JP2021098891A - Film deposition apparatus and film deposition method - Google Patents
Film deposition apparatus and film deposition method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021098891A JP2021098891A JP2020206760A JP2020206760A JP2021098891A JP 2021098891 A JP2021098891 A JP 2021098891A JP 2020206760 A JP2020206760 A JP 2020206760A JP 2020206760 A JP2020206760 A JP 2020206760A JP 2021098891 A JP2021098891 A JP 2021098891A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aerosol
- unit
- chamber
- control unit
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000151 deposition Methods 0.000 title abstract description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title abstract description 7
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 claims abstract description 210
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 79
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 60
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 73
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 239000003570 air Substances 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 2
- 238000013528 artificial neural network Methods 0.000 description 2
- 238000010801 machine learning Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000306 recurrent effect Effects 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
本発明の実施形態は、成膜装置、および成膜方法に関する。 Embodiments of the present invention relate to a film forming apparatus and a film forming method.
基板などの表面に複数の粒子とガスを含むエアロゾルを供給して、基板などの表面に複数の粒子を含む膜を形成する技術がある。また、エアロゾルに含まれる複数の粒子の濃度を測定し、エアロゾルに含まれる複数の粒子の濃度が略一定となる様にフィードバック制御を行う技術も提案されている。一般的に、この様な成膜はチャンバの内部において行われる。 There is a technique of supplying an aerosol containing a plurality of particles and a gas to the surface of a substrate or the like to form a film containing a plurality of particles on the surface of the substrate or the like. Further, a technique has been proposed in which the concentration of a plurality of particles contained in the aerosol is measured and feedback control is performed so that the concentration of the plurality of particles contained in the aerosol becomes substantially constant. Generally, such film formation is performed inside the chamber.
ここで、チャンバの内部においてエアロゾルの流れが偏る場合がある。エアロゾルの流れが偏ると、エアロゾルに含まれる粒子の濃度を略一定にしたとしても、エアロゾルの流れが向かった領域の粒子の堆積量が他の領域の粒子の堆積量よりも多くなる。そのため、形成された膜の厚みに面内分布が生じることになる。
そこで、膜の厚みの均一化を図ることができる技術の開発が望まれていた。
Here, the aerosol flow may be biased inside the chamber. When the flow of the aerosol is biased, even if the concentration of the particles contained in the aerosol is made substantially constant, the amount of particles deposited in the region where the aerosol flow is directed becomes larger than the amount of particles deposited in the other regions. Therefore, an in-plane distribution occurs in the thickness of the formed film.
Therefore, it has been desired to develop a technique capable of making the thickness of the film uniform.
本発明が解決しようとする課題は、膜の厚みの均一化を図ることができる成膜装置、および成膜方法を提供することである。 An object to be solved by the present invention is to provide a film forming apparatus and a film forming method capable of making the film thickness uniform.
実施形態に係る成膜装置は、内部に処理物を収納可能なチャンバと、前記チャンバの内部に、複数の粒子とガスとを含むエアロゾルを供給可能なエアロゾル生成部と、管状を呈し、一方の端部がエアロゾル生成部と接続され、他方の端部がチャンバと接続された供給部と、前記処理物の上、および、前記チャンバの内部の少なくともいずれかにおける、前記複数の粒子の状態を検出可能な第1の検出部と、前記供給部の内部において、前記エアロゾルの流速および流量の少なくともいずれかを制御可能な、少なくとも1つのエアロゾル制御部と、前記第1の検出部からの検出値に基づいて、前記エアロゾル制御部を制御可能なコントローラと、を備えている。 The film forming apparatus according to the embodiment has a tubular shape, a chamber capable of accommodating a processed material inside, an aerosol generating unit capable of supplying an aerosol containing a plurality of particles and a gas, and one of the chambers. Detects the state of the plurality of particles on a supply section with one end connected to an aerosol generator and the other end connected to a chamber, and at least either above or inside the chamber. To the possible first detection unit, at least one aerosol control unit capable of controlling at least one of the flow velocity and the flow rate of the aerosol inside the supply unit, and the detection value from the first detection unit. Based on this, a controller capable of controlling the aerosol control unit is provided.
以下、図面を参照しつつ、実施の形態について例示をする。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
また、一般的に、1つの配管系において、流量と流速は正の相関関係にある。例えば、流量が減少すれば、流速も減少する。そのため、以下において、「流速」についての説明は、「流量」に置き換えることができ、「流量」についての説明は、「流速」に置き換えることができる。
本実施の形態に係る成膜装置1は、エアロゾルを生成し、生成したエアロゾルを処理物に向けて供給し、エアロゾルに含まれていた複数の粒子を処理物の表面に堆積させて膜を形成することができる。本願明細書において、エアロゾルは、複数の粒子とガスを含むものとすることができる。
Hereinafter, embodiments will be illustrated with reference to the drawings. In each drawing, similar components are designated by the same reference numerals and detailed description thereof will be omitted as appropriate.
Further, in general, the flow rate and the flow velocity have a positive correlation in one piping system. For example, as the flow rate decreases, so does the flow velocity. Therefore, in the following, the description of "flow velocity" can be replaced with "flow rate", and the description of "flow rate" can be replaced with "flow velocity".
The film forming apparatus 1 according to the present embodiment generates an aerosol, supplies the produced aerosol toward the processed product, and deposits a plurality of particles contained in the aerosol on the surface of the processed product to form a film. can do. As used herein, the aerosol may include a plurality of particles and gases.
この場合、粒子は固体または液体とすることができる。以下においては、一例として、粒子が固体である場合を例に挙げて説明する。固体の粒子の材料には特に限定はないが、例えば、カーボン、セラミックス、あるいはプラチナなどの金属を例示することができる。固体の粒子の大きさにも特に限定はないが、例えば、粒子径は1μm以下とすることができる。 In this case, the particles can be solid or liquid. In the following, as an example, the case where the particles are solid will be described as an example. The material of the solid particles is not particularly limited, and examples thereof include metals such as carbon, ceramics, and platinum. The size of the solid particles is not particularly limited, but for example, the particle size can be 1 μm or less.
図1は、本実施の形態に係る成膜装置1を例示するための模式図である。
図1に示すように、成膜装置1には、チャンバ2、エアロゾル生成部3、検出部4(第1の検出部の一例に相当する)、エアロゾル制御部5、およびコントローラ6を設けることができる。
FIG. 1 is a schematic view for exemplifying the film forming apparatus 1 according to the present embodiment.
As shown in FIG. 1, the film forming apparatus 1 may be provided with a
チャンバ2は、箱状を呈し、外部からゴミが侵入しない程度の気密構造を有することができる。チャンバ2の内部は、エアロゾル102を用いて処理物100の表面に膜を形成する領域となる。
The
チャンバ2の内部において、エアロゾル102の流れ102aの乱れが大きくなると形成された膜の厚みに面内分布が生じ易くなる。そのため、チャンバ2の形状は、気流の乱れが小さくなるような形状とすることが好ましい。また、チャンバ2の底部側には、処理物100が載置されるが、処理可能な処理物100の大きさを大きくしたり、処理可能な処理物100の数を多くしたりすることが好ましい。そのため、チャンバ2の形状は、例えば、チャンバ2の断面寸法(チャンバ2の天井から底部に向かう方向と垂直な方向の寸法)が処理物100が載置される領域に近づくに従い漸増するような形状とすることが好ましい。例えば、チャンバ2の外観形状は、角錐台や円錐台とすることができる。図1に例示をしたチャンバ2の外観形状は、四角錐台である。
When the turbulence of the
成膜を行う処理物100は、チャンバ2の内部に収納することができる。例えば、処理物100は、チャンバ2の底部に載置したり、チャンバ2の底部に設けられた載置台の上に載置したりすることができる。複数の処理物100を同時に成膜する場合には、チャンバ2の底部や載置台に枠21を設けることができる。図1に例示をした枠21は、第1の方向に並ぶ複数の凸部と、第1の方向に直交する第2の方向に並ぶ複数の凸部とを有している。処理物100は凸部により画された領域に載置することができる。
The processed
また、チャンバ2の底部には排気部22を設けることができる。例えば、枠21に少なくとも1つの孔を設け、孔に排気部22を接続することができる。排気部22は、チャンバ2の内部にあるガスを排気することができる。排気部22により、チャンバ2の内部にあるガスが排気されることで、チャンバ2の天井に設けられた供給部23の内部にあるエアロゾル102がチャンバ2の内部に引き出される。そして、チャンバ2の内部において、チャンバ2の天井側から底部側に向かうエアロゾル102の流れ102aが形成される。
Further, an
処理物100の材料、形状、大きさなどには特に限定はない。例えば、図1に例示をしたように、処理物100は平面形状が四角形の基板などとすることができる。また、処理物100は、通気性を有するものとすることができる。通気性を有する処理物100であれば、処理物100を介して、チャンバ2の内部にあるガスを排気することができる。例えば、枠21の凸部により画された領域に少なくとも1つの孔を設け、孔に排気部22を接続することができる。処理物100を介して、チャンバ2の内部にあるガスを排気すれば、エアロゾル102を処理物100の表面に引き込むことができる。また、処理物100を枠21の凸部により画された領域に保持することができる。
The material, shape, size, etc. of the processed
供給部23は、チャンバ2の天井に設けることができる。供給部23は、第1の部分23aと第2の部分23bを有することができる。第1の部分23aは、例えば、チャンバ2の底部側から天井側に向かう方向に延びる管状体とすることができる。例えば、第1の部分23aの一方の端部は、チャンバ2の天井に設けられた孔に接続することができる。第2の部分23bは、例えば、第1の部分23aが延びる方向と交差する方向に延びる管状体とすることができる。第2の部分23bの一方の端部は、第1の部分23aの他方の端部に接続することができる。供給部23は、屈曲したパイプなどとしてもよい。第2の部分23bの他方の端部には、エアロゾル生成部3を接続することができる。エアロゾル生成部3により生成されたエアロゾル102は、第1の部分23aおよび第2の部分23bを介して、チャンバ2の内部に供給することができる。
The
エアロゾル生成部3は、エアロゾル102を生成することができる。また、エアロゾル生成部3は、生成したエアロゾル102を供給部23に供給することができる。すなわち、エアロゾル生成部3は、チャンバ2の内部に、複数の粒子101とガスとを含むエアロゾル102を供給することができる。
エアロゾル生成部3は、容器3a、供給制御部3b、混合部3c、およびガス供給部3dを有することができる。
The aerosol generation unit 3 can generate the
The aerosol generation unit 3 can include a
容器3aは、供給制御部3bを介して混合部3cと接続することができる。容器3aは、筒状を呈し、内部に複数の粒子101を収納することができる。容器3aは、例えば、重力を利用して、収納された複数の粒子101を供給制御部3bに送ることができる。
The
また、容器3aの外面には、振動部3a1を設けることもできる。振動部3a1は、超音波振動、電磁振動、機械的振動などにより、容器3aの内部に収納された複数の粒子101に対して運動エネルギーを与えることができる。振動部3a1は、必ずしも必要ではなく、複数の粒子101の形状や大きさなどに応じて適宜設けるようにすればよい、ただし、振動部3a1が設けられていれば、複数の粒子101の供給制御部3bへの供給を安定させることができる。
Further, a vibrating portion 3a1 may be provided on the outer surface of the
供給制御部3bは、容器3aから混合部3cへの複数の粒子101の供給量を制御したり、複数の粒子101の供給の開始と供給の停止を制御したりすることができる。例えば、供給制御部3bは、複数の粒子101が通過する孔の大きさを変化させるものとすることができる。
The
混合部3cは、ガス供給部3dと供給部23との間に設けることができる。混合部3cは、供給制御部3bから供給された複数の粒子101と、ガス供給部3dから供給されたガスとを混合してエアロゾル102を生成することができる。例えば、混合部3cは、ガス供給部3dから供給されたガスの流れに、供給制御部3bから供給された所定の量の粒子101を投入することでエアロゾル102を生成することができる。この場合、ベンチュリ効果を利用して、複数の粒子101をガスの流れの中に引き込むこともできる。混合部3cにより生成されたエアロゾル102は、供給部23を介してチャンバ2の内部に供給される。
The mixing
なお、以上は、固体の粒子101の場合であるが、液体の粒子の場合も同様にしてエアロゾルを生成することができる。例えば、容器3aに液体を収納し、混合部3cにおいて、ベンチュリ効果を利用して、液体を霧状にするとともに、ガスの流れの中に引き込むようにすればよい。
The above is the case of the
ガス供給部3dは、所定の流量のガスを混合部3cに供給することができる。ガスは、処理物100および粒子101と反応し難いものであれば特に限定はない。ガスは、例えば、ヘリウムガスやアルゴンガスなどの不活性ガス、窒素ガス、空気などとすることができる。
The
ガス供給部3dは、ガス源3d1、流量制御部3d2、および開閉弁3d3を有することができる。
ガス源3d1は、ガスを流量制御部3d2に供給することができる。ガス源3d1は、例えば、高圧のガスが収納されたボンベや、ガスを供給する工場配管などとすることができる。
The
The gas source 3d1 can supply the gas to the flow rate control unit 3d2. The gas source 3d1 can be, for example, a cylinder in which high-pressure gas is stored, a factory pipe for supplying gas, or the like.
流量制御部3d2は、混合部3cに供給するガスの流量を制御することができる。流量制御部3d2は、例えば、MFC(Mass Flow Controller)などとすることができる。また、流量制御部3d2は、ガスの供給圧力を制御することでガスの流量を間接的に制御するものであってもよい。この場合、流量制御部3d2は、例えば、APC(Auto Pressure Controller)などとすることができる。
The flow rate control unit 3d2 can control the flow rate of the gas supplied to the
開閉弁3d3は、ガスの供給の開始と、ガスの供給の停止とを切り替えることができる。開閉弁3d3は、例えば、二方弁などとすることができる。なお、流量制御部3d2が、ガスの供給の開始と、ガスの供給の停止とを切り替える機能を有するものであれば、開閉弁3d3を省くことができる。 The on-off valve 3d3 can switch between starting the gas supply and stopping the gas supply. The on-off valve 3d3 can be, for example, a two-way valve. If the flow rate control unit 3d2 has a function of switching between the start of gas supply and the stop of gas supply, the on-off valve 3d3 can be omitted.
検出部4は、処理物100の上における複数の粒子101の状態(例えば、堆積状態)を検出することができる。
検出部4は、例えば、複数の粒子101を含む膜の厚みを直接検出することができる。検出部4は、例えば、レーザ距離計などとすることができる。例えば、レーザ距離計を用いる場合には、複数の粒子101が堆積する前の処理物100の面の位置と、複数の粒子101を含む膜の表面の位置との差から膜の厚みを検出することができる。そして、検出部4は、複数の検出ポイントにおいて膜の厚みを検出することで、膜の厚みの面内分布、すなわち、複数の粒子101の堆積状態を検出することができる。
The detection unit 4 can detect the state (for example, the deposited state) of the plurality of
The detection unit 4 can directly detect, for example, the thickness of the film containing the plurality of
また、検出部4は、処理物100の面の近傍における粒子101の数や分布を検出することができる。検出部4は、例えば、パーティクルカウンタなどとすることができる。例えば、処理物100の面の近傍における粒子101の数や分布などと、膜の厚みとの関係を、予めシミュレーションや実験を行うことで求め、求められたデータをコントローラ6の記憶部に格納しておく。そして、コントローラ6の演算部6aは、記憶部に格納されているデータと検出された粒子101の数や分布などとから、膜の厚みを算出することができる。なお、演算プログラムは、コントローラ6の記憶部に格納しておくことができる。
In addition, the detection unit 4 can detect the number and distribution of the
検出ポイントの数や位置は、チャンバ2や処理物の大きさ、成膜条件などにより適宜変更することができる。この場合、検出ポイントの数を多くすれば、膜の厚みや厚みのばらつきの検出精度を高めることができる。ただし、検出ポイントの数を多くし過ぎると、前述した演算に時間を要し、エアロゾル制御部5の制御に遅延が生じるおそれがある。例えば、検出ポイントの数は3箇所以上とすることが好ましい。例えば、検出ポイントは、チャンバ2の内部の成膜を行う領域の中央及び両端などとすることができる。
The number and position of the detection points can be appropriately changed depending on the size of the
検出部4は、例えば、チャンバ2の外部に設けられ、チャンバ2の側面に設けられた窓を介して、複数の粒子101の状態を検出することができる。チャンバ2の側面に設けられた窓は、例えば、ガラスなどの透光性を有する材料から形成することができる。
The detection unit 4 is provided on the outside of the
また、ガス供給部3dと供給部23との間に検出部41(第2の検出部の一例に相当する)をさらに設けることができる。検出部41は、エアロゾル102の流量および流速の少なくともいずれかを検出することができる。検出部41は、例えば、流量計および流速計の少なくともいずれかとすることができる。
なお、検出部41に関する詳細は後述する。
Further, a detection unit 41 (corresponding to an example of the second detection unit) can be further provided between the
The details of the
エアロゾル制御部5は、供給部23の第1の部分23aの内部において、第1の部分23aが延びる方向と交差する方向の、エアロゾル102の流速および流量の少なくともいずれかの分布を制御する。エアロゾル制御部5は、供給部23の第1の部分23aに接続することができる。第1の部分23aの中心軸に沿った方向から見た場合に、エアロゾル制御部5は、第1の部分23aの中心軸に対して、第2の部分23bが延びる側とは反対側に設けることができる。エアロゾル制御部5は、第1の部分23aの内部にガスを導入することができる。
The
次に、エアロゾル制御部5の作用、効果について説明する。
図2(a)は、供給部23の内部におけるエアロゾル102の流速の分布を例示するための図である。エアロゾル102の流速の分布は、シミュレーションにより求めた。流速はモノトーン色の濃淡で表し、色のトーンが明るいほど流速が速いことを示している。
図2(b)は、チャンバ2の内部におけるエアロゾル102の流れ102aの方向を例示するための模式図である。
図2(a)、(b)は、エアロゾル制御部5から、第1の部分23aの内部にガスが導入されなかった場合である。
Next, the action and effect of the
FIG. 2A is a diagram for exemplifying the distribution of the flow velocity of the
FIG. 2B is a schematic view for exemplifying the direction of the
2 (a) and 2 (b) are cases where the gas is not introduced into the
図3(a)は、供給部23の内部におけるエアロゾル102の流速の分布を例示するための図である。エアロゾル102の流速の分布は、シミュレーションにより求めた。流速の分布はモノトーン色の濃淡で表し、色のトーンが明るいほど流速が速いことを示している。
図3(b)は、チャンバ2の内部におけるエアロゾル102の流れ102aの方向を例示するための模式図である。
図3(a)、(b)は、エアロゾル制御部5から、第1の部分23aの内部にガスが導入された場合である。
FIG. 3A is a diagram for exemplifying the distribution of the flow velocity of the
FIG. 3B is a schematic view for exemplifying the direction of the
3 (a) and 3 (b) are the cases where the gas is introduced into the
図2(a)、図3(a)から分かるように、供給部23の第2の部分23bの内部においては、エアロゾル102の流速は、ほぼ一定である。ところが、第1の部分23aが延びる方向は、第2の部分23bが延びる方向と交差しているので、第2の部分23bと第1の部分23aとの間において、エアロゾル102の流れの方向が変化する。この場合、図2(a)に示すように、曲率が小さい側(コーナーの外側)の流速が、曲率が大きい側(コーナーの内側)の流速よりも速くなる。第2の部分23bと第1の部分23aの接続部分において流速の分布が生じると、その下流に位置する第1の部分23aの内部においても同様の流速の分布が生じる。例えば、図2(a)に示すように、第1の部分23aの内部において、第2の部分23bが延びる側とは反対側の流速が、第2の部分23bが延びる側の流速よりも速くなる。
As can be seen from FIGS. 2 (a) and 3 (a), the flow velocity of the
第1の部分23aの内部において流速の分布が生じると、チャンバ2の内部において、エアロゾル102の流れ102aがチャンバ2の中心軸に対して傾く。例えば、図2(b)に示すように、エアロゾル102の流れ102aが、流速の速い側から遅い側に向けて傾く。チャンバ2の内部において、エアロゾル102の流れ102aが傾くと、エアロゾル102の流れ102aが向かった領域の膜の厚みが厚くなり、エアロゾル102の流れ102aが向かわなかった領域の厚みが薄くなる。すなわち、膜の厚みの面内分布が生じることになる。
When the flow velocity distribution occurs inside the
本発明者の得た知見によれば、第1の部分23aの内部の流速が速い領域にガスを導入すれば、流速を低下させることができる。
例えば、図3(a)に示すように、エアロゾル制御部5から、供給部23の内部にガスを導入すれば、図2(a)において流速が速かった側の流速を遅くし、図2(a)において流速が遅かった側の流速を速くすることができる。前述したように、エアロゾル102の流れ102aは、流速の速い側から遅い側に向けて傾くので、図3(b)に示すように、エアロゾル102の流れ102aの方向を、図2(b)におけるエアロゾル102の流れ102aの方向と異なるようにすることができる。この様にすれば、膜の厚みが厚くなる領域を移動させることができるので、膜の厚みの均一化が可能となる。
According to the findings obtained by the present inventor, the flow velocity can be reduced by introducing the gas into the region where the flow velocity is high inside the
For example, as shown in FIG. 3A, if gas is introduced into the
この場合、検出部4により、膜の厚みの分布を検出し、膜の厚みの分布が小さくなる様に、エアロゾル制御部5を制御することができる。検出部4による検出は、常時行ってもよいし、所定の間隔で行っても良い。
In this case, the detection unit 4 can detect the distribution of the film thickness and control the
エアロゾル制御部5から供給されるガスは、エアロゾル102に含まれるガスと同じ種類のガスとすることができる。例えば、エアロゾル102に含まれるガスが空気の場合には、エアロゾル制御部5は周囲の空気を第1の部分23aの内部に導入することができる。この場合、エアロゾル制御部5は、第1の部分23aの内部に強制的に空気を導入するものであってもよいし、周囲の空気が第1の部分23aの内部の流れに引き込まれるようにしてもよい。
The gas supplied from the
第1の部分23aの内部に強制的にガスを導入する場合には、エアロゾル制御部5は、例えば、前述したガス供給部3dと同様の構成を有することができる。この場合、流量制御部および開閉弁を別途設け、ガス源を共用とすることができる。例えば、流量制御部により第1の部分23aの内部に導入されるガスの量を変化させることで、エアロゾル102の流れ102aの方向を変化させることができる。
When the gas is forcibly introduced into the
周囲の空気が第1の部分23aの内部の流れに引き込まれるようにする場合には、エアロゾル制御部5は、例えば、開閉可能な開口部を有するものとすることができる。この場合、開口面積を変化させることで、第1の部分23aの内部の流れに引き込まれるガスの量、ひいては、エアロゾル102の流れ102aの方向を変化させることもできる。
If the ambient air is to be drawn into the internal flow of the
図4(a)、(b)は、エアロゾル制御部5の効果を例示するための図である。図4(a)、(b)は、膜厚の分布をモノトーン色の濃淡で表したものである。この場合、色のトーンが明るいほど膜が薄いことを示している。
図4(a)は、エアロゾル制御部5から、第1の部分23aの内部にガスが供給されなかった状態を維持した場合である。すなわち、図4(a)は、エアロゾル制御部5が設けられていない場合に相当する。
図4(b)は、検出部4による検出値に基づいて、エアロゾル制御部5の制御を行った場合である。例えば、膜厚の分布に応じて、エアロゾル102の流れ102aの方向を変化させた場合である。
4 (a) and 4 (b) are diagrams for exemplifying the effect of the
FIG. 4A shows a case where the
FIG. 4B shows a case where the
エアロゾル102の流れ102aが一方向に傾いたままで成膜を行うと、図4(a)に示すように、膜の厚みの面内分布が生じることになる。例えば、エアロゾル102の流れ102aが向かった領域に載置された処理物100aは膜厚が厚くなる。エアロゾル102の流れ102aが向かった領域から一番離れた位置に載置された処理物100bは膜厚が薄くなり、且つ、膜厚のムラが生じている。
When the film is formed while the
これに対して、膜厚の分布に応じて、エアロゾル102の流れ102aの方向を変化させた場合には、図4(b)に示すように、処理物100aの膜厚と、処理物100bの膜厚を同程度とすることができる。また、膜厚のムラが生じた処理物が発生するのを抑制することができる。例えば、図4(a)の場合には膜厚のばらつきが30%程度であったが、図4(b)の場合には膜厚のばらつきを8%程度とすることができた。
On the other hand, when the direction of the
次に、検出部41の作用、効果について説明する。
前述したように、エアロゾル102はチャンバ2の内部に噴射されているのではなく、主に、排気部22による排気で、第1の部分23aの内部からチャンバ2の内部に引き出される。この場合、エアロゾル102に含まれている複数の粒子101が、枠21に設けられた孔の内部に堆積する場合がある。また、通気性を有する処理物100を介して、チャンバ2の内部にあるガスを排気する場合には、複数の粒子101が処理物100の上に堆積するに従い、通気性が徐々に悪くなる。そのため、時間の経過とともに、排気部22による排気量が減少し、第1の部分23aの内部を流れるエアロゾル102の流速が徐々に低下する場合がある。
Next, the action and effect of the
As described above, the
図5は、時間の経過と、第1の部分23aの内部を流れるエアロゾル102の流量との関係を例示するためのグラフ図である。
前述したように、時間の経過とともに、排気部22による排気量が減少する場合には、図5中のAに示すように、第1の部分23aの内部を流れるエアロゾル102の流量が徐々に低下する。
FIG. 5 is a graph for exemplifying the relationship between the passage of time and the flow rate of the
As described above, when the amount of exhaust gas by the
この場合、ガスが、エアロゾル制御部5から常に導入されるようにすると、時間の経過とともに、エアロゾル102の量に対するガスの量の割合が増加して、エアロゾル102の流れ102aの方向制御の精度が悪くなるおそれがある。エアロゾル102の流れ102aの方向制御の精度が悪くなると、膜厚のばらつきが大きくなるおそれがある。
In this case, if the gas is always introduced from the
そこで、本実施の形態に係る成膜装置1には、エアロゾル102の流量および流速の少なくともいずれかを検出する検出部41が設けられている。そして、検出部41による検出値に基づいて、エアロゾル制御部5の制御を行うようにしている。
Therefore, the film forming apparatus 1 according to the present embodiment is provided with a
例えば、コントローラ6は、検出部41からの検出値に基づいて、第1の部分23aの内部に導入されるガスの量を制御する。この場合、例えば、検出部41による検出値に基づいて、エアロゾル制御部5からのガスの導入を断続的に行うようにしたり、ガスの導入量を変化させたりすることができる。この場合、エアロゾル制御部5が、検出部4による検出値および検出部41による検出値に基づいて、制御されることになる。例えば、図5中のBに示すように、エアロゾル制御部5からのガスの導入が断続的に行われる場合がある。
For example, the
コントローラ6は、CPU(Central Processing Unit)などの演算部6aと、メモリなどの記憶部とを備えたものとすることができる。コントローラ6は、例えば、コンピュータなどとすることができる。記憶部には、成膜装置1に設けられた各要素の動作を制御するための制御プログラムを格納することができる。例えば、コントローラ6は、検出部4による検出値、または、検出部4による検出値および検出部41による検出値に基づいて、エアロゾル制御部5を制御することができる。
The
ここで、前述した検出部4は、処理物100の上における複数の粒子101の堆積状態を直接または間接的に検出している。この場合、膜の厚みや、処理物100の面の近傍における粒子101の数や分布に基づいて、エアロゾル制御部5を制御することになるが、チャンバ2の内部の、検出部4よりも上側の領域には、チャンバ2の内部に既に導入された複数の粒子101が存在する。そのため、検出部4による検出値に基づいて、エアロゾル制御部5を制御すると、制御に遅延が生じる場合がある。制御に遅延が生じると、チャンバ2の大きさや成膜条件などによっては、膜の厚みがばらついたり、厚みの面内分布が大きくなったりするおそれがある。
Here, the above-mentioned detection unit 4 directly or indirectly detects the deposition state of the plurality of
制御の遅延が問題となる場合には、機械学習により作成された予測モデルと、検出部4による検出値とに基づいて、エアロゾル制御部5を制御することができる。例えば、検出部4による検出値と、再帰型ニューラルネットワークの予測モデルとを用いて、膜の厚みや厚みの面内分布を予測し、予測値に基づいてエアロゾル制御部5を制御することができる。この様にすれば、制御の遅延を少なくすることができる。なお、予測モデルは、予め実験やシミュレーションを行うことで作成することもできる。
When the control delay becomes a problem, the
また、検出部41により、配管内を流れるエアロゾル102の流量のデータを取得し、機械学習を用いてチャンバ2の内部におけるエアロゾル102の速度ベクトルの予測をし、さらに、予測される速度ベクトルから処理物100の近傍における粒子101の挙動を予測することもできる。そして、粒子101の挙動の予測値に応じて、配管内を流れるエアロゾル102の流量を制御して、形成される膜の厚みの均一化を図ることもできる。
Further, the
以上においては、検出部4による検出値に基づいて、エアロゾル制御部5を制御する場合を例示したが、検出部4による検出値および検出部41による検出値に基づいて、エアロゾル制御部5を制御する場合も同様である。
In the above, the case where the
図6は、他の実施形態に係る成膜装置1aを例示するための模式図である。
図6に示すように、成膜装置1aには、チャンバ2、エアロゾル生成部3、検出部42(第1の検出部の一例に相当する)、エアロゾル制御部5、およびコントローラ6を設けることができる。
FIG. 6 is a schematic view for exemplifying the
As shown in FIG. 6, the
検出部42は、チャンバ2の内部の天井近傍におけるエアロゾル102の流れ102aのベクトルを測定することができる。検出部42は、例えば、パーティクルカウンタなどとし、粒子101の数と挙動を検出するものとすることができる。コントローラ6は、検出部42による検出値、または、検出部42による検出値および検出部41による検出値に基づいて、エアロゾル制御部5を制御することができる。
The
例えば、検出部42による検出値と、再帰型ニューラルネットワークの予測モデルとを用いて、膜の厚みや厚みの面内分布を予測し、予測値に基づいてエアロゾル制御部5を制御することができる。なお、予測モデルは、予め実験やシミュレーションを行うことで作成することもできる。
For example, the value detected by the
検出部42は、チャンバ2の内部の天井近傍における粒子101の数と挙動を検出しているので、制御対象であるエアロゾル制御部5と検出部42との間の距離を短くすることができる。そのため、前述した検出部4の場合に比べて、制御の遅延を少なくすることができる。また、前述した検出部4の場合と同様に、予測モデルを用いてエアロゾル制御部5を制御すれば、制御の遅延をさらに少なくすることができる。
Since the
図7は、他の実施形態に係るエアロゾル制御部を例示するための模式斜視図である。
図7中の矢印X、Y、Zは互いに直交する三方向を表している。例えば、第1の部分23aの中心軸に沿った方向から見た場合に、第2の部分23bが延びる方向をX方向、X方向に直交する方向をY方向としている。また、第1の部分23aの中心軸に沿った方向をZ方向としている。
FIG. 7 is a schematic perspective view for exemplifying the aerosol control unit according to another embodiment.
Arrows X, Y, and Z in FIG. 7 represent three directions orthogonal to each other. For example, when viewed from the direction along the central axis of the
図1に例示をした供給部23の場合には、第1の部分23aと第2の部分23bとの接続部分が、屈曲した形態を有していた。しかしながら、本発明は、第2の部分23bと第1の部分23aとの間において、エアロゾル102の流れの方向が変化するものに適用が可能である。すなわち、第1の部分23aと第2の部分23bとの接続形態には特に限定はない。そのため、図7に示すように、第2の部分23bは、第1の部分23aの側壁の任意の位置に接続されていてもよい。
In the case of the
図7に示すように、本実施の形態においては、エアロゾル制御部5a〜5dが設けられている。
X方向において、エアロゾル制御部5aは、第1の部分23aの中心軸に対して、第2の部分23bとは反対側に設けられている。エアロゾル制御部5aは、前述したエアロゾル制御部5に相当する。
X方向において、エアロゾル制御部5bは、第1の部分23aの中心軸に対して、第2の部分23bの側に設けられている。
Y方向において、エアロゾル制御部5cは、第1の部分23aの中心軸に対して、一方の側に設けられている。
Y方向において、エアロゾル制御部5dは、第1の部分23aの中心軸に対して、エアロゾル制御部5cとは反対側に設けられている。
As shown in FIG. 7, in the present embodiment,
In the X direction, the
In the X direction, the
In the Y direction, the
In the Y direction, the
エアロゾル制御部5a〜5dは、第1の部分23aの内部にガスを導入することができる。
図8(a)〜(d)は、エアロゾル102の流速の分布を例示するための図である。
エアロゾル102の流速の分布は、シミュレーションにより求めた。流速はモノトーン色の濃淡で表し、色のトーンが明るいほど流速が速いことを示している。
図9(a)〜(d)は、チャンバ2の内部におけるエアロゾル102の流れ102aの方向を例示するための模式図である。
図8(a)および図9(a)は、エアロゾル制御部5aから、第1の部分23aの内部にガスが導入された場合である。
図8(b)および図9(b)は、エアロゾル制御部5bから、第1の部分23aの内部にガスが導入された場合である。
図8(c)および図9(c)は、エアロゾル制御部5cから、第1の部分23aの内部にガスが導入された場合である。
図8(d)および図9(d)は、エアロゾル制御部5dから、第1の部分23aの内部にガスが導入された場合である。
8 (a) to 8 (d) are diagrams for exemplifying the distribution of the flow velocity of the
The distribution of the flow velocity of the
9 (a) to 9 (d) are schematic views for exemplifying the direction of the
8 (a) and 9 (a) show a case where the gas is introduced into the
8 (b) and 9 (b) show a case where the gas is introduced into the
8 (c) and 9 (c) show the case where the gas is introduced into the
8 (d) and 9 (d) show the case where the gas is introduced into the
図8(a)に示すように、第1の部分23aの内部を「−Z方向」に流れるエアロゾル102の流れ102aに、エアロゾル制御部5aから「−X方向」に流れるガスを導入すれば、第1の部分23aの内部を「−Z方向」に流れるエアロゾル102の流れ102aに、「−X方向」に流れるガスの流れが合成されて、チャンバ2の内部では「−Z方向」と「−X方向」の流れ成分を含むエアロゾル102の流れ102aを形成することができる。図8(b)〜(d)に示すように、ガスを導入するエアロゾル制御部5b〜5dに関しても、上述と同様の原理でエアロゾル102の流れ102aの方向を形成することができる。そのため、ガスを導入するエアロゾル制御部5a〜5dを選択することで、図8(a)〜(d)、および、図9(a)〜(d)に示すように、エアロゾル102の流れ102aの方向を変えることができる。エアロゾル102の流れ102aの方向を変えることができれば、膜の厚みが厚くなる領域を移動させることができるので、膜の厚みの均一化が可能となる。
As shown in FIG. 8A, if a gas flowing in the “−X direction” from the
本実施の形態においては、エアロゾル制御部5a〜5dが設けられているので、エアロゾル102の流れ102aの方向を4方向に変えることができる。そのため、1つのエアロゾル制御部5が設けられている場合に比べて、膜の厚みを、さらに均一にすることができる。
In the present embodiment, since the
図10は、エアロゾル制御部5a〜5dの効果を例示するための図である。
図10は、膜厚の分布をモノトーン色の濃淡で表したものである。この場合、色のトーンが明るいほど膜が薄いことを示している。
図10は、検出部4による検出値に基づいて、エアロゾル制御部5a〜5dの選択を行った場合である。例えば、膜厚の分布に応じて、ガスを導入するエアロゾル制御部5a〜5dを選択して、エアロゾル102の流れ102aの方向を変化させた場合である。
FIG. 10 is a diagram for exemplifying the effects of the
FIG. 10 shows the distribution of the film thickness in shades of monotone color. In this case, the brighter the color tone, the thinner the film.
FIG. 10 shows a case where the
図4(b)において例示をした様に、1つのエアロゾル制御部5を用いた場合には、膜厚のばらつきを8%程度とすることができる。4つのエアロゾル制御部5a〜5dを選択的に用いた場合には、図10に示すように、膜厚のばらつきを6%程度とすることができる。すなわち、膜の厚みを、さらに均一にすることができる。
As illustrated in FIG. 4B, when one
なお、以上においては、4つのエアロゾル制御部5a〜5dが設けられる場合を例示したが、エアロゾル制御部は、少なくとも1つ設けられていればよい。例えば、複数のエアロゾル制御部が設けられる場合には、コントローラ6は、検出部4、42からの検出値に基づいて、制御対象とするエアロゾル制御部を選択することができる。この場合、エアロゾル制御部の数が多くなれば、エアロゾル102の流れ102aの方向をより精密に制御することができるので、膜の厚みをより均一にすることができる。
In the above, the case where four
また、以上においては、Z方向において、同じ位置に4つのエアロゾル制御部5a〜5dを設けるようにしたが、Z方向において、エアロゾル制御部の配設位置がズレていてもよい。Z方向において、エアロゾル制御部の配設位置がズレていれば、より多くのエアロゾル制御部を設けることが容易となる。
Further, in the above, the four
本実施の形態に係る成膜方法は、処理物100に対して複数の粒子101とガスとを含むエアロゾル102を供給する工程を備えることができる。また、この工程において、処理物100の上、および、エアロゾル102が供給される空間の少なくともいずれかにおける、複数の粒子101の状態を検出し、空間に接続された供給部23の内部において、エアロゾル102の供給方向と交差する方向の、エアロゾル102の流速の分布を制御することができる。
エアロゾル102の流速の分布を制御する際に、供給部23の外部から、エアロゾル102にガスを導入することができる。
なお、各要素の内容は前述したものと同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。
The film forming method according to the present embodiment can include a step of supplying an
When controlling the distribution of the flow velocity of the
Since the contents of each element can be the same as those described above, detailed description thereof will be omitted.
以上、本発明のいくつかの実施形態を例示したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更などを行うことができる。これら実施形態やその変形例は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。また、前述の各実施形態は、相互に組み合わせて実施することができる。 Although some embodiments of the present invention have been illustrated above, these embodiments are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other embodiments, and various omissions, replacements, changes, etc. can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are also included in the scope of the invention described in the claims and the equivalent scope thereof. Moreover, each of the above-described embodiments can be implemented in combination with each other.
1 成膜装置、1a 成膜装置、2 チャンバ、3 エアロゾル生成部、4 検出部、5 エアロゾル制御部、6 コントローラ、23 供給部、41 検出部、42 検出部、100 処理物、101 粒子、102 エアロゾル、102a 流れ 1 film deposition equipment, 1a film deposition equipment, 2 chambers, 3 aerosol generators, 4 detectors, 5 aerosol control units, 6 controllers, 23 supply units, 41 detectors, 42 detectors, 100 processed products, 101 particles, 102 Aerosol, 102a flow
Claims (11)
前記チャンバの内部に、複数の粒子とガスとを含むエアロゾルを供給可能なエアロゾル生成部と、
管状を呈し、一方の端部がエアロゾル生成部と接続され、他方の端部がチャンバと接続された供給部と、
前記処理物の上、および、前記チャンバの内部の少なくともいずれかにおける、前記複数の粒子の状態を検出可能な第1の検出部と、
前記供給部の内部において、前記エアロゾルの流速および流量の少なくともいずれかを制御可能な、少なくとも1つのエアロゾル制御部と、
前記第1の検出部からの検出値に基づいて、前記エアロゾル制御部を制御可能なコントローラと、
を備えた成膜装置。 A chamber that can store the processed material inside,
An aerosol generation unit capable of supplying an aerosol containing a plurality of particles and a gas inside the chamber,
A supply section that is tubular, one end connected to the aerosol generator and the other end connected to the chamber.
A first detector capable of detecting the state of the plurality of particles on the processed material and at least one inside the chamber.
At least one aerosol control unit capable of controlling at least one of the flow velocity and the flow rate of the aerosol inside the supply unit.
A controller capable of controlling the aerosol control unit based on the value detected from the first detection unit, and
A film forming apparatus equipped with.
前記第1の部分は、前記チャンバの天井に接続され、前記チャンバの底部側から天井側に向かう方向に延び、
前記第2の部分は、前記エアロゾル生成部に接続され、前記第1の部分が延びる方向と交差する方向に延びる請求項1または2に記載の成膜装置。 The supply unit has a first portion and a second portion.
The first portion is connected to the ceiling of the chamber and extends from the bottom side of the chamber toward the ceiling side.
The film forming apparatus according to claim 1 or 2, wherein the second portion is connected to the aerosol generating portion and extends in a direction intersecting the extending direction of the first portion.
前記コントローラは、前記第2の検出部からの検出値に基づいて、前記供給部の内部に導入される前記ガスの量を制御可能な請求項4記載の成膜装置。 A second detection unit provided between the aerosol generation unit and the supply unit and capable of detecting at least one of the flow velocity and the flow rate of the aerosol is further provided.
The film forming apparatus according to claim 4, wherein the controller can control the amount of the gas introduced into the supply unit based on a value detected from the second detection unit.
前記コントローラは、前記第1の検出部からの検出値に基づいて、制御対象とする前記エアロゾル制御部を選択可能な請求項1〜6のいずれか1つに記載の成膜装置。 A plurality of the aerosol control units are provided, and the aerosol control unit is provided.
The film forming apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein the controller can select the aerosol control unit to be controlled based on a value detected from the first detection unit.
前記工程において、
前記処理物の上、および、前記エアロゾルが供給される空間の少なくともいずれかにおける、前記複数の粒子の状態を検出し、
前記空間に接続された供給部の内部において、前記エアロゾルの供給方向と交差する方向の、前記エアロゾルの流速の分布を制御する成膜方法。 A step of supplying an aerosol containing a plurality of particles and a gas to a processed product is provided.
In the above step
The state of the plurality of particles is detected on the processed material and at least one of the spaces to which the aerosol is supplied.
A film forming method for controlling the distribution of the flow velocity of the aerosol in a direction intersecting the supply direction of the aerosol inside the supply unit connected to the space.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019228895 | 2019-12-19 | ||
JP2019228895 | 2019-12-19 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021098891A true JP2021098891A (en) | 2021-07-01 |
Family
ID=76540906
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020206760A Pending JP2021098891A (en) | 2019-12-19 | 2020-12-14 | Film deposition apparatus and film deposition method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2021098891A (en) |
-
2020
- 2020-12-14 JP JP2020206760A patent/JP2021098891A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Corke et al. | Single dielectric barrier discharge plasma enhanced aerodynamics: physics, modeling and applications | |
Vaulina et al. | Diffusion and dynamics of macro-particles in a complex plasma | |
US9881107B2 (en) | Simulation method, simulation program, processing apparatus, simulator, and design method | |
US20210086214A1 (en) | Processing system, processing method, and storage medium | |
TW201734684A (en) | Methods and apparatuses for etch profile matching by surface kinetic model optimization | |
KR101591748B1 (en) | Methods and apparatus for processing substrates using model-based control | |
Yu et al. | Analysis of De-Laval nozzle designs employed for plasma figuring of surfaces | |
Dalir et al. | Modeling of suspension plasma spraying process including arc movement inside the torch | |
JP2021098891A (en) | Film deposition apparatus and film deposition method | |
Wen et al. | Ion energy and angular distribution in biased inductively coupled Ar/O2 discharges by using a hybrid model | |
JP6157941B2 (en) | Plasma simulation method and plasma simulation program | |
Schubert et al. | Plasma sheath structures in complex electrode geometries | |
Ardakani | Numerical and Experimental Study of the Arc Fluctuations in a DC Plasma Torch | |
Ahmed et al. | Optimization of plasma spray processing parameters for deposition of nanostructured powders for coating formation | |
WO2023235497A1 (en) | Optical system adjustment | |
Paeva | Sheath phenomena in dusty plasmas | |
Vekstein | Landau resonance mechanism for plasma and wind-generated water waves | |
Henares et al. | Optimization of critical-density gas jet targets for laser ion acceleration in the collisionless shockwave acceleration regime | |
JP2019031360A (en) | Powder supply device | |
JP2023540790A (en) | Anti-fragile system for semiconductor processing equipment using multiple specialized sensors and algorithms | |
Harris et al. | Vertical-probe-induced asymmetric dust oscillation in complex plasma | |
US20070248744A1 (en) | Method for the determination of process parameters in a thermal spraying process | |
Zhang | Low Temperature Plasma Etching Control through Ion Energy Angular Distribution and 3-Dimensional Profile Simulation. | |
Yokoyama et al. | Direct aeroacoustic simulation related with mode change in a recorder | |
Klemz et al. | Analysis of heat and mass transfer in diffusion flame reactors coupled with aerodynamic lenses |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20230616 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20231018 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240527 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240531 |