JP2021028350A - Polycarbonate-based resin composition and molded product thereof - Google Patents

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Abstract

To provide a polycarbonate-based resin composition that contains a PC-POS copolymer, a styrene-based resin, a white pigment and a metal deactivating agent, and suppresses the occurrence of an appearance defect such as black streaks during molding.SOLUTION: Provided is a polycarbonate-based resin composition that contains: a polycarbonate-based resin composition (S) containing a particular polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (A1)-containing polycarbonate-based resin (A) by 50 mass% or more and 99 mass% or less, and a styrene-based resin (B) by 1 mass% or more and 50 mass% or less; a white pigment (C); and a metal deactivating agent (D), and in which the white pigment (C) is contained by 0.1 pts.mass or more and 40 pts.mass or less relative to 100 pts.mass of the polycarbonate-based resin composition (S), and the metal deactivating agent (D) is contained by 0.005 pts.mass or more and 1.0 pts.mass or less relative to 100 pts.mass of the polycarbonate-based resin composition (S).SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、ポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品に関する。より詳しくは、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体、スチレン系樹脂、白色顔料、及び金属不活性化剤を含み、成形時の黒スジ等の外観不良の発生を抑制した、ポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品に関する。 The present invention relates to a polycarbonate resin composition and a molded product thereof. More specifically, a polycarbonate resin composition containing a polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer, a styrene resin, a white pigment, and a metal inactivating agent to suppress the occurrence of appearance defects such as black streaks during molding, and a polycarbonate resin composition. Regarding the molded product.

ポリカーボネート樹脂は、機械的強度、電気的特性、透明性などに優れ、エンジニアリングプラスチックとして、電気及び電子機器分野、自動車分野等様々な分野において幅広く利用されている。携帯電話、モバイルパソコン、デジタルカメラ、ビデオカメラ、電動工具などの筐体にもポリカーボネート樹脂が利用され、これらの用途では、取り扱い時に落下等の可能性があることから耐衝撃性が重要であると共に、意匠性(特に色彩)も重要な因子である。
ポリカーボネート樹脂をはじめとする樹脂材料は、顔料等の着色剤を配合することで比較的容易に所望の色彩を付与することができる。ポリカーボネート系樹脂の中でも、ポリオルガノシロキサンを共重合したポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体(以下、PC−POS共重合体と称することがある。)は耐衝撃性に優れることから、前記用途への適用が期待されている。
Polycarbonate resin is excellent in mechanical strength, electrical properties, transparency, etc., and is widely used as an engineering plastic in various fields such as electric and electronic equipment fields and automobile fields. Polycarbonate resin is also used for housings of mobile phones, mobile personal computers, digital cameras, video cameras, power tools, etc. In these applications, impact resistance is important because it may fall during handling. , Design (especially color) is also an important factor.
A resin material such as a polycarbonate resin can be relatively easily imparted with a desired color by blending a colorant such as a pigment. Among the polycarbonate-based resins, a polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer obtained by copolymerizing a polyorganosiloxane (hereinafter, may be referred to as a PC-POS copolymer) has excellent impact resistance, and thus is suitable for the above-mentioned applications. Expected to be applied.

PC−POS共重合体は、一般的なホモポリカーボネート系樹脂が有する耐熱性や耐加水分解性に加えて、高い耐衝撃性を有することから、使用条件や使用環境の厳しい薄肉成形品や高強度部材への適用が進んでいる。しかしながら、PC−POS共重合体を主成分として含むポリカーボネート系樹脂に酸化チタン等の白色顔料を配合した樹脂組成物は、成形時に黒い筋状の模様(黒スジ)が発生するという問題があった。そのため、白着色のポリカーボネート樹脂材料ではPC−POS共重合体におけるポリオルガノシロキサン部分の平均鎖長を短くしたり、PC−POS共重合体の配合量を少なくしたりする必要があり、耐衝撃性の更なる向上が困難であった。 The PC-POS copolymer has high impact resistance in addition to the heat resistance and hydrolysis resistance of general homopolycarbonate resins, so that it is a thin-walled molded product with severe usage conditions and environment and high strength. Application to members is progressing. However, the resin composition in which a white pigment such as titanium oxide is mixed with a polycarbonate resin containing a PC-POS copolymer as a main component has a problem that a black streak pattern (black streaks) is generated during molding. .. Therefore, in the white-colored polycarbonate resin material, it is necessary to shorten the average chain length of the polyorganosiloxane portion in the PC-POS copolymer and reduce the blending amount of the PC-POS copolymer, which is impact resistant. It was difficult to further improve.

特許文献1には、PC−POS共重合体及び酸化チタンを含有するポリカーボネート系樹脂組成物において、ポリオルガノシロキサン部分の平均鎖長が短いPC−POS共重合体と、該平均鎖長が長いPC−POS共重合体とを併用することにより、成形時の黒スジの発生が抑制され、耐衝撃性に優れるポリカーボネート系樹脂組成物が得られることが記載されている。しかしながら特許文献1に開示された樹脂組成物はポリオルガノシロキサン部分の平均鎖長が短いPC−POS共重合体の使用を必須としている。 Patent Document 1 describes a PC-POS copolymer having a short average chain length of a polyorganosiloxane moiety and a PC having a long average chain length in a polycarbonate resin composition containing a PC-POS copolymer and titanium oxide. It is described that by using the −POS copolymer in combination, the generation of black streaks during molding is suppressed, and a polycarbonate resin composition having excellent impact resistance can be obtained. However, the resin composition disclosed in Patent Document 1 requires the use of a PC-POS copolymer having a short average chain length of the polyorganosiloxane moiety.

また、液晶ディスプレイ(LCD)のバックライトユニットに取り付けられる白色反射板等の白着色のポリカーボネート系樹脂組成物で用いられている酸化チタン、硫化亜鉛、酸化亜鉛等の白色顔料には、通常のポリカーボネート成形前に行う予備乾燥条件である100〜120℃で充分除湿乾燥させても抜けきらない水分が残る。この水分を含む該樹脂組成物を射出成形すると、成形熱で水分が蒸散してシルバーストリークを発生させることが知られている。この課題を克服するため、ポリカーボネート系重合体と、100℃と300℃におけるカールフィッシャー法による水分濃度差を2700質量ppm以下に低減した酸化チタンとの組み合わせを含むポリカーボネート樹脂組成物を用いて、シルバーストリークの発生を抑制する技術が知られている(例えば特許文献2)。しかしながら特許文献2でも、PC−POS共重合体と白色顔料を含むポリカーボネート系樹脂組成物において特有の現象である成形時の黒スジ発生を抑制する技術は開示されていない。 In addition, ordinary polycarbonate is used for white pigments such as titanium oxide, zinc sulfide, and zinc oxide used in white-colored polycarbonate-based resin compositions such as white reflectors attached to the backlight unit of a liquid crystal display (LCD). Even if the product is sufficiently dehumidified and dried at 100 to 120 ° C., which is a preliminary drying condition performed before molding, moisture that cannot be completely removed remains. It is known that when the resin composition containing this water is injection-molded, the water evaporates due to the molding heat to generate silver streaks. In order to overcome this problem, a polycarbonate resin composition containing a combination of a polycarbonate-based polymer and titanium oxide in which the difference in water concentration by the Karl Fischer method at 100 ° C. and 300 ° C. is reduced to 2700 mass ppm or less is used for silver. A technique for suppressing the occurrence of streaks is known (for example, Patent Document 2). However, Patent Document 2 does not disclose a technique for suppressing the generation of black streaks during molding, which is a peculiar phenomenon in a polycarbonate resin composition containing a PC-POS copolymer and a white pigment.

国際公開第2013/051557号International Publication No. 2013/051557 国際公開第2006/030791号International Publication No. 2006/030791

本発明は、PC−POS共重合体、スチレン系樹脂、白色顔料、及び金属不活性化剤を含み、成形時の黒スジ等の外観不良の発生を抑制した、ポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品を提供することを目的とする。 The present invention contains a PC-POS copolymer, a styrene resin, a white pigment, and a metal inactivating agent, and suppresses the occurrence of appearance defects such as black streaks during molding, and a polycarbonate resin composition and molding thereof. The purpose is to provide goods.

本発明者等は、所定のPC−POS共重合体及びスチレン系樹脂を含むポリカーボネート系樹脂組成物、白色顔料、及び金属不活性化剤をそれぞれ所定量配合したポリカーボネート系樹脂組成物とすることにより、上記課題が達成されることを見出した。
すなわち本発明は、下記1〜17に関する。
1.下記一般式(I)で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック及び下記一般式(II)で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロックを含むポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体(A1)を含有するポリカーボネート系樹脂(A)を50質量%以上99質量%以下、及びスチレン系樹脂(B)を1質量%以上50質量%以下含むポリカーボネート系樹脂組成物(S)と、白色顔料(C)と、金属不活性化剤(D)とを含み、
前記白色顔料(C)を、前記ポリカーボネート系樹脂組成物(S)100質量部に対して、0.1質量部以上40質量部以下含み、
前記金属不活性化剤(D)を、前記ポリカーボネート系樹脂組成物(S)100質量部に対して、0.005質量部以上1.0質量部以下含む、ポリカーボネート系樹脂組成物。

[式中、R1及びR2はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基を示す。Xは、単結合、炭素数1〜8のアルキレン基、炭素数2〜8のアルキリデン基、炭素数5〜15のシクロアルキレン基、炭素数5〜15のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数7〜15のアリールアルキレン基、炭素数7〜15のアリールアルキリデン基、−S−、−SO−、−SO2−、−O−又は−CO−を示す。R3及びR4はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を示す。a及びbは、それぞれ独立に0〜4の整数を示す。]
The present inventors have made a polycarbonate resin composition containing a predetermined PC-POS copolymer and a styrene resin, a white pigment, and a metal inactivating agent in a predetermined amount. , Found that the above task is achieved.
That is, the present invention relates to the following 1 to 17.
1. 1. Contains a polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (A1) containing a polycarbonate block composed of a repeating unit represented by the following general formula (I) and a polyorganosiloxane block containing a repeating unit represented by the following general formula (II). A polycarbonate resin composition (S) containing 50% by mass or more and 99% by mass or less of the polycarbonate resin (A) and 1% by mass or more and 50% by mass or less of the styrene resin (B), and a white pigment (C). , With a metal inactivating agent (D)
The white pigment (C) is contained in an amount of 0.1 part by mass or more and 40 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polycarbonate resin composition (S).
A polycarbonate resin composition containing the metal inactivating agent (D) in an amount of 0.005 part by mass or more and 1.0 part by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polycarbonate resin composition (S).

[In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. X is a single bond, an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 8 carbon atoms, a cycloalkylene group having 5 to 15 carbon atoms, a cycloalkylidene group having 5 to 15 carbon atoms, a fluorinatedyl group, and carbon. It shows an arylalkylene group having 7 to 15 carbon atoms, an arylalkylidene group having 7 to 15 carbon atoms, -S-, -SO-, -SO 2- , -O- or -CO-. R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. a and b each independently represent an integer of 0 to 4. ]

2.前記スチレン系樹脂(B)が、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体である、上記1に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
3.前記ポリオルガノシロキサンブロックの平均鎖長が50以上である、上記1又は2に記載の樹脂組成物。
4.前記ポリカーボネート系樹脂(A)中のポリオルガノシロキサンの含有量が0.1質量%以上25質量%以下である、上記1〜3のいずれか一つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
5.前記ポリカーボネート系樹脂(A)の粘度平均分子量が12,000以上50,000以下である、上記1〜4のいずれか一つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
6.前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体(A1)中の前記ポリオルガノシロキサンブロックの含有量が1.0質量%以上40質量%以下である、上記1〜5のいずれか一つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
7.前記金属不活性化剤(D)がヒドラジン系化合物、トリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、及びアミノカルボキシラート系化合物からなる群から選ばれる1種以上である、上記1〜6のいずれか一つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
8.前記白色顔料(C)が酸化チタン顔料、硫化亜鉛顔料、酸化亜鉛顔料、及び硫酸バリウム顔料からなる群から選ばれる少なくとも1種である、上記1〜7のいずれか一つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
9.前記白色顔料(C)が酸化チタン顔料である、上記8に記載の樹脂組成物。
10.前記酸化チタン顔料が酸化チタン粒子の表面にシリカ、ジルコニア、及びアルミナからなる群から選ばれる1種以上の無機酸化物からなる無機酸化物層を有するものである、上記9に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
11.前記酸化チタン顔料が、前記無機酸化物層の表面にさらに有機層を有する、上記10に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
12.前記有機層の、熱分解ガスクロマトグラフ装置及びFID検出器を用いた発生ガス分析により得られる発生ガス分析曲線の最大ピーク温度が380℃以上である、上記11に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
13.前記白色顔料(C)の、0℃以上300℃以下におけるカールフィッシャー法により測定される水分濃度から、0℃以上120℃以下におけるカールフィッシャー法により測定される水分濃度を差し引いた値が8,000質量ppm以下である、上記1〜12のいずれか一つ記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
14.粘度平均分子量が12,000以上50,000以下である、上記1〜13のいずれか一つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
15.前記ポリカーボネート系樹脂組成物からなる成形品について、測色計にて以下の条件で測定した測定対象位置のL値と基準点のL値の差(ΔL)が、0.18以下となる、上記1〜14のいずれか一つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
光源:D65光源
視野角度:10°
測定方法:縦150mm×横150mmの成形品上に、成形時の射出成形機のゲート位置からの樹脂の流れ方向に沿った端部を縦軸、該縦軸に直行する端部を横軸として、縦軸と横軸とが直交する点から順番に1cm(縦)×1cm(横)の間隔で15×15の位置割りを行う。位置割り後の以下の基準点と測定対称位置とのL値を測定する。
基準点:横3×縦8の位置
測定対称位置:横8×縦3から横8×縦14までの位置
16.上記1〜15のいずれか一つに記載のポリカーボネート系樹脂組成物からなる成形品。
17.測色計にて以下の条件で測定した測定対象位置のL値と基準点のL値の差(ΔL)が、0.18以下となる、上記16に記載の成形品。
光源:D65光源
視野角度:10°
測定方法:縦150mm×横150mmの成形品上に、成形時の射出成形機のゲート位置からの樹脂の流れ方向に沿った端部を縦軸、該縦軸に直行する端部を横軸として、縦軸と横軸とが直交する点から順番に1cm(縦)×1cm(横)の間隔で15×15の位置割りを行う。位置割り後の以下の基準点と測定対称位置とのL値を測定する。
基準点:横3×縦8の位置
測定対称位置:横8×縦3から横8×縦14までの位置
2. 2. The polycarbonate-based resin composition according to 1 above, wherein the styrene-based resin (B) is an acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer.
3. 3. The resin composition according to 1 or 2 above, wherein the polyorganosiloxane block has an average chain length of 50 or more.
4. The polycarbonate resin composition according to any one of 1 to 3 above, wherein the content of the polyorganosiloxane in the polycarbonate resin (A) is 0.1% by mass or more and 25% by mass or less.
5. The polycarbonate-based resin composition according to any one of 1 to 4, wherein the polycarbonate-based resin (A) has a viscosity average molecular weight of 12,000 or more and 50,000 or less.
6. The polycarbonate system according to any one of 1 to 5 above, wherein the content of the polyorganosiloxane block in the polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (A1) is 1.0% by mass or more and 40% by mass or less. Resin composition.
7. The metal inactivating agent (D) is at least one selected from the group consisting of hydrazine-based compounds, triazole-based compounds, triazine-based compounds, and aminocarboxylate-based compounds, according to any one of 1 to 6 above. The polycarbonate-based resin composition according to the above.
8. The polycarbonate resin according to any one of 1 to 7 above, wherein the white pigment (C) is at least one selected from the group consisting of titanium oxide pigments, zinc sulfide pigments, zinc oxide pigments, and barium sulfate pigments. Composition.
9. The resin composition according to 8 above, wherein the white pigment (C) is a titanium oxide pigment.
10. 9. The polycarbonate-based resin according to 9 above, wherein the titanium oxide pigment has an inorganic oxide layer composed of one or more inorganic oxides selected from the group consisting of silica, zirconia, and alumina on the surface of titanium oxide particles. Composition.
11. The polycarbonate-based resin composition according to 10 above, wherein the titanium oxide pigment further has an organic layer on the surface of the inorganic oxide layer.
12. 11. The polycarbonate-based resin composition according to 11 above, wherein the maximum peak temperature of the generated gas analysis curve obtained by the generated gas analysis of the organic layer using a pyrolysis gas chromatograph device and a FID detector is 380 ° C. or higher.
13. The value obtained by subtracting the water concentration of the white pigment (C) measured by the Karl Fischer method at 0 ° C. or higher and 300 ° C. or lower from the water concentration measured by the Karl Fischer method at 0 ° C. or higher and 120 ° C. or lower is 8,000. The polycarbonate-based resin composition according to any one of 1 to 12 above, which has a mass of ppm or less.
14. The polycarbonate-based resin composition according to any one of 1 to 13 above, wherein the viscosity average molecular weight is 12,000 or more and 50,000 or less.
15. The difference (ΔL) between the L value of the measurement target position and the L value of the reference point measured by the colorimeter under the following conditions for the molded product made of the polycarbonate resin composition is 0.18 or less. The polycarbonate resin composition according to any one of 1 to 14.
Light source: D65 light source Viewing angle: 10 °
Measuring method: On a molded product of length 150 mm × width 150 mm, the vertical axis is the end along the resin flow direction from the gate position of the injection molding machine at the time of molding, and the horizontal axis is the end orthogonal to the vertical axis. , 15 × 15 positioning is performed at intervals of 1 cm (vertical) × 1 cm (horizontal) in order from the point where the vertical axis and the horizontal axis are orthogonal to each other. The L value of the following reference point after the position division and the measurement symmetric position is measured.
Reference point: Position of 3 horizontal x 8 vertical Measurement symmetrical position: Position from 8 horizontal x 3 vertical to 8 horizontal x 14 vertical 16. A molded product comprising the polycarbonate-based resin composition according to any one of 1 to 15 above.
17. The molded product according to 16 above, wherein the difference (ΔL) between the L value of the measurement target position and the L value of the reference point measured under the following conditions with a colorimeter is 0.18 or less.
Light source: D65 light source Viewing angle: 10 °
Measuring method: On a molded product of length 150 mm × width 150 mm, the vertical axis is the end along the resin flow direction from the gate position of the injection molding machine at the time of molding, and the horizontal axis is the end orthogonal to the vertical axis. , 15 × 15 positioning is performed at intervals of 1 cm (vertical) × 1 cm (horizontal) in order from the point where the vertical axis and the horizontal axis are orthogonal to each other. The L value of the following reference point after the position division and the measurement symmetric position is measured.
Reference point: Position of horizontal 3 x vertical 8 Measurement symmetric position: Position from horizontal 8 x vertical 3 to horizontal 8 x vertical 14

本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、白色顔料を含む樹脂組成物であっても、成形時の黒スジ等の外観不良の発生が抑制された白色成形品を提供することができる。 The polycarbonate-based resin composition of the present invention can provide a white molded product in which the occurrence of appearance defects such as black streaks during molding is suppressed even if the resin composition contains a white pigment.

本発明のポリカーボネート樹脂組成物からなる成形品のL値を測定する際の基準点と測定対象位置とを示す模式図。FIG. 6 is a schematic view showing a reference point and a measurement target position when measuring the L value of a molded product made of the polycarbonate resin composition of the present invention. 成形品上に形成される黒スジを示す概念図。The conceptual diagram which shows the black streak formed on a molded product.

以下、本発明のポリカーボネート系樹脂組成物について詳細に説明する。なお、本明細書において、好ましいとされている規定は任意に採用することができ、好ましいもの同士の組み合わせはより好ましいといえる。また、本明細書において、「XX〜YY」の記載は、「XX以上YY以下」を意味する。 Hereinafter, the polycarbonate-based resin composition of the present invention will be described in detail. In addition, in this specification, the preferable provision can be arbitrarily adopted, and it can be said that the combination of preferable ones is more preferable. Further, in the present specification, the description of "XX to YY" means "XX or more and YY or less".

本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、下記一般式(I)で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック及び下記一般式(II)で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロックを含むポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体(A1)を含有するポリカーボネート系樹脂(A)を50質量%以上99質量%以下、及びスチレン系樹脂(B)を1質量%以上50質量%以下含むポリカーボネート系樹脂組成物(S)と、白色顔料(C)と、金属不活性化剤(D)とを含み、前記白色顔料(C)を、前記ポリカーボネート系樹脂組成物(S)100質量部に対して、0.1質量部以上40質量部以下含み、前記金属不活性化剤(D)を、前記ポリカーボネート系樹脂組成物(S)100質量部に対して、0.005質量部以上1.0質量部以下含むことを特徴とする。

[式中、R1及びR2はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基を示す。Xは、単結合、炭素数1〜8のアルキレン基、炭素数2〜8のアルキリデン基、炭素数5〜15のシクロアルキレン基、炭素数5〜15のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数7〜15のアリールアルキレン基、炭素数7〜15のアリールアルキリデン基、−S−、−SO−、−SO2−、−O−又は−CO−を示す。R3及びR4はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を示す。a及びbは、それぞれ独立に0〜4の整数を示す。]
The polycarbonate-based resin composition of the present invention is a polycarbonate-poly containing a polycarbonate block composed of a repeating unit represented by the following general formula (I) and a polyorganosiloxane block containing a repeating unit represented by the following general formula (II). A polycarbonate resin composition containing 50% by mass or more and 99% by mass or less of a polycarbonate resin (A) containing an organosiloxane copolymer (A1) and 1% by mass or more and 50% by mass or less of a styrene resin (B). S), a white pigment (C), and a metal inactivating agent (D) are contained, and the white pigment (C) is added to 0.1 parts by mass of the polycarbonate resin composition (S). The metal inactivating agent (D) is contained in an amount of 0.005 part by mass or more and 1.0 part by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polycarbonate resin composition (S). It is characterized by.

[In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. X is a single bond, an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 8 carbon atoms, a cycloalkylene group having 5 to 15 carbon atoms, a cycloalkylidene group having 5 to 15 carbon atoms, a fluorinatedyl group, and carbon. It shows an arylalkylene group having 7 to 15 carbon atoms, an arylalkylidene group having 7 to 15 carbon atoms, -S-, -SO-, -SO 2- , -O- or -CO-. R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. a and b each independently represent an integer of 0 to 4. ]

<ポリカーボネート系樹脂(A)>
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物には、所定のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体(A1)を含有するポリカーボネート系樹脂(A)が配合される。
<Polycarbonate resin (A)>
The polycarbonate-based resin composition of the present invention contains a polycarbonate-based resin (A) containing a predetermined polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (A1).

[ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体(A1)]
ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体(A1)は、下記一般式(I)で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック及び下記一般式(II)で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロックを含む。

上記一般式(I)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基を示す。Xは、単結合、炭素数1〜8のアルキレン基、炭素数2〜8のアルキリデン基、炭素数5〜15のシクロアルキレン基、炭素数5〜15のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数7〜15のアリールアルキレン基、炭素数7〜15のアリールアルキリデン基、−S−、−SO−、−SO2−、−O−又は−CO−を示す。a及びbは、それぞれ独立に、0〜4の整数を示す。
上記一般式(II)中、R3及びR4はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を示す。
[Polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (A1)]
The polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (A1) includes a polycarbonate block composed of a repeating unit represented by the following general formula (I) and a polyorganosiloxane block containing a repeating unit represented by the following general formula (II). ..

In the above general formula (I), R 1 and R 2 independently represent a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. X is a single bond, an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 8 carbon atoms, a cycloalkylene group having 5 to 15 carbon atoms, a cycloalkylidene group having 5 to 15 carbon atoms, a fluorinatedyl group, and carbon. It shows an arylalkylene group having 7 to 15 carbon atoms, an arylalkylidene group having 7 to 15 carbon atoms, -S-, -SO-, -SO 2- , -O- or -CO-. a and b each independently represent an integer of 0 to 4.
In the above general formula (II), R 3 and R 4 are independently hydrogen atoms, halogen atoms, alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms, or aryl groups having 6 to 12 carbon atoms. Is shown.

上記一般式(I)中、R1及びR2がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
1及びR2がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基(「各種」とは、直鎖状及びあらゆる分岐鎖状のものを含むことを示し、以下、同様である。)、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。R1及びR2がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。
Xが表すアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられ、炭素数1〜5のアルキレン基が好ましい。Xが表すアルキリデン基としては、エチリデン基、イソプロピリデン基等が挙げられる。Xが表すシクロアルキレン基としては、シクロペンタンジイル基やシクロヘキサンジイル基、シクロオクタンジイル基等が挙げられ、炭素数5〜10のシクロアルキレン基が好ましい。Xが表すシクロアルキリデン基としては、例えば、シクロヘキシリデン基、3,5,5−トリメチルシクロヘキシリデン基、2−アダマンチリデン基等が挙げられ、炭素数5〜10のシクロアルキリデン基が好ましく、炭素数5〜8のシクロアルキリデン基がより好ましい。Xが表すアリールアルキレン基のアリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基などの環形成炭素数6〜14のアリール基が挙げられる。Xが表すアリールアルキリデン基のアリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基などの環形成炭素数6〜14のアリール基が挙げられる。
a及びbは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、好ましくは0〜2、より好ましくは0又は1である。
中でも、a及びbが0であり、Xが単結合又は炭素数1〜8のアルキレン基であるもの、又はa及びbが0であり、Xがアルキリデン基、特にイソプロピリデン基であるものが好適である。
In the above general formula (I), examples of the halogen atom represented by R 1 and R 2 independently include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
Alkyl groups indicated by R 1 and R 2 independently include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, and various butyl groups (“various” means linear or all branched chains. The same applies hereinafter), various pentyl groups, and various hexyl groups. Examples of the alkoxy group represented by R 1 and R 2 independently include the case where the alkyl group moiety is the alkyl group.
Examples of the alkylene group represented by X include a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a hexamethylene group and the like, and an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms is preferable. Examples of the alkylidene group represented by X include an ethylidene group and an isopropylidene group. Examples of the cycloalkylene group represented by X include a cyclopentanediyl group, a cyclohexanediyl group, a cyclooctanediyl group and the like, and a cycloalkylene group having 5 to 10 carbon atoms is preferable. Examples of the cycloalkylidene group represented by X include a cyclohexylidene group, a 3,5,5-trimethylcyclohexylidene group, a 2-adamantylidene group and the like, and a cycloalkylidene group having 5 to 10 carbon atoms is preferable. , A cycloalkylidene group having 5 to 8 carbon atoms is more preferable. Examples of the aryl moiety of the arylalkylene group represented by X include an aryl group having 6 to 14 ring-forming carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group and an anthryl group. Examples of the aryl moiety of the arylalkylidene group represented by X include an aryl group having 6 to 14 ring-forming carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group and an anthryl group.
a and b each independently represent an integer of 0 to 4, preferably 0 to 2, more preferably 0 or 1.
Among them, those in which a and b are 0 and X is a single bond or an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, or those in which a and b are 0 and X is an alkylidene group, particularly an isopropylidene group are preferable. Is.

上記一般式(II)中、R3又はR4がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。R3又はR4がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。R3又はR4がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。R3又はR4がそれぞれ独立して示すアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
なお、R3及びR4としては、好ましくは、いずれも、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基であり、いずれもメチル基であることがより好ましい。
In the above general formula (II), examples of the halogen atom represented by R 3 or R 4 independently include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the alkyl group represented by R 3 or R 4 independently include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, various butyl groups, various pentyl groups, and various hexyl groups. Examples of the alkoxy group indicated by R 3 or R 4 independently include the case where the alkyl group moiety is the alkyl group. Examples of the aryl group independently represented by R 3 or R 4 include a phenyl group and a naphthyl group.
The R 3 and R 4 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and all of them are preferable. It is more preferably a methyl group.

上記一般式(II)で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロックは、下記一般式(II−I)〜(II−III)で表される単位を有することが好ましい。

[式中、R3〜R6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を示し、複数のR3〜R6は、互いに同一であっても異なっていてもよい。Yは−R7O−、−R7COO−、−R7NH−、−R7NR8−、−COO−、−S−、−R7COO−R9−O−、又は−R7O−R10−O−を示し、複数のYは、互いに同一であっても異なっていてもよい。前記R7は、単結合、直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基、脂肪族基及び芳香族基を含む二価の有機残基、置換又は無置換のアリーレン基、又はジアリーレン基を示す。R8は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。R9は、ジアリーレン基を示す。R10は、直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基、又はジアリーレン基を示す。βは、ジイソシアネート化合物由来の2価の基、又はジカルボン酸もしくはジカルボン酸のハロゲン化物由来の2価の基を示す。nはポリオルガノシロキサンの平均鎖長を示す。pとqはそれぞれ1以上の整数であり、pとqの和はn−2である。]
The polyorganosiloxane block containing the repeating unit represented by the general formula (II) preferably has the units represented by the following general formulas (II-I) to (II-III).

[In the formula, R 3 to R 6 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. A plurality of R 3 to R 6 may be the same as or different from each other. Y is -R 7 O -, - R 7 COO -, - R 7 NH -, - R 7 NR 8 -, - COO -, - S -, - R 7 COO-R 9 -O-, or -R 7 Indicates O-R 10- O-, and the plurality of Ys may be the same or different from each other. The R 7 represents a divalent organic residue containing a single bond, linear, branched or cyclic alkylene group, an aliphatic group and an aromatic group, a substituted or unsubstituted arylene group, or a dialylene group. R 8 represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or an aralkyl group. R 9 represents a dialylene group. R 10 represents a straight chain, branched chain or cyclic alkylene group, or dialylene group. β represents a divalent group derived from a diisocyanate compound, or a divalent group derived from a dicarboxylic acid or a halide of a dicarboxylic acid. n indicates the average chain length of the polyorganosiloxane. Each of p and q is an integer of 1 or more, and the sum of p and q is n-2. ]

3〜R6がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。R3〜R6がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。R3〜R6がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。R3〜R6がそれぞれ独立して示すアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
3〜R6としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基である。
一般式(II−I)、(II−II)及び/又は(II−III)中の、R3〜R6がいずれもメチル基であるものが好ましい。
Examples of the halogen atom independently indicated by R 3 to R 6 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the alkyl group represented by R 3 to R 6 independently include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, various butyl groups, various pentyl groups, and various hexyl groups. Examples of the alkoxy group represented by R 3 to R 6 independently include the case where the alkyl group moiety is the alkyl group. Examples of the aryl group represented by R 3 to R 6 independently include a phenyl group and a naphthyl group.
The R 3 to R 6 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
It is preferable that R 3 to R 6 in the general formulas (II-I), (II-II) and / or (II-III) are all methyl groups.

Yが示す−R7O−、−R7COO−、−R7NH−、−R7NR8−、−R7COO−R9−O−、又は−R7O−R10−O−におけるR7が表す直鎖又は分岐鎖アルキレン基としては、炭素数1〜8、好ましくは炭素数1〜5のアルキレン基が挙げられ、環状アルキレン基としては、炭素数5〜15、好ましくは炭素数5〜10のシクロアルキレン基が挙げられる。 Y is -R 7 shows O -, - R 7 COO - , - R 7 NH -, - R 7 NR 8 -, - R 7 COO-R 9 -O-, or -R 7 O-R 10 -O- Examples of the linear or branched alkylene group represented by R 7 in the above include alkylene groups having 1 to 8 carbon atoms, preferably 1 to 5 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 15 carbon atoms, preferably carbon atoms. The number 5 to 10 cycloalkylene groups can be mentioned.

7が表す脂肪族基及び芳香族基を含む二価の有機残基は、芳香環にアルコキシ基、アルキル基のような置換基を更に有していてもよく、その具体的構造としては、例えば、下記の一般式(x)又は(xi)の構造を示すことができる。なお、下記一般式の場合アルキレン基がSiに結合している。

(式中cは正の整数を示し、通常1〜6の整数である)
The divalent organic residue containing the aliphatic group and the aromatic group represented by R 7 may further have a substituent such as an alkoxy group or an alkyl group on the aromatic ring, and the specific structure thereof is as follows. For example, the structure of the following general formula (x) or (xi) can be shown. In the case of the following general formula, the alkylene group is bonded to Si.

(C in the formula indicates a positive integer, usually an integer of 1 to 6)

7、R9及びR10が示すジアリーレン基とは、二つのアリーレン基が直接、又は二価の有機基を介して連結された基のことであり、具体的には−Ar1−W−Ar2−で表わされる構造を有する基である。ここで、Ar1及びAr2は、アリーレン基を示し、Wは単結合、又は2価の有機基を示す。Wの示す2価の有機基は、例えばイソプロピリデン基、メチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基である。
7、Ar1及びAr2が表すアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、アントリレン基などの環形成炭素数6〜14のアリーレン基が挙げられる。これらアリーレン基は、アルコキシ基、アルキル基等の任意の置換基を有していてもよい。
8が示すアルキル基としては炭素数1〜8、好ましくは1〜5の直鎖又は分岐鎖のものである。アルケニル基としては、炭素数2〜8、好ましくは2〜5の直鎖又は分岐鎖のものが挙げられる。アリール基としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。アラルキル基としては、フェニルメチル基、フェニルエチル基等が挙げられる。
10が示す直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基は、R7と同様である。
The dialylene group represented by R 7 , R 9 and R 10 is a group in which two arylene groups are directly linked or via a divalent organic group, and specifically -Ar 1- W-. It is a group having a structure represented by Ar 2-. Here, Ar 1 and Ar 2 represent an arylene group, and W represents a single bond or a divalent organic group. The divalent organic group indicated by W is, for example, an isopropylidene group, a methylene group, a dimethylene group, or a trimethylene group.
Examples of the arylene group represented by R 7 , Ar 1 and Ar 2 include an arylene group having 6 to 14 ring-forming carbon atoms such as a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group and an anthrylene group. These arylene groups may have any substituent such as an alkoxy group and an alkyl group.
The alkyl group represented by R 8 is a linear or branched chain having 1 to 8 carbon atoms, preferably 1 to 5 carbon atoms. Examples of the alkenyl group include a linear or branched chain having 2 to 8 carbon atoms, preferably 2 to 5 carbon atoms. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the aralkyl group include a phenylmethyl group and a phenylethyl group.
The straight chain, branched chain or cyclic alkylene group indicated by R 10 is the same as that of R 7.

Yとしては、好ましくは−R7O−であって、R7が、脂肪族基及び芳香族基を含む二価の有機残基である。特に、R7が、アルキル基を有するフェノール系化合物の二価の残基であることが好ましく、例えばアリルフェノール由来の二価の有機残基やオイゲノール由来の二価の有機残基がより好ましい。R7は、具体的には上記一般式(x)又は(xi)で表される構造が好ましい。 Y is preferably −R 7 O—, where R 7 is a divalent organic residue containing an aliphatic group and an aromatic group. In particular, R 7 is preferably a divalent residue of a phenolic compound having an alkyl group, and for example, a divalent organic residue derived from allylphenol or a divalent organic residue derived from eugenol is more preferable. Specifically, R 7 preferably has a structure represented by the above general formula (x) or (xi).

なお、式(II−II)中のp及びqについては、p=q、すなわち、p=(n−2)/2、q=(n−2)/2であることが好ましい。 Regarding p and q in the formula (II-II), it is preferable that p = q, that is, p = (n-2) / 2 and q = (n-2) / 2.

また、βは、ジイソシアネート化合物由来の2価の基、又はジカルボン酸もしくはジカルボン酸のハロゲン化物由来の2価の基を示し、例えば、以下の一般式(xiii)〜(xvii)で表される2価の基が挙げられる。 Further, β represents a divalent group derived from a diisocyanate compound or a divalent group derived from a dicarboxylic acid or a halide of a dicarboxylic acid, and is represented by, for example, the following general formulas (xiii) to (xvii) 2 The basis of the value is mentioned.

本発明に用いられるPC−POS共重合体(A1)における前記ポリオルガノシロキサンブロックの平均鎖長nは50以上であることが好ましい。すなわち、式(II−I)及び(II−III)中のnが50以上であることが好ましく、(II−II)の場合にはpとqの和に2を足した数が上記範囲となることが好ましい。該平均鎖長は核磁気共鳴(NMR)測定により算出される。
該平均鎖長nが50以上であれば、成形品の低温耐衝撃性が良好である。該平均鎖長nは、より好ましくは55以上、更に好ましくは60以上、より更に好ましくは80以上、最も好ましくは85以上であり、より好ましくは500以下、更に好ましくは300以下、より更に好ましくは150以下、最も好ましくは120以下である。該平均鎖長は核磁気共鳴(NMR)測定により算出される。平均鎖長nが500を超えると、PC−POS共重合体(A1)を製造する際の取り扱いが困難になり経済性に劣る為、500以下が好ましい。
The average chain length n of the polyorganosiloxane block in the PC-POS copolymer (A1) used in the present invention is preferably 50 or more. That is, it is preferable that n in the formulas (II-I) and (II-III) is 50 or more, and in the case of (II-II), the number obtained by adding 2 to the sum of p and q is in the above range. Is preferable. The average chain length is calculated by nuclear magnetic resonance (NMR) measurement.
When the average chain length n is 50 or more, the low temperature impact resistance of the molded product is good. The average chain length n is more preferably 55 or more, still more preferably 60 or more, even more preferably 80 or more, most preferably 85 or more, still more preferably 500 or less, still more preferably 300 or less, still more preferably. It is 150 or less, most preferably 120 or less. The average chain length is calculated by nuclear magnetic resonance (NMR) measurement. If the average chain length n exceeds 500, it becomes difficult to handle when producing the PC-POS copolymer (A1) and the economy is inferior. Therefore, 500 or less is preferable.

本発明に用いられるPC−POS共重合体(A1)中の前記ポリオルガノシロキサンブロックの含有量は、より良好な衝撃特性を得る観点から、好ましくは1.0質量%以上40質量%以下であり、より好ましくは1.0質量%以上30質量%以下、更に好ましくは2.0質量%以上10質量%以下、更に好ましくは4.0質量%以上8.0質量%以下である。 The content of the polyorganosiloxane block in the PC-POS copolymer (A1) used in the present invention is preferably 1.0% by mass or more and 40% by mass or less from the viewpoint of obtaining better impact characteristics. , More preferably 1.0% by mass or more and 30% by mass or less, further preferably 2.0% by mass or more and 10% by mass or less, still more preferably 4.0% by mass or more and 8.0% by mass or less.

本発明に用いられるPC−POS共重合体(A1)の粘度平均分子量(Mv)は使用される用途や製品により、目的の分子量となるように分子量調整剤等を用いて適宜調整することができるが、好ましくは12,000以上50,000以下、より好ましくは15,000以上30,000以下、更に好ましくは16,000以上25,000以下、特に好ましくは16,000以上22,000以下である。
粘度平均分子量が12,000以上であれば、十分な衝撃強度を有する成形品を得ることができる。また粘度平均分子量が50,000以下であれば、流動性が低すぎず成形性が良好であり、熱劣化を起こさない温度で射出成形や押出成形を行うことができる。
上記粘度平均分子量(Mv)は、20℃における塩化メチレン溶液(濃度:g/L)の極限粘度[η]を測定し、下記のSchnell式より算出した値である。
The viscosity average molecular weight (Mv) of the PC-POS copolymer (A1) used in the present invention can be appropriately adjusted by using a molecular weight adjusting agent or the like so as to obtain the desired molecular weight depending on the intended use and product. However, it is preferably 12,000 or more and 50,000 or less, more preferably 15,000 or more and 30,000 or less, further preferably 16,000 or more and 25,000 or less, and particularly preferably 16,000 or more and 22,000 or less. ..
When the viscosity average molecular weight is 12,000 or more, a molded product having sufficient impact strength can be obtained. When the viscosity average molecular weight is 50,000 or less, the fluidity is not too low and the moldability is good, and injection molding or extrusion molding can be performed at a temperature that does not cause thermal deterioration.
The viscosity average molecular weight (Mv) is a value calculated from the following Schnell formula by measuring the ultimate viscosity [η] of a methylene chloride solution (concentration: g / L) at 20 ° C.

PC−POS共重合体(A1)は、1種のみを用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。PC−POS共重合体(A1)を2種以上用いる場合としては、例えば、前記ポリオルガノシロキサンブロックの平均鎖長、該ポリオルガノシロキサンブロックの含有量、又は粘度平均分子量が互いに異なるPC−POS共重合体を2種以上組み合わせる例を挙げることができる。複数のPC−POS共重合体(A1)はそれぞれ上記要件を満たすものとする。 As the PC-POS copolymer (A1), only one type may be used, or two or more types may be used in combination. When two or more types of PC-POS copolymers (A1) are used, for example, PC-POS copolymers having different average chain lengths of the polyorganosiloxane blocks, contents of the polyorganosiloxane blocks, or viscosity average molecular weights are used. An example of combining two or more kinds of polymers can be mentioned. Each of the plurality of PC-POS copolymers (A1) shall satisfy the above requirements.

[ポリカーボネート系樹脂(A2)]
本発明に用いるポリカーボネート系樹脂(A)は、(A1)以外のポリカーボネート系樹脂(A2)をさらに含んでいてもよい。該ポリカーボネート系樹脂(A2)は好ましくは芳香族ポリカーボネート系樹脂であり、より好ましくは下記一般式(III)で表される繰り返し単位のみからなる芳香族ホモポリカーボネート系樹脂である。

[式中、R30及びR31は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基を示す。X’は単結合、炭素数1〜8のアルキレン基、炭素数2〜8のアルキリデン基、炭素数5〜15のシクロアルキレン基、炭素数5〜15のシクロアルキリデン基、−S−、−SO−、−SO2−、−O−又は−CO−を示す。d及びeは、それぞれ独立に0〜4の整数を示す。]
[Polycarbonate resin (A2)]
The polycarbonate-based resin (A) used in the present invention may further contain a polycarbonate-based resin (A2) other than (A1). The polycarbonate-based resin (A2) is preferably an aromatic polycarbonate-based resin, and more preferably an aromatic homopolycarbonate-based resin consisting only of repeating units represented by the following general formula (III).

[In the formula, R 30 and R 31 each independently represent a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. X'is a single bond, an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 8 carbon atoms, a cycloalkylene group having 5 to 15 carbon atoms, a cycloalkylidene group having 5 to 15 carbon atoms, -S-, and -SO. Indicates −, −SO 2− , −O− or −CO−. d and e each independently represent an integer of 0 to 4. ]

30及びR31の具体例としては、前記R1及びR2と同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。R30及びR31としては、より好ましくは、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基である。X’の具体例としては、前記Xと同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。d及びeは、それぞれ独立に、好ましくは0〜2、より好ましくは0又は1である。 Specific examples of R 30 and R 31 include the same as those of R 1 and R 2, and the preferred ones are also the same. The R 30 and R 31 are more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. Specific examples of X'include the same as X, and preferred ones are also the same. d and e are independently, preferably 0 to 2, more preferably 0 or 1, respectively.

ポリカーボネート系樹脂(A)中のPC−POS共重合体(A1)の含有量は、より良好な耐衝撃性を得る観点から、好ましくは10質量%以上100質量%以下であり、より好ましくは20質量%以上100質量%以下、さらに好ましくは50質量%以上100質量%以下、特に好ましくは70質量%以上100質量%以下である。 The content of the PC-POS copolymer (A1) in the polycarbonate resin (A) is preferably 10% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 20 from the viewpoint of obtaining better impact resistance. It is mass% or more and 100 mass% or less, more preferably 50 mass% or more and 100 mass% or less, and particularly preferably 70 mass% or more and 100 mass% or less.

ポリカーボネート系樹脂(A)中のポリオルガノシロキサンの含有量は、より良好な耐衝撃性を得る観点から、好ましくは0.1質量%以上25質量%以下、より好ましくは0.5質量%以上20質量%以下、更に好ましくは1.0質量%以上10質量%以下、特に好ましくは4.0質量%以上8.0質量%以下である。 The content of the polyorganosiloxane in the polycarbonate resin (A) is preferably 0.1% by mass or more and 25% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or more and 20 from the viewpoint of obtaining better impact resistance. It is mass% or less, more preferably 1.0 mass% or more and 10 mass% or less, and particularly preferably 4.0 mass% or more and 8.0 mass% or less.

ポリカーボネート系樹脂(A)の粘度平均分子量(Mv)は使用される用途や製品により、目的の分子量となるように適宜調整することができるが、好ましくは12,000以上50,000以下、より好ましくは15,000以上30,000以下、更に好ましくは16,000以上25,000以下、更に好ましくは16,000以上22,000以下である。粘度平均分子量が12,000以上であれば、十分な成形品の強度を得ることができる。また粘度平均分子量が50,000以下であれば、流動性が低すぎず成形性が良好であり、熱劣化を起こさない温度で射出成形や押出成形を行うことができる。
上記粘度平均分子量(Mv)は前記と同様の方法で求めることができる。
The viscosity average molecular weight (Mv) of the polycarbonate resin (A) can be appropriately adjusted so as to have the desired molecular weight depending on the intended use and product, but is preferably 12,000 or more and 50,000 or less, more preferably. Is 15,000 or more and 30,000 or less, more preferably 16,000 or more and 25,000 or less, still more preferably 16,000 or more and 22,000 or less. When the viscosity average molecular weight is 12,000 or more, sufficient strength of the molded product can be obtained. When the viscosity average molecular weight is 50,000 or less, the fluidity is not too low and the moldability is good, and injection molding or extrusion molding can be performed at a temperature that does not cause thermal deterioration.
The viscosity average molecular weight (Mv) can be determined by the same method as described above.

[PC−POS共重合体(A1)の製造方法]
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物中のPC−POS共重合体(A1)は、界面重合法(ホスゲン法)、ピリジン法、エステル交換法等の公知の製造方法により製造することができる。特に界面重合法の場合に、PC−POS共重合体を含む有機相と未反応物や触媒残渣等を含む水相との分離工程が容易となり、またアルカリ洗浄、酸洗浄、純水洗浄による各洗浄工程におけるPC−POS共重合体を含む有機相と水相との分離が容易となる。そのため、効率よくPC−POS共重合体が得られる。PC−POS共重合体を製造する方法として、例えば、特開2014−80462号公報等に記載の方法を参照することができる。
[Method for producing PC-POS copolymer (A1)]
The PC-POS copolymer (A1) in the polycarbonate resin composition of the present invention can be produced by a known production method such as an interfacial polymerization method (phosgene method), a pyridine method, or a transesterification method. Especially in the case of the interfacial polymerization method, the separation step between the organic phase containing the PC-POS copolymer and the aqueous phase containing the unreacted material, the catalyst residue, etc. becomes easy, and each of them is performed by alkali cleaning, acid cleaning, and pure water cleaning. The organic phase containing the PC-POS copolymer and the aqueous phase can be easily separated in the washing step. Therefore, a PC-POS copolymer can be efficiently obtained. As a method for producing a PC-POS copolymer, for example, the method described in JP-A-2014-80462 can be referred to.

具体的には、後述する予め製造された芳香族ポリカーボネートオリゴマーと、ポリオルガノシロキサンとを、非水溶性有機溶媒(塩化メチレン等)に溶解させ、二価フェノール系化合物(ビスフェノールA等)のアルカリ性化合物水溶液(水酸化ナトリウム水溶液等)を加え、重合触媒として第三級アミン(トリエチルアミン等)や第四級アンモニウム塩(トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等)を用い、末端停止剤(p−t−ブチルフェノール等の1価フェノール)の存在下、界面重縮合反応させることにより製造できる。また、PC−POS共重合体(A1)は、ポリオルガノシロキサンと、二価フェノールと、ホスゲン、炭酸エステル又はクロロホーメートとを共重合させることによっても製造できる。 Specifically, a pre-produced aromatic polycarbonate oligomer described later and polyorganosiloxane are dissolved in a water-insoluble organic solvent (methylene chloride, etc.), and an alkaline compound of a dihydric phenolic compound (bisphenol A, etc.) is dissolved. Add an aqueous solution (sodium hydroxide aqueous solution, etc.), use a tertiary amine (triethylamine, etc.) or a quaternary ammonium salt (trimethylbenzylammonium chloride, etc.) as a polymerization catalyst, and use a terminal terminator (pt-butylphenol, etc. 1). It can be produced by subjecting it to an interfacial polycondensation reaction in the presence of (valent phenol). The PC-POS copolymer (A1) can also be produced by copolymerizing polyorganosiloxane, dihydric phenol, and phosgene, carbonic acid ester, or chlorohomete.

なお、PC−POS共重合体(A1)を、例えばポリカーボネートオリゴマーとポリオルガノシロキサン原料とを有機溶媒中で反応させた後に二価フェノールと反応させる等して製造する場合には、上記有機溶媒とポリカーボネートオリゴマーとの混合溶液1L中におけるポリカーボネートオリゴマーの固形分質量(g/L)が80〜200g/Lの範囲にあることが好ましい。より好ましくは90〜180g/L、更に好ましくは100〜170g/Lである。 When the PC-POS copolymer (A1) is produced, for example, by reacting a polycarbonate oligomer and a polyorganosiloxane raw material in an organic solvent and then reacting with a dihydric phenol, the above-mentioned organic solvent is used. The solid content mass (g / L) of the polycarbonate oligomer in 1 L of the mixed solution with the polycarbonate oligomer is preferably in the range of 80 to 200 g / L. It is more preferably 90 to 180 g / L, and even more preferably 100 to 170 g / L.

PC−POS共重合体(A1)の原料となるポリオルガノシロキサンとしては、以下の一般式(i)、(ii)及び/又は(iii)に示すものを用いることができる。
As the polyorganosiloxane used as a raw material for the PC-POS copolymer (A1), those represented by the following general formulas (i), (ii) and / or (iii) can be used.

式中、R3〜R6、Y、β、n−1、p及びqは上記した通りであり、具体例及び好ましいものも同様である。
Zは、水素原子又はハロゲン原子を示し、複数のZは、互いに同一であっても異なっていてもよい。
In the formula, R 3 to R 6 , Y, β, n-1, p and q are as described above, and specific examples and preferable ones are also the same.
Z represents a hydrogen atom or a halogen atom, and a plurality of Zs may be the same as or different from each other.

例えば、一般式(i)で表されるポリオルガノシロキサンとしては、以下の一般式(i−i)〜(i−xi)の化合物が挙げられる。 For example, examples of the polyorganosiloxane represented by the general formula (i) include compounds of the following general formulas (i-i) to (i-xi).

上記一般式(i−i)〜(i−xi)中、R3〜R6、n及びR8は上記の定義の通りであり、好ましいものも同じである。cは正の整数を示し、通常1〜6の整数である。
これらの中でも、重合の容易さの観点においては、上記一般式(i−i)で表されるフェノール変性ポリオルガノシロキサンが好ましい。また、入手の容易さの観点においては、上記一般式(i−ii)で表される化合物中の一種であるα,ω−ビス[3−(o−ヒドロキシフェニル)プロピル]ポリジメチルシロキサン、上記一般式(i−iii)で表される化合物中の一種であるα,ω−ビス[3−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)プロピル]ポリジメチルシロキサンが好ましい。
In the general formulas (i-i) to (i-xi), R 3 to R 6 , n and R 8 are as defined above, and preferred ones are also the same. c represents a positive integer, usually an integer of 1-6.
Among these, from the viewpoint of ease of polymerization, the phenol-modified polyorganosiloxane represented by the above general formula (i-i) is preferable. From the viewpoint of easy availability, α, ω-bis [3- (o-hydroxyphenyl) propyl] polydimethylsiloxane, which is one of the compounds represented by the above general formula (i-ii), is described above. Α, ω-bis [3- (4-hydroxy-3-methoxyphenyl) propyl] polydimethylsiloxane, which is one of the compounds represented by the general formula (i-iii), is preferable.

その他、ポリオルガノシロキサン原料として以下の一般式(xii)を有するものを用いてもよい。

式中、R3及びR4は上述したものと同様である。一般式(xii)で示されるポリオルガノシロキサンブロックの平均鎖長は(r×m)となり、(r×m)の範囲は上記nと同一である。
In addition, a polyorganosiloxane raw material having the following general formula (xii) may be used.

In the formula, R 3 and R 4 are the same as those described above. The average chain length of the polyorganosiloxane block represented by the general formula (xii) is (r × m), and the range of (r × m) is the same as n above.

上記(xii)をポリオルガノシロキサン原料として用いた場合には、ポリオルガノシロキサンブロック(II)は下記一般式(II−IV)で表わされる単位を有することが好ましい。

[式中のR3、R4、r及びmは上述した通りである]
When the above (xii) is used as a polyorganosiloxane raw material, the polyorganosiloxane block (II) preferably has a unit represented by the following general formula (II-IV).

[R 3 , R 4 , r and m in the equation are as described above]

その他ポリオルガノシロキサン原料として、下記一般式(xiii)で表されるポリオルガノシロキサン原料を用いてもよい。

[式中、R18〜R21はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜13のアルキル基である。R22は炭素数1〜6のアルキル基、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜14のアリール基である。Q2は炭素数1〜10の2価の脂肪族基である。nは平均鎖長を示し、30〜70である。]
In addition, as the polyorganosiloxane raw material, a polyorganosiloxane raw material represented by the following general formula (xiii) may be used.

[In the formula, R 18 to R 21 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 13 carbon atoms. R 22 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms. Q 2 is a divalent aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms. n indicates the average chain length, which is 30 to 70. ]

一般式(xiii)中、R18〜R21がそれぞれ独立して示す炭素数1〜13のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種ヘプチル基、各種オクチル基、2−エチルヘキシル基、各種ノニル基、各種デシル基、各種ウンデシル基、各種ドデシル基、各種トリデシル基が挙げられる。これらの中でも、R18〜R21としては、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基であり、いずれもメチル基であることがより好ましい。
22が示す炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基が挙げられる。R22が示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R22が示す炭素数1〜6のアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。また、R22が示す炭素数6〜14のアリール基としては、フェニル基、トルイル基、ジメチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
In the general formula (xiii), the alkyl groups having 1 to 13 carbon atoms represented independently by R 18 to R 21 are methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, various butyl groups, and various pentyl groups. , Various hexyl groups, various heptyl groups, various octyl groups, 2-ethylhexyl groups, various nonyl groups, various decyl groups, various undecyl groups, various dodecyl groups, and various tridecyl groups. Among these, R 18 to R 21 are preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and all of them are more preferably methyl groups.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms indicated by R 22 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, various butyl groups, various pentyl groups, and various hexyl groups. Examples of the halogen atom indicated by R 22 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms indicated by R 22 include the case where the alkyl group moiety is the alkyl group. Examples of the aryl group having 6 to 14 carbon atoms indicated by R22 include a phenyl group, a toluyl group, a dimethylphenyl group, and a naphthyl group.

上記の中でも、R22は水素原子、又は炭素数1〜6のアルコキシ基が好ましく、水素原子又は炭素数1〜3のアルコキシ基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。
2が示す炭素数1〜10の2価の脂肪族基としては、炭素数1〜10の、直鎖又は分岐鎖の2価の飽和脂肪族基が好ましい。当該飽和脂肪族基の炭素数は、好ましくは1〜8、より好ましくは2〜6、さらに好ましくは3〜6、よりさらに好ましくは4〜6である。また、平均鎖長nは上記の通りである。
Among the above, R 22 is preferably a hydrogen atom or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, and even more preferably a hydrogen atom.
As the divalent aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms indicated by Q 2 , a linear or branched divalent saturated aliphatic group having 1 to 10 carbon atoms is preferable. The saturated aliphatic group preferably has 1 to 8 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms, still more preferably 3 to 6 carbon atoms, and even more preferably 4 to 6 carbon atoms. The average chain length n is as described above.

上記式(xiii)で表されるポリオルガノシロキサン原料として用いた場合には、ポリオルガノシロキサンブロック(A−2)は下記一般式(II−V)で表わされる単位を有することが好ましい。

[式中、R18〜R22、Q2、及びnは上記した通りである。]
When used as a polyorganosiloxane raw material represented by the above formula (xiii), the polyorganosiloxane block (A-2) preferably has a unit represented by the following general formula (II-V).

[In the formula, R 18 to R 22 , Q 2 and n are as described above. ]

構成単位(II−V)の好ましい態様としては、下記式(II−VI)で表される構造を挙げることができる。

[式中、nは上記の通り。]
As a preferred embodiment of the structural unit (II-V), a structure represented by the following formula (II-VI) can be mentioned.

[In the formula, n is as described above. ]

前記ポリオルガノシロキサンの製造方法は特に限定されない。例えば、特開平11−217390号公報に記載の方法によれば、シクロトリシロキサンとジシロキサンとを酸性触媒存在下で反応させて、α,ω−ジハイドロジェンオルガノペンタシロキサンを合成し、次いで、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下に、該α,ω−ジハイドロジェンオルガノペンタシロキサンにフェノール性化合物(例えば2−アリルフェノール、4−アリルフェノール、オイゲノール、2−プロペニルフェノール等)等を付加反応させることで、粗ポリオルガノシロキサンを得ることができる。また、特許第2662310号公報に記載の方法によれば、オクタメチルシクロテトラシロキサンとテトラメチルジシロキサンとを硫酸(酸性触媒)の存在下で反応させ、得られたα,ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを上記と同様に、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下にフェノール性化合物等を付加反応させることで、粗ポリオルガノシロキサンを得ることができる。なお、α,ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンは、その重合条件によりその平均鎖長nを適宜調整して用いることもできるし、市販のα,ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを用いてもよい。具体的には、特開2016−098292号公報に記載されるものを用いることができる。 The method for producing the polyorganosiloxane is not particularly limited. For example, according to the method described in JP-A-11-217390, cyclotrisiloxane and disiloxane are reacted in the presence of an acidic catalyst to synthesize α, ω-dihydrogen organopentasiloxane, and then, In the presence of a hydrosilylation reaction catalyst, a phenolic compound (for example, 2-allylphenol, 4-allylphenol, eugenol, 2-propenylphenol, etc.) is added to the α, ω-dihydrogen organopentasiloxane to carry out an addition reaction. As a result, crude polyorganosiloxane can be obtained. Further, according to the method described in Japanese Patent No. 2662310, the obtained α, ω-dihydrogen organodone obtained by reacting octamethylcyclotetrasiloxane and tetramethyldisiloxane in the presence of sulfuric acid (acid catalyst). A crude polyorganosiloxane can be obtained by subjecting polysiloxane to an addition reaction of a phenolic compound or the like in the presence of a catalyst for hydrosilylation reaction in the same manner as described above. The α, ω-dihydrogen organopolysiloxane can be used by appropriately adjusting its average chain length n depending on the polymerization conditions, or a commercially available α, ω-dihydrogen organopolysiloxane can be used. Good. Specifically, those described in JP-A-2016-098292 can be used.

ポリカーボネートオリゴマーは、塩化メチレン、クロロベンゼン、クロロホルム等の有機溶剤中で、二価フェノールとホスゲンやトリホスゲンのようなカーボネート前駆体との反応によって製造することができる。なお、エステル交換法を用いてポリカーボネートオリゴマーを製造する際には、二価フェノールとジフェニルカーボネートのようなカーボネート前駆体との反応によって製造することもできる。 The polycarbonate oligomer can be produced by reacting dihydric phenol with a carbonate precursor such as phosgene or triphosgene in an organic solvent such as methylene chloride, chlorobenzene or chloroform. When the polycarbonate oligomer is produced by the transesterification method, it can also be produced by reacting a divalent phenol with a carbonate precursor such as diphenyl carbonate.

二価フェノールとしては、下記一般式(iv)で表される二価フェノールを用いることが好ましい。

式中、R1、R2、a、b及びXは上述した通りである。
As the divalent phenol, it is preferable to use the divalent phenol represented by the following general formula (iv).

In the formula, R 1 , R 2 , a, b and X are as described above.

上記一般式(iv)で表される二価フェノールとしては、例えば、ビス(ヒドロキシアリール)アルカン類、ビス(ヒドロキシアリール)シクロアルカン類、ジヒドロキシアリールエーテル類、ジヒドロキシジアリールスルフィド類、ジヒドロキシジアリールスルホキシド類、ジヒドロキシジアリールスルホン類、ジヒドロキシジフェニル類、ジヒドロキシジアリールフルオレン類、ジヒドロキシジアリールアダマンタン類等が挙げられる。これらの二価フェノールは、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。 Examples of the dihydric phenol represented by the above general formula (iv) include bis (hydroxyaryl) alkanes, bis (hydroxyaryl) cycloalkanes, dihydroxyaryl ethers, dihydroxydiarylsulfides, dihydroxydiarylsulfoxides, and the like. Examples thereof include dihydroxydiarylsulfones, dihydroxydiphenyls, dihydroxydiarylfluorenes, dihydroxydiaryladamantans and the like. These divalent phenols may be used alone or in combination of two or more.

ビス(ヒドロキシアリール)アルカン類としては、例えばビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン[ビスフェノールA]、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)オクタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ナフチルメタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−t−ブチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−ブロモフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−クロロフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル)プロパン等が挙げられる。 Examples of bis (hydroxyaryl) alkanes include bis (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane [bisphenol A], and the like. 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) octane, bis (4-hydroxyphenyl) phenylmethane, bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane, 2,2-bis (4-Hydroxy-3-methylphenyl) propane, bis (4-hydroxyphenyl) naphthylmethane, 1,1-bis (4-hydroxy-3-t-butylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy) -3-Bromophenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-chlorophenyl) propane, 2,2-bis (4) Examples thereof include -hydroxy-3,5-dichlorophenyl) propane and 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dibromophenyl) propane.

ビス(ヒドロキシアリール)シクロアルカン類としては、例えば1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,5,5−トリメチルシクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ノルボルナン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロドデカン等が挙げられる。ジヒドロキシアリールエーテル類としては、例えば4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジメチルフェニルエーテル等が挙げられる。
ジヒドロキシジアリールスルフィド類としては、例えば4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジメチルジフェニルスルフィド等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールスルホキシド類としては、例えば4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジメチルジフェニルスルホキシド等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールスルホン類としては、例えば4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジメチルジフェニルスルホン等が挙げられる。
Examples of bis (hydroxyaryl) cycloalkanes include 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclopentane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, and 1,1-bis (4-hydroxyphenyl). Examples thereof include -3,5,5-trimethylcyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) norbornane, and 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclododecane. Examples of dihydroxyaryl ethers include 4,4'-dihydroxydiphenyl ether, 4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethylphenyl ether and the like.
Examples of dihydroxydiarylsulfides include 4,4'-dihydroxydiphenylsulfide, 4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethyldiphenylsulfide and the like. Examples of the dihydroxydiaryl sulfoxides include 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfoxide, 4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethyldiphenyl sulfoxide and the like. Examples of dihydroxydiaryl sulfones include 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone, 4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethyldiphenyl sulfone and the like.

ジヒドロキシジフェニル類としては、例えば4,4’−ジヒドロキシジフェニル等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールフルオレン類としては、例えば9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールアダマンタン類としては、例えば1,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)アダマンタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)アダマンタン、1,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−5,7−ジメチルアダマンタン等が挙げられる。
上記以外の二価フェノールとしては、例えば4,4’−[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]ビスフェノール、10,10−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−9−アントロン、1,5−ビス(4−ヒドロキシフェニルチオ)−2,3−ジオキサペンタン等が挙げられる。
Examples of dihydroxydiphenyls include 4,4'-dihydroxydiphenyl and the like. Examples of dihydroxydiarylfluorenes include 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene and 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene. Examples of dihydroxydiaryl adamantanes include 1,3-bis (4-hydroxyphenyl) adamantane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) adamantane, and 1,3-bis (4-hydroxyphenyl) -5,7-. Examples thereof include dimethyl adamantane.
Examples of divalent phenols other than the above include 4,4'-[1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisphenol, 10,10-bis (4-hydroxyphenyl) -9-anthrone, 1,5. -Bis (4-hydroxyphenylthio) -2,3-dioxapentane and the like can be mentioned.

これらの中でも、ビス(ヒドロキシアリール)アルカン類が二価フェノールとして好ましく、ビス(ヒドロキシフェニル)アルカン類がより好ましく、ビスフェノールAが更に好ましい。二価フェノールとしてビスフェノールAを用いた場合、前記一般式(iv)において、Xがイソプロピリデン基であり、かつa=b=0のポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体となる。 Among these, bis (hydroxyaryl) alkanes are preferable as divalent phenols, bis (hydroxyphenyl) alkanes are more preferable, and bisphenol A is even more preferable. When bisphenol A is used as the divalent phenol, in the general formula (iv), X is an isopropylidene group, and a = b = 0 is a polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer.

得られるPC−POS共重合体の分子量を調整するために、末端停止剤を使用することができる。末端停止剤としては、例えば、フェノール、p−クレゾール、p−tert−ブチルフェノール、p−tert−オクチルフェノール、p−クミルフェノール、p−ノニルフェノール、m−ペンタデシルフェノール及びp−tert−アミルフェノール等の一価フェノールを挙げることができる。これら一価フェノールは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記界面重縮合反応後、適宜静置して水相と有機溶媒相とに分離し、有機溶媒相を洗浄(好ましくは塩基性水溶液、酸性水溶液、水の順に洗浄)し、得られた有機相を濃縮、及び乾燥することによって、PC−POS共重合体を得ることができる。
A point-of-sale agent can be used to adjust the molecular weight of the resulting PC-POS copolymer. Examples of the terminal terminator include phenol, p-cresol, p-tert-butylphenol, p-tert-octylphenol, p-cumylphenol, p-nonylphenol, m-pentadecylphenol and p-tert-amylphenol. Monovalent phenol can be mentioned. One of these monovalent phenols may be used alone, or two or more thereof may be used in combination.
After the above interfacial polycondensation reaction, the mixture is appropriately allowed to stand to separate into an aqueous phase and an organic solvent phase, and the organic solvent phase is washed (preferably a basic aqueous solution, an acidic aqueous solution, and water in this order) to obtain the obtained organic phase. A PC-POS copolymer can be obtained by concentrating and drying.

[(A1)以外のポリカーボネート系樹脂(A2)の製法]
上記(A1)以外のポリカーボネート系樹脂(A2)は、例えば、反応に不活性な有機溶媒、アルカリ水溶液の存在下、二価フェノール系化合物及びホスゲンと反応させた後、第三級アミンもしくは第四級アンモニウム塩等の重合触媒を添加して重合させる界面重合法や、二価フェノール系化合物をピリジン又はピリジンと不活性溶媒の混合溶液に溶解し、ホスゲンを導入し直接製造するピリジン法等従来のポリカーボネートの製造法により得ることができる。上記の反応に際し、必要に応じて、分子量調節剤(末端停止剤)、分岐化剤等が使用される。
[Manufacturing method of polycarbonate resin (A2) other than (A1)]
The polycarbonate-based resin (A2) other than the above (A1) is, for example, reacted with a divalent phenol-based compound and phosgen in the presence of an organic solvent inert to the reaction and an alkaline aqueous solution, and then a tertiary amine or a fourth. Conventional methods such as an interfacial polymerization method in which a polymerization catalyst such as a grade ammonium salt is added to polymerize, or a pyridine method in which a divalent phenolic compound is dissolved in pyridine or a mixed solution of pyridine and an inert solvent and phosgen is introduced to directly produce the compound. It can be obtained by a method for producing polycarbonate. In the above reaction, a molecular weight modifier (terminal terminator), a branching agent, or the like is used, if necessary.

なお、上記二価フェノール系化合物としては、下記一般式(v)で表されるものが挙げられる。

[式中、R30、R31、X’、d及びeは前記定義の通りであり、好ましいものも同じである。]
Examples of the divalent phenolic compound include those represented by the following general formula (v).

[In the formula, R 30 , R 31 , X', d and e are as defined above, and the preferred ones are also the same. ]

該二価フェノール系化合物の具体例としては、PC−POS共重合体(A1)の製造方法で上述したものを挙げることができ、好ましいものも同じである。中でも、ビス(ヒドロキシフェニル)アルカン系二価フェノールが好ましく、ビスフェノールAがより好ましい。 Specific examples of the divalent phenolic compound include those described above in the method for producing a PC-POS copolymer (A1), and preferred ones are also the same. Among them, bis (hydroxyphenyl) alkane-based divalent phenol is preferable, and bisphenol A is more preferable.

<スチレン系樹脂(B)>
スチレン系樹脂(B)を含むことにより、樹脂組成物の成形加工性、特に流動性を改善することができる。また、スチレン系樹脂(B)を含むことにより、成形時のポリカーボネート系樹脂組成物の流動性が高くなり、成形機内で受ける剪断応力が緩和され、発熱が抑制されることにより、黒スジが抑制されるものと考えられる。
<Styrene resin (B)>
By containing the styrene resin (B), the moldability of the resin composition, particularly the fluidity, can be improved. Further, by containing the styrene resin (B), the fluidity of the polycarbonate resin composition at the time of molding is increased, the shear stress received in the molding machine is relaxed, and the heat generation is suppressed, so that black streaks are suppressed. It is thought that it will be done.

非晶質スチレン系樹脂及び結晶性スチレン系樹脂のいずれも用いることができる。スチレン系樹脂(B)として、以下具体的に記載する1種を用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
非晶質スチレン系樹脂としては、スチレン、α−メチルスチレン等のモノビニル系芳香族単量体20〜100質量%、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル系単量体0〜60質量%、及びこれらと共重合可能なマレイミド、(メタ)アクリル酸メチル等の他のビニル系単量体0〜50質量%からなる単量体、又は単量体混合物を重合して得られる結晶構造を有さない重合体が挙げられる。
これらの重合体としては、汎用ポリスチレン(GPPS)、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)等がある。
Both an amorphous styrene resin and a crystalline styrene resin can be used. As the styrene resin (B), one type described specifically below may be used, or two or more types may be used in combination.
Examples of the amorphous styrene resin include 20 to 100% by mass of monovinyl aromatic monomers such as styrene and α-methylstyrene, and 0 to 60% by mass of vinyl cyanide monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile. It has a crystal structure obtained by polymerizing a monomer composed of 0 to 50% by mass of other vinyl-based monomers such as maleimide and methyl (meth) acrylate that can be copolymerized with these, or a monomer mixture. Examples include non-polymers.
Examples of these polymers include general-purpose polystyrene (GPPS), acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), and the like.

非晶質スチレン系樹脂として、ゴム状重合体で強化されたゴム変性スチレン系樹脂が好ましく利用できる。このゴム変性スチレン系樹脂としては、例えば、ポリブタジエン等のゴムにスチレンが重合した耐衝撃性ポリスチレン(HIPS)、ポリブタジエンにアクリロニトリルとスチレンとが重合したアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、ポリブタジエンにメタクリル酸メチルとスチレンが重合したメタクリル酸メチル−ブタジエン−スチレン共重合体(MBS樹脂)等があり、ゴム変性スチレン系樹脂は、2種以上を併用することができると共に、前記のゴム未変性である非晶質スチレン系樹脂との混合物としても使用できる。 As the amorphous styrene resin, a rubber-modified styrene resin reinforced with a rubber-like polymer can be preferably used. Examples of the rubber-modified styrene resin include impact-resistant polystyrene (HIPS) in which styrene is polymerized on rubber such as polybutadiene, and acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin) in which acrylonitrile and styrene are polymerized on polybutadiene. There are methyl methacrylate-butadiene-styrene copolymer (MBS resin) in which methyl methacrylate and styrene are polymerized in polybutadiene, and two or more types of rubber-modified styrene resin can be used in combination, and the above-mentioned rubber is not used. It can also be used as a mixture with a modified amorphous styrene resin.

ゴム変性スチレン系樹脂中のゴムの含有量は、好ましくは2質量%以上50質量%以下、より好ましくは5質量%以上30質量%以下、さらに好ましくは5質量%以上15質量%以下である。ゴムの割合が2質量%以上であれば、耐衝撃性が充分であり、又、50質量%以下であれば、熱安定性の低下、溶融流動性の低下、ゲルの発生、着色等の問題が生じない。
上記ゴムの具体例としては、ポリブタジエン、アクリレート及び/又はメタクリレートを含有するゴム質重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンゴム(SBS)、スチレン−ブタジエンゴム(SBR)、ブタジエン−アクリルゴム、イソプレンゴム、イソプレン−スチレンゴム、イソプレン−アクリルゴム、エチレン−プロピレンゴム等が挙げられる。このうち、特に好ましいものは、ポリブタジエンである。ここで用いるポリブタジエンは、低シスポリブタジエン(例えば、1,2−ビニル結合を1モル%以上30モル%以下、1,4−シス結合を30モル%以上42モル%以下含有するもの)、高シスポリブタジエン(例えば、1,2−ビニル結合を20モル%以下、1,4−シス結合を78モル%以上含有するもの)のいずれを用いてもよく、また、これらの混合物であってもよい。
The content of rubber in the rubber-modified styrene resin is preferably 2% by mass or more and 50% by mass or less, more preferably 5% by mass or more and 30% by mass or less, and further preferably 5% by mass or more and 15% by mass or less. If the proportion of rubber is 2% by mass or more, the impact resistance is sufficient, and if it is 50% by mass or less, there are problems such as a decrease in thermal stability, a decrease in melt fluidity, gel generation, and coloring. Does not occur.
Specific examples of the above rubber include a rubbery polymer containing polybutadiene, acrylate and / or methacrylate, styrene-butadiene-styrene rubber (SBS), styrene-butadiene rubber (SBR), butadiene-acrylic rubber, isoprene rubber, and isoprene. -Styrene rubber, isoprene-acrylic rubber, ethylene-propylene rubber and the like can be mentioned. Of these, polybutadiene is particularly preferable. The polybutadiene used here is low cis polybutadiene (for example, one containing 1 mol% or more and 30 mol% or less of 1,2-vinyl bond and 30 mol% or more and 42 mol% or less of 1,4-cis bond) and high cis. Any of polybutadiene (for example, one containing 20 mol% or less of 1,2-vinyl bond and 78 mol% or more of 1,4-cis bond) may be used, or a mixture thereof may be used.

結晶性スチレン系樹脂としては、シンジオタクチック構造、アイソタクチック構造を有するスチレン系(共)重合体が挙げられるが、本発明では流動性をより改善する目的から、非晶質スチレン系樹脂を用いることが好ましい。さらに非晶質スチレン系樹脂の中でも、200℃、5kg荷重におけるメルトフローレート(MFR)が、好ましくは0.5〜100g/10分、より好ましくは2〜80g/10分、さらに好ましくは2〜50g/10分のものが用いられる。メルトフローレート(MFR)が5g/10分以上であれば十分な流動性となり、100g/10分以下であれば、難燃性ポリカーボネート樹脂組成物の耐衝撃性が良好になる。 Examples of the crystalline styrene resin include styrene (co) polymers having a syndiotactic structure and an isotactic structure. In the present invention, an amorphous styrene resin is used for the purpose of further improving fluidity. It is preferable to use it. Further, among the amorphous styrene resins, the melt flow rate (MFR) at 200 ° C. and a load of 5 kg is preferably 0.5 to 100 g / 10 minutes, more preferably 2 to 80 g / 10 minutes, still more preferably 2 to 2. The one of 50 g / 10 minutes is used. When the melt flow rate (MFR) is 5 g / 10 minutes or more, sufficient fluidity is obtained, and when it is 100 g / 10 minutes or less, the impact resistance of the flame-retardant polycarbonate resin composition is good.

非晶質スチレン系樹脂の中でも、耐衝撃性ポリスチレン樹脂(HIPS)、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)及びアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、メタクリル酸メチル−スチレン共重合体(MS樹脂)、メタクリル酸メチル−ブタジエン−スチレン共重合体(MBS樹脂)、アクリロニトリル−アクリル酸メチル−スチレン共重合体(AAS樹脂)、アクリロニトリル−(エチレン/プロピレン/ジエン共重合体)−スチレン共重合体(AES樹脂)から選ばれる少なくとも1種が好ましく、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)が特に好ましい。
これらの特に好ましいものを例示すれば、AS樹脂としては、290FF(テクノポリマー株式会社製)、S100N、S200N、S101(ユーエムジー・エービーエス株式会社製)、PN−117C(奇美実業社製)を、ABS樹脂としては、サンタックAT−05、SXH−330(以上、日本エイアンドエル株式会社製)、トヨラック500、700(東レ株式会社製)、PA−756(奇美実業社製)を挙げることができる。MBS樹脂としては、C223A(三菱レイヨン株式会社製)を挙げることができる。
Among the amorphous styrene resins, impact-resistant polystyrene resin (HIPS), acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), methyl methacrylate-styrene copolymer (MS resin), methyl methacrylate-butadiene-styrene copolymer (MBS resin), acrylonitrile-methyl acrylate-styrene copolymer (AAS resin), acrylonitrile- (ethylene / propylene / diene copolymer) -styrene At least one selected from the polymer (AES resin) is preferable, and the acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin) is particularly preferable.
To give an example of these particularly preferable ones, as AS resins, 290FF (manufactured by Techno Polymer Co., Ltd.), S100N, S200N, S101 (manufactured by UMG ABS Co., Ltd.), PN-117C (manufactured by Chi Mei Corporation), ABS Examples of the resin include Santac AT-05, SXH-330 (all manufactured by Nippon A & L Inc.), Toyorak 500, 700 (manufactured by Toray Industries, Inc.), and PA-756 (manufactured by Chi Mei Corporation). Examples of the MBS resin include C223A (manufactured by Mitsubishi Rayon Corporation).

<ポリカーボネート系樹脂組成物(S)>
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物には、樹脂成分として、上記したポリカーボネート系樹脂(A)とスチレン系樹脂(B)とを含むポリカーボネート系樹脂組成物(S)を含む。
ポリカーボネート系樹脂組成物(S)は、ポリカーボネート系樹脂(A)を50質量%以上99質量%以下及びスチレン系樹脂(B)を1質量%以上50質量%以下含む。ポリカーボネート系樹脂(A)の割合が上記範囲であれば、優れた耐衝撃性を得ることができる。スチレン系樹脂(B)の割合が上記範囲であれば、耐熱性を損なうことなく、成形時の黒スジの発生を抑制することができる。ここで、ポリカーボネート系樹脂組成物(S)において、ポリカーボネート系樹脂(A)とスチレン系樹脂(B)との合計割合は100質量%となるものとする。
<Polycarbonate resin composition (S)>
The polycarbonate-based resin composition of the present invention contains a polycarbonate-based resin composition (S) containing the above-mentioned polycarbonate-based resin (A) and styrene-based resin (B) as a resin component.
The polycarbonate resin composition (S) contains 50% by mass or more and 99% by mass or less of the polycarbonate resin (A) and 1% by mass or more and 50% by mass or less of the styrene resin (B). When the ratio of the polycarbonate resin (A) is in the above range, excellent impact resistance can be obtained. When the ratio of the styrene resin (B) is in the above range, it is possible to suppress the generation of black streaks during molding without impairing the heat resistance. Here, in the polycarbonate resin composition (S), the total ratio of the polycarbonate resin (A) and the styrene resin (B) is assumed to be 100% by mass.

ポリカーボネート系樹脂組成物(S)中のポリカーボネート系樹脂(A)の割合は、好ましくは70質量%以上98質量%以下、より好ましくは80質量%以上97質量%以下、さらに好ましくは90質量%以上95質量%以下である。
ポリカーボネート系樹脂組成物(S)中のスチレン系樹脂(B)の割合は、好ましくは2質量%以上30質量%以下、より好ましくは3質量%以上20質量%以下、さらに好ましくは5質量%以上10質量%以下である。
The ratio of the polycarbonate resin (A) in the polycarbonate resin composition (S) is preferably 70% by mass or more and 98% by mass or less, more preferably 80% by mass or more and 97% by mass or less, and further preferably 90% by mass or more. It is 95% by mass or less.
The ratio of the styrene resin (B) in the polycarbonate resin composition (S) is preferably 2% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 3% by mass or more and 20% by mass or less, and further preferably 5% by mass or more. It is 10% by mass or less.

<白色顔料(C)>
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、白色顔料(C)を含む。白色顔料(C)は、本発明のポリカーボネート系樹脂組成物の色調を白色、又はグレー色等の中間色用の調色色材として用いられる。白色顔料(C)としては、特に限定されるものではないが、酸化チタン顔料、硫化亜鉛顔料、酸化亜鉛顔料、及び硫酸バリウム顔料からなる群から選ばれる1種以上を用いることが好ましく、酸化チタン顔料、硫化亜鉛顔料、及び酸化亜鉛顔料からなる群から選ばれる1種以上がより好ましい。これらの白色顔料の中でも、酸化チタン顔料を用いることが、色調をより白色とする観点から好ましい。以下、酸化チタンを代表してより詳細に記載するが、酸化チタン以外の上記白色顔料についても同様である。
<White pigment (C)>
The polycarbonate-based resin composition of the present invention contains a white pigment (C). The white pigment (C) is used as a toning material for a neutral color such as white or gray in the color tone of the polycarbonate resin composition of the present invention. The white pigment (C) is not particularly limited, but it is preferable to use one or more selected from the group consisting of titanium oxide pigments, zinc sulfide pigments, zinc oxide pigments, and barium sulfate pigments, and titanium oxide. More preferably, one or more selected from the group consisting of pigments, zinc sulfide pigments, and zinc oxide pigments. Among these white pigments, it is preferable to use a titanium oxide pigment from the viewpoint of making the color tone more white. Hereinafter, the description will be made in more detail on behalf of titanium oxide, but the same applies to the white pigments other than titanium oxide.

酸化チタン顔料のコアとなる酸化チタン粒子(以下、酸化チタン顔料のコアとなる酸化チタン粒子を「酸化チタン粒子」又は単に「コア粒子」ともいう)は、塩素法、硫酸法のどちらで製造されたものでもよいが、色調の点からは塩素法で製造されたものがより好ましい。また、該酸化チタンの結晶構造は、ルチル型、アナターゼ型のどちらでも使用可能であるが、ポリカーボネート系樹脂組成物の熱安定性及び耐光性等の観点からは、ルチル型構造が好ましい。
前記コア粒子の平均粒子径は、色調をより白色とする観点から、好ましくは0.10μm以上0.45μm以下、より好ましくは0.15μm以上0.25μm以下である。コア粒子の平均粒子径は、単一粒子による一次粒子の粒子径の平均値から求める。
Titanium oxide particles that form the core of the titanium oxide pigment (hereinafter, the titanium oxide particles that form the core of the titanium oxide pigment are also referred to as "titanium oxide particles" or simply "core particles") are manufactured by either the chlorine method or the sulfuric acid method. However, from the viewpoint of color tone, those produced by the chlorine method are more preferable. The crystal structure of titanium oxide can be either rutile type or anatase type, but the rutile type structure is preferable from the viewpoint of thermal stability and light resistance of the polycarbonate resin composition.
The average particle size of the core particles is preferably 0.10 μm or more and 0.45 μm or less, and more preferably 0.15 μm or more and 0.25 μm or less from the viewpoint of making the color tone whiter. The average particle size of the core particles is obtained from the average value of the particle size of the primary particles of a single particle.

前記酸化チタン顔料は、通常、酸化チタン粒子の表面にシリカ、ジルコニア、及びアルミナからなる群から選ばれる1種以上の無機酸化物からなる無機酸化物層を有する。当該無機酸化物層は、コア粒子である酸化チタンの触媒活性を抑え、また、耐光性を付与することができる。さらに、樹脂組成物中での酸化チタン顔料の凝集を緩和し、分散性を向上させるという効果も奏する。 The titanium oxide pigment usually has an inorganic oxide layer composed of one or more inorganic oxides selected from the group consisting of silica, zirconia, and alumina on the surface of titanium oxide particles. The inorganic oxide layer can suppress the catalytic activity of titanium oxide, which is a core particle, and can impart light resistance. Further, it also has the effect of alleviating the aggregation of the titanium oxide pigment in the resin composition and improving the dispersibility.

前記酸化チタン顔料は、上記無機酸化物層を2層以上有していてもよい。この場合、コア粒子に近い側に位置する無機酸化物層は、主としてコア粒子である酸化チタン粒子の触媒活性の抑制及び耐光性付与に寄与し、コア粒子から遠い側に位置する無機酸化物層は、主として樹脂組成物中での酸化チタン顔料の凝集緩和、及び分散性向上に寄与する。
酸化チタン顔料が無機酸化物層を2層以上有する場合、コア粒子に近い側に位置する無機酸化物層はシリカ及びジルコニアからなる群から選ばれる1種以上からなり、コア粒子から遠い側に位置する無機酸化物層はアルミナからなることが好ましい。
The titanium oxide pigment may have two or more layers of the inorganic oxide layers. In this case, the inorganic oxide layer located on the side closer to the core particles mainly contributes to the suppression of the catalytic activity of the titanium oxide particles, which are the core particles, and the impartation of light resistance, and the inorganic oxide layer located on the side farther from the core particles. Mainly contributes to alleviating aggregation of titanium oxide pigments in the resin composition and improving dispersibility.
When the titanium oxide pigment has two or more inorganic oxide layers, the inorganic oxide layer located on the side closer to the core particles is composed of one or more selected from the group consisting of silica and zirconia, and is located on the side farther from the core particles. The inorganic oxide layer to be formed is preferably made of alumina.

無機酸化物層は、コア粒子である酸化チタンの触媒活性を抑える作用がある一方で、無機酸化物であるシリカ、ジルコニア、アルミナは水和性無機物であるため吸水率が高く、成形機内で水分を蒸散し易い。蒸散した水分は、ポリカーボネート樹脂の加水分解を誘発する原因となる。このようなことから、酸化チタンの触媒作用を抑えるためには無機酸化物層が厚い方が好ましく、ポリカーボネート樹脂の加水分解を抑えようとすると、無機酸化物層の厚みが薄い方が好ましいこととなる。
相反するこの関係から、ポリカーボネート樹脂組成物の着色用の酸化チタン顔料の無機酸化物層による被覆量としては、酸化チタン顔料全体に対する質量比で3質量%以上10質量%以下の範囲にあるのが一般的である。スマートフォンに使われるような、白色顔料濃度が高く、加水分解しやすい白色反射材用途では、酸化チタン顔料の無機酸化物層による被覆量は、酸化チタン顔料全体に対する質量比で3質量%以上5質量%以下が好ましい範囲である。一方で、耐光性が求められる屋外用の着色成形品用途では、酸化チタン顔料の無機酸化物層による被覆量は酸化チタン顔料全体に対する質量比で5質量%以上10質量%以下が好ましい範囲である。しかしながら、この質量比であっても、酸化チタンの触媒作用を完全に抑制することは難しく、酸化チタンの触媒作用による耐候劣化は起きる。PC−POS共重合体と酸化チタン顔料などの白色顔料を含んだポリカーボネート系樹脂組成物の射出成形で黒スジができる要因の大半は、この酸化チタンの抑制し切れていない触媒作用である。
The inorganic oxide layer has the effect of suppressing the catalytic activity of titanium oxide, which is the core particle, while the inorganic oxides silica, zirconia, and alumina are hydrated inorganic substances and therefore have a high water absorption rate, so that the water content in the molding machine is high. Is easy to evaporate. The evaporated water causes hydrolysis of the polycarbonate resin. Therefore, in order to suppress the catalytic action of titanium oxide, it is preferable that the inorganic oxide layer is thick, and in order to suppress the hydrolysis of the polycarbonate resin, it is preferable that the thickness of the inorganic oxide layer is thin. Become.
Due to this contradictory relationship, the amount of the titanium oxide pigment for coloring the polycarbonate resin composition coated with the inorganic oxide layer is in the range of 3% by mass or more and 10% by mass or less in terms of the mass ratio with respect to the entire titanium oxide pigment. It is common. In white reflective material applications with high white pigment concentration and easy hydrolysis, such as those used in smartphones, the amount of titanium oxide pigment covered by the inorganic oxide layer is 3% by mass or more and 5% by mass as a mass ratio to the entire titanium oxide pigment. % Or less is a preferable range. On the other hand, in the use of colored molded products for outdoor use where light resistance is required, the coating amount of the titanium oxide pigment by the inorganic oxide layer is preferably in the range of 5% by mass or more and 10% by mass or less in terms of the mass ratio with respect to the entire titanium oxide pigment. .. However, even with this mass ratio, it is difficult to completely suppress the catalytic action of titanium oxide, and weather resistance deterioration due to the catalytic action of titanium oxide occurs. Most of the factors that cause black streaks in the injection molding of a polycarbonate resin composition containing a PC-POS copolymer and a white pigment such as a titanium oxide pigment are the unsuppressed catalytic action of the titanium oxide.

従来は、成形機内の高温高圧下で酸化チタン顔料中の水分がポリカーボネート樹脂の加水分解を誘発するため、酸化チタン顔料はポリカーボネート樹脂の分子量低下を起こすとされてきた。この事実を確認すべく、研究者らは、水分量の異なる複数の酸化チタン顔料をそれぞれ、ポリカーボネート樹脂に同量ずつ添加して二軸混練機で練り、混練前と混練後の分子量差から分子量低下量と、添加した酸化チタン顔料中の水分量との相関を検討した。結果、両者には必ずしも相関性がないことを見出し、加水分解以外に分子量を低下させる要因があるとの推定から、酸化チタン顔料の触媒作用で分子量が低下すると考えられる。 Conventionally, it has been said that the titanium oxide pigment causes a decrease in the molecular weight of the polycarbonate resin because the water content in the titanium oxide pigment induces hydrolysis of the polycarbonate resin under high temperature and high pressure in the molding machine. To confirm this fact, researchers added the same amount of titanium oxide pigments with different water contents to the polycarbonate resin and kneaded them with a twin-screw kneader, and based on the difference in molecular weight between before and after kneading, the molecular weight The correlation between the amount of decrease and the amount of water in the added titanium oxide pigment was examined. As a result, it was found that there is not necessarily a correlation between the two, and it is presumed that there is a factor for lowering the molecular weight other than hydrolysis, and it is considered that the molecular weight is lowered by the catalytic action of the titanium oxide pigment.

酸化チタン顔料中の水分は、ポリカーボネート樹脂の分解の要因の一つとなり得る。更には、成形機内で蒸散する高温高圧蒸気は、ポリカーボネート樹脂等の有機物の酸化促進をすることが公知であることから、水分量の少ない酸化チタン顔料が好ましい。酸化チタン顔料中に含まれる水分量(化学結合水量)としては、0℃以上300℃以下におけるカールフィッシャー法により測定される水分濃度から、0℃以上120℃以下におけるカールフィッシャー法により測定される水分濃度を差し引いた値が8,000質量ppm以下であることが好ましい。酸化チタン顔料の水分濃度差が8,000質量ppm以下であれば、ポリカーボネート系樹脂の分子量低下に悪影響を及ぼさない。当該値は、より好ましくは6,000質量ppm以下、更に好ましくは4,000質量ppm以下、より更に好ましくは3,000質量ppm以下である。 Moisture in the titanium oxide pigment can be one of the factors for decomposition of the polycarbonate resin. Furthermore, since it is known that the high-temperature and high-pressure steam that evaporates in the molding machine promotes the oxidation of organic substances such as polycarbonate resins, titanium oxide pigments having a low water content are preferable. The amount of water contained in the titanium oxide pigment (chemically bound water amount) is the water content measured by the Karl Fischer method at 0 ° C or higher and 120 ° C or lower from the water concentration measured by the Karl Fischer method at 0 ° C or higher and 300 ° C or lower. The value obtained by subtracting the concentration is preferably 8,000 mass ppm or less. When the difference in water concentration of the titanium oxide pigment is 8,000 mass ppm or less, it does not adversely affect the decrease in the molecular weight of the polycarbonate resin. The value is more preferably 6,000 mass ppm or less, further preferably 4,000 mass ppm or less, still more preferably 3,000 mass ppm or less.

酸化チタン顔料は、前記無機酸化物層の表面に有機層を有するものであることが好ましい。有機層は、樹脂組成物中での酸化チタン顔料の凝集を緩和し、分散性を向上させるという効果を奏する。また、酸化チタン顔料が有する前記無機酸化物層表面は、固体酸又は固体塩基特性を有する。この事実については、石原産業(株)の「新・タイペークニュース Vo.1 酸化チタン着色粒子 基礎物性編」15頁に記載がある通りである。固体酸又は固体塩基特性は、溶液中の酸塩基性と同様の性質であり、ポリカーボネート樹脂が、酸性下及び塩基性下で共に加水分解が促進され易いことから、この性質は好ましいものではない。この固体酸又は固体塩基特性は酸化チタン顔料が有する無機酸化物層表面のみの特性である。したがって、有機層で無機酸化物層を覆うことによって、無機酸化物層とポリカーボネート樹脂との直接接触を抑え、酸性や塩基性による加水分解の促進作用の影響を小さくすることができる。この点で、有機層はPC−POSの加水分解抑制に有効である。 The titanium oxide pigment preferably has an organic layer on the surface of the inorganic oxide layer. The organic layer has the effect of alleviating the aggregation of the titanium oxide pigment in the resin composition and improving the dispersibility. Further, the surface of the inorganic oxide layer of the titanium oxide pigment has solid acid or solid base properties. This fact is as described on page 15 of "New Thai Pake News Vo.1 Titanium Oxide Colored Particle Basic Physical Properties" by Ishihara Sangyo Co., Ltd. The solid acid or solid base property has the same properties as the acid-base property in the solution, and this property is not preferable because hydrolysis of the polycarbonate resin is likely to be promoted both under acidic and basic conditions. This solid acid or solid base property is a property of the titanium oxide pigment only on the surface of the inorganic oxide layer. Therefore, by covering the inorganic oxide layer with the organic layer, it is possible to suppress the direct contact between the inorganic oxide layer and the polycarbonate resin and reduce the influence of the action of promoting hydrolysis due to acidity or basicity. In this respect, the organic layer is effective in suppressing the hydrolysis of PC-POS.

前記有機層は、シロキサン構造を含むものであれば特に制限はないが、熱分解ガスクロマトグラフ装置及びFID検出器(Flame Ionization Detector:水素炎イオン化型検出器)を用いた発生ガス分析(Evolved Gas Analysis、以下「EGA」ともいう)により得られる発生ガス分析曲線の最大ピーク温度が380℃以上であることが好ましい。有機層の当該最大ピーク温度が380℃以上であると、ポリカーボネート系樹脂組成物の溶融混練や成形を高温条件下で行った場合でも有機層が分解し難い。そのため、前記酸化チタン顔料が有する無機酸化物層表面の固体酸又は固体塩基性の作用を効果的に抑えることができるので、樹脂組成物の成形時のPC−POS共重合体の加水分解による黒スジ発生を抑制することができる。黒スジ抑制効果の観点から、当該有機層の最大ピーク温度は、400℃以上であることがより好ましく、410℃以上であることが更に好ましい。当該有機層の最大ピーク温度の上限値には特に限定はないが、有機層の一般的な分解温度を考慮すると、500℃以下であることが好ましく、480℃以下であることがより好ましく、450℃以下であることが更に好ましい。
当該最大ピーク温度は、具体的には実施例に記載の方法で測定できる。
The organic layer is not particularly limited as long as it contains a siloxane structure, but Evolved Gas Analysis using a pyrolysis gas chromatograph device and a FID detector (Flame Ionization Detector). , Hereinafter also referred to as “EGA”), the maximum peak temperature of the generated gas analysis curve is preferably 380 ° C. or higher. When the maximum peak temperature of the organic layer is 380 ° C. or higher, the organic layer is difficult to decompose even when the polycarbonate resin composition is melt-kneaded or molded under high temperature conditions. Therefore, the solid acid or solid basic action on the surface of the inorganic oxide layer of the titanium oxide pigment can be effectively suppressed, so that black due to hydrolysis of the PC-POS copolymer during molding of the resin composition can be effectively suppressed. The occurrence of streaks can be suppressed. From the viewpoint of the effect of suppressing black streaks, the maximum peak temperature of the organic layer is more preferably 400 ° C. or higher, further preferably 410 ° C. or higher. The upper limit of the maximum peak temperature of the organic layer is not particularly limited, but considering the general decomposition temperature of the organic layer, it is preferably 500 ° C. or lower, more preferably 480 ° C. or lower, 450 ° C. It is more preferably ° C. or lower.
Specifically, the maximum peak temperature can be measured by the method described in Examples.

前記有機層を形成する化合物としては、シランカップリング剤などのシラン系化合物が好ましいものとして挙げられる。シランカップリング剤としては、ビニル系シランカップリング剤、エポキシ系シランカップリング剤、メタクリル系シランカップリング剤、アクリル系シランカップリング剤、アミノ系シランカップリング剤等が挙げられる。これらの化合物は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 As the compound forming the organic layer, a silane compound such as a silane coupling agent is preferable. Examples of the silane coupling agent include vinyl-based silane coupling agents, epoxy-based silane coupling agents, methacrylic-based silane coupling agents, acrylic-based silane coupling agents, and amino-based silane coupling agents. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

その他、前記有機層を形成する化合物としては、具体的には、アルキル水素シリコーン、アルコキシシリコーンなどが挙げられる。アルキル水素シリコーンとしては、例えば、メチル水素シリコーン、エチル水素シリコーン等がある。アルコキシシリコーンとしては、例えば、メトキシシリコーン、エトキシシリコーン等である。好ましいアルコキシシリコーンは、具体的にはアルコキシ基が直接又は二価炭化水素基を介してケイ素原子に結合したアルコキシシリル基を含むシリコーン化合物であり、例えば、直鎖状、環状、網状及び一部分岐を有する直鎖状のオルガノポリシロキサンが挙げられ、特に直鎖状オルガノポリシロキサンが好ましい。更に具体的には、シリコーン主鎖に対してメチレン鎖を介してアルコキシ基と結合する分子構造を有するポリオルガノシロキサンが好ましい。 In addition, specific examples of the compound forming the organic layer include alkyl hydrogen silicone and alkoxy silicone. Examples of the alkyl hydrogen silicone include methyl hydrogen silicone and ethyl hydrogen silicone. Examples of the alkoxy silicone include methoxy silicone and ethoxy silicone. Preferred alkoxysilicone is specifically a silicone compound containing an alkoxysilyl group in which an alkoxy group is directly bonded to a silicon atom via a divalent hydrocarbon group, and for example, linear, cyclic, reticulated and partially branched. Examples thereof include linear organopolysiloxanes, and linear organopolysiloxanes are particularly preferable. More specifically, a polyorganosiloxane having a molecular structure that binds to an alkoxy group with respect to the silicone main chain via a methylene chain is preferable.

前記有機層は、成形時の黒スジ等の外観不良を抑制する効果の観点から、ガスクロマトグラフ質量分析(GC−MS)により検出される成分が、環状シロキサン化合物及びシラン系化合物からなる群から選ばれる1種以上を含むことが好ましく、シラン系化合物を含むことがより好ましい。より具体的には、前記有機層は、ガスクロマトグラフ質量分析により検出される成分が以下のA群を含む有機層、又は以下のB群を含む有機層であることが好ましい。より好ましくは、A群を含む有機層である。
〔A群〕

〔B群〕
In the organic layer, the component detected by gas chromatograph mass spectrometry (GC-MS) is selected from the group consisting of cyclic siloxane compounds and silane compounds from the viewpoint of the effect of suppressing appearance defects such as black streaks during molding. It is preferable to contain one or more of these compounds, and more preferably to contain a silane compound. More specifically, the organic layer is preferably an organic layer containing the following group A or an organic layer containing the following group B as a component detected by gas chromatograph mass spectrometry. More preferably, it is an organic layer containing Group A.
[Group A]

[Group B]

以上の酸化チタン顔料に関する記載は、硫化亜鉛顔料、酸化亜鉛顔料、及び硫酸バリウム顔料等の白色顔料にも同様に適用されるものである。
白色顔料(C)の形状は特に限定されるものではなく、鱗片状、球状、板状、不定形等が挙げられる。白色顔料(C)の平均粒子径は、色調をより優れた白色とする観点から、好ましくは0.05μm以上0.50μm以下、より好ましくは0.10μm以上0.45μm以下、更に好ましくは0.15μm以上0.25μm以下である。白色顔料(C)の平均粒子径は、単一粒子による一次粒子の粒子径の平均値から求める。
The above description of titanium oxide pigments is similarly applied to white pigments such as zinc sulfide pigments, zinc oxide pigments, and barium sulfate pigments.
The shape of the white pigment (C) is not particularly limited, and examples thereof include scale-like, spherical, plate-like, and amorphous shapes. The average particle size of the white pigment (C) is preferably 0.05 μm or more and 0.50 μm or less, more preferably 0.10 μm or more and 0.45 μm or less, and further preferably 0. from the viewpoint of making the color tone more excellent white. It is 15 μm or more and 0.25 μm or less. The average particle size of the white pigment (C) is determined from the average particle size of the primary particles of a single particle.

本発明のポリカーボネート系樹脂組成物中の白色顔料(C)の含有量は、ポリカーボネート系樹脂(A)及びスチレン系樹脂(B)を含むポリカーボネート系樹脂組成物(S)100質量部に対して、0.1質量部以上40質量部以下であり、好ましくは0.1質量部以上20質量部以下、より好ましくは1.0質量部以上10質量部以下、更に好ましくは1.0質量部以上5.0質量部以下である。白色顔料(C)が0.1質量部未満であると白色度が不十分であり、40質量部を超えると、耐衝撃性が低下する。 The content of the white pigment (C) in the polycarbonate resin composition of the present invention is 100 parts by mass of the polycarbonate resin composition (S) containing the polycarbonate resin (A) and the styrene resin (B). 0.1 part by mass or more and 40 parts by mass or less, preferably 0.1 part by mass or more and 20 parts by mass or less, more preferably 1.0 part by mass or more and 10 parts by mass or less, still more preferably 1.0 part by mass or more and 5 parts by mass. It is 0.0 parts by mass or less. If the amount of the white pigment (C) is less than 0.1 parts by mass, the whiteness is insufficient, and if it exceeds 40 parts by mass, the impact resistance is lowered.

<金属不活性化剤(D)>
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物には、金属不活性化剤(D)が含まれる。金属不活性化剤(D)は、上述した現象、成形機内で酸化チタン顔料等の白色顔料の触媒作用によってPC−POS共重合体(A1)が酸化劣化することを抑制する。その結果、成形時の成形品表面における黒スジの発生を有意に抑えることができる。
<Metal inactivating agent (D)>
The polycarbonate-based resin composition of the present invention contains the metal inactivating agent (D). The metal inactivating agent (D) suppresses oxidative deterioration of the PC-POS copolymer (A1) due to the above-mentioned phenomenon and the catalytic action of a white pigment such as a titanium oxide pigment in the molding machine. As a result, the occurrence of black streaks on the surface of the molded product during molding can be significantly suppressed.

本発明において金属不活性化剤とは、金属又は金属イオンを不活性化させる機能を有する物質である。例えば、金属表面を化学的に不活性化するか、又は金属表面に吸着して該金属による触媒作用を抑制する機能を有する化合物、あるいは、金属からの溶出物である金属イオンと錯体を形成してキレート化合物等の不活性物質に変換する機能を有する化合物などが挙げられる。 In the present invention, the metal inactivating agent is a substance having a function of inactivating a metal or a metal ion. For example, it forms a complex with a compound having a function of chemically inactivating the metal surface or adsorbing on the metal surface to suppress the catalytic action of the metal, or a metal ion which is an eluate from the metal. Examples thereof include compounds having a function of converting into an inert substance such as a chelate compound.

金属不活性化剤(D)としては、ヒドラジン系化合物、トリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、シュウ酸系化合物、グアニジン系化合物、アミノカルボキシラート系化合物、ホスホナート系化合物、及び包接化合物等が挙げられる。
ヒドラジン系化合物としては、例えば、N,N’−ジホルミルヒドラジン、N,N’−ジアセチルヒドラジン、N,N’−ジプロピオニルヒドラジン、N,N’−ブチリルヒドラジン、N−ホルミル−N’−アセチルヒドラジン、N,N’−ジベンゾイルヒドラジン、N,N’−ジトルイルヒドラジン、N,N’−ジサリチロイルヒドラジン、N−ホルミル−N’−サリチロイルヒドラジン、N−ホルミル−N’−ブチル置換サリチロイルヒドラジン、N−アセチル−N’−サリチロイルヒドラジン、N,N’−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジン、シュウ酸−ジ−(N’−サリチロイル)ヒドラジン、アジピン酸−ジ−(N’−サリチロイル)ヒドラジン、デカメチレンジカルボン酸ジサリチロイルヒドラジド等が挙げられる。上記の中でも、サリチロイル基を有するヒドラジン化合物が好ましく、デカメチレンジカルボン酸ジサリチロイルヒドラジドがより好ましい。
ヒドラジン系化合物の市販品としては、(株)ADEKA製「アデカスタブCDA−6」(デカメチレンジカルボン酸ジサリチロイルヒドラジド)、「アデカスタブCDA−10」(N,N’−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジン)等が例示される。
Examples of the metal inactivating agent (D) include hydrazine compounds, triazole compounds, triazine compounds, oxalic acid compounds, guanidine compounds, aminocarboxylate compounds, phosphonate compounds, inclusion compounds and the like. ..
Examples of the hydrazine-based compound include N, N'-diformylhydrazine, N, N'-diacetylhydrazine, N, N'-dipropionylhydrazine, N, N'-butyrylhydrazine, and N-formyl-N'-. Acetylhydrazine, N, N'-dibenzoyl hydrazine, N, N'-ditoluyl hydrazine, N, N'-disalicyloyl hydrazine, N-formyl-N'-salicyloyl hydrazine, N-formyl-N' -Butyl-substituted salicyloyl hydrazine, N-acetyl-N'-salicyloyl hydrazine, N, N'-bis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine, shu Examples thereof include acid-di- (N'-salicyloyl) hydrazine, adipate-di- (N'-salicyloyl) hydrazine, and decamethylene dicarboxylic acid disalicyloyl hydrazine. Among the above, a hydrazine compound having a salicyloyl group is preferable, and decamethylene dicarboxylic acid disalicyloyl hydrazide is more preferable.
Commercially available hydrazine compounds include "ADEKA STAB CDA-6" (decamethylene dicarboxylic acid disalicyloyl hydrazide) and "ADEKA STAB CDA-10" (N, N'-bis [3- (3) "manufactured by ADEKA Corporation. , 5-Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine) and the like are exemplified.

トリアゾール系化合物としては、ベンゾトリアゾール系化合物、アミノトリアゾール系化合物が挙げられる。例えば、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、3−アミノ−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−1,2,4−トリアゾール−カルボン酸、3−アミノ−5−メチル−1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−5−ヘプチル−1,2,4−トリアゾール、3−(N−サリチロイル)アミノ−1,2,4−トリアゾール、3−(N−サリチロイル)アミノ−5−メチル−1,2,4−トリアゾール、3−(N−アセチル)アミノ−1,2,4−トリアゾール−5−カルボン酸等が挙げられる。上記の中でも、アミノトリアゾール系化合物が好ましい。
トリアゾール系化合物の市販品としては、(株)ADEKA製「アデカスタブCDA−1」(3−(N−サリチロイル)アミノ−1,2,4−トリアゾール)、「アデカスタブCDA−1M」等が例示される。
Examples of the triazole-based compound include benzotriazole-based compounds and aminotriazole-based compounds. For example, benzotriazole, tolyltriazole, 3-amino-1,2,4-triazole, 3-amino-1,2,4-triazole-carboxylic acid, 3-amino-5-methyl-1,2,4-triazole. , 3-Amino-5-Heptyl-1,2,4-Triazole, 3- (N-salicyloyl) amino-1,2,4-triazole, 3- (N-salicyloyl) amino-5-methyl-1,2 , 4-Triazole, 3- (N-acetyl) amino-1,2,4-Triazole-5-carboxylic acid and the like. Among the above, aminotriazole-based compounds are preferable.
Examples of commercially available products of the triazole compound include "ADEKA STAB CDA-1" (3- (N-salicyloyl) amino-1,2,4-triazole) and "ADEKA STAB CDA-1M" manufactured by ADEKA Corporation. ..

トリアジン系化合物としては、1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリヒドロキシ−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリアミノ−1,3,5−トリアジン等が挙げられる。市販品としては、(株)ADEKA製「アデカスタブZS−27」(2,4,6−トリアミノ−1,3,5−トリアジン)等が例示される。 Examples of the triazine-based compound include 1,3,5-triazine, 2,4,6-trihydroxy-1,3,5-triazine, 2,4,6-triamino-1,3,5-triazine and the like. .. Examples of commercially available products include "ADEKA STAB ZS-27" (2,4,6-triamino-1,3,5-triazine) manufactured by ADEKA Corporation.

シュウ酸系化合物としては、2,2’−オキサミドビス[エチル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]等が挙げられる。また、グアニジン系化合物としては、塩酸グアニジン、硝酸グアニジン、炭酸グアニジン、リン酸グアニジン、スルファミン酸グアニジン等が挙げられる。 Examples of the oxalic acid compound include 2,2'-oxamidbis [ethyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] and the like. Examples of the guanidine compound include guanidine hydrochloride, guanidine nitrate, guanidine carbonate, guanidine phosphate, guanidine sulfamate and the like.

アミノカルボキシラート系化合物としては、EDTA(エチレンジアミン四酢酸)、CDTA(シクロヘキサンジアミン四酢酸)、NTA(ニトリロ三酢酸)、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、TMDTA(トリメチレンジアミン四酢酸)、DMPDTA(2,2−ジメチルプロパンジアミン四酢酸)、DTPA(ジエチレントリアミン五酢酸)、及びこれらの塩が挙げられる。 Examples of aminocarboxylate compounds include EDTA (ethylenediaminetetraacetic acid), CDTA (cyclohexanediaminetetraacetic acid), NTA (nitrilotriacetic acid), hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, TMDTA (trimethylenediaminetetraacetic acid), and DMPTDA (2,2). -Dimethylpropanediaminetetraacetic acid), DTPA (diethylenetriaminetetraacetic acid), and salts thereof.

ホスホナート系化合物としては、分子内に少なくとも1つのリン酸基を有する、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸(EDTMP)、ニトリロトリスメチレンホスホン酸(NTMP)、アミノトリ(メチレンホスホン酸)、1,2−エタンジホスホン酸、トリス(ホスホノメチル)アミン−N−オキシド、1−ヒドロキシプロパン−1,1,3−トリホスホン酸、ジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)、N,N−ビス(ホスホノメチル)ブチルアミン、N,N−ビス(ホスホノメチル)プロピルアミン、2−ヒドロキシエチルビス(ホスホノメチル)アミン、N,N−ビス(ホスホノメチル)メチルアミン、N,N,N’,N’−テトラキス(ホスホノメチル)−1,2−プロパンジアミン、2−カルボキシエタン−1−ホスホン酸、N−(カルボキシメチル)−N−(ホスホノメチル)グリシン、(カルボキシメチル)ホスホン酸、2−(ホスホノオキシ)安息香酸、エチレンジアミン−N,N’−ビス(酢酸)−N,N’−(メチレンホスホン酸)などのホスホナート、及びこれらの塩が挙げられる。
包接化合物としては、ポルフィリン、クラウンエーテル等が挙げられる。
Phosphonate compounds include 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid, ethylenediaminetetramethylenephosphonic acid (EDTMP), nitrilotrismethylenephosphonic acid (NTMP), and aminotri (2) having at least one phosphate group in the molecule. Methylenephosphonic acid), 1,2-ethanediphosphonic acid, tris (phosphonomethyl) amine-N-oxide, 1-hydroxypropane-1,1,3-triphosphonic acid, diethylenetriaminepenta (methylenephosphonic acid), N, N- Bis (phosphonomethyl) butylamine, N, N-bis (phosphonomethyl) propylamine, 2-hydroxyethylbis (phosphonomethyl) amine, N, N-bis (phosphonomethyl) methylamine, N, N, N', N'-tetrakis ( Phosphonomethyl) -1,2-propanediamine, 2-carboxyethane-1-phosphonic acid, N- (carboxymethyl) -N- (phosphonomethyl) glycine, (carboxymethyl) phosphonic acid, 2- (phosphonooxy) benzoic acid, ethylenediamine Phosphonates such as -N, N'-bis (acetic acid) -N, N'- (methylenephosphonic acid), and salts thereof can be mentioned.
Examples of the clathrate compound include porphyrins and crown ethers.

金属不活性化剤(D)としては、上記した化合物の1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、PC−POS共重合体を含有するポリカーボネート系樹脂組成物の成形時の黒スジ等の外観不良を抑制し、かつ分子量低下を抑制する観点から、ヒドラジン系化合物、トリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、及びアミノカルボキシラート系化合物からなる群から選ばれる1種以上が好ましく、ヒドラジン系化合物、トリアゾール系化合物、及びアミノカルボキシラート系化合物からなる群から選ばれる1種以上がより好ましく、ヒドラジン系化合物及びアミノカルボキシラート系化合物からなる群から選ばれる1種以上が更に好ましく、デカメチレンジカルボン酸ジサリチロイルヒドラジド及びエチレンジアミン四酢酸からなる群から選ばれる1種以上がより更に好ましい。
本発明において、金属不活性化剤(D)としては、ポリカーボネート系樹脂組成物中に含まれる酸化チタン顔料等の白色顔料(C)に伴う触媒作用を抑制する、あるいは失活させるものであれば、上記で例示した化合物以外の金属不活性化剤を用いることもできる。
As the metal inactivating agent (D), one of the above-mentioned compounds can be used alone or in combination of two or more. Above all, from the viewpoint of suppressing appearance defects such as black streaks during molding of a polycarbonate resin composition containing a PC-POS copolymer and suppressing a decrease in molecular weight, hydrazine compounds, triazole compounds, and triazine compounds , And one or more selected from the group consisting of aminocarboxylate compounds are preferable, and one or more selected from the group consisting of hydrazine compounds, triazole compounds, and aminocarboxylate compounds are more preferable. One or more selected from the group consisting of aminocarboxylate compounds is further preferable, and one or more selected from the group consisting of decamethylene dicarboxylic acid disalicyloyl hydrazide and ethylenediaminetetraacetic acid are even more preferable.
In the present invention, the metal inactivating agent (D) is any that suppresses or deactivates the catalytic action associated with the white pigment (C) such as the titanium oxide pigment contained in the polycarbonate resin composition. , A metal inactivating agent other than the compounds exemplified above can also be used.

本発明のポリカーボネート系樹脂組成物中における金属不活性化剤(D)の含有量は、ポリカーボネート系樹脂(A)及びスチレン系樹脂(B)を含むポリカーボネート系樹脂組成物(S)100質量部に対して、0.005質量部以上1.0質量部以下であり、好ましくは0.01質量部以上0.3質量部以下、より好ましくは0.02質量部以上0.2質量部以下であり、更に好ましくは0.03質量部以上0.15質量部以下である。金属不活性化剤(D)の含有量がポリカーボネート系樹脂系組成物(S)100質量部に対して0.005質量部未満であると樹脂組成物の成形時に黒スジ発生を抑制する効果が小さく、1.0質量部を超えると物性低下を起こす。
なお、金属不活性化剤(D)の含有量が0.05質量部以上であれば、一定の背圧にて成形された成形品において発生する黒スジがより抑制されるため好ましい。また、0.1質量部以上であれば、さらに高い背圧で成形された成形品において発生する黒スジもより抑制されるため更に好ましい。
The content of the metal inactivating agent (D) in the polycarbonate resin composition of the present invention is 100 parts by mass of the polycarbonate resin composition (S) containing the polycarbonate resin (A) and the styrene resin (B). On the other hand, it is 0.005 part by mass or more and 1.0 part by mass or less, preferably 0.01 part by mass or more and 0.3 part by mass or less, and more preferably 0.02 part by mass or more and 0.2 part by mass or less. More preferably, it is 0.03 part by mass or more and 0.15 part by mass or less. When the content of the metal inactivating agent (D) is less than 0.005 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polycarbonate resin composition (S), the effect of suppressing the generation of black streaks during molding of the resin composition is effective. If it is small and exceeds 1.0 part by mass, the physical properties will deteriorate.
When the content of the metal inactivating agent (D) is 0.05 parts by mass or more, black streaks generated in the molded product molded under a constant back pressure are more suppressed, which is preferable. Further, if it is 0.1 part by mass or more, black streaks generated in the molded product molded with a higher back pressure are further suppressed, which is more preferable.

<その他添加剤>
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、さらにその他の添加剤を配合することができる。その他成分としては、例えば耐加水分解剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、難燃助剤、離型剤、補強材、充填剤、耐衝撃性改良用のエラストマー、染料等を挙げることができる。いくつかの成分について詳述する。
<Other additives>
Other additives can be further added to the polycarbonate-based resin composition of the present invention as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of other components include hydrolyzants, antioxidants, ultraviolet absorbers, flame retardants, flame retardants, mold release agents, reinforcing materials, fillers, elastomers for improving impact resistance, dyes and the like. Can be done. Some components will be described in detail.

白色顔料(C)を含むポリカーボネート系樹脂組成物は、白色顔料(C)中の水分に由来して、少なからずPC−POS共重合体の加水分解が起きる。これをより抑制するため、本発明のポリカーボネート系樹脂組成物に、耐加水分解剤を配合してもよい。耐加水分解剤をさらに配合することにより、成形時の黒スジの発生をより一層抑えることができる。 In the polycarbonate resin composition containing the white pigment (C), the water content in the white pigment (C) causes not a little hydrolysis of the PC-POS copolymer. In order to further suppress this, a hydrolysis resistant agent may be added to the polycarbonate resin composition of the present invention. By further blending a hydrolysis resistant agent, it is possible to further suppress the generation of black streaks during molding.

本発明においては、耐加水分解剤とは、PC−POS共重合体(A1)中のカーボネート基又はシロキサン結合の加水分解を抑制する機能を有する剤であり、より詳細には、水分又は生成酸と反応しうる官能基を1つ以上有する剤であることが好ましい。
本発明に用いる耐加水分解剤としては、具体的には、アミド化合物(e1)、イミド化合物(e2)、エポキシ化合物(e3)、酸無水物(e4)、オキサゾリン化合物(e5)、オキサジン化合物(e6)、及びケテン化合物(e7)が挙げられる。
In the present invention, the hydrolysis resistant agent is an agent having a function of suppressing hydrolysis of a carbonate group or a siloxane bond in the PC-POS copolymer (A1), and more specifically, water or a producting acid. It is preferable that the agent has one or more functional groups capable of reacting with.
Specific examples of the hydrolysis resistant agent used in the present invention include an amide compound (e1), an imide compound (e2), an epoxy compound (e3), an acid anhydride (e4), an oxazoline compound (e5), and an oxazine compound ( Examples thereof include e6) and a keten compound (e7).

<アミド化合物(e1)>
アミド化合物(e1)は、分子内に少なくとも1つのアミド基を有する化合物であればよい。
耐加水分解剤としての効果の点、及び分散性の点からは、アミド化合物(e1)は、分子内に炭素数6〜24の鎖状脂肪族基を少なくとも1つ有するアミド化合物が好ましい。該鎖状脂肪族基は、直鎖でも分岐鎖でもよく、飽和脂肪族基でも不飽和脂肪族基でもよい。成形時の黒スジ発生を抑制する観点、及びポリカーボネート系樹脂への分散作用を有する点から、飽和鎖状脂肪族基が好ましく、アルキル基が更に好ましい。該鎖状脂肪族基の炭素数は、好ましくは8〜22、より好ましくは10〜22、更に好ましくは12〜22である。該鎖状脂肪族基は、水酸基等の置換基を有していてもよい。
<Amide compound (e1)>
The amide compound (e1) may be a compound having at least one amide group in the molecule.
From the viewpoint of the effect as a hydrolysis resistant agent and the dispersibility, the amide compound (e1) is preferably an amide compound having at least one chain aliphatic group having 6 to 24 carbon atoms in the molecule. The chain aliphatic group may be a straight chain or a branched chain, and may be a saturated aliphatic group or an unsaturated aliphatic group. A saturated chain aliphatic group is preferable, and an alkyl group is more preferable, from the viewpoint of suppressing the generation of black streaks during molding and having a dispersing action on the polycarbonate resin. The chain aliphatic group preferably has 8 to 22, more preferably 10 to 22, and even more preferably 12 to 22 carbon atoms. The chain aliphatic group may have a substituent such as a hydroxyl group.

アミド化合物(e1)のうち、分子内に1つのアミド基を有するアミド化合物(以下「モノアミド」ともいう)としては、下記一般式(e1−a)で表される化合物が好ましい。

上記式中、R11は炭素数6〜24の鎖状脂肪族基である。R12は、水素原子、又は炭素数6〜24の鎖状脂肪族基である。鎖状脂肪族基の好ましい態様は、前記と同じであり、水酸基等の置換基を有していてもよい。
Among the amide compounds (e1), the amide compound having one amide group in the molecule (hereinafter, also referred to as “monoamide”) is preferably a compound represented by the following general formula (e1-a).

In the above formula, R 11 is a chain aliphatic group having 6 to 24 carbon atoms. R 12 is a hydrogen atom or a chain aliphatic group having 6 to 24 carbon atoms. The preferred embodiment of the chain aliphatic group is the same as described above, and may have a substituent such as a hydroxyl group.

上記一般式(e1−a)で表される化合物としては、脂肪酸モノアミド、及び、該脂肪酸モノアミドのアミド水素を炭素数6〜24の鎖状脂肪族基で置換したモノアミド(鎖状脂肪族基置換型脂肪酸モノアミド)が挙げられる。上記の中でも、脂肪酸モノアミドが好ましい。
脂肪酸モノアミドの具体例としては、カプリル酸アミド、カプリン酸アミド、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド、ヒドロキシステアリン酸アミド、12−ヒドロキシステアリン酸アミド、ベヘン酸アミド、モンタン酸アミド、ウンデシレン酸アミド、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リノール酸アミド等が挙げられる。
Examples of the compound represented by the general formula (e1-a) include fatty acid monoamide and monoamide (chain aliphatic group substitution) in which the amide hydrogen of the fatty acid monoamide is substituted with a chain aliphatic group having 6 to 24 carbon atoms. Type fatty acid monoamide). Among the above, fatty acid monoamide is preferable.
Specific examples of the fatty acid monoamide include caprylic acid amide, capric acid amide, lauric acid amide, myristic acid amide, palmitic acid amide, stearic acid amide, hydroxystearic acid amide, 12-hydroxystearic acid amide, bechenic acid amide, and montanic acid. Examples thereof include amides, undecylene acid amides, oleic acid amides, erucic acid amides, and linoleic acid amides.

鎖状脂肪族基置換型脂肪酸モノアミドの具体例としては、N−ラウリルラウリン酸アミド、N−パルミチルパルミチン酸アミド、N−ステアリルステアリン酸アミド、N−ベヘニルベヘン酸アミド、N−オレイルオレイン酸アミド、N−ステアリルオレイン酸アミド、N−オレイルステアリン酸アミド、N−ステアリルエルカ酸アミド、N−オレイルパルミチン酸アミド、メチロースステアリン酸アミド、メチロースベヘン酸アミド、N−ステアリル−12−ヒドロキシステアリン酸アミド、N−オレイル−12−ヒドロキシステアリン酸アミド等が挙げられる。 Specific examples of the chain aliphatic group-substituted fatty acid monoamide include N-lauryl lauric acid amide, N-palmityl palmitate amide, N-stearyl stealic acid amide, N-behenyl behenic acid amide, and N-oleyl oleic acid amide. N-stearyl oleic acid amide, N-oleyl stealic acid amide, N-stearyl erucate amide, N-oleyl palmitate amide, methylose stearic acid amide, methylose behenic acid amide, N-stearyl-12-hydroxystearic acid amide, N -Oleyl-12-hydroxystearic acid amide and the like.

アミド化合物(e1)のうち、分子内に2つのアミド基を有する化合物としては、下記一般式(e1−b)又は(e1−c)のいずれかで表される化合物が好ましく、一般式(e1−b)で表される化合物がより好ましい。 Among the amide compounds (e1), the compound having two amide groups in the molecule is preferably a compound represented by either the following general formula (e1-b) or (e1-c), and the general formula (e1). The compound represented by −b) is more preferable.

上記式中、R13及びR14はそれぞれ独立に、水酸基を有していてもよい炭素数6〜24の鎖状脂肪族基である。Z1は、炭素数1〜12の2価の基である。
鎖状脂肪族基の好ましい態様は、前記と同じであり、水酸基等の置換基を有していてもよい。R13及びR14は互いに同一でも異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
1の炭素数は、好ましくは1〜8、より好ましくは2〜6、更に好ましくは2〜4である。Z1は鎖状脂肪族基、脂環式構造含有基、及び芳香環含有基のいずれでもよいが、鎖状脂肪族基であることが好ましく、アルキレン基であることがより好ましい。
In the above formula, R 13 and R 14 are each independently a chain aliphatic group having 6 to 24 carbon atoms which may have a hydroxyl group. Z 1 is a divalent group having 1 to 12 carbon atoms.
The preferred embodiment of the chain aliphatic group is the same as described above, and may have a substituent such as a hydroxyl group. R 13 and R 14 may be the same or different from each other, but are preferably the same.
The carbon number of Z 1 is preferably 1 to 8, more preferably 2 to 6, and even more preferably 2 to 4. Z 1 may be any of a chain aliphatic group, an alicyclic structure-containing group, and an aromatic ring-containing group, but it is preferably a chain aliphatic group, and more preferably an alkylene group.

上記式中、R15及びR16はそれぞれ独立に、炭素数6〜24の鎖状脂肪族基である。Z2は、炭素数1〜12の2価の基である。
鎖状脂肪族基の好ましい態様は、前記と同じであり、水酸基等の置換基を有していてもよい。R15及びR16は互いに同一でも異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
2の好ましい態様は、前記Z1と同じである。
In the above formula, R 15 and R 16 are independently chain aliphatic groups having 6 to 24 carbon atoms. Z 2 is a divalent group having 1 to 12 carbon atoms.
The preferred embodiment of the chain aliphatic group is the same as described above, and may have a substituent such as a hydroxyl group. R 15 and R 16 may be the same or different from each other, but are preferably the same.
A preferred embodiment of Z 2 is the same as that of Z 1.

一般式(e1−b)で表される化合物の具体例としては、脂肪酸ビスアミドが挙げられ、例えば、メチレンビスカプリル酸アミド、メチレンビスカプリン酸アミド、メチレンビスラウリン酸アミド、メチレンビスミリスチン酸アミド、メチレンビスパルミチン酸アミド、メチレンビスステアリン酸アミド、メチレンビスイソステアリン酸アミド、メチレンビスベヘン酸アミド、メチレンビスオレイン酸アミド、メチレンビスエルカ酸アミド、エチレンビスカプリル酸アミド、エチレンビスカプリン酸アミド、エチレンビスラウリン酸アミド、エチレンビスミリスチン酸アミド、エチレンビスパルミチン酸アミド、エチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビスイソステアリン酸アミド、エチレンビスベヘン酸アミド、エチレンビスオレイン酸アミド、エチレンビスエルカ酸アミド、ブチレンビスステアリン酸アミド、ブチレンビスベヘン酸アミド、ブチレンビスオレイン酸アミド、ブチレンビスエルカ酸アミド、ヘキサメチレンビスステアリン酸アミド、ヘキサメチレンビスベヘン酸アミド、ヘキサメチレンビスオレイン酸アミド、ヘキサメチレンビスエルカ酸アミド、m−キシリレンビスステアリン酸アミド、m−キシリレンビス−12−ヒドロキシステアリン酸アミド、p−キシリレンビスステアリン酸アミド、p−フェニレンビスステアリン酸アミド、メチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド、エチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド、ブチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド、ヘキサメチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド等が挙げられる。 Specific examples of the compound represented by the general formula (e1-b) include fatty acid stearic acid amide, and examples thereof include methylene biscaprylic acid amide, methylene biscapric acid amide, methylene bislauric acid amide, methylene bismyristic acid amide, and the like. Methylenebis palmitate amide, methylene bisstearic acid amide, methylenebis isostearic acid amide, methylene bisbechenic acid amide, methylene bisoleic acid amide, methylene biserucate amide, ethylene biscaprylic acid amide, ethylene biscapric acid amide, ethylene bis Lauric acid amide, ethylene bismyristic acid amide, ethylene bispalmitic acid amide, ethylene bisstearic acid amide, ethylene bisisostearic acid amide, ethylene bisbechenic acid amide, ethylene bisoleic acid amide, ethylene bisercaic acid amide, butylene bisstearic acid Amido, butylene bisbechenic acid amide, butylene bisoleic acid amide, butylene bisercaic acid amide, hexamethylene bisstearic acid amide, hexamethylene bisbechenic acid amide, hexamethylene bisoleic acid amide, hexamethylene biserucate amide, m- Xylylenebis stearic acid amide, m-xylylenebis-12-hydroxystearic acid amide, p-xylylenebis stearic acid amide, p-phenylene bisstearic acid amide, methylenebishydroxystearic acid amide, ethylenebishydroxystearic acid amide, butylene Examples thereof include bishydroxystearic acid amide and hexamethylene bishydroxystearic acid amide.

一般式(e1−c)で表される化合物の具体例としては、N,N’−ジステアリルアジピン酸アミド、N,N’−ジステアリルセバシン酸アミド、N,N’−ジオレイルアジピン酸アミド、N,N’−ジオレイルセバシン酸アミド、N,N’−ジステアリルイソフタル酸アミド、N,N’−ジステアリルテレフタル酸アミド等が挙げられる。 Specific examples of the compound represented by the general formula (e1-c) include N, N'-distearyl adipate amide, N, N'-distearyl sebacic acid amide, and N, N'-dioreyl adipic acid amide. , N, N'-diorail sebacic acid amide, N, N'-distearyl isophthalic acid amide, N, N'-distearyl terephthalic acid amide and the like.

アミド化合物(e1)のうち、分子内に3つ以上のアミド基を有する化合物としては、ジカルボン酸、ジアミン、及び、炭素数6〜24の鎖状脂肪族基を有するモノカルボン酸又はモノアミンとの重縮合物が好ましい例として挙げられる。炭素数6〜24の鎖状脂肪族基の好ましい態様は前記と同じであり、水酸基等の置換基を有していてもよい。 Among the amide compounds (e1), the compound having three or more amide groups in the molecule includes a dicarboxylic acid, a diamine, and a monocarboxylic acid or a monoamine having a chain aliphatic group having 6 to 24 carbon atoms. A polycondensate is a preferred example. The preferred embodiment of the chain aliphatic group having 6 to 24 carbon atoms is the same as described above, and may have a substituent such as a hydroxyl group.

上記アミド化合物(e1)の中でも、本発明の効果の点から、前記一般式(e1−a)、前記一般式(e1−b)、及び前記一般式(e1−c)で表される化合物からなる群から選ばれる1種以上のアミド化合物がより好ましく、前記一般式(e1−b)で表される化合物が更に好ましく、エチレンビスステアリン酸アミドが更に好ましい。またアミド化合物(e1)の中でも、融点が100℃以上、好ましくは150℃以上の化合物は、ポリカーボネート系樹脂組成物の成形温度への適性が高いため好ましい。
上記アミド化合物(e1)の市販品としては、「ライトアマイドWH−255」(共栄社化学(株)製、N,N’−エチレンビスステアロアマイド〔エチレンビスステアリン酸アミド〕)、「アマイドAP−1」(日本化成(株)製、ステアリン酸アミド)、「スリパックスE」(日本化成(株)製、エチレンビスステアリン酸アミド)、「スリパックスH」(日本化成(株)製、エチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド)等が挙げられる。
Among the amide compounds (e1), from the viewpoint of the effect of the present invention, from the compounds represented by the general formula (e1-a), the general formula (e1-b), and the general formula (e1-c). One or more amide compounds selected from the above group are more preferable, the compound represented by the general formula (e1-b) is further preferable, and ethylene bisstearic acid amide is further preferable. Among the amide compounds (e1), a compound having a melting point of 100 ° C. or higher, preferably 150 ° C. or higher is preferable because it has high suitability for the molding temperature of the polycarbonate resin composition.
Commercially available products of the amide compound (e1) include "Light Amide WH-255" (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., N, N'-ethylene bisstearoamide [ethylene bisstearic acid amide]) and "Amide AP-". 1 "(Nihon Kasei Co., Ltd., stearic acid amide)," Slipax E "(Nihon Kasei Co., Ltd., ethylene bisstearic acid amide)," Slipax H "(Nihon Kasei Co., Ltd., ethylene bishydroxystearic) Acid amide) and the like.

<イミド化合物(e2)>
本発明に用いるイミド化合物(e2)としては、カルボジイミド化合物が好ましい。カルボジイミド化合物は分子内に少なくとも1つのカルボジイミド基を有する化合物であり、分子内にカルボジイミド基を1つ有するモノカルボジイミド化合物、分子内にカルボジイミド基を2つ以上有するポリカルボジイミド化合物が挙げられる。樹脂組成物の成形時の黒スジ発生を抑制する観点からは、ポリカルボジイミド化合物が好ましい。
上記カルボジイミド化合物としては、脂肪族カルボジイミド化合物、芳香族カルボジイミド化合物、環状カルボジイミド化合物、及び、イソシアネート化合物の一部をカルボジイミド化させた化合物(以下、「カルボジイミド変性化合物」ともいう)等が挙げられる。
<Imide compound (e2)>
As the imide compound (e2) used in the present invention, a carbodiimide compound is preferable. The carbodiimide compound is a compound having at least one carbodiimide group in the molecule, and examples thereof include a monocarbodiimide compound having one carbodiimide group in the molecule and a polycarbodiimide compound having two or more carbodiimide groups in the molecule. A polycarbodiimide compound is preferable from the viewpoint of suppressing the generation of black streaks during molding of the resin composition.
Examples of the carbodiimide compound include an aliphatic carbodiimide compound, an aromatic carbodiimide compound, a cyclic carbodiimide compound, and a compound in which a part of the isocyanate compound is carbodiimided (hereinafter, also referred to as “carbodiimide-modified compound”).

脂肪族モノカルボジイミド化合物の具体例としては、ジイソプロピルカルボジイミド、ジオクチルデシルカルボジイミド、ジシクロヘキシルカルボジイミド、N,N’−ジオクチルデシルカルボジイミド等が挙げられる。
脂肪族ポリカルボジイミドの具体例としては、エチレンビス(ジシクロヘキシルカルボジイミド)、ヘキサメチレンビス(ジシクロヘキシルカルボジイミド)、ポリ(ジイソプロピルカルボジイミド)、ポリ(1,6−ヘキサメチレンカルボジイミド)、ポリ(4,4’−メチレンビスシクロヘキシルカルボジイミド)、ポリ(1,3−シクロヘキシレンカルボジイミド)、ポリ(1,4−シクロヘキシレンカルボジイミド)等が挙げられる。
Specific examples of the aliphatic monocarbodiimide compound include diisopropylcarbodiimide, dioctyldecylcarbodiimide, dicyclohexylcarbodiimide, N, N'-dioctyldecylcarbodiimide and the like.
Specific examples of the aliphatic polycarbodiimide include ethylenebis (dicyclohexylcarbodiimide), hexamethylenebis (dicyclohexylcarbodiimide), poly (diisopropylcarbodiimide), poly (1,6-hexamethylenecarbodiimide), and poly (4,4'-methylene). Biscyclohexylcarbodiimide), poly (1,3-cyclohexylenecarbodiimide), poly (1,4-cyclohexylenecarbodiimide) and the like.

芳香族モノカルボジイミド化合物の具体例としては、ジ−p−クロロフェニルカルボジイミド、ジ−o−クロロフェニルカルボジイミド、ジ−3,4−ジクロロフェニルカルボジイミド、ジ−2,5−ジクロロフェニルカルボジイミド、2,6,2’,6’−テトライソプロピルジフェニルカルボジイミド、N,N’−ジフェニルカルボジイミド、N,N’−ジ−o−トルイルカルボジイミド、N,N’−ジ−2,6−ジメチルフェニルカルボジイミド、N−トルイル−N’−シクロヘキシルカルボジイミド、N,N’−ビス(2,6−ジイソプロピルフェニル)カルボジイミド、N,N’−ジ−2,6−ジ−tert−ブチルフェニルカルボジイミド、N−トルイル−N’−フェニルカルボジイミド、N,N’−ジ−p−ニトロフェニルカルボジイミド、N,N’−ジ−p−アミノフェニルカルボジイミド、N,N’−ジ−p−ヒドロキシフェニルカルボジイミド、N,N’−ジ−o−トルイルカルボジイミド、N,N’−ジ−p−トルイルカルボジイミド、N,N’−ベンジルカルボジイミド、N−オクタデシル−N’−フェニルカルボジイミド、N−ベンジル−N’−フェニルカルボジイミド、N−オクタデシル−N’−トリルカルボジイミド、N−シクロヘキシル−N’−トリルカルボジイミド、N−フェニル−N’−トリルカルボジイミド、N−ベンジル−N’−トリルカルボジイミド、N,N’−ジ−o−エチルフェニルカルボジイミド、N,N’−ジ−p−エチルフェニルカルボジイミド、N,N’−ジ−o−イソプロピルフェニルカルボジイミド、N,N’−ジ−p−イソプロピルフェニルカルボジイミド、N,N’−ジ−o−イソブチルフェニルカルボジイミド、N,N’−ジ−p−イソブチルフェニルカルボジイミド、N,N’−ジ−2,6−ジエチルフェニルカルボジイミド、N,N’−ジ−2−エチル−6−イソプロピルフェニルカルボジイミド、N,N’−ジ−2−イソブチル−6−イソプロピルフェニルカルボジイミド、N,N’−ジ−2,4,6−トリメチルフェニルカルボジイミド、N,N’−ジ−2,4,6−トリイソプロピルフェニルカルボジイミド、N,N’−ジ−2,4,6−トリイソブチルフェニルカルボジイミド等が挙げられる。 Specific examples of aromatic monocarbodiimide compounds include di-p-chlorophenylcarbodiimide, di-o-chlorophenylcarbodiimide, di-3,4-dichlorophenylcarbodiimide, di-2,5-dichlorophenylcarbodiimide, 2,6,2', 6'-tetraisopropyldiphenylcarbodiimide, N, N'-diphenylcarbodiimide, N, N'-di-o-toluyl carbodiimide, N, N'-di-2,6-dimethylphenylcarbodiimide, N-toluyl-N'- Cyclohexylcarbodiimide, N, N'-bis (2,6-diisopropylphenyl) carbodiimide, N, N'-di-2,6-di-tert-butylphenylcarbodiimide, N-toluyl-N'-phenylcarbodiimide, N, N'-di-p-nitrophenylcarbodiimide, N, N'-di-p-aminophenylcarbodiimide, N, N'-di-p-hydroxyphenylcarbodiimide, N, N'-di-o-toluyl carbodiimide, N , N'-di-p-toluyl carbodiimide, N, N'-benzyl carbodiimide, N-octadecyl-N'-phenylcarbodiimide, N-benzyl-N'-phenylcarbodiimide, N-octadecil-N'-tolylcarbodiimide, N -Cyclohexyl-N'-tolylcarbodiimide, N-phenyl-N'-tolylcarbodiimide, N-benzyl-N'-tolylcarbodiimide, N, N'-di-o-ethylphenylcarbodiimide, N, N'-di-p -Ethylphenylcarbodiimide, N, N'-di-o-isopropylphenylcarbodiimide, N, N'-di-p-isopropylphenylcarbodiimide, N, N'-di-o-isobutylphenylcarbodiimide, N, N'-di -P-isobutylphenylcarbodiimide, N, N'-di-2,6-diethylphenylcarbodiimide, N, N'-di-2-ethyl-6-isopropylphenylcarbodiimide, N, N'-di-2-isobutyl- 6-Isopropylphenylcarbodiimide, N, N'-di-2,4,6-trimethylphenylcarbodiimide, N, N'-di-2,4,6-triisopropylphenylcarbodiimide, N, N'-di-2, Examples thereof include 4,6-triisobutylphenylcarbodiimide.

芳香族ポリカルボジイミド化合物の具体例としては、p−フェニレンビス(o−トルイルカルボジイミド)、p−フェニレンビス(シクロヘキシルカルボジイミド)、p−フェニレンビス(p−クロロフェニルカルボジイミド)、エチレンビス(ジフェニルカルボジイミド)、ポリ(4,4’−ジフェニルメタンカルボジイミド)、ポリ(3,3’−ジメチル−4,4’−ジフェニルメタンカルボジイミド)、ポリ(ナフチレンカルボジイミド)、ポリ(p−フェニレンカルボジイミド)、ポリ(m−フェニレンカルボジイミド)、ポリ(トリルカルボジイミド)、ポリ(メチル−ジイソプロピルフェニレンカルボジイミド)、ポリ(トリエチルフェニレンカルボジイミド)、ポリ(トリイソプロピルフェニレンカルボジイミド)等が挙げられる。 Specific examples of the aromatic polycarbodiimide compound include p-phenylenebis (o-toluyl carbodiimide), p-phenylenebis (cyclohexylcarbodiimide), p-phenylenebis (p-chlorophenylcarbodiimide), ethylenebis (diphenylcarbodiimide), and poly. (4,4'-diphenylmethanecarbodiimide), poly (3,3'-dimethyl-4,4'-diphenylmethanecarbodiimide), poly (naphthylene carbodiimide), poly (p-phenylene carbodiimide), poly (m-phenylene carbodiimide) , Poly (trilcarbodiimide), poly (methyl-diisopropylphenylene carbodiimide), poly (triethylphenylene carbodiimide), poly (triisopropylphenylene carbodiimide) and the like.

環状カルボジイミド化合物の環状構造は、カルボジイミド基(−N=C=N−)を1個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている。一つの環状構造中には、1個のカルボジイミド基のみを有する。環状構造中の原子数は好ましくは8〜50であり、より好ましくは10〜30、更に好ましくは10〜20である。ここで、環状構造中の原子数とは、環構造を直接構成する原子の数を意味し、例えば、8員環であれば8、50員環であれば50である。 The cyclic structure of the cyclic carbodiimide compound has one carbodiimide group (-N = C = N-), and its primary nitrogen and secondary nitrogen are bonded by a bonding group. One cyclic structure has only one carbodiimide group. The number of atoms in the cyclic structure is preferably 8 to 50, more preferably 10 to 30, and even more preferably 10 to 20. Here, the number of atoms in the cyclic structure means the number of atoms that directly constitute the ring structure, for example, 8 for an 8-membered ring and 50 for a 50-membered ring.

環状構造としては、下記式(e2−a)で表される構造が挙げられる。

式中、Qは、2〜4価の有機基である。
Examples of the cyclic structure include a structure represented by the following formula (e2-a).

In the formula, Q is a 2- to tetravalent organic group.

イソシアネート化合物の一部をカルボジイミド化させた化合物(カルボジイミド変性化合物)に用いられるイソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート、ジメチルビフェニレンジイソシアネート、ジメトキシビフェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、テトラヒドロナフタレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ジメチルジシクロヘキシルメタンジイソシアネートなどが挙げられ、1種又は2種以上を組み合わせて用いられる。上記イソシアネート化合物の中では、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートを主成分とするイソシアネート化合物が好ましい。
イソシアネート化合物の一部をカルボジイミド化させる方法としては公知の方法を用いることができる。
Examples of the isocyanate compound used for the compound in which a part of the isocyanate compound is carbodiimided (carbodiimide-modified compound) include tolylene diisocyanate, phenylenedi isocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenyl polyisocyanate, and dimethyl biphenylenedi isocyanate. Dimethoxybiphenylenediocyanate, naphthalenediocyanate, tetrahydronaphthalenediocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, dodecamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydride xylylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, lysine diisocyanate , Isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, dimethyldicyclohexylmethane diisocyanate and the like, and one kind or a combination of two or more kinds is used. Among the above isocyanate compounds, an isocyanate compound containing 4,4'-diphenylmethane diisocyanate as a main component is preferable.
A known method can be used as a method for carbodiimidizing a part of the isocyanate compound.

カルボジイミド変性化合物のカルボジイミド基/イソシアネート基のモル比は0.01〜0.5の範囲であるものが好ましく使用でき、0.1〜0.2の範囲のものがより好ましい。カルボジイミド基/イソシアネート基のモル比が0.01以上のものを使用することで、耐加水分解剤としての効果を発現し、樹脂組成物の成形時の黒スジ発生を抑制できる。 The molar ratio of the carbodiimide group / isocyanate group of the carbodiimide-modified compound is preferably in the range of 0.01 to 0.5, and more preferably in the range of 0.1 to 0.2. By using a carbodiimide group / isocyanate group having a molar ratio of 0.01 or more, the effect as a hydrolysis resistant agent can be exhibited, and the generation of black streaks during molding of the resin composition can be suppressed.

イミド化合物(e2)は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。上記の中でも、脂肪族カルボジイミドが好ましく、耐加水分解剤としての効果の点から、脂肪族ポリカルボジイミドがより好ましい。 The imide compound (e2) may be used alone or in combination of two or more. Among the above, an aliphatic carbodiimide is preferable, and an aliphatic polycarbodiimide is more preferable from the viewpoint of the effect as a hydrolysis resistant agent.

<エポキシ化合物(e3)>
本発明に用いるエポキシ化合物(e3)は、分子内に少なくとも1つのエポキシ基を有する化合物であればよい。当該エポキシ化合物(e3)としては、グリシジルエーテル化合物、グリシジルエステル化合物、グリシジルアミン化合物、グリシジルイミド化合物、環状エポキシ化合物、及びエポキシ化油等が挙げられる。
<Epoxy compound (e3)>
The epoxy compound (e3) used in the present invention may be a compound having at least one epoxy group in the molecule. Examples of the epoxy compound (e3) include glycidyl ether compound, glycidyl ester compound, glycidyl amine compound, glycidyl imide compound, cyclic epoxy compound, and epoxidized oil.

グリシジルエーテル化合物としては、ブチルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、o−フェニルフェニルグリシジルエーテル、エチレンオキシドラウリルアルコールグリシジルエーテル、エチレンオキシドフェノールグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホンなどのビスフェノール類とエピクロロヒドリンとの縮合反応から得られるビスフェノールAジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ビスフェノールFジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ビスフェノールSジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂などを挙げることができる。 Examples of the glycidyl ether compound include butyl glycidyl ether, stearyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, o-phenylphenyl glycidyl ether, ethylene oxide lauryl alcohol glycidyl ether, ethylene oxide phenol glycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, and polyethylene glycol diglycidyl. Ether, propylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, polytetramethylene glycol diglycidyl ether, cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, glycerol triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, pentaerythritol With bisphenols such as polyglycidyl ether, 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) methane, bis (4-hydroxyphenyl) sulfone and epichlorohydrin Examples thereof include bisphenol A diglycidyl ether type epoxy resin, bisphenol F diglycidyl ether type epoxy resin, and bisphenol S diglycidyl ether type epoxy resin obtained from the condensation reaction of bisphenol A.

グリシジルエステル化合物としては、安息香酸グリシジルエステル、p−トルイル酸グリシジルエステル、シクロヘキサンカルボン酸グリシジルエステル、ステアリン酸グリシジルエステル、ラウリン酸グリシジルエステル、パルミチン酸グリシジルエステル、バーサティック酸グリシジルエステル、オレイン酸グリシジルエステル、リノール酸グリシジルエステル、リノレン酸グリシジルエステル、テレフタル酸ジグリシジルエステル、イソフタル酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ナフタレンジカルボン酸ジグリシジルエステル、ビ安息香酸ジグリシジルエステル、メチルテレフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、シクロヘキサンジカルボン酸ジグリシジルエステル、アジピン酸ジグリシジルエステル、コハク酸ジグリシジルエステル、セバシン酸ジグリシジルエステル、ドデカンジオン酸ジグリシジルエステル、オクタデカンジカルボン酸ジグリシジルエステル、トリメリット酸トリグリシジルエステル、ピロメリット酸テトラグリシジルエステルなどを挙げることができる。 Examples of the glycidyl ester compound include benzoic acid glycidyl ester, p-toluic acid glycidyl ester, cyclohexanecarboxylic acid glycidyl ester, stearate glycidyl ester, laurate glycidyl ester, palmitate glycidyl ester, versatic acid glycidyl ester, and oleate glycidyl ester. Linol acid glycidyl ester, linolenic acid glycidyl ester, terephthalic acid diglycidyl ester, isophthalic acid diglycidyl ester, phthalic acid diglycidyl ester, naphthalenedicarboxylic acid diglycidyl ester, bibenzoic acid diglycidyl ester, methylterephthalic acid diglycidyl ester, hexa Hydrophthalic acid diglycidyl ester, tetrahydrophthalic acid diglycidyl ester, cyclohexanedicarboxylic acid diglycidyl ester, adipate diglycidyl ester, succinic acid diglycidyl ester, sebacic acid diglycidyl ester, dodecandioic acid diglycidyl ester, octadecanedicarboxylic acid di Examples thereof include glycidyl ester, trimellitic acid triglycidyl ester, and pyromellitic acid tetraglycidyl ester.

グリシジルアミン化合物としては、テトラグリシジルアミノジフェニルメタン、トリグリシジル−p−アミノフェノール、トリグリシジル−m−アミノフェノール、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルトルイジン、N,N,N’,N’−テトラグリシジルメタキシリレンジアミン、ジグリシジルトリブロモアニリン、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサン、トリグリシジルシアヌレート、トリグリシジルイソシアヌレートなどを挙げることができる。 Examples of the glycidyl amine compound include tetraglycidyl aminodiphenylmethane, triglycidyl-p-aminophenol, triglycidyl-m-aminophenol, diglycidyl aniline, diglycidyl toluidine, N, N, N', N'-tetraglycidyl metaxylylene. Examples thereof include amines, diglycidyl tribromoaniline, tetraglycidyl bisaminomethylcyclohexane, triglycidyl cyanurate, and triglycidyl isocyanurate.

グリシジルイミド化合物としては、N−グリシジルフタルイミド、N−グリシジル−4−メチルフタルイミド、N−グリシジル−4,5−ジメチルフタルイミド、N−グリシジル−3−メチルフタルイミド、N−グリシジル−3,6−ジメチルフタルイミド、N−グリシジル−4−エトキシフタルイミド、N−グリシジル−4−クロロフタルイミド、N−グリシジル−4,5−ジクロロフタルイミド、N−グリシジル−3,4,5,6−テトラブロモフタルイミド、N−グリシジル−4−n−ブチル−5−ブロモフタルイミド、N−グリシジルスクシンイミド、N−グリシジルヘキサヒドロフタルイミド、N−グリシジル−1,2,3,6−テトラヒドロフタルイミド、N−グリシジルマレインイミド、N−グリシジル−α,β−ジメチルスクシンイミド、N−グリシジル−α−エチルスクシンイミド、N−グリシジル−α−プロピルスクシンイミドなどを挙げることができる。 Examples of the glycidylimide compound include N-glycidylphthalimide, N-glycidyl-4-methylphthalimide, N-glycidyl-4,5-dimethylphthalimide, N-glycidyl-3-methylphthalimide, and N-glycidyl-3,6-dimethylphthalimide. , N-glycidyl-4-ethoxyphthalimide, N-glycidyl-4-chlorophthalimide, N-glycidyl-4,5-dichlorophthalimide, N-glycidyl-3,4,5,6-tetrabromophthalimide, N-glycidyl- 4-n-butyl-5-bromophthalimide, N-glycidyl succinimide, N-glycidyl hexahydrophthalimide, N-glycidyl-1,2,3,6-tetrahydrophthalimide, N-glycidyl maleinimide, N-glycidyl-α, Examples thereof include β-dimethylsuccinimide, N-glycidyl-α-ethylsuccinimide, and N-glycidyl-α-propylsuccinimide.

環状エポキシ化合物としては、3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビニルシクロヘキセンジエポキシド、N−メチル−4,5−エポキシシクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸イミド、N−エチル−4,5−エポキシシクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸イミド、N−フェニル−4,5−エポキシシクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸イミド、N−ナフチル−4,5−エポキシシクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸イミド、N−トリル−3−メチル−4,5−エポキシシクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸イミドなどを挙げることができる。これらの中でも、3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートが好ましい。 As the cyclic epoxy compound, 3', 4'-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, vinylcyclohexenediepoxide, N-methyl-4,5- Epoxidecyclohexane-1,2-dicarboxylic acid imide, N-ethyl-4,5-epoxycyclohexane-1,2-dicarboxylic acid imide, N-phenyl-4,5-epoxycyclohexane-1,2-dicarboxylic acid imide, N Examples thereof include −naphthyl-4,5-epoxycyclohexane-1,2-dicarboxylic acidimide, and N-tolyl-3-methyl-4,5-epoxycyclohexane-1,2-dicarboxylic acidimide. Of these, 3', 4'-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate is preferable.

エポキシ化油としては、エポキシ化天然油、及びエポキシ化合成油を挙げることができる。エポキシ化天然油の具体例としては、エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油、エポキシ化菜種油、エポキシ化鯨油等が挙げられる。エポキシ化合成油の具体例としては、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジエポキシステアリル、エポキシ化脂肪酸ブチル等を挙げることができる。これらの中でも、エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油が、ポリカーボネート系樹脂との親和性が高く、耐加水分解性の効果も発現しやすい。 Examples of the epoxidized oil include epoxidized natural oil and epoxidized synthetic oil. Specific examples of the epoxidized natural oil include epoxidized soybean oil, epoxidized linseed oil, epoxidized rapeseed oil, and epoxidized whale oil. Specific examples of the epoxidized synthetic oil include diepoxystearyl epoxyhexahydrophthalate and butyl epoxidized fatty acid. Among these, epoxidized soybean oil and epoxidized linseed oil have a high affinity with polycarbonate-based resins and are likely to exhibit a hydrolysis-resistant effect.

エポキシ化合物(e3)は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。上記の中でも、エポキシ化合物(e3)としては、環状エポキシ化合物、又は、エポキシ化天然油及びエポキシ化合成油からなる群から選ばれる1種以上のエポキシ化油が好ましい。 The epoxy compound (e3) may be used alone or in combination of two or more. Among the above, as the epoxy compound (e3), a cyclic epoxy compound or one or more epoxidized oils selected from the group consisting of epoxidized natural oils and epoxidized synthetic oils are preferable.

<酸無水物(e4)>
本発明に用いる酸無水物(e4)は、分子内に少なくとも1つの酸無水物基を有する化合物であればよく、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸等を挙げることができる。更には、上記した化合物をモノマー単位として含む重合体等も挙げることができる。
<Acid anhydride (e4)>
The acid anhydride (e4) used in the present invention may be a compound having at least one acid anhydride group in the molecule, and examples thereof include succinic anhydride, maleic anhydride, and phthalic anhydride. Further, a polymer containing the above-mentioned compound as a monomer unit can also be mentioned.

<オキサゾリン化合物(e5)>
本発明に用いるオキサゾリン化合物(e5)は、分子内に少なくとも1つのオキサゾリン基を有する化合物であればよく、モノオキサゾリン、ビスオキサゾリン、及び、オキサゾリン基含有化合物をモノマー単位として含むポリオキサゾリン等を挙げることができる。
<Oxazoline compound (e5)>
The oxazoline compound (e5) used in the present invention may be a compound having at least one oxazoline group in the molecule, and examples thereof include monooxazoline, bisoxazoline, and polyoxazoline containing an oxazoline group-containing compound as a monomer unit. Can be done.

<オキサジン化合物(e6)>
本発明に用いるオキサジン化合物(e6)は、分子内に少なくとも1つのオキサジン基を有する化合物であればよく、モノオキサジン、ビスオキサジン、及び、オキサジン基含有化合物をモノマー単位として含むポリオキサジン等を挙げることができる。
<Oxazine compound (e6)>
The oxazine compound (e6) used in the present invention may be a compound having at least one oxazine group in the molecule, and examples thereof include monooxazine, bisoxazine, and polyoxazine containing an oxazine group-containing compound as a monomer unit. Can be done.

<ケテン化合物(e7)>
本発明に用いるケテン化合物(e7)としては、下記式で表されるケテン;

及び、下記式で表されるジケテン;

並びに、ケテンのβ炭素の置換基が一置換したアルドケテンや、二置換したケトケテン類等が挙げられる。
<Ketene compound (e7)>
The ketene compound (e7) used in the present invention includes ketene represented by the following formula;

And the diketene represented by the following formula;

Examples thereof include aldoketen in which the β-carbon substituent of ketene is mono-substituted, and keto-keten in which the β-carbon substituent is substituted.

上記耐加水分解剤は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、PC−POS共重合体の加水分解に起因する、樹脂組成物の成形時の黒スジ発生を抑制する観点から、耐加水分解剤はアミド化合物(e1)、イミド化合物(e2)及びエポキシ化合物(e3)からなる群から選ばれる1種以上が好ましく、アミド化合物(e1)及びエポキシ化合物(e3)からなる群から選ばれる1種以上がより好ましく、エポキシ化天然油、エポキシ化合成油、及び環状エポキシ化合物からなる群から選ばれる1種以上のエポキシ化合物(e3)であることが更に好ましい。 The above-mentioned hydrolysis resistant agent may be used alone or in combination of two or more. Above all, from the viewpoint of suppressing the generation of black streaks during molding of the resin composition due to the hydrolysis of the PC-POS copolymer, the hydrolysis resistant agents are the amide compound (e1), the imide compound (e2) and the epoxy compound. One or more selected from the group consisting of (e3) is preferable, and one or more selected from the group consisting of the amide compound (e1) and the epoxy compound (e3) is more preferable, and epoxidized natural oil, epoxidized synthetic oil, and More preferably, it is one or more epoxy compounds (e3) selected from the group consisting of cyclic epoxy compounds.

本発明のポリカーボネート系樹脂組成物に耐加水分解剤を配合する場合の配合量は、ポリカーボネート系樹脂組成物(S)100質量部に対して、好ましくは0.02質量部以上5.0質量部以下であり、より好ましくは0.05質量部以上1.0質量部以下、更に好ましくは0.1質量部以上0.5質量部以下である。耐加水分解剤の配合量がポリカーボネート系樹脂(A)100質量部に対して0.02質量部以上であれば、PC−POS共重合体の加水分解に起因する樹脂組成物の成形時の黒スジ発生をより効果的に抑制できる。また5.0質量部以下であれば、樹脂組成物の成形時にガスが発生し、金型付着するなどの不具合が生じず、経済性の面でも好ましい。
耐加水分解剤の配合量が0.05質量部以上であれば、一定の背圧にて成形された成形体の内部において発生する黒スジがより抑制されるため好ましく、さらに0.1質量部以上であれば、更に高い背圧で成形された成形体の内部において発生する黒スジもより抑制されるため更に好ましい。
When the hydrolysis resistant agent is blended with the polycarbonate resin composition of the present invention, the blending amount is preferably 0.02 parts by mass or more and 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polycarbonate resin composition (S). It is more preferably 0.05 part by mass or more and 1.0 part by mass or less, and further preferably 0.1 part by mass or more and 0.5 part by mass or less. When the blending amount of the hydrolysis resistant agent is 0.02 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polycarbonate resin (A), black during molding of the resin composition due to hydrolysis of the PC-POS copolymer The generation of streaks can be suppressed more effectively. Further, when the amount is 5.0 parts by mass or less, gas is generated during molding of the resin composition, and problems such as mold adhesion do not occur, which is preferable in terms of economy.
When the blending amount of the hydrolysis resistant agent is 0.05 parts by mass or more, black streaks generated inside the molded body molded under a constant back pressure are more suppressed, which is preferable, and further 0.1 parts by mass. The above is more preferable because the black streaks generated inside the molded body formed with a higher back pressure are further suppressed.

<酸化防止剤>
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、さらに酸化防止剤を含むことが好ましい。ポリカーボネート系樹脂組成物に酸化防止剤を配合することにより、ポリカーボネート系樹脂組成物の溶融時における酸化劣化を抑制することができ、酸化劣化による着色等を抑制することができる。酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤及び/又はフェノール系酸化防止剤等が好適に用いられ、リン系酸化防止剤がより好ましい。
<Antioxidant>
The polycarbonate-based resin composition of the present invention preferably further contains an antioxidant. By adding an antioxidant to the polycarbonate-based resin composition, it is possible to suppress oxidative deterioration of the polycarbonate-based resin composition at the time of melting, and it is possible to suppress coloring and the like due to oxidative deterioration. As the antioxidant, a phosphorus-based antioxidant and / or a phenol-based antioxidant and the like are preferably used, and a phosphorus-based antioxidant is more preferable.

リン系酸化防止剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルノニルホスファイト、ジフェニル(2−エチルヘキシル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、ジフェニルイソオクチルホスファイト、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルモノ(トリデシル)ホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、フェニルジ(トリデシル)ホスファイト、トリス(2−エチルヘキシル)ホスファイト、トリス(イソデシル)ホスファイト、トリス(トリデシル)ホスファイト、ジブチルハイドロジェンホスファイト、トリラウリルトリチオホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、4,4’−イソプロピリデンジフェノールドデシルホスファイト、4,4’−イソプロピリデンジフェノールトリデシルホスファイト、4,4’−イソプロピリデンジフェノールテトラデシルホスファイト、4,4’−イソプロピリデンジフェノールペンタデシルホスファイト、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニル)ジトリデシルホスファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリル−ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルビスフェノールAペンタエリスリトールジホスファイト、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスファイト、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ジ−トリデシルホスファイト−5−t−ブチルフェニル)ブタン、3,4,5,6−ジベンゾ−1,2−オキサホスファン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルブチルホスフィン、ジフェニルオクタデシルホスフィン、トリス(p−トリル)ホスフィン、トリス(p−ノニルフェニル)ホスフィン、トリス(ナフチル)ホスフィン、ジフェニル(ヒドロキシメチル)ホスフィン、ジフェニル(アセトキシメチル)ホスフィン、ジフェニル(β−エチルカルボキシエチル)ホスフィン、トリス(p−クロロフェニル)ホスフィン、トリス(p−フルオロフェニル)ホスフィン、ベンジルジフェニルホスフィン、ジフェニル(β−シアノエチル)ホスフィン、ジフェニル(p−ヒドロキシフェニル)ホスフィン、ジフェニル(1,4−ジヒドロキシフェニル)−2−ホスフィン、フェニルナフチルベンジルホスフィン等が挙げられる。 Examples of phosphorus-based antioxidants include triphenylphosphine, diphenylnonylphosphine, diphenyl (2-ethylhexyl) phosphine, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphine, and tris (nonylphenyl). Phosphite, diphenylisooctylphosphine, 2,2'-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octylphosphine, diphenylisodecylphosphine, diphenylmono (tridecyl) phosphine, phenyldiisodecylphosphine, Phenoldi (tridecyl) phosphine, tris (2-ethylhexyl) phosphine, tris (isodecyl) phosphine, tris (tridecyl) phosphine, dibutylhydrogenphosphine, trilauryltrithiophosphine, tetrakis (2,4-di-) t-Butylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, 4,4'-isopropyridene diphenol dodecylphosphine, 4,4'-isopropyridene diphenol tridecylphosphine, 4,4'-isopropyri Dendiphenol tetradecylphosphine, 4,4'-isopropyridene diphenol pentadecylphosphine, 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenyl) ditridecylphosphine, bis (2,4- Di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphine, bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphine, bis (nonylphenyl) pentaerythritol diphosphine, distearyl- Pentaerythritol diphosphine, phenylbisphenol A pentaerythritol diphosphine, tetraphenyldipropylene glycol diphosphine, 1,1,3-tris (2-methyl-4-di-tridecylphosphine-5-t-butyl) Phenyl) butane, 3,4,5,6-dibenzo-1,2-oxaphosphine, triphenylphosphine, diphenylbutylphosphine, diphenyloctadecylphosphine, tris (p-tolyl) phosphine, tris (p-nonylphenyl) phosphine , Tris (naphthyl) phosphine, diphenyl (hydroxymethyl) phosphine, diphenyl (acetoxymethyl) phosphine, diphenyl (β-ethylcarboxyethyl) phosphine, tris (p-chlorophenyl) phosphine, tris (p-full) Examples thereof include orophenyl) phosphine, benzyldiphenylphosphine, diphenyl (β-cyanoethyl) phosphine, diphenyl (p-hydroxyphenyl) phosphine, diphenyl (1,4-dihydroxyphenyl) -2-phosphine, and phenylnaphthylbenzylphosphine.

また、リン系酸化防止剤として、例えば、Irgafos168(BASFジャパン(株)製、商標)、Irgafos12(BASFジャパン(株)製、商標)、Irgafos38(BASFジャパン(株)製、商標)、アデカスタブ2112((株)ADEKA製、商標)、アデカスタブ C((株)ADEKA製、商標)、アデカスタブ 329K((株)ADEKA製、商標)、アデカスタブ PEP36((株)ADEKA製、商標)、JC263(城北化学工業(株)製、商標)、Sandstab P−EPQ(クラリアント社製、商標)、Weston618(GE社製、商標)、Weston619G(GE社製、商標)及びWeston 624(GE社製、商標)、Doverphos S−9228PC(Dover Chemical社製、商標)等の市販品を挙げることができる。 Further, as phosphorus-based antioxidants, for example, Irgafos168 (manufactured by BASF Japan Co., Ltd., trademark), Irgafos12 (manufactured by BASF Japan Co., Ltd., trademark), Irgafos38 (manufactured by BASF Japan Co., Ltd., trademark), Adecastab 2112 ( ADEKA Co., Ltd. (Trademark), Adecastab C (ADEKA Co., Ltd., trademark), Adecastab 329K (ADEKA Co., Ltd., trademark), Adecastab PEP36 (ADEKA Co., Ltd., trademark), JC263 (Johoku Chemical Industry Co., Ltd.) (Trademark), Sandstab P-EPQ (Clariant, trademark), Weston618 (GE, trademark), Weston619G (GE, trademark) and Weston 624 (GE, trademark), Doverphos S. Commercial products such as −9228PC (manufactured by Dover Chemical, trademark) can be mentioned.

フェノール系酸化防止剤としては、例えば、n−オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,2'−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕等のヒンダードフェノール類が挙げられる。
これら酸化防止剤の中では、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト等のペンタエリスリトールジホスファイト構造を持つものやトリフェニルホスフィンが好ましい。
Examples of the phenolic antioxidant include n-octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, and 2, , 2'-Methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] and other hindered phenols Can be mentioned.
Among these antioxidants, bis (2,6-di-tert-butyl4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite and the like Those having a pentaerythritol diphosphite structure and triphenylphosphine are preferable.

フェノール系酸化防止剤としては、例えば、Irganox1010(BASFジャパン(株)製、商標)、Irganox1076(BASFジャパン(株)製、商標)、Irganox1330(BASFジャパン(株)製、商標)、Irganox3114(BASFジャパン(株)製、商標)、Irganox3125(BASFジャパン(株)製、商標)、BHT(武田薬品工業(株)製、商標)、Cyanox1790(サイアナミド社製、商標)及びSumilizerGA−80(住友化学株式会社製、商標)等の市販品を挙げることができる。 Examples of the phenolic antioxidant include Irganox1010 (manufactured by BASF Japan Ltd., trademark), Irganox1076 (manufactured by BASF Japan Ltd., trademark), Irganox1330 (manufactured by BASF Japan Ltd., trademark), Irganox3114 (BASF Japan Ltd.). (Trademark), Irganox3125 (BASF Japan Ltd., trademark), BHT (Takeda Yakuhin Kogyo Co., Ltd., trademark), Cyanox1790 (Cyanamide, trademark) and Sumitomo Chemical Co., Ltd. Manufactured, trademark) and other commercially available products can be mentioned.

上記酸化防止剤は、1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物における酸化防止剤の配合量は、ポリカーボネート系樹脂組成物(S)100質量部に対して、好ましくは0.001質量部以上0.5質量部以下であり、好ましくは0.01質量部以上0.3質量部以下、より好ましくは0.05質量部以上0.3質量部以下である。ポリカーボネート系樹脂組成物(S)100質量部に対する酸化防止剤の量が上記範囲であれば、十分な酸化防止作用が得られ、かつ、成形時の金型汚染を抑制できる。
The above-mentioned antioxidant may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the antioxidant in the polycarbonate resin composition of the present invention is preferably 0.001 part by mass or more and 0.5 part by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polycarbonate resin composition (S). Is 0.01 part by mass or more and 0.3 part by mass or less, more preferably 0.05 part by mass or more and 0.3 part by mass or less. When the amount of the antioxidant with respect to 100 parts by mass of the polycarbonate resin composition (S) is within the above range, a sufficient antioxidant effect can be obtained and mold contamination during molding can be suppressed.

本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、前記各成分を上記割合で、更に必要に応じて用いられる各種任意成分を適当な割合で配合し、混練することにより得られる。
配合及び混練は、通常用いられている機器、例えば、リボンブレンダー、ドラムタンブラーなどで予備混合して、ヘンシェルミキサー、バンバリーミキサー、単軸スクリュー押出機、二軸スクリュー押出機、多軸スクリュー押出機及びコニーダ等を用いる方法で行うことができる。混練の際の加熱温度は、通常、240℃以上320℃以下の範囲で適宜選択される。この溶融混練成形としては、押出成形機、特に、ベント式の押出成形機の使用が好ましい。
The polycarbonate-based resin composition of the present invention can be obtained by blending each of the above components in the above proportions and further adding various optional components used as necessary in an appropriate proportion and kneading.
Formulation and kneading are performed by premixing with commonly used equipment such as ribbon blenders, drum tumblers, etc., and then Henschel mixers, Banbury mixers, single-screw screw extruders, twin-screw screw extruders, multi-screw screw extruders and This can be done by a method using a conider or the like. The heating temperature at the time of kneading is usually appropriately selected in the range of 240 ° C. or higher and 320 ° C. or lower. As this melt-kneading molding, it is preferable to use an extrusion molding machine, particularly a vent type extrusion molding machine.

白色顔料を含む本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、成形時の黒スジ等の外観不良の発生が抑制された白色成形品を提供することができる。黒スジは成形品を以下の条件で測色した際の明度L値の差「ΔL値」の平均値が大きいほど強く視認される。測色条件は以下の通りである。
<位置決め>
図1に示すように位置決めを行う。すなわち、後述する成形条件で成形した150mm×150mmの成形品上に、成形時の射出成形機のゲート位置からの樹脂の流れ方向に沿った端部を縦軸、該縦軸に直行する端部を横軸として、縦軸と横軸とが直交する点から順番に1cm(縦)×1cm(横)の間隔で15×15の位置割りを行う。
<測定条件>
光源としてD65光源を用い、視野角度10°で測定する。
<測定箇所>
位置割り後の横3×縦8の位置を基準点、横8×縦3から横8×縦14までの位置を測定対象位置とする。
<ΔL値>
測定対象位置のL値と基準点のL値の差をΔL値とし、このΔL値が0.18以下であることが好ましい。上記ΔL値はより好ましくは0.17以下、さらに好ましくは0.15以下である。
ポリカーボネート樹脂組成物からなる成形品のΔL値が上記範囲にあると、黒スジの発生が抑制された外観に優れる成形品を得ることができる。成形品上に形成され得る黒スジのイメージを図2に示す。本願においてはこの黒スジを抑制することができる。
The polycarbonate-based resin composition of the present invention containing a white pigment can provide a white molded product in which the occurrence of appearance defects such as black streaks during molding is suppressed. The black streaks are more visually recognized as the average value of the difference "ΔL value" of the brightness L values when the molded product is color-measured under the following conditions is larger. The color measurement conditions are as follows.
<Positioning>
Positioning is performed as shown in FIG. That is, on a 150 mm × 150 mm molded product molded under the molding conditions described later, the end portion along the resin flow direction from the gate position of the injection molding machine at the time of molding is the vertical axis, and the end portion orthogonal to the vertical axis. Is used as the horizontal axis, and 15 × 15 positioning is performed at intervals of 1 cm (vertical) × 1 cm (horizontal) in order from the point where the vertical axis and the horizontal axis are orthogonal to each other.
<Measurement conditions>
A D65 light source is used as a light source, and measurement is performed at a viewing angle of 10 °.
<Measurement point>
The position of 3 horizontal × 8 vertical after the position allocation is set as the reference point, and the position from 8 horizontal × 3 vertical to 8 × 14 vertical is the measurement target position.
<ΔL value>
The difference between the L value of the measurement target position and the L value of the reference point is defined as the ΔL value, and the ΔL value is preferably 0.18 or less. The ΔL value is more preferably 0.17 or less, still more preferably 0.15 or less.
When the ΔL value of the molded product made of the polycarbonate resin composition is within the above range, it is possible to obtain a molded product having an excellent appearance in which the generation of black streaks is suppressed. An image of black streaks that can be formed on the molded product is shown in FIG. In the present application, this black streak can be suppressed.

本発明のポリカーボネート系樹脂組成物の粘度平均分子量(Mv)は使用される用途や製品により、目的の分子量となるように適宜調整することができ、好ましくは12,000以上50,000以下、より好ましくは15,000以上30,000以下、更に好ましくは16,000以上25,000以下、更に好ましくは16,000以上22,000以下である。粘度平均分子量が12,000以上であれば、十分な成形品の強度を得ることができる。また粘度平均分子量が50,000以下であれば、流動性が低すぎず成形性が良好であり、熱劣化を起こさない温度で射出成形や押出成形を行うことができる。
上記粘度平均分子量(Mv)は上述した方法で求めることができる。
The viscosity average molecular weight (Mv) of the polycarbonate-based resin composition of the present invention can be appropriately adjusted so as to have the desired molecular weight depending on the intended use and product, preferably 12,000 or more and 50,000 or less. It is preferably 15,000 or more and 30,000 or less, more preferably 16,000 or more and 25,000 or less, and further preferably 16,000 or more and 22,000 or less. When the viscosity average molecular weight is 12,000 or more, sufficient strength of the molded product can be obtained. When the viscosity average molecular weight is 50,000 or less, the fluidity is not too low and the moldability is good, and injection molding or extrusion molding can be performed at a temperature that does not cause thermal deterioration.
The viscosity average molecular weight (Mv) can be determined by the method described above.

[成形品]
本発明の成形品は、上記本発明のポリカーボネート系樹脂組成物を含むものである。当該成形品は、上記の溶融混練成形機、又は、得られたペレットを原料として、射出成形法、射出圧縮成形法、押出成形法、ブロー成形法、プレス成形法、真空成形法及び発泡成形法等により製造することができる。特に、得られたペレットを用いて、射出成形法又は射出圧縮成形法により成形品を製造することが好ましい。
[Molding]
The molded product of the present invention contains the above-mentioned polycarbonate-based resin composition of the present invention. The molded product is an injection molding method, an injection compression molding method, an extrusion molding method, a blow molding method, a press molding method, a vacuum molding method and a foam molding method using the above melt-kneading molding machine or the obtained pellets as a raw material. It can be manufactured by such means. In particular, it is preferable to use the obtained pellets to produce a molded product by an injection molding method or an injection compression molding method.

ポリカーボネート系樹脂組成物を含む成形品の製造においては、製造過程における水分の混入を抑制し、成形時の黒スジ発生を抑制する観点から、ポリカーボネート系樹脂組成物の成形機内での滞留時間を短くするような条件で製造することが好ましい。射出成形法又は射出圧縮成形法による成形品の製造方法の好ましい態様は、例えば以下のとおりである。 In the production of molded products containing a polycarbonate-based resin composition, the residence time of the polycarbonate-based resin composition in the molding machine is shortened from the viewpoint of suppressing the mixing of water in the manufacturing process and suppressing the generation of black streaks during molding. It is preferable to manufacture under such conditions. A preferred embodiment of a method for producing a molded product by an injection molding method or an injection compression molding method is as follows, for example.

射出成形法又は射出圧縮成形法による成形品の製造においては、ポリカーボネート系樹脂組成物からなるペレットを、スクリューを備えた射出成形機によって溶融可塑化することが好ましい。黒スジ発生を抑制する観点から、成形機は低圧縮スクリュータイプのものが好ましく、スクリュー形状は、フルフライトスクリューが好ましい。
スクリュー背圧は、せん断発熱を抑え、樹脂組成物の圧縮を抑制して黒スジ発生を抑制する観点から、低い範囲に設定することが好ましい。背圧は使用装置等に応じて適宜選択でき、例えば、シリンダー内圧力を直圧制御できる電動式射出成形機で成形する場合は、2〜10MPa程度の範囲である(油圧式は、油圧シリンダー方式で調整されるため、この限りではない)。同様の観点から、スクリュー回転数もせん断速度が小さくなるように100rpmで実施することが望ましい。
In the production of a molded product by an injection molding method or an injection compression molding method, it is preferable that pellets made of a polycarbonate resin composition are melt-plasticized by an injection molding machine equipped with a screw. From the viewpoint of suppressing the generation of black streaks, the molding machine is preferably a low compression screw type, and the screw shape is preferably a full flight screw.
The screw back pressure is preferably set in a low range from the viewpoint of suppressing shear heat generation, suppressing compression of the resin composition, and suppressing black streaks. The back pressure can be appropriately selected according to the equipment used, etc. For example, when molding with an electric injection molding machine capable of direct pressure control of the cylinder pressure, the range is about 2 to 10 MPa (the hydraulic type is a hydraulic cylinder type). This is not the case because it is adjusted by. From the same viewpoint, it is desirable to carry out the screw rotation speed at 100 rpm so that the shear rate becomes small.

成形時の温度(シリンダー温度)は、ポリカーボネート系樹脂組成物を低粘度化して流れを平滑化する観点から、例えば230〜320℃に設定することが好ましい。
本発明の成形品の衝撃強度は、十分な衝撃特性を発揮する観点及び製造容易性の観点から、実施例に記載の方法で測定した−40℃におけるノッチ付Izodの値が、30〜100kJ/m2であることが好ましく、35〜80kJ/m2であることがより好ましく、40〜70kJ/m2であることが更に好ましく、45〜60kJ/m2であることが最も好ましい。
The temperature at the time of molding (cylinder temperature) is preferably set to, for example, 230 to 320 ° C. from the viewpoint of lowering the viscosity of the polycarbonate resin composition and smoothing the flow.
The impact strength of the molded product of the present invention is such that the value of notched Izod at −40 ° C. measured by the method described in Examples is 30 to 100 kJ / from the viewpoint of exhibiting sufficient impact characteristics and ease of manufacture. is preferably m 2, and more preferably from 35~80kJ / m 2, more preferably from 40~70kJ / m 2, and most preferably 45~60kJ / m 2.

本発明の成形品は、先に記載した通り、成形品を測色した際の明度L値の差「ΔL値」の平均値が好ましくは0.18以下、より好ましくは0.17以下、さらに好ましくは0.15以下と小さいため、黒スジの発生が抑制された、外観に優れる白色成形品である。 In the molded product of the present invention, as described above, the average value of the difference "ΔL value" of the brightness L values when the molded product is measured is preferably 0.18 or less, more preferably 0.17 or less, and further. Since it is preferably as small as 0.15 or less, it is a white molded product having an excellent appearance in which the generation of black streaks is suppressed.

本発明の成形品は、テレビ、ラジオカセット、ビデオカメラ、ビデオテープレコーダ、オーディオプレーヤー、DVDプレーヤー、エアコンディショナ、携帯電話、ディスプレイ、コンピュータ、レジスター、電卓、複写機、プリンター、ファクシミリ等の電気、電子機器用部品、該機器用筐体、照明器具内外装部品、車両内外装部品、食品トレーや食器に好適に用いることができる。特に、携帯電話、モバイルパソコン、デジタルカメラ、ビデオカメラ、電動工具などの筐体の材料として好適である。 The molded product of the present invention includes electricity for televisions, radio cassettes, video cameras, video tape recorders, audio players, DVD players, air conditioners, mobile phones, displays, computers, registers, calculators, copiers, printers, facsimiles, etc. It can be suitably used for parts for electronic devices, housings for the devices, interior / exterior parts for lighting equipment, interior / exterior parts for vehicles, food trays and tableware. In particular, it is suitable as a material for housings of mobile phones, mobile personal computers, digital cameras, video cameras, power tools and the like.

本発明の実施例を更に説明する。なお、本発明はこれらの例によって何ら限定されるものではない。なお、各例中の測定及び評価は以下に示す方法で行った。 Examples of the present invention will be further described. The present invention is not limited to these examples. The measurement and evaluation in each example were carried out by the methods shown below.

<クロロホーメート基濃度の測定>
塩素イオン濃度基準で、JIS−K8203:1994を参考とし、酸化/還元滴定、硝酸銀滴定を用いて測定した。
<Measurement of chlorohomet group concentration>
Measurement was performed using oxidation / reduction titration and silver nitrate titration with reference to JIS-K8203: 1994 based on the chlorine ion concentration.

<重量平均分子量(Mw)の測定>
重量平均分子量(Mw)は、展開溶媒としてテトラヒドロフランを用い、GPC〔カラム:TOSOH TSK−GEL MULTIPORE HXL−M(2本)+Shodex KF801(1本)、温度40℃、流速1.0mL/分、検出器:RI〕にて、標準ポリスチレン換算分子量(重量平均分子量:Mw)として測定した。
<Measurement of weight average molecular weight (Mw)>
The weight average molecular weight (Mw) was detected by using tetrahydrofuran as a developing solvent, GPC [column: TOSOH TSK-GEL MULTIPOLE HXL-M (2) + Shodex KF801 (1), temperature 40 ° C., flow velocity 1.0 mL / min. Instrument: RI] measured as a standard polystyrene-equivalent molecular weight (weight average molecular weight: Mw).

<ポリジメチルシロキサンの平均鎖長及び含有量>
NMR測定によって、ポリジメチルシロキサンのメチル基の積分値比から算出した。
1.ポリジメチルシロキサンの平均鎖長の定量方法
1H−NMR測定条件
NMR装置:(株)JEOL RESONANCE製 ECA500
プローブ:50TH5AT/FG2
観測範囲:−5〜15ppm
観測中心:5ppm
パルス繰り返し時間:9秒
パルス幅:45°
NMR試料管:5φ
サンプル量:30〜40mg
溶媒:重クロロホルム
測定温度:室温
積算回数:256回
アリルフェノール末端ポリジメチルシロキサンの場合
A:δ−0.02〜0.5付近に観測されるジメチルシロキサン部のメチル基の積分値
B:δ2.50〜2.75付近に観測されるアリルフェノールのメチレン基の積分値
ポリジメチルシロキサンの鎖長=(A/6)/(B/4)
オイゲノール末端ポリジメチルシロキサンの場合
A:δ−0.02〜0.5付近に観測されるジメチルシロキサン部のメチル基の積分値
B:δ2.40〜2.70付近に観測されるオイゲノールのメチレン基の積分値
ポリジメチルシロキサンの鎖長=(A/6)/(B/4)
<Average chain length and content of polydimethylsiloxane>
It was calculated from the integral value ratio of the methyl group of polydimethylsiloxane by NMR measurement.
1. 1. Method for quantifying the average chain length of polydimethylsiloxane
1 1 H-NMR measurement conditions NMR equipment: ECA500 manufactured by JEOL RESONANCE Co., Ltd.
Probe: 50TH5AT / FG2
Observation range: -5 to 15 ppm
Observation center: 5ppm
Pulse repetition time: 9 seconds Pulse width: 45 °
NMR sample tube: 5φ
Sample amount: 30-40 mg
Solvent: Heavy chloroform Measurement temperature: Room temperature Cumulative number: 256 times In the case of allylphenol-terminated polydimethylsiloxane A: Integrated value of the methyl group of the dimethylsiloxane part observed near δ-0.02-0.5 B: δ2. Integrated value of methyl group of allylphenol observed around 50 to 2.75 Chain length of polydimethylsiloxane = (A / 6) / (B / 4)
In the case of eugenol-terminated polydimethylsiloxane A: Integral value of the methyl group of the dimethylsiloxane part observed in the vicinity of δ-0.02-0.5 B: Methylene group of eugenol observed in the vicinity of δ2.40 to 2.70 Integral value of polydimethylsiloxane chain length = (A / 6) / (B / 4)

2.PC−PDMS共重合体中のポリジメチルシロキサン含有量の定量方法
例)アリルフェノール末端ポリジメチルシロキサンを共重合したPTBP末端ポリカーボネート中のポリジメチルシロキサン共重合量の定量方法
NMR装置:(株)JEOL RESONANCE製 ECA−500
プローブ:TH5 5φNMR試料管対応
観測範囲:−5〜15ppm
観測中心:5ppm
パルス繰り返し時間:9秒
パルス幅:45°
積算回数:256回
NMR試料管:5φ
サンプル量:30〜40mg
溶媒:重クロロホルム
測定温度:室温
A:δ1.5〜1.9付近に観測されるBPA部のメチル基の積分値
B:δ−0.02〜0.3付近に観測されるジメチルシロキサン部のメチル基の積分値
C:δ1.2〜1.4付近に観測されるp−tert−ブチルフェニル部のブチル基の積分値
a=A/6
b=B/6
c=C/9
T=a+b+c
f=a/T×100
g=b/T×100
h=c/T×100
TW=f×254+g×74.1+h×149
PDMS(wt%)=g×74.1/TW×100
2. 2. Quantification method of polydimethylsiloxane content in PC-PDMS copolymer Example) Quantification method of polydimethylsiloxane copolymerization amount in PTBP-terminal polycarbonate copolymerized with allylphenol-terminal polydimethylsiloxane NMR device: JEOL RESONANCE Co., Ltd. Made by ECA-500
Probe: TH5 5φ NMR sample tube compatible Observation range: -5 to 15 ppm
Observation center: 5ppm
Pulse repetition time: 9 seconds Pulse width: 45 °
Number of integrations: 256 times NMR sample tube: 5φ
Sample amount: 30-40 mg
Solvent: Heavy chloroform Measurement temperature: Room temperature A: Integrated value of methyl group of BPA part observed around δ1.5 to 1.9 B: Of dimethylsiloxane part observed around δ-0.02 to 0.3 Methyl group integrated value C: Integrated value of butyl group in p-tert-butylphenyl portion observed near δ1.2 to 1.4 a = A / 6
b = B / 6
c = C / 9
T = a + b + c
f = a / T × 100
g = b / T × 100
h = c / T × 100
TW = f × 254 + g × 74.1 + h × 149
PDMS (wt%) = g x 74.1 / TW x 100

<粘度平均分子量(Mv)の測定>
粘度平均分子量(Mv)は、ウベローデ型粘度計を用いて、20℃における塩化メチレン溶液(濃度:g/L)の粘度を測定し、これより極限粘度[η]を求め、次式(Schnell式)にて算出した。
<Measurement of viscosity average molecular weight (Mv)>
For the viscosity average molecular weight (Mv), the viscosity of the methylene chloride solution (concentration: g / L) at 20 ° C. was measured using an Ubbelohde viscometer, and the ultimate viscosity [η] was obtained from this, and the following formula (Schnell formula) was obtained. ).

合成例1:ポリカーボネートオリゴマーの合成
5.6質量%水酸化ナトリウム水溶液に、後から溶解するビスフェノールAに対して2000質量ppmの亜二チオン酸ナトリウムを加え、これにビスフェノールA濃度が13.5質量%になるようにビスフェノールAを溶解し、ビスフェノールAの水酸化ナトリウム水溶液を調製した。
このビスフェノールAの水酸化ナトリウム水溶液40L/hr、塩化メチレン15L/hrの流量で、ホスゲンを4.0kg/hrの流量で、内径6mm、管長30mの管型反応器に連続的に通した。管型反応器はジャケット部分を有しており、ジャケットに冷却水を通して反応液の温度を40℃以下に保った。
管型反応器を出た反応液は、後退翼を備えた内容積40Lのバッフル付き槽型反応器へ連続的に導入され、ここに更にビスフェノールAの水酸化ナトリウム水溶液2.8L/hr、25質量%水酸化ナトリウム水溶液0.07L/hr、水17L/hr、1質量%トリエチルアミン水溶液を0.64L/hr添加して反応を行った。槽型反応器から溢れ出る反応液を連続的に抜き出し、静置することで水相を分離除去し、塩化メチレン相を採取した。
このようにして得られたポリカーボネートオリゴマーは濃度318g/L、クロロホーメート基濃度0.75mol/Lであった。また、その重量平均分子量(Mw)は、1190であった。
Synthesis Example 1: Synthesis of polycarbonate oligomer To a 5.6% by mass sodium hydroxide aqueous solution, 2000 mass ppm of sodium dithionate is added to bisphenol A to be dissolved later, and the concentration of bisphenol A is 13.5 mass. Bisphenol A was dissolved so as to be%, and an aqueous sodium hydroxide solution of bisphenol A was prepared.
Phosgene was continuously passed through a tubular reactor having an inner diameter of 6 mm and a tube length of 30 m at a flow rate of 4.0 kg / hr at a flow rate of 40 L / hr of an aqueous sodium hydroxide solution of bisphenol A and 15 L / hr of methylene chloride. The tubular reactor has a jacket portion, and cooling water is passed through the jacket to keep the temperature of the reaction solution at 40 ° C. or lower.
The reaction solution leaving the tubular reactor was continuously introduced into a tank reactor with a baffle having an internal volume of 40 L equipped with swept blades, and further, an aqueous sodium hydroxide solution of bisphenol A 2.8 L / hr, 25. The reaction was carried out by adding 0.07 L / hr of a mass% sodium hydroxide aqueous solution, 17 L / hr of water, and 0.64 L / hr of a 1 mass% triethylamine aqueous solution. The reaction solution overflowing from the tank reactor was continuously withdrawn and allowed to stand to separate and remove the aqueous phase, and the methylene chloride phase was collected.
The polycarbonate oligomer thus obtained had a concentration of 318 g / L and a chlorohomete group concentration of 0.75 mol / L. The weight average molecular weight (Mw) was 1190.

<ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体(A)の製造例1〜4>
以下に記載する(i)〜(xiv)の値は各成分の用いた量を示し、表1に示すとおりである。
邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた50L槽型反応器に上記の通り製造したポリカーボネートオリゴマー溶液(PCO)(i)L、塩化メチレン(MC)(ii)Lおよび、平均鎖長n=(iii)のアリルフェノール末端変性ポリジメチルシロキサン(以下、ポリジメチルシロキサンをPDMSと呼ぶことがある)(iv)gを塩化メチレン(MC)(v)Lに溶解したもの、ならびに、トリエチルアミン(TEA)(vi)mLを仕込み、攪拌下でここに8.0質量%の水酸化ナトリウム水溶液(NaOHaq)(vii)gを加え、20分間ポリカーボネートオリゴマーとアリルフェノール末端変性PDMSの反応を行った(予備重合工程)。
この重合液に、p−t−ブチルフェノール(PTBP)の塩化メチレン溶液(PTBP(viii)gを塩化メチレン(MC)(ix)Lに溶解したもの)、BPAの水酸化ナトリウム水溶液(NaOH(x)gと亜二チオン酸ナトリウム(Na224)(xi)gとを水(xii)Lに溶解した水溶液にBPA(xiii)gを溶解させたもの)を添加し40分間重合反応を実施した(本重合工程)。
希釈のため塩化メチレン(MC)(xiv)Lを加え10分間攪拌した後、PC−POSを含む有機相と過剰のBPA及びNaOHを含む水相に分離し、有機相を単離した。
こうして得られたPC−POSの塩化メチレン溶液を、その溶液に対して、15容積%の0.03mol/LNaOH水溶液、0.2mol/L塩酸で順次洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が0.01μS/m以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。
洗浄により得られたポリカーボネートの塩化メチレン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下100℃で乾燥した。得られたフレークのPDMS濃度、粘度平均分子量の測定を行った結果を表1に示す。
<Production Examples 1 to 4 of Polycarbonate-Polyorganosiloxane Copolymer (A)>
The values (i) to (xiv) described below indicate the amounts used by each component, and are as shown in Table 1.
Polycarbonate oligomer solution (PCO) (i) L, methylene chloride (MC) (ii) L prepared as described above in a 50 L tank reactor equipped with a baffle plate, paddle type stirring blade and cooling jacket, and average chain length. N = (iii) allylphenol-terminated polydimethylsiloxane (hereinafter, polydimethylsiloxane may be referred to as PDMS) (iv) g dissolved in methylene chloride (MC) (v) L, and triethylamine ( TEA) (vi) mL was charged, 8.0% by mass of sodium hydroxide aqueous solution (NaOHaq) (vi) g was added thereto under stirring, and the reaction of the polycarbonate oligomer and the allylphenol terminal-modified PDMS was carried out for 20 minutes (). Prepolymerization step).
In this polymer solution, a methylene chloride solution of pt-butylphenol (PTBP) (PTBP (viii) g dissolved in methylene chloride (MC) (ix) L) and an aqueous sodium hydroxide solution of BPA (NaOH (x)) BPA (xiii) g was dissolved in an aqueous solution prepared by dissolving g and sodium dithioate (Na 2 S 2 O 4 ) (xi) g in water (xii) L), and the polymerization reaction was carried out for 40 minutes. It was carried out (this polymerization step).
Methylene chloride (MC) (xiv) L was added for dilution and stirred for 10 minutes, then separated into an organic phase containing PC-POS and an aqueous phase containing excess BPA and NaOH, and the organic phase was isolated.
The methylene chloride solution of PC-POS thus obtained was washed successively with 15% by volume of 0.03 mol / L NaOH aqueous solution and 0.2 mol / L hydrochloric acid, and then the electricity in the aqueous phase after washing. Washing with pure water was repeated until the conductivity became 0.01 μS / m or less.
The methylene chloride solution of polycarbonate obtained by washing was concentrated and pulverized, and the obtained flakes were dried under reduced pressure at 100 ° C. Table 1 shows the results of measuring the PDMS concentration and viscosity average molecular weight of the obtained flakes.

白色顔料(C)中の水分濃度の測定
試料の白色顔料粉末を温度25℃、相対湿度55%の恒温恒湿度で24時間放置し、平衡状態にしたのち、その試料0.3gをカールフィッシャー水分測定装置「電量法水分計CA100」及びそれに付属した水分気化装置「VA−100」(いずれも(株)ダイアインスツルメンツ社製)を用いて、窒素流量約250mLにて、温度0〜300℃で水分濃度を測定したのち、0〜120℃で検出積算された水分濃度を差し引いた値を、120℃以上(300℃まで)で保持している化学結合水量とした。
Measurement of Moisture Concentration in White Pigment (C) The white pigment powder of the sample was left at a constant temperature and constant humidity of 25 ° C. and a relative humidity of 55% for 24 hours to bring it into an equilibrium state, and then 0.3 g of the sample was subjected to curl fisher moisture. Using the measuring device "Coulometric Moisture Analyzer CA100" and the attached moisture vaporizer "VA-100" (both manufactured by Dia Instruments Co., Ltd.), moisture at a nitrogen flow rate of about 250 mL and a temperature of 0 to 300 ° C. After measuring the concentration, the value obtained by subtracting the water concentration detected and integrated at 0 to 120 ° C. was taken as the amount of chemically bound water maintained at 120 ° C. or higher (up to 300 ° C.).

熱分解ガスクロマトグラフによる有機層のEGA曲線の最大ピーク温度の測定
<使用装置>
熱分解装置:フロンティアラボ社製「PY−3030D」
ガスクロマトグラフ(GC)装置:Agilent製7890BGCシステム
カラム:フロンティアラボ社製「UADTM−2.5N」(長さ2.5m×内径0.15mm)
<熱分解炉昇温条件>
100℃(0min)→昇温20℃/min→800℃
<GC条件>
キャリアガス(He)流速:1mL/min
スプリット比:10:1
注入口温度:300℃
オーブン:300℃(一定)
検出器:FID(水素炎イオン化検出器)300℃
<測定手順>
試料(酸化チタン顔料)0.5mgを、サンプルカップに測り取り、熱分解装置に取り付けた。次に、サンプルカップを熱分解炉へ落とし、直ちに熱分解炉の昇温を開始し、同時にGC測定を開始した。得られたEGA曲線のピークトップにおける温度を最大ピーク温度とした。
Measurement of maximum peak temperature of EGA curve of organic layer by pyrolysis gas chromatograph <Device used>
Pyrolysis device: "PY-3030D" manufactured by Frontier Lab
Gas chromatograph (GC) device: Agilent 7890BGC system column: Frontier Lab "UADTM-2.5N" (length 2.5 m x inner diameter 0.15 mm)
<Pyrolysis furnace heating conditions>
100 ° C (0 min) → temperature rise 20 ° C / min → 800 ° C
<GC conditions>
Carrier gas (He) flow velocity: 1 mL / min
Split ratio: 10: 1
Injection port temperature: 300 ° C
Oven: 300 ° C (constant)
Detector: FID (hydrogen flame ionization detector) 300 ° C
<Measurement procedure>
0.5 mg of a sample (titanium oxide pigment) was measured in a sample cup and attached to a thermal decomposition device. Next, the sample cup was dropped into the pyrolysis furnace, the temperature of the pyrolysis furnace was immediately started, and the GC measurement was started at the same time. The temperature at the peak top of the obtained EGA curve was defined as the maximum peak temperature.

有機層のGC−MS分析
<使用装置>
測定装置:Gerstel社小型加熱脱着装置TDU及び多機能オートサンプラMPS、Agilent社製GC/MS装置「6890/5975MSD」
カラム:Agilent社製「DB−5MS」(30mm×0.25mm×0.25μm)
<TDU部条件>
TDU部:50℃(0.01min)→720℃/min→300℃(20min)スプリットレス
CIS部:−50℃(0.01min)→12℃/sec→350℃(5min)、スプリット30:1
<GC−MS条件>
キャリアガス(He)流速:1mL/min
オーブン:50℃(5min)→10℃/min→330℃(10min)
スキャン範囲m/z=35−800
<分析手順>
試料(酸化チタン顔料)10mgを、専用容器に測り取り、TDU/GC−MS装置に取り付けた。次に、前記条件でGC−MS測定を行い、得られた発生ガス成分を、NIST(National Institute of Standards and Technology)のマスライブラリーを使用して同定した。
GC-MS analysis of organic layer <Device used>
Measuring device: Gesuteru small heating and desorption device TDU and multifunctional autosampler MPS, Agilent GC / MS device "6890/5975MSD"
Column: Agilent "DB-5MS" (30 mm x 0.25 mm x 0.25 μm)
<TDU section conditions>
TDU section: 50 ° C (0.01 min) → 720 ° C / min → 300 ° C (20 min) Splitless CIS section: -50 ° C (0.01 min) → 12 ° C / sec → 350 ° C (5 min), split 30: 1
<GC-MS conditions>
Carrier gas (He) flow velocity: 1 mL / min
Oven: 50 ° C (5 min) → 10 ° C / min → 330 ° C (10 min)
Scan range m / z = 35-800
<Analysis procedure>
A sample (titanium oxide pigment) of 10 mg was measured in a special container and attached to a TDU / GC-MS apparatus. Next, GC-MS measurement was performed under the above conditions, and the obtained generated gas component was identified using a mass library of NIST (National Institute of Standards and Technology).

なお以下の白色顔料(C)の有機層の記載において、該有機層のGC−MS分析により検出された成分が下記A群であったものを「有機層A」、下記B群であったものを「有機層B」と称する。
〔A群〕

〔B群〕

In the description of the organic layer of the white pigment (C) below, the component detected by the GC-MS analysis of the organic layer was the following group A as the "organic layer A" and the following group B. Is referred to as "organic layer B".
[Group A]

[Group B]

実施例1〜13、比較例1〜4
表1及び2に記載の成分を記載された配合量にて配合し、ベント式二軸押出機(東芝機械(株)製「TEM35B」)に供給し、スクリュー回転数150rpm、吐出量20kg/hr、バレル設定温度280℃(実測押し出し295〜300℃)にて溶融混練し、ペレットを得た。
Examples 1 to 13, Comparative Examples 1 to 4
The components shown in Tables 1 and 2 are blended in the listed blending amounts and supplied to a vent type twin-screw extruder (“TEM35B” manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.), the screw rotation speed is 150 rpm, and the discharge rate is 20 kg / hr. , The barrel was melt-kneaded at a set temperature of 280 ° C. (actually extruded 295 to 300 ° C.) to obtain pellets.

(1)成形品の外観不良(黒スジ)の観察
上記ペレットを120℃で8時間、乾燥機にて予備乾燥した後、射出成形機((株)ニイガタマシンテクノ製「MD350Wi15 HP−AP」)を用いて下記条件にて射出成形を20ショット分行った。得られた成形品の外観を目視で観察して、下記基準に従って評価した。
具体的には、ペレットをホッパーからシリンダー内供給し、可塑化混練するスクリューの回転数を100rpmとして、スクリュー背圧の設定を40MPaとし、下記条件にて射出成形を実施した。スクリュー背圧を上げると黒スジ上の外観不良は発生しやすくなる。得られた成形品について、黒スジの外観評価を行なった。表中、「AA」評価は、特に、黒スジ状の模様が発生しにくく、評価結果が良好であることを示す。
AA:成形品表面に黒色のスジ状模様が全く観察されない。
A:成形品表面に黒色のスジ状模様がごくわずかに観察される。
B:成形品表面に黒色のスジ状模様が、上記Aと下記Cとの中間程度に観察される。
C:成形品表面に黒色のスジ状模様がはっきりと観察される。
(1) Observation of poor appearance (black streaks) of molded product After pre-drying the pellet at 120 ° C. for 8 hours in a dryer, injection molding machine (“MD350Wi15 HP-AP” manufactured by Niigata Machine Techno Co., Ltd.) Was used to perform injection molding for 20 shots under the following conditions. The appearance of the obtained molded product was visually observed and evaluated according to the following criteria.
Specifically, the pellets were supplied from the hopper into the cylinder, the rotation speed of the screw for plasticizing and kneading was set to 100 rpm, the screw back pressure was set to 40 MPa, and injection molding was performed under the following conditions. If the screw back pressure is increased, poor appearance on the black streaks is likely to occur. The appearance of the black streaks was evaluated on the obtained molded product. In the table, the "AA" evaluation indicates that the black streak-like pattern is less likely to occur and the evaluation result is good.
AA: No black streak pattern is observed on the surface of the molded product.
A: A very slight black streak pattern is observed on the surface of the molded product.
B: A black streak-like pattern is observed on the surface of the molded product at an intermediate level between A above and C below.
C: A black streak pattern is clearly observed on the surface of the molded product.

(2)黒スジ(透過)の観察
上記成形品を、成形品サイズより充分大きな木板に、成形品と同じサイズで開けた枠を設けて、その枠に成形品をはめ込み、その一方から110V×1.5kW灯光器からの光源を当てて、その反対側より成形品を観察して、下記基準に従って評価した。
AA:黒色のスジ状模様が全く観察されない。
A:黒色のスジ状模様がわずかに観察される。
B:黒色のスジ状模様が上記Aと下記Cとの中間程度に観察される。
C:黒色のスジ状模様がはっきりと観察される。
(2) Observation of black streaks (transmission) The above-mentioned molded product is provided with a frame opened in the same size as the molded product on a wooden board sufficiently larger than the molded product size, and the molded product is fitted into the frame, and 110 V × from one of them. A light source from a 1.5 kW lamp was applied, and the molded product was observed from the opposite side and evaluated according to the following criteria.
AA: No black streaks are observed.
A: A slight black streak pattern is observed.
B: A black streak pattern is observed between A above and C below.
C: A black streak pattern is clearly observed.

(3)成形品表面の黒スジの測色
(1)と同様の条件で成形した150mm×150mmの成形品上に、図1に示す通り、成形時の射出成形機のゲート位置からの樹脂の流れ方向に沿った端部を縦軸、該縦軸に直行する端部を横軸として、縦軸と横軸とが直交する点から順番に1cm(縦)×1cm(横)の間隔で15×15の位置割りを行う。
位置割り後の横3×縦8の位置を基準点、横8×縦3から横8×縦14までの位置を測定対象位置とし、基準点と測定対象位置のL値を分光測色計(コニカミノルタ(株)製、分光測色計CM−600d,SCE(正反射光除去)モード,観察光源D65、観察視野10°、口径5mmφ)で測定する。
測定対称位置のL値と基準点のL値との差(ΔL)を計算し、測定対称位置のΔL値の平均値を求める。このΔL値の平均値が大きいほど、図2に示すような表面の黒スジが強く見える。
(3) Color measurement of black streaks on the surface of the molded product As shown in FIG. 1, the resin from the gate position of the injection molding machine at the time of molding is placed on the molded product of 150 mm × 150 mm molded under the same conditions as in (1). With the vertical axis at the end along the flow direction and the horizontal axis at the end perpendicular to the vertical axis, the intervals of 1 cm (vertical) x 1 cm (horizontal) are 15 in order from the point where the vertical axis and the horizontal axis are orthogonal to each other. Positioning of × 15 is performed.
The position of 3 horizontal × 8 vertical is the reference point, the position from 8 × 3 vertical to 8 × 14 vertical is the measurement target position, and the L value of the reference point and the measurement target position is the spectrophotometer (spectrophotometer). Measured with a spectrocolorimeter CM-600d, SCE (specular reflection light removal) mode, observation light source D65, observation field of view 10 °, diameter 5 mmφ) manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.
The difference (ΔL) between the L value at the measurement symmetric position and the L value at the reference point is calculated, and the average value of the ΔL values at the measurement symmetric position is obtained. The larger the average value of the ΔL values, the stronger the black streaks on the surface as shown in FIG. 2 appear.

<射出成形条件>
金型:150mmW×150mmH×2mmtの平板金型
金型温度:80℃
シリンダー温度設定:各実施例及び比較例について、表2−1、2−2及び表3に記載の温度に設定した。
射出速度:2段階設定とし、計量位置(60mm)から50mmまでの速度をV1、50mmから8mmまでの速度をV2として樹脂を充填する。V1=30mm/秒、V2=50mm/秒
保圧条件:樹脂を充填後、50MPaで3秒間かけた。
<Injection molding conditions>
Mold: 150 mmW x 150 mmH x 2 mmt flat plate mold mold temperature: 80 ° C
Cylinder temperature setting: The temperatures shown in Tables 2-1, 2-2 and Table 3 were set for each Example and Comparative Example.
Injection speed: Two-step setting is set, and the resin is filled with the speed from the weighing position (60 mm) to 50 mm as V1 and the speed from 50 mm to 8 mm as V2. V1 = 30 mm / sec, V2 = 50 mm / sec Holding pressure condition: After filling the resin, 50 MPa was applied for 3 seconds.

表中で使用した成分は下記の通りである。
(A2)芳香族ポリカーボネート系樹脂:出光興産(株)製「FN1700」(Mv=17,700)
(B1)スチレン系樹脂:日本エイアンドエル(株)製,「クララスチックSXH−330(アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン3元共重合体(ABS))」,ブタジエンに由来する構成単位の含有量;12質量%
(C−1)酸化チタン顔料:石原産業(株)製「CR−63」(結晶構造:ルチル型、二酸化チタンをシリカ−アルミナ3%及びジメチルシリコーンで表面処理したもの、平均粒子径:0.21μm、化学結合水量:2,600質量ppm、有機層B、EGA曲線の最大ピーク温度:380℃)
(C−2)酸化チタン顔料:石原産業(株)製「PF−726」(結晶構造:ルチル型、二酸化チタンをシリカ−アルミナ8%のみで表面処理したもの、平均粒子径:0.21μm、化学結合水量:5,100質量ppm)
(C−3)酸化チタン顔料:HUNTSMAN製「R−TC30」(結晶構造:ルチル型,二酸化チタンをシロキサンで表面処理したもの,平均粒子径:0.21μm)
The ingredients used in the table are as follows.
(A2) Aromatic polycarbonate resin: "FN1700" manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd. (Mv = 17,700)
(B1) Styrene-based resin: "Clarastic SXH-330 (acrylonitrile-butadiene-styrene ternary copolymer (ABS))" manufactured by Nippon A & L Inc., content of structural units derived from butadiene; 12% by mass
(C-1) Titanium oxide pigment: "CR-63" manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. (Crystal structure: rutile type, surface-treated titanium dioxide with silica-alumina 3% and dimethyl silicone, average particle size: 0. 21 μm, amount of chemically bonded water: 2,600 mass ppm, organic layer B, maximum peak temperature of EGA curve: 380 ° C)
(C-2) Titanium oxide pigment: "PF-726" manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. (Crystal structure: rutile type, surface-treated titanium dioxide with only 8% silica-alumina, average particle size: 0.21 μm, Chemical bond water volume: 5,100 mass ppm)
(C-3) Titanium oxide pigment: "R-TC30" manufactured by HUNTSMAN (crystal structure: rutile type, surface-treated titanium dioxide with siloxane, average particle size: 0.21 μm)

(D−1)金属不活性化剤:(株)ADEKA製「アデカスタブ CDA−6」(デカメチレンジカルボン酸ジサリチロイルヒドラジド)
(D−2)金属不活性化剤:(株)ADEKA製「アデカスタブ CDA−1」(3−(N−サリチロイル)アミノ−1,2,4−トリアゾール)
(D−3)金属不活性化剤:(株)ADEKA製「アデカスタブ ZS−27」(主成分:2,4,6−トリアミノ−1,3,5−トリアジン)
(D−4)金属不活性化剤:(株)ADEKA製「アデカスタブ ZS−90」
酸化防止剤:BASFジャパン製「IRGAFOS168」(トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト)
(D-1) Metal Inactivating Agent: "ADEKA STAB CDA-6" manufactured by ADEKA Corporation (decamethylene dicarboxylic acid disalicyloyl hydrazide)
(D-2) Metal inactivating agent: "ADEKA STAB CDA-1" manufactured by ADEKA Corporation (3- (N-salicyloyl) amino-1,2,4-triazole)
(D-3) Metal inactivating agent: "ADEKA STAB ZS-27" manufactured by ADEKA Corporation (main component: 2,4,6-triamino-1,3,5-triazine)
(D-4) Metal inactivating agent: "ADEKA STAB ZS-90" manufactured by ADEKA Corporation
Antioxidant: "IRGAFOS168" manufactured by BASF Japan (Tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite)

本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、白色顔料を含む樹脂組成物であっても成形時の黒スジ等の外観不良の発生が抑制されており、成形外観が良好な白色成形品を提供することができる。当該成形品は電気、電子機器用部品又は該機器用の筐体、照明器具内外装部品、車両内外装部品、食品トレーや食器に好適に用いることができる。特に、携帯電話、モバイルパソコン、デジタルカメラ、ビデオカメラ、電動工具などの筐体の材料として好適である。 The polycarbonate-based resin composition of the present invention provides a white molded product having a good molded appearance, in which the occurrence of appearance defects such as black streaks during molding is suppressed even in the resin composition containing a white pigment. Can be done. The molded product can be suitably used for electrical and electronic equipment parts or housings for the equipment, lighting equipment interior / exterior parts, vehicle interior / exterior parts, food trays and tableware. In particular, it is suitable as a material for housings of mobile phones, mobile personal computers, digital cameras, video cameras, power tools and the like.

Claims (17)

下記一般式(I)で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック及び下記一般式(II)で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロックを含むポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体(A1)を含有するポリカーボネート系樹脂(A)を50質量%以上99質量%以下、及びスチレン系樹脂(B)を1質量%以上50質量%以下含むポリカーボネート系樹脂組成物(S)と、白色顔料(C)と、金属不活性化剤(D)とを含み、
前記白色顔料(C)を、前記ポリカーボネート系樹脂組成物(S)100質量部に対して、0.1質量部以上40質量部以下含み、
前記金属不活性化剤(D)を、前記ポリカーボネート系樹脂組成物(S)100質量部に対して、0.005質量部以上1.0質量部以下含む、ポリカーボネート系樹脂組成物。

[式中、R1及びR2はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基を示す。Xは、単結合、炭素数1〜8のアルキレン基、炭素数2〜8のアルキリデン基、炭素数5〜15のシクロアルキレン基、炭素数5〜15のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数7〜15のアリールアルキレン基、炭素数7〜15のアリールアルキリデン基、−S−、−SO−、−SO2−、−O−又は−CO−を示す。R3及びR4はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を示す。a及びbは、それぞれ独立に0〜4の整数を示す。]
Contains a polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (A1) containing a polycarbonate block composed of a repeating unit represented by the following general formula (I) and a polyorganosiloxane block containing a repeating unit represented by the following general formula (II). A polycarbonate resin composition (S) containing 50% by mass or more and 99% by mass or less of the polycarbonate resin (A) and 1% by mass or more and 50% by mass or less of the styrene resin (B), and a white pigment (C). , With a metal inactivating agent (D)
The white pigment (C) is contained in an amount of 0.1 part by mass or more and 40 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polycarbonate resin composition (S).
A polycarbonate resin composition containing the metal inactivating agent (D) in an amount of 0.005 part by mass or more and 1.0 part by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polycarbonate resin composition (S).

[In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. X is a single bond, an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 8 carbon atoms, a cycloalkylene group having 5 to 15 carbon atoms, a cycloalkylidene group having 5 to 15 carbon atoms, a fluorinatedyl group, and carbon. It shows an arylalkylene group having 7 to 15 carbon atoms, an arylalkylidene group having 7 to 15 carbon atoms, -S-, -SO-, -SO 2- , -O- or -CO-. R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. a and b each independently represent an integer of 0 to 4. ]
前記スチレン系樹脂(B)が、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体である、請求項1に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。 The polycarbonate resin composition according to claim 1, wherein the styrene resin (B) is an acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer. 前記ポリオルガノシロキサンブロックの平均鎖長が50以上である、請求項1又は2に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。 The polycarbonate-based resin composition according to claim 1 or 2, wherein the polyorganosiloxane block has an average chain length of 50 or more. 前記ポリカーボネート系樹脂(A)中のポリオルガノシロキサンの含有量が0.1質量%以上25質量%以下である、請求項1〜3のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。 The polycarbonate-based resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the content of the polyorganosiloxane in the polycarbonate-based resin (A) is 0.1% by mass or more and 25% by mass or less. 前記ポリカーボネート系樹脂(A)の粘度平均分子量が12,000以上50,000以下である、請求項1〜4のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。 The polycarbonate resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the polycarbonate resin (A) has a viscosity average molecular weight of 12,000 or more and 50,000 or less. 前記ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体(A1)中の前記ポリオルガノシロキサンブロックの含有量が1.0質量%以上40質量%以下である、請求項1〜5のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。 The polycarbonate according to any one of claims 1 to 5, wherein the content of the polyorganosiloxane block in the polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (A1) is 1.0% by mass or more and 40% by mass or less. System resin composition. 前記金属不活性化剤(D)がヒドラジン系化合物、トリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、及びアミノカルボキシラート系化合物からなる群から選ばれる1種以上である、請求項1〜6のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。 Any one of claims 1 to 6, wherein the metal inactivating agent (D) is at least one selected from the group consisting of hydrazine-based compounds, triazole-based compounds, triazine-based compounds, and aminocarboxylate-based compounds. The polycarbonate-based resin composition according to. 前記白色顔料(C)が酸化チタン顔料、硫化亜鉛顔料、酸化亜鉛顔料、及び硫酸バリウム顔料からなる群から選ばれる少なくとも1種である、請求項1〜7のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。 The polycarbonate-based pigment according to any one of claims 1 to 7, wherein the white pigment (C) is at least one selected from the group consisting of titanium oxide pigments, zinc sulfide pigments, zinc oxide pigments, and barium sulfate pigments. Resin composition. 前記白色顔料(C)が酸化チタン顔料である、請求項8に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。 The polycarbonate-based resin composition according to claim 8, wherein the white pigment (C) is a titanium oxide pigment. 前記酸化チタン顔料が酸化チタン粒子の表面にシリカ、ジルコニア、及びアルミナからなる群から選ばれる1種以上の無機酸化物からなる無機酸化物層を有するものである、請求項9に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。 The polycarbonate-based pigment according to claim 9, wherein the titanium oxide pigment has an inorganic oxide layer composed of one or more inorganic oxides selected from the group consisting of silica, zirconia, and alumina on the surface of the titanium oxide particles. Resin composition. 前記酸化チタン顔料が、前記無機酸化物層の表面にさらに有機層を有する、請求項10に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。 The polycarbonate-based resin composition according to claim 10, wherein the titanium oxide pigment further has an organic layer on the surface of the inorganic oxide layer. 前記有機層の、熱分解ガスクロマトグラフ装置及びFID検出器を用いた発生ガス分析により得られる発生ガス分析曲線の最大ピーク温度が380℃以上である、請求項11に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。 The polycarbonate-based resin composition according to claim 11, wherein the maximum peak temperature of the generated gas analysis curve obtained by the generated gas analysis of the organic layer using a pyrolysis gas chromatograph device and a FID detector is 380 ° C. or higher. 前記白色顔料(C)の、0℃以上300℃以下におけるカールフィッシャー法により測定される水分濃度から、0℃以上120℃以下におけるカールフィッシャー法により測定される水分濃度を差し引いた値が8,000質量ppm以下である、請求項1〜12のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。 The value obtained by subtracting the water concentration of the white pigment (C) measured by the Karl Fischer method at 0 ° C. or higher and 300 ° C. or lower from the water concentration measured by the Karl Fischer method at 0 ° C. or higher and 120 ° C. or lower is 8,000. The polycarbonate-based resin composition according to any one of claims 1 to 12, which has a mass of ppm or less. 粘度平均分子量が12,000以上50,000以下である、請求項1〜13のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。 The polycarbonate-based resin composition according to any one of claims 1 to 13, wherein the viscosity average molecular weight is 12,000 or more and 50,000 or less. 前記ポリカーボネート系樹脂組成物からなる成形品について、測色計にて以下の条件で測定した測定対象位置のL値と基準点のL値の差(ΔL)が、0.18以下となる、請求項1〜14のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
光源:D65光源
視野角度:10°
測定方法:縦150mm×横150mmの成形品上に、成形時の射出成形機のゲート位置からの樹脂の流れ方向に沿った端部を縦軸、該縦軸に直行する端部を横軸として、縦軸と横軸とが直交する点から順番に1cm(縦)×1cm(横)の間隔で15×15の位置割りを行う。位置割り後の以下の基準点と測定対称位置とのL値を測定する。
基準点:横3×縦8の位置
測定対称位置:横8×縦3から横8×縦14までの位置
Claimed that the difference (ΔL) between the L value of the measurement target position and the L value of the reference point measured by the colorimeter under the following conditions for the molded product made of the polycarbonate resin composition is 0.18 or less. Item 2. The polycarbonate resin composition according to any one of Items 1 to 14.
Light source: D65 light source Viewing angle: 10 °
Measuring method: On a molded product of length 150 mm × width 150 mm, the vertical axis is the end along the resin flow direction from the gate position of the injection molding machine at the time of molding, and the horizontal axis is the end orthogonal to the vertical axis. , 15 × 15 positioning is performed at intervals of 1 cm (vertical) × 1 cm (horizontal) in order from the point where the vertical axis and the horizontal axis are orthogonal to each other. The L value of the following reference point after the position division and the measurement symmetric position is measured.
Reference point: Position of horizontal 3 x vertical 8 Measurement symmetric position: Position from horizontal 8 x vertical 3 to horizontal 8 x vertical 14
請求項1〜15のいずれか一項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物からなる成形品。 A molded product comprising the polycarbonate-based resin composition according to any one of claims 1 to 15. 測色計にて以下の条件で測定した測定対象位置のL値と基準点のL値の差(ΔL)が、0.18以下となる、請求項16に記載の成形品。
光源:D65光源
視野角度:10°
測定方法:縦150mm×横150mmの成形品上に、成形時の射出成形機のゲート位置からの樹脂の流れ方向に沿った端部を縦軸、該縦軸に直行する端部を横軸として、縦軸と横軸とが直交する点から順番に1cm(縦)×1cm(横)の間隔で15×15の位置割りを行う。位置割り後の以下の基準点と測定対称位置とのL値を測定する。
基準点:横3×縦8の位置
測定対称位置:横8×縦3から横8×縦14までの位置
The molded product according to claim 16, wherein the difference (ΔL) between the L value of the measurement target position and the L value of the reference point measured by the colorimeter under the following conditions is 0.18 or less.
Light source: D65 light source Viewing angle: 10 °
Measuring method: On a molded product of length 150 mm × width 150 mm, the vertical axis is the end along the resin flow direction from the gate position of the injection molding machine at the time of molding, and the horizontal axis is the end orthogonal to the vertical axis. , 15 × 15 positioning is performed at intervals of 1 cm (vertical) × 1 cm (horizontal) in order from the point where the vertical axis and the horizontal axis are orthogonal to each other. The L value of the following reference point after the position division and the measurement symmetric position is measured.
Reference point: Position of horizontal 3 x vertical 8 Measurement symmetric position: Position from horizontal 8 x vertical 3 to horizontal 8 x vertical 14
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