JP2021123741A - Plating apparatus and plating method - Google Patents
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- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 97
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 55
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 14
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 abstract description 8
- 238000007689 inspection Methods 0.000 abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 6
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
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- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
Description
本発明は、めっき装置およびめっき方法に関する。さらに詳しくは、本発明は銅張積層板などのめっきに用いるめっき装置およびめっき方法に関する。 The present invention relates to a plating apparatus and a plating method. More specifically, the present invention relates to a plating apparatus and a plating method used for plating a copper-clad laminate or the like.
電気めっき装置は、長尺の基材フィルムを垂直に立てて、その上縁を多数のクランプで把持した状態で搬送し、めっき槽内を通過させる間にクランプを通じて基材フィルムに給電し、基材フィルムの表面にめっきする装置である。 In the electroplating apparatus, a long base film is erected vertically, and the upper edge of the long base film is conveyed while being gripped by a large number of clamps. It is a device for plating the surface of a material film.
特許文献1に示すように、電気めっき装置のクランプは、一対の把持片をバネで付勢して閉じ、その閉じ力によって基材フィルムを吊下げ保持する。基材フィルムを開放するときは、一対の把持片の一方をカムで押してバネに抗して開き、基材フィルムの保持を解除する。 As shown in Patent Document 1, the clamp of the electroplating apparatus urges and closes a pair of gripping pieces with a spring, and suspends and holds the base film by the closing force. When opening the base film, one of the pair of gripping pieces is pushed by a cam to open against the spring, and the holding of the base film is released.
しかるに、クランプは基材フィルムの脱着のたびに開閉を行うため、めっき装置の稼働に伴いクランプのバネに金属疲労が蓄積し、最終的にはバネの破損が起こる。
クランプのバネの破損が起こると、基材フィルムの把持や基材フィルムへの給電に支障をきたし、めっきの仕上がり品質を低下させるという問題が生じる。
そして、バネが破損した状態でクランプが開いたまま搬送されると、めっき装置内の各所の部材と接触し、クランプもめっき装置にも破損が生ずるという問題がある。
また、クランプの数は多いので、一つ一つのクランプのバネ損傷を確認していくには多大な手間がかかるという問題がある。
However, since the clamp opens and closes each time the base film is attached or detached, metal fatigue accumulates in the spring of the clamp as the plating apparatus operates, and eventually the spring is damaged.
If the spring of the clamp is damaged, the gripping of the base film and the power supply to the base film are hindered, and there is a problem that the finished quality of the plating is deteriorated.
Then, if the spring is transported with the clamp open in a damaged state, there is a problem that the clamp and the plating apparatus are damaged due to contact with various members in the plating apparatus.
Further, since the number of clamps is large, there is a problem that it takes a lot of time and effort to check the spring damage of each clamp.
本発明は上記事情に鑑み、めっき装置の破損を防止でき、クランプの保守点検工数を低減できるめっき装置およびめっき方法を提供することを目的とする。 In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to provide a plating apparatus and a plating method capable of preventing damage to the plating apparatus and reducing maintenance and inspection man-hours for clamps.
第1発明のめっき装置は、長尺帯状の基材フィルムを複数のクランプで把持して、めっき槽を含むめっき装置内を移動させて、前記基材フィルムの表面にめっき層を形成するめっき装置において、前記クランプは、基材フィルムをバネの付勢力で挟む一対の挟持片からなる挟持部を備えており、前記クランプを移動させる移動経路において、前記クランプの前記バネの損傷を検出する損傷検出機構が設けられていることを特徴とする。
第2発明のめっき装置は、第1発明において、前記損傷検出機構は、前記クランプの前記バネの損傷の有無を検知する損傷検出器と、前記クランプが前記移動経路上で移動している間にバネ損傷を検出する検出位置に位置していることを検知する位置検出器とからなることを特徴とする。
第3発明のめっき装置は、第2発明において、前記損傷検出器は、前記挟持部のうち一対の挟持片を開方向に押す押付け部と、該一方の挟持片の反力の大きさを検出する反力検知部とからなることを特徴とする。
第4発明のめっき装置は、第1,第2または第3発明において、前記損傷検出機構は、前記クランプの移動経路においてめっき槽を含むめっき設備を設けていない区間に配置されていることを特徴とする。
第5発明のめっき方法は、長尺帯状の基材フィルムを複数のクランプで吊持して、めっき槽を含むめっき装置内を移動させて、前記基材フィルムの表面にめっき層を形成するめっき方法において、前記クランプは、挟持部を構成する一対の挟持片をバネの付勢力を用いて基材フィルムを把持しており、前記クランプを移動させる移動経路において、損傷検出機構で前記クランプのバネの損傷を検出することを特徴とする。
The plating apparatus of the first invention is a plating apparatus that grips a long strip-shaped base film with a plurality of clamps and moves it in a plating apparatus including a plating tank to form a plating layer on the surface of the base film. In the case, the clamp includes a holding portion composed of a pair of holding pieces that sandwich the base film with the urging force of a spring, and damage detection for detecting damage to the spring of the clamp in a moving path for moving the clamp. It is characterized in that a mechanism is provided.
In the plating apparatus of the second invention, in the first invention, the damage detection mechanism is a damage detector that detects the presence or absence of damage to the spring of the clamp, and while the clamp is moving on the movement path. It is characterized by including a position detector that detects that it is located at a detection position that detects spring damage.
In the second invention, the plating apparatus of the third invention detects the magnitude of the reaction force of the pressing portion that pushes a pair of holding pieces in the holding portion in the opening direction and the reaction force of the holding piece. It is characterized by being composed of a reaction force detecting unit.
The plating apparatus of the fourth invention is characterized in that, in the first, second or third invention, the damage detection mechanism is arranged in a section in which a plating facility including a plating tank is not provided in the moving path of the clamp. And.
In the plating method of the fifth invention, a long strip-shaped base film is suspended by a plurality of clamps and moved in a plating apparatus including a plating tank to form a plating layer on the surface of the base film. In the method, the clamp grips the base film by using the urging force of the spring for a pair of holding pieces constituting the holding portion, and in the movement path for moving the clamp, the spring of the clamp is used by the damage detection mechanism. It is characterized by detecting damage to the plating.
第1発明によれば、複数のクランプのうち、いずれかのクランプのバネに損傷が生ずると、損傷検出機構がバネの損傷が生じたクランプを検知するので、速やかにクランプの修理作業を行える。したがって、クランプの保守点検のための時間と工数も軽減できる。また、クランプ修理を速やかに行うことによりめっき装置の損傷も防止できる。
第2発明によれば、複数のクランプが互いの間に間隔をあけた状態で移動するとき、バネの損傷を検知する損傷検出位置において、クランプが位置しているのか間隔が位置しているのかの区別を位置検出部が行うので、隣接するクランプ間の隙間の検出結果をキャンセルすることができ、その結果、バネに損傷の生じたクランプの特定が容易に行える。
第3発明によれば、一対の挟持片を閉方向に付勢するバネが損傷すると、損傷検出器の押付け部で一方の挟持片を押すときの反力が軽くなっているので、これによりバネの損傷を確認できる。
第4発明によれば、めっき槽を含むめっき設備を設けていない区間に損傷検出機構を設けているので、クランプのバネ損傷を検出したときのクランプの修理、交換等の保守作業が容易に行える。
第5発明によれば、複数のクランプのうち、いずれかのクランプのバネに損傷が生ずると、損傷検出機構がバネの損傷が生じたクランプを検知するので、速やかにクランプの修理作業を行える。したがって、クランプの保守点検のための時間と工数も軽減できる。また、クランプ修理を速やかに行うことによりめっき装置の損傷も防止できる。
According to the first invention, when the spring of any of the clamps is damaged, the damage detection mechanism detects the clamp in which the spring is damaged, so that the clamp can be repaired promptly. Therefore, the time and man-hours for maintenance and inspection of the clamp can be reduced. In addition, damage to the plating apparatus can be prevented by promptly repairing the clamp.
According to the second invention, when a plurality of clamps move with a space between them, whether the clamps are located or the distances are located at the damage detection position for detecting the damage of the spring. Since the position detection unit distinguishes between the clamps, the detection result of the gap between the adjacent clamps can be canceled, and as a result, the clamp in which the spring is damaged can be easily identified.
According to the third invention, when the spring for urging the pair of holding pieces in the closing direction is damaged, the reaction force when pushing one holding piece with the pressing portion of the damage detector is reduced. Damage can be confirmed.
According to the fourth invention, since the damage detection mechanism is provided in the section where the plating equipment including the plating tank is not provided, maintenance work such as repair and replacement of the clamp when spring damage of the clamp is detected can be easily performed. ..
According to the fifth invention, when the spring of any of the clamps is damaged, the damage detection mechanism detects the clamp in which the spring is damaged, so that the clamp can be repaired promptly. Therefore, the time and man-hours for maintenance and inspection of the clamp can be reduced. In addition, damage to the plating apparatus can be prevented by promptly repairing the clamp.
つぎに、本発明の実施形態を図面に基づき説明する。
まず、本発明の一実施形態に係るめっき装置Aを図5に基づき説明する。図示のめっき装置Aは、後述する本発明に係るめっき方法を実施する装置でもある。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
First, the plating apparatus A according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The illustrated plating apparatus A is also an apparatus for carrying out the plating method according to the present invention, which will be described later.
図示のめっき装置Aは、長尺帯状の基材フィルムFを搬送しつつ、基材フィルムFに対して電気めっきを行なう装置である。このめっき装置Aは、前処理槽1、めっき槽2、および後処理槽3を備えている。前処理槽1は、基材フィルムFの表面を清浄化したり、濡れ性を高める処理を行う槽である。めっき槽2は、槽内にめっき液を貯留しており、めっき液に基材フィルムFを浸漬して通過させる槽である。めっき槽を通過している間に基材フィルムFに電流を供給すると電気めっきが行える。後処理槽3は、めっきがなされた基材フィルムFの洗浄等を行う槽である。これらの各槽1,2,3には長尺帯状の基材フィルムFが順に移動し、基材フィルムFの表面にめっき膜が形成される。なお、本発明では、めっき膜の形成がなされたフィルムを製品フィルムという。
The illustrated plating device A is a device that electroplates the base film F while transporting the long strip-shaped base film F. The plating apparatus A includes a pretreatment tank 1, a
基材フィルムFの搬送は、基材フィルムFの長手方向に沿って進行させるとき、基材フィルムFの短手方向を上下に向けた懸垂状態で行われる。この懸垂状態の基材フィルムFを搬送するため、エンドレスベルト4が用いられ、またエンドレスベルト4に多数のクランプ5が連結されている。
めっき装置Aには、前処理槽1手前の入側ガイドローラ6、前処理槽1とめっき槽2の間の第1中間ガイドローラ7、めっき槽2と後処理槽3の間の第2中間ガイドローラ8、および後処理槽3出側ガイドローラ9を備えられている。
When the base film F is conveyed along the longitudinal direction of the base film F, the base film F is carried in a suspended state with the lateral direction of the base film F facing up and down. An
The plating apparatus A includes an entry
前記エンドレスベルト4は、入側ガイドローラ6、第1中間ガイドローラ7、第2中間ガイドローラ8、および出側ガイドローラ9の順に周回するように移動していく。
そして、多数のクランプ5は基材フィルムFの上縁を把持しているので、エンドレスベルト4と共に基材フィルムFは、前処理槽1、めっき槽2、後処理槽3の内部を移動する。
The
Since a large number of
めっき装置Aは、基材フィルムFをロール状に巻き取った原反ロールを繰り出す供給装置11と、めっき後の製品フィルム(たとえば、銅張積層板)を製品ロールとしてロール状に巻き取る巻取装置12とを有する。後処理槽3と巻取装置12との間には、乾燥用のためのヒーター13等が配置されている。
なお、13は基材フィルムFを同じ姿勢で案内する水平ガイドロール、14は基材フィルムFの搬送姿勢を変換する傾斜ガイドロールである。
The plating apparatus A has a
前記供給装置11から繰り出された基材フィルムFは、入側ガイドローラ6を通過した直後にクランプ5でその上縁が把持される。基材フィルムFが前処理槽1、めっき槽2、および後処理槽3を通過すると、出側ガイドローラ9を通過する直前にクランプ5から開放され、基材フィルムFは巻取装置12で巻き取られる。
The upper edge of the base film F unwound from the
基材フィルムFはめっき槽2内を搬送されつつ、電気めっきによりその表面に銅めっき等の被膜が形成される。これにより、めっき処理が完了した製品フィルムが得られる。たとえば、基材フィルムFの材質が樹脂フィルムであり、これに下地金属層を介して銅をめっき成膜すれば、製品フィルムとしての銅張積層板が得られる。
While the base film F is conveyed in the
上記めっき装置Aにおいて、クランプ5は、入側ガイドローラ6から第1中間ガイドローラ7、第2中間ガイドローラ8を経て出側ガイドローラ9までの間では、基材フィルムFの上縁を把持している。本明細書では、この間を把持区間という。そして、出側ガイドローラ9と入側ガイドローラ6の間はクランプ5は基材フィルムFを把持していない。本明細書では、この間を非把持区間という。
In the plating apparatus A, the
つぎに、クランプ5まわりを図6および図7に基づき説明する。
クランプ5は、接触治具20と、その下端に結合された吊持板21を備えている。接触治具20は上端部に電気の供給を受ける接触板22を備えている。接触板22には、移動方向の前端に前下りの案内部22aが形成されている。また、接触治具20は、表裏両面にローラ23を軸支しており、ローラ23はめっき装置A内の固定部材である案内板24上を転動するようになっている。接触治具20には図5に示すエンドレスベルト4(図6および図7では不図示)が結合されている。かかる構造により、エンドレスベルト4が移動すると、接触治具20、ひいてはクランプ5が一定の高さを保って移動することになる。
Next, the circumference of the
The
前記吊持板21には、基材フィルムFを把持するための挟持部25が取付けられている。挟持部25は一対の挟持片25a,25bからなる。一方の挟持片25bは吊持板21に固定されており、他方の挟持片25aにはレバー26が固定されている。レバー26の中間部はブラケットとピン27を介して固定側の挟持片25bに対して揺動自在に取付けられている。また、ピン27にはねじりコイルバネ28(以下、単にバネ28という)が介装され、一対の挟持片25aを他方(固定側)の挟持片25bに押し付けて閉じ方向に付勢している。このバネ28の付勢力によって、一対の挟持片25a,25bの間に基材フィルムFの上端が把持される。
前記レバー26の先端には、ブラケットを介してローラ29が回転自在に取付けられている。ローラ29はバネ28の付勢によって、一対の挟持片25a,25bの開状態から閉状態に至る間で、下向きの押し下げ力が与えられている。
A holding
A
図6および図7において、30は給電機構であり、クランプ5に電流を供給するために設けられている。給電機構30は、電極バー31と給電体32と押圧バネ33を有している。電極バー31はクランプ5の走行方向に沿って延びる長い電極であって、整流器を介して電源に接続されている。電極バー31の下方には複数個の給電体32が等間隔に取付けられている。
In FIGS. 6 and 7, reference numeral 30 denotes a feeding mechanism, which is provided to supply a current to the
電極バー31と給電体32との間には押圧バネ33が介装されており、この押圧バネ33により給電体32をクランプ5の接触治具20に押し付けている。電極バー31から給電される電流は、給電体32と接触治具20の接触を介して、吊持板21を経て挟持部25から基材フィルムFに供給される。
上記の電極バー31は、めっき槽2の上部に配置されており、めっき槽2を通過中の基材フィルムFに電流が供給される。
A pressing spring 33 is interposed between the
The
つぎに、クランプ5におけるバネ28の損傷を検出する損傷検出機構を、図1〜図4に基づき説明する。
損傷検出機構は、図1および図2に示すように損傷検出器50と位置検出器70とからなる。
損傷検出器50は、クランプ5におけるバネ28の損傷の有無を検知するセンサであり、バネ損傷を検出できれば、どのような検出器を用いてもよい。図示の実施形態における損傷検出器50は、以下のように構成されている。
図1および図2において、(A)はバネ28が正常なクランプ5を示し、(B)はバネが損傷したクランプ5を示している。符号28´は折れたり金属疲労をしてバネ力が不足する損傷したバネを示している。
Next, a damage detection mechanism for detecting damage to the
The damage detection mechanism includes a
The
In FIGS. 1 and 2, (A) shows the
損傷検出器50は、基板51上に押付け部52と反力検知部56を取付けている。押付け部52はロッド53とその外周に嵌めた圧縮バネ54と制御箱55とを有している。
ロッド53は、その下方部分が制御箱55内に挿入されており、その上端は台板61に固定されている。制御箱55内には、ロッド53の昇降を許容する案内機構が内蔵されている。
The
The lower portion of the
反力検知部56は、ロッド57とセンサ58と制御箱59とを有している。ロッド57は、その下方部分が制御箱59内で昇降可能に支持されており、その上端は前記台板61に固定されている。ロッド57の長手方向の適所には細径に形成された被検知部57aが形成されている。センサ58は、無接触の近接センサとか、接触式のリミットスイッチなどが用いられる。
図1および図2の(A)図に示すように、被検知部57aがセンサ58から離れているときは検知信号を出さないが、図1および図2の(B)図に示すように、被検知部57aがセンサ58に接近して対面すると検知信号を出すことができる。
The reaction
As shown in FIGS. 1 and 2, when the detected
前記台板61にはブラケットを介してローラ62が回転自在に取付けられている。このローラ62は押付け部52の作用によって上昇し、また、クランプ5のローラ29によって押し下げられる。
上記のように構成された損傷検出器50は、クランプ5が移動する移動区間の適所に設置されている。本明細書では、この設置場所を検出位置ということがある。
A
The
図1および図2の(A)図に示すように、クランプ5が損傷検出器50を設置した検出位置に移動してきたときは、クランプ5のローラ29が損傷検出器50のローラ62を押し下げる。このとき、クランプ5のバネ28が正常であれば、反力検知部56のロッド57を押し下げるので、被検知部57aはセンサ58から離れてしまう。このため、センサ58は検知信号を出さない。
As shown in FIGS. 1 and 2A, when the
図1および図2の(B)図に示すように、クランプ5のバネ28´が損傷している場合は、ローラ29の押し下げ力が不足する。このため、損傷検出器50のローラ62は押し下げられず上昇した状態のままとなる。
この場合、反力検知部56のロッド57も上昇しているので、被検知部57aがセンサ58に対面するまで接近して検知信号を出す。これにより、クランプ5のバネ28´の損傷を検知することができる。
以上のように、損傷検出器50はクランプ5のバネ28の反力の大小によって、バネ28の損傷の有無を検知することができる。
As shown in FIGS. 1 and 2B, when the spring 28'of the
In this case, since the
As described above, the
前記位置検出器70は、クランプ5のバネ損傷を検出する検出位置に位置していることを検知するセンサである。この位置検出ができれば、どのような検出器を用いてもよいが、図示の実施形態における位置検出器70は、公知の近接センサ71で構成されている。近接センサ71での検知を確実にするため、クランプ5の適所、たとえば吊持板21には板状あるいは箱状の被検知体72が取付けられている。なお、吊持板21を直接検出してもよい。
この位置検出器70は、複数のクランプ5が等間隔に間隔をあけた状態で移動するとき、互いに隣接するクランプ5,5間の隙間の部分での損傷検出器50の検出結果をキャンセルし、クランプ5が対面している状態での損傷検出器50の検出結果を利用するために設けられている。
The position detector 70 is a sensor that detects that the
When the plurality of
本発明における損傷検出器50と位置検出器70とは、クランプ5の移動経路のどこに設置してもよい。つまり、クランプ5が基材フィルムFを把持して移動する把持区間であっても、クランプ5が基材フィルムFを把持しないで移動する非把持区間であってもよい。把持区間は、図5に示すめっき装置Aにおいて、入側ガイドローラ6から第1中間ガイドローラ7、第2中間ガイドローラ8、そして出側ガイドローラ9までの区間である。この場合、損傷しているバネ28´をもつクランプ5は基材フィルムFを把持してない可能性があるが、両隣のクランプ5,5で基材フィルムFが把持されている。
非把持区間は、図5に示すめっき装置Aにおいて、出側ガイドローラ9から入側ガイドローラ6までの区間である。この非把持区間では、損傷しているバネ28´をもつクランプ5も、正常なバネ28をもつクランプ5も基材フィルムFを把持していない。
The
The non-grip section is a section from the exit
クランプ5は、基材フィルムFを把持している状態でも把持していない状態でも、基材フィルムFは薄いので、バネ28で押されているローラ29の高さ位置はほぼ同じである。ゆえに、損傷検出機構は把持区間に設けた場合でも、非把持区間に設けた場合でも、損傷検出器50のローラ62がクランプ5のローラ29からほぼ等しい押し下げ圧力を受けることによって、バネ28の損傷検出が行える。
Since the base film F is thin in the
もっとも、クランプ5の修理等の便宜を考慮すると、前処理槽1とめっき槽2と後処理槽3からなるめっき設備の存在しない区間に損傷検出機構(損傷検出器50および位置検出器70)を設けることが好ましい。この場合、クランプ5のバネ損傷を検出したときのクランプ5の修理、交換等の保守作業が容易に行える。
However, considering the convenience of repairing the
図3は損傷検出器50の検出結果を示している。図3は5本のクランプ5を例示しており、そのうち真中のクランプ5´が損傷したバネ28´をもつクランプと仮定する。この場合、真中のクランプ5´については、図1(B)に示すように、損傷したバネ28´の付勢力が不足するので、損傷検知器50のローラ62を押し下げることができず、図2(B)に示すように、ロッド57の被検知部57aをセンサ58が検出する。この検知動作により、クランプ5のバネ28´の損傷を検出することができる。
FIG. 3 shows the detection result of the
図3に示す正常な4台のクランプ5については、図1(A)に示すように、正常なバネ28によってローラ29が損傷検出器50のローラ62を押し下げるので、図2(A)に示すように、ロッド57の被検知部57aをセンサ58が検知することができない。
バネ28の状態を、正常を○、損傷を×で示し、そのONとOFFで示すと図3のとおりである。このようにして、バネ28の反力を利用してバネに損傷がある真中のクランプ5´をバネ不良が発生したものとして検出することができる。
Regarding the four
The state of the
図4は位置検出器70の情報も加味した検出結果を示している。損傷検出器50のみでは、隣接するクランプ5,5間の隙間においても、損傷検出器50のローラ62を押し下げる力は働かないので、図1(B)に示すバネ損傷時と同様に、損傷検出器50のロッド57は上昇しており、被検知部57aをセンサ58が検出することになる。しかしながら、これは誤検出となる。
そこで、図1および図2に示すように、前記損傷検出器50の設置位置の上方には位置検出器70が設置されている。この位置検出器70によって、検出位置にクランプ5が来たことを検知することができる。
FIG. 4 shows the detection result including the information of the position detector 70. With the
Therefore, as shown in FIGS. 1 and 2, a position detector 70 is installed above the installation position of the
図4において位置検出器70の欄に立上り信号が描かれているON状態は、クランプ5が検出位置に位置している状態であり、立上り信号が描かれていないOFF状態はクランプ5が検出位置に来ていない状態である。
In FIG. 4, the ON state in which the rising signal is drawn in the column of the position detector 70 means that the
図4に示すように、位置検出器70の検出結果がONであり、損傷検出器50の検出結果がONであるときは、クランプ5のバネ28は正常である。位置検出器70の検出結果がOFFで、損傷検出器50の検出結果もOFFのときは、クランプ5の隣りの隙間を対象として検知しているので、この検出結果はキャンセルすることになる。位置検出器70の検出結果がONにも拘らず、損傷検出器50の検出結果がOFF(点線で示した立上り信号)のときは、バネ28´の損傷を検知したと判断することができる。このようにして、バネ損傷の生じたクランプ5´を容易かつ確実に特定することができる。
As shown in FIG. 4, when the detection result of the position detector 70 is ON and the detection result of the
(他の実施形態)
上記実施形態では、損傷検出器50の押付け部52を移動してきたクランプ5のローラ29で押し下げたが、その代わりに、クランプ5のローラ29を損傷検出器50の押付け部52で押し上げるようにしてもよい。この構成によっても、バネ28の反力を利用して、バネ28の損傷の有無を検知することができる。
(Other embodiments)
In the above embodiment, the
上記実施形態では、損傷検出器50と位置検出器70とで損傷検出機構を構成したが、位置検出器70を用いない損傷検出機構を構成することもできる。
たとえば、基材フィルムFを把持するためクランプ5を開かせるのにローラ29を徐々に押し上げていく傾斜カムを設けた実施形態では、つぎの構成が可能である。つまり、傾斜カムの途中にバネ28によって生ずるローラ29からの押圧力を検知する圧力センサなどを設けておけば、その位置は検出位置となり、その圧力センサは損傷検出器として機能する。この構成ではクランプ5が位置するときのみ検知信号を出すので、位置検出器70を設けなくてもよくなる。また、圧力センサの代わりにローラ29の押圧力を重量計で計測してもよい。この場合でも位置検出器70を設ける必要はなくなる。
In the above embodiment, the damage detection mechanism is configured by the
For example, in the embodiment provided with the inclined cam that gradually pushes up the
上記実施形態では、損傷検出器50と位置検出器70とは図1および図2に示す例では、同じ場所に設置しているが、必ずしも同じ場所に設置する必要はない。損傷検出器50と位置検出器70とは離れた場所に設置されていても、いずれかのクランプが対面する位置であればよい。なぜなら、隣接するクランプ5,5同士は等間隔に配置されているからである。
In the above embodiment, the
(めっき方法)
つぎに、本発明に係るめっき方法を説明する。代表的には本発明のめっき方法は、上記しためっき装置Aを用いて実施される。
上記めっき装置Aにおいて、長尺帯状の基材フィルムFを複数のクランプ5で把持して、前処理槽1、めっき槽2、および後処理槽3を順に移動させて、基材フィルムFの表面にめっき層を形成する。
そして、クランプ5の移動経路のうち損傷検出機構(損傷検出器50および位置検出器70)を設置した検出位置において、クランプ5のバネ28の損傷有無が検出される。
(Plating method)
Next, the plating method according to the present invention will be described. Typically, the plating method of the present invention is carried out using the plating apparatus A described above.
In the plating apparatus A, the long strip-shaped base film F is gripped by a plurality of
Then, the presence or absence of damage to the
複数のクランプ5のうち、いずれかのクランプ5のバネ28に損傷が生ずると、損傷検出器50が損傷が生じたバネ28´をもつクランプ5を検知するので、速やかにクランプ5の修理作業を行える。したがって、クランプの保守点検のための時間と工数も軽減できる。
When the
本発明のめっき方法においても、基材フィルムFの材質が樹脂フィルムであり、これに下地金属層を介して銅をめっき成膜すれば、製品フィルムとしての銅張積層板が得られる。 Also in the plating method of the present invention, the material of the base film F is a resin film, and if copper is plated and formed on the base metal film F, a copper-clad laminate as a product film can be obtained.
上記各実施形態では、めっきされた製品フィルムとして銅張積層板を例示したが、本発明はこれに限られず、たとえば、Niめっきフィルムなど種々のめっき膜成形フィルムの製造に適用できる。また、本発明は、フィルムを保持して搬送する装置であればあらゆる装置、たとえば無電解めっき装置や加熱処理装置などにも適用できる。 In each of the above embodiments, the copper-clad laminate is exemplified as the plated product film, but the present invention is not limited to this, and can be applied to the production of various plating film forming films such as Ni plating film. Further, the present invention can be applied to any device as long as it is a device for holding and transporting a film, such as an electroless plating device and a heat treatment device.
A めっき装置
F 基材フィルム
1 前処理槽
2 めっき槽
3 後処理槽
4 エンドレスベルト
5 クランプ
25 挟持部
26 レバー
28 コイルバネ
29 ローラ
50 損傷検出器
52 押付け部
56 反力検知部
58 センサ
70 位置検出器
71 近接センサ
72 被検知体
A Plating device F Base film 1
Claims (5)
前記クランプは、基材フィルムをバネの付勢力で挟む一対の挟持片からなる挟持部を備えており、
前記クランプを移動させる移動経路において、前記クランプの前記バネの損傷を検出する損傷検出機構が設けられている
ことを特徴とするめっき装置。 In a plating device in which a long strip-shaped base film is gripped by a plurality of clamps and moved in a plating device including a plating tank to form a plating layer on the surface of the base film.
The clamp includes a holding portion composed of a pair of holding pieces that hold the base film with the urging force of a spring.
A plating apparatus characterized in that a damage detecting mechanism for detecting damage to the spring of the clamp is provided in a moving path for moving the clamp.
前記クランプの前記バネの損傷の有無を検知する損傷検出器と、
前記クランプが前記移動経路上で移動している間にバネ損傷を検出する検出位置に位置していることを検知する位置検出器とからなる
ことを特徴とする請求項1記載のめっき装置。 The damage detection mechanism is
A damage detector that detects the presence or absence of damage to the spring of the clamp, and
The plating apparatus according to claim 1, further comprising a position detector that detects that the clamp is located at a detection position for detecting spring damage while moving on the movement path.
ことを特徴とする請求項2記載のめっき装置。 The damage detector is characterized by comprising a pressing portion that pushes a pair of holding pieces in the holding portion in the opening direction and a reaction force detecting portion that detects the magnitude of the reaction force of the holding piece. The plating apparatus according to claim 2.
ことを特徴とする請求項1,2または3記載のめっき装置。 The plating apparatus according to claim 1, 2, or 3, wherein the damage detection mechanism is arranged in a section in which a plating facility including a plating tank is not provided in the moving path of the clamp.
前記クランプは、挟持部を構成する一対の挟持片をバネの付勢力を用いて基材フィルムを把持しており、
前記クランプを移動させる移動経路において、損傷検出機構で前記クランプのバネの損傷を検出する
ことを特徴とするめっき方法。 In a plating method in which a long strip-shaped base film is suspended by a plurality of clamps and moved in a plating apparatus including a plating tank to form a plating layer on the surface of the base film.
The clamp grips the base film by using the urging force of a spring with a pair of holding pieces constituting the holding portion.
A plating method comprising detecting damage to a spring of the clamp by a damage detecting mechanism in a moving path for moving the clamp.
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CN117440608A (en) * | 2023-10-24 | 2024-01-23 | 惠州市兴顺和电子有限公司 | Processing equipment and processing method for PCB |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06331465A (en) * | 1993-05-25 | 1994-12-02 | Mitsubishi Electric Corp | Device for inspecting wiring board suspender |
JP2006193794A (en) * | 2005-01-14 | 2006-07-27 | Chuo Seisakusho Ltd | Plating device for long sheet |
JP2015086400A (en) * | 2013-10-28 | 2015-05-07 | 住友金属鉱山株式会社 | Chemical treatment apparatus |
-
2020
- 2020-02-04 JP JP2020016714A patent/JP7445190B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06331465A (en) * | 1993-05-25 | 1994-12-02 | Mitsubishi Electric Corp | Device for inspecting wiring board suspender |
JP2006193794A (en) * | 2005-01-14 | 2006-07-27 | Chuo Seisakusho Ltd | Plating device for long sheet |
JP2015086400A (en) * | 2013-10-28 | 2015-05-07 | 住友金属鉱山株式会社 | Chemical treatment apparatus |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN117440608A (en) * | 2023-10-24 | 2024-01-23 | 惠州市兴顺和电子有限公司 | Processing equipment and processing method for PCB |
CN117440608B (en) * | 2023-10-24 | 2024-05-17 | 惠州市兴顺和电子有限公司 | Processing equipment and processing method for PCB |
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