the obtained images are stitched together to form the surface of the substrate. It was found that an image with clear unevenness can be obtained.

本実施形態の基板の検査装置30が有する部材のうち、第1の実施形態で説明していない各部材について以下に説明する。
(第2撮像手段)
本実施形態の基板の検査装置30は、基板12の第2の表面12B側に、第2撮像手段34を備えている。
Among the members included in the substrate inspection device 30 of the present embodiment, each member not described in the first embodiment will be described below.
(Second imaging means)
The substrate inspection device 30 of the present embodiment includes a second imaging means 34 on the second surface 12B side of the substrate 12.

第2撮像手段34は、基板12の第1の表面12Aの反対側に位置する第2の表面12Bのうち、第1光源13から照射された線状の光を透過した領域である透過領域を撮像することができる。 The second imaging means 34 sets a transmission region, which is a region of the second surface 12B located on the opposite side of the first surface 12A of the substrate 12, which is a region through which the linear light emitted from the first light source 13 is transmitted. It can be imaged.

ここで、図4を用いて第2撮像手段34により撮像する透過領域について説明する。 Here, a transmission region to be imaged by the second imaging means 34 will be described with reference to FIG.

図4は、基板12の第2の表面12B側を示しており、基板12の第2の表面12Bとは反対側、すなわち裏面が第1の表面であり、第1の表面が光源から線状の光が照射される面となる。そして、図4では第1光源から、第1の表面に1本の線状の光が照射され、第2の表面12Bにこれに対応した透過領域41Aが形成された状態を示している。 FIG. 4 shows the second surface 12B side of the substrate 12, which is opposite to the second surface 12B of the substrate 12, that is, the back surface is the first surface, and the first surface is linear from the light source. It becomes the surface to be irradiated with the light of. Then, FIG. 4 shows a state in which the first surface is irradiated with one linear light from the first light source, and the corresponding transmission region 41A is formed on the second surface 12B.

第1光源から基板12の第1の表面12Aに線状の光が照射されると、基板12の第2の表面12Bには、光源からの光を透過した透過領域41Aが形成される。透過領域41Aは第1光源からの線状の光に対応した線状(帯状)の領域となる。 When the first surface 12A of the substrate 12 is irradiated with linear light from the first light source, a transmission region 41A that transmits the light from the light source is formed on the second surface 12B of the substrate 12. The transmission region 41A is a linear (band-shaped) region corresponding to the linear light from the first light source.

そして、透過領域41A以外の領域は、光源からの光の透過の程度が低いか、透過をしていないため、透過領域41Aと比較して暗い暗領域となり、基板12上には暗領域41Bが形成される。 Since the regions other than the transmission region 41A have a low degree of light transmission from the light source or are not transmitted, they are darker dark regions than the transmission region 41A, and the dark region 41B is formed on the substrate 12. It is formed.

この場合、第2撮像手段は透過領域41Aを撮像することができる。ただし、撮像手段は透過領域41Aを含む領域を撮像すればよく、透過領域41Aの周囲も併せて撮像することもできる。例えば、透過領域41Aの長手方向に沿って、すなわち図中のX軸方向に沿って、透過領域41Aを含む、点線で囲まれた撮像領域42を撮像することができる。透過領域41Aを撮像する際に、その周囲の領域も併せて撮像した場合、後述する第2画像処理手段により目的とする透過領域の画像を、撮像した画像から切り出すことができる。 In this case, the second imaging means can image the transmission region 41A. However, the imaging means may image the region including the transmission region 41A, and the periphery of the transmission region 41A can also be imaged. For example, along the longitudinal direction of the transmission region 41A, that is, along the X-axis direction in the drawing, the imaging region 42 surrounded by the dotted line including the transmission region 41A can be imaged. When the transmission region 41A is imaged, when the surrounding region is also imaged, the image of the target transmission region can be cut out from the captured image by the second image processing means described later.

第2撮像手段は、上述のように基板に形成された透過領域を撮像できればよく、その構成は特に限定されない。第2撮像手段34としては、各種撮像素子を備えるカメラモジュールを用いることができる。撮像素子としては、第1の実施形態の第1撮像手段で説明したものと同様のものを用いることができるため、ここでは説明を省略する。 The second imaging means only needs to be able to image the transmission region formed on the substrate as described above, and its configuration is not particularly limited. As the second image pickup means 34, a camera module including various image pickup elements can be used. As the image pickup device, the same image pickup device as that described in the first image pickup means of the first embodiment can be used, and thus the description thereof will be omitted here.

第2撮像手段34が撮像する画像は、動画であっても静止画であっても良い。動画の場合、例えば後述する第2画像処理手段により、撮像した画像のうち任意のタイミングでの透過領域の静止画を複数枚抽出して用いることができる。 The image captured by the second imaging means 34 may be a moving image or a still image. In the case of moving images, for example, a second image processing means described later can be used to extract and use a plurality of still images in the transmission region at arbitrary timings from the captured images.

また、第2撮像手段34は、透過領域の形状等によっては、線状(帯状)の明領域を撮像できる手段であれば足りるため、第2撮像手段は、例えばラインスキャンカメラとすることもできる。 Further, the second imaging means 34 may be a line scan camera, for example, because it is sufficient if the second imaging means 34 can image a linear (band-shaped) bright region depending on the shape of the transmission region or the like. ..

第2撮像手段34は例えば図3に示したように基板の検査装置30に設置されたアーム38に固定しておくこともできる。ただし、係る形態に限定されず、第2撮像手段34は、他の部材とは別に三脚等を用いて固定しておくこともできる。また、透過領域の移動に伴い、第2撮像手段34の位置が移動するように第2撮像手段用移動手段等を設けておくこともできる。 The second imaging means 34 may be fixed to an arm 38 installed in the substrate inspection device 30 as shown in FIG. 3, for example. However, the present invention is not limited to this, and the second imaging means 34 can be fixed by using a tripod or the like separately from other members. Further, it is also possible to provide a moving means for the second imaging means or the like so that the position of the second imaging means 34 moves as the transmission region moves.

なお、透過領域は、第1光源からの光であるため、既述の第1照射位置制御手段により基板の第2の表面上の位置が変位することになる。
(第2画像処理手段)
第2画像処理手段36は、第2撮像手段34で撮像した画像を処理することができる。
Since the transmission region is the light from the first light source, the position on the second surface of the substrate is displaced by the above-mentioned first irradiation position control means.
(Second image processing means)
The second image processing means 36 can process the image captured by the second imaging means 34.

第2画像処理手段36は、ASICなどであって、第2撮像手段34で撮像した画像の処理を担当する。 The second image processing means 36 is an ASIC or the like, and is in charge of processing the image captured by the second imaging means 34.

第2画像処理手段36では、第2撮像手段34が撮像した画像から、必要に応じて透過領域に対応する例えば短冊状の画像を切り出し、透過領域の移動方向に沿って並べ、つなぎ合わせることで、基板の第2の表面全体の画像を形成することができる。この際、必要に応じて画像中のコントラスト等を補正することもできる。 In the second image processing means 36, for example, a strip-shaped image corresponding to the transmission region is cut out from the image captured by the second imaging means 34 as needed, arranged along the moving direction of the transmission region, and joined together. , An image of the entire second surface of the substrate can be formed. At this time, the contrast in the image can be corrected as needed.

第2撮像手段34で動画を撮像した場合には、第2画像処理手段36は所定のタイミングでの透過領域の静止画を複数枚抽出することもできる。 When a moving image is captured by the second imaging means 34, the second image processing means 36 can also extract a plurality of still images in the transmission region at a predetermined timing.

そして、第2画像処理手段36で作成した画像は第2出力手段39に出力することができ、得られた画像中のコントラストの違いにより、得られた画像から目視で凹凸を検出できる。また、本実施形態の基板の検査装置30では透過光を用いていることから、基板の第2の表面12Bに含まれる凹凸だけではなく、第1の表面12Aに含まれる凹凸も、得られた画像から併せて検出することができる。 Then, the image created by the second image processing means 36 can be output to the second output means 39, and unevenness can be visually detected from the obtained image due to the difference in contrast in the obtained image. Further, since the transmitted light is used in the substrate inspection device 30 of the present embodiment, not only the unevenness contained in the second surface 12B of the substrate but also the unevenness contained in the first surface 12A can be obtained. It can also be detected from the image.

なお、第2出力手段39の構成は特に限定されず、例えば各種ディスプレイ等の表示手段や、プリンター等の印刷手段とすることができる。 The configuration of the second output means 39 is not particularly limited, and can be, for example, a display means such as various displays or a printing means such as a printer.

第2画像処理手段36は、例えばAIを備えておくことができ、上述のようにして得られた基板表面の画像から、基板表面の凹部や、凸部を検出し、通知するように構成することもできる。 The second image processing means 36 can be provided with, for example, an AI, and is configured to detect and notify the concave portion or the convex portion of the substrate surface from the image of the substrate surface obtained as described above. You can also do it.

第2画像処理手段36は、1つのASIC内で、ソフトウェア的に実現することもできるが、例えば複数のASICを設ける等して、一部または全部をハードウェアで実現してもよい。 The second image processing means 36 can be realized by software in one ASIC, but a part or all of it may be realized by hardware, for example, by providing a plurality of ASICs.

また、第2画像処理手段36は、第2撮像手段34が撮像した画像を3次元的に集めて画像ボリュームデータとして取り扱うこともできる。そして、第2画像処理手段36は、第2撮像手段34により得られた基板の表面の画像ボリュームデータについて、ボリュームレンダリング処理をすることができる。第2画像処理手段36は、具体的には例えば、画像ボリュームデータについて、透過領域の輝度値での等値面画像を作成(レンダリング)することで、基板表面全体に渡って、透過領域の画像を取出すことができる。この場合、撮像する際に光源、例えば蛍光灯が斜めになっていたり、写真毎に光源の位置がずれていたりしても、所定の輝度値の領域は共通になるので、所定の輝度値で分割することにより、写真の枚数に関わりなく、目的とする透過領域を取り出し、凹凸をより容易に検出できるようになる。 Further, the second image processing means 36 can also three-dimensionally collect the images captured by the second imaging means 34 and handle them as image volume data. Then, the second image processing means 36 can perform volume rendering processing on the image volume data on the surface of the substrate obtained by the second imaging means 34. Specifically, for example, the second image processing means 36 creates (renders) an isosurface image with the brightness value of the transmission region for the image volume data, thereby forming an image of the transmission region over the entire surface of the substrate. Can be taken out. In this case, even if the light source, for example, the fluorescent lamp is slanted at the time of imaging, or the position of the light source is deviated for each photograph, the region of the predetermined luminance value is common, so that the predetermined luminance value is used. By dividing, the target transparent region can be taken out regardless of the number of photographs, and unevenness can be detected more easily.

第2画像処理手段36において、得られた基板表面の画像を画像ボリュームデータとして取り扱うことで、検出したい凹凸のサイズ等に応じて、輝度等を設定し、基板表面の画像ボリュームデータを分割し、等値面(アイソサーフェス)を取出すことができる。 In the second image processing means 36, by treating the obtained image of the substrate surface as image volume data, the brightness and the like are set according to the size of the unevenness to be detected, and the image volume data of the substrate surface is divided. The isosurface can be extracted.

ここでは、既述の第1画像処理手段16に加えて、第2画像処理手段36を設けた例を用いて説明したが、係る形態に限定されず、例えば第1画像処理手段16と、第2画像処理手段36とをあわせた1つの画像処理手段とすることもできる。 Here, an example in which the second image processing means 36 is provided in addition to the first image processing means 16 described above has been described, but the present invention is not limited to this form, and for example, the first image processing means 16 and the first image processing means 16 and the first image processing means 16. The two image processing means 36 can be combined into one image processing means.

また、例えば第1画像処理手段16により得られた撮像領域をつなぎ合わせた画像と、第2画像処理手段36により得られた、透過領域をつなぎ合せた画像とを重ね合せて色ムラと、凹凸との位置を対比、確認できるように構成することもできる。 Further, for example, an image obtained by connecting the imaging regions obtained by the first image processing means 16 and an image obtained by connecting the transmission regions obtained by the second image processing means 36 are superposed to cause color unevenness and unevenness. It can also be configured so that the position with and can be compared and confirmed.

以上に説明した本実施形態の基板の検査装置によれば、光源、撮像手段、基板用ステージを備えたシンプルな装置構成により、容易に基板表面の色ムラに加えて基板表面の凹凸も検出することが可能になる。 According to the substrate inspection apparatus of the present embodiment described above, not only color unevenness on the substrate surface but also irregularities on the substrate surface can be easily detected by a simple apparatus configuration including a light source, an imaging means, and a stage for the substrate. Will be possible.

また、本実施形態の基板の検査装置においては、線状の光を発する光源であれば足り、例えば大きな平板状の光源を用いる必要がない。このため、基板の検査装置全体を小型化することができ、コストも抑制することができる。 Further, in the substrate inspection device of the present embodiment, a light source that emits linear light is sufficient, and it is not necessary to use, for example, a large flat plate-shaped light source. Therefore, the entire substrate inspection device can be miniaturized, and the cost can be suppressed.

さらに、本実施形態の基板の検査装置によれば、透過光を用いて、基板表面の凹凸を検出するため、検査の際に撮像する面とは反対側の裏面側の凹凸も併せて検出することができる。このため、基板の両面について効率よく基板表面の凹凸を検査することが可能になる。
(3)第3の実施形態
図5に第3の実施形態に係る基板の検査装置50の基板用ステージ11に配置した基板12の中心を通る面での断面図を示す。
Further, according to the substrate inspection device of the present embodiment, since the unevenness of the substrate surface is detected by using the transmitted light, the unevenness on the back surface side opposite to the surface to be imaged at the time of inspection is also detected. be able to. Therefore, it is possible to efficiently inspect the unevenness of the substrate surface on both sides of the substrate.
(3) Third Embodiment FIG. 5 shows a cross-sectional view of the substrate inspection device 50 according to the third embodiment in a plane passing through the center of the substrate 12 arranged on the substrate stage 11.

本実施形態の基板の検査装置50は、第1の実施形態で説明した基板の検査装置10に加えて、以下の部材をさらに有することができる。
基板の第1の表面と反対側に位置する第2の表面に対して線状の光を照射する第2光源。
基板の前記第1の表面のうち、第2光源から照射された線状の光を透過した領域である透過領域の位置を変化させる第2照射位置制御手段。
第1光源および第2光源の発光を制御する光源制御手段。
そして、第1撮像手段は、基板の第1の表面のうち、透過領域の撮像も行うことができる。
The substrate inspection device 50 of the present embodiment may further include the following members in addition to the substrate inspection device 10 described in the first embodiment.
A second light source that irradiates a second surface of the substrate opposite to the first surface with linear light.
A second irradiation position control means for changing the position of a transmission region, which is a region through which linear light emitted from a second light source is transmitted, on the first surface of the substrate.
A light source control means for controlling light emission of a first light source and a second light source.
Then, the first imaging means can also image a transmission region of the first surface of the substrate.

第1の実施形態で説明した部材には同じ番号を付して説明を省略する。 The members described in the first embodiment are designated by the same numbers, and the description thereof will be omitted.

第2の実施形態で既述の様に、基板表面の色ムラは、例えば基板の表面の組成が不均一となることや、厚さが均一ではないこと等で生じており、基板の表面の凹凸もあわせて検出し、例えば基板の表面側の凹部等に起因するものであるかを確認できるように構成することがより好ましい。 As described above in the second embodiment, color unevenness on the surface of the substrate is caused by, for example, uneven composition of the surface of the substrate or non-uniform thickness of the surface of the substrate. It is more preferable to detect unevenness as well, and to confirm whether it is caused by, for example, a concave portion on the surface side of the substrate.

そこで、本実施形態に係る基板の検査装置においては、基板の第2の表面側に第2光源をさらに設けている。 Therefore, in the substrate inspection device according to the present embodiment, a second light source is further provided on the second surface side of the substrate.

本実施形態の基板の検査装置においては、基板の第1の表面のうち、第2光源から照射された線状の光を透過した透過領域についても第1撮像手段において撮像(撮影)する操作を、透過領域の位置を変化させながら繰り返し実施できる。そして、得られた画像をつなぎ合わせることで、基板の表面の凹凸を明確にした画像を得ることができる。 In the substrate inspection device of the present embodiment, the operation of imaging (imaging) the transmission region of the first surface of the substrate through which the linear light emitted from the second light source is transmitted is also performed by the first imaging means. , Can be repeated while changing the position of the transmission region. Then, by stitching the obtained images together, it is possible to obtain an image in which the unevenness of the surface of the substrate is clarified.

なお、本実施形態における透過領域は、基板12の第1の表面12A側に形成される点以外は、第2の実施形態において、図4を用いて説明した透過領域41Aと同じであるため、ここでは説明を省略する。第2の実施形態における透過領域と区別する必要がある場合には、第2の実施形態における透過領域を第1透過領域、本実施形態における透過領域を第2透過領域のように称し、区別しても良い。 The transmission region in the present embodiment is the same as the transmission region 41A described with reference to FIG. 4 in the second embodiment except that the transmission region is formed on the first surface 12A side of the substrate 12. The description is omitted here. When it is necessary to distinguish from the transmission region in the second embodiment, the transmission region in the second embodiment is referred to as a first transmission region, and the transmission region in the present embodiment is referred to as a second transmission region to distinguish them. Is also good.

本実施形態の基板の検査装置50が有する部材のうち、第1の実施形態で説明していない各部材について以下に説明する。
(第2光源)
第2光源53は、基板用ステージ11に設置した基板12の第2の表面12Bに線状の光を照射できるように構成されていればよく、光源の種類等の具体的な構成については特に限定されない。第2光源53は、上述のように、基板12の第2の表面12Bに線状の光を照射できるように、基板用ステージ11に設置した基板12の第2の表面12B側に配置できる。
Among the members included in the substrate inspection device 50 of the present embodiment, each member not described in the first embodiment will be described below.
(Second light source)
The second light source 53 may be configured so as to be able to irradiate the second surface 12B of the substrate 12 installed on the substrate stage 11 with linear light, and the specific configuration such as the type of the light source is particularly limited. Not limited. As described above, the second light source 53 can be arranged on the second surface 12B side of the substrate 12 installed on the substrate stage 11 so that the second surface 12B of the substrate 12 can be irradiated with linear light.

線状の光としては線状形状を有していればよく、その具体的な形状は特に限定されないが、例えば直線状の光、屈曲部を含む線状の光、および波線状の光等から選択されたいずれかの光とすることができる。なお、屈曲部を含む線状の光の屈曲部の形状は特に限定されず、例えば円弧形状や、所定の角度で屈曲したL字形状(くの字形状)等とすることができる。屈曲部を含む線状の光の屈曲部の数は特に限定されず、1または複数の屈曲部を有することもできる。屈曲部を含む線状の光が、複数の屈曲部を有する場合、屈曲部の形状は同じ形状であってもよいが、異なる形状の屈曲部を有していても良い。また、波線状の光は、波線となるように所定の間隔で向きを交互に変えながら屈曲部を配置した線状の光となる。線状の光としては特に直線状の光であることが好ましい。 The linear light may have a linear shape, and the specific shape thereof is not particularly limited. For example, from linear light, linear light including a bent portion, wavy linear light, and the like. It can be any of the selected lights. The shape of the bent portion of the linear light including the bent portion is not particularly limited, and may be, for example, an arc shape, an L-shape bent at a predetermined angle (a dogleg shape), or the like. The number of linear light bending portions including the bending portion is not particularly limited, and one or more bending portions may be provided. When the linear light including the bent portion has a plurality of bent portions, the shape of the bent portion may be the same, but the bent portions may have different shapes. Further, the wavy light becomes linear light in which the bent portions are arranged while alternately changing the directions at predetermined intervals so as to be wavy lines. The linear light is particularly preferably linear light.

線状の光は、一定の厚みを有する光であるため、帯状の光と言い換えることもできる。例えば直線状の光の場合であれば略四角形状の光となる。 Since linear light is light having a certain thickness, it can be paraphrased as band-shaped light. For example, in the case of linear light, the light is substantially square.

線状の光の長手方向の長さは特に限定されないが、該線状の光の長手方向が検査を行う基板の幅方向に沿うように光を照射する場合、効率的に検査を行う観点から、例えば検査を行う基板の幅方向全体に渡って光を照射し、透過領域を形成できるようにその長さを選択することができる。 The length of the linear light in the longitudinal direction is not particularly limited, but when the light is irradiated so that the longitudinal direction of the linear light is along the width direction of the substrate to be inspected, from the viewpoint of efficient inspection. For example, it is possible to irradiate light over the entire width direction of the substrate to be inspected and select its length so that a transmission region can be formed.

第2光源の発光手段としては線状の光を形成できればよく、例えば蛍光灯や、有機または無機のエレクトロルミネッセンス(EL)、発光ダイオード等から選択された1種類以上を用いることができる。 As the light emitting means of the second light source, it is sufficient that linear light can be formed, and for example, one or more selected from fluorescent lamps, organic or inorganic electroluminescence (EL), light emitting diodes and the like can be used.

また、光の波長も特に限定されず、評価を行う基板12において少なくとも一部の光を透過し、第1撮像手段14により透過した光を撮像できるものであれば良い。このため、光源が発する光は、例えば赤外線光、可視光、紫外線光のいずれでも良いが、光の波長によっては撮像手段が高価になったり、そのサイズが大きくなる場合があるため、光源が発する光は、可視光を含むことが好ましい。 Further, the wavelength of the light is not particularly limited, and any light may be transmitted as long as it can transmit at least a part of the light on the substrate 12 to be evaluated and can image the light transmitted by the first imaging means 14. Therefore, the light emitted by the light source may be, for example, infrared light, visible light, or ultraviolet light, but the light source emits light because the imaging means may become expensive or its size may increase depending on the wavelength of the light. The light preferably contains visible light.

本実施形態の基板の検査装置では、基板の第1の表面と反対側に位置する第2の表面のうち、第2光源から照射された線状の光が透過した領域である透過領域を第1撮像手段により撮像することができる。そして、透過領域の位置を変化させながら、透過領域を撮像することを、得られた透過領域の画像をつなぎ合わせた場合に検査を行う部分の画像、例えば基板の第1の表面全体の画像が得られるまで繰り返し実施することが好ましい。 In the substrate inspection device of the present embodiment, the transmission region, which is the region through which the linear light emitted from the second light source is transmitted, is the second surface of the second surface located on the side opposite to the first surface of the substrate. 1 The image can be taken by the imaging means. Then, while changing the position of the transmission region, the image of the transmission region is imaged, and the image of the portion to be inspected when the obtained images of the transmission region are joined, for example, the image of the entire first surface of the substrate is obtained. It is preferable to repeat the process until it is obtained.

このため、同時に撮像できる透過領域を多くし、撮像する回数を少なくすることで検査を効率化する観点から、第2光源は、互いに平行な複数の線状の光を同時に照射できることが好ましい。そこで、第2光源は、互いに平行な複数の線状の光を基板の第2の表面に対して照射することが可能なように構成されていることが好ましい。この場合には、基板に照射した複数の線状の光を透過した複数の透過領域の間に、暗領域が形成されるように、複数の線状の光の間隔を調整しておくことが好ましい。なお、複数の線状の光を基板の第2の表面に対して照射する場合、該線状の光は同じ形状であっても良く、異なる形状であっても良い。ただし、検査を容易に行えることから、複数の線状の光は同じ形状であることが好ましい。 Therefore, from the viewpoint of improving the efficiency of inspection by increasing the number of transmission regions that can be simultaneously imaged and reducing the number of times of imaging, it is preferable that the second light source can simultaneously irradiate a plurality of linear lights parallel to each other. Therefore, it is preferable that the second light source is configured so that a plurality of linear lights parallel to each other can be applied to the second surface of the substrate. In this case, it is necessary to adjust the interval between the plurality of linear lights so that a dark region is formed between the plurality of transmitted regions that have transmitted the plurality of linear lights radiated to the substrate. preferable. When irradiating the second surface of the substrate with a plurality of linear lights, the linear lights may have the same shape or different shapes. However, it is preferable that the plurality of linear lights have the same shape because the inspection can be easily performed.

第2光源53は例えば図5に示したように基板の検査装置50に設置されたアーム57に固定しておくこともできる。ただし、係る形態に限定されず、第2光源53は、他の部材とは別に三脚等を用いて固定しておくこともできる。
(第2照射位置制御手段)
既述の様に、本実施形態の基板の検査装置では、基板の第1の表面のうち、透過領域を第1撮像手段により撮像することができる。そして、透過領域の位置を変化させながら、第2透過領域を撮像することを、得られた透過領域の画像をつなぎ合わせた場合に検査を行う部分の画像、例えば基板の第1の表面全体の画像が得られるまで繰り返し実施することが好ましい。
The second light source 53 can be fixed to an arm 57 installed in the substrate inspection device 50, for example, as shown in FIG. However, the present invention is not limited to this, and the second light source 53 can be fixed by using a tripod or the like separately from other members.
(Second irradiation position control means)
As described above, in the substrate inspection apparatus of the present embodiment, the transmission region of the first surface of the substrate can be imaged by the first imaging means. Then, while changing the position of the transmission region, the second transmission region is imaged, which is an image of a portion to be inspected when the obtained images of the transmission region are joined, for example, the entire first surface of the substrate. It is preferable to repeat the process until an image is obtained.

そこで、本実施形態の基板の検査装置は、基板の第2の表面に第2光源から照射する線状の光の位置を変化させることで、基板の第1の表面に形成した透過領域の位置を変化させる第2照射位置制御手段55を有することができる。 Therefore, in the substrate inspection device of the present embodiment, the position of the transmission region formed on the first surface of the substrate is changed by changing the position of the linear light irradiating the second surface of the substrate from the second light source. The second irradiation position control means 55 can be provided.

第2照射位置制御手段55は、例えば透過領域を該透過領域の長手方向と直交する方向に移動させることができる。この場合、例えば第2照射位置制御手段55は、基板用ステージ11と第2光源53とのうち、少なくとも一方の移動を制御することができる。 The second irradiation position control means 55 can, for example, move the transmission region in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the transmission region. In this case, for example, the second irradiation position control means 55 can control the movement of at least one of the substrate stage 11 and the second light source 53.

例えば第2光源53が照射する線状の光の長手方向が、図5中の第1矢印11Aと直交する方向の場合、基板用ステージ11を、図5中の第1矢印11Aの方向に、もしくは第1矢印11Aと反対の方向に移動させることで、基板用ステージ11に設置した基板12を移動させることができる。これにより、基板の第2の表面上の、第2光源から照射する線状の光の位置を移動させ、基板の第1の表面上に形成した透過領域の位置を、透過領域の長手方向と直交する方向に移動することができる。 For example, when the longitudinal direction of the linear light emitted by the second light source 53 is orthogonal to the first arrow 11A in FIG. 5, the substrate stage 11 is set in the direction of the first arrow 11A in FIG. Alternatively, the substrate 12 installed on the substrate stage 11 can be moved by moving it in the direction opposite to the first arrow 11A. As a result, the position of the linear light emitted from the second light source on the second surface of the substrate is moved, and the position of the transmission region formed on the first surface of the substrate is defined as the longitudinal direction of the transmission region. It can move in orthogonal directions.

第2光源53は、既述の様に例えば図5に示すようにアーム57に固定しておくことができ、アーム57を図中の第3矢印57Aの方向に、もしくは第3矢印57Aと反対の方向に移動させることで、第2光源53からの線状の光の照射位置を変化させることができる。このため、透過領域の位置も移動させることができる。 As described above, the second light source 53 can be fixed to the arm 57, for example, as shown in FIG. 5, and the arm 57 is directed in the direction of the third arrow 57A in the drawing or opposite to the third arrow 57A. By moving in the direction of, the irradiation position of the linear light from the second light source 53 can be changed. Therefore, the position of the transparent region can also be moved.

そこで、例えば基板用ステージ11、および第2光源53を固定したアーム57から選択された少なくとも1つの部材に、各部材を移動、もしくは回転させるための駆動手段、例えばモーター等を設けておくことができる。そして、第2照射位置制御手段55は、係る駆動手段と接続しておき、その変位量や変位の方向を制御することができる。 Therefore, for example, a driving means for moving or rotating each member, such as a motor, may be provided on at least one member selected from the stage 11 for the substrate and the arm 57 to which the second light source 53 is fixed. can. Then, the second irradiation position control means 55 can be connected to the driving means and can control the displacement amount and the direction of the displacement.

なお、透過領域の移動に伴い、第1撮像手段14もあわせて移動できるように構成することもできる。 It should be noted that the first imaging means 14 can be configured to move as the transmission region moves.

透過領域の移動方向は透過領域の長手方向と直交する方向に限定されるものではなく、例えば透過領域が、基板の周方向に沿って回転するように構成することもできる。この場合、基板用ステージ11を、水平面内で回転するように、モーター等の駆動手段を配置し、該駆動手段に第2照射位置制御手段55を接続しておくことができる。 The moving direction of the transmission region is not limited to the direction orthogonal to the longitudinal direction of the transmission region, and for example, the transmission region may be configured to rotate along the circumferential direction of the substrate. In this case, a driving means such as a motor can be arranged so that the stage 11 for the substrate rotates in a horizontal plane, and the second irradiation position controlling means 55 can be connected to the driving means.

第2照射位置制御手段55が基板の第1の表面に形成した透過領域を移動させ、これにあわせて第1撮像手段14により透過領域を撮像し、透過領域を撮像した画像をつなぎ合わせた場合に、検査を行う部分の画像、例えば基板の第1の表面全体の画像が形成できることが好ましい。このため、例えば基板12の第1の表面12Aの任意の端部である第1の端部に透過領域を形成後、該透過領域を、該透過領域の長手方向と直交する方向に沿って、第1の端部の反対側、すなわち第1の端部と基板の中心とを通る直線が基板の端部と直交する第2の端部まで移動させることが、効率的かつ基板表面を隙間なく撮像できるため好ましい。 When the second irradiation position control means 55 moves the transmission region formed on the first surface of the substrate, the transmission region is imaged by the first imaging means 14, and the images captured by the transmission region are stitched together. In addition, it is preferable that an image of the portion to be inspected, for example, an image of the entire first surface of the substrate can be formed. Therefore, for example, after forming a transmission region at an arbitrary end of the first surface 12A of the substrate 12, the transmission region is set along a direction orthogonal to the longitudinal direction of the transmission region. It is efficient and without gaps to move the straight line passing through the opposite side of the first end, that is, the first end and the center of the substrate, to the second end orthogonal to the end of the substrate. It is preferable because it can image.

第2照射位置制御手段55により透過領域を移動させる際、例えば透過領域を一定量移動させる毎に第1撮像手段14により透過領域を撮像し、第1画像処理手段16によりつなぎ合わせることができる。そして、第1撮像手段14により撮像した複数枚の透過領域の画像をつなぎ合わせることで検査を行う部分の画像、例えば基板の第1の表面全体の画像を形成することが好ましい。このため、第2撮像手段によりn回目に透過領域を撮像した後、n+1回目に透過領域を撮像するまでに第2照射位置制御手段により透過領域を移動させる距離と、つなぎ合わせる画像の幅、すなわち透過領域の幅とが一致するように透過領域を移動させることが好ましい。
(光源制御手段)
ただし、第1光源13と、第2光源53とを同時に点灯すると、第1光源13からの光と、第2光源53からの光とが同時に第1撮像手段14に入り、既述の撮像領域と、既述の透過領域とを色ムラや、凹凸が検知できる程度に撮像できない恐れがある。
When the transmission region is moved by the second irradiation position control means 55, for example, every time the transmission region is moved by a certain amount, the transmission region can be imaged by the first imaging means 14 and joined by the first image processing means 16. Then, it is preferable to form an image of a portion to be inspected, for example, an image of the entire first surface of the substrate by joining the images of a plurality of transmission regions captured by the first imaging means 14. Therefore, after the nth transmission region is imaged by the second imaging means, the distance to move the transmission region by the second irradiation position control means before the n + 1th transmission region is imaged, and the width of the images to be stitched, that is, It is preferable to move the transparent region so that the width of the transparent region matches.
(Light source control means)
However, when the first light source 13 and the second light source 53 are turned on at the same time, the light from the first light source 13 and the light from the second light source 53 enter the first imaging means 14 at the same time, and the above-mentioned imaging region In addition, there is a possibility that the above-mentioned transmission region cannot be imaged to the extent that color unevenness or unevenness can be detected.

そこで、本実施形態の基板の検査装置50は、第1光源および第2光源の発光を制御する光源制御手段531をさらに有することが好ましい。光源制御手段531の制御方法は特に限定されないが、例えば第1光源13と、第2光源53とを交互に点灯させることが好ましい。そして、第1光源13が点灯している間は、第2光源53は消灯し、第1撮像手段14は、基板12の第1の表面の撮像領域の撮像を行うことができる。第2光源53が点灯している間は、第1光源13は消灯し、第1撮像手段14は、基板12の第1の表面の透過領域の撮像を行うことができる。 Therefore, it is preferable that the substrate inspection device 50 of the present embodiment further includes a light source control means 531 that controls light emission of the first light source and the second light source. The control method of the light source control means 531 is not particularly limited, but for example, it is preferable that the first light source 13 and the second light source 53 are turned on alternately. Then, while the first light source 13 is on, the second light source 53 is turned off, and the first imaging means 14 can take an image of an imaging region on the first surface of the substrate 12. While the second light source 53 is lit, the first light source 13 is turned off, and the first imaging means 14 can image a transmission region on the first surface of the substrate 12.

そして、例えば第1画像処理手段16により、第1撮像手段14が撮像した画像から、必要に応じて撮像領域に対応する例えば短冊状の画像を切り出し、撮像領域の移動方向に沿って並べ、つなぎ合わせることで、基板の第1の表面全体の画像を形成できる。また、第1撮像手段14が撮像した画像から、必要に応じて透過領域に対応する例えば短冊状の画像を切り出し、透過領域の移動方向に沿って並べ、つなぎ合わせることで、基板の第1の表面全体の画像も形成できる。この際、必要に応じて各画像中のコントラスト等を補正することもできる。 Then, for example, the first image processing means 16 cuts out, for example, a strip-shaped image corresponding to the imaging region from the image captured by the first imaging means 14, arranges them along the moving direction of the imaging region, and connects them. By combining, an image of the entire first surface of the substrate can be formed. Further, from the image captured by the first imaging means 14, for example, a strip-shaped image corresponding to the transmission region is cut out as needed, arranged along the moving direction of the transmission region, and joined together to form the first substrate. An image of the entire surface can also be formed. At this time, the contrast in each image can be corrected as needed.

第1撮像手段14で動画を撮像した場合には、第1画像処理手段16は所定のタイミングでの撮像領域や、透過領域の静止画を複数枚抽出することもできる。 When a moving image is captured by the first imaging means 14, the first image processing means 16 can also extract a plurality of still images in the imaging region and the transmission region at a predetermined timing.

そして、第1画像処理手段16で作成した画像は第1出力手段19に出力することができ、得られた画像から、色ムラや、基板の凹凸を検出できる。 Then, the image created by the first image processing means 16 can be output to the first output means 19, and color unevenness and unevenness of the substrate can be detected from the obtained image.

ここでは、既述の第1画像処理手段16により、第1撮像手段14で撮像した画像を処理する構成例を説明したが、係る形態に限定されず、例えば第1画像処理手段16に加えて、第2画像処理手段等を設け、複数の画像処理手段により撮像した画像を処理しても良い。 Here, a configuration example in which the image captured by the first image processing means 14 is processed by the first image processing means 16 described above has been described, but the present invention is not limited to this form, and for example, in addition to the first image processing means 16. , A second image processing means or the like may be provided to process the image captured by a plurality of image processing means.

また、例えば撮像領域をつなぎ合わせた画像と、透過領域をつなぎ合せた画像とを重ね合せて色ムラと、凹凸との位置を対比、確認できるように構成することもできる。 Further, for example, it is possible to superimpose an image obtained by connecting the imaging regions and an image obtained by connecting the transmission regions so that the positions of the color unevenness and the unevenness can be compared and confirmed.

また、第1画像処理手段16は、第1撮像手段14が撮像した画像を3次元的に集めて画像ボリュームデータとして取り扱うこともできる。そして、第1画像処理手段16は、第1撮像手段14により得られた基板の表面の画像ボリュームデータについて、ボリュームレンダリング処理をすることができる。第1画像処理手段16は、具体的には例えば、画像ボリュームデータについて、撮像領域や、透過領域の輝度値での等値面画像を作成(レンダリング)することで、基板表面全体に渡って、撮像領域や、透過領域の画像を取出すことができる。この場合、撮像する際に光源、例えば蛍光灯が斜めになっていたり、写真毎に光源の位置がずれていたりしても、所定の輝度値の領域は共通になるので、所定の輝度値で分割することにより、写真の枚数に関わりなく、目的とする撮像領域や、透過領域を取り出し、色ムラや凹凸をより容易に検出できるようになる。 Further, the first image processing means 16 can also three-dimensionally collect the images captured by the first imaging means 14 and handle them as image volume data. Then, the first image processing means 16 can perform volume rendering processing on the image volume data on the surface of the substrate obtained by the first imaging means 14. Specifically, for example, the first image processing means 16 creates (renders) an isosurface image with the brightness values of the imaging region and the transmission region for the image volume data, thereby covering the entire surface of the substrate. Images in the imaging region and the transmission region can be extracted. In this case, even if the light source, for example, the fluorescent lamp is slanted at the time of imaging, or the position of the light source is deviated for each photograph, the region of the predetermined luminance value is common, so that the predetermined luminance value is used. By dividing, the target imaging region and transmission region can be extracted regardless of the number of photographs, and color unevenness and unevenness can be detected more easily.

第1画像処理手段16において、得られた基板表面の画像を画像ボリュームデータとして取り扱うことで、検出したい色ムラや、凹凸のサイズ等に応じて、輝度等を設定し、基板表面の画像ボリュームデータを分割し、等値面(アイソサーフェス)を取出すことができる。 By treating the obtained image of the substrate surface as image volume data in the first image processing means 16, the brightness and the like are set according to the color unevenness to be detected, the size of the unevenness, and the like, and the image volume data of the substrate surface. Can be divided and the isosurface can be extracted.

以上に説明した本実施形態の基板の検査装置によれば、光源、撮像手段、基板用ステージを備えたシンプルな装置構成により、容易に基板表面の色ムラに加えて基板表面の凹凸も検出することが可能になる。 According to the substrate inspection apparatus of the present embodiment described above, not only color unevenness on the substrate surface but also irregularities on the substrate surface can be easily detected by a simple apparatus configuration including a light source, an imaging means, and a stage for the substrate. Will be possible.

また、本実施形態の基板の検査装置においては、線状の光を発する光源であれば足り、例えば大きな平板状の光源を用いる必要がない。このため、基板の検査装置全体を小型化することができ、コストも抑制することができる。 Further, in the substrate inspection device of the present embodiment, a light source that emits linear light is sufficient, and it is not necessary to use, for example, a large flat plate-shaped light source. Therefore, the entire substrate inspection device can be miniaturized, and the cost can be suppressed.

さらに、本実施形態の基板の検査装置によれば、透過光を用いて、基板表面の凹凸を検出するため、検査の際に撮像する面とは反対側の裏面側の凹凸も併せて検出することができる。このため、基板の両面について効率よく基板表面の凹凸を検査することが可能になる。
[基板の検査方法]
(1)第1の実施形態
本実施形態の基板の検査方法について説明する。なお、本実施形態の基板の検査方法は、既述の基板の検査装置を用いて好適に実施することができる。このため、既に説明した事項については一部説明を省略する。
Further, according to the substrate inspection device of the present embodiment, since the unevenness of the substrate surface is detected by using the transmitted light, the unevenness on the back surface side opposite to the surface to be imaged at the time of inspection is also detected. be able to. Therefore, it is possible to efficiently inspect the unevenness of the substrate surface on both sides of the substrate.
[Board inspection method]
(1) First Embodiment The substrate inspection method of the present embodiment will be described. The substrate inspection method of the present embodiment can be suitably carried out by using the substrate inspection apparatus described above. Therefore, some of the matters already explained will be omitted.

本実施形態の基板の検査方法は、以下の工程を有することができる。 The substrate inspection method of the present embodiment can have the following steps.

基板用ステージに設置された基板の第1の表面側に対して、第1光源から線状の光を照射する第1光照射工程。
基板の第1の表面のうち、第1光源から照射された線状の光を反射する領域である明領域の長手方向に沿い、かつ明領域以外の領域である撮像領域を第1撮像手段により撮像する撮像工程。
A first light irradiation step of irradiating a first surface side of a substrate installed on a substrate stage with linear light from a first light source.
Of the first surface of the substrate, an imaging region that is a region other than the bright region along the longitudinal direction of the bright region, which is a region that reflects linear light emitted from the first light source, is captured by the first imaging means. Imaging process for imaging.

明領域の位置を変化させる第1照射位置移動工程。
撮像工程と第1照射位置移動工程とを繰り返し実施する繰り返し工程。
撮像工程で得られた画像を処理する第1画像処理工程。
以下、各工程について説明する。
(第1光照射工程)
第1光照射工程では、基板用ステージに設置された基板の表面側に対して、第1光源から線状の光を照射することができる。
The first irradiation position moving step of changing the position of the bright region.
A repeating step in which the imaging step and the first irradiation position moving step are repeatedly performed.
A first image processing step of processing an image obtained in the imaging step.
Hereinafter, each step will be described.
(1st light irradiation step)
In the first light irradiation step, the surface side of the substrate installed on the substrate stage can be irradiated with linear light from the first light source.

第1光照射工程において第1光源は、基板の第1の表面に直接光を照射する必要はなく、基板の第1の表面近傍に光を照射しても良い。ただし、基板の第1の表面に対して直接光を照射しても良い。 In the first light irradiation step, the first light source does not need to directly irradiate the first surface of the substrate, and may irradiate the vicinity of the first surface of the substrate with light. However, the first surface of the substrate may be directly irradiated with light.

第1光源や、線状の光の形状等については既述のため詳細な説明は省略するが、第1光源としては既述の様に線状の光を照射できる手段を用いることができ、その構成は特に限定されない。ただし、特に検査の効率化の観点から、第1光源は互いに平行な複数の線状の光を、基板の第1の表面側に対して照射することが可能であることが好ましい。この場合には、照射した複数の線状の光を反射する複数の明領域の間に、暗領域が形成されるように、複数の線状の光の間隔を調整しておくことが好ましい。 Since the first light source and the shape of the linear light have already been described, detailed description thereof will be omitted. However, as the first light source, a means capable of irradiating the linear light can be used as described above. The configuration is not particularly limited. However, particularly from the viewpoint of improving the efficiency of inspection, it is preferable that the first light source can irradiate a plurality of linear lights parallel to each other on the first surface side of the substrate. In this case, it is preferable to adjust the interval between the plurality of linear lights so that a dark region is formed between the plurality of bright regions that reflect the plurality of irradiated linear lights.

なお、後述する第1照射位置移動工程において、明領域の位置を移動させることで、第1撮像手段により撮像する撮像領域を移動させ、撮像領域を撮像した画像をつなぎ合わせた場合に検査を行う部分の画像、例えば基板表面全体の画像が形成できることが好ましい。このため、例えば第1光照射工程では、まず基板の表面の任意の端部である第1の端部や、その近傍に明領域を形成できるように光源から光を照射することが好ましい。そして、後述する第1照射位置移動工程では、明領域を、該明領域の長手方向と直交する方向に沿って、上記第1の端部と反対側の端部、すなわち第1の端部と基板の中心とを通る直線が基板の端部と直交する第2の端部まで移動させることが効率的かつ基板表面を隙間なく撮像できるため好ましい。
(撮像工程)
撮像工程では、基板用ステージに設置した基板の表面のうち、第1光源から照射された線状の光を反射する明領域の長手方向に沿い、かつ明領域以外の領域である撮像領域を撮像することができる。撮像工程では、少なくとも撮像領域を含む領域を撮影すればよく、撮像領域の周辺も併せて撮像しても良い。撮像領域の周囲の領域も併せて撮像した場合、後述する第1画像処理工程において、目的とする撮像領域を撮像した画像から切り出すことができる。
In the first irradiation position moving step described later, by moving the position of the bright region, the imaging region to be imaged by the first imaging means is moved, and the inspection is performed when the images captured in the imaging region are stitched together. It is preferable that an image of a portion, for example, an image of the entire surface of the substrate can be formed. Therefore, for example, in the first light irradiation step, it is preferable to first irradiate light from a light source so that a bright region can be formed at or near the first end, which is an arbitrary end on the surface of the substrate. Then, in the first irradiation position moving step described later, the bright region is set to the end portion opposite to the first end portion, that is, the first end portion along the direction orthogonal to the longitudinal direction of the bright region. It is preferable to move the straight line passing through the center of the substrate to the second end orthogonal to the end of the substrate because it is efficient and the surface of the substrate can be imaged without gaps.
(Imaging process)
In the imaging step, an imaging region is imaged along the longitudinal direction of the bright region that reflects the linear light emitted from the first light source and is a region other than the bright region on the surface of the substrate installed on the substrate stage. can do. In the imaging step, at least the region including the imaging region may be photographed, and the periphery of the imaging region may also be imaged. When the area around the imaging region is also imaged, the target imaging region can be cut out from the captured image in the first image processing step described later.

撮像領域については図2を用いて既に説明したため、ここでは説明を省略する。 Since the imaging region has already been described with reference to FIG. 2, the description thereof will be omitted here.

撮像工程で撮像する画像は、動画であっても静止画であっても良い。動画の場合、例えば後述する第1画像処理工程において、撮影した画像のうち任意のタイミングでの撮像領域の静止画を複数枚抽出してつなぎ合わせることができる。 The image captured in the imaging step may be a moving image or a still image. In the case of moving images, for example, in the first image processing step described later, a plurality of still images in the imaging region at arbitrary timings can be extracted and stitched together from the captured images.

第1画像処理工程で、撮像した画像を3次元的に集めて画像ボリュームデータとして取り扱う場合には、撮像工程において、撮像領域を含む基板の表面全体を撮像しても良い。 When the captured images are three-dimensionally collected and handled as image volume data in the first image processing step, the entire surface of the substrate including the imaging region may be imaged in the imaging step.

なお、上述のように撮像工程では、例えば明領域21Aの長手方向に沿って、明領域21A以外の撮像領域22を撮像すればよく、明領域の形状等によっては、必要な画像は線状(帯状)の画像となる。このため、第1撮像手段としてラインスキャンカメラを用いることもできる。 As described above, in the imaging step, for example, the imaging region 22 other than the bright region 21A may be imaged along the longitudinal direction of the bright region 21A, and the necessary image may be linear depending on the shape of the bright region and the like. It becomes a band-shaped image. Therefore, a line scan camera can also be used as the first imaging means.

既述の様に、本発明の発明者の検討によれば、基板の表面に線状の光を照射した場合に、基板の表面のうち線状の光を反射する明領域と、明領域に隣接する暗領域との境界近傍において、基板表面の凹凸のコントラストが高まる。そして、基板表面のうちの、上記明領域と暗領域との境界近傍を撮像する操作を、明領域の位置を変化させながら繰り返し実施し、得られた画像をつなぎ合わせることで、基板表面の凹凸を明確にした画像が得られる。 As described above, according to the study of the inventor of the present invention, when the surface of the substrate is irradiated with linear light, the bright region on the surface of the substrate that reflects the linear light and the bright region In the vicinity of the boundary with the adjacent dark region, the contrast of the unevenness on the substrate surface is increased. Then, the operation of imaging the vicinity of the boundary between the bright region and the dark region on the substrate surface is repeatedly performed while changing the position of the bright region, and the obtained images are stitched together to form unevenness on the substrate surface. An image that clarifies is obtained.

このため、基板12の第1の表面12Aの凹凸も検査する必要がある場合には、撮像工程において、例えば明領域21Aと、明領域21Aに隣接した暗領域21Bとを含む凹凸検知用撮像領域23A、23Bから選択された1つ以上の領域を第1撮像手段14により撮像することもできる。なお、凹凸検知用撮像領域を、第1撮像手段14とは別に設けた撮像手段により撮像しても良い。また、凹凸検知用撮像領域を、撮像工程とは別の工程で撮像することもできる。
(第1照射位置移動工程)
第1照射位置移動工程では、明領域の位置を移動させることができる。例えば既述の様に第1照射位置制御手段により明領域の位置を移動させることができる。
Therefore, when it is necessary to inspect the unevenness of the first surface 12A of the substrate 12, in the imaging step, for example, the unevenness detection imaging region including the bright region 21A and the dark region 21B adjacent to the bright region 21A. One or more regions selected from 23A and 23B can also be imaged by the first imaging means 14. The unevenness detection imaging region may be imaged by an imaging means provided separately from the first imaging means 14. In addition, the unevenness detection imaging region can be imaged in a process different from the imaging process.
(First irradiation position moving step)
In the first irradiation position moving step, the position of the bright region can be moved. For example, as described above, the position of the bright region can be moved by the first irradiation position control means.

例えば既述の様に、基板を設置した基板用ステージ11と、第1光源13とのうち少なくとも一方を移動させることができる。 For example, as described above, at least one of the substrate stage 11 on which the substrate is installed and the first light source 13 can be moved.

第1照射位置移動工程において明領域は連続的に移動させてもよく、間欠的に移動させることもできる。例えば第1撮像手段の性能等に応じて明領域の移動条件を選択することができる。 In the first irradiation position moving step, the bright region may be moved continuously or intermittently. For example, the moving conditions in the bright region can be selected according to the performance of the first imaging means and the like.

明領域を連続的に移動させるとは、後述する繰り返し工程を含めて、例えば明領域を止めることなく連続的に移動させることを意味する。この場合、後述する繰り返し工程での撮像工程は、任意のタイミング、間隔で撮像領域の撮像を行うことができる。 The continuous movement of the bright region means, for example, the continuous movement of the bright region without stopping, including the repetitive steps described later. In this case, in the imaging step in the repetitive process described later, the imaging region can be imaged at an arbitrary timing and interval.

また、明領域を間欠的に移動させる場合、後述する繰り返し工程においては第1照射位置移動工程と、撮像工程とを交互に実施できる。すなわち、第1照射位置移動工程において明領域を一定距離移動させ、停止させた後に撮像工程を実施し、再び第1照射位置移動工程を実施した後、撮像工程を実施できる。 Further, when the bright region is intermittently moved, the first irradiation position moving step and the imaging step can be alternately performed in the repeating step described later. That is, in the first irradiation position moving step, the bright region can be moved by a certain distance and stopped, and then the imaging step can be performed, and after the first irradiation position moving step is performed again, the imaging step can be carried out.

第1照射位置移動工程における明領域の移動速度、もしくは1回の移動距離は特に限定されず、検出すべき基板表面の色ムラのサイズや、検査の効率等に基いて任意に選択することができる。 The moving speed of the bright region or the moving distance at one time in the first irradiation position moving step is not particularly limited, and can be arbitrarily selected based on the size of color unevenness on the substrate surface to be detected, inspection efficiency, and the like. can.

第1照射位置移動工程において明領域を移動させる際、例えば明領域を一定量移動させる毎に撮像工程を実施して、撮像領域を撮像し、後述する第1画像処理工程においてつなぎ合わせることができる。そして、撮像工程で撮像した複数枚の撮像領域の画像をつなぎ合わせることで検査を行う部分の画像、例えば基板表面全体の画像を形成することが好ましい。このため、第1照射位置移動工程では、n回目の撮像工程で撮像領域を撮像した後、n+1回目の撮像工程で撮像領域を撮像するまでに明領域を移動させる距離と、つなぎ合わせる画像の幅、すなわち撮像領域の幅とが一致するように明領域を移動させることが好ましい。
(繰り返し工程)
繰り返し工程では撮像工程および第1照射位置移動工程とを繰り返し実施することができる。これにより、明領域の移動方向に沿って、複数の撮像領域の画像を取得することができる。
When moving the bright region in the first irradiation position moving step, for example, an imaging step can be performed every time the bright region is moved by a certain amount, the imaging region can be imaged, and the images can be joined in the first image processing step described later. .. Then, it is preferable to form an image of a portion to be inspected, for example, an image of the entire surface of the substrate by joining the images of a plurality of imaging regions captured in the imaging step. Therefore, in the first irradiation position moving step, after the imaging region is imaged in the nth imaging step, the distance to move the bright region until the imaging region is imaged in the n + 1th imaging step and the width of the images to be stitched together. That is, it is preferable to move the bright region so as to match the width of the imaging region.
(Repeat process)
In the repeating step, the imaging step and the first irradiation position moving step can be repeatedly performed. As a result, images of a plurality of imaging regions can be acquired along the moving direction of the bright region.

既述の様に本実施形態の基板の検査方法では、基板の第1の表面側に形成した明領域を移動させることで、第1撮像手段により撮像する撮像領域を移動させ、撮像領域を撮像した画像をつなぎ合わせた場合に検査を行う部分の画像、例えば基板表面全体の画像が形成できることが好ましい。このため、繰り返し工程では得られた複数の撮像領域の画像をつなぎ合わせた場合に、検査を行う部分の画像、例えば基板表面全体の画像となるように実施することが好ましい。 As described above, in the substrate inspection method of the present embodiment, by moving the bright region formed on the first surface side of the substrate, the imaging region to be imaged by the first imaging means is moved, and the imaging region is imaged. It is preferable that an image of a portion to be inspected when the combined images are stitched together, for example, an image of the entire surface of the substrate can be formed. Therefore, in the repeating step, when the images of the plurality of imaging regions obtained are stitched together, it is preferable to carry out the process so as to obtain an image of a portion to be inspected, for example, an image of the entire surface of the substrate.

繰り返し工程においても、既述の手順に従い、撮像工程および第1照射位置移動工程とを実施できるため、ここでは説明を省略する。
(第1画像処理工程)
第1画像処理工程では、撮像工程で得られた画像を処理することができる。
Since the imaging step and the first irradiation position moving step can be carried out in the repeating step according to the procedure described above, the description thereof will be omitted here.
(First image processing step)
In the first image processing step, the image obtained in the imaging step can be processed.

具体的には例えば撮像工程および繰り返し工程での撮像工程で撮像した画像を、必要に応じて図2に示した撮像領域22のような線状(帯状)に加工し、明領域の移動方向に沿って並べ、つなぎ合わせることで、基板表面の全体の画像とすることができる。この際、必要に応じて画像中のコントラスト等を補正したり、二値化処理等の画像処理を実施することもできる。 Specifically, for example, the image captured in the imaging step and the imaging step in the repeating process is processed into a linear shape (strip shape) as shown in the imaging region 22 shown in FIG. 2 as necessary, and the image is processed in the moving direction of the bright region. By arranging them along and joining them together, an image of the entire surface of the substrate can be obtained. At this time, it is also possible to correct the contrast in the image or perform image processing such as binarization processing as necessary.

なお、第1撮像手段14としてラインスキャンカメラを用い、線状(帯状)の画像を取得した場合には、取得した画像を加工せずにそのまま並べてつなぎ合わせることもできる。 When a line scan camera is used as the first imaging means 14 and a linear (strip-shaped) image is acquired, the acquired images can be arranged and joined as they are without being processed.

また、撮像工程で動画を撮像した場合には、第1画像処理工程においては所定のタイミングでの撮像領域の静止画を複数枚抽出することもできる。 Further, when a moving image is captured in the imaging step, a plurality of still images in the imaging region at a predetermined timing can be extracted in the first image processing step.

そして、例えば画像処理工程で得られた画像を出力手段に出力し、目視、または画像処理を行うことで、基板表面の色ムラを検出することができる。 Then, for example, the color unevenness on the surface of the substrate can be detected by outputting the image obtained in the image processing step to the output means and performing visual inspection or image processing.

第1画像処理工程では、例えばAIを用い、上述のようにして得られた基板表面の画像から、基板表面の色ムラを検出し、通知するように構成することもできる。また、第1画像処理工程では、例えば予め設定しておいた色度や明度等の閾値により、形成した画像中の色ムラが生じている箇所を検出、通知できるように構成することもできる。 In the first image processing step, for example, AI can be used to detect and notify the color unevenness of the substrate surface from the image of the substrate surface obtained as described above. Further, in the first image processing step, for example, it can be configured so that a portion of the formed image in which color unevenness occurs can be detected and notified by a preset threshold value such as chromaticity or lightness.

第1画像処理工程での画像処理は上記方法に限定されず、例えば撮像工程、および繰り返し工程での撮像工程で撮像した画像を3次元的に集めて画像ボリュームデータとして取り扱うこともできる。 The image processing in the first image processing step is not limited to the above method, and for example, images captured in the imaging step and the imaging step in the repeating step can be three-dimensionally collected and handled as image volume data.

そして、第1画像処理工程では、撮像工程、および繰り返し工程での撮像工程で得られた基板の第1の表面の画像ボリュームデータについて、ボリュームレンダリング処理を行うこともできる。第1画像処理工程では、具体的には例えば、画像ボリュームデータについて、撮像領域の輝度値での等値面画像を作成(レンダリング)することで、基板表面全体に渡って、撮像領域の画像を取出すことができる。この場合、撮像する際に光源、例えば蛍光灯が斜めになっていたり、写真毎に光源の位置がずれていたりしても、所定の輝度値の領域は共通になるので、所定の輝度値で分割することにより、写真の枚数に関わりなく、撮像領域の画像を取り出し、色ムラをより容易に検出できる。 Then, in the first image processing step, it is also possible to perform volume rendering processing on the image volume data of the first surface of the substrate obtained in the imaging step and the imaging step in the repeating step. In the first image processing step, specifically, for example, by creating (rendering) an isosurface image with the brightness value of the imaging region for the image volume data, the image of the imaging region is created over the entire surface of the substrate. Can be taken out. In this case, even if the light source, for example, the fluorescent lamp is slanted at the time of imaging, or the position of the light source is deviated for each photograph, the region of the predetermined luminance value is common, so that the predetermined luminance value is used. By dividing, the image in the imaging region can be taken out regardless of the number of photographs, and the color unevenness can be detected more easily.

以上の様に、第1画像処理工程で、得られた基板表面の画像を画像ボリュームデータとして取り扱うことで、輝度等を設定し、基板表面の画像ボリュームデータを分割し、等値面(アイソサーフェス)を取出すことができる。 As described above, by treating the image of the substrate surface obtained in the first image processing step as image volume data, the brightness and the like are set, the image volume data of the substrate surface is divided, and the isosurface (isosurface). ) Can be taken out.

既述の様に、凹凸検知用撮像領域の撮像も行った場合、第1画像処理工程では、必要に応じて既述の凹凸検知用撮像領域に対応する例えば短冊状の画像を切り出し、明領域の移動方向に沿って並べ、つなぎ合わせることで、基板表面全体の画像を形成することもできる。この際、必要に応じて形成した画像中のコントラスト等を補正することもできる。 As described above, when the imaging region for unevenness detection is also imaged, in the first image processing step, for example, a strip-shaped image corresponding to the imaging region for unevenness detection described above is cut out as necessary, and a bright region is formed. It is also possible to form an image of the entire surface of the substrate by arranging and joining them along the moving direction of. At this time, it is also possible to correct the contrast and the like in the formed image as needed.

第1画像処理工程により、例えば基板表面全体の画像を取得することができ、基板表面の凹凸が他の部分とのコントラストから目視で確認できるようになる。 By the first image processing step, for example, an image of the entire surface of the substrate can be acquired, and the unevenness of the surface of the substrate can be visually confirmed from the contrast with other parts.

このため、第1画像処理工程で得られた画像を出力装置に出力し、目視、または画像処理を行うことで、基板表面の凹凸を検出することができる。 Therefore, the unevenness on the surface of the substrate can be detected by outputting the image obtained in the first image processing step to the output device and visually or performing image processing.

また、例えば第1画像処理工程では、例えばAIを用い、上述のようにして得られた基板表面の画像から、基板表面の凹部や、凸部を検出し、通知するように構成することもできる。 Further, for example, in the first image processing step, for example, AI can be used to detect and notify the concave portion or the convex portion of the substrate surface from the image of the substrate surface obtained as described above. ..

第1画像処理工程では、撮像工程、および繰り返し工程での撮像工程で得られた基板の第1の表面の画像ボリュームデータについて、ボリュームレンダリング処理をすることもできる。第1画像処理工程では、具体的には例えば、画像ボリュームデータについて、明領域と、暗領域との境界の輝度値での等値面画像を作成(レンダリング)することで、基板表面全体に渡って、明領域と、暗領域との境界である凹凸検知用撮像領域を取出すことができる。この場合、撮像する際に光源、例えば蛍光灯が斜めになっていたり、写真毎に光源の位置がずれていたりしても、境界面は共通になるので、境界面で分割することにより、写真の枚数に関わりなく、明領域と、暗領域との境界を取り出し、凹部や凸部をより容易に検出できる。 In the first image processing step, volume rendering processing can also be performed on the image volume data of the first surface of the substrate obtained in the imaging step and the imaging step in the repeating step. In the first image processing step, specifically, for example, for image volume data, an isosurface image with a brightness value at the boundary between a bright region and a dark region is created (rendered) over the entire surface of the substrate. Therefore, the image pickup area for detecting unevenness, which is the boundary between the bright area and the dark area, can be extracted. In this case, even if the light source, for example, the fluorescent lamp is slanted when taking an image, or the position of the light source is deviated for each photograph, the boundary surface is the same. Regardless of the number of sheets, the boundary between the bright region and the dark region can be taken out, and the concave portion and the convex portion can be detected more easily.

以上の様に、第1画像処理工程で、得られた基板表面の画像を画像ボリュームデータとして取り扱うことで、検出したい凹凸のサイズ等に応じて、輝度等を設定し、基板表面の画像ボリュームデータを分割し、等値面(アイソサーフェス)を取出すこともできる。 As described above, by treating the image of the substrate surface obtained in the first image processing step as image volume data, the brightness and the like are set according to the size of the unevenness to be detected, and the image volume data of the substrate surface. Can be divided and the isosurface can be extracted.

本実施形態の基板の検査方法は他にも任意の工程をさらに有することもできる。 The substrate inspection method of the present embodiment may further include any other steps.

例えば、基板用ステージに配置された基板を水平にする傾き補正工程をさらに有することもできる。 For example, it may further have an inclination correction step of leveling the substrate arranged on the substrate stage.

基板水平に調整する具体的な方法は特に限定されないが、例えば基板用ステージ11や、基板の検査装置10の躯体に水平度を調整する傾き補正手段を設けておき、自動または手動により水平度を調整することができる。 The specific method for adjusting the horizontality of the substrate is not particularly limited, but for example, the stage 11 for the substrate or the skeleton of the inspection device 10 for the substrate is provided with an inclination correction means for adjusting the horizontality, and the horizontality is automatically or manually adjusted. Can be adjusted.

以上に説明した本実施形態の基板の検査方法によれば、光源、撮像手段、基板用ステージを備えたシンプルな装置構成により、容易に基板表面の色ムラを検出することが可能になる。 According to the substrate inspection method of the present embodiment described above, it is possible to easily detect color unevenness on the substrate surface by a simple apparatus configuration including a light source, an imaging means, and a substrate stage.

また、本実施形態の基板の検査方法においては、光源が線状の光を発する光源であれば足り、例えば大きな平板状の光源を用いる必要がない。このため、用いる基板の検査装置全体を小型化することができ、コストも抑制することができる。
(2)第2の実施形態
第2の実施形態に係る基板の検査方法は、第1の実施形態で説明した基板の検査方法に加えて、さらに以下の工程を有することができる。
Further, in the substrate inspection method of the present embodiment, it is sufficient that the light source is a light source that emits linear light, and it is not necessary to use, for example, a large flat plate-shaped light source. Therefore, the entire inspection device for the substrate to be used can be miniaturized, and the cost can be suppressed.
(2) Second Embodiment The substrate inspection method according to the second embodiment may further include the following steps in addition to the substrate inspection method described in the first embodiment.

基板の第1の表面と反対側に位置する第2の表面のうち、第1光源から照射された線状の光を透過した領域である透過領域を第2撮像手段により撮像する透過領域撮像工程。 A transmission region imaging step in which a transmission region, which is a region through which linear light emitted from a first light source is transmitted, is imaged by a second imaging means among a second surface located on the opposite side of the first surface of the substrate. ..

透過領域撮像工程で得られた画像を処理する第2画像処理工程。 A second image processing step of processing the image obtained in the transmission region imaging step.

そして、繰り返し工程では、撮像工程と、透過領域撮像工程と、第1照射位置移動工程とを繰り返し実施できる。 Then, in the repeating step, the imaging step, the transmission region imaging step, and the first irradiation position moving step can be repeatedly performed.

第2の実施形態に係る基板の検査方法は、図3に示した基板の検査装置30を用いて実施できる。以下、第1の実施形態で説明していない工程について説明する。
(透過領域撮像工程)
透過領域撮像工程では、基板用ステージ11に設置した基板12の第1の表面12Aと反対側に位置する第2の表面12Bのうち、第1光源13から照射された線状の光を透過した領域である透過領域を第2撮像手段34により撮像できる。
The substrate inspection method according to the second embodiment can be carried out by using the substrate inspection device 30 shown in FIG. Hereinafter, steps not described in the first embodiment will be described.
(Transmission area imaging process)
In the transmission region imaging step, the linear light emitted from the first light source 13 was transmitted from the second surface 12B located on the opposite side of the first surface 12A of the substrate 12 installed on the substrate stage 11. The transmission region, which is a region, can be imaged by the second imaging means 34.

透過領域撮像工程では、少なくとも透過領域を含む領域を撮影すればよく、透過領域の周辺も併せて撮像しても良い。透過領域の周囲の領域も併せて撮像した場合、後述する第2画像処理工程において、目的とする透過領域を撮像した画像から切り出すことができる。 In the transmission region imaging step, at least the region including the transmission region may be photographed, and the periphery of the transmission region may also be imaged. When the region around the transmission region is also imaged, the target transmission region can be cut out from the captured image in the second image processing step described later.

透過領域については図4を用いて既に説明したため、ここでは説明を省略する。 Since the transparent region has already been described with reference to FIG. 4, the description thereof will be omitted here.

透過領域撮像工程で撮像する画像は、動画であっても静止画であっても良い。動画の場合、例えば後述する第2画像処理工程において、撮影した画像のうち任意のタイミングでの透過領域の静止画を複数枚抽出してつなぎ合わせることができる。 The image captured in the transmission region imaging step may be a moving image or a still image. In the case of moving images, for example, in the second image processing step described later, a plurality of still images in the transparent region can be extracted and stitched together at an arbitrary timing from the captured images.

第2画像処理工程で、撮像した画像を3次元的に集めて画像ボリュームデータとして取り扱う場合には、第2撮像工程において、透過領域を含む基板の表面全体を撮像しても良い。 When the captured images are three-dimensionally collected and handled as image volume data in the second image processing step, the entire surface of the substrate including the transmission region may be imaged in the second image processing step.

なお、上述のように第2撮像工程では、例えば透過領域を撮像すればよく、透過領域の形状等によっては、必要な画像は線状(帯状)の画像となる。このため、第2撮像手段としてラインスキャンカメラを用いることもできる。
(第2画像処理工程)
第2画像処理工程では、透過領域撮像工程で得られた画像を処理することができる。
As described above, in the second imaging step, for example, the transmission region may be imaged, and the required image may be a linear (strip) image depending on the shape of the transmission region and the like. Therefore, a line scan camera can also be used as the second imaging means.
(Second image processing process)
In the second image processing step, the image obtained in the transmission region imaging step can be processed.

具体的には透過領域撮像工程および繰り返し工程での透過領域撮像工程で撮像した画像を、必要に応じて図4に示した透過領域41Aのような線状(帯状)に加工し、透過領域の移動方向に沿ってに並べ、つなぎ合わせることで、基板表面の全体の画像とすることができる。この際、必要に応じて画像中のコントラスト等を補正することもできる。 Specifically, the image captured in the transmission region imaging step in the transmission region imaging step and the transmission region imaging step in the repeating step is processed into a linear shape (strip shape) like the transmission region 41A shown in FIG. 4 as necessary, and the transmission region is formed. By arranging them along the moving direction and joining them together, an entire image of the substrate surface can be obtained. At this time, the contrast in the image can be corrected as needed.

なお、第2撮像手段34としてラインスキャンカメラを用い、線状(帯状)の画像を取得した場合には、取得した画像を加工せずにそのまま並べてつなぎ合わせることもできる。 When a line scan camera is used as the second imaging means 34 and a linear (strip-shaped) image is acquired, the acquired images can be arranged and joined as they are without being processed.

また、透過領域撮像工程で動画を撮像した場合には、第2画像処理工程においては所定のタイミングでの透過領域の静止画を複数枚抽出することもできる。 Further, when a moving image is captured in the transmission region imaging step, a plurality of still images in the transmission region can be extracted at a predetermined timing in the second image processing step.

そして、第2画像処理工程で得られた画像を第2出力手段39に出力し、目視、または画像処理を行うことで、基板表面の凹凸を検出することができる。なお、本実施形態の基板の検査方法では透過光を用いていることから、基板の第1の表面12Aに含まれる凹凸だけではなく、第2の表面12Bに含まれる凹凸も、得られた画像から併せて検出することができる。 Then, the image obtained in the second image processing step is output to the second output means 39, and the unevenness on the surface of the substrate can be detected by visual inspection or image processing. Since transmitted light is used in the substrate inspection method of the present embodiment, not only the unevenness contained in the first surface 12A of the substrate but also the unevenness contained in the second surface 12B is obtained as an image. It can also be detected from.

また、第2画像処理工程では、例えばAIを用い、上述のようにして得られた基板表面の画像から、基板表面の凹部や、凸部を検出し、通知するように構成することもできる。 Further, in the second image processing step, for example, AI can be used to detect and notify the concave portion or the convex portion of the substrate surface from the image of the substrate surface obtained as described above.

第2画像処理工程での画像処理は上記方法に限定されず、例えば透過領域撮像工程、および繰り返し工程での透過領域撮像工程で撮像した画像を3次元的に集めて画像ボリュームデータとして取り扱うこともできる。 The image processing in the second image processing step is not limited to the above method, and for example, the images captured in the transmission region imaging step and the transmission region imaging step in the repeating step may be three-dimensionally collected and handled as image volume data. can.

そして、第2画像処理工程では、透過領域撮像工程、および繰り返し工程で得られた基板の表面の画像ボリュームデータについて、ボリュームレンダリング処理を行うこともできる。第2画像処理工程では、具体的には例えば、画像ボリュームデータについて、透過領域の輝度値での等値面画像を作成(レンダリング)することで、基板表面全体に渡って、透過領域の画像を取出すことができる。この場合、撮像する際に光源、例えば蛍光灯が斜めになっていたり、写真毎に光源の位置がずれていたりしても、所定の輝度値の領域は共通になるので、所定の輝度値で分割することにより、写真の枚数に関わりなく、透過領域の画像を取り出し、色ムラをより容易に検出できる。 Then, in the second image processing step, volume rendering processing can also be performed on the image volume data on the surface of the substrate obtained in the transmission region imaging step and the repeating step. In the second image processing step, specifically, for example, by creating (rendering) an isosurface image with the brightness value of the transmission region for the image volume data, the image of the transmission region is created over the entire surface of the substrate. Can be taken out. In this case, even if the light source, for example, the fluorescent lamp is slanted at the time of imaging, or the position of the light source is deviated for each photograph, the region of the predetermined luminance value is common, so that the predetermined luminance value is used. By dividing, the image in the transparent region can be taken out regardless of the number of photographs, and the color unevenness can be detected more easily.

以上の様に、第2画像処理工程で、得られた基板表面の画像を画像ボリュームデータとして取り扱うことで、輝度等を設定し、基板表面の画像ボリュームデータを分割し、等値面(アイソサーフェス)を取出すことができる。 As described above, by treating the image of the substrate surface obtained in the second image processing step as image volume data, the brightness and the like are set, the image volume data of the substrate surface is divided, and the isosurface (isosurface). ) Can be taken out.

例えば第2画像処理工程において、第1の実施形態で説明した第1画像処理工程により得られた撮像領域をつなぎ合わせた画像と、第2画像処理工程により得られた、透過領域をつなぎ合せた画像とを重ね合せて色ムラと、凹凸との位置を対比、確認できるように構成することもできる。
(繰り返し工程)
繰り返し工程では撮像工程、透過領域撮像工程、および第1照射位置移動工程とを繰り返し実施することができる。第1照射位置移動工程を繰り返し実施することで、明領域や、撮像領域、透過領域を移動させることができる。そして、撮像工程と、透過領域撮像工程を繰り返し実施することで、明領域、透過領域の移動方向に沿って、複数の撮像領域、透過領域の画像を取得することができる。
For example, in the second image processing step, the image obtained by joining the imaging regions obtained by the first image processing step described in the first embodiment and the transmission region obtained by the second image processing step are joined together. It is also possible to superimpose the images so that the positions of the color unevenness and the unevenness can be compared and confirmed.
(Repeat process)
In the repeating step, the imaging step, the transmission region imaging step, and the first irradiation position moving step can be repeatedly performed. By repeatedly performing the first irradiation position moving step, the bright region, the imaging region, and the transmission region can be moved. Then, by repeatedly performing the imaging step and the transmission region imaging step, it is possible to acquire images of a plurality of imaging regions and transmission regions along the moving directions of the bright region and the transmission region.

本実施形態の基板の検査方法では、基板の第1の表面に形成した明領域を移動させることで、第1撮像手段により撮像する撮像領域を移動させ、撮像領域を撮像した画像をつなぎ合わせた場合に検査を行う部分の画像、例えば基板表面全体の画像が形成できることが好ましい。このため、繰り返し工程では得られた複数の撮像領域の画像をつなぎ合わせた場合に、検査を行う部分の画像、例えば基板表面全体の画像となるように実施することが好ましい。 In the substrate inspection method of the present embodiment, by moving the bright region formed on the first surface of the substrate, the imaging region to be imaged by the first imaging means is moved, and the images captured in the imaging region are stitched together. In some cases, it is preferable to be able to form an image of the portion to be inspected, for example, an image of the entire surface of the substrate. Therefore, in the repeating step, when the images of the plurality of imaging regions obtained are stitched together, it is preferable to carry out the process so as to obtain an image of a portion to be inspected, for example, an image of the entire surface of the substrate.

また、基板の第2の表面に形成した透過領域を移動させ、第2撮像手段により撮像する領域を移動させる。そして、第2撮像手段により撮像した透過領域の画像をつなぎ合せた場合に検査を行う部分の画像、例えば基板表面全体の画像が形成できることが好ましい。このため、繰り返し工程では得られた複数の透過領域の画像をつなぎ合わせた場合に、検査を行う部分の画像、例えば基板表面全体の画像となるように実施することが好ましい。 Further, the transmission region formed on the second surface of the substrate is moved, and the region to be imaged by the second imaging means is moved. Then, it is preferable that an image of a portion to be inspected when the images of the transmission region captured by the second imaging means are joined, for example, an image of the entire surface of the substrate can be formed. Therefore, in the repeating step, when the images of the plurality of transparent regions obtained are stitched together, it is preferable to carry out the process so as to obtain an image of a portion to be inspected, for example, an image of the entire surface of the substrate.

繰り返し工程においても、既述の手順に従い、撮像工程、透過領域撮像工程、および第1照射位置移動工程とを実施できるため、ここでは説明を省略する。
(3)第3の実施形態
第2の実施形態に係る基板の検査方法は、第1の実施形態で説明した基板の検査方法に加えて、さらに以下の工程を有することができる。
Since the imaging step, the transmission region imaging step, and the first irradiation position moving step can be performed in the repeating step according to the procedure described above, the description thereof will be omitted here.
(3) Third Embodiment The substrate inspection method according to the second embodiment may further include the following steps in addition to the substrate inspection method described in the first embodiment.

基板の第1の表面と反対側に位置する第2の表面に対して、第2光源から線状の光を照射する第2光照射工程。
基板の第1の表面のうち、第2光源から照射された線状の光を透過した領域である透過領域の位置を変化させる第2照射位置移動工程。
基板の第1の表面のうち、透過領域を第1撮像手段により撮像する透過領域撮像工程。
A second light irradiation step of irradiating a second surface located on the opposite side of the first surface of the substrate with linear light from the second light source.
A second irradiation position moving step of changing the position of a transmission region, which is a region through which linear light emitted from a second light source is transmitted, on the first surface of the substrate.
A transmission region imaging step in which a transmission region of the first surface of a substrate is imaged by a first imaging means.

透過領域撮像工程で得られた画像を処理する第2画像処理工程。
そして、繰り返し工程では、撮像工程と透過領域撮像工程と第1照射位置移動工程と第2照射位置移動工程とを繰り返し実施できる。
A second image processing step of processing the image obtained in the transmission region imaging step.
Then, in the repeating step, the imaging step, the transmission region imaging step, the first irradiation position moving step, and the second irradiation position moving step can be repeatedly performed.

第3の実施形態に係る基板の検査方法は、図5に示した基板の検査装置50を用いて実施できる。以下、第1の実施形態で説明していない工程について説明する。
(第2光照射工程)
第2光照射工程では、基板用ステージに設置された基板の第2の表面に対して、第2光源から線状の光を照射することができる。
The substrate inspection method according to the third embodiment can be carried out by using the substrate inspection device 50 shown in FIG. Hereinafter, steps not described in the first embodiment will be described.
(Second light irradiation step)
In the second light irradiation step, the second surface of the substrate installed on the substrate stage can be irradiated with linear light from the second light source.

第2光源や、線状の光の形状等については既述のため詳細な説明は省略するが、第2光源としては既述の様に線状の光を照射できる手段を用いることができ、その構成は特に限定されない。ただし、特に検査の効率化の観点から、第2光源は互いに平行な複数の線状の光を、基板の第2の表面に対して照射することが可能であることが好ましい。この場合には、基板に照射した複数の線状の光が透過し、第1の表面側に形成された複数の透過領域の間に、暗領域が形成されるように、複数の線状の光の間隔を調整しておくことが好ましい。 Since the details of the second light source and the shape of the linear light have already been described, detailed description thereof will be omitted. However, as the second light source, a means capable of irradiating the linear light can be used as described above. The configuration is not particularly limited. However, particularly from the viewpoint of improving the efficiency of inspection, it is preferable that the second light source can irradiate the second surface of the substrate with a plurality of linear lights parallel to each other. In this case, a plurality of linear lights are transmitted so that a plurality of linear lights irradiated to the substrate are transmitted and a dark region is formed between the plurality of transmitted regions formed on the first surface side. It is preferable to adjust the light interval.

なお、後述する第2照射位置移動工程において、基板の第1の表面に形成した透過領域を移動させ、透過領域を撮像した画像をつなぎ合わせた場合に検査を行う部分の画像、例えば基板表面全体の画像が形成できることが好ましい。このため、例えば第2光照射工程では、まず基板の表面の任意の端部である第1の端部側に透過領域を形成できるように第2光源から光を照射することが好ましい。そして、後述する第2照射位置移動工程では、透過領域を、該透過領域の長手方向と直交する方向に沿って、上記第1の端部と反対側の端部、すなわち第1の端部と基板の中心とを通る直線が基板の端部と直交する第2の端部まで移動させることが効率的かつ基板表面を隙間なく撮像できるため好ましい。 In the second irradiation position moving step described later, an image of a portion to be inspected when the transmission region formed on the first surface of the substrate is moved and the images obtained by capturing the transmission region are joined, for example, the entire surface of the substrate. It is preferable that the image of the above can be formed. Therefore, for example, in the second light irradiation step, it is preferable to first irradiate light from the second light source so that a transmission region can be formed on the first end side, which is an arbitrary end on the surface of the substrate. Then, in the second irradiation position moving step described later, the transmission region is set to the end portion opposite to the first end portion, that is, the first end portion along the direction orthogonal to the longitudinal direction of the transmission region. It is preferable to move the straight line passing through the center of the substrate to the second end orthogonal to the end of the substrate because it is efficient and the surface of the substrate can be imaged without gaps.

なお、第1光源13と、第2光源53とを同時に点灯すると、第1光源13からの光による光と、第2光源53からの光とが同時に第1撮像手段14に入り、既述の撮像領域と、既述の透過領域とを色ムラや、凹凸が検知できる程度に撮像できない恐れがある。 When the first light source 13 and the second light source 53 are turned on at the same time, the light from the first light source 13 and the light from the second light source 53 enter the first imaging means 14 at the same time, as described above. There is a possibility that the imaging region and the transmission region described above cannot be imaged to the extent that color unevenness or unevenness can be detected.

そこで、第1光源および第2光源の発光を制御する光源制御手段531により、例えば第1光源13と、第2光源53とを交互に点灯させることが好ましい。従って、第1光照射工程と、第2光照射工程とは交互に実施することが好ましい。
(第2照射位置移動工程)
第2照射位置移動工程では、透過領域の位置を移動させることができる。例えば既述の様に第2照射位置制御手段により透過領域の位置を移動させることができる。
Therefore, it is preferable that, for example, the first light source 13 and the second light source 53 are alternately turned on by the light source control means 531 that controls the light emission of the first light source and the second light source. Therefore, it is preferable that the first light irradiation step and the second light irradiation step are alternately performed.
(Second irradiation position moving step)
In the second irradiation position moving step, the position of the transmission region can be moved. For example, as described above, the position of the transmission region can be moved by the second irradiation position control means.

例えば既述の様に、基板を設置した基板用ステージ11と、第2光源53とのうち少なくとも一方を移動させることができる。 For example, as described above, at least one of the substrate stage 11 on which the substrate is installed and the second light source 53 can be moved.

第2照射位置移動工程において透過領域は連続的に移動させてもよく、間欠的に移動させることもできる。例えば第1撮像手段の性能等に応じて透過領域の移動条件を選択することができる。 In the second irradiation position moving step, the transmission region may be moved continuously or intermittently. For example, the moving condition of the transmission region can be selected according to the performance of the first imaging means and the like.

透過領域を連続的に移動させるとは、後述する繰り返し工程を含めて、例えば透過領域を止めることなく連続的に移動させることを意味する。この場合、後述する繰り返し工程での透過領域撮像工程は、任意のタイミング、間隔で透過領域の撮像を行うことができる。 The continuous movement of the transmission region means, for example, the continuous movement of the transmission region without stopping, including the repetitive steps described later. In this case, in the transmission region imaging step in the repeating step described later, the transmission region can be imaged at arbitrary timings and intervals.

また、透過領域を間欠的に移動させる場合、後述する繰り返し工程においては第2照射位置移動工程と、透過領域撮像工程とを交互に実施できる。すなわち、第2照射位置移動工程において透過領域を一定距離移動させ、停止させた後に透過領域撮像工程を実施し、再び第2照射位置移動工程を実施した後、透過領域撮像工程を実施できる。 Further, when the transmission region is intermittently moved, the second irradiation position movement step and the transmission region imaging step can be alternately performed in the repeating step described later. That is, in the second irradiation position moving step, the transmission region can be moved by a certain distance and stopped, then the transmission region imaging step can be performed, and after the second irradiation position moving step is performed again, the transmission region imaging step can be performed.

第2照射位置移動工程における透過領域の移動速度、もしくは1回の移動距離は特に限定されず、検出すべき基板表面の凹凸のサイズや、検査の効率等に基いて任意に選択することができる。 The moving speed of the transmission region in the second irradiation position moving step or the moving distance at one time is not particularly limited, and can be arbitrarily selected based on the size of the unevenness of the substrate surface to be detected, the efficiency of inspection, and the like. ..

第2照射位置移動工程において透過領域を移動させる際、例えば透過領域を一定量移動させる毎に透過領域撮像工程を実施して、透過領域を撮像し、後述する第2画像処理工程においてつなぎ合わせることができる。そして、透過領域撮像工程で撮像した複数枚の透過領域の画像をつなぎ合わせることで検査を行う部分の画像、例えば基板表面全体の画像を形成することが好ましい。このため、第2照射位置移動工程では、n回目の透過領域撮像工程で透過領域を撮像した後、n+1回目の透過領域撮像工程で透過領域を撮像するまでに透過領域を移動させる距離と、つなぎ合わせる画像の幅、すなわち透過領域の幅とが一致するように明領域を移動させることが好ましい。
(透過領域撮像工程)
透過領域撮像工程では、基板用ステージに設置した基板の表面のうち、第2光源から照射された線状の光が透過した透過領域を撮像することができる。透過領域撮像工程では、少なくとも透過領域を含む領域を撮影すればよく、透過領域の周辺も併せて撮像しても良い。透過領域の周囲の領域も併せて撮像した場合、後述する第2画像処理工程において、目的とする透過領域を撮像した画像から切り出すことができる。
When moving the transmission region in the second irradiation position moving step, for example, the transmission region imaging step is performed every time the transmission region is moved by a certain amount, the transmission region is imaged, and the transmission region is joined in the second image processing step described later. Can be done. Then, it is preferable to form an image of a portion to be inspected, for example, an image of the entire surface of the substrate by joining a plurality of images of the transmission region captured in the transmission region imaging step. Therefore, in the second irradiation position moving step, after the transmission region is imaged in the nth transmission region imaging step, the distance to move the transmission region until the transmission region is imaged in the n + 1th transmission region imaging step is connected. It is preferable to move the bright region so that the width of the images to be combined, that is, the width of the transparent region matches.
(Transmission area imaging process)
In the transmission region imaging step, on the surface of the substrate installed on the substrate stage, a transmission region through which linear light emitted from the second light source is transmitted can be imaged. In the transmission region imaging step, at least the region including the transmission region may be photographed, and the periphery of the transmission region may also be imaged. When the region around the transmission region is also imaged, the target transmission region can be cut out from the captured image in the second image processing step described later.

透過領域については図3を用いて説明した透過領域と、形成される基板の面が異なる点以外は同じであるため、ここでは説明を省略する。 Since the transmission region is the same as the transmission region described with reference to FIG. 3 except that the surface of the formed substrate is different, the description thereof will be omitted here.

透過領域撮像工程で撮像する画像は、動画であっても静止画であっても良い。動画の場合、例えば後述する第2画像処理工程において、撮影した画像のうち任意のタイミングでの透過領域の静止画を複数枚抽出してつなぎ合わせることができる。 The image captured in the transmission region imaging step may be a moving image or a still image. In the case of moving images, for example, in the second image processing step described later, a plurality of still images in the transparent region can be extracted and stitched together at an arbitrary timing from the captured images.

第2画像処理工程で、撮像した画像を3次元的に集めて画像ボリュームデータとして取り扱う場合には、透過領域撮像工程において、透過領域を含む基板の表面全体を撮像しても良い。
(第2画像処理工程)
第2画像処理工程では、透過領域撮像工程で得られた画像を処理することができる。
When the captured images are three-dimensionally collected and handled as image volume data in the second image processing step, the entire surface of the substrate including the transmission region may be imaged in the transmission region imaging step.
(Second image processing process)
In the second image processing step, the image obtained in the transmission region imaging step can be processed.

具体的には透過領域撮像工程および繰り返し工程での透過領域撮像工程で撮像した画像を、必要に応じて線状(帯状)に加工し、透過領域の移動方向に沿ってに並べ、つなぎ合わせることで、基板表面の全体の画像とすることができる。この際、必要に応じて画像中のコントラスト等を補正することもできる。 Specifically, the images captured in the transmission region imaging step and the transmission region imaging step in the repeating process are processed into a linear shape (strip shape) as necessary, arranged along the moving direction of the transmission region, and stitched together. Therefore, the entire image of the substrate surface can be obtained. At this time, the contrast in the image can be corrected as needed.

なお、第1撮像手段14としてラインスキャンカメラを用い、線状(帯状)の画像を取得した場合には、取得した画像を加工せずにそのまま並べてつなぎ合わせることもできる。 When a line scan camera is used as the first imaging means 14 and a linear (strip-shaped) image is acquired, the acquired images can be arranged and joined as they are without being processed.

また、透過領域撮像工程で動画を撮像した場合には、第2画像処理工程においては所定のタイミングでの透過領域の静止画を複数枚抽出することもできる。 Further, when a moving image is captured in the transmission region imaging step, a plurality of still images in the transmission region can be extracted at a predetermined timing in the second image processing step.

そして、第2画像処理工程で得られた画像を第1出力手段19に出力し、目視、または画像処理を行うことで、基板表面の凹凸を検出することができる。なお、本実施形態の基板の検査方法では透過光を用いていることから、基板の第1の表面12Aに含まれる凹凸だけではなく、第2の表面12Bに含まれる凹凸も、得られた画像から併せて検出することができる。 Then, the image obtained in the second image processing step is output to the first output means 19, and the unevenness on the surface of the substrate can be detected by visual inspection or image processing. Since transmitted light is used in the substrate inspection method of the present embodiment, not only the unevenness contained in the first surface 12A of the substrate but also the unevenness contained in the second surface 12B is obtained as an image. It can also be detected from.

また、第2画像処理工程では、例えばAIを用い、上述のようにして得られた基板表面の画像から、基板表面の凹部や、凸部を検出し、通知するように構成することもできる。 Further, in the second image processing step, for example, AI can be used to detect and notify the concave portion or the convex portion of the substrate surface from the image of the substrate surface obtained as described above.

第2画像処理工程での画像処理は上記方法に限定されず、例えば透過領域撮像工程、および繰り返し工程での透過領域撮像工程で撮像した画像を3次元的に集めて画像ボリュームデータとして取り扱うこともできる。 The image processing in the second image processing step is not limited to the above method, and for example, the images captured in the transmission region imaging step and the transmission region imaging step in the repeating step may be three-dimensionally collected and handled as image volume data. can.

そして、第2画像処理工程では、透過領域撮像工程、および繰り返し工程で得られた基板の表面の画像ボリュームデータについて、ボリュームレンダリング処理を行うこともできる。第2画像処理工程では、具体的には例えば、画像ボリュームデータについて、透過領域の輝度値での等値面画像を作成(レンダリング)することで、基板表面全体に渡って、透過領域の画像を取出すことができる。この場合、撮像する際に光源、例えば蛍光灯が斜めになっていたり、写真毎に光源の位置がずれていたりしても、所定の輝度値の領域は共通になるので、所定の輝度値で分割することにより、写真の枚数に関わりなく、透過領域の画像を取り出し、色ムラをより容易に検出できる。 Then, in the second image processing step, volume rendering processing can also be performed on the image volume data on the surface of the substrate obtained in the transmission region imaging step and the repeating step. In the second image processing step, specifically, for example, by creating (rendering) an isosurface image with the brightness value of the transmission region for the image volume data, the image of the transmission region is created over the entire surface of the substrate. Can be taken out. In this case, even if the light source, for example, the fluorescent lamp is slanted at the time of imaging, or the position of the light source is deviated for each photograph, the region of the predetermined luminance value is common, so that the predetermined luminance value is used. By dividing, the image in the transparent region can be taken out regardless of the number of photographs, and the color unevenness can be detected more easily.

以上の様に、第2画像処理工程で、得られた基板表面の画像を画像ボリュームデータとして取り扱うことで、輝度等を設定し、基板表面の画像ボリュームデータを分割し、等値面(アイソサーフェス)を取出すことができる。 As described above, by treating the image of the substrate surface obtained in the second image processing step as image volume data, the brightness and the like are set, the image volume data of the substrate surface is divided, and the isosurface (isosurface). ) Can be taken out.

例えば第2画像処理工程において、第1の実施形態で説明した第1画像処理工程により得られた撮像領域をつなぎ合わせた画像と、第2画像処理工程により得られた、透過領域をつなぎ合せた画像とを重ね合せて色ムラと、凹凸との位置を対比、確認できるように構成することもできる。
(繰り返し工程)
繰り返し工程では撮像工程、透過領域撮像工程、第1照射位置移動工程、および第2照射位置移動工程とを繰り返し実施することができる。これにより、明領域、透過領域の移動方向に沿って、複数の撮像領域、透過領域の画像を取得することができる。
For example, in the second image processing step, the image obtained by joining the imaging regions obtained by the first image processing step described in the first embodiment and the transmission region obtained by the second image processing step are joined together. It is also possible to superimpose the images so that the positions of the color unevenness and the unevenness can be compared and confirmed.
(Repeat process)
In the repeating step, the imaging step, the transmission region imaging step, the first irradiation position moving step, and the second irradiation position moving step can be repeatedly performed. As a result, it is possible to acquire images of a plurality of imaging regions and transparent regions along the moving directions of the bright region and the transparent region.

既述の様に本実施形態の基板の検査方法では、基板の第1の表面に形成した明領域を移動させることで、第1撮像手段により撮像する撮像領域を移動させ、撮像領域を撮像した画像をつなぎ合わせた場合に検査を行う部分の画像、例えば基板表面全体の画像が形成できることが好ましい。このため、繰り返し工程では得られた複数の撮像領域の画像をつなぎ合わせた場合に、検査を行う部分の画像、例えば基板表面全体の画像となるように実施することが好ましい。 As described above, in the substrate inspection method of the present embodiment, by moving the bright region formed on the first surface of the substrate, the imaging region to be imaged by the first imaging means is moved, and the imaging region is imaged. It is preferable that an image of a portion to be inspected when the images are stitched together, for example, an image of the entire surface of the substrate can be formed. Therefore, in the repeating step, when the images of the plurality of imaging regions obtained are stitched together, it is preferable to carry out the process so as to obtain an image of a portion to be inspected, for example, an image of the entire surface of the substrate.

また、基板の第1の表面に形成した透過領域を移動させ、第1撮像手段により撮像する領域を移動させる。そして、第1撮像手段により撮像した透過領域の画像をつなぎ合せた場合に検査を行う部分の画像、例えば基板表面全体の画像が形成できることが好ましい。このため、繰り返し工程では得られた複数の透過領域の画像をつなぎ合わせた場合に、検査を行う部分の画像、例えば基板表面全体の画像となるように実施することが好ましい。 Further, the transmission region formed on the first surface of the substrate is moved, and the region to be imaged by the first imaging means is moved. Then, it is preferable that an image of a portion to be inspected when the images of the transmission region captured by the first imaging means are joined, for example, an image of the entire surface of the substrate can be formed. Therefore, in the repeating step, when the images of the plurality of transparent regions obtained are stitched together, it is preferable to carry out the process so as to obtain an image of a portion to be inspected, for example, an image of the entire surface of the substrate.

繰り返し工程においても、既述の手順に従い、撮像工程、透過領域撮像工程、第1照射位置移動工程、および第2照射位置移動工程とを実施できるため、ここでは説明を省略する。 In the repeating step, the imaging step, the transmission region imaging step, the first irradiation position moving step, and the second irradiation position moving step can be performed according to the procedure described above, and thus the description thereof will be omitted here.

10、30、50 基板の検査装置
11 基板用ステージ
12 基板
12A 第1の表面
12B 第2の表面
13 第1光源
14 第1撮像手段
15 第1照射位置制御手段
16 第1画像処理手段
22 撮像領域
34 第2撮像手段
36 第2画像処理手段
41A 透過領域
53 第2光源
55 第2照射位置制御手段
531 光源制御手段
10, 30, 50 Substrate inspection device 11 Substrate stage 12 Substrate 12A First surface 12B Second surface 13 First light source 14 First image pickup means 15 First irradiation position control means 16 First image processing means 22 Imaging area 34 Second image pickup means 36 Second image processing means 41A Transmission region 53 Second light source 55 Second irradiation position control means 531 Light source control means

Claims (14)

基板を設置する基板用ステージと、
前記基板用ステージに設置した基板の第1の表面側に線状の光を照射する第1光源と、
前記基板の前記第1の表面のうち、前記第1光源から照射された前記線状の光を反射する領域である明領域の長手方向に沿い、かつ前記明領域以外の領域である撮像領域を撮像する第1撮像手段と、
前記明領域の位置を変化させる第1照射位置制御手段と、
前記第1撮像手段により得られた画像を処理する第1画像処理手段と、を有する基板の検査装置。
The board stage on which the board is installed and
A first light source that irradiates the first surface side of the substrate installed on the substrate stage with linear light, and
Of the first surface of the substrate, an imaging region that is a region other than the bright region along the longitudinal direction of the bright region, which is a region that reflects the linear light emitted from the first light source. The first imaging means for imaging and
The first irradiation position control means for changing the position of the bright region and
A substrate inspection apparatus having a first image processing means for processing an image obtained by the first imaging means.
前記基板の前記第1の表面と反対側に位置する第2の表面のうち、前記第1光源から照射された前記線状の光を透過した領域である透過領域を撮像する第2撮像手段と、
前記第2撮像手段により得られた画像を処理する第2画像処理手段と、をさらに有する請求項1に記載の基板の検査装置。
A second imaging means for imaging a transmission region, which is a region that transmits the linear light emitted from the first light source, among the second surfaces located on the opposite side of the first surface of the substrate. ,
The substrate inspection apparatus according to claim 1, further comprising a second image processing means for processing an image obtained by the second imaging means.
前記基板の前記第1の表面と反対側に位置する第2の表面に対して線状の光を照射する第2光源と、
前記基板の前記第1の表面のうち、前記第2光源から照射された前記線状の光を透過した領域である透過領域の位置を変化させる第2照射位置制御手段と、
前記第1光源および前記第2光源の発光を制御する光源制御手段と、をさらに有し、
前記第1撮像手段は、前記基板の前記第1の表面のうち、前記透過領域の撮像も行う、請求項1に記載の基板の検査装置。
A second light source that irradiates a second surface of the substrate opposite to the first surface with linear light.
A second irradiation position control means for changing the position of a transmission region, which is a region through which the linear light emitted from the second light source is transmitted, on the first surface of the substrate.
Further, the first light source and the light source control means for controlling the light emission of the second light source are provided.
The substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein the first imaging means also performs imaging of the transmission region of the first surface of the substrate.
前記第1撮像手段がラインスキャンカメラである請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の基板の検査装置。 The substrate inspection apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the first imaging means is a line scan camera. 前記基板を水平にする傾き補正手段をさらに有する請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の基板の検査装置。 The substrate inspection apparatus according to any one of claims 1 to 4, further comprising an inclination correcting means for leveling the substrate. 前記第1光源は、互いに平行な複数の前記線状の光を照射することが可能である請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の基板の検査装置。 The substrate inspection apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein the first light source can irradiate a plurality of linear lights parallel to each other. 前記第1画像処理手段は、前記第1撮像手段により得られた前記基板の前記第1の表面の画像ボリュームデータについて、前記撮像領域の輝度値での等値面画像を作成することで、前記撮像領域を取出す請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の基板の検査装置。 The first image processing means creates an isosurface image with a brightness value of the imaging region for the image volume data of the first surface of the substrate obtained by the first imaging means. The substrate inspection apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein the imaging region is taken out. 基板用ステージに設置された基板の第1の表面側に対して、第1光源から線状の光を照射する第1光照射工程と、
前記基板の前記第1の表面のうち、前記第1光源から照射された前記線状の光を反射する領域である明領域の長手方向に沿い、かつ前記明領域以外の領域である撮像領域を第1撮像手段により撮像する撮像工程と、
前記明領域の位置を変化させる第1照射位置移動工程と、
前記撮像工程と前記第1照射位置移動工程とを繰り返し実施する繰り返し工程と、
前記撮像工程で得られた画像を処理する第1画像処理工程と、を有する基板の検査方法。
The first light irradiation step of irradiating the first surface side of the substrate installed on the substrate stage with linear light from the first light source, and
Of the first surface of the substrate, an imaging region that is a region other than the bright region along the longitudinal direction of the bright region, which is a region that reflects the linear light emitted from the first light source. The imaging process of imaging by the first imaging means and
The first irradiation position moving step of changing the position of the bright region and
A repetitive step of repeatedly performing the imaging step and the first irradiation position moving step, and
A method for inspecting a substrate, comprising a first image processing step of processing an image obtained in the imaging step.
前記基板の前記第1の表面と反対側に位置する第2の表面のうち、前記第1光源から照射された前記線状の光を透過した領域である透過領域を第2撮像手段により撮像する透過領域撮像工程と、
前記透過領域撮像工程で得られた画像を処理する第2画像処理工程と、をさらに有し、
前記繰り返し工程では、前記撮像工程と前記透過領域撮像工程と前記第1照射位置移動工程とを繰り返し実施する請求項8に記載の基板の検査方法。
Of the second surface of the substrate opposite to the first surface, the transmission region, which is the region through which the linear light emitted from the first light source is transmitted, is imaged by the second imaging means. Transmission area imaging process and
It further includes a second image processing step of processing the image obtained in the transmission region imaging step.
The substrate inspection method according to claim 8, wherein in the repeating step, the imaging step, the transmission region imaging step, and the first irradiation position moving step are repeatedly performed.
前記基板の前記第1の表面と反対側に位置する第2の表面に対して、第2光源から線状の光を照射する第2光照射工程と、
前記基板の前記第1の表面のうち、前記第2光源から照射された前記線状の光を透過した領域である透過領域の位置を変化させる第2照射位置移動工程と、
前記基板の前記第1の表面のうち、前記透過領域を前記第1撮像手段により撮像する透過領域撮像工程と、
前記透過領域撮像工程で得られた画像を処理する第2画像処理工程と、をさらに有し、
前記繰り返し工程では、前記撮像工程と前記透過領域撮像工程と前記第1照射位置移動工程と第2照射位置移動工程とを繰り返し実施する請求項8に記載の基板の検査方法。
A second light irradiation step of irradiating a second surface of the substrate opposite to the first surface with linear light from a second light source.
A second irradiation position moving step of changing the position of the transmission region, which is a region through which the linear light emitted from the second light source, is transmitted on the first surface of the substrate.
A transmission region imaging step of imaging the transmission region of the first surface of the substrate by the first imaging means.
It further includes a second image processing step of processing the image obtained in the transmission region imaging step.
The substrate inspection method according to claim 8, wherein in the repeating step, the imaging step, the transmission region imaging step, the first irradiation position moving step, and the second irradiation position moving step are repeatedly performed.
前記第1撮像手段がラインスキャンカメラである請求項8から請求項10のいずれか1項に記載の基板の検査方法。 The substrate inspection method according to any one of claims 8 to 10, wherein the first imaging means is a line scan camera. 前記基板を水平にする傾き補正工程をさらに有する請求項8から請求項11のいずれか1項に記載の基板の検査方法。 The method for inspecting a substrate according to any one of claims 8 to 11, further comprising a tilt correction step for leveling the substrate. 前記第1光源は、互いに平行な複数の前記線状の光を、前記基板の第1の表面側に対して照射することが可能である請求項8から請求項12のいずれか1項に記載の基板の検査方法。 The first light source according to any one of claims 8 to 12, wherein the first light source can irradiate a plurality of linear lights parallel to each other on the first surface side of the substrate. How to inspect the board. 前記第1画像処理工程では、前記撮像工程、および前記繰り返し工程で得られた前記基板の前記第1の表面の画像ボリュームデータについて、前記撮像領域の輝度値での等値面画像を作成することで、前記撮像領域を取出す請求項8から請求項13のいずれか1項に記載の基板の検査方法。 In the first image processing step, an isosurface image with a brightness value of the imaging region is created for the image volume data of the first surface of the substrate obtained in the imaging step and the repeating step. The substrate inspection method according to any one of claims 8 to 13, wherein the imaging region is taken out.
JP2020015773A 2020-01-31 2020-01-31 Board inspection device and board inspection method Pending JP2021125487A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020015773A JP2021125487A (en) 2020-01-31 2020-01-31 Board inspection device and board inspection method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020015773A JP2021125487A (en) 2020-01-31 2020-01-31 Board inspection device and board inspection method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2021125487A true JP2021125487A (en) 2021-08-30

Family

ID=77459430

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020015773A Pending JP2021125487A (en) 2020-01-31 2020-01-31 Board inspection device and board inspection method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2021125487A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4719284B2 (en) Surface inspection device
JP5877639B2 (en) Image generating apparatus and image generating method
US10356298B2 (en) Board inspection apparatus
KR101444474B1 (en) Inspection apparatus
CN1564929A (en) Three-dimensional measuring apparatus, filter lattice moire plate and illuminating means
CN107664645B (en) Illumination unit, defect inspection device, and illumination method
TWI568988B (en) Three - dimensional measuring device
JP2007256106A (en) Display panel inspection device and display panel inspection method using the same
JP2021124401A (en) Device and method for inspecting substrate
US6983066B2 (en) Machine vision
JP4755040B2 (en) Scratch inspection device, scratch inspection method
JP2021125487A (en) Board inspection device and board inspection method
JP5890953B2 (en) Inspection device
JP4281495B2 (en) Lighting device
JP2021124299A (en) Device and method for inspecting substrate
JP2021004769A (en) Inspection apparatus of substrate and inspection method of substrate
US11567013B2 (en) Image inspection device and lighting device
JP7389321B2 (en) Board inspection equipment, board inspection method
JP2021124298A (en) Device and method for inspecting substrate
JP2022155012A (en) Device and method for inspecting substrate
TWI290223B (en) Adjustable light sources for image forming apparatus
JP2008275487A (en) Shape inspection device and shape inspection method
JP6733039B2 (en) Appearance inspection device, appearance inspection method
JP2022139209A (en) Substrate inspection device, substrate inspection method
JP4425815B2 (en) Color unevenness inspection method and apparatus