JP2021045953A - Method for producing curable silicone sheet having hot melt property - Google Patents

Method for producing curable silicone sheet having hot melt property Download PDF

Info

Publication number
JP2021045953A
JP2021045953A JP2019237828A JP2019237828A JP2021045953A JP 2021045953 A JP2021045953 A JP 2021045953A JP 2019237828 A JP2019237828 A JP 2019237828A JP 2019237828 A JP2019237828 A JP 2019237828A JP 2021045953 A JP2021045953 A JP 2021045953A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
curable silicone
silicone sheet
component
mixture
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019237828A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP7424733B2 (en
Inventor
徹 今泉
Toru Imaizumi
徹 今泉
弘一 尾崎
Koichi Ozaki
弘一 尾崎
亮介 山崎
Ryosuke Yamazaki
亮介 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dow Toray Co Ltd
Original Assignee
Dow Toray Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dow Toray Co Ltd filed Critical Dow Toray Co Ltd
Publication of JP2021045953A publication Critical patent/JP2021045953A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7424733B2 publication Critical patent/JP7424733B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Extrusion Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

To provide a method for efficiently producing a curable silicone sheet having hot melt properties, excellent flatness and uniformity, and which may be substantially filler-less, and a method for producing a laminate that comprises the curable silicone sheet.SOLUTION: There is provided a method for producing a curable silicone sheet having hot melt properties, which comprises the steps of: 1 removing an organic solvent from a solution in which a solid organo-polysiloxane resin or the like is dispersed or dissolved at a temperature of 150°C or higher to obtain a hot-melt solid content; 2 adding all curing agents to the hot-melt solid content obtained in the step 1 and then kneading while heating and melting the same at a temperature of 120°C or lower; 3 laminating the heated and melted mixture obtained in the step 2 between films having at least one peeling surface; and 4 stretching the laminate obtained in the step 3 between rolls to form a curable silicone sheet having a specific film thickness.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、簡便であり、平坦性と均一性に優れるホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートを得ることができる製造方法、および、当該製造方法によって得ることができる、ホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートが少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層された構造を備えた積層体に関連する。 The present invention is a manufacturing method capable of obtaining a curable silicone sheet having a hot melt property which is simple and excellent in flatness and uniformity, and a curable property having a hot melt property which can be obtained by the manufacturing method. It relates to a laminate having a structure in which silicone sheets are laminated between films having at least one peeled surface.

硬化性シリコーン組成物は、硬化して、優れた耐熱性、耐寒性、電気絶縁性、耐候性、撥水性、透明性を有する硬化物を形成することから、幅広い産業分野で利用されている。こうした硬化性シリコーン組成物の硬化物は、一般に、他の有機材料と比較し変色しにくく、また、物理的物性の低下が小さいため、光学材料および半導体装置の封止剤としても適している。 The curable silicone composition is used in a wide range of industrial fields because it cures to form a cured product having excellent heat resistance, cold resistance, electrical insulation, weather resistance, water repellency, and transparency. A cured product of such a curable silicone composition is generally less likely to discolor than other organic materials, and has a small decrease in physical properties, so that it is also suitable as a sealing agent for optical materials and semiconductor devices.

本出願人は、特許文献1および特許文献2において、成型用のホットメルト性の硬化性粒状シリコーン組成物および反応性シリコーン組成物を提案している。これらのシリコーン組成物はいわゆるフェニルシリコーン樹脂からなり、メチルシリコーン樹脂と比較するとホットメルト性に優れ、かつ、硬化物の硬さや強度に優れるという利点を有するものである。 The applicant proposes a hot-melt curable granular silicone composition and a reactive silicone composition for molding in Patent Document 1 and Patent Document 2. These silicone compositions are made of a so-called phenyl silicone resin, and have the advantages of being excellent in hot melt property and being excellent in hardness and strength of the cured product as compared with the methyl silicone resin.

さらに、本件出願人らは、特許文献3〜5において、粗大粒子を含まない無機フィラーを硬化性粒状シリコーン組成物に使用することで、特に高温における強靭性や耐久性、溶融時のギャップフィル性、光反射率等を改善できることを提案している。 Furthermore, in Patent Documents 3 to 5, the Applicants used an inorganic filler containing no coarse particles in the curable granular silicone composition, thereby providing toughness and durability especially at high temperatures and gap fillability at the time of melting. , It is proposed that the light reflectance etc. can be improved.

一方、これらの硬化性粒状シリコーン組成物は、パワー半導体を含む様々な半導体用途への適用が求められるにあたり、これらの硬化性粒状シリコーン組成物を均一なホットメルト性の硬化性シリコーンシートとして利用することが求められる場合がある。しかしながら、硬化性粒状シリコーン組成物を通常の方法でシート状に成型しようとした場合、硬化性シリコーンシートの破損や欠陥を生じやすく、簡便な方法で、平坦性と均一性に優れるホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートを得る手段が求められていた。 On the other hand, these curable granular silicone compositions are required to be applied to various semiconductor applications including power semiconductors, and these curable granular silicone compositions are used as a uniform hot-melt curable silicone sheet. May be required. However, when an attempt is made to mold the curable granular silicone composition into a sheet by a usual method, the curable silicone sheet is liable to be damaged or defective, and a simple method can be used to obtain a hot melt property having excellent flatness and uniformity. There has been a demand for a means for obtaining a curable silicone sheet having.

一方、特許文献6にはシリコーン樹脂、オルガノポリシロキサン、シラン架橋剤、触媒および溶媒を含む成分を組み合わせること、揮発物を取り除くためにこの組合せを押出し装置に供給して縮合硬化型のホットメルトシリコーン接着剤組成物を得る方法および当該組成物を剥離ライナー間で成型する方法が記載されているが、特に熱硬化型のホットメルトシリコーン組成物については何ら記載されておらず、当該方法で熱硬化性シリコーン組成物等をシート状に成型しようとした場合、硬化性シリコーンシートの破損や欠陥を生じる場合がある。さらに、高温で当該製造方法を適用した場合、特に熱硬化型のホットメルトシリコーン組成物は硬化反応が進行してしまい、ホットメルト性を有するシート材料を得ることができない場合がある。 On the other hand, Patent Document 6 describes a combination of components containing a silicone resin, an organopolysiloxane, a silane cross-linking agent, a catalyst and a solvent, and supplies this combination to an extruder to remove volatile substances to provide a condensation-curing hot melt silicone. A method for obtaining an adhesive composition and a method for molding the composition between release liners are described, but nothing is described particularly for a thermosetting type hot melt silicone composition, and the method is thermosetting. When an attempt is made to mold a sex silicone composition or the like into a sheet, the curable silicone sheet may be damaged or defective. Further, when the production method is applied at a high temperature, a curing reaction may proceed particularly in a thermosetting type hot melt silicone composition, and a sheet material having hot melt properties may not be obtained.

これに加えて、上記の硬化性シリコーン組成物はその性質上、高濃度の無機フィラーを含有するものであるが、ホットメルト性の硬化性シリコーン組成物の用途は年々多様化しており、無機フィラー量が少ない、あるいは、無機フィラーを実質的に含まない、透明かつ均一な硬化性シリコーンシートについても、半導体を含む用途に適用される可能性がある。このため、無機フィラーあるいは硬化性粒状シリコーンを用いる必要がなく、硬化性シリコーンシートの膜厚を精密に制御し、かつボイドや欠陥を含まない透明なホットメルト性の硬化性シリコーンシートを簡便に生産する手段が求められている。 In addition to this, the above-mentioned curable silicone composition contains a high concentration of inorganic filler due to its nature, but the use of the hot-melt curable silicone composition is diversifying year by year, and the inorganic filler is used. Transparent and uniform curable silicone sheets that are small in quantity or substantially free of inorganic fillers may also be applied to applications involving semiconductors. Therefore, it is not necessary to use an inorganic filler or a curable granular silicone, the film thickness of the curable silicone sheet is precisely controlled, and a transparent hot-melt curable silicone sheet containing no voids or defects can be easily produced. There is a need for a way to do this.

国際公開第2016/136243号パンフレットInternational Publication No. 2016/136243 Pamphlet 特開2014−009322号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-09322 国際公開第2018/030286号パンフレットInternational Publication No. 2018/030286 Pamphlet 国際公開第2018/030287号パンフレットInternational Publication No. 2018/030287 Pamphlet 国際公開第2018/030288号パンフレットInternational Publication No. 2018/030288 Pamphlet 特表2011−525444号公報Japanese Patent Publication No. 2011-525444

本発明の目的は、ホットメルト性を有し、取扱い作業性および硬化特性に優れ、かつ、平坦性と均一性に優れ、必要に応じて機能性フィラーを含むことなく、透明性に優れる硬化性シリコーンシートを効率よく製造する方法を提供することにある。さらに、本発明は、当該硬化性シリコーンシートを含む積層体およびその製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to have hot melt property, excellent handling workability and curing properties, excellent flatness and uniformity, and if necessary, curability excellent in transparency without containing a functional filler. An object of the present invention is to provide a method for efficiently producing a silicone sheet. Furthermore, an object of the present invention is to provide a laminate containing the curable silicone sheet and a method for producing the same.

鋭意検討の結果、本発明者らは、以下の工程を備えることを特徴とする、ホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの製造方法により上記課題を解決できる事を見出し、本発明に到達した。
工程1:有機溶剤中に、室温で固体状のオルガノポリシロキサン樹脂、および、任意で鎖状のジオルガノポリシロキサンを分散乃至溶解させた溶液から、150℃以上の温度で有機溶剤の除去を行い、ホットメルト性の固形分を得る工程
工程2:工程1で得たホットメルト性の固形分に、すべての硬化剤を加えた後、120℃以下の温度で加熱溶融しながら混練する工程
工程3:工程2で得た加熱溶融後の混合物を、少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層する工程
工程4:工程3で得た積層体をロール間で延伸し、特定の膜厚を有する硬化性シリコーンシートを成型する工程
As a result of diligent studies, the present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by a method for producing a curable silicone sheet having hot melt property, which comprises the following steps, and arrived at the present invention.
Step 1: The organic solvent is removed from a solution in which a solid organopolysiloxane resin at room temperature and optionally a chain diorganopolysiloxane are dispersed or dissolved in an organic solvent at a temperature of 150 ° C. or higher. Step 2: Obtaining hot-melting solids Step 2: After adding all the curing agents to the hot-melting solids obtained in Step 1, kneading while heating and melting at a temperature of 120 ° C. or lower 3 : The mixture obtained in step 2 after heating and melting is laminated between films having at least one peeling surface. Step 4: The laminate obtained in step 3 is stretched between rolls to have a specific film thickness. The process of molding a curable silicone sheet

上記の硬化性シリコーンシートの製造方法において、
工程2で得た加熱溶融後の混合物の150℃での高化式フローテスターにより測定される溶融粘度が1〜1,000Pasの範囲であり、
工程3において、当該加熱溶融後の混合物を少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層する工程が、当該加熱溶融後の混合物をダイ及びノズルを用いてフィルム状または紐状に成型しながら吐出して、少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層する工程であり、
さらに、工程4の前工程としてまたは工程4において、工程3で得た積層体全体を冷却または80〜120℃の間で温度調整する工程を含む製造方法が好ましい。特に、当該製造方法は、加熱溶融後の混合物の溶融粘度が低い場合、ダイにより当該混合物を仮成型できる点で有用である。
In the above method for producing a curable silicone sheet,
The melt viscosity of the mixture after heating and melting obtained in step 2 measured by an elevated flow tester at 150 ° C. is in the range of 1 to 1,000 Pas.
In step 3, the step of laminating the mixture after heating and melting between films having at least one peeling surface ejects the mixture after heating and melting while molding the mixture into a film or a string using a die and a nozzle. Then, it is a step of laminating between films having at least one peeling surface.
Further, a manufacturing method including a step of cooling the entire laminate obtained in the step 3 or adjusting the temperature between 80 and 120 ° C. as a pre-step of the step 4 or in the step 4 is preferable. In particular, the production method is useful in that when the melt viscosity of the mixture after heating and melting is low, the mixture can be tentatively molded by a die.

上記の硬化性シリコーンシートの製造方法において、
工程2で得た混合物全体の軟化点が200℃以下であり、
工程2が、工程1で得た混合物を当該混合物の軟化点以上の温度に加熱する工程であり、
工程3において、当該加熱溶融後の混合物を少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層する工程が、当該加熱溶融後の混合物を固体状のまま吐出し、少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層する工程である製造方法が好ましい。
なお、固体状のまま吐出した混合物を含む積層体について、工程4で膜厚調整を行う場合、膜厚調整ロールは、さらに、温度調節機能を備えることが好ましく、当該温度調節機能を備えたロール延伸により、得られる硬化性シリコーンシートの膜厚を安定させる製造方法が好ましい。特に、当該製造方法は、加熱溶融後の混合物の溶融粘度が高い場合、仮成型を行うことなくシート状に成型できる点で有用である。
In the above method for producing a curable silicone sheet,
The softening point of the entire mixture obtained in step 2 is 200 ° C. or lower.
Step 2 is a step of heating the mixture obtained in step 1 to a temperature equal to or higher than the softening point of the mixture.
In step 3, the step of laminating the mixture after heating and melting between films having at least one peeling surface ejects the mixture after heating and melting in a solid state and has a film having at least one peeling surface. A manufacturing method that is a step of laminating between them is preferable.
When the film thickness of the laminate containing the mixture discharged in the solid state is adjusted in step 4, the film thickness adjusting roll preferably further has a temperature adjusting function, and the roll having the temperature adjusting function is provided. A manufacturing method that stabilizes the film thickness of the obtained curable silicone sheet by stretching is preferable. In particular, the production method is useful in that when the melt viscosity of the mixture after heating and melting is high, it can be molded into a sheet shape without performing temporary molding.

上記の硬化性シリコーンシートの製造方法において、工程2〜4が連続した工程であり、工程2の開始から工程4の終了までの時間が30分以内であってよい。特に、工程3および工程4は連続的かつ一体化した工程であってよく、例えば、工程2で得た加熱溶融後の混合物は、ロール間の直下において、少なくとも1の剥離面を備えた二つのフィルム間に吐出乃至塗布されることで積層され、それと同時にロール間の間隙調整により、特定の膜厚に延伸成型されていてもよい。 このように、工程3および工程4が実質的に統合された工程を有する製造方法は、上記の製造方法の範囲内に含まれる。 In the above method for producing a curable silicone sheet, steps 2 to 4 are continuous steps, and the time from the start of step 2 to the end of step 4 may be 30 minutes or less. In particular, steps 3 and 4 may be continuous and integrated steps, for example, the mixture after heating and melting obtained in step 2 has two peeled surfaces immediately below between the rolls. It may be laminated by being discharged or applied between the films, and at the same time, it may be stretch-molded to a specific film thickness by adjusting the gap between the rolls. As described above, the manufacturing method having the steps in which the steps 3 and 4 are substantially integrated is included in the scope of the above-mentioned manufacturing method.

上記の硬化性シリコーンシートの製造方法において、さらに、工程4で得た硬化性シリコーンシートを含む積層体を裁断する工程を含んでもよい。 The above-mentioned method for producing a curable silicone sheet may further include a step of cutting a laminate containing the curable silicone sheet obtained in step 4.

上記の硬化性シリコーンシートの製造方法において、工程3において、工程2で得た加熱溶融後の混合物を、少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層する工程が、当該加熱溶融後の混合物をT型ダイおよびストランドダイから選ばれるダイ、及びシングルノズルおよびマルチノズルから選ばれるノズルを用いてフィルム状または紐状に成型しながら吐出して、少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層する工程であってよい。 In the above method for producing a curable silicone sheet, in step 3, the step of laminating the mixture after heating and melting obtained in step 2 between films having at least one peeling surface is a step of laminating the mixture after heating and melting. Using a die selected from a T-type die and a strand die, and a nozzle selected from a single nozzle and a multi-nozzle, the film is ejected while being molded into a film or string shape, and laminated between films having at least one peeling surface. It may be a process.

上記の硬化性シリコーンシートの製造方法において、工程1におけるオルガノポリシロキサン樹脂が、RSiO3/2またはSiO4/2で表されるシロキサン単位(Rはアリール基)を全シロキサン単位の少なくとも20モル%以上含有するオルガノポリシロキサン樹脂であり、鎖状のジオルガノポリシロキサンがRRSiO2/2で表されるシロキサン単位(Rはメチル基)を全シロキサン単位の少なくとも90モル%以上含有するジオルガノポリシロキサンであってよい。 In the above method for producing a curable silicone sheet, the organopolysiloxane resin in step 1 contains at least 20 mol% of the siloxane unit (R is an aryl group) represented by RSiO 3/2 or SiO 4/2 as the total siloxane unit. It is an organopolysiloxane resin containing the above, and the chain diorganopolysiloxane contains at least 90 mol% or more of the siloxane unit (R 2 is a methyl group) represented by RR 2 SiO 2/2. It may be an organopolysiloxane.

上記の硬化性シリコーンシートの製造方法において、工程2により得られる混合物が、硬化により、
25℃における貯蔵弾性率(G')の値が2000MPa以下であり、
150℃における貯蔵弾性率(G')の値が100MPa以下であり、
周波数1.0Hzにおける貯蔵弾性率/損失弾性率(G'/G'')で表される損失正接(tanδ)のピーク値が0.40以上である硬化物を与えることが好ましい。
In the above method for producing a curable silicone sheet, the mixture obtained in step 2 is cured by curing.
The storage elastic modulus (G') at 25 ° C. is 2000 MPa or less.
The storage elastic modulus (G') at 150 ° C. is 100 MPa or less.
It is preferable to give a cured product having a peak value of loss tangent (tan δ) represented by storage elastic modulus / loss elastic modulus (G'/ G'') at a frequency of 1.0 Hz of 0.40 or more.

上記の硬化性シリコーンシートの製造方法において、
工程2により得られる混合物が、硬化により、
室温から200℃までの成型温度におけるMDR(Moving Die Rheom eter)により測定される(1)最大トルク値が50dN・m未満であり、(2)最大トルク値に到達したときに、貯蔵トルク値/損失トルク値の比で表される損失正接(tanδ)の値が0.2未満である硬化物を与えることが好ましい。
In the above method for producing a curable silicone sheet,
The mixture obtained in step 2 is cured by curing.
(1) The maximum torque value measured by MDR (Moving Die Ratio) at the molding temperature from room temperature to 200 ° C. is less than 50 dBN · m, and (2) When the maximum torque value is reached, the storage torque value / It is preferable to give a cured product in which the value of the loss tangent (tan δ) represented by the ratio of the loss torque values is less than 0.2.

上記の硬化性シリコーンシートの製造方法において、工程2により得られる混合物が、混合物全体における機能性フィラーの含有量が5.0質量%未満であってよい。特に、本発明の製造方法は、機能性フィラーを実質的に含まず、透明性に優れ、ボイドや欠陥を含まない硬化性シリコーンシートの製造方法として好適である。 In the above method for producing a curable silicone sheet, the mixture obtained in step 2 may have a functional filler content of less than 5.0% by mass in the entire mixture. In particular, the production method of the present invention is suitable as a production method for a curable silicone sheet that does not substantially contain a functional filler, has excellent transparency, and does not contain voids or defects.

上記の硬化性シリコーンシートの製造方法において、硬化性シリコーンシートは、コンプレッション成型用、または真空ラミネーション用、プレス成型用の硬化性シリコーンシートであってよく、特に、コンプレッション成型用または真空ラミネーション用の硬化性シリコーンシートであることが好ましい。 In the above method for producing a curable silicone sheet, the curable silicone sheet may be a curable silicone sheet for compression molding, vacuum lamination, or press molding, and in particular, curing for compression molding or vacuum lamination. It is preferably a sex silicone sheet.

上記の硬化性シリコーンシートの製造方法において、硬化性シリコーンシートは、ホットメルト性フィルム接着剤であってよい。 In the above method for producing a curable silicone sheet, the curable silicone sheet may be a hot melt film adhesive.

上記の硬化性シリコーンシートの製造方法において、硬化性シリコーンシートは、実質的に平坦な、厚さ10〜2000μmの硬化性シリコーンシートであってよい。 In the above method for producing a curable silicone sheet, the curable silicone sheet may be a substantially flat curable silicone sheet having a thickness of 10 to 2000 μm.

また、本発明の課題は、オルガノポリシロキサン樹脂、硬化剤、および任意で鎖状のジオルガノポリシロキサンを含有してなり、実質的に平坦な、厚さ10〜2000μmのホットメルト性を有し、機能性フィラーの含有量が5.0質量%未満である硬化性シリコーンシートが、少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層された構造を備える、積層体によって、解決される。当該フィルムは、共に剥離面を備えてもよく、かつ、好ましい。 Another object of the present invention is to contain an organopolysiloxane resin, a curing agent, and optionally a chain of diorganopolysiloxane, and have a substantially flat hot melt property having a thickness of 10 to 2000 μm. It is solved by a laminate comprising a structure in which a curable silicone sheet having a functional filler content of less than 5.0% by mass is laminated between films having at least one peeling surface. Both of the films may have a peeling surface, and are preferable.

上記積層体は、その剥離面が、1分子中にケイ素原子に結合した含フッ素置換基を有する1種類以上のオルガノポリシロキサンを含む硬化性オルガノポリシロキサン組成物を硬化することにより得られる剥離コーティング層であり、当該剥離面を備えたフィルムの少なくとも一方の厚みが50μm以上であることが好ましい。当該フッ素置換基は、フルオロアルキル基およびパーフルオロポリエーテル基から選ばれる1種類以上の含フッ素置換基であることが好ましい。また、硬化性オルガノポリシロキサンは、1分子中にケイ素原子に結合した含フッ素置換基および硬化反応性の官能基を含む1種類以上のオルガノポリシロキサンであることが好ましい。 The peeled body is a peeling coating obtained by curing a curable organopolysiloxane composition containing one or more types of organopolysiloxane having a fluorine-containing substituent bonded to a silicon atom in one molecule. It is a layer, and the thickness of at least one of the films having the peeled surface is preferably 50 μm or more. The fluorine substituent is preferably one or more kinds of fluorine-containing substituents selected from a fluoroalkyl group and a perfluoropolyether group. Further, the curable organopolysiloxane is preferably one or more kinds of organopolysiloxanes containing a fluorine-containing substituent bonded to a silicon atom and a curing-reactive functional group in one molecule.

上記積層体の製造方法は、その工程において、上記の硬化性シリコーンシートの製造方法を含むことが好ましい。 The method for producing the laminate preferably includes the method for producing the curable silicone sheet in the step.

本発明により、平坦性と均一性に優れる硬化性シリコーンシートを効率よく製造する方法を提供することができる。当該、硬化性シリコーンシートは、硬化性シリコーン組成物からなり、ホットメルト性を有し、取扱い作業性および硬化特性に優れると共に、好ましくは、溶融時のギャップフィル性に優れ、応力緩和に優れた柔軟な硬化物を形成することができる。さらに、本発明の硬化性シリコーンシートは、硬化性シリコーン組成物中の機能性無機フィラーの種類を変更することにより、硬化物に低線膨張率化、熱伝導率の付与、光反射性などを付与することができる一方、機能性フィラーを実質的に含有しない組成物を設計し、かつ、当該組成物に優れた透明性を付与することも可能である。さらに、本発明により、ホットメルト性フィルム接着剤を含む剥離性積層体等の、当該硬化性シリコーンシートを含む積層体およびその製造方法を提供することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a method for efficiently producing a curable silicone sheet having excellent flatness and uniformity. The curable silicone sheet is made of a curable silicone composition, has hot melt properties, is excellent in handling workability and curable properties, and is preferably excellent in gap fill property at the time of melting and excellent in stress relaxation. A flexible cured product can be formed. Further, in the curable silicone sheet of the present invention, by changing the type of the functional inorganic filler in the curable silicone composition, the cured product is provided with a low linear expansion rate, thermal conductivity, light reflectivity, and the like. On the other hand, it is also possible to design a composition that does not substantially contain a functional filler, and to impart excellent transparency to the composition. Furthermore, according to the present invention, it is possible to provide a laminate containing the curable silicone sheet, such as a peelable laminate containing a hot melt film adhesive, and a method for producing the same.

実施例1の硬化性シリコーンシートの製造装置の部分的な構成(押し出し機の部分まで)を表す図である。It is a figure which shows the partial structure (up to the part of the extrusion machine) of the manufacturing apparatus of the curable silicone sheet of Example 1. 実施例1の硬化性シリコーンシートの製造装置の全体構成(シート化を含む部全体)を表す図である。It is a figure which shows the whole structure (the whole part including the sheet formation) of the manufacturing apparatus of the curable silicone sheet of Example 1.

[硬化性シリコーンシートの製造方法]
本発明にかかる硬化性シリコーンシートは、ホットメルト性を有するものであり、オルガノポリシロキサン樹脂、および硬化剤を含むことを必須とし、必要に応じて鎖状のオルガノポリシロキサンを含んでもよいことを特徴とし、本発明の製造方法は、以下の工程1〜4を含むものである。
工程1:有機溶剤中に、室温で固体状のオルガノポリシロキサン樹脂、および、任意で鎖状のジオルガノポリシロキサンを分散乃至溶解させた溶液から、150℃以上の温度で有機溶剤の除去を行い、ホットメルト性の固形分を得る工程
工程2:工程1で得たホットメルト性の固形分に、すべての硬化剤を加えた後、120℃以下の温度で加熱溶融しながら混練する工程
工程3:工程2で得た加熱溶融後の混合物を、少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層する工程
工程4:工程3で得た積層体をロール間で延伸し、特定の膜厚を有する硬化性シリコーンシートを成型する工程
[Manufacturing method of curable silicone sheet]
The curable silicone sheet according to the present invention has a hot-melt property, and it is essential that it contains an organopolysiloxane resin and a curing agent, and may contain a chain-like organopolysiloxane if necessary. Characteristically, the production method of the present invention includes the following steps 1 to 4.
Step 1: The organic solvent is removed from a solution in which a solid organopolysiloxane resin at room temperature and optionally a chain diorganopolysiloxane are dispersed or dissolved in an organic solvent at a temperature of 150 ° C. or higher. Step 2: Obtaining hot-melting solids Step 2: After adding all the curing agents to the hot-melting solids obtained in Step 1, kneading while heating and melting at a temperature of 120 ° C. or lower 3 : The mixture obtained in step 2 after heating and melting is laminated between films having at least one peeling surface. Step 4: The laminate obtained in step 3 is stretched between rolls to have a specific film thickness. The process of molding a curable silicone sheet

ここで、「ホットメルト性を有する」とは軟化点が50℃〜200℃の範囲内であり、加熱により軟化ないし流動する性質を有することをいう。また、本発明にかかる硬化性シリコーンシートは、その構成成分であるオルガノポリシロキサン樹脂のホットメルト性に関わらず、混合物としてホットメルト性を有すればよい。なお、本発明に係る硬化性シリコーンシートは、機能性フィラーを含んでもよいが、実質的に機能性フィラーを含まない構成であってもよく、かつ好ましい。 Here, "having a hot melt property" means that the softening point is in the range of 50 ° C. to 200 ° C. and has the property of softening or flowing by heating. Further, the curable silicone sheet according to the present invention may have a hot melt property as a mixture regardless of the hot melt property of the organopolysiloxane resin which is a constituent of the curable silicone sheet. The curable silicone sheet according to the present invention may contain a functional filler, but may have a structure that does not substantially contain a functional filler, and is preferable.

以下の説明において、「室温」とは25℃を意味する。 In the following description, "room temperature" means 25 ° C.

[工程1]
上記の工程1は硬化剤を除くホットメルト性のシリコーン成分、すなわち、オルガノポリシロキサン樹脂、および任意で鎖状のオルガノポリシロキサンの混合工程であり、有機溶剤中にこれらの成分を分散乃至溶解させた溶液から、150℃以上の高温で有機溶媒を除去する工程である。これら各成分については、後述する。なお、本工程は、機能性フィラーの含有量が少ない、あるいは機能性フィラーを実質的に含有せず、透明性と均一性に優れる硬化性シリコーンシートの製造に特に適するものである。
[Step 1]
The above step 1 is a step of mixing a hot-melt silicone component excluding a curing agent, that is, an organopolysiloxane resin and optionally a chain-like organopolysiloxane, and these components are dispersed or dissolved in an organic solvent. This is a step of removing the organic solvent from the solution at a high temperature of 150 ° C. or higher. Each of these components will be described later. It should be noted that this step is particularly suitable for producing a curable silicone sheet having a low content of the functional filler or substantially no functional filler and having excellent transparency and uniformity.

工程1により与えられる混合物は、室温で固体のオルガノポリシロキサン樹脂、および、任意で鎖状のジオルガノポリシロキサンを含有してなり、混合物全体として、ホットメルト性を有するが、この段階で硬化剤を含まないので、熱硬化性を有しないため、工程1において、有機溶剤を除去するために150℃以上の高温で取り扱っても、最終的に得られる硬化性シリコーンシートのホットメルト性および硬化性は損なわれない。当該混合物は、25℃において非流動性である。ここで、非流動性とは、無負荷の状態で変形・流動しないことを意味し、好適には、シート状に成型した場合に、25℃かつ無負荷の状態で変形・流動しないものである。このような非流動性は、例えば、25℃のホットプレート上に成型した本組成物を置き、無負荷または一定の加重をかけても、実質的に変形・流動しないことにより評価可能である。25℃において非流動性であると、該温度での形状保持性が良好で、固体として取り扱うことができる。 The mixture given in step 1 contains an organopolysiloxane resin that is solid at room temperature and optionally a chain of diorganopolysiloxane, and the mixture as a whole has hot melt properties, but at this stage the curing agent. Since it does not contain thermosetting, it does not have thermosetting property. Therefore, even if it is handled at a high temperature of 150 ° C. or higher in order to remove the organic solvent in step 1, the finally obtained curable silicone sheet has hot melt property and curability. Is not impaired. The mixture is non-fluid at 25 ° C. Here, the non-fluidity means that it does not deform or flow in a no-load state, and preferably, when molded into a sheet, it does not deform or flow in a state of 25 ° C. and no load. .. Such non-fluidity can be evaluated, for example, by placing the molded composition on a hot plate at 25 ° C. and substantially not deforming or flowing even when no load or a constant load is applied. When it is non-fluid at 25 ° C., it has good shape retention at that temperature and can be treated as a solid.

工程1により与えられる混合物の軟化点は200℃以下であり、150℃以下であることが好ましい。このような軟化点は、ホットプレート上で、100グラム重の荷重で上から10秒間押し続け、荷重を取り除いた後、組成物の変形量を測定した場合、高さ方向の変形量が1mm以上となる温度を意味する。 The softening point of the mixture given in step 1 is 200 ° C. or lower, preferably 150 ° C. or lower. Such a softening point is pressed on a hot plate with a load of 100 grams for 10 seconds from above, and when the amount of deformation of the composition is measured after removing the load, the amount of deformation in the height direction is 1 mm or more. It means the temperature that becomes.

工程1により与えられる混合物の軟化点が200℃以下であり、後述する工程2において混合物全体を当該混合物の軟化点以上の温度に加熱することにより、混合物を加熱溶融して一定の流動性を与えることができる。当該軟化物または溶融物を成型することで、ホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートを得ることができる。 The softening point of the mixture given in step 1 is 200 ° C. or lower, and by heating the entire mixture to a temperature equal to or higher than the softening point of the mixture in step 2 described later, the mixture is heated and melted to give a constant fluidity. be able to. By molding the softened product or melt, a curable silicone sheet having hot melt property can be obtained.

工程1において、室温で固体状のオルガノポリシロキサン樹脂、および、任意で鎖状のジオルガノポリシロキサンは、有機溶剤中に分散乃至溶解させた溶液の状態で使用される。室温で固体状のオルガノポリシロキサン樹脂はそれ自体では室温下で非流動性であり、任意成分である鎖状のジオルガノポリシロキサンは室温で液状ないし可塑度を有する半固体状であるが、有機溶剤中に分散乃至溶解させた状態であると、これらの成分を均一な溶液系で取り扱うことができ、有機溶剤を除去することで、オルガノポリシロキサン樹脂、および、任意で鎖状のジオルガノポリシロキサンを含む、ホットメルト性の固体成分を容易に得ることができる。なお、当該工程1では、有機溶剤の除去に悪影響を及ぼさず、かつ、高温における硬化反応が進行しない範囲で、硬化剤以外の任意成分(機能性フィラーを含んでもよいが、実質的に含まないことが特に好ましい)を含んでもよい。また、硬化剤を除いた、工程1で得られるホットメルト性の固体成分である混合物は、実際の製造工程において「コンパウンド」と呼ばれることがある。 In step 1, the organopolysiloxane resin solid at room temperature and optionally the chain diorganopolysiloxane are used in the form of a solution dispersed or dissolved in an organic solvent. Organopolysiloxane resin, which is solid at room temperature, is non-fluid by itself at room temperature, and chain diorganopolysiloxane, which is an optional component, is semi-solid with liquid or plasticity at room temperature, but is organic. When dispersed or dissolved in a solvent, these components can be handled in a uniform solution system, and by removing the organic solvent, an organopolysiloxane resin and optionally a chain diorganopoly can be used. A hot-melting solid component containing siloxane can be easily obtained. In the step 1, any component other than the curing agent (may contain a functional filler, but is substantially not contained) as long as it does not adversely affect the removal of the organic solvent and the curing reaction at a high temperature does not proceed. Is particularly preferable). Further, the mixture which is a hot-melting solid component obtained in step 1 excluding the curing agent is sometimes called "compound" in the actual manufacturing process.

室温で固体状のオルガノポリシロキサン樹脂、および、任意で鎖状のジオルガノポリシロキサン、その他任意の成分(ただし、硬化剤を除く)を、有機溶剤中に分散乃至溶解する工程は、代表的には、機械力を用いる混合乃至攪拌装置を使用する工程である。本発明で使用されるオルガノポリシロキサン樹脂および鎖状のジオルガノポリシロキサンは有機溶剤に可溶である。さらに、オルガノポリシロキサン樹脂は、工業的には有機溶剤に溶解した状態で合成されることが一般的である。従って、オルガノポリシロキサン樹脂を有機溶媒中に溶解させた溶液を、前記の鎖状のオルガノポリシロキサンと、溶液系で物理的に均一に混合することは比較的容易である。機械力を用いる混合乃至攪拌装置としては特に制限されるものではないが、加熱・冷却機能を備えたニーダー、バンバリーミキサー、ロスミキサー、ホバートミキサー、デンタルミキサー、プラネタリミキサー、ニーダーミキサー、ホモミキサー、パドルミキサー、ラインミキサー、ホモディスパー、プロペラ攪拌機、真空式練合機、高速ディスパーザー、ラボプラストミルおよびヘンシェルミキサー等の回分(バッチ)式装置が挙げられる。 A typical step of dispersing or dissolving an organopolysiloxane resin solid at room temperature, optionally a chain of diorganopolysiloxane, and any other component (excluding a curing agent) in an organic solvent is typical. Is a step of using a mixing or stirring device using mechanical force. The organopolysiloxane resin and chain diorganopolysiloxane used in the present invention are soluble in organic solvents. Further, the organopolysiloxane resin is industrially generally synthesized in a state of being dissolved in an organic solvent. Therefore, it is relatively easy to physically and uniformly mix the solution of the organopolysiloxane resin dissolved in the organic solvent with the above-mentioned chain organopolysiloxane in a solution system. The mixing or stirring device using mechanical power is not particularly limited, but a kneader, a Banbury mixer, a loss mixer, a hobart mixer, a dental mixer, a planetary mixer, a kneader mixer, a homo mixer, and a paddle having a heating / cooling function are not particularly limited. Examples thereof include batch type devices such as mixers, line mixers, homodispers, propeller stirrers, vacuum kneaders, high-speed dispersers, lab plast mills and Henschel mixers.

有機溶剤を含む上記の混合物を150℃以上、好適には200℃以上の温度で加熱処理しながら有機溶剤の除去を行うことで、ホットメルト性の固形分を得ることができる。ここで、有機溶剤の除去は、均一な混合を行いながら行うことが好ましく、加熱処理手段を備えた、上記の機械力を用いる混合乃至攪拌装置において行うことができるが、本発明の工程1は特に、加熱機能を備えた単軸押出機、2軸押出機、連続ニーダー等の連続式の加熱混練装置を用いることが特に好ましい。好適には、有機溶剤を含む上記の混合物を200℃以上に加熱した押出機等の連続式の加熱混練装置で処理することで、有機溶剤を除去し、ホットメルト性の固体として連続的に回収することが可能である。 A hot-melt solid content can be obtained by removing the organic solvent while heat-treating the above mixture containing the organic solvent at a temperature of 150 ° C. or higher, preferably 200 ° C. or higher. Here, the removal of the organic solvent is preferably carried out while performing uniform mixing, and can be carried out in the above-mentioned mixing or stirring device using mechanical force provided with heat treatment means. In particular, it is particularly preferable to use a continuous heating and kneading device such as a single-screw extruder, a twin-screw extruder, or a continuous kneader having a heating function. Preferably, the above mixture containing the organic solvent is treated with a continuous heat-kneading device such as an extruder heated to 200 ° C. or higher to remove the organic solvent and continuously recover as a hot-melt solid. It is possible to do.

なお、単に有機溶剤を除去することを目的とする場合、上記の混合物を150〜200℃程度で処理することで十分であるが、本発明においては、特に、200℃以上の温度で処理することで本混合物から後述するオルガノポリシロキサン樹脂等に由来する揮発成分を可能な限り除去することが可能である。従って、工程1は、200℃以上の温度で、有機溶剤およびその他のオルガノポリシロキサン樹脂等に由来する揮発成分の除去を行う工程であることが好ましい。特に、工程1においてこれらの揮発成分の除去を行うことで、得られるホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートを硬化させてなる硬化物の物理的性質を、さらに改善できる場合がある。 If the purpose is simply to remove the organic solvent, it is sufficient to treat the above mixture at about 150 to 200 ° C., but in the present invention, it is particularly treated at a temperature of 200 ° C. or higher. It is possible to remove as much as possible the volatile components derived from the organopolysiloxane resin and the like, which will be described later, from this mixture. Therefore, step 1 is preferably a step of removing volatile components derived from an organic solvent and other organopolysiloxane resin at a temperature of 200 ° C. or higher. In particular, by removing these volatile components in step 1, the physical properties of the cured product obtained by curing the obtained curable silicone sheet having hot melt property may be further improved.

工程1において、有機溶剤およびその他のオルガノポリシロキサン樹脂等に由来する揮発成分の除去を行う処理は、1atm以下の減圧条件下(好適には真空減圧下)であってもよく、1atmの常圧下であってもよい。特に、工程1において、押出機等の連続式の加熱混練装置を使用し、その内部を1atm以下に減圧してもよく、常圧で使用してもよい。 In step 1, the treatment for removing the volatile components derived from the organic solvent and other organopolysiloxane resin or the like may be under a reduced pressure condition of 1 atm or less (preferably under vacuum reduced pressure) under 1 atm of normal pressure. It may be. In particular, in step 1, a continuous heating and kneading device such as an extruder may be used, and the inside thereof may be depressurized to 1 atm or less, or may be used at normal pressure.

[工程2]
工程2は工程1で得た25℃において非流動のオルガノポリシロキサン樹脂と鎖状のオルガノポリシロキサンとの混合物に、すべての硬化剤を加えた後、一定以下の温度で加熱しながら、混錬する工程であり、硬化剤の存在下、硬化反応を進行させることなく各原料を混錬し、最終的にホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートを得るために、当該工程における温度管理が重要な要素となる。また、当該工程2開始後の熱履歴、特に、高温に暴露する時間を短時間に抑えることが、最終的に得られる硬化性シリコーンシートの硬化性を維持乃至改善することができる。なお、工程2は、後述する気泡を組成物中から除去するため、真空ポンプ等の脱気機構により、脱気条件下で行うことが好ましい。
[Step 2]
In step 2, all the curing agents are added to the mixture of the organopolysiloxane resin that is non-fluid at 25 ° C. and the chain-like organopolysiloxane obtained in step 1, and then kneaded while heating at a temperature below a certain level. In order to knead each raw material in the presence of a curing agent without advancing the curing reaction and finally obtain a curable silicone sheet having hot melt property, temperature control in the process is important. Become an element. Further, by suppressing the heat history after the start of the step 2, particularly the time of exposure to a high temperature for a short time, the curability of the finally obtained curable silicone sheet can be maintained or improved. In addition, in order to remove air bubbles described later from the composition, step 2 is preferably performed under degassing conditions by a degassing mechanism such as a vacuum pump.

工程2は、工程1で説明した回分(バッチ)式装置であって温度調節機構、好ましくはさらに脱気機構を備える混合乃至攪拌装置においても実施可能であるが、連続的に添加物を何点かに分けて投入できるという観点から単軸押出機、2軸押出機、連続ニーダー等の連続式の加熱混練装置を使用することが好ましい。特に、温度調節機構及び脱気機構を備える2軸押出機の使用が好適である。 Step 2 can be carried out in the batch type apparatus described in Step 1 and can also be carried out in a mixing or stirring apparatus provided with a temperature control mechanism, preferably a degassing mechanism, but a number of additives are continuously added. From the viewpoint that it can be charged separately, it is preferable to use a continuous heat kneading device such as a single-screw extruder, a twin-screw extruder, and a continuous kneader. In particular, it is preferable to use a twin-screw extruder equipped with a temperature control mechanism and a degassing mechanism.

工程2の前段階である工程1において、150℃以上に加熱されたホットメルト性の混合物(コンパウンド)が得られる。当該混合物はホットメルト性の固形分であり、室温では流動性を有さず、有機溶剤およびその他の揮発成分を含まない。さらに、当該混合物は、150℃以上の温度において流動性を有することから、工程1の後に特段の冷却操作等を行わない限り、そのまま工程2における混練装置、好適には、2軸押出機等の連続式の加熱混練装置に供給(フィード)することが可能である。一方、工程1と工程2を切り離す場合、得られたホットメルト性の混合物(コンパウンド)を再加熱して溶融させながら、工程2で使用する混錬機に供給するが、この方法としては後述のバルクメルターの使用が挙げられる。 In step 1, which is a pre-step of step 2, a hot-meltable mixture (compound) heated to 150 ° C. or higher is obtained. The mixture is a hot-melt solid, non-fluid at room temperature and free of organic solvents and other volatile components. Further, since the mixture has fluidity at a temperature of 150 ° C. or higher, the kneading device in step 2, preferably a twin-screw extruder or the like, is used as it is unless a special cooling operation or the like is performed after step 1. It is possible to supply (feed) to a continuous heating and kneading device. On the other hand, when the step 1 and the step 2 are separated, the obtained hot-meltable mixture (compound) is reheated and melted while being supplied to the kneader used in the step 2. This method will be described later. The use of bulk melters can be mentioned.

工程2において、ホットメルト性の固形分を加熱混練装置に供給(フィード)する手段は特に制限されないが、温度調節手段(具体的には、加熱・冷却機構を有するタンクおよび温度の維持管理を目的とするジャケットが挙げられる)を有する定量ポンプを用いることで、2軸押出機等の連続式の加熱混練装置に単位時間当たり一定量のホットメルト性の固形分を供給(フィード)することができる。定量ポンプにおいて当該固形分がその軟化点以上、好適には150℃以上に温度管理されていれば、当該ホットメルト性の固形分は加熱溶融した流動性のある状態で、加熱混練装置に供給(フィード)される。 In step 2, the means for supplying (feeding) the hot-melting solid content to the heat-kneading apparatus is not particularly limited, but the purpose is to maintain the temperature control means (specifically, the tank having the heating / cooling mechanism and the temperature). By using a metering pump having (the jacket mentioned above), it is possible to supply (feed) a constant amount of hot-melt solids per unit time to a continuous heat-kneading device such as a twin-screw extruder. .. If the temperature of the solid content is controlled to be equal to or higher than the softening point, preferably 150 ° C. or higher in the metering pump, the hot-melt solid content is supplied to the heat-kneading apparatus in a fluid state of being heated and melted ( (Feed).

本発明の工程2においては、特に、Nordson社製のバルクメルターを用いることにより、簡便に、2軸押出機等の連続式の加熱混練装置に単位時間当たり一定量のホットメルト性の固形分を供給することができる。 In step 2 of the present invention, in particular, by using a bulk melter manufactured by Nordson, a constant amount of hot-melt solid content per unit time can be easily applied to a continuous heat-kneading device such as a twin-screw extruder. Can be supplied.

本発明の工程2は、上記のホットメルト性の固形分に対し、硬化剤を添加する工程を含む。好適には、2軸押出機等の連続式の加熱混練装置において、工程1で得たホットメルト性の固形分(室温で固体状のオルガノポリシロキサン樹脂および任意で鎖状のオルガノポリシロキサンを含む混合物)は、その流動性を維持した状態で混錬装置内を押し出されていくが、その際に、別のラインから硬化剤が単位時間当たり一定量ずつ装置内にフィードされることで、工程1で得たホットメルト性の固形分と硬化剤が一定の質量比で混錬される。 Step 2 of the present invention includes a step of adding a curing agent to the above-mentioned hot-melting solid content. Preferably, in a continuous heat-kneading apparatus such as a twin-screw extruder, the hot-melt solid content (organopolysiloxane resin solid at room temperature and optionally chain organopolysiloxane) obtained in step 1 is contained. The mixture) is extruded into the kneading device while maintaining its fluidity, and at that time, a fixed amount of the curing agent is fed into the device from another line per unit time, so that the process The hot-melting solid content obtained in 1 and the curing agent are kneaded at a constant mass ratio.

次いで、オルガノポリシロキサン樹脂および任意で鎖状のオルガノポリシロキサンとの混合物を押し出し機内で流動させながら押し出していき、別ラインから定量ポンプを用いて、硬化剤を定量フィードし、溶融混錬を開始する。なお、硬化剤を投入する定量ポンプは硬化剤の量および粘度により、ギアポンプ、プランジャーポンプ、プレスポンプ等を適宜選択して利用すればよく、定量供給性を有するポンプであれば特に制限されるものではない。 Next, a mixture of the organopolysiloxane resin and optionally a chain of organopolysiloxane is extruded while flowing in the extruder, and the curing agent is quantitatively fed from another line using a metering pump to start melt kneading. To do. The metering pump into which the curing agent is charged may be used by appropriately selecting a gear pump, a plunger pump, a press pump, etc. depending on the amount and viscosity of the curing agent, and is particularly limited as long as it has a quantitative supply property. It's not a thing.

工程2における硬化剤の供給ラインは1つでも、2つ以上の供給ラインに分けてもよい。例えば、本発明に係るホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートが、ヒドロシリル化反応硬化性のシリコーン組成物であり、工程1において得られるオルガノポリシロキサン樹脂および任意で直鎖状のオルガノポリシロキサンとの混合物が、アルケニル基等の炭素―炭素二重結合を含有するオルガノポリシロキサン混合物である場合、硬化剤は、分子内にケイ素原子結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンおよびヒドロシリル化反応触媒の組み合わせが挙げられる。この場合、工程1において得られたホットメルト性の固形分は加熱溶融された状態で供給ラインを経由して工程2の混錬装置に供給され、工程2の混錬装置においては硬化剤の供給ライン1によりオルガノハイドロジェンポリシロキサンを含む成分を供給し、その後、硬化剤の供給ライン2によりヒドロシリル化反応触媒を含む成分を供給することができる。特に連続式の加熱混練装置を使用する場合、工程2における硬化剤の供給ラインを2以上とり、定量ポンプを使用することで、事前の硬化剤の均一混合等の操作が不要となるだけでなく、後述する温度管理が行いやすくなることから、特に大規模な工業生産上、ホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの品質管理の見地からも極めて有利である。 The curing agent supply line in step 2 may be divided into one or two or more supply lines. For example, the curable silicone sheet having hot meltability according to the present invention is a hydrosilylation reaction-curable silicone composition, and the organopolysiloxane resin obtained in step 1 and optionally a linear organopolysiloxane are used. When the mixture is an organopolysiloxane mixture containing a carbon-carbon double bond such as an alkenyl group, the curing agent is a combination of an organohydrogenpolysiloxane having a silicon atom-bonded hydrogen atom in the molecule and a hydrosilylation reaction catalyst. Can be mentioned. In this case, the hot-meltable solid content obtained in step 1 is supplied to the kneading apparatus in step 2 in a state of being heated and melted via the supply line, and the curing agent is supplied in the kneading apparatus in step 2. A component containing an organohydrogenpolysiloxane can be supplied by line 1, and then a component containing a hydrosilylation reaction catalyst can be supplied by line 2 of a curing agent. In particular, when using a continuous heat kneading device, by taking two or more hardener supply lines in step 2 and using a metering pump, not only is it unnecessary to perform operations such as uniform mixing of the hardener in advance. Since the temperature control described later becomes easy, it is extremely advantageous from the viewpoint of quality control of the curable silicone sheet having hot melt property, especially in large-scale industrial production.

上記の例において、硬化剤の供給ライン1からオルガノハイドロジェンポリシロキサン等がホットメルト性の固形分に対して供給されるポイント(「供給ポイント1」という)では、当該混合物がヒドロシリル化反応触媒を欠くために、例え高温下であっても、熱硬化反応は進行しない。従って、供給ポイント1からその他の硬化剤の共有が完了するまでのポイントまでは、オルガノハイドロジェンポリシロキサン等とホットメルト性の固形分を120℃を超える温度(例えば、150℃等)で混錬することができる。一方、さらに、硬化剤の供給ライン2からヒドロシリル化反応触媒が供給されるポイント(「供給ポイント2」という)から先の組成物は、高温において熱硬化反応が進行するようになる。このことから、2軸押出機等の連続式の加熱混練装置で工程2の操作を行う場合、ホットメルト性の固形分に対する硬化剤の供給ポイント2以降において、熱硬化反応が進行しないように温度管理を行う必要があり、具体的には、供給ポイント2以降の連続式の加熱混練装置内の温度は120℃以下、より好ましくは100℃以下で制御することが好ましい。 In the above example, at the point where the organohydrogenpolysiloxane or the like is supplied to the hot melt solid content from the curing agent supply line 1 (referred to as “supply point 1”), the mixture serves as a hydrosilylation reaction catalyst. Due to the lack, the thermosetting reaction does not proceed even at high temperatures. Therefore, from the supply point 1 to the point where the sharing of the other curing agent is completed, the organohydrogenpolysiloxane or the like and the hot-melt solid content are kneaded at a temperature exceeding 120 ° C. (for example, 150 ° C.). can do. On the other hand, in the composition beyond the point where the hydrosilylation reaction catalyst is supplied from the curing agent supply line 2 (referred to as “supply point 2”), the thermosetting reaction proceeds at a high temperature. From this, when the operation of step 2 is performed by a continuous heat kneading device such as a twin-screw extruder, the temperature is set so that the thermosetting reaction does not proceed after the supply point 2 of the curing agent for the hot-melting solid content. It is necessary to control the temperature, and specifically, the temperature in the continuous heat-kneading apparatus after the supply point 2 is preferably controlled at 120 ° C. or lower, more preferably 100 ° C. or lower.

1または2以上の硬化剤の供給が完了したポイント以降の混練装置内の温度は、120℃以下、より好ましくは100℃以下である必要がある。硬化剤投入後の組成物は高温で熱硬化性を有するため、回分(バッチ)式であっても連続式であっても、当該組成物はその軟化点以上120℃以下、好適には100℃以下の温度に保たないと、熱硬化反応が進行して全体が完全に硬化してしまい、本発明の目的である硬化性シリコーンシートを得ることが困難になる。当該温度範囲は、好適には、80℃〜120℃の温度範囲であり、80℃〜100℃の範囲が特に好ましい。 The temperature in the kneading apparatus after the point where the supply of one or more curing agents is completed needs to be 120 ° C. or lower, more preferably 100 ° C. or lower. Since the composition after the addition of the curing agent has thermosetting property at a high temperature, the composition has a softening point of 120 ° C. or higher, preferably 100 ° C., regardless of whether it is a batch type or a continuous type. If the temperature is not kept below the temperature, the thermosetting reaction proceeds and the whole is completely cured, making it difficult to obtain the curable silicone sheet which is the object of the present invention. The temperature range is preferably a temperature range of 80 ° C. to 120 ° C., particularly preferably a temperature range of 80 ° C. to 100 ° C.

工程2を特に連続式の加熱混練装置で実施する場合、工程1で得たホットメルト性の固形分は、高温下で流動性を有する状態で装置内に供給され、装置内を押し出されるが、1または2以上の供給ラインからの硬化剤の供給が完了し、組成物が熱硬化性を獲得するポイント以降は、混練装置内の温度が前記下限以下であることが必要である。工程1のホットメルト性の固形分は150℃以上に加熱されているため、上記のポイントまでに装置内が120℃以下、好適には100℃以下、特に好適には80℃〜100℃の範囲となるように温度管理を行うことが、本発明の製造方法における特徴の一つである。 When the step 2 is carried out particularly in a continuous heat-kneading device, the hot-melting solid content obtained in the step 1 is supplied into the device in a state of fluidity at a high temperature and extruded into the device. After the point at which the supply of the curing agent from one or more supply lines is completed and the composition acquires thermosetting property, the temperature in the kneading apparatus needs to be equal to or lower than the lower limit. Since the hot-melt solid content in step 1 is heated to 150 ° C. or higher, the temperature inside the apparatus is 120 ° C. or lower, preferably 100 ° C. or lower, particularly preferably 80 ° C. to 100 ° C. by the above point. It is one of the features in the manufacturing method of the present invention that the temperature is controlled so as to be.

工程2において、後述する硬化遅延剤は、オルガノハイドロジェンポリシロキサンと共に供給してもよく、ヒドロシリル化反応触媒と共に供給してもよい。特に、本発明の硬化性シリコーンシートの透明性および硬化性の改善の見地から、ヒドロシリル化反応触媒の供給前に、分子内にケイ素原子結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンと共に、オルガノポリシロキサン樹脂および任意で直鎖状のオルガノポリシロキサンの混合物に添加し、混錬することが好ましい。具体的には、前記の供給ポイント1において、オルガノハイドロジェンポリシロキサンと硬化遅延剤を、硬化剤の供給ライン1から供給することが特に好ましい。かかる工程を経ることで、コンパウンドとオルガノハイドロジェンポリシロキサン、硬化遅延剤を高温で均一に混錬することができ、ヒドロシリル化反応触媒添加後の意図しない硬化反応を抑制することができる場合があるほか、ヒドロシリル化反応触媒と硬化遅延剤の意図しない反応や着色、失活を抑制できる場合がある。 In step 2, the curing retarder described later may be supplied together with an organohydrogenpolysiloxane or may be supplied together with a hydrosilylation reaction catalyst. In particular, from the viewpoint of improving the transparency and curability of the curable silicone sheet of the present invention, the organopolysiloxane is combined with the organohydrogenpolysiloxane having a silicon atom-bonded hydrogen atom in the molecule before the supply of the hydrosilylation reaction catalyst. It is preferably added to the mixture of resin and optionally linear organopolysiloxane and kneaded. Specifically, it is particularly preferable to supply the organohydrogenpolysiloxane and the curing retarder from the curing agent supply line 1 at the supply point 1. By going through such a step, the compound, the organohydrogenpolysiloxane, and the curing retarder can be uniformly kneaded at a high temperature, and an unintended curing reaction after the addition of the hydrosilylation reaction catalyst may be suppressed. In addition, it may be possible to suppress unintended reactions, coloring, and inactivation of the hydrosilylation reaction catalyst and the curing retarder.

好適には、工程2は、工程1のホットメルト性の固形分および硬化剤を、前記の温度条件下で加熱溶融しながら脱気混練する工程を含む。本工程2においては、各成分の混合時に空気を巻き込んでしまい、工程3以降で生産するシートに泡となって表れ、ホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの品質および加熱溶融特性に悪影響を及ぼす可能性が高いため、脱気しながら混錬することが、透明性に優れる硬化性シリコーンシートを得る上では特に好ましい。脱気の程度は混錬時の空気の巻き込み(すなわち、気泡の量)により適宜調整可能であるが、1気圧未満に減圧脱気することが好ましい。なお、この程度の減圧脱気は、工程2で使用する混練装置に真空ポンプ等の公知の脱気/減圧ポンプを接続することで容易に実現することができ、脱泡の程度に応じて適宜その内圧を調整してよい。 Preferably, the step 2 includes a step of degassing and kneading the hot-melting solid content and the curing agent of the step 1 while heating and melting under the above temperature conditions. In this step 2, air is entrained when each component is mixed, and bubbles appear on the sheets produced in steps 3 and subsequent steps, which adversely affects the quality and heat-melting characteristics of the curable silicone sheet having hot-melt property. Since there is a high possibility, kneading while degassing is particularly preferable for obtaining a curable silicone sheet having excellent transparency. The degree of degassing can be appropriately adjusted by entraining air during kneading (that is, the amount of air bubbles), but it is preferable to degas under reduced pressure to less than 1 atm. It should be noted that this degree of decompression degassing can be easily realized by connecting a known degassing / depressurizing pump such as a vacuum pump to the kneading device used in step 2, and appropriately depending on the degree of defoaming. The internal pressure may be adjusted.

[混合物の流動性と仮成型工程]
工程1で得た混合物の加熱溶融粘度が低く、流動性に富む場合、後述する工程3において事前に仮成型を行った後に剥離フィルム上に積層することができ、かつ好ましい、具体的には、工程2で得た加熱溶融後の混合物の150℃での高化式フローテスターにより測定される溶融粘度が1〜1,000Pasの範囲であれば、工程3において、仮成型を行うことができる。
[Mixture fluidity and temporary molding process]
When the mixture obtained in step 1 has a low heat-melt viscosity and high fluidity, it can be laminated on a release film after being temporarily molded in advance in step 3 described later, and is preferable. If the melt viscosity of the mixture after heating and melting obtained in step 2 as measured by an elevated flow tester at 150 ° C. is in the range of 1 to 1,000 Pas, temporary molding can be performed in step 3.

一方、工程1で得た混合物の加熱溶融粘度が高く、流動性に乏しい場合、工程2において、工程1で得た混合物を、その軟化点以上の温度で溶融混練して、均一な組成物の形態を得た後、仮成型を行うことなく、工程3において剥離フィルム上に積層してよい。 On the other hand, when the heat-melt viscosity of the mixture obtained in step 1 is high and the fluidity is poor, the mixture obtained in step 1 is melt-kneaded at a temperature equal to or higher than the softening point in step 2 to obtain a uniform composition. After obtaining the morphology, it may be laminated on the release film in step 3 without performing temporary molding.

[工程3]
工程3は、工程2で得た加熱溶融後の混合物を、少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層する工程であり、工程4において加圧成型するための予備工程である。このため、工程3およびその後工程である工程4は統合することが可能であり、必要に応じ、実質的に工程3および工程4を同時に行うこともできる。工程2で得た混合物をフィルム間に挟み込んだ積層体を形成することで当該フィルム上からロール延伸による加圧成型を行って、シート状の成型物を得ることができ、かつ、成型後には剥離面を利用して当該シート状の成型物からフィルムのみを除去することができる。
[Step 3]
Step 3 is a step of laminating the mixture after heating and melting obtained in Step 2 between films having at least one peeling surface, and is a preliminary step for pressure molding in Step 4. Therefore, the step 3 and the subsequent step, the step 4, can be integrated, and if necessary, the step 3 and the step 4 can be substantially performed at the same time. By forming a laminate in which the mixture obtained in step 2 is sandwiched between films, pressure molding by roll stretching can be performed on the film to obtain a sheet-shaped molded product, and the film is peeled off after molding. Only the film can be removed from the sheet-like molded product using the surface.

工程2で得た加熱溶融後の混合物は2枚のフィルム間に積層する。得られる硬化性シリコーンシートの使用形態によるが、2枚のフィルムは共に剥離面を有することが好ましく、工程3において、工程2で得た混合物は各々のフィルムの剥離面の間に積層されることが特に好ましい。このような積層形態をとる事で、工程4における加圧成型、その後の任意の裁断を経て、薄層状の硬化性シリコーンシートが剥離性フィルム間に挟持された、両面から剥離可能な積層シートを得ることができ、使用時には、形成した硬化性シリコーンシートを破損する懸念なく、両面のフィルムを引き剥がして硬化性シリコーンシートのみを露出させることができる。 The mixture after heating and melting obtained in step 2 is laminated between two films. Although it depends on the usage pattern of the obtained curable silicone sheet, it is preferable that both of the two films have a peeling surface, and in step 3, the mixture obtained in step 2 is laminated between the peeling surfaces of each film. Is particularly preferable. By adopting such a laminated form, a laminated sheet that can be peeled from both sides, in which a thin layer curable silicone sheet is sandwiched between the peelable films, is obtained through pressure molding in step 4 and subsequent arbitrary cutting. It can be obtained, and at the time of use, the films on both sides can be peeled off to expose only the curable silicone sheet without fear of damaging the formed curable silicone sheet.

工程3で使用するフィルムの基材は特には限定されるものではなく、板紙,ダンボール紙,クレーコート紙,ポリオレフィンラミネート紙,特にはポリエチレンラミネート紙,合成樹脂フィルム・シート,天然繊維布,合成繊維布,人工皮革布,金属箔が例示される。特に、合成樹脂フィルム・シートが好ましく、合成樹脂として、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ナイロンが例示される。特に耐熱性が要求される場合には、ポリイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレンナフタレート(PEN)、液晶ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルスルフォン等の耐熱性合成樹脂のフィルムが好適である。一方、表示デバイス等視認性が求められる用途においては、透明基材、具体的にはポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、PEN等の透明材料が好適である。また、2種類以上のフィルムが積層された複層フィルムであっても良い。この場合、得られる硬化性シリコーンシートと接する側が光学特性等に優れる機能性フィルムであることが好ましい。 The base material of the film used in step 3 is not particularly limited, and is not particularly limited. Sheet paper, cardboard paper, clay coated paper, polyolefin laminated paper, especially polyethylene laminated paper, synthetic resin film / sheet, natural fiber cloth, synthetic fiber. Examples include cloth, artificial leather cloth, and metal foil. In particular, synthetic resin films and sheets are preferable, and examples of the synthetic resin include polyimide, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polycarbonate, polyethylene terephthalate, and nylon. When heat resistance is particularly required, a film made of a heat-resistant synthetic resin such as polyimide, polyetheretherketone, polyethylene naphthalate (PEN), liquid crystal polyarylate, polyamideimide, or polyethersulphon is suitable. On the other hand, in applications where visibility is required such as display devices, transparent substrates, specifically transparent materials such as polypropylene, polystyrene, polyvinylidene chloride, polycarbonate, polyethylene terephthalate, and PEN are suitable. Further, it may be a multi-layer film in which two or more types of films are laminated. In this case, it is preferable that the side in contact with the obtained curable silicone sheet is a functional film having excellent optical characteristics and the like.

フィルムの厚さは特に制限されないが、得られる溶融混錬物の溶融粘度が高い場合、工程4でのロールによる延伸工程において、フィルムは高温状態で相当に圧力にさらされるため、高い耐熱性を持つフィルムを用いていない場合、フィルムが薄すぎると延伸時に皺等が発生することがあるため、フィルム厚は50μm以上、好ましくは75μm以上であり、好適には75〜300μm、より好ましくは75〜200μmであることが好ましい。 The thickness of the film is not particularly limited, but when the melt viscosity of the obtained melt-kneaded product is high, the film is exposed to considerable pressure in a high temperature state in the stretching step by roll in step 4, so that high heat resistance is obtained. When the film is not used, if the film is too thin, wrinkles and the like may occur during stretching. Therefore, the film thickness is 50 μm or more, preferably 75 μm or more, preferably 75 to 300 μm, more preferably 75 to 75. It is preferably 200 μm.

フィルムは少なくとも1つの剥離層を備えており、当該剥離層が工程2で得た混合物と接触していることが好ましい。これにより、工程3および工程4を経て、加圧成型されたホットメルト性の硬化性シリコーンシートをフィルムから容易に剥離することができる。剥離層は剥離ライナー、セパレーター、離型層或いは剥離コーティング層と呼ばれることもあり、好適には、シリコーン系剥離剤、フッ素系剥離剤、アルキド系剥離剤、又は、フルオロシリコーン系剥離剤等の剥離コーティング能を有する剥離層、基材表面に物理的に微細な凹凸を形成させたり、本発明にかかるホットメルト性の硬化性シリコーンシートと付着しにくい基材それ自体であってもよい。 The film preferably comprises at least one release layer, which is in contact with the mixture obtained in step 2. As a result, the hot-meltable curable silicone sheet that has been pressure-molded can be easily peeled off from the film through the steps 3 and 4. The release layer is sometimes called a release liner, a separator, a release layer or a release coating layer, and preferably removes a silicone-based release agent, a fluorine-based release agent, an alkyd-based release agent, a fluorosilicone-based release agent, or the like. The peeling layer having a coating ability, physically fine irregularities may be formed on the surface of the base material, or the base material itself which is hard to adhere to the hot meltable curable silicone sheet according to the present invention may be used.

後述の通り、本発明に係る、ホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートは2枚のフィルム間に積層される。シリコーンシートを使用する時に、通常は2枚のフィルムともに剥がして使用するが、1枚のフィルムのみを剥がして、片側のフィルムを残したまま、シリコーンシートを硬化させても良い。この場合、フィルムはシリコーンシートが硬化した後でも容易に剥がせるものを選択することが好ましい。 As will be described later, the curable silicone sheet having hot melt property according to the present invention is laminated between two films. When the silicone sheet is used, usually both films are peeled off and used, but the silicone sheet may be cured by peeling off only one film and leaving the film on one side. In this case, it is preferable to select a film that can be easily peeled off even after the silicone sheet has been cured.

フィルム上の剥離面は、硬化性シリコーンシートに対する剥離性の見地からフルオロシリコーン系の剥離剤により得られる剥離コーティング層であることが好ましい。ここで、フルオロシリコーン系の剥離剤とは、1分子中にケイ素原子に結合した含フッ素置換基を有する1種類以上のオルガノポリシロキサンを含む硬化性オルガノポリシロキサン組成物
であり、特に、分子内にフルオロアルキル基およびパーフルオロポリエーテル基から選ばれる1種類以上の含フッ素置換基を含むオルガノポリシロキサンを含む硬化性オルガノポリシロキサン組成物の使用が好ましい。なお、含フッ素置換基を含むオルガノポリシロキサンは、さらに、同一分子内にアルケニル基等の硬化反応性基を有してもよく、二種類以上の異なる含フッ素置換基を含むオルガノポリシロキサンを組み合わせて、特定の混合比で使用してもよい。
The release surface on the film is preferably a release coating layer obtained by a fluorosilicone-based release agent from the viewpoint of releaseability to the curable silicone sheet. Here, the fluorosilicone-based release agent is a curable organopolysiloxane composition containing one or more types of organopolysiloxane having a fluorine-containing substituent bonded to a silicon atom in one molecule, and is particularly intramolecular. It is preferable to use a curable organopolysiloxane composition containing an organopolysiloxane containing at least one fluorine-containing substituent selected from a fluoroalkyl group and a perfluoropolyether group. The organopolysiloxane containing a fluorine-containing substituent may further have a curing reactive group such as an alkenyl group in the same molecule, and an organopolysiloxane containing two or more different fluorine-containing substituents may be combined. It may be used in a specific mixing ratio.

例えば、本発明で使用できるフルオロシリコーン系の剥離剤により得られる剥離コーティング層は、以下の(i)〜(iv)の組成物を硬化させてなる剥離コーティング層であってよい。
(i)互いに異なるフルオロアルキル基を有し、かつ、分子内に硬化反応性基を有する、2種類以上のオルガノポリシロキサンを含む硬化性オルガノポリシロキサン組成物
(ii)互いに異なるパーフルオロポリエーテル基を有し、かつ、分子内に硬化反応性基を有する、2種類以上のオルガノポリシロキサンを含む硬化性オルガノポリシロキサン組成物
(iii)分子内にフルオロアルキル基および硬化反応性基を有するオルガノポリシロキサン、および、分子内にパーフルオロポリエーテル基および硬化反応性基を有するオルガノポリシロキサンを含む硬化性オルガノポリシロキサン組成物
(iv)分子内にフルオロアルキル基およびパーフルオロポリエーテル基から選ばれる1種類以上の含フッ素置換基を含み、硬化反応性基を有さず、他の硬化反応性の成分と混和する性質を有するオルガノポリシロキサンを含む硬化性オルガノポリシロキサン組成物
For example, the release coating layer obtained by the fluorosilicone-based release agent that can be used in the present invention may be a release coating layer obtained by curing the following compositions (i) to (iv).
(I) Curable organopolysiloxane composition containing two or more types of organopolysiloxanes having different fluoroalkyl groups and having curing reactive groups in the molecule (ii) Different perfluoropolyether groups Curable organopolysiloxane composition containing two or more types of organopolysiloxanes and having a cure-reactive group in the molecule (iii) Organopoly having a fluoroalkyl group and a cure-reactive group in the molecule Curable organopolysiloxane composition containing siloxane and an organopolysiloxane having a perfluoropolyether group and a curing reactive group in the molecule (iv) Selected from fluoroalkyl and perfluoropolyether groups in the molecule 1 A curable organopolysiloxane composition containing an organopolysiloxane containing more than one type of fluorine-containing substituent, having no curing-reactive group, and having a property of being mixed with other curing-reactive components.

本発明において、実用上、フィルム上の剥離面はフルオロシリコーン系の剥離剤により得られる剥離コーティング層であり、具体的にはパーフルオロブチルエチル基を含有するフルオロシリコーン系のコーティングが好ましい。この様な剥離コーティング処理が施されたフィルム製品としては例えば、タカラインコーポレーションのFL1-01、FL1-02、FL1-03、FL2-01、ニッパ株式会社のFSA6、FSB6、FSC6、アイム株式会社のFB、FEなどが例示される。なお、パーフルオロブチルエチル基等の含フッ素置換基を側鎖または末端に有するオルガノポリシロキサンを含む硬化性オルガノポリシロキサン組成物を用いるフルオロシリコーン系のコーティングは、架橋構造・架橋密度の選択および剥離層の厚みにより、所望の剥離特性を設計することができ、本発明の実施においては、上記の市販品から適切な剥離力を有する剥離コーティングフィルムを選択してもよく、所望の剥離特性を与えるようなフィルムを適宜設計して用いてもよい。 In the present invention, practically, the peeling surface on the film is a peeling coating layer obtained by a fluorosilicone-based release agent, and specifically, a fluorosilicone-based coating containing a perfluorobutyl ethyl group is preferable. Examples of film products that have undergone such a release coating treatment include Takaline Corporation's FL1-01, FL1-02, FL1-03, FL2-01, Nippa Corporation's FSA6, FSB6, FSC6, and I'm Co., Ltd. Examples include FB and FE. For fluorosilicone-based coatings using a curable organopolysiloxane composition containing an organopolysiloxane having a fluorine-containing substituent such as a perfluorobutylethyl group at the side chain or end, selection and peeling of the crosslinked structure and crosslink density The desired peeling property can be designed depending on the thickness of the layer, and in the practice of the present invention, a peeling coating film having an appropriate peeling force may be selected from the above-mentioned commercially available products to give the desired peeling property. Such a film may be appropriately designed and used.

前述の2層以上の複層フィルムを用いる場合、最外装となる両面は上記の剥離性フィルムを用いることで、硬化性シリコーンシートと機能性フィルムとの多層積層体を生産することが可能である。機能性フィルムの種類を選択することで、光学特性やバリヤ特性等様々な付加的機能を併せ持ったホットメルトシリコーンシートを提供することが可能である。多層構造のシートを生産する場合でも、全く同じ生産プロセスを使用することができる。 When the above-mentioned two-layer or more multi-layer film is used, it is possible to produce a multi-layer laminate of a curable silicone sheet and a functional film by using the above-mentioned releaseable film on both sides as the outermost exterior. .. By selecting the type of functional film, it is possible to provide a hot melt silicone sheet having various additional functions such as optical properties and barrier properties. The exact same production process can be used to produce a multi-layered sheet.

前記のフィルムの少なくとも一方は、さらに、機能層を有していてもよい。機能層は、上述したホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの一つの面に接して設けられる層であって、硬化性シリコーン組成物層とともに複層積層体を形成してもよい。機能層は、ホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートが硬化して形成される層にはない機能、あるいは硬化性ホットメルトシリコーン組成物層又は硬化性ホットメルトシリコーン組成物が硬化して形成される層が有する特性よりも好ましい特性を示す材料からなり、複層積層体の一つの表面に所望する機能を付与するための層であってよい。機能層が有する機能は特定の機能に限定されないが、例えば、硬化性ホットメルトシリコーン組成物層又は当該組成物が硬化して形成される硬化物層よりも、低タック、高い弾性率、低汚染性、並びに高い撥水性及び/又は撥油性から選択される機能が挙げられる。機能層として、硬化性ホットメルトシリコーン組成物層又はそれが硬化して形成される層よりも低いタック又は高い弾性率を有する機能層を用いることによって、本発明の複層積層体を封止シートとして用いて、硬化性ホットメルトシリコーン組成物層を基材、例えば、半導体前駆体基板に密着させてシリコーンで封止された基板を作製する場合に、封止層表面のべたつきを低減することができ、それによって取り扱いやすさが向上し、表面の対汚染性も向上できる。機能層は、硬化性ホットメルトシリコーン組成物よりも低タックの材料からなる層、硬化性ホットメルトシリコーン組成物が硬化して形成される硬化物よりも弾性率が高い材料からなる層、硬化性ホットメルトシリコーン組成物とともに硬化させたときに硬化性ホットメルトシリコーン組成物が硬化して形成される硬化物よりも弾性率が高くなる硬化性材料からなる層、撥水性及び/又は撥油性を有する材料からなる層並びに光学的機能層、例えば、光散乱層、光拡散層、高屈折率層、低屈折率層、及び特定の波長の光を選択的に透過する層などらなる群から選択される層からなる群から選択される層であることが好ましい。 At least one of the films may further have a functional layer. The functional layer is a layer provided in contact with one surface of the above-mentioned hot-meltable curable silicone sheet, and may form a multi-layer laminate together with the curable silicone composition layer. The functional layer has a function that is not found in a layer formed by curing a curable silicone sheet having hot melt property, or is formed by curing a curable hot melt silicone composition layer or a curable hot melt silicone composition. The layer may be made of a material exhibiting properties preferable to those of the layer, and may be a layer for imparting a desired function to one surface of the multi-layer laminate. The function of the functional layer is not limited to a specific function, but is lower tack, higher elastic modulus, and lower contamination than, for example, a curable hot melt silicone composition layer or a cured product layer formed by curing the composition. Functions selected from property and high water repellency and / or oil repellency can be mentioned. The multi-layer laminate of the present invention is sealed by using as the functional layer a curable hot-melt silicone composition layer or a functional layer having a lower tack or a higher elastic modulus than the layer formed by curing the layer. When a curable hot-melt silicone composition layer is adhered to a substrate, for example, a semiconductor precursor substrate to prepare a substrate sealed with silicone, the stickiness of the surface of the sealing layer can be reduced. It can be handled, which improves the ease of handling and the stain resistance of the surface. The functional layer is a layer made of a material having a lower tack than the curable hot melt silicone composition, a layer made of a material having a higher elasticity than the cured product formed by curing the curable hot melt silicone composition, and curability. Curable when cured with the hot melt silicone composition A layer made of a curable material that has a higher elasticity than the cured product formed by curing the hot melt silicone composition, and has water repellency and / or oil repellency. a layer of material, and the optically functional layer, e.g., light scattering layer, the light diffusion layer, the high refractive index layer, a low refractive index layer, and the light of a specific wavelength from and whether Ranaru group selectively permeable layers It is preferably a layer selected from the group consisting of selected layers.

機能層に用いる材料は、上述した硬化性ホットメルトシリコーン組成物とは異なるシリコーン系の材料であるか、非シリコーン系材料であってよい。また、機能層に用いる材料は、非硬化性の材料でも、硬化性の材料であってもよい。機能層に用いる材料として、上述した特性を有する任意の材料を用いることができる。機能層に用いる材料が硬化性の材料である場合には、複層積層体の硬化性ホットメルトシリコーン組成物を硬化させる条件下で硬化するものが特に好ましい。機能層に用いる材料としては、例えば、プラスチックフィルム、シリコーンレジン、及びシリコーンエラストマーを挙げることができるが、これらに限定されない。 The material used for the functional layer may be a silicone-based material different from the above-mentioned curable hot-melt silicone composition, or a non-silicone-based material. Further, the material used for the functional layer may be a non-curable material or a curable material. As the material used for the functional layer, any material having the above-mentioned properties can be used. When the material used for the functional layer is a curable material, it is particularly preferable that the material is cured under the conditions for curing the curable hot-melt silicone composition of the multi-layer laminate. Examples of the material used for the functional layer include, but are not limited to, plastic films, silicone resins, and silicone elastomers.

機能層(例えば、低タック又は高弾性率などの特性を有する、プラスチックフィルム、シリコーンレジン、及びシリコーンエラストマーなどからなる層)と硬化性ホットメルトシリコーン組成物層との密着性を向上させるため、所望により、かつ、本発明の技術的効果を損なわない範囲において、上記の機能層の表面に、酸化法または凸凹化法などによる表面処理、あるいはプライマー処理を施した後に、上記の硬化性ホットメルトシリコーン組成物層を積層してもよい。ここで、酸化法としては、例えば、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、クロム酸化処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン処理、および紫外線照射処理などが挙げられ、また、凸凹化法としては、例えば、サンドブラスト法、及び溶射処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は、機能層の種類および求められる密着性に応じて適した方法を選択することができるが、表面処理によって得られる効果、特に密着性の改善効果が高いこと及び操作が簡便であることから、コロナ放電処理法が好ましい方法としてあげられる。当該表面処理により、積層後の接触界面密着力、特に硬化性ホットメルトシリコーン組成物層の硬化反応前における密着性を改善できる場合がある。例えば、機能層としてプラスティックフィルム、シリコーンエラストマー(硬化物)やシリコーンレジンを選択し、その表面に上記の表面処理、プライマー処理等を施したうえで、加熱溶融により硬化性ホットメルトシリコーン組成物層を形成することにより複層積層体を形成することは、本発明の好適な態様に包含される。 Desirable for improving adhesion between a functional layer (eg, a layer made of a plastic film, a silicone resin, a silicone elastomer, etc., which has properties such as low tack or high elasticity) and a curable hot melt silicone composition layer. To the extent that the technical effect of the present invention is not impaired, the surface of the functional layer is subjected to surface treatment by an oxidation method, an unevenness method, or a primer treatment, and then the above-mentioned curable hot-melt silicone is applied. The composition layer may be laminated. Here, examples of the oxidation method include corona discharge treatment, plasma discharge treatment, chromium oxidation treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, ozone treatment, ultraviolet irradiation treatment, and the like, and the unevenness method includes unevenness treatment. For example, a sandblasting method, a thermal spraying method, and the like can be mentioned. For these surface treatment methods, a suitable method can be selected according to the type of functional layer and the required adhesion, but the effect obtained by the surface treatment, particularly the effect of improving the adhesion is high, and the operation is simple. Therefore, the corona discharge treatment method can be mentioned as a preferable method. The surface treatment may improve the contact interface adhesion after lamination, particularly the adhesion of the curable hot melt silicone composition layer before the curing reaction. For example, a plastic film, a silicone elastomer (cured product) or a silicone resin is selected as a functional layer, and the surface thereof is subjected to the above surface treatment, primer treatment, etc., and then a curable hot melt silicone composition layer is formed by heating and melting. Forming a multi-layer laminate by forming is included in a preferred embodiment of the present invention.

任意選択により、工程3において使用される機能層は既に説明した通り、プラスチックフィルム、シリコーンレジン、及びシリコーンエラストマーを好適に挙げることができ、特に、任意で表面に剥離層を有してもよいプラスティックフィルム基材等の表面に、シリコーンレジン硬化物またはシリコーンエラストマー硬化物からなる機能層を形成させたものが好適に例示できる。これらの機能層は、例えば、任意で表面に剥離層を有してもよいプラスティックフィルム基材上に、硬化性のシリコーンレジン組成物または硬化性のシリコーンエラストマー組成物を塗布して硬化させることで、容易に調製可能である。なお、適用可能な硬化方法は硬化システムに依存するため特に限定されず、溶媒除去による乾固、加熱乾燥、室温による湿気硬化、紫外線等の高エネルギー線の照射等が例示できる。 By optional option, as the functional layer used in step 3, plastic film, silicone resin, and silicone elastomer can be preferably mentioned as described above, and in particular, plastic which may optionally have a release layer on the surface. A product in which a functional layer made of a cured product of a silicone resin or a cured product of a silicone elastomer is formed on the surface of a film substrate or the like can be preferably exemplified. These functional layers are formed by, for example, applying a curable silicone resin composition or a curable silicone elastomer composition on a plastic film substrate which may optionally have a release layer on the surface and curing the coating. , Easy to prepare. The applicable curing method is not particularly limited because it depends on the curing system, and examples thereof include drying by removing the solvent, heat drying, moisture curing at room temperature, and irradiation with high energy rays such as ultraviolet rays.

工程3において、工程2で得た混合物を、任意で仮成型した後に、2枚のフィルム間に積層される。その工程は特に制限されるものではないが、工程3において、加熱溶融後の混合物をフィルム間に積層する工程は特に制限されず、(i) 剥離面を備えた第一の剥離フィルム上に工程2からの加熱溶融後の混合物を吐出乃至塗布した後、同混合物の第一の剥離フィルムと接する面とは反対側の面に対して第二の剥離フィルムを接触させて第一の剥離フィルムと第二の剥離フィルム間に加熱溶融後の混合物を介装する、すなわち挟む工程であってもよく、あるいは(ii) 剥離面を備えた第一の剥離フィルムおよび第二の剥離フィルム間に工程2からの加熱溶融後の混合物を吐出乃至塗布することで、両剥離フィルム間に加熱溶融後の混合物を介装する工程であってもよい。(ii)は、第一及び第二の剥離フィルムを適切な手段、たとえば2ロールなどにより接近させ、2つの剥離フィルムが接近した箇所に工程2からの混合物を吐出乃至塗工して、混合物を同時乃至ほぼ同時に2枚の剥離フィルム間の間隙に挟む方法が例示できる。 In step 3, the mixture obtained in step 2 is optionally tentatively molded and then laminated between the two films. The step is not particularly limited, but in step 3, the step of laminating the mixture after heating and melting between the films is not particularly limited, and (i) the step is on the first release film provided with the release surface. After the mixture after heating and melting from No. 2 is discharged or applied, the second release film is brought into contact with the surface of the mixture opposite to the surface in contact with the first release film to obtain the first release film. It may be a step of interposing, that is, sandwiching the mixture after heating and melting between the second release films, or (ii) step 2 between the first release film having the release surface and the second release film. It may be a step of interposing the mixture after heating and melting between the two release films by discharging or applying the mixture after heating and melting from the film. In (ii), the first and second release films are brought close to each other by an appropriate means such as two rolls, and the mixture from step 2 is discharged or coated at a place where the two release films are close to each other to prepare the mixture. A method of sandwiching the gap between two release films at the same time or almost at the same time can be exemplified.

工程2で得た混合物は、一方のフィルムの剥離層上に吐出乃至塗布されることで供給され、当該混合物上から、他方のフィルムの剥離層を貼り合わせることで積層体が形成されてもよく、当該混合物を二つのフィルム間に連続的に吐出乃至塗布されることで供給することで積層体が形成されてもよい。この際、連続的な硬化性シリコーンシートの製造工程において、各フィルムは回転式のロールを介して工程2の混合物の供給位置に運搬され、フィルム間への積層操作が行われる。回転式のロール径および幅は、特に制限されないが、幅方向に均一に加圧できる構造であることが望ましい。加圧方法は特に制限されないが、エアーシリンダーまたは油圧式が好ましい。 The mixture obtained in step 2 may be supplied by being discharged or applied onto the release layer of one film, and a laminate may be formed by laminating the release layer of the other film from the mixture. , The laminate may be formed by supplying the mixture by continuously discharging or applying the mixture between the two films. At this time, in the continuous manufacturing process of the curable silicone sheet, each film is transported to the supply position of the mixture in step 2 via a rotary roll, and a laminating operation is performed between the films. The diameter and width of the rotary roll are not particularly limited, but it is desirable that the structure allows uniform pressurization in the width direction. The pressurizing method is not particularly limited, but an air cylinder or a hydraulic type is preferable.

工程3における工程2で得た混合物のフィルム間への供給量は、その製造速度、スケールに応じて設計することができる。一例として、1〜10kg/時間の供給量で、工程2で得た混合物のフィルム間に供給することができるが、いうまでもなく、これに限定されるものではない。ただし、工程3において、工程2で得た混合物をフィルム間に積層する量は、工程4において設計している硬化性シリコーンシートの平均厚みに応じて決定する必要があり、かつ、工程4において圧延加工が可能な厚みであることが必要である。 The amount of the mixture obtained in step 2 in step 3 supplied between the films can be designed according to the production speed and scale. As an example, a supply amount of 1 to 10 kg / hour can be supplied between the films of the mixture obtained in step 2, but it goes without saying that the supply amount is not limited to this. However, in step 3, the amount of the mixture obtained in step 2 to be laminated between the films needs to be determined according to the average thickness of the curable silicone sheet designed in step 4, and is rolled in step 4. It needs to be thick enough to be processed.

工程1で得た混合物の加熱溶融粘度が低く、流動性に富む場合、工程3において、工程2で得た加熱溶融後の混合物は、ダイおよびノズルを用いてフィルム状または紐状(細口径の孔部から吐出される棒状成型物を含む)に成型しながら吐出され、フィルム間に積層されることが好ましい。ここで、ダイは当該混合物を仮成型するために使用され、その種類や仮成型時の厚みは特に制限されるものではないが、加熱できる構造を備えたT型ダイまたはストランドダイを用いて、100〜2000μm(=2mm)の範囲の厚みを有する略シート状となるように仮成型することができ、かつ、好ましい。さらに、必要に応じて、これらのT型ダイまたはストランドダイの吐出口を吐出面(水平方向)について扁平状に変形させたダイを用いてもよい。 When the heat-melt viscosity of the mixture obtained in step 1 is low and the fluidity is high, in step 3, the mixture obtained after heat-melting in step 2 is in the form of a film or a string (narrow diameter) using a die and a nozzle. It is preferable that the film is discharged while being molded into a rod-shaped molded product (including a rod-shaped molded product discharged from the hole) and laminated between the films. Here, the die is used for temporarily molding the mixture, and the type and thickness at the time of temporary molding are not particularly limited, but a T-type die or a strand die having a structure capable of heating is used. It can be temporarily molded into a substantially sheet shape having a thickness in the range of 100 to 2000 μm (= 2 mm), and is preferable. Further, if necessary, a die in which the discharge port of these T-type dies or strand dies is deformed to be flat with respect to the discharge surface (horizontal direction) may be used.

工程2で得た混合物の加熱溶融粘度が低く、流動性に富む場合、上記の仮成型後に、工程4の前工程としてまたは工程4において、工程3で得た積層体全体を冷却または温度調節する工程を含むことが好ましい。これは、加熱溶融物を冷却して固体状にすることで、工程4における加圧成型を効果的に行うためである。当該冷却工程は特に制限されるものではないが、冷却ロール、冷風等によりフィルム上に供給乃至積層された混合物を空冷あるいは冷却溶媒等の冷却手段を用いて−50℃〜室温の範囲内で冷却することで行うことができる。 When the heat-melt viscosity of the mixture obtained in step 2 is low and the fluidity is high, after the above-mentioned temporary molding, the entire laminate obtained in step 3 is cooled or temperature-controlled as a pre-step of step 4 or in step 4. It is preferable to include a step. This is because the pressure molding in the step 4 is effectively performed by cooling the heated melt to make it solid. The cooling step is not particularly limited, but the mixture supplied or laminated on the film by a cooling roll, cold air, or the like is cooled in the range of -50 ° C to room temperature by using a cooling means such as air cooling or a cooling solvent. It can be done by doing.

一方で、工程2で得た混合物の加熱溶融粘度が高く、流動性が低い場合、工程3にて積層体全体を冷却してしまうと、混合物の粘度が高くなりすぎて膜厚の制御が困難となるため、工程4の前工程または工程4として、前記の積層体全体を80〜120℃の間で温度調節する工程を含むことが好ましい。なお、温度調節の詳細については、工程4において説明する。 On the other hand, when the heat-melt viscosity of the mixture obtained in step 2 is high and the fluidity is low, if the entire laminate is cooled in step 3, the viscosity of the mixture becomes too high and it is difficult to control the film thickness. Therefore, it is preferable to include a step of adjusting the temperature of the entire laminate between 80 and 120 ° C. as a pre-step or step 4 of step 4. The details of temperature control will be described in step 4.

[工程4]
工程4は、上記の工程3で得た積層体をロール間で延伸し、特定の膜厚を有する硬化性シリコーンシートを成型する工程であり、フィルム上から工程2で得た混合物を加圧延伸し、均一な硬化性シリコーンシートの形態に成型する工程である。圧延ロールの組数は単一であっても複数であっても良い。
[Step 4]
Step 4 is a step of stretching the laminate obtained in the above step 3 between the rolls to form a curable silicone sheet having a specific film thickness, and pressurizing and stretching the mixture obtained in step 2 from the film. This is a step of molding into a uniform curable silicone sheet. The number of sets of rolling rolls may be single or plural.

工程4における圧延加工は、工程3で得た積層体に対して、ロール圧延等の公知の圧延方法を用いて行うことができる。特に、ロール圧延の場合、ロール間の隙間を調整することで、所望の厚さの硬化性シリコーンシートを設計することができる利点があり、例えば、平均厚みが10〜2000μmの範囲でロール間の隙間を一定に調整して圧延することで、平坦性に優れ、かつ、上記のシート表面およびシート内部における欠陥の極めて少ない硬化性シリコーンシートを得ることができる。より詳細には、ロール圧延の場合、目的とするオルガノポリシロキサン硬化物フィルムの平均厚みに対して1.5〜4.0倍の範囲でロール間の隙間が調整されていることが特に好ましい。 The rolling process in step 4 can be performed on the laminated body obtained in step 3 by using a known rolling method such as roll rolling. In particular, in the case of roll rolling, there is an advantage that a curable silicone sheet having a desired thickness can be designed by adjusting the gap between the rolls. For example, the average thickness between the rolls is in the range of 10 to 2000 μm. By rolling with the gap adjusted to be constant, it is possible to obtain a curable silicone sheet having excellent flatness and extremely few defects on the sheet surface and inside the sheet. More specifically, in the case of roll rolling, it is particularly preferable that the gap between the rolls is adjusted in the range of 1.5 to 4.0 times the average thickness of the target organopolysiloxane cured film.

工程4により延伸を行うことにより、実質的に平坦な、厚さ10〜2000μmの硬化性シリコーンシートを得ることができる。工程2における加熱溶融後の混合物を、工程3により剥離性フィルム間に積層した形態でロール延伸することにより、低欠陥かつ剥離による取扱作業性に優れる、ホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートを含む剥離性積層体を得ることができる。また膜厚計を取り付けることで、工程3で得た積層体に対して膜厚測定が可能となり、膜厚調整が容易となり、また膜厚の管理が管理できる。 By stretching in step 4, a substantially flat curable silicone sheet having a thickness of 10 to 2000 μm can be obtained. By roll-stretching the mixture after heating and melting in step 2 in the form of being laminated between the peelable films in step 3, it contains a curable silicone sheet having hot melt property, which has low defects and excellent handling workability by peeling. A peelable laminate can be obtained. Further, by attaching a film thickness meter, the film thickness can be measured for the laminate obtained in step 3, the film thickness can be easily adjusted, and the film thickness can be controlled.

[工程4における温度調節]
工程4において、工程3で得た積層体をロール間で延伸する場合、当該ロールがさらに、温度調節機能を備え、ロール圧延時に積層体全体の温度調節、必要に応じて加熱または冷却を行うことが好ましい。当該温度調節により、ロール間の間隙を安定して保ち、得られるホットメルト性の硬化性シリコーンシートの平坦性および均一性(膜厚の均一性)を改善できる実益がある。具体的な温度調節の範囲は、フィルムの耐熱性や硬化性シリコーンシートの厚さ(設計厚み)、その反応性等に応じて適宜設計可能であるが、概ね、5〜120℃の範囲内である。
[Temperature control in step 4]
In step 4, when the laminate obtained in step 3 is stretched between rolls, the roll further has a temperature control function, and the temperature of the entire laminate is controlled during roll rolling, and heating or cooling is performed as necessary. Is preferable. By controlling the temperature, the gap between the rolls can be kept stable, and the flatness and uniformity (uniformity of film thickness) of the obtained hot-meltable curable silicone sheet can be improved. The specific range of temperature control can be appropriately designed according to the heat resistance of the film, the thickness of the curable silicone sheet (design thickness), its reactivity, etc., but is generally within the range of 5 to 120 ° C. is there.

工程2で得た加熱溶融後の混合物の溶融粘度が高い場合、ロールにより積層する時点で混合物の温度が著しく下がってしまっていると混合物の粘度が高くなりすぎて、膜厚の制御が難しくなることがある。これを避けるために、混合物の加熱溶融粘度が高い場合は、混合物の温度を落とすことなく、回転式のロールに供給する必要がある。ロール自体を80〜120℃の温度範囲に加熱しておくことや2軸押出機等の連続式の加熱混練装置の出口であるダイとロールとの距離を可能な限り狭める等の処置を施すことにより、加熱混練装置の出口温度とほぼ同じ温度で混合物を回転式ロールへと供給することができ、粘度が上昇することを防ぐことが可能である。 When the melt viscosity of the mixture after heating and melting obtained in step 2 is high, if the temperature of the mixture is significantly lowered at the time of laminating with a roll, the viscosity of the mixture becomes too high and it becomes difficult to control the film thickness. Sometimes. In order to avoid this, when the heat-melt viscosity of the mixture is high, it is necessary to supply the mixture to a rotary roll without lowering the temperature of the mixture. Take measures such as heating the roll itself to a temperature range of 80 to 120 ° C. and narrowing the distance between the die and the roll, which is the outlet of a continuous heating and kneading device such as a twin-screw extruder, as much as possible. As a result, the mixture can be supplied to the rotary roll at a temperature substantially the same as the outlet temperature of the heat-kneading apparatus, and it is possible to prevent the viscosity from increasing.

他方、混合物の温度やロール自体の温度が120℃を著しく超えてしまうと、加熱硬化性の混合物の反応が進んでしまう懸念や使用するフィルムの耐熱性が低い場合、延伸中にフィルムに皺が入ってしまう等の懸念があるため、このステップでは精密な温度制御が必要となる。 On the other hand, if the temperature of the mixture or the temperature of the roll itself significantly exceeds 120 ° C., there is a concern that the reaction of the heat-curable mixture will proceed, or if the heat resistance of the film used is low, the film will wrinkle during stretching. Precise temperature control is required at this step because there is a concern that it will enter.

[工程2開始から工程4終了までの時間の制御]
前記工程2から工程4まで工業的に量産するという観点から連続工程であることが好ましいが、ホットメルト性の組成物として熱硬化性のものを取り扱う場合、前記の通り、工程2のあるポイント(供給ポイント2)から高温に長時間晒されると、組成物の硬化反応が進行しうる状態となり、最終的に得られるホットメルト性の硬化性シリコーンシートの硬化性に悪影響が及ぶ場合がある。これを防ぐために前述の混錬中の温度管理が重要となるが、さらに、工程2から工程4が終了し、得られたシリコーンシートの冷却が始まるまでの時間は短時間、具体的には、30分以内であることが好ましく、好ましくは15分以内、さらに好ましくは5分以内である。製造工程において、高温にさらされる時間が前記範囲内であると、熱硬化性の組成物からなるシリコーンシートを生産しても、反応が進むことなく、ホットメルト性に優れたシートを製造することが可能である。
[Control of the time from the start of process 2 to the end of process 4]
From the viewpoint of industrial mass production from the steps 2 to 4, it is preferable that the steps are continuous, but when a thermosetting composition is handled as a hot-meltable composition, as described above, a certain point of the step 2 ( When exposed to a high temperature for a long time from the supply point 2), the curing reaction of the composition can proceed, which may adversely affect the curability of the finally obtained hot-meltable curable silicone sheet. In order to prevent this, temperature control during kneading is important, but further, the time from the completion of steps 2 to 4 to the start of cooling of the obtained silicone sheet is short, specifically, It is preferably within 30 minutes, preferably within 15 minutes, and even more preferably within 5 minutes. In the manufacturing process, if the time of exposure to high temperature is within the above range, even if a silicone sheet made of a thermosetting composition is produced, the reaction does not proceed and a sheet having excellent hot melt property is produced. Is possible.

[工程3および工程4の一体化乃至統合]
工程3および工程4は連続的かつ一体化した工程であってよく、例えば、工程2で得た加熱溶融後の混合物は、ロール間の直下において、少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に吐出乃至塗布されることで積層され、それと同時にロール間の間隙調整により、特定の膜厚に延伸成型されていてもよい。 このように、工程3および工程4が実質的に統合された工程を有する製造方法も、上記の製造方法の範囲内に含まれる。
すなわち、工程3及び工程4は、工程2で得た混合物を2枚の剥離フィルムの間へ吐出乃至塗布して2枚の剥離フィルム間、例えば2枚の長尺の剥離フィルム間に前記の混合物を挟む工程と、それによって得られる2枚の剥離フィルム及びそれらの間に介装された前記の混合物からなる積層体を続けてロール間に通して剥離フィルム間の混合物を延伸成型し、所定の膜厚に調節して、目的とする積層体を得る工程とを連続して一体的に行ってもよい。このような工程3と工程4を一体的に行う方法も上述した製造方法に含まれる。
[Integration or integration of process 3 and process 4]
Steps 3 and 4 may be continuous and integrated steps, for example, the mixture after heating and melting obtained in step 2 is discharged between the films having at least one peeling surface directly under the rolls. It may be laminated by being applied, and at the same time, it may be stretch-molded to a specific film thickness by adjusting the gap between the rolls. As described above, a manufacturing method having a step in which the steps 3 and 4 are substantially integrated is also included in the scope of the above-mentioned manufacturing method.
That is, in steps 3 and 4, the mixture obtained in step 2 is discharged or applied between two release films, and the mixture is between the two release films, for example, between two long release films. The step of sandwiching the film, the two release films obtained thereby, and the laminate consisting of the above-mentioned mixture interposed between them are continuously passed between the rolls to stretch-mold the mixture between the release films, and a predetermined value is obtained. The step of adjusting the film thickness to obtain the desired laminate may be continuously and integrally performed. A method of integrally performing such steps 3 and 4 is also included in the above-mentioned manufacturing method.

[裁断工程]
工程4により、剥離性フィルム間にホットメルト性の硬化性シリコーンシートが介装された剥離性積層体を得ることができるが、任意により、当該硬化性シリコーンシートを含む積層体を裁断する工程を有してよい。これにより、所望のサイズのホットメルト性の硬化性シリコーンシートを含む剥離性積層体を得ることができる。裁断する装置は限定されないが、幅方向、および長さ方向を連続的に裁断できる装置が好ましく、ラインスピードが調整できる事が望ましい。ソルテック工業株式会社製のシートカッターを用いると連続で裁断できる。裁断する装置には、異物検査機を有すると裁断する前に異物を検知しマーキングし除去できる。
[Cutting process]
By step 4, a peelable laminate in which a hot-meltable curable silicone sheet is interposed between the release films can be obtained, and optionally, a step of cutting the laminate containing the curable silicone sheet is performed. May have. This makes it possible to obtain a peelable laminate containing a hot-meltable curable silicone sheet of a desired size. The cutting device is not limited, but a device capable of continuously cutting in the width direction and the length direction is preferable, and it is desirable that the line speed can be adjusted. It can be cut continuously by using a sheet cutter manufactured by Soltec Industry Co., Ltd. If the cutting device has a foreign matter inspection machine, foreign matter can be detected, marked and removed before cutting.

[回転式ロール以降のパスライン]
また、工程4により、剥離性フィルム間にホットメルト性の硬化性シリコーンシートが介装された剥離性積層体の状態となるが、剥離性フィルムにフルオロシリコーン系のコーティング処理が施されたものを使用すると、シリコーンシートとの密着力が非常に弱くなる傾向があり、工程4以降のパスラインによってはフィルムがシリコーンシートから剥がれてしまう可能性がある。極端なU字のパスラインが存在するとそこでフィルムがシリコーンシートから剥がれやすいので、パスラインとしては延伸する回転式のロール以降は直線的であることが好ましい。この理由から裁断工程の前に巻き取り装置などで巻き取るのは避けた方が良く、連続的に裁断工程にて所望のサイズにカットしていくことが好ましい。
[Pass line after rotary roll]
Further, according to the step 4, a peelable laminate in which a hot-melt curable silicone sheet is interposed between the peelable films is obtained, and the peelable film is coated with a fluorosilicone system. When used, the adhesion to the silicone sheet tends to be very weak, and the film may peel off from the silicone sheet depending on the pass line after step 4. If an extreme U-shaped pass line is present, the film is likely to peel off from the silicone sheet, so that the pass line is preferably straight after the rotary roll to be stretched. For this reason, it is better to avoid winding with a winding device or the like before the cutting process, and it is preferable to continuously cut to a desired size in the cutting process.

[品質管理等を目的とする任意の工程]
工程4により、剥離性フィルム間にホットメルト性の硬化性シリコーンシートが介装された剥離性積層体の状態となるが、その後、実用上、品質管理を目的とする工程(例えば、特性値の計測や異物の有無を管理する工程)を含んでもよく、かつ、好ましい。当該工程は、カメラやビデオ等の光学的測定手段を備えた異物検知装置によって行われることが好ましい。
[Arbitrary process for quality control, etc.]
In step 4, a peelable laminate in which a hot-meltable curable silicone sheet is interposed between the peelable films is obtained. After that, a step for the purpose of quality control (for example, characteristic value) A step of measuring and controlling the presence or absence of foreign matter) may be included, and is preferable. The step is preferably performed by a foreign matter detecting device provided with an optical measuring means such as a camera or a video.

[積層体]
以上の工程により得られる積層体は、オルガノポリシロキサン樹脂、任意で鎖状のオルガノポリシロキサンおよび硬化剤を少なくとも含む、実質的に平坦な、厚さ10〜2000μmのホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートが、少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層された構造を備える、積層体である。なお、当該フィルムは、共に剥離面を備えてもよく、かつ、好ましい。
[Laminate]
The laminate obtained by the above steps is a substantially flat, curable silicone having a hot melt property having a thickness of 10 to 2000 μm, which contains at least an organopolysiloxane resin, optionally a chain of organopolysiloxane and a curing agent. The sheet is a laminated body having a structure in which the sheets are laminated between films having at least one peeling surface. The film may both have a peeling surface, and is preferable.

[硬化性シリコーンシート]
本発明の製造方法により得られる硬化性シリコーンシートは、オルガノポリシロキサン樹脂、任意で鎖状のオルガノポリシロキサンおよび硬化剤を少なくとも含み、さらに、機能性フィラーその他の成分を含有してもよい硬化性シリコーン組成物であり、ホットメルト性を有し、加熱溶融性の粘着材として使用することができ、硬化により、耐熱性や応力緩和に優れるシリコーン硬化物を形成する。特に、当該硬化性シリコーンシートは、成形性、ギャップフィル性及び接着力/粘着力に優れ、ダイアタッチフィルムや、フィルム接着剤として使用することができる。また、コンプレッション成型、プレス成型、または真空ラミネーションにより封止層を形成する硬化性シリコーンシートとしても好適に使用することができる。どの用途に使用するにしても、当該硬化性シリコーンシートは、ホットメルト性を有するシート状製品であるので、大面積の接着や封止に好適に適用できる。
[Curable silicone sheet]
The curable silicone sheet obtained by the production method of the present invention contains at least an organopolysiloxane resin, optionally a chain of organopolysiloxane, and a curing agent, and may further contain a functional filler and other components. It is a silicone composition, has hot melt properties, can be used as a heat-meltable pressure-sensitive adhesive, and forms a cured silicone product with excellent heat resistance and stress relaxation by curing. In particular, the curable silicone sheet is excellent in moldability, gap fill property and adhesive strength / adhesive strength, and can be used as a die attach film or a film adhesive. It can also be suitably used as a curable silicone sheet that forms a sealing layer by compression molding, press molding, or vacuum lamination. Regardless of the application, the curable silicone sheet is a sheet-like product having hot melt properties, and therefore can be suitably applied to adhesion or sealing of a large area.

具体的には、本発明の製造法により得られた硬化性シリコーンシートは、剥離性フィルムから引き剥がした後に、半導体等の所望の部位に配置し、凹凸や間隙に対するギャップフィル性を生かしたフィルム接着層を被着体に形成して、被着体間の仮固定、配置、及び、貼り合わせを行い、さらに、当該硬化性シリコーンシートを150℃以上に加熱して、被着体間に当該硬化性シリコーンシートの硬化物により接着させてもよい。なお、剥離性フィルムは、硬化性シリコーンシートを加熱して硬化物を形成させてから剥離してもよく、半導体等の基盤を封止する層として使用する場合にはこの様な使用が好ましい。当該硬化性シリコーンシートの用途および使用方法に応じて剥離のタイミングを選択してよい。 Specifically, the curable silicone sheet obtained by the production method of the present invention is a film that is peeled off from a peelable film and then placed at a desired site such as a semiconductor to take advantage of the gap fill property for irregularities and gaps. An adhesive layer is formed on the adherends to temporarily fix, arrange, and bond the adherends, and further, the curable silicone sheet is heated to 150 ° C. or higher to form the adhesive layer between the adherends. It may be adhered by a cured product of a curable silicone sheet. The peelable film may be peeled off after the curable silicone sheet is heated to form a cured product, and such use is preferable when it is used as a layer for sealing a substrate such as a semiconductor. The timing of peeling may be selected according to the application and method of use of the curable silicone sheet.

当該硬化性シリコーンシートはホットメルト性のため、最終硬化前に、当該シートを加熱することで、柔軟化乃至流動化し、例えば、被着体の被着面に凹凸があっても、隙間なく凹凸や間隙を充填して、接着面を形成することができる。当該硬化性シリコーンシートの加熱手段としては、例えば各種の恒温槽や、ホットプレート、電磁加熱装置、加熱ロール等を用いることができる。より効率的に貼合と加熱を行うためには、例えば電熱プレス機や、ダイアフラム方式のラミネータ、ロールラミネータなどが好ましく用いられる。 Since the curable silicone sheet is hot-meltable, it can be softened or fluidized by heating the sheet before final curing. For example, even if the adherend surface of the adherend has irregularities, there are no gaps. And gaps can be filled to form an adhesive surface. As the heating means for the curable silicone sheet, for example, various constant temperature baths, hot plates, electromagnetic heating devices, heating rolls, and the like can be used. For more efficient bonding and heating, for example, an electric press, a diaphragm type laminator, a roll laminator, or the like is preferably used.

本発明にかかる硬化性シリコーンシートは、上記のとおり、溶融時のギャップフィル性、硬化物の室温〜高温における柔軟性に優れることから、硬化物により、光半導体を含む半導体素子のオーバーモールド及びアンダーフィルを一度に行う被覆工程(いわゆる、モールドアンダーフィル法)を含む成型方法に極めて好適に用いることができる。さらに、本組成物は、上記の特性により、単独又は複数の半導体素子を搭載した半導体ウエハ基板の表面を覆い、かつ、半導体素子の間隙が当該硬化物により充填されるようにオーバーモールド成型する被覆工程(いわゆる、ウェハモールディング)を含む成型方法に好適に用いることができる。 As described above, the curable silicone sheet according to the present invention is excellent in gap fill property at the time of melting and flexibility of the cured product at room temperature to high temperature. It can be extremely suitably used for a molding method including a coating step (so-called mold underfill method) in which filling is performed all at once. Further, the present composition is a coating that covers the surface of a semiconductor wafer substrate on which a single or a plurality of semiconductor elements are mounted and is overmolded so that the gaps between the semiconductor elements are filled with the cured product due to the above characteristics. It can be suitably used for a molding method including a step (so-called wafer molding).

上記工程において、コンプレッション成型機、インジェクション成型機、補助ラム式成型機、スライド式成型器、二重ラム式成型機、または低圧封入用成型機、熱プレス、真空ラミネーター等を用いることができる。特に、本発明にかかる硬化性シリコーンシートは、プレス成型、コンプレッション成型、および真空ラミネーションにより硬化物を得る目的で好適に利用できる。 In the above steps, a compression molding machine, an injection molding machine, an auxiliary ram type molding machine, a slide type molding machine, a double ram type molding machine, a low pressure filling molding machine, a heat press, a vacuum laminator and the like can be used. In particular, the curable silicone sheet according to the present invention can be suitably used for the purpose of obtaining a cured product by press molding, compression molding, and vacuum lamination.

硬化性シリコーンシートを熱硬化させる条件としてはその硬化系に応じて最適な温度を選択できる。ヒドロシリル化反応の場合は150℃以上が好ましく、有機過酸化物硬化の場合は170℃以上であることが好ましい。 As a condition for thermosetting the curable silicone sheet, the optimum temperature can be selected according to the curing system. In the case of a hydrosilylation reaction, the temperature is preferably 150 ° C. or higher, and in the case of organic peroxide curing, the temperature is preferably 170 ° C. or higher.

半導体等の保護部材として好適であることから、本発明にかかる硬化性シリコーンシートを硬化して得られる硬化物の25℃におけるタイプDデュロメータ硬さが20以上であることが好ましい。なお、このタイプDデュロメータ硬さは、JIS K 6253−1997「加硫ゴムおよび熱可塑性ゴムの硬さ試験方法」に準じてタイプDデュロメータによって求められる。 Since it is suitable as a protective member for semiconductors and the like, it is preferable that the type D durometer hardness of the cured product obtained by curing the curable silicone sheet according to the present invention at 25 ° C. is 20 or more. The hardness of this type D durometer is determined by a type D durometer according to JIS K 6253-1997 "Hardness test method for vulcanized rubber and thermoplastic rubber".

さらに、柔軟性を要求されるフレキシブル用途の半導体の封止材として好適であることから、JIS K 6911-1995「熱硬化性プラスチック一般試験方法」に規定の方法により測定した硬化物の曲げ伸び率は2%以上、あるいは4%以上であることが好ましい。 Further, since it is suitable as a sealing material for semiconductors for flexible applications that require flexibility, the bending elongation of the cured product measured by the method specified in JIS K 6911-1995 "General Test Method for Thermosetting Plastics". Is preferably 2% or more, or 4% or more.

[本発明にかかる硬化性シリコーンシートの用途]
本発明にかかる硬化性シリコーンシートは、ホットメルト性を有し、溶融(ホットメルト)時のギャップフィル性、取扱い作業性および硬化性が優れているので、半導体用の封止剤やアンダーフィル剤;SiC、GaN等のパワー半導体用の封止剤やアンダーフィル剤;発光ダイオード、フォトダイオード、フォトトランジスタ、レーザーダイオード等の光半導体用の封止剤や光反射材;電気・電子用の接着剤、ポッティング剤、保護剤、コーティング剤として好適である。また、本組成物は、ホットメルト性を有するので、プレス成型、コンプレッション成型、あるいは真空ラミネーションによる成形用の材料としても好適である。特に、成型時にモールドアンダーフィル法やウェハモールディング法を用いる半導体用の封止剤として用いることが好適である。
[Use of curable silicone sheet according to the present invention]
The curable silicone sheet according to the present invention has a hot melt property, and is excellent in gap fill property at the time of melting (hot melt), handling workability, and curability. Therefore, a sealant or underfill agent for semiconductors. Encapsulants and underfill agents for power semiconductors such as SiC and GaN; Encapsulants and photoreflectors for opto-semiconductors such as light emitting diodes, photodiodes, phototransistors, laser diodes; Adhesives for electricity and electronics , Suitable as a potting agent, a protective agent, and a coating agent. Further, since this composition has hot melt properties, it is also suitable as a material for press molding, compression molding, or molding by vacuum lamination. In particular, it is preferably used as a sealing agent for semiconductors that use a mold underfill method or a wafer molding method at the time of molding.

特に、本発明にかかる硬化性シリコーンシートは、半導体基板(ウェハや光半導体基板含む)の大面積封止に利用できる。さらに、本発明の硬化性シリコーン組成物をシート状に成型してなるシートは、ダイアタッチフィルム、フレキシブルデバイスの封止、二つの違う基材、例えば大面積の基板とパネルやパネル同士を接着する応力緩和層等に使用することができる。 In particular, the curable silicone sheet according to the present invention can be used for encapsulating a large area of a semiconductor substrate (including a wafer or an optical semiconductor substrate). Further, the sheet formed by molding the curable silicone composition of the present invention into a sheet forms a die attach film, seals a flexible device, and adheres two different substrates, for example, a large-area substrate to a panel or panel to each other. It can be used for stress relaxation layers and the like.

[本発明にかかる硬化性シリコーンシートの硬化物の用途]
本発明の硬化物の用途は特に制限されるものではないが、本発明組成物がホットメルト性を有し、成形性、ギャップフィル特性に優れ、かつ、硬化物は上記の室温における柔軟性、高い応力緩和特性、曲げ伸び率等を有する。このため、本組成物を硬化してなる硬化物は、半導体装置用部材として好適に利用することができ、光半導体を含む半導体素子やICチップ等の封止材、光半導体装置の光反射材、半導体装置の接着剤・結合部材、ディスプレイのパネル用接着剤・結合部材として好適に用いることができる。
[Use of the cured product of the curable silicone sheet according to the present invention]
The application of the cured product of the present invention is not particularly limited, but the composition of the present invention has hot melt properties, is excellent in moldability and gap fill characteristics, and the cured product has the above-mentioned flexibility at room temperature. It has high stress relaxation characteristics, bending elongation, etc. Therefore, the cured product obtained by curing the present composition can be suitably used as a member for a semiconductor device, a sealing material for a semiconductor element including an optical semiconductor, an IC chip, and a light reflecting material for an optical semiconductor device. , It can be suitably used as an adhesive / bonding member for semiconductor devices and an adhesive / bonding member for display panels.

上記硬化物からな部材を備えた半導体装置は特に制限されるものではないが、特に、パワー半導体装置、光半導体装置およびフレキシブル回路基盤に搭載された半導体装置であることが好ましい。 The semiconductor device provided with the member made of the cured product is not particularly limited, but is particularly preferably a power semiconductor device, an optical semiconductor device, and a semiconductor device mounted on a flexible circuit board.

[硬化性シリコーン組成物]
本発明の硬化性シリコーンシートは、(A1)室温で固体状のオルガノポリシロキサン樹脂、任意で(A2)鎖状のジオルガノポリシロキサンおよび(B)硬化剤を含有する硬化性シリコーン組成物からなって良い。以下、当該組成物の各成分および任意成分について説明する。
[Curable Silicone Composition]
The curable silicone sheet of the present invention comprises a curable silicone composition containing (A1) an organopolysiloxane resin solid at room temperature, optionally (A2) a chain diorganopolysiloxane, and (B) a curing agent. It's okay. Hereinafter, each component and optional components of the composition will be described.

(A1)成分は、本組成物の主剤であり、(C)硬化剤により硬化する、室温で固体状のオルガノポリシロキサン樹脂である。ここで、(A1)成分の少なくとも一部は、硬化反応性の官能基を有することが好ましく、縮合反応性基、ヒドロシリル化反応性基、ラジカル反応性基および過酸化物硬化性基から選ばれる1種類以上の官能基であるが、ヒドロシリル化反応性基およびラジカル反応性基が好ましく、特に、炭素−炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基であることが好ましい。 The component (A1) is the main agent of the present composition, and is an organopolysiloxane resin in a solid state at room temperature, which is cured by the curing agent (C). Here, at least a part of the component (A1) preferably has a curing-reactive functional group, and is selected from a condensation-reactive group, a hydrosilylation-reactive group, a radical-reactive group and a peroxide-curable group. Although it is one or more kinds of functional groups, a hydrosilylation-reactive group and a radical-reactive group are preferable, and a curing-reactive functional group containing a carbon-carbon double bond is particularly preferable.

(A1)成分中のヒドロシリル化反応性基としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基等の炭素数2〜20のアルケニル基、およびケイ素原子結合水素原子が例示される。このヒドロシリル化反応性基としては、アルケニル基が好ましい。このアルケニル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、好ましくは、ビニル基、ヘキセニル基である。(A1)成分は、一分子中に少なくとも2個のヒドロシリル化反応性基を有することが好ましい。 The hydrosilylation-reactive group in the component (A1) includes a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a penthenyl group, a hexenyl group, a heptenyl group, an octenyl group, a nonenyl group, a decenyl group, an undecenyl group, a dodecenyl group and the like. 2 to 20 alkenyl groups and silicon atom-bonded hydrogen atoms are exemplified. As the hydrosilylation-reactive group, an alkenyl group is preferable. The alkenyl group may be linear or branched, preferably a vinyl group or a hexenyl group. The component (A1) preferably has at least two hydrosilylation-reactive groups in one molecule.

(A1)成分中のヒドロシリル化反応性基以外のケイ素原子に結合する基としては、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のハロゲン置換アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のハロゲン置換アリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、アルコキシ基、および水酸基が例示される。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ピレニル基等のアリール基;フェネチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基;およびこれらの基に結合している水素原子の一部または全部を塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換した基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基が例示される。特に、フェニル基、水酸基が好ましい。 Examples of the group bonded to the silicon atom other than the hydrosilylation-reactive group in the component (A1) include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. , A halogen-substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, an alkoxy group, and a hydroxyl group are exemplified. Specifically, alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group and dodecyl group; phenyl group and trill group. , Aryl groups such as xylyl group, naphthyl group, anthracenyl group, phenanthryl group, pyrenyl group; aralkyl groups such as phenethyl group and phenylpropyl group; and some or all of the hydrogen atoms bonded to these groups are chlorine atoms. , A group substituted with a halogen atom such as a bromine atom; an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group or a propoxy group is exemplified. In particular, phenyl groups and hydroxyl groups are preferable.

また、(A1)成分中のラジカル反応性基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等の炭素数1〜20のアルキル基;ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基等の炭素数2〜20のアルケニル基;3−アクリロキシプロピル基、4−アクリロキシブチル基等のアクリル含有基;3−メタクリロキシプロピル基、4−メタクリロキシブチル基等のメタクリル含有基;およびケイ素原子結合水素原子が例示される。このラジカル反応性基としては、アルケニル基が好ましい。このアルケニル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、好ましくは、ビニル基、ヘキセニル基である。(A1)成分は、一分子中に少なくとも2個のラジカル反応性基を有することが好ましい。 The radically reactive group in the component (A1) includes a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group and a dodecyl group. Alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; vinyl group, allyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, heptenyl group, octenyl group, nonenyl group, decenyl group, undecenyl group, dodecenyl group, etc. Alkenyl groups; acrylic-containing groups such as 3-acryloxypropyl group and 4-acryloxybutyl group; methacryl-containing groups such as 3-methacryloxypropyl group and 4-methacryloxybutyl group; and silicon atom-bonded hydrogen atoms are exemplified. Will be done. The radical reactive group is preferably an alkenyl group. The alkenyl group may be linear or branched, preferably a vinyl group or a hexenyl group. The component (A1) preferably has at least two radical reactive groups in one molecule.

(A1)成分中のラジカル反応性基以外のケイ素原子に結合する基としては、炭素数1〜20のハロゲン置換アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のハロゲン置換アリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、アルコキシ基、および水酸基が例示され、前記と同様の基が例示される。特に、フェニル基、水酸基が好ましい。特に、(A1)成分は、分子中の全有機基の10モル%以上がアリール基、特に、フェニル基であることが好ましい。 Examples of the group bonded to the silicon atom other than the radical reactive group in the component (A1) include a halogen-substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and a halogen-substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms. Groups, aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms, alkoxy groups, and hydroxyl groups are exemplified, and groups similar to the above are exemplified. In particular, phenyl groups and hydroxyl groups are preferable. In particular, the component (A1) preferably contains 10 mol% or more of all organic groups in the molecule as an aryl group, particularly a phenyl group.

本発明において、(A1)成分は、好適には、硬化反応性の官能基を有するオルガノポリシロキサン樹脂を含むものであるが、当該オルガノポリシロキサン樹脂は、分子全体としてホットメルト性であってもよく、分子全体としてホットメルト性を有しないオルガノポリシロキサン樹脂であってもよい。ただし、当該オルガノポリシロキサン樹脂がホットメルト性を有しない場合、(A2)成分である鎖状(直鎖状または分岐鎖状)のオルガノポリシロキサンとの混合物であることが好ましい。さらに、硬化反応性の官能基を有さず、分子全体としてホットメルト性を有しないオルガノポリシロキサン樹脂を併用してもよく、かつ、好ましい。 In the present invention, the component (A1) preferably contains an organopolysiloxane resin having a curing-reactive functional group, but the organopolysiloxane resin may be hot-meltable as a whole molecule. It may be an organopolysiloxane resin having no hot melt property as a whole molecule. However, when the organopolysiloxane resin does not have hot melt properties, it is preferably a mixture with a chain (linear or branched) organopolysiloxane which is a component (A2). Further, an organopolysiloxane resin which does not have a curing reactive functional group and does not have a hot melt property as a whole molecule may be used in combination, and is preferable.

すなわち、(A1)成分の少なくとも一部または全部が、
(A1−1)軟化点が30℃以上であり、分子内に少なくとも1個の炭素−炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有するホットメルト性のオルガノポリシロキサン樹脂
であってもよい。
That is, at least a part or all of the component (A1)
(A1-1) A hot-melt organopolysiloxane resin having a softening point of 30 ° C. or higher and having a curing-reactive functional group containing at least one carbon-carbon double bond in the molecule may be used. ..

一方、(A1)成分であるオルガノポリシロキサン樹脂はそれ自体ホットメルト性を有しないオルガノポリシロキサン樹脂であってよく、
(A1−2−1)分子全体としてホットメルト性を有さず、分子内に炭素−炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有さず、かつ、SiO4/2で表されるシロキサン単位を全シロキサン単位の少なくとも20モル%以上含有するオルガノポリシロキサン樹脂、および
(A1−2−2)分子全体としてホットメルト性を有さず、分子内に少なくとも1個の炭素−炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有し、かつ、SiO4/2で表されるシロキサン単位を全シロキサン単位の少なくとも20モル%以上含有するオルガノポリシロキサン樹脂
から選ばれる1種類以上、またはこれらの混合物であることが特に好ましい。ただし、これらのオルガノポリシロキサン樹脂はそれ自体ではホットメルト性を有しないので、
(A2)25℃において液状または可塑度を有する半固体状の直鎖状または分岐鎖状のオルガノポリシロキサンであって、分子内に少なくとも2個の炭素−炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有するもの
の混合物である必要がある。
On the other hand, the organopolysiloxane resin as the component (A1) may be an organopolysiloxane resin that does not have hot melt properties by itself.
(A1-2-1) The molecule as a whole does not have hot melt properties, does not have a curing reactive functional group containing a carbon-carbon double bond in the molecule, and is represented by SiO 4/2. An organopolysiloxane resin containing at least 20 mol% or more of siloxane units, and (A1-2-2) molecule as a whole having no hot melt property and at least one carbon-carbon double in the molecule. One or more selected from organopolysiloxane resins having a curing reactive functional group including a bond and containing at least 20 mol% or more of the siloxane unit represented by SiO 4/2, or these. It is particularly preferable that it is a mixture of. However, since these organopolysiloxane resins do not have hot melt properties by themselves,
(A2) A semi-solid linear or branched organopolysiloxane having liquid or plasticity at 25 ° C. and having a curing reactivity containing at least two carbon-carbon double bonds in the molecule. It needs to be a mixture of those with functional groups.

特に好適には、(A1−2−1)成分、(A1−2−2)成分および(A2)成分の混合物からなり、混合物全体がホットメルト性を有する固形分である。
以下、これらの成分について説明する。
Particularly preferably, it is composed of a mixture of (A1-2-1) component, (A1-2-2) component and (A2) component, and the entire mixture is a solid content having hot melt property.
Hereinafter, these components will be described.

[(A1−1)成分]
(A1−1)成分は、それ自体がホットメルト性を有し、分子内に少なくとも1個の炭素−炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有するため、後述する(B)硬化剤により硬化する。このような(A1−1)成分は、
(A)樹脂状オルガノポリシロキサン、
(A)少なくとも1種のオルガノポリシロキサンを架橋してなるオルガノポリシロキサン架橋物、
(A)樹脂状オルガノシロキサンブロックと鎖状オルガノシロキサンブロックからなるブロックコポリマー、
またはこれらの少なくとも2種の混合物
からなるオルガノポリシロキサン樹脂が好ましい。これらは有機溶媒に可溶であり、工業的には有機溶媒中で合成される。
[(A1-1) component]
The component (A1-1) itself has a hot-melt property and has a curing-reactive functional group containing at least one carbon-carbon double bond in the molecule. Therefore, the curing agent (B) described later. Hardens with. Such a (A1-1) component is
(A 1 ) Resin-like organopolysiloxane,
(A 2 ) An organopolysiloxane crosslinked product obtained by cross-linking at least one type of organopolysiloxane.
(A 3 ) Block copolymer consisting of a resinous organosiloxane block and a chain organosiloxane block,
Alternatively, an organopolysiloxane resin composed of a mixture of at least two of these is preferable. These are soluble in organic solvents and are industrially synthesized in organic solvents.

(A)成分はヒドロシリル化反応性基および/またはラジカル反応性基を有する樹脂状オルガノポリシロキサンであり、T単位又はQ単位を多く有し、アリール基を有するホットメルト性の樹脂状オルガノポリシロキサンであることが好ましい。このような(A)成分としては、トリオルガノシロキシ単位(M単位)(オルガノ基はメチル基のみ、メチル基とビニル基またはフェニル基である。)、ジオルガノシロキシ単位(D単位)(オルガノ基はメチル基のみ、メチル基とビニル基またはフェニル基である。)、モノオルガノシロキシ単位(T単位)(オルガノ基はメチル基、ビニル基、またはフェニル基である。)及びシロキシ単位(Q単位)の任意の組み合わせからなるMQ樹脂、MDQ樹脂、MTQ樹脂、MDTQ樹脂、TD樹脂、TQ樹脂、TDQ樹脂が例示される。なお、(A)成分は、分子中に少なくとも2個のヒドロシリル化反応性基および/またはラジカル反応性基を有し、分子中の全有機基の10モル%以上がアリール基、特に、フェニル基であることが好ましい。 The component (A 1 ) is a resin-like organopolysiloxane having a hydrosilylation-reactive group and / or a radical-reactive group, and is a hot-melt resin-like organopoly having many T units or Q units and having an aryl group. It is preferably siloxane. Such (A 1 ) components include triorganosyloxy units (M units) (organo groups are only methyl groups, methyl groups and vinyl groups or phenyl groups), and diorganosyloxy units (D units) (organo). The groups are only methyl groups, methyl groups and vinyl groups or phenyl groups), monoorganosyloxy units (T units) (organo groups are methyl groups, vinyl groups, or phenyl groups) and siloxy units (Q units). ), MQ resin, MDQ resin, MTQ resin, MDTQ resin, TD resin, TQ resin, TDQ resin are exemplified. The component (A 1 ) has at least two hydrosilylation-reactive groups and / or radical-reactive groups in the molecule, and 10 mol% or more of all the organic groups in the molecule are aryl groups, particularly phenyl. It is preferably a group.

(A)成分は、少なくとも1種のオルガノポリシロキサンを架橋してなるので、(C)硬化剤により硬化する際にクラックが発生しにくく、硬化収縮を小さくすることができる。ここで、「架橋」とは、原料であるオルガノポリシロキサンをヒドロシリル化反応、縮合反応、ラジカル反応、高エネルギー線反応等により、前記オルガノポリシロキサンを連結することである。このヒドロシリル化反応性基やラジカル反応性基(高エネルギー線反応性基を含む)としては、前記と同様の基が例示され、縮合反応性基としては、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アシルオキシ基が例示される。 Since the component (A 2 ) is formed by cross-linking at least one kind of organopolysiloxane, cracks are less likely to occur when the component (C) is cured by the curing agent, and the curing shrinkage can be reduced. Here, "crosslinking" means connecting the organopolysiloxane as a raw material by a hydrosilylation reaction, a condensation reaction, a radical reaction, a high energy ray reaction, or the like. Examples of the hydrosilylation-reactive group and the radical-reactive group (including the high-energy ray-reactive group) include the same groups as described above, and examples of the condensation-reactive group include a hydroxyl group, an alkoxy group, and an acyloxy group. Will be done.

(A)成分を構成する単位は限定されず、シロキサン単位、シルアルキレン基含有シロキサン単位が例示され、また、得られる硬化物に十分な硬度と機械的強度を付与することから、同一分子内に樹脂状ポリシロキサン単位と鎖状ポリシロキサン単位を有することが好ましい。すなわち、(A)成分は、樹脂状(レジン状)オルガノポリシロキサンと鎖状(直鎖状または分岐鎖状を含む)オルガノポリシロキサンとの架橋物であることが好ましい。(A)成分中に、樹脂状オルガノポリシロキサン構造−鎖状オルガノポリシロキサン構造を導入することで、(A)成分は良好なホットメルト性を示すと共に、(C)硬化剤により、良好な硬化性を示す。 The unit constituting the component (A 2 ) is not limited, and siloxane units and sylalkylene group-containing siloxane units are exemplified, and since sufficient hardness and mechanical strength are imparted to the obtained cured product, the same molecule It is preferable to have a resin-like polysiloxane unit and a chain-like polysiloxane unit. That is, the component (A 2 ) is preferably a crosslinked product of a resin-like (resin-like) organopolysiloxane and a chain-like (including linear or branched-chain) organopolysiloxane. (A 2) in the component, a resinous organopolysiloxane structure - by introducing a chain organopolysiloxane structure, (A 2) with component exhibits good hot-melt properties, the curing agent (C), good Shows good curability.

(A)成分は、
(1)一分子中に少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンと一分子中にケイ素原子結合水素原子を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサンのヒドロシリル化反応を経て、分子中に樹脂状オルガノポリシロキサン構造−鎖状オルガノポリシロキサン構造をアルキレン結合により連結したもの
(2)一分子中に少なくとも2個のラジカル反応性基を有する少なくとも2種のオルガノポリシロキサンの有機過酸化物によるラジカル反応を経て、分子中に樹脂状オルガノポリシロキサン構造−鎖状オルガノポリシロキサン構造をシロキサン結合またはアルキレン結合により連結したもの
(3)少なくとも2種のオルガノポリシロキサンの縮合反応を経て、分子中に樹脂状オルガノポリシロキサン構造−鎖状オルガノポリシロキサン構造をシロキサン(−Si−O−Si−)結合により連結したもの
のいずれかである。このような(A)成分は、樹脂構造−鎖状構造のオルガノポリシロキサン部分がアルキレン基または新たなシロキサン結合により連結された構造を有するので、ホットメルト性が著しく改善される。
(A 2 ) component is
(1) A resinous organopoly in the molecule undergoes a hydrosilylation reaction between an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups in one molecule and an organopolysiloxane having at least two silicon atom-bonded hydrogen atoms in one molecule. Siloxane-chain organopolysiloxane structure linked by alkylene bond (2) At least two organopolysiloxanes having at least two radical-reactive groups in one molecule undergo a radical reaction with an organic peroxide. , Resin-like organopolysiloxane structure in the molecule-Chain-chain organopolysiloxane structure linked by siloxane bond or alkylene bond (3) Resin-like organopoly in the molecule through the condensation reaction of at least two types of organopolysiloxane. Siloxane structure-A chain of organopolysiloxane structures linked by a siloxane (-Si-O-Si-) bond. Since such a component (A 2 ) has a structure in which an organopolysiloxane portion having a resin structure-chain structure is linked by an alkylene group or a new siloxane bond, the hot melt property is remarkably improved.

上記(1)および(2)において、(A)成分中に含まれるアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基等の炭素数2〜20のアルケニル基が例示され、これらは直鎖状でも分岐鎖状でもよく、好ましくは、エチレン基、ヘキシレン基である。 In the above (1) and (2), examples of the alkylene group contained in the component (A 2 ) are alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms such as an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group and a hexylene group. These may be linear or branched, preferably an ethylene group or a hexylene group.

樹脂状オルガノポリシロキサンと鎖状(直鎖状または分岐鎖状を含む)オルガノポリシロキサンの架橋物は、例えば、以下のシロキサン単位およびシルアルキレン基含有シロキサン単位により構成される。
M単位:R SiO1/2で表されるシロキサン単位、
D単位:RSiO2/2で表されるシロキサン単位、
M/RD単位:R 1/2 SiO1/2で表されるシルアルキレン基含有シロキサン単位およびR 1/2SiO2/2で表されるシルアルキレン基含有シロキサン単位から選ばれる少なくとも1種のシロキサン単位、ならびに
T/Q単位:RSiO3/2で表されるシロキサン単位およびSiO4/2で表されるシロキサン単位から選ばれる少なくとも1種のシロキサン単位
The crosslinked product of the resinous organopolysiloxane and the chain-like (including linear or branched chain-like) organopolysiloxane is composed of, for example, the following siloxane unit and sylalkylene group-containing siloxane unit.
M unit: R 1 R 2 2 Siloxane unit represented by SiO 1/2,
D unit: R 1 R 2 siloxane unit represented by SiO 2/2,
R 3 M / R 3 D unit: R 3 1/2 R 2 2 Siloxane group-containing siloxane unit represented by SiO 1/2 and Sylalkylene group represented by R 3 1/2 R 2 SiO 2/2 At least one siloxane unit selected from the contained siloxane units, and T / Q units: at least one siloxane selected from the siloxane unit represented by R 2 SiO 3/2 and the siloxane unit represented by SiO 4/2. unit

式中、Rは、各々独立に、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のハロゲン置換アルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のハロゲン置換アリール基、または炭素数7〜20のアラルキル基であり、前記と同様の基が例示される。Rは、メチル基、ビニル基、フェニル基が好ましい。ただし、全シロキサン単位のうち、少なくとも2個のRはアルケニル基であることが好ましい。 In the formula, R 1 is independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and carbon. A halogen-substituted aryl group having a number of 6 to 20 or an aralkyl group having a carbon number of 7 to 20 is exemplified, and the same group as described above is exemplified. R 1 is preferably a methyl group, a vinyl group, or a phenyl group. However, of all the siloxane units, it is preferred that at least two of R 1 is an alkenyl group.

また、式中、Rは、各々独立に、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のハロゲン置換アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のハロゲン置換アリール基、または炭素数7〜20のアラルキル基であり、前記Rと同様の基が例示される。Rは、メチル基、フェニル基が好ましい。 Further, in the formula, R 2 is independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and a halogen-substituted alkyl group having 6 to 20 carbon atoms. It is an aryl group or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, and a group similar to R 1 is exemplified. R 2 is a methyl group, a phenyl group are preferred.

また、式中、Rは他のシロキサン単位中のケイ素原子に結合した、直鎖状または分岐鎖状の炭素数2〜20のアルキレン基である。アルキレン基としては、前記と同様の基が例示され、エチレン基、ヘキシレン基が好ましい。 Further, in the formula, R 3 is a linear or branched alkylene group having 2 to 20 carbon atoms bonded to a silicon atom in another siloxane unit. Examples of the alkylene group include the same groups as described above, and an ethylene group and a hexylene group are preferable.

M単位は(A)成分の末端を構成するシロキサン単位であり、D単位は直鎖状のポリシロキサン構造を構成するシロキサン単位である。なお、これらのM単位またはD単位、特に、M単位上にアルケニル基があることが好ましい。一方、RM単位およびRD単位はシルアルキレン結合を介して他のシロキサン単位中のケイ素原子に結合し、かつ、酸素原子を介して他のシロキサン単位中のケイ素原子に結合するシロキサン単位である。T/Q単位はポリシロキサンに樹脂状の構造を与える分岐のシロキサン単位であり、(A)成分がRSiO3/2で表されるシロキサン単位および/またはSiO4/2で表されるシロキサン単位を含むことが好ましい。特に、(A)成分のホットメルト性を向上させ、(A)成分中のアリール基の含有量を調整することから、(A)成分はRSiO3/2で表されるシロキサン単位を含むことが好ましく、特に、Rがフェニル基であるシロキサン単位を含むことが好ましい。 The M unit is a siloxane unit that constitutes the terminal of the component (A 2 ), and the D unit is a siloxane unit that constitutes a linear polysiloxane structure. It is preferable that there is an alkenyl group on these M units or D units, particularly M units. On the other hand, the R 3 M unit and the R 3 D unit are siloxane units that are bonded to silicon atoms in other siloxane units via silalkylene bonds and to silicon atoms in other siloxane units via oxygen atoms. Is. The T / Q unit is a branched siloxane unit that gives a resin-like structure to polysiloxane, and the component (A 2 ) is represented by R 2 SiO 3/2 , a siloxane unit, and / or SiO 4/2. It preferably contains a siloxane unit. In particular, since the hot melt property of the component (A 2 ) is improved and the content of the aryl group in the component (A 2 ) is adjusted, the component (A 2 ) is a siloxane represented by R 2 SiO 3/2. It is preferable to contain a unit, and in particular, it is preferable to contain a siloxane unit in which R 2 is a phenyl group.

M/RD単位は、(A)成分の特徴的な構造の1つであり、Rのアルキレン基を介して、ケイ素原子間が架橋された構造を表す。具体的には、R 1/2 SiO1/2で表されるアルキレン基含有シロキサン単位およびR 1/2SiO2/2で表されるアルキレン基含有シロキサン単位から選ばれる少なくとも1種のシロキサン単位であり、(A)成分を構成する全シロキサン単位の少なくとも二つはこれらのアルキレン基含有シロキサン単位であることが好ましい。Rのアルキレン基を有するシロキサン単位間の好適な結合形態は前記の通りであり、二つのアルキレン基含有シロキサン単位間のRの数は、M単位における酸素等と同様に結合価「1/2」として表現している。仮にRの数を1とすれば、[O1/2 SiRSiR 1/2]、[O1/2 SiRSiR2/2]および[O2/2SiRSiR2/2]で表されるシロキサンの構造単位から選ばれる少なくとも1以上が(A)成分中に含まれ、各酸素原子(O)は、前記のM,D,T/Q単位に含まれるケイ素原子に結合する。かかる構造を有することで、(A)成分は、D単位からなる鎖状ポリシロキサン構造、T/Q単位を含む樹脂状ポリシロキサン構造を分子内に有する構造を比較的容易に設計可能であり、その物理的物性において著しく優れたものである。 The R 3 M / R 3 D unit is one of the characteristic structures of the component (A 2 ), and represents a structure in which silicon atoms are crosslinked via an alkylene group of R 3. Specifically, it is selected from an alkylene group-containing siloxane unit represented by R 3 1/2 R 2 2 SiO 1/2 and an alkylene group-containing siloxane unit represented by R 3 1/2 R 2 SiO 2/2. It is preferable that at least one kind of siloxane unit is used, and at least two of all the siloxane units constituting the component (A 2) are these alkylene group-containing siloxane units. The preferred bonding form between the siloxane units having an alkylene group of R 3 is as described above, and the number of R 3 between two alkylene group-containing siloxane units has a binding value of "1 /" similar to oxygen in the M unit. It is expressed as "2". Assuming that the number of R 3 is 1, [O 1/2 R 2 2 SiR 3 SiR 2 2 O 1/2 ], [O 1/2 R 2 2 SiR 3 SiR 2 O 2/2 ] and [O 2/2 R 2 SiR 3 SiR 2 O 2/2 ] contains at least one or more selected from the structural units of the siloxane represented by [A 2 ] in the component (A 2), and each oxygen atom (O) is the above-mentioned M. , D, T / Q to bond to the silicon atom contained in the unit. By having such a structure, the component (A 2 ) can be relatively easily designed to have a chain polysiloxane structure composed of D units and a resin-like polysiloxane structure containing T / Q units in the molecule. , It is remarkably excellent in its physical properties.

上記(1)において、一分子中に少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンと一分子中にケイ素原子結合水素原子を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサンとを、[アルケニル基のモル数]/[ケイ素原子結合水素原子のモル数]>1となる反応比でヒドロシリル化反応させることにより得ることができる。 In the above (1), an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups in one molecule and an organopolysiloxane having at least two silicon atom-bonded hydrogen atoms in one molecule are referred to as [the number of moles of alkenyl groups] /. It can be obtained by conducting a hydrosilylation reaction at a reaction ratio of [number of moles of silicon atom-bonded hydrogen atom]> 1.

上記(2)において、一分子中に少なくとも2個のラジカル反応性基を有する少なくとも2種のオルガノポリシロキサンを、系中の全てのラジカル反応性基が反応するには足りない量の有機過酸化物によるラジカル反応させることにより得ることができる。 In (2) above, at least two types of organopolysiloxane having at least two radical-reactive groups in one molecule are organically peroxidized in an amount insufficient for all the radical-reactive groups in the system to react. It can be obtained by radical reaction with an object.

上記(1)および(2)において、(A)成分は、樹脂状シロキサン構造を有するオルガノポリシロキサンと、鎖状シロキサン構造を有するオルガノポリシロキサンをヒドロシリル化反応またはラジカル反応したものである。 In the above (1) and (2), the component (A 2 ) is a hydrosilylation reaction or a radical reaction between an organopolysiloxane having a resinous siloxane structure and an organopolysiloxane having a chain siloxane structure.

例えば、(A)成分は、
(A)分子中にRSiO3/2(式中、Rは、前記と同様の基である。)で表されるシロキサン単位および/またはSiO4/2で表されるシロキサン単位を含有し、かつ、炭素数2〜20のアルケニル基またはケイ素原子結合水素原子あるいはラジカル反応性の基を有する、少なくとも1種の樹脂状オルガノポリシロキサン、および
(A)分子中にR SiO2/2で表されるシロキサン単位(式中、Rは、前記と同様の基である。)を含有し、かつ、前記の(A)成分とヒドロシリル化反応またはラジカル反応可能な基であって、炭素数2〜20のアルケニル基またはケイ素原子結合水素原子を有する少なくとも1種の鎖状オルガノポリシロキサンを、
(A)成分または(A)成分中のヒドロシリル化反応性基および/またはラジカル反応性基が反応後に残存するように設計された比率で反応させて得たオルガノポリシロキサンである。
For example, the component (A 2 ) is
( AR ) In the molecule, a siloxane unit represented by R 2 SiO 3/2 (in the formula, R 2 is a group similar to the above) and / or a siloxane unit represented by SiO 4/2. At least one resinous organopolysiloxane containing and having an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms or a silicon atom-bonded hydrogen atom or a radically reactive group, and R 2 2 SiO in the (AL ) molecule. siloxane units (wherein, R 2, said a is the same group.) represented by 2/2 contains, and, by the above (a R) component and a hydrosilylation reaction or radical reactable groups At least one chain organopolysiloxane having an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms or a silicon atom-bonded hydrogen atom.
It is (A R) component or (A L) organopolysiloxane hydrosilylation reactive group and / or a radical reactive group in component obtained by reacting a ratio designed to remain after the reaction.

上記(1)において、(A)成分の少なくとも一部が、炭素数2〜20のアルケニル基を有する樹脂状オルガノポリシロキサンである場合、(A)成分の少なくとも一部はケイ素原子結合水素原子を有する鎖状オルガノポリシロキサンであることが好ましい。 In the above (1), when at least a part of the (AR ) component is a resinous organopolysiloxane having an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, at least a part of the ( AL ) component is a silicon atom-bonded hydrogen. It is preferably a chain organopolysiloxane having an atom.

同様に、(A)成分の少なくとも一部が、ケイ素原子結合水素原子を有する樹脂状オルガノポリシロキサンである場合、(A)成分の少なくとも一部は炭素数2〜20のアルケニル基を有する鎖状オルガノポリシロキサンであることが好ましい。 Similarly, when at least a part of the (AR ) component is a resinous organopolysiloxane having a silicon atom-bonded hydrogen atom, at least a part of the ( AL ) component has an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms. It is preferably a chain organopolysiloxane.

このような(A)成分は、
(a)成分:下記(a1−1)成分および/または下記(a1−2)成分からなる分子中に炭素数2〜20のアルケニル基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサンを有機過酸化物でラジカル反応させたもの、または
(a)成分と、
(a)オルガノハイドロジェンポリシロキサンを、
ヒドロシリル化反応用触媒の存在下において、上記(a)成分に含まれる炭素原子数2〜20のアルケニル基に対して、上記(a)成分中のケイ素原子結合水素原子のモル比が0.2〜0.7モルとなる量でヒドロシリル化反応させたものが好ましい。
Such (A 2 ) component is
Component (a 1 ): Organic peroxide of an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms in a molecule composed of the following component (a 1-1 ) and / or the following component (a 1-2). Radical reaction with a substance, or with the component (a 1),
(A 2 ) Organohydrogenpolysiloxane,
In the presence of a catalyst for hydrosilylation reaction, the molar ratio of silicon atom-bonded hydrogen atoms in the component (a 2 ) to the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms contained in the component (a 1) is 0. It is preferable that the hydrosilylation reaction is carried out in an amount of .2 to 0.7 mol.

(a1−1)成分は、分岐単位の量が比較的多いポリシロキサンであり、平均単位式:
(R SiO1/2)(R SiO2/2)(RSiO3/2)(SiO4/2)(R1/2)
で表される一分子中にアルケニル基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサンである。式中、Rは、各々独立に、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のハロゲン置換アルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のハロゲン置換アリール基、または炭素数7〜20のアラルキル基であり、前記Rと同様の基が例示される。Rは、メチル基、ビニル基、またはフェニル基であることが好ましい。ただし、Rの少なくとも2個はアルケニル基である。また、ホットメルト性が良好であることから、全Rの10モル%以上、あるいは20モル%以上がフェニル基であることが好ましい。また、式中、Rは水素原子または炭素数1〜6のアルキル基であり、前記と同様のアルキル基が例示される。
The component (a 1-1 ) is a polysiloxane having a relatively large amount of branching units, and the average unit formula:
(R 4 3 SiO 1/2 ) a (R 4 2 SiO 2/2 ) b (R 4 SiO 3/2 ) c (SiO 4/2 ) d (R 5 O 1/2 ) e
It is an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups in one molecule represented by. In the formula, R 4 is independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and carbon. A halogen-substituted aryl group having a number of 6 to 20 or an aralkyl group having a carbon number of 7 to 20 is exemplified, and a group similar to that of R 1 is exemplified. R 4 is preferably a methyl group, a vinyl group or a phenyl group. Provided that at least two R 4 is an alkenyl group. Further, since the hot melt is good, it is preferred that all R 4 of 10 mol% or more, or more than 20 mol% are phenyl groups. In the above formula, R 5 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl group similar to the above can be exemplified.

また、式中、aは0〜0.7の範囲内の数、bは0〜0.7の範囲内の数、cは0〜0.9の範囲内の数、dは0〜0.7の範囲内の数、eは0〜0.1の範囲内の数、かつ、c+dは0.3〜0.9の範囲内の数、a+b+c+dは1であり、好ましくは、aは0〜0.6の範囲内の数、bは0〜0.6の範囲内の数、cは0〜0.9の範囲内の数、dは0〜0.5の範囲内の数、eは0〜0.05の範囲内の数、かつ、c+dは0.4〜0.9の範囲内の数、a+b+c+dは1である。これは、a、b、およびc+dがそれぞれ上記範囲内の数であると、得られる硬化物の硬度や機械的強度が優れたものとなるからである。 In the formula, a is a number in the range of 0 to 0.7, b is a number in the range of 0 to 0.7, c is a number in the range of 0 to 0.9, and d is a number in the range of 0 to 0.9. A number in the range of 7, e is a number in the range of 0 to 0.1, c + d is a number in the range of 0.3 to 0.9, a + b + c + d is 1, preferably a is 0 to 0. Numbers in the range of 0.6, b is the number in the range of 0 to 0.6, c is the number in the range of 0 to 0.9, d is the number in the range of 0 to 0.5, and e is the number in the range of 0 to 0.5. The number in the range of 0 to 0.05, c + d is the number in the range of 0.4 to 0.9, and a + b + c + d is 1. This is because when a, b, and c + d are numbers within the above ranges, the hardness and mechanical strength of the obtained cured product are excellent.

このような(a1−1)成分としては、次のオルガノポリシロキサンが例示される。式中、Me、Ph、Viはそれぞれメチル基、フェニル基、ビニル基を表す。
(ViMeSiO1/2)0.25(PhSiO3/2)0.75(HO1/2)0.02
(ViMeSiO1/2)0.25(PhSiO3/2)0.75
(ViMeSiO1/2)0.20(PhSiO3/2)0.80
(ViMeSiO1/2)0.15(MeSiO1/2)0.38(SiO4/2)0.47(HO1/2)0.01
(ViMeSiO1/2)0.13(MeSiO1/2)0.45(SiO4/2)0.42(HO1/2)0.01
(ViMeSiO1/2)0.15(PhSiO3/2)0.85(HO1/2)0.01
(MeSiO2/2)0.15(MeViSiO2/2)0.10(PhSiO3/2)0.75(HO1/2)0.04
(MeViPhSiO1/2)0.20(PhSiO3/2)0.80(HO1/2)0.05
(ViMeSiO1/2)0.15(PhSiO3/2)0.75(SiO4/2)0.10(HO1/2)0.02
(PhSiO2/2)0.25(MeViSiO2/2)0.30(PhSiO3/2)0.45(HO1/2)0.04
(MeSiO1/2)0.20(ViMePhSiO1/2)0.40(SiO4/2)0.40(HO1/2)0.08
Examples of such (a 1-1 ) components include the following organopolysiloxanes. In the formula, Me, Ph, and Vi represent a methyl group, a phenyl group, and a vinyl group, respectively.
(ViMe 2 SiO 1/2 ) 0.25 (PhSiO 3/2 ) 0.75 (HO 1/2 ) 0.02
(ViMe 2 SiO 1/2 ) 0.25 (PhSiO 3/2 ) 0.75
(ViMe 2 SiO 1/2 ) 0.20 (PhSiO 3/2 ) 0.80
(ViMe 2 SiO 1/2 ) 0.15 (Me 3 SiO 1/2 ) 0.38 (SiO 4/2 ) 0.47 (HO 1/2 ) 0.01
(ViMe 2 SiO 1/2 ) 0.13 (Me 3 SiO 1/2 ) 0.45 (SiO 4/2 ) 0.42 (HO 1/2 ) 0.01
(ViMe 2 SiO 1/2 ) 0.15 (PhSiO 3/2 ) 0.85 (HO 1/2 ) 0.01
(Me 2 SiO 2/2 ) 0.15 (MeViSiO 2/2 ) 0.10 (PhSiO 3/2 ) 0.75 (HO 1/2 ) 0.04
(MeViPhSiO 1/2 ) 0.20 (PhSiO 3/2 ) 0.80 (HO 1/2 ) 0.05
(ViMe 2 SiO 1/2 ) 0.15 (PhSiO 3/2 ) 0.75 (SiO 4/2 ) 0.10 (HO 1/2 ) 0.02
(Ph 2 SiO 2/2 ) 0.25 (MeViSiO 2/2 ) 0.30 (PhSiO 3/2 ) 0.45 (HO 1/2 ) 0.04
(Me 3 SiO 1/2 ) 0.20 (ViMePhSiO 1/2 ) 0.40 (SiO 4/2 ) 0.40 (HO 1/2 ) 0.08

(a1−2)成分は、鎖状シロキサン単位の量が比較的多いポリシロキサンであり、平均単位式:
(R SiO1/2)a'(R SiO2/2)b'(RSiO3/2)c'(SiO4/2)d'(R1/2)e'
で表される、一分子中に炭素数2〜20のアルケニル基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサンである。式中、RおよびRは前記と同様の基である。
The component (a 1-2 ) is a polysiloxane having a relatively large amount of chain siloxane units, and the average unit formula:
(R 4 3 SiO 1/2 ) a' (R 4 2 SiO 2/2 ) b' (R 4 SiO 3/2 ) c' (SiO 4/2 ) d' (R 5 O 1/2 ) e'
It is an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms in one molecule represented by. In the formula, R 4 and R 5 are the same groups as described above.

また、式中、a'は0.01〜0.3の範囲内の数、b'は0.4〜0.99の範囲内の数、c'は0〜0.2の範囲内の数、d'は0〜0.2の範囲内の数、e'は0〜0.1の範囲内の数、かつ、c'+d'は0〜0.2の範囲内の数、a'+b'+c'+d'は1であり、好ましくは、a'は0.02〜0.20の範囲内の数、b'は0.6〜0.99の範囲内の数、c'は0〜0.1の範囲内の数、d'は0〜0.1の範囲内の数、j'は0〜0.05の範囲内の数、かつ、c'+d'は0〜0.1の範囲内の数、a'+b'+c'+d'は1である。これは、a'、b'、c'、d'がそれぞれ上記範囲内の数であると、得られる硬化物に強靭性を付与できるからである。 In the formula, a'is a number in the range of 0.01 to 0.3, b'is a number in the range of 0.4 to 0.99, and c'is a number in the range of 0 to 0.2. , D'is a number in the range 0-0.2, e'is a number in the range 0-0.1, and c'+ d'is a number in the range 0-0.2, a'+ b '+ C'+ d'is 1, preferably a'is a number in the range 0.02 to 0.20, b'is a number in the range 0.6 to 0.99, and c'is 0 to 0. Numbers in the range of 0.1, d'is the number in the range 0-0.1, j'is the number in the range 0-0.05, and c'+ d'is 0-0.1. The number in the range, a'+ b'+ c'+ d', is 1. This is because if a', b', c', and d'are numbers within the above ranges, toughness can be imparted to the obtained cured product.

このような(a1−2)成分としては、次のオルガノポリシロキサンが例示される。式中、Me、Ph、Viはそれぞれメチル基、フェニル基、ビニル基を表す。
ViMeSiO(MePhSiO)18SiMeVi、すなわち、(ViMeSiO1/2)0.10(MePhSiO2/2)0.90
ViMeSiO(MePhSiO)30SiMeVi、すなわち、(ViMeSiO1/2)0.063(MePhSiO2/2)0.937
ViMeSiO(MePhSiO)150SiMeVi、すなわち、(ViMeSiO1/2)0.013(MePhSiO2/2)0.987
ViMeSiO(MeSiO)18SiMeVi、すなわち、(ViMeSiO1/2)0.10(MeSiO2/2)0.90
ViMeSiO(MeSiO)30SiMeVi、すなわち、(ViMeSiO1/2)0.063(MeSiO2/2)0.937
ViMeSiO(MeSiO)35(MePhSiO)13SiMeVi、すなわち、(ViMeSiO1/2)0.04(MeSiO2/2)0.70(MePhSiO2/2)0.26
ViMeSiO(MeSiO)10SiMeVi、すなわち、(ViMeSiO1/2)0.17(MeSiO2/2)0.83
(ViMeSiO1/2)0.10(MePhSiO2/2)0.80(PhSiO3/2)0.10(HO1/2)0.02
(ViMeSiO1/2)0.20(MePhSiO2/2)0.70(SiO4/2)0.10(HO1/2)0.01
HOMeSiO(MeViSiO)20SiMeOH
MeViSiO(MePhSiO)30SiMeVi
MeViSiO(MeSiO)150SiMeVi
Examples of such a component (a 1-2 ) include the following organopolysiloxane. In the formula, Me, Ph, and Vi represent a methyl group, a phenyl group, and a vinyl group, respectively.
ViMe 2 SiO (MePhSiO) 18 SiMe 2 Vi, that is, (ViMe 2 SiO 1/2 ) 0.10 (MePhSiO 2/2 ) 0.90
ViMe 2 SiO (MePhSiO) 30 SiMe 2 Vi, that is, (ViMe 2 SiO 1/2 ) 0.063 (MePhSiO 2/2 ) 0.937
ViMe 2 SiO (MePhSiO) 150 SiMe 2 Vi, that is, (ViMe 2 SiO 1/2 ) 0.013 (MePhSiO 2/2 ) 0.987
ViMe 2 SiO (Me 2 SiO) 18 SiMe 2 Vi, that is, (ViMe 2 SiO 1/2 ) 0.10 (Me 2 SiO 2/2 ) 0.90
ViMe 2 SiO (Me 2 SiO) 30 SiMe 2 Vi, that is, (ViMe 2 SiO 1/2 ) 0.063 (Me 2 SiO 2/2 ) 0.937
ViMe 2 SiO (Me 2 SiO) 35 (MePhSiO) 13 SiMe 2 Vi, that is, (ViMe 2 SiO 1/2 ) 0.04 (Me 2 SiO 2/2 ) 0.70 (MePhSiO 2/2 ) 0.26
ViMe 2 SiO (Me 2 SiO) 10 SiMe 2 Vi, that is, (ViMe 2 SiO 1/2 ) 0.17 (Me 2 SiO 2/2 ) 0.83
(ViMe 2 SiO 1/2 ) 0.10 (MePhSiO 2/2 ) 0.80 (PhSiO 3/2 ) 0.10 (HO 1/2 ) 0.02
(ViMe 2 SiO 1/2 ) 0.20 (MePhSiO 2/2 ) 0.70 (SiO 4/2 ) 0.10 (HO 1/2 ) 0.01
HOME 2 SiO (MeViSiO) 20 SiMe 2 OH
Me 2 ViSiO (MePhSiO) 30 SiMe 2 Vi
Me 2 ViSiO (Me 2 SiO) 150 SiMe 2 Vi

(a1−1)成分は得られる硬化物に硬度と機械的強度を付与するという観点から好ましく用いられる。(a1−2)成分は得られる硬化物に強靭性を付与できるという観点から任意成分として添加できるが、以下の(a)成分で鎖状シロキサン単位を多く有する架橋剤を用いる場合はそちらで代用してもよい。いずれの場合においても、分岐状シロキサン単位を多く有する成分と鎖状シロキサン単位を多く有する成分の質量比が50:50〜100:0の範囲内、あるいは60:40〜100:0の範囲内であることが好ましい。これは、分岐状シロキサン単位を多く有する成分と鎖状シロキサン単位を多く有する成分との質量比が上記範囲内の値であると、得られる硬化物の硬度ならびに機械的強度が良好となるからである。 The component (a 1-1 ) is preferably used from the viewpoint of imparting hardness and mechanical strength to the obtained cured product. The component (a 1-2 ) can be added as an optional component from the viewpoint of imparting toughness to the obtained cured product, but when a cross-linking agent having many chain siloxane units is used in the following component (a 2), there. May be substituted. In any case, the mass ratio of the component having many branched siloxane units to the component having many chain siloxane units is within the range of 50:50 to 100: 0, or within the range of 60:40 to 100: 0. It is preferable to have. This is because when the mass ratio of the component having many branched siloxane units and the component having many chain siloxane units is a value within the above range, the hardness and mechanical strength of the obtained cured product are good. is there.

なお、(a)成分を、有機過酸化物によるラジカル反応する場合、(a1−1)成分と(a1−2)成分を10:90〜90:10の範囲内で反応させ、(a)成分を用いなくてもよい。 When the component (a 1 ) is radically reacted with an organic peroxide, the component (a 1-1 ) and the component (a 1-2 ) are reacted in the range of 10:90 to 90:10, and (a 1-1) is reacted in the range of 10:90 to 90:10. a 2 ) It is not necessary to use the component.

(a)成分は、ヒドロシリル化反応において、(a1−1)成分および/または(a1−2)成分を架橋するための成分であり、一分子中にケイ素原子結合水素原子を少なくとも2個含有するオルガノポリシロキサンである。(a)成分中の水素原子以外のケイ素原子に結合する基としては、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のハロゲン置換アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のハロゲン置換アリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、アルコキシ基、エポキシ基含有基、または水酸基が例示され、前記と同様の基が例示される。 The component (a 2 ) is a component for cross-linking the component (a 1-1 ) and / or the component (a 1-2 ) in the hydrosilylation reaction, and has at least two silicon atom-bonded hydrogen atoms in one molecule. It is an organopolysiloxane containing an individual. Examples of the group bonded to the silicon atom other than the hydrogen atom in the component (a 2 ) include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and carbon. Examples thereof include a halogen-substituted aryl group having a number of 6 to 20, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, an alkoxy group, an epoxy group-containing group, or a hydroxyl group, and the same groups as described above are exemplified.

このような(a)成分は限定されないが、好ましくは、平均組成式:
SiO(4−k−m)/2
で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンである。式中、Rは、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のハロゲン置換アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のハロゲン置換アリール基、または炭素数7〜20のアラルキル基であり、前記Rと同様の基が例示され、好ましくは、メチル基、またはフェニル基である。
Such a component (a 2 ) is not limited, but preferably the average composition formula:
R 6 k H m SiO (4 -k-m) / 2
It is an organohydrogenpolysiloxane represented by. In the formula, R 6 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a halogen-substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or a carbon number of carbon atoms. It is an aralkyl group of 7 to 20, and a group similar to that of R 1 is exemplified, preferably a methyl group or a phenyl group.

また、式中、kは1.0〜2.5の範囲の数、好ましくは、1.2〜2.3の範囲の数であり、mは0.01〜0.9の範囲の数、好ましくは、0.05〜0.8の範囲の数であり、かつ、k+mは1.5〜3.0の範囲の数、好ましくは、2.0〜2.7の範囲の数である。 Further, in the formula, k is a number in the range of 1.0 to 2.5, preferably a number in the range of 1.2 to 2.3, and m is a number in the range of 0.01 to 0.9. Preferably, it is a number in the range of 0.05 to 0.8, and k + m is a number in the range of 1.5 to 3.0, preferably a number in the range of 2.0 to 2.7.

(a)成分は、分岐状シロキサン単位を多く有する樹脂状オルガノハイドロジェンポリシロキサンであってもよく、鎖状シロキサン単位を多く有する鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサンであってもよい。具体的には、(a)成分は、下記(a2−1)で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン、下記(a2−2)で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン、またはこれらの混合物が例示される。 The component (a 2 ) may be a resin-like organohydrogenpolysiloxane having many branched siloxane units, or may be a chain-organohydrogenpolysiloxane having many chain-like siloxane units. Specifically, the component (a 2 ) is an organohydrogenpolysiloxane represented by the following (a 2-1 ), an organohydrogenpolysiloxane represented by the following (a 2-2 ), or a mixture thereof. Is exemplified.

(a2−1)成分は、平均単位式:
[R SiO1/2][R SiO2/2][RSiO3/2][SiO4/2](R1/2)
で表されるケイ素原子結合水素原子を有する樹脂状オルガノハイドロジェンポリシロキサンである。式中、Rは、各々独立に、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のハロゲン置換アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のハロゲン置換アリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、または水素原子であり、前記Rと同様の基が例示される。また、式中、Rは水素原子または炭素数1〜6のアルキル基であり、前記と同様の基が例示される。
The component (a 2-1 ) is based on the average unit formula:
[R 7 3 SiO 1/2 ] f [R 7 2 SiO 2/2 ] g [R 7 SiO 3/2 ] h [SiO 4/2 ] i (R 5 O 1/2 ) j
It is a resinous organohydrogenpolysiloxane having a silicon atom-bonded hydrogen atom represented by. In the formula, R 7 is independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and a halogen-substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms. , An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or a hydrogen atom, and a group similar to that of R 1 is exemplified. In the above formula, R 5 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the same groups as those exemplified.

また、式中、fは0〜0.7の範囲内の数、gは0〜0.7の範囲内の数、hは0〜0.9の範囲内の数、iは0〜0.7の範囲内の数、jは0〜0.1の範囲内の数、かつ、h+iは0.3〜0.9の範囲内の数、f+g+h+iは1であり、好ましくは、fは0〜0.6の範囲内の数、gは0〜0.6の範囲内の数、hは0〜0.9の範囲内の数、iは0〜0.5の範囲内の数、jは0〜0.05の範囲内の数、かつ、h+iは0.4〜0.9の範囲内の数、f+g+h+iは1である。 In the formula, f is a number in the range of 0 to 0.7, g is a number in the range of 0 to 0.7, h is a number in the range of 0 to 0.9, and i is a number in the range of 0 to 0.9. A number in the range of 7, j is a number in the range of 0 to 0.1, h + i is a number in the range of 0.3 to 0.9, f + g + h + i is 1, preferably f is 0 to 0. Numbers in the range of 0.6, g is the number in the range of 0 to 0.6, h is the number in the range of 0 to 0.9, i is the number in the range of 0 to 0.5, j is the number in the range of 0 to 0.5. The number in the range of 0 to 0.05, h + i is the number in the range of 0.4 to 0.9, and f + g + h + i is 1.

(a2−2)成分は、平均単位式:
(R SiO1/2)f'(R SiO2/2)g'(RSiO3/2)h'(SiO4/2)i'(R1/2)j'
で表される、一分子中にケイ素原子結合水素原子を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサンである。式中、RおよびRは前記と同様の基である。
The component (a 2-2 ) is based on the average unit formula:
(R 7 3 SiO 1/2 ) f' (R 7 2 SiO 2/2 ) g' (R 7 SiO 3/2 ) h' (SiO 4/2 ) i' (R 5 O 1/2 ) j'
It is an organopolysiloxane having at least two silicon atom-bonded hydrogen atoms in one molecule represented by. In the formula, R 7 and R 5 are the same groups as described above.

また、式中、f'は0.01〜0.3の範囲内の数、g'は0.4〜0.99の範囲内の数、h'は0〜0.2の範囲内の数、i'は0〜0.2の範囲内の数、j'は0〜0.1の範囲内の数、かつ、h'+i'は0〜0.2の範囲内の数、f'+g'+h'+i'は1であり、好ましくは、f'は0.02〜0.20の範囲内の数、g'は0.6〜0.99の範囲内の数、h'は0〜0.1の範囲内の数、i'は0〜0.1の範囲内の数、j'は0〜0.05の範囲内の数、かつ、h'+i'は0〜0.1の範囲内の数、f'+g'+h'+i'は1である。 In the formula, f'is a number in the range of 0.01 to 0.3, g'is a number in the range of 0.4 to 0.99, and h'is a number in the range of 0 to 0.2. , I'is a number in the range 0-0.2, j'is a number in the range 0-0.1, and h'+ i'is a number in the range 0-0.2, f'+ g '+ H'+ i'is 1, preferably f'is a number in the range 0.02 to 0.20, g'is a number in the range 0.6 to 0.99, and h'is 0 to 0. A number in the range of 0.1, i'is a number in the range of 0 to 0.1, j'is a number in the range of 0 to 0.05, and h'+ i'is a number in the range of 0 to 0.1. The number in the range, f'+ g'+ h'+ i', is 1.

上記のとおり、(a)成分において、分岐状シロキサン単位を多く有するレジン状のオルガノポリシロキサンは、硬化物に硬度と機械的強度を付与し、鎖状シロキサン単位を多く有する得られるオルガノポリシロキサンは、硬化物に強靭性を付与するものであるので、(a)成分として(a2−1)成分と(a2−2)成分を適宜用いることが好ましい。具体的には、(a)成分中に分岐状シロキサン単位が少ない場合には、(a)成分として(a2−1)成分を主に用いることが好ましく、(a)成分中に鎖状シロキサン単位が少ない場合には、(a2−2)成分を主に用いることが好ましい。(a)成分は、(a2−1)成分と(a2−2)成分の質量比が50:50〜100:0の範囲内、あるいは60:40〜100:0の範囲内であることが好ましい。 As described above, in the component (a 2 ), the resin-like organopolysiloxane having many branched siloxane units imparts hardness and mechanical strength to the cured product, and the obtained organopolysiloxane has many chain siloxane units. since those that confer toughness to the cured product, it is preferable to use (a 2) as the component (a 2-1) as appropriate components and (a 2-2) component. Specifically, when (a 1) is less branched siloxane units in the component, (a 2) (a 2-1 ) mainly it is preferred to use component as the component in (a 1) component When the number of chain siloxane units is small, it is preferable to mainly use the component (a 2-2). (A 2) component, (a 2-1) component and (a 2-2) component weight ratio of 50: 50 to 100: 0 in the range of, or 60: 40 to 100: in the range of from 0 Is preferable.

このような(a)成分としては、次のオルガノポリシロキサンが例示される。式中、Me、Phはそれぞれメチル基、フェニル基を表す。
PhSi(OSiMeH)、すなわち、Ph0.67Me1.330.67SiO0.67
HMeSiO(MeSiO)20SiMeH、すなわち、Me2.000.09SiO0.95
HMeSiO(MeSiO)55SiMeH、すなわち、Me2.000.04SiO0.98
PhSi(OSiMeH)、すなわち、Ph0.25Me1.500.75SiO0.75
(HMeSiO1/2)0.6(PhSiO3/2)0.4、すなわち、Ph0.40Me1.200.60SiO0.90
Examples of such component (a 2 ) include the following organopolysiloxane. In the formula, Me and Ph represent a methyl group and a phenyl group, respectively.
Ph 2 Si (OSiMe 2 H) 2 , that is, Ph 0.67 Me 1.33 H 0.67 SiO 0.67
HMe 2 SiO (Me 2 SiO) 20 SiMe 2 H, that is, Me 2.00 H 0.09 SiO 0.95
HMe 2 SiO (Me 2 SiO) 55 SiMe 2 H, that is, Me 2.00 H 0.04 SiO 0.98
PhSi (OSiMe 2 H) 3 , that is, Ph 0.25 Me 1.50 H 0.75 SiO 0.75
(HMe 2 SiO 1/2 ) 0.6 (PhSiO 3/2 ) 0.4 , that is, Ph 0.40 Me 1.20 H 0.60 SiO 0.90

(a)成分の添加量は、(a)成分中のアルケニル基に対して、(a)成分中のケイ素原子結合水素原子のモル比が0.2〜0.7となる量であり、好ましくは、0.3〜0.6となる量である。これは、(a)成分の添加量が上記範囲内であると、得られる硬化物の初期の硬度および機械的強度が良好となるためである。 The amount of the component (a 2 ) added is such that the molar ratio of the silicon atom-bonded hydrogen atom in the component (a 2 ) to the alkenyl group in the component (a 1) is 0.2 to 0.7. Yes, preferably the amount is 0.3 to 0.6. This is because when the amount of the component (a 2 ) added is within the above range, the initial hardness and mechanical strength of the obtained cured product are good.

(a)成分をラジカル反応するために用いる有機過酸化物は限定されず、下記(C)成分で例示する有機過酸化物を用いることができる。ラジカル反応する際、(a)成分は、(a1−1)成分と(a1−2)成分の質量比が10:90〜90:10の範囲内の混合物であることが好ましい。なお、有機過酸化物の添加量は限定されないが、(a)成分100質量部に対して、0.1〜5質量部の範囲内、0.2〜3質量部の範囲内、あるいは0.2〜1.5質量部の範囲内であることが好ましい。 The organic peroxide used for radical reaction of the component (a 1 ) is not limited, and the organic peroxide exemplified by the component (C) below can be used. When a radical reaction, (a 1) component, (a 1-1) component and (a 1-2) component weight ratio of 10: 90 to 90: is preferably a mixture of 10, on a weight basis. The amount of the organic peroxide added is not limited, but is within the range of 0.1 to 5 parts by mass, within the range of 0.2 to 3 parts by mass, or 0 with respect to 100 parts by mass of the component (a 1). It is preferably in the range of .2 to 1.5 parts by mass.

また、(a)成分と(a)成分とをヒドロシリル化反応するために用いるヒドロシリル化反応用触媒は限定されず、下記(C)成分で例示するヒドロシリル化反応用触媒を用いることができる。なお、ヒドロシリル化反応用触媒の添加量は、(a)成分と(a)成分の合計量に対して、ヒドロシリル化反応用触媒中の白金系金属原子が質量単位で、0.01〜500ppmの範囲内、0.01〜100ppmの範囲内、あるいは0.01〜50ppmの範囲内となる量であることが好ましい。 Further, the hydrosilylation reaction catalyst used for the hydrosilylation reaction between the component (a 1 ) and the component (a 2 ) is not limited, and the hydrosilylation reaction catalyst exemplified by the component (C) below can be used. .. The amount of the hydrosilylation reaction catalyst added is 0.01 to 0.01 to the total amount of the (a 1 ) component and the (a 2 ) component, with the platinum-based metal atom in the hydrosilylation reaction catalyst in mass units. The amount is preferably in the range of 500 ppm, in the range of 0.01 to 100 ppm, or in the range of 0.01 to 50 ppm.

上記(A)は、下記(a)成分および下記(a)成分を、縮合反応用触媒により縮合反応させたものである。 The above (A 3 ) is a condensation reaction of the following (a 3 ) component and the following (a 4 ) component with a condensation reaction catalyst.

(a)成分は、平均単位式:
(R SiO1/2)(R SiO2/2)(RSiO3/2)(SiO4/2)(R1/2)
で表される縮合反応性のオルガノポリシロキサンである。式中、Rは、各々独立に、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のハロゲン置換アルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のハロゲン置換アリール基、または炭素数7〜20のアラルキル基であり、前記と同様の基が例示される。また、式中のRは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、または炭素数2〜5のアシル基であり、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;アシルオキシ基が例示される。(a)成分は、一分子中に少なくとも1個のケイ素原子結合水酸基、ケイ素原子結合アルコキシ基、またはケイ素原子結合アシロキシ基を有する。また、一分子中、少なくとも2個のRはアルケニル基であり、全Rの10モル%以上、または20モル%以上がフェニル基であることが好ましい。
The component (a 3 ) is based on the average unit formula:
(R 8 3 SiO 1/2 ) p (R 8 2 SiO 2/2 ) q (R 8 SiO 3/2 ) r (SiO 4/2 ) s (R 9 O 1/2 ) t
It is a condensation-reactive organopolysiloxane represented by. In the formula , each of R 8 independently has an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and carbon. A halogen-substituted aryl group having a number of 6 to 20 or an aralkyl group having a carbon number of 7 to 20 is exemplified, and the same group as described above is exemplified. Further, R 9 in the formula is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an acyl group having 2 to 5 carbon atoms, and an alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group; an acyloxy group is exemplified. The component (a 3 ) has at least one silicon atom-bonded hydroxyl group, a silicon atom-bonded alkoxy group, or a silicon atom-bonded acyloxy group in one molecule. Moreover, in one molecule, at least two R 8 is an alkenyl group, it is preferably 10 mol% or more of total R 8, or more than 20 mol% are phenyl groups.

式中、pは0〜0.7の範囲内の数、qは0〜0.7の範囲内の数、rは0〜0.9の範囲内の数、sは0〜0.7の範囲内の数、tは0.01〜0.10の範囲内の数、かつ、r+sは0.3〜0.9の範囲内の数、p+q+r+sは1であり、好ましくは、pは0〜0.6の範囲内の数、qは0〜0.6の範囲内の数、rは0〜0.9の範囲内の数、sは0〜0.5の範囲内の数、tは0.01〜0.05の範囲内の数、かつ、r+sは0.4〜0.9の範囲内の数である。これは、p、q、およびr+sがそれぞれ上記範囲内の数であると、25℃において柔軟性を持ちつつも、非流動性で、表面粘着性が低く、高温での溶融粘度が十分に低いホットメルト性のシリコーンが得られるからである。 In the formula, p is a number in the range of 0 to 0.7, q is a number in the range of 0 to 0.7, r is a number in the range of 0 to 0.9, and s is a number in the range of 0 to 0.7. The number in the range, t is the number in the range of 0.01 to 0.10, r + s is the number in the range of 0.3 to 0.9, p + q + r + s is 1, preferably p is 0 to 0. Numbers in the range of 0.6, q is the number in the range 0-0.6, r is the number in the range 0-0.9, s is the number in the range 0-0.5, t is The number is in the range of 0.01 to 0.05, and r + s is the number in the range of 0.4 to 0.9. This is because when p, q, and r + s are numbers within the above ranges, they are flexible at 25 ° C., non-fluid, have low surface adhesiveness, and have sufficiently low melt viscosity at high temperatures. This is because hot melt silicone can be obtained.

(a)成分は、平均単位式:
(R SiO1/2)p'(R SiO2/2)q'(RSiO3/2)r'(SiO4/2)s'(R1/2)t'
で表される縮合反応性のオルガノポリシロキサンである。式中、RおよびRは前記と同様の基である。(a)成分は、一分子中に少なくとも1個のケイ素原子結合水酸基、ケイ素原子結合アルコキシ基、またはケイ素原子結合アシロキシ基を有する。また、式中、p'は0.01〜0.3の範囲内の数、q'は0.4〜0.99の範囲内の数、r'は0〜0.2の範囲内の数、s'は0〜0.2の範囲内の数、t'は0〜0.1の範囲内の数、かつ、r'+s'は0〜0.2の範囲内の数、p'+q'+r'+s'は1であり、好ましくは、p'は0.02〜0.20の範囲内の数、q'は0.6〜0.99の範囲内の数、r'は0〜0.1の範囲内の数、s'は0〜0.1の範囲内の数、t'は0〜0.05の範囲内の数、かつ、r'+s'は0〜0.1の範囲内の数である。これは、p'、q'、r'、s'がそれぞれ上記範囲内の数であると、25℃において柔軟性を持ちつつも、非流動性で、表面粘着性が低く、高温での溶融粘度が十分に低いホットメルト性のシリコーンが得られるからである。
The component (a 4 ) is based on the average unit formula:
(R 8 3 SiO 1/2 ) p' (R 8 2 SiO 2/2 ) q' (R 8 SiO 3/2 ) r' (SiO 4/2 ) s' (R 9 O 1/2 ) t'
It is a condensation-reactive organopolysiloxane represented by. In the formula, R 8 and R 9 are the same groups as described above. The component (a 4 ) has at least one silicon atom-bonded hydroxyl group, a silicon atom-bonded alkoxy group, or a silicon atom-bonded acyloxy group in one molecule. In the formula, p'is a number in the range of 0.01 to 0.3, q'is a number in the range of 0.4 to 0.99, and r'is a number in the range of 0 to 0.2. , S'is a number in the range 0-0.2, t'is a number in the range 0-0.1, and r'+ s'is a number in the range 0-0.2, p'+ q '+ R'+ s'is 1, preferably p'is a number in the range 0.02 to 0.20, q'is a number in the range 0.6 to 0.99, and r'is 0 to 0. A number in the range of 0.1, s'is a number in the range of 0 to 0.1, t'is a number in the range of 0 to 0.05, and r'+ s'is a number in the range of 0 to 0.1. It is a number within the range. This is because when p', q', r', and s'are within the above ranges, they are flexible at 25 ° C., non-fluid, have low surface adhesiveness, and melt at high temperatures. This is because a hot-meltable silicone having a sufficiently low viscosity can be obtained.

(a)成分と(a)成分を縮合反応するための縮合反応用触媒は限定されず、例えば、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、オクテン酸錫、ジブチル錫ジオクテート、ラウリン酸錫等の有機錫化合物;テトラブチルチタネート、テトラプロピルチタネート、ジブトキシビス(エチルアセトアセテート)等の有機チタン化合物;その他、塩酸、硫酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等の酸性化合物;アンモニア、水酸化ナトリウム等のアルカリ性化合物;1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン(DBU)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)等のアミン系化合物が例示され、好ましくは、有機錫化合物、有機チタン化合物である。 The catalyst for the condensation reaction for the condensation reaction of the component (a 3 ) and the component (a 4 ) is not limited, and for example, dibutyltin dilaurate, dibutyltin diacetate, tin octenoate, dibutyltin dioctate, tin laurate, etc. Organic tin compounds; Organic titanium compounds such as tetrabutyl titanate, tetrapropyl titanate, dibutoxybis (ethylacetoacetate); Other acidic compounds such as hydrochloric acid, sulfuric acid and dodecylbenzene sulfonic acid; Alkaline compounds such as ammonia and sodium hydroxide; 1 Amine compounds such as, 8-diazabicyclo [5.4.0] undecene (DBU) and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO) are exemplified, preferably organic tin compounds and organic titanium. It is a compound.

また、(A)成分は、樹脂状オルガノシロキサンブロックと鎖状オルガノシロキサンブロックからなるブロックコポリマーである。このような(A)成分は、好ましくは、40〜90モル%の式[R SiO2/2]のジシロキシ単位、10〜60モル%の式[RSiO3/2]のトリシロキシ単位からなり、0.5〜35モル%のシラノール基[≡SiOH]を含むことが好ましい。ここで、Rは、各々独立に、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のハロゲン置換アルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のハロゲン置換アリール基、または炭素数7〜20のアラルキル基であり、前記と同様の基が例示される。一分子中、少なくとも2個のRはアルケニル基である。また、前記ジシロキシ単位[R SiO2/2]は、1つの直鎖ブロック当たりに平均して100〜300個のジシロキシ単位を有する直鎖ブロックを形成し、前記トリシロキシ単位[RSiO3/2]は、少なくとも500g/モルの分子量を有する非直鎖ブロックを形成し、少なくとも30%の非直鎖ブロックが互いに結合しており、各直鎖ブロックは、少なくとも1つの非直鎖ブロックと−Si−O−Si−結合を介して結合しており、少なくとも20000g/モルの質量平均分子量を有し、0.5〜4.5モル%の少なくとも1つのアルケニル基を含む、樹脂状オルガノシロキサンブロック共重合体である。 Further, (A 3) component is a block copolymer consisting of resinous organosiloxane block and chain organosiloxane block. Such (A 3) component, Torishirokishi preferably, disiloxy unit of 40 to 90 mol% of the formula [R 1 2 SiO 2/2], 10~60 mol% of the formula [R 1 SiO 3/2] It consists of units and preferably contains 0.5-35 mol% silanol groups [≡SiOH]. Here, R 1 is independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and carbon. A halogen-substituted aryl group having a number of 6 to 20 or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, and the same group as described above is exemplified. In one molecule, at least two of R 1 is an alkenyl group. Further, the disiloxy unit [R 1 2 SiO 2/2] forms a linear block having 100-300 amino disiloxy unit on average per one linear block, the Torishirokishi units [R 1 SiO 3 / 2 ] forms non-linear blocks having a molecular weight of at least 500 g / mol, at least 30% of the non-linear blocks are bonded to each other, and each linear block is associated with at least one non-linear block. A resinous organosiloxane that is attached via a −Si—O—Si− bond, has a mass average molecular weight of at least 20000 g / mol, and contains at least one alkenyl group of 0.5-4.5 mol%. It is a block copolymer.

(A)成分は、(a)樹脂状オルガノシロキサンまたは樹脂状オルガノシロキサンブロック共重合体と、(a)鎖状オルガノシロキサン、さらに必要に応じて(a)シロキサン化合物を縮合反応して調製される。 The component (A 3 ) is a condensation reaction of (a 5 ) a resinous organosiloxane or a resinous organosiloxane block copolymer with (a 6 ) a chain organosiloxane and, if necessary, a (a 7 ) siloxane compound. Is prepared.

(a)成分は、平均単位式:
[R SiO1/2][RSiO2/2]ii[RSiO3/2]iii[RSiO3/2]iv[SiO4/2]
で表される樹脂状オルガノシロキサンである。式中、Rは、各々独立に、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のハロゲン置換アルキル基、炭素数2〜20のアルケニル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のハロゲン置換アリール基、または炭素数7〜20のアラルキル基であり、前記と同様の基が例示される。また、式中、Rは、各々独立に、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のハロゲン置換アルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数6〜20のハロゲン置換アリール基、または炭素数7〜20のアラルキル基であり、前記Rと同様の基が例示される。
The component (a 5 ) is based on the average unit formula:
[R 1 2 R 2 SiO 1/2 ] i [R 1 R 2 SiO 2/2 ] ii [R 1 SiO 3/2 ] iii [R 2 SiO 3/2 ] iv [SiO 4/2 ] v
It is a resinous organosiloxane represented by. In the formula, R 1 is independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and carbon. A halogen-substituted aryl group having a number of 6 to 20 or an aralkyl group having a carbon number of 7 to 20 is exemplified, and the same group as described above is exemplified. Further, in the formula, R 2 is independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen-substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and a halogen-substituted alkyl group having 6 to 20 carbon atoms. It is an aryl group or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, and a group similar to R 1 is exemplified.

また、式中、i、ii、iii、iv、およびvは、各シロキシ単位のモル分率を表し、iは0〜0.6の数であり、iiは0〜0.6の数であり、iiiは0〜1の数であり、ivは0〜1の数であり、vは0〜0.6の数であり、ただし、ii+iii+iv+v>0であり、かつ、i+ii+iii+iv+v≦1である。また、(a)成分は、一分子中に0〜35モル%のシラノール基[≡SiOH]を含むことが好ましい。 Further, in the formula, i, ii, iii, iv, and v represent the molar fraction of each syroxy unit, i is a number from 0 to 0.6, and ii is a number from 0 to 0.6. , Iii is a number from 0 to 1, iv is a number from 0 to 1, v is a number from 0 to 0.6, where ii + iii + iv + v> 0 and i + ii + iii + iv + v≤1. Further, the component (a 5 ) preferably contains 0 to 35 mol% silanol group [≡SiOH] in one molecule.

(a)成分は、一般式:
3−α(X)αSiO(R SiO)βSi(X)α 3−α
で表される直鎖状のオルガノシロキサンである。式中、Rは前記と同じであり、前記と同様の基が例示される。また、式中、Xは、−OR、F、Cl、Br、I、−OC(O)R、−N(R、または−ON=CR (ここで、Rは水素原子または炭素数1〜6のアルキル基である。)から選択される加水分解性基である。また、式中、αは、各々独立して、1、2、または3であり、βは50〜300の整数である。
The component (a 6 ) has a general formula:
R 1 3-α (X) α SiO (R 1 2 SiO) β Si (X) α R 1 3-α
It is a linear organosiloxane represented by. In the formula, R 1 is the same as described above, and the same group as described above is exemplified. In the above formula, X is, -OR 5, F, Cl, Br, I, -OC (O) R 5, -N (R 5) 2 or -ON = CR 5 2 (where,, R 5 is It is a hydrolyzable group selected from a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Further, in the formula, α is 1, 2, or 3 independently, and β is an integer of 50 to 300.

(a)成分は、一般式:
SiX
で表されるシロキサン化合物である。式中、R、R、およびXは前記と同様の基である。
The component (a 7 ) has a general formula:
R 1 R 2 2 SiX
It is a siloxane compound represented by. In the formula, R 1 , R 2 , and X are the same groups as described above.

(a)成分と(a)成分および/または(a)成分を縮合反応するための縮合反応用触媒は限定されず、例えば、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、オクテン酸錫、ジブチル錫ジオクテート、ラウリン酸錫等の有機錫化合物;テトラブチルチタネート、テトラプロピルチタネート、ジブトキシビス(エチルアセトアセテート)等の有機チタン化合物;その他、塩酸、硫酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等の酸性化合物;アンモニア、水酸化ナトリウム等のアルカリ性化合物;1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン(DBU)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)等のアミン系化合物が例示される。 The catalyst for the condensation reaction for the condensation reaction of the component (a 5 ) and the component (a 6 ) and / or the component (a 7 ) is not limited, and for example, dibutyltin dilaurate, dibutyltin diacetate, tin octate, dibutyl. Organic tin compounds such as tin dioctate and tin laurate; organic titanium compounds such as tetrabutyl titanate, tetrapropyl titanate and dibutoxybis (ethylacetacetate); other acidic compounds such as hydrochloric acid, sulfuric acid and dodecylbenzene sulfonic acid; ammonia and water. Alkaline compounds such as sodium oxide; amine compounds such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene (DBU) and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO) are exemplified.

(A1−1)成分は、ホットメルト性を示し、具体的には、25℃において固体(非流動性)であり、100℃の溶融粘度が8000Pa・s以下であることが好ましい。非流動性とは、無負荷の状態で流動しないことを意味し、例えば、JIS K 6863−1994「ホットメルト接着剤の軟化点試験方法」で規定されるホットメルト接着剤の環球法による軟化点試験方法で測定される軟化点未満での状態を示す。すなわち、25℃において非流動性であるためには、軟化点が25℃よりも高い必要がある。 The component (A1-1) exhibits hot melt properties, and specifically, it is preferably solid (non-fluid) at 25 ° C. and has a melt viscosity at 100 ° C. of 8000 Pa · s or less. Non-fluidity means that it does not flow under no load. For example, the softening point of a hot melt adhesive by the ring ball method specified in JIS K 6863-1994 "Test method for softening point of hot melt adhesive". The state below the softening point measured by the test method is shown. That is, in order to be non-fluid at 25 ° C, the softening point needs to be higher than 25 ° C.

(A1−1)成分は、100℃の溶融粘度が8000Pa・s以下、5000Pa・s以下、あるいは10〜3000Pa・sの範囲内であることが好ましい。100℃の溶融粘度が上記の範囲内であると、ホットメルト後、25℃に冷却した後の密着性が良好である。 The component (A1-1) preferably has a melt viscosity at 100 ° C. of 8000 Pa · s or less, 5000 Pa · s or less, or 10 to 3000 Pa · s. When the melt viscosity at 100 ° C. is within the above range, the adhesion after hot melting and cooling to 25 ° C. is good.

[有機溶剤]
工程1および(A1−1)成分等の合成および溶解に使用される有機溶剤は限定されないが、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素;トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素;テトラヒドロフラン、ジプロピルエーテル等のエーテル類;ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン等のシリコーン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類が例示される。
[Organic solvent]
The organic solvent used for the synthesis and dissolution of the components of Step 1 and (A1-1) is not limited, but aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, cyclohexane and n-heptane; aromatics such as toluene, xylene and mesityrene Hydrocarbons; ethers such as tetrahydrofuran and dipropyl ether; silicones such as hexamethyldisiloxane, octamethyltrisiloxane and decamethyltetrasiloxane; esters such as ethyl acetate, butyl acetate and propylene glycol monomethyl ether; acetone, Examples thereof include ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone.

[(A1−2−1)成分]
本発明の、(A1−2−1)成分は、分子内に炭素−炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有しない非ホットメルト性のオルガノポリシロキサン樹脂である。当該成分は有機溶媒に可溶であり、工業的には有機溶媒中で合成される。
[(A1-2-1) component]
The component (A1-2-1) of the present invention is a non-hot melt organopolysiloxane resin containing a carbon-carbon double bond in the molecule and having no curing reactive functional group. The component is soluble in organic solvents and is industrially synthesized in organic solvents.

(A1−2−1)成分は分子全体としてホットメルト性を有さず、分子内に炭素−炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有さず、かつ、SiO4/2で表されるシロキサン単位を全シロキサン単位の少なくとも20モル%以上含有するオルガノポリシロキサン樹脂微粒子であり、本成分を、(A1)成分の一部として、(A2)成分である直鎖状または分岐鎖状のオルガノポリシロキサンと所定の量的範囲で併用することで、組成物全体としてのホットメルト性を実現する成分である。 The component (A1-2-1) does not have hot-melt property as a whole molecule, does not have a curing-reactive functional group containing a carbon-carbon double bond in the molecule, and is represented by SiO 4/2 . It is an organopolysiloxane resin fine particle containing at least 20 mol% or more of the siloxane unit to be produced, and this component is used as a part of the component (A1) in a linear or branched chain form as the component (A2). It is a component that realizes the hot melt property of the composition as a whole when used in combination with the organopolysiloxane of the above in a predetermined quantitative range.

(A1−2−1)成分は、分子全体としてホットメルト性を有さず、無溶媒の状態で固体状のオルガノポリシロキサン樹脂である。ここで、ホットメルト性を有しないとは、(A1−2−1)成分である樹脂がそれ単独では加熱溶融挙動を示さないことであり、具体的には、軟化点および溶融粘度を有さないことを意味する。 The component (A1-2-1) is an organopolysiloxane resin in a solid state in a solvent-free state without having a hot-melt property as a whole molecule. Here, having no hot-melt property means that the resin as a component (A1-2-1) does not exhibit heat-melting behavior by itself, and specifically, it has a softening point and a melting viscosity. Means not.

好適には、(A1−2−1)成分中のケイ素原子に結合した官能基は、メチル基であり、全てのケイ素原子に結合した官能基の70モル%以上がメチル基であることが好ましく、80モル%以上がメチル基あることがより好ましく、88モル%以上がメチル基であることが特に好ましい。かかる範囲において、(A1−2−1)成分はホットメルト性ではなく、その硬化物の高温下における耐着色性等に特に優れる成分として設計可能である。なお、当該(A)成分中には、少量の水酸基またはアルコキシ基を含んでもよい。 Preferably, the functional group bonded to the silicon atom in the component (A1-2-1) is a methyl group, and 70 mol% or more of the functional groups bonded to all the silicon atoms is preferably a methyl group. , 80 mol% or more is more preferably a methyl group, and 88 mol% or more is particularly preferably a methyl group. In such a range, the component (A1-2-1) can be designed as a component which is not hot-meltable and has particularly excellent color resistance and the like at high temperature of the cured product. The component (A) may contain a small amount of hydroxyl group or alkoxy group.

(A1−2−1)成分は、分子内に炭素−炭素二重結合を有する硬化反応性基を有しないので、それ自体では、硬化物を形成しないが、組成物全体としてのホットメルト性の改善や硬化物に対する補強効果を有する。 Since the component (A1-2-1) does not have a curing reactive group having a carbon-carbon double bond in the molecule, it does not form a cured product by itself, but the composition as a whole has a hot melt property. Has an improving and reinforcing effect on cured products.

(A1−2−1)成分は、無溶媒の状態で固体状のオルガノポリシロキサン樹脂微粒子であり、分子内に分岐シロキサン単位であるSiO4/2で表されるシロキサン単位を全シロキサン単位の少なくとも20モル%以上含有することを特徴とする。好適には、当該シロキサン単位は、全シロキサン単位の少なくとも40モル%以上であり、50モル%以上、特に、50〜65モル%の範囲であることが特に好ましい。 The component (A1-2-1) is a solid organopolysiloxane resin fine particle in a solvent-free state, and the siloxane unit represented by SiO 4/2 , which is a branched siloxane unit in the molecule, is at least the total siloxane unit. It is characterized by containing 20 mol% or more. Preferably, the siloxane unit is at least 40 mol% or more of the total siloxane unit, and is particularly preferably in the range of 50 mol% or more, particularly 50 to 65 mol%.

好適には、(A1−2−1)成分は、下記平均単位式:
(R SiO1/2(R SiO2/2(RSiO3/2(SiO4/2(R1/2)e
(式中、各Rは独立して1〜10個の炭素原子を有し、炭素−炭素二重結合を含まない一価炭化水素基;各Rは水素原子又は1〜10個の炭素原子を有するアルキル基であり;a、b、c、d及びeは、以下を満たす数である:0.10≦a≦0.60、0≦b≦0.70、0≦c≦0.80、0.20≦d≦0.65、0≦e≦0.05、かつa+b+c+d=1)
で表される非ホットメルト性のオルガノポリシロキサン樹脂である。
Preferably, the component (A1-2-1) has the following average unit formula:
(R 1 3 SiO 1/2 ) a (R 1 2 SiO 2/2 ) b (R 1 SiO 3/2 ) c (SiO 4/2 ) d (R 2 O 1/2) e
(In the formula, each R 1 independently has 1 to 10 carbon atoms and does not contain a carbon-carbon double bond; each R 2 is a hydrogen atom or 1 to 10 carbon atoms. It is an alkyl group having an atom; a, b, c, d and e are numbers satisfying the following: 0.10 ≦ a ≦ 0.60, 0 ≦ b ≦ 0.70, 0 ≦ c ≦ 0. 80, 0.20 ≦ d ≦ 0.65, 0 ≦ e ≦ 0.05, and a + b + c + d = 1)
It is a non-hot melt organopolysiloxane resin represented by.

上記の平均単位式において、各Rは独立して1〜10個の炭素原子を有し、炭素−炭素二重結合を含まない一価炭化水素基、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、又は類似のアルキル基;フェニル、トリル、キシリル、又は類似のアリール基;ベンジル、フェネチル、又は類似のアラルキル基;及びクロロメチル、3−クロロプロピル、3,3,3−トリフルオロプロピル、又は類似のハロゲン化アルキル基等である。ここで、1分子中の全Rの70モル%以上がメチル基等の炭素原子数1〜10のアルキル基であることが好ましく、88モル%以上がメチル基であることが、工業生産上および発明の技術的効果の見地から、特に好ましい。一方、Rはフェニル基等のアリール基を実質的に含まないことが好ましい。フェニル基等のアリール基を大量に含む場合、(A1−2−1)成分自体がホットメルト性となって、硬化物の高温下での耐着色性が悪化する場合がある。 In the above average unit formula, each R 1 independently has 1 to 10 carbon atoms and does not contain a carbon-carbon double bond, such as a monovalent hydrocarbon group such as methyl, ethyl, propyl, butyl and pentyl. , Hexyl, heptyl, or similar alkyl groups; phenyl, trill, xylyl, or similar aryl groups; benzyl, phenethyl, or similar aralkyl groups; and chloromethyl, 3-chloropropyl, 3,3,3-trifluoro Propyl, or a similar alkyl halide group. Here, it is preferable that 70 mol% or more of the total R 1 in one molecule is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as a methyl group, and 88 mol% or more is a methyl group in terms of industrial production. And from the viewpoint of the technical effect of the invention, it is particularly preferable. On the other hand, it is preferable that R 1 does not substantially contain an aryl group such as a phenyl group. When a large amount of an aryl group such as a phenyl group is contained, the component (A1-2-1) itself becomes hot-meltable, and the color resistance of the cured product at high temperature may be deteriorated.

式中、Rは水素原子又は1〜10個の炭素原子を有するアルキル基である。Rのアルキル基は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル又はヘキシルで例示される。当該Rを含む官能基R1/2は、(A2−1−1)成分中の水酸基又はアルコキシ基に該当する。 In the formula, R 2 is an alkyl group having a hydrogen atom or 1 to 10 carbon atoms. Alkyl group of R 2 include methyl, ethyl, propyl, butyl, exemplified by pentyl or hexyl. Functional group R 2 O 1/2 containing the R 2 corresponds to a hydroxyl group or an alkoxy group (a2-1-1) in the component.

式中、aは、一般式:R SiO1/2のシロキサン単位の割合を示す数である。この数は、0.1≦a≦0.60、好ましくは0.15≦a≦0.55を満たす。aが前記範囲の下限以上であれば、本成分を含む組成物が、組成物全体として良好なホットメルト性能を実現できる。他方、aが前記範囲の上限以下であれば、得られる硬化物の機械的強度(硬度等)が低くなりすぎない。 In the formula, a is a number indicating the ratio of the siloxane unit of the general formula: R 1 3 SiO 1/2. This number satisfies 0.1 ≦ a ≦ 0.60, preferably 0.15 ≦ a ≦ 0.55. When a is equal to or higher than the lower limit of the above range, the composition containing this component can realize good hot melt performance as a whole composition. On the other hand, if a is not more than the upper limit of the above range, the mechanical strength (hardness, etc.) of the obtained cured product does not become too low.

式中、bは、一般式:R SiO2/2のシロキサン単位の割合を示す数である。この数は、0≦b≦0.70、好ましくは0≦b≦0.60を満たす。bが範囲の上限以下であれば、本成分を含む組成物が、組成物全体として良好なホットメルト性能を実現でき、かつ室温にてべたつきの少ない粒状組成物を得ることができる。本発明において、bは0であってよく、かつ好ましい。 Wherein, b is the general formula: is a number that indicates the ratio of siloxane units R 1 2 SiO 2/2. This number satisfies 0 ≦ b ≦ 0.70, preferably 0 ≦ b ≦ 0.60. When b is not more than the upper limit of the range, the composition containing this component can realize good hot melt performance as a whole composition, and a granular composition with less stickiness can be obtained at room temperature. In the present invention, b may be 0 and is preferable.

式中、cは、一般式:RSiO3/2のシロキサン単位の割合を示す数である。この数は、0≦c≦0.70、好ましくは0≦c≦0.60を満たす。cが範囲の上限以下であれば、本成分を含む組成物が、組成物全体として良好なホットメルト性能を実現でき、かつ室温にてべたつきの少ない粒状組成物を得ることができる。本発明において、cは0であってよく、かつ好ましい。 In the formula, c is a number indicating the ratio of the siloxane unit of the general formula: R 1 SiO 3/2. This number satisfies 0 ≦ c ≦ 0.70, preferably 0 ≦ c ≦ 0.60. When c is not more than the upper limit of the range, the composition containing this component can realize good hot melt performance as a whole composition, and a granular composition with less stickiness can be obtained at room temperature. In the present invention, c may be 0 and is preferable.

式中、dは、SiO4/2のシロキサン単位の割合を示す数であり、0.20≦d≦0.65であることが必要であり、0.40≦d≦0.65であることが好ましく、0.50≦d≦0.65であることが特に好ましい。当該数値範囲内において、本成分を含む組成物が、組成物全体として良好なホットメルト性能でき、得られる硬化物の機械的強度に優れ、かつ、組成物全体としてべたつきのない、取扱作業性の良好な組成物が実現できる。 In the formula, d is a number indicating the ratio of the siloxane unit of SiO 4/2 , and it is necessary that 0.20 ≦ d ≦ 0.65, and 0.40 ≦ d ≦ 0.65. Is preferable, and 0.50 ≦ d ≦ 0.65 is particularly preferable. Within the numerical range, the composition containing this component can perform good hot-melt performance as a whole composition, has excellent mechanical strength of the obtained cured product, and is not sticky as a whole composition, and has handleability. A good composition can be realized.

式中、eは一般式:R1/2の単位の割合を示す数であり、同単位はオルガノポリシロキサン樹脂中に含まれうるケイ素原子に結合した水酸基またはアルコキシ基を意味する。この数は、0≦e≦0.05、好ましくは0≦e≦0.03を満たす。eが範囲の上限以下であれば、組成物全体として良好なホットメルト性能を実現する材料を得ることができる。なお、最終的には、各シロキサン単位の総和であるa、b、c及びdの合計は1に等しい。 In the formula, e is a number indicating the ratio of the unit of the general formula: R 2 O 1/2 , and the unit means a hydroxyl group or an alkoxy group bonded to a silicon atom that can be contained in the organopolysiloxane resin. This number satisfies 0 ≦ e ≦ 0.05, preferably 0 ≦ e ≦ 0.03. When e is not more than the upper limit of the range, a material that realizes good hot melt performance as a whole composition can be obtained. Finally, the sum of a, b, c and d, which is the sum of each siloxane unit, is equal to 1.

[(A1−2−2)成分]
本発明の(A1−2−2)成分は、無溶媒の状態で固体状のオルガノポリシロキサン樹脂であり、分子全体としてホットメルト性を有さず、分子内に少なくとも1個の炭素−炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有し、かつ、SiO4/2で表されるシロキサン単位を全シロキサン単位の少なくとも20モル%以上含有するオルガノポリシロキサン樹脂である。当該成分は有機溶媒に可溶であり、工業的には有機溶媒中で合成される。
[(A1-2-2) component]
The component (A1-2-2) of the present invention is a solid organopolysiloxane resin in a solvent-free state, does not have hot melt properties as a whole molecule, and has at least one carbon-carbon dicarbonate in the molecule. It is an organopolysiloxane resin having a curing reactive functional group including a heavy bond and containing at least 20 mol% or more of siloxane units represented by SiO 4/2 in total siloxane units. The component is soluble in organic solvents and is industrially synthesized in organic solvents.

ここで、ホットメルト性を有しないとは、(A1−2−2)成分であるオルガノポリシロキサン樹脂がそれ単独では加熱溶融挙動を示さないことであり、具体的には、軟化点および溶融粘度を有さないことを意味する。このような物性は特に構造的に制限されるものではないが、オルガノポリシロキサン樹脂中の官能基が炭素原子数1〜10の一価炭化水素基、特にメチル基等の炭素原子数1〜10のアルキル基から選ばれる官能基であり、フェニル基等のアリール基を実質的に含まないことが好ましい。フェニル基等を大量に含む場合、当該成分はホットメルト性となる場合があり、かつ、SiO4/2基特有の硬化物を補強する効果が低下する場合がある。 Here, having no hot-melt property means that the organopolysiloxane resin, which is a component (A1-2-2), does not exhibit heat-melting behavior by itself. Specifically, it has a softening point and a melt viscosity. Means not have. Such physical properties are not particularly structurally limited, but the functional group in the organopolysiloxane resin is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, particularly a methyl group or the like having 1 to 10 carbon atoms. It is a functional group selected from the alkyl groups of the above, and preferably does not substantially contain an aryl group such as a phenyl group. When a large amount of phenyl group or the like is contained, the component may be hot-meltable, and the effect of reinforcing the cured product peculiar to the SiO 4/2 group may be reduced.

(A1−2−1)成分と異なり、(A1−2−2)成分は、分子内に少なくとも1個の炭素−炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有し、それ自体が、硬化剤と共に硬化反応に関与し、硬化物を形成する。このような硬化反応性基は、ヒドロシリル化反応性または有機過酸化物硬化性の官能基であり、他の成分との架橋反応によって、硬化物を形成する。このような硬化反応性基は、アルケニル基またはアクリル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基などの炭素数2〜10のアルケニル基;3−メタクリロキシプロピル基、3−アクリロキシプロピル基等のアクリル基含有一価有機基が挙げられ、特にビニル基またはヘキセニル基であることが好ましい。 Unlike the component (A1-2-1), the component (A1-2-2) has a cure-reactive functional group containing at least one carbon-carbon double bond in the molecule, and itself has a curing-reactive functional group. It participates in the curing reaction together with the curing agent and forms a cured product. Such a curing reactive group is a hydrosilylation-reactive or organic peroxide-curable functional group, and forms a cured product by a cross-linking reaction with other components. Such a curing reactive group is an alkenyl group or an acrylic group, for example, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms such as a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group and a heptenyl group; 3-methacryl. Examples thereof include an acrylic group-containing monovalent organic group such as a loxypropyl group and a 3-acryloxypropyl group, and a vinyl group or a hexenyl group is particularly preferable.

好適には、(A1−2−2)成分中のケイ素原子に結合した官能基は、メチル基およびビニル基等のアルケニル基から選ばれる基であり、全てのケイ素原子に結合した官能基の70モル〜99モル%がメチル基であることが好ましく、80〜99モル%がメチル基であることがより好ましく、88〜99モル%がメチル基あり、その他のケイ素原子に結合した官能基がビニル基等のアルケニル基であることが特に好ましい。かかる範囲において、(A1)成分はホットメルト性ではなく、その硬化物の高温下における耐着色性等に特に優れる成分として設計可能である。なお、当該(A1−2−2)成分中には、少量の水酸基またはアルコキシ基を含んでもよい。 Preferably, the functional group bonded to the silicon atom in the component (A1-2-2) is a group selected from an alkenyl group such as a methyl group and a vinyl group, and 70 of the functional groups bonded to all the silicon atoms. It is preferable that mol to 99 mol% is a methyl group, 80 to 99 mol% is more preferably a methyl group, 88 to 99 mol% is a methyl group, and other functional groups bonded to silicon atoms are vinyl. It is particularly preferable that it is an alkenyl group such as a group. In such a range, the component (A1) can be designed as a component which is not hot-meltable and has particularly excellent color resistance and the like at high temperature of the cured product. The component (A1-2-2) may contain a small amount of hydroxyl group or alkoxy group.

(A1−2−2)成分は、無溶媒の状態で固体状のオルガノポリシロキサン樹脂であり、分子内に分岐シロキサン単位であるSiO4/2で表されるシロキサン単位を全シロキサン単位の少なくとも20モル%以上含有することを特徴とする。好適には、当該シロキサン単位は、全シロキサン単位の少なくとも40モル%以上であり、50モル%以上、特に、50〜65モル%の範囲であることが特に好ましい。 The component (A1-2-2) is a solid organopolysiloxane resin in a solvent-free state, and the siloxane unit represented by SiO 4/2 , which is a branched siloxane unit in the molecule, is at least 20 of all siloxane units. It is characterized by containing mol% or more. Preferably, the siloxane unit is at least 40 mol% or more of the total siloxane unit, and is particularly preferably in the range of 50 mol% or more, particularly 50 to 65 mol%.

好適には、(A1−2−2)成分が、下記平均単位式:
(R SiO1/2(R SiO2/2(RSiO3/2(SiO4/2(R1/2)e
(式中、各Rは独立して1〜10個の炭素原子を有する一価炭化水素基であり、但し1分子中の全Rの1〜12モル%がアルケニル基であり;各Rは水素原子又は1〜10個の炭素原子を有するアルキル基であり;a、b、c、d及びeは、以下を満たす数である:0.10≦a≦0.60、0≦b≦0.70、0≦c≦0.80、0≦d≦0.65、0≦e≦0.05、但し、c+d>0.20、かつa+b+c+d=1)
で表される非ホットメルト性のオルガノポリシロキサン樹脂である。
Preferably, the component (A1-2-2) contains the following average unit formula:
(R 1 3 SiO 1/2 ) a (R 1 2 SiO 2/2 ) b (R 1 SiO 3/2 ) c (SiO 4/2 ) d (R 2 O 1/2) e
(In the formula, each R 1 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms independently, except that 1 to 12 mol% of all R 1 in one molecule is an alkenyl group; each R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; a, b, c, d and e are numbers satisfying the following: 0.10 ≦ a ≦ 0.60, 0 ≦ b ≦ 0.70, 0 ≦ c ≦ 0.80, 0 ≦ d ≦ 0.65, 0 ≦ e ≦ 0.05, where c + d> 0.20 and a + b + c + d = 1)
It is a non-hot melt organopolysiloxane resin represented by.

上記の平均単位式において、各Rは独立して1〜10個の炭素原子を有する一価炭化水素基、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、又は類似のアルキル基;ビニル、アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、又は類似のアルケニル基;フェニル、トリル、キシリル、又は類似のアリール基;ベンジル、フェネチル、又は類似のアラルキル基;及びクロロメチル、3−クロロプロピル、3,3,3−トリフルオロプロピル、又は類似のハロゲン化アルキル基等である。更に、1分子中の全Rの1〜12モル%がアルケニル基で、好ましくは1分子中の全Rの2〜10モル%がアルケニル基である。アルケニル基の含有量が前記範囲の下限未満では、得られる硬化物の機械的強度(硬度等)が不十分となる場合がある。他方、アルケニル基の含有量が前記範囲の上限以下であれば、本成分を含む組成物が、組成物全体として良好なホットメルト性能を実現できる。なお、各Rはメチル基等の炭素原子数1〜10のアルキル基およびビニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基から選ばれる官能基であることが好ましく、発明の技術的効果の見地から、Rはフェニル基等のアリール基を実質的に含まないことが好ましい。フェニル基等のアリール基を大量に含む場合、当該成分自体がホットメルト性となって、本発明の技術的効果を達成できなくなる場合があるほか、硬化物において、SiO4/2基特有の硬化物を補強する効果が低下する場合がある。 In the above average unit formula, each R 1 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms independently, such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, or a similar alkyl group; Vinyl, allyl, butenyl, pentenyl, hexenyl, or similar alkenyl groups; phenyl, trill, xsilyl, or similar aryl groups; benzyl, phenethyl, or similar aralkyl groups; and chloromethyl, 3-chloropropyl, 3,3 , 3-Trifluoropropyl, or a similar alkyl halide group. Further, 1 to 12 mol% of the total R 1 in one molecule is an alkenyl group, and preferably 2 to 10 mol% of the total R 1 in one molecule is an alkenyl group. If the content of the alkenyl group is less than the lower limit of the above range, the mechanical strength (hardness, etc.) of the obtained cured product may be insufficient. On the other hand, when the content of the alkenyl group is not more than the upper limit of the above range, the composition containing this component can realize good hot melt performance as a whole composition. It is preferable that each R 1 is a functional group selected from an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as a methyl group and an alkenyl group such as a vinyl group and a hexenyl group, and from the viewpoint of the technical effect of the invention, R 1 is R. 1 is preferably substantially free of aryl groups such as phenyl. When a large amount of aryl groups such as phenyl groups are contained, the component itself may become hot-meltable and the technical effect of the present invention may not be achieved, and in the cured product, curing peculiar to SiO 4/2 groups. The effect of reinforcing an object may be reduced.

式中、Rは水素原子又は1〜10個の炭素原子を有するアルキル基である。Rのアルキル基は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル又はヘキシルで例示される。当該Rを含む官能基R1/2は、当該成分中の水酸基又はアルコキシ基に該当する。 In the formula, R 2 is an alkyl group having a hydrogen atom or 1 to 10 carbon atoms. Alkyl group of R 2 include methyl, ethyl, propyl, butyl, exemplified by pentyl or hexyl. Functional group R 2 O 1/2 containing the R 2 corresponds to a hydroxyl group or an alkoxy group in the component.

式中、aは一般式:R SiO1/2のシロキサン単位の割合を示す数である。この数は、0.1≦a≦0.60、好ましくは0.15≦a≦0.55を満たす。aが前記範囲の下限以上であれば、本成分を含む組成物が、組成物全体として良好なホットメルト性能を実現できる。他方、aが前記範囲の上限以下であれば、得られる硬化物の機械的強度(硬度、伸び率等)が低くなりすぎない。 In the formula, a is a number indicating the ratio of the siloxane unit of the general formula: R 1 3 SiO 1/2. This number satisfies 0.1 ≦ a ≦ 0.60, preferably 0.15 ≦ a ≦ 0.55. When a is equal to or higher than the lower limit of the above range, the composition containing this component can realize good hot melt performance as a whole composition. On the other hand, if a is not more than the upper limit of the above range, the mechanical strength (hardness, elongation, etc.) of the obtained cured product is not too low.

式中、bは一般式:R SiO2/2のシロキサン単位の割合を示す数である。この数は、0≦b≦0.70、好ましくは0≦b≦0.60を満たす。bが範囲の上限以下であれば、本成分を含む組成物が、組成物全体として良好なホットメルト性能を実現でき、かつ室温にてべたつきの少ない組成物を得ることができる。 Wherein, b is the general formula: is a number that indicates the ratio of siloxane units R 1 2 SiO 2/2. This number satisfies 0 ≦ b ≦ 0.70, preferably 0 ≦ b ≦ 0.60. When b is not more than the upper limit of the range, the composition containing this component can realize good hot melt performance as a whole composition, and a composition having less stickiness at room temperature can be obtained.

式中、cは、一般式:RSiO3/2のシロキサン単位の割合を示す数である。この数は、0≦c≦0.80、好ましくは0≦c≦0.75を満たす。cが範囲の上限以下であれば、本成分を含む組成物が、組成物全体として良好なホットメルト性能を実現でき、かつ室温にてべたつきの少ない、タックフリーの組成物を得ることができる。本発明において、cは0であってよく、かつ好ましい。 In the formula, c is a number indicating the ratio of the siloxane unit of the general formula: R 3 SiO 3/2. This number satisfies 0 ≦ c ≦ 0.80, preferably 0 ≦ c ≦ 0.75. When c is not more than the upper limit of the range, the composition containing this component can realize good hot melt performance as a whole composition, and a tack-free composition having less stickiness at room temperature can be obtained. In the present invention, c may be 0 and is preferable.

式中、dは、SiO4/2のシロキサン単位の割合を示す数であり、0.00≦d≦0.65であることが必要であり、0.20≦d≦0.65であることが好ましく、0.25≦d≦0.65であることが特に好ましい。当該数値範囲内において、本成分を含む組成物が、組成物全体として良好なホットメルト性能が実現でき、得られる硬化物は十分な柔軟性を有するためである。 In the formula, d is a number indicating the ratio of the siloxane unit of SiO 4/2 , and it is necessary that 0.00 ≦ d ≦ 0.65 and 0.20 ≦ d ≦ 0.65. Is preferable, and 0.25 ≦ d ≦ 0.65 is particularly preferable. This is because, within the numerical range, the composition containing this component can realize good hot melt performance as a whole composition, and the obtained cured product has sufficient flexibility.

本発明において、cまたはdは0であってよいが、c+d>0.20であることが必要である。c+dの値が前記下限未満では、組成物全体として良好なホットメルト性能が実現できず、本発明の技術的効果が十分に達成できない場合がある。 In the present invention, c or d may be 0, but it is necessary that c + d> 0.20. If the value of c + d is less than the above lower limit, good hot melt performance cannot be realized as a whole composition, and the technical effect of the present invention may not be sufficiently achieved.

式中、eは一般式:R1/2の単位の割合を示す数であり、同単位はオルガノポリシロキサン樹脂中に含まれうるケイ素原子に結合した水酸基またはアルコキシ基を意味する。この数は、0≦e≦0.05、好ましくは0≦e≦0.03を満たす。eが範囲の上限以下であれば、組成物全体として良好なホットメルト性能を実現する材料を得ることができる。なお、最終的には、各シロキサン単位の総和であるa、b、c及びdの合計は1に等しい。 In the formula, e is a number indicating the ratio of the unit of the general formula: R 2 O 1/2 , and the unit means a hydroxyl group or an alkoxy group bonded to a silicon atom that can be contained in the organopolysiloxane resin. This number satisfies 0 ≦ e ≦ 0.05, preferably 0 ≦ e ≦ 0.03. When e is not more than the upper limit of the range, a material that realizes good hot melt performance as a whole composition can be obtained. Finally, the sum of a, b, c and d, which is the sum of each siloxane unit, is equal to 1.

好適には、本発明の(A1)成分は、
(A1−2−1)分子全体としてホットメルト性を有さず、分子内に炭素−炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有さず、かつ、SiO4/2で表されるシロキサン単位を全シロキサン単位の少なくとも20モル%以上含有するオルガノポリシロキサン樹脂 100質量部、および
(A2−2−2)分子全体としてホットメルト性を有さず、分子内に少なくとも1個の炭素−炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有し、かつ、SiO4/2で表されるシロキサン単位を全シロキサン単位の少なくとも20モル%以上含有するオルガノポリシロキサン樹脂 0〜600質量部
の混合物であることが特に好ましい。
Preferably, the component (A1) of the present invention is
(A1-2-1) The molecule as a whole does not have hot melt properties, does not have a curing reactive functional group containing a carbon-carbon double bond in the molecule, and is represented by SiO 4/2. 100 parts by mass of an organopolysiloxane resin containing at least 20 mol% or more of siloxane units, and (A2-2-2) the molecule as a whole does not have hot melt properties, and at least one carbon in the molecule- 0 to 600 parts by mass of an organopolysiloxane resin having a curing reactive functional group containing a carbon double bond and containing at least 20 mol% or more of siloxane units represented by SiO 4/2 in total siloxane units. It is particularly preferred to be a mixture.

[(A2)成分]
(A2)成分は、(A1)成分と共に使用される本組成物の主剤の一つであり、25℃において液状または可塑度を有する半固体状の直鎖状または分岐鎖状のオルガノポリシロキサンであって、分子内に少なくとも2個の炭素−炭素二重結合を含む硬化反応性の官能基を有するものである。このような硬化反応性の鎖状オルガノポリシロキサンは、特に、前述の固体状オルガノポリシロキサン樹脂であって、(A1−2−1)成分または(A1−2−2)成分と混合することで、混合物全体としてホットメルト特性を発現する。
[(A2) component]
The component (A2) is one of the main components of the composition used together with the component (A1), and is a semi-solid linear or branched organopolysiloxane having liquid or plasticity at 25 ° C. It has a cure-reactive functional group containing at least two carbon-carbon double bonds in the molecule. Such a curing-reactive chain organopolysiloxane is, in particular, the above-mentioned solid organopolysiloxane resin, which can be mixed with the component (A1-2-1) or the component (A1-2-2). , The whole mixture develops hot melt properties.

(A2)成分は、(A1)成分と同様に有機溶媒に可溶であり、溶液系において、(A1)成分と共に均一に混合することが可能である。 The component (A2) is soluble in an organic solvent like the component (A1), and can be uniformly mixed with the component (A1) in a solution system.

(A2)成分は、分子内に炭素−炭素二重結合を有する硬化反応性基を有することが好ましく、このような硬化反応性基は、ヒドロシリル化反応性、ラジカル反応性または有機過酸化物硬化性の官能基であり、他の成分との架橋反応によって、硬化物を形成する。このような硬化反応性基は、アルケニル基またはアクリル基であり、前記同様の基が例示され、特にビニル基またはヘキセニル基であることが好ましい。 The component (A2) preferably has a curing reactive group having a carbon-carbon double bond in the molecule, and such a curing reactive group is hydrosilylation-reactive, radical-reactive or organic peroxide curing. It is a sex functional group and forms a cured product by a cross-linking reaction with other components. Such a curing reactive group is an alkenyl group or an acrylic group, and the same group as described above is exemplified, and a vinyl group or a hexenyl group is particularly preferable.

(A2)成分は、25℃(室温)において液状または可塑度を有する半固体状の直鎖状または分岐鎖状のオルガノポリシロキサンであり、室温で固体状の(A1)成分と混合することで、組成物全体としてホットメルト特性を発現する。その構造は、少数の分岐のシロキサン単位(例えば、一般式:RSiO3/2で表されるT単位(Rは独立して1〜10個の炭素原子を有する一価炭化水素基)またはSiO4/2で表されるQ単位)を有する分岐鎖状のオルガノポリシロキサンであってもよいが、好適には、
(A2−1)下記構造式:
SiO(SiR O)SiR
(式中、各Rは独立して1〜10個の炭素原子を有する一価炭化水素基であり、但し1分子中のRの少なくとも2個はアルケニル基であり、kは20〜10,000の数である)
で表される直鎖状ジオルガノポリシロキサンである。好適には、分子鎖両末端に各々1個ずつアルケニル基を有する直鎖状ジオルガノポリシロキサンが好ましい。
The component (A2) is a semi-solid linear or branched organopolysiloxane having liquid or plasticity at 25 ° C. (room temperature), and by mixing with the solid (A1) component at room temperature. , The composition as a whole exhibits hot melt properties. Its structure consists of a small number of branched siloxane units (eg, T units represented by the general formula: R 4 SiO 3/2 (R 4 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms independently)). Alternatively, it may be a branched organopolysiloxane having (Q unit represented by SiO 4/2), but it is preferable.
(A2-1) The following structural formula:
R 4 3 SiO (SiR 4 2 O) k SiR 4 3
(In the formula, each R 4 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms independently, except that at least 2 of R 4 in one molecule are alkenyl groups, and k is 20 to 10 (The number of 000)
It is a linear diorganopolysiloxane represented by. Preferably, a linear diorganopolysiloxane having one alkenyl group at each end of the molecular chain is preferable.

式中、各Rは独立して1〜10個の炭素原子を有する一価炭化水素基、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、又は類似のアルキル基;ビニル、アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、又は類似のアルケニル基;フェニル、トリル、キシリル、又は類似のアリール基;ベンジル、フェネチル、又は類似のアラルキル基;及びクロロメチル、3−クロロプロピル、3,3,3−トリフルオロプロピル、又は類似のハロゲン化アルキル基等である。更に、1分子中のRの少なくとも2個がアルケニル基、好ましくはビニル基である。また、各Rはメチル基等の炭素原子数1〜10のアルキル基およびビニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基から選ばれる官能基であることが好ましく、全てのRのうち、少なくとも2個がアルケニル基であり、残りのRがメチル基であることが好ましい。なお、発明の技術的効果の見地から、Rはフェニル基等のアリール基を実質的に含まないことが好ましい。フェニル基等のアリール基を大量に含む場合、硬化物の高温下での耐着色性が悪化する場合がある。特に好適には、分子鎖両末端に一つずつビニル基等のアルケニル基を有し、他のRがメチル基であるものが好ましい。 In the formula, each R 4 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms independently, such as methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, or similar alkyl groups; vinyl, allyl, Butenyl, pentenyl, hexenyl, or similar alkenyl groups; phenyl, trill, xsilyl, or similar aryl groups; benzyl, phenethyl, or similar aralkyl groups; and chloromethyl, 3-chloropropyl, 3,3,3-tri Fluoropropyl, or a similar alkyl halide group. Furthermore, at least two alkenyl groups R 4 in one molecule, preferably vinyl groups. It is preferable that each R 4 is a functional group selected from an alkenyl group such as an alkyl group and vinyl group, hexenyl group having 1 to 10 carbon atoms such as a methyl group, of all the R 4, at least two There is an alkenyl group, it is preferred that the remaining R 4 are methyl groups. From the viewpoint of the technical effect of the invention, it is preferable that R 4 does not substantially contain an aryl group such as a phenyl group. When a large amount of aryl groups such as phenyl groups are contained, the color resistance of the cured product at high temperatures may deteriorate. Particularly preferably, one having an alkenyl group such as a vinyl group at each end of the molecular chain and the other R 4 being a methyl group is preferable.

式中、kは、20〜10,000、好ましくは30〜9,000、特に好ましくは45〜8,000の数である。kが前記の範囲の下限以上であれば、室温でべたつきの少ない粒状組成物を得ることができる。他方、kが前記の範囲の上限以下であれば、組成物全体として良好なホットメルト性能を実現できる。 In the formula, k is a number of 20 to 10,000, preferably 30 to 9,000, particularly preferably 45 to 8,000. When k is equal to or higher than the lower limit of the above range, a granular composition with less stickiness can be obtained at room temperature. On the other hand, when k is not more than the upper limit of the above range, good hot melt performance can be realized as the whole composition.

[非ホットメルト性のオルガノポリシロキサン樹脂を含む混合物]
上記の非ホットメルト性のオルガノポリシロキサン樹脂である、(A1−2−1)成分または(A1−2−2)成分を本発明の(A1)成分として使用する場合、(A1−2−1)成分および(A1−2−2)成分の和 100質量部に対して、(A2)成分の使用量が3〜100質量部の範囲内であり、4〜75質量部の範囲が好ましく、5〜50質量部の範囲が特に好ましい。
[Mixture containing non-hot melt organopolysiloxane resin]
When the component (A1-2-1) or the component (A1-2-2), which is the above-mentioned non-hot melt organopolysiloxane resin, is used as the component (A1) of the present invention, (A1-2-1) The amount of the component (A2) used is in the range of 3 to 100 parts by mass, preferably in the range of 4 to 75 parts by mass, based on 100 parts by mass of the sum of the component (A1-2-2) and the component (A1-2-2). The range of ~ 50 parts by mass is particularly preferable.

[揮発性の低分子量成分の除去]
上記の通り、(A)成分として、特定の分岐シロキサン単位(SiO4/2)の含有量が高いオルガノポリシロキサン樹脂(具体的には、A1−2−1,2)成分等)を使用する場合、その生産工程において、揮発性の低分子量成分が生成し、樹脂中に混入する。当該揮発性の低分子量成分は、具体的にはMQの構造体を主とする成分であり、Mユニット(R SiO1/2)とQユニット(SiO4/2)からなるオルガノポリシロキサン樹脂を重合するときに副生成物として現れる。本構造体は本発明の組成物からなる硬化物の硬度を著しく下げる効果がある。当該のオルガノポリシロキサン樹脂は相溶性の高い有機溶剤の存在下重合され、かかる有機溶剤を減圧乾燥等により取り除くことで個体状のオルガノポリシロキサン樹脂を得るが、MQの構造体は当該のオルガノポリシロキサン樹脂と相互溶解性が高く、有機溶剤を取り除くような乾燥条件では除去することはできない。本構造体は200℃以上の温度に短時間暴露すると除去できる事は知られていたが、半導体等の基材と一体成型した後に、高温に暴露して除去すると硬化物の体積減少並びに顕著な硬度上昇が起こり、成型物の寸法が変化し、反りなどが発生してしまう。また、シリコーン硬化物のネットワークの中にSiO4/2で表されるシロキサン単位を多量に含む場合、硬化物の硬度が高いものは極端に脆くなるという傾向にあるため、結果的に脆化も発生する。このため、本発明の用途に適用するためには基材との成型工程の前、つまり、原料の時点でMQの構造体等を除去しておく必要がある。
[Removal of volatile low molecular weight components]
As described above, as the component (A), an organopolysiloxane resin (specifically, a component A1-2-1, 2) having a high content of a specific branched siloxane unit (SiO 4/2) is used. In the case, a volatile low molecular weight component is generated in the production process and mixed in the resin. The volatile low molecular weight component is specifically a component mainly composed of an M 4 Q structure, and is an organocon consisting of an M unit (R 3 3 SiO 1/2 ) and a Q unit (SiO 4/2 ). Appears as a by-product when polymerizing a polysiloxane resin. The structure has the effect of significantly reducing the hardness of the cured product of the composition of the present invention. The organopolysiloxane resin is the presence polymerization of highly compatible organic solvents, but obtain a solid form of organopolysiloxane resin by removing the organic solvent by drying under reduced pressure or the like, M 4 Q structures are of the It is highly intersoluble with the organopolysiloxane resin and cannot be removed under dry conditions such as removing organic solvents. It has been known that this structure can be removed by exposing it to a temperature of 200 ° C. or higher for a short time, but if it is integrally molded with a base material such as a semiconductor and then exposed to a high temperature to remove it, the volume of the cured product is reduced and the volume is remarkable. The hardness increases, the dimensions of the molded product change, and warpage occurs. Further, when a large amount of siloxane unit represented by SiO 4/2 is contained in the network of the cured silicone product, the one having a high hardness of the cured product tends to be extremely brittle, resulting in embrittlement. Occur. Therefore, in order to apply to the application of the present invention prior to the molding process of the substrate, that is, it is necessary to remove the structure or the like of M 4 Q at the point of feedstock.

このため、上記の工程2に入る前の任意の段階で、これらのオルガノポリシロキサン樹脂成分から、当該低分子量成分を可能な限り除去しておくことが好ましい。具体的にはこれらのオルガノポリシロキサン樹脂成分を200℃下で1時間暴露した時の質量減少率が2.0質量%以下であることが必要であり、1.5質量%以下であることが好ましく、1.0質量%以下であることがさらに好ましい。 Therefore, it is preferable to remove the low molecular weight component from these organopolysiloxane resin components as much as possible at an arbitrary step before entering the above step 2. Specifically, it is necessary that the mass reduction rate when these organopolysiloxane resin components are exposed at 200 ° C. for 1 hour is 2.0% by mass or less, and 1.5% by mass or less. It is preferably 1.0% by mass or less, and more preferably 1.0% by mass or less.

揮発性の低分子量成分の種類は特に制限されるものではないが、本発明のオルガノポリシロキサン樹脂は、SiO4/2表される分岐シロキサン単位(Q単位)を多数含むことから、RSiO1/2表されるシロキサン単位(M単位)との反応により、MQとして表現される揮発性のシロキサン成分が副生しやすく、本発明において当該揮発性のシロキサン成分を主たる成分とする揮発性の低分子量成分をオルガノポリシロキサン樹脂から除去することで、上記の質量減少率が実現されていることが特に好ましい。 The type of volatile low molecular weight component is not particularly limited, but the organopolysiloxane resin of the present invention contains a large number of branched siloxane units (Q units) represented by SiO 4/2 , and thus R 3 SiO. by reaction with 1/2 represented by siloxane units (M units), M 4 Q is the volatile siloxane component is likely-produced expressed as volatile to the volatile siloxane component as the main component in the present invention It is particularly preferable that the above-mentioned mass reduction rate is realized by removing the low-molecular-weight component having sex from the organopolysiloxane resin.

なお、上記の工程1における(A1)成分は有機溶剤に溶解乃至分散された溶液なので、
一方で、これらのオルガノポリシロキサン樹脂を溶剤存在下で混合後、押し出し機等で加熱して溶剤を除去するが、この時に200℃以上の温度で処理することで、オルガノポリシロキサン樹脂中に含まれる低分子量成分を同時に除去することが可能である。
Since the component (A1) in the above step 1 is a solution dissolved or dispersed in an organic solvent,
On the other hand, after mixing these organopolysiloxane resins in the presence of a solvent, the solvent is removed by heating with an extruder or the like. At this time, by treating at a temperature of 200 ° C. or higher, the organopolysiloxane resin is contained in the organopolysiloxane resin. It is possible to remove low molecular weight components at the same time.

[(B)成分]
(B)成分は、(A)成分を硬化するための硬化剤であり、(A)成分を硬化できるものであれば限定されない。(A)成分がアルケニル基を有する場合には、(B)成分は、一分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンとヒドロシリル化反応用触媒であり、(A)成分がアルケニル基を含有し、ヒドロシリル化反応用触媒を含有する場合には、(B)成分は、一分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサンのみでよいが、ヒドロシリル化反応用触媒を併用してもよい。また、(A)成分がアルケニル基を有する場合には、(B)成分は有機過酸化物でもよく、一分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサンを併用してもよい。一方、(A)成分がケイ素原子結合水素原子を有する場合には、(B)成分は、一分子中に少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンとヒドロシリル化反応用触媒であり、(A)成分がケイ素原子結合水素原子を有し、ヒドロシリル化反応用触媒を含有する場合には、(B)成分は、一分子中に少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンのみでよいが、ヒドロシリル化反応用触媒を併用してもよい
[(B) component]
The component (B) is a curing agent for curing the component (A), and is not limited as long as the component (A) can be cured. When the component (A) has an alkenyl group, the component (B) is an organohydrogenpolysiloxane having at least two silicon atom-bonded hydrogen atoms in one molecule and a catalyst for a hydrosilylation reaction (A). When the component) contains an alkenyl group and contains a catalyst for a hydrosilylation reaction, the component (B) may be only an organopolysiloxane having at least two silicon atom-bonded hydrogen atoms in one molecule. A hydrosilylation reaction catalyst may be used in combination. When the component (A) has an alkenyl group, the component (B) may be an organic peroxide, and an organopolysiloxane having at least two silicon atom-bonded hydrogen atoms in one molecule may be used in combination. Good. On the other hand, when the component (A) has a silicon atom-bonded hydrogen atom, the component (B) is an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups in one molecule and a catalyst for the hydrosilylation reaction (A). When the component) has a silicon atom-bonded hydrogen atom and contains a hydrosilylation reaction catalyst, the component (B) may be only an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups in one molecule. A catalyst for hydrosilylation reaction may be used in combination.

(B)成分中のオルガノポリシロキサンとしては、前記(a)および/または前記(a)で表されるアルケニル基含有オルガノポリシロキサン、あるいは前記(a)および/または前記(a)で表されるケイ素原子結合水素原子含有オルガノポリシロキサンが例示される。 Examples of the organopolysiloxane in the component (B) include the alkenyl group-containing organopolysiloxane represented by the above (a 1 ) and / or the above (a 2 ), or the above (a 3 ) and / or the above (a 4 ). An example is an organopolysiloxane containing a silicon atom-bonded hydrogen atom represented by.

(B)成分としてオルガノポリシロキサンを使用する場合、その含有量は限定されないが、本組成物が硬化するためには、本組成物中のアルケニル基1モルに対してケイ素原子結合水素原子が0.5〜20モルとなる範囲内の量、あるいは1.0〜10モルとなる範囲内の量であることが好ましい。 When organopolysiloxane is used as the component (B), its content is not limited, but in order for the composition to cure, the number of silicon atom-bonded hydrogen atoms is 0 with respect to 1 mol of the alkenyl group in the composition. The amount is preferably in the range of .5 to 20 mol, or preferably in the range of 1.0 to 10 mol.

ヒドロシリル化反応用触媒としては、白金系触媒、ロジウム系触媒、パラジウム系触媒が例示され、本組成物の硬化を著しく促進できることから白金系触媒が好ましい。この白金系触媒としては、白金微粉末、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金−アルケニルシロキサン錯体、白金−オレフィン錯体、白金−カルボニル錯体、およびこれらの白金系触媒を、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂で分散あるいはカプセル化した触媒が例示され、特に、白金−アルケニルシロキサン錯体が好ましい。このアルケニルシロキサンとしては、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン、これらのアルケニルシロキサンのメチル基の一部をエチル基、フェニル基等で置換したアルケニルシロキサン、これらのアルケニルシロキサンのビニル基をアリル基、ヘキセニル基等で置換したアルケニルシロキサンが例示される。特に、この白金−アルケニルシロキサン錯体の安定性が良好であることから、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンであることが好ましい。加えて、取扱作業性および組成物のポットライフの改善の見地から、熱可塑性樹脂で分散あるいはカプセル化した微粒子状の白金含有ヒドロシリル化反応触媒を用いてもよい。なお、ヒドロシリル化反応を促進する触媒としては、鉄、ルテニウム、鉄/コバルトなどの非白金系金属触媒を用いてもよい。
なお、本発明の製造方法では短時間とは言え、混錬工程中にある程度の温度が組成物に掛かってしまうので、組成物の保存安定性の観点から熱可塑性樹脂で分散あるいはカプセル化した微粒子状の白金含有ヒドロシリル化反応触媒を用いてもよく、かつ、好ましい。
Examples of the catalyst for the hydrosilylation reaction include a platinum-based catalyst, a rhodium-based catalyst, and a palladium-based catalyst, and a platinum-based catalyst is preferable because it can remarkably accelerate the curing of the present composition. Examples of the platinum-based catalyst include platinum fine powder, platinum chloride acid, an alcohol solution of platinum chloride acid, a platinum-alkenylsiloxane complex, a platinum-olefin complex, a platinum-carbonyl complex, and these platinum-based catalysts are made of silicone resin and polycarbonate. Examples of catalysts are dispersed or encapsulated in a thermoplastic resin such as a resin or an acrylic resin, and a platinum-alkenylsiloxane complex is particularly preferable. Examples of this alkenylsiloxane include 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetravinylcyclotetrasiloxane. Examples thereof include alkenylsiloxanes in which some of the methyl groups of these alkenylsiloxanes are substituted with ethyl groups, phenyl groups and the like, and alkenylsiloxanes in which the vinyl groups of these alkenylsiloxanes are substituted with allyl groups, hexenyl groups and the like. In particular, since the platinum-alkenylsiloxane complex has good stability, it is preferably 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane. In addition, a fine-grained platinum-containing hydrosilylation reaction catalyst dispersed or encapsulated in a thermoplastic resin may be used from the viewpoint of improving handling workability and pot life of the composition. As the catalyst for promoting the hydrosilylation reaction, a non-platinum metal catalyst such as iron, ruthenium, or iron / cobalt may be used.
Although the production method of the present invention takes a short time, a certain temperature is applied to the composition during the kneading process. Therefore, from the viewpoint of storage stability of the composition, fine particles dispersed or encapsulated with a thermoplastic resin. A platinum-containing hydrosilylation reaction catalyst in the form may be used, and it is preferable.

ヒドロシリル化反応用触媒の添加量は、(A)成分に対して、金属原子が質量単位で0.01〜500ppmの範囲内となる量、0.01〜100ppmの範囲内となる量、あるいは、0.01〜50ppmの範囲内となる量であることが好ましい。 The amount of the catalyst for the hydrosilylation reaction to be added is an amount in which the metal atom is in the range of 0.01 to 500 ppm in mass unit, an amount in the range of 0.01 to 100 ppm, or an amount of the metal atom with respect to the component (A). The amount is preferably in the range of 0.01 to 50 ppm.

有機過酸化物としては、過酸化アルキル類、過酸化ジアシル類、過酸化エステル類、および過酸化カーボネート類が例示される。 Examples of organic peroxides include alkyl peroxides, diacyl peroxides, esters peroxide, and carbonates peroxide.

過酸化アルキル類としては、ジクミルパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、ジ−tert−ブチルクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、tert−ブチルクミル、1,3−ビス(tert−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、3,6,9−トリエチル−3,6,9−トリメチル−1,4,7−トリパーオキソナンが例示される。 Examples of alkyl peroxides include dicumyl peroxide, di-tert-butyl peroxide, di-tert-butyl cumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, and 2, , 5-Dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexin-3, tert-butylcumyl, 1,3-bis (tert-butylperoxyisopropyl) benzene, 3,6,9-triethyl-3, 6,9-trimethyl-1,4,7-triperoxonan is exemplified.

過酸化ジアシル類としては、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイドが例示される。 Examples of diacyl peroxides include benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, and decanoyl peroxide.

過酸化エステル類としては、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、α−クミルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシネオヘプタノエート、tert−ブチルパーオキシピバレート、tert−ヘキシルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、tert−アミルパーオキシル−2−エチルヘキサノエート、tert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、tert−ブチルパーオキシイソブチレート、ジ−tert−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、tert−アミルパーオキシ−3,5,5―トリメチルヘキサノエート、tert−ブチルパーオキシ−3,5,5―トリメチルヘキサノエート、tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシベンゾエート、ジ−ブチルパーオキシトリメチルアディペートが例示される。 Examples of the peroxide esters include 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, α-cumylperoxyneodecanoate, tert-butylperoxyneodecanoate, and tert-butylperoxy. Neoheptanoate, tert-butylperoxypivalate, tert-hexylperoxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, tert-amylperoxyl-2- Ethylhexanoate, tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, tert-butylperoxyisobutyrate, di-tert-butylperoxyhexahydroterephthalate, tert-amylperoxy-3,5,5- Examples thereof include trimethylhexanoate, tert-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, tert-butylperoxyacetate, tert-butylperoxybenzoate and di-butylperoxytrimethyladipate.

過酸化カーボネート類としては、ジ−3−メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ(2−エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、tert−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ジ(4−tert−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジセチルパーオキシジカーボネート、ジミリスチルパーオキシジカーボネートが例示される。 Examples of carbonate peroxides include di-3-methoxybutylperoxydicarbonate, di (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate, diisopropylperoxycarbonate, tert-butylperoxyisopropylcarbonate, and di (4-tert-butylcyclohexyl). ) Peroxydicarbonate, disetylperoxydicarbonate, dimyristylperoxydicarbonate are exemplified.

この有機過酸化物は、その半減期が10時間である温度が90℃以上、あるいは95℃以上であるものが好ましい。このような有機過酸化物としては、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジ−t−ヘキシルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、1,3−ビス(tert−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、ジ−(2−t−ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン、3,6,9−トリエチル−3,6,9−トリメチル−1,4,7−トリパーオキソナンが例示される。 The organic peroxide preferably has a half-life of 10 hours and a temperature of 90 ° C. or higher, or 95 ° C. or higher. Examples of such organic peroxides include dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, t-butyl cumyl peroxide, and 2,5-dimethyl-2,5-di (). tert-butylperoxy) hexane, 1,3-bis (tert-butylperoxyisopropyl) benzene, di- (2-t-butylperoxyisopropyl) benzene, 3,6,9-triethyl-3,6,9- Examples thereof are trimethyl-1,4,7-triperoxonan.

有機過酸化物の含有量は限定されないが、(A)成分100質量部に対して、0.05〜10質量部の範囲内、あるいは0.10〜5.0質量部の範囲内であることが好ましい。 The content of the organic peroxide is not limited, but is within the range of 0.05 to 10 parts by mass or the range of 0.01 to 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). Is preferable.

また、本組成物には、本発明の目的を損なわない限り、その他任意の成分として、(A)成分以外のホットメルト性の微粒子、硬化遅延剤や接着付与剤を含有してもよい。ただし、本発明の硬化性シリコーンシートが透明である場合、(A)成分以外のホットメルト性の微粒子を実質的に含まないことが好ましい。 In addition, the composition may contain hot-melt fine particles other than the component (A), a curing retarder, and an adhesion-imparting agent as other optional components as long as the object of the present invention is not impaired. However, when the curable silicone sheet of the present invention is transparent, it is preferable that it does not substantially contain hot-melt fine particles other than the component (A).

硬化遅延剤としては、2−メチル−3−ブチン−2−オール、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、2−フェニル−3−ブチン−2−オール、1−エチニル−1−シクロヘキサノール等のアルキンアルコール;3−メチル−3−ペンテン−1−イン、3,5−ジメチル−3−ヘキセン−1−イン等のエンイン化合物;テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン、テトラメチルテトラヘキセニルシクロテトラシロキサン等のアルケニル基含有低分子量シロキサン;メチル−トリス(1,1−ジメチルプロピニルオキシ)シラン、ビニル−トリス(1,1−ジメチルプロピニルオキシ)シラン等のアルキニルオキシシランが例示される。この硬化遅延剤の含有量は限定されないが、本組成物に対して、質量単位で、10〜10000ppmの範囲内であることが好ましい。なお、前記の通り、硬化遅延剤を本発明の硬化性シリコーンシートの原料混合物に添加する場合、工程2において、ヒドロシリル化反応触媒の添加を行う前の供給ポイント1において、硬化剤の一部であるオルガノハイドロジェンポリシロキサンとの混合物として添加することが好ましい。 Examples of the curing retarder include 2-methyl-3-butin-2-ol, 3,5-dimethyl-1-hexin-3-ol, 2-phenyl-3-butin-2-ol, and 1-ethynyl-1-. Alkyne alcohols such as cyclohexanol; enein compounds such as 3-methyl-3-pentene-1-in, 3,5-dimethyl-3-hexene-1-in; tetramethyltetravinylcyclotetrasiloxane, tetramethyltetrahexenylcyclo Alkyne group-containing low molecular weight siloxanes such as tetrasiloxane; alkynyloxysilanes such as methyl-tris (1,1-dimethylpropynyloxy) silane and vinyl-tris (1,1-dimethylpropynyloxy) silane are exemplified. The content of this curing retarder is not limited, but is preferably in the range of 10 to 10,000 ppm by mass with respect to the present composition. As described above, when the curing retarder is added to the raw material mixture of the curable silicone sheet of the present invention, in step 2, at the supply point 1 before the addition of the hydrosilylation reaction catalyst, a part of the curing agent is used. It is preferably added as a mixture with a certain organohydrogenpolysiloxane.

接着付与剤としては、ケイ素原子に結合したアルコキシ基を一分子中に少なくとも1個有する有機ケイ素化合物が好ましい。このアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、メトキシエトキシ基が例示され、特に、メトキシ基が好ましい。また、有機ケイ素化合物中のアルコキシ基以外のケイ素原子に結合する基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基等のハロゲン置換もしくは非置換の一価炭化水素基;3−グリシドキシプロピル基、4−グリシドキシブチル基等のグリシドキシアルキル基;2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基、3−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピル基等のエポキシシクロヘキシルアルキル基;3,4−エポキシブチル基、7,8−エポキシオクチル基等のエポキシアルキル基;3−メタクリロキシプロピル基等のアクリル基含有一価有機基;水素原子が例示される。この有機ケイ素化合物は本組成物中のアルケニル基またはケイ素原子結合水素原子と反応し得る基を有することが好ましく、具体的には、ケイ素原子結合水素原子またはアルケニル基を有することが好ましい。また、各種の基材に対して良好な接着性を付与できることから、この有機ケイ素化合物は一分子中に少なくとも1個のエポキシ基含有一価有機基を有するものであることが好ましい。こうした有機ケイ素化合物としては、オルガノシラン化合物、オルガノシロキサンオリゴマー、アルキルシリケートが例示される。このオルガノシロキサンオリゴマーあるいはアルキルシリケートの分子構造としては、直鎖状、一部分枝を有する直鎖状、分枝鎖状、環状、網状が例示され、特に、直鎖状、分枝鎖状、網状であることが好ましい。有機ケイ素化合物としては、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のシラン化合物;一分子中にケイ素原子結合アルケニル基もしくはケイ素原子結合水素原子、およびケイ素原子結合アルコキシ基をそれぞれ少なくとも1個ずつ有するシロキサン化合物、ケイ素原子結合アルコキシ基を少なくとも1個有するシラン化合物またはシロキサン化合物と一分子中にケイ素原子結合ヒドロキシ基とケイ素原子結合アルケニル基をそれぞれ少なくとも1個ずつ有するシロキサン化合物との混合物、アミノ基含有オルガノアルコキシシランとエポキシ基含有オルガノアルコキシシランとの反応混合物、一分子中に少なくとも二つのアルコキシシリル基を有し,かつそれらのシリル基の間にケイ素−酸素結合以外の結合が含まれている有機化合物、一般式: R Si(OR)4−n
(式中、Rは一価のエポキシ基含有有機基であり、Rは炭素原子数1〜6のアルキル基または水素原子である。nは1〜3の範囲の数である)
で表されるエポキシ基含有シランまたはその部分加水分解縮合物、ビニル基含有シロキサンオリゴマー(鎖状または環状構造のものを含む)とエポキシ基含有トリアルコキシシランとの反応混合物、メチルポリシリケート、エチルポリシリケート、エポキシ基含有エチルポリシリケートが例示される。この接着付与剤は低粘度液状であることが好ましく、その粘度は限定されないが、25℃において1〜500mPa・sの範囲内であることが好ましい。また、この接着付与剤の含有量は限定されないが、本組成物の合計100質量部に対して0.01〜10質量部の範囲内であることが好ましい。
As the adhesion-imparting agent, an organosilicon compound having at least one alkoxy group bonded to a silicon atom in one molecule is preferable. Examples of this alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, and a methoxyethoxy group, and a methoxy group is particularly preferable. Further, as a group bonded to a silicon atom other than the alkoxy group in the organic silicon compound, a halogen-substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group such as an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aralkyl group or an alkyl halide group; Glycydoxyalkyl groups such as 3-glycidoxypropyl group and 4-glycidoxybutyl group; 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, 3- (3,4-epoxycyclohexyl) propyl group and the like. Epoxycyclohexylalkyl groups; epoxyalkyl groups such as 3,4-epoxybutyl group, 7,8-epoxyoctyl group; acrylic group-containing monovalent organic groups such as 3-methacryloxypropyl group; hydrogen atoms are exemplified. The organosilicon compound preferably has an alkenyl group or a group capable of reacting with a silicon atom-bonded hydrogen atom in the present composition, and specifically, preferably has a silicon atom-bonded hydrogen atom or an alkenyl group. Further, since good adhesiveness can be imparted to various base materials, it is preferable that this organosilicon compound has at least one epoxy group-containing monovalent organic group in one molecule. Examples of such organosilicon compounds include organosilane compounds, organosiloxane oligomers, and alkyl silicates. Examples of the molecular structure of the organosiloxane oligomer or alkyl silicate include linear, linear with partial branches, branched chain, cyclic, and network, and in particular, linear, branched, and network. It is preferable to have. Examples of the organic silicon compound include silane compounds such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane; silicon atoms in one molecule. Silicon atom-bonded hydroxy in one molecule with a siloxane compound having at least one bonded alkenyl group or silicon atom-bonded hydrogen atom and at least one silicon atom-bonded alkoxy group, and a silane compound or siloxane compound having at least one silicon atom-bonded alkoxy group. A mixture of a siloxane compound having at least one group and at least one silicon atom-bonded alkenyl group, a reaction mixture of an amino group-containing organoalkoxysilane and an epoxy group-containing organoalkoxysilane, and having at least two alkoxysilyl groups in one molecule. and, and silicon during their silyl groups - organic compounds that contain bonds other than oxygen bonds, the general formula: R a n Si (OR b ) 4-n
(In the formula, Ra is a monovalent epoxy group-containing organic group, R b is an alkyl group or a hydrogen atom having 1 to 6 carbon atoms, and n is a number in the range of 1 to 3).
Epoxy group-containing silane represented by or a partially hydrolyzed condensate thereof, reaction mixture of vinyl group-containing siloxane oligomer (including those having a chain or cyclic structure) and epoxy group-containing trialkoxysilane, methylpolysilicate, ethylpoly Examples thereof include silicates and epoxy group-containing ethylpolysilicates. The adhesive is preferably a low-viscosity liquid, and its viscosity is not limited, but is preferably in the range of 1 to 500 mPa · s at 25 ° C. The content of the adhesive is not limited, but is preferably in the range of 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the present composition.

本発明において、特に好適な接着付与剤として、アミノ基含有オルガノアルコキシシランとエポキシ基含有オルガノアルコキシシランとの反応混合物が例示される。このような成分は、硬化途上で接触している各種基材に対する初期接着性、特に未洗浄被着体に対しても低温接着性を改善する成分である。また、本接着促進剤を配合した硬化性シリコーン組成物の硬化系によっては、架橋剤としても作用する場合もある。このような反応混合物は、特公昭52−8854号公報や特開平10−195085号公報に開示されている。 In the present invention, a reaction mixture of an amino group-containing organoalkoxysilane and an epoxy group-containing organoalkoxysilane is exemplified as a particularly suitable adhesion-imparting agent. Such a component is a component that improves the initial adhesiveness to various substrates that are in contact during curing, particularly the low temperature adhesiveness to an unwashed adherend. In addition, depending on the curing system of the curable silicone composition containing the present adhesion accelerator, it may also act as a cross-linking agent. Such a reaction mixture is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-8854 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-195085.

このような成分を構成するアミノ基含有有機基を有するアルコキシシランとしては、アミノメチルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)アミノメチルトリブトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−アニリノプロピルトリエトキシシランが例示される。 Examples of the alkoxysilane having an amino group-containing organic group constituting such a component include aminomethyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, and N. -(2-Aminoethyl) aminomethyltributoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ani Linopropyltriethoxysilane is exemplified.

また、エポキシ基含有オルガノアルコキシシランとしては、3−グリシドキシプロリルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルメチルジメトキシシランが例示される。 Examples of the epoxy group-containing organoalkoxysilane include 3-glycidoxyprolyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and 2-( 3,4-Epoxide cyclohexyl) ethylmethyldimethoxysilane is exemplified.

これらアミノ基含有有機基を有するアルコキシシランとエポキシ基含有有機基を有するアルコキシシランとの比率はモル比で、(1:1.5)〜(1:5)の範囲内にあることが好ましく、(1:2)〜(1:4)の範囲内にあることが特に好ましい。この成分(e1)は、上記のようなアミノ基含有有機基を有するアルコキシシランとエポキシ基含有有機基を有するアルコキシシランとを混合して、室温下あるいは加熱下で反応させることによって容易に合成することができる。 The ratio of the alkoxysilane having an amino group-containing organic group to the alkoxysilane having an epoxy group-containing organic group is preferably in the range of (1: 1.5) to (1: 5) in terms of molar ratio. It is particularly preferable that it is in the range of (1: 2) to (1: 4). This component (e1) is easily synthesized by mixing an alkoxysilane having an amino group-containing organic group as described above and an alkoxysilane having an epoxy group-containing organic group and reacting them at room temperature or under heating. be able to.

特に、本発明においては、特開平10−195085号公報に記載の方法により、アミノ基含有有機基を有するアルコキシシランとエポキシ基含有有機基を有するアルコキシシランとを反応させる際、特に、アルコール交換反応により環化させてなる、一般式:

Figure 2021045953
{式中、R1はアルキル基、アルケニル基またはアルコキシ基であり、R2は同じかまたは異なる一般式:
Figure 2021045953
(式中、R4はアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基であり、R5は一価炭化水素基であり、R6はアルキル基であり、R7はアルキレン基であり、R8はアルキル基、アルケニル基、またはアシル基であり、aは0、1、または2である。)
で表される基からなる群から選択される基であり、R3は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基である。}
で表されるカルバシラトラン誘導体を含有することが特に好ましい。このようなカルバシラトラン誘導体として、以下の構造で表される1分子中にケイ素原子結合アルコキシ基またはケイ素原子結合アルケニル基を有するカルバシラトラン誘導体が例示される。
Figure 2021045953
(式中、Rcはメトキシ基、エトキシ基、ビニル基、アリル基およびヘキセニル基から選ばれる基) In particular, in the present invention, when the alkoxysilane having an amino group-containing organic group and the alkoxysilane having an epoxy group-containing organic group are reacted by the method described in JP-A No. 10-195085, particularly, an alcohol exchange reaction is carried out. General formula:
Figure 2021045953
{In the formula, R 1 is an alkyl group, an alkenyl group or an alkoxy group, and R 2 is the same or different general formula:
Figure 2021045953
(In the formula, R 4 is an alkylene group or an alkyleneoxyalkylene group, R 5 is a monovalent hydrocarbon group, R 6 is an alkyl group, R 7 is an alkylene group, R 8 is an alkyl group, It is an alkenyl group or an acyl group, and a is 0, 1, or 2).
It is a group selected from the group consisting of the groups represented by, and R 3 is the same or different hydrogen atom or alkyl group. }
It is particularly preferable to contain a carbacilatran derivative represented by. Examples of such a carbacilatran derivative include a carbacilatran derivative having a silicon atom-bonded alkoxy group or a silicon atom-bonded alkenyl group in one molecule represented by the following structure.
Figure 2021045953
(In the formula, Rc is a group selected from a methoxy group, an ethoxy group, a vinyl group, an allyl group and a hexenyl group)

また、本発明においては、下記構造式で表される、シラトラン誘導体を接着付与剤として利用してもよい。

Figure 2021045953
式中のR1は同じかまたは異なる水素原子もしくはアルキル基であり、特に、R1としては、水素原子、またはメチル基が好ましい。また、上式中のR2は水素原子、アルキル基、および一般式:−R4−Si(OR5)x6 (3-x)で表されるアルコキシシリル基含有有機基からなる群から選択される同じかまたは異なる基であり、但し、R2の少なくとも1個はこのアルコキシシリル基含有有機基である。R2のアルキル基としては、メチル基等が例示される。また、R2のアルコキシシリル基含有有機基において、式中のR4は二価有機基であり、アルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基が例示され、特に、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、メチレンオキシプロピレン基、メチレンオキシペンチレン基であることが好ましい。また、式中のR5は炭素原子数1〜10のアルキル基であり、好ましくは、メチル基、エチル基である。また、式中のR6は置換もしくは非置換の一価炭化水素基であり、好ましくは、メチル基である。また、式中のxは1、2、または3であり、好ましくは、3である。 Further, in the present invention, a silatlan derivative represented by the following structural formula may be used as an adhesive-imparting agent.
Figure 2021045953
R 1 in the formula is the same or different hydrogen atom or alkyl group, and in particular, R 1 is preferably a hydrogen atom or a methyl group. In addition, R 2 in the above formula consists of a group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group, and an alkoxysilyl group-containing organic group represented by the general formula: −R 4 −Si (OR 5 ) x R 6 (3-x). The same or different groups of choice, except that at least one of R 2 is this alkoxysilyl group-containing organic group. Examples of the alkyl group of R 2 include a methyl group. Further, among the alkoxysilyl group-containing organic groups of R 2 , R 4 in the formula is a divalent organic group, and an alkylene group or an alkyleneoxyalkylene group is exemplified, and in particular, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, and a methyleneoxy group. It is preferably a propylene group or a methyleneoxypentylene group. Further, R 5 in the formula is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably a methyl group or an ethyl group. Further, R 6 in the formula is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, preferably a methyl group. Further, x in the formula is 1, 2, or 3, preferably 3.

このようなR2のアルコキシシリル基含有有機基としては、次のような基が例示される。
−(CH2)2Si(OCH3)3−(CH2)2Si(OCH3)2CH3
−(CH2)3Si(OC2H5)3−(CH2)3Si(OC2H5)(CH3)2
−CH2O(CH2)3Si(OCH3)3
−CH2O(CH2)3Si(OC2H5)3
−CH2O(CH2)3Si(OCH3)2CH3
−CH2O(CH2)3Si(OC2H5)2CH3
−CH2OCH2Si(OCH3)3−CH2OCH2Si(OCH3)(CH3)2
Examples of such an alkoxysilyl group-containing organic group of R 2 include the following groups.
− (CH2) 2Si (OCH3) 3- (CH2) 2Si (OCH3) 2CH3
− (CH2) 3Si (OC2H5) 3- (CH2) 3Si (OC2H5) (CH3) 2
−CH2O (CH2) 3Si (OCH3) 3
−CH2O (CH2) 3Si (OC2H5) 3
−CH2O (CH2) 3Si (OCH3) 2CH3
−CH2O (CH2) 3Si (OC2H5) 2CH3
−CH2OCH2Si (OCH3) 3-CH2OCH2Si (OCH3) (CH3) 2

上式中のR3は置換もしくは非置換の一価炭化水素基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、グリシドキシアルキル基、オキシラニルアルキル基、およびアシロキシアルキル基からなる群から選択される少なくとも一種の基であり、R3の一価炭化水素基としては、メチル基等のアルキル基が例示され、R3のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基が例示され、R3のグリシドキシアルキル基としては、3−グリシドキシプロピル基が例示され、R3のオキシラニルアルキル基としては、4−オキシラニルブチル基、8−オキシラニルオクチル基が例示され、R3のアシロキシアルキル基としては、アセトキシプロピル基、3−メタクリロキシプロピル基が例示される。特に、R3としては、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基であることが好ましく、さらには、アルキル基またはアルケニル基であることが好ましく、メチル基、ビニル基、アリル基およびヘキセニル基から選ばれる基が特に好適に例示される。 R 3 in the above formula is selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, a glycidoxyalkyl group, an oxylanylalkyl group, and an asyloxyalkyl group. at least one group that is, as the monovalent hydrocarbon group R 3, is exemplified an alkyl group such as a methyl group, the alkoxy group R 3, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group are exemplified, Examples of the glycidoxyalkyl group of R 3 include a 3-glycidoxypropyl group, and examples of the oxylanyl alkyl group of R 3 include a 4-oxylanyl butyl group and an 8-oxylanyl octyl group. Examples of the asyloxyalkyl group of R 3 include an acetoxypropyl group and a 3-methacryloxypropyl group. In particular, R 3 is preferably an alkyl group, an alkenyl group, or an alkoxy group, more preferably an alkyl group or an alkenyl group, and a group selected from a methyl group, a vinyl group, an allyl group, and a hexenyl group. Is particularly preferably exemplified.

さらに、本組成物には、本発明の目的を損なわない限り、その他任意の成分として、酸化鉄(ベンガラ)、酸化セリウム、セリウムジメチルシラノレート、脂肪酸セリウム塩、水酸化セリウム、ジルコニウム化合物等の耐熱剤;その他、染料、白色以外の顔料、難燃性付与剤等を含有してもよい。 Further, the composition has heat resistance of iron oxide (bengala), cerium oxide, cerium dimethyl silanolate, fatty acid cerium salt, cerium hydroxide, zirconium compound and the like as other optional components as long as the object of the present invention is not impaired. Agent; In addition, a dye, a pigment other than white, a flame retardant-imparting agent, and the like may be contained.

上記の組成物は、白色顔料、熱伝導性フィラー、導電性フィラー、蛍光体等の無機フィラーを、(A)成分であるオルガノポリシロキサン樹脂微粒子又はそれを含む混合物と併用することにより、光反射率や熱伝導性の向上の機能性を付与した、溶融(ホットメルト)時のギャップフィル性に優れ、硬化物が室温から高温、具体的には、25℃〜150℃において柔軟であり、応力緩和特性に優れ、かつ、室温で折り曲げ等の変形が生じても破損しにくいという優れた特性を有する。 The above composition reflects light by using an inorganic filler such as a white pigment, a thermally conductive filler, a conductive filler, and a phosphor in combination with the organopolysiloxane resin fine particles as the component (A) or a mixture containing the same. It has excellent gap-filling property at the time of melting (hot melt) with the functionality of improving rate and thermal conductivity, and the cured product is flexible from room temperature to high temperature, specifically, 25 ° C to 150 ° C, and stress It has excellent relaxation characteristics and is not easily damaged even if it is bent or otherwise deformed at room temperature.

[機能性フィラーの含有量について]
本発明の製造方法は、機能性フィラーの含有量が少ないか、実質的に含有しない硬化性シリコーン組成物からなる硬化性シリコーンシートであって、透明性及び均一性に優れるものの製造に特に好適である。機能性フィラーとしては、無機フィラー、有機フィラー、およびこれらの混合物が例示されるが、硬化性シリコーンシート全体の5質量%未満、より好適には1質量%未満の使用量であっても、透明性及び均一性に優れ、ホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートを得ることができる。
[About the content of functional filler]
The production method of the present invention is particularly suitable for producing a curable silicone sheet composed of a curable silicone composition having a low content or substantially no content of a functional filler and having excellent transparency and uniformity. is there. Examples of the functional filler include inorganic fillers, organic fillers, and mixtures thereof, but they are transparent even when used in an amount of less than 5% by mass, more preferably less than 1% by mass, of the entire curable silicone sheet. A curable silicone sheet having excellent properties and uniformity and having hot melt properties can be obtained.

[多成分型の硬化性シリコーン組成物の使用]
本発明の製造方法は、上記の通り、工程1および工程2においてオルガノポリシロキサン樹脂(および任意で鎖状ジオルガノポリシロキサン)と硬化剤を別々に投入するプロセスを含む。従って、少なくとも、オルガノポリシロキサン樹脂を含む成分と硬化剤を含む成分を別々に保管して使用する、2成分型以上の組成物を原料に用いることが好ましい。さらに、本発明の硬化性シリコーンシートが、熱硬化反応性、特に、ヒドロシリル化反応硬化性の場合、I)オルガノポリシロキサン樹脂(および任意で鎖状ジオルガノポリシロキサン)を含む成分パート、II)架橋剤であるオルガノハイドロジェンポリシロキサン、好ましくは更に硬化遅延剤を含む成分パート、およびIII)ヒドロシリル化反応触媒を含む成分パートを少なくとも含む3成分型以上の多成分型の硬化性シリコーン組成物を原料に用いることが好ましい。なお、オルガノポリシロキサン樹脂(および任意で鎖状ジオルガノポリシロキサン)を含む成分パートは、有機溶剤を含む溶液系であってよく、かつ好ましい。また、III)ヒドロシリル化反応触媒を含む成分パートは、ヒドロシリル化反応触媒をシロキサン系溶媒に分散させた溶液系であってよく、かつ好ましい。
[Use of multi-component curable silicone composition]
As described above, the production method of the present invention includes a process of separately adding an organopolysiloxane resin (and optionally a chain diorganopolysiloxane) and a curing agent in steps 1 and 2. Therefore, at least, it is preferable to use a composition containing two or more components as a raw material, in which a component containing an organopolysiloxane resin and a component containing a curing agent are separately stored and used. Further, when the curable silicone sheet of the present invention is thermosetting reactive, particularly hydrosilylation reactive curable, I) component part containing an organopolysiloxane resin (and optionally a chain diorganopolysiloxane), II). A three-component or higher multi-component curable silicone composition containing at least a component part containing an organohydrogenpolysiloxane as a cross-linking agent, preferably a curing retarder, and III) a component part containing a hydrosilylation reaction catalyst. It is preferably used as a raw material. The component part containing the organopolysiloxane resin (and optionally the chain diorganopolysiloxane) may be a solution system containing an organic solvent, and is preferable. Further, III) the component part containing the hydrosilylation reaction catalyst may be a solution system in which the hydrosilylation reaction catalyst is dispersed in a siloxane solvent, and is preferable.

[硬化物の貯蔵弾性率]
具体的には、上記組成物を硬化してなる硬化物は、25℃における貯蔵弾性率(G')の値が2000MPa以下であり、かつ、150℃における貯蔵弾性率(G')の値が100MPa以下である。かかる硬化物は室温(25℃)および高温(150℃)のいずれにおいても柔軟であり、半導体基盤等の基材への密着性と追従性に優れ、かつ、近年導入が進んでいるフレキシブル半導体基盤のように変形を前提とした半導体素子の封止用途であっても、封止した半導体素子の破損あるいは剥離、ボイド等の欠陥の発生が抑制される。なお、特に高い伸びおよび変形に対する追従性が求められる用途にあっては、25℃における貯蔵弾性率(G')の値が1500MPa以下、1000MPa以下にしてもよく、かつ、150℃における貯蔵弾性率(G')の値が50MPa以下または40MPa以下にしてもよい。
[Storage modulus of cured product]
Specifically, the cured product obtained by curing the above composition has a storage elastic modulus (G') value of 2000 MPa or less at 25 ° C. and a storage elastic modulus (G') value at 150 ° C. It is 100 MPa or less. Such a cured product is flexible at both room temperature (25 ° C.) and high temperature (150 ° C.), has excellent adhesion and followability to a substrate such as a semiconductor substrate, and is a flexible semiconductor substrate that has been introduced in recent years. Even in the case of a semiconductor element sealing application that is premised on deformation as described above, the occurrence of defects such as breakage or peeling of the sealed semiconductor element and voids is suppressed. The storage elastic modulus (G') at 25 ° C. may be 1500 MPa or less, 1000 MPa or less, and the storage elastic modulus at 150 ° C. is particularly high in applications that require high elongation and followability to deformation. The value of (G') may be 50 MPa or less or 40 MPa or less.

[硬化物の損失正接(tanδ)のピーク値およびピーク温度]
さらに、本発明の組成物を硬化してなる硬化物は、周波数1.0Hzにおける損失弾性率(G'')に対する貯蔵弾性率(G')の比、すなわち、G’/G''により定義される損失正接(tanδ)のピーク値が0.40以上であることが必要であり、0.50以上であることが好ましく、0.50〜0.80の範囲にあることが特に好ましい。当該tanδのピーク値が0.40未満では、特に薄膜状、あるいは、アルミリードフレーム等と一体成型した場合に、成型物の反りまたは破損が発生する場合がある。なお、tanδのピーク値を与えるピーク温度は特に制限されるものではないが、30〜200℃の範囲にあることが好ましく、40〜150℃の範囲にピーク温度があることが特に好ましい。
[Peak value and peak temperature of loss tangent (tan δ) of cured product]
Further, the cured product obtained by curing the composition of the present invention is defined by the ratio of the storage elastic modulus (G') to the loss modulus (G'') at a frequency of 1.0 Hz, that is, G'/ G''. The peak value of the loss tangent (tan δ) to be formed needs to be 0.40 or more, preferably 0.50 or more, and particularly preferably in the range of 0.50 to 0.80. If the peak value of the tan δ is less than 0.40, warpage or breakage of the molded product may occur, especially in the form of a thin film or when integrally molded with an aluminum lead frame or the like. The peak temperature that gives the peak value of tan δ is not particularly limited, but is preferably in the range of 30 to 200 ° C., and particularly preferably in the range of 40 to 150 ° C.

本発明の組成物においては、上記のtanδのピーク値を0.4以上とすることで応力緩和能力に優れた硬化物を形成するものであるが、特に、好適には上記の成分を選択することによって、無機フィラーの含有量が比較的多い組成でも高いtanδを実現することができる。この様な硬化物は近年導入が進んでいる半導体の大面積一括封止プロセスにおいて優れた低反り能力を実現するものである。 In the composition of the present invention, a cured product having excellent stress relaxation ability is formed by setting the peak value of tan δ to 0.4 or more, but the above components are particularly preferably selected. Thereby, a high tan δ can be realized even in a composition having a relatively large content of the inorganic filler. Such a cured product realizes an excellent low warpage ability in a large-area batch encapsulation process for semiconductors, which has been introduced in recent years.

また、本発明の組成物においては、オルガノポリシロキサン樹脂微粒子、硬化剤および機能性フィラーの混合物が、硬化により、
室温から200℃までの成型温度におけるMDR(Moving Die Rheom eter)により測定される(1)最大トルク値が50dN・m未満であり、(2)最大トルク値に到達したときに、貯蔵トルク値/損失トルク値の比で表される損失正接(tanδ)の値が0.2未満である硬化物を与えることが特に好ましい。
Further, in the composition of the present invention, the mixture of the organopolysiloxane resin fine particles, the curing agent and the functional filler is cured by curing.
(1) The maximum torque value measured by MDR (Moving Die Ratio) at the molding temperature from room temperature to 200 ° C. is less than 50 dBN · m, and (2) When the maximum torque value is reached, the storage torque value / It is particularly preferable to give a cured product in which the value of the loss tangent (tan δ) represented by the ratio of the loss torque values is less than 0.2.

特に、一般的な成型温度である150℃に設定したMDRにより測定される(1)最大トルク値が50dN・m未満であり、(2)最大トルク値に到達したときに、貯蔵トルク値/損失トルク値の比で表される損失正接(tanδ)の値が0.2未満であることが特に好ましい。なお、上記の硬化挙動を充足し、特定の温度(例えば、150℃)におけるMDRの物性値を充足する限り、本発明のトランスファー成型用の硬化性シリコーン組成物は、室温から200℃までの所望の成型温度(例えば、150℃以外の成型温度)を所望により選択することができ、使用することができることは言うまでもない。 In particular, (1) the maximum torque value measured by MDR set to 150 ° C., which is a general molding temperature, is less than 50 dBN · m, and (2) the storage torque value / loss when the maximum torque value is reached. It is particularly preferable that the value of the loss tangent (tan δ) represented by the ratio of the torque values is less than 0.2. As long as the above curing behavior is satisfied and the physical property value of MDR at a specific temperature (for example, 150 ° C.) is satisfied, the curable silicone composition for transfer molding of the present invention is desired from room temperature to 200 ° C. It goes without saying that the molding temperature (for example, a molding temperature other than 150 ° C.) can be selected as desired and can be used.

上記の最大トルク値について説明する。本発明において、トルク値とは本組成物を硬化(=加硫)してなる硬化物につて、JIS K 6300−2「未加硫ゴム−物理特性−第2部:振動式加硫試験機による加硫特性の求め方」に準拠したMDRによる測定で得られるトルク値であり、最大トルク値とは、成型温度、好適には150℃における加硫後の600秒間に測定されるトルク値の最大値である。ここで、硬化物の成型温度における最大トルク値が50dN・m未満であるとは、成型後の硬化物が高温でも柔らかいこと、すなわち、硬化物が低モジュラスかつ柔軟であって、弾性率が低く、応力緩和特性に優れることを意味するものであり、本発明において、硬化物の成型温度における最大トルク値は、40dN・m未満であってよく、35dN・m未満であることが好ましく、5〜30dN・mの範囲であることが特に好ましい。当該範囲であると、硬化物の十分な応力緩和特性が実現でき、かつ、後述する損失正接(tanδ)と両立させることが可能であるためである。一方、硬化物の成型温度における最大トルク値が上記上限を超えると、硬化物が過度に硬質で、応力緩和性が実現できないため、特に基材との一体成型時に成型物の反りや欠陥を生じる場合がある。 The above maximum torque value will be described. In the present invention, the torque value refers to a cured product obtained by curing (= vulcanizing) the composition, and refers to JIS K 6300-2 "Unvulcanized rubber-Physical properties-Part 2: Vibration type vulcanization tester". It is a torque value obtained by measurement by MDR in accordance with "How to obtain vulcanization characteristics by", and the maximum torque value is a torque value measured in 600 seconds after vulcanization at a molding temperature, preferably 150 ° C. The maximum value. Here, when the maximum torque value at the molding temperature of the cured product is less than 50 dN · m, it means that the cured product after molding is soft even at a high temperature, that is, the cured product has low modulus and flexibility, and has a low elastic modulus. It means that the stress relaxation characteristics are excellent, and in the present invention, the maximum torque value at the molding temperature of the cured product may be less than 40 dBN · m, preferably less than 35 dBN · m, and 5 to 5 The range of 30 dN · m is particularly preferable. This is because within this range, sufficient stress relaxation characteristics of the cured product can be realized, and it is possible to achieve compatibility with the loss tangent (tan δ) described later. On the other hand, if the maximum torque value at the molding temperature of the cured product exceeds the above upper limit, the cured product is excessively hard and stress relaxation property cannot be realized. In some cases.

次に、本発明における組成物の損失正接(tanδ)の条件について説明する。損失正接(tanδ)は、上記のMDRを用いる測定により、最大トルク値に到達した際に、貯蔵トルク値/損失トルク値の比で表される損失正接(tanδ)の値を読み取ることで、測定される値である。ここで、組成物の損失正接(tanδ)が、0.2未満であるとは、組成物を硬化してなる硬化物のゴム弾性が低く、その表面が適度に硬質であることを意味するものであり、当該硬化物は成型工程における離型時に金型に硬化物が付着/吸着しにくく、脱型性に優れる。脱型性の見地から、最大トルク値に到達した際の、硬化物の損失正接(tanδ)が0.01〜0.19の範囲であることが好ましく、0.03〜0.18の範囲であることが特に好ましい。一方、組成物の損失正接(tanδ)が0.2を超えると、得られる硬化物のゴム弾性が高くなり、その表面が粘着性を帯びてくるので、離型時に金型に硬化物が付着/吸着しやすくなり、スムーズに金型から分離しにくく、脱型性が不十分となる場合がある。 Next, the conditions of loss tangent (tan δ) of the composition in the present invention will be described. Loss tangent (tan δ) is measured by reading the value of loss tangent (tan δ) represented by the ratio of storage torque value / loss torque value when the maximum torque value is reached by the above measurement using MDR. Is the value to be. Here, when the loss tangent (tan δ) of the composition is less than 0.2, it means that the rubber elasticity of the cured product obtained by curing the composition is low and the surface thereof is moderately hard. Therefore, the cured product is difficult to adhere / adsorb to the mold at the time of mold release in the molding process, and is excellent in mold removal property. From the viewpoint of demoldability, the loss tangent (tan δ) of the cured product when the maximum torque value is reached is preferably in the range of 0.01 to 0.19, preferably in the range of 0.03 to 0.18. It is particularly preferable to have. On the other hand, when the loss tangent (tan δ) of the composition exceeds 0.2, the rubber elasticity of the obtained cured product becomes high and the surface becomes sticky, so that the cured product adheres to the mold at the time of mold release. / It becomes easy to adsorb, it is difficult to separate from the mold smoothly, and the mold releasability may be insufficient.

硬化物につて、上記の(1)最大トルク値の条件および(2)最大トルク値に到達したときに、貯蔵トルク値/損失トルク値の比で表される損失正接(tanδ)の値の条件を共に充足することで、硬化性シリコーンシートは、その硬化物の応力緩和特性に優れ、硬化物の反りや欠陥を生じにくく、かつ、良好な脱型性を実現するものである。 For the cured product, (1) the condition of the maximum torque value and (2) the condition of the value of the loss tangent (tan δ) expressed by the ratio of the storage torque value / the loss torque value when the maximum torque value is reached. The curable silicone sheet is excellent in stress relaxation characteristics of the cured product, is less likely to cause warpage or defects of the cured product, and realizes good mold removal property.

本発明のホットメルト性の硬化性シリコーンシートの製造方法を実施例と比較例により詳細に説明する。なお、式中、Me、Ph、Viは、それぞれメチル基、フェニル基、ビニル基を表す。また、硬化性シリコーンシートを構成する硬化性粒状シリコーン組成物の軟化点は以下の方法で測定した。 The method for producing a hot-meltable curable silicone sheet of the present invention will be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples. In the formula, Me, Ph, and Vi represent a methyl group, a phenyl group, and a vinyl group, respectively. The softening point of the curable granular silicone composition constituting the curable silicone sheet was measured by the following method.

[硬化性シリコーン組成物の軟化点]
硬化性シリコーン組成物をφ14mm×22mmの円柱状のペレットに成型した。このペレットを25℃〜100℃に設定したホットプレート上に置き、100グラム重の荷重で上から10秒間押し続け、荷重を取り除いた後、該ペレットの変形量を測定した。高さ方向の変形量が1mm以上となった温度を軟化点とした。
[Softening point of curable silicone composition]
The curable silicone composition was molded into cylindrical pellets having a diameter of 14 mm × 22 mm. The pellet was placed on a hot plate set at 25 ° C. to 100 ° C. and pressed under a load of 100 grams for 10 seconds from above to remove the load, and then the amount of deformation of the pellet was measured. The temperature at which the amount of deformation in the height direction was 1 mm or more was defined as the softening point.

以下、参考例に示す方法で、ヒドロシリル化反応触媒を含むオルガノポリシロキサン樹脂を調製し、そのホットメルト性の有無を軟化点/溶融粘度の有無により評価し、さらに当該オルガノポリシロキサン樹脂微粒子を調製した。なお、参考例において、ヒドロシリル化反応触媒である白金錯体に用いる1,1,3,3−テトラメチル−1,3−ジビニルジシロキサンは、「1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン」と記述する。 Hereinafter, an organopolysiloxane resin containing a hydrosilylation reaction catalyst is prepared by the method shown in the reference example, the presence or absence of hot melt property is evaluated based on the presence or absence of softening point / melt viscosity, and the organopolysiloxane resin fine particles are further prepared. did. In the reference example, 1,1,3,3-tetramethyl-1,3-divinyldisiloxane used for the platinum complex which is a hydrosilylation reaction catalyst is described as "1,3-divinyltetramethyldisiloxane". ..

[参考例1:ホットメルト性のオルガノポリシロキサン樹脂と直鎖状のオルガノポリシロキサンの混合物の調整]
25℃において白色固体状で、平均単位式:
(MeViSiO1/2)0.05(MeSiO1/2)0.39(SiO4/2)0.56(HO1/2)0.02
で表されるオルガノポリシロキサン樹脂(ビニル基の含有量=1.9質量%) 3.25kg
25℃において白色固体状で、平均単位式:
(MeSiO1/2)0.44(SiO4/2)0.56(HO1/2)0.02
で表されるオルガノポリシロキサン樹脂(ビニル基の含有量=0質量%) 3.05kg
及び式:
ViMeSiO(MeSiO)800SiViMe
で表される、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン(ビニル基の含有量=0.09質量%) 2.85kg、
をペール缶内でスリーワンモーターを用いて4.00kgのキシレンに溶解した。得られた溶液を最高到達温度を230℃に設定した二軸押し出し機にフィードし、真空度−0.08MPaの条件でキシレン及び低分子量のオルガノポリシロキサン成分の除去を行ったところ、ホットメルト性の透明な混合物1が得られ、ずん胴ペールに受けそのまま冷却し固体化させた。この混合物を揮発成分量を200℃×1時間の条件で測定したところ0.7wt%であった。
[Reference Example 1: Preparation of a mixture of hot-meltable organopolysiloxane resin and linear organopolysiloxane]
White solid at 25 ° C, average unit formula:
(Me 2 ViSio 1/2 ) 0.05 (Me 3 SiO 1/2 ) 0.39 (SiO 4/2 ) 0.56 (HO 1/2 ) 0.02
Organopolysiloxane resin represented by (vinyl group content = 1.9% by mass) 3.25 kg
White solid at 25 ° C, average unit formula:
(Me 3 SiO 1/2 ) 0.44 (SiO 4/2 ) 0.56 (HO 1/2 ) 0.02
Organopolysiloxane resin represented by (vinyl group content = 0% by mass) 3.05 kg
And formula:
ViMe 2 SiO (Me 2 SiO) 800 SiViMe 2
Dimethylvinylsiloxy group-blocking dimethylpolysiloxane at both ends of the molecular chain (vinyl group content = 0.09% by mass) 2.85 kg,
Was dissolved in 4.00 kg of xylene in a pail using a three-one motor. The obtained solution was fed to a biaxial extruder whose maximum temperature reached was set to 230 ° C., and xylene and low molecular weight organopolysiloxane components were removed under the condition of a vacuum degree of −0.08 MPa. The transparent mixture 1 of the above was obtained, and it was received on a barrel pail and cooled as it was to be solidified. When the amount of volatile components of this mixture was measured under the condition of 200 ° C. × 1 hour, it was 0.7 wt%.

[参考例2:非ホットメルト性のオルガノポリシロキサン樹脂微粒子]
1Lのフラスコに、25℃において白色固体状で、平均単位式:
(MeSiO1/2)0.44(SiO4/2)0.56(HO1/2)0.02
で表されるオルガノポリシロキサン樹脂の55質量%−キシレン溶液 270.5g、および白金の1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン溶液(白金金属の含有量=約4000ppm) 0.375gを投入し、室温(25℃)で均一に攪拌して、白金金属として質量単位で10ppm含有するオルガノポリシロキサン樹脂のキシレン溶液を調製した。また、このオルガノポリシロキサン樹脂は200℃まで加熱しても軟化/溶融せず、ホットメルト性を有していなかった。
[Reference Example 2: Non-hot melt organopolysiloxane resin fine particles]
In a 1 L flask, in white solid form at 25 ° C., average unit formula:
(Me 3 SiO 1/2 ) 0.44 (SiO 4/2 ) 0.56 (HO 1/2 ) 0.02
270.5 g of 55 mass% -xylene solution of organopolysiloxane resin represented by, and 1,3-divinyltetramethyldisiloxane solution of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane complex of platinum (platinum metal content = Approximately 4000 ppm) 0.375 g was added and stirred uniformly at room temperature (25 ° C.) to prepare a xylene solution of an organopolysiloxane resin containing 10 ppm by mass as a platinum metal. Further, this organopolysiloxane resin did not soften / melt even when heated to 200 ° C. and did not have hot melt properties.

上記で調製したオルガノポリシロキサン樹脂のキシレン溶液を50℃においてスプレードライヤーを用いたスプレー法によりキシレンを除去しながら粒子化し、真球状の非ホットメルト性のオルガノポリシロキサン樹脂微粒子を調製した。この微粒子を光学顕微鏡で観測したところ、粒子径が5〜10μmであり、平均粒子径は7.4μmであった。 The xylene solution of the organopolysiloxane resin prepared above was atomized at 50 ° C. by a spray method using a spray dryer while removing xylene to prepare spherical non-hot melt organopolysiloxane resin fine particles. When these fine particles were observed with an optical microscope, the particle size was 5 to 10 μm, and the average particle size was 7.4 μm.

[実施例1]
参考例1で得られたホットメルト性の混合物1をずん胴ペール用のバルクメルター(ノードソン社製のVersaPailメルター)により170℃にて二軸押し出し機に図1に示すライン1からから9.30kg/hrの量をフィードした。
次に、
式:
MeSiO(MeHSiO)(MeSiO)6.5SiMe
で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン 0.20kg/hr、
式:
HMeSiO(MeSiO)17SiMe
で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン 0.50kg/hr、
1−エチニル−1−シクロヘキサノール(本組成物に対して質量単位1000ppmとなる量)、
からなる混合物を図1に示すライン2からフィードした。投入部の設定温度は150℃であった。
続いて、
ViMeSiO(MeSiO)800SiViMe
で表される、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン(ビニル基の含有量=0.09質量%) 1.5kg/hr、
白金の1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン溶液(本組成物に対して白金金属として質量単位で4.0ppmとなる量)、
からなる混合物を図1のライン3からフィードし(投入部の設定温度は80℃)、押し出し機内の真空度は―0.08MPaで、脱気溶融混錬を行った。二軸押出機の出口温度は80℃とし、混合物は半固体状の軟化物の形態で、125μm厚の剥離性フィルム(株式会社タカラインコーポレーション社製、FL2−01)上に供給量5kg/hrとなるように供給し、2枚の剥離性フィルム間に積層した。続いて、当該積層体を、90℃に温度制御されたロール間で延伸することで、厚さ300μmのホットメルト性の硬化性シリコーンシートが2枚の剥離性フィルム間に積層された積層体を形成させ、空冷により全体を冷却した。ライン2からロールで延伸するまでに掛かった時間は約2分であった。当該製造装置の全体の構成を、図2に示す。
[Example 1]
The hot-meltable mixture 1 obtained in Reference Example 1 was put into a twin-screw extruder at 170 ° C. using a bulk melter for a barrel pail (VersaPail melter manufactured by Nordson) from line 1 to 9.30 kg shown in FIG. The amount of / hr was fed.
next,
formula:
Me 3 SiO (MeHSiO) 7 (Me 2 SiO) 6.5 SiMe 3
Organohydrogenpolysiloxane represented by 0.20 kg / hr,
formula:
HMe 2 SiO (Me 2 SiO) 17 SiMe 2 H
Organohydrogenpolysiloxane represented by 0.50 kg / hr,
1-ethynyl-1-cyclohexanol (amount of mass unit 1000 ppm with respect to this composition),
The mixture consisting of was fed from line 2 shown in FIG. The set temperature of the charging part was 150 ° C.
continue,
ViMe 2 SiO (Me 2 SiO) 800 SiViMe 2
Dimethylvinylsiloxy group-blocking dimethylpolysiloxane at both ends of the molecular chain (vinyl group content = 0.09% by mass) 1.5 kg / hr,
1,3-Divinyltetramethyldisiloxane solution of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane complex of platinum (amount of platinum metal 4.0 ppm by mass with respect to this composition),
The mixture was fed from line 3 in FIG. 1 (the set temperature of the charging section was 80 ° C.), the degree of vacuum in the extruder was −0.08 MPa, and degassing, melting and kneading was performed. The outlet temperature of the twin-screw extruder is 80 ° C., and the mixture is in the form of a semi-solid softened product, and the supply amount is 5 kg / hr on a 125 μm thick peelable film (FL2-01, manufactured by Takaline Corporation). It was supplied so as to be, and laminated between two release films. Subsequently, the laminate was stretched between rolls whose temperature was controlled at 90 ° C. to obtain a laminate in which a hot-meltable curable silicone sheet having a thickness of 300 μm was laminated between two release films. It was formed and the whole was cooled by air cooling. It took about 2 minutes to stretch from line 2 with a roll. The overall configuration of the manufacturing apparatus is shown in FIG.

得られた積層体から剥離性フィルムを分離したところ、泡がなく平坦で均質なタックフリーの透明なホットメルト性の硬化性シリコーンシートを得ることができ、その軟化温度は80℃であった。 When the peelable film was separated from the obtained laminate, a flat, homogeneous, tack-free, transparent hot-meltable curable silicone sheet having no bubbles could be obtained, and the softening temperature was 80 ° C.

[比較例1]
参考例2で得た非ホットメルト性のオルガノポリシロキサン樹脂微粒子(ビニル基含有量=0質量%) 6.98kg、
式:
ViMeSiO(MeSiO)800SiViMe
で表される、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン(ビニル基の含有量=0.09質量%) 2.99kg、
式:
MeSiO(MeHSiO)(MeSiO)6.5SiMe
で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン 0.20kg、
{分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン中のビニル基1モルに対して、上記オルガノハイドロジェンポリシロキサン中のケイ素原子結合水素原子が1.4モルとなる量}、
1−エチニル−1−シクロヘキサノール(本組成物に対して質量単位1000ppmとなる量を中型粉砕機に一括投入し、室温(25℃)で1分間攪拌を行ったところ、ところどころべたついた塊となり、均一な混合物を得られなかった。
[Comparative Example 1]
Non-hot melt organopolysiloxane resin fine particles (vinyl group content = 0% by mass) obtained in Reference Example 2 6.98 kg,
formula:
ViMe 2 SiO (Me 2 SiO) 800 SiViMe 2
Dimethylvinylsiloxy group-blocking dimethylpolysiloxane at both ends of the molecular chain (vinyl group content = 0.09% by mass) 2.9 kg,
formula:
Me 3 SiO (MeHSiO) 7 (Me 2 SiO) 6.5 SiMe 3
Organohydrogenpolysiloxane represented by 0.20 kg,
{Amount of silicon atom-bonded hydrogen atom in the above-mentioned organohydrogenpolysiloxane is 1.4 mol with respect to 1 mol of vinyl group in dimethylpolysiloxane, which is a blockage of dimethylvinylsiloxy groups at both ends of the molecular chain},
When 1-ethynyl-1-cyclohexanol (amount having a mass unit of 1000 ppm with respect to this composition was put into a medium-sized crusher all at once and stirred at room temperature (25 ° C.) for 1 minute, it became a sticky mass in places. No uniform mixture was obtained.

得られた塊をずん胴ペールに移し替え、実施例1と同じバルクメルター(ノードソン社製のVersaPailメルター)により100℃にて二軸押し出し機にフィードしようとしたが、溶融せずに押し出し機にフィードできなかった。 The obtained mass was transferred to a barrel pail, and an attempt was made to feed the obtained mass to a twin-screw extruder at 100 ° C. using the same bulk melter (VersaPail melter manufactured by Nordson) as in Example 1, but the pusher was used without melting. Could not feed.

[比較例2]
参考例2で得た非ホットメルト性のオルガノポリシロキサン樹脂微粒子(ビニル基含有量=0質量%) 6.98kg、
式:
ViMeSiO(MeSiO)800SiViMe
で表される、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン(ビニル基の含有量=0.09質量%) 2.99kg、
式:
MeSiO(MeHSiO)(MeSiO)6.5SiMe
で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン 0.20kg、
{分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン中のビニル基1モルに対して、上記オルガノハイドロジェンポリシロキサン中のケイ素原子結合水素原子が1.4モルとなる量}、
1−エチニル−1−シクロヘキサノール(本組成物に対して質量単位1000ppmとなる量を中型粉砕機に一括投入し、室温(25℃)で1分間攪拌を行ったところ、ところどころべたついた塊となり、均一な混合物を得られなかった。
[Comparative Example 2]
Non-hot melt organopolysiloxane resin fine particles (vinyl group content = 0% by mass) obtained in Reference Example 2 6.98 kg,
formula:
ViMe 2 SiO (Me 2 SiO) 800 SiViMe 2
Dimethylvinylsiloxy group-blocking dimethylpolysiloxane at both ends of the molecular chain (vinyl group content = 0.09% by mass) 2.9 kg,
formula:
Me 3 SiO (MeHSiO) 7 (Me 2 SiO) 6.5 SiMe 3
Organohydrogenpolysiloxane represented by 0.20 kg,
{Amount of silicon atom-bonded hydrogen atom in the above-mentioned organohydrogenpolysiloxane is 1.4 mol with respect to 1 mol of vinyl group in dimethylpolysiloxane, which is a blockage of dimethylvinylsiloxy groups at both ends of the molecular chain},
When 1-ethynyl-1-cyclohexanol (amount having a mass unit of 1000 ppm with respect to this composition was put into a medium-sized crusher all at once and stirred at room temperature (25 ° C.) for 1 minute, it became a sticky mass in places. No uniform mixture was obtained.

得られた塊をずん胴ペール用移し替え、実施例1と同じホットメルター(ノードソン社製のVersaPailメルター)により170℃にて二軸押し出し機にフィードしたところ、途中で硬化が始まってしまいフィードできなかった。 When the obtained mass was transferred for a barrel pail and fed to a twin-screw extruder at 170 ° C. using the same hot melter (VersaPail melter manufactured by Nordson) as in Example 1, curing started in the middle and the feed could be performed. There wasn't.

[総括]
参考例1により、硬化剤を含まないホットメルト性のオルガノポリシロキサン樹脂を含むコンパウンドを得て、当該混合物を温度管理を行った2軸押し出し機で硬化剤と混合し、脱気溶融混錬を経て剥離性フィルム間に積層することで、ホットメルト性の硬化性シリコーンシートを工業的に短時間で、連続的に製造することができた。なお、当該製造方法においては、機能性フィラーを実質的に含まず、透明性と均一性に優れ、表面タック(粘着)のない硬化性シリコーンシートを得ることができる。
[Summary]
According to Reference Example 1, a compound containing a hot-meltable organopolysiloxane resin containing no curing agent was obtained, and the mixture was mixed with the curing agent by a temperature-controlled biaxial extruder to perform degassing, melting and kneading. By laminating between the peelable films, a hot-meltable curable silicone sheet could be industrially and continuously produced in a short time. In the production method, a curable silicone sheet that does not substantially contain a functional filler, has excellent transparency and uniformity, and has no surface tack (adhesion) can be obtained.

一方、類似原料を用いて非ホットメルト性のオルガノポリシロキサン樹脂微粒子を得た後に、硬化剤等の他の成分を混合しようとしても、原料を均一に混合することができず、溶融不良あるいは硬化反応の進行によって2軸押し出し機による連続生産が困難であった。 On the other hand, even if an attempt is made to mix other components such as a curing agent after obtaining non-hot meltable organopolysiloxane resin fine particles using a similar raw material, the raw materials cannot be mixed uniformly, resulting in poor melting or curing. Due to the progress of the reaction, continuous production by a twin-screw extruder was difficult.

図1
1:バルクメルター
2:T型ダイを備える二軸押出機
3-a:ポンプ
3-b:ポンプ
3-c:真空ポンプ
4-a:ライン1
4-b:ライン2
4-c:ライン3

図2
1:バルクメルター
2:T型ダイを備える二軸押出機
3-a:ポンプ
3-b:ポンプ
3-c:真空ポンプ
4-a:剥離シート
4-b:剥離シート
5-a:延伸ロール(任意で温度調節機能をさらに備えてもよい)
5-b:延伸ロール(任意で温度調節機能をさらに備えてもよい)
6:膜厚計
7-a:引張ロール
7-b:引張ロール
8:異物検査機
9:シートカッター
Figure 1
1: Bulk melter
2: Twin-screw extruder with T-type die
3-a: Pump
3-b: Pump
3-c: Vacuum pump
4-a: Line 1
4-b: Line 2
4-c: Line 3

Figure 2
1: Bulk melter
2: Twin-screw extruder with T-type die
3-a: Pump
3-b: Pump
3-c: Vacuum pump
4-a: Release sheet
4-b: Release sheet
5-a: Stretching roll (optionally further provided with temperature control function)
5-b: Stretching roll (optionally further provided with temperature control function)
6: Film thickness meter
7-a: Tensile roll
7-b: Tensile roll
8: Foreign matter inspection machine
9: Sheet cutter

Claims (16)

以下の工程を備えることを特徴とする、ホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの製造方法。
工程1:有機溶剤中に、室温で固体状のオルガノポリシロキサン樹脂、および、任意で鎖状のジオルガノポリシロキサンを分散乃至溶解させた溶液から、150℃以上の温度で有機溶剤の除去を行い、ホットメルト性の固形分を得る工程
工程2:工程1で得たホットメルト性の固形分に、すべての硬化剤を加えた後、1
20℃以下の温度で加熱溶融しながら混練する工程
工程3:工程2で得た加熱溶融後の混合物を、少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層する工程
工程4:工程3で得た積層体をロール間で延伸し、特定の膜厚を有する硬化性シリコーンシートを成型する工程
A method for producing a curable silicone sheet having hot melt property, which comprises the following steps.
Step 1: The organic solvent is removed from a solution in which a solid organopolysiloxane resin at room temperature and optionally a chain diorganopolysiloxane are dispersed or dissolved in an organic solvent at a temperature of 150 ° C. or higher. Step 2: Obtaining hot-melting solids: After adding all the curing agents to the hot-melting solids obtained in step 1, 1
Step 3: Kneading while heating and melting at a temperature of 20 ° C. or lower Step 3: The mixture after heating and melting obtained in Step 2 is laminated between films having at least one peeling surface Step 4: Obtained in Step 3. A process of stretching a laminate between rolls to form a curable silicone sheet having a specific film thickness.
工程2で得た加熱溶融後の混合物の150℃での高化式フローテスターにより測定される溶融粘度が1〜1,000Pasの範囲であり、
工程3において、当該加熱溶融後の混合物を少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層する工程が、当該加熱溶融後の混合物をダイ及びノズルを用いてフィルム状または紐状に成型しながら吐出して、少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層する工程であり、
さらに、工程4の前工程としてまたは工程4において、工程3で得た積層体全体を冷却または80〜120℃の間で温度調整する工程を含む、
請求項1に記載のホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの製造方法。
The melt viscosity of the mixture after heating and melting obtained in step 2 measured by an elevated flow tester at 150 ° C. is in the range of 1 to 1,000 Pas.
In step 3, the step of laminating the mixture after heating and melting between films having at least one peeling surface ejects the mixture after heating and melting while molding the mixture into a film or a string using a die and a nozzle. Then, it is a step of laminating between films having at least one peeling surface.
Further, as a pre-step of step 4 or in step 4, the step of cooling the entire laminate obtained in step 3 or adjusting the temperature between 80 and 120 ° C. is included.
The method for producing a curable silicone sheet having a hot melt property according to claim 1.
工程2で得た混合物全体の軟化点が200℃以下であり、
工程2が、工程1で得た混合物を当該混合物の軟化点以上の温度に加熱する工程であり、
工程3において、当該加熱溶融後の混合物を少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層する工程が、当該加熱溶融後の混合物を固体状のまま吐出し、少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層する工程である、
請求項1に記載のホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの製造方法。
The softening point of the entire mixture obtained in step 2 is 200 ° C. or lower.
Step 2 is a step of heating the mixture obtained in step 1 to a temperature equal to or higher than the softening point of the mixture.
In step 3, the step of laminating the mixture after heating and melting between films having at least one peeling surface ejects the mixture after heating and melting in a solid state and has a film having at least one peeling surface. It is a process of laminating between
The method for producing a curable silicone sheet having a hot melt property according to claim 1.
工程2〜4が連続した工程であり、工程2の開始から工程4の終了までの時間が30分以内であることを特徴とする請求項1に記載のホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの製造方法。 The curable silicone sheet having hot melt property according to claim 1, wherein steps 2 to 4 are continuous steps, and the time from the start of step 2 to the end of step 4 is within 30 minutes. Production method. さらに、工程4で得た硬化性シリコーンシートを含む積層体を裁断する工程を含む、
請求項1〜4のいずれか1項に記載のホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの製造方法。
Further, the step of cutting the laminate containing the curable silicone sheet obtained in step 4 is included.
The method for producing a curable silicone sheet having hot melt property according to any one of claims 1 to 4.
工程3において、工程2で得た加熱溶融後の混合物を、少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層する工程が、当該加熱溶融後の混合物をT型ダイおよびストランドダイから選ばれるダイ、及びシングルノズルおよびマルチノズルから選ばれるノズルを用いてフィルム状または紐状に成型しながら吐出して、少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層する工程である、請求項1〜5のいずれか1項に記載のホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの製造方法。 In step 3, the step of laminating the mixture after heating and melting obtained in step 2 between films having at least one peeling surface is a die in which the mixture after heating and melting is selected from a T-type die and a strand die. Any of claims 1 to 5, which is a step of discharging while molding into a film or string using a nozzle selected from a single nozzle and a multi-nozzle, and laminating between films having at least one peeling surface. The method for producing a curable silicone sheet having hot melt property according to item 1. 工程1におけるオルガノポリシロキサン樹脂が、RSiO3/2またはSiO4/2で表されるシロキサン単位(Rはアリール基)を全シロキサン単位の少なくとも20モル%以上含有するオルガノポリシロキサン樹脂であり、鎖状のジオルガノポリシロキサンがRRSiO2/2で表されるシロキサン単位(Rはメチル基)を全シロキサン単位の少なくとも90モル%以上含有するジオルガノポリシロキサンである、
請求項1〜6のいずれか1項に記載のホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの製造方法。
The organopolysiloxane resin in step 1 is an organopolysiloxane resin containing at least 20 mol% or more of siloxane units (R is an aryl group) represented by RSiO 3/2 or SiO 4/2, and is a chain. The diorganopolysiloxane is a diorganopolysiloxane containing at least 90 mol% or more of siloxane units (R 2 is a methyl group) represented by RR 2 SiO 2/2.
The method for producing a curable silicone sheet having a hot melt property according to any one of claims 1 to 6.
工程2により得られる混合物が、硬化により、
25℃における貯蔵弾性率(G')の値が2000MPa以下であり、
150℃における貯蔵弾性率(G')の値が100MPa以下であり、
周波数1.0Hzにおける貯蔵弾性率/損失弾性率(G’/G’’)で表される損失正接(tanδ)のピーク値が0.40以上である硬化物を与えることを特徴とする、
請求項1〜7のいずれか1項に記載のホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの製造方法。
The mixture obtained in step 2 is cured by curing.
The storage elastic modulus (G') at 25 ° C. is 2000 MPa or less.
The storage elastic modulus (G') at 150 ° C. is 100 MPa or less.
It is characterized by giving a cured product having a peak value of loss tangent (tan δ) represented by storage elastic modulus / loss elastic modulus (G'/ G'') at a frequency of 1.0 Hz of 0.40 or more.
The method for producing a curable silicone sheet having hot melt property according to any one of claims 1 to 7.
工程2により得られる混合物が、硬化により、
室温から200℃までの成型温度におけるMDR(Moving Die Rheom eter)により測定される(1)最大トルク値が50dN・m未満であり、(2)最大トルク値に到達したときに、貯蔵トルク値/損失トルク値の比で表される損失正接(tanδ)の値が0.2未満である硬化物を与えることを特徴とする、
請求項1〜8のいずれか1項に記載のホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの製造方法。
The mixture obtained in step 2 is cured by curing.
(1) The maximum torque value measured by MDR (Moving Die Ratio) at the molding temperature from room temperature to 200 ° C. is less than 50 dBN · m, and (2) When the maximum torque value is reached, the storage torque value / It is characterized by giving a cured product having a loss tangent (tan δ) value expressed by a ratio of loss torque values of less than 0.2.
The method for producing a curable silicone sheet having a hot melt property according to any one of claims 1 to 8.
工程2により得られる混合物が、混合物全体における機能性フィラーの含有量が5.0質量%未満である、請求項1〜9のいずれか1項に記載のホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの製造方法。 The curable silicone sheet having hot melt property according to any one of claims 1 to 9, wherein the mixture obtained in step 2 has a functional filler content of less than 5.0% by mass in the entire mixture. Production method. 硬化性シリコーンシートが、コンプレッション成型用、プレス成型用、または真空ラミネーション用の硬化性シリコーンシートである、請求項1〜10のいずれか1項に記載のホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの製造方法。 The production of a curable silicone sheet having a hot melt property according to any one of claims 1 to 10, wherein the curable silicone sheet is a curable silicone sheet for compression molding, press molding, or vacuum lamination. Method. 硬化性シリコーンシートが、ホットメルト性フィルム接着剤である、請求項1〜10のいずれか1項に記載のホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの製造方法。 The method for producing a curable silicone sheet having a hot melt property according to any one of claims 1 to 10, wherein the curable silicone sheet is a hot melt film adhesive. 硬化性シリコーンシートが、実質的に平坦な、厚さ10〜2000μmの硬化性シリコーンシートである、請求項1〜10のいずれか1項に記載のホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの製造方法。 The method for producing a curable silicone sheet having hot melt property according to any one of claims 1 to 10, wherein the curable silicone sheet is a substantially flat curable silicone sheet having a thickness of 10 to 2000 μm. .. 実質的に平坦な、厚さ10〜2000μmのホットメルト性を有し、機能性フィラーの含有量が5.0質量%未満である硬化性シリコーンシートが、少なくとも1の剥離面を備えたフィルム間に積層された構造を備える、積層体。 A substantially flat, curable silicone sheet having a hot melt property with a thickness of 10 to 2000 μm and a functional filler content of less than 5.0% by mass between films having at least one peeled surface. A laminated body having a laminated structure. 剥離面が、1分子中にケイ素原子に結合した含フッ素置換基を有する1種類以上のオルガノポリシロキサンを含む硬化性オルガノポリシロキサン組成物を硬化することにより得られる剥離コーティング層であり、当該剥離面を備えたフィルムの少なくとも一方の厚みが50μm以上である、請求項14に記載の積層体 The peeled surface is a peeling coating layer obtained by curing a curable organopolysiloxane composition containing one or more types of organopolysiloxane having a fluorine-containing substituent bonded to a silicon atom in one molecule. The laminate according to claim 14, wherein at least one of the films having faces has a thickness of 50 μm or more. 請求項1〜13のいずれか1項に記載のホットメルト性を有する硬化性シリコーンシートの製造方法を含む、請求項14または請求項15に記載の積層体の製造方法。 The method for producing a laminate according to claim 14 or 15, which comprises the method for producing a curable silicone sheet having hot melt property according to any one of claims 1 to 13.
JP2019237828A 2019-09-14 2019-12-27 Method for manufacturing curable silicone sheet with hot melt properties Active JP7424733B2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019167833 2019-09-14
JP2019167833 2019-09-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021045953A true JP2021045953A (en) 2021-03-25
JP7424733B2 JP7424733B2 (en) 2024-01-30

Family

ID=74877419

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019237828A Active JP7424733B2 (en) 2019-09-14 2019-12-27 Method for manufacturing curable silicone sheet with hot melt properties

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7424733B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023042744A1 (en) * 2021-09-14 2023-03-23 ダウ・東レ株式会社 Curable organopolysiloxane composition, organopolysiloxane adhesive layer obtained by curing same, and laminate
WO2023042743A1 (en) * 2021-09-14 2023-03-23 ダウ・東レ株式会社 Curable hot melt organopolysiloxane composition, cured product thereof and method for producing film, etc. comprising same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006274007A (en) * 2005-03-29 2006-10-12 Dow Corning Toray Co Ltd Hot-melt type silicone adhesive
JP2016504461A (en) * 2012-12-21 2016-02-12 ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation Hot-melt curable silicone composition for compression molding or laminating
WO2018030286A1 (en) * 2016-08-08 2018-02-15 東レ・ダウコーニング株式会社 Curable particulate silicone composition, optically reflective material comprising curable particulate silicone composition, and production method for optically reflective material comprising curable particulate silicone composition
JP2018519369A (en) * 2015-10-19 2018-07-19 東レ・ダウコーニング株式会社 Active energy ray-curable hot melt silicone composition, cured product thereof, and method for producing film

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006274007A (en) * 2005-03-29 2006-10-12 Dow Corning Toray Co Ltd Hot-melt type silicone adhesive
JP2016504461A (en) * 2012-12-21 2016-02-12 ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation Hot-melt curable silicone composition for compression molding or laminating
JP2018519369A (en) * 2015-10-19 2018-07-19 東レ・ダウコーニング株式会社 Active energy ray-curable hot melt silicone composition, cured product thereof, and method for producing film
WO2018030286A1 (en) * 2016-08-08 2018-02-15 東レ・ダウコーニング株式会社 Curable particulate silicone composition, optically reflective material comprising curable particulate silicone composition, and production method for optically reflective material comprising curable particulate silicone composition

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023042744A1 (en) * 2021-09-14 2023-03-23 ダウ・東レ株式会社 Curable organopolysiloxane composition, organopolysiloxane adhesive layer obtained by curing same, and laminate
WO2023042743A1 (en) * 2021-09-14 2023-03-23 ダウ・東レ株式会社 Curable hot melt organopolysiloxane composition, cured product thereof and method for producing film, etc. comprising same

Also Published As

Publication number Publication date
JP7424733B2 (en) 2024-01-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI833869B (en) Curable silicone composition, its cured body and manufacturing process thereof
EP3954739A1 (en) Curable silicone composition, cured product of same, and method for manufacturing same
CN113631660B (en) Curable silicone composition, cured product thereof, and method for producing same
JP2021107550A (en) Curable hot-melt silicone composition, cured material thereof, and laminate containing the composition or cured material
JP7450388B2 (en) Method for sealing electronic device substrate and sealed electronic device substrate
US20220064491A1 (en) Curable silicone composition, cured product thereof, and method for producing same
JP7424733B2 (en) Method for manufacturing curable silicone sheet with hot melt properties
JP7456938B2 (en) Method for manufacturing curable silicone sheet with hot melt properties
CN113614174B (en) Curable silicone composition, cured product thereof, and method for producing same
JP2021161400A (en) Curable hot-melt silicone composition, cured product thereof, and laminate including curable hot-melt silicone composition or cured product thereof
US20220186099A1 (en) Curable silicone composition, cured product of same and method for producing same
JP2021107149A (en) Laminate and electronic part formed of the same
TWI844606B (en) Manufacturing process for curable silicone sheet having hot-melt property
TWI837333B (en) Curable silicone composition, its cured body and manufacturing process thereof
JP7509755B2 (en) Curable silicone composition, cured product thereof, and method for producing same
TWI845652B (en) Curable silicone composition, its cured body and manufacturing process thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20221215

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20231025

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20231101

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20231227

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240117

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240117

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7424733

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150