JP2021072143A - Associative/estimated storage element and method of using the same - Google Patents

Associative/estimated storage element and method of using the same Download PDF

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アルバレス アドリアン ディアス
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Abstract

To provide a storage element having a compact associative/estimation function with a simple element structure and low power consumption.SOLUTION: A storage element includes an input terminal consisting of a plurality of wires and an output terminal consisting of a plurality of wires, nanowires are placed in the wiring of the input terminal so as to be in mechanical contact with each other, nanowires are placed in the wiring of the output terminal so as to be in mechanical contact with each other, too, the nanowire that is a conductive nanowire covered with a coating film consists of the plurality of wires, and at least a plurality of them are arranged so as to be in mechanical contact with each other, and electrical properties at the portion where the covering film and the nanowire are in mechanical contact with each other are changed by flowing the current to the nanowire.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、連想・推定記憶素子およびその使用方法に関するものである。 The present invention relates to an associative / estimated storage element and a method of using the same.

現在、磁気ディスク、光相変化ディスク、フラッシュメモリなどのデジタルデータを扱う記憶素子、記憶装置が広く普及している。これらの記憶素子、記憶装置は、正確にデジタルデータをなるべく高密度に記憶することを目指している。 Currently, storage elements and storage devices that handle digital data such as magnetic disks, optical phase change disks, and flash memories are widely used. These storage elements and storage devices aim to accurately store digital data as densely as possible.

一方で、連想、推定機能を持つ記憶素子、記憶装置の需要がある。この例としては、特許文献1に記載があるシナプス素子やニューラルネットワーク連想メモリLSIや特許文献2に記載があるデジタルの記憶部とサーチ部などを組み込んだシステムLSIなどを挙げることができる。
連想、推定記憶は人間の記憶形態に近い。人間の脳におけるデータの処理では、根幹となる神経細胞網の複雑性に起因して、データ間に多くの相関を持たせた状態で記録・読み出しが行われる。
例えば、「A」という文字情報に対して、文字とデジタルコードの対応表に基づくのがデジタルデータ記憶であるのに対し、人間の脳は「アルファベットの文字」「Abroadの頭文字」「トランプのA」「友人のイニシャル」「チームのスター選手」などなど一見無関係にも見える多くの情報と連携しつつ記録され、さらに読み出す際には当初の連携にすら存在しなかった相関をも引き出す。
On the other hand, there is a demand for storage elements and storage devices having associative and estimation functions. Examples of this include a synaptic element described in Patent Document 1, a neural network associative memory LSI, and a system LSI incorporating a digital storage unit and a search unit described in Patent Document 2.
Associative and estimated memory are close to human memory form. In the processing of data in the human brain, due to the complexity of the underlying nerve cell network, recording and reading are performed with many correlations between the data.
For example, for the character information "A", digital data storage is based on the correspondence table between characters and digital codes, whereas the human brain has "alphabet characters", "acronyms for Aroad", and "Trump's". It is recorded while linking with a lot of seemingly unrelated information such as "A", "friend's initials", "team star player", etc., and when reading it, it also draws out correlations that did not even exist in the initial collaboration.

上記で取り上げた連想・推定記憶素子、記憶装置は、システムメモリであり、素子、装置が大きく、消費電力も大きいという問題がある。これは、脳と同じ抽出作業をデジタルデータの記憶装置から行うために、基本的に、多くのデータを呼び出した上で、個々に独立した情報の間の“重複部分”を抽出する作業を行うためである。 The associative / estimated storage element and storage device mentioned above are system memories, and have a problem that the element and the device are large and the power consumption is large. In order to perform the same extraction work as the brain from the digital data storage device, basically, after calling a lot of data, the work of extracting the "overlapping part" between the individually independent information is performed. Because.

特開2003−223790号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-223790 特開2013−206484号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-206484 特開2008−166591号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-166591

本発明は、上記従来の連想・推定記憶装置は、装置が大きく、消費電力が大きいという課題を解決して、シンプルな素子構造のコンパクトで低消費電力な連想・推定機能を有する記憶素子を提供することを目的とする。
また、その記憶素子で効率的な連想・推定を行うのに適した使用法を提供することを目的とする。
The present invention solves the problem that the conventional associative / estimation storage device has a large device and high power consumption, and provides a storage element having a compact and low power consumption associative / estimation function having a simple element structure. The purpose is to do.
Another object of the present invention is to provide a usage method suitable for efficient associative / estimation with the storage element.

本発明の構成を下記に示す。
(構成1)
複数の配線からなる入力端子と複数の配線からなる出力端子を有する連想・推定記憶素子であって、
前記入力端子の配線には機械的に接するようにナノワイヤーが配置され、
前記出力端子の配線にも機械的に接するようにナノワイヤーが配置され、
前記ナノワイヤーは、被覆膜で覆われた導電性のナノワイヤーであって、複数からなり、
かつ、前記ナノワイヤーは少なくともそのうちの複数が互いに機械的に接するように配置され、
前記ナノワイヤーに電圧が印加されることにより前記被覆膜と前記ナノワイヤーが機械的に接する部分での電気的性質が変化する、連想・推定記憶素子。
(構成2)
前記ナノワイヤーに印加される電圧は、前記入力端子の少なくとも一部に印加される電圧により引き起こされる、構成1記載の連想・推定記憶素子。
(構成3)
前記電気的性質は、コンダクタンスである、構成1または2記載の連想・推定記憶素子。
(構成4)
前記電気的性質の変化は、前記被覆膜にフィラメントが形成されることによって起こる、構成1から3の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。
(構成5)
前記ナノワイヤーの長さは、前記入力端子の配線と前記出力端子の配線との最小間隔よりも短い、構成1から4の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。
(構成6)
前記入力端子には、前記入力端子のそれぞれに対応したスイッチが接続されている、構成1から5の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。
(構成7)
前記出力端子には、前記出力端子のそれぞれに対応したスイッチが接続されている、構成1から6の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。
(構成8)
前記ナノワイヤーは、Ag、Cu、Al、Ni、Si、In、Gaの群より選ばれる1以上の金属、半導体、前記金属を含む合金、および前記金属の酸化物を含む物質の何れかからなる、構成1から7の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。
(構成9)
前記被覆膜は、ポリマー膜,分子膜、酸化物膜、イオン導電性物質膜より選ばれる1以上からなる、構成1から8の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。
(構成10)
前記ポリマー膜はポリビニルピロリドンからなる、構成9記載の連想・推定記憶素子。
(構成11)
前記酸化物膜はチタン酸化物、ニッケル酸化物、バナジウム酸化物の群より選ばれる1以上からなる、構成9記載の連想・推定記憶素子。
(構成12)
前記ナノワイヤーが接触する部分の前記入力端子の配線および前記出力端子の配線は、平面上に配置されている、構成1から11の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。
(構成13)
前記ナノワイヤーが接触する部分の前記入力端子の配線および前記出力端子の配線は、三次元配置されている、構成1から11の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。
(構成14)
前記ナノワイヤーは、エポキシ樹脂によってモールドされている、構成1から13の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。
(構成15)
前記入力端子の数が、8以上128以下である、構成1から14の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。
(構成16)
構成1から15の何れかに記載の連想・推定記憶素子の前記入力端子に1以上の学習用の入力電気信号を、所定の連続する時間t以上入力する学習ステップと、
前記入力端子に入力電気信号を入力して、前記出力端子から連想・推定記憶の出力電気信号を得るステップを有する、連想・推定記憶素子の使用方法。
(構成17)
前記時間tは、前記入力電気信号の時間に対する前記出力信号の特性曲線をプロットするステップと、前記特性曲線に対しシグモイド状曲線をフィッティングさせるステップと、前記シグモイド状曲線の変曲点を求めるステップとを有して、前記変曲点に達する時間以上とする、構成16記載の連想・推定記憶素子の使用方法。
(構成18)
前記特性曲線はコンダクタンスの特性曲線である、構成17記載の連想・推定記憶素子の使用方法。
(構成19)
前記時間tは、予め定めたコンダクタンスの絶対値以上の前記出力電気信号が得られたときの時間である、構成16記載の連想・推定記憶素子の使用方法。
(構成20)
構成1から15の何れかに記載の連想・推定記憶素子の前記入力端子に1以上の学習用の入力電気信号を、所定の複数の回数Nパルス入力する学習ステップと、
前記入力端子に入力電気信号を入力して、前記出力端子から連想・推定記憶の出力電気信号を得るステップを有する、連想・推定記憶素子の使用方法。
The configuration of the present invention is shown below.
(Structure 1)
An associative / estimated storage element having an input terminal composed of a plurality of wires and an output terminal composed of a plurality of wires.
Nanowires are arranged in the wiring of the input terminal so as to be in mechanical contact with each other.
Nanowires are arranged so as to mechanically contact the wiring of the output terminal.
The nanowire is a conductive nanowire covered with a coating film, and is composed of a plurality of nanowires.
Moreover, at least a plurality of the nanowires are arranged so as to be in mechanical contact with each other.
An associative / estimated storage element in which a voltage is applied to the nanowires to change the electrical properties at a portion where the coating film and the nanowires mechanically contact each other.
(Structure 2)
The associative / estimated storage element according to configuration 1, wherein the voltage applied to the nanowires is caused by a voltage applied to at least a part of the input terminals.
(Structure 3)
The associative / estimated storage element according to configuration 1 or 2, wherein the electrical property is conductance.
(Structure 4)
The associative / estimated storage element according to any one of configurations 1 to 3, wherein the change in electrical properties occurs due to the formation of filaments on the coating film.
(Structure 5)
The associative / estimated storage element according to any one of configurations 1 to 4, wherein the length of the nanowire is shorter than the minimum distance between the wiring of the input terminal and the wiring of the output terminal.
(Structure 6)
The associative / estimated storage element according to any one of configurations 1 to 5, wherein switches corresponding to the respective input terminals are connected to the input terminals.
(Structure 7)
The associative / estimated storage element according to any one of configurations 1 to 6, wherein a switch corresponding to each of the output terminals is connected to the output terminal.
(Structure 8)
The nanowire is composed of one or more metals selected from the group of Ag, Cu, Al, Ni, Si, In, and Ga, a semiconductor, an alloy containing the metal, and a substance containing an oxide of the metal. , The associative / estimated storage element according to any one of configurations 1 to 7.
(Structure 9)
The associative / estimated storage element according to any one of configurations 1 to 8, wherein the coating film comprises one or more selected from a polymer film, a molecular film, an oxide film, and an ionic conductive substance film.
(Structure 10)
The associative / estimated storage device according to the configuration 9, wherein the polymer film is made of polyvinylpyrrolidone.
(Structure 11)
The associative / estimated storage element according to the configuration 9, wherein the oxide film is composed of one or more selected from the group of titanium oxide, nickel oxide, and vanadium oxide.
(Structure 12)
The associative / estimated storage element according to any one of configurations 1 to 11, wherein the wiring of the input terminal and the wiring of the output terminal at the portion where the nanowires come into contact are arranged on a plane.
(Structure 13)
The associative / estimated storage element according to any one of configurations 1 to 11, wherein the wiring of the input terminal and the wiring of the output terminal at the portion where the nanowires come into contact are arranged three-dimensionally.
(Structure 14)
The associative / estimated storage element according to any one of configurations 1 to 13, wherein the nanowire is molded with an epoxy resin.
(Structure 15)
The associative / estimated storage element according to any one of configurations 1 to 14, wherein the number of input terminals is 8 or more and 128 or less.
(Structure 16)
A learning step in which one or more input electrical signals for learning are input to the input terminal of the associative / estimated storage element according to any one of configurations 1 to 15 for a predetermined continuous time t or more.
A method of using an associative / estimated storage element, which comprises a step of inputting an input electric signal to the input terminal and obtaining an output electric signal of associative / estimated storage from the output terminal.
(Structure 17)
The time t includes a step of plotting the characteristic curve of the output signal with respect to the time of the input electric signal, a step of fitting a sigmoid curve to the characteristic curve, and a step of finding an inflection point of the sigmoid curve. 16. The method of using the associative / estimated storage element according to the configuration 16, wherein the time required to reach the inflection point is equal to or longer than that of the present.
(Structure 18)
The method of using the associative / estimated storage element according to the configuration 17, wherein the characteristic curve is a conductance characteristic curve.
(Structure 19)
The method of using the associative / estimated storage element according to the configuration 16, wherein the time t is a time when the output electric signal equal to or larger than a predetermined absolute value of conductance is obtained.
(Structure 20)
A learning step of inputting one or more input electrical signals for learning to the input terminal of the associative / estimated storage element according to any one of configurations 1 to 15 with a predetermined number of N pulses.
A method of using an associative / estimated storage element, which comprises a step of inputting an input electric signal to the input terminal and obtaining an output electric signal of associative / estimated storage from the output terminal.

本発明によれば、シンプルな素子構造のコンパクトで低消費電力な連想・推定機能を有する記憶素子が提供される。
また、その記憶素子で効率的な連想・推定を行うのに適した使用法が提供される。
According to the present invention, a storage element having a compact element structure, low power consumption, and an associative / estimation function is provided.
In addition, a usage method suitable for efficient association / estimation with the storage element is provided.

本発明の記憶素子の基本構造を説明する構成図である。It is a block diagram explaining the basic structure of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の要部の構成と動作原理を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the structure and the operation principle of the main part of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子のコンセプトを説明する概念図である。It is a conceptual diagram explaining the concept of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子が連想・推定機能を発現するまでの過程を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the process until the memory element of this invention expresses an associative / estimation function. 本発明の記憶素子の学習過程を示すフローチャート図である。It is a flowchart which shows the learning process of the memory element of this invention. 本発明の記憶素子の学習過程を示すフローチャート図である。It is a flowchart which shows the learning process of the memory element of this invention. 実施例の記憶素子の構造を説明する構造図である。It is a structural drawing explaining the structure of the storage element of an Example. 本発明のナノワイヤーを電子顕微鏡で観察した結果で、(a)および(b)はSEM写真、(c)はTEM写真である。As a result of observing the nanowire of the present invention with an electron microscope, (a) and (b) are SEM photographs, and (c) is a TEM photograph. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic figure which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic figure which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic figure which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic figure which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic figure which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic figure which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic figure which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic figure which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic figure which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic diagram which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic figure which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic figure which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の連想・推定記憶特性を示す特性図である。It is a characteristic diagram which shows the associative / estimated memory characteristic of the memory element of this invention. 本発明の記憶素子の連想・推定記憶特性を示す特性図である。It is a characteristic diagram which shows the associative / estimated memory characteristic of the memory element of this invention.

以下、本発明について詳細に説明する。以下に記載する本発明の詳細な説明は、代表的な態様、実施形態、及び実施例に基づいてなされることがあるが、これらは例示であり、本発明はそのような態様、実施形態、及び実施例に限定されるものではない。
なお、「A〜B」は、A以上B以下を示す。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. The detailed description of the present invention described below may be based on representative embodiments, embodiments, and examples, but these are examples, and the present invention describes such embodiments, embodiments, and the like. And is not limited to the examples.
In addition, "A to B" indicates A or more and B or less.

(実施の形態1)
実施の形態1では、本発明の連想・推定記憶素子について説明する。
本発明の連想・推定記憶素子は、図1に示すように、複数からなる入力電極11、複数からなる出力電極12および入力電極11と出力電極12の間に形成された複数からなるナノワイヤー13を基本構成要素とする。ここで、入力電極11および出力電極12はそれぞれ入力端子、出力端子に接続される(図示なし)。
ナノワイヤー13は、少なくともその複数のうちの一部が入力電極11に機械的に接触し、また、少なくともその複数のうちの一部が出力電極12に機械的に接触し、かつナノワイヤー同士も少なくともその一部が機械的に接触した配置になっている。このため、ナノワイヤーは一種のネットワークを構成している。
(Embodiment 1)
In the first embodiment, the associative / estimated storage element of the present invention will be described.
As shown in FIG. 1, the associative / estimated storage element of the present invention includes a plurality of input electrodes 11, a plurality of output electrodes 12, and a plurality of nanowires 13 formed between the input electrodes 11 and the output electrodes 12. Is the basic component. Here, the input electrode 11 and the output electrode 12 are connected to the input terminal and the output terminal, respectively (not shown).
At least a part of the nanowires 13 mechanically contacts the input electrode 11, and at least a part of the plurality of nanowires mechanically contacts the output electrode 12, and the nanowires also come into contact with each other. At least a part of it is in mechanical contact. For this reason, nanowires form a kind of network.

ナノワイヤー13は、図2(a)に示すように、導電性のナノワイヤー131a、131bをコアにしてその外側が被覆膜132a、132bで覆われた構造になっている。ここで、ナノワイヤー13は、導電性のナノワイヤー131aと導電性のナノワイヤー131b間に電圧が印加されると、被覆膜132a、132bを介してナノワイヤー13が機械的に接する部分での電気的性質が変化する性質を有する。導電性のナノワイヤー131aと導電性のナノワイヤー131b間への電圧が印加は、入力端子の少なくとも一部に印加される電圧により引き起こされる。
ここで、電気的性質としては、コンダクタンス(あるいは抵抗)を挙げることができる。この中で、コンダクタンスは感度が高く特に好ましい。電気的性質の変化の指標としては、コンダクタンス、抵抗、さらに電流、電位差などの値、あるいはそれらの微分値を挙げることができる。
As shown in FIG. 2A, the nanowire 13 has a structure in which conductive nanowires 131a and 131b are used as cores and the outside thereof is covered with coating films 132a and 132b. Here, the nanowire 13 is a portion where the nanowire 13 mechanically contacts via the coating films 132a and 132b when a voltage is applied between the conductive nanowire 131a and the conductive nanowire 131b. It has the property of changing its electrical properties. The voltage applied between the conductive nanowires 131a and the conductive nanowires 131b is caused by the voltage applied to at least a part of the input terminals.
Here, conductance (or resistance) can be mentioned as an electrical property. Among these, conductance has high sensitivity and is particularly preferable. As an index of the change in electrical properties, values such as conductance, resistance, current, potential difference, or their differential values can be mentioned.

導電性のナノワイヤー131a、131bとしては、銀(Ag)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、ニッケル(Ni)、シリコン(Si)、インジウム(In)、ガリウム(Ga)の群より選ばれる1以上の金属、半導体、これらの金属を含む合金、およびこれらの金属の酸化物を含む物質の何れかを挙げることができる。この中でも、Agは、製造もしやすく、取り扱いも容易で特に好ましい。ここで、ここの半導体とはSiを意味する。
被覆膜132a、132bとしては、ポリマー膜,分子膜、酸化物膜、イオン導電性物質膜より選ばれる1以上を挙げることができる。ここで、酸化物膜としては、チタン酸化物、ニッケル酸化物、バナジウム酸化物の群より選ばれる1以上が例示される。
なお、ポリマー膜としては、PVP(ポリビニルピロリドン、Polyvinylpyrolidone)が、取り扱いが容易で、欠陥の少ない安定した品質の膜を低コストで作製できるので特に好ましい。
The conductive nanowires 131a and 131b are selected from the group of silver (Ag), copper (Cu), aluminum (Al), nickel (Ni), silicon (Si), indium (In) and gallium (Ga). Any one or more metals, semiconductors, alloys containing these metals, and substances containing oxides of these metals can be mentioned. Among these, Ag is particularly preferable because it is easy to manufacture and easy to handle. Here, the semiconductor here means Si.
Examples of the coating films 132a and 132b include one or more selected from a polymer film, a molecular film, an oxide film, and an ionic conductive substance film. Here, as the oxide film, one or more selected from the group of titanium oxide, nickel oxide, and vanadium oxide is exemplified.
As the polymer film, PVP (polyvinylpyrrolidone, Polyvinylpyrrolidone) is particularly preferable because it is easy to handle and a stable quality film with few defects can be produced at low cost.

導電性のナノワイヤー131aと導電性のナノワイヤー131b間に電圧が印加されるとナノワイヤー13の接触部でコンダクタンスが上がる特性は、例えばフィラメントの生成により達成される。
導電性ナノワイヤー131a、131bとして銀を用いたAg−NW(Nano Wire)、被覆膜132a、132bとしてPVPを用いた場合を例にして、導電性のナノワイヤー131aと導電性のナノワイヤー131b間に電圧が印加された際にコンダクタンスが変化する原理を、図2(b)を用いて説明する。
導電性のナノワイヤー131aと導電性のナノワイヤー131b間に電圧が印加されていない場合(左側の図)、PVPからなる被覆膜132a、132bにより絶縁状態となり、コンダクタンスは低いものとなる。
一方、導電性のナノワイヤー131aと導電性のナノワイヤー131b間に電圧が印加されると(右側の図)、銀イオン133が被覆膜132a、132bに拡散し、導電性のフィラメント134が被覆膜132a、132b中に形成される。このため、コンダクタンスは劇的に上がる。
この状態から、導電性のナノワイヤー131aと導電性のナノワイヤー131b間に電圧を遮断すると、フィラメント134は消失してコンダクタンスは低い状態になる。したがって、導電性のナノワイヤー131aと導電性のナノワイヤー131b間の電圧の印加のオン・オフによるコンダクタンスの変化は、可逆的な変化である。
なお、導電性のナノワイヤー131aと導電性のナノワイヤー131b間に電圧が印加されると、ナノワイヤー13の接触部でコンダクタンスが上がる特性は、上記に示したフィラメントの生成に限らず、相変化、欠陥密度の変化およびナノワイヤー間の間隙の変化などでもよい。
When a voltage is applied between the conductive nanowires 131a and the conductive nanowires 131b, the property of increasing the conductance at the contact portion of the nanowires 13 is achieved, for example, by forming filaments.
Taking the case where Ag-NW (NanoWire) using silver as the conductive nanowires 131a and 131b and PVP as the coating films 132a and 132b are used as examples, the conductive nanowires 131a and the conductive nanowires 131b The principle that the conductance changes when a voltage is applied between them will be described with reference to FIG. 2 (b).
When no voltage is applied between the conductive nanowires 131a and the conductive nanowires 131b (left side figure), the coating films 132a and 132b made of PVP are in an insulated state, and the conductance is low.
On the other hand, when a voltage is applied between the conductive nanowires 131a and the conductive nanowires 131b (figure on the right), silver ions 133 diffuse to the coating films 132a and 132b, and the conductive filament 134 is covered. It is formed in the covering films 132a and 132b. This dramatically increases conductance.
When the voltage is cut off between the conductive nanowires 131a and the conductive nanowires 131b from this state, the filament 134 disappears and the conductance becomes low. Therefore, the change in conductance due to the on / off of the application of voltage between the conductive nanowires 131a and the conductive nanowires 131b is a reversible change.
When a voltage is applied between the conductive nanowires 131a and the conductive nanowires 131b, the property that the conductance increases at the contact portion of the nanowires 13 is not limited to the filament formation shown above, but the phase change. , Changes in defect density and changes in gaps between nanowires, and the like.

ナノワイヤー13の長さは、入力配線11と出力配線12との最小間隔よりも短いと、短絡的特性が抑制されたネットワークが形成されて、連想・推定を行うのに好適な記憶素子になる。
ナノワイヤー13の太さは、特に限定はないが、その値としては、例えば2〜200nmを挙げることができる。
If the length of the nanowire 13 is shorter than the minimum distance between the input wiring 11 and the output wiring 12, a network in which short-circuit characteristics are suppressed is formed, and the storage element is suitable for associating and estimating. ..
The thickness of the nanowire 13 is not particularly limited, and the value thereof may be, for example, 2 to 200 nm.

なお、ナノワイヤー13は、エポキシ樹脂によるモールドなど、パッシベーション膜に覆われて湿度などの外部の環境に依存しにくくすることが好ましい。 It is preferable that the nanowire 13 is covered with a passivation film such as a mold made of an epoxy resin to make it less dependent on the external environment such as humidity.

また、ナノワイヤー13が接触する部分の入力配線11および出力配線12が平面上に配置されていると、半導体製造プロセスなどの適用が可能となって生産効率やコスト低減のメリットが生じ、また薄型の状態での記憶素子を提供することが可能となって好ましい。
一方、ナノワイヤー13が接触する部分の入力配線11および出力配線12が三次元状に配置されている場合も、配線を高密度に配置でき、素子をコンパクト化しやすくなるというメリットがある。すなわち、ナノワイヤー13の集合体に三次元配置された入力配線11および出力配線12が機械的に接触する(プラグインされる)構造も好ましい。
Further, if the input wiring 11 and the output wiring 12 of the portion where the nanowires 13 are in contact are arranged on a flat surface, the semiconductor manufacturing process or the like can be applied, and there are merits of production efficiency and cost reduction, and the thickness is thin. It is preferable because it is possible to provide a storage element in the state of.
On the other hand, even when the input wiring 11 and the output wiring 12 at the portion where the nanowires 13 are in contact are arranged in a three-dimensional manner, there is an advantage that the wiring can be arranged at a high density and the element can be easily made compact. That is, a structure in which the input wiring 11 and the output wiring 12 three-dimensionally arranged in the aggregate of the nanowires 13 are mechanically contacted (plugged in) is also preferable.

ここで、入力端子の数は、特には制限がないが、8以上128以下が好ましい。出力端子の数も同様である。本発明とは異なる従来型の連想・推定記憶装置は入力端子数に応じて急激に装置が複雑になり、また大型化し、消費電力も急増する。一方で、本発明の連想・推定記憶装置は、入力端子数の増加に伴う装置(素子)の大型化、消費電力の増大のペースは少ない。入力端子数が8以上で従来法との差が目立ってくる。 Here, the number of input terminals is not particularly limited, but is preferably 8 or more and 128 or less. The same applies to the number of output terminals. The conventional associative / estimated storage device different from the present invention rapidly becomes complicated, becomes large, and consumes a large amount of power according to the number of input terminals. On the other hand, in the associative / estimated storage device of the present invention, the pace of increase in size and power consumption of the device (element) accompanying the increase in the number of input terminals is small. When the number of input terminals is 8 or more, the difference from the conventional method becomes conspicuous.

実施の形態1の記憶素子では、ナノワイヤー13の接触部の電気特性の変化を利用するため、配線の近遠によって情報記憶の感度や連想・推定度に違いが生じることが懸念される。すなわち、近いところの配線間の情報、例えばチャンネル2と3の情報相関が強く、離れたところの配線間の情報、例えばチャンネル2と9の情報相関が弱くなることが懸念される。
しかしながら、素子を組んで調べたところ、入力端子の数が128以下であれば、配線間の情報記憶の強弱は問題なく、高い精度で記憶が行われていた。
Since the storage element of the first embodiment utilizes the change in the electrical characteristics of the contact portion of the nanowire 13, there is a concern that the sensitivity of information storage and the degree of association / estimation may differ depending on the distance of the wiring. That is, there is a concern that the information between the wirings in the near vicinity, for example, the information correlation between the channels 2 and 3 is strong, and the information between the wirings in the distant place, for example, the information correlation between the channels 2 and 9 is weak.
However, when the elements were assembled and examined, if the number of input terminals was 128 or less, there was no problem in the strength of information storage between the wirings, and storage was performed with high accuracy.

なお、この記憶素子に入力情報を与え、また出力情報を読みだす記憶装置とする上では、入力端子には入力端子のそれぞれに対応したスイッチが接続され、出力端子には出力端子のそれぞれに対応したスイッチが接続される構成にすることが好ましい。 In order to give input information to this storage element and to make it a storage device that reads out output information, switches corresponding to each of the input terminals are connected to the input terminals, and each of the output terminals corresponds to the output terminals. It is preferable to configure the switch to be connected.

なお、ナノワイヤーを用いた記憶装置としては、例えば、遷移金属を内包したカーボンナノチューブを入力端子と出力端子間に橋渡しした抵抗変化型の不揮発性記憶装置が特許文献3に記載されている。しかしながら、この記憶装置は、デジタルデータの保持に好適な不揮発メモリであり、ナノワイヤーネットワークを持たず、連想・推定機能も有さない構成も用途・目的も効果も本発明とは異なるものである。 As a storage device using nanowires, for example, a resistance-changing non-volatile storage device in which carbon nanotubes containing a transition metal are bridged between an input terminal and an output terminal is described in Patent Document 3. However, this storage device is a non-volatile memory suitable for holding digital data, does not have a nanowire network, and has a configuration, an application, a purpose, and an effect that do not have an associative / estimation function, which is different from the present invention. ..

実施の形態1の記憶素子(連想・推定記憶素子)は、学習ステップにより記憶を行い、その記憶を記憶データ読み出しステップにより読み出すことができる。
より詳しく述べると、この連想・推定記憶素子の入力端子に1以上の学習用の入力電気信号を所定の連続する時間t以上入力する、あるいは所定の複数の回数Nパルス入力する学習ステップと、入力端子に入力電気信号を入力して出力端子から連想・推定記憶の出力電気信号を得るステップによって連想・推定記憶素子を使用する。
The storage element (associative / estimated storage element) of the first embodiment stores by a learning step, and the memory can be read out by a storage data reading step.
More specifically, a learning step of inputting one or more learning input electrical signals to the input terminal of this associative / estimated storage element for a predetermined continuous time t or more, or inputting N pulses a predetermined number of times a plurality of times, and input The associative / estimated storage element is used by the step of inputting the input electric signal to the terminal and obtaining the output electric signal of the associative / estimated storage from the output terminal.

前記時間tは、前記入力電気信号の時間に対する出力信号の特性曲線をプロットするステップと、この特性曲線に対しシグモイド状曲線をフィッティングさせるステップと、そのシグモイド状曲線の変曲点を求めるステップからなって、その変曲点に達する時間あるいはそれ以上の時間とすることができる。時間tをシグモイド状曲線の変曲点の時間以上の時間とすることにより、学習が安定し、記憶精度の高い学習ステップとなる。
または、前記時間tは、予め定めたコンダクタンスの絶対値以上の前記出力電気信号が得られたときの時間としてもよい。この場合は、一定の学習精度を確保しながら、時間設定が容易という特徴がある。
The time t includes a step of plotting a characteristic curve of the output signal with respect to the time of the input electric signal, a step of fitting a sigmoid curve to the characteristic curve, and a step of finding an inflection point of the sigmoid curve. Therefore, it can be the time to reach the inflection point or longer. By setting the time t to be equal to or longer than the time of the inflection point of the sigmoid curve, the learning becomes stable and the learning step has high memory accuracy.
Alternatively, the time t may be the time when the output electric signal equal to or greater than the absolute value of the predetermined conductance is obtained. In this case, it is easy to set the time while ensuring a certain level of learning accuracy.

ここで、前記特性曲線としては、コンダクタンスまたは電流の特性曲線を挙げることができる。電流は計測が容易で、コンダクタンスは学習精度を高めやすいという特徴がある。
また、ここでのシグモイド状曲線とは、原因変数である時間をリニアスケールで横軸、コンダクタンスなどの結果変数を対数軸として縦軸に記載したときの特性曲線の形状を、縦軸横軸ともにリニアスケールのシグモイド曲線の形状に見立てたものをいう。縦軸がリニアではなく対数にしているためシグモイド状曲線と呼んでいる。言い換えれば、シグモイド状曲線の原因変数を時間x、結果変数であるコンダクタンスをyとしたとき、横軸をx、縦軸をlog(y)とすると、そのx−log(y)曲線はシグモイド曲線となる。
シグモイド状曲線の変曲点以上の時間領域は、例えば結果変数をコンダクタンスとしたときは、中以上の比較的高いコンダクタンス領域に対応し、低いコンダクタンス領域が除外されるため精度の高い学習を行うことが可能になる。
Here, examples of the characteristic curve include a conductance or current characteristic curve. The current is easy to measure, and the conductance is easy to improve the learning accuracy.
The sigmoid curve here refers to the shape of the characteristic curve when the causative variable time is shown on the vertical axis on a linear scale and the result variable such as conductance is shown on the vertical axis as the logarithmic axis. It is similar to the shape of a linear scale sigmoid curve. It is called a sigmoid curve because the vertical axis is logarithmic rather than linear. In other words, if the causative variable of the sigmoid curve is time x and the result variable conductance is y, the horizontal axis is x and the vertical axis is log (y), then the x-log (y) curve is the sigmoid curve. It becomes.
For example, when the result variable is conductance, the time domain above the inflection point of the sigmoid curve corresponds to the relatively high conductance region above the middle, and the low conductance region is excluded, so highly accurate learning should be performed. Becomes possible.

また、パルス入力の回数Nは、予め定めた所定の回数であるが、例えば実施例5で示した6回を挙げることができる。 The number of pulse inputs N is a predetermined number of times, and examples thereof include 6 times shown in the fifth embodiment.

次に、実施の形態1の記憶素子の記憶動作について、具体的に、図3および図4を参照しながら説明する。
この記憶素子の学習、記憶は、入力端子に所定の学習情報を電圧の形で入力することで行われる。図3は、入力端子が1から9までの9チャンネルをもち、それぞれの入力端子は入力配線に繋がっており、学習情報(記憶情報)としてチャンネル1,5および9にのみ電圧が印加させる場合である。
この学習情報を所定以上の時間、あるいは所定以上の回数入力端子に入力し、その上で、その学習中は出力配線に繋がれた出力端子の対応のチャンネル、すなわちチャンネル1,5および9のスイッチをオンして接地されるようにする。すなわち、入力側のチャンネル1,5および9と出力側のチャンネル1,5および9を結びつける導通経路を構築する。もう少し詳しく述べると、入力側と出力側との間に印加される電圧およびそれに伴う電流により記憶素子中のナノワイヤーの接触部の電気特性が変化して電気的特性の異なる導通経路が形成される。ここで、上述のように、この電気特性の代表は電流やコンダクタンスである。
以上の学習工程により、初期の出力端子の電気特性情報がアットランダムであったものが、入力情報(学習情報)にリンクした記憶情報になる。ここで、この一連の過程はアナログ的であるため、完全な1,0(白黒)情報とはならずグレーさの残るアナログ情報となる。
Next, the memory operation of the storage element of the first embodiment will be specifically described with reference to FIGS. 3 and 4.
Learning and storage of this storage element is performed by inputting predetermined learning information in the form of voltage to the input terminal. FIG. 3 shows a case where the input terminals have 9 channels from 1 to 9, each input terminal is connected to the input wiring, and the voltage is applied only to the channels 1, 5 and 9 as learning information (memory information). is there.
This learning information is input to the input terminal for a predetermined time or more, or a predetermined number of times or more, and then during the learning, the corresponding channels of the output terminal connected to the output wiring, that is, the switches of channels 1, 5 and 9. To turn on to be grounded. That is, a conduction path connecting the input side channels 1, 5 and 9 and the output side channels 1, 5 and 9 is constructed. More specifically, the voltage applied between the input side and the output side and the accompanying current change the electrical characteristics of the contact portion of the nanowire in the storage element to form a conduction path with different electrical characteristics. .. Here, as described above, representatives of this electrical characteristic are current and conductance.
By the above learning process, the electrical characteristic information of the initial output terminal is at random, and becomes the stored information linked to the input information (learning information). Here, since this series of processes is analog, it does not become complete 1,0 (black and white) information, but becomes analog information in which gray remains.

図3は、入力情報に対して出力情報が1:1に対応する記憶について説明したが、実施の形態1の記憶素子は1:1情報の記憶に留まらず、連想・推定記憶にも適応する。
図4は、実施の形態1の記憶素子を用いた連想・推定記憶の手順の説明図である。同図では、1〜9のチャンネルを3×3のマトリックスで表し、各チャンネルの状態をマトリックスのパネルの濃淡で示して、各チャンネルの情報が一目でわかるようにしてある。入力側(左側の図)は、濃部がバイアス電圧の印加、白部が0V(電圧印加なし)を示し、出力側(右側の図)は濃淡によってコンダクタンスの高低を示す。
Although FIG. 3 describes a memory in which the output information corresponds to 1: 1 with respect to the input information, the storage element of the first embodiment is applicable not only to the storage of 1: 1 information but also to the associative / estimated storage. ..
FIG. 4 is an explanatory diagram of an associative / estimated storage procedure using the storage element of the first embodiment. In the figure, channels 1 to 9 are represented by a 3 × 3 matrix, and the state of each channel is shown by the shade of the matrix panel so that the information of each channel can be understood at a glance. On the input side (left figure), the dark part shows the application of the bias voltage, the white part shows 0V (no voltage application), and the output side (the figure on the right) shows the level of conductance by the shading.

初期では、入力情報に対しアットランダムな出力情報となる(図4(1))。
上記の方法で学習、訓練を行うと入力情報に即した出力情報となる(図4(2))。
所定の各種パターンで上記方法により学習、訓練を行う。各種入力情報に対する学習が行われる(図4(3))。
所望の入力情報を与えると出力情報は学習を通じて連想された情報となり、各チャンネルに関連度の大きさを反映した濃淡という形で連想・推定情報が得られる(図4(4))。
Initially, the output information is at random with respect to the input information (Fig. 4 (1)).
When learning and training are performed by the above method, the output information is in line with the input information (Fig. 4 (2)).
Learning and training are performed by the above methods in various predetermined patterns. Learning is performed for various input information (Fig. 4 (3)).
When the desired input information is given, the output information becomes information associated through learning, and associative / estimated information can be obtained in the form of shading that reflects the magnitude of the degree of relevance for each channel (Fig. 4 (4)).

(3)の各種学習工程は、例えば図5に示すように、学習(訓練)パターン1を学習させて(S11)その情報を十分記憶したかテストし(S12)、不十分なら再度学習(訓練)パターン1を学習させ(S11)、十分なら学習(訓練)パターン2を学習させる(S13)。同様にして、学習(訓練)パターン2の情報を十分記憶したかテストし(S14)、不十分なら再度学習(訓練)パターン2を学習させ(S13)、十分なら次の学習(訓練)パターンを学習させる。これを繰り返して所定の数nの学習パターンをテストを伴って記憶させる。すなわち、上記学習過程を学習(訓練)パターンnの学習(S15)とそのテスト(S16)まで行い、学習過程を完了する(S17)。
また、例えば図6に示すように、学習(訓練)パターン1を学習させ(S21)、引き続き学習(訓練)パターン2を学習させ(S22)、学習(訓練)パターンnまで学習させ(S23)、最後にパターン1からnまでテストを実施し(S24)、不十分なら再度学習(訓練)(S21)に戻って学習を続ける。十分なら学習過程を完了する(S25)という学習方法でもよい。
In the various learning steps of (3), for example, as shown in FIG. 5, the learning (training) pattern 1 is trained (S11) to test whether the information is sufficiently memorized (S12), and if insufficient, learning (training) is performed again. ) Pattern 1 is trained (S11), and if sufficient, learning (training) pattern 2 is trained (S13). Similarly, it is tested whether the information of the learning (training) pattern 2 is sufficiently memorized (S14), if it is insufficient, the learning (training) pattern 2 is learned again (S13), and if it is sufficient, the next learning (training) pattern is performed. Let them learn. This is repeated to store a predetermined number of learning patterns n with a test. That is, the learning process is performed up to the learning (S15) of the learning (training) pattern n and the test (S16) thereof, and the learning process is completed (S17).
Further, for example, as shown in FIG. 6, the learning (training) pattern 1 is learned (S21), the learning (training) pattern 2 is continuously learned (S22), and the learning (training) pattern n is learned (S23). Finally, the tests are performed from patterns 1 to n (S24), and if insufficient, the process returns to learning (training) (S21) to continue learning. If sufficient, the learning method of completing the learning process (S25) may be used.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、上記実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and the above-described embodiment is an example for explaining the present invention, and is substantially the same as the technical idea described in the claims of the present invention. Anything having the same configuration and exhibiting the same effect and effect is included in the technical scope of the present invention.

以下、実施例を用いて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、必ずしも下記の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not necessarily limited to the following Examples.

(実施例1)
実施例1では、ナノワイヤーネットワークを有し、入力端子数9および出力端子数9とした記憶素子を作製し、その素子を用いて連想・推定機能を含む記憶特性を調べた。
その記憶素子にファンクションジェネレータなどの周辺回路を備えた記憶装置の構成を図7に示す。この記憶装置は、可変電圧電源を備えたファンクションジェネレータ、スイッチボックス、記憶素子、バイアスされたOPAアレー検出部を備え、記憶素子の基板をガラス、電極を金(Au)としたものである。入力電極と出力電極との間隔は3mmとした。
ナノワイヤーとしては、導電性ナノワイヤーとしてAgを用い、被覆膜をPVPとしたPVP−AgNWを用いた。そのナノワイヤーの平面視SEM像を図8(a)および(b)に、断面視TEM像を図8(c)に示す。PVPの厚さは1〜2nmである。PVP−AgNWを準備し、それをガラス基板に撒いて(ドロップキャスティング法で)形成した。したがって、ナノワイヤーネットワークは無秩序に形成されている。
なお、この記憶素子は、大きさが9mm×9mm(主要部は3mm×3mm)のコンパクトかつ簡便な構造の素子である。
(Example 1)
In Example 1, a memory element having a nanowire network and having 9 input terminals and 9 output terminals was produced, and the memory characteristics including the associative / estimation function were investigated using the elements.
FIG. 7 shows the configuration of a storage device in which the storage element is provided with a peripheral circuit such as a function generator. This storage device includes a function generator equipped with a variable voltage power supply, a switch box, a storage element, and a biased OPA array detection unit. The substrate of the storage element is glass and the electrode is gold (Au). The distance between the input electrode and the output electrode was set to 3 mm.
As the nanowire, Ag was used as the conductive nanowire, and PVP-AgNW having a coating film as PVP was used. The plan view SEM image of the nanowire is shown in FIGS. 8 (a) and 8 (b), and the cross-sectional view TEM image is shown in FIG. 8 (c). The thickness of PVP is 1-2 nm. PVP-AgNW was prepared and sprinkled on a glass substrate (by the drop casting method) to form. Therefore, the nanowire network is randomly formed.
The storage element has a compact and simple structure having a size of 9 mm × 9 mm (main portion is 3 mm × 3 mm).

このナノワイヤーネットワークに電圧を印加したときの電流値の変化を図9に示す。図9(a)は三角波の電圧を印加した場合であり、図9(b)はパルス状の矩形波を印加した場合である。両者ともに、電圧の印加に伴い電流値が増加していくことがわかる。これは、ナノワイヤー同士が機械的に接触している部分でフィラメントが生成されていくことによるものと考えられる。 FIG. 9 shows a change in the current value when a voltage is applied to this nanowire network. FIG. 9A shows a case where a triangular wave voltage is applied, and FIG. 9B shows a case where a pulsed rectangular wave is applied. In both cases, it can be seen that the current value increases as the voltage is applied. It is considered that this is because filaments are generated at the portion where the nanowires are in mechanical contact with each other.

次に、この記憶装置を用いて学習機能を調べた。
最初に、初期状態を測定した。詳細には、図10に示すように、記憶素子の入力チャンネル3と4のみに0.5Vの電圧を印加し、出力端子側のスイッチを全てオンにして出力チャンネルの電流を測定した。その結果、出力チャンネルの電流値は入力データとは何らの相関も見いだせないものであった。すなわち、電圧を印加した入力チャンネルと電流値を検出した出力チャンネルとは何らの相関もないものであった。
次に、学習過程として、入力チャンネル3と4に引き続き0.5Vの電圧を印加し続け、出力端子側はチャンネル3と4のみスイッチをオンにして、入力チャンネル3、4と、出力チャンネル3,4の関連付けを行った。その結果、チャンネル3と4に関して、ネットワークを貫く導通経路が構築された。具体的には、チャンネル4に例示されるように、電圧を印加された入力チャンネルと対応する出力チャンネル側の電流が増加し、電圧は減少した。
その後(学習過程後)、記憶素子の入力チャンネル3と4のみに0.5Vの電圧を印加し、出力端子側のスイッチを全てオンにして出力チャンネルの電流を測定した。その結果、図10に示すようにチャンネル3と4に大きな電流が流れ、記憶が行われていることを確認した。なお、チャンネル6,8および9にも僅かな電流が確認されるが、チャンネル3と4の電流に比べその大きさは1/5以下と有意に小さく、チャンネル3と4の入力情報が記憶されたと判別できる。
Next, the learning function was investigated using this storage device.
First, the initial state was measured. Specifically, as shown in FIG. 10, a voltage of 0.5 V was applied only to the input channels 3 and 4 of the storage element, all the switches on the output terminal side were turned on, and the current of the output channel was measured. As a result, the current value of the output channel could not be found to have any correlation with the input data. That is, there was no correlation between the input channel to which the voltage was applied and the output channel to which the current value was detected.
Next, as a learning process, a voltage of 0.5 V is continuously applied to the input channels 3 and 4, and only the channels 3 and 4 are switched on on the output terminal side, and the input channels 3 and 4 and the output channels 3 and 3 are turned on. 4 was associated. As a result, conduction paths that penetrate the network were constructed for channels 3 and 4. Specifically, as illustrated in channel 4, the current on the output channel side corresponding to the input channel to which the voltage was applied increased, and the voltage decreased.
After that (after the learning process), a voltage of 0.5 V was applied only to the input channels 3 and 4 of the storage element, all the switches on the output terminal side were turned on, and the current of the output channel was measured. As a result, as shown in FIG. 10, it was confirmed that a large current flowed through channels 3 and 4 and storage was performed. Although a small amount of current is confirmed in channels 6, 8 and 9, the magnitude of the current is significantly smaller than that of channels 3 and 4, which is 1/5 or less, and the input information of channels 3 and 4 is stored. It can be determined that it was.

(実施例2)
実施例2では、この記憶素子に電圧0.8Vを入力チャンネル5と7に印加して(図11(a))、同様の実験を行った。
その結果、初期の出力チャンネルの電流値は、図11(b)に示すように、入力データとは何らの相関も見いだせないものであったが、学習後の出力チャンネルの電流値は、図11(c)に示すように、チャンネル5と7に大きな電流が流れ、記憶が行われていることを確認した。
(Example 2)
In Example 2, a voltage of 0.8 V was applied to the input channels 5 and 7 of this storage element (FIG. 11 (a)), and the same experiment was performed.
As a result, as shown in FIG. 11B, the current value of the initial output channel could not find any correlation with the input data, but the current value of the output channel after learning was shown in FIG. As shown in (c), it was confirmed that a large current flowed through channels 5 and 7 and storage was performed.

(実施例3)
実施例3では、この記憶素子に電圧1.0Vを入力チャンネル4,5および6に印加した実験(図12(a))を行った。但し、この実験では、出力チャンネルの情報を電流値ではなくコンダクタンスGとした。
その結果、初期の出力チャンネルのコンダクタンスGは、図12(b)に示すように、入力データとは何らの相関も見いだせないものであったが、学習後の出力チャンネルのコンダクタンスGは、図12(c)に示すように、チャンネル4,5および6のコンダクタンスが2桁以上大きく、アナログ的な記憶であるが十分なコントラストをもって記憶が行われていることを確認した。出力値としてコンダクタンスを用いると、電流を用いる場合より高いコントラストで複数の導通経路の存在とそれらの識別ができるということが実証された。
(Example 3)
In Example 3, an experiment (FIG. 12 (a)) in which a voltage of 1.0 V was applied to the input channels 4, 5 and 6 was performed on this storage element. However, in this experiment, the information of the output channel was not the current value but the conductance G.
As a result, as shown in FIG. 12B, the conductance G of the initial output channel could not find any correlation with the input data, but the conductance G of the output channel after learning was shown in FIG. As shown in (c), it was confirmed that the conductance of channels 4, 5 and 6 was increased by two orders of magnitude or more, and the memory was analog-like, but the memory was performed with sufficient contrast. It has been demonstrated that when conductance is used as the output value, the existence and identification of multiple conduction paths can be achieved with higher contrast than when current is used.

この記憶過程での出力チャンネルの状態変化を、出力チャンネルの電圧と電流の学習経過時間依存性として調べた。その結果を図13に示す。図13の(a)、(b)および(c)はそれぞれチャンネル4,5および6の場合を示す。
どのチャンネルにおいても、60秒経過までは電流はほぼ0で、電圧はリニアに負電圧に変化する。その後、電圧は、約90秒まで一定値(約−10V)を維持し、その後0Vに向かって上昇する。一方、電流は、チャンネルにより立ち上がり時期は異なるが、急激に上昇し、その後低下する特性になっている。ここで、電流が急激に立ち上がる(変化する)のはナノワイヤー間にフィラメントが生成されたためと考えられる。
この記憶過程において、電流×電圧である電力が消費されるのは、主にフィラメント生成時であり、その前は電流がほぼ0で、その後は電流、電圧の絶対値がともに減少していく。このため、この記憶素子は、記憶過程が低消費電力の記憶素子になっていることがわかる。
The state change of the output channel during this storage process was investigated as the learning elapsed time dependence of the voltage and current of the output channel. The result is shown in FIG. 13 (a), (b) and (c) show the case of channels 4, 5 and 6, respectively.
In any channel, the current is almost zero until 60 seconds have passed, and the voltage changes linearly to a negative voltage. After that, the voltage is maintained at a constant value (about -10V) for about 90 seconds, and then rises toward 0V. On the other hand, the current has a characteristic that it rises sharply and then falls, although the rising time differs depending on the channel. Here, it is considered that the reason why the current suddenly rises (changes) is that filaments are formed between the nanowires.
In this storage process, electric power, which is current × voltage, is consumed mainly at the time of filament formation. Before that, the current is almost 0, and after that, both the absolute values of the current and the voltage decrease. Therefore, it can be seen that the storage process of this storage element is a low power consumption storage element.

(実施例4)
実施例4では、学習電圧の印加時間と出力チャンネルのコンダクタンスの関係を調べた。
図14は、実施例1に記載の記憶装置を用い、入力チャンネル1に電圧を印加したときの出力チャンネル1のコンダクタンスの変化の入力電圧印加時間(学習電圧印加時間)T依存性を調べたものである。図14には、実測値とその実測値にフィッティングさせたシグモイド状曲線、およびそのシグモイド状曲線の変曲点を載せている。ここで、入力電圧Vbiasは5Vとした。
コンダクタンスは、0.5秒のところにシグモイド状曲線の変曲点を有する。詳細な記憶特性との突合せを行ったところ、変曲点である0.5秒を超えた時点で安定した導通経路の生成が行われ、精度の高い学習記憶が行われることが分かった。
(Example 4)
In Example 4, the relationship between the application time of the learning voltage and the conductance of the output channel was investigated.
FIG. 14 shows an investigation of the input voltage application time (learning voltage application time) T dependence of the change in conductance of the output channel 1 when a voltage is applied to the input channel 1 using the storage device described in the first embodiment. Is. FIG. 14 shows an actually measured value, a sigmoid curve fitted to the measured value, and an inflection point of the sigmoid curve. Here, the input voltage V bias was set to 5 V.
The conductance has an inflection point of a sigmoid curve at 0.5 seconds. As a result of matching with detailed memory characteristics, it was found that a stable conduction path was generated when the inflection point of 0.5 seconds was exceeded, and highly accurate learning memory was performed.

以上の実施例から、学習時間は、電流値、コンダクタンス値、コンダクタンスの変曲点を基準に設定することができる。ここで、学習時間の設定精度を高める上では、特に変化が大きくて判定の容易なコンダクタンス値やコンダクタンスの変曲点を用いるのが好ましい。一方、学習時間をコンダクタンスの値で設定する方法は、コンダクタンス値の測定が容易なので、装置を簡便化する上で好ましい。 From the above embodiment, the learning time can be set based on the current value, the conductance value, and the inflection point of the conductance. Here, in order to improve the setting accuracy of the learning time, it is preferable to use a conductance value or an inflection point of the conductance, which has a particularly large change and is easy to determine. On the other hand, the method of setting the learning time by the conductance value is preferable in order to simplify the apparatus because the conductance value can be easily measured.

(実施例5)
本発明の連想・推定記憶素子の学習入力は、連続的な電圧の印加時間によるのではなく、電圧パルスの印加回数としてもよい。
2Vの交流電圧を10Hzで入力端子に印加したときの出力端子の電流値を図15に示す。
図15(a)は第1パルスのときの電流値であり、同図中の1↑は昇電圧、1↓は降電圧を示す。1回目のパルス電圧(第1パルス)印加では、約1.6Vまでの昇電圧時はノイズレベルの電流しか流れないが、約1.6Vを超えるとフィラメント形成によると思われる急激な電流増加が認められる。降電圧時は、フィラメントが形成されているため約0.2Vまでは大きな電流が流れ、その後電流値が急減するというヒステリシス特性を示している。
図15(b)は、パルスを6回入力したときの、入力印加電圧と出力電流の関係を示す。ここで、数字は何回目のパルスかを示し、↑は昇電圧、↓は降電圧を示す。同図中の降電圧は1↓以外ラベルが明示されていないが、高い電圧側から低い電圧側に向かって20μAの線より分岐した細線が、それぞれ2↓、3↓、4↓、5↓そして6↓のときの特性曲線を示す。
パルスの回数が増すごとにヒステリシスは小さくなり、6回目のパルスで昇電圧曲線と降電圧曲線は一致し、ナノワイヤーネットワークに記憶に相当する導通経路が確立されたこと、すなわち十分な学習が行われたことがわかる。
(Example 5)
The learning input of the associative / estimated storage element of the present invention may be the number of times a voltage pulse is applied, not by the continuous voltage application time.
FIG. 15 shows the current value of the output terminal when an AC voltage of 2 V is applied to the input terminal at 10 Hz.
FIG. 15A shows the current value at the time of the first pulse, and 1 ↑ in the figure shows the rising voltage and 1 ↓ shows the falling voltage. When the first pulse voltage (first pulse) is applied, only noise level current flows when the voltage rises to about 1.6V, but when it exceeds about 1.6V, a rapid increase in current, which is thought to be due to filament formation, occurs. Is recognized. At the time of falling voltage, since the filament is formed, a large current flows up to about 0.2 V, and then the current value sharply decreases, which is a hysteresis characteristic.
FIG. 15B shows the relationship between the input applied voltage and the output current when the pulse is input 6 times. Here, the numbers indicate the number of pulses, ↑ indicates the rising voltage, and ↓ indicates the falling voltage. Labels other than 1 ↓ are not specified for the downlink voltage in the figure, but thin lines branching from the 20 μA line from the high voltage side to the low voltage side are 2 ↓, 3 ↓, 4 ↓, 5 ↓ and 6 The characteristic curve at the time of ↓ is shown.
As the number of pulses increased, the hysteresis became smaller, and at the 6th pulse, the rising voltage curve and the falling voltage curve matched, and a conduction path corresponding to memory was established in the nanowire network, that is, sufficient learning was performed. You can see that it was broken.

(実施例6)
実施例6では、データの安定性とこの素子に特異な性質について検討した。
図16は、昇電圧、降電圧過程におけるPVP−AgNWナノワイヤーネットワーク電圧−電流特性を示す。降電圧過程において、スパイク状の電流降下複数個所で認められるが、この不安定状態は回復されることがわかる。
(Example 6)
In Example 6, the stability of the data and the properties peculiar to this device were examined.
FIG. 16 shows the PVP-AgNW nanowire network voltage-current characteristics during the ascending and descending voltage processes. In the voltage drop process, spike-like current drops are observed at multiple points, but it can be seen that this unstable state is recovered.

図17は、降電圧過程における0.31VというサブスレッショルドレベルでのコンダクタンスGおよびβの入力電圧印加時間T依存性を調べたものである。これは、図16の左から2番目のスパイク状電流降下部に該当する。
ここで、電流のPSD(Power spectral density)はfを周波数として、
PSD〜fβ
で表され、βは、信号中に含まれる変動成分の相関を表す指標である。図17の場合、導通経路の揺らぎ(スイッチングの揺らぎ)によって引き起こされる電流変動の相関であり、これは、ネットワーク中での小さな領域での揺らぎとより大きな領域での揺らぎとの相関と理解される。βが−1に近い値のときは、1/fノイズ(ピンクノイズ)とよく呼ばれ、多くの動的プロセスでも知られているように、ネットワーク中の導通経路揺らぎに相互連携現象が発現していることを意味する。一方、βが−2に近い場合はブラウン運動で知られるような、乱雑性の高い相互連携現象が生じている。
FIG. 17 shows the dependence of conductance G and β on the input voltage application time T at a subthreshold level of 0.31 V in the downlink voltage process. This corresponds to the second spike-shaped current drop portion from the left in FIG.
Here, the PSD (Power Spectral density) of the current has f as a frequency.
PSD ~ f β
Represented by, β is an index showing the correlation of variable components contained in the signal. In the case of FIG. 17, it is the correlation of the current fluctuation caused by the fluctuation of the conduction path (fluctuation of switching), which is understood as the correlation between the fluctuation in a small region and the fluctuation in a larger region in the network. .. When β is close to -1, it is often called 1 / f noise (pink noise), and as is known in many dynamic processes, a mutual cooperation phenomenon appears in the fluctuation of the conduction path in the network. It means that it is. On the other hand, when β is close to -2, a highly disordered mutual cooperation phenomenon known as Brownian motion occurs.

コンダクタンスGは、14秒から17秒の3秒間にかけて大きく変化する領域があって、その後、安定した初期値から約0.1S大きい値となる。すなわち、ナノワイヤーネットワーク接続は、不安定な状態が約3秒間続き、その後、以前の安定状態より0.1Sという僅かに大きな値に自動的に回復する。 The conductance G has a region that changes significantly from 14 seconds to 17 seconds for 3 seconds, and then becomes a value about 0.1 S larger than the stable initial value. That is, the nanowire network connection remains unstable for about 3 seconds and then automatically recovers to a slightly larger value of 0.1S than the previous stable state.

このコンダクタンスが大きく変化する領域に呼応してβも大きく変化する。7秒から10秒の領域(図18中の▲の領域)と14秒から17秒の領域(図18中の◇の領域)の電流のPSD特性を図18に示す。P〜1/f−βでよく近似されている。14秒以前の安定な領域では、|β|は約1.2と安定な動的レジームの1に近く、14秒から17秒の不安定な領域での|β|は2に近い値になっている。この不安定な領域で、ナノワイヤーネットワークの接続の切り替えが想定される。したがって、この素子のナノワイヤーネットワークは、その導電経路が固定されるわけではなく、エネルギーが供給されるごとに、ランダムな変化に動的に適合し、ネットワーク接続を再構成して新しい最適な導電経路を築く。すなわち、本発明の連想・推定帰国素子は、素子内のネットワークを自動的に再構築しながら高い安定性を得るという他の記憶素子には殆んど見られない特徴を有した素子である。 Β also changes significantly in response to the region where this conductance changes significantly. FIG. 18 shows the PSD characteristics of the currents in the region of 7 to 10 seconds (region of ▲ in FIG. 18) and the region of 14 seconds to 17 seconds (region of ◇ in FIG. 18). It is well approximated by P ~ 1 / f −β. In the stable region before 14 seconds, | β | is close to 1 of the stable dynamic regime of about 1.2, and | β | in the unstable region of 14 to 17 seconds is close to 2. ing. In this unstable region, switching of nanowire network connections is expected. Therefore, the nanowire network of this device is not fixed in its conductive path, but dynamically adapts to random changes as energy is supplied, reconfiguring the network connection and reconfiguring the new optimum conductivity. Build a route. That is, the associative / estimated return element of the present invention is an element having a feature that is hardly found in other memory elements, such as obtaining high stability while automatically reconstructing the network in the element.

(実施例7)
ナノワイヤー間に生成されたフィラメントは時間とともに消失し、記憶に相当する導電経路もそれに伴い消失していく。
図19は、5Vの電圧を印加してナノワイヤー間にフィラメントを生成し、電圧印加を終了した後の経過時間に伴うコンダクタンスの変化を測定した結果である。そこでは、実施例1と同様にPVP−AgNWを用いたナノワイヤーネットワークを用いて電気特性を評価した。時刻t、tおよびtで階段状にコンダクタンスが小さくなっていくのがわかる。これは、ネットワークを貫く導通経路が消失していくのに対応する。したがって、本発明の記憶素子は揮発性の記憶素子である。なお、ナノワイヤー間に一旦フィラメントが形成されると、そのフィラメントが消失した後もそこの場所にフィラメントが生成されやすい。したがって、本発明の記憶素子は、記憶は揮発性であるが、再度学習させると短時間で学習することができる特性を有する。
(Example 7)
The filaments formed between the nanowires disappear with time, and the conductive path corresponding to the memory disappears accordingly.
FIG. 19 shows the result of applying a voltage of 5 V to form filaments between nanowires and measuring the change in conductance with the elapsed time after the voltage application was completed. There, the electrical characteristics were evaluated using a nanowire network using PVP-AgNW as in Example 1. It can be seen that the conductance decreases stepwise at time t 1 , t 2 and t 3. This corresponds to the disappearance of conduction paths through the network. Therefore, the storage element of the present invention is a volatile storage element. Once filaments are formed between the nanowires, filaments are likely to be formed in place even after the filaments disappear. Therefore, the memory element of the present invention has a property that the memory is volatile, but it can be learned in a short time when it is relearned.

(実施例8)
実施例8では、実施例1の記憶素子(記憶装置)の連想記憶について評価した。
実施例1の記憶装置を用いて、4つの情報の記憶(記憶学習)を行った。ここでは、視覚に訴えてわかりやすく説明するために、図20(a)に示すように、チャンネル1から9に与える情報を3×3のマトリックスのパネルの濃淡で表した。したがって、入力情報の場合は、マトリックスの黒いパネルが入力電圧を印加されたチャンネルを示し、白のパネルは電圧が印加されていないことを示す。出力情報の場合は、濃いパネルに対応するチャンネルは出力電流が大きく、淡いパネルに対応するチャンネルは出力電流が小さいことを示す。学習情報としては、ターゲット1からターゲット4までの4種類を記憶させた。学習過程は実施例1記載の方法に準拠させた。なお、各ターゲットの学習時間は一定ではないものの、おおむね1分以内であった。
学習させた後、2ビット、1ビットの各情報(入力パターン)を入力したときの出力情報を図20(b)に示す。各出力は正解に対応しており、連想記憶が行われていることを確認した。
(Example 8)
In Example 8, the associative memory of the storage element (storage device) of Example 1 was evaluated.
Using the storage device of Example 1, storage of four pieces of information (memory learning) was performed. Here, in order to appeal to the eyes and explain in an easy-to-understand manner, as shown in FIG. 20 (a), the information given to channels 1 to 9 is represented by the shade of the panel of the 3 × 3 matrix. Therefore, in the case of input information, the black panel of the matrix indicates the channel to which the input voltage is applied, and the white panel indicates that no voltage is applied. In the case of output information, the channel corresponding to the dark panel indicates that the output current is large, and the channel corresponding to the light panel indicates that the output current is small. As learning information, four types from target 1 to target 4 were stored. The learning process was based on the method described in Example 1. Although the learning time of each target was not constant, it was generally within 1 minute.
FIG. 20 (b) shows the output information when each 2-bit and 1-bit information (input pattern) is input after learning. It was confirmed that each output corresponds to the correct answer and that associative memory is performed.

(実施例9)
実施例9では、実施例1の記憶素子(記憶装置)の推定記憶について評価した。
実施例1の記憶装置を用いて、図21に示すように、4つの情報の記憶(記憶学習)を行った。ここでは、視覚に訴えてわかりやすく説明するために、実施例8と同様に、チャンネル1から9に与える情報を3×3のマトリックスのパネルの濃淡で表した。したがって、入力情報の場合は、マトリックスの黒いパネルが入力電圧を印加されたチャンネルを示し、白のパネルは電圧が印加されていないことを示す。出力情報の場合は、濃いパネルに対応するチャンネルは出力電流が大きく、淡いパネルに対応するチャンネルは出力電流が小さいことを示す。学習情報としては、実施例8と同じ4種類のものを記憶させた。学習過程は実施例1記載の方法に準拠させた。なお、各ターゲットの学習時間は一定ではないものの、おおむね1分以内であった。
学習させた後、情報a1を入力した。そのときの出力情報はo1であり、推定される候補は学習させた4種類に相当するc1〜c4の4種類であった。
次に、リファイン1として、情報a2を入力した。そのときの出力情報はo2であり、推定される候補はc1〜c3の3種類に絞られた。
その次に、リファイン2として、情報a3を入力した。そのときの出力情報はo3であり、推定される候補はc1〜c2の2種類に絞られた。
さらに、リファイン3として、情報a4を入力した。そのときの出力情報はo4であり、推定される候補がc1に絞られた。
以上から、本願発明の記憶素子は、入力情報をいくつか与えることで連想・推定を行い、連想・推定による絞り込み記憶機能を有することが実証された。
(Example 9)
In Example 9, the estimated memory of the storage element (storage device) of Example 1 was evaluated.
Using the storage device of Example 1, as shown in FIG. 21, four pieces of information were stored (memory learning). Here, in order to appeal to the eyes and explain in an easy-to-understand manner, the information given to channels 1 to 9 is represented by the shade of the panel of the 3 × 3 matrix as in the case of the eighth embodiment. Therefore, in the case of input information, the black panel of the matrix indicates the channel to which the input voltage is applied, and the white panel indicates that no voltage is applied. In the case of output information, the channel corresponding to the dark panel indicates that the output current is large, and the channel corresponding to the light panel indicates that the output current is small. As the learning information, the same four types as in Example 8 were stored. The learning process was based on the method described in Example 1. Although the learning time of each target was not constant, it was generally within 1 minute.
After learning, the information a1 was input. The output information at that time was o1, and the estimated candidates were four types of c1 to c4, which correspond to the four types learned.
Next, the information a2 was input as the refinement 1. The output information at that time was o2, and the estimated candidates were narrowed down to three types, c1 to c3.
Next, the information a3 was input as the refinement 2. The output information at that time was o3, and the estimated candidates were narrowed down to two types, c1 and c2.
Further, the information a4 was input as the refinement 3. The output information at that time was o4, and the estimated candidates were narrowed down to c1.
From the above, it has been demonstrated that the storage element of the present invention performs associative / estimation by giving some input information, and has a narrowed-down storage function by associative / estimation.

連想・推定機能をもった記憶は、人間の思考過程にも近く、極めて有用性が高い。
本発明の連想・推定記憶素子は、そのような高い有用性をもった記憶を扱うものであり、かつ被覆膜で覆われた複数の導電性ナノワイヤーが少なくとも複数機械的接触するように集合した集合体の少なくとも一部が入力および出力端子に機械的に接触するという極めてシンプルでコンパクトな構造をもつもので、さらに消費電力も少ない。このため、本発明は、民政、産業用途にかかわらず幅広い分野で活用されるものと期待される。
Memories with associative / estimation functions are extremely useful because they are close to the human thinking process.
The associative / estimated memory element of the present invention handles a memory having such high usefulness, and a plurality of conductive nanowires covered with a coating film are assembled so as to make at least a plurality of mechanical contacts. It has an extremely simple and compact structure in which at least a part of the aggregate is mechanically contacted with the input and output terminals, and consumes less power. Therefore, the present invention is expected to be utilized in a wide range of fields regardless of civil affairs or industrial use.

11:入力電極
12:出力電極
13:ナノワイヤー
131a:導電性ナノワイヤー(Ag−NW)
131b:導電性ナノワイヤー(Ag−NW)
132a:被覆膜(PVP)
132b:被覆膜(PVP)
133:荷電イオン(銀イオン、Ag
134:フィラメント
11: Input electrode 12: Output electrode 13: Nanowire 131a: Conductive nanowire (Ag-NW)
131b: Conductive nanowires (Ag-NW)
132a: Coating film (PVP)
132b: Coating film (PVP)
133: Charged ion (silver ion, Ag + )
134: Filament

本発明の記憶素子の基本構造を説明する構成図である。It is a block diagram explaining the basic structure of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の要部の構成と動作原理を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the structure and the operation principle of the main part of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子のコンセプトを説明する概念図である。It is a conceptual diagram explaining the concept of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子が連想・推定機能を発現するまでの過程を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the process until the memory element of this invention expresses an associative / estimation function. 本発明の記憶素子の学習過程を示すフローチャート図である。It is a flowchart which shows the learning process of the memory element of this invention. 本発明の記憶素子の学習過程を示すフローチャート図である。It is a flowchart which shows the learning process of the memory element of this invention. 実施例の記憶素子の構造を説明する構造図である。It is a structural drawing explaining the structure of the storage element of an Example. 本発明のナノワイヤーを電子顕微鏡で観察した結果で、(a)および(b)はSEM写真、(c)はTEM写真である。As a result of observing the nanowire of the present invention with an electron microscope, (a) and (b) are SEM photographs, and (c) is a TEM photograph. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic diagram which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic diagram which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic figure which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic figure which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic figure which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic figure which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic diagram which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic figure which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic diagram which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である。It is a characteristic figure which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention. 本発明の記憶素子の電気特性を示す特性図である It is a characteristic figure which shows the electrical characteristic of the storage element of this invention . 本発明の記憶素子の連想・推定記憶特性を示す特性図である。It is a characteristic diagram which shows the associative / estimated memory characteristic of the memory element of this invention. 本発明の記憶素子の連想・推定記憶特性を示す特性図である。It is a characteristic diagram which shows the associative / estimated memory characteristic of the memory element of this invention.

Claims (20)

複数の配線からなる入力端子と複数の配線からなる出力端子を有する連想・推定記憶素子であって、
前記入力端子の配線には機械的に接するようにナノワイヤーが配置され、
前記出力端子の配線にも機械的に接するようにナノワイヤーが配置され、
前記ナノワイヤーは、被覆膜で覆われた導電性のナノワイヤーであって、複数からなり、
かつ、前記ナノワイヤーは少なくともそのうちの複数が互いに機械的に接するように配置され、
前記ナノワイヤーに電圧が印加されることにより前記被覆膜と前記ナノワイヤーが機械的に接する部分での電気的性質が変化する、連想・推定記憶素子。
An associative / estimated storage element having an input terminal composed of a plurality of wires and an output terminal composed of a plurality of wires.
Nanowires are arranged in the wiring of the input terminal so as to be in mechanical contact with each other.
Nanowires are arranged so as to mechanically contact the wiring of the output terminal.
The nanowire is a conductive nanowire covered with a coating film, and is composed of a plurality of nanowires.
Moreover, at least a plurality of the nanowires are arranged so as to be in mechanical contact with each other.
An associative / estimated storage element in which a voltage is applied to the nanowires to change the electrical properties at a portion where the coating film and the nanowires mechanically contact each other.
前記ナノワイヤーに印加される電圧は、前記入力端子の少なくとも一部に印加される電圧により引き起こされる、請求項1記載の連想・推定記憶素子。 The associative / estimated storage element according to claim 1, wherein the voltage applied to the nanowires is caused by a voltage applied to at least a part of the input terminals. 前記電気的性質は、コンダクタンスである、請求項1または2記載の連想・推定記憶素子。 The associative / estimated storage element according to claim 1 or 2, wherein the electrical property is conductance. 前記電気的性質の変化は、前記被覆膜にフィラメントが形成されることによって起こる、請求項1から3の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。 The associative / estimated storage element according to any one of claims 1 to 3, wherein the change in electrical properties is caused by the formation of a filament on the coating film. 前記ナノワイヤーの長さは、前記入力端子の配線と前記出力端子の配線との最小間隔よりも短い、請求項1から4の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。 The associative / estimated storage element according to any one of claims 1 to 4, wherein the length of the nanowire is shorter than the minimum distance between the wiring of the input terminal and the wiring of the output terminal. 前記入力端子には、前記入力端子のそれぞれに対応したスイッチが接続されている、請求項1から5の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。 The associative / estimated storage element according to any one of claims 1 to 5, wherein a switch corresponding to each of the input terminals is connected to the input terminal. 前記出力端子には、前記出力端子のそれぞれに対応したスイッチが接続されている、請求項1から6の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。 The associative / estimated storage element according to any one of claims 1 to 6, wherein a switch corresponding to each of the output terminals is connected to the output terminal. 前記ナノワイヤーは、Ag、Cu、Al、Ni、Si、In、Gaの群より選ばれる1以上の金属、半導体、前記金属を含む合金、および前記金属の酸化物を含む物質の何れかからなる、請求項1から7の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。 The nanowire is composed of one or more metals selected from the group of Ag, Cu, Al, Ni, Si, In, and Ga, a semiconductor, an alloy containing the metal, and a substance containing an oxide of the metal. , The associative / estimated storage element according to any one of claims 1 to 7. 前記被覆膜は、ポリマー膜,分子膜、酸化物膜、イオン導電性物質膜より選ばれる1以上からなる、請求項1から8の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。 The associative / estimated storage element according to any one of claims 1 to 8, wherein the coating film comprises one or more selected from a polymer film, a molecular film, an oxide film, and an ionic conductive substance film. 前記ポリマー膜はポリビニルピロリドンからなる、請求項9記載の連想・推定記憶素子。 The associative / estimated storage device according to claim 9, wherein the polymer film is made of polyvinylpyrrolidone. 前記酸化物膜はチタン酸化物、ニッケル酸化物、バナジウム酸化物の群より選ばれる1以上からなる、請求項9記載の連想・推定記憶素子。 The associative / estimated storage element according to claim 9, wherein the oxide film comprises one or more selected from the group of titanium oxide, nickel oxide, and vanadium oxide. 前記ナノワイヤーが接触する部分の前記入力端子の配線および前記出力端子の配線は、平面上に配置されている、請求項1から11の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。 The associative / estimated storage element according to any one of claims 1 to 11, wherein the wiring of the input terminal and the wiring of the output terminal at the portion where the nanowires come into contact are arranged on a plane. 前記ナノワイヤーが接触する部分の前記入力端子の配線および前記出力端子の配線は、三次元配置されている、請求項1から11の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。 The associative / estimated storage element according to any one of claims 1 to 11, wherein the wiring of the input terminal and the wiring of the output terminal at the portion where the nanowires come into contact are arranged three-dimensionally. 前記ナノワイヤーは、エポキシ樹脂によってモールドされている、請求項1から13の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。 The associative / estimated storage element according to any one of claims 1 to 13, wherein the nanowire is molded with an epoxy resin. 前記入力端子の数が、8以上128以下である、請求項1から14の何れか1に記載の連想・推定記憶素子。 The associative / estimated storage element according to any one of claims 1 to 14, wherein the number of input terminals is 8 or more and 128 or less. 請求項1から15の何れかに記載の連想・推定記憶素子の前記入力端子に1以上の学習用の入力電気信号を、所定の連続する時間t以上入力する学習ステップと、
前記入力端子に入力電気信号を入力して、前記出力端子から連想・推定記憶の出力電気信号を得るステップを有する、連想・推定記憶素子の使用方法。
A learning step in which one or more input electrical signals for learning are input to the input terminal of the associative / estimated storage element according to any one of claims 1 to 15 for a predetermined continuous time t or more.
A method of using an associative / estimated storage element, which comprises a step of inputting an input electric signal to the input terminal and obtaining an output electric signal of associative / estimated storage from the output terminal.
前記時間tは、前記入力電気信号の時間に対する前記出力信号の特性曲線をプロットするステップと、前記特性曲線に対しシグモイド状曲線をフィッティングさせるステップと、前記シグモイド状曲線の変曲点を求めるステップとを有して、前記変曲点に達する時間以上とする、請求項16記載の連想・推定記憶素子の使用方法。 The time t includes a step of plotting the characteristic curve of the output signal with respect to the time of the input electric signal, a step of fitting a sigmoid curve to the characteristic curve, and a step of finding an inflection point of the sigmoid curve. 16. The method of using the associative / estimated storage element according to claim 16, wherein the time required to reach the inflection point or longer is set to. 前記特性曲線はコンダクタンスの特性曲線である、請求項17記載の連想・推定記憶素子の使用方法。 The method of using the associative / estimated storage element according to claim 17, wherein the characteristic curve is a conductance characteristic curve. 前記時間tは、予め定めたコンダクタンスの絶対値以上の前記出力電気信号が得られたときの時間である、請求項16記載の連想・推定記憶素子の使用方法。 The method of using the associative / estimated storage element according to claim 16, wherein the time t is a time when the output electric signal equal to or larger than a predetermined absolute value of conductance is obtained. 請求項1から15の何れかに記載の連想・推定記憶素子の前記入力端子に1以上の学習用の入力電気信号を、所定の複数の回数Nパルス入力する学習ステップと、
前記入力端子に入力電気信号を入力して、前記出力端子から連想・推定記憶の出力電気信号を得るステップを有する、連想・推定記憶素子の使用方法。
A learning step in which one or more input electrical signals for learning are input to the input terminal of the associative / estimated storage element according to any one of claims 1 to 15 a predetermined number of times in N pulses.
A method of using an associative / estimated storage element, which comprises a step of inputting an input electric signal to the input terminal and obtaining an output electric signal of associative / estimated storage from the output terminal.
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