JP2021118307A - Laser diode bar and wavelength beam coupling system - Google Patents

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賢哉 山下
Masaya Yamashita
賢哉 山下
啓 大野
Hiroshi Ono
啓 大野
昌浩 多田
Masahiro Tada
昌浩 多田
光起 菱田
Mitsuki Hishida
光起 菱田
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Abstract

To provide a laser diode bar and a wavelength beam coupling system capable of contributing to the efficiency of a wavelength beam coupling system by improving the oscillation performance of the wavelength beam coupling system.SOLUTION: A disclosed laser diode bar 100 has injection regions 101 of n (n≥2) emitters formed at intervals from each other. When the array direction of the injection region 101 is the X coordinate, the center position of the array direction is the origin of the X coordinate, the X coordinate of each injection region 101 is Xi (i=1 to n), and the area of each injection region 101 is Si (i=1 to n), the injection region 101 is formed so as to satisfy the following inequality.SELECTED DRAWING: Figure 9

Description

本開示は、波長ビーム結合システムに用いられるレーザーダイオードバーに関する。 The present disclosure relates to laser diode bars used in wavelength beam coupling systems.

波長の異なった複数のビームを一点に結合することで、高パワーのレーザービームを得るシステムとして、波長ビーム結合システム(WBC(Wavelength Beam Combining)システム)が知られている。WBCシステムは、例えば特許文献1等に記載されている。 A wavelength beam combining system (WBC (Wavelength Beam Combining) system) is known as a system for obtaining a high-power laser beam by combining a plurality of beams having different wavelengths at one point. The WBC system is described in, for example, Patent Document 1 and the like.

WBCシステムは、レーザーダイオードバー(LD(Laser Diode)バー)、ビームツイスターユニット(BTU(Beam Twister Lens Unit))、回折格子及び外部共振ミラー等を有する。 The WBC system includes a laser diode bar (LD (Laser Diode) bar), a beam twister unit (BTU (Beam Twister Lens Unit)), a diffraction grating, an external resonance mirror, and the like.

LDバーは、複数のエミッターからビームを出射する。LDバーから出射された複数のビームは、BTUによって個々に90度回転される。これにより、個々のスポットが相互干渉することを防ぐことができる。BTUから出たビームは透過型もしくは反射型の回折格子に入射される。回折格子は、入射したビームをその波長で決定される回折角で回折し出射する。回折格子から出射されたビームは、外部共振ミラーに入射される。外部共振ミラーは部分透過ミラーであり、入射されるビームの一部を回折格子の方向に垂直反射する。これにより、LDバーの個々のエミッターと回折格子と外部共振ミラーの位置関係で一意に決定される波長(ロック波長と呼ぶ)だけが、LDバーのリアミラーと外部共振ミラーとの間でフィードバックし、外部共振発振することでレーザービームが出力される。 The LD bar emits beams from a plurality of emitters. The plurality of beams emitted from the LD bar are individually rotated by 90 degrees by the BTU. This makes it possible to prevent the individual spots from interfering with each other. The beam emitted from the BTU is incident on a transmission type or reflection type diffraction grating. The diffraction grating diffracts the incident beam at a diffraction angle determined by its wavelength and emits it. The beam emitted from the diffraction grating is incident on the external resonant mirror. The external resonant mirror is a partially transmissive mirror that reflects part of the incident beam perpendicular to the direction of the diffraction grating. As a result, only the wavelength (called the lock wavelength) uniquely determined by the positional relationship between the individual emitters of the LD bar, the diffraction grating, and the external resonance mirror is fed back between the rear mirror and the external resonance mirror of the LD bar. A laser beam is output by external resonance oscillation.

特開2015−106707号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-106707

ところで、WBCシステムでは、LDバーのゲインピーク波長(つまりLDバー自身の構成に起因するLDバーの発振波長)と、外部共振によるロック波長との差が大きくなると、ビームが発振できなくなる。従来、複数のLDバーを用いるWBCシステムでは、各LDバーの配置位置に応じて各LDバーのゲインピーク波長を最適化するように、各LDバーが設計・製造されている。 By the way, in the WBC system, if the difference between the gain peak wavelength of the LD bar (that is, the oscillation wavelength of the LD bar due to the configuration of the LD bar itself) and the lock wavelength due to external resonance becomes large, the beam cannot oscillate. Conventionally, in a WBC system using a plurality of LD bars, each LD bar is designed and manufactured so as to optimize the gain peak wavelength of each LD bar according to the arrangement position of each LD bar.

しかしながら、1つのLDバーにおけるゲインピーク波長については十分な検討がされておらず、その結果、LDバー内の複数のエミッターのうち一部のエミッターでしか外部共振発振ができないおそれがある。この場合、WBCシステムが非効率なシステムとなる。 However, the gain peak wavelength in one LD bar has not been sufficiently studied, and as a result, there is a possibility that external resonance oscillation can be performed only in a part of the plurality of emitters in the LD bar. In this case, the WBC system becomes an inefficient system.

本開示は、以上の点を考慮してなされたものであり、波長ビーム結合システムの発振性能を向上させ、波長ビーム結合システムの効率化に寄与できるレーザーダイオードバー及び波長ビーム結合システムを提供する。 The present disclosure has been made in consideration of the above points, and provides a laser diode bar and a wavelength beam coupling system that can improve the oscillation performance of the wavelength beam coupling system and contribute to the efficiency of the wavelength beam coupling system.

本開示のレーザーダイオードバーの一つの態様は、
波長ビーム結合システムに用いられるレーザーダイオードバーであって、
前記レーザーダイオードバーは、互いに間隔をおいて形成されたn(n≧2)個のエミッターの注入領域を有し、
前記注入領域の配列方向をX座標とし、当該配列方向の中心位置をX座標の原点とし、前記各注入領域のX座標をXi(i=1〜n)、前記各注入領域の面積をSi(i=1〜n)としたとき、前記注入領域は、次式を満たすよう形成されている。

Figure 2021118307
One aspect of the laser diode bar of the present disclosure is:
A laser diode bar used in wavelength beam coupling systems.
The laser diode bar has injection regions of n (n ≧ 2) emitters formed at intervals from each other.
The arrangement direction of the injection region is the X coordinate, the center position in the arrangement direction is the origin of the X coordinate, the X coordinate of each injection region is Xi (i = 1 to n), and the area of each injection region is Si ( When i = 1 to n), the injection region is formed so as to satisfy the following equation.
Figure 2021118307

本開示の波長ビーム結合システムの一つの態様は、
波長の異なった複数のビームを一点に結合する波長ビーム結合システムであり、
前記レーザーダイオードバーと、
前記レーザーダイオードバーから出射された複数のビームを回折する回折格子と、
前記回折格子によって回折されたビームの一部を前記レーザーダイオードバーにフィードバックして外部共振させる外部共振ミラーと、
を備える。
One aspect of the wavelength beam coupling system of the present disclosure is:
It is a wavelength beam coupling system that combines multiple beams with different wavelengths at one point.
With the laser diode bar
A diffraction grating that diffracts a plurality of beams emitted from the laser diode bar, and
An external resonance mirror that feeds back a part of the beam diffracted by the diffraction grating to the laser diode bar to cause external resonance.
To be equipped.

本開示によれば、波長ビーム結合システムの発振性能を向上させ、波長ビーム結合システムの効率化に寄与できる。 According to the present disclosure, it is possible to improve the oscillation performance of the wavelength beam coupling system and contribute to the efficiency of the wavelength beam coupling system.

WBCシステムの概略図Schematic diagram of WBC system WBCシステムの概略図(反射型回折格子の場合)Schematic diagram of WBC system (in the case of reflective diffraction grating) 1つのLDバーの構成を示す斜視図Perspective view showing the configuration of one LD bar 1つのLDバーと回折格子との関係を示す図The figure which shows the relationship between one LD bar and a diffraction grating 1つのLDバー内の各エミッターに対する、WBCシステムのロック長の例を示した図The figure which showed the example of the lock length of the WBC system for each emitter in one LD bar. LDバーが発振できる波長の範囲を示す図The figure which shows the range of the wavelength that the LD bar can oscillate. LDバーの各エミッターのゲインピーク波長と、WBCシステムによるロック波長との関係を示した図The figure which showed the relationship between the gain peak wavelength of each emitter of an LD bar and the lock wavelength by a WBC system. LDバーの各エミッターのゲインピーク波長と、WBCシステムによるロック波長との関係を示した図The figure which showed the relationship between the gain peak wavelength of each emitter of an LD bar and the lock wavelength by a WBC system. 実施の形態の説明に供するLDバーの概略構成を示す図であり、図9Aは平面図、図9Bは断面図It is a figure which shows the schematic structure of the LD bar used for the explanation of embodiment, FIG. 9A is a plan view, and FIG. 9B is a cross-sectional view. 図9のX座標の正方向の向きと、WBCシステムの回折格子への入射角との関係を示す図The figure which shows the relationship between the positive direction of the X coordinate of FIG. 9 and the angle of incidence on the diffraction grating of the WBC system. 実施の形態の説明に供するLDバーの概略構成を示す図であり、図11Aは平面図、図11Bは断面図It is a figure which shows the schematic structure of the LD bar used for the explanation of embodiment, FIG. 11A is a plan view, and FIG. 11B is a cross-sectional view. 図12A−図12Eは、実施の形態での電極幅の説明に供する図12A-12E are diagrams provided for explaining the electrode width in the embodiment. シミュレーションを行うためのデータプロットの例を示す図Diagram showing an example of a data plot for performing a simulation シミュレーション結果を示す図Diagram showing simulation results 理想的な電極幅の分布例を示した図The figure which showed the distribution example of an ideal electrode width 他の実施の形態による注入領域を示す図The figure which shows the injection region by another embodiment

以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

<1>本発明に至った経緯
先ず、本発明の実施の形態を説明する前に、本発明に至った経緯について説明する。
<1> Background to the present invention First, before explaining the embodiment of the present invention, the background to the present invention will be described.

図1は、WBCシステム10の概略図である。勿論、実際のWBCシステムは図1に示した要素以外の構成要素を有するが、それらは省略されている。 FIG. 1 is a schematic view of the WBC system 10. Of course, the actual WBC system has components other than those shown in FIG. 1, but they are omitted.

WBCシステム10は、複数のLDバー100と、透過型の回折格子200と、外部共振ミラー300と、を有する。なお、実際には、LDバー100と、回折格子200との間には、図示しないBTU等の光学系が設けられている。 The WBC system 10 has a plurality of LD bars 100, a transmission type diffraction grating 200, and an external resonance mirror 300. Actually, an optical system such as BTU (not shown) is provided between the LD bar 100 and the diffraction grating 200.

本実施の形態では透過型の回折格子200を用いているが、本開示の技術は、図2のような反射型の回折格子200’を用いたWBCシステム10’に適用することも可能である。 Although the transmission type diffraction grating 200 is used in the present embodiment, the technique of the present disclosure can also be applied to the WBC system 10'using the reflection type diffraction grating 200'as shown in FIG. ..

図3に、1つのLDバー100の構成を示す。LDバー100は、互いに間隔をおいて形成されたn(n≧2)個のエミッターの注入領域(電極と言ってもよい)101を有する。注入領域101は、LDバー100の長手方向に亘ってストライプ状に配列されている。図示しない電源供給部からLDバー100内の全ての注入領域101に並列に電圧が供給されることで、各注入領域101に対応するレーザーエレメントから外部共振方向に同時にレーザービームが出射される。 FIG. 3 shows the configuration of one LD bar 100. The LD bar 100 has injection regions (which may be referred to as electrodes) 101 of n (n ≧ 2) emitters formed at intervals from each other. The injection regions 101 are arranged in stripes along the longitudinal direction of the LD bar 100. By supplying a voltage in parallel to all the injection regions 101 in the LD bar 100 from a power supply unit (not shown), a laser beam is simultaneously emitted from the laser element corresponding to each injection region 101 in the external resonance direction.

図1に戻って説明する。WBCシステム10は、次のような特徴がある。 It will be described back to FIG. The WBC system 10 has the following features.

・LDバー100から出射されるビームのうち、回折格子200の回折条件を満たし、かつ、外部共振ミラー300により反射される波長のみが外部共振により発振できる。 -Of the beams emitted from the LD bar 100, only the wavelengths that satisfy the diffraction conditions of the diffraction grating 200 and are reflected by the external resonance mirror 300 can be oscillated by the external resonance.

・各LDバー100、及び、注入領域101に対応する各エミッターの発振波長は、回折格子200とLDバー100の配置によって一意に決まる。 The oscillation wavelength of each LD bar 100 and each emitter corresponding to the injection region 101 is uniquely determined by the arrangement of the diffraction grating 200 and the LD bar 100.

・LDバー100のゲインピーク波長(つまりLDバー100自身の構成に起因するLDバー100の発振波長)と、外部共振によるロック波長との差が大きくなると、ビームが発振できなくなる。 -If the difference between the gain peak wavelength of the LD bar 100 (that is, the oscillation wavelength of the LD bar 100 due to the configuration of the LD bar 100 itself) and the lock wavelength due to external resonance becomes large, the beam cannot oscillate.

ここで、回折格子200において、回折格子の周期をd、入射角をα、出射角をβ、波長をλ、次数をmとすると、回折格子200の回折条件は、次式で表すことができる。

Figure 2021118307
Here, in the diffraction grating 200, assuming that the period of the diffraction grating is d, the incident angle is α, the emission angle is β, the wavelength is λ, and the order is m, the diffraction condition of the diffraction grating 200 can be expressed by the following equation. ..
Figure 2021118307

なお、ここで実際に有効な次数はm=1だけである回折格子配置を選択するのが一般的である。 Here, it is common to select a diffraction grating arrangement in which the actually effective order is only m = 1.

従来のWBCシステムでは、この回折条件を満たすようにするために、図1に示したように、LDバー100は、回折格子200への入射角αが小さいLDバー100ほど波長の長いビームを発生するように設計・製造されている。 In the conventional WBC system, in order to satisfy this diffraction condition, as shown in FIG. 1, the LD bar 100 generates a beam having a longer wavelength as the LD bar 100 having a smaller incident angle α on the diffraction grating 200. Designed and manufactured to do.

同様のことが1つのLDバー100内に配列されるエミッターについても当てはまる。つまり、図3に示したように、1つのLDバー100は、回折格子200への入射角αが小さいエミッターほど波長の長いビームを発生するように設計・製造されるべきである。 The same applies to the emitters arranged in one LD bar 100. That is, as shown in FIG. 3, one LD bar 100 should be designed and manufactured so that an emitter having a smaller incident angle α on the diffraction grating 200 generates a beam having a longer wavelength.

つまり、1つのLDバー内においても、LDバー内の個々のエミッターから出たビームの回折格子200への入射角αは微小に変化するので、外部共振条件を十分に満たすためには、LDバー100内の複数のエミッターにおいても少しずつゲインピーク波長が異なるべきである。 That is, even within one LD bar, the angle of incidence α of the beam emitted from each emitter in the LD bar on the diffraction grating 200 changes minutely. Therefore, in order to sufficiently satisfy the external resonance condition, the LD bar is required. The gain peak wavelengths should be slightly different for the plurality of emitters within 100.

図4は1つのLDバー100と回折格子200との関係を示す図である。図5は、1つのLDバー100内の各エミッターに対する、WBCシステム10のロック波長の例を示した図である。図の例は、1つのLDバー100に50個のエミッターが形成され、1番目のエミッターから50番目のエミッターまでの長さ(図4のLDバー100の長さW)が10[mm]の例である。 FIG. 4 is a diagram showing the relationship between one LD bar 100 and the diffraction grating 200. FIG. 5 is a diagram showing an example of the lock wavelength of the WBC system 10 for each emitter in one LD bar 100. In the example of the figure, 50 emitters are formed in one LD bar 100, and the length from the first emitter to the 50th emitter (length W of the LD bar 100 in FIG. 4) is 10 [mm]. This is an example.

計算上、LDバー100の長さWが10[mm]、LDバー100から回折格子までの距離Lが2.6[m]のとき、LDバー100の両端のエミッターのロック波長の差ΔλEC_barは約1.0[nm]である。また、計算上、LDバー100の長さWが10[mm]、LDバー100から回折格子までの距離Lが1.3[m]のとき、LDバー100の両端のエミッターのロック波長の差ΔλEC_barは約2.0[nm]である。 In calculation, when the length W of the LD bar 100 is 10 [mm] and the distance L from the LD bar 100 to the diffraction grating is 2.6 [m], the difference in the lock wavelengths of the emitters at both ends of the LD bar 100 is Δλ EC_bar. Is about 1.0 [nm]. Further, in calculation, when the length W of the LD bar 100 is 10 [mm] and the distance L from the LD bar 100 to the diffraction grating is 1.3 [m], the difference between the lock wavelengths of the emitters at both ends of the LD bar 100. Δλ EC_bar is about 2.0 [nm].

図6は、LDバー100が発振できる波長の範囲を示す図である。図中の曲線は、LDバー100のゲインを示す。LDバー100が発振できるのはゲインが所定値以上の波長に限られる。換言すれば、LDバー100のゲインピーク波長から所定範囲内のロック波長は発振し、所定範囲外のロック波長は発振しない。図の例では、ロック波長1は発振できる波長の範囲内なので発振するが、ロック波長2は発振できる波長の範囲外なので発振しない。 FIG. 6 is a diagram showing a range of wavelengths at which the LD bar 100 can oscillate. The curve in the figure shows the gain of the LD bar 100. The LD bar 100 can oscillate only at wavelengths whose gain is equal to or higher than a predetermined value. In other words, the lock wavelength within a predetermined range from the gain peak wavelength of the LD bar 100 oscillates, and the lock wavelength outside the predetermined range does not oscillate. In the example of the figure, the lock wavelength 1 oscillates because it is within the oscillating wavelength range, but the lock wavelength 2 does not oscillate because it is outside the oscillating wavelength range.

図7及び図8は、LDバー100の各エミッターのゲインピーク波長と、WBCシステム10によるロック波長との関係を示したものである。上述したように、ロック波長は回折格子200への入射角の変化に対応した傾きをもつ。 7 and 8 show the relationship between the gain peak wavelength of each emitter of the LD bar 100 and the lock wavelength of the WBC system 10. As described above, the lock wavelength has a slope corresponding to a change in the angle of incidence on the diffraction grating 200.

図7の例のように、LDバー100内のエミッターのゲインピーク波長の分布が、ロック波長の傾きの正負と同じ向きの場合で、全てのエミッターにおいて、ゲインピーク波長とロック波長との差が所定範囲内に収まっているので、全てのエミッターを発振させることができる。 As in the example of FIG. 7, when the distribution of the gain peak wavelength of the emitter in the LD bar 100 is in the same direction as the positive and negative of the slope of the lock wavelength, the difference between the gain peak wavelength and the lock wavelength is different in all the emitters. Since it is within a predetermined range, all emitters can be oscillated.

これに対して、図8の例のように、LDバー100内のエミッターのゲインピーク波長の分布が、ロック波長の傾きの正負と異なる向きの場合で、一部のエミッターにおいて、ゲインピーク波長とロック波長との差が所定範囲外となるので、一部のエミッターを発振させることができない。 On the other hand, as in the example of FIG. 8, when the distribution of the gain peak wavelength of the emitter in the LD bar 100 is in a direction different from the positive / negative of the slope of the lock wavelength, the gain peak wavelength is used in some emitters. Since the difference from the lock wavelength is out of the predetermined range, some emitters cannot be oscillated.

因みに、従来は、同一のLDバー内においては、各エミッターのゲインピーク波長はほぼ等しい。よって、図7や図8のようなグラフにおいては、傾き0の直線として表される。よって、傾きのあるロック波長との関係において、端部付近のエミッターで発振が発生しないおそれがある。 Incidentally, conventionally, the gain peak wavelengths of the emitters are almost the same in the same LD bar. Therefore, in a graph such as FIG. 7 and FIG. 8, it is represented as a straight line having a slope of 0. Therefore, in relation to the tilted lock wavelength, oscillation may not occur at the emitter near the end.

本発明の発明者は、このような考察のもと、本開示に至った。 The inventor of the present invention has reached the present disclosure based on such consideration.

本開示の一つの特徴は、WBCシステムで生じるLDバー内でのロック波長の傾きに対応するように、LDバー内のエミッターのゲインピーク波長の分布に傾きが生じるように、LDバーに温度分布をもたせたことである。より具体的には、エミッターの温度が高いほど出射されるビームの波長が長くなることを利用して、LDバー内でのエミッターの温度を制御することで、LDバー内でのエミッターのゲインピーク波長の分布に傾きが生じるようにした。 One feature of the present disclosure is the temperature distribution in the LD bar so that the distribution of the gain peak wavelength of the emitter in the LD bar is inclined so as to correspond to the inclination of the lock wavelength in the LD bar generated in the WBC system. It is to have. More specifically, the gain peak of the emitter in the LD bar is controlled by controlling the temperature of the emitter in the LD bar by utilizing the fact that the wavelength of the emitted beam becomes longer as the temperature of the emitter is higher. The wavelength distribution is tilted.

<2>実施の形態
図9は、実施の形態の説明に供するLDバー100の概略構成を示す図であり、図9AはLDバー100の平面図であり、図9BはLDバー100のA−A’断面図である。
<2> Embodiment FIG. 9 is a diagram showing a schematic configuration of the LD bar 100 used for the description of the embodiment, FIG. 9A is a plan view of the LD bar 100, and FIG. 9B is A- of the LD bar 100. A'Cross section.

図に示したように、エミッターの注入領域101の配列方向をX軸方向(X座標)とする。また、配列方向の中心位置をX座標の原点とする。なお、中心位置とは、単純にLDバー100の長手方向(注入領域101の配列方向)の長さの中心位置でもよいし、両側に同数の注入領域101が存在する位置であってもよい。また、中心位置とは、両端の注入領域101の中央位置であってもよい。 As shown in the figure, the arrangement direction of the injection region 101 of the emitter is the X-axis direction (X coordinate). Further, the center position in the array direction is set as the origin of the X coordinate. The center position may be simply the center position of the length of the LD bar 100 in the longitudinal direction (arrangement direction of the injection regions 101), or may be a position where the same number of injection regions 101 exist on both sides. Further, the center position may be the center position of the injection regions 101 at both ends.

また、本実施の形態では、配列方向での各注入領域101の間隔は、等間隔である。 Further, in the present embodiment, the intervals of the injection regions 101 in the arrangement direction are equal intervals.

本実施の形態のLDバー100の注入領域101は、各注入領域(1〜n)101のX座標(例えば各注入領域101の配列方向の中心位置)をXi、各注入領域(1〜n)の面積をSiとしたとき、次式を満たすよう形成されている。

Figure 2021118307
The injection region 101 of the LD bar 100 of the present embodiment has the X coordinates of each injection region (1 to n) 101 (for example, the center position in the array direction of each injection region 101) as Xi, and each injection region (1 to n). When the area of is Si, it is formed so as to satisfy the following equation.
Figure 2021118307

このようにすることで、本実施の形態のLDバー100の注入領域101は、中心位置よりも正方向に偏った面積をもつものとなる。ここで、上述したように、図示しない電源供給部からLDバー100内の全ての注入領域101に並列に電圧が供給されるので、注入領域101の面積に比例してエミッターに供給される電流の大きさが決まり、温度も決まる。よって、式(3)の条件の下では、中心位置よりも正方向の方が負方向よりも、エミッターの温度が高くなり、波長の長いビームが出射されるようになる。 By doing so, the injection region 101 of the LD bar 100 of the present embodiment has an area biased in the positive direction from the center position. Here, as described above, since the voltage is supplied in parallel to all the injection regions 101 in the LD bar 100 from the power supply unit (not shown), the current supplied to the emitter is proportional to the area of the injection region 101. The size is decided, and the temperature is also decided. Therefore, under the condition of the equation (3), the temperature of the emitter is higher in the positive direction than in the central position than in the negative direction, and a beam having a long wavelength is emitted.

ここで、図9のX座標の正方向の向きは、図10に示したように、LDバー100の各エミッターから回折格子200への入射方向と回折格子200からの出射方向のなす角(<180°)が減少する向きに対応している Here, as shown in FIG. 10, the positive direction of the X coordinate in FIG. 9 is the angle between the incident direction from each emitter of the LD bar 100 to the diffraction grating 200 and the exit direction from the diffraction grating 200 (< 180 °) corresponds to the decreasing direction

かくして、本実施の形態によれば、式(3)の条件を満たすような注入領域101を形成することで、図7の例のように、LDバー100内のエミッターのゲインピーク波長の分布を、ロック波長の傾きと正負が同じ向きとすることができる。この結果、全てのエミッターのゲインピーク波長とロック波長との差を、所定範囲内に収めることができるようになるので、全てのエミッターを発振させることができる。 Thus, according to the present embodiment, by forming the injection region 101 that satisfies the condition of the equation (3), the distribution of the gain peak wavelength of the emitter in the LD bar 100 can be distributed as in the example of FIG. , The slope of the lock wavelength and the positive and negative directions can be the same. As a result, the difference between the gain peak wavelength and the lock wavelength of all the emitters can be kept within a predetermined range, so that all the emitters can be oscillated.

上述の実施の形態は、本発明を実施するにあたっての具体化の一例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。すなわち、本発明はその要旨、またはその主要な特徴から逸脱することの無い範囲で、様々な形で実施することができる。 The above-described embodiments are merely examples of embodiment of the present invention, and the technical scope of the present invention should not be construed in a limited manner by these. That is, the present invention can be implemented in various forms without departing from its gist or its main features.

図11に示したように、複数の注入領域101の長さDが同一であれば、式(3)は各注入領域(1〜n)の幅をWiとしたとき、次式と等価である。

Figure 2021118307
As shown in FIG. 11, if the lengths D of the plurality of injection regions 101 are the same, the equation (3) is equivalent to the following equation when the width of each injection region (1 to n) is Wi. ..
Figure 2021118307

よって、式(4)の条件を満たすような注入領域101を形成すれば、上述の実施の形態と同様の効果を得ることができる。 Therefore, if the injection region 101 that satisfies the condition of the equation (4) is formed, the same effect as that of the above-described embodiment can be obtained.

また、注入領域101を、図12で例示したように形成した場合でも、上述の実施の形態と同様の効果を得ることができる。なお、図12A−図12Eのエミッター位置の正方向は、先に述べたようにLDバー100の各エミッターから回折格子200への入射方向と回折格子200からの出射方向のなす角(<180°)が減少する向きである。。また、電極とは注入領域101に相当し、よって電極幅とは注入領域101の幅(ストライプ幅)Wiに相当する。 Further, even when the injection region 101 is formed as illustrated in FIG. 12, the same effect as that of the above-described embodiment can be obtained. The positive direction of the emitter position in FIGS. 12A-12E is the angle (<180 °) between the incident direction from each emitter of the LD bar 100 to the diffraction grating 200 and the exit direction from the diffraction grating 200 as described above. ) Is decreasing. .. Further, the electrode corresponds to the injection region 101, and thus the electrode width corresponds to the width (stripe width) Wi of the injection region 101.

図12Aは、回折格子200への入射角が減少する方向に向かってエミッターの電極幅を直線的に増加させた例である。図12B、図12Cは電極幅を段階的に増加させた例である。図12Dは、電極幅を直線的に増加させた後に端部付近で一定とした例である。図12Eは、電極幅の増加の度合いを端部付近で大きくした例である。 FIG. 12A is an example in which the electrode width of the emitter is linearly increased in the direction in which the angle of incidence on the diffraction grating 200 decreases. 12B and 12C are examples in which the electrode width is gradually increased. FIG. 12D is an example in which the electrode width is linearly increased and then constant near the end. FIG. 12E shows an example in which the degree of increase in the electrode width is increased near the end portion.

図13は、シミュレーションを行うためのデータプロットの例である。図中の「Ref」の点は、従来のように電極幅が一定の例である。図13では、図12A、図12C、図12D、図12Eに対応した点もプロットされている。 FIG. 13 is an example of a data plot for performing a simulation. The point of "Ref" in the figure is an example in which the electrode width is constant as in the conventional case. In FIG. 13, the points corresponding to FIGS. 12A, 12C, 12D, and 12E are also plotted.

図14は、シミュレーション結果を示すものである。従来構成である「Ref」のエミッター温度は、放熱が大きい両端近傍のエミッターの温度が下がっているだけで、全エミッター位置でほぼ一定である。 FIG. 14 shows the simulation results. The emitter temperature of the conventional configuration "Ref" is almost constant at all emitter positions, only the temperature of the emitters in the vicinity of both ends where heat dissipation is large is lowered.

これに対して、図12C、図12Eの構成のエミッター温度は、エミッターNoが大きくなるほど(つまり回折格子200への入射角αが減少する位置のエミッターほど)温度が上昇する傾向になる。これにより、LDバー100内のエミッターのゲインピーク波長の分布を、ロック波長の正負の傾きと正負の傾きを同じ向きとすることができる。 On the other hand, the emitter temperature of the configurations of FIGS. 12C and 12E tends to increase as the emitter No. increases (that is, the emitter at a position where the angle of incidence α on the diffraction grating 200 decreases). As a result, the distribution of the gain peak wavelength of the emitter in the LD bar 100 can be set so that the positive and negative slopes of the lock wavelength and the positive and negative slopes are in the same direction.

図15は、かなり理想的な電極幅の分布例を示した図であり、図13の中の凡例(図12E)のプロットと同じものである。図に示したように、回折格子200への入射方向と出射方向200がなす角(<180°)が減少する位置のエミッターほど電極幅が単調に増加傾向にありつつ、LDバー100の端部付近のエミッターの電極幅は端の方向に向かって単調に増加するようにすることが好ましい。LDバー100の端部付近のエミッターの電極幅を、端の方向に向かって単調に増加するようにしたことで、放熱の大きいLDバー100の端部付近での温度の低下を抑制できるようになる。 FIG. 15 is a diagram showing a fairly ideal distribution example of the electrode width, which is the same as the plot of the legend (FIG. 12E) in FIG. As shown in the figure, the electrode width tends to increase monotonically toward the emitter at the position where the angle (<180 °) formed by the incident direction to the diffraction grating 200 and the exit direction 200 decreases, and the end of the LD bar 100. It is preferable that the electrode width of the nearby emitter increases monotonically toward the end. By making the electrode width of the emitter near the end of the LD bar 100 monotonically increasing toward the end, it is possible to suppress a decrease in temperature near the end of the LD bar 100, which has a large heat dissipation. Become.

換言すれば、注入領域101の配列方向のうち、回折格子200への入射方向と出射方向がなす角(<180°)が減少する向きに対応する方向に向かって、注入領域101の面積が単調に増加傾向にありつつ、注入領域101の配列方向における両端では、端の方向に向かって注入領域の面積が単調に増加することが好ましい。 In other words, the area of the injection region 101 is monotonous in the direction corresponding to the direction in which the angle (<180 °) formed by the incident direction to the diffraction grating 200 and the exit direction decreases in the arrangement direction of the injection region 101. It is preferable that the area of the injection region monotonically increases toward the ends at both ends of the injection region 101 in the arrangement direction.

本実施の形態の好ましい形態では、図14の凡例(図12E)のように各注入領域101に対応するレーザーエレメント(エミッター)の動作波長が、X座標(図9)の正の向きに注入領域101の配列方向の端から端までほぼ単調に増加する。 In a preferred embodiment of the present embodiment, as shown in the legend of FIG. 14 (FIG. 12E), the operating wavelength of the laser element (emitter) corresponding to each injection region 101 is the injection region in the positive direction of the X coordinate (FIG. 9). It increases almost monotonously from end to end in the arrangement direction of 101.

なお、図16に示したように、注入領域(電極)101の幅を変える代わりに、注入領域(電極)101の長さを変えてもよい。図16中の「正方向」は図10中の「正方向」に対応する。 As shown in FIG. 16, instead of changing the width of the injection region (electrode) 101, the length of the injection region (electrode) 101 may be changed. The "positive direction" in FIG. 16 corresponds to the "positive direction" in FIG.

本実施の形態では、配列方向での各注入領域101の間隔を等間隔とした場合について述べたが、等間隔でなくてもよい。 In the present embodiment, the case where the intervals of the injection regions 101 in the arrangement direction are equal intervals has been described, but the intervals may not be equal.

しかしながら、WBCシステムでは、一般にBTUと呼ばれるマルチエミッタ対応の光学素子が用いられるので、各注入領域101の間隔が等間隔でないと、レンズの作製精度が成り立たなくなる場合がある。これを考慮すると、WBCシステムに組み込んで使用する場合には、等間隔で注入面積を変える方が好ましいといえる。 However, since a multi-emitter compatible optical element called BTU is generally used in the WBC system, the manufacturing accuracy of the lens may not be established unless the intervals between the injection regions 101 are equal. Considering this, it can be said that it is preferable to change the injection area at equal intervals when the injection area is used by incorporating it into the WBC system.

LDバー100における配列方向(X軸方向)の少なくとも一端に、ダミー抵抗を設けることで、LDバー100の端部付近での温度低下を抑制してもよい。 By providing a dummy resistor at at least one end of the LD bar 100 in the arrangement direction (X-axis direction), a temperature drop near the end of the LD bar 100 may be suppressed.

これまでの実施の形態においては、すべて図1に示したような透過型の回折格子200を用いたWBCシステム10について説明したが、図2のような反射型の回折格子200’を用いたWBCシステム10’の場合においても同様の関係が成り立つので、同様のLDバーを用いることで反射型の回折格子200’を用いたWBCシステム10’の性能向上を図ることもできる。 In all the embodiments so far, the WBC system 10 using the transmission type diffraction grating 200 as shown in FIG. 1 has been described, but the WBC using the reflection type diffraction grating 200'as shown in FIG. 2 has been described. Since the same relationship holds in the case of the system 10', it is possible to improve the performance of the WBC system 10'using the reflection type diffraction grating 200'by using the same LD bar.

本発明のレーザーダイオードバーは、波長ビーム結合システムに好適である。 The laser diode bar of the present invention is suitable for wavelength beam coupling systems.

10、10’ 波長ビーム結合システム(WBCシステム)
100 レーザーダイオードバー(LDバー)
101 注入領域
200、200’ 回折格子
300 外部共振ミラー
10, 10'wavelength beam coupling system (WBC system)
100 laser diode bar (LD bar)
101 Injection area 200, 200'diffraction grating 300 External resonant mirror

Claims (7)

波長ビーム結合システムに用いられるレーザーダイオードバーであって、
前記レーザーダイオードバーは、互いに間隔をおいて形成されたn(n≧2)個のエミッターの注入領域を有し、
前記注入領域の配列方向をX座標とし、当該配列方向の中心位置をX座標の原点とし、前記各注入領域のX座標をXi(i=1〜n)、前記各注入領域の面積をSi(i=1〜n)としたとき、前記注入領域は、次式を満たすよう形成されている、
Figure 2021118307
レーザーダイオードバー。
A laser diode bar used in wavelength beam coupling systems.
The laser diode bar has injection regions of n (n ≧ 2) emitters formed at intervals from each other.
The arrangement direction of the injection region is the X coordinate, the center position in the arrangement direction is the origin of the X coordinate, the X coordinate of each injection region is Xi (i = 1 to n), and the area of each injection region is Si ( When i = 1 to n), the injection region is formed so as to satisfy the following equation.
Figure 2021118307
Laser diode bar.
前記X座標の正方向の向きは、前記レーザーダイオードバーの各エミッターから回折格子への入射方向と回折格子からの出射方向とのなす角(<180°)が減少する向きに対応している、
請求項1に記載のレーザーダイオードバー。
The positive direction of the X coordinate corresponds to the direction in which the angle (<180 °) formed by the incident direction from each emitter of the laser diode bar to the diffraction grating and the exit direction from the diffraction grating decreases.
The laser diode bar according to claim 1.
前記各注入領域に対応するレーザーエレメントの動作波長が、前記X座標の正の向きに前記配列方向の端から端まで単調に増加する、
請求項1又は2に記載のレーザーダイオードバー。
The operating wavelength of the laser element corresponding to each injection region monotonically increases from end to end in the array direction in the positive direction of the X coordinate.
The laser diode bar according to claim 1 or 2.
前記配列方向における両端では、端の方向に向かって前記注入領域の面積が単調に増加する、
請求項1から3のいずれか一項に記載のレーザーダイオードバー。
At both ends in the arrangement direction, the area of the injection region monotonously increases toward the ends.
The laser diode bar according to any one of claims 1 to 3.
前記配列方向での前記各注入領域の間隔は、等間隔である、
請求項1から4のいずれか一項に記載のレーザーダイオードバー。
The spacing between the injection regions in the alignment direction is equal.
The laser diode bar according to any one of claims 1 to 4.
前記配列方向の少なくとも一端に、ダミー抵抗が設けられている、
請求項1から5のいずれか一項に記載のレーザーダイオードバー。
A dummy resistor is provided at at least one end in the arrangement direction.
The laser diode bar according to any one of claims 1 to 5.
請求項1から6のいずれか一項に記載のレーザーダイオードバーと、
前記レーザーダイオードバーから出射された複数のビームを回折する回折格子と、
前記回折格子によって回折されたビームの一部を前記レーザーダイオードバーにフィードバックして外部共振させる外部共振ミラーと、
を備える波長の異なった複数のビームを一点に結合する波長ビーム結合システム。
The laser diode bar according to any one of claims 1 to 6.
A diffraction grating that diffracts a plurality of beams emitted from the laser diode bar, and
An external resonance mirror that feeds back a part of the beam diffracted by the diffraction grating to the laser diode bar to cause external resonance.
A wavelength beam coupling system that combines multiple beams with different wavelengths into a single point.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02237187A (en) * 1989-03-10 1990-09-19 Hitachi Ltd Semiconductor laser device
JP2007214300A (en) * 2006-02-09 2007-08-23 Sony Corp Semiconductor laser
JP2014216361A (en) * 2013-04-23 2014-11-17 三菱電機株式会社 Laser device and wavelength coupling method of light beam
JP2015046467A (en) * 2013-08-28 2015-03-12 ルネサスエレクトロニクス株式会社 Semiconductor device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02237187A (en) * 1989-03-10 1990-09-19 Hitachi Ltd Semiconductor laser device
JP2007214300A (en) * 2006-02-09 2007-08-23 Sony Corp Semiconductor laser
JP2014216361A (en) * 2013-04-23 2014-11-17 三菱電機株式会社 Laser device and wavelength coupling method of light beam
JP2015046467A (en) * 2013-08-28 2015-03-12 ルネサスエレクトロニクス株式会社 Semiconductor device

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