JP2021027734A - Foreign matter removal device and coil device - Google Patents

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Abstract

To more surely remove a foreign matter.SOLUTION: A foreign matter removal device 20 is a foreign matter removal device 20 used by a coil device 10 for non-contact power supply, and includes: a body including a surface 26a arranged on a power transmission coil C2 included in the coil device 10, and a plurality of fluid ejection holes H respectively provided with openings Ha at positions different from one another on the surface 26a; and a removal part 30 connected to the plurality of fluid ejection holes H to eject fluid F from each of the openings Ha. The removal part 30 includes: a plurality of valves 33 provided respectively corresponding to the plurality of fluid ejection holes H to make the fluid F flowing through the openings Ha to flow out; and a plurality of sensors 34 provided on flow channels for connecting the valves 33 to the openings Ha respectively to detect the flow rates or pressures of the fluid F flowing through the flow channels as detection values for determining whether a foreign matter M exists on the surface 26a.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本開示は、異物除去装置及びコイル装置に関する。 The present disclosure relates to a foreign matter removing device and a coil device.

コイル装置は、例えば、非接触給電システムに用いられる。非接触給電システムは、送電コイルと受電コイルとを備えている。これらコイル同士は、電磁誘導又は磁界共鳴といった原理に基づき磁気的に互いに結合する。これらコイル同士の磁気的結合を利用して、非接触による送電が実現されている。非接触給電システムは、例えば、自動車などの地上の移動体、或いは水中航走体などの水中移動体に用いられる。 The coil device is used, for example, in a contactless power supply system. The contactless power supply system includes a power transmission coil and a power reception coil. These coils are magnetically coupled to each other based on a principle such as electromagnetic induction or magnetic field resonance. Non-contact power transmission is realized by utilizing the magnetic coupling between these coils. The non-contact power feeding system is used for, for example, a ground moving body such as an automobile, or an underwater moving body such as an underwater vehicle.

特許文献1は、水中移動体に用いられる非接触給電システムを開示する。この非接触給電システムでは、受電コイルは、水中移動体(無人水中航走体)に設置され、送電コイルは、水中移動体が帰還するプラットフォーム(水上の船舶又は水中の基地)に設置される。受電コイルは、水中移動体に設けられたカバー部材によって覆われ、このカバー部材の外面にはスクレーパ部材が取り付けられている。送電コイルは、プラットフォームに設けられたカバー部材によって覆われ、このカバー部材の外面には別のスクレーパ部材が取り付けられている。これらスクレーパ部材は、水中移動体とプラットフォームとの相対移動に伴って、各カバー部材に付着した異物を除去する。 Patent Document 1 discloses a non-contact power feeding system used for an underwater mobile body. In this non-contact power supply system, the power receiving coil is installed on an underwater mobile body (unmanned underwater vehicle), and the power transmission coil is installed on a platform (water vessel or underwater base) on which the underwater mobile body returns. The power receiving coil is covered with a cover member provided on the underwater moving body, and a scraper member is attached to the outer surface of the cover member. The power transmission coil is covered with a cover member provided on the platform, and another scraper member is attached to the outer surface of the cover member. These scraper members remove foreign substances adhering to each cover member as the underwater moving body and the platform move relative to each other.

特開2015−231307号公報JP 2015-231307

送電コイルと受電コイルとの間に異物が存在すると、次のような問題が生じ得る。例えば水中移動体の充電設備として非接触給電システムを利用する場合など、送電コイルが水中に設置されるような場合、送電コイル上には、例えば、貝類などの生物、又は導電性を有する浮遊物といった異物が付着し得る。送電コイル上に異物が付着して堆積物を形成すると、その堆積物が妨げとなって、受電コイルを送電コイルに十分に接近させることができなくなり、給電効率が低下するという問題が生じ得る。また、その異物が導電性を有する場合、受電時及び送電時に、送電コイルの磁束が異物に錯交することによって異物の内部に大きな渦電流が生じ、ジュール損失による給電効率の低下の問題を招き得る。 The presence of foreign matter between the power transmitting coil and the power receiving coil can cause the following problems. When the power transmission coil is installed underwater, for example, when a non-contact power supply system is used as a charging facility for an underwater moving body, for example, a living thing such as a shellfish or a conductive floating substance is placed on the power transmission coil. Foreign matter such as can adhere. When foreign matter adheres to the power transmission coil to form deposits, the deposits hinder the power receiving coil from being sufficiently close to the power transmission coil, which may cause a problem that the power feeding efficiency is lowered. Further, when the foreign matter has conductivity, the magnetic flux of the power transmission coil interlaces with the foreign matter during power reception and power transmission, and a large eddy current is generated inside the foreign matter, which causes a problem of deterioration of power feeding efficiency due to Joule loss. obtain.

このような問題に対し、特許文献1のように、受電コイル側のカバー部材に、生物を物理的に除去するためのスクレーパ部材を取り付けると共に、送電コイル側のカバー部材にも、当該スクレーパ部材を取り付ける構成が考えられる。しかし、スクレーパ部材にも異物が付着してしまうと、スクレーパ部材によるカバー部材上の異物の除去を行い難くなり、異物の除去を確実に行うことが難しくなる可能性がある。 In response to such a problem, as in Patent Document 1, a scraper member for physically removing organisms is attached to the cover member on the power receiving coil side, and the scraper member is also attached to the cover member on the power transmission coil side. A configuration for mounting is conceivable. However, if foreign matter adheres to the scraper member, it becomes difficult for the scraper member to remove the foreign matter on the cover member, and it may be difficult to reliably remove the foreign matter.

本開示は、異物の除去をより確実に行うことができる異物除去装置及びコイル装置を説明する。 The present disclosure describes a foreign matter removing device and a coil device capable of more reliably removing foreign matter.

本開示の異物除去装置は、非接触給電のためのコイル装置に用いられる異物除去装置であって、コイル装置が含むコイルを覆う露出面、及び、露出面の互いに異なる位置に設けられた複数の流体噴出孔を含む本体と、複数の流体噴出孔に接続されており、流体噴出孔から噴出される流体によって露出面に付着した異物を除去する除去部と、を備え、除去部は、流体噴出孔に接続された流路に設けられており、流路を流れる流体の流量又は圧力を、露出面上に異物が存在するか否かを判定するための検出値としてそれぞれ検出する複数のセンサを有する。 The foreign matter removing device of the present disclosure is a foreign matter removing device used in a coil device for non-contact power feeding, and is provided on an exposed surface covering the coil included in the coil device and a plurality of exposed surfaces provided at different positions from each other. It is provided with a main body including a fluid ejection hole and a removing portion which is connected to a plurality of fluid ejection holes and removes foreign matter adhering to an exposed surface by the fluid ejected from the fluid ejection hole. A plurality of sensors provided in the flow path connected to the hole, each of which detects the flow rate or pressure of the fluid flowing through the flow path as a detection value for determining whether or not a foreign substance is present on the exposed surface. Have.

この異物除去装置は、本体の露出面の互いに異なる位置にそれぞれ設けられた複数の流体噴出孔から流体を噴出させることにより、露出面上から異物を除去する。更に、流体噴出孔に接続された流路上にセンサが設けられており、センサは、流路を流れる流体の流量又は圧力を検出値として検出する。異物が流体噴出孔上に存在する場合、当該流体噴出孔に対応する検出値が変動して異常な値となる。したがって、この検出値を監視することによって、当該流体噴出孔上に異物が存在するか否かを判定できる。つまり、流体の噴出による異物の除去を行うことができたか否かを確認できる。その結果、露出面上からの異物の除去をより確実に行うことができる。 This foreign matter removing device removes foreign matter from the exposed surface by ejecting fluid from a plurality of fluid ejection holes provided at different positions on the exposed surface of the main body. Further, a sensor is provided on the flow path connected to the fluid ejection hole, and the sensor detects the flow rate or pressure of the fluid flowing through the flow path as a detection value. When a foreign substance is present on the fluid ejection hole, the detected value corresponding to the fluid ejection hole fluctuates and becomes an abnormal value. Therefore, by monitoring this detected value, it is possible to determine whether or not a foreign substance is present on the fluid ejection hole. That is, it can be confirmed whether or not the foreign matter can be removed by ejecting the fluid. As a result, foreign matter can be more reliably removed from the exposed surface.

いくつかの態様において、除去部は、流路に接続されて、流路を介して流体を流体噴出孔に提供する流体供給部と、検出値に基づいて流体供給部の出力を制御する制御部と、を有してもよい。この場合、制御部は、異物が流体噴出孔上に存在する場合に、当該流体噴出孔に対応する流体供給部の出力が大きくなるように制御することができる。これにより、当該流体噴出孔から噴出する流体の流速を大きくすることができる。その結果、流体噴出孔上からの異物の除去をより確実に行うことができる。 In some embodiments, the removal unit is a fluid supply unit that is connected to a flow path and provides fluid to a fluid ejection hole through the flow path, and a control unit that controls the output of the fluid supply unit based on a detected value. And may have. In this case, the control unit can control the output of the fluid supply unit corresponding to the fluid ejection hole to be large when the foreign matter is present on the fluid ejection hole. As a result, the flow velocity of the fluid ejected from the fluid ejection hole can be increased. As a result, foreign matter can be more reliably removed from the fluid ejection hole.

いくつかの態様において、制御部は、検出値が所定の条件を満たすか否かを判定することによって、露出面上に異物が存在するか否かを判定する判定部と、判定部による判定結果に基づいて、流体供給部の出力を調整する調整部と、を含み、調整部は、複数のセンサから得た全ての検出値が所定の条件を満たすことにより、露出面上に異物が存在しないと判定された場合には、各流体供給部の出力を第1の出力に設定し、複数のセンサから得た少なくとも一つの検出値が所定の条件を満たさないことにより、露出面上に異物が存在すると判定された場合には、所定の条件を満たさない検出値を出力したセンサに対応する流体噴出孔を特定し、特定された流体噴出孔に対応する流体供給部の出力を第1の出力よりも大きい第2の出力に設定してもよい。このように、調整部が、露出面上に異物が存在すると判定された場合に、特定された流体噴出孔に対応する流体供給部の出力を大きくすることによって、特定された流体噴出孔から噴出する流体の流速を大きくすることができる。これにより、特定された流体噴出孔上からの異物の除去をより確実に行うことができる。また、上記の構成によれば、露出面上から異物を除去するために全ての流体供給部の出力を大きくする必要が無いので、露出面上からの異物の除去を効率良く行うことができる。 In some embodiments, the control unit determines whether or not the detected value satisfies a predetermined condition, thereby determining whether or not a foreign substance is present on the exposed surface, and a determination result by the determination unit. The adjusting unit includes an adjusting unit that adjusts the output of the fluid supply unit based on the above, and the adjusting unit has no foreign matter on the exposed surface because all the detected values obtained from the plurality of sensors satisfy a predetermined condition. When it is determined that, the output of each fluid supply unit is set to the first output, and at least one detected value obtained from a plurality of sensors does not satisfy a predetermined condition, so that foreign matter is generated on the exposed surface. If it is determined that it exists, the fluid ejection hole corresponding to the sensor that outputs the detected value that does not satisfy the predetermined condition is specified, and the output of the fluid supply unit corresponding to the specified fluid ejection hole is output as the first output. It may be set to a second output larger than. In this way, when the adjusting unit determines that foreign matter is present on the exposed surface, it ejects from the specified fluid ejection hole by increasing the output of the fluid supply portion corresponding to the identified fluid ejection hole. The flow velocity of the fluid can be increased. As a result, foreign matter can be more reliably removed from the specified fluid ejection hole. Further, according to the above configuration, it is not necessary to increase the output of all the fluid supply units in order to remove the foreign matter from the exposed surface, so that the foreign matter can be efficiently removed from the exposed surface.

いくつかの態様において、調整部は、露出面上に異物が存在すると判定された場合に、特定された流体噴出孔に対応する流体供給部の出力を第2の出力に設定すると共に、特定されなかった流体噴出孔に対応する流体供給部の出力を、第2の出力よりも小さい第3の出力に設定してもよい。この場合、特定された流体噴出孔の開口から噴出する流体の流速を最も大きくすることができ、特定されなかった流体噴出孔の開口から噴出する流体の流速を、特定されなかった流体噴出孔が特定された流体噴出孔から遠ざかるにつれて小さくすることができる。このように、流体噴出孔の開口から噴出する流体の流速に勾配を持たせることによって、露出面の外側(縁部側)に異物を移動させやすくすることができる。これにより、露出面上に異物が留まる事態を抑制できる。その結果、露出面上からの異物の除去をより確実に行うことができる。 In some embodiments, the adjuster sets the output of the fluid supply, which corresponds to the identified fluid ejection hole, to a second output and is identified when it is determined that foreign matter is present on the exposed surface. The output of the fluid supply unit corresponding to the missing fluid ejection hole may be set to a third output smaller than the second output. In this case, the flow velocity of the fluid ejected from the opening of the specified fluid ejection hole can be maximized, and the flow velocity of the fluid ejected from the opening of the unspecified fluid ejection hole can be determined by the unspecified fluid ejection hole. It can be made smaller as it moves away from the identified fluid outlet. In this way, by providing a gradient to the flow velocity of the fluid ejected from the opening of the fluid ejection hole, it is possible to facilitate the movement of foreign matter to the outside (edge side) of the exposed surface. As a result, it is possible to prevent foreign matter from staying on the exposed surface. As a result, foreign matter can be more reliably removed from the exposed surface.

いくつかの態様において、複数の流体噴出孔は、1個の第1流体噴出孔と、第1流体噴出孔を囲む複数の第2流体噴出孔と、を含み、第2流体噴出孔の内径は、第1流体噴出孔の内径よりも大きく、且つ、第2流体噴出孔が第1流体噴出孔から遠ざかるにつれて大きくなってもよい。この場合、第1流体噴出孔の開口から噴出する流体の流速を最も大きくすることができ、第2流体噴出孔の開口から噴出する流体の流速を、第2流体噴出孔が第1流体噴出孔から遠ざかるにつれて小さくすることができる。このように、第1及び第2流体噴出孔の開口から噴出する流体の流速に勾配を持たせることによって、露出面の外側(縁部側)に異物を移動させやすくすることができる。これにより、露出面上に異物が留まる事態を抑制できる。その結果、露出面上からの異物の除去をより確実に行うことができる。 In some embodiments, the plurality of fluid ejection holes comprises one first fluid ejection hole and a plurality of second fluid ejection holes surrounding the first fluid ejection hole, and the inner diameter of the second fluid ejection hole is , It may be larger than the inner diameter of the first fluid ejection hole and may become larger as the second fluid ejection hole moves away from the first fluid ejection hole. In this case, the flow velocity of the fluid ejected from the opening of the first fluid ejection hole can be maximized, and the flow velocity of the fluid ejected from the opening of the second fluid ejection hole can be adjusted by the second fluid ejection hole to the first fluid ejection hole. It can be made smaller as it goes away from. In this way, by providing a gradient to the flow velocity of the fluid ejected from the openings of the first and second fluid ejection holes, it is possible to facilitate the movement of foreign matter to the outside (edge side) of the exposed surface. As a result, it is possible to prevent foreign matter from staying on the exposed surface. As a result, foreign matter can be more reliably removed from the exposed surface.

本開示のコイル装置は、上述したいずれかの異物除去装置と、コイルと、を備える。 The coil device of the present disclosure includes any of the above-mentioned foreign matter removing devices and a coil.

このコイル装置は、上述したいずれかの異物除去装置を備えるので、上述したように、露出面上からの異物の除去をより確実に行うことができる。これにより、露出面への異物の付着を抑制でき、当該露出面に異物の堆積物が形成される事態を抑制できる。その結果、受電及び送電時に、コイル装置に相手方コイル装置を十分に接近させることができるので、コイル装置と相手方コイル装置との給電効率の低下を抑制できる。 Since this coil device includes any of the above-mentioned foreign matter removing devices, it is possible to more reliably remove the foreign matter from the exposed surface as described above. As a result, the adhesion of foreign matter to the exposed surface can be suppressed, and the situation where foreign matter deposits are formed on the exposed surface can be suppressed. As a result, the partner coil device can be sufficiently brought close to the coil device during power reception and power transmission, so that a decrease in power feeding efficiency between the coil device and the partner coil device can be suppressed.

本開示のいくつかの態様によれば、異物の除去をより確実に行うことができる異物除去装置及びコイル装置が提供される。 According to some aspects of the present disclosure, there is provided a foreign matter removing device and a coil device capable of more reliably removing foreign matter.

図1は、一実施形態に係るコイル装置を備える非接触給電システムを示す正面図である。FIG. 1 is a front view showing a non-contact power feeding system including the coil device according to the embodiment. 図2は、図1に示すコイル装置を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing the coil device shown in FIG. 図3は、図1に示すコイル装置を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing the coil device shown in FIG. 図4は、図2に示す制御部の構成を示すブロック図である。FIG. 4 is a block diagram showing the configuration of the control unit shown in FIG. 図5は、図4に示す制御部による制御方法を示すフローチャートである。FIG. 5 is a flowchart showing a control method by the control unit shown in FIG.

以下、添付図面を参照しながら本発明を実施するための形態を詳細に説明する。図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。以下の説明において、「上」及び「下」との語は、鉛直方向を基準として用いられる。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same elements are designated by the same reference numerals, and duplicate description will be omitted. In the following description, the terms "top" and "bottom" are used with reference to the vertical direction.

図1及び図2を参照して、本実施形態に係るコイル装置10を備えた非接触給電システム1について説明する。コイル装置10は、例えば、非接触給電システム1における送電装置12として用いられる。非接触給電システム1は、受電装置11と送電装置12との間の磁気的結合を利用して送電装置12から受電装置11へ電力を供給する。非接触給電システム1は、例えば、地上又は水中を移動する移動体に搭載されるバッテリを充電する。 The non-contact power feeding system 1 including the coil device 10 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2. The coil device 10 is used, for example, as a power transmission device 12 in the non-contact power supply system 1. The non-contact power feeding system 1 supplies electric power from the power transmitting device 12 to the power receiving device 11 by utilizing the magnetic coupling between the power receiving device 11 and the power transmitting device 12. The non-contact power supply system 1 charges, for example, a battery mounted on a moving body moving on the ground or underwater.

本実施形態では、海中を移動する移動体2に非接触給電システム1を適用した場合を例示する。この場合、受電装置11は、海中を移動する移動体2に設けられている。移動体2は、例えば自律型の無人潜水艇などの水中航走体である。移動体2は、例えば、前後方向に延びる円筒状をなす筐体2aを有する。受電装置11は、例えば、筐体2aの内部に配置されている。受電装置11は、例えば、筐体2aの内周面2bに取り付けられている。受電装置11は、受電回路及び充電回路などを介して筐体2aの内部に配置されたバッテリに電気的に接続されている。なお、受電装置11は、筐体2aの内部に配置されていなくてもよい。受電装置11は、例えば、筐体2aの外周面2cから露出していてもよく、外周面2cから突出していてもよい。 In the present embodiment, a case where the non-contact power feeding system 1 is applied to the moving body 2 moving in the sea is illustrated. In this case, the power receiving device 11 is provided on the moving body 2 that moves in the sea. The mobile body 2 is an underwater vehicle such as an autonomous unmanned submersible. The moving body 2 has, for example, a cylindrical housing 2a extending in the front-rear direction. The power receiving device 11 is arranged inside the housing 2a, for example. The power receiving device 11 is attached to, for example, the inner peripheral surface 2b of the housing 2a. The power receiving device 11 is electrically connected to a battery arranged inside the housing 2a via a power receiving circuit, a charging circuit, and the like. The power receiving device 11 does not have to be arranged inside the housing 2a. The power receiving device 11 may be exposed from the outer peripheral surface 2c of the housing 2a, or may protrude from the outer peripheral surface 2c, for example.

一方、送電装置12は、海中に設置されたプラットフォーム3に設けられている。プラットフォーム3は、移動体2のバッテリを充電するための施設である。プラットフォーム3は、例えば、平坦な壁部3aを有する。送電装置12は、壁部3a上に設けられている。送電装置12は、例えば、壁部3aから突出しており、壁部3aから露出している。送電装置12は、壁部3aから突出せずに壁部3aに埋め込まれていてもよい。送電装置12は、送電回路及び整流回路などを介して外部電源に電気的に接続されている。 On the other hand, the power transmission device 12 is provided on the platform 3 installed in the sea. The platform 3 is a facility for charging the battery of the mobile body 2. The platform 3 has, for example, a flat wall portion 3a. The power transmission device 12 is provided on the wall portion 3a. The power transmission device 12 protrudes from the wall portion 3a, for example, and is exposed from the wall portion 3a. The power transmission device 12 may be embedded in the wall portion 3a without protruding from the wall portion 3a. The power transmission device 12 is electrically connected to an external power source via a power transmission circuit, a rectifier circuit, and the like.

図1に示すように、送電時には、プラットフォーム3の壁部3a上に移動体2が移動し、移動体2の内周面2bに取り付けられた受電装置11と、壁部3a上に設けられた送電装置12とが、上下方向において所定の間隔で互いに対面する。受電装置11と送電装置12とが上下方向に対面すると、受電装置11の内部の受電コイルC1と送電装置12の内部の送電コイルC2とが、電磁気的に互いに結合して電磁結合回路を形成する。これにより、送電コイルC2から受電コイルC1への送電が行われる。言い換えれば、受電装置11は、送電装置12から非接触で電力を受け取る。「電磁誘導方式」で送電及び受電を行う回路であってもよく、「磁界共鳴方式」で送電及び受電を行う回路であってもよい。 As shown in FIG. 1, at the time of power transmission, the moving body 2 moves on the wall portion 3a of the platform 3, and is provided on the power receiving device 11 attached to the inner peripheral surface 2b of the moving body 2 and the wall portion 3a. The power transmission device 12 faces each other at predetermined intervals in the vertical direction. When the power receiving device 11 and the power transmitting device 12 face each other in the vertical direction, the power receiving coil C1 inside the power receiving device 11 and the power transmission coil C2 inside the power transmitting device 12 are electromagnetically coupled to each other to form an electromagnetic coupling circuit. .. As a result, power is transmitted from the power transmission coil C2 to the power reception coil C1. In other words, the power receiving device 11 receives power from the power transmitting device 12 in a non-contact manner. It may be a circuit that transmits and receives power by the "electromagnetic induction method", and may be a circuit that transmits and receives power by the "magnetic field resonance method".

以下、コイル装置10を送電装置12として利用する態様を例に、コイル装置10について更に詳細に説明する。 Hereinafter, the coil device 10 will be described in more detail by exemplifying an embodiment in which the coil device 10 is used as the power transmission device 12.

上述したように、移動体2の充電設備として非接触給電システム1を利用するとき、コイル装置10は、海中に設置されたプラットフォーム3に設置される。したがって、コイル装置10上には、意図しない異物Mが存在することがあり得る。異物Mとしては、例えば、貝類などの生物、又は、金属片などの導電性を有する浮遊物が挙げられる。コイル装置10上に貝類などの生物が付着して堆積物を形成すると、その堆積物が妨げとなって、受電コイルC1を送電コイルC2に十分に接近させることができなくなり、給電効率が低下することがあり得る。また、電力の供給が行われるとき、受電コイルC1と送電コイルC2との間には磁束が発生する。このとき、受電コイルC1と送電コイルC2との間に金属片などの導電性を有する浮遊物が存在すると、送電コイルC2の磁束が当該浮遊物に錯交することによって当該浮遊物の内部に大きな渦電流が生じ、ジュール損失によって給電効率が低下することがあり得る。したがって、異物Mの存在によって所望の給電効率が得られない場合が生じ得る。 As described above, when the non-contact power supply system 1 is used as the charging equipment of the mobile body 2, the coil device 10 is installed on the platform 3 installed in the sea. Therefore, an unintended foreign matter M may be present on the coil device 10. Examples of the foreign matter M include organisms such as shellfish and conductive suspended matter such as metal pieces. When organisms such as shellfish adhere to the coil device 10 to form deposits, the deposits hinder the power receiving coil C1 from being sufficiently close to the power transmission coil C2, and the power feeding efficiency is lowered. It is possible. Further, when electric power is supplied, a magnetic flux is generated between the power receiving coil C1 and the power transmitting coil C2. At this time, if a conductive floating substance such as a metal piece exists between the power receiving coil C1 and the power transmitting coil C2, the magnetic flux of the power transmitting coil C2 intersects with the floating substance, so that the floating substance is large inside. Eddy currents can occur and Joule loss can reduce power supply efficiency. Therefore, the presence of the foreign matter M may prevent the desired feeding efficiency from being obtained.

そこで、図2に示すように、コイル装置10は、送電コイルC2上に存在する異物Mを除去する異物除去装置20を備える。異物除去装置20は、送電コイルC2を収容する筐体25(本体)と、筐体25に接続される除去部30とを備える。本実施形態では、筐体25は、コイル装置10の筐体を構成している。つまり、筐体25は、コイル装置10の筐体と一体化している。しかし、筐体25は、コイル装置10の筐体とは別体であってもよい。この場合、筐体25は、コイル装置10の筐体を覆うように取り付けられてもよい。筐体25は、例えば扁平な円筒形状をなしている。筐体25は、カバー26とベース27とを含む。カバー26は、送電コイルC2の表面側に配置された箱体である。送電コイルC2の表面とは、コイル装置10に対面する受電装置11に近い面を指す。 Therefore, as shown in FIG. 2, the coil device 10 includes a foreign matter removing device 20 that removes the foreign matter M existing on the power transmission coil C2. The foreign matter removing device 20 includes a housing 25 (main body) that houses the power transmission coil C2, and a removing unit 30 that is connected to the housing 25. In the present embodiment, the housing 25 constitutes the housing of the coil device 10. That is, the housing 25 is integrated with the housing of the coil device 10. However, the housing 25 may be separate from the housing of the coil device 10. In this case, the housing 25 may be attached so as to cover the housing of the coil device 10. The housing 25 has, for example, a flat cylindrical shape. The housing 25 includes a cover 26 and a base 27. The cover 26 is a box body arranged on the surface side of the power transmission coil C2. The surface of the power transmission coil C2 refers to a surface close to the power receiving device 11 facing the coil device 10.

カバー26は、送電コイルC2を含む内装部品を覆っている。カバー26は、例えば、非磁性且つ非導電性の材料により形成される。カバー26の材料として、例えばガラス繊維強化樹脂(GFRP:Carbon Fiber Reinforced Plastics)を採用してもよい。カバー26は、上下方向において互いに対面する表面26a及び裏面26bを含んでいる。表面26aは、カバー26の外側に露出する露出面(外面)である。表面26aは、送電コイルC2上に配置されている。つまり、表面26aは、上下方向において送電コイルC2と対向する位置に配置されており、送電コイルC2とは反対側を向いている。表面26aは、上下方向において受電装置11と対面する。表面26aには、異物Mが付着している。裏面26bは、カバー26の内面であり、送電コイルC2側を向いている。また、カバー26には、複数の流体噴出孔Hが設けられている。複数の流体噴出孔Hの具体的な構成については後述する。 The cover 26 covers the interior parts including the power transmission coil C2. The cover 26 is made of, for example, a non-magnetic and non-conductive material. As the material of the cover 26, for example, glass fiber reinforced resin (GFRP: Carbon Fiber Reinforced Plastics) may be adopted. The cover 26 includes a front surface 26a and a back surface 26b facing each other in the vertical direction. The surface 26a is an exposed surface (outer surface) exposed to the outside of the cover 26. The surface 26a is arranged on the power transmission coil C2. That is, the surface 26a is arranged at a position facing the power transmission coil C2 in the vertical direction, and faces the side opposite to the power transmission coil C2. The surface 26a faces the power receiving device 11 in the vertical direction. Foreign matter M is attached to the surface 26a. The back surface 26b is the inner surface of the cover 26 and faces the power transmission coil C2 side. Further, the cover 26 is provided with a plurality of fluid ejection holes H. The specific configuration of the plurality of fluid ejection holes H will be described later.

ベース27は、送電コイルC2の裏面側に配置された板状部材である。送電コイルC2の裏面とは、受電装置11から遠い面、すなわち上下方向において表面とは反対側の面を指す。ベース27は、コイル装置10の全体としての剛性を確保する。ベース27は、例えば、非磁性材料であって導電性を有する材料により形成される。ベース27の材料として、比較的剛性の高い材料を採用してもよい。また、ベース27の材料として、例えば透磁率の低い金属材料であるアルミニウムを採用してもよい。このようなベース27の材料の選択によれば、ベース27は、漏えい磁束の外部流出を遮蔽することができる。換言すると、ベース27は、磁気シールド特性を有する。これらのカバー26及びベース27によって、送電コイルC2などを収容する収容空間が形成されている。 The base 27 is a plate-shaped member arranged on the back surface side of the power transmission coil C2. The back surface of the power transmission coil C2 refers to a surface far from the power receiving device 11, that is, a surface opposite to the front surface in the vertical direction. The base 27 ensures the rigidity of the coil device 10 as a whole. The base 27 is formed of, for example, a non-magnetic material having conductivity. As the material of the base 27, a material having a relatively high rigidity may be adopted. Further, as the material of the base 27, for example, aluminum, which is a metal material having a low magnetic permeability, may be adopted. According to the selection of the material of the base 27, the base 27 can shield the outflow of the leakage magnetic flux. In other words, the base 27 has magnetic shielding properties. A storage space for accommodating the power transmission coil C2 and the like is formed by the cover 26 and the base 27.

送電コイルC2は、受電コイルC1(図1参照)への送電のための磁束を発生させる。送電コイルC2は、例えば、同一平面内で渦巻状に巻回された導線15によって形成される。送電コイルC2は、例えばサーキュラー型のコイルである。サーキュラー型のコイルにおいて、導線15は、巻軸(コイル軸)の周りを囲むように巻線方向に巻かれている。この場合、導線15の巻線方向は、巻軸に垂直な平面において渦巻状に延びる方向である。送電コイルC2は、導線15が渦巻状に巻回された態様であればよく、一層であっても多層であってもよい。 The power transmission coil C2 generates a magnetic flux for power transmission to the power reception coil C1 (see FIG. 1). The power transmission coil C2 is formed by, for example, a conducting wire 15 spirally wound in the same plane. The power transmission coil C2 is, for example, a circular coil. In the circular type coil, the lead wire 15 is wound in the winding direction so as to surround the winding shaft (coil shaft). In this case, the winding direction of the lead wire 15 is a direction extending in a spiral shape on a plane perpendicular to the winding axis. The power transmission coil C2 may be in a mode in which the lead wire 15 is spirally wound, and may be one layer or multiple layers.

巻軸方向から見た送電コイルC2の形状は、例えば矩形、円形、又は楕円形等の種々の形状を採り得る。導線15としては、例えば、互いに絶縁された複数の導体素線が撚り合わされたリッツ線が用いられてもよく、表皮効果による高周波抵抗を抑えたリッツ線が用いられてもよい。導線15は、例えば、銅又はアルミニウムの単線であってもよい。 The shape of the power transmission coil C2 when viewed from the winding axis direction can take various shapes such as a rectangle, a circle, or an ellipse. As the conducting wire 15, for example, a litz wire in which a plurality of conductor strands insulated from each other are twisted may be used, or a litz wire having suppressed high frequency resistance due to the skin effect may be used. The lead wire 15 may be, for example, a single wire of copper or aluminum.

送電コイルC2は、例えば、平板状の部材であるボビン(不図示)の溝にはめ込まれている。ボビンは、非磁性且つ非導電性の材料(例えばシリコーン又はポリフェニレンサルファイド樹脂など)によって形成される。そして、ボビンがベース27に固定されることにより、筐体25の収容空間の内部における送電コイルC2の位置が定まる。なお、必要に応じて、ボビンとベース27との間に、フェライト板が設けられてもよい。換言すると、フェライト板は、送電コイルC2とベース27との間に配置されてもよい。 The power transmission coil C2 is fitted, for example, in a groove of a bobbin (not shown) which is a flat plate-shaped member. The bobbin is formed of a non-magnetic and non-conductive material (eg silicone or polyphenylene sulfide resin). Then, by fixing the bobbin to the base 27, the position of the power transmission coil C2 inside the accommodation space of the housing 25 is determined. If necessary, a ferrite plate may be provided between the bobbin and the base 27. In other words, the ferrite plate may be arranged between the power transmission coil C2 and the base 27.

ここで、複数の流体噴出孔Hの構成について具体的に説明する。複数の流体噴出孔Hのそれぞれは、例えば、表面26aから裏面26bまでカバー26を上下方向に貫通している。流体噴出孔Hの内径は、例えば、裏面26bから表面26aに近づくにつれて徐々に大きくなっている。したがって、表面26aにおける流体噴出孔Hの開口Haは、裏面26bにおける流体噴出孔Hの開口よりも大きい。 Here, the configuration of the plurality of fluid ejection holes H will be specifically described. Each of the plurality of fluid ejection holes H penetrates the cover 26 in the vertical direction from the front surface 26a to the back surface 26b, for example. The inner diameter of the fluid ejection hole H gradually increases as it approaches the front surface 26a from the back surface 26b, for example. Therefore, the opening Ha of the fluid ejection hole H on the front surface 26a is larger than the opening of the fluid ejection hole H on the back surface 26b.

図3に示すように、複数の流体噴出孔Hの開口Haは、表面26aの互いに異なる位置にそれぞれ設けられている。流体噴出孔Hの開口Haは、例えば円形状をなしているが、他の形状をなしていてもよい。図3に示す例では、各流体噴出孔Hの開口Haは、表面26aの中心点を中心として放射状に並ぶように設けられている。言い換えると、各流体噴出孔Hは、表面26aの中心点を中心とする周方向に沿って所定の間隔を空けて並ぶと共に、当該中心点を中心とする径方向に沿って所定の間隔を空けて並んでいる。なお、表面26aの法線方向から見て、表面26aの中心点が導線15の巻軸上に位置する場合、当該中心点は、表面26aと導線15の巻軸との交点に一致する。 As shown in FIG. 3, the openings Ha of the plurality of fluid ejection holes H are provided at different positions on the surface 26a. The opening Ha of the fluid ejection hole H has, for example, a circular shape, but may have another shape. In the example shown in FIG. 3, the openings Ha of each fluid ejection hole H are provided so as to be arranged radially with respect to the center point of the surface 26a. In other words, the fluid ejection holes H are lined up at predetermined intervals along the circumferential direction centered on the center point of the surface 26a, and at a predetermined interval along the radial direction centered on the center point. Lined up. When the center point of the surface 26a is located on the winding axis of the conducting wire 15 when viewed from the normal direction of the surface 26a, the center point coincides with the intersection of the surface 26a and the winding axis of the conducting wire 15.

図3において、複数の流体噴出孔Hのうち1つの流体噴出孔H1の開口Haは、表面26aにおける中心に配置されている。複数の流体噴出孔Hのうち流体噴出孔H1を除く複数の流体噴出孔H2及びH3の開口Haは、流体噴出孔H1の開口Haを取り囲むように配置されている。各流体噴出孔H2の開口Haは、表面26aの中心点を中心とする径方向において流体噴出孔H1から一定距離離れており、当該中心点を中心とする周方向において等間隔で並んでいる。 In FIG. 3, the opening Ha of one of the plurality of fluid ejection holes H of the fluid ejection hole H1 is arranged at the center of the surface 26a. Of the plurality of fluid ejection holes H, the openings Ha of the plurality of fluid ejection holes H2 and H3 other than the fluid ejection holes H1 are arranged so as to surround the openings Ha of the fluid ejection holes H1. The openings Ha of each fluid ejection hole H2 are separated from the fluid ejection hole H1 by a certain distance in the radial direction centered on the center point of the surface 26a, and are arranged at equal intervals in the circumferential direction centered on the center point.

各流体噴出孔H3の開口Haは、各流体噴出孔H2の開口Haを取り囲んでいる。具体的には、各流体噴出孔H3の開口Haは、上記中心点を中心とする径方向において各流体噴出孔H2の開口Haよりも遠い位置に配置されており、当該中心点を中心とする周方向において等間隔で並んでいる。なお、各流体噴出孔Hの開口Haの配置は、図3に示す例に限られない。例えば、各流体噴出孔Hの開口Haは、表面26aの中心点以外の点を中心として放射状に並んでもよいし、放射状に並ばずに不規則に並んでいてもよい。以下の説明において、流体噴出孔H1,H2及びH3のそれぞれを特に区別して説明しない場合には、流体噴出孔H1,H2及びH3のそれぞれを単に流体噴出孔Hと呼ぶ。 The opening Ha of each fluid ejection hole H3 surrounds the opening Ha of each fluid ejection hole H2. Specifically, the opening Ha of each fluid ejection hole H3 is arranged at a position farther than the opening Ha of each fluid ejection hole H2 in the radial direction centered on the center point, and is centered on the center point. They are lined up at equal intervals in the circumferential direction. The arrangement of the openings Ha of each fluid ejection hole H is not limited to the example shown in FIG. For example, the openings Ha of each fluid ejection hole H may be arranged radially around a point other than the center point of the surface 26a, or may be arranged irregularly instead of being arranged radially. In the following description, when each of the fluid ejection holes H1, H2 and H3 is not particularly distinguished and described, each of the fluid ejection holes H1, H2 and H3 is simply referred to as a fluid ejection hole H.

また、図3は、表面26aの中心点付近に異物Mが付着した例を示している。図3に示す例では、異物Mは、流体噴出孔H1の開口Haの一部を塞いでいる。異物Mが表面26aに付着する箇所は図3に示す例に限られず、異物Mは、表面26aのあらゆる位置に付着することが想定される。例えば、異物Mは、流体噴出孔H1の開口Haの一部のみではなく流体噴出孔H1の開口Haの全部を塞ぐ場合もあり得るし、流体噴出孔H1の開口Haではなく流体噴出孔H2及び/又はH3の開口Haを塞ぐ場合もあり得る。 Further, FIG. 3 shows an example in which the foreign matter M adheres to the vicinity of the center point of the surface 26a. In the example shown in FIG. 3, the foreign matter M closes a part of the opening Ha of the fluid ejection hole H1. The location where the foreign matter M adheres to the surface 26a is not limited to the example shown in FIG. 3, and it is assumed that the foreign matter M adheres to any position on the surface 26a. For example, the foreign matter M may block not only a part of the opening Ha of the fluid ejection hole H1 but also the entire opening Ha of the fluid ejection hole H1, and the fluid ejection hole H2 and the fluid ejection hole H2 instead of the opening Ha of the fluid ejection hole H1. / Or it may block the opening Ha of H3.

図2に示すように、除去部30は、各流体噴出孔Hに接続されている。除去部30は、各流体噴出孔Hに流体Fを供給し、各流体噴出孔Hの開口Haから流体Fを噴出させる。流体Fは、例えば海水である。しかし、流体Fは、河川水又は湖水などの海水以外の水であってもよいし、水以外の物質を含んでもよい。或いは、流体Fは、空気などの気体であってもよい。なお、図2に示す例では、流体噴出孔H1の開口Haから噴出する流体Fを流体F1として示し、各流体噴出孔H2の開口Haから噴出する流体Fを流体F2として示し、各流体噴出孔H3の開口Haから噴出する流体Fを流体F3として示している。以下の説明において、流体F1,F2及びF3のそれぞれを特に区別して説明しない場合には、流体F1,F2及びF3のそれぞれを単に流体Fと呼ぶ。 As shown in FIG. 2, the removing portion 30 is connected to each fluid ejection hole H. The removing unit 30 supplies the fluid F to each fluid ejection hole H, and ejects the fluid F from the opening Ha of each fluid ejection hole H. The fluid F is, for example, seawater. However, the fluid F may be water other than seawater such as river water or lake water, or may contain a substance other than water. Alternatively, the fluid F may be a gas such as air. In the example shown in FIG. 2, the fluid F ejected from the opening Ha of the fluid ejection hole H1 is shown as the fluid F1, the fluid F ejected from the opening Ha of each fluid ejection hole H2 is shown as the fluid F2, and each fluid ejection hole is shown. The fluid F ejected from the opening Ha of H3 is shown as the fluid F3. In the following description, unless each of the fluids F1, F2 and F3 is particularly distinguished and described, each of the fluids F1, F2 and F3 is simply referred to as a fluid F.

除去部30は、例えば、ポンプ31と、複数の配管32と、複数のバルブ33と、複数のセンサ34と、制御部35と、を含んでいる。ポンプ31及び複数のバルブ33は、流体供給部36を構成する。ポンプ31は、制御部35と電気的に接続されている。ポンプ31は、制御部35から入力される制御信号S1に従って、コイル装置10の外部の流体Fを吸い上げ、吸い上げた流体Fを各配管32に供給する。ポンプ31は、流体Fを各配管32に供給可能なものであれば、どのような構成を有してもよい。 The removing unit 30 includes, for example, a pump 31, a plurality of pipes 32, a plurality of valves 33, a plurality of sensors 34, and a control unit 35. The pump 31 and the plurality of valves 33 constitute a fluid supply unit 36. The pump 31 is electrically connected to the control unit 35. The pump 31 sucks up the fluid F outside the coil device 10 according to the control signal S1 input from the control unit 35, and supplies the sucked up fluid F to each pipe 32. The pump 31 may have any configuration as long as the fluid F can be supplied to each pipe 32.

各配管32は、ポンプ31を各流体噴出孔Hに接続している。配管32の一端はバルブ33に接続されており、配管32の他端は、裏面26bにおける各流体噴出孔Hの開口に接続されている。配管32の一端側の部分は、コイル装置10の外部に設けられており、配管32の他端側の部分は、コイル装置10の内部に設けられている。配管32は、例えば、その全体が樹脂などの非磁性且つ非導電性の材料によって構成されている。しかし、コイル装置10の外部に設けられる配管32の一端側の部分と、コイル装置10の内部に設けられる配管32の他端側の部分とが、互いに異なる材料によって構成されてもよい。例えば、配管32の他端側の部分のみが、送電コイルC2が発生する磁束に影響を与えないよう非磁性且つ非導電性の材料によって構成される一方、配管32の一端側の部分は、導電性及び/又は磁性を有する材料であってもよい。 Each pipe 32 connects the pump 31 to each fluid ejection hole H. One end of the pipe 32 is connected to the valve 33, and the other end of the pipe 32 is connected to the opening of each fluid ejection hole H on the back surface 26b. A portion on one end side of the pipe 32 is provided outside the coil device 10, and a portion on the other end side of the pipe 32 is provided inside the coil device 10. The entire pipe 32 is made of, for example, a non-magnetic and non-conductive material such as resin. However, the portion on one end side of the pipe 32 provided outside the coil device 10 and the portion on the other end side of the pipe 32 provided inside the coil device 10 may be made of different materials. For example, only the other end portion of the pipe 32 is made of a non-magnetic and non-conductive material so as not to affect the magnetic flux generated by the power transmission coil C2, while the one end side portion of the pipe 32 is conductive. It may be a material having properties and / or magnetism.

複数のバルブ33は、複数の配管32にそれぞれ設けられている。すなわち、各バルブ33は、ポンプ31と各流体噴出孔Hとの間の各流路上に設けられている。バルブ33は、ポンプ31と流体噴出孔Hとの間の流路を開閉する自動弁であり、例えば電磁弁である。バルブ33は、制御部35により開閉制御される。バルブ33の出力は、制御部35から入力される制御信号S2に従って制御される。本実施形態において、バルブ33の「出力」とは、バルブ33の「開度」を意味する。バルブ33は、その開度を変更することにより、流体噴出孔Hに供給される流体Fの流量又は圧力を調整することができる。したがって、バルブ33の「出力」をバルブ33から流体噴出孔Hに供給される流体Fの「流量」又は「圧力」と置き換えてもよい。 The plurality of valves 33 are provided in the plurality of pipes 32, respectively. That is, each valve 33 is provided on each flow path between the pump 31 and each fluid ejection hole H. The valve 33 is an automatic valve that opens and closes the flow path between the pump 31 and the fluid ejection hole H, and is, for example, a solenoid valve. The valve 33 is opened and closed controlled by the control unit 35. The output of the valve 33 is controlled according to the control signal S2 input from the control unit 35. In the present embodiment, the "output" of the valve 33 means the "opening" of the valve 33. The valve 33 can adjust the flow rate or pressure of the fluid F supplied to the fluid ejection hole H by changing the opening degree thereof. Therefore, the "output" of the valve 33 may be replaced with the "flow rate" or "pressure" of the fluid F supplied from the valve 33 to the fluid ejection hole H.

複数のセンサ34は、複数の配管32にそれぞれ設けられている。具体的には、各センサ34は、各バルブ33と各流体噴出孔Hとの間の各流路上に設けられている。センサ34は、バルブ33から配管32に供給される流体Fの流量又は圧力を検出値として検出し、当該検出値を示すデータDを制御部35に出力する。本実施形態では、センサ34として、流体Fの流量を検出する流量センサ(フローメータ)が用いられる場合を例示する。したがって、本実施形態では、センサ34は、バルブ33から流体噴出孔Hに供給される流体Fの流量を示すデータDを制御部35に出力する。各センサ34は、各バルブ33から流体噴出孔Hに供給される流体Fの流量を示す各データDをまとめて制御部35に出力してもよいし、各データDを制御部35に順次出力してもよい。なお、センサ34は、流体Fの圧力を検出する圧力センサであってもよい。この場合、センサ34は、バルブ33から流体噴出孔Hに供給される流体Fの圧力を示すデータDを制御部35に出力する。 The plurality of sensors 34 are provided in the plurality of pipes 32, respectively. Specifically, each sensor 34 is provided on each flow path between each valve 33 and each fluid ejection hole H. The sensor 34 detects the flow rate or pressure of the fluid F supplied from the valve 33 to the pipe 32 as a detected value, and outputs data D indicating the detected value to the control unit 35. In this embodiment, a case where a flow rate sensor (flow meter) for detecting the flow rate of the fluid F is used as the sensor 34 is illustrated. Therefore, in the present embodiment, the sensor 34 outputs data D indicating the flow rate of the fluid F supplied from the valve 33 to the fluid ejection hole H to the control unit 35. Each sensor 34 may collectively output each data D indicating the flow rate of the fluid F supplied from each valve 33 to the fluid ejection hole H to the control unit 35, or output each data D to the control unit 35 in sequence. You may. The sensor 34 may be a pressure sensor that detects the pressure of the fluid F. In this case, the sensor 34 outputs data D indicating the pressure of the fluid F supplied from the valve 33 to the fluid ejection hole H to the control unit 35.

制御部35は、例えば、CPU(Central Processing Unit)、ROM(Read Only Memory)、及びRAM(Random Access Memory)等のハードウェアと、ROMに記憶されたプログラムなどのソフトウェアとより構成されたコンピュータである。制御部35は、ポンプ31、各バルブ33、及び各センサ34と電気的に接続されている。制御部35は、ポンプ31の動作を制御すると共に、各センサ34から出力される各データDに基づいて各バルブ33の開度を制御する。 The control unit 35 is, for example, a computer composed of hardware such as a CPU (Central Processing Unit), a ROM (Read Only Memory), and a RAM (Random Access Memory), and software such as a program stored in the ROM. is there. The control unit 35 is electrically connected to the pump 31, each valve 33, and each sensor 34. The control unit 35 controls the operation of the pump 31 and controls the opening degree of each valve 33 based on the data D output from each sensor 34.

図4に示すように、制御部35は、例えば、設定部40と、判定部41と、調整部42とを含んでいる。設定部40は、ポンプ31の動作条件を設定する。具体的には、設定部40は、ポンプ31が吸い上げる流体Fの流量又は圧力、ポンプ31が吸い上げるタイミング、及びポンプ31が吸い上げる時間などを指定する制御信号S1をポンプ31に出力する。また、調整部42は、各バルブ33の開度を指定する制御信号S2を各バルブ33に出力する。調整部42は、制御信号S2によって、各バルブ33の開度を第1の開度(第1の出力)に設定する。 As shown in FIG. 4, the control unit 35 includes, for example, a setting unit 40, a determination unit 41, and an adjustment unit 42. The setting unit 40 sets the operating conditions of the pump 31. Specifically, the setting unit 40 outputs to the pump 31 a control signal S1 that specifies the flow rate or pressure of the fluid F sucked up by the pump 31, the timing at which the pump 31 sucks, the time at which the pump 31 sucks, and the like. Further, the adjusting unit 42 outputs a control signal S2 for designating the opening degree of each valve 33 to each valve 33. The adjusting unit 42 sets the opening degree of each valve 33 to the first opening degree (first output) by the control signal S2.

設定部40がポンプ31の動作条件を設定し、調整部42が各バルブ33の開度を調整することによって、各流体噴出孔Hから噴出する流体Fの流量又は圧力、各流体噴出孔Hから流体Fが噴出するタイミング、及び、各流体噴出孔Hから流体Fが噴出する時間などが設定される。これに従って、一定の流量の流体Fが各流体噴出孔Hから連続的又は間欠的に噴出する。調整部42が各バルブ33の開度を上記の第1の開度に設定するとき、第1の開度に応じた流量又は圧力の流体Fが各流体噴出孔Hの開口Haから噴出する。第1の開度は、表面26a上の異物Mの有無を確認するために必要な流量又は圧力の流体Fを送出できる開度であればよい。 The setting unit 40 sets the operating conditions of the pump 31, and the adjusting unit 42 adjusts the opening degree of each valve 33, so that the flow rate or pressure of the fluid F ejected from each fluid ejection hole H and from each fluid ejection hole H The timing at which the fluid F is ejected, the time during which the fluid F is ejected from each fluid ejection hole H, and the like are set. Accordingly, a constant flow rate of fluid F is continuously or intermittently ejected from each fluid ejection hole H. When the adjusting unit 42 sets the opening degree of each valve 33 to the above-mentioned first opening degree, the fluid F having a flow rate or pressure corresponding to the first opening degree is ejected from the opening Ha of each fluid ejection hole H. The first opening degree may be an opening degree capable of delivering the fluid F having a flow rate or pressure required for confirming the presence or absence of foreign matter M on the surface 26a.

判定部41は、センサ34からのデータDが示す検出値が所定の条件を満たすか否かを判定することによって、表面26a上に異物Mが存在するか否かを判定する。本実施形態のように検出値が流体Fの流量を示す場合、「所定の条件」は、流体Fの流量が所定の閾値以上であることである。「所定の閾値」とは、バルブ33の開度が第1の開度であるときに、異物Mによって塞がれていない状態の流体噴出孔Hに供給される流体Fの流量値である。「所定の閾値」は、異物Mによって塞がれていない状態の流体噴出孔Hに供給される流体Fの流量値のばらつき範囲の下限値としてもよい。本実施形態では、判定部41は、各流体噴出孔Hに供給される流体Fの流量が所定の閾値以上であるか否かを判定する。判定部41は、各流体噴出孔Hに供給される流体Fの流量を各流体噴出孔Hごとに1つずつ順次判定してもよいし、各流体噴出孔Hに供給される流体Fの流量をまとめて一度に判定してもよい。 The determination unit 41 determines whether or not the foreign matter M is present on the surface 26a by determining whether or not the detected value indicated by the data D from the sensor 34 satisfies a predetermined condition. When the detected value indicates the flow rate of the fluid F as in the present embodiment, the "predetermined condition" is that the flow rate of the fluid F is equal to or higher than a predetermined threshold value. The “predetermined threshold value” is a flow rate value of the fluid F supplied to the fluid ejection hole H in a state where the valve 33 is not blocked by the foreign matter M when the opening degree of the valve 33 is the first opening degree. The "predetermined threshold value" may be the lower limit of the variation range of the flow rate value of the fluid F supplied to the fluid ejection hole H in a state where it is not blocked by the foreign matter M. In the present embodiment, the determination unit 41 determines whether or not the flow rate of the fluid F supplied to each fluid ejection hole H is equal to or greater than a predetermined threshold value. The determination unit 41 may sequentially determine the flow rate of the fluid F supplied to each fluid ejection hole H, one for each fluid ejection hole H, or the flow rate of the fluid F supplied to each fluid ejection hole H. May be judged at once.

なお、検出値が流体Fの圧力を示す場合、「所定の条件」は、流体Fの圧力が所定の閾値以下であることである。この場合、「所定の閾値」とは、バルブ33の開度が第1の開度であるときに、異物Mによって塞がれていない状態の流体噴出孔Hに供給される流体Fの圧力値である。「所定の閾値」は、異物Mによって塞がれていない状態の流体噴出孔Hに供給される流体Fの圧力値のばらつき範囲の上限値としてもよい。 When the detected value indicates the pressure of the fluid F, the "predetermined condition" is that the pressure of the fluid F is equal to or less than a predetermined threshold value. In this case, the "predetermined threshold value" is the pressure value of the fluid F supplied to the fluid ejection hole H in a state where it is not blocked by the foreign matter M when the opening degree of the valve 33 is the first opening degree. Is. The "predetermined threshold value" may be an upper limit value of a variation range of the pressure value of the fluid F supplied to the fluid ejection hole H in a state where it is not blocked by the foreign matter M.

判定部41が、流体噴出孔Hに供給される流体Fの流量が所定の閾値以上であると判定した場合、つまり検出値が所定の条件を満たすと判定した場合、調整部42は、各バルブ33の開度を第1の開度に保持する。一方、判定部41が、流体噴出孔Hに供給される流体Fの流量が所定の閾値以上でないと判定した場合、つまり、検出値が所定の条件を満たさないと判定した場合、調整部42は、複数の流体噴出孔Hのうち、所定の閾値以上でないと判定された流量の流体Fが供給される対象流体噴出孔を特定する。 When the determination unit 41 determines that the flow rate of the fluid F supplied to the fluid ejection hole H is equal to or higher than a predetermined threshold value, that is, when the determination unit determines that the detected value satisfies the predetermined condition, the adjustment unit 42 sets each valve. The opening degree of 33 is held at the first opening degree. On the other hand, when the determination unit 41 determines that the flow rate of the fluid F supplied to the fluid ejection hole H is not equal to or higher than a predetermined threshold value, that is, when it is determined that the detected value does not satisfy the predetermined condition, the adjustment unit 42 determines. Among the plurality of fluid ejection holes H, the target fluid ejection hole to which the fluid F having a flow rate determined not to be equal to or higher than a predetermined threshold value is supplied is specified.

図2及び図3に示す例では、表面26aの中心に位置する流体噴出孔H1の開口Haのみが異物Mによって塞がれているので、判定部41は、流体噴出孔H1に供給される流体Fの流量のみが所定の閾値以上でないと判定する。この場合、調整部42は、複数の流体噴出孔Hのうち流体噴出孔H1のみを対象流体噴出孔として特定する。調整部42が対象流体噴出孔を特定することによって、表面26aにおける異物Mの位置を把握することができる。所定の閾値以上でないと判定された流量の流体Fが供給される流体噴出孔Hが複数存在する場合には、調整部42は、その複数の流体噴出孔Hのそれぞれを対象流体噴出孔として特定する。この場合、調整部42が各対象流体噴出孔を特定することによって、表面26a上に存在する異物Mの大きさ、或いは異物Mが付着している領域を把握することができる。 In the examples shown in FIGS. 2 and 3, only the opening Ha of the fluid ejection hole H1 located at the center of the surface 26a is blocked by the foreign matter M, so that the determination unit 41 determines the fluid supplied to the fluid ejection hole H1. It is determined that only the flow rate of F is not equal to or higher than a predetermined threshold value. In this case, the adjusting unit 42 specifies only the fluid ejection hole H1 among the plurality of fluid ejection holes H as the target fluid ejection hole. By specifying the target fluid ejection hole by the adjusting unit 42, the position of the foreign matter M on the surface 26a can be grasped. When there are a plurality of fluid ejection holes H to which a fluid F having a flow rate determined not to be equal to or higher than a predetermined threshold value is supplied, the adjusting unit 42 specifies each of the plurality of fluid ejection holes H as a target fluid ejection hole. To do. In this case, by specifying each target fluid ejection hole by the adjusting unit 42, the size of the foreign matter M existing on the surface 26a or the region to which the foreign matter M is attached can be grasped.

調整部42が流体噴出孔H1を対象流体噴出孔として特定すると、調整部42は、流体噴出孔H1に対応するバルブ33の開度を変更する。具体的には、調整部42は、流体噴出孔H1に対応するバルブ33の開度を、第1の開度から第1の開度よりも大きい第2の開度(第2の出力)に変更する。第2の開度は、第1の開度よりも大きければよく、バルブの開度が最も大きい全開開度であってもよいし、全開開度よりも小さい開度であってもよい。このように、流体噴出孔H1に対応するバルブ33の開度を大きくすることによって、流体噴出孔H1の開口Haから噴出する流体F1の流速を大きくすることができる。これにより、流体噴出孔H1の開口Haを塞いでいた異物Mを引き剥しやすくすることができる。 When the adjusting unit 42 specifies the fluid ejection hole H1 as the target fluid ejection hole, the adjusting unit 42 changes the opening degree of the valve 33 corresponding to the fluid ejection hole H1. Specifically, the adjusting unit 42 changes the opening degree of the valve 33 corresponding to the fluid ejection hole H1 from the first opening degree to the second opening degree (second output) larger than the first opening degree. change. The second opening may be larger than the first opening, and may be the fully open opening with the largest valve opening, or may be smaller than the fully open opening. In this way, by increasing the opening degree of the valve 33 corresponding to the fluid ejection hole H1, the flow velocity of the fluid F1 ejected from the opening Ha of the fluid ejection hole H1 can be increased. As a result, the foreign matter M that has blocked the opening Ha of the fluid ejection hole H1 can be easily peeled off.

更に、調整部42は、流体噴出孔H1を取り囲む各流体噴出孔H2及びH3に対応する各バルブ33の開度も変更する。具体的には、調整部42は、各流体噴出孔H2及びH3に対応する各バルブ33の開度を、各流体噴出孔H2及びH3が流体噴出孔H1から遠ざかるにつれて小さくなるように調整する。より具体的には、調整部42は、各流体噴出孔H2に対応する各バルブ33の開度を第1の開度から第2の開度よりも小さい第3の開度(第3の出力)に変更し、各流体噴出孔H3に対応する各バルブ33の開度を第1の開度から第3の開度よりも更に小さい第4の開度(第3の出力)に変更する。 Further, the adjusting unit 42 also changes the opening degree of each valve 33 corresponding to each fluid ejection hole H2 and H3 surrounding the fluid ejection hole H1. Specifically, the adjusting unit 42 adjusts the opening degree of each valve 33 corresponding to each fluid ejection hole H2 and H3 so that each fluid ejection hole H2 and H3 becomes smaller as the distance from the fluid ejection hole H1. More specifically, the adjusting unit 42 sets the opening degree of each valve 33 corresponding to each fluid ejection hole H2 from the first opening degree to a third opening degree smaller than the second opening degree (third output). ), And the opening degree of each valve 33 corresponding to each fluid ejection hole H3 is changed from the first opening degree to the fourth opening degree (third output) which is smaller than the third opening degree.

その結果、図2に示すように、流体噴出孔H1の開口Haから噴出する流体F1の流速が最大となり、各流体噴出孔H2の開口Haから噴出する流体F2の流速が流体F1の流速よりも小さくなり、各流体噴出孔H3の開口Haから噴出する流体F3の流速が流体F2の流速よりも更に小さくなる。つまり、各流体噴出孔Hから噴出する流体Fの流速は、流体噴出孔Hが流体噴出孔H1から遠ざかるにつれて徐々に小さくなる。このように、流体噴出孔H1から遠い流体噴出孔Hほど流体Fの流速が小さくなることによって、流体噴出孔H1から引き剥した異物Mを、流体噴出孔H1の外方、すなわち表面26aの中心から周縁に向かう方向に移動させやすくすることができる。これにより、引き剥した異物Mが再度表面26aに付着して別の流体噴出孔H2及びH3を塞いでしまうような事態を抑制できる。なお、調整部42は、必ずしも、各流体噴出孔H2及びH3に対応する各バルブ33の開度を変更する必要は無く、流体噴出孔H1に対応するバルブ33の開度のみを変更してもよい。 As a result, as shown in FIG. 2, the flow velocity of the fluid F1 ejected from the opening Ha of the fluid ejection hole H1 becomes maximum, and the flow velocity of the fluid F2 ejected from the opening Ha of each fluid ejection hole H2 is larger than the flow velocity of the fluid F1. The flow rate of the fluid F3 ejected from the opening Ha of each fluid ejection hole H3 becomes smaller than the flow velocity of the fluid F2. That is, the flow velocity of the fluid F ejected from each fluid ejection hole H gradually decreases as the fluid ejection hole H moves away from the fluid ejection hole H1. As described above, the flow velocity of the fluid F becomes smaller as the fluid ejection hole H is farther from the fluid ejection hole H1, so that the foreign matter M peeled off from the fluid ejection hole H1 is moved to the outside of the fluid ejection hole H1, that is, the center of the surface 26a. It can be easily moved in the direction from to the periphery. As a result, it is possible to suppress a situation in which the peeled foreign matter M adheres to the surface 26a again and blocks the other fluid ejection holes H2 and H3. The adjusting unit 42 does not necessarily have to change the opening degree of each valve 33 corresponding to each fluid ejection hole H2 and H3, and even if only the opening degree of the valve 33 corresponding to the fluid ejection hole H1 is changed. Good.

上記のように、調整部42がバルブの開度を調整することによって、各流体噴出孔Hから噴出する流体Fの流速を調整することが可能であるが、各流体噴出孔Hの開口Haの内径を調整することによって、各流体噴出孔Hの開口Haから噴出する流体Fの流速を調整することも可能である。例えば、各流体噴出孔Hの開口Haの内径を、流体噴出孔Hが流体噴出孔H1(第1流体噴出孔)から遠ざかるにつれて大きくする。具体的には、流体噴出孔H2(第2流体噴出孔)の開口Haの内径を、流体噴出孔H1の開口Haの内径よりも大きくし、流体噴出孔H3(第2流体噴出孔)の開口Haの内径を、流体噴出孔H2の開口Haの内径よりも更に大きくする。流体噴出孔Hの開口Haの内径が大きくするほど、流体噴出孔Hの開口Haから噴出する流体Fの流速を小さくすることができる。 As described above, the adjusting unit 42 can adjust the flow velocity of the fluid F ejected from each fluid ejection hole H by adjusting the opening degree of the valve, but the opening Ha of each fluid ejection hole H can be adjusted. By adjusting the inner diameter, it is also possible to adjust the flow velocity of the fluid F ejected from the opening Ha of each fluid ejection hole H. For example, the inner diameter of the opening Ha of each fluid ejection hole H is increased as the fluid ejection hole H moves away from the fluid ejection hole H1 (first fluid ejection hole). Specifically, the inner diameter of the opening Ha of the fluid ejection hole H2 (second fluid ejection hole) is made larger than the inner diameter of the opening Ha of the fluid ejection hole H1 to open the fluid ejection hole H3 (second fluid ejection hole). The inner diameter of Ha is made larger than the inner diameter of the opening Ha of the fluid ejection hole H2. The larger the inner diameter of the opening Ha of the fluid ejection hole H, the smaller the flow velocity of the fluid F ejected from the opening Ha of the fluid ejection hole H.

したがって、上記のように各流体噴出孔Hの開口Haの内径を調整すると、流体噴出孔H1の開口Haから噴出する流体F1の流速が最大となり、各流体噴出孔H2の開口Haから噴出する流体F2の流速が流体F1の流速よりも小さくなり、各流体噴出孔H3の開口Haから噴出する流体F3の流速が流体F2の流速よりも更に小さくなる。つまり、各流体噴出孔Hから噴出する流体Fの流速は、流体噴出孔Hが流体噴出孔H1から遠ざかるにつれて徐々に小さくなる。よって、このような構成であっても、流体噴出孔H1から遠い流体噴出孔Hほど流体Fの流速を小さくする態様を実現できる。 Therefore, when the inner diameter of the opening Ha of each fluid ejection hole H is adjusted as described above, the flow velocity of the fluid F1 ejected from the opening Ha of the fluid ejection hole H1 becomes maximum, and the fluid ejected from the opening Ha of each fluid ejection hole H2 becomes maximum. The flow velocity of F2 becomes smaller than the flow velocity of the fluid F1, and the flow velocity of the fluid F3 ejected from the opening Ha of each fluid ejection hole H3 becomes further smaller than the flow velocity of the fluid F2. That is, the flow velocity of the fluid F ejected from each fluid ejection hole H gradually decreases as the fluid ejection hole H moves away from the fluid ejection hole H1. Therefore, even with such a configuration, it is possible to realize an embodiment in which the flow velocity of the fluid F is reduced as the fluid ejection hole H is farther from the fluid ejection hole H1.

続いて、制御部35による制御方法を説明する。まず、図5に示すように、制御部35は、ポンプ31の動作条件を設定すると共に、各バルブ33の開度を第1の開度に設定する(手順P1)。ポンプ31は、設定部40からの制御信号S1に従って、コイル装置10の外部から一定の流量の流体Fを吸い上げ、吸い上げた流体Fを各バルブ33を介して各流体噴出孔Hに供給する。各流体噴出孔Hに供給される流体Fの流量又は圧力は、制御信号S2に従って設定された各バルブ33の開度に応じた流量となる。このようにして、制御部35は、各流体噴出孔Hの開口Haから一定の流量の流体Fを連続的又は間欠的に噴出させ、表面26a上に異物Mが存在するか否かの点検を行う(手順P2)。 Subsequently, a control method by the control unit 35 will be described. First, as shown in FIG. 5, the control unit 35 sets the operating conditions of the pump 31 and sets the opening degree of each valve 33 to the first opening degree (procedure P1). The pump 31 sucks up a fluid F having a constant flow rate from the outside of the coil device 10 according to the control signal S1 from the setting unit 40, and supplies the sucked up fluid F to each fluid ejection hole H via each valve 33. The flow rate or pressure of the fluid F supplied to each fluid ejection hole H becomes a flow rate corresponding to the opening degree of each valve 33 set according to the control signal S2. In this way, the control unit 35 continuously or intermittently ejects the fluid F having a constant flow rate from the opening Ha of each fluid ejection hole H, and checks whether or not the foreign matter M is present on the surface 26a. (Procedure P2).

次に、センサ34が、流体噴出孔Hに供給された流体Fの流量を検出値として検出し、当該検出値を示すデータDを制御部35に出力する(手順P3)。例えば、各センサ34は、各流体噴出孔Hに対する検出値を流体噴出孔Hごとに検出し、各検出値を示す各データDをまとめて制御部35に出力する。 Next, the sensor 34 detects the flow rate of the fluid F supplied to the fluid ejection hole H as a detection value, and outputs data D indicating the detection value to the control unit 35 (procedure P3). For example, each sensor 34 detects the detected value for each fluid ejection hole H for each fluid ejection hole H, and collectively outputs each data D indicating each detected value to the control unit 35.

次に、制御部35の判定部41が、各検出値に基づいて異物Mが表面26a上に存在するか否かを判定し、これにより、各流体噴出孔Hに供給される流体Fの流量が所定の閾値以上か否かを判定する(手順P4)。例えば、判定部41は、各流体噴出孔Hに供給される流体Fの流量をまとめて判定する。そして、判定部41は、各流体噴出孔Hに供給される流体Fの流量が全て所定の閾値以上であると判定した場合(手順P4においてYes)、異物Mが表面26a上に存在しないと判定する。この場合、調整部42は、各バルブ33の開度を第1の開度に維持する。その後、手順P1、手順P2及び手順P3が再度繰り返される。 Next, the determination unit 41 of the control unit 35 determines whether or not the foreign matter M exists on the surface 26a based on each detected value, and thereby, the flow rate of the fluid F supplied to each fluid ejection hole H. Determines whether or not is equal to or greater than a predetermined threshold value (procedure P4). For example, the determination unit 41 collectively determines the flow rate of the fluid F supplied to each fluid ejection hole H. Then, when the determination unit 41 determines that the flow rates of the fluids F supplied to each fluid ejection hole H are all equal to or higher than a predetermined threshold value (Yes in the procedure P4), the determination unit 41 determines that the foreign matter M does not exist on the surface 26a. To do. In this case, the adjusting unit 42 maintains the opening degree of each valve 33 at the first opening degree. After that, procedure P1, procedure P2 and procedure P3 are repeated again.

一方、判定部41は、所定の閾値以上でないと判定された流量の流体Fが供給される流体噴出孔Hが1つでもあった場合(手順P4においてNo)、異物Mが表面26a上に存在すると判定する。この場合、調整部42は、複数の流体噴出孔Hのうち、所定の閾値以上でないと判定された流量の流体Fが供給される対象流体噴出孔を特定する(手順P5)。本実施形態では、調整部42は、流体噴出孔H1を対象流体噴出孔として特定する。その後、調整部42は、流体噴出孔H1に対応するバルブ33の開度を第1の開度から第2の開度に変更する(手順P6)。このとき、調整部42は、各流体噴出孔H2に流体Fを供給する各バルブ33の開度を第3の開度に変更し、各流体噴出孔H3に流体Fを供給する各バルブ33の開度を第4の開度に変更する。 On the other hand, when the determination unit 41 has even one fluid ejection hole H to which the fluid F having a flow rate determined not to be equal to or higher than a predetermined threshold value is supplied (No in procedure P4), the foreign matter M is present on the surface 26a. Then it is determined. In this case, the adjusting unit 42 identifies, among the plurality of fluid ejection holes H, the target fluid ejection hole to which the fluid F having a flow rate determined not to be equal to or higher than a predetermined threshold value is supplied (procedure P5). In the present embodiment, the adjusting unit 42 specifies the fluid ejection hole H1 as the target fluid ejection hole. After that, the adjusting unit 42 changes the opening degree of the valve 33 corresponding to the fluid ejection hole H1 from the first opening degree to the second opening degree (procedure P6). At this time, the adjusting unit 42 changes the opening degree of each valve 33 that supplies the fluid F to each fluid ejection hole H2 to a third opening degree, and the adjusting unit 42 of each valve 33 that supplies the fluid F to each fluid ejection hole H3. The opening degree is changed to the fourth opening degree.

その後、手順P2に再度戻り、手順P2,P3及びP4が再度繰り返される。そして、手順P4において流体Fの流量が所定の閾値以上であると判定された場合、表面26aに付着していた異物Mが除去されたと判断できる。この場合、手順P1に戻り、各バルブ33の開度が第1の開度に再度設定され、手順P2,P3及びP4が再度繰り返される。一方、手順P4において流体Fの流量が所定の閾値以上でないと判定された場合は、表面26aに付着していた異物Mを引き剥すことができていないか、或いは、引き剥した異物Mが表面26aの別の位置に移動して再度付着したと判断できる。この場合、手順P5及びP6が再度繰り返される。なお、手順P5及びP6が繰り返される度に、手順P6において、流体噴出孔H1に対応するバルブ33の第2の開度の大きさを徐々に大きくしてもよい。これにより、表面26a上からの異物Mの除去をより確実に行なうことができる。 After that, the process returns to step P2, and steps P2, P3 and P4 are repeated again. Then, when it is determined in the procedure P4 that the flow rate of the fluid F is equal to or higher than a predetermined threshold value, it can be determined that the foreign matter M adhering to the surface 26a has been removed. In this case, the procedure returns to P1, the opening degree of each valve 33 is set to the first opening degree again, and the procedures P2, P3 and P4 are repeated again. On the other hand, when it is determined in the procedure P4 that the flow rate of the fluid F is not equal to or higher than a predetermined threshold value, the foreign matter M adhering to the surface 26a cannot be peeled off, or the peeled foreign matter M is on the surface. It can be determined that it has moved to another position of 26a and has adhered again. In this case, steps P5 and P6 are repeated again. Each time the procedures P5 and P6 are repeated, the size of the second opening degree of the valve 33 corresponding to the fluid ejection hole H1 may be gradually increased in the procedure P6. As a result, the foreign matter M can be more reliably removed from the surface 26a.

図5の示す例では、手順P3において、各センサ34が、各検出値を示す各データDをまとめて制御部35に出力し、手順P4において、判定部41が、各流体噴出孔Hに供給される流体Fの流量をまとめて判定している。しかし、各センサ34は、各データDを流体噴出孔Hごとに順次出力してもよく、判定部41は、流体Fの流量の判定を流体噴出孔Hごとに順次行ってもよい。つまり、判定部41は、いずれか1つの流体噴出孔Hに供給される流体Fの流量の判定を行った後、次の流体噴出孔Hに供給される流体Fの流量の判定を行い、これを繰り返してもよい。このように、判定部41が流体Fの流量の判定を各流体噴出孔Hに対して1つずつ行う場合、調整部42は、対象流体噴出孔の特定を行う必要が無いので、上記の手順P5を省略できる。 In the example shown in FIG. 5, in the procedure P3, each sensor 34 collectively outputs each data D indicating each detected value to the control unit 35, and in the procedure P4, the determination unit 41 supplies each fluid ejection hole H. The flow rate of the fluid F to be produced is collectively determined. However, each sensor 34 may sequentially output each data D for each fluid ejection hole H, and the determination unit 41 may sequentially determine the flow rate of the fluid F for each fluid ejection hole H. That is, the determination unit 41 determines the flow rate of the fluid F supplied to any one of the fluid ejection holes H, and then determines the flow rate of the fluid F supplied to the next fluid ejection hole H. May be repeated. In this way, when the determination unit 41 determines the flow rate of the fluid F one by one for each fluid ejection hole H, the adjusting unit 42 does not need to specify the target fluid ejection hole, and thus the above procedure. P5 can be omitted.

以上説明した、本実施形態に係る異物除去装置20及びコイル装置10の作用・効果について説明する。異物除去装置20では、表面26aの互いに異なる位置に開口Haがそれぞれ設けられた複数の流体噴出孔Hに除去部30が接続されている。除去部30は、各流体噴出孔Hの開口Haから流体Fを噴出させる。これにより、表面26a上に異物Mが存在する場合に、表面26a上から異物Mを除去することが可能となる。更に、流体噴出孔Hの開口Haにバルブ33を接続する流路上にセンサ34が設けられており、センサ34は、流路を流れる流体Fの流量を検出値として検出する。異物Mが流体噴出孔H上に存在する場合、流体噴出孔Hに対応する検出値が変動して異常な値となる。したがって、この検出値を監視することによって、流体噴出孔H上に異物Mが存在するか否かを判定できる。つまり、流体Fの噴出による異物Mの除去を行うことができたか否かを確認できる。その結果、流体噴出孔H上からの異物Mの除去をより確実に行うことができる。 The actions and effects of the foreign matter removing device 20 and the coil device 10 according to the present embodiment described above will be described. In the foreign matter removing device 20, the removing portion 30 is connected to a plurality of fluid ejection holes H each of which has openings Ha at different positions on the surface 26a. The removing unit 30 ejects the fluid F from the opening Ha of each fluid ejection hole H. As a result, when the foreign matter M is present on the surface 26a, the foreign matter M can be removed from the surface 26a. Further, a sensor 34 is provided on the flow path connecting the valve 33 to the opening Ha of the fluid ejection hole H, and the sensor 34 detects the flow rate of the fluid F flowing through the flow path as a detection value. When the foreign matter M is present on the fluid ejection hole H, the detected value corresponding to the fluid ejection hole H fluctuates and becomes an abnormal value. Therefore, by monitoring this detected value, it is possible to determine whether or not the foreign matter M is present on the fluid ejection hole H. That is, it can be confirmed whether or not the foreign matter M can be removed by ejecting the fluid F. As a result, the foreign matter M can be more reliably removed from the fluid ejection hole H.

除去部30は、検出値に基づいてバルブ33の出力を制御する制御部35を含んでいる。制御部35は、異物Mが流体噴出孔H上に存在する場合に、流体噴出孔Hに対応するバルブ33の出力を大きくなるように制御することができる。これにより、流体噴出孔Hから噴出する流体Fの流速を大きくすることができる。その結果、流体噴出孔H上からの異物Mの除去をより確実に行うことができる。 The removal unit 30 includes a control unit 35 that controls the output of the valve 33 based on the detected value. The control unit 35 can control the output of the valve 33 corresponding to the fluid ejection hole H so as to increase when the foreign matter M is present on the fluid ejection hole H. As a result, the flow velocity of the fluid F ejected from the fluid ejection hole H can be increased. As a result, the foreign matter M can be more reliably removed from the fluid ejection hole H.

制御部35は、検出値が所定の条件を満たすか否かを判定することによって、表面26a上に異物Mが存在するか否かを判定する判定部41と、判定部41による判定結果に基づいて、バルブ33の開度を調整する調整部42と、を含み、調整部42は、表面26a上に異物Mが存在しないと判定された場合には、各バルブ33の開度を第1の開度に設定し、表面26a上に異物Mが存在すると判定された場合には、複数の流体噴出孔Hのうち、検出値が所定の条件を満たさないと判定された流体噴出孔H1を特定し、流体噴出孔H1に対応するバルブ33の開度を第1の開度よりも大きい第2の開度に設定する。このように、調整部42が、表面26a上に異物Mが存在すると判定された場合に、流体噴出孔H1に対応するバルブ33の開度を大きくすることによって、流体噴出孔H1から噴出する流体Fの流速を大きくすることができる。これにより、流体噴出孔H1上からの異物Mの除去をより確実に行うことができる。また、上記の構成によれば、表面26a上から異物Mを除去するために全てのバルブ33の開度を大きくする必要が無いので、表面26a上からの異物Mの除去を効率良く行うことができる。 The control unit 35 is based on the determination unit 41 that determines whether or not the foreign matter M is present on the surface 26a by determining whether or not the detected value satisfies a predetermined condition, and the determination result by the determination unit 41. The adjusting unit 42 includes an adjusting unit 42 for adjusting the opening degree of the valve 33, and when it is determined that the foreign matter M does not exist on the surface 26a, the adjusting unit 42 sets the opening degree of each valve 33 to the first. When the opening degree is set and it is determined that the foreign matter M is present on the surface 26a, among the plurality of fluid ejection holes H, the fluid ejection hole H1 whose detection value is determined not to satisfy a predetermined condition is specified. Then, the opening degree of the valve 33 corresponding to the fluid ejection hole H1 is set to a second opening degree larger than the first opening degree. In this way, when the adjusting unit 42 determines that the foreign matter M is present on the surface 26a, the fluid ejected from the fluid ejection hole H1 is increased by increasing the opening degree of the valve 33 corresponding to the fluid ejection hole H1. The flow velocity of F can be increased. Thereby, the foreign matter M can be more reliably removed from the fluid ejection hole H1. Further, according to the above configuration, it is not necessary to increase the opening degree of all the valves 33 in order to remove the foreign matter M from the surface 26a, so that the foreign matter M can be efficiently removed from the surface 26a. it can.

調整部42は、表面26a上に異物Mが存在すると判定された場合に、複数の流体噴出孔Hのうち流体噴出孔H1を除く各流体噴出孔H2及びH3に対応する各バルブ33の開度を、第2の開度よりも小さく、且つ、各流体噴出孔H2及びH3の開口Haが流体噴出孔H1の開口Haから遠ざかるにつれて小さくなるように調整している。これにより、上述したように、流体噴出孔H1の開口Haから噴出する流体F1の流速を最も大きくすると共に、各流体噴出孔H2の開口Haから噴出する流体F2の流速を流体F1の流速よりも小さくし、更に、各流体噴出孔H3の開口Haから噴出する流体F3の流速を流体F2の流速よりも小さくすることができる。このように、各流体噴出孔Hの開口Haから噴出する流体Fの流速に勾配を持たせることによって、表面26aの外側(縁部側)に異物Mを移動させやすくすることができる。これにより、表面26a上に異物Mが留まる事態を抑制できる。その結果、表面26a上からの異物Mの除去をより確実に行うことができる。 When it is determined that the foreign matter M is present on the surface 26a, the adjusting unit 42 opens the opening degree of each valve 33 corresponding to each of the fluid ejection holes H2 and H3 other than the fluid ejection hole H1 among the plurality of fluid ejection holes H. Is smaller than the second opening degree, and the opening Ha of each fluid ejection hole H2 and H3 is adjusted to become smaller as the distance from the opening Ha of the fluid ejection hole H1 increases. As a result, as described above, the flow velocity of the fluid F1 ejected from the opening Ha of the fluid ejection hole H1 is maximized, and the flow velocity of the fluid F2 ejected from the opening Ha of each fluid ejection hole H2 is larger than the flow velocity of the fluid F1. Further, the flow velocity of the fluid F3 ejected from the opening Ha of each fluid ejection hole H3 can be made smaller than the flow velocity of the fluid F2. In this way, by providing a gradient to the flow velocity of the fluid F ejected from the opening Ha of each fluid ejection hole H, it is possible to facilitate the movement of the foreign matter M to the outside (edge side) of the surface 26a. Thereby, the situation where the foreign matter M stays on the surface 26a can be suppressed. As a result, the foreign matter M can be more reliably removed from the surface 26a.

また、複数の流体噴出孔Hのうちの1つである流体噴出孔H1は、複数の流体噴出孔Hのうち流体噴出孔H1を除く複数の流体噴出孔H2及びH3によって取り囲まれており、複数の流体噴出孔H2及びH3の開口Haの内径は、流体噴出孔H1の開口Haの内径よりも小さく、且つ、複数の流体噴出孔H2及びH3の開口Haが流体噴出孔H1の開口Haから遠ざかるにつれて小さくしてもよい。このような形態であっても、上述したように、各流体噴出孔Hの開口Haから噴出する流体Fの流速に勾配を持たせることができる。これにより、表面26aの外側(縁部側)に異物Mを移動させやすくすることができ、表面26a上に異物Mが留まる事態を抑制できる。その結果、表面26a上からの異物Mの除去をより確実に行うことができる。 Further, the fluid ejection hole H1 which is one of the plurality of fluid ejection holes H is surrounded by a plurality of fluid ejection holes H2 and H3 other than the fluid ejection hole H1 among the plurality of fluid ejection holes H. The inner diameter of the opening Ha of the fluid ejection holes H2 and H3 is smaller than the inner diameter of the opening Ha of the fluid ejection hole H1, and the openings Ha of the plurality of fluid ejection holes H2 and H3 move away from the opening Ha of the fluid ejection hole H1. It may become smaller as it increases. Even in such a form, as described above, the flow velocity of the fluid F ejected from the opening Ha of each fluid ejection hole H can be provided with a gradient. As a result, the foreign matter M can be easily moved to the outside (edge side) of the surface 26a, and the situation where the foreign matter M stays on the surface 26a can be suppressed. As a result, the foreign matter M can be more reliably removed from the surface 26a.

コイル装置10は、異物除去装置20を備えるので、上述したように、表面26a上からの異物Mの除去をより確実に行うことができる。これにより、表面26aへの異物Mの付着を抑制でき、表面26aに異物Mの堆積物が形成される事態を抑制できる。その結果、受電及び送電時に、コイル装置10に相手方コイル装置を十分に接近させることができるので、コイル装置10と相手方コイル装置との給電効率の低下を抑制できる。 Since the coil device 10 includes the foreign matter removing device 20, as described above, the foreign matter M can be more reliably removed from the surface 26a. As a result, the adhesion of the foreign matter M to the surface 26a can be suppressed, and the situation where a deposit of the foreign matter M is formed on the surface 26a can be suppressed. As a result, the partner coil device can be sufficiently brought close to the coil device 10 during power reception and power transmission, so that a decrease in power feeding efficiency between the coil device 10 and the partner coil device can be suppressed.

上記実施形態及び変形例では、海中に設置されたプラットフォームに設けられた送電装置を例にコイル装置について説明した。しかし、コイル装置は、海中を移動する移動体に設けられた受電装置に採用してもよく、送電装置及び受電装置の両方に採用してもよい。上記実施形態及び変形例では、海中を移動する移動体のバッテリに給電するための非接触給電システムに用いられる送電装置を例に説明したが、本発明はこの態様に限定されない。コイル装置は、海以外の水中を移動する移動体のバッテリに給電するための非接触給電システムに用いられてもよく、水上を移動する移動体のバッテリに給電するための非接触給電システムに用いられてもよい。 In the above-described embodiment and modification, the coil device has been described by taking as an example a power transmission device provided on a platform installed in the sea. However, the coil device may be adopted as a power receiving device provided in a moving body moving in the sea, or may be adopted as both a power transmitting device and a power receiving device. In the above-described embodiment and modification, the power transmission device used in the non-contact power feeding system for powering the battery of a moving body moving in the sea has been described as an example, but the present invention is not limited to this aspect. The coil device may be used in a non-contact power supply system for supplying power to a battery of a mobile body moving in water other than the sea, or used in a contactless power supply system for supplying power to a battery of a moving body moving on water. May be done.

異物除去装置及びコイル装置の構成は、上記実施形態に限られず、特許請求の範囲の記載の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、上記実施形態では、カバー26に設けられた流体噴出孔Hは、その内径がカバー26の表面26aに近づくにつれて徐々に広がっている。しかし、流体噴出孔の内径は一定(定径)であってもよい。また、上記実施形態では、ポンプ31と各流体噴出孔Hとの間の流路上に各バルブ33が設けられているが、各バルブ33が設けられず、複数の流体噴出孔Hのそれぞれに対応して複数のポンプが直接設けられてもよい。また、コイル装置の送電コイルは、サーキュラー型に限られず、ソレノイド型のコイルなど他の形状を有するコイルであってもよい。 The configurations of the foreign matter removing device and the coil device are not limited to the above-described embodiment, and can be appropriately changed without departing from the gist of the description of the claims. For example, in the above embodiment, the fluid ejection hole H provided in the cover 26 gradually expands as its inner diameter approaches the surface 26a of the cover 26. However, the inner diameter of the fluid ejection hole may be constant (constant diameter). Further, in the above embodiment, each valve 33 is provided on the flow path between the pump 31 and each fluid ejection hole H, but each valve 33 is not provided and corresponds to each of the plurality of fluid ejection holes H. A plurality of pumps may be directly provided. Further, the power transmission coil of the coil device is not limited to the circular type, and may be a coil having another shape such as a solenoid type coil.

上記実施形態では、制御部35は、表面26aの中心に位置する流体噴出孔H1に対応するバルブ33のみを第2の開度に設定している。しかし、制御部は、流体噴出孔H2又はH3に異物が付着している場合は、流体噴出孔H2又はH3に対応するバルブのみを第2の開度に設定することもあるし、例えば、流体噴出孔H1に加えてH2にも異物が付着している場合は、流体噴出孔H1及びH2に対応するバルブのみを第2の開度に設定することもある。 In the above embodiment, the control unit 35 sets only the valve 33 corresponding to the fluid ejection hole H1 located at the center of the surface 26a to the second opening degree. However, when foreign matter adheres to the fluid ejection hole H2 or H3, the control unit may set only the valve corresponding to the fluid ejection hole H2 or H3 to the second opening degree, for example, the fluid. When foreign matter adheres to H2 in addition to the ejection holes H1, only the valves corresponding to the fluid ejection holes H1 and H2 may be set to the second opening.

1 非接触給電システム
10 コイル装置
11 受電装置
12 送電装置
20 異物除去装置
25 筐体(本体)
26 カバー
26a 表面
30 除去部
31 ポンプ
32 配管
33 バルブ
34 センサ
35 制御部
36 流体供給部
40 設定部
41 判定部
42 調整部
C1 受電コイル
C2 送電コイル
F,F1,F2,F3 流体
H 流体噴出孔
H1 流体噴出孔(第1流体噴出孔)
H2,H3 流体噴出孔(第2流体噴出孔)
Ha 開口
M 異物
1 Non-contact power supply system 10 Coil device 11 Power receiving device 12 Power transmission device 20 Foreign matter removing device 25 Housing (main body)
26 Cover 26a Surface 30 Removal unit 31 Pump 32 Piping 33 Valve 34 Sensor 35 Control unit 36 Fluid supply unit 40 Setting unit 41 Judgment unit 42 Adjustment unit C1 Power receiving coil C2 Transmission coil F, F1, F2, F3 Fluid H Fluid ejection hole H1 Fluid ejection hole (first fluid ejection hole)
H2, H3 fluid ejection hole (second fluid ejection hole)
Ha opening M foreign matter

Claims (6)

非接触給電のためのコイル装置に用いられる異物除去装置であって、
前記コイル装置が含むコイルを覆う露出面、及び、前記露出面の互いに異なる位置に設けられた複数の流体噴出孔を含む本体と、
前記複数の流体噴出孔に接続されており、前記流体噴出孔から噴出される流体によって前記露出面に付着した異物を除去する除去部と、を備え、
前記除去部は、前記流体噴出孔に接続された流路に設けられており、前記流路を流れる前記流体の流量又は圧力を、前記露出面上に前記異物が存在するか否かを判定するための検出値としてそれぞれ検出する複数のセンサを有する、異物除去装置。
A foreign matter removing device used in a coil device for non-contact power supply.
An exposed surface covering the coil included in the coil device, and a main body including a plurality of fluid ejection holes provided at different positions on the exposed surface.
A removing portion which is connected to the plurality of fluid ejection holes and removes foreign matter adhering to the exposed surface by the fluid ejected from the fluid ejection holes is provided.
The removing portion is provided in a flow path connected to the fluid ejection hole, and determines whether or not the foreign matter is present on the exposed surface based on the flow rate or pressure of the fluid flowing through the flow path. A foreign matter removing device having a plurality of sensors for each detection value.
前記除去部は、
前記流路に接続されて、前記流路を介して前記流体を前記流体噴出孔に提供する流体供給部と、
前記検出値に基づいて前記流体供給部の出力を制御する制御部と、を有する、請求項1に記載の異物除去装置。
The removal part
A fluid supply unit connected to the flow path and providing the fluid to the fluid ejection hole through the flow path.
The foreign matter removing device according to claim 1, further comprising a control unit that controls the output of the fluid supply unit based on the detected value.
前記制御部は、
前記検出値が所定の条件を満たすか否かを判定することによって、前記露出面上に前記異物が存在するか否かを判定する判定部と、
前記判定部による判定結果に基づいて、前記流体供給部の出力を調整する調整部と、を含み、
前記調整部は、
前記複数のセンサから得た全ての前記検出値が前記所定の条件を満たすことにより、前記露出面上に前記異物が存在しないと判定された場合には、各前記流体供給部の出力を第1の出力に設定し、
前記複数のセンサから得た少なくとも一つの前記検出値が前記所定の条件を満たさないことにより、前記露出面上に前記異物が存在すると判定された場合には、前記所定の条件を満たさない前記検出値を出力した前記センサに対応する前記流体噴出孔を特定し、特定された前記流体噴出孔に対応する前記流体供給部の出力を前記第1の出力よりも大きい第2の出力に設定する、請求項2に記載の異物除去装置。
The control unit
A determination unit that determines whether or not the foreign matter is present on the exposed surface by determining whether or not the detected value satisfies a predetermined condition.
Including an adjusting unit that adjusts the output of the fluid supply unit based on the determination result by the determination unit.
The adjusting part
When it is determined that the foreign matter does not exist on the exposed surface by satisfying the predetermined conditions for all the detected values obtained from the plurality of sensors, the output of each of the fluid supply units is first. Set to the output of
When it is determined that the foreign matter is present on the exposed surface because at least one of the detected values obtained from the plurality of sensors does not satisfy the predetermined condition, the detection that does not satisfy the predetermined condition. The fluid ejection hole corresponding to the sensor that outputs the value is specified, and the output of the fluid supply unit corresponding to the identified fluid ejection hole is set to a second output larger than the first output. The foreign matter removing device according to claim 2.
前記調整部は、
前記露出面上に前記異物が存在すると判定された場合に、特定された前記流体噴出孔に対応する前記流体供給部の出力を前記第2の出力に設定すると共に、特定されなかった前記流体噴出孔に対応する前記流体供給部の出力を、前記第2の出力よりも小さい第3の出力に設定する、請求項3に記載の異物除去装置。
The adjusting part
When it is determined that the foreign matter is present on the exposed surface, the output of the fluid supply unit corresponding to the specified fluid ejection hole is set to the second output, and the unspecified fluid ejection is performed. The foreign matter removing device according to claim 3, wherein the output of the fluid supply unit corresponding to the hole is set to a third output smaller than the second output.
前記複数の流体噴出孔は、1個の第1流体噴出孔と、前記第1流体噴出孔を囲む複数の第2流体噴出孔と、を含み、
前記第2流体噴出孔の内径は、前記第1流体噴出孔の内径よりも大きく、且つ、前記第2流体噴出孔が前記第1流体噴出孔から遠ざかるにつれて大きくなっている、請求項1に記載の異物除去装置。
The plurality of fluid ejection holes include one first fluid ejection hole and a plurality of second fluid ejection holes surrounding the first fluid ejection hole.
The first aspect of the present invention, wherein the inner diameter of the second fluid ejection hole is larger than the inner diameter of the first fluid ejection hole, and the inner diameter of the second fluid ejection hole becomes larger as the distance from the first fluid ejection hole increases. Foreign matter remover.
請求項1〜5のいずれか一項に記載の異物除去装置と、
前記コイルと、
を備える、コイル装置。
The foreign matter removing device according to any one of claims 1 to 5.
With the coil
A coil device.
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